JP7185105B1 - light emitting device - Google Patents

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Abstract

発光装置は、絶縁部材により形成された基板と、金属により形成され、基板上に配置された第1配線層と、第1配線層上に配置された導電性の第1めっき層と、金属により形成され、基板上に配置された第2配線層と、第2配線層上に配置された導電性の第2めっき層と、所定の延伸方向に延伸する複数の第1歯を含む櫛歯状の平面形状を有する第1端子、及び、延伸方向と反対方向に延伸し且つ第1歯と交互に配置された複数の第2歯を含む櫛歯状の平面形状を有する第2端子を有する発光素子と、を有し、第1めっき層は、複数の第1歯と同じ方向に延伸する複数の第1棒状めっき層を含み、複数の第1棒状めっき層は、第1端子の複数の第1歯の部分にそれぞれ接続され、第2めっき層は、第2端子の複数の第2歯以外の部分に接続され、第1配線層は、複数の第1歯の一部及び複数の第2歯の一部の下方に連続して形成される。The light-emitting device includes a substrate made of an insulating member, a first wiring layer made of metal and arranged on the substrate, a conductive first plated layer arranged on the first wiring layer, and A second wiring layer formed and arranged on the substrate, a conductive second plating layer arranged on the second wiring layer, and a comb tooth shape including a plurality of first teeth extending in a predetermined extending direction. and a second terminal having a comb tooth-like planar shape including a plurality of second teeth extending in a direction opposite to the extending direction and alternately arranged with the first teeth. an element, wherein the first plating layer includes a plurality of first rod-shaped plating layers extending in the same direction as the plurality of first teeth, the plurality of first rod-shaped plating layers extending in the same direction as the plurality of first teeth; The second plating layer is connected to a portion of the second terminal other than the plurality of second teeth, and the first wiring layer is connected to a portion of the plurality of first teeth and the plurality of second teeth. It is formed continuously below a portion of the tooth.

Description

本発明は、発光装置に関する。 The present invention relates to light emitting devices.

紫外線(ultraviolet、UV)光を出射する発光ダイオード(Light Emitting Diode、LED)を発光素子として使用する発光装置が知られている(例えば、特開2020-13820号公報を参照)。特開2020-13820号公報に記載される発光装置では、UV光を出射する発光素子は、それぞれが櫛歯状の平面形状を有する一対の電極層を有し、櫛歯状の平面形状を有する一対の電極層の一方の歯であるチップ電極に短冊形状の電極パターンを介して電力が供給される。特開2020-13820号公報に記載される発光装置では、一方のチップ電極は平行に配列される複数の短冊形状の電極であり、他方のチップ電極は一方のチップ電極の配列方向に長手方向が延伸する短冊形状の電極である。特開2020-13820号公報に記載される発光装置では、発光素子は、櫛歯状の平面形状を有する一対の電極層を介して電力が供給されるため、発光層に均一に電力が供給され、均一の輝度分布を有するUV光を出射することができる。 A light-emitting device using a light-emitting diode (LED) that emits ultraviolet (UV) light as a light-emitting element is known (see, for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2020-13820). In the light-emitting device described in JP-A-2020-13820, a light-emitting element that emits UV light has a pair of electrode layers each having a comb-like planar shape, and has a comb-like planar shape. Electric power is supplied to the tip electrode, which is one tooth of the pair of electrode layers, through the strip-shaped electrode pattern. In the light-emitting device described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2020-13820, one chip electrode is a plurality of strip-shaped electrodes arranged in parallel, and the other chip electrode has a longitudinal direction in the arrangement direction of the one chip electrode. It is an elongated strip-shaped electrode. In the light-emitting device described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2020-13820, power is supplied to the light-emitting element through a pair of electrode layers having a comb-shaped planar shape, so power is uniformly supplied to the light-emitting layer. , can emit UV light with a uniform luminance distribution.

特開2020-13820号公報に記載される発光装置では、発光素子は、櫛歯状の平面形状を有する一対の電極層の一方の歯であるチップ電極に短冊形状の電極パターンを介して電力が供給されるため、発光素子が発光することにより発生した熱は、短冊形状の電極パターンを介して放熱される。特開2020-13820号公報に記載される発光装置では、発光素子で発生した熱が短冊形状の電極パターンを介して放熱されるため、放熱効率が低く、発光素子の温度が発光中に上昇して発光素子の発光効率が低下するおそれがある。 In the light-emitting device described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2020-13820, electric power is applied to a chip electrode, which is one tooth of a pair of electrode layers having a comb-shaped planar shape, through a strip-shaped electrode pattern. Since the heat is supplied, the heat generated by the light emission of the light emitting element is dissipated through the strip-shaped electrode pattern. In the light-emitting device described in Japanese Patent Laid-Open No. 2020-13820, heat generated in the light-emitting element is dissipated through the strip-shaped electrode pattern, so the heat dissipation efficiency is low, and the temperature of the light-emitting element rises during light emission. As a result, the luminous efficiency of the light emitting element may decrease.

本開示は、櫛歯状の平面形状を有する電極を有する発光素子から効率的に放熱可能な発光装置を提供する。 The present disclosure provides a light-emitting device capable of efficiently dissipating heat from a light-emitting element having an electrode having a comb-like planar shape.

本発明に係る発光装置は、絶縁部材により形成された基板と、金属により形成され、基板上に配置された第1配線層と、第1配線層上に配置された導電性の第1めっき層と、金属により形成され、基板上に配置された第2配線層と、第2配線層上に配置された導電性の第2めっき層と、所定の延伸方向に延伸する複数の第1歯を含む櫛歯状の平面形状を有する第1端子、及び、延伸方向と反対方向に延伸し且つ第1歯と交互に配置された複数の第2歯を含む櫛歯状の平面形状を有する第2端子を有する発光素子と、を有し、第1めっき層は、複数の第1歯と同じ方向に延伸する複数の第1棒状めっき層を含み、複数の第1棒状めっき層は、第1端子の複数の第1歯の部分にそれぞれ接続され、第2めっき層は、第2端子の複数の第2歯以外の部分に接続され、第1配線層は、複数の第1歯の一部及び複数の第2歯の一部の下方に連続して形成される。 A light emitting device according to the present invention comprises a substrate made of an insulating member, a first wiring layer made of metal and arranged on the substrate, and a conductive first plating layer arranged on the first wiring layer. a second wiring layer made of metal and arranged on the substrate; a conductive second plating layer arranged on the second wiring layer; and a plurality of first teeth extending in a predetermined extending direction. and a second terminal having a comb-like planar shape extending in a direction opposite to the extending direction and having a plurality of second teeth arranged alternately with the first teeth. a light emitting element having a terminal, wherein the first plating layer includes a plurality of first rod-shaped plating layers extending in the same direction as the plurality of first teeth, and the plurality of first rod-shaped plating layers includes the first terminal The second plating layer is connected to a portion of the second terminal other than the plurality of second teeth, and the first wiring layer is connected to a portion of the plurality of first teeth and the It is formed continuously below a portion of the plurality of second teeth.

さらに、本発明に係る発光装置では、複数の第1歯は、複数の第2歯よりも基板の方向に突出して配置されることが好ましい。 Furthermore, in the light emitting device according to the present invention, it is preferable that the plurality of first teeth are arranged to protrude toward the substrate more than the plurality of second teeth.

さらに、本発明に係る発光装置では、第1めっき層は、配列方向に連続して配置されることが好ましい。 Furthermore, in the light-emitting device according to the present invention, it is preferable that the first plating layer is arranged continuously in the arrangement direction.

さらに、本発明に係る発光装置では、第1めっき層は、第1配線層上に延伸方向に延伸し、複数の第1歯のそれぞれに接続される複数の棒状めっき層を含むことが好ましい。 Furthermore, in the light emitting device according to the present invention, the first plating layer preferably includes a plurality of bar-shaped plating layers extending in the extending direction on the first wiring layer and connected to each of the plurality of first teeth.

さらに、本発明に係る発光装置では、第1めっき層は、ニッケル層と、ニッケル層に積層された金層、及び金層に積層され、複数の第1歯のそれぞれに接続される金錫層を含むことが好ましい。 Further, in the light-emitting device according to the present invention, the first plating layer includes a nickel layer, a gold layer laminated on the nickel layer, and a gold-tin layer laminated on the gold layer and connected to each of the plurality of first teeth. is preferably included.

さらに、本発明に係る発光装置では、金層、及び金錫層は、ニッケル層から第1端子の複数の第1歯に向かってフィレット状に形成されることが好ましい。 Furthermore, in the light-emitting device according to the present invention, the gold layer and the gold-tin layer are preferably formed in a fillet shape from the nickel layer toward the plurality of first teeth of the first terminal.

さらに、本発明に係る発光装置では、金層、及び金錫層は、ニッケル層の側面、及び第1端子の複数の第1歯の側面のそれぞれに形成されることが好ましい。 Furthermore, in the light-emitting device according to the present invention, the gold layer and the gold-tin layer are preferably formed on the side surface of the nickel layer and the side surfaces of the plurality of first teeth of the first terminal, respectively.

さらに、本発明に係る発光装置では、第1配線層は、銅層と、銅層の表面に形成された酸化膜層を含むことが好ましい。 Furthermore, in the light emitting device according to the present invention, it is preferable that the first wiring layer includes a copper layer and an oxide film layer formed on the surface of the copper layer.

実施形態に係る発光装置は、櫛歯状の平面形状を有する電極を有する発光素子から効率的に放熱することができる。 The light-emitting device according to the embodiment can efficiently dissipate heat from the light-emitting element having the electrode having a comb-like planar shape.

