JP7164325B2 - Manufacturing method of liquid crystal alignment film and liquid crystal display element - Google Patents

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Description

本発明は、液晶配向膜の製造方法及び液晶表示素子に関し、特に、酸化インジウムガリウム亜鉛(Indium Gallium Zinc Oxide;IGZO)の能動層を含む薄膜トランジスタの基材に設けられた液晶配向膜の製造方法及び液晶表示素子に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal alignment film and a liquid crystal display device, and more particularly to a method for manufacturing a liquid crystal alignment film provided on a substrate of a thin film transistor including an active layer of indium gallium zinc oxide (IGZO), and a liquid crystal display device. It relates to a liquid crystal display element.

近年、新規の液晶表示素子の開発が盛んに行われており、例えば、業界において、基板の表面に平行な電界を発生させるように片側の基板に2つの電極をくし歯状に配置して液晶を駆動させることで、液晶分子を制御する液晶表示素子が開発される。上記液晶表示素子は、一般的に、横電界効果型(In-Plane Switching;IPS型)と呼ばれ、広視野角特性に優れていることが知られている。しかしながら、上記IPS型の液晶表示素子では、イオン密度が高過ぎるため残像という問題がやはりある。 In recent years, new liquid crystal display devices have been actively developed. A liquid crystal display element that controls liquid crystal molecules by driving is developed. The liquid crystal display device is generally called an in-plane switching (IPS) type, and is known to be excellent in wide viewing angle characteristics. However, the IPS-type liquid crystal display element still has the problem of an afterimage due to the excessively high ion density.

日本国特許特開第2006-259716号公報Japanese Patent Publication No. 2006-259716

日本国特許特開第2006-259716号公報には、低イオン密度の液晶配向膜及び液晶配向膜の調製に用いられるピペラジン(piperazine)構造含有のジアミン化合物が開示される。ピペラジン構造含有のジアミン化合物を使用することで、製造された配向膜は、イオン密度が高すぎるという問題が改善される。しかしながら、上記液晶配向剤により製造された液晶配向膜がIPS型の液晶表示素子に適用される場合、蓄積電荷の除去が緩慢であることで、残留電荷が高すぎ、更に残像を生じるという問題がやはりある。上記からわかるように、現在のIPS型の液晶ディスプレイの業者の要求に対応するように、蓄積電荷除去性が良好な液晶表示素子を形成可能な液晶配向膜、及び液晶配向膜形成用の液晶配向剤を提供することは、当業者の努力して研究する目標である。 Japanese Patent Publication No. 2006-259716 discloses a low ion density liquid crystal alignment film and a diamine compound containing a piperazine structure used for the preparation of the liquid crystal alignment film. By using a piperazine structure-containing diamine compound, the problem that the produced alignment film has too high an ion density is improved. However, when the liquid crystal alignment film produced from the above liquid crystal alignment agent is applied to an IPS-type liquid crystal display device, the residual charge is too high due to the slow removal of the accumulated charge, resulting in a problem of causing an afterimage. After all there is. As can be seen from the above, a liquid crystal alignment film capable of forming a liquid crystal display element having good accumulated charge removal property, and a liquid crystal alignment for forming the liquid crystal alignment film, so as to meet the demands of current IPS type liquid crystal display manufacturers. Providing agents is a striving goal of those skilled in the art.

そのため、本発明の一態様は、酸化インジウムガリウム亜鉛(Indium Gallium Zinc Oxide;IGZO)の能動層を含む薄膜トランジスタの基材に、特定の製造方法で得られた特定な組成を持つ液晶配向剤を塗布して、液晶配向膜を形成する液晶配向膜の製造方法を提供することにある。特に、本発明の特徴は、良好な蓄積電荷除去性を持つ液晶表示素子を製造するように、上記液晶配向膜が特定の抵抗光安定性を有する。 Therefore, one aspect of the present invention is to apply a liquid crystal aligning agent having a specific composition obtained by a specific manufacturing method to a thin film transistor substrate including an active layer of Indium Gallium Zinc Oxide (IGZO). It is therefore an object of the present invention to provide a method for manufacturing a liquid crystal alignment film that forms a liquid crystal alignment film. In particular, a feature of the present invention is that the liquid crystal alignment film has a specific resistive photostability so as to produce a liquid crystal display device with good accumulated charge removal properties.

本発明の別の態様は、上記の液晶配向膜の製造方法により製造された液晶配向膜を含む液晶表示素子を提供することにある。 Another aspect of the present invention is to provide a liquid crystal display element including a liquid crystal alignment film manufactured by the above method for manufacturing a liquid crystal alignment film.

図1を参照されたい。図1は、本発明の一実施例に記載の検査セル100を示す模式図である。本発明の抵抗光安定性については、下記の測量方法によって測量を行う。(1)まず、検査セル100を組み立てる。検査セル100は、基板110、画素電極120及び上記液晶配向膜130により組成される。画素電極120がくし歯状にパターニングされるように基板110の表面に形成される。液晶配向膜130が画素電極120の表面に形成される。(2)そして、イオン密度測定システム(株式会社東陽テクニカ(TOYO corporation)製;規格6254型)を使用して、周波数0.01Hz、振幅10Vの電圧にして、上記検査セル100に流れる電流及び対応する電圧によって、検査セル100の第1の抵抗Rを測量する。上記電流は3.16nAであり、且つ上記測量は、23℃の温度及び50%の湿度の雰囲気で行う。(3)その後、照度6mW/cmのバックライトセルによって上記検査セル100を300秒間も照射し、第2の抵抗Rを測量する。前記バックライトセルは、発光スペクトルの主ピーク値が430nm~500nmの範囲にあるチップ発光層、及び光ルミネセンス蛍光体を有する白色発光ダイオードである。前記チップ発光層の構成材料は、窒化物系化合物半導体、III-V族系化合物半導体、II-IV族系化合物半導体、IV-VI族系化合物半導体、又はそれらの組み合わせから選ばれる。(4)また、下記式(1)に基づいて抵抗光安定性(△RUV)を算出する。
△RUV=R-R 式(1)。
See FIG. FIG. 1 is a schematic diagram of a test cell 100 according to one embodiment of the invention. The resistance light stability of the present invention is measured by the following survey method. (1) First, the inspection cell 100 is assembled. The inspection cell 100 is composed of a substrate 110 , a pixel electrode 120 and the liquid crystal alignment layer 130 . A pixel electrode 120 is formed on the surface of the substrate 110 in a comb-like pattern. A liquid crystal alignment layer 130 is formed on the surface of the pixel electrode 120 . (2) Then, using an ion density measurement system (manufactured by TOYO Corporation; standard 6254 type), the frequency is 0.01 Hz, the voltage is 10 V amplitude, and the current flowing through the inspection cell 100 and the corresponding The voltage applied measures the first resistance R i of the test cell 100 . The current is 3.16 nA and the survey is performed in an atmosphere with a temperature of 23° C. and a humidity of 50%. (3) After that, the test cell 100 is illuminated for 300 seconds by a backlight cell with an illuminance of 6 mW/cm 2 to measure the second resistance Rf . The backlight cell is a white light emitting diode with a chip emitting layer and a photoluminescent phosphor, the main peak value of the emission spectrum of which is in the range of 430 nm to 500 nm. The constituent material of the chip light-emitting layer is selected from nitride compound semiconductors, III-V group compound semiconductors, II-IV group compound semiconductors, IV-VI group compound semiconductors, or combinations thereof. (4) Also, the resistance photostability (ΔR UV ) is calculated based on the following formula (1).
ΔR UV =R i -R f formula (1).

前記液晶配向膜の抵抗光安定性(△RUV)500GΩより小さく、好ましくは400GΩより小さく、より好ましくは300GΩより小さい。 The resistance light stability (ΔR UV ) of the liquid crystal alignment film is less than 500 GΩ, preferably less than 400 GΩ, more preferably less than 300 GΩ.

液晶配向膜の抵抗光安定性が上記の範囲にならないと、製造された液晶表示素子の蓄積電荷除去性が不良である。 If the resistive photostability of the liquid crystal alignment film does not fall within the above range, the liquid crystal display device produced has poor accumulated charge removal properties.

本発明の上記態様によると、液晶配向剤を薄膜トランジスタの基材に塗布してプレコーティング層を形成する工程と、プレコーティング層に対してプリベーク処理、ポストベーク処理及び配向処理を行って液晶配向膜を製造する工程と、を含む液晶配向膜の製造方法を提出する。薄膜トランジスタの基材は、材料がIGZOである能動層を含み、且つ前記液晶配向膜が500GΩより小さいの抵抗光安定性を有する。以下、記載された液晶配向剤及び液晶配向膜の製造方法についてそれぞれ説明する。 According to the above aspect of the present invention, the step of applying a liquid crystal aligning agent to a substrate of a thin film transistor to form a pre-coating layer, and performing pre-baking treatment, post-baking treatment and alignment treatment on the pre-coating layer to form a liquid crystal alignment film and a method for manufacturing a liquid crystal alignment film. The substrate of the thin film transistor includes an active layer whose material is IGZO, and the liquid crystal alignment film has a resistance photostability of less than 500 GΩ. Hereinafter, the manufacturing method of the liquid crystal aligning agent and liquid crystal aligning film which were described is each demonstrated.

液晶配向剤
本発明の液晶配向剤は、ポリマー(A)及び溶剤(B)を含む。以下、別々に説明する。
Liquid crystal aligning agent The liquid crystal aligning agent of this invention contains a polymer (A) and a solvent (B). They will be described separately below.

ポリマー(A)
本発明のポリマー(A)は、テトラカルボン酸二無水物組成物(a)及びジアミン組成物(b)を含む混合物により反応して得られる。
Polymer (A)
The polymer (A) of the present invention is obtained by reacting a mixture containing the tetracarboxylic dianhydride composition (a) and the diamine composition (b).

上記ポリマー(A)の好適な具体例としては、ポリアミド酸ポリマー、ポリイミドポリマー、ポリイミド系ブロック共重合体、又はそれらの組み合わせがある。ポリイミド系ブロック共重合体の好適な具体例としては、ポリアミド酸ブロック共重合体、ポリイミドブロック共重合体、ポリアミド酸-ポリイミドブロック共重合体、又はその中の1つの組み合わせがある。 Preferred specific examples of the polymer (A) include polyamic acid polymers, polyimide polymers, polyimide-based block copolymers, and combinations thereof. Suitable specific examples of polyimide-based block copolymers include polyamic acid block copolymers, polyimide block copolymers, polyamic acid-polyimide block copolymers, or combinations of one thereof.

テトラカルボン酸二無水物組成物(a)
本発明に係わるテトラカルボン酸二無水物組成物(a)の好適な具体例としては、(1)脂肪族テトラカルボン酸二無水物化合物、(2)脂環式テトラカルボン酸二無水物化合物、(3)芳香族テトラカルボン酸二無水物化合物又は(4)式(a-1)~(a-6)を有するテトラカルボン酸二無水物化合物等がある。
Tetracarboxylic dianhydride composition (a)
Suitable specific examples of the tetracarboxylic dianhydride composition (a) according to the present invention include (1) an aliphatic tetracarboxylic dianhydride compound, (2) an alicyclic tetracarboxylic dianhydride compound, (3) aromatic tetracarboxylic dianhydride compounds or (4) tetracarboxylic dianhydride compounds having formulas (a-1) to (a-6).

本発明に係わる(1)脂肪族テトラカルボン酸二無水物化合物は、エタンテトラカルボン酸二無水物又はブタンテトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸二無水物化合物を含んでもよいが、それに限定されない。 The (1) aliphatic tetracarboxylic dianhydride compound according to the present invention may include an aliphatic tetracarboxylic dianhydride compound such as ethanetetracarboxylic dianhydride or butanetetracarboxylic dianhydride, but not limited to.

本発明に係わる(2)脂環式テトラカルボン酸二無水物化合物は、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3-ジメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3-ジクロロ-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-テトラメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、シス-3,7-ジブチル-シクロヘプチル-1,5-ジエン-1,2,5,6-テトラカルボン酸二無水物、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物又はビシクロ[2.2.2]-オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物等の脂環式テトラカルボン酸二無水物化合物を含むが、それに限定されない。 The (2) alicyclic tetracarboxylic dianhydride compound related to the present invention is 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutane Tetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dichloro-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride , 1,2,3,4-tetramethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4 ,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 3,3′,4,4′-dicyclohexyltetracarboxylic dianhydride, cis-3,7-dibutyl-cycloheptyl-1,5-diene-1,2, 5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride or bicyclo[2.2.2]-oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic Including, but not limited to, alicyclic tetracarboxylic dianhydride compounds such as dianhydrides.

本発明に係わる(3)芳香族テトラカルボン酸二無水物化合物の具体例としては、3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1-コハク酸二無水物、ピロメリト酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’-4,4’-ジフェニルエタンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-フランテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、4,4’-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物、2,3,3’,4’-ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、4,4’-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水物、4,4’-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン二無水物、3,3’,4,4’-パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、2,2’,3,3’-ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィンオキシド二無水物、p-フェニレン-ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、m-フェニレン-ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)-4,4’-ジフェニルエーテル二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)-4,4’-ジフェニルメタン二無水物、エチレングリコール-ビス(無水トリメリット酸)、プロピレングリコール-ビス(無水トリメリット酸)、1,4-ブタンジオール-ビス(無水トリメリット酸)、1,6-ヘキサンジオール-ビス(無水トリメリット酸)、1,8-オクタンジオール-ビス(無水トリメリット酸)、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン-ビス(無水トリメリット酸)、2,3,4,5-テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b-ヘキサヒドロ-5-(テトラヒドロ-2,5-ジオキソ-3-フラン)-ナフト[1,2-c]-フラン-1,3-ジオン、1,3,3a,4,5,9b-ヘキサヒドロ-5-メチル-5-(テトラヒドロ-2,5-ジオキソ-3-フラン)-ナフト[1,2-c]-フラン-1,3-ジオン、1,3,3a,4,5,9b-ヘキサヒドロ-5-エチル-5-(テトラヒドロ-2,5-ジオキソ-3-フラン)-ナフト[1,2-c]-フラン-1,3-ジオン、1,3,3a,4,5,9b-ヘキサヒドロ-7-メチル-5-(テトラヒドロ-2,5-ジオキソ-3-フラン)-ナフト[1,2-c]-フラン-1,3-ジオン、1,3,3a,4,5,9b-ヘキサヒドロ-7-エチル-5-(テトラヒドロ-2,5-ジオキソ-3-フラン)-ナフト[1,2-c]-フラン-1,3-ジオン、1,3,3a,4,5,9b-ヘキサヒドロ-8-メチル-5-(テトラヒドロ-2,5-ジオキソ-3-フラン)-ナフト[1,2-c]-フラン-1,3-ジオン、1,3,3a,4,5,9b-ヘキサヒドロ-8-エチル-5-(テトラヒドロ-2,5-ジオキソ-3-フラン)-ナフト[1,2-c]-フラン-1,3-ジオン、1,3,3a,4,5,9b-ヘキサヒドロ-5,8-ジメチル-5-(テトラヒドロ-2,5-ジオキソ-3-フラン)-ナフト[1,2-c]-フラン-1,3-ジオン、5-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン)-3-メチル-3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸二無水物等を含んでもよいが、それに限定されない。 Specific examples of (3) the aromatic tetracarboxylic dianhydride compound according to the present invention include 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1-succinic dianhydride and pyromellitic acid. dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'- Diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3'-4,4' -diphenylethanetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-dimethyldiphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-tetraphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-furantetracarboxylic dianhydride, 2,3,3′,4′-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 3,3′,4,4′-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride 4,4'-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)diphenylsulfide dianhydride, 2,3,3',4'-diphenylsulfide tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3',4,4 '-diphenylsulfidetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)diphenylsulfone dianhydride, 4,4'-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)diphenylpropane di anhydride, 3,3′,4,4′-perfluoroisopropylidene diphthalic dianhydride, 2,2′,3,3′-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3′,4 '-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, bis(phthalic acid) phenylphosphine oxide dianhydride, p-phenylene-bis(triphenylphthalic acid ) dianhydride, m-phenylene-bis(triphenylphthalic acid) dianhydride, bis(triphenylphthalic acid)-4,4′-diphenyl ether dianhydride, bis(triphenylphthalic acid)-4,4′ -diphenylmethane dianhydride, ethylene glycol-bis (trimellitic anhydride), propylene glycol-bis (trimellitic anhydride), 1,4-butanediol-bis (trimellitic anhydride), 1,6-hexanediol- Bis(trimellitic anhydride), 1,8-octanediol-bis(trimellitic anhydride), 2,2- Bis(4-hydroxyphenyl)propane-bis(trimellitic anhydride), 2,3,4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride, 1,3,3a,4,5,9b-hexahydro-5-( Tetrahydro-2,5-dioxo-3-furan)-naphtho[1,2-c]-furan-1,3-dione, 1,3,3a,4,5,9b-hexahydro-5-methyl-5- (Tetrahydro-2,5-dioxo-3-furan)-naphtho[1,2-c]-furan-1,3-dione, 1,3,3a,4,5,9b-hexahydro-5-ethyl-5 -(Tetrahydro-2,5-dioxo-3-furan)-naphtho[1,2-c]-furan-1,3-dione, 1,3,3a,4,5,9b-hexahydro-7-methyl- 5-(Tetrahydro-2,5-dioxo-3-furan)-naphtho[1,2-c]-furan-1,3-dione, 1,3,3a,4,5,9b-hexahydro-7-ethyl -5-(tetrahydro-2,5-dioxo-3-furan)-naphtho[1,2-c]-furan-1,3-dione, 1,3,3a,4,5,9b-hexahydro-8- Methyl-5-(tetrahydro-2,5-dioxo-3-furan)-naphtho[1,2-c]-furan-1,3-dione, 1,3,3a,4,5,9b-hexahydro-8 -ethyl-5-(tetrahydro-2,5-dioxo-3-furan)-naphtho[1,2-c]-furan-1,3-dione, 1,3,3a,4,5,9b-hexahydro- 5,8-dimethyl-5-(tetrahydro-2,5-dioxo-3-furan)-naphtho[1,2-c]-furan-1,3-dione, 5-(2,5-dioxotetrahydrofuran) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic dianhydride and the like, but not limited thereto.

