JP7117498B2 - Thermosetting resin composition, resin sheet, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and printed wiring board - Google Patents

Thermosetting resin composition, resin sheet, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and printed wiring board Download PDF

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Description

本開示は、一般には、熱硬化性樹脂組成物、樹脂シート、樹脂付き金属箔、金属張積層板、及びプリント配線板に関する。詳細には、熱硬化性樹脂組成物と、この熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む樹脂シートと、この熱硬化性樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層を備える樹脂付き金属箔と、この熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層を備える金属張積層板と、及びこの熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層を備えるプリント配線板と、に関する。 The present disclosure generally relates to thermosetting resin compositions, resin sheets, resin-coated metal foils, metal-clad laminates, and printed wiring boards. Specifically, a resin comprising a thermosetting resin composition, a resin sheet containing a dried or semi-cured product of this thermosetting resin composition, and a resin layer containing a semi-cured product of this thermosetting resin composition a metal foil, a metal-clad laminate comprising an insulating layer containing the cured product of the thermosetting resin composition, and a printed wiring board comprising an insulating layer containing the cured product of the thermosetting resin composition. .

情報伝達の高速化が進展し続けている。それに伴い、高速信号を処理可能なプリント配線板を得るために、プリント配線板の絶縁層の低誘電率化及び低誘電正接化が求められている。 The speed of information transmission continues to advance. Along with this, in order to obtain a printed wiring board capable of processing high-speed signals, it is required to reduce the dielectric constant and the dielectric loss tangent of the insulating layer of the printed wiring board.

例えば、特許文献1には、プリント配線板の絶縁層の作製に用いられる熱硬化性接着剤組成物が開示されている。特許文献1の組成物には、ポリフェニレンエーテル骨格を有するビニル化合物、2個以上のマレイミド基を有するマレイミド樹脂、並びにポリフェニレン骨格を主成分としポリオレフィンブロックとポリスチレンブロックの共重合体であるエラストマーが、所定割合で含まれている。特許文献1には、熱硬化性接着剤組成物から形成された絶縁層は、低誘電率、低誘電正接、LCPフィルム及び銅箔に対する接着強度、並びに耐熱性に優れることが開示されている。 For example, Patent Literature 1 discloses a thermosetting adhesive composition used for producing an insulating layer of a printed wiring board. In the composition of Patent Document 1, a vinyl compound having a polyphenylene ether skeleton, a maleimide resin having two or more maleimide groups, and an elastomer having a polyphenylene skeleton as a main component and being a copolymer of a polyolefin block and a polystyrene block are combined in a predetermined manner. included in proportion. Patent Document 1 discloses that an insulating layer formed from a thermosetting adhesive composition is excellent in low dielectric constant, low dielectric loss tangent, adhesive strength to LCP films and copper foils, and heat resistance.

国際公開公報第2016/117554号International Publication No. 2016/117554

車載用途のプリント配線板には、高い接続信頼性が要求され、具体的には、高い耐燃性が要求される。特許文献1の熱硬化性接着剤組成物は、その硬化物の耐燃性が不十分であった。 Printed wiring boards for in-vehicle use are required to have high connection reliability, specifically, high flame resistance. The thermosetting adhesive composition of Patent Document 1 has insufficient flame resistance of the cured product.

本開示の目的は、その硬化物が、低い誘電率及び低い誘電正接を有しながら、耐燃性に優れる熱硬化性樹脂組成物と、この熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む樹脂シートと、この熱硬化性樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層を備える樹脂付き金属箔と、この熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層を備える金属張積層板と、この熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層を備えるプリント配線板とを提供することにある。 The object of the present disclosure is a thermosetting resin composition whose cured product has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent while having excellent flame resistance, and a dried or semi-cured product of this thermosetting resin composition. a resin sheet containing, a metal foil with resin comprising a resin layer containing a semi-cured product of the thermosetting resin composition, a metal-clad laminate comprising an insulating layer containing a cured product of the thermosetting resin composition, The object of the present invention is to provide a printed wiring board provided with an insulating layer containing a cured product of this thermosetting resin composition.

本開示の一実施形態に係る熱硬化性樹脂組成物は、エチレン-プロピレン-ジエン共重合体(A)と、末端変性ポリフェニレンエーテル化合物(B)と、を含み、オレフィンユニットとスチレンユニットとを含む共重合体であるエラストマー(C)と、重合性不飽和結合を有する表面処理剤で表面処理された無機充填材(D)と、のうち少なくともいずれか一方を更に含む。 A thermosetting resin composition according to one embodiment of the present disclosure includes an ethylene-propylene-diene copolymer (A) and a terminal-modified polyphenylene ether compound (B), and includes an olefin unit and a styrene unit. It further contains at least one of an elastomer (C) which is a copolymer and an inorganic filler (D) surface-treated with a surface-treating agent having a polymerizable unsaturated bond.

本開示の一実施形態に係る樹脂シートは、上記熱硬化性樹脂組成物の乾燥物または半硬化物を含む。 A resin sheet according to an embodiment of the present disclosure includes a dried product or a semi-cured product of the thermosetting resin composition.

本開示の一実施形態に係る樹脂付き金属箔は、金属箔と前記金属箔に重なる樹脂層とを備え、前記樹脂層は、上記熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む。 A resin-coated metal foil according to an embodiment of the present disclosure includes a metal foil and a resin layer overlapping the metal foil, and the resin layer includes a dried or semi-cured material of the thermosetting resin composition.

本開示の一実施形態に係る金属張積層板は、絶縁層と、金属箔と、を備え、前記絶縁層は、上記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。 A metal-clad laminate according to an embodiment of the present disclosure includes an insulating layer and a metal foil, and the insulating layer contains a cured product of the thermosetting resin composition.

本開示の一実施形態に係るプリント配線板は、絶縁層と、導体配線と、を備え、前記絶縁層は、上記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。 A printed wiring board according to an embodiment of the present disclosure includes an insulating layer and conductor wiring, and the insulating layer includes a cured product of the thermosetting resin composition.

本開示によると、その硬化物が、低い誘電率及び低い誘電正接を有しながら、耐燃性に優れる熱硬化性樹脂組成物と、この熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む樹脂シートと、この熱硬化性樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層を備える樹脂付き金属箔と、この熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層を備える金属張積層板と、この熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層を備えるプリント配線板と、を提供することができる。 According to the present disclosure, the cured product includes a thermosetting resin composition having excellent flame resistance while having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and a dried or semi-cured product of this thermosetting resin composition. A resin sheet, a resin-coated metal foil comprising a resin layer containing a semi-cured product of the thermosetting resin composition, a metal-clad laminate comprising an insulating layer containing the cured product of the thermosetting resin composition, and the and a printed wiring board comprising an insulating layer containing a cured product of the thermosetting resin composition.

図1A及び図1Bの各々は、本発明の実施形態に係る樹脂付き金属箔の例を示す概略図である。Each of FIGS. 1A and 1B is a schematic diagram showing an example of a resin-coated metal foil according to an embodiment of the present invention. 図2A、図2B、図2C及び図2Dの各々は、本発明の実施形態に係る金属張積層板の例を示す概略図である。2A, 2B, 2C and 2D are schematic diagrams showing examples of metal-clad laminates according to embodiments of the present invention. 図3A、図3B、図3C及び図3Dの各々は、本発明の実施形態に係るプリント配線板の例を示す概略図である。3A, 3B, 3C, and 3D are schematic diagrams illustrating examples of printed wiring boards according to embodiments of the present invention.

1.概要
本開示の一実施形態に係る熱硬化性樹脂組成物は、エチレン-プロピレン-ジエン共重合体(A)(以下、共重合体(A)ともいう)と、末端変性ポリフェニレンエーテル化合物(B)(以下、化合物(B)ともいう)とを含む。前記熱硬化性樹脂組成物は、オレフィンユニットとスチレンユニットとを含む共重合体であるエラストマー(C)(以下、エラストマー(C)ともいう)と、重合性不飽和結合を有する表面処理剤で表面処理された無機充填材(D)と、のうち少なくともいずれか一方を更に含む。
1. Overview A thermosetting resin composition according to an embodiment of the present disclosure includes an ethylene-propylene-diene copolymer (A) (hereinafter also referred to as copolymer (A)) and a terminal-modified polyphenylene ether compound (B) (hereinafter also referred to as compound (B)). The thermosetting resin composition comprises an elastomer (C) (hereinafter also referred to as elastomer (C)), which is a copolymer containing an olefin unit and a styrene unit, and a surface treatment agent having a polymerizable unsaturated bond. and at least one of a treated inorganic filler (D).

本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、その硬化物が、低い誘電率及び低い誘電正接を有しながら、優れた耐燃性を有し得る。このため、前記熱硬化性樹脂組成物は、金属張積層板及びプリント配線板の絶縁層を作製するための材料として好適であり、その場合、前記熱硬化性樹脂組成物は、プリント配線板に良好な高周波特性と良好な信頼性とを付与できる。 The thermosetting resin composition of the present embodiment can have excellent flame resistance while the cured product thereof has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. Therefore, the thermosetting resin composition is suitable as a material for producing an insulating layer of a metal-clad laminate and a printed wiring board. Good high frequency characteristics and good reliability can be imparted.

2.詳細
以下、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物について、詳しく説明する。
2. Details The thermosetting resin composition of the present embodiment will be described in detail below.

2-1.熱硬化性樹脂組成物
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、上述の通り、エチレン-プロピレン-ジエン共重合体(A)と、末端変性ポリフェニレンエーテル化合物(B)とを含む。前記熱硬化性樹脂組成物は、オレフィンユニットとスチレンユニットとを含むエラストマー(C)と、重合性不飽和結合を有する表面処理剤で表面処理された無機充填材(D)(以下、無機充填剤(D)ともいう)とのうち、少なくともいずれか一方を含む。また前記熱硬化性樹脂組成物は、更に、重合性不飽和基を含む有機化合物(E)(以下、有機化合物(E)ともいう)を含むことができる。また前記熱硬化性樹脂組成物は、更に、臭素またはリンを含有する難燃剤(F)(以下、難燃剤(F)ともいう)を含むことができる。また前記熱硬化性樹脂組成物は、共重合体(A)、化合物(B)、エラストマー(C)、無機充填剤(D)、有機化合物(E)、及び難燃剤(F)以外の成分(以下、成分(G)ともいう)を含んでいてもよい。以下、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物が含みうる成分について詳しく説明する。
2-1. Thermosetting Resin Composition As described above, the thermosetting resin composition of the present embodiment contains an ethylene-propylene-diene copolymer (A) and a terminal-modified polyphenylene ether compound (B). The thermosetting resin composition comprises an elastomer (C) containing an olefin unit and a styrene unit, and an inorganic filler (D) surface-treated with a surface treatment agent having a polymerizable unsaturated bond (hereinafter referred to as an inorganic filler (Also referred to as (D)). The thermosetting resin composition can further contain an organic compound (E) containing a polymerizable unsaturated group (hereinafter also referred to as an organic compound (E)). The thermosetting resin composition may further contain a flame retardant (F) containing bromine or phosphorus (hereinafter also referred to as flame retardant (F)). In addition, the thermosetting resin composition contains components other than the copolymer (A), the compound (B), the elastomer (C), the inorganic filler (D), the organic compound (E), and the flame retardant (F) ( hereinafter, may also be referred to as component (G)). Components that may be included in the thermosetting resin composition of the present embodiment are described in detail below.

(i)エチレン-プロピレン-ジエン共重合体
上述の通り、前記熱硬化性樹脂組成物はエチレン-プロピレン-ジエン共重合体(A)を含む。共重合体(A)は、一般に、EPDMゴム(ethylene-propylene-diene monomer rubber)とも呼ばれる。
(i) Ethylene-propylene-diene copolymer As described above, the thermosetting resin composition contains an ethylene-propylene-diene copolymer (A). Copolymer (A) is also commonly called EPDM rubber (ethylene-propylene-diene monomer rubber).

共重合体(A)は、エチレンに由来する構造単位(以下、エチレンユニットという)、プロピレンに由来する構造単位(以下、プロピレンユニットという)及びジエンに由来する構造単位(以下、ジエンユニットという)を有する。ジエンユニットは、5-エチリデン-2-ノルボルネンに由来する構造単位(以下、5-エチリデン-2-ノルボルネンユニットという)を含むことが好ましい。すなわち、例えばエチレン-プロピレン-ジエン共重合体(A)は、下記式(1)に示す成分を含むことが好ましい。式(1)中、n、m及びlの各々は、自然数であり、式(1)中の構造単位の数を示す。このため式(1)は、構造単位の比率を示す組成式である。すなわち、式(1)は、共重合体(A)がエチレンユニットをnモル、プロピレンユニットをmモル、ジエンユニットをlモル含むことを、意味する。ジエンユニットである5-エチリデン-2-ノルボルネンユニットは、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化反応の速度向上に寄与することができ、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化に要する時間を短縮できる。ジエンユニットに含まれる構造単位は、5-エチリデン-2-ノルボルネンユニットに限られない。例えばジエンユニットは、ジシクロペンタジエンユニット及び1,4-ヘキサジエンユニットからなる群から選択される少なくとも一種の構造単位を含む。 The copolymer (A) comprises a structural unit derived from ethylene (hereinafter referred to as an ethylene unit), a structural unit derived from propylene (hereinafter referred to as a propylene unit) and a structural unit derived from a diene (hereinafter referred to as a diene unit). have. The diene unit preferably contains a structural unit derived from 5-ethylidene-2-norbornene (hereinafter referred to as a 5-ethylidene-2-norbornene unit). That is, for example, the ethylene-propylene-diene copolymer (A) preferably contains a component represented by the following formula (1). In formula (1), each of n, m and l is a natural number and indicates the number of structural units in formula (1). Therefore, formula (1) is a composition formula showing the ratio of structural units. That is, the formula (1) means that the copolymer (A) contains n mol of ethylene units, m mol of propylene units, and 1 mol of diene units. A 5-ethylidene-2-norbornene unit, which is a diene unit, can contribute to improving the curing reaction speed of the thermosetting resin composition, and can shorten the time required for curing the thermosetting resin composition. Structural units included in the diene unit are not limited to the 5-ethylidene-2-norbornene unit. For example, the diene unit contains at least one structural unit selected from the group consisting of a dicyclopentadiene unit and a 1,4-hexadiene unit.

Figure 0007117498000001
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共重合体(A)全体に対する、ジエンユニットの、質量比率は、3%以上であることが好ましい。このことは、硬化物の耐熱性向上に寄与できる。ジエンユニットの比率が3%以上15%以下であればより好ましい。 The mass ratio of the diene unit to the entire copolymer (A) is preferably 3% or more. This can contribute to improving the heat resistance of the cured product. It is more preferable if the ratio of the diene unit is 3% or more and 15% or less.

共重合体(A)全体に対する、エチレンユニットの、質量比率は、50%以上であることが好ましい。この場合、前記熱硬化性樹脂組成物をシート状に成形しやすくできる。エチレンユニットの比率が50%以上75%以下であればより好ましい。 The mass ratio of ethylene units to the entire copolymer (A) is preferably 50% or more. In this case, the thermosetting resin composition can be easily formed into a sheet. More preferably, the ratio of ethylene units is 50% or more and 75% or less.

