JP7132059B2 - Olefin polymerization catalyst and method for producing ethylene polymer using said olefin polymerization catalyst - Google Patents

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Description

本発明は、オレフィン重合用触媒および該触媒を用いたエチレン系重合体の製造方法に関し、さらに詳しくは、長鎖分岐が多く、かつ、成形加工性および機械的強度に優れたエチレン系重合体を安定的に製造することができるオレフィン重合用触媒および該触媒を用いたエチレン系重合体の製造方法に関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an olefin polymerization catalyst and a method for producing an ethylene polymer using the catalyst, and more particularly, to an ethylene polymer having many long chain branches and excellent moldability and mechanical strength. The present invention relates to an olefin polymerization catalyst that can be stably produced and a method for producing an ethylene polymer using the catalyst.

チーグラー触媒やメタロセン触媒で得られるエチレン系重合体は、一般に溶融張力が小さく、高圧法低密度ポリエチレンよりも成形加工性に劣る傾向があることは周知である。
この問題を解決するため、チーグラー触媒やメタロセン触媒を用いて得られるエチレン系重合体に高圧法低密度ポリエチレンをブレンドする方法(例えば特許文献1)や、特定のメタロセン触媒を用いて長鎖分岐型エチレン系重合体を製造する方法(例えば特許文献2)が開示されている。
It is well known that ethylene-based polymers obtained with Ziegler catalysts or metallocene catalysts generally have low melt tension and tend to be inferior in moldability to high-pressure low-density polyethylene.
In order to solve this problem, a method of blending high-pressure low-density polyethylene with an ethylene polymer obtained using a Ziegler catalyst or a metallocene catalyst (for example, Patent Document 1), or a long chain branched type using a specific metallocene catalyst A method for producing an ethylene-based polymer has been disclosed (for example, Patent Document 2).

また、特定の架橋型メタロセン化合物2種を用いることにより、数多くの長鎖分岐が導入され、成形加工性に優れるエチレン系重合体を製造できることが報告されている(例えば特許文献3,4)。さらに、そのようなエチレン系重合体も含め、重合中のファウリング等の発生を低減できる製造方法についても開示されている(特許文献5~7)。 In addition, it has been reported that by using two specific crosslinked metallocene compounds, a large number of long chain branches are introduced, and an ethylene-based polymer with excellent moldability can be produced (for example, Patent Documents 3 and 4). Furthermore, production methods capable of reducing the occurrence of fouling and the like during polymerization, including such ethylene-based polymers, have also been disclosed (Patent Documents 5 to 7).

メタロセン化合物2種を用いた長鎖分岐型エチレン系重合体の製造方法については、特許文献8~11でも報告されている。 Patent Documents 8 to 11 also report on methods for producing long-chain branched ethylene-based polymers using two kinds of metallocene compounds.

特開平7-026079号公報JP-A-7-026079 特開平4-213309号公報JP-A-4-213309 特開2006-233208号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-233208 特開2009-144148号公報JP 2009-144148 A 特開2013-224408号公報JP 2013-224408 A 特開2015-160858号公報JP 2015-160858 A 特開2015-160859号公報JP 2015-160859 A 特表2007-520597号公報Japanese Patent Publication No. 2007-520597 特開2010-043152号公報JP 2010-043152 A 特開2011-006674号公報JP 2011-006674 A 特開2012-214780号公報Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2012-214780

前記の特許文献1~4、8~11には、重合反応時のファウリング発生等の問題点の開示は無い。また、本発明者らが検討したところ、特許文献5~7の技術を以てしても、スラリー重合後の溶液が白濁するとともに、重合時のポリマー濃度を高めていくとファウリングにより運転継続が困難になる場合があるという問題点が見出された。 The aforementioned Patent Documents 1 to 4 and 8 to 11 do not disclose problems such as occurrence of fouling during the polymerization reaction. Further, as a result of investigation by the present inventors, even with the techniques of Patent Documents 5 to 7, the solution after slurry polymerization becomes cloudy, and when the polymer concentration during polymerization is increased, fouling occurs, making it difficult to continue operation. A problem was found that it may become

本発明者らが更に検討を行った結果、この原因は、スラリー重合後の溶液中に析出する遊離ポリマー量が多くなることにより、溶液が白濁し、重合槽へのファウリングが起こると推察するに至った。 As a result of further investigation by the present inventors, the reason for this is presumed to be that the amount of free polymer that precipitates in the solution after slurry polymerization increases, making the solution cloudy and causing fouling in the polymerization tank. reached.

本発明は、上記のような新たな課題に鑑みてなされたものであって、長鎖分岐が多く、かつ、成形加工性および機械的強度に優れたエチレン系重合体を、安定的に製造することができるオレフィン重合用触媒および該触媒を用いたエチレン系重合体の製造方法を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above-described new problems, and provides a method for stably producing an ethylene polymer having many long chain branches and excellent moldability and mechanical strength. It is an object of the present invention to provide an olefin polymerization catalyst that can be used to produce ethylene polymers and a method for producing an ethylene polymer using the catalyst.

本発明者らは、上記状況に鑑み鋭意研究した結果、ある特定の構造の架橋型メタロセン化合物2種を同一の重合系で併用することで、長鎖分岐が多く、かつ、成形加工性および機械的強度に優れたエチレン系重合体を与えると言う特性を保持しつつ、スラリー重合後の溶液中に析出する遊離ポリマー量が減少し、重合槽へのファウリングを抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive research in view of the above situation, the present inventors have found that by using two types of crosslinked metallocene compounds having a specific structure in the same polymerization system, there are many long chain branches, and molding processability and mechanical properties are improved. While maintaining the characteristics of giving an ethylene polymer having excellent physical strength, the amount of free polymer that precipitates in the solution after slurry polymerization is reduced, and it is possible to suppress fouling in the polymerization tank. Completed.

すなわち、本発明のオレフィン重合用触媒は、下記成分(A)、下記成分(B)、下記成分(C)および固体状担体(S)を含んでなる。
成分(A):下記一般式(1)で表される遷移金属化合物;
That is, the olefin polymerization catalyst of the present invention comprises the following component (A), the following component (B), the following component (C) and a solid carrier (S).
Component (A): a transition metal compound represented by the following general formula (1);

Figure 0007132059000001
[式(1)中、Mは周期表第4族遷移金属原子であり、
nはMの価数を満たす1~4の整数であり、
Xは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アニオン配位子、または孤立電子対で配位可能な中性配位子であり;該アニオン配位子はハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基または共役ジエン系誘導体基であり;nが2以上の場合、複数存在するXは、互いに同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよく、
1は周期表第14族遷移原子であり、
1~R4およびR7~R12は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1~40の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、窒素含有基または硫黄含有基であり、
5は水素原子、炭素数1~40の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、窒素含有基、硫黄含有基、または、窒素、酸素および硫黄から選ばれる原子を少なくとも1つ含む母骨格を5員環とする、置換基を有していてもよい複素環式芳香族基であり、
6は、直鎖状部分の炭素数が3~10の飽和炭化水素基または直鎖状部分の炭素数が3~10の末端不飽和炭化水素基であり、
1とR2およびR3とR4は、互いに結合して置換基を有していてもよい飽和環を形成してもよく、
2とR3、およびR7~R10の隣接した置換基は、互いに結合して置換基を有していてもよい環を形成してもよく、
11とR12は、互いに結合してQ1を含む環を形成してもよく、該環は置換基を有していてもよい。]
成分(B):下記一般式(2)で表される遷移金属化合物;
Figure 0007132059000001
[In the formula (1), M is a Group 4 transition metal atom of the periodic table,
n is an integer from 1 to 4 that satisfies the valence of M,
X is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an anionic ligand, or a neutral ligand capable of coordinating with a lone pair; group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group, a phosphorus-containing group, a boron-containing group, an aluminum-containing group, or a conjugated diene derivative group; when n is 2 or more, a plurality of Xs may be the same or different. may be combined with each other to form a ring,
Q 1 is a Group 14 transition atom of the periodic table,
R 1 to R 4 and R 7 to R 12 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group or a sulfur-containing group. ,
R 5 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, or at least one atom selected from nitrogen, oxygen and sulfur; A heterocyclic aromatic group which may have a substituent and has a five-membered ring as a base skeleton containing one,
R 6 is a saturated hydrocarbon group having a linear portion of 3 to 10 carbon atoms or a terminal unsaturated hydrocarbon group having a linear portion of 3 to 10 carbon atoms,
R 1 and R 2 and R 3 and R 4 may combine with each other to form an optionally substituted saturated ring,
R 2 and R 3 and adjacent substituents of R 7 to R 10 may be bonded to each other to form a ring optionally having a substituent,
R 11 and R 12 may combine with each other to form a ring containing Q 1 , and the ring may have a substituent. ]
Component (B): a transition metal compound represented by the following general formula (2);

Figure 0007132059000002
[式(2)中、Mは周期表第4族遷移金属原子であり、
Xは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基およびリン含有基から選ばれる原子または基であり、
2は炭素数1~20の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基から選ばれる基であり、
13~R24は、それぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、硫黄含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基から選ばれ、隣接する2個の基が連結して環を形成してもよい。]
成分(C):下記一般式(3)~(5)で表される有機金属化合物(c-1)、有機アルミニウムオキシ化合物(c-2)、ならびに、成分(A)および成分(B)と反応してイオン対を形成する化合物(c-3)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物;
a mAl(ORb)npq ・・・(3)
[式(3)中、RaおよびRbは、それぞれ独立に炭素原子数が1~15の炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0<m≦3、nは0≦n<3、pは0≦p<3、qは0≦q<3の数であり、かつm+n+p+q=3である。]
a AlRa 4 ・・・(4)
[式(4)中、MaはLi、NaまたはKを示し、Raは炭素原子数が1以上15以下の炭化水素基を示す。]
a rbb st ・・・(5)
[式(5)中、RaおよびRbは、それぞれ独立に炭素原子数が1以上15以下の炭化水素基を示し、MbはMg、ZnおよびCdから選ばれ、Xはハロゲン原子を示し、rは0<r≦2、sは0≦s≦1、tは0≦t≦1であり、かつr+s+t=2である。]
Figure 0007132059000002
[In the formula (2), M is a Group 4 transition metal atom of the periodic table,
each X is an atom or group independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, a halogen-containing hydrocarbon group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group and a phosphorus-containing group;
Q 2 is a group selected from a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, a germanium-containing group and a tin-containing group;
R 13 to R 24 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, a halogen-containing group, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group, a boron-containing group, a sulfur-containing group, a phosphorus-containing group, a silicon-containing group, a germanium-containing group and a tin Two adjacent groups selected from the containing groups may combine to form a ring. ]
Component (C): an organometallic compound (c-1) represented by the following general formulas (3) to (5), an organoaluminum oxy compound (c-2), and components (A) and (B) at least one compound selected from the group consisting of compounds (c-3) that react to form an ion pair;
R a m Al (OR b ) n H p X q (3)
[In the formula (3), R a and R b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, X represents a halogen atom, m is 0 < m ≤ 3, n is 0 ≤ n<3, p is 0≤p<3, q is a number satisfying 0≤q<3, and m+n+p+q=3. ]
M a AlR a 4 (4)
[In Formula (4), M a represents Li, Na or K, and R a represents a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms. ]
R a r M b R b s X t (5)
[In formula (5), R a and R b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, M b is selected from Mg, Zn and Cd, and X represents a halogen atom; , r is 0<r≦2, s is 0≦s≦1, t is 0≦t≦1, and r+s+t=2. ]

また、本発明のエチレン系重合体の製造方法は、本発明のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを単独で重合する、または、エチレンと炭素数3以上20以下のオレフィンとを共重合することを特徴とする。 The method for producing an ethylene-based polymer of the present invention comprises polymerizing ethylene alone or copolymerizing ethylene with an olefin having 3 to 20 carbon atoms in the presence of the olefin polymerization catalyst of the present invention. characterized by

本発明の製造方法で得られるエチレン系重合体は、エチレンと炭素数4以上20以下のα-オレフィンとの共重合体であって、かつ、下記要件(1)~(4)を満たすことが好ましい。
(1)190℃における2.16kg荷重でのメルトフローレート(MFR)が0.1g/10分以上30g/10分以下である;
(2)密度が875kg/m3以上970kg/m3以下である;
(3)200℃におけるゼロせん断粘度〔η0(P)〕と、GPC-粘度検出器法(GPC-VISCO)により測定された重量平均分子量の6.8乗(Mw6.8)の比(η0/Mw6.8)が0.03×10-30以上7.5×10-30以下である;
(4)135℃デカリン中で測定した極限粘度〔[η](dl/g)〕と、GPC-粘度検出器法(GPC-VISCO)により測定された重量平均分子量の0.776乗(Mw0.776)の比([η]/Mw0.776)が0.90×10-4以上1.65×10-4以下である。
The ethylene-based polymer obtained by the production method of the present invention is a copolymer of ethylene and an α-olefin having 4 to 20 carbon atoms, and satisfies the following requirements (1) to (4). preferable.
(1) Melt flow rate (MFR) at 190° C. with a load of 2.16 kg is 0.1 g/10 min or more and 30 g/10 min or less;
(2) Density is 875 kg/m 3 or more and 970 kg/m 3 or less;
( 3 ) The ratio ( η 0 /Mw 6.8 ) is 0.03×10 −30 or more and 7.5×10 −30 or less;
(4) Intrinsic viscosity [[η] (dl/g)] measured in decalin at 135°C and the weight average molecular weight measured by the GPC-viscosity detector method (GPC-VISCO) to the power of 0.776 (Mw 0.776 ) ratio ([η]/Mw 0.776 ) is 0.90×10 −4 or more and 1.65×10 −4 or less.

本発明のオレフィン重合用触媒を用いることにより、スラリー重合後の溶液中に析出する遊離ポリマー量が減少し、重合槽へのファウリングを抑制できるため、長鎖分岐が多く、かつ、成形加工性および機械的強度に優れたエチレン系重合体を安定的に製造することができる。 By using the olefin polymerization catalyst of the present invention, the amount of free polymer that precipitates in the solution after slurry polymerization is reduced, and fouling in the polymerization tank can be suppressed. And an ethylene polymer excellent in mechanical strength can be stably produced.

以下、本発明に係るオレフィン重合用触媒および該触媒を用いたエチレン系重合体の製造方法について詳細に説明する。なお、本発明において「重合」という語は、単独重合のみならず、共重合を包含した意味で用いられることがあり、「重合体」という語は単独重合体のみならず、共重合体を包含した意味で用いられることがある。 Hereinafter, the catalyst for olefin polymerization according to the present invention and the method for producing an ethylene polymer using the catalyst will be described in detail. In the present invention, the term "polymerization" may be used to mean not only homopolymerization but also copolymerization, and the term "polymer" includes not only homopolymers but also copolymers. It is sometimes used in the sense that

[オレフィン重合用触媒]
本発明のオレフィン重合用触媒は、後述する成分(A)、成分(B)、成分(C)および固体状担体(S)を含んでなる。
[Catalyst for olefin polymerization]
The olefin polymerization catalyst of the present invention comprises component (A), component (B), component (C) and solid support (S), which will be described later.

<成分(A)>
成分(A)は、下記一般式(1)で表される遷移金属化合物(以下「遷移金属化合物(1)」ともいう。)である。本発明のオレフィン重合用触媒は、遷移金属化合物(1)を少なくとも1種含む。すなわち、成分(A)として、遷移金属化合物(1)を複数種用いてもよい。
<Component (A)>
Component (A) is a transition metal compound represented by the following general formula (1) (hereinafter also referred to as “transition metal compound (1)”). The olefin polymerization catalyst of the present invention contains at least one transition metal compound (1). That is, a plurality of transition metal compounds (1) may be used as the component (A).

Figure 0007132059000003
前記式(1)において、Mは周期表第4族遷移金属原子であり、具体的にはチタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子であり、好ましくはジルコニウム原子またはハフニウム原子であり、より好ましくはジルコニウム原子である。
Figure 0007132059000003
In the above formula (1), M is a Group 4 transition metal atom of the periodic table, specifically a titanium atom, a zirconium atom, or a hafnium atom, preferably a zirconium atom or a hafnium atom, more preferably a zirconium atom. is.

前記式(1)において、nはMの価数を満たす1~4の整数であり、好ましくは2である。
前記式(1)において、Xは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アニオン配位子、または孤立電子対で配位可能な中性配位子であり;該アニオン配位子はハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基または共役ジエン系誘導体基であり;nが2以上の場合、複数存在するXは、互いに同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Xは、好ましくは水素原子、炭素数1~20の炭化水素基、ケイ素含有基または酸素含有基であり、より好ましくはハロゲン原子または炭素数1~10の炭化水素基である。
In the above formula (1), n is an integer of 1 to 4 satisfying the valence of M, preferably 2.
In the above formula (1), X is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an anion ligand, or a neutral ligand capable of coordinating with a lone electron pair; the anion ligand contains a halogen group, silicon-containing group, oxygen-containing group, sulfur-containing group, nitrogen-containing group, phosphorus-containing group, boron-containing group, aluminum-containing group or conjugated diene derivative group; , may be the same or different, and may be combined to form a ring. X is preferably a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a silicon-containing group or an oxygen-containing group, more preferably a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.

前記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、特に好ましくは塩素である。
前記炭化水素基としては、例えば、
メチル基、エチル基、1-プロピル基、1-ブチル基、1-ペンチル基、1-ヘキシル基、1-ヘプチル基、1-オクチル基、iso-プロピル基、sec-ブチル基(ブタン-2-イル基)、tert-ブチル基(2-メチルプロパン-2-イル基)、iso-ブチル基(2-メチルプロピル基)、ペンタン-2-イル基、2-メチルブチル基、iso-ペンチル基(3-メチルブチル基)、ネオペンチル基(2,2-ジメチルプロピル基)、シアミル基(1,2-ジメチルプロピル基)、iso-ヘキシル基(4-メチルペンチル基)、2,2-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、3,3-ジメチルブチル基、テキシル基(2,3-ジメチルブタ-2-イル基)、4,4-ジメチルペンチル基などの直鎖状または分岐状のアルキル基;
ビニル基、アリル基、プロペニル基(プロパ-1-エン-1-イル基)、iso-プロペニル基(プロパ-1-エン-2-イル基)、アレニル基(プロパ-1,2-ジエン-1-イル基)、ブタ-3-エン-1-イル基、クロチル基(ブタ-2-エン-1-イル基)、ブタ-3-エン-2-イル基、メタリル基(2-メチルアリル基)、ブタ-1,3-ジエニル基、ペンタ-4-エン-1-イル基、ペンタ-3-エン-1-イル基、ペンタ-2-エン-1-イル基、iso-ペンテニル基(3-メチルブタ-3-エン-1-イル基)、2-メチルブタ-3-エン-1-イル基、ペンタ-4-エン-2-イル基、プレニル基(3-メチルブタ-2-エン-1-イル基)などの直鎖状または分岐状のアルケニル基もしくは不飽和二重結合含有基;
エチニル基、プロパ-2-イン-1-イル基、プロパルギル基(プロパ-1-イン-1-イル基)などの直鎖状または分岐状のアルキニル基もしくは不飽和三重結合含有基;
ベンジル基、2-メチルベンジル基、4-メチルベンジル基、2,4,6-トリメチルベンジル基、3,5-ジメチルベンジル基、クミニル基(4-iso-プロピルベンジル基)、2,4,6-トリ-iso-プロピルベンジル基、4-tert-ブチルベンジル基、3,5-ジ-tert-ブチルベンジル基、1-フェニルエチル基、ベンズヒドリル基(ジフェニルメチル基)などの芳香族含有直鎖状または分岐状のアルキル基および不飽和二重結合含有基;
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘプタトリエニル基、ノルボルニル基、ノルボルネニル基、1-アダマンチル基、2-アダマンチル基などの環状飽和炭化水素基;
フェニル基、トリル基(メチルフェニル基)、キシリル基(ジメチルフェニル基)、メシチル基(2,4,6-トリメチルフェニル基)、クメニル基(iso-プロピルフェニル基)、ジュリル基(2,3,5,6-テトラメチルフェニル基)、2,6-ジ-iso-プロピルフェニル基、2,4,6-トリ-iso-プロピルフェニル基、4-tert-ブチルフェニル基、3,5-ジ-tert-ブチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ter-フェニル基、ビナフチル基、アセナフタレニル基、フェナントリル基、アントラセニル基、ピレニル基、フェロセニル基などの芳香族置換基
が挙げられる。
The halogen atom includes fluorine, chlorine, bromine and iodine, with chlorine being particularly preferred.
Examples of the hydrocarbon group include
methyl group, ethyl group, 1-propyl group, 1-butyl group, 1-pentyl group, 1-hexyl group, 1-heptyl group, 1-octyl group, iso-propyl group, sec-butyl group (butane-2- yl group), tert-butyl group (2-methylpropan-2-yl group), iso-butyl group (2-methylpropyl group), pentan-2-yl group, 2-methylbutyl group, iso-pentyl group (3 -methylbutyl group), neopentyl group (2,2-dimethylpropyl group), siamyl group (1,2-dimethylpropyl group), iso-hexyl group (4-methylpentyl group), 2,2-dimethylbutyl group, 2 ,3-dimethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, thexyl group (2,3-dimethylbut-2-yl group), linear or branched alkyl groups such as 4,4-dimethylpentyl group;
vinyl group, allyl group, propenyl group (prop-1-en-1-yl group), iso-propenyl group (prop-1-en-2-yl group), allenyl group (prop-1,2-diene-1 -yl group), but-3-en-1-yl group, crotyl group (but-2-en-1-yl group), but-3-en-2-yl group, methallyl group (2-methylallyl group) , but-1,3-dienyl group, pent-4-en-1-yl group, pent-3-en-1-yl group, pent-2-en-1-yl group, iso-pentenyl group (3- methylbut-3-en-1-yl group), 2-methylbut-3-en-1-yl group, pent-4-en-2-yl group, prenyl group (3-methylbut-2-en-1-yl a linear or branched alkenyl group or an unsaturated double bond-containing group such as
linear or branched alkynyl groups or unsaturated triple bond-containing groups such as ethynyl group, prop-2-yn-1-yl group, propargyl group (prop-1-yn-1-yl group);
benzyl group, 2-methylbenzyl group, 4-methylbenzyl group, 2,4,6-trimethylbenzyl group, 3,5-dimethylbenzyl group, cuminyl group (4-iso-propylbenzyl group), 2,4,6 - Aromatic-containing straight chain such as tri-iso-propylbenzyl group, 4-tert-butylbenzyl group, 3,5-di-tert-butylbenzyl group, 1-phenylethyl group, benzhydryl group (diphenylmethyl group) or branched alkyl groups and unsaturated double bond-containing groups;
Cyclic saturated hydrocarbon groups such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cycloheptatrienyl group, a norbornyl group, a norbornenyl group, a 1-adamantyl group, and a 2-adamantyl group;
Phenyl group, tolyl group (methylphenyl group), xylyl group (dimethylphenyl group), mesityl group (2,4,6-trimethylphenyl group), cumenyl group (iso-propylphenyl group), juryl group (2,3, 5,6-tetramethylphenyl group), 2,6-di-iso-propylphenyl group, 2,4,6-tri-iso-propylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 3,5-di- Aromatic substituents such as tert-butylphenyl group, naphthyl group, biphenyl group, ter-phenyl group, binaphthyl group, acenaphthalenyl group, phenanthryl group, anthracenyl group, pyrenyl group and ferrocenyl group can be mentioned.

前記炭化水素基の中でも、メチル基、iso-ブチル基、ネオペンチル基、シアミル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基が好ましい。 Among the above hydrocarbon groups, methyl group, iso-butyl group, neopentyl group, siamyl group, benzyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group and cumenyl group are preferred.

前記ハロゲン含有基としては、例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニル基、ヘキサクロロアンチモン酸アニオンが挙げられる。 Examples of the halogen-containing group include fluoromethyl group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, pentafluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, fluorophenyl group, difluorophenyl group and trifluorophenyl group. , a tetrafluorophenyl group, a pentafluorophenyl group, a trifluoromethylphenyl group, a bistrifluoromethylphenyl group, and a hexachloroantimonate anion.

前記ハロゲン含有基の中でも、ペンタフルオロフェニル基が好ましい。
前記ケイ素含有基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ-iso-プロピルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、tert-ブチルジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基、トリス(トリメチルシリル)シリル基、トリメチルシリルメチル基などが挙げられる。
Among the halogen-containing groups, a pentafluorophenyl group is preferred.
Examples of the silicon-containing group include trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri-iso-propylsilyl group, diphenylmethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, tert-butyldiphenylsilyl group, triphenylsilyl group, tris ( trimethylsilyl)silyl group, trimethylsilylmethyl group and the like.

前記ケイ素含有基の中でも、トリメチルシリルメチル基が好ましい。
前記酸素含有基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、iso-プロポキシ基、アリルオキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、iso-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、ベンジルオキシ基、メトキシメトキシ基、フェノキシ基、2,6-ジメチルフェノキシ基、2,6-ジ-iso-プロピルフェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルフェノキシ基、2,4,6-トリメチルフェノキシ基、2,4,6-トリ-iso-プロピルフェノキシ基、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、過塩素酸アニオン、過ヨウ素酸アニオンが挙げられる。
Among the silicon-containing groups, a trimethylsilylmethyl group is preferred.
Examples of the oxygen-containing group include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, allyloxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, iso-butoxy group, tert-butoxy group and benzyloxy group. group, methoxymethoxy group, phenoxy group, 2,6-dimethylphenoxy group, 2,6-di-iso-propylphenoxy group, 2,6-di-tert-butylphenoxy group, 2,4,6-trimethylphenoxy group , 2,4,6-tri-iso-propylphenoxy group, acetoxy group, pivaloyloxy group, benzoyloxy group, trifluoroacetoxy group, perchlorate anion and periodate anion.

前記酸素含有基の中でも、メトキシ基、エトキシ基、iso-プロポキシ基、tert-ブトキシ基が好ましい。
前記硫黄含有基としては、例えば、メシル基(メタンスルフォニル基)、フェニルスルホニル基、トシル基(p-トルエンスルホニル基)、トリフリル基(トリフルオロメタンスルホニル基)、ノナフリル基(ノナフルオロブタンスルホニル基)、メシラート基(メタンスルホナート基)、トシラート基(p-トルエンスルホナート基)、トリフラート基(トリフルオロメタンスルホナート基)、ノナフラート基(ノナフルオロブタンスルホナート基)が挙げられる。
Among the oxygen-containing groups, a methoxy group, an ethoxy group, an iso-propoxy group, and a tert-butoxy group are preferred.
Examples of the sulfur-containing group include a mesyl group (methanesulfonyl group), a phenylsulfonyl group, a tosyl group (p-toluenesulfonyl group), a triflyl group (trifluoromethanesulfonyl group), a nonafryl group (nonafluorobutanesulfonyl group), Mesylate group (methanesulfonate group), tosylate group (p-toluenesulfonate group), triflate group (trifluoromethanesulfonate group), nonaflate group (nonafluorobutanesulfonate group).

前記硫黄含有基の中でも、トリフラート(トリフルオロメタンスルホナート)が好ましい。
前記窒素含有基としては、例えば、アミノ基、シアノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アリルアミノ基、ジアリルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリル基、ピロリル基、ビストリフリルイミド基などが挙げられる。
Among the sulfur-containing groups, triflate (trifluoromethanesulfonate) is preferred.
Examples of the nitrogen-containing group include amino group, cyano group, methylamino group, dimethylamino group, ethylamino group, diethylamino group, allylamino group, diallylamino group, benzylamino group, dibenzylamino group, pyrrolidinyl group, piperidinyl group, morpholyl group, pyrrolyl group, bistrifurylimide group, and the like.

前記窒素含有基の中でも、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピロリル基、ビストリフリルイミド基が好ましい。
前記リン含有基としては、例えば、ヘキサフルオロリン酸アニオンが挙げられる。
Among the above nitrogen-containing groups, a dimethylamino group, a diethylamino group, a pyrrolidinyl group, a pyrrolyl group, and a bistrifurylimide group are preferred.
Examples of the phosphorus-containing group include hexafluorophosphate anions.

前記ホウ素含有基としては、例えば、テトラフルオロホウ酸アニオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸アニオン、(メチル)(トリス(ペンタフルオロフェニル))ホウ酸アニオン、(ベンジル)(トリス(ペンタフルオロフェニル))ホウ酸アニオン、テトラキス((3,5-ビストリフルオロメチル)フェニル)ホウ酸アニオン、BR4(Rはそれぞれ独立に水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基またはハロゲン原子等を示す。)で表される基が挙げられる。
前記アルミニウム含有基としては、例えば、
Examples of the boron-containing group include tetrafluoroborate anion, tetrakis(pentafluorophenyl)borate anion, (methyl)(tris(pentafluorophenyl))borate anion, (benzyl)(tris(pentafluorophenyl) ) borate anion, tetrakis((3,5-bistrifluoromethyl)phenyl)borate anion, BR 4 (each R independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group which may have a substituent, a halogen atom, or the like. shown.).
Examples of the aluminum-containing group include

Figure 0007132059000004
で表される四員環(Mは、前記一般式(1)中のMを表す。)を形成可能な、AlR4(Rは水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基またはハロゲン原子等を示す。)で表される基が挙げられる。
Figure 0007132059000004
AlR 4 (R is hydrogen, an alkyl group, an optionally substituted aryl group or represents a halogen atom, etc.).

前記共役ジエン系誘導体基としては、例えば、1,3-ブタジエニル基、イソプレニル基(2-メチル-1,3-ブタジエニル基)、ピペリレニル基(1,3-ペンタジエニル基)、2,4-ヘキサジエニル基、1,4-ジフェニル-1,3-ペンタジエニル基、シクロペンタジエニル基などが挙げられる。 Examples of the conjugated diene derivative group include a 1,3-butadienyl group, an isoprenyl group (2-methyl-1,3-butadienyl group), a piperylenyl group (1,3-pentadienyl group), and a 2,4-hexadienyl group. , 1,4-diphenyl-1,3-pentadienyl group, cyclopentadienyl group and the like.

孤立電子対で配位可能な中性配位子としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2-ジメトキシエタンなどのエーテル類、トリエチルアミン、ジエチルアミンなどのアミン類、ピリジン、ピコリン、ルチジン、オキサゾリン、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、チオフェンなどの複素環式化合物、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ-tert-ブチルホスフィンなどの有機リン化合物が挙げられる。 Examples of neutral ligands capable of coordinating with a lone pair include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, 1,2-dimethoxyethane, amines such as triethylamine and diethylamine, pyridine, picoline, lutidine, Heterocyclic compounds such as oxazoline, oxazole, thiazole, imidazole and thiophene, and organophosphorus compounds such as triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine and tri-tert-butylphosphine are included.

前記式(1)において、Q1は周期表第14族遷移原子であり、具体的には炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子またはスズ原子であり、好ましくは炭素原子またはケイ素原子であり、特に好ましくはケイ素原子である。 In the above formula (1), Q 1 is a Group 14 transition atom of the periodic table, specifically a carbon atom, a silicon atom, a germanium atom or a tin atom, preferably a carbon atom or a silicon atom, particularly preferably is a silicon atom.

前記式(1)において、R1~R4およびR7~R12は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1~40の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、窒素含有基または硫黄含有基であり、R5は水素原子、炭素数1~40の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、窒素含有基、硫黄含有基、または、窒素、酸素および硫黄から選ばれる原子を少なくとも1つ含む母骨格を5員環とする、置換基を有していてもよい複素環式芳香族基である。 In the above formula (1), R 1 to R 4 and R 7 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group. or a sulfur-containing group, and R 5 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, or nitrogen, oxygen and It is an optionally substituted heterocyclic aromatic group having a 5-membered ring as a base skeleton containing at least one atom selected from sulfur.

1~R5およびR7~R12としての前記炭素数1~40の炭化水素基は、好ましくは、炭素数1~20の炭化水素基(但し、芳香族炭化水素基を除く)または炭素数6~40の芳香族炭化水素基である。前記の炭素数1~20の炭化水素基は、好ましくは炭素数1~20の脂肪族または脂環族の炭化水素基である。炭素数1~20の炭化水素基には、アリールアルキル基の様な芳香族構造を有する置換基も含まれる。 The hydrocarbon groups having 1 to 40 carbon atoms as R 1 to R 5 and R 7 to R 12 are preferably hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms (excluding aromatic hydrocarbon groups) or carbon It is an aromatic hydrocarbon group of numbers 6 to 40. The hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is preferably an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. The hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms also includes a substituent having an aromatic structure such as an arylalkyl group.

