JP7110641B2 - Method for manufacturing grain-oriented electrical steel sheet - Google Patents

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Description

本発明は、一方向性電磁鋼板の製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a grain-oriented electrical steel sheet.

一方向性電磁鋼板は、{110}<001>方位(以下、Goss方位)に高配向集積した結晶粒により構成された、Siを7質量%以下含有する珪素鋼板である。一方向性電磁鋼板は、主に、変圧器の鉄芯材料として用いられる。一方向性電磁鋼板を変圧器の鉄芯材料として用いる場合、すなわち該鋼板を鉄心として積層した場合、層間(積層する鋼板間)の絶縁性を確保することが必須である。したがって、絶縁性確保の観点で、一方向性電磁鋼板表面には一次皮膜(グラス皮膜)と2次皮膜(張力付与絶縁皮膜)を形成させる必要がある。 A grain-oriented electrical steel sheet is a silicon steel sheet containing 7% by mass or less of Si, which is composed of crystal grains highly oriented and accumulated in the {110}<001> orientation (hereinafter referred to as Goss orientation). Grain-oriented electrical steel sheets are mainly used as iron core materials for transformers. When a grain-oriented electrical steel sheet is used as the iron core material of a transformer, that is, when the steel sheets are laminated as an iron core, it is essential to ensure insulation between layers (between laminated steel sheets). Therefore, from the viewpoint of ensuring insulation, it is necessary to form a primary coating (glass coating) and a secondary coating (tension-imparting insulating coating) on the surface of the grain-oriented electrical steel sheet.

グラス皮膜と張力付与絶縁皮膜の形成方法、および方向性電磁鋼板の一般的な製造方法は以下の通りである。Siを7質量%以下含有する珪素鋼スラブを熱延し、1回もしくは中間焼鈍をはさむ2回の冷延により最終板厚に仕上げる。その後、湿潤水素雰囲気中の焼鈍(脱炭焼鈍)により、脱炭および一次再結晶を行う。脱炭焼鈍において、鋼板表面では酸化膜(FeSiOやSiO)が形成される。続いて、MgOを主体とする焼鈍分離剤を前記脱炭焼鈍板に塗布・乾燥させ、仕上げ焼鈍を行う。この仕上げ焼鈍により、二次再結晶が起こり鋼板の結晶粒組織が{110}<001>方位に集積する。同時に、鋼板表面においては焼鈍分離剤中のMgOと脱炭焼鈍が反応してグラス皮膜が形成される。仕上焼鈍板表面、すなわちグラス皮膜表面にリン酸塩を主体とする塗布液を塗布、焼付けることで張力付与絶縁皮膜が形成される。 The method of forming the glass coating and the tension-applying insulating coating, and the general method of manufacturing the grain-oriented electrical steel sheet are as follows. A silicon steel slab containing 7% by mass or less of Si is hot-rolled and then cold-rolled once or twice with intermediate annealing to finish to the final thickness. Thereafter, decarburization and primary recrystallization are performed by annealing (decarburization annealing) in a moist hydrogen atmosphere. In decarburization annealing, an oxide film (Fe 2 SiO 4 or SiO 2 ) is formed on the surface of the steel sheet. Subsequently, an annealing separating agent mainly composed of MgO is applied to the decarburized annealed sheet and dried, followed by final annealing. Due to this finish annealing, secondary recrystallization occurs and the crystal grain structure of the steel sheet is concentrated in the {110}<001> orientation. At the same time, MgO in the annealing separator reacts with decarburization annealing to form a glass film on the surface of the steel sheet. A tension imparting insulating film is formed by coating and baking a coating solution mainly composed of phosphate on the surface of the finish-annealed plate, that is, the surface of the glass film.

グラス皮膜は絶縁性確保において重要な存在であるが、その密着性は鋼板の構成元素や鋼板板厚の影響を大きく受けてしまう。とりわけ一方向性電磁鋼板の板厚が薄くなる場合、磁気特性である鉄損は改善する一方で、グラス皮膜の密着性が確保し難くなってしまう。このため、一方向性電磁鋼板の製造課題は、グラス皮膜密着性の向上とその安定制御である。グラス皮膜は脱炭焼鈍で生成される酸化膜に起因することから、これまで脱炭焼鈍条件制御による、グラス皮膜改善技術が開発されてきた。
例えば特許文献1では最終板厚に冷間圧延された方向性電磁鋼板に対し、脱炭焼鈍を行う前に、その表面層を酸洗し、表面付着物と地鉄表層部を除去し、脱炭反応、酸化物の形成反応をむらなく進行させ、密着性の優れたグラス皮膜を形成する技術が記載されている。
The glass film is an important entity in ensuring insulation, but its adhesion is greatly affected by the constituent elements of the steel sheet and the thickness of the steel sheet. In particular, when the thickness of the grain-oriented electrical steel sheet is reduced, it becomes difficult to secure the adhesion of the glass film while the iron loss, which is a magnetic property, is improved. For this reason, the issues in the production of grain-oriented electrical steel sheets are the improvement and stable control of glass film adhesion. Since the glass film is caused by the oxide film formed by decarburization annealing, techniques for improving the glass film have been developed by controlling decarburization annealing conditions.
For example, in Patent Document 1, a grain-oriented electrical steel sheet that has been cold-rolled to the final thickness is subjected to pickling of the surface layer before decarburization annealing, to remove the surface deposits and the surface layer of the base iron, and then remove the decarburization. A technique is described in which the charcoal reaction and oxide formation reaction proceed evenly to form a glass film with excellent adhesion.

また特許文献2~4では、脱炭焼鈍において微細な凹凸を鋼板表面に付与することで、グラス皮膜を鋼板深部に到達し、皮膜密着性が改善する技術が開示されている。
そこで、特許文献5~8にあるように、脱炭焼鈍雰囲気の酸素ポテンシャルを制御し、グラス皮膜密着性を改善する技術が開発されてきた。これらは脱炭焼鈍板の酸化を進め、グラス皮膜生成を促進する技術である。
Further, Patent Documents 2 to 4 disclose a technique in which fine unevenness is imparted to the surface of a steel sheet in decarburization annealing so that the glass coating reaches the deep part of the steel sheet and the coating adhesion is improved.
Therefore, as described in Patent Documents 5 to 8, techniques have been developed for controlling the oxygen potential of the decarburization annealing atmosphere and improving the glass film adhesion. These are technologies that promote the oxidation of the decarburized annealed sheet and promote the formation of the glass film.

更に技術開発は進み、特許文献9~11では脱炭焼鈍の昇温工程に着目し、昇温中の雰囲気のみならず昇温速度制御によりグラス皮膜密着性と磁性を改善する技術が開発された。 Further technological development progressed, and Patent Documents 9 to 11 focused on the temperature rising process of decarburization annealing, and developed a technology to improve glass film adhesion and magnetism by controlling not only the atmosphere during heating but also the temperature rising rate. .

特開昭50-71526号公報JP-A-50-71526 特開昭62-133021号公報JP-A-62-133021 特開昭63-7333号公報JP-A-63-7333 特開昭63-310917号公報JP-A-63-310917 特開平2-240216号公報JP-A-2-240216 特開平2-259017号公報JP-A-2-259017 特開平6-33142号公報JP-A-6-33142 特開平10-212526号公報JP-A-10-212526 特開平11-61356号公報JP-A-11-61356 特開2000-204450号公報JP-A-2000-204450 特開2003-27194号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-27194

しかしながら、特許文献1~4に記載の方法は、何れもプロセスにおいて更なる工程を増やすことを必要とするため操業負荷が大きく、更なる工夫が望まれていた。
また、特許文献5~8に記載の技術を採用した場合、グラス皮膜の密着性は向上するものの、二次再結晶が不安定化し磁気特性(磁性)は劣化してしまう問題があった。
However, the methods described in Patent Literatures 1 to 4 all require additional steps in the process, resulting in a large operational load, and further improvements have been desired.
Further, when the techniques described in Patent Documents 5 to 8 are employed, although the adhesion of the glass film is improved, there is a problem that the secondary recrystallization becomes unstable and the magnetic properties (magnetism) deteriorate.

さらに、特許文献9~11に記載の技術を採用した場合、これらの技術により磁性は改善したものの、皮膜改善についてはまだ不十分であった。とりわけ、皮膜板厚が0.23mmに満たない材料(以下、薄手材)のグラス皮膜密着性は十分でなく、皮膜密着性の改善技術は現在でも途上であると考えられる。 Furthermore, when the techniques described in Patent Documents 9 to 11 were employed, although these techniques improved magnetism, film improvement was still insufficient. In particular, materials with a coating thickness of less than 0.23 mm (hereinafter referred to as thin materials) do not have sufficient glass coating adhesion, and it is considered that techniques for improving coating adhesion are still under development.

また、グラス皮膜の密着性は製品板厚が薄くなるほど不安定になるため、更なるグラス皮膜密着性の改善技術が必要である。 In addition, since the adhesion of the glass film becomes unstable as the thickness of the product becomes thinner, a technique for further improving the adhesion of the glass film is required.

そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、一方向性電磁鋼板の表面に、皮膜密着性に優れたグラス皮膜を、磁気特性を損なわずに形成することの可能な、新規かつ改良された一方向性電磁鋼板の製造方法を提供することにある。 Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to apply a glass film having excellent film adhesion to the surface of a grain-oriented electrical steel sheet without impairing the magnetic properties. The object of the present invention is to provide a new and improved method for manufacturing a grain-oriented electrical steel sheet that can be formed into a

本発明者らは、上記課題を解決するため、脱炭焼鈍工程の昇温工程に着目して鋭意検討を加えた。その結果、脱炭焼鈍工程の昇温における昇温速度の二段階制御および雰囲気制御により、グラス皮膜密着性が飛躍的に向上することを見いだした。また、本技術の適用効果は薄手材にて特に顕著に得られた。 In order to solve the above problems, the present inventors focused their attention on the temperature rising process in the decarburization annealing process, and made earnest studies. As a result, it was found that the adhesion of the glass coating is dramatically improved by two-stage control of the temperature rise rate and atmosphere control in the temperature rise in the decarburization annealing process. In addition, the effect of applying this technology was particularly noticeable in thin materials.

発明者らが、皮膜密着良好材の脱炭焼鈍板を調査したところ、表面酸化膜として、SiOおよびMnSiO(以下、テフロイトと呼称することがある)が観察された。MnSiOの生成量を制御することが皮膜密着性の改善に効果があることを知見した。 When the inventors investigated a decarburized annealed sheet of a material with good film adhesion, SiO 2 and Mn 2 SiO 4 (hereinafter sometimes referred to as tephrite) were observed as surface oxide films. It has been found that controlling the amount of Mn 2 SiO 4 produced is effective in improving film adhesion.

本発明は、上記知見に基づいてなされたもので、その要旨は以下のとおりである。
[1] 質量%で、C:0.01%以上0.20%以下、Si:2.50%以上4.0%以下、酸可溶性Al:0.01%以上0.07%以下、Mn:0.01%以上0.5%以下、N:0.02%以下、S:0.005%以上0.08%以下、Bi:0%以上0.02%以下、Sn:0%以上0.50%以下、Cr:0%以上0.50%以下、Cu:0%以上1.0%以下を含有し、残部Fe及び不可避的不純物からなる鋼片を1200℃以上1600℃以下の温度で加熱した後に熱間圧延し、熱延鋼板を得る熱延工程と、
前記熱延鋼板を焼鈍する熱延鋼板焼鈍工程と、
前記熱延鋼板に一回の冷間圧延または焼鈍を介した複数の冷間圧延を施して冷延鋼板を得る冷延工程と、
前記冷延鋼板に脱炭焼鈍を施す脱炭焼鈍工程と、
焼鈍分離剤を前記冷延鋼板に塗布し、当該冷延鋼板に仕上焼鈍を施す仕上焼鈍工程と、
前記冷延鋼板に張力付与絶縁皮膜を形成する絶縁皮膜形成工程と、を有し、
前記脱炭焼鈍工程の昇温時において、500℃以上600℃以下の温度域における昇温速度S1(℃/秒)と600℃以上700℃以下の温度域における昇温速度S2(℃/秒)とが下記式(1)~式(3)を満たし、かつ前記昇温時の500℃以上600℃以下の温度域における雰囲気中の酸素ポテンシャルP1が下記式(4)を満たす、一方向性電磁鋼板の製造方法。
1.0<S2/S1≦10.0 ・・・式(1)
300≦S1≦2000 ・・・式(2)
300S2≦4000 ・・・式(3)
0.00001≦P1≦0.5 ・・・式(4)
[2]前記鋼片が、質量%で、Bi:0.001%以上0.02%以下を含有する、前記[1]に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。
[3]前記鋼片が、質量%で、Sn:0.005%以上0.50%以下、Cr:0.01%以上0.50%以下、Cu:0.01%以上1.0%以下の1種又は2種以上を含有する、前記[1]または[2]に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。
[4]前記脱炭焼鈍工程において、0.1以上1.0以下の酸素ポテンシャルP2の雰囲気中、700℃以上900℃以下の温度T2℃で10秒以上1000秒以下保持する一段目焼鈍に続き、下記式(5)を満たす酸素ポテンシャルP3の雰囲気中、下記式(6)を満たす温度T3℃で、5秒以上、500秒以下保持する二段目焼鈍を行う、[1]~[3]のいずれか一項に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。
P3<P2 ・・・式(5)
T2+50≦T3≦1000 ・・・式(6)
[5]前記一方向性電磁鋼板の製品板厚が0.18mm以上0.22mm未満である、前記[1]~[4]のいずれか一項に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。
The present invention was made based on the above findings, and the gist thereof is as follows.
[1] In mass%, C: 0.010% to 0.20%, Si: 2.50% to 4.0 %, acid-soluble Al: 0.010 % to 0.07%, Mn: 0.010 % or more and 0.50% or less, N: 0.020 % or less, S: 0.005% or more and 0.08% or less, Bi: 0 % or more and 0.02% or less, Sn: 0% or more and 0.50% or less, Cr: 0% or more and 0.50% or less, Cu: 0% or more and 1.0% or less, and the balance being Fe and unavoidable impurities. A hot-rolling step of obtaining a hot-rolled steel sheet by heating at the following temperature and then hot-rolling;
A hot-rolled steel sheet annealing step of annealing the hot-rolled steel sheet;
a cold-rolling step of obtaining a cold-rolled steel sheet by subjecting the hot-rolled steel sheet to one cold rolling or a plurality of cold rollings via annealing;
a decarburization annealing step of subjecting the cold-rolled steel sheet to decarburization annealing;
A finish annealing step of applying an annealing separator to the cold-rolled steel sheet and subjecting the cold-rolled steel sheet to finish annealing;
and an insulating film forming step of forming a tension-applying insulating film on the cold-rolled steel sheet,
During the temperature increase in the decarburization annealing step, the temperature increase rate S1 (° C./sec) in the temperature range of 500° C. to 600° C. and the temperature increase rate S2 (° C./sec) in the temperature range of 600° C. to 700° C. satisfies the following formulas (1) to (3), and the oxygen potential P1 in the atmosphere in the temperature range of 500 ° C. to 600 ° C. during the temperature rise satisfies the following formula (4). A method of manufacturing a steel plate.
1.0<S2/S1≦10.0 Expression (1)
300≦S1≦2000 Expression (2)
300 < S2≦4000 Expression (3)
0.00001≦P1≦0.5 0 Expression (4)
[2] The method for producing a grain-oriented electrical steel sheet according to [1] above, wherein the steel slab contains, by mass %, Bi: 0.001% or more and 0.02% or less.
[3] The steel slab, in mass%, Sn: 0.005% or more and 0.50% or less, Cr: 0.01% or more and 0.50% or less, Cu: 0.01% or more and 1.0% or less The method for producing a grain-oriented electrical steel sheet according to the above [1] or [2], containing one or more of
[4] In the decarburization annealing step, following the first stage annealing, the temperature T2° C. of 700° C. or more and 900° C. or less is maintained for 10 seconds or more and 1000 seconds or less in an atmosphere with an oxygen potential P2 of 0.1 or more and 1.0 or less. , in an atmosphere of oxygen potential P3 that satisfies the following formula (5), at a temperature T3 ° C that satisfies the following formula (6), second-stage annealing is performed for 5 seconds or more and 500 seconds or less, [1] to [3] A method for producing a grain-oriented electrical steel sheet according to any one of .
P3<P2 Expression (5)
T2+50≦T3≦1000 Expression (6)
[5] The method for producing a grain-oriented electrical steel sheet according to any one of [1] to [4], wherein the grain-oriented electrical steel sheet has a product thickness of 0.18 mm or more and less than 0.22 mm.

以上説明したように本発明によれば、グラス皮膜密着性に優れる一方向性電磁鋼板を、磁気特性とその安定性を損なわずに製造することができる。 As described above, according to the present invention, a grain-oriented electrical steel sheet with excellent glass film adhesion can be produced without impairing magnetic properties and their stability.

以下に、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。以下では、まず、本発明の実施形態に係る一方向性電磁鋼板の製造方法の全体的な流れについて、詳細に説明する。 Preferred embodiments of the present invention are described in detail below. Below, first, the overall flow of the method for manufacturing a grain-oriented electrical steel sheet according to the embodiment of the present invention will be described in detail.

一方向性電磁鋼板の一般的な製造方法は以下の通りである。Siを7質量%以下含有する珪素鋼スラブを熱延し、熱延板焼鈍を実施する。熱延板焼鈍板を酸洗後、1回もしくは中間焼鈍をはさむ2回の冷延により最終板厚に仕上げる。その後、湿潤水素雰囲気中の焼鈍(脱炭焼鈍)により、脱炭および一次再結晶を行う。脱炭焼鈍において、鋼板表面では酸化膜(FeSiOやSiO)が形成される。続いて、MgOを主体とする焼鈍分離剤を前記脱炭焼鈍板に塗布・乾燥させ、仕上げ焼鈍を行う。この仕上げ焼鈍により、二次再結晶が起こり鋼板の結晶粒組織が{110}<001>方位に集積する。同時に、鋼板表面においては焼鈍分離剤中のMgOと脱炭焼鈍が反応してグラス皮膜が形成される。仕上焼鈍板を水洗または酸洗により除粉した後、リン酸塩を主体とする塗布液を塗布、焼付けることで張力付与絶縁皮膜が形成される。 A general method for producing a grain-oriented electrical steel sheet is as follows. A silicon steel slab containing 7% by mass or less of Si is hot-rolled and subjected to hot-rolled sheet annealing. After the hot-rolled annealed sheet is pickled, it is cold-rolled once or twice with intermediate annealing to finish it to the final thickness. Thereafter, decarburization and primary recrystallization are performed by annealing (decarburization annealing) in a moist hydrogen atmosphere. In decarburization annealing, an oxide film (Fe 2 SiO 4 or SiO 2 ) is formed on the surface of the steel sheet. Subsequently, an annealing separating agent mainly composed of MgO is applied to the decarburized annealed sheet and dried, followed by final annealing. Due to this finish annealing, secondary recrystallization occurs and the crystal grain structure of the steel sheet is concentrated in the {110}<001> orientation. At the same time, MgO in the annealing separator reacts with decarburization annealing to form a glass film on the surface of the steel sheet. After the finish-annealed sheet is washed with water or pickled to remove powder, a coating solution mainly containing phosphate is applied and baked to form a tension-imparting insulating film.

本実施形態に係る一方向性電磁鋼板の製造方法は、所定の化学成分を有する鋼片を熱間圧延し、熱延鋼板を得る熱延工程と、熱延鋼板を焼鈍する熱延鋼板焼鈍工程と、前記熱延鋼板に一回の冷間圧延または焼鈍を介した複数の冷間圧延を施して冷延鋼板を得る冷延工程と、前記冷延鋼板に脱炭焼鈍を施す脱炭焼鈍工程と、焼鈍分離剤を前記冷延鋼板に塗布し、当該冷延鋼板に仕上焼鈍を施す仕上焼鈍工程と、前記冷延鋼板に張力付与絶縁皮膜を形成する絶縁皮膜形成工程と、を主に含む。以下、これら工程について、詳細に説明する。なお、以下の説明において、各工程の条件が記載されていない場合、公知の条件を適宜適応して各工程を行うことが可能である。 A method for manufacturing a grain-oriented electrical steel sheet according to the present embodiment comprises a hot rolling step of hot-rolling a billet having a predetermined chemical composition to obtain a hot-rolled steel sheet, and a hot-rolled steel sheet annealing step of annealing the hot-rolled steel sheet. a cold rolling step of subjecting the hot-rolled steel sheet to one cold rolling or a plurality of cold rollings via annealing to obtain a cold-rolled steel sheet; and a decarburization annealing step of subjecting the cold-rolled steel sheet to decarburization annealing. , a finish annealing step of applying an annealing separator to the cold-rolled steel plate and subjecting the cold-rolled steel plate to finish annealing, and an insulation film forming step of forming a tension imparting insulation film on the cold-rolled steel plate . These steps will be described in detail below. In addition, in the following description, when the conditions of each step are not described, it is possible to perform each step by appropriately adapting known conditions.

1. 熱延工程
熱延工程は、所定の化学成分を有する鋼片(例えば、スラブ等の鋼塊)を熱間圧延して、熱延鋼板とする工程である。以下では、まず、本実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法に供される鋼片の化学成分について、詳細に説明する。なお、以下では特に断りのない限り、「%」との表記は「質量%」を表わすものとする。
1. Hot Rolling Process The hot rolling process is a process of hot rolling a billet (for example, a steel ingot such as a slab) having a predetermined chemical composition to form a hot rolled steel sheet. Below, first, the chemical composition of the billet used in the method for manufacturing the grain-oriented electrical steel sheet according to the present embodiment will be described in detail. In the following description, "%" means "% by mass" unless otherwise specified.

また、本実施形態においては、質量%で、C:0.01%以上0.20%以下、Si:2.50%以上4.0%以下、酸可溶性Al:0.01%以上0.07%以下、Mn:0.01%以上0.5%以下、N:0.02%以下、S:0.005%以上0.08%以下、Bi:0%以上0.02%以下、Sn:0%以上0.50%以下、Cr:0%以上0.50%以下、Cu:0%以上1.0%以下を含有し、残部Fe及び不可避的不純物からなる鋼片を用いる。 Further, in the present embodiment, in mass %, C: 0.01% or more and 0.20% or less, Si: 2.50% or more and 4.0% or less, acid-soluble Al: 0.01% or more and 0.07% % or less, Mn: 0.01% or more and 0.5% or less, N: 0.02% or less, S: 0.005% or more and 0.08% or less, Bi: 0% or more and 0.02% or less, Sn: A steel billet containing 0% or more and 0.50% or less, Cr: 0% or more and 0.50% or less, Cu: 0% or more and 1.0% or less, and the balance being Fe and unavoidable impurities is used.

(C:0.01%以上0.20%以下)
Cは磁束密度の改善効果があるが、その含有量が0.20%を超えると、二次再結晶焼鈍において鋼が相変態し、二次再結晶が十分に進行せず、良好な磁束密度と鉄損特性が得られないので、Cの含有量を0.20%以下とする。Cは少ないほど、鉄損低減にとって好ましいので、鉄損低減の観点から、Cの含有量は、好ましくは0.10%以下である。
磁束密度の観点から、Cの含有量の下限値は0.01%、好ましくは0.04%である。
(C: 0.01% or more and 0.20% or less)
C has the effect of improving the magnetic flux density, but if the content exceeds 0.20%, the steel undergoes a phase transformation in the secondary recrystallization annealing, and the secondary recrystallization does not proceed sufficiently, resulting in a good magnetic flux density. The C content is set to 0.20% or less because the iron loss characteristic cannot be obtained. Since the smaller the amount of C, the more preferable it is for iron loss reduction, the content of C is preferably 0.10% or less from the viewpoint of iron loss reduction.
From the viewpoint of magnetic flux density, the lower limit of the C content is 0.01%, preferably 0.04%.

(Si:2.50%以上4.0%以下)
Siの含有量が2.50%未満であると、二次再結晶焼鈍において鋼が相変態して、二次再結晶が十分に進行せず、良好な磁束密度と鉄損特性が得られないので、Siの含有量は2.50%以上とする。Siの含有量は、好ましくは3.00%以上、より好ましくは3.20%以上である。
一方、Siの含有量が4.0%を超えると、鋼板が脆化し、製造工程での通板性が顕著に劣化するので、Siの含有量は4.0%以下とする。Siの含有量は、好ましくは3.80%以下、より好ましくは3.60%以下である。
(Si: 2.50% or more and 4.0% or less)
If the Si content is less than 2.50%, the steel undergoes phase transformation during secondary recrystallization annealing, secondary recrystallization does not proceed sufficiently, and good magnetic flux density and iron loss properties cannot be obtained. Therefore, the Si content is set to 2.50% or more. The Si content is preferably 3.00% or more, more preferably 3.20% or more.
On the other hand, if the Si content exceeds 4.0%, the steel sheet becomes embrittled and the threadability in the manufacturing process is significantly deteriorated, so the Si content is made 4.0% or less. The Si content is preferably 3.80% or less, more preferably 3.60% or less.

(酸可溶性Al:0.01%以上0.07%以下)
本発明電磁鋼板において、酸可溶性Al(sol.Al)は、二次再結晶発現の観点から必須の元素である。
酸可溶性Alの含有量が0.01%未満であると、インヒビターとして機能するAlNが十分に生成せず、二次再結晶が不充分となり、鉄損特性が向上しないので、酸可溶性Alの含有量は0.01%以上とする。好ましくは0.02%以上である。
一方、酸可溶性Alの含有量が0.07%を超えると、鋼板が脆化し、特に、Siが多い本実施形態に係る一方向性電磁鋼板では、脆化が顕著となるので、酸可溶性Alの含有量は0.07%以下、0.05%以下である。
(Acid-soluble Al: 0.01% or more and 0.07% or less)
In the electrical steel sheet of the present invention, acid-soluble Al (sol. Al) is an essential element from the viewpoint of secondary recrystallization.
If the content of acid-soluble Al is less than 0.01%, sufficient AlN that functions as an inhibitor is not generated, secondary recrystallization is insufficient, and iron loss characteristics are not improved. The amount should be 0.01% or more. Preferably it is 0.02% or more.
On the other hand, when the content of acid-soluble Al exceeds 0.07%, the steel sheet becomes embrittled. content is 0.07% or less and 0.05% or less.

(N:0.02%以下)
NはAlNを形成し、AlNはインヒビターとして活用できる。Nの含有量が0.02%を超えると、冷延時、鋼板中にブリスター(空孔)が生じるうえに、鋼板の強度が上昇し、製造時の通板性が悪化するので、Nの含有量は、0.02%以下とする。好ましくは0.01%以下である。
AlNをインヒビターとして活用しないのであれば、Nの含有量の下限値は0%を含む。しかしながら、化学分析の検出限界値が0.0001%なので、実用鋼板の実質的な下限値は0.0001%である。一方、Alと結合して、インヒビターとして機能するAlNを形成するためには、Nの含有量は0.005%以上が好ましい。
(N: 0.02% or less)
N forms AlN, which can be used as an inhibitor. If the N content exceeds 0.02%, blisters (voids) are generated in the steel sheet during cold rolling, and the strength of the steel sheet increases, which deteriorates the threadability during production. The amount should be 0.02% or less. Preferably, it is 0.01% or less.
The lower limit of the N content includes 0% if AlN is not utilized as an inhibitor. However, since the detection limit of chemical analysis is 0.0001%, the practical lower limit of the steel sheet is 0.0001%. On the other hand, the content of N is preferably 0.005% or more in order to combine with Al to form AlN that functions as an inhibitor.

(Mn0.01%以上0.5%以下)
Mnが0.5%を超えると、二次再結晶焼鈍において鋼が相変態し、二次再結晶が十分に進行せず、良好な磁束密度と鉄損特性が得られないので、Mnの含有量は0.5%以下とする。好ましくは0.10%以下である。
Mnは、MnSを二次再結晶時にインヒビターとして活用することができるため、Mnの含有量は0.01%以上とする。好ましくは0.05%以上である。
(Mn 0.01% or more and 0.5% or less)
If Mn exceeds 0.5%, the steel undergoes phase transformation during secondary recrystallization annealing, secondary recrystallization does not proceed sufficiently, and good magnetic flux density and iron loss characteristics cannot be obtained. The amount should be 0.5% or less. Preferably, it is 0.10% or less.
Since Mn can be used as an inhibitor of MnS during secondary recrystallization, the Mn content is set to 0.01% or more. Preferably it is 0.05% or more.

(S:0.005%以上0.08%以下)
Sの含有量が0.08%を超えると、熱間脆性の原因となり、熱延が著しく困難になるので、Sの含有量は0.08%以下とする。好ましくは0.04%以下である。
MnSを二次再結晶時のインヒビターとし活用する場合、Sの含有量は0.005%以上とする。好ましくは0.01%以上である。
(S: 0.005% or more and 0.08% or less)
If the S content exceeds 0.08%, it causes hot shortness and makes hot rolling extremely difficult, so the S content is made 0.08% or less. Preferably, it is 0.04% or less.
When MnS is used as an inhibitor during secondary recrystallization, the S content should be 0.005% or more. Preferably, it is 0.01% or more.

本実施形態において、鋼片は、上述元素の他、本実施形態に係る一方向性電磁鋼板の特性を向上させるため、質量%で、Bi:0.001%以上0.02%以下を含有してもよい。なお、Biは任意元素であるため、前述の記載に関わらず、Biの含有量の下限値は0%である。 In the present embodiment, the billet contains, in mass%, Bi: 0.001% or more and 0.02% or less in order to improve the properties of the grain-oriented electrical steel sheet according to the present embodiment, in addition to the above elements. may Since Bi is an optional element, the lower limit of the Bi content is 0% regardless of the above description.

(Bi:0.001%以上0.02%以下)
Biは、後述するCr、Sn、Cuと同様に、皮膜密着性の向上促進に寄与する元素である。0.001%未満では、皮膜密着性の向上促進効果が十分に得られないので、0.001%以上とする。好ましくは0.001%以上である。
一方、0.02%を超えると、冷延時の通板性が劣化するので、Biの含有量は0.02%以下とする。好ましくは0.01%以下である。
(Bi: 0.001% or more and 0.02% or less)
Bi, like Cr, Sn, and Cu, which will be described later, is an element that contributes to promoting the improvement of film adhesion. If it is less than 0.001%, the effect of promoting improvement in film adhesion cannot be sufficiently obtained, so the content is made 0.001% or more. Preferably, it is 0.001% or more.
On the other hand, when the Bi content exceeds 0.02%, the threadability during cold rolling deteriorates, so the Bi content is made 0.02% or less. Preferably, it is 0.01% or less.

本実施形態において、鋼片は、上述元素の他、本実施形態に係る一方向性電磁鋼板の特性を向上させるため、質量%で、Sn:0.005~0.50%、Cr:0.01~0.50%、Cu:0.01~1.0%からなる群から選択される1種又は2種以上を含有してもよい。なお、Sn、CrおよびCuは、任意元素であるため、前述の記載に関わらず、Sn、CrおよびCuの含有量の下限値は0%である。 In the present embodiment, the billet contains, in mass %, Sn: 0.005 to 0.50%, Cr: 0.5%, in addition to the above elements, in order to improve the properties of the grain-oriented electrical steel sheet according to the present embodiment. 01 to 0.50% and Cu: 0.01 to 1.0%. Since Sn, Cr and Cu are optional elements, the lower limit of the content of Sn, Cr and Cu is 0% regardless of the above description.

(Sn:0.005%以上0.50%以下)
Snは皮膜密着性の向上に寄与する元素である。Snの皮膜密着性の向上機構は明らかでないが、グラス皮膜の成長を助長し、地鉄(母材鋼板)に対する嵌入構造の形成に寄与すると考えられる。
Snの含有量が0.005%未満の場合、Sn添加による皮膜密着性の改善効果が十分に得られないので、Snの含有量は0.005%以上とすることができる。好ましくは0.01%以上である。
一方、Snの含有量が0.50%を超えると、二次再結晶が不安定となり、磁気特性が劣化するので、Snの含有量は0.50%以下とする。好ましくは0.30%以下である。
(Sn: 0.005% or more and 0.50% or less)
Sn is an element that contributes to the improvement of film adhesion. Although the mechanism by which Sn improves film adhesion is not clear, it is believed that Sn promotes the growth of the glass film and contributes to the formation of an intrusion structure with respect to the base iron (base steel plate).
If the Sn content is less than 0.005%, the effect of improving film adhesion due to the addition of Sn cannot be sufficiently obtained, so the Sn content can be made 0.005% or more. Preferably, it is 0.01% or more.
On the other hand, if the Sn content exceeds 0.50%, the secondary recrystallization becomes unstable and the magnetic properties deteriorate, so the Sn content is made 0.50% or less. Preferably, it is 0.30% or less.

(Cr:0.01%以上0.50%以下)
Crは、Bi、Cuと同様に、皮膜密着性の向上に寄与する元素である。0.01%未満では、皮膜密着性の向上効果が十分に得られないので、Crの含有量は0.01%以上とすることができる。好ましくは0.03%以上である。
一方、0.50%を超えるとCr酸化物を形成し、磁性を悪化させる懸念があるため、Crの含有量は0.50%以下とする。好ましくは0.30%以下である。
(Cr: 0.01% or more and 0.50% or less)
Cr, like Bi and Cu, is an element that contributes to improving film adhesion. If the Cr content is less than 0.01%, a sufficient effect of improving film adhesion cannot be obtained, so the Cr content can be made 0.01% or more. Preferably it is 0.03% or more.
On the other hand, if the Cr content exceeds 0.50%, Cr oxide is formed and there is a concern that the magnetism may be deteriorated, so the Cr content is made 0.50% or less. Preferably, it is 0.30% or less.

(Cu:0.01%以上1.0%以下)
Cuは、Bi、Crと同様に、皮膜密着性の向上に寄与する元素である。0.01%未満では、皮膜密着性の向上効果が十分に得られないので、Cuの含有量は0.01%以上とすることができる。好ましくは0.03%以上である。
一方、1.0%を超えると、熱間圧延中、鋼板が脆化するので、Cuの含有量は1.0%以下とする。好ましくは0.50%以下である。
(Cu: 0.01% or more and 1.0% or less)
Cu, like Bi and Cr, is an element that contributes to improving film adhesion. If the Cu content is less than 0.01%, a sufficient effect of improving film adhesion cannot be obtained, so the Cu content can be made 0.01% or more. Preferably it is 0.03% or more.
On the other hand, if the Cu content exceeds 1.0%, the steel sheet becomes embrittled during hot rolling, so the Cu content is made 1.0% or less. Preferably, it is 0.50% or less.

