JP7107802B2 - resin composition - Google Patents

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JP7107802B2 JP2018181837A JP2018181837A JP7107802B2 JP 7107802 B2 JP7107802 B2 JP 7107802B2 JP 2018181837 A JP2018181837 A JP 2018181837A JP 2018181837 A JP2018181837 A JP 2018181837A JP 7107802 B2 JP7107802 B2 JP 7107802B2
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本発明は、樹脂組成物に関する。さらに詳しくは、半導体など電子部品用の封止材に適した樹脂組成物に関する。 The present invention relates to resin compositions. More particularly, it relates to a resin composition suitable as a sealing material for electronic parts such as semiconductors.

従来、トランジスタ、IC等の半導体素子の封止技術の分野では生産性、コスト等の面から樹脂封止が主流となっている。エポキシ樹脂、フェノール樹脂系硬化剤、硬化促進剤、無機充填材を必須成分とする封止用樹脂組成物を封止樹脂として用い、リードフレームや半導体素子を樹脂封止するものが半導体装置として市販されている。
一方で、半導体装置における要求性能はますます高度化しており、要求されるパワー密度は従来のSiデバイスでは到達困難な領域になっている。
この様な中で、更なる高パワー密度化が期待され、近年開発が進められているデバイスとしてSiCパワーデバイスが挙げられるが、高パワー密度化を達成するためには動作時のチップ表面の温度が250℃にも達する。
そのため、その温度に耐え得るものであり、かつ1000時間以上その物性を維持できる耐熱性に優れた封止材料の開発が強く望まれている。
しかしながら、そのような材料は成型温度又は硬化温度が200℃以上であり、非常に高温下での取り扱いが必要となり、省エネルギー化、量産性および半導体素子へのダメージ等の観点から低温での硬化が必要となっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of encapsulation technology for semiconductor elements such as transistors and ICs, resin encapsulation has been the mainstream from the standpoint of productivity, cost, and the like. A resin composition for encapsulation containing an epoxy resin, a phenolic resin curing agent, a curing accelerator, and an inorganic filler as essential components is used as the encapsulation resin, and lead frames and semiconductor elements are resin-encapsulated as semiconductor devices. It is
On the other hand, the required performance of semiconductor devices is becoming more and more sophisticated, and the required power density is in an area that is difficult for conventional Si devices to reach.
Under these circumstances, further increase in power density is expected, and SiC power devices can be cited as devices that have been developed in recent years. reaches 250°C.
Therefore, there is a strong demand for the development of a heat-resistant sealing material that can withstand such temperatures and maintain its physical properties for 1000 hours or longer.
However, such materials have a molding temperature or a curing temperature of 200° C. or higher, and must be handled at extremely high temperatures. It is necessary.

従来、エポキシおよびシアネートエステル樹脂硬化促進剤としては、アミン類、イミダゾール類などを広く実用されている。特許文献1、2には、シアネートエステル樹脂組成物を用いた高耐熱性樹脂が記載されている。 Conventionally, amines, imidazoles and the like have been widely used as curing accelerators for epoxy and cyanate ester resins. Patent Documents 1 and 2 describe high heat-resistant resins using cyanate ester resin compositions.

しかし、特許文献1に記載されたシアネートエステル樹脂では、エポキシ基とシアナト基の反応によるオキサゾール環の形成に高温かつ長時間の熱硬化が必要であり、量産性に劣るという問題を有する。また、特許文献2に記載の組成物は、Coなどの遷移金属イオンを含みアルミニウムなどからなる金属部材を腐食させるため耐湿性が不十分であり、高温高湿下に長期間置くと、機械的特性の低下が生じるという問題を有する。 However, the cyanate ester resin described in Patent Document 1 requires heat curing at a high temperature for a long period of time to form an oxazole ring through a reaction between an epoxy group and a cyanato group, and has a problem of poor productivity. In addition, the composition described in Patent Document 2 contains transition metal ions such as Co and corrodes metal members made of aluminum or the like, and thus has insufficient moisture resistance. There is a problem that deterioration of characteristics occurs.

