JP7166107B2 - Method for producing binaphthol compound - Google Patents

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本発明は、ビナフトール系化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a binaphthol compound.

近年、光学レンズや光学シートなどの光学系材料として、光学特性に優れている点でビナフタレン骨格を有する樹脂材料が注目されている。例えば、下記特許文献1には、2,2’-ビス(2-ヒドロキシアルコキシ)-1,1’-ビナフタレン類などのビナフトール系化合物を用いてビナフタレン骨格を導入したポリアクリレート樹脂が開示されている。 In recent years, resin materials having a binaphthalene skeleton have attracted attention as optical system materials such as optical lenses and optical sheets because of their excellent optical properties. For example, Patent Document 1 below discloses a polyacrylate resin in which a binaphthalene skeleton is introduced using a binaphthol compound such as 2,2'-bis(2-hydroxyalkoxy)-1,1'-binaphthalenes. .

ポリアクリレート樹脂以外にも、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂及びエポキシ樹脂などの樹脂材料が検討されており、これらの樹脂材料の原料モノマーとしても上記のビナフトール系化合物は必要になっている。 In addition to polyacrylate resins, resin materials such as polyester resins, polyurethane resins and epoxy resins have been studied, and the above binaphthol compounds are required as raw material monomers for these resin materials.

上記のビナフトール系化合物を製造する方法としては、1,1’-ビ-2-ナフトール類と、アルキレンオキサイド又はアルキレンカーボネートとを反応させる方法が知られている(例えば、下記特許文献2を参照)。 As a method for producing the above binaphthol-based compound, a method of reacting 1,1′-bi-2-naphthols with alkylene oxide or alkylene carbonate is known (see, for example, Patent Document 2 below). .

特開2011-157437号公報JP 2011-157437 A 特開2010-18753号公報JP 2010-18753 A

しかし、ビナフトール類に対するアルキレンオキサイド付加反応においては、目的物である、ビナフトール類1モルにオキシアルキレン基が2モル付加したビナフトール系化合物以外に、ビナフトール類にオキシアルキレン基が1モル付加した化合物、ビナフトール類にオキシアルキレン基が3モル付加した化合物及びビナフトール類にオキシアルキレン基が4モル以上付加した化合物などが副生する。これらの副生成物は、樹脂材料の耐熱特性や光学特性を低下させる要因となるため、生成量が多いと精製の負荷も大きくなる。 However, in the alkylene oxide addition reaction to binaphthols, in addition to the target binaphthol compounds in which 2 mol of oxyalkylene groups are added to 1 mol of binaphthols, a compound in which 1 mol of oxyalkylene groups is added to binaphthols, binaphthol A compound in which 3 moles of an oxyalkylene group is added to a compound and a compound in which 4 moles or more of an oxyalkylene group is added to a binaphthol are by-produced. These by-products cause deterioration of the heat resistance and optical properties of the resin material, so if the amount produced is large, the purification load will be large.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、所望のビナフトール系化合物を高選択率で得ることができるビナフトール系化合物の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method for producing a binaphthol-based compound that can obtain a desired binaphthol-based compound with high selectivity.

上記課題を解決するために、本発明は、下記一般式(1)で表されるビナフトール系化合物を製造する方法であって、下記一般式(2)で表される化合物の存在下で、下記一般式(3)で表される化合物にエチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを付加する工程を備えるビナフトール系化合物の製造方法を提供する。

Figure 0007166107000001

[式(1)中、R11及びR12はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、又は炭素数1~22の1価の炭化水素基を示し、R13及びR14はそれぞれ独立に、水素原子、又はメチル基を示し、Y11及びY12はそれぞれ独立に、単結合、又は酸素原子を示し、n1及びm1はそれぞれ0~4の整数を示す。n1が2以上の整数である場合、複数存在するR11はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数存在するY11はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。m1が2以上の整数である場合、複数存在するR12はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数存在するY12はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
Figure 0007166107000002

[式(2)中、R21及びR22はそれぞれ独立に、メチル基、エチル基、n-プロピル基、又はイソプロピル基を示し、R23は、水素原子、メチル基、又はエチル基を示す。]
Figure 0007166107000003

[式(3)中、R31及びR32はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、又は炭素数1~22の1価の炭化水素基を示し、Y31及びY32はそれぞれ独立に、単結合、又は酸素原子を示し、n3及びm3はそれぞれ0~4の整数を示す。n3が2以上の整数である場合、複数存在するR31はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数存在するY31はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。m3が2以上の整数である場合、複数存在するR32はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数存在するY32はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。] In order to solve the above problems, the present invention provides a method for producing a binaphthol compound represented by the following general formula (1), wherein in the presence of a compound represented by the following general formula (2), the following Provided is a method for producing a binaphthol-based compound comprising a step of adding ethylene oxide and/or propylene oxide to a compound represented by general formula (3).
Figure 0007166107000001

[In formula (1), R 11 and R 12 each independently represent a halogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and R 13 and R 14 each independently represent a hydrogen atom, or represents a methyl group, Y 11 and Y 12 each independently represent a single bond or an oxygen atom, n1 and m1 each represent an integer of 0 to 4; When n1 is an integer of 2 or more, multiple R 11 may be the same or different, and multiple Y 11 may be the same or different. When m1 is an integer of 2 or more, multiple R 12 may be the same or different, and multiple Y 12 may be the same or different. ]
Figure 0007166107000002

[In formula (2), R 21 and R 22 each independently represent a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an isopropyl group, and R 23 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group. ]
Figure 0007166107000003

[In formula (3), R 31 and R 32 each independently represent a halogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and Y 31 and Y 32 each independently represent a single bond, or represents an oxygen atom, n3 and m3 each represents an integer of 0 to 4; When n3 is an integer of 2 or more, multiple R 31 may be the same or different, and multiple Y 31 may be the same or different. When m3 is an integer of 2 or more, multiple R 32 may be the same or different, and multiple Y 32 may be the same or different. ]

本発明のビナフトール系化合物の製造方法によれば、上記一般式(1)で表されるビナフトール系化合物を高い選択率で得ることができる。 According to the method for producing a binaphthol compound of the present invention, the binaphthol compound represented by the general formula (1) can be obtained with high selectivity.

上記工程において、上記一般式(3)で表される化合物100質量部と上記一般式(2)で表される化合物10~1000質量部とを混合して、上記一般式(3)で表される化合物にエチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを付加してもよい。 In the above step, 100 parts by mass of the compound represented by the general formula (3) and 10 to 1000 parts by mass of the compound represented by the general formula (2) are mixed to obtain the compound represented by the general formula (3). Ethylene oxide and/or propylene oxide may be added to the compound.

上記工程における反応温度は、90~150℃であってもよい。 The reaction temperature in the above step may be 90-150°C.

本発明によれば、所望のビナフトール系化合物を高選択率で得ることができるビナフトール系化合物の製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the binaphthol compound which can obtain a desired binaphthol compound with high selectivity can be provided.

