JP2019059934A - Olefin polymerization catalyst and ethylene based polymer production method using that olefin polymerization catalyst - Google Patents

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Abstract

To provide an olefin polymerization catalyst and an ethylene based polymer production method using the catalyst, which allow stable production of an ethylene based polymer that has many long chain branches and is excellent in moldability and mechanical strength.SOLUTION: The olefin polymerization catalyst comprises a component (A) being a transition metal compound represented by formula (1), a component (B) being a transition metal compound represented by formula (2), a component (C) being a specific organometallic compound, and a solid carrier (S).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、オレフィン重合用触媒および該触媒を用いたエチレン系重合体の製造方法に関し、さらに詳しくは、長鎖分岐が多く、かつ、成形加工性および機械的強度に優れたエチレン系重合体を安定的に製造することができるオレフィン重合用触媒および該触媒を用いたエチレン系重合体の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a catalyst for olefin polymerization and a method for producing an ethylene-based polymer using the catalyst, and more specifically, an ethylene-based polymer having many long-chain branches and excellent in moldability and mechanical strength. The present invention relates to a catalyst for olefin polymerization that can be stably produced and a method for producing an ethylene-based polymer using the catalyst.

チーグラー触媒やメタロセン触媒で得られるエチレン系重合体は、一般に溶融張力が小さく、高圧法低密度ポリエチレンよりも成形加工性に劣る傾向があることは周知である。
この問題を解決するため、チーグラー触媒やメタロセン触媒を用いて得られるエチレン系重合体に高圧法低密度ポリエチレンをブレンドする方法(例えば特許文献1)や、特定のメタロセン触媒を用いて長鎖分岐型エチレン系重合体を製造する方法(例えば特許文献2)が開示されている。
It is well known that ethylene polymers obtained with Ziegler catalysts and metallocene catalysts generally have low melt tension and tend to be inferior in moldability to high pressure low density polyethylene.
In order to solve this problem, a method of blending high-pressure low-density polyethylene with ethylene polymer obtained by using Ziegler catalyst or metallocene catalyst (for example, Patent Document 1) or long chain branching type using a specific metallocene catalyst A method (for example, Patent Document 2) for producing an ethylene-based polymer is disclosed.

また、特定の架橋型メタロセン化合物2種を用いることにより、数多くの長鎖分岐が導入され、成形加工性に優れるエチレン系重合体を製造できることが報告されている(例えば特許文献3,4)。さらに、そのようなエチレン系重合体も含め、重合中のファウリング等の発生を低減できる製造方法についても開示されている(特許文献5〜7)。   Moreover, it is reported that many long-chain branches are introduce | transduced by using two types of specific bridge | crosslinking-type metallocene compounds, and the ethylene-type polymer which is excellent in molding processability can be manufactured (for example, patent documents 3 and 4). Furthermore, it is disclosed also about the manufacturing method which can reduce generation | occurrence | production of fouling etc. during superposition | polymerization including such an ethylene polymer (patent documents 5-7).

メタロセン化合物2種を用いた長鎖分岐型エチレン系重合体の製造方法については、特許文献8〜11でも報告されている。   Patent Documents 8 to 11 also report on a method for producing a long chain branched ethylene polymer using two metallocene compounds.

特開平7−026079号公報JP-A-7-026079 特開平4−213309号公報JP-A-4-213309 特開2006−233208号公報JP, 2006-233208, A 特開2009−144148号公報JP, 2009-144148, A 特開2013−224408号公報JP, 2013-224408, A 特開2015−160858号公報JP, 2015-160858, A 特開2015−160859号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-160859 特表2007−520597号公報Japanese Patent Application Publication No. 2007-520597 特開2010−043152号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-043152 特開2011−006674号公報JP, 2011-006674, A 特開2012−214780号公報JP 2012-214780 A

前記の特許文献1〜4、8〜11には、重合反応時のファウリング発生等の問題点の開示は無い。また、本発明者らが検討したところ、特許文献5〜7の技術を以てしても、スラリー重合後の溶液が白濁するとともに、重合時のポリマー濃度を高めていくとファウリングにより運転継続が困難になる場合があるという問題点が見出された。   The above-mentioned Patent Documents 1 to 4 and 8 to 11 do not disclose any problems such as the occurrence of fouling during the polymerization reaction. Moreover, when the present inventors examined, even with the techniques of Patent Documents 5 to 7, the solution after slurry polymerization becomes cloudy, and if the polymer concentration during polymerization is increased, it is difficult to continue the operation due to fouling. The problem that it might become was discovered.

本発明者らが更に検討を行った結果、この原因は、スラリー重合後の溶液中に析出する遊離ポリマー量が多くなることにより、溶液が白濁し、重合槽へのファウリングが起こると推察するに至った。   As a result of further investigations by the present inventors, it is presumed that the cause is that the solution becomes turbid due to an increase in the amount of free polymer deposited in the solution after slurry polymerization, and fouling to the polymerization tank occurs. It came to

本発明は、上記のような新たな課題に鑑みてなされたものであって、長鎖分岐が多く、かつ、成形加工性および機械的強度に優れたエチレン系重合体を、安定的に製造することができるオレフィン重合用触媒および該触媒を用いたエチレン系重合体の製造方法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above-mentioned new problems, and stably produces an ethylene-based polymer having many long-chain branches and excellent in moldability and mechanical strength. It is an object of the present invention to provide a catalyst for olefin polymerization that can be used and a method for producing an ethylene-based polymer using the catalyst.

本発明者らは、上記状況に鑑み鋭意研究した結果、ある特定の構造の架橋型メタロセン化合物2種を同一の重合系で併用することで、長鎖分岐が多く、かつ、成形加工性および機械的強度に優れたエチレン系重合体を与えると言う特性を保持しつつ、スラリー重合後の溶液中に析出する遊離ポリマー量が減少し、重合槽へのファウリングを抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies conducted in view of the above situation, the inventors of the present invention found that long chain branching is large, and moldability and machineability by using two types of bridged metallocene compounds having a specific structure in combination in the same polymerization system. It has been found that the amount of free polymer deposited in a solution after slurry polymerization can be reduced while maintaining the property of providing an ethylene polymer excellent in the mechanical strength, and fouling to the polymerization tank can be suppressed, and the present invention It came to complete.

すなわち、本発明のオレフィン重合用触媒は、下記成分(A)、下記成分(B)、下記成分(C)および固体状担体(S)を含んでなる。
成分(A):下記一般式(1)で表される遷移金属化合物;
That is, the catalyst for olefin polymerization of the present invention comprises the following component (A), the following component (B), the following component (C) and a solid carrier (S).
Component (A): transition metal compound represented by the following general formula (1);

Figure 2019059934
[式(1)中、Mは周期表第4族遷移金属原子であり、
nはMの価数を満たす1〜4の整数であり、
Xは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アニオン配位子、または孤立電子対で配位可能な中性配位子であり;該アニオン配位子はハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基または共役ジエン系誘導体基であり;nが2以上の場合、複数存在するXは、互いに同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよく、
1は周期表第14族遷移原子であり、
1〜R4およびR7〜R12は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜40の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、窒素含有基または硫黄含有基であり、
5は水素原子、炭素数1〜40の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、窒素含有基、硫黄含有基、または、窒素、酸素および硫黄から選ばれる原子を少なくとも1つ含む母骨格を5員環とする、置換基を有していてもよい複素環式芳香族基であり、
6は、直鎖状部分の炭素数が3〜10の飽和炭化水素基または直鎖状部分の炭素数が3〜10の末端不飽和炭化水素基であり、
1とR2およびR3とR4は、互いに結合して置換基を有していてもよい飽和環を形成してもよく、
2とR3、およびR7〜R10の隣接した置換基は、互いに結合して置換基を有していてもよい環を形成してもよく、
11とR12は、互いに結合してQ1を含む環を形成してもよく、該環は置換基を有していてもよい。]
成分(B):下記一般式(2)で表される遷移金属化合物;
Figure 2019059934
[In the formula (1), M is a group 4 transition metal atom of the periodic table,
n is an integer of 1 to 4 satisfying the valence of M,
X is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an anionic ligand, or a neutral ligand that can be coordinated with a lone electron pair; the anionic ligand is a halogen-containing group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group A sulfur-containing group, a nitrogen-containing group, a phosphorus-containing group, a boron-containing group, an aluminum-containing group or a conjugated diene-based derivative group; and when n is 2 or more, plural Xs may be the same or different from each other Well, they may be combined with each other to form a ring,
Q 1 is a group 14 transition atom in the periodic table,
R 1 to R 4 and R 7 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group or a sulfur-containing group ,
R 5 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, or at least one atom selected from nitrogen, oxygen and sulfur A heteroaromatic group which may have a substituent, which has a 5-membered ring as a mother skeleton containing
R 6 is a saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms in the linear portion or a terminal unsaturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms in the linear portion,
R 1 and R 2 and R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a saturated ring which may have a substituent,
Adjacent substituents of R 2 and R 3 and R 7 to R 10 may combine with each other to form a ring which may have a substituent,
R 11 and R 12 may be bonded to each other to form a ring containing Q 1, and the ring may have a substituent. ]
Component (B): transition metal compound represented by the following general formula (2);

Figure 2019059934
[式(2)中、Mは周期表第4族遷移金属原子であり、
Xは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基およびリン含有基から選ばれる原子または基であり、
2は炭素数1〜20の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基から選ばれる基であり、
13〜R24は、それぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、硫黄含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基から選ばれ、隣接する2個の基が連結して環を形成してもよい。]
成分(C):下記一般式(3)〜(5)で表される有機金属化合物(c−1)、有機アルミニウムオキシ化合物(c−2)、ならびに、成分(A)および成分(B)と反応してイオン対を形成する化合物(c−3)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物;
a mAl(ORb)npq ・・・(3)
[式(3)中、RaおよびRbは、それぞれ独立に炭素原子数が1〜15の炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0<m≦3、nは0≦n<3、pは0≦p<3、qは0≦q<3の数であり、かつm+n+p+q=3である。]
a AlRa 4 ・・・(4)
[式(4)中、MaはLi、NaまたはKを示し、Raは炭素原子数が1以上15以下の炭化水素基を示す。]
a rbb st ・・・(5)
[式(5)中、RaおよびRbは、それぞれ独立に炭素原子数が1以上15以下の炭化水素基を示し、MbはMg、ZnおよびCdから選ばれ、Xはハロゲン原子を示し、rは0<r≦2、sは0≦s≦1、tは0≦t≦1であり、かつr+s+t=2である。]
Figure 2019059934
[In the formula (2), M is a group 4 transition metal atom of the periodic table,
X is an atom or a group independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, a halogen-containing hydrocarbon group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group and a phosphorus-containing group
Q 2 is a group selected from a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, a germanium-containing group and a tin-containing group,
R 13 to R 24 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, a halogen containing group, an oxygen containing group, a nitrogen containing group, a boron containing group, a sulfur containing group, a phosphorus containing group, a silicon containing group, a germanium containing group and tin Two adjacent groups selected from the contained groups may be linked to form a ring. ]
Component (C): an organic metal compound (c-1) represented by the following general formulas (3) to (5), an organic aluminum oxy compound (c-2), and a component (A) and a component (B) At least one compound selected from the group consisting of compounds (c-3) which react to form an ion pair;
R a m Al (OR b) n H p X q ··· (3)
[In Formula (3), R a and R b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, X represents a halogen atom, m is 0 <m ≦ 3, n is 0 ≦ n <3, p is 0 ≦ p <3, q is a number of 0 ≦ q <3, and m + n + p + q = 3. ]
M a Al R a 4 (4)
Wherein (4), M a represents a Li, Na or K, R a represents a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms. ]
R a r M b R b s X t (5)
[In Formula (5), R a and R b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, M b is selected from Mg, Zn and Cd, and X is a halogen atom , R is 0 <r ≦ 2, s is 0 ≦ s ≦ 1, t is 0 ≦ t ≦ 1, and r + s + t = 2. ]

また、本発明のエチレン系重合体の製造方法は、本発明のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを単独で重合する、または、エチレンと炭素数3以上20以下のオレフィンとを共重合することを特徴とする。   In the method for producing an ethylene-based polymer according to the present invention, ethylene is polymerized alone in the presence of the catalyst for olefin polymerization according to the present invention, or ethylene is copolymerized with an olefin having 3 to 20 carbon atoms. It is characterized by

本発明の製造方法で得られるエチレン系重合体は、エチレンと炭素数4以上20以下のα−オレフィンとの共重合体であって、かつ、下記要件(1)〜(4)を満たすことが好ましい。
(1)190℃における2.16kg荷重でのメルトフローレート(MFR)が0.1g/10分以上30g/10分以下である;
(2)密度が875kg/m3以上970kg/m3以下である;
(3)200℃におけるゼロせん断粘度〔η0(P)〕と、GPC-粘度検出器法(GPC-VISCO)により測定された重量平均分子量の6.8乗(Mw6.8)の比(η0/Mw6.8)が0.03×10-30以上7.5×10-30以下である;
(4)135℃デカリン中で測定した極限粘度〔[η](dl/g)〕と、GPC-粘度検出器法(GPC-VISCO)により測定された重量平均分子量の0.776乗(Mw0.776)の比([η]/Mw0.776)が0.90×10-4以上1.65×10-4以下である。
The ethylene-based polymer obtained by the production method of the present invention is a copolymer of ethylene and an α-olefin having 4 to 20 carbon atoms, and satisfies the following requirements (1) to (4) preferable.
(1) The melt flow rate (MFR) at a load of 2.16 kg at 190 ° C. is 0.1 g / 10 min or more and 30 g / 10 min or less;
(2) The density is 875 kg / m 3 or more and 970 kg / m 3 or less;
(3) zero shear viscosity at 200 ° C. and [eta 0 (P)], GPC-ratio (eta 0 of viscosity detector method 6.8 square of weight average molecular weight determined by (GPC-VISCO) (Mw 6.8) / Mw 6.8 ) is not less than 0.03 × 10 -30 and not more than 7.5 × 10 -30 ;
(4) Intrinsic viscosity [[η] (dl / g)] measured in 135 ° C. decalin and weight-average molecular weight measured by GPC-viscosity detector method (GPC-VISCO): 0.776 (Mw 0.776) Ratio ([η] / Mw 0.776 ) is 0.90 × 10 −4 or more and 1.65 × 10 −4 or less.

本発明のオレフィン重合用触媒を用いることにより、スラリー重合後の溶液中に析出する遊離ポリマー量が減少し、重合槽へのファウリングを抑制できるため、長鎖分岐が多く、かつ、成形加工性および機械的強度に優れたエチレン系重合体を安定的に製造することができる。   By using the catalyst for olefin polymerization of the present invention, the amount of free polymer deposited in the solution after slurry polymerization can be reduced, and fouling to the polymerization tank can be suppressed, so there are many long-chain branches, and molding processability And ethylene polymer excellent in mechanical strength can be manufactured stably.

以下、本発明に係るオレフィン重合用触媒および該触媒を用いたエチレン系重合体の製造方法について詳細に説明する。なお、本発明において「重合」という語は、単独重合のみならず、共重合を包含した意味で用いられることがあり、「重合体」という語は単独重合体のみならず、共重合体を包含した意味で用いられることがある。   Hereinafter, a catalyst for olefin polymerization according to the present invention and a method for producing an ethylene-based polymer using the catalyst will be described in detail. In the present invention, the term "polymerization" is sometimes used to mean not only homopolymerization but also copolymerization, and the term "polymer" includes not only homopolymers but also copolymers. May be used in the same sense.

[オレフィン重合用触媒]
本発明のオレフィン重合用触媒は、後述する成分(A)、成分(B)、成分(C)および固体状担体(S)を含んでなる。
[Catalyst for olefin polymerization]
The olefin polymerization catalyst of the present invention comprises the component (A), the component (B), the component (C) and the solid carrier (S) described later.

<成分(A)>
成分(A)は、下記一般式(1)で表される遷移金属化合物(以下「遷移金属化合物(1)」ともいう。)である。本発明のオレフィン重合用触媒は、遷移金属化合物(1)を少なくとも1種含む。すなわち、成分(A)として、遷移金属化合物(1)を複数種用いてもよい。
<Component (A)>
Component (A) is a transition metal compound (hereinafter also referred to as “transition metal compound (1)”) represented by the following general formula (1). The olefin polymerization catalyst of the present invention contains at least one transition metal compound (1). That is, as the component (A), plural kinds of transition metal compounds (1) may be used.

Figure 2019059934
前記式(1)において、Mは周期表第4族遷移金属原子であり、具体的にはチタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子であり、好ましくはジルコニウム原子またはハフニウム原子であり、より好ましくはジルコニウム原子である。
Figure 2019059934
In the above formula (1), M is a Group 4 transition metal atom of the periodic table, specifically a titanium atom, a zirconium atom or a hafnium atom, preferably a zirconium atom or a hafnium atom, more preferably a zirconium atom It is.

前記式(1)において、nはMの価数を満たす1〜4の整数であり、好ましくは2である。
前記式(1)において、Xは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アニオン配位子、または孤立電子対で配位可能な中性配位子であり;該アニオン配位子はハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基または共役ジエン系誘導体基であり;nが2以上の場合、複数存在するXは、互いに同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Xは、好ましくは水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、ケイ素含有基または酸素含有基であり、より好ましくはハロゲン原子または炭素数1〜10の炭化水素基である。
In the formula (1), n is an integer of 1 to 4 satisfying the valence of M, and is preferably 2.
In the above formula (1), X is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an anionic ligand, or a neutral ligand that can be coordinated with a lone electron pair; the anionic ligand contains a halogen A silicon-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group, a phosphorus-containing group, a boron-containing group, an aluminum-containing group, or a conjugated diene-based derivative group; And may be the same as or different from each other, and may be combined with each other to form a ring. X is preferably a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a silicon-containing group or an oxygen-containing group, and more preferably a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.

前記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、特に好ましくは塩素である。
前記炭化水素基としては、例えば、
メチル基、エチル基、1−プロピル基、1−ブチル基、1−ペンチル基、1−ヘキシル基、1−ヘプチル基、1−オクチル基、iso−プロピル基、sec−ブチル基(ブタン−2−イル基)、tert−ブチル基(2−メチルプロパン−2−イル基)、iso−ブチル基(2−メチルプロピル基)、ペンタン−2−イル基、2−メチルブチル基、iso−ペンチル基(3−メチルブチル基)、ネオペンチル基(2,2−ジメチルプロピル基)、シアミル基(1,2−ジメチルプロピル基)、iso−ヘキシル基(4−メチルペンチル基)、2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、テキシル基(2,3−ジメチルブタ−2−イル基)、4,4−ジメチルペンチル基などの直鎖状または分岐状のアルキル基;
ビニル基、アリル基、プロペニル基(プロパ−1−エン−1−イル基)、iso−プロペニル基(プロパ−1−エン−2−イル基)、アレニル基(プロパ−1,2−ジエン−1−イル基)、ブタ−3−エン−1−イル基、クロチル基(ブタ−2−エン−1−イル基)、ブタ−3−エン−2−イル基、メタリル基(2−メチルアリル基)、ブタ−1,3−ジエニル基、ペンタ−4−エン−1−イル基、ペンタ−3−エン−1−イル基、ペンタ−2−エン−1−イル基、iso−ペンテニル基(3−メチルブタ−3−エン−1−イル基)、2−メチルブタ−3−エン−1−イル基、ペンタ−4−エン−2−イル基、プレニル基(3−メチルブタ−2−エン−1−イル基)などの直鎖状または分岐状のアルケニル基もしくは不飽和二重結合含有基;
エチニル基、プロパ−2−イン−1−イル基、プロパルギル基(プロパ−1−イン−1−イル基)などの直鎖状または分岐状のアルキニル基もしくは不飽和三重結合含有基;
ベンジル基、2−メチルベンジル基、4−メチルベンジル基、2,4,6−トリメチルベンジル基、3,5−ジメチルベンジル基、クミニル基(4−iso−プロピルベンジル基)、2,4,6−トリ−iso−プロピルベンジル基、4−tert−ブチルベンジル基、3,5−ジ−tert−ブチルベンジル基、1−フェニルエチル基、ベンズヒドリル基(ジフェニルメチル基)などの芳香族含有直鎖状または分岐状のアルキル基および不飽和二重結合含有基;
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘプタトリエニル基、ノルボルニル基、ノルボルネニル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基などの環状飽和炭化水素基;
フェニル基、トリル基(メチルフェニル基)、キシリル基(ジメチルフェニル基)、メシチル基(2,4,6−トリメチルフェニル基)、クメニル基(iso−プロピルフェニル基)、ジュリル基(2,3,5,6−テトラメチルフェニル基)、2,6−ジ−iso−プロピルフェニル基、2,4,6−トリ−iso−プロピルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、3,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ter−フェニル基、ビナフチル基、アセナフタレニル基、フェナントリル基、アントラセニル基、ピレニル基、フェロセニル基などの芳香族置換基
が挙げられる。
Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine, and chlorine is particularly preferable.
Examples of the hydrocarbon group include
Methyl group, ethyl group, 1-propyl group, 1-butyl group, 1-pentyl group, 1-hexyl group, 1-heptyl group, 1-octyl group, iso-propyl group, sec-butyl group Group), tert-butyl group (2-methylpropan-2-yl group), iso-butyl group (2-methylpropyl group), pentan-2-yl group, 2-methylbutyl group, iso-pentyl group (3 -Methylbutyl group), neopentyl group (2,2-dimethylpropyl group), cyanyl group (1,2-dimethylpropyl group), iso-hexyl group (4-methylpentyl group), 2,2-dimethylbutyl group, 2 And a linear or branched alkyl group such as 3, 3-dimethylbutyl group, 3, 3-dimethylbutyl group, thexyl group (2,3-dimethylbut-2-yl group), 4, 4-dimethylpentyl group, etc. Kill group;
Vinyl group, allyl group, propenyl group (prop-1-en-1-yl group), iso-propenyl group (prop-1-en-2-yl group), allenyl group (prop-1,2-diene-1) -Yl group), but-3-en-1-yl group, crotyl group (but-2-en-1-yl group), but-3-en-2-yl group, methallyl group (2-methylallyl group) , Buta-1,3-dienyl group, penta-4-en-1-yl group, penta-3-en-1-yl group, penta-2-en-1-yl group, iso-pentenyl group (3- Methylbut-3-en-1-yl group), 2-methylbut-3-en-1-yl group, penta-4-en-2-yl group, prenyl group (3-methylbut-2-en-1-yl group) A straight or branched alkenyl group or unsaturated double bond-containing group such as
A linear or branched alkynyl group or unsaturated triple bond-containing group such as ethynyl group, prop-2-yn-1-yl group, propargyl group (prop-1-yn-1-yl group);
Benzyl, 2-methylbenzyl, 4-methylbenzyl, 2,4,6-trimethylbenzyl, 3,5-dimethylbenzyl, cuminyl (4-iso-propylbenzyl), 2,4,6 Aromatic-containing straight chain such as -tri-iso-propylbenzyl group, 4-tert-butylbenzyl group, 3,5-di-tert-butylbenzyl group, 1-phenylethyl group, benzhydryl group (diphenylmethyl group) Or branched alkyl groups and unsaturated double bond-containing groups;
Cyclic saturated hydrocarbon groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cycloheptatrienyl group, norbornyl group, norbornenyl group, 1-adamantyl group, 2-adamantyl group;
Phenyl group, tolyl group (methylphenyl group), xylyl group (dimethylphenyl group), mesityl group (2,4,6-trimethylphenyl group), cumenyl group (iso-propylphenyl group), duryl group (2,3, 5,6-Tetramethylphenyl group), 2,6-di-iso-propylphenyl group, 2,4,6-tri-iso-propylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 3,5-di- Aromatic substituents such as tert-butylphenyl group, naphthyl group, biphenyl group, ter-phenyl group, binaphthyl group, acenaphthalenyl group, phenanthryl group, anthracenyl group, pyrenyl group, ferrocenyl group and the like can be mentioned.

前記炭化水素基の中でも、メチル基、iso−ブチル基、ネオペンチル基、シアミル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基が好ましい。   Among the above-mentioned hydrocarbon groups, methyl group, iso-butyl group, neopentyl group, cyanyl group, benzyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group and cumenyl group are preferable.

前記ハロゲン含有基としては、例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニル基、ヘキサクロロアンチモン酸アニオンが挙げられる。   Examples of the halogen-containing group include fluoromethyl group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, pentafluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, fluorophenyl group, difluorophenyl group and trifluorophenyl group. Tetrafluorophenyl group, pentafluorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, bistrifluoromethylphenyl group, hexachloroantimonate anion.

前記ハロゲン含有基の中でも、ペンタフルオロフェニル基が好ましい。
前記ケイ素含有基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−iso−プロピルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、tert−ブチルジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基、トリス(トリメチルシリル)シリル基、トリメチルシリルメチル基などが挙げられる。
Among the halogen-containing groups, pentafluorophenyl group is preferable.
As the silicon-containing group, for example, trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri-iso-propylsilyl group, diphenylmethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, tert-butyldiphenylsilyl group, triphenylsilyl group, tris ( Examples include trimethylsilyl) silyl group and trimethylsilylmethyl group.

前記ケイ素含有基の中でも、トリメチルシリルメチル基が好ましい。
前記酸素含有基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、アリルオキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、iso−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ベンジルオキシ基、メトキシメトキシ基、フェノキシ基、2,6−ジメチルフェノキシ基、2,6−ジ−iso−プロピルフェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチルフェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、2,4,6−トリ−iso−プロピルフェノキシ基、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、過塩素酸アニオン、過ヨウ素酸アニオンが挙げられる。
Among the above-mentioned silicon-containing groups, a trimethylsilylmethyl group is preferable.
Examples of the oxygen-containing group include, for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, allyloxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, iso-butoxy group, tert-butoxy group, benzyloxy group , Methoxymethoxy, phenoxy, 2,6-dimethylphenoxy, 2,6-di-iso-propylphenoxy, 2,6-di-tert-butylphenoxy, 2,4,6-trimethylphenoxy 2,4,6-tri-iso-propyl phenoxy group, acetoxy group, pivaloyloxy group, benzoyloxy group, trifluoroacetoxy group, perchlorate anion, and periodate anion.

前記酸素含有基の中でも、メトキシ基、エトキシ基、iso−プロポキシ基、tert−ブトキシ基が好ましい。
前記硫黄含有基としては、例えば、メシル基(メタンスルフォニル基)、フェニルスルホニル基、トシル基(p−トルエンスルホニル基)、トリフリル基(トリフルオロメタンスルホニル基)、ノナフリル基(ノナフルオロブタンスルホニル基)、メシラート基(メタンスルホナート基)、トシラート基(p−トルエンスルホナート基)、トリフラート基(トリフルオロメタンスルホナート基)、ノナフラート基(ノナフルオロブタンスルホナート基)が挙げられる。
Among the above-mentioned oxygen-containing groups, methoxy group, ethoxy group, iso-propoxy group and tert-butoxy group are preferable.
Examples of the sulfur-containing group include mesyl group (methanesulfonyl group), phenylsulfonyl group, tosyl group (p-toluenesulfonyl group), tolylyl group (trifluoromethanesulfonyl group), nonafyl group (nonafluorobutanesulfonyl group), Mesylate group (methanesulfonate group), tosylate group (p-toluenesulfonate group), triflate group (trifluoromethanesulfonate group), nonaflate group (nonafluorobutanesulfonate group) can be mentioned.

前記硫黄含有基の中でも、トリフラート(トリフルオロメタンスルホナート)が好ましい。
前記窒素含有基としては、例えば、アミノ基、シアノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アリルアミノ基、ジアリルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリル基、ピロリル基、ビストリフリルイミド基などが挙げられる。
Among the above-mentioned sulfur-containing groups, triflate (trifluoromethanesulfonate) is preferable.
Examples of the nitrogen-containing group include amino, cyano, methylamino, dimethylamino, ethylamino, diethylamino, diethylamino, allylamino, diallylamino, benzylamino, dibenzylamino, pyrrolidinyl and piperidinyl. Groups, morpholinyl groups, pyrrolyl groups, bis-triflylimide groups and the like.

前記窒素含有基の中でも、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピロリル基、ビストリフリルイミド基が好ましい。
前記リン含有基としては、例えば、ヘキサフルオロリン酸アニオンが挙げられる。
Among the nitrogen-containing groups, dimethylamino group, diethylamino group, pyrrolidinyl group, pyrrolyl group and bistriflylimide group are preferable.
Examples of the phosphorus-containing group include hexafluorophosphate anion.

前記ホウ素含有基としては、例えば、テトラフルオロホウ酸アニオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸アニオン、(メチル)(トリス(ペンタフルオロフェニル))ホウ酸アニオン、(ベンジル)(トリス(ペンタフルオロフェニル))ホウ酸アニオン、テトラキス((3,5−ビストリフルオロメチル)フェニル)ホウ酸アニオン、BR4(Rはそれぞれ独立に水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基またはハロゲン原子等を示す。)で表される基が挙げられる。
前記アルミニウム含有基としては、例えば、
Examples of the boron-containing group include tetrafluoroborate anion, tetrakis (pentafluorophenyl) borate anion, (methyl) (tris (pentafluorophenyl)) borate anion, (benzyl) (tris (pentafluorophenyl) ) Borate anion, tetrakis ((3,5-bistrifluoromethyl) phenyl) borate anion, BR 4 (R independently represents hydrogen, an alkyl group, an aryl group which may have a substituent, a halogen atom, etc. And the group represented by
Examples of the aluminum-containing group include

Figure 2019059934
で表される四員環(Mは、前記一般式(1)中のMを表す。)を形成可能な、AlR4(Rは水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基またはハロゲン原子等を示す。)で表される基が挙げられる。
Figure 2019059934
AlR 4 (R is hydrogen, an alkyl group, an aryl group which may have a substituent, or the like) capable of forming a four-membered ring represented by (where M represents M in the general formula (1)) And the like.

前記共役ジエン系誘導体基としては、例えば、1,3−ブタジエニル基、イソプレニル基(2−メチル−1,3−ブタジエニル基)、ピペリレニル基(1,3−ペンタジエニル基)、2,4−ヘキサジエニル基、1,4−ジフェニル−1,3−ペンタジエニル基、シクロペンタジエニル基などが挙げられる。   Examples of the conjugated diene derivative group include a 1,3-butadienyl group, an isoprenyl group (2-methyl-1,3-butadienyl group), a piperidinyl group (1,3-pentadienyl group), and a 2,4-hexadienyl group. And 1,4-diphenyl-1,3-pentadienyl group, cyclopentadienyl group and the like.

孤立電子対で配位可能な中性配位子としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類、トリエチルアミン、ジエチルアミンなどのアミン類、ピリジン、ピコリン、ルチジン、オキサゾリン、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、チオフェンなどの複素環式化合物、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−tert−ブチルホスフィンなどの有機リン化合物が挙げられる。   Examples of neutral ligands that can be coordinated with lone electron pairs include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, and 1,2-dimethoxyethane, amines such as triethylamine and diethylamine, pyridine, picoline, lutidine, Heterocyclic compounds such as oxazolines, oxazoles, thiazoles, imidazoles and thiophenes, and organic phosphorus compounds such as triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine and tri-tert-butylphosphine.

前記式(1)において、Q1は周期表第14族遷移原子であり、具体的には炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子またはスズ原子であり、好ましくは炭素原子またはケイ素原子であり、特に好ましくはケイ素原子である。 In the above formula (1), Q 1 is a group 14 transition atom of the periodic table, specifically a carbon atom, a silicon atom, a germanium atom or a tin atom, preferably a carbon atom or a silicon atom, particularly preferably Is a silicon atom.

前記式(1)において、R1〜R4およびR7〜R12は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜40の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、窒素含有基または硫黄含有基であり、R5は水素原子、炭素数1〜40の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、窒素含有基、硫黄含有基、または、窒素、酸素および硫黄から選ばれる原子を少なくとも1つ含む母骨格を5員環とする、置換基を有していてもよい複素環式芳香族基である。 In Formula (1), R 1 to R 4 and R 7 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, or a nitrogen-containing group R 5 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, or nitrogen, oxygen and It is a heterocyclic aromatic group which may have a substituent and which has a 5-membered ring as a mother skeleton containing at least one atom selected from sulfur.

1〜R5およびR7〜R12としての前記炭素数1〜40の炭化水素基は、好ましくは、炭素数1〜20の炭化水素基(但し、芳香族炭化水素基を除く)または炭素数6〜40の芳香族炭化水素基である。前記の炭素数1〜20の炭化水素基は、好ましくは炭素数1〜20の脂肪族または脂環族の炭化水素基である。炭素数1〜20の炭化水素基には、アリールアルキル基の様な芳香族構造を有する置換基も含まれる。 The hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms as R 1 to R 5 and R 7 to R 12 is preferably a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms (with the exception of aromatic hydrocarbon groups) or carbon It is several 6-40 aromatic hydrocarbon group. The above-mentioned hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is preferably an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. The hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms also includes a substituent having an aromatic structure such as an arylalkyl group.