前記炭素数1~40の炭化水素基としては、例えば、
メチル基、エチル基、1-プロピル基、1-ブチル基、1-ペンチル基、1-ヘキシル基、1-ヘプチル基、1-オクチル基、1-ノニル基、1-デカニル基、1-ウンデカニル基、1-ドデカニル基、1-エイコサニル基、iso-プロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、iso-ブチル基、ペンタン-2-イル基、2-メチルブチル基、iso-ペンチル基、ネオペンチル基、tert-ペンチル基(1,1-ジメチルプロピル基)、シアミル基、ペンタン-3-イル基、2-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、iso-ヘキシル基、1,1-ジメチルブチル基(2-メチルペンタン-2-イル基)、3-メチルペンタン-2-イル基、4-メチルペンタン-2-イル基、2,2-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、3,3-ジメチルブチル基、テキシル基、3-メチルペンタン-3-イル基、3,3-ジメチルブタ-2-イル基、ヘキサン-3-イル基、2-メチルペンタン-3-イル基、ヘプタン-4-イル基、2,4-ジメチルペンタン-2-イル基、3-エチルペンタン-3-イル基、4,4-ジメチルペンチル基、4-メチルヘプタン-4-イル基、4-プロピルヘプタン-4-イル基、2,3,3-トリメチルブタン-2-イル基、2,4,4-トリメチルペンタン-2-イル基などの炭素原子数が1~40の直鎖状または分岐状のアルキル基;
ビニル基、アリル基、プロペニル基、iso-プロペニル基、アレニル基、ブタ-3-エン-1-イル基、クロチル基、ブタ-3-エン-2-イル基、メタリル基、ペンタ-4-エン-1-イル基、ペンタ-3-エン-1-イル基、ペンタ-2-エン-1-イル基、iso-ペンテニル基、2-メチルブタ-3-エン-1-イル基、ペンタ-4-エン-2-イル基、プレニル基、2-メチル-ブタ-2-エン-1-イル基、ペンタ-3-エン-2-イル基、2-メチル-ブタ-3-エン-2-イル基、ペンタ-1-エン-3-イル基、ペンタ-2,4-ジエン-1-イル基、ペンタ-1,3-ジエン-1-イル基、ペンタ-1,4-ジエン-3-イル基、iso-プレニル基(2-メチル-ブタ-1,3-ジエン-1-イル基)、ペンタ-2,4-ジエン-2-イル基、ヘキサ-5-エン-1-イル基、ヘキサ-4-エン-1-イル基、ヘキサ-3-エン-1-イル基、ヘキサ-2-エン-1-イル基、4-メチル-ペンタ-4-エン-1-イル基、3-メチル-ペンタ-4-エン-1-イル基、2-メチル-ペンタ-4-エン-1-イル基、ヘキサ-5-エン-2-イル基、4-メチル-ペンタ-3-エン-1-イル基、3-メチル-ペンタ-3-エン-1-イル基、2,3-ジメチル-ブタ-2-エン-1-イル基、2-メチルペンタ-4-エン-2-イル基、3-エチルペンタ-1-エン-3-イル基、ヘキサ-3,5-ジエン-1-イル基、ヘキサ-2,4-ジエン-1-イル基、4-メチルペンタ-1,3-ジエン-1-イル基、2,3-ジメチル-ブタ-1,3-ジエン-1-イル基、ヘキサ-1,3,5-トリエン-1-イル基、2-(シクロペンタジエニル)プロパン-2-イル基、2-(シクロペンタジエニル)エチル基などの炭素原子数が2~40の直鎖状または分岐状のアルケニル基もしくは不飽和二重結合含有基;
エチニル基、プロパ-2-イン-1-イル基、プロパルギル基、ブタ-1-イン-1-イル基、ブタ-2-イン-1-イル基、ブタ-3-イン-1-イル基、ペンタ-1-イン-1-イル基、ペンタ-2-イン-1-イル基、ペンタ-3-イン-1-イル基、ペンタ-4-イン-1-イル基、3-メチル-ブタ-1-イン-1-イル基、ペンタ-3-イン-2-イル基、2-メチル-ブタ-3-イン-1-イル基、ペンタ-4-イン-2-イル基、ヘキサ-1-イン-1-イル基、3,3-ジメチル-ブタ-1-イン-1-イル基、2-メチル-ペンタ-3-イン-2-イル基、2,2-ジメチル-ブタ-3-イン-1-イル基、ヘキサ-4-イン-1-イル基、ヘキサ-5-イン-1-イル基などの炭素原子数が2~40の直鎖状または分岐状のアルキニル基もしくは不飽和三重結合含有基;
ベンジル基、2-メチルベンジル基、4-メチルベンジル基、2,4,6-トリメチルベンジル基、3,5-ジメチルベンジル基、クミニル基、2,4,6-トリ-iso-プロピルベンジル基、4-tert-ブチルベンジル基、3,5-ジ-tert-ブチルベンジル基、1-フェニルエチル基、ベンズヒドリル基、クミル基(2-フェニルプロパン-2-イル基)、2-(4-メチルフェニル)プロパン-2-イル基、2-(3,5-ジメチルフェニル)プロパン-2-イル基、2-(4-tert-ブチルフェニル)プロパン-2-イル基、2-(3,5-ジ-tert-ブチルフェニル)プロパン-2-イル基、3-フェニルペンタン-3-イル基、4-フェニルヘプタ-1,6-ジエン-4-イル基、1,2,3-トリフェニルプロパン-2-イル基、1,1-ジフェニルエチル基、1,1-ジフェニルプロピル基、1,1-ジフェニル-ブタ-3-エン-1-イル基、1,1,2-トリフェニルエチル基、トリチル基(トリフェニルメチル基)、トリ-(4-メチルフェニル)メチル基、2-フェニルエチル基、スチリル基(2-フェニルビニル基)、2-(2-メチルフェニル)エチル基、2-(4-メチルフェニル)エチル基、2-(2,4,6-トリメチルフェニル)エチル基、2-(3,5-ジメチルフェニル)エチル基、2-(2,4,6-トリ-iso-プロピルフェニル)エチル基、2-(4-tert-ブチルフェニル)エチル基、2-(3,5-ジ-tert-ブチルフェニル)エチル基、2-メチル-1-フェニルプロパン-2-イル基、3-フェニルプロピル基、シンナミル基(3-フェニルアリル基)、ネオフィル基(2-メチル-2-フェニルプロピル基)、3-メチル-3-フェニルブチル基、2-メチル-4-フェニルブタン-2-イル基、シクロペンタジエニルジフェニルメチル基、2-(1-インデニル)プロパン-2-イル基、(1-インデニル)ジフェニルメチル基、2-(1-インデニル)エチル基、2-(テトラヒドロ-1-インダセニル)プロパン-2-イル基、(テトラヒドロ-1-インダセニル)ジフェニルメチル基、2-(テトラヒドロ-1-インダセニル)エチル基、2-(1-ベンゾインデニル)プロパン-2-イル基、(1-ベンゾインデニル)ジフェニルメチル基、2-(1-ベンゾインデニル)エチル基、2-(9-フルオレニル)プロパン-2-イル基、(9-フルオレニル)ジフェニルメチル基、2-(9-フルオレニル)エチル基、2-(1-アズレニル)プロパン-2-イル基、(1-アズレニル)ジフェニルメチル基、2-(1-アズレニル)エチル基などの炭素原子数が7~40の芳香族含有直鎖状または分岐状のアルキル基および不飽和二重結合含有基;
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、n-ブチルシクロペンタジエニル基、n-ブチル-メチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、1-メチルシクロペンチル基、1-アリルシクロペンチル基、1-ベンジルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキサジエニル基、1-メチルシクロヘキシル基、1-アリルシクロヘキシル基、1-ベンジルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘプテニル基、シクロヘプタトリエニル基、1-メチルシクロヘプチル基、1-アリルシクロヘプチル基、1-ベンジルシクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロオクテニル基、シクロオクタジエニル基、シクロオクタトリエニル基、1-メチルシクロオクチル基、1-アリルシクロオクチル基、1-ベンジルシクロオクチル基、4-シクロヘキシル-tert-ブチル基、ノルボルニル基、ノルボルネニル基、ノルボルナジエニル基、2-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-イル基、7-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン-7-イル基、ビシクロ[2.2.2]オクタン-1-イル基、ビシクロ[2.2.2]オクタン-2-イル基、1-アダマンチル基、2-アダマンチル基、1-(2-メチルアダマンチル)、1-(3-メチルアダマンチル)、1-(4-メチルアダマンチル)、1-(2-フェニルアダマンチル)、1-(3-フェニルアダマンチル)、1-(4-フェニルアダマンチル)、1-(3,5-ジメチルアダマンチル)、1-(3,5,7-トリメチルアダマンチル)、1-(3,5,7-トリフェニルアダマンチル)、ペンタレニル基、インデニル基、フルオレニル基、インダセニル基、テトラヒドロインダセニル基、ベンゾインデニル基、アズレニル基などの炭素原子数が3~40の環状飽和および不飽和炭化水素基;
フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、ジュリル基、2,6-ジ-iso-プロピルフェニル基、2,4,6-トリ-iso-プロピルフェニル基、4-tert-ブチルフェニル基、3,5-ジ-tert-ブチルフェニル基、アリルフェニル基、(ブタ-3-エン-1-イル)フェニル基、(ブタ-2-エン-1-イル)フェニル基、メタリルフェニル基、プレニルフェニル基、4-アダマンチルフェニル基、3,5-ジ-アダマンチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ter-フェニル基、ビナフチル基、アセナフタレニル基、フェナントリル基、アントラセニル基、ピレニル基、フェロセニル基などの炭素原子数が6~40の芳香族置換基
などが挙げられる。
Examples of the hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms include:
methyl group, ethyl group, 1-propyl group, 1-butyl group, 1-pentyl group, 1-hexyl group, 1-heptyl group, 1-octyl group, 1-nonyl group, 1-decanyl group, 1-undecanyl group , 1-dodecanyl group, 1-eicosanyl group, iso-propyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, iso-butyl group, pentan-2-yl group, 2-methylbutyl group, iso-pentyl group, neopentyl group , tert-pentyl group (1,1-dimethylpropyl group), siamyl group, pentan-3-yl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, iso-hexyl group, 1,1-dimethylbutyl group ( 2-methylpentan-2-yl group), 3-methylpentan-2-yl group, 4-methylpentan-2-yl group, 2,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 3,3 -dimethylbutyl group, thexyl group, 3-methylpentan-3-yl group, 3,3-dimethylbut-2-yl group, hexan-3-yl group, 2-methylpentan-3-yl group, heptane-4 -yl group, 2,4-dimethylpentan-2-yl group, 3-ethylpentan-3-yl group, 4,4-dimethylpentyl group, 4-methylheptan-4-yl group, 4-propylheptane-4 -yl group, 2,3,3-trimethylbutan-2-yl group, 2,4,4-trimethylpentan-2-yl group and other linear or branched alkyl groups having 1 to 40 carbon atoms ;
vinyl group, allyl group, propenyl group, iso-propenyl group, allenyl group, but-3-en-1-yl group, crotyl group, but-3-en-2-yl group, methallyl group, pent-4-ene -1-yl group, pent-3-en-1-yl group, pent-2-en-1-yl group, iso-pentenyl group, 2-methylbut-3-en-1-yl group, pent-4- en-2-yl group, prenyl group, 2-methyl-but-2-en-1-yl group, pent-3-en-2-yl group, 2-methyl-but-3-en-2-yl group , pent-1-en-3-yl group, penta-2,4-dien-1-yl group, pent-1,3-dien-1-yl group, penta-1,4-dien-3-yl group , iso-prenyl group (2-methyl-but-1,3-dien-1-yl group), penta-2,4-dien-2-yl group, hex-5-en-1-yl group, hexa- 4-en-1-yl group, hex-3-en-1-yl group, hex-2-en-1-yl group, 4-methyl-pent-4-en-1-yl group, 3-methyl- pent-4-en-1-yl group, 2-methyl-pent-4-en-1-yl group, hex-5-en-2-yl group, 4-methyl-pent-3-en-1-yl group, 3-methyl-pent-3-en-1-yl group, 2,3-dimethyl-but-2-en-1-yl group, 2-methylpent-4-en-2-yl group, 3-ethylpenta -1-en-3-yl group, hex-3,5-dien-1-yl group, hex-2,4-dien-1-yl group, 4-methylpent-1,3-dien-1-yl group , 2,3-dimethyl-but-1,3-dien-1-yl group, hexa-1,3,5-trien-1-yl group, 2-(cyclopentadienyl)propan-2-yl group, A linear or branched alkenyl group or an unsaturated double bond-containing group having 2 to 40 carbon atoms such as a 2-(cyclopentadienyl)ethyl group;
ethynyl group, prop-2-yn-1-yl group, propargyl group, but-1-yn-1-yl group, but-2-yn-1-yl group, but-3-yn-1-yl group, pent-1-yn-1-yl group, pent-2-yn-1-yl group, pent-3-yn-1-yl group, pent-4-yn-1-yl group, 3-methyl-buta- 1-yn-1-yl group, pent-3-yn-2-yl group, 2-methyl-but-3-yn-1-yl group, pent-4-yn-2-yl group, hex-1- yn-1-yl group, 3,3-dimethyl-but-1-yn-1-yl group, 2-methyl-pent-3-yn-2-yl group, 2,2-dimethyl-but-3-yne -1-yl group, hex-4-yn-1-yl group, hex-5-yn-1-yl group, a linear or branched alkynyl group having 2 to 40 carbon atoms, or an unsaturated triple a bond-containing group;
benzyl group, 2-methylbenzyl group, 4-methylbenzyl group, 2,4,6-trimethylbenzyl group, 3,5-dimethylbenzyl group, cuminyl group, 2,4,6-tri-iso-propylbenzyl group, 4-tert-butylbenzyl group, 3,5-di-tert-butylbenzyl group, 1-phenylethyl group, benzhydryl group, cumyl group (2-phenylpropan-2-yl group), 2-(4-methylphenyl ) propan-2-yl group, 2-(3,5-dimethylphenyl)propan-2-yl group, 2-(4-tert-butylphenyl)propan-2-yl group, 2-(3,5-di -tert-butylphenyl)propan-2-yl group, 3-phenylpentan-3-yl group, 4-phenylhepta-1,6-dien-4-yl group, 1,2,3-triphenylpropane-2 -yl group, 1,1-diphenylethyl group, 1,1-diphenylpropyl group, 1,1-diphenyl-but-3-en-1-yl group, 1,1,2-triphenylethyl group, trityl group (triphenylmethyl group), tri-(4-methylphenyl)methyl group, 2-phenylethyl group, styryl group (2-phenylvinyl group), 2-(2-methylphenyl)ethyl group, 2-(4- methylphenyl)ethyl group, 2-(2,4,6-trimethylphenyl)ethyl group, 2-(3,5-dimethylphenyl)ethyl group, 2-(2,4,6-tri-iso-propylphenyl) ethyl group, 2-(4-tert-butylphenyl)ethyl group, 2-(3,5-di-tert-butylphenyl)ethyl group, 2-methyl-1-phenylpropan-2-yl group, 3-phenylpropy group, cinnamyl group (3-phenylallyl group), neophyll group (2-methyl-2-phenylpropyl group), 3-methyl-3-phenylbutyl group, 2-methyl-4-phenylbutan-2-yl group , cyclopentadienyldiphenylmethyl group, 2-(1-indenyl)propan-2-yl group, (1-indenyl)diphenylmethyl group, 2-(1-indenyl)ethyl group, 2-(tetrahydro-1-indacenyl ) propan-2-yl group, (tetrahydro-1-indacenyl) diphenylmethyl group, 2-(tetrahydro-1-indacenyl) ethyl group, 2-(1-benzoindenyl) propan-2-yl group, (1- benzoindenyl)diphenylmethyl group, 2-(1-benzoindenyl)ethyl group, 2-(9-fluorenyl)propane -2-yl group, (9-fluorenyl) diphenylmethyl group, 2-(9-fluorenyl) ethyl group, 2-(1-azulenyl) propan-2-yl group, (1-azulenyl) diphenylmethyl group, 2- Aromatic-containing linear or branched alkyl groups having 7 to 40 carbon atoms such as (1-azulenyl)ethyl groups and unsaturated double bond-containing groups;
cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclopentenyl group, cyclopentadienyl group, dimethylcyclopentadienyl group, n-butylcyclopentadienyl group, n-butyl-methylcyclopentadienyl group, tetramethylcyclo pentadienyl group, 1-methylcyclopentyl group, 1-allylcyclopentyl group, 1-benzylcyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclohexenyl group, cyclohexadienyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-allylcyclohexyl group, 1-benzyl cyclohexyl group, cycloheptyl group, cycloheptenyl group, cycloheptatrienyl group, 1-methylcycloheptyl group, 1-allylcycloheptyl group, 1-benzylcycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclooctenyl group, cyclooctadienyl group, cyclooctatrienyl group, 1-methylcyclooctyl group, 1-allylcyclooctyl group, 1-benzylcyclooctyl group, 4-cyclohexyl-tert-butyl group, norbornyl group, norbornenyl group, norbornadienyl group, 2- methylbicyclo[2.2.1]heptan-2-yl group, 7-methylbicyclo[2.2.1]heptan-7-yl group, bicyclo[2.2.2]octan-1-yl group, bicyclo [2.2.2] octan-2-yl group, 1-adamantyl group, 2-adamantyl group, 1-(2-methyladamantyl), 1-(3-methyladamantyl), 1-(4-methyladamantyl) , 1-(2-phenyladamantyl), 1-(3-phenyladamantyl), 1-(4-phenyladamantyl), 1-(3,5-dimethyladamantyl), 1-(3,5,7-trimethyladamantyl) ), 1-(3,5,7-triphenyladamantyl), pentalenyl group, indenyl group, fluorenyl group, indacenyl group, tetrahydroindacenyl group, benzoindenyl group, azulenyl group, etc. having 3 to 40 carbon atoms cyclic saturated and unsaturated hydrocarbon groups of;
phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, duryl group, 2,6-di-iso-propylphenyl group, 2,4,6-tri-iso-propylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 3,5-di-tert-butylphenyl group, allylphenyl group, (but-3-en-1-yl)phenyl group, (but-2-en-1-yl)phenyl group, methallylphenyl group , prenylphenyl group, 4-adamantylphenyl group, 3,5-di-adamantylphenyl group, naphthyl group, biphenyl group, ter-phenyl group, binaphthyl group, acenaphthalenyl group, phenanthryl group, anthracenyl group, pyrenyl group, ferrocenyl group, etc. and aromatic substituents having 6 to 40 carbon atoms.

前記炭素原子数が1~40の直鎖状または分岐状のアルキル基の中でも、メチル基、エチル基、1-プロピル基、1-ブチル基、1-ペンチル基、1-ヘキシル基、1-ヘプチル基、1-オクチル基、iso-プロピル基、sec-ブチル基(ブタン-2-イル基)、tert-ブチル基、iso-ブチル基、iso-ペンチル基、ネオペンチル基、tert-ペンチル基、ペンタン-3-イル基、iso-ヘキシル基、1,1-ジメチルブチル基、3,3-ジメチルブチル基、テキシル基、3-メチルペンタン-3-イル基、ヘプタン-4-イル基、2,4-ジメチルペンタン-2-イル基、3-エチルペンタン-3-イル基、4,4-ジメチルペンチル基、4-メチルヘプタン-4-イル基、4-プロピルヘプタン-4-イル基、2,4,4-トリメチルペンタン-2-イル基、などが好ましく、メチル基、エチル基、1-プロピル基、1-ブチル基、1-ペンチル基、1-ヘキシル基、iso-プロピル基、tert-ブチル基、ネオペンチル基、2,4-ジメチルペンタン-2-イル基、2,4,4-トリメチルペンタン-2-イル基がより好ましい。 Among the linear or branched alkyl groups having 1 to 40 carbon atoms, methyl group, ethyl group, 1-propyl group, 1-butyl group, 1-pentyl group, 1-hexyl group and 1-heptyl group, 1-octyl group, iso-propyl group, sec-butyl group (butan-2-yl group), tert-butyl group, iso-butyl group, iso-pentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, pentane- 3-yl group, iso-hexyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, thexyl group, 3-methylpentan-3-yl group, heptane-4-yl group, 2,4- dimethylpentan-2-yl group, 3-ethylpentan-3-yl group, 4,4-dimethylpentyl group, 4-methylheptan-4-yl group, 4-propylheptan-4-yl group, 2,4, 4-trimethylpentan-2-yl group, etc. are preferred, methyl group, ethyl group, 1-propyl group, 1-butyl group, 1-pentyl group, 1-hexyl group, iso-propyl group, tert-butyl group, A neopentyl group, a 2,4-dimethylpentan-2-yl group, and a 2,4,4-trimethylpentan-2-yl group are more preferred.

前記炭素原子数が2~40の直鎖状または分岐状のアルケニル基もしくは不飽和二重結合含有基の中でも、ビニル基、アリル基、ブタ-3-エン-1-イル基、クロチル基、メタリル基、ペンタ-4-エン-1-イル基、プレニル基、ペンタ-1,4-ジエン-3-イル基、ヘキサ-5-エン-1-イル基、2-メチルペンタ-4-エン-2-イル基、2-(シクロペンタジエニル)プロパン-2-イル基、2-(シクロペンタジエニル)エチル基などが好ましく、ビニル基、アリル基、ブタ-3-エン-1-イル基、ペンタ-4-エン-1-イル基、プレニル基、ヘキサ-5-エン-1-イル基がより好ましい。 Among the linear or branched alkenyl groups or unsaturated double bond-containing groups having 2 to 40 carbon atoms, vinyl group, allyl group, but-3-en-1-yl group, crotyl group, methallyl group, pent-4-en-1-yl group, prenyl group, pent-1,4-dien-3-yl group, hex-5-en-1-yl group, 2-methylpent-4-en-2- yl group, 2-(cyclopentadienyl)propan-2-yl group, 2-(cyclopentadienyl)ethyl group and the like are preferred, and vinyl group, allyl group, but-3-en-1-yl group, penta -4-en-1-yl group, prenyl group and hex-5-en-1-yl group are more preferred.

前記炭素原子数が2~40の直鎖状または分岐状のアルキニル基もしくは不飽和三重結合含有基の中でも、エチニル基、プロパ-2-イン-1-イル基、プロパルギル基、ブタ-2-イン-1-イル基、ブタ-3-イン-1-イル基、ペンタ-3-イン-1-イル基、ペンタ-4-イン-1-イル基、3-メチル-ブタ-1-イン-1-イル基、3,3-ジメチル-ブタ-1-イン-1-イル基、ヘキサ-4-イン-1-イル基、ヘキサ-5-イン-1-イル基などが好ましく、プロパ-2-イン-1-イル基、プロパルギル基、ブタ-2-イン-1-イル基、ブタ-3-イン-1-イル基がより好ましい。 Among the linear or branched alkynyl groups or unsaturated triple bond-containing groups having 2 to 40 carbon atoms, ethynyl group, prop-2-yn-1-yl group, propargyl group, but-2-yne -1-yl group, but-3-yn-1-yl group, pent-3-yn-1-yl group, pent-4-yn-1-yl group, 3-methyl-but-1-yn-1 -yl group, 3,3-dimethyl-but-1-yn-1-yl group, hex-4-yn-1-yl group, hex-5-yn-1-yl group and the like are preferable, and prop-2- In-1-yl group, propargyl group, but-2-yn-1-yl group and but-3-yn-1-yl group are more preferred.

前記炭素原子数が7~40の芳香族含有直鎖状または分岐状のアルキル基および不飽和二重結合含有基の中でも、ベンジル基、2-メチルベンジル基、4-メチルベンジル基、2,4,6-トリメチルベンジル基、3,5-ジメチルベンジル基、クミニル基、2,4,6-トリ-iso-プロピルベンジル基、4-tert-ブチルベンジル基、3,5-ジ-tert-ブチルベンジル基、ベンズヒドリル基、クミル基、1,1-ジフェニルエチル基、トリチル基、2-フェニルエチル基、2-(4-メチルフェニル)エチル基、2-(2,4,6-トリメチルフェニル)エチル基、2-(3,5-ジメチルフェニル)エチル基、2-(2,4,6-トリ-iso-プロピルフェニル)エチル基、2-(4-tert-ブチルフェニル)エチル基、2-(3,5-ジ-tert-ブチルフェニル)エチル基、スチリル基、2-メチル-1-フェニルプロパン-2-イル基、3-フェニルプロピル基、シンナミル基、ネオフィル基、シクロペンタジエニルジフェニルメチル基、2-(1-インデニル)プロパン-2-イル基、(1-インデニル)ジフェニルメチル基、2-(1-インデニル)エチル基、2-(9-フルオレニル)プロパン-2-イル基、(9-フルオレニル)ジフェニルメチル基、2-(9-フルオレニル)エチル基などが好ましく、ベンジル基、ベンズヒドリル基、クミル基、1,1-ジフェニルエチル基、トリチル基、2-フェニルエチル基、3-フェニルプロピル基、2-シンナミル基(3-フェニルアリル)がより好ましい。 Among the aromatic-containing linear or branched alkyl groups and unsaturated double bond-containing groups having 7 to 40 carbon atoms, benzyl group, 2-methylbenzyl group, 4-methylbenzyl group, 2,4 ,6-trimethylbenzyl group, 3,5-dimethylbenzyl group, cuminyl group, 2,4,6-tri-iso-propylbenzyl group, 4-tert-butylbenzyl group, 3,5-di-tert-butylbenzyl group group, benzhydryl group, cumyl group, 1,1-diphenylethyl group, trityl group, 2-phenylethyl group, 2-(4-methylphenyl)ethyl group, 2-(2,4,6-trimethylphenyl)ethyl group , 2-(3,5-dimethylphenyl)ethyl group, 2-(2,4,6-tri-iso-propylphenyl)ethyl group, 2-(4-tert-butylphenyl)ethyl group, 2-(3 ,5-di-tert-butylphenyl)ethyl group, styryl group, 2-methyl-1-phenylpropan-2-yl group, 3-phenylpropyl group, cinnamyl group, neophyll group, cyclopentadienyldiphenylmethyl group, 2-(1-indenyl) propan-2-yl group, (1-indenyl) diphenylmethyl group, 2-(1-indenyl) ethyl group, 2-(9-fluorenyl) propan-2-yl group, (9- fluorenyl)diphenylmethyl group, 2-(9-fluorenyl)ethyl group and the like are preferred, and benzyl group, benzhydryl group, cumyl group, 1,1-diphenylethyl group, trityl group, 2-phenylethyl group and 3-phenylpropyl group. , 2-cinnamyl group (3-phenylallyl) is more preferred.

前記炭素原子数が3~40の環状飽和および不飽和炭化水素基の中でも、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、1-メチルシクロペンチル基、1-アリルシクロペンチル基、1-ベンジルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、1-メチルシクロヘキシル基、1-アリルシクロヘキシル基、1-ベンジルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘプテニル基、シクロヘプタトリエニル基、1-メチルシクロヘプチル基、1-アリルシクロヘプチル基、1-ベンジルシクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロオクテニル基、シクロオクタジエニル基、4-シクロヘキシル-tert-ブチル基、ノルボルニル基、2-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-イル基、ビシクロ[2.2.2]オクタン-1-イル基、1-アダマンチル基、2-アダマンチル基、ペンタレニル基、インデニル基、フルオレニル基などが好ましく、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、1-メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、1-メチルシクロヘキシル基、1-アダマンチル基がより好ましい。 Among the cyclic saturated and unsaturated hydrocarbon groups having 3 to 40 carbon atoms, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclopentenyl group, cyclopentadienyl group, 1-methylcyclopentyl group, 1-allylcyclopentyl group, 1-benzylcyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclohexenyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-allylcyclohexyl group, 1-benzylcyclohexyl group, cycloheptyl group, cycloheptenyl group, cycloheptatrienyl group, 1-methylcyclo heptyl group, 1-allylcycloheptyl group, 1-benzylcycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclooctenyl group, cyclooctadienyl group, 4-cyclohexyl-tert-butyl group, norbornyl group, 2-methylbicyclo[2.2 .1]heptan-2-yl group, bicyclo[2.2.2]octan-1-yl group, 1-adamantyl group, 2-adamantyl group, pentalenyl group, indenyl group, fluorenyl group and the like are preferred, cyclopentyl group, A cyclopentenyl group, a 1-methylcyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexenyl group, a 1-methylcyclohexyl group and a 1-adamantyl group are more preferred.

前記炭素原子数が6~40の芳香族置換基の中でも、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、2,6-ジ-iso-プロピルフェニル基、2,4,6-トリ-iso-プロピルフェニル基、4-tert-ブチルフェニル基、3,5-ジ-tert-ブチルフェニル基、アリルフェニル基、プレニルフェニル基、4-アダマンチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ter-フェニル基、ビナフチル基、フェナントリル基、アントラセニル基、フェロセニル基などが好ましく、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、2,6-ジ-iso-プロピルフェニル基、2,4,6-トリ-iso-プロピルフェニル基、4-tert-ブチルフェニル基、3,5-ジ-tert-ブチルフェニル基、アリルフェニル基、4-アダマンチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、アントラセニル基がより好ましい。 Among the aromatic substituents having 6 to 40 carbon atoms, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, 2,6-di-iso-propylphenyl group, 2,4,6-tri -iso-propylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 3,5-di-tert-butylphenyl group, allylphenyl group, prenylphenyl group, 4-adamantylphenyl group, naphthyl group, biphenyl group, ter-phenyl A phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, a cumenyl group, a 2,6-di-iso-propylphenyl group, a 2,4,6- tri-iso-propylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 3,5-di-tert-butylphenyl group, allylphenyl group, 4-adamantylphenyl group, naphthyl group, biphenyl group, phenanthryl group, anthracenyl group more preferred.

1~R5およびR7~R12としての前記ハロゲン含有基としては、例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、4,4,4-トリフルオロブチル基、ドデカフルオロヘキシル基、6,6,6-トリフルオロヘキシル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ジ-tert-ブチル-フルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニル基、トリフルオロメトキシフェニル基、ビストリフルオロメトキシフェニル基、トリフルオロメチルチオフェニル基、ビストリフルオロメチルチオフェニル基、フルオロビフェニル基、ジフルオロビフェニル基、トリフルオロビフェニル基、テトラフルオロビフェニル基、ペンタフルオロビフェニル基、ジ-tert-ブチル-フルオロビフェニル基、トリフルオロメチルビフェニル基、ビストリフルオロメチルビフェニル基、トリフルオロメトキシビフェニル基、ビストリフルオロメトキシビフェニル基、トリフルオロメチルジメチルシリル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、フルオロフェノキシ基、ジフルオロフェノキシ基、トリフルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、ジ-tert-ブチル-フルオロフェノキシ基、トリフルオロメチルフェノキシ基、ビストリフルオロメチルフェノキシ基、トリフルオロメトキシフェノキシ基、ビストリフルオロメトキシフェノキシ基、ジフルオロメチレンジオキシフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニルイミノメチル基、トリフルオロメチルチオ基、などが挙げられる。 Examples of the halogen-containing groups as R 1 to R 5 and R 7 to R 12 include fluoromethyl group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, pentafluoroethyl group and 2,2,2-trifluoroethyl group. , heptafluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, nonafluorobutyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, dodecafluorohexyl group, 6,6,6-trifluorohexyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, difluorophenyl group, trifluorophenyl group, tetrafluorophenyl group, pentafluorophenyl group, di-tert-butyl-fluorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, bistrifluoromethylphenyl group, trifluoromethoxy phenyl group, bistrifluoromethoxyphenyl group, trifluoromethylthiophenyl group, bistrifluoromethylthiophenyl group, fluorobiphenyl group, difluorobiphenyl group, trifluorobiphenyl group, tetrafluorobiphenyl group, pentafluorobiphenyl group, di-tert-butyl- fluorobiphenyl group, trifluoromethylbiphenyl group, bistrifluoromethylbiphenyl group, trifluoromethoxybiphenyl group, bistrifluoromethoxybiphenyl group, trifluoromethyldimethylsilyl group, trifluoromethoxy group, pentafluoroethoxy group, fluorophenoxy group, difluoro phenoxy group, trifluorophenoxy group, pentafluorophenoxy group, di-tert-butyl-fluorophenoxy group, trifluoromethylphenoxy group, bistrifluoromethylphenoxy group, trifluoromethoxyphenoxy group, bistrifluoromethoxyphenoxy group, difluoromethylenedi oxyphenyl group, bistrifluoromethylphenyliminomethyl group, trifluoromethylthio group, and the like.

前記ハロゲン含有基の中でも、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、4,4,4-トリフルオロブチル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニル基、トリフルオロメトキシフェニル基、ペンタフルオロビフェニル基、トリフルオロメチルビフェニル基、ビストリフルオロメチルビフェニル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、ビストリフルオロメチルフェノキシ基、ビストリフルオロメチルフェノキシ基、ジフルオロメチレンジオキシフェニル基、トリフルオロメチルチオ基が好ましく、トリフルオロメチル基、フルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニル基、ペンタフルオロビフェニル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基がより好ましい。 Among the halogen-containing groups, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 4,4,4-trifluoromethyl group, fluorobutyl group, fluorophenyl group, difluorophenyl group, trifluorophenyl group, tetrafluorophenyl group, pentafluorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, bistrifluoromethylphenyl group, trifluoromethoxyphenyl group, pentafluorobiphenyl group, A trifluoromethylbiphenyl group, a bistrifluoromethylbiphenyl group, a trifluoromethoxy group, a pentafluorophenoxy group, a bistrifluoromethylphenoxy group, a bistrifluoromethylphenoxy group, a difluoromethylenedioxyphenyl group and a trifluoromethylthio group are preferred, and trifluoro A methyl group, a fluorophenyl group, a pentafluorophenyl group, a trifluoromethylphenyl group, a bistrifluoromethylphenyl group, a pentafluorobiphenyl group, a trifluoromethoxy group, and a pentafluorophenoxy group are more preferred.

1~R5およびR7~R12としての前記ケイ素含有基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ-iso-プロピルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、tert-ブチルジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基、トリス(トリメチルシリル)シリル基、シクロペンタジエニルジメチルシリル基、ジ-n-ブチル(シクロペンタジエニル)シリル基、シクロペンタジエニルジフェニルシリル基、インデニルジメチルシリル基、ジ-n-ブチル(インデニル)シリル基、インデニルジフェニルシリル基、フルオレニルジメチルシリル基、ジ-n-ブチル(フルオレニル)シリル基、フルオレニルジフェニルシリル基、4-トリメチルシリルフェニル基、4-トリエチルシリルフェニル基、4-トリ-iso-プロピルシリルフェニル基、4-tert-ブチルジフェニルシリルフェニル基、4-トリフェニルシリルフェニル基、4-トリス(トリメチルシリル)シリルフェニル基、3,5-ビス(トリメチルシリル)フェニル基などが挙げられる。 Examples of the silicon-containing groups as R 1 to R 5 and R 7 to R 12 include trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri-iso-propylsilyl group, diphenylmethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, and tert-butyldimethylsilyl group. -butyldiphenylsilyl group, triphenylsilyl group, tris(trimethylsilyl)silyl group, cyclopentadienyldimethylsilyl group, di-n-butyl(cyclopentadienyl)silyl group, cyclopentadienyldiphenylsilyl group, indenyl dimethylsilyl group, di-n-butyl(indenyl)silyl group, indenyldiphenylsilyl group, fluorenyldimethylsilyl group, di-n-butyl(fluorenyl)silyl group, fluorenyldiphenylsilyl group, 4-trimethylsilylphenyl group, 4-triethylsilylphenyl group, 4-tri-iso-propylsilylphenyl group, 4-tert-butyldiphenylsilylphenyl group, 4-triphenylsilylphenyl group, 4-tris(trimethylsilyl)silylphenyl group, 3, 5-bis(trimethylsilyl)phenyl group and the like.

前記ケイ素含有基の中でも、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ-iso-プロピルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、シクロペンタジエニルジメチルシリル基、シクロペンタジエニルジフェニルシリル基、インデニルジメチルシリル基、インデニルジフェニルシリル基、フルオレニルジメチルシリル基、フルオレニルジフェニルシリル基、4-トリメチルシリルフェニル基、4-トリエチルシリルフェニル基、4-トリ-iso-プロピルシリルフェニル基、4-トリフェニルシリルフェニル基、3,5-ビス(トリメチルシリル)フェニル基などが好ましく、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、4-トリメチルシリルフェニル基、4-トリエチルシリルフェニル基、4-トリ-iso-プロピルシリルフェニル基、3,5-ビス(トリメチルシリル)フェニル基がより好ましい。 Among the silicon-containing groups, trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri-iso-propylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, triphenylsilyl group, cyclopentadienyldimethylsilyl group, cyclopentadienyldiphenylsilyl group, indenyldimethylsilyl group, indenyldiphenylsilyl group, fluorenyldimethylsilyl group, fluorenyldiphenylsilyl group, 4-trimethylsilylphenyl group, 4-triethylsilylphenyl group, 4-tri-iso-propylsilylphenyl group, 4-triphenylsilylphenyl group, 3,5-bis(trimethylsilyl)phenyl group and the like are preferred, and trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, 4-trimethylsilylphenyl group, 4-triethylsilylphenyl group, 4 -Tri-iso-propylsilylphenyl group and 3,5-bis(trimethylsilyl)phenyl group are more preferred.

1~R5およびR7~R12としての前記酸素含有基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、iso-プロポキシ基、アリルオキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、iso-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、メタリルオキシ基、プレニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基、トルイルオキシ基、iso-プロピルフェノキシ基、アリルフェノキシ基、tert-ブチルフェノキシ基、メトキシフェノキシ基、iso-プロポキシフェノキシ基、アリルオキシフェノキシ基、ビフェニルオキシ基、ビナフチルオキシ基、メトキシメチル基、アリルオキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メトキシエチル基、アリルオキシエチル基、ベンジルオキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキシプロピル基、アリルオキシプロピル基、ベンジルオキシプロピル基、フェノキシプロピル基、メトキシビニル基、アリルオキシビニル基、ベンジルオキシビニル基、フェノキシビニル基、メトキシアリル基、アリルオキシアリル基、ベンジルオキシアリル基、フェノキシアリル基、ジメトキシメチル基、ジ-iso-プロポキシメチル基、ジオキソラニル基、テトラメチルジオキソラニル基、ジオキサニル基、メトキシフェニル基、iso-プロポキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチレンジオキシフェニル基、3,5-ジメチル-4-メトキシフェニル基、3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシフェニル基、フリル基、メチルフリル基、テトラヒドロフリル基、ピラニル基、テトラヒドロピラニル基、フロフリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基などが挙げられる。 Examples of the oxygen-containing groups for R 1 to R 5 and R 7 to R 12 include methoxy, ethoxy, n-propoxy, iso-propoxy, allyloxy, n-butoxy and sec-butoxy groups. , iso-butoxy group, tert-butoxy group, methallyloxy group, prenyloxy group, benzyloxy group, methoxymethoxy group, methoxyethoxy group, phenoxy group, naphthoxy group, toluyloxy group, iso-propylphenoxy group, allylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, methoxyphenoxy group, iso-propoxyphenoxy group, allyloxyphenoxy group, biphenyloxy group, binaphthyloxy group, methoxymethyl group, allyloxymethyl group, benzyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methoxyethyl group , allyloxyethyl group, benzyloxyethyl group, phenoxyethyl group, methoxypropyl group, allyloxypropyl group, benzyloxypropyl group, phenoxypropyl group, methoxyvinyl group, allyloxyvinyl group, benzyloxyvinyl group, phenoxyvinyl group , methoxyallyl group, allyloxyallyl group, benzyloxyallyl group, phenoxyallyl group, dimethoxymethyl group, di-iso-propoxymethyl group, dioxolanyl group, tetramethyldioxolanyl group, dioxanyl group, methoxyphenyl group, iso- propoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylenedioxyphenyl group, 3,5-dimethyl-4-methoxyphenyl group, 3,5-di-tert-butyl-4-methoxyphenyl group, furyl group, methylfuryl, tetrahydrofuryl, pyranyl, tetrahydropyranyl, furfuryl, benzofuryl, dibenzofuryl and the like.

前記酸素含有基の中でも、メトキシ基、エトキシ基、iso-プロポキシ基、アリルオキシ基、n-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、プレニルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基、トルイルオキシ基、iso-プロピルフェノキシ基、アリルフェノキシ基、tert-ブチルフェノキシ基、メトキシフェノキシ基、ビフェニルオキシ基、ビナフチルオキシ基、アリルオキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシアリル基、ベンジルオキシアリル基、フェノキシアリル基、ジメトキシメチル基、ジオキソラニル基、テトラメチルジオキソラニル基、ジオキサニル基、ジメチルジオキサニル基、メトキシフェニル基、iso-プロポキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチレンジオキシフェニル基、3,5-ジメチル-4-メトキシフェニル基、3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシフェニル基、フリル基、メチルフリル基、テトラヒドロピラニル基、フロフリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基等などが好ましく、メトキシ基、iso-プロポキシ基、tert-ブトキシ基、アリルオキシ基、フェノキシ基、ジメトキシメチル基、ジオキソラニル基、メトキシフェニル基、iso-プロポキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、3,5-ジメチル-4-メトキシフェニル基、3,5-ジ-tert-ブチル-4-メトキシフェニル基、フリル基、メチルフリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基がより好ましい。 Among the oxygen-containing groups, methoxy, ethoxy, iso-propoxy, allyloxy, n-butoxy, tert-butoxy, prenyloxy, benzyloxy, phenoxy, naphthoxy, toluyloxy, iso -propylphenoxy group, allylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, methoxyphenoxy group, biphenyloxy group, binaphthyloxy group, allyloxymethyl group, benzyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methoxyethyl group, methoxyallyl group, benzyl oxyallyl group, phenoxyallyl group, dimethoxymethyl group, dioxolanyl group, tetramethyldioxolanyl group, dioxanyl group, dimethyldioxanyl group, methoxyphenyl group, iso-propoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylenedioxyphenyl, 3,5-dimethyl-4-methoxyphenyl, 3,5-di-tert-butyl-4-methoxyphenyl, furyl, methylfuryl, tetrahydropyranyl, furfuryl, benzofuryl group, dibenzofuryl group and the like are preferred, and methoxy group, iso-propoxy group, tert-butoxy group, allyloxy group, phenoxy group, dimethoxymethyl group, dioxolanyl group, methoxyphenyl group, iso-propoxyphenyl group and allyloxyphenyl group. , phenoxyphenyl group, 3,5-dimethyl-4-methoxyphenyl group, 3,5-di-tert-butyl-4-methoxyphenyl group, furyl group, methylfuryl group, benzofuryl group and dibenzofuryl group are more preferred.

1~R5およびR7~R12としての前記窒素含有基としては、例えば、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アリルアミノ基、ジアリルアミノ基、ジデシルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モリホリル基、アゼピニル基、ジメチルアミノメチル基、ジベンジルアミノメチル基、ピロリジニルメチル基、ジメチルアミノエチル基、ベンジルアミノメチル基、ベンジルアミノエチル基、ピロリジニルエチル基、ジメチルアミノビニル基、ベンジルアミノビニル基、ピロリジニルビニル基、ジメチルアミノプロピル基、ベンジルアミノプロピル基、ピロリジニルプロピル基、ジメチルアミノアリル基、ベンジルアミノアリル基、ピロリジニルアリル基、アミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、3,5-ジメチル-4-ジメチルアミノフェニル基、3,5-ジ-iso-プロピル-4-ジメチルアミノフェニル基、ジュロリジニル基、テトラメチルジュロリジニル基、ピロリジニルフェニル基、ピロリルフェニル基、ピリジルフェニル基、キノリルフェニル基、イソキノリルフェニル基、インドリニルフェニル基、インドリルフェニル基、カルバゾリルフェニル基、ジ-tert-ブチルカルバゾリルフェニル基、ピロリル基、メチルピロリル基、フェニルピロリル基、ピリジル基、キノリル基、テトラヒドロキノリル基、iso-キノリル基、テトラヒドロ-iso-キノリル基、インドリル基、インドリニル基、カルバゾリル基、ジ-tert-ブチルカルバゾリル基、イミダゾリル基、ジメチルイミダゾリジニル基、ベンゾイミダソリル基、オキサゾリル基、オキサゾリジニル基、ベンゾオキサゾリル基などが挙げられる。 Examples of the nitrogen-containing groups for R 1 to R 5 and R 7 to R 12 include amino group, dimethylamino group, diethylamino group, allylamino group, diallylamino group, didecylamino group, benzylamino group and dibenzylamino group. , pyrrolidinyl group, piperidinyl group, morpholyl group, azepinyl group, dimethylaminomethyl group, dibenzylaminomethyl group, pyrrolidinylmethyl group, dimethylaminoethyl group, benzylaminomethyl group, benzylaminoethyl group, pyrrolidinylethyl group , dimethylaminovinyl group, benzylaminovinyl group, pyrrolidinylvinyl group, dimethylaminopropyl group, benzylaminopropyl group, pyrrolidinylpropyl group, dimethylaminoallyl group, benzylaminoallyl group, pyrrolidinylallyl group, amino phenyl group, dimethylaminophenyl group, 3,5-dimethyl-4-dimethylaminophenyl group, 3,5-di-iso-propyl-4-dimethylaminophenyl group, julolidinyl group, tetramethyljulolidinyl group, pyrrolidinyl lphenyl group, pyrrolylphenyl group, pyridylphenyl group, quinolylphenyl group, isoquinolylphenyl group, indolinylphenyl group, indolylphenyl group, carbazolylphenyl group, di-tert-butylcarbazolylphenyl group , pyrrolyl group, methylpyrrolyl group, phenylpyrrolyl group, pyridyl group, quinolyl group, tetrahydroquinolyl group, iso-quinolyl group, tetrahydro-iso-quinolyl group, indolyl group, indolinyl group, carbazolyl group, di-tert-butylcarba zolyl group, imidazolyl group, dimethylimidazolidinyl group, benzimidazolyl group, oxazolyl group, oxazolidinyl group, benzoxazolyl group and the like.

前記窒素含有基の中でも、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アリルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリル基、ジメチルアミノメチル基、ベンジルアミノメチル基、ピロリジニルメチル基、ジメチルアミノエチル基、ピロリジニルエチル基、ジメチルアミノプロピル基、ピロリジニルプロピル基、ジメチルアミノアリル基、ピロリジニルアリル基、アミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、3,5-ジメチル-4-ジメチルアミノフェニル基、3,5-ジ-iso-プロピル-4-ジメチルアミノフェニル基、ジュロリジニル基、テトラメチルジュロリジニル基、ピロリジニルフェニル基、ピロリルフェニル基、カルバゾリルフェニル基、ジ-tert-ブチルカルバゾリルフェニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基、テトラヒドロキノリル基、iso-キノリル基、テトラヒドロ-iso-キノリル基、インドリル基、インドリニル基、カルバゾリル基、ジ-tert-ブチルカルバゾリル基、イミダゾリル基、ジメチルイミダゾリジニル基、ベンゾイミダソリル基、オキサゾリル基、オキサゾリジニル基、ベンゾオキサゾリル基などが好ましく、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ジメチルアミノフェニル基、3,5-ジメチル-4-ジメチルアミノフェニル基、3,5-ジ-iso-プロピル-4-ジメチルアミノフェニル基、ジュロリジニル基、テトラメチルジュロリジニル基、ピロリジニルフェニル基、ピロリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、イミダゾリル基がより好ましい。 Among the nitrogen-containing groups, amino group, dimethylamino group, diethylamino group, allylamino group, benzylamino group, dibenzylamino group, pyrrolidinyl group, piperidinyl group, morpholyl group, dimethylaminomethyl group, benzylaminomethyl group, pyrrolidinyl methyl group, dimethylaminoethyl group, pyrrolidinylethyl group, dimethylaminopropyl group, pyrrolidinylpropyl group, dimethylaminoallyl group, pyrrolidinylallyl group, aminophenyl group, dimethylaminophenyl group, 3,5- dimethyl-4-dimethylaminophenyl group, 3,5-di-iso-propyl-4-dimethylaminophenyl group, julolidinyl group, tetramethyljulolidinyl group, pyrrolidinylphenyl group, pyrrolylphenyl group, carbazolyl phenyl group, di-tert-butylcarbazolylphenyl group, pyrrolyl group, pyridyl group, quinolyl group, tetrahydroquinolyl group, iso-quinolyl group, tetrahydro-iso-quinolyl group, indolyl group, indolinyl group, carbazolyl group, di -tert-butylcarbazolyl group, imidazolyl group, dimethylimidazolidinyl group, benzimidazolyl group, oxazolyl group, oxazolidinyl group, benzoxazolyl group, etc. are preferred, amino group, dimethylamino group, diethylamino group, pyrrolidinyl group, dimethylaminophenyl group, 3,5-dimethyl-4-dimethylaminophenyl group, 3,5-di-iso-propyl-4-dimethylaminophenyl group, julolidinyl group, tetramethyljulolidinyl group, pyrrolidinyl Phenyl group, pyrrolyl group, pyridyl group, carbazolyl group and imidazolyl group are more preferred.

1~R5およびR7~R12としての前記硫黄含有基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ベンジルチオ基、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、メチルチオメチル基、ベンジルチオメチル基、フェニルチオメチル基、ナフチルチオメチル基、メチルチオエチル基、ベンジルチオエチル基、フェニルチオエチル基、ナフチルチオエチル基、メチルチオビニル基、ベンジルチオビニル基、フェニルチオビニル基、ナフチルチオビニル基、メチルチオプロピル基、ベンジルチオプロピル基、フェニルチオプロピル基、ナフチルチオプロピル基、メチルチオアリル基、ベンジルチオアリル基、フェニルチオアリル基、ナフチルチオアリル基、メルカプトフェニル基、メチルチオフェニル基、チエニルフェニル基、メチルチエニルフェニル基、ベンゾチエニルフェニル基、ジベンゾチエニルフェニル基、ベンゾジチエニルフェニル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、メチルチエニル基、チエノフリル基、チエノチエニル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、チエノベンゾフリル基、ベンゾジチエニル基、ジチオラニル基、ジチアニル基、オキサチオラニル基、オキサチアニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、チアゾリジニル基などが挙げられる。 Examples of sulfur-containing groups for R 1 to R 5 and R 7 to R 12 include methylthio, ethylthio, benzylthio, phenylthio, naphthylthio, methylthiomethyl, benzylthiomethyl and phenylthiomethyl groups. , naphthylthiomethyl group, methylthioethyl group, benzylthioethyl group, phenylthioethyl group, naphthylthioethyl group, methylthiovinyl group, benzylthiovinyl group, phenylthiovinyl group, naphthylthiovinyl group, methylthiopropyl group, benzylthio propyl, phenylthiopropyl, naphthylthiopropyl, methylthioallyl, benzylthioallyl, phenylthioallyl, naphthylthioallyl, mercaptophenyl, methylthiophenyl, thienylphenyl, methylthienylphenyl, benzo thienylphenyl group, dibenzothienylphenyl group, benzodithienylphenyl group, thienyl group, tetrahydrothienyl group, methylthienyl group, thienofuryl group, thienotienyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, thienobenzofuryl group, benzodithienyl group, A dithiolanyl group, a dithianyl group, an oxathiolanyl group, an oxathianyl group, a thiazolyl group, a benzothiazolyl group, a thiazolidinyl group and the like can be mentioned.

前記硫黄含有基の中でも、チエニル基、メチルチエニル基、チエノフリル基、チエノチエニル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、チエノベンゾフリル基、ベンゾジチエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。 Among the above sulfur-containing groups, thienyl, methylthienyl, thienofuryl, thienotienyl, benzothienyl, dibenzothienyl, thienobenzofuryl, benzodithienyl, thiazolyl, and benzothiazolyl groups are preferred.

5の選択肢の1つである、窒素、酸素および硫黄からなる群から選ばれる原子を少なくとも1つ含む母骨格を5員環とする、置換基を有していてもよい複素環式芳香族基としては、例えば、下記一般式[5a]~[5h]で表される基が挙げられる。 An optionally substituted heterocyclic aromatic having a 5-membered ring as a mother skeleton containing at least one atom selected from the group consisting of nitrogen, oxygen and sulfur, which is one of the options for R 5 Examples of the group include groups represented by the following general formulas [5a] to [5h].

Figure 0007132059000005
前記式[5a]~[5h]中、Chは酸素原子あるいは硫黄原子であり、Rdはそれぞれ独立に、水素原子または炭素数1~20の炭化水素基であり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。なお、前記式[5a]~[5h]中の波線はベンゼン環との結合部位を示す。
Figure 0007132059000005
In the above formulas [5a] to [5h], Ch is an oxygen atom or a sulfur atom, and each R d is independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, which may be the same or different. good. The wavy lines in the formulas [5a] to [5h] indicate the bonding sites with the benzene ring.

前記炭素数1~20の炭化水素基の例としては、上述したR1~R5およびR7~R12としての前記炭素数1~40の炭化水素基の例として挙げたもののうち、炭素数が1~20のものが挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、1-プロピル基、1-ブチル基、1-ペンチル基、1-ヘキシル基、1-ヘプチル基、1-オクチル基、iso-プロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、iso-ブチル基、iso-ペンチル基、ネオペンチル基、tert-ペンチル基、アリル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロオクテニル基、ノルボルニル基、ビシクロ[2.2.2]オクタン-1-イル基、1-アダマンチル基、2-アダマンチル基、ベンジル基、ベンズヒドリル基、クミル基、1,1-ジフェニルエチル基、トリチル基、2-フェニルエチル基、3-フェニルプロピル基、シンナミル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、2,6-ジ-iso-プロピルフェニル基、2,4,6-トリ-iso-プロピルフェニル基、4-tert-ブチルフェニル基、3,5-ジ-tert-ブチルフェニル基、4-アダマンチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ter-フェニル基、ビナフチル基、フェナントリル基、アントラセニル基、フェロセニル基が挙げられ、より好ましくは、メチル基、エチル基、1-プロピル基、1-ブチル基、iso-プロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、iso-ブチル基、アリル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1-アダマンチル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、ビフェニル基、ter-フェニル基が挙げられる。 Examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include those listed as examples of the hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms as R 1 to R 5 and R 7 to R 12 described above. is 1 to 20, preferably methyl group, ethyl group, 1-propyl group, 1-butyl group, 1-pentyl group, 1-hexyl group, 1-heptyl group, 1-octyl group, iso -propyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, iso-butyl group, iso-pentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, allyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclooctenyl group, norbornyl group, bicyclo[2.2.2]octan-1-yl group, 1-adamantyl group, 2-adamantyl group, benzyl group, benzhydryl group, cumyl group, 1,1- diphenylethyl group, trityl group, 2-phenylethyl group, 3-phenylpropyl group, cinnamyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, 2,6-di-iso-propylphenyl group, 2 , 4,6-tri-iso-propylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 3,5-di-tert-butylphenyl group, 4-adamantylphenyl group, naphthyl group, biphenyl group, ter-phenyl group, binaphthyl group, phenanthryl group, anthracenyl group, ferrocenyl group, more preferably methyl group, ethyl group, 1-propyl group, 1-butyl group, iso-propyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, iso-butyl group, allyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-adamantyl group, benzyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group, biphenyl group and ter-phenyl group.

dは、隣接したRd同士が互いに結合して、それぞれ独立に複素5員環部分に縮環する、置換基を有していてもよい5~8員環の飽和または不飽和炭化水素基を形成してもよく、本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、好ましくは5又は6員環であり、この場合、母核の芳香環部分と併せた構造として、例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、カルバゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾール環などが挙げられる。 R d is an optionally substituted 5- to 8-membered saturated or unsaturated hydrocarbon group in which adjacent R d' s are bonded to each other and independently condensed to form a heterocyclic 5-membered ring moiety. is not particularly limited as long as the effect of the present invention is exhibited, but is preferably a 5- or 6-membered ring. thiophene ring, indole ring, carbazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzimidazole ring, benzopyrazole ring and the like.

前記式[5a]~[5h]で表される複素環式芳香族基の中でも、前記式[5a]で表される複素環式芳香族基が好ましい。
前記式[5a]で表される複素環式芳香族基の中でも、2-フリル基、5-メチル-2-フリル基、2-チエニル基、5-メチル-2-チエニル基が好ましい。
Among the heterocyclic aromatic groups represented by the above formulas [5a] to [5h], the heterocyclic aromatic groups represented by the above formula [5a] are preferred.
Among the heterocyclic aromatic groups represented by the above formula [5a], 2-furyl group, 5-methyl-2-furyl group, 2-thienyl group and 5-methyl-2-thienyl group are preferred.

前記式(1)において、R1とR2およびR3とR4は、互いに結合して置換基を有していてもよい飽和環を形成してもよい。この場合に形成される環は、シクロペンタジエニル環部分に縮環する置換基を有していてもよい5~8員環の飽和炭化水素基として環を形成することが好ましい。なお、環が複数存在する場合には互いに同一でも異なっていてもよい。本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、好ましくは6又は7員環であり、この場合、母核のシクロペンタジエニル部分と併せた構造として、例えば、置換テトラヒドロ-1-インデン環、置換オクタヒドロフルオレン環、置換テトラヒドロアズレン環が挙げられ、置換テトラヒドロ-1-インデン環であることが好ましい。 In the above formula (1), R 1 and R 2 and R 3 and R 4 may combine with each other to form a saturated ring which may have a substituent. The ring formed in this case preferably forms a ring as a 5- to 8-membered saturated hydrocarbon group optionally having a substituent group condensed to the cyclopentadienyl ring portion. In addition, when a plurality of rings are present, they may be the same or different. Although it is not particularly limited as long as the effect of the present invention is exhibited, it is preferably a 6- or 7-membered ring. Examples include an octahydrofluorene ring and a substituted tetrahydroazulene ring, preferably a substituted tetrahydro-1-indene ring.

前記式(1)において、R2とR3の隣接した置換基は、互いに結合して置換基を有していてもよい環を形成してもよい。この場合に形成される環は、シクロペンタジエニル環部分に縮環する置換基を有していてもよい5~8員環の飽和または不飽和炭化水素基として環を形成することが好ましい。なお、環が複数存在する場合には互いに同一でも異なっていてもよい。本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、好ましくは6又は7員環であり、この場合、母核のシクロペンタジエニル部分と併せた構造として、例えば、置換テトラヒドロ-2-インデン環、置換2-インデン環が挙げられ、置換2-インデン環であることが好ましい。 In the above formula (1), the adjacent substituents of R 2 and R 3 may combine with each other to form a ring which may have a substituent. The ring formed in this case preferably forms a ring as a 5- to 8-membered saturated or unsaturated hydrocarbon group optionally having a substituent group condensed to the cyclopentadienyl ring portion. In addition, when a plurality of rings are present, they may be the same or different. Although it is not particularly limited as long as the effect of the present invention is exhibited, it is preferably a 6- or 7-membered ring. A 2-indene ring is included, preferably a substituted 2-indene ring.

前記式(1)において、R7~R10の隣接した置換基は、互いに結合して置換基を有していてもよい環を形成してもよい。この場合に形成される環は、芳香環部分に縮環する置換基を有していてもよい5~8員環の飽和または不飽和炭化水素基として環を形成することが好ましい。なお、環が複数存在する場合には互いに同一でも異なっていてもよい。本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、好ましくは5又は6員環であり、この場合、母核のシクロペンタジエニル部分および芳香環部分と併せた構造として、例えば、置換ベンゾインデニル環、置換テトラヒドロインダセン環、置換シクロペンタテトラヒドロナフタレンが挙げられ、置換ベンゾインデニル環、置換テトラヒドロインダセン環であることが好ましい。 In the above formula (1), adjacent substituents of R 7 to R 10 may be combined to form a ring which may have a substituent. The ring formed in this case preferably forms a ring as a 5- to 8-membered saturated or unsaturated hydrocarbon group which may have a substituent group condensed to the aromatic ring portion. In addition, when a plurality of rings exist, they may be the same or different. Although it is not particularly limited as long as the effect of the present invention is exhibited, it is preferably a 5- or 6-membered ring. , substituted tetrahydroindacene ring and substituted cyclopentatetrahydronaphthalene, preferably substituted benzoindenyl ring and substituted tetrahydroindacene ring.

前記式(1)において、R11とR12は、互いに結合してQ1を含む環を形成してもよく、これらの環は置換基を有していてもよい。この場合に形成される環は、置換基を有していてもよい3~8員環の飽和または不飽和環を形成することが好ましい。本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、好ましくは4~6員環であり、この場合、Q1と併せた構造として、例えば、置換シクロブタン環、置換シクロペンタン環、置換フルオレン環、置換シラシクロブタン(シレタン)環、置換シラシクロペンタン(シロラン)環、置換シラシクロヘキサン(シリナン)、置換シラフルオレン環が挙げられ、置換シクロペンタン環、置換シラシクロブタン環、置換シラシクロペンタン環であることが好ましい。 In formula (1) above, R 11 and R 12 may combine with each other to form a ring containing Q 1 , and these rings may have a substituent. The ring formed in this case preferably forms an optionally substituted 3- to 8-membered saturated or unsaturated ring. Although it is not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited, it is preferably a 4- to 6-membered ring. cyclobutane (silentane) ring, substituted silacyclopentane (silolane) ring, substituted silacyclohexane (silinane) and substituted silafluorene ring, preferably substituted cyclopentane ring, substituted silacyclobutane ring and substituted silacyclopentane ring .

前記式(1)において、R6は直鎖状部分の炭素数が3~10の飽和炭化水素基または直鎖状部分の炭素数が3~10の末端不飽和炭化水素基である。
前記直鎖状部分の炭素数が3~10の飽和炭化水素基としては、例えば、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、sec-ブチル基、tert-ペンチル基、2-メチルペンタン-2-イル基、1-エチルシクロペンチル基、1-(n-プロピル)シクロペンチル基、1-エチルシクロヘキシル基、1-(n-プロピル)シクロヘキシル基などが挙げられ、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基であることが好ましい。
In the above formula (1), R 6 is a saturated hydrocarbon group having a linear portion of 3 to 10 carbon atoms or a terminal unsaturated hydrocarbon group having a linear portion of 3 to 10 carbon atoms.
Examples of the saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms in the linear portion include n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group and n-octyl. group, n-nonyl group, n-decyl group, sec-butyl group, tert-pentyl group, 2-methylpentan-2-yl group, 1-ethylcyclopentyl group, 1-(n-propyl)cyclopentyl group, 1- Ethylcyclohexyl group, 1-(n-propyl)cyclohexyl group and the like, preferably n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group and n-hexyl group.

前記直鎖状部分の炭素数が3~10の末端不飽和炭化水素基としては、例えば、アリル基、ブタ-3-エン-1-イル基、メタリル基、クロチル基、ペンタ-4-エン-1-イル基、プレニル基、ヘキサ-5-エン-1-イル基、ヘプタ-6-エン-1-イル基、オクタ-7-エン-1-イル基、ノナ-8-エン-1-イル基、デカ-9-エン-1-イル基、2-メチルブタ-3-エン-2-イル基、2-メチルペンタ-4-エン-2-イル基、1-ビニルシクロペンチル基、1-アリルシクロペンチル基、1-ビニルシクロヘキシル基、1-アリルシクロヘキシル基などが挙げられ、アリル基、ブタ-3-エン-1-イル基、ペンタ-4-エン-1-イル基、ヘキサ-5-エン-1-イル基であることが好ましい。 Examples of the terminal unsaturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms in the linear portion include allyl group, but-3-en-1-yl group, methallyl group, crotyl group, pent-4-ene- 1-yl group, prenyl group, hex-5-en-1-yl group, hept-6-en-1-yl group, octa-7-en-1-yl group, non-8-en-1-yl group, dec-9-en-1-yl group, 2-methylbut-3-en-2-yl group, 2-methylpent-4-en-2-yl group, 1-vinylcyclopentyl group, 1-allylcyclopentyl group , 1-vinylcyclohexyl group, 1-allylcyclohexyl group and the like, allyl group, but-3-en-1-yl group, pent-4-en-1-yl group, hex-5-en-1- It is preferably an yl group.

前記遷移金属化合物(1)の好ましい態様としては、Q1がケイ素原子であり、R1~R4およびR7~R12が、それぞれ独立に水素原子、炭素数1~20の炭化水素基、炭素数1~20の酸素含有基または炭素数1~20の窒素含有基であり、R5が水素原子、炭素数1~20の炭化水素基、炭素数1~20の酸素含有基、炭素数1~20の窒素含有基、置換フラン環または置換チオフェン環である態様(1-a)が挙げられ、
より好ましい態様としては、前記態様(1-a)において、R1~R4がすべて水素原子であり、R5およびR8~R12が、それぞれ独立に水素原子または炭素数1~10の炭化水素基であり、R7が水素原子、炭素数1~20の炭化水素基、炭素数1~20の酸素含有基または炭素数1~20の窒素含有基である態様(1-b)が挙げられ、
さらに好ましい態様としては、前記態様(1-b)において、R7~R10がすべて水素原子である態様(1-c)が挙げられる。
In a preferred embodiment of the transition metal compound (1), Q 1 is a silicon atom, R 1 to R 4 and R 7 to R 12 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an oxygen-containing group having 1 to 20 carbon atoms or a nitrogen-containing group having 1 to 20 carbon atoms, wherein R 5 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an oxygen-containing group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 20 nitrogen-containing groups, substituted furan rings or substituted thiophene rings (1-a),
As a more preferred embodiment, in the above embodiment (1-a), R 1 to R 4 are all hydrogen atoms, and R 5 and R 8 to R 12 are each independently a hydrogen atom or a carbon atom having 1 to 10 carbon atoms. Embodiment (1-b) in which it is a hydrogen group and R 7 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an oxygen-containing group having 1 to 20 carbon atoms or a nitrogen-containing group having 1 to 20 carbon atoms. be
A more preferred embodiment is the embodiment (1-c) in which all of R 7 to R 10 are hydrogen atoms in the above embodiment (1-b).

以下に遷移金属化合物(1)の具体例を示すが、特にこれによって本発明の範囲が限定されるものではない。
便宜上、遷移金属化合物(1)のMXn(金属部分)を除いたリガンド構造を、シクロペンタジエニル環部分、インデニル環部分、シクロペンタジエニル環部分R1、R2、R3、R4置換基およびインデニル環部分R5置換基、インデニル環部分R6置換基、インデニル環部分R7およびR10置換基、インデニル環部分R8およびR9置換基、架橋部分の構造の7つに分ける。シクロペンタジエニル環部分の略称をα、インデニル環部分の略称をβ、シクロペンタジエニル環部R1、R2、R3、R4置換基およびインデニル環部分R5置換基の略称をγ、インデニル環部分R6置換基の略称をδ、インデニル環部分R7およびR10置換基の略称をε、インデニル環部分R8およびR9置換基の略称をζ、架橋部分の構造の略称をηとし、各置換基の略称を[表1]~[表7]に示す。
Specific examples of the transition metal compound (1) are shown below, but the scope of the present invention is not particularly limited by these.
For convenience, the ligand structure of transition metal compound (1) excluding MXn (metal moiety) is replaced with cyclopentadienyl ring moieties, indenyl ring moieties, and cyclopentadienyl ring moieties R 1 , R 2 , R 3 and R 4 . Groups and indenyl ring moieties R5 substituents, indenyl ring moieties R6 substituents, indenyl ring moieties R7 and R10 substituents, indenyl ring moieties R8 and R9 substituents, bridging moieties. The abbreviation for the cyclopentadienyl ring portion is α, the abbreviation for the indenyl ring portion is β, the abbreviation for the cyclopentadienyl ring portion R 1 , R 2 , R 3 , R 4 substituents and the indenyl ring portion R 5 substituent is γ. , the abbreviation for the R6 substituent in the indenyl ring portion is δ, the abbreviation for the R7 and R10 substituents in the indenyl ring portion is ε, the abbreviation for the R8 and R9 substituents in the indenyl ring portion is ζ, and the abbreviation for the structure of the bridging portion is η, and the abbreviations of each substituent are shown in [Table 1] to [Table 7].

Figure 0007132059000006
Figure 0007132059000006

Figure 0007132059000007
なお、前記[表1]~[表2]中の波線は架橋部分との結合部位を示す。
Figure 0007132059000007
The wavy lines in [Table 1] to [Table 2] indicate the bonding sites with the crosslinked portions.

Figure 0007132059000008
前記[表3]中のR1、R2、R3、R4およびR5置換基は、その組み合わせにおいて互いに同一でも異なっていてもよい。
Figure 0007132059000008
The R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 substituents in [Table 3] may be the same or different in combination.

Figure 0007132059000009
Figure 0007132059000009

Figure 0007132059000010
前記[表5]中のR7およびR10置換基は、その組み合わせにおいて互いに同一でも異なっていてもよい。
Figure 0007132059000010
The R 7 and R 10 substituents in [Table 5] may be the same or different in combination.

Figure 0007132059000011
前記[表6]中のR8およびR9置換基は、その組み合わせにおいて互いに同一でも異なっていてもよい。
Figure 0007132059000011
The R 8 and R 9 substituents in [Table 6] may be the same or different in combination.

Figure 0007132059000012
Figure 0007132059000012

金属部分MXnの具体的な例示としては、TiF2、TiCl2、TiBr2、TiI2、Ti(Me)2、Ti(Bn)2、Ti(Allyl)2、Ti(CH2-tBu)2、Ti(1,3-ブタジエニル)、Ti(1,3-ペンタジエニル)、Ti(2,4-ヘキサジエニル)、Ti(1,4-ジフェニル-1,3-ペンタジエニル)、Ti(CH2-Si(Me)32、Ti(ОMe)2、Ti(ОiPr)2、Ti(NMe22、Ti(ОMs)2、Ti(ОTs)2、Ti(ОTf)2、ZrF2、ZrCl2、ZrBr2、ZrI2、Zr(Me)2、Zr(Bn)2、Zr(Allyl)2、Zr(CH2-tBu)2、Zr(1,3-ブタジエニル)、Zr(1,3-ペンタジエニル)、Zr(2,4-ヘキサジエニル)、Zr(1,4-ジフェニル-1,3-ペンタジエニル)、Zr(CH2-Si(Me)32、Zr(ОMe)2、Zr(ОiPr)2、Zr(NMe22、Zr(ОMs)2、Zr(ОTs)2、Zr(ОTf)2、HfF2、HfCl2、HfBr2、HfI2、Hf(Me)2、Hf(Bn)2、Hf(Allyl)2、Hf(CH2-tBu)2、Hf(1,3-ブタジエニル)、Hf(1,3-ペンタジエニル)、Hf(2,4-ヘキサジエニル)、Hf(1,4-ジフェニル-1,3-ペンタジエニル)、Hf(CH2-Si(Me)32、Hf(ОMe)2、Hf(ОiPr)2、Hf(NMe22、Hf(ОMs)2、Hf(ОTs)2、Hf(ОTf)2などが挙げられる。Meはメチル基、Bnはベンジル基、tBuはtert-ブチル基、Si(Me)3はトリメチルシリル基、ОMeはメトキシ基、ОiPrはiso-プロポキシ基、NMe2はジメチルアミノ基、ОMsはメタンスルホナート基、ОTsはp-トルエンスルホナート基、ОTfはトリフルオロメタンスルホナート基である。 Specific examples of the metal portion MXn include TiF 2 , TiCl 2 , TiBr 2 , TiI 2 , Ti(Me) 2 , Ti(Bn) 2 , Ti(Allyl) 2 , Ti(CH 2 -tBu) 2 , Ti (1,3-butadienyl), Ti (1,3-pentadienyl), Ti (2,4-hexadienyl), Ti (1,4-diphenyl-1,3-pentadienyl), Ti (CH 2 —Si(Me ) 3 ) 2 , Ti(OMe) 2 , Ti(OiPr) 2 , Ti(NMe2) 2 , Ti(OMs) 2 , Ti(OTs) 2 , Ti ( OTf) 2 , ZrF2 , ZrCl2 , ZrBr2 , ZrI 2 , Zr(Me) 2 , Zr(Bn) 2 , Zr(Allyl) 2 , Zr(CH 2 -tBu) 2 , Zr(1,3-butadienyl), Zr(1,3-pentadienyl), Zr (2,4-hexadienyl), Zr(1,4-diphenyl-1,3-pentadienyl), Zr(CH 2 —Si(Me) 3 ) 2 , Zr(OMe) 2 , Zr(OiPr) 2 , Zr( NMe2) 2 , Zr(OMs) 2 , Zr(OTs) 2 , Zr(OTf) 2 , HfF2 , HfCl2 , HfBr2 , HfI2, Hf(Me)2 , Hf (Bn)2 , Hf(Allyl ) 2 , Hf(CH 2 -tBu) 2 , Hf(1,3-butadienyl), Hf(1,3-pentadienyl), Hf(2,4-hexadienyl), Hf(1,4-diphenyl-1,3 -pentadienyl), Hf( CH2 -Si(Me) 3 ) 2 , Hf(OMe) 2 , Hf(OiPr) 2 , Hf(NMe2) 2 , Hf( OMs ) 2 , Hf(OTs) 2 , Hf( OTf) 2 and the like. Me is a methyl group, Bn is a benzyl group, tBu is a tert-butyl group, Si(Me) 3 is a trimethylsilyl group, OMe is a methoxy group, OiPr is an iso-propoxy group, NMe2 is a dimethylamino group, and OMs is methanesulfonate. OTs is the p-toluenesulfonate group and OTf is the trifluoromethanesulfonate group.

上記の表記に従えば、シクロペンタジエニル環部分が[表1]中のα-1、インデニル環部分が[表2]中のβ-1、シクロペンタジエニル環部分R1、R2、R3およびR4置換基がいずれも[表3]中のγ-1、インデニル環部分R5置換基が[表3]中のγ-17、インデニル環部分R6置換基が[表4]中のδ-5、インデニル環部分R7置換基が[表5]中のε-38、インデニル環部分R8およびR9置換基がいずれも[表6]中のζ-1、インデニル環部分R10置換基が[表5]中のε-1、架橋部分が[表7]中のη-20の組み合わせで構成され、金属部分のMXnがZrCl2の場合は、下記化合物[6]を例示している。 According to the above notation, the cyclopentadienyl ring portion is α-1 in [Table 1], the indenyl ring portion is β-1 in [Table 2], the cyclopentadienyl ring portions R 1 , R 2 , Both R 3 and R 4 substituents are γ-1 in [Table 3], the indenyl ring moiety R 5 substituent is γ-17 in [Table 3], and the indenyl ring moiety R 6 substituent is [Table 4] δ-5, the indenyl ring moiety R 7 substituent is ε-38 in [Table 5], the indenyl ring moiety R 8 and R 9 substituents are both ζ-1 in [Table 6], the indenyl ring moiety When the R 10 substituent is a combination of ε-1 in [Table 5] and the bridging moiety is η-20 in [Table 7], and the metal moiety MXn is ZrCl 2 , the following compound [6] exemplified.

Figure 0007132059000013
Figure 0007132059000013

また、シクロペンタジエニル環部分が[表1]中のα-2、インデニル環部分が[表2]中のβ-2、シクロペンタジエニル環部分R3およびR4置換基がいずれも[表3]中のγ-1、インデニル環部分R5置換基が[表3]中のγ-1、インデニル環部分R6置換基が[表4]中のδ-18、架橋部分が[表7]中のη-4の組み合わせで構成され、金属部分のMXnがZr(NMe22の場合は、下記化合物[7]を例示している。 Further, the cyclopentadienyl ring moiety is α-2 in [Table 1], the indenyl ring moiety is β-2 in [Table 2], and the cyclopentadienyl ring moiety R 3 and R 4 substituents are both [ γ-1 in Table 3], the indenyl ring moiety R 5 substituent is γ-1 in [Table 3], the indenyl ring moiety R 6 substituent is δ-18 in [Table 4], the bridging moiety is 7], and when the metal moiety MXn is Zr(NMe 2 ) 2 , the following compound [7] is exemplified.

Figure 0007132059000014
Figure 0007132059000014

また、シクロペンタジエニル環部分が[表1]中のα-6、インデニル環部分が[表2]中のβ-1、シクロペンタジエニル環部分R1およびR4置換基がいずれも[表3]中のγ-1、インデニル環部分R5置換基が[表3]中のγ-2、インデニル環部分R6置換基が[表4]中のδ-1、インデニル環部分R7およびR10置換基がいずれも[表5]中のε-2、インデニル環部分R8およびR9置換基がいずれも[表6]中のζ-1、架橋部分が[表7]中のη-31の組み合わせで構成され、金属部分のMXnがHfMe2の場合は、下記化合物[8]を例示している。 Further, the cyclopentadienyl ring moiety is α-6 in [Table 1], the indenyl ring moiety is β-1 in [Table 2], and the cyclopentadienyl ring moiety R 1 and R 4 substituents are both [ γ-1 in Table 3], the indenyl ring moiety R 5 substituent is γ-2 in [Table 3], the indenyl ring moiety R 6 substituent is δ-1 in [Table 4], the indenyl ring moiety R 7 and R 10 substituents are both ε-2 in [Table 5], indenyl ring moieties R 8 and R 9 substituents are both ζ-1 in [Table 6], and the bridging moiety is ε-1 in [Table 7] When it is composed of a combination of η-31 and the metal moiety MXn is HfMe 2 , the following compound [8] is exemplified.

Figure 0007132059000015
Figure 0007132059000015

また、シクロペンタジエニル環部分が[表1]中のα-5、インデニル環部分が[表2]中のβ-3、シクロペンタジエニル環部分R1およびR4置換基がいずれも[表3]中のγ-1、インデニル環部分R5置換基が[表3]中のγ-5、インデニル環部分R6置換基が[表4]中のδ-2、インデニル環部分R7およびR10置換基がいずれも[表5]中のε-1、架橋部分が[表7]中のη-29の組み合わせで構成され、金属部分のMXnがTi(1,3-ペンタジエニル)の場合は、下記化合物[9]を例示している。 Further, the cyclopentadienyl ring moiety is α-5 in [Table 1], the indenyl ring moiety is β-3 in [Table 2], and the cyclopentadienyl ring moiety R 1 and R 4 substituents are both [ γ-1 in Table 3], the indenyl ring moiety R 5 substituent is γ-5 in [Table 3], the indenyl ring moiety R 6 substituent is δ-2 in [Table 4], the indenyl ring moiety R 7 and R 10 substituents are both ε-1 in [Table 5], the bridging portion is a combination of η-29 in [Table 7], and the metal moiety MXn is Ti (1,3-pentadienyl) , the following compound [9] is exemplified.

Figure 0007132059000016
前記遷移金属化合物(1)従来公知の方法を利用して製造することができ、代表的な合成経路の例を以下に示すが、特に製造法が限定されるわけではない。
Figure 0007132059000016
The transition metal compound (1) can be produced using a conventionally known method, and examples of typical synthesis routes are shown below, but the production method is not particularly limited.