共重合体(A)の、JIS K6300-1:2013で規定されるムーニー粘度ML(1+4)100℃は、10以上であることが好ましい。この場合も、前記熱硬化性樹脂組成物をシート状に成形しやすくでき、シート状に形成した際のタックを低減できる。共重合体(A)のJIS K6300-1:2013で規定されるムーニー粘度ML(1+4)125℃が80以下であればより好ましい。80以下であることによって、共重合体(A)の溶融粘度が高くなり過ぎず、硬化物の成形性を向上させることができる。 The Mooney viscosity ML(1+4) 100° C. defined by JIS K6300-1:2013 of the copolymer (A) is preferably 10 or more. Also in this case, the thermosetting resin composition can be easily formed into a sheet, and the tackiness of the sheet can be reduced. More preferably, the Mooney viscosity ML(1+4) 125° C. defined by JIS K6300-1:2013 of the copolymer (A) is 80 or less. When it is 80 or less, the melt viscosity of the copolymer (A) does not become too high, and the moldability of the cured product can be improved.

なお、共重合体(A)のムーニー粘度は、共重合体(A)の分子量が大きいほど高くなる。このため、共重合体(A)に含まれる分子の分子量を調整したり、共重合体(A)に分子量の異なる分子を混合して含ませてその混合比を調整したり、共重合体(A)に含まれる分子を分枝状の構造に調整したりすることで、ムーニー粘度を調整できる。 The Mooney viscosity of the copolymer (A) increases as the molecular weight of the copolymer (A) increases. For this reason, the molecular weight of the molecules contained in the copolymer (A) can be adjusted, or the mixture ratio can be adjusted by mixing and containing molecules with different molecular weights in the copolymer (A). The Mooney viscosity can be adjusted by adjusting the molecule contained in A) into a branched structure.

共重合体(A)の量は、後述の化合物(B)100質量部に対して、50質量部以上200質量部以下が好ましい。共重合体(A)の量が50質量部以上であることにより、前記熱硬化性樹脂組成物からフィルムが形成しやすくなる。さらに前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の誘電率を低くすることができる。共重合体(A)の量が200質量部以下であることにより、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の熱膨張係数を低くすることができ、そのため耐熱性を向上させることができる。 The amount of the copolymer (A) is preferably 50 parts by mass or more and 200 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the compound (B) described later. When the amount of the copolymer (A) is 50 parts by mass or more, it becomes easier to form a film from the thermosetting resin composition. Furthermore, the dielectric constant of the cured product of the thermosetting resin composition can be lowered. When the amount of the copolymer (A) is 200 parts by mass or less, the thermal expansion coefficient of the cured product of the thermosetting resin composition can be lowered, and therefore the heat resistance can be improved.

(ii)末端変性ポリフェニレンエーテル化合物
上述の通り、前記熱硬化性樹脂組成物は末端変性ポリフェニレンエーテル化合物(B)を含む。化合物(B)は、炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基により末端変性されたポリフェニレンエーテルであれば、特に限定されない。すなわち、化合物(B)は、例えばポリフェニレンエーテル鎖と、ポリフェニレンエーテル鎖の末端に結合している炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基とを、有する。
(ii) Terminal-Modified Polyphenylene Ether Compound As described above, the thermosetting resin composition contains the terminal-modified polyphenylene ether compound (B). Compound (B) is not particularly limited as long as it is a polyphenylene ether terminally modified with a substituent having a carbon-carbon unsaturated double bond. That is, compound (B) has, for example, a polyphenylene ether chain and a substituent having a carbon-carbon unsaturated double bond bonded to the end of the polyphenylene ether chain.

炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基としては、例えば、下記式(2)で表される置換基等が挙げられる。 Examples of substituents having a carbon-carbon unsaturated double bond include substituents represented by the following formula (2).

Figure 0007117498000002
Figure 0007117498000002

式(2)中、nは、0~10を示す。また、Zは、アリーレン基を示す。また、R~Rは、各々独立に、水素原子またはアルキル基を示す。 In formula (2), n represents 0-10. Moreover, Z represents an arylene group. R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group.

なお、式(2)において、nが0である場合は、Zがポリフェニレンエーテル鎖の末端に直接結合している。 In formula (2), when n is 0, Z is directly bonded to the end of the polyphenylene ether chain.

このアリーレン基は、特に限定されない。具体的には、アリーレン基は、例えばフェニレン基等の単環芳香族基、又はナフチレン基等の多環芳香族基等である。また、このアリーレン基における芳香族環に結合する少なくとも一つの水素原子が、アルケニル基、アルキニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、又はアルキニルカルボニル基等の官能基で置換されていてもよい。また、前記アルキル基は、特に限定されず、例えば、炭素数1~18のアルキル基が好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましい。具体的には、アルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、又はデシル基等である。 This arylene group is not particularly limited. Specifically, the arylene group is, for example, a monocyclic aromatic group such as a phenylene group, or a polycyclic aromatic group such as a naphthylene group. Further, at least one hydrogen atom bonded to the aromatic ring in this arylene group may be substituted with a functional group such as an alkenyl group, an alkynyl group, a formyl group, an alkylcarbonyl group, an alkenylcarbonyl group, or an alkynylcarbonyl group. good. The alkyl group is not particularly limited, and for example, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable. Specifically, the alkyl group is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, a decyl group, or the like.

また炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基は、より具体的には、例えばp-エテニルベンジル基、m-エテニルベンジル基等のビニルベンジル基(エテニルベンジル基)、ビニルフェニル基、アクリレート基、又はメタクリレート基等を有する。置換基は、ビニルベンジル基、ビニルフェニル基、又はメタクリレート基を有することが好ましい。炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基がアリル基を有すれば、化合物(B)の反応性が低い傾向がある。また、炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基がアクリレート基を有すれば、化合物(B)の反応性が高すぎる傾向がある。 Further, the substituent having a carbon-carbon unsaturated double bond is, more specifically, a vinylbenzyl group (ethenylbenzyl group) such as p-ethenylbenzyl group, m-ethenylbenzyl group, vinylphenyl group , an acrylate group, or a methacrylate group. The substituent preferably has a vinylbenzyl group, a vinylphenyl group, or a methacrylate group. If the substituent having a carbon-carbon unsaturated double bond has an allyl group, the reactivity of compound (B) tends to be low. Also, if the substituent having a carbon-carbon unsaturated double bond has an acrylate group, the reactivity of compound (B) tends to be too high.

炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基の好ましい具体例としては、ビニルベンジル基を含む官能基が挙げられる。具体的には、式(2)に示す置換基は、例えば下記式(3)又は式(4)に示す置換基である。 Preferred specific examples of substituents having a carbon-carbon unsaturated double bond include functional groups containing a vinylbenzyl group. Specifically, the substituent represented by the formula (2) is, for example, a substituent represented by the following formula (3) or (4).

Figure 0007117498000003
Figure 0007117498000003

Figure 0007117498000004
Figure 0007117498000004

炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基は、(メタ)アクリレート基でもよい。(メタ)アクリレート基は、例えば、下記式(5)で示される。 Substituents with carbon-carbon unsaturated double bonds may be (meth)acrylate groups. A (meth)acrylate group is represented, for example, by the following formula (5).

Figure 0007117498000005
Figure 0007117498000005

式(5)中、Rは、水素原子またはアルキル基を示す。前記アルキル基は、特に限定されず、例えば、炭素数1~18のアルキル基が好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましい。具体的には、例えば、アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、又はデシル基等である。 In formula (5), R4 represents a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group is not particularly limited, and for example, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable. Specifically, for example, the alkyl group is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, a decyl group, or the like.

また化合物(B)は、ポリフェニレンエーテル鎖を分子中に有している。ポリフェニレンエーテル鎖は、例えば、下記式(6)で表される繰り返し単位を有する。 Compound (B) also has a polyphenylene ether chain in its molecule. A polyphenylene ether chain has, for example, a repeating unit represented by the following formula (6).

Figure 0007117498000006
Figure 0007117498000006

また、式(6)において、mは、1~50を示す。R~Rは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、又はアルキニルカルボニル基を示す。この中でも、水素原子及びアルキル基が好ましい。 Also, in formula (6), m represents 1 to 50. Each of R 5 to R 8 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a formyl group, an alkylcarbonyl group, an alkenylcarbonyl group or an alkynylcarbonyl group. Among these, a hydrogen atom and an alkyl group are preferred.

~Rにおいて、挙げられた各官能基としては、具体的には、以下のようなものが挙げられる。 Specific examples of the functional groups mentioned for R 5 to R 8 include the following.

アルキル基は、特に限定されないが、例えば、炭素数1~18のアルキル基が好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましい。具体的には、アルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、又はデシル基等である。 Although the alkyl group is not particularly limited, for example, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable. Specifically, the alkyl group is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, a decyl group, or the like.

また、アルケニル基は、特に限定されないが、例えば、炭素数2~18のアルケニル基が好ましく、炭素数2~10のアルケニル基がより好ましい。具体的には、アルケニル基は、例えば、ビニル基、アリル基、又は3-ブテニル基等である。 Although the alkenyl group is not particularly limited, for example, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms is more preferable. Specifically, the alkenyl group is, for example, a vinyl group, an allyl group, a 3-butenyl group, or the like.

また、アルキニル基は、特に限定されないが、例えば、炭素数2~18のアルキニル基が好ましく、炭素数2~10のアルキニル基がより好ましい。具体的には、アルキニル基は、例えば、エチニル基、又はプロパ-2-イン-1-イル基(プロパルギル基)等である。 Although the alkynyl group is not particularly limited, for example, an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms is more preferable. Specifically, the alkynyl group is, for example, an ethynyl group, a prop-2-yn-1-yl group (propargyl group), or the like.

また、アルキルカルボニル基は、アルキル基で置換されたカルボニル基であれば、特に限定されないが、例えば、炭素数2~18のアルキルカルボニル基が好ましく、炭素数2~10のアルキルカルボニル基がより好ましい。具体的には、アルキルカルボニル基は、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、又はシクロヘキシルカルボニル基等である。 The alkylcarbonyl group is not particularly limited as long as it is a carbonyl group substituted with an alkyl group. For example, an alkylcarbonyl group having 2 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkylcarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms is more preferable. . Specifically, the alkylcarbonyl group is, for example, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a pivaloyl group, a hexanoyl group, an octanoyl group, a cyclohexylcarbonyl group, or the like.

また、アルケニルカルボニル基は、アルケニル基で置換されたカルボニル基であれば、特に限定されないが、例えば、炭素数3~18のアルケニルカルボニル基が好ましく、炭素数3~10のアルケニルカルボニル基がより好ましい。具体的には、アルケニルカルボニル基は、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、又はクロトノイル基等である。 The alkenylcarbonyl group is not particularly limited as long as it is a carbonyl group substituted with an alkenyl group. For example, an alkenylcarbonyl group having 3 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkenylcarbonyl group having 3 to 10 carbon atoms is more preferable. . Specifically, the alkenylcarbonyl group is, for example, an acryloyl group, a methacryloyl group, a crotonoyl group, or the like.

また、アルキニルカルボニル基は、アルキニル基で置換されたカルボニル基であれば、特に限定されないが、例えば、炭素数3~18のアルキニルカルボニル基が好ましく、炭素数3~10のアルキニルカルボニル基がより好ましい。具体的には、アルキニルカルボニル基は、例えば、プロピオロイル基等である。 The alkynylcarbonyl group is not particularly limited as long as it is a carbonyl group substituted with an alkynyl group. For example, an alkynylcarbonyl group having 3 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkynylcarbonyl group having 3 to 10 carbon atoms is more preferable. . Specifically, an alkynylcarbonyl group is, for example, a propioloyl group and the like.

化合物(B)の重量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが、500以上5000以下であることが好ましく、500以上2000以下であることがより好ましく、1000以上2000以下であることがさらに好ましい。なお、ここで、重量平均分子量は、一般的な分子量測定方法で測定したものであればよく、具体的には、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)を用いて測定し、ポリスチレン換算した値等が挙げられる。また、変性ポリフェニレンエーテル化合物が、式(6)で表される繰り返し単位を分子中に有している場合、mは、変性ポリフェニレンエーテル化合物の重量平均分子量がこのような範囲内になるような数値であることが好ましい。具体的には、mは、1以上50以下であることが好ましい。 The weight average molecular weight (Mw) of compound (B) is not particularly limited, but is preferably 500 to 5,000, more preferably 500 to 2,000, and even more preferably 1,000 to 2,000. Here, the weight average molecular weight may be measured by a general molecular weight measurement method, and specifically, it is measured using gel permeation chromatography (GPC), and the value converted to polystyrene is mentioned. be done. Further, when the modified polyphenylene ether compound has a repeating unit represented by formula (6) in the molecule, m is a numerical value such that the weight average molecular weight of the modified polyphenylene ether compound falls within such a range. is preferably Specifically, m is preferably 1 or more and 50 or less.

化合物(B)の重量平均分子量がこのような範囲内であると、化合物(B)は、ポリフェニレンエーテル鎖によって前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物に優れた誘電特性を付与し、更に硬化物の耐熱性及び成形性を向上させることができる。その理由として、以下のことが考えられる。通常のポリフェニレンエーテルは、その重量平均分子量が500以上5000以下程度であると、比較的低分子量であるので、硬化物の耐熱性を低下させる傾向がある。これに対し、化合物(B)は、末端に不飽和二重結合を有するので、硬化物の耐熱性を高められると考えられる。また化合物(B)の重量平均分子量が5000以下であると、比較的低分子量のものであるので、前記熱硬化性樹脂組成物の成形性にも優れると考えられる。よって、化合物(B)は、硬化物の耐熱性を向上できるだけではなく、前記熱硬化性樹脂組成物の成形性を向上できると考えられる。なお、化合物(B)の重量平均分子量が500以上であると、硬化物のガラス転移温度が低下しにくく、このため硬化物が良好な耐熱性を有しやすい。さらに、化合物(B)におけるポリフェニレンエーテル鎖が短くなりにくいため、ポリフェニレンエーテル鎖による硬化物の優れた誘電特性が維持されやすい。また、重量平均分子量が5000以下であると、化合物(B)は溶剤に溶解しやすく、前記熱硬化性樹脂組成物の保存安定性が低下しにくい。また、化合物(B)は前記熱硬化性樹脂組成物の粘度を上昇させにくく、そのため前記熱硬化性樹脂組成物の良好な成形性が得られやすい。 When the weight average molecular weight of the compound (B) is within such a range, the compound (B) imparts excellent dielectric properties to the cured product of the thermosetting resin composition due to the polyphenylene ether chain, and furthermore, the cured product It is possible to improve the heat resistance and moldability of. The reason for this is as follows. Ordinary polyphenylene ethers with a weight-average molecular weight of about 500 to 5,000 have a relatively low molecular weight, and tend to lower the heat resistance of the cured product. On the other hand, since compound (B) has an unsaturated double bond at the terminal, it is thought that the heat resistance of the cured product can be enhanced. Further, when the weight average molecular weight of the compound (B) is 5000 or less, the moldability of the thermosetting resin composition is considered to be excellent because of its relatively low molecular weight. Therefore, it is considered that the compound (B) can not only improve the heat resistance of the cured product, but also improve the moldability of the thermosetting resin composition. When the weight average molecular weight of compound (B) is 500 or more, the glass transition temperature of the cured product is less likely to decrease, and thus the cured product tends to have good heat resistance. Furthermore, since the polyphenylene ether chain in the compound (B) is less likely to be shortened, the excellent dielectric properties of the cured product due to the polyphenylene ether chain are likely to be maintained. Moreover, when the weight average molecular weight is 5000 or less, the compound (B) is easily dissolved in a solvent, and the storage stability of the thermosetting resin composition is less likely to deteriorate. In addition, the compound (B) does not easily increase the viscosity of the thermosetting resin composition, so that the thermosetting resin composition can easily obtain good moldability.