本実施形態において用いられる鋼片の成分組成の残部は、Fe及び不可避的不純物である。しかしながら、磁気特性の向上、強度、耐食性、疲労特性などの構造部材に求められる特性の向上、鋳造性や通板性の向上、スクラップ等使用による生産性の向上を目的として、鋼片は、Feの一部に代えて、Mo、W、In、B、Sb、Au、Ag、Te、Ce、V、Co、Ni、Se、Ca、Re、Os、Nb、Zr、Hf、Ta、Y、La、Cd、Pb、As等から選択される1種又は2種以上を、合計で5.00%以下、好ましくは3.00%以下、より好ましくは1.00%以下含有してもよい。なお、これらの元素は任意に含まれ得る元素であるので、これらの元素の合計の含有量の下限値は、0%である。 The remainder of the component composition of the steel billet used in this embodiment is Fe and unavoidable impurities. However, for the purpose of improving magnetic properties, improving properties required for structural members such as strength, corrosion resistance and fatigue properties, improving castability and plate threadability, and improving productivity by using scrap etc., Fe Mo, W, In, B, Sb, Au, Ag, Te, Ce, V, Co, Ni, Se, Ca, Re, Os, Nb, Zr, Hf, Ta, Y, La , Cd, Pb, As, etc. may be contained in a total amount of 5.00% or less, preferably 3.00% or less, more preferably 1.00% or less. In addition, since these elements are elements that can be included arbitrarily, the lower limit of the total content of these elements is 0%.

不可避的不純物は、添加の意図に関係なく、鋼片中に存在し、得られる一方向性電磁鋼板において本来存在する必要のない成分である。「不可避的不純物」なる用語は、鋼材料を工業的に製造する際に原料としての鉱石、スクラップまたは製造環境などから混入する不純物を含む概念である。このような不可避的不純物は、本願発明の効果に悪影響を与えない量で含まれ得る。 Unavoidable impurities are components that exist in steel slabs regardless of the intention of their addition and do not need to exist in the obtained grain-oriented electrical steel sheet. The term "inevitable impurities" is a concept that includes impurities mixed in from ores, scraps, or manufacturing environments used as raw materials during the industrial production of steel materials. Such unavoidable impurities can be contained in amounts that do not adversely affect the effects of the present invention.

以上のような成分を鋼片は、本工程において、まず、加熱処理される。加熱温度は、例えば1200℃以上1600℃以下、好ましくは1280℃以上1500℃以下である。次いで加熱された鋼片は、引き続く熱間圧延により熱延鋼板に加工される。加工された熱延鋼板の板厚は、例えば、2.0mm以上3.0mm以下の範囲であることが好ましい。 In this step, the steel slab having the above components is first heat-treated. The heating temperature is, for example, 1200° C. or higher and 1600° C. or lower, preferably 1280° C. or higher and 1500° C. or lower. The heated billet is then processed into a hot rolled steel sheet by subsequent hot rolling. The plate thickness of the processed hot-rolled steel sheet is preferably in the range of, for example, 2.0 mm or more and 3.0 mm or less.

2. 熱延鋼板焼鈍工程
次に、得られた熱延鋼板について焼鈍を施す。このような焼鈍処理を施すことで、鋼板組織に再結晶が生じ、良好な磁気特性を実現することが可能となる。
焼鈍条件としては、特に限定されないが、例えば、鋼板に対して900~1250℃の温度域で10秒~5分間の焼鈍を行うことができる。
また、本工程後、冷延工程前において、熱延鋼板の表面について酸洗を施してもよい。
2. Hot Rolled Steel Sheet Annealing Step Next, the obtained hot rolled steel sheet is annealed. By performing such an annealing treatment, recrystallization occurs in the steel sheet structure, making it possible to achieve good magnetic properties.
Annealing conditions are not particularly limited, but, for example, the steel sheet can be annealed in a temperature range of 900 to 1250° C. for 10 seconds to 5 minutes.
After this step and before the cold-rolling step, the surface of the hot-rolled steel sheet may be pickled.

3. 冷延工程
次に、加工された熱延鋼板は、熱延板焼鈍された後に1回の冷間圧延にて圧延されるか、または中間焼鈍を間に挟んだ複数回の冷間圧延にて圧延される。また、熱延板焼鈍を施した場合、鋼板形状が良好になるため、1回目の圧延における鋼板破断の可能性を軽減することができる。この場合、鋼板の加熱方式は、特に限定されない。冷間圧延は、3回以上に分けて行ってもかまわないが、製造コストが増大するため、1回または2回とすることが好ましい。
また、最終冷延圧下率は、例えば、80%以上95%以下の範囲とすることができる。最終冷延圧下率を上記範囲内とすることにより、{110}<001>方位が圧延方向に高い集積度をもつGoss核を得るとともに、二次再結晶が不安定化することを抑制することができる。
なお、冷間圧延が施された冷延鋼板の板厚は、通常、最終的に製造される一方向性電磁鋼板の板厚(最終板厚)となる。
3. Cold rolling process Next, the processed hot-rolled steel sheet is rolled by one cold rolling after hot-rolled sheet annealing, or by cold rolling multiple times with intermediate annealing in between. Rolled. Further, when the hot-rolled sheet is annealed, the shape of the steel sheet is improved, so the possibility of the steel sheet breaking in the first rolling can be reduced. In this case, the method of heating the steel plate is not particularly limited. The cold rolling may be performed three times or more, but since the manufacturing cost increases, it is preferable to perform the cold rolling once or twice.
Also, the final cold rolling reduction can be, for example, in the range of 80% or more and 95% or less. By setting the final cold rolling reduction within the above range, obtaining Goss nuclei with {110} <001> orientation having a high degree of accumulation in the rolling direction and suppressing destabilization of secondary recrystallization. can be done.
The thickness of the cold-rolled steel sheet that has undergone cold rolling is usually the thickness (final thickness) of the grain-oriented electrical steel sheet that is finally manufactured.

4. 脱炭焼鈍工程
次に、脱炭焼鈍工程においては、得られた冷延鋼板を脱炭焼鈍する。
4. Decarburization Annealing Step Next, in the decarburization annealing step, the obtained cold-rolled steel sheet is decarburized and annealed.

4.1 脱炭焼鈍の概要
ここで、本発明にとって特に重要な役割を果たす脱炭焼鈍について説明する。
一方向性電磁鋼板を変圧器の鉄芯材料として用いる場合、鋼板の絶縁性を確保することが必須であるので、仕上焼鈍後の鋼板表面にグラス皮膜と張力付与絶縁皮膜を形成する必要がある。しかしグラス皮膜の皮膜密着性確保は難しく、とりわけ板厚が薄くなるほど、皮膜密着性は確保し難い。この原因は完全に明らかでないものの、脱炭焼鈍における酸化膜の形成挙動が薄手材については特異な可能性があると考えている。
4.1 Overview of Decarburization Annealing Decarburization annealing, which plays a particularly important role in the present invention, will now be described.
When using a unidirectional electrical steel sheet as a core material for a transformer, it is essential to ensure the insulation properties of the steel sheet, so it is necessary to form a glass coating and a tension-imparting insulating coating on the surface of the steel sheet after final annealing. . However, it is difficult to ensure the film adhesion of the glass film. Although the reason for this is not completely clear, we believe that the oxide film formation behavior during decarburization annealing may be peculiar to thin materials.

そもそもグラス皮膜と鋼板との密着性はグラス皮膜のモフォロジーに大きく依存する。このモフォロジーはSiOが形成される脱炭焼鈍工程でほぼ決定される。なぜならば、グラス皮膜とはMgOとSiOとの固相反応によって生成する物質だからである。一方向性電磁鋼板はSiを多量に含むため、脱炭焼鈍工程では一方向性電磁鋼板の表面は多様な形態のSiO物が形成するはずである。このため、脱炭焼鈍工程を制御することで、優れた皮膜密着性が確保できると考える。 In the first place, the adhesion between the glass film and the steel sheet largely depends on the morphology of the glass film. This morphology is largely determined by the decarburization annealing process in which SiO2 is formed. This is because the glass film is a substance produced by a solid phase reaction between MgO and SiO2 . Since the grain-oriented electrical steel sheet contains a large amount of Si, various forms of SiO 2 should be formed on the surface of the grain-oriented electrical steel sheet during the decarburization annealing process. Therefore, it is considered that excellent film adhesion can be secured by controlling the decarburization annealing process.

着想を得た発明者らは、脱炭焼鈍の昇温工程に着目し、昇温速度と昇温中の酸素ポテンシャルの最適条件を探索した。その結果、グラス皮膜と鋼板の密着性が顕著に改善する条件を見出した。この結果を受けて、発明者らが、脱炭焼鈍後の試料に遡り分析を進めた結果、皮膜密着性良好な材料では、SiOに加え、MnSiOが鋼板表面に形成していることを見出した。このMnSiOが焼鈍分離材であるMgOと反応し、Mg(Si、Mn)Oを形成することで、密着性に優れた強固なグラス皮膜が生成されると考えられる。なお、Mg(Si、Mn)Oは熱力学的に不安定な物質であるため、仕上焼鈍工程の後半では、グラス皮膜のモフォロジーを維持したまま、組成だけMg(Si、Mn)OからMgSiOへ変化すると考えられる。以下では脱炭焼鈍工程において、MnSiOを効果的に形成せしめ、グラス皮膜密着性を向上させる方法について詳細に述べる。 Having received the idea, the inventors focused on the heating process of decarburization annealing and searched for the optimum conditions of the heating rate and the oxygen potential during heating. As a result, the inventors have found the conditions under which the adhesion between the glass film and the steel plate is significantly improved. In response to this result, the inventors conducted a retrospective analysis of the sample after decarburization annealing, and as a result, in the material with good film adhesion, Mn 2 SiO 4 was formed on the surface of the steel sheet in addition to SiO 2 . I found out. It is believed that this Mn 2 SiO 4 reacts with MgO, which is an annealing separator, to form Mg(Si, Mn)O 4 , thereby forming a strong glass film with excellent adhesion. Since Mg(Si, Mn) O4 is a thermodynamically unstable substance, in the second half of the final annealing process, only the composition of Mg(Si, Mn) O4 is changed while maintaining the morphology of the glass film. It is thought that it changes to Mg 2 SiO 4 . A method for effectively forming Mn 2 SiO 4 in the decarburization annealing process and improving the glass film adhesion will be described below in detail.

4.2 昇温条件
本工程における昇温条件について詳細に説明する。
本工程では、500℃以上600℃以下の温度域における昇温速度S1(℃/秒)と600℃以上700℃以下の温度域における昇温速度S2(℃/秒)とが下記式(1)~式(3)を満たすように昇温が行われる。
1.0<S2/S1≦10.0 ・・・式(1)
300≦S1≦2000 ・・・式(2)
300≦S2≦4000 ・・・式(3)
本発明者らは、上記のような昇温条件を後述する酸素ポテンシャル条件下で採用することにより、MnSiOを十分に形成することができることを見出した。
4.2 Temperature rising conditions The temperature rising conditions in this step will be described in detail.
In this step, the temperature increase rate S1 (° C./sec) in the temperature range of 500° C. or higher and 600° C. or lower and the temperature increase rate S2 (° C./sec) in the temperature range of 600° C. or higher and 700° C. or lower are expressed by the following formula (1). The temperature is raised so as to satisfy the following formula (3).
1.0<S2/S1≦10.0 Expression (1)
300≦S1≦2000 Expression (2)
300≦S2≦4000 Expression (3)
The present inventors have found that Mn 2 SiO 4 can be sufficiently formed by adopting the temperature elevation conditions as described above under the oxygen potential conditions described later.

理由について説明する。SiO酸化膜は600~700℃の温度域で最も形成されやすい。この温度域における鋼中のSi拡散速度とOの拡散速度が鋼板表面で釣り合うためと考えられる。一方、500~600℃の温度域ではMnSiOが形成し易い。本発明は、MnSiOを生成させ、皮膜密着性を改善する技術のため、MnSiOの形成温度域500~600℃の滞留時間を、SiOの形成温度域600~700℃の滞留時間に比して多く稼ぐことがまず重要である。 Explain why. The SiO 2 oxide film is most easily formed in the temperature range of 600-700°C. It is considered that the Si diffusion rate and the O diffusion rate in the steel in this temperature range are balanced on the steel plate surface. On the other hand, Mn 2 SiO 4 is easily formed in the temperature range of 500 to 600°C. Since the present invention is a technique for generating Mn 2 SiO 4 and improving film adhesion, the residence time in the Mn 2 SiO 4 formation temperature range of 500 to 600° C. is changed to that of the SiO 2 formation temperature range of 600 to 700° C. It is first important to earn more than the residence time.

したがって、温度域500~600℃の昇温速度S1と、温度域600~700℃の昇温速度S2の比率S2/S1が1.0より大きいことが必要である。温度域500~600℃の滞留時間はMnSiOの生成量と、温度域600~700℃の滞留時間はSiOの生成量と対応するため、S2/S1が1.0以下の場合、MnSiO生成量をSiO生成量が上回り、本発明の奏する効果を享受できない恐れがある。一方、比率S2/S1の上限は、S1の下限値とS2上限値から10.0と決まる。ただしSiOの生成量が極端に少ない場合、グラス皮膜生成挙動が不安定化し、皮膜に穴が開くなどの皮膜欠陥の原因となり得る。そのため、比率S2/S1の好ましい範囲は1.0超5.0以下、より好ましい範囲は1.2以上3.5以下とする。 Therefore, it is necessary that the ratio S2/S1 between the temperature increase rate S1 in the temperature range of 500 to 600° C. and the temperature increase rate S2 in the temperature range of 600 to 700° C. is greater than 1.0. Since the residence time in the temperature range of 500 to 600°C corresponds to the amount of Mn 2 SiO 4 produced, and the residence time in the temperature range of 600 to 700°C corresponds to the amount of SiO 2 produced, when S2/S1 is 1.0 or less, The amount of SiO 2 produced exceeds the amount of Mn 2 SiO 4 produced, and the effect of the present invention may not be obtained. On the other hand, the upper limit of the ratio S2/S1 is determined to be 10.0 from the lower limit of S1 and the upper limit of S2. However, when the amount of SiO 2 produced is extremely small, the glass film formation behavior becomes unstable, which may cause film defects such as holes in the film. Therefore, the preferred range of the ratio S2/S1 is more than 1.0 and 5.0 or less, and a more preferred range is 1.2 or more and 3.5 or less.

S1の下限は300℃/秒以上、上限は2000℃/秒である。300℃/秒以下では良好な磁性が得られず、2000℃/秒を越えるとMnSiOが形成されない。S1は、好ましくは400℃/秒以上である。また、S1は、好ましくは1700℃/秒以下である。
さらに、温度域600~700℃における昇温速度S2の制御も重要である。S2の範囲は300℃/秒以上4000℃/秒以下とする。S2の値が大きいほど本発明の奏する効果を享受できるため、S2は500℃/秒以上が好ましい。しかし、昇温速度が大きすぎるとオーバーシュートの懸念あるため上限は4000℃/秒以下とする。S2は、好ましくは3000℃/秒以下とする。
The lower limit of S1 is 300° C./sec or more, and the upper limit is 2000° C./sec. Good magnetism cannot be obtained at 300° C./sec or less, and Mn 2 SiO 4 is not formed at 2000° C./sec or more. S1 is preferably 400° C./sec or more. Also, S1 is preferably 1700° C./sec or less.
Furthermore, control of the heating rate S2 in the temperature range of 600 to 700° C. is also important. The range of S2 is from 300° C./sec to 4000° C./sec. Since the effect of the present invention can be enjoyed as the value of S2 increases, S2 is preferably 500° C./second or more. However, if the heating rate is too high, there is a concern of overshoot, so the upper limit is set to 4000° C./second or less. S2 is preferably 3000° C./sec or less.

なお、600℃の等温保持サイクルを採用した場合、S1およびS2のそれぞれに対応する滞留時間が不明確になってしまう。そこで本実施形態において、600℃の等温保持サイクルを採用した場合、S1に対応する滞留時間は500℃到達時から、600℃等温保持の開始時まで、S2に対応する滞留時間は600℃等温保持の終了時から700℃到達時までと定義する。 It should be noted that if an isothermal holding cycle of 600° C. is employed, the residence time corresponding to each of S1 and S2 becomes unclear. Therefore, in the present embodiment, when a 600° C. isothermal holding cycle is adopted, the residence time corresponding to S1 is from when 500° C. is reached to the start of isothermal holding at 600° C., and the residence time corresponding to S2 is isothermal holding at 600° C. is defined as the time from the end of

また、本実施形態において、昇温時の500℃以上600℃以下の温度域における雰囲気中の酸素ポテンシャルP1は、下記式(4)を満たす。
0.00001≦P1≦0.5 ・・・式(4)
Further, in the present embodiment, the oxygen potential P1 in the atmosphere in the temperature range of 500° C. or higher and 600° C. or lower when the temperature is raised satisfies the following formula (4).
0.00001≦P1≦0.5 Expression (4)

酸化膜の熱力学的安定性は、MnSiOが生成する500℃以上600℃以下の温度域における雰囲気の酸素ポテンシャルP1によっても影響を受ける。酸素ポテンシャルは雰囲気中の水蒸気分圧PHOと水素分圧PHとの比、すなわちPHO/PHによって定義できる。P1が0.5を超えると、FeSiOが生成し、MnSiOの生成を阻害するため、P1の上限は0.5である。P1が小さいほど、MnSiOは生成し易いが、工業的にはP1=0.00001が限界であると考えられる。すなわちP1は0.00001以上0.5以下、好ましくは0.0001以上0.3以下とする。 The thermodynamic stability of the oxide film is also affected by the oxygen potential P1 of the atmosphere in the temperature range of 500° C. to 600° C. where Mn 2 SiO 4 is produced. The oxygen potential can be defined by the ratio of the water vapor partial pressure PH2O and the hydrogen partial pressure PH2 in the atmosphere, that is, PH2O / PH2 . If P1 exceeds 0.5, Fe 2 SiO 4 is produced and inhibits the production of Mn 2 SiO 4 , so the upper limit of P1 is 0.5. Mn 2 SiO 4 is more easily generated as P1 is smaller, but P1=0.00001 is considered to be the industrial limit. That is, P1 is 0.00001 or more and 0.5 or less, preferably 0.0001 or more and 0.3 or less.

なお、600℃の等温保持サイクルを採用した場合、P1に対応する雰囲気は、500℃到達時から、600℃等温保持の終了時までの雰囲気と定義する。 When a 600° C. isothermal holding cycle is employed, the atmosphere corresponding to P1 is defined as the atmosphere from the time when 500° C. is reached until the end of the 600° C. isothermal holding.

4.3 保持条件
また、本工程おける焼鈍条件(保持条件)は、上記の昇温条件を満たしていれば、特に限定されず、例えば、焼鈍は、700℃以上1000℃以下の温度域で10秒以上10分以下保持することにより行われる。また、多段階の焼鈍を行ってもよい。例えば、以下に説明するような二段階の焼鈍を行うこともできる。
4.3 Holding conditions In addition, the annealing conditions (holding conditions) in this step are not particularly limited as long as the above temperature elevation conditions are satisfied. It is carried out by holding for seconds to 10 minutes. Also, multistage annealing may be performed. For example, a two-step anneal as described below can be performed.

例えば、本工程においては、酸素ポテンシャルP2の雰囲気中、700℃以上900℃以下の温度T2℃で10秒以上1000秒以下保持する一段目焼鈍に続き、下記式(5)を満たす酸素ポテンシャルP3の雰囲気中、下記式(6)を満たす温度T3℃で、5秒以上、500秒以下保持する二段目焼鈍を行うことができる。
P3<P2 ・・・式(5)
T2+50≦T3≦1000 ・・・式(6)
For example, in this step, following the first-stage annealing in which the temperature T2° C. of 700° C. or higher and 900° C. or lower is maintained for 10 seconds or longer and 1000 seconds or shorter in an atmosphere of oxygen potential P2, oxygen potential P3 satisfying the following formula (5) is performed. Second-stage annealing can be performed in an atmosphere at a temperature of T3° C. that satisfies the following formula (6) for 5 seconds or more and 500 seconds or less.
P3<P2 Expression (5)
T2+50≦T3≦1000 Expression (6)

MnSiOの形成が重要なことは前述のとおりであるが、脱炭焼鈍工程は前段を低温、後段を高温で焼鈍するような、二段階焼鈍を実施する場合がある。このとき、一段階目と二段階目の高温焼鈍温度およびの制御が必要となる。 As mentioned above, the formation of Mn 2 SiO 4 is important, but the decarburization annealing process may be carried out by two-stage annealing, in which the former stage is low temperature and the latter stage is high temperature annealing. At this time, it is necessary to control the high-temperature annealing temperatures of the first stage and the second stage.

脱炭改善の観点から、例えば、一段階目焼鈍において焼鈍温度T2(板温)は700℃以上900℃以下、好ましくは780℃以上860℃以下とし、10秒以上保持する。なお、焼鈍時間が長時間化すること自体は脱炭の観点から問題はないが、生産性の観点から、焼鈍時間の上限は1000秒以下である。実用鋼板の製造においては、好ましくは50秒以上300秒以下とする。 From the viewpoint of improving decarburization, for example, in the first stage annealing, the annealing temperature T2 (plate temperature) is 700° C. or higher and 900° C. or lower, preferably 780° C. or higher and 860° C. or lower, and is held for 10 seconds or more. A longer annealing time itself poses no problem from the viewpoint of decarburization, but from the viewpoint of productivity, the upper limit of the annealing time is 1000 seconds or less. In the production of practical steel sheets, the time is preferably 50 seconds or more and 300 seconds or less.

MnSiOの形成量確保の観点から、一段階目の焼鈍時の酸素ポテンシャルP2は昇温時の酸素ポテンシャルP1に比べて高くすることができる。十分な酸素ポテンシャルが得られると、MnSiOがSiOに置き換わることを防止することができる。また、脱炭反応を十分に進行させることができる。ただし、P2が大きすぎると、MnSiOはFeSiOに置き換わってしまう場合がある。FeSiOはグラス皮膜の密着性を劣化させる。したがって、P2を0.1以上1.0以下の範囲に制御することができる。好ましくは0.2以上0.8以下とする。 From the viewpoint of ensuring the formation amount of Mn 2 SiO 4 , the oxygen potential P2 during the first stage annealing can be made higher than the oxygen potential P1 during the temperature rise. When sufficient oxygen potential is obtained, Mn 2 SiO 4 can be prevented from replacing with SiO 2 . Moreover, the decarburization reaction can be sufficiently advanced. However, if P2 is too large, Mn 2 SiO 4 may be replaced with Fe 2 SiO 4 . Fe 2 SiO 4 deteriorates the adhesion of the glass film. Therefore, P2 can be controlled within the range of 0.1 or more and 1.0 or less. It is preferably 0.2 or more and 0.8 or less.

一段目焼鈍においてFeSiOの生成を完全に抑制することはできない。そのため、好ましくは二段階目の焼鈍においては焼鈍温度T3(板温)をT2+50℃以上1000℃以下、好ましくはT2+100℃以上1000℃以下とし、5秒以上保持する。この温度域であれば、一段階目の焼鈍時にFeSiOが生成されたとしても、MnSiOに還元されるからである。焼鈍時間が500秒を超えるとMnSiOがSiOに還元されてしまうため、焼鈍時間の上限を500秒とする。好ましくは10秒以上100秒以下である。 The generation of Fe 2 SiO 4 cannot be completely suppressed in the first stage annealing. Therefore, in the second stage annealing, the annealing temperature T3 (sheet temperature) is preferably T2 + 50°C or higher and 1000°C or lower, preferably T2 + 100°C or higher and 1000°C or lower, and is held for 5 seconds or longer. This is because within this temperature range, even if Fe 2 SiO 4 is produced during the first stage of annealing, it is reduced to Mn 2 SiO 4 . If the annealing time exceeds 500 seconds, Mn 2 SiO 4 is reduced to SiO 2 , so the upper limit of the annealing time is 500 seconds. It is preferably 10 seconds or more and 100 seconds or less.

なお還元雰囲気にするため、二段階目の焼鈍における酸素ポテンシャルP3を、P2よりも小さく設定することができる。例えば、P3自体の酸素ポテンシャルを0.00001以上0.1以下に制御できれば、より良好な密着性が得られる。 In order to create a reducing atmosphere, the oxygen potential P3 in the second stage annealing can be set smaller than P2. For example, if the oxygen potential of P3 itself can be controlled to 0.00001 or more and 0.1 or less, better adhesion can be obtained.

5.仕上焼鈍工程
次に、得られた脱炭焼鈍後の冷延鋼板(脱炭焼鈍鋼板)に仕上焼鈍を施す。ここで、仕上げ焼鈍は、一般に鋼板をコイル状に巻いた状態において長時間で行われる。したがって、仕上焼鈍に先立ち、鋼板の巻きの内と外との焼付きの防止を目的として、焼鈍分離剤を脱炭焼鈍鋼板に塗布し、乾燥させる。焼鈍分離剤としては、マグネシア(MgO)を主成分として含有する焼鈍分離剤を用いることができる。
5. Finish Annealing Step Next, finish annealing is performed on the obtained cold-rolled steel sheet after decarburization annealing (decarburization annealing steel sheet). Here, the finish annealing is generally performed for a long time while the steel sheet is coiled. Therefore, prior to final annealing, an annealing separating agent is applied to the decarburized annealed steel sheet for the purpose of preventing seizure between the inside and the outside of the winding of the steel sheet, and dried. As the annealing separator, an annealing separator containing magnesia (MgO) as a main component can be used.

次いで、仕上焼鈍の条件は特に限定されず、公知の条件を適宜採用して行うことができる。例えば900℃以上1400℃以下の温度域まで加熱を行って、同温度を10時間以上100時間以下保持することにより仕上げ焼鈍を行うことができる。また、仕上げ焼鈍時の雰囲気は、例えば酸素ポテンシャルを0.0002以上、0.2以下とすることができる。 Next, the conditions for the finish annealing are not particularly limited, and known conditions can be appropriately employed. For example, finish annealing can be performed by heating to a temperature range of 900° C. or more and 1400° C. or less and maintaining the same temperature for 10 hours or more and 100 hours or less. In addition, the atmosphere during finish annealing can have an oxygen potential of, for example, 0.0002 or more and 0.2 or less.

仕上焼鈍中に二次再結晶が{110}<001>方位に集積し、圧延方向に磁化容易軸の揃った粗大な結晶粒が生成する結果、優れた磁気特性が得られる。同時に、鋼板表面においては焼鈍分離剤中のMgOと脱炭焼鈍が反応してグラス皮膜が形成される。
なお、本工程終了後、冷延鋼板の表面を水洗または酸洗して、除粉を行ってもよい。
Secondary recrystallization accumulates in the {110}<001> orientation during the final annealing, forming coarse crystal grains with easy magnetization axes aligned in the rolling direction, resulting in excellent magnetic properties. At the same time, MgO in the annealing separator reacts with decarburization annealing to form a glass film on the surface of the steel sheet.
After the completion of this step, the surface of the cold-rolled steel sheet may be washed with water or pickled to remove powder.

6. 絶縁皮膜形成工程
絶縁皮膜形成工程では、仕上焼鈍工程後の冷延鋼板の両面に張力付与絶縁皮膜を形成する。例えば、アクリル等の樹脂とリン酸塩等の無機物とを混合した絶縁コーティング液、またはコロイダルシリカ及びリン酸塩を含有する絶縁コーティング液を鋼板の表面に塗布し、熱処理を実施することで、鋼板の表面に張力付与絶縁皮膜を形成することができる。熱処理は、絶縁コーティング液が有機物を含有する場合、例えば250℃~400℃の温度範囲で実施すればよく、絶縁コーティング液が無機物のみを含有する場合、例えば840℃~920℃の温度範囲で実施すればよい。
以上の工程により、一方向性電磁鋼板を製造することができる。
6. Insulating Coating Forming Step In the insulating coating forming step, tension imparting insulating coatings are formed on both surfaces of the cold-rolled steel sheet after the finish annealing step. For example, by applying an insulating coating liquid containing a mixture of a resin such as acrylic and an inorganic substance such as a phosphate, or an insulating coating liquid containing colloidal silica and a phosphate, to the surface of the steel sheet and performing heat treatment, the steel sheet A tension-imparting insulating coating can be formed on the surface of the The heat treatment may be performed in a temperature range of, for example, 250° C. to 400° C. when the insulating coating liquid contains an organic substance, and in a temperature range of, for example, 840° C. to 920° C. when the insulating coating liquid contains only inorganic substances. do it.
A grain-oriented electrical steel sheet can be manufactured by the above steps.

7. 一方向性電磁鋼板
最後に、上述した方法によって得られた一方向性電磁鋼板について説明する。
上述した方法によって製造された一方向性電磁鋼板は、脱炭焼鈍工程においてSiOに加え、MnSiOが鋼板表面に形成している。そして、このMnSiOが焼鈍分離材であるMgOと反応し、Mg(Si、Mn)Oを形成することで、密着性に優れた強固なグラス皮膜が生成されている。したがって、上述した本実施形態に係る方法によって製造された一方向性電磁鋼板は、グラス皮膜の密着性に優れている。さらに、上述した方法は、従来の方法と比較して、特段磁気特性を損なうものではない。すなわち、得られた一方向性電磁鋼板は、十分に優れた磁気特性を有している。
7. Grain-oriented Electrical Steel Sheet Finally, the grain-oriented electrical steel sheet obtained by the method described above will be described.
In the grain-oriented electrical steel sheet manufactured by the method described above, Mn 2 SiO 4 is formed on the surface of the steel sheet in addition to SiO 2 in the decarburization annealing process. Then, this Mn 2 SiO 4 reacts with MgO, which is an annealing separator, to form Mg(Si, Mn)O 4 , thereby forming a strong glass film with excellent adhesion. Therefore, the grain-oriented electrical steel sheet manufactured by the method according to the present embodiment described above has excellent adhesion to the glass coating. Furthermore, the method described above does not impair the magnetic properties particularly as compared with the conventional method. That is, the obtained grain-oriented electrical steel sheet has sufficiently excellent magnetic properties.

本実施形態に係る一方向性電磁鋼板は、例えば、製品板厚が0.18mm以上0.35mm以下であることができる。また、本発明においては、一方向性電磁鋼板が最終板厚が薄い材料(以下、薄手材)である場合に、効果が顕著である。具体的には、一方向性電磁鋼板の製品板厚が0.18mm以上0.22mm未満、特に0.18mm以上0.20mm以下である場合に、効果が顕著である。 The grain-oriented electrical steel sheet according to the present embodiment can have a product thickness of, for example, 0.18 mm or more and 0.35 mm or less. Moreover, in the present invention, the effect is remarkable when the grain-oriented electrical steel sheet is a material having a small final thickness (hereinafter referred to as a thin material). Specifically, the effect is remarkable when the product thickness of the grain-oriented electrical steel sheet is 0.18 mm or more and less than 0.22 mm, particularly 0.18 mm or more and 0.20 mm or less.

すなわち、本発明において脱炭焼鈍においてMnSiOを生成させる必要がある。なお、MnSiOの形成は、鋼中Mnの板厚表面への拡散により律速される。薄手材では表面積が占める割合が厚手材に比べ大きいため、鋼板内部から鋼板表面へ至るまでのMnの拡散距離は短くて済む。すなわち薄手材ではMnの実質的な拡散速度が速い。これにより薄手材では、500~600℃という低温域でありながらも、効率的にMnSiOを生成することが可能となるためと考えている。 That is, it is necessary to generate Mn 2 SiO 4 in the decarburization annealing in the present invention. The formation of Mn 2 SiO 4 is controlled by the diffusion of Mn in the steel to the plate thickness surface. Since the ratio of the surface area occupied by the thin material is larger than that of the thick material, the diffusion distance of Mn from the inside of the steel sheet to the surface of the steel sheet can be short. That is, the thin material has a high substantial diffusion rate of Mn. This is believed to be the reason why it is possible to efficiently generate Mn 2 SiO 4 in thin materials even at a low temperature range of 500 to 600°C.

なお、一方向性電磁鋼板の示す各種の磁気特性は、JIS C2550に規定されたエプスタイン法や、JIS C2556に規定された単板磁気特性測定法(Single Sheet Tester:SST)に則して、測定することが可能である。 Various magnetic properties exhibited by grain-oriented electrical steel sheets are measured according to the Epstein method specified in JIS C2550 and the single sheet magnetic property measurement method (Single Sheet Tester: SST) specified in JIS C2556. It is possible to

以下、本発明の実施例を挙げて、本発明の技術的内容について、さらに説明する。なお、以下に示す実施例での条件は、本発明の実施可能性及び効果を確認するために採用した一条件例であり、本発明は、この一条件例に限定されるものではない。また本発明は、本発明の要旨を逸脱せず、本発明の目的を達成する限りにおいて、種々の条件を採用し得るものである。 Hereinafter, the technical content of the present invention will be further described with reference to examples of the present invention. It should be noted that the conditions in the examples shown below are an example of conditions adopted for confirming the feasibility and effects of the present invention, and the present invention is not limited to this example of conditions. Moreover, the present invention can adopt various conditions without departing from the gist of the present invention and as long as the objects of the present invention are achieved.

<実施例1>
表1に示す成分組成の珪素鋼を1280℃以上1450℃以下に加熱して熱間圧延に供し、板厚2.3~2.8mmの熱延鋼板とし、該熱延鋼板に900~1200℃で焼鈍を施し、その後、一回の冷間圧延又は中間焼鈍を挟む複数回の冷間圧延を施して、最終板厚0.22mmの冷延鋼板とした。なお、各珪素鋼について、表1中に記載される成分以外の残部は、鉄および不純物である。
<Example 1>
A silicon steel having the chemical composition shown in Table 1 is heated to 1280° C. or higher and 1450° C. or lower and subjected to hot rolling to obtain a hot rolled steel sheet having a thickness of 2.3 to 2.8 mm. After that, cold rolling was performed once or multiple times of cold rolling with intermediate annealing was performed to obtain a cold-rolled steel sheet having a final thickness of 0.22 mm. For each silicon steel, the balance other than the components listed in Table 1 is iron and impurities.

最終板厚0.22mmの冷延鋼板に、脱炭焼鈍を施し、その後、マグネシア(MgO)を主体とする焼鈍分離剤を塗布して、1200℃で仕上げ焼鈍を施し、次いで、仕上げ焼鈍板を作製した。なお、本実験の脱炭焼鈍工程の昇温においては、温度域500~700℃の加熱速度、および酸素ポテンシャルを制御した(S1=800℃/秒、S2=1000℃/秒、P1=0.20)。また脱炭焼鈍においては、酸素ポテンシャルは0.5の湿潤水素雰囲気にて850℃でおよそ150秒の保持を行った。
その後、鋼板表面に絶縁皮膜形成用塗布液を塗布して焼き付け、張力付与性絶縁皮膜を形成し、該絶縁皮膜の皮膜密着性を評価するとともに、磁気特性(磁束密度)を評価した。
A cold-rolled steel sheet with a final thickness of 0.22 mm is subjected to decarburization annealing, then coated with an annealing separator mainly composed of magnesia (MgO), subjected to finish annealing at 1200 ° C., and then finished annealed. made. In addition, in the temperature rise in the decarburization annealing step of this experiment, the heating rate in the temperature range of 500 to 700° C. and the oxygen potential were controlled (S1=800° C./sec, S2=1000° C./sec, P1=0. 20). In the decarburization annealing, the steel was held at 850° C. for about 150 seconds in a wet hydrogen atmosphere with an oxygen potential of 0.5.
After that, the surface of the steel sheet was coated with the coating solution for forming an insulating film and baked to form a tension-imparting insulating film.