出発物質である置換シクロペンタジエン化合物は、公知の方法によって製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。公知の製造方法として例えば、「Tetrahedron Lett. 1989,30,3513.」、「J.Org.Chem. 1990,55,3395.」、「Inorg.Chem. 1991,30,853.」、「Оrganometallics 1997,16,2503.」、「J.Organomet.Chem. 1999,577,211.」、「J.Organomet.Chem. 1999,590,169.」、特表2002-535339号公報、「J.Organomet.Chem. 2003,677,133.」、「J.Organomet.Chem. 2005,690,952.」、「Org. Lett. 2008,10,2545.」などが挙げられる。 A substituted cyclopentadiene compound as a starting material can be produced by a known method, and the production method is not particularly limited. 1989, 30, 3513.", "J. Org. Chem. 1990, 55, 3395.", "Inorg. Chem. 1991, 30, 853." Chem. 1999, 577, 211.”, “J. Organomet. Chem. 1999, 590, 169.” Chem. 2003, 677, 133.", "J. Organomet. Chem. 2005, 690, 952.", "Org. Lett. 2008, 10, 2545."

出発物質である置換インデン化合物は、公知の方法によって製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。公知の製造方法として例えば、「Оrganometallics 1994,13,954.」、「Eur.J.Org.Chem. 2005,1058.」、「Оrganometallics 2006,25,1217.」、特表2006-509059号公報、「Bioorg.Med.Chem. 2008,16,7399.」、WО2009/080216号公報、「Оrganometallics 2011,30,5744.」、特表2011-500800号公報、「Оrganometallics 2012,31,4962.」、「Chem.Eur.J. 2012,18,4174.」、特開2012-012307号公報、特開2012-121882号公報、特開2014-196319号公報、特表2014-513735号公報、特開2015-063495号公報、特開2016-501952号公報などが挙げられる。 The starting substituted indene compound can be produced by a known method, and the production method is not particularly limited. As known production methods, for example, "Organometallics 1994, 13, 954.", "Eur. J. Org. Chem. 2005, 1058.", "Organometallics 2006, 25, 1217." "Bioorg. Med. Chem. 2008, 16, 7399.", WO2009/080216, "Organometallics 2011, 30, 5744." Chem. Eur. J. 2012, 18, 4174.”, JP 2012-012307, JP 2012-121882, JP 2014-196319, JP 2014-513735, JP 2015- 063495, JP 2016-501952, and the like.

前記置換インデン化合物のうち、1位または3位に分岐状アルキル置換基が導入された置換インデン化合物は、例えば下記反応式[1]で示すような公知の方法によって製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。公知の製造方法として例えば、「J.Organomet.Chem. 2002,650,114.」、「Eur.J.Inorg.Chem. 2005,1759.」などが挙げられる。 Among the substituted indene compounds described above, the substituted indene compound in which a branched alkyl substituent is introduced at the 1- or 3-position can be produced, for example, by a known method as represented by the following reaction formula [1]. is not limited. Examples of known production methods include "J. Organomet. Chem. 2002, 650, 114." and "Eur. J. Inorg. Chem. 2005, 1759."

Figure 0007132059000017
なお、前記反応式[1]中、baseは、インデニルアニオンを生成可能な塩基性物質であり、例えば水素化ナトリウム、n-ブチルリチウム、Grignard試薬のような有機金属化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような無機塩基や、ジエチルアミン、ピロリジンのような有機塩基が挙げられるが、特に限定されるわけではない。R6-Mは、アルキルリチウム試薬、芳香族リチウム試薬、アルキルGrignard試薬、芳香族Grignard試薬などの有機金属化合物であり、特に限定されるわけではない。置換インデン化合物とカルボニル化合物よりフルベン化合物を合成し、有機金属化合物と反応させることで目的化合物を製造可能であるが、フルベン化合物と有機金属化合物との反応で生じる反応溶液を、そのまま後述する遷移金属化合物(1)の前駆体化合物(配位子)合成に用いてもよい。
Figure 0007132059000017
In the above reaction formula [1], base is a basic substance capable of producing an indenyl anion, such as sodium hydride, n-butyllithium, organometallic compounds such as Grignard reagent, sodium hydroxide, Examples include inorganic bases such as potassium hydroxide and organic bases such as diethylamine and pyrrolidine, but are not particularly limited. R 6 -M is an organometallic compound such as an alkyl lithium reagent, an aromatic lithium reagent, an alkyl Grignard reagent, or an aromatic Grignard reagent, and is not particularly limited. The target compound can be produced by synthesizing a fulvene compound from a substituted indene compound and a carbonyl compound and reacting it with an organometallic compound. It may be used for synthesizing a precursor compound (ligand) of compound (1).

前記置換インデン化合物のうち、2位無置換のものに関しては、例えば下記反応式[2]で示すような公知の方法によって2位を臭素化可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。 Of the above-described substituted indene compounds, those unsubstituted at the 2-position can be brominated at the 2-position by a known method such as that shown in the following reaction formula [2], and the production method is not particularly limited. .

Figure 0007132059000018
なお、前記反応式[2]中、NBSはN-ブロモこはく酸イミドを示し、PTSAはp-トルエンスルホン酸およびその一水和物を示している。インデン化合物には、5員環部分二重結合位置異性体が存在するが、それら異性体の混合物を用いてもよい。公知の製造方法として例えば、前記で示した特開2012-121882号公報、特開2015-063495号公報の他に、特開2014-111568号公報などが挙げられる。
Figure 0007132059000018
In the reaction formula [2], NBS represents N-bromosuccinimide, and PTSA represents p-toluenesulfonic acid and its monohydrate. An indene compound has 5-membered ring partial double bond positional isomers, and a mixture of these isomers may be used. Examples of known production methods include JP-A-2012-121882 and JP-A-2015-063495, as well as JP-A-2014-111568.

前記2位臭素化置換インデン化合物および4位臭素化置換インデン化合物は、例えば下記反応式[3]で示すような、パラジウム触媒による鈴木-宮浦カップリング反応等の公知の方法によって、対応するカップリング生成物を製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。 The 2-brominated indene compound and the 4-brominated indene compound are subjected to the corresponding coupling by a known method such as Suzuki-Miyaura coupling reaction with a palladium catalyst, as shown in the following reaction formula [3]. The product can be manufactured, and the manufacturing method is not particularly limited.

Figure 0007132059000019
前記同様に、インデン化合物5員環部分二重結合位置異性体が存在するが、それら異性体の混合物を用いてもよい。
Figure 0007132059000019
As mentioned above, there are 5-membered ring partial double bond positional isomers of indene compounds, and mixtures of these isomers may also be used.

なお、ボロン酸の代わりに各種ボロン酸エステルやボロキシン等、他のホウ素化合物を用いてもよく、ハロゲン化化合物と金属試薬次いでホウ素化合物との反応混合物を単離精製せずに用いてもよく、パラジウム触媒の代わりにニッケル触媒または鉄触媒を用いてもよい。公知の製造方法として例えば、前記で示したものの他に、特開2014-196274号公報などが挙げられる。 Instead of the boronic acid, other boron compounds such as various boronic esters and boroxines may be used, and the reaction mixture of the halogenated compound and the metal reagent and then the boron compound may be used without isolation and purification, A nickel or iron catalyst may be used instead of the palladium catalyst. Examples of known production methods include those disclosed in JP-A-2014-196274 in addition to those described above.

また、カップリング生成物の製造には、ホウ素化合物による鈴木-宮浦カップリングの代わりに、有機亜鉛試薬との根岸カップリング、アルケン化合物との溝呂木-Heck反応、有機ケイ素化合物との檜山カップリング、末端アルキン化合物との薗頭-萩原カップリング、有機スズ化合物との右田-小杉-Stilleカップリング、有機マグネシウム化合物との熊田-玉尾-Corriuカップリング、Buchwald-Hartwigカップリング、Goldbergアミノ化反応またはUllmannエーテル合成反応を用いてもよい。公知の製造方法として例えば、前記で示したものの他に、特開平8-183814号公報、特表2005-529865号公報、特表2006-509046号公報などが挙げられる。 Also, instead of Suzuki-Miyaura coupling with boron compounds, Negishi coupling with organozinc reagents, Mizoroki-Heck reaction with alkene compounds, Hiyama coupling with organosilicon compounds, Sonogashira-Hagiwara coupling with terminal alkyne compounds, Migita-Kosugi-Stille coupling with organotin compounds, Kumada-Tamao-Corriu coupling with organomagnesium compounds, Buchwald-Hartwig coupling, Goldberg amination reaction or Ullmann ether synthesis reactions may also be used. Examples of known production methods include those disclosed in JP-A-8-183814, JP-A-2005-529865, JP-A-2006-509046, and the like, in addition to those described above.

カップリング生成物の製造には、例えば下記反応式[4]に示すような、前記2位無置換インデン化合物と芳香族ハロゲン化物を用い、パラジウム触媒による直接カップリング反応等の公知の方法を用いてもよい。 For the production of the coupling product, for example, the 2-position unsubstituted indene compound and the aromatic halide as shown in the following reaction formula [4] are used, and a known method such as a direct coupling reaction with a palladium catalyst is used. may

Figure 0007132059000020
前記反応式[4]中、Arは芳香族置換基を示し、インデン化合物5員環部分二重結合位置異性体の混合物を用いてもよい。公知の製造方法として例えば、特表2000-512661号公報、特開2014-201519号公報などが挙げられる。
Figure 0007132059000020
In the reaction formula [4], Ar represents an aromatic substituent, and a mixture of 5-membered ring partial double bond positional isomers of the indene compound may be used. Known production methods include, for example, JP-A-2000-512661 and JP-A-2014-201519.

遷移金属化合物(1)および前駆体化合物(配位子)は、前記手法等で製造した各種置換シクロペンタジエニル化合物および各種置換インデン化合物を用いて公知の方法によって製造できる。Q1がケイ素原子、ゲルマニウム原子またはスズ原子の場合、例えば下記反応式[5]で示すような方法によって製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。 The transition metal compound (1) and the precursor compound (ligand) can be produced by known methods using various substituted cyclopentadienyl compounds and various substituted indene compounds produced by the above-described methods and the like. When Q 1 is a silicon atom, a germanium atom or a tin atom, it can be produced by, for example, the method shown in the following reaction formula [5], and the production method is not particularly limited.

Figure 0007132059000021
Figure 0007132059000021

前記反応式[5]中、前駆体化合物(配位子)合成において、置換シクロペンタジエニル化合物より調整される有機リチウム試薬、および置換インデン化合物より調整される有機リチウム試薬は、段階的にQ1を含む塩化物と反応することが好ましく、その順序はいずれでもよい。一段階目の有機金属試薬との反応の後、不活性雰囲気化で副生無機化合物を除去してもよく、反応生成物を蒸留、晶析または洗浄等の操作で単離してから使用してもよい。二段階目の有機金属試薬との反応の際、DMI(1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン)、DMPU(N,N’-ジメチルプロピレン尿素)またはHMPA(ヘキサメチルリン酸トリアミド)等を、有機金属試薬に対して0.1~5.0当量添加することが好ましく、より好ましくはDMIであり、1.0当量である。なお、置換シクロペンタジエニル化合物、置換インデン化合物および前駆体化合物(配位子)には、5員環部分二重結合位置異性体が存在するが、それら異性体の混合物を用いてもよい。また、置換シクロペンタジエニル化合物が、前記2位臭素化置換インデン化合物の場合には、マグネシウムを用いたGrignard試薬を用いてもよい。 In the reaction formula [5], in the precursor compound (ligand) synthesis, the organolithium reagent prepared from the substituted cyclopentadienyl compound and the organolithium reagent prepared from the substituted indene compound are Q It is preferred to react with chlorides containing 1 , in any order. After the reaction with the organometallic reagent in the first step, the by-product inorganic compound may be removed under an inert atmosphere, and the reaction product is isolated by distillation, crystallization or washing before use. good too. During the reaction with the organometallic reagent in the second stage, DMI (1,3-dimethyl-2-imidazolidinone), DMPU (N,N'-dimethylpropylene urea) or HMPA (hexamethylphosphoric acid triamide), etc. , preferably 0.1 to 5.0 equivalents, more preferably 1.0 equivalents of DMI, relative to the organometallic reagent. The substituted cyclopentadienyl compound, the substituted indene compound and the precursor compound (ligand) include 5-membered ring partial double bond positional isomers, and a mixture of these isomers may be used. Further, when the substituted cyclopentadienyl compound is the 2-brominated indene compound, a Grignard reagent using magnesium may be used.

遷移金属化合物(1)および前駆体化合物(配位子)の公知の製造方法として、例えば、前記で示したものの他に、「Macromolecules 1995,28,3771.」、特開平11-315089号公報、特開2001-302687号公報、特開2001-220404号公報、「高分子論文集 2002,59,243.」、特表2003-522194号公報、「Macromolecules 2004,37,2342.」、特開2007-320935号公報、特開2011-126813号公報などが挙げられる。 As known methods for producing the transition metal compound (1) and the precursor compound (ligand), for example, in addition to those shown above, "Macromolecules 1995, 28, 3771.", JP-A-11-315089, JP-A-2001-302687, JP-A-2001-220404, "Polymer Papers 2002, 59, 243.", JP-A-2003-522194, "Macromolecules 2004, 37, 2342." -320935, JP-A-2011-126813, and the like.

1が炭素原子の場合、例えば下記反応式[6]に示すような方法によって製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。 When Q 1 is a carbon atom, it can be produced, for example, by the method shown in the following reaction formula [6], and the production method is not particularly limited.

Figure 0007132059000022
Figure 0007132059000022

前記反応式[6]中、baseは、シクロペンタジエニルアニオンを生成可能な塩基性物質であり、例えば前記反応式[1]で示したものが挙げられ、特に限定されるわけではない。塩基性物質存在下、置換シクロペンタジエニル化合物とカルボニル化合物より、公知の方法によってフルベン化合物が合成でき、置換インデン化合物より調整される有機リチウム試薬との反応によって、前駆体化合物(配位子)を製造することが可能である。なお、置換シクロペンタジエニル化合物、置換インデン化合物および前駆体化合物(配位子)には、5員環部分二重結合位置異性体が存在するが、それら異性体の混合物を用いてもよい。また、置換シクロペンタジエニル化合物が、前記2位臭素化置換インデン化合物の場合には、例えば下記反応式[7]に示すような方法によって製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。 In Reaction Formula [6] above, base is a basic substance capable of producing a cyclopentadienyl anion, and examples thereof include those shown in Reaction Formula [1] above, but are not particularly limited. A fulvene compound can be synthesized by a known method from a substituted cyclopentadienyl compound and a carbonyl compound in the presence of a basic substance. It is possible to manufacture The substituted cyclopentadienyl compound, the substituted indene compound and the precursor compound (ligand) include 5-membered ring partial double bond positional isomers, and a mixture of these isomers may be used. Further, when the substituted cyclopentadienyl compound is the 2-brominated indene compound, it can be produced, for example, by the method shown in the following reaction formula [7], and the production method is not particularly limited. do not have.

Figure 0007132059000023
Figure 0007132059000023

前記反応式[7]中、baseは、インデニルアニオンを生成可能な塩基性物質であり、例えば前記反応式[1]で示したものが挙げられ、特に限定されるわけではない。塩基性物質存在下、置換1-インデン化合物とカルボニル化合物より、公知の方法によってフルベン化合物が合成でき、2-臭素化置換インデン化合物より調整される有機マグネシウム試薬との反応によって、前駆体化合物(配位子)を製造することが可能である。なお、置換インデン化合物および前駆体化合物(配位子)には、5員環部分二重結合位置異性体が存在するが、それら異性体の混合物を用いてもよい。 In the above reaction formula [7], base is a basic substance capable of producing an indenyl anion, examples of which include those shown in the above reaction formula [1], but are not particularly limited. A fulvene compound can be synthesized by a known method from a substituted 1-indene compound and a carbonyl compound in the presence of a basic substance. ) can be manufactured. The substituted indene compound and the precursor compound (ligand) include 5-membered ring partial double bond positional isomers, and a mixture of these isomers may be used.

遷移金属化合物(1)および前駆体化合物(配位子)の公知の製造方法として例えば、前記で示したものの他に、「Macromolecules 2001,34,2072.」、「Macromolecules 2003,36,9325.」、「Organometallics 2004,23,5332.」、「Eur.J.Inorg.Chem. 2005,1003.」、「Eur.J.Inorg.Chem. 2009,1759.」、などが挙げられる。 As well-known methods for producing the transition metal compound (1) and the precursor compound (ligand), for example, in addition to those shown above, "Macromolecules 2001, 34, 2072." and "Macromolecules 2003, 36, 9325." , "Organometallics 2004, 23, 5332.", "Eur. J. Inorg. Chem. 2005, 1003.", "Eur. J. Inorg. Chem. 2009, 1759."

また、本発明の遷移金属化合物(1)は、架橋部分を挟んで中心金属と結合するシクロペンタジエニル環部分の面が2方向存在する(表面と裏面)。故に、シクロペンタジエニル環部分に対称面が存在しない場合、一例として下記一般式[10a]もしくは[10b]で示される2種類の構造異性体が存在する。 Further, in the transition metal compound (1) of the present invention, the cyclopentadienyl ring portion that bonds to the central metal across the bridging portion has two planes (front side and back side). Therefore, when the cyclopentadienyl ring portion does not have a plane of symmetry, there are two structural isomers represented by the following general formula [10a] or [10b].

Figure 0007132059000024
同様に、架橋部分の置換基R11とR12が同一でない場合にも、一例として下記一般式[11a]あるいは[11b]で示される2種類の構造異性体が存在する。
Figure 0007132059000024
Similarly, even when the substituents R 11 and R 12 of the crosslinked portion are not the same, there are two types of structural isomers represented by the following general formulas [11a] and [11b].

Figure 0007132059000025
Figure 0007132059000025

これら構造異性体混合物の精製、分取、あるいは構造異性体の選択的な製造は、公知の方法によって可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。公知の製造方法としては、前記遷移金属化合物(1)の製造方法として挙げたものの他に、特開平10-109996号公報、「Оrganometallics 1999,18,5347.」、「Оrganometallics 2012,31,4340.」、特表2011-502192号公報などが挙げられる。 Purification and fractionation of these structural isomer mixtures, or selective production of structural isomers is possible by known methods, and the production method is not particularly limited. As known production methods, in addition to the production method of the transition metal compound (1), JP-A-10-109996, "Organometallics 1999, 18, 5347.", "Organometallics 2012, 31, 4340." ”, Japanese National Publication of International Patent Application No. 2011-502192, and the like.

なお、本発明において遷移金属化合物(1)は、1種単独で用いてもよく、前記遷移金属化合物(1)のうち、化学構造の異なる遷移金属化合物を2種以上併用してもよい。また、化学構造が同一である構造異性体1種単独で用いてもよく、化学構造が同一である構造異性体混合物を用いてもよく、これら上記の組み合わせで用いてもよい。 In the present invention, the transition metal compound (1) may be used alone, or two or more of the transition metal compounds (1) having different chemical structures may be used in combination. Further, one structural isomer having the same chemical structure may be used singly, a structural isomer mixture having the same chemical structure may be used, or the above combinations may be used.

<成分(B)>
成分(B)は、下記一般式(2)で表される遷移金属化合物(以下「遷移金属化合物(2)」ともいう。)である。本発明のオレフィン重合用触媒は、遷移金属化合物(2)を少なくとも1種含む。すなわち、成分(B)として、遷移金属化合物(2)を複数種用いてもよい。
<Component (B)>
Component (B) is a transition metal compound represented by the following general formula (2) (hereinafter also referred to as “transition metal compound (2)”). The olefin polymerization catalyst of the present invention contains at least one transition metal compound (2). That is, a plurality of transition metal compounds (2) may be used as the component (B).

Figure 0007132059000026
式(2)中の各記号の定義は以下のとおりである。
Mは、周期表第4族遷移金属原子であり、具体的にはチタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子であり、好ましくはジルコニウム原子である。
Figure 0007132059000026
The definition of each symbol in formula (2) is as follows.
M is a Group 4 transition metal atom in the periodic table, specifically a titanium atom, a zirconium atom or a hafnium atom, preferably a zirconium atom.

Xは、一価の原子もしくは基であり、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基およびリン含有基から選ばれる原子または基であり、好ましくはハロゲン原子、炭化水素基である。前記ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基およびリン含有基の具体例としては、前記式(1)で例示したものと同様のものが挙げられる。 X is a monovalent atom or group, each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, a halogen-containing hydrocarbon group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group and a phosphorus-containing group; is an atom or group selected from, preferably a halogen atom or a hydrocarbon group. Specific examples of the halogen atom, hydrocarbon group, halogen-containing hydrocarbon group, silicon-containing group, oxygen-containing group, sulfur-containing group, nitrogen-containing group and phosphorus-containing group are the same as those exemplified in formula (1) above. are listed.

2は、二つの配位子を結合する二価の基であって、炭素数1~20の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基から選ばれる基であり、好ましくは、アルキレン基、置換アルキレン基およびアルキリデン基などの炭素数1~20の炭化水素基ならびにケイ素含有基であり、特に好ましくはアルキレン基、置換アルキレン基およびアルキリデン基などの炭素数1~10の炭化水素基である。 Q 2 is a divalent group that bonds two ligands and is a group selected from a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, a germanium-containing group and a tin-containing group; , preferably a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms such as an alkylene group, a substituted alkylene group and an alkylidene group, and a silicon-containing group, and particularly preferably an alkylene group, a substituted alkylene group and an alkylidene group having 1 to 1 carbon atoms. 10 hydrocarbon groups.

前記炭素数1~20の炭化水素基(二価の炭素数1~20の炭化水素基)としては、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレンなどのアルキレン基;イソプロピリデン、ジメチルメチレン、ジエチルメチレン、ジプロピルメチレン、ジイソプロピルメチレン、ジブチルメチレン、メチルエチルメチレン、メチルブチルメチレン、メチル-t-ブチルメチレン、ジヘキシルメチレン、ジシクロヘキシルメチレン、メチルシクロヘキシルメチレン、メチルフェニルメチレン、ジフェニルメチレン、ジトリルメチレン、メチルナフチルメチレン、ジナフチルメチレン、1-メチルエチレン、1,2-ジメチルエチレン、1-エチル-2-メチルエチレンなどの置換アルキレン基;シクロプロピリデン、シクロブチリデン、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、シクロヘプチリデン、ビシクロ[3.3.1]ノニリデン、ノルボルニリデン、アダマンチリデン、テトラヒドロナフチリデン、ジヒドロインダニリデンなどのシクロアルキレン基;エチリデン、プロピリデン、ブチリデンなどのアルキリデン基などが挙げられる。 Examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms (divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms) include alkylene groups such as methylene, ethylene, propylene and butylene; isopropylidene, dimethylmethylene, diethylmethylene and dipropyl methylene, diisopropylmethylene, dibutylmethylene, methylethylmethylene, methylbutylmethylene, methyl-t-butylmethylene, dihexylmethylene, dicyclohexylmethylene, methylcyclohexylmethylene, methylphenylmethylene, diphenylmethylene, ditolylmethylene, methylnaphthylmethylene, dinaphthyl substituted alkylene groups such as methylene, 1-methylethylene, 1,2-dimethylethylene, 1-ethyl-2-methylethylene; cyclopropylidene, cyclobutylidene, cyclopentylidene, cyclohexylidene, cycloheptylidene, bicyclo [3.3.1] cycloalkylene groups such as nonylidene, norbornylidene, adamantylidene, tetrahydronaphthylidene and dihydroindanilidene; and alkylidene groups such as ethylidene, propylidene and butylidene.

前記ケイ素含有基(二価のケイ素含有基)としては、シリレン、メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジイソプロピルシリレン、ジブチルシリレン、メチルブチルシリレン、メチル-t-ブチルシリレン、ジシクロヘキシルシリレン、メチルシクロヘキシルシリレン、メチルフェニルシリレン、ジフェニルシリレン、ジトリルシリレン、メチルナフチルシリレン、ジナフチルシリレン、シクロジメチレンシリレン、シクロトリメチレンシリレン、シクロテトラメチレンシリレン、シクロペンタメチレンシリレン、シクロヘキサメチレンシリレン、シクロヘプタメチレンシリレン基などが挙げられ、好ましくはジメチルシリレン、ジブチルシリレン、ジフェニルシリレンである。 Examples of the silicon-containing group (divalent silicon-containing group) include silylene, methylsilylene, dimethylsilylene, diisopropylsilylene, dibutylsilylene, methylbutylsilylene, methyl-t-butylsilylene, dicyclohexylsilylene, methylcyclohexylsilylene, and methylphenylsilylene. , diphenylsilylene, ditolylsilylene, methylnaphthylsilylene, dinaphthylsilylene, cyclodimethylsilylene, cyclotrimethylenesilylene, cyclotetramethylenesilylene, cyclopentamethylenesilylene, cyclohexamethylenesilylene, and cycloheptamethylenesilylene groups. , preferably dimethylsilylene, dibutylsilylene and diphenylsilylene.

前記ゲルマニウム含有基(二価のゲルマニウム含有基)または前記スズ含有基(スズ含有基)としては、上記ケイ素含有基においてケイ素をゲルマニウムまたはスズに変換した基などが挙げられる。 Examples of the germanium-containing group (divalent germanium-containing group) or the tin-containing group (tin-containing group) include groups in which silicon is converted to germanium or tin in the above silicon-containing group.

前記ハロゲン含有基(二価のハロゲン含有基)としては、上記アルキレン基、置換アルキレン基、シクロアルキレン基、アルキリデン基中やケイ素含有基中の水素原子の1個以上が適当なハロゲン原子で置換された基(ハロゲン含有ケイ素含有基)が挙げられ、例えば、ビス(トリフルオロメチル)メチレン、4,4,4-トリフルオロブチルメチルメチレン、ビス(トリフルオロメチル)シリレン、4,4,4-トリフルオロブチルメチルシリレン基などが挙げられる。 As the halogen-containing group (divalent halogen-containing group), one or more of the hydrogen atoms in the alkylene group, substituted alkylene group, cycloalkylene group, alkylidene group or silicon-containing group is substituted with a suitable halogen atom. groups (halogen-containing silicon-containing groups) such as bis(trifluoromethyl)methylene, 4,4,4-trifluorobutylmethylmethylene, bis(trifluoromethyl)silylene, 4,4,4-trifluoromethyl A fluorobutylmethylsilylene group and the like can be mentioned.

13~R24は、一価の原子もしくは基であり、それぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、硫黄含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基から選ばれ、隣接する2個の基が連結して環を形成してもよい。前記炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、硫黄含有基、リン含有基、ケイ素含有基の具体例としては、前記式(1)で例示したものと同様のものが挙げられる。また、前記ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、前記ケイ素含有基においてケイ素をゲルマニウムまたはスズに変換した基などが挙げられる。 R 13 to R 24 are monovalent atoms or groups, each independently hydrogen atom, hydrocarbon group, halogen-containing group, oxygen-containing group, nitrogen-containing group, boron-containing group, sulfur-containing group, phosphorus-containing group, Two adjacent groups selected from silicon-containing groups, germanium-containing groups and tin-containing groups may be linked to form a ring. Specific examples of the hydrocarbon group, halogen-containing group, oxygen-containing group, nitrogen-containing group, boron-containing group, sulfur-containing group, phosphorus-containing group, and silicon-containing group are the same as those exemplified in formula (1) above. things are mentioned. Further, examples of the germanium-containing group and the tin-containing group include groups obtained by converting silicon to germanium or tin in the silicon-containing group.

前記遷移金属化合物(2)の具体例としては、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2,7-ジ-t-ブチル-9-フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3,6-ジ-t-ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(オクタメチルオクタヒドリドジベンズフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジブチルメチレン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジブチルメチレン(シクロペンタジエニル)(2,7-ジ-t-ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジブチルメチレン(シクロペンタジエニル)(3,6-ジ-t-ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジブチルメチレン(シクロペンタジエニル)(オクタメチルオクタヒドリドジベンズフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、シクロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、シクロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(2,7-ジ-t-ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、シクロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(3,6-ジ-t-ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、シクロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(オクタメチルオクタヒドリドジベンズフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(2,7-ジ-t-ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(3,6-ジ-t-ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリドおよびジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(オクタメチルオクタヒドリドジベンズフルオレニル)ジルコニウムジクロリドが挙げられ、より好ましい具体例として、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2,7-ジ-t-ブチル-9-フルオレニル)ジルコニウムジクロリドなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the transition metal compound (2) include isopropylidene(cyclopentadienyl)(fluorenyl)zirconium dichloride and isopropylidene(cyclopentadienyl)(2,7-di-t-butyl-9-fluorenyl). zirconium dichloride, isopropylidene(cyclopentadienyl)(3,6-di-t-butylfluorenyl)zirconium dichloride, isopropylidene(cyclopentadienyl)(octamethyloctahydride dibenzfluorenyl)zirconium dichloride, dibutylmethylene(cyclopentadienyl)(fluorenyl)zirconium dichloride, dibutylmethylene(cyclopentadienyl)(2,7-di-t-butylfluorenyl)zirconium dichloride, dibutylmethylene(cyclopentadienyl) (3, 6-di-t-butylfluorenyl)zirconium dichloride, dibutylmethylene(cyclopentadienyl)(octamethyloctahydride dibenzfluorenyl)zirconium dichloride, cyclohexylidene(cyclopentadienyl)(fluorenyl)zirconium dichloride , cyclohexylidene(cyclopentadienyl)(2,7-di-t-butylfluorenyl)zirconium dichloride, cyclohexylidene(cyclopentadienyl)(3,6-di-t-butylfluorenyl) Zirconium dichloride, cyclohexylidene (cyclopentadienyl) (octamethyloctahydrido dibenzfluorenyl) zirconium dichloride, dimethylsilyl (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dichloride, dimethylsilyl (cyclopentadienyl) (2 ,7-di-t-butylfluorenyl)zirconium dichloride, dimethylsilyl(cyclopentadienyl)(3,6-di-t-butylfluorenyl)zirconium dichloride and dimethylsilyl(cyclopentadienyl)(octa methyloctahydridodibenzfluorenyl)zirconium dichloride, and more preferred specific examples include isopropylidene(cyclopentadienyl)(2,7-di-t-butyl-9-fluorenyl)zirconium dichloride. However, it is not limited to these.

前記遷移金属化合物(2)およびその製造方法は本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、その具体例としては、例えば、特開2006-233208号公報などに例示したものが挙げられる。 The transition metal compound (2) and its production method are not particularly limited as long as the effects of the present invention are achieved, and specific examples thereof include those exemplified in JP-A-2006-233208.

本発明においては、前記遷移金属化合物(2)を1種単独で用いてもよいし、前記遷移金属化合物(2)のうち、化学構造の異なる遷移金属化合物を二種類以上用いてもよい。また、化学構造が同一である構造異性体を1種単独で用いてもよいし、化学構造が同一である構造異性体混合物(例えば、メソ体混合物またはラセミ体混合物)で用いてもよい。 In the present invention, one transition metal compound (2) may be used alone, or two or more transition metal compounds having different chemical structures may be used among the transition metal compounds (2). In addition, one structural isomer having the same chemical structure may be used alone, or a structural isomer mixture having the same chemical structure (for example, a meso mixture or a racemic mixture) may be used.

<成分(C)>
成分(C)は、下記一般式(3)~(5)で表される有機金属化合物(c-1)、有機アルミニウムオキシ化合物(c-2)、ならびに、成分(A)および成分(B)と反応してイオン対を形成する化合物(c-3)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である。
a mAl(ORb)npq ・・・(3)
式(3)中、RaおよびRbは、それぞれ独立に炭素原子数が1~15の炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0<m≦3、nは0≦n<3、pは0≦p<3、qは0≦q<3の数であり、かつm+n+p+q=3である。
a AlRa 4 ・・・(4)
式(4)中、MaはLi、NaまたはKを示し、Raは炭素原子数が1以上15以下の炭化水素基を示す。
a rbb st ・・・(5)
式(5)中、RaおよびRbは、それぞれ独立に炭素原子数が1以上15以下の炭化水素基を示し、MbはMg、ZnおよびCdから選ばれ、Xはハロゲン原子を示し、rは0<r≦2、sは0≦s≦1、tは0≦t≦1であり、かつr+s+t=2である。
<Component (C)>
Component (C) is an organometallic compound (c-1) represented by the following general formulas (3) to (5), an organoaluminum oxy compound (c-2), and component (A) and component (B). is at least one compound selected from the group consisting of compounds (c-3) that form an ion pair by reacting with
R a m Al (OR b ) n H p X q (3)
In formula (3), R a and R b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, X represents a halogen atom, m is 0 < m ≤ 3, n is 0 ≤ n <3, p is 0≤p<3, q is a number 0≤q<3, and m+n+p+q=3.
M a AlR a 4 (4)
In formula (4), M a represents Li, Na or K, and R a represents a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
R a r M b R b s X t (5)
In formula (5), R a and R b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, M b is selected from Mg, Zn and Cd, X represents a halogen atom, r is 0<r≦2, s is 0≦s≦1, t is 0≦t≦1, and r+s+t=2.

前記有機金属化合物(c-1)の中では、前記式(3)で示されるものが好ましく、具体的には、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリ2-エチルヘキシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム;ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、ジイソブチルアルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムブロミドなどのジアルキルアルミニウムハライド;メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、イソプロピルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド;メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、イソプロピルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライド;ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジヒドロフェニルアルミニウムハイドライド、ジイソプロピルアルミニウムハイドライド、ジ-n-ブチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジイソヘキシルアルミニウムハイドライド、ジフェニルアルミニウムハイドライド、ジシクロヘキシルアルミニウムハイドライド、ジ-sec-ヘプチルアルミニウムハイドライド、ジ-sec-ノニルアルミニウムハイドライドなどのアルキルアルミニウムハイドライド;ジメチルアルミニウムエトキサイド、ジエチルアルミニウムエトキサイド、ジイソプロピルアルミニウムメトキサイド、ジイソブチルアルミニウムエトキサイドなどのジアルキルアルミニウムアルコキサイドなどが挙げられる。 Among the organometallic compounds (c-1), those represented by the formula (3) are preferable, and specifically, trimethylaluminum, triethylaluminum, triisopropylaluminum, triisobutylaluminum, trihexylaluminum, trioctyl aluminum, trialkylaluminum such as tri-2-ethylhexylaluminum; dialkylaluminum halides such as dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, diisopropylaluminum chloride, diisobutylaluminum chloride, dimethylaluminum bromide; methylaluminum sesquichloride, ethylaluminum sesquichloride, isopropylaluminum Alkyl aluminum sesquihalides such as sesquichloride, butyl aluminum sesquichloride, ethyl aluminum sesquibromide; alkyl aluminum dihalides such as methyl aluminum dichloride, ethyl aluminum dichloride, isopropyl aluminum dichloride, ethyl aluminum dibromide; dimethyl aluminum hydride, diethyl aluminum hydride, dihydrophenylaluminum hydride, diisopropylaluminum hydride, di-n-butylaluminum hydride, diisobutylaluminum hydride, diisohexylaluminum hydride, diphenylaluminum hydride, dicyclohexylaluminum hydride, di-sec-heptylaluminum hydride, di-sec-nonylaluminum hydride alkylaluminum hydrides such as dimethylaluminum ethoxide, diethylaluminum ethoxide, diisopropylaluminum methoxide, diisobutylaluminum ethoxide and the like dialkylaluminum alkoxides.

前記式(4)の例としては、水素化アルミニウムリチウムなどが挙げられ、前記式(5)の例としては、特開2003-171412号公報などに記載されたジアルキル亜鉛化合物などが挙げられ、フェノール化合物などと組合せて用いることもできる。 Examples of the formula (4) include lithium aluminum hydride, and examples of the formula (5) include dialkylzinc compounds described in JP-A-2003-171412. It can also be used in combination with a compound or the like.

前記有機アルミニウムオキシ化合物(c-2)としては、トリアルキルアルミニウムまたはトリシクロアルキルアルミニウムから調製された有機アルミニウムオキシ化合物が好ましく、トリメチルアルミニウムまたはトリイソブチルアルミニウムから調製されたアルミノキサンが特に好ましい。このような有機アルミニウムオキシ化合物は、1種単独または2種以上を組み合わせて用いられる。 As the organoaluminumoxy compound (c-2), an organoaluminumoxy compound prepared from trialkylaluminum or tricycloalkylaluminum is preferable, and an aluminoxane prepared from trimethylaluminum or triisobutylaluminum is particularly preferable. Such organoaluminumoxy compounds may be used singly or in combination of two or more.

前記成分(A)および成分(B)と反応してイオン対を形成する化合物(c-3)としては、特開平1-501950号公報、特開平1-502036号公報、特開平3-179005号公報、特開平3-179006号公報、特開平3-207703号公報、特開平3-207704号公報およびUS5321106などに記載されたルイス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およびカルボラン化合物や、さらにはヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物などを用いることができる。 As the compound (c-3) that forms an ion pair by reacting with the component (A) and the component (B), JP-A-1-501950, JP-A-1-502036, JP-A-3-179005 Publications, JP-A-3-179006, JP-A-3-207703, JP-A-3-207704 and US5321106 Lewis acids, ionic compounds, borane compounds and carborane compounds, and further heteropoly compounds and isopoly compounds can be used.