本発明の方法によって得られるビナフトール系化合物は、上記一般式()で表される化合物の純度が高く、精製の負荷が小さいものになり得る。また、本発明の方法によって得られるビナフトール系化合物は、ポリアクリレート樹脂などの原料モノマーとして用いられることで、樹脂の光学特性及び耐熱特性を向上させることができる。 The binaphthol-based compound obtained by the method of the present invention has a high purity of the compound represented by the general formula ( 1 ), and can be purified with a small load. In addition, the binaphthol-based compound obtained by the method of the present invention can improve the optical properties and heat resistance properties of the resin by being used as a raw material monomer for polyacrylate resins and the like.

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。 Preferred embodiments of the present invention are described in detail below. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

本実施形態の下記一般式(1)で表されるビナフトール系化合物(以下、「ビナフトール系化合物1」という場合もある)の製造方法は、下記一般式(2)で表される化合物(以下、「化合物2」という場合もある)の存在下で、下記一般式(3)で表される化合物(以下、「化合物3」という場合もある)にエチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを付加する工程を備える。 A method for producing a binaphthol-based compound represented by the following general formula (1) (hereinafter sometimes referred to as "binaphthol-based compound 1") of the present embodiment includes a compound represented by the following general formula (2) (hereinafter referred to as A step of adding ethylene oxide and/or propylene oxide to a compound represented by the following general formula (3) (hereinafter sometimes referred to as “compound 3”) in the presence of “compound 2”) Prepare.

Figure 0007166107000004

[式(1)中、R11及びR12はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、又は炭素数1~22の1価の炭化水素基を示し、R13及びR14はそれぞれ独立に、水素原子、又はメチル基を示し、Y11及びY12はそれぞれ独立に、単結合、又は酸素原子を示し、n1及びm1はそれぞれ0~4の整数を示す。n1が2以上の整数である場合、複数存在するR11はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数存在するY11はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。m1が2以上の整数である場合、複数存在するR12はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数存在するY12はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
Figure 0007166107000004

[In formula (1), R 11 and R 12 each independently represent a halogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and R 13 and R 14 each independently represent a hydrogen atom, or represents a methyl group, Y 11 and Y 12 each independently represent a single bond or an oxygen atom, n1 and m1 each represent an integer of 0 to 4; When n1 is an integer of 2 or more, multiple R 11 may be the same or different, and multiple Y 11 may be the same or different. When m1 is an integer of 2 or more, multiple R 12 may be the same or different, and multiple Y 12 may be the same or different. ]

Figure 0007166107000005

[式(2)中、R21及びR22はそれぞれ独立に、メチル基、エチル基、n-プロピル基、又はイソプロピル基を示し、R23は、水素原子、メチル基、又はエチル基を示す。]
Figure 0007166107000005

[In formula (2), R 21 and R 22 each independently represent a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an isopropyl group, and R 23 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group. ]

Figure 0007166107000006

[式(3)中、R31及びR32はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、又は炭素数1~22の1価の炭化水素基を示し、Y31及びY32はそれぞれ独立に、単結合、又は酸素原子を示し、n3及びm3はそれぞれ0~4の整数を示す。n3が2以上の整数である場合、複数存在するR31はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数存在するY31はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。m3が2以上の整数である場合、複数存在するR32はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数存在するY32はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
Figure 0007166107000006

[In formula (3), R 31 and R 32 each independently represent a halogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and Y 31 and Y 32 each independently represent a single bond, or represents an oxygen atom, n3 and m3 each represents an integer of 0 to 4; When n3 is an integer of 2 or more, multiple R 31 may be the same or different, and multiple Y 31 may be the same or different. When m3 is an integer of 2 or more, multiple R 32 may be the same or different, and multiple Y 32 may be the same or different. ]

まず、アルキレンオキサイド付加反応の反応基質である上記一般式(3)で表される化合物について説明する。 First, the compound represented by the general formula (3), which is the reaction substrate for the alkylene oxide addition reaction, will be described.

31及びR32のうち少なくとも一方がハロゲン原子である場合、ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、又はヨウ素であってよい。ハロゲン原子は、目的とするビナフトール系化合物1を高い選択率で得る観点から、塩素、臭素又はヨウ素であることが好ましく、臭素又はヨウ素であることがより好ましい。 When at least one of R 31 and R 32 is a halogen atom, the halogen atom may be fluorine, chlorine, bromine, or iodine. The halogen atom is preferably chlorine, bromine or iodine, more preferably bromine or iodine, from the viewpoint of obtaining the desired binaphthol compound 1 with high selectivity.

31及びR32のうち少なくとも一方が炭素数1~22の1価の炭化水素基である場合、炭化水素基は、脂肪族炭化水素基(鎖式脂肪族炭化水素基)、脂環式炭化水素基(環式脂肪族炭化水素基)、又は芳香族炭化水素基であってよい。 When at least one of R 31 and R 32 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, the hydrocarbon group is an aliphatic hydrocarbon group (a chain aliphatic hydrocarbon group) or an alicyclic hydrocarbon group. It may be a hydrogen group (cycloaliphatic hydrocarbon group) or an aromatic hydrocarbon group.

脂肪族炭化水素基は、飽和又は不飽和のいずれであってもよく、直鎖又は分岐鎖状のいずれであってもよい。脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘキシル基、へプチル基、2-エチルヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ラウリル基、トリデシル基、テトラデシル基、ステアリル基、オクタデシル基、ベヘニル基及びドデシル基等が挙げられる。 Aliphatic hydrocarbon groups may be either saturated or unsaturated, and may be linear or branched. Examples of aliphatic hydrocarbon groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, t-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, hexyl, heptyl, 2- Ethylhexyl group, octyl group, isooctyl group, nonyl group, isononyl group, decyl group, isodecyl group, undecyl group, lauryl group, tridecyl group, tetradecyl group, stearyl group, octadecyl group, behenyl group and dodecyl group.

脂肪族炭化水素基の炭素数は、化合物2に対する溶解性の観点から、1~12であることが好ましく、1~6であることがより好ましく、1~3であることが更に好ましい。 The number of carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 12, more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 3, from the viewpoint of solubility in compound 2.

脂環式炭化水素基は、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基及びシクロオクチル基等が挙げられる。脂環式炭化水素基が2以上の環状構造を有する場合、そのような脂環式炭化水素基としては、例えば、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。 Alicyclic hydrocarbon groups may be either saturated or unsaturated. Examples of alicyclic hydrocarbon groups include cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl and cyclooctyl groups. When the alicyclic hydrocarbon group has two or more ring structures, such alicyclic hydrocarbon groups include, for example, decahydronaphthyl group, adamantyl group and norbornyl group.

芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等のアラルキル基などが挙げられる。 Examples of aromatic hydrocarbon groups include aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group and naphthyl group; and aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group and naphthylmethyl group.

芳香族炭化水素基の炭素数は、化合物2に対する溶解性の観点から、6~12であることが好ましく、6~10であることがより好ましく、6~8であることが更に好ましい。 The number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 12, more preferably 6 to 10, even more preferably 6 to 8, from the viewpoint of solubility in compound 2.

