JP7108299B2 - Chemical polishing liquid and method for producing metal material - Google Patents

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Description

本発明には、化学研磨処理液、及びこれを用いた金属材料の製造方法に関する。 The present invention relates to a chemical polishing treatment liquid and a method for producing a metal material using the same.

チタン及びチタン合金は、空気中の酸素と反応する事で表面に強固な酸化膜を形成することができる。この酸化膜の存在により、チタン及びチタン合金は腐食環境下においても高い耐食性を実現することができる。さらに言えば、チタン及びチタン合金は、軽量であり、且つ生体親和性が高い(例えば、金属アレルギーを引き起こしにくい)。こうした耐食性、軽量性、及び生体親和性等の理由から、医療など様々な用途に適用されている。 Titanium and titanium alloys can form a strong oxide film on the surface by reacting with oxygen in the air. Due to the presence of this oxide film, titanium and titanium alloys can achieve high corrosion resistance even in corrosive environments. Furthermore, titanium and titanium alloys are lightweight and have high biocompatibility (for example, they are less likely to cause metal allergy). Due to such corrosion resistance, lightness, biocompatibility, etc., it is applied to various uses such as medical treatment.

チタン及びチタン合金の表面を研磨することで、表面を平滑化し、これにより細菌の繁殖を抑制することができる。一方で、完全に平滑化するのではなく、表面に微細な凹凸を形成してもよい。これにより、メッキなどの更なる後工程処理によるメッキ層との密着性を向上させることができる。 By polishing the surfaces of titanium and titanium alloys, the surfaces are smoothed, thereby suppressing the growth of bacteria. On the other hand, fine unevenness may be formed on the surface instead of completely smoothing it. As a result, it is possible to improve the adhesion with the plated layer by further post-processing such as plating.

特許文献1では、チタン又はチタン合金の化学研磨方法を開示している。当該文献では、特定のフッ素化合物を含んだ化学研磨液を開示している。 Patent Literature 1 discloses a method for chemically polishing titanium or titanium alloys. This document discloses a chemical polishing liquid containing a specific fluorine compound.

特開平1-272785号公報JP-A-1-272785

上述したように、チタン及びチタン合金の表面には強固な酸化膜が形成される。従って、チタン及びチタン合金は、研磨する際に一般的に使用される酸やアルカリによる浸食に強い。このことが、チタン及びチタン合金の表面加工処理を困難にしている。 As described above, a strong oxide film is formed on the surface of titanium and titanium alloys. Therefore, titanium and titanium alloys are resistant to attack by acids and alkalis commonly used in polishing. This makes surface machining of titanium and titanium alloys difficult.

従来技術においては、化学的に強固な酸化膜を除去し、更に表面を均一且つ平滑に研磨すること、及び表面に均一且つ微細な凹凸を形成することを目的として、フッ素化合物が使用されてきた。 In the prior art, fluorine compounds have been used for the purpose of removing chemically strong oxide films, polishing the surface uniformly and smoothly, and forming uniform and fine irregularities on the surface. .

フッ素化合物としては、フッ酸、及びフッ化ナトリウム、フッ化水素ナトリウムなどが挙げられる。特許文献1では、これらに硝酸及び過酸化水素を組み合わせて使用することが開示されている。 Examples of fluorine compounds include hydrofluoric acid, sodium fluoride, and sodium hydrogen fluoride. Patent Document 1 discloses the use of a combination of nitric acid and hydrogen peroxide.

しかし、フッ素化合物は、腐食性が非常に高く、従って、毒性が非常に高い。フッ素化合物の取り扱いに関する事故が発生した場合、人体へ危険を及ぼすだけでなく、環境への悪影響を及ぼすことになる。よって、フッ素化合物の取り扱いには細心の注意を払う必要があった。 However, fluorine compounds are highly corrosive and therefore highly toxic. If an accident involving the handling of fluorine compounds occurs, it not only poses a danger to the human body but also adversely affects the environment. Therefore, it is necessary to pay close attention to the handling of fluorine compounds.

また、フッ素化合物を使用した後の廃棄物の処理についても厳しい規制がある。従って、廃棄物の処理にコストがかかっていた。 There are also strict regulations on disposal of waste after using fluorine compounds. Therefore, waste disposal is costly.

こうした人体への安全性や環境への悪影響等に鑑み、本発明は、フッ素化合物を実質的に使用することなく、従来の化学研磨処理液(即ち、フッ素化合物を含有する化学研磨処理液)と比べて遜色の無い化学研磨処理液を提供することを目的とする。 In view of such safety to the human body, adverse effects on the environment, etc., the present invention provides a conventional chemical polishing treatment liquid (that is, a chemical polishing treatment liquid containing a fluorine compound) without substantially using a fluorine compound. An object of the present invention is to provide a chemical polishing treatment liquid which is comparable to the conventional one.

本発明者らは、鋭意研究した結果、以下の事象を見出した。まず、チタンを研磨する薬剤において、チタン表面の酸化膜を除去および化学研磨する為に用いられるフッ素化合物を使用しないことで、安全性と環境問題に対応できる。 The present inventors found out the following phenomenon as a result of earnest research. First, in chemical agents for polishing titanium, safety and environmental problems can be addressed by not using fluorine compounds that are used for removing the oxide film on the surface of titanium and chemically polishing it.

しかし、それだけでは不十分であり、その理由として、フッ素化合物以外の酸系化合物ではチタンの酸化膜を除去および化学研磨する事が難しいという問題が残る。そこで、本発明者は、フッ素化合物に代替物として、特定の成分の組み合わせを用いた。より具体的には、(1)少なくとも1種のアルカリ金属水酸化物と、(2)過酸化水素と、(3)塩化物イオン、硫酸イオンおよび硝酸イオンから選択される少なくとも一種のイオンとを組み合わせて使用した。これにより、チタン表面の酸化膜の除去と研磨を同時に行なうことができることを見出した。そして、加工後のチタン表面は、従来技術によって加工されたチタン表面と遜色ないことを見出した。 However, this alone is not sufficient, and the reason for this is that it is difficult to remove and chemically polish the oxide film of titanium with acid compounds other than fluorine compounds. Therefore, the present inventors used a combination of specific components as a substitute for fluorine compounds. More specifically, (1) at least one alkali metal hydroxide, (2) hydrogen peroxide, and (3) at least one ion selected from chloride ions, sulfate ions and nitrate ions. used in combination. The inventors have found that this makes it possible to remove the oxide film on the surface of titanium and polish it at the same time. They also found that the titanium surface after processing is comparable to the titanium surface processed by conventional techniques.

