JP7177273B2 - DECORATIVE MOLDED PRODUCT, METHOD FOR MANUFACTURING DECORATIVE MOLDED BODY, DECORATIVE PANEL, AND ELECTRONIC DEVICE - Google Patents

DECORATIVE MOLDED PRODUCT, METHOD FOR MANUFACTURING DECORATIVE MOLDED BODY, DECORATIVE PANEL, AND ELECTRONIC DEVICE Download PDF

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Description

本開示は、加飾成型体、加飾成型体の製造方法、加飾パネル、及び、電子デバイスに関する。 The present disclosure relates to a decorative molded body, a method for manufacturing a decorative molded body, a decorative panel, and an electronic device.

樹脂成型体の表面に加飾フィルムを配置して、樹脂成型体の表面を所望の色相に着色したり、又は樹脂成型体の表面に所望の模様を設けたりした加飾成型体が知られている。加飾成型体は、例えば、金型内に加飾フィルムを予め配置して、その金型内に基材樹脂を射出成型することにより得られ、樹脂成型体の表面に加飾フィルムが一体化された構造を有する。金型内に加飾フィルムを予め配置した後、基材樹脂の射出成型を行うことを、一般に、フィルムインサート成型、或いは、単にインサート成型と称することがある。また、加飾成型体は、成型後の成型体に加飾フィルムを張り付けることにより製造してもよい。 A decorative molded body is known in which a decorative film is placed on the surface of the resin molded body to color the surface of the resin molded body in a desired hue, or a desired pattern is provided on the surface of the resin molded body. there is The decorative molded product is obtained, for example, by placing a decorative film in advance in a mold and injecting a base resin into the mold, and the decorative film is integrated with the surface of the resin molded product. has a structured structure. Injection molding of a base resin after pre-arranging a decorative film in a mold is generally referred to as film insert molding or simply insert molding. Also, the decorated molded body may be produced by attaching a decorative film to the molded body after molding.

従来のホットスタンプ箔としては、特開2001-105795号公報に、可視光に選択反射波長域を有するコレステリック液晶性高分子層が転写層として積層されていることを特徴とするホットスタンプ箔が記載されている。また、特開2017-97114号公報には、コレステリック液晶層に凹凸加工を施すことで、再帰反射性を向上させる記載がある。 As a conventional hot stamp foil, JP-A-2001-105795 describes a hot stamp foil characterized in that a cholesteric liquid crystalline polymer layer having a selective reflection wavelength range in visible light is laminated as a transfer layer. It is Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-97114 describes improving the retroreflectivity by applying unevenness processing to the cholesteric liquid crystal layer.

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、光輝性が高く、視認方向によらず均一な色味を発現する加飾成型体を提供することである。
本開示の他の一実施形態が解決しようとする課題は、光輝性が高く、視認方向によらず均一な色味を発現する加飾成型体の製造方法を提供することである。
本開示の他の一実施形態が解決しようとする課題は、上記加飾成型体を用いた加飾パネルを提供することである。
本開示の他の一実施形態が解決しようとする課題は、上記加飾パネルを用いた電子デバイスを提供することである。
A problem to be solved by an embodiment of the present disclosure is to provide a decorative molding that has high brilliance and expresses a uniform color regardless of the viewing direction.
A problem to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a method for manufacturing a decorative molding that has high brilliance and expresses a uniform color regardless of the viewing direction.
A problem to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a decorative panel using the decorative molding.
A problem to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide an electronic device using the decorative panel.

本開示には、以下の態様が含まれる。
<1> 基材と、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有し、かつ、凹凸構造を有する反射層と、上記基材と上記反射層との間に樹脂層と、を含む加飾成型体。
<2> 上記凹凸構造の深さが1μm以上であり、上記凹凸構造の幅が5μm以上である、<1>に記載の加飾成型体。
<3> 着色層を含む、<1>又は<2>に記載の加飾成型体。
<4> 上記反射層が、コレステリック液晶を含む層である、<1>~<3>のいずれか1つに記載の加飾成型体。
<5> 基材と、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有する反射層と、上記基材と上記反射層との間に樹脂層と、を少なくとも有する加飾フィルムを用意する工程と、凹凸構造を有する表面に上記反射層を接触させ、上記反射層に0.01MPa以上の圧力を印加し、上記反射層に凹凸構造を付与する工程と、を含む、<1>~<4>のいずれか1つに記載の加飾成型体の製造方法。
<6> 基材と、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有する反射層と、を少なくとも有する加飾フィルムを用意する工程と、凹凸構造を有する表面を有する透明体と上記加飾フィルムとを重ね合わせることで上記凹凸構造を有する上記表面に上記反射層を接触させ、上記反射層に対して0.01MPa以上の圧力を印加し、上記反射層に凹凸構造を付与する工程と、を含む、<1>~<4>のいずれか1つに記載の加飾成型体の製造方法。
<7> <1>~<4>のいずれか1つに記載の加飾成型体を含む、加飾パネル。
<8> <7>に記載の加飾パネルを含む、電子デバイス。
The present disclosure includes the following aspects.
<1> A substrate, a reflective layer having a center wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less and having an uneven structure, and a resin layer between the substrate and the reflective layer. , A decorative molded body including.
<2> The decorated molding according to <1>, wherein the uneven structure has a depth of 1 μm or more and a width of 5 μm or more.
<3> The decorative molding according to <1> or <2>, which contains a colored layer.
<4> The decorated molding according to any one of <1> to <3>, wherein the reflective layer is a layer containing cholesteric liquid crystal.
<5> A decorative film having at least a substrate, a reflective layer having a central wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less, and a resin layer between the substrate and the reflective layer. <1>, comprising the step of preparing; The method for manufacturing the decorated molding according to any one of <4>.
<6> A step of preparing a decorative film having at least a base material and a reflective layer having a central wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less, and a transparent body having a surface having an uneven structure. The reflective layer is brought into contact with the surface having the uneven structure by overlapping the decorative film, and a pressure of 0.01 MPa or more is applied to the reflective layer to impart the uneven structure to the reflective layer. The method for manufacturing the decorated molding according to any one of <1> to <4>, comprising the steps of:
<7> A decorative panel comprising the decorative molding according to any one of <1> to <4>.
<8> An electronic device including the decorative panel according to <7>.

本開示の一実施形態によれば、光輝性が高く、視認方向によらず均一な色味を発現する加飾成型体が提供される。
本開示の一実施形態によれば、光輝性が高く、視認方向によらず均一な色味を発現する加飾成型体の製造方法が提供される。
本開示の他の一実施形態によれば、上記加飾フィルムを用いた加飾パネルが提供される。
本開示の他の一実施形態によれば、上記加飾パネルを用いた電子デバイスが提供される。
According to one embodiment of the present disclosure, there is provided a decorative molding that has high brilliance and expresses a uniform color regardless of the viewing direction.
According to an embodiment of the present disclosure, there is provided a method for manufacturing a decorative molding that has high brilliance and expresses uniform color regardless of viewing direction.
According to another embodiment of the present disclosure, a decorative panel using the decorative film is provided.
According to another embodiment of the present disclosure, an electronic device using the decorative panel is provided.

図1は、本開示に係る加飾フィルムの一例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a decorative film according to the present disclosure. 図2は、本開示に係る加飾フィルムの一例を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the decorative film according to the present disclosure. 図3は、本開示に係る加飾成型体の一例を示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the decorative molding according to the present disclosure. 図4は、本開示に係る加飾成型体の一例を示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the decorative molding according to the present disclosure. 図5は、本開示に係る加飾成型体の一例を示す概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the decorative molding according to the present disclosure. 図6は、本開示に係る加飾パネルの一例を示す概略断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of a decorative panel according to the present disclosure. 図7は、本開示に係る凹凸パターン(A)の一例を示す概略平面図である。FIG. 7 is a schematic plan view showing an example of an uneven pattern (A) according to the present disclosure. 図8は、図7に示す凹凸パターン(A)の概略斜視図である。FIG. 8 is a schematic perspective view of the concavo-convex pattern (A) shown in FIG. 図9は、本開示に係る凹凸パターン(B)の一例を示す概略平面図である。FIG. 9 is a schematic plan view showing an example of the uneven pattern (B) according to the present disclosure. 図10は、図9に示す凹凸パターン(B)の概略斜視図である。10 is a schematic perspective view of the uneven pattern (B) shown in FIG. 9. FIG.

以下、本開示の実施形態について説明する。但し、本開示は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本開示の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。本開示の実施形態について図面を参照して説明する場合、重複する構成要素及び符号については、説明を省略することがある。図面において同一の符号を用いて示す構成要素は、同一の構成要素であることを意味する。図面における寸法の比率は、必ずしも実際の寸法の比率を表すものではない。 Embodiments of the present disclosure will be described below. However, the present disclosure is by no means limited to the following embodiments, and can be implemented with appropriate modifications within the scope of the purpose of the present disclosure. When describing the embodiments of the present disclosure with reference to the drawings, descriptions of overlapping components and reference numerals may be omitted. Components shown using the same reference numerals in the drawings mean the same components. The dimensional ratios in the drawings do not necessarily represent the actual dimensional ratios.

本開示における基(原子団)の表記について、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含する。
本開示における「光」とは、活性光線又は放射線を意味する。
本開示における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光:Extreme Ultraviolet)、X線、及び電子線(EB:Electron Beam)等を意味する。
本開示における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線、X線、及びEUV光等による露光のみならず、電子線、及びイオンビーム等の粒子線による露光も含む。
本開示において、「~」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
Regarding the notation of groups (atomic groups) in the present disclosure, notations that do not describe substitution and unsubstituted include not only those not having substituents but also those having substituents. For example, an "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
"Light" in the present disclosure means actinic rays or radiation.
The term "actinic rays" or "radiation" in the present disclosure refers to, for example, the emission line spectrum of mercury lamps, far ultraviolet rays represented by excimer lasers, extreme ultraviolet rays (EUV light: Extreme Ultraviolet), X-rays, and electron beams (EB: Electron Beam) and the like.
The term "exposure" in the present disclosure means, unless otherwise specified, not only exposure by the emission line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays represented by excimer lasers, extreme ultraviolet rays, X-rays, and EUV light, but also electron beams and ion beams. It also includes exposure by particle beams such as.
In the present disclosure, the term “~” is used to include the numerical values before and after it as lower and upper limits.

本開示において、(メタ)アクリレートはアクリレート及びメタクリレートを表し、(メタ)アクリルはアクリル及びメタクリルを表す。
本開示において、樹脂成分の重量平均分子量(Mw)、樹脂成分の数平均分子量(Mn)、及び樹脂成分の分散度(分子量分布ともいう)(Mw/Mn)は、GPC(Gel Permeation Chromatography)装置(東ソー(株)製HLC-8120GPC)によるGPC測定(溶媒:テトラヒドロフラン、流量(サンプル注入量):10μL、カラム:東ソー(株)製TSK gel Multipore HXL-M、カラム温度:40℃、流速:1.0mL/分、検出器:示差屈折率検出器(Refractive Index Detector))によるポリスチレン換算値として定義される。
In this disclosure, (meth)acrylate refers to acrylate and methacrylate, and (meth)acryl refers to acrylic and methacrylic.
In the present disclosure, the weight-average molecular weight (Mw) of the resin component, the number-average molecular weight (Mn) of the resin component, and the degree of dispersion (also referred to as molecular weight distribution) (Mw/Mn) of the resin component are measured using GPC (Gel Permeation Chromatography) equipment. GPC measurement by (HLC-8120GPC manufactured by Tosoh Corporation) (solvent: tetrahydrofuran, flow rate (sample injection volume): 10 μL, column: TSK gel Multipore HXL-M manufactured by Tosoh Corporation, column temperature: 40 ° C., flow rate: 1 .0 mL/min, detector: defined as polystyrene conversion value by Refractive Index Detector).

本開示において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質の合計量を意味する。
本開示において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本開示において「全固形分」とは、組成物の全組成から溶媒を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、組成物の全組成から溶媒を除いた成分であり、例えば、25℃において固体であっても、液体であってもよい。
本開示において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
In the present disclosure, the amount of each component in the composition means the total amount of the corresponding multiple substances present in the composition when there are multiple substances corresponding to each component in the composition, unless otherwise specified. do.
In the present disclosure, the term "process" includes not only an independent process, but also a process that cannot be clearly distinguished from other processes as long as the intended purpose of the process is achieved.
In the present disclosure, "total solid content" refers to the total mass of components excluding the solvent from the total composition of the composition. In addition, the “solid content” is a component excluding the solvent from the total composition of the composition, and may be solid or liquid at 25° C., for example.
In the present disclosure, "% by mass" and "% by weight" are synonymous, and "parts by mass" and "parts by weight" are synonymous.
Moreover, in the present disclosure, a combination of two or more preferred aspects is a more preferred aspect.

(加飾フィルム)
本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、基材と、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有する反射層と、を有する。本開示の一実施形態に係る加飾フィルムの用途としては、特に制限はなく、例えば、電子デバイス(例えば、ウエアラブルデバイス、及びスマートフォン)、家電製品、オーディオ製品、コンピュータ、ディスプレイ、車載製品、時計、アクセサリー、光学部品、扉、窓ガラス、及び建材の加飾に用いることができる。中でも、本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、電子デバイス(例えば、ウエアラブルデバイス、及びスマートフォン)の加飾に好適に用いることができる。また、本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、立体成型性にも優れることから、例えば、立体成型及びインサート成型のような成型に用いられる、成型用加飾フィルムとして好適であり、立体成型用加飾フィルムとしてより好適である。
(decorative film)
A decorative film according to an embodiment of the present disclosure has a base material and a reflective layer having a central wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less. Applications of the decorative film according to an embodiment of the present disclosure are not particularly limited, for example, electronic devices (e.g., wearable devices and smartphones), home appliances, audio products, computers, displays, in-vehicle products, watches, It can be used to decorate accessories, optical parts, doors, windows, and building materials. Among them, the decorative film according to an embodiment of the present disclosure can be suitably used for decorating electronic devices (for example, wearable devices and smartphones). In addition, since the decorative film according to an embodiment of the present disclosure is also excellent in three-dimensional moldability, it is suitable as a decorative film for molding, which is used for molding such as three-dimensional molding and insert molding. It is more suitable as a decorative film for molding.

従来、家電、電子機器、及び携帯電話のような物品に使用されている表面加飾には、例えば、印刷、塗装、蒸着、又はめっきが用いられてきた。しかしながら、例えば、機能性付与、環境負荷の問題、及び張り替え可能性の側面から、加飾フィルムを使用することによる加飾技術が多く用いられるようになってきた。一方で、使用者の嗜好の広がりから、新規な意匠性が求められている。特に、見る角度による色(例えば、色味、及び微細な色合い)の変化は求められている意匠の1つであり、上記のような意匠を得るための加飾技術の導入が求められていた。また、特開2001-105795号公報には、コレステリック液晶性高分子層が転写層として積層されているホットスタンプ箔が記載されているが、視野角によって反射色に変化が生じるため、均一な色味を得ることができなかった。また、特開2017-97114号公報には、コレステリック液晶層に凹凸加工を施すことで、再帰反射性を向上させる記載があるが、加飾フィルムとしての使用、及びその効果については、言及されていない。 Conventionally, printing, painting, vapor deposition, or plating, for example, has been used for surface decoration used in articles such as home appliances, electronic devices, and mobile phones. However, from the standpoints of, for example, providing functionality, environmental impact, and reupholstery, decoration techniques using decorative films have come to be widely used. On the other hand, due to the spread of users' tastes, novel designs are required. In particular, changes in color (for example, tint and fine hues) depending on the viewing angle are one of the sought after designs, and there has been a demand for the introduction of decorative techniques to obtain such designs. . In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-105795 describes a hot stamp foil in which a cholesteric liquid crystalline polymer layer is laminated as a transfer layer. Couldn't get a taste. In addition, JP-A-2017-97114 describes that retroreflectivity is improved by applying unevenness processing to the cholesteric liquid crystal layer, but the use as a decorative film and its effect are mentioned. do not have.

本発明者らが鋭意検討した結果、上記構成を含む加飾フィルムによれば、光輝性が高く、視認方向によらず均一な色味を発現する加飾成型体の材料として有用な加飾フィルムが提供されることを見出した。本開示において、「視認方向によらず均一な色味を発現する」とは、例えば、対象物の面方向に対して垂直の角度から対象物を視認した場合と、対象物の面方向に対して45°の角度から対象物を視認した場合とにおける色の変化が小さいことを意味する。上記のような効果は、視野角によらず、所望の意匠が視認できる点で好ましい。 As a result of intensive studies by the present inventors, the decorative film containing the above-described structure has high brilliance and is useful as a material for a decorative molding that exhibits a uniform color regardless of the viewing direction. found to be provided. In the present disclosure, "expressing a uniform color tone regardless of the viewing direction" means, for example, when the object is viewed from an angle perpendicular to the surface direction of the object, and when the object is viewed from the surface direction This means that the color change is small when the object is viewed from an angle of 45°. The above effect is preferable in that the desired design can be visually recognized regardless of the viewing angle.

以下、本開示に係る加飾フィルムについて、詳細に説明する。 The decorative film according to the present disclosure will be described in detail below.

<基材>
本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、基材を有する。基材は、支持体であってもよい。基材としては、例えば、立体成型及びインサート成型のような成型に用いられる基材として従来公知の基材を特に制限なく使用でき、成型への適性に応じて、適宜、選択されればよい。また、基材の形状及び材質は、特に制限はなく、所望に応じ適宜選択すればよい。基材は、成型容易性、及び、チッピング耐性の観点から、樹脂基材であることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。
<Base material>
A decorative film according to an embodiment of the present disclosure has a substrate. A substrate may be a support. As the base material, for example, conventionally known base materials used for molding such as three-dimensional molding and insert molding can be used without particular limitation, and may be appropriately selected according to suitability for molding. Moreover, the shape and material of the substrate are not particularly limited, and may be appropriately selected as desired. From the viewpoint of moldability and chipping resistance, the substrate is preferably a resin substrate, and more preferably a resin film.

具体的な基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタン-アクリル樹脂、ポリカーボネート(PC)、アクリル-ポリカーボネート樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィンポリマー(COP)、及びアクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合樹脂(ABS樹脂)のような樹脂を含む樹脂フィルムが挙げられる。中でも、基材は、成型加工性、及び、強度の観点から、ポリエチレンテレフタレート(PET)、アクリル樹脂、ポリカーボネート、又は、ポリプロピレンであることが好ましく、ポリエチレンテレフタレート(PET)、アクリル樹脂、又は、ポリカーボネートであることがより好ましい。また、基材は、2層以上の積層樹脂基材であってもよい。例えば、アクリル樹脂層とポリカーボネート層とを含む積層フィルムが好ましく挙げられる。 Specific substrates include, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resin, urethane resin, urethane-acrylic resin, polycarbonate (PC), acrylic-polycarbonate resin, triacetyl cellulose (TAC). , cycloolefin polymers (COP), and acrylonitrile/butadiene/styrene copolymer resins (ABS resins). Among them, the substrate is preferably polyethylene terephthalate (PET), acrylic resin, polycarbonate, or polypropylene from the viewpoint of molding processability and strength, and polyethylene terephthalate (PET), acrylic resin, or polycarbonate. It is more preferable to have Also, the substrate may be a laminated resin substrate having two or more layers. For example, a laminate film containing an acrylic resin layer and a polycarbonate layer is preferably used.

基材は、必要に応じ、添加物を含有していてもよい。このような添加物としては、例えば、潤滑剤(例えば、鉱油、炭化水素、脂肪酸、アルコール、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、金属石けん、天然ワックス、及びシリコーン)、無機難燃剤(例えば、水酸化マグネシウム、及び水酸化アルミニウム)、ハロゲン系の有機難燃剤、リン系の有機難燃剤、有機又は無機の充填剤(例えば、金属粉、タルク、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、ガラス繊維、カーボン繊維、及び木粉)、酸化防止剤、紫外線防止剤、滑剤、分散剤、カップリング剤、発泡剤、着色剤、及び上述した樹脂以外のエンジニアリングプラスチックが挙げられる。エンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアセタール、ポリアミド、及びポリフェニレンエーテルが挙げられる。 The base material may contain additives, if necessary. Such additives include, for example, lubricants (such as mineral oils, hydrocarbons, fatty acids, alcohols, fatty acid esters, fatty acid amides, metallic soaps, natural waxes, and silicones), inorganic flame retardants (such as magnesium hydroxide, and aluminum hydroxide), halogen-based organic flame retardants, phosphorus-based organic flame retardants, organic or inorganic fillers (e.g., metal powder, talc, calcium carbonate, potassium titanate, glass fiber, carbon fiber, and wood powder ), antioxidants, UV inhibitors, lubricants, dispersants, coupling agents, foaming agents, coloring agents, and engineering plastics other than the above resins. Engineering plastics include, for example, polyolefins, polyesters, polyacetals, polyamides, and polyphenylene ethers.

基材は、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、テクノロイ(登録商標)シリーズ(アクリル樹脂フィルム又はアクリル樹脂/ポリカーボネート樹脂積層フィルム、住友化学(株)製)、ABSフィルム(オカモト(株)製)、ABSシート(積水成型工業(株)製)、テフレックス(登録商標)シリーズ(PETフィルム、帝人フィルムソリューション(株)製)、ルミラー(登録商標)易成型タイプ(PETフィルム、東レ(株)製)、及びピュアサーモ(ポリプロピレンフィルム、出光ユニテック(株)製)を挙げることができる。 A commercially available product may be used as the base material. Commercially available products include, for example, the Technolloy (registered trademark) series (acrylic resin film or acrylic resin/polycarbonate resin laminated film, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), ABS film (manufactured by Okamoto Co., Ltd.), ABS sheet (Sekisui Seisei Kogyo Co., Ltd.), Teflex (registered trademark) series (PET film, manufactured by Teijin Film Solutions Co., Ltd.), Lumirror (registered trademark) easy-molding type (PET film, manufactured by Toray Industries, Inc.), and Pure Thermo (polypropylene) film, manufactured by Idemitsu Unitech Co., Ltd.).

基材の厚さは、例えば、作製する成型物の用途、及び、取り扱い性に応じて決定され、特に制限はない。基材の厚さの下限としては、1μm以上が好ましく、10μm以上がより好ましく、20μm以上が更に好ましく、30μm以上が特に好ましい。基材の厚さの上限としては、500μm以下が好ましく、200μm以下がより好ましく、100μm以下が特に好ましい。 The thickness of the substrate is determined according to, for example, the use and handleability of the molding to be produced, and is not particularly limited. The lower limit of the thickness of the substrate is preferably 1 μm or more, more preferably 10 μm or more, still more preferably 20 μm or more, and particularly preferably 30 μm or more. The upper limit of the thickness of the substrate is preferably 500 µm or less, more preferably 200 µm or less, and particularly preferably 100 µm or less.

<反射層>
本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、反射層を有する。反射層は、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有する。反射層としては、例えば、コレステリック液晶を含む層(以下、「コレステリック液晶層」ともいう。)、平板状金属粒子を含む層、光学多層膜、及びクロミック材料を含む層が挙げられる。上記した反射層の中でも、成型加工適性及び耐衝撃性の観点から、コレステリック液晶層、又は、平板状金属粒子を含む層が好ましく、コレステリック液晶層がより好ましい。
<Reflective layer>
A decorative film according to an embodiment of the present disclosure has a reflective layer. The reflective layer has a central wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less. Examples of the reflective layer include a layer containing cholesteric liquid crystal (hereinafter also referred to as a "cholesteric liquid crystal layer"), a layer containing flat metal particles, an optical multilayer film, and a layer containing a chromic material. Among the reflective layers described above, a cholesteric liquid crystal layer or a layer containing flat metal particles is preferable, and a cholesteric liquid crystal layer is more preferable, from the viewpoint of moldability and impact resistance.

<<液晶組成物>>
コレステリック液晶層は、液晶組成物を硬化してなる層である。液晶組成物は、液晶化合物を含む組成物である。本開示に用いられる液晶化合物としては、成型加工性の観点から、エチレン性不飽和基を1つ有するか又は環状エーテル基を1つ有するコレステリック液晶化合物を少なくとも用いることが好ましい。コレステリック液晶層を形成するための液晶組成物は、例えば、エチレン性不飽和基を1つ有するか又は環状エーテル基を1つ有するコレステリック液晶化合物を、液晶組成物の全固形分に対し、25質量%以上含み、更に、その他の成分(例えば、カイラル剤、配向制御剤、重合開始剤、及び配向助剤)を含有していてもよい。
<< liquid crystal composition >>
A cholesteric liquid crystal layer is a layer formed by curing a liquid crystal composition. A liquid crystal composition is a composition containing a liquid crystal compound. As the liquid crystal compound used in the present disclosure, from the viewpoint of moldability, it is preferable to use at least a cholesteric liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group or one cyclic ether group. The liquid crystal composition for forming the cholesteric liquid crystal layer includes, for example, a cholesteric liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group or one cyclic ether group, and 25 mass of the total solid content of the liquid crystal composition. % or more, and may further contain other components (for example, a chiral agent, an alignment control agent, a polymerization initiator, and an alignment aid).

-エチレン性不飽和基を1つ有するか又は環状エーテル基を1つ有するコレステリック液晶化合物-
液晶組成物は、液晶化合物として、エチレン性不飽和基を1つ有するか又は環状エーテル基を1つ有するコレステリック液晶化合物(以下、「特定液晶化合物」ともいう。)を25質量%以上含むことが好ましい。
-Cholesteric liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group or one cyclic ether group-
The liquid crystal composition may contain 25% by mass or more of a cholesteric liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group or one cyclic ether group (hereinafter also referred to as "specific liquid crystal compound") as a liquid crystal compound. preferable.

特定液晶化合物におけるエチレン性不飽和基としては、特に制限はないが、例えば、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基、ビニル基、ビニルエステル基、及びビニルエーテル基が挙げられる。エチレン性不飽和基は、反応性の観点から、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基、又は、芳香族ビニル基であることが好ましく、(メタ)アクリロキシ基、又は、(メタ)アクリルアミド基であることがより好ましく、(メタ)アクリロキシ基であることが特に好ましい。 The ethylenically unsaturated group in the specific liquid crystal compound is not particularly limited, but examples thereof include (meth)acryloxy, (meth)acrylamide, vinyl, vinyl ester and vinyl ether groups. From the viewpoint of reactivity, the ethylenically unsaturated group is preferably a (meth)acryloxy group, a (meth)acrylamide group, or an aromatic vinyl group, and a (meth)acryloxy group or a (meth)acrylamide group. is more preferred, and a (meth)acryloxy group is particularly preferred.

特定液晶化合物における環状エーテル基は、特に制限はないが、反応性の観点から、エポキシ基、又は、オキセタニル基であることが好ましく、オキセタニル基であることが特に好ましい。 The cyclic ether group in the specific liquid crystal compound is not particularly limited, but from the viewpoint of reactivity, it is preferably an epoxy group or an oxetanyl group, particularly preferably an oxetanyl group.

特定液晶化合物は、反応性、並びに、成型後における反射率変化抑制及び色味変化抑制の観点から、エチレン性不飽和基を1つ有するコレステリック液晶化合物であることが好ましい。液晶組成物は、エチレン性不飽和基を1つ有するコレステリック液晶化合物を、液晶組成物の全固形分に対し、25質量%以上含むことがより好ましい。 The specific liquid crystal compound is preferably a cholesteric liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group, from the viewpoints of reactivity and suppression of changes in reflectance and color change after molding. The liquid crystal composition more preferably contains a cholesteric liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group in an amount of 25% by mass or more relative to the total solid content of the liquid crystal composition.

なお、特定液晶化合物は、エチレン性不飽和基、及び、環状エーテル基の両方を1つの分子内に有してもよいが、エチレン性不飽和基の数が1つであるか、環状エーテル基の数が1つであるものとする。また、特定液晶化合物におけるエチレン性不飽和基の数が1つであれば、例えば、上記特定液晶化合物は、1つのエチレン性不飽和基と1つ以上の環状エーテル基とを有する化合物であってもよい。 The specific liquid crystal compound may have both an ethylenically unsaturated group and a cyclic ether group in one molecule. is one. Further, when the number of ethylenically unsaturated groups in the specific liquid crystal compound is one, for example, the specific liquid crystal compound is a compound having one ethylenically unsaturated group and one or more cyclic ether groups, good too.