上記一般式(3)で表される化合物は、化合物2に対する溶解性の観点から、R31及びR32が、臭素、ヨウ素、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基及びフェネチル基であることが好ましい。
上記一般式(3)で表される化合物は、化合物2に対する溶解性の観点から、Y31及びY32が、単結合であることが好ましい。
In the compound represented by the general formula (3), from the viewpoint of solubility in compound 2, R 31 and R 32 are bromine, iodine, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, phenyl group, tolyl group , xylyl, benzyl and phenethyl groups.
In the compound represented by the general formula (3), Y 31 and Y 32 are preferably single bonds from the viewpoint of solubility in compound 2.

n3及びm3は、化合物2に対する溶解性の観点から、それぞれ0~3であることが好ましく、0~2であることがより好ましく、0、すなわち無置換であることが更に好ましい。 From the viewpoint of solubility in compound 2, each of n3 and m3 is preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2, and even more preferably 0, that is, unsubstituted.

上記一般式(3)で表される化合物としては、例えば、1,1’-ビ-2-ナフトールが挙げられる。 Examples of the compound represented by the general formula (3) include 1,1'-bi-2-naphthol.

上記一般式(3)で表される化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 The compounds represented by the general formula (3) can be used singly or in combination of two or more.

次に、上記一般式(2)で表される化合物について説明する。当該化合物は、上記一般式(3)で表される化合物の溶媒として機能することができる。 Next, the compound represented by the general formula (2) will be described. The compound can function as a solvent for the compound represented by the general formula (3).

21及びR22は、目的とするビナフトール系化合物1を高い選択率で得る観点から、メチル基、又はエチル基であることが好ましい。 R 21 and R 22 are preferably a methyl group or an ethyl group from the viewpoint of obtaining the desired binaphthol compound 1 with high selectivity.

23は、化合物3を溶解させる観点から、水素原子、又はメチル基であることが好ましい。 From the viewpoint of dissolving compound 3, R 23 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.

上記一般式(2)で表される化合物としては、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、エチルメチルホルムアミド、エチルメチルアセトアミド、ジエチルホルムアミド、及びジエチルアセトアミド等が挙げられる。化合物3を溶解させる観点から、ジメチルホルムアミド及びジメチルアセトアミドが好ましい。 Examples of the compound represented by the general formula (2) include dimethylformamide, dimethylacetamide, ethylmethylformamide, ethylmethylacetamide, diethylformamide, and diethylacetamide. From the viewpoint of dissolving compound 3, dimethylformamide and dimethylacetamide are preferred.

上記一般式(2)で表される化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 The compounds represented by the general formula (2) can be used singly or in combination of two or more.

上記一般式(1)で表される化合物は、本実施形態の方法によって製造される目的物であり、R11及びR12はそれぞれ、上記一般式(3)におけるR31及びR32に対応する。また、Y11及びY12はそれぞれ、上記一般式(3)におけるY31及びY32に対応する。また、n1及びm1はそれぞれ、上記一般式(3)におけるn3及びm3に対応する。 The compound represented by the general formula (1) is a target product produced by the method of the present embodiment, and R 11 and R 12 respectively correspond to R 31 and R 32 in the general formula (3). . Y 11 and Y 12 respectively correspond to Y 31 and Y 32 in the general formula (3). Moreover, n1 and m1 respectively correspond to n3 and m3 in the general formula (3).

本実施形態の方法によって製造されるビナフトール系化合物1としては、例えば、2,2’-ビス(2-ヒドロキシエトキシ)-1,1’-ビナフタレン、2,2’-ビス(2-ヒドロキシプロポキシ)-1,1’-ビナフタレン及び2-(2-ヒドロキシエトキシ)-2’-(2-ヒドロキシプロポキシ)-1,1-ビナフタレン等が挙げられる。樹脂材料の光学特性及び耐熱特性を向上させる原料モノマーを得る観点から、ビナフトール系化合物1は2,2’-ビス(2-ヒドロキシエトキシ)-1,1’-ビナフタレンであることが好ましい。 Examples of the binaphthol compound 1 produced by the method of the present embodiment include 2,2'-bis(2-hydroxyethoxy)-1,1'-binaphthalene and 2,2'-bis(2-hydroxypropoxy). -1,1'-binaphthalene and 2-(2-hydroxyethoxy)-2'-(2-hydroxypropoxy)-1,1-binaphthalene. Binaphthol-based compound 1 is preferably 2,2'-bis(2-hydroxyethoxy)-1,1'-binaphthalene from the viewpoint of obtaining a raw material monomer that improves the optical properties and heat resistance properties of the resin material.

次に、付加反応工程の実施形態について説明する。 Next, embodiments of the addition reaction step will be described.

本実施形態においては、化合物2と化合物3とを所定の反応容器内で混合し、エチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを付加する反応を行うことができる。 In this embodiment, the compound 2 and the compound 3 can be mixed in a predetermined reaction vessel, and the reaction of adding ethylene oxide and/or propylene oxide can be performed.

反応容器としては、例えば、オートクレーブが挙げられる。 Examples of reaction vessels include autoclaves.

混合の割合としては、100質量部の化合物3に、化合物2を10~1000質量部混合することが好ましく、50~1000質量部混合することがより好ましく、100~1000質量部混合することが更に好ましく、200~800質量部混合することが特に好ましい。混合割合が上記の範囲であると、化合物2に化合物3の一部又は全部を溶解させることが容易となるとともに、化合物2の使用量を抑えられるため経済的である。 The mixing ratio is preferably 100 parts by mass of compound 3 and 10 to 1000 parts by mass of compound 2, more preferably 50 to 1000 parts by mass, and more preferably 100 to 1000 parts by mass. It is particularly preferable to mix 200 to 800 parts by mass. When the mixing ratio is within the above range, it is easy to dissolve part or all of compound 3 in compound 2, and the amount of compound 2 used can be reduced, which is economical.

エチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを付加する反応は、上記の混合物にエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドからなる群より選択される1種以上のアルキレンオキサイド原料を添加することにより行うことができる。 The reaction of adding ethylene oxide and/or propylene oxide can be carried out by adding one or more alkylene oxide raw materials selected from the group consisting of ethylene oxide and propylene oxide to the above mixture.

ビナフトール系化合物1の収量を高める観点から、アルキレンオキサイド付加反応を開始する前(アルキレンオキサイド原料を添加する前)又は反応中に、化合物3が化合物2に完全に溶解している状態であることが好ましく、アルキレンオキサイド付加反応を開始する前に、化合物3が化合物2に完全に溶解している状態であることがより好ましい。 From the viewpoint of increasing the yield of the binaphthol compound 1, it is preferable that the compound 3 is completely dissolved in the compound 2 before starting the alkylene oxide addition reaction (before adding the alkylene oxide starting material) or during the reaction. More preferably, compound 3 is completely dissolved in compound 2 before starting the alkylene oxide addition reaction.

化合物3が化合物2に完全に溶解している状態であるか否かの判断は、目視により確認することができる。なお、不溶の状態であると、白濁がみられる。 Whether or not compound 3 is completely dissolved in compound 2 can be visually confirmed. In addition, cloudiness is seen when it is in an insoluble state.