以上の知見に基づいて完成された本発明は、一側面において以下の発明を包含する。
(発明1)
化学研磨処理液であって、
(1)少なくとも1種のアルカリ金属水酸化物、
(2)過酸化水素、
(3)塩化物イオン、硫酸イオンおよび硝酸イオンから選択される少なくとも一種のイオン、
(4)有機酸及びこれらの塩から選択される少なくとも1種、及び
(5)少なくとも1種の非イオン性界面活性剤
を含有し、
フッ素化合物を実質的に含有しない、化学研磨処理液。
(発明2)
金属材料の化学研磨処理に用いられる発明1の化学研磨処理液であって、
前記金属材料が、チタン及びチタン合金から選択される少なくとも1種である、化学研磨処理液。
(発明3)
発明1又は2に記載の化学研磨処理液であって、前記有機酸がカルボン酸である、化学研磨処理液。
(発明4)
金属材料の製造方法であって、
前記金属材料を発明1~3いずれか1つに記載の化学研磨処理液に浸漬する工程を含む、当該方法。
The present invention completed based on the above findings includes the following inventions in one aspect.
(Invention 1)
A chemical polishing treatment liquid,
(1) at least one alkali metal hydroxide;
(2) hydrogen peroxide;
(3) at least one ion selected from chloride ions, sulfate ions and nitrate ions;
(4) at least one selected from organic acids and salts thereof, and (5) at least one nonionic surfactant,
A chemical polishing treatment liquid that does not substantially contain a fluorine compound.
(Invention 2)
The chemical polishing treatment liquid of Invention 1 used for chemical polishing treatment of metal materials,
A chemical polishing liquid, wherein the metal material is at least one selected from titanium and titanium alloys.
(Invention 3)
The chemical polishing liquid according to Invention 1 or 2, wherein the organic acid is a carboxylic acid.
(Invention 4)
A method for manufacturing a metal material,
A method comprising the step of immersing the metal material in the chemical polishing treatment liquid according to any one of Inventions 1 to 3.

本発明の一側面において、化学研磨処理液はフッ素化合物を実質的に含有しない。これにより、人体への安全性を確保することができ、そして、環境への悪影響を低減させることができる。また、本発明の一側面において、化学研磨処理液は光沢処理及び粗面化処理のいずれにおいても、均一性を実現できる。 In one aspect of the present invention, the chemical polishing liquid contains substantially no fluorine compounds. As a result, safety to the human body can be ensured, and adverse effects on the environment can be reduced. Further, in one aspect of the present invention, the chemical polishing treatment liquid can achieve uniformity in both gloss treatment and surface roughening treatment.

化学研磨処理後の材料の表面の状態を表す。It represents the state of the surface of the material after the chemical polishing treatment.

以下、本発明を実施するための具体的な実施形態について説明する。以下の説明は、本発明の理解を促進するためのものである。即ち、本発明の範囲を限定することを意図するものではない。 Specific embodiments for carrying out the present invention will be described below. The following description is intended to facilitate understanding of the invention. it is not intended to limit the scope of the invention.

0.定義
(1)光沢処理
チタン酸化膜の除去と共に金属表面に平滑な表面状態を生み出し、光沢のある意匠を得るものであり、
目視およびマイクロスコープによる外観が均一な表面状態であること、
光沢度が80以上であること
表面粗さRaが0.45以下であること
これら全てを満たすものとして定義する。
(2)粗面化処理
チタン酸化膜の除去と共に金属の表面に微細な凹凸を生み出し、梨の皮の表面のような粗面かつ光沢の低い意匠とを得るものであり、
目視およびマイクロスコープによる外観が均一な表面状態であること
光沢度が20以下であること
表面粗さRaが1.5以上であること
これら全てを満たすものとして定義する。
0. Definition (1) Gloss treatment A process to remove the titanium oxide film and create a smooth surface condition on the metal surface to obtain a glossy design.
uniform surface condition visually and by microscope;
A glossiness of 80 or more and a surface roughness Ra of 0.45 or less are defined as satisfying all of these.
(2) Roughening treatment A process to remove the titanium oxide film and create fine unevenness on the surface of the metal to obtain a rough and low-gloss design like the surface of a pear skin.
It is defined as satisfying all of the following: a uniform surface condition visually and by a microscope; a glossiness of 20 or less; and a surface roughness Ra of 1.5 or more.

1.化学研磨処理液
一実施形態おいて、本発明は、化学研磨処理液を包含する。前記化学研磨処理液は、少なくとも以下の成分を包含することができる:
(1)少なくとも1種のアルカリ金属水酸化物、
(2)過酸化水素、
(3)塩化物イオン、硫酸イオン及び硝酸イオンから選択される少なくとも一種のイオン、
(4)有機酸及びこれらの塩から選択される少なくとも1種、及び
(5)少なくとも1種の非イオン性界面活性剤
1. Chemical Polishing Liquid In one embodiment, the present invention includes a chemical polishing liquid. The chemical polishing treatment liquid can include at least the following components:
(1) at least one alkali metal hydroxide;
(2) hydrogen peroxide;
(3) at least one ion selected from chloride ions, sulfate ions and nitrate ions;
(4) at least one selected from organic acids and salts thereof, and (5) at least one nonionic surfactant

1-1.アルカリ金属水酸化物
アルカリ金属水酸化物は、加工後の外観に寄与する成分である。アルカリ金属水酸化物の種類は特に限定されないが、例として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。アルカリ金属水酸化物の濃度は特に限定されないが、10~300g/Lの範囲が好ましく、より好ましくは50~100g/Lである。上記の範囲だと、金属材料の表面の加工状態を制御しやすくなる。例えば、濃度を低くすると光沢のある外観が得られる。一方で、濃度を高くすると、粗面外観(梨の皮の表面のような)を得ることができる。
1-1. Alkali Metal Hydroxide Alkali metal hydroxide is a component that contributes to the appearance after processing. Although the type of alkali metal hydroxide is not particularly limited, examples thereof include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like. Although the concentration of the alkali metal hydroxide is not particularly limited, it is preferably in the range of 10-300 g/L, more preferably 50-100 g/L. Within the above range, it becomes easier to control the processed state of the surface of the metal material. For example, lower concentrations give a glossy appearance. On the other hand, higher concentrations can give a rough surface appearance (like the surface of a pear skin).

