JP7124299B2 - transparent goods - Google Patents

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Description

本発明は、アンチグレア面等の粗面状の凹凸面を有する透明物品に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a transparent article having a rough uneven surface such as an anti-glare surface.

表示装置の視認性を向上する観点から、表示装置の表示面に配置される透明物品の表面を粗面状のアンチグレア面とすることが提案されている。特許文献1には、透明ガラス板の表面に設けられたアンチグレア面の表面粗さSq(RMS表面粗さ)を特定の範囲に設定することにより、スパークル(スパークル現象によるぎらつき)が抑えられることが開示されている。具体的には、40μm~640μmの横方向の空間周期の範囲で測定された300nmまでの第1の表面粗さSq(S1)と、20μm未満の横方向の空間周期の範囲で測定された第2の表面粗さSq(S2)との比(S1/S2)を3.9未満とすることにより、スパークルが抑えられることが開示されている。 From the viewpoint of improving the visibility of a display device, it has been proposed to make the surface of a transparent article arranged on the display surface of the display device a rough anti-glare surface. Patent Document 1 discloses that sparkle (glare due to sparkle phenomenon) is suppressed by setting the surface roughness Sq (RMS surface roughness) of an anti-glare surface provided on the surface of a transparent glass plate to a specific range. is disclosed. Specifically, a first surface roughness Sq(S1) up to 300 nm measured over a lateral spatial period range of 40 μm to 640 μm and a first surface roughness Sq(S1) measured over a lateral spatial period range of less than 20 μm It is disclosed that sparkle is suppressed by setting the ratio (S1/S2) to the surface roughness Sq (S2) of No. 2 to less than 3.9.

特許第6013378号公報Japanese Patent No. 6013378

ところで、表示装置が高精細なものであるほど、表示装置の表示面に配置される透明物品のスパークルが目立ちやすくなる傾向がある。そのため、表示装置の高精細化にともなって、透明物品にも、より高いスパークルの抑制効果が求められるようになっている。 By the way, the higher the definition of the display device, the more conspicuous the sparkle of the transparent article arranged on the display surface of the display device. Therefore, as display devices become higher in definition, transparent articles are also required to have a higher effect of suppressing sparkle.

この発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、アンチグレア面等の粗面状の凹凸面におけるスパークルを抑制した透明物品を提供することにある。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a transparent article that suppresses sparkle on a rough uneven surface such as an anti-glare surface.

本発明者らは、アンチグレア面等の粗面状の凹凸面における20μm以上の空間周期で測定された表面粗さSqが50nm以下である場合に、透明物品のスパークルが顕著に抑えられることを見出した。 The present inventors have found that when the surface roughness Sq measured at a spatial period of 20 μm or more on a rough uneven surface such as an anti-glare surface is 50 nm or less, sparkle in a transparent article is significantly suppressed. rice field.

すなわち、上記課題を解決する透明物品は、透明基材と、前記透明基材における少なくとも一方の面に設けられた粗面状の凹凸面とを備える透明物品であって、前記凹凸面は、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSqが50nm以下である。 That is, a transparent article that solves the above problems is a transparent article that includes a transparent substrate and a rough uneven surface provided on at least one surface of the transparent substrate, wherein the uneven surface has a thickness of 20 μm. The surface roughness Sq measured with the lateral spatial period is 50 nm or less.

上記透明物品において、前記凹凸面は、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSqが5nm以上であることが好ましい。
上記透明物品において、前記凹凸面は、フィルタリングなしに測定された表面粗さSqが26nm以上であることが好ましい。なお、フィルタリングなしに測定とは、ローパスフィルタやハイパスフィルタ等のフィルタを使用せずに測定することを意味する。
In the above transparent article, the uneven surface preferably has a surface roughness Sq of 5 nm or more measured at a lateral spatial period of 20 μm or more.
In the above transparent article, the uneven surface preferably has a surface roughness Sq of 26 nm or more measured without filtering. Measurement without filtering means measurement without using a filter such as a low-pass filter or a high-pass filter.

上記透明物品において、前記凹凸面は、フィルタリングなしに測定された表面粗さSqが50nm以上であることが好ましい。
上記透明物品において、前記凹凸面は、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSqが26nm以下であり、フィルタリングなしに測定された表面粗さSqが50nm未満であることが好ましい。
In the above transparent article, the uneven surface preferably has a surface roughness Sq of 50 nm or more measured without filtering.
In the above transparent article, the uneven surface preferably has a surface roughness Sq of 26 nm or less measured at a lateral spatial period of 20 μm or more, and a surface roughness Sq of less than 50 nm measured without filtering. .

上記透明物品において、前記凹凸面は、SiO、Al、ZrO、TiOから選ばれる少なくとも一種を含有する凹凸層により構成されることが好ましい。 In the above transparent article, it is preferable that the uneven surface is composed of an uneven layer containing at least one selected from SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 and TiO 2 .

本発明の透明物品によれば、アンチグレア面等の粗面状の凹凸面におけるスパークルを抑制することができる。 According to the transparent article of the present invention, it is possible to suppress sparkle on a rough uneven surface such as an anti-glare surface.

透明物品の説明図。Explanatory drawing of a transparent article. スパークル値の測定方法の説明図。Explanatory drawing of the measuring method of a sparkle value. パターンマスクの説明図。Explanatory drawing of a pattern mask. Sq[≧20μm]とスパークル値との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between Sq [≧20 μm] and the sparkle value. 表面粗さSqの比とスパークル値との関係を示すグラフ。5 is a graph showing the relationship between the surface roughness Sq ratio and the sparkle value;

以下、本発明の一実施形態を説明する。
図1に示すように、透明物品10は、板状をなす透光性の透明基材11を備えている。透明基材11の厚さは、例えば、0.1~5mmである。透明基材11の材質としては、例えば、ガラス、及び樹脂が挙げられる。透明基材11の材質は、ガラスであることが好ましく、ガラスとしては、例えば、無アルカリガラス、アルミノシリケートガラス、ソーダライム等の公知のガラスを用いることができる。また、化学強化ガラス等の強化ガラスやLAS系結晶化ガラス等の結晶化ガラスを用いることができる。これらのなかでも、アルミノシリケートガラスを用いること、特に、質量%で、SiO:50~80%、Al:5~25%、B:0~15%、NaO:1~20%、KO:0~10%を含有する化学強化ガラスを用いることが好ましい。また、樹脂としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、エポキシ樹脂が挙げられる。
An embodiment of the present invention will be described below.
As shown in FIG. 1, the transparent article 10 includes a translucent transparent substrate 11 having a plate shape. The thickness of the transparent base material 11 is, for example, 0.1 to 5 mm. Examples of the material of the transparent substrate 11 include glass and resin. The material of the transparent substrate 11 is preferably glass, and known glass such as non-alkali glass, aluminosilicate glass, and soda lime can be used as the glass. Further, tempered glass such as chemically tempered glass or crystallized glass such as LAS crystallized glass can be used. Among these, it is preferable to use an aluminosilicate glass, in particular, SiO 2 : 50 to 80%, Al 2 O 3 : 5 to 25%, B 2 O 3 : 0 to 15%, Na 2 O: Chemically strengthened glass containing 1 to 20% K 2 O and 0 to 10% K 2 O is preferably used. Examples of resins include polymethyl methacrylate, polycarbonate, and epoxy resins.