本実施形態においては、予め、溶媒としての化合物2に対する化合物3の溶解度曲線を作成し、付加反応工程における反応温度(以下、単に「反応温度」ともいう。)に応じて、化合物3が完全に溶解するように化合物2と化合物3との混合割合を設定してもよい。 In the present embodiment, a solubility curve of compound 3 with respect to compound 2 as a solvent is prepared in advance, and compound 3 is completely The mixing ratio of compound 2 and compound 3 may be set so as to dissolve.

アルキレンオキサイド原料の添加量(仕込み量)は、ビナフトール系化合物1を高純度で得る観点から、化合物3の仕込み量1.00モルに対して、2.00~3.00モルであることが好ましく、2.30~2.70モルであることがより好ましい。 From the viewpoint of obtaining high-purity binaphthol-based compound 1, the amount of the alkylene oxide raw material added (charged amount) is preferably 2.00 to 3.00 mol per 1.00 mol of charged amount of compound 3. , 2.30 to 2.70 mol.

反応温度は、特に制限されないが、反応性の観点から、90~150℃であることが好ましく、100~140℃であることがより好ましい。 Although the reaction temperature is not particularly limited, it is preferably 90 to 150°C, more preferably 100 to 140°C, from the viewpoint of reactivity.

付加反応工程における反応時間は、特に制限されないが、生産性の観点から、2~12時間であることが好ましく、4~10時間であることがより好ましい。 The reaction time in the addition reaction step is not particularly limited, but from the viewpoint of productivity, it is preferably 2 to 12 hours, more preferably 4 to 10 hours.

付加反応工程における圧力条件は、特に制限されないが、例えば大気圧であってよく、加圧下であってもよい。加圧下である場合、安全性の観点から、1.00MPa以下であることが好ましく、0.50MPa以下であることがより好ましい。 The pressure conditions in the addition reaction step are not particularly limited, and may be, for example, atmospheric pressure or under pressure. When under pressure, from the viewpoint of safety, it is preferably 1.00 MPa or less, more preferably 0.50 MPa or less.

付加反応工程は、窒素下、アルゴン下などの不活性ガス雰囲気下で行うことができる。 The addition reaction step can be performed under an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon.

付加反応工程においては、触媒、化合物2以外の溶媒(その他の溶媒)を共存させてもよい。 In the addition reaction step, a catalyst and a solvent other than compound 2 (another solvent) may coexist.

触媒としては、特に制限されないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリフェニルホスフィン、ピリジン及びN,N-ジメチル-4-アミノピリジン等のジメチルアミノピリジン等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を併用して用いることができる。 Examples of catalysts include, but are not limited to, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, rubidium hydroxide, cesium hydroxide, trimethylamine, triethylamine, triphenylphosphine, pyridine and N,N-dimethyl-4-amino. Examples thereof include dimethylaminopyridine such as pyridine. These can be used alone or in combination of two or more.

触媒の添加量は、化合物3の仕込み量100質量部に対して、0.01~1.0質量部とすることができる。 The amount of the catalyst added can be 0.01 to 1.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of compound 3 charged.

本実施形態の方法によれば、触媒を使用せずとも、ビナフトール系化合物1を高純度で得ることができる。この場合、反応終了後に触媒を除去する工程が不要となり、ビナフトール系化合物1の製造プロセスの簡略化を図ることができる。 According to the method of the present embodiment, the binaphthol-based compound 1 can be obtained with high purity without using a catalyst. In this case, the step of removing the catalyst after completion of the reaction becomes unnecessary, and the process for producing the binaphthol compound 1 can be simplified.

その他の溶媒としては、特に制限されないが、例えば、ジメチルグリコール、ジメチルジグリコール、ジメチルトリグリコール、メチルエチルジグリコール、ジエチルジグリコール、ジブチルジグリコール、ジメチルプロピレンジグリコールなどの炭素数1から4のジアルキルグリコールエーテル類。メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、1-ブタノール、2-メチル-1-プロパノール、2-ブタノール、2-メチル-2-プロパノールなどのアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、などの脂肪族炭化水素類;シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタンなどの脂環式炭化水素類などが挙げられる。これらは2種以上を併用して用いてもよい。 Other solvents include, but are not limited to, dialkyls having 1 to 4 carbon atoms such as dimethylglycol, dimethyldiglycol, dimethyltriglycol, methylethyldiglycol, diethyldiglycol, dibutyldiglycol and dimethylpropylenediglycol. glycol ethers. Alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, 1-butanol, 2-methyl-1-propanol, 2-butanol, 2-methyl-2-propanol; benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene aromatic hydrocarbons such as; aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane and heptane; You may use these in combination of 2 or more types.

その他の溶媒は、化合物3を溶解させる観点から、ジアルキルグリコールエーテル類、アルコール類及び芳香族炭化水素類であることが好ましく、ジアルキルグリコールエーテル類及び芳香族炭化水素類であることがより好ましい。 Other solvents are preferably dialkyl glycol ethers, alcohols and aromatic hydrocarbons, more preferably dialkyl glycol ethers and aromatic hydrocarbons, from the viewpoint of dissolving compound 3.

化合物2と、その他の溶媒との配合割合は、質量比で、化合物2:その他の溶媒=1:0.01~1:10とすることができる。 The mixing ratio of compound 2 and other solvent can be compound 2:other solvent=1:0.01 to 1:10 in mass ratio.

付加反応工程で得られる反応生成物にはビナフトール系化合物1が高純度で含まれる。反応生成物におけるビナフトール系化合物1の純度は、ガスクロマトグラフィー分析によるGC面積%で、60%以上とすることができ、85%以上とすることができ、90%以上とすることができる。 The reaction product obtained in the addition reaction step contains the binaphthol compound 1 with high purity. The purity of the binaphthol compound 1 in the reaction product can be 60% or more, 85% or more, or 90% or more in GC area % by gas chromatography analysis.

得られるビナフトール系化合物1は、ポリアクリレート樹脂などの原料モノマーとして用いられることで、樹脂の光学特性及び耐熱特性を向上させることができる。 The obtained binaphthol-based compound 1 can improve the optical properties and heat resistance properties of the resin by being used as a raw material monomer for a polyacrylate resin or the like.

本実施形態においては、上記工程で得られた反応生成物を精製するための精製工程を更に備えてもよい。精製する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、再結晶等の晶折、クロマトグラフィー及びろ過等が挙げられる。 This embodiment may further include a purification step for purifying the reaction product obtained in the above steps. As a method for purification, a known method can be used, and examples thereof include crystallization such as recrystallization, chromatography and filtration.

