JP7153862B2 - 階段状スロー軸コリメータを有するレーザシステム - Google Patents
階段状スロー軸コリメータを有するレーザシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP7153862B2 JP7153862B2 JP2021545363A JP2021545363A JP7153862B2 JP 7153862 B2 JP7153862 B2 JP 7153862B2 JP 2021545363 A JP2021545363 A JP 2021545363A JP 2021545363 A JP2021545363 A JP 2021545363A JP 7153862 B2 JP7153862 B2 JP 7153862B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dispersive element
- wbc
- laser system
- wavelength
- collimators
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
- H01S5/4031—Edge-emitting structures
- H01S5/4062—Edge-emitting structures with an external cavity or using internal filters, e.g. Talbot filters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4012—Beam combining, e.g. by the use of fibres, gratings, polarisers, prisms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0916—Adapting the beam shape of a semiconductor light source such as a laser diode or an LED, e.g. for efficiently coupling into optical fibers
- G02B27/0922—Adapting the beam shape of a semiconductor light source such as a laser diode or an LED, e.g. for efficiently coupling into optical fibers the semiconductor light source comprising an array of light emitters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/1006—Beam splitting or combining systems for splitting or combining different wavelengths
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/1073—Beam splitting or combining systems characterized by manufacturing or alignment methods
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/1086—Beam splitting or combining systems operating by diffraction only
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/30—Collimators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0225—Out-coupling of light
- H01S5/02255—Out-coupling of light using beam deflecting elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
- H01S5/4031—Edge-emitting structures
- H01S5/4043—Edge-emitting structures with vertically stacked active layers
- H01S5/405—Two-dimensional arrays
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
- H01S5/4087—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar emitting more than one wavelength
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
本出願は、2018年10月15日に出願された、米国仮特許出願第62/745,623号に基づく利益及び優先権を主張し、その開示の全体は、参照によって本明細書に組み込まれる。
Claims (48)
- それぞれが1つまたは複数のビームを発振する複数のビーム発振器と、
ビームを受けて、前記ビームを波長合成(WBC)次元においてマルチ波長ビームに合成する分散要素と、
前記複数のビーム発振器の光学的下流側、及び前記分散要素の光学的上流側に配置される複数のコリメータと、
ここで、前記複数のコリメータのそれぞれは、前記複数のビーム発振器から1つまたは複数のビームを受けて、非WBC次元にコリメートし、
前記複数のビーム発振器の光学的下流側、及び前記分散要素の光学的上流側に配置される複数のインターリービングミラーと、
ここで、前記複数のインターリービングミラーのそれぞれは、ビーム発振器から前記分散要素に向かう1つまたは複数のビームを反射し、
前記分散要素から前記マルチ波長ビームを受けて、出力ビームとして前記マルチ波長ビームの第1部分を透過させて、前記分散要素に向かって前記マルチ波長ビームの第2部分を反射して戻す部分反射型出力カプラと、
を備え、
前記分散要素は、非WBC次元において、非ゼロ角度で傾斜しており、これにより、前記分散要素からのビームの第1次反射は、前記複数のビーム発振器から離れる方向に向けられ、前記マルチ波長ビームにポインティングエラーをもたらし、
前記複数のインターリービングミラーのうちの1つまたは複数のインターリービングミラーは、前記マルチ波長ビームのポインティングエラーを減少させるように、非WBC次元において、非ゼロ角度で傾斜され、これにより、前記分散要素で非WBC次元においてビームスミアをもたらし、
2つ以上のコリメータの光軸は、非WBC次元において、互いに対して変位されており、これにより、傾斜されたインターリービングミラーによるビームスミアは低減される、
