JP7117832B2 - Polisher - Google Patents
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Description
本発明は、例えば自動車のボディの塗装面等を磨くためのポリッシャに関する。 The present invention relates to a polisher for polishing, for example, a painted surface of an automobile body.
従来、この種のポリッシャには、研磨パッドの動き方によって以下のような三つのタイプが存在している。三つのタイプは、一般的に、シングルアクション、ダブルアクション、ギヤアクションと呼ばれて区別されている。シングルアクションのタイプは、研磨パッドが自転のみを行うもので研磨力は大きいものの仕上げ研磨には向かない。ダブルアクションのタイプとギヤアクションのタイプは何れも研磨パッドが自転と公転とを行う。これらのタイプでは、研磨パッドが公転と自転という二つの異なる回転運動を行う。研磨パッドの公転と自転の回転数に差が生じることになるため、シングルアクションのタイプに比して高品質な仕上げが可能となる。 Conventionally, this kind of polisher is classified into the following three types according to the movement of the polishing pad. Three types are commonly called single action, double action, and gear action. The single-action type has a polishing pad that only rotates on its axis, and although it has a large polishing power, it is not suitable for final polishing. In both the double action type and the gear action type, the polishing pad rotates and revolves. In these types, the polishing pad undergoes two different rotational motions: revolution and rotation. Since there is a difference between the revolution and rotation speeds of the polishing pad, it is possible to achieve a higher quality finish compared to the single-action type.
ダブルアクションのタイプは、駆動軸の回転中心に対して偏心した位置を回転中心として研磨パッドが回転可能に設けられている。そして、駆動軸が回転することで、研磨パッドは、駆動軸の回転中心を中心として公転するが、その公転に伴って、研磨パッドの慣性力ないし遠心力や軸受けの摩擦力等によって自転も行う。ダブルアクションのタイプでは、被研磨面に研磨パッドが接触すると、被研磨面と研磨パッドとの間の摩擦抵抗によって研磨パッドの自転が弱くなり、研磨パッドを被研磨面に強く押し付けると研磨パッドの自転が止まることになる。ダブルアクションのタイプは、三つのタイプの中で最も研磨力が小さく、最終仕上げ研磨に適している。しかしながら、研磨パッドを被研磨面に強く押し付けると研磨パッドの自転が止まることから、安定した研磨力を得ることは容易ではない。 In the double action type, the polishing pad is rotatable around a position eccentric to the rotation center of the drive shaft. As the drive shaft rotates, the polishing pad revolves around the center of rotation of the drive shaft, and along with the revolution, it also rotates due to the inertia or centrifugal force of the polishing pad and the frictional force of the bearing. . In the double-action type, when the polishing pad contacts the surface to be polished, the rotation of the polishing pad weakens due to the frictional resistance between the surface to be polished and the polishing pad. It will stop spinning. The double action type has the lowest polishing power among the three types and is suitable for final polishing. However, since the rotation of the polishing pad stops when the polishing pad is strongly pressed against the surface to be polished, it is not easy to obtain a stable polishing force.
これに対してギヤアクションのタイプは、ハイポサイクロイド機構を用いて研磨パッドをギヤ駆動させる方式である(下記特許文献1)。この方式では、内歯車に噛合する外歯車に研磨パッドが取り付けられていて研磨パッドがギヤ駆動されるために、被研磨面に研磨パッドが接触しても研磨パッドの自転が止まることがない。そのためダブルアクションのタイプに比して安定した研磨力を容易に得ることができると共に、ダブルアクションのタイプに比して研磨力が大きくなる。また、研磨パッドの回転軌跡は、シングルアクションのような一方向の円運動にはならず、小さい円弧が連続したものとなるため、研磨面の仕上がり品質が向上する。研磨力は三つのタイプのうち中間に位置し、中間仕上げに適している。 On the other hand, the gear action type is a system in which a hypocycloid mechanism is used to drive the polishing pad with gears (Patent Document 1 below). In this method, since the polishing pad is attached to the external gear that meshes with the internal gear and is gear-driven, the rotation of the polishing pad does not stop even if the polishing pad comes into contact with the surface to be polished. Therefore, a stable polishing force can be easily obtained as compared with the double-action type, and the polishing force is increased compared with the double-action type. In addition, since the rotational trajectory of the polishing pad is not a unidirectional circular motion like a single action, but a series of small arcs, the finished quality of the polished surface is improved. Abrasive power is in the middle of the three types, making it suitable for intermediate finishing.