第1実施形態に係る発光装置の斜視図である。1 is a perspective view of a light emitting device according to a first embodiment; FIG. 図1に示す収容部の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the housing shown in FIG. 1; 図2に示すA-A線に沿う断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA shown in FIG. 2; 図1に示す配線基板、発光素子及び過電圧保護素子を除去した状態の収容部の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the accommodating portion from which the wiring board, the light emitting element, and the overvoltage protection element shown in FIG. 1 are removed; (a)は図1に示す配線基板の平面図であり、(b)は図1に示す配線基板の底面図である。(a) is a plan view of the wiring substrate shown in FIG. 1, and (b) is a bottom view of the wiring substrate shown in FIG. 図5(a)に示すB-B線に沿う断面図である。FIG. 5(a) is a cross-sectional view taken along the line BB shown in FIG. 5(a); (a)は図1に示す発光素子の底面図であり、(b)は(a)に示すC-C線に沿う断面図である。(a) is a bottom view of the light emitting device shown in FIG. 1, and (b) is a cross-sectional view taken along line CC shown in (a). 図1に示す配線基板に実装された発光素子の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a light-emitting element mounted on the wiring substrate shown in FIG. 1; 図8において矢印Dで示される部分の拡大断面図である。FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view of a portion indicated by an arrow D in FIG. 8; 図1に示す発光装置の製造方法を示すフローチャートである。2 is a flowchart showing a method for manufacturing the light emitting device shown in FIG. 1; 第2実施形態に係る発光装置の斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of a light emitting device according to a second embodiment; 図11に示す発光素子及び過電圧保護素子を除去した状態の収容部の平面図である。FIG. 12 is a plan view of the accommodating portion from which the light emitting element and the overvoltage protection element shown in FIG. 11 are removed; 第1変形例に係る実装基板の平面図である。FIG. 11 is a plan view of a mounting substrate according to a first modified example; 第2変形例に係る実装基板の平面図である。FIG. 11 is a plan view of a mounting substrate according to a second modified example; (a)は図14に示すD-D線に沿う断面図であり、(b)は図14に示すE-E線に沿う断面図である。14A is a cross-sectional view taken along line DD shown in FIG. 14, and FIG. 14B is a cross-sectional view taken along line EE shown in FIG.

以下、図面を参照して、本発明に係る発光装置について説明する。ただし、本発明の技術的範囲はそれらの実施の形態には限定されず、特許請求の範囲に記載された発明とその均等物に及ぶ点に留意されたい。 A light emitting device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. However, it should be noted that the technical scope of the present invention is not limited to those embodiments, but extends to the invention described in the claims and equivalents thereof.

(第1実施形態に係る発光装置の構成および機能)
図1は第1実施形態に係る発光装置の斜視図であり、図2は図1に示す収容部の平面図であり、図3は図2に示すA-A線に沿う断面図である。
(Structure and Function of Light Emitting Device According to First Embodiment)
1 is a perspective view of the light emitting device according to the first embodiment, FIG. 2 is a plan view of the accommodating portion shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a sectional view along line AA shown in FIG.

発光装置1は、筐体10と、第1配線パターン11と、第2配線パターン12と、配線基板13と、発光素子14と、過電圧保護素子15と、密封部材16と、第1電極17と、第2電極18とを有する。発光装置1は、第1電極17と第2電極18との間に電圧が印加されることに応じて、発光素子14から出射されたUV光が、UV光が透過可能な密封部材16を介して外部に放出する。 The light emitting device 1 includes a housing 10, a first wiring pattern 11, a second wiring pattern 12, a wiring substrate 13, a light emitting element 14, an overvoltage protection element 15, a sealing member 16, and a first electrode 17. , and a second electrode 18 . In the light-emitting device 1, UV light emitted from the light-emitting element 14 passes through the sealing member 16 through which the UV light can pass in response to application of a voltage between the first electrode 17 and the second electrode 18. released to the outside.

筐体10は、紫外線光で劣化し難く、熱伝導率が高い絶縁部材である窒化アルミ(AlN)等のセラミックスにより形成される高温焼成積層セラミックス(High Temperature Co-fired Ceramics、HTCC)部材、又はセラミックスにガラス等が含有された低温焼成積層セラミックス(Low Temperature Co-fired Ceramics、LTCC)部材である。筐体10は、基板の一例である平板状の基部10aと、基部10aの表面の外縁に沿って配置される枠状の壁部10bと、第1貫通電極10cと、第2貫通電極10dとを有する。筐体10は、平面状の基部10a及び基部10aの表面の外縁に沿って配置される枠状の壁部10bによって凹状の収容部19が形成されるキャビティ構造を有する。筐体10は、基部10a及び壁部10bの焼成前のグリーンシートを一体化して焼成することで、一体成形され、高い気密性が得られる。基部10aと壁部10bは、気密性を必要としないとき、別々に焼成してから、接着剤などにより、接合してもよい。また、壁部10bはなくてもよい。 The housing 10 is a high temperature co-fired ceramics (HTCC) member formed of ceramics such as aluminum nitride (AlN), which is an insulating member that is resistant to deterioration by ultraviolet light and has high thermal conductivity, or It is a low temperature co-fired ceramics (LTCC) member in which glass or the like is contained in ceramics. The housing 10 includes a plate-like base portion 10a which is an example of a substrate, a frame-like wall portion 10b arranged along the outer edge of the surface of the base portion 10a, a first through electrode 10c, and a second through electrode 10d. have The housing 10 has a cavity structure in which a recessed accommodating portion 19 is formed by a planar base portion 10a and a frame-like wall portion 10b arranged along the outer edge of the surface of the base portion 10a. The housing 10 is integrally molded by integrating and firing green sheets of the base portion 10a and the wall portion 10b before firing, and high airtightness is obtained. The base portion 10a and the wall portion 10b may be baked separately and joined with an adhesive or the like when airtightness is not required. Also, the wall portion 10b may be omitted.

第1貫通電極10c及び第2貫通電極10dは、基部10aの表面と裏面との間を貫通する貫通孔に配置され、銅等の導電性部材で形成される。第1貫通電極10cは第1配線パターン11と第1電極17とを接続し、第2貫通電極10dは第2配線パターン12と第2電極18とを接続する。 The first through-electrode 10c and the second through-electrode 10d are arranged in through-holes penetrating between the front surface and the back surface of the base portion 10a, and are formed of a conductive material such as copper. The first through electrode 10 c connects the first wiring pattern 11 and the first electrode 17 , and the second through electrode 10 d connects the second wiring pattern 12 and the second electrode 18 .

第1配線パターン11及び第2配線パターン12は、基部10aの表面に配置される。第1配線パターン11及び第2配線パターン12は、銅(Cu)等の導電性薄膜である基層、及び基層上に積層されるメッキ層により形成される。メッキ層は、ニッケル(Ni)層、ニッケル層上に積層されるパラジム(Pd)層、及びパラジム層上に積層される金(Au)層により形成される。 The first wiring pattern 11 and the second wiring pattern 12 are arranged on the surface of the base portion 10a. The first wiring pattern 11 and the second wiring pattern 12 are formed of a base layer, which is a conductive thin film such as copper (Cu), and a plated layer laminated on the base layer. The plated layers are formed of a nickel (Ni) layer, a palladium (Pd) layer laminated on the nickel layer, and a gold (Au) layer laminated on the palladium layer.

図2に示す過電圧保護素子15は、アノード及びカソードを有するツェナーダイオードであり、ボンディングワイヤ15aを介して第1配線パターン11及び第2配線パターン12に接続される。過電圧保護素子15は、降伏電圧が印加されることに応じて電流を流し、発光素子14に過電圧が印加されることを防止する。なお、過電圧保護素子15は、発光素子14への過電圧の印加を防止可能なツェナーダイオード以外のバリスタ等の電子部品であってもよい。 The overvoltage protection element 15 shown in FIG. 2 is a Zener diode having an anode and a cathode, and is connected to the first wiring pattern 11 and the second wiring pattern 12 via bonding wires 15a. The overvoltage protection element 15 causes a current to flow in response to the application of the breakdown voltage and prevents the application of the overvoltage to the light emitting element 14 . In addition, the overvoltage protection element 15 may be an electronic component such as a varistor other than the Zener diode capable of preventing the application of overvoltage to the light emitting element 14 .

図1に示す密封部材16は、石英ガラス等の深紫外線を吸収せずに、UV光を透過するUV光透過部材である。密封部材16は、金属接合等の合成樹脂によって形成された接着部材を使用しない接続方法によって壁部10bの上面に接合される。密封部材16が配置されることによって、密封される収容部19は、例えば真空状態であってもよく、窒素ガス及びアルゴンガス等の不活性ガスが充填されてもよい。 The sealing member 16 shown in FIG. 1 is a UV light transmitting member such as quartz glass that does not absorb deep ultraviolet rays and transmits UV light. The sealing member 16 is bonded to the upper surface of the wall portion 10b by a connection method such as metal bonding that does not use an adhesive member made of synthetic resin. The housing portion 19 sealed by the sealing member 16 may be in a vacuum state, for example, or may be filled with an inert gas such as nitrogen gas or argon gas.

