JP7118762B2 - Electrophotographic photoreceptor inspection method and electrophotographic photoreceptor manufacturing method - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor inspection method and electrophotographic photoreceptor manufacturing method Download PDF

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Description

本発明は、電子写真感光体の凹凸欠陥の検査方法および製造方法に関する。 The present invention relates to a method for inspecting irregularities in an electrophotographic photoreceptor and a method for producing the same.

電子写真感光体の感光層としては、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とを積層してなる積層型感光層が主流である。積層型感光層は、高感度及び材料設計の多様性などの利点を有している。 As the photosensitive layer of an electrophotographic photoreceptor, a laminated photosensitive layer formed by laminating a charge generating layer containing a charge generating substance and a charge transporting layer containing a charge transporting substance is mainly used. Laminated photosensitive layers have advantages such as high sensitivity and versatility in material design.

電荷発生層と支持体の間には、一般に中間層が設けられる。中間層の役割は、支持体と感光層の密着性向上および支持体側から感光層側への電荷注入を抑制するところが大きいが、支持体表面の欠陥の隠ぺいや干渉縞抑制を目的として設けられることもある。 An intermediate layer is generally provided between the charge generating layer and the support. The role of the intermediate layer is to improve the adhesion between the support and the photosensitive layer and to suppress charge injection from the support side to the photosensitive layer side. There is also

ところが支持体表面の欠陥の状態によっては、中間層では十分に隠ぺいできず、中間層表面に局所的に凹凸形状が形成されることがある。この凹凸欠陥は、感光体の電子写真画像上の黒点や白点等の画像不良をもたらすだけでなく、絶縁破壊の原因となり得るため、製造上、良品と識別して取り除く必要がある。 However, depending on the state of the defect on the surface of the support, the intermediate layer may not be able to sufficiently conceal the defect, and unevenness may be locally formed on the surface of the intermediate layer. These uneven defects not only cause image defects such as black spots and white spots on the electrophotographic image of the photoreceptor, but also cause dielectric breakdown.

凹凸形状の検査としては、代表的なものとして目視による検査や、光学的な検査(特許文献1~2参照)、電気的な検査(特許文献3参照)が提案されてきた。 Visual inspection, optical inspection (see Patent Literatures 1 and 2), and electrical inspection (see Patent Literature 3) have been proposed as representative inspections of the uneven shape.

光学的な検査は、白色光を感光体に照射し、その反射光の撮像から感光体面内の色濃度の変化が大きい領域を欠陥として判定する方法である。中間層表面に凹凸欠陥が存在すると、電荷発生層の塗布時、顔料が凹凸欠陥の周囲に凝集する。この凝集による欠陥周囲の色濃度変化から光学的に判定することができるというものである。しかしこの方法では、画像に影響のないレベルの電荷発生物質の凝集塊による色濃度変化と、画像に影響を与える中間層凹凸欠陥起因の色濃度変化を十分に見分けることができず、良品までも取り除いてしまう課題があった。 The optical inspection is a method of irradiating a photoreceptor with white light and judging an area with a large change in color density on the surface of the photoreceptor as a defect from an image of the reflected light. If irregularities exist on the surface of the intermediate layer, the pigment aggregates around the irregularities during coating of the charge generation layer. It is possible to optically judge from the color density change around the defect caused by this aggregation. However, with this method, it is not possible to sufficiently distinguish between color density changes due to agglomeration of charge-generating substances that do not affect the image and color density changes due to defects in the unevenness of the intermediate layer that affect the image. I had a problem to remove.

また、感光体表面に電圧を印加し、欠陥部に流れる過大電流や欠陥の有無による電流変化から欠陥の有無を評価する方法も提案されている(特許文献3参照)。この方法は、支持体表面の欠陥がある程度大きい場合は有効だが、欠陥のサイズが小さい場合の電流変化は十分なSN比で得ることが困難なため、十分な精度で良品を識別することができなかった。 There is also proposed a method of applying a voltage to the surface of a photoreceptor and evaluating the presence or absence of a defect from an excessive current flowing through a defect portion or a current change due to the presence or absence of a defect (see Patent Document 3). This method is effective when the defect on the surface of the support is large to some extent, but it is difficult to obtain a current change with a sufficient SN ratio when the size of the defect is small. I didn't.

特開平6-137844号公報JP-A-6-137844 特開平11-118449号公報JP-A-11-118449 特公平2-43134号公報Japanese Patent Publication No. 2-43134

以上、電子写真感光体(以下、「感光体」ともいう。)の中間層の凹凸欠陥の検査方法としては様々な検査方法が検討されている。しかしながら、本発明者らの検討によれば、上記従来の検査方法では中間層の凹凸欠陥を十分に識別できているとは言えず、凹凸欠陥自体を撮像する検査方法が求められていた。 As described above, various inspection methods have been studied as methods for inspecting unevenness defects in the intermediate layer of an electrophotographic photoreceptor (hereinafter also referred to as "photoreceptor"). However, according to the studies of the present inventors, it cannot be said that the above-described conventional inspection method can sufficiently identify uneven defects in the intermediate layer, and an inspection method for imaging the uneven defects themselves has been desired.

本発明の目的は、積層型感光体、あるいは製造途中の感光体にも有効な中間層の凹凸欠陥形状を十分に高い精度で識別する電子写真感光体の検査方法、および該検査方法を用いた電子写真感光体の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a method for inspecting an electrophotographic photoreceptor, which is effective even for a laminated photoreceptor or a photoreceptor in the process of manufacturing, to identify uneven defect shapes of an intermediate layer with sufficiently high accuracy, and to use the inspection method. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor.

本発明は、一態様では、
検査機構を用いて、支持体、中間層および、感光層をこの順に有する円筒形の電子写真感光体を検査する、電子写真感光体の検査方法であって、
該検査機構が、
被検査物である該電子写真感光体をその軸周りに回転させるための支持手段と、
該電子写真感光体の軸方向に沿う波長900nm以上の検査光を該電子写真感光体に照射するための照射手段と、
該検査光が該電子写真感光体の中間層で反射してきた反射光を受光し、該反射光分布を取得するための撮像手段と
を備え、
該検査方法が
該支持手段により、該電子写真感光体をその軸周りに回転させる工程と、
該照射手段により、該電子写真感光体の法線に対してθ1°の角度で該検査光を該電子写真感光体に入射させる工程と、
該撮像手段により、該電子写真感光体の法線に対してθ2°の角度の該反射光を受光し、該反射光の分布を取得する工程と、
取得された該反射光の分布から該中間層の凹凸欠陥を判別する工程と、
を有し、
該θ1°が、31°以上63°以下であり、
該θ2°が、θ1+1°以上θ1+2°以下である
ことを特徴とする電子写真感光体の検査方法を提供することにある。
The present invention, in one aspect,
A method for inspecting an electrophotographic photoreceptor, comprising inspecting a cylindrical electrophotographic photoreceptor having a support, an intermediate layer, and a photosensitive layer in this order using an inspection mechanism , comprising:
The inspection mechanism
a support means for rotating the electrophotographic photosensitive member , which is an object to be inspected, around its axis;
irradiating means for irradiating the electrophotographic photosensitive member with inspection light having a wavelength of 900 nm or more along the axial direction of the electrophotographic photosensitive member;
an imaging means for receiving reflected light of the inspection light reflected by the intermediate layer of the electrophotographic photosensitive member and acquiring a distribution of the reflected light ;
with
The inspection method is
rotating the electrophotographic photosensitive member about its axis by the supporting means;
a step of causing the inspection light to be incident on the electrophotographic photosensitive member at an angle of θ1° with respect to the normal line of the electrophotographic photosensitive member by the irradiation means ;
a step of receiving the reflected light at an angle of θ2° with respect to the normal line of the electrophotographic photosensitive member by the imaging means, and acquiring the distribution of the reflected light;
a step of discriminating unevenness defects of the intermediate layer from the acquired distribution of the reflected light;
has
The θ1° is 31° or more and 63° or less,
The θ2° is θ1+1° or more and θ1+2° or less ,
An object of the present invention is to provide a method for inspecting an electrophotographic photoreceptor characterized by:

本発明によれば、積層型感光体中の中間層の凹凸欠陥形状を精度よく判別でき、非積層型感光体であっても、凹凸欠陥を精度よく判別可能な電子写真感光体の検査方法、および該検査方法を用いた電子写真感光体の製造方法を提供できる。 According to the present invention, an electrophotographic photoreceptor inspection method capable of accurately determining the uneven defect shape of an intermediate layer in a laminated photoreceptor and accurately determining uneven defects even in a non-laminated photoreceptor, and a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor using the inspection method.

電子写真感光体の検査装置の概念的側面図を示す図である。1 is a diagram showing a conceptual side view of an inspection apparatus for an electrophotographic photosensitive member; FIG. 被検査物の電子写真感光体の断面の一例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of a cross section of an electrophotographic photosensitive member to be inspected;

本発明は、検査機構を用いて、支持体、中間層および感光層をこの順に有する円筒形の電子写真感光体を検査する、電子写真感光体の検査方法であって、
該検査機構が、
被検査物である該電子写真感光体をその軸周りに回転させるための支持手段と、
該電子写真感光体の軸方向に沿う波長900nm以上の検査光を該電子写真感光体に照射するための照射手段と、
該検査光が該電子写真感光体の中間層で反射してきた反射光を受光し、該反射光分布を取得するための撮像手段と
を備え、
該検査方法が
該支持手段により、該電子写真感光体をその軸周りに回転させる工程と、
該照射手段により、該電子写真感光体の法線に対してθ1°の角度で該検査光を該電子写真感光体に入射させる工程と、
該撮像手段により、該電子写真感光体の法線に対してθ2°の角度の該反射光を受光し、該反射光の分布を取得する工程と、
取得された該反射光の分布から該中間層の凹凸欠陥を判別する工程と、
を有し、
該θ1°が、31°以上63°以下であり、
該θ2°が、θ1+1°以上θ1+2°以下である
ことを特徴とする電子写真感光体の検査方法、に関する。
The present invention is an electrophotographic photoreceptor inspection method for inspecting a cylindrical electrophotographic photoreceptor having a support, an intermediate layer and a photosensitive layer in this order using an inspection mechanism , comprising:
The inspection mechanism
a support means for rotating the electrophotographic photosensitive member , which is an object to be inspected, around its axis;
irradiating means for irradiating the electrophotographic photosensitive member with inspection light having a wavelength of 900 nm or more along the axial direction of the electrophotographic photosensitive member;
an imaging means for receiving reflected light of the inspection light reflected by the intermediate layer of the electrophotographic photosensitive member and acquiring a distribution of the reflected light ;
with
The inspection method is
rotating the electrophotographic photosensitive member about its axis by the supporting means;
a step of causing the inspection light to be incident on the electrophotographic photosensitive member at an angle of θ1° with respect to the normal line of the electrophotographic photosensitive member by the irradiation means ;
a step of receiving the reflected light at an angle of θ2° with respect to the normal line of the electrophotographic photosensitive member by the imaging means, and acquiring the distribution of the reflected light;
a step of discriminating unevenness defects of the intermediate layer from the acquired distribution of the reflected light;
has
The θ1° is 31° or more and 63° or less,
The θ2° is θ1+1° or more and θ1+2° or less ,
A method for inspecting an electrophotographic photosensitive member characterized by:

さらに、本発明は、前記検査光波長における前記中間層の正反射率が80%以上である上記に記載の検査方法、に関する。 Furthermore, the present invention relates to the inspection method described above , wherein the regular reflectance of the intermediate layer at the wavelength of the inspection light is 80% or more.