再結晶により精製を行う場合、再結晶に用いる溶媒としては、例えば、炭素数1~4のアルコール、又はその水溶液等が挙げられる。炭素数1~4のアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール及びイソプロパノール等が挙げられる。再結晶に用いる溶媒におけるアルコール濃度は、化合物3を溶解させる観点から、20~80質量%であることが好ましく、40~60質量%であることがより好ましい。 When purification is performed by recrystallization, examples of the solvent used for recrystallization include alcohols having 1 to 4 carbon atoms and aqueous solutions thereof. Examples of alcohols having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, propanol and isopropanol. The alcohol concentration in the solvent used for recrystallization is preferably 20 to 80% by mass, more preferably 40 to 60% by mass, from the viewpoint of dissolving Compound 3.

再結晶により精製を行う場合、再結晶に用いる溶媒の使用量は、結晶1質量部に対して2~5質量部であることが好ましい。このような再結晶を行うことで、精製後のビナフトール系化合物1の純度を、ガスクロマトグラフィー分析によるGC面積%で、99%以上にすることができる。 When purification is performed by recrystallization, the amount of the solvent used for recrystallization is preferably 2 to 5 parts by mass with respect to 1 part by mass of crystals. By performing such recrystallization, the purity of the binaphthol compound 1 after purification can be 99% or more in GC area % by gas chromatography analysis.

以下、実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら制限されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

(実施例1)
1,1’-ビ-2-ナフトール50.0g(0.17モル)及びN,N-ジメチルホルムアミド200.0gを1Lのオートクレーブに仕込んで密閉した。次いで、オートクレーブ内を20~30℃に保ち、オートクレーブ内を窒素により置換した。オートクレーブ内を120℃まで加熱し、1,1’-ビ-2-ナフトールをN,N-ジメチルホルムアミドに完全に溶解させた。次いで、オートクレーブ内の圧力が0.5MPaを超えないように、エチレンオキサイドを19.2g(0.44モル)をオートクレーブ内に導入した。その後、反応温度120℃、反応時間4時間の反応条件でアルキレンオキサイド付加反応を進行させた。反応終了後、オートクレーブの内容物を50℃以下となるまで冷却を行い、266.6gの反応物を得た。
(Example 1)
50.0 g (0.17 mol) of 1,1′-bi-2-naphthol and 200.0 g of N,N-dimethylformamide were placed in a 1 L autoclave and sealed. Then, the inside of the autoclave was maintained at 20 to 30°C, and the inside of the autoclave was replaced with nitrogen. The inside of the autoclave was heated to 120° C. to completely dissolve 1,1′-bi-2-naphthol in N,N-dimethylformamide. Then, 19.2 g (0.44 mol) of ethylene oxide was introduced into the autoclave so that the pressure inside the autoclave did not exceed 0.5 MPa. Thereafter, the alkylene oxide addition reaction was allowed to proceed under the reaction conditions of a reaction temperature of 120° C. and a reaction time of 4 hours. After completion of the reaction, the content of the autoclave was cooled to 50° C. or less to obtain 266.6 g of reactant.

(実施例2)
N,N-ジメチルホルムアミドの代わりにN,N-ジメチルアセトアミドを用いたこと以外は実施例1と同様にして反応を行い、265.9gの反応物を得た。
(Example 2)
A reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that N,N-dimethylacetamide was used instead of N,N-dimethylformamide to obtain 265.9 g of a reactant.

(実施例3)
N,N-ジメチルホルムアミドの仕込み量を200.0gから25.0gに変更し、エチレンオキサイドの仕込み量を19.2g(0.44モル)から18.4g(0.42モル)に変更したこと以外は実施例1と同様にして反応を行い、92.5gの反応物を得た。
(Example 3)
The charged amount of N,N-dimethylformamide was changed from 200.0 g to 25.0 g, and the charged amount of ethylene oxide was changed from 19.2 g (0.44 mol) to 18.4 g (0.42 mol). Except for this, the reaction was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain 92.5 g of a reactant.

(実施例4)
N,N-ジメチルホルムアミドの仕込み量を200.0gから50.0gに変更し、エチレンオキサイドの仕込み量を19.2g(0.44モル)から18.4g(0.42モル)に変更したこと以外は実施例1と同様にして反応を行い、115.6gの反応物を得た。
(Example 4)
The charged amount of N,N-dimethylformamide was changed from 200.0 g to 50.0 g, and the charged amount of ethylene oxide was changed from 19.2 g (0.44 mol) to 18.4 g (0.42 mol). Except for this, the reaction was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain 115.6 g of a reactant.

(実施例5)
N,N-ジメチルホルムアミドの仕込み量を200.0gから75.0gに変更したこと以外は実施例1と同様にして反応を行い、141.7gの反応物を得た。
(Example 5)
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that the amount of N,N-dimethylformamide charged was changed from 200.0 g to 75.0 g to obtain 141.7 g of reactant.

(実施例6)
N,N-ジメチルホルムアミドの仕込み量を200.0gから100.0gに変更したこと以外は実施例1と同様にして反応を行い、166.7gの反応物を得た。
(Example 6)
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that the amount of N,N-dimethylformamide charged was changed from 200.0 g to 100.0 g to obtain 166.7 g of reactant.

(実施例7)
1,1’-ビ-2-ナフトール50.0g(0.17モル)及びN,N-ジメチルホルムアミド200.0gに加えて、触媒として水酸化カリウム0.10gを1Lのオートクレーブに仕込んだこと以外は実施例1と同様にして反応を行い、267.9gの反応物を得た。
(Example 7)
Except that in addition to 50.0 g (0.17 mol) of 1,1'-bi-2-naphthol and 200.0 g of N,N-dimethylformamide, 0.10 g of potassium hydroxide as a catalyst were charged in a 1 L autoclave. was reacted in the same manner as in Example 1 to obtain 267.9 g of reactant.

(実施例8)
1,1’-ビ-2-ナフトール50.0g(0.17モル)及びN,N-ジメチルホルムアミド200.0gに加えて、触媒としてトリエチルアミン0.18gを1Lのオートクレーブに仕込んだこと以外は実施例1と同様にして反応を行い、267.1gの反応物を得た。
(Example 8)
In addition to 50.0 g (0.17 mol) of 1,1'-bi-2-naphthol and 200.0 g of N,N-dimethylformamide, 0.18 g of triethylamine as a catalyst was charged in a 1 L autoclave. A reaction was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain 267.1 g of reactant.

(実施例9)
1,1’-ビ-2-ナフトール50.0g(0.17モル)及びN,N-ジメチルホルムアミド200.0gに加えて、触媒としてトリフェニルホスフィン0.46gを1Lのオートクレーブに仕込んだこと以外は実施例1と同様にして反応を行い、266.8gの反応物を得た。
(Example 9)
Except that in addition to 50.0 g (0.17 mol) of 1,1'-bi-2-naphthol and 200.0 g of N,N-dimethylformamide, 0.46 g of triphenylphosphine as a catalyst were charged in a 1 L autoclave. was reacted in the same manner as in Example 1 to obtain 266.8 g of reactant.