本発明に係わる(4)式(a-1)~式(a-6)に示すテトラカルボン酸二無水物化合物については、下記のように詳しく説明する。

Figure 0007164325000001
Figure 0007164325000002
(4) The tetracarboxylic dianhydride compounds represented by formulas (a-1) to (a-6) according to the present invention are described in detail below.
Figure 0007164325000001
Figure 0007164325000002

式(a-5)において、Aは芳香環含有の2価基を表し、rは1~2の整数を表し、A及びAは同一又は異なってもよく、且つそれぞれ水素原子又はアルキル基を表してもよい。好ましくは、式(a-5)に示すテトラカルボン酸二無水物化合物は、下記式(a-5-1)~式(a-5-3)に示す化合物から選ばれてよい。

Figure 0007164325000003
In formula (a-5), A 1 represents an aromatic ring-containing divalent group, r represents an integer of 1 to 2, A 2 and A 3 may be the same or different, and are each a hydrogen atom or an alkyl may represent a group. Preferably, the tetracarboxylic dianhydride compound represented by formula (a-5) may be selected from compounds represented by formulas (a-5-1) to (a-5-3) below.
Figure 0007164325000003

Figure 0007164325000004
式(a-6)において、Aは芳香環含有の2価基を表し、A及びAは同一又は異なってもよく、且つそれぞれ水素原子又はアルキル基を表す。好ましくは、式(a-6)に示すテトラカルボン酸二無水物化合物は、下記式(a-6-1)に示す化合物から選ばれてよい。
Figure 0007164325000005
Figure 0007164325000004
In formula (a-6), A 4 represents an aromatic ring-containing divalent group, A 5 and A 6 may be the same or different, and each represent a hydrogen atom or an alkyl group. Preferably, the tetracarboxylic dianhydride compound represented by formula (a-6) may be selected from compounds represented by formula (a-6-1) below.
Figure 0007164325000005

上記のテトラカルボン酸二無水物組成物(a)は、単独で使用しても又は複数種類を混合して使用してもよい。 The above tetracarboxylic dianhydride composition (a) may be used alone or in combination of multiple types.

ジアミン組成物(b)の使用量100molに対して、テトラカルボン酸二無水物組成物(a)の使用量は、20mol~200molの範囲にある。好ましくは30mol~120molである。 The amount of the tetracarboxylic dianhydride composition (a) used is in the range of 20 mol to 200 mol with respect to 100 mol of the diamine composition (b). It is preferably 30 mol to 120 mol.

ジアミン組成物(b)
一実施例において、本発明のジアミン組成物(b)は、少なくとも式(b-1)に示すジアミン化合物(b1)を含む。別の実施例において、本発明のジアミン組成物(b)は、上記ジアミン化合物(b1)及び式(b-2)に示すジアミン化合物(b2)を含む。上記実施例において、本発明のジアミン組成物(b)は、他のジアミン化合物(b3)を更に含んでもよい。
Diamine composition (b)
In one embodiment, the diamine composition (b) of the present invention contains at least a diamine compound (b1) represented by formula (b-1). In another embodiment, the diamine composition (b) of the present invention comprises the diamine compound (b1) and the diamine compound (b2) represented by formula (b-2). In the above examples, the diamine composition (b) of the present invention may further contain another diamine compound (b3).

ジアミン化合物(b1)
前記の式(b-1)に示すジアミン化合物(b1)は、下記のように表す。

Figure 0007164325000006
式(b-1)において、hは1~12の整数を表す。 Diamine compound (b1)
The diamine compound (b1) represented by the above formula (b-1) is represented as follows.
Figure 0007164325000006
In formula (b-1), h represents an integer of 1-12.

具体的には、式(b-1)に示すジアミン化合物(b1)は、下記式(b-1-1)~式(b-1-3)に示す構造を有するジアミン化合物を含む。

Figure 0007164325000007
式(b-1-1)~式(b-1-3)において、hは1~12の整数を表す。 Specifically, the diamine compound (b1) represented by the formula (b-1) includes diamine compounds having structures represented by the following formulas (b-1-1) to (b-1-3).
Figure 0007164325000007
In formulas (b-1-1) to (b-1-3), h represents an integer of 1-12.

前記式(b-1-1)に示す構造を有するジアミン化合物の具体例としては、ビス(4-アミノフェノキシ)メタン、1,2-ビス(4-アミノフェノキシ)エタン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)プロパン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ブタン、1,5-ビス(4-アミノフェノキシ)ペンタン、1,6-ビス(4-アミノフェノキシ)ヘキサン、1,7-ビス(4-アミノフェノキシ)ヘプタン、1,8-ビス(4-アミノフェノキシ)オクタン、1,9-ビス(4-アミノフェノキシ)ノナン、1,10-ビス(4-アミノフェノキシ)デカン又は上記化合物の如何なる組み合わせであってよい。 Specific examples of the diamine compound having the structure represented by the formula (b-1-1) include bis(4-aminophenoxy)methane, 1,2-bis(4-aminophenoxy)ethane, 1,3-bis( 4-aminophenoxy)propane, 1,4-bis(4-aminophenoxy)butane, 1,5-bis(4-aminophenoxy)pentane, 1,6-bis(4-aminophenoxy)hexane, 1,7- Bis(4-aminophenoxy)heptane, 1,8-bis(4-aminophenoxy)octane, 1,9-bis(4-aminophenoxy)nonane, 1,10-bis(4-aminophenoxy)decane or the above compounds may be any combination of

前記式(b-1-2)に示す構造を有するジアミン化合物の具体例としては、ビス(2-アミノフェノキシ)メタン、1,2-ビス(2-アミノフェノキシ)エタン、1,3-ビス(2-アミノフェノキシ)プロパン、1,4-ビス(2-アミノフェノキシ)ブタン、1,5-ビス(2-アミノフェノキシ)ペンタン、1,6-ビス(2-アミノフェノキシ)ヘキサン、1,7-ビス(2-アミノフェノキシ)ヘプタン、1,8-ビス(2-アミノフェノキシ)オクタン、1,9-ビス(2-アミノフェノキシ)ノナン、1,10-ビス(2-アミノフェノキシ)デカン又は上記化合物の如何なる組み合わせであってよい。 Specific examples of the diamine compound having the structure represented by the formula (b-1-2) include bis(2-aminophenoxy)methane, 1,2-bis(2-aminophenoxy)ethane, 1,3-bis( 2-aminophenoxy)propane, 1,4-bis(2-aminophenoxy)butane, 1,5-bis(2-aminophenoxy)pentane, 1,6-bis(2-aminophenoxy)hexane, 1,7- Bis(2-aminophenoxy)heptane, 1,8-bis(2-aminophenoxy)octane, 1,9-bis(2-aminophenoxy)nonane, 1,10-bis(2-aminophenoxy)decane or the above compounds may be any combination of

前記式(b-1-3)に示す構造を有するジアミン化合物の具体例としては、ビス(3-アミノフェノキシ)メタン、1,2-ビス(3-アミノフェノキシ)エタン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)プロパン、1,4-ビス(3-アミノフェノキシ)ブタン、1,5-ビス(3-アミノフェノキシ)ペンタン、1,6-ビス(3-アミノフェノキシ)ヘキサン、1,7-ビス(3-アミノフェノキシ)ヘプタン、1,8-ビス(3-アミノフェノキシ)オクタン、1,9-ビス(3-アミノフェノキシ)ノナン、1,10-ビス(3-アミノフェノキシ)デカン又は上記化合物の如何なる組み合わせであってよい。 Specific examples of the diamine compound having the structure represented by the formula (b-1-3) include bis(3-aminophenoxy)methane, 1,2-bis(3-aminophenoxy)ethane, 1,3-bis( 3-aminophenoxy)propane, 1,4-bis(3-aminophenoxy)butane, 1,5-bis(3-aminophenoxy)pentane, 1,6-bis(3-aminophenoxy)hexane, 1,7- Bis(3-aminophenoxy)heptane, 1,8-bis(3-aminophenoxy)octane, 1,9-bis(3-aminophenoxy)nonane, 1,10-bis(3-aminophenoxy)decane or the above compounds may be any combination of

好ましくは、式(b-1)に示すジアミン化合物(b1)の具体例としては、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)プロパン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ブタン、1,5-ビス(4-アミノフェノキシ)ペンタン、1,6-ビス(4-アミノフェノキシ)ヘキサン、1,7-ビス(4-アミノフェノキシ)ヘプタン、1,8-ビス(4-アミノフェノキシ)オクタン、1,3-ビス(2-アミノフェノキシ)プロパン、1,4-ビス(2-アミノフェノキシ)ブタン、1,5-ビス(2-アミノフェノキシ)ペンタン、1,6-ビス(2-アミノフェノキシ)ヘキサン、1,7-ビス(2-アミノフェノキシ)ヘプタン、1,8-ビス(2-アミノフェノキシ)オクタン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)プロパン、1,4-ビス(3-アミノフェノキシ)ブタン、1,5-ビス(3-アミノフェノキシ)ペンタン、1,6-ビス(3-アミノフェノキシ)ヘキサン、1,7-ビス(3-アミノフェノキシ)ヘプタン又は1,8-ビス(3-アミノフェノキシ)オクタン等であってよい。 Preferably, specific examples of the diamine compound (b1) represented by formula (b-1) include 1,3-bis(4-aminophenoxy)propane, 1,4-bis(4-aminophenoxy)butane, 1, 5-bis(4-aminophenoxy)pentane, 1,6-bis(4-aminophenoxy)hexane, 1,7-bis(4-aminophenoxy)heptane, 1,8-bis(4-aminophenoxy)octane, 1,3-bis(2-aminophenoxy)propane, 1,4-bis(2-aminophenoxy)butane, 1,5-bis(2-aminophenoxy)pentane, 1,6-bis(2-aminophenoxy) Hexane, 1,7-bis(2-aminophenoxy)heptane, 1,8-bis(2-aminophenoxy)octane, 1,3-bis(3-aminophenoxy)propane, 1,4-bis(3-amino phenoxy)butane, 1,5-bis(3-aminophenoxy)pentane, 1,6-bis(3-aminophenoxy)hexane, 1,7-bis(3-aminophenoxy)heptane or 1,8-bis(3 -aminophenoxy)octane and the like.

ジアミン組成物(b)の使用量の合計100molに対して、ジアミン化合物(b1)の使用量は15mol~95molであり、好ましくは20~mol93molであり、より好ましくは25mol~90molである。 The amount of the diamine compound (b1) used is 15 mol to 95 mol, preferably 20 to 93 mol, more preferably 25 mol to 90 mol, per 100 mol of the total amount of the diamine composition (b) used.

ジアミン組成物(b)に式(b-1)に示すジアミン化合物(b1)を含有しない場合、上記液晶配向剤により製造された液晶配向膜を含む液晶表示素子の蓄積電荷除去性が不良である。 When the diamine composition (b) does not contain the diamine compound (b1) represented by the formula (b-1), the liquid crystal display element including the liquid crystal alignment film produced by the liquid crystal alignment agent has poor accumulated charge removal properties. .

ジアミン化合物(b2)
前記の式(b-2)に示すジアミン化合物(b2)は、下記のように表す。

Figure 0007164325000008
式(b-2)において、Rはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、アセチルアミノ基、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子を表し、Rはそれぞれ独立に炭素数1~3のアルキル基を表し、mはそれぞれ独立に0~3の整数を表し、nは0~4の整数を表す。 Diamine compound (b2)
The diamine compound (b2) represented by the above formula (b-2) is represented as follows.
Figure 0007164325000008
In formula (b-2), each R 1 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an acetylamino group, a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom; Each R 2 independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, each m independently represents an integer of 0 to 3, and n represents an integer of 0 to 4.

式(b-2)において、Rは、好ましくはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基又はアセチルアミノ基を表す。 In formula (b-2), each R 1 preferably independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or an acetylamino group.

式(b-2)により示すジアミン化合物(b2)の具体例としては、式(b-2-1)~式(b-2-28)により示すジアミン化合物の少なくとも1つを含むが、それに限定されない。

Figure 0007164325000009
Figure 0007164325000010
Figure 0007164325000011
Specific examples of the diamine compound (b2) represented by formula (b-2) include, but are limited to, at least one of the diamine compounds represented by formulas (b-2-1) to (b-2-28). not.
Figure 0007164325000009
Figure 0007164325000010
Figure 0007164325000011

式(b-2)により示すジアミン化合物(b2)は、単独して使用しても、複数種類を組み合わせて使用してもよい。 The diamine compound (b2) represented by formula (b-2) may be used either singly or in combination.

前記ジアミン組成物(b)の使用量の合計100molに対して、ジアミン化合物(b2)の使用量は5mol~50molであり、好ましくは7mol~45molであり、より好ましくは10mol~40molである。 The diamine compound (b2) is used in an amount of 5 mol to 50 mol, preferably 7 mol to 45 mol, more preferably 10 mol to 40 mol, per 100 mol of the total amount of the diamine composition (b) used.

液晶配向剤にジアミン化合物(b2)を使用すると、形成された液晶表示素子の蓄積電荷除去性を更に向上させることができる。 When the diamine compound (b2) is used as the liquid crystal aligning agent, it is possible to further improve the accumulated charge removal property of the formed liquid crystal display element.

次に、前記ジアミン化合物(b1)とジアミン化合物(b2)とのモル比[(b1)/(b2)]は0.5~10.0であってよいので、好ましくは1.0~8.0であり、且つより好ましくは1.5~5.0である。ジアミン化合物(b1)とジアミン化合物(b2)とのモル比[(b1)/(b2)]が前記の範囲にあると、形成された液晶表示素子の蓄積電荷除去性を更に向上させることができる。 Next, the molar ratio [(b1)/(b2)] between the diamine compound (b1) and the diamine compound (b2) may be from 0.5 to 10.0, preferably from 1.0 to 8.0. 0, and more preferably 1.5 to 5.0. When the molar ratio [(b1)/(b2)] between the diamine compound (b1) and the diamine compound (b2) is within the above range, the liquid crystal display device formed can further improve the ability to remove accumulated charges. .