1-2.過酸化水素
アルカリ金属水酸化物と同様、過酸化水素も、加工後の外観に寄与する成分である。過酸化水素の濃度は、特に限定されないが、35%過酸化水素水を添加したときの濃度に換算して、50~500g/Lの範囲が好ましく、より好ましくは100~300g/Lである(例えば、50g/Lの場合、35%過酸化水素水を含めた全体で1L中に、50gの35%過酸化水素水が含まれる)。上記の範囲だと、金属材料の表面の加工状態を制御しやすくなる。例えば、濃度を低くすると光沢のある外観が得られる。一方で、濃度を高くすると、粗面外観(梨の皮の表面のような)を得ることができる。
1-2. Hydrogen Peroxide Like alkali metal hydroxide, hydrogen peroxide is also a component that contributes to the appearance after processing. The concentration of hydrogen peroxide is not particularly limited, but is preferably in the range of 50 to 500 g/L, more preferably 100 to 300 g/L in terms of the concentration when 35% hydrogen peroxide solution is added ( For example, in the case of 50 g/L, 50 g of 35% hydrogen peroxide solution is contained in 1 L including 35% hydrogen peroxide solution). Within the above range, it becomes easier to control the processed state of the surface of the metal material. For example, lower concentrations give a glossy appearance. On the other hand, higher concentrations can give a rough surface appearance (like the surface of a pear skin).

1-3.塩化物イオン、硫酸イオン及び硝酸イオンから選択される少なくとも一種のイオン
これらのイオンは、均一且つ安定した表面を得ることに寄与する。また、塩化物イオン、硫酸イオン及び硝酸イオンは、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、カルシウム塩及びマグネシウム塩から選択される1種以上の塩形態で提供されてもよい。これらのイオンの合計濃度は、特に限定されないが、10~400g/Lの範囲が好ましく、より好ましくは20~200g/Lである。前記範囲だと、均一且つ安定した表面を得ることができる。
1-3. At least one ion selected from chloride ions, sulfate ions and nitrate ions These ions contribute to obtaining a uniform and stable surface. Chloride ions, sulfate ions and nitrate ions may also be provided in one or more salt forms selected from sodium salts, potassium salts, ammonium salts, calcium salts and magnesium salts. The total concentration of these ions is not particularly limited, but is preferably in the range of 10-400 g/L, more preferably 20-200 g/L. Within this range, a uniform and stable surface can be obtained.

1-4.有機酸及びこれらの塩
有機酸及びこれらの塩の種類については、特に限定されないが、カルボン酸が好ましく、更に好ましくはアルキルカルボン酸である。化合物中のカルボン基の数は特に限定されず、1~3のいずれかであってもよい。前記アルキルカルボン酸のアルキル基については、直鎖状及び分岐状のいずれかであってもよい。
1-4. Organic acids and their salts Although the types of organic acids and their salts are not particularly limited, carboxylic acids are preferred, and alkylcarboxylic acids are more preferred. The number of carboxylic groups in the compound is not particularly limited, and may be 1-3. The alkyl group of the alkylcarboxylic acid may be linear or branched.

更には、カルボン酸は、エステル化されてもよい。カルボン酸の具体例として、以下が挙げられる:シュウ酸、乳酸、クエン酸、グルコン酸、コハク酸、酢酸、マロン酸。また、エステル化されたカルボン酸の具体例として、以下が挙げられる:メチルエステル化、エチルエステル化、ブチルエステル化。これらのエステル化は、モノエステル化に限定されず、ジエステル化、トリエステル化等も包含される。 Furthermore, the carboxylic acid may be esterified. Specific examples of carboxylic acids include: oxalic acid, lactic acid, citric acid, gluconic acid, succinic acid, acetic acid, malonic acid. Further, specific examples of esterified carboxylic acids include the following: methyl-esterification, ethyl-esterification, and butyl-esterification. These esterifications are not limited to monoesterification, but include diesterification, triesterification, and the like.

有機酸塩は、ナトリウム塩、カリウム塩、及びアンモニウム塩から選択される1種以上の塩形態で提供されてもよい。 Organic acid salts may be provided in one or more salt forms selected from sodium salts, potassium salts, and ammonium salts.

特に好ましい有機酸の例としては、乳酸、乳酸塩及びこれらのエステル化物、並びにシュウ酸、シュウ酸塩、及びシュウ酸エステル化物が挙げられる。これらの好ましい有機酸は、均一性に優れた外観を実現することができる。 Examples of particularly preferred organic acids include lactic acid, lactates and esters thereof, and oxalic acid, oxalates and oxalates. These preferred organic acids can achieve a uniform appearance.

有機酸及びこれらの塩の合計濃度は、特に限定されないが、1~200g/Lの範囲が好ましく、より好ましくは5~100g/Lである。有機酸及びこれらの塩の濃度が低すぎる場合、長期間使用したときに(特に、不純物が増えたときに)、研磨不足等の原因で外観が不均一になる可能性がある。有機酸及びこれらの塩の濃度が高すぎる場合、沈殿等が発生する可能性、及び、経済的に不利となる可能性がある。 The total concentration of organic acids and their salts is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 200 g/L, more preferably 5 to 100 g/L. If the concentration of the organic acid and these salts is too low, the appearance may become uneven due to insufficient polishing or the like after long-term use (especially when impurities increase). If the concentration of the organic acid and its salt is too high, precipitation and the like may occur, and it may be economically disadvantageous.