特開2016-216708号公報Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2016-216708 特開2015-86337号公報JP 2015-86337 A

本発明は、200℃以下でも硬化性に優れ、さらに耐熱性に優れた硬化物を与える樹脂組成物を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a resin composition which is excellent in curability even at 200° C. or lower and which gives a cured product with excellent heat resistance.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、エポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)および硬化促進剤(C)を含有してなり、前記硬化促進剤(C)が、一般式(1)で表される化合物と、一般式(2)で表される塩基とから構成される塩である樹脂組成物(S)である。

Figure 0007107802000001

[一般式(1)中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立にシクロヘキシル基、フェニル
基、炭素数1~20のアルキル基又は水素原子であり、R1、R2又はR3の少なくとも1つは水素原子である。]
Figure 0007107802000002

[一般式(2)中、mは2~6の整数であり、それぞれのメチレン基の水素原子は有機基で置換されていてよい。] The present inventors arrived at the present invention as a result of intensive studies in order to solve the above problems.
That is, the present invention contains an epoxy resin (A), a curing agent (B) and a curing accelerator (C), and the curing accelerator (C) is a compound represented by the general formula (1) , and a base represented by general formula (2).
Figure 0007107802000001

[In the general formula ( 1 ), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a cyclohexyl group, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a hydrogen atom; At least one is a hydrogen atom. ]
Figure 0007107802000002

[In general formula (2), m is an integer of 2 to 6, and a hydrogen atom of each methylene group may be substituted with an organic group. ]

本発明の樹脂組成物(S)は、以下の効果を奏する。
(1)従来より低い硬化温度(例えば180℃)でも硬化性に優れる。
(2)硬化物が耐熱性に優れるため、ガラス転移温度が高く、重量減少温度も高く、高温下でもクラックが発生しない。
(4)線膨張係数が低いため、硬化物は樹脂封止材として優れる。
(5)経時的な増粘が少ないため取り扱いやすい。
The resin composition (S) of the present invention has the following effects.
(1) Excellent curability even at a lower curing temperature (for example, 180° C.) than before.
(2) Since the cured product has excellent heat resistance, the glass transition temperature is high, the weight loss temperature is high, and cracks do not occur even at high temperatures.
(4) Since the coefficient of linear expansion is low, the cured product is excellent as a resin sealing material.
(5) It is easy to handle due to little increase in viscosity over time.

<エポキシ樹脂(A)>
本発明におけるエポキシ樹脂(A)としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリメチロール型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂等が挙げられる。上記エポキシ樹脂(A)は1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
<Epoxy resin (A)>
Examples of the epoxy resin (A) in the present invention include phenol novolak type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol AF type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, naphthylene ether type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, trisphenol type epoxy resin, anthracene type epoxy resin , glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, epoxy resin having a butadiene structure, alicyclic epoxy resin, heterocyclic epoxy resin, spiro ring-containing epoxy resin, cyclohexanedimethanol type epoxy resin, trimethylol type epoxy resin , tetraphenylethane type epoxy resin, and the like. The epoxy resin (A) may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂(A)のうち、樹脂物性の観点から、好ましいのは、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂及びブタジエン構造を有するエポキシ樹脂であり、さらに好ましいのはフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂であり、特に好ましいのはフェノールノボラック型エポキシ樹脂である。 Of the epoxy resins (A), preferred from the viewpoint of resin physical properties are phenol novolak type epoxy resins, cresol novolak type epoxy resins, bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and naphthalene type epoxy resins. epoxy resins, naphthol-type epoxy resins, biphenyl-type epoxy resins, naphthylene ether-type epoxy resins, glycidyl ester-type epoxy resins, anthracene-type epoxy resins, and epoxy resins having a butadiene structure, more preferably phenol novolak-type epoxy resins, Bisphenol A type epoxy resins, alicyclic epoxy resins and naphthalene type epoxy resins are preferred, and phenol novolac type epoxy resins are particularly preferred.