他のジアミン化合物(b3)
本発明の他のジアミン化合物(b3)としては、1,2-ジアミノエタン、1,3-ジアミノプロパン、1,4-ジアミノブタン、1,5-ジアミノペンタン、1,6-ジアミノヘキサン、1,7-ジアミノヘプタン、1,8-ジアミノオクタン、1,9-ジアミノノナン、1,10-ジアミノデカン、4,4’-ジアミノヘプタン、1,3-ジアミノ-2,2-ジメチルプロパン、1,6-ジアミノ-2,5-ジメチルヘキサン、1,7-ジアミノ-2,5-ジメチルヘプタン、1,7-ジアミノ-4,4-ジメチルヘプタン、1,7-ジアミノ-3-メチルヘプタン、1,9-ジアミノ-5-メチルノナン、2,11-ジアミノドデカン、1,12-ジアミノオクタデカン、1,2-ビス(3-アミノプロポキシ)エタン、4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメチルジシクロヘキシルアミン、1,3-ジアミノシクロヘキサン、1,4-ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエンジアミン、トリシクロ(6.2.1.02,7)-ウンデシレンジメチルジアミン、4,4’-メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルエタン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノベンズアニリド、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、1,5-ジアミノナフタレン、5-アミノ-1-(4’-アミノフェニル)-1,3,3-トリメチルインダン、6-アミノ-1-(4’-アミノフェニル)-1,3,3-トリメチルインダン、ヘキサヒドロ-4,7-メタノインダニレンジメチレンジアミン、3,3’-ジアミノベンゾフェノン、3,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)シクロヘキサン、1,5-ビス(4-アミノフェノキシメチレン)アダマンタン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、9,9-ビス(4-アミノフェニル)-10-ヒドロアントラセン、9,10-ビス(4-アミノフェニル)アントラセン[9,10-bis(4-aminophenyl)anthracene]、2,7-ジアミノフルオレン、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、4,4’-メチレン-ビス(2-クロロアニリン)、4,4’-(p-フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4’-(m-フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2’-ビス[4-(4-アミノ-2-トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’-ビス[(4-アミノ-2-トリフルオロメチル)フェノキシ]-オクタフルオロビフェニル、5-[4-(4-n-ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル]フェニルメチレン-1,3-ジアミノベンゼン{5-[4-(4-n-pentylcyclohexyl)cyclohexyl]phenylmethylene-1,3-diaminobenzene}、1,1-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]-4-(4-エチルフェニル)シクロヘキサン{1,1-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-4-(4-ethyl phenyl)cyclohexane}又は下記式(b-3-1)~式(b-3-29)に示す他のジアミン化合物を含んでもよいが、それに限定されない。
Other diamine compounds (b3)
Other diamine compounds (b3) of the present invention include 1,2-diaminoethane, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 1, 7-diaminoheptane, 1,8-diaminooctane, 1,9-diaminononane, 1,10-diaminodecane, 4,4′-diaminoheptane, 1,3-diamino-2,2-dimethylpropane, 1,6- Diamino-2,5-dimethylhexane, 1,7-diamino-2,5-dimethylheptane, 1,7-diamino-4,4-dimethylheptane, 1,7-diamino-3-methylheptane, 1,9- Diamino-5-methylnonane, 2,11-diaminododecane, 1,12-diaminooctadecane, 1,2-bis(3-aminopropoxy)ethane, 4,4'-diaminodicyclohexylmethane, 4,4'-diamino-3 , 3′-dimethyldicyclohexylamine, 1,3-diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, isophoronediamine, tetrahydrodicyclopentadienediamine, tricyclo(6.2.1.02,7)-undecylenedimethyldiamine, 4, 4'-methylenebis(cyclohexylamine), 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminobenzanilide, 4,4'-diamino Diphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,5-diaminonaphthalene, 5-amino-1-(4'-aminophenyl)-1,3,3-trimethylindane, 6-amino-1-(4'- aminophenyl)-1,3,3-trimethylindane, hexahydro-4,7-methanoindanylene dimethylenediamine, 3,3′-diaminobenzophenone, 3,4′-diaminobenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane, 2,2-bis(4-aminophenyl)hexa fluoropropane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)cyclohexane, 1,5-bis(4-aminophenoxymethylene)adamantane, 1, 4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy) oxy)benzene, 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 9,9-bis(4-aminophenyl)-10-hydroanthracene, 9,10-bis(4-aminophenyl)anthracene [9,10 -bis(4-aminophenyl)anthracene], 2,7-diaminofluorene, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 4,4'-methylene-bis(2-chloroaniline), 4,4'- (p-phenyleneisopropylidene)bisaniline, 4,4′-(m-phenyleneisopropylidene)bisaniline, 2,2′-bis[4-(4-amino-2-trifluoromethylphenoxy)phenyl]hexafluoropropane, 4,4′-bis[(4-amino-2-trifluoromethyl)phenoxy]-octafluorobiphenyl, 5-[4-(4-n-pentylcyclohexyl)cyclohexyl]phenylmethylene-1,3-diaminobenzene { 5-[4-(4-n-pentylcyclohexyl)cyclohexyl]phenylmethylene-1,3-diaminobenzene}, 1,1-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-4-(4-ethylphenyl)cyclohexane { 1,1-bis[4-(4-aminophenyl)phenyl]-4-(4-ethylphenyl)cyclohexane} or other diamines represented by the following formulas (b-3-1) to (b-3-29) It may include, but is not limited to, compounds.

Figure 0007164325000012
式(b-3-1)において、X
Figure 0007164325000013
を表し、且つXはステロイド含有基、トリフルオロメチル、フッ素基、炭素数2~30のアルキル基又はピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピペリジン及びピペラジン等から誘導された窒素原子環状構造を含む1価基を表す。
Figure 0007164325000012
In formula (b-3-1), X 6 is
Figure 0007164325000013
and X 7 is a steroid-containing group, trifluoromethyl, a fluorine group, an alkyl group having 2 to 30 carbon atoms, or a monovalent group containing a nitrogen atom cyclic structure derived from pyridine, pyrimidine, triazine, piperidine, piperazine, etc. represents

上記式(b-3-1)に示す他のジアミン化合物としては、好ましくは2,4-ジアミノフェニルエチルホルマート(2,4-diaminophenyl ethyl formate)、3,5-ジアミノフェニルエチルホルマート(3,5-diaminophenyl ethyl formate)、2,4-ジアミノフェニルプロピルホルマート(2,4-diaminophenyl propyl formate)、3,5-ジアミノフェニルプロピルホルマート(3,5-diaminophenyl propyl formate)、1-ドデコキシ-2,4-ジアミノベンゼン(1-dodecoxy-2,4-diamino-benzene)、1-ヘキサデコキシ-2,4-ジアミノベンゼン(1-hexadecoxy-2,4-diaminobenzene)、1-オクタデコキシ-2,4-ジアミノベンゼン(1-octadecoxy-2,4-diaminobenzene)又は下記式(b-3-1-1)~式(b-3-1-6)に示す他のジアミン化合物であってよい。

Figure 0007164325000014
Figure 0007164325000015
Other diamine compounds represented by the above formula (b-3-1) are preferably 2,4-diaminophenyl ethyl formate, 3,5-diaminophenyl ethyl formate (3 ,5-diaminophenyl ethyl formate), 2,4-diaminophenyl propyl formate, 3,5-diaminophenyl propyl formate, 1-dodecoxy- 2,4-diaminobenzene (1-dodecoxy-2,4-diamino-benzene), 1-hexadecoxy-2,4-diaminobenzene (1-hexadecoxy-2,4-diaminobenzene), 1-octadecoxoxy-2,4- It may be diaminobenzene (1-octadecoxy-2,4-diaminobenzene) or other diamine compounds represented by the following formulas (b-3-1-1) to (b-3-1-6).
Figure 0007164325000014
Figure 0007164325000015

Figure 0007164325000016
式(b-3-2)において、X
Figure 0007164325000017
を表し、X及びX10は2価の脂肪族環、2価の芳香環又は2価の複素環基を表し、且つX11は炭素数3~18のアルキル基、炭素数3~18のアルコキシ基、炭素数1~5のフルオロアルキル基、炭素数1~5のフルオロアルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。
Figure 0007164325000016
In formula (b-3-2), X 8 is
Figure 0007164325000017
, X 9 and X 10 each represent a divalent aliphatic ring, a divalent aromatic ring or a divalent heterocyclic group, and X 11 is a C 3-18 alkyl group, a C 3-18 represents an alkoxy group, a fluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group or a halogen atom;

上記式(b-3-2)に示す他のジアミン化合物は、好ましくは下記式(b-3-2-1)~式(b-3-2-13)に示すジアミン化合物であってよい。

Figure 0007164325000018
Figure 0007164325000019
式(b-3-2-10)~式(b-3-2-13)において、sは、3~12の整数を表してよい。 Other diamine compounds represented by the above formula (b-3-2) may preferably be diamine compounds represented by the following formulas (b-3-2-1) to (b-3-2-13).
Figure 0007164325000018
Figure 0007164325000019
In formulas (b-3-2-10) to (b-3-2-13), s may represent an integer of 3-12.

Figure 0007164325000020
式(b-3-3)において、X12は水素原子、炭素数1~5のアシル基、炭素数1~5のアルキル基、炭素数1~5のアルコキシ基又はハロゲンを表す。X13は1~3の整数である。X13が1より大きくなると、複数のX12は同一又は異なってもよい。
Figure 0007164325000020
In formula (b-3-3), X 12 represents a hydrogen atom, an acyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or halogen. X 13 is an integer of 1-3. When X 13 is greater than 1, multiple X 12 may be the same or different.

上記式(b-3-3)に示すジアミン化合物は、(1)X13は1:p-ジアミノベンゼン、m-ジアミノベンゼン、o-ジアミノベンゼン又は2,5-ジアミノトルエン等、(2)X13は2:4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメトキシ-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジクロロ-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジクロロ-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’,5,5’-テトラクロロ-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジクロロ-4,4’-ジアミノ-5,5’-ジメトキシビフェニル又は4,4’-ジアミノ-2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル等、(3)X13は3:1,4-ビス(4’-アミノフェニル)ベンゼン等から選ばれることが好ましく、p-ジアミノベンゼン、2,5-ジアミノトルエン、4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメトキシ-4,4’-ジアミノビフェニル又は1,4-ビス(4’-アミノフェニル)ベンゼンから選ばれることがより好ましい。 The diamine compound represented by the above formula (b-3-3) is: (1) X 13 is 1: p-diaminobenzene, m-diaminobenzene, o-diaminobenzene or 2,5-diaminotoluene, etc., (2) X 13 is 2: 4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxy-4 ,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2',5,5'-tetrachloro- 4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dichloro-4,4'-diamino-5,5'-dimethoxybiphenyl or 4,4'-diamino-2,2'-bis(trifluoromethyl)biphenyl, etc. , (3) X 13 is preferably selected from 3:1,4-bis(4′-aminophenyl)benzene and the like, p-diaminobenzene, 2,5-diaminotoluene, 4,4′-diaminobiphenyl, It is more preferably selected from 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl or 1,4-bis(4'-aminophenyl)benzene.

Figure 0007164325000021
式(b-3-4)において、X14は1~5の整数を表す。前記式(b-3-4)は、好ましくは4,4’-ジアミノジフェニルスルフィドから選ばれる。
Figure 0007164325000021
In formula (b-3-4), X 14 represents an integer of 1-5. The formula (b-3-4) is preferably selected from 4,4'-diaminodiphenyl sulfide.

Figure 0007164325000022
式(b-3-5)において、X15及びX17は同一又は異なってもよく、且つそれぞれ2価の有機基を表し、X16はピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピペリジン及びピペラジン等から誘導された窒素原子環状構造を含む2価基を表す。
Figure 0007164325000022
In formula (b-3-5), X 15 and X 17 may be the same or different and each represents a divalent organic group, X 16 is derived from pyridine, pyrimidine, triazine, piperidine, piperazine, etc. Represents a divalent group containing a nitrogen atom ring structure.

Figure 0007164325000023
式(b-3-6)において、X18、X19、X20及びX21はそれぞれ同一又は異なってもよく、且つ炭素数1~12のアルキル基を表してよい。X22は1~3の整数を表し、且つX23は1~20の整数を表す。
Figure 0007164325000023
In formula (b-3-6), X 18 , X 19 , X 20 and X 21 may be the same or different and may represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. X 22 represents an integer of 1-3 and X 23 represents an integer of 1-20.

Figure 0007164325000024
式(b-3-7)において、X24
Figure 0007164325000025
又はシクロへキシレン基を表し、X25
Figure 0007164325000026
を表し、X26はフェニレン基又はシクロへキシレン基を表し、且つX27は水素原子又はヘプチル基を表す。
Figure 0007164325000024
In formula (b-3-7), X 24 is
Figure 0007164325000025
or represents a cyclohexylene group, and X 25 is
Figure 0007164325000026
, X 26 represents a phenylene group or a cyclohexylene group, and X 27 represents a hydrogen atom or a heptyl group.

上記式(b-3-7)に示すジアミン化合物は、好ましくは下記式(b-3-7-1)及び式(b-3-7-2)に示すジアミン化合物から選ばれる。

Figure 0007164325000027
The diamine compound represented by the above formula (b-3-7) is preferably selected from diamine compounds represented by the following formulas (b-3-7-1) and (b-3-7-2).
Figure 0007164325000027

式(b-3-8)~式(b-3-29)に示す他のジアミン化合物は、下記の通りである。

Figure 0007164325000028
Figure 0007164325000029
Figure 0007164325000030
式(b-3-16)~式(b-3-19)において、X28は、炭素数1~10のアルキル基又は炭素数1~10のアルコキシ基が好ましい。式(b-3-20)~式(b-3-24)において、X29は、水素原子、炭素数1~10のアルキル基又は炭素数1~10のアルコキシ基が好ましい。 Other diamine compounds represented by formulas (b-3-8) to (b-3-29) are as follows.
Figure 0007164325000028
Figure 0007164325000029
Figure 0007164325000030
In formulas (b-3-16) to (b-3-19), X 28 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. In formulas (b-3-20) to (b-3-24), X 29 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.

ジアミン組成物(b3)としては、好ましくは1,2-ジアミノエタン、4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、5-[4-(4-n-ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル]フェニルメチレン-1,3-ジアミノベンゼン、1,1-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]-4-(4-エチルフェニル)シクロヘキサン、2,4-ジアミノフェニルエチルホルマート、p-ジアミノベンゼン、m-ジアミノベンゼン、o-ジアミノベンゼン、式(b-3-1-1)、式(b-3-1-2)、式(b-3-1-5)、式(b-3-2-1)、式(b-3-2-11)、式(b-3-7-1)、式(b-3-25)又は式(b-3-28)に示す化合物を含むが、それに限定されない。 The diamine composition (b3) is preferably 1,2-diaminoethane, 4,4'-diaminodicyclohexylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 5-[4-(4 -n-pentylcyclohexyl)cyclohexyl]phenylmethylene-1,3-diaminobenzene, 1,1-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-4-(4-ethylphenyl)cyclohexane, 2,4-diamino Phenyl ethyl formate, p-diaminobenzene, m-diaminobenzene, o-diaminobenzene, formula (b-3-1-1), formula (b-3-1-2), formula (b-3-1- 5), formula (b-3-2-1), formula (b-3-2-11), formula (b-3-7-1), formula (b-3-25) or formula (b-3 -28), including but not limited to.

前記のジアミン組成物(b3)は、1つを単独して使用し又は複数種類を混合して使用してよい。 The diamine composition (b3) may be used singly or in combination of multiple types.

ジアミン組成物(b)の使用量の合計100molに対して、他のジアミン化合物(b3)の使用量は0~80molであり、好ましくは0~73molであり、より好ましくは0~65molである。 The amount of the other diamine compound (b3) used is 0 to 80 mol, preferably 0 to 73 mol, more preferably 0 to 65 mol, per 100 mol of the total amount of the diamine composition (b) used.

ポリマー(A)の製造方法
本発明に係わるポリアミド酸ポリマーの調製は、一般的な方法であってよい。好ましくは、ポリアミド酸ポリマーの調製方法は、下記の工程を含む。テトラカルボン酸二無水物組成物(a)及びジアミン組成物(b)を含む混合物を溶剤に溶解させ、0℃~100℃の温度条件で重縮合反応を行って1時間~24時間反応して、上記の反応溶液を蒸発機で減圧蒸留を行い、ポリアミド酸ポリマーが得られる。或いは、上記の反応溶液を大量の不良溶剤に入れ、析出物を得て、減圧乾燥するように析出物に対して乾燥処理を行い、ポリアミド酸ポリマーが得られる。
Method of Making Polymer (A) The preparation of polyamic acid polymers according to the invention may be conventional methods. Preferably, the method of preparing the polyamic acid polymer comprises the following steps. A mixture containing the tetracarboxylic dianhydride composition (a) and the diamine composition (b) is dissolved in a solvent and subjected to a polycondensation reaction at a temperature of 0° C. to 100° C. for 1 hour to 24 hours. , the above reaction solution is distilled under reduced pressure using an evaporator to obtain a polyamic acid polymer. Alternatively, the above reaction solution is put into a large amount of a poor solvent to obtain a precipitate, and the precipitate is dried by drying under reduced pressure to obtain a polyamic acid polymer.

重縮合反応に用いられる溶剤は、下記の液晶配向剤における溶剤と同一又は異なってもよく、且つ反応物及び生成物を溶解させるものであれば、特に制限されない。好ましくは、溶剤は、(1)例えば、N-メチル-2-ピロリジノン(N-methyl-2-pyrrolidinone;NMP)、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、テトラメチル尿素又はヘキサメチルリン酸トリアミノ等の非プロトン性極性溶剤;(2)例えば、m-クレゾール、キシレノール、フェノール又はハロゲン化フェノール類等のフェノール系溶剤を含むが、それに限定されない。混合物の使用量100重量部に対して、重縮合反応に用いられる溶剤の使用量は好ましくは200重量部~2000重量部であり、より好ましくは300重量部~1800重量部である。 The solvent used in the polycondensation reaction may be the same as or different from the solvent in the liquid crystal aligning agent described below, and is not particularly limited as long as it dissolves the reactants and products. Preferably, the solvent is (1) for example N-methyl-2-pyrrolidinone (NMP), N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, γ-butyrolactone (2) phenolic solvents such as, but not limited to, m-cresol, xylenol, phenol or halogenated phenols. The amount of the solvent used in the polycondensation reaction is preferably 200 to 2000 parts by weight, more preferably 300 to 1800 parts by weight, per 100 parts by weight of the mixture.