さらに、本発明は、前記感光層が、前記検査光の波長に吸収帯域を持たない電荷発生層を有する上記に記載の検査方法、に関する。 Furthermore, the present invention relates to the inspection method described above, wherein the photosensitive layer has a charge generation layer that does not have an absorption band in the wavelength of the inspection light.

さらにまた、本発明は、前記検査機構前記凹凸欠陥を判別するための画像処理手段さらにえ、
該画像処理手段が、
前記撮像手段による撮像範囲の欠陥候補領域を抽出するための抽出手段と、
欠陥候補領域の射影プロファイルを抽出し、累積化したプロファイルの対称性の相関係数を得て、前記中間層の形状から前記凹凸欠陥を判別する機能を有する手段と、
を備える、
上記に記載の検査方法、に関する。
Furthermore, in the present invention, the inspection mechanism further comprises image processing means for determining the uneven defect ,
The image processing means is
an extracting means for extracting a defect candidate area in the imaging range of the imaging means ;
a means having a function of extracting a projected profile of the defect candidate region, obtaining a symmetrical correlation coefficient of the accumulated profile, and discriminating the uneven defect from the shape of the intermediate layer ;
comprising
The inspection method described above.

さらに、本発明は、支持体、中間層および感光層をこの順に有する円筒形の該電子写真感光体を製造する、電子写真感光体の製造方法であって、上記に記載の検査方法で電子写真感光体の検査行う工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法、に関する。 Further, the present invention provides a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor, comprising a support, an intermediate layer and a photosensitive layer in this order, wherein the electrophotographic photoreceptor is manufactured by the inspection method described above. The present invention relates to a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor, comprising a step of inspecting the photoreceptor.

(検査方法)
本発明の検査方法は、
電荷発生層を透過する波長域の検査光として用い、かつ受光角を、正反射光よりもやや拡散光を拾う領域に設定することにより、電荷発生層の濃度ムラを拾うことなく、精度よく中間層の凹凸形状分布を取得できるというものである。
(Inspection methods)
The inspection method of the present invention is
By using the inspection light in the wavelength range that passes through the charge generation layer and by setting the light receiving angle to a region that picks up diffused light rather than specularly reflected light, it is possible to accurately detect intermediate light without picking up density unevenness in the charge generation layer. It is possible to obtain the unevenness distribution of the layer.

入射光は、検査物である電子写真感光体の法線に対して、θ1°が、31°以上63°以下の角度で入射する必要がある。θ1°が、31°よりも浅い角度だと、表面層からの反射光が強くなる一方で内部層への透過光が減少するため、凹凸欠陥の判定に十分な反射光量が得られない。また、θ1°が、63°よりも深い角度だと、欠陥の凹凸形状の陰影のコントラストが低く、凹凸欠陥を判別することができない。また、反射光は、法線に対する受光角度θ2°が、θ1+1°以上θ1+2°以下である、つまり正反射光からやや拡散よりの反射光を拾う領域である必要がある。この角度を設定することによって、中間層の凹凸欠陥をより鮮明に撮像することができる。この角度よりも拡散よりの角度では、受光光量が少なく、十分なS/N比で凹凸欠陥を判定することができない。 The incident light must be incident at an angle of θ1° of 31° or more and 63° or less with respect to the normal line of the electrophotographic photosensitive member, which is the object to be inspected. If .theta.1.degree . Further, when θ1° is an angle larger than 63 °, the contrast of the shadow of the uneven shape of the defect is low, and the uneven defect cannot be discriminated. In addition, the reflected light must have a light-receiving angle θ2 ° with respect to the normal line of θ1+1 ° or more and θ1+2 ° or less . By setting this angle, it is possible to image the unevenness defect of the intermediate layer more clearly. At an angle that is more diffuse than this angle, the amount of received light is small, and it is not possible to determine uneven defects with a sufficient S/N ratio.

また、検査光波長における中間層反射率が、70%以上、より好ましくは、80%以上を有することが望ましい。反射率が70%以下であっても、前述の角度範囲内で入射・受光角を定めれば中間層の凹凸欠陥は判別可能だが、受光光量が少なくなるために反射撮像のS/N比が低くなる場合がある。 Moreover, it is desirable that the intermediate layer has a regular reflectance of 70% or more, more preferably 80% or more, at the wavelength of the inspection light. Even if the specular reflectance is 70% or less, if the incident and light receiving angles are set within the above-mentioned angle range, uneven defects in the intermediate layer can be identified. may be lower.

積層型感光体の場合、電荷発生層の吸収域と検査光波長域は、重複していないことが望ましい。重複していた場合であっても、電荷発生層を透過する光の量が多ければ十分な測定は可能であるが、検査光波長域を外すことで、電荷発生層の濃度ムラを分離することができる。 In the case of a laminated photoreceptor, it is desirable that the absorption region of the charge generation layer and the wavelength region of the inspection light do not overlap. Even in the case of overlap, sufficient measurement is possible as long as the amount of light that passes through the charge generation layer is large. can be done.

積層型感光体に照射する場合、照射波長は900nm以上であることが望ましい。この波長域は感光体にフォトメモリ等の弊害を与えない点、前述の通り電荷発生層の吸収帯域、特に汎用電荷発生材料として用いられるフタロシアニン系顔料の吸収帯域を外す波長域である点で有用である。 When irradiating the laminated photoreceptor, the irradiation wavelength is desirably 900 nm or more. This wavelength range is useful in that it does not cause adverse effects such as photo memory on the photoreceptor, and as mentioned above, it is a wavelength range outside the absorption band of the charge generation layer, especially the absorption band of phthalocyanine pigments used as general-purpose charge generation materials. is.

照射光源は、LEDや、キセノン、水銀・キセノン等のランプを用い、単色光源でない場合は適切な波長フィルターを挟むことにより所望の波長域の光を得るとよい。上記波長域の放射輝度が最も強ければそれ以外の波長域の光は存在していてもよいが、前述のように感光体にダメージを与える波長の光、たとえば紫外域の光は除いた領域が選択されることが好ましい。 As the irradiation light source, an LED, a xenon lamp, a mercury/xenon lamp, or the like is used. If the radiance in the above wavelength range is the strongest, light in other wavelength ranges may be present. is preferably selected.

反射光の撮像装置は、光電変換素子からなる受光手段であり、例えばラインセンサ型CCDカメラや光電子倍増管(フォトマル)が挙げられる。必要に応じて、上記波長領域を取り込むことができればよく、それ以外の波長域を含んでも良い。 A reflected light imaging device is a light receiving means composed of a photoelectric conversion element, and examples thereof include a line sensor type CCD camera and a photomultiplier tube (photomultiplier). If necessary, it is sufficient to include the above wavelength range, and other wavelength ranges may be included.

凹凸欠陥を前記の入射・受光角度で観察した場合、一方で凸欠陥ならば入射光側の山の輝度が高く、受光側の山の輝度が低い反射光分布が得られる。他方で凹欠陥ならば、入射光側の谷の輝度が低く、受光側の谷の輝度が高くなる。このように、ある角度で撮像した凹凸欠陥の反射光分布は、輝度が高い領域と低い領域が明確に分かれた分布となるのである。凹凸欠陥が正円錐型であるようなケースではより輝度の高低領域が対照的な分布となる。また、中間層の凹凸欠陥の中でも、支持体表面の欠陥が中間層に飛び出た場合、各正円錐型の凹凸形状が得られる場合が多い。この凹凸欠陥の輝度分布の特徴的な形は人間の目で識別することができるが、検査上の安定性・定量性を踏まえ、画像処理で人の目に頼らず機械的に判別する手法を例として以下に説明する。 When an uneven defect is observed at the above incident/light-receiving angles, on the other hand, a convex defect provides a reflected light distribution in which the brightness of the peak on the incident light side is high and the brightness of the peak on the light-receiving side is low. On the other hand, if the defect is a concave defect, the brightness of the valley on the incident light side is low, and the brightness of the valley on the light receiving side is high. In this way, the reflected light distribution of the uneven defect imaged at a certain angle is a distribution in which the high luminance area and the low luminance area are clearly separated. In the case where the irregularity defect is of a regular cone type, the distribution of high and low luminance areas is more symmetrical. Further, among the irregularities in the intermediate layer, when the defects on the surface of the support protrude into the intermediate layer, regular conical irregularities are often obtained. The characteristic shape of the luminance distribution of these irregularities can be identified by the human eye, but based on the stability and quantification of inspection, a method of mechanically distinguishing by image processing without relying on the human eye is proposed. An example is given below.

まず、背景ノイズおよび、感光体回転の偏心によって生じる撮像面内の大域的な陰影を除去する目的で平滑化処理を行う。具体的な例としては、背景ノイズの除去を目的として小平滑フィルターを用い平滑化した画像と、面内の大域的なグラデーション情報のみを残す目的で大平滑フィルターにて平滑化した画像の差分を得ることで、小平滑画像から大域的なグラデーションを除去した画像を得る。平滑化のフィルターは、移動平均フィルター、メディアンフィルター、ガウシアンフィルターなど、処理後の画像ノイズ除去状態を確認しながら適時選択するとよい。 First, a smoothing process is performed for the purpose of removing background noise and global shadows in the imaging plane caused by eccentricity of rotation of the photoreceptor. As a specific example, the difference between an image smoothed using a small smoothing filter for the purpose of removing background noise and an image smoothed using a large smoothing filter for the purpose of leaving only global gradation information in the plane is taken. By obtaining an image from which the global gradation is removed from the small smooth image, an image is obtained. A smoothing filter, such as a moving average filter, median filter, or Gaussian filter, should be selected as appropriate while checking the image noise removal state after processing.