液晶組成物がエチレン性不飽和基を1つ有するコレステリック液晶化合物を含む場合、上記液晶組成物は、成型後における反射率変化抑制及び色味変化抑制の観点から、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましく、光ラジカル重合開始剤を含むことがより好ましい。 When the liquid crystal composition contains a cholesteric liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group, the liquid crystal composition may contain a radical polymerization initiator from the viewpoint of suppressing reflectance change and color change after molding. More preferably, it contains a radical photopolymerization initiator.

液晶組成物が環状エーテル基を1つ有するコレステリック液晶化合物を含む場合、上記液晶組成物は、成型後における反射率変化抑制、及び、色味変化抑制の観点から、カチオン重合開始剤を含むことが好ましく、光カチオン重合開始剤を含むことがより好ましい。 When the liquid crystal composition contains a cholesteric liquid crystal compound having one cyclic ether group, the liquid crystal composition may contain a cationic polymerization initiator from the viewpoint of suppressing reflectance change and color change after molding. More preferably, it contains a photocationic polymerization initiator.

特定液晶化合物は、成型後における反射率変化抑制及び色味変化抑制の観点から、エチレン性不飽和基、及び、環状エーテル基の両方を有するコレステリック液晶化合物であることが好ましく、1つのエチレン性不飽和基と1つの環状エーテル基とを有するコレステリック液晶化合物であることがより好ましい。 The specific liquid crystal compound is preferably a cholesteric liquid crystal compound having both an ethylenically unsaturated group and a cyclic ether group, from the viewpoint of suppressing change in reflectance and suppressing color change after molding. A cholesteric liquid crystal compound having a saturated group and one cyclic ether group is more preferred.

特定液晶化合物は、液晶構造を有する化合物であれば、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよい。特定液晶化合物は、コレステリック液晶層における螺旋構造のピッチの調整容易性、並びに、成型後における反射率変化抑制及び色味変化抑制の観点から、棒状液晶化合物であることが好ましい。 The specific liquid crystal compound may be a rod-like liquid crystal compound or a discotic liquid crystal compound as long as it is a compound having a liquid crystal structure. The specific liquid crystal compound is preferably a rod-like liquid crystal compound from the viewpoints of ease of adjustment of the pitch of the helical structure in the cholesteric liquid crystal layer and suppression of change in reflectance and change in color tone after molding.

棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、又は、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶化合物だけではなく、液晶性高分子化合物も用いることができる。棒状液晶化合物としては、「Makromol. Chem., 190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)」、米国特許第4683327号明細書、米国特許第5622648号明細書、米国特許第5770107号明細書、国際公開第1995/022586号、国際公開第1995/024455号、国際公開第1997/000600号、国際公開第1998/023580号、国際公開第1998/052905号、特開平1-272551号公報、特開平6-16616号公報、特開平7-110469号公報、特開平11-80081号公報、及び、特開2001-328973号公報に記載の化合物のうち、エチレン性不飽和基を1つ有するか又は環状エーテル基を1つ有する化合物を用いることができる。更に、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平11-513019号公報及び特開2007-279688号公報に記載の化合物のうち、エチレン性不飽和基を1つ有するか又は環状エーテル基を1つ有する化合物を好ましく用いることができる。コレステリック液晶層は、棒状液晶化合物の重合によって配向を固定してなる層であることがより好ましい。 Rod-shaped liquid crystal compounds include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidines, alkoxy-substituted phenylpyrimidines, Phenyldioxanes, tolanes or alkenylcyclohexylbenzonitriles are preferably used. Not only low-molecular-weight liquid crystal compounds as described above, but also liquid-crystalline polymer compounds can be used. Chem., 190, 2255 (1989), Advanced Materials 5, 107 (1993), U.S. Pat. No. 4,683,327, U.S. Pat. , U.S. Patent No. 5,770,107, WO 1995/022586, WO 1995/024455, WO 1997/000600, WO 1998/023580, WO 1998/052905, Patent Among the compounds described in JP-A-1-272551, JP-A-6-16616, JP-A-7-110469, JP-A-11-80081, and JP-A-2001-328973, ethylenically unsaturated Compounds with one saturated group or one cyclic ether group can be used. Furthermore, as the rod-like liquid crystal compound, for example, among the compounds described in JP-A-11-513019 and JP-A-2007-279688, one having one ethylenically unsaturated group or one cyclic ether group can be preferably used. The cholesteric liquid crystal layer is more preferably a layer in which the orientation is fixed by polymerization of a rod-like liquid crystal compound.

円盤状液晶化合物としては、例えば、特開2007-108732号公報又は特開2010-244038号公報に記載の化合物のうち、エチレン性不飽和基を1つ有するか又は環状エーテル基を1つ有する化合物を好ましく用いることができる。 As the discotic liquid crystal compound, for example, among the compounds described in JP-A-2007-108732 or JP-A-2010-244038, compounds having one ethylenically unsaturated group or having one cyclic ether group can be preferably used.

特定液晶化合物として具体的には、下記に示す化合物が好ましく挙げられるが、これらに限定されないことは言うまでもない。 Specific examples of the specific liquid crystal compound preferably include the compounds shown below, but needless to say, the compound is not limited to these.

Figure 0007177273000001
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Figure 0007177273000002
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Figure 0007177273000003
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Figure 0007177273000004
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Figure 0007177273000006
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Figure 0007177273000007
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液晶組成物は、特定液晶化合物を、1種単独で含んでいても、2種以上を含んでいてもよい。特定液晶化合物の含有量は、液晶組成物の全固形分に対し、25質量%以上であることが好ましい。特定液晶化合物の含有量が25質量%以上であると、成型後における反射率の変化が小さい加飾フィルムが得られる。また、特定液晶化合物の含有量は、成型後における反射率変化抑制及び色味変化抑制の観点から、液晶組成物の全固形分に対し、30質量%以上であることが好ましく、40質量%以上であることがより好ましく、60質量%以上99質量%以下であることが更に好ましく、80質量%以上98質量%以下であることが特に好ましい。 The liquid crystal composition may contain one type of specific liquid crystal compound alone, or may contain two or more types thereof. The content of the specific liquid crystal compound is preferably 25% by mass or more with respect to the total solid content of the liquid crystal composition. When the content of the specific liquid crystal compound is 25% by mass or more, a decorative film with a small change in reflectance after molding can be obtained. In addition, the content of the specific liquid crystal compound is preferably 30% by mass or more, preferably 40% by mass or more, based on the total solid content of the liquid crystal composition, from the viewpoint of suppressing change in reflectance and suppressing color change after molding. is more preferably 60% by mass or more and 99% by mass or less, and particularly preferably 80% by mass or more and 98% by mass or less.

-他のコレステリック液晶化合物-
液晶組成物は、特定液晶化合物以外の他のコレステリック液晶化合物(以下、単に「他の液晶化合物」ともいう。)を含んでいてもよい。他の液晶化合物としては、例えば、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、2つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、2つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しないコレステリック液晶化合物、及び、2つ以上のエチレン性不飽和基及び2つ以上の環状エーテル基を有するコレステリック液晶化合物が挙げられる。他の液晶化合物は、成型後における反射率変化抑制及び色味変化抑制の観点から、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、2つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、及び、2つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しないコレステリック液晶化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、2つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、及び、2つの環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しないコレステリック液晶化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、及び、2つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることが特に好ましい。
-Other Cholesteric Liquid Crystal Compounds-
The liquid crystal composition may contain a cholesteric liquid crystal compound other than the specific liquid crystal compound (hereinafter also simply referred to as "another liquid crystal compound"). Other liquid crystal compounds include, for example, cholesteric liquid crystal compounds having no ethylenically unsaturated groups and cyclic ether groups, cholesteric liquid crystal compounds having two or more ethylenically unsaturated groups and no cyclic ether groups, A cholesteric liquid crystal compound having two or more cyclic ether groups and no ethylenically unsaturated groups, and a cholesteric liquid crystal compound having two or more ethylenically unsaturated groups and two or more cyclic ether groups mentioned. Other liquid crystal compounds are cholesteric liquid crystal compounds that do not have ethylenically unsaturated groups and cyclic ether groups, and have two or more ethylenically unsaturated groups, from the viewpoint of suppressing reflectance change and color change after molding. And at least one selected from the group consisting of cholesteric liquid crystal compounds having no cyclic ether groups, and cholesteric liquid crystal compounds having two or more cyclic ether groups and no ethylenically unsaturated groups It is preferably a compound, a cholesteric liquid crystal compound having no ethylenically unsaturated groups and cyclic ether groups, a cholesteric liquid crystal compound having two ethylenically unsaturated groups and having no cyclic ether groups, and two It is more preferably at least one compound selected from the group consisting of cholesteric liquid crystal compounds having a cyclic ether group and no ethylenically unsaturated group, having an ethylenically unsaturated group and a cyclic ether group. and at least one compound selected from the group consisting of a cholesteric liquid crystal compound having two ethylenically unsaturated groups and no cyclic ether group is particularly preferable.

他の液晶化合物としては、公知のコレステリック液晶化合物を用いることができる。他の液晶化合物における棒状液晶化合物としては、例えば、「Makromol. Chem., 190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)」、米国特許第4683327号明細書、米国特許第5622648号明細書、米国特許第5770107号明細書、国際公開第1995/022586号、国際公開第1995/024455号、国際公開第1997/000600号、国際公開第1998/023580号、国際公開第1998/052905号、特開平1-272551号公報、特開平6-16616号公報、特開平7-110469号公報、特開平11-80081号公報、及び、特開2001-328973号公報に記載の化合物を用いることができる。更に、他の液晶化合物における棒状液晶化合物としては、例えば、特表平11-513019号公報又は特開2007-279688号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。他の液晶化合物における円盤状液晶化合物としては、例えば、特開2007-108732号公報又は特開2010-244038号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。 As another liquid crystal compound, a known cholesteric liquid crystal compound can be used. Rod-shaped liquid crystal compounds in other liquid crystal compounds include, for example, "Makromol. Chem., Vol. 190, p. 2255 (1989), Advanced Materials Vol. 5, p. US Pat. No. 5,622,648, US Pat. No. 5,770,107, WO 1995/022586, WO 1995/024455, WO 1997/000600, WO 1998/023580, WO No. 1998/052905, JP-A-1-272551, JP-A-6-16616, JP-A-7-110469, JP-A-11-80081, and JP-A-2001-328973 compounds can be used. Furthermore, as a rod-like liquid crystal compound among other liquid crystal compounds, for example, compounds described in JP-A-11-513019 or JP-A-2007-279688 can be preferably used. As the discotic liquid crystal compound among other liquid crystal compounds, for example, compounds described in JP-A-2007-108732 or JP-A-2010-244038 can be preferably used.

液晶組成物は、他の液晶化合物を、1種単独で含んでいても、2種以上を含んでいてもよい。他の液晶化合物の含有量は、成型後における反射率変化抑制及び色味変化抑制の観点から、液晶組成物の全固形分に対し、70質量%以下であることが好ましく、60質量%以下であることがより好ましく、40質量%以下であることが更に好ましく、5質量%以下であることが特に好ましい。なお、他の液晶化合物の含有量の下限値は、0質量%である。 The liquid crystal composition may contain other liquid crystal compounds singly or in combination of two or more. The content of the other liquid crystal compound is preferably 70% by mass or less, preferably 60% by mass or less, based on the total solid content of the liquid crystal composition, from the viewpoint of suppressing reflectance change and suppressing color change after molding. It is more preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 5% by mass or less. In addition, the lower limit of the content of other liquid crystal compounds is 0% by mass.

-カイラル剤(光学活性化合物)-
液晶組成物は、コレステリック液晶層形成の容易性、及び、螺旋構造のピッチの調整容易性の観点から、カイラル剤(すなわち、光学活性化合物)を含むことが好ましい。カイラル剤は、コレステリック液晶層における螺旋構造を誘起する機能を有する。カイラル剤は、液晶化合物によって誘起する螺旋のよじれ方向又は螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。カイラル剤としては、特に制限はなく、公知の化合物(例えば、「液晶デバイスハンドブック」、第3章4-3項、TN(twisted nematic)、STN(Super-twisted nematic)用カイラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989に記載された化合物)、イソソルビド、及びイソマンニド誘導体を用いることができる。カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル化合物、ヘリセン化合物、又は、パラシクロファン化合物が好ましく挙げられる。
- Chiral agent (optically active compound) -
The liquid crystal composition preferably contains a chiral agent (that is, an optically active compound) from the viewpoints of facilitating the formation of a cholesteric liquid crystal layer and facilitating adjustment of the pitch of the helical structure. A chiral agent has a function of inducing a helical structure in a cholesteric liquid crystal layer. The chiral agent may be selected depending on the purpose, since the direction of helical twist or helical pitch induced by the liquid crystal compound differs. The chiral agent is not particularly limited, and may be a known compound (for example, "Liquid Crystal Device Handbook", Chapter 3, Section 4-3, chiral agent for TN (twisted nematic), STN (super-twisted nematic), page 199, 142nd Committee, Japan Society for the Promotion of Science, 1989), isosorbide, and isomannide derivatives can be used. A chiral agent generally contains an asymmetric carbon atom, but an axially chiral compound or planar chiral compound that does not contain an asymmetric carbon atom can also be used as the chiral agent. Examples of axially asymmetric compounds or planar asymmetric compounds preferably include binaphthyl compounds, helicene compounds, and paracyclophane compounds.

液晶組成物は、成型後における反射率変化抑制の観点から、カイラル剤として、重合性基を有するカイラル剤を含むことが好ましく、重合性基を含むカイラル剤、及び、重合性基を有しないカイラル剤を含むことがより好ましい。重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性、及び、成型後における反射率変化抑制の観点から、エチレン性不飽和基、又は、環状エーテル基であることが好ましく、エチレン性不飽和基であることがより好ましい。カイラル剤におけるエチレン性不飽和基及び環状エーテル基の好ましい態様は、上述した特定液晶化合物におけるエチレン性不飽和基及び環状エーテル基の好ましい態様とそれぞれ同様である。 From the viewpoint of suppressing change in reflectance after molding, the liquid crystal composition preferably contains a chiral agent having a polymerizable group as a chiral agent. It is more preferable to contain an agent. The polymerizable group is not particularly limited as long as it is a polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity and suppression of change in reflectance after molding, an ethylenically unsaturated group or a cyclic ether group is preferred. Preferably, it is an ethylenically unsaturated group. Preferred aspects of the ethylenically unsaturated group and the cyclic ether group in the chiral agent are the same as those of the ethylenically unsaturated group and the cyclic ether group in the specific liquid crystal compound described above.

カイラル剤がエチレン性不飽和基、又は、環状エーテル基を有する場合、反応性、及び、成型後における反射率変化抑制の観点から、特定液晶化合物が有するエチレン性不飽和基、又は、環状エーテル基と、カイラル剤が有するエチレン性不飽和基、又は、環状エーテル基とは同種の基(例えば、エチレン性不飽和基、好ましくは(メタ)アクリロキシ基)であることが好ましく、同じ基であることがより好ましい。 When the chiral agent has an ethylenically unsaturated group or a cyclic ether group, the ethylenically unsaturated group or cyclic ether group possessed by the specific liquid crystal compound is used from the viewpoint of reactivity and suppression of reflectance change after molding. and the ethylenically unsaturated group or cyclic ether group possessed by the chiral agent are preferably the same group (e.g., an ethylenically unsaturated group, preferably a (meth)acryloxy group), and are the same group. is more preferred.

重合性基を有するカイラル剤は、反応性、及び、成型後における反射率変化抑制の観点から、2つ以上の重合性基を有するカイラル剤であることが好ましく、2つ以上のエチレン性不飽和基を有するカイラル剤、又は、2つ以上の環状エーテル基を有するカイラル剤であることがより好ましく、2つ以上のエチレン性不飽和基を有するカイラル剤であることが特に好ましい。 The chiral agent having a polymerizable group is preferably a chiral agent having two or more polymerizable groups from the viewpoint of reactivity and suppression of change in reflectance after molding. A chiral agent having a group or a chiral agent having two or more cyclic ether groups is more preferable, and a chiral agent having two or more ethylenically unsaturated groups is particularly preferable.

カイラル剤は、コレステリック液晶化合物であってもよい。 The chiral agent may be a cholesteric liquid crystal compound.

なお、後述するように、コレステリック液晶層を製造する際に、光照射によってコレステリック液晶層の螺旋ピッチの大きさを制御する場合、液晶組成物は、光に感応しコレステリック液晶層の螺旋ピッチを変化させ得るカイラル剤(以下、「感光性カイラル剤」ともいう。)を含むことが好ましい。感光性カイラル剤とは、光を吸収することにより構造が変化し、コレステリック液晶層の螺旋ピッチを変化させ得る化合物である。このような化合物としては、光異性化反応、光二量化反応、及び、光分解反応の少なくとも1つを起こす化合物が好ましい。光異性化反応を起こす化合物とは、光の作用で立体異性化又は構造異性化を起こす化合物をいう。光異性化反応を起こす化合物としては、例えば、アゾベンゼン化合物、及びスピロピラン化合物が挙げられる。また、光二量化反応を起こす化合物とは、光の照射によって、二つの基の間に付加反応を起こして環化する化合物をいう。光二量化反応を起こす化合物としては、例えば、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、及びベンゾフェノン誘導体が挙げられる。また、光としては、特に制限はなく、例えば、紫外光、可視光、及び赤外光が挙げられる。 As will be described later, when controlling the size of the helical pitch of the cholesteric liquid crystal layer by light irradiation when manufacturing the cholesteric liquid crystal layer, the liquid crystal composition changes the helical pitch of the cholesteric liquid crystal layer in response to light. It is preferable to include a chiral agent (hereinafter also referred to as a “photosensitive chiral agent”) that allows the photosensitivity. A photosensitive chiral agent is a compound that changes its structure by absorbing light and can change the helical pitch of the cholesteric liquid crystal layer. As such a compound, a compound that causes at least one of a photoisomerization reaction, a photodimerization reaction, and a photodecomposition reaction is preferable. A compound that undergoes a photoisomerization reaction refers to a compound that undergoes stereoisomerization or structural isomerization under the action of light. Compounds that cause photoisomerization include, for example, azobenzene compounds and spiropyran compounds. Further, a compound that causes a photodimerization reaction refers to a compound that undergoes an addition reaction between two groups and is cyclized by irradiation with light. Compounds that cause photodimerization include, for example, cinnamic acid derivatives, coumarin derivatives, chalcone derivatives, and benzophenone derivatives. Moreover, the light is not particularly limited, and examples thereof include ultraviolet light, visible light, and infrared light.

感光性カイラル剤としては、下記式(CH1)で表されるカイラル剤が好ましく挙げられる。下記式(CH1)で表されるカイラル剤は、光照射時の光量に応じてコレステリック液晶相の螺旋ピッチ(例えば、螺旋周期、及びねじれ周期)などの配向構造を変化させ得る。 As the photosensitive chiral agent, a chiral agent represented by the following formula (CH1) is preferably exemplified. The chiral agent represented by the following formula (CH1) can change the orientation structure such as the helical pitch (eg, helical period and twist period) of the cholesteric liquid crystal phase depending on the amount of light irradiated.

Figure 0007177273000008
Figure 0007177273000008

式(CH1)中、ArCH1及びArCH2はそれぞれ独立に、アリール基又は複素芳香環基を表し、RCH1及びRCH2はそれぞれ独立に、水素原子又はシアノ基を表す。In formula (CH1), Ar CH1 and Ar CH2 each independently represent an aryl group or a heteroaromatic ring group, and R CH1 and R CH2 each independently represent a hydrogen atom or a cyano group.

式(CH1)におけるArCH1及びArCH2はそれぞれ独立に、アリール基であることが好ましい。式(CH1)のArCH1及びArCH2におけるアリール基の総炭素数は、6~40であることが好ましく、6~30であることがより好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、又は、複素環基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アリールオキシカルボニル基がより好ましい。Ar 4 CH1 and Ar 4 CH2 in formula (CH1) are each independently preferably an aryl group. The total carbon number of the aryl groups in Ar 2 CH1 and Ar 2 CH2 of formula (CH1) is preferably 6-40, more preferably 6-30. The aryl group may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, alkoxy groups, hydroxy groups, acyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, acyloxy groups, carboxy groups, cyano groups, or heterocyclic rings. A group is preferred, and a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group is more preferred.

ArCH1及びArCH2としては、下記式(CH2)又は式(CH3)で表されるアリール基が好ましい。Ar CH1 and Ar CH2 are preferably aryl groups represented by the following formula (CH2) or (CH3).

Figure 0007177273000009
Figure 0007177273000009

式(CH2)及び式(CH3)中、RCH3及びRCH4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、又は、シアノ基を表し、LCH1及びLCH2はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又は、ヒドロキシ基を表し、nCH1は0~4の整数を表し、nCH2は0~6の整数を表し、*は式(CH1)におけるエチレン不飽和結合を形成するCとの結合位置を表す。In formula (CH2) and formula (CH3), R CH3 and R CH4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, a hydroxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, a carboxy group, or a cyano group, L CH1 and L CH2 each independently represent a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or a hydroxy group, nCH1 represents an integer of 0 to 4, nCH2 represents an integer of 0 to 6, and * represents a bonding position with C forming an ethylenically unsaturated bond in formula (CH1).

式(CH2)及び式(CH3)におけるRCH3及びRCH4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、又は、アシルオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又は、アシルオキシ基であることがより好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。
式(CH2)及び式(CH3)におけるLCH1及びLCH2はそれぞれ独立に、炭素数1~10のアルコキシ基、又は、ヒドロキシ基であることが好ましい。
式(CH2)におけるnCH1は、0又は1であることが好ましい。
式(CH3)におけるnCH2は、0又は1であることが好ましい。
R CH3 and R CH4 in formula (CH2) and formula (CH3) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, Alternatively, it is preferably an acyloxy group, more preferably an alkoxy group, a hydroxy group, or an acyloxy group, and particularly preferably an alkoxy group.
L CH1 and L CH2 in the formulas (CH2) and (CH3) are each independently preferably an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a hydroxy group.
nCH1 in formula (CH2) is preferably 0 or 1.
nCH2 in formula (CH3) is preferably 0 or 1.

式(CH1)のArCH1及びArCH2における複素芳香環基の総炭素数は、4~40であることが好ましく、4~30であることがより好ましい。複素芳香環基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、又は、シアノ基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アシルオキシ基がより好ましい。複素芳香環基としては、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、又は、ベンゾフラニル基が好ましく、ピリジル基、又は、ピリミジニル基がより好ましい。The total carbon number of the heteroaromatic ring groups in Ar 2 CH1 and Ar 2 CH2 of formula (CH1) is preferably 4-40, more preferably 4-30. The heteroaromatic ring group may have a substituent. Preferred substituents include, for example, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, a hydroxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, or a cyano group. Halogen atoms, alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups, alkoxy groups, or acyloxy groups are more preferred. The heteroaromatic ring group is preferably a pyridyl group, a pyrimidinyl group, a furyl group or a benzofuranyl group, more preferably a pyridyl group or a pyrimidinyl group.

式(CH1)中、RCH1及びRCH2はそれぞれ独立に、水素原子であることが好ましい。In formula (CH1), R CH1 and R CH2 are each independently preferably a hydrogen atom.

液晶組成物は、カイラル剤を、1種単独で含んでいても、2種以上を含んでいてもよい。カイラル剤の含有量は、使用する特定液晶化合物の構造や螺旋構造の所望のピッチに応じ適宜選択することができる。カイラル剤の含有量は、コレステリック液晶層形成の容易性、螺旋構造のピッチの調整容易性、及び、成型後における反射率変化抑制の観点から、液晶組成物の全固形分に対し、1質量%以上20質量%以下であることが好ましく、2質量%以上15質量%以下であることがより好ましく、3質量%以上10質量%以下であることが特に好ましい。 The liquid crystal composition may contain one chiral agent alone or two or more chiral agents. The content of the chiral agent can be appropriately selected according to the structure of the specific liquid crystal compound used and the desired pitch of the helical structure. The content of the chiral agent is 1% by mass based on the total solid content of the liquid crystal composition, from the viewpoints of facilitating the formation of the cholesteric liquid crystal layer, facilitating adjustment of the pitch of the helical structure, and suppressing changes in reflectance after molding. It is preferably 20% by mass or more, more preferably 2% by mass or more and 15% by mass or less, and particularly preferably 3% by mass or more and 10% by mass or less.

液晶組成物がカイラル剤として重合性基を有するカイラル剤を含有する場合、重合性基を有するカイラル剤の含有量は、成型後における反射率変化抑制の観点から、液晶組成物の全固形分に対し、0.2質量%以上15質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上10質量%以下であることがより好ましく、1質量%以上8質量%以下であることが更に好ましく、1.5質量%以上5質量%以下であることが特に好ましい。 In the case where the liquid crystal composition contains a chiral agent having a polymerizable group as a chiral agent, the content of the chiral agent having a polymerizable group is, from the viewpoint of suppressing change in reflectance after molding, the total solid content of the liquid crystal composition. On the other hand, it is preferably 0.2% by mass or more and 15% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less, and even more preferably 1% by mass or more and 8% by mass or less. It is particularly preferable to be 1.5% by mass or more and 5% by mass or less.

液晶組成物がカイラル剤として重合性基を有しないカイラル剤を含有する場合、重合性基を有しないカイラル剤の含有量は、成型後における反射率変化抑制の観点から、液晶組成物の全固形分に対し、0.2質量%以上20質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上15質量%以下であることがより好ましく、1.5質量%以上10質量%以下であることが特に好ましい。 When the liquid crystal composition contains a chiral agent that does not have a polymerizable group as a chiral agent, the content of the chiral agent that does not have a polymerizable group should be within the total solid content of the liquid crystal composition from the viewpoint of suppressing changes in reflectance after molding. It is preferably 0.2% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 15% by mass or less, and 1.5% by mass or more and 10% by mass or less. is particularly preferred.

また、コレステリック液晶層におけるコレステリック液晶の螺旋構造のピッチ、並びに、後述する選択反射波長及びその範囲は、使用する液晶化合物の種類だけでなく、カイラル剤の含有量を調製することによっても、容易に変化させることができる。一概には言えないが、液晶組成物におけるカイラル剤の含有量が2倍になると、上記ピッチが1/2、及び、上記選択反射波長の中心値も1/2となる場合がある。 In addition, the pitch of the helical structure of the cholesteric liquid crystal in the cholesteric liquid crystal layer, and the selective reflection wavelength and its range described later can be easily adjusted not only by the type of liquid crystal compound used but also by adjusting the content of the chiral agent. can be changed. Although it cannot be generalized, if the content of the chiral agent in the liquid crystal composition is doubled, the pitch may be halved and the central value of the selective reflection wavelength may also be halved.

-重合開始剤-
液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましく、光重合開始剤を含むことがより好ましい。
-Polymerization initiator-
The liquid crystal composition preferably contains a polymerization initiator, more preferably a photopolymerization initiator.

液晶組成物がエチレン性不飽和基を1つ有するコレステリック液晶化合物を含む場合、上記液晶組成物は、成型後における反射率変化抑制及び色味変化抑制の観点から、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましく、光ラジカル重合開始剤を含むことがより好ましい。 When the liquid crystal composition contains a cholesteric liquid crystal compound having one ethylenically unsaturated group, the liquid crystal composition may contain a radical polymerization initiator from the viewpoint of suppressing reflectance change and color change after molding. More preferably, it contains a radical photopolymerization initiator.

液晶組成物が環状エーテル基を1つ有するコレステリック液晶化合物を含む場合、上記液晶組成物は、成型後における反射率変化抑制、及び、色味変化抑制の観点から、カチオン重合開始剤を含むことが好ましく、光カチオン重合開始剤を含むことがより好ましい。 When the liquid crystal composition contains a cholesteric liquid crystal compound having one cyclic ether group, the liquid crystal composition may contain a cationic polymerization initiator from the viewpoint of suppressing reflectance change and color change after molding. More preferably, it contains a photocationic polymerization initiator.