透明基材11の一方の主面には、凹凸構造をなす粗面状の表面である凹凸面12aを有する凹凸層12が設けられている。凹凸面12aは、例えば、凹凸構造により光を散乱させて映り込みを抑制するアンチグレア面、凹凸構造により、例えば、スタイラスペン等により表面に触れた場合に、書き味を向上させる書き味向上面として設けられる。凹凸層12及びその凹凸構造は、例えば、SiO、Al、ZrO、TiO等の無機酸化物からなるマトリックスにより構成される。凹凸面12aたる凹凸構造としては、例えば、複数の島状の凸部間に平坦部分を有する島状の凹凸構造が挙げられる。凹凸層12は、無機酸化物のみにより構成されるか、または、有機化合物を含まないことが好ましい。 On one main surface of the transparent substrate 11, an uneven layer 12 having an uneven surface 12a, which is a rough surface having an uneven structure, is provided. The concave-convex surface 12a is, for example, an anti-glare surface that scatters light and suppresses glare due to the concave-convex structure. be provided. The uneven layer 12 and its uneven structure are composed of a matrix made of inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 and TiO 2 . An example of the concave-convex structure of the concave-convex surface 12a is an island-shaped concave-convex structure having flat portions between a plurality of island-shaped convex portions. It is preferable that the uneven layer 12 is composed only of inorganic oxides or does not contain organic compounds.

凹凸層12は、例えば、マトリックス前駆体、及びマトリックス前駆体を溶解する液状媒体を含むコーティング剤を透明基材11の表面に塗布し、加熱することにより形成できる。コーティング剤に含まれるマトリックス前駆体としては、例えば、シリカ前駆体、アルミナ前駆体、ジルコニア前駆体、チタニア前駆体等の無機前駆体が挙げられる。凹凸層12の屈折率を低くする点、反応性を制御しやすい点から、シリカ前駆体が好ましい。 The uneven layer 12 can be formed, for example, by applying a coating agent containing a matrix precursor and a liquid medium that dissolves the matrix precursor to the surface of the transparent substrate 11 and heating the coating. Examples of matrix precursors contained in the coating agent include inorganic precursors such as silica precursors, alumina precursors, zirconia precursors, and titania precursors. A silica precursor is preferable because it lowers the refractive index of the uneven layer 12 and facilitates control of reactivity.

シリカ前駆体としては、ケイ素原子に結合した炭化水素基及び加水分解性基を有するシラン化合物、シラン化合物の加水分解縮合物、シラザン化合物等が挙げられる。凹凸層12を厚く形成した場合にも凹凸層12のクラックが充分に抑えられる点から、シラン化合物、及びその加水分解縮合物のいずれか一方又は両方を少なくとも含むことが好ましい。 Silica precursors include silane compounds having a hydrocarbon group and a hydrolyzable group bonded to a silicon atom, hydrolytic condensates of silane compounds, silazane compounds, and the like. It is preferable that at least one or both of a silane compound and a hydrolytic condensate thereof is contained in order to sufficiently suppress cracks in the uneven layer 12 even when the uneven layer 12 is formed thick.

シラン化合物は、ケイ素原子に結合した炭化水素基、及び加水分解性基を有する。炭化水素基は、炭素原子間に-O-、-S-、-CO-、及び-NR’-(R’は水素原子または1価の炭化水素基である。)から選ばれる1つ又は2つ以上を組み合わせた基を有していてもよい。 The silane compound has a hydrocarbon group bonded to the silicon atom and a hydrolyzable group. The hydrocarbon group is one or two selected from -O-, -S-, -CO-, and -NR'- (R' is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group) between carbon atoms. You may have groups in which two or more are combined.

炭化水素基は、1つのケイ素原子に結合した1価の炭化水素基であってもよく、2つのケイ素原子に結合した2価の炭化水素基であってもよい。1価の炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられる。2価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基等が挙げられる。 The hydrocarbon group may be a monovalent hydrocarbon group bonded to one silicon atom or a divalent hydrocarbon group bonded to two silicon atoms. Examples of monovalent hydrocarbon groups include alkyl groups, alkenyl groups, and aryl groups. Examples of divalent hydrocarbon groups include alkylene groups, alkenylene groups, and arylene groups.

加水分解性基としては、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアネート基、ハロゲン原子等が挙げられ、シラン化合物の安定性と加水分解のしやすさとのバランスの点から、アルコキシ基、イソシアネート基、及びハロゲン原子(特に塩素原子)が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数1~3のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、又はエトキシ基がより好ましい。 Examples of hydrolyzable groups include alkoxy groups, acyloxy groups, ketoxime groups, alkenyloxy groups, amino groups, aminoxy groups, amide groups, isocyanate groups, halogen atoms and the like. An alkoxy group, an isocyanate group, and a halogen atom (especially a chlorine atom) are preferable from the point of balance with. As the alkoxy group, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and a methoxy group or an ethoxy group is more preferable.

シラン化合物としては、アルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等)、アルキル基を有するアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等)、ビニル基を有するアルコキシシラン(ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等)、エポキシ基を有するアルコキシシラン(2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等)、アクリロイルオキシ基を有するアルコキシシラン(3-アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等)等が挙げられる。これらのシラン化合物のなかでも、アルコキシシラン、及びアルコキシシランの加水分解縮合物のいずれか一方、又は両方を用いることが好ましく、アルコキシシランの加水分解縮合物を用いることがより好ましい。 Silane compounds include alkoxysilanes (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, etc.), alkoxysilanes having an alkyl group (methyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, etc.), and alkoxysilanes having a vinyl group (vinyl trimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, etc.), alkoxysilanes having an epoxy group (2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyl diethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, etc.), alkoxysilanes having an acryloyloxy group (3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, etc.), and the like. Among these silane compounds, it is preferable to use one or both of the alkoxysilane and the hydrolytic condensate of alkoxysilane, and it is more preferable to use the hydrolytic condensate of alkoxysilane.