本発明に係るオレフィン重合用触媒では、助触媒成分としてメチルアルミノキサン等の有機アルミニウムオキシ化合物を併用すると、オレフィン化合物に対して非常に高い重合活性を示すだけでなく、固体状担体中の活性水素と反応し助触媒成分を含有した固体担体成分を容易に調製できるため、成分(C)は、少なくとも有機アルミニウムオキシ化合物(c-2)を含むことが好ましい。 In the olefin polymerization catalyst according to the present invention, when an organoaluminumoxy compound such as methylaluminoxane is used as a cocatalyst component, not only does it exhibit extremely high polymerization activity for olefin compounds, but it also reacts with active hydrogen in the solid support. The component (C) preferably contains at least the organoaluminum oxy compound (c-2), since the solid carrier component containing the co-catalyst component can be easily prepared by reaction.

<固体状担体(S)>
本発明で用いられる固体状担体(S)は、無機化合物または有機化合物であって、顆粒状または微粒子状の固体である。
<Solid carrier (S)>
The solid carrier (S) used in the present invention is an inorganic compound or an organic compound, and is a granular or particulate solid.

前記固体状担体(S)として用いられる無機化合物としては、多孔質酸化物、固体状アルミノキサン化合物、無機塩化物、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物が挙げられる。 Examples of inorganic compounds used as the solid carrier (S) include porous oxides, solid aluminoxane compounds, inorganic chlorides, clays, clay minerals, and ion-exchange layered compounds.

前記多孔質酸化物としては、SiO2、Al23、MgO、ZrO、TiO2、B23、CaO、ZnO、BaOおよびThO2など、またはこれらを含む複合物または混合物、具体的には、天然または合成ゼオライト、SiO2-MgO、SiO2-Al23、SiO2-TiO2、SiO2-V25、SiO2-Cr23およびSiO2-TiO2-MgOなどが用いられる。これらのうち、SiO2を主成分とするものが好ましい。 Examples of the porous oxide include SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, ZrO, TiO 2 , B 2 O 3 , CaO, ZnO, BaO and ThO 2 , or compounds or mixtures containing these, specifically includes natural or synthetic zeolites such as SiO2-MgO, SiO2 - Al2O3 , SiO2 - TiO2 , SiO2 - V2O5 , SiO2 - Cr2O3 and SiO2 - TiO2 -MgO. is used. Among these, those containing SiO 2 as a main component are preferred.

なお、上記多孔質酸化物には、少量のNa2CO3、K2CO3、CaCO3、MgCO3、Na2SO4、Al2(SO43、BaSO4、KNO3、Mg(NO32、Al(NO33、Na2O、K2O、Li2O等の炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差し支えない。 The above porous oxides may contain a small amount of Na2CO3 , K2CO3 , CaCO3 , MgCO3 , Na2SO4 , Al2 ( SO4 ) 3 , BaSO4 , KNO3 , Mg ( NO 3 ) Carbonates such as 2 , Al(NO 3 ) 3 , Na 2 O, K 2 O and Li 2 O, sulfates, nitrates and oxide components may be contained.

このような多孔質酸化物は、種類および製法によりその性状は異なるが、本発明で用いられる固体状担体(S)としては、粒径が通常0.2~300μm、好ましくは1~200μmであって、比表面積が通常50~1200m2/g、好ましくは100~1000m2/gの範囲にあり、細孔容積が通常0.3~30cm3/gの範囲にあるものが好ましい。このような担体は、必要に応じて、例えば、100~1000℃、好ましくは150~700℃で焼成して用いられる。 Such porous oxides have different properties depending on the type and production method, but the solid carrier (S) used in the present invention usually has a particle size of 0.2 to 300 μm, preferably 1 to 200 μm. It is preferred that the specific surface area is generally in the range of 50 to 1200 m 2 /g, preferably 100 to 1000 m 2 /g, and the pore volume is generally in the range of 0.3 to 30 cm 3 /g. Such a carrier is calcined at, for example, 100 to 1000° C., preferably 150 to 700° C., if necessary.

前記固体状アルミノキサン化合物としては、下記一般式(S-a)で表わされる構造のアルミノキサン、下記一般式(S-b)で表される構造のアルミノキサン、および下記一般式(S-c)で表される繰り返し単位と下記一般式(S-d)で表される繰り返し単位とを構造として有するアルミノキサンなどが挙げられる。 Examples of the solid aluminoxane compound include an aluminoxane having a structure represented by the following general formula (Sa), an aluminoxane having a structure represented by the following general formula (Sb), and a general formula (Sc) below. and a repeating unit represented by the following general formula (Sd) as a structure.

Figure 0007132059000027
Figure 0007132059000027

上記式(S-a)~(S-d)において、Reは、それぞれ独立に、炭素原子数1~10、好ましくは1~4の炭化水素基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソプロペニル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、フェニル基、トリル基、エチルフェニル基などの炭化水素基を例示することができ、メチル基、エチル基、イソブチル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。また、Reの一部が塩素や臭素などのハロゲン原子で置換され、かつハロゲン含有率がReを基準として40重量%以下であってもよい。上記式(S-c)および(S-d)中の、片方が原子と繋がっていない直線は、図示していない別の原子との結合を示す。 In the above formulas (Sa) to (Sd), R e is each independently a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, specifically a methyl group, an ethyl group, propyl group, isopropyl group, isopropenyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group , octadecyl group, eicosyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group, and the like. Preferred are methyl group, ethyl group and isobutyl group, and particularly methyl group is preferable. Also, part of R e may be substituted with halogen atoms such as chlorine and bromine, and the halogen content may be 40% by weight or less based on R e . In the above formulas (Sc) and (Sd), a straight line, one of which is not connected to an atom, indicates a bond with another atom (not shown).

前記式(S-a)および(S-b)中、rは2~500、好ましくは6~300、特に好ましくは10~100の整数を示す。前記式(S-c)および(S-d)中、sおよびtはそれぞれ1以上の整数を示す。r、sおよびtは、前記アルミノキサンが、用いられる反応環境下において、実質的に固体状態を維持できるように、選択される。 In the above formulas (Sa) and (Sb), r represents an integer of 2-500, preferably 6-300, particularly preferably 10-100. In formulas (Sc) and (Sd), s and t each represent an integer of 1 or more. r, s and t are selected such that the aluminoxane remains substantially solid under the reaction environment employed.

前記固体状アルミノキサン化合物は、従来公知のオレフィン重合触媒用担体と異なり、シリカやアルミナなどの無機固体成分、および、ポリエチレンやポリスチレンなどの有機系ポリマー成分を含まず、アルキルアルミニウム化合物を主たる成分として固体化したものである。「固体状」とは、アルミノキサン成分が、用いられる反応環境下において、実質的に固体状態を維持することである。より具体的には、後述のように前記遷移金属化合物[A]とアルミノキサン成分とを接触させてオレフィン重合用触媒(例:エチレン重合用触媒)を調製する際、および調製されたオレフィン重合用触媒を用いてオレフィン(例:エチレン)の重合(たとえば懸濁重合)を行う際に、アルミノキサン成分が実質的に固体状態を維持することである。 The solid aluminoxane compound, unlike conventionally known carriers for olefin polymerization catalysts, does not contain inorganic solid components such as silica and alumina, and organic polymer components such as polyethylene and polystyrene. It has become. By "solid state" is meant that the aluminoxane component remains substantially solid under the reaction environment in which it is used. More specifically, when preparing an olefin polymerization catalyst (e.g., an ethylene polymerization catalyst) by contacting the transition metal compound [A] with an aluminoxane component as described later, and the prepared olefin polymerization catalyst is to maintain the aluminoxane component in a substantially solid state during the polymerization (for example, suspension polymerization) of olefin (eg, ethylene) using .

前記アルミノキサン成分が固体状態であるかどうかは、目視による確認が最も簡便な方法であるが、例えば重合時などは目視による確認が困難である場合が多い。その場合は、例えば重合後に得られた重合体パウダーの性状や反応器への付着状態などから判断することが可能である。逆に、重合体パウダーの性状が良好で、反応器への付着が少なければ、重合環境下において前記アルミノキサン成分の一部が多少溶出したとしても本発明の趣旨を逸脱することはない。重合体パウダーの性状を判断する指標としては、嵩密度、粒子形状、表面形状、不定形ポリマーの存在度合いなどが挙げられるが、定量性の観点からポリマー嵩密度が好ましい。前記嵩密度は通常0.01~0.9であり、好ましくは0.05~0.6、より好ましくは0.1~0.5の範囲内である。 Visual confirmation is the simplest method for determining whether the aluminoxane component is in a solid state or not. However, visual confirmation is often difficult, for example, during polymerization. In that case, it is possible to determine, for example, from the properties of the polymer powder obtained after polymerization, the state of adhesion to the reactor, and the like. Conversely, if the polymer powder has good properties and little adhesion to the reactor, even if some of the aluminoxane component is eluted under the polymerization environment, it does not depart from the gist of the present invention. Indices for judging the properties of the polymer powder include bulk density, particle shape, surface shape, and the degree of presence of amorphous polymer. Polymer bulk density is preferable from the viewpoint of quantification. The bulk density is generally 0.01 to 0.9, preferably 0.05 to 0.6, more preferably 0.1 to 0.5.

前記固体状アルミノキサン化合物の、25℃の温度に保持されたn-ヘキサンに対する溶解割合は、通常0~40モル%、好ましくは0~20モル%、特に好ましくは0~10モル%の範囲にある。 The dissolution ratio of the solid aluminoxane compound in n-hexane kept at a temperature of 25° C. is usually 0 to 40 mol %, preferably 0 to 20 mol %, particularly preferably 0 to 10 mol %. .

前記溶解割合は、25℃に保持された50mlのn-ヘキサンに固体状アルミノキサン化合物担体2gを加えてから2時間の撹拌を行ない、次いでG-4グラス製フイルターを用いて溶液部を分離し、この濾液中のアルミニウム濃度を測定することにより求められる。従って、溶解割合は用いたアルミノキサン2gに相当するアルミニウム原子の量に対する前記濾液中に存在するアルミニウム原子の割合として決定される。 The dissolution ratio was obtained by adding 2 g of the solid aluminoxane compound carrier to 50 ml of n-hexane kept at 25° C. and stirring for 2 hours, then separating the solution portion using a G-4 glass filter, It is obtained by measuring the aluminum concentration in this filtrate. The dissolution rate is therefore determined as the proportion of aluminum atoms present in the filtrate to the amount of aluminum atoms corresponding to 2 g of the aluminoxane used.

前記固体状アルミノキサン化合物としては、公知の固体状アルミノキサンを制限なく用いることができ、たとえば国際公開第2014/123212号に記載された固体状ポリアルミノキサン組成物を用いることもできる。公知の製造方法としては、例えば、特公平7-42301号公報、特開平6-220126号公報、特開平6-220128号公報、特開平11-140113号公報、特開平11-310607号公報、特開2000-38410号公報、特開2000-95810号公報、国際公開第2010/55652号などに記載された製造方法が挙げられる。 As the solid aluminoxane compound, known solid aluminoxane can be used without limitation, and for example, the solid polyaluminoxane composition described in International Publication No. 2014/123212 can also be used. Known production methods include, for example, JP-B-7-42301, JP-A-6-220126, JP-A-6-220128, JP-A-11-140113, JP-A-11-310607, Examples include the production methods described in JP-A-2000-38410, JP-A-2000-95810, and International Publication No. 2010/55652.

前記固体状アルミノキサン化合物の平均粒子径は、一般に0.01~50000μm、好ましくは0.1~1000μm、特に好ましくは1~200μmの範囲にある。固体状アルミノキサン化合物の平均粒子径は、走査型電子顕微鏡により粒子を観察し、100個以上の粒子の粒径を測定し、重量平均化することにより求められる。まず、各粒子の粒径dは、粒子像を水平方向、垂直方向それぞれに2本の平行線ではさんで長さを測り、下式により求められる。
粒径d=((水平方向長さ)2+(垂直方向長さ)20.5
The average particle size of the solid aluminoxane compound is generally in the range of 0.01-50000 μm, preferably 0.1-1000 μm, particularly preferably 1-200 μm. The average particle size of the solid aluminoxane compound can be obtained by observing particles with a scanning electron microscope, measuring the particle size of 100 or more particles, and averaging the particles by weight. First, the particle diameter d of each particle is determined by the following formula by measuring the length of a particle image sandwiched between two parallel lines in the horizontal and vertical directions.
Grain size d = ((horizontal length) 2 + (vertical length) 2 ) 0.5

次に、固体状アルミノキサン化合物の重量平均粒子径は、上記で求めた粒径dと粒子個数nとを用いて下式により求められる。
平均粒子径=Σnd4/Σnd3
Next, the weight average particle size of the solid aluminoxane compound is determined by the following formula using the particle size d and the number of particles n determined above.
Average particle size = Σnd 4 /Σnd 3

前記固体状アルミノキサン化合物は、比表面積が50~1000m2/g、好ましくは100~800m2/gであり、細孔容積が0.1~2.5cm3/gであることが望ましい。 The solid aluminoxane compound preferably has a specific surface area of 50 to 1000 m 2 /g, preferably 100 to 800 m 2 /g, and a pore volume of 0.1 to 2.5 cm 3 /g.

前記無機ハロゲン化物としては、例えば、MgCl2、MgBr2、MnCl2、MnBr2などが挙げられる。無機ハロゲン化物は、そのまま用いてもよいし、ボールミル、振動ミルにより粉砕した後に用いてもよい。また、アルコール等の溶媒に無機ハロゲン化物を溶解させた後、析出剤によって微粒子状に析出させたものを用いることもできる。 Examples of the inorganic halides include MgCl 2 , MgBr 2 , MnCl 2 and MnBr 2 . The inorganic halide may be used as it is, or may be used after pulverizing with a ball mill or vibration mill. Moreover, after dissolving an inorganic halide in a solvent such as alcohol, it is possible to use a product obtained by depositing fine particles using a precipitating agent.

粘土は、通常粘土鉱物を主成分として構成される。また、イオン交換性層状化合物は、イオン結合等によって構成される面が互いに弱い結合力で平行に積み重なった結晶構造を有する化合物であり、含有するイオンが交換可能なものである。大部分の粘土鉱物はイオン交換性層状化合物である。また、これらの粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物としては、天然産のものに限らず、人工合成物を使用することもできる。 Clay is usually composed mainly of clay minerals. An ion-exchangeable layered compound is a compound having a crystal structure in which planes formed by ionic bonds or the like are stacked in parallel with weak bonding force, and the ions contained therein can be exchanged. Most clay minerals are ion exchange layered compounds. Moreover, as these clays, clay minerals, and ion-exchangeable layered compounds, not only naturally occurring ones but also artificially synthesized ones can be used.

また、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物として、粘土、粘土鉱物、また、六方細密パッキング型、アンチモン型、CdCl2型、CdI2型等の層状の結晶構造を有するイオン結晶性化合物等を例示することができる。 Clays, clay minerals, and ionic crystalline compounds having a layered crystal structure such as hexagonal close-packing type, antimony type, CdCl2 type, CdI2 type, etc. are used as clays, clay minerals, or ion-exchangeable layered compounds. can be exemplified.

このような粘土、粘土鉱物としては、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、ヒシンゲル石、パイロフィライト、ウンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、ディッカイト、ハロイサイト等が挙げられ、イオン交換性層状化合物としては、α-Zr(HAsO42・H2O、α-Zr(HPO42、α-Zr(KPO42・3H2O、α-Ti(HPO42、α-Ti(HAsO42・H2O、α-Sn(HPO42・H2O、γ-Zr(HPO42、γ-Ti(HPO42、γ-Ti(NH4PO42・H2O等の多価金属の結晶性酸性塩等が挙げられる。 Such clays and clay minerals include kaolin, bentonite, kibushi clay, gyrome clay, allophane, hisingerite, pyrophyllite, ummo group, montmorillonite group, vermiculite, ryokudite group, palygorskite, kaolinite, nacrite, and dickite. and halloysite . _ _ _ _ _ α-Ti(HPO4) 2 , α - Ti( HAsO4 ) 2.H2O , α - Sn(HPO4) 2.H2O , γ - Zr ( HPO4) 2 , γ - Ti ( HPO4 ) 2 and crystalline acid salts of polyvalent metals such as γ-Ti(NH 4 PO 4 ) 2 ·H 2 O and the like.

このような粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物は、水銀圧入法で測定した半径20Å以上の細孔容積が0.1cc/g以上のものが好ましく、0.3~5cc/gのものが特に好ましい。ここで、細孔容積は、水銀ポロシメーターを用いた水銀圧入法により、細孔半径20~3×104Åの範囲について測定される。半径20Å以上の細孔容積が0.1cc/gより小さいものを担体として用いた場合には、高い重合活性が得られにくい傾向がある。 Such a clay, clay mineral or ion-exchange layered compound preferably has a pore volume of 0.1 cc/g or more with a radius of 20 Å or more measured by mercury porosimetry, and preferably 0.3 to 5 cc/g. Especially preferred. Here, the pore volume is measured in the range of pore radius from 20 to 3×10 4 Å by mercury porosimetry using a mercury porosimeter. When a carrier having a pore volume of less than 0.1 cc/g with a radius of 20 Å or more is used, it tends to be difficult to obtain high polymerization activity.

粘土および粘土鉱物には、化学処理を施すことも好ましい。化学処理としては、表面に付着している不純物を除去する表面処理、粘土の結晶構造に影響を与える処理等、いずれも使用できる。化学処理として具体的には、酸処理、アルカリ処理、塩類処理、有機物処理等が挙げられる。酸処理は、表面の不純物を取り除くほか、結晶構造中のAl、Fe、Mg等の陽イオンを溶出させることによって表面積を増大させる。アルカリ処理では粘土の結晶構造が破壊され、粘土の構造の変化をもたらす。また、塩類処理や有機物処理では、イオン複合体、分子複合体、有機誘導体等を形成し、表面積や層間距離を変えることができる。 Clays and clay minerals are also preferably chemically treated. Any chemical treatment can be used, such as surface treatment for removing impurities adhering to the surface, treatment for affecting the crystal structure of clay, and the like. Specific examples of chemical treatment include acid treatment, alkali treatment, salt treatment, organic substance treatment, and the like. The acid treatment removes surface impurities and also elutes cations such as Al, Fe and Mg in the crystal structure to increase the surface area. Alkaline treatment destroys the crystalline structure of the clay, resulting in changes in the clay structure. Also, in salt treatment and organic matter treatment, ionic complexes, molecular complexes, organic derivatives, etc. are formed, and the surface area and interlayer distance can be changed.

イオン交換性層状化合物は、イオン交換性を利用し、層間の交換性イオンを別の大きな嵩高いイオンと交換することにより、層間が拡大した状態の層状化合物であってもよい。このような嵩高いイオンは、層状構造を支える支柱的な役割を担っており、通常、ピラーと呼ばれる。また、このように層状化合物の層間に別の物質を導入することをインターカレーションという。インターカレーションするゲスト化合物としては、TiCl4、ZrCl4等の陽イオン性無機化合物、Ti(OR)4、Zr(OR)4、PO(OR)3、B(OR)3等の金属アルコキシド(Rは炭化水素基等)、[Al134(OH)247+、[Zr4(OH)142+、[Fe3O(OCOCH36+等の金属水酸化物イオン等が挙げられる。これら化合物は単独で、あるいは2種以上組み合わせて用いられる。また、これら化合物をインターカレーションする際に、Si(OR)4、Al(OR)3、Ge(OR)4等の金属アルコキシド(Rは炭化水素基等)等を加水分解して得た重合物、SiO2等のコロイド状無機化合物等を共存させることもできる。また、ピラーとしては、上記金属水酸化物イオンを層間にインターカレーションした後に加熱脱水することにより生成する酸化物等が挙げられる。 The ion-exchangeable layered compound may be a layered compound in which the interlayer spacing is expanded by exchanging the exchangeable ions between the layers with other large bulky ions by utilizing the ion-exchangeability. Such bulky ions play a pillar-like role supporting the layered structure and are usually called pillars. Also, the introduction of another substance between the layers of a layered compound is called intercalation. Guest compounds for intercalation include cationic inorganic compounds such as TiCl 4 and ZrCl 4 , metal alkoxides such as Ti(OR) 4 , Zr(OR) 4 , PO(OR) 3 and B(OR) 3 ( R is a hydrocarbon group, etc.), metal hydroxide ions such as [Al 13 O 4 (OH) 24 ] 7+ , [Zr 4 (OH) 14 ] 2+ , [Fe 3 O(OCOCH 3 ) 6 ] + etc. These compounds are used alone or in combination of two or more. Polymerization obtained by hydrolyzing metal alkoxides (R is a hydrocarbon group, etc.) such as Si(OR) 4 , Al(OR) 3 and Ge(OR) 4 when intercalating these compounds. Colloidal inorganic compounds such as SiO 2 and the like can coexist. Examples of pillars include oxides produced by intercalating the above metal hydroxide ions between layers and then dehydrating them by heating.

粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物は、そのまま用いてもよく、またボールミル、ふるい分け等の処理を行った後に用いてもよい。また、新たに水を添加吸着させ、あるいは加熱脱水処理した後に用いてもよい。さらに、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Clays, clay minerals, and ion-exchangeable layered compounds may be used as they are, or may be used after being subjected to treatments such as ball milling and sieving. Alternatively, water may be newly added and adsorbed, or may be used after heat dehydration treatment. Furthermore, it may be used alone or in combination of two or more.

前記固体状担体(S)として用いられる有機化合物としては、例えば、粒径が10~300μmの範囲にある顆粒状ないしは微粒子状固体などが挙げられる。前記有機化合物の具体例としては、例えば、エチレン、プロピレン、1-ブテン、4-メチル-1-ペンテン等の炭素原子数が2~14のオレフィンを主成分として生成される重合体またはビニルシクロヘキサン、スチレン、ジビニルベンゼンを主成分として生成される重合体や反応体、およびそれらの変成体からなる顆粒状ないしは微粒子状固体などが挙げられる。
前記固体状担体(S)としては、成形時の異物防止の観点から、多孔質酸化物が好ましい。
Examples of the organic compound used as the solid carrier (S) include granular or particulate solids having a particle size in the range of 10 to 300 μm. Specific examples of the organic compound include polymers produced mainly from olefins having 2 to 14 carbon atoms such as ethylene, propylene, 1-butene, and 4-methyl-1-pentene, or vinylcyclohexane, Granular or particulate solids composed of polymers and reactants mainly composed of styrene and divinylbenzene, and modified products thereof can be mentioned.
As the solid carrier (S), a porous oxide is preferable from the viewpoint of foreign matter prevention during molding.

<オレフィン重合用触媒の調製方法>
本発明に係るオレフィン重合用触媒は、成分(A)、成分(B)、成分(C)および固体状担体(S)を不活性炭化水素中または不活性炭化水素を用いた重合系中に添加することにより調製される固体触媒成分(X)が好ましい態様の一つである。
<Method for preparing olefin polymerization catalyst>
In the olefin polymerization catalyst according to the present invention, component (A), component (B), component (C) and solid support (S) are added to an inert hydrocarbon or to a polymerization system using an inert hydrocarbon. A preferred embodiment is the solid catalyst component (X) prepared by

固体触媒成分(X)の例としては、固体状担体(S)、成分(C)および成分(A)から形成される固体触媒成分(X-A)と、固体状担体(S)、成分(C)および成分(B)から形成される固体触媒成分(X-B)とからなるオレフィン重合用触媒;ならびに、固体状担体(S)、成分(A)、成分(B)および成分(C)より形成される固体触媒成分(X-C)からなるオレフィン重合用触媒が挙げられる。これらの中では、固体触媒成分(X-C)からなるオレフィン重合用触媒がより好ましい。 Examples of the solid catalyst component (X) include the solid catalyst component (XA) formed from the solid support (S), the component (C) and the component (A), the solid support (S), the component ( C) and a solid catalyst component (XB) formed from component (B); and a solid support (S), component (A), component (B) and component (C). and an olefin polymerization catalyst comprising a solid catalyst component (XC) formed from Among these, an olefin polymerization catalyst comprising a solid catalyst component (XC) is more preferred.

各成分の接触順序は任意であるが、好ましいオレフィン重合用触媒の調製方法としては、例えば、
(i)成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、次いで成分(A)を接触させて固体触媒成分(X-A)を調製するとともに、成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、次いで成分(B)を接触させて固体触媒成分(X-B)を調製する方法、
(ii)成分(A)と成分(C)を混合接触させ、次いで固体状担体(S)に接触させて固体触媒成分(X-A)を調製するとともに、成分(B)と成分(C)を混合接触させ、次いで固体状担体(S)に接触させて固体触媒成分(X-B)を調製する方法、
(iii)成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、次いで成分(A)と成分(C)の接触物を接触させて固体触媒成分(X-A)を調製するとともに、成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、次いで成分(B)と成分(C)の接触物を接触させて固体触媒成分(X-B)を調製する方法、
(iv)成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、次いで成分(A)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させて固体触媒成分(X-A)を調製するとともに、成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、次いで成分(B)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させて固体触媒成分(X-B)を調製する方法、
(v)固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、次いで成分(A)を接触させた後、成分(B)を接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(vi)固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、次いで成分(B)を接触させた後、成分(A)を接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(vii)固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、次いで成分(A)と成分(B)の接触混合物を接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(viii)成分(A)と成分(B)を接触させ、次いで成分(C)を接触させた後、固体状担体(S)に接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(ix)固体状担体(S)と成分(C)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させ、次いで成分(A)および成分(B)をこの順で接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(x)固体状担体(S)と成分(C)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させ、次いで成分(B)および成分(A)をこの順で接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(xi)固体状担体(S)と成分(C)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させ、次いで成分(A)と成分(B)の接触混合物を接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(xii)固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、次いで成分(A)と成分(B)と成分(C)の接触混合物を接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(xiii)固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、次いで成分(A)と成分(C)の接触混合物を接触させた後、成分(B)を接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(xiv)固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、次いで成分(B)と成分(C)の接触混合物を接触させた後、成分(A)を接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(xv)固体状担体(S)と成分(C)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させ、次いで成分(A)と成分(C)の接触混合物および成分(B)と成分(C)の接触混合物をこの順で接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(xvi)固体状担体(S)と成分(C)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させ、次いで成分(B)と成分(C)の接触混合物および成分(A)と成分(C)の接触混合物をこの順で接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(xvii)固体状担体(S)と成分(C)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させ、次いで成分(A)と成分(B)と成分(C)の接触混合物を接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(xviii)成分(A)および成分(C)の混合物と成分(B)および成分(C)の混合物とを予め混合した後、固体状担体(S)と成分(C)の接触物に接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法、
(xix)成分(A)および成分(C)の混合物と成分(B)および成分(C)の混合物とを予め混合した後、固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、さらに成分(C)を接触させた接触混合物に接触させて固体触媒成分(X-C)を調製する方法
などが挙げられる。
The order of contacting each component is arbitrary, but preferred methods for preparing an olefin polymerization catalyst include, for example:
(i) Component (C) and solid support (S) are contacted, then component (A) is contacted to prepare a solid catalyst component (XA), and component (C) and solid support (S) are ) followed by contacting component (B) to prepare a solid catalyst component (XB);
(ii) component (A) and component (C) are mixed and contacted, then contacted with a solid support (S) to prepare a solid catalyst component (XA), and component (B) and component (C) are a method of mixing and contacting and then contacting a solid support (S) to prepare a solid catalyst component (XB),
(iii) contacting the component (C) with the solid support (S), then contacting the contact product of the component (A) and the component (C) to prepare the solid catalyst component (XA), and a method of contacting C) with a solid support (S) and then contacting the contact product of component (B) with component (C) to prepare a solid catalyst component (XB);
(iv) contacting the component (C) with the solid support (S), then contacting the component (A), and then contacting the component (C) to prepare a solid catalyst component (XA); , a method of contacting the component (C) with the solid support (S), then contacting the component (B), and then contacting the component (C) to prepare the solid catalyst component (XB);
(v) a method of contacting the solid support (S) with the component (C), then contacting the component (A) and then contacting the component (B) to prepare the solid catalyst component (XC);
(vi) contacting the solid support (S) with the component (C), then contacting the component (B), and then contacting the component (A) to prepare the solid catalyst component (XC);
(vii) contacting the solid support (S) with component (C) and then contacting the contact mixture of component (A) and component (B) to prepare a solid catalyst component (XC);
(viii) A method of contacting component (A) with component (B), followed by contacting component (C), followed by contacting with solid support (S) to prepare solid catalyst component (XC);
(ix) After contacting the solid support (S) with the component (C), the component (C) is further contacted, and then the component (A) and the component (B) are contacted in this order to obtain the solid catalyst component ( XC),
(x) After contacting the solid support (S) with the component (C), the component (C) is further contacted, and then the component (B) and the component (A) are contacted in this order to obtain a solid catalyst component ( XC),
(xi) After contacting the solid support (S) with the component (C), the component (C) is further contacted, and then the contact mixture of the component (A) and the component (B) is brought into contact with the solid catalyst component ( XC),
(xii) contacting the solid support (S) with the component (C) and then contacting the contact mixture of the component (A), the component (B) and the component (C) to prepare a solid catalyst component (XC); how to,
(xiii) contacting the solid support (S) with the component (C), then contacting the contact mixture of the component (A) and the component (C), and then contacting the component (B) to obtain the solid catalyst component (X); - a method of preparing C),
(xiv) contacting the solid support (S) with the component (C), then contacting the contact mixture of the component (B) and the component (C), and then contacting the component (A) to obtain the solid catalyst component (X); - a method of preparing C),
(xv) After contacting the solid support (S) with the component (C), further contacting the component (C), then the contact mixture of the component (A) and the component (C) and the component (B) and the component ( a method of contacting the contact mixture of C) in this order to prepare a solid catalyst component (XC);
(xvi) After contacting the solid support (S) with the component (C), further contacting the component (C), then the contact mixture of the component (B) and the component (C) and the component (A) and the component ( a method of contacting the contact mixture of C) in this order to prepare a solid catalyst component (XC);
(xvii) After contacting the solid carrier (S) with the component (C), further contacting the component (C), and then contacting the contact mixture of the component (A), the component (B) and the component (C) a method of preparing a solid catalyst component (XC) by
(xviii) A mixture of components (A) and (C) and a mixture of components (B) and (C) are mixed in advance, and then brought into contact with the contact product of the solid carrier (S) and component (C). a method of preparing a solid catalyst component (XC) by
(xix) After premixing the mixture of component (A) and component (C) with the mixture of component (B) and component (C), the solid carrier (S) and component (C) are brought into contact, and further component A method of preparing a solid catalyst component (XC) by contacting a contact mixture in which (C) is contacted, and the like.

成分(C)が複数用いられる場合は、その成分(C)同士が同一であっても異なっていてもよい。このうち、特に好ましい接触順序としては、(xi)、(xiii)、(xv
)、(xvi)、(xvii)、(xxii)、(xxiii)および(xxiv)が挙げられる。
When multiple components (C) are used, the components (C) may be the same or different. Among them, a particularly preferable contact order is (xi), (xiii), (xv
), (xvi), (xvii), (xxii), (xxiii) and (xxiv).

成分(C)と固体状担体(S)の接触により、成分(C)中の反応部位と固体状担体(S)中の反応部位との反応により成分(C)と固体状担体(S)が化学的に結合され、成分(C)と固体状担体(S)の接触物が形成される。成分(C)と固体状担体(S)との接触時間は、通常0~20時間、好ましくは0~10時間であり、接触温度は、通常-50~200℃、好ましくは-20~120℃である。成分(C)と固体状担体(S)との初期接触を急激に行うと、その反応発熱や反応エネルギーにより固体状担体(S)が崩壊し、得られる固体触媒成分(X)のモルフォロジーが悪化し、これを重合に用いた場合ポリマーモルフォロジー不良により連続運転が困難になることが多い。そのため、成分(C)と固体状担体(S)との接触初期は、反応発熱を抑制する目的で、-20~30℃の低温で接触させる、または、反応発熱を制御し、初期接触温度を維持可能な速度で反応させることが好ましい。また、成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、さらに成分(C)を接触させる場合においても同様である。成分(C)と固体状担体(S)との接触のモル比(成分(C)/固体状担体(S))は、任意に選択できるが、そのモル比が高いほうが、成分(A)および成分(B)の接触量を増加でき、固体触媒成分(X)の活性を向上させることができる。具体的には、成分(C)と固体状担体(S)のモル比[=成分(C)のモル量/固体状担体(S)のモル量]は、好ましくは0.2~2.0、特に好ましくは0.4~2.0である。 By contacting the component (C) and the solid carrier (S), the reaction sites in the component (C) react with the reaction sites in the solid carrier (S) to form the component (C) and the solid carrier (S). They are chemically combined to form a contact between component (C) and solid carrier (S). The contact time between the component (C) and the solid carrier (S) is usually 0 to 20 hours, preferably 0 to 10 hours, and the contact temperature is usually -50 to 200°C, preferably -20 to 120°C. is. If the component (C) and the solid support (S) are brought into rapid initial contact, the solid support (S) will collapse due to the reaction heat and reaction energy, and the morphology of the resulting solid catalyst component (X) will deteriorate. However, when this is used for polymerization, continuous operation is often difficult due to poor polymer morphology. Therefore, at the initial stage of contact between the component (C) and the solid carrier (S), contact is made at a low temperature of -20 to 30 ° C. for the purpose of suppressing the reaction heat generation, or the reaction heat generation is controlled and the initial contact temperature is It is preferred to react at a sustainable rate. The same applies when the component (C) is brought into contact with the solid carrier (S) and then the component (C) is brought into contact with the solid carrier (S). The molar ratio of contact between the component (C) and the solid support (S) (component (C)/solid support (S)) can be arbitrarily selected, but the higher the molar ratio, the better the contact between the component (A) and the solid support (S). The contact amount of the component (B) can be increased, and the activity of the solid catalyst component (X) can be improved. Specifically, the molar ratio of component (C) and solid support (S) [=molar amount of component (C)/molar amount of solid support (S)] is preferably 0.2 to 2.0. , particularly preferably 0.4 to 2.0.

成分(C)と固体状担体(S)の接触物と、成分(A)および成分(B)との接触に関して、接触時間は、通常0~5時間、好ましくは0~2時間であり、接触温度は、通常-50~200℃、好ましくは-50~100℃の範囲内である。成分(A)および成分(B)の成分(C)に対する接触量は、成分(C)の種類と量に大きく依存する。成分(c-1)の場合は、成分(c-1)と成分(A)および成分(B)中の全遷移金属原子(M)とのモル比[(c-1)/M]が、通常0.01~100000、好ましくは0.05~50000となるような量で用いられる。成分(c-2)の場合は、成分(c-2)中のアルミニウム原子と成分(A)および成分(B)中の全遷移金属原子(M)とのモル比[(c-2)/M]が、通常10~500000、好ましくは20~100000となるような量で用いられる。成分(c-3)の場合は、成分(c-3)と、成分(A)および成分(B)中の全遷移金属原子(M)とのモル比[(c-3)/M]が、通常1~10、好ましくは1~5となるような量で用いられる。なお、成分(C)と成分(A)および成分(B)中の全遷移金属原子(M)とのモル比は、誘導結合プラズマ発光分析法(ICP分析法)により求めることができる。 Regarding the contact of the component (C) and the solid carrier (S) with the component (A) and the component (B), the contact time is usually 0 to 5 hours, preferably 0 to 2 hours. The temperature is usually in the range of -50 to 200°C, preferably -50 to 100°C. The contact amount of component (A) and component (B) with respect to component (C) largely depends on the type and amount of component (C). In the case of component (c-1), the molar ratio [(c-1)/M] of component (c-1) to all transition metal atoms (M) in components (A) and (B) is It is usually used in an amount of 0.01 to 100,000, preferably 0.05 to 50,000. In the case of component (c-2), the molar ratio of aluminum atoms in component (c-2) to all transition metal atoms (M) in components (A) and (B) [(c-2)/ M] is generally used in an amount of 10 to 500,000, preferably 20 to 100,000. In the case of component (c-3), the molar ratio [(c-3)/M] of component (c-3) to all transition metal atoms (M) in components (A) and (B) is , usually 1 to 10, preferably 1 to 5. The molar ratio of component (C) to all transition metal atoms (M) in components (A) and (B) can be determined by inductively coupled plasma atomic emission spectrometry (ICP analysis).

固体触媒成分(X)の調製に用いる溶媒としては、不活性炭化水素溶媒が挙げられ、具体的には、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン等の脂環族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素およびこれらの混合物等が挙げられる。 Solvents used for the preparation of the solid catalyst component (X) include inert hydrocarbon solvents. Alicyclic hydrocarbons such as hydrogen, cyclopentane, cyclohexane and methylcyclopentane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as ethylene chloride, chlorobenzene and dichloromethane; be done.