次に、判定対象とする欠陥候補の外接矩形を得る方法の例を説明する。まず、平滑化処理を行った画像に対し二値化処理を行い、白側閾値よりも輝度の高い画素、黒側閾値よりも輝度が低い画素を抽出する。これにより、凹凸欠陥のような輝度の高低が対称的な欠陥を抽出することができる。次に、カーネル内の最大値を注目画素の値と置き換える膨張処理を行い、凹凸欠陥の画素を一つの塊とする。面内の微小点の除去を目的とし縮小処理を行った後、再度膨張処理を行い、得られた白画素の塊の外接矩形を得る。 Next, an example of a method of obtaining a circumscribing rectangle of a defect candidate to be determined will be described. First, binarization processing is performed on an image that has undergone smoothing processing, and pixels with brightness higher than the white threshold and pixels with brightness lower than the black threshold are extracted. As a result, it is possible to extract a defect with symmetrical luminance levels, such as an uneven defect. Next, dilation processing is performed to replace the maximum value in the kernel with the value of the pixel of interest, and the uneven defect pixels are grouped together. After reduction processing is performed for the purpose of removing minute points in the plane, expansion processing is performed again to obtain a circumscribing rectangle of the obtained mass of white pixels.

このように抽出した欠陥候補領域に対し、感光体母線方向の射影プロファイルを得た後、累積したプロファイルの対称性の相関係数を得る。凹凸欠陥のように、輝度の明暗の画素域が対称的に分かれているものは、対称性が高い。一方で、その他の欠陥、たとえば電荷発生顔料の凝集、中間層表面に付着したゴミ・ほこりによる陰影のパターンは非対称であるため、一連の処理によって凹凸欠陥と区別することができる。 After obtaining the projection profile in the generatrix direction of the photoreceptor for the defect candidate area thus extracted, the correlation coefficient of the symmetry of the accumulated profile is obtained. A defect such as a concave-convex defect in which bright and dark pixel regions are symmetrically divided has high symmetry. On the other hand, other defects such as aggregation of charge-generating pigments and shadow patterns due to dirt and dust adhering to the surface of the intermediate layer are asymmetrical, and can be distinguished from uneven defects by a series of treatments.

次に、本発明の検査工程について詳細を説明する。
まず、図1に、本発明の検査工程において検査される感光体1ならびに検査に用いられる光源2および受光手段3の概略図の一例を示す。
感光体1を矢印の方向に回転させながら、光源2から感光体1の法線に対しθ1の入射角で光を照射する。照射する光は、波長が900nm以上の光である。感光体1の法線に対しθ2の角度の位置に受光手段3を設け、不図示の撮像手段により反射光分布を得る。
Next, the inspection process of the present invention will be described in detail.
First, FIG. 1 shows an example of a schematic diagram of a photoreceptor 1 to be inspected in the inspection process of the present invention, and a light source 2 and light receiving means 3 used for the inspection.
While rotating the photoreceptor 1 in the direction of the arrow, the light source 2 irradiates the photoreceptor 1 with an incident angle of θ1 with respect to the normal line of the photoreceptor 1 . The light to be irradiated is light with a wavelength of 900 nm or more. A light receiving means 3 is provided at an angle .theta.2 with respect to the normal line of the photosensitive member 1, and a reflected light distribution is obtained by an imaging means (not shown).

図2に示したのは、本発明において検査対象とする被検査物の一例としての感光体1であり、支持体21上に、中間層22とその直上に第二中間層23、電荷発生層24、表面層25の順で積層された断面を図示したものである。中間層に凸欠陥26があると、その上層の電荷発生層24に濃度ムラが現れる。 FIG. 2 shows a photoreceptor 1 as an example of an inspection object to be inspected in the present invention. 24 and a surface layer 25 are laminated in this order. If there is a convex defect 26 in the intermediate layer, density unevenness will appear in the charge generation layer 24 thereabove.

〔支持体〕
支持体としては、導電性を有するもの(導電性支持体)が好ましい。例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金などの金属又は合金製の支持体を用いることができる。ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ガラスなどの絶縁性支持体上にアルミニウム、クロム、銀、金などの金属の薄膜を形成した支持体が挙げられる。
[Support]
As the support, one having conductivity (conductive support) is preferable. For example, supports made of metals or alloys such as aluminum, iron, nickel, copper, and gold can be used. Supports obtained by forming a thin film of a metal such as aluminum, chromium, silver, or gold on an insulating support such as polyester resin, polycarbonate resin, polyimide resin, or glass can be used.

〔中間層〕
支持体上には、中間層が設けられる。
中間層は、導電性を付与する目的で金属酸化物粒子を含有する。中間層は、溶剤、結着樹脂などを用いて金属酸化物粒子を含有する中間層用塗布液を支持体上に塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を乾燥及び/又は硬化させることによって形成することができる。
[Intermediate layer]
An intermediate layer is provided on the support.
The intermediate layer contains metal oxide particles for the purpose of imparting electrical conductivity. The intermediate layer is formed by coating an intermediate layer coating liquid containing metal oxide particles on a support using a solvent, a binder resin, etc. to form a coating film, and drying and/or curing the resulting coating film. can be formed by letting

分散方法としては、例えば、ペイントシェーカー、サンドミル、ボールミル、液衝突型高速分散機を用いた方法が挙げられる。 Dispersion methods include, for example, methods using a paint shaker, sand mill, ball mill, and liquid collision type high-speed disperser.

結着樹脂としては、フェノール樹脂、ウレタン樹脂またはアミノ樹脂が挙げられる。中間層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコールや、アセトン、メチルエチルケトン、シクロへキサノンなどのケトンや、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテルや、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステルや、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素が挙げられる。 A phenol resin, a urethane resin, or an amino resin may be used as the binder resin. Solvents used in the intermediate layer coating liquid include, for example, alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether. ethers, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene.

また、中間層の表面で反射した光が干渉して出力画像に干渉縞が発生することを抑制するため、中間層用塗布液には、中間層の表面を粗面化するための表面粗し付与材を含有させてもよい。表面粗し付与材としては、平均粒径が1μm以上5μm以下の樹脂粒子が好ましい。樹脂粒子としては、例えば、硬化性ゴム、ポリウレタン、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル、シリコーン樹脂、アクリル-メラミン樹脂などの硬化性樹脂の粒子が挙げられる。これらの中でも、凝集しにくいシリコーン樹脂の粒子が好ましい。また、中間層用塗布液には、中間層の表面性を高めるためのレベリング剤を含有させてもよい。また、中間層用塗布液には、中間層の隠蔽性をより向上させるため、顔料粒子を含有させてもよい。 In addition, in order to suppress the occurrence of interference fringes in an output image due to interference of light reflected on the surface of the intermediate layer, the intermediate layer coating liquid contains a surface roughening agent for roughening the surface of the intermediate layer. An imparting material may be contained. Resin particles having an average particle size of 1 μm or more and 5 μm or less are preferable as the surface roughening agent. Examples of resin particles include particles of curable resins such as curable rubbers, polyurethanes, epoxy resins, alkyd resins, phenol resins, polyesters, silicone resins, and acrylic-melamine resins. Among these, particles of silicone resin that are difficult to agglomerate are preferable. Further, the intermediate layer coating solution may contain a leveling agent for enhancing the surface properties of the intermediate layer. Further, the intermediate layer coating liquid may contain pigment particles in order to further improve the concealability of the intermediate layer.

金属酸化物粒子と結着樹脂の質量比率は5/1~0.5/1が好ましく、より好ましくは3/1~1/1の比率が好ましい。 The mass ratio of the metal oxide particles to the binder resin is preferably 5/1 to 0.5/1, more preferably 3/1 to 1/1.

また、中間層の膜厚は2~40μm、好ましくは10~30μmとするのが適当である。 Also, the film thickness of the intermediate layer is suitably 2 to 40 μm, preferably 10 to 30 μm.

中間層の基準長さ0.8mmでの十点平均粗さRzjisは、0.5μm以上2.5μm以下であることが耐リーク性という観点で好ましい。 The ten-point average roughness Rzjis at the reference length of 0.8 mm of the intermediate layer is preferably 0.5 μm or more and 2.5 μm or less from the viewpoint of leak resistance.

〔第二中間層〕
中間層上には、さらに第二中間層を設けてもよい。逆に、前記の中間層を抜いたうえで、第二中間層のみを塗布してもよい。
[Second intermediate layer]
A second intermediate layer may be further provided on the intermediate layer. Conversely, after removing the intermediate layer, only the second intermediate layer may be applied.

第二中間層は、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリル酸類、メチルセルロース、エチルセルロース、ポリグルタミン酸、カゼイン、でんぷんなどの水溶性樹脂や、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド酸、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリグルタミン酸エステル、などから構成される。 The second intermediate layer is made of water-soluble resins such as polyvinyl alcohol, polyvinyl methyl ether, polyacrylic acids, methyl cellulose, ethyl cellulose, polyglutamic acid, casein, starch, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyamic acid, melamine resin, epoxy resin, Consists of polyurethane, polyglutamic acid ester, and the like.

また第二中間層は、有機電子輸送物質を含有してもよく、有機電子輸送物質としては、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物などが挙げられる。有機電子輸送物質は、電荷発生層への溶出を抑制するため、重合物に組み込まれていることが好ましいため、重合性官能基を有する電子輸送物質であることが好ましい。重合性官能基としては、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、又はメトキシ基が挙げられる。以下に、電子輸送物質の具体例として、下記式(A1)~(A11)のいずれかで示される化合物を示す。 The second intermediate layer may also contain an organic electron-transporting substance, and examples of the organic electron-transporting substance include quinone compounds, imide compounds, benzimidazole compounds, cyclopentadienylidene compounds, and the like. Since the organic electron transporting substance is preferably incorporated into the polymer in order to suppress elution into the charge generation layer, it is preferably an electron transporting substance having a polymerizable functional group. Polymerizable functional groups include hydroxy groups, thiol groups, amino groups, carboxyl groups, or methoxy groups. Specific examples of the electron-transporting substance are shown below as compounds represented by any one of the following formulas (A1) to (A11).