磁気特性は、JIS C 2550に準じて評価した。磁束密度は、B8を用いて評価した。B8は、磁界の強さ800A/mにおける磁束密度で、二次再結晶の良否の判断基準となる。B8=1.89T以上を、二次再結晶したものと判断した。なお、比較鋼b4は、冷延工程で、比較鋼b11は熱延工程で、それぞれ破断が生じたため、磁気特性を評価しなかった。 Magnetic properties were evaluated according to JIS C 2550. Magnetic flux density was evaluated using B8. B8 is the magnetic flux density at a magnetic field strength of 800 A/m, and serves as a criterion for determining the quality of secondary recrystallization. B8=1.89 T or more was judged to have undergone secondary recrystallization. The comparative steel b4 was broken in the cold rolling process, and the comparative steel b11 was broken in the hot rolling process, so the magnetic properties were not evaluated.

張力付与性絶縁皮膜の皮膜密着性は、評価用試料を、直径20mmの円筒に巻き付け、180°曲げた時の皮膜残存面積率で評価した。評価は、鋼板から剥離せず、皮膜残存面積率が95%以上の場合をVG(非常に優れる)、90%以上95%未満の場合をG(優れる)、80%以上90%未満の場合をF(効果がある)、80%未満をB(効果がない)とした。圧延中に破断したもの、二次再結晶不良のものについては皮膜密着性は未評価とした。一連の評価結果を表2に示す。 The film adhesion of the tension-applying insulating film was evaluated by winding the evaluation sample around a cylinder with a diameter of 20 mm and bending it 180° to evaluate the residual film area ratio. The evaluation is VG (very excellent) when the film does not peel off from the steel plate and the residual film area ratio is 95% or more, G (excellent) when it is 90% or more and less than 95%, and 80% or more and less than 90%. F (effective), less than 80% B (no effect). Film adhesion was not evaluated for those that fractured during rolling and those with poor secondary recrystallization. Table 2 shows a series of evaluation results.

発明鋼B1~24は、いずれも優れた皮膜密着性と、磁気特性を示した。特に、発明鋼B18~B24では、選択元素であるSn、Cr、Cu、Biの1種類または2種類以上が添加されているため、発明鋼B1~B11に比べ良好な皮膜密着性を示す。一方で、いずれかの必須元素の含有量が本願発明の範囲外である比較鋼b1~b11においては、十分な磁気特性が得られないか、圧延中に破断が生じた。 All of the invention steels B1 to B24 exhibited excellent film adhesion and magnetic properties. In particular, invention steels B18 to B24 contain one or more of the selective elements Sn, Cr, Cu, and Bi, and exhibit better film adhesion than invention steels B1 to B11. On the other hand, in the comparative steels b1 to b11 in which the content of any of the essential elements is outside the scope of the present invention, sufficient magnetic properties were not obtained or breakage occurred during rolling.

Figure 0007110641000001
Figure 0007110641000001

Figure 0007110641000002
Figure 0007110641000002

<実施例2>
表1に示す成分組成の珪素鋼を1280℃以上1450℃以下に加熱して熱間圧延に供し、板厚2.3~2.8mmの熱延鋼板とし、該熱延鋼板に900~1200℃で焼鈍を施し、その後、一回の冷間圧延又は中間焼鈍を挟む複数回の冷間圧延を施して、最終板厚0.19~0.22mmの冷延鋼板とした。
<Example 2>
A silicon steel having the chemical composition shown in Table 1 is heated to 1280° C. or higher and 1450° C. or lower and subjected to hot rolling to obtain a hot rolled steel sheet having a thickness of 2.3 to 2.8 mm. After that, cold rolling was performed once or cold rolling was performed multiple times with intermediate annealing to obtain a cold-rolled steel sheet having a final thickness of 0.19 to 0.22 mm.

上記冷延鋼板に、表3に示す条件で脱炭焼鈍を施し、その後、MgOを主体とする焼鈍分離剤を塗布して、1200℃で仕上げ焼鈍を施し、次いで、仕上げ焼鈍板の表面に絶縁皮膜形成用塗布液を塗布して焼き付け、張力付与性絶縁皮膜を形成し、該絶縁皮膜の密着性を評価するとともに、磁気特性(磁束密度)を評価した。なお脱炭焼鈍においては、酸素ポテンシャルは0.4の湿潤水素雰囲気にて830℃でおよそ180秒の保持を行った。 The above cold-rolled steel sheet was decarburized and annealed under the conditions shown in Table 3, then coated with an annealing separator mainly composed of MgO, subjected to finish annealing at 1200°C, and then insulated on the surface of the finish-annealed steel sheet. A coating solution for film formation was applied and baked to form a tension-applying insulating film, and the adhesion of the insulating film was evaluated, as well as the magnetic properties (magnetic flux density). In the decarburization annealing, the steel was held at 830° C. for about 180 seconds in a wet hydrogen atmosphere with an oxygen potential of 0.4.

表3に皮膜密着性および磁気特性の評価結果を示す。いずれの測定方法、評価方法も、実施例1に準じて行った。 Table 3 shows evaluation results of film adhesion and magnetic properties. All measurement methods and evaluation methods were performed according to Example 1.

発明鋼C1~C7について、昇温速度S1、S2、S2/S1およびP1はいずれも本発明における範囲に制御されているため、良好な皮膜密着性を示した。発明鋼C8~C14についても、昇温速度S1、S2、S2/S1が好ましい範囲に制御されているため、良好な皮膜密着性を示した。特にC10、C12、C13は板厚が薄いため、C8、C9、C11、C14に比べて良好な皮膜密着性を示した。発明鋼C15~C19については、昇温速度S1、S2、S2/S1およびP1が好ましい範囲に制御されおり、かつ板厚も薄いことから、皮膜密着性は特に良好な結果だった。これに対し、比較鋼c1はS2/S1が本発明における範囲を外れており、皮膜密着性が劣っていた。比較鋼c2~c4はS1またはS2の何れか一方が本発明における範囲を外れていたため、皮膜密着性が劣っていた。比較鋼c5については脱炭焼鈍の昇温時の酸素ポテンシャルが本発明における範囲を外れていたため、皮膜密着性が劣っていた。
The invention steels C1 to C7 exhibited good film adhesion because the heating rates S1, S2, S2/S1 and P1 were all controlled within the ranges of the invention. Inventive steels C8 to C14 also exhibited good film adhesion because the heating rates S1, S2, and S2/S1 were controlled within preferable ranges. In particular, since C10, C12 and C13 had thin plate thicknesses, they exhibited better film adhesion than C8, C9, C11 and C14. For the invention steels C15 to C19, the heating rates S1, S2, S2/S1 and P1 were controlled within preferable ranges, and the plate thickness was thin, so the film adhesion was particularly good. On the other hand, in Comparative Steel c1, S2/S1 was out of the range of the present invention, and the film adhesion was poor. Comparative steels c2 to c4 were inferior in film adhesion because either S1 or S2 was out of the scope of the present invention. As for Comparative Steel c5, the oxygen potential at the time of temperature rise in decarburization annealing was outside the range of the present invention, so the film adhesion was poor.

Figure 0007110641000003
Figure 0007110641000003

<実施例3>
表1に示す成分組成の珪素鋼を1280℃以上1450℃以下に加熱して熱間圧延に供し、板厚2.3~2.8mmの熱延鋼板とし、該熱延鋼板に900~1200℃で焼鈍を施し、その後、一回の冷間圧延又は中間焼鈍を挟む複数回の冷間圧延を施して、最終板厚0.19~0.22mmの冷延鋼板とした。
<Example 3>
A silicon steel having the chemical composition shown in Table 1 is heated to 1280° C. or higher and 1450° C. or lower and subjected to hot rolling to obtain a hot rolled steel sheet having a thickness of 2.3 to 2.8 mm. After that, cold rolling was performed once or cold rolling was performed multiple times with intermediate annealing to obtain a cold-rolled steel sheet having a final thickness of 0.19 to 0.22 mm.

上記冷延鋼板に、表4に示す条件で二段階の脱炭焼鈍を施し、その後、MgOを主体とする焼鈍分離剤を塗布して、1200℃で仕上げ焼鈍を施し、次いで、仕上げ焼鈍板の表面に絶縁皮膜形成用塗布液を塗布して焼き付け、張力付与性絶縁皮膜を形成し、該絶縁皮膜の密着性を評価するとともに、磁気特性(磁束密度)を評価した。 The cold-rolled steel sheet was subjected to two-stage decarburization annealing under the conditions shown in Table 4, then coated with an annealing separator mainly composed of MgO, subjected to finish annealing at 1200 ° C., and then finished annealed. A coating solution for forming an insulating film was applied to the surface and baked to form a tension-applying insulating film.

なお、本実験の脱炭焼鈍の昇温工程においてはS1=1700℃/秒、S2=2500℃/秒、P1=0.10に制御した。表4に皮膜密着性および磁気特性の評価結果を示す。いずれの測定方法、評価方法も、実施例1に準じて行った。 In the decarburization annealing step of this experiment, S1 was controlled to 1700° C./sec, S2=2500° C./sec, and P1=0.10. Table 4 shows evaluation results of film adhesion and magnetic properties. All measurement methods and evaluation methods were performed according to Example 1.

発明鋼D11~D16については、一段目焼鈍の条件が制御されているため、発明鋼D1~D10に比べ、皮膜密着性は良好だった。また、D17~D22は二段目焼鈍の条件が制御されているため、発明鋼D1~D10に比べ、皮膜密着性は良好だった。発明鋼D23~D26は、一段目焼鈍および二段目焼鈍の条件が共に好ましい条件に制御されていたため、特に良好な皮膜密着性を示す。

For invention steels D11 to D16, the film adhesion was better than for invention steels D1 to D10 because the conditions for the first stage annealing were controlled. In addition, D17 to D22 had better film adhesion than the invention steels D1 to D10 because the conditions of the second stage annealing were controlled. Inventive steels D23 to D26 exhibit particularly good film adhesion because both the first-stage annealing and second-stage annealing conditions were controlled to favorable conditions.

Figure 0007110641000004
Figure 0007110641000004

<実施例4>
表1に示す成分組成の珪素鋼を1280℃以上1450℃以下で加熱して熱間圧延に供し、板厚2.3~2.8mmの熱延鋼板とし、該熱延鋼板に900~1200℃で焼鈍を施し、その後、一回の冷間圧延又は中間焼鈍を挟む複数回の冷間圧延を施して、最終板厚0.19mmの冷延鋼板とした。
<Example 4>
A silicon steel having the chemical composition shown in Table 1 is heated at 1280° C. or higher and 1450° C. or lower and subjected to hot rolling to obtain a hot rolled steel sheet having a thickness of 2.3 to 2.8 mm. After that, cold rolling was performed once or multiple times of cold rolling with intermediate annealing was performed to obtain a cold-rolled steel sheet having a final thickness of 0.19 mm.

冷延鋼板に、脱炭焼鈍を施し、その後、MgOを主体とする焼鈍分離剤を塗布して、1200℃で仕上げ焼鈍を施し、次いで、仕上げ焼鈍板を作製した。なお、本実験の脱炭焼鈍工程においては、温度域500~700℃の加熱速度、および温度域500~600℃の酸素ポテンシャルP1を制御した(S1=900℃/秒、S2=1200℃/秒、P1=0.03)。その後、鋼板表面に絶縁皮膜形成用塗布液を塗布して焼き付け、張力付与性絶縁皮膜を形成し、該絶縁皮膜の皮膜密着性を評価するとともに、磁気特性(磁束密度)を評価した。なお脱炭焼鈍においては、酸素ポテンシャルは0.3の湿潤水素雰囲気にて850℃でおよそ150秒の保持を行った。 The cold-rolled steel sheets were decarburized and annealed, then coated with an annealing separator mainly composed of MgO, and subjected to finish annealing at 1200° C., and then finish-annealed sheets were produced. In the decarburization annealing step of this experiment, the heating rate in the temperature range of 500 to 700 ° C. and the oxygen potential P1 in the temperature range of 500 to 600 ° C. were controlled (S1 = 900 ° C./sec, S2 = 1200 ° C./sec. , P1=0.03). After that, the surface of the steel sheet was coated with the coating solution for forming an insulating film and baked to form a tension-applying insulating film. In the decarburization annealing, the steel was held at 850° C. for about 150 seconds in a wet hydrogen atmosphere with an oxygen potential of 0.3.