前記接触順序形態を示した各方法において、固体状担体(S)と成分(C)の接触を含む工程、固体状担体(S)と成分(A)の接触を含む工程、固体状担体(S)と成分(B)の接触を含む工程、固体状担体(S)と成分(A)と成分(B)の接触を含む工程においては、成分(G)として(g-1)ポリアルキレンオキサイドブロック、(g-2)高級脂肪族アミド、(g-3)ポリアルキレンオキサイド、(g-4)ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテル、(g-5)アルキルジエタノールアミン、および(g-6)ポリオキシアルキレンアルキルアミンから選ばれる少なくとも1種の化合物を共存させてもよい。このような成分(G)を共存させることにより、重合反応中のファウリングを抑制することができ、また生成重合体の粒子性状が改善される。成分(G)の中では、(g-1)、(g-2)、(g-3)、(g-4)が好ましい。 In each method showing the contact order form, a step comprising contacting the solid support (S) with the component (C), a step comprising contacting the solid support (S) with the component (A), a step comprising contacting the solid support (S) with the component (A), ) and component (B) in contact, and in the step of contacting solid support (S) with component (A) and component (B), (g-1) polyalkylene oxide block as component (G) , (g-2) higher aliphatic amides, (g-3) polyalkylene oxides, (g-4) polyalkylene oxide alkyl ethers, (g-5) alkyldiethanolamines, and (g-6) polyoxyalkylenealkylamines At least one compound selected from may coexist. By coexisting such a component (G), fouling during the polymerization reaction can be suppressed, and the particle properties of the produced polymer are improved. Among components (G), (g-1), (g-2), (g-3) and (g-4) are preferred.

成分(A)と成分(B)の使用比は、製造したい重合体の分子量および分子量分布などに応じて適宜決定できる。
オレフィンの重合には、前記のような固体触媒成分(X)をそのまま用いることができるが、この固体触媒成分(X)にオレフィンを予備重合させ予備重合触媒成分(XP)を形成してから用いることもできる。
The use ratio of component (A) and component (B) can be appropriately determined according to the molecular weight and molecular weight distribution of the polymer to be produced.
In the polymerization of olefin, the solid catalyst component (X) as described above can be used as it is, but the solid catalyst component (X) is prepolymerized with olefin to form the prepolymerized catalyst component (XP) before use. can also

予備重合触媒成分(XP)は、固体触媒成分(X)存在下、通常、不活性炭化水素溶媒中、オレフィンを導入させることにより調製することができる。反応方式としては、回分式、半連続式および連続式のいずれの方法でも使用することができる。また反応は、減圧、常圧または加圧下のいずれでも行うことができる。この予備重合によって、固体状触媒成分1g当たり、通常0.01~1000g、好ましくは0.1~800g、より好ましくは0.2~500gの重合体を生成させる。 The prepolymerized catalyst component (XP) can be prepared by introducing an olefin in the presence of the solid catalyst component (X), usually in an inert hydrocarbon solvent. As a reaction system, any of batch system, semi-continuous system and continuous system can be used. Also, the reaction can be carried out under reduced pressure, normal pressure or increased pressure. By this prepolymerization, 0.01 to 1000 g, preferably 0.1 to 800 g, more preferably 0.2 to 500 g of polymer is produced per 1 g of the solid catalyst component.

不活性炭化水素溶媒中で調製した予備重合触媒成分(XP)は、懸濁液から分離した後、再び不活性炭化水素中に懸濁させ、得られた懸濁液中にオレフィンを導入してもよく、また、乾燥させた後オレフィンを導入してもよい。 The prepolymerized catalyst component (XP) prepared in an inert hydrocarbon solvent is separated from the suspension, suspended again in the inert hydrocarbon, and the olefin is introduced into the resulting suspension. Alternatively, the olefin may be introduced after drying.

予備重合温度は、通常-20~80℃、好ましくは0~60℃である。また、予備重合時間は、通常0.5~100時間、好ましくは1~50時間である。
予備重合に使用する固体触媒成分(X)の形態としては、すでに述べたものを制限無く利用することができる。また、必要に応じて成分(C)が用いられ、特に(c-1)中の前記式(3)に示される有機アルミニウム化合物が好ましく用いられる。成分(C)として式(3)の有機アルミニウム化合物が用いられる場合、成分(C)中のアルミニウム原子(Al)と成分(A)および(B)である遷移金属化合物とのモル比(成分(C)/遷移金属化合物)で、通常0.1~10000、好ましくは0.5~5000の量で用いられる。
The prepolymerization temperature is usually -20 to 80°C, preferably 0 to 60°C. Further, the preliminary polymerization time is usually 0.5 to 100 hours, preferably 1 to 50 hours.
As the form of the solid catalyst component (X) used for prepolymerization, those already described can be used without limitation. In addition, component (C) is used as necessary, and the organoaluminum compound represented by the above formula (3) in (c-1) is particularly preferably used. When the organoaluminum compound of formula (3) is used as component (C), the molar ratio (component ( C)/transition metal compound), which is usually used in an amount of 0.1 to 10,000, preferably 0.5 to 5,000.

予備重合系における固体触媒成分(X)の濃度は、固体触媒成分(X)/重合容積1リットル比で、通常1~1000グラム/リットル、好ましくは10~500グラム/リットルであることが望ましい。予備重合時には、ファウリング抑制または粒子性状改善を目的として、前記成分(G)を共存させることができる。 The concentration of the solid catalyst component (X) in the prepolymerization system is preferably 1 to 1000 g/liter, preferably 10 to 500 g/liter, in terms of solid catalyst component (X)/1 liter polymerization volume. At the time of prepolymerization, the component (G) can coexist for the purpose of suppressing fouling or improving particle properties.

また予備重合触媒成分(XP)の流動性改善や重合時のヒートスポット・シーティングやポリマー塊の発生抑制を目的に、予備重合によって一旦生成させた予備重合触媒成分(XP)に成分(G)を接触させてもよい。この際、使用する成分(G)として、上記(g-1)、(g-2)、(g-3)、(g-4)が好ましい。 In addition, component (G) is added to the preliminary polymerization catalyst component (XP) once generated by preliminary polymerization for the purpose of improving the fluidity of the preliminary polymerization catalyst component (XP) and suppressing the occurrence of heat spots, sheeting and polymer lumps during polymerization. may be brought into contact. In this case, as the component (G) to be used, the above (g-1), (g-2), (g-3) and (g-4) are preferable.

成分(G)を混合接触させる際の温度は、通常-50~50℃、好ましくは-20~50℃であり、接触時間は1~1000分間、好ましくは5~600分間である。
固体触媒成分(X)と成分(G)とを混合接触するに際して、成分(G)は、固体触媒成分(X)100重量部に対して、通常0.1~20重量部、好ましくは0.3~10重量部、より好ましくは0.4~5重量部の量で用いられる。
The temperature at which component (G) is mixed and contacted is usually -50 to 50°C, preferably -20 to 50°C, and the contact time is 1 to 1000 minutes, preferably 5 to 600 minutes.
When mixing and contacting the solid catalyst component (X) and the component (G), the component (G) is usually added in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 20 parts by weight, per 100 parts by weight of the solid catalyst component (X). It is used in an amount of 3 to 10 parts by weight, more preferably 0.4 to 5 parts by weight.

固体触媒成分(X)と成分(G)との混合接触は、不活性炭化水素溶媒中で行うことができ、不活性炭化水素溶媒としては、固体触媒成分(X)の調製に用いる溶媒と同様のものが挙げられる。 The mixed contact of the solid catalyst component (X) and the component (G) can be carried out in an inert hydrocarbon solvent. are listed.

本発明に係るオレフィン重合用触媒は、予備重合触媒成分(XP)を乾燥して乾燥予備重合触媒として用いることができる。予備重合触媒成分(XP)の乾燥は、通常得られた予備重合触媒の懸濁液から濾過などにより分散媒である炭化水素を除去した後に行われる。 The olefin polymerization catalyst according to the present invention can be used as a dried prepolymerization catalyst by drying the prepolymerization catalyst component (XP). Drying of the prepolymerized catalyst component (XP) is usually carried out after removing hydrocarbons as a dispersion medium from the obtained suspension of the prepolymerized catalyst by filtration or the like.

予備重合触媒成分(XP)の乾燥は、予備重合触媒成分(XP)を不活性ガスの流通下、70℃以下、好ましくは20~50℃の範囲の温度に保持することにより行われる。得られた乾燥予備重合触媒の揮発成分量は2.0重量%以下、好ましくは1.0重量%以下であることが望ましい。乾燥予備重合触媒の揮発成分量は、少ないほどよく、特に下限はないが、実用的には0.001重量%である。乾燥時間は、乾燥温度にもよるが通常3~8時間である。乾燥予備重合触媒の揮発成分量が2.0重量%を超えると、乾燥予備重合触媒の流動性が低下し、安定的に重合反応器に供給できなくなることがある。 Drying of the preliminary polymerization catalyst component (XP) is carried out by keeping the preliminary polymerization catalyst component (XP) at a temperature of 70° C. or less, preferably in the range of 20 to 50° C. under inert gas flow. The amount of volatile components in the obtained dry prepolymerized catalyst is desirably 2.0% by weight or less, preferably 1.0% by weight or less. The lower the amount of volatile components in the dried prepolymerized catalyst, the better. Although there is no particular lower limit, it is practically 0.001% by weight. The drying time is usually 3 to 8 hours depending on the drying temperature. When the amount of volatile components in the dried prepolymerized catalyst exceeds 2.0% by weight, the fluidity of the dried prepolymerized catalyst is lowered, and it may not be possible to stably supply the catalyst to the polymerization reactor.

ここで、乾燥予備重合触媒の揮発成分量は、たとえば、減量法、ガスクロマトグラフィーを用いる方法などにより測定される。
減量法では、乾燥予備重合触媒を不活性ガス雰囲気下において110℃で1時間加熱した際の減量を求め、加熱前の乾燥予備重合触媒に対する百分率として表す。
Here, the amount of volatile components in the dried prepolymerized catalyst is measured by, for example, a weight loss method, a method using gas chromatography, or the like.
In the weight loss method, the weight loss when the dried prepolymerized catalyst is heated at 110° C. for 1 hour in an inert gas atmosphere is determined and expressed as a percentage of the dry prepolymerized catalyst before heating.

ガスクロマトグラフィーを用いる方法では、乾燥予備重合触媒から炭化水素などの揮発成分を抽出し、内部標準法に従って検量線を作成した上でGC面積から重量%として算出する。 In the method using gas chromatography, volatile components such as hydrocarbons are extracted from the dried prepolymerized catalyst, a calibration curve is drawn according to the internal standard method, and weight percent is calculated from the GC area.

乾燥予備重合触媒の揮発成分量の測定方法は、乾燥予備重合触媒の揮発成分量が約1重量%以上である場合には、減量法が採用され、乾燥予備重合触媒の揮発成分量が約1重量%以下である場合には、ガスクロマトグラフィーを用いる方法が採用される。 As for the method for measuring the amount of volatile components in the dried prepolymerized catalyst, when the amount of volatile components in the dried prepolymerized catalyst is about 1% by weight or more, the weight loss method is adopted, and the amount of volatile components in the dried prepolymerized catalyst is about 1% by weight. If it is less than % by weight, a method using gas chromatography is adopted.

予備重合触媒成分(XP)の乾燥に用いられる不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス、ネオンガスなどが挙げられる。このような不活性ガスは、酸素濃度が20ppm以下、好ましくは10ppm以下、より好ましくは5ppm以下(体積基準)であり、水分含量が20ppm以下、好ましくは10ppm以下、より好ましくは5ppm以下(重量基準)であることが望ましい。不活性ガス中の酸素濃度および水分含量が上記の範囲を超えると、乾燥予備重合触媒のオレフィン重合活性が大きく低下することがある。 Nitrogen gas, argon gas, neon gas, and the like are examples of the inert gas used for drying the prepolymerized catalyst component (XP). Such an inert gas has an oxygen concentration of 20 ppm or less, preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less (by volume), and a water content of 20 ppm or less, preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less (by weight). ) is desirable. If the oxygen concentration and water content in the inert gas exceed the above ranges, the olefin polymerization activity of the dried prepolymerized catalyst may be greatly reduced.

上記乾燥予備重合触媒は、流動性に優れているので、重合反応器への供給を安定的に行うことができる。また、気相重合系内に懸濁に用いた溶媒を同伴させずに済むため安定的に重合を行うことができる。 Since the dried prepolymerized catalyst has excellent fluidity, it can be stably supplied to the polymerization reactor. Moreover, since the solvent used for suspension does not need to be entrained in the gas phase polymerization system, the polymerization can be stably carried out.

[エチレン系重合体の製造方法]
次に、本発明に係るエチレン系重合体の製造方法に関して記載する。上述した本発明のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合(単独重合または共重合)することによりエチレン系重合体を得る。本発明のオレフィン重合用触媒を用いることで、高い重合活性を持って、成型加工性および機械的強度に優れ、数多くの長鎖分岐を有するエチレン系共重合体を効率的に製造できる。本発明のエチレン系重合体は、重合体中のエチレン含量が10モル%以上含まれるものをさす。
[Method for producing ethylene-based polymer]
Next, the method for producing an ethylene-based polymer according to the present invention will be described. An ethylene polymer is obtained by polymerizing (homopolymerizing or copolymerizing) ethylene in the presence of the olefin polymerization catalyst of the present invention described above. By using the olefin polymerization catalyst of the present invention, it is possible to efficiently produce an ethylene copolymer having high polymerization activity, excellent moldability and mechanical strength, and having many long chain branches. The ethylene-based polymer of the present invention refers to a polymer containing 10 mol % or more of ethylene.

本発明では、重合は溶解重合、懸濁重合等の液相重合法または気相重合法のいずれにおいても実施できるが、懸濁重合法および気相重合法においては前記固体触媒成分(X)を用いることが好ましい。 In the present invention, polymerization can be carried out by either a liquid phase polymerization method such as solution polymerization or suspension polymerization, or a gas phase polymerization method. It is preferable to use

液相重合法において用いられる不活性炭化水素媒体の具体例としては、例えば、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油等の脂肪族炭化水素;シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン等の脂環族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素およびこれらの混合物等が挙げられる。また、液相重合法においては、オレフィン自身を溶媒として用いることもできる。 Specific examples of inert hydrocarbon media used in liquid phase polymerization include aliphatic hydrocarbons such as propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, decane, dodecane, and kerosene; Alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as ethylene chloride, chlorobenzene and dichloromethane; and mixtures thereof. Moreover, in the liquid phase polymerization method, the olefin itself can be used as a solvent.

上記オレフィン重合用触媒を用いて、エチレンの重合を行うに際して、成分(A)および成分(B)は、反応容積1リットル当たり、通常10-12~10-1モル、好ましくは10-8~10-2モルになるような量で用いられる。また、成分(C)が用いられ、特に(c-1)中の式(3)に示される有機アルミニウム化合物が好まれて使用される。 When ethylene is polymerized using the above olefin polymerization catalyst, component (A) and component (B) are usually added in an amount of 10 −12 to 10 −1 mol, preferably 10 −8 to 10 mol, per liter of reaction volume. It is used in such an amount that it becomes -2 moles. In addition, component (C) is used, and the organoaluminum compound represented by formula (3) in (c-1) is particularly preferably used.

また、上述の固体触媒成分(X)を用いたエチレンの重合温度は、通常-50~+200℃、好ましくは0~170℃、特に好ましくは60~170℃の範囲である。重合圧力は、通常、常圧~100kg/cm2、好ましくは常圧~50kg/cm2の条件下であり、重合反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれの方法においても行うことができる。さらに重合を反応条件の異なる2段以上に分けて行うことも可能である。 The temperature for ethylene polymerization using the solid catalyst component (X) described above is generally -50 to +200°C, preferably 0 to 170°C, and particularly preferably 60 to 170°C. The polymerization pressure is usually normal pressure to 100 kg/cm 2 , preferably normal pressure to 50 kg/cm 2 , and the polymerization reaction can be carried out in any of batch, semi-continuous and continuous processes. can be done. Furthermore, it is also possible to carry out the polymerization in two or more stages with different reaction conditions.

得られる重合体の分子量は、重合系に水素を存在させるか、または重合温度を変化させることによって調節することができる。一般的に低分子量成分が多くなるほど、重合反応器壁や撹拌翼への付着も多くなり、清掃工程への負荷がかかることにより生産性の低下を招くことがある。重合時には、ファウリング抑制または粒子性状改善を目的として、成分(G)を共存させることができる。 The molecular weight of the resulting polymer can be adjusted by the presence of hydrogen in the polymerization system or by varying the polymerization temperature. In general, the more the low-molecular-weight component, the more it adheres to the walls of the polymerization reactor and the stirring blades, which may increase the load on the cleaning process and lead to a decrease in productivity. During polymerization, the component (G) can coexist for the purpose of suppressing fouling or improving particle properties.

また、本発明において共重合反応に供給されるオレフィンは、炭素数3以上20以下のオレフィンから選ばれる1種以上のモノマーである。炭素数が3以上20以下のオレフィンの具体例としては、例えば、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エイコセンなどのα-オレフィン;シクロペンテン、シクロヘプテン、ノルボルネン、5-メチル-2-ノルボルネン、テトラシクロドデセン、2-メチル1,4,5,8-ジメタノ-1,2,3,4,4a,5,8,8a-オクタヒドロナフタレンなどの環状オレフィン等が挙げられる。また、上記オレフィンとして、例えば、スチレン、ビニルシクロヘキサン、ジエンやアクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、無水マレイン酸等;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸等の極性モノマー等も挙げられる。 Moreover, the olefin supplied to the copolymerization reaction in the present invention is one or more monomers selected from olefins having 3 to 20 carbon atoms. Specific examples of olefins having 3 to 20 carbon atoms include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 4-methyl-1-pentene, 1-octene, 1-decene, and 1-dodecene. , 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene and 1-eicosene; Cyclic olefins such as 8-dimethano-1,2,3,4,4a,5,8,8a-octahydronaphthalene and the like are included. Examples of the olefins include styrene, vinylcyclohexane, dienes, acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic anhydride, etc.; methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, polar Also included are monomers and the like.

本発明の好ましい態様である、本発明のオレフィン重合用触媒の存在下で、エチレンと炭素数4以上20以下、好ましくは炭素数6以上10以下のα-オレフィンとを共重合することにより得られるエチレン系重合体は、下記要件(1)~(4)を満たすことが好ましい。なお、これらの要件の測定方法は、実施例に記載の通りである。 Obtained by copolymerizing ethylene and an α-olefin having 4 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 10 carbon atoms, in the presence of the olefin polymerization catalyst of the present invention, which is a preferred embodiment of the present invention. The ethylene polymer preferably satisfies the following requirements (1) to (4). The methods for measuring these requirements are as described in Examples.

(1)190℃における2.16kg荷重でのメルトフローレート(MFR)が0.1g/10分以上30g/10分以下である。
下限は好ましくは0.5g/10分、より好ましくは1.0g/10分であり、上限は好ましくは25g/10分、より好ましくは20g/10分である。メルトフローレート(MFR)が前記範囲であることにより、エチレン系重合体のせん断粘度が高すぎず、成形性が良好であるとともに、エチレン系重合体の引張強度やヒートシール強度などの機械的強度が良好になる。
(1) Melt flow rate (MFR) at 190° C. with a load of 2.16 kg is 0.1 g/10 minutes or more and 30 g/10 minutes or less.
The lower limit is preferably 0.5 g/10 minutes, more preferably 1.0 g/10 minutes, and the upper limit is preferably 25 g/10 minutes, more preferably 20 g/10 minutes. When the melt flow rate (MFR) is within the above range, the shear viscosity of the ethylene polymer is not too high, the moldability is good, and the mechanical strength such as tensile strength and heat seal strength of the ethylene polymer is improved. becomes better.

メルトフローレート(MFR)は分子量に強く依存しており、メルトフローレート(MFR)が小さいほど分子量は大きく、メルトフローレート(MFR)が大きいほど分子量は小さくなる。また、エチレン系重合体の分子量は、重合系内における水素とエチレンとの組成比(水素/エチレン)により決定されることが知られている(例えば、曽我和雄他編、「Catalytic Olefin Polymerization」、講談社サイエンティフィク、1990年、p.376)。このため、水素/エチレンを増減させることで、エチレン系重合体のメルトフローレート(MFR)を増減させることが可能である。 The melt flow rate (MFR) strongly depends on the molecular weight. The smaller the melt flow rate (MFR), the higher the molecular weight, and the higher the melt flow rate (MFR), the lower the molecular weight. Further, it is known that the molecular weight of the ethylene-based polymer is determined by the composition ratio (hydrogen/ethylene) of hydrogen and ethylene in the polymerization system (for example, Kazuo Soga et al., "Catalytic Olefin Polymerization", Kodansha Scientific, 1990, p.376). Therefore, by increasing or decreasing hydrogen/ethylene, it is possible to increase or decrease the melt flow rate (MFR) of the ethylene-based polymer.

(2)密度が875kg/m3以上970kg/m3以下である。
下限は好ましくは885kg/m3、より好ましくは900kg/m3であり、上限は好ましくは960kg/m3、より好ましくは950kg/m3である。密度が前記範囲の場合、エチレン系重合体から成形されたフィルムの表面べたつきが少なく耐ブロッキング性に優れるとともに、該フィルムの衝撃強度が良好となり、ヒートシール強度、破袋強度などの機械的強度が良好である。
(2) Density is 875 kg/m 3 or more and 970 kg/m 3 or less.
The lower limit is preferably 885 kg/m 3 , more preferably 900 kg/m 3 , and the upper limit is preferably 960 kg/m 3 , more preferably 950 kg/m 3 . When the density is within the above range, the film formed from the ethylene polymer has less stickiness on the surface and is excellent in blocking resistance, and the impact strength of the film is good, and mechanical strength such as heat seal strength and bag breaking strength is improved. Good.

一般に、密度はエチレン系重合体のα-オレフィン含量に依存しており、α-オレフィン含量が少ないほど密度は高く、α-オレフィン含量が多いほど密度は低くなる。また、エチレン系重合体中のα-オレフィン含量は、重合系内におけるα-オレフィンとエチレンとの組成比(α-オレフィン/エチレン)により決定されることが知られている(例えば、Walter Kaminsky,Makromol.Chem.193,p.606(1992))。このため、α-オレフィン/エチレンを増減させることで、上記範囲の密度を有するエチレン系重合体を製造することができる。 In general, the density depends on the α-olefin content of the ethylene-based polymer; the lower the α-olefin content, the higher the density, and the higher the α-olefin content, the lower the density. Further, it is known that the α-olefin content in the ethylene-based polymer is determined by the compositional ratio (α-olefin/ethylene) of the α-olefin and ethylene in the polymerization system (for example, Walter Kaminsky, Makromol.Chem.193, p.606 (1992)). Therefore, by increasing or decreasing α-olefin/ethylene, it is possible to produce an ethylene-based polymer having a density within the above range.

(3)200℃におけるゼロせん断粘度〔η0(P)〕と、GPC-粘度検出器法(GPC-VISCO)により測定された重量平均分子量の6.8乗(Mw6.8)の比(η0/Mw6.8)が、0.03×10-30以上7.5×10-30以下である。すなわち、前記エチレン系重合体では、η0とMwが下記式(Eq-1)
0.03×10-30≦η0/Mw6.8≦7.5×10-30 ‐‐‐(Eq-1)
を満たす。ここで、下限値は好ましくは0.05×10-30、より好ましくは0.8×10-30であり、上限値は好ましくは5.0×10-30、より好ましくは3.0×10-30である。
( 3 ) The ratio ( η 0 /Mw 6.8 ) is 0.03×10 −30 or more and 7.5×10 −30 or less. That is, in the ethylene polymer, η 0 and Mw are expressed by the following formula (Eq-1)
0.03×10 −30 ≦η 0 /Mw 6.8 ≦7.5×10 −30 ---(Eq-1)
meet. Here, the lower limit is preferably 0.05×10 −30 , more preferably 0.8×10 −30 , and the upper limit is preferably 5.0×10 −30 , more preferably 3.0×10 -30 .

η0/Mw6.8が、0.03×10-30以上7.5×10-30以下であることは、η0とMwを両対数プロットした際に、log(η0)とlogMwが下記式(Eq-1´)で規定される領域に存在することと同義である。
6.8Log(Mw)-31.523≦Log(η0)≦6.8Log(Mw)-29.125 ‐‐‐(Eq-1´)
η 0 /Mw 6.8 is 0.03×10 −30 or more and 7.5×10 −30 or less because when η 0 and Mw are double-logarithm plotted, log(η 0 ) and logMw are expressed by the following formula It is synonymous with existing in the region defined by (Eq-1').
6.8 Log (Mw) - 31.523 < Log (η 0 ) < 6.8 Log (Mw) - 29.125 --- (Eq-1')

重量平均分子量(Mw)に対してゼロせん断粘度〔η0(P)〕を両対数プロットしたとき、長鎖分岐がなく直鎖状で、伸長粘度がひずみ硬化性を示さないエチレン系重合体は、傾きが3.4のべき乗則に則る。一方、比較的短い長鎖分岐を数多く有し、伸長粘度がひずみ速度硬化性を示すエチレン系重合体は、べき乗則よりも低いゼロせん断粘度〔η0(P)〕を示し、さらにその傾きは3.4よりも大きな値となることが知られており(C Gabriel,H.Munstedt,J.Rheol.,47(3),619(2003)、H.Munstedt,D.Auhl,J.Non-Newtonian Fluid Mech.128,62-69,(2005))、傾き6.8は経験的に選択しうる。η0とMw6.8との比をとることについては特開2011-1545号公報にも開示されている。 When plotting the zero-shear viscosity [η 0 (P)] against the weight-average molecular weight (Mw) in a log-logarithm, an ethylene polymer that has no long-chain branching, is linear, and does not show strain hardening in extensional viscosity is , the slope follows the power law of 3.4. On the other hand, an ethylene-based polymer that has many relatively short long-chain branches and whose elongational viscosity exhibits strain rate hardening exhibits a zero shear viscosity [η 0 (P)] lower than the power law, and the slope is It is known to be a value greater than 3.4 (C Gabriel, H. Munstedt, J. Rheol., 47 (3), 619 (2003), H. Munstedt, D. Auhl, J. Non- Newtonian Fluid Mech. 128, 62-69, (2005)), a slope of 6.8 can be chosen empirically. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-1545 also discloses the ratio of η 0 and Mw 6.8 .

前記エチレン系重合体の200℃におけるゼロせん断粘度〔η0(P)〕が20×10-13×Mw6.8以下の場合、エチレン系重合体において引取サージングの発生が抑制される。 When the ethylene polymer has a zero shear viscosity [η 0 (P)] at 200° C. of 20×10 −13 ×Mw 6.8 or less, take-up surging is suppressed in the ethylene polymer.

さらに、η0/Mw6.8が上記範囲の場合、エチレン系重合体から得られるフィルムの耐ブロッキング性が極めて優れるという効果がある。このような効果が発現する理由は次のように推測される。 Furthermore, when η 0 /Mw 6.8 is within the above range, there is an effect that the blocking resistance of the film obtained from the ethylene polymer is extremely excellent. The reason why such an effect is exhibited is presumed as follows.

フィルム表面に微小な凹凸を形成することで、耐ブロッキング性は著しく向上することが知られている。溶融樹脂がダイスに流入すると、伸張流によって伸張応力が発生する。この伸張応力が臨界値を越えると脆性的に破断が生じ、メルトフラクチャーと呼ばれるダイス出口での不安定流動が発生し、成形体表面に微小な凹凸が形成される(F.N.Cogswell,Polymer Melt Rheology,Wiley,1981)。 It is known that the anti-blocking property is remarkably improved by forming fine irregularities on the film surface. When molten resin flows into the die, extensional stress is generated by the extensional flow. When this tensile stress exceeds a critical value, brittle fracture occurs, and unstable flow called melt fracture occurs at the exit of the die, forming minute irregularities on the surface of the compact (FN Cogswell, Polymer Melt Rheology, Wiley, 1981).

η0/Mw6.8がクレーム範囲にあると、一般的な成形加工でのひずみ速度において伸張応力が大きくなり、メルトフラクチャーが発生する。このメルトフラクチャーによりフィルム表面に微小な凹凸が形成されるため、得られるフィルムの耐ブロッキング性が極めて優れる。 If η 0 /Mw 6.8 is within the claimed range, the tensile stress becomes large at the strain rate in general molding, and melt fracture occurs. Since this melt fracture forms fine irregularities on the film surface, the blocking resistance of the resulting film is extremely excellent.

伸張応力は長鎖分岐の数と長さの影響を強く受けることが知られており、数が多いほど、長さが長いほど伸張応力は大きくなる。η0/Mw6.8が上限値を超えると長鎖分岐の数が不足する傾向となり、下限値を下回ると長鎖分岐の長さが不足する傾向となっていると考えられる。 It is known that extensional stress is strongly affected by the number and length of long chain branches, and the greater the number and the longer the length, the greater the extensional stress. If η 0 /Mw 6.8 exceeds the upper limit, the number of long-chain branches tends to be insufficient, and if it is below the lower limit, the length of the long-chain branches tends to be insufficient.

ゼロせん断粘度〔η0(P)〕と重量平均分子量(Mw)との関係は、エチレン系重合体中の長鎖分岐の含量および長さに依存していると考えられ、長鎖分岐含量が多いほど、また長鎖分岐の長さが短いほどゼロせん断粘度〔η0(P)〕は請求範囲下限に近い値を示し、長鎖分岐含量が少ないほど、また長鎖分岐の長さが長いほどゼロせん断粘度〔η0(P)〕は請求範囲上限に近い値を示すと考えられる。 The relationship between the zero shear viscosity [η 0 (P)] and the weight average molecular weight (Mw) is thought to depend on the content and length of long chain branches in the ethylene polymer. The zero shear viscosity [η 0 (P)] shows a value closer to the lower limit of the claimed range as the content of long chain branching increases and the length of long chain branching decreases. It is considered that the zero shear viscosity [η 0 (P)] shows a value closer to the upper limit of the claimed range as the value increases.

ここで、長鎖分岐とはエチレン系重合体中に含まれる絡み合い点間分子量(Me)以上の長さの分岐構造と定義され、長鎖分岐の導入によりエチレン系重合体の溶融物性、及び成形加工性は著しく変化することが知られている(例えば、松浦一雄他編、「ポリエチレン技術読本」、工業調査会、2001年、p.32,36)。 Here, long-chain branching is defined as a branched structure having a length equal to or greater than the molecular weight between entanglement points (Me) contained in the ethylene-based polymer. It is known that processability changes remarkably (for example, edited by Kazuo Matsuura et al., "Polyethylene Technical Readers", Industrial Research Institute, 2001, pp. 32, 36).

前記エチレン系重合体が生成する機構において、本発明者らは、成分(A)、成分(C)および固体状担体(S)を含むオレフィン重合用触媒成分の存在下で、エチレンと炭素数4以上10以下のα-オレフィンとを共重合させることによって数平均分子量4000以上20000以下、好ましくは4000以上15000以下の末端ビニルを有する重合体である「マクロモノマー」を生成させ、次いで、成分(B)、成分(C)および固体状担体(S)を含むオレフィン重合用触媒成分により、エチレンおよび炭素数4以上10以下のα-オレフィンの重合と競争的に該マクロモノマーを共重合させることにより、エチレン系重合体中に長鎖分岐が生成すると推定している。 In the mechanism by which the ethylene-based polymer is produced, the present inventors discovered that ethylene and C4 A "macromonomer" which is a polymer having a terminal vinyl with a number average molecular weight of 4000 or more and 20000 or less, preferably 4000 or more and 15000 or less is produced by copolymerizing an α-olefin of 10 or more and then component (B ), component (C) and solid support (S), by copolymerizing the macromonomer competitively with the polymerization of ethylene and an α-olefin having 4 to 10 carbon atoms, It is presumed that long-chain branches are formed in the ethylene-based polymer.

重合系中のマクロモノマーとエチレンとの組成比([マクロモノマー]/[エチレン])が高いほど長鎖分岐含量が多くなる。オレフィン重合用触媒中の成分(A)の比率、すなわち、成分(A)および成分(B)の合計に対する、成分(A)のモル比([A]/[A+B])を高くすることで[マクロモノマー]/[エチレン]を高くできることから、([A]/[A+B])を高くすることで長鎖分岐含量は多くなる。また、重合系中の水素とエチレンとの組成比(水素/エチレン)を高くするとマクロモノマーの分子量が小さくなる為、エチレン系重合体中に導入される長鎖分岐の長さは短くなる。 The higher the composition ratio of the macromonomer and ethylene ([macromonomer]/[ethylene]) in the polymerization system, the higher the long-chain branch content. [ Macromonomer]/[ethylene] can be increased, so increasing ([A]/[A+B]) increases the long chain branching content. Further, when the composition ratio of hydrogen and ethylene (hydrogen/ethylene) in the polymerization system is increased, the molecular weight of the macromonomer is decreased, so that the length of the long chain branch introduced into the ethylene polymer is shortened.

このことから、[A]/[A+B]、及び水素/エチレンを増減させることで、上記範囲のη0/Mw6.8を有するエチレン系重合体を製造することができる。
これらのほか、長鎖分岐量を制御する重合条件について例えば国際公開第2007/034920号パンフレットに開示されている。
Accordingly, by increasing or decreasing [A]/[A+B] and hydrogen/ethylene, an ethylene polymer having η 0 /Mw 6.8 within the above range can be produced.
In addition to these, polymerization conditions for controlling the amount of long chain branching are disclosed, for example, in International Publication No. 2007/034920 pamphlet.

(4)135℃デカリン中で測定した極限粘度〔[η](dl/g)〕と、GPC-粘度検出器法(GPC-VISCO)により測定された重量平均分子量の0.776乗(Mw0.776)の比、[η]/Mw0.776が、0.90×10-4以上1.65×10-4以下である。すなわち、本発明で用いられるエチレン系重合体では、[η]とMwが下記式(Eq-2)
0.90×10-4≦[η]/Mw0.776≦1.65×10-4 ‐‐‐(Eq-2)
を満たす。ここで、下限値は好ましくは0.95×10-4、より好ましくは1.00×10-4であり、上限値は好ましくは1.55×10-4、より好ましくは1.45×10-4である。
(4) Intrinsic viscosity [[η] (dl/g)] measured in decalin at 135°C and the weight average molecular weight measured by the GPC-viscosity detector method (GPC-VISCO) to the power of 0.776 (Mw 0.776 ), [η]/Mw 0.776 is 0.90×10 −4 or more and 1.65×10 −4 or less. That is, in the ethylene polymer used in the present invention, [η] and Mw are represented by the following formula (Eq-2)
0.90×10 −4 ≦[η]/Mw 0.776 ≦1.65×10 −4 ---(Eq-2)
meet. Here, the lower limit is preferably 0.95×10 −4 , more preferably 1.00×10 −4 , and the upper limit is preferably 1.55×10 −4 , more preferably 1.45×10 -4 .

[η]/Mw0.776が、0.90×10-4以上1.65×10-4以下であることは、[η]とMwを両対数プロットした際に、log([η]))とlog(Mw)が下記式(Eq-2´)で規定される領域に存在することと同義である。
0.776Log(Mw)-4.046≦Log([η]))≦0.776Log(Mw)-3.783 ‐‐‐(Eq-2´)
[η]/Mw 0.776 is 0.90 × 10 -4 or more and 1.65 × 10 -4 or less is log ([η])) and It is synonymous with log(Mw) existing in the region defined by the following formula (Eq-2′).
0.776 Log (Mw) - 4.046 ≤ Log ([η])) ≤ 0.776 Log (Mw) - 3.783 --- (Eq-2')

エチレン系重合体中に長鎖分岐が導入されると、長鎖分岐の無い直鎖型エチレン系重合体に比べ、分子量の割に極限粘度[η](dl/g)が小さくなることが知られている(例えば、Walther Burchard,ADVANCES IN POLYMER SCIENCE,143,Branched PolymerII,p.137(1999))。そのため本エチレン系重合体の[η]/Mw0.776が前記上限値以下、特に1.65×10-4以下の場合は多数の長鎖分岐を有しており、エチレン系重合体の成形性および流動性が優れる。 It is known that when long-chain branching is introduced into an ethylene-based polymer, the intrinsic viscosity [η] (dl/g) becomes smaller relative to the molecular weight compared to a straight-chain ethylene-based polymer having no long-chain branching. (eg Walther Burchard, ADVANCES IN POLYMER SCIENCE, 143, Branched Polymer II, p. 137 (1999)). Therefore, when [η]/Mw 0.776 of the present ethylene polymer is not more than the above upper limit, especially not more than 1.65×10 −4 , the ethylene polymer has a large number of long chain branches, and the ethylene polymer has moldability and Excellent liquidity.

前述のようにオレフィン重合用触媒中の成分(A)の比率([A]/[A+B])を高くすることで長鎖分岐含量は多くなることから、[A]/[A+B]を増減させることで、請求範囲の極限粘度[η]を有するエチレン系重合体(α)を製造することができる。物性値のばらつきを抑制するなどの目的で、重合反応により得られたエチレン系重合体粒子および所望により添加される他の成分は、任意の方法で溶融され、混練、造粒することもできる。 As described above, increasing the ratio ([A]/[A+B]) of component (A) in the olefin polymerization catalyst increases the content of long chain branches, so [A]/[A+B] is increased or decreased. Thus, an ethylene-based polymer (α) having a limiting viscosity [η] in the scope of claims can be produced. For the purpose of suppressing variations in physical properties, the ethylene-based polymer particles obtained by the polymerization reaction and other optional components may be melted, kneaded, and granulated by any method.