Figure 0007118762000001
Figure 0007118762000001

式(A1)~(A11)中、R11~R16、R21~R30、R31~R38、R41~R48、R51~R60、R61~R66、R71~R78、R81~R90、R91~R98は、R101~R110は、R111~R120は、それぞれ独立に、下記式(A)で示される1価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換の複素環を示す。アルキル基の主鎖中のCHの1つがO、S、NH又はNR121(R121はアルキル基)で置き換わっていても良い。R11~R16の少なくとも1つ、R21~R30の少なくとも1つ、R31~R38の少なくとも1つ、R41~R48の少なくとも1つ、R51~R60の少なくとも1つ、R61~R66の少なくとも1つ、R71~R78の少なくとも1つ、R81~R90の少なくとも1つ、R91~R98の少なくとも1つ、R101~R110の少なくとも1つ、R111~R120の少なくとも1つは、式(A)で示される1価の基を有する。 In formulas (A1) to (A11), R 11 to R 16 , R 21 to R 30 , R 31 to R 38 , R 41 to R 48 , R 51 to R 60 , R 61 to R 66 , R 71 to R 78 , R 81 to R 90 , R 91 to R 98 , R 101 to R 110 and R 111 to R 120 are each independently a monovalent group represented by the following formula (A), a hydrogen atom, cyano group, nitro group, halogen atom, alkoxycarbonyl group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted aryl group, or substituted or unsubstituted heterocyclic ring. One CH2 in the main chain of the alkyl group may be replaced with O, S, NH or NR121 ( R121 is an alkyl group). at least one of R 11 to R 16 , at least one of R 21 to R 30 , at least one of R 31 to R 38 , at least one of R 41 to R 48 , at least one of R 51 to R 60 , at least one of R 61 to R 66 , at least one of R 71 to R 78 , at least one of R 81 to R 90 , at least one of R 91 to R 98 , at least one of R 101 to R 110 , At least one of R 111 to R 120 has a monovalent group represented by formula (A).

置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基である。置換のアリール基の置換基、置換の複素環基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基である。Z21、Z31、Z41及びZ51は、それぞれ独立に、炭素原子、窒素原子、又は酸素原子を示す。Z21が酸素原子である場合はR29及びR30は存在せず、Z21が窒素原子である場合はR30は存在しない。Z31が酸素原子である場合はR37及びR38は存在せず、Z31が窒素原子である場合はR38は存在しない。Z41が酸素原子である場合はR47及びR48は存在せず、Z41が窒素原子である場合はR48は存在しない。Z51が酸素原子である場合はR59及びR60は存在せず、Z51が窒素原子である場合はR60は存在しない。 The substituents of the substituted alkyl group are alkyl groups, aryl groups, halogen atoms and alkoxycarbonyl groups. The substituent of the substituted aryl group and the substituent of the substituted heterocyclic group are a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, a halogen-substituted alkyl group and an alkoxy group. Z 21 , Z 31 , Z 41 and Z 51 each independently represent a carbon atom, a nitrogen atom or an oxygen atom. R 29 and R 30 are absent when Z 21 is an oxygen atom, and R 30 is absent when Z 21 is a nitrogen atom. R 37 and R 38 are absent when Z 31 is an oxygen atom, and R 38 is absent when Z 31 is a nitrogen atom. R 47 and R 48 are absent when Z 41 is an oxygen atom, and R 48 is absent when Z 41 is a nitrogen atom. R 59 and R 60 are absent when Z 51 is an oxygen atom, and R 60 is absent when Z 51 is a nitrogen atom.

Figure 0007118762000002
式(A)中、α、β、及びγの少なくとも1つは置換基を有する基であり、置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の基である。l及びmは、それぞれ独立に、0又は1であり、lとmの和は、0以上2以下である。
Figure 0007118762000002
In formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having a substituent, and the substituent is selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, and a methoxy group. at least one group. l and m are each independently 0 or 1, and the sum of l and m is 0 or more and 2 or less.

αは、主鎖の原子数が1~6のアルキレン基、炭素数1~6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1~6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1~6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1~6のアルキレン基、又はフェニル基で置換された主鎖の原子数が1~6のアルキレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。アルキレン基の主鎖中のCHの1つは、O、S、NR122(式中、R122は、水素原子、又はアルキル基を示す。)で置き換わっても良い。 α is an alkylene group having a main chain of 1 to 6 atoms, an alkylene group having a main chain of 1 to 6 atoms substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylene group having a main chain of 1 to 6 atoms substituted with a benzyl group. an alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having a main chain having 1 to 6 atoms substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having a main chain having 1 to 6 atoms substituted with a phenyl group; . These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group and a methoxy group as a substituent. One CH 2 in the main chain of the alkylene group may be replaced with O, S, NR 122 (wherein R 122 represents a hydrogen atom or an alkyl group).

βは、フェニレン基、炭素数1~6のアルキル置換フェニレン基、ニトロ置換フェニレン基、ハロゲン基置換フェニレン基、又はアルコキシ基置換フェニレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。 β represents a phenylene group, an alkyl-substituted phenylene group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro-substituted phenylene group, a halogen-substituted phenylene group, or an alkoxy-substituted phenylene group. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group and a methoxy group as a substituent.

γは、水素原子、主鎖の原子数が1~6のアルキル基、又は炭素数1~6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1~6のアルキル基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。アルキル基の主鎖中のCHの1つは、O又はS又はNR123(式中、R123は、水素原子又はアルキル基を示す。)で置き換わっていても良い。 γ represents a hydrogen atom, an alkyl group having a main chain of 1 to 6 atoms, or an alkyl group having a main chain of 1 to 6 atoms substituted with an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group and a methoxy group as a substituent. One CH2 in the main chain of the alkyl group may be replaced with O or S or NR123 (wherein R123 represents a hydrogen atom or an alkyl group).

式(A)で表される基の具体例としては、式(A101)で示される構造式、

Figure 0007118762000003
または式(A102)で示される構造式などが挙げられる。
Figure 0007118762000004
Specific examples of the group represented by formula (A) include the structural formula represented by formula (A101),
Figure 0007118762000003
Alternatively, a structural formula represented by Formula (A102), or the like can be mentioned.
Figure 0007118762000004

本発明では、より好ましくは、第二中間層が有機電子輸送物質を含有する重合物の組成物であることが、乱反射が抑制され、反射光の強度が高くなるため、検査の精度が向上する。
また第二中間層は必要に応じて、金属酸化物を含有しても良い。
In the present invention, more preferably, the second intermediate layer is made of a polymer composition containing an organic electron-transporting substance. This suppresses irregular reflection and increases the intensity of reflected light, thereby improving the accuracy of inspection. .
Moreover, the second intermediate layer may contain a metal oxide, if necessary.

〔電荷発生層〕
中間層上(第二中間層が存在する場合には第二中間層上)には、電荷発生層が形成される。
[Charge generation layer]
A charge generation layer is formed on the intermediate layer (or on the second intermediate layer when the second intermediate layer is present).

本発明に用いられる電荷発生物質としては、検査工程に用いられる光の波長を吸収する特性を有するものが用いられる。具体的には、アゾ顔料、フタロシアニン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、スクワリリウム色素、チアピリリウム塩、トリフェニルメタン色素、キナクリドン顔料や、アズレニウム塩顔料、シアニン染料、アントアントロン顔料、ピラントロン顔料、キサンテン色素、キノンイミン色素、スチリル色素などが挙げられる。これら電荷発生物質は1種のみ用いてもよく、2種以上用いてもよい。これら電荷発生物質の中でも、感度の観点から、フタロシアニン顔料やアゾ顔料が好ましく、特にはフタロシアニン顔料がより好ましい。 As the charge-generating substance used in the present invention, a substance having a property of absorbing the wavelength of light used in the inspection process is used. Specifically, azo pigments, phthalocyanine pigments, indigo pigments, perylene pigments, polycyclic quinone pigments, squarylium pigments, thiapyrylium salts, triphenylmethane pigments, quinacridone pigments, azulenium salt pigments, cyanine dyes, anthanthrone pigments, and pyranthrone pigments. , xanthene dyes, quinone imine dyes, styryl dyes, and the like. Only one kind of these charge generation substances may be used, or two or more kinds thereof may be used. Among these charge-generating substances, phthalocyanine pigments and azo pigments are preferred from the viewpoint of sensitivity, and phthalocyanine pigments are more preferred.

フタロシアニン顔料の中でも、特にオキシチタニウムフタロシアニンあるいはクロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが優れた電荷発生効率を示す。さらに、ヒドロキシガリウムフタロシアニンの中でも、感度の観点から、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角2θが7.4°±0.3°および28.2°±0.3°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶がより好ましい。 Among the phthalocyanine pigments, oxytitanium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, and hydroxygallium phthalocyanine exhibit excellent charge generation efficiency. Furthermore, among hydroxygallium phthalocyanines, from the viewpoint of sensitivity, crystalline hydroxy gallium phthalocyanine having peaks at Bragg angles 2θ of 7.4° ± 0.3° and 28.2° ± 0.3° in CuKα characteristic X-ray diffraction. Gallium phthalocyanine crystals are more preferred.

電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、アクリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、スチレン-ブタジエンコポリマー、ブチラール樹脂、ベンザール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリルエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリプロピレン樹脂、メタクリル樹脂、ユリア樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニルコポリマー、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂が挙げられる。これらの中でも、特には、ブチラール樹脂が好ましい。これらは、単独、混合または共重合体として1種または2種以上用いることができる。 Binder resins used in the charge generation layer include acrylic resins, allyl resins, alkyd resins, epoxy resins, diallyl phthalate resins, styrene-butadiene copolymers, butyral resins, benzal resins, polyacrylate resins, polyacetal resins, polyamideimide resins, Polyamide resin, polyallyl ether resin, polyarylate resin, polyimide resin, polyurethane resin, polyester resin, polyethylene resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polysulfone resin, polyvinyl acetal resin, polybutadiene resin, polypropylene resin, methacrylic resin, urea resin, chloride Examples include vinyl-vinyl acetate copolymers, vinyl acetate resins, and vinyl chloride resins. Among these, butyral resins are particularly preferred. These may be used singly, as a mixture, or as a copolymer, or two or more.

電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂および溶剤とともに分散処理して得られる電荷発生層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。また、電荷発生層は、電荷発生物質の蒸着膜としてもよい。 The charge-generating layer can be formed by applying a charge-generating layer coating liquid obtained by dispersing a charge-generating substance together with a binder resin and a solvent, followed by drying. Also, the charge generation layer may be a deposited film of a charge generation substance.