液晶組成物は、重合開始剤として、ラジカル重合開始剤、又は、カチオン重合開始剤のどちらか一方のみを含むことが好ましい。 The liquid crystal composition preferably contains only one of a radical polymerization initiator and a cationic polymerization initiator as a polymerization initiator.

重合開始剤としては、公知の重合開始剤を用いることができる。また、重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤の例としては、α-カルボニル化合物(米国特許第2367661号、及び米国特許第2367670号の各明細書記載)、アシロインエーテル化合物(米国特許第2448828号明細書記載)、α-炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(米国特許第2722512号明細書記載)、多核キノン化合物(米国特許第3046127号、及び米国特許第2951758号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイマーとp-アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国特許第3549367号明細書記載)、アクリジン化合物及びフェナジン化合物(特開昭60-105667号公報、及び米国特許第4239850号明細書記載)、並びにオキサジアゾール化合物(米国特許第4212970号明細書記載)が挙げられる。 A known polymerization initiator can be used as the polymerization initiator. Moreover, the polymerization initiator is preferably a photopolymerization initiator capable of initiating a polymerization reaction by ultraviolet irradiation. Examples of photoinitiators include α-carbonyl compounds (described in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670), acyloin ether compounds (described in US Pat. No. 2,448,828), α- Hydrocarbon-substituted aromatic acyloin compounds (described in US Pat. No. 2,722,512), polynuclear quinone compounds (described in US Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758), triarylimidazole dimers and p-aminophenyl Combinations with ketones (described in US Pat. No. 3,549,367), acridine compounds and phenazine compounds (described in JP-A-60-105667 and US Pat. No. 4,239,850), and oxadiazole compounds (described in US Pat. No. 4212970).

光ラジカル重合開始剤としては、公知の光ラジカル重合開始剤を用いることができる。光ラジカル重合開始剤としては、α-ヒドロキシアルキルフェノン化合物、α-アミノアルキルフェノン化合物、又はアシルホスフィンオキサイド化合物が好ましく挙げられる。 As the radical photopolymerization initiator, a known radical photopolymerization initiator can be used. As the radical photopolymerization initiator, α-hydroxyalkylphenone compounds, α-aminoalkylphenone compounds, and acylphosphine oxide compounds are preferred.

光カチオン重合開始剤としては、公知の光カチオン重合開始剤を用いることができる。光カチオン重合開始剤としては、ヨードニウム塩化合物、又はスルホニウム塩化合物が好ましく挙げられる。 A known photocationic polymerization initiator can be used as the photocationic polymerization initiator. As the photocationic polymerization initiator, an iodonium salt compound or a sulfonium salt compound is preferably used.

液晶組成物は、重合開始剤を、1種単独で含んでいても、2種以上を含んでいてもよい。重合開始剤の含有量は、使用する特定液晶化合物の構造及び螺旋構造の所望のピッチに応じ適宜選択することができる。重合開始剤の含有量は、コレステリック液晶層形成の容易性、螺旋構造のピッチの調整容易性、重合速度、及び、コレステリック液晶層の強度の観点から、液晶組成物の全固形分に対し、0.05質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以上5質量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以上2質量%以下であることが更に好ましく、0.2質量%以上1質量%以下であることが特に好ましい。 The liquid crystal composition may contain one polymerization initiator alone, or may contain two or more polymerization initiators. The content of the polymerization initiator can be appropriately selected according to the structure of the specific liquid crystal compound to be used and the desired pitch of the helical structure. The content of the polymerization initiator is 0 with respect to the total solid content of the liquid crystal composition, from the viewpoints of ease of forming the cholesteric liquid crystal layer, ease of adjusting the pitch of the helical structure, polymerization rate, and strength of the cholesteric liquid crystal layer. It is preferably 0.05% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.05% by mass or more and 5% by mass or less, even more preferably 0.1% by mass or more and 2% by mass or less. .2 mass % or more and 1 mass % or less is particularly preferable.

-架橋剤-
液晶組成物は、硬化後のコレステリック液晶層の強度向上及び耐久性向上のため、架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤としては、例えば、紫外線、熱、又は湿気で硬化する架橋剤が好適に使用できる。架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の多官能アクリレート化合物;グリシジル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物;2,2-ビスヒドロキシメチルブタノール-トリス[3-(1-アジリジニル)プロピオネート]、4,4-ビス(エチレンイミノカルボニルアミノ)ジフェニルメタン等のアジリジン化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、ビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物;オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物;及びビニルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)3-アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物が挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、コレステリック液晶層の強度及び耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。
-Crosslinking agent-
The liquid crystal composition may contain a cross-linking agent in order to improve the strength and durability of the cured cholesteric liquid crystal layer. As the cross-linking agent, for example, a cross-linking agent that cures with ultraviolet rays, heat, or moisture can be preferably used. The cross-linking agent is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples include polyfunctional acrylate compounds such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate and pentaerythritol tri(meth)acrylate; epoxy compounds such as acrylates and ethylene glycol diglycidyl ether; aziridine compounds such as 2,2-bishydroxymethylbutanol-tris[3-(1-aziridinyl)propionate] and 4,4-bis(ethyleneiminocarbonylamino)diphenylmethane; isocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate and biuret-type isocyanate; polyoxazoline compounds having oxazoline groups in side chains; and alkoxysilane compounds such as vinyltrimethoxysilane and N-(2-aminoethyl)3-aminopropyltrimethoxysilane. mentioned. Also, a known catalyst can be used depending on the reactivity of the cross-linking agent, and productivity can be improved in addition to improving the strength and durability of the cholesteric liquid crystal layer.

液晶組成物は、架橋剤を、1種単独で含んでいても、2種以上を含んでいてもよい。架橋剤の含有量は、コレステリック液晶層の強度及び耐久性の観点から、液晶組成物の全固形分に対し、1質量%以上20質量%以下であることが好ましく、3質量%以上15質量%以下であることがより好ましい。 The liquid crystal composition may contain a single cross-linking agent or two or more cross-linking agents. From the viewpoint of the strength and durability of the cholesteric liquid crystal layer, the content of the cross-linking agent is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, and 3% by mass or more and 15% by mass or less, based on the total solid content of the liquid crystal composition. The following are more preferable.

-多官能重合性化合物-
液晶組成物は、成型後における反射率変化抑制の観点から、多官能重合性化合物を含むことが好ましく、同種の重合性基を有する多官能重合性化合物を含むことがより好ましい。多官能重合性化合物としては、上述した他のコレステリック液晶化合物における、2つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、2つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しないコレステリック液晶化合物、及び、2つ以上のエチレン性不飽和基及び2つ以上の環状エーテル基を有するコレステリック液晶化合物、上述したカイラル剤における2つ以上の重合性基を有するカイラル剤、並びに上記架橋剤が挙げられる。
- Polyfunctional polymerizable compound -
From the viewpoint of suppressing changes in reflectance after molding, the liquid crystal composition preferably contains a polyfunctional polymerizable compound, and more preferably contains a polyfunctional polymerizable compound having the same type of polymerizable group. As the polyfunctional polymerizable compound, a cholesteric liquid crystal compound having two or more ethylenically unsaturated groups and not having a cyclic ether group in the other cholesteric liquid crystal compounds described above, and two or more cyclic ether groups. and a cholesteric liquid crystal compound having no ethylenically unsaturated groups, a cholesteric liquid crystal compound having two or more ethylenically unsaturated groups and two or more cyclic ether groups, and two or more of the above chiral agents and the above-mentioned cross-linking agents.

液晶組成物は、多官能重合性化合物として、2つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しないコレステリック液晶化合物、2つ以上の環状エーテル基を有し、かつエチレン性不飽和基を有しないコレステリック液晶化合物、及び、2つ以上の重合性基を有するカイラル剤よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物を含むことが好ましく、2つ以上の重合性基を有するカイラル剤を含むことがより好ましい。 The liquid crystal composition includes, as polyfunctional polymerizable compounds, a cholesteric liquid crystal compound having two or more ethylenically unsaturated groups and no cyclic ether group, a cholesteric liquid crystal compound having two or more cyclic ether groups and ethylene It preferably contains at least one compound selected from the group consisting of a cholesteric liquid crystal compound having no polyunsaturated group and a chiral agent having two or more polymerizable groups, and two or more polymerizable groups. It is more preferable to include a chiral agent having

液晶組成物は、多官能重合性化合物を、1種単独で含んでいても、2種以上を含んでいてもよい。多官能重合性化合物の含有量は、成型後における反射率変化抑制の観点から、液晶組成物の全固形分に対し、0.5質量%以上70質量%以下であることが好ましく、1質量%以上50質量%以下であることがより好ましく、1.5質量%以上20質量%以下であることが更に好ましく、2質量%以上10質量%以下であることが特に好ましい。 The liquid crystal composition may contain one type of polyfunctional polymerizable compound alone, or two or more types thereof. From the viewpoint of suppressing change in reflectance after molding, the content of the polyfunctional polymerizable compound is preferably 0.5% by mass or more and 70% by mass or less, and 1% by mass, based on the total solid content of the liquid crystal composition. It is more preferably at least 50% by mass, still more preferably at least 1.5% by mass and at most 20% by mass, and particularly preferably at least 2% by mass and not more than 10% by mass.

-その他の添加剤-
液晶組成物は、必要に応じて、上述した成分以外のその他の添加剤を含んでいてもよい。その他の添加剤としては、公知の添加剤を用いることができ、例えば、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、水平配向剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、着色剤、及び金属酸化物粒子を挙げることができる。
-Other additives-
The liquid crystal composition may contain additives other than the components described above, if necessary. Other additives that can be used include known additives, such as surfactants, polymerization inhibitors, antioxidants, horizontal alignment agents, UV absorbers, light stabilizers, colorants, and metal oxide particles can be mentioned.

また、液晶組成物は、溶媒を含んでいてもよい。溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ケトン類(例えば、メチルエチルケトン、及びメチルイソブチルケトン)、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、及びエーテル類が挙げられる。溶媒は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が特に好ましい。また、上述の成分が溶媒として機能していてもよい。 Moreover, the liquid crystal composition may contain a solvent. The solvent is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended purpose, but an organic solvent is preferably used. The organic solvent is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended purpose. Included are hydrocarbons, esters, and ethers. A solvent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, ketones are particularly preferable in consideration of the load on the environment. Moreover, the above-mentioned component may function as a solvent.

液晶組成物における溶媒の含有量は、特に制限はなく、所望の塗布性が得られる溶媒の含有量に調整すればよい。液晶組成物の全質量に対する固形分の含有量は、特に制限はないが、1質量%~90質量%であることが好ましく、5質量%~80質量%であることがより好ましく、10質量%~80質量%であることが特に好ましい。コレステリック液晶層を形成する際の硬化時における液晶組成物の溶媒の含有量は、液晶組成物の全固形分に対し、5質量%以下であることが好ましく、3質量%以下であることがより好ましく、2質量%以下であることが更に好ましく、1質量%以下であることが特に好ましい。また、液晶組成物を硬化してなるコレステリック液晶層における溶媒の含有量は、コレステリック液晶層の全質量に対し、5質量%以下であることが好ましく、3質量%以下であることがより好ましく、2質量%以下であることが更に好ましく、1質量%以下であることが特に好ましい。 The content of the solvent in the liquid crystal composition is not particularly limited, and may be adjusted so that the desired coatability can be obtained. The content of solids relative to the total mass of the liquid crystal composition is not particularly limited, but is preferably 1% by mass to 90% by mass, more preferably 5% by mass to 80% by mass, and 10% by mass. It is particularly preferred to be ∼80% by mass. The content of the solvent in the liquid crystal composition during curing for forming the cholesteric liquid crystal layer is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, based on the total solid content of the liquid crystal composition. It is preferably 2% by mass or less, more preferably 1% by mass or less. The content of the solvent in the cholesteric liquid crystal layer obtained by curing the liquid crystal composition is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, relative to the total mass of the cholesteric liquid crystal layer. It is more preferably 2% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or less.

-液晶組成物の塗布及び硬化-
コレステリック液晶層の形成において、液晶組成物は、例えば、対象物(例えば、上述の基材、及び後述の配向層)の上に塗布して使用される。液晶組成物の塗布は、例えば、液晶組成物を溶媒により溶液状態としたり、又は加熱による溶融液等の液状物とした後、ロールコーティング方式、グラビア印刷方式、スピンコート方式などの適宜な方式により行うことができる。液晶組成物の塗布は、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、及びダイコーティング法のような種々の方法によって行うこともできる。また、インクジェット装置を用いて、液晶組成物をノズルから吐出して、塗布膜(塗布により形成された膜状の液晶組成物をいう。)を形成することもできる。
- Application and curing of liquid crystal composition -
In forming the cholesteric liquid crystal layer, the liquid crystal composition is used, for example, by being applied onto an object (eg, the base material described above and the orientation layer described later). Application of the liquid crystal composition can be carried out, for example, by making the liquid crystal composition into a solution state with a solvent, or by making it into a liquid state such as a melt by heating, and then by an appropriate method such as a roll coating method, a gravure printing method, or a spin coating method. It can be carried out. Application of the liquid crystal composition can also be performed by various methods such as wire bar coating, extrusion coating, direct gravure coating, reverse gravure coating, and die coating. A coating film (meaning a film-like liquid crystal composition formed by coating) can also be formed by ejecting a liquid crystal composition from a nozzle using an inkjet device.

液晶組成物の塗布の後、液晶組成物の硬化により、コレステリック液晶層を形成する。液晶組成物の硬化により、液晶化合物(例えば、上述の特定液晶化合物)の分子の配向状態を維持して固定する。液晶組成物の硬化は、液晶化合物が有する重合性基(例えば、エチレン性不飽和基、又は環状エーテル基)の重合反応により実施することが好ましい。液晶組成物の成分として溶媒を使用した場合、液晶組成物の塗布後であって、硬化のための重合反応前に、塗布膜を公知の方法で乾燥することが好ましい。例えば放置によって塗布膜を乾燥してもよく、又は加熱によって塗布膜を乾燥してもよい。液晶組成物の塗布及び乾燥後において、液晶組成物中の液晶化合物が配向していればよい。 After application of the liquid crystal composition, a cholesteric liquid crystal layer is formed by curing the liquid crystal composition. By curing the liquid crystal composition, the orientation state of the molecules of the liquid crystal compound (for example, the specific liquid crystal compound described above) is maintained and fixed. Curing of the liquid crystal composition is preferably carried out by a polymerization reaction of a polymerizable group (for example, an ethylenically unsaturated group or a cyclic ether group) possessed by the liquid crystal compound. When a solvent is used as a component of the liquid crystal composition, it is preferable to dry the coating film by a known method after coating the liquid crystal composition and before polymerization reaction for curing. For example, the coating film may be dried by standing, or may be dried by heating. It is sufficient that the liquid crystal compound in the liquid crystal composition is aligned after the liquid crystal composition is applied and dried.

-コレステリック液晶層の層構成-
本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、成型後における反射率変化抑制の観点から、コレステリック液晶層を2層以上有することが好ましい。また、2層以上のコレステリック液晶層の組成はそれぞれ、同じであっても、異なってもよい。本開示の一実施形態に係る加飾フィルムがコレステリック液晶層を2層以上有する場合、本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、エチレン性不飽和基を1つ有するか又は環状エーテル基を1つ有するコレステリック液晶化合物(すなわち、特定液晶化合物)を、液晶組成物の全固形分に対し、25質量%以上含む液晶組成物を硬化してなる層を少なくとも1層有していればよい。成型後における反射率変化抑制の観点から、2層以上のコレステリック液晶層がいずれも、エチレン性不飽和基を1つ有するか又は環状エーテル基を1つ有するコレステリック液晶化合物を、液晶組成物の全固形分に対し、25質量%以上含む液晶組成物を硬化してなる層であることが好ましい。
-Layer structure of cholesteric liquid crystal layer-
The decorative film according to an embodiment of the present disclosure preferably has two or more cholesteric liquid crystal layers from the viewpoint of suppressing changes in reflectance after molding. Also, the compositions of two or more cholesteric liquid crystal layers may be the same or different. When the decorative film according to an embodiment of the present disclosure has two or more cholesteric liquid crystal layers, the decorative film according to an embodiment of the present disclosure has one ethylenically unsaturated group or a cyclic ether group. At least one layer obtained by curing a liquid crystal composition containing one cholesteric liquid crystal compound (that is, a specific liquid crystal compound) in an amount of 25% by mass or more with respect to the total solid content of the liquid crystal composition may be provided. From the viewpoint of suppressing change in reflectance after molding, a cholesteric liquid crystal compound in which each of the two or more cholesteric liquid crystal layers has one ethylenically unsaturated group or one cyclic ether group is added to the entire liquid crystal composition. It is preferably a layer obtained by curing a liquid crystal composition containing 25% by mass or more of the solid content.

また、例えば、本開示の一実施形態に係る加飾フィルムがコレステリック液晶層を2層有する場合、成型後における反射率変化抑制の観点から、上記基材の各面上にそれぞれ、コレステリック液晶層を有することが好ましい。 Further, for example, when the decorative film according to an embodiment of the present disclosure has two cholesteric liquid crystal layers, from the viewpoint of suppressing reflectance change after molding, each surface of the base material has a cholesteric liquid crystal layer. It is preferable to have

<<反射層の選択反射性>>
反射層は、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有する。本開示において、「選択反射波長の中心波長」とは、対象となる物(例えば、反射層)における光の透過率の最小値かつ極小値をTmin(単位:%)とした場合、下記の式で表される半値透過率T1/2(単位:%)を示す2つの波長の平均値をいう。ただし、上記2つの波長のうち1つ目の波長は、上記Tminを示す波長よりも短い波長を含む波長域における最大波長とし、上記2つの波長のうち2つ目の波長は、上記Tminを示す波長よりも長い波長を含む波長域における最小波長とする。透過率は、分光光度計(例えば、(株)島津製作所製の分光光度計UV-2100、及び日本分光株式会社製の分光光度計V-670)を用いて測定する。選択反射波長の中心波長は、380nm以上780nm以下の範囲、又は780nmを超え1,500nm以下の範囲に含まれてもよい。
半値透過率を求める式:T1/2=100-(100-Tmin)÷2
<<Selective Reflectivity of Reflective Layer>>
The reflective layer has a central wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less. In the present disclosure, the “center wavelength of the selective reflection wavelength” means the following when T min (unit: %) is the minimum value and minimum value of light transmittance in a target object (for example, a reflective layer). An average value of two wavelengths showing the half-value transmittance T 1/2 (unit: %) represented by the formula. However, the first wavelength of the two wavelengths is the maximum wavelength in a wavelength range including a wavelength shorter than the wavelength indicating the T min , and the second wavelength of the two wavelengths is the T min . shall be the minimum wavelength in the wavelength region including the wavelengths longer than the wavelength indicating The transmittance is measured using a spectrophotometer (eg, spectrophotometer UV-2100 manufactured by Shimadzu Corporation and spectrophotometer V-670 manufactured by JASCO Corporation). The central wavelength of the selective reflection wavelength may be included in the range of 380 nm or more and 780 nm or less, or the range of more than 780 nm and 1,500 nm or less.
Formula for calculating half-value transmittance: T 1/2 = 100-(100-T min )/2

反射層は、380nm~1,500nmの波長範囲に極大反射波長を有することが好ましい。極大反射波長が含まれる波長範囲は、加飾フィルムへの利用の観点から、380nm~1,200nmであることが好ましく、400nm~1,000nmであることがより好ましく、420nm~900nmであることが特に好ましい。 The reflective layer preferably has a maximum reflective wavelength in the wavelength range of 380 nm to 1,500 nm. The wavelength range including the maximum reflection wavelength is preferably 380 nm to 1,200 nm, more preferably 400 nm to 1,000 nm, and more preferably 420 nm to 900 nm, from the viewpoint of use for decorative films. Especially preferred.

<配向層>
本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、コレステリック液晶層に接する配向層を有していてもよい。配向層は、液晶化合物を含む層(以下、「液晶層」ともいう。)の形成の際、液晶組成物中の液晶化合物の分子を配向させるために用いられる。配向層は例えば液晶層の形成の際に用いられるため、液晶層を含まない加飾フィルムにおいては、配向層が含まれていてもいなくてもよい。
<Orientation layer>
A decorative film according to an embodiment of the present disclosure may have an alignment layer in contact with the cholesteric liquid crystal layer. The alignment layer is used to align the molecules of the liquid crystal compound in the liquid crystal composition when forming a layer containing the liquid crystal compound (hereinafter also referred to as "liquid crystal layer"). Since the alignment layer is used, for example, in forming the liquid crystal layer, the decorative film that does not contain the liquid crystal layer may or may not contain the alignment layer.

配向層は、例えば、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物(例えば、SiO)の斜方蒸着、又はマイクログルーブを有する層の形成によって設けることができる。さらには、電場の付与、磁場の付与、或いは光照射により配向機能が生じる配向層も知られている。支持体及び液晶層のような下層の材料によっては、配向層を設けなくても、下層を直接配向処理(例えば、ラビング処理)することで、配向層として機能させることもできる。そのような下層となる支持体の一例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)を挙げることができる。また、液晶層の上に直接層(以下、本段落において「上層」という。)を積層する場合、下層の液晶層が配向層として振舞い上層の作製のための液晶化合物を配向させることができる場合もある。このような場合、配向層を設けなくても、また、特別な配向処理(例えば、ラビング処理)を実施しなくても上層の液晶化合物を配向することができる。The alignment layer can be provided, for example, by rubbing an organic compound (preferably a polymer), oblique deposition of an inorganic compound (eg SiO 2 ), or formation of a layer with microgrooves. Furthermore, an orientation layer is also known in which an orientation function is produced by application of an electric field, application of a magnetic field, or light irradiation. Depending on the material of the lower layer such as the support and the liquid crystal layer, the lower layer can be made to function as an orientation layer by direct orientation treatment (for example, rubbing treatment) without providing an orientation layer. An example of such an underlayer support is polyethylene terephthalate (PET). In addition, when a layer (hereinafter referred to as "upper layer" in this paragraph) is directly laminated on the liquid crystal layer, the lower liquid crystal layer acts as an alignment layer and can align the liquid crystal compound for the production of the upper layer. There is also In such a case, the liquid crystal compound in the upper layer can be aligned without providing an alignment layer or performing a special alignment treatment (for example, rubbing treatment).

以下、配向層の好ましい例として、ラビング処理配向層及び光配向層を説明する。 Hereinafter, a rubbing treatment alignment layer and a photo-alignment layer will be described as preferable examples of the alignment layer.

<<ラビング処理配向層>>
ラビング処理配向層は、ラビング処理によって配向性が付与された配向層である。ラビング処理配向層に用いることができるポリマーの例には、例えば特開平8-338913号公報の段落0022に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、並びにポリ(N-メチロールアクリルアミド)、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、及びポリカーボネートが含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。ラビング処理配向層に用いることができるポリマーとしては、水溶性ポリマー(例えば、ポリ(N-メチロールアクリルアミド)、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、及び変性ポリビニルアルコール)が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
<<Rubbing treatment alignment layer>>
The rubbing treatment orientation layer is an orientation layer to which orientation is imparted by rubbing treatment. Examples of polymers that can be used for the rubbing treatment alignment layer include, for example, methacrylate copolymers, styrene copolymers, polyolefins, polyvinyl alcohols and modified polyvinyl alcohols described in paragraph 0022 of JP-A-8-338913; and poly(N-methylolacrylamide), polyesters, polyimides, vinyl acetate copolymers, carboxymethylcellulose, and polycarbonates. A silane coupling agent can be used as the polymer. Polymers that can be used in the rubbing treatment alignment layer are preferably water-soluble polymers (e.g., poly(N-methylolacrylamide), carboxymethylcellulose, gelatin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol), and gelatin, polyvinyl alcohol, or modified polyvinyl alcohol. Alcohol is more preferred, and polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol is particularly preferred.

ラビング処理配向層を用いて液晶化合物を配向する方法においては、例えば、ラビング処理配向層のラビング処理面にコレステリック液晶層形成用組成物(液晶組成物の一形態である。)を塗布して、液晶化合物の分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向層に含まれるポリマーとコレステリック液晶層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向層に含まれるポリマーを架橋させることで、コレステリック液晶層を形成することができる。配向層の膜厚は、0.1μm~10μmの範囲にあることが好ましい。 In the method of aligning a liquid crystal compound using a rubbing alignment layer, for example, a composition for forming a cholesteric liquid crystal layer (one form of a liquid crystal composition) is applied to the rubbing surface of the rubbing alignment layer, Orient the molecules of the liquid crystal compound. Thereafter, if necessary, the polymer contained in the alignment layer and the polyfunctional monomer contained in the cholesteric liquid crystal layer are reacted, or the polymer contained in the alignment layer is crosslinked using a cross-linking agent to obtain the cholesteric liquid crystal. Layers can be formed. The film thickness of the alignment layer is preferably in the range of 0.1 μm to 10 μm.

-ラビング処理-
コレステリック液晶層形成用組成物が塗布される、配向層、支持体、又は、そのほかの層の表面は、必要に応じてラビング処理をしてもよい。ラビング処理は、一般にはポリマーを主成分とする膜の表面を、紙又は布で一定方向に擦ることにより実施することができる。ラビング処理の一般的な方法については、例えば、「液晶便覧」(丸善社発行、平成12年10月30日)に記載されている。
-Rubbing treatment-
The surface of the alignment layer, support, or other layer to which the composition for forming a cholesteric liquid crystal layer is applied may be subjected to a rubbing treatment, if necessary. The rubbing treatment can generally be carried out by rubbing the surface of the film containing a polymer as a main component with paper or cloth in one direction. A general rubbing method is described, for example, in "Liquid Crystal Handbook" (published by Maruzen Co., Ltd., Oct. 30, 2000).

ラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」(丸善社発行)に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度(L)は、下記式(A)で定量化されている。
式(A):L=Nl(1+2πrn/60v)
式(A)中、Nはラビング回数、lはラビングローラーの接触長、πは円周率、rはローラーの半径、nはローラーの回転数(rpm:revolutions per minute)、vはステージ移動速度(秒速)である。
As a method for changing the rubbing density, a method described in "Liquid Crystal Handbook" (published by Maruzen Co., Ltd.) can be used. The rubbing density (L) is quantified by the following formula (A).
Formula (A): L=Nl(1+2πrn/60v)
In formula (A), N is the number of rubbing times, l is the contact length of the rubbing roller, π is the circular constant, r is the radius of the roller, n is the rotation speed of the roller (rpm: revolutions per minute), and v is the stage moving speed. (per second).

ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長くする、ローラーの半径を大きくする、ローラーの回転数を大きくする、又はステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。また、ラビング処理の条件としては、特許第4052558号公報の記載を参照することもできる。 In order to increase the rubbing density, the number of times of rubbing can be increased, the contact length of the rubbing roller can be increased, the radius of the roller can be increased, the rotation speed of the roller can be increased, or the stage movement speed can be decreased. In order to lower the rubbing density, the opposite should be done. Further, the description in Japanese Patent No. 4052558 can be referred to as the conditions for the rubbing treatment.

<<光配向層>>
光配向層は、光照射によって配向性が付与された配向層である。光配向層に用いられる光配向材料は、多数の文献等に記載がある。光配向材料としては、特開2006-285197号公報、特開2007-76839号公報、特開2007-138138号公報、特開2007-94071号公報、特開2007-121721号公報、特開2007-140465号公報、特開2007-156439号公報、特開2007-133184号公報、特開2009-109831号公報、特許第3883848号公報、及び特許第4151746号公報に記載のアゾ化合物、特開2002-229039号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開2002-265541号公報、及び特開2002-317013号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び/又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第4205195号、及び特許第4205198号公報に記載の光架橋性シラン誘導体、並びに特表2003-520878号公報、特表2004-529220号公報、及び特許第4162850号公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はエステルが好ましい例として挙げられる。特に好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又は、エステルである。
<<Photo-alignment layer>>
The photo-alignment layer is an alignment layer imparted with alignment properties by light irradiation. The photo-alignment material used for the photo-alignment layer is described in many documents. As the photo-alignment material, JP-A-2006-285197, JP-A-2007-76839, JP-A-2007-138138, JP-A-2007-94071, JP-A-2007-121721, JP-A-2007- 140465, JP 2007-156439, JP 2007-133184, JP 2009-109831, JP 3883848, and the azo compounds described in JP 4151746, JP 2002- Aromatic ester compounds described in JP-A-229039, JP-A-2002-265541, and maleimide and/or alkenyl-substituted nadimide compounds having photoalignable units described in JP-A-2002-317013, Japanese Patent No. 4205195, And the photocrosslinkable silane derivative described in Japanese Patent No. 4205198, and the photocrosslinkable polyimide, polyamide, or ester described in Japanese Patent Publication No. 2003-520878, Japanese Patent Publication No. 2004-529220, and Japanese Patent No. 4162850. is mentioned as a preferable example. Particularly preferred are azo compounds, photocrosslinkable polyimides, polyamides, and esters.

例えば、上記材料から形成した層に、直線偏光照射又は非偏光照射を施し、光配向層を製造する。本開示において、「直線偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。好ましくは、光照射に用いる光のピーク波長が200nm~700nmであり、より好ましくは光のピーク波長が400nm以下の紫外光である。 For example, a layer formed from the above materials is subjected to linearly polarized or unpolarized irradiation to produce a photo-alignment layer. In the present disclosure, "linearly polarized light irradiation" is an operation for causing a photoreaction in the photoalignment material. The wavelength of light to be used varies depending on the photo-alignment material to be used, and is not particularly limited as long as the wavelength is necessary for the photoreaction. The peak wavelength of light used for light irradiation is preferably 200 nm to 700 nm, and more preferably ultraviolet light with a peak wavelength of 400 nm or less.

光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばランプ(例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、及びカーボンアークランプ)、各種のレーザー(例えば、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、及びYAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザー)、発光ダイオード、及び陰極線管を挙げることができる。 The light source used for light irradiation is a light source that is commonly used, such as lamps (e.g., tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, mercury xenon lamps, and carbon arc lamps), various lasers (e.g., semiconductor Lasers, helium neon lasers, argon ion lasers, helium cadmium lasers and YAG (Yttrium Aluminum Garnet) lasers), light emitting diodes, and cathode ray tubes may be mentioned.

直線偏光を得る手段としては、偏光板(例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、及びワイヤーグリッド偏光板)を用いる方法、プリズム系素子(例えば、グラントムソンプリズム)及びブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、又は、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルター及び波長変換素子を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。 As means for obtaining linearly polarized light, a method using a polarizing plate (e.g., an iodine polarizing plate, a dichroic dye polarizing plate, and a wire grid polarizing plate), a prism-based element (e.g., a Glan-Thompson prism), and a Brewster angle were used. A method using a reflective polarizer or a method using light emitted from a polarized laser light source can be employed. Alternatively, only light of a required wavelength may be selectively irradiated using a filter and a wavelength conversion element.

照射する光は、直線偏光の場合、配向層の上面又は下面に対して垂直又は斜めに光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、好ましくは0°~90°(垂直)、より好ましくは40°~90°である。非偏光を利用する場合には、配向層の上面又は下面に対して斜めに非偏光を照射する。非偏光の入射角度は、好ましくは10°~80°、より好ましくは20°~60°、特に好ましくは30°~50°である。照射時間は、好ましくは1分~60分、より好ましくは1分~10分である。 When the light to be irradiated is linearly polarized light, a method of irradiating light perpendicularly or obliquely to the upper surface or the lower surface of the alignment layer is adopted. The incident angle of light varies depending on the photo-alignment material, but is preferably 0° to 90° (perpendicular), more preferably 40° to 90°. When using non-polarized light, the upper or lower surface of the alignment layer is obliquely irradiated with non-polarized light. The angle of incidence of unpolarized light is preferably 10° to 80°, more preferably 20° to 60°, particularly preferably 30° to 50°. The irradiation time is preferably 1 minute to 60 minutes, more preferably 1 minute to 10 minutes.

<樹脂層>
本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、基材と反射層との間に、樹脂層を有することが好ましい。例えば、反射層に圧力を印加し、凹凸構造を付与する際、樹脂層が変形することで、反射層が型として使用される凹凸に追随しやすくなる。
<Resin layer>
The decorative film according to an embodiment of the present disclosure preferably has a resin layer between the substrate and the reflective layer. For example, when pressure is applied to the reflective layer to give it an uneven structure, the resin layer is deformed so that the reflective layer can easily follow the unevenness used as a mold.

樹脂層の厚みは、0.2μm~100μmであることが好ましく、0.5μm~70μmであることがより好ましく、1.0μm~50μmであることがさらに好ましい。 The thickness of the resin layer is preferably 0.2 μm to 100 μm, more preferably 0.5 μm to 70 μm, even more preferably 1.0 μm to 50 μm.

樹脂層の25℃における弾性率は、0.000001GPa~3GPaであることが好ましく、0.00001~1GPaであることがより好ましく、0.0001~0.5GPaであることがさらに好ましい。弾性率は、ナノインデンター装置(例えば、ナノインデンターG200、KLA社製)によって測定する。 The elastic modulus of the resin layer at 25° C. is preferably 0.000001 GPa to 3 GPa, more preferably 0.00001 to 1 GPa, even more preferably 0.0001 to 0.5 GPa. The elastic modulus is measured with a nanoindenter device (for example, Nanoindenter G200, manufactured by KLA).

樹脂層は、バインダー樹脂を主成分として含むことが好ましい。バインダー樹脂としては、制限されず、公知の樹脂を適用することができる。バインダー樹脂としては、所望の色を得る観点から、透明な樹脂であることが好ましく、具体的には、全光透過率が80%以上の樹脂が好ましい。全光透過率は、分光光度計(例えば、(株)島津製作所製、分光光度計UV-2100)により測定することができる。 The resin layer preferably contains a binder resin as a main component. The binder resin is not limited, and known resins can be applied. From the viewpoint of obtaining a desired color, the binder resin is preferably a transparent resin, and specifically, a resin having a total light transmittance of 80% or more is preferable. The total light transmittance can be measured with a spectrophotometer (eg, spectrophotometer UV-2100 manufactured by Shimadzu Corporation).

バインダー樹脂としては、制限されず、公知の樹脂を適用することができる。バインダー樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル、ウレタン樹脂、及びポリオレフィンが挙げられる。バインダー樹脂は、特定の単量体の単独重合体であってもよく、又は特定の単量体と他の単量体との共重合体であってもよい。 The binder resin is not limited, and known resins can be applied. Examples of binder resins include acrylic resins, silicone resins, polyesters, urethane resins, and polyolefins. The binder resin may be a homopolymer of a specific monomer, or a copolymer of a specific monomer and another monomer.

バインダー樹脂は、1種単独で用いられてもよく、2種以上を組み合わせて用いられてもよい。樹脂層中のバインダー樹脂の含有量は、成型加工性の観点から、樹脂層の全質量に対して、5質量%~70質量%であることが好ましく、10質量%~60質量%であることがより好ましく、20質量%~60質量%であることが特に好ましい。 Binder resin may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. The content of the binder resin in the resin layer is preferably 5% by mass to 70% by mass, more preferably 10% by mass to 60% by mass, based on the total mass of the resin layer, from the viewpoint of moldability. is more preferable, and 20% by mass to 60% by mass is particularly preferable.

樹脂層として、公知の粘着剤又は接着剤を用いることもできる。 A known adhesive or adhesive can also be used as the resin layer.

<<粘着剤>>
粘着剤の例としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、及びシリコーン系粘着剤が挙げられる。また、粘着剤の例として、「「剥離紙・剥離フィルム及び粘着テープの特性評価とその制御技術」、情報機構、2004年、第2章」に記載のアクリル系粘着剤、紫外線(UV)硬化型粘着剤、及びシリコーン粘着剤が挙げられる。なお、本開示においてアクリル系粘着剤とは、(メタ)アクリルモノマーの重合体(すなわち、(メタ)アクリルポリマー)を含む粘着剤をいう。樹脂層が粘着剤を含む場合には、更に、樹脂層に粘着付与剤が含まれていてもよい。
<<Adhesive>>
Examples of adhesives include acrylic adhesives, rubber adhesives, and silicone adhesives. In addition, as an example of the adhesive, the acrylic adhesive described in ""Release paper, release film and adhesive tape characteristics evaluation and its control technology", Information Organization, 2004, Chapter 2", ultraviolet (UV) curing mold adhesives, and silicone adhesives. In the present disclosure, an acrylic pressure-sensitive adhesive refers to a pressure-sensitive adhesive containing a polymer of (meth)acrylic monomers (that is, a (meth)acrylic polymer). When the resin layer contains an adhesive, the resin layer may further contain a tackifier.

<<接着剤>>
接着剤としては、例えば、ウレタン樹脂接着剤、ポリエステル接着剤、アクリル樹脂接着剤、エチレン酢酸ビニル樹脂接着剤、ポリビニルアルコール接着剤、ポリアミド接着剤、及びシリコーン接着剤が挙げられる。接着強度がより高いという観点から、ウレタン樹脂接着剤又はシリコーン接着剤が好ましい。
<<Adhesive>>
Examples of adhesives include urethane resin adhesives, polyester adhesives, acrylic resin adhesives, ethylene vinyl acetate resin adhesives, polyvinyl alcohol adhesives, polyamide adhesives, and silicone adhesives. A urethane resin adhesive or a silicone adhesive is preferable from the viewpoint of higher adhesive strength.

<<樹脂層の形成方法>>
樹脂層の形成方法は制限されない。樹脂層は、例えば、樹脂層形成用組成物を用いて形成することができる。樹脂層形成用組成物は、例えば、樹脂層の原材料を混合することによって調製することができる。樹脂層形成用組成物の塗布方法としては、例えば、液晶組成物の塗布方法と同じ方法を利用することができる。
<<Method for Forming Resin Layer>>
A method for forming the resin layer is not limited. The resin layer can be formed using, for example, a composition for forming a resin layer. The resin layer-forming composition can be prepared, for example, by mixing raw materials for the resin layer. As a method of applying the resin layer-forming composition, for example, the same method as the method of applying the liquid crystal composition can be used.

<<添加剤>>
樹脂層は、上記の成分以外に、必要に応じて添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、制限されず、公知の添加剤を適用することができる。添加剤としては、例えば、特許第4502784号公報の段落0017、及び特開2009-237362号公報の段落0060~段落0071に記載の界面活性剤、特許第4502784号公報の段落0018に記載の熱重合防止剤(重合禁止剤ともいう。好ましくはフェノチアジンが挙げられる。)、並びに特開2000-310706号公報の段落0058~段落0071に記載の添加剤が挙げられる。
<<Additives>>
The resin layer may contain additives, if necessary, in addition to the above components. Additives are not limited, and known additives can be applied. Examples of additives include surfactants described in paragraph 0017 of Japanese Patent No. 4502784 and paragraphs 0060 to 0071 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-237362, and thermal polymerization described in paragraph 0018 of Japanese Patent No. 4502784. Inhibitors (also called polymerization inhibitors, preferably phenothiazine), and additives described in paragraphs 0058 to 0071 of JP-A-2000-310706.

<着色層>
本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、着色層を有することが好ましい。また、ある実施形態において、加飾フィルムは、着色層をコレステリック液晶層を介して視認するための加飾フィルムであることが好ましい。着色層は、有色の(すなわち、無色透明でない)層であればよい。着色層は、不透明な着色層(好ましくは全光透過率が10%以下である着色層)であることが好ましい。また、着色層の色は、黒、灰、白、赤、橙、黄、緑、青、又は紫であってもよい。黒色の着色層であると、反射光の強度が小さく、色変化がより強調されるため、好ましい。
<Colored layer>
A decorative film according to an embodiment of the present disclosure preferably has a colored layer. In one embodiment, the decorative film is preferably a decorative film for visually recognizing the colored layer through the cholesteric liquid crystal layer. The colored layer may be a colored (that is, not colorless and transparent) layer. The colored layer is preferably an opaque colored layer (preferably a colored layer having a total light transmittance of 10% or less). Also, the color of the colored layer may be black, gray, white, red, orange, yellow, green, blue, or purple. A black colored layer is preferable because the intensity of the reflected light is low and the color change is more emphasized.

また、着色層は、重合性化合物を硬化してなる層であってもよく、又は重合性化合物及び重合開始剤を含む層であってもよい。着色層は、保存性、及び、着色層と他の層との密着性の観点から、重合性化合物を硬化してなる層であることが好ましく、ウレタン結合、及び、炭素数が2又は3のアルキレンオキシ基よりなる群から選ばれる少なくとも1種の部分構造を有する2官能又は3官能重合性化合物を少なくとも硬化してなる層であることがより好ましい。 Moreover, the colored layer may be a layer obtained by curing a polymerizable compound, or a layer containing a polymerizable compound and a polymerization initiator. The colored layer is preferably a layer formed by curing a polymerizable compound from the viewpoint of storage stability and adhesion between the colored layer and other layers, and includes a urethane bond and a carbon number of 2 or 3. More preferably, the layer is formed by curing at least a bifunctional or trifunctional polymerizable compound having at least one partial structure selected from the group consisting of alkyleneoxy groups.

<<着色剤>>
着色層は、視認性の観点から、着色剤を含むことが好ましく、耐久性の観点から、着色剤として、顔料を含むことがより好ましい。着色剤としては、特に制限はなく、目的とする色相の着色剤を適宜選択して用いることができる。着色剤としては、例えば、顔料、及び染料が挙げられ、顔料が好ましい。また、顔料は、粒子形状の顔料であることが好ましい。顔料としては、従来公知の種々の無機顔料及び有機顔料を用いることができる。
<<coloring agent>>
The colored layer preferably contains a coloring agent from the viewpoint of visibility, and more preferably contains a pigment as the coloring agent from the viewpoint of durability. The coloring agent is not particularly limited, and a coloring agent having a desired hue can be appropriately selected and used. Colorants include, for example, pigments and dyes, with pigments being preferred. Also, the pigment is preferably a particulate pigment. As the pigment, conventionally known various inorganic pigments and organic pigments can be used.

無機顔料としては、例えば、特開2005-7765号公報の段落0015及び段落0114に記載の無機顔料が挙げられる。具体的な無機顔料としては、例えば、白色顔料(例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、及び硫酸バリウム)、及び黒色顔料(例えば、カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、及び黒鉛)が挙げられる。例えば、酸化鉄、バリウムイエロー、カドミウムレッド、及びクロムイエローのような公知の有彩色顔料も使用できる。 Examples of inorganic pigments include inorganic pigments described in paragraphs 0015 and 0114 of JP-A-2005-7765. Specific inorganic pigments include, for example, white pigments (e.g., titanium dioxide, zinc oxide, lithopone, light calcium carbonate, white carbon, aluminum oxide, aluminum hydroxide, and barium sulfate), and black pigments (e.g., carbon black). , titanium black, titanium carbon, iron oxide, and graphite). Known chromatic pigments such as iron oxide, barium yellow, cadmium red, and chrome yellow can also be used.

有機顔料としては、例えば、特開2009-256572号公報の段落0093に記載の有機顔料が挙げられる。具体的な有機顔料としては、例えば、C.I.Pigment Red 177、179、224、242、254、255、264等の赤色顔料、C.I.Pigment Yellow 138、139、150、180、185等の黄色顔料、C.I.Pigment Orange 36、38、71等の橙色顔料、C.I.Pigment Green 7、36、58等の緑色顔料、C.I.Pigment Blue 15:6等の青色顔料、及びC.I.Pigment Violet 23等の紫色顔料が挙げられる。 Examples of organic pigments include organic pigments described in paragraph 0093 of JP-A-2009-256572. Specific organic pigments include, for example, C.I. I. Pigment Red 177, 179, 224, 242, 254, 255, 264, C.I. I. Pigment Yellow 138, 139, 150, 180, 185 and other yellow pigments, C.I. I. Pigment Orange 36, 38, 71 and other orange pigments, C.I. I. Pigment Green 7, 36, 58 and other green pigments, C.I. I. Pigment Blue 15:6, and a blue pigment such as C.I. I. Purple pigments such as Pigment Violet 23 may be mentioned.

その他、着色層は、顔料として、光透過性及び光反射性を有する顔料(所謂、光輝性顔料)の粒子を含んでいてもよい。光輝性顔料は、着色層の形成方法が着色層を露光する工程を含む場合には、露光による硬化を妨げない範囲において用いられることが好ましい。 In addition, the colored layer may contain, as a pigment, particles of a pigment having light transmittance and light reflectivity (so-called luster pigment). When the method for forming the colored layer includes the step of exposing the colored layer, the bright pigment is preferably used within a range that does not interfere with curing by exposure.

着色剤は、それぞれ、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、無機顔料の粒子と有機顔料の粒子とを併用してもよい。着色層中の着色剤の含有量は、目的とする色相の発現(例えば、白化の抑制)、及び着色層の金型に対する形状追従性の維持の点から、着色層の全質量に対して、1質量%~50質量%であることが好ましく、5質量%~50質量%であることがより好ましく、10質量%~40質量%であることが更に好ましい。ここで、本開示における「白化」とは、着色層が、マット感が付与されたような白っぽい色味を呈するように変化することを指す。 The colorants may be used singly or in combination of two or more. Also, inorganic pigment particles and organic pigment particles may be used in combination. The content of the coloring agent in the colored layer is, from the viewpoint of expressing the desired hue (e.g., suppressing whitening) and maintaining the shape conformability of the colored layer to the mold, relative to the total mass of the colored layer, It is preferably 1% by mass to 50% by mass, more preferably 5% by mass to 50% by mass, and even more preferably 10% by mass to 40% by mass. Here, “whitening” in the present disclosure means that the colored layer changes so as to exhibit a whitish color that gives a matte feeling.

<<重合性化合物>>
本開示において用いられる着色層は、重合性化合物を含んでもよい。重合性化合物は、重合性基を有する化合物である。
<<polymerizable compound>>
The colored layer used in the present disclosure may contain a polymerizable compound. A polymerizable compound is a compound having a polymerizable group.

重合性基としては、例えば、エチレン性不飽和基、及びエポキシ基が挙げられ、硬化性等の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、(メタ)アクリロキシ基がより好ましい。また、重合性基としては、ラジカル重合性基が好ましい。 Examples of the polymerizable group include an ethylenically unsaturated group and an epoxy group. From the viewpoint of curability and the like, an ethylenically unsaturated group is preferred, and a (meth)acryloxy group is more preferred. Moreover, as a polymerizable group, a radically polymerizable group is preferable.

重合性化合物としては、ウレタン結合、ウレア結合、炭素数が2又は3のアルキレンオキシ基、及び、炭素数が6~12の炭化水素基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の部分構造を有する2官能又は3官能重合性化合物(以下、「特定重合性化合物」ともいう)が好ましく、ウレタン結合を部分構造に含む化合物がより好ましい。 The polymerizable compound has at least one partial structure selected from the group consisting of a urethane bond, a urea bond, an alkyleneoxy group having 2 or 3 carbon atoms, and a hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms. A bifunctional or trifunctional polymerizable compound (hereinafter also referred to as a “specific polymerizable compound”) is preferred, and a compound containing a urethane bond in its partial structure is more preferred.

-ウレタン結合を有する2官能又は3官能重合性化合物-
ウレタン結合を有する2官能又は3官能重合性化合物(以下、「特定重合性化合物1」ともいう。)としては、ウレタンオリゴマーが好ましい。ウレタン結合における窒素原子は、2置換(窒素原子上の基の1つが水素原子)であっても、3置換であってもよい。また、特定重合性化合物1は、ウレタン樹脂鎖を有することが好ましい。
-Bifunctional or trifunctional polymerizable compound having a urethane bond-
A urethane oligomer is preferable as the bifunctional or trifunctional polymerizable compound having a urethane bond (hereinafter also referred to as “specific polymerizable compound 1”). The nitrogen atom in the urethane bond may be disubstituted (one of the groups on the nitrogen atom is a hydrogen atom) or trisubstituted. Moreover, the specific polymerizable compound 1 preferably has a urethane resin chain.

ウレタンオリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーが好ましい。ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、例えば、脂肪族系ウレタン(メタ)アクリレート、及び芳香族系ウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。詳しくは、オリゴマーハンドブック(古川淳二監修、(株)化学工業日報社)を参照することができ、ここに記載のウレタンオリゴマーは、目的に応じて適宜選択し、着色層の形成に用いることができる。 A urethane (meth)acrylate oligomer is preferable as the urethane oligomer. Urethane (meth)acrylate oligomers include, for example, aliphatic urethane (meth)acrylates and aromatic urethane (meth)acrylates. For details, refer to Oligomer Handbook (supervised by Junji Furukawa, The Chemical Daily Co., Ltd.), and the urethane oligomer described herein can be appropriately selected according to the purpose and used to form a colored layer. .

特定重合性化合物1の一種であるウレタンオリゴマーの分子量は、800~2,000であることが好ましく、1,000~2,000であることがより好ましい。 The molecular weight of the urethane oligomer, which is one type of the specific polymerizable compound 1, is preferably 800 to 2,000, more preferably 1,000 to 2,000.

特定重合性化合物1の一種であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、市販品を用いてもよい。ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの市販品としては、例えば、新中村化学工業(株)製のU-2PPA、及びUA-122P;サートマー・ジャパン(株)製のCN964A85、CN964、CN959、CN962、CN963J85、CN965、CN982B88、CN981、CN983、CN991、CN991NS、CN996、CN996NS、CN9002、CN9007、CN9178、及びCN9893;並びにダイセル・オルネクス(株)製のEBECRYL230、EBECRYL270、EBECRYL284、EBECRYL4858、EBECRYL210、EBECRYL8402、EBECRYL8804、及びEBECRYL8800-20R(以上、商品名)が挙げられる。なお、「EBECRYL」はいずれも登録商標である。 As the urethane (meth)acrylate oligomer which is one type of the specific polymerizable compound 1, a commercially available product may be used. Examples of commercially available urethane (meth)acrylate oligomers include U-2PPA and UA-122P manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.; CN965、CN982B88、CN981、CN983、CN991、CN991NS、CN996、CN996NS、CN9002、CN9007、CN9178、及びCN9893;並びにダイセル・オルネクス(株)製のEBECRYL230、EBECRYL270、EBECRYL284、EBECRYL4858、EBECRYL210、EBECRYL8402、EBECRYL8804、及びEBECRYL8800 -20R (these are trade names). "EBECRYL" is a registered trademark.

<<分散剤>>
着色層に含まれる顔料の分散性を向上する観点から、着色層は、分散剤を含有してもよい。着色層が分散剤を含むことにより、形成される着色層における顔料の分散性が向上し、得られる加飾フィルムにおける色相の均一化が図れる。
<<Dispersant>>
From the viewpoint of improving the dispersibility of the pigment contained in the colored layer, the colored layer may contain a dispersant. By including a dispersant in the colored layer, the dispersibility of the pigment in the formed colored layer is improved, and the resulting decorative film can have a uniform hue.

分散剤としては、顔料の種類、形状などに応じて適宜選択して用いることができるが、高分子分散剤であることが好ましい。高分子分散剤としては、例えば、シリコーンポリマー、アクリルポリマー、及びポリエステルポリマーが挙げられる。 The dispersant can be appropriately selected according to the type, shape, etc. of the pigment, and is preferably a polymer dispersant. Polymeric dispersants include, for example, silicone polymers, acrylic polymers, and polyester polymers.

加飾フィルムに耐熱性を付与したい場合には、例えば、分散剤として、グラフト型シリコーンポリマー等のシリコーンポリマーを用いることが好適である。 When it is desired to impart heat resistance to the decorative film, it is suitable to use, for example, a silicone polymer such as a graft-type silicone polymer as the dispersant.

分散剤の重量平均分子量は、1,000~5,000,000であることが好ましく、2,000~3,000,000であることがより好ましく、2,500~3,000,000であることが特に好ましい。重量平均分子量が1,000以上であると、顔料の分散性がより向上する。 The weight average molecular weight of the dispersant is preferably 1,000 to 5,000,000, more preferably 2,000 to 3,000,000, and 2,500 to 3,000,000. is particularly preferred. When the weight average molecular weight is 1,000 or more, the dispersibility of the pigment is further improved.

分散剤としては、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、BASFジャパン社のEFKA 4300(アクリル系高分子分散剤)、花王(株)製のホモゲノールL-18、ホモゲノールL-95、及びホモゲノールL-100、日本ルーブリゾール(株)製のソルスパース20000、及びソルスパース24000、並びにビックケミー・ジャパン(株)製のDISPERBYK-110、DISPERBYK-164、DISPERBYK-180、及びDISPERBYK-182が挙げられる。なお、「ホモゲノール」、「ソルスパース」、及び「DISPERBYK」はいずれも登録商標である。 A commercially available product may be used as the dispersant. Commercially available products include, for example, EFKA 4300 (acrylic polymer dispersant) manufactured by BASF Japan, Homogenol L-18, Homogenol L-95, and Homogenol L-100 manufactured by Kao Corporation, and Nippon Lubrizol Co., Ltd. DISPERBYK-110, DISPERBYK-164, DISPERBYK-180, and DISPERBYK-182 manufactured by BYK-Chemie Japan Co., Ltd.; "Homogenol", "Solsperse" and "DISPERBYK" are all registered trademarks.

着色層が分散剤を含む場合、分散剤は、1種のみの分散剤を含んでもよく、2種以上の分散剤を含んでもよい。分散剤の含有量は、着色剤100質量部に対して、1質量部~30質量部であることが好ましい。 When the colored layer contains a dispersant, the dispersant may contain only one dispersant, or may contain two or more dispersants. The content of the dispersant is preferably 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the colorant.

<<重合開始剤>>
着色層は、重合開始剤を含んでもよい。重合開始剤としては、露光に対する感度を高める点から、光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤としては、例えば、特開2011-95716号公報の段落0031~段落0042に記載の重合開始剤、及び特開2015-014783号公報の段落0064~段落0081に記載のオキシム系重合開始剤を用いることができる。
<<polymerization initiator>>
The colored layer may contain a polymerization initiator. As the polymerization initiator, a photopolymerization initiator is preferable from the viewpoint of enhancing the sensitivity to exposure. Examples of photopolymerization initiators include, for example, the polymerization initiators described in paragraphs 0031 to 0042 of JP-A-2011-95716, and the oxime-based polymerization initiators described in paragraphs 0064 to 0081 of JP-A-2015-014783. agent can be used.

具体的な光重合開始剤としては、例えば、1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン-2-(O-ベンゾイルオキシム)(例えば、IRGACURE(登録商標)OXE-01、BASF社製)、[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタン-1-オン-1-(O-アセチルオキシム)(例えば、IRGACURE(登録商標)OXE-02、BASF社製)、2-(ジメチルアミノ)-2-[(4-メチルフェニル)メチル]-1-[4-(4-モルホリニル)フェニル]-1-ブタノン(例えば、IRGACURE(登録商標)379EG、BASF社製)、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン(例えば、IRGACURE(登録商標)907、BASF社製)、2-ヒドロキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオニル)ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン(例えば、IRGACURE(登録商標)127、BASF社製)、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)ブタノン-1(例えば、IRGACURE(登録商標)369、BASF社製)、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン(例えば、IRGACURE(登録商標)1173、BASF社製)、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(例えば、IRGACURE(登録商標)184、BASF社製)、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン(例えば、IRGACURE(登録商標)651、BASF社製)、オキシムエステル系重合開始剤である商品名:Lunar 6(DKSHジャパン(株)製)、2,4-ジエチルチオキサントン(例えば、カヤキュアDETX-S、日本化薬(株)製)、並びにフルオレンオキシム系重合開始剤であるDFI-091、及びDFI-020(ともにダイトーケミックス社製)が挙げられる。 Specific photopolymerization initiators include, for example, 1-[4-(phenylthio)phenyl]-1,2-octanedione-2-(O-benzoyloxime) (eg, IRGACURE (registered trademark) OXE-01, BASF), [9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethan-1-one-1-(O-acetyloxime) (eg, IRGACURE (registered trademark) OXE -02, manufactured by BASF), 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone (for example, IRGACURE® ) 379EG, manufactured by BASF), 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one (for example, IRGACURE® 907, manufactured by BASF), 2-hydroxy-1 -{4-[4-(2-hydroxy-2-methylpropionyl)benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one (eg, IRGACURE® 127, manufactured by BASF), 2-benzyl- 2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butanone-1 (eg, IRGACURE (registered trademark) 369, manufactured by BASF), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (eg, , IRGACURE (registered trademark) 1173, manufactured by BASF), 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (e.g., IRGACURE (registered trademark) 184, manufactured by BASF), 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one (for example, IRGACURE (registered trademark) 651, manufactured by BASF), trade name of oxime ester polymerization initiator: Lunar 6 (manufactured by DKSH Japan Co., Ltd.), 2,4-diethylthioxanthone (for example, Kayacure DETX-S , manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and DFI-091 and DFI-020, which are fluorene oxime-based polymerization initiators (both manufactured by Daito Chemix Co., Ltd.).

中でも、トリクロロメチルトリアジン系化合物などのハロゲン含有重合開始剤以外の他の開始剤を用いることが硬化感度を高める観点から好ましく、α-アミノアルキルフェノン系化合物、α-ヒドロキシアルキルフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物などのオキシム系重合開始剤がより好ましい。 Among them, it is preferable to use other initiators other than halogen-containing polymerization initiators such as trichloromethyltriazine-based compounds from the viewpoint of increasing curing sensitivity. Oxime-based polymerization initiators such as oxime-based compounds are more preferred.

重合開始剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対し、0.1質量部~15質量部であることが好ましく、0.5質量部~10質量部であることがより好ましい。 The content of the polymerization initiator is preferably 0.1 to 15 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymerizable compound.

<<バインダー樹脂>>
着色層は、着色層の硬化収縮を低減させる等の観点から、バインダー樹脂を含むことが好ましい。バインダー樹脂としては、特に制限されず、公知の樹脂を適宜選択できる。バインダー樹脂としては、目的とする色相を得る点から、透明な樹脂であることが好ましく、具体的には、全光透過率が80%以上の樹脂が好ましい。全光透過率は、分光光度計(例えば、(株)島津製作所製、分光光度計UV-2100)により測定することができる。
<<binder resin>>
The colored layer preferably contains a binder resin from the viewpoint of reducing cure shrinkage of the colored layer. The binder resin is not particularly limited, and can be appropriately selected from known resins. The binder resin is preferably a transparent resin in order to obtain the desired hue, and specifically, a resin having a total light transmittance of 80% or more is preferable. The total light transmittance can be measured with a spectrophotometer (eg, spectrophotometer UV-2100 manufactured by Shimadzu Corporation).

バインダー樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、及び、オレフィン樹脂が挙げられる。中でも、透明性の観点から、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、又は、ポリエステル樹脂が好ましく、アクリル樹脂、又は、シリコーン樹脂がより好ましい。更に、耐熱性の観点からは、シリコーン樹脂が好ましい。 Examples of binder resins include acrylic resins, silicone resins, polyester resins, urethane resins, and olefin resins. Among them, from the viewpoint of transparency, acrylic resins, silicone resins, or polyester resins are preferable, and acrylic resins or silicone resins are more preferable. Furthermore, from the viewpoint of heat resistance, a silicone resin is preferable.

本開示において「アクリル樹脂」とは、(メタ)アクリロイル基を有するアクリルモノマーに由来する構成単位を含む樹脂を指す。(メタ)アクリロイル基とは、メタクリロイル基及びアクリロイル基を包含する概念である。アクリル樹脂には、例えば、アクリル酸の単独重合体、メタクリル酸の単独重合体、アクリル酸エステルの単独重合体、メタクリル酸エステルの単独重合体、アクリル酸と他のモノマーとの共重合体、メタクリル酸と他のモノマーとの共重合体、アクリル酸エステルと他のモノマーとの共重合体、メタクリル酸エステルと他のモノマーとの共重合体、及びウレタン骨格を側鎖に有するウレタン変性の共重合体が包含される。アクリル樹脂としては、例えば、シクロヘキシルメタクリレート/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体のグリシジルメタクリレート付加物、ベンジルメタクリレート/メタクリル酸のランダム共重合体、アリルメタクリレート/メタクリル酸の共重合体、及びベンジルメタクリレート/メタクリル酸/ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体が挙げられる。 In the present disclosure, "acrylic resin" refers to a resin containing a structural unit derived from an acrylic monomer having a (meth)acryloyl group. A (meth)acryloyl group is a concept including a methacryloyl group and an acryloyl group. Acrylic resins include, for example, acrylic acid homopolymers, methacrylic acid homopolymers, acrylic acid ester homopolymers, methacrylic acid ester homopolymers, copolymers of acrylic acid and other monomers, methacrylic acid Copolymers of acids and other monomers, copolymers of acrylic acid esters and other monomers, copolymers of methacrylic acid esters and other monomers, and urethane-modified copolymers having urethane skeletons in side chains Consolidation is included. Examples of acrylic resins include glycidyl methacrylate adducts of cyclohexyl methacrylate/methyl methacrylate/methacrylic acid copolymers, benzyl methacrylate/methacrylic acid random copolymers, allyl methacrylate/methacrylic acid copolymers, and benzyl methacrylate/methacrylic acid copolymers. Copolymers of acid/hydroxyethyl methacrylate are mentioned.

シリコーン樹脂としては、公知のシリコーン樹脂を用いることができ、例えば、メチル系ストレートシリコーン樹脂、メチルフェニル系ストレートシリコーン樹脂、アクリル樹脂変性シリコーン樹脂、エステル樹脂変性シリコーン樹脂、エポキシ樹脂変性シリコーン樹脂、アルキッド樹脂変性シリコーン樹脂及びゴム系のシリコーン樹脂が挙げられる。中でも、メチル系ストレートシリコーン樹脂、メチルフェニル系ストレートシリコーン樹脂、アクリル樹脂変性シリコーン樹脂、又は、ゴム系のシリコーン樹脂が好ましく、メチル系ストレートシリコーン樹脂、メチルフェニル系ストレートシリコーン樹脂、又は、ゴム系のシリコーン樹脂がより好ましい。 As the silicone resin, known silicone resins can be used, and examples thereof include methyl-based straight silicone resin, methylphenyl-based straight silicone resin, acrylic resin-modified silicone resin, ester resin-modified silicone resin, epoxy resin-modified silicone resin, and alkyd resin. Examples include modified silicone resins and rubber-based silicone resins. Among them, methyl-based straight silicone resin, methylphenyl-based straight silicone resin, acrylic resin-modified silicone resin, or rubber-based silicone resin is preferable, and methyl-based straight silicone resin, methylphenyl-based straight silicone resin, or rubber-based silicone. Resin is more preferred.

シリコーン樹脂は市販品を用いてもよく、市販品としては、例えば、信越化学工業(株)製のKR-300、KR-311、KR-251、X-40-2406M、及びKR-282が挙げられる。 Commercially available silicone resins may be used, and examples of commercially available products include KR-300, KR-311, KR-251, X-40-2406M, and KR-282 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. be done.

ポリエステル樹脂としては、例えば、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルが挙げられる。線状飽和ポリエステルの具体例としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ(1,4-シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート)、及びポリエチレン-2,6-ナフタレートが挙げられる。 Examples of polyester resins include linear saturated polyesters synthesized from aromatic dibasic acids or ester-forming derivatives thereof and diols or ester-forming derivatives thereof. Specific examples of linear saturated polyesters include, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate, poly(1,4-cyclohexylene dimethylene terephthalate), and polyethylene-2,6-naphthalate.

バインダー樹脂の含有量は、着色層の硬化収縮を低減させる点から、着色層の全質量に対して、5質量%~70質量%が好ましく、10質量%~60質量%がより好ましく、20質量%以上60質量%が更に好ましい。また、特定重合性化合物を含む重合性化合物の総量に対するバインダー樹脂の総量の割合、即ち、重合性化合物の総量/バインダー樹脂の総量は、0.3~1.5であることが好ましく、0.5~1.0であることがより好ましい。 The content of the binder resin is preferably 5% by mass to 70% by mass, more preferably 10% by mass to 60% by mass, and 20% by mass, based on the total mass of the colored layer, in order to reduce curing shrinkage of the colored layer. % or more and 60% by mass is more preferable. Further, the ratio of the total amount of the binder resin to the total amount of the polymerizable compounds including the specific polymerizable compound, that is, the total amount of the polymerizable compounds/the total amount of the binder resin, is preferably 0.3 to 1.5. It is more preferably 5 to 1.0.

<<その他の成分>>
着色層は、上記の成分以外にも、必要に応じて添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、公知の添加剤を用いることができ、例えば、特許第4502784号公報の段落0017、及び特開2009-237362号公報の段落0060~段落0071に記載の界面活性剤、特許第4502784号公報の段落0018に記載の熱重合防止剤(重合禁止剤ともいう。好ましくはフェノチアジン)、更に、特開2000-310706号公報の段落0058~0071に記載のその他の添加剤が挙げられる。
<<Other Ingredients>>
The colored layer may contain additives, if necessary, in addition to the above components. As the additive, known additives can be used, for example, paragraph 0017 of Japanese Patent No. 4502784, and paragraphs 0060 to 0071 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-237362, surfactants described in Japanese Patent No. 4502784 Thermal polymerization inhibitors (also referred to as polymerization inhibitors, preferably phenothiazine) described in paragraph 0018 of JP-A 2000-310706, and other additives described in paragraphs 0058 to 0071 of JP-A-2000-310706.

<<着色層の形成>>
着色層の形成方法は、特に制限はないが、着色層形成用組成物を用いて形成することが好ましい。着色層形成用組成物は、着色剤を含むことが好ましく、着色剤及び有機溶剤を含むことがより好ましい。また、着色層形成用組成物は、上述した他の成分を更に含んでもよい。着色層形成用組成物は、例えば、有機溶剤と、着色剤等の着色層に含まれる成分と、を混合することにより調製することができる。着色層に含まれる成分の含有量については、着色層の全質量に対する含有量(質量%)として記載されているが、これらの成分が着色層形成用組成物に含まれる場合、その含有量を、着色層形成用組成物の全固形分に対する含有量(質量%)と読み替えるものとする。
<<Formation of colored layer>>
Although the method for forming the colored layer is not particularly limited, it is preferably formed using a colored layer-forming composition. The colored layer-forming composition preferably contains a coloring agent, and more preferably contains a coloring agent and an organic solvent. Moreover, the composition for forming a colored layer may further contain the other components described above. The composition for forming a colored layer can be prepared, for example, by mixing an organic solvent and a component contained in the colored layer such as a colorant. The content of the components contained in the colored layer is described as the content (mass%) with respect to the total mass of the colored layer, but when these components are contained in the colored layer-forming composition, the content is , shall be read as the content (% by mass) relative to the total solid content of the composition for forming a colored layer.

また、着色層形成用組成物が着色剤として顔料を含む場合、予め、顔料とその分散剤とを含む顔料分散液を調製しておき、この顔料分散液を用いて、着色層形成用組成物を調製することが、顔料の均一分散性、及び、分散安定性をより高める観点から好ましい。 Further, when the composition for forming a colored layer contains a pigment as a coloring agent, a pigment dispersion containing a pigment and a dispersant thereof is prepared in advance, and the composition for forming a colored layer is prepared using this pigment dispersion. is preferable from the viewpoint of further enhancing the uniform dispersibility and dispersion stability of the pigment.

着色層形成用組成物は、上記方法により予め調製したものを使用してもよいし、市販品等を使用してもよいし、塗布の直前に着色層形成用組成物を調製してもよい。 The colored layer-forming composition may be prepared in advance by the above method, or may be a commercially available product, or the colored layer-forming composition may be prepared immediately before coating. .

-有機溶剤-
有機溶剤としては、通常用いられる有機溶剤を特に制限なく用いることができる。具体的には、例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類等の有機溶剤が挙げられる。また、米国特許出願公開第2005/282073号明細書の段落0054、及び段落0055に記載のSolventと同様のメチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル等も、着色層形成用組成物における有機溶剤として好適に用いることができる。中でも、1-メトキシ-2-プロピルアセテート、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(エチルカルビトールアセテート)、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(ブチルカルビトールアセテート)、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン等が着色層形成用組成物における有機溶剤として好ましく用いられる。これらの有機溶剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、有機溶剤の含有量は、特に制限はないが、着色層形成用組成物(例えば、塗布液)の全質量に対して、5質量%~90質量%であることが好ましく、30質量%~70質量%であることがより好ましい。
-Organic solvent-
As the organic solvent, commonly used organic solvents can be used without particular limitation. Specific examples include organic solvents such as esters, ethers, ketones, and aromatic hydrocarbons. Also, the same methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, cyclohexanol, methyl isobutyl ketone, lactic acid as Solvents described in paragraphs 0054 and 0055 of US Patent Application Publication No. 2005/282073 Ethyl, methyl lactate, and the like can also be suitably used as the organic solvent in the colored layer-forming composition. Among them, 1-methoxy-2-propyl acetate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, diethylene glycol mono Ethyl ether acetate (ethyl carbitol acetate), diethylene glycol monobutyl ether acetate (butyl carbitol acetate), propylene glycol methyl ether acetate, methyl ethyl ketone and the like are preferably used as the organic solvent in the colored layer forming composition. These organic solvents may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. The content of the organic solvent is not particularly limited, but is preferably 5% by mass to 90% by mass, preferably 30% by mass, based on the total mass of the composition for forming a colored layer (eg, coating liquid). It is more preferably ~70% by mass.

<接着層>
本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、加飾フィルムを貼りつける筐体への密着性、又は層間の密着性の観点から、接着層を有することが好ましい。接着層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。接着層としては、例えば、公知の粘着剤又は接着剤を含む層が挙げられる。
<Adhesive layer>
The decorative film according to an embodiment of the present disclosure preferably has an adhesive layer from the viewpoint of adhesion to the housing to which the decorative film is attached or adhesion between layers. The material for the adhesive layer is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. The adhesive layer includes, for example, a layer containing a known adhesive or adhesive.

<<粘着剤>>
粘着剤の例としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、及びシリコーン系粘着剤が挙げられる。また、粘着剤の例として、「剥離紙・剥離フィルムおよび粘着テープの特性評価とその制御技術」、情報機構、2004年、第2章に記載のアクリル系粘着剤、紫外線(UV)硬化型粘着剤、及びシリコーン粘着剤が挙げられる。接着層が粘着剤を含む場合には、更に、接着層に粘着付与剤が含まれていてもよい。
<<Adhesive>>
Examples of adhesives include acrylic adhesives, rubber adhesives, and silicone adhesives. Also, as examples of adhesives, acrylic adhesives and ultraviolet (UV) curable adhesives described in Chapter 2 of "Release Paper/Release Film and Adhesive Tape Characteristic Evaluation and Control Technology", Information Organization, 2004 and silicone adhesives. When the adhesive layer contains an adhesive, the adhesive layer may further contain a tackifier.

<<接着剤>>
接着剤としては、例えば、ウレタン樹脂接着剤、ポリエステル接着剤、アクリル樹脂接着剤、エチレン酢酸ビニル樹脂接着剤、ポリビニルアルコール接着剤、ポリアミド接着剤、及びシリコーン接着剤が挙げられる。接着強度がより高いという観点から、ウレタン樹脂接着剤又はシリコーン接着剤が好ましい。
<<Adhesive>>
Examples of adhesives include urethane resin adhesives, polyester adhesives, acrylic resin adhesives, ethylene vinyl acetate resin adhesives, polyvinyl alcohol adhesives, polyamide adhesives, and silicone adhesives. A urethane resin adhesive or a silicone adhesive is preferable from the viewpoint of higher adhesive strength.

ある実施形態にかかる加飾フィルムにおいては、着色層の厚み(T2)、反射層(好ましくはコレステリック液晶層)の厚み(T3)、及び接着層の厚み(T4)の関係が、T4<10(T2+T3)を満足することが好ましい。上記関係を満たすことで、薄膜で、光輝性、及び視認性に優れる加飾フィルムが得られる。より好ましくは、T4<8(T2+T3)、さらに好ましくは、T4<5(T2+T3)、特に好ましくは、T4<3(T2+T3)である。 In the decorative film according to one embodiment, the relationship among the thickness (T2) of the colored layer, the thickness (T3) of the reflective layer (preferably the cholesteric liquid crystal layer), and the thickness (T4) of the adhesive layer is T4<10 ( T2+T3) is preferably satisfied. By satisfying the above relationship, it is possible to obtain a decorative film that is thin and has excellent luster and visibility. More preferably, T4<8 (T2+T3), still more preferably T4<5 (T2+T3), particularly preferably T4<3 (T2+T3).

<<接着層の形成方法>>
接着層の形成方法としては、特に限定されず、接着層が形成された保護フィルムを、接着層と対象物(例えば、反射層、配向層、又は着色層)とが接するようにラミネートする方法、接着層を単独で対象物(例えば、反射層、配向層、又は着色層)に接するようにラミネートする方法、及び粘着剤又は接着剤を含む組成物を対象物(例えば、反射層、配向層、又は着色層)の上に塗布する方法が挙げられる。ラミネート方法としては、公知の方法を利用することができる。塗布方法としては、液晶組成物の塗布方法と同様の方法が好ましく挙げられる。
<<Method of Forming Adhesive Layer>>
The method of forming the adhesive layer is not particularly limited, and a protective film having an adhesive layer formed thereon is laminated so that the adhesive layer and an object (e.g., a reflective layer, an orientation layer, or a colored layer) are in contact, A method of laminating an adhesive layer alone so that it is in contact with an object (e.g., a reflective layer, an orientation layer, or a colored layer), and a composition containing a pressure-sensitive adhesive or adhesive to an object (e.g., a reflective layer, an orientation layer, or coloring layer). A known method can be used as the lamination method. The coating method is preferably the same as the coating method of the liquid crystal composition.

加飾フィルムにおける接着層の厚みとしては、粘着力及びハンドリング性の両立の点で、2μm~40μmが好ましく、3μm~25μmがより好ましく、4μm~20μmがさらに好ましく、4μm~15μmが特に好ましい。 The thickness of the adhesive layer in the decorative film is preferably 2 μm to 40 μm, more preferably 3 μm to 25 μm, still more preferably 4 μm to 20 μm, and particularly preferably 4 μm to 15 μm, from the viewpoint of both adhesive strength and handling properties.

<その他の層>
本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、上述した以外のその他の層を有していてもよい。その他の層としては、例えば、加飾フィルムにおいて公知の層である、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層、及び導電性層が挙げられる。本開示の一実施形態に係る加飾フィルムにおけるその他の層は公知の方法により形成することができる。例えば、これらの層に含まれる成分を含む組成物(層形成用組成物)を層状に付与し、乾燥する方法等が挙げられる。
<Other layers>
A decorative film according to an embodiment of the present disclosure may have layers other than those described above. Other layers include, for example, a self-healing layer, an antistatic layer, an antifouling layer, an anti-electromagnetic layer, and a conductive layer, which are known layers in decorative films. Other layers in the decorative film according to one embodiment of the present disclosure can be formed by known methods. Examples thereof include a method of applying a composition (layer-forming composition) containing components contained in these layers in layers and drying the layers.

<<カバーフィルム>>
本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、基材を基準に反射層側の最外層として、汚れの防止等を目的として、カバーフィルムを有していてもよい。カバーフィルムとしては、可撓性を有し、剥離性が良好な材料であれば特に制限なく使用され、例えば、樹脂フィルムが挙げられる。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルムが挙げられる。カバーフィルムは、例えば、対象物(例えば、反射層)に貼り付けることによって加飾フィルムに導入される。カバーフィルムの貼り付け方法としては、特に制限されず、公知の貼り付け方法が挙げられ、例えば、カバーフィルムを対象物(例えば、反射層)の上にラミネートする方法が挙げられる。
<< cover film >>
The decorative film according to an embodiment of the present disclosure may have a cover film as the outermost layer on the reflective layer side with respect to the substrate for the purpose of preventing contamination and the like. As the cover film, any material having flexibility and good releasability can be used without particular limitation, and examples thereof include resin films. Examples of resin films include polyethylene films. A cover film is introduced into the decorative film, for example, by attaching it to an object (eg, a reflective layer). The method of attaching the cover film is not particularly limited, and includes known attaching methods, such as a method of laminating the cover film on an object (eg, reflective layer).

<加飾フィルムの層構成>
ここで、加飾フィルムの層の構成の例について図1及び図2をそれぞれ用いて説明する。ただし、加飾フィルムの層構成は、各図に示される層構成に制限されるものではない。図1は、本開示に係る加飾フィルムの層構成の一例を示す概略断面図である。図1に示される加飾フィルム20は、基材22と、基材22上に着色層24と、着色層24上に配向層26と、配向層26上にコレステリック液晶層28と、コレステリック液晶層28上に粘着層30と、を有する。
<Layer structure of decorative film>
Here, examples of the structure of the layers of the decorative film will be described with reference to FIGS. 1 and 2, respectively. However, the layer structure of the decorative film is not limited to the layer structure shown in each drawing. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the decorative film according to the present disclosure. Decorative film 20 shown in FIG. 28 and an adhesive layer 30 .

図2は、本開示に係る加飾フィルムの層構成の一例を示す概略断面図である。図2に示される加飾フィルム50は、着色層32と、着色層32上に基材34と、基材34上に樹脂層36と、樹脂層36上に配向層38と、配向層38上にコレステリック液晶層40と、を有する。 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the decorative film according to the present disclosure. Decorative film 50 shown in FIG. and a cholesteric liquid crystal layer 40 .

<加飾フィルムの製造方法>
本開示の一実施形態に係る加飾フィルムの製造方法は制限されない。例えば、基材上に反射層及び必要に応じて反射層以外の層を設けることで、少なくとも基材と反射層とを有する加飾フィルムを製造することができる。各層の形成方法としては、既述の方法を利用することができる。2つ以上の層を含む複数の積層体を事前に製造し、複数の積層体を重ね合わせることで、加飾フィルムを製造してもよい。
<Method for manufacturing decorative film>
A method for manufacturing a decorative film according to an embodiment of the present disclosure is not limited. For example, a decorative film having at least a substrate and a reflective layer can be produced by providing a reflective layer and, if necessary, a layer other than the reflective layer on the substrate. As a method for forming each layer, the method described above can be used. A decorative film may be produced by previously producing a plurality of laminates each including two or more layers and stacking the plurality of laminates.

(加飾方法、及び、加飾物)
本開示の一実施形態に係る加飾方法は、本開示の一実施形態に係る加飾フィルムを用いた加飾方法であれば、特に制限はない。本開示の一実施形態に係る加飾方法は、例えば、加飾フィルムの反射層側の面と、凹凸構造を有する透明体の凹凸面とをラミネート又は成型加工プロセスにより、貼り付ける工程を含むことが好ましい。本開示の一実施形態に係る加飾物は、本開示の一実施形態に係る加飾フィルムを用いた加飾物であり、本開示の一実施形態に係る加飾方法により得られた加飾物であることが好ましい。
(Decoration method and decoration)
A decorating method according to an embodiment of the present disclosure is not particularly limited as long as it is a decorating method using a decorative film according to an embodiment of the present disclosure. A decorating method according to an embodiment of the present disclosure includes, for example, a step of attaching a reflective layer side surface of a decorating film and an uneven surface of a transparent body having an uneven structure by a lamination or molding process. is preferred. A decorative object according to an embodiment of the present disclosure is a decorative object using a decorative film according to an embodiment of the present disclosure, and is a decorative object obtained by a decorating method according to an embodiment of the present disclosure. is preferred.

加飾フィルムの反射層側の面と、凹凸構造を有する透明体の凹凸面とを貼り付ける工程において、加飾フィルムの反射層を有する面の表面、及び/又は、凹凸構造を有する透明体の凹凸面を、事前に活性化処理することが好ましい。事前活性化処理により、密着性が向上する。活性化処理の例としては、コロナ処理、プラズマ処理、及びシランカップリング材処理が挙げられる。コロナ処理が生産プロセス簡便性の観点で、最も好ましい。 In the step of attaching the reflective layer side surface of the decorative film to the uneven surface of the transparent body having the uneven structure, the surface of the decorative film having the reflective layer and/or the transparent body having the uneven structure It is preferable to activate the uneven surface in advance. The pre-activation treatment improves adhesion. Examples of activation treatments include corona treatment, plasma treatment, and silane coupling agent treatment. Corona treatment is most preferred from the viewpoint of production process simplicity.

(加飾成型体)
本開示の一実施形態に係る加飾成型体は、基材と、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有し、かつ、凹凸構造を有する反射層と、を含む。加飾成型体は、加飾物の一形態である。上記実施形態によれば、光輝性が高く、視認方向によらず均一な色味を発現する加飾成型体が提供される。本開示の一実施形態に係る加飾成型体が上記効果を奏する理由は、以下のように推察される。反射層が、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有し、かつ、凹凸構造を有することで、反射層において上記のような特定の波長を有する光が多方向に反射される。一方、反射層により反射されない波長を有する光の散乱は抑えられるため、光輝性を維持できる。この結果、本開示の一実施形態に係る加飾成型体によれば、光輝性が高く、視認方向によらず均一な色味が発現されると推察される。例えば、使用者は、反射層から基材へ向かう方向に加飾成型体を観察することで、光輝性が高く、視認方向によらず均一な色味を観察することができる。
(Decorative molding)
A decorative molded article according to an embodiment of the present disclosure includes a base material and a reflective layer having a center wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less and having an uneven structure. A decorative molding is one form of a decorative article. According to the above-described embodiment, a decorative molding that has high brilliance and develops a uniform color regardless of the viewing direction is provided. The reason why the decorative molding according to the embodiment of the present disclosure has the above effect is presumed as follows. The reflective layer has a central wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less, and has an uneven structure, so that light having a specific wavelength as described above is reflected in multiple directions in the reflective layer. be done. On the other hand, scattering of light having a wavelength that is not reflected by the reflective layer is suppressed, so that the brilliance can be maintained. As a result, according to the decorative molding according to the embodiment of the present disclosure, it is presumed that the brilliance is high and a uniform color is exhibited regardless of the viewing direction. For example, by observing the decorative molding in the direction from the reflective layer toward the base material, the user can observe a highly brilliant and uniform color regardless of the viewing direction.

<基材>
本開示の一実施形態に係る加飾成型体は、基材を含む。基材としては、例えば、上記「加飾フィルム」の項で説明した基材を用いることができる。基材の好ましい態様は、上記「加飾フィルム」の項で説明した基材の好ましい態様と同じである。基材は、凹凸構造を有してもよい。
<Base material>
A decorative molded article according to an embodiment of the present disclosure includes a base material. As the base material, for example, the base material described in the above section of "decorative film" can be used. Preferred aspects of the base material are the same as the preferred aspects of the base material described in the above section "Decorative film". The substrate may have an uneven structure.

<反射層>
本開示の一実施形態に係る加飾成型体は、反射層を含む。反射層は、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有し、かつ、凹凸構造を有する。反射層としては、上記「加飾フィルム」の項で説明した反射層を用いることができる。反射層の好ましい態様は、上記「加飾フィルム」の項で説明した反射層の好ましい態様と同じである。ある実施形態において、反射層は、コレステリック液晶を含む層であることが好ましい。
<Reflective layer>
A decorative molding according to an embodiment of the present disclosure includes a reflective layer. The reflective layer has a selective reflection wavelength center wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less, and has an uneven structure. As the reflective layer, the reflective layer described in the above section "Decorative Film" can be used. Preferred aspects of the reflective layer are the same as the preferred aspects of the reflective layer described in the above section "Decorative Film". In one embodiment, the reflective layer is preferably a layer containing cholesteric liquid crystals.

反射層は、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有する。反射層における選択反射波長の中心波長については、上記「加飾フィルム」の項で説明したとおりである。 The reflective layer has a central wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less. The center wavelength of the selective reflection wavelength in the reflective layer is as described in the section "Decorative Film" above.

反射層は、凹凸構造を有する。反射層により反射されない波長の光の散乱は抑えられ、光輝性を維持できる。見かけ上、凸凹構造は、凸部のみを複数含んでいても、凹部のみを複数含んでいても、凸部及び凹部をそれぞれ複数含んでいてもよい。凸部のみを複数含む凸凹構造としては、半球形状の凸部が形成された構造を挙げることができるが、特に限定されない。例えば、凸部及び凹部をそれぞれ複数含む凸凹構造としては、プリズム状、ピラミッド状又はコーナーキューブ状を挙げることができる。 The reflective layer has an uneven structure. Scattering of light of wavelengths not reflected by the reflective layer is suppressed, and brightness can be maintained. In appearance, the uneven structure may include only a plurality of protrusions, may include only a plurality of recesses, or may include a plurality of protrusions and recesses. As the uneven structure including only a plurality of protrusions, a structure in which hemispherical protrusions are formed can be exemplified, but is not particularly limited. For example, the concave-convex structure including a plurality of convex portions and concave portions may include a prism shape, a pyramid shape, or a corner cube shape.

凹凸構造は、凸部及び凹部のうち少なくとも一方を周期的なピッチで有することが好ましい。ピッチは、凹凸構造において隣り合う凸部と凸部との間隔、又は凹凸構造において隣り合う凹部と凹部との間隔である。凸部と凸部との間隔は、凸部の最高点と凸部の最高点との間の距離である。凹部と凹部との間隔は、凹部の最低点と凹部の最低点との間の距離である。例えば、凹凸構造が半球形状である場合、ピッチは、最近接する2つの半球状の凸部の頂点間距離に相当する。例えば、凹凸構造がコーナーキューブ状である場合、ピッチは最近接する2つのコーナーキューブ状の凸部の頂点間距離に相当する。例えば、凹凸構造がピラミッド状である場合、ピッチは最近接する2つのピラミッド状の凸部の頂点間距離に相当する。 It is preferable that the concave-convex structure has at least one of convex portions and concave portions at a periodic pitch. The pitch is the interval between adjacent protrusions in the uneven structure or the interval between adjacent recesses in the uneven structure. The distance between protrusions is the distance between the highest points of the protrusions and the highest points of the protrusions. The recess-to-recess spacing is the distance between the lowest point of the recess and the lowest point of the recess. For example, when the concave-convex structure has a hemispherical shape, the pitch corresponds to the distance between the apexes of the two nearest hemispherical protrusions. For example, when the concave-convex structure is in the shape of a corner cube, the pitch corresponds to the distance between the vertices of the two closest corner cube-shaped protrusions. For example, when the uneven structure is pyramidal, the pitch corresponds to the distance between the apexes of the two closest pyramidal protrusions.

凹凸構造の深さは、視野角によらず均一な色味を視認すること、及び、光輝性の観点から、1μm以上であることが好ましく、1μm~2,000μmであることがより好ましく、3μm~500μmであることがさらに好ましく、5μm~100μmであることが特に好ましく、8μm~50μmであることが最も好ましい。本開示において、レーザー顕微鏡(例えば、株式会社キーエンス製のVK-X1000)を用いて得られる凹凸面の隣接する極大部と極小部との高度差の面内平均値を凹凸構造の深さとして採用する。測定対象面は、露出した反射層の凹凸構造の表面(すなわち、凹凸面)とする。ただし、反射層を覆う層が凹凸構造を有し、かつ、反射層を覆う層の凹凸構造が反射層の凹凸構造と実質的に同一であるとみなせる場合には、反射層を覆う層の凹凸構造の深さを反射層の凹凸構造の深さとして採用してもよい。 The depth of the concave-convex structure is preferably 1 μm or more, more preferably 1 μm to 2,000 μm, more preferably 3 μm, in order to visually recognize a uniform color regardless of the viewing angle and from the viewpoint of brightness. It is more preferably ˜500 μm, particularly preferably 5 μm to 100 μm, and most preferably 8 μm to 50 μm. In the present disclosure, the in-plane average value of the height difference between adjacent maximum and minimum portions of the uneven surface obtained using a laser microscope (for example, VK-X1000 manufactured by Keyence Corporation) is adopted as the depth of the uneven structure. do. The surface to be measured is the surface of the exposed reflective layer with the uneven structure (that is, the uneven surface). However, if the layer covering the reflective layer has an uneven structure and the uneven structure of the layer covering the reflective layer can be considered to be substantially the same as the uneven structure of the reflective layer, the unevenness of the layer covering the reflective layer The depth of the structure may be employed as the depth of the uneven structure of the reflective layer.

凹凸構造の幅は、視野角によらず均一な色味を視認すること、及び、光輝性の観点から、5μm以上であることが好ましく、10μm~5000μmであることがより好ましく、30μm~2000μmであることがさらに好ましく、50μm~500μmであることが特に好ましい。本開示において、レーザー顕微鏡(例えば、株式会社キーエンス製のVK-X1000)を用いて得られる凹凸面の隣接する極小部と極小部との間の距離の面内平均値を凹凸構造の幅として採用する。測定対象面は、露出した反射層の凹凸構造の表面(すなわち、凹凸面)とする。ただし、反射層を覆う層が凹凸構造を有し、かつ、反射層を覆う層の凹凸構造が反射層の凹凸構造と実質的に同一であるとみなせる場合には、反射層を覆う層の凹凸構造の幅を反射層の凹凸構造の幅として採用してもよい。 The width of the concave-convex structure is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm to 5000 μm, more preferably 30 μm to 2000 μm, from the viewpoint of visual uniformity of color regardless of the viewing angle and brightness. It is more preferable to have a thickness of 50 μm to 500 μm. In the present disclosure, the in-plane average value of the distance between the adjacent minimal parts of the uneven surface obtained using a laser microscope (for example, VK-X1000 manufactured by Keyence Corporation) is adopted as the width of the uneven structure. do. The surface to be measured is the surface of the exposed reflective layer with the uneven structure (that is, the uneven surface). However, if the layer covering the reflective layer has an uneven structure and the uneven structure of the layer covering the reflective layer can be considered to be substantially the same as the uneven structure of the reflective layer, the unevenness of the layer covering the reflective layer The width of the structure may be employed as the width of the relief structure of the reflective layer.

凹凸構造の幅と凹凸構造の深さとの比(幅:深さ)は、視野角によらず均一な色味を視認すること、及び、光輝性の観点から、100:1~1:2が好ましく、50:1~1:1がより好ましい。 The ratio of the width of the concave-convex structure to the depth of the concave-convex structure (width: depth) is 100: 1 to 1: 2 from the viewpoint of visually recognizing a uniform color regardless of the viewing angle and from the viewpoint of brightness. Preferably, 50:1 to 1:1 is more preferred.

反射層の厚さHに対する反射層の凹凸構造の深さHとの比は、0.1<H/Hであることが好ましく、0.5<H/H<200であることがより好ましく、1<H/H<100であることが更に好ましく、5<H/H<50であることが特に好ましい。The ratio of the depth H D of the concave-convex structure of the reflective layer to the thickness H T of the reflective layer is preferably 0.1<H D /H T , and 0.5<H D /H T <200. more preferably 1<H D /H T <100, and particularly preferably 5<H D /H T <50.

反射層における凹凸構造の形成方法としては、特に制限はないが、例えば、あらかじめ凹凸構造に対応する形状(以下、本段落において「凹凸形状」という。)が形成された型を作製し、凹凸構造を有しない反射層が積層された基材に対し、凹凸形状を転写する方法、及び反射層の形成前の基材に、上記凹凸形状を転写した後、反射層を凹凸形状に沿って変形させる方法が好適に挙げられる。いずれの場合も、基材上に、凹凸形状に追随が容易な、後述する樹脂層を設けることもできる。転写方法としては、例えば、型を直接基材に加圧する方法、及び真空ラミネーターを用いて加圧する方法が挙げられる。 The method for forming the uneven structure in the reflective layer is not particularly limited. A method of transferring an uneven shape to a substrate on which a reflective layer having no methods are preferred. In either case, a resin layer, which will be described later, can be provided on the base material so that it can easily follow the uneven shape. The transfer method includes, for example, a method of pressing the mold directly against the substrate and a method of pressing using a vacuum laminator.

<樹脂層>
本開示の一実施形態に係る加飾成型体は、基材と反射層との間に樹脂層を含むことが好ましい。樹脂層は、特に反射層における凹凸構造の形成に寄与する。例えば、樹脂層によれば、反射層に凹凸構造を付与するための型として使用される凹凸構造を有する表面(すなわち、凹凸面)に対する反射層の追従性を向上することができる。この結果、反射層に対して所望の凹凸構造を容易に付与することができる。
<Resin layer>
It is preferable that the decorative molding according to an embodiment of the present disclosure includes a resin layer between the substrate and the reflective layer. The resin layer particularly contributes to the formation of the uneven structure in the reflective layer. For example, the resin layer can improve the followability of the reflective layer to the surface having the rugged structure (that is, the rugged surface) used as a mold for imparting the rugged structure to the reflective layer. As a result, it is possible to easily impart a desired uneven structure to the reflective layer.

樹脂層としては、上記「加飾フィルム」の項で説明した樹脂層を用いることができる。樹脂層の好ましい態様は、上記「加飾フィルム」の項で説明した樹脂層の好ましい態様と同じである。樹脂層は、凹凸構造を有してもよい。樹脂層は、反射層の凹凸構造と同じ凹凸構造を有することが好ましい。 As the resin layer, the resin layer described in the above section "Decorative Film" can be used. Preferred aspects of the resin layer are the same as the preferred aspects of the resin layer described in the above section "Decorative Film". The resin layer may have an uneven structure. The resin layer preferably has the same uneven structure as that of the reflective layer.

樹脂層の厚みは、反射層の凹凸構造の深さに対して、0.5倍~10倍であることが好ましく、0.8倍~8倍であることがより好ましく、1倍~5倍であることが特に好ましい。 The thickness of the resin layer is preferably 0.5 to 10 times, more preferably 0.8 to 8 times, and 1 to 5 times the depth of the uneven structure of the reflective layer. is particularly preferred.

<着色層>
本開示の一実施形態に係る加飾成型体は、着色層を含むことが好ましい。着色層としては、上記「加飾フィルム」の項で説明した着色層を用いることができる。着色層の好ましい態様は、上記「加飾フィルム」の項で説明した着色層の好ましい態様と同じである。着色層は、凹凸構造を有してもよい。
<Colored layer>
It is preferable that the decorative molding according to an embodiment of the present disclosure includes a colored layer. As the colored layer, the colored layer described in the above section "Decorative Film" can be used. Preferred embodiments of the colored layer are the same as the preferred embodiments of the colored layer described in the section "Decorative Film" above. The colored layer may have an uneven structure.

着色層の位置は制限されない。ある実施形態において、着色層は、基材と反射層との間に配置されていることが好ましい。すなわち、ある実施形態に係る加飾成型体は、基材と、着色層と、反射層と、をこの順で含むことが好ましい。ある実施形態において、着色層は、基材の反射層とは反対側に配置されていることが好ましい。すなわち、ある実施形態に係る加飾成型体は、着色層と、基材と、反射層と、をこの順で含むことが好ましい。 The position of the colored layer is not restricted. In one embodiment, the colored layer is preferably arranged between the substrate and the reflective layer. That is, it is preferable that the decorative molding according to one embodiment includes a substrate, a colored layer, and a reflective layer in this order. In one embodiment, the colored layer is preferably located on the opposite side of the substrate from the reflective layer. That is, it is preferable that the decorative molding according to one embodiment includes a colored layer, a substrate, and a reflective layer in this order.

<配向層>
本開示の一実施形態に係る加飾成型体は、配向層を含んでもよい。配向層は、反射層(好ましくはコレステリック液晶層)に接していることが好ましい。配向層としては、上記「加飾フィルム」の項で説明した配向層を用いることができる。配向層の好ましい態様は、上記「加飾フィルム」の項で説明した配向層の好ましい態様と同じである。配向層は、凹凸構造を有してもよい。
<Orientation layer>
A decorative molded body according to an embodiment of the present disclosure may include an orientation layer. Preferably, the alignment layer is in contact with the reflective layer (preferably the cholesteric liquid crystal layer). As the orientation layer, the orientation layer described in the above section "Decorative Film" can be used. Preferred aspects of the orientation layer are the same as the preferred aspects of the orientation layer described in the above section "Decorative Film". The alignment layer may have an uneven structure.

<接着層>
本開示の一実施形態に係る加飾成型体は、接着層を含んでもよい。接着層は、加飾成型体の表面に配置されてもよい。接着層は、加飾成型体に含まれる任意の2つの層の間に配置されてもよい。接着層としては、上記「加飾フィルム」の項で説明した接着層を用いることができる。接着層の好ましい態様は、上記「加飾フィルム」の項で説明した接着層の好ましい態様と同じである。接着層は、凹凸構造を有してもよい。
<Adhesive layer>
A decorative molded body according to an embodiment of the present disclosure may include an adhesive layer. The adhesive layer may be arranged on the surface of the decorative molding. The adhesive layer may be arranged between any two layers included in the decorative molding. As the adhesive layer, the adhesive layer described in the above section "Decorative Film" can be used. Preferred aspects of the adhesive layer are the same as the preferred aspects of the adhesive layer described in the above section "Decorative Film". The adhesive layer may have an uneven structure.

<その他の層>
本開示の一実施形態に係る加飾成型体は、上記した層以外のその他の層を含んでもよい。その他の層としては、例えば、上記「加飾フィルム」の項で説明したその他の層を用いることができる。
<Other layers>
A decorative molded body according to an embodiment of the present disclosure may include layers other than the layers described above. As other layers, for example, the other layers described in the above section "Decorative Film" can be used.

本開示の一実施形態に係る加飾成型体は、凹凸構造を有する表面(すなわち、凹凸面)を有する透明体を含んでもよい。ある実施形態において、加飾成型体は、基材と、反射層と、凹凸構造を有する表面を有する透明体と、をこの順で含むことが好ましい。使用者は、例えば、透明体から基材へ向かう方向に加飾成型体を観察することで、光輝性が高く、視認方向によらず均一な色味を観察することができる。透明体は、反射層(好ましくはコレステリック液晶層)に接していることが好ましい。透明体は、他の層(例えば、配向層)を介して反射層に接してもよい。透明体の凹凸面は、反射層を向いていることが好ましい。透明体としては、例えば、透明な樹脂、及びガラスが挙げられる。 A decorative molded body according to an embodiment of the present disclosure may include a transparent body having a surface having an uneven structure (that is, an uneven surface). In one embodiment, the decorative molded body preferably includes a base material, a reflective layer, and a transparent body having a surface having an uneven structure in this order. For example, by observing the decorative molding in the direction from the transparent body to the base material, the user can observe a highly brilliant and uniform color regardless of the viewing direction. Preferably, the transparent body is in contact with the reflective layer (preferably the cholesteric liquid crystal layer). The transparent body may contact the reflective layer through another layer (eg, an alignment layer). The uneven surface of the transparent body preferably faces the reflective layer. Examples of the transparent body include transparent resin and glass.

<加飾成型体の層構成>
加飾成型体の層構成の例について、図3、図4、及び図5をそれぞれ用いて説明する。ただし、加飾成型体の層構成は、各図に示される層構成に制限されるものではない。
<Layer structure of decorative molding>
An example of the layer structure of the decorative molding will be described with reference to FIGS. 3, 4, and 5, respectively. However, the layer structure of the decorative molding is not limited to the layer structure shown in each drawing.

図3は、本開示に係る加飾成型体一例を示す概略断面図である。図3に示される加飾成型体70は、基材22と、着色層24と、配向層26と、コレステリック液晶層28と、接着層30と、凹凸構造を有する透明体60と、をこの順に有する。透明体60は、透明体の一形態である。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of a decorative molding according to the present disclosure. The decorative molding 70 shown in FIG. 3 comprises a substrate 22, a colored layer 24, an alignment layer 26, a cholesteric liquid crystal layer 28, an adhesive layer 30, and a transparent body 60 having an uneven structure in this order. have. The transparent body 60 is one form of transparent body.

図4は、本開示に係る加飾成型体の一例を示す概略断面図である。図4に示される加飾成型体80は、着色層32と、基材34と、樹脂層36と、配向層38と、コレステリック液晶層40と、凹凸構造を有する透明体60と、をこの順に有する。 FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the decorative molding according to the present disclosure. The decorative molding 80 shown in FIG. 4 comprises a colored layer 32, a base material 34, a resin layer 36, an alignment layer 38, a cholesteric liquid crystal layer 40, and a transparent body 60 having an uneven structure in this order. have.

図5は、本開示に係る加飾成型体の一例を示す概略断面図である。図5に示される加飾成型体90は、着色層32と、基材34と、樹脂層36と、コレステリック液晶層40と、配向層38と、凹凸構造を有する透明体60と、をこの順に有する。 FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the decorative molding according to the present disclosure. The decorative molded body 90 shown in FIG. 5 comprises a colored layer 32, a base material 34, a resin layer 36, a cholesteric liquid crystal layer 40, an alignment layer 38, and a transparent body 60 having an uneven structure in this order. have.

<加飾成型体の製造方法>
本開示の一実施形態に係る加飾成型体の製造方法は、本開示の一実施形態に係る加飾フィルムを用いる方法であることが好ましい。本開示の一実施形態に係る加飾成型体の製造方法は、加飾フィルムの反射層側に凹凸構造を有する透明体に貼り付ける工程が好ましい。本開示の一実施形態に係る加飾フィルムは、立体成型性にも優れるため、加飾成型体の製造に好適に用いることができ、例えば、立体成型、及び、インサート成型よりなる群から選ばれた少なくとも1種の成型により加飾成型体を製造する際に特に好適である。また、本開示の一実施形態に係る加飾フィルムによれば、成型後の成型体に張り付けることにより加飾成型体とすることも可能である。加飾成型体の作製に際して、本開示の一実施形態に係る加飾フィルムを用いることで、より複雑な形状、より小さな形状等の金型にも適用可能となり、加飾成型体の用途の幅を広げることができる。加飾フィルムを用いて得られる加飾成型体の層構成は、加飾フィルムの層構成が反映される。言い換えると、加飾フィルムを用いて得られる加飾成型体は、加飾フィルムに含まれる各層を含む。
<Manufacturing method of decorative molding>
A method for manufacturing a decorated molded body according to an embodiment of the present disclosure is preferably a method using a decorative film according to an embodiment of the present disclosure. In the method for manufacturing a decorative molded body according to an embodiment of the present disclosure, the step of attaching the decorative film to a transparent body having an uneven structure on the reflective layer side is preferable. The decorative film according to an embodiment of the present disclosure is also excellent in three-dimensional moldability, so it can be suitably used for manufacturing a decorative molded body, for example, it is selected from the group consisting of three-dimensional molding and insert molding. It is particularly suitable for producing a decorative molding by at least one molding. In addition, according to the decorative film according to the embodiment of the present disclosure, it is possible to form a decorative molded body by attaching it to the molded body after molding. By using the decorative film according to an embodiment of the present disclosure when producing a decorative molded body, it is possible to apply it to molds with more complicated shapes, smaller shapes, etc., and the range of applications of the decorative molded body can be expanded. The layer structure of the decorative molded product obtained using the decorative film reflects the layer structure of the decorative film. In other words, the decorated molding obtained using the decorative film includes each layer included in the decorative film.

また、成型としては、立体成型も好適に挙げられる。立体成型としては、例えば、熱成型、真空成型、圧空成型、及び真空圧空成型が好適に挙げられる。真空成型の方法としては、特に制限されるものではないが、立体成型を、真空下の加熱した状態で行う方法が好ましい。真空とは、室内を減圧し、100Pa以下の真空度とした状態を指す。立体成型する際の温度は、用いる成型用基材に応じ適宜設定すればよいが、60℃以上の温度域であることが好ましく、80℃以上の温度域であることがより好ましく、100℃以上の温度域であることが更に好ましい。立体成型する際の温度の上限は、200℃であることが好ましい。立体成型する際の温度とは、立体成型に供される成型用基材の温度を指し、成型用基材の表面に熱電対を付すことで測定される。 Moreover, as molding, three-dimensional molding is also preferably exemplified. Suitable three-dimensional molding includes, for example, thermoforming, vacuum molding, air pressure molding, and vacuum pressure molding. The method of vacuum molding is not particularly limited, but a method of performing three-dimensional molding in a heated state under vacuum is preferred. Vacuum refers to a state in which the pressure inside the chamber is reduced to a degree of vacuum of 100 Pa or less. The temperature at which the three-dimensional molding is performed may be appropriately set according to the molding substrate to be used, but it is preferably in the temperature range of 60°C or higher, more preferably in the temperature range of 80°C or higher, and 100°C or higher. is more preferably in the temperature range of The upper limit of the temperature for three-dimensional molding is preferably 200°C. The temperature at the time of three-dimensional molding refers to the temperature of the molding substrate subjected to three-dimensional molding, and is measured by attaching a thermocouple to the surface of the molding substrate.

真空成型は、成型分野で広く知られている真空成型技術を利用して行うことができ、例えば、日本製図器工業(株)製のFormech508FSを用いて真空成型してもよい。 Vacuum forming can be performed using a vacuum forming technique widely known in the field of forming. For example, Formech 508FS manufactured by Nippon Seiki Kogyo Co., Ltd. may be used for vacuum forming.

以下、加飾成型体の製造方法について具体的に説明する。本開示の一実施形態に係る加飾成型体の製造方法は、基材と、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有する反射層と、を少なくとも有する加飾フィルムを用意する工程と、凹凸構造を有する表面に上記反射層を接触させ、上記反射層に0.01MPa以上の圧力を印加し、上記反射層に凹凸構造を付与する工程と、を含むことが好ましい。凹凸構造を有する表面は、反射層に凹凸構造を付与するための型として機能する。凹凸構造を有する表面に反射層を接触させて反射層を加圧することで、凹凸構造を有する表面に沿って反射層が変形する。この結果、反射層に凹凸構造が付与される。 A method for manufacturing a decorative molding will be specifically described below. A method for manufacturing a decorated molded body according to an embodiment of the present disclosure prepares a decorative film having at least a substrate and a reflective layer having a central wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less. and applying a pressure of 0.01 MPa or more to the reflective layer to impart the rugged structure to the reflective layer. The surface having the uneven structure functions as a mold for providing the reflective layer with the uneven structure. By bringing the reflective layer into contact with the surface having the uneven structure and pressing the reflective layer, the reflective layer deforms along the surface having the uneven structure. As a result, the reflective layer is provided with an uneven structure.

加飾フィルムの層構成は、目的とする加飾成型体の層構成に応じて決定すればよい。例えば、基材と、反射層と、上記基材と上記反射層との間に樹脂層と、を有する加飾フィルムを用いることで、上記基材と、上記樹脂層と、上記反射層と、をこの順で含む加飾成型体が得られる。 The layer structure of the decorative film may be determined according to the layer structure of the intended decorative molding. For example, by using a decorative film having a substrate, a reflective layer, and a resin layer between the substrate and the reflective layer, the substrate, the resin layer, the reflective layer, is obtained in this order.

凹凸構造を有する表面は、種々の物品の外側の面によって画定される。凹凸構造を有する表面は、例えば、金型の表面であってもよく、又は金型以外の物品の表面であってもよい。 Textured surfaces are defined by exterior surfaces of various articles. The surface having an uneven structure may be, for example, the surface of a mold or the surface of an article other than the mold.

凹凸構造を有する表面に反射層を接触させる過程においては、凹凸構造を有する表面に反射層を近づけてもよく、又は反射層に凹凸構造を有する表面を近づけてもよい。他の層(例えば、配向層)を介して、凹凸構造を有する表面に反射層を接触させてもよい。 In the process of bringing the reflective layer into contact with the surface having the uneven structure, the reflective layer may be brought close to the surface having the uneven structure, or the surface having the uneven structure may be brought close to the reflective layer. The reflective layer may be brought into contact with the surface having the relief structure via another layer (for example, an alignment layer).

反射層に印加される圧力は、0.1MPa以上であることが好ましく、0.3MPa以上であることがより好ましく、0.5MPa以上であることが特に好ましい。反射層に印加される圧力の上限は制限されない。反射層に印加される圧力の上限は、例えば、反射層の加工性、及び加飾フィルムの厚さに応じて決定すればよい。反射層に印加される圧力は、10MPa以下であることが好ましく、3MPa以下であることがより好ましく、1MPa以下であることが特に好ましい。 The pressure applied to the reflective layer is preferably 0.1 MPa or higher, more preferably 0.3 MPa or higher, and particularly preferably 0.5 MPa or higher. There is no upper limit to the pressure applied to the reflective layer. The upper limit of the pressure applied to the reflective layer may be determined, for example, according to the workability of the reflective layer and the thickness of the decorative film. The pressure applied to the reflective layer is preferably 10 MPa or less, more preferably 3 MPa or less, and particularly preferably 1 MPa or less.

反射層に圧力を印加する方法としては、制限されず、公知の方法を利用することができる。圧力の印加方法としては、例えば、圧縮空気を用いる方法、及びプレス機械を用いる方法が挙げられる。 A method for applying pressure to the reflective layer is not limited, and a known method can be used. Examples of the method of applying pressure include a method using compressed air and a method using a press machine.

加飾成型体の製造方法においては、凹凸構造を有する表面を有する物品として、例えば、上記した凹凸構造を有する表面(すなわち、凹凸面)を有する透明体を用いてもよい。例えば、ある実施形態に係る加飾成型体の製造方法は、基材と、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有する反射層と、を少なくとも有する加飾フィルムを用意する工程と、凹凸構造を有する表面を有する透明体と上記加飾フィルムとを重ね合わせることで上記凹凸構造を有する上記表面に上記反射層を接触させ、上記反射層に対して0.01MPa以上の圧力を印加し、上記反射層に凹凸構造を付与する工程と、を含むことが好ましい。反射層に凹凸構造を付与した後、透明体は除去されても除去されなくてもよい。透明体が除去されない場合、透明体は、例えば、加飾成型体の外側の層として配置される。 In the method for producing a decorative molded body, the article having the uneven surface may be, for example, a transparent body having the uneven surface (that is, the uneven surface). For example, a method for manufacturing a decorated molded body according to an embodiment prepares a decorative film having at least a substrate and a reflective layer having a central wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less. and a transparent body having a surface having an uneven structure and the decorative film are superimposed to bring the reflective layer into contact with the surface having the uneven structure, and a pressure of 0.01 MPa or more is applied to the reflective layer. is applied to provide the reflective layer with an uneven structure. After providing the reflective layer with the relief structure, the transparent body may or may not be removed. If the transparent body is not removed, it is for example arranged as an outer layer of the decorative molding.

<用途>
上記のようにして得られた加飾成型体の用途としては、特に制限はなく、加飾成型体は種々の物品に用いることができる、加飾成型体の用途としては、例えば、電子デバイス(例えば、ウエアラブルデバイス、及びスマートフォン)の内外装、自動車の内外装、電気製品の内外装、及び包装容器が特に好適に挙げられる。
<Application>
The use of the decorated molded body obtained as described above is not particularly limited, and the decorated molded body can be used for various articles. Applications of the decorated molded body include, for example, electronic devices ( For example, interiors and exteriors of wearable devices and smartphones), interiors and exteriors of automobiles, interiors and exteriors of electric appliances, and packaging containers are particularly suitable.

(加飾パネル)
本開示の一実施形態に係る加飾パネルは、本開示の一実施形態に係る加飾成型体を含む。加飾パネルにおける加飾成型体は、上記「加飾成型体」の項で説明した加飾成型体と同義である。
(decorative panel)
A decorative panel according to an embodiment of the present disclosure includes a decorative molding according to an embodiment of the present disclosure. The decorative molded body in the decorative panel is synonymous with the decorative molded body described in the section "Decorated molded body" above.