シラザン化合物は、その構造内にケイ素と窒素の結合(-SiN-)をもった化合物である。シラザン化合物としては、低分子化合物でも高分子化合物(所定の繰り返し単位を有するポリマー)であってもよい。低分子系のシラザン化合物としては、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサフェニルジシラザン、ジメチルアミノトリメチルシラン、トリシラザン、シクロトリシラザン、1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルシクロトリシラザン等が挙げられる。 A silazane compound is a compound having a silicon-nitrogen bond (--SiN--) in its structure. The silazane compound may be a low-molecular-weight compound or a high-molecular-weight compound (a polymer having a predetermined repeating unit). Examples of low-molecular-weight silazane compounds include hexamethyldisilazane, hexaphenyldisilazane, dimethylaminotrimethylsilane, trisilazane, cyclotrisilazane, and 1,1,3,3,5,5-hexamethylcyclotrisilazane. be done.

アルミナ前駆体としては、アルミニウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシドの加水分解縮合物、水溶性アルミニウム塩、アルミニウムキレート等が挙げられる。ジルコニア前駆体としては、ジルコニウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドの加水分解縮合物等が挙げられる。チタニア前駆体としては、チタンアルコキシド、チタンアルコキシドの加水分解縮合物等が挙げられる。 Examples of alumina precursors include aluminum alkoxides, hydrolytic condensates of aluminum alkoxides, water-soluble aluminum salts, and aluminum chelates. Zirconia precursors include zirconium alkoxides, hydrolytic condensates of zirconium alkoxides, and the like. Examples of titania precursors include titanium alkoxides and hydrolytic condensates of titanium alkoxides.

コーティング剤に含まれる液状媒体は、マトリックス前駆体を溶解する溶媒であり、マトリックス前駆体の種類に応じて適宜、選択される。液状媒体としては、例えば、水、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。 The liquid medium contained in the coating agent is a solvent that dissolves the matrix precursor, and is appropriately selected according to the type of matrix precursor. Examples of liquid media include water, alcohols, ketones, ethers, cellosolves, esters, glycol ethers, nitrogen-containing compounds, and sulfur-containing compounds.

アルコール類としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール等が挙げられる。ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。エーテル類としては、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等が挙げられる。セロソルブ類としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等が挙げられる。エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル等が挙げられる。グリコールエーテル類としては、エチレングリコールモノアルキルエーテル等が挙げられる。含窒素化合物としては、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等が挙げられる。含硫黄化合物としては、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。液状媒体は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Alcohols include methanol, ethanol, isopropanol, butanol, diacetone alcohol and the like. Ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like. Ethers include tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and the like. Cellosolves include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and the like. Examples of esters include methyl acetate and ethyl acetate. Glycol ethers include ethylene glycol monoalkyl ether and the like. Nitrogen-containing compounds include N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and the like. Dimethyl sulfoxide etc. are mentioned as a sulfur-containing compound. The liquid medium may be used alone or in combination of two or more.

なお、液状媒体は、水を含む液状媒体、すなわち、水、又は水と他の液状媒体の混合液であることが好ましい。他の液状媒体としては、アルコール類が好ましく、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールが特に好ましい。 The liquid medium is preferably a liquid medium containing water, that is, water or a mixture of water and another liquid medium. Alcohols are preferred as other liquid media, and methanol, ethanol, isopropyl alcohol and butanol are particularly preferred.

また、コーティング剤は、マトリックス前駆体の加水分解及び縮合を促進する酸触媒を含むものであってもよい。酸触媒は、マトリックス前駆体の加水分解及び縮合を促進し、凹凸層12を短時間で形成させる成分である。酸触媒は、コーティング剤の調製に先立って、マトリックス前駆体の溶液の調製の際に、原料(アルコキシシラン等)の加水分解、縮合のために添加されたものであってもよく、必須成分を調製した後にさらに添加されたものであってもよい。酸触媒としては、無機酸(硝酸、硫酸、塩酸等)、有機酸(ギ酸、シュウ酸、酢酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリクロル酢酸等)が挙げられる。 The coating agent may also contain an acid catalyst that promotes hydrolysis and condensation of the matrix precursor. The acid catalyst is a component that promotes hydrolysis and condensation of the matrix precursor and forms the uneven layer 12 in a short time. The acid catalyst may be added for hydrolysis and condensation of raw materials (alkoxysilane, etc.) during the preparation of the matrix precursor solution prior to preparation of the coating agent. It may be added after preparation. Acid catalysts include inorganic acids (nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, etc.) and organic acids (formic acid, oxalic acid, acetic acid, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, etc.).

コーティング剤の塗布方法としては、公知のウェットコート法(スプレーコート法、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スクリーンコート法、インクジェット法、フローコート法、グラビアコート法、バーコート法、フレキソコート法、スリットコート法、ロールコート法等)等が挙げられる。塗布方法としては、凹凸を形成しやすい点から、スプレーコート法が好ましい。 As a method for applying the coating agent, known wet coating methods (spray coating method, spin coating method, dip coating method, die coating method, curtain coating method, screen coating method, inkjet method, flow coating method, gravure coating method, bar coating method, method, flexo coating method, slit coating method, roll coating method, etc.). As the coating method, the spray coating method is preferable because it facilitates the formation of irregularities.

スプレーコート法に用いるノズルとしては、2流体ノズル、1流体ノズル等が挙げられる。ノズルから吐出されるコーティング剤の液滴の粒径は、通常0.1~100μmであり、1~50μmが好ましい。液滴の粒径が0.1μm以上であれば、防眩効果が充分に発揮される凹凸を短時間で形成できる。液滴の粒径が100μm以下であれば、防眩効果が充分に発揮される適度な凹凸を形成しやすい。コーティング剤の液滴の粒径は、ノズルの種類、スプレー圧力、液量等により適宜、調整できる。例えば、2流体ノズルでは、スプレー圧力が高くなるほど液滴は小さくなり、また、液量が多くなるほど液滴は大きくなる。なお、液滴の粒径は、レーザ測定器によって測定されるザウター平均粒子径である。 The nozzle used in the spray coating method includes a two-fluid nozzle, a one-fluid nozzle, and the like. The particle diameter of droplets of the coating agent discharged from the nozzle is usually 0.1 to 100 μm, preferably 1 to 50 μm. If the particle size of the droplet is 0.1 μm or more, it is possible to form in a short period of time unevenness that sufficiently exhibits the antiglare effect. When the droplet diameter is 100 μm or less, it is easy to form moderate irregularities that sufficiently exhibit the antiglare effect. The particle size of the droplets of the coating agent can be appropriately adjusted by the type of nozzle, spray pressure, liquid volume, and the like. For example, in a two-fluid nozzle, the higher the spray pressure, the smaller the droplets, and the larger the liquid volume, the larger the droplets. In addition, the particle size of the droplet is the Sauter mean particle size measured by a laser measuring device.