分散方法としては、ホモジナイザー、超音波分散機、ボールミル、サンドミル、ロールミル、振動ミル、アトライター、液衝突型高速分散機を用いた方法が挙げられる。
電荷発生物質と結着樹脂との割合は、結着樹脂1質量部に対して電荷発生物質が0.3質量部以上10質量部以下であることがより好ましい。
Dispersion methods include methods using homogenizers, ultrasonic dispersers, ball mills, sand mills, roll mills, vibration mills, attritors, and liquid collision high-speed dispersers.
As for the ratio of the charge-generating substance and the binder resin, it is more preferable that the charge-generating substance is 0.3 parts by mass or more and 10 parts by mass or less per 1 part by mass of the binder resin.

電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、脂肪族ハロゲン化炭化水素系溶剤、芳香族化合物などが挙げられる。電荷発生層の膜厚は、0.01μm以上5μm以下であることが好ましく、0.1μm以上2μm以下であることがより好ましい。また、電荷発生層には、種々の増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤を必要に応じて添加することもできる。 Solvents used in the charge generation layer coating solution include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, aliphatic halogenated hydrocarbon solvents, and aromatic compounds. The thickness of the charge generating layer is preferably 0.01 μm or more and 5 μm or less, more preferably 0.1 μm or more and 2 μm or less. In addition, various sensitizers, antioxidants, ultraviolet absorbers and plasticizers can be added to the charge generating layer as required.

〔表面層〕
電荷発生層上には、表面層が形成される。表面層は電荷輸送物質と樹脂を含有する。
[Surface layer]
A surface layer is formed on the charge generation layer. The surface layer contains charge transport material and resin.

本発明で用いられる電荷輸送物質としては、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物、ブタジエン化合物などが挙げられる。これら電荷輸送物質は、1種のみ用いてもよく、2種以上用いてもよい。これらの中でも、電荷の移動度の観点から、トリアリールアミン化合物が好ましい。 Charge-transporting substances used in the present invention include triarylamine compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, stilbene compounds, and butadiene compounds. These charge transport substances may be used alone or in combination of two or more. Among these, triarylamine compounds are preferred from the viewpoint of charge mobility.

積層型感光層である場合、表面層に用いられる結着樹脂としては、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリルエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリプロピレン樹脂、メタクリル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂が好ましい。これらは、単独、混合または共重合体として1種または2種以上用いることができる。 In the case of a laminated photosensitive layer, binder resins used in the surface layer include acrylic resins, acrylonitrile resins, allyl resins, alkyd resins, epoxy resins, silicone resins, phenol resins, phenoxy resins, polyacrylamide resins, and polyamideimide resins. , polyamide resins, polyallyl ether resins, polyarylate resins, polyimide resins, polyurethane resins, polyester resins, polyethylene resins, polycarbonate resins, polysulfone resins, polyphenylene oxide resins, polybutadiene resins, polypropylene resins, methacrylic resins, and the like. Among these, polyarylate resins and polycarbonate resins are preferred. These may be used singly, as a mixture, or as a copolymer, or two or more.

表面層は、電荷輸送物質と結着樹脂を溶剤に溶解させて得られる表面層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。表面層における電荷輸送物質と結着樹脂との割合は、結着樹脂1質量部に対して電荷輸送物質が0.3質量部以上10質量部以下であることが好ましい。また、表面層のクラックを抑制する観点から、乾燥温度は60℃以上150℃以下が好ましく、80℃以上120℃以下がより好ましい。また、乾燥時間は10分以上60分以下が好ましい。 The surface layer can be formed by applying a surface layer coating liquid obtained by dissolving a charge transporting substance and a binder resin in a solvent and drying the liquid. The ratio of the charge transport material and the binder resin in the surface layer is preferably 0.3 parts by mass or more and 10 parts by mass or less for the charge transport material per 1 part by mass of the binder resin. From the viewpoint of suppressing cracks in the surface layer, the drying temperature is preferably 60° C. or higher and 150° C. or lower, more preferably 80° C. or higher and 120° C. or lower. Moreover, the drying time is preferably 10 minutes or more and 60 minutes or less.

表面層用塗布液に用いられる溶剤としては、プロパノールやブタノールなどのアルコール系溶剤(特に炭素原子数3以上のアルコール)、アニソール、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサンなどが挙げられる。 Solvents used in the surface layer coating solution include alcohol solvents such as propanol and butanol (especially alcohols having 3 or more carbon atoms), aromatic hydrocarbon solvents such as anisole, toluene, xylene, and chlorobenzene, methylcyclohexane, and ethylcyclohexane.

本発明において、被検査物が電子写真感光体の場合、第二中間層まで入る光を強くしたいため、照射する光に対して、表面層の透過率が97%以上であることが反射光の強度差が高くなり好ましい。 In the present invention, when the object to be inspected is an electrophotographic photoreceptor, it is desirable to intensify the light entering the second intermediate layer. This is preferable because the difference in strength increases.

本発明において、表面層の膜厚ムラや膜厚が異なっていても、第二中間層の膜厚ムラや膜残りは精度よく判定できる。 In the present invention, even if the thickness unevenness and thickness of the surface layer are different, the thickness unevenness and film residue of the second intermediate layer can be accurately determined.

電子写真感光体の表面層が1層である場合、その表面層の膜厚は5μm以上40μm以下であることが好ましく、透過性という観点で、8μm以上30μm以下であることがより好ましい。 When the electrophotographic photosensitive member has a single surface layer, the thickness of the surface layer is preferably 5 μm or more and 40 μm or less, and more preferably 8 μm or more and 30 μm or less from the viewpoint of transparency.

表面層を積層構成とした場合、支持体側の層の膜厚は、5μm以上20μm以下であることが好ましく、表面側の層の膜厚は、1μm以上8μm以下であることが好ましい。
積層構成とした場合の透過率は、すべての層の透過率が97%以上であることが好ましい。
When the surface layer has a laminated structure, the thickness of the layer on the support side is preferably 5 μm or more and 20 μm or less, and the thickness of the layer on the surface side is preferably 1 μm or more and 8 μm or less.
The transmittance of all layers in the laminated structure is preferably 97% or more.

また、表面層には、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。 Moreover, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a plasticizer, etc. can also be added to the surface layer as needed.

また、電子写真感光体の表面層には、シリコーンオイル、ワックス、ポリテトラフルオロエチレン粒子などのフッ素原子含有樹脂粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ホウ素などの潤滑剤を含有させてもよい。 The surface layer of the electrophotographic photosensitive member may contain silicone oil, wax, fluorine atom-containing resin particles such as polytetrafluoroethylene particles, silica particles, alumina particles, and lubricants such as boron nitride.

上記各層の塗布液を塗布する際には、例えば、浸漬塗布法(浸漬コーティング法)、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ローラーコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法などの塗布方法を用いることができる。 When applying the coating solution for each layer, for example, a dip coating method (dip coating method), a spray coating method, a spinner coating method, a roller coating method, a Meyer bar coating method, a blade coating method, or the like can be used. can be done.

以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。 The present invention will be described in more detail below with specific examples. However, the present invention is not limited to these. In addition, "part" in an Example means "mass part."

(感光体作製例1)
長さ260.5mm、直径30mmのアルミニウムシリンダー(JIS-A3003、アルミニウム合金)を支持体(導電性支持体)とした。
(Photoreceptor Production Example 1)
An aluminum cylinder (JIS-A3003, aluminum alloy) having a length of 260.5 mm and a diameter of 30 mm was used as a support (conductive support).

中間層:金属酸化物粒子としての酸素欠損型酸化スズ(SnO)が被覆されている酸化チタン(TiO)粒子(個数平均一次粒子径200nm)214部、結着樹脂としてのフェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ-325。)132部、及び、
メタノール40部、1-メトキシ-2-プロパノール58部を、
直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れ、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して0.01質量%になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイル(東レダウコーニング社製、SH28PA)及び15質量%になるように、シリコーン樹脂粒子(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、トスパール120)を分散液に添加した。この分散液を撹拌することによって、中間層用塗布液を調製した。この中間層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を60分間160℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30.2μmの第一中間層を形成した。また、ゴニオメータを用い測定した1~2°範囲の反射率は、95%であった。
Intermediate layer: 214 parts of titanium oxide (TiO 2 ) particles (number average primary particle diameter: 200 nm) coated with oxygen-deficient tin oxide (SnO 2 ) as metal oxide particles, phenolic resin (product Name: Pryofen J-325.) 132 parts, and
40 parts of methanol, 58 parts of 1-methoxy-2-propanol,
Placed in a sand mill using 450 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm, and subjected to dispersion treatment under the conditions of rotation speed: 2000 rpm, dispersion treatment time: 4.5 hours, cooling water set temperature: 18 ° C., to obtain a dispersion liquid. rice field. The glass beads were removed from this dispersion with a mesh (opening: 150 μm). Silicon oil (SH28PA, manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.) as a leveling agent was added so as to be 0.01% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion after removing the glass beads. and 15% by mass of silicone resin particles (Tospearl 120, manufactured by Momentive Performance Materials Japan LLC). By stirring this dispersion, an intermediate layer coating liquid was prepared. This intermediate layer coating liquid was applied onto the support by dip coating, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 160° C. for 60 minutes to form a first intermediate layer having a thickness of 30.2 μm. Also, the reflectance in the range of 1 to 2° measured using a goniometer was 95%.

次に、以下の方法で第一中間層上に第二中間層を形成した。
N-メトキシメチル化ナイロン(商品名:トレジンEF-30T、ナガセケムテックス(株)(旧・帝国化学産業(株))製)4.5部および共重合ナイロン樹脂(商品名:アミランCM8000、東レ(株)製)1.5部を、メタノール65部/n-ブタノール30部の混合溶剤に溶解させることによって、第二中間層用塗布液を調製した。この第二中間層用塗布液を第一中間層上に浸漬塗布し、これを6分間70℃で乾燥させることによって、膜厚が0.4μmの第二中間層を形成した。
Next, a second intermediate layer was formed on the first intermediate layer by the following method.
4.5 parts of N-methoxymethylated nylon (trade name: Toresin EF-30T, manufactured by Nagase ChemteX Co., Ltd. (former Teikoku Kagaku Sangyo Co., Ltd.)) and copolymerized nylon resin (trade name: Amilan CM8000, Toray Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of 65 parts of methanol/30 parts of n-butanol to prepare a second intermediate layer coating solution. This second intermediate layer coating solution was dip-coated on the first intermediate layer and dried at 70° C. for 6 minutes to form a second intermediate layer having a thickness of 0.4 μm.