加飾パネルは、例えば、加飾成型体の反射層側の表面と加飾パネルの表層部となる部材の表面とを接着させることで製造することができる。加飾パネルの表層部となる部材としては、例えば、ガラスパネルが挙げられる。加飾成型体と加飾パネルの表層部となる部材との接着には、例えば、上記した接着層を用いることができる。加飾成型体と他の部材とを組み合わせず、加飾成型体を単独で加飾パネルとして用いてもよい。 The decorative panel can be manufactured, for example, by bonding the surface of the decorative molding on the side of the reflective layer and the surface of the member that will be the surface layer portion of the decorative panel. Examples of the member that becomes the surface layer of the decorative panel include a glass panel. For example, the above-described adhesive layer can be used for adhesion between the decorative molded body and the member that forms the surface layer of the decorative panel. The decorative molded body may be used alone as a decorative panel without combining the decorative molded body with other members.

加飾パネルの層構成の例について、図6を用いて説明する。ただし、加飾パネルの層構成は、図6に示される層構成に制限されるものではない。図6は、本開示に係る加飾パネルの一例を示す概略断面図である。図6に示される加飾パネル100は、着色層32と、基材34と、樹脂層36と、コレステリック液晶層40と、配向層38と、凹凸構造を有する透明体60と、接着層42と、ガラスパネル44と、をこの順に有する。 An example of the layer structure of the decorative panel will be described with reference to FIG. However, the layer structure of the decorative panel is not limited to the layer structure shown in FIG. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of a decorative panel according to the present disclosure. A decorative panel 100 shown in FIG. , and the glass panel 44 in this order.

加飾パネルの形状は制限されない。加飾パネルの形状は、例えば、用途に応じて決定すればよい。加飾パネルは、例えば、平板状であってもよい。また、加飾パネルは、曲面を有してもよい。 The shape of the decorative panel is not restricted. The shape of the decorative panel may be determined, for example, according to the application. The decorative panel may be flat, for example. Also, the decorative panel may have a curved surface.

加飾パネルは、例えば、種々の物品(例えば、電子デバイス、自動車、及び電気製品)の内外装に用いることができる。例えば、図6に示される加飾パネル100を電子デバイスの筐体として用いる場合、筐体の内側から外側に向かって、着色層32、基材34、樹脂層36、コレステリック液晶層40、配向層38、凹凸構造を有する透明体60、接着層42、及びガラスパネル44を配置することが好ましい。使用者は、ガラスパネル44から着色層32へ向かう方向に加飾パネル100を観察することで、光輝性が高く、視認方向によらず均一な色味を観察することができる。 Decorative panels can be used, for example, for the interior and exterior of various articles (eg, electronic devices, automobiles, and electric appliances). For example, when the decorative panel 100 shown in FIG. 6 is used as a housing for an electronic device, the colored layer 32, the base material 34, the resin layer 36, the cholesteric liquid crystal layer 40, and the alignment layer are arranged from the inside to the outside of the housing. 38. Preferably, a transparent body 60 having an uneven structure, an adhesive layer 42, and a glass panel 44 are arranged. By observing the decorative panel 100 in the direction from the glass panel 44 toward the colored layer 32, the user can observe a highly brilliant and uniform color regardless of the viewing direction.

(電子デバイス)
本開示の一実施形態に係る電子デバイスは、本開示の一実施形態に係る加飾パネルを含む。電子デバイスとしては、例えば、ウエアラブルデバイス、及びスマートフォンが挙げられる。電子デバイスにおける加飾パネルは、上記「加飾パネル」の項で説明した加飾パネルと同義である。加飾パネルは、電子デバイスの筐体として用いられることが好ましい。
(electronic device)
An electronic device according to an embodiment of the present disclosure includes a decorative panel according to an embodiment of the present disclosure. Electronic devices include, for example, wearable devices and smart phones. The decorative panel in the electronic device has the same meaning as the decorative panel described in the above section "Decorative panel". The decorative panel is preferably used as a housing for electronic devices.

電子デバイスの製造方法は、制限されず、公知の方法を利用することができる。電子デバイスの筐体として加飾パネルを用いる場合、加飾パネルを含む筐体の内部に電子デバイスの各種電子部品を収容することで、加飾パネルを含む電子デバイスを製造することができる。 The method of manufacturing the electronic device is not limited, and known methods can be used. When a decorative panel is used as a housing of an electronic device, the electronic device including the decorative panel can be manufactured by housing various electronic components of the electronic device inside the housing containing the decorative panel.

以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present disclosure will be described more specifically with reference to examples below. The scope of the present disclosure is not limited to the specific examples shown below.

(参考例1)
<支持体の準備>
支持体として、テクノロイS001(アクリルフィルム、厚さ:125μm、住化アクリル(株)製)を準備した。
(Reference example 1)
<Preparation of support>
Technoloy S001 (acrylic film, thickness: 125 μm, manufactured by Sumika Acrylic Co., Ltd.) was prepared as a support.

<黒色顔料分散液の調製>
以下の黒色顔料分散液の組成となるようにカーボンブラック、分散剤、ポリマー及び溶剤を混合し、3本ロールとビーズミルを用いて黒色顔料分散液を得た。なお、マイクロトラックFRA(ハネウェル社)を用いて測定したカーボンブラックの平均粒子径は、163nmであった。
<Preparation of black pigment dispersion>
Carbon black, a dispersant, a polymer and a solvent were mixed so as to have the following composition of a black pigment dispersion, and a black pigment dispersion was obtained using a triple roll and a bead mill. The average particle size of carbon black measured using Microtrac FRA (Honeywell) was 163 nm.

-黒色顔料分散液の組成-
・特許第5320652号公報の段落0036~段落0042の記載に従って作製した樹脂被覆カーボンブラック:20.0質量%
・分散剤1(下記構造):1.0質量%
・ポリマー(ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=72/28(モル比)のランダム共重合体、重量平均分子量:3.0万):6.0質量%
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:73.0質量%
-Composition of black pigment dispersion-
・ Resin-coated carbon black prepared according to paragraphs 0036 to 0042 of Japanese Patent No. 5320652: 20.0% by mass
- Dispersant 1 (structure below): 1.0% by mass
・ Polymer (random copolymer of benzyl methacrylate/methacrylic acid = 72/28 (molar ratio), weight average molecular weight: 30,000): 6.0% by mass
・Propylene glycol monomethyl ether acetate: 73.0% by mass

Figure 0007177273000010
Figure 0007177273000010

<着色層形成用塗布液1の組成>
・黒分散液:30質量部
・重合性化合物1:サートマー・ジャパン(株)製、ウレタンアクリレートオリゴマー、CN-996NS:25質量部
・バインダー樹脂3:ウレタン変性アクリルポリマー(ポリオール含有)35質量%酢酸エチル/エチルメチルケトン/イソプロピルアルコール溶液:25質量部
・光重合開始剤(イルガキュア2959、BASF社製):1.0質量部
・メチルエチルケトン:19質量部
<Composition of Colored Layer Forming Coating Liquid 1>
・Black dispersion: 30 parts by mass ・Polymerizable compound 1: Sartomer Japan Co., Ltd., urethane acrylate oligomer, CN-996NS: 25 parts by mass ・Binder resin 3: Urethane-modified acrylic polymer (containing polyol) 35% by mass acetic acid Ethyl / ethyl methyl ketone / isopropyl alcohol solution: 25 parts by mass Photoinitiator (Irgacure 2959, manufactured by BASF): 1.0 parts by mass Methyl ethyl ketone: 19 parts by mass

<着色層1の形成>
上記支持体上に、上記着色層形成用塗布液1をワイヤーバーコーターを用いて塗布し、100℃で10分間乾燥した。形成された積層体の着色層の表面に対して、露光量500mJ/cm(i線)で全面露光することで、層厚が4μmの着色層1(黒色の着色層)を形成した。
<Formation of colored layer 1>
The colored layer forming coating solution 1 was applied onto the support using a wire bar coater and dried at 100° C. for 10 minutes. A colored layer 1 (black colored layer) having a layer thickness of 4 μm was formed by exposing the entire surface of the colored layer of the formed laminate to an exposure amount of 500 mJ/cm 2 (i-line).

<配向層1の形成>
上記着色層1上に、配向層形成用塗布液1をワイヤーバーコーターを用いて塗布した。その後、塗布された配向層形成用塗布液1を100℃で120秒間乾燥し、層厚が0.5μmの配向層1を作製した。
<Formation of alignment layer 1>
The orientation layer-forming coating solution 1 was applied onto the colored layer 1 using a wire bar coater. Thereafter, the applied coating liquid 1 for forming an alignment layer was dried at 100° C. for 120 seconds to prepare an alignment layer 1 having a layer thickness of 0.5 μm.

〔配向層形成用塗布液1の組成〕
・下記に示す変性ポリビニルアルコール:28質量部
・クエン酸エステル(AS3、三共化学(株)製):1.2質量部
・光重合開始剤(イルガキュア2959、BASF社製):0.84質量部
・グルタルアルデヒド:2.8質量部
・水:699質量部
・メタノール:226質量部
[Composition of coating liquid 1 for forming alignment layer]
Modified polyvinyl alcohol shown below: 28 parts by mass Citric acid ester (AS3, manufactured by Sankyo Chemical Co., Ltd.): 1.2 parts by mass Photoinitiator (Irgacure 2959, manufactured by BASF): 0.84 parts by mass・Glutaraldehyde: 2.8 parts by mass ・Water: 699 parts by mass ・Methanol: 226 parts by mass

・変性ポリビニルアルコール(下記化合物、各構成単位の右下の数字は、モル比を表す。) ・Modified polyvinyl alcohol (the following compounds, the number on the lower right of each structural unit represents the molar ratio.)

Figure 0007177273000011
Figure 0007177273000011

<コレステリック液晶層1の形成>
上記作製した配向層1に対して、配向層1の短辺方向を基準に反時計回りに31.5°回転させた方向にラビング処理(レーヨン布、圧力:0.1kgf(0.98N)、回転数:1,000rpm(revolutions per minute)、搬送速度:10m/分、回数:1往復)を施した。下記に示すコレステリック液晶層形成用塗布液1に含まれる成分を、25℃に保温された容器中にて、撹拌、溶解させ、コレステリック液晶層形成用塗布液1(液晶組成物1)を調製した。
<Formation of cholesteric liquid crystal layer 1>
Rubbing treatment (rayon cloth, pressure: 0.1 kgf (0.98 N), Rotation speed: 1,000 rpm (revolutions per minute), conveying speed: 10 m/min, number of reciprocations: 1). Components contained in coating liquid 1 for forming cholesteric liquid crystal layer shown below were stirred and dissolved in a container kept at 25° C. to prepare coating liquid 1 for forming cholesteric liquid crystal layer (liquid crystal composition 1). .

〔コレステリック液晶層形成用塗布液1の組成〕
・メチルエチルケトン:150.6質量部
・液晶化合物1(棒状液晶化合物):92質量部
・光重合開始剤A(IRGACURE 907、BASF社製):0.50質量部
・カイラル剤A:4.00質量部
・カイラル剤B:4.00質量部
・下記界面活性剤F1:0.027質量部
[Composition of coating liquid 1 for forming cholesteric liquid crystal layer]
・Methyl ethyl ketone: 150.6 parts by mass ・Liquid crystal compound 1 (rod-shaped liquid crystal compound): 92 parts by mass ・Photopolymerization initiator A (IRGACURE 907, manufactured by BASF): 0.50 parts by mass ・Chiral agent A: 4.00 parts by mass parts Chiral agent B: 4.00 parts by mass Surfactant F1 below: 0.027 parts by mass

液晶化合物1(単官能):下記棒状液晶化合物。なお、ラジカル重合系の場合、オキセタニル基(カチオン重合性官能基)がついていても、アクリロキシ基(ラジカル重合性基)が1つのみ有するため、単官能と定義する。カチオン重合系であっても同様である。 Liquid crystal compound 1 (monofunctional): The following rod-like liquid crystal compound. In the case of a radical polymerization system, even if it has an oxetanyl group (cationically polymerizable functional group), it has only one acryloxy group (radical polymerizable group), so it is defined as monofunctional. The same applies to cationic polymerization systems.

Figure 0007177273000012
Figure 0007177273000012

カイラル剤A(2官能):下記化合物 Chiral agent A (bifunctional): the following compound

Figure 0007177273000013
Figure 0007177273000013

カイラル剤B(0官能):下記化合物。なお、下記化合物中、Buはn-ブチル基を表す。 Chiral agent B (0-functional): the following compound. In the compounds below, Bu represents an n-butyl group.

Figure 0007177273000014
Figure 0007177273000014

界面活性剤F1:下記化合物 Surfactant F1: the following compound

Figure 0007177273000015
Figure 0007177273000015

ラビング処理された配向層1の表面に、調製したコレステリック液晶層形成用塗布液1を、ワイヤーバーコーターで塗布し、85℃で120秒間乾燥した。形成された積層体のコレステリック液晶層の表面に対して、露光量70mJ/cm(i線)で全面露光することで、層厚が3.0μmのコレステリック液晶層1を作製した。The prepared coating solution 1 for forming a cholesteric liquid crystal layer was applied to the rubbed surface of the alignment layer 1 with a wire bar coater and dried at 85° C. for 120 seconds. The entire surface of the cholesteric liquid crystal layer of the laminate thus formed was exposed with an exposure amount of 70 mJ/cm 2 (i-line) to prepare a cholesteric liquid crystal layer 1 having a layer thickness of 3.0 μm.

<接着層1の形成>
コレステリック液晶層1の上に、アクリル系粘着剤液(SKダインSG-50Y、綜研化学(株)製)を、コンマコーターを用いて塗布し、120℃で2分間乾燥することで、層厚が5μmの接着層1を形成した。以上の手順により、支持体と、着色層1と、配向層1と、コレステリック液晶層1と、接着層1と、をこの順で有する積層体1(すなわち、加飾フィルム)を作製した。
<Formation of adhesive layer 1>
On the cholesteric liquid crystal layer 1, an acrylic adhesive liquid (SK Dyne SG-50Y, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) is applied using a comma coater and dried at 120 ° C. for 2 minutes. An adhesive layer 1 of 5 μm was formed. Through the above procedure, a laminate 1 (that is, a decorative film) having the support, the colored layer 1, the alignment layer 1, the cholesteric liquid crystal layer 1, and the adhesive layer 1 in this order was produced.

<成型加工>
積層体1を、図7及び図8に示す凹凸パターン(A)を面内に均一に有する透明体(厚み:2mm、幅:70mm、長さ:150mm)を型として用い、上記透明体の凹凸面に積層体1の接着層1の表面を接触させ、圧空成型加工(TOM成型、TOM:Three dimension overlay method)を施すことで成型体1(すなわち、加飾成型体)を得た。圧空成型加工には、TOM成型機NGF-0510-R(布施真空(株)製)を使用し、成型温度は120℃、延伸倍率は、最も高い部分で30%であった。圧空成型加工における圧力は、0.1MPaであった。
<Molding process>
A transparent body (thickness: 2 mm, width: 70 mm, length: 150 mm) having an uneven pattern (A) shown in FIGS. The surface of the adhesive layer 1 of the laminate 1 was brought into contact with the surface, and pressure molding (TOM molding, TOM: Three dimension overlay method) was performed to obtain a molded body 1 (that is, a decorated molded body). A TOM molding machine NGF-0510-R (manufactured by Fuse Vacuum Co., Ltd.) was used for air pressure molding, the molding temperature was 120° C., and the draw ratio was 30% at the highest point. The pressure in the pressure molding process was 0.1 MPa.

<性能評価>
-反射特性-
成型体1の反射率を、日本分光(株)製分光光度計V-670を用い、透明体の側から、かつ、透明体の面に垂直な方向から、波長380nm~1,100nmの範囲で測定した。反射率は、反射スペクトルの極大値のうち最も高いものを示す。評価結果として、Cであることが好ましく、Bがより好ましく、Aであることが特に好ましい。
<<評価基準>>
A:反射率が20%以上である。
B:反射率が10%以上20%未満である。
C:反射率が5%以上10%未満である。
D:反射率が5%未満である。
<Performance evaluation>
- Reflection characteristics -
The reflectance of molded body 1 was measured using a spectrophotometer V-670 manufactured by JASCO Corporation, from the side of the transparent body and from the direction perpendicular to the surface of the transparent body, in the wavelength range of 380 nm to 1,100 nm. It was measured. Reflectance indicates the highest of the maxima in the reflectance spectrum. As an evaluation result, C is preferable, B is more preferable, and A is particularly preferable.
<<Evaluation Criteria>>
A: The reflectance is 20% or more.
B: The reflectance is 10% or more and less than 20%.
C: The reflectance is 5% or more and less than 10%.
D: The reflectance is less than 5%.

-光輝性-
得られた成型体1について、透明体側から視認した場合の光輝感を目視により評価を行った。なお、評価は、透明体の平面から90℃垂直方向から、50cm離れた位置から行った。評価結果としては、Cであることが好ましく、Bであることがより好ましく、Aであることが特に好ましい。
<<評価基準>>
A:高い光輝性が確認できる。
B:光輝性は確認できるが、全体的に少し曇って見える。
C:わずかに光輝性が確認できる
D:光輝性を確認することが難しい。
-Luminousness-
The resulting molded product 1 was visually evaluated for its brilliance when viewed from the transparent body side. The evaluation was performed from a position 50 cm away from the plane of the transparent body at 90° C. in the vertical direction. The evaluation result is preferably C, more preferably B, and particularly preferably A.
<<Evaluation Criteria>>
A: High brightness can be confirmed.
B: Brightness can be confirmed, but it looks a little cloudy as a whole.
C: Glitter can be slightly confirmed D: Glitter is difficult to confirm.

-色味の均一性(視野角によらず均一な色味が得られるか評価)-
得られた成型体1について、成型体1の面方向垂直な方向を0°とした際、0°及び45°の角度から視認した際の色味の変化(例えば、0°方向で黄色、45°方向で青色等)について、評価を行った。評価結果として、Cであることが好ましく、Bがより好ましく、Aであることが特に好ましい。
<<評価基準>>
A:0°方向から視認した場合と45°方向から視認した場合とでは、色味の変化がない
B:0°方向から視認した場合と45°方向から視認した場合とでは、色味の変化がわずかに確認される。
C:0°方向から視認した場合と45°方向から視認した場合とでは、色味の変化が確認されるが類似の色である。
D:0°方向から視認した場合と45°方向から視認した場合とでは、大きな色味の変化が確認される。
- Uniformity of color (evaluation of whether uniform color can be obtained regardless of viewing angle) -
Regarding the obtained molded body 1, when the direction perpendicular to the surface direction of the molded body 1 is 0 °, the change in color when viewed from angles of 0 ° and 45 ° (for example, yellow at 0 ° direction, 45 ° ° direction) was evaluated. As an evaluation result, C is preferable, B is more preferable, and A is particularly preferable.
<<Evaluation Criteria>>
A: No color change when viewed from 0° direction and 45° direction B: Color change when viewed from 0° direction and 45° direction is slightly confirmed.
C: When viewed from the direction of 0° and when viewed from the direction of 45°, a change in color is observed, but the colors are similar.
D: A large change in color is observed between when viewed from the direction of 0° and when viewed from the direction of 45°.

評価結果を、まとめて表1に示す。 The evaluation results are collectively shown in Table 1.

(参考例2~13、及び比較例1)
透明体について、表1に記載された事項に従って、凹凸パターン(A、又はB)、深さ、及び幅に変更すること以外は、参考例1と同様にして成型体を作製した。得られた成型体を用いて、参考例1の性能評価と同じ性能評価を行った。評価結果を、まとめて表1に示す。
(Reference Examples 2 to 13, and Comparative Example 1)
A molded body was produced in the same manner as in Reference Example 1, except that the uneven pattern (A or B), depth, and width of the transparent body were changed according to the items listed in Table 1. The same performance evaluation as the performance evaluation of Reference Example 1 was performed using the obtained molded body. The evaluation results are collectively shown in Table 1.

Figure 0007177273000016
Figure 0007177273000016

表1における「凹凸パターン」の欄は、凹凸パターンの種類を表す。「凹凸パターン」の欄に記載された「A」は、図7及び図8に示される凹凸パターン(A)を表す。「凹凸パターン」の欄に記載された「B」は、図9及び図10に示される凹凸パターン(B)を表す。 The column of "concavo-convex pattern" in Table 1 represents the type of concavo-convex pattern. "A" described in the column of "convex pattern" represents the concavo-convex pattern (A) shown in FIGS. "B" described in the column of "convex pattern" represents the concavo-convex pattern (B) shown in FIGS.

表1における「深さ」の欄は、凹凸パターンの凹凸構造の深さを表す。「深さ」の欄に記載された数値は、反射層の凹凸構造の深さと同じである。 The column of "Depth" in Table 1 represents the depth of the uneven structure of the uneven pattern. The numerical value described in the column of "Depth" is the same as the depth of the concave-convex structure of the reflective layer.

表1における「幅」の欄は、凹凸パターンの凹凸構造の幅を表す。「幅」の欄に記載された数値は、反射層の凹凸構造の幅と同じである。 The "width" column in Table 1 represents the width of the uneven structure of the uneven pattern. The numerical value described in the "width" column is the same as the width of the concave-convex structure of the reflective layer.

表1に記載の結果より、参考例1~13では、光輝性、及び、視認方向よらず均一な色味を発現する点に優れた加飾成型体が得られた。一方、凹凸形成のない、比較例1は、視認方向よらず均一な色味が発現しなかった。 From the results shown in Table 1, in Reference Examples 1 to 13, decorative moldings were obtained which were excellent in terms of brilliance and uniform tint irrespective of viewing direction. On the other hand, in Comparative Example 1, in which unevenness was not formed, a uniform color was not developed regardless of the viewing direction.

(実施例14)
〔樹脂層用塗布液14の組成〕
・メチルエチルケトン:45質量部
・アクリット 8UA-146(ウレタン変性アクリルポリマー(以下、「ウレタンアクリル樹脂」という場合がある。)、メチルエチルケトン(MEK)/イソプロピルアルコール(IPA)希釈溶液、固形分:29質量%):50質量部
・界面活性剤(F551-A):0.1質量部
(Example 14)
[Composition of Resin Layer Coating Liquid 14]
・Methyl ethyl ketone: 45 parts by mass ・Acryt 8UA-146 (urethane-modified acrylic polymer (hereinafter sometimes referred to as “urethane acrylic resin”), methyl ethyl ketone (MEK) / isopropyl alcohol (IPA) diluted solution, solid content: 29% by mass ): 50 parts by mass Surfactant (F551-A): 0.1 parts by mass

<樹脂層14の形成>
支持体上に、樹脂層形成用塗布液14を、パーコーターを用いて塗布し、120℃で2分間乾燥することで、層厚が15μmの樹脂層14を形成した。
<Formation of resin layer 14>
The resin layer forming coating solution 14 was applied onto the support using a percoater and dried at 120° C. for 2 minutes to form a resin layer 14 having a layer thickness of 15 μm.

<配向層14の形成>
上記樹脂層14上に、配向層形成用塗布液1をワイヤーバーコーターを用いて塗布した。その後、塗布された配向層形成用塗布液1を100℃で120秒間乾燥し、層厚が0.5μmの配向層14を作製した。
<Formation of alignment layer 14>
The alignment layer-forming coating solution 1 was applied onto the resin layer 14 using a wire bar coater. After that, the applied coating liquid 1 for forming an alignment layer was dried at 100° C. for 120 seconds to prepare an alignment layer 14 having a layer thickness of 0.5 μm.

上記作製した配向層14に対して、配向層14の短辺方向を基準に反時計回りに31.5°回転させた方向にラビング処理(レーヨン布、圧力:0.1kgf(0.98N)、回転数:1,000rpm(revolutions per minute)、搬送速度:10m/分、回数:1往復)を施した。 Rubbing treatment (rayon cloth, pressure: 0.1 kgf (0.98 N), Rotation speed: 1,000 rpm (revolutions per minute), conveying speed: 10 m/min, number of reciprocations: 1).

<コレステリック液晶層14の形成>
上記、ラビング処理された配向層14の表面に、調製したコレステリック液晶層形成用塗布液1を、ワイヤーバーコーターを用いて塗布し、85℃で120秒間乾燥した。形成された積層体のコレステリック液晶層の表面に対して、露光量70mJ/cm(i線)で全面露光することで、層厚が3.0μmのコレステリック液晶層14を形成した。
<Formation of cholesteric liquid crystal layer 14>
The prepared coating liquid 1 for forming a cholesteric liquid crystal layer was applied to the surface of the alignment layer 14 subjected to the rubbing treatment using a wire bar coater and dried at 85° C. for 120 seconds. A cholesteric liquid crystal layer 14 having a layer thickness of 3.0 μm was formed by exposing the entire surface of the cholesteric liquid crystal layer of the formed laminate to an exposure amount of 70 mJ/cm 2 (i-line).

<着色層14の形成>
上記、コレステリック液晶層を形成した面とは反対側の支持体上に、上記着色層形成用塗布液1をワイヤーバーコーターを用いて塗布し、100℃で10分間乾燥した。形成された積層体の着色層の表面に対して、露光量500mJ/cm(i線)で全面露光し、層厚が4μmの着色層14(黒色の着色層)を形成した。以上の手順により、着色層14と、支持体と、樹脂層14と、配向層14と、コレステリック液晶層14と、をこの順で有する積層体14(すなわち、加飾フィルム)を形成した。
<Formation of colored layer 14>
The colored layer-forming coating solution 1 was applied on the support opposite to the side on which the cholesteric liquid crystal layer was formed, using a wire bar coater, and dried at 100° C. for 10 minutes. The entire surface of the colored layer of the formed laminate was exposed with an exposure amount of 500 mJ/cm 2 (i-line) to form a colored layer 14 (black colored layer) having a layer thickness of 4 μm. Through the above procedure, a laminate 14 (that is, a decorative film) having the colored layer 14, the support, the resin layer 14, the alignment layer 14, and the cholesteric liquid crystal layer 14 in this order was formed.

<成型加工>
積層体14のコレステリック液晶層14の表面に、卓上コロナ処理装置(TEC-8XA、春日精機社製、設定出力:70W、操作速度:1m/分、回数:5往復)を用いてコロナ処理を行った後、図7及び図8に示す凹凸パターン(A)を面内に均一に有する透明体(厚み2mm、幅70mm、長さ150mm)を型として用い、上記透明体の凹凸面に積層体1の接着層1の表面を接触させ、圧空成型加工(TOM成型)を施すことで成型体14(すなわち、加飾成型体)を得た。圧空成型加工には、TOM成型機NGF-0510-R(布施真空(株)製)を使用し、成型温度は120℃、延伸倍率は、最も高い部分で30%であった。圧空成型加工における圧力は、0.1MPaであった。
<Molding process>
Corona treatment was performed on the surface of the cholesteric liquid crystal layer 14 of the laminate 14 using a desktop corona treatment device (TEC-8XA, manufactured by Kasuga Seiki Co., Ltd., set output: 70 W, operation speed: 1 m/min, number of times: 5 reciprocations). After that, a transparent body (thickness: 2 mm, width: 70 mm, length: 150 mm) having an uneven pattern (A) shown in FIGS. The surface of the adhesive layer 1 was brought into contact with the adhesive layer 1, and air pressure molding (TOM molding) was performed to obtain a molded body 14 (that is, a decorated molded body). A TOM molding machine NGF-0510-R (manufactured by Fuse Vacuum Co., Ltd.) was used for air pressure molding, the molding temperature was 120° C., and the draw ratio was 30% at the highest point. The pressure in the pressure molding process was 0.1 MPa.

(実施例15)
<支持体の準備>
支持体として、コスモシャインA4100(PET、厚さ:50μm、易接着層を片面に有するフィルム、東洋紡(株)製、A4サイズ)を2枚準備した。以下、2つの支持体を、それぞれ、支持体15A、及び支持体15Bという。
(Example 15)
<Preparation of support>
As a support, two sheets of COSMOSHINE A4100 (PET, thickness: 50 μm, film having an easy-adhesion layer on one side, manufactured by Toyobo Co., Ltd., A4 size) were prepared. The two supports are hereinafter referred to as support 15A and support 15B, respectively.