本発明で得られるエチレン系重合体は以下のような方法によりペレット化してもよい。
(i)エチレン系重合体および所望により添加される他の成分を、押出機、ニーダー等を用いて機械的にブレンドして、所定の大きさにカットする方法。
The ethylene-based polymer obtained in the present invention may be pelletized by the following method.
(i) A method of mechanically blending the ethylene-based polymer and other optional components using an extruder, kneader, etc., and cutting into a predetermined size.

(ii)エチレン系重合体および所望により添加される他の成分を適当な良溶媒(たとえば、ヘキサン、ヘプタン、デカン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレン等の炭化水素溶媒)に溶解し、次いで溶媒を除去、しかる後に押出機、ニーダー等を用いて機械的にブレンドして所定の大きさにカットする方法。 (ii) The ethylene-based polymer and other optional components are dissolved in a suitable good solvent (e.g., hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, decane, cyclohexane, benzene, toluene and xylene), and then the solvent is A method of removing, then mechanically blending using an extruder, kneader, etc., and cutting into a predetermined size.

本発明で得られるエチレン系重合体は、本発明の目的を損なわない範囲で、耐候性安定剤、耐熱安定剤、帯電防止剤、スリップ防止剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、顔料、染料、核剤、可塑剤、老化防止剤、塩酸吸収剤、酸化防止剤等の添加剤が必要に応じて配合されていてもよい。 The ethylene-based polymer obtained in the present invention contains a weather stabilizer, a heat stabilizer, an antistatic agent, an antislip agent, an antiblocking agent, an antifogging agent, a lubricant, a pigment, a Additives such as dyes, nucleating agents, plasticizers, anti-aging agents, hydrochloric acid absorbers, and antioxidants may be added as necessary.

本発明で得られるエチレン系重合体、および必要に応じて熱可塑性樹脂や添加剤を含む樹脂組成物は、一般のフィルム成形やブロー成形、インジェクション成形および押出成形により加工される。フィルム成形では押出ラミネート成形、Tダイフィルム成形、インフレーション成形(空冷、水冷、多段冷却、高速加工)などにより得られる。該エチレン系重合体を用いて得られたフィルムは単層でも使用することができるが、多層とすることでさらに様々な機能を付与することができる。その場合には、前記各成形法における共押出法が挙げられる。一方押出ラミネート成形やドライラミネート法のような貼合ラミネート成形法によって、共押出が困難な紙やバリアフィルム(アルミ箔、蒸着フィルム、コーティングフィルムなど)との積層が挙げられる。ブロー成形やインジェクション成形、押出成形での、共押出法による多層化での高機能製品の作製については、フィルム成形と同様に可能である。 The ethylene-based polymer obtained in the present invention and, if necessary, a resin composition containing a thermoplastic resin and additives are processed by general film molding, blow molding, injection molding and extrusion molding. In film molding, it can be obtained by extrusion lamination molding, T-die film molding, inflation molding (air cooling, water cooling, multi-stage cooling, high-speed processing), or the like. A film obtained using the ethylene-based polymer can be used even in a single layer, but can be provided with various functions by making it into a multilayer. In that case, the co-extrusion method in each of the molding methods described above may be used. On the other hand, lamination with paper or barrier films (aluminum foil, vapor-deposited film, coating film, etc.), which are difficult to co-extrude, can be achieved by a pasting lamination molding method such as extrusion lamination molding or dry lamination. Blow molding, injection molding, and extrusion molding can be used to produce multi-layered high-performance products by co-extrusion in the same manner as film molding.

本発明で得られるエチレン系重合体、および必要に応じて熱可塑性樹脂や添加剤を含む樹脂組成物を加工することにより得られる成形体としては、フィルム、ブロー輸液バック、ブローボトル、ガソリンタンク、押出成形によるチューブ、パイプ、引きちぎりキャップ、日用雑貨品等射出成形物、繊維、回転成形による大型成形品などがあげられる。 Molded articles obtained by processing the resin composition containing the ethylene-based polymer obtained in the present invention and, if necessary, thermoplastic resins and additives include films, blow infusion bags, blow bottles, gasoline tanks, Extrusion-molded tubes, pipes, tear-off caps, injection-molded products such as daily necessities, fibers, large-sized rotational molding products, and the like.

さらに、本発明で得られるエチレン系重合体、および必要に応じて熱可塑性樹脂や添加剤を含む樹脂組成物を加工することにより得られるフィルムは、水物包装袋、液体スープ包袋、液体紙器、ラミ原反、特殊形状液体包装袋(スタンディングパウチ等)、規格袋、重袋、ラップフィルム、砂糖袋、油物包装袋、食品包装用等の各種包装用フィルム、プロテクトフィルム、輸液バック、農業用資材等に好適である。また、ナイロン、ポリエステル等の基材と貼り合わせて、多層フィルムとして用いることもできる。 Furthermore, the film obtained by processing the ethylene-based polymer obtained in the present invention and, if necessary, a resin composition containing a thermoplastic resin and additives, can be used as a water product packaging bag, a liquid soup packet, a liquid paper container , laminated raw fabric, special shape liquid packaging bags (standing pouches, etc.), standard bags, heavy duty bags, wrap film, sugar bags, oil packaging bags, various packaging films such as food packaging, protective films, infusion bags, agriculture It is suitable for use as a raw material. It can also be used as a multi-layer film by laminating it with a base material such as nylon or polyester.

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、下記の実施例および比較例において、エチレン系重合体の製造における遊離ポリマー量および得られたエチレン系重合体の物性の測定は以下のようにして行った。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below based on examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following examples and comparative examples, the amount of free polymer in the production of the ethylene-based polymer and the physical properties of the obtained ethylene-based polymer were measured as follows.

<遊離ポリマー量>
遊離ポリマー量(wt%)は、スラリー重合後の上澄み(溶媒)を分取し、これを乾燥することにより得られたポリマーの量X(g)と、得られたポリマーの総収量Y(g)とを測定し、下記式により求めた。
遊離ポリマー量(wt%)=X/(X+Y)×100
<Amount of free polymer>
The amount of free polymer (wt%) is the amount X (g) of the polymer obtained by drying the supernatant (solvent) after slurry polymerization, and the total yield Y (g ) was measured and obtained by the following formula.
Amount of free polymer (wt%) = X/(X + Y) x 100

<メルトフローレート(MFR)>
190℃、2.16kg荷重(kgf)の条件下で測定した。
<Melt flow rate (MFR)>
Measured under the conditions of 190° C. and 2.16 kg load (kgf).

<密度(D)>
MFR測定時に得られるストランドを100℃で30分間熱処理し、更に室温で1時間放置した後に密度勾配管法で測定した。
<Density (D)>
The strand obtained in the MFR measurement was heat-treated at 100° C. for 30 minutes, left at room temperature for 1 hour, and then measured by the density gradient tube method.

<溶融張力(MT)>
190℃における溶融張力(MT)(単位;g)は、一定速度で延伸したときの応力を測定することにより決定した。測定には東洋精機製作所社製キャピラリーレオメーター:キャピログラフ1Dを用いた。条件は樹脂温度190℃、溶融時間6分、バレル径9.55mmφ、押し出し速度15mm/分、巻取り速度24m/分(溶融フィラメントが切れてしまう場合には、巻取り速度を5m/分ずつ低下させる)、ノズル径2.095mmφ、ノズル長さ8mmとした。
<Melt tension (MT)>
The melt tension (MT) (unit: g) at 190° C. was determined by measuring the stress when drawing at a constant speed. For the measurement, a capillary rheometer: Capilograph 1D manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. was used. The conditions are resin temperature 190°C, melting time 6 minutes, barrel diameter 9.55 mmφ, extrusion speed 15 mm/min, winding speed 24 m/min (if the molten filament breaks, reduce the winding speed by 5 m/min) ), a nozzle diameter of 2.095 mm, and a nozzle length of 8 mm.

<せん断粘度(η*)>
200℃、角速度1.0rad/秒におけるせん断粘度〔η*(1.0)〕(P)は以下の方法により測定した。
せん断粘度(η*)は、測定温度200℃におけるせん断粘度(η*)の角速度〔ω(rad/秒)〕分散を0.01≦ω≦100の範囲で測定する。測定にはアントンパール社製粘弾性測定装置Physica MCR301を用い、サンプルホルダーとして25mmφのパラレルプレートを用い、サンプル厚みを約2.0mmとした。測定点はω一桁当たり5点とした。歪み量は、測定範囲でのトルクが検出可能で、かつトルクオーバーにならないよう、3~10%の範囲で適宜選択した。
<Shear viscosity (η * )>
The shear viscosity [η * (1.0)] (P) at 200°C and an angular velocity of 1.0 rad/sec was measured by the following method.
The shear viscosity (η * ) is measured by angular velocity [ω (rad/sec)] dispersion of the shear viscosity (η * ) at a measurement temperature of 200°C within the range of 0.01≤ω≤100. For the measurement, a viscoelasticity measuring device Physica MCR301 manufactured by Anton Paar was used, a parallel plate of 25 mmφ was used as a sample holder, and the thickness of the sample was set to about 2.0 mm. The measurement points were five points per one digit of ω. The amount of strain was appropriately selected in the range of 3 to 10% so that the torque in the measurement range could be detected and torque over would not occur.

せん断粘度測定に用いたサンプルは、神藤金属工業所製プレス成形機を用い、予熱温度190℃、予熱時間5分間、加熱温度190℃、加熱時間2分間、加熱圧力100kgf/cm2、冷却温度20℃、冷却時間5分間、冷却圧力100kgf/cm2の条件にて、測定サンプルを厚さ2mmにプレス成形することにより作製した。 The samples used for shear viscosity measurement were preheated at 190° C., preheated for 5 minutes, heated at 190° C., heated for 2 minutes, heated at a pressure of 100 kgf/cm 2 , and cooled at a cooling temperature of 20 using a press molding machine manufactured by Shindo Kinzoku Kogyo Co., Ltd. C., a cooling time of 5 minutes, and a cooling pressure of 100 kgf/ cm.sup.2 .

<ゼロせん断粘度(η0)>
200℃におけるゼロせん断粘度(η0)(P)は以下の方法により求めた。
測定温度200℃にて、せん断粘度(η*)の角速度ω(rad/秒)分散を0.01≦ω≦100の範囲で測定する。測定にはアントンパール社製粘弾性測定装置Physica MCR301を用い、サンプルホルダーとして25mmφのパラレルプレートを用い、サンプル厚みを約2.0mmとした。測定点はω一桁当たり5点とした。歪み量は、測定範囲でのトルクが検出可能で、かつトルクオーバーにならないよう、3~10%の範囲で適宜選択した。
<Zero shear viscosity (η 0 )>
The zero shear viscosity (η 0 ) (P) at 200°C was obtained by the following method.
At a measurement temperature of 200° C., the angular velocity ω (rad/sec) dispersion of shear viscosity (η * ) is measured in the range of 0.01≦ω≦100. For the measurement, a viscoelasticity measuring device Physica MCR301 manufactured by Anton Paar was used, a parallel plate of 25 mmφ was used as a sample holder, and the thickness of the sample was set to about 2.0 mm. The measurement points were five points per one digit of ω. The amount of strain was appropriately selected in the range of 3 to 10% so that the torque in the measurement range could be detected and torque over would not occur.

せん断粘度測定に用いたサンプルは、神藤金属工業所製プレス成形機を用い、予熱温度190℃、予熱時間5分間、加熱温度190℃、加熱時間2分間、加熱圧力100kgf/cm2、冷却温度20℃、冷却時間5分間、冷却圧力100kgf/cm2の条件にて、測定サンプルを厚さ2mmにプレス成形することにより作製した。 The samples used for shear viscosity measurement were preheated at 190°C, preheated for 5 minutes, heated at 190°C, heated for 2 minutes, heated at a pressure of 100 kgf/cm 2 , and cooled at a cooling temperature of 20 using a press molding machine manufactured by Shindo Kinzoku Kogyo Co., Ltd. C., a cooling time of 5 minutes, and a cooling pressure of 100 kgf/ cm.sup.2 .

ゼロせん断粘度(η0)は、下記式(Eq-3)のCarreauモデルを非線形最小自乗法により実測のレオロジー曲線〔せん断粘度(η*)の角速度(ω)分散〕にフィッティングさせることで算出した。
Η*=η0〔1+(λω)a(n-1)/a ‐‐‐(Eq-3)
The zero shear viscosity (η 0 ) was calculated by fitting the Carreau model of the following formula (Eq-3) to the measured rheology curve [angular velocity (ω) dispersion of shear viscosity (η * )] by the nonlinear least squares method. .
Η * = η 0 [1 + (λω) a ] (n-1)/a --- (Eq-3)

ここで、λは時間の次元を持つパラメーター、nは材料の冪法則係数(power law index)を表す。なお、非線形最小自乗法によるフィッティングは下記式(Eq-4)におけるdが最小となるように行った。 where λ is a time-dimensional parameter and n is the power law index of the material. The fitting by the nonlinear least squares method was performed so that d in the following formula (Eq-4) was minimized.

Figure 0007132059000028
上記式(Eq-4)中、ηexp(ω)は実測のせん断粘度を表し、ηcalc(ω)はCarreauモデルより算出したせん断粘度を表す。
Figure 0007132059000028
In the above formula (Eq-4), η exp (ω) represents the measured shear viscosity, and η calc (ω) represents the shear viscosity calculated from the Carreau model.

<数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)、Z平均分子量(Mz)、分子量分布(Mw/Mn、Mz/Mw)>
ウォーターズ社製GPC-粘度検出器(GPC-VISCO)GPC/V2000を用い、以下のように測定した。
<Number average molecular weight (Mn), weight average molecular weight (Mw), Z average molecular weight (Mz), molecular weight distribution (Mw/Mn, Mz/Mw)>
Using a GPC-viscosity detector (GPC-VISCO) GPC/V2000 manufactured by Waters, measurements were made as follows.

ガードカラムにはShodex AT-Gを用い、分析カラムにはAT-806を2本用い、検出器には示差屈折計および3キャピラリー粘度計を用い、カラム温度は145℃とし、移動相としては、酸化防止剤としてBHTを0.3重量%含むo-ジクロロベンゼンを用い、流速を1.0ml/分とし、試料濃度は0.1重量%とした。標準ポリスチレンには、東ソー社製のものを用いた。分子量計算は、粘度計および屈折計から実測粘度を計算し、実測ユニバーサルキャリブレーションより数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)、Z平均分子量(Mz)、分子量分布(Mw/Mn、Mz/Mw)を求めた。 Shodex AT-G is used for the guard column, two AT-806 are used for the analysis column, a differential refractometer and 3 capillary viscometers are used as the detector, the column temperature is 145 ° C., and the mobile phase is o-Dichlorobenzene containing 0.3% by weight of BHT was used as an antioxidant, the flow rate was 1.0 ml/min, and the sample concentration was 0.1% by weight. As standard polystyrene, one manufactured by Tosoh Corporation was used. For molecular weight calculation, the measured viscosity is calculated from the viscometer and refractometer, and the number average molecular weight (Mn), weight average molecular weight (Mw), Z average molecular weight (Mz), molecular weight distribution (Mw/Mn, Mz /Mw) was determined.

<極限粘度[η]>
測定サンプル約20mgをデカリン15mlに溶解し、135℃のオイルバス中で比粘度ηspを測定した。このデカリン溶液にデカリン溶媒を5ml追加して希釈後、同様にして比粘度ηspを測定した。この希釈操作をさらに2回繰り返し、下記式(Eq-5)に示すように濃度(C)を0に外挿した時のηsp/Cの値を極限粘度[η](単位;dl/g)として求めた。
[η]=lim(ηsp/C) (C→0) ‐‐‐(Eq-5)
<Intrinsic viscosity [η]>
About 20 mg of the measurement sample was dissolved in 15 ml of decalin, and the specific viscosity η sp was measured in an oil bath at 135°C. 5 ml of the decalin solvent was added to the decalin solution to dilute it, and then the specific viscosity η sp was measured in the same manner. This dilution operation is repeated twice, and the intrinsic viscosity [η] (unit: dl /g ).
[η]=lim(η sp /C) (C→0) ---(Eq-5)

[成分(A)および成分(B)の合成]
<合成例1>
(1)充分に乾燥、アルゴン置換した300mLの反応器に、インデン5.01mL(43.0mmol)とテトラヒドロフラン50mLを仕込み、n-ブチルリチウム溶液28.0mL(ヘキサン溶液、1.62M、45.4mmol)を氷冷下で加え、室温で2時間攪拌した。この溶液へ、ヨウ化ブチル5.20mL(45.4mmol)を氷冷下で滴下し、ゆっくりと室温まで戻しながら15時間攪拌を続けた。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、n-ヘキサンで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式(A-1a)で示した目的物(以下化合物(A-1a)という)が6.50g(収率88%)の異性体混合物として得られた。
[Synthesis of Component (A) and Component (B)]
<Synthesis Example 1>
(1) 5.01 mL (43.0 mmol) of indene and 50 mL of tetrahydrofuran were charged into a 300 mL reactor that was sufficiently dried and replaced with argon, and 28.0 mL of n-butyllithium solution (hexane solution, 1.62 M, 45.4 mmol ) was added under ice-cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. To this solution, 5.20 mL (45.4 mmol) of butyl iodide was added dropwise under ice-cooling, and the mixture was slowly warmed to room temperature while stirring was continued for 15 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution was added, the soluble matter was extracted with n-hexane, the resulting fraction was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtering magnesium sulfate, the residue obtained by evaporating the filtrate was purified by silica gel column chromatography to give the target compound represented by the following formula (A-1a) (hereinafter referred to as compound (A-1a)). Obtained as an isomeric mixture of 6.50 g (88% yield).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.44(1H,d,J=7.3Hz,Ar-H),7.41-7.24(2H,m,Ar-H),7.24-7.13(1H,m,Ar-H),6.18(1H,t,J=1.5Hz,C=CH-C),3.31(2H,d,J=2.0Hz,C-CH2-CH),2.62-2.47(2H,m,C-CH2-CH2-),1.75-1.57(2H,m,-CH2-CH2-),1.53-1.30(2H,m,-CH2-CH2-),0.95(3H,t,J=7.3Hz,-CH2-CH3)ppm 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.44 (1H, d, J=7.3 Hz, Ar-H), 7.41-7.24 (2H, m, Ar-H), 7.24- 7.13 (1H, m, Ar-H), 6.18 (1H, t, J = 1.5 Hz, C = CH-C), 3.31 (2H, d, J = 2.0 Hz, C- CH 2 —CH), 2.62-2.47 (2H, m, C—CH 2 —CH 2 —), 1.75-1.57 (2H, m, —CH 2 —CH 2 —), 1 .53-1.30 (2H, m, --CH 2 --CH 2 --), 0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, --CH 2 --CH 3 ) ppm

Figure 0007132059000029
(2)充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、前記(1)で得られた化合物(A-1a)1.57g(9.13mmol)とテトラヒドロフラン20mLを仕込み、n-ブチルリチウム溶液5.60mL(ヘキサン溶液、1.64M、9.18mmol)を氷冷下で加え、室温で2時間攪拌した。この反応液を、ジメチルシリルジクロリド5.50mL(46.0mmol)のn-ヘキサン10mL希釈溶液に、-78℃冷却下でゆっくりと加え、室温まで戻しながら20時間攪拌を続けた。反応液の溶媒および未反応のジメチルシリルジクロリドを留去した後、残渣にテトラヒドロフラン10mL、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン0.90mL(9.58mmol)を加えた。充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、ナトリウムシクロペンタジエニド溶液4.60mL(テトラヒドロフラン溶液、2.0M、9.20mmol)、テトラヒドロフラン10mLを仕込んだ。この溶液を、-78℃に冷却した先程の反応残渣希釈溶液に滴下し、ゆっくりと室温まで戻しながら19時間攪拌を続けた。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、n-ヘキサンで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式(A-1L)で示した目的物(以下「化合物(A-1L)」ともいう。)が2.20g(収率82%)の異性体混合物として得られた。
Figure 0007132059000029
(2) 1.57 g (9.13 mmol) of the compound (A-1a) obtained in (1) and 20 mL of tetrahydrofuran were charged into a 100 mL reactor sufficiently dried and replaced with argon to obtain an n-butyllithium solution of 5 0.60 mL (hexane solution, 1.64 M, 9.18 mmol) was added under ice cooling and stirred at room temperature for 2 hours. This reaction solution was slowly added to a diluted solution of 5.50 mL (46.0 mmol) of dimethylsilyl dichloride in 10 mL of n-hexane under cooling at -78°C, and the mixture was allowed to warm to room temperature while stirring was continued for 20 hours. After distilling off the solvent of the reaction solution and unreacted dimethylsilyl dichloride, 10 mL of tetrahydrofuran and 0.90 mL (9.58 mmol) of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone were added to the residue. A 100 mL reactor sufficiently dried and purged with argon was charged with 4.60 mL of sodium cyclopentadienide solution (tetrahydrofuran solution, 2.0 M, 9.20 mmol) and 10 mL of tetrahydrofuran. This solution was added dropwise to the previously diluted solution of the reaction residue cooled to -78°C, and the mixture was allowed to warm slowly to room temperature while stirring was continued for 19 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution was added, the soluble matter was extracted with n-hexane, the resulting fraction was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtering magnesium sulfate, the residue obtained by evaporating the filtrate was purified by silica gel column chromatography to obtain the target compound represented by the following formula (A-1L) (hereinafter also referred to as "compound (A-1L)" ) was obtained as an isomeric mixture of 2.20 g (82% yield).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.62-7.15(5H,m,Ar-H&C=CH-C),6.90-6.08(4H,m,C=CH-C),3.78-2.80(2H,m,Si-CH),2.76-2.52(2H,m,C-CH2-CH2-),1.84-1.60(2H,m,-CH2-CH2-),1.60-1.38(2H,m,-CH2-CH2-),1.03(3H,t,J=7.3Hz,-CH2-CH3),0.30 - -0.50(6H,m,Si-CH3)ppm 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.62-7.15 (5H, m, Ar-H&C=CH-C), 6.90-6.08 (4H, m, C=CH-C), 3.78-2.80 (2H, m, Si—CH), 2.76-2.52 (2H, m, C—CH 2 —CH 2 —), 1.84-1.60 (2H, m , —CH 2 —CH 2 —), 1.60-1.38 (2H, m, —CH 2 —CH 2 —), 1.03 (3H, t, J=7.3 Hz, —CH 2 —CH 3 ), 0.30 - -0.50 (6H, m, Si--CH 3 ) ppm

Figure 0007132059000030
Figure 0007132059000030

(3)充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、前記(2)で得られた化合物(A-1L)0.59g(2.01mmol)、トルエン20mL、テトラヒドロフラン0.4mLを仕込み攪拌した。この溶液へ、n-ブチルリチウム溶液2.50mL(ヘキサン溶液、1.64M、4.10mmol)を室温下で加えた後、40℃のオイルバス中で3時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジエチルエーテル20mLを加えた。この溶液を0℃に冷却し、四塩化ジルコニウム0.46g(1.95mmol)を加え、室温にて19時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジクロロメタンを加えて懸濁液を調製し、不溶物をガラスフィルター上のセライトで除去した。得られた溶液を減圧化で濃縮した後、n-ヘキサンを加えることで懸濁液を調製し、不溶物をガラスフィルターで濾別した。残渣を減圧乾燥することにより、下記式(A-1)で示される黄色粉末状の化合物ジメチルシリレン(3-n-ブチル-1-インデニル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド(以下「成分(A-1)」ともいう。)を0.48g(収率54%)得た。 (3) 0.59 g (2.01 mmol) of the compound (A-1L) obtained in (2) above, 20 mL of toluene, and 0.4 mL of tetrahydrofuran were placed in a 100 mL reactor sufficiently dried and replaced with argon and stirred. . After adding 2.50 mL of n-butyllithium solution (hexane solution, 1.64 M, 4.10 mmol) to this solution at room temperature, stirring was continued for 3 hours in an oil bath at 40°C. After distilling off the solvent of the reaction solution, 20 mL of diethyl ether was added to the resulting solid. This solution was cooled to 0° C., 0.46 g (1.95 mmol) of zirconium tetrachloride was added, and stirring was continued at room temperature for 19 hours. After distilling off the solvent of the reaction solution, dichloromethane was added to the resulting solid to prepare a suspension, and insoluble matter was removed with celite on a glass filter. After concentrating the resulting solution under reduced pressure, n-hexane was added to prepare a suspension, and insoluble matter was filtered off through a glass filter. By drying the residue under reduced pressure, a yellow powdery compound dimethylsilylene(3-n-butyl-1-indenyl)(cyclopentadienyl)zirconium dichloride represented by the following formula (A-1) (hereinafter referred to as “component (A -1)”) was obtained (yield 54%).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.60(1H,dt,J=8.5and1.0Hz,Ar-H),7.47-7.36(2H,m,Ar-H),7.13-7.03(1H,m,Ar-H),6.84-6.73(2H,m,Cp-H),5.89-5.84(1H,m,Cp-H),5.82(1H,s,Ind-H),5.80-5.75(1H,m,Cp-H),2.90(2H,t,J=7.7Hz,C-CH2-CH2-),1.70-1.50(2H,m,-CH2-CH2-),1.50-1.25(2H,m,-CH2-CH2-),1.03(3H,s,Si-CH3),0.92(3H,t,J=7.3Hz,-CH2-CH3),0.81(3H,s,Si-CH3)ppm
FD-質量分析(M+): 454
1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.60 (1H, dt, J=8.5 and 1.0 Hz, Ar-H), 7.47-7.36 (2H, m, Ar-H), 7. 13-7.03 (1H, m, Ar-H), 6.84-6.73 (2H, m, Cp-H), 5.89-5.84 (1H, m, Cp-H), 5 .82 (1H, s, Ind-H), 5.80-5.75 (1H, m, Cp-H), 2.90 (2H, t, J = 7.7 Hz, C- CH2 - CH2 -), 1.70-1.50 (2H, m, -CH 2 -CH 2 -), 1.50-1.25 (2H, m, -CH 2 -CH 2 -), 1.03 (3H , s, Si—CH 3 ), 0.92 (3H, t, J=7.3 Hz, —CH 2 —CH 3 ), 0.81 (3H, s, Si—CH 3 ) ppm
FD-mass spectroscopy (M + ): 454

Figure 0007132059000031
Figure 0007132059000031

<合成例2>
(1)充分に乾燥、アルゴン置換した300mLの反応器に、2-メチルインデン3.91g(30.0mmol)とテトラヒドロフラン30mLを仕込み、n-ブチルリチウム溶液19.2mL(ヘキサン溶液、1.64M、31.5mmol)を氷冷下で加え、室温で3時間攪拌した。この溶液へ、ヨウ化ブチル3.61mL(31.5mmol)を氷冷下で滴下し、ゆっくりと室温まで戻しながら2時間攪拌を続けた。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、n-ヘキサンで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式(A-2a)で示した目的物(以下「化合物(A-2a)」ともいう。)が5.40g(収率97%)の異性体混合物として得られた。
<Synthesis Example 2>
(1) 3.91 g (30.0 mmol) of 2-methylindene and 30 mL of tetrahydrofuran were charged into a 300 mL reactor that was sufficiently dried and replaced with argon, and 19.2 mL of n-butyllithium solution (hexane solution, 1.64 M, 31.5 mmol) was added under ice-cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. To this solution, 3.61 mL (31.5 mmol) of butyl iodide was added dropwise under ice-cooling, and the mixture was slowly warmed to room temperature while stirring was continued for 2 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution was added, the soluble matter was extracted with n-hexane, the resulting fraction was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtering magnesium sulfate, the residue obtained by evaporating the filtrate was purified by silica gel column chromatography to obtain the desired product represented by the following formula (A-2a) (hereinafter also referred to as "compound (A-2a)" ) was obtained as an isomeric mixture of 5.40 g (97% yield).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.34(1H,d,J=7.4Hz,Ar-H),7.24-7.14(2H,m,Ar-H),7.14-7.02(1H,m,Ar-H),6.44(1H,s,C=CH-C),3.33(1H,t,J=5.0Hz,C-CH-C),2.05(3H,d,J=0.8Hz,-CH3),2.03-1.08(1H,m,CH-CH2-CH2-),1.83-1.63(1H,m,CH-CH2-CH2-),1.31-1.17(2H,m,-CH2-CH2-),1.16-0.86(2H,m,-CH2-CH2-),0.82(3H,t,J=7.3Hz,-CH2-CH3)ppm 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.34 (1H, d, J=7.4 Hz, Ar-H), 7.24-7.14 (2H, m, Ar-H), 7.14- 7.02 (1H, m, Ar—H), 6.44 (1H, s, C=CH—C), 3.33 (1H, t, J=5.0 Hz, C—CH—C), 2 .05 (3H, d, J = 0.8Hz, -CH3 ), 2.03-1.08 (1H, m, CH- CH2 - CH2-), 1.83-1.63 (1H, m, CH—CH 2 —CH 2 —), 1.31-1.17 (2H, m, —CH 2 —CH 2 —), 1.16-0.86 (2H, m, —CH 2 —CH 2- ), 0.82 (3H, t, J = 7.3 Hz, -CH2 - CH3 ) ppm

Figure 0007132059000032
Figure 0007132059000032

(2)充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、前記(1)で得られた化合物(A-2a)3.73g(20.0mmol)とテトラヒドロフラン30mLを仕込み、n-ブチルリチウム溶液12.2mL(ヘキサン溶液、1.64M、20.0mmol)を氷冷下で加え、室温で2時間攪拌した。この反応液を、ジメチルシリルジクロリド12.0mL(100mmol)のn-ヘキサン10mL希釈溶液に、-78℃冷却下でゆっくりと加え、室温まで戻しながら19時間攪拌を続けた。反応液の溶媒および未反応のジメチルシリルジクロリドを留去した後、残渣にテトラヒドロフラン20mL、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン1.90mL(20.2mmol)を加えた。充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、ナトリウムシクロペンタジエニド溶液10.0mL(テトラヒドロフラン溶液、2.0M、20.0mmol)、テトラヒドロフラン20mLを仕込んだ。この溶液を、-78℃に冷却した先程の反応残渣希釈溶液に滴下し、ゆっくりと室温まで戻しながら19時間攪拌を続けた。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、n-ヘキサンで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式(A-2L)で示した目的物(以下「化合物(A-2L)」ともいう。)が5.41g(収率88%)の異性体混合物として得られた。 (2) 3.73 g (20.0 mmol) of the compound (A-2a) obtained in (1) and 30 mL of tetrahydrofuran were charged into a 100 mL reactor that had been sufficiently dried and replaced with argon, and an n-butyllithium solution of 12 .2 mL (hexane solution, 1.64 M, 20.0 mmol) was added under ice-cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. This reaction solution was slowly added to a diluted solution of 12.0 mL (100 mmol) of dimethylsilyl dichloride in 10 mL of n-hexane under cooling at −78° C., and the mixture was allowed to warm to room temperature while stirring was continued for 19 hours. After distilling off the solvent of the reaction solution and unreacted dimethylsilyl dichloride, 20 mL of tetrahydrofuran and 1.90 mL (20.2 mmol) of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone were added to the residue. A 100 mL reactor sufficiently dried and purged with argon was charged with 10.0 mL of sodium cyclopentadienide solution (tetrahydrofuran solution, 2.0 M, 20.0 mmol) and 20 mL of tetrahydrofuran. This solution was added dropwise to the previously diluted solution of the reaction residue cooled to -78°C, and the mixture was allowed to warm slowly to room temperature while stirring was continued for 19 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution was added, the soluble matter was extracted with n-hexane, the resulting fraction was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtering magnesium sulfate, the residue obtained by evaporating the filtrate was purified by silica gel column chromatography to give the target compound represented by the following formula (A-2L) (hereinafter also referred to as "compound (A-2L)" ) was obtained as an isomeric mixture of 5.41 g (88% yield).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.61-7.01(4H,m,Ar-H),6.92-5.96(4H,m,C=CH-C),3.80-2.75(2H,m,Si-CH),2.74-2.48(2H,m,C-CH2-CH2-),2.30-2.00(3H,m,-CH3),1.70-1.36(4H,m,-CH2-CH2-),1.02(3H,t,J=7.2Hz,-CH2-CH3),0.30 - -0.40(6H,m,Si-CH3)ppm 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.61-7.01 (4H, m, Ar—H), 6.92-5.96 (4H, m, C═CH—C), 3.80- 2.75 (2H, m, Si—CH), 2.74-2.48 (2H, m, C—CH 2 —CH 2 —), 2.30-2.00 (3H, m, —CH 3 ), 1.70-1.36 (4H, m, --CH 2 --CH 2 --), 1.02 (3H, t, J=7.2 Hz, --CH 2 --CH 3 ), 0.30 -- 0.40 (6H, m, Si—CH 3 ) ppm

Figure 0007132059000033
Figure 0007132059000033

(3)充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、前記(2)で得られた化合物(A-2L)0.62g(2.01mmol)、トルエン20mL、テトラヒドロフラン0.4mLを仕込み攪拌した。この溶液へ、n-ブチルリチウム溶液2.60mL(ヘキサン溶液、1.55M、4.03mmol)を室温下で加えた後、40℃のオイルバス中で3時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジエチルエーテル20mLを加えた。この溶液を0℃に冷却し、四塩化ジルコニウム0.46g(1.99mmol)を加え、室温にて18時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジクロロメタンを加えて懸濁液を調製し、不溶物をガラスフィルター上のセライトで除去した。得られた溶液を減圧化で濃縮した後、n-ヘキサンを加えることで懸濁液を調製し、不溶物をガラスフィルターで濾別した。残渣を減圧乾燥することにより、下記式(A-2)で示される黄色粉末状の化合物ジメチルシリレン(3-n-ブチル-2-メチル-1-インデニル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド(以下「成分(A-2)」ともいう。)を0.22g(収率24%)得た。 (3) 0.62 g (2.01 mmol) of the compound (A-2L) obtained in (2) above, 20 mL of toluene, and 0.4 mL of tetrahydrofuran were placed in a 100 mL reactor sufficiently dried and replaced with argon, and stirred. . After adding 2.60 mL of n-butyllithium solution (hexane solution, 1.55 M, 4.03 mmol) to this solution at room temperature, stirring was continued for 3 hours in an oil bath at 40°C. After distilling off the solvent of the reaction solution, 20 mL of diethyl ether was added to the resulting solid. The solution was cooled to 0° C., 0.46 g (1.99 mmol) of zirconium tetrachloride was added, and stirring was continued at room temperature for 18 hours. After distilling off the solvent of the reaction solution, dichloromethane was added to the resulting solid to prepare a suspension, and insoluble matter was removed with celite on a glass filter. After concentrating the resulting solution under reduced pressure, n-hexane was added to prepare a suspension, and insoluble matter was filtered off with a glass filter. By drying the residue under reduced pressure, a yellow powdery compound dimethylsilylene (3-n-butyl-2-methyl-1-indenyl)(cyclopentadienyl)zirconium dichloride (hereinafter referred to as Also referred to as "component (A-2)") was obtained 0.22 g (yield 24%).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.59(1H,dt,J=8.6and1.0Hz,Ar-H),7.50(1H,dt,J=8.6and1.0Hz,Ar-H),7.45-7.35(1H,m,Ar-H),7.07-6.97(1H,m,Ar-H),6.84-6.76(1H,m,Cp-H),6.74-6.67(1H,m,Cp-H),5.81(2H,t,J=2.4Hz,Cp-H),2.95-2.75(2H,m,C-CH2-CH2-),2.09(3H,s,-CH3),1.60-1.26(4H,m,-CH2-CH2-),1.07(3H,s,Si-CH3),0.96(3H,s,Si-CH3),0.92(3H,t,J=7.2Hz,-CH2-CH3)ppm
FD-質量分析(M+): 468
1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.59 (1H, dt, J = 8.6 and 1.0 Hz, Ar-H), 7.50 (1H, dt, J = 8.6 and 1.0 Hz, Ar-H ), 7.45-7.35 (1H, m, Ar-H), 7.07-6.97 (1H, m, Ar-H), 6.84-6.76 (1H, m, Cp- H), 6.74-6.67 (1H, m, Cp-H), 5.81 (2H, t, J = 2.4 Hz, Cp-H), 2.95-2.75 (2H, m , C--CH 2 --CH 2 --), 2.09 (3H, s, --CH 3 ), 1.60-1.26 (4H, m, --CH 2 --CH 2 --), 1.07 (3H , s, Si—CH 3 ), 0.96 (3H, s, Si—CH 3 ), 0.92 (3H, t, J=7.2 Hz, —CH 2 —CH 3 ) ppm
FD-mass spectroscopy (M + ): 468