レーザシステム。 - 非WBC次元は、ビームのスロー軸に対応する、請求項1に記載のレーザシステム。
- 非WBC次元は、ビームのファスト軸に対応する、請求項1に記載のレーザシステム。
- 前記分散要素は、回折格子を有する、請求項1に記載のレーザシステム。
- 少なくとも1つのビーム発振器は、複数の離散的なビームを発振するように構成されたダイオードバーを有する、請求項1に記載のレーザシステム。
- 第1ビーム発振器において、
非WBC次元における前記分散要素の傾斜は、第1角度を有するポインティングエラーをもたらし、
前記第1ビーム発振器に関連したインターリービングミラーは、非WBC次元における第2角度を有する、請求項1に記載のレーザシステム。 - 前記第2角度は、前記第1角度と略等しい、請求項6に記載のレーザシステム。
- 全てのインターリービングミラーは、非WBC次元において、非ゼロ角度で傾斜される、請求項1に記載のレーザシステム。
- 少なくとも2つのインターリービングミラーは、非WBC次元において、異なる角度で傾斜される、請求項1に記載のレーザシステム。
- 1つ以外全てのインターリービングミラーは、非WBC次元において、異なる角度で傾斜される、請求項1に記載のレーザシステム。
- 中央ビーム発振器に関連したインターリービングミラーは、非WBC次元において、非ゼロ角度で傾斜されない、請求項10に記載のレーザシステム。
- 2つ以上のインターリービングミラーは、非WBC次元において、非ゼロ角度で傾斜されない、請求項1に記載のレーザシステム。
- 各ビーム発振器に関連して、(i)第2コリメータと、(ii)1つまたは複数のビームを略90°回転させる光学ローテータとをさらに有する、請求項1に記載のレーザシステム。
- 各コリメータは、スロー軸コリメータであり、各第2コリメータはファスト軸コリメータである、請求項13に記載のレーザシステム。
- 複数のインターリービングミラーは、複数のコリメータの光学的下流側に配置される、請求項1に記載のレーザシステム。
- 各コリメータと前記分散要素との間の光学距離は、略等しい、請求項1に記載のレーザシステム。
- 2つ以上のコリメータの高さが異なる、請求項1に記載のレーザシステム。
- 2つ以上のコリメータの高さが略等しい、請求項1に記載のレーザシステム。
- 全てのコリメータの高さが略等しい、請求項1に記載のレーザシステム。
- 前記分散要素の光学的下流側、及び前記出力カプラの上流側に配置される1つまたは複数の折り返しミラーをさらに有する、請求項1に記載のレーザシステム。
- それぞれが1つまたは複数のビームを発振する複数のビーム発振器と、
ビームを受けて、前記ビームを波長合成(WBC)次元においてマルチ波長ビームに合成する分散要素と、
前記複数のビーム発振器の光学的下流側、及び前記分散要素の光学的上流側に配置される複数のコリメータと、
ここで、前記複数のコリメータのそれぞれは、前記複数のビーム発振器から1つまたは複数のビームを受けて、非WBC次元にコリメートし、
前記分散要素から前記マルチ波長ビームを受けて、出力ビームとして前記マルチ波長ビームの第1部分を透過させて、前記分散要素に向かって前記マルチ波長ビームの第2部分を反射して戻す部分反射型出力カプラと、
を備え、
前記分散要素は、非WBC次元において、非ゼロ角度で傾斜しており、これにより、前記分散要素からのビームの第1次反射は、前記複数のビーム発振器から離れる方向に向けられ、前記マルチ波長ビームにポインティングエラーをもたらし、
2つ以上のコリメータの光軸は、非WBC次元において、互いに対して変位されており、これにより、傾斜された前記分散要素によるポインティングエラーは低減される、
レーザシステム。 - 非WBC次元は、ビームのスロー軸に対応する、請求項21に記載のレーザシステム。
- 非WBC次元は、ビームのファスト軸に対応する、請求項21に記載のレーザシステム。
- 前記分散要素は、回折格子を有する、請求項21に記載のレーザシステム。
- 少なくとも1つのビーム発振器は、複数の離散的なビームを発振するように構成されたダイオードバーを有する、請求項21に記載のレーザシステム。
- 前記複数のコリメータは、前記分散要素において、非WBC次元において、ビームスミアをもたらす、請求項21に記載のレーザシステム。
- 各ビーム発振器に関連して、(i)第2コリメータと、(ii)1つまたは複数のビームを略90°回転させる光学ローテータとをさらに有する、請求項21に記載のレーザシステム。
- 各コリメータは、スロー軸コリメータであり、各第2コリメータはファスト軸コリメータである、請求項27に記載のレーザシステム。
- 各コリメータと前記分散要素との間の光学距離は、略等しい、請求項21に記載のレーザシステム。
- 2つ以上のコリメータの高さが異なる、請求項21に記載のレーザシステム。
- 2つ以上のコリメータの高さが略等しい、請求項21に記載のレーザシステム。
- 全てのコリメータの高さが略等しい、請求項21に記載のレーザシステム。
- 前記分散要素の光学的下流側、及び前記出力カプラの上流側に配置される1つまたは複数の折り返しミラーをさらに有する、請求項21に記載のレーザシステム。
- レーザシステムを位置合わせする方法であって、
前記レーザシステムは、
(i)1つまたは複数のビームを発振するようにそれぞれ構成された複数のビーム発振器と、
(ii)ビームを受けて、ビームを、波長合成(WBC)次元において、マルチ波長ビームに合成する分散要素と、
(iii)前記分散要素から前記マルチ波長ビームを受けて、出力ビームとして前記マルチ波長ビームの第1部分を透過させて、前記マルチ波長ビームの第2部分を前記分散要素に向かって反射して戻す、部分反射型出力カプラと、
を備え、
前記方法は、
前記複数のビーム発振器によって発振されるビームを、前記分散要素で前記マルチ波長ビームに合成することと、
ポインティングエラーを、非WBC次元において、前記マルチ波長ビームにもたらすことと、
前記マルチ波長ビームのポインティングエラーを減少させるように、非WBC次元において、前記分散要素でビームスミアをもたらすことと、
前記マルチ波長ビームのポインティングエラーを増加させずに、ビームスミアを減少させることと、
を含み、
ポインティングエラーを、非WBC次元において、前記分散要素を非ゼロ角度で傾斜することによって、前記マルチ波長ビームにもたらす、方法。 - 1つまたは複数のインターリービングミラーは、前記複数のビーム発振器の光学的下流側、及び前記分散要素の光学的上流側に配置され、
1つまたは複数のインターリービングミラーを、非WBC次元において、非ゼロ角度で傾斜することによって、ビームスミアをもたらす、請求項34に記載の方法。 - 2つ以上のコリメータは、前記複数のビーム発振器の光学的下流側、及び前記分散要素の上流側に配置され、
2つ以上のコリメータの光軸を、非WBC次元において、互いに対して変位することによって、ビームスミアは減少する、請求項34に記載の方法。 - 2つ以上のコリメータは、スロー軸コリメータである、請求項36に記載の方法。