コーティング剤を塗布する際の塗布対象(例えば、透明基材11)の表面温度は、例えば、20~75℃であり、35℃以上であることが好ましく、60℃以上であることが更に好ましい。塗布対象を加熱する方法としては、例えば、温水循環式の加熱装置を用いることが好ましい。また、コーティング剤を塗布する際の湿度は、例えば、20~80%であり、50%以上であることが好ましい。 The surface temperature of the coating object (for example, the transparent substrate 11) when the coating agent is applied is, for example, 20 to 75°C, preferably 35°C or higher, and more preferably 60°C or higher. As a method for heating the object to be coated, it is preferable to use, for example, a hot water circulation type heating device. Also, the humidity when applying the coating agent is, for example, 20 to 80%, preferably 50% or more.

透明物品10は、凹凸層12の表面である凹凸面12aの表面粗さSqが特定範囲に設定されている。なお、表面粗さSqは、ISO25178に準拠して測定される表面粗さSqである。 In the transparent article 10, the surface roughness Sq of the uneven surface 12a, which is the surface of the uneven layer 12, is set within a specific range. In addition, the surface roughness Sq is the surface roughness Sq measured based on ISO25178.

詳述すると、凹凸面12aは、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≧20μm])が50nm以下である。また、Sq[≧20μm]は、40nm以下であることが好ましく、26nm以下であることがより好ましく、20nm以下であることが更に好ましい。Sq[≧20μm]を50nm以下に設定することにより、透明物品10の凹凸面12aにおけるスパークルが顕著に抑えられ、26nm以下に設定することによりスパークルが更に顕著に抑えられる。なお、Sq[≧20μm]の下限値は、例えば、5nmである。 More specifically, the uneven surface 12a has a surface roughness Sq (Sq [≧20 μm]) of 50 nm or less measured at a lateral spatial period of 20 μm or more. Also, Sq [≧20 μm] is preferably 40 nm or less, more preferably 26 nm or less, and even more preferably 20 nm or less. By setting Sq [≧20 μm] to 50 nm or less, sparkle on the uneven surface 12a of the transparent article 10 is significantly suppressed, and by setting it to 26 nm or less, sparkle is further significantly suppressed. Note that the lower limit of Sq [≧20 μm] is, for example, 5 nm.

また、凹凸面12aは、フィルタリングなしに測定された表面粗さSq(Sq[All])が26nm以上であることが好ましく、50nm以上であることがより好ましく、60nm以上であることが更に好ましい。この場合には、凹凸面12aにおける映り込みを効果的に抑制することができるため、凹凸面12aをアンチグレア面として適用する場合に有効である。なお、フィルタリングなしに測定された表面粗さSq(Sq[All])の上限値は、例えば、300nmである。 The surface roughness Sq (Sq[All]) of the uneven surface 12a measured without filtering is preferably 26 nm or more, more preferably 50 nm or more, and even more preferably 60 nm or more. In this case, since reflection on the uneven surface 12a can be effectively suppressed, it is effective when the uneven surface 12a is applied as an anti-glare surface. The upper limit of the surface roughness Sq (Sq[All]) measured without filtering is, for example, 300 nm.

また、凹凸面12aは、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≧20μm])26nm以下であり、フィルタリングなしに測定された表面粗さSq(Sq[All])が50nm未満であることが好ましい。さらに、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≧20μm])20nm以下であり、フィルタリングなしに測定された表面粗さSq(Sq[All])が40nm以下であることが好ましい。この場合には、凹凸面12aが光沢のある質感となるため、凹凸面12aを書き味向上面として適用する場合に有効である。なお、Sq[All]の下限値は、例えば、26nmである。 In addition, the uneven surface 12a has a surface roughness Sq (Sq [≧20 μm]) of 26 nm or less measured at a lateral spatial period of 20 μm or more, and a surface roughness Sq (Sq [All] ) is preferably less than 50 nm. Furthermore, the surface roughness Sq (Sq [≧20 μm]) measured at a lateral spatial period of 20 μm or more is 20 nm or less, and the surface roughness Sq (Sq [All]) measured without filtering is 40 nm or less. Preferably. In this case, since the uneven surface 12a has a glossy texture, it is effective when the uneven surface 12a is applied as a surface for improving writing comfort. Note that the lower limit of Sq[All] is, for example, 26 nm.

また、凹凸面12aは、40μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≧40μm])と、20μm以下の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≦20μm])との比(Sq[≧40μm]/Sq[≦20μm])が0.70以下であることが好ましく、0.40以下であることがより好ましい。 The uneven surface 12a has a surface roughness Sq (Sq [≧40 μm]) measured at a horizontal spatial period of 40 μm or more and a surface roughness Sq (Sq [≦20 μm]) (Sq[≧40 μm]/Sq[≦20 μm]) is preferably 0.70 or less, more preferably 0.40 or less.

また、凹凸面12aは、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≧20μm])が5nm以上であること、及びフィルタリングなしに測定された表面粗さSq(Sq[All])が26nm以上であることの少なくとも一方を満たすことが好ましい。20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSqが5nm以上である凹凸面12aは、アンチグレア面として好適である。また、フィルタリングなしに測定された表面粗さSq(Sq[All])が26nm以上である凹凸面12aは、書き味向上面として好適である。 In addition, the uneven surface 12a has a surface roughness Sq (Sq [≧20 μm]) of 5 nm or more measured at a lateral spatial period of 20 μm or more, and a surface roughness Sq (Sq [All]) is preferably 26 nm or more. The uneven surface 12a having a surface roughness Sq of 5 nm or more measured at a lateral spatial period of 20 μm or more is suitable as an anti-glare surface. Further, the uneven surface 12a having a surface roughness Sq (Sq[All]) of 26 nm or more measured without filtering is suitable as a surface for improving writing comfort.

なお、上記の凹凸面12aの各種表面粗さSqは、凹凸層12の形成条件を変化させることにより制御することができる。例えば、スプレーコート法により凹凸層12を形成する場合において、コーティング剤の塗布量を増加させると、Sq[≧20μm]及びSq[All]が増加する。また、コーティング剤の液滴の粒径を小さくすると、Sq[≧20μm]が減少する。 Various surface roughnesses Sq of the uneven surface 12a can be controlled by changing the conditions for forming the uneven layer 12. FIG. For example, when forming the concavo-convex layer 12 by a spray coating method, Sq[≧20 μm] and Sq[All] increase when the coating amount of the coating agent is increased. Also, when the particle size of the droplet of the coating agent is reduced, Sq [≧20 μm] is reduced.

上記のように構成された透明物品10は、例えば、表示装置の表示面(例えば、画素密度200ppi~800ppiのディスプレイ)に配置されて使用される。この場合、透明物品10は、表示装置の表示面の上に取り付けられる部材であってもよい。すなわち、透明物品10は、表示装置に事後的に取り付けられる部材であってもよい。 The transparent article 10 configured as described above is used, for example, placed on the display surface of a display device (for example, a display with a pixel density of 200 ppi to 800 ppi). In this case, the transparent article 10 may be a member attached on the display surface of the display device. That is, the transparent article 10 may be a member that is attached to the display device afterward.