また、エポキシ樹脂(A)のエポキシ当量(単位:g/eq)は、樹脂物性の観点から、好ましくは140~600、さらに好ましくは170~300である。 The epoxy equivalent (unit: g/eq) of the epoxy resin (A) is preferably 140-600, more preferably 170-300, from the viewpoint of resin physical properties.

<硬化剤(B)>
本発明における硬化剤(B)としては、例えば、ビスフェノール型シアネートエステル(B1)、トリアジン骨格含有フェノール硬化剤(B2)、ノボラック型シアネートエステル硬化剤(B3)、ジシクロペンタジエン型シアネートエステル硬化剤(B4)が挙げられる。
<Curing agent (B)>
The curing agent (B) in the present invention includes, for example, a bisphenol type cyanate ester (B1), a triazine skeleton-containing phenol curing agent (B2), a novolac type cyanate ester curing agent (B3), a dicyclopentadiene type cyanate ester curing agent ( B4).

ビスフェノール型シアネートエステル硬化剤(B1)としては、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型、ビスフェノールE型のそれぞれポリシアネートエステル(好ましくはジシアネートエステル)が挙げられる。 Examples of the bisphenol-type cyanate ester curing agent (B1) include bisphenol A-type, bisphenol F-type, bisphenol S-type, and bisphenol E-type polycyanate esters (preferably dicyanate esters).

トリアジン骨格含有フェノール硬化剤(B2)としては、市販の「LA3018」、「LA7054」、「LA1356」[いずれもDIC(株)製]が挙げられる。 Examples of the triazine skeleton-containing phenol curing agent (B2) include commercially available "LA3018", "LA7054" and "LA1356" [all manufactured by DIC Corporation].

ノボラック型シアネートエステル硬化剤(B3)は、ノボラック構造を有し、かつ1分子中に平均で少なくとも2個のシアナト基(-OCN)を有する(好ましくは2~6)化合物が挙げられ、市販のものとしては、「PT30」[ロンザジャパン(株)製]が挙げられる。 The novolak-type cyanate ester curing agent (B3) has a novolac structure and has an average of at least two cyanato groups (—OCN) in one molecule (preferably 2 to 6). One example is "PT30" [manufactured by Lonza Japan Co., Ltd.].

ジシクロペンタジエン型シアネートエステル硬化剤(B4)としては、例えばジシクロペンタジエン構造含有フェノール樹脂等から誘導される多官能シアネート樹脂が挙げられ、市販のものとしては、「DT-4000」、「DT-7000」[いずれもロンザジャパン(株)製]が挙げられる。 Examples of the dicyclopentadiene-type cyanate ester curing agent (B4) include polyfunctional cyanate resins derived from dicyclopentadiene structure-containing phenol resins. 7000” [both manufactured by Lonza Japan Co., Ltd.].

上記硬化剤(B)のうち、樹脂物性、耐熱性の観点から、好ましいのは(B1)、(B3)、(B4)であり、さらに好ましいのは(B1)である。 Among the curing agents (B), from the viewpoint of resin physical properties and heat resistance, preferred are (B1), (B3) and (B4), and more preferred is (B1).

<硬化促進剤(C)>
本発明における硬化促進剤(C)は、一般式(1)で表される化合物と、一般式(2)で表される塩基とから構成される塩である。

Figure 0007107802000003
[一般式(1)中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立にシクロヘキシル基、フェニル
基、炭素数1~20のアルキル基又は水素原子であり、R1、R2又はR3の少なくとも1つは水素原子である。]
Figure 0007107802000004
[一般式(2)中、mは2~6の整数であり、それぞれのメチレン基の水素原子は有機基で置換されていてよい。] <Curing accelerator (C)>
The curing accelerator (C) in the present invention is a salt composed of a compound represented by general formula (1) and a base represented by general formula (2).
Figure 0007107802000003
[In the general formula ( 1 ), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a cyclohexyl group, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a hydrogen atom; At least one is a hydrogen atom. ]
Figure 0007107802000004
[In general formula (2), m is an integer of 2 to 6, and a hydrogen atom of each methylene group may be substituted with an organic group. ]

一般式(1)で表される化合物は、R3が、シクロヘキシル基、フェニル基、炭素数1~20のアルキル基でR1とR2が水素原子の場合、有機ホスホン酸である。
一般式(1)中のRとRのうちの1個がシクロヘキシル基、フェニル基、炭素数1~20のアルキル基で他方が水素原子の場合の化合物は、ホスホン酸モノエステルである。
一般式(1)中のRとRの2個が、それぞれ独立に、シクロヘキシル基、フェニル基、炭素数1~20のアルキル基の場合でRが水素原子の化合物は、ホスホン酸ジエステルである。
また、硬化性の観点から、R1、R2およびR3のうち少なくとも1つは水素原子であり、さらに好ましくはR1とR2が水素原子である。
The compound represented by the general formula (1) is an organic phosphonic acid when R 3 is a cyclohexyl group, phenyl group or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and R 1 and R 2 are hydrogen atoms.
A compound in which one of R 1 and R 2 in the general formula (1) is a cyclohexyl group, a phenyl group or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and the other is a hydrogen atom is a phosphonic acid monoester.
When R 1 and R 2 in general formula (1) are each independently a cyclohexyl group, a phenyl group, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 3 is a hydrogen atom, the compound is a phosphonic acid diester is.
From the viewpoint of curability, at least one of R 1 , R 2 and R 3 is a hydrogen atom, more preferably R 1 and R 2 are hydrogen atoms.

上記の化合物のうち、硬化性の観点から、好ましいのはフェニルホスホン酸、アルキルホスホン酸、ホスホン酸ジアルキル、さらに好ましいのはフェニルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、ホスホン酸ジエチルである。 Among the above compounds, from the viewpoint of curability, phenylphosphonic acid, alkylphosphonic acid and dialkyl phosphonate are preferred, and phenylphosphonic acid, hexylphosphonic acid and diethyl phosphonate are more preferred.

一般式(2)で表される塩基は、1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]-ノネン-5(DBN)、1,5-ジアザビシクロ[4,4,0]-デセン-5、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-ウンデセン-7(DBU;「DBU」はサンアプロ株式会社の登録商標である。)、5-ヒドロキシプロピル-1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-ウンデセン-7及び5-ジブチルアミノ-1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-ウンデセン-7等が挙げられる。これらのうち、DBN及びDBUが好ましい。 The base represented by the general formula (2) is 1,5-diazabicyclo[4,3,0]-nonene-5 (DBN), 1,5-diazabicyclo[4,4,0]-decene-5,1 ,8-diazabicyclo[5,4,0]-undecene-7 (DBU; “DBU” is a registered trademark of San-Apro Co., Ltd.), 5-hydroxypropyl-1,8-diazabicyclo[5,4,0] -undecene-7 and 5-dibutylamino-1,8-diazabicyclo[5,4,0]-undecene-7. Of these, DBN and DBU are preferred.

前記硬化促進剤(C)は、上記ホスホン酸またはそのエステル化合物と、上記塩基とから構成される塩である。
上記の例示したホスホン酸またはそのエステル化合物と、上記の例示した塩基の組み合わせであれば差し支えないが、具体的な組み合わせとしてはフェニルスルホン酸、ヘキシルスルホン酸、ホスホン酸ジエチルとDBUとの塩、及びフェニルスルホン酸、ヘキシルスルホン酸、ホスホン酸ジエチルとDBNとの塩が好ましい。

塩の中和率(%)は、下記の数式(1)で算出される。

中和率(%)=(α)×100/(β) (1)

(α):ホスホン酸またはそのエステル化合物の価数×モル数
但し、上記価数は、R1、R2およびR3のうち、水素原子が1個の場合は1価、水素原
子が2個の場合は2価、水素原子が3個の場合は3価とする。
(β):塩基のモル数
The curing accelerator (C) is a salt composed of the phosphonic acid or its ester compound and the base.
Any combination of the above-exemplified phosphonic acid or its ester compound and the above-exemplified base may be used, but specific combinations include phenylsulfonic acid, hexylsulfonic acid, salts of diethyl phosphonate and DBU, and Salts of phenylsulfonic acid, hexylsulfonic acid, diethyl phosphonate and DBN are preferred.

The salt neutralization rate (%) is calculated by the following formula (1).

Neutralization rate (%) = (α) × 100/(β) (1)

(α): valence of phosphonic acid or its ester compound × number of moles, provided that the above valence is monovalent when there is one hydrogen atom among R 1 , R 2 and R 3 , and two hydrogen atoms. is bivalent, and when there are three hydrogen atoms, it is trivalent.
(β): Number of moles of base

上記中和率(%)は、硬化性および樹脂物性の観点から、好ましくは50~100%、さらに好ましくは80~100%である。 The neutralization rate (%) is preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, from the viewpoint of curability and physical properties of the resin.

硬化促進剤(C)は、例えば、後述の実施例のように、上記ホスホン酸またはそのエステル化合物と、上記塩基とを、必要により溶媒中で、混合して得ることができる。
なお、水の存在下で、ホスホン酸ジアルキルと一般式(2)で表される塩基を反応させると、ホスホン酸と一般式(2)で表される塩基とから構成される塩を得ることができる。
The curing accelerator (C) can be obtained, for example, by mixing the above phosphonic acid or its ester compound and the above base in a solvent, if necessary, as described in Examples below.
A salt composed of the phosphonic acid and the base represented by the general formula (2) can be obtained by reacting the dialkyl phosphonate with the base represented by the general formula (2) in the presence of water. can.

<樹脂組成物(S)>
本発明の樹脂組成物(S)は、前記エポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)および硬化促進剤(C)を含有してなる。
樹脂組成物(S)は、硬化性に優れ、その硬化物は樹脂物性に優れ、さらに耐熱性に優れることから、種々の熱硬化性樹脂用途、とくに電子部品用途、半導体用途、とりわけ封止材用途として好適に使用できる。
<Resin composition (S)>
The resin composition (S) of the present invention contains the epoxy resin (A), the curing agent (B) and the curing accelerator (C).
The resin composition (S) has excellent curability, and its cured product has excellent resin physical properties and excellent heat resistance. It can be used suitably as a use.

前記硬化促進剤(C)は、エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)との合計重量に基づいて、硬化性および樹脂物性の観点から、好ましくは0.01~5重量%、さらに好ましくは0.05~4重量%、とくに好ましくは0.1~3重量%である。 Based on the total weight of the epoxy resin (A) and the curing agent (B), the curing accelerator (C) is preferably 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.05 to 4% by weight, particularly preferably 0.1 to 3% by weight.

また、前記エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)との重量比[(A)/(B)]は、樹脂物性および耐熱性のバランスの観点から、好ましくは3/97~97/3、さらに好ましくは10/90~90/10、とくに好ましくは25/75~75/25である。 Further, the weight ratio [(A)/(B)] of the epoxy resin (A) and the curing agent (B) is preferably 3/97 to 97/3 from the viewpoint of the balance between resin physical properties and heat resistance. More preferably 10/90 to 90/10, particularly preferably 25/75 to 75/25.

樹脂組成物(S)には、樹脂物性、耐熱性を向上する目的で、無機充填材(D)を含有してもよい。
無機充填材(D)は、エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)との合計重量に基づいて、好ましくは50~1000重量%、さらに好ましくは70~500重量%、とくに好ましくは90~250重量%である。
無機充填材(D)としては、公知のもの、例えばシリカ、アルミナが挙げられる。該(D)の形状、