- 2つ以上のコリメータは、ファスト軸コリメータである、請求項36に記載の方法。
- 非WBC次元は、ビームのスロー軸に対応する、請求項34に記載の方法。
- 非WBC次元は、ビームのファスト軸に対応する、請求項34に記載の方法。
- ビームをマルチ波長ビームに合成する前に、ビームを略90°回転させることをさらに有する、請求項34に記載の方法。
- レーザシステムを位置合わせする方法であって、
前記レーザシステムは、
(i)1つまたは複数のビームを発振するようにそれぞれ構成された複数のビーム発振器と、
(ii)ビームを受けて、ビームを、波長合成(WBC)次元において、マルチ波長ビームに合成する分散要素と、
(iii)前記分散要素から前記マルチ波長ビームを受けて、出力ビームとして前記マルチ波長ビームの第1部分を透過させて、前記マルチ波長ビームの第2部分を前記分散要素に向かって反射して戻す、部分反射型出力カプラと、
を備え、
前記方法は、
前記複数のビーム発振器によって発振されるビームを、前記分散要素で前記マルチ波長ビームに合成することと、
前記分散要素からの第1次反射が、前記複数のビーム発振器に戻るように伝播することを抑制することと、
前記マルチ波長ビームのポインティングエラーを減少させることと、
を含み、
前記分散要素からの前記第1次反射が、前記複数のビーム発振器に戻るように伝播することを抑制することは、前記分散要素を、非WBC次元において、非ゼロ角度で傾斜することを含む、方法。 - 2つ以上のコリメータは、前記複数のビーム発振器の光学的下流側、及び前記分散要素の上流側に配置され、
2つ以上のコリメータの光軸を、非WBC次元において、互いに対して変位することによって、ポインティングエラーは減少する、請求項42に記載の方法。 - 2つ以上のコリメータは、スロー軸コリメータである、請求項43に記載の方法。
- 2つ以上のコリメータは、ファスト軸コリメータである、請求項43に記載の方法。
- 非WBC次元は、ビームのスロー軸に対応する、請求項42に記載の方法。
- 非WBC次元は、ビームのファスト軸に対応する、請求項42に記載の方法。
- ビームをマルチ波長ビームに合成する前に、ビームを略90°回転させることをさらに有する、請求項42に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201862745623P | 2018-10-15 | 2018-10-15 | |
US62/745,623 | 2018-10-15 | ||
PCT/US2019/055509 WO2020081335A1 (en) | 2018-10-15 | 2019-10-10 | Laser system with staircased slow-axis collimators |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022508765A JP2022508765A (ja) | 2022-01-19 |
JPWO2020081335A5 JPWO2020081335A5 (ja) | 2022-04-07 |
JP7153862B2 true JP7153862B2 (ja) | 2022-10-17 |
Family
ID=70160418
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021545363A Active JP7153862B2 (ja) | 2018-10-15 | 2019-10-10 | 階段状スロー軸コリメータを有するレーザシステム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US11183816B2 (ja) |
JP (1) | JP7153862B2 (ja) |
DE (1) | DE112019003882B4 (ja) |
WO (1) | WO2020081335A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7153862B2 (ja) * | 2018-10-15 | 2022-10-17 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 階段状スロー軸コリメータを有するレーザシステム |
DE112022003585T5 (de) * | 2021-07-16 | 2024-06-20 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Einzel-emitter-stapelung für wellenlängenstrahlkombinierende lasersysteme |
JP7412662B1 (ja) | 2023-07-12 | 2024-01-12 | 三菱電機株式会社 | レーザ装置およびレーザ加工装置 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070291812A1 (en) | 2004-06-16 | 2007-12-20 | Petersen Paul M | Segmented Diode Laser System |
US20120033697A1 (en) | 2010-08-03 | 2012-02-09 | President And Fellows Of Harvard College | Wavelength beam combining of quantum cascade laser arrays |
JP2012508453A (ja) | 2008-11-04 | 2012-04-05 | マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー | 2次元レーザ素子の外部キャビティ1次元多波長ビーム結合 |
CN102916341A (zh) | 2012-10-31 | 2013-02-06 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种单管半导体激光器合束方法 |
JP2013521666A (ja) | 2010-03-05 | 2013-06-10 | テラダイオード,インコーポレーテッド | 波長ビーム結合システムおよび方法 |
WO2014087726A1 (ja) | 2012-12-03 | 2014-06-12 | 三菱電機株式会社 | 半導体レーザ装置 |
US20150331245A1 (en) | 2012-02-22 | 2015-11-19 | Parviz Tayebati | Wavelength beam combining laser systems with micro-optics |