1-5.非イオン性界面活性剤
非イオン性界面活性剤は、材料の保護、及び均一且つ安定した研磨表面に寄与することができる。界面活性剤には、アニオン性、カチオン性、両性、非イオン性等の界面活性が挙げられる。しかし、これらの利点を実現する目的から、非イオン性界面活性剤が好ましい。好ましい非イオン性界面活性剤として、脂肪族ポリエーテル、アルキルポリエチレンオキサイドアルコール、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ノニルフェニルエトキシレート等などが挙げられる。非イオン性界面活性剤の合計濃度は特に限定されないが、0.01~10g/Lの範囲が好ましく、より好ましくは0.1~5g/Lである。
1-5. Nonionic Surfactants Nonionic surfactants can contribute to material protection and a uniform and stable polished surface. Surfactants include surfactants such as anionic, cationic, amphoteric and nonionic. However, nonionic surfactants are preferred for the purpose of realizing these benefits. Preferred nonionic surfactants include aliphatic polyethers, alkyl polyethylene oxide alcohols, polyoxyethylene alkyl ethers, nonylphenyl ethoxylates and the like. Although the total concentration of the nonionic surfactant is not particularly limited, it is preferably in the range of 0.01 to 10 g/L, more preferably 0.1 to 5 g/L.

1-6.その他の含有成分
一実施形態において、本発明は、上述した成分からなる化学研磨処理液を包含する。別の一実施形態において、本発明は、上述した成分に加えて、他の成分を更に含有する化学研磨処理液を包含する。他の成分としては、例えば、過酸化水素の安定剤として、フェノール誘導体が挙げられる。
1-6. Other Ingredients In one embodiment, the present invention includes a chemical polishing solution comprising the ingredients described above. In another embodiment, the present invention includes a chemical polishing treatment liquid that further contains other ingredients in addition to the ingredients mentioned above. Other components include, for example, phenol derivatives as stabilizers for hydrogen peroxide.

1-7.その他の除外成分
一実施形態において、本発明の化学研磨処理液は、特定の成分を除外する。更なる一実施形態において、本発明の化学研磨処理液は、フッ素化合物(ここで述べる「フッ素化合物」は単体のフッ素を含む)を実質的に含有しない。実質的に含有しないとは、金属材料の研磨に寄与しない程度の含有量であることを意味する。例えば、フッ素化合物の合計濃度は0.01g/L以下であってもよく、好ましくは0.0001g/L以下であってもよく、更に好ましくは、0.00001g/L以下であってもよく、最も好ましくは0g/Lである。これにより、人体への安全性が向上する。また、環境への悪影響も低減できる。更には、廃棄物処理に係るコストを低減することができる。
1-7. Other Excluded Components In one embodiment, the chemical polishing solution of the present invention excludes specific components. In a further embodiment, the chemical polishing treatment liquid of the present invention does not substantially contain a fluorine compound (the "fluorine compound" described herein includes elemental fluorine). "Substantially free" means that the content is such that it does not contribute to the polishing of the metal material. For example, the total concentration of fluorine compounds may be 0.01 g/L or less, preferably 0.0001 g/L or less, more preferably 0.00001 g/L or less, Most preferably 0 g/L. This improves safety to the human body. Moreover, adverse effects on the environment can be reduced. Furthermore, costs associated with waste disposal can be reduced.

1-8.溶媒
一実施形態において、本発明の化学研磨処理液は、水溶液である。即ち、有機溶媒を用いる必要がない。
1-8. Solvent In one embodiment, the chemical polishing treatment liquid of the present invention is an aqueous solution. That is, there is no need to use an organic solvent.

2.金属材料の製造方法
一実施形態において、本発明は、上述した化学研磨処理液を用いた金属材料の製造方法を含む。前記金属材料は、研磨処理が施される。
2. Method for Producing Metal Material In one embodiment, the present invention includes a method for producing a metal material using the chemical polishing treatment liquid described above. The metal material is polished.

2-1.研磨の種類
研磨には、化学研磨、物理研磨、電解研磨、化学機械研磨などが挙げられる。一実施形態において、本発明の方法では、化学研磨を行う。より具体的には、金属材料を、上述した化学研磨処理液中に浸漬してもよい。
2-1. Types of Polishing Polishing includes chemical polishing, physical polishing, electropolishing, chemical-mechanical polishing, and the like. In one embodiment, the method of the present invention involves chemical polishing. More specifically, the metal material may be immersed in the chemical polishing treatment liquid described above.

2-2.処理対象の金属
本発明の一実施形態において、処理対象の金属の例として、チタン及びチタン合金が含まれる。チタン合金はチタンを主成分とし(即ち各成分の中で最大量となる)、そして、他の副成分として、例えば、以下の元素から選択される:アルミニウム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、ニオブ、鉄、クロム、及びこれら1種以上の組み合わせ。
2-2. Metals to be Treated In one embodiment of the present invention, examples of metals to be treated include titanium and titanium alloys. Titanium alloys have titanium as the main component (i.e. the largest amount of each component) and other minor components selected from, for example, the following elements: aluminum, nickel, molybdenum, vanadium, niobium, iron. , chromium, and combinations of one or more of these.

2-2.前処理工程
上述した化学研磨を行う前に、金属材料に対して幾つかの処理を施してもよい。前処理の例としては、界面活性剤、無機酸イオン、水酸化物、及び金属イオンなどを含有する溶液を用いて処理することなどが挙げられる。これにより、金属材料の表面が洗浄され、且つ活性化される。
2-2. Pretreatment Steps Prior to chemical polishing as described above, the metal material may be subjected to several treatments. Examples of pretreatment include treatment with a solution containing surfactants, inorganic acid ions, hydroxides, metal ions, and the like. This cleans and activates the surface of the metal material.

2-3.化学研磨工程
上述したように、化学研磨工程においては、金属材料を、上述した化学研磨処理液に浸漬することができる。処理時の温度は、特に限定されないが、20~60℃で行なうことが好ましい。また、処理時間も、特に限定されないが、6分~60分が好ましく、10分以上が更に好ましい。上記範囲内だと、金属材料の表面の加工状態を制御しやすくなる。一方で、上記範囲外だと、例えば、温度が高すぎると、処理液の突沸、及び/又は素材の表面の過剰な研磨が発生する可能性がある。温度が低すぎると、反応が進行せず、十分に研磨が行なわれず、これにより不均一な外観となる可能性がある。処理時間が短すぎると、十分に研磨されない可能性がある。処理時間を60分超にしても、素材表面が過剰に研磨され、生産性の低下を招く可能性がある。
2-3. Chemical Polishing Process As described above, in the chemical polishing process, the metal material can be immersed in the above chemical polishing treatment liquid. Although the temperature during the treatment is not particularly limited, it is preferably 20 to 60°C. The treatment time is also not particularly limited, but is preferably 6 minutes to 60 minutes, more preferably 10 minutes or longer. Within the above range, it becomes easier to control the processed state of the surface of the metal material. On the other hand, if the temperature is outside the above range, for example, if the temperature is too high, bumping of the processing liquid and/or excessive polishing of the surface of the material may occur. If the temperature is too low, the reaction will not proceed and there will be insufficient polishing, which can result in an uneven appearance. If the treatment time is too short, there is a possibility of insufficient polishing. Even if the treatment time exceeds 60 minutes, the surface of the material may be excessively polished, resulting in a decrease in productivity.

上述した化学研磨工程は、少なくとも2つの処理に分類される(光沢処理と粗面化処理)。上述した条件範囲内で、適宜パラメータを設定することで、光沢処理及び粗面化処理を選択的に行うことができる。 The chemical polishing process described above is divided into at least two treatments (brightening and roughening). By appropriately setting parameters within the above-described conditional range, it is possible to selectively perform gloss processing and surface roughening processing.

2-3-1.光沢処理
処理時の温度を低くすると、光沢のある外観を実現できる傾向が高くなる。ただし、温度の数値範囲については特に限定されない。この理由として、例えば、温度が高くても、他のパラメータの設定により光沢のある外観を実現できる可能性があるからである。他のパラメータについても同様の理由で、数値範囲については特に限定されない。
2-3-1. Lowering the temperature during the glossing treatment increases the tendency to achieve a glossy appearance. However, the numerical range of temperature is not particularly limited. The reason for this is, for example, that it is possible to achieve a glossy appearance even at high temperatures by setting other parameters. For the same reason, the numerical ranges of other parameters are not particularly limited.

温度以外の条件として、処理時間を短くすると、光沢のある外観を実現できる傾向が高くなる。 As conditions other than temperature, shorter treatment times are more likely to achieve a glossy appearance.

2-3-2.粗面化処理
一方で、処理時の温度を高くすると、粗面化された外観を実現できる傾向が高くなる。また、処理時間を長くすると、粗面化された外観を実現できる傾向が高くなる。
2-3-2. Roughening Treatment On the other hand, if the temperature during treatment is increased, the tendency to achieve a roughened appearance increases. Also, the longer the treatment time, the more likely it is that a roughened appearance can be achieved.

温度及び処理以外の条件として、少なくとも以下のいずれかの成分の濃度を高くすると、粗面化された外観を実現できる傾向が高くなる。
少なくとも1種のアルカリ金属水酸化物、及び
過酸化水素
As conditions other than temperature and treatment, if the concentration of at least one of the following components is increased, the tendency to achieve a roughened appearance increases.
at least one alkali metal hydroxide, and hydrogen peroxide

2-4.後処理工程
上記化学研磨工程を経た後は、更なる表面処理を行ってもよい。表面処理の例としては、耐食性及び外観等の目的から、メッキ処理、化成被膜形成処理、オーバーコート処理、及び塗装処理などが挙げられる。これらの処理を行う場合には、上述した粗面化処理を行うことが望ましい。
2-4. Post- Treatment Process After the chemical polishing process, a further surface treatment may be carried out. Examples of surface treatments include plating, chemical conversion film forming, overcoating, and painting for the purpose of corrosion resistance and appearance. When performing these treatments, it is desirable to perform the roughening treatment described above.

2-5.化学研磨後の金属材料の特性
上記化学研磨後、好ましくは、化学研磨直後の金属材料は、幾つかの優れた特性を有する。具体的には、光沢処理及び粗面化処理の両方において、均一性に優れた外観を得ることができる。
2-5. Properties of Metallic Materials After Chemical Polishing Metallic materials after chemical polishing, preferably immediately after chemical polishing, have several excellent properties. Specifically, in both the gloss treatment and the roughening treatment, a highly uniform appearance can be obtained.

以下、本発明の実施例により、本発明をさらに詳しく説明する。これらの実施例は、上述した本発明の実施形態同様、本発明の理解を促進するためのものである。即ち、本発明の範囲を限定することを意図するものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples of the present invention. These examples, like the embodiments of the invention described above, are intended to facilitate understanding of the invention. it is not intended to limit the scope of the invention.

3.金属材料の準備及び評価方法
金属材料として、チタンの試験片を準備した。当該試験片に対し、脱脂などの適当な前処理を施した。その後、化学研磨処理を施した。
3. Preparation of metal material and evaluation method A test piece of titanium was prepared as a metal material. Appropriate pretreatment such as degreasing was applied to the test piece. After that, a chemical polishing treatment was performed.

試験片の評価は、各実施例につき3例実施した。評価内容としては、目視による外観の確認と、光沢度計(日本電色工業株式会社製 PG-IIM)による光沢度の測定と、表面粗さ計(株式会社ミツトヨ製 SJ-400)による表面粗さRaの測定とを行なった。 Three test pieces were evaluated for each example. The evaluation contents include visual confirmation of appearance, measurement of glossiness with a gloss meter (PG-IIM manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), and surface roughness with a surface roughness meter (SJ-400 manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.). and the measurement of the thickness Ra.

(1)目視による光沢の評価
目視により、光沢のある場合は「光沢」、光沢がなく、梨地状の粗面外観は「粗面」、光沢外観でも粗面外観でもない場合は「半光沢」とする。
(1) Evaluation of Gloss by Visual Visual inspection “Glossy” if glossy; and

(2)目視による均一性の評価
目視により、観察した。「均一な表面状態の場合は○」、「表面が不均一な場合は×」とする。より具体的には、キーエンス製マイクロスコープVHX-5000を使用して、材料の表面を撮影した。当該機器が有する変換機能を用いて、撮影した画像を3D画像に変換した(図1参照)。
(2) Evaluation of uniformity by visual observation Observation was made by visual observation. "If the surface is uniform, it is evaluated as ◯", and "If the surface is uneven, it is evaluated as ×". More specifically, a Keyence microscope VHX-5000 was used to photograph the surface of the material. Using the conversion function of the device, the photographed image was converted into a 3D image (see FIG. 1).

(3)光沢度の評価
一般的に用いられる光沢度計の60°における数字が大きければ素材に光沢があることを示し、光沢度計の示す数字が小さければ素材に光沢が無いことを示す。
(3) Evaluation of Glossiness If the number at 60° of a commonly used glossmeter is large, it indicates that the material is glossy, and if the number indicated by the glossmeter is small, it indicates that the material is not glossy.

(4)表面粗さの評価
表面粗さの評価は算術平均粗さRaの値でRaの値が小さければ光沢状態を示し、Raの値が大きければ粗面状態を示す。
(4) Evaluation of Surface Roughness The evaluation of surface roughness is the value of arithmetic mean roughness Ra. A small value of Ra indicates a glossy state, and a large value of Ra indicates a rough surface state.

上記の評価を元に後述の実施例における化学研磨後の表面状態を定義する。
(i)光沢
目視およびマイクロスコープによる外観が均一な表面状態であること、
光沢度が80以上であること
表面粗さRaを当該試験片上で5点測定し、その平均値が0.45以下であること
表面粗さRaを当該試験片上で5点測定し、その標準偏差が0.05以下であること
これら全てを満たすもの、均一が高く且つ光沢な状態として判定した。
Based on the above evaluation, the surface state after chemical polishing in Examples described later is defined.
(i) a uniform surface condition in terms of visual gloss and microscopic appearance;
Glossiness is 80 or more Surface roughness Ra is measured at 5 points on the test piece, and the average value is 0.45 or less Surface roughness Ra is measured at 5 points on the test piece, and its standard deviation is 0.05 or less.

(ii)粗面
目視およびマイクロスコープによる外観が均一な表面状態であること
光沢度が20以下であること
表面粗さRaが1.5以上であること
表面粗さRaを当該試験片上で5点測定し、その標準偏差を算出する。その標準偏差を表面粗さRaの平均値で割り、パーセンテージで算出した値が15未満であること
これら全てを満たすものを、均一が高くかつ粗面状態として判定した。
(ii) Rough surface Visually and with a microscope, the appearance is uniform. The glossiness is 20 or less. The surface roughness Ra is 1.5 or more. The surface roughness Ra is 5 points on the test piece. Measure and calculate the standard deviation. The standard deviation was divided by the average value of the surface roughness Ra, and when the value calculated as a percentage was less than 15, all of these were judged to be a highly uniform and rough surface state.

(iii)半光沢
目視およびマイクロスコープによる外観が不均一またはシミやムラが存在すること
光沢度が21~79であること
表面粗さRaが0.45超且つ1.5未満であること
表面粗さRaを当該試験片上で5点測定し、その標準偏差を算出する。その標準偏差を表面粗さRaの平均値で割り、パーセンテージで算出した値が15以上であること
これらのいずれかに該当するものを定義する。
(iii) Non-uniform semi-gloss visual and microscopic appearance, or the presence of stains and unevenness The glossiness is 21 to 79 The surface roughness Ra is more than 0.45 and less than 1.5 Surface roughness The thickness Ra is measured at 5 points on the test piece, and its standard deviation is calculated. The standard deviation is divided by the average value of the surface roughness Ra, and the value calculated as a percentage is 15 or more.

(実施例1)
適当な前処理を施した市販の純チタン板(表面積1dm2)を、水酸化ナトリウムを100g/L、35%過酸化水素水を200g/L、硫酸イオンが50g/Lになるように硫酸ナトリウムを添加、有機酸塩としてシュウ酸ナトリウムを50g/L、ノニルフェノールエトキシレート含有非イオン系界面活性剤を0.2g/L添加し、温度30℃に調整した処理液に20分間浸漬し、外観を評価した。
(Example 1)
A commercially available pure titanium plate (surface area: 1 dm 2 ) that had undergone an appropriate pretreatment was treated with 100 g/L of sodium hydroxide, 200 g/L of 35% hydrogen peroxide solution, and sodium sulfate so that the sulfate ions would be 50 g/L. , 50 g / L of sodium oxalate as an organic acid salt, and 0.2 g / L of a nonylphenol ethoxylate-containing nonionic surfactant are added, immersed in a treatment solution adjusted to a temperature of 30 ° C. for 20 minutes, and the appearance is evaluated.

(実施例2)
実施例1の水酸化ナトリウムの替わりに水酸化カリウムを使用して実施例1と同条件で試験を行なった。
(Example 2)
A test was conducted under the same conditions as in Example 1 except that potassium hydroxide was used in place of sodium hydroxide in Example 1.

(実施例3~10)
実施例1の硫酸ナトリウムの替わりに表1に示す化合物を使用して実施例1と同条件で試験を行なった。

Figure 0007108299000001
(Examples 3 to 10)
A test was conducted under the same conditions as in Example 1 using the compounds shown in Table 1 instead of sodium sulfate in Example 1.
Figure 0007108299000001

(実施例11~19)
実施例1のシュウ酸ナトリウムの替わりに表2に示す有機酸塩を使用して実施例1と同条件で試験を行なった。

Figure 0007108299000002
(Examples 11 to 19)
The test was carried out under the same conditions as in Example 1 using the organic acid salts shown in Table 2 instead of sodium oxalate in Example 1.
Figure 0007108299000002

(実施例20~24)
実施例1のシュウ酸ナトリウムの替わりに表3に示す有機酸化合物を使用して5g/Lを添加し、実施例1と同条件で試験を行なった。

Figure 0007108299000003
(Examples 20-24)
Instead of sodium oxalate in Example 1, the organic acid compound shown in Table 3 was used and added at 5 g/L, and the test was conducted under the same conditions as in Example 1.
Figure 0007108299000003

(実施例25~27)
実施例1の非イオン系界面活性剤の替わりに表4に示す非イオン系界面活性剤を使用して5g/Lを添加し、実施例1と同条件で試験を行なった。

Figure 0007108299000004
(Examples 25-27)
The nonionic surfactant shown in Table 4 was used instead of the nonionic surfactant in Example 1, and 5 g/L was added, and the test was conducted under the same conditions as in Example 1.
Figure 0007108299000004

(実施例28~39)
実施例28~39については実施例1の化学研磨液中の各濃度条件を表5に示すように変化させて試験を行った。

Figure 0007108299000005
(Examples 28-39)
For Examples 28 to 39, the test was conducted by changing the concentration conditions in the chemical polishing liquid of Example 1 as shown in Table 5.
Figure 0007108299000005

(実施例40~43)
実施例40~43については、実施例1において、処理温度20℃(実施例40)、40℃(実施例41)、50℃(実施例42)、60℃(実施例43)で実施した。
(Examples 40-43)
Examples 40 to 43 were carried out in Example 1 at treatment temperatures of 20° C. (Example 40), 40° C. (Example 41), 50° C. (Example 42) and 60° C. (Example 43).

(実施例44~48)
実施例44~48については、実施例1において、処理時間10分(実施例44)、30分(実施例45)、40分(実施例46)、50分(実施例47)、60分(実施例48)で実施した。
(Examples 44-48)
For Examples 44 to 48, in Example 1, the treatment time was 10 minutes (Example 44), 30 minutes (Example 45), 40 minutes (Example 46), 50 minutes (Example 47), 60 minutes ( Example 48) was carried out.

(実施例49~60)
実施例49~60においては実施例1の化学研磨液中の各濃度条件を表5(実施例28~39)に示すように変化させ、さらに処理温度50℃にて試験を行なった。
(Examples 49-60)
In Examples 49 to 60, the concentration conditions in the chemical polishing liquid of Example 1 were varied as shown in Table 5 (Examples 28 to 39), and the test was conducted at a processing temperature of 50°C.

(実施例61~72)
実施例61~72においては実施例1の化学研磨液中の各濃度条件を表5(実施例28~39)に示すように変化させ、さらに処理時間60分にて試験を行なった。
(Examples 61-72)
In Examples 61 to 72, the concentration conditions in the chemical polishing liquid of Example 1 were changed as shown in Table 5 (Examples 28 to 39), and the test was carried out with a treatment time of 60 minutes.

(比較例1)
適当な前処理を施した市販の純チタン板(表面積1dm2)を市販のチタンおよびチタン合金向け研磨剤(チタニック99:製品名、日本表面化学株式会社製、フッ素化合物含有(フッ素化合物として約20g/L)、チタニック99A:650mL/L チタニック99B:350mL/L)を温度70℃に調整した処理液に10分浸漬し、チタン表面を研磨し、その外観を評価した。
(Comparative example 1)
A commercially available pure titanium plate (surface area: 1 dm 2 ) that has undergone an appropriate pretreatment is coated with a commercially available polishing agent for titanium and titanium alloys (Titanic 99: product name, manufactured by Nippon Surface Chemical Co., Ltd., containing a fluorine compound (approximately 20 g as a fluorine compound). /L), Titanic 99A: 650 mL/L, Titanic 99B: 350 mL/L) were immersed in a treatment solution adjusted to a temperature of 70° C. for 10 minutes to polish the titanium surface and evaluate its appearance.

(比較例2)
適当な前処理を施した市販の純チタン板(表面積1dm2)を55%フッ化水素酸50(mL/L)と67.5%硝酸150(mL/L)からなる温度70℃に調整した研磨処理液に10分浸漬し、チタン表面を研磨し、その外観を評価した。
(Comparative example 2)
A commercially available pure titanium plate (surface area: 1 dm 2 ) that had undergone appropriate pretreatment was adjusted to a temperature of 70°C with 50% hydrofluoric acid (50% mL/L) and 67.5% nitric acid 150% (mL/L). The titanium surface was polished by immersing it in the polishing treatment liquid for 10 minutes, and its appearance was evaluated.

(比較例3~5)
比較例3~5は適当な前処理を施した市販の純チタン板(表面積1dm2)を表6に示す酸300mL/Lからなる温度70℃に調整した研磨処理液に30分間浸漬し、チタン表面を研磨し、その外観を評価した。

Figure 0007108299000006
(Comparative Examples 3-5)
In Comparative Examples 3-5, a commercially available pure titanium plate (surface area: 1 dm 2 ) that had undergone an appropriate pretreatment was immersed for 30 minutes in a polishing solution containing 300 mL/L of acid shown in Table 6 and adjusted to a temperature of 70°C. The surface was polished and evaluated for its appearance.
Figure 0007108299000006

(比較例6)
比較例6として、実施例1の処理液から水酸化ナトリウムを抜いた処理液を用いた以外は実施例1と同条件で試験を行なった。
(Comparative Example 6)
As Comparative Example 6, a test was conducted under the same conditions as in Example 1, except that a processing solution obtained by removing sodium hydroxide from the processing solution of Example 1 was used.

(比較例7)
比較例7として、実施例1の処理液から過酸化水素水を抜いた処理液を用いた以外は実施例1と同条件で試験を行なった。
(Comparative Example 7)
As Comparative Example 7, a test was conducted under the same conditions as in Example 1, except that the treatment solution obtained by removing the hydrogen peroxide solution from the treatment solution of Example 1 was used.

(比較例8)
比較例8として、実施例1の処理液から硫酸ナトリウムを抜いた処理液を用いた以外は実施例1と同条件で試験を行なった。
(Comparative Example 8)
As Comparative Example 8, a test was conducted under the same conditions as in Example 1, except that a processing solution obtained by removing sodium sulfate from the processing solution of Example 1 was used.

(比較例9)
比較例9として、実施例1の処理液からシュウ酸ナトリウムを抜いた処理液を用いた以外は実施例1と同条件で試験を行なった。
(Comparative Example 9)
As Comparative Example 9, a test was conducted under the same conditions as in Example 1, except that a processing solution obtained by removing sodium oxalate from the processing solution of Example 1 was used.

(比較例10)
比較例10として、実施例1の処理液から非イオン系界面活性剤を抜いた処理液を用いた以外は実施例1と同条件で試験を行なった。
(Comparative Example 10)
As Comparative Example 10, a test was conducted under the same conditions as in Example 1, except that the treatment liquid obtained by removing the nonionic surfactant from the treatment liquid of Example 1 was used.

(比較例11~12)
比較例11~12 については、実施例1において、温度10℃(比較例11)、80℃(比較例12)で実施した。
(Comparative Examples 11-12)
Comparative Examples 11 and 12 were carried out in Example 1 at temperatures of 10° C. (Comparative Example 11) and 80° C. (Comparative Example 12).

(比較例13~14)
比較例13~14については、実施例1において、処理時間5分(比較例13)、80分(比較例14)で実施した。
(Comparative Examples 13-14)
Comparative Examples 13 and 14 were carried out in Example 1 with a treatment time of 5 minutes (Comparative Example 13) and 80 minutes (Comparative Example 14).

実施例1~72、比較例1~14について、外観及び均一性、光沢度、Raを評価した。評価結果を表7に示す。 Appearance, uniformity, glossiness, and Ra were evaluated for Examples 1 to 72 and Comparative Examples 1 to 14. Table 7 shows the evaluation results.

Figure 0007108299000007
Figure 0007108299000007
Figure 0007108299000008
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Figure 0007108299000009
Figure 0007108299000009
Figure 0007108299000010
Figure 0007108299000010
Figure 0007108299000011
Figure 0007108299000011
Figure 0007108299000012
Figure 0007108299000012
Figure 0007108299000013
Figure 0007108299000013
Figure 0007108299000014
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Figure 0007108299000015
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Figure 0007108299000016
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Figure 0007108299000017
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Figure 0007108299000018
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Figure 0007108299000019
Figure 0007108299000019

いずれの実施例(光沢仕上がり)においても、Raの標準偏差が十分に低いものとなっていた。また、いずれの実施例(粗面仕上がり)においても、Raの標準偏差と平均値のパーセンテージが十分に低いものとなっていた。従って、全ての実施例において所望の均一性を実現することができた。 In any example (gloss finish), the standard deviation of Ra was sufficiently low. In addition, the standard deviation of Ra and the percentage of the average value were sufficiently low in all examples (rough surface finish). Therefore, the desired uniformity could be achieved in all examples.

一方で、比較例1~2では、所望の均一性は実現できているものの、処理液においてフッ素化合物が含まれていた。 On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, although the desired uniformity was achieved, the treatment liquid contained a fluorine compound.

比較例3~11及び13では、半光沢状態であり、Raの標準偏差が大きかった。また、Raの標準偏差と平均値のパーセンテージが大きくなっていた。 Comparative Examples 3 to 11 and 13 were semi-glossy and had a large standard deviation of Ra. Also, the standard deviation of Ra and the percentage of the average value were increased.

以上、本発明の具体的な実施形態について説明してきた。上記実施形態は、本発明の具体例に過ぎず、本発明は上記実施形態に限定されない。例えば、上述の実施形態の1つに開示された技術的特徴は、他の実施形態に提供することができる。また、特記しない限り、特定の方法については、一部の工程を他の工程の順序と入れ替えることも可能であり、特定の2つの工程の間に更なる工程を追加してもよい。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって規定される。 Specific embodiments of the present invention have been described above. The above embodiments are only specific examples of the present invention, and the present invention is not limited to the above embodiments. For example, technical features disclosed in one of the above embodiments can be provided in other embodiments. Also, unless otherwise stated, for a particular method, some steps may be interchanged with other steps, and additional steps may be added between two particular steps. The scope of the invention is defined by the claims.

Claims (4)

化学研磨処理液であって、
(1)10g/L以上の少なくとも1種のアルカリ金属水酸化物、
(2)35%過酸化水素水を添加したときの濃度に換算して、50g/L以上の過酸化水素、
(3)10g/L以上の塩化物イオン、硫酸イオン及び硝酸イオンから選択される少なくとも一種のイオン、
(4)1g/L以上のアルキルカルボン酸、これらのエステル化物及びこれらの塩から選択される少なくとも1種、及び
(5)0.01g/L以上の少なくとも1種の非イオン性界面活性剤
を含有し、
フッ素化合物の合計濃度は0.01g/L以下である、化学研磨処理液。
A chemical polishing treatment liquid,
(1) 10 g/L or more of at least one alkali metal hydroxide;
(2) hydrogen peroxide of 50 g/L or more in terms of concentration when 35% hydrogen peroxide solution is added;
(3) 10 g/L or more of at least one ion selected from chloride ions, sulfate ions and nitrate ions;
(4) at least one selected from 1 g/L or more of alkylcarboxylic acids, their esters and their salts, and (5) 0.01 g/L or more of at least one nonionic surfactant contains,
A chemical polishing liquid having a total fluorine compound concentration of 0.01 g/L or less.
金属材料の化学研磨処理に用いられる請求項1の化学研磨処理液であって、
前記金属材料が、チタン及びチタン合金から選択される少なくとも1種である、化学研磨処理液。
The chemical polishing liquid according to claim 1, which is used for chemical polishing of metal materials,
A chemical polishing liquid, wherein the metal material is at least one selected from titanium and titanium alloys.
請求項1又は2に記載の化学研磨処理液であって、前記(4)アルキルカルボン酸である、化学研磨処理液。 3. The chemical polishing liquid according to claim 1, wherein (4) is an alkylcarboxylic acid. 金属材料の製造方法であって、
前記金属材料を請求項1~3いずれか1項に記載の化学研磨処理液に浸漬する工程を含む、該方法。
A method for manufacturing a metal material,
The method, comprising the step of immersing the metal material in the chemical polishing treatment liquid according to any one of claims 1 to 3.
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