ギヤアクションのタイプは、偏心量が公転半径となる。そのため、偏心量を大きくすると、内歯車とそれに噛合する外歯車との間の歯数差が大きくなる。その結果、研磨パッドの公転回転数(周期)に対する自転回転数の比率が大きくなる。一般的に、高い研磨品質を得るためには、ある程度大きな公転半径が必要となる。しかしながら、ギヤアクションのタイプにおいて公転半径を大きくすると、上述のように公転回転数に対する自転回転数の比率が大きくなる。その結果、研磨パッドの運動量が増えて研磨力が必要以上に大きくなり、中程度以上の仕上げ研磨品質が必要とされる作業に使用する場合には適さなくなる。このようにギヤアクションのタイプでは、公転の回転数と自転の回転数との差と、公転軸と自転軸の偏心量との間に相関関係があるため、自由度のある設計ができない。即ち、大きな偏心量(公転半径)と連続した小さな円弧軌跡の両方を実現することができない。 In the gear action type, the amount of eccentricity becomes the revolution radius. Therefore, increasing the amount of eccentricity increases the difference in the number of teeth between the internal gear and the external gear that meshes with it. As a result, the ratio of the rotational speed to the revolution speed (period) of the polishing pad increases. Generally, in order to obtain high polishing quality, a relatively large revolution radius is required. However, if the revolution radius is increased in the gear action type, the ratio of the rotation speed to the revolution speed will increase as described above. As a result, the momentum of the polishing pad increases and the polishing force becomes larger than necessary, making it unsuitable for use in work requiring intermediate or higher finish polishing quality. In this way, the gear action type cannot be designed with a degree of freedom because there is a correlation between the difference between the revolution speed and the rotation speed and the amount of eccentricity between the revolution shaft and the rotation shaft. That is, both a large amount of eccentricity (orbital radius) and a small continuous arc trajectory cannot be realized.
それゆえに本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされ、研磨力が安定しているというギヤアクションの利点を活かしつつ、研磨パッドの公転と自転の比率に関して自由度の高い設計が可能なポリッシャを提供することを課題とする。 Therefore, the present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and provides a polisher that can be designed with a high degree of freedom in terms of the ratio of revolution and rotation of the polishing pad while making use of the advantage of the gear action that the polishing force is stable. The task is to provide
本発明は上記課題を解決すべくなされたものであって、本発明に係るポリッシャは、固定部材と、該固定部材に回転可能に支持されて駆動源によって回転駆動される駆動軸と、該駆動軸の回転によって公転と自転を行う研磨パッドとを備えたポリッシャであって、駆動軸は、該駆動軸の回転中心に対して所定の偏心量で偏心した偏心支持面を備えており、該偏心支持面に、軸受けを介して、内歯車を備えた外輪部材が回転可能に支持されており、固定部材と外輪部材との間には、外輪部材の自転を阻止し公転を許容する回り止め機構が設けられており、内歯車と共に歯車機構を構成して自転する構成部材に研磨パッドが取り付けられていることを特徴とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and a polisher according to the present invention comprises a fixed member, a drive shaft rotatably supported by the fixed member and driven to rotate by a drive source, and a drive shaft. A polisher comprising a polishing pad that revolves and rotates by rotation of a shaft, wherein the drive shaft has an eccentric support surface that is eccentric with respect to the center of rotation of the drive shaft by a predetermined eccentricity. An outer ring member having an internal gear is rotatably supported on the supporting surface via a bearing, and a detent mechanism is provided between the fixed member and the outer ring member to prevent rotation of the outer ring member and allow it to revolve. is provided, and a polishing pad is attached to a constituent member that constitutes a gear mechanism together with an internal gear and rotates.