<積層体15-1の作製>
上記支持体15Aの易接着層が形成されていない面に、配向層形成用塗布液1をワイヤーバーコーターで塗布した。その後、塗布された配向層形成用塗布液1を100℃で120秒間乾燥し、層厚が0.5μmの配向層15を作製した。
<Production of laminate 15-1>
The alignment layer-forming coating liquid 1 was applied by a wire bar coater to the surface of the support 15A on which the easy-adhesion layer was not formed. After that, the applied coating liquid 1 for forming an alignment layer was dried at 100° C. for 120 seconds to prepare an alignment layer 15 having a layer thickness of 0.5 μm.

上記作製した配向層15に対して、配向層15の短辺方向を基準に反時計回りに31.5°回転させた方向にラビング処理(レーヨン布、圧力:0.1kgf(0.98N)、回転数:1,000rpm(revolutions per minute)、搬送速度:10m/分、回数:1往復)を施した。 Rubbing treatment (rayon cloth, pressure: 0.1 kgf (0.98 N), Rotation speed: 1,000 rpm (revolutions per minute), conveying speed: 10 m/min, number of reciprocations: 1).

上記、ラビング処理された配向層15の表面に、調製したコレステリック液晶層形成用塗布液1を、ワイヤーバーコーターを用いて塗布し、85℃で120秒間乾燥した。形成された積層体のコレステリック液晶層の表面に対して、露光量70mJ/cm(i線)で全面露光することで、層厚が3.0μmのコレステリック液晶層15を形成することで積層体15-1を形成した。積層体15-1は、支持体15Aと、配向層15と、コレステリック液晶層15と、をこの順で有する。The prepared coating liquid 1 for forming a cholesteric liquid crystal layer was applied to the surface of the alignment layer 15 subjected to the rubbing treatment using a wire bar coater and dried at 85° C. for 120 seconds. By exposing the entire surface of the cholesteric liquid crystal layer of the formed laminate with an exposure amount of 70 mJ/cm 2 (i-line), a cholesteric liquid crystal layer 15 having a layer thickness of 3.0 μm is formed. 15-1 was formed. The laminate 15-1 has a support 15A, an alignment layer 15, and a cholesteric liquid crystal layer 15 in this order.

<積層体15-2の作製>
別に用意した、コスモシャインA4100(すなわち、支持体15B)の易接着層が形成された面に、アクリル系粘着剤(SKダインSG-50Y、綜研化学(株)製)を、コンマコーターを用いて塗布し、120℃で2分間乾燥し、層厚が20μmの樹脂層15(接着層)を形成することで、積層体15-2を形成した。積層体15-2は、支持体15Bと、樹脂層15と、を有する。
<Production of laminate 15-2>
An acrylic pressure-sensitive adhesive (SK Dyne SG-50Y, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) was applied to the separately prepared surface of Cosmoshine A4100 (that is, support 15B) on which the easy-adhesion layer was formed using a comma coater. It was applied and dried at 120° C. for 2 minutes to form a resin layer 15 (adhesive layer) having a layer thickness of 20 μm, thereby forming a laminate 15-2. The laminate 15-2 has a support 15B and a resin layer 15. As shown in FIG.

<積層体15-3の作製>
上記、樹脂層15とコレステリック液晶層15とが接するように、積層体15-1と、積層体15-2とをラミネーターで貼り合わせた。積層体15-1側のPETフィルム(すなわち、支持体15A)を剥離することで、支持体15B/樹脂層15/コレステリック液晶層15/配向層15がこの順で積層された、積層体15-3を得た。
<Production of laminate 15-3>
The laminated body 15-1 and the laminated body 15-2 were laminated by a laminator so that the resin layer 15 and the cholesteric liquid crystal layer 15 were in contact with each other. By peeling off the PET film (that is, the support 15A) on the side of the laminate 15-1, the laminate 15- in which the support 15B/resin layer 15/cholesteric liquid crystal layer 15/orientation layer 15 are laminated in this order. got 3.

<積層体15の作製>
上記、積層体15-3の支持体15Bの上に、上記着色層形成用塗布液1をワイヤーバーコーターを用いて塗布し、100℃で10分間乾燥した。形成された積層体の着色層の表面に対して、露光量500mJ/cm(i線)で全面露光し、層厚が4μmの着色層15(黒色の着色層)を形成することで、積層体15(すなわち、加飾成型体)を形成した。積層体15は、着色層15と、支持体15Bと、樹脂層15と、コレステリック液晶層15と、配向層15と、をこの順で有する。
<Production of laminate 15>
The colored layer forming coating solution 1 was applied onto the support 15B of the laminate 15-3 using a wire bar coater and dried at 100° C. for 10 minutes. The entire surface of the colored layer of the formed laminate is exposed with an exposure amount of 500 mJ/cm 2 (i-line) to form a colored layer 15 (black colored layer) having a layer thickness of 4 μm. A body 15 (that is, a decorative molded body) was formed. The laminate 15 has a colored layer 15, a support 15B, a resin layer 15, a cholesteric liquid crystal layer 15, and an alignment layer 15 in this order.

<成型加工>
積層体15の配向層15の表面に、卓上コロナ処理装置(TEC-8XA、春日精機社製、設定出力70W、操作速度1m/分、回数:5往復)を用いてコロナ処理を行った後、図7及び図8に示す凹凸パターン(A)を面内に均一に有する透明体(厚み2mm、幅70mm、長さ150mm)を型として用い、上記透明体の凹凸面に積層体15の配向層15の表面を接触させ、圧空成型加工(TOM成型)を施すことで成型体15(すなわち、加飾成型体)を得た。圧空成型加工には、TOM成型機NGF-0510-R(布施真空(株)製)を使用し、成型温度は120℃、延伸倍率は、最も高い部分で30%であった。圧空成型加工における圧力は、0.1MPaであった。
<Molding process>
The surface of the alignment layer 15 of the laminate 15 was subjected to corona treatment using a desktop corona treatment device (TEC-8XA, manufactured by Kasuga Seiki Co., Ltd., set output 70 W, operation speed 1 m/min, number of times: 5 reciprocations), A transparent body (thickness: 2 mm, width: 70 mm, length: 150 mm) having an uneven pattern (A) shown in FIGS. The surfaces of 15 were brought into contact with each other, and pressure-air molding (TOM molding) was performed to obtain molded body 15 (that is, decorated molded body). A TOM molding machine NGF-0510-R (manufactured by Fuse Vacuum Co., Ltd.) was used for air pressure molding, the molding temperature was 120° C., and the draw ratio was 30% at the highest point. The pressure in the pressure molding process was 0.1 MPa.

(実施例16)
樹脂層の形成に用いるアクリル系粘着剤液をADHM6(ウレタン反応系粘着剤、十条ケミカル株式会社製)に変更したこと以外は、実施例15と同様にして、成型体16(すなわち、加飾成型体)を形成した。成型体16の樹脂層の弾性率は、0.01GPaであった。
(Example 16)
Molded body 16 (that is, decorative molding body) was formed. The elastic modulus of the resin layer of the molded body 16 was 0.01 GPa.

(実施例17)
樹脂層の形成に用いるアクリル系粘着剤液をTM-51K(ウレタン反応系粘着剤、東洋インキ株式会社製)に変更したこと以外は、実施例15と同様にして、成型体17(すなわち、加飾成型体)を形成した。成型体17の樹脂層の弾性率は、0.001GPaであった。
(Example 17)
Molded body 17 (that is, molded article 17) was prepared in the same manner as in Example 15, except that the acrylic adhesive liquid used for forming the resin layer was changed to TM-51K (urethane reactive adhesive, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.). A decorative molding) was formed. The elastic modulus of the resin layer of the molded body 17 was 0.001 GPa.

(実施例18)
樹脂層15を以下の方法によって形成した樹脂層18に変更したこと以外は、実施例15と同様にして、成型体18(すなわち、加飾成型体)を形成した。
(Example 18)
A molding 18 (that is, a decorative molding) was formed in the same manner as in Example 15, except that the resin layer 15 was changed to a resin layer 18 formed by the following method.

〔樹脂層形成用塗布液18の組成〕
・メチルエチルケトン:45質量部
・アクリット 8UA-146(ウレタン変性アクリルポリマー、メチルエチルケトン/イソプロパノール希釈溶液、固形分:29質量%):30質量部
・ポリライト OD-X-2523(DIC社製):20質量部
・界面活性剤(F551-A):0.1質量部
[Composition of Resin Layer Forming Coating Liquid 18]
・Methyl ethyl ketone: 45 parts by mass ・Acryt 8UA-146 (urethane-modified acrylic polymer, methyl ethyl ketone / isopropanol diluted solution, solid content: 29% by mass): 30 parts by mass ・Polylite OD-X-2523 (manufactured by DIC): 20 parts by mass・Surfactant (F551-A): 0.1 part by mass

<樹脂層18の形成>
支持体(実施例15で使用した支持体15Bをいう。)の上に、樹脂層形成用塗布液18を、パーコーターを用いて塗布し、120℃で2分間乾燥することで、層厚が25μmの樹脂層18を形成した。樹脂層の弾性率は、0.00001GPaであった。
<Formation of resin layer 18>
The resin layer forming coating solution 18 was applied onto a support (meaning the support 15B used in Example 15) using a percoater and dried at 120° C. for 2 minutes to give a layer thickness of 25 μm. of the resin layer 18 was formed. The elastic modulus of the resin layer was 0.00001 GPa.

(実施例19)
樹脂層15を以下の方法によって形成した樹脂層19に変更したこと以外は、実施例15と同様にして、成型体19(すなわち、加飾成型体)を形成した。
(Example 19)
A molding 19 (that is, a decorative molding) was formed in the same manner as in Example 15, except that the resin layer 15 was changed to a resin layer 19 formed by the following method.

〔樹脂層形成用塗布液19の組成〕
・A-BPE-4(新中村化学工業株式会社製):75質量部
・エタノール:20質量部
・光重合開始剤(Irgacure127):4.9質量部
・界面活性剤(F551-A):0.1質量部
[Composition of Resin Layer Forming Coating Liquid 19]
· A-BPE-4 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 75 parts by mass · Ethanol: 20 parts by mass · Photopolymerization initiator (Irgacure127): 4.9 parts by mass · Surfactant (F551-A): 0 .1 part by mass

<樹脂層19の形成>
支持体(実施例15で使用した支持体15Bをいう。)の上に、樹脂層形成用塗布液19を、パーコーターを用いて塗布し、120℃で2分間乾燥した後、メタルハライドランプを用いて、積算露光量200mJ/cmで、光硬化させることで、層厚が25μmの接着層19を形成した。樹脂層19の弾性率は、0.5GPaであった。
<Formation of Resin Layer 19>
The resin layer forming coating solution 19 was applied onto a support (meaning the support 15B used in Example 15) using a percoater, dried at 120° C. for 2 minutes, and coated with a metal halide lamp. , and photocuring at an integrated exposure amount of 200 mJ/cm 2 to form an adhesive layer 19 having a layer thickness of 25 μm. The elastic modulus of the resin layer 19 was 0.5 GPa.

(実施例20)
樹脂層15を以下の方法によって形成した樹脂層20に変更したこと以外は、実施例15と同様にして、成型体20(すなわち、加飾成型体)を形成した。
(Example 20)
A molding 20 (that is, a decorative molding) was formed in the same manner as in Example 15, except that the resin layer 15 was changed to a resin layer 20 formed by the following method.

〔樹脂層用塗布液20の組成〕
・A-BPE-4(新中村化学工業株式会社製):35質量部
・DPHA(新中村化学社製):40質量部
・エタノール:20質量部
・光重合開始剤(Irgacure127):4.9質量部
・界面活性剤(F551-A):0.1質量部
[Composition of Resin Layer Coating Liquid 20]
· A-BPE-4 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 35 parts by mass · DPHA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 40 parts by mass · Ethanol: 20 parts by mass · Photoinitiator (Irgacure 127): 4.9 Parts by mass Surfactant (F551-A): 0.1 parts by mass

<樹脂層20の形成>
支持体(実施例15で使用した支持体15Bをいう。)の上に、樹脂層形成用塗布液20を、パーコーターを用いて塗布し、120℃で2分間乾燥した後、メタルハライドランプを用いて、積算露光量500mJ/cmで、光硬化させることで、層厚が25μmの樹脂層20を形成した。樹脂層20の弾性率は、2.0GPaであった。
<Formation of resin layer 20>
The resin layer forming coating liquid 20 was applied onto a support (meaning the support 15B used in Example 15) using a percoater, dried at 120° C. for 2 minutes, and coated with a metal halide lamp. , and a cumulative exposure amount of 500 mJ/cm 2 to form a resin layer 20 having a layer thickness of 25 μm. The elastic modulus of the resin layer 20 was 2.0 GPa.

(実施例21~26)
表2の記載に従って樹脂層の厚さを変更したこと以外は、実施例15と同様にして、成型体21~26をそれぞれ形成した。各樹脂層の厚さは、樹脂層形成用塗布液の塗布量を変化させて調整した。
(Examples 21-26)
Molded bodies 21 to 26 were formed in the same manner as in Example 15, except that the thickness of the resin layer was changed according to Table 2. The thickness of each resin layer was adjusted by changing the coating amount of the coating liquid for forming the resin layer.

(実施例27)
実施例14に記載した樹脂層14及び着色層14の各形成方法に基づき、支持体上に、樹脂層を形成した後、支持体の樹脂層が配置された面とは反対の面に、着色層を形成した。以上の方法により、樹脂層と、支持体と、着色層と、をこの順で有する積層体27を作製した。
(Example 27)
After forming a resin layer on the support based on each method for forming the resin layer 14 and the colored layer 14 described in Example 14, the surface of the support opposite to the surface on which the resin layer is arranged is colored. formed a layer. By the above method, a laminate 27 having a resin layer, a support, and a colored layer in this order was produced.

次に、図7及び図8に示す凹凸パターン(A)を面内に均一に有する透明体(厚み:2mm、幅:70mm、長さ:150mm)を型として用い、上記透明体の凹凸面上に、真空スパッタ装置(VEP-1000、アルバック社製)を用いて、酸化ケイ素(SiO)の100nmの層を形成した。上記酸化ケイ素の層上に、上記真空スパッタ装置を用いて酸化ニオブ(Nb)の層を100nmの厚みで形成した。酸化ケイ素の層の形成及び酸化ケイ素の層の形成を交互に繰り返すことで、酸化ケイ素の層と酸化ニオブの層とを交互に含む計6層を形成した。各層の厚さは、100nmであった。以上の方法により、透明体の凹凸面上に、赤色の反射色を呈する反射層を形成した。Next, using as a mold a transparent body (thickness: 2 mm, width: 70 mm, length: 150 mm) having the concave-convex pattern (A) shown in FIGS. Then, a 100 nm layer of silicon oxide (SiO 2 ) was formed using a vacuum sputtering apparatus (VEP-1000, manufactured by ULVAC, Inc.). A niobium oxide (Nb 2 O 5 ) layer having a thickness of 100 nm was formed on the silicon oxide layer using the vacuum sputtering apparatus. By alternately repeating the formation of the silicon oxide layer and the formation of the silicon oxide layer, a total of six layers including alternating silicon oxide layers and niobium oxide layers were formed. The thickness of each layer was 100 nm. By the above method, a reflective layer exhibiting a red reflective color was formed on the uneven surface of the transparent body.

得られた反射層の凹凸面に積層体27の樹脂層を接触させて、圧空成型加工(TOM成型)を施すことで成型体27を得た。圧空成型加工には、TOM成型機NGF-0510-R(布施真空(株)製)を使用し、成型温度は120℃であった。圧空成型加工における圧力は、0.1MPaであった。 The molded body 27 was obtained by bringing the resin layer of the laminated body 27 into contact with the uneven surface of the obtained reflective layer and performing air pressure molding (TOM molding). A TOM molding machine NGF-0510-R (manufactured by Fuse Vacuum Co., Ltd.) was used for the pressure molding, and the molding temperature was 120°C. The pressure in the pressure molding process was 0.1 MPa.

(実施例28~39)
表4の記載に従って、反射層に凹凸構造を付与するための凹凸パターンの種類、深さ、及び幅を変更したこと以外は、実施例15と同様にして、成型体28~39をそれぞれ作製した。
(Examples 28-39)
Molded bodies 28 to 39 were produced in the same manner as in Example 15, except that the type, depth, and width of the uneven pattern for imparting the uneven structure to the reflective layer were changed according to the description in Table 4. .

(性能評価)
実施例14~39において得られた成型体(すなわち、加飾成型体)のそれぞれについて、以下の方法に従って反射率、光輝性、色味の均一性、及び密着性を評価した。結果を表2に示す。
(performance evaluation)
Reflectance, brilliance, color uniformity, and adhesion were evaluated for each of the moldings obtained in Examples 14 to 39 (ie, decorative moldings) according to the following methods. Table 2 shows the results.

-反射特性(反射率)-
成型体の反射率を、日本分光(株)製分光光度計V-670を用い、透明体の側から、かつ、透明体の面に垂直な方向から、波長380nm~1,100nmの範囲で測定した。反射率は、反射スペクトルの極大値のうち最も高いものを示す。評価結果として、Cであることが好ましく、Bであることがより好ましく、Aであることが特に好ましい。
<<評価基準>>
A:反射率が30%以上である。
B:反射率が15%以上30%未満である。
C:反射率が5%以上15%未満である。
D:反射率が5%未満である。
-Reflection characteristics (reflectance)-
The reflectance of the molded body is measured from the side of the transparent body and from the direction perpendicular to the surface of the transparent body using a spectrophotometer V-670 manufactured by JASCO Corporation in the wavelength range of 380 nm to 1,100 nm. did. Reflectance indicates the highest of the maxima in the reflectance spectrum. As an evaluation result, C is preferable, B is more preferable, and A is particularly preferable.
<<Evaluation Criteria>>
A: The reflectance is 30% or more.
B: The reflectance is 15% or more and less than 30%.
C: The reflectance is 5% or more and less than 15%.
D: The reflectance is less than 5%.

-光輝性(正反射率)-
得られた成型体の正反射率を、日本分光(株)製分光光度計V-670を用いて、垂直な方向から、波長380nm~1,100nmの範囲で測定した。正反射率は、反射スペクトルの極大値のうち最も高いものを示す。評価結果としては、Cであることが好ましく、Bであることがより好ましく、Aであることが特に好ましい。
<<評価基準>>
A:正反射率が20%以上である。
B:正反射率が10%以上20%未満である。
C:正反射率が5%以上10%未満である。
D:正反射率が5%未満である。
- Glitter (regular reflectance) -
The specular reflectance of the obtained molding was measured in a wavelength range of 380 nm to 1,100 nm from the vertical direction using a spectrophotometer V-670 manufactured by JASCO Corporation. Specular reflectance indicates the highest of the maxima in the reflectance spectrum. The evaluation result is preferably C, more preferably B, and particularly preferably A.
<<Evaluation Criteria>>
A: The regular reflectance is 20% or more.
B: The regular reflectance is 10% or more and less than 20%.
C: The regular reflectance is 5% or more and less than 10%.
D: The regular reflectance is less than 5%.

-色味の均一性(視野角によらず均一な色味が得られるか評価)-
得られた成型体について、成型体の面方向垂直な方向を0°とした際、0°及び45°の角度から視認した際の色味の変化(例えば、0°方向で黄色、45°方向で青色等)について、評価を行った。評価結果として、Cであることが好ましく、Bであることがより好ましく、Aであることが特に好ましい。
<<評価基準>>
A:0°方向から視認した場合と45°方向から視認した場合とでは、色味の変化がほぼない。
B:0°方向から視認した場合と45°方向から視認した場合とでは、色味の変化がわずかに確認される。
C:0°方向から視認した場合と45°方向から視認した場合とでは、色味の変化が確認されるが類似の色である。
D:0°方向から視認した場合と45°方向から視認した場合とでは、大きな色味の変化が確認される。
- Uniformity of color (evaluation of whether uniform color can be obtained regardless of viewing angle) -
Regarding the obtained molded body, when the direction perpendicular to the surface direction of the molded body is 0 °, the change in color when viewed from angles of 0 ° and 45 ° (e.g., yellow at 0 ° direction, 45 ° direction (blue, etc.) was evaluated. As an evaluation result, C is preferable, B is more preferable, and A is particularly preferable.
<<Evaluation Criteria>>
A: There is almost no change in color when viewed from the direction of 0° and when viewed from the direction of 45°.
B: A slight change in color is observed between when viewed from the 0° direction and when viewed from the 45° direction.
C: When viewed from the direction of 0° and when viewed from the direction of 45°, a change in color is observed, but the colors are similar.
D: A large change in color is observed between when viewed from the direction of 0° and when viewed from the direction of 45°.

-密着性評価-
得られた成型体の最外層(すなわち、支持体又は着色層)の表面に、深さが70μmのクロスカットパターン(2mm幅)を形成した。具体的に、成型体の最外層の表面の縦横にそれぞれ10本のスリット(切り込みをいう。)を形成し、クロスカットパターンを形成した。テープ(ニチバン社製セロテープ(登録商標)No405、24mm幅)をクロスカットパターンを覆うように貼ったのち、上記テープを剥離する剥離試験を行った。
<<評価基準>>
A:最外層の剥離が起こらない(すなわち、テープのみが剥離する。)。
B:特定界面(すなわち、隣接する2つの層の界面)で剥離が起こる。
-Adhesion evaluation-
A cross-cut pattern (width of 2 mm) with a depth of 70 μm was formed on the surface of the outermost layer (that is, the support or the colored layer) of the obtained molding. Specifically, 10 slits (meaning notches) were formed vertically and horizontally on the surface of the outermost layer of the molding to form a cross-cut pattern. A tape (Cellotape (registered trademark) No. 405, 24 mm width, manufactured by Nichiban Co., Ltd.) was applied so as to cover the cross-cut pattern, and then a peeling test was performed in which the tape was peeled off.
<<Evaluation Criteria>>
A: Peeling of the outermost layer does not occur (that is, only the tape is peeled).
B: Delamination occurs at a specific interface (ie, the interface between two adjacent layers).

Figure 0007177273000017
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Figure 0007177273000018
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Figure 0007177273000019
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表2~4における「パターン」の欄は、凹凸パターンの種類を表す。「パターン」の欄に記載された「A」は、図7及び図8に示される凹凸パターン(A)を表す。「パターン」の欄に記載された「B」は、図9及び図10に示される凹凸パターン(B)を表す。 The "Pattern" column in Tables 2 to 4 indicates the type of uneven pattern. "A" described in the "Pattern" column represents the concave-convex pattern (A) shown in FIGS. "B" written in the "Pattern" column represents the uneven pattern (B) shown in FIGS.

表2~4における「深さ」の欄は、凹凸パターンの凹凸構造の深さを表す。「深さ」の欄に記載された数値は、反射層の凹凸構造の深さと同じである。 The column "Depth" in Tables 2 to 4 represents the depth of the concave-convex structure of the concave-convex pattern. The numerical value described in the column of "Depth" is the same as the depth of the concave-convex structure of the reflective layer.

表2~4における「幅」の欄は、凹凸パターンの凹凸構造の幅を表す。「幅」の欄に記載された数値は、反射層の凹凸構造の幅と同じである。 The "width" column in Tables 2 to 4 represents the width of the uneven structure of the uneven pattern. The numerical value described in the "width" column is the same as the width of the concave-convex structure of the reflective layer.

2019年7月18日に出願された日本国特許出願2019-133165号及び2020年3月16日に出願された日本国特許出願2020-045755号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記載された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。 The disclosure of Japanese Patent Application No. 2019-133165 filed on July 18, 2019 and Japanese Patent Application No. 2020-045755 filed on March 16, 2020 is herein incorporated by reference in its entirety. It is captured. All publications, patent applications and technical standards mentioned herein are to the same extent as if each individual publication, patent application and technical standard were specifically and individually indicated to be incorporated by reference. incorporated herein by reference.

Claims (11)

基材と、
選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有し、かつ、凹凸構造を有する反射層と、
前記基材と前記反射層との間に樹脂層と、
を含み、
前記樹脂層の25℃における弾性率が0.0001GPa以上1GPa以下であり、
前記樹脂層の厚さが0.5μm以上200μm以下であり、
前記反射層における前記凹凸構造の深さが1μm以上であり、
前記反射層における前記凹凸構造の幅と深さとの比(幅:深さ)が100:1~1:2である、加飾成型体。
a substrate;
a reflective layer having a center wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less and having an uneven structure;
a resin layer between the base material and the reflective layer;
including
The elastic modulus of the resin layer at 25° C. is 0.0001 GPa or more and 1 GPa or less,
The resin layer has a thickness of 0.5 μm or more and 200 μm or less,
The depth of the uneven structure in the reflective layer is 1 μm or more,
A decorative molding , wherein the ratio of the width to the depth (width:depth) of the concave-convex structure in the reflective layer is 100:1 to 1:2 .
前記樹脂層の25℃における弾性率が0.0001GPa以上0.5GPa以下である、請求項1に記載の加飾成型体。The decorative molding according to claim 1, wherein the resin layer has an elastic modulus of 0.0001 GPa or more and 0.5 GPa or less at 25°C. 前記反射層における前記凹凸構造の深さが1μm以上500μm以下である、請求項1又は請求項2に記載の加飾成型体。3. The decorative molded body according to claim 1, wherein the depth of the concave-convex structure in the reflective layer is 1 [mu]m or more and 500 [mu]m or less. 記凹凸構造の幅が5μm以上である、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の加飾成型体。 The decorative molding according to any one of claims 1 to 3, wherein the uneven structure has a width of 5 µm or more. 前記反射層の厚さHThickness H of the reflective layer T. に対する前記反射層の前記凹凸構造の深さHThe depth H of the uneven structure of the reflective layer with respect to D. の比が、1<Hratio is 1<H D. /H/H T. <100を満たす、請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の加飾成型体。The decorated molding according to any one of claims 1 to 4, which satisfies <100. 着色層を含む、請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の加飾成型体。 The decorated molding according to any one of claims 1 to 5 , comprising a colored layer. 前記反射層が、コレステリック液晶を含む層である、請求項1~請求項のいずれか1項に記載の加飾成型体。 The decorative molding according to any one of claims 1 to 6 , wherein the reflective layer is a layer containing cholesteric liquid crystal. 基材と、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有する反射層と、前記基材と前記反射層との間に樹脂層と、を少なくとも有する加飾フィルムを用意する工程と、
凹凸構造を有する表面に前記反射層を接触させ、前記反射層に0.01MPa以上の圧力を印加し、前記反射層に凹凸構造を付与する工程と、を含む、
請求項1~請求項のいずれか1項に記載の加飾成型体の製造方法。
A step of preparing a decorative film having at least a substrate, a reflective layer having a central wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less, and a resin layer between the substrate and the reflective layer. When,
bringing the reflective layer into contact with a surface having an uneven structure, applying a pressure of 0.01 MPa or more to the reflective layer, and imparting an uneven structure to the reflective layer;
The method for manufacturing the decorated molding according to any one of claims 1 to 7 .
基材と、選択反射波長の中心波長を300nm以上1,500nm以下の範囲に有する反射層と、を少なくとも有する加飾フィルムを用意する工程と、
凹凸構造を有する表面を有する透明体と前記加飾フィルムとを重ね合わせることで前記凹凸構造を有する前記表面に前記反射層を接触させ、前記反射層に対して0.01MPa以上の圧力を印加し、前記反射層に凹凸構造を付与する工程と、を含む、
請求項1~請求項のいずれか1項に記載の加飾成型体の製造方法。
preparing a decorative film having at least a substrate and a reflective layer having a central wavelength of a selective reflection wavelength in the range of 300 nm or more and 1,500 nm or less;
The reflective layer is brought into contact with the surface having the rugged structure by superimposing the transparent body having the surface having the rugged structure and the decorative film, and a pressure of 0.01 MPa or more is applied to the reflective layer. , and a step of imparting an uneven structure to the reflective layer;
The method for manufacturing the decorated molding according to any one of claims 1 to 7 .
請求項1~請求項のいずれか1項に記載の加飾成型体を含む、加飾パネル。 A decorative panel comprising the decorative molding according to any one of claims 1 to 7 . 請求項10に記載の加飾パネルを含む、電子デバイス。 An electronic device comprising the decorative panel according to claim 10 .
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