電荷発生層:
ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°及び28.3°にピークを有する。)10部、
ポリアセタール樹脂(商品名:エスレックBX-1、積水化学工業(株)製)5部及び
シクロヘキサノン250部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、1.5時間分散処理した。次に、これに酢酸エチル250部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。電荷発生層用塗布液を、第二中間層及び露出した第一中間層面上に浸漬塗布し、得られた塗膜を10分間100℃で乾燥させることによって、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
Charge generation layer:
Hydroxygallium phthalocyanine crystal (charge-generating substance, CuKα Bragg angle (2θ ± 0.2°) of 7.5°, 9.9°, 12.5°, 16.3°, 18.6° in characteristic X-ray diffraction , with peaks at 25.1° and 28.3°.) 10 parts,
5 parts of polyacetal resin (trade name: S-Lec BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 250 parts of cyclohexanone were placed in a sand mill using glass beads with a diameter of 1 mm and dispersed for 1.5 hours. Next, 250 parts of ethyl acetate was added to this to prepare a charge generation layer coating solution. The charge generation layer coating solution was dip-coated on the second intermediate layer and the exposed surface of the first intermediate layer, and the resulting coating film was dried at 100° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm. formed a layer.

表面層:
電荷輸送物質として下記式(4)で示されるアミン化合物7部と、
式(5)と式(6)で示される構造単位を有し、式(5)と(6)のモル比率が5/5である重量平均分子量が120,000であるポリエステル樹脂10部を、
ジメトキシメタン50部とO-キシレン50部の混合溶剤に溶解させ、さらに、シリカ微粒子(信越化学(株)製KMPX-100:平均一次粒径0.1μm)を固形分に対して、2質量%添加し、撹拌することによって、表面層用塗布液を調製した。この表面層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を20分間120℃で乾燥させることによって、膜厚が20μmの電荷輸送層としての表面層を形成した。

Figure 0007118762000005
Figure 0007118762000006
Figure 0007118762000007
Surface layer:
7 parts of an amine compound represented by the following formula (4) as a charge transport material;
10 parts of a polyester resin having a structural unit represented by formulas (5) and (6) and having a molar ratio of formulas (5) and (6) of 5/5 and a weight average molecular weight of 120,000,
Dissolved in a mixed solvent of 50 parts of dimethoxymethane and 50 parts of O-xylene, and further silica fine particles (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KMPX-100: average primary particle size 0.1 μm) with respect to the solid content, 2 mass% By adding and stirring, a surface layer coating liquid was prepared. This surface layer coating liquid was applied onto the charge generation layer by dip coating, and the resulting coating film was dried at 120° C. for 20 minutes to form a surface layer as a charge transport layer having a thickness of 20 μm.
Figure 0007118762000005
Figure 0007118762000006
Figure 0007118762000007

(感光体作製例2)
感光体作製例1において、第一中間層を以下の通り変更した以外は感光体作製例1と同様に感光体を作製した。
導電性粒子としての、リン(P)がドープされている酸化スズ(SnO)で被覆されている酸化チタン粒子(TiO)粒子207部、結着材料としてのフェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ-325)144部、および、溶剤としての1-メトキシ-2-プロパノール98部を、直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れ、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。
この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して15質量%になるように、シリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120)を分散液に添加した。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して0.01質量%になるように、シリコーンオイル(商品名:SH28PA)を分散液に添加して撹拌することによって、中間層用塗布液を調製した。この中間層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの中間層を形成した。また、ゴニオメータを用い測定した1~2°範囲の反射率は、88%であった。
(Photoreceptor Production Example 2)
A photoreceptor was produced in the same manner as in Photoreceptor Production Example 1, except that the first intermediate layer was changed as follows.
207 parts of titanium oxide particles (TiO 2 ) coated with phosphorus (P)-doped tin oxide (SnO 2 ) as conductive particles; 144 parts of J-325) and 98 parts of 1-methoxy-2-propanol as a solvent were placed in a sand mill using 450 parts of glass beads with a diameter of 0.8 mm, and the number of revolutions was 2000 rpm, and the dispersion treatment time was 4. Dispersion treatment was carried out for 5 hours under the condition that the set temperature of the cooling water was 18°C, and a dispersion liquid was obtained.
The glass beads were removed from this dispersion with a mesh (opening: 150 μm). Silicone resin particles (trade name: Tospearl 120) were added to the dispersion in an amount of 15% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion after removing the glass beads. Further, silicone oil (trade name: SH28PA) is added to the dispersion and stirred so that the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion is 0.01% by mass. An intermediate layer coating solution was prepared. This intermediate layer coating liquid was applied onto the support by dip coating, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150° C. for 30 minutes to form an intermediate layer having a thickness of 30 μm. Also, the reflectance in the range of 1 to 2° measured using a goniometer was 88%.

(感光体作製例3)
感光体作製例1において、第一中間層を以下の通り変更した以外は感光体作製例1と同様に感光体を作製した。
酸化スズで被覆した硫酸バリウム粒子(商品名:パストランPC1、三井金属鉱業(株)製)60部、酸化チタン粒子(商品名:TITANIX JR、テイカ(株)製)15部、レゾール型フェノール樹脂(商品名:フェノライト J-325、大日本インキ化学工業(株)製、固形分70質量%)43部、シリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レシリコーン(株)製)0.015部、シリコーン樹脂(商品名:トスパール120、東芝シリコーン(株)製)3.6部、2-メトキシ-1-プロパノール 50部、メタノール 50部からなる溶液を20時間、ボールミルで分散処理することによって、中間層用塗布液を調製した。この中間層用塗布液を、支持体としてのアルミニウムシリンダー(直径24mm、導電性支持体)上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間140℃で乾燥させることによって、膜厚が15μmの中間層を形成した。また、ゴニオメータを用い測定した1~2°範囲の反射率は、90%であった。
(Photoreceptor Production Example 3)
A photoreceptor was produced in the same manner as in Photoreceptor Production Example 1, except that the first intermediate layer was changed as follows.
Barium sulfate particles coated with tin oxide (trade name: Pastran PC1, manufactured by Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd.) 60 parts, titanium oxide particles (trade name: TITANIX JR, manufactured by Tayca Co., Ltd.) 15 parts, resol type phenolic resin ( Product name: Phenolite J-325, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd., solid content 70% by mass) 43 parts, silicone oil (product name: SH28PA, manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.) 0.015 parts, silicone resin (trade name: Tospearl 120, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) 3.6 parts, 2-methoxy-1-propanol 50 parts, methanol 50 parts dispersion treatment for 20 hours in a ball mill to obtain an intermediate layer A coating liquid was prepared. This intermediate layer coating solution was dip-coated on an aluminum cylinder (diameter 24 mm, conductive support) as a support, and the resulting coating film was dried at 140°C for 30 minutes to give a film thickness of 15 µm. An intermediate layer was formed. Also, the reflectance in the range of 1 to 2° measured using a goniometer was 90%.

(感光体作製例4)
感光体作製例1において、第一中間層を以下の通り変更し、第二中間層を塗布しなかった以外は感光体作製例1と同様に感光体を作製した。
酸化亜鉛粒子(平均一次粒子径:50nm、比表面積:19m/g、粉体抵抗:1.0×10Ω・cm、テイカ(株)製)100部をトルエン500部に撹拌しながら混合した。これに表面処理剤としてN-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン(商品名:KBM602、信越化学(株)製)0.75部を添加し、2時間攪拌しながら混合した。その後、トルエンを減圧留去して、3時間120℃で乾燥させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子を得た。
酸化チタン粒子(商品名:JR-405、平均一次粒子径:210nm、テイカ(株)製)100部をトルエン500部に撹拌しながら混合した。これに表面処理剤としてN-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン(商品名:KBM602、信越化学(株)製)0.75部を添加し、2時間攪拌しながら混合した。その後、トルエンを減圧留去して、3時間120℃で乾燥させることによって、表面処理された酸化チタン粒子を得た。
前記表面処理された酸化亜鉛粒子100部、前記表面処理された酸化チタン12部、式(8)で示されるブロック化されたイソシアネート化合物(商品名:スミジュール3175、固形分:75質量%、住友バイエルウレタン社製)30部、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBM-1、積水化学工業(株)製)15部、2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン(東京化成工業(株)製)1部を、メチルエチルケトン70部とシクロヘキサノン70部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液に、平均粒径1.0mmのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて23℃雰囲気下、回転数1,500rpmで3時間分散処理した。分散処理後、得られた分散液に架橋ポリメタクリル酸メチル粒子(商品名:SSX-103、平均粒径:3μm、積水化学工業(株)製)7部と、シリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レ・ダウコーニング(株)製)0.01部を添加して攪拌することで、中間層用塗布液を調製した。この中間層用塗布液を支持体上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を20分間170℃で乾燥させることによって、膜厚が30μmの中間層を形成した。

Figure 0007118762000008
また、ゴニオメータを用い測定した1~2°範囲の反射率は、85%であった。 (Photoreceptor Production Example 4)
A photoreceptor was produced in the same manner as in Photoreceptor Production Example 1, except that the first intermediate layer was changed as follows and the second intermediate layer was not applied.
100 parts of zinc oxide particles (average primary particle size: 50 nm, specific surface area: 19 m 2 /g, powder resistance: 1.0 × 10 7 Ω·cm, manufactured by Tayca Corporation) was mixed with 500 parts of toluene while stirring. did. To this, 0.75 part of N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane (trade name: KBM602, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added as a surface treatment agent and mixed with stirring for 2 hours. . Thereafter, toluene was distilled off under reduced pressure, and the residue was dried at 120°C for 3 hours to obtain surface-treated zinc oxide particles.
100 parts of titanium oxide particles (trade name: JR-405, average primary particle size: 210 nm, manufactured by Tayca Co., Ltd.) were mixed with 500 parts of toluene while stirring. To this, 0.75 part of N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane (trade name: KBM602, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added as a surface treatment agent and mixed with stirring for 2 hours. . Thereafter, toluene was distilled off under reduced pressure, and the residue was dried at 120°C for 3 hours to obtain surface-treated titanium oxide particles.
100 parts of the surface-treated zinc oxide particles, 12 parts of the surface-treated titanium oxide, a blocked isocyanate compound represented by formula (8) (trade name: Sumidur 3175, solid content: 75% by mass, Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.) 30 parts, polyvinyl butyral resin (trade name: S-Lec BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 15 parts, 2,3,4-trihydroxybenzophenone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 1 parts were added to a mixed solvent of 70 parts of methyl ethyl ketone and 70 parts of cyclohexanone to prepare a dispersion.
This dispersion liquid was subjected to dispersion treatment using glass beads having an average particle size of 1.0 mm in a vertical sand mill under an atmosphere of 23° C. and a rotation speed of 1,500 rpm for 3 hours. After dispersion treatment, 7 parts of crosslinked polymethyl methacrylate particles (trade name: SSX-103, average particle size: 3 μm, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and silicone oil (trade name: SH28PA, 0.01 part of Dow Corning Toray Co., Ltd.) was added and stirred to prepare an intermediate layer coating solution. This intermediate layer coating liquid was applied onto a support by dip coating to form a coating film, and the coating film was dried at 170° C. for 20 minutes to form an intermediate layer having a thickness of 30 μm.
Figure 0007118762000008
Also, the reflectance in the range of 1 to 2° measured using a goniometer was 85%.