表5に皮膜密着性および磁気特性の評価結果を示す。いずれの測定方法、評価方法も、実施例1に準じて行った。なお、比較鋼b4は、冷延工程で、比較鋼b11は熱延工程で、それぞれ破断が生じたため、磁気特性を評価しなかった。
発明鋼E1~E24は、いずれも優れた皮膜密着性と、磁気特性を示した。特に、発明鋼E12~E24では、選択元素であるSn、Cr、Cu、Biの1種類または2種類以上が添加されているため、発明鋼E1~E11に比べ良好な皮膜密着性を示す。一方で、いずれかの必須元素の含有量が本願発明の範囲外である比較鋼e1~e11においては、十分な磁気特性が得られないか、圧延中に破断が生じた。
Table 5 shows evaluation results of film adhesion and magnetic properties. All measurement methods and evaluation methods were performed according to Example 1. The comparative steel b4 was broken in the cold rolling process, and the comparative steel b11 was broken in the hot rolling process, so the magnetic properties were not evaluated.
All of the invention steels E1 to E24 exhibited excellent film adhesion and magnetic properties. In particular, invention steels E12 to E24 contain one or more of the selective elements Sn, Cr, Cu, and Bi, and thus exhibit better film adhesion than invention steels E1 to E11. On the other hand, in the comparative steels e1 to e11 in which the content of any of the essential elements is outside the scope of the present invention, sufficient magnetic properties were not obtained or breakage occurred during rolling.

Figure 0007110641000005
Figure 0007110641000005

<実施例5>
表1に示す成分組成の珪素鋼を1280℃以上1450℃以下で加熱して熱間圧延に供し、板厚2.3~2.8mmの熱延鋼板とし、該熱延鋼板に900~1200℃で焼鈍を施し、その後、一回の冷間圧延又は中間焼鈍を挟む複数回の冷間圧延を施して、最終板厚0.22mmの冷延鋼板とした。

冷延鋼板に、表6に示す条件で脱炭焼鈍を施し、その後、MgOを主体とする焼鈍分離剤を塗布して、1200℃で仕上げ焼鈍を施し、次いで、仕上げ焼鈍板を作製した。
<Example 5>
A silicon steel having the chemical composition shown in Table 1 is heated at 1280° C. or higher and 1450° C. or lower and subjected to hot rolling to obtain a hot rolled steel sheet having a thickness of 2.3 to 2.8 mm. After that, cold rolling was performed once or multiple times of cold rolling with intermediate annealing was performed to obtain a cold-rolled steel sheet having a final thickness of 0.22 mm.

The cold-rolled steel sheets were decarburized and annealed under the conditions shown in Table 6, then coated with an annealing separator mainly composed of MgO, and subjected to finish annealing at 1200°C, and then finish-annealed sheets were produced.

なお、本実験の脱炭焼鈍は、二段階焼鈍とし、一段階目は酸素ポテンシャルが0.3の湿潤水素雰囲気にて850℃で150秒保持し、二段階目は酸素ポテンシャルが0.01の乾燥水素雰囲気にて950℃で20秒保持した。その後、仕上げ焼鈍板表面に絶縁皮膜形成用塗布液を塗布して焼き付け、張力付与性絶縁皮膜を形成し、該絶縁皮膜の皮膜密着性を評価するとともに、磁気特性(磁束密度)を評価した。結果を表6に示す。 The decarburization annealing in this experiment is two-step annealing, the first step is held at 850 ° C. for 150 seconds in a wet hydrogen atmosphere with an oxygen potential of 0.3, and the second step is with an oxygen potential of 0.01. It was held at 950° C. for 20 seconds in a dry hydrogen atmosphere. Thereafter, the surface of the finish-annealed sheet was coated with a coating solution for forming an insulating film and baked to form a tension-applying insulating film. Table 6 shows the results.

表6に示すように、発明鋼F1~F16について、二段階焼鈍の条件がいずれも本発明の好ましい範囲に制御されているため、良好な皮膜密着性を示した。一方、比較鋼f1は、S2/S1の比率が本発明範囲外だったため、皮膜密着性は劣っていた。比較鋼f2~f4はS1またはS2の何れか一方が本発明における範囲を外れていたため、皮膜密着性が劣っていた。比較鋼f5については脱炭焼鈍の昇温時の酸素ポテンシャルが本発明における範囲を外れていたため、皮膜密着性が劣っていた。
As shown in Table 6, the invention steels F1 to F16 exhibited good film adhesion because the two-step annealing conditions were all controlled within the preferred ranges of the present invention. On the other hand, in Comparative Steel f1, the ratio of S2/S1 was outside the range of the present invention, so the film adhesion was inferior. Comparative steels f2 to f4 were inferior in film adhesion because either S1 or S2 was out of the scope of the present invention. As for Comparative Steel f5, the oxygen potential during the temperature rise in the decarburization annealing was out of the range of the present invention, so the film adhesion was poor.

Figure 0007110641000006
Figure 0007110641000006

以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。 Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to such examples. It is obvious that a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs can conceive of various modifications or modifications within the scope of the technical idea described in the claims. It is understood that these also naturally belong to the technical scope of the present invention.

前述したように本発明によれば、皮膜密着性に優れるグラス皮膜を磁気特性とその安定性を損なわずに形成することができる。特に本技術は、製品板厚が0.22mm未満の一方向性電磁鋼板において特にその効果が発揮される。以上より、本発明は、電磁鋼板製造産業及び電磁鋼板利用産業において利用可能性が高いものである。

As described above, according to the present invention, a glass film having excellent film adhesion can be formed without impairing magnetic properties and stability thereof. In particular, the present technology is particularly effective in grain-oriented electrical steel sheets with a product thickness of less than 0.22 mm. As described above, the present invention has high applicability in the electromagnetic steel sheet manufacturing industry and the electromagnetic steel sheet utilization industry.

Claims (5)

質量%で、C:0.01%以上0.20%以下、Si:2.50%以上4.0%以下、酸可溶性Al:0.01%以上0.07%以下、Mn:0.01%以上0.5%以下、N:0.02%以下、S:0.005%以上0.08%以下、Bi:0%以上0.02%以下、Sn:0%以上0.50%以下、Cr:0%以上0.50%以下、Cu:0%以上1.0%以下を含有し、残部Fe及び不可避的不純物からなる鋼片を1200℃以上1600℃以下の温度で加熱した後に熱間圧延し、熱延鋼板を得る熱延工程と、
前記熱延鋼板を焼鈍する熱延鋼板焼鈍工程と、
前記熱延鋼板に一回の冷間圧延または焼鈍を介した複数の冷間圧延を施して冷延鋼板を得る冷延工程と、
前記冷延鋼板に脱炭焼鈍を施す脱炭焼鈍工程と、
焼鈍分離剤を前記冷延鋼板に塗布し、当該冷延鋼板に仕上焼鈍を施す仕上焼鈍工程と、
前記冷延鋼板に張力付与絶縁皮膜を形成する絶縁皮膜形成工程と、を有し、
前記脱炭焼鈍工程の昇温時において、500℃以上600℃以下の温度域における昇温速度S1(℃/秒)と600℃以上700℃以下の温度域における昇温速度S2(℃/秒)とが下記式(1)~式(3)を満たし、かつ前記昇温時の500℃以上600℃以下の温度域における雰囲気中の酸素ポテンシャルP1が下記式(4)を満たす、一方向性電磁鋼板の製造方法。
1.0<S2/S1≦10.0 ・・・式(1)
300≦S1≦2000 ・・・式(2)
300S2≦4000 ・・・式(3)
0.00001≦P1≦0.5 ・・・式(4)
% by mass, C: 0.010% or more and 0.20% or less, Si: 2.50% or more and 4.0 % or less, acid-soluble Al: 0.010% or more and 0.07% or less, Mn: 0 .010% or more and 0.50% or less, N: 0.020 % or less, S: 0.005% or more and 0.08% or less, Bi: 0 % or more and 0.02% or less, Sn: 0 % or more A steel billet containing 0.50% or less, Cr: 0% or more and 0.50% or less, Cu: 0% or more and 1.0% or less, and the balance being Fe and inevitable impurities, is heated at a temperature of 1200°C or more and 1600°C or less. A hot rolling step of obtaining a hot rolled steel sheet by hot rolling after heating with
A hot-rolled steel sheet annealing step of annealing the hot-rolled steel sheet;
a cold-rolling step of obtaining a cold-rolled steel sheet by subjecting the hot-rolled steel sheet to one cold rolling or a plurality of cold rollings via annealing;
a decarburization annealing step of subjecting the cold-rolled steel sheet to decarburization annealing;
A finish annealing step of applying an annealing separator to the cold-rolled steel sheet and subjecting the cold-rolled steel sheet to finish annealing;
and an insulating film forming step of forming a tension-applying insulating film on the cold-rolled steel sheet,
During the temperature increase in the decarburization annealing step, the temperature increase rate S1 (° C./sec) in the temperature range of 500° C. to 600° C. and the temperature increase rate S2 (° C./sec) in the temperature range of 600° C. to 700° C. satisfies the following formulas (1) to (3), and the oxygen potential P1 in the atmosphere in the temperature range of 500 ° C. to 600 ° C. during the temperature rise satisfies the following formula (4). A method of manufacturing a steel plate.
1.0<S2/S1≦10.0 Expression (1)
300≦S1≦2000 Expression (2)
300 < S2≦4000 Expression (3)
0.00001≦P1≦0.5 0 Expression (4)
前記鋼片が、質量%で、Bi:0.001%以上0.02%以下を含有する、請求項1に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。 2. The method for manufacturing a grain-oriented electrical steel sheet according to claim 1, wherein the steel slab contains, by mass %, Bi: 0.001% or more and 0.02% or less. 前記鋼片が、質量%で、Sn:0.005%以上0.50%以下、Cr:0.01%以上0.50%以下、Cu:0.01%以上1.0%以下の1種又は2種以上を含有する、請求項1または2に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。 The steel billet, in mass%, is one of Sn: 0.005% to 0.50%, Cr: 0.01% to 0.50%, and Cu: 0.01% to 1.0%. 3. The method for producing a grain-oriented electrical steel sheet according to claim 1 or 2, which contains two or more kinds. 前記脱炭焼鈍工程において、0.1以上1.0以下の酸素ポテンシャルP2の雰囲気中、700℃以上900℃以下の温度T2℃で10秒以上1000秒以下保持する一段目焼鈍に続き、下記式(5)を満たす酸素ポテンシャルP3の雰囲気中、下記式(6)を満たす温度T3℃で、5秒以上、500秒以下保持する二段目焼鈍を行う、請求項1~3のいずれか一項に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。
P3<P2 ・・・式(5)
T2+50≦T3≦1000 ・・・式(6)
In the decarburization annealing step, following the first stage annealing held at a temperature T2° C. of 700° C. or more and 900° C. or less for 10 seconds or more and 1000 seconds or less in an atmosphere with an oxygen potential P2 of 0.1 or more and 1.0 or less , Any one of claims 1 to 3, wherein second stage annealing is performed in an atmosphere of oxygen potential P3 that satisfies (5), at a temperature T3° C. that satisfies the following formula (6), and held for 5 seconds or more and 500 seconds or less. The method for producing a grain-oriented electrical steel sheet according to 1.
P3<P2 Expression (5)
T2+50≦T3≦1000 Expression (6)
前記一方向性電磁鋼板の製品板厚が0.18mm以上0.22mm未満である、請求項1~4のいずれか一項に記載の一方向性電磁鋼板の製造方法。
The method for producing a grain-oriented electrical steel sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein the grain-oriented electrical steel sheet has a product thickness of 0.18 mm or more and less than 0.22 mm.
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