また化合物(B)の1分子当たりの、炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基の平均個数(末端官能基数)は、特に限定されないが、1~5個であることが好ましく、1~3個であることがより好ましく、1.5~3個であることがさらに好ましい。この場合、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の耐熱性を確保しやすく、また化合物(B)の反応性及び粘度が過度に高くなることを抑制することができる。また前記熱硬化性樹脂組成物の硬化後に、未反応の不飽和二重結合が残ることを抑制することができる。なお、化合物(B)の末端官能基数は、化合物(B)1モル中の、1分子あたりの、置換基の平均値を表した数値等が挙げられる。この末端官能基数は、例えば、ポリフェニレンエーテルを変性して化合物(B)を合成した場合、化合物(B)中の水酸基数を測定して、化合物(B)中の水酸基数の、変性前のポリフェニレンエーテルの水酸基数からの減少分を算出することによって、測定することができる。この変性前のポリフェニレンエーテルの水酸基数からの減少分が、末端官能基数である。化合物(B)に残存する水酸基数は、化合物(B)の溶液に、水酸基と会合する4級アンモニウム塩(テトラエチルアンモニウムヒドロキシド)を添加して得られる混合溶液のUV吸光度を測定することによって、求めることができる。 The average number of substituents having a carbon-carbon unsaturated double bond (the number of terminal functional groups) per molecule of the compound (B) is not particularly limited, but is preferably 1 to 5. More preferably 3, more preferably 1.5 to 3. In this case, the heat resistance of the cured product of the thermosetting resin composition can be easily ensured, and excessive increase in reactivity and viscosity of the compound (B) can be suppressed. In addition, it is possible to prevent unreacted unsaturated double bonds from remaining after the thermosetting resin composition is cured. The number of terminal functional groups of the compound (B) includes, for example, a numerical value representing the average value of substituents per molecule in 1 mol of the compound (B). The number of terminal functional groups is, for example, when polyphenylene ether is modified to synthesize compound (B), the number of hydroxyl groups in compound (B) is measured, and the number of hydroxyl groups in compound (B) is the number of polyphenylenes before modification. It can be measured by calculating the amount of decrease from the number of hydroxyl groups of the ether. The decrease from the number of hydroxyl groups of the polyphenylene ether before modification is the number of terminal functional groups. The number of hydroxyl groups remaining in compound (B) is determined by measuring the UV absorbance of a mixed solution obtained by adding a quaternary ammonium salt (tetraethylammonium hydroxide) that associates with hydroxyl groups to a solution of compound (B). can ask.

また化合物(B)の固有粘度は、特に限定されない。具体的には、化合物(B)の固有粘度は0.03~0.12dl/gであればよいが、0.04~0.11dl/gであることが好ましく、0.06~0.095dl/gであることがより好ましい。この場合、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の誘電率及び誘電正接を低くしやすい。また前記熱硬化性樹脂組成物に充分な流動性を付与することができ、硬化物の成形性を向上させることができる。 Moreover, the intrinsic viscosity of the compound (B) is not particularly limited. Specifically, the intrinsic viscosity of compound (B) may be 0.03 to 0.12 dl/g, preferably 0.04 to 0.11 dl/g, and more preferably 0.06 to 0.095 dl. /g is more preferred. In this case, the dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured product of the thermosetting resin composition can be easily lowered. Moreover, sufficient fluidity can be imparted to the thermosetting resin composition, and the moldability of the cured product can be improved.

なお、ここでの固有粘度は、25℃の塩化メチレン中で測定した固有粘度であり、より具体的には、例えば、化合物(B)を塩化メチレンに0.18g/45mlの濃度で溶解させて調製される溶液の、25℃における粘度である。この粘度は、例えばSchott社製のAVS500 Visco System等の粘度計で測定される。 The intrinsic viscosity here is the intrinsic viscosity measured in methylene chloride at 25° C. More specifically, for example, compound (B) is dissolved in methylene chloride at a concentration of 0.18 g/45 ml. Viscosity at 25° C. of the prepared solution. This viscosity is measured with a viscometer such as Schott's AVS500 Visco System.

また化合物(B)の合成方法は、炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基により末端変性された変性ポリフェニレンエーテル化合物を合成できれば、特に限定されない。具体的には、ポリフェニレンエーテルに、炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基とハロゲン原子とが結合された化合物を反応させる方法等が挙げられる。 The method for synthesizing compound (B) is not particularly limited as long as a modified polyphenylene ether compound terminally modified with a substituent having a carbon-carbon unsaturated double bond can be synthesized. Specifically, a method of reacting a polyphenylene ether with a compound in which a substituent having a carbon-carbon unsaturated double bond and a halogen atom are bonded can be mentioned.

また、炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基とハロゲン原子とが結合された化合物としては、例えば、p-クロロメチルスチレンやm-クロロメチルスチレン等が挙げられる。 Examples of compounds in which a substituent having a carbon-carbon unsaturated double bond and a halogen atom are bonded include p-chloromethylstyrene and m-chloromethylstyrene.

また、原料であるポリフェニレンエーテルは、最終的に、化合物(B)を合成することができるものであれば、特に限定されない。具体的には、2,6-ジメチルフェノールと2官能フェノール及び3官能フェノールの少なくともいずれか一方とからなるポリフェニレンエーテルやポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレンオキサイド)等のポリフェニレンエーテルを主成分とするもの等が挙げられる。また、2官能フェノールとは、フェノール性水酸基を分子中に2個有するフェノール化合物であり、例えば、テトラメチルビスフェノールA等が挙げられる。また、3官能フェノールとは、フェノール性水酸基を分子中に3個有するフェノール化合物である。 Moreover, the polyphenylene ether as a raw material is not particularly limited as long as it can finally synthesize the compound (B). Specifically, polyphenylene ether such as poly(2,6-dimethyl-1,4-phenylene oxide) and polyphenylene ether composed of 2,6-dimethylphenol and at least one of bifunctional phenol and trifunctional phenol. and the like as a main component. Moreover, a bifunctional phenol is a phenol compound having two phenolic hydroxyl groups in the molecule, and examples thereof include tetramethylbisphenol A and the like. A trifunctional phenol is a phenol compound having three phenolic hydroxyl groups in the molecule.

また、化合物(B)の合成方法は、具体的には、ポリフェニレンエーテルと、炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基とハロゲン原子とが結合された化合物とを溶媒に溶解させ、攪拌する。そうすることによって、ポリフェニレンエーテルと、炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基とハロゲン原子とが結合された化合物とが反応し、化合物(B)が得られる。 Further, the method for synthesizing the compound (B) specifically includes dissolving a polyphenylene ether and a compound in which a substituent having a carbon-carbon unsaturated double bond and a halogen atom are combined in a solvent, followed by stirring. . By doing so, the polyphenylene ether reacts with the compound in which the substituent having a carbon-carbon unsaturated double bond and the halogen atom are bonded to obtain the compound (B).

(iii)オレフィンユニットとスチレンユニットとを含む共重合体であるエラストマー
上述の通り、前記熱硬化性樹脂組成物は、オレフィンユニットとスチレンユニットとを含む共重合体であるエラストマー(C)を含むことができる。この場合、前記熱硬化性樹脂組成物中の共重合体(A)と化合物(B)との相溶性を向上させることができる。また前記熱硬化性樹脂組成物のBステージでのフィルム形成能を向上させられ、Bステージでの靭性を向上させられる。なお、オレフィンユニットは、オレフィンモノマーに由来する構造単位を意味し、スチレンユニットは、スチレンモノマーに由来する構造単位を意味する。スチレンモノマーは、スチレンと置換基を有するスチレンとからなる群から選択される少なくとも一種である。置換基は、例えばメチル基等のアルキル基である。特にスチレンモノマーが、スチレンとメチルスチレンとのうち少なくとも一方を含むことが好ましい。
(iii) Elastomer which is a copolymer containing an olefin unit and a styrene unit As described above, the thermosetting resin composition contains an elastomer (C) which is a copolymer containing an olefin unit and a styrene unit. can be done. In this case, compatibility between the copolymer (A) and the compound (B) in the thermosetting resin composition can be improved. In addition, the B-stage film-forming ability of the thermosetting resin composition can be improved, and the B-stage toughness can be improved. The olefin unit means a structural unit derived from an olefin monomer, and the styrene unit means a structural unit derived from a styrene monomer. The styrene monomer is at least one selected from the group consisting of styrene and styrene having a substituent. Substituents are, for example, alkyl groups such as methyl groups. In particular, the styrene monomer preferably contains at least one of styrene and methylstyrene.

エラストマー(C)は、ランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体であってもよい。 Elastomer (C) may be a random copolymer or a block copolymer.

エラストマー(C)がランダム共重合体である場合、エラストマー(C)は、複数のオレフィンユニットと複数のスチレンユニットとがランダムに配列された共重合体である。 When the elastomer (C) is a random copolymer, the elastomer (C) is a copolymer in which a plurality of olefin units and a plurality of styrene units are randomly arranged.

エラストマー(C)がブロック共重合体であるである場合、エラストマー(C)は、1以上のオレフィンブロックと、1以上のスチレンブロックとが配列された共重合体である。オレフィンブロックは複数のオレフィンユニットからなり、スチレンブロックは複数のスチレンユニットからなる。 When the elastomer (C) is a block copolymer, the elastomer (C) is a copolymer in which one or more olefin blocks and one or more styrene blocks are arranged. An olefin block consists of multiple olefin units, and a styrene block consists of multiple styrene units.

エラストマー(C)中の複数のオレフィンユニットは、エチレンユニット、プロピレンユニット、ブチレンユニット、α-オレフィンユニット、ブタジエンユニット、水添ブタジエンユニット、イソプレンユニット及び水添イソプレンユニットからなる群から選択される一種以上を含むことが好ましい。オレフィンユニットは、水添イソプレンユニットを含むことが特に好ましい。この場合、前記熱硬化性樹脂組成物の安定性を向上させることができる。 The plurality of olefin units in the elastomer (C) are one or more selected from the group consisting of ethylene units, propylene units, butylene units, α-olefin units, butadiene units, hydrogenated butadiene units, isoprene units and hydrogenated isoprene units. is preferably included. It is particularly preferred that the olefin units include hydrogenated isoprene units. In this case, the stability of the thermosetting resin composition can be improved.

エラストマー(C)において、オレフィンユニットとスチレンユニットとの質量比率は、30:70から90:10の範囲内であることが好ましく、60:40から85:15の範囲内であることがより好ましい。この場合、共重合体(A)と化合物(B)との相溶性を向上させることができる。 In the elastomer (C), the mass ratio of olefin units to styrene units is preferably in the range of 30:70 to 90:10, more preferably in the range of 60:40 to 85:15. In this case, compatibility between the copolymer (A) and the compound (B) can be improved.

エラストマー(C)がランダム共重合体である場合、エラストマー(C)は、例えば、オレフィンモノマーとスチレンモノマーとを、乳化重合法または溶液重合法によって、重合させることで製造することができる。 When the elastomer (C) is a random copolymer, the elastomer (C) can be produced, for example, by polymerizing an olefin monomer and a styrene monomer by emulsion polymerization or solution polymerization.

エラストマー(C)がブロック共重合体である場合、エラストマー(C)は、例えば、リチウム触媒の存在下の不活性溶媒中で、上記オレフィンモノマーと、上記スチレンモノマーとをブロック重合することで製造することができる。 When the elastomer (C) is a block copolymer, the elastomer (C) is produced, for example, by block-polymerizing the olefin monomer and the styrene monomer in an inert solvent in the presence of a lithium catalyst. be able to.

本開示における熱硬化性樹脂組成物がエラストマー(C)を含む場合、エラストマー(C)の量は、共重合体(A)と化合物(B)の合計100質量部に対して、5質量部以上50質量部以下であることが好ましい。エラストマー(C)の量が5質量部以上であることにより、共重合体(A)と化合物(B)との相溶性を十分に確保することができ、これにより、前記熱硬化性樹脂組成物の耐燃性を向上させることができる。エラストマー(C)の量が50質量部以下であることにより、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の熱膨張率の上昇を抑制できると共に耐熱性及び耐燃性を向上させることができる。 When the thermosetting resin composition in the present disclosure contains an elastomer (C), the amount of the elastomer (C) is 5 parts by mass or more with respect to a total of 100 parts by mass of the copolymer (A) and the compound (B). It is preferably 50 parts by mass or less. When the amount of the elastomer (C) is 5 parts by mass or more, the compatibility between the copolymer (A) and the compound (B) can be sufficiently ensured, thereby improving the thermosetting resin composition. can improve the flame resistance of When the amount of the elastomer (C) is 50 parts by mass or less, it is possible to suppress an increase in the coefficient of thermal expansion of the cured product of the thermosetting resin composition and to improve heat resistance and flame resistance.

(iv)重合性不飽和結合を有する表面処理剤で表面処理された無機充填材
上述の通り、本開示における熱硬化性樹脂組成物は、重合性不飽和結合を有する表面処理剤で表面処理された無機充填剤(D)を含むことができる。この場合も、前記熱硬化性樹脂組成物において、共重合体(A)と化合物(B)との相溶性を向上させることができる。さらに、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の熱膨張率を低くできると共に、硬化物の耐熱性及び耐燃性を向上させることができ、特に熱膨張率の低下に寄与することができる。
(iv) Inorganic filler surface-treated with a surface-treating agent having a polymerizable unsaturated bond As described above, the thermosetting resin composition in the present disclosure is surface-treated with a surface-treating agent having a polymerizable unsaturated bond. It can contain an inorganic filler (D). Also in this case, compatibility between the copolymer (A) and the compound (B) can be improved in the thermosetting resin composition. Furthermore, the coefficient of thermal expansion of the cured product of the thermosetting resin composition can be lowered, the heat resistance and flame resistance of the cured product can be improved, and in particular, the coefficient of thermal expansion can be reduced.

無機充填剤(D)は、例えばシリカ、アルミナ、タルク、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化チタン、マイカ、ホウ酸アルミニウム、硫酸バリウム、チッ化ホウ素、フォルステライト、酸化亜鉛、酸化マグネシウム及び炭酸カルシウムからなる群から選択される少なくとも一種の材料を含有できる。 Inorganic fillers (D) are, for example, silica, alumina, talc, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, titanium oxide, mica, aluminum borate, barium sulfate, boron nitride, forsterite, zinc oxide, magnesium oxide and calcium carbonate. It can contain at least one material selected from the group consisting of

無機充填剤(D)は、上述のとおり、重合性不飽和結合を有する表面処理剤で表面処理されている。重合性不飽和結合の例は、ビニル基、アリル基、メタリクル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びマレイミドル基を含む。表面処理剤の例として、重合性不飽和結合を有するシランカップリング剤が挙げられる。 The inorganic filler (D) is surface-treated with a surface-treating agent having a polymerizable unsaturated bond, as described above. Examples of polymerizable unsaturated bonds include vinyl groups, allyl groups, methacrylate groups, styryl groups, acryloyl groups, methacryloyl groups, and malemiddle groups. Examples of surface treatment agents include silane coupling agents having polymerizable unsaturated bonds.