(感光体作製例5)
感光体作製例1において、電荷発生層を以下の通り変更した以外は感光体作製例1と同様に感光体を作製した。
CuKα線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角2θ±0.2°の7.4°、16.6°、25.5°及び28.4°にピークを有するクロロガリウムフタロシアニン顔料30部、ポリビニルブチラール(商品名:エスレックBX-1、積水化学工業製)10部、シクロヘキサノン253部、直径0.9mmのガラスビーズ354部を冷却水温度18℃下で4時間、サンドミル(K-800、五十嵐機械製造(現アイメックス)製、ディスク径70mm、ディスク枚数5枚)を用いて分散処理した。この際、ディスクが1分間に1,800回転する条件で行った。この分散液にシクロヘキサノン592部及び酢酸エチル845部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を上述の第二中間層及び露出した第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を100℃で10分間加熱乾燥させることにより、膜厚が150nmの電荷発生層を形成した。
(Photoreceptor Production Example 5)
A photoreceptor was produced in the same manner as in Photoreceptor Production Example 1, except that the charge generation layer was changed as follows.
30 parts of a chlorogallium phthalocyanine pigment having peaks at 7.4°, 16.6°, 25.5° and 28.4° with a Bragg angle of 2θ ± 0.2° in an X-ray diffraction spectrum using CuKα rays; 10 parts of polyvinyl butyral (trade name: S-lec BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), 253 parts of cyclohexanone, and 354 parts of glass beads with a diameter of 0.9 mm are heated at a cooling water temperature of 18 ° C. for 4 hours, and a sand mill (K-800, Igarashi Dispersion treatment was carried out using a machine manufacturing machine (now Imex), disk diameter 70 mm, number of disks: 5). At this time, the disk was rotated 1,800 times per minute. A charge generating layer coating solution was prepared by adding 592 parts of cyclohexanone and 845 parts of ethyl acetate to this dispersion. This charge generating layer coating solution is dip-coated on the above-mentioned second intermediate layer and the exposed first intermediate layer to form a coating film, and the coating film is dried by heating at 100° C. for 10 minutes to obtain a film thickness. A charge generating layer of 150 nm was formed.

(感光体作製例6)
感光体作製例1において、電荷発生層を以下の通り変更した以外は感光体作製例1と同様に感光体を作製した。
(Photoreceptor Preparation Example 6)
A photoreceptor was produced in the same manner as in Photoreceptor Production Example 1, except that the charge generation layer was changed as follows.

CuKα線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角2θの27.2°±0.2°にピークを有するチタニルフタロシアニン顔料12部、ポリビニルブチラール(商品名:エスレックBX-1、積水化学工業製)10部、シクロヘキサノン139部、直径0.9mmのガラスビーズ354部を冷却水温度18℃下で4時間、サンドミル(K-800、五十嵐機械製造(現アイメックス)製、ディスク径70mm、ディスク枚数5枚)を用いて分散処理した。この際、ディスクが1分間に1,800回転する条件で行った。この分散液にシクロヘキサノン326部及び酢酸エチル465部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を上述の第二中間層及び露出した第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を100℃で10分間加熱乾燥させることにより、膜厚が150nmの電荷発生層を形成した。 In the X-ray diffraction spectrum using CuKα rays, 12 parts of titanyl phthalocyanine pigment having a peak at 27.2° ± 0.2° of Bragg angle 2θ, polyvinyl butyral (trade name: S-Lec BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 10 parts, 139 parts of cyclohexanone, and 354 parts of glass beads with a diameter of 0.9 mm were mixed with cooling water at a temperature of 18° C. for 4 hours in a sand mill (K-800, manufactured by Igarashi Kikai Seisakusho (currently Imex), disk diameter: 70 mm, number of disks: 5). ) was used for dispersion processing. At this time, the disk was rotated 1,800 times per minute. A charge generation layer coating liquid was prepared by adding 326 parts of cyclohexanone and 465 parts of ethyl acetate to this dispersion liquid. This charge generating layer coating solution is dip-coated on the above-mentioned second intermediate layer and the exposed first intermediate layer to form a coating film, and the coating film is dried by heating at 100° C. for 10 minutes to obtain a film thickness. A charge generating layer of 150 nm was formed.

以上のような方法で作製した感光体1~6について、以下に示す方法で各感光体あたり3種類の欠陥を有する電子写真感光体を作製した。 Electrophotographic photoreceptors having three types of defects per photoreceptor were produced by the following method for the photoreceptors 1 to 6 produced by the above method.

(欠陥作製例1-A)
感光体作製例1において、中間層の乾燥前に中間層の塗料塊を表面に付着させた以外は感光体作製例1と同様にして感光体を作製した。中間層の乾燥後にレーザー顕微鏡VK-9500(キーエンス製)で表面の凸高さを観察すると、3.4μm、長軸長さが79.1μmだった。
(Defect production example 1-A)
A photoreceptor was produced in the same manner as in Photoreceptor Production Example 1, except that the intermediate layer coating mass was adhered to the surface before the intermediate layer was dried. After drying the intermediate layer, the height of the convexity on the surface was observed with a laser microscope VK-9500 (manufactured by KEYENCE CORPORATION).

(欠陥作製例1-B)
感光体作製例1において、中間層の乾燥後、センター・ポンチ先端(Φ1)を10Nで中間層に押し付け、凹部を作製した以外は感光体作製例1と同様にして感光体を作製した。中間層加工後にレーザー顕微鏡で表面の凹深さを観察すると、7.4μm、長軸長さが102.0μmだった。
(Defect Production Example 1-B)
A photoreceptor was produced in the same manner as in Photoreceptor Production Example 1, except that after the intermediate layer was dried, the tip of the center punch (Φ1) was pressed against the intermediate layer at 10 N to form recesses. After processing the intermediate layer, the depth of the recesses on the surface was observed with a laser microscope to be 7.4 μm, and the major axis length was 102.0 μm.

(欠陥作製例1-C)
感光体作製例1において、電荷発生層の乾燥前に電荷発生層の塗料塊を表面に付着させた以外は感光体作製例1と同様にして感光体を作製した。
(Defect production example 1-C)
A photoreceptor was prepared in the same manner as in Photoreceptor Preparation Example 1, except that the coating mass of the charge generation layer was adhered to the surface before the charge generation layer was dried.

(欠陥作製例2-A)~(2-C)
(欠陥作製例1-A)~(1-C)の手順において、感光体作製例2で作製した感光体を用いた以外は(欠陥作製例1-A)~(1-C)と同様にして感光体を作製した。それぞれの中間層凸高さ、欠陥の長軸長さを表1に記す。
(Defect production example 2-A) ~ (2-C)
(Defect Preparation Example 1-A) to (1-C) were performed in the same manner as (Defect Preparation Example 1-A) to (1-C) except that the photoreceptor prepared in Photoreceptor Preparation Example 2 was used. A photoreceptor was produced. Table 1 shows the intermediate layer protrusion height and the major axis length of the defect.

(欠陥作製例3-A)~(3-C)
(欠陥作製例1-A)~(1-C)の手順において、感光体作製例3で作製した感光体を用いた以外は(欠陥作製例1-A)~(1-C)と同様にして感光体を作製した。それぞれの中間層凸高さ、欠陥の長軸長さを表1に記す。
(Defect Production Example 3-A) ~ (3-C)
(Defect Preparation Example 1-A) to (1-C) were performed in the same manner as (Defect Preparation Example 1-A) to (1-C) except that the photoreceptor prepared in Photoreceptor Preparation Example 3 was used. A photoreceptor was produced. Table 1 shows the intermediate layer protrusion height and the major axis length of the defect.

(欠陥作製例4-A)~(4-C)
(欠陥作製例1-A)~(1-C)の手順において、感光体作製例4で作製した感光体を用いた以外は(欠陥作製例1-A)~(1-C)と同様にして感光体を作製した。それぞれの中間層凸高さ、欠陥の長軸長さを表1に記す。
(Defect Production Example 4-A) ~ (4-C)
(Defect Preparation Example 1-A) to (1-C) were performed in the same manner as (Defect Preparation Example 1-A) to (1-C) except that the photoreceptor prepared in Photoreceptor Preparation Example 4 was used. A photoreceptor was produced. Table 1 shows the intermediate layer protrusion height and the major axis length of the defect.

(欠陥作製例5-A)~(5-C)
(欠陥作製例1-A)~(1-C)の手順において、感光体作製例5で作製した感光体を用いた以外は(欠陥作製例1-A)~(1-C)と同様にして感光体を作製した。それぞれの中間層凸高さ、欠陥の長軸長さを表1に記す。
(Defect Production Example 5-A) ~ (5-C)
(Defect Preparation Example 1-A) to (1-C) were performed in the same manner as (Defect Preparation Example 1-A) to (1-C) except that the photoreceptor prepared in Photoreceptor Preparation Example 5 was used. A photoreceptor was produced. Table 1 shows the intermediate layer protrusion height and the major axis length of the defect.

(欠陥作製例6-A)~(6-C)
(欠陥作製例1-A)~(1-C)の手順において、感光体作製例6で作製した感光体を用いた以外は(欠陥作製例1-A)~(1-C)と同様にして感光体を作製した。それぞれの中間層凸高さ、欠陥の長軸長さを表1に記す。
(Defect Production Example 6-A) ~ (6-C)
(Defect Preparation Example 1-A) to (1-C) were performed in the same manner as in (Defect Preparation Example 1-A) to (1-C) except that the photoreceptor prepared in Photoreceptor Preparation Example 6 was used. A photoreceptor was produced. Table 1 shows the intermediate layer protrusion height and the major axis length of the defect.

以上のようにして、凸状、凹状、顔料凝集3種類の欠陥を、各感光体構成について作製した。外観を人間の目視によって図ったサイズを表1に併記する。外観で目視した限りでは、各種欠陥A~Cの形状判別はできなかった。 As described above, three types of defects, convex, concave, and pigment aggregation, were produced for each photoreceptor structure. Table 1 also shows the sizes of the external appearance measured by human visual inspection. As far as the appearance was visually observed, the shapes of various defects A to C could not be determined.