図3に示す第1電極17及び第2電極18は、銅等の導電性部材で形成され、基部10aの裏面に配置される裏面電極である。第1電極17は、第1貫通電極10c、第1配線パターン11、第3配線層33、第1内部電極35及び第1配線層31を介して発光素子14のアノード41に接続される。また、第1電極17は、第1貫通電極10c及び第1配線パターン11を介して過電圧保護素子15のアノードに接続される。第2電極18は、第2貫通電極10d、第2配線パターン12、第4配線層34、第2内部電極36及び第2配線層32を介して発光素子14のカソード42に接続される。また、第2電極18は、第2貫通電極10d及び第2配線パターン12を介して過電圧保護素子15のカソードに接続される。 The first electrode 17 and the second electrode 18 shown in FIG. 3 are rear electrodes formed of a conductive member such as copper and arranged on the rear surface of the base 10a. The first electrode 17 is connected to the anode 41 of the light emitting element 14 via the first through electrode 10 c , first wiring pattern 11 , third wiring layer 33 , first internal electrode 35 and first wiring layer 31 . Also, the first electrode 17 is connected to the anode of the overvoltage protection element 15 via the first through electrode 10 c and the first wiring pattern 11 . The second electrode 18 is connected to the cathode 42 of the light emitting element 14 via the second through electrode 10d, the second wiring pattern 12, the fourth wiring layer 34, the second internal electrode 36 and the second wiring layer 32. Also, the second electrode 18 is connected to the cathode of the overvoltage protection element 15 via the second through electrode 10 d and the second wiring pattern 12 .

図4は、配線基板13、発光素子14及び過電圧保護素子15を除去した状態の収容部19の平面図である。 FIG. 4 is a plan view of the accommodating portion 19 with the wiring substrate 13, the light emitting element 14 and the overvoltage protection element 15 removed.

第1配線パターン11は、第1基部21と、第1突起部22を有する。第1基部21は、矩形の平面形状を有し、一対の短辺、及び一対の長辺の一方は、筐体10の壁部10bの内壁に対向するように配置される。第1突起部22は、矩形の平面形状を有し、第1基部21の一対の長辺の他方の中央部に、第2配線パターン12に向かって突出するように配置される。第2配線パターン12は、第2基部23と、第2突起部24とを有し、第1配線パターン11と線対称となる平面形状を有する。 The first wiring pattern 11 has a first base portion 21 and a first projection portion 22 . The first base portion 21 has a rectangular planar shape, and one of a pair of short sides and a pair of long sides is arranged to face the inner wall of the wall portion 10b of the housing 10 . The first protrusion 22 has a rectangular planar shape and is arranged in the center of the other of the pair of long sides of the first base 21 so as to protrude toward the second wiring pattern 12 . The second wiring pattern 12 has a second base portion 23 and a second projection portion 24 and has a planar shape line-symmetrical to the first wiring pattern 11 .

図5(a)は配線基板13の平面図であり、図5(b)は配線基板13の底面図であり、図6は図5(a)に示すB-B線に沿う断面図である。なお、図6は、発光素子14が接続される前の状態を示す。 5(a) is a plan view of the wiring board 13, FIG. 5(b) is a bottom view of the wiring board 13, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line BB shown in FIG. 5(a). . Note that FIG. 6 shows a state before the light emitting element 14 is connected.

配線基板13は、基台30と、第1配線層31と、第2配線層32と、第3配線層33と、第4配線層34と、第1内部電極35と、第2内部電極36と、第1めっき層37と、第2めっき層38とを有する。基台30は、紫外線光で劣化し難く、熱伝導率が高い絶縁部材である窒化アルミ(AlN)等のセラミックスにより形成されるHTCC基板、又はセラミックスにガラス等が含有されたLTCC基板であり、矩形の平面形状を有する。基台30の厚さは、筐体10の基部10aの厚さよりも薄い。基台30は、第1配線層31及び第2配線層32は基台30の表面に配置され、第3配線層33及び第4配線層34は基台30の裏面に配置される。 The wiring board 13 includes a base 30, a first wiring layer 31, a second wiring layer 32, a third wiring layer 33, a fourth wiring layer 34, a first internal electrode 35, and a second internal electrode 36. , a first plating layer 37 and a second plating layer 38 . The base 30 is an HTCC substrate formed of ceramics such as aluminum nitride (AlN), which is an insulating member that is resistant to deterioration by ultraviolet light and has high thermal conductivity, or an LTCC substrate in which glass or the like is contained in ceramics. It has a rectangular planar shape. The thickness of the base 30 is thinner than the thickness of the base 10 a of the housing 10 . A first wiring layer 31 and a second wiring layer 32 are arranged on the front surface of the base 30 , and a third wiring layer 33 and a fourth wiring layer 34 are arranged on the rear surface of the base 30 .

第1配線層31、第2配線層32、第3配線層33及び第4配線層34は、銅等の導電性部材で形成された薄膜である。銅は、金や銀等に比べ、高熱伝導率、且つ安価な材料である。第1配線層31及び第2配線層32は、矩形状の平面形状を有し、一対の長辺の一方が対向するように配置される。第1配線層31は第1めっき層37を介して発光素子14に接続され、第2配線層32は第2めっき層38を介して発光素子14に接続される。第3配線層33及び第4配線層34は、矩形の平面形状を有し、基台30の裏面に配置される。第3配線層33は、金(Au)及び錫(Sn)を含有する導電性の接続部材39を介して第1配線パターン11の第1突起部22に接続される。第4配線層34は、接続部材39を介して第2配線パターン12の第2突起部24に接続される。 The first wiring layer 31, the second wiring layer 32, the third wiring layer 33, and the fourth wiring layer 34 are thin films made of a conductive member such as copper. Copper is a material with high thermal conductivity and low cost compared to gold, silver, and the like. The first wiring layer 31 and the second wiring layer 32 have a rectangular planar shape and are arranged such that one of a pair of long sides faces each other. The first wiring layer 31 is connected to the light emitting element 14 via the first plating layer 37 , and the second wiring layer 32 is connected to the light emitting element 14 via the second plating layer 38 . The third wiring layer 33 and the fourth wiring layer 34 have a rectangular planar shape and are arranged on the back surface of the base 30 . The third wiring layer 33 is connected to the first protrusions 22 of the first wiring pattern 11 via conductive connecting members 39 containing gold (Au) and tin (Sn). The fourth wiring layer 34 is connected to the second protrusion 24 of the second wiring pattern 12 via the connection member 39 .

第1内部電極35及び第2内部電極36は、銅等の導電性部材で形成され、基台30の表面から裏面に貫通する貫通孔に配置される。第1内部電極35は第1配線層31と第3配線層33との間を接続し、第2内部電極36は第2配線層32と第4配線層34との間を接続する。 The first internal electrodes 35 and the second internal electrodes 36 are made of a conductive material such as copper, and are arranged in through holes penetrating from the front surface to the rear surface of the base 30 . The first internal electrode 35 connects between the first wiring layer 31 and the third wiring layer 33 , and the second internal electrode 36 connects between the second wiring layer 32 and the fourth wiring layer 34 .

第1めっき層37は、所定の延伸方向(図5(a)の矢印Xの方向)に延伸し、第1配線層31と発光素子14とを接続する5つの棒状めっき層371~375を含む。棒状めっき層371~375のそれぞれは、図6に示すように、ニッケル(Ni)層37aと、金(Au)層37bと、金錫(AuSn)層37cと、フラッシュ金めっき層37dにより構成されている。ニッケル層37aは第1配線層31上に積層され、金層37bはニッケル層37a上に積層され、金錫層37cは金層37b上に積層され、フラッシュ金めっき層37dは金錫層37c上に積層される。なお、ニッケル層37aは、金層37bが第1配線層31を構成する銅層への拡散を防止するバリア層としても機能する。金層37bは、ニッケル層37aなどの酸化を防止する保護層としても機能する。金錫層37cは、接合層としても機能する。なお、棒状めっき層371~375の数は、必ずしも5つでなくても良い。 The first plating layer 37 includes five rod-shaped plating layers 371 to 375 that extend in a predetermined extending direction (direction of arrow X in FIG. 5A) and connect the first wiring layer 31 and the light emitting element 14. . Each of the rod-shaped plating layers 371 to 375 is composed of a nickel (Ni) layer 37a, a gold (Au) layer 37b, a gold tin (AuSn) layer 37c, and a flash gold plating layer 37d, as shown in FIG. ing. A nickel layer 37a is laminated on the first wiring layer 31, a gold layer 37b is laminated on the nickel layer 37a, a gold-tin layer 37c is laminated on the gold layer 37b, and a flash gold-plated layer 37d is laminated on the gold-tin layer 37c. is laminated to The nickel layer 37 a also functions as a barrier layer that prevents the gold layer 37 b from diffusing into the copper layer forming the first wiring layer 31 . The gold layer 37b also functions as a protective layer that prevents oxidation of the nickel layer 37a and the like. The gold-tin layer 37c also functions as a bonding layer. Note that the number of rod-shaped plating layers 371 to 375 does not necessarily have to be five.

第2めっき層38は、5つの棒状めっき層371~375と直交する方向に1本だけ形成される。第2めっき層38は、棒状めっき層371~375と同様の構成を有するので、ここでは詳細な説明は省略する。なお、第2めっき層38の数は、必ずしも1つでなくても良い。 Only one second plating layer 38 is formed in a direction perpendicular to the five rod-shaped plating layers 371-375. The second plated layer 38 has the same structure as the bar-shaped plated layers 371 to 375, so detailed description thereof will be omitted here. In addition, the number of the second plating layers 38 does not necessarily have to be one.