無機充填剤(D)は、硬化物の誘電特性の改善、耐熱性向上、耐燃性向上、靱性向上、及び熱膨張係数低減に寄与できる。また、無機充填剤(D)は、表面処理剤で表面処理されているため、その表面に重合性不飽和結合を有する。そのため、前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させる際には、無機充填剤(D)の重合性不飽和結合と共重合体(A)、化合物(B)とが反応することができ、これにより硬化物の架橋密度が増大しうる。このことによって、無機充填剤(D)は、硬化物の耐燃性の向上に特に寄与できる。 The inorganic filler (D) can contribute to improving dielectric properties, improving heat resistance, improving flame resistance, improving toughness, and reducing the coefficient of thermal expansion of the cured product. Moreover, since the inorganic filler (D) is surface-treated with a surface treatment agent, it has a polymerizable unsaturated bond on its surface. Therefore, when curing the thermosetting resin composition, the polymerizable unsaturated bond of the inorganic filler (D), the copolymer (A), and the compound (B) can react, thereby The crosslink density of the cured product can be increased. As a result, the inorganic filler (D) can particularly contribute to improving the flame resistance of the cured product.

本開示における熱硬化性樹脂組成物が無機充填剤(D)を含む場合、無機充填剤(D)の量は、共重合体(A)と化合物(B)の合計100質量部に対して、30質量部以上500質量部以下であることが好ましい。無機充填剤(D)の量が30質量部以上であることにより、前記熱硬化性樹脂組成物において、共重合体(A)と化合物(B)との相溶性を十分に確保することができ、これにより、前記熱硬化性樹脂の硬化物の耐熱性を向上させることができる。無機充電剤(D)の量が500質量部以下であることにより、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の熱膨張係数の増大を抑制することができる。 When the thermosetting resin composition in the present disclosure contains an inorganic filler (D), the amount of the inorganic filler (D) is, with respect to a total of 100 parts by mass of the copolymer (A) and the compound (B), It is preferably 30 parts by mass or more and 500 parts by mass or less. When the amount of the inorganic filler (D) is 30 parts by mass or more, the compatibility between the copolymer (A) and the compound (B) can be sufficiently ensured in the thermosetting resin composition. As a result, the heat resistance of the cured product of the thermosetting resin can be improved. When the amount of the inorganic charging agent (D) is 500 parts by mass or less, an increase in the coefficient of thermal expansion of the cured product of the thermosetting resin composition can be suppressed.

(v)重合性不飽和基を含む有機化合物
上述の通り、前記熱硬化性樹脂組成物は重合性不飽和基を有する有機化合物(E)を含むことが好ましい。この場合、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の耐熱性及び耐燃性の低下を抑制することができる。
(v) Organic Compound Containing Polymerizable Unsaturated Group As described above, the thermosetting resin composition preferably contains an organic compound (E) having a polymerizable unsaturated group. In this case, deterioration in heat resistance and flame resistance of the cured product of the thermosetting resin composition can be suppressed.

有機化合物(E)が含む重合性不飽和基は、例えばビニル基、アリル基、メタクリル基、スチリル基、メタ(アクリル)基、及びマレイミド基からなる群から選択される少なくとも一種の基を含む。前記熱硬化性樹脂組成物が有機化合物(E)を含有すると、有機化合物(E)に含まれる成分の選択によって、前記熱硬化性樹脂組成物及び硬化物の物性を制御できる。例えば有機化合物(E)が重合性不飽和基を一つ有する単官能化合物を含有すると、単官能化合物は前記熱硬化性樹脂組成物の溶融粘度を低減して成形性を向上できる。また、有機化合物(E)が重合性不飽和基を複数有する多官能化合物を含有すると、多官能化合物は、硬化物の架橋密度を増大させることができる。それにより、多官能化合物は、硬化物の靭性向上、ガラス転移点向上及びそれに伴う耐熱性向上、線膨張係数の低減、並びに密着性向上に、寄与できる。有機化合物(E)は、多官能化合物として、ジビニルベンゼン、トリビニルシクロヘキサン、トリアリルイソシアヌレート(TAIC)、ジシクロペンタジエンジメタノールジメタクリレート、及びノナンジオールジメタクリレートからなる群から選択される一種以上を含むことが好ましい。この場合、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の耐燃性を向上させることができる。また有機化合物(E)は、多官能化合物として、4,4´-ジフェニルメタンビスマレイミド、m-フェニレンビスマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド、3,3´-ジメチル-5,5´-ジエチル-4,4´-ジフェニルメタンビスマレイミド、4-メチル-1,3-フェニレンビスマレイミドおよび1,6-ビスマレイミド-(2,2,4-トリメチル)ヘキサンからなる群から選択される一種以上のビスマレイミドを含んでいてもよい。有機化合物(E)は、市販されているビスマレイミドとして、DESIGNER MOLECULES社製の商品名BMI-689又はBMI-3000を含むことも好ましい。この場合、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の耐燃性を向上させることができる。 The polymerizable unsaturated group contained in the organic compound (E) contains, for example, at least one group selected from the group consisting of a vinyl group, an allyl group, a methacryl group, a styryl group, a meth(acryl) group, and a maleimide group. When the thermosetting resin composition contains the organic compound (E), the physical properties of the thermosetting resin composition and the cured product can be controlled by selecting the components contained in the organic compound (E). For example, when the organic compound (E) contains a monofunctional compound having one polymerizable unsaturated group, the monofunctional compound can reduce the melt viscosity of the thermosetting resin composition and improve moldability. Moreover, when the organic compound (E) contains a polyfunctional compound having a plurality of polymerizable unsaturated groups, the polyfunctional compound can increase the crosslink density of the cured product. As a result, the polyfunctional compound can contribute to improving the toughness of the cured product, improving the glass transition point and accompanying heat resistance, reducing the coefficient of linear expansion, and improving adhesion. The organic compound (E) is, as a polyfunctional compound, one or more selected from the group consisting of divinylbenzene, trivinylcyclohexane, triallyl isocyanurate (TAIC), dicyclopentadiene dimethanol dimethacrylate, and nonanediol dimethacrylate. preferably included. In this case, the flame resistance of the cured product of the thermosetting resin composition can be improved. Further, the organic compound (E) includes polyfunctional compounds such as 4,4′-diphenylmethanebismaleimide, m-phenylenebismaleimide, bisphenol A diphenyletherbismaleimide, 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4, containing one or more bismaleimides selected from the group consisting of 4'-diphenylmethanebismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide and 1,6-bismaleimido-(2,2,4-trimethyl)hexane; You can stay. The organic compound (E) preferably includes BMI-689 or BMI-3000 (trade name, manufactured by DESIGNER MOLECULES) as a commercially available bismaleimide. In this case, the flame resistance of the cured product of the thermosetting resin composition can be improved.

前記熱硬化性樹脂組成物が有機化合物(E)を含有する場合の有機化合物(E)の量は、共重合体(A)と化合物(B)の合計100質量部に対して5質量部以上50質量部以下が好ましい。有機化合物(E)の量が5質量部以上であることにより、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の耐熱性を向上させることができる。有機化合物(E)の量が50質量部以下であることにより、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の、誘電率及び誘電正接を低くできると共に、タックの発生を抑制することができる。 When the thermosetting resin composition contains the organic compound (E), the amount of the organic compound (E) is 5 parts by mass or more with respect to the total 100 parts by mass of the copolymer (A) and the compound (B). 50 parts by mass or less is preferable. When the amount of the organic compound (E) is 5 parts by mass or more, the heat resistance of the cured product of the thermosetting resin composition can be improved. When the amount of the organic compound (E) is 50 parts by mass or less, the dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured product of the thermosetting resin composition can be lowered, and the occurrence of tack can be suppressed.

(vi)臭素またはリンを含有する難燃剤
上述の通り、前記熱硬化性樹脂組成物は、臭素又はリンを含有する難燃剤(F)を含むことができる。この場合、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の誘電率を低くしながら、耐燃性を向上させることができる。難燃剤(F)は、臭素を含有する難燃剤(F1)及びリンを含有する難燃剤(F2)のうち少なくとも一方を含有することができる。
(vi) Bromine- or Phosphorus-Containing Flame Retardant As described above, the thermosetting resin composition may contain a bromine- or phosphorus-containing flame retardant (F). In this case, it is possible to improve the flame resistance while lowering the dielectric constant of the cured product of the thermosetting resin composition. The flame retardant (F) can contain at least one of a bromine-containing flame retardant (F1) and a phosphorus-containing flame retardant (F2).

難燃剤(F1)は、例えば、芳香族臭素化合物を含むことが好ましい。難燃剤(F1)は、デカブロモジフェニルエタン、4,4-ジブロモビフェニル、及びエチレンビステトラブロモフタルイミドからなる群から選択される少なくとも一種を含むことが好ましい。 The flame retardant (F1) preferably contains, for example, an aromatic bromine compound. The flame retardant (F1) preferably contains at least one selected from the group consisting of decabromodiphenylethane, 4,4-dibromobiphenyl, and ethylenebistetrabromophthalimide.

前記熱硬化性樹脂組成物が難燃剤(F1)を含むことにより、前記熱硬化性樹脂組成物中の臭素の量が前記熱硬化性樹脂組成物に対して8質量%以上20質量%以下であることが好ましい。この場合、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の難燃性を向上させられると共に、硬化物の加熱時に臭素の解離を抑制することができる。 When the thermosetting resin composition contains the flame retardant (F1), the amount of bromine in the thermosetting resin composition is 8% by mass or more and 20% by mass or less with respect to the thermosetting resin composition. Preferably. In this case, the flame retardancy of the cured product of the thermosetting resin composition can be improved, and dissociation of bromine can be suppressed during heating of the cured product.

難燃剤(F2)は、例えば、非相溶性リン化合物及び相溶性リン化合物のうち少なくとも一方を含むことが好ましい。 The flame retardant (F2) preferably contains, for example, at least one of an incompatible phosphorus compound and a compatible phosphorus compound.

難燃剤(F2)は、例えば、非相溶性リン化合物として、ジフェニルホスフィンオキサイド基を分子中に二つ以上有するホスフィンオキサイド化合物を含むことが好ましい。このホスフィンオキサイド化合物の融点は、280℃以上が好ましい。ホスフィンオキサイド化合物は、フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、メチレン基、及びエチレン基からなる群から選択される一種以上の連結基で、二つ以上のジフェニルホスフィンオキサイド基が連結された構造の化合物を含むことが好ましい。 The flame retardant (F2) preferably contains, for example, a phosphine oxide compound having two or more diphenylphosphine oxide groups in the molecule as an incompatible phosphorus compound. The melting point of this phosphine oxide compound is preferably 280° C. or higher. The phosphine oxide compound has a structure in which two or more diphenylphosphine oxide groups are linked by one or more linking groups selected from the group consisting of phenylene group, xylylene group, biphenylene group, naphthylene group, methylene group and ethylene group. preferably contains a compound of

難燃剤(F2)は、例えば、相溶性リン化合物として、リン酸エステル化合物、ホスファゼン化合物、亜リン酸エステル化合物、及びホスフィン化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。 The flame retardant (F2) preferably contains, for example, at least one selected from the group consisting of a phosphate ester compound, a phosphazene compound, a phosphite ester compound, and a phosphine compound as a compatible phosphorus compound.

前記熱硬化性樹脂組成物が難燃剤(F2)を含むことにより、難燃剤(F2)中のリンの量が前記熱硬化性樹脂組成物に対して1.8質量%以上5.2質量%以下であることが好ましい。この場合、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物の難燃性を向上させられると共に、硬化物の加熱時にリンの解離を抑制することができる。 When the thermosetting resin composition contains the flame retardant (F2), the amount of phosphorus in the flame retardant (F2) is 1.8% by mass or more and 5.2% by mass with respect to the thermosetting resin composition. The following are preferable. In this case, the flame retardancy of the cured product of the thermosetting resin composition can be improved, and dissociation of phosphorus can be suppressed during heating of the cured product.

(vii)成分(G)
上述の通り、前記熱硬化性樹脂組成物は、共重合体(A)、化合物(B)、エラストマー(C)、無機充填剤(D)、有機化合物(E)、難燃剤(F)以外の成分(G)を含んでいてもよい。
(vii) Component (G)
As described above, the thermosetting resin composition includes a copolymer (A), a compound (B), an elastomer (C), an inorganic filler (D), an organic compound (E), and a flame retardant other than (F). A component (G) may be included.

成分(G)は、例えば熱ラジカル重合開始剤、溶剤、シリコーン系消泡剤、アクリル酸エステル系消泡剤等の消泡剤、熱安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、滑剤、並びに湿潤分散剤等の分散剤からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含む。 Component (G) includes, for example, thermal radical polymerization initiators, solvents, antifoaming agents such as silicone antifoaming agents and acrylic acid ester antifoaming agents, heat stabilizers, antistatic agents, ultraviolet absorbers, dyes, pigments, It contains at least one component selected from the group consisting of lubricants and dispersants such as wetting and dispersing agents.

熱ラジカル重合開始剤は、前記熱硬化性樹脂組成物が加熱された場合に、硬化を促進することができる。なお、前記熱硬化性樹脂組成物が、加熱されることで活性種を生じさせやすい成分を含有するならば、前記熱硬化性樹脂組成物は熱ラジカル重合開始剤を含有しなくてもよい。熱ラジカル重合開始剤は、有機過酸化物を含有することが好ましく、例えば、α,α´-ビス(t-ブチルパーオキシ-m-イソプロピル)ベンゼン、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)-3-ヘキシン、過酸化ベンゾイル、3,3´,5,5´-テトラメチル-1,4-ジフェノキノン、クロラニル、2,4,6-トリ-t-ブチルフェノキシル、t-ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、t-アミルパーオキシネオデカノエート、t-アミルパーオキシピバレート、t-アミルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、t-アミルパーオキシノルマルオクトエート、t-アミルパーオキシアセテート、t-アミルパーオキシイソノナノエート、t-アミルパーオキシベンゾエート、t-アミルパーオキシイソプロピルカーボネート、ジーt-アミルパーオキサイド、1,1-ジ(t-アミルパーオキシ)シクロヘキサン及びアゾビスイソブチロニトリルからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。熱ラジカル重合開始剤の量は、例えば、前記熱硬化性樹脂組成物中の熱硬化性成分全量100質量部に対して、0.1質量部以上5質量部以下であるが、これに制限されない。なお、ここでいう熱硬化性成分とは、共重合体(A)及び化合物(B)を含み、熱硬化性製樹脂組成物が有機化合物(E)を含有する場合は有機化合物(E)も含む。 A thermal radical polymerization initiator can accelerate curing when the thermosetting resin composition is heated. If the thermosetting resin composition contains a component that easily generates active species when heated, the thermosetting resin composition may not contain a thermal radical polymerization initiator. The thermal radical polymerization initiator preferably contains an organic peroxide such as α,α'-bis(t-butylperoxy-m-isopropyl)benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy)-3-hexyne, benzoyl peroxide, 3,3',5,5'-tetramethyl-1,4-diphenoquinone, chloranil, 2,4,6-tri-t-butylphenoxyl , t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-amyl peroxyneodecanoate, t-amyl peroxypivalate, t-amyl peroxy-2-ethylhexanoate, t-amyl peroxy normal octoate, t -amyl peroxyacetate, t-amyl peroxy isononanoate, t-amyl peroxybenzoate, t-amyl peroxyisopropyl carbonate, di-t-amyl peroxide, 1,1-di(t-amylperoxy)cyclohexane and at least one component selected from the group consisting of azobisisobutyronitrile. The amount of the thermal radical polymerization initiator is, for example, 0.1 parts by mass or more and 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of thermosetting components in the thermosetting resin composition, but is not limited thereto. . The thermosetting component here includes the copolymer (A) and the compound (B), and when the thermosetting resin composition contains the organic compound (E), the organic compound (E) is also included. include.

溶剤は、脂肪族炭化水素系溶剤、芳香族炭化水素系溶解及びケトン系溶剤からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましい。この場合、前記熱硬化性樹脂組成物をシート状に成形する場合の成形性が向上する。 The solvent preferably contains at least one component selected from the group consisting of aliphatic hydrocarbon solvents, aromatic hydrocarbon solvents and ketone solvents. In this case, moldability is improved when the thermosetting resin composition is molded into a sheet.

2-2.樹脂シート
本実施形態に係る樹脂シートは、前記熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む。樹脂シートは、積層板及びプリント配線板作製のための材料に適用できる。すなわち、樹脂シートを用い、樹脂シートの硬化物を含む絶縁層(すなわち、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層)を備える積層板、及び樹脂シートの硬化物を含む絶縁層(すなわち、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層)を備えるプリント配線板を、作製できる。
2-2. Resin Sheet The resin sheet according to this embodiment includes a dried product or a semi-cured product of the thermosetting resin composition. The resin sheet can be applied as a material for producing laminates and printed wiring boards. That is, using a resin sheet, a laminate provided with an insulating layer containing a cured product of a resin sheet (that is, an insulating layer containing a cured product of the thermosetting resin composition), and an insulating layer containing a cured product of a resin sheet ( That is, a printed wiring board provided with an insulating layer containing a cured product of the thermosetting resin composition can be produced.

樹脂シートを製造するためには、例えば前記熱硬化性樹脂組成物を塗布法等によりシート状に成形してから、加熱することで乾燥させ又は半硬化させる。これにより、前記熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む樹脂シートが得られる。加熱時の温度は前記熱硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤を乾燥させ、樹脂成分を半硬化させることが可能な温度であれば良く、例えば100℃以上160℃以下、加熱の時間は例えば5分以上10分以下である。 In order to produce a resin sheet, for example, the thermosetting resin composition is formed into a sheet by a coating method or the like, and then dried or semi-cured by heating. Thereby, a resin sheet containing the dried or semi-cured material of the thermosetting resin composition is obtained. The temperature during heating may be a temperature at which the solvent contained in the thermosetting resin composition can be dried and the resin component can be semi-cured. minutes or more and 10 minutes or less.

樹脂シートを加熱して硬化させることで、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層を作製できる。加熱時の温度は例えば160℃以上200℃以下、好ましくは180℃以上200℃以下であり、加熱の時間は例えば30分以上120分以下、好ましくは60分以上120分以下である。また、本開示の樹脂シートは、複数の層を張り付けるためのボンディングシートとして使用することも可能である。具体的には、まず、支持フィルムに前記熱硬化性樹脂組成物を塗布してシート状に成形し、これを乾燥または半硬化させることによって樹脂シートを形成する。次に、当該樹脂シートを基板等に張り付けてから支持フィルムを剥がす。次に、前記基板上に形成された乾燥物または半硬化物上に、別途の基板等を張り付ける。これにより、樹脂シートに含まれる前記熱硬化性樹脂組成物の乾燥物または半硬化物によって、複数の基板を貼り付けることができる。 By heating and curing the resin sheet, an insulating layer containing the cured product of the thermosetting resin composition can be produced. The temperature during heating is, for example, 160° C. or higher and 200° C. or lower, preferably 180° C. or higher and 200° C. or lower, and the heating time is, for example, 30 minutes or longer and 120 minutes or shorter, preferably 60 minutes or longer and 120 minutes or shorter. The resin sheet of the present disclosure can also be used as a bonding sheet for attaching multiple layers. Specifically, first, the thermosetting resin composition is applied to a support film, formed into a sheet, and dried or semi-cured to form a resin sheet. Next, after the resin sheet is attached to a substrate or the like, the support film is peeled off. Next, another substrate or the like is adhered onto the dried or semi-cured material formed on the substrate. Thereby, a plurality of substrates can be attached using the dried or semi-cured material of the thermosetting resin composition contained in the resin sheet.

2-3.樹脂付き金属箔
本実施形態に係る樹脂付き金属箔1は、図1Aに示すように、金属箔10と、金属箔10に重なる樹脂層20とを備える。樹脂層20は、前記熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む。樹脂付き金属箔1から金属張積層板又はプリント配線板を作製する場合、樹脂層20から絶縁層が作製される。この場合、絶縁層の低誘電率化及び低誘電正接化を達成できる。
2-3. Resin-coated Metal Foil A resin-coated metal foil 1 according to this embodiment includes a metal foil 10 and a resin layer 20 overlapping the metal foil 10, as shown in FIG. 1A. The resin layer 20 contains a dried product or a semi-cured product of the thermosetting resin composition. When producing a metal-clad laminate or a printed wiring board from the resin-coated metal foil 1 , an insulating layer is produced from the resin layer 20 . In this case, it is possible to achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent of the insulating layer.

金属箔10は、例えば銅箔である。金属箔10の厚みは例えば2μm以上105μm以下であり、好ましくは5μm以上35μm以下である。金属箔10は、例えば18μm厚銅キャリア箔付き2μm厚銅箔における銅箔であってもよい。 The metal foil 10 is, for example, copper foil. The thickness of the metal foil 10 is, for example, 2 μm or more and 105 μm or less, preferably 5 μm or more and 35 μm or less. The metal foil 10 may be a copper foil, for example in a 2 μm thick copper foil with an 18 μm thick copper carrier foil.

図1Aに示す樹脂層20は、金属箔10に重なる第一の樹脂層21と、第一の樹脂層21に重なる第二の樹脂層22とを含む。すなわち、第一の樹脂層21及び第二の樹脂層22から絶縁層が作製される。この場合、絶縁層の低誘電率化及び低誘電正接化を達成できると共に、第一の樹脂層21の硬化物に良好な柔軟性を付与できる。さらに第二の樹脂層22の硬化物によって第一の樹脂層21の硬化物の柔軟性が阻害されにくい。このため、樹脂付き金属箔1からフレキシブルな金属張積層板又はプリント配線板を作製できる。 The resin layer 20 shown in FIG. 1A includes a first resin layer 21 overlapping the metal foil 10 and a second resin layer 22 overlapping the first resin layer 21 . That is, an insulating layer is produced from the first resin layer 21 and the second resin layer 22 . In this case, a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent of the insulating layer can be achieved, and good flexibility can be imparted to the cured product of the first resin layer 21 . Further, the flexibility of the cured product of the first resin layer 21 is less likely to be hindered by the cured product of the second resin layer 22 . Therefore, a flexible metal-clad laminate or printed wiring board can be produced from the resin-coated metal foil 1 .

第一の樹脂層21の厚みは、例えば1μm以上50μm以下である。第二の樹脂層22の厚みは、例えば5μm以上200μm以下であり、好ましくは10μm以上150μm以下である。 The thickness of the first resin layer 21 is, for example, 1 μm or more and 50 μm or less. The thickness of the second resin layer 22 is, for example, 5 μm or more and 200 μm or less, preferably 10 μm or more and 150 μm or less.

第一の樹脂層21は、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含むことが好ましい。すなわち、第一の樹脂層21は、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含む樹脂液又はシート材から作製されることが好ましい。シート材は、その内部にガラスクロス等の基材を有し、この基材で強化されていてもよい。シート材は、例えばプリプレグであってもよい。第一の樹脂層21は、例えば、金属箔10に樹脂液を塗布してから乾燥すること、又は金属箔10にシート材を重ねた後に熱プレスすることによって作製できる。 The first resin layer 21 preferably contains at least one component selected from the group consisting of liquid crystal polymer resins, polyimide resins, polyamideimide resins, fluorine resins and polyphenylene ether resins. That is, the first resin layer 21 is made of a resin liquid or a sheet material containing at least one component selected from the group consisting of liquid crystal polymer resin, polyimide resin, polyamideimide resin, fluororesin and polyphenylene ether resin. is preferred. The sheet material may have a base material such as glass cloth inside and be reinforced with this base material. The sheet material may be, for example, prepreg. The first resin layer 21 can be produced, for example, by applying a resin liquid to the metal foil 10 and then drying it, or by stacking a sheet material on the metal foil 10 and then hot-pressing it.

液晶ポリマー樹脂は、例えば、エチレンテレフタレートとパラヒドロキシ安息香酸との重縮合体、フェノール及びフタル酸とパラヒドロキシ安息香酸との重縮合体、並びに2,6-ヒドロキシナフトエ酸とパラヒドロキシ安息香酸との重縮合体からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。第一の樹脂層21が液晶ポリマー樹脂を含む場合、例えば、液晶ポリマー樹脂からシート材を作製し、このシート材を金属箔に重ねることで、第一の樹脂層21を作製できる。 Liquid crystal polymer resins include, for example, polycondensates of ethylene terephthalate and parahydroxybenzoic acid, polycondensates of phenol and phthalic acid and parahydroxybenzoic acid, and polycondensates of 2,6-hydroxynaphthoic acid and parahydroxybenzoic acid. It can contain at least one component selected from the group consisting of polycondensates. When the first resin layer 21 contains a liquid crystal polymer resin, for example, the first resin layer 21 can be produced by producing a sheet material from the liquid crystal polymer resin and stacking this sheet material on a metal foil.

ポリイミド樹脂は、例えば、以下の方法で製造できる。まず、テトラカルボン酸二無水物とジアミン成分との重縮合によりポリアミド酸を生成させる。テトラカルボン酸二無水物は、3,3´,4,4´-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物を含有することが好ましい。ジアミン成分は、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、4,4´-ジアミノジフェニルエーテル、及びビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホンからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。次に、ポリアミド酸を溶剤中で加熱して、還元反応によりイミド化させる。これにより、ポリイミド樹脂が生成する。溶剤は、例えばN-メチル-2-ピロリドン、メチルエチルケトン、トルエン、ジメチルアセトアミド、ジメチルフォルムアミド、及びメトキシプロパノールからなる成分から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。加熱温度は、例えば60℃以上250℃以下、好ましくは100℃以上200℃以下であり、加熱時間は、例えば0.5時間以上50時間以下である。第一の樹脂層21がポリイミド樹脂を含む場合、例えば金属箔10にポリイミド樹脂を含有する樹脂液を塗布してから、加熱して乾燥させることで、第一の樹脂層21を作製できる。 A polyimide resin can be produced, for example, by the following method. First, a polyamic acid is produced by polycondensation of a tetracarboxylic dianhydride and a diamine component. The tetracarboxylic dianhydride preferably contains 3,3′,4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride. The diamine component is selected from the group consisting of 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, and bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone. can contain at least one component that Next, polyamic acid is heated in a solvent and imidized by a reduction reaction. This produces a polyimide resin. The solvent can contain at least one component selected from components consisting of, for example, N-methyl-2-pyrrolidone, methyl ethyl ketone, toluene, dimethylacetamide, dimethylformamide, and methoxypropanol. The heating temperature is, for example, 60° C. or more and 250° C. or less, preferably 100° C. or more and 200° C. or less, and the heating time is, for example, 0.5 hours or more and 50 hours or less. When the first resin layer 21 contains a polyimide resin, for example, the first resin layer 21 can be produced by applying a resin liquid containing a polyimide resin to the metal foil 10 and then heating and drying it.

ポリアミドイミド樹脂は、例えば、以下の方法で製造できる。まず、無水トリメリット酸、4,4'-ジイソシアナト-3,3'-ジメチルビフェニル、2,4―ジイソシアン酸トリレン、ジアザビシクロウンデセン、及びN,N-ジメチルアセトアミドを混合して混合物を調製する。次に、この混合物を加熱して反応させることで、ポリアミドイミドを含有する混合液を得る。次に、混合液を冷却した後に、ビスマレイミドを配合する。これにより、ポリアミドイミドを含有する樹脂液が得られる。第一の樹脂層21がポリアミドイミド樹脂を含む場合、例えば、ポリアミドイミド樹脂を含有する樹脂液を金属箔10の上に塗布してから、加熱して乾燥させることで、第一の樹脂層21を作製できる。 A polyamide-imide resin can be produced, for example, by the following method. First, trimellitic anhydride, 4,4′-diisocyanato-3,3′-dimethylbiphenyl, tolylene 2,4-diisocyanate, diazabicycloundecene, and N,N-dimethylacetamide are mixed to prepare a mixture. do. Next, by heating and reacting this mixture, a mixed liquid containing polyamideimide is obtained. Next, after cooling the liquid mixture, bismaleimide is blended. Thereby, a resin liquid containing polyamide-imide is obtained. When the first resin layer 21 contains a polyamide-imide resin, for example, a resin solution containing the polyamide-imide resin is applied onto the metal foil 10 and then heated and dried to form the first resin layer 21. can be made.

フッ素樹脂は、例えばポリテトラフルオロエチレンを含む。 Fluororesins include, for example, polytetrafluoroethylene.

ポリフェニレンエーテル樹脂は、炭素-炭素二重結合を有する置換基を末端に有することが好ましい。第一の樹脂層21がポリフェニレンエーテル樹脂を含む場合、第一の樹脂層21は更に炭素-炭素二重結合を有する架橋剤を含むことが好ましい。架橋剤は、例えばジビニルベンゼン、ポリブタジエン、アルキル(メタ)アクリレート、トリシクロデカノール(メタ)アクリレート、フルオレン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、及びトリメチロールプロパン(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。ポリフェニレンエーテル樹脂と架橋剤の合計量に対する、ポリフェニレンエーテル樹脂の量は、例えば65質量%以上95質量%以下である。第一の樹脂層21がポリフェニレンエーテル樹脂を含む場合、例えばポリフェニレンエーテル樹脂と架橋剤とを含有する樹脂液を、金属箔10の上に塗布してから熱硬化させることで、第一の樹脂層21を作製できる。 The polyphenylene ether resin preferably has a terminal substituent having a carbon-carbon double bond. When the first resin layer 21 contains polyphenylene ether resin, the first resin layer 21 preferably further contains a cross-linking agent having a carbon-carbon double bond. Cross-linking agents are, for example, from the group consisting of divinylbenzene, polybutadiene, alkyl (meth)acrylates, tricyclodecanol (meth)acrylates, fluorene (meth)acrylates, isocyanurate (meth)acrylates, and trimethylolpropane (meth)acrylates. It can contain at least one selected component. The amount of the polyphenylene ether resin is, for example, 65% by mass or more and 95% by mass or less with respect to the total amount of the polyphenylene ether resin and the cross-linking agent. When the first resin layer 21 contains a polyphenylene ether resin, for example, a resin liquid containing a polyphenylene ether resin and a cross-linking agent is applied onto the metal foil 10 and then thermally cured to form the first resin layer. 21 can be made.

第一の樹脂層21は、図1Aに示すように単一の層でもよいが、複数の層で構成されていてもよい。例えば第一の樹脂層21が、図1Bに示すように、互いに組成の異なる第一の層211及び第二の層212を含んでいてもよい。 The first resin layer 21 may be a single layer as shown in FIG. 1A, or may be composed of a plurality of layers. For example, the first resin layer 21 may include a first layer 211 and a second layer 212 having different compositions, as shown in FIG. 1B.

例えば第一の層211及び第二の層212の各々は液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含み、かつ互いに組成が異なっている。 For example, each of the first layer 211 and the second layer 212 contains at least one component selected from the group consisting of liquid crystal polymer resins, polyimide resins, polyamideimide resins, fluororesins and polyphenylene ether resins, and has compositions that are different from each other. different.

第一の層211及び第二の層212は、例えば、金属箔10上に、上記と同様の方法で第一の層211と第二の層212を順次作製することで作製できる。具体的には、まず、第一の層211の成分を含む樹脂液を金属箔10に塗布し、乾燥させることで第一の層211を作製する。次に、第二の層212の成分を含有する樹脂液を第一の層211に塗布し、乾燥させることで第二の層212を作製する。第一の層211及び第二の層212は、樹脂液ではなくシート材から作製してもよい。 The first layer 211 and the second layer 212 can be produced, for example, by sequentially producing the first layer 211 and the second layer 212 on the metal foil 10 in the same manner as described above. Specifically, first, the first layer 211 is produced by applying a resin liquid containing the components of the first layer 211 to the metal foil 10 and drying it. Next, a resin liquid containing components of the second layer 212 is applied to the first layer 211 and dried to form the second layer 212 . The first layer 211 and the second layer 212 may be made of sheet material instead of liquid resin.

第二の樹脂層22は、前記熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含むことが好ましい。このため第二の樹脂層22は、前記熱硬化性樹脂組成物を第一の樹脂層21に塗布した後に乾燥又は半硬化させることによって作製することができる。この場合の前記熱硬化性樹脂組成物の加熱条件は、例えば、加熱温度100℃以上160℃以下が好ましく、加熱時間5分以上10分以下が好ましい。第二の樹脂層22は、前記熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む樹脂シートを第一の樹脂層21上に重ねることで第二の樹脂層22を作製してもよい。 The second resin layer 22 preferably contains a dried or semi-cured material of the thermosetting resin composition. Therefore, the second resin layer 22 can be produced by applying the thermosetting resin composition to the first resin layer 21 and then drying or semi-curing it. In this case, the heating conditions for the thermosetting resin composition are preferably, for example, a heating temperature of 100° C. or higher and 160° C. or lower, and a heating time of 5 minutes or longer and 10 minutes or shorter. The second resin layer 22 may be produced by stacking a resin sheet containing a dried or semi-cured thermosetting resin composition on the first resin layer 21. .

図1Bに示す樹脂付き金属箔1では、第一の樹脂層21が二つの層(第一の層211及び第二の層212)を含むが、三つ以上の層を含んでいてもよい。例えば、第一の樹脂層21が、第一の層、第二の層、及び第三の層を含み、これらの層がこの順に積層していてもよい。この場合、第一の層と第二の層は組成が異なり、第二の層と第三の層は組成が異なるが、第一の層と第三の層は、組成が異なっていてもよく、組成が同じでもよい。 In metal foil 1 with resin shown in FIG. 1B, first resin layer 21 includes two layers (first layer 211 and second layer 212), but may include three or more layers. For example, the first resin layer 21 may include a first layer, a second layer, and a third layer, and these layers may be laminated in this order. In this case, the first layer and the second layer have different compositions, and the second layer and the third layer have different compositions, but the first layer and the third layer may have different compositions. , may have the same composition.

樹脂層20は、前記熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む単一の層であってもよい。この場合、例えば金属箔10上に前記熱硬化性樹脂組成物を塗布法等によりシート状に成形してから、加熱することで乾燥させ又は半硬化させることで、樹脂層20を作製できる。この場合の前記熱硬化性樹脂組成物の加熱条件は、例えば、加熱温度100℃以上160℃以下が好ましく、加熱時間5分以上10分以下が好ましい。 The resin layer 20 may be a single layer containing the dried or semi-cured material of the thermosetting resin composition. In this case, for example, the resin layer 20 can be produced by forming the thermosetting resin composition on the metal foil 10 into a sheet shape by a coating method or the like, and then drying or semi-curing the sheet by heating. In this case, the heating conditions for the thermosetting resin composition are preferably, for example, a heating temperature of 100° C. or higher and 160° C. or lower, and a heating time of 5 minutes or longer and 10 minutes or shorter.

2-4.金属張積層板
本実施形態に係る金属張積層板2について説明する。
2-4. Metal-clad laminate The metal-clad laminate 2 according to this embodiment will be described.

金属張積層板2は、図2A~図2Dに示すように、絶縁層30と金属箔10とを備える。 The metal-clad laminate 2 includes an insulating layer 30 and a metal foil 10, as shown in FIGS. 2A to 2D.

金属張積層板2は、その最外層に金属箔10を備える。金属張積層板2は、一つの金属箔10を備えてもよく、複数の金属箔10を備えてもよい。金属張積層板2が複数の金属箔10を備える場合、金属張積層板2は、その最外層に、複数の金属箔10のうちの一つを備える。 The metal-clad laminate 2 has a metal foil 10 as its outermost layer. The metal-clad laminate 2 may include one metal foil 10 or multiple metal foils 10 . When the metal-clad laminate 2 includes a plurality of metal foils 10, the metal-clad laminate 2 includes one of the plurality of metal foils 10 in its outermost layer.

絶縁層30は、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。絶縁層30は液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含むことが好ましい。 The insulating layer 30 contains a cured product of the thermosetting resin composition. The insulating layer 30 preferably contains at least one component selected from the group consisting of liquid crystal polymer resins, polyimide resins, polyamideimide resins, fluorine resins and polyphenylene ether resins.

金属張積層板2は、図2A及び図2Bに示すように絶縁層30を一つのみ備えてもよく、図2C及び図2Dに示すように二以上の絶縁層30を備えてもよい。 The metal-clad laminate 2 may have only one insulating layer 30 as shown in FIGS. 2A and 2B, or may have two or more insulating layers 30 as shown in FIGS. 2C and 2D.

金属張積層板2が絶縁層30を一つのみ備える場合、絶縁層30は、例えば前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層のみを備え、又は前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層と、それ以外の層とを備える。例えば絶縁層30は、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層と、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含む層とを、備えてもよい。この場合、例えば絶縁層30は、第一の層301と、第一の層301に重なる第二の層302とを備えてもよい。第一の層301は、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含む。第二の層302は、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。第一の層301の厚みは、例えば1μm以上50μm以下である。第二の層302の厚みは、例えば5μm以上50μm以下である。 When the metal-clad laminate 2 includes only one insulating layer 30, the insulating layer 30 includes, for example, only a layer containing a cured product of the thermosetting resin composition, or a cured product of the thermosetting resin composition. and a layer other than that. For example, the insulating layer 30 includes a layer containing a cured product of the thermosetting resin composition, and at least one component selected from the group consisting of liquid crystal polymer resins, polyimide resins, polyamideimide resins, fluororesins, and polyphenylene ether resins. and a layer comprising. In this case, for example, the insulating layer 30 may comprise a first layer 301 and a second layer 302 overlapping the first layer 301 . The first layer 301 contains at least one component selected from the group consisting of liquid crystal polymer resins, polyimide resins, polyamideimide resins, fluororesins and polyphenylene ether resins. The second layer 302 contains a cured product of the thermosetting resin composition. The thickness of the first layer 301 is, for example, 1 μm or more and 50 μm or less. The thickness of the second layer 302 is, for example, 5 μm or more and 50 μm or less.

金属張積層板2が二以上の絶縁層30を備える場合、二以上の絶縁層30は、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層30を含めばよく、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含む絶縁層30を含むことが好ましい。二以上の絶縁層30は、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物と、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分とを含む絶縁層30を含むことも好ましい。この場合、二以上の絶縁層30のうち少なくとも一つが、上記の第一の層301と、第一の層301に重なる第二の層302とを備える層であってもよい。二以上の絶縁層30のいずれもが液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含めば、更に好ましい。 When the metal-clad laminate 2 includes two or more insulating layers 30, the two or more insulating layers 30 may include the insulating layer 30 containing the cured product of the thermosetting resin composition, liquid crystal polymer resin, polyimide resin , polyamideimide resin, fluororesin, and polyphenylene ether resin. The two or more insulating layers 30 are composed of a cured product of the thermosetting resin composition and at least one component selected from the group consisting of liquid crystal polymer resins, polyimide resins, polyamideimide resins, fluororesins and polyphenylene ether resins. It is also preferred to include an insulating layer 30 comprising. In this case, at least one of the two or more insulating layers 30 may be a layer comprising the first layer 301 and the second layer 302 overlapping the first layer 301 . More preferably, each of the two or more insulating layers 30 contains at least one component selected from the group consisting of liquid crystal polymer resins, polyimide resins, polyamideimide resins, fluorine resins and polyphenylene ether resins.

金属箔10としては、上記「2-3.樹脂付き金属箔」で説明した金属箔10と同じ素材、厚みのものを使用できる。 As the metal foil 10, the same material and thickness as those of the metal foil 10 described in "2-3. Resin-coated metal foil" can be used.

金属張積層板2が前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層30を備えることで、絶縁層30の低誘電率化及び低誘電正接化を達成できる。また、絶縁層30は高い耐熱性を有することができる。さらに、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物は樹脂及び金属との高い密着性を有するため、絶縁層30とこれに接する層とは高い密着性を有することができる。 By providing the metal-clad laminate 2 with the insulating layer 30 containing the cured product of the thermosetting resin composition, it is possible to achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent of the insulating layer 30 . Also, the insulating layer 30 can have high heat resistance. Furthermore, since the cured product of the thermosetting resin composition has high adhesion to resin and metal, the insulating layer 30 and the layer in contact therewith can have high adhesion.

金属張積層板2の絶縁層30が上記の第一の層301及び第二の層302を備えると、絶縁層30の更なる低誘電率化及び低誘電正接化を達成できる。また、絶縁層30は高い耐熱性を有することができる。さらに、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物は樹脂及び金属との高い密着性を有するため、第二の層302とこれに接する層とは高い密着性を有することができる。 When the insulating layer 30 of the metal-clad laminate 2 includes the first layer 301 and the second layer 302, the dielectric constant and the dielectric loss tangent of the insulating layer 30 can be further lowered. Also, the insulating layer 30 can have high heat resistance. Furthermore, since the cured product of the thermosetting resin composition has high adhesion to resin and metal, the second layer 302 and the layer in contact therewith can have high adhesion.

図2A~図2Dに示す金属張積層板2について、更に詳しく説明する。 The metal-clad laminate 2 shown in FIGS. 2A to 2D will be described in more detail.

図2Aに示す金属張積層板2は、金属箔10、第一の層301及び第二の層302を備え、これらがこの順に積層している。図2Aに示す金属張積層板2は、例えば、金属箔10、第一の層301の成分を含有するシート材、及び前記熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む樹脂シートを、この順に重ねてから、熱プレスすることによって製造することができる。 The metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2A includes a metal foil 10, a first layer 301 and a second layer 302, which are laminated in this order. The metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2A includes, for example, a metal foil 10, a sheet material containing the components of the first layer 301, and a resin sheet containing a dried or semi-cured material of the thermosetting resin composition. , can be manufactured by stacking them in this order and then hot-pressing them.

なお、図2Aに示す金属張積層板2において、金属箔10、第二の層302及び第一の層301がこの順に積層していてもよい。すなわち、第一の層301と第二の層302は、図1Aに示す例とは逆の順に積層されていてもよい。また、第一の層301が二以上の層を含んでもよい。その場合、第一の層301内で直接接し合う二つの層は互いに異なる組成を有する。第一の層301内で直接接し合わない二つの層は互いに同一の組成を有していても異なる組成を有していてもよい。 In addition, in the metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2A, the metal foil 10, the second layer 302 and the first layer 301 may be laminated in this order. That is, the first layer 301 and the second layer 302 may be laminated in the reverse order of the example shown in FIG. 1A. Also, the first layer 301 may comprise two or more layers. In that case, the two layers in direct contact within the first layer 301 have different compositions. Two layers in the first layer 301 that are not in direct contact with each other may have the same composition or different compositions.

図2Bに示す金属張積層板2は、金属箔10(第一の金属箔11)、絶縁層30、及び金属箔10(第二の金属箔12)を備え、これらがこの順に積層している。すなわち、図2Bに示す金属張積層板2は、第二の金属箔12を更に備えること以外は、図2Aに示す金属張積層板2と同じ構成を有する。図2Bに示す金属張積層板2は、例えば第一の金属箔11、第一の層301の成分を含有するシート材、第二の層302の成分を含有するシート材、及び第二の金属箔12を用意し、これらをこの順に積層してから、熱プレスすることで、製造することができる。 The metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2B includes a metal foil 10 (first metal foil 11), an insulating layer 30, and a metal foil 10 (second metal foil 12), which are laminated in this order. . That is, the metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2B has the same configuration as the metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2A except that the second metal foil 12 is further provided. The metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2B includes, for example, the first metal foil 11, the sheet material containing the components of the first layer 301, the sheet material containing the components of the second layer 302, and the second metal It can be manufactured by preparing the foil 12, laminating them in this order, and then hot-pressing them.

図2Cに示す金属張積層板2は、金属箔10(第一の金属箔11)と、絶縁層30(第一の絶縁層31)と、導体層50と、絶縁層30(第二の絶縁層32)とを、この順に積層して備える。第一の絶縁層31は、第一の層301と第二の層302とを備える。第一の絶縁層31の構成は、図2Aに示す金属張積層板2における絶縁層30と同じでよい。第二の絶縁層32は、熱硬化性樹脂組成物、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含むことが好ましい。導体層50は、例えば金属箔又は導体配線である。図2Cに示す金属張積層板2は、例えば金属箔10(第一の金属箔11)、第一の層301の成分を含有するシート材、第二の層302の成分を含有するシート材、導体層50、及び第二の絶縁層32の成分を含有するシート材を用意し、これらをこの順に重ねて熱プレスすることで、製造できる。 The metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2C includes a metal foil 10 (first metal foil 11), an insulating layer 30 (first insulating layer 31), a conductor layer 50, and an insulating layer 30 (second insulating layer 30). layer 32) are laminated in this order. The first insulating layer 31 comprises a first layer 301 and a second layer 302 . The configuration of the first insulating layer 31 may be the same as that of the insulating layer 30 in the metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2A. The second insulating layer 32 preferably contains at least one component selected from the group consisting of thermosetting resin compositions, liquid crystal polymer resins, polyimide resins, polyamideimide resins, fluororesins and polyphenylene ether resins. The conductor layer 50 is, for example, metal foil or conductor wiring. The metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2C includes, for example, a metal foil 10 (first metal foil 11), a sheet material containing the components of the first layer 301, a sheet material containing the components of the second layer 302, It can be manufactured by preparing a sheet material containing the components of the conductor layer 50 and the second insulating layer 32, stacking them in this order, and hot-pressing them.

図2Dに示す金属張積層板2は、金属箔10(第一の金属箔11)、絶縁層30(第一の絶縁層31)、導体層50、絶縁層30(第二の絶縁層32)及び金属箔10(第二の金属箔12)を、この順に積層して備える。第一の絶縁層31は、第一の層301と第二の層302とを備える。すなわち、図2Dに示す金属張積層板2は、第二の金属箔12を更に備えること以外は、図2Cに示す金属張積層板2と同じ構成を有する。図2Dに示す金属張積層板2は、例えば第一の金属箔11、第一の層301の成分を含有するシート材、第二の層302の成分を含有するシート材、導体層50、第二の絶縁層の成分を含有するシート材及び第二の金属箔12を用意し、これらをこの順に積層して、熱プレスすることで、製造できる。導体層50は金属箔である。 The metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2D includes a metal foil 10 (first metal foil 11), an insulating layer 30 (first insulating layer 31), a conductor layer 50, and an insulating layer 30 (second insulating layer 32). and metal foil 10 (second metal foil 12) are laminated in this order. The first insulating layer 31 comprises a first layer 301 and a second layer 302 . That is, the metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2D has the same configuration as the metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2C except that the second metal foil 12 is further provided. The metal-clad laminate 2 shown in FIG. 2D includes, for example, the first metal foil 11, the sheet material containing the components of the first layer 301, the sheet material containing the components of the second layer 302, the conductor layer 50, the It can be manufactured by preparing a sheet material containing the components of the two insulating layers and the second metal foil 12, laminating them in this order, and hot-pressing them. The conductor layer 50 is a metal foil.

金属張積層板2の構成は、図2A~図2Dに示す具体例に限られない。例えば、金属張積層板2は、一以上の金属箔10と、二以上の導体層50と、三以上の絶縁層30とを備えてもよい。導体層50は、隣合う二つの絶縁層30の間に介在する。金属箔10は、金属張積層板2の最外層にある。三以上の絶縁層30のうち少なくとも一つは、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。三以上の絶縁層30のうち少なくとも一つは、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含むことが好ましい。 The configuration of the metal-clad laminate 2 is not limited to the specific examples shown in FIGS. 2A to 2D. For example, the metal-clad laminate 2 may include one or more metal foils 10 , two or more conductor layers 50 and three or more insulating layers 30 . The conductor layer 50 is interposed between two adjacent insulating layers 30 . The metal foil 10 is the outermost layer of the metal-clad laminate 2 . At least one of the three or more insulating layers 30 contains a cured product of the thermosetting resin composition. At least one of the three or more insulating layers 30 preferably contains at least one component selected from the group consisting of liquid crystal polymer resins, polyimide resins, polyamideimide resins, fluorine resins and polyphenylene ether resins.

2-5.プリント配線板
本実施形態に係るプリント配線板3は、図3A~図3Dに示すように、絶縁層30と導体配線60とを備える。プリント配線板3は、その最外層に導体配線60を備える。絶縁層30は、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。この場合、絶縁層30の低誘電率化及び低誘電正接化を達成できると共に、絶縁層30に高い耐熱性及び耐燃性を付与できる。さらに、絶縁層30と、絶縁層30と直接接する層との密着性を向上させられる。
2-5. Printed Wiring Board The printed wiring board 3 according to the present embodiment includes an insulating layer 30 and conductor wiring 60, as shown in FIGS. 3A to 3D. The printed wiring board 3 has conductor wiring 60 on its outermost layer. The insulating layer 30 contains a cured product of the thermosetting resin composition. In this case, a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent of the insulating layer 30 can be achieved, and high heat resistance and flame resistance can be imparted to the insulating layer 30 . Furthermore, the adhesion between the insulating layer 30 and the layer in direct contact with the insulating layer 30 can be improved.

プリント配線板3は、図3A及び図3Bに示すように、一つの絶縁層30を含んでいてもよく、図3C及び図3Dに示すように、複数の絶縁層30を含んでいてもよい。プリント配線板3が複数の絶縁層30を含む場合、少なくとも一つの絶縁層30が前記熱硬化性樹脂組成物を含む。また少なくとも一つの絶縁層30が、前記熱硬化性樹脂組成物とは異なる、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含むことが好ましい。特に図3C及び図3Dに示すプリント配線板3は、一以上の導体配線60と二以上の絶縁層30とを備えることから、多層プリント配線板4でもある。 The printed wiring board 3 may include one insulating layer 30 as shown in FIGS. 3A and 3B, or may include a plurality of insulating layers 30 as shown in FIGS. 3C and 3D. When the printed wiring board 3 includes a plurality of insulating layers 30, at least one insulating layer 30 includes the thermosetting resin composition. At least one insulating layer 30 contains at least one component selected from the group consisting of liquid crystal polymer resins, polyimide resins, polyamideimide resins, fluororesins and polyphenylene ether resins, which is different from the thermosetting resin composition. is preferred. In particular, the printed wiring board 3 shown in FIGS. 3C and 3D is also the multilayer printed wiring board 4 because it includes one or more conductor wirings 60 and two or more insulating layers 30 .

絶縁層30は、単一の層で構成されていてもよく、複数の層で構成されていてもよい。図3A~図3Dに示すプリント配線板3は、第一の層301と、第一の層301と重なる第二の層302とで構成された絶縁層30を含む。絶縁層30の構成は、上記「2-4.金属張積層板」で説明した絶縁層30と同様の構成を有する。 The insulating layer 30 may be composed of a single layer, or may be composed of a plurality of layers. A printed wiring board 3 shown in FIGS. 3A to 3D includes an insulating layer 30 composed of a first layer 301 and a second layer 302 overlapping the first layer 301 . The structure of the insulating layer 30 is the same as that of the insulating layer 30 described above in “2-4. Metal-clad laminate”.

図3A~図3Dに示すプリント配線板3について、更に詳しく説明する。 The printed wiring board 3 shown in FIGS. 3A to 3D will be described in more detail.

図3Aに示すプリント配線板3は、導体配線60、第一の層301、及び第二の層302を、この順に積層して備えている。このプリント配線板3は、金属箔10に代えて導体配線60を有する以外は、図2Aに示す金属張積層板2と同じ構成を有する。このプリント配線板3は、例えば図2Aに示す金属張積層板2における金属箔10の不要部分をエッチングなどで除去して導体配線60を作製することで、製造できる。 The printed wiring board 3 shown in FIG. 3A includes conductor wiring 60, a first layer 301, and a second layer 302, which are laminated in this order. This printed wiring board 3 has the same configuration as the metal-clad laminate 2 shown in FIG. This printed wiring board 3 can be manufactured by, for example, removing unnecessary portions of the metal foil 10 in the metal-clad laminate 2 shown in FIG.

図3Bに示すプリント配線板3は、導体配線60、絶縁層30、及び導体層50をこの順に積層して備えている。このプリント配線板3は、第一の金属箔11の代わりに導体配線60を含み、第二の金属箔12の代わりに導体層50(第二の導体層52)を含むこと以外は、図2Bに示す金属張積層板2と同様の構成を備える。このため、プリント配線板3は、例えば、図2Bに示す金属張積層板2における第一の金属箔11の不要部分をエッチングなどで除去して導体配線60を作製すると共に、第二の金属箔12の代わりに第二の導体層52用の金属箔を適用することで製造できる。 The printed wiring board 3 shown in FIG. 3B includes a conductor wiring 60, an insulating layer 30, and a conductor layer 50 laminated in this order. This printed wiring board 3 includes a conductor wiring 60 instead of the first metal foil 11, and a conductor layer 50 (second conductor layer 52) instead of the second metal foil 12, as shown in FIG. has the same configuration as the metal-clad laminate 2 shown in FIG. For this reason, the printed wiring board 3 is produced by, for example, removing an unnecessary portion of the first metal foil 11 in the metal-clad laminate 2 shown in FIG. It can be manufactured by applying a metal foil for the second conductor layer 52 instead of 12 .

図3Cに示すプリント配線板3は、導体配線60、絶縁層30(第一の絶縁層31)、導体層50、及び絶縁層30(第二の絶縁層32)を、この順に積層して備えている。このプリント配線板3は、金属箔10に代えて導体配線60を有する以外は、図2Cに示す金属張積層板2と同じ構成を有する。このプリント配線板3は、例えば、図2Cに示す金属張積層板2における金属箔10の不要部分をエッチング等により除去して導体配線60を作製することで、製造できる。 The printed wiring board 3 shown in FIG. 3C includes a conductor wiring 60, an insulating layer 30 (first insulating layer 31), a conductor layer 50, and an insulating layer 30 (second insulating layer 32) laminated in this order. ing. This printed wiring board 3 has the same configuration as the metal-clad laminate 2 shown in FIG. This printed wiring board 3 can be manufactured, for example, by removing unnecessary portions of the metal foil 10 in the metal-clad laminate 2 shown in FIG.

図3Dに示すプリント配線板3は、導体配線60、絶縁層30(第一の絶縁層31)、導体層50(第一の導体層51)、絶縁層30(第二の絶縁層32)、及び導体層50(第二の導体層52)を、この順に積層して備える。このプリント配線板3は、第一の金属箔11の代わりに導体配線60を含み、第二の金属箔12の代わりに導体層50(第二の導体層52)を含むこと以外は、図2Dに示す金属張積層板2と同様の構成を備える。このプリント配線板2は、例えば、図2Dに示す金属張積層板2おける第一の金属箔11の不要部分をエッチングなどで除去して導体配線60を作製すると共に、第二の金属箔12の代わりに第二の導体層52用の金属箔を適用することで製造できる。 The printed wiring board 3 shown in FIG. 3D includes conductor wiring 60, insulation layer 30 (first insulation layer 31), conductor layer 50 (first conductor layer 51), insulation layer 30 (second insulation layer 32), and a conductor layer 50 (second conductor layer 52) laminated in this order. This printed wiring board 3 includes a conductor wiring 60 instead of the first metal foil 11, and a conductor layer 50 (second conductor layer 52) instead of the second metal foil 12, as shown in FIG. 2D. has the same configuration as the metal-clad laminate 2 shown in FIG. For this printed wiring board 2, for example, an unnecessary portion of the first metal foil 11 in the metal-clad laminate 2 shown in FIG. Alternatively, it can be manufactured by applying a metal foil for the second conductor layer 52 .

図3C及び3Dに示すプリント配線板3は、二つの絶縁層30を備えているが、これに限られない。例えばプリント配線板3が、3つ以上の絶縁層30を備えていてもよい。 The printed wiring board 3 shown in FIGS. 3C and 3D has two insulating layers 30, but is not limited to this. For example, the printed wiring board 3 may have three or more insulating layers 30 .

以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。なお、本発明は、この実施例のみには制限されない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. It should be noted that the present invention is not limited only to this embodiment.

1.樹脂シートの作製
表1及び表2中の「組成」の欄に示す成分を、トルエンに溶解させることで、固形分濃度25質量%の実施例1~21、及び比較例1~3の熱硬化性樹脂組成物を得た。
1. Preparation of resin sheet By dissolving the components shown in the “Composition” column in Tables 1 and 2 in toluene, heat curing of Examples 1 to 21 with a solid content concentration of 25% by mass and Comparative Examples 1 to 3 A flexible resin composition was obtained.

コンマコーター及びこれに接続された乾燥機を用いて、厚み38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に熱硬化性樹脂組成物を塗布してから、熱硬化性樹脂組成物を110℃で5分間加熱することで、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に厚み25μmの樹脂シートを作製した。これにより、実施例1~21及び比較例1~3の樹脂シートを作製した。
・共重合体1:エチレン-プロピレン-ジエン共重合体、ムーニー粘度(ML(1+4)100℃)15、エチレン含有量72%、ジエン含有量3.6%、三井化学株式会社製、品番X-3012P。
・共重合体2:エチレン-プロピレン-ジエン共重合体、ムーニー粘度(ML(1+4)125℃)25、エチレン含有量70%、ジエン含有量4.9%、Dow製、品番NORDEL IP4725P。
・共重合体3:エチレン-プロピレン-ジエン共重合体、ムーニー粘度(ML(1+4)100℃)20、エチレン含有量77%、ジエン含有量10.4%、三井化学製、品番K-9720。
・PPE:末端変性ポリフェニレンエーテル化合物、三菱瓦斯化学株式会社製、品番OPE-2St。
・エラストマー1:クラレ製、品名セプトンV9827。
・エラストマー2:クラレ製、品名セプトン8007。
・無機充填材1:ビニルシランにより表面処理された球状シリカ、株式会社アドマテックス製、品番0.5μmSV-CT1(25%トルエン含有スラリー)。
・無機充填材2:メタクリルシランにより表面処理された球状シリカ、株式会社アドマテックス製、品番0.5μmSM-CT1(25%トルエン含有スラリー)。
・重合性不飽和基を有する有機化合物1:トリアリルイソシアヌレート、三菱ケミカル株式会社製、品番TAIC。
・重合性不飽和基を有する有機化合物2:トリアリルトリメリテート、富士フィルム和光純薬株式会社製、品番TRIAM-705。
・重合性不飽和基を有する有機化合物3:ジビニルベンゼン。
・重合性不飽和基を有する有機化合物4:トリビニルシクロヘキサン。
・重合性不飽和基を有する有機化合物5:トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、新中村化学製、品番DCP。
・重合性不飽和基を有する有機化合物6:ビスマレイミド、DESIGNER MOLECULES製、品番BMI-689。
・難燃剤1:臭素含有難燃剤、融点350℃、臭素含有量82%、アルベマール株式会社製、品名SAYTEX8010。
・難燃剤2:リン含有難燃剤、大八化学工業株式会社製、品番PX-200。
・難燃剤3:リン含有難燃剤、第一工業製薬製、品番PQ-60
・熱ラジカル重合開始剤:日油株式会社製、品名パーブチルP。
Using a comma coater and a dryer connected thereto, a thermosetting resin composition is applied onto a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm, and then the thermosetting resin composition is heated at 110° C. for 5 minutes. A resin sheet having a thickness of 25 μm was prepared on a polyethylene terephthalate film. Thus, resin sheets of Examples 1 to 21 and Comparative Examples 1 to 3 were produced.
Copolymer 1: ethylene-propylene-diene copolymer, Mooney viscosity (ML (1 + 4) 100 ° C.) 15, ethylene content 72%, diene content 3.6%, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., product number X- 3012P.
Copolymer 2: ethylene-propylene-diene copolymer, Mooney viscosity (ML(1+4) 125° C.) 25, ethylene content 70%, diene content 4.9%, manufactured by Dow, part number NORDEL IP4725P.
Copolymer 3: ethylene-propylene-diene copolymer, Mooney viscosity (ML (1+4) 100° C.) 20, ethylene content 77%, diene content 10.4%, manufactured by Mitsui Chemicals, product number K-9720.
· PPE: terminal-modified polyphenylene ether compound, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., product number OPE-2St.
• Elastomer 1: Product name Septon V9827 manufactured by Kuraray.
• Elastomer 2: Product name Septon 8007 manufactured by Kuraray.
· Inorganic filler 1: Spherical silica surface-treated with vinylsilane, manufactured by Admatechs Co., Ltd., product number 0.5 μm SV-CT1 (slurry containing 25% toluene).
Inorganic filler 2: Spherical silica surface-treated with methacrylsilane, Admatechs Co., Ltd., product number 0.5 μm SM-CT1 (slurry containing 25% toluene).
- Organic compound 1 having a polymerizable unsaturated group: triallyl isocyanurate, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product number TAIC.
Organic compound 2 having a polymerizable unsaturated group: triallyl trimellitate, product number TRIAM-705 manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
Organic compound 3 having a polymerizable unsaturated group: divinylbenzene.
Organic compound 4 having a polymerizable unsaturated group: trivinylcyclohexane.
• Organic compound 5 having a polymerizable unsaturated group: Tricyclodecanedimethanol dimethacrylate, product number DCP, manufactured by Shin-Nakamura Chemical.
• Organic compound 6 having a polymerizable unsaturated group: Bismaleimide, manufactured by DESIGNER MOLECULES, product number BMI-689.
- Flame retardant 1: bromine-containing flame retardant, melting point 350°C, bromine content 82%, manufactured by Albemarle Co., Ltd., product name SAYTEX8010.
- Flame retardant 2: Phosphorus-containing flame retardant, manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd., product number PX-200.
・ Flame retardant 3: Phosphorus-containing flame retardant, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., product number PQ-60
- Thermal radical polymerization initiator: product name Perbutyl P manufactured by NOF Corporation.

2.評価
(I)Bステージフィルム性
実施例1~21及び比較例1~3の樹脂シートを対象にして、JIS K5600-5-1(耐屈曲性(円筒形マンドレル))に基づき、屈曲性試験を行った。その結果を、以下の基準で評価した。その結果を表1及び表2に示す。
A:クラック生じなかった。
B:φ10mmでクラックが生じた。
C:φ20mmでクラックが生じた。
-:未評価
(II)耐燃性
実施例1~21及び比較例1、2の樹脂シートからテストピースを作製し、UL94垂直法の規格に準拠する難燃性試験を行った。難燃性試験の結果、V-0の燃焼性クラスを満たすものを「A」、V-0の燃焼性クラスを満たさないものを「B」と評価した。その結果を表1及び表2に示す。
(III)熱膨張率
実施例1~21及び比較例1、2の樹脂シートを対象にして、熱機械分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製「TMA/SS6100」)を用いて、引っ張り測定を行った。熱機械分析装置の測定条件は、チャック間長を15mm、荷重を10g、350℃までの昇温速度を10℃/minとした。各樹脂シートの引っ張り測定の測定結果を示すTMA曲線から、各樹脂シートの常温からガラス転移温度未満の温度までの熱膨張係数を求めた。その結果を表1及び表2に示す。
(IV)誘電特性(比誘電率及び誘電正接)
厚み18μmの二つの銅箔を、その光沢面同士が対向するように配置し、二つの銅箔の間に樹脂シートを配置した。これらを200℃、2MPaの条件で1時間加熱プレスすることで、サンプルを作製した。このサンプルにエッチング処理を施すことで両面の銅箔を除去することで、実施例1~21及び比較例1,2の樹脂シートの硬化物からなる試験片を作製した。この試験片の、試験周波数10GHzの場合での比誘電率及び誘電正接を、IPC TM-650 2.5.5.5に基づいて測定した。
(V)はんだ耐熱性
厚み12μmの銅箔と厚み3μmのポリアミドイミド製の絶縁層とを備える基材を二つ用意した。二つの基材を絶縁層同士が対向するように配置し、更に絶縁層の間に樹脂シートを配置した。これらを200℃、2MPaの条件で1時間加熱プレスすることで、実施例1~21及び比較例1,2のサンプルを作製した。このサンプルから、JIS C6471に基づき試験片を作製した。この試験片を260℃、288℃、及び300℃のはんだ浴に3分間浮かべてから引き上げた後、試験片の外観を観察した。その結果、はんだ浴の温度が260℃、288℃、300℃のいずれの場合でも膨れ、はがれ等の異常が認められない場合を「A」、はんだ浴の温度が260℃では異常が認められないが288℃では以上が認められた場合を「B」、はんだ浴の温度が260℃、288℃、300℃のいずれの場合でも異常が認められた場合を「C」と、評価した。
2. Evaluation (I) B-stage film property A flexibility test was performed on the resin sheets of Examples 1 to 21 and Comparative Examples 1 to 3 based on JIS K5600-5-1 (flexibility (cylindrical mandrel)). gone. The results were evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 1 and 2.
A: No crack occurred.
B: A crack occurred at φ10 mm.
C: A crack occurred at φ20 mm.
-: Unevaluated (II) Flame Resistance Test pieces were prepared from the resin sheets of Examples 1 to 21 and Comparative Examples 1 and 2, and a flame retardancy test according to the UL94 vertical method was performed. As a result of the flame retardancy test, those satisfying the V-0 flammability class were evaluated as "A", and those not satisfying the V-0 flammability class were evaluated as "B". The results are shown in Tables 1 and 2.
(III) Thermal expansion coefficient The resin sheets of Examples 1 to 21 and Comparative Examples 1 and 2 were subjected to tensile measurement using a thermomechanical analyzer (“TMA/SS6100” manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd.). did The measurement conditions of the thermomechanical analyzer were a chuck-to-chuck length of 15 mm, a load of 10 g, and a heating rate of 10° C./min up to 350° C. The thermal expansion coefficient of each resin sheet from room temperature to a temperature below the glass transition temperature was obtained from the TMA curve showing the measurement results of the tensile measurement of each resin sheet. The results are shown in Tables 1 and 2.
(IV) Dielectric properties (relative permittivity and dielectric loss tangent)
Two copper foils having a thickness of 18 μm were arranged so that their glossy surfaces faced each other, and a resin sheet was arranged between the two copper foils. A sample was prepared by hot-pressing these under conditions of 200° C. and 2 MPa for 1 hour. This sample was subjected to an etching treatment to remove the copper foils on both sides, thereby preparing test pieces of the cured resin sheets of Examples 1 to 21 and Comparative Examples 1 and 2. The dielectric constant and dielectric loss tangent of this test piece at a test frequency of 10 GHz were measured according to IPC TM-650 2.5.5.5.
(V) Resistance to Soldering Heat Two substrates each having a 12 μm-thick copper foil and a 3 μm-thick insulating layer made of polyamideimide were prepared. Two substrates were arranged so that the insulating layers faced each other, and a resin sheet was arranged between the insulating layers. The samples of Examples 1 to 21 and Comparative Examples 1 and 2 were prepared by hot-pressing these under conditions of 200° C. and 2 MPa for 1 hour. A test piece was produced from this sample based on JIS C6471. The test piece was floated in solder baths at 260° C., 288° C. and 300° C. for 3 minutes and pulled up, and then the appearance of the test piece was observed. As a result, "A" indicates that no abnormality such as swelling or peeling is observed at any of the solder bath temperatures of 260°C, 288°C, and 300°C, and no abnormality is observed at the solder bath temperature of 260°C. When the solder bath temperature was 288°C, it was evaluated as "B", and when the solder bath temperature was 260°C, 288°C, or 300°C, it was evaluated as "C".

Figure 0007117498000007
Figure 0007117498000007

Figure 0007117498000008
Figure 0007117498000008

実施例1から21の熱硬化性樹脂組成物はフィルムを形成することができたが、共重合体(A)を含まない比較例1からは、フィルムを形成することができなかった。 The thermosetting resin compositions of Examples 1 to 21 were able to form films, but Comparative Example 1, which does not contain the copolymer (A), could not form films.

化合物(B)を含む実施例1~21の熱硬化性樹脂組成物と比べて、化合物(B)を含まない比較例2では、硬化物の熱膨張率が増大し、はんだ耐熱性が低下した。 Compared to the thermosetting resin compositions of Examples 1 to 21 containing the compound (B), in Comparative Example 2 containing no compound (B), the thermal expansion coefficient of the cured product increased and the solder heat resistance decreased. .

化合物(B)に対する共重合体(A)の量が、50質量部未満である実施例14は、50質量部以上である実施例1と比べて、Bステージフィルム性のクラックの評価が低下している。また100質量部を大きく超える実施例15は、耐燃性が低下した。 Example 14 in which the amount of the copolymer (A) to the compound (B) is less than 50 parts by mass has a lower B-stage film crack evaluation than Example 1 in which the amount is 50 parts by mass or more. ing. In addition, in Example 15, in which the amount greatly exceeded 100 parts by mass, the flame resistance was lowered.

共重合体(A)と化合物(B)の総量100質量部に対するエラストマー(C)の量が、50質量部を大きく超える実施例19は、50質量部を大きく超えない他の実施例と比べて、はんだ耐熱性及び耐燃性が低下している。 Example 19, in which the amount of the elastomer (C) greatly exceeds 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the copolymer (A) and the compound (B), is compared with the other examples that do not greatly exceed 50 parts by mass. , solder heat resistance and flame resistance are lowered.

共重合体(A)と化合物(B)の総量100質量部に対する無機充填材(D)の量が、30質量部以上である実施例1から15と比べて、30質量部未満である実施例16は、硬化物のはんだ耐熱性が若干低下した。無機充填剤(D)が含まれない実施例18は、硬化物のはんだ耐熱性がさらに低下した。無機充填剤(D)の量が500質量部を超えた実施例17は、Bステージフィルム性(クラック)の評価が低下した。 Examples in which the amount of the inorganic filler (D) with respect to 100 parts by mass of the total amount of the copolymer (A) and the compound (B) is less than 30 parts by mass compared to Examples 1 to 15 in which the amount is 30 parts by mass or more In No. 16, the solder heat resistance of the cured product was slightly lowered. In Example 18, which did not contain the inorganic filler (D), the solder heat resistance of the cured product was further lowered. In Example 17, in which the amount of the inorganic filler (D) exceeded 500 parts by mass, the evaluation of B-stage film properties (cracks) was lowered.

有機化合物(E)が含まれない実施例20は、共重合体(A)と化合物(B)の総量100質量部に対する有機化合物(E)の量が10質量部以上である実施例1から14、16から18よりも、耐燃性が低下した。 Example 20 containing no organic compound (E) corresponds to Examples 1 to 14 in which the amount of the organic compound (E) is 10 parts by mass or more relative to the total amount of 100 parts by mass of the copolymer (A) and the compound (B). , 16 to 18, the flame resistance decreased.

Claims (12)

エチレン-プロピレン-ジエン共重合体(A)と、
炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基により末端変性された末端変性ポリフェニレンエーテル化合物(B)と、を含み、
オレフィンユニットとスチレンユニットとを含む共重合体であるエラストマー(C)と、重合性不飽和結合を有する表面処理剤で表面処理された無機充填材(D)と、のうち少なくともいずれか一方を更に含む、
熱硬化性樹脂組成物。
an ethylene-propylene-diene copolymer (A);
A terminally modified polyphenylene ether compound (B) terminally modified with a substituent having a carbon-carbon unsaturated double bond ,
At least one of an elastomer (C) which is a copolymer containing an olefin unit and a styrene unit and an inorganic filler (D) surface-treated with a surface treatment agent having a polymerizable unsaturated bond is further added. include,
A thermosetting resin composition.
前記共重合体(A)の量は、前記化合物(B)100質量部に対して、50質量部以上200質量部以下である、
請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。
The amount of the copolymer (A) is 50 parts by mass or more and 200 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the compound (B).
The thermosetting resin composition according to claim 1.
前記エラストマー(C)を含み、
前記エラストマー(C)の量は、前記共重合体(A)と前記化合物(B)の総量100質量部に対して5質量部以上50質量部以下である、
請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
including the elastomer (C),
The amount of the elastomer (C) is 5 parts by mass or more and 50 parts by mass or less with respect to the total amount of 100 parts by mass of the copolymer (A) and the compound (B).
The thermosetting resin composition according to claim 1 or 2.
前記無機充填剤(D)を含み、
前記無機充填材(D)の量は、前記共重合体(A)と前記化合物(B)の総量100質量部に対して30質量部以上500質量部以下である、
請求項1から3のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
including the inorganic filler (D),
The amount of the inorganic filler (D) is 30 parts by mass or more and 500 parts by mass or less with respect to the total amount of 100 parts by mass of the copolymer (A) and the compound (B).
The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 3.
重合性不飽和基を含む有機化合物(E)を含む、
請求項1から4のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
Containing an organic compound (E) containing a polymerizable unsaturated group,
The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 4.
前記有機化合物(E)の量は、前記共重合体(A)と前記化合物(B)の総量100質量部に対して5質量部以上50質量部以下である、
請求項5に記載の熱硬化性樹脂組成物。
The amount of the organic compound (E) is 5 parts by mass or more and 50 parts by mass or less with respect to the total amount of 100 parts by mass of the copolymer (A) and the compound (B).
The thermosetting resin composition according to claim 5.
臭素またはリンを含有する難燃剤(F)を含む、
請求項1から6のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
a flame retardant (F) containing bromine or phosphorus,
The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 6.
請求項1から7のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む、
樹脂シート。
Including a dried or semi-cured product of the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 7,
resin sheet.
金属箔と、
前記金属箔に重なる樹脂層と、を備え、
前記樹脂層は、請求項1から7のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む、
樹脂付き金属箔。
metal foil;
and a resin layer overlapping the metal foil,
The resin layer comprises a dried or semi-cured product of the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 7,
Metal foil with resin.
前記樹脂層は、前記金属箔に重なる第一の樹脂層と、前記第一の樹脂層に重なる第二の樹脂層と、を含み、
前記第一の樹脂層は、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂及びポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含み、
前記第二の樹脂層は、前記熱硬化性樹脂組成物の乾燥物又は半硬化物を含む、
請求項9に記載の樹脂付き金属箔。
The resin layer includes a first resin layer overlapping the metal foil and a second resin layer overlapping the first resin layer,
The first resin layer contains at least one component selected from the group consisting of liquid crystal polymer resins, polyimide resins, polyamideimide resins, fluororesins and polyphenylene ether resins,
The second resin layer contains a dried or semi-cured product of the thermosetting resin composition,
The metal foil with resin according to claim 9.
絶縁層と、
金属箔と、を備え、
前記絶縁層は、請求項1から7のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む、
金属張積層板。
an insulating layer;
a metal foil;
The insulating layer comprises a cured product of the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 7,
Metal clad laminate.
絶縁層と、
導体配線と、を備え、
前記絶縁層は、請求項1から7のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む、
プリント配線板。
an insulating layer;
comprising conductor wiring and
The insulating layer comprises a cured product of the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 7,
printed wiring board.
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