Figure 0007118762000009
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(実施例1)
欠陥作製例1-A~1-Cについて、検査光として波長940nmのLED、撮像手段として2048画素のラインセンサ(竹中システム機器:TL-2048UCL)を使用した。検査光を感光体の法線に対し45°の角度、ラインカメラを同法線に対し46°の角度に配置し、感光体を110rpmの速度で回転させながら反射光を撮像し、2048pixel×4096pixelの撮像を得た。
得た観察画像について、次に示す手順で画像処理を行い、欠陥該当箇所の相関係数を求めた。結果を表2に記す。
(Example 1)
For Defect Production Examples 1-A to 1-C, an LED with a wavelength of 940 nm was used as inspection light, and a line sensor with 2048 pixels (Takenaka System Equipment: TL-2048UCL) was used as imaging means. The inspection light is placed at an angle of 45° with respect to the normal line of the photoreceptor, and the line camera is arranged at an angle of 46° with respect to the normal line. image was obtained.
The obtained observed image was subjected to image processing according to the following procedure, and the correlation coefficient of the defect corresponding portion was obtained. Table 2 shows the results.

<画像処理手順>
3×3の小平滑フィルターを用い平滑化した画像と、31×31の大平滑フィルターにて平滑化した画像の差分を得ることで、小平滑画像から大域的なグラデーションを除去した画像を得た。次に、白側閾値を138、黒側閾値を118として二値化処理を行った。次に、3×3のカーネルサイズで膨張処理を行った後に5×5の縮小処理、再度5×5の膨張処理を行い、得られた白画素の塊の外接矩形を欠陥候補領域として、欠陥候補領域内の射影プロファイルを得た。この射影プロファイルについて、累積したプロファイルの対称性の相関係数を求めると、表2に示す値が得られた。
0.55以上の相関係数を持つ場合、凹凸欠陥に特徴的な対象プロファイルを有する基準とし、凹凸欠陥・顔料凝集欠陥識別の指標とした。
<Image processing procedure>
By obtaining the difference between the image smoothed using a 3×3 small smoothing filter and the image smoothed using a 31×31 large smoothing filter, an image with global gradation removed from the small smoothed image was obtained. . Next, binarization processing was performed by setting the white side threshold value to 138 and the black side threshold value to 118. FIG. Next, dilation processing is performed with a kernel size of 3×3, followed by reduction processing of 5×5 and dilation processing of 5×5 again. A projection profile within the candidate region is obtained. For this projection profile, the correlation coefficient of the symmetry of the accumulated profile was determined, and the values shown in Table 2 were obtained.
When the correlation coefficient was 0.55 or more, it was taken as a criterion for having a target profile characteristic of uneven defects, and was used as an index for distinguishing uneven defects and pigment aggregation defects.

(実施例2)
欠陥作製例1-A~1-Cについて、受光角度を47°に変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表2に記す。
(Example 2)
For Defect Production Examples 1-A to 1-C, the vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the light receiving angle was changed to 47°. Table 2 shows the results.

(実施例3)
欠陥作製例1-A~1-Cについて、入射角度を63°、受光角度を64°に変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表2に記す。
(Example 3)
For Defect Production Examples 1-A to 1-C, the vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the incident angle was changed to 63° and the light receiving angle was changed to 64°. Table 2 shows the results.

(実施例4)
欠陥作製例1-A~1-Cについて、入射角度を31°、受光角度を32°に変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表2に記す。
(Example 4)
For Defect Production Examples 1-A to 1-C, the vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the incident angle was changed to 31° and the light receiving angle was changed to 32°. Table 2 shows the results.

(実施例5)
実施例1において、観察対象を欠陥作製例2-A~2-Cに変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表2に記す。
(Example 5)
In Example 1, the vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the observation object was changed to Defect Production Examples 2-A to 2-C. Table 2 shows the results.

(実施例6)
実施例1において、観察対象を欠陥作製例3-A~3-Cに変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表2に記す。
(Example 6)
In Example 1, the vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the observation object was changed to Defect Production Examples 3-A to 3-C. Table 2 shows the results.

(実施例7)
実施例1において、観察対象を欠陥作製例4-A~4-Cに変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表2に記す。
(Example 7)
In Example 1, the vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the observation object was changed to Defect Production Examples 4-A to 4-C. Table 2 shows the results.

(実施例8)
実施例1において、観察対象を欠陥作製例5-A~5-Cに変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表2に記す。
(Example 8)
In Example 1, the vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the observation target was changed to Defect Production Examples 5-A to 5-C. Table 2 shows the results.

(実施例9)
実施例1において、観察対象を欠陥作製例6-A~6-Cに変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表2に記す。
(Example 9)
In Example 1, the vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the observation object was changed to Defect Production Examples 6-A to 6-C. Table 2 shows the results.

(実施例10)
実施例1において、入射波長を900nmに変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表2に記す。
(Example 10)
The vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the incident wavelength was changed to 900 nm. Table 2 shows the results.

(実施例11)
実施例1において、入射波長を1000nmに変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表2に記す。
(Example 11)
In Example 1, the vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the incident wavelength was changed to 1000 nm. Table 2 shows the results.

(実施例12)
実施例1において、入射波長を1100nmに変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表2に記す。
(Example 12)
The vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the incident wavelength was changed to 1100 nm. Table 2 shows the results.

(比較例1)
実施例1において、入射角度を20°、受光角度を21°に変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表3に記す。
(Comparative example 1)
The vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the incident angle was changed to 20° and the light receiving angle was changed to 21°. Table 3 shows the results.

(比較例2)
実施例1において、入射角度を70°、受光角度を71°に変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表3に記す。
(Comparative example 2)
The vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the incident angle was changed to 70° and the light receiving angle was changed to 71°. Table 3 shows the results.

(比較例3)
実施例1において、入射波長を780nmに変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表3に記す。
(Comparative Example 3)
The vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the incident wavelength was changed to 780 nm. Table 3 shows the results.

(比較例4)
実施例1において、入射波長を600nmに変更した以外は実施例1と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表3に記す。
(Comparative Example 4)
The vicinity of the defect was observed by the same means as in Example 1, except that the incident wavelength was changed to 600 nm. Table 3 shows the results.

Figure 0007118762000010
Figure 0007118762000010

Figure 0007118762000011
Figure 0007118762000011

Claims (5)

検査機構を用いて、支持体、中間層および感光層をこの順に有する円筒形の電子写真感光体を検査する、電子写真感光体の検査方法であって、
該検査機構が、
被検査物である該電子写真感光体をその軸周りに回転させるための支持手段と、
該電子写真感光体の軸方向に沿う波長900nm以上の検査光を該電子写真感光体に照射するための照射手段と、
該検査光が該電子写真感光体の中間層で反射してきた反射光を受光し、該反射光分布を取得するための撮像手段と
を備え、
該検査方法が
該支持手段により、該電子写真感光体をその軸周りに回転させる工程と、
該照射手段により、該電子写真感光体の法線に対してθ1°の角度で該検査光を該電子写真感光体に入射させる工程と、
該撮像手段により、該電子写真感光体の法線に対してθ2°の角度の該反射光を受光し、該反射光の分布を取得する工程と、
取得された該反射光の分布から該中間層の凹凸欠陥を判別する工程と、
を有し、
該θ1°が、31°以上63°以下であり、
該θ2°が、θ1+1°以上θ1+2°以下である
ことを特徴とする電子写真感光体の検査方法。
An electrophotographic photoreceptor inspection method for inspecting a cylindrical electrophotographic photoreceptor having a support, an intermediate layer and a photosensitive layer in this order using an inspection mechanism , comprising:
The inspection mechanism
a support means for rotating the electrophotographic photosensitive member , which is an object to be inspected, around its axis;
irradiating means for irradiating the electrophotographic photosensitive member with inspection light having a wavelength of 900 nm or more along the axial direction of the electrophotographic photosensitive member;
an imaging means for receiving reflected light of the inspection light reflected by the intermediate layer of the electrophotographic photosensitive member and acquiring a distribution of the reflected light ;
with
The inspection method is
rotating the electrophotographic photosensitive member about its axis by the supporting means;
a step of causing the inspection light to be incident on the electrophotographic photosensitive member at an angle of θ1° with respect to the normal line of the electrophotographic photosensitive member by the irradiation means ;
a step of receiving the reflected light at an angle of θ2° with respect to the normal line of the electrophotographic photosensitive member by the imaging means, and acquiring the distribution of the reflected light;
a step of discriminating unevenness defects of the intermediate layer from the acquired distribution of the reflected light;
has
The θ1° is 31° or more and 63° or less,
The θ2° is θ1+1° or more and θ1+2° or less ,
A method for inspecting an electrophotographic photoreceptor, characterized by:
記検査光波長における前記中間層の正反射率が80%以上である請求項1に記載の検査方法。 The inspection method according to claim 1 , wherein the intermediate layer has a regular reflectance of 80% or more at the wavelength of the inspection light. 前記感光層が、前記検査光の波長に吸収帯域を持たない電荷発生層を有する請求項1または2に記載の検査方法。 3. The inspection method according to claim 1 , wherein said photosensitive layer has a charge generation layer having no absorption band in the wavelength of said inspection light. 前記検査機構前記凹凸欠陥を判別するための画像処理手段さらにえ、
該画像処理手段が、
前記撮像手段による撮像範囲の欠陥候補領域を抽出するための抽出手段と、
欠陥候補領域の射影プロファイルを抽出し、累積化したプロファイルの対称性の相関係数を得て、前記中間層の形状から前記凹凸欠陥を判別する機能を有する手段と、
を備える、
請求項1~3のいずれか1項に記載の検査方法。
The inspection mechanism further comprises image processing means for determining the uneven defect ,
The image processing means is
an extracting means for extracting a defect candidate area in the imaging range of the imaging means ;
means having a function of extracting a projection profile of the defect candidate region, obtaining a correlation coefficient of symmetry of the accumulated profile, and discriminating the uneven defect from the shape of the intermediate layer ;
comprising a
The inspection method according to any one of claims 1 to 3 .
支持体、中間層および感光層をこの順に有する円筒形の電子写真感光体を製造する、電子写真感光体の製造方法であって、
請求項1~4のいずれか1項に記載の検査方法で電子写真感光体の検査を行う工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
A method for producing a cylindrical electrophotographic photoreceptor comprising a support, an intermediate layer and a photosensitive layer in this order, comprising:
A method for producing an electrophotographic photoreceptor, comprising a step of inspecting the electrophotographic photoreceptor by the inspection method according to any one of claims 1 to 4 .
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