特に、重縮合反応において、ポリアミド酸ポリマーを析出させない適量な不良溶剤を溶剤に併用してよい。不良溶剤は、単独で使用しても又は複数種類を混合して使用してもよく、且つ(1)例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール又はトリエチレングリコール等のアルコール類;(2)例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、又はシクロヘキサノン等のケトン類;(3)例えば、メチルアセテート、エチルアセテート、ブチルアセテート、しゅう酸ジエチル、マロン酸ジエチル又はエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;(4)例えば、ジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールノルマルプロピルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールノルマルブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル又はジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;(5)例えば、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,4-ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン又はo-ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;(6)例えば、テトラヒドロフラン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類又は上記溶剤の如何なる組み合わせを含むが、それに限定されない。ジアミン組成物(b)の使用量100重量部に対して、不良溶剤の用量は好ましくは0重量部~60重量部であり、より好ましくは0重量部~50重量部である。 In particular, in the polycondensation reaction, an appropriate amount of poor solvent that does not precipitate the polyamic acid polymer may be used in combination with the solvent. Poor solvents may be used singly or in combination, and (1) for example, methanol, ethanol, isopropanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol or alcohols such as triethylene glycol; (2) ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, or cyclohexanone; (3) such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, diethyl oxalate, diethyl malonate or esters such as ethylene glycol monoethyl ether acetate; (4) for example, diethyl ether, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol normal propyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, ethylene glycol normal butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether or Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether; (5) Halogenated hydrocarbons such as, for example, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,4-dichlorobutane, trichloroethane, chlorobenzene or o-dichlorobenzene; (6) For example, tetrahydrofuran, Including, but not limited to, hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, benzene, toluene or xylene or any combination of the above solvents. The amount of the poor solvent is preferably 0 to 60 parts by weight, more preferably 0 to 50 parts by weight, per 100 parts by weight of the diamine composition (b).

本発明に係わるポリイミドポリマーの調製は、一般的な方法であってよい。好ましくは、ポリイミドポリマーの調製方法として、テトラカルボン酸二無水物組成物(a)及びジアミン組成物(b)を含む混合物を溶液に溶解させ、重合反応を行って、ポリアミド酸ポリマーを形成する。そして、脱水剤及び触媒の存在下で、ポリアミド酸ポリマーにおけるアミド酸官能基が脱水閉環反応によってイミド官能基(即ちイミド化)になるように、更に加熱して、脱水閉環反応を行い、ポリイミドポリマーを得る。 Preparation of polyimide polymers according to the present invention may be conventional. Preferably, the polyimide polymer is prepared by dissolving a mixture containing the tetracarboxylic dianhydride composition (a) and the diamine composition (b) in a solution and conducting a polymerization reaction to form the polyamic acid polymer. Then, in the presence of a dehydrating agent and a catalyst, the amic acid functional group in the polyamic acid polymer is further heated to become an imide functional group (i.e., imidization) by a dehydration ring-closure reaction to perform a dehydration ring-closure reaction, and the polyimide polymer get

脱水閉環反応に用いる溶剤は、下記液晶配向剤における溶剤と同一であってよいので、ここで詳しく説明しない。ポリアミド酸ポリマーの使用量100重量部に対して、脱水閉環反応に用いる溶剤の使用量は好ましくは200重量部~2000重量部であり、より好ましくは300重量部~1800重量部である。 The solvent used for the dehydration ring-closure reaction may be the same as the solvent in the liquid crystal aligning agent described below, and will not be described in detail here. The amount of the solvent used in the dehydration ring closure reaction is preferably 200 to 2000 parts by weight, more preferably 300 to 1800 parts by weight, per 100 parts by weight of the polyamic acid polymer.

好適なポリアミド酸ポリマーのイミド化の程度を取得するように、脱水閉環反応の操作温度は好ましくは40℃~200℃であり、より好ましくは40℃~150℃である。脱水閉環反応の操作温度が40℃より低くなると、イミド化の反応が不完全であり、ポリアミド酸ポリマーのイミド化の程度が低下する。しかしながら、脱水閉環反応の操作温度が200℃より高くなると、得られたポリイミドポリマーの重量平均分子量がやや低い。 The operating temperature of the dehydration ring closure reaction is preferably between 40°C and 200°C, more preferably between 40°C and 150°C, so as to obtain a suitable degree of imidization of the polyamic acid polymer. When the operating temperature of the dehydration ring-closing reaction is lower than 40°C, the imidization reaction is incomplete and the degree of imidization of the polyamic acid polymer decreases. However, when the operating temperature of the dehydration ring closure reaction is higher than 200°C, the weight average molecular weight of the obtained polyimide polymer is rather low.

脱水閉環反応に用いる脱水剤は、酸無水物類化合物から選ばれてよく、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸又は無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物類化合物がある。ポリアミド酸ポリマーの1molに対して、脱水剤の使用量は0.01mol~20molである。脱水閉環反応に用いる触媒としては、(1)例えば、ピリジン、トリメチルピリジン又はジメチルピリジン等のピリジン類化合物;(2)例えば、トリエチルアミン等の第三級アミン類化合物から選ばれてよい。脱水剤の使用量1molに対して、触媒の使用量は0.5mol~10molである。 The dehydrating agent used in the dehydration ring closure reaction may be selected from acid anhydride compounds, and specific examples thereof include acid anhydride compounds such as acetic anhydride, propionic anhydride and trifluoroacetic anhydride. The dehydrating agent is used in an amount of 0.01 to 20 mol per 1 mol of the polyamic acid polymer. The catalyst used for the dehydration ring-closure reaction may be selected from (1) pyridine compounds such as pyridine, trimethylpyridine and dimethylpyridine; (2) tertiary amine compounds such as triethylamine. The amount of the catalyst used is 0.5 mol to 10 mol per 1 mol of the dehydrating agent.

本発明に係わるポリイミド系ブロック共重合体の好適な具体例としては、ポリアミド酸ブロック共重合体、ポリイミドブロック共重合体、ポリアミド酸-ポリイミドブロック共重合体、又はそれらの如何なる組み合わせがある。 Preferred specific examples of polyimide-based block copolymers according to the present invention include polyamic acid block copolymers, polyimide block copolymers, polyamic acid-polyimide block copolymers, or any combination thereof.

本発明に係わるポリイミド系ブロック共重合体の調製は、一般的な方法であってよい。好ましくは、ポリイミド系ブロック共重合体の調製方法として、上記の少なくとも1つのポリアミド酸ポリマー及び/又は上記の少なくとも1つのポリイミドポリマーを含み且つテトラカルボン酸二無水物組成物(a)及びジアミン組成物(b)を更に含んでもよい開始物を溶剤に溶解させ、重縮合反応を行う。 Preparation of the polyimide-based block copolymer according to the present invention may be a conventional method. Preferably, as a method for preparing a polyimide-based block copolymer, a tetracarboxylic dianhydride composition (a) and a diamine composition containing at least one polyamic acid polymer and/or at least one polyimide polymer described above The initiator, which may further contain (b), is dissolved in a solvent to carry out a polycondensation reaction.

前記開始物におけるテトラカルボン酸二無水物組成物(a)及びジアミン組成物(b)は、上記調製ポリアミド酸ポリマーに用いるテトラカルボン酸二無水物組成物(a)及びジアミン組成物(b)と同一であり、且つ重縮合反応に用いられる溶剤は、下記液晶配向剤における溶剤と同一であってよいので、ここで詳しく説明しない。 The tetracarboxylic dianhydride composition (a) and the diamine composition (b) in the initiator are the tetracarboxylic dianhydride composition (a) and the diamine composition (b) used in the prepared polyamic acid polymer. The same solvent used in the polycondensation reaction may be the same as the solvent in the liquid crystal aligning agent described below, so detailed description is omitted here.

開始物の使用量100重量部に対して、重縮合反応に用いられる溶剤の使用量は好ましくは200重量部~2000重量部であり、より好ましくは300重量部~1800重量部である。重縮合反応の操作温度は好ましくは0℃~200℃であり、より好ましくは0℃~100℃である。 The amount of the solvent used in the polycondensation reaction is preferably 200 to 2000 parts by weight, more preferably 300 to 1800 parts by weight, per 100 parts by weight of the initiator. The operating temperature of the polycondensation reaction is preferably 0°C to 200°C, more preferably 0°C to 100°C.

好ましくは、開始物は、(1)末端基が異なり且つ構造が異なる2種類のポリアミド酸ポリマー;(2)末端基が異なり且つ構造が異なる2種類のポリイミドポリマー;(3)末端基が異なり且つ構造が異なるポリアミド酸ポリマー及びポリイミドポリマー;(4)ポリアミド酸ポリマー、テトラカルボン酸二無水物化合物及びジアミン化合物、ただし、テトラカルボン酸二無水物化合物及びジアミン化合物の少なくとも1つがポリアミド酸ポリマーを形成するためのテトラカルボン酸二無水物組成物(a)及びジアミン組成物(b)の構造と異なる;(5)ポリイミドポリマー、テトラカルボン酸二無水物化合物及びジアミン化合物、ただし、前記テトラカルボン酸二無水物化合物及びジアミン化合物の少なくとも1つがポリイミドポリマーを形成するためのテトラカルボン酸二無水物組成物(a)及びジアミン組成物(b)の構造と異なる;(6)ポリアミド酸ポリマー、ポリイミドポリマー、テトラカルボン酸二無水物化合物及びジアミン化合物、ただし、テトラカルボン酸二無水物化合物及びジアミンの少なくとも1つがポリアミド酸ポリマー又はポリイミドポリマーを形成するためのテトラカルボン酸二無水物組成物(a)及びジアミン組成物(b)の構造と異なる;(7)構造が異なる2種類のポリアミド酸ポリマー、テトラカルボン酸二無水物化合物及びジアミン化合物;(8)構造が異なる2種類のポリイミドポリマー、テトラカルボン酸二無水物化合物及びジアミン化合物;(9)末端基が無水物基であり且つ構造が異なる2種類のポリアミド酸ポリマー及びジアミン化合物;(10)末端基がアミノであり且つ構造が異なる2種類のポリアミド酸ポリマー及びテトラカルボン酸二無水物化合物;(11)末端基が無水物基であり且つ構造が異なる2種類のポリイミドポリマー及びジアミン化合物;(12)末端基がアミノであり且つ構造が異なる2種類のポリイミドポリマー及びテトラカルボン酸二無水物化合物を含むが、それに限定されない。 Preferably, the initiators are: (1) two polyamic acid polymers with different end groups and different structures; (2) two polyimide polymers with different end groups and different structures; (3) different end groups and (4) polyamic acid polymer, tetracarboxylic dianhydride compound and diamine compound, provided that at least one of the tetracarboxylic dianhydride compound and the diamine compound forms the polyamic acid polymer; (5) a polyimide polymer, a tetracarboxylic dianhydride compound and a diamine compound, provided that the tetracarboxylic dianhydride (6) polyamic acid polymer, polyimide polymer, tetra A carboxylic dianhydride compound and a diamine compound, provided that at least one of the tetracarboxylic dianhydride compound and the diamine is a tetracarboxylic dianhydride composition (a) and a diamine composition for forming a polyamic acid polymer or a polyimide polymer (7) two types of polyamic acid polymers, tetracarboxylic dianhydride compounds and diamine compounds with different structures; (8) two types of polyimide polymers with different structures, tetracarboxylic dianhydrides (9) Two types of polyamic acid polymers and diamine compounds having anhydride terminal groups and different structures; (10) Two types of polyamic acid polymers having amino terminal groups and different structures and a tetracarboxylic dianhydride compound; (11) two types of polyimide polymers and diamine compounds whose terminal groups are anhydride groups and have different structures; (12) two types of polyimides whose terminal groups are amino and have different structures Including, but not limited to, polymers and tetracarboxylic dianhydride compounds.

本発明の効果に影響を与えない範囲で、好ましくは、前記ポリアミド酸ポリマー、前記ポリイミドポリマー及び前記ポリイミド系ブロック共重合体は、分子量が調節された末端修飾型ポリマーであってよい。末端修飾型のポリマーを使用することで、液晶配向剤の塗布性を改善することができる。前記末端修飾型ポリマーの調製方法として、ポリアミド酸ポリマー重縮合反応を行うと共に、単官能性化合物を加えることで製造してよい。単官能性化合物は、(1)例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、n-デシルコハク酸無水物、n-ドデシルコハク酸無水物、n-テトラデシルコハク酸無水物又はn-ヘキサデシルコハク酸無水物等の一元酸無水物;(2)例えば、アニリン、シクロヘキシルアミン、n-ブチルアミン、n-ペンチルアミン、n-ヘキシルアミン、n-ヘプチルアミン、n-オクチルアミン、n-ノニルアミン、n-デシルアミン、n-ウンデシルアミン、n-ドデシルアミン、n-トリデシルアミン、n-テトラデシルアミン、n-ペンタデシルアミン、n-ヘキサデシルアミン、n-ヘプタデシルアミン、n-オクタデシルアミン又はn-エイコシルアミン等のモノアミン化合物;(3)例えば、イソシアン酸フェニル又はナフチルイソシアナート等のモノイソシアネート化合物を含むが、それに限定されない。 Preferably, the polyamic acid polymer, the polyimide polymer, and the polyimide-based block copolymer are end-modified polymers whose molecular weights are adjusted, as long as they do not affect the effects of the present invention. By using a terminal-modified polymer, the applicability of the liquid crystal aligning agent can be improved. As a method for preparing the terminal-modified polymer, a polyamic acid polymer polycondensation reaction may be performed and a monofunctional compound may be added. Monofunctional compounds include (1) for example maleic anhydride, phthalic anhydride, itaconic anhydride, n-decylsuccinic anhydride, n-dodecylsuccinic anhydride, n-tetradecylsuccinic anhydride or n-hexa (2) for example, aniline, cyclohexylamine, n-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine, n-tridecylamine, n-tetradecylamine, n-pentadecylamine, n-hexadecylamine, n-heptadecylamine, n-octadecylamine or monoamine compounds such as n-eicosylamine; (3) monoisocyanate compounds such as phenyl isocyanate or naphthyl isocyanate, including but not limited to.

本発明のポリマー(A)のゲル浸潤クロマトグラフィーにより測定されたポリスチロール換算の重量平均分子量は10,000~90,000であり、好ましくは12,000~75,000であり、より好ましくは15,000~60,000である。 The polystyrene equivalent weight average molecular weight measured by gel infiltration chromatography of the polymer (A) of the present invention is 10,000 to 90,000, preferably 12,000 to 75,000, more preferably 15 ,000 to 60,000.

本発明のポリマー(A)は、少なくとも、下記のように製造されたポリアミド酸ポリマー、ポリイミドポリマー又はポリイミド系ブロック共重合体の一つを含む。前記方式の具体例としては、重縮合反応の時にテトラカルボン酸二無水物組成物をロットして添加すること、重縮合反応の時にジアミン組成物をロットして添加すること、重縮合反応の時に溶剤をロットして添加すること又は重縮合反応の時に変温して制御すること等を含む。 Polymer (A) of the present invention comprises at least one of polyamic acid polymers, polyimide polymers or polyimide-based block copolymers prepared as described below. Specific examples of the method include adding a lot of the tetracarboxylic dianhydride composition during the polycondensation reaction, adding a lot of the diamine composition during the polycondensation reaction, and adding a lot of the diamine composition during the polycondensation reaction. Including lot addition of solvent or control by varying the temperature during the polycondensation reaction.

ポリマー(A)が上記のように製造されたポリアミド酸ポリマー、ポリイミドポリマー又はポリイミド系ブロック共重合体を含まない場合、製造された液晶配向膜の抵抗光安定性は不良である。 When the polymer (A) does not contain the polyamic acid polymer, polyimide polymer or polyimide-based block copolymer prepared as described above, the resistance photostability of the prepared liquid crystal alignment film is poor.

溶剤(B)
本発明の液晶配向剤に用いる溶剤は、ポリマー(A)及び他の如何なる成分を反応せずに溶解可能なものであれば、特に制限されなく、好ましくは前記合成ポリアミド酸に用いる溶剤と同様であり、その同時に、前記ポリアミド酸を合成する場合に使用する不良溶剤と併用してもよい。
Solvent (B)
The solvent used for the liquid crystal aligning agent of the present invention is not particularly limited as long as it can dissolve the polymer (A) and any other components without reacting, and is preferably the same as the solvent used for the synthetic polyamic acid. At the same time, it may be used in combination with the poor solvent used when synthesizing the polyamic acid.

溶剤(B)の具体例としては、N-メチル-2-ピロリジノン(N-methyl-2-pyrrolidone;NMP)、γ-ブチロラクトン、γ-ブチロラクタム、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールノルマルプロピルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールノルマルブチルエーテル(ethylene glycol n-butyl ether)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート又はN,N-ジメチルホルムアミド又はN,N-ジメチルアセトアミド(N,N-dimethyl acetamide)等を含むが、それに限定されない。溶剤(B)は、単独して使用しても、複数種類を組み合わせて使用してもよい。 Specific examples of the solvent (B) include N-methyl-2-pyrrolidinone (NMP), γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, ethylene Glycol monomethyl ether, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol normal propyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, ethylene glycol normal butyl ether (ethylene glycol n- butyl ether), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate or N,N-dimethylformamide or N , N-dimethylacetamide, and the like. A solvent (B) may be used individually or may be used in combination of multiple types.

ポリマー(A)の使用量100重量部に対して、溶剤(B)の使用量は800~4000重量部であり、好ましくは900~3500重量部であり、且つより好ましくは1000~3000重量部である。 The amount of the solvent (B) used is 800 to 4000 parts by weight, preferably 900 to 3500 parts by weight, and more preferably 1000 to 3000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymer (A). be.

添加剤(C)
本発明の効果に影響を与えない範囲で、液晶配向剤には、エポキシ化合物又は官能性基含有のシラン化合物等の添加剤(C)を選択的に添加してもよい。添加剤(C)は、前記液晶配向膜と基板の表面との接着力を向上させるためのものである。添加剤(C)は、単独で使用しても又は複数種類を混合して使用してもよい。
Additive (C)
An additive (C) such as an epoxy compound or a functional group-containing silane compound may be selectively added to the liquid crystal aligning agent as long as it does not affect the effects of the present invention. The additive (C) is for improving the adhesion between the liquid crystal alignment film and the surface of the substrate. The additive (C) may be used alone or in combination of multiple types.

前記のエポキシ化合物は、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、2,2-ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,3,5,6-テトラグリシジル-2,4-ヘキサンジオール、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、N,N-グリシジル-p-エポキシプロポキシアニリン、3-(N-アリル-N-グリシジル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(N,N-ジグリシジル)アミノプロピルトリメトキシシラン等を含んでよいが、それに限定されない。 The above epoxy compounds include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol. diglycidyl ether, glycerol diglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, 1,3,5,6-tetraglycidyl-2,4-hexanediol, N,N,N',N'-tetra glycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, N,N,N',N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, N,N-glycidyl -p-epoxypropoxyaniline, 3-(N-allyl-N-glycidyl)aminopropyltrimethoxysilane, 3-(N,N-diglycidyl)aminopropyltrimethoxysilane, and the like.

ポリマー(A)の使用量100重量部に対して、エポキシ化合物の使用量は、一般的に40重量部以下であり、好ましくは0.1重量部~30重量部である。 The amount of the epoxy compound used is generally 40 parts by weight or less, preferably 0.1 to 30 parts by weight, per 100 parts by weight of the polymer (A).

上記官能性基含有のシラン化合物は、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、2-アミノプロピルトリメトキシシラン、2-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリメトキシシリル(3-ureidopropyltrimethoxysilane)、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N-エトキシカルボニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-エトキシカルボニル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、N-トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10-トリメトキシシリル-1,4,7-トリアザデカン、10-トリエトキシシリル-1,4,7-トリアザデカン、9-トリメトキシシリル-3,6-ジアザノニルアセテート、9-トリエトキシシリル-3,6-ジアザノニルアセテート、N-ベンジル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ベンジル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-ビス(オキシエチレン)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ビス(オキシエチレン)-3-アミノプロピルトリエトキシシランを含んでよいが、それに限定されない。 The functional group-containing silane compounds include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N-(2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxy Carbonyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, N-trimethoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1 ,4,7-triazadecane, 10-triethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, 9-triethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate , N-benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N -bis(oxyethylene)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-bis(oxyethylene)-3-aminopropyltriethoxysilane, but are not limited to.

ポリマー(A)の使用量100重量部に対して、シラン化合物の使用量は一般的に10重量部以下であり、好ましくは0.5重量部~10重量部である。 The amount of the silane compound used is generally 10 parts by weight or less, preferably 0.5 to 10 parts by weight, per 100 parts by weight of the polymer (A).

液晶配向剤の調製方法
本発明の液晶配向剤の調製方法としては、一般的な混合方法を採用すれば、特に制限されない。例えば、まず、テトラカルボン酸二無水物組成物(a)及びジアミン組成物(b)を均一に混合して、反応してポリマー(A)を形成する。そして、ポリマー(A)に対して、温度0℃~200℃の条件で溶剤(B)を加え、更に添加剤(C)を選択的に加えてもよく、撹拌装置で溶解まで持続的に撹拌すればよい。好ましくは、20℃~60℃の温度で、ポリマー(A)を溶剤(B)に加える。
Method for Preparing Liquid Crystal Aligning Agent The method for preparing the liquid crystal aligning agent of the present invention is not particularly limited as long as a general mixing method is employed. For example, first, the tetracarboxylic dianhydride composition (a) and the diamine composition (b) are uniformly mixed and reacted to form the polymer (A). Then, the solvent (B) is added to the polymer (A) at a temperature of 0° C. to 200° C., and the additive (C) may be optionally added, and continuously stirred with a stirring device until dissolved. do it. Polymer (A) is added to solvent (B), preferably at a temperature between 20°C and 60°C.

液晶配向膜の形成方法
本発明は、また、前記液晶配向剤により製造された液晶配向膜を提供する。
Method for Forming Liquid Crystal Alignment Film The present invention also provides a liquid crystal alignment film produced from the liquid crystal alignment agent.

好ましくは、液晶配向膜の形成方法としては、上記の液晶配向剤をロールコート法、スピンコート法、プリント法、インキジェット法(ink-jet)等の方法によって、画素電極が設けられた基材の表面に塗布し、プレコーティング層を形成して、次にプレコーティング層を、プリベーク処理(pre-bake treatment)、ポストベーク処理(post-bake treatment)及び配向処理(alignment treatment)によって製造する。上記のように形成された膜の膜厚は、好ましくは0.001μm~1μmであり、より好ましくは0.005μm~0.5μmである。 Preferably, as a method for forming a liquid crystal alignment film, the liquid crystal alignment agent is applied to a substrate provided with pixel electrodes by a method such as a roll coating method, a spin coating method, a printing method, an ink-jet method, or the like. to form a pre-coating layer, and then the pre-coating layer is manufactured by pre-bake treatment, post-bake treatment and alignment treatment. The film thickness of the film formed as described above is preferably 0.001 μm to 1 μm, more preferably 0.005 μm to 0.5 μm.

本発明のここで言う基材は、少なくとも1つの薄膜トランジスタの基材を含む。、上記薄膜トランジスタ基材は、第1の基板(図1に示す基板110と同一の材料を有してもよい)、複数の薄膜トランジスタセル及び絶縁層を含む。薄膜トランジスタセルは、第1の基板に設けられ、且つそれぞれゲート絶縁層、能動層、ソース及びドレインを含む。且つ能動層の材料は、酸化インジウムガリウム亜鉛(Indium Gallium Zinc Oxide;IGZO)である。また、絶縁層は、前記薄膜トランジスタセルに設けられ、且つそれぞれ前記薄膜トランジスタセルのドレインを露出する複数の接触孔を有する。画素電極は、絶縁層に設けられ、且つドレインと電気的に接続するように上記接触孔へ延伸する。配向膜は、画素電極を被覆する。 The substrate referred to herein of the present invention includes at least one thin film transistor substrate. , the thin film transistor substrate includes a first substrate (which may have the same material as the substrate 110 shown in FIG. 1), a plurality of thin film transistor cells and an insulating layer. A thin film transistor cell is provided on the first substrate and includes a gate insulating layer, an active layer, a source and a drain, respectively. And the material of the active layer is Indium Gallium Zinc Oxide (IGZO). Also, the insulating layer has a plurality of contact holes provided in the thin film transistor cells and exposing the drains of the thin film transistor cells respectively. A pixel electrode is provided on the insulating layer and extends to the contact hole so as to be electrically connected to the drain. The alignment film covers the pixel electrodes.

前記プリベーク処理は、プレコーティング層における有機溶剤を揮発させるためのものである。好ましくは、プリベーク処理の操作温度は、30℃~120℃の範囲にあり、より好ましくは40℃~110℃であり、更に好ましくは50℃~100℃である。 The pre-baking process is for volatilizing the organic solvent in the pre-coating layer. Preferably, the operating temperature of the pre-baking treatment is in the range of 30°C to 120°C, more preferably 40°C to 110°C, even more preferably 50°C to 100°C.

上記の配向処理は、特に制限されず、ナイロン、レーヨン、綿等の繊維により造れた布をロールに巻き付いて、一定の方向で摩擦して配向してよい。上記配向処理については、当業者に周知されるので、詳しく説明しない。 The orientation treatment described above is not particularly limited, and may be oriented by winding a cloth made of fibers such as nylon, rayon, cotton, etc. around a roll and rubbing it in a given direction. The alignment treatment is well known to those skilled in the art, and will not be described in detail.

ポストベーク処理工程は、プレコーティング層におけるポリマーに対して更に脱水閉環(イミド化)反応を行うためのものである。好ましくは、ポストベーク処理の操作温度は、150℃~300℃の範囲にあり、又好ましくは180℃~280℃にあり、より好ましくは200℃~250℃である。 The post-baking process is for further dehydration ring closure (imidization) reaction to the polymer in the pre-coating layer. Preferably, the post-baking operating temperature is in the range of 150°C to 300°C, preferably 180°C to 280°C, more preferably 200°C to 250°C.

薄膜トランジスタセルの能動層の材料に酸化インジウムガリウム亜鉛(IGZO)を含まないと、製造された液晶表示素子の蓄積電荷除去性が不良である。 If the material of the active layer of the thin film transistor cell does not contain indium gallium zinc oxide (IGZO), the liquid crystal display device produced has poor accumulated charge removal properties.

一実施例において、液晶配向膜を形成する前に、本発明の液晶配向膜の製造方法は、図1に示す検査セル100によって液晶配向剤により形成された液晶配向膜に対して抵抗光安定性の測量を行うことを更に含む。具体な検査方法については、前記図1及び後文の抵抗光安定性の評価方法に記述の通りである。 In one embodiment, prior to forming the liquid crystal alignment film, the manufacturing method of the liquid crystal alignment film of the present invention is applied to the liquid crystal alignment film formed by the liquid crystal alignment agent by the inspection cell 100 shown in FIG. making a survey of A specific inspection method is as described in FIG.

液晶表示素子の製造方法
本発明は、また、前記の液晶配向膜を含む液晶表示素子を提供する。
Method for Manufacturing Liquid Crystal Display Device The present invention also provides a liquid crystal display device including the liquid crystal alignment film.

液晶表示素子の製作方法については、当業者に周知されるので、以下、簡単に説明する。 Since the method of manufacturing the liquid crystal display element is well known to those skilled in the art, it will be briefly described below.

図2を参照されたい。本発明液晶表示素子200の好適な実施例は、第1のセル210、第2のセル220及び液晶セル230を含む。第2のセル220と第1のセル210とが間隔をあけて対向し、且つ液晶セル230が第1のセル210と第2のセル220のとの間に設けられる。 Please refer to FIG. A preferred embodiment of the liquid crystal display element 200 of the present invention includes a first cell 210, a second cell 220 and a liquid crystal cell 230. FIG. A second cell 220 and a first cell 210 face each other with a gap therebetween, and a liquid crystal cell 230 is provided between the first cell 210 and the second cell 220 .

第1のセル210は、薄膜トランジスタの基材212、画素電極214及び第1の液晶配向膜216を含む。画素電極214がくし歯状にパターニングされるように薄膜トランジスタの基材212の表面に形成され、且つ第1の液晶配向膜216が画素電極214の表面に形成される。薄膜トランジスタの基材212は、第1の基板、複数の薄膜トランジスタセル及び絶縁層を含む。 The first cell 210 includes a thin film transistor substrate 212 , a pixel electrode 214 and a first liquid crystal alignment layer 216 . A pixel electrode 214 is formed on the surface of the substrate 212 of the thin film transistor so as to be patterned in a comb shape, and a first liquid crystal alignment film 216 is formed on the surface of the pixel electrode 214 . The thin film transistor substrate 212 includes a first substrate, a plurality of thin film transistor cells and an insulating layer.

第2のセル220は、第2の基板222及び第2の液晶配向膜226を含む。第2の液晶配向膜226が第2の基板222の表面に設けられる。 A second cell 220 includes a second substrate 222 and a second liquid crystal alignment layer 226 . A second liquid crystal alignment film 226 is provided on the surface of the second substrate 222 .

上記の第1の基板及び第2の基板222は、透明材料等から選ばれる。透明材料は、液晶表示装置に用いられる無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、硬質ガラス(パイレックス(登録商標)ガラス(Pyrex glass))、石英ガラス、ポリエチレンテレフタラート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート等を含んでもよいが、それに限定されない。画素電極114の材質としては、酸化スズ(SnO)、酸化インジウム-酸化スズ(In-SnO)等の透明電極、又はクロム等の金属電極から選ばれる。 The first substrate and the second substrate 222 are selected from transparent materials or the like. Transparent materials include alkali-free glass, soda lime glass, hard glass (Pyrex glass), quartz glass, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether sulfone, and polycarbonate used in liquid crystal display devices. etc., but is not limited thereto. The material of the pixel electrode 114 is selected from transparent electrodes such as tin oxide (SnO 2 ) and indium oxide-tin oxide (In 2 O 3 --SnO 2 ), or metal electrodes such as chromium.

第1の液晶配向膜216及び第2の液晶配向膜226は、それぞれ上記の液晶配向膜であり、液晶セル230にプレチルト角を形成させるためのものであり、且つ液晶セル230が画素電極214による平行な電界により駆動される。 The first liquid crystal alignment film 216 and the second liquid crystal alignment film 226 are the liquid crystal alignment films described above, respectively, and are for forming a pretilt angle in the liquid crystal cell 230, and the liquid crystal cell 230 is formed by the pixel electrode 214. Driven by a parallel electric field.

液晶セル230の使用する液晶は、単独して又は複数種類を混合して使用してもよい。液晶は、ジアミノベンゼン類液晶、ピリダジン(pyridazine)類液晶、シッフ塩基(shiff base)類液晶、アゾキシ基(azoxy)類液晶、フェニルシクロヘキサン類液晶、ビフェニル(biphenyl)類液晶、フェニルシクロヘキサン(phenylcyclohexane)類液晶、エステル(ester)類液晶、ターフェニル(terphenyl)、ビフェニルシクロヘキサン(biphenylcyclohexane)類液晶、ピリミジン(pyrimidine)類液晶、ジオキサン(dioxane)類液晶、ビシクロオクタン(bicyclooctane)類液晶、キュバン(cubane)類液晶等を含むが、それに限定されなく、且つ必要に応じて、例えば、コレステリルクロライド(cholesteryl chloride)、コレステリルノナノアート(cholesteryl nonanoate)、コレステリルカーボネート(cholesteryl carbonate)等のコレステロール系液晶、又は商品名「C-15」、「CB-15」(メルク株式会社(Merck Co. LTD.)製のキラル(chiral)剤等、或いはp-デシルオキシベンジリデン-p‐アミノ-2-メチルブチルシンナマート等の強誘電性(ferroelectric)類液晶を更に添加してもよい。 The liquid crystals used in the liquid crystal cell 230 may be used singly or in combination. Liquid crystals include diaminobenzene liquid crystals, pyridazine liquid crystals, shiff base liquid crystals, azoxy liquid crystals, phenylcyclohexane liquid crystals, biphenyl liquid crystals, and phenylcyclohexane liquid crystals. liquid crystal, ester liquid crystal, terphenyl, biphenylcyclohexane liquid crystal, pyrimidine liquid crystal, dioxane liquid crystal, bicyclooctane liquid crystal, cubane Liquid crystals include, but are not limited to, and if necessary, cholesterol-based liquid crystals such as cholesteryl chloride, cholesteryl nonanoate, cholesteryl carbonate, etc., or the trade name " C-15”, “CB-15” (a chiral agent manufactured by Merck Co. Ltd.), or strong agents such as p-decyloxybenzylidene-p-amino-2-methylbutyl cinnamate. A ferroelectric liquid crystal may also be added.

本発明の液晶配向剤により製造された液晶表示素子は、例えば、TN、STN、TFT、VA、IPS等の液晶表示素子のような様々なネマチック液晶に好適に用いられる。また、選択された液晶によって、強誘電性又は反強誘電性等の異なる液晶表示素子に使用されてもよい。上記液晶表示素子において、特にIPS型の液晶表示素子に好適に用いられる。 A liquid crystal display device manufactured using the liquid crystal aligning agent of the present invention is suitably used for various nematic liquid crystals such as liquid crystal display devices such as TN, STN, TFT, VA, and IPS. Also, depending on the liquid crystal selected, it may be used in different liquid crystal display elements such as ferroelectric or antiferroelectric. In the above liquid crystal display device, it is particularly suitable for use in an IPS type liquid crystal display device.

下記実例によって本発明を詳しく説明するが、本発明がそれらの実例に開示する内容に限定されないことを意図しない。 The following examples illustrate the invention in detail, but are not intended to limit the invention to what is disclosed in those examples.

下記の図面の詳細な説明は、本発明の上記又はその他の目的、特徴、利点及び実施例をより分りやすくするためのものである。 The following detailed description of the drawings is intended to make these and other objects, features, advantages and embodiments of the present invention more comprehensible.

本発明に係わる一実施例に記載の検査セルを示す模式図である。1 is a schematic diagram showing an inspection cell according to one embodiment of the present invention; FIG. 本発明に係わる一実施例に記載の液晶表示素子を示す構造模式図である。1 is a structural schematic diagram showing a liquid crystal display element according to one embodiment of the present invention; FIG.

ポリマー(A)の合成例
以下、ポリマー(A)の合成例A-1-1~A-1-12、合成例A-2-1~A-2-6、比較合成例A’-1-1~A’-1-4及び比較合成例A’-2-1~A’-2-2を説明する。上記合成例と比較合成例との各成分の使用比は表1及び表2に示す。
Synthesis Examples of Polymer (A) Hereinafter, Synthesis Examples A-1-1 to A-1-12 of Polymer (A), Synthesis Examples A-2-1 to A-2-6, Comparative Synthesis Example A'-1- 1 to A'-1-4 and Comparative Synthesis Examples A'-2-1 to A'-2-2. Tables 1 and 2 show the usage ratio of each component in the above Synthesis Example and Comparative Synthesis Example.

合成例 A-1-1
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、1.73g(0.0075mol)ビス(4-アミノフェノキシ)メタン(b1-1と略称)、2.16g(0.02mol)p-ジアミノベンゼン(b3-1と略称)、4.96g(0.025mol)4,4’-ジアミノジフェニルメタン(b3-2と略称)及び80gのN-メチル-2-ピロリジノン(NMPと略称)を加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、9.82g(0.045mol)のピロメリト酸二無水物(a-1と略称)及び20gのNMPを加えて、室温で2時間反応した後で、1.08g(0.005mol)のa-1を20分間ごとに、等量で3回分けて加えた。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-1-1)を得た。
Synthesis example A-1-1
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 1.73 g (0.0075 mol) bis(4-aminophenoxy)methane (abbreviated as b1-1), 2.16 g (0.02 mol) p-diaminobenzene (b3-1 and abbreviation), 4.96 g (0.025 mol) 4,4′-diaminodiphenylmethane (abbreviated as b3-2) and 80 g of N-methyl-2-pyrrolidinone (abbreviated as NMP) were added and stirred at room temperature until dissolved. . Then, after adding 9.82 g (0.045 mol) of pyromellitic dianhydride (abbreviated as a-1) and 20 g of NMP and reacting for 2 hours at room temperature, 1.08 g (0.005 mol) of a -1 was added in 3 equal portions every 20 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. After that, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-1-1).

合成例A-1-2
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、3.23g(0.0125mol)1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)プロパン(b1-2と略称)、6.70g(0.025mol)式(b-2-1)に示すジアミン化合物(b2-1と略称)、2.50g(0.0125mol)4,4’-ジアミノジフェニルエーテル(b3-3と略称)及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、8.82g(0.045mol)の1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(a-2と略称)及び20gのNMPを加えて、室温で2時間反応した後で、0.99g(0.005mol)のa-2を20分間ごとに、等量で2回分けて加えた。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-1-2)を得た。
Synthesis Example A-1-2
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 3.23 g (0.0125 mol) 1,3-bis(4-aminophenoxy)propane (abbreviated as b1-2), 6.70 g (0.025 mol) formula (b-2) -1) Diamine compound (abbreviated as b2-1), 2.50 g (0.0125 mol) 4,4'-diaminodiphenyl ether (abbreviated as b3-3) and 80 g of NMP were added and stirred at room temperature until dissolved. did. Then, after adding 8.82 g (0.045 mol) of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (abbreviated as a-2) and 20 g of NMP and reacting for 2 hours at room temperature, 0.99 g (0.005 mol) of a-2 was added in two equal portions every 20 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-1-2).

合成例A-1-3
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、3.58g(0.0125mol)1,5-ビス(4-アミノフェノキシ)ペンタン(b1-3と略称)、5.95g(0.03mol)のb3-2、0.50g(0.0025mol)のb3-3及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、11.21g(0.05mol)の2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物(a-3と略称)及び20gのNMPを加えて、室温で2時間反応した後で、0.99g(0.005mol)のb3-2を20分間ごとに、等量で3回分けて加えた。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-1-3)を得た。
Synthesis Example A-1-3
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 3.58 g (0.0125 mol) 1,5-bis(4-aminophenoxy)pentane (abbreviated as b1-3), 5.95 g (0.03 mol) b3-2, 0.50 g (0.0025 mol) of b3-3 and 80 g of NMP were added and stirred at room temperature until dissolved. Then, 11.21 g (0.05 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride (abbreviated as a-3) and 20 g of NMP were added and reacted at room temperature for 2 hours. 99 g (0.005 mol) of b3-2 was added in 3 equal portions every 20 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-1-3).

合成例A-1-4
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、3.14g(0.01mol)の1,7-ビス(3-アミノフェノキシ)ヘプタン(b1-4と略称)、8.40g(0.025mol)式(b-2-4)に示すジアミン化合物(b2-2と略称)、1.08g(0.010mol)のb3-1及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、10.91g(0.05mol)のa-1及び20gのNMPを加えて、室温で2時間反応した後で、0.54g(0.005mol)のb3-1を20分間ごとに、等量で3回分けて加えた。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-1-4)を得た。
Synthesis Example A-1-4
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 3.14 g (0.01 mol) of 1,7-bis(3-aminophenoxy)heptane (abbreviated as b1-4), 8.40 g (0.025 mol) of formula (b- The diamine compound (abbreviated as b2-2) shown in 2-4), 1.08 g (0.010 mol) of b3-1 and 80 g of NMP were added and stirred at room temperature until dissolved. Then, add 10.91 g (0.05 mol) of a-1 and 20 g of NMP, react for 2 hours at room temperature, then add 0.54 g (0.005 mol) of b3-1 every 20 minutes, etc. The amount was added in three portions. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-1-4).

合成例A-1-5
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、4.60g(0.02mol)ビス(2-アミノフェノキシ)メタン(b1-5と略称)、5.94g(0.03mol)のb3-2及び60gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、10.30g(0.0525mol)のa-2及び20gのNMPを加えて、室温で1時間反応した後で、20gのNMPを加えて、室温で1時間反応した。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-1-5)を得た。
Synthesis Example A-1-5
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 4.60 g (0.02 mol) bis(2-aminophenoxy)methane (abbreviated as b1-5), 5.94 g (0.03 mol) b3-2 and 60 g NMP Add and stir at room temperature until dissolution. Then, 10.30 g (0.0525 mol) of a-2 and 20 g of NMP were added and reacted at room temperature for 1 hour, then 20 g of NMP was added and reacted at room temperature for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-1-5).

合成例A-1-6
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、6.45g(0.025mol)1,3-ビス(2-アミノフェノキシ)プロパン(b1-6と略称)、3.24g(0.010mol)式(b-2-14)に示すジアミン化合物(b2-3と略称)、4.92g(0.015mol)式(b-2-19)に示すジアミン化合物(b2-4と略称)及び60gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、11.21g(0.05mol)のa-3及び20gのNMPを加えて、室温で1時間反応した後で、20gのNMPを加えて、室温で1時間反応した。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-1-6)を得た。
Synthesis Example A-1-6
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 6.45 g (0.025 mol) 1,3-bis(2-aminophenoxy)propane (abbreviated as b1-6), 3.24 g (0.010 mol) formula (b-2) -14), 4.92 g (0.015 mol) of the diamine compound (abbreviated as b2-3) shown in formula (b-2-19) (abbreviated as b2-4) and 60 g of NMP were added, Stir at room temperature until dissolved. Then, 11.21 g (0.05 mol) of a-3 and 20 g of NMP were added and reacted at room temperature for 1 hour, then 20 g of NMP was added and reacted at room temperature for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-1-6).

合成例A-1-7
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、2.58g(0.01mol)のb1-2、4.29g(0.015mol)のb1-3、5.01g(0.025mol)のb3-3及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、10.91g(0.05mol)のa-1及び20gのNMPを加えて、60℃で1時間反応した後で、氷浴によって40℃まで降温して30分間反応し、また氷浴で室温まで降温して30分間反応した。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-1-7)を得た。
Synthesis Example A-1-7
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 2.58 g (0.01 mol) of b1-2, 4.29 g (0.015 mol) of b1-3, 5.01 g (0.025 mol) of b3-3 and 80 g of NMP was added and stirred at room temperature until dissolved. Then, 10.91 g (0.05 mol) of a-1 and 20 g of NMP were added and reacted at 60 ° C. for 1 hour, then cooled to 40 ° C. with an ice bath and reacted for 30 minutes. The mixture was cooled to room temperature and reacted for 30 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the obtained polymer was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-1-7).

合成例A-1-8
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、9.43g(0.03mol)のb1-4、1.76g(0.005mol)式(b-2-23)に示すジアミン化合物(b2-5と略称)、1.62g(0.015mol)のb3-1及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、9.81g(0.05mol)のa1-2及び20gのNMPを加えて、60℃で1時間反応した後で、氷浴によって40℃まで降温して30分間反応し、また氷浴で室温まで降温して30分間反応した。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-1-8)を得た。
Synthesis Example A-1-8
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 9.43 g (0.03 mol) of b1-4, 1.76 g (0.005 mol) of the diamine compound (abbreviated as b2-5) represented by formula (b-2-23), 1.62 g (0.015 mol) of b3-1 and 80 g of NMP were added and stirred at room temperature until dissolved. Then, 9.81 g (0.05 mol) of a1-2 and 20 g of NMP were added, reacted at 60 ° C. for 1 hour, cooled to 40 ° C. with an ice bath and reacted for 30 minutes, and again with an ice bath. The mixture was cooled to room temperature and reacted for 30 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Then, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-1-8).

合成例A-1-9
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、8.05g(0.035mol)のb1-1、1.48g(0.005mol)式(b-2-28)に示すジアミン化合物(b2-6と略称)、1.98g(0.010mol)のb3-2及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、9.53g(0.0425mol)のa-3及び20gのNMPを加えて、60℃で1時間反応した後で、氷浴によって40℃まで降温して30分間反応した後で、また氷浴によって室温まで降温し、1.12g(0.005mol)のa-3を10分間ごとに、等量で3回分けて加えた。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-1-9)を得た。
Synthesis Example A-1-9
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 8.05 g (0.035 mol) of b1-1, 1.48 g (0.005 mol) of the diamine compound (abbreviated as b2-6) represented by formula (b-2-28), 1.98 g (0.010 mol) of b3-2 and 80 g of NMP were added and stirred at room temperature until dissolved. Then, 9.53 g (0.0425 mol) of a-3 and 20 g of NMP were added, reacted at 60 ° C. for 1 hour, cooled to 40 ° C. with an ice bath, reacted for 30 minutes, and added ice. The bath was cooled to room temperature and 1.12 g (0.005 mol) of a-3 was added in 3 equal portions every 10 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the obtained polymer was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-1-9).

合成例A-1-10
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、3.45g(0.015mol)のb1-1、5.16g(0.020mol)のb1-2、1.13g(0.0035mol)のb2-3、2.00g(0.010mol)のb3-3及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、9.82g(0.045mol)のa-1及び20gのNMPを加えて、60℃で1時間反応した後で、氷浴によって40℃まで降温して30分間反応した後で、また氷浴によって室温まで降温し、1.08g(0.005mol)のa-1を10分間ごとに、等量で4回分けた。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-1-10)を得た。
Synthesis Example A-1-10
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, 3.45 g (0.015 mol) of b1-1, 5.16 g (0.020 mol) of b1-2, 1.13 g (0.0035 mol) of b2-3, 2.3 g (0.0035 mol) of b2-3, 2.45 g (0.015 mol) of b1-1, 5.16 g (0.020 mol) of b1-2, 1.13 g (0.0035 mol) of b2-3, and 2.5 g (0.0035 mol) of b2-3 are added to a four-necked conical flask. 00 g (0.010 mol) of b3-3 and 80 g of NMP were added and stirred at room temperature until dissolved. Then, 9.82 g (0.045 mol) of a-1 and 20 g of NMP were added, reacted at 60 ° C. for 1 hour, cooled to 40 ° C. with an ice bath, reacted for 30 minutes, and added ice. The bath was cooled to room temperature and 1.08 g (0.005 mol) of a-1 was divided into 4 equal portions every 10 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. After that, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-1-10).

合成例A-1-11
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、11.45g(0.04mol)のb1-3、0.27g(0.0025mol)のb3-1及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、3.27g(0.015mol)のa-1、6.86g(0.035mol)のa-2及び20gのNMPを加えて、60℃で1時間反応した後で、氷浴によって40℃まで降温して30分間反応した後で、また氷浴によって室温まで降温し、0.54g(0.005mol)のb3-1を10分間ごとに、等量で3回分けて加えた。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-1-11)を得た。
Synthesis Example A-1-11
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, 11.45 g (0.04 mol) of b1-3, 0.27 g (0.0025 mol) of b3-1 and 80 g of NMP were added to a four-necked conical flask and stirred at room temperature until dissolved. Then, 3.27 g (0.015 mol) of a-1, 6.86 g (0.035 mol) of a-2 and 20 g of NMP were added, reacted at 60 ° C. for 1 hour, and then cooled to 40 ° C. with an ice bath. After cooling to room temperature and reacting for 30 minutes, the temperature was cooled to room temperature again with an ice bath, and 0.54 g (0.005 mol) of b3-1 was added in three equal portions every 10 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. After that, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-1-11).

合成例A-1-12
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、13.35g(0.0425mol)のb1-4、1.34g(0.004mol)のb2-2及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、11.21g(0.05mol)のa1-3及び20gのNMPを加えて、60℃で1時間反応した後で、氷浴によって40℃まで降温して30分間反応した後で、また氷浴によって室温まで降温し、1.57g(0.005mol)のb1-4を10分間ごとに、等量で3回分けて加えた。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-1-12)を得た。
Synthesis Example A-1-12
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, 13.35 g (0.0425 mol) of b1-4, 1.34 g (0.004 mol) of b2-2 and 80 g of NMP were added to a four-necked conical flask and stirred at room temperature until dissolved. Then, 11.21 g (0.05 mol) of a1-3 and 20 g of NMP were added, reacted at 60 ° C. for 1 hour, cooled to 40 ° C. with an ice bath, reacted for 30 minutes, and added ice. The bath was cooled to room temperature and 1.57 g (0.005 mol) of b1-4 was added in 3 equal portions every 10 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. After that, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-1-12).

合成例A-2-1
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、1.73g(0.0075mol)のb1-1、2.68g(0.01mol)のb2-1、6.94g(0.035mol)のb3-2及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、8.82g(0.045mol)のa-2及び20gのNMPを加えた。室温で2時間反応した後で、0.99g(0.005mol)のa-2を20分間ごとに、等量で3回分けて加えた。反応完了後、97gのNMP、2.55gの無水酢酸及び7.91gのピリジンを加え、60℃まで昇温し、且つ持続的に2時間撹拌して、イミド化反応を行った。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-2-1)を得た。
Synthesis Example A-2-1
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 1.73 g (0.0075 mol) of b1-1, 2.68 g (0.01 mol) of b2-1, 6.94 g (0.035 mol) of b3-2 and 80 g of NMP was added and stirred at room temperature until dissolved. Then 8.82 g (0.045 mol) of a-2 and 20 g of NMP were added. After reacting for 2 hours at room temperature, 0.99 g (0.005 mol) of a-2 was added in 3 equal portions every 20 minutes. After the reaction was completed, 97 g of NMP, 2.55 g of acetic anhydride and 7.91 g of pyridine were added, heated to 60° C. and continuously stirred for 2 hours to carry out the imidization reaction. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Then, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-2-1).

合成例A-2-2
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、2.58g(0.010mol)のb1-2、2.16g(0.020mol)のb3-1、3.00g(0.015mol)のb3-3及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、10.91g(0.05mol)のa-1及び20gのNMPを加えた。室温で2時間反応した後で、1.00g(0.005mol)のb3-3を20分間ごとに、等量で3回分けて加えた。反応完了後、97gのNMP、2.55gの無水酢酸及び7.91gのピリジンを加え、60℃まで昇温し、且つ持続的に4時間撹拌して、イミド化反応を行った。反応溶液を1500mlの水に注いで、ポリマーを析出させるために。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-2-2)を得た。
Synthesis Example A-2-2
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 2.58 g (0.010 mol) of b1-2, 2.16 g (0.020 mol) of b3-1, 3.00 g (0.015 mol) of b3-3 and 80 g of NMP was added and stirred at room temperature until dissolved. Then 10.91 g (0.05 mol) of a-1 and 20 g of NMP were added. After reacting for 2 hours at room temperature, 1.00 g (0.005 mol) of b3-3 was added in 3 equal portions every 20 minutes. After the reaction was completed, 97 g of NMP, 2.55 g of acetic anhydride and 7.91 g of pyridine were added, heated to 60° C. and continuously stirred for 4 hours to carry out the imidization reaction. To precipitate the polymer by pouring the reaction solution into 1500 ml of water. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-2-2).

合成例A-2-3
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、3.58g(0.0125mol)のb1-3、8.40g(0.025mol)のb2-2、2.48g(0.0125mol)のb3-2及び60gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、10.30g(0.0525mol)のa-2及び20gのNMPを加えた。室温で1時間反応した後で、20gのNMPを加えて、室温で2時間反応した。反応完了後、97gのNMP、5.1gの無水酢酸及び11.86gのピリジンを加え、50℃まで昇温し、且つ持続的に2時間撹拌して、イミド化反応を行った。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-2-3)を得た。
Synthesis Example A-2-3
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 3.58 g (0.0125 mol) of b1-3, 8.40 g (0.025 mol) of b2-2, 2.48 g (0.0125 mol) of b3-2 and 60 g of NMP was added and stirred at room temperature until dissolved. Then 10.30 g (0.0525 mol) of a-2 and 20 g of NMP were added. After reacting for 1 hour at room temperature, 20 g of NMP was added and reacted for 2 hours at room temperature. After the reaction was completed, 97 g of NMP, 5.1 g of acetic anhydride and 11.86 g of pyridine were added, heated to 50° C. and continuously stirred for 2 hours to carry out the imidization reaction. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-2-3).

合成例A-2-4
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、2.86g(0.010mol)のb1-3、6.28g(0.020mol)のb1-4、0.97g(0.003mol)のb2-3、3.00g(0.015mol)のb3-3及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、11.21g(0.05mol)のa-3及び20gのNMPを加えて、60℃で1時間反応した後で、氷浴によって40℃まで降温して1時間反応し、また氷浴によって室温まで降温し1時間反応した。反応完了後、97gのNMP、5.1gの無水酢酸及び11.86gのピリジンを加え、50℃まで昇温し、且つ持続的に4時間撹拌して、イミド化反応を行った。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-2-4)を得た。
Synthesis Example A-2-4
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, 2.86 g (0.010 mol) of b1-3, 6.28 g (0.020 mol) of b1-4, 0.97 g (0.003 mol) of b2-3, 3.5 g (0.003 mol) of b2-3, 3.5 g (0.003 mol) of b2-3, 2.86 g (0.010 mol) of b1-4, 0.97 g (0.003 mol) of b2-3, 3. 00 g (0.015 mol) of b3-3 and 80 g of NMP were added and stirred at room temperature until dissolved. Then, 11.21 g (0.05 mol) of a-3 and 20 g of NMP were added, reacted at 60 ° C. for 1 hour, cooled to 40 ° C. with an ice bath and reacted for 1 hour, and again with an ice bath. The mixture was cooled to room temperature and reacted for 1 hour. After the reaction was completed, 97 g of NMP, 5.1 g of acetic anhydride and 11.86 g of pyridine were added, heated to 50° C. and continuously stirred for 4 hours to carry out the imidization reaction. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-2-4).

合成例A-2-5
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、8.05g(0.035mol)のb1-1、1.62g(0.015mol)のb3-1及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、2.94g(0.015mol)のa-2、6.73g(0.030mol)のa-3及び20gのNMPを加えて、60℃で1時間反応した後で、氷浴によって40℃まで降温して30分間反応した後で、また氷浴によって室温まで降温し、1.12g(0.005mol)のa-3を10分間ごとに、等量で3回分けて加えた。反応完了後、97gのNMPを加え、7.65gの無水酢酸及び19.78gのピリジン、50℃まで昇温し、且つ持続的に4時間撹拌して、イミド化反応を行った。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-2-5)を得た。
Synthesis Example A-2-5
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, 8.05 g (0.035 mol) of b1-1, 1.62 g (0.015 mol) of b3-1 and 80 g of NMP were added to a four-necked conical flask and stirred at room temperature until dissolved. Then, 2.94 g (0.015 mol) of a-2, 6.73 g (0.030 mol) of a-3 and 20 g of NMP were added, reacted at 60 ° C. for 1 hour, and then cooled to 40 ° C. with an ice bath. After cooling to room temperature and reacting for 30 minutes, the temperature was cooled to room temperature again with an ice bath, and 1.12 g (0.005 mol) of a-3 was added in three equal portions every 10 minutes. After the reaction was completed, 97 g NMP was added, 7.65 g acetic anhydride and 19.78 g pyridine, heated to 50° C. and continuously stirred for 4 hours to carry out the imidization reaction. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Then, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-2-5).

合成例A-2-6
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、10.97g(0.0425mol)のb1-2、0.82g(0.0025mol)のb2-4及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、10.91g(0.05mol)のa-1及び20gのNMPを加えて、60℃で1時間反応した後で、氷浴によって40℃まで降温して30分間反応した後で、また氷浴によって室温まで降温し、1.29g(0.005mol)のb1-2を10分間ごとに、等量で4回分けた。反応完了後、97gのNMP、7.65gの無水酢酸及び19.78gのピリジンを加えて、50℃まで昇温し、且つ持続的に4時間撹拌して、イミド化反応を行った。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A-2-6)を得た。
Synthesis Example A-2-6
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, 10.97 g (0.0425 mol) of b1-2, 0.82 g (0.0025 mol) of b2-4 and 80 g of NMP were added to a four-necked conical flask and stirred at room temperature until dissolved. Then, 10.91 g (0.05 mol) of a-1 and 20 g of NMP were added, reacted at 60 ° C. for 1 hour, cooled to 40 ° C. with an ice bath, reacted for 30 minutes, and The bath was cooled to room temperature and 1.29 g (0.005 mol) of b1-2 was divided into 4 equal portions every 10 minutes. After the reaction was completed, 97 g of NMP, 7.65 g of acetic anhydride and 19.78 g of pyridine were added, heated to 50° C. and continuously stirred for 4 hours for imidization reaction. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A-2-6).

比較合成例A’-1-1
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、6.7g(0.025mol)と略称b2-1、2.48g(0.0125mol)b3-2、2.50g(0.0125mol)b3-3及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、8.82g(0.045mol)のa-2及び20gのNMPを加えて、室温で2時間反応した後で、0.99g(0.005mol)のa-2を20分間ごとに、等量で3回分けて加えた。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A’-1-1)を得た。
Comparative Synthesis Example A'-1-1
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 6.7 g (0.025 mol) abbreviated b2-1, 2.48 g (0.0125 mol) b3-2, 2.50 g (0.0125 mol) b3-3 and 80 g NMP was added and stirred at room temperature until dissolved. Then, add 8.82 g (0.045 mol) of a-2 and 20 g of NMP, react for 2 hours at room temperature, then add 0.99 g (0.005 mol) of a-2 every 20 minutes, etc. The amount was added in three portions. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A′-1-1).

比較合成例A’-1-2
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、8.40g(0.025mol)b2-2、1.08g(0.01mol)のb3-1、1.98g(0.01mol)b3-2及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、10.91g(0.05mol)のa-1及び20gのNMPを加えて、室温で2時間反応した後で、0.54g(0.005mol)のb3-1を20分間ごとに、等量で3回分けて加えた。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A’-1-2)を得た。
Comparative Synthesis Example A'-1-2
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, 8.40 g (0.025 mol) b2-2, 1.08 g (0.01 mol) b3-1, 1.98 g (0.01 mol) b3-2 and 80 g NMP were added to a four-necked conical flask. Add and stir at room temperature until dissolution. Then, add 10.91 g (0.05 mol) of a-1 and 20 g of NMP, react for 2 hours at room temperature, then add 0.54 g (0.005 mol) of b3-1 every 20 minutes, etc. The amount was added in three portions. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A′-1-2).

比較合成例A’-1-3
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、加える3.24g(0.010mol)b2-3、4.92g(0.015mol)b2-4、2.7g(0.025mol)b3-1及び60gのNMP、室温で溶解まで撹拌した。そして、11.21g(0.05mol)のa-3及び20gのNMPを加えて、室温で1時間反応した後で、20gのNMPを加えて、室温で1時間反応した。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A’-1-3)を得た。
Comparative Synthesis Example A'-1-3
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then add 3.24 g (0.010 mol) b2-3, 4.92 g (0.015 mol) b2-4, 2.7 g (0.025 mol) b3-1 and 60 g NMP to a four-necked conical flask, Stir at room temperature until dissolved. Then, 11.21 g (0.05 mol) of a-3 and 20 g of NMP were added and reacted at room temperature for 1 hour, then 20 g of NMP was added and reacted at room temperature for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. After that, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A′-1-3).

比較合成例A’-1-4
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、8.05g(0.035mol)のb1-1、1.48g(0.005mol)のb2-6、1.98g(0.010mol)のb3-2及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、10.64g(0.0475mol)のa-3及び20gのNMPを加えて、60℃で2時間反応した。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A’-1-4)を得た。
Comparative Synthesis Example A'-1-4
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 8.05 g (0.035 mol) of b1-1, 1.48 g (0.005 mol) of b2-6, 1.98 g (0.010 mol) of b3-2 and 80 g of NMP was added and stirred at room temperature until dissolved. Then, 10.64 g (0.0475 mol) of a-3 and 20 g of NMP were added and reacted at 60° C. for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A′-1-4).

比較合成例A’-2-1
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、1.73g(0.0075mol)のb1-1、2.68g(0.01mol)のb2-1、6.94g(0.035mol)のb3-2及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、9.81g(0.05mol)のa-2及び20gのNMPを加えた。室温で2時間反応した後で、97gのNMP、2.55gの無水酢酸及び7.91gのピリジンを加えて、60℃まで昇温し、且つ持続的に2時間撹拌して、イミド化反応を行った。反応完了後、ポリマーを析出させるために、反応溶液を1500mlの水に入れた。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A’-2-1)を得た。
Comparative Synthesis Example A'-2-1
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, 1.73 g (0.0075 mol) of b1-1, 2.68 g (0.01 mol) of b2-1, 6.94 g (0.035 mol) of b3-2 and 80 g of NMP was added and stirred at room temperature until dissolved. Then 9.81 g (0.05 mol) of a-2 and 20 g of NMP were added. After reacting for 2 hours at room temperature, add 97 g of NMP, 2.55 g of acetic anhydride and 7.91 g of pyridine, heat up to 60° C., and continuously stir for 2 hours to initiate the imidization reaction. gone. After completion of the reaction, the reaction solution was put into 1500 ml of water to precipitate the polymer. Thereafter, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A′-2-1).

比較合成例A’-2-2
容量500mlの四つ口コニカルフラスコに窒素ガス入口、撹拌器、凝縮管及び温度計を設けて、窒素ガスを導入した。その後、四つ口コニカルフラスコに、0.97g(0.003mol)b2-3、5.95g(0.030mol)のb3-2、3.00g(0.015mol)のb3-3及び80gのNMPを加えて、室温で溶解まで撹拌した。そして、10.91g(0.05mol)のa-1及び20gのNMPを加えて、60℃で1時間反応した後で、氷浴によって40℃まで降温して1時間反応し、また氷浴によって室温まで降温し1時間反応した。反応完了後、97gのNMP、2.55gの無水酢酸及び7.91gのピリジンを加えて、60℃まで昇温し、且つ持続的に4時間撹拌して、イミド化反応を行った。反応溶液を1500mlの水に注いで、ポリマーを析出させるために。その後、得られたポリマーをろ過して、メタノールで洗浄し濾過する工程を3回繰り返し、真空オーブンに入れて、温度60℃で乾燥させて、ポリマー(A’-2-2)を得た。
Comparative Synthesis Example A'-2-2
A four-necked conical flask with a capacity of 500 ml was equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a condenser tube and a thermometer, and nitrogen gas was introduced. Then, in a four-necked conical flask, add 0.97 g (0.003 mol) b2-3, 5.95 g (0.030 mol) b3-2, 3.00 g (0.015 mol) b3-3 and 80 g NMP was added and stirred at room temperature until dissolved. Then, 10.91 g (0.05 mol) of a-1 and 20 g of NMP were added and reacted at 60 ° C. for 1 hour, then cooled to 40 ° C. with an ice bath and reacted for 1 hour. The mixture was cooled to room temperature and reacted for 1 hour. After the reaction was completed, 97 g of NMP, 2.55 g of acetic anhydride and 7.91 g of pyridine were added, heated to 60° C. and continuously stirred for 4 hours to carry out the imidization reaction. To precipitate the polymer by pouring the reaction solution into 1500 ml of water. After that, the polymer obtained was filtered, washed with methanol, and filtered three times, and then placed in a vacuum oven and dried at a temperature of 60° C. to obtain a polymer (A′-2-2).

液晶配向剤の製造
実施例1
実施例1は、100重量部のポリマー(A-1-1)と800重量部のN-メチル-2-ピロリジノン(B-1)とを室温で混合させて、実施例1の液晶配向剤を製造した。実施例1の液晶配向剤の具体的な組成及び後の評価結果は、表3に示す。
Production Example 1 of Liquid Crystal Aligning Agent
In Example 1, 100 parts by weight of the polymer (A-1-1) and 800 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidinone (B-1) were mixed at room temperature to obtain the liquid crystal aligning agent of Example 1. manufactured. Table 3 shows the specific composition of the liquid crystal aligning agent of Example 1 and the subsequent evaluation results.

液晶配向膜及び液晶表示素子の調製
上記実施例1により得られた液晶配向剤を、スピンコートによって画素電極を有し且つ能動層がIGZOである薄膜トランジスタの基材に形成した。前記画素電極は、1対のITO電極(電極幅:10μm、電極間隔:10μm、電極高度:50nm)を有するIPS駆動用電極である。前記ITO電極は、それぞれくし歯状の形状を有し、且つ互いのくし歯状部分が離間して噛み合うように配置される。その後、80℃の加熱板に2分間プリベーク処理し、230℃で20分間ポストベーク処理して、膜厚100nmの塗膜を得た。そして、配向処理した後で、液晶配向膜を有する薄膜トランジスタの基材を形成した。なお、対向基材として画素電極が形成されていない高4μmの柱状のスペーサーを有するガラス基板に対しても同様に塗膜を形成し、且つ同様に配向処理を行って別の液晶配向膜を得た。その後、前記2枚の基材を1組として、2枚の基材の摩擦方向を180度で反対するように貼りついた後で、減圧注入法によって液晶MLC-2041(Merck会社製造)を注入し、且つ紫外線固化ゲルによって液晶注入口を封止して、紫外線ランプによる光で紫外線固化ゲルを固化させて、実施例1の液晶表示素子になった。
Preparation of Liquid Crystal Alignment Film and Liquid Crystal Display Device The liquid crystal alignment agent obtained in Example 1 was formed on a substrate of a thin film transistor having pixel electrodes and an active layer made of IGZO by spin coating. The pixel electrode is an IPS driving electrode having a pair of ITO electrodes (electrode width: 10 μm, electrode spacing: 10 μm, electrode height: 50 nm). The ITO electrodes each have a comb-teeth shape and are arranged so that the comb-teeth portions are spaced apart from each other and mesh with each other. After that, it was pre-baked on a hot plate at 80° C. for 2 minutes and post-baked at 230° C. for 20 minutes to obtain a coating film with a thickness of 100 nm. After the orientation treatment, a thin film transistor substrate having a liquid crystal orientation film was formed. A glass substrate having columnar spacers with a height of 4 μm on which pixel electrodes are not formed as a counter substrate was similarly formed with a coating film and subjected to alignment treatment in the same manner to obtain another liquid crystal alignment film. rice field. After that, the two base materials are combined into one set, and after sticking the two base materials so that the friction direction is opposite to each other at 180 degrees, liquid crystal MLC-2041 (manufactured by Merck Co., Ltd.) is injected by a vacuum injection method. Then, the liquid crystal injection port was sealed with an ultraviolet curable gel, and the ultraviolet curable gel was cured with light from an ultraviolet lamp to obtain the liquid crystal display element of the first embodiment.

実施例2~18及び比較例1~6
実施例2~18及び比較例1~6は、実施例1と同一の方法を使用するが、実施例2~18及び比較例1~6では、液晶配向剤におけるポリマー、溶剤、添加剤及び/又はその使用量を変えることに異なった。実施例2~18及び比較例1~6の液晶配向剤の具体的な組成及び評価結果については、表3及び表4を参照されたい。
Examples 2-18 and Comparative Examples 1-6
Examples 2 to 18 and Comparative Examples 1 to 6 use the same method as Example 1, but in Examples 2 to 18 and Comparative Examples 1 to 6, the polymer, solvent, additive and/or Or differed by changing the amount used. See Tables 3 and 4 for specific compositions and evaluation results of the liquid crystal aligning agents of Examples 2 to 18 and Comparative Examples 1 to 6.

比較例7
比較例7も、実施例2と同じような方法を使用するが、比較例7の液晶配向膜により調製された薄膜トランジスタの基材の能動層は低温多結晶シリコン(Low Temperature Poly-silicon;LTPS)であることに異なった。比較例7の具体的な組成及び評価結果については、表4を参照されたい。
Comparative example 7
Comparative Example 7 also uses the same method as Example 2, but the active layer of the substrate of the thin film transistor prepared by the liquid crystal alignment film of Comparative Example 7 is Low Temperature Poly-silicon (LTPS). was different. See Table 4 for the specific composition and evaluation results of Comparative Example 7.

評価方法
1.抵抗光安定性
上記液晶配向剤をプリンタ(日本写真印刷株式会社(Nissha Co., Ltd.)製、規格S15-036)によってそれぞれITO(indium tin oxide)により構成されたくし歯状にパターニングされた画素電極を有するガラス基板に塗布して、プレコーティング層を形成した。その後、ガラス基板を加熱板に置き、温度100℃、時間5分間の条件でプリベーク処理を行った。次に、循環オーブンで、温度220℃、時間30分間の条件でポストベーク処理を行って、上面に膜厚100nmの液晶配向膜が形成されたガラス基板を得、抵抗光安定性を測量するための検査セルであった。
Evaluation method 1. Resistance light stability The above liquid crystal aligning agent is printed by a printer (manufactured by Nissha Co., Ltd., standard S15-036), and each pixel is patterned into a comb tooth shape composed of ITO (indium tin oxide). A pre-coating layer was formed by coating on a glass substrate having electrodes. After that, the glass substrate was placed on a heating plate and pre-baked at a temperature of 100° C. for 5 minutes. Next, in a circulation oven, a post-baking treatment is performed at a temperature of 220° C. for 30 minutes to obtain a glass substrate having a liquid crystal alignment film with a thickness of 100 nm formed on the upper surface, and to measure the resistance photostability. was the test cell.

イオン密度測定システム(株式会社東陽テクニカ(TOYO corporation)製;規格6254型)を使用し、周波数0.01Hz、振幅10Vの電圧にし、上記検査セルに流れる電流及び対応する電圧によって、検査セルの第1の抵抗Rを測量した。上記電流は3.16nAであり、且つ上記測量は、23℃の温度及び50%の湿度の雰囲気で行った。その後、照度6mW/cmの白色発光ダイオードによって上記検査セルを300秒間も照射し、第2の抵抗Rを測量した後で、下記式(1)に基づいて抵抗光安定性(△RUV)を算出した。
△RUV=R-R (1)
◎:△RUV <300GΩ。
○:300GΩ≦△RUV<400GΩ。
△:400GΩ≦△RUV<500GΩ。
×:500GΩ≦△RUV
Using an ion density measurement system (manufactured by Toyo Corporation; standard 6254 type), the frequency is 0.01 Hz, the voltage is set to an amplitude of 10 V, and the current flowing through the test cell and the corresponding voltage are used to determine the number of test cells. 1 resistance R i was measured. The current was 3.16 nA and the measurements were performed in an atmosphere with a temperature of 23° C. and a humidity of 50%. After that, the test cell was illuminated with a white light emitting diode with an illuminance of 6 mW/cm 2 for 300 seconds, and after measuring the second resistance R f , the resistance photostability (ΔR UV ) was calculated.
ΔR UV =R i -R f (1)
A: ΔR UV <300 GΩ.
○: 300 GΩ≦ΔR UV <400 GΩ.
Δ: 400 GΩ≦ΔR UV <500 GΩ.
×: 500 GΩ≦ΔR UV .

2.蓄積電荷除去性
実施例1~18及び比較例1~7により製造された液晶表示素子を、それぞれ3Vの直流電圧で30分間印加して、電気測量機器(TOYO Corporation製;規格Model 6254)によって液晶表示素子の電圧解除後の蓄積電圧(VR1)及び電圧解除後の15分間の蓄積電圧(VR2)を測量し、下記式(IV)に基づいて蓄積電荷除去勾配(V)を算出し、下記基準によって評価を行った。

Figure 0007164325000031
※:80%<V
◎:75%<V≦80%。
○:70%<V≦75%。
△:65%<V≦70%。
×:V≦65%。 2. Accumulated Charge Removability The liquid crystal display elements manufactured in Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 to 7 were each applied with a DC voltage of 3 V for 30 minutes, and the liquid crystal was measured by an electrical survey instrument (manufactured by TOYO Corporation; standard Model 6254). The accumulated voltage (V R1 ) after the voltage release of the display element and the accumulated voltage (V R2 ) for 15 minutes after the voltage release were measured, and the accumulated charge removal slope (V S ) was calculated based on the following formula (IV). , was evaluated according to the following criteria.
Figure 0007164325000031
*: 80%< Vs .
A: 75% < V S ≤ 80%.
◯: 70%<VS 75%.
Δ: 65%<VS 70%.
x: VS≤65 %.

表3を参照されたい。本発明の実施例1~18の液晶配向剤におけるポリマー(A)は、特定の製造方法及び特定のジアミン化合物(b1)によって製造され、上記ポリマー(A)により調製された液晶配向剤は、何れも良好な抵抗光安定性を有する。上記実施例の液晶配向剤は、IGZO能動層を有する薄膜トランジスタの基材に液晶配向膜を形成して、良好な蓄積電荷除去性を持つ液晶表示素子を製造することができる。更にいうと、液晶配向剤のポリマー(A)がジアミン化合物(b2)によって合成され、及び/又はジアミン化合物(b1)とジアミン化合物(b2)とのモル比[(b1)/(b2)]が一定の範囲にある場合も、液晶表示素子の蓄積電荷除去性を更に向上させることができる。 See Table 3. The polymer (A) in the liquid crystal aligning agents of Examples 1 to 18 of the present invention is produced by a specific production method and a specific diamine compound (b1), and the liquid crystal aligning agent prepared by the polymer (A) is any also has good resistance light stability. The liquid crystal aligning agents of the above examples can be used to form a liquid crystal aligning film on a substrate of a thin film transistor having an IGZO active layer, thereby producing a liquid crystal display device having good accumulated charge removing property. Furthermore, the polymer (A) of the liquid crystal aligning agent is synthesized with the diamine compound (b2), and/or the molar ratio [(b1)/(b2)] of the diamine compound (b1) and the diamine compound (b2) is Even when it is within a certain range, it is possible to further improve the ability to remove accumulated charges from the liquid crystal display element.

一方、表4からわかるように、本発明の主張したポリマー(A)によって液晶配向剤を調製しないと、所望の抵抗光安定性を達成させできず、上記液晶配向剤により形成された液晶配向膜を含む液晶表示素子の蓄積電荷除去性が不良である。また、本発明の主張したポリマー(A)によって良好な抵抗光安定性を持つ液晶配向剤を形成しても、製造された液晶配向膜がIGZO能動層を有する薄膜トランジスタの基材と組み合わせなくとも、液晶表示素子の蓄積電荷除去性が不良である。 On the other hand, as can be seen from Table 4, unless the liquid crystal aligning agent is prepared from the claimed polymer (A) of the present invention, the desired resistance light stability cannot be achieved, and the liquid crystal aligning film formed from the liquid crystal aligning agent The accumulated charge removal property of the liquid crystal display element containing is poor. In addition, even if the polymer (A) claimed in the present invention forms a liquid crystal aligning agent with good resistive photostability, even if the manufactured liquid crystal alignment film is not combined with the substrate of a thin film transistor having an IGZO active layer, The liquid crystal display element has a poor ability to remove accumulated charges.

本発明を複数の実施例によって以上のように開示したが、これは本発明を限定するものではなく、当業者であれば、本発明の精神及び範囲から逸脱しない限り、各種の変更及び修飾することができる。本発明は、特許請求の範囲の記載によって限定される。 Although the present invention has been disclosed above through several embodiments, it is not intended to limit the present invention, and various changes and modifications can be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the present invention. be able to. The invention is defined by the claims.

Figure 0007164325000032
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Figure 0007164325000033
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Figure 0007164325000034
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Figure 0007164325000035
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Figure 0007164325000036
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Figure 0007164325000037
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Figure 0007164325000038
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Figure 0007164325000039
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Figure 0007164325000040
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100:検査セル
110:基板
120:画素電極
130:液晶配向膜
200:液晶表示素子
210:第1のセル
212:薄膜トランジスタの基材
214:画素電極
216:第1の液晶配向膜
220:第2のセル
222:第2の基板
226:第2の液晶配向膜
230:液晶セル
100: Inspection cell 110: Substrate 120: Pixel electrode 130: Liquid crystal alignment film 200: Liquid crystal display element 210: First cell 212: Substrate of thin film transistor 214: Pixel electrode 216: First liquid crystal alignment film 220: Second Cell 222: Second substrate 226: Second liquid crystal alignment film 230: Liquid crystal cell

Claims (9)

液晶配向剤を薄膜トランジスタの基材に塗布してプレコーティング層を形成し、また前記プレコーティング層に対してプリベーク処理、ポストベーク処理及び配向処理を行うことで液晶配向膜を製造する液晶配向膜の製造方法において、
前記薄膜トランジスタの基材は、材料が酸化インジウムガリウム亜鉛(Indium Gallium Zinc Oxide;IGZO)である能動層を含み、且つ前記液晶配向剤は、
テトラカルボン酸二無水物組成物(a)及びジアミン組成物(b)を含む混合物により反応して得られ、且つ前記ジアミン組成物(b)は式(b-1)に示すジアミン化合物(b1)を含む
Figure 0007164325000041
(前記式(b-1)において、前記hは1~12の整数を表す)ポリマー(A)と、
溶剤(B)と、を含み、
前記液晶配向膜の抵抗光安定性△RUVは、300GΩより小さく、且つ下記の工程:
(i)基板、前記基板における画素電極及び前記画素電極における前記液晶配向膜により組成される検査セルを提供する工程;
(ii)イオン密度測定システムを使用し、周波数0.01Hz及び振幅10Vの電圧にし、前記検査セルに流れる電流及び対応する電圧によって、前記検査セルの第1の抵抗Rを測量し、前記電流は3.16nAであり、且つ23℃の温度及び50%の湿度で前記第1の抵抗Rを測量する工程;
(iii)照度6mW/cmの白色発光ダイオードによって前記検査セルを300秒間も照射して前記検査セルの第2の抵抗Rを測量する工程;及び
(iv)下記式(1)に基づいて前記抵抗光安定性(△RUV)を算出する工程:
△RUV=R-R 式(1
より測定される液晶配向膜の製造方法。
A liquid crystal alignment film for manufacturing a liquid crystal alignment film by applying a liquid crystal alignment agent to a base material of a thin film transistor to form a pre-coating layer, and performing pre-baking treatment, post-baking treatment and alignment treatment on the pre-coating layer. In the manufacturing method of
The substrate of the thin film transistor includes an active layer whose material is Indium Gallium Zinc Oxide (IGZO), and the liquid crystal alignment agent is
obtained by reacting a mixture containing a tetracarboxylic dianhydride composition (a) and a diamine composition (b), and the diamine composition (b) is a diamine compound (b1) represented by formula (b-1) including
Figure 0007164325000041
(In the formula (b-1), h represents an integer of 1 to 12) polymer (A),
and a solvent (B),
The resistance light stability ΔR UV of the liquid crystal alignment film is less than 300 GΩ , and the following steps:
(i) providing a test cell composed of a substrate, a pixel electrode on the substrate and the liquid crystal alignment film on the pixel electrode;
(ii) using an ion density measurement system with a frequency of 0.01 Hz and a voltage of 10 V amplitude, the current through the test cell and the corresponding voltage to measure the first resistance R i of the test cell, the current is 3.16 nA and measuring the first resistance R i at a temperature of 23° C. and a humidity of 50%;
(iii) illuminating the test cell with a white light emitting diode with an illuminance of 6 mW/ cm2 for 300 seconds to measure the second resistance Rf of the test cell; and (iv) based on formula (1) below: Calculating the resistance photostability (ΔR UV ):
ΔR UV =R i -R f Formula (1 )
A method for manufacturing a liquid crystal alignment film measured by
前記ジアミン組成物(b)は、式(b-2)により示すジアミン化合物(b2)を含み、
Figure 0007164325000042
前記式(b-2)において、前記Rはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、アセチルアミノ基、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子を表し、前記Rはそれぞれ独立に炭素数1~3のアルキル基を表し、前記mはそれぞれ独立に0~3の整数を表し、前記nは0~4の整数を表す請求項1に記載の液晶配向膜の製造方法。
The diamine composition (b) contains a diamine compound (b2) represented by formula (b-2),
Figure 0007164325000042
In the formula (b-2), each R 1 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an acetylamino group, a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom. , wherein each R 2 independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, each m independently represents an integer of 0 to 3, and each n represents an integer of 0 to 4. A method for manufacturing a liquid crystal alignment film.
前記式(b-2)のジアミン化合物(b2)において、前記Rはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基又はアセチルアミノ基を表す請求項2に記載の液晶配向膜の製造方法。 In the diamine compound (b2) of formula (b-2), each R 1 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or an acetylamino group. 3. The method for producing a liquid crystal alignment film according to 2 . 前記ジアミン組成物(b)の合計モル数100molに対して、前記式(b-1)により示す前記ジアミン化合物(b1)の使用量は15~95molである請求項1に記載の液晶配向膜の製造方法。 The liquid crystal alignment film according to claim 1, wherein the amount of the diamine compound (b1) represented by the formula (b-1) is 15 to 95 mol per 100 mol of the total number of moles of the diamine composition (b). Production method. 前記ジアミン組成物(b)の合計モル数100molに対して、前記式(b-2)により示す前記ジアミン化合物(b2)の使用量は5~50molである請求項2に記載の液晶配向膜の製造方法。 The liquid crystal alignment film according to claim 2, wherein the amount of the diamine compound (b2) represented by the formula (b-2) is 5 to 50 mol per 100 mol of the total number of moles of the diamine composition (b). Production method. 前記ジアミン化合物(b1)と前記ジアミン化合物(b2)とのモル比[(b1)/(b2)]は、0.5~10.0である請求項2に記載の液晶配向膜の製造方法。 3. The method for producing a liquid crystal alignment film according to claim 2, wherein the molar ratio [(b1)/(b2)] between the diamine compound (b1) and the diamine compound (b2) is 0.5 to 10.0. 前記ポリマー(A)の使用量の合計100重量部に対して、前記溶剤(B)の使用量は800~4000重量部である請求項1に記載の液晶配向膜の製造方法。 The method for producing a liquid crystal alignment film according to claim 1, wherein the amount of the solvent (B) used is 800 to 4000 parts by weight with respect to the total amount of the polymer (A) used of 100 parts by weight. 前記薄膜トランジスタの基材は、
第1の基板と、
前記第1の基板に設けられ、それぞれゲート絶縁層、前記能動層、ソース及びドレインを含む複数の薄膜トランジスタセルと、
を含む請求項1に記載の液晶配向膜の製造方法。
The base material of the thin film transistor is
a first substrate;
a plurality of thin film transistor cells provided on the first substrate and each comprising a gate insulating layer, the active layer, a source and a drain;
The method for producing a liquid crystal alignment film according to claim 1, comprising:
請求項1~8の何れか1項に記載の液晶配向膜の製造方法により製造された液晶配向膜を含む液晶表示素子。 A liquid crystal display device comprising a liquid crystal alignment film manufactured by the method for manufacturing a liquid crystal alignment film according to any one of claims 1 to 8 .
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020040091A1 (en) * 2018-08-20 2020-02-27 日産化学株式会社 Liquid crystal alignment agent, production method thereof, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
CN113325625B (en) * 2021-06-24 2022-07-29 业成科技(成都)有限公司 Preparation method of display panel

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011100032A (en) 2009-11-06 2011-05-19 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device
JP2013167799A (en) 2012-02-16 2013-08-29 Japan Display Central Co Ltd Liquid crystal display device
JP2015075723A (en) 2013-10-11 2015-04-20 株式会社ジャパンディスプレイ Liquid crystal display device
JP2016066053A (en) 2014-09-19 2016-04-28 株式会社ジャパンディスプレイ Liquid crystal display device and material for alignment film

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5368250B2 (en) * 2009-10-23 2013-12-18 株式会社ジャパンディスプレイ Liquid crystal display
TWI448790B (en) * 2011-05-13 2014-08-11 Chi Mei Corp Liquid crystal alignment film and liguid crystal display element
TWI633128B (en) * 2011-05-27 2018-08-21 日產化學工業股份有限公司 Composition, liquid crystal alignment treatment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
TW201309749A (en) * 2011-08-23 2013-03-01 Chi Mei Corp Liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film and liquid crystal display element
WO2013157463A1 (en) * 2012-04-16 2013-10-24 Jnc株式会社 Liquid-crystal alignment material for forming liquid-crystal alignment film for photo-alignment, liquid-crystal alignment film, and liquid-crystal display element including same
JP6090570B2 (en) * 2012-04-26 2017-03-08 Jnc株式会社 Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film for forming liquid crystal alignment film for photo-alignment, and liquid crystal display element using the same
JP6056187B2 (en) * 2012-05-09 2017-01-11 Jnc株式会社 Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film for forming liquid crystal alignment film for photo-alignment, and liquid crystal display element using the same
TWI503610B (en) * 2013-05-03 2015-10-11 Chi Mei Corp Liquid crystal alignment composition, liquid crystal alignment film and liquid crystal display device having thereof
KR102071632B1 (en) * 2013-09-26 2020-01-31 삼성디스플레이 주식회사 Liquid crystal photo alignment agent, liquid crystal display device including the same and method of manufacturing the same
CN111777519B (en) * 2015-03-24 2023-12-05 日产化学工业株式会社 Diamines
CN108369359B (en) * 2015-10-07 2021-07-27 日产化学工业株式会社 Liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011100032A (en) 2009-11-06 2011-05-19 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device
JP2013167799A (en) 2012-02-16 2013-08-29 Japan Display Central Co Ltd Liquid crystal display device
JP2015075723A (en) 2013-10-11 2015-04-20 株式会社ジャパンディスプレイ Liquid crystal display device
JP2016066053A (en) 2014-09-19 2016-04-28 株式会社ジャパンディスプレイ Liquid crystal display device and material for alignment film

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