US20150362739A1 (en) | 2014-06-13 | 2015-12-17 | James Zambuto | Optical alignment systems and methods for wavelength beam combining laser systems |
US20160161752A1 (en) | 2013-03-15 | 2016-06-09 | Trumpf Laser Gmbh + Co. Kg | Device for wavelength combining of laser beams |
JP2018518048A (ja) | 2015-05-13 | 2018-07-05 | トルンプフ レーザー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser GmbH | 可変フィードバック制御をともなう稠密波長ビーム結合 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6894846B1 (en) * | 2003-10-30 | 2005-05-17 | Alliance Fiber Optic Products | Optical add/drop apparatus and the method for making the same |
WO2011109763A2 (en) * | 2010-03-05 | 2011-09-09 | TeraDiode, Inc. | Selective repositioning and rotation wavelength beam combining system and method |
US9256073B2 (en) | 2010-03-05 | 2016-02-09 | TeraDiode, Inc. | Optical cross-coupling mitigation system for multi-wavelength beam combining systems |
US8488245B1 (en) | 2011-03-07 | 2013-07-16 | TeraDiode, Inc. | Kilowatt-class diode laser system |
US8670180B2 (en) | 2010-03-05 | 2014-03-11 | TeraDiode, Inc. | Wavelength beam combining laser with multiple outputs |
US8724222B2 (en) | 2010-10-31 | 2014-05-13 | TeraDiode, Inc. | Compact interdependent optical element wavelength beam combining laser system and method |
US8891579B1 (en) * | 2011-12-16 | 2014-11-18 | Nlight Photonics Corporation | Laser diode apparatus utilizing reflecting slow axis collimators |
CN104428962B (zh) | 2012-02-14 | 2017-12-05 | 特拉迪欧德公司 | 二维多光束稳定器以及组合系统和方法 |
US9104029B2 (en) | 2012-02-22 | 2015-08-11 | TeraDiode, Inc. | Multi-wavelength beam combining system and method |
US9746679B2 (en) | 2012-02-22 | 2017-08-29 | TeraDiode, Inc. | Wavelength beam combining laser systems utilizing lens roll for chief ray focusing |
US9587977B2 (en) * | 2012-08-31 | 2017-03-07 | Nikon Corporation | Boresight error monitor for laser radar integrated optical assembly |
US20140240831A1 (en) | 2012-11-28 | 2014-08-28 | TeraDiode, Inc. | Stabilization of High-Power WBC Systems |
US9335551B2 (en) | 2012-11-28 | 2016-05-10 | TeraDiode, Inc. | Welding techniques using multi-wavelength beam combining systems |
WO2015191542A1 (en) | 2014-06-14 | 2015-12-17 | TeraDiode, Inc. | Stabilization of wavelength beam combining laser systems in the non-wavelength beam combining direction |
US20170222401A1 (en) | 2015-05-13 | 2017-08-03 | Trumpf Laser Gmbh | Dense wavelength beam combining with variable feedback control |
EP3184232A1 (en) * | 2015-12-23 | 2017-06-28 | Universität Stuttgart | Drilling device, method, and use |
JP7153862B2 (ja) * | 2018-10-15 | 2022-10-17 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 階段状スロー軸コリメータを有するレーザシステム |
-
2019
- 2019-10-10 JP JP2021545363A patent/JP7153862B2/ja active Active
- 2019-10-10 DE DE112019003882.6T patent/DE112019003882B4/de active Active
- 2019-10-10 WO PCT/US2019/055509 patent/WO2020081335A1/en active Application Filing
- 2019-10-10 US US16/598,001 patent/US11183816B2/en active Active
-
2021
- 2021-10-22 US US17/507,868 patent/US11682882B2/en active Active
-
2023