該構成のポリッシャでは、駆動軸に対して内歯車が偏心して設けられている。また、内歯車を備えた外輪部材は回り止め機構によって自転が阻止されていて公転のみが許容された状態にある。従って、設計時に内歯車の偏心量を設定することで、自転を考慮することなく、研磨パッドの公転半径を大きく設定したり逆に小さく設定したりすることが可能となる。一方、内歯車と共に歯車機構を構成する構成部材であって自転する部材に研磨パッドが取り付けられているので、従来のギヤアクションと同様に安定した研磨力が得られる。そして、上述のように内歯車を偏心させていることで一定の公転半径が得られるので、設計時に歯車機構において研磨パッドの公転回転数に対する自転回転数の比率を容易に設定できる。このように、内歯車を備えた外輪部材を駆動軸に対して偏心した構成とすることで、設計時に公転と自転とを分離して設定することが可能となる。そのため、例えば、研磨パッドの公転回転数に対する自転回転数の比率を小さくすることも可能であり、そのように設定することで、大きな偏心量を確保しつつ連続した小さな円弧軌跡を得ることができ、その結果、高い研磨品質を容易に得ることが可能となる。 In the polisher having this structure, the internal gear is provided eccentrically with respect to the drive shaft. Further, the outer ring member provided with the internal gear is in a state where it is prevented from rotating by the anti-rotation mechanism and only allowed to revolve. Therefore, by setting the eccentricity of the internal gear at the time of designing, the revolution radius of the polishing pad can be set large or small without considering the rotation. On the other hand, since the polishing pad is attached to the rotating member that constitutes the gear mechanism together with the internal gear, a stable polishing force can be obtained as in the case of the conventional gear action. Since the internal gear is eccentric as described above, a constant revolution radius can be obtained, so that the ratio of rotation speed to revolution speed of the polishing pad can be easily set in the gear mechanism at the time of design. In this way, by eccentrically configuring the outer ring member provided with the internal gear with respect to the drive shaft, it becomes possible to set the revolution and the rotation separately at the time of design. Therefore, for example, it is possible to reduce the ratio of the number of rotations of the polishing pad to the number of revolutions, and by setting it in this way, it is possible to obtain a continuous small circular arc locus while ensuring a large amount of eccentricity. As a result, it becomes possible to easily obtain high polishing quality.
特に、構成部材は、内歯車に噛合し、偏心支持面に対して所定の偏心量で偏心した回転中心を有する外歯車であり、歯車機構は、ハイポサイクロイド機構として構成されていることが好ましい。このように二段偏心の構成とすることで、公転の回転数と自転の回転数との差を任意に設定でき、高い研磨品質が容易に得られる。 In particular, it is preferable that the component is an external gear that meshes with the internal gear and has a rotation center that is eccentric with respect to the eccentric support surface by a predetermined eccentricity, and that the gear mechanism is configured as a hypocycloid mechanism. With such a two-stage eccentric configuration, the difference between the revolution speed and the rotation speed can be arbitrarily set, and high polishing quality can be easily obtained.
また、回り止め機構が三カ所配置されていることが好ましく、外輪部材がぐらつくことなく安定し、研磨パッドの回転も安定する。 In addition, it is preferable that the anti-rotation mechanisms are arranged at three locations, so that the outer ring member is stabilized without wobbling, and the rotation of the polishing pad is also stabilized.
以上のように、内歯車を駆動軸に対して偏心した構成としてその内歯車が公転のみ行う構成とすることで、従来のギヤアクションと同様に安定した研磨力が得られる。しかも、研磨パッドの公転と自転の比率に関して自由度の高い設計が可能となり、従来のギヤアクションに比して高い研磨品質も容易に得られる。 As described above, by configuring the internal gear eccentrically with respect to the drive shaft so that the internal gear only revolves, it is possible to obtain a stable grinding force similar to the conventional gear action. In addition, it is possible to design the polishing pad with a high degree of freedom regarding the ratio of revolution and rotation, and it is possible to easily obtain high polishing quality as compared with the conventional gear action.