Figure 0007132059000034
Figure 0007132059000034

<合成例3>
(1)充分に乾燥、アルゴン置換した200mLの反応器に、マグネシウム片1.44g(59.4mmol)を仕込み、減圧下加熱しながら30分激しく撹拌した。室温まで冷却した後、還流冷却管を装着し、ヨウ素一片とテトラヒドロフラン15mLを仕込み攪拌した。2-ブロモインデン2.93g(15.0mmol)のテトラヒドロフラン10mL希釈溶液を滴下(1.0mL添加後、ドライヤーにてヨウ素の色が消失するまで加熱還流、反応開始後は残液滴下)し、滴下終了後室温にて2時間撹拌した。この反応液を、ジメチルシリルジクロリド9.00mL(75.3mmol)のn-ヘキサン10mL希釈溶液に、-78℃冷却下ゆっくりと加え、室温まで戻しながら17時間攪拌を続けた。反応液の溶媒および未反応のジメチルシリルジクロリドを留去した後、残渣にテトラヒドロフラン10mL、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン1.50mL(16.0mmol)を加えた。充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、前記合成例2(1)で得られた化合物(A-2a)2.80g(15.0mmol)、テトラヒドロフラン15mLを仕込み、n-ブチルリチウム溶液9.70mL(ヘキサン溶液、1.55M、15.0mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。この溶液を、-78℃に冷却した先程の反応残渣希釈溶液に滴下し、ゆっくりと室温まで戻しながら16時間攪拌を続けた。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、n-ヘキサンで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式(A-3L)で示した目的物(以下「化合物(A-3L)」ともいう。)が3.15g(収率58%)の異性体混合物として得られた。
<Synthesis Example 3>
(1) 1.44 g (59.4 mmol) of magnesium pieces were placed in a 200 mL reactor that was sufficiently dried and replaced with argon, and vigorously stirred for 30 minutes while heating under reduced pressure. After cooling to room temperature, a reflux condenser was attached, and a piece of iodine and 15 mL of tetrahydrofuran were charged and stirred. 2-Bromoindene 2.93 g (15.0 mmol) diluted solution of 2.93 g (15.0 mmol) of tetrahydrofuran in 10 mL was added dropwise (after adding 1.0 mL, heated under reflux with a dryer until the color of iodine disappeared, and after the reaction was started, the remaining drops were added dropwise). After completion, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. This reaction solution was slowly added to a diluted solution of 9.00 mL (75.3 mmol) of dimethylsilyl dichloride in 10 mL of n-hexane under cooling at -78°C, and the mixture was allowed to warm to room temperature while stirring was continued for 17 hours. After distilling off the solvent of the reaction solution and unreacted dimethylsilyl dichloride, 10 mL of tetrahydrofuran and 1.50 mL (16.0 mmol) of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone were added to the residue. 2.80 g (15.0 mmol) of the compound (A-2a) obtained in Synthesis Example 2(1) and 15 mL of tetrahydrofuran were charged into a 100 mL reactor that was sufficiently dried and replaced with argon to give an n-butyllithium solution 9. .70 mL (hexane solution, 1.55 M, 15.0 mmol) was added and stirred at room temperature for 2 hours. This solution was added dropwise to the previously diluted solution of the reaction residue cooled to -78°C, and the mixture was allowed to warm slowly to room temperature while stirring was continued for 16 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution was added, the soluble matter was extracted with n-hexane, the resulting fraction was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtering magnesium sulfate, the residue obtained by evaporating the filtrate was purified by silica gel column chromatography to give the target compound represented by the following formula (A-3L) (hereinafter also referred to as "compound (A-3L)" ) was obtained as an isomeric mixture of 3.15 g (58% yield).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.43(1H,d,J=7.3Hz,Ar-H),7.38(1H,d,J=7.4Hz,Ar-H),7.33-7.12(5H,m,Ar-H),7.10-6.98(2H,m,Ar-H&C=CH-C),3.45(1H,s,Si-CH),3.22(2H,dd,J=47.7and22.4Hz,C-CH2-C-),2.49(2H,t,J=7.3Hz,-CH2-CH3),2.01(3H,s,-CH3),1.49-1.18(4H,m,-CH2-CH2-),0.82(3H,t,J=7.1Hz,-CH2-CH3),0.21(3H,s,Si-CH3),0.15(3H,s,Si-CH3)ppm 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.43 (1H, d, J=7.3 Hz, Ar-H), 7.38 (1H, d, J=7.4 Hz, Ar-H), 7. 33-7.12 (5H, m, Ar-H), 7.10-6.98 (2H, m, Ar-H&C=CH-C), 3.45 (1H, s, Si-CH), 3 .22 (2H, dd, J=47.7 and 22.4 Hz, C—CH 2 —C—), 2.49 (2H, t, J=7.3 Hz, —CH 2 —CH 3 ), 2.01 ( 3H, s, —CH 3 ), 1.49-1.18 (4H, m, —CH 2 —CH 2 —), 0.82 (3H, t, J=7.1 Hz, —CH 2 —CH 3 ), 0.21 (3H, s, Si--CH 3 ), 0.15 (3H, s, Si--CH 3 ) ppm

Figure 0007132059000035
Figure 0007132059000035

(2)充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、前記(1)で得られた化合物(A-3L)0.72g(2.00mmol)、トルエン20mL、テトラヒドロフラン0.4mLを仕込み攪拌した。この溶液へ、n-ブチルリチウム溶液2.60mL(ヘキサン溶液、1.55M、4.03mmol)を室温下で加えた後、40℃のオイルバス中で3時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジエチルエーテル20mLを加えた。この溶液を0℃に冷却し、四塩化ジルコニウム0.47g(2.00mmol)を加え、室温にて19時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジクロロメタンを加えて懸濁液を調製し、不溶物をガラスフィルター上のセライトで除去した。得られた溶液を減圧化で濃縮した後、n-ヘキサンを加えることで懸濁液を調製し、不溶物をガラスフィルターで濾別した。残渣を減圧乾燥することにより、下記式(A-3)で示される黄色粉末状の化合物ジメチルシリレン(3-n-ブチル-1-インデニル)(2-インデニル)ジルコニウムジクロリド(以下「成分(A-3)」ともいう。)を0.40g(収率39%)得た。 (2) 0.72 g (2.00 mmol) of the compound (A-3L) obtained in (1) above, 20 mL of toluene, and 0.4 mL of tetrahydrofuran were placed in a 100 mL reactor sufficiently dried and replaced with argon, and stirred. . After adding 2.60 mL of n-butyllithium solution (hexane solution, 1.55 M, 4.03 mmol) to this solution at room temperature, stirring was continued for 3 hours in an oil bath at 40°C. After distilling off the solvent of the reaction liquid, 20 mL of diethyl ether was added to the obtained solid. This solution was cooled to 0° C., 0.47 g (2.00 mmol) of zirconium tetrachloride was added, and stirring was continued at room temperature for 19 hours. After distilling off the solvent of the reaction solution, dichloromethane was added to the resulting solid to prepare a suspension, and insoluble matter was removed with celite on a glass filter. After concentrating the resulting solution under reduced pressure, n-hexane was added to prepare a suspension, and insoluble matter was filtered off with a glass filter. By drying the residue under reduced pressure, a yellow powdery compound dimethylsilylene(3-n-butyl-1-indenyl)(2-indenyl)zirconium dichloride represented by the following formula (A-3) (hereinafter referred to as "component (A- 3)”) was obtained in an amount of 0.40 g (yield 39%).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.73-7.63(2H,m,Ar-H),7.50(1H,dt,J=8.6and1.0Hz,Ar-H),7.39-7.25(2H,m,Ar-H),7.25-7.16(2H,m,Ar-H),7.16-7.07(1H,m,Ar-H),6.09-6.03(1H,m,Ind-H),2.95-2.60(2H,m,C-CH2-CH2-),2.17(3H,s,Ind-CH3),1.60-1.20(4H,m,-CH2-CH2-),1.13(3H,s,Si-CH3),1.00(3H,s,Si-CH3),0.89(3H,t,J=7.1Hz,-CH2-CH3)ppm
FD-質量分析(M+): 518
1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.73-7.63 (2H, m, Ar-H), 7.50 (1H, dt, J = 8.6 and 1.0 Hz, Ar-H), 7. 39-7.25 (2H, m, Ar-H), 7.25-7.16 (2H, m, Ar-H), 7.16-7.07 (1H, m, Ar-H), 6 .09-6.03 (1H, m, Ind--H), 2.95-2.60 (2H, m, C--CH 2 --CH 2 --), 2.17 (3H, s, Ind--CH 3 ), 1.60-1.20 (4H, m, --CH 2 --CH 2 --), 1.13 (3H, s, Si--CH 3 ), 1.00 (3H, s, Si--CH 3 ) , 0.89 (3H, t, J=7.1 Hz, —CH 2 —CH 3 ) ppm
FD-mass spectroscopy (M + ): 518

Figure 0007132059000036
Figure 0007132059000036

<合成例4>
下記式(A-4)で示されるジメチルシリレン(3-n-プロピルシクロペンタジエニル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド(以下「成分(A-4)」ともいう。)は、特許第5455354号公報記載の方法によって合成した。
<Synthesis Example 4>
Dimethylsilylene (3-n-propylcyclopentadienyl)(cyclopentadienyl)zirconium dichloride (hereinafter also referred to as “component (A-4)”) represented by the following formula (A-4) is disclosed in Japanese Patent No. 5455354. It was synthesized by the method described in the publication.

Figure 0007132059000037
Figure 0007132059000037

<合成例5>
下記式(A-5)で示されるジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(1-インデニル)ジルコニウムジクロリド(以下「化合物(A-5)」ともいう。)は、Macromolecules 1995,28,3771.記載の方法によって合成した。
<Synthesis Example 5>
Dimethylsilylene(cyclopentadienyl)(1-indenyl)zirconium dichloride represented by the following formula (A-5) (hereinafter also referred to as “compound (A-5)”) is prepared according to Macromolecules 1995, 28, 3771. Synthesized by the method described.

Figure 0007132059000038
Figure 0007132059000038

<合成例6>
下記式(B-1)で示されるイソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2,7-ジ-tert-ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド(以下「成分(B-1)」ともいう。)は、特開平4-69394号公報に記載の方法に基づいて合成した。
<Synthesis Example 6>
Isopropylidene(cyclopentadienyl)(2,7-di-tert-butylfluorenyl)zirconium dichloride (hereinafter also referred to as “component (B-1)”) represented by the following formula (B-1) is It was synthesized based on the method described in JP-A-4-69394.

Figure 0007132059000039
Figure 0007132059000039

[実施例1]
<固体触媒成分(X)の調製>
内容積270リットルの攪拌機付き反応器に、窒素雰囲気下、固体状担体(S)として、富士シリシア株式会社製シリカ(平均粒径70μm、比表面積340m2/g、細孔容積1.3cm3/g、250℃焼成)10kgを77リットルのトルエンに懸濁させた後0~5℃に冷却した。この懸濁液に成分(C)として、メチルアルミノキサンのトルエン溶液(Al原子換算で3.5mol/L)20.4リットルを30分間かけて滴下した。この際、系内の温度を0~5℃に保った。引き続き0~5℃で30分間反応させた後、約1.5時間かけて95~100℃まで昇温して、引き続き95~100℃で4時間反応させた。その後常温まで降温して、上澄み液をデカンテーションにより除去し、さらにトルエンで2回洗浄した後、全量59.0リットルのトルエンスラリーを調製した。得られたスラリー成分の一部を採取し濃度を調べたところ、スラリー濃度:232.0g/L、Al濃度:1.19mol/Lであった。
[Example 1]
<Preparation of solid catalyst component (X)>
Silica manufactured by Fuji Silysia Co., Ltd. (average particle diameter 70 μm, specific surface area 340 m 2 /g, pore volume 1.3 cm 3 / g, calcined at 250°C) was suspended in 77 liters of toluene and then cooled to 0-5°C. To this suspension, 20.4 liters of a toluene solution of methylaluminoxane (3.5 mol/L in terms of Al atoms) was added dropwise over 30 minutes as component (C). At this time, the temperature in the system was kept at 0 to 5°C. After reacting at 0 to 5°C for 30 minutes, the temperature was raised to 95 to 100°C over about 1.5 hours, followed by reaction at 95 to 100°C for 4 hours. After that, the temperature was lowered to normal temperature, the supernatant liquid was removed by decantation, and after washing with toluene twice, a total amount of 59.0 liters of toluene slurry was prepared. A portion of the obtained slurry components was sampled and examined for concentration.

この内、8.6ミリリットル(固体分質量2.0g)を内容積200ミリリットルの撹拌機付き反応器に、窒素雰囲気下で装入し、全量が65.7ミリリットルのトルエンを添加した。次いで、合成例1で得られた成分(A-1)のトルエン溶液をZrとして35.0μmol、合成例5で得られた成分(B-1)のトルエン溶液をZrとして15.0μmol加えた(成分(A)/成分(B)のモル比=70/30)。これらを系内温度73~77℃で2時間接触させた後、上澄み液をデカンテーションにより除去し、さらに100ミリリットルのヘキサンを用いて2回洗浄した後、全量100ミリリットルの固体触媒成分(X-1)のヘキサンスラリーを調製した。 Of this, 8.6 ml (2.0 g of solid mass) was charged into a reactor with an internal volume of 200 ml equipped with a stirrer under a nitrogen atmosphere, and a total amount of 65.7 ml of toluene was added. Then, 35.0 μmol of the toluene solution of the component (A-1) obtained in Synthesis Example 1 was added as Zr, and 15.0 μmol of the toluene solution of the component (B-1) obtained in Synthesis Example 5 was added as Zr ( molar ratio of component (A)/component (B)=70/30). After contacting these for 2 hours at a system temperature of 73 to 77° C., the supernatant liquid was removed by decantation, and after washing twice with 100 ml of hexane, the solid catalyst component (X- A hexane slurry of 1) was prepared.

<エチレン系重合体の製造>
充分に窒素置換した内容積1リットルの撹拌翼付きSUS製オートクレーブに、窒素雰囲気下、ヘプタン500ミリリットルを添加した後、エチレンを流通させ液相および気相をエチレンで飽和させた。次に、1-ヘキセンを10mL、トリイソブチルアルミニウムを0.375mmol、および前記固体状触媒成分(X-1)を固体分として40mg装入した後、エチレンにて80℃、0.8MPaGに昇温、昇圧し、90分間重合反応を行った。得られたポリマーをろ過後、80℃で10時間真空乾燥することで、エチレン系重合体58.4gを得た。この際、前期方法により測定した遊離ポリマー量は1.5wt%であった。固体触媒当りの重合活性は1,460g/g-cat.であった。スラリー重合後のオートクレーブ壁面や撹拌翼に付着物は認められなかった。
<Production of ethylene polymer>
After adding 500 ml of heptane in a nitrogen atmosphere to a 1 liter SUS autoclave equipped with a stirring blade that was sufficiently purged with nitrogen, ethylene was passed through to saturate the liquid phase and gas phase with ethylene. Next, 10 mL of 1-hexene, 0.375 mmol of triisobutylaluminum, and 40 mg of the solid catalyst component (X-1) as a solid content were added, and then heated to 80° C. and 0.8 MPaG with ethylene. , the pressure was increased, and the polymerization reaction was carried out for 90 minutes. After filtering the obtained polymer, it was vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain 58.4 g of an ethylene-based polymer. At this time, the amount of free polymer measured by the method described above was 1.5 wt %. The polymerization activity per solid catalyst was 1,460 g/g-cat. Met. No deposits were found on the walls of the autoclave or the stirring blades after the slurry polymerization.

得られたエチレン系重合体に、耐熱安定剤としてIrganoX1076(商品名、チバスペシャリティケミカルズ株式会社製)0.1質量%、Irgafos168(商品名、チバスペシャリティケミカルズ株式会社製)0.1質量%を加え、ラボプラストミル(株式会社東洋精機製作所製)を用い、樹脂温度180℃、回転数50rpmで5分間溶融混練した。さらに、この溶融ポリマーを、プレス成形機(株式会社神藤金属工業所製)を用い、冷却温度20℃、冷却時間5分間、冷却圧力100kg/cm2の条件にて冷却した。得られた試料を測定用試料として、物性測定を行った。結果を表8に示す。 To the obtained ethylene-based polymer, 0.1% by mass of IrganoX1076 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) and 0.1% by mass of Irgafos168 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) are added as heat stabilizers. , Labo Plastomill (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.), and melt-kneaded for 5 minutes at a resin temperature of 180° C. and a rotation speed of 50 rpm. Further, this molten polymer was cooled using a press molding machine (manufactured by Shindo Kinzoku Kogyo Co., Ltd.) under conditions of a cooling temperature of 20° C., a cooling time of 5 minutes, and a cooling pressure of 100 kg/cm 2 . Using the obtained sample as a measurement sample, physical properties were measured. Table 8 shows the results.

[実施例2]
<固体触媒成分(X)の調製>
実施例1において、成分(A-1)35.0μmolの代わりに成分(A-2)40.0μmolを用い、成分(B-1)15.0μmolを10.0μmolに変更し、成分(A)/成分(B)のモル比を80/20にしたこと以外は実施例1と同様にして固体触媒成分(X-2)のスラリーを調製した。
[Example 2]
<Preparation of solid catalyst component (X)>
In Example 1, 40.0 μmol of component (A-2) was used instead of 35.0 μmol of component (A-1), 15.0 μmol of component (B-1) was changed to 10.0 μmol, and component (A) A slurry of solid catalyst component (X-2) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the molar ratio of /component (B) was 80/20.

<エチレン系重合体の製造>
充分に窒素置換した内容積1リットルの撹拌翼付きSUS製オートクレーブに、窒素雰囲気下、ヘプタン500ミリリットルを添加した後、エチレンを流通させ液相および気相をエチレンで飽和させた。次に、1-ヘキセンを10mL、トリイソブチルアルミニウムを0.375mmol、および前記固体状触媒成分(X-2)を固体分として60mg装入した後、水素濃度0.1vol%のエチレン・水素混合ガスを用いて80℃、0.8MPaGに昇温、昇圧し、90分間重合反応を行った。得られたポリマーをろ過後、80℃で10時間真空乾燥することで、エチレン系重合体143.2gを得た。この際、前記方法により測定した遊離ポリマー量は0.7wt%であった。固体触媒当りの重合活性は2,390g/g-cat.であった。スラリー重合後のオートクレーブ壁面や撹拌翼に付着物は認められなかった。得られたエチレン系重合体を実施例1と同様の方法で溶融混練および冷却し、得られた試料を測定用試料として、物性測定を行った。結果を表8に示す。
<Production of ethylene polymer>
After adding 500 ml of heptane in a nitrogen atmosphere to a 1 liter SUS autoclave equipped with a stirring blade that was sufficiently purged with nitrogen, ethylene was passed through to saturate the liquid phase and gas phase with ethylene. Next, after charging 10 mL of 1-hexene, 0.375 mmol of triisobutylaluminum, and 60 mg of the solid catalyst component (X-2) as a solid content, an ethylene/hydrogen mixed gas having a hydrogen concentration of 0.1 vol% was added. was used to raise the temperature and pressure to 80° C. and 0.8 MPaG, and the polymerization reaction was carried out for 90 minutes. After filtering the obtained polymer, it was vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain 143.2 g of an ethylene-based polymer. At this time, the amount of free polymer measured by the above method was 0.7 wt%. The polymerization activity per solid catalyst was 2,390 g/g-cat. Met. No deposits were found on the walls of the autoclave or the stirring blades after the slurry polymerization. The obtained ethylene-based polymer was melt-kneaded and cooled in the same manner as in Example 1, and the physical properties were measured using the obtained sample as a measurement sample. Table 8 shows the results.

[実施例3]
<固体触媒成分(X)の調製>
実施例1において、成分(A-1)35.0μmolの代わりに成分(A-3)20.5μmolを用い、成分(B-1)15.0μmolを13.7μmolに変更し、成分(A)/成分(B)のモル比を60/40にしたこと以外は実施例1と同様にして固体触媒成分(X-3)のスラリーを調製した。
[Example 3]
<Preparation of solid catalyst component (X)>
In Example 1, 20.5 μmol of component (A-3) was used instead of 35.0 μmol of component (A-1), 15.0 μmol of component (B-1) was changed to 13.7 μmol, and component (A) A slurry of solid catalyst component (X-3) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the molar ratio of /component (B) was 60/40.

<エチレン系重合体の製造>
充分に窒素置換した内容積1リットルの撹拌翼付きSUS製オートクレーブに、窒素雰囲気下、ヘプタン500ミリリットルを添加した後、エチレンを流通させ液相および気相をエチレンで飽和させた。次に、1-ヘキセンを10mL、トリイソブチルアルミニウムを0.375mmol、および前記固体状触媒成分(X-3)を固体分として50mg装入した後、エチレンにて80℃、0.8MPaGに昇温、昇圧し、90分間重合反応を行った。得られたポリマーをろ過後、80℃で10時間真空乾燥することで、エチレン系重合体96.9gを得た。この際、前記方法により測定した遊離ポリマー量は2.4wt%であった。固体触媒当りの重合活性は1,930g/g-cat.であった。スラリー重合後のオートクレーブ壁面や撹拌翼に付着物は認められなかった。得られたエチレン系重合体を実施例1と同様の方法で溶融混練および冷却し、得られた試料を測定用試料として、物性測定を行った。結果を表8に示す。
<Production of ethylene polymer>
After adding 500 ml of heptane in a nitrogen atmosphere to a 1 liter SUS autoclave equipped with a stirring blade that was sufficiently purged with nitrogen, ethylene was passed through to saturate the liquid phase and gas phase with ethylene. Next, 10 mL of 1-hexene, 0.375 mmol of triisobutylaluminum, and 50 mg of the solid catalyst component (X-3) as a solid content were charged, and then heated to 80° C. and 0.8 MPaG with ethylene. , the pressure was increased, and the polymerization reaction was carried out for 90 minutes. After filtering the obtained polymer, it was vacuum-dried at 80° C. for 10 hours to obtain 96.9 g of an ethylene-based polymer. At this time, the amount of free polymer measured by the above method was 2.4 wt %. The polymerization activity per solid catalyst was 1,930 g/g-cat. Met. No deposits were found on the walls of the autoclave or the stirring blades after the slurry polymerization. The obtained ethylene-based polymer was melt-kneaded and cooled in the same manner as in Example 1, and the physical properties were measured using the obtained sample as a measurement sample. Table 8 shows the results.

[比較例1]
<固体触媒成分(X)の調製>
実施例1において、成分(A-1)35.0μmolの代わりに成分(A-4)20.0μmolを用い、成分(B-1)15.0μmolを30.0μmolに変更し、成分(A)/成分(B)のモル比を40/60にしたこと以外は実施例1と同様にして固体触媒成分(X-4)のスラリーを調製した。
[Comparative Example 1]
<Preparation of solid catalyst component (X)>
In Example 1, 20.0 μmol of component (A-4) was used instead of 35.0 μmol of component (A-1), 15.0 μmol of component (B-1) was changed to 30.0 μmol, and component (A) A slurry of solid catalyst component (X-4) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the molar ratio of /component (B) was changed to 40/60.

<エチレン系重合体の製造>
実施例1において、固体触媒成分(X-1)40mgの代わりに固体触媒成分(X-4)60mgを用いたこと以外は、実施例1と同様の方法によりエチレン系重合体87.0gを得た。この際、前記方法により測定した遊離ポリマー量は10.0wt%であった。固体触媒当りの重合活性は1,450g/g-cat.であった。スラリー重合後のオートクレーブ壁面や撹拌翼に付着物が認められた。得られたエチレン系重合体を実施例1と同様の方法で溶融混練および冷却し、得られた試料を測定用試料として、物性測定を行った。結果を表8に示す。
<Production of ethylene polymer>
87.0 g of an ethylene polymer was obtained in the same manner as in Example 1, except that 60 mg of the solid catalyst component (X-4) was used instead of 40 mg of the solid catalyst component (X-1). rice field. At this time, the amount of free polymer measured by the above method was 10.0 wt %. The polymerization activity per solid catalyst was 1,450 g/g-cat. Met. Deposits were found on the autoclave walls and stirring blades after slurry polymerization. The obtained ethylene-based polymer was melt-kneaded and cooled in the same manner as in Example 1, and the physical properties were measured using the obtained sample as a measurement sample. Table 8 shows the results.

[比較例2]
<固体触媒成分(X)の調製>
実施例1において、成分(A-1)35.0μmolの代わりに成分(A-5)46.5μmolを用い、成分(B-1)15.0μmolを3.5μmmolに変更し、成分(A)/成分(B)のモル比を93/7にしたこと以外は実施例1と同様にして固体触媒成分(X-5)のスラリーを調製した。
[Comparative Example 2]
<Preparation of solid catalyst component (X)>
In Example 1, 46.5 μmol of component (A-5) was used instead of 35.0 μmol of component (A-1), 15.0 μmol of component (B-1) was changed to 3.5 μmmol, and component (A) A slurry of solid catalyst component (X-5) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the molar ratio of /component (B) was 93/7.

<エチレン系重合体の製造>
実施例1において、固体触媒成分(X-1)40mgの代わりに固体触媒成分(X-5)100mgを用いたこと以外は、実施例1と同様の方法によりエチレン系重合体27.0gを得た。この際、前記方法により測定した遊離ポリマー量は8.5wt%であった。固体触媒当りの重合活性は270g/g-cat.であった。スラリー重合後のオートクレーブ壁面や撹拌翼に付着物が認められた。得られたエチレン系重合体を実施例1と同様の方法で溶融混練および冷却し、得られた試料を測定用試料として、物性測定を行った。結果を表8に示す。
<Production of ethylene polymer>
27.0 g of an ethylene polymer was obtained in the same manner as in Example 1, except that 100 mg of the solid catalyst component (X-5) was used instead of 40 mg of the solid catalyst component (X-1). rice field. At this time, the amount of free polymer measured by the above method was 8.5 wt %. The polymerization activity per solid catalyst was 270 g/g-cat. Met. Deposits were found on the autoclave walls and stirring blades after slurry polymerization. The obtained ethylene-based polymer was melt-kneaded and cooled in the same manner as in Example 1, and the physical properties were measured using the obtained sample as a measurement sample. Table 8 shows the results.

Figure 0007132059000040
Figure 0007132059000040

実施例1~3で得られたエチレン系重合体は、比較例1,2で得られたエチレン系重合体と比較して低分子量であるにもかかわらず、顕著に遊離ポリマー量が少なかった。また、オートクレーブ壁面や撹拌翼への付着物が認められず、ファウリングも抑えられていた。即ち、本発明の実施例1~3では、長鎖分岐量が多く成形加工性に優れるエチレン系重合体を、比較例1,2より安定的に製造可能であることは明らかである。 Although the ethylene polymers obtained in Examples 1 to 3 had lower molecular weights than the ethylene polymers obtained in Comparative Examples 1 and 2, the amount of free polymer was remarkably small. In addition, no deposits were observed on the autoclave wall surface or stirring blades, and fouling was suppressed. That is, it is clear that in Examples 1 to 3 of the present invention, it is possible to stably produce an ethylene polymer having a large amount of long-chain branching and excellent moldability as compared to Comparative Examples 1 and 2.

Claims (11)

下記成分(A)、下記成分(B)、下記成分(C)および固体状担体(S)を含んでなるオレフィン重合用触媒。
成分(A):下記一般式(1)で表される遷移金属化合物;
Figure 0007132059000041
[式(1)中、Mは周期表第4族遷移金属原子であり、
nはMの価数を満たす1~4の整数であり、
Xは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アニオン配位子、または孤立電子対で配位可能な中性配位子であり;該アニオン配位子はハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基または共役ジエン系誘導体基であり;nが2以上の場合、複数存在するXは、互いに同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよく、
1は周期表第14族遷移原子であり、
1~R4 は、すべて水素原子であるか、または、R 1 およびR 4 は水素原子であり、R 2 とR 3 は、互いに結合して置換基を有していてもよい環を形成しており、
7~R12は、それぞれ独立に水素原子または炭素数1~20の炭化水素基であり、
5は水素原子、炭素数1~20の炭化水素基、炭素数1~20の酸素含有基、置換フラン環または置換チオフェン環であり、
6は、直鎖状部分の炭素数が3~10の飽和炭化水素基または直鎖状部分の炭素数が3~10の末端不飽和炭化水素基であり
7~R10の隣接した置換基は、互いに結合して置換基を有していてもよい環を形成してもよく、
11とR12は、互いに結合してQ1を含む環を形成してもよく、該環は置換基を有していてもよい。]
成分(B):下記一般式(2)で表される遷移金属化合物;
Figure 0007132059000042
[式(2)中、Mは周期表第4族遷移金属原子であり、
Xは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基およびリン含有基から選ばれる原子または基であり、
2は炭素数1~20の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基から選ばれる基であり、
13~R24は、それぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、硫黄含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基から選ばれ、隣接する2個の基が連結して環を形成してもよい。]
成分(C):下記一般式(3)~(5)で表される有機金属化合物(c-1)、有機アルミニウムオキシ化合物(c-2)、ならびに、成分(A)および成分(B)と反応してイオン対を形成する化合物(c-3)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物;
a mAl(ORb)npq ・・・(3)
[式(3)中、RaおよびRbは、それぞれ独立に炭素原子数が1~15の炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0<m≦3、nは0≦n<3、pは0≦p<3、qは0≦q<3の数であり、かつm+n+p+q=3である。]
a AlRa 4 ・・・(4)
[式(4)中、MaはLi、NaまたはKを示し、Raは炭素原子数が1以上15以下の炭化水素基を示す。]
a rbb st ・・・(5)
[式(5)中、RaおよびRbは、それぞれ独立に炭素原子数が1以上15以下の炭化水素基を示し、MbはMg、ZnおよびCdから選ばれ、Xはハロゲン原子を示し、rは0<r≦2、sは0≦s≦1、tは0≦t≦1であり、かつr+s+t=2である。]
An olefin polymerization catalyst comprising the following component (A), the following component (B), the following component (C) and a solid carrier (S).
Component (A): a transition metal compound represented by the following general formula (1);
Figure 0007132059000041
[In the formula (1), M is a Group 4 transition metal atom of the periodic table,
n is an integer from 1 to 4 that satisfies the valence of M,
X is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an anionic ligand, or a neutral ligand capable of coordinating with a lone pair; group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group, a phosphorus-containing group, a boron-containing group, an aluminum-containing group, or a conjugated diene derivative group; when n is 2 or more, a plurality of Xs may be the same or different. may be combined with each other to form a ring,
Q 1 is a Group 14 transition atom of the periodic table,
all of R 1 to R 4 are hydrogen atoms, or R 1 and R 4 are hydrogen atoms, and R 2 and R 3 are bonded to each other to form a ring optionally having a substituent; and
R 7 to R 12 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms,
R 5 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an oxygen-containing group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted furan ring or a substituted thiophene ring ;
R 6 is a saturated hydrocarbon group having a linear portion of 3 to 10 carbon atoms or a terminal unsaturated hydrocarbon group having a linear portion of 3 to 10 carbon atoms ,
Adjacent substituents of R 7 to R 10 may be combined to form an optionally substituted ring,
R 11 and R 12 may combine with each other to form a ring containing Q 1 , and the ring may have a substituent. ]
Component (B): a transition metal compound represented by the following general formula (2);
Figure 0007132059000042
[In the formula (2), M is a Group 4 transition metal atom of the periodic table,
each X is an atom or group independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, a halogen-containing hydrocarbon group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group and a phosphorus-containing group;
Q 2 is a group selected from a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, a germanium-containing group and a tin-containing group;
R 13 to R 24 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, a halogen-containing group, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group, a boron-containing group, a sulfur-containing group, a phosphorus-containing group, a silicon-containing group, a germanium-containing group and a tin Two adjacent groups selected from the containing groups may combine to form a ring. ]
Component (C): an organometallic compound (c-1) represented by the following general formulas (3) to (5), an organoaluminum oxy compound (c-2), and components (A) and (B) at least one compound selected from the group consisting of compounds (c-3) that react to form an ion pair;
R a m Al (OR b ) n H p X q (3)
[In the formula (3), R a and R b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, X represents a halogen atom, m is 0 < m ≤ 3, n is 0 ≤ n<3, p is 0≤p<3, q is a number satisfying 0≤q<3, and m+n+p+q=3. ]
M a AlR a 4 (4)
[In Formula (4), M a represents Li, Na or K, and R a represents a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms. ]
R a r M b R b s X t (5)
[In formula (5), R a and R b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, M b is selected from Mg, Zn and Cd, and X represents a halogen atom; , r is 0<r≦2, s is 0≦s≦1, t is 0≦t≦1, and r+s+t=2. ]
前記式(1)において、Mがジルコニウム原子またはハフニウム原子であり、Xが水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20の炭化水素基、ケイ素含有基または酸素含有基であり、Q1が炭素原子またはケイ素原子であることを特徴とする請求項1に記載のオレフィン重合用触媒。 In the above formula (1), M is a zirconium atom or a hafnium atom, X is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a silicon-containing group or an oxygen-containing group, and Q 1 is a carbon atom. or a silicon atom. 前記式(1)において、Q1がケイ素原子であることを特徴とする請求項2に記載のオレフィン重合用触媒。 3. The olefin polymerization catalyst according to claim 2, wherein Q1 in the formula ( 1 ) is a silicon atom. 前記式(1)において、R1~R4がすべて水素原子であり、R5およびR8~R12が、それぞれ独立に水素原子または炭素数1~10の炭化水素基であることを特徴とする請求項3に記載のオレフィン重合用触媒。 In the above formula (1), R 1 to R 4 are all hydrogen atoms, and R 5 and R 8 to R 12 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. The catalyst for olefin polymerization according to claim 3. 前記式(1)において、R 1 およびR 4 は水素原子であり、R 2 とR 3 は、互いに結合してシクロペンタジエニル環部分に縮環する、置換基を有していてもよい5~8員環の不飽和炭化水素基として環を形成しており、R 5 およびR 8 ~R 12 が、それぞれ独立に水素原子または炭素数1~10の炭化水素基であることを特徴とする請求項3に記載のオレフィン重合用触媒 In the above formula (1), R 1 and R 4 are hydrogen atoms, and R 2 and R 3 may have substituents that are bonded to each other and fused to the cyclopentadienyl ring portion. characterized in that it forms a ring as an unsaturated hydrocarbon group having up to 8 members, and R 5 and R 8 to R 12 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. The catalyst for olefin polymerization according to claim 3 . 前記式(1)において、R7~R10がすべて水素原子であることを特徴とする請求項4または5に記載のオレフィン重合用触媒。 6. The olefin polymerization catalyst according to claim 4 , wherein R 7 to R 10 in the formula (1) are all hydrogen atoms. 固体状担体(S)、成分(C)および成分(A)から形成される固体状触媒成分と、固体状担体(S)、成分(C)および成分(B)から形成される固体状触媒成分とからなる請求項1~のいずれか1項に記載のオレフィン重合用触媒。 A solid catalyst component formed from the solid carrier (S), the component (C) and the component (A), and a solid catalyst component formed from the solid carrier (S), the component (C) and the component (B) The olefin polymerization catalyst according to any one of claims 1 to 6 , comprising: 固体状担体(S)、成分(A)、成分(B)および成分(C)より形成される固体状触媒成分からなることを特徴とする請求項1~のいずれか1項に記載のオレフィン重合用触媒。 The olefin according to any one of claims 1 to 6 , characterized in that it consists of a solid catalyst component formed from a solid support (S), component (A), component (B) and component (C). Polymerization catalyst. 成分(C)が有機アルミニウムオキシ化合物であり、固体状担体(S)が多孔質酸化物であることを特徴とする請求項1~のいずれか1項に記載のオレフィン重合用触媒。 7. The olefin polymerization catalyst according to any one of claims 1 to 6 , wherein component (C) is an organoaluminumoxy compound and solid support (S) is a porous oxide. 請求項1~のいずれか1項に記載のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを単独で重合する、または、エチレンと炭素数3以上20以下のオレフィンとを共重合することを特徴とするエチレン系重合体の製造方法。 In the presence of the olefin polymerization catalyst according to any one of claims 1 to 9 , ethylene is polymerized alone, or ethylene and an olefin having 3 to 20 carbon atoms are copolymerized. A method for producing an ethylene-based polymer. 前記エチレン系重合体が、エチレンと炭素数4以上20以下のα-オレフィンとの共重合体であって、かつ、下記要件(1)~(4)を満たすことを特徴とする請求項10に記載のエチレン系重合体の製造方法:
(1)190℃における2.16kg荷重でのメルトフローレート(MFR)が0.1g/10分以上30g/10分以下である;
(2)密度が875kg/m3以上970kg/m3以下である;
(3)200℃におけるゼロせん断粘度〔η0(P)〕と、GPC-粘度検出器法(GPC-VISCO)により測定された重量平均分子量の6.8乗(Mw6.8)の比(η0/Mw6.8)が0.03×10-30以上7.5×10-30以下である;
(4)135℃デカリン中で測定した極限粘度〔[η](dl/g)〕と、GPC-粘度検出器法(GPC-VISCO)により測定された重量平均分子量の0.776乗(Mw0.776)の比([η]/Mw0.776)が0.90×10-4以上1.65×10-4以下である。
According to claim 10 , the ethylene-based polymer is a copolymer of ethylene and an α-olefin having 4 to 20 carbon atoms and satisfies the following requirements (1) to (4). A method for producing the described ethylene-based polymer:
(1) Melt flow rate (MFR) at 190° C. with a load of 2.16 kg is 0.1 g/10 min or more and 30 g/10 min or less;
(2) Density is 875 kg/m 3 or more and 970 kg/m 3 or less;
( 3 ) The ratio ( η 0 /Mw 6.8 ) is 0.03×10 −30 or more and 7.5×10 −30 or less;
(4) Intrinsic viscosity [[η] (dl/g)] measured in decalin at 135°C and the weight average molecular weight measured by the GPC-viscosity detector method (GPC-VISCO) to the power of 0.776 (Mw 0.776 ) ratio ([η]/Mw 0.776 ) is 0.90×10 −4 or more and 1.65×10 −4 or less.
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