(実施例10)
1,1’-ビ-2-ナフトール50.0g(0.17モル)及びN,N-ジメチルホルムアミド200.0gに加えて、触媒としてN,N-ジメチル-4-アミノピリジン0.21gを1Lのオートクレーブに仕込んだこと以外は実施例1と同様にして反応を行い、268.0gの反応物を得た。
(Example 10)
In addition to 50.0 g (0.17 mol) of 1,1′-bi-2-naphthol and 200.0 g of N,N-dimethylformamide, 1 L of 0.21 g of N,N-dimethyl-4-aminopyridine as a catalyst was added. The reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that the autoclave was charged, and 268.0 g of reaction product was obtained.

(実施例11)
1,1’-ビ-2-ナフトール50.0g(0.17モル)及びN,N-ジメチルホルムアミド25.0gを1Lのオートクレーブに仕込んで密閉した。次いで、オートクレーブ内を20~30℃に保ち、オートクレーブ内を窒素により置換した。オートクレーブ内を105℃まで加熱し、1,1’-ビ-2-ナフトールをN,N-ジメチルホルムアミドに一部溶解させた。次いで、オートクレーブ内の圧力が0.5MPaを超えないようにエチレンオキサイドを18.4g(0.42モル)をオートクレーブ内に導入した。その後、1,1’-ビ-2-ナフトールがN,N-ジメチルホルムアミドに完全に溶解していることを確認した。次いで、反応温度105℃、反応時間4時間の反応条件でアルキレンオキサイド付加反応を進行させた。反応終了後、オートクレーブの内容物を50℃以下となるまで冷却を行い、91.5gの反応物を得た。
(Example 11)
50.0 g (0.17 mol) of 1,1′-bi-2-naphthol and 25.0 g of N,N-dimethylformamide were placed in a 1 L autoclave and sealed. Then, the inside of the autoclave was maintained at 20 to 30°C, and the inside of the autoclave was replaced with nitrogen. The inside of the autoclave was heated to 105° C. to partially dissolve 1,1′-bi-2-naphthol in N,N-dimethylformamide. Then, 18.4 g (0.42 mol) of ethylene oxide was introduced into the autoclave so that the pressure inside the autoclave did not exceed 0.5 MPa. After that, it was confirmed that 1,1'-bi-2-naphthol was completely dissolved in N,N-dimethylformamide. Then, the alkylene oxide addition reaction was allowed to proceed under the reaction conditions of a reaction temperature of 105° C. and a reaction time of 4 hours. After completion of the reaction, the contents of the autoclave were cooled to 50° C. or less to obtain 91.5 g of reactant.

参考例12)
1,1’-ビ-2-ナフトール50.0g(0.17モル)及びN,N-ジメチルホルムアミド5.0gを1Lのオートクレーブに仕込んで密閉した。次いで、オートクレーブ内を20~30℃に保ち、オートクレーブ内を窒素により置換した。オートクレーブ内を120℃まで加熱し、1,1’-ビ-2-ナフトールをN,N-ジメチルホルムアミドに一部溶解させた。次いで、オートクレーブ内の圧力が0.5MPaを超えないようにエチレンオキサイドを19.2g(0.44モル)をオートクレーブ内に導入した。その後、1,1’-ビ-2-ナフトールがN,N-ジメチルホルムアミドに完全に溶解していることを確認した。次いで、反応温度120℃、反応時間4時間の反応条件でアルキレンオキサイド付加反応を進行させた。反応終了後、オートクレーブの内容物を50℃以下となるまで冷却を行い、65.8gの反応物を得た。
( Reference example 12)
50.0 g (0.17 mol) of 1,1′-bi-2-naphthol and 5.0 g of N,N-dimethylformamide were placed in a 1 L autoclave and sealed. Then, the inside of the autoclave was maintained at 20 to 30°C, and the inside of the autoclave was replaced with nitrogen. The inside of the autoclave was heated to 120° C. to partially dissolve 1,1′-bi-2-naphthol in N,N-dimethylformamide. Then, 19.2 g (0.44 mol) of ethylene oxide was introduced into the autoclave so that the pressure inside the autoclave did not exceed 0.5 MPa. After that, it was confirmed that 1,1'-bi-2-naphthol was completely dissolved in N,N-dimethylformamide. Then, the alkylene oxide addition reaction was allowed to proceed under the reaction conditions of a reaction temperature of 120° C. and a reaction time of 4 hours. After completion of the reaction, the content of the autoclave was cooled to 50° C. or less to obtain 65.8 g of reactant.

(比較例1)
1,1’-ビ-2-ナフトール50.0g(0.17モル)、30質量%イソプロパノール水溶液200.0g及び触媒として水酸化カリウム0.10gを1Lのオートクレーブに仕込んで密閉した。次いで、オートクレーブ内を20~30℃に保ち、オートクレーブ内を窒素により置換した。オートクレーブ内を90℃まで加熱し(このとき1,1’-ビ-2-ナフトールは未溶解の状態であることが確認された)、オートクレーブ内の圧力が0.5MPaを超えないようにエチレンオキサイドを19.2g(0.44モル)をオートクレーブ内に導入した。その後、反応温度90℃、反応時間3時間の反応条件でアルキレンオキサイド付加反応を進行させた。反応終了後、オートクレーブの内容物を50℃以下となるまで冷却を行い、258.9gの反応物を得た。
(Comparative example 1)
A 1 L autoclave was charged with 50.0 g (0.17 mol) of 1,1′-bi-2-naphthol, 200.0 g of a 30% by mass isopropanol aqueous solution, and 0.10 g of potassium hydroxide as a catalyst and sealed. Then, the inside of the autoclave was maintained at 20 to 30°C, and the inside of the autoclave was replaced with nitrogen. The inside of the autoclave was heated to 90 ° C. (1,1'-bi-2-naphthol was confirmed to be in an undissolved state at this time), and ethylene oxide was added so that the pressure inside the autoclave did not exceed 0.5 MPa. 19.2 g (0.44 mol) of was introduced into the autoclave. Thereafter, the alkylene oxide addition reaction was allowed to proceed under the reaction conditions of a reaction temperature of 90° C. and a reaction time of 3 hours. After completion of the reaction, the content of the autoclave was cooled to 50° C. or less to obtain 258.9 g of reactant.

(比較例2)
1,1’-ビ-2-ナフトール50.0g(0.17モル)、イオン交換水200.0g、及び触媒として水酸化カリウム0.10gを1Lのオートクレーブに仕込んで密閉した。次いで、オートクレーブ内を20~30℃に保ち、オートクレーブ内を窒素により置換した。オートクレーブ内を100℃まで加熱し(このとき1,1’-ビ-2-ナフトールは未溶解の状態であることが確認された)、オートクレーブ内の圧力が0.5MPaを超えないようにエチレンオキサイドを16.9g(0.38モル)をオートクレーブ内に導入した。その後、反応温度100℃、反応時間10時間の反応条件でアルキレンオキサイド付加反応を進行させた。反応終了後、オートクレーブの内容物を50℃以下となるまで冷却を行い、257.3gの反応物を得た。
(Comparative example 2)
50.0 g (0.17 mol) of 1,1'-bi-2-naphthol, 200.0 g of deionized water, and 0.10 g of potassium hydroxide as a catalyst were placed in a 1 L autoclave and sealed. Then, the inside of the autoclave was maintained at 20 to 30°C, and the inside of the autoclave was replaced with nitrogen. The inside of the autoclave was heated to 100 ° C. (1,1'-bi-2-naphthol was confirmed to be in an undissolved state at this time), and ethylene oxide was added so that the pressure inside the autoclave did not exceed 0.5 MPa. 16.9 g (0.38 mol) of was introduced into the autoclave. Thereafter, the alkylene oxide addition reaction was allowed to proceed under the reaction conditions of a reaction temperature of 100° C. and a reaction time of 10 hours. After completion of the reaction, the content of the autoclave was cooled to 50° C. or less to obtain 257.3 g of reactant.

(比較例3)
1,1’-ビ-2-ナフトール50.0g(0.17モル)、トルエン200.0g、及び触媒として水酸化カリウム0.10gを1Lのオートクレーブに仕込んで密閉した。次いで、オートクレーブ内を20~30℃に保ち、オートクレーブ内を窒素により置換した。オートクレーブ内を150℃まで加熱し、1,1’-ビ-2-ナフトールをトルエンに完全に溶解させた。オートクレーブ内の圧力が0.5MPaを超えないようにエチレンオキサイドを16.9g(0.38モル)をオートクレーブ内に導入した。その後、反応温度150℃、反応時間8時間の反応条件でアルキレンオキサイド付加反応を進行させた。反応終了後、オートクレーブの内容物を50℃以下となるまで冷却を行い、257.9gの反応物を得た。
(Comparative Example 3)
50.0 g (0.17 mol) of 1,1′-bi-2-naphthol, 200.0 g of toluene, and 0.10 g of potassium hydroxide as a catalyst were placed in a 1 L autoclave and sealed. Then, the inside of the autoclave was maintained at 20 to 30°C, and the inside of the autoclave was replaced with nitrogen. The inside of the autoclave was heated to 150° C. to completely dissolve 1,1′-bi-2-naphthol in toluene. 16.9 g (0.38 mol) of ethylene oxide was introduced into the autoclave so that the pressure inside the autoclave did not exceed 0.5 MPa. Thereafter, the alkylene oxide addition reaction was allowed to proceed under the reaction conditions of a reaction temperature of 150° C. and a reaction time of 8 hours. After completion of the reaction, the content of the autoclave was cooled to 50° C. or less to obtain 257.9 g of reactant.

(比較例4)
1,1’-ビ-2-ナフトール25.0g(0.09モル)、2,2’-ビス(2-ヒドロキシエトキシ)-1,1’-ビナフタレン100.0g、及び触媒として水酸化カリウム0.06gを1Lのオートクレーブに仕込んで密閉した。次いで、オートクレーブ内を20~30℃に保ち、オートクレーブ内を窒素により置換した。オートクレーブ内を120℃まで加熱し、(このとき1,1’-ビ-2-ナフトールは未溶解の状態であることが確認された)、オートクレーブ内の圧力が0.5MPaを超えないようにエチレンオキサイドを8.5g(0.19モル)をオートクレーブ内に導入した。その後、反応温度120℃、反応時間12時間の反応条件でアルキレンオキサイド付加反応を進行させた。反応終了後、オートクレーブの内容物を50℃以下となるまで冷却を行い、130.5gの反応物を得た。
(Comparative Example 4)
25.0 g (0.09 mol) of 1,1'-bi-2-naphthol, 100.0 g of 2,2'-bis(2-hydroxyethoxy)-1,1'-binaphthalene, and 0 potassium hydroxide as a catalyst 0.06 g was charged into a 1 L autoclave and sealed. Then, the inside of the autoclave was maintained at 20 to 30°C, and the inside of the autoclave was replaced with nitrogen. The inside of the autoclave was heated to 120° C. (1,1′-bi-2-naphthol was confirmed to be in an undissolved state at this time), and ethylene was added so that the pressure inside the autoclave did not exceed 0.5 MPa. 8.5 g (0.19 mol) of oxide were introduced into the autoclave. Thereafter, the alkylene oxide addition reaction was allowed to proceed under the reaction conditions of a reaction temperature of 120° C. and a reaction time of 12 hours. After completion of the reaction, the content of the autoclave was cooled to 50° C. or less to obtain 130.5 g of reactant.

<組成分析>
上記で得られた反応物の組成を、下記の方法に従い分析した。結果を表1~表3に示した。
<Composition analysis>
The composition of the reaction product obtained above was analyzed according to the following method. The results are shown in Tables 1-3.

[サンプルの前処理]
上記で得られた反応物30~50mgに対してシリル化剤(トリメチルクロロシラン、1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン、ピリジンの混合液、東京化成工業株式会社製、商品名:TMS-HT)1mLを加え、溶液を得た。次いで、70~80℃に加温された湯浴で2~3分間得られた溶液を加熱し、サンプル溶液を得た。
[Sample pretreatment]
Silylating agent (mixture of trimethylchlorosilane, 1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane, pyridine, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product name: TMS-HT) was added to obtain a solution. Then, the obtained solution was heated in a water bath heated to 70-80° C. for 2-3 minutes to obtain a sample solution.

[ガスクロマトグラフィーの測定条件]
以下にガスクロマトグラフィーの測定条件を示す。
[Gas chromatography measurement conditions]
Measurement conditions for gas chromatography are shown below.

ガスクロマトグラフィー:島津 GC-16A〔(株)島津製作所製〕
キャリアーガス:ヘリウム
メイクアップガス:ヘリウム
メイクアップガス流量:50mL/分
検出器:水素炎イオン化検出器
ヘリウム圧力:1.5kg/cm
水素圧力:0.6kg/cm2
空気圧力:0.5kg/cm2
カラム:GLサイエンス TC-1(15m×0.25mm I.D. 0.25μm)
カラム温度:180~300℃(昇温速度:15℃/分)
インジェクション温度:320℃
検出器温度:320℃
スプリット比:1:25
サンプル注入量:1μL
Gas chromatography: Shimadzu GC-16A [manufactured by Shimadzu Corporation]
Carrier gas: Helium Make-up gas: Helium make-up gas Flow rate: 50 mL/min Detector: Hydrogen flame ionization detector Helium pressure: 1.5 kg/cm 2
Hydrogen pressure: 0.6 kg/cm2
Air pressure: 0.5kg/cm2
Column: GL Science TC-1 (15 m × 0.25 mm ID 0.25 μm)
Column temperature: 180 to 300°C (heating rate: 15°C/min)
Injection temperature: 320°C
Detector temperature: 320°C
Split ratio: 1:25
Sample injection volume: 1 μL

上記の条件でサンプル溶液のガスクロマトグラフィーによる分析を行い、1,1’-ビ-2-ナフトールの未反応物、1,1’-ビ-2-ナフトールのEO1モル付加物、EO2モル付加物、EO3モル付加物及びEO4モル以上付加物の成分組成を算出した。成分組成は、ガスクロマトグラフィーの全ピーク面積値から溶媒に由来するピーク面積値を除いた値に対する、1,1’-ビ-2-ナフトールの未反応物、1,1’-ビ-2-ナフトールのEO1モル付加物(1EO)、EO2モル付加物(2EO)、EO3モル付加物(3EO)及びEO4モル以上付加物(4EO以上)に由来するピーク面積値の割合をそれぞれ百分率で表したものである。結果を表1~3に示した。 The sample solution was analyzed by gas chromatography under the above conditions, and the unreacted product of 1,1'-bi-2-naphthol, the EO 1 mol adduct of 1,1'-bi-2-naphthol, and the EO 2 mol adduct , EO 3 mol adducts and EO 4 mol or more adducts were calculated. The component composition is the unreacted product of 1,1′-bi-2-naphthol, 1,1′-bi-2- Ratios of peak area values derived from naphthol EO 1 mol adduct (1EO), EO 2 mol adduct (2EO), EO 3 mol adduct (3EO) and EO 4 mol or more adduct (4EO or more) expressed as percentages is. The results are shown in Tables 1-3.