前記炭素数1〜40の炭化水素基としては、例えば、
メチル基、エチル基、1−プロピル基、1−ブチル基、1−ペンチル基、1−ヘキシル基、1−ヘプチル基、1−オクチル基、1−ノニル基、1−デカニル基、1−ウンデカニル基、1−ドデカニル基、1−エイコサニル基、iso−プロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、iso−ブチル基、ペンタン−2−イル基、2−メチルブチル基、iso−ペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基(1,1−ジメチルプロピル基)、シアミル基、ペンタン−3−イル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、iso−ヘキシル基、1,1−ジメチルブチル基(2−メチルペンタン−2−イル基)、3−メチルペンタン−2−イル基、4−メチルペンタン−2−イル基、2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、テキシル基、3−メチルペンタン−3−イル基、3,3−ジメチルブタ−2−イル基、ヘキサン−3−イル基、2−メチルペンタン−3−イル基、ヘプタン−4−イル基、2,4−ジメチルペンタン−2−イル基、3−エチルペンタン−3−イル基、4,4−ジメチルペンチル基、4−メチルヘプタン−4−イル基、4−プロピルヘプタン−4−イル基、2,3,3−トリメチルブタン−2−イル基、2,4,4−トリメチルペンタン−2−イル基などの炭素原子数が1〜40の直鎖状または分岐状のアルキル基;
ビニル基、アリル基、プロペニル基、iso−プロペニル基、アレニル基、ブタ−3−エン−1−イル基、クロチル基、ブタ−3−エン−2−イル基、メタリル基、ペンタ−4−エン−1−イル基、ペンタ−3−エン−1−イル基、ペンタ−2−エン−1−イル基、iso−ペンテニル基、2−メチルブタ−3−エン−1−イル基、ペンタ−4−エン−2−イル基、プレニル基、2−メチル−ブタ−2−エン−1−イル基、ペンタ−3−エン−2−イル基、2−メチル−ブタ−3−エン−2−イル基、ペンタ−1−エン−3−イル基、ペンタ−2,4−ジエン−1−イル基、ペンタ−1,3−ジエン−1−イル基、ペンタ−1,4−ジエン−3−イル基、iso−プレニル基(2−メチル−ブタ−1,3−ジエン−1−イル基)、ペンタ−2,4−ジエン−2−イル基、ヘキサ−5−エン−1−イル基、ヘキサ−4−エン−1−イル基、ヘキサ−3−エン−1−イル基、ヘキサ−2−エン−1−イル基、4−メチル−ペンタ−4−エン−1−イル基、3−メチル−ペンタ−4−エン−1−イル基、2−メチル−ペンタ−4−エン−1−イル基、ヘキサ−5−エン−2−イル基、4−メチル−ペンタ−3−エン−1−イル基、3−メチル−ペンタ−3−エン−1−イル基、2,3−ジメチル−ブタ−2−エン−1−イル基、2−メチルペンタ−4−エン−2−イル基、3−エチルペンタ−1−エン−3−イル基、ヘキサ−3,5−ジエン−1−イル基、ヘキサ−2,4−ジエン−1−イル基、4−メチルペンタ−1,3−ジエン−1−イル基、2,3−ジメチル−ブタ−1,3−ジエン−1−イル基、ヘキサ−1,3,5−トリエン−1−イル基、2−(シクロペンタジエニル)プロパン−2−イル基、2−(シクロペンタジエニル)エチル基などの炭素原子数が2〜40の直鎖状または分岐状のアルケニル基もしくは不飽和二重結合含有基;
エチニル基、プロパ−2−イン−1−イル基、プロパルギル基、ブタ−1−イン−1−イル基、ブタ−2−イン−1−イル基、ブタ−3−イン−1−イル基、ペンタ−1−イン−1−イル基、ペンタ−2−イン−1−イル基、ペンタ−3−イン−1−イル基、ペンタ−4−イン−1−イル基、3−メチル−ブタ−1−イン−1−イル基、ペンタ−3−イン−2−イル基、2−メチル−ブタ−3−イン−1−イル基、ペンタ−4−イン−2−イル基、ヘキサ−1−イン−1−イル基、3,3−ジメチル−ブタ−1−イン−1−イル基、2−メチル−ペンタ−3−イン−2−イル基、2,2−ジメチル−ブタ−3−イン−1−イル基、ヘキサ−4−イン−1−イル基、ヘキサ−5−イン−1−イル基などの炭素原子数が2〜40の直鎖状または分岐状のアルキニル基もしくは不飽和三重結合含有基;
ベンジル基、2−メチルベンジル基、4−メチルベンジル基、2,4,6−トリメチルベンジル基、3,5−ジメチルベンジル基、クミニル基、2,4,6−トリ−iso−プロピルベンジル基、4−tert−ブチルベンジル基、3,5−ジ−tert−ブチルベンジル基、1−フェニルエチル基、ベンズヒドリル基、クミル基(2−フェニルプロパン−2−イル基)、2−(4−メチルフェニル)プロパン−2−イル基、2−(3,5−ジメチルフェニル)プロパン−2−イル基、2−(4−tert−ブチルフェニル)プロパン−2−イル基、2−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)プロパン−2−イル基、3−フェニルペンタン−3−イル基、4−フェニルヘプタ−1,6−ジエン−4−イル基、1,2,3−トリフェニルプロパン−2−イル基、1,1−ジフェニルエチル基、1,1−ジフェニルプロピル基、1,1−ジフェニル−ブタ−3−エン−1−イル基、1,1,2−トリフェニルエチル基、トリチル基(トリフェニルメチル基)、トリ−(4−メチルフェニル)メチル基、2−フェニルエチル基、スチリル基(2−フェニルビニル基)、2−(2−メチルフェニル)エチル基、2−(4−メチルフェニル)エチル基、2−(2,4,6−トリメチルフェニル)エチル基、2−(3,5−ジメチルフェニル)エチル基、2−(2,4,6−トリ−iso−プロピルフェニル)エチル基、2−(4−tert−ブチルフェニル)エチル基、2−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)エチル基、2−メチル−1−フェニルプロパン−2−イル基、3−フェニルプロピル基、シンナミル基(3−フェニルアリル基)、ネオフィル基(2−メチル−2−フェニルプロピル基)、3−メチル−3−フェニルブチル基、2−メチル−4−フェニルブタン−2−イル基、シクロペンタジエニルジフェニルメチル基、2−(1−インデニル)プロパン−2−イル基、(1−インデニル)ジフェニルメチル基、2−(1−インデニル)エチル基、2−(テトラヒドロ−1−インダセニル)プロパン−2−イル基、(テトラヒドロ−1−インダセニル)ジフェニルメチル基、2−(テトラヒドロ−1−インダセニル)エチル基、2−(1−ベンゾインデニル)プロパン−2−イル基、(1−ベンゾインデニル)ジフェニルメチル基、2−(1−ベンゾインデニル)エチル基、2−(9−フルオレニル)プロパン−2−イル基、(9−フルオレニル)ジフェニルメチル基、2−(9−フルオレニル)エチル基、2−(1−アズレニル)プロパン−2−イル基、(1−アズレニル)ジフェニルメチル基、2−(1−アズレニル)エチル基などの炭素原子数が7〜40の芳香族含有直鎖状または分岐状のアルキル基および不飽和二重結合含有基;
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、n−ブチルシクロペンタジエニル基、n−ブチル−メチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、1−メチルシクロペンチル基、1−アリルシクロペンチル基、1−ベンジルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキサジエニル基、1−メチルシクロヘキシル基、1−アリルシクロヘキシル基、1−ベンジルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘプテニル基、シクロヘプタトリエニル基、1−メチルシクロヘプチル基、1−アリルシクロヘプチル基、1−ベンジルシクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロオクテニル基、シクロオクタジエニル基、シクロオクタトリエニル基、1−メチルシクロオクチル基、1−アリルシクロオクチル基、1−ベンジルシクロオクチル基、4−シクロヘキシル−tert−ブチル基、ノルボルニル基、ノルボルネニル基、ノルボルナジエニル基、2−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2−イル基、7−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−7−イル基、ビシクロ[2.2.2]オクタン−1−イル基、ビシクロ[2.2.2]オクタン−2−イル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、1−(2−メチルアダマンチル)、1−(3−メチルアダマンチル)、1−(4−メチルアダマンチル)、1−(2−フェニルアダマンチル)、1−(3−フェニルアダマンチル)、1−(4−フェニルアダマンチル)、1−(3,5−ジメチルアダマンチル)、1−(3,5,7−トリメチルアダマンチル)、1−(3,5,7−トリフェニルアダマンチル)、ペンタレニル基、インデニル基、フルオレニル基、インダセニル基、テトラヒドロインダセニル基、ベンゾインデニル基、アズレニル基などの炭素原子数が3〜40の環状飽和および不飽和炭化水素基;
フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、ジュリル基、2,6−ジ−iso−プロピルフェニル基、2,4,6−トリ−iso−プロピルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、3,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、アリルフェニル基、(ブタ−3−エン−1−イル)フェニル基、(ブタ−2−エン−1−イル)フェニル基、メタリルフェニル基、プレニルフェニル基、4−アダマンチルフェニル基、3,5−ジ−アダマンチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ter−フェニル基、ビナフチル基、アセナフタレニル基、フェナントリル基、アントラセニル基、ピレニル基、フェロセニル基などの炭素原子数が6〜40の芳香族置換基
などが挙げられる。
As said C1-C40 hydrocarbon group, for example,
Methyl group, ethyl group, 1-propyl group, 1-butyl group, 1-pentyl group, 1-hexyl group, 1-heptyl group, 1-octyl group, 1-nonyl group, 1-decanyl group, 1-undecanyl group 1-dodecanyl group, 1-eicosanyl group, iso-propyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, iso-butyl group, pentan-2-yl group, 2-methylbutyl group, iso-pentyl group, neopentyl group Tert-pentyl group (1,1-dimethylpropyl group), cyanyl group, pentan-3-yl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, iso-hexyl group, 1,1-dimethylbutyl group 2-methylpentan-2-yl group), 3-methylpentan-2-yl group, 4-methylpentan-2-yl group, 2,2-dimethylbutyl group, 2,3-di A butyl butyl group, a 3,3-dimethylbutyl group, a texyl group, a 3-methylpentan-3-yl group, a 3,3-dimethylbut-2-yl group, a hexane-3-yl group, a 2-methylpentane-3- group Yl, heptane-4-yl, 2,4-dimethylpentan-2-yl, 3-ethylpentan-3-yl, 4,4-dimethylpentyl, 4-methylheptane-4-yl, Straight-chain having 1 to 40 carbon atoms, such as 4-propylheptan-4-yl group, 2,3,3-trimethylbutan-2-yl group, 2,4,4-trimethylpentan-2-yl group Or branched alkyl groups;
Vinyl, allyl, propenyl, iso-propenyl, allenyl, but-3-en-1-yl, crotyl, but-3-en-2-yl, methallyl, penta-4-ene -1-yl group, penta-3-en-1-yl group, penta-2-en-1-yl group, iso-pentenyl group, 2-methylbut-3-en-1-yl group, penta-4- En-2-yl group, prenyl group, 2-methyl-but-2-en-1-yl group, penta-3-en-2-yl group, 2-methyl-but-3-en-2-yl group , Penta-1-en-3-yl group, penta-2,4-diene-1-yl group, penta-1,3-dien-1-yl group, penta-1,4-dien-3-yl group , Iso-prenyl group (2-methyl-buta-1,3-dien-1-yl group), penta-2 4-dien-2-yl group, hexa-5-en-1-yl group, hexa-4-en-1-yl group, hexa-3-en-1-yl group, hexa-2-en-1-yl group Yl, 4-methyl-pent-4-en-1-yl, 3-methyl-pent-4-en-1-yl, 2-methyl-pent-4-en-1-yl, hexa- 5-en-2-yl group, 4-methyl-pent-3-en-1-yl group, 3-methyl-pent-3-en-1-yl group, 2,3-dimethyl-but-2-ene group -1-yl group, 2-methylpent-4-en-2-yl group, 3-ethylpent-1-en-3-yl group, hexa-3,5-dien-1-yl group, hexa-2,4 Dien-1-yl group, 4-methylpenta-1,3-dien-1-yl group, 2,3-dimethyl-buta-1,3-die Carbon atom such as -1-yl group, hexa-1,3,5-trien-1-yl group, 2- (cyclopentadienyl) propan-2-yl group, 2- (cyclopentadienyl) ethyl group 2 to 40 linear or branched alkenyl groups or unsaturated double bond-containing groups;
Ethynyl group, prop-2-yn-1-yl group, propargyl group, but-1-yn-1-yl group, but-2-yn-1-yl group, but-3-yn-1-yl group, Penta-1-yn-1-yl group, penta-2-yn-1-yl group, penta-3-yn-1-yl group, penta-4-yn-1-yl group, 3-methyl-buta- 1-in-1-yl group, penta-3-yn-2-yl group, 2-methyl-but-3-yn-1-yl group, penta-4-yn-2-yl group, hexa-1- In-1-yl group, 3,3-dimethyl-but-1-yn-1-yl group, 2-methyl-pent-3-yn-2-yl group, 2,2-dimethyl-but-3-yne A linear or branched group having 2 to 40 carbon atoms, such as -1-yl, hexa-4-yn-1-yl and hexa-5-yn-1-yl; Jo alkynyl group or unsaturated triple bond-containing group;
Benzyl group, 2-methylbenzyl group, 4-methylbenzyl group, 2,4,6-trimethylbenzyl group, 3,5-dimethylbenzyl group, cuminyl group, 2,4,6-tri-iso-propylbenzyl group, 4-tert-butylbenzyl group, 3,5-di-tert-butylbenzyl group, 1-phenylethyl group, benzhydryl group, cumyl group (2-phenylpropan-2-yl group), 2- (4-methylphenyl) ) Propan-2-yl group, 2- (3,5-dimethylphenyl) propan-2-yl group, 2- (4-tert-butylphenyl) propan-2-yl group, 2- (3,5-diethyl group) -Tert-Butylphenyl) propan-2-yl group, 3-phenylpentan-3-yl group, 4-phenylhepta-1,6-dien-4-yl group, 1,2,3-triphenyl group Lopan-2-yl group, 1,1-diphenylethyl group, 1,1-diphenylpropyl group, 1,1-diphenyl-but-3-en-1-yl group, 1,1,2-triphenylethyl group , Trityl group (triphenylmethyl group), tri- (4-methylphenyl) methyl group, 2-phenylethyl group, styryl group (2-phenylvinyl group), 2- (2-methylphenyl) ethyl group, 2- (4-methylphenyl) ethyl group, 2- (2,4,6-trimethylphenyl) ethyl group, 2- (3,5-dimethylphenyl) ethyl group, 2- (2,4,6-tri-iso-) Propylphenyl) ethyl group, 2- (4-tert-butylphenyl) ethyl group, 2- (3,5-di-tert-butylphenyl) ethyl group, 2-methyl-1-phenylpropan-2-yl group, 3- -Phenylpropyl group, cinnamyl group (3-phenylallyl group), neophyl group (2-methyl-2-phenylpropyl group), 3-methyl-3-phenylbutyl group, 2-methyl-4-phenylbutan-2-yl Group, cyclopentadienyldiphenylmethyl group, 2- (1-indenyl) propan-2-yl group, (1-indenyl) diphenylmethyl group, 2- (1-indenyl) ethyl group, 2- (tetrahydro-1-yl) Indacenyl) propan-2-yl group, (tetrahydro-1-indacenyl) diphenylmethyl group, 2- (tetrahydro-1-indacenyl) ethyl group, 2- (1-benzoindenyl) propan-2-yl group, (1 -Benzoindenyl) diphenylmethyl group, 2- (1-benzoindenyl) ethyl group, 2- (9-fluorenyl) propane -2-yl group, (9-fluorenyl) diphenylmethyl group, 2- (9-fluorenyl) ethyl group, 2- (1-azulenyl) propan-2-yl group, (1-azulenyl) diphenylmethyl group, 2- Aromatic-containing linear or branched alkyl group having 7 to 40 carbon atoms, such as (1-azulenyl) ethyl group, and unsaturated double bond-containing group;
Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclopentenyl group, cyclopentadienyl group, dimethylcyclopentadienyl group, n-butylcyclopentadienyl group, n-butyl-methylcyclopentadienyl group, tetramethylcyclo Pentadienyl group, 1-methylcyclopentyl group, 1-allylcyclopentyl group, 1-benzylcyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclohexenyl group, cyclohexadienyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-allylcyclohexyl group, 1-benzyl Cyclohexyl group, cycloheptyl group, cycloheptenyl group, cycloheptatrienyl group, 1-methylcycloheptyl group, 1-allylcycloheptyl group, 1-benzylcycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclooctenyl group, cyclic Octadienyl group, cyclooctatrienyl group, 1-methylcyclooctyl group, 1-allylcyclooctyl group, 1-benzylcyclooctyl group, 4-cyclohexyl-tert-butyl group, norbornyl group, norbornenyl group, norbornadienyl group , 2-methylbicyclo [2.2.1] heptan-2-yl group, 7-methylbicyclo [2.2.1] heptane-7-yl group, bicyclo [2.2.2] octan-1-yl group Group, bicyclo [2.2.2] octan-2-yl group, 1-adamantyl group, 2-adamantyl group, 1- (2-methyladamantyl), 1- (3-methyladamantyl), 1- (4-) Methyladamantyl), 1- (2-phenyladamantyl), 1- (3-phenyladamantyl), 1- (4-phenyladamantyl), 1- 3,5-Dimethyladamantyl), 1- (3,5,7-trimethyladamantyl), 1- (3,5,7-triphenyladamantyl), pentalenyl group, indenyl group, fluorenyl group, indasenyl group, tetrahydroindase Cyclic saturated and unsaturated hydrocarbon groups having 3 to 40 carbon atoms, such as nyl, benzoindenyl and azulenyl groups;
Phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, duryl group, 2,6-di-iso-propylphenyl group, 2,4,6-tri-iso-propylphenyl group, 4-tert-butylphenyl Group, 3,5-di-tert-butylphenyl group, allylphenyl group, (but-3-en-1-yl) phenyl group, (but-2-en-1-yl) phenyl group, methallylphenyl group , Prenylphenyl group, 4-adamantylphenyl group, 3,5-di-adamantylphenyl group, naphthyl group, biphenyl group, ter-phenyl group, binaphthyl group, acenaphthalenyl group, phenanthryl group, anthracenyl group, pyrenyl group, ferrocenyl group, etc. And an aromatic substituent having 6 to 40 carbon atoms, and the like.

前記炭素原子数が1〜40の直鎖状または分岐状のアルキル基の中でも、メチル基、エチル基、1−プロピル基、1−ブチル基、1−ペンチル基、1−ヘキシル基、1−ヘプチル基、1−オクチル基、iso−プロピル基、sec−ブチル基(ブタン−2−イル基)、tert−ブチル基、iso−ブチル基、iso−ペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、ペンタン−3−イル基、iso−ヘキシル基、1,1−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、テキシル基、3−メチルペンタン−3−イル基、ヘプタン−4−イル基、2,4−ジメチルペンタン−2−イル基、3−エチルペンタン−3−イル基、4,4−ジメチルペンチル基、4−メチルヘプタン−4−イル基、4−プロピルヘプタン−4−イル基、2,4,4−トリメチルペンタン−2−イル基、などが好ましく、メチル基、エチル基、1−プロピル基、1−ブチル基、1−ペンチル基、1−ヘキシル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基、ネオペンチル基、2,4−ジメチルペンタン−2−イル基、2,4,4−トリメチルペンタン−2−イル基がより好ましい。   Among the linear or branched alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, methyl group, ethyl group, 1-propyl group, 1-butyl group, 1-pentyl group, 1-hexyl group, 1-heptyl group Group, 1-octyl group, iso-propyl group, sec-butyl group (butane-2-yl group), tert-butyl group, iso-butyl group, iso-pentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, pentane 3-yl, iso-hexyl, 1,1-dimethylbutyl, 3,3-dimethylbutyl, texyl, 3-methylpentan-3-yl, heptane-4-yl, 2,4- Dimethylpentan-2-yl group, 3-ethylpentan-3-yl group, 4,4-dimethylpentyl group, 4-methylheptan-4-yl group, 4-propylheptan-4-yl group, 2,4 4-trimethylpentan-2-yl group, etc. is preferable, and methyl group, ethyl group, 1-propyl group, 1-butyl group, 1-pentyl group, 1-hexyl group, iso-propyl group, tert-butyl group, Neopentyl group, 2,4-dimethylpentan-2-yl group and 2,4,4-trimethylpentan-2-yl group are more preferable.

前記炭素原子数が2〜40の直鎖状または分岐状のアルケニル基もしくは不飽和二重結合含有基の中でも、ビニル基、アリル基、ブタ−3−エン−1−イル基、クロチル基、メタリル基、ペンタ−4−エン−1−イル基、プレニル基、ペンタ−1,4−ジエン−3−イル基、ヘキサ−5−エン−1−イル基、2−メチルペンタ−4−エン−2−イル基、2−(シクロペンタジエニル)プロパン−2−イル基、2−(シクロペンタジエニル)エチル基などが好ましく、ビニル基、アリル基、ブタ−3−エン−1−イル基、ペンタ−4−エン−1−イル基、プレニル基、ヘキサ−5−エン−1−イル基がより好ましい。   Among the linear or branched alkenyl group having a carbon number of 2 to 40 or the unsaturated double bond-containing group, vinyl group, allyl group, but-3-en-1-yl group, crotyl group, methallyl Group, penta-4-en-1-yl group, prenyl group, penta-1,4-dien-3-yl group, hexa-5-en-1-yl group, 2-methylpent-4-ene-2- group Preferred are vinyl, 2- (cyclopentadienyl) propan-2-yl, 2- (cyclopentadienyl) ethyl and the like, and vinyl, allyl, but-3-en-1-yl, penta The 4-en-1-yl group, the prenyl group and the hexa-5-en-1-yl group are more preferable.

前記炭素原子数が2〜40の直鎖状または分岐状のアルキニル基もしくは不飽和三重結合含有基の中でも、エチニル基、プロパ−2−イン−1−イル基、プロパルギル基、ブタ−2−イン−1−イル基、ブタ−3−イン−1−イル基、ペンタ−3−イン−1−イル基、ペンタ−4−イン−1−イル基、3−メチル−ブタ−1−イン−1−イル基、3,3−ジメチル−ブタ−1−イン−1−イル基、ヘキサ−4−イン−1−イル基、ヘキサ−5−イン−1−イル基などが好ましく、プロパ−2−イン−1−イル基、プロパルギル基、ブタ−2−イン−1−イル基、ブタ−3−イン−1−イル基がより好ましい。   Among the linear or branched alkynyl group having a carbon number of 2 to 40 or the unsaturated triple bond-containing group, ethynyl group, prop-2-yn-1-yl group, propargyl group, but-2-yne -1-yl group, but-3-yn-1-yl group, penta-3-yn-1-yl group, penta-4-yn-1-yl group, 3-methyl-but-1-yne-1 -Yl group, 3,3-dimethyl-but-1-yn-1-yl group, hexa-4-yn-1-yl group, hexa-5-yn-1-yl group and the like, and prop-2- In-1-yl, propargyl, but-2-yn-1-yl and but-3-yn-1-yl are more preferred.

前記炭素原子数が7〜40の芳香族含有直鎖状または分岐状のアルキル基および不飽和二重結合含有基の中でも、ベンジル基、2−メチルベンジル基、4−メチルベンジル基、2,4,6−トリメチルベンジル基、3,5−ジメチルベンジル基、クミニル基、2,4,6−トリ−iso−プロピルベンジル基、4−tert−ブチルベンジル基、3,5−ジ−tert−ブチルベンジル基、ベンズヒドリル基、クミル基、1,1−ジフェニルエチル基、トリチル基、2−フェニルエチル基、2−(4−メチルフェニル)エチル基、2−(2,4,6−トリメチルフェニル)エチル基、2−(3,5−ジメチルフェニル)エチル基、2−(2,4,6−トリ−iso−プロピルフェニル)エチル基、2−(4−tert−ブチルフェニル)エチル基、2−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)エチル基、スチリル基、2−メチル−1−フェニルプロパン−2−イル基、3−フェニルプロピル基、シンナミル基、ネオフィル基、シクロペンタジエニルジフェニルメチル基、2−(1−インデニル)プロパン−2−イル基、(1−インデニル)ジフェニルメチル基、2−(1−インデニル)エチル基、2−(9−フルオレニル)プロパン−2−イル基、(9−フルオレニル)ジフェニルメチル基、2−(9−フルオレニル)エチル基などが好ましく、ベンジル基、ベンズヒドリル基、クミル基、1,1−ジフェニルエチル基、トリチル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、2−シンナミル基(3−フェニルアリル)がより好ましい。   Among the above-mentioned aromatic-containing linear or branched alkyl group having 7 to 40 carbon atoms and the unsaturated double bond-containing group, benzyl group, 2-methylbenzyl group, 4-methylbenzyl group, 2,4 , 6-trimethylbenzyl, 3,5-dimethylbenzyl, cuminyl, 2,4,6-tri-iso-propylbenzyl, 4-tert-butylbenzyl, 3,5-di-tert-butylbenzyl Group, benzhydryl group, cumyl group, 1,1-diphenylethyl group, trityl group, 2-phenylethyl group, 2- (4-methylphenyl) ethyl group, 2- (2,4,6-trimethylphenyl) ethyl group , 2- (3,5-dimethylphenyl) ethyl group, 2- (2,4,6-tri-iso-propylphenyl) ethyl group, 2- (4-tert-butylphenyl) ethyl group Group, 2- (3,5-di-tert-butylphenyl) ethyl group, styryl group, 2-methyl-1-phenylpropan-2-yl group, 3-phenylpropyl group, cinnamyl group, neophyl group, cyclopenta Dienyldiphenylmethyl, 2- (1-indenyl) propan-2-yl, (1-indenyl) diphenylmethyl, 2- (1-indenyl) ethyl, 2- (9-fluorenyl) propane-2- Group, (9-fluorenyl) diphenylmethyl group, 2- (9-fluorenyl) ethyl group, etc. are preferable, and benzyl group, benzhydryl group, cumyl group, 1,1-diphenylethyl group, trityl group, 2-phenylethyl group More preferred are 3-phenylpropyl and 2-cinnamyl (3-phenylallyl).

前記炭素原子数が3〜40の環状飽和および不飽和炭化水素基の中でも、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、1−メチルシクロペンチル基、1−アリルシクロペンチル基、1−ベンジルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、1−メチルシクロヘキシル基、1−アリルシクロヘキシル基、1−ベンジルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘプテニル基、シクロヘプタトリエニル基、1−メチルシクロヘプチル基、1−アリルシクロヘプチル基、1−ベンジルシクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロオクテニル基、シクロオクタジエニル基、4−シクロヘキシル−tert−ブチル基、ノルボルニル基、2−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2−イル基、ビシクロ[2.2.2]オクタン−1−イル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、ペンタレニル基、インデニル基、フルオレニル基などが好ましく、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、1−メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、1−メチルシクロヘキシル基、1−アダマンチル基がより好ましい。   Among the cyclic saturated and unsaturated hydrocarbon groups having 3 to 40 carbon atoms, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclopentenyl, cyclopentadienyl, 1-methylcyclopentyl, 1-allylcyclopentyl Group, 1-benzylcyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclohexenyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-allylcyclohexyl group, 1-benzylcyclohexyl group, cycloheptyl group, cycloheptenyl group, cycloheptatrienyl group, 1-methylcyclo group Heptyl group, 1-allylcycloheptyl group, 1-benzylcycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclooctenyl group, cyclooctadienyl group, 4-cyclohexyl-tert-butyl group, norbornyl group, 2-methylbicyclo [2.2 1) Heptan-2-yl group, bicyclo [2.2.2] octan-1-yl group, 1-adamantyl group, 2-adamantyl group, pentarenyl group, indenyl group, fluorenyl group etc. are preferred, and cyclopentyl group, cyclo The pentenyl group, 1-methylcyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclohexenyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-adamantyl group are more preferable.

前記炭素原子数が6〜40の芳香族置換基の中でも、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、2,6−ジ−iso−プロピルフェニル基、2,4,6−トリ−iso−プロピルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、3,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、アリルフェニル基、プレニルフェニル基、4−アダマンチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ter−フェニル基、ビナフチル基、フェナントリル基、アントラセニル基、フェロセニル基などが好ましく、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、2,6−ジ−iso−プロピルフェニル基、2,4,6−トリ−iso−プロピルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、3,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、アリルフェニル基、4−アダマンチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、アントラセニル基がより好ましい。   Among the above-mentioned aromatic substituents having 6 to 40 carbon atoms, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, 2,6-di-iso-propylphenyl group, 2,4,6-tri -Iso-propylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 3,5-di-tert-butylphenyl group, allylphenyl group, prenylphenyl group, 4-adamantylphenyl group, naphthyl group, biphenyl group, ter-phenyl Group, binaphthyl group, phenanthryl group, anthracenyl group, ferrocenyl group and the like are preferable, and phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, 2,6-di-iso-propylphenyl group, 2,4,6- Tri-iso-propylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 3,5-di-tert-butylphenyne Group, allyl phenyl group, 4-adamantyl phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, phenanthryl group, anthracenyl group are more preferable.

1〜R5およびR7〜R12としての前記ハロゲン含有基としては、例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、ドデカフルオロヘキシル基、6,6,6−トリフルオロヘキシル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ジ−tert−ブチル−フルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニル基、トリフルオロメトキシフェニル基、ビストリフルオロメトキシフェニル基、トリフルオロメチルチオフェニル基、ビストリフルオロメチルチオフェニル基、フルオロビフェニル基、ジフルオロビフェニル基、トリフルオロビフェニル基、テトラフルオロビフェニル基、ペンタフルオロビフェニル基、ジ−tert−ブチル−フルオロビフェニル基、トリフルオロメチルビフェニル基、ビストリフルオロメチルビフェニル基、トリフルオロメトキシビフェニル基、ビストリフルオロメトキシビフェニル基、トリフルオロメチルジメチルシリル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、フルオロフェノキシ基、ジフルオロフェノキシ基、トリフルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、ジ−tert−ブチル−フルオロフェノキシ基、トリフルオロメチルフェノキシ基、ビストリフルオロメチルフェノキシ基、トリフルオロメトキシフェノキシ基、ビストリフルオロメトキシフェノキシ基、ジフルオロメチレンジオキシフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニルイミノメチル基、トリフルオロメチルチオ基、などが挙げられる。 Examples of the halogen-containing group as R 1 to R 5 and R 7 to R 12 include, for example, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, pentafluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group , Heptafluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, nonafluorobutyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, dodecafluorohexyl group, 6,6,6-trifluorohexyl group, chlorophenyl Group, fluorophenyl group, difluorophenyl group, trifluorophenyl group, tetrafluorophenyl group, pentafluorophenyl group, di-tert-butyl-fluorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, bistrifluoromethylphenyl group, trifluoromethoxy Phenyl group, bis trifluoromethoxy , Trifluoromethylthiophenyl, bistrifluoromethylthiophenyl, fluorobiphenyl, difluorobiphenyl, trifluorobiphenyl, tetrafluorobiphenyl, pentafluorobiphenyl, di-tert-butyl-fluorobiphenyl, trifluoro Methylbiphenyl group, bistrifluoromethylbiphenyl group, trifluoromethoxybiphenyl group, bistrifluoromethoxybiphenyl group, trifluoromethyldimethylsilyl group, trifluoromethoxy group, pentafluoroethoxy group, fluorophenoxy group, difluorophenoxy group, trifluorophenoxy group Group, pentafluorophenoxy group, di-tert-butyl-fluorophenoxy group, trifluoromethylphenoxy group, bistrif The trifluoromethyl group, the trifluoromethoxy phenoxy group, the bis trifluoro methoxy phenoxy group, the difluoro methylene di oxyphenyl group, the bis trifluoromethyl phenyl imino methyl group, the trifluoromethyl thio group, etc. are mentioned.

前記ハロゲン含有基の中でも、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニル基、トリフルオロメトキシフェニル基、ペンタフルオロビフェニル基、トリフルオロメチルビフェニル基、ビストリフルオロメチルビフェニル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、ビストリフルオロメチルフェノキシ基、ビストリフルオロメチルフェノキシ基、ジフルオロメチレンジオキシフェニル基、トリフルオロメチルチオ基が好ましく、トリフルオロメチル基、フルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニル基、ペンタフルオロビフェニル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基がより好ましい。   Among the above halogen-containing groups, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 4,4,4-tri Fluorobutyl group, fluorophenyl group, difluorophenyl group, trifluorophenyl group, tetrafluorophenyl group, pentafluorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, bistrifluoromethylphenyl group, trifluoromethoxyphenyl group, pentafluorobiphenyl group, Trifluoromethylbiphenyl group, bistrifluoromethylbiphenyl group, trifluoromethoxy group, pentafluorophenoxy group, bistrifluoromethylphenoxy group, bistrifluoromethylphenoxy group, difluoromethylenedioxyphenyl group A trifluoromethylthio group is preferable, and a trifluoromethyl group, a fluorophenyl group, a pentafluorophenyl group, a trifluoromethylphenyl group, a bistrifluoromethylphenyl group, a pentafluorobiphenyl group, a trifluoromethoxy group, and a pentafluorophenoxy group are more preferable. .

1〜R5およびR7〜R12としての前記ケイ素含有基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−iso−プロピルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、tert−ブチルジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基、トリス(トリメチルシリル)シリル基、シクロペンタジエニルジメチルシリル基、ジ−n−ブチル(シクロペンタジエニル)シリル基、シクロペンタジエニルジフェニルシリル基、インデニルジメチルシリル基、ジ−n−ブチル(インデニル)シリル基、インデニルジフェニルシリル基、フルオレニルジメチルシリル基、ジ−n−ブチル(フルオレニル)シリル基、フルオレニルジフェニルシリル基、4−トリメチルシリルフェニル基、4−トリエチルシリルフェニル基、4−トリ−iso−プロピルシリルフェニル基、4−tert−ブチルジフェニルシリルフェニル基、4−トリフェニルシリルフェニル基、4−トリス(トリメチルシリル)シリルフェニル基、3,5−ビス(トリメチルシリル)フェニル基などが挙げられる。 Examples of the silicon-containing group as R 1 to R 5 and R 7 to R 12 include, for example, trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri-iso-propylsilyl group, diphenylmethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, tert. -Butyldiphenylsilyl group, triphenylsilyl group, tris (trimethylsilyl) silyl group, cyclopentadienyldimethylsilyl group, di-n-butyl (cyclopentadienyl) silyl group, cyclopentadienyldiphenylsilyl group, indenyl Dimethyl silyl group, di-n-butyl (indenyl) silyl group, indenyl diphenyl silyl group, fluorenyl dimethyl silyl group, di-n-butyl (fluorenyl) silyl group, fluorenyl diphenyl silyl group, 4-trimethylsilyl phenyl group Group, 4-triethyl group -Phenyl, 4-tri-iso-propylsilylphenyl, 4-tert-butyldiphenylsilylphenyl, 4-triphenylsilylphenyl, 4-tris (trimethylsilyl) silylphenyl, 3,5-bis (trimethylsilyl) A phenyl group etc. are mentioned.

前記ケイ素含有基の中でも、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−iso−プロピルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、シクロペンタジエニルジメチルシリル基、シクロペンタジエニルジフェニルシリル基、インデニルジメチルシリル基、インデニルジフェニルシリル基、フルオレニルジメチルシリル基、フルオレニルジフェニルシリル基、4−トリメチルシリルフェニル基、4−トリエチルシリルフェニル基、4−トリ−iso−プロピルシリルフェニル基、4−トリフェニルシリルフェニル基、3,5−ビス(トリメチルシリル)フェニル基などが好ましく、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、4−トリメチルシリルフェニル基、4−トリエチルシリルフェニル基、4−トリ−iso−プロピルシリルフェニル基、3,5−ビス(トリメチルシリル)フェニル基がより好ましい。   Among the above silicon-containing groups, trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri-iso-propylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, triphenylsilyl group, cyclopentadienyldimethylsilyl group, cyclopentadienyldiphenylsilyl group, Indenyldimethylsilyl group, indenyldiphenylsilyl group, fluorenyldimethylsilyl group, fluorenyldiphenylsilyl group, 4-trimethylsilylphenyl group, 4-triethylsilylphenyl group, 4-tri-iso-propylsilylphenyl group, 4-triphenylsilylphenyl group, 3,5-bis (trimethylsilyl) phenyl group, etc. are preferred, and trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, 4-trimethylsilylphenyl group, 4-triylsilyl group Chill silyl phenyl group, 4-tri -iso- propyl silyl phenyl group, 3,5-bis (trimethylsilyl) phenyl group is more preferable.

1〜R5およびR7〜R12としての前記酸素含有基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、アリルオキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、iso−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、メタリルオキシ基、プレニルオキシ基、ベンジルオキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基、トルイルオキシ基、iso−プロピルフェノキシ基、アリルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、メトキシフェノキシ基、iso−プロポキシフェノキシ基、アリルオキシフェノキシ基、ビフェニルオキシ基、ビナフチルオキシ基、メトキシメチル基、アリルオキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メトキシエチル基、アリルオキシエチル基、ベンジルオキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキシプロピル基、アリルオキシプロピル基、ベンジルオキシプロピル基、フェノキシプロピル基、メトキシビニル基、アリルオキシビニル基、ベンジルオキシビニル基、フェノキシビニル基、メトキシアリル基、アリルオキシアリル基、ベンジルオキシアリル基、フェノキシアリル基、ジメトキシメチル基、ジ−iso−プロポキシメチル基、ジオキソラニル基、テトラメチルジオキソラニル基、ジオキサニル基、メトキシフェニル基、iso−プロポキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチレンジオキシフェニル基、3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル基、3,5−ジ−tert−ブチル−4−メトキシフェニル基、フリル基、メチルフリル基、テトラヒドロフリル基、ピラニル基、テトラヒドロピラニル基、フロフリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基などが挙げられる。 Examples of the oxygen-containing group as R 1 to R 5 and R 7 to R 12 include, for example, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, an allyloxy group, an n-butoxy group, and a sec-butoxy group , Iso-butoxy group, tert-butoxy group, methallyloxy group, prenyloxy group, benzyloxy group, methoxymethoxy group, methoxyethoxy group, phenoxy group, naphthoxy group, toluyloxy group, iso-propylphenoxy group, allylphenoxy group, tert-Butylphenoxy group, methoxyphenoxy group, iso-propoxyphenoxy group, allyloxyphenoxy group, biphenyloxy group, binaphthyloxy group, methoxymethyl group, allyloxymethyl group, benzyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methoxyethyl group , Ryloxyethyl group, benzyloxyethyl group, phenoxyethyl group, methoxypropyl group, allyloxypropyl group, benzyloxypropyl group, phenoxypropyl group, methoxyvinyl group, allyloxyvinyl group, benzyloxyvinyl group, phenoxyvinyl group, Methoxyallyl, allyloxylyl, benzyloxyallyl, phenoxyallyl, dimethoxymethyl, di-iso-propoxymethyl, dioxolanyl, tetramethyldioxolanyl, dioxanyl, methoxyphenyl, iso-propoxy Phenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylenedioxyphenyl group, 3,5-dimethyl-4-methoxyphenyl group, 3,5-di-tert-butyl-4-methoxyphenyl group, furyl Groups, methyl furyl group, tetrahydrofuryl group, pyranyl group, tetrahydropyranyl group, furfuryl group, benzofuryl group, dibenzofuryl group and the like.

前記酸素含有基の中でも、メトキシ基、エトキシ基、iso−プロポキシ基、アリルオキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、プレニルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基、トルイルオキシ基、iso−プロピルフェノキシ基、アリルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、メトキシフェノキシ基、ビフェニルオキシ基、ビナフチルオキシ基、アリルオキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシアリル基、ベンジルオキシアリル基、フェノキシアリル基、ジメトキシメチル基、ジオキソラニル基、テトラメチルジオキソラニル基、ジオキサニル基、ジメチルジオキサニル基、メトキシフェニル基、iso−プロポキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチレンジオキシフェニル基、3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル基、3,5−ジ−tert−ブチル−4−メトキシフェニル基、フリル基、メチルフリル基、テトラヒドロピラニル基、フロフリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基等などが好ましく、メトキシ基、iso−プロポキシ基、tert−ブトキシ基、アリルオキシ基、フェノキシ基、ジメトキシメチル基、ジオキソラニル基、メトキシフェニル基、iso−プロポキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル基、3,5−ジ−tert−ブチル−4−メトキシフェニル基、フリル基、メチルフリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基がより好ましい。   Among the above-mentioned oxygen-containing groups, methoxy group, ethoxy group, iso-propoxy group, allyloxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, prenyloxy group, benzyloxy group, phenoxy group, naphthoxy group, toluyloxy group, iso -Propylphenoxy group, allylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, methoxyphenoxy group, biphenyloxy group, binaphthyloxy group, allyloxymethyl group, benzyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methoxyethyl group, methoxyallyl group, benzyl Oxyallyl group, phenoxyallyl group, dimethoxymethyl group, dioxolanyl group, tetramethyldioxolanyl group, dioxanyl group, dimethyldioxanyl group, methoxyphenyl group, iso-propoxyphenyl group, allyloxy group Group, phenoxyphenyl group, methylenedioxyphenyl group, 3,5-dimethyl-4-methoxyphenyl group, 3,5-di-tert-butyl-4-methoxyphenyl group, furyl group, methylfuryl group, tetrahydropyrani Preferred is a methoxy group, an iso-propoxy group, a tert-butoxy group, an allyloxy group, a phenoxy group, a dimethoxymethyl group, a dioxolanyl group, a methoxyphenyl group, an iso-propoxy group, etc. Phenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, 3,5-dimethyl-4-methoxyphenyl group, 3,5-di-tert-butyl-4-methoxyphenyl group, furyl group, methylfuryl group, benzofuryl group, The dibenzofuryl group is more preferred.

1〜R5およびR7〜R12としての前記窒素含有基としては、例えば、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アリルアミノ基、ジアリルアミノ基、ジデシルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モリホリル基、アゼピニル基、ジメチルアミノメチル基、ジベンジルアミノメチル基、ピロリジニルメチル基、ジメチルアミノエチル基、ベンジルアミノメチル基、ベンジルアミノエチル基、ピロリジニルエチル基、ジメチルアミノビニル基、ベンジルアミノビニル基、ピロリジニルビニル基、ジメチルアミノプロピル基、ベンジルアミノプロピル基、ピロリジニルプロピル基、ジメチルアミノアリル基、ベンジルアミノアリル基、ピロリジニルアリル基、アミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、3,5−ジメチル−4−ジメチルアミノフェニル基、3,5−ジ−iso−プロピル−4−ジメチルアミノフェニル基、ジュロリジニル基、テトラメチルジュロリジニル基、ピロリジニルフェニル基、ピロリルフェニル基、ピリジルフェニル基、キノリルフェニル基、イソキノリルフェニル基、インドリニルフェニル基、インドリルフェニル基、カルバゾリルフェニル基、ジ−tert−ブチルカルバゾリルフェニル基、ピロリル基、メチルピロリル基、フェニルピロリル基、ピリジル基、キノリル基、テトラヒドロキノリル基、iso−キノリル基、テトラヒドロ−iso−キノリル基、インドリル基、インドリニル基、カルバゾリル基、ジ−tert−ブチルカルバゾリル基、イミダゾリル基、ジメチルイミダゾリジニル基、ベンゾイミダソリル基、オキサゾリル基、オキサゾリジニル基、ベンゾオキサゾリル基などが挙げられる。 Examples of the nitrogen-containing group as R 1 to R 5 and R 7 to R 12 include an amino group, a dimethylamino group, a diethylamino group, an allylamino group, a diallylamino group, a didecylamino group, a benzylamino group and a dibenzylamino group. , Pyrrolidinyl group, piperidinyl group, morpholinyl group, azepinyl group, dimethylaminomethyl group, dibenzylaminomethyl group, pyrrolidinylmethyl group, dimethylaminoethyl group, benzylaminomethyl group, benzylaminoethyl group, pyrrolidinylethyl group , Dimethylamino vinyl group, benzyl amino vinyl group, pyrrolidinyl vinyl group, dimethylamino propyl group, benzyl amino propyl group, pyrrolidinyl propyl group, dimethylamino allyl group, benzyl amino allyl group, pyrrolidinyl allyl group, amino Phenyl group, dime Aminophenyl group, 3,5-dimethyl-4-dimethylaminophenyl group, 3,5-di-iso-propyl-4-dimethylaminophenyl group, durolizinyl group, tetramethyldurolizinyl group, pyrrolidinylphenyl group , Pyrrolylphenyl group, pyridylphenyl group, quinolylphenyl group, isoquinolylphenyl group, indolinylphenyl group, indolylphenyl group, carbazolylphenyl group, di-tert-butylcarbazolylphenyl group, pyrrolyl group , Methylpyrrolyl group, phenylpyrrolyl group, pyridyl group, quinolyl group, tetrahydroquinolyl group, iso-quinolyl group, tetrahydro-iso-quinolyl group, indolyl group, indolinyl group, carbazolyl group, di-tert-butylcarbazolyl group , Imidazolyl group, dimethylimidazole Examples include dinyl, benzimidazolyl, oxazolyl, oxazolidinyl and benzoxazolyl groups.

前記窒素含有基の中でも、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アリルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリル基、ジメチルアミノメチル基、ベンジルアミノメチル基、ピロリジニルメチル基、ジメチルアミノエチル基、ピロリジニルエチル基、ジメチルアミノプロピル基、ピロリジニルプロピル基、ジメチルアミノアリル基、ピロリジニルアリル基、アミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、3,5−ジメチル−4−ジメチルアミノフェニル基、3,5−ジ−iso−プロピル−4−ジメチルアミノフェニル基、ジュロリジニル基、テトラメチルジュロリジニル基、ピロリジニルフェニル基、ピロリルフェニル基、カルバゾリルフェニル基、ジ−tert−ブチルカルバゾリルフェニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基、テトラヒドロキノリル基、iso−キノリル基、テトラヒドロ−iso−キノリル基、インドリル基、インドリニル基、カルバゾリル基、ジ−tert−ブチルカルバゾリル基、イミダゾリル基、ジメチルイミダゾリジニル基、ベンゾイミダソリル基、オキサゾリル基、オキサゾリジニル基、ベンゾオキサゾリル基などが好ましく、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ジメチルアミノフェニル基、3,5−ジメチル−4−ジメチルアミノフェニル基、3,5−ジ−iso−プロピル−4−ジメチルアミノフェニル基、ジュロリジニル基、テトラメチルジュロリジニル基、ピロリジニルフェニル基、ピロリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、イミダゾリル基がより好ましい。   Among the above nitrogen-containing groups, amino group, dimethylamino group, diethylamino group, allylamino group, benzylamino group, dibenzylamino group, pyrrolidinyl group, piperidinyl group, morpholinyl group, dimethylaminomethyl group, benzylaminomethyl group, pyrrolidini group Methyl group, dimethylaminoethyl group, pyrrolidinyl ethyl group, dimethylaminopropyl group, pyrrolidinyl propyl group, dimethylaminoaryl group, pyrrolidinyl allyl group, aminophenyl group, dimethylaminophenyl group, 3,5- Dimethyl-4-dimethylaminophenyl group, 3,5-di-iso-propyl-4-dimethylaminophenyl group, dulolyzinyl group, tetramethyldiololyzinyl group, pyrrolidinylphenyl group, pyrrolylphenyl group, carbazolyl Phenyl group, di-tert-bu Lucarbazolyl phenyl group, pyrrolyl group, pyridyl group, quinolyl group, tetrahydroquinolyl group, iso-quinolyl group, tetrahydro-iso-quinolyl group, indolyl group, indolinyl group, carbazolyl group, di-tert-butylcarbazolyl Group, imidazolyl group, dimethylimidazolidinyl group, benzimidazolyl group, oxazolyl group, oxazolidinyl group, benzoxazolyl group, etc. are preferable, and amino group, dimethylamino group, diethylamino group, pyrrolidinyl group, dimethylaminophenyl group, 3,5-Dimethyl-4-dimethylaminophenyl group, 3,5-di-iso-propyl-4-dimethylaminophenyl group, durolizinyl group, tetramethyldiololizinyl group, pyrrolidinylphenyl group, pyrrolyl group, pyridyl Group, carbazolyl , Imidazolyl group is more preferable.

1〜R5およびR7〜R12としての前記硫黄含有基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ベンジルチオ基、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、メチルチオメチル基、ベンジルチオメチル基、フェニルチオメチル基、ナフチルチオメチル基、メチルチオエチル基、ベンジルチオエチル基、フェニルチオエチル基、ナフチルチオエチル基、メチルチオビニル基、ベンジルチオビニル基、フェニルチオビニル基、ナフチルチオビニル基、メチルチオプロピル基、ベンジルチオプロピル基、フェニルチオプロピル基、ナフチルチオプロピル基、メチルチオアリル基、ベンジルチオアリル基、フェニルチオアリル基、ナフチルチオアリル基、メルカプトフェニル基、メチルチオフェニル基、チエニルフェニル基、メチルチエニルフェニル基、ベンゾチエニルフェニル基、ジベンゾチエニルフェニル基、ベンゾジチエニルフェニル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、メチルチエニル基、チエノフリル基、チエノチエニル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、チエノベンゾフリル基、ベンゾジチエニル基、ジチオラニル基、ジチアニル基、オキサチオラニル基、オキサチアニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、チアゾリジニル基などが挙げられる。 Examples of the sulfur-containing group as R 1 to R 5 and R 7 to R 12 include a methylthio group, an ethylthio group, a benzylthio group, a phenylthio group, a naphthylthio group, a methylthiomethyl group, a benzylthiomethyl group and a phenylthiomethyl group. , Naphthylthiomethyl group, methylthioethyl group, benzylthioethyl group, phenylthioethyl group, naphthylthioethyl group, methylthiovinyl group, benzylthiovinyl group, phenylthiovinyl group, phenylthiovinyl group, naphthylthiovinyl group, methylthiopropyl group, benzylthio Propyl, phenylthiopropyl, naphthylthiopropyl, methylthioallyl, benzylthioallyl, phenylthioallyl, naphthylthioallyl, mercaptophenyl, methylthiophenyl, thienylphenyl, methylthienylphenyl , Benzothienylphenyl group, dibenzothienylphenyl group, benzodithienylphenyl group, thienyl group, tetrahydrothienyl group, methylthienyl group, thienofuryl group, thienothienyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, thienobenzofuryl group, benzodithienyl group Groups, dithioranyl group, dithianyl group, oxathiolanyl group, oxathianyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl group, thiazolidinyl group and the like.

前記硫黄含有基の中でも、チエニル基、メチルチエニル基、チエノフリル基、チエノチエニル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、チエノベンゾフリル基、ベンゾジチエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。   Among the sulfur-containing groups, thienyl group, methylthienyl group, thienofuryl group, thienothienyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, thienobenzofuryl group, benzodithienyl group, thiazolyl group, and benzothiazolyl group are preferable.

5の選択肢の1つである、窒素、酸素および硫黄からなる群から選ばれる原子を少なくとも1つ含む母骨格を5員環とする、置換基を有していてもよい複素環式芳香族基としては、例えば、下記一般式[5a]〜[5h]で表される基が挙げられる。 An optionally substituted heterocyclic aromatic group having a 5-membered ring as a mother skeleton containing at least one atom selected from the group consisting of nitrogen, oxygen and sulfur which is one of R 5 options As a group, the group represented by the following general formula [5a]-[5h] is mentioned, for example.

Figure 2019059934
前記式[5a]〜[5h]中、Chは酸素原子あるいは硫黄原子であり、Rdはそれぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜20の炭化水素基であり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。なお、前記式[5a]〜[5h]中の波線はベンゼン環との結合部位を示す。
Figure 2019059934
In the above formulas [5a] to [5h], Ch is an oxygen atom or a sulfur atom, and Rd is each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, which may be the same or different Good. In addition, the wavy line in said Formula [5a]-[5h] shows a bonding site | part with a benzene ring.

前記炭素数1〜20の炭化水素基の例としては、上述したR1〜R5およびR7〜R12としての前記炭素数1〜40の炭化水素基の例として挙げたもののうち、炭素数が1〜20のものが挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、1−プロピル基、1−ブチル基、1−ペンチル基、1−ヘキシル基、1−ヘプチル基、1−オクチル基、iso−プロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、iso−ブチル基、iso−ペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、アリル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロオクテニル基、ノルボルニル基、ビシクロ[2.2.2]オクタン−1−イル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、ベンジル基、ベンズヒドリル基、クミル基、1,1−ジフェニルエチル基、トリチル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、シンナミル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、2,6−ジ−iso−プロピルフェニル基、2,4,6−トリ−iso−プロピルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、3,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、4−アダマンチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ter−フェニル基、ビナフチル基、フェナントリル基、アントラセニル基、フェロセニル基が挙げられ、より好ましくは、メチル基、エチル基、1−プロピル基、1−ブチル基、iso−プロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、iso−ブチル基、アリル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、ビフェニル基、ter−フェニル基が挙げられる。 Examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, among those listed as examples of the hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms as R 1 to R 5 and R 7 to R 12 described above, the number of carbon atoms Is 1 to 20, preferably methyl, ethyl, 1-propyl, 1-butyl, 1-pentyl, 1-hexyl, 1-heptyl, 1-octyl, iso. -Propyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, iso-butyl group, iso-pentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, allyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl Group, cyclooctyl group, cyclooctenyl group, norbornyl group, bicyclo [2.2.2] octan-1-yl group, 1-adamantyl group, 2-adaman Group, benzyl group, benzhydryl group, cumyl group, 1,1-diphenylethyl group, trityl group, 2-phenylethyl group, 3-phenylpropyl group, cinnamyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, Cumenyl group, 2,6-di-iso-propylphenyl group, 2,4,6-tri-iso-propylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 3,5-di-tert-butylphenyl group, 4 -Adamantylphenyl group, naphthyl group, biphenyl group, ter-phenyl group, binaphthyl group, phenanthryl group, anthracenyl group, ferrocenyl group, and more preferably methyl group, ethyl group, 1-propyl group, 1-butyl group , Iso-propyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, iso-butyl group, allyl group, Examples include clopentyl group, cyclohexyl group, 1-adamantyl group, benzyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group, biphenyl group and ter-phenyl group.

dは、隣接したRd同士が互いに結合して、それぞれ独立に複素5員環部分に縮環する、置換基を有していてもよい5〜8員環の飽和または不飽和炭化水素基を形成してもよく、本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、好ましくは5又は6員環であり、この場合、母核の芳香環部分と併せた構造として、例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、カルバゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾール環などが挙げられる。 R d is a substituted or unsubstituted 5- to 8-membered saturated or unsaturated hydrocarbon group which may be substituted, and adjacent R d 's are bonded to each other to form a fused ring to a hetero 5-membered ring moiety independently. The ring is not particularly limited as long as the effects of the present invention can be obtained, but is preferably a 5- or 6-membered ring, and in this case, as a structure combined with the aromatic ring part of the mother nucleus, for example, benzofuran ring, benzo Thiophene ring, indole ring, carbazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzoimidazole ring, benzopyrazole ring and the like can be mentioned.

前記式[5a]〜[5h]で表される複素環式芳香族基の中でも、前記式[5a]で表される複素環式芳香族基が好ましい。
前記式[5a]で表される複素環式芳香族基の中でも、2−フリル基、5−メチル−2−フリル基、2−チエニル基、5−メチル−2−チエニル基が好ましい。
Among the heterocyclic aromatic groups represented by the above formulas [5a] to [5h], the heterocyclic aromatic group represented by the above formula [5a] is preferable.
Among the heterocyclic aromatic groups represented by the above formula [5a], 2-furyl group, 5-methyl-2-furyl group, 2-thienyl group and 5-methyl-2-thienyl group are preferable.

前記式(1)において、R1とR2およびR3とR4は、互いに結合して置換基を有していてもよい飽和環を形成してもよい。この場合に形成される環は、シクロペンタジエニル環部分に縮環する置換基を有していてもよい5〜8員環の飽和炭化水素基として環を形成することが好ましい。なお、環が複数存在する場合には互いに同一でも異なっていてもよい。本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、好ましくは6又は7員環であり、この場合、母核のシクロペンタジエニル部分と併せた構造として、例えば、置換テトラヒドロ−1−インデン環、置換オクタヒドロフルオレン環、置換テトラヒドロアズレン環が挙げられ、置換テトラヒドロ−1−インデン環であることが好ましい。 In the formula (1), R 1 and R 2 and R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a saturated ring which may have a substituent. The ring formed in this case preferably forms a ring as a 5- to 8-membered saturated hydrocarbon group which may have a substituent which is condensed to a cyclopentadienyl ring portion. When a plurality of rings are present, they may be the same or different. The structure is not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited, but is preferably a 6- or 7-membered ring, and in this case, as a structure combined with a cyclopentadienyl moiety of a mother nucleus Examples thereof include an octahydrofluorene ring and a substituted tetrahydroazulene ring, and a substituted tetrahydro-1-indene ring is preferable.

前記式(1)において、R2とR3の隣接した置換基は、互いに結合して置換基を有していてもよい環を形成してもよい。この場合に形成される環は、シクロペンタジエニル環部分に縮環する置換基を有していてもよい5〜8員環の飽和または不飽和炭化水素基として環を形成することが好ましい。なお、環が複数存在する場合には互いに同一でも異なっていてもよい。本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、好ましくは6又は7員環であり、この場合、母核のシクロペンタジエニル部分と併せた構造として、例えば、置換テトラヒドロ−2−インデン環、置換2−インデン環が挙げられ、置換2−インデン環であることが好ましい。 In the formula (1), adjacent substituents of R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a ring which may have a substituent. The ring formed in this case preferably forms a ring as a 5- to 8-membered saturated or unsaturated hydrocarbon group which may have a substituent which is condensed to a cyclopentadienyl ring portion. When a plurality of rings are present, they may be the same or different. The structure is not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited, but is preferably a 6- or 7-membered ring, and in this case, as a structure combined with a cyclopentadienyl moiety of a mother nucleus, for example, a substituted tetrahydro-2-indene ring, a substituted A 2-indene ring is mentioned, It is preferable that it is a substituted 2-indene ring.

前記式(1)において、R7〜R10の隣接した置換基は、互いに結合して置換基を有していてもよい環を形成してもよい。この場合に形成される環は、芳香環部分に縮環する置換基を有していてもよい5〜8員環の飽和または不飽和炭化水素基として環を形成することが好ましい。なお、環が複数存在する場合には互いに同一でも異なっていてもよい。本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、好ましくは5又は6員環であり、この場合、母核のシクロペンタジエニル部分および芳香環部分と併せた構造として、例えば、置換ベンゾインデニル環、置換テトラヒドロインダセン環、置換シクロペンタテトラヒドロナフタレンが挙げられ、置換ベンゾインデニル環、置換テトラヒドロインダセン環であることが好ましい。 In the formula (1), adjacent substituents of R 7 to R 10 may be bonded to each other to form a ring which may have a substituent. The ring formed in this case preferably forms a ring as a 5- to 8-membered saturated or unsaturated hydrocarbon group which may have a substituent which is condensed to an aromatic ring portion. When a plurality of rings are present, they may be the same or different. The structure is not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited, but is preferably a 5- or 6-membered ring, and in this case, a structure combined with a cyclopentadienyl moiety and an aromatic ring moiety of a mother nucleus And a substituted tetrahydroindacene ring and a substituted cyclopentatetrahydronaphthalene, preferably a substituted benzoindenyl ring and a substituted tetrahydroindacene ring.

前記式(1)において、R11とR12は、互いに結合してQ1を含む環を形成してもよく、これらの環は置換基を有していてもよい。この場合に形成される環は、置換基を有していてもよい3〜8員環の飽和または不飽和環を形成することが好ましい。本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、好ましくは4〜6員環であり、この場合、Q1と併せた構造として、例えば、置換シクロブタン環、置換シクロペンタン環、置換フルオレン環、置換シラシクロブタン(シレタン)環、置換シラシクロペンタン(シロラン)環、置換シラシクロヘキサン(シリナン)、置換シラフルオレン環が挙げられ、置換シクロペンタン環、置換シラシクロブタン環、置換シラシクロペンタン環であることが好ましい。 In the formula (1), R 11 and R 12 may be bonded to each other to form a ring containing Q 1 , and these rings may have a substituent. The ring formed in this case preferably forms a 3- to 8-membered saturated or unsaturated ring which may have a substituent. It is not particularly limited as long as the effect of the present invention is preferably a 4- to 6-membered ring, as in this case, Q 1 and combined structure, for example, substituted cyclobutane ring, a substituted cyclopentane ring, a substituted fluorene ring, substituted sila A cyclobutane (siletan) ring, a substituted silacyclopentane (silorane) ring, a substituted silacyclohexane (silinane) and a substituted silafluorene ring can be mentioned, and a substituted cyclopentane ring, a substituted silacyclobutane ring and a substituted silacyclopentane ring are preferable. .

前記式(1)において、R6は直鎖状部分の炭素数が3〜10の飽和炭化水素基または直鎖状部分の炭素数が3〜10の末端不飽和炭化水素基である。
前記直鎖状部分の炭素数が3〜10の飽和炭化水素基としては、例えば、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、sec−ブチル基、tert−ペンチル基、2−メチルペンタン−2−イル基、1−エチルシクロペンチル基、1−(n−プロピル)シクロペンチル基、1−エチルシクロヘキシル基、1−(n−プロピル)シクロヘキシル基などが挙げられ、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基であることが好ましい。
In Formula (1), R 6 is a saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms in a linear portion or a terminal unsaturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms in a linear portion.
The saturated hydrocarbon group having a carbon number of 3 to 10 in the linear portion is, for example, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group Group, n-nonyl group, n-decyl group, sec-butyl group, tert-pentyl group, 2-methylpentan-2-yl group, 1-ethylcyclopentyl group, 1- (n-propyl) cyclopentyl group, 1- Ethylcyclohexyl group, 1- (n-propyl) cyclohexyl group and the like can be mentioned, and n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group and n-hexyl group are preferable.

前記直鎖状部分の炭素数が3〜10の末端不飽和炭化水素基としては、例えば、アリル基、ブタ−3−エン−1−イル基、メタリル基、クロチル基、ペンタ−4−エン−1−イル基、プレニル基、ヘキサ−5−エン−1−イル基、ヘプタ−6−エン−1−イル基、オクタ−7−エン−1−イル基、ノナ−8−エン−1−イル基、デカ−9−エン−1−イル基、2−メチルブタ−3−エン−2−イル基、2−メチルペンタ−4−エン−2−イル基、1−ビニルシクロペンチル基、1−アリルシクロペンチル基、1−ビニルシクロヘキシル基、1−アリルシクロヘキシル基などが挙げられ、アリル基、ブタ−3−エン−1−イル基、ペンタ−4−エン−1−イル基、ヘキサ−5−エン−1−イル基であることが好ましい。   Examples of the terminal unsaturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms in the linear portion include an allyl group, a but-3-en-1-yl group, a methallyl group, a crotyl group, and a penta-4-ene-. 1-yl group, prenyl group, hexa-5-en-1-yl group, hept-6-en-1-yl group, octa-7-en-1-yl group, nona-8-en-1-yl group Group, deca-9-en-1-yl group, 2-methylbut-3-en-2-yl group, 2-methylpent-4-en-2-yl group, 1-vinylcyclopentyl group, 1-allylcyclopentyl group And 1-vinylcyclohexyl, 1-allylcyclohexyl and the like, and allyl, but-3-en-1-yl, penta-4-en-1-yl, and hexa-5-ene-1-l. It is preferable that it is an yl group.

前記遷移金属化合物(1)の好ましい態様としては、Q1がケイ素原子であり、R1〜R4およびR7〜R12が、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20の酸素含有基または炭素数1〜20の窒素含有基であり、R5が水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20の酸素含有基、炭素数1〜20の窒素含有基、置換フラン環または置換チオフェン環である態様(1-a)が挙げられ、
より好ましい態様としては、前記態様(1-a)において、R1〜R4がすべて水素原子であり、R5およびR8〜R12が、それぞれ独立に水素原子または炭素数1〜10の炭化水素基であり、R7が水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20の酸素含有基または炭素数1〜20の窒素含有基である態様(1-b)が挙げられ、
さらに好ましい態様としては、前記態様(1-b)において、R7〜R10がすべて水素原子である態様(1-c)が挙げられる。
In a preferred embodiment of the transition metal compound (1), Q 1 is a silicon atom, and R 1 to R 4 and R 7 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, An oxygen-containing group having 1 to 20 carbon atoms or a nitrogen-containing group having 1 to 20 carbon atoms, R 5 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an oxygen containing group having 1 to 20 carbon atoms, the carbon number And Aspect (1-a) which is a nitrogen-containing group having 1 to 20, a substituted furan ring or a substituted thiophene ring,
As a more preferable embodiment, in the above embodiment (1-a), all of R 1 to R 4 are hydrogen atoms, and R 5 and R 8 to R 12 are each independently a hydrogen atom or a carbon having 1 to 10 carbon atoms. Embodiment (1-b) is a hydrogen group, and R 7 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an oxygen-containing group having 1 to 20 carbon atoms, or a nitrogen-containing group having 1 to 20 carbon atoms And
A further preferred embodiment is the embodiment (1-c) in which all of R 7 to R 10 in the above embodiment (1-b) are hydrogen atoms.

以下に遷移金属化合物(1)の具体例を示すが、特にこれによって本発明の範囲が限定されるものではない。
便宜上、遷移金属化合物(1)のMXn(金属部分)を除いたリガンド構造を、シクロペンタジエニル環部分、インデニル環部分、シクロペンタジエニル環部分R1、R2、R3、R4置換基およびインデニル環部分R5置換基、インデニル環部分R6置換基、インデニル環部分R7およびR10置換基、インデニル環部分R8およびR9置換基、架橋部分の構造の7つに分ける。シクロペンタジエニル環部分の略称をα、インデニル環部分の略称をβ、シクロペンタジエニル環部R1、R2、R3、R4置換基およびインデニル環部分R5置換基の略称をγ、インデニル環部分R6置換基の略称をδ、インデニル環部分R7およびR10置換基の略称をε、インデニル環部分R8およびR9置換基の略称をζ、架橋部分の構造の略称をηとし、各置換基の略称を[表1]〜[表7]に示す。
Although the specific example of transition metal compound (1) is shown below, the scope of the present invention is not limited in particular by this.
For convenience, the ligand structure of the transition metal compound (1) excluding MXn (metal part) is substituted with cyclopentadienyl ring part, indenyl ring part, cyclopentadienyl ring part R 1 , R 2 , R 3 , R 4 substitution Group and indenyl ring moiety R 5 substituent, indenyl ring moiety R 6 substituent, indenyl ring moiety R 7 and R 10 substituent, indenyl ring moiety R 8 and R 9 substituent, divided into seven of the structure of the bridging moiety. Abbreviation of cyclopentadienyl ring moiety α, abbreviation of indenyl ring moiety β, cyclopentadienyl ring moiety R 1 , R 2 , R 3 , R 4 substituent and indenyl ring moiety R 5 substituent abbreviation γ , An abbreviation of δ for an indenyl ring moiety R 6 substituent, an abbreviation for ε for an indenyl ring moiety R 7 and R 10 substituent, an abbreviation for an indenyl ring moiety R 8 and R 9 substituent, an abbreviation for a structure of a bridging moiety The abbreviation of each substituent is shown in [Table 1] to [Table 7].

Figure 2019059934
Figure 2019059934

Figure 2019059934
なお、前記[表1]〜[表2]中の波線は架橋部分との結合部位を示す。
Figure 2019059934
In addition, the wavy line in said [Table 1]-[Table 2] shows a coupling | bonding site | part with a bridge | crosslinking part.

Figure 2019059934
前記[表3]中のR1、R2、R3、R4およびR5置換基は、その組み合わせにおいて互いに同一でも異なっていてもよい。
Figure 2019059934
The R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 substituents in the above [Table 3] may be the same or different from each other in the combination.

Figure 2019059934
Figure 2019059934

Figure 2019059934
前記[表5]中のR7およびR10置換基は、その組み合わせにおいて互いに同一でも異なっていてもよい。
Figure 2019059934
The R 7 and R 10 substituents in the above [Table 5] may be the same or different from each other in the combination.

Figure 2019059934
前記[表6]中のR8およびR9置換基は、その組み合わせにおいて互いに同一でも異なっていてもよい。
Figure 2019059934
The R 8 and R 9 substituents in the above [Table 6] may be the same or different from each other in the combination.

Figure 2019059934
Figure 2019059934

金属部分MXnの具体的な例示としては、TiF2、TiCl2、TiBr2、TiI2、Ti(Me)2、Ti(Bn)2、Ti(Allyl)2、Ti(CH2−tBu)2、Ti(1,3−ブタジエニル)、Ti(1,3−ペンタジエニル)、Ti(2,4−ヘキサジエニル)、Ti(1,4−ジフェニル−1,3−ペンタジエニル)、Ti(CH2−Si(Me)32、Ti(ОMe)2、Ti(ОiPr)2、Ti(NMe22、Ti(ОMs)2、Ti(ОTs)2、Ti(ОTf)2、ZrF2、ZrCl2、ZrBr2、ZrI2、Zr(Me)2、Zr(Bn)2、Zr(Allyl)2、Zr(CH2−tBu)2、Zr(1,3−ブタジエニル)、Zr(1,3−ペンタジエニル)、Zr(2,4−ヘキサジエニル)、Zr(1,4−ジフェニル−1,3−ペンタジエニル)、Zr(CH2−Si(Me)32、Zr(ОMe)2、Zr(ОiPr)2、Zr(NMe22、Zr(ОMs)2、Zr(ОTs)2、Zr(ОTf)2、HfF2、HfCl2、HfBr2、HfI2、Hf(Me)2、Hf(Bn)2、Hf(Allyl)2、Hf(CH2−tBu)2、Hf(1,3−ブタジエニル)、Hf(1,3−ペンタジエニル)、Hf(2,4−ヘキサジエニル)、Hf(1,4−ジフェニル−1,3−ペンタジエニル)、Hf(CH2−Si(Me)32、Hf(ОMe)2、Hf(ОiPr)2、Hf(NMe22、Hf(ОMs)2、Hf(ОTs)2、Hf(ОTf)2などが挙げられる。Meはメチル基、Bnはベンジル基、tBuはtert−ブチル基、Si(Me)3はトリメチルシリル基、ОMeはメトキシ基、ОiPrはiso−プロポキシ基、NMe2はジメチルアミノ基、ОMsはメタンスルホナート基、ОTsはp−トルエンスルホナート基、ОTfはトリフルオロメタンスルホナート基である。 Specific examples of the metal part MXn include TiF 2 , TiCl 2 , TiBr 2 , TiI 2 , Ti (Me) 2 , Ti (Bn) 2 , Ti (Allyl) 2 , Ti (CH 2 -tBu) 2 , Ti (1,3-butadienyl), Ti (1,3-pentadienyl), Ti (2,4-hexadienyl), Ti (1,4-diphenyl-1,3-pentadienyl), Ti (CH 2 —Si (Me) ) 3 ) 2 , Ti (ОMe) 2 , Ti (ОiPr) 2 , Ti (NMe 2 ) 2 , Ti (ОMs) 2 , Ti (ОTs) 2 , Ti (ОTf) 2 , ZrF 2 , ZrCl 2 , ZrBr 2 , ZrI 2 , Zr (Me) 2 , Zr (Bn) 2 , Zr (Allyl) 2 , Zr (CH 2 -tBu) 2 , Zr (1,3-butadienyl), Zr (1,3-pentadienyl), Zr (2,4-hexadienyl) Zr (1,4-diphenyl-1,3-pentadienyl), Zr (CH 2 -Si ( Me) 3) 2, Zr (ОMe) 2, Zr (ОiPr) 2, Zr (NMe 2) 2, Zr (ОMs ) 2, Zr (ОTs) 2 , Zr (ОTf) 2, HfF 2, HfCl 2, HfBr 2, HfI 2, Hf (Me) 2, Hf (Bn) 2, Hf (Allyl) 2, Hf (CH 2 - tBu) 2 , Hf (1,3-butadienyl), Hf (1,3-pentadienyl), Hf (2,4-hexadienyl), Hf (1,4-diphenyl-1,3-pentadienyl), Hf (CH 2 ) -Si (Me) 3) 2, Hf (ОMe) 2, Hf (ОiPr) 2, Hf (NMe 2) 2, Hf (ОMs) 2, Hf (ОTs) 2, etc. Hf (ОTf) 2 and the like. Me is methyl, Bn is a benzyl group, tBu is tert- butyl, Si (Me) 3 is trimethylsilyl group, OMe a methoxy group, OiPr is iso- propoxy, NMe 2 is dimethylamino group, OMs methane sulfonate The group ОTs is a p-toluenesulfonate group, and ОTf is a trifluoromethanesulfonate group.

上記の表記に従えば、シクロペンタジエニル環部分が[表1]中のα−1、インデニル環部分が[表2]中のβ−1、シクロペンタジエニル環部分R1、R2、R3およびR4置換基がいずれも[表3]中のγ−1、インデニル環部分R5置換基が[表3]中のγ−17、インデニル環部分R6置換基が[表4]中のδ−5、インデニル環部分R7置換基が[表5]中のε−38、インデニル環部分R8およびR9置換基がいずれも[表6]中のζ−1、インデニル環部分R10置換基が[表5]中のε−1、架橋部分が[表7]中のη−20の組み合わせで構成され、金属部分のMXnがZrCl2の場合は、下記化合物[6]を例示している。 According to the above notation, the cyclopentadienyl ring moiety is α-1 in [Table 1], the indenyl ring moiety is β-1 in [Table 2], the cyclopentadienyl ring moiety R 1 , R 2 , The R 3 and R 4 substituents are both γ-1 in [Table 3], the indenyl ring portion R 5 substituent is γ-17 in [Table 3], and the indenyl ring portion R 6 substituent is [Table 4] Δ, the indenyl ring moiety R 7 substituent is ε-38 in [Table 5], the indenyl ring moiety R 8 and R 9 substituents are all ζ-1, in the [table 6], indenyl ring moiety When the R 10 substituent is a combination of ε-1 in [Table 5] and the bridging part is 部分 -20 in [Table 7], and the MXn of the metal part is ZrCl 2 , the following compound [6] It is illustrated.

Figure 2019059934
Figure 2019059934

また、シクロペンタジエニル環部分が[表1]中のα−2、インデニル環部分が[表2]中のβ−2、シクロペンタジエニル環部分R3およびR4置換基がいずれも[表3]中のγ−1、インデニル環部分R5置換基が[表3]中のγ−1、インデニル環部分R6置換基が[表4]中のδ−18、架橋部分が[表7]中のη−4の組み合わせで構成され、金属部分のMXnがZr(NMe22の場合は、下記化合物[7]を例示している。 In addition, the cyclopentadienyl ring moiety is [alpha] -2 in [Table 1], the indenyl ring moiety is [beta] -2 in [Table 2], and the cyclopentadienyl ring moiety R 3 and R 4 substituents are all [ Γ-1 in Table 3], Indenyl ring portion R 5 substituent is γ-1 in [Table 3], Indenyl ring portion R 6 substituent is δ-18 in [Table 4], Bridge portion is [Table 7] is a combination of eta-4 in, MXn metal parts in the case of Zr (NMe 2) 2, illustrates the following compounds [7].

Figure 2019059934
Figure 2019059934

また、シクロペンタジエニル環部分が[表1]中のα−6、インデニル環部分が[表2]中のβ−1、シクロペンタジエニル環部分R1およびR4置換基がいずれも[表3]中のγ−1、インデニル環部分R5置換基が[表3]中のγ−2、インデニル環部分R6置換基が[表4]中のδ−1、インデニル環部分R7およびR10置換基がいずれも[表5]中のε−2、インデニル環部分R8およびR9置換基がいずれも[表6]中のζ−1、架橋部分が[表7]中のη−31の組み合わせで構成され、金属部分のMXnがHfMe2の場合は、下記化合物[8]を例示している。 In addition, the cyclopentadienyl ring moiety is α-6 in [Table 1], the indenyl ring moiety is β-1 in [Table 2], and the cyclopentadienyl ring moiety R 1 and R 4 substituents are all [ Γ-1 in Table 3], Indenyl ring portion R 5 substituent is γ-2 in [Table 3], Indenyl ring portion R 6 substituent is δ-1 in [Table 4], Indenyl ring portion R 7 And R 10 substituents are each ε-2 in [Table 5], and indenyl ring moieties R 8 and R 9 substituents are all ζ-1 in [Table 6], and the bridging portion is in [Table 7] is a combination of eta-31, MXn metal parts in the case of HfMe 2, illustrates the following compounds [8].

Figure 2019059934
Figure 2019059934

また、シクロペンタジエニル環部分が[表1]中のα−5、インデニル環部分が[表2]中のβ−3、シクロペンタジエニル環部分R1およびR4置換基がいずれも[表3]中のγ−1、インデニル環部分R5置換基が[表3]中のγ−5、インデニル環部分R6置換基が[表4]中のδ−2、インデニル環部分R7およびR10置換基がいずれも[表5]中のε−1、架橋部分が[表7]中のη−29の組み合わせで構成され、金属部分のMXnがTi(1,3−ペンタジエニル)の場合は、下記化合物[9]を例示している。 In addition, the cyclopentadienyl ring moiety is α-5 in [Table 1], the indenyl ring moiety is β-3 in [Table 2], and the cyclopentadienyl ring moiety R 1 and R 4 substituents are all [ Γ-1 in Table 3], indenyl ring portion R 5 substituent is γ-5 in [Table 3], indenyl ring portion R 6 substituent is δ-2 in [Table 4], indenyl ring portion R 7 And the R 10 substituent is a combination of ε-1 in [Table 5] and the cross-linking moiety is η-29 in [Table 7], and the metal moiety MXn is Ti (1,3-pentadienyl) In the case, the following compound [9] is exemplified.

Figure 2019059934
前記遷移金属化合物(1)従来公知の方法を利用して製造することができ、代表的な合成経路の例を以下に示すが、特に製造法が限定されるわけではない。
Figure 2019059934
The transition metal compound (1) can be produced using a conventionally known method, and examples of representative synthetic routes are shown below, but the production method is not particularly limited.

出発物質である置換シクロペンタジエン化合物は、公知の方法によって製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。公知の製造方法として例えば、「Tetrahedron Lett. 1989,30,3513.」、「J.Org.Chem. 1990,55,3395.」、「Inorg.Chem. 1991,30,853.」、「Оrganometallics 1997,16,2503.」、「J.Organomet.Chem. 1999,577,211.」、「J.Organomet.Chem. 1999,590,169.」、特表2002−535339号公報、「J.Organomet.Chem. 2003,677,133.」、「J.Organomet.Chem. 2005,690,952.」、「Org. Lett. 2008,10,2545.」などが挙げられる。   The starting substituted cyclopentadiene compound can be prepared by known methods, and the preparation method is not particularly limited. As known production methods, for example, “Tetrahedron Lett. 1989, 30, 3513.”, “J. Org. Chem. 1990, 55, 3395.”, “Inorg. Chem. 1991, 30, 853.”, “Organometallics 1997”. J. Organomet. Chem. 1999, 577, 211. "J. Organomet. Chem. 1999, 590, 169.", JP 2002-535339, "J. Organomet. Chem. 2003, 677, 133. "," J. Organomet. Chem. 2005, 690, 952. "," Org. Lett. 2008, 10, 2545. "and the like.

出発物質である置換インデン化合物は、公知の方法によって製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。公知の製造方法として例えば、「Оrganometallics 1994,13,954.」、「Eur.J.Org.Chem. 2005,1058.」、「Оrganometallics 2006,25,1217.」、特表2006−509059号公報、「Bioorg.Med.Chem. 2008,16,7399.」、WО2009/080216号公報、「Оrganometallics 2011,30,5744.」、特表2011−500800号公報、「Оrganometallics 2012,31,4962.」、「Chem.Eur.J. 2012,18,4174.」、特開2012−012307号公報、特開2012−121882号公報、特開2014−196319号公報、特表2014−513735号公報、特開2015−063495号公報、特開2016−501952号公報などが挙げられる。   The starting substituted substituted indene compound can be prepared by known methods, and the preparation method is not particularly limited. As well-known manufacturing methods, for example, “Organometallics 1994, 13, 954.”, “Eur. J. Org. Chem. 2005, 1058.”, “Organometallics 2006, 25, 1217.”, JP 2006-509059A, "Bioorg. Med. Chem. 2008, 16, 7399.", WO 2009/0802216, "Organometallics 2011, 30, 5744.", JP-A 2011-500800, "Organometallics 2012, 31, 4962." Chem. Eur. J. 2012, 18, 4174. ”, JP 2012-012307, JP 2012-121882, JP 2014-196319, JP 201 JP-A-4-513735, JP-A-2015-063495, JP-A-2016-501952 and the like.

前記置換インデン化合物のうち、1位または3位に分岐状アルキル置換基が導入された置換インデン化合物は、例えば下記反応式[1]で示すような公知の方法によって製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。公知の製造方法として例えば、「J.Organomet.Chem. 2002,650,114.」、「Eur.J.Inorg.Chem. 2005,1759.」などが挙げられる。   Among the above-mentioned substituted indene compounds, substituted indene compounds in which a branched alkyl substituent is introduced at the 1- or 3-position can be produced, for example, by a known method as shown in the following reaction formula [1]. Is not limited. Examples of known production methods include "J. Organomet. Chem. 2002, 650, 114.", "Eur. J. Inorg. Chem. 2005, 1759."

Figure 2019059934
なお、前記反応式[1]中、baseは、インデニルアニオンを生成可能な塩基性物質であり、例えば水素化ナトリウム、n−ブチルリチウム、Grignard試薬のような有機金属化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような無機塩基や、ジエチルアミン、ピロリジンのような有機塩基が挙げられるが、特に限定されるわけではない。R6−Mは、アルキルリチウム試薬、芳香族リチウム試薬、アルキルGrignard試薬、芳香族Grignard試薬などの有機金属化合物であり、特に限定されるわけではない。置換インデン化合物とカルボニル化合物よりフルベン化合物を合成し、有機金属化合物と反応させることで目的化合物を製造可能であるが、フルベン化合物と有機金属化合物との反応で生じる反応溶液を、そのまま後述する遷移金属化合物(1)の前駆体化合物(配位子)合成に用いてもよい。
Figure 2019059934
In the reaction formula [1], base is a basic substance capable of producing an indenyl anion, such as sodium hydride, n-butyllithium, an organic metal compound such as Grignard reagent, sodium hydroxide, Examples include inorganic bases such as potassium hydroxide, and organic bases such as diethylamine and pyrrolidine, but are not particularly limited. R 6 -M is an organometallic compound such as an alkyllithium reagent, an aromatic lithium reagent, an alkyl Grignard reagent, and an aromatic Grignard reagent, and is not particularly limited. The target compound can be produced by synthesizing a fulvene compound from a substituted indene compound and a carbonyl compound and reacting it with an organic metal compound, but the reaction solution produced by the reaction of the fulvene compound with the organic metal compound is described in its entirety as a transition metal. You may use for the precursor compound (ligand) synthesis | combination of a compound (1).

前記置換インデン化合物のうち、2位無置換のものに関しては、例えば下記反応式[2]で示すような公知の方法によって2位を臭素化可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。   Among the above-mentioned substituted indene compounds, as for the 2-position unsubstituted one, for example, the 2-position can be brominated by a known method as shown in the following reaction formula [2], and the production method is not particularly limited. .

Figure 2019059934
なお、前記反応式[2]中、NBSはN−ブロモこはく酸イミドを示し、PTSAはp−トルエンスルホン酸およびその一水和物を示している。インデン化合物には、5員環部分二重結合位置異性体が存在するが、それら異性体の混合物を用いてもよい。公知の製造方法として例えば、前記で示した特開2012−121882号公報、特開2015−063495号公報の他に、特開2014−111568号公報などが挙げられる。
Figure 2019059934
In the reaction formula [2], NBS represents N-bromosuccinimide, and PTSA represents p-toluenesulfonic acid and a monohydrate thereof. As indene compounds, 5-membered ring partial double bond regioisomers exist, but a mixture of these isomers may be used. Examples of known production methods include JP-A-2014-111568, as well as JP-A-2012-121882 and JP-A-2015-063495 described above.

前記2位臭素化置換インデン化合物および4位臭素化置換インデン化合物は、例えば下記反応式[3]で示すような、パラジウム触媒による鈴木−宮浦カップリング反応等の公知の方法によって、対応するカップリング生成物を製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。   The 2-position brominated substituted indene compound and the 4-position brominated substituted indene compound are subjected to corresponding coupling, for example, by a known method such as a Suzuki-Miyaura coupling reaction catalyzed by palladium as shown by the following reaction formula [3]. The product can be produced, and the production method is not particularly limited.

Figure 2019059934
前記同様に、インデン化合物5員環部分二重結合位置異性体が存在するが、それら異性体の混合物を用いてもよい。
Figure 2019059934
Similarly to the above, although the indene compound 5-membered ring partial double bond regioisomer exists, a mixture of these isomers may be used.

なお、ボロン酸の代わりに各種ボロン酸エステルやボロキシン等、他のホウ素化合物を用いてもよく、ハロゲン化化合物と金属試薬次いでホウ素化合物との反応混合物を単離精製せずに用いてもよく、パラジウム触媒の代わりにニッケル触媒または鉄触媒を用いてもよい。公知の製造方法として例えば、前記で示したものの他に、特開2014−196274号公報などが挙げられる。   It should be noted that instead of boronic acid, other boron compounds such as various boronate esters and boroxine may be used, and a reaction mixture of a halogenated compound and a metal reagent and then a boron compound may be used without isolation and purification. Instead of a palladium catalyst, a nickel catalyst or an iron catalyst may be used. As well-known manufacturing methods, Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-196274 etc. are mentioned other than what was shown above, for example.

また、カップリング生成物の製造には、ホウ素化合物による鈴木−宮浦カップリングの代わりに、有機亜鉛試薬との根岸カップリング、アルケン化合物との溝呂木−Heck反応、有機ケイ素化合物との檜山カップリング、末端アルキン化合物との薗頭−萩原カップリング、有機スズ化合物との右田−小杉−Stilleカップリング、有機マグネシウム化合物との熊田−玉尾−Corriuカップリング、Buchwald−Hartwigカップリング、Goldbergアミノ化反応またはUllmannエーテル合成反応を用いてもよい。公知の製造方法として例えば、前記で示したものの他に、特開平8−183814号公報、特表2005−529865号公報、特表2006−509046号公報などが挙げられる。   In addition, instead of Suzuki-Miyaura coupling with a boron compound, Negishi coupling with an organozinc reagent, Mizorogi-Heck reaction with an alkene compound, and Anzan coupling with an organosilicon compound for production of a coupling product, Sonogashira-Sasahara coupling with terminal alkyne compounds, rightfield-Kosugi-Stille coupling with organotin compounds, Kumada-Tamao-Corriu coupling with organomagnesium compounds, Buchwald-Hartwig coupling, Goldberg amination reaction or Ullmann ether synthesis may be used. As a well-known manufacturing method, in addition to what was shown above, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-183814, Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-529865, the Japanese-Patent No. 2006-509046 etc. are mentioned, for example.

カップリング生成物の製造には、例えば下記反応式[4]に示すような、前記2位無置換インデン化合物と芳香族ハロゲン化物を用い、パラジウム触媒による直接カップリング反応等の公知の方法を用いてもよい。   For the production of the coupling product, for example, as shown in the following reaction formula [4], using a 2-position unsubstituted indene compound and an aromatic halide, a known method such as a direct coupling reaction with a palladium catalyst is used May be

Figure 2019059934
前記反応式[4]中、Arは芳香族置換基を示し、インデン化合物5員環部分二重結合位置異性体の混合物を用いてもよい。公知の製造方法として例えば、特表2000−512661号公報、特開2014−201519号公報などが挙げられる。
Figure 2019059934
In said Reaction Formula [4], Ar shows an aromatic substituent and may use the mixture of the indene compound 5-membered ring partial double bond positional isomer. Examples of known production methods include JP-A-2000-512661 and JP-A-2014-201519.

遷移金属化合物(1)および前駆体化合物(配位子)は、前記手法等で製造した各種置換シクロペンタジエニル化合物および各種置換インデン化合物を用いて公知の方法によって製造できる。Q1がケイ素原子、ゲルマニウム原子またはスズ原子の場合、例えば下記反応式[5]で示すような方法によって製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。 The transition metal compound (1) and the precursor compound (ligand) can be produced by known methods using various substituted cyclopentadienyl compounds and various substituted indene compounds prepared by the above-mentioned method and the like. When Q 1 is a silicon atom, a germanium atom or a tin atom, it can be produced, for example, by the method shown in the following reaction formula [5], and the production method is not particularly limited.

Figure 2019059934
Figure 2019059934

前記反応式[5]中、前駆体化合物(配位子)合成において、置換シクロペンタジエニル化合物より調整される有機リチウム試薬、および置換インデン化合物より調整される有機リチウム試薬は、段階的にQ1を含む塩化物と反応することが好ましく、その順序はいずれでもよい。一段階目の有機金属試薬との反応の後、不活性雰囲気化で副生無機化合物を除去してもよく、反応生成物を蒸留、晶析または洗浄等の操作で単離してから使用してもよい。二段階目の有機金属試薬との反応の際、DMI(1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン)、DMPU(N,N’−ジメチルプロピレン尿素)またはHMPA(ヘキサメチルリン酸トリアミド)等を、有機金属試薬に対して0.1〜5.0当量添加することが好ましく、より好ましくはDMIであり、1.0当量である。なお、置換シクロペンタジエニル化合物、置換インデン化合物および前駆体化合物(配位子)には、5員環部分二重結合位置異性体が存在するが、それら異性体の混合物を用いてもよい。また、置換シクロペンタジエニル化合物が、前記2位臭素化置換インデン化合物の場合には、マグネシウムを用いたGrignard試薬を用いてもよい。 In the reaction formula [5], an organolithium reagent prepared from a substituted cyclopentadienyl compound and an organolithium reagent prepared from a substituted indene compound in the precursor compound (ligand) synthesis are stepwisely Q It is preferable to react with the chloride containing 1. The order may be arbitrary. After the reaction with the organometallic reagent in the first step, the by-product inorganic compound may be removed by inert atmosphere, and the reaction product is isolated by an operation such as distillation, crystallization or washing and then used. It is also good. In the reaction with the second step organometallic reagent, DMI (1,3-dimethyl-2-imidazolidinone), DMPU (N, N'-dimethylpropylene urea) or HMPA (hexamethyl phosphate triamide) etc. It is preferable to add 0.1-5.0 equivalent with respect to an organometallic reagent, More preferably, it is DMI and is 1.0 equivalent. In addition, although a 5-membered ring partial double bond regioisomer exists in the substituted cyclopentadienyl compound, the substituted indene compound and the precursor compound (ligand), a mixture of these isomers may be used. When the substituted cyclopentadienyl compound is the 2-position brominated substituted indene compound, a Grignard reagent using magnesium may be used.

遷移金属化合物(1)および前駆体化合物(配位子)の公知の製造方法として、例えば、前記で示したものの他に、「Macromolecules 1995,28,3771.」、特開平11−315089号公報、特開2001−302687号公報、特開2001−220404号公報、「高分子論文集 2002,59,243.」、特表2003−522194号公報、「Macromolecules 2004,37,2342.」、特開2007−320935号公報、特開2011−126813号公報などが挙げられる。   As known methods for producing the transition metal compound (1) and the precursor compound (ligand), for example, in addition to those described above, “Macromolecules 1995, 28, 3771.”, JP-A-11-315089, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-302687, 2001-220404, "Polymer Articles 2002, 59, 243.", Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-522194, "Macromolecules 2004, 37, 2342." -320935 gazette, Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-126813 gazette etc. are mentioned.

1が炭素原子の場合、例えば下記反応式[6]に示すような方法によって製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。 When Q 1 is a carbon atom, it can be produced, for example, by the method shown in the following reaction formula [6], and the production method is not particularly limited.

Figure 2019059934
Figure 2019059934

前記反応式[6]中、baseは、シクロペンタジエニルアニオンを生成可能な塩基性物質であり、例えば前記反応式[1]で示したものが挙げられ、特に限定されるわけではない。塩基性物質存在下、置換シクロペンタジエニル化合物とカルボニル化合物より、公知の方法によってフルベン化合物が合成でき、置換インデン化合物より調整される有機リチウム試薬との反応によって、前駆体化合物(配位子)を製造することが可能である。なお、置換シクロペンタジエニル化合物、置換インデン化合物および前駆体化合物(配位子)には、5員環部分二重結合位置異性体が存在するが、それら異性体の混合物を用いてもよい。また、置換シクロペンタジエニル化合物が、前記2位臭素化置換インデン化合物の場合には、例えば下記反応式[7]に示すような方法によって製造可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。   In the reaction formula [6], base is a basic substance capable of forming a cyclopentadienyl anion, and examples thereof include those shown in the reaction formula [1], and are not particularly limited. A precursor compound (ligand) can be synthesized by a reaction with an organolithium reagent prepared from a substituted cyclopentadienyl compound and a carbonyl compound by a known method in the presence of a basic substance and prepared from a substituted indene compound It is possible to manufacture. In addition, although a 5-membered ring partial double bond regioisomer exists in the substituted cyclopentadienyl compound, the substituted indene compound and the precursor compound (ligand), a mixture of these isomers may be used. In the case of the 2-position brominated substituted indene compound, the substituted cyclopentadienyl compound can be produced, for example, by the method shown in the following reaction formula [7], and the production method is particularly limited. Absent.

Figure 2019059934
Figure 2019059934

前記反応式[7]中、baseは、インデニルアニオンを生成可能な塩基性物質であり、例えば前記反応式[1]で示したものが挙げられ、特に限定されるわけではない。塩基性物質存在下、置換1−インデン化合物とカルボニル化合物より、公知の方法によってフルベン化合物が合成でき、2−臭素化置換インデン化合物より調整される有機マグネシウム試薬との反応によって、前駆体化合物(配位子)を製造することが可能である。なお、置換インデン化合物および前駆体化合物(配位子)には、5員環部分二重結合位置異性体が存在するが、それら異性体の混合物を用いてもよい。   In the reaction formula [7], base is a basic substance capable of forming an indenyl anion, and examples thereof include those shown in the reaction formula [1], and the base is not particularly limited. The precursor compound can be prepared by reaction with an organomagnesium reagent in which a fulvene compound can be synthesized from a substituted 1-indene compound and a carbonyl compound by a known method in the presence of a basic substance and prepared from a 2-brominated substituted indene compound. It is possible to produce In addition, although a 5-membered ring partial double bond positional isomer exists in the substituted indene compound and the precursor compound (ligand), a mixture of these isomers may be used.

遷移金属化合物(1)および前駆体化合物(配位子)の公知の製造方法として例えば、前記で示したものの他に、「Macromolecules 2001,34,2072.」、「Macromolecules 2003,36,9325.」、「Organometallics 2004,23,5332.」、「Eur.J.Inorg.Chem. 2005,1003.」、「Eur.J.Inorg.Chem. 2009,1759.」、などが挙げられる。   As well-known production methods of the transition metal compound (1) and the precursor compound (ligand), for example, in addition to those described above, "Macromolecules 2001, 34, 2072.", "Macromolecules 2003, 36, 9325." “Organometallics 2004, 23, 5332.”, “Eur. J. Inorg. Chem. 2005, 1003.”, “Eur. J. Inorg. Chem. 2009, 1759.”, and the like.

また、本発明の遷移金属化合物(1)は、架橋部分を挟んで中心金属と結合するシクロペンタジエニル環部分の面が2方向存在する(表面と裏面)。故に、シクロペンタジエニル環部分に対称面が存在しない場合、一例として下記一般式[10a]もしくは[10b]で示される2種類の構造異性体が存在する。   In addition, in the transition metal compound (1) of the present invention, the faces of the cyclopentadienyl ring portion bonded to the central metal via the crosslinking portion are present in two directions (front and back). Therefore, when a plane of symmetry does not exist in the cyclopentadienyl ring portion, two structural isomers represented by the following general formula [10a] or [10b] exist as an example.

Figure 2019059934
同様に、架橋部分の置換基R11とR12が同一でない場合にも、一例として下記一般式[11a]あるいは[11b]で示される2種類の構造異性体が存在する。
Figure 2019059934
Similarly, when the substituents R 11 and R 12 in the cross-linking moiety are not the same, two structural isomers represented by the following general formula [11a] or [11b] exist as an example.

Figure 2019059934
Figure 2019059934

これら構造異性体混合物の精製、分取、あるいは構造異性体の選択的な製造は、公知の方法によって可能であり、特に製造法が限定されるわけではない。公知の製造方法としては、前記遷移金属化合物(1)の製造方法として挙げたものの他に、特開平10−109996号公報、「Оrganometallics 1999,18,5347.」、「Оrganometallics 2012,31,4340.」、特表2011−502192号公報などが挙げられる。   Purification of these structural isomer mixtures, separation, or selective production of structural isomers is possible by known methods, and the production method is not particularly limited. As well-known manufacturing methods, in addition to the ones mentioned as the manufacturing method of the transition metal compound (1), JP-A No. 10-109996, “Organometallics 1999, 18, 5347”, “Organometallics 2012, 31, 4340. And Japanese Patent Application Publication No. 2011-502192.

なお、本発明において遷移金属化合物(1)は、1種単独で用いてもよく、前記遷移金属化合物(1)のうち、化学構造の異なる遷移金属化合物を2種以上併用してもよい。また、化学構造が同一である構造異性体1種単独で用いてもよく、化学構造が同一である構造異性体混合物を用いてもよく、これら上記の組み合わせで用いてもよい。   In the present invention, one type of transition metal compound (1) may be used alone, or two or more types of transition metal compounds having different chemical structures may be used in combination among the transition metal compounds (1). Further, one structural isomer having the same chemical structure may be used alone, a structural isomer mixture having the same chemical structure may be used, or a combination of these may be used.

<成分(B)>
成分(B)は、下記一般式(2)で表される遷移金属化合物(以下「遷移金属化合物(2)」ともいう。)である。本発明のオレフィン重合用触媒は、遷移金属化合物(2)を少なくとも1種含む。すなわち、成分(B)として、遷移金属化合物(2)を複数種用いてもよい。
<Component (B)>
The component (B) is a transition metal compound represented by the following general formula (2) (hereinafter also referred to as “transition metal compound (2)”). The olefin polymerization catalyst of the present invention contains at least one transition metal compound (2). That is, a plurality of transition metal compounds (2) may be used as the component (B).

Figure 2019059934
式(2)中の各記号の定義は以下のとおりである。
Mは、周期表第4族遷移金属原子であり、具体的にはチタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子であり、好ましくはジルコニウム原子である。
Figure 2019059934
The definition of each symbol in Formula (2) is as follows.
M is a transition metal atom of Group 4 of the periodic table, and specifically, is a titanium atom, a zirconium atom, or a hafnium atom, preferably a zirconium atom.

Xは、一価の原子もしくは基であり、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基およびリン含有基から選ばれる原子または基であり、好ましくはハロゲン原子、炭化水素基である。前記ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基およびリン含有基の具体例としては、前記式(1)で例示したものと同様のものが挙げられる。   X is a monovalent atom or group, each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, a halogen-containing hydrocarbon group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group and a phosphorus-containing group It is an atom or a group selected from, preferably a halogen atom or a hydrocarbon group. Specific examples of the halogen atom, the hydrocarbon group, the halogen-containing hydrocarbon group, the silicon-containing group, the oxygen-containing group, the sulfur-containing group, the nitrogen-containing group and the phosphorus-containing group are the same as those exemplified in the formula (1). The ones of

2は、二つの配位子を結合する二価の基であって、炭素数1〜20の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基から選ばれる基であり、好ましくは、アルキレン基、置換アルキレン基およびアルキリデン基などの炭素数1〜20の炭化水素基ならびにケイ素含有基であり、特に好ましくはアルキレン基、置換アルキレン基およびアルキリデン基などの炭素数1〜10の炭化水素基である。 Q 2 is a divalent group binding two ligands and is a group selected from a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, a germanium-containing group and a tin-containing group And is preferably a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms such as an alkylene group, a substituted alkylene group and an alkylidene group, and a silicon-containing group, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms such as an alkylene group, a substituted alkylene group and an alkylidene group. 10 hydrocarbon groups.

前記炭素数1〜20の炭化水素基(二価の炭素数1〜20の炭化水素基)としては、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレンなどのアルキレン基;イソプロピリデン、ジメチルメチレン、ジエチルメチレン、ジプロピルメチレン、ジイソプロピルメチレン、ジブチルメチレン、メチルエチルメチレン、メチルブチルメチレン、メチル−t−ブチルメチレン、ジヘキシルメチレン、ジシクロヘキシルメチレン、メチルシクロヘキシルメチレン、メチルフェニルメチレン、ジフェニルメチレン、ジトリルメチレン、メチルナフチルメチレン、ジナフチルメチレン、1−メチルエチレン、1,2−ジメチルエチレン、1−エチル−2−メチルエチレンなどの置換アルキレン基;シクロプロピリデン、シクロブチリデン、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、シクロヘプチリデン、ビシクロ[3.3.1]ノニリデン、ノルボルニリデン、アダマンチリデン、テトラヒドロナフチリデン、ジヒドロインダニリデンなどのシクロアルキレン基;エチリデン、プロピリデン、ブチリデンなどのアルキリデン基などが挙げられる。   As said C1-C20 hydrocarbon group (Divalent C1-C20 hydrocarbon group), Alkylene groups, such as a methylene, ethylene, propylene, a butylene; isopropylidene, dimethyl methylene, diethyl methylene, a dipropyl Methylene, diisopropylmethylene, dibutylmethylene, methylethylmethylene, methylbutylmethylene, methyl-t-butylmethylene, dihexylmethylene, dicyclohexylmethylene, methylcyclohexylmethylene, methylphenylmethylene, diphenylmethylene, ditolylmethylene, methylnaphthylmethylene, dinaphthyl Substituted alkylene groups such as methylene, 1-methylethylene, 1,2-dimethylethylene, 1-ethyl-2-methylethylene and the like; cyclopropylidene, cyclobutylidene, cyclopentylidene, benzene Cycloalkylene groups such as lohexylidene, cycloheptylidene, bicyclo [3.3.1] nonylidene, norbornylidene, adamantylidene, tetrahydronaphthylidene, dihydroindanylidene and the like; alkylidene groups such as ethylidene, propylidene and butylidene etc. .

前記ケイ素含有基(二価のケイ素含有基)としては、シリレン、メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジイソプロピルシリレン、ジブチルシリレン、メチルブチルシリレン、メチル−t−ブチルシリレン、ジシクロヘキシルシリレン、メチルシクロヘキシルシリレン、メチルフェニルシリレン、ジフェニルシリレン、ジトリルシリレン、メチルナフチルシリレン、ジナフチルシリレン、シクロジメチレンシリレン、シクロトリメチレンシリレン、シクロテトラメチレンシリレン、シクロペンタメチレンシリレン、シクロヘキサメチレンシリレン、シクロヘプタメチレンシリレン基などが挙げられ、好ましくはジメチルシリレン、ジブチルシリレン、ジフェニルシリレンである。   Examples of the silicon-containing group (divalent silicon-containing group) include silylene, methylsilylene, dimethylsilylene, diisopropylsilylene, dibutylsilylene, methylbutylsilylene, methyl-t-butylsilylene, dicyclohexylsilylene, methylcyclohexylsilylene and methylphenylsilylene. And diphenylsilylene, ditolylsilylene, methylnaphthylsilylene, dinaphthylsilylene, cyclodimethylenesilylene, cyclotrimethylenesilylene, cyclotetramethylenesilylene, cyclopentamethylenesilylene, cyclohexamethylenesilylene and cycloheptamethylenesilylene groups. And preferably dimethylsilylene, dibutylsilylene and diphenylsilylene.

前記ゲルマニウム含有基(二価のゲルマニウム含有基)または前記スズ含有基(スズ含有基)としては、上記ケイ素含有基においてケイ素をゲルマニウムまたはスズに変換した基などが挙げられる。   As said germanium containing group (divalent germanium containing group) or said tin containing group (tin containing group), the group etc. which converted silicon into germanium or tin in the said silicon containing group are mentioned.

前記ハロゲン含有基(二価のハロゲン含有基)としては、上記アルキレン基、置換アルキレン基、シクロアルキレン基、アルキリデン基中やケイ素含有基中の水素原子の1個以上が適当なハロゲン原子で置換された基(ハロゲン含有ケイ素含有基)が挙げられ、例えば、ビス(トリフルオロメチル)メチレン、4,4,4−トリフルオロブチルメチルメチレン、ビス(トリフルオロメチル)シリレン、4,4,4−トリフルオロブチルメチルシリレン基などが挙げられる。   As the halogen-containing group (divalent halogen-containing group), one or more of hydrogen atoms in the above-mentioned alkylene group, substituted alkylene group, cycloalkylene group, alkylidene group or silicon-containing group are substituted with an appropriate halogen atom Groups (halogen-containing silicon-containing groups), for example, bis (trifluoromethyl) methylene, 4,4,4-trifluorobutylmethylmethylene, bis (trifluoromethyl) silylene, 4,4,4-tri A fluorobutyl methyl silylene group etc. are mentioned.

13〜R24は、一価の原子もしくは基であり、それぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、硫黄含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基から選ばれ、隣接する2個の基が連結して環を形成してもよい。前記炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、硫黄含有基、リン含有基、ケイ素含有基の具体例としては、前記式(1)で例示したものと同様のものが挙げられる。また、前記ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、前記ケイ素含有基においてケイ素をゲルマニウムまたはスズに変換した基などが挙げられる。 R 13 to R 24 each represent a monovalent atom or group, and each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, a halogen-containing group, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group, a boron-containing group, a sulfur-containing group, a phosphorus-containing group, Two adjacent groups selected from a silicon-containing group, a germanium-containing group and a tin-containing group may be linked to form a ring. Specific examples of the hydrocarbon group, the halogen-containing group, the oxygen-containing group, the nitrogen-containing group, the boron-containing group, the sulfur-containing group, the phosphorus-containing group and the silicon-containing group are the same as those exemplified in the formula (1). The thing is mentioned. Moreover, as said germanium containing group and tin containing group, the group etc. which converted silicon into germanium or tin in the said silicon containing group are mentioned.

前記遷移金属化合物(2)の具体例としては、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ−t−ブチル−9−フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3,6−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(オクタメチルオクタヒドリドジベンズフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジブチルメチレン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジブチルメチレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジブチルメチレン(シクロペンタジエニル)(3,6−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジブチルメチレン(シクロペンタジエニル)(オクタメチルオクタヒドリドジベンズフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、シクロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、シクロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、シクロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(3,6−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、シクロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(オクタメチルオクタヒドリドジベンズフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(3,6−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリドおよびジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(オクタメチルオクタヒドリドジベンズフルオレニル)ジルコニウムジクロリドが挙げられ、より好ましい具体例として、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ−t−ブチル−9−フルオレニル)ジルコニウムジクロリドなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the transition metal compound (2) include isopropylidene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dichloride, isopropylidene (cyclopentadienyl) (2, 7-di-t-butyl-9-fluorenyl) Zirconium dichloride, isopropylidene (cyclopentadienyl) (3,6-di-t-butylfluorenyl) zirconium dichloride, isopropylidene (cyclopentadienyl) (octamethyloctahydridodibenzfluorenyl) zirconium dichloride, Dibutyl methylene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dichloride, dibutyl methylene (cyclopentadienyl) (2,7-di-t-butyl fluorenyl) zirconium dichloride, dibutyl methylene (cyclopentadienyl) (3,6-di-t-butylfluorenyl) zirconium dichloride, dibutyl methylene (cyclopentadienyl) (octamethyl octahydrido dibenzfluorenyl) zirconium dichloride, cyclohexylidene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) ) Zirconium dichloride, cyclohexylidene (cyclopentadienyl) (2,7-di-tert-butylfluorenyl) zirconium dichloride, cyclohexylidene (cyclopentadienyl) (3,6-di-tert-butylfulcyl) Olenyl) zirconium dichloride, cyclohexylidene (cyclopentadienyl) (octamethyl octahydrido dibenzfluorenyl) zirconium dichloride, dimethylsilyl (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dichloride, dime Silyl (cyclopentadienyl) (2,7-di-tert-butylfluorenyl) zirconium dichloride, dimethylsilyl (cyclopentadienyl) (3,6-di-tert-butylfluorenyl) zirconium dichloride and dimethyl And silyl (cyclopentadienyl) (octamethyl octahydrido dibenz fluorenyl) zirconium dichloride, more preferably isopropylidene (cyclopentadienyl) (2,7-di-t-butyl-9). -Fluorenyl) zirconium dichloride and the like, but it is not limited thereto.

前記遷移金属化合物(2)およびその製造方法は本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、その具体例としては、例えば、特開2006−233208号公報などに例示したものが挙げられる。   The transition metal compound (2) and the method for producing the same are not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited, but specific examples thereof include those exemplified in JP-A-2006-233208 and the like.

本発明においては、前記遷移金属化合物(2)を1種単独で用いてもよいし、前記遷移金属化合物(2)のうち、化学構造の異なる遷移金属化合物を二種類以上用いてもよい。また、化学構造が同一である構造異性体を1種単独で用いてもよいし、化学構造が同一である構造異性体混合物(例えば、メソ体混合物またはラセミ体混合物)で用いてもよい。   In the present invention, one type of transition metal compound (2) may be used alone, or two or more types of transition metal compounds having different chemical structures may be used among the transition metal compounds (2). In addition, structural isomers having the same chemical structure may be used alone or in a mixture of structural isomers having the same chemical structure (for example, a meso mixture or a racemic mixture).

<成分(C)>
成分(C)は、下記一般式(3)〜(5)で表される有機金属化合物(c−1)、有機アルミニウムオキシ化合物(c−2)、ならびに、成分(A)および成分(B)と反応してイオン対を形成する化合物(c−3)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である。
a mAl(ORb)npq ・・・(3)
式(3)中、RaおよびRbは、それぞれ独立に炭素原子数が1〜15の炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0<m≦3、nは0≦n<3、pは0≦p<3、qは0≦q<3の数であり、かつm+n+p+q=3である。
a AlRa 4 ・・・(4)
式(4)中、MaはLi、NaまたはKを示し、Raは炭素原子数が1以上15以下の炭化水素基を示す。
a rbb st ・・・(5)
式(5)中、RaおよびRbは、それぞれ独立に炭素原子数が1以上15以下の炭化水素基を示し、MbはMg、ZnおよびCdから選ばれ、Xはハロゲン原子を示し、rは0<r≦2、sは0≦s≦1、tは0≦t≦1であり、かつr+s+t=2である。
<Component (C)>
The component (C) is an organometallic compound (c-1) represented by the following general formulas (3) to (5), an organoaluminum oxy compound (c-2), and the component (A) and the component (B) And at least one compound selected from the group consisting of compounds (c-3) which react with each other to form an ion pair.
R a m Al (OR b) n H p X q ··· (3)
In formula (3), R a and R b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, X represents a halogen atom, m is 0 <m ≦ 3, n is 0 ≦ n <3, p is 0 ≦ p <3, q is a number of 0 ≦ q <3, and m + n + p + q = 3.
M a Al R a 4 (4)
Wherein (4), M a represents a Li, Na or K, R a represents a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
R a r M b R b s X t (5)
In formula (5), R a and R b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, M b is selected from Mg, Zn and Cd, and X is a halogen atom, r is 0 <r ≦ 2, s is 0 ≦ s ≦ 1, t is 0 ≦ t ≦ 1, and r + s + t = 2.

前記有機金属化合物(c−1)の中では、前記式(3)で示されるものが好ましく、具体的には、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリ2-エチルヘキシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム;ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、ジイソブチルアルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムブロミドなどのジアルキルアルミニウムハライド;メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、イソプロピルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド;メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、イソプロピルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライド;ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジヒドロフェニルアルミニウムハイドライド、ジイソプロピルアルミニウムハイドライド、ジ-n-ブチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジイソヘキシルアルミニウムハイドライド、ジフェニルアルミニウムハイドライド、ジシクロヘキシルアルミニウムハイドライド、ジ-sec-ヘプチルアルミニウムハイドライド、ジ-sec-ノニルアルミニウムハイドライドなどのアルキルアルミニウムハイドライド;ジメチルアルミニウムエトキサイド、ジエチルアルミニウムエトキサイド、ジイソプロピルアルミニウムメトキサイド、ジイソブチルアルミニウムエトキサイドなどのジアルキルアルミニウムアルコキサイドなどが挙げられる。   Among the organometallic compounds (c-1), those represented by the above formula (3) are preferable, and specifically, trimethylaluminum, triethylaluminum, triisopropylaluminum, triisobutylaluminum, trihexylaluminum, trioctyl Aluminum, trialkylaluminums such as tri-2-ethylhexylaluminum; dialkylaluminum halides such as dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, diisopropylaluminum chloride, diisobutylaluminum chloride, dimethylaluminum bromide, etc .; methylaluminum sesquichloride, ethylaluminum sesquichloride, isopropylaluminum Sesquichloride, butylaluminum sesquichloride, ethylaluminum Alkyl aluminum sesquihalides such as sesquibromide; alkyl aluminum dihalides such as methyl aluminum dichloride, ethyl aluminum dichloride, isopropyl aluminum dichloride, ethyl aluminum dibromide; dimethyl aluminum hydride, diethyl aluminum hydride, dihydrophenyl aluminum hydride, diisopropyl aluminum hydride, dialuminum Alkylaluminums such as n-butylaluminum hydride, diisobutylaluminum hydride, diisohexylaluminum hydride, diphenylaluminum hydride, dicyclohexylaluminum hydride, di-sec-heptylaluminum hydride, di-sec-nonylaluminum hydride, etc. Arm hydride; dimethyl aluminum ethoxide, diethyl aluminum ethoxide, diisopropylaluminum methoxide and dialkylaluminum alkoxide such as diisobutylaluminum ethoxide and the like.

前記式(4)の例としては、水素化アルミニウムリチウムなどが挙げられ、前記式(5)の例としては、特開2003−171412号公報などに記載されたジアルキル亜鉛化合物などが挙げられ、フェノール化合物などと組合せて用いることもできる。   Examples of the formula (4) include lithium aluminum hydride, and examples of the formula (5) include dialkyl zinc compounds described in JP-A No. 2003-171412 and the like, and phenol It can also be used in combination with a compound or the like.

前記有機アルミニウムオキシ化合物(c−2)としては、トリアルキルアルミニウムまたはトリシクロアルキルアルミニウムから調製された有機アルミニウムオキシ化合物が好ましく、トリメチルアルミニウムまたはトリイソブチルアルミニウムから調製されたアルミノキサンが特に好ましい。このような有機アルミニウムオキシ化合物は、1種単独または2種以上を組み合わせて用いられる。   As the organoaluminum oxy compound (c-2), an organoaluminum oxy compound prepared from trialkylaluminum or tricycloalkylaluminum is preferable, and an aluminoxane prepared from trimethylaluminum or triisobutylaluminum is particularly preferable. Such organoaluminum oxy compounds are used singly or in combination of two or more.

前記成分(A)および成分(B)と反応してイオン対を形成する化合物(c−3)としては、特開平1−501950号公報、特開平1−502036号公報、特開平3−179005号公報、特開平3−179006号公報、特開平3−207703号公報、特開平3−207704号公報およびUS5321106などに記載されたルイス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およびカルボラン化合物や、さらにはヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物などを用いることができる。   As a compound (c-3) which reacts with the said component (A) and a component (B), and forms an ion pair, Unexamined-Japanese-Patent No. 1-501950, Unexamined-Japanese-Patent No. 1-502036, Unexamined-Japanese-Patent No. 3-179005 are mentioned. Lewis acids, ionic compounds, borane compounds, carborane compounds, and further heteropoly compounds described in JP-A-3-179006, JP-A-3-207703, JP-A-3-207704 and US Pat. No. 5,321,106 etc. And isopoly compounds can be used.

本発明に係るオレフィン重合用触媒では、助触媒成分としてメチルアルミノキサン等の有機アルミニウムオキシ化合物を併用すると、オレフィン化合物に対して非常に高い重合活性を示すだけでなく、固体状担体中の活性水素と反応し助触媒成分を含有した固体担体成分を容易に調製できるため、成分(C)は、少なくとも有機アルミニウムオキシ化合物(c−2)を含むことが好ましい。   In the catalyst for olefin polymerization according to the present invention, when an organoaluminum oxy compound such as methylaluminoxane is used in combination as a co-catalyst component, it not only exhibits a very high polymerization activity with respect to the olefin compound but also active hydrogen in the solid support The component (C) preferably contains at least an organoaluminum oxy compound (c-2) because a solid support component containing a reacted cocatalyst component can be easily prepared.

<固体状担体(S)>
本発明で用いられる固体状担体(S)は、無機化合物または有機化合物であって、顆粒状または微粒子状の固体である。
<Solid carrier (S)>
The solid carrier (S) used in the present invention is an inorganic compound or an organic compound, and is a granular or particulate solid.

前記固体状担体(S)として用いられる無機化合物としては、多孔質酸化物、固体状アルミノキサン化合物、無機塩化物、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物が挙げられる。   Examples of the inorganic compound used as the solid carrier (S) include porous oxides, solid aluminoxane compounds, inorganic chlorides, clays, clay minerals, and ion exchange layered compounds.

前記多孔質酸化物としては、SiO2、Al23、MgO、ZrO、TiO2、B23、CaO、ZnO、BaOおよびThO2など、またはこれらを含む複合物または混合物、具体的には、天然または合成ゼオライト、SiO2−MgO、SiO2−Al23、SiO2−TiO2、SiO2−V25、SiO2−Cr23およびSiO2−TiO2−MgOなどが用いられる。これらのうち、SiO2を主成分とするものが好ましい。 Examples of the porous oxide include SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, ZrO, TiO 2 , B 2 O 3 , CaO, ZnO, BaO and ThO 2, etc., or a composite or mixture thereof. Are natural or synthetic zeolites, SiO 2 -MgO, SiO 2 -Al 2 O 3 , SiO 2 -TiO 2 , SiO 2 -V 2 O 5 , SiO 2 -Cr 2 O 3 and SiO 2 -TiO 2 -MgO, etc. Is used. Among these, one having SiO 2 as a main component is preferable.

なお、上記多孔質酸化物には、少量のNa2CO3、K2CO3、CaCO3、MgCO3、Na2SO4、Al2(SO43、BaSO4、KNO3、Mg(NO32、Al(NO33、Na2O、K2O、Li2O等の炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差し支えない。 In addition, a small amount of Na 2 CO 3 , K 2 CO 3 , CaCO 3 , MgCO 3 , Na 2 SO 4 , Al 2 (SO 4 ) 3 , BaSO 4 , KNO 3 , Mg (NO) 3) 2, Al (NO 3 ) 3, Na 2 O, K 2 O, Li 2 carbonates O etc., sulfate, nitrate, no problem also contain oxide components.

このような多孔質酸化物は、種類および製法によりその性状は異なるが、本発明で用いられる固体状担体(S)としては、粒径が通常0.2〜300μm、好ましくは1〜200μmであって、比表面積が通常50〜1200m2/g、好ましくは100〜1000m2/gの範囲にあり、細孔容積が通常0.3〜30cm3/gの範囲にあるものが好ましい。このような担体は、必要に応じて、例えば、100〜1000℃、好ましくは150〜700℃で焼成して用いられる。 Such a porous oxide has different properties depending on the type and production method, but the solid carrier (S) used in the present invention has a particle size of usually 0.2 to 300 μm, preferably 1 to 200 μm. Te, the specific surface area is usually 50~1200m 2 / g, preferably in the range of 100~1000m 2 / g, which pore volume is in the range of usually 0.3~30cm 3 / g are preferred. Such a carrier is used after being calcined, for example, at 100 to 1000 ° C., preferably 150 to 700 ° C., as necessary.

前記固体状アルミノキサン化合物としては、下記一般式(S−a)で表わされる構造のアルミノキサン、下記一般式(S−b)で表される構造のアルミノキサン、および下記一般式(S−c)で表される繰り返し単位と下記一般式(S−d)で表される繰り返し単位とを構造として有するアルミノキサンなどが挙げられる。   As the solid aluminoxane compound, an aluminoxane having a structure represented by the following general formula (S-a), an aluminoxane having a structure represented by the following general formula (S-b), and a table represented by the following general formula (S-c) And an aluminoxane having a repeating unit represented by the following general formula (S-d) as a structure.

Figure 2019059934
Figure 2019059934

上記式(S−a)〜(S−d)において、Reは、それぞれ独立に、炭素原子数1〜10、好ましくは1〜4の炭化水素基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソプロペニル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、フェニル基、トリル基、エチルフェニル基などの炭化水素基を例示することができ、メチル基、エチル基、イソブチル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。また、Reの一部が塩素や臭素などのハロゲン原子で置換され、かつハロゲン含有率がReを基準として40重量%以下であってもよい。上記式(S−c)および(S−d)中の、片方が原子と繋がっていない直線は、図示していない別の原子との結合を示す。 In the above formulas (S-a) to (S-d), R e each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 10, preferably 1 to 4 carbon atoms, and more specifically a methyl group or an ethyl group Group, propyl group, isopropyl group, isopropenyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group And hydrocarbon groups such as octadecyl group, eicosyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group etc., methyl group, ethyl group and isobutyl group are preferable, and methyl group is particularly preferable. preferable. In addition, part of R e may be substituted with a halogen atom such as chlorine or bromine, and the halogen content may be 40% by weight or less based on R e . The straight line in which one side is not connected to the atom in the above formulas (S-c) and (S-d) indicates a bond with another atom not shown.

前記式(S−a)および(S−b)中、rは2〜500、好ましくは6〜300、特に好ましくは10〜100の整数を示す。前記式(S−c)および(S−d)中、sおよびtはそれぞれ1以上の整数を示す。r、sおよびtは、前記アルミノキサンが、用いられる反応環境下において、実質的に固体状態を維持できるように、選択される。   In the formulas (S-a) and (S-b), r is an integer of 2 to 500, preferably 6 to 300, and particularly preferably 10 to 100. In the formulas (S-c) and (S-d), s and t each represent an integer of 1 or more. r, s and t are selected such that the aluminoxane can maintain a substantially solid state under the reaction environment used.

前記固体状アルミノキサン化合物は、従来公知のオレフィン重合触媒用担体と異なり、シリカやアルミナなどの無機固体成分、および、ポリエチレンやポリスチレンなどの有機系ポリマー成分を含まず、アルキルアルミニウム化合物を主たる成分として固体化したものである。「固体状」とは、アルミノキサン成分が、用いられる反応環境下において、実質的に固体状態を維持することである。より具体的には、後述のように前記遷移金属化合物[A]とアルミノキサン成分とを接触させてオレフィン重合用触媒(例:エチレン重合用触媒)を調製する際、および調製されたオレフィン重合用触媒を用いてオレフィン(例:エチレン)の重合(たとえば懸濁重合)を行う際に、アルミノキサン成分が実質的に固体状態を維持することである。   The solid aluminoxane compound does not contain an inorganic solid component such as silica or alumina and an organic polymer component such as polyethylene or polystyrene, unlike the conventionally known support for an olefin polymerization catalyst, and is a solid containing an alkylaluminum compound as a main component It is "Solid" means that the aluminoxane component substantially maintains a solid state under the reaction environment used. More specifically, when preparing the catalyst for olefin polymerization (example: catalyst for ethylene polymerization) by bringing the transition metal compound [A] into contact with an aluminoxane component as described later, and the prepared catalyst for olefin polymerization The aluminoxane component is substantially maintained in a solid state when polymerization (for example, suspension polymerization) of an olefin (eg, ethylene) is performed using

前記アルミノキサン成分が固体状態であるかどうかは、目視による確認が最も簡便な方法であるが、例えば重合時などは目視による確認が困難である場合が多い。その場合は、例えば重合後に得られた重合体パウダーの性状や反応器への付着状態などから判断することが可能である。逆に、重合体パウダーの性状が良好で、反応器への付着が少なければ、重合環境下において前記アルミノキサン成分の一部が多少溶出したとしても本発明の趣旨を逸脱することはない。重合体パウダーの性状を判断する指標としては、嵩密度、粒子形状、表面形状、不定形ポリマーの存在度合いなどが挙げられるが、定量性の観点からポリマー嵩密度が好ましい。前記嵩密度は通常0.01〜0.9であり、好ましくは0.05〜0.6、より好ましくは0.1〜0.5の範囲内である。   Although the visual inspection is the easiest method to determine whether the aluminoxane component is in a solid state, for example, in many cases, visual confirmation is difficult during polymerization. In that case, it is possible to judge, for example, from the properties of the polymer powder obtained after the polymerization and the adhesion state to the reactor. On the contrary, if the properties of the polymer powder are good and adhesion to the reactor is small, even if a part of the aluminoxane component is eluted to some extent in the polymerization environment, it does not deviate from the spirit of the present invention. Examples of the index for determining the properties of the polymer powder include bulk density, particle shape, surface shape, degree of presence of amorphous polymer, and the like, but polymer bulk density is preferable from the viewpoint of quantitative property. The bulk density is usually 0.01 to 0.9, preferably 0.05 to 0.6, and more preferably 0.1 to 0.5.

前記固体状アルミノキサン化合物の、25℃の温度に保持されたn−ヘキサンに対する溶解割合は、通常0〜40モル%、好ましくは0〜20モル%、特に好ましくは0〜10モル%の範囲にある。   The dissolution ratio of the solid aluminoxane compound to n-hexane kept at a temperature of 25 ° C. is usually in the range of 0 to 40 mol%, preferably 0 to 20 mol%, particularly preferably 0 to 10 mol% .

前記溶解割合は、25℃に保持された50mlのn−ヘキサンに固体状アルミノキサン化合物担体2gを加えてから2時間の撹拌を行ない、次いでG−4グラス製フイルターを用いて溶液部を分離し、この濾液中のアルミニウム濃度を測定することにより求められる。従って、溶解割合は用いたアルミノキサン2gに相当するアルミニウム原子の量に対する前記濾液中に存在するアルミニウム原子の割合として決定される。   The dissolution rate is as follows: 2 g of solid aluminoxane compound carrier is added to 50 ml of n-hexane kept at 25 ° C., stirring is carried out for 2 hours, and then the solution is separated using a filter made of G-4 glass, It is determined by measuring the aluminum concentration in the filtrate. Thus, the dissolution rate is determined as the ratio of aluminum atoms present in the filtrate to the amount of aluminum atoms corresponding to 2 g of aluminoxane used.

前記固体状アルミノキサン化合物としては、公知の固体状アルミノキサンを制限なく用いることができ、たとえば国際公開第2014/123212号に記載された固体状ポリアルミノキサン組成物を用いることもできる。公知の製造方法としては、例えば、特公平7−42301号公報、特開平6−220126号公報、特開平6−220128号公報、特開平11−140113号公報、特開平11−310607号公報、特開2000−38410号公報、特開2000−95810号公報、国際公開第2010/55652号などに記載された製造方法が挙げられる。   As the solid aluminoxane compound, a known solid aluminoxane can be used without limitation, and for example, the solid polyaluminoxane composition described in WO 2014/123212 can also be used. Examples of known manufacturing methods include, for example, Japanese Patent Publication Nos. 7-42301, 6-220126, 6-220128, 11-140113 and 11-310607. The manufacturing method described in the open 2000-38410 gazette, Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-95810, international publication 2010/55652 etc. is mentioned.

前記固体状アルミノキサン化合物の平均粒子径は、一般に0.01〜50000μm、好ましくは0.1〜1000μm、特に好ましくは1〜200μmの範囲にある。固体状アルミノキサン化合物の平均粒子径は、走査型電子顕微鏡により粒子を観察し、100個以上の粒子の粒径を測定し、重量平均化することにより求められる。まず、各粒子の粒径dは、粒子像を水平方向、垂直方向それぞれに2本の平行線ではさんで長さを測り、下式により求められる。
粒径d=((水平方向長さ)2+(垂直方向長さ)20.5
The average particle size of the solid aluminoxane compound is generally in the range of 0.01 to 50000 μm, preferably 0.1 to 1000 μm, and particularly preferably 1 to 200 μm. The average particle size of the solid aluminoxane compound can be determined by observing the particles with a scanning electron microscope, measuring the particle size of 100 or more particles, and performing weight averaging. First, the particle diameter d of each particle is obtained by measuring the length of the particle image across two parallel lines in the horizontal direction and in the vertical direction, respectively, according to the following equation.
Particle size d = ((horizontal length) 2 + (vertical length) 2 ) 0.5

次に、固体状アルミノキサン化合物の重量平均粒子径は、上記で求めた粒径dと粒子個数nとを用いて下式により求められる。
平均粒子径=Σnd4/Σnd3
Next, the weight average particle size of the solid aluminoxane compound can be determined by the following equation using the particle size d determined above and the number n of particles.
Average particle size = ndnd 4 / ndnd 3

前記固体状アルミノキサン化合物は、比表面積が50〜1000m2/g、好ましくは100〜800m2/gであり、細孔容積が0.1〜2.5cm3/gであることが望ましい。 The solid aluminoxane compound preferably has a specific surface area of 50 to 1000 m 2 / g, preferably 100 to 800 m 2 / g, and a pore volume of 0.1 to 2.5 cm 3 / g.

前記無機ハロゲン化物としては、例えば、MgCl2、MgBr2、MnCl2、MnBr2などが挙げられる。無機ハロゲン化物は、そのまま用いてもよいし、ボールミル、振動ミルにより粉砕した後に用いてもよい。また、アルコール等の溶媒に無機ハロゲン化物を溶解させた後、析出剤によって微粒子状に析出させたものを用いることもできる。 Examples of the inorganic halide include MgCl 2 , MgBr 2 , MnCl 2 , MnBr 2 and the like. The inorganic halide may be used as it is or after being crushed by a ball mill or a vibration mill. Moreover, after dissolving an inorganic halide in solvent, such as alcohol, what was made to precipitate in fine particle shape with a precipitation agent can also be used.

粘土は、通常粘土鉱物を主成分として構成される。また、イオン交換性層状化合物は、イオン結合等によって構成される面が互いに弱い結合力で平行に積み重なった結晶構造を有する化合物であり、含有するイオンが交換可能なものである。大部分の粘土鉱物はイオン交換性層状化合物である。また、これらの粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物としては、天然産のものに限らず、人工合成物を使用することもできる。   Clay is usually composed mainly of clay minerals. In addition, the ion exchangeable layered compound is a compound having a crystal structure in which planes constituted by ionic bonds etc. are stacked in parallel with each other by weak bonding force, and the contained ions can be exchanged. Most clay minerals are ion exchange layered compounds. Moreover, as these clays, clay minerals, and ion exchangeable layered compounds, not only naturally occurring ones but also artificially synthesized ones can be used.

また、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物として、粘土、粘土鉱物、また、六方細密パッキング型、アンチモン型、CdCl2型、CdI2型等の層状の結晶構造を有するイオン結晶性化合物等を例示することができる。 Also, as clay, clay mineral or ion exchange layered compound, clay, clay mineral, ionic crystalline compound having layered crystal structure such as hexagonal close packing type, antimony type, CdCl 2 type, CdI 2 type, etc. It can be illustrated.

このような粘土、粘土鉱物としては、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、ヒシンゲル石、パイロフィライト、ウンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、ディッカイト、ハロイサイト等が挙げられ、イオン交換性層状化合物としては、α−Zr(HAsO42・H2O、α−Zr(HPO42、α−Zr(KPO42・3H2O、α−Ti(HPO42、α−Ti(HAsO42・H2O、α−Sn(HPO42・H2O、γ−Zr(HPO42、γ−Ti(HPO42、γ−Ti(NH4PO42・H2O等の多価金属の結晶性酸性塩等が挙げられる。 Such clays, clay minerals such as kaolin, bentonite, cypress clay, gilome clay, allophane, hisingerite, pyrophyllite, ummo group, montmorillonite group, vermiculite, ryokdeite group, palygorskite, kaolinite, nacrite, dickite And ion exchangeable layered compounds such as α-Zr (HAsO 4 ) 2 · H 2 O, α-Zr (HPO 4 ) 2 , α-Zr (KPO 4 ) 2 · 3H 2 O, α-Ti (HPO 4 ) 2 , α-Ti (HAsO 4 ) 2 · H 2 O, α-Sn (HPO 4 ) 2 · H 2 O, γ-Zr (HPO 4 ) 2 , γ-Ti (HPO 4 2 ), crystalline acid salts of polyvalent metals such as γ-Ti (NH 4 PO 4 ) 2 .H 2 O, and the like.

このような粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物は、水銀圧入法で測定した半径20Å以上の細孔容積が0.1cc/g以上のものが好ましく、0.3〜5cc/gのものが特に好ましい。ここで、細孔容積は、水銀ポロシメーターを用いた水銀圧入法により、細孔半径20〜3×104Åの範囲について測定される。半径20Å以上の細孔容積が0.1cc/gより小さいものを担体として用いた場合には、高い重合活性が得られにくい傾向がある。 Such clay, clay mineral or ion exchangeable layered compound preferably has a pore volume of at least 0.1 cc / g and a radius of at least 20 Å as measured by mercury porosimetry, preferably 0.3 to 5 cc / g. Particularly preferred. Here, the pore volume is measured in the range of a pore radius of 20 to 3 × 10 4 Å by mercury porosimetry using a mercury porosimeter. When a pore volume of a radius of 20 Å or more and a pore volume smaller than 0.1 cc / g is used as a carrier, it tends to be difficult to obtain high polymerization activity.

粘土および粘土鉱物には、化学処理を施すことも好ましい。化学処理としては、表面に付着している不純物を除去する表面処理、粘土の結晶構造に影響を与える処理等、いずれも使用できる。化学処理として具体的には、酸処理、アルカリ処理、塩類処理、有機物処理等が挙げられる。酸処理は、表面の不純物を取り除くほか、結晶構造中のAl、Fe、Mg等の陽イオンを溶出させることによって表面積を増大させる。アルカリ処理では粘土の結晶構造が破壊され、粘土の構造の変化をもたらす。また、塩類処理や有機物処理では、イオン複合体、分子複合体、有機誘導体等を形成し、表面積や層間距離を変えることができる。   Chemical treatments are also preferably applied to clays and clay minerals. As the chemical treatment, any of surface treatment for removing impurities attached to the surface, treatment for affecting the crystal structure of clay, and the like can be used. Specific examples of the chemical treatment include acid treatment, alkali treatment, salt treatment, organic matter treatment and the like. The acid treatment not only removes surface impurities but also increases the surface area by eluting cations such as Al, Fe and Mg in the crystal structure. The alkali treatment destroys the crystal structure of the clay, resulting in a change in the structure of the clay. In the salt treatment and the organic substance treatment, an ion complex, a molecular complex, an organic derivative or the like can be formed to change the surface area and the interlayer distance.

イオン交換性層状化合物は、イオン交換性を利用し、層間の交換性イオンを別の大きな嵩高いイオンと交換することにより、層間が拡大した状態の層状化合物であってもよい。このような嵩高いイオンは、層状構造を支える支柱的な役割を担っており、通常、ピラーと呼ばれる。また、このように層状化合物の層間に別の物質を導入することをインターカレーションという。インターカレーションするゲスト化合物としては、TiCl4、ZrCl4等の陽イオン性無機化合物、Ti(OR)4、Zr(OR)4、PO(OR)3、B(OR)3等の金属アルコキシド(Rは炭化水素基等)、[Al134(OH)247+、[Zr4(OH)142+、[Fe3O(OCOCH36+等の金属水酸化物イオン等が挙げられる。これら化合物は単独で、あるいは2種以上組み合わせて用いられる。また、これら化合物をインターカレーションする際に、Si(OR)4、Al(OR)3、Ge(OR)4等の金属アルコキシド(Rは炭化水素基等)等を加水分解して得た重合物、SiO2等のコロイド状無機化合物等を共存させることもできる。また、ピラーとしては、上記金属水酸化物イオンを層間にインターカレーションした後に加熱脱水することにより生成する酸化物等が挙げられる。 The ion exchangeable layered compound may be a layered compound in which the interlayer is expanded by utilizing the ion exchangeability and exchanging exchangeable ions between the layers with another large bulky ion. Such bulky ions play the role of a pillar supporting a layered structure, and are usually called pillars. Also, introducing another substance between the layers of the layered compound in this way is called intercalation. The guest compounds to be intercalated include cationic inorganic compounds such as TiCl 4 and ZrCl 4 , and metal alkoxides such as Ti (OR) 4 , Zr (OR) 4 , PO (OR) 3 and B (OR) 3 R represents a metal hydroxide ion such as a hydrocarbon group, [Al 13 O 4 (OH) 24 ] 7+ , [Zr 4 (OH) 14 ] 2+ , [Fe 3 O (OCOCH 3 ) 6 ] + etc. Etc. These compounds may be used alone or in combination of two or more. Also, when intercalating these compounds, polymerization obtained by hydrolyzing metal alkoxides (R is a hydrocarbon group etc.) such as Si (OR) 4 , Al (OR) 3 , Ge (OR) 4 etc. Or a colloidal inorganic compound such as SiO 2 can be coexistent. Moreover, as a pillar, the oxide etc. which are produced | generated by heat-dehydrating are said after intercalating the said metal hydroxide ion between layers.

粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物は、そのまま用いてもよく、またボールミル、ふるい分け等の処理を行った後に用いてもよい。また、新たに水を添加吸着させ、あるいは加熱脱水処理した後に用いてもよい。さらに、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The clay, clay mineral and ion exchangeable layered compound may be used as they are, or may be used after treatment such as ball milling and sieving. In addition, water may be newly added and adsorbed, or may be used after being subjected to heat dehydration treatment. Furthermore, they may be used alone or in combination of two or more.

前記固体状担体(S)として用いられる有機化合物としては、例えば、粒径が10〜300μmの範囲にある顆粒状ないしは微粒子状固体などが挙げられる。前記有機化合物の具体例としては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン等の炭素原子数が2〜14のオレフィンを主成分として生成される重合体またはビニルシクロヘキサン、スチレン、ジビニルベンゼンを主成分として生成される重合体や反応体、およびそれらの変成体からなる顆粒状ないしは微粒子状固体などが挙げられる。
前記固体状担体(S)としては、成形時の異物防止の観点から、多孔質酸化物が好ましい。
As an organic compound used as said solid-like carrier (S), the granular form thru | or the fine particulate solid which have a particle size in the range of 10-300 micrometers are mentioned, for example. Specific examples of the organic compound include polymers formed mainly from olefins having 2 to 14 carbon atoms such as ethylene, propylene, 1-butene, 4-methyl-1-pentene, or vinylcyclohexane, There may be mentioned granular or particulate solids composed of styrene, polymers and reactants formed mainly of divinylbenzene, and their modified products.
As the solid carrier (S), a porous oxide is preferable from the viewpoint of preventing foreign substances at the time of molding.

<オレフィン重合用触媒の調製方法>
本発明に係るオレフィン重合用触媒は、成分(A)、成分(B)、成分(C)および固体状担体(S)を不活性炭化水素中または不活性炭化水素を用いた重合系中に添加することにより調製される固体触媒成分(X)が好ましい態様の一つである。
<Preparation Method of Olefin Polymerization Catalyst>
The olefin polymerization catalyst according to the present invention comprises the addition of component (A), component (B), component (C) and solid carrier (S) in an inert hydrocarbon or in a polymerization system using an inert hydrocarbon. The solid catalyst component (X) prepared by conducting is one of the preferred embodiments.

固体触媒成分(X)の例としては、固体状担体(S)、成分(C)および成分(A)から形成される固体触媒成分(X−A)と、固体状担体(S)、成分(C)および成分(B)から形成される固体触媒成分(X−B)とからなるオレフィン重合用触媒;ならびに、固体状担体(S)、成分(A)、成分(B)および成分(C)より形成される固体触媒成分(X−C)からなるオレフィン重合用触媒が挙げられる。これらの中では、固体触媒成分(X−C)からなるオレフィン重合用触媒がより好ましい。   Examples of the solid catalyst component (X) include a solid support (S), a solid catalyst component (X-A) formed from the component (C) and the component (A), a solid support (S), a component (X) C) and a solid catalyst component (X-B) formed from component (B); a catalyst for olefin polymerization; and a solid carrier (S), component (A), component (B) and component (C) The catalyst for olefin polymerization which consists of a solid catalyst component (X-C) formed from is mentioned. Among these, the olefin polymerization catalyst consisting of the solid catalyst component (X-C) is more preferable.

各成分の接触順序は任意であるが、好ましいオレフィン重合用触媒の調製方法としては、例えば、
(i)成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、次いで成分(A)を接触させて固体触媒成分(X−A)を調製するとともに、成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、次いで成分(B)を接触させて固体触媒成分(X−B)を調製する方法、
(ii)成分(A)と成分(C)を混合接触させ、次いで固体状担体(S)に接触させて固体触媒成分(X−A)を調製するとともに、成分(B)と成分(C)を混合接触させ、次いで固体状担体(S)に接触させて固体触媒成分(X−B)を調製する方法、
(iii)成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、次いで成分(A)と成分(C)の接触物を接触させて固体触媒成分(X−A)を調製するとともに、成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、次いで成分(B)と成分(C)の接触物を接触させて固体触媒成分(X−B)を調製する方法、
(iv)成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、次いで成分(A)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させて固体触媒成分(X−A)を調製するとともに、成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、次いで成分(B)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させて固体触媒成分(X−B)を調製する方法、
(v)固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、次いで成分(A)を接触させた後、成分(B)を接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(vi)固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、次いで成分(B)を接触させた後、成分(A)を接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(vii)固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、次いで成分(A)と成分(B)の接触混合物を接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(viii)成分(A)と成分(B)を接触させ、次いで成分(C)を接触させた後、固体状担体(S)に接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(ix)固体状担体(S)と成分(C)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させ、次いで成分(A)および成分(B)をこの順で接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(x)固体状担体(S)と成分(C)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させ、次いで成分(B)および成分(A)をこの順で接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(xi)固体状担体(S)と成分(C)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させ、次いで成分(A)と成分(B)の接触混合物を接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(xii)固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、次いで成分(A)と成分(B)と成分(C)の接触混合物を接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(xiii)固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、次いで成分(A)と成分(C)の接触混合物を接触させた後、成分(B)を接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(xiv)固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、次いで成分(B)と成分(C)の接触混合物を接触させた後、成分(A)を接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(xv)固体状担体(S)と成分(C)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させ、次いで成分(A)と成分(C)の接触混合物および成分(B)と成分(C)の接触混合物をこの順で接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(xvi)固体状担体(S)と成分(C)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させ、次いで成分(B)と成分(C)の接触混合物および成分(A)と成分(C)の接触混合物をこの順で接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(xvii)固体状担体(S)と成分(C)を接触させた後、さらに成分(C)を接触させ、次いで成分(A)と成分(B)と成分(C)の接触混合物を接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(xviii)成分(A)および成分(C)の混合物と成分(B)および成分(C)の混合物とを予め混合した後、固体状担体(S)と成分(C)の接触物に接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法、
(xix)成分(A)および成分(C)の混合物と成分(B)および成分(C)の混合物とを予め混合した後、固体状担体(S)と成分(C)を接触させ、さらに成分(C)を接触させた接触混合物に接触させて固体触媒成分(X−C)を調製する方法
などが挙げられる。
Although the contact order of each component is arbitrary, as a preferable method for preparing a catalyst for olefin polymerization, for example,
(I) Contacting the component (C) with the solid carrier (S) and then bringing the component (A) into contact to prepare the solid catalyst component (X-A), the component (C) and the solid carrier (S) B) contacting, and then contacting component (B) to prepare a solid catalyst component (X-B),
(Ii) The component (A) and the component (C) are mixed and brought into contact, and then brought into contact with the solid carrier (S) to prepare a solid catalyst component (X-A), and the component (B) and the component (C) Mixed catalyst, and then contacted with a solid support (S) to prepare a solid catalyst component (X-B),
(Iii) Component (C) is brought into contact with the solid carrier (S), and then the contact product of component (A) and component (C) is brought into contact to prepare a solid catalyst component (X-A). C) Contacting the solid carrier (S), and then bringing the contact product of component (B) and component (C) into contact to prepare a solid catalyst component (X-B),
(Iv) Contacting the component (C) with the solid carrier (S) and then contacting the component (A), and then contacting the component (C) to prepare a solid catalyst component (X-A) A method of preparing the solid catalyst component (X-B) by contacting the component (C) with the solid carrier (S) and then bringing the component (B) into contact and then contacting the component (C) further;
(V) Contacting the solid carrier (S) with the component (C) and then bringing the component (A) into contact, followed by bringing the component (B) into contact to prepare a solid catalyst component (X-C),
(Vi) Contacting the solid carrier (S) with the component (C) and then bringing the component (B) into contact, followed by contacting the component (A) to prepare a solid catalyst component (X-C),
(Vii) A method of preparing solid catalyst component (X-C) by contacting solid carrier (S) with component (C) and then contacting the contact mixture of component (A) with component (B),
(Viii) Contacting the component (A) with the component (B) and then bringing the component (C) into contact, followed by contacting the solid carrier (S) to prepare a solid catalyst component (X-C),
(Ix) After contacting the solid carrier (S) with the component (C), the component (C) is further contacted, and then the component (A) and the component (B) are contacted in this order to obtain a solid catalyst component ( Method of preparing X-C),
(X) After contacting the solid carrier (S) with the component (C), the component (C) is further contacted, and then the component (B) and the component (A) are contacted in this order to obtain a solid catalyst component ( Method of preparing X-C),
(Xi) After contacting the solid carrier (S) with the component (C), the component (C) is further contacted, and then the contact mixture of the component (A) and the component (B) is contacted to obtain a solid catalyst component ( Method of preparing X-C),
(Xii) contacting solid carrier (S) with component (C), then contacting a contact mixture of component (A) with component (B) and component (C) to prepare a solid catalyst component (X-C) how to,
(Xiii) The solid carrier (S) is brought into contact with the component (C), then the contact mixture of the component (A) and the component (C) is brought into contact, and then the component (B) is brought into contact to obtain a solid catalyst component (X). A method of preparing -C),
(Xiv) The solid carrier (S) is brought into contact with the component (C), then the contact mixture of the component (B) and the component (C) is brought into contact, and then the component (A) is brought into contact to obtain a solid catalyst component (X). A method of preparing -C),
(Xv) After contacting the solid carrier (S) with the component (C), the component (C) is further contacted, and then the contact mixture of the component (A) and the component (C) and the component (B) and the component (C) (C) contacting the contacting mixture of C) in this order to prepare a solid catalyst component (X-C);
(Xvi) After contacting the solid carrier (S) with the component (C), the component (C) is further contacted and then the contact mixture of the component (B) with the component (C) and the component (A) with the component (C) (C) contacting the contacting mixture of C) in this order to prepare a solid catalyst component (X-C);
(Xvii) After contacting the solid carrier (S) with the component (C), the component (C) is further contacted, and then the contact mixture of the component (A), the component (B) and the component (C) is contacted Method for preparing the solid catalyst component (X-C),
(Xviii) The mixture of the component (A) and the component (C) and the mixture of the component (B) and the component (C) are mixed beforehand, and then brought into contact with the solid carrier (S) and the component (C) Method for preparing the solid catalyst component (X-C),
(Xix) The mixture of the component (A) and the component (C) and the mixture of the component (B) and the component (C) are mixed beforehand, and then the solid carrier (S) is brought into contact with the component (C) The method of making it contact with the contact mixture which contacted (C), and preparing solid catalyst component (X-C) etc. are mentioned.

成分(C)が複数用いられる場合は、その成分(C)同士が同一であっても異なっていてもよい。このうち、特に好ましい接触順序としては、(xi)、(xiii)、(xv
)、(xvi)、(xvii)、(xxii)、(xxiii)および(xxiv)が挙げられる。
When a plurality of components (C) are used, the components (C) may be the same or different. Among these, particularly preferred contact sequences include (xi), (xiii) and (xv).
And (xvi), (xvii), (xxii), (xxiii) and (xxiv).

成分(C)と固体状担体(S)の接触により、成分(C)中の反応部位と固体状担体(S)中の反応部位との反応により成分(C)と固体状担体(S)が化学的に結合され、成分(C)と固体状担体(S)の接触物が形成される。成分(C)と固体状担体(S)との接触時間は、通常0〜20時間、好ましくは0〜10時間であり、接触温度は、通常−50〜200℃、好ましくは−20〜120℃である。成分(C)と固体状担体(S)との初期接触を急激に行うと、その反応発熱や反応エネルギーにより固体状担体(S)が崩壊し、得られる固体触媒成分(X)のモルフォロジーが悪化し、これを重合に用いた場合ポリマーモルフォロジー不良により連続運転が困難になることが多い。そのため、成分(C)と固体状担体(S)との接触初期は、反応発熱を抑制する目的で、−20〜30℃の低温で接触させる、または、反応発熱を制御し、初期接触温度を維持可能な速度で反応させることが好ましい。また、成分(C)と固体状担体(S)を接触させ、さらに成分(C)を接触させる場合においても同様である。成分(C)と固体状担体(S)との接触のモル比(成分(C)/固体状担体(S))は、任意に選択できるが、そのモル比が高いほうが、成分(A)および成分(B)の接触量を増加でき、固体触媒成分(X)の活性を向上させることができる。具体的には、成分(C)と固体状担体(S)のモル比[=成分(C)のモル量/固体状担体(S)のモル量]は、好ましくは0.2〜2.0、特に好ましくは0.4〜2.0である。   The component (C) and the solid carrier (S) are obtained by the reaction of the reaction site in the component (C) with the reaction site in the solid carrier (S) by the contact of the component (C) with the solid carrier (S). Chemically bound, a contact of component (C) and solid carrier (S) is formed. The contact time of the component (C) with the solid carrier (S) is usually 0 to 20 hours, preferably 0 to 10 hours, and the contact temperature is usually -50 to 200 ° C, preferably -20 to 120 ° C. It is. When the initial contact of the component (C) with the solid support (S) is rapidly made, the solid support (S) collapses due to the reaction heat and reaction energy, and the morphology of the solid catalyst component (X) obtained deteriorates. However, when it is used for polymerization, polymer morphology defects often make continuous operation difficult. Therefore, the initial stage of contact between the component (C) and the solid support (S) is contacted at a low temperature of -20 to 30 ° C for the purpose of suppressing the reaction heat, or the reaction heat is controlled and the initial contact temperature is It is preferred to react at a maintainable rate. The same applies to the case where the component (C) and the solid carrier (S) are brought into contact and the component (C) is further brought into contact. The molar ratio (Component (C) / solid carrier (S)) of the contact of the component (C) with the solid carrier (S) can be arbitrarily selected, but the higher the molar ratio, the component (A) and the solid carrier (S) The contact amount of the component (B) can be increased, and the activity of the solid catalyst component (X) can be improved. Specifically, the molar ratio of the component (C) to the solid carrier (S) [= the molar amount of the component (C) / the molar amount of the solid carrier (S)] is preferably 0.2 to 2.0. , Particularly preferably 0.4 to 2.0.

成分(C)と固体状担体(S)の接触物と、成分(A)および成分(B)との接触に関して、接触時間は、通常0〜5時間、好ましくは0〜2時間であり、接触温度は、通常−50〜200℃、好ましくは−50〜100℃の範囲内である。成分(A)および成分(B)の成分(C)に対する接触量は、成分(C)の種類と量に大きく依存する。成分(c−1)の場合は、成分(c−1)と成分(A)および成分(B)中の全遷移金属原子(M)とのモル比[(c−1)/M]が、通常0.01〜100000、好ましくは0.05〜50000となるような量で用いられる。成分(c−2)の場合は、成分(c−2)中のアルミニウム原子と成分(A)および成分(B)中の全遷移金属原子(M)とのモル比[(c−2)/M]が、通常10〜500000、好ましくは20〜100000となるような量で用いられる。成分(c−3)の場合は、成分(c−3)と、成分(A)および成分(B)中の全遷移金属原子(M)とのモル比[(c−3)/M]が、通常1〜10、好ましくは1〜5となるような量で用いられる。なお、成分(C)と成分(A)および成分(B)中の全遷移金属原子(M)とのモル比は、誘導結合プラズマ発光分析法(ICP分析法)により求めることができる。   With respect to the contact of the component (C) with the solid carrier (S) and the component (A) and the component (B), the contact time is usually 0-5 hours, preferably 0-2 hours, The temperature is usually in the range of -50 to 200 ° C, preferably -50 to 100 ° C. The contact amount of component (A) and component (B) with respect to component (C) largely depends on the type and amount of component (C). In the case of the component (c-1), the molar ratio [(c-1) / M] of the component (c-1) to the component (A) and all transition metal atoms (M) in the component (B) is Usually, it is used in an amount of 0.01 to 100,000, preferably 0.05 to 50,000. In the case of the component (c-2), the molar ratio of the aluminum atom in the component (c-2) to all the transition metal atoms (M) in the component (A) and the component (B) [(c-2) / M] is used usually in an amount of 10 to 500,000, preferably 20 to 100,000. In the case of the component (c-3), the molar ratio [(c-3) / M] of the component (c-3) to all the transition metal atoms (M) in the component (A) and the component (B) is Usually, it is used in an amount of 1 to 10, preferably 1 to 5. The molar ratio of the component (C) to all the transition metal atoms (M) in the component (A) and the component (B) can be determined by inductively coupled plasma emission spectrometry (ICP analysis).

固体触媒成分(X)の調製に用いる溶媒としては、不活性炭化水素溶媒が挙げられ、具体的には、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン等の脂環族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素およびこれらの混合物等が挙げられる。   As a solvent used for preparation of solid catalyst component (X), an inert hydrocarbon solvent is mentioned, and, specifically, aliphatic carbonization such as propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, decane, dodecane, kerosene and the like Alicyclic hydrocarbons such as hydrogen, cyclopentane, cyclohexane and methylcyclopentane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as ethylene chloride, chlorobenzene and dichloromethane, and mixtures thereof Be

前記接触順序形態を示した各方法において、固体状担体(S)と成分(C)の接触を含む工程、固体状担体(S)と成分(A)の接触を含む工程、固体状担体(S)と成分(B)の接触を含む工程、固体状担体(S)と成分(A)と成分(B)の接触を含む工程においては、成分(G)として(g−1)ポリアルキレンオキサイドブロック、(g−2)高級脂肪族アミド、(g−3)ポリアルキレンオキサイド、(g−4)ポリアルキレンオキサイドアルキルエーテル、(g−5)アルキルジエタノールアミン、および(g−6)ポリオキシアルキレンアルキルアミンから選ばれる少なくとも1種の化合物を共存させてもよい。このような成分(G)を共存させることにより、重合反応中のファウリングを抑制することができ、また生成重合体の粒子性状が改善される。成分(G)の中では、(g−1)、(g−2)、(g−3)、(g−4)が好ましい。   In each of the methods showing the contact sequence form, a step comprising contacting the solid support (S) with the component (C), a step comprising contacting the solid support (S) with the component (A), a solid support (S) And (g-1) a polyalkylene oxide block as component (G) in the step including the contact of component (B) with the solid support (S) and the step of contact with component (A) and component (B) , (G-2) higher aliphatic amide, (g-3) polyalkylene oxide, (g-4) polyalkylene oxide alkyl ether, (g-5) alkyl diethanolamine, and (g-6) polyoxyalkylene alkyl amine And at least one compound selected from the group consisting of By coexistence of such component (G), fouling during the polymerization reaction can be suppressed, and the particle properties of the formed polymer are improved. Among the components (G), (g-1), (g-2), (g-3) and (g-4) are preferable.

成分(A)と成分(B)の使用比は、製造したい重合体の分子量および分子量分布などに応じて適宜決定できる。
オレフィンの重合には、前記のような固体触媒成分(X)をそのまま用いることができるが、この固体触媒成分(X)にオレフィンを予備重合させ予備重合触媒成分(XP)を形成してから用いることもできる。
The use ratio of the component (A) to the component (B) can be appropriately determined according to the molecular weight and molecular weight distribution of the polymer to be produced.
The solid catalyst component (X) as described above can be used as it is for the polymerization of olefin, but this solid catalyst component (X) is used after prepolymerization of the olefin to form a prepolymerization catalyst component (XP) It can also be done.

予備重合触媒成分(XP)は、固体触媒成分(X)存在下、通常、不活性炭化水素溶媒中、オレフィンを導入させることにより調製することができる。反応方式としては、回分式、半連続式および連続式のいずれの方法でも使用することができる。また反応は、減圧、常圧または加圧下のいずれでも行うことができる。この予備重合によって、固体状触媒成分1g当たり、通常0.01〜1000g、好ましくは0.1〜800g、より好ましくは0.2〜500gの重合体を生成させる。   The prepolymerized catalyst component (XP) can be prepared by introducing an olefin, usually in an inert hydrocarbon solvent, in the presence of the solid catalyst component (X). As a reaction system, any of a batch system, a semicontinuous system and a continuous system can be used. The reaction can be carried out under reduced pressure, normal pressure or under pressure. This prepolymerization produces usually 0.01 to 1000 g, preferably 0.1 to 800 g, more preferably 0.2 to 500 g of polymer per 1 g of the solid catalyst component.

不活性炭化水素溶媒中で調製した予備重合触媒成分(XP)は、懸濁液から分離した後、再び不活性炭化水素中に懸濁させ、得られた懸濁液中にオレフィンを導入してもよく、また、乾燥させた後オレフィンを導入してもよい。   The prepolymerization catalyst component (XP) prepared in an inert hydrocarbon solvent is separated from the suspension, suspended again in the inert hydrocarbon, and an olefin is introduced into the obtained suspension. Also, after drying, the olefin may be introduced.

予備重合温度は、通常−20〜80℃、好ましくは0〜60℃である。また、予備重合時間は、通常0.5〜100時間、好ましくは1〜50時間である。
予備重合に使用する固体触媒成分(X)の形態としては、すでに述べたものを制限無く利用することができる。また、必要に応じて成分(C)が用いられ、特に(c−1)中の前記式(3)に示される有機アルミニウム化合物が好ましく用いられる。成分(C)として式(3)の有機アルミニウム化合物が用いられる場合、成分(C)中のアルミニウム原子(Al)と成分(A)および(B)である遷移金属化合物とのモル比(成分(C)/遷移金属化合物)で、通常0.1〜10000、好ましくは0.5〜5000の量で用いられる。
The prepolymerization temperature is usually -20 to 80 ° C, preferably 0 to 60 ° C. The prepolymerization time is usually 0.5 to 100 hours, preferably 1 to 50 hours.
As the form of the solid catalyst component (X) used for the prepolymerization, those described above can be used without limitation. Moreover, a component (C) is used as needed, and the organoaluminum compound especially shown by said Formula (3) in (c-1) is used preferably. When the organoaluminum compound of the formula (3) is used as the component (C), the molar ratio of the aluminum atom (Al) in the component (C) to the transition metal compound which is the components (A) and (B) C) / transition metal compound), usually used in an amount of 0.1 to 10000, preferably 0.5 to 5000.

予備重合系における固体触媒成分(X)の濃度は、固体触媒成分(X)/重合容積1リットル比で、通常1〜1000グラム/リットル、好ましくは10〜500グラム/リットルであることが望ましい。予備重合時には、ファウリング抑制または粒子性状改善を目的として、前記成分(G)を共存させることができる。   The concentration of the solid catalyst component (X) in the prepolymerization system is desirably 1 to 1000 g / l, preferably 10 to 500 g / l, as a ratio of solid catalyst component (X) / polymerization volume 1 liter. At the time of prepolymerization, the above-mentioned component (G) can be made to coexist for the purpose of fouling suppression or particle property improvement.

また予備重合触媒成分(XP)の流動性改善や重合時のヒートスポット・シーティングやポリマー塊の発生抑制を目的に、予備重合によって一旦生成させた予備重合触媒成分(XP)に成分(G)を接触させてもよい。この際、使用する成分(G)として、上記(g−1)、(g−2)、(g−3)、(g−4)が好ましい。   In order to improve the flowability of the prepolymerization catalyst component (XP) and to suppress the generation of heat spots, sheeting and polymer lumps during polymerization, the component (G) is added to the prepolymerization catalyst component (XP) once produced by prepolymerization. You may make it contact. At this time, as the component (G) to be used, the above (g-1), (g-2), (g-3) and (g-4) are preferable.

成分(G)を混合接触させる際の温度は、通常−50〜50℃、好ましくは−20〜50℃であり、接触時間は1〜1000分間、好ましくは5〜600分間である。
固体触媒成分(X)と成分(G)とを混合接触するに際して、成分(G)は、固体触媒成分(X)100重量部に対して、通常0.1〜20重量部、好ましくは0.3〜10重量部、より好ましくは0.4〜5重量部の量で用いられる。
The temperature at which the component (G) is mixed and contacted is usually -50 to 50 ° C, preferably -20 to 50 ° C, and the contact time is 1 to 1000 minutes, preferably 5 to 600 minutes.
When the solid catalyst component (X) and the component (G) are mixed and brought into contact with each other, the component (G) is generally 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0. 0 to 100 parts by weight of the solid catalyst component (X). It is used in an amount of 3 to 10 parts by weight, more preferably 0.4 to 5 parts by weight.

固体触媒成分(X)と成分(G)との混合接触は、不活性炭化水素溶媒中で行うことができ、不活性炭化水素溶媒としては、固体触媒成分(X)の調製に用いる溶媒と同様のものが挙げられる。   Mixed contact of the solid catalyst component (X) with the component (G) can be carried out in an inert hydrocarbon solvent, and as the inert hydrocarbon solvent, it is the same as the solvent used for the preparation of the solid catalyst component (X) The ones of

本発明に係るオレフィン重合用触媒は、予備重合触媒成分(XP)を乾燥して乾燥予備重合触媒として用いることができる。予備重合触媒成分(XP)の乾燥は、通常得られた予備重合触媒の懸濁液から濾過などにより分散媒である炭化水素を除去した後に行われる。   The olefin polymerization catalyst according to the present invention can be used as a dry prepolymerization catalyst by drying the prepolymerization catalyst component (XP). Drying of the prepolymerized catalyst component (XP) is usually carried out after removing the dispersing medium hydrocarbon from the suspension of the prepolymerized catalyst obtained by filtration or the like.

予備重合触媒成分(XP)の乾燥は、予備重合触媒成分(XP)を不活性ガスの流通下、70℃以下、好ましくは20〜50℃の範囲の温度に保持することにより行われる。得られた乾燥予備重合触媒の揮発成分量は2.0重量%以下、好ましくは1.0重量%以下であることが望ましい。乾燥予備重合触媒の揮発成分量は、少ないほどよく、特に下限はないが、実用的には0.001重量%である。乾燥時間は、乾燥温度にもよるが通常3〜8時間である。乾燥予備重合触媒の揮発成分量が2.0重量%を超えると、乾燥予備重合触媒の流動性が低下し、安定的に重合反応器に供給できなくなることがある。   Drying of the prepolymerized catalyst component (XP) is carried out by maintaining the prepolymerized catalyst component (XP) at a temperature of 70 ° C. or less, preferably in the range of 20 to 50 ° C., under a flow of inert gas. It is desirable that the volatile component amount of the obtained dry prepolymerized catalyst is 2.0% by weight or less, preferably 1.0% by weight or less. The amount of volatile component of the dry prepolymerization catalyst is preferably as small as possible, and there is no lower limit, but practically it is 0.001% by weight. The drying time is usually 3 to 8 hours depending on the drying temperature. When the volatile component amount of the dry prepolymerized catalyst exceeds 2.0% by weight, the flowability of the dry prepolymerized catalyst may be reduced, and the catalyst may not be stably supplied to the polymerization reactor.

ここで、乾燥予備重合触媒の揮発成分量は、たとえば、減量法、ガスクロマトグラフィーを用いる方法などにより測定される。
減量法では、乾燥予備重合触媒を不活性ガス雰囲気下において110℃で1時間加熱した際の減量を求め、加熱前の乾燥予備重合触媒に対する百分率として表す。
Here, the volatile component amount of the dry prepolymerized catalyst is measured, for example, by a weight loss method, a method using gas chromatography, or the like.
In the weight loss method, the weight loss when the dry prepolymerized catalyst is heated at 110 ° C. under an inert gas atmosphere for 1 hour is determined and expressed as a percentage relative to the dry prepolymerized catalyst before heating.

ガスクロマトグラフィーを用いる方法では、乾燥予備重合触媒から炭化水素などの揮発成分を抽出し、内部標準法に従って検量線を作成した上でGC面積から重量%として算出する。   In the method using gas chromatography, volatile components such as hydrocarbons are extracted from the dried prepolymerization catalyst, and after preparing a calibration curve according to the internal standard method, it is calculated as weight% from GC area.

乾燥予備重合触媒の揮発成分量の測定方法は、乾燥予備重合触媒の揮発成分量が約1重量%以上である場合には、減量法が採用され、乾燥予備重合触媒の揮発成分量が約1重量%以下である場合には、ガスクロマトグラフィーを用いる方法が採用される。   As a method of measuring the amount of volatile component of the dry prepolymerization catalyst, when the amount of volatile component of the dry prepolymerization catalyst is about 1% by weight or more, the weight loss method is adopted, and the amount of volatile component of the dry prepolymerization catalyst is about 1 In the case of weight percent or less, a method using gas chromatography is employed.

予備重合触媒成分(XP)の乾燥に用いられる不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス、ネオンガスなどが挙げられる。このような不活性ガスは、酸素濃度が20ppm以下、好ましくは10ppm以下、より好ましくは5ppm以下(体積基準)であり、水分含量が20ppm以下、好ましくは10ppm以下、より好ましくは5ppm以下(重量基準)であることが望ましい。不活性ガス中の酸素濃度および水分含量が上記の範囲を超えると、乾燥予備重合触媒のオレフィン重合活性が大きく低下することがある。   Examples of the inert gas used for drying the prepolymerization catalyst component (XP) include nitrogen gas, argon gas, neon gas and the like. Such inert gas has an oxygen concentration of 20 ppm or less, preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less (by volume), a water content of 20 ppm or less, preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less (by weight) Is desirable. When the oxygen concentration and the water content in the inert gas exceed the above ranges, the olefin polymerization activity of the dry prepolymerization catalyst may be greatly reduced.

上記乾燥予備重合触媒は、流動性に優れているので、重合反応器への供給を安定的に行うことができる。また、気相重合系内に懸濁に用いた溶媒を同伴させずに済むため安定的に重合を行うことができる。   The dry prepolymerization catalyst is excellent in fluidity, so that the supply to the polymerization reactor can be stably performed. In addition, since it is not necessary to carry the solvent used for suspension in the gas phase polymerization system, the polymerization can be carried out stably.

[エチレン系重合体の製造方法]
次に、本発明に係るエチレン系重合体の製造方法に関して記載する。上述した本発明のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合(単独重合または共重合)することによりエチレン系重合体を得る。本発明のオレフィン重合用触媒を用いることで、高い重合活性を持って、成型加工性および機械的強度に優れ、数多くの長鎖分岐を有するエチレン系共重合体を効率的に製造できる。本発明のエチレン系重合体は、重合体中のエチレン含量が10モル%以上含まれるものをさす。
[Method for producing ethylene polymer]
Next, the method for producing an ethylene-based polymer according to the present invention will be described. An ethylene-based polymer is obtained by polymerizing (homopolymerizing or copolymerizing) ethylene in the presence of the above-described olefin polymerization catalyst of the present invention. By using the olefin polymerization catalyst of the present invention, it is possible to efficiently produce an ethylene-based copolymer having high polymerization activity, excellent in moldability and mechanical strength, and having many long-chain branches. The ethylene-based polymer of the present invention refers to one having an ethylene content of 10 mol% or more in the polymer.

本発明では、重合は溶解重合、懸濁重合等の液相重合法または気相重合法のいずれにおいても実施できるが、懸濁重合法および気相重合法においては前記固体触媒成分(X)を用いることが好ましい。   In the present invention, the polymerization can be carried out in any of liquid phase polymerization methods such as solution polymerization and suspension polymerization or gas phase polymerization methods, but in the suspension polymerization method and the gas phase polymerization method, the solid catalyst component (X) is used. It is preferred to use.

液相重合法において用いられる不活性炭化水素媒体の具体例としては、例えば、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油等の脂肪族炭化水素;シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン等の脂環族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素およびこれらの混合物等が挙げられる。また、液相重合法においては、オレフィン自身を溶媒として用いることもできる。   Specific examples of the inert hydrocarbon medium used in the liquid phase polymerization method include, for example, aliphatic hydrocarbons such as propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, decane, dodecane and kerosene; cyclopentane, cyclohexane, methyl Alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as ethylene chloride, chlorobenzene and dichloromethane, and mixtures thereof. In addition, in the liquid phase polymerization method, olefin itself can also be used as a solvent.

上記オレフィン重合用触媒を用いて、エチレンの重合を行うに際して、成分(A)および成分(B)は、反応容積1リットル当たり、通常10-12〜10-1モル、好ましくは10-8〜10-2モルになるような量で用いられる。また、成分(C)が用いられ、特に(c−1)中の式(3)に示される有機アルミニウム化合物が好まれて使用される。 When ethylene is polymerized using the above-mentioned catalyst for olefin polymerization, component (A) and component (B) are generally 10 -12 to 10 -1 mol, preferably 10 -8 to 10 mol, per liter of reaction volume. -Used in an amount such that it becomes 2 moles. Component (C) is also used, and in particular, the organoaluminum compound represented by the formula (3) in (c-1) is preferably used.

また、上述の固体触媒成分(X)を用いたエチレンの重合温度は、通常−50〜+200℃、好ましくは0〜170℃、特に好ましくは60〜170℃の範囲である。重合圧力は、通常、常圧〜100kg/cm2、好ましくは常圧〜50kg/cm2の条件下であり、重合反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれの方法においても行うことができる。さらに重合を反応条件の異なる2段以上に分けて行うことも可能である。 The polymerization temperature of ethylene using the above-mentioned solid catalyst component (X) is usually in the range of -50 to + 200 ° C, preferably 0 to 170 ° C, and particularly preferably 60 to 170 ° C. The polymerization pressure is usually under the conditions of normal pressure to 100 kg / cm 2 , preferably normal pressure to 50 kg / cm 2 , and the polymerization reaction is carried out in any of batch system, semi-continuous system and continuous system. Can. Furthermore, it is also possible to divide the polymerization into two or more stages under different reaction conditions.

得られる重合体の分子量は、重合系に水素を存在させるか、または重合温度を変化させることによって調節することができる。一般的に低分子量成分が多くなるほど、重合反応器壁や撹拌翼への付着も多くなり、清掃工程への負荷がかかることにより生産性の低下を招くことがある。重合時には、ファウリング抑制または粒子性状改善を目的として、成分(G)を共存させることができる。   The molecular weight of the resulting polymer can be controlled by the presence of hydrogen in the polymerization system or by varying the polymerization temperature. Generally, as the low molecular weight component increases, the adhesion to the polymerization reactor wall and the stirring blade also increases, which may cause a decrease in productivity due to the load on the cleaning process. At the time of polymerization, the component (G) can be made to coexist for the purpose of fouling suppression or particle property improvement.

また、本発明において共重合反応に供給されるオレフィンは、炭素数3以上20以下のオレフィンから選ばれる1種以上のモノマーである。炭素数が3以上20以下のオレフィンの具体例としては、例えば、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセンなどのα−オレフィン;シクロペンテン、シクロヘプテン、ノルボルネン、5−メチル−2−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、2−メチル1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレンなどの環状オレフィン等が挙げられる。また、上記オレフィンとして、例えば、スチレン、ビニルシクロヘキサン、ジエンやアクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、無水マレイン酸等;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸等の極性モノマー等も挙げられる。   In the present invention, the olefin supplied to the copolymerization reaction is at least one monomer selected from olefins having 3 to 20 carbon atoms. Specific examples of the olefin having 3 to 20 carbon atoms include, for example, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 4-methyl-1-pentene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, α-olefins such as 1-eicosene; cyclopentene, cycloheptene, norbornene, 5-methyl-2-norbornene, tetracyclododecene, 2-methyl 1,4,5, Cyclic olefins, such as 8-dimethano-1, 2, 3, 4, 4a, 5, 8, 8a-octahydronaphthalene, etc. are mentioned. Further, as the above-mentioned olefin, for example, styrene, vinylcyclohexane, diene, acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic anhydride etc .; methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, methacrylic acid etc. Monomers etc. are also mentioned.

本発明の好ましい態様である、本発明のオレフィン重合用触媒の存在下で、エチレンと炭素数4以上20以下、好ましくは炭素数6以上10以下のα−オレフィンとを共重合することにより得られるエチレン系重合体は、下記要件(1)〜(4)を満たすことが好ましい。なお、これらの要件の測定方法は、実施例に記載の通りである。   Obtained by copolymerizing ethylene and an α-olefin having 4 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 10 carbon atoms, in the presence of the catalyst for olefin polymerization of the present invention, which is a preferred embodiment of the present invention The ethylene-based polymer preferably satisfies the following requirements (1) to (4). In addition, the measuring method of these requirements is as having described in the Example.

(1)190℃における2.16kg荷重でのメルトフローレート(MFR)が0.1g/10分以上30g/10分以下である。
下限は好ましくは0.5g/10分、より好ましくは1.0g/10分であり、上限は好ましくは25g/10分、より好ましくは20g/10分である。メルトフローレート(MFR)が前記範囲であることにより、エチレン系重合体のせん断粘度が高すぎず、成形性が良好であるとともに、エチレン系重合体の引張強度やヒートシール強度などの機械的強度が良好になる。
(1) The melt flow rate (MFR) at a load of 2.16 kg at 190 ° C. is 0.1 g / 10 min or more and 30 g / 10 min or less.
The lower limit is preferably 0.5 g / 10 min, more preferably 1.0 g / 10 min, and the upper limit is preferably 25 g / 10 min, more preferably 20 g / 10 min. When the melt flow rate (MFR) is in the above range, the shear viscosity of the ethylene-based polymer is not too high, and the moldability is good, and mechanical strength such as tensile strength and heat seal strength of the ethylene-based polymer Will be better.

メルトフローレート(MFR)は分子量に強く依存しており、メルトフローレート(MFR)が小さいほど分子量は大きく、メルトフローレート(MFR)が大きいほど分子量は小さくなる。また、エチレン系重合体の分子量は、重合系内における水素とエチレンとの組成比(水素/エチレン)により決定されることが知られている(例えば、曽我和雄他編、「Catalytic Olefin Polymerization」、講談社サイエンティフィク、1990年、p.376)。このため、水素/エチレンを増減させることで、エチレン系重合体のメルトフローレート(MFR)を増減させることが可能である。   The melt flow rate (MFR) strongly depends on the molecular weight, and the smaller the melt flow rate (MFR), the larger the molecular weight, and the larger the melt flow rate (MFR), the smaller the molecular weight. In addition, it is known that the molecular weight of the ethylene-based polymer is determined by the composition ratio of hydrogen and ethylene (hydrogen / ethylene) in the polymerization system (for example, Kazuo Soga et al., "Catalytic Olefin Polymerization", Kodansha Scientific, 1990, p. 376). For this reason, it is possible to increase or decrease the melt flow rate (MFR) of the ethylene-based polymer by increasing or decreasing hydrogen / ethylene.

(2)密度が875kg/m3以上970kg/m3以下である。
下限は好ましくは885kg/m3、より好ましくは900kg/m3であり、上限は好ましくは960kg/m3、より好ましくは950kg/m3である。密度が前記範囲の場合、エチレン系重合体から成形されたフィルムの表面べたつきが少なく耐ブロッキング性に優れるとともに、該フィルムの衝撃強度が良好となり、ヒートシール強度、破袋強度などの機械的強度が良好である。
(2) The density is 875 kg / m 3 or more and 970 kg / m 3 or less.
The lower limit is preferably 885 kg / m 3 , more preferably 900 kg / m 3 , and the upper limit is preferably 960 kg / m 3 , more preferably 950 kg / m 3 . When the density is in the above range, the film formed from the ethylene-based polymer has little surface stickiness and is excellent in blocking resistance, and the impact strength of the film is good, and mechanical strength such as heat seal strength and bag breaking strength is improved. It is good.

一般に、密度はエチレン系重合体のα−オレフィン含量に依存しており、α−オレフィン含量が少ないほど密度は高く、α−オレフィン含量が多いほど密度は低くなる。また、エチレン系重合体中のα−オレフィン含量は、重合系内におけるα−オレフィンとエチレンとの組成比(α-オレフィン/エチレン)により決定されることが知られている(例えば、Walter Kaminsky,Makromol.Chem.193,p.606(1992))。このため、α−オレフィン/エチレンを増減させることで、上記範囲の密度を有するエチレン系重合体を製造することができる。   In general, the density depends on the α-olefin content of the ethylene polymer, the lower the α-olefin content, the higher the density, and the higher the α-olefin content, the lower the density. Also, it is known that the α-olefin content in ethylene polymer is determined by the composition ratio of α-olefin to ethylene (α-olefin / ethylene) in the polymerization system (for example, Walter Kaminsky, Makromol. Chem. 193, p. 606 (1992)). For this reason, the ethylene polymer which has the density of the said range can be manufactured by increasing / decreasing alpha-olefin / ethylene.

(3)200℃におけるゼロせん断粘度〔η0(P)〕と、GPC-粘度検出器法(GPC-VISCO)により測定された重量平均分子量の6.8乗(Mw6.8)の比(η0/Mw6.8)が、0.03×10-30以上7.5×10-30以下である。すなわち、前記エチレン系重合体では、η0とMwが下記式(Eq−1)
0.03×10-30≦η0/Mw6.8≦7.5×10-30 ‐‐‐(Eq−1)
を満たす。ここで、下限値は好ましくは0.05×10-30、より好ましくは0.8×10-30であり、上限値は好ましくは5.0×10-30、より好ましくは3.0×10-30である。
(3) zero shear viscosity at 200 ° C. and [eta 0 (P)], GPC-ratio (eta 0 of viscosity detector method 6.8 square of weight average molecular weight determined by (GPC-VISCO) (Mw 6.8) / Mw 6.8 ) is 0.03 × 10 −30 or more and 7.5 × 10 −30 or less. That is, in the ethylene polymer, η 0 and Mw have the following formula (Eq-1)
0.03 × 10 -30 ≦ η 0 / Mw 6.8 ≦ 7.5 × 10 -30 --(Eq-1)
Meet. Here, the lower limit is preferably 0.05 × 10 -30 , more preferably 0.8 × 10 -30 , and the upper limit is preferably 5.0 × 10 -30 , more preferably 3.0 × 10 -30 .

η0/Mw6.8が、0.03×10-30以上7.5×10-30以下であることは、η0とMwを両対数プロットした際に、log(η0)とlogMwが下記式(Eq−1´)で規定される領域に存在することと同義である。
6.8Log(Mw)−31.523≦Log(η0)≦6.8Log(Mw)−29.125 ‐‐‐(Eq−1´)
When η 0 / Mw 6.8 is 0.03 × 10 -30 or more and 7.5 × 10 -30 or less, when η 0 and Mw are plotted logarithmically, log (η 0 ) and log Mw are as follows It is synonymous with existing in the region defined by (Eq-1 ').
6.8 Log (Mw)-31.523? Log (? 0 )? 6.8 Log (Mw)-29.125--(Eq-1 ')

重量平均分子量(Mw)に対してゼロせん断粘度〔η0(P)〕を両対数プロットしたとき、長鎖分岐がなく直鎖状で、伸長粘度がひずみ硬化性を示さないエチレン系重合体は、傾きが3.4のべき乗則に則る。一方、比較的短い長鎖分岐を数多く有し、伸長粘度がひずみ速度硬化性を示すエチレン系重合体は、べき乗則よりも低いゼロせん断粘度〔η0(P)〕を示し、さらにその傾きは3.4よりも大きな値となることが知られており(C Gabriel,H.Munstedt,J.Rheol.,47(3),619(2003)、H.Munstedt,D.Auhl,J.Non−Newtonian Fluid Mech.128,62−69,(2005))、傾き6.8は経験的に選択しうる。η0とMw6.8との比をとることについては特開2011−1545号公報にも開示されている。 When a zero-shear viscosity [η 0 (P)] is plotted logarithmically with respect to the weight-average molecular weight (Mw), it is a linear polymer without long-chain branching, and an ethylene-based polymer which does not exhibit strain hardening. , The slope follows the power law of 3.4. On the other hand, an ethylene-based polymer having many relatively short long-chain branches and having an elongation viscosity exhibiting strain rate curability exhibits a zero shear viscosity [η 0 (P)] lower than that of the power law, and its inclination is It is known that the value is larger than 3.4 (C Gabriel, H. Munstedt, J. Rheol., 47 (3), 619 (2003), H. Munstedt, D. Auhl, J. Non- Newtonian Fluid Mech. 128, 62-69, (2005), slope 6.8 may be selected empirically. The ratio of η 0 to Mw 6.8 is also disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 2011-1545.

前記エチレン系重合体の200℃におけるゼロせん断粘度〔η0(P)〕が20×10-13×Mw6.8以下の場合、エチレン系重合体において引取サージングの発生が抑制される。 When the zero shear viscosity [η 0 (P)] at 200 ° C. of the ethylene-based polymer is 20 × 10 −13 × Mw 6.8 or less, the occurrence of takeover surge in the ethylene-based polymer is suppressed.

さらに、η0/Mw6.8が上記範囲の場合、エチレン系重合体から得られるフィルムの耐ブロッキング性が極めて優れるという効果がある。このような効果が発現する理由は次のように推測される。 Furthermore, when η 0 / Mw 6.8 is in the above range, there is an effect that the blocking resistance of the film obtained from the ethylene-based polymer is extremely excellent. The reason why such an effect appears is presumed as follows.

フィルム表面に微小な凹凸を形成することで、耐ブロッキング性は著しく向上することが知られている。溶融樹脂がダイスに流入すると、伸張流によって伸張応力が発生する。この伸張応力が臨界値を越えると脆性的に破断が生じ、メルトフラクチャーと呼ばれるダイス出口での不安定流動が発生し、成形体表面に微小な凹凸が形成される(F.N.Cogswell,Polymer Melt Rheology,Wiley,1981)。   It is known that the blocking resistance is remarkably improved by forming minute unevenness on the film surface. When the molten resin flows into the die, extensional flow generates tensile stress. When this tensile stress exceeds a critical value, fracture occurs in a brittle manner, causing unstable flow at the die exit called melt fracture, and micro unevenness is formed on the surface of the molded body (FN Cogswell, Polymer Melt Rheology, Wiley, 1981).

η0/Mw6.8がクレーム範囲にあると、一般的な成形加工でのひずみ速度において伸張応力が大きくなり、メルトフラクチャーが発生する。このメルトフラクチャーによりフィルム表面に微小な凹凸が形成されるため、得られるフィルムの耐ブロッキング性が極めて優れる。 When η 0 / Mw 6.8 is in the claim range, the tensile stress becomes large at the strain rate in general forming process, and melt fracture occurs. Since minute unevenness is formed on the film surface by this melt fracture, the blocking resistance of the obtained film is extremely excellent.

伸張応力は長鎖分岐の数と長さの影響を強く受けることが知られており、数が多いほど、長さが長いほど伸張応力は大きくなる。η0/Mw6.8が上限値を超えると長鎖分岐の数が不足する傾向となり、下限値を下回ると長鎖分岐の長さが不足する傾向となっていると考えられる。 It is known that the tensile stress is strongly influenced by the number and length of long chain branches, and the larger the number, the longer the length, the larger the tensile stress. When η 0 / Mw 6.8 exceeds the upper limit value, the number of long chain branches tends to be insufficient, and when it is below the lower limit value, the length of long chain branches tends to be insufficient.

ゼロせん断粘度〔η0(P)〕と重量平均分子量(Mw)との関係は、エチレン系重合体中の長鎖分岐の含量および長さに依存していると考えられ、長鎖分岐含量が多いほど、また長鎖分岐の長さが短いほどゼロせん断粘度〔η0(P)〕は請求範囲下限に近い値を示し、長鎖分岐含量が少ないほど、また長鎖分岐の長さが長いほどゼロせん断粘度〔η0(P)〕は請求範囲上限に近い値を示すと考えられる。 The relationship between the zero shear viscosity [η 0 (P)] and the weight average molecular weight (Mw) is considered to depend on the content and length of long chain branching in the ethylene-based polymer, and the long chain branching content is The higher the number and the shorter the length of the long chain branch, the closer to the lower limit of the range the zero shear viscosity [η 0 (P)], and the smaller the long chain branch content, the longer the length of the long chain branch The zero shear viscosity [η 0 (P)] is considered to exhibit a value close to the upper limit of the claim range.

ここで、長鎖分岐とはエチレン系重合体中に含まれる絡み合い点間分子量(Me)以上の長さの分岐構造と定義され、長鎖分岐の導入によりエチレン系重合体の溶融物性、及び成形加工性は著しく変化することが知られている(例えば、松浦一雄他編、「ポリエチレン技術読本」、工業調査会、2001年、p.32,36)。   Here, long-chain branching is defined as a branched structure having a length equal to or greater than the molecular weight (Me) between entanglement points contained in the ethylene-based polymer, and the melt physical properties of the ethylene-based polymer and molding by introducing long-chain branching. Processability is known to change significantly (for example, Kazuo Matsuura et al., "Polyethylene Technology Reader", Industrial Research Association, 2001, p. 32, 36).

前記エチレン系重合体が生成する機構において、本発明者らは、成分(A)、成分(C)および固体状担体(S)を含むオレフィン重合用触媒成分の存在下で、エチレンと炭素数4以上10以下のα−オレフィンとを共重合させることによって数平均分子量4000以上20000以下、好ましくは4000以上15000以下の末端ビニルを有する重合体である「マクロモノマー」を生成させ、次いで、成分(B)、成分(C)および固体状担体(S)を含むオレフィン重合用触媒成分により、エチレンおよび炭素数4以上10以下のα−オレフィンの重合と競争的に該マクロモノマーを共重合させることにより、エチレン系重合体中に長鎖分岐が生成すると推定している。   In the mechanism by which the ethylene-based polymer is formed, the inventors of the present invention have ethylene and 4 carbon atoms in the presence of a catalyst component for olefin polymerization including the component (A), the component (C) and the solid support (S). A “macromonomer”, which is a polymer having terminal vinyl with a number average molecular weight of 4000 or more and 20000 or less, preferably 4000 or more and 15000 or less, is produced by copolymerizing with an α-olefin of 10 or less and then component (B ), The component (C) and the solid support (S), and by copolymerizing the macromonomer in a competitive manner with the polymerization of ethylene and an α-olefin having 4 to 10 carbon atoms, by the catalyst component for olefin polymerization, It is estimated that long chain branching is generated in the ethylene-based polymer.

重合系中のマクロモノマーとエチレンとの組成比([マクロモノマー]/[エチレン])が高いほど長鎖分岐含量が多くなる。オレフィン重合用触媒中の成分(A)の比率、すなわち、成分(A)および成分(B)の合計に対する、成分(A)のモル比([A]/[A+B])を高くすることで[マクロモノマー]/[エチレン]を高くできることから、([A]/[A+B])を高くすることで長鎖分岐含量は多くなる。また、重合系中の水素とエチレンとの組成比(水素/エチレン)を高くするとマクロモノマーの分子量が小さくなる為、エチレン系重合体中に導入される長鎖分岐の長さは短くなる。   The higher the compositional ratio of the macromonomer to ethylene in the polymerization system ([macromonomer] / [ethylene]), the longer the long chain branching content. By increasing the molar ratio ([A] / [A + B]) of the component (A) to the ratio of the component (A) in the olefin polymerization catalyst, that is, the total of the component (A) and the component (B) [ Since the macromonomer] / [ethylene] can be increased, the long chain branch content is increased by increasing ([A] / [A + B]). In addition, when the composition ratio of hydrogen and ethylene (hydrogen / ethylene) in the polymerization system is increased, the molecular weight of the macromonomer is decreased, and hence the length of the long chain branch introduced into the ethylene-based polymer is shortened.

このことから、[A]/[A+B]、及び水素/エチレンを増減させることで、上記範囲のη0/Mw6.8を有するエチレン系重合体を製造することができる。
これらのほか、長鎖分岐量を制御する重合条件について例えば国際公開第2007/034920号パンフレットに開示されている。
From this, by adjusting [A] / [A + B] and hydrogen / ethylene, it is possible to produce an ethylene-based polymer having η 0 / Mw 6.8 within the above range.
Besides these, polymerization conditions for controlling the amount of long chain branching are disclosed, for example, in WO 2007/034920.

(4)135℃デカリン中で測定した極限粘度〔[η](dl/g)〕と、GPC-粘度検出器法(GPC-VISCO)により測定された重量平均分子量の0.776乗(Mw0.776)の比、[η]/Mw0.776が、0.90×10-4以上1.65×10-4以下である。すなわち、本発明で用いられるエチレン系重合体では、[η]とMwが下記式(Eq−2)
0.90×10-4≦[η]/Mw0.776≦1.65×10-4 ‐‐‐(Eq−2)
を満たす。ここで、下限値は好ましくは0.95×10-4、より好ましくは1.00×10-4であり、上限値は好ましくは1.55×10-4、より好ましくは1.45×10-4である。
(4) Intrinsic viscosity [[η] (dl / g)] measured in 135 ° C. decalin and weight-average molecular weight measured by GPC-viscosity detector method (GPC-VISCO): 0.776 (Mw 0.776) The ratio of [η] / Mw 0.776 is 0.90 × 10 −4 or more and 1.65 × 10 −4 or less. That is, in the ethylene polymer used in the present invention, [[] and Mw have the following formula (Eq-2)
0.90 × 10 -4 ≦ [η] / Mw 0.776 ≦ 1.65 × 10 -4 --- (Eq-2)
Meet. Here, the lower limit is preferably 0.95 × 10 −4 , more preferably 1.00 × 10 −4 , and the upper limit is preferably 1.55 × 10 −4 , more preferably 1.45 × 10 -4 .

[η]/Mw0.776が、0.90×10-4以上1.65×10-4以下であることは、[η]とMwを両対数プロットした際に、log([η]))とlog(Mw)が下記式(Eq−2´)で規定される領域に存在することと同義である。
0.776Log(Mw)−4.046≦Log([η]))≦0.776Log(Mw)−3.783 ‐‐‐(Eq−2´)
[Eta] / Mw 0.776 is it is 0.90 × 10 -4 or more 1.65 × 10 -4 or less, upon log-log plot of Mw and [eta], and log ([η])) It is synonymous with that log (Mw) exists in the area | region prescribed by a following formula (Eq-2 ').
0.776 Log (Mw)-4.046 Log Log ([]]) 0.7 0.776 Log (Mw)-3.783--(Eq-2 ')

エチレン系重合体中に長鎖分岐が導入されると、長鎖分岐の無い直鎖型エチレン系重合体に比べ、分子量の割に極限粘度[η](dl/g)が小さくなることが知られている(例えば、Walther Burchard,ADVANCES IN POLYMER SCIENCE,143,Branched PolymerII,p.137(1999))。そのため本エチレン系重合体の[η]/Mw0.776が前記上限値以下、特に1.65×10-4以下の場合は多数の長鎖分岐を有しており、エチレン系重合体の成形性および流動性が優れる。 It is known that when long-chain branching is introduced into an ethylene-based polymer, the intrinsic viscosity [η] (dl / g) decreases relative to the molecular weight as compared to a linear ethylene-based polymer without long-chain branching. For example, Walther Burchard, ADVANCES IN POLYMER SCIENCE, 143, Branched Polymer II, p. 137 (1999). Therefore, when [η] / Mw 0.776 of the present ethylene polymer is not more than the above upper limit value, particularly 1.65 × 10 -4 or less, it has a large number of long chain branches, and Fluidity is excellent.

前述のようにオレフィン重合用触媒中の成分(A)の比率([A]/[A+B])を高くすることで長鎖分岐含量は多くなることから、[A]/[A+B]を増減させることで、請求範囲の極限粘度[η]を有するエチレン系重合体(α)を製造することができる。物性値のばらつきを抑制するなどの目的で、重合反応により得られたエチレン系重合体粒子および所望により添加される他の成分は、任意の方法で溶融され、混練、造粒することもできる。   As described above, by increasing the ratio ([A] / [A + B]) of the component (A) in the olefin polymerization catalyst, the long chain branch content is increased, so [A] / [A + B] is increased or decreased. Thus, an ethylene-based polymer (α) having an intrinsic viscosity [η] of the claimed range can be produced. The ethylene-based polymer particles obtained by the polymerization reaction and other components optionally added may be melted, kneaded, and granulated by any method for the purpose of suppressing variation in physical property values.

本発明で得られるエチレン系重合体は以下のような方法によりペレット化してもよい。
(i)エチレン系重合体および所望により添加される他の成分を、押出機、ニーダー等を用いて機械的にブレンドして、所定の大きさにカットする方法。
The ethylene-based polymer obtained in the present invention may be pelletized by the following method.
(I) A method of mechanically blending an ethylene-based polymer and other components optionally added, using an extruder, a kneader or the like, and cutting into a predetermined size.

(ii)エチレン系重合体および所望により添加される他の成分を適当な良溶媒(たとえば、ヘキサン、ヘプタン、デカン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレン等の炭化水素溶媒)に溶解し、次いで溶媒を除去、しかる後に押出機、ニーダー等を用いて機械的にブレンドして所定の大きさにカットする方法。   (Ii) Dissolve the ethylene polymer and optionally added other components in a suitable good solvent (for example, hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, decane, cyclohexane, benzene, toluene and xylene), and then add the solvent A method of mechanical blending and cutting to a predetermined size using an extruder, a kneader, etc. after removal.

本発明で得られるエチレン系重合体は、本発明の目的を損なわない範囲で、耐候性安定剤、耐熱安定剤、帯電防止剤、スリップ防止剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、顔料、染料、核剤、可塑剤、老化防止剤、塩酸吸収剤、酸化防止剤等の添加剤が必要に応じて配合されていてもよい。   The ethylene polymer obtained by the present invention is a weather resistant stabilizer, a heat resistant stabilizer, an antistatic agent, an antislip agent, an antiblocking agent, an antifogging agent, a lubricant, a pigment, as long as the object of the present invention is not impaired. Additives such as dyes, nucleating agents, plasticizers, anti-aging agents, hydrochloric acid absorbents, antioxidants and the like may be blended as required.

本発明で得られるエチレン系重合体、および必要に応じて熱可塑性樹脂や添加剤を含む樹脂組成物は、一般のフィルム成形やブロー成形、インジェクション成形および押出成形により加工される。フィルム成形では押出ラミネート成形、Tダイフィルム成形、インフレーション成形(空冷、水冷、多段冷却、高速加工)などにより得られる。該エチレン系重合体を用いて得られたフィルムは単層でも使用することができるが、多層とすることでさらに様々な機能を付与することができる。その場合には、前記各成形法における共押出法が挙げられる。一方押出ラミネート成形やドライラミネート法のような貼合ラミネート成形法によって、共押出が困難な紙やバリアフィルム(アルミ箔、蒸着フィルム、コーティングフィルムなど)との積層が挙げられる。ブロー成形やインジェクション成形、押出成形での、共押出法による多層化での高機能製品の作製については、フィルム成形と同様に可能である。   The ethylene-based polymer obtained in the present invention and, if necessary, a resin composition containing a thermoplastic resin and an additive, are processed by general film forming, blow molding, injection molding and extrusion molding. Film forming is obtained by extrusion laminate forming, T-die film forming, inflation forming (air cooling, water cooling, multistage cooling, high speed processing) or the like. The film obtained by using the ethylene-based polymer can be used as a single layer, but can be further imparted with various functions by forming it into a multilayer. In that case, the co-extrusion method in each said shaping | molding method is mentioned. On the other hand, lamination with paper and barrier films (aluminum foil, vapor deposition film, coating film, etc.) which coextrusion is difficult is mentioned by bonding lamination molding methods like extrusion lamination molding or dry lamination method. The production of high-performance products in multilayering by coextrusion by blow molding, injection molding, and extrusion molding is possible as well as film molding.

本発明で得られるエチレン系重合体、および必要に応じて熱可塑性樹脂や添加剤を含む樹脂組成物を加工することにより得られる成形体としては、フィルム、ブロー輸液バック、ブローボトル、ガソリンタンク、押出成形によるチューブ、パイプ、引きちぎりキャップ、日用雑貨品等射出成形物、繊維、回転成形による大型成形品などがあげられる。   Examples of molded articles obtained by processing the ethylene-based polymer obtained by the present invention and, if necessary, a resin composition containing a thermoplastic resin and additives, include films, blow infusion bags, blow bottles, gasoline tanks, Injection molded products such as extrusion molded tubes, pipes, tear caps, household sundries, etc., fibers, large molded products manufactured by rotational molding, and the like.

さらに、本発明で得られるエチレン系重合体、および必要に応じて熱可塑性樹脂や添加剤を含む樹脂組成物を加工することにより得られるフィルムは、水物包装袋、液体スープ包袋、液体紙器、ラミ原反、特殊形状液体包装袋(スタンディングパウチ等)、規格袋、重袋、ラップフィルム、砂糖袋、油物包装袋、食品包装用等の各種包装用フィルム、プロテクトフィルム、輸液バック、農業用資材等に好適である。また、ナイロン、ポリエステル等の基材と貼り合わせて、多層フィルムとして用いることもできる。   Furthermore, a film obtained by processing the ethylene-based polymer obtained by the present invention, and, if necessary, a resin composition containing a thermoplastic resin and an additive, can be obtained as a water package bag, a liquid soup package, a liquid paper container , Lami original fabric, special shape liquid packaging bags (standing pouches etc.), standard bags, heavy bags, wrap films, sugar bags, oily packaging bags, various packaging films for food packaging etc, protective films, infusion bags, agriculture It is suitable for materials etc. Moreover, it can also bond with base materials, such as nylon and polyester, and can also use it as a multilayer film.

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、下記の実施例および比較例において、エチレン系重合体の製造における遊離ポリマー量および得られたエチレン系重合体の物性の測定は以下のようにして行った。   Hereinafter, the present invention will be more specifically described based on examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following Examples and Comparative Examples, the measurement of the amount of free polymer in the production of the ethylene-based polymer and the physical properties of the obtained ethylene-based polymer were performed as follows.

<遊離ポリマー量>
遊離ポリマー量(wt%)は、スラリー重合後の上澄み(溶媒)を分取し、これを乾燥することにより得られたポリマーの量X(g)と、得られたポリマーの総収量Y(g)とを測定し、下記式により求めた。
遊離ポリマー量(wt%)=X/(X+Y)×100
<Amount of free polymer>
The amount (wt%) of the free polymer is obtained by fractionating the supernatant (solvent) after slurry polymerization and drying this to obtain the amount of polymer X (g) and the total yield Y of the polymer obtained (g) And was determined by the following equation.
Amount of free polymer (wt%) = X / (X + Y) × 100

<メルトフローレート(MFR)>
190℃、2.16kg荷重(kgf)の条件下で測定した。
<Melt flow rate (MFR)>
It measured on the conditions of 190 degreeC and 2.16 kg load (kgf).

<密度(D)>
MFR測定時に得られるストランドを100℃で30分間熱処理し、更に室温で1時間放置した後に密度勾配管法で測定した。
<Density (D)>
The strand obtained at the time of MFR measurement was heat-treated at 100 ° C. for 30 minutes, and after standing at room temperature for 1 hour, it was measured by density gradient tube method.

<溶融張力(MT)>
190℃における溶融張力(MT)(単位;g)は、一定速度で延伸したときの応力を測定することにより決定した。測定には東洋精機製作所社製キャピラリーレオメーター:キャピログラフ1Dを用いた。条件は樹脂温度190℃、溶融時間6分、バレル径9.55mmφ、押し出し速度15mm/分、巻取り速度24m/分(溶融フィラメントが切れてしまう場合には、巻取り速度を5m/分ずつ低下させる)、ノズル径2.095mmφ、ノズル長さ8mmとした。
Melt tension (MT)
The melt tension (MT) at 190 ° C. (in g) was determined by measuring the stress when stretched at a constant rate. A capillary rheometer: Capirograph 1D manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd. was used for measurement. The conditions are: resin temperature 190 ° C, melting time 6 minutes, barrel diameter 9.55 mmφ, extrusion speed 15 mm / min, winding speed 24 m / min (If the melting filament breaks, the winding speed is decreased by 5 m / min each) The nozzle diameter was 2.095 mm and the nozzle length was 8 mm.

<せん断粘度(η*)>
200℃、角速度1.0rad/秒におけるせん断粘度〔η*(1.0)〕(P)は以下の方法により測定した。
せん断粘度(η*)は、測定温度200℃におけるせん断粘度(η*)の角速度〔ω(rad/秒)〕分散を0.01≦ω≦100の範囲で測定する。測定にはアントンパール社製粘弾性測定装置Physica MCR301を用い、サンプルホルダーとして25mmφのパラレルプレートを用い、サンプル厚みを約2.0mmとした。測定点はω一桁当たり5点とした。歪み量は、測定範囲でのトルクが検出可能で、かつトルクオーバーにならないよう、3〜10%の範囲で適宜選択した。
<Shear viscosity (η * )>
The shear viscosity [η * (1.0)] (P) at an angular velocity of 1.0 rad / sec at 200 ° C. was measured by the following method.
Shear viscosity (eta *) measures the angular velocity [omega (rad / sec)] variance of a shear viscosity at a measurement temperature of 200 ° C. (eta *) in the range of 0.01 ≦ ω ≦ 100. For measurement, a viscoelasticity measuring apparatus Physica MCR 301 manufactured by Anton Paar Co., Ltd. was used, a parallel plate of 25 mmφ was used as a sample holder, and a sample thickness was about 2.0 mm. The measurement points were 5 points per single digit of ω. The amount of distortion was appropriately selected in the range of 3 to 10% so that torque in the measurement range could be detected and torque over would not occur.

せん断粘度測定に用いたサンプルは、神藤金属工業所製プレス成形機を用い、予熱温度190℃、予熱時間5分間、加熱温度190℃、加熱時間2分間、加熱圧力100kgf/cm2、冷却温度20℃、冷却時間5分間、冷却圧力100kgf/cm2の条件にて、測定サンプルを厚さ2mmにプレス成形することにより作製した。 The sample used for shear viscosity measurement is a press molding machine manufactured by Kamitoko Kogyo Co., Ltd., preheating temperature 190 ° C., preheating time 5 minutes, heating temperature 190 ° C., heating time 2 minutes, heating pressure 100 kgf / cm 2 , cooling temperature 20 The measurement sample was produced by press-molding to a thickness of 2 mm under the conditions of ° C., a cooling time of 5 minutes, and a cooling pressure of 100 kgf / cm 2 .

<ゼロせん断粘度(η0)>
200℃におけるゼロせん断粘度(η0)(P)は以下の方法により求めた。
測定温度200℃にて、せん断粘度(η*)の角速度ω(rad/秒)分散を0.01≦ω≦100の範囲で測定する。測定にはアントンパール社製粘弾性測定装置Physica MCR301を用い、サンプルホルダーとして25mmφのパラレルプレートを用い、サンプル厚みを約2.0mmとした。測定点はω一桁当たり5点とした。歪み量は、測定範囲でのトルクが検出可能で、かつトルクオーバーにならないよう、3〜10%の範囲で適宜選択した。
<Zero shear viscosity (η 0 )>
The zero shear viscosity (η 0 ) (P) at 200 ° C. was determined by the following method.
The angular velocity ω (rad / second) dispersion of the shear viscosity ( ** ) is measured in the range of 0.01 ≦ ω ≦ 100 at a measurement temperature of 200 ° C. For measurement, a viscoelasticity measuring apparatus Physica MCR 301 manufactured by Anton Paar Co., Ltd. was used, a parallel plate of 25 mmφ was used as a sample holder, and a sample thickness was about 2.0 mm. The measurement points were 5 points per single digit of ω. The amount of distortion was appropriately selected in the range of 3 to 10% so that torque in the measurement range could be detected and torque over would not occur.

せん断粘度測定に用いたサンプルは、神藤金属工業所製プレス成形機を用い、予熱温度190℃、予熱時間5分間、加熱温度190℃、加熱時間2分間、加熱圧力100kgf/cm2、冷却温度20℃、冷却時間5分間、冷却圧力100kgf/cm2の条件にて、測定サンプルを厚さ2mmにプレス成形することにより作製した。 The sample used for shear viscosity measurement is a press molding machine manufactured by Kamitoko Kogyo Co., Ltd., preheating temperature 190 ° C., preheating time 5 minutes, heating temperature 190 ° C., heating time 2 minutes, heating pressure 100 kgf / cm 2 , cooling temperature 20 The measurement sample was produced by press-molding to a thickness of 2 mm under the conditions of ° C., a cooling time of 5 minutes, and a cooling pressure of 100 kgf / cm 2 .

ゼロせん断粘度(η0)は、下記式(Eq−3)のCarreauモデルを非線形最小自乗法により実測のレオロジー曲線〔せん断粘度(η*)の角速度(ω)分散〕にフィッティングさせることで算出した。
Η*=η0〔1+(λω)a(n-1)/a ‐‐‐(Eq−3)
The zero shear viscosity ( 0 0 ) was calculated by fitting a Carreau model of the following formula (Eq-3) to the measured rheological curve [angular velocity (ω) dispersion of shear viscosity (η * )] by nonlinear least squares method .
Η * = η 0 [1+ (λω) a ] (n-1) / a ---(Eq-3)

ここで、λは時間の次元を持つパラメーター、nは材料の冪法則係数(power law index)を表す。なお、非線形最小自乗法によるフィッティングは下記式(Eq−4)におけるdが最小となるように行った。   Here, λ is a parameter having a dimension of time, and n is a power law index of the material. In addition, the fitting by the non-linear least squares method was performed so that d in a following formula (Eq-4) might become the minimum.

Figure 2019059934
上記式(Eq−4)中、ηexp(ω)は実測のせん断粘度を表し、ηcalc(ω)はCarreauモデルより算出したせん断粘度を表す。
Figure 2019059934
In said Formula (Eq-4), (eta) exp ((omega)) represents the shear viscosity of measurement, and (eta) calc ((omega)) represents the shear viscosity calculated from the Carreau model.

<数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)、Z平均分子量(Mz)、分子量分布(Mw/Mn、Mz/Mw)>
ウォーターズ社製GPC−粘度検出器(GPC−VISCO)GPC/V2000を用い、以下のように測定した。
<Number average molecular weight (Mn), weight average molecular weight (Mw), Z average molecular weight (Mz), molecular weight distribution (Mw / Mn, Mz / Mw)>
It measured as follows using GPC- viscosity detector (GPC-VISCO) GPC / V2000 by Waters company.

ガードカラムにはShodex AT−Gを用い、分析カラムにはAT−806を2本用い、検出器には示差屈折計および3キャピラリー粘度計を用い、カラム温度は145℃とし、移動相としては、酸化防止剤としてBHTを0.3重量%含むo−ジクロロベンゼンを用い、流速を1.0ml/分とし、試料濃度は0.1重量%とした。標準ポリスチレンには、東ソー社製のものを用いた。分子量計算は、粘度計および屈折計から実測粘度を計算し、実測ユニバーサルキャリブレーションより数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)、Z平均分子量(Mz)、分子量分布(Mw/Mn、Mz/Mw)を求めた。   The guard column uses Shodex AT-G, the analysis column uses two AT-806, the detector uses a differential refractometer and a 3-capillary viscometer, the column temperature is 145 ° C, and the mobile phase is An o-dichlorobenzene containing 0.3% by weight of BHT was used as an antioxidant, the flow rate was 1.0 ml / min, and the sample concentration was 0.1% by weight. As the standard polystyrene, one manufactured by Tosoh Corporation was used. Molecular weight calculation calculates actual measurement viscosity from viscometer and refractometer, number average molecular weight (Mn), weight average molecular weight (Mw), Z average molecular weight (Mz), molecular weight distribution (Mw / Mn, Mz) from measurement universal calibration / Mw was determined.

<極限粘度[η]>
測定サンプル約20mgをデカリン15mlに溶解し、135℃のオイルバス中で比粘度ηspを測定した。このデカリン溶液にデカリン溶媒を5ml追加して希釈後、同様にして比粘度ηspを測定した。この希釈操作をさらに2回繰り返し、下記式(Eq−5)に示すように濃度(C)を0に外挿した時のηsp/Cの値を極限粘度[η](単位;dl/g)として求めた。
[η]=lim(ηsp/C) (C→0) ‐‐‐(Eq−5)
<Intrinsic viscosity [η]>
About 20 mg of a measurement sample was dissolved in 15 ml of decalin, and the specific viscosity sp sp was measured in an oil bath at 135 ° C. After diluting 5 ml of decalin solvent to the decalin solution to dilute, the specific viscosity sp sp was measured in the same manner. This dilution operation is further repeated twice, and the value of sp sp / C when the concentration (C) is extrapolated to 0 as shown in the following formula (Eq-5) is the limiting viscosity [η] (unit; dl / g Asked as).
[Η] = lim (η sp / C) (C → 0)---(Eq-5)

[成分(A)および成分(B)の合成]
<合成例1>
(1)充分に乾燥、アルゴン置換した300mLの反応器に、インデン5.01mL(43.0mmol)とテトラヒドロフラン50mLを仕込み、n−ブチルリチウム溶液28.0mL(ヘキサン溶液、1.62M、45.4mmol)を氷冷下で加え、室温で2時間攪拌した。この溶液へ、ヨウ化ブチル5.20mL(45.4mmol)を氷冷下で滴下し、ゆっくりと室温まで戻しながら15時間攪拌を続けた。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、n−ヘキサンで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式(A−1a)で示した目的物(以下化合物(A−1a)という)が6.50g(収率88%)の異性体混合物として得られた。
[Synthesis of Component (A) and Component (B)]
Synthesis Example 1
(1) 5.01 mL (43.0 mmol) of indene and 50 mL of tetrahydrofuran are charged into a 300 mL reactor sufficiently dried and purged with argon, and 28.0 mL of n-butyllithium solution (hexane solution, 1.62 M, 45.4 mmol) ) Was added under ice-cooling and stirred at room temperature for 2 hours. To this solution was added dropwise 5.20 mL (45.4 mmol) of butyl iodide under ice-cooling, and stirring was continued for 15 hours while gradually returning to room temperature. Saturated aqueous ammonium chloride solution was added, the solubles were extracted with n-hexane, and the obtained fraction was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. After magnesium sulfate is filtered, the filtrate is evaporated and the residue thus obtained is purified by silica gel column chromatography to obtain the desired product (hereinafter referred to as compound (A-1a)) represented by the following formula (A-1a) Obtained as a mixture of 6.50 g (yield 88%) of isomers.

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.44(1H,d,J=7.3Hz,Ar−H),7.41−7.24(2H,m,Ar−H),7.24−7.13(1H,m,Ar−H),6.18(1H,t,J=1.5Hz,C=CH−C),3.31(2H,d,J=2.0Hz,C−CH2−CH),2.62−2.47(2H,m,C−CH2−CH2−),1.75−1.57(2H,m,−CH2−CH2−),1.53−1.30(2H,m,−CH2−CH2−),0.95(3H,t,J=7.3Hz,−CH2−CH3)ppm 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.44 (1 H, d, J = 7.3 Hz, Ar-H), 7.41-7.24 (2 H, m, Ar-H), 7.24- 7.13 (1 H, m, Ar-H), 6.18 (1 H, t, J = 1.5 Hz, C = CH-C), 3.31 (2 H, d, J = 2.0 Hz, C- CH 2 -CH), 2.62-2.47 (2H , m, C-CH 2 -CH 2 -), 1.75-1.57 (2H, m, -CH 2 -CH 2 -), 1 .53-1.30 (2H, m, -CH 2 -CH 2 -), 0.95 (3H, t, J = 7.3Hz, -CH 2 -CH 3) ppm

Figure 2019059934
(2)充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、前記(1)で得られた化合物(A−1a)1.57g(9.13mmol)とテトラヒドロフラン20mLを仕込み、n−ブチルリチウム溶液5.60mL(ヘキサン溶液、1.64M、9.18mmol)を氷冷下で加え、室温で2時間攪拌した。この反応液を、ジメチルシリルジクロリド5.50mL(46.0mmol)のn−ヘキサン10mL希釈溶液に、−78℃冷却下でゆっくりと加え、室温まで戻しながら20時間攪拌を続けた。反応液の溶媒および未反応のジメチルシリルジクロリドを留去した後、残渣にテトラヒドロフラン10mL、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン0.90mL(9.58mmol)を加えた。充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、ナトリウムシクロペンタジエニド溶液4.60mL(テトラヒドロフラン溶液、2.0M、9.20mmol)、テトラヒドロフラン10mLを仕込んだ。この溶液を、−78℃に冷却した先程の反応残渣希釈溶液に滴下し、ゆっくりと室温まで戻しながら19時間攪拌を続けた。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、n−ヘキサンで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式(A−1L)で示した目的物(以下「化合物(A−1L)」ともいう。)が2.20g(収率82%)の異性体混合物として得られた。
Figure 2019059934
(2) 1.57 g (9.13 mmol) of the compound (A-1a) obtained in the above (1) and 20 mL of tetrahydrofuran are charged in a sufficiently dried and argon-substituted 100 mL reactor, and n-butyllithium solution 5 .60 mL (hexane solution, 1.64 M, 9.18 mmol) was added under ice-cooling and stirred at room temperature for 2 hours. The reaction solution was slowly added to a dilute solution of 5.50 mL (46.0 mmol) of dimethylsilyl dichloride in 10 mL of n-hexane under cooling with cooling, and stirring was continued for 20 hours while returning to room temperature. After the solvent of the reaction solution and unreacted dimethylsilyl dichloride were distilled off, 10 mL of tetrahydrofuran and 0.90 mL (9.58 mmol) of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone were added to the residue. A sufficiently dried, argon-replaced 100 mL reactor was charged with 4.60 mL of a sodium cyclopentadienide solution (tetrahydrofuran solution, 2.0 M, 9.20 mmol) and 10 mL of tetrahydrofuran. This solution was added dropwise to the previously diluted reaction residue diluted solution cooled to −78 ° C., and stirring was continued for 19 hours while gradually returning to room temperature. Saturated aqueous ammonium chloride solution was added, the solubles were extracted with n-hexane, and the obtained fraction was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. After magnesium sulfate is filtered, the filtrate is evaporated and the obtained residue is purified by silica gel column chromatography to obtain the desired product (hereinafter referred to as "compound (A-1L)") represented by the following formula (A-1L) Was obtained as an isomer mixture of 2.20 g (yield 82%).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.62−7.15(5H,m,Ar−H&C=CH−C),6.90−6.08(4H,m,C=CH−C),3.78−2.80(2H,m,Si−CH),2.76−2.52(2H,m,C−CH2−CH2−),1.84−1.60(2H,m,−CH2−CH2−),1.60−1.38(2H,m,−CH2−CH2−),1.03(3H,t,J=7.3Hz,−CH2−CH3),0.30 − −0.50(6H,m,Si−CH3)ppm 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.62-7.15 (5 H, m, Ar-H & C = CH-C), 6.90-6.08 (4 H, m, C = CH-C), 3.78-2.80 (2H, m, Si- CH), 2.76-2.52 (2H, m, C-CH 2 -CH 2 -), 1.84-1.60 (2H, m , -CH 2 -CH 2- ), 1.60-1.38 (2H, m, -CH 2 -CH 2- ), 1.03 (3H, t, J = 7.3 Hz, -CH 2 -CH 3), 0.30 - -0.50 (6H , m, Si-CH 3) ppm

Figure 2019059934
Figure 2019059934

(3)充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、前記(2)で得られた化合物(A−1L)0.59g(2.01mmol)、トルエン20mL、テトラヒドロフラン0.4mLを仕込み攪拌した。この溶液へ、n−ブチルリチウム溶液2.50mL(ヘキサン溶液、1.64M、4.10mmol)を室温下で加えた後、40℃のオイルバス中で3時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジエチルエーテル20mLを加えた。この溶液を0℃に冷却し、四塩化ジルコニウム0.46g(1.95mmol)を加え、室温にて19時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジクロロメタンを加えて懸濁液を調製し、不溶物をガラスフィルター上のセライトで除去した。得られた溶液を減圧化で濃縮した後、n−ヘキサンを加えることで懸濁液を調製し、不溶物をガラスフィルターで濾別した。残渣を減圧乾燥することにより、下記式(A−1)で示される黄色粉末状の化合物ジメチルシリレン(3−n−ブチル−1−インデニル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド(以下「成分(A−1)」ともいう。)を0.48g(収率54%)得た。   (3) 0.59 g (2.01 mmol) of the compound (A-1 L) obtained in the above (2), 20 mL of toluene and 0.4 mL of tetrahydrofuran were charged into a sufficiently dried and argon-substituted 100 mL reactor. . After adding 2.50 mL (hexane solution, 1.64 M, 4.10 mmol) of n-butyllithium solution to this solution at room temperature, stirring was continued in a 40 ° C. oil bath for 3 hours. After the solvent of the reaction solution was distilled off, 20 mL of diethyl ether was added to the obtained solid. The solution was cooled to 0 ° C., 0.46 g (1.95 mmol) of zirconium tetrachloride was added, and stirring was continued at room temperature for 19 hours. After distilling off the solvent of the reaction solution, dichloromethane was added to the obtained solid to prepare a suspension, and the insoluble matter was removed with Celite on a glass filter. The resulting solution was concentrated under reduced pressure, and then a suspension was prepared by adding n-hexane, and the insoluble matter was separated by filtration using a glass filter. By drying the residue under reduced pressure, the compound dimethylsilylene (3-n-butyl-1-indenyl) (cyclopentadienyl) zirconium dichloride represented by the following formula (A-1) is obtained as a yellow powder (hereinafter referred to as “component (A) -1) ") was obtained (yield 54%).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.60(1H,dt,J=8.5and1.0Hz,Ar−H),7.47−7.36(2H,m,Ar−H),7.13−7.03(1H,m,Ar−H),6.84−6.73(2H,m,Cp−H),5.89−5.84(1H,m,Cp−H),5.82(1H,s,Ind−H),5.80−5.75(1H,m,Cp−H),2.90(2H,t,J=7.7Hz,C−CH2−CH2−),1.70−1.50(2H,m,−CH2−CH2−),1.50−1.25(2H,m,−CH2−CH2−),1.03(3H,s,Si−CH3),0.92(3H,t,J=7.3Hz,−CH2−CH3),0.81(3H,s,Si−CH3)ppm
FD−質量分析(M+): 454
1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.60 (1 H, dt, J = 8.5 and 1.0 Hz, Ar-H), 7.47-7.36 (2 H, m, Ar-H), 7. 13-7.03 (1 H, m, Ar-H), 6.84-6. 73 (2 H, m, Cp-H), 5.89-5. 84 (1 H, m, Cp-H), 5 .82 (1H, s, Ind- H), 5.80-5.75 (1H, m, Cp-H), 2.90 (2H, t, J = 7.7Hz, C-CH 2 -CH 2 -), 1.70-1.50 (2H, m , -CH 2 -CH 2 -), 1.50-1.25 (2H, m, -CH 2 -CH 2 -), 1.03 (3H , s, Si-CH 3) , 0.92 (3H, t, J = 7.3Hz, -CH 2 -CH 3), 0.81 (3H, s, Si-CH 3) ppm
FD-mass spectrometry (M + ): 454

Figure 2019059934
Figure 2019059934

<合成例2>
(1)充分に乾燥、アルゴン置換した300mLの反応器に、2−メチルインデン3.91g(30.0mmol)とテトラヒドロフラン30mLを仕込み、n−ブチルリチウム溶液19.2mL(ヘキサン溶液、1.64M、31.5mmol)を氷冷下で加え、室温で3時間攪拌した。この溶液へ、ヨウ化ブチル3.61mL(31.5mmol)を氷冷下で滴下し、ゆっくりと室温まで戻しながら2時間攪拌を続けた。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、n−ヘキサンで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式(A−2a)で示した目的物(以下「化合物(A−2a)」ともいう。)が5.40g(収率97%)の異性体混合物として得られた。
Synthesis Example 2
(1) 3.91 g (30.0 mmol) of 2-methylindene and 30 mL of tetrahydrofuran are charged into a sufficiently dried, argon-substituted 300 mL reactor, and 19.2 mL of n-butyllithium solution (hexane solution, 1.64 M, 31.5 mmol) was added under ice-cooling and stirred at room temperature for 3 hours. To this solution, 3.61 mL (31.5 mmol) of butyl iodide was added dropwise under ice-cooling, and stirring was continued for 2 hours while gradually returning to room temperature. Saturated aqueous ammonium chloride solution was added, the solubles were extracted with n-hexane, and the obtained fraction was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. After magnesium sulfate is filtered, the filtrate is evaporated and the obtained residue is purified by silica gel column chromatography to obtain the desired product (hereinafter referred to as "compound (A-2a)") represented by the following formula (A-2a) Is obtained as an isomer mixture of 5.40 g (yield 97%).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.34(1H,d,J=7.4Hz,Ar−H),7.24−7.14(2H,m,Ar−H),7.14−7.02(1H,m,Ar−H),6.44(1H,s,C=CH−C),3.33(1H,t,J=5.0Hz,C−CH−C),2.05(3H,d,J=0.8Hz,−CH3),2.03−1.08(1H,m,CH−CH2−CH2−),1.83−1.63(1H,m,CH−CH2−CH2−),1.31−1.17(2H,m,−CH2−CH2−),1.16−0.86(2H,m,−CH2−CH2−),0.82(3H,t,J=7.3Hz,−CH2−CH3)ppm 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.34 (1 H, d, J = 7.4 Hz, Ar-H), 7.24-7.14 (2 H, m, Ar-H), 7.14 7.02 (1 H, m, Ar-H), 6.44 (1 H, s, C = CH-C), 3.33 (1 H, t, J = 5.0 Hz, C-CH-C), 2 .05 (3H, d, J = 0.8Hz, -CH 3), 2.03-1.08 (1H, m, CH-CH 2 -CH 2 -), 1.83-1.63 (1H, m, CH-CH 2 -CH 2 -), 1.31-1.17 (2H, m, -CH 2 -CH 2 -), 1.16-0.86 (2H, m, -CH 2 -CH 2 -), 0.82 (3H, t, J = 7.3Hz, -CH 2 -CH 3) ppm

Figure 2019059934
Figure 2019059934

(2)充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、前記(1)で得られた化合物(A−2a)3.73g(20.0mmol)とテトラヒドロフラン30mLを仕込み、n−ブチルリチウム溶液12.2mL(ヘキサン溶液、1.64M、20.0mmol)を氷冷下で加え、室温で2時間攪拌した。この反応液を、ジメチルシリルジクロリド12.0mL(100mmol)のn−ヘキサン10mL希釈溶液に、−78℃冷却下でゆっくりと加え、室温まで戻しながら19時間攪拌を続けた。反応液の溶媒および未反応のジメチルシリルジクロリドを留去した後、残渣にテトラヒドロフラン20mL、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン1.90mL(20.2mmol)を加えた。充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、ナトリウムシクロペンタジエニド溶液10.0mL(テトラヒドロフラン溶液、2.0M、20.0mmol)、テトラヒドロフラン20mLを仕込んだ。この溶液を、−78℃に冷却した先程の反応残渣希釈溶液に滴下し、ゆっくりと室温まで戻しながら19時間攪拌を続けた。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、n−ヘキサンで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式(A−2L)で示した目的物(以下「化合物(A−2L)」ともいう。)が5.41g(収率88%)の異性体混合物として得られた。   (2) 3.73 g (20.0 mmol) of the compound (A-2a) obtained in the above (1) and 30 mL of tetrahydrofuran are charged in a sufficiently dried and argon-substituted 100 mL reactor, and n-butyllithium solution 12 .2 mL (hexane solution, 1.64 M, 20.0 mmol) was added under ice-cooling and stirred at room temperature for 2 hours. This reaction solution was slowly added to a solution of 12.0 mL (100 mmol) of dimethylsilyl dichloride in 10 mL of n-hexane under cooling with cooling, and stirring was continued for 19 hours while returning to room temperature. After distilling off the solvent of the reaction solution and unreacted dimethylsilyl dichloride, 20 mL of tetrahydrofuran and 1.90 mL (20.2 mmol) of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone were added to the residue. In a sufficiently dried, argon-replaced 100 mL reactor, 10.0 mL of a sodium cyclopentadienide solution (tetrahydrofuran solution, 2.0 M, 20.0 mmol) and 20 mL of tetrahydrofuran were charged. This solution was added dropwise to the previously diluted reaction residue diluted solution cooled to −78 ° C., and stirring was continued for 19 hours while gradually returning to room temperature. Saturated aqueous ammonium chloride solution was added, the solubles were extracted with n-hexane, and the obtained fraction was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. After magnesium sulfate is filtered, the filtrate is evaporated and the obtained residue is purified by silica gel column chromatography to obtain the desired product (hereinafter referred to as "compound (A-2L)" represented by the following formula (A-2L) Was obtained as an isomer mixture of 5.41 g (yield 88%).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.61−7.01(4H,m,Ar−H),6.92−5.96(4H,m,C=CH−C),3.80−2.75(2H,m,Si−CH),2.74−2.48(2H,m,C−CH2−CH2−),2.30−2.00(3H,m,−CH3),1.70−1.36(4H,m,−CH2−CH2−),1.02(3H,t,J=7.2Hz,−CH2−CH3),0.30 − −0.40(6H,m,Si−CH3)ppm 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.61 to 7.01 (4 H, m, Ar-H), 6.92 to 5.96 (4 H, m, C = CH-C), 3.80 2.75 (2H, m, Si- CH), 2.74-2.48 (2H, m, C-CH 2 -CH 2 -), 2.30-2.00 (3H, m, -CH 3 ), 1.70 to 1.36 (4H, m, -CH 2 -CH 2- ), 1.02 (3H, t, J = 7.2 Hz, -CH 2 -CH 3 ), 0.30-- 0.40 (6H, m, Si-CH 3 ) ppm

Figure 2019059934
Figure 2019059934

(3)充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、前記(2)で得られた化合物(A−2L)0.62g(2.01mmol)、トルエン20mL、テトラヒドロフラン0.4mLを仕込み攪拌した。この溶液へ、n−ブチルリチウム溶液2.60mL(ヘキサン溶液、1.55M、4.03mmol)を室温下で加えた後、40℃のオイルバス中で3時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジエチルエーテル20mLを加えた。この溶液を0℃に冷却し、四塩化ジルコニウム0.46g(1.99mmol)を加え、室温にて18時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジクロロメタンを加えて懸濁液を調製し、不溶物をガラスフィルター上のセライトで除去した。得られた溶液を減圧化で濃縮した後、n−ヘキサンを加えることで懸濁液を調製し、不溶物をガラスフィルターで濾別した。残渣を減圧乾燥することにより、下記式(A−2)で示される黄色粉末状の化合物ジメチルシリレン(3−n−ブチル−2−メチル−1−インデニル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド(以下「成分(A−2)」ともいう。)を0.22g(収率24%)得た。   (3) 0.62 g (2.01 mmol) of the compound (A-2L) obtained in the above (2), 20 mL of toluene, and 0.4 mL of tetrahydrofuran were charged into a sufficiently dried and argon-substituted 100 mL reactor. . After 2.60 mL (hexane solution, 1.55 M, 4.03 mmol) of n-butyllithium solution was added to this solution at room temperature, stirring was continued in a 40 ° C. oil bath for 3 hours. After the solvent of the reaction solution was distilled off, 20 mL of diethyl ether was added to the obtained solid. The solution was cooled to 0 ° C., 0.46 g (1.99 mmol) of zirconium tetrachloride was added, and stirring was continued at room temperature for 18 hours. After distilling off the solvent of the reaction solution, dichloromethane was added to the obtained solid to prepare a suspension, and the insoluble matter was removed with Celite on a glass filter. The resulting solution was concentrated under reduced pressure, and then a suspension was prepared by adding n-hexane, and the insoluble matter was separated by filtration using a glass filter. By drying the residue under reduced pressure, the compound dimethylsilylene (3-n-butyl-2-methyl-1-indenyl) (cyclopentadienyl) zirconium dichloride represented by the following formula (A-2) is obtained as a yellow powder: 0.22 g (yield 24%) of “component (A-2)” was obtained.

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.59(1H,dt,J=8.6and1.0Hz,Ar−H),7.50(1H,dt,J=8.6and1.0Hz,Ar−H),7.45−7.35(1H,m,Ar−H),7.07−6.97(1H,m,Ar−H),6.84−6.76(1H,m,Cp−H),6.74−6.67(1H,m,Cp−H),5.81(2H,t,J=2.4Hz,Cp−H),2.95−2.75(2H,m,C−CH2−CH2−),2.09(3H,s,−CH3),1.60−1.26(4H,m,−CH2−CH2−),1.07(3H,s,Si−CH3),0.96(3H,s,Si−CH3),0.92(3H,t,J=7.2Hz,−CH2−CH3)ppm
FD−質量分析(M+): 468
1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.59 (1 H, dt, J = 8.6 and 1.0 Hz, Ar-H), 7. 50 (1 H, dt, J = 8.6 and 1.0 Hz, Ar-H ), 7.45 to 7.35 (1 H, m, Ar-H), 7.07 to 6.97 (1 H, m, Ar-H), 6.84 to 6.76 (1 H, m, Cp-). H), 6.74-6.67 (1H, m, Cp-H), 5.81 (2H, t, J = 2.4 Hz, Cp-H), 2.95-2.75 (2H, m) , C-CH 2 -CH 2- ), 2.09 (3 H, s, -CH 3 ), 1.60 -1. 26 (4 H, m, -CH 2 -CH 2- ), 1.07 (3 H) , s, Si-CH 3) , 0.96 (3H, s, Si-CH 3), 0.92 (3H, t, J = 7.2Hz, -CH 2 -CH 3) ppm
FD-mass spectrometry (M + ): 468

Figure 2019059934
Figure 2019059934

<合成例3>
(1)充分に乾燥、アルゴン置換した200mLの反応器に、マグネシウム片1.44g(59.4mmol)を仕込み、減圧下加熱しながら30分激しく撹拌した。室温まで冷却した後、還流冷却管を装着し、ヨウ素一片とテトラヒドロフラン15mLを仕込み攪拌した。2−ブロモインデン2.93g(15.0mmol)のテトラヒドロフラン10mL希釈溶液を滴下(1.0mL添加後、ドライヤーにてヨウ素の色が消失するまで加熱還流、反応開始後は残液滴下)し、滴下終了後室温にて2時間撹拌した。この反応液を、ジメチルシリルジクロリド9.00mL(75.3mmol)のn−ヘキサン10mL希釈溶液に、−78℃冷却下ゆっくりと加え、室温まで戻しながら17時間攪拌を続けた。反応液の溶媒および未反応のジメチルシリルジクロリドを留去した後、残渣にテトラヒドロフラン10mL、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン1.50mL(16.0mmol)を加えた。充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、前記合成例2(1)で得られた化合物(A−2a)2.80g(15.0mmol)、テトラヒドロフラン15mLを仕込み、n−ブチルリチウム溶液9.70mL(ヘキサン溶液、1.55M、15.0mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。この溶液を、−78℃に冷却した先程の反応残渣希釈溶液に滴下し、ゆっくりと室温まで戻しながら16時間攪拌を続けた。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、n−ヘキサンで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式(A−3L)で示した目的物(以下「化合物(A−3L)」ともいう。)が3.15g(収率58%)の異性体混合物として得られた。
Synthesis Example 3
(1) A sufficiently dried, argon-replaced 200 mL reactor was charged with 1.44 g (59.4 mmol) of magnesium pieces and vigorously stirred for 30 minutes while heating under reduced pressure. After cooling to room temperature, a reflux condenser was attached, and a piece of iodine and 15 mL of tetrahydrofuran were charged and stirred. A 10 mL diluted solution of 2.93 g (15.0 mmol) of 2-bromoindene is added dropwise (1.0 mL after addition, followed by heating to reflux until the color of iodine disappears with a drier, remaining after dropping of the reaction drop) It stirred at room temperature after completion | finish for 2 hours. This reaction solution was slowly added to a solution of 9.00 mL (75.3 mmol) of dimethylsilyl dichloride in 10 mL of n-hexane while cooling, and stirring was continued for 17 hours while returning to room temperature. After the solvent of the reaction solution and unreacted dimethylsilyl dichloride were distilled off, 10 mL of tetrahydrofuran and 1.50 mL (16.0 mmol) of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone were added to the residue. 2.80 g (15.0 mmol) of the compound (A-2a) obtained in the above Synthesis Example 2 (1) and 15 mL of tetrahydrofuran were charged in a sufficiently dried and argon-substituted 100 mL reactor, and n-butyllithium solution 9 .70 mL (hexane solution, 1.55 M, 15.0 mmol) was added and stirred at room temperature for 2 hours. This solution was added dropwise to the previously diluted reaction residue diluted solution cooled to −78 ° C., and stirring was continued for 16 hours while slowly returning to room temperature. Saturated aqueous ammonium chloride solution was added, the solubles were extracted with n-hexane, and the obtained fraction was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. After magnesium sulfate is filtered, the filtrate is evaporated and the obtained residue is purified by silica gel column chromatography to obtain the desired product (hereinafter referred to as "compound (A-3L)") represented by the following formula (A-3L) Is obtained as an isomer mixture of 3.15 g (yield 58%).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.43(1H,d,J=7.3Hz,Ar−H),7.38(1H,d,J=7.4Hz,Ar−H),7.33−7.12(5H,m,Ar−H),7.10−6.98(2H,m,Ar−H&C=CH−C),3.45(1H,s,Si−CH),3.22(2H,dd,J=47.7and22.4Hz,C−CH2−C−),2.49(2H,t,J=7.3Hz,−CH2−CH3),2.01(3H,s,−CH3),1.49−1.18(4H,m,−CH2−CH2−),0.82(3H,t,J=7.1Hz,−CH2−CH3),0.21(3H,s,Si−CH3),0.15(3H,s,Si−CH3)ppm 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.43 (1 H, d, J = 7.3 Hz, Ar-H), 7.38 (1 H, d, J = 7.4 Hz, Ar-H), 7. 33-7.12 (5H, m, Ar-H), 7.10-6.98 (2H, m, Ar-H & C = CH-C), 3.45 (1 H, s, Si-CH), 3 .22 (2H, dd, J = 47.7and22.4Hz, C-CH 2 -C -), 2.49 (2H, t, J = 7.3Hz, -CH 2 -CH 3), 2.01 ( 3H, s, -CH 3), 1.49-1.18 (4H, m, -CH 2 -CH 2 -), 0.82 (3H, t, J = 7.1Hz, -CH 2 -CH 3 ), 0.21 (3H, s, Si-CH 3), 0.15 (3H, s, Si-CH 3) ppm

Figure 2019059934
Figure 2019059934

(2)充分に乾燥、アルゴン置換した100mLの反応器に、前記(1)で得られた化合物(A−3L)0.72g(2.00mmol)、トルエン20mL、テトラヒドロフラン0.4mLを仕込み攪拌した。この溶液へ、n−ブチルリチウム溶液2.60mL(ヘキサン溶液、1.55M、4.03mmol)を室温下で加えた後、40℃のオイルバス中で3時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジエチルエーテル20mLを加えた。この溶液を0℃に冷却し、四塩化ジルコニウム0.47g(2.00mmol)を加え、室温にて19時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジクロロメタンを加えて懸濁液を調製し、不溶物をガラスフィルター上のセライトで除去した。得られた溶液を減圧化で濃縮した後、n−ヘキサンを加えることで懸濁液を調製し、不溶物をガラスフィルターで濾別した。残渣を減圧乾燥することにより、下記式(A−3)で示される黄色粉末状の化合物ジメチルシリレン(3−n−ブチル−1−インデニル)(2−インデニル)ジルコニウムジクロリド(以下「成分(A−3)」ともいう。)を0.40g(収率39%)得た。   (2) 0.72 g (2.00 mmol) of the compound (A-3 L) obtained in the above (1), 20 mL of toluene, and 0.4 mL of tetrahydrofuran were charged into a sufficiently dried and argon-substituted 100 mL reactor. . After 2.60 mL (hexane solution, 1.55 M, 4.03 mmol) of n-butyllithium solution was added to this solution at room temperature, stirring was continued in a 40 ° C. oil bath for 3 hours. After the solvent of the reaction solution was distilled off, 20 mL of diethyl ether was added to the obtained solid. The solution was cooled to 0 ° C., 0.47 g (2.00 mmol) of zirconium tetrachloride was added, and stirring was continued at room temperature for 19 hours. After distilling off the solvent of the reaction solution, dichloromethane was added to the obtained solid to prepare a suspension, and the insoluble matter was removed with Celite on a glass filter. The resulting solution was concentrated under reduced pressure, and then a suspension was prepared by adding n-hexane, and the insoluble matter was separated by filtration using a glass filter. By drying the residue under reduced pressure, the compound dimethylsilylene (3-n-butyl-1-indenyl) (2-indenyl) zirconium dichloride represented by the following formula (A-3) is obtained as a yellow powder (hereinafter referred to as “component (A- 3) ") was obtained (yield: 39%).

1H NMR(270MHz,CDCl3)δ 7.73−7.63(2H,m,Ar−H),7.50(1H,dt,J=8.6and1.0Hz,Ar−H),7.39−7.25(2H,m,Ar−H),7.25−7.16(2H,m,Ar−H),7.16−7.07(1H,m,Ar−H),6.09−6.03(1H,m,Ind−H),2.95−2.60(2H,m,C−CH2−CH2−),2.17(3H,s,Ind−CH3),1.60−1.20(4H,m,−CH2−CH2−),1.13(3H,s,Si−CH3),1.00(3H,s,Si−CH3),0.89(3H,t,J=7.1Hz,−CH2−CH3)ppm
FD−質量分析(M+): 518
1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 7.73-7.63 (2H, m, Ar-H), 7.50 (1 H, dt, J = 8.6 and 1.0 Hz, Ar-H), 7. 39-7.25 (2H, m, Ar-H), 7.25-7. 16 (2H, m, Ar-H), 7.16-7.07 (1 H, m, Ar-H), 6 .09-6.03 (1H, m, Ind- H), 2.95-2.60 (2H, m, C-CH 2 -CH 2 -), 2.17 (3H, s, Ind-CH 3 ), 1.60-1.20 (4H, m, -CH 2 -CH 2 -), 1.13 (3H, s, Si-CH 3), 1.00 (3H, s, Si-CH 3) , 0.89 (3H, t, J = 7.1Hz, -CH 2 -CH 3) ppm
FD-mass spectrometry (M + ): 518

Figure 2019059934
Figure 2019059934

<合成例4>
下記式(A−4)で示されるジメチルシリレン(3−n−プロピルシクロペンタジエニル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド(以下「成分(A−4)」ともいう。)は、特許第5455354号公報記載の方法によって合成した。
Synthesis Example 4
The dimethylsilylene (3-n-propylcyclopentadienyl) (cyclopentadienyl) zirconium dichloride (hereinafter also referred to as “component (A-4)”) represented by the following formula (A-4) is disclosed in Japanese Patent No. 5455354 It synthesize | combined by the method of a statement.

Figure 2019059934
Figure 2019059934

<合成例5>
下記式(A−5)で示されるジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(1−インデニル)ジルコニウムジクロリド(以下「化合物(A−5)」ともいう。)は、Macromolecules 1995,28,3771.記載の方法によって合成した。
Synthesis Example 5
The dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (1-indenyl) zirconium dichloride (hereinafter also referred to as “compound (A-5)”) represented by the following formula (A-5) is a Macromolecules 1995, 28, 3771. It synthesize | combined by the method of a statement.

Figure 2019059934
Figure 2019059934

<合成例6>
下記式(B−1)で示されるイソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ−tert−ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド(以下「成分(B−1)」ともいう。)は、特開平4−69394号公報に記載の方法に基づいて合成した。
Synthesis Example 6
The isopropylidene (cyclopentadienyl) (2,7-di-tert-butylfluorenyl) zirconium dichloride (hereinafter also referred to as “component (B-1)”) represented by the following formula (B-1) is It synthesize | combined based on the method as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 4-69394.

Figure 2019059934
Figure 2019059934

[実施例1]
<固体触媒成分(X)の調製>
内容積270リットルの攪拌機付き反応器に、窒素雰囲気下、固体状担体(S)として、富士シリシア株式会社製シリカ(平均粒径70μm、比表面積340m2/g、細孔容積1.3cm3/g、250℃焼成)10kgを77リットルのトルエンに懸濁させた後0〜5℃に冷却した。この懸濁液に成分(C)として、メチルアルミノキサンのトルエン溶液(Al原子換算で3.5mol/L)20.4リットルを30分間かけて滴下した。この際、系内の温度を0〜5℃に保った。引き続き0〜5℃で30分間反応させた後、約1.5時間かけて95〜100℃まで昇温して、引き続き95〜100℃で4時間反応させた。その後常温まで降温して、上澄み液をデカンテーションにより除去し、さらにトルエンで2回洗浄した後、全量59.0リットルのトルエンスラリーを調製した。得られたスラリー成分の一部を採取し濃度を調べたところ、スラリー濃度:232.0g/L、Al濃度:1.19mol/Lであった。
Example 1
<Preparation of Solid Catalyst Component (X)>
Silica with an average particle diameter of 70 μm, a specific surface area of 340 m 2 / g, and a pore volume of 1.3 cm 3 / g as a solid carrier (S) in a nitrogen atmosphere in a 270 l internal volume reactor with a stirrer g, 250 ° C. calcination) 10 kg was suspended in 77 liters of toluene and then cooled to 0 to 5 ° C. To this suspension, 20.4 liters of a toluene solution of methylaluminoxane (3.5 mol / L in terms of Al atom) as component (C) was added dropwise over 30 minutes. At this time, the temperature in the system was maintained at 0 to 5 ° C. Subsequently, the mixture was allowed to react at 0 to 5 ° C. for 30 minutes, heated to 95 to 100 ° C. over about 1.5 hours, and then allowed to react at 95 to 100 ° C. for 4 hours. Thereafter, the temperature was lowered to normal temperature, the supernatant was removed by decantation, and after washing twice with toluene, a total of 59.0 liters of toluene slurry was prepared. A part of the obtained slurry component was collected and the concentration was examined. The slurry concentration was 232.0 g / L and the Al concentration was 1.19 mol / L.

この内、8.6ミリリットル(固体分質量2.0g)を内容積200ミリリットルの撹拌機付き反応器に、窒素雰囲気下で装入し、全量が65.7ミリリットルのトルエンを添加した。次いで、合成例1で得られた成分(A−1)のトルエン溶液をZrとして35.0μmol、合成例5で得られた成分(B−1)のトルエン溶液をZrとして15.0μmol加えた(成分(A)/成分(B)のモル比=70/30)。これらを系内温度73〜77℃で2時間接触させた後、上澄み液をデカンテーションにより除去し、さらに100ミリリットルのヘキサンを用いて2回洗浄した後、全量100ミリリットルの固体触媒成分(X−1)のヘキサンスラリーを調製した。   Among them, 8.6 ml (solid content mass: 2.0 g) was charged into a stirred reactor with an internal volume of 200 ml under a nitrogen atmosphere, and a total of 65.7 ml of toluene was added. Next, 35.0 μmol of a toluene solution of the component (A-1) obtained in Synthesis Example 1 was added as Zr, and 15.0 μmol of a toluene solution of the component (B-1) obtained in Synthesis Example 5 was added as Zr ( Component (A) / component (B) molar ratio = 70/30). After contacting them at a system temperature of 73 to 77 ° C. for 2 hours, the supernatant is removed by decantation, and after washing twice with 100 ml of hexane, the solid catalyst component (X- The hexane slurry of 1) was prepared.

<エチレン系重合体の製造>
充分に窒素置換した内容積1リットルの撹拌翼付きSUS製オートクレーブに、窒素雰囲気下、ヘプタン500ミリリットルを添加した後、エチレンを流通させ液相および気相をエチレンで飽和させた。次に、1−ヘキセンを10mL、トリイソブチルアルミニウムを0.375mmol、および前記固体状触媒成分(X−1)を固体分として40mg装入した後、エチレンにて80℃、0.8MPaGに昇温、昇圧し、90分間重合反応を行った。得られたポリマーをろ過後、80℃で10時間真空乾燥することで、エチレン系重合体58.4gを得た。この際、前期方法により測定した遊離ポリマー量は1.5wt%であった。固体触媒当りの重合活性は1,460g/g−cat.であった。スラリー重合後のオートクレーブ壁面や撹拌翼に付着物は認められなかった。
<Production of ethylene-based polymer>
After adding 500 ml of heptane under an atmosphere of nitrogen to a 1-liter SUS autoclave with an internal volume sufficiently purged with nitrogen, ethylene was allowed to flow to saturate the liquid phase and the gas phase with ethylene. Next, after charging 10 mL of 1-hexene, 0.375 mmol of triisobutylaluminum and 40 mg of the solid catalyst component (X-1) as a solid component, the temperature is raised to 80 ° C. and 0.8 MPaG with ethylene. The pressure was increased and polymerization was performed for 90 minutes. The obtained polymer was filtered and vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 58.4 g of an ethylene-based polymer. At this time, the amount of free polymer measured by the above method was 1.5 wt%. The polymerization activity per solid catalyst is 1,460 g / g-cat. Met. No deposits were observed on the wall of the autoclave after the polymerization of the slurry and on the stirring blade.

得られたエチレン系重合体に、耐熱安定剤としてIrganoX1076(商品名、チバスペシャリティケミカルズ株式会社製)0.1質量%、Irgafos168(商品名、チバスペシャリティケミカルズ株式会社製)0.1質量%を加え、ラボプラストミル(株式会社東洋精機製作所製)を用い、樹脂温度180℃、回転数50rpmで5分間溶融混練した。さらに、この溶融ポリマーを、プレス成形機(株式会社神藤金属工業所製)を用い、冷却温度20℃、冷却時間5分間、冷却圧力100kg/cm2の条件にて冷却した。得られた試料を測定用試料として、物性測定を行った。結果を表8に示す。 0.1% by mass of Irgano X 1076 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.) and 0.1% by mass of Irgafos 168 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.) as a heat resistant stabilizer are added to the obtained ethylene-based polymer Using a laboplast mill (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.), melt kneading was performed for 5 minutes at a resin temperature of 180 ° C. and a rotation number of 50 rpm. Furthermore, the molten polymer was cooled using a press molding machine (manufactured by Kamitoh Metal Works, Ltd.) at a cooling temperature of 20 ° C., a cooling time of 5 minutes, and a cooling pressure of 100 kg / cm 2 . Physical properties were measured using the obtained sample as a measurement sample. The results are shown in Table 8.

[実施例2]
<固体触媒成分(X)の調製>
実施例1において、成分(A−1)35.0μmolの代わりに成分(A−2)40.0μmolを用い、成分(B−1)15.0μmolを10.0μmolに変更し、成分(A)/成分(B)のモル比を80/20にしたこと以外は実施例1と同様にして固体触媒成分(X−2)のスラリーを調製した。
Example 2
<Preparation of Solid Catalyst Component (X)>
In Example 1, 40.0 μmol of the component (A-2) is used instead of 35.0 μmol of the component (A-1), and 15.0 μmol of the component (B-1) is changed to 10.0 μmol. A slurry of the solid catalyst component (X-2) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the molar ratio of component / component (B) was changed to 80/20.

<エチレン系重合体の製造>
充分に窒素置換した内容積1リットルの撹拌翼付きSUS製オートクレーブに、窒素雰囲気下、ヘプタン500ミリリットルを添加した後、エチレンを流通させ液相および気相をエチレンで飽和させた。次に、1−ヘキセンを10mL、トリイソブチルアルミニウムを0.375mmol、および前記固体状触媒成分(X−2)を固体分として60mg装入した後、水素濃度0.1vol%のエチレン・水素混合ガスを用いて80℃、0.8MPaGに昇温、昇圧し、90分間重合反応を行った。得られたポリマーをろ過後、80℃で10時間真空乾燥することで、エチレン系重合体143.2gを得た。この際、前記方法により測定した遊離ポリマー量は0.7wt%であった。固体触媒当りの重合活性は2,390g/g−cat.であった。スラリー重合後のオートクレーブ壁面や撹拌翼に付着物は認められなかった。得られたエチレン系重合体を実施例1と同様の方法で溶融混練および冷却し、得られた試料を測定用試料として、物性測定を行った。結果を表8に示す。
<Production of ethylene-based polymer>
After adding 500 ml of heptane under an atmosphere of nitrogen to a 1-liter SUS autoclave with an internal volume sufficiently purged with nitrogen, ethylene was allowed to flow to saturate the liquid phase and the gas phase with ethylene. Next, after charging 10 mL of 1-hexene, 0.375 mmol of triisobutylaluminum and 60 mg of the solid catalyst component (X-2) as a solid, ethylene / hydrogen mixed gas having a hydrogen concentration of 0.1 vol% The temperature was raised to 80 ° C. and 0.8 MPaG, and the pressure was raised, and the polymerization reaction was performed for 90 minutes. The obtained polymer was filtered and vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 143.2 g of an ethylene-based polymer. Under the present circumstances, the amount of free polymers measured by the said method was 0.7 wt%. The polymerization activity per solid catalyst was 2,390 g / g-cat. Met. No deposits were observed on the wall of the autoclave after the polymerization of the slurry and on the stirring blade. The obtained ethylene-based polymer was melt-kneaded and cooled in the same manner as in Example 1, and physical properties were measured using the obtained sample as a measurement sample. The results are shown in Table 8.

[実施例3]
<固体触媒成分(X)の調製>
実施例1において、成分(A−1)35.0μmolの代わりに成分(A−3)20.5μmolを用い、成分(B−1)15.0μmolを13.7μmolに変更し、成分(A)/成分(B)のモル比を60/40にしたこと以外は実施例1と同様にして固体触媒成分(X−3)のスラリーを調製した。
[Example 3]
<Preparation of Solid Catalyst Component (X)>
In Example 1, 20.5 μmol of the component (A-3) is used instead of 35.0 μmol of the component (A-1), and 15.0 μmol of the component (B-1) is changed to 13.7 μmol to obtain the component (A) A slurry of the solid catalyst component (X-3) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the molar ratio of component / component (B) was changed to 60/40.

<エチレン系重合体の製造>
充分に窒素置換した内容積1リットルの撹拌翼付きSUS製オートクレーブに、窒素雰囲気下、ヘプタン500ミリリットルを添加した後、エチレンを流通させ液相および気相をエチレンで飽和させた。次に、1−ヘキセンを10mL、トリイソブチルアルミニウムを0.375mmol、および前記固体状触媒成分(X−3)を固体分として50mg装入した後、エチレンにて80℃、0.8MPaGに昇温、昇圧し、90分間重合反応を行った。得られたポリマーをろ過後、80℃で10時間真空乾燥することで、エチレン系重合体96.9gを得た。この際、前記方法により測定した遊離ポリマー量は2.4wt%であった。固体触媒当りの重合活性は1,930g/g−cat.であった。スラリー重合後のオートクレーブ壁面や撹拌翼に付着物は認められなかった。得られたエチレン系重合体を実施例1と同様の方法で溶融混練および冷却し、得られた試料を測定用試料として、物性測定を行った。結果を表8に示す。
<Production of ethylene-based polymer>
After adding 500 ml of heptane under an atmosphere of nitrogen to a 1-liter SUS autoclave with an internal volume sufficiently purged with nitrogen, ethylene was allowed to flow to saturate the liquid phase and the gas phase with ethylene. Next, after charging 10 mL of 1-hexene, 0.375 mmol of triisobutylaluminum and 50 mg of the solid catalyst component (X-3) as a solid component, the temperature is raised to 80 ° C. and 0.8 MPaG with ethylene. The pressure was increased and polymerization was performed for 90 minutes. The obtained polymer was filtered and vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 96.9 g of an ethylene-based polymer. Under the present circumstances, the amount of free polymers measured by the said method was 2.4 wt%. The polymerization activity per solid catalyst is 1,930 g / g-cat. Met. No deposits were observed on the wall of the autoclave after the polymerization of the slurry and on the stirring blade. The obtained ethylene-based polymer was melt-kneaded and cooled in the same manner as in Example 1, and physical properties were measured using the obtained sample as a measurement sample. The results are shown in Table 8.

[比較例1]
<固体触媒成分(X)の調製>
実施例1において、成分(A−1)35.0μmolの代わりに成分(A−4)20.0μmolを用い、成分(B−1)15.0μmolを30.0μmolに変更し、成分(A)/成分(B)のモル比を40/60にしたこと以外は実施例1と同様にして固体触媒成分(X−4)のスラリーを調製した。
Comparative Example 1
<Preparation of Solid Catalyst Component (X)>
In Example 1, 20.0 μmol of the component (A-4) is used instead of 35.0 μmol of the component (A-1), and 15.0 μmol of the component (B-1) is changed to 30.0 μmol. A slurry of the solid catalyst component (X-4) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the molar ratio of component / component (B) was changed to 40/60.

<エチレン系重合体の製造>
実施例1において、固体触媒成分(X−1)40mgの代わりに固体触媒成分(X−4)60mgを用いたこと以外は、実施例1と同様の方法によりエチレン系重合体87.0gを得た。この際、前記方法により測定した遊離ポリマー量は10.0wt%であった。固体触媒当りの重合活性は1,450g/g−cat.であった。スラリー重合後のオートクレーブ壁面や撹拌翼に付着物が認められた。得られたエチレン系重合体を実施例1と同様の方法で溶融混練および冷却し、得られた試料を測定用試料として、物性測定を行った。結果を表8に示す。
<Production of ethylene-based polymer>
In the same manner as in Example 1 except that 60 mg of solid catalyst component (X-4) was used instead of 40 mg of solid catalyst component (X-1) in Example 1, 87.0 g of ethylene-based polymer was obtained. The Under the present circumstances, the amount of free polymers measured by the said method was 10.0 wt%. The polymerization activity per solid catalyst is 1,450 g / g-cat. Met. Adherents were observed on the autoclave wall surface and the stirring blade after slurry polymerization. The obtained ethylene-based polymer was melt-kneaded and cooled in the same manner as in Example 1, and physical properties were measured using the obtained sample as a measurement sample. The results are shown in Table 8.

[比較例2]
<固体触媒成分(X)の調製>
実施例1において、成分(A−1)35.0μmolの代わりに成分(A−5)46.5μmolを用い、成分(B−1)15.0μmolを3.5μmmolに変更し、成分(A)/成分(B)のモル比を93/7にしたこと以外は実施例1と同様にして固体触媒成分(X−5)のスラリーを調製した。
Comparative Example 2
<Preparation of Solid Catalyst Component (X)>
In Example 1, using 46.5 μmol of the component (A-5) instead of 35.0 μmol of the component (A-1), changing 15.0 μmol of the component (B-1) to 3.5 μmmol, the component (A) A slurry of the solid catalyst component (X-5) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the molar ratio of component / component (B) was changed to 93/7.

<エチレン系重合体の製造>
実施例1において、固体触媒成分(X−1)40mgの代わりに固体触媒成分(X−5)100mgを用いたこと以外は、実施例1と同様の方法によりエチレン系重合体27.0gを得た。この際、前記方法により測定した遊離ポリマー量は8.5wt%であった。固体触媒当りの重合活性は270g/g−cat.であった。スラリー重合後のオートクレーブ壁面や撹拌翼に付着物が認められた。得られたエチレン系重合体を実施例1と同様の方法で溶融混練および冷却し、得られた試料を測定用試料として、物性測定を行った。結果を表8に示す。
<Production of ethylene-based polymer>
In the same manner as in Example 1 except that 100 mg of the solid catalyst component (X-5) was used instead of 40 mg of the solid catalyst component (X-1) in Example 1, 27.0 g of an ethylene-based polymer was obtained. The Under the present circumstances, the amount of free polymers measured by the said method was 8.5 wt%. The polymerization activity per solid catalyst is 270 g / g-cat. Met. Adherents were observed on the autoclave wall surface and the stirring blade after slurry polymerization. The obtained ethylene-based polymer was melt-kneaded and cooled in the same manner as in Example 1, and physical properties were measured using the obtained sample as a measurement sample. The results are shown in Table 8.

Figure 2019059934
Figure 2019059934

実施例1〜3で得られたエチレン系重合体は、比較例1,2で得られたエチレン系重合体と比較して低分子量であるにもかかわらず、顕著に遊離ポリマー量が少なかった。また、オートクレーブ壁面や撹拌翼への付着物が認められず、ファウリングも抑えられていた。即ち、本発明の実施例1〜3では、長鎖分岐量が多く成形加工性に優れるエチレン系重合体を、比較例1,2より安定的に製造可能であることは明らかである。   Although the ethylene-based polymers obtained in Examples 1 to 3 have a low molecular weight as compared with the ethylene-based polymers obtained in Comparative Examples 1 and 2, the amount of free polymer was remarkably small. In addition, no deposits were found on the autoclave wall and the stirring blade, and fouling was also suppressed. That is, in Examples 1 to 3 of the present invention, it is clear that ethylene polymers having a large amount of long-chain branching and excellent moldability can be manufactured more stably than Comparative Examples 1 and 2.

Claims (10)

下記成分(A)、下記成分(B)、下記成分(C)および固体状担体(S)を含んでなるオレフィン重合用触媒。
成分(A):下記一般式(1)で表される遷移金属化合物;
Figure 2019059934
[式(1)中、Mは周期表第4族遷移金属原子であり、
nはMの価数を満たす1〜4の整数であり、
Xは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アニオン配位子、または孤立電子対で配位可能な中性配位子であり;該アニオン配位子はハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基または共役ジエン系誘導体基であり;nが2以上の場合、複数存在するXは、互いに同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよく、
1は周期表第14族遷移原子であり、
1〜R4およびR7〜R12は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜40の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、窒素含有基または硫黄含有基であり、
5は水素原子、炭素数1〜40の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、窒素含有基、硫黄含有基、または、窒素、酸素および硫黄から選ばれる原子を少なくとも1つ含む母骨格を5員環とする、置換基を有していてもよい複素環式芳香族基であり、
6は、直鎖状部分の炭素数が3〜10の飽和炭化水素基または直鎖状部分の炭素数が3〜10の末端不飽和炭化水素基であり、
1とR2およびR3とR4は、互いに結合して置換基を有していてもよい飽和環を形成してもよく、
2とR3、およびR7〜R10の隣接した置換基は、互いに結合して置換基を有していてもよい環を形成してもよく、
11とR12は、互いに結合してQ1を含む環を形成してもよく、該環は置換基を有していてもよい。]
成分(B):下記一般式(2)で表される遷移金属化合物;
Figure 2019059934
[式(2)中、Mは周期表第4族遷移金属原子であり、
Xは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基およびリン含有基から選ばれる原子または基であり、
2は炭素数1〜20の炭化水素基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基から選ばれる基であり、
13〜R24は、それぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、硫黄含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基から選ばれ、隣接する2個の基が連結して環を形成してもよい。]
成分(C):下記一般式(3)〜(5)で表される有機金属化合物(c−1)、有機アルミニウムオキシ化合物(c−2)、ならびに、成分(A)および成分(B)と反応してイオン対を形成する化合物(c−3)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物;
a mAl(ORb)npq ・・・(3)
[式(3)中、RaおよびRbは、それぞれ独立に炭素原子数が1〜15の炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0<m≦3、nは0≦n<3、pは0≦p<3、qは0≦q<3の数であり、かつm+n+p+q=3である。]
a AlRa 4 ・・・(4)
[式(4)中、MaはLi、NaまたはKを示し、Raは炭素原子数が1以上15以下の炭化水素基を示す。]
a rbb st ・・・(5)
[式(5)中、RaおよびRbは、それぞれ独立に炭素原子数が1以上15以下の炭化水素基を示し、MbはMg、ZnおよびCdから選ばれ、Xはハロゲン原子を示し、rは0<r≦2、sは0≦s≦1、tは0≦t≦1であり、かつr+s+t=2である。]
An olefin polymerization catalyst comprising the following component (A), the following component (B), the following component (C) and a solid carrier (S).
Component (A): transition metal compound represented by the following general formula (1);
Figure 2019059934
[In the formula (1), M is a group 4 transition metal atom of the periodic table,
n is an integer of 1 to 4 satisfying the valence of M,
X is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an anionic ligand, or a neutral ligand that can be coordinated with a lone electron pair; the anionic ligand is a halogen-containing group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group A sulfur-containing group, a nitrogen-containing group, a phosphorus-containing group, a boron-containing group, an aluminum-containing group or a conjugated diene-based derivative group; and when n is 2 or more, plural Xs may be the same or different from each other Well, they may be combined with each other to form a ring,
Q 1 is a group 14 transition atom in the periodic table,
R 1 to R 4 and R 7 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group or a sulfur-containing group ,
R 5 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 40 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, or at least one atom selected from nitrogen, oxygen and sulfur A heteroaromatic group which may have a substituent, which has a 5-membered ring as a mother skeleton containing
R 6 is a saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms in the linear portion or a terminal unsaturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms in the linear portion,
R 1 and R 2 and R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a saturated ring which may have a substituent,
Adjacent substituents of R 2 and R 3 and R 7 to R 10 may combine with each other to form a ring which may have a substituent,
R 11 and R 12 may be bonded to each other to form a ring containing Q 1, and the ring may have a substituent. ]
Component (B): transition metal compound represented by the following general formula (2);
Figure 2019059934
[In the formula (2), M is a group 4 transition metal atom of the periodic table,
X is an atom or a group independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, a halogen-containing hydrocarbon group, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group and a phosphorus-containing group
Q 2 is a group selected from a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-containing group, a silicon-containing group, a germanium-containing group and a tin-containing group,
R 13 to R 24 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, a halogen containing group, an oxygen containing group, a nitrogen containing group, a boron containing group, a sulfur containing group, a phosphorus containing group, a silicon containing group, a germanium containing group and tin Two adjacent groups selected from the contained groups may be linked to form a ring. ]
Component (C): an organic metal compound (c-1) represented by the following general formulas (3) to (5), an organic aluminum oxy compound (c-2), and a component (A) and a component (B) At least one compound selected from the group consisting of compounds (c-3) which react to form an ion pair;
R a m Al (OR b) n H p X q ··· (3)
[In Formula (3), R a and R b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, X represents a halogen atom, m is 0 <m ≦ 3, n is 0 ≦ n <3, p is 0 ≦ p <3, q is a number of 0 ≦ q <3, and m + n + p + q = 3. ]
M a Al R a 4 (4)
Wherein (4), M a represents a Li, Na or K, R a represents a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms. ]
R a r M b R b s X t (5)
[In Formula (5), R a and R b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, M b is selected from Mg, Zn and Cd, and X is a halogen atom , R is 0 <r ≦ 2, s is 0 ≦ s ≦ 1, t is 0 ≦ t ≦ 1, and r + s + t = 2. ]
前記式(1)において、Mがジルコニウム原子またはハフニウム原子であり、Xが水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水素基、ケイ素含有基または酸素含有基であり、Q1が炭素原子またはケイ素原子であることを特徴とする請求項1に記載のオレフィン重合用触媒。 In the above formula (1), M is a zirconium atom or a hafnium atom, X is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a silicon-containing group or an oxygen-containing group, and Q 1 is a carbon atom The catalyst for olefin polymerization according to claim 1, which is a silicon atom. 前記式(1)において、Q1がケイ素原子であり、R1〜R4およびR7〜R12が、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20の酸素含有基または炭素数1〜20の窒素含有基であり、R5が水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20の酸素含有基、炭素数1〜20の窒素含有基、置換フラン環または置換チオフェン環であることを特徴とする請求項2に記載のオレフィン重合用触媒。 In the above formula (1), Q 1 is a silicon atom, and R 1 to R 4 and R 7 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 20 carbon atoms. It is an oxygen-containing group or a nitrogen-containing group having 1 to 20 carbons, R 5 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbons, an oxygen-containing group having 1 to 20 carbons, a nitrogen containing 1 to 20 carbons The catalyst for olefin polymerization according to claim 2, which is a group, a substituted furan ring or a substituted thiophene ring. 前記式(1)において、R1〜R4がすべて水素原子であり、R5およびR8〜R12が、それぞれ独立に水素原子または炭素数1〜10の炭化水素基であり、R7が水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20の酸素含有基または炭素数1〜20の窒素含有基であることを特徴とする請求項3に記載のオレフィン重合用触媒。 In the formula (1), all of R 1 to R 4 are hydrogen atoms, R 5 and R 8 to R 12 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R 7 is The catalyst for olefin polymerization according to claim 3, which is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an oxygen-containing group having 1 to 20 carbon atoms, or a nitrogen-containing group having 1 to 20 carbon atoms. 前記式(1)において、R7〜R10がすべて水素原子であることを特徴とする請求項4に記載のオレフィン重合用触媒。 In the formula (1), the olefin polymerization catalyst according to claim 4, wherein R 7 to R 10 are all hydrogen atoms. 固体状担体(S)、成分(C)および成分(A)から形成される固体状触媒成分と、固体状担体(S)、成分(C)および成分(B)から形成される固体状触媒成分とからなる請求項1〜5のいずれか1項に記載のオレフィン重合用触媒。   Solid catalyst component formed from solid carrier (S), component (C) and component (A), solid carrier (S), component (C) and component (B) The catalyst for olefin polymerization according to any one of claims 1 to 5, comprising: 固体状担体(S)、成分(A)、成分(B)および成分(C)より形成される固体状触媒成分からなることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のオレフィン重合用触媒。   The olefin according to any one of claims 1 to 5, comprising a solid support (S), a component (A), a component (B) and a solid catalyst component formed from the component (C). Polymerization catalyst. 成分(C)が有機アルミニウムオキシ化合物であり、固体状担体(S)が多孔質酸化物であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のオレフィン重合用触媒。   The olefin polymerization catalyst according to any one of claims 1 to 5, wherein the component (C) is an organoaluminum oxy compound and the solid support (S) is a porous oxide. 請求項1〜8のいずれか1項に記載のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを単独で重合する、または、エチレンと炭素数3以上20以下のオレフィンとを共重合することを特徴とするエチレン系重合体の製造方法。   An ethylene is polymerized alone in the presence of the catalyst for olefin polymerization according to any one of claims 1 to 8, or ethylene and an olefin having 3 to 20 carbon atoms are copolymerized. Method for producing ethylene-based polymer. 前記エチレン系重合体が、エチレンと炭素数4以上20以下のα−オレフィンとの共重合体であって、かつ、下記要件(1)〜(4)を満たすことを特徴とする請求項9に記載のエチレン系重合体の製造方法:
(1)190℃における2.16kg荷重でのメルトフローレート(MFR)が0.1g/10分以上30g/10分以下である;
(2)密度が875kg/m3以上970kg/m3以下である;
(3)200℃におけるゼロせん断粘度〔η0(P)〕と、GPC-粘度検出器法(GPC-VISCO)により測定された重量平均分子量の6.8乗(Mw6.8)の比(η0/Mw6.8)が0.03×10-30以上7.5×10-30以下である;
(4)135℃デカリン中で測定した極限粘度〔[η](dl/g)〕と、GPC-粘度検出器法(GPC-VISCO)により測定された重量平均分子量の0.776乗(Mw0.776)の比([η]/Mw0.776)が0.90×10-4以上1.65×10-4以下である。
The ethylene polymer is a copolymer of ethylene and an α-olefin having 4 to 20 carbon atoms, and the following requirements (1) to (4) are satisfied: Process for producing ethylene-based polymer as described:
(1) The melt flow rate (MFR) at a load of 2.16 kg at 190 ° C. is 0.1 g / 10 min or more and 30 g / 10 min or less;
(2) The density is 875 kg / m 3 or more and 970 kg / m 3 or less;
(3) zero shear viscosity at 200 ° C. and [eta 0 (P)], GPC-ratio (eta 0 of viscosity detector method 6.8 square of weight average molecular weight determined by (GPC-VISCO) (Mw 6.8) / Mw 6.8 ) is not less than 0.03 × 10 -30 and not more than 7.5 × 10 -30 ;
(4) Intrinsic viscosity [[η] (dl / g)] measured in 135 ° C. decalin and weight-average molecular weight measured by GPC-viscosity detector method (GPC-VISCO): 0.776 (Mw 0.776) Ratio ([η] / Mw 0.776 ) is 0.90 × 10 −4 or more and 1.65 × 10 −4 or less.
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