以下、本発明の一実施形態に係るポリッシャについて図1~図4を参酌しつつ説明する。図1に本実施形態のポリッシャの全体構成が図示されている。まずポリッシャの全体構成を説明する。ポリッシャは、固定部材としてのハウジングを備えている。該ハウジングは、前側に位置するヘッド部1と、該ヘッド部1から後側に延びる把持部2とを備えている。ヘッド部1の一端部は開口していて、自動車の塗装面等の被研磨面を研磨するための研磨パッド3が開口部の外側に位置している。以下、研磨パッド3が位置するヘッド部1の一端側を下側とし、ヘッド部1の他端側を上側として説明する。ヘッド部1は全体として上下方向に延びた形状であって、把持部2はヘッド部1に対して略直交する方向である水平方向に延びた形状となっている。把持部2の延設方向を前後方向とし、ヘッド部を前側とし、把持部2を後側として説明する。
A polisher according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 4. FIG. FIG. 1 shows the overall structure of the polisher of this embodiment. First, the overall configuration of the polisher will be described. The polisher has a housing as a stationary member. The housing includes a head portion 1 positioned on the front side and a
ハウジングは、メインハウジング4と、ギヤケース5a,5bと、防塵カバー6とを備えている。メインハウジング4は、ヘッド部1の上側半分の領域と把持部2とを構成している。メインハウジング4は合成樹脂製として射出成形により形成することが好ましい。ヘッド部1の上側半分の領域はモータ収容部となっており、従って、メインハウジング4は、モータ収容部と把持部2とから構成される。モータ収容部に駆動源としてのモータ7が収容されている。モータ収容部は上下方向の軸線を有する筒状であって、モータ7はモータ軸8が上下方向を向くようにしてモータ収容部に収容されている。モータ軸8の上端部はメインハウジング4に軸受け9を介して回転可能に支持されている。把持部2は、ヘッド部1の上下方向略中央部から後側に向けて略水平に延びていて、内部空間はヘッド部1と連通している。把持部2のヘッド部1に近い箇所の下面に、モータ7を作動停止させるためのトリガスイッチ10が設けられており、トリガスイッチ10の後側には、モータ7の回転スピードを調整するためのダイヤル式のスピードコントローラ11が設けられている。把持部2の後端部から後側に向けて図示しない電源コードが延びる。尚、バッテリを備えたコードレスのタイプであってもよい。
The housing includes a
モータ収容部の下側にギヤケース5a,5bが配置されている。ギヤケース5a,5bは、上側に位置する上部ギヤケース5aとその下側に位置する下部ギヤケース5bとからなり、上部ギヤケース5aと下部ギヤケース5bとの間に収容空間が形成されている。ギヤケース5a,5bから下側の部分の拡大図を図2に示している。モータ収容部の下端部は開口しており、その開口部からモータ軸8の下部が下側に向けて所定長さ突出していて、そのモータ軸8の下部が上部ギヤケース5a内に入り込んでいる。モータ軸8の下部は軸受け12を介して上部ギヤケース5aに回転可能に支持されている。軸受け12よりも下側に突出しているモータ軸8の下端部外周面には歯部(図示省略)が形成されていて、その歯部に減速ギヤ13が噛み合っている。減速ギヤ13は上部ギヤケース5aと下部ギヤケース5bとの間の収容空間に収容されている。減速ギヤ13は、駆動軸としての中間軸14の上部に取り付け固定されている。中間軸14は、モータ軸8に対して水平方向に所定距離離間して配置されていてモータ軸8と平行関係にある。即ち、中間軸14は上下方向に延びており、減速ギヤ13は中間軸14を中心として回転する。具体的には、中間軸14は、モータ軸8の前側に離れて位置している。中間軸14は減速ギヤ13を介してモータ軸8から駆動力を受けて回転する。中間軸14の上端部は上部ギヤケース5aに軸受け15を介して回転可能に支持され、中間軸14の中間部は下部ギヤケース5bに軸受け16を介して回転可能に支持されている。中間軸14は下部ギヤケース5bを下側に貫通していて、中間軸14の下側略半分は下部ギヤケース5bから下側に突出している。
中間軸14は、下部ギヤケース5bから下側に突出した部分である下部に、中間軸14の回転中心に対して第一の偏心量で偏心した中心線を有する外周面からなる第一偏心支持面20と、該第一偏心支持面20の中心線に対して更に第二の偏心量で偏心した中心線を有する内周面からなる第二偏心支持面21とを備えている。第一偏心支持面20は上側に位置し、第二偏心支持面21は第一偏心支持面20の下側に位置している。中間軸14の回転中心に対する第一偏心支持面20の偏心方向と、第一偏心支持面20に対する第二偏心支持面21の偏心方向は、互いに同じ方向である。従って、第二偏心支持面21は中間軸14の回転中心に対して、第一の偏心量と第二の偏心量とを足した偏心量で偏心している。この第一の偏心量と第二の偏心量とを足した偏心量をトータル偏心量と称することとする。
The
第一偏心支持面20の外側に軸受け22を介して外輪部材23が回転可能に支持されている。外輪部材23は、下部ギヤケース5bの下側に位置している。外輪部材23は、全体として筒状であって、その上端部が軸受け22を介して第一偏心支持面20に回転可能に支持されている。外輪部材23の下端部に内歯車24が設けられている。内歯車24は外輪部材23とは別部材にて構成されていて、外輪部材23の下側から外輪部材23の下端部に取り付け固定されている。但し、内歯車24が外輪部材23に一つの部材として一体的に構成されていてもよい。
An
外輪部材23は中間軸14の第一偏心支持面20に対して相対回転可能に構成されているが、それ自体は、固定部材であるハウジングに対して自転することはなく、中間軸14の回転中心を中心とした公転のみ行う。このように外輪部材23の自転を阻止し公転のみを許容すべく、下部ギヤケース5bと外輪部材23との間には回り止め機構が設けられている。
The
下部ギヤケース5bと外輪部材23との間に回り止め機構として偏心ピン25が設けられている。偏心ピン25は、図4のように中間軸14を中心としてその回りに周方向に等間隔あけて三カ所配置されている。図2のように偏心ピン25は、上部と下部とからなる。偏心ピン25の下部は上部に対して所定量偏心していて、偏心ピン25の上部と下部は互いに平行関係にあって何れも上下方向に延びている。偏心ピン25の上部は軸受け26を介して下部ギヤケース5bに回転可能に支持されており、偏心ピン25の下部は軸受け27を介して外輪部材23の上端部に回転可能に支持されている。偏心ピン25の上部を支持する軸受け26は、中間軸14の中間部を下部ギヤケース5bに対して支持するための軸受け16よりも外側に配置されている。偏心ピン25の下部を支持する軸受け27は、外輪部材23を中間軸14に支持するための軸受け22に対して外側に位置していて、外輪部材23の外周部近傍に位置している。このように三カ所の偏心ピン25によって外輪部材23は下部ギヤケース5bに、自転は不可、公転は可という状態で支持されている。従って、外輪部材23は、中間軸14が回転することによって中間軸14の回転中心を中心として第一の偏心量を公転半径として公転するが、第一偏心支持面20を中心とした自転は三カ所の偏心ピン25によって阻止されている。
An
第一偏心支持面20の下側には第一偏心支持面20よりも一段大径の外周面を有する大径筒状部17が形成されており、該大径筒状部17の外側にバランスウエイト30が取り付けられている。バランスウエイト30は外輪部材23の内側において中間軸14の大径筒状部17と一体となって回転する。大径筒状部17の内周面に第二偏心支持面21が形成されている。該第二偏心支持面21の内側に軸受け31を介してスピンドル軸32が回転可能に支持されている。スピンドル軸32は上下方向の回転中心を有していて、その中間部が軸受け31を介して第二偏心支持面21に支持されている。また、スピンドル軸32の上端部は第一偏心支持面20の内側の位置まで達していて軸受け33によって中間軸14に回転可能に支持されている。スピンドル軸32は第二偏心支持面21の中心を回転中心として回転する。従って、スピンドル軸32の回転中心は、中間軸14の回転中心に対してトータル偏心量で偏心している。スピンドル軸32に外歯車34が下側からネジ止めされている。外歯車34はスピンドル軸32と一体となって回転し、その回転中心はスピンドル軸32の回転中心と同じである。従って、外歯車34は、外輪部材23に対して第二の偏心量で偏心していて、内歯車24に対しても第二の偏心量で偏心している。そして、図3のように外歯車34が内歯車24に内側から噛み合っている。
Below the first
外歯車34の下面に下側から研磨パッド3がネジ止めにより着脱自在に取り付けられている。尚、研磨パッド3の上面には薄い支持板40が装着されていて、支持板40は研磨パッド3の上面と外歯車34の下面との間に位置する。また、下部ギヤケース5bの下端部外周面に筒状の防塵カバー6が装着されている。防塵カバー6は下部ギヤケース5bの下端部から下側に向けて延びていて、外輪部材23を外側から離間して覆っている。防塵カバー6の下端は開口しており、その開口部がハウジングの下端開口部を構成している。防塵カバー6の下端部は支持板40の上面に近い位置にあり、防塵カバー6の下端面には支持板40との間の隙間を埋めるべく防塵シート41が取り付けられている。研磨パッド3は防塵カバー6の下端部よりも大径であって、研磨パッド3の外周部は防塵カバー6の下端部から外側にはみ出している。従って、作業者が上側から見たときに研磨パッド3の位置を目視確認しつつ研磨作業を行うことができる。
The
以上のように構成されたポリッシャにおいては、モータ7の回転は減速ギヤ13を介して中間軸14に伝達される。外輪部材23が中間軸14に対して第一の偏心量で偏心しているので、中間軸14が回転することで外輪部材23は第一の偏心量を半径として公転する。また、偏心ピン25によって外輪部材23が回り止めされているので、外輪部材23は自転はできず公転のみを行うことになる。このように外輪部材23が公転することで内歯車24自体が公転することになる。従って、内歯車24に噛み合って自転しながら公転する外歯車34は、トータル偏心量に相当する大きな公転半径で公転することになり、研磨パッド3も同時に大きな公転半径で公転することになる。そして、内歯車24自体が公転する構成であって、内歯車24の公転によって研磨パッド3の一定量の公転半径を確保することができる。
In the polisher constructed as described above, the rotation of the
このように、中間軸14に対して内歯車24が偏心していて内歯車24が第一の偏心量で公転するので、設計段階において研磨パッド3の公転と自転とを分離して設定することが可能となる。即ち、研磨パッド3の公転回転数に対する自転回転数の比率を任意に設定できる。例えば、研磨パッド3の公転回転数に対する自転回転数の比率を小さくすることも可能である。この比率を小さくすることで、大きな偏心量を確保しつつ連続した小さな円弧軌跡を得ることができ、高い研磨品質を容易に得ることが可能となる。特に、第一の偏心量と第二の偏心量という二つの偏心量を持つ二段偏心の構成となっているので、公転の回転数と自転の回転数との差を細かく設定でき、高い研磨品質も容易に得られる。
Since the
尚、本実施形態では、中間軸14の回転中心に対する第一偏心支持面20の偏心方向と、第一偏心支持面20に対する第二偏心支持面21の偏心方向とが同じ方向であったが、異なる方向であってもよく、反対方向であってもよい。
In this embodiment, the eccentric direction of the first
また、研磨パッド3が取り付けられて内歯車24と共に歯車機構を構成して自転する構成部材が外歯車34であったが、このようなハイポサイクロイド機構として構成された歯車機構ではなく遊星歯車機構を用いてもよい。遊星歯車機構を用いた一例を図5に示している。この遊星歯車機構は、いわゆるプラネタリー型と称されるものである。内歯車24には三つの遊星歯車50が噛み合っており、太陽歯車51の回りを自転しつつ公転する。太陽歯車51は、中間軸14と一体に回転し、第一偏心支持面20の中心を回転中心として回転する。そして、三つの遊星歯車50と共に太陽歯車51の回りを公転する遊星キャリヤ52に図示しない研磨パッド3が取り付けられている。従って、研磨パッド3は、遊星キャリヤ52と共に太陽歯車51を中心として回転する。即ち、研磨パッド3は第一偏心支持面20の中心を回転中心として自転することになる。内歯車24が第一の偏心量で中間軸14に対して偏心していることから、研磨パッド3は第一の偏心量を公転半径として公転することになる。この場合、遊星キャリヤ52が、内歯車24と共に歯車機構を構成して自転する構成部材となる。このように遊星歯車機構を用いても、研磨パッド3の公転と自転とを分離して設計できる。
Also, the
1 ヘッド部
2 把持部
3 研磨パッド
4 メインハウジング
5a 上部ギヤケース(固定部材)
5b 下部ギヤケース(固定部材)
6 防塵カバー
7 モータ(駆動源)
8 モータ軸
9 軸受け(モータ軸の上端部)
10 トリガスイッチ
11 スピードコントローラ
12 軸受け(モータ軸の下部)
13 減速ギヤ
14 中間軸(駆動軸)
15 軸受け(中間軸の上端部)
16 軸受け(中間軸の中間部)
17 大径筒状部
20 第一偏心支持面
21 第二偏心支持面
22 軸受け(外輪部材)
23 外輪部材
24 内歯車
25 偏心ピン(回り止め機構)
26 軸受け(偏心ピンの上部)
27 軸受け(偏心ピンの下部)
30 バランスウエイト
31 軸受け(スピンドル軸)
32 スピンドル軸
33 軸受け(スピンドル軸の上端部)
34 外歯車
40 支持板
41 防塵シート
50 遊星歯車
51 太陽歯車
52 遊星キャリヤ
REFERENCE SIGNS LIST 1
5b lower gear case (fixed member)
6
8
10
13
15 bearing (upper end of intermediate shaft)
16 bearing (intermediate part of the intermediate shaft)
17 large-
23
26 bearing (top of eccentric pin)
27 bearing (bottom of eccentric pin)
30
32
34
Claims (3)
ハウジングと、
前記駆動源によって所定の回転中心で回転駆動されると共に前記ハウジングに回転可能に支持され、前記回転中心に対して第1の偏心量で偏心した第1支持面と、前記第1支持面に対して第2の偏心量で偏心した第2支持面と、を有する駆動軸と、
第1軸受けを介して前記第1支持面に回転可能に支持され、内歯車を含む外輪部材と、
前記ハウジングと前記外輪部材との間に配置され、前記外輪部材の自転を阻止し公転を許容する回り止め機構と、
第2軸受けを介して前記第2支持面に回転可能に支持され、前記内歯車に噛合する外歯車を含む構成部材と、
前記構成部材に取り付けられ、前記駆動軸の回転によって公転と自転を行う研磨パッドと、
を備えている、ポリッシャ。 a driving source;
a housing;
a first support surface rotationally driven about a predetermined rotation center by the drive source and rotatably supported by the housing and eccentric with respect to the rotation center by a first eccentricity; a second support surface eccentric by a second eccentricity amount ;
an outer ring member rotatably supported by the first support surface via a first bearing and including an internal gear;
a detent mechanism disposed between the housing and the outer ring member to prevent the rotation of the outer ring member and allow the revolution of the outer ring member;
a structural member including an external gear that is rotatably supported by the second support surface via a second bearing and meshes with the internal gear;
a polishing pad that is attached to the component and that revolves and rotates by rotation of the drive shaft;
Equipped with a polisher.
前記第2支持面は、前記駆動軸における内周面の一部であり、
前記第2支持面は、前記第1支持面よりも前記研磨パッド側に位置している請求項1又は2記載のポリッシャ。 The first support surface is a part of the outer peripheral surface of the drive shaft,
the second support surface is a part of the inner peripheral surface of the drive shaft;
3. The polisher according to claim 1, wherein said second support surface is positioned closer to said polishing pad than said first support surface.
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