表1~表3中で用いられている略称は下記のとおりである。
BINOL:1,1’-ビ-2-ナフトール
DMF:N,N-ジメチルホルムアミド
DMAc:N,N-ジメチルアセトアミド
DMAP:N,N-ジメチル-4-アミノピリジン
AO:アルキレンオキサイド
DMF:N,N-ジメチルホルムアミド
30%IPA:30質量%イソプロパノール水溶液
IEW:イオン交換水
BINOL-1EO:1,1’-ビ-2-ナフトールのEO1モル付加物
BINOL-2EO:2,2’-ビス(2-ヒドロキシエトキシ)-1,1’-ビナフタレン
BINOL-3EO:1,1’-ビ-2-ナフトールのEO3モル付加物
BINOL-4EO以上:1,1’-ビ-2-ナフトールのEO4モル以上付加物
化合物2:上記一般式(2)で表される化合物
化合物3:上記一般式(3)で表される化合物

Abbreviations used in Tables 1 to 3 are as follows.
BINOL: 1,1'-bi-2-naphthol DMF: N,N-dimethylformamide DMAc: N,N-dimethylacetamide DMAP: N,N-dimethyl-4-aminopyridine AO: alkylene oxide DMF: N,N- Dimethylformamide 30% IPA: 30 wt% isopropanol aqueous solution IEW: ion-exchanged water BINOL-1EO: EO 1 mole adduct of 1,1'-bi-2-naphthol BINOL-2EO: 2,2'-bis(2-hydroxyethoxy )-1,1′-Binaphthalene BINOL-3EO: EO 3 mol adduct of 1,1′-bi-2-naphthol BINOL-4 EO or more: 1,1′-bi-2-naphthol EO 4 mol or more adduct Compound 2 : compound represented by the above general formula (2) Compound 3: compound represented by the above general formula (3)

Figure 0007166107000007
Figure 0007166107000007

Figure 0007166107000008
Figure 0007166107000008

Figure 0007166107000009
Figure 0007166107000009


表1及び表2に示されるように、DMF又はDMAcの存在下で、BINOLにEO付加した実施例1~11及び参考例12は、30%IPA、IEW、トルエン又はBINOL-2EOの存在下で、BINOLにEO付加した比較例1~4に比べて、2EOの割合が高くなることが確認された。

As shown in Tables 1 and 2, in the presence of DMF or DMAc, Examples 1 to 11 and Reference Example 12 in which EO was added to BINOL were treated in the presence of 30% IPA, IEW, toluene, or BINOL-2EO. , and BINOL with EO added, it was confirmed that the ratio of 2EO was higher than in Comparative Examples 1 to 4.

Claims (2)

下記一般式(1)で表されるビナフトール系化合物を製造する方法であって、
下記一般式(2)で表される化合物の存在下で、下記一般式(3)で表される化合物にエチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを付加する工程を備え
前記工程において、前記一般式(3)で表される化合物100質量部と前記一般式(2)で表される化合物50~1000質量部とを混合して、前記一般式(3)で表される化合物にエチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを付加する、ビナフトール系化合物の製造方法。
Figure 0007166107000010


[式(1)中、R11及びR12はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、又は炭素数1~22の1価の炭化水素基を示し、R13及びR14はそれぞれ独立に、水素原子、又はメチル基を示し、Y11及びY12はそれぞれ独立に、単結合、又は酸素原子を示し、n1及びm1はそれぞれ0~4の整数を示す。n1が2以上の整数である場合、複数存在するR11はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数存在するY11はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。m1が2以上の整数である場合、複数存在するR12はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数存在するY12はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
Figure 0007166107000011


[式(2)中、R21及びR22はそれぞれ独立に、メチル基、エチル基、n-プロピル基、又はイソプロピル基を示し、R23は、水素原子、メチル基、又はエチル基を示す。]
Figure 0007166107000012


[式(3)中、R31及びR32はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、又は炭素数1~22の1価の炭化水素基を示し、Y31及びY32はそれぞれ独立に、単結合、又は酸素原子を示し、n3及びm3はそれぞれ0~4の整数を示す。n3が2以上の整数である場合、複数存在するR31はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数存在するY31はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。m3が2以上の整数である場合、複数存在するR32はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数存在するY32はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
A method for producing a binaphthol compound represented by the following general formula (1),
A step of adding ethylene oxide and/or propylene oxide to a compound represented by the following general formula (3) in the presence of a compound represented by the following general formula (2) ;
In the step, 100 parts by mass of the compound represented by the general formula (3) and 50 to 1000 parts by mass of the compound represented by the general formula (2) are mixed to obtain the compound represented by the general formula (3). A method for producing a binaphthol compound, comprising adding ethylene oxide and/or propylene oxide to a compound.
Figure 0007166107000010


[In formula (1), R 11 and R 12 each independently represent a halogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and R 13 and R 14 each independently represent a hydrogen atom, or represents a methyl group, Y 11 and Y 12 each independently represent a single bond or an oxygen atom, n1 and m1 each represent an integer of 0 to 4; When n1 is an integer of 2 or more, multiple R 11 may be the same or different, and multiple Y 11 may be the same or different. When m1 is an integer of 2 or more, multiple R 12 may be the same or different, and multiple Y 12 may be the same or different. ]
Figure 0007166107000011


[In formula (2), R 21 and R 22 each independently represent a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an isopropyl group, and R 23 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group. ]
Figure 0007166107000012


[In formula (3), R 31 and R 32 each independently represent a halogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and Y 31 and Y 32 each independently represent a single bond, or represents an oxygen atom, n3 and m3 each represents an integer of 0 to 4; When n3 is an integer of 2 or more, multiple R 31 may be the same or different, and multiple Y 31 may be the same or different. When m3 is an integer of 2 or more, multiple R 32 may be the same or different, and multiple Y 32 may be the same or different. ]
前記工程における反応温度が、90~150℃である、請求項1に記載のビナフトール系化合物の製造方法。 The method for producing a binaphthol compound according to claim 1 , wherein the reaction temperature in said step is 90 to 150°C.
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