JP7141324B2 - Fixed structure of rotating shaft and rotating member - Google Patents

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本発明は、回転軸と回転部材の固定構造に関する。 The present invention relates to a fixing structure for a rotating shaft and a rotating member.

近年、静電誘導変換器を備えた時計が提案されている(例えば、特許文献1参照)。この時計に組み込まれた静電誘導変換器は、回転する回転部材と、固定された対向基板と、回転部材又は対向基板の一方に設けられた帯電膜と、他方に、帯電膜に対向して設けられた対向電極と、を有する。 In recent years, a timepiece equipped with an electrostatic induction converter has been proposed (see, for example, Patent Document 1). The electrostatic induction transducer incorporated in this timepiece includes a rotating rotating member, a fixed opposing substrate, a charged film provided on one of the rotating member and the opposing substrate, and a charged film facing the charged film on the other. and a counter electrode provided.

回転部材は、例えば機械式時計における、腕の振りによってゼンマイを自動的に巻き上げる自動巻き機構に用いられている回転錘に連結することで回転する。回転部材が回転することで、帯電膜と対向電極との間で相対的な動き(回転)が生じ、この相対的な動きにより、帯電膜と対向電極との平面視で重なる領域の面積が変化して、帯電膜と対向電極との間で交流電流が発生し、発電を行う。帯電膜は、いわゆるエレクトレット材料、つまり電荷を帯びた誘電体で形成され、自ら電場を形成する。 The rotating member rotates by being connected to an oscillating weight used in an automatic winding mechanism that automatically winds the mainspring by swinging the arm, for example, in a mechanical watch. As the rotating member rotates, relative movement (rotation) occurs between the charged film and the counter electrode, and this relative movement changes the area of the area where the charged film and the counter electrode overlap in plan view. As a result, an alternating current is generated between the charged film and the counter electrode to generate power. The charged film is made of a so-called electret material, that is, a dielectric with a charge, and creates an electric field by itself.

特開2016-142721号公報JP 2016-142721 A

ここで、静電誘導変換器は、帯電膜と対向基板との間の隙間が狭い程、発電量やモータとしての駆動力を増大させることができ、隙間の寸法は例えば数十[μm]という極狭い間隔に設定されている。また、帯電膜と対向基板との間の隙間は、上述した極狭い間隔であるため、回転したときに隙間が変化しないように、高い平面度が求められる。 Here, in the electrostatic induction converter, the narrower the gap between the charging film and the opposing substrate, the greater the amount of power generation and the driving force of the motor. set at very close intervals. Further, since the gap between the charging film and the opposing substrate is extremely narrow as described above, high flatness is required so that the gap does not change when rotated.

回転体は、時計の歯車輪列を構成する個々の歯車部材と同様に、歯車に相当する回転板と、回転板の中心に設けられた、真に相当する回転軸と、で構成されている。歯車部材の場合は、歯車の中心に形成された孔に、真を圧入して構成されるのが一般的である。 The rotating body is composed of a rotating plate corresponding to the gear and a truly corresponding rotating shaft provided at the center of the rotating plate, similar to the individual gear members that make up the gear train of the clock. . In the case of a gear member, it is generally constructed by press-fitting a stem into a hole formed in the center of the gear.

しかし、静電誘導変換器の回転体においては、上述したように、回転板に対して高い平面度が求められており、歯車部材と同様に回転軸を回転板に圧入すると、回転板は、回転軸の圧入によって歪み、求められる平面度を確保することができない。 However, in the rotating body of the electrostatic induction converter, as described above, the rotating plate is required to have a high degree of flatness. Press-fitting of the rotating shaft causes distortion, and the required flatness cannot be secured.

本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、回転板に対して回転軸を圧入することなく固定することができる回転板と回転軸との固定構造を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a structure for fixing a rotating plate and a rotating shaft, which can fix the rotating shaft without press-fitting the rotating plate to the rotating plate.

本発明は、回転軸が固定される孔が形成され、前記回転軸の軸回りの外周縁が異形に形成された回転規制部材と、前記回転規制部材の外周縁と係合した異形の内周縁を有する回転板と、前記回転板を前記回転軸の軸方向の両側から挟んだ、前記回転軸に固定された2つの回転板押さえ板と、を備えた回転板と回転軸との固定構造である。 The present invention comprises a rotation restricting member having a hole in which a rotating shaft is fixed and an outer peripheral edge around the axis of the rotating shaft formed in an irregular shape, and an irregular inner peripheral edge engaged with the outer peripheral edge of the rotation restricting member. and two rotating plate pressing plates fixed to the rotating shaft sandwiching the rotating plate from both sides in the axial direction of the rotating shaft. be.

本発明に係る回転板と回転軸との固定構造によれば、回転板に対して回転軸を圧入することなく固定することができる。 According to the fixing structure of the rotating plate and the rotating shaft according to the present invention, the rotating shaft can be fixed to the rotating plate without being press-fitted.

本発明に係る回転体と回転軸との固定構造の一実施形態で固定された回転部材を含む静電誘導変換器の一部を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing part of an electrostatic induction converter including a rotating member fixed in one embodiment of a structure for fixing a rotating body and a rotating shaft according to the present invention; FIG. 図1の回転部材の固定構造の詳細を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing details of a fixing structure of the rotary member in FIG. 1; 図2の回転部材を構成している回転板を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a rotating plate that constitutes the rotating member of FIG. 2; 図4は回転部材を構成している回転止め板(回転規制部材の一例)を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a rotation stopping plate (an example of a rotation restricting member) that constitutes the rotating member. 回転部材を構成している2つの回転板押さえ板を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing two rotating plate holding plates that constitute the rotating member; 図2に示した実施形態の変形例1を示す図2相当の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 showing Modification 1 of the embodiment shown in FIG. 2 ; 図2に示した実施形態の変形例2を示す図2相当の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 showing Modification 2 of the embodiment shown in FIG. 2 ; 図6に示した変形例1のさらなる変形例3を示す図6相当の断面図である。7 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 6 showing a further modified example 3 of the modified example 1 shown in FIG. 6. FIG. 図7に示した変形例2のさらなる変形例4を示す図7相当の断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 7 showing a further modified example 4 of the modified example 2 shown in FIG. 7; 図3に示した実施形態の変形例5を示す図3相当の平面図である。It is a top view equivalent to FIG. 3 which shows the modification 5 of embodiment shown in FIG. 図10に示した変形例5のさらなる変形例6を示す図10相当の平面図である。FIG. 11 is a plan view corresponding to FIG. 10 showing a further modified example 6 of the modified example 5 shown in FIG. 10; 図11に示した変形例6の、図1相当の断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 1 of Modification 6 shown in FIG. 11 ; 図10に示した変形例5の別の変形例7を示す図10相当の平面図である。11 is a plan view corresponding to FIG. 10 showing another modified example 7 of the modified example 5 shown in FIG. 10. FIG.

以下、本発明に係る回転板と回転軸との固定構造の実施形態について、図面を用いて説明する。 EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of the fixing structure of the rotating plate and rotating shaft which concern on this invention is described using drawing.

<実施形態>
図1は本発明に係る回転体と回転軸との固定構造の一実施形態で固定された回転部材100を含む静電誘導変換器の一部を示す断面図、図2は図1の回転部材100の固定構造の詳細を示す断面図、図3は図2の回転部材100を構成している回転板20を示す平面図、図4は回転部材100を構成している回転止め板30(回転規制部材の一例)を示す平面図、図5は回転部材100を構成している2つの回転板押さえ板41,42を示す平面図である。
<Embodiment>
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a part of an electrostatic induction converter including a rotating member 100 fixed by one embodiment of a fixing structure for a rotating body and a rotating shaft according to the present invention, and FIG. 2 is a rotating member of FIG. FIG. 3 is a plan view showing the rotating plate 20 constituting the rotating member 100 of FIG. 2; FIG. 5 is a plan view showing two rotary plate holding plates 41 and 42 that constitute the rotary member 100. FIG.

(静電誘導変換器)
図1に示した静電誘導変換器は、例えば、腕時計の内部に設けられている。回転部材100と、回転部材100の回転板20のおもて面20aに対向して配置されたおもて面側の対向基板210と、回転板20の裏面20bに対向して配置された裏面側の対向基板220と、図示を略した電力制御回路と、を有している。
(electrostatic induction converter)
The electrostatic induction converter shown in FIG. 1 is provided inside, for example, a wristwatch. A rotating member 100, a front facing substrate 210 disposed facing the front surface 20a of the rotating plate 20 of the rotating member 100, and a back surface disposed facing the back surface 20b of the rotating plate 20. side opposite substrate 220 and a power control circuit (not shown).

おもて面側の対向基板210及び裏面側の対向基板220は、回転板20のおもて面20a及び裏面20bに対してそれぞれ平行に、かつ、例えば30[μm]程度の間隔を以て、回転板20に接触しないように配置されている。おもて面側の対向基板210及び裏面側の対向基板220は、腕時計の例えばケースやムーブメントの地板等に固定されていて動かない。 The opposed substrate 210 on the front side and the opposed substrate 220 on the back side are rotated in parallel with the front surface 20a and the back surface 20b of the rotating plate 20, respectively, with an interval of about 30 [μm], for example. It is arranged so as not to contact the plate 20 . The facing substrate 210 on the front side and the facing substrate 220 on the back side are fixed to, for example, the case of the wristwatch or the main plate of the movement and do not move.

回転板20は、図2,3に示すように、おもて面20aと裏面20bとにそれぞれ、帯電膜22,23が形成されている。一方、おもて面側の対向基板210の、回転板20のおもて面20aに対向する面には対向電極212が形成され、裏面側の対向基板220の、回転板20の裏面20bに対向する面には対向電極222が形成されている。 As shown in FIGS. 2 and 3, the rotating plate 20 has charging films 22 and 23 formed on the front surface 20a and the back surface 20b, respectively. On the other hand, a counter electrode 212 is formed on the surface of the counter substrate 210 on the front side facing the front surface 20 a of the rotating plate 20 , and the counter electrode 212 is formed on the back surface 20 b of the rotating plate 20 on the counter substrate 220 on the back surface side. A counter electrode 222 is formed on the facing surface.

そして、回転部材100が回転することで、帯電膜22と対向電極212との間及び帯電膜23と対向電極222との間で相対的な動き(回転)が生じ、この相対的な動きにより、帯電膜22と対向電極212との平面視で重なる領域の面積及び帯電膜23と対向電極222との平面視で重なる領域の面積が変化する。これにより、帯電膜22と対向電極212との間及び帯電膜23と対向電極222との間でそれぞれ交流電流が発生して発電され、この発電された電気エネルギが図示しない電力制御回路に入力される。 As the rotating member 100 rotates, relative movement (rotation) occurs between the charging film 22 and the counter electrode 212 and between the charging film 23 and the counter electrode 222. The area of the overlapping region between the charged film 22 and the counter electrode 212 in plan view and the area of the overlapping region between the charged film 23 and the counter electrode 222 in plan view change. As a result, AC currents are generated between the charging film 22 and the counter electrode 212 and between the charging film 23 and the counter electrode 222, respectively, to generate power, and the generated electrical energy is input to a power control circuit (not shown). be.

(回転部材)
回転部材100は、図2に示すように、回転軸10と、回転板20と、回転止め板30と、2つの回転板押さえ板41,42と、を備えた構成である。回転軸10は金属材料で形成されている。回転軸10は、外部からの駆動力を受けて軸心C回りに回転する。
(Rotating member)
As shown in FIG. 2, the rotating member 100 includes a rotating shaft 10, a rotating plate 20, a rotation stop plate 30, and two rotating plate holding plates 41 and 42. As shown in FIG. The rotating shaft 10 is made of a metal material. The rotating shaft 10 rotates around the axis C by receiving a driving force from the outside.

回転止め板30は、金属材料で形成されている。回転止め板30は、図2,4に示すように、中心(軸心Cに一致)に、回転軸10が圧入される孔31bが形成され、軸心C回りの外周縁31aが、例えば鍵穴状に形成されている。ここで、鍵穴状は、円形と矩形とが、少なくとも一部同士が平面視で重なり合って形成された最外形の形状である。 The rotation stop plate 30 is made of a metal material. As shown in FIGS. 2 and 4, the rotation stop plate 30 has a hole 31b formed in the center (coincident with the axis C) into which the rotating shaft 10 is press-fitted, and an outer peripheral edge 31a around the axis C formed by, for example, a keyhole. formed in the shape of Here, the keyhole shape is an outermost shape formed by at least partially overlapping a circle and a rectangle in plan view.

なお、回転止め板30の外周縁31aの形状は鍵穴状に限定されず、軸心C回りの真円以外であればよい。すなわち、軸心Cからの距離が軸心C回りの周方向において一部でも異なる外周縁31aの形状(異形)であれば、多角形や、楕円形、星形等種々の形状を適用することができる。 Note that the shape of the outer peripheral edge 31a of the rotation stop plate 30 is not limited to a keyhole shape, and any shape other than a perfect circle around the axis C may be used. That is, as long as the shape (deformed shape) of the outer peripheral edge 31a differs even partially in the circumferential direction around the axis C from the axis C, various shapes such as a polygon, an ellipse, and a star can be applied. can be done.

孔31bは回転軸10が圧入されるため、その圧入された状態では、回転止め板30は回転軸10との間で滑りが生じることなく一体に回転する。なお、回転止め板30は、板厚(軸心C方向に沿った寸法)が、後述する回転板20の基板21の板厚よりも薄いことが好ましい。 Since the rotating shaft 10 is press-fitted into the hole 31b, the rotation stop plate 30 rotates integrally with the rotating shaft 10 without slippage in the press-fitted state. It should be noted that the plate thickness (dimension along the direction of the axis C) of the rotation stop plate 30 is preferably thinner than the plate thickness of the substrate 21 of the rotating plate 20 described later.

回転板20は、図2,3に示すように、円板状の基板21と、この基板21の両面(おもて面21a、裏面21b)にそれぞれ形成された帯電膜22,23と、を有する。基板21のおもて面21aは、回転板20のおもて面20aに対応し、基板21の裏面21bは、回転板20の裏面20bに対応している。そして、おもて面21aに帯電膜22が形成され、裏面21bに帯電膜23が形成されている。 As shown in FIGS. 2 and 3, the rotary plate 20 includes a disc-shaped substrate 21 and charged films 22 and 23 formed on both sides (a front surface 21a and a rear surface 21b) of the substrate 21, respectively. have. The front surface 21 a of the substrate 21 corresponds to the front surface 20 a of the rotating plate 20 , and the back surface 21 b of the substrate 21 corresponds to the back surface 20 b of the rotating plate 20 . A charging film 22 is formed on the front surface 21a, and a charging film 23 is formed on the back surface 21b.

基板21は、例えば金属材料で形成されているが、樹脂材料等、金属材料以外の材料で形成されていてもよい。基板21は、中心(軸心Cに一致)に、回転止め板30の外周縁31aに対応した内周縁で形成された孔21cを有する。孔21cは、具体的には、回転止め板30の外周縁31aと同じ形状である鍵穴状に形成され、回転止め板30の外周縁31aより僅かに大きく形成されている。したがって、孔21cに回転止め板30を嵌め合わせた状態では、回転止め板30は孔21cに緩く挿入された状態となる。 The substrate 21 is made of, for example, a metal material, but may be made of a material other than the metal material, such as a resin material. The substrate 21 has a hole 21c formed in the center (aligned with the axis C) with an inner peripheral edge corresponding to the outer peripheral edge 31a of the rotation stop plate 30. As shown in FIG. Specifically, the hole 21 c is formed in a keyhole shape having the same shape as the outer peripheral edge 31 a of the rotation stopping plate 30 and is slightly larger than the outer peripheral edge 31 a of the rotation stopping plate 30 . Therefore, when the rotation stop plate 30 is fitted in the hole 21c, the rotation stop plate 30 is loosely inserted into the hole 21c.

ただし、この緩く挿入された状態であっても、回転止め板30が孔21cに対して空回りすることは無く、回転止め板30が軸心C回りに回転すると、回転止め板30の外周縁31aの鍵穴形状が基板21の孔21cの鍵穴形状に引っ掛かって、基板21も回転止め板30とともに軸心C回りに回転する。 However, even in this loosely inserted state, the anti-rotation plate 30 does not idle with respect to the hole 21c. is caught in the keyhole shape of the hole 21c of the substrate 21, and the substrate 21 rotates around the axis C together with the rotation stop plate 30. As shown in FIG.

帯電膜22,23は、いわゆるエレクトレット材料、つまり電荷を帯びた誘電体で形成されていて、自ら電場を形成する。帯電膜22と帯電膜23とは、基板21に形成されている面の違い(おもて面21aであるか、又は裏面21bであるか、の違い)に対応した符号の違いであり、材質、特性、形状、数量等は全く同じである。 The charged films 22 and 23 are made of a so-called electret material, that is, a charged dielectric, and form an electric field by themselves. The charging film 22 and the charging film 23 are different in sign corresponding to the difference in the surface formed on the substrate 21 (the difference in whether it is the front surface 21a or the back surface 21b). , characteristics, shape, quantity, etc. are exactly the same.

帯電膜として用いられるエレクトレット材料は、帯電しやすい材料を用い、例えばマイナスに帯電する材料としてはシリコン酸化物(SiO)や、フッ素樹脂材料などを用いる。具体的には一例としてマイナスに帯電する材料として旭硝子製のフッ素樹脂材料であるCYTOP(登録商標)などがある。 As the electret material used as the charging film, a material that is easily charged is used. For example, silicon oxide (SiO 2 ), fluororesin material, or the like is used as a negatively charged material. Specifically, as a material that is negatively charged, there is CYTOP (registered trademark), which is a fluororesin material manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., and the like.

エレクトレット材料としてはそのほかに、高分子材料としてポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリビニルクロライド(PVC)、ポリスチレン(PS)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリビニルデンジフルオライド(PVDF)、ポリビニルフルオライド(PVF)などがあり、無機材料としては前述したシリコン酸化物(SiO2)やシリコン窒化物(SiN)なども使用することができる。その他、周知の帯電膜を使用することができる。 As electret materials, polymer materials such as polypropylene (PP), polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl chloride (PVC), polystyrene (PS), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinylidene difluoride (PVDF), polyvinyl Fluoride (PVF) and the like can be used, and as inorganic materials, silicon oxide (SiO2) and silicon nitride (SiN) mentioned above can also be used. In addition, a well-known charging film can be used.

帯電膜22,23は、図3に示すように、一つ一つは扇状に形成され、その扇状の帯電膜22,23が、中心(軸心C)回りの等角度間隔で周方向に複数(図3においては、例えば18個)設けられている。 As shown in FIG. 3, each of the charged films 22 and 23 is formed in a fan shape, and the fan-shaped charged films 22 and 23 are arranged circumferentially at equal angular intervals around the center (axis C). (For example, 18 in FIG. 3) are provided.

回転板押さえ板41,42は、金属材料で形成されている。回転板押さえ板41,42は、図5に示すように、中心(軸心Cに一致)に、回転軸10が圧入される孔41b,42bが形成され、外周縁41a,42aが中心からの距離が周方向に一定である真円に形成された円板状の部材である。 The rotating plate holding plates 41 and 42 are made of a metal material. As shown in FIG. 5, the rotating plate holding plates 41 and 42 have holes 41b and 42b formed in the center (coincident with the axis C) into which the rotating shaft 10 is press-fitted, and the outer peripheral edges 41a and 42a extend from the center. It is a disk-shaped member formed in a perfect circle with a constant distance in the circumferential direction.

回転板押さえ板41,42は、図2に示すように、回転板20の基板21を回転軸10の軸方向の両側から挟んだ配置となるように、回転軸10がそれぞれ圧入される。なお、図2において、回転軸10の、回転板押さえ板41に上側から接している段付きの部分は、回転軸10の軸部11に一体に形成された、腕時計の輪列機構に用いられる車のかな12である。なお、回転軸10にかな12は形成されていなくてもよい。 As shown in FIG. 2, the rotating shaft 10 is press-fitted into the rotating plate pressing plates 41 and 42 so that the substrate 21 of the rotating plate 20 is sandwiched from both sides of the rotating shaft 10 in the axial direction. In FIG. 2, the stepped portion of the rotating shaft 10 that is in contact with the rotating plate holding plate 41 from above is used in the train wheel mechanism of the wristwatch, which is integrally formed with the shaft portion 11 of the rotating shaft 10. It is Kana 12 of the car. Note that the pinion 12 may not be formed on the rotary shaft 10 .

なお、2つの回転板押さえ板41,42は、図5においては同一のものとして記載しているが、実際は図2に示すように、外径及び中心に形成されている孔41b,42bの内径が互いに異なる。 Although the two rotating plate holding plates 41 and 42 are shown as being identical in FIG. 5, actually, as shown in FIG. are different from each other.

具体的には、図2に示すように、回転板押さえ板42の外径は回転板押さえ板41の外径よりも僅かに小さく、回転板押さえ板42の内径は回転板押さえ板41の内径よりも僅かに小さい。ただし、2つの回転板押さえ板41,42は、外径及び内径が同一であってもよいし、外径のみ又は内径のみが互いに異なっていてもよい。 Specifically, as shown in FIG. slightly smaller than However, the two rotary plate pressing plates 41 and 42 may have the same outer diameter and inner diameter, or may differ only in outer diameter or inner diameter.

両回転板押さえ板41,42は、外径が、回転板20の孔21cよりも大きく設定され、内径が、軸部11が圧入可能の寸法に設定されていればよく、両回転板押さえ板41,42が同じであるか否かを問わない。 Both rotating plate holding plates 41 and 42 need only have an outer diameter set larger than the hole 21c of the rotating plate 20 and an inner diameter set to a dimension that allows the shaft portion 11 to be press-fitted. It does not matter whether 41 and 42 are the same.

図2に示した回転部材100は、回転軸10の軸部11に、図示下方から、回転板押さえ板41が、孔41bに軸部11を圧入するように挿入させて、回転板押さえ板41を、かな12の下面に突き当てた状態に配置する。軸部11と孔41bとが圧入されているため、回転板押さえ板41は回転軸10と一体に、軸心C回りに回転する。また、軸部11と孔41bとが圧入されているため、回転板押さえ板41は、軸心C方向についても固定されていて動かない。 The rotary member 100 shown in FIG. 2 is inserted into the shaft portion 11 of the rotary shaft 10 from below in the figure so that the rotary plate holding plate 41 is press-fitted into the hole 41b. is arranged in a state of abutting against the lower surface of the kana 12.例文帳に追加Since the shaft portion 11 and the hole 41b are press-fitted, the rotating plate pressing plate 41 rotates around the axis C integrally with the rotating shaft 10. As shown in FIG. Further, since the shaft portion 11 and the hole 41b are press-fitted, the rotating plate holding plate 41 is also fixed in the axial center C direction and does not move.

回転板押さえ板41の図示下方には、孔31bに軸部11を圧入するように挿入させて、回転止め板30を、回転板押さえ板41の下面に突き当てた状態に配置する。軸部11と孔31bとが圧入されているため、回転止め板30は回転軸10と一体に、軸心C回りに回転する。回転止め板30は軸部11に圧入されているため、軸心C方向についても固定されていて動かない。 Below the rotating plate holding plate 41 in the drawing, the shaft portion 11 is inserted into the hole 31 b so as to press fit, and the rotation stop plate 30 is arranged in a state of abutting against the lower surface of the rotating plate holding plate 41 . Since the shaft portion 11 and the hole 31b are press-fitted, the rotation stopping plate 30 rotates around the axis C integrally with the rotating shaft 10. As shown in FIG. Since the rotation stop plate 30 is press-fitted onto the shaft portion 11, it is also fixed in the axial center C direction and does not move.

回転止め板30の半径方向外側には、孔21cに回転止め板30の外周縁31aに嵌め合わせて、おもて面20aを図示上方に向けた姿勢で、回転板20を軸部11に挿入し、基板21のおもて面21aを回転板押さえ板41に突き当てた状態に配置する。孔21cは回転止め板30の外周縁31aより大きく形成されているため、回転板20は、回転止め板30が圧入されて状態ではなく、緩く挿入された状態となる。 The outer peripheral edge 31a of the rotation stop plate 30 is fitted into the hole 21c on the radially outer side of the rotation stop plate 30, and the rotation plate 20 is inserted into the shaft portion 11 with the front surface 20a facing upward in the drawing. Then, the front surface 21 a of the substrate 21 is placed in a state of abutting against the rotating plate pressing plate 41 . Since the hole 21c is formed to be larger than the outer peripheral edge 31a of the rotation stop plate 30, the rotation stop plate 30 is not press-fitted, but loosely inserted.

回転止め板30及び回転板20の図示下方には、回転板押さえ板42を、図示下方から、孔42bに軸部11を圧入するように挿入させて、回転板押さえ板42を、回転板20の基板21の裏面21bに突き当てた状態に配置する。軸部11と孔42bとが圧入されているため、回転板押さえ板42は回転軸10と一体に、軸心C回りに回転する。また、軸部11と孔42bとが圧入されているため、回転板押さえ板42は、軸心C方向についても固定されていて動かない。 Below the rotation stopping plate 30 and the rotating plate 20 in the figure, the rotating plate holding plate 42 is inserted from below in the figure so that the shaft portion 11 is press-fitted into the hole 42b. is placed in a state of being abutted against the rear surface 21b of the substrate 21 of FIG. Since the shaft portion 11 and the hole 42b are press-fitted, the rotating plate holding plate 42 rotates around the axis C integrally with the rotating shaft 10. As shown in FIG. Further, since the shaft portion 11 and the hole 42b are press-fitted, the rotating plate holding plate 42 is also fixed in the axial center C direction and does not move.

回転止め板30の板厚は、基板21の板厚よりも薄く、しかも、回転止め板30は、上方の回転板押さえ板41に突き当てられた状態で固定されているため、下方から圧入された回転板押さえ板42は、回転止め板30の下面には接触せず、回転板20の基板21の裏面21bにのみ接した状態で配置される。 The plate thickness of the rotation stop plate 30 is thinner than the plate thickness of the substrate 21, and the rotation stop plate 30 is fixed in a state of being abutted against the upper rotating plate holding plate 41, so that it is press-fitted from below. The rotating plate holding plate 42 is arranged in a state of contacting only the rear surface 21b of the substrate 21 of the rotating plate 20 without contacting the lower surface of the rotation stop plate 30 .

なお、2つの回転板押さえ板41,42は、図5においては同一のものとして記載しているが、実際は図2に示すように、外径及び中心に形成されている孔41b,42bの内径が互いに異なる。 Although the two rotating plate holding plates 41 and 42 are shown as being identical in FIG. 5, actually, as shown in FIG. are different from each other.

具体的には、図2に示すように、回転板押さえ板42の外径は回転板押さえ板41の外径よりも僅かに小さく、回転板押さえ板42の内径は回転板押さえ板41の内径よりも僅かに小さい。ただし、2つの回転板押さえ板41,42は、外径及び内径が同一であってもよいし、外径のみ又は内径のみが互いに異なっていてもよい。 Specifically, as shown in FIG. slightly smaller than However, the two rotary plate pressing plates 41 and 42 may have the same outer diameter and inner diameter, or may differ only in outer diameter or inner diameter.

以上のように構成された実施形態の、回転板20と回転軸10との固定構造によれば、回転板20は、軸心C方向については、回転軸10に圧入して固定された2つの回転板押さえ板41,42に挟まれた状態となるため、軸心C方向の位置が固定される。 According to the fixing structure of the rotating plate 20 and the rotating shaft 10 of the embodiment configured as described above, the rotating plate 20 is press-fitted and fixed to the rotating shaft 10 in the axial center C direction. Since it is in a state of being sandwiched between the rotary plate holding plates 41 and 42, the position in the direction of the axis C is fixed.

また、本実施形態の、回転板20と回転軸10との固定構造によれば、回転板20は、軸心C回りの回転方向については、回転軸10に圧入して固定された回転止め板30の外周縁31aと、回転板20の孔21cとの係合により、回転止め板30と疑似的に一体化され、回転止め板30とともに回転する。 Further, according to the fixing structure of the rotating plate 20 and the rotating shaft 10 of the present embodiment, the rotating plate 20 is a rotation stopper plate press-fitted to the rotating shaft 10 and fixed in the rotating direction about the axis C. The engagement between the outer peripheral edge 31a of the rotary plate 20 and the hole 21c of the rotary plate 20 virtually integrates the rotary plate 30 and rotates together with the rotary plate 30 .

したがって、本実施形態の、回転板20と回転軸10との固定構造によれば、回転板20に回転軸10を圧入することなく、回転板20を回転軸10に固定することができる。これにより、回転板20に回転軸10を圧入した場合に生じ得る回転板20の歪が発生せず、回転板20のおもて面20a及び裏面20bの平面度を高く維持することができる。 Therefore, according to the fixing structure of the rotating plate 20 and the rotating shaft 10 of this embodiment, the rotating plate 20 can be fixed to the rotating shaft 10 without press-fitting the rotating shaft 10 into the rotating plate 20 . As a result, the distortion of the rotating plate 20 which may occur when the rotating shaft 10 is press-fitted into the rotating plate 20 does not occur, and the flatness of the front surface 20a and the back surface 20b of the rotating plate 20 can be maintained at a high level.

したがって、本実施形態の、回転板20と回転軸10との固定構造が適用されて構成された回転部材100を、図1に示した静電誘導変換器に用いた場合に、回転板20と対向基板210,220との間の隙間を、例えば数十[μm]という極めて狭い一定寸法で、高精度に維持することができる。 Therefore, when the rotating member 100 configured by applying the fixing structure of the rotating plate 20 and the rotating shaft 10 of the present embodiment is used in the electrostatic induction converter shown in FIG. The gap between the opposing substrates 210 and 220 can be maintained at a very narrow constant dimension of, for example, several tens [μm] with high accuracy.

このことは、回転板20と対向基板210,220との間の隙間を極めて狭い一定寸法で高精度に維持する必要がある静電誘導変換器を、腕時計という狭い空間内に、初めて実装することを実現したものであり、極めて有用な効果を発揮する。 This is the first time that an electrostatic induction converter, which must maintain an extremely narrow gap between the rotating plate 20 and the opposing substrates 210 and 220 at a constant size with high accuracy, is mounted in the narrow space of a wristwatch. is realized, and extremely useful effects are exhibited.

本実施形態の、回転板20と回転軸10との固定構造は、回転止め板30の板厚が、基板21の板厚よりも薄いため、2つの回転板押さえ板41,42は、回転止め板30を挟むことなく回転板20のみを挟むことができ、これにより、回転板20を、軸心C方向にがたつかせることなく固定することができる。 In the fixing structure of the rotating plate 20 and the rotating shaft 10 of the present embodiment, since the plate thickness of the rotation stopper plate 30 is thinner than the plate thickness of the substrate 21, the two rotating plate pressing plates 41 and 42 are Only the rotating plate 20 can be sandwiched without sandwiching the plate 30, whereby the rotating plate 20 can be fixed without rattling in the axial center C direction.

上記説明は、2つの回転板押さえ板41,42及び回転止め板30と回転軸10とを圧入によって固定する例であるが、2つの回転板押さえ板41,42及び回転止め板30と回転軸10との固定は、圧入という固定に限定されず、接着や溶接といった固定を適用することもできる。 The above description is an example in which the two rotary plate holding plates 41 and 42 and the rotation stop plate 30 and the rotary shaft 10 are fixed by press-fitting. The fixation with 10 is not limited to fixation by press fitting, and fixation by adhesion or welding can also be applied.

<変形例1>
図6は図2に示した実施形態の変形例1を示す図2相当の断面図である。
<Modification 1>
FIG. 6 is a sectional view corresponding to FIG. 2 showing Modification 1 of the embodiment shown in FIG.

上述した実施形態の、回転板20と回転軸10との固定構造は、回転板20を軸心C方向に固定する回転板押さえ板41,42が、他の部材とは独立した別体の部材であったが、これらの回転板押さえ板41,42は他の部材と一体に形成されたものでもよい。 In the fixing structure of the rotating plate 20 and the rotating shaft 10 of the above-described embodiment, the rotating plate holding plates 41 and 42 for fixing the rotating plate 20 in the direction of the axis C are separate members independent of other members. However, these rotating plate holding plates 41 and 42 may be formed integrally with other members.

例えば、図6に示すように、図2に示した実施形態における回転止め板30と下側の回転板押さえ板42とに代えて、回転止め板30と回転板押さえ板42とが一体に形成された回転止め及び押さえ部材43を適用した変形例1も、上述した実施形態と同様の作用効果を発揮することができる。しかも、構成部品の点数を低減する効果もある。 For example, as shown in FIG. 6, the rotation stopping plate 30 and the rotating plate holding plate 42 are integrally formed instead of the rotation stopping plate 30 and the lower rotating plate holding plate 42 in the embodiment shown in FIG. Modification 1, in which the rotation stopper and pressing member 43 are applied, can also exhibit the same effects as the above-described embodiment. Moreover, there is also the effect of reducing the number of component parts.

<変形例2>
図7は図2に示した実施形態の変形例2を示す図2相当の断面図である。
<Modification 2>
FIG. 7 is a sectional view corresponding to FIG. 2 showing Modification 2 of the embodiment shown in FIG.

また、図7に示すように、図2に示した実施形態における回転止め板30と上側の回転板押さえ板41とに代えて、回転止め板30と回転板押さえ板41とが一体に形成された回転止め及び押さえ部材44を適用した変形例2も、上述した実施形態と同様の作用効果を発揮することができる。しかも、構成部品の点数を低減する効果もある。 Further, as shown in FIG. 7, instead of the rotation stopping plate 30 and the upper rotating plate pressing plate 41 in the embodiment shown in FIG. Modification 2, in which the rotation stopper and pressing member 44 are applied, can also exhibit the same effects as the above-described embodiment. Moreover, there is also the effect of reducing the number of component parts.

<変形例3>
図8は図6に示した変形例1のさらなる変形例3を示す図6相当の断面図である。
<Modification 3>
8 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 6 showing a further modified example 3 of the modified example 1 shown in FIG.

また、図8に示すように、図6に示した変形例1における回転軸10のかな12が上側の回転板押さえ板41を兼用するように、かな12の外径を大きく形成し、かな12が回転板20を押さえる機能を発揮する構成としてもよい。このように構成された変形例3も、上述した実施形態と同様の作用効果を発揮することができる。しかも、構成部品の点数をさらに低減する効果もある。 Further, as shown in FIG. 8, the outer diameter of the pinion 12 is formed large so that the pinion 12 of the rotating shaft 10 in the modified example 1 shown in FIG. may have a function of pressing the rotating plate 20 . Modification 3 configured in this manner can also exhibit the same effects as the above-described embodiment. Moreover, there is also the effect of further reducing the number of component parts.

<変形例4>
図9は図7に示した変形例2のさらなる変形例4を示す図7相当の断面図である。
<Modification 4>
FIG. 9 is a sectional view corresponding to FIG. 7 showing a further modified example 4 of the modified example 2 shown in FIG.

また、図9に示すように、図7に示した変形例1における回転軸10のかな12が回転止め及び押さえ部材44を兼用するように、かな12の外径を大きく形成し、かな12が回転板20を押さえる機能を発揮する構成としてもよい。このように構成された変形例4も、上述した実施形態と同様の作用効果を発揮することができる。しかも、構成部品の点数をさらに低減する効果もある。 Further, as shown in FIG. 9, the outer diameter of the pinion 12 is formed large so that the pinion 12 of the rotating shaft 10 in the modified example 1 shown in FIG. It may be configured to exhibit the function of holding down the rotating plate 20 . Modification 4 configured in this way can also exhibit the same effects as the embodiment described above. Moreover, there is also the effect of further reducing the number of component parts.

<変形例5>
図10は図3に示した実施形態の変形例5を示す図3相当の平面図である。
<Modification 5>
FIG. 10 is a plan view corresponding to FIG. 3 showing Modification 5 of the embodiment shown in FIG.

実施形態における回転板20は、図3に示したように、円板状の基板21に、中心回りに扇状の帯電膜22,23が所定角度間隔で複数形成されたものであるが、回転板20において静電誘導変換器の発電動作を担う部分は、帯電膜22,23の部分のみである。したがって、回転板20のうち基板21に、帯電膜22,23が形成されていない部分は、発電動作の観点からは無くてもよい。 As shown in FIG. 3, the rotating plate 20 in the embodiment is composed of a disc-shaped substrate 21 and a plurality of fan-shaped charged films 22 and 23 formed around the center at predetermined angular intervals. Only the charging films 22 and 23 are responsible for the power generation operation of the electrostatic induction converter 20 . Therefore, from the viewpoint of power generation operation, portions of the rotating plate 20 where the charging films 22 and 23 are not formed on the substrate 21 may be omitted.

そこで、図10に示すように、回転板120(実施形態における回転板20に対応)の基板121(実施形態における基板21に対応)を、帯電膜122,123(実施形態における帯電膜22,23に対応)の形成されている部分及び中心部(実施形態における孔21cに対応する孔121cが形成された部分)を除いて、除去した構成としてもよい。この場合、帯電膜22,23が形成された扇状の部分125が、隣接した他の扇状の部分125から、中心部を除いて分離した構造となる。 Therefore, as shown in FIG. 10, the substrate 121 (corresponding to the substrate 21 in the embodiment) of the rotating plate 120 (corresponding to the rotating plate 20 in the embodiment) is attached to the charged films 122 and 123 (the charged films 22 and 23 in the embodiment). ) and the central portion (the portion where the hole 121c corresponding to the hole 21c in the embodiment is formed) may be removed. In this case, the fan-shaped portion 125 in which the charging films 22 and 23 are formed is separated from the adjacent fan-shaped portion 125 except for the central portion.

このように構成された変形例5も、上述した実施形態と同様の作用効果を発揮することができる。しかも、基板121が軽量化される効果もある。 Modification 5 configured in this manner can also exhibit the same effects as the above-described embodiment. Moreover, there is an effect that the substrate 121 is made lighter.

<変形例6>
図11は図10に示した変形例5のさらなる変形例6を示す図10相当の平面図、図12は図11に示した変形例6の、図1相当の断面図である。
<Modification 6>
11 is a plan view corresponding to FIG. 10 showing a further modified example 6 of the modified example 5 shown in FIG. 10, and FIG. 12 is a sectional view corresponding to FIG. 1 of the modified example 6 shown in FIG.

変形例5の回転板120は、帯電膜122,123は扇状の部分125だけに形成されて、基板121の中心部分には形成されていないが、基板121の中心部分も含めて形成してもよく、基板121の全面に形成されていてもよい。 In the rotary plate 120 of Modification 5, the charged films 122 and 123 are formed only in the fan-shaped portion 125 and not formed in the central portion of the substrate 121. Alternatively, it may be formed over the entire surface of the substrate 121 .

すなわち、図11に示した変形例6の回転板120は、帯電膜122,123が、扇状の部分125だけでなく、基板121の中心部分も含めて基板121の全面に形成されている。 That is, in the rotating plate 120 of Modification 6 shown in FIG. 11, the charged films 122 and 123 are formed not only on the fan-shaped portion 125 but also on the entire surface of the substrate 121 including the central portion of the substrate 121 .

このように、基板121の中心部分に帯電膜122,123が形成されている回転板120は、図12に示すように、回転板押さえ板41は、基板121のおもて面121aを覆った帯電膜122に突き当てた状態となり、回転板押さえ板42は、基板121の裏面121bを覆った帯電膜123に突き当てた状態となる。これにより、回転板120は、回転板押さえ板41,42により、軸心C方向に挟まれた状態で固定される。 As shown in FIG. 12, the rotating plate 120 having the charged films 122 and 123 formed in the central portion of the substrate 121 is covered with the rotating plate holding plate 41 on the front surface 121a of the substrate 121. The rotating plate holding plate 42 abuts against the charged film 122 and the charged film 123 covering the back surface 121 b of the substrate 121 . As a result, the rotating plate 120 is fixed in a state of being sandwiched in the axial center C direction by the rotating plate pressing plates 41 and 42 .

このように構成された変形例6も、上述した実施形態と同様の作用効果を発揮することができる。しかも、基板121が軽量化される効果もある。 Modification 6 configured in this manner can also exhibit the same effects as the embodiment described above. Moreover, there is an effect that the substrate 121 is made lighter.

<変形例7>
図13は図10に示した変形例5の別の変形例7を示す図10相当の平面図である。
<Modification 7>
13 is a plan view corresponding to FIG. 10 showing another modified example 7 of the modified example 5 shown in FIG.

変形例5,6における回転板120は、基板121が、帯電膜122,123の形成された扇状の部分125及び中心部を除いて存在しないため、回転中に、各扇状の部分125の外周側の先端が、独立して不規則に、上下方向(軸心C方向)に振れる恐れがある。 In the rotating plate 120 in Modifications 5 and 6, the substrate 121 does not exist except for the fan-shaped portions 125 on which the charged films 122 and 123 are formed and the central portion. tip may independently and irregularly vibrate in the vertical direction (in the direction of the axis C).

そこで、図13に示すように、変形例7における回転板120は、扇状の部分125の外周側の先端同士を連結した状態とするように、基板121の最外周の部分126を環状に残した状態とすることができる。この場合、帯電膜22,23が形成された扇状の部分125は、それぞれの外周側の先端が、隣接した他の扇状の部分125の外周側の先端と、環状に残された基板121の部分126で連結されているため、各扇状の部分125の外周側の先端が、独立して不規則に振れるのを防止又は抑制することができる。 Therefore, as shown in FIG. 13, in the rotating plate 120 in Modification 7, the outermost peripheral portion 126 of the substrate 121 is left annular so that the ends of the fan-shaped portions 125 on the outer peripheral side are connected to each other. state can be In this case, the fan-shaped portions 125 on which the charging films 22 and 23 are formed have their respective outer peripheral ends separated from the outer peripheral ends of the other adjacent fan-shaped portions 125 and the portion of the substrate 121 remaining in the ring. Since they are connected at 126, it is possible to prevent or suppress independent and irregular swinging of the tips of the fan-shaped portions 125 on the outer peripheral side.

このように構成された変形例7も、上述した実施形態と同様の作用効果を発揮することができる。しかも、変形例5の回転板120よりも剛性を高めることもできる。 Modification 7 configured in this manner can also exhibit the same effects as the above-described embodiment. Moreover, the rigidity can be increased more than that of the rotating plate 120 of the fifth modification.

<その他の変形例>
上述した実施形態及び各変形例の、回転板20と回転軸10との固定構造は、回転板20に帯電膜22,23が形成されて、対向基板210,220に、対向電極212,222が形成されたものであるが、回転板20に対向電極212,222が形成されて、対向基板210,220に帯電膜22,23が形成されていてもよい。
<Other Modifications>
In the fixing structure of the rotating plate 20 and the rotating shaft 10 in the above-described embodiment and each modified example, the charging films 22 and 23 are formed on the rotating plate 20 and the opposing electrodes 212 and 222 are formed on the opposing substrates 210 and 220. However, the opposing electrodes 212 and 222 may be formed on the rotating plate 20 and the charging films 22 and 23 may be formed on the opposing substrates 210 and 220 .

また、回転板20のおもて面20aに帯電膜22を形成し、裏面20bに対向電極222を形成し、対向基板210に対向電極212を形成し、対向基板220に帯電膜23を形成した構成を採用することもできる。もちろんこれとは反対に、回転板20のおもて面20aに対向電極212を形成し、裏面20bに帯電膜23を形成し、対向基板210に帯電膜22を形成し、対向基板220に対向電極222を形成した構成を採用することもできる。 Also, the charging film 22 is formed on the front surface 20a of the rotary plate 20, the opposing electrode 222 is formed on the back surface 20b, the opposing electrode 212 is formed on the opposing substrate 210, and the charging film 23 is formed on the opposing substrate 220. Configurations can also be employed. Of course, on the contrary, the counter electrode 212 is formed on the front surface 20a of the rotating plate 20, the charged film 23 is formed on the back surface 20b, the charged film 22 is formed on the counter substrate 210, and the counter substrate 220 is opposed. A configuration in which the electrode 222 is formed can also be adopted.

なお、回転板20の両面20a,20bにそれぞれ帯電膜22,23を形成し、これらの両面20a,20bにそれぞれ対向して対向電極212,222を設けた構成でなく、回転板20の一方の面(例えば、おもて面20a)にのみ帯電膜22を形成し、この面に対向する側にのみ対向電極212を形成してもよい。 Instead of forming the charging films 22 and 23 on both surfaces 20a and 20b of the rotating plate 20 and providing the counter electrodes 212 and 222 facing these surfaces 20a and 20b, The charging film 22 may be formed only on the surface (for example, the front surface 20a), and the counter electrode 212 may be formed only on the side facing this surface.

上述した実施形態及び各変形例の、回転板と回転軸との固定構造は、この回転板と回転軸との固定構造を適用して形成された回転部材を、静電誘導変換器の一部として適用する例であるが、本発明に係る回転板と回転軸との固定構造は、静電誘導変換器の一部として適用するものに限定されない。 In the embodiment and each modified example described above, the fixing structure between the rotating plate and the rotating shaft is such that the rotating member formed by applying this fixing structure between the rotating plate and the rotating shaft is a part of the electrostatic induction converter. However, the fixing structure of the rotating plate and the rotating shaft according to the present invention is not limited to being applied as a part of the electrostatic induction converter.

すなわち、本発明に係る回転板と回転軸との固定構造は、回転板に対して回転軸を圧入することなく回転板に回転軸を固定することができるため、圧入によって生じる回転板の歪が発生することが無い。したがって、圧入によって歪が発生し易い板厚の薄い回転板を用いる必要があって、しかも、回転板に、平面度が求められるものについては、本発明は非常に有用であり、そのようなものについては、本発明を適用することができる。 That is, in the fixing structure of the rotating plate and the rotating shaft according to the present invention, the rotating shaft can be fixed to the rotating plate without press-fitting the rotating shaft into the rotating plate. never occur. Therefore, it is necessary to use a thin rotating plate that is likely to be distorted by press-fitting, and the present invention is very useful for the rotating plate that requires flatness. The present invention can be applied to

また、本発明に係る回転板と回転軸との固定構造は、対向基板210,220にそれぞれ正負が切り替わる電流を流すことで、回転板20を回転させるように、静電誘導変換器をモータとして用いる物にも適用することができる。 In addition, the fixing structure of the rotating plate and the rotating shaft according to the present invention uses an electrostatic induction converter as a motor so as to rotate the rotating plate 20 by applying a current that switches between positive and negative to the opposing substrates 210 and 220. It can also be applied to things used.

10 回転軸
20 回転板
21 基板
30 回転止め板
31a 外周縁
31b 孔
41,42 回転板押さえ板
100 回転部材
C 軸心
10 Rotating shaft 20 Rotating plate 21 Substrate 30 Rotation stopping plate 31a Outer peripheral edge 31b Holes 41, 42 Rotating plate holding plate 100 Rotating member C Shaft center

Claims (4)

回転軸が固定される孔が形成され、前記回転軸の軸回りの外周縁が異形に形成された回転規制部材と、
前記回転規制部材の外周縁と係合した異形の内周縁を有する回転板と、
前記回転板を前記回転軸の軸方向の両側から挟んだ、前記回転軸に固定された2つの回転板押さえ板と、を備え、
前記回転板の内周縁が前記回転規制部材の外周縁より大きく形成され、前記回転規制部材は前記回転板に緩く挿入された状態である、回転板と回転軸との固定構造。
a rotation restricting member having a hole in which a rotating shaft is fixed and having a deformed outer peripheral edge around the axis of the rotating shaft;
a rotating plate having a deformed inner peripheral edge engaged with the outer peripheral edge of the rotation restricting member;
two rotating plate holding plates fixed to the rotating shaft, which sandwich the rotating plate from both sides in the axial direction of the rotating shaft ;
A fixing structure between a rotating plate and a rotating shaft, wherein the inner peripheral edge of the rotating plate is formed larger than the outer peripheral edge of the rotation restricting member, and the rotation restricting member is loosely inserted into the rotating plate.
2つの前記回転板押さえ板のうち1つは、前記回転規制部材と一体に形成されている請求項1に記載の回転板と回転軸との固定構造。 2. The fixing structure of the rotating plate and the rotating shaft according to claim 1, wherein one of the two rotating plate pressing plates is formed integrally with the rotation restricting member. 2つの前記回転板押さえ板のうち1つは、前記回転軸と一体に形成されている請求項1又は2に記載の回転板と回転軸との固定構造。 3. A fixing structure for a rotating plate and a rotating shaft according to claim 1, wherein one of the two rotating plate pressing plates is formed integrally with the rotating shaft. 前記回転板の少なくとも一方の面に対向して配置された基板を備え、
前記回転板と前記基板とがそれぞれ互いに対向する面のうち一方に、帯電膜が形成され、他方に、対向電極が形成され、
前記基板に対して前記回転板が前記回転軸の軸回りに回転することにより、前記帯電膜と前記対向電極との間で静電誘導変換を行う、請求項1から3のうちいずれか1項に記載の回転板と回転軸との固定構造。
A substrate arranged to face at least one surface of the rotating plate,
a charging film is formed on one of the surfaces of the rotating plate and the substrate facing each other, and a counter electrode is formed on the other;
4. Electrostatic induction conversion is performed between the charged film and the counter electrode by rotating the rotary plate with respect to the substrate about the rotary shaft. 2. A fixing structure between the rotating plate and the rotating shaft according to 1.
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