次に、本実施形態の作用及び効果について説明する。
(1)透明物品10は、透明基材11と、透明基材11の一方の面に設けられた粗面状の凹凸面12aとを備える。凹凸面12aは、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≧20μm])が50nm以下である。
Next, the operation and effects of this embodiment will be described.
(1) The transparent article 10 includes a transparent substrate 11 and a rough uneven surface 12 a provided on one surface of the transparent substrate 11 . The uneven surface 12a has a surface roughness Sq (Sq[≧20 μm]) of 50 nm or less measured at a lateral spatial period of 20 μm or more.

Sq[≧20μm]が50nm以下である凹凸面12aは、Sq[≧20μm]が50nmを超える凹凸面12aと比較してスパークルが顕著に抑えられる。したがって、凹凸面12aのスパークルが抑制された透明物品となる。 The uneven surface 12a with Sq[≧20 μm] of 50 nm or less significantly suppresses sparkle compared to the uneven surface 12a with Sq[≧20 μm] exceeding 50 nm. Therefore, a transparent article in which sparkle on the uneven surface 12a is suppressed is obtained.

(2)凹凸面12aは、Sq[≧20μm]が26nm以下である。
Sq[≧20μm]が50nm以下である凹凸面12aのなかでも、Sq[≧20μm]が26nm以下である凹凸面12aは、Sq[≧20μm]が26nmを超える凹凸面12aと比較してスパークルが顕著に抑えられる。したがって、凹凸面12aのスパークルが更に抑制された透明物品となる。
(2) The uneven surface 12a has an Sq [≧20 μm] of 26 nm or less.
Among the uneven surfaces 12a having Sq[≧20 μm] of 50 nm or less, the uneven surfaces 12a having Sq[≧20 μm] of 26 nm or less have more sparkle than the uneven surfaces 12a having Sq[≧20 μm] exceeding 26 nm. markedly suppressed. Therefore, a transparent article is obtained in which sparkle on the uneven surface 12a is further suppressed.

(3)凹凸面12aは、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSqが5nm以上である。上記構成によれば、凹凸面12aをアンチグレア面として好適に適用することができる。 (3) The uneven surface 12a has a surface roughness Sq of 5 nm or more measured at a lateral spatial period of 20 μm or more. According to the above configuration, the uneven surface 12a can be suitably applied as an anti-glare surface.

(4)凹凸面12aは、フィルタリングなしに測定された表面粗さSqが26nm以上である。上記構成によれば、凹凸面12aを書き味向上面として好適に適用することができる。 (4) The uneven surface 12a has a surface roughness Sq of 26 nm or more measured without filtering. According to the above configuration, the uneven surface 12a can be suitably applied as a surface for improving writing comfort.

(5)凹凸面12aは、フィルタリングなしに測定された表面粗さSqが50nm以上である。上記構成によれば、凹凸面12aにおける映り込みを効果的に抑制することができるため、凹凸面12aをアンチグレア面として好適に適用することができる。 (5) The uneven surface 12a has a surface roughness Sq of 50 nm or more measured without filtering. According to the above configuration, reflection on the uneven surface 12a can be effectively suppressed, so the uneven surface 12a can be suitably applied as an anti-glare surface.

(6)凹凸面12aは、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq26nm以下であり、フィルタリングなしに測定された表面粗さSqが50nm未満であることが好ましい。上記構成によれば、凹凸面12aに対して、粗面による触感を付与しつつも、光沢のある質感となる。したがって、凹凸面12aを書き味向上面として好適に適用することができる。 (6) The uneven surface 12a preferably has a surface roughness Sq of 26 nm or less measured at a lateral spatial period of 20 μm or more, and a surface roughness Sq of less than 50 nm measured without filtering. According to the above configuration, the uneven surface 12a has a glossy texture while giving the tactile sensation of a rough surface. Therefore, the uneven surface 12a can be suitably applied as a surface for improving writing comfort.

(7)凹凸面12aは、SiO、Al、ZrO、TiOから選ばれる少なくとも一種を含有する凹凸層12により構成される。この場合には、上記(1)~(6)の効果をより確実に得ることができる。 (7) The uneven surface 12a is composed of the uneven layer 12 containing at least one selected from SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 and TiO 2 . In this case, the above effects (1) to (6) can be obtained more reliably.

なお、本実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
・透明物品10は、透明基材11及び凹凸層12に加えて、反射防止層や防汚層等のその他の層を有するものであってもよい。
It should be noted that this embodiment can also be embodied by changing as follows.
- The transparent article 10 may have other layers such as an antireflection layer and an antifouling layer in addition to the transparent substrate 11 and the uneven layer 12 .

・凹凸面12aは、透明基材11の一方の主面に設けられた凹凸層12の表面に限定されるものではない。例えば、透明基材11の表面に対して、ブラスト処理やエッチング処理等の他の方法により形成される凹凸構造の凹凸面であってもよい。 - The uneven surface 12 a is not limited to the surface of the uneven layer 12 provided on one main surface of the transparent substrate 11 . For example, the surface of the transparent substrate 11 may be an uneven surface having an uneven structure formed by other methods such as blasting and etching.

・透明基材11の表面の二面以上に凹凸面12aを設けてもよい。
次に、上記実施形態及び変更例から把握できる技術的思想について記載する。
(イ)前記凹凸面は、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSqが26nm以下である前記透明物品。
- The uneven surface 12a may be provided on two or more surfaces of the transparent substrate 11 .
Next, technical ideas that can be grasped from the above embodiment and modifications will be described.
(a) The transparent article, wherein the uneven surface has a surface roughness Sq of 26 nm or less measured at a lateral spatial period of 20 μm or more.

(ロ)前記凹凸面は、40μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≧40μm])と、20μm以下の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≦20μm])との比(Sq[≧40μm]/Sq[≦20μm])が0.70以下である前記透明物品。 (b) The uneven surface has a surface roughness Sq (Sq [≧40 μm]) measured at a lateral spatial period of 40 μm or more and a surface roughness Sq measured at a lateral spatial period of 20 μm or less ( Sq [≦20 μm]) ratio (Sq [≧40 μm]/Sq [≦20 μm]) is 0.70 or less.

(ハ)透明基材と、前記透明基材における少なくとも一方の面に設けられたアンチグレア面とを備える透明物品であって、前記アンチグレア面は、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSqが50nm以下である透明物品。 (c) A transparent article comprising a transparent substrate and an anti-glare surface provided on at least one surface of the transparent substrate, wherein the anti-glare surface is a surface measured with a lateral spatial period of 20 μm or more. A transparent article having a roughness Sq of 50 nm or less.