- 2023-05-08 US US18/144,310 patent/US20230275404A1/en active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070291812A1 (en) | 2004-06-16 | 2007-12-20 | Petersen Paul M | Segmented Diode Laser System |
JP2012508453A (ja) | 2008-11-04 | 2012-04-05 | マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー | 2次元レーザ素子の外部キャビティ1次元多波長ビーム結合 |
JP2013521666A (ja) | 2010-03-05 | 2013-06-10 | テラダイオード,インコーポレーテッド | 波長ビーム結合システムおよび方法 |
US20120033697A1 (en) | 2010-08-03 | 2012-02-09 | President And Fellows Of Harvard College | Wavelength beam combining of quantum cascade laser arrays |
US20150331245A1 (en) | 2012-02-22 | 2015-11-19 | Parviz Tayebati | Wavelength beam combining laser systems with micro-optics |
CN102916341A (zh) | 2012-10-31 | 2013-02-06 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种单管半导体激光器合束方法 |
WO2014087726A1 (ja) | 2012-12-03 | 2014-06-12 | 三菱電機株式会社 | 半導体レーザ装置 |
US20160161752A1 (en) | 2013-03-15 | 2016-06-09 | Trumpf Laser Gmbh + Co. Kg | Device for wavelength combining of laser beams |
US20150362739A1 (en) | 2014-06-13 | 2015-12-17 | James Zambuto | Optical alignment systems and methods for wavelength beam combining laser systems |
JP2018518048A (ja) | 2015-05-13 | 2018-07-05 | トルンプフ レーザー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser GmbH | 可変フィードバック制御をともなう稠密波長ビーム結合 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20220045483A1 (en) | 2022-02-10 |
CN112868150A (zh) | 2021-05-28 |
US20230275404A1 (en) | 2023-08-31 |
DE112019003882T5 (de) | 2021-04-22 |
US11183816B2 (en) | 2021-11-23 |
WO2020081335A1 (en) | 2020-04-23 |
WO2020081335A9 (en) | 2020-12-30 |
US20200119525A1 (en) | 2020-04-16 |
US11682882B2 (en) | 2023-06-20 |
JP2022508765A (ja) | 2022-01-19 |
DE112019003882B4 (de) | 2022-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11353715B2 (en) | Wavelength beam combining laser systems utilizing lens roll for chief ray focusing | |
JP6547072B2 (ja) | ビーム品質改良および帯域幅低減のためのプリズムを利用する波長ビーム組み合わせレーザシステム | |
US9350141B2 (en) | Stabilization of wavelength beam combining laser systems in the non-wavelength beam combining direction | |
JP7153862B2 (ja) | 階段状スロー軸コリメータを有するレーザシステム | |
WO2015191659A1 (en) | Optical alignment systems and methods for wavelength beam combining laser systems | |
JP7126137B2 (ja) | 波長合成技術用レーザシステムにおけるパワー及びスペクトラムのモニタリング | |
US8817832B2 (en) | Multi-wavelength diode laser array | |
JP6585171B2 (ja) | 波長ビーム結合レーザシステムのための光学相互結合軽減システム | |
US11914166B2 (en) | Systems and methods for alignment of wavelength beam combining resonators | |
CN112868150B (zh) | 具有阶梯式慢轴准直器的激光系统 | |
JPWO2020081335A5 (ja) | ||
WO2015191451A1 (en) | Wavelength beam combining laser systems utilizing lens roll for chief ray focusing |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210611 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220330 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220502 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220602 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220823 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220920 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7153862 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |