JP7113994B1 - 片末端官能性オルガノポリシロキサンの製造方法、及び片末端官能性オルガノポリシロキサン組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
ケイ素原子数3~5のシクロポリシロキサンを原料とし、重合反応により下記一般式(1)
で示される片末端官能性オルガノポリシロキサンを製造する方法であって、近赤外線分光法を用いて重合反応中の反応液を分析することにより、60~95%の反応転化率になった時、反応を停止する片末端官能性オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
のいずれかで表される2価の有機基であるものを用いることが好ましい。
で示される両末端官能性オルガノポリシロキサンの含有量が0.01~2質量部となるように反応を停止することが好ましい。
片末端官能性オルガノポリシロキサン組成物であって、
(a)下記一般式(1)で示される片末端官能性オルガノポリシロキサン:100質量部、及び
(前記一般式(1)において、R1は独立して炭素数1~6のアルキル基、またはフェニル基であり、Aは水素原子、または下記一般式(2)または(3)で表される基であり、mは3~300を満たす整数である。)
(b)下記一般式(6)で示される両末端官能性オルガノポリシロキサン:0.01~2質量部、
を含むものである片末端官能性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
のいずれかで表される2価の有機基であることが好ましい。
ケイ素原子数3~5のシクロポリシロキサンを原料とし、重合反応により下記一般式(1)
で示される片末端官能性オルガノポリシロキサンを製造する方法であって、近赤外線分光法を用いて重合反応中の反応液を分析することにより、60~95%の反応転化率になった時、反応を停止する片末端官能性オルガノポリシロキサンの製造方法である。
片末端官能性オルガノポリシロキサン組成物であって、
(a)下記一般式(1)で示される片末端官能性オルガノポリシロキサン:100質量部、及び
(b)下記一般式(6)で示される両末端官能性オルガノポリシロキサン:0.01~2質量部、
を含むものである片末端官能性オルガノポリシロキサン組成物である。
(a)下記一般式(1)で示される片末端官能性オルガノポリシロキサン:100質量部、及び
(b)下記一般式(6)で示される両末端官能性オルガノポリシロキサン:0.01~2質量部、
を含むものである片末端官能性オルガノポリシロキサン組成物を提供することができる。
[測定条件]
装置:キャピラリーガスクロマトグラフ(Agilent7890A)
カラム:J&W DURABOND DB-5MS (MEGABORE 内径0.53mm、長さ30m、膜厚1.0μm)
カラム温度:50℃、10℃/分で昇温、300℃で125分保持、合計150分
注入口温度:270℃
キャリアガス:He(5mL/分)
検出器:FID(300℃)
注入量:1μL
注入法:スプリット法(スプリット比1/10)
試料調製:5wt%になるようヘキサンで希釈
[測定条件]
装置:卓上設置形NR801JL形フーリエ変換近赤外分光分析計(横河電機株式会社)
分析波数:4,800~5,600cm-1、6,000~6,100cm-1、6,300~7,400cm-1、8,100~8,800cm-1
分析温度:20℃
撹拌装置、温度計、還流冷却器、近赤外光線の照射及び受光部位を取り付けた4つ口セパラブルに、ヘキサメチルシクロトリシロキサン265.0g(1.19mol)、トルエン265.0gを仕込んだ。フラスコ内を窒素置換し、20℃まで冷却し、n-ブチルリチウムのヘキサン溶液(濃度15%)を126.8g(n-ブチルリチウム:0.30mol)加え、1時間撹拌した。ジメチルホルムアミド24.8gをフラスコ内に加え、20℃で重合を行った。近赤外分光分析計を用いて、重合開始後からヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率を測定した。ヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率が74%まで達したところで(重合開始から4時間後)、3-メタクリロキシプロピルジメチルクロロシラン68.8g(0.31mol)を加え、1時間撹拌して重合を停止した。その後、反応溶液にイオン交換水53.3gを加えて水洗を3回繰り返し、有機層を100℃、10mmHgの条件で減圧し、トルエンやヘキサン、未反応のヘキサメチルシクロトリシロキサン等の低沸オリゴマーを留去することで、片末端メタクリル官能性オルガノポリシロキサンが主成分の生成物232g(淡黄色透明液体、収率:66%)を得た。
撹拌装置、温度計、還流冷却器、近赤外光線の照射及び受光部位を取り付けた4つ口セパラブルに、ヘキサメチルシクロトリシロキサン248.0g(1.12mol)、トルエン248.0gを仕込んだ。フラスコ内を窒素置換し、20℃まで冷却し、n-ブチルリチウムのヘキサン溶液(濃度15%)を126.8g(n-ブチルリチウム:0.30mol)加え、1時間撹拌した。ジメチルホルムアミド24.8gをフラスコ内に加え、20℃で重合を行った。近赤外分光分析計を用いて、重合開始後からヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率を測定した。ヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率が85%まで達したところで(重合開始から6時間後)、3-メタクリロキシプロピルジメチルクロロシラン68.8g(0.31mol)を加え、1時間撹拌して重合を停止した。その後、反応溶液にイオン交換水53.3gを加えて水洗を3回繰り返し、有機層を100℃、10mmHgの条件で減圧し、トルエンやヘキサン、未反応のヘキサメチルシクロトリシロキサン等の低沸オリゴマーを留去することで、片末端メタクリル官能性オルガノポリシロキサンが主成分の生成物245g(淡黄色透明液体、収率:73%)を得た。
撹拌装置、温度計、還流冷却器、近赤外光線の照射及び受光部位を取り付けた4つ口セパラブルに、ヘキサメチルシクロトリシロキサン255.0g(1.15mol)、トルエン255.0gを仕込んだ。フラスコ内を窒素置換し、20℃まで冷却し、n-ブチルリチウムのヘキサン溶液(濃度15%)を126.8g(n-ブチルリチウム:0.30mol)加え、1時間撹拌した。ジメチルホルムアミド24.8gをフラスコ内に加え、20℃で重合を行った。近赤外分光分析計を用いて、重合開始後からヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率を測定した。ヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率が92%まで達したところで(重合開始から8時間後)、3-メタクリロキシプロピルジメチルクロロシラン68.8g(0.31mol)を加え、1時間撹拌して重合を停止した。その後、反応溶液にイオン交換水53.3gを加えて水洗を3回繰り返し、有機層を100℃、10mmHgの条件で減圧し、トルエンやヘキサン、未反応のヘキサメチルシクロトリシロキサン等の低沸オリゴマーを留去することで、片末端メタクリル官能性オルガノポリシロキサンが主成分の生成物271g(淡黄色透明液体、収率:79%)を得た。
撹拌装置、温度計、還流冷却器、近赤外光線の照射及び受光部位を取り付けた4つ口セパラブルに、ヘキサメチルシクロトリシロキサン252.0g(1.13mol)、トルエン252.0gを仕込んだ。フラスコ内を窒素置換し、20℃まで冷却し、n-ブチルリチウムのヘキサン溶液(濃度15%)を126.8g(n-ブチルリチウム:0.30mol)加え、1時間撹拌した。ジメチルホルムアミド24.8gをフラスコ内に加え、20℃で重合を行った。近赤外分光分析計を用いて、重合開始後からヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率を測定した。ヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率が90%まで達したところで(重合開始から7.5時間後)、ジメチルビニルクロロシラン37.4g(0.31mol)を加え、1時間撹拌して重合を停止した。その後、反応溶液にイオン交換水53.3gを加えて水洗を3回繰り返し、有機層を100℃、10mmHgの条件で減圧し、トルエンやヘキサン、未反応のヘキサメチルシクロトリシロキサン等の低沸オリゴマーを留去することで、片末端ビニル官能性オルガノポリシロキサンが主成分の生成物238g(淡黄色透明液体、収率:77%)を得た。
撹拌装置、温度計、還流冷却器、近赤外光線の照射及び受光部位を取り付けた4つ口セパラブルに、ヘキサメチルシクロトリシロキサン239.0g(1.07mol)、トルエン239.0gを仕込んだ。フラスコ内を窒素置換し、20℃まで冷却し、n-ブチルリチウムのヘキサン溶液(濃度15%)を126.8g(n-ブチルリチウム:0.30mol)加え、1時間撹拌した。ジメチルホルムアミド24.8gをフラスコ内に加え、20℃で重合を行った。近赤外分光分析計を用いて、重合開始後からヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率を測定した。ヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率が79%まで達したところで(重合開始から5時間後)、ジメチルクロロシラン29.3g(0.31mol)を加え、1時間撹拌して重合を停止した。その後、反応溶液にイオン交換水53.3gを加えて水洗を3回繰り返し、有機層を100℃、10mmHgの条件で減圧し、トルエンやヘキサン、未反応のヘキサメチルシクロトリシロキサン等の低沸オリゴマーを留去することで、片末端ヒドロシリル官能性オルガノポリシロキサンが主成分の生成物200g(淡黄色透明液体、収率:70%)を得た。
撹拌装置、温度計、還流冷却器、近赤外光線の照射及び受光部位を取り付けた4つ口セパラブルに、ヘキサメチルシクロトリシロキサン240.0g(1.08mol)、トルエン240.0gを仕込んだ。フラスコ内を窒素置換し、20℃まで冷却し、n-ブチルリチウムのヘキサン溶液(濃度15%)を126.8g(n-ブチルリチウム:0.30mol)加え、1時間撹拌した。ジメチルホルムアミド24.8gをフラスコ内に加え、20℃で重合を行った。近赤外分光分析計を用いて、重合開始後からヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率を測定した。ヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率が98%まで達したところで(重合開始から10時間後)、3-メタクリロキシプロピルジメチルクロロシラン68.8g(0.31mol)を加え、1時間撹拌して重合を停止した。その後、反応溶液にイオン交換水53.3gを加えて水洗を3回繰り返し、有機層を100℃、10mmHgの条件で減圧し、トルエンやヘキサン、未反応のヘキサメチルシクロトリシロキサン等の低沸オリゴマーを留去することで、片末端メタクリル官能性オルガノポリシロキサンが主成分の生成物277g(淡黄色透明液体、収率:85%)を得た。
Claims (7)
- ケイ素原子数3~5のシクロポリシロキサンを原料とし、重合反応により下記一般式(1)
で示される片末端官能性オルガノポリシロキサンを製造する方法であって、近赤外線分光法を用いて重合反応中の反応液を分析することにより、60~95%の反応転化率になった時、反応を停止することを特徴とする片末端官能性オルガノポリシロキサンの製造方法。 - 前記重合反応を、リビング重合とすることを特徴とする請求項1に記載の片末端官能性オルガノポリシロキサンの製造方法。
- 前記重合反応中の反応液を分析する方法を、オンライン、またはインライン分析による方法とすることを特徴とする請求項1に記載の片末端官能性オルガノポリシロキサンの製造方法。
- 片末端官能性オルガノポリシロキサン組成物であって、
(a)下記一般式(1)で示される片末端官能性オルガノポリシロキサン:100質量部、及び
(b)下記一般式(6)で示される両末端官能性オルガノポリシロキサン:0.01~2質量部、
を含むものであることを特徴とする片末端官能性オルガノポリシロキサン組成物。
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---|---|---|---|---|
JP2001081180A (ja) | 1999-09-13 | 2001-03-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | ポリオキシアルキレングリコールジエステルの連続製造法 |
JP2006062994A (ja) | 2004-08-25 | 2006-03-09 | Teijin Fibers Ltd | 高品質ジアミノジフェニルエーテルの製造方法 |
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JP3153414B2 (ja) * | 1994-04-28 | 2001-04-09 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | 片末端官能性ジオルガノポリシロキサンの製造方法 |
JP3687762B2 (ja) * | 1996-06-21 | 2005-08-24 | チッソ株式会社 | ジオルガノポリシロキサンの製造方法 |
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-
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-
2023
- 2023-03-24 WO PCT/JP2023/011797 patent/WO2023195358A1/ja unknown
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001081180A (ja) | 1999-09-13 | 2001-03-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | ポリオキシアルキレングリコールジエステルの連続製造法 |
JP2006062994A (ja) | 2004-08-25 | 2006-03-09 | Teijin Fibers Ltd | 高品質ジアミノジフェニルエーテルの製造方法 |
JP2017537993A (ja) | 2014-12-19 | 2017-12-21 | コアテツクス | ラジカルを用いたアニオン性ポリマーの連続製造のための方法 |
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