(ニ)透明基材と、前記透明基材における少なくとも一方の面に設けられた触感付与面とを備える透明物品であって、前記触感付与面は、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSqが50nm以下である透明物品。 (d) A transparent article comprising a transparent substrate and a tactile sensation-imparting surface provided on at least one surface of the transparent substrate, wherein the tactile sensation-imparting surface is measured at a lateral spatial period of 20 μm or more. A transparent article having a surface roughness Sq of 50 nm or less.

(ホ)透明基材と、前記透明基材における少なくとも一方の面に設けられた粗面状の凹凸面とを備える透明物品であって、前記凹凸面は、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSqが50nm以下であり、画素密度200ppi~800ppiのディスプレイに使用される透明物品。 (e) A transparent article comprising a transparent substrate and a rough uneven surface provided on at least one surface of the transparent substrate, wherein the uneven surface has a horizontal spatial period of 20 μm or more. A transparent article having a measured surface roughness Sq of 50 nm or less and used in a display with a pixel density of 200 ppi to 800 ppi.

以下に試験例を挙げ、上記実施形態をさらに具体的に説明する。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。
(試験例1~16)
表面粗さSqの異なる凹凸面を有する試験例1~16の透明物品を作製した。
Test examples are given below to describe the above embodiments more specifically. In addition, this invention is not limited to these.
(Test Examples 1 to 16)
Transparent articles of Test Examples 1 to 16 having uneven surfaces with different surface roughness Sq were produced.

厚さ1.3mmの板状の化学強化ガラスからなる透明基材(日本電気硝子株式会社製:T2X-1)の一方側の表面に対して、スプレーコーティング装置により、コーティング剤を塗布することにより粗面状の凹凸面を有する凹凸層を形成した。スプレーコーティング装置のノズルは、2流体ノズルであり、コーティング剤は、水を含む液状媒体に凹凸層の前駆体(オルトケイ酸テトラエチル)を溶解することで調製した溶液であり、当該コーティング剤を、流量0.3kg/時で透明基材に塗布した。試験例1~16の透明物品は、表1及び表2に示すように、凹凸層を形成する際におけるコーティング剤の単位面積当たりの塗布量、コーティング剤とともに噴射される噴霧エア流量、透明基材の表面温度、雰囲気湿度を変化させることによって、凹凸面の表面粗さSqを変化させた。 By applying a coating agent to the surface of one side of a transparent base material (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.: T2X-1) made of plate-shaped chemically strengthened glass with a thickness of 1.3 mm using a spray coating device. An uneven layer having a rough uneven surface was formed. The nozzle of the spray coating device is a two-fluid nozzle, and the coating agent is a solution prepared by dissolving the precursor of the uneven layer (tetraethyl orthosilicate) in a liquid medium containing water. It was applied to the transparent substrate at 0.3 kg/hr. As shown in Tables 1 and 2, the transparent articles of Test Examples 1 to 16 had a coating amount per unit area of the coating agent when forming the uneven layer, a spray air flow rate jetted together with the coating agent, and a transparent substrate. The surface roughness Sq of the concave-convex surface was changed by changing the surface temperature and the atmospheric humidity.

Figure 0007124299000001
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Figure 0007124299000002
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(表面粗さSqの測定)
ISO25178に準拠して、各試験例の透明物品における凹凸面の表面粗さSqを測定した。走査型白色干渉顕微鏡(株式会社菱化システム製:VertScan)を用いて透明物品の凹凸面の三次元データを測定した。測定条件は以下のとおりである。
(Measurement of surface roughness Sq)
The surface roughness Sq of the uneven surface of the transparent article of each test example was measured in accordance with ISO25178. Three-dimensional data of the uneven surface of the transparent article was measured using a scanning white light interference microscope (VertScan, manufactured by Ryoka System Co., Ltd.). The measurement conditions are as follows.

測定モード:WAVEモード
フィルタ:530whiteフィルタ
対物レンズ:20倍の対物レンズ
測定領域:316.77μm×237.72μm
解像度:640ピクセル×480ピクセル
次に、測定した三次元データを解析ソフトVS-Viewerにて1次面補正し、粗さデータを得て、そこから表面粗さSqを算出した。その結果を表3及び表4に示す。表3及び表4の「All」欄に示す表面粗さSqは、得られた粗さデータからフィルタリングなしに算出した表面粗さSqである。「≧20μm」欄に示す表面粗さSqは、VS-ViewerのFFT2機能のローパスフィルタを使用し、20μm以上の横方向の空間周期で算出した表面粗さSqである。「≧40μm」欄に示す表面粗さSqは、FFT2機能のローパスフィルタを使用し、40μm以上の横方向の空間周期で算出した表面粗さSqである。「≦20μm」欄に示す表面粗さSqは、VS-ViewerのFFT2機能のハイパスフィルタを使用し、20μm以下の横方向の空間周期で算出した表面粗さSqである。
Measurement mode: WAVE mode Filter: 530 white filter Objective lens: 20x objective lens Measurement area: 316.77 µm x 237.72 µm
Resolution: 640 pixels×480 pixels Next, the measured three-dimensional data was subjected to primary surface correction using analysis software VS-Viewer to obtain roughness data, from which the surface roughness Sq was calculated. The results are shown in Tables 3 and 4. The surface roughness Sq shown in the "All" column of Tables 3 and 4 is the surface roughness Sq calculated without filtering from the obtained roughness data. The surface roughness Sq shown in the "≧20 μm" column is the surface roughness Sq calculated with a horizontal spatial period of 20 μm or more using a low-pass filter of FFT2 function of VS-Viewer. The surface roughness Sq shown in the column "≧40 μm" is the surface roughness Sq calculated with a horizontal spatial period of 40 μm or more using a low-pass filter with FFT2 function. The surface roughness Sq shown in the "≦20 μm" column is the surface roughness Sq calculated with a horizontal spatial period of 20 μm or less using a high-pass filter of FFT2 function of VS-Viewer.

また、各試験例の透明物品について、40μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≧40μm])と、20μm以下の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≦20μm])との比(Sq[≧40μm]/Sq[≦20μm])を求めた。その結果を表3及び表4の「Sq[≧40μm]/Sq[≦20μm]」欄に示す。 In addition, for the transparent article of each test example, the surface roughness Sq (Sq [≧40 μm]) measured at a lateral spatial period of 40 μm or more and the surface roughness measured at a lateral spatial period of 20 μm or less A ratio (Sq[≧40 μm]/Sq[≦20 μm]) to Sq (Sq[≦20 μm]) was obtained. The results are shown in the "Sq [≧40 μm]/Sq [≦20 μm]" columns of Tables 3 and 4.

(スパークル値の測定)
各試験例の透明物品における凹凸面のスパークル値を測定した。その結果を表3及び表4の「スパークル値」欄に示す。
(Measurement of sparkle value)
The sparkle value of the uneven surface of the transparent article of each test example was measured. The results are shown in the "sparkle value" column of Tables 3 and 4.

スパークル値は、透明物品の凹凸面の反対に位置する面側にパターンマスクを挟んで面光源を配置し、許容錯乱円径53μmにおける前方被写界深度内に透明物品の凹凸面及びパターンマスクのトップ面が含まれるようにして、凹凸面側から透明物品を撮像し、撮像することで得られた画像データを解析して得られるパターンマスクのピクセル輝度の標準偏差を、上記画像データを解析して得られるパターンマスクのピクセル輝度の平均値で除した値である。上記スパークル値は、凹凸面におけるスパークルの度合を示す値であり、凹凸面におけるスパークルが抑制されているほど、上記スパークル値は低くなる。上記スパークル値を用いることにより、スパークルに関して、人の視覚に基づく画像認識に近い定量的な評価を行うことができる。 The sparkle value was obtained by arranging a surface light source on the opposite side of the uneven surface of the transparent article with the pattern mask interposed therebetween, and measuring the uneven surface of the transparent article and the pattern mask within the front depth of field at a permissible circle of confusion diameter of 53 μm. The transparent article is imaged from the uneven surface side so that the top surface is included, and the standard deviation of the pixel brightness of the pattern mask obtained by analyzing the image data obtained by analyzing the image data. It is a value divided by the average pixel brightness of the pattern mask obtained by The sparkle value is a value indicating the degree of sparkle on the uneven surface, and the more the sparkle on the uneven surface is suppressed, the lower the sparkle value. By using the sparkle value, it is possible to perform a quantitative evaluation of sparkle that is similar to image recognition based on human vision.

以下、上記スパークル値の具体的な測定方法について記載する。
図2に示すように、面光源20の上に、パターンマスク21を配置するとともに、パターンマスク21の上に、凹凸面12aの反対側に位置する面がパターンマスク21側を向くようにして透明物品10を配置した。また、透明物品10の凹凸面12a側に、許容錯乱円径を53μmに設定した光検出器22を配置した。
A specific method for measuring the sparkle value will be described below.
As shown in FIG. 2, a pattern mask 21 is placed on a surface light source 20, and a transparent mask is placed on the pattern mask 21 so that the surface opposite to the uneven surface 12a faces the pattern mask 21 side. An article 10 is placed. Further, a photodetector 22 having a permissible circle of confusion diameter of 53 μm was arranged on the uneven surface 12 a side of the transparent article 10 .

パターンマスク21としては、図3に示すように、ピクセルピッチ50μm、ピクセルサイズ10μm×40μmの500ppiのパターンマスクを用いた。光検出器22としては、SMS-1000(Display-Messtechnik&Systeme社製)を用いた。光検出器22のセンサーサイズは1/3型であり、ピクセルサイズは3.75μm×3.75μmである。光検出器22のレンズの焦点距離は100mmであり、レンズ絞り径は4.5mmである。パターンマスク21は、そのトップ面21aが光検出器22の焦点位置に位置するように配置し、透明物品は、パターンマスク21のトップ面21aから凹凸面12aまでの距離が1.8mmとなる位置に配置した。 As the pattern mask 21, as shown in FIG. 3, a 500 ppi pattern mask with a pixel pitch of 50 μm and a pixel size of 10 μm×40 μm was used. As the photodetector 22, SMS-1000 (manufactured by Display-Messtechnik & Systeme) was used. The photodetector 22 has a sensor size of 1/3 type and a pixel size of 3.75 μm×3.75 μm. The focal length of the lens of the photodetector 22 is 100 mm, and the lens aperture diameter is 4.5 mm. The pattern mask 21 is arranged so that its top surface 21a is positioned at the focal position of the photodetector 22, and the transparent article is positioned so that the distance from the top surface 21a of the pattern mask 21 to the uneven surface 12a is 1.8 mm. placed in

次に、透明物品10の凹凸面12aに対して、パターンマスク21を介して面光源20からの光を照射した状態として、光検出器22により、透明物品10を撮像し、透明物品10の凹凸面12aの画像データを取得した。得られた画像データを、SMS-1000のスパークル測定モード(ソフトウェア Sparkle measurement system)により解析して、パターンマスク21の各ピクセルのピクセル輝度、ピクセル間のピクセル輝度の標準偏差、及びピクセル輝度の平均値を求めた。得られたピクセル間のピクセル輝度の標準偏差及びピクセル輝度の平均値に基づいて、下記式(1)によりスパークル値を算出した。 Next, the uneven surface 12 a of the transparent article 10 is irradiated with light from the surface light source 20 through the pattern mask 21 , and the image of the transparent article 10 is captured by the photodetector 22 to detect the uneven surface 12 a of the transparent article 10 . Image data of the surface 12a was acquired. The obtained image data is analyzed by the sparkle measurement mode of SMS-1000 (software Sparkle measurement system), and the pixel brightness of each pixel of the pattern mask 21, the pixel brightness standard deviation between pixels, and the pixel brightness average value asked for A sparkle value was calculated by the following formula (1) based on the obtained standard deviation of pixel brightness between pixels and the average value of pixel brightness.

スパークル値=[パターンマスクのピクセル輝度の標準偏差]/[パターンマスクのピクセル輝度の平均値] ・・・(1)
(スパークルの官能評価)
518ppiの解像度の表示装置(ファーウェイ社製スマートフォン:H1512)の表示面に、凹凸面が形成されている側を上側にして各試験例の透明物品を配置した。10人のパネラーに、各試験例の透明物品を通した表示装置の映像を観察させて、ぎらつきを感じるか否かを評価させた。その結果を表3及び表4の「官能評価」欄に示す。なお、「官能評価」欄においては、ぎらつきを感じたと評価した人数が1人以下のものを「◎」、2人以上3人以下のものを「○」、4人以上8人以下のものを「△」、9人以上のものを「×」で示している。
Sparkle value=[standard deviation of pixel brightness of pattern mask]/[average value of pixel brightness of pattern mask] (1)
(Sensory evaluation of sparkle)
The transparent article of each test example was placed on the display surface of a display device (Huawei smartphone: H1512) with a resolution of 518 ppi, with the uneven surface facing upward. Ten panelists were asked to observe images on the display device through the transparent article of each test example and evaluate whether or not they felt glare. The results are shown in the "sensory evaluation" column of Tables 3 and 4. In the "sensory evaluation" column, the number of people who evaluated that they felt glare was "◎", the number of people who evaluated that they felt the glare was "◎", the number of 2 to 3 people was "○", and the number of 4 to 8 people was evaluated. are indicated by "△", and those with 9 or more persons are indicated by "×".

(グロス値の測定)
JIS Z8741(1997)に準拠して、各試験例の透明物品における凹凸面の入射角60°におけるグロス値を測定した。なお、グロス値は、裏面(凹凸面と反対側の面)からの反射光も含めて測定した値である。その結果を表3及び表4の「グロス値」欄に示す。
(Measurement of gross value)
In accordance with JIS Z8741 (1997), the gloss value at an incident angle of 60° on the uneven surface of the transparent article of each test example was measured. The gloss value is a value measured including light reflected from the back surface (the surface opposite to the uneven surface). The results are shown in the "gloss value" column of Tables 3 and 4.

Figure 0007124299000003
Figure 0007124299000003

Figure 0007124299000004
Figure 0007124299000004

表3及び表4に示すように、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≧20μm])の値が低下するにしたがって、スパークル値が低下することが分かる。図4は、Sq[≧20μm]の値とスパークル値との関係を示すグラフである。図4のグラフに示されるように、Sq[≧20μm]の値が50~55nmの間において、スパークル値が顕著に低下しており、Sq[≧20μm]の値が少なくとも50nm以下である場合に、スパークル値が低い透明物品になることが分かる。また、Sq[≧20μm]の値が26~30nmの間(特に、26~27nmの間)においても、スパークル値が顕著に低下しており、Sq[≧20μm]の値が少なくとも26nm以下である場合に、スパークル値が更に低い透明物品になることが分かる。そして、官能評価においても、Sq[≧20μm]の値が50nm以下である場合、及びSq[≧20μm]の値が26nm以下である場合にそれぞれスパークルが強く抑制されることを示す結果が得られた。 As shown in Tables 3 and 4, the sparkle value decreases as the surface roughness Sq (Sq [≧20 μm]) measured at a lateral spatial period of 20 μm or more decreases. FIG. 4 is a graph showing the relationship between the value of Sq [≧20 μm] and the sparkle value. As shown in the graph of FIG. 4, when the value of Sq [≧20 μm] is between 50 and 55 nm, the sparkle value is significantly reduced, and when the value of Sq [≧20 μm] is at least 50 nm or less , resulting in a transparent article with a low sparkle value. Also, when the value of Sq [≧20 μm] is between 26 and 30 nm (especially between 26 and 27 nm), the sparkle value is significantly reduced, and the value of Sq [≧20 μm] is at least 26 nm or less. It can be seen that the case results in transparent articles with even lower sparkle values. Sensory evaluation also yielded results indicating that sparkle was strongly suppressed when the value of Sq[≧20 μm] was 50 nm or less and when the value of Sq[≧20 μm] was 26 nm or less. rice field.

また、表3に示すように、フィルタリングなしに測定された表面粗さSq(Sq[All])の値が50nm以上である試験例1~9は、グロス値が100%以下であり、映り込みの抑制効果が高いことが分かる。特に、Sq[≧20μm]が50nm以下であり、スパークルが抑制されている試験例4~9は、アンチグレア面を有する透明物品として有用である。 Further, as shown in Table 3, in Test Examples 1 to 9 in which the value of surface roughness Sq (Sq[All]) measured without filtering was 50 nm or more, the gloss value was 100% or less, and the reflection was It can be seen that the suppressing effect of In particular, Test Examples 4 to 9, in which Sq [≧20 μm] is 50 nm or less and sparkle is suppressed, are useful as transparent articles having an antiglare surface.

また、表3及び表4に示すように、スパークルが強く抑制されている20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSq(Sq[≧20μm])の値が26nm以下である試験例のなかでも、フィルタリングなしに測定された表面粗さSq(Sq[All])の値が50nm未満である試験例10,12~16は、グロス値が100%以上であり、粗面状の凹凸面により触感が付与されつつも、光沢のある質感が得られている。したがって、試験例10,12~16は、書き味向上面を有する透明物品として特に有用である。 In addition, as shown in Tables 3 and 4, the surface roughness Sq (Sq [≧20 μm]) measured at a lateral spatial period of 20 μm or more, in which sparkle is strongly suppressed, is 26 nm or less. Among the examples, Test Examples 10 and 12 to 16, in which the value of surface roughness Sq (Sq[All]) measured without filtering is less than 50 nm, has a gloss value of 100% or more, and has a rough surface. A glossy texture is obtained while the tactile sensation is imparted by the uneven surface. Therefore, Test Examples 10 and 12 to 16 are particularly useful as transparent articles having a surface that improves writing comfort.

参考として、40μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSqと、20μm以下の横方向の空間周期で測定された表面粗さSqとの比(Sq[≧40μm]/Sq[≦20μm])と、スパークル値との関係を示すグラフを図5に示す。上記の表面粗さSqの比は、特許文献1において、スパークルが抑制されたアンチグレア面を特定するために用いられているパラメータである。図5に示すグラフからは、強い相関性や、上記の表面粗さSqの比が特定範囲である場合におけるスパークル値の顕著な低下を見出すことはできない。この結果から、上記の表面粗さSqの比には、スパークルが抑制された凹凸面を特定するためのパラメータとして不適な範囲(例えば、0.70以下)が存在することが示唆される。 As a reference, the ratio of the surface roughness Sq measured with a lateral spatial period of 40 μm or more to the surface roughness Sq measured with a lateral spatial period of 20 μm or less (Sq [≧40 μm]/Sq [≦ 20 μm]) and the sparkle value is shown in FIG. The above surface roughness Sq ratio is a parameter used in Patent Document 1 to specify an anti-glare surface in which sparkle is suppressed. From the graph shown in FIG. 5, it is not possible to find a strong correlation or a significant decrease in the sparkle value when the surface roughness Sq ratio is within a specific range. This result suggests that the surface roughness Sq ratio has an inappropriate range (for example, 0.70 or less) as a parameter for specifying an uneven surface on which sparkle is suppressed.

10…透明物品、11…透明基材、12…凹凸層、12a…凹凸面。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Transparent article, 11... Transparent base material, 12... Uneven layer, 12a... Uneven surface.

Claims (2)

透明基材と、前記透明基材における少なくとも一方の面に設けられた粗面状の凹凸面とを備える透明物品であって
記凹凸面は、20μm以上の横方向の空間周期で測定された表面粗さSqが5nm以上26nm以下であり、フィルタリングなしに測定された表面粗さSqが26nm以上50nm未満であることを特徴とする透明物品。
A transparent article comprising a transparent substrate and a rough uneven surface provided on at least one surface of the transparent substrate ,
The uneven surface has a surface roughness Sq of 5 nm or more and 26 nm or less measured at a lateral spatial period of 20 μm or more, and a surface roughness Sq of 26 nm or more and less than 50 nm measured without filtering. and transparent articles.
前記凹凸面は、SiO、Al、ZrO、TiOから選ばれる少なくとも一種を含有する凹凸層により構成されることを特徴とする請求項に記載の透明物品。 2. The transparent article according to claim 1 , wherein the uneven surface is composed of an uneven layer containing at least one selected from SiO2 , Al2O3 , ZrO2 and TiO2 .
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