なお、第1配線層31が銅で構成されるとき、第1めっき層37及び第2めっき層38は、銅層のみによって形成されてもよく、銅層の上にニッケル層37aなどを積層して構成してもよい。また、第1めっき層37及び第2めっき層38の厚さは、任意に決定することが可能である。第1めっき層37及び第2めっき層38の厚さを調節する場合、ニッケル層は厚さがばらつきやすく、金層は製造コストが上昇するので、銅層の厚さで調整することが好ましい。第1めっき層37及び第2めっき層38を、第1配線層31と異なる材料で構成すると、第1配線層31の表面加工は不要となるから、凹凸の発生を抑制でき、平坦な表面になり、例えば、発光素子14の傾きなどを抑制できる。つまり、第1めっき層37及び第2めっき層38は高さを必要としないとき、第1配線層と異なる材料で構成することが好ましい。 Note that when the first wiring layer 31 is made of copper, the first plating layer 37 and the second plating layer 38 may be formed of only the copper layer, and the nickel layer 37a or the like may be laminated on the copper layer. may be configured Moreover, the thicknesses of the first plating layer 37 and the second plating layer 38 can be arbitrarily determined. When adjusting the thickness of the first plating layer 37 and the second plating layer 38, it is preferable to adjust the thickness of the copper layer because the nickel layer tends to vary in thickness and the gold layer increases the manufacturing cost. When the first plating layer 37 and the second plating layer 38 are made of a material different from that of the first wiring layer 31, the surface processing of the first wiring layer 31 becomes unnecessary, so that the generation of unevenness can be suppressed, and the surface can be flattened. Thus, for example, inclination of the light emitting element 14 can be suppressed. In other words, when the first plated layer 37 and the second plated layer 38 do not require a high height, it is preferable to use a material different from that of the first wiring layer.

図7(a)は発光素子14の底面図であり、図7(b)は図7(a)に示すC-C線に沿う断面図である。 7(a) is a bottom view of the light emitting element 14, and FIG. 7(b) is a cross-sectional view taken along line CC shown in FIG. 7(a).

発光素子14は、半導体多層膜40と、アノード41と、カソード42とを有し、アノード41とカソード42との間に順方向電圧が印加されることに応じてUV光を出射するUVLEDダイであり、矩形の平面形状を有する。発光素子14から出射されるUV光の主波長は、200nmと405nmとの間の範囲内であり、一例では280nmである。発光素子14は、透明な基板であるサファイヤ基板上に窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)層により形成されるPN接合層を積層して形成される。 The light emitting element 14 is a UV LED die that has a semiconductor multilayer film 40, an anode 41, and a cathode 42, and emits UV light in response to a forward voltage being applied between the anode 41 and the cathode 42. It has a rectangular planar shape. The dominant wavelength of the UV light emitted from the light emitting element 14 is within the range between 200 nm and 405 nm, and is 280 nm in one example. The light emitting element 14 is formed by stacking a PN junction layer formed of an aluminum gallium nitride (AlGaN) layer on a transparent sapphire substrate.

アノード41は、アノード基部43と、第1アノード接続面44と、第2アノード接続面45と、第3アノード接続面46と、第4アノード接続面47と、第5アノード接続面48とを有する。アノード41は、カソード42に向かう所定の延伸方向(図7(a)の矢印X1の方向)に延伸する5個の第1歯41aを有する櫛状の平面形状を有する。アノード基部43は、矩形状の平面形状を有し、内側の長辺から5本の第1歯41aが互いに平行に延伸する。第1アノード接続面44~第5アノード接続面48のそれぞれは、第1めっき層37の幅と略同一の幅を有し、アノード基部43の長辺から延伸するアノード41の5つの第1歯41aに配置される。第1アノード接続面44~第5アノード接続面48と棒状めっき層371~375とを略同一形状とすることで、金錫層37cに含まれる錫が溶融したとき、セルフアライメント効果により、配線基板13に発光素子14を精度よく配置できる。 The anode 41 has an anode base 43 , a first anode connection surface 44 , a second anode connection surface 45 , a third anode connection surface 46 , a fourth anode connection surface 47 and a fifth anode connection surface 48 . . The anode 41 has a comb-like planar shape having five first teeth 41a extending in a predetermined extending direction (the direction of arrow X1 in FIG. 7A) toward the cathode 42 . The anode base 43 has a rectangular planar shape, and five first teeth 41a extend parallel to each other from the inner long side. Each of the first anode connection surface 44 to the fifth anode connection surface 48 has substantially the same width as the width of the first plating layer 37, and the five first teeth of the anode 41 extending from the long side of the anode base 43. 41a. By forming the first anode connection surface 44 to the fifth anode connection surface 48 and the rod-shaped plating layers 371 to 375 into substantially the same shape, when the tin contained in the gold/tin layer 37c melts, the wiring board is formed by the self-alignment effect. The light-emitting element 14 can be arranged on 13 with high accuracy.

第1アノード接続面44~第5アノード接続面48のそれぞれは、第1めっき層37を介して第1配線層31に接続される。第1アノード接続面44~第5アノード接続面48は、リフローなどの加熱により第1めっき層37の金錫層37cが溶解した後に固化することで、第1配線層31に接続される。 Each of the first anode connection surface 44 to the fifth anode connection surface 48 is connected to the first wiring layer 31 via the first plating layer 37 . The first anode connection surface 44 to the fifth anode connection surface 48 are connected to the first wiring layer 31 by solidifying after the gold/tin layer 37c of the first plating layer 37 is melted by heating such as reflow.

カソード42は、アノード41の第1歯41aが延伸する延伸方向と反対方向(図7(a)の矢印X2の方向)に延伸し、アノード41の第1歯41aと互い違いに配置される第2歯42aを有する櫛型の平面形状を有し、カソード接続面49を有する。カソード42の第2歯42aの幅は、アノード41の第1歯41aの幅よりも狭い。なお、カソード42の第2歯42aの幅は、アノード41の第1歯41aの幅よりも広くてもよい。 The cathode 42 extends in the direction opposite to the direction in which the first teeth 41a of the anode 41 extend (the direction of the arrow X2 in FIG. 7A), and the second teeth 41a and the first teeth 41a of the anode 41 are alternately arranged. It has a comb-shaped planar shape with teeth 42 a and has a cathode connection surface 49 . The width of the second teeth 42 a of the cathode 42 is narrower than the width of the first teeth 41 a of the anode 41 . The width of the second teeth 42 a of the cathode 42 may be wider than the width of the first teeth 41 a of the anode 41 .

アノード41とカソード42は、互い違いに配置される第1歯41a及び第2歯42aを有し、発光素子14の裏面において、電流経路が略均等になる形状であり、電流密度を略一定にすることができるから、発光素子14内部からの光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上している。発光素子14は、可視光に比べて光の取り出し効率が低い紫外線光を出射するから、アノード41とカソード42が互い違いに配置される第1歯41a及び第2歯42aの形状により、発光素子14の発光強度はより強くなりやすい。なお、発光素子14は、小型化するため、アノード41とカソード42がかなり近接する形状になっている。 The anode 41 and the cathode 42 have first teeth 41a and second teeth 42a that are alternately arranged, and have a shape in which the current paths are substantially uniform on the back surface of the light emitting element 14, and the current density is substantially constant. Therefore, the light extraction efficiency from the inside of the light emitting element 14 is improved, and the light emission intensity is improved. Since the light emitting element 14 emits ultraviolet light, which has a lower light extraction efficiency than visible light, the shape of the first teeth 41a and the second teeth 42a in which the anodes 41 and cathodes 42 are alternately arranged makes the light emitting element 14 luminescence intensity tends to be stronger. Note that the light emitting element 14 has a shape in which the anode 41 and the cathode 42 are considerably close to each other in order to reduce the size.

第1配線層31は、アノード41の第1アノード接続面44~第5アノード接続面48のそれぞれと略同一の幅を有する第1めっき層37を介してアノード41に接続される。第1配線層31の電位は、アノード41の電位と同電位であり、不図示外部電源から電源電圧VDDが供給される。一方、第2配線層32は、第2めっき層38を介してカソード42に接続されるので、第2配線層32の電位は、カソード42の電位と同電位であり、グランドレベルである。 The first wiring layer 31 is connected to the anode 41 via a first plating layer 37 having substantially the same width as each of the first to fifth anode connection surfaces 44 to 48 of the anode 41 . The potential of the first wiring layer 31 is the same as the potential of the anode 41, and a power supply voltage VDD is supplied from an external power supply (not shown). On the other hand, since the second wiring layer 32 is connected to the cathode 42 via the second plating layer 38, the potential of the second wiring layer 32 is the same as the potential of the cathode 42 and is ground level.

図7(b)に示すように、カソードの高さHcは、アノードの高さHaよりも低く、アノード41の第1歯41aは、カソード42の第2歯42aよりも配線基板13の方向に突出して配置される。カソード接続面49はアノード基部43に対向する辺の両端の間に亘って配置され、リフローなどの加熱により第2めっき層38の金錫層が溶解した後に固化することで、第2配線層32に接続される。カソード接続面49は、カソード42の第2歯42aが形成されていない箇所に配置されることとなる。 As shown in FIG. 7(b), the height Hc of the cathode is lower than the height Ha of the anode, and the first teeth 41a of the anode 41 are closer to the wiring substrate 13 than the second teeth 42a of the cathode 42 are. placed protruding. The cathode connection surface 49 is arranged between both ends of the side facing the anode base portion 43, and the second wiring layer 32 is formed by melting the gold-tin layer of the second plating layer 38 by heating such as reflow and then solidifying it. connected to The cathode connection surface 49 is arranged at a portion of the cathode 42 where the second teeth 42a are not formed.

図7(b)に示すようにアノード41及びカソード42が形成されていることから、第2めっき層38は、第1めっき層37より、アノードの高さHaとカソードの高さHcの差だけ高くすることが好ましい。第2めっき層38を第1めっき層37よりアノードの高さHaとカソードの高さHcの差だけ高くすることにより、第1めっき層37とアノード41、及び第2めっき層38とカソード42の距離を等しくすることができ、配線基板13と発光素子14を接続するときの不具合の発生を抑制できる。なお、第2めっき層38は、第1めっき層37のアノードの高さHaとカソードの高さHcの差を加えた高さより、高くてもよい。第2めっき層38は、アノード41の第1歯41aとカソード42の第2歯42aが互い違いに配置される範囲を避け、カソード42のカソード接続面49のみに対向しているからである。例えば、金錫で構成される接合剤が溶融したときに第2配線層32の表面に広がっても、アノード41に接続するおそれは低い。 Since the anode 41 and the cathode 42 are formed as shown in FIG. 7B, the second plating layer 38 is thicker than the first plating layer 37 by the difference between the anode height Ha and the cathode height Hc. Higher is preferred. By making the second plating layer 38 higher than the first plating layer 37 by the difference between the anode height Ha and the cathode height Hc, the first plating layer 37 and the anode 41 and the second plating layer 38 and the cathode 42 are separated. The distances can be made equal, and the occurrence of problems when connecting the wiring board 13 and the light emitting element 14 can be suppressed. The second plating layer 38 may be higher than the sum of the difference between the anode height Ha and the cathode height Hc of the first plating layer 37 . This is because the second plated layer 38 faces only the cathode connection surface 49 of the cathode 42, avoiding the range where the first teeth 41a of the anode 41 and the second teeth 42a of the cathode 42 are alternately arranged. For example, even if a bonding agent made of gold and tin spreads over the surface of the second wiring layer 32 when melted, it is unlikely to connect to the anode 41 .

第1配線層31は、電源電圧VDDが供給されるアノード41及びグランドレベルで接地されるカソード42の複数の第2歯42aに対向するように配置される。第1配線層31上に配置される第1めっき層37は、カソード42よりも下方に突出する第1アノード接続面44~第5アノード接続面48を介してアノード41に接続される。第1めっき層37がカソード42よりも下方に突出する第1アノード接続面44~第5アノード接続面48を介してアノード41に接続されるので、電位レベルが異なる第1配線31とカソード42とにより形成される寄生容量の大きさを抑制できる。一方、第2配線層32は、グランドレベルで接地されるカソード42のカソード接続面49に対向するように配置される。 The first wiring layer 31 is arranged to face the plurality of second teeth 42a of the anode 41 supplied with the power supply voltage VDD and the cathode 42 grounded at the ground level. The first plating layer 37 arranged on the first wiring layer 31 is connected to the anode 41 via the first to fifth anode connection surfaces 44 to 48 projecting downward from the cathode 42 . Since the first plating layer 37 is connected to the anode 41 through the first anode connection surface 44 to the fifth anode connection surface 48 protruding below the cathode 42, the first wiring 31 and the cathode 42 have different potential levels. can suppress the magnitude of the parasitic capacitance formed by On the other hand, the second wiring layer 32 is arranged so as to face the cathode connection surface 49 of the cathode 42 grounded at the ground level.

図7(b)に示すように、発光素子14の半導体多層膜40の表面でアノード41とカソード42以外の領域には絶縁層50が配置されている。なお、アノード41の側面、及び、カソード42の側面も絶縁層50で被覆するようにしても良い。さらに、アノード41の表面においても、第1アノード接続面44~第5アノード接続面48以外の領域を絶縁膜50で被覆しても良い。同様に、カソード42の表面においても、カソード接続面49以外の領域を絶縁膜50で被覆しても良い。 As shown in FIG. 7B, an insulating layer 50 is arranged on the surface of the semiconductor multilayer film 40 of the light emitting device 14 in a region other than the anode 41 and the cathode 42 . The side surface of the anode 41 and the side surface of the cathode 42 may also be covered with the insulating layer 50 . Further, on the surface of the anode 41 as well, regions other than the first to fifth anode connection surfaces 44 to 48 may be covered with the insulating film 50 . Similarly, on the surface of the cathode 42 as well, the area other than the cathode connection surface 49 may be covered with the insulating film 50 .

図8は、配線基板13に実装された発光素子14の平面図である。 FIG. 8 is a plan view of the light emitting element 14 mounted on the wiring board 13. FIG.

配線基板13が発光素子14に実装されたとき、配線基板13の第1配線層31は、5つの第1歯41aの一部、5つの第2歯42aの一部及びアノード基部43の下方に連続して形成される。 When the wiring board 13 is mounted on the light emitting element 14 , the first wiring layer 31 of the wiring board 13 is arranged below the five first teeth 41 a , the five second teeth 42 a , and the anode base 43 . Formed continuously.

矩形の平面形状を有する第1配線層31の短辺は、アノード41の第1歯41a及びカソード42の第2歯42aが延伸する延伸方向(図8の矢印Xの方向)に平行に連続して延伸する。第1配線層31の長辺は、アノード41の複数の第1歯41a及びカソード42の第2歯42aが配列される配列方向(図8の矢印Yの方向)に平行に連続して延伸する。第1配線層31は、短辺が第1歯41a及び第2歯42aが延伸する延伸方向に連続して延伸すると共に、長辺が第1歯41a及び第2歯42aが配列される配列方向に連続して延伸することで、第1歯41a及び第2歯42aの一部の下方に連続して形成される。なお、第1配線層31は、第1歯41aの全部の下方に連続して形成されてもよい。 The short sides of the first wiring layer 31 having a rectangular planar shape are continuous parallel to the direction in which the first teeth 41a of the anode 41 and the second teeth 42a of the cathode 42 extend (direction of arrow X in FIG. 8). stretched. The long side of the first wiring layer 31 extends continuously parallel to the arrangement direction (direction of arrow Y in FIG. 8) in which the plurality of first teeth 41a of the anode 41 and the second teeth 42a of the cathode 42 are arranged. . The short sides of the first wiring layer 31 extend continuously in the direction in which the first teeth 41a and the second teeth 42a extend, and the long sides extend in the direction in which the first teeth 41a and the second teeth 42a are aligned. By extending continuously, it is formed continuously below a part of the first tooth 41a and the second tooth 42a. Note that the first wiring layer 31 may be formed continuously below the entire first tooth 41a.

図9は、図8において矢印Dで示される部分の拡大断面図である。 9 is an enlarged cross-sectional view of a portion indicated by arrow D in FIG. 8. FIG.

発光素子14は、第1めっき層37を介して配線基板13に実装される。第1めっき層37は、発光素子14を配線基板13に接合するとき、ニッケル層37aと、ニッケル層37aを覆うように配置される接合層37eとにより形成される。接合層37eは、金層37b、金錫層37c及びフラッシュ金めっき層37dが溶解した後に一体化されて固化されることで形成される。 The light emitting element 14 is mounted on the wiring board 13 via the first plating layer 37 . The first plated layer 37 is formed of a nickel layer 37a and a bonding layer 37e arranged to cover the nickel layer 37a when the light emitting element 14 is bonded to the wiring substrate 13 . The bonding layer 37e is formed by integrating and solidifying the gold layer 37b, the gold-tin layer 37c, and the flash gold-plated layer 37d after being dissolved.

接合層37eは、第1歯部41aとニッケル層37aに配置されると共に、ニッケル層37aの側面に沿ってニッケル層37aを囲むように配置される。ニッケル層37aの側面に沿って配置される接合層37eは、ニッケル層37aの下端の近傍から第1歯41aの外縁に向かって直線状に延伸するフィレット状のフィレット部37fが形成される。フィレット部37fは、第1配線層31から第1歯部41aに近づくに従ってニッケル層37aから離隔するように形成される。 The bonding layer 37e is arranged on the first tooth portion 41a and the nickel layer 37a, and is arranged along the side surface of the nickel layer 37a so as to surround the nickel layer 37a. The bonding layer 37e arranged along the side surface of the nickel layer 37a has a fillet-like fillet portion 37f extending linearly from the vicinity of the lower end of the nickel layer 37a toward the outer edge of the first tooth 41a. The fillet portion 37f is formed so as to be separated from the nickel layer 37a as the first wiring layer 31 approaches the first tooth portion 41a.

第1めっき層37が配置されない領域では、第1配線層31の表面には、酸化銅を含有する絶縁体層である酸化膜層31aが形成される。第1めっき層37が配置されない領域の表面に酸化膜層31aが形成されることで、接合層37eが第1配線層31の表面に濡れ広がることを防止することができる。ニッケル層37aは、接合層37eが第1配線層31の表面に濡れ広がらないため、薄くすることができる。つまり、熱伝導率が低めの金属層であるニッケル層37aを薄くすることができ、熱抵抗値が低くなるから、発光素子14で発生した熱を効率よく第1配線層31に放熱できる。 An oxide film layer 31a, which is an insulator layer containing copper oxide, is formed on the surface of the first wiring layer 31 in a region where the first plating layer 37 is not arranged. By forming the oxide film layer 31 a on the surface of the region where the first plating layer 37 is not arranged, it is possible to prevent the bonding layer 37 e from spreading over the surface of the first wiring layer 31 . The nickel layer 37a can be made thin because the bonding layer 37e does not wet and spread on the surface of the first wiring layer 31 . In other words, the nickel layer 37a, which is a metal layer with a relatively low thermal conductivity, can be made thinner and the heat resistance value is lowered, so that the heat generated by the light emitting element 14 can be efficiently dissipated to the first wiring layer 31.

図10は、発光装置1の製造方法を示すフローチャートである。 FIG. 10 is a flow chart showing a method for manufacturing the light emitting device 1. As shown in FIG.

まず、筐体準備工程において、第1配線パターン11及び第2配線パターン12が表面に配置されると共に、密封部材16を接続する接続部材が壁部10bの上面に配置される筐体10が準備される(S101)。次いで、第1接続部材配置工程において、接続部材39が第1配線パターン11の第1突起部22及び第2配線パターン12の第2突起部24それぞれの表面に配置される(S102)。次いで、配線基板配置工程において、配線基板13が第1配線パターン11の第1突起部22及び第2配線パターン12の第2突起部24を覆うように配置される(S103)。次いで、第2接続部材配置工程において、第1めっき層37及び第2めっき層38が、例えば、メタルマスクを使用した印刷方式によって、略均一な厚みになるように、配線基板13の第1配線層31及び第2配線層32の表面に配置される(S104)。 First, in a housing preparation step, the housing 10 is prepared in which the first wiring pattern 11 and the second wiring pattern 12 are arranged on the surface, and the connection member for connecting the sealing member 16 is arranged on the upper surface of the wall portion 10b. (S101). Next, in the step of arranging the first connection member, the connection member 39 is arranged on the surface of each of the first protrusion 22 of the first wiring pattern 11 and the second protrusion 24 of the second wiring pattern 12 (S102). Next, in the wiring board arrangement step, the wiring board 13 is arranged so as to cover the first protrusions 22 of the first wiring patterns 11 and the second protrusions 24 of the second wiring patterns 12 (S103). Next, in the second connection member placement step, the first wiring of the wiring substrate 13 is formed by, for example, a printing method using a metal mask so that the first plating layer 37 and the second plating layer 38 have a substantially uniform thickness. It is arranged on the surface of the layer 31 and the second wiring layer 32 (S104).

次いで、素子配置工程において、発光素子14及び過電圧保護素子15が配置される(S105)。発光素子14は配線基板13の第1配線層31及び第2配線層32を覆うように配置され、過電圧保護素子15は第1配線パターン11と第2配線パターン12との間に配置される。リフローなどの加熱工程において、配線基板13、発光素子14及び過電圧保護素子15が配置された筐体10が加熱され(S106)、配線基板13、発光素子14及び過電圧保護素子15が固定される。次いで、ワイヤボンディング工程において、第1配線パターン11及び第2配線パターン12と過電圧保護素子15との間がボンディングワイヤ15aによって接続される(S107)。そして、密封部材配置工程において、密封部材16が筐体10の壁部10bの上面に接続される(S108)ことで、発光装置1は製造される。 Next, in the device arrangement step, the light emitting device 14 and the overvoltage protection device 15 are arranged (S105). The light emitting element 14 is arranged to cover the first wiring layer 31 and the second wiring layer 32 of the wiring board 13 , and the overvoltage protection element 15 is arranged between the first wiring pattern 11 and the second wiring pattern 12 . In a heating process such as reflow, the housing 10 in which the wiring board 13, the light emitting element 14 and the overvoltage protection element 15 are arranged is heated (S106), and the wiring board 13, the light emitting element 14 and the overvoltage protection element 15 are fixed. Next, in a wire bonding process, the first wiring pattern 11, the second wiring pattern 12 and the overvoltage protection element 15 are connected by the bonding wires 15a (S107). Then, in the sealing member arrangement step, the sealing member 16 is connected to the upper surface of the wall portion 10b of the housing 10 (S108), whereby the light emitting device 1 is manufactured.

なお、加熱工程(S106)では、リフローにより発光素子14が第1配線パターン11及び第2配線パターン12と接続されると説明したが、発光素子14と第1配線パターン11及び第2配線パターン12を熱圧着により接続されるようにしても良い。前述したように、Au層37dと金錫層37cがまじりあった接合層が、発光素子14と第1配線パターン11及び第2配線パターン12とを接合するが、熱圧着を利用した方が、リフローを利用した場合と比較して、接合層の厚さが薄くなることが経験上判明している。接合層の厚さが薄くなると、効率よく発光素子14で発生した熱を放熱することが可能となる。 In the heating step (S106), it was explained that the light emitting element 14 was connected to the first wiring pattern 11 and the second wiring pattern 12 by reflow. may be connected by thermocompression bonding. As described above, the bonding layer in which the Au layer 37d and the gold/tin layer 37c are mixed bonds the light emitting element 14 and the first wiring pattern 11 and the second wiring pattern 12. It is empirically known that the thickness of the bonding layer becomes thinner than when reflow is used. When the thickness of the bonding layer is reduced, heat generated by the light emitting element 14 can be efficiently dissipated.

(第1実施形態に係る発光装置の作用効果)
発光装置1では、第1配線層31は、アノード41及びカソード42の第1歯41a及び第2歯42aの配列方向に連続して配置されるので、アノード41と電気的な接続が可能な材料により、基台30の表面における熱容量を増やすことができ、発光により発光素子14で発生した発光素子14の中心付近の熱は、発光素子14から第1配線層31を介して効率的に放熱することができる。
(Action and effect of the light emitting device according to the first embodiment)
In the light emitting device 1, the first wiring layer 31 is arranged continuously in the arrangement direction of the first teeth 41a and the second teeth 42a of the anode 41 and the cathode 42. Therefore, a material that can be electrically connected to the anode 41 Therefore, the heat capacity of the surface of the base 30 can be increased, and the heat generated in the light emitting element 14 due to light emission is efficiently dissipated from the light emitting element 14 through the first wiring layer 31. be able to.

また、発光装置1では、発光素子14のアノードに接続される金錫層37cは、金層37b上に積層されるので、加熱されたときに濡れ広がる領域が抑制され、発光素子14のカソードに接して発光不良を生じるおそれは低い。 In the light-emitting device 1, the gold-tin layer 37c connected to the anode of the light-emitting element 14 is laminated on the gold layer 37b. There is little risk of poor light emission due to contact.

また、発光装置1では、接合層37eは、第1歯部41aとニッケル層37aに加えて、ニッケル層37aの側面に沿ってニッケル層37aを囲むように配置されるので、第1歯部41aとニッケル層37aとの間をより強固に接合することができる。また、接合層37eは、第1歯部41aの側面に配置してもよい。第1歯部41aとニッケル層37aとの間を更に強固に接合することができる。 Further, in the light emitting device 1, the bonding layer 37e is arranged along the side surface of the nickel layer 37a so as to surround the nickel layer 37a in addition to the first tooth portion 41a and the nickel layer 37a. and the nickel layer 37a can be bonded more firmly. Also, the bonding layer 37e may be arranged on the side surface of the first tooth portion 41a. The first tooth portion 41a and the nickel layer 37a can be joined more firmly.

また、第1配線層31の表面に酸化膜層31aが形成されるので、ニッケル層37aの側面に沿って配置される接合層37eが第1配線層31の表面に濡れ広がることを防止でき、発光素子14のカソードに接して発光不良を生じるおそれを更に低くできる。 Further, since the oxide film layer 31a is formed on the surface of the first wiring layer 31, it is possible to prevent the bonding layer 37e arranged along the side surface of the nickel layer 37a from wetting and spreading on the surface of the first wiring layer 31. It is possible to further reduce the risk of poor light emission due to contact with the cathode of the light emitting element 14 .

また、発光装置1では、発光素子14のアノードに接続される金錫層37cは、加熱されたときに濡れ広がる領域が抑制されるので、発光素子14のアノードを略均等の高さで支持することができる。発光素子14のアノードと第1めっき層37を接続するとき、接続材料の厚さを厚くして接続材料の量を増やすことで、発光素子14のアノードと第1めっき層37との間の接合強度を増加させることがある。例えば、金錫層37cの厚さを厚くすることで発光素子14のアノードと第1めっき層37との間の接合強度を増加させることができる。金錫層37cの厚さが厚くなると、金錫層37cに含まれる錫が溶融したときに空気が混入し、ボイドとも称される空隙が形成され、接続状態が疎となるおそれがある。また、金錫層37cに含まれる錫が溶融するタイミングのずれに起因して発生する発光素子14の傾斜等の不具合により、放熱性及び発光効率が低下するおそれがある。このような不具合は、発光素子14の上面を下向きに押圧し、発光素子14のアノードと第1めっき層37との間の金錫層37cの厚さを薄くすることにより、解消することが可能である。発光素子14を押圧する押圧力により、棒状めっき層371の側面から金錫層37cが流出し、流出した金錫層37cが第1配線層31の表面を介して隣接する棒状めっき層372に接触することがある。本実施形態では、第1配線層31、棒状めっき層371及び棒状めっき層372は、同一の電圧が印加されるので、第1配線層31、棒状めっき層371及び棒状めっき層372の間が接触しても電気的な不具合は生じない。また、棒状めっき層371の側面から流出した金錫層37cが棒状めっき層371と第1配線層31と棒状めっき層372で囲まれる空間を充填するので、熱容量が増加し、発光装置1の放熱性は、向上する。 In the light-emitting device 1, the gold-tin layer 37c connected to the anode of the light-emitting element 14 suppresses the area that spreads out when heated, so that the anode of the light-emitting element 14 is supported at a substantially uniform height. be able to. When connecting the anode of the light emitting element 14 and the first plating layer 37, the thickness of the connection material is increased to increase the amount of the connection material, thereby improving the bonding between the anode of the light emitting element 14 and the first plating layer 37. May increase strength. For example, the bonding strength between the anode of the light-emitting element 14 and the first plating layer 37 can be increased by increasing the thickness of the gold-tin layer 37c. If the thickness of the gold-tin layer 37c is increased, when the tin contained in the gold-tin layer 37c is melted, air may be mixed thereinto, forming voids, which may result in poor connection. In addition, there is a possibility that heat radiation and luminous efficiency may be reduced due to problems such as tilting of the light emitting element 14 caused by timing deviation of melting of tin contained in the gold/tin layer 37c. Such a problem can be eliminated by pressing the upper surface of the light emitting element 14 downward to reduce the thickness of the gold-tin layer 37c between the anode of the light emitting element 14 and the first plating layer 37. is. The gold-tin layer 37c flows out from the side surface of the bar-shaped plating layer 371 due to the pressing force that presses the light-emitting element 14, and the gold-tin layer 37c that has flowed out contacts the adjacent bar-shaped plating layer 372 through the surface of the first wiring layer 31. I have something to do. In this embodiment, since the same voltage is applied to the first wiring layer 31, the rod-shaped plating layer 371, and the rod-shaped plating layer 372, the first wiring layer 31, the rod-shaped plating layer 371, and the rod-shaped plating layer 372 are in contact with each other. No electrical problems occur. In addition, since the gold-tin layer 37c flowing out from the side surface of the bar-shaped plating layer 371 fills the space surrounded by the bar-shaped plating layer 371, the first wiring layer 31, and the bar-shaped plating layer 372, the heat capacity increases and the heat dissipation of the light emitting device 1 increases. sex improves.

(第2実施形態に係る発光装置の構成および機能)
図11は第2実施形態に係る発光装置の斜視図であり、図12は図11に示す発光素子14及び過電圧保護素子15を除去した状態の収容部19の平面図である。
(Structure and Function of Light Emitting Device According to Second Embodiment)
11 is a perspective view of the light emitting device according to the second embodiment, and FIG. 12 is a plan view of the accommodating portion 19 with the light emitting element 14 and the overvoltage protection element 15 shown in FIG. 11 removed.

発光装置2は、第1配線パターン51及び第2配線パターン52を第1配線パターン11及び第2配線パターン12の代わりに有することが発光装置1と相違する。発光装置2は、配線基板13を有さないことが発光装置1と更に相違する。第1配線パターン51及び第2配線パターン52以外の発光装置2の構成要素の構成及び機能は、同一符号が付された発光装置1の構成要素の構成及び機能と同一なので、ここでは詳細な説明は省略する。 The light emitting device 2 differs from the light emitting device 1 in that it has a first wiring pattern 51 and a second wiring pattern 52 instead of the first wiring pattern 11 and the second wiring pattern 12 . The light-emitting device 2 further differs from the light-emitting device 1 in that it does not have a wiring board 13 . The configurations and functions of the constituent elements of the light-emitting device 2 other than the first wiring pattern 51 and the second wiring pattern 52 are the same as those of the constituent elements of the light-emitting device 1 to which the same reference numerals are attached, and therefore a detailed description will be given here. are omitted.

第1配線パターン51は、第1基部61と、第1突起部62と、第1めっき層63を有する。第1基部61は、第1基部21と同様に、矩形の平面形状を有し、一対の短辺、及び一対の長辺の一方は、筐体10の壁部10bの内壁に対向するように配置される。第1突起部62は、矩形の平面形状を有し、第1基部61の一対の長辺の他方の中央部に、第2配線パターン52に向かって突出するように配置される。第1突起部62は、金属により形成され、基板の一例である筐体10上に配置された配線層である。 The first wiring pattern 51 has a first base portion 61 , a first projection portion 62 and a first plating layer 63 . The first base portion 61 has a rectangular planar shape like the first base portion 21, and one of a pair of short sides and a pair of long sides faces the inner wall of the wall portion 10b of the housing 10. placed. The first protrusion 62 has a rectangular planar shape and is arranged in the center of the other of the pair of long sides of the first base 61 so as to protrude toward the second wiring pattern 52 . The first protrusion 62 is a wiring layer formed of metal and arranged on the housing 10, which is an example of a substrate.

第1めっき層63は、第1突起部62上に配置された導電性の部材であり、第1突起部62と発光素子14とを接続する5つの棒状めっき層631~635を含む。棒状めっき層631~635は、棒状めっき層371~375と同様の構成を有するので、ここでは詳細な説明は省略する。 The first plating layer 63 is a conductive member arranged on the first protrusion 62 and includes five bar-shaped plating layers 631 to 635 connecting the first protrusion 62 and the light emitting element 14 . The rod-shaped plated layers 631 to 635 have the same configuration as the rod-shaped plated layers 371 to 375, so detailed description thereof will be omitted here.

第2配線パターン52は、第2基部64と、第2突起部65と、第2めっき層66を有する。第2基部64は、第2基部23と同様に、矩形の平面形状を有し、一対の短辺、及び一対の長辺の一方は、筐体10の壁部10bの内壁に対向するように配置される。第2突起部65は、矩形の平面形状を有し、第2基部64の一対の長辺の他方の中央部に、第1配線パターン51に向かって突出するように配置される。第2突起部65は、金属により形成され、基板の一例である筐体10上に配置された配線層である。 The second wiring pattern 52 has a second base portion 64 , a second projection portion 65 and a second plating layer 66 . Like the second base 23, the second base 64 has a rectangular planar shape, and one of a pair of short sides and a pair of long sides faces the inner wall of the wall 10b of the housing 10. placed. The second protrusion 65 has a rectangular planar shape and is arranged in the center of the other of the pair of long sides of the second base 64 so as to protrude toward the first wiring pattern 51 . The second protrusion 65 is a wiring layer formed of metal and arranged on the housing 10, which is an example of a substrate.

第2めっき層66は、第2突起部65上に配置された導電性の部材であり、第2突起部65と発光素子14とを接続する。第2めっき層66は、棒状めっき層371~375と同様の構成を有するので、ここでは詳細な説明は省略する。 The second plating layer 66 is a conductive member arranged on the second protrusion 65 and connects the second protrusion 65 and the light emitting element 14 . The second plated layer 66 has the same configuration as the rod-shaped plated layers 371 to 375, so detailed description thereof will be omitted here.

(変形例に係る発光装置)
発光装置1では、第1めっき層37は、5つの棒状めっき層371~375を含むが、実施形態に係る発光装置では、第1めっき層63は、発光素子14のアノード41の第1歯41aの数に応じた数の棒状めっき層を含んでもよい。また、実施形態に係る発光装置では、第1めっき層63は、発光素子14のアノード41及びカソード42の第1歯41a及び第2歯42aの配列方向に連続して配置されてもよい。発光装置2は、発光装置1と同様の効果を有する。
(Light-emitting device according to modification)
In the light-emitting device 1, the first plating layer 37 includes five bar-shaped plating layers 371-375, but in the light-emitting device according to the embodiment, the first plating layer 63 is the first tooth 41a of the anode 41 of the light-emitting element 14. The number of bar-shaped plating layers may be included according to the number of. Further, in the light emitting device according to the embodiment, the first plating layer 63 may be arranged continuously in the arrangement direction of the first teeth 41 a and the second teeth 42 a of the anode 41 and the cathode 42 of the light emitting element 14 . The light-emitting device 2 has the same effects as the light-emitting device 1 .

図13は、第1変形例に係る実装基板の平面図である。 FIG. 13 is a plan view of a mounting board according to a first modified example.

配線基板73は、第1めっき層77を第1めっき層37の代わりに有することが配線基板13と相違する。第1めっき層77以外の配線基板73の構成要素の構成及び機能は、同一符号が付された配線基板13の構成要素の構成及び機能と同一なので、ここでは詳細な説明は省略する。 The wiring board 73 differs from the wiring board 13 in that it has a first plating layer 77 instead of the first plating layer 37 . The configuration and function of the components of the wiring board 73 other than the first plating layer 77 are the same as the configuration and function of the components of the wiring board 13 to which the same reference numerals are attached, so detailed descriptions thereof are omitted here.

第1めっき層77は、平面形状が第1めっき層37と相違する。平面形状以外の第1めっき層77の構成及び機能は、第1めっき層37と同一なので、ここでは詳細な説明は省略する。第1めっき層77は、アノード41の第1歯41aが延伸する延伸方向に直交するアノード41及びカソード42の複数の第1歯41a及び第2歯42aの配列方向に、発光素子14の底面に対向する面の全面に亘って連続する平面形状を有する。発光素子14のカソードの高さHcは、発光素子14のアノードの高さHaよりも低いので、第1めっき層77は、発光素子14のアノードに接続され、発光素子14のカソードに接続されない。 The first plating layer 77 differs from the first plating layer 37 in planar shape. Since the configuration and function of the first plating layer 77 other than the planar shape are the same as those of the first plating layer 37, detailed description thereof will be omitted here. The first plating layer 77 is formed on the bottom surface of the light emitting element 14 in the direction in which the plurality of first teeth 41a and the second teeth 42a of the anode 41 and the cathode 42 are arranged, perpendicular to the direction in which the first teeth 41a of the anode 41 extend. It has a planar shape that is continuous over the entire surface of the opposing surface. Since the height Hc of the cathode of the light emitting element 14 is lower than the height Ha of the anode of the light emitting element 14 , the first plating layer 77 is connected to the anode of the light emitting element 14 and not connected to the cathode of the light emitting element 14 .

配線基板73は、発光素子14の底面に対向する面の全面に亘って連続する平面形状を有する第1めっき層77を有するので、発光素子14から発生する熱を配線基板13よりも効率的に放熱できる。 Since the wiring board 73 has the first plated layer 77 having a planar shape that is continuous over the entire surface facing the bottom surface of the light emitting element 14 , the heat generated from the light emitting element 14 can be absorbed more efficiently than the wiring board 13 . Can dissipate heat.

また、発光装置1では、第1めっき層37及び第2めっき層38は、ニッケル層37a、金層37b、金錫層37c及びフラッシュ金めっき層37dを有するが、実施形態に係る発光装置では、第1めっき層及び第2めっき層は、他の層構造を有してもよい。 In the light emitting device 1, the first plating layer 37 and the second plating layer 38 have the nickel layer 37a, the gold layer 37b, the gold tin layer 37c, and the flash gold plating layer 37d. The first plating layer and the second plating layer may have other layer structures.

図14は、第2変形例に係る実装基板の平面図である。 FIG. 14 is a plan view of a mounting substrate according to a second modified example.

配線基板83は、第1めっき層87及び第2めっき層88を第1めっき層37及び第2めっき層38の代わりに有することが配線基板13と相違する。第1めっき層87及び第2めっき層88以外の配線基板83の構成要素の構成及び機能は、同一符号が付された配線基板13の構成要素の構成及び機能と同一なので、ここでは詳細な説明は省略する。第1めっき層87は、5つの棒状めっき層871~875を有する。棒状めっき層871~875は、層構造が棒状めっき層371~375と相違する。 The wiring board 83 differs from the wiring board 13 in that it has a first plating layer 87 and a second plating layer 88 instead of the first plating layer 37 and the second plating layer 38 . The configuration and function of the components of the wiring board 83 other than the first plating layer 87 and the second plating layer 88 are the same as the configuration and function of the components of the wiring board 13 to which the same reference numerals are assigned. are omitted. The first plating layer 87 has five rod-shaped plating layers 871-875. The bar-shaped plated layers 871-875 are different in layer structure from the bar-shaped plated layers 371-375.

図15(a)は図14に示すD-D線に沿う断面図であり、図15(b)は図14に示すE-E線に沿う断面図である。 15(a) is a cross-sectional view taken along line DD shown in FIG. 14, and FIG. 15(b) is a cross-sectional view taken along line EE shown in FIG.

第1めっき層87は、所定の延伸方向に延伸し、第1配線層31と発光素子14とを接続する5つの棒状めっき層871~875を含む。棒状めっき層871~875のそれぞれは、ニッケル層87aと、第1金層87bと、第2金層87cとを有する。ニッケル層87aは第1配線層31上に積層され、第1金層87bはニッケル層87a上に積層され、第2金層87cは第1金層87b上に積層される。第1金層87bの長手方向の長さはニッケル層87aの長手方向の長さと同一であり、第2金層87cの長手方向の長さはニッケル層87aの長手方向の長さよりも短い。第2金層87cの長さは、発光素子14の第1アノード接続面44~第5アノード接続面48の長さと略同一であり、第2金層87cは、第1アノード接続面44~第5アノード接続面48に接続される。第2めっき層88は、棒状めっき層871~875と同様の構成を有するので、ここでは詳細な説明は省略する。 The first plating layer 87 includes five rod-shaped plating layers 871 to 875 extending in a predetermined extending direction and connecting the first wiring layer 31 and the light emitting element 14 . Each of the bar-shaped plated layers 871-875 has a nickel layer 87a, a first gold layer 87b, and a second gold layer 87c. The nickel layer 87a is laminated on the first wiring layer 31, the first gold layer 87b is laminated on the nickel layer 87a, and the second gold layer 87c is laminated on the first gold layer 87b. The longitudinal length of the first gold layer 87b is the same as the longitudinal length of the nickel layer 87a, and the longitudinal length of the second gold layer 87c is shorter than the longitudinal length of the nickel layer 87a. The length of the second gold layer 87c is substantially the same as the length of the first anode connection surface 44 to the fifth anode connection surface 48 of the light emitting element 14, and the second gold layer 87c extends from the first anode connection surface 44 to the fifth anode connection surface 48. 5 is connected to the anode connection surface 48 . The second plated layer 88 has the same structure as the bar-shaped plated layers 871 to 875, so detailed description thereof will be omitted here.

配線基板83では、第2金層87cは、第1金層87bの一端を全面に亘って覆うように配置されるので、第1金層87bの上に金製のスタッドバンプを配置する場合と比較して、発光素子14のアノードとの間の接続面積が大きくなり、放熱特性を向上させることができる。また、配線基板83では、第2金層87cは、第1金層87bの一端を全面に亘って覆うように配置されるので、第1金層87bの上に金製のスタッドバンプを配置する場合と比較して、第1めっき層87に発光素子14が接続されるときの発光素子14の平坦性を向上させることができる。つまり、第2金層87cは、スタッドバンプと比較して、表面の平坦性が高く、また、第1金層87bの表面の角部まで均一に広がるから、発光素子14の実装性に優れ、高い放熱性を有する。 In the wiring substrate 83, the second gold layer 87c is arranged so as to cover one end of the first gold layer 87b over the entire surface. In comparison, the connection area between the anode of the light emitting element 14 is increased, and the heat dissipation characteristics can be improved. Further, in the wiring substrate 83, the second gold layer 87c is arranged so as to cover one end of the first gold layer 87b over the entire surface, so a gold stud bump is arranged on the first gold layer 87b. Compared to the case, the flatness of the light emitting element 14 can be improved when the light emitting element 14 is connected to the first plating layer 87 . In other words, the second gold layer 87c has a higher surface flatness than a stud bump, and spreads evenly to the corners of the surface of the first gold layer 87b. It has high heat dissipation.

また、第1めっき層87では、第2金層87cの長手方向の長さは、第1金層87bの長手方向の長さよりも短いので、第2金層を第1金層87bの全面に亘って配置する場合と比較して、使用する金の量を削減できるので、製造コストを低減することができる。 In the first plating layer 87, the length of the second gold layer 87c in the longitudinal direction is shorter than the length of the first gold layer 87b in the longitudinal direction. Since the amount of gold used can be reduced compared to the case of arranging it over the entire surface, the manufacturing cost can be reduced.

Claims (6)

絶縁部材により形成された基板と、
金属により形成され、前記基板上に配置された第1配線層と、
前記第1配線層上に配置された導電性の第1めっき層と、
金属により形成され、前記基板上に配置された第2配線層と、
前記第2配線層上に配置された導電性の第2めっき層と、
所定の延伸方向に延伸する複数の第1歯を含む櫛歯状の平面形状を有する第1端子、及び、前記延伸方向と反対方向に延伸し且つ前記第1歯と交互に配置された複数の第2歯を含む櫛歯状の平面形状を有する第2端子を有する発光素子と、を有し、
前記第1めっき層は、前記複数の第1歯と同じ方向に延伸する複数の第1棒状めっき層を含み、
前記複数の第1棒状めっき層は、前記第1端子の前記複数の第1歯の部分にそれぞれ接続され、
前記第2めっき層は、前記第2端子の前記複数の第2歯以外の部分に接続され、
前記第1配線層は、前記複数の第1歯の一部及び前記複数の第2歯の一部の下方に連続して形成される、
ことを特徴とする発光装置。
a substrate formed of an insulating member;
a first wiring layer formed of metal and arranged on the substrate;
a conductive first plating layer disposed on the first wiring layer;
a second wiring layer formed of metal and arranged on the substrate;
a conductive second plating layer disposed on the second wiring layer;
a first terminal having a comb tooth-like planar shape including a plurality of first teeth extending in a predetermined extending direction; and a plurality of terminals extending in a direction opposite to the extending direction and alternately arranged with the first teeth. a light emitting element having a second terminal having a comb tooth-like planar shape including the second teeth;
The first plating layer includes a plurality of first bar-shaped plating layers extending in the same direction as the plurality of first teeth,
The plurality of first bar-shaped plating layers are connected to the plurality of first tooth portions of the first terminal, respectively;
the second plating layer is connected to a portion of the second terminal other than the plurality of second teeth;
The first wiring layer is formed continuously below a portion of the plurality of first teeth and a portion of the plurality of second teeth,
A light emitting device characterized by:
前記複数の第1歯は、前記複数の第2歯よりも前記基板方向に突出して配置される、請求項1に記載の発光装置。 2. The light emitting device according to claim 1, wherein said plurality of first teeth are arranged to protrude in said substrate direction more than said plurality of second teeth. 前記第1めっき層は、ニッケル層と、前記ニッケル層に積層された金層、及び前記金層に積層され、前記複数の第1歯のそれぞれに接続される金錫層を含む、請求項1又は2に記載の発光装置。 2. The first plating layer includes a nickel layer, a gold layer laminated on the nickel layer, and a gold-tin layer laminated on the gold layer and connected to each of the plurality of first teeth. 3. Or the light-emitting device of 2. 前記金層及び前記金錫層は、前記ニッケル層から前記第1端子の前記複数の第1歯に向かってフィレット状に形成される、請求項3に記載の発光装置。 4. The light emitting device of claim 3, wherein the gold layer and the gold tin layer are formed in a fillet shape from the nickel layer toward the plurality of first teeth of the first terminal. 前記金層、及び前記金錫層は、前記ニッケル層の側面、及び前記第1端子の前記複数の第1歯の側面のそれぞれに形成される、請求項4に記載の発光装置。 5. The light-emitting device of claim 4, wherein the gold layer and the gold-tin layer are formed on side surfaces of the nickel layer and side surfaces of the plurality of first teeth of the first terminal, respectively. 前記第1配線層は、銅層と、前記銅層の表面に形成された酸化膜層を含む、請求項1~4の何れか一項に記載の発光装置。 5. The light emitting device according to claim 1, wherein said first wiring layer includes a copper layer and an oxide film layer formed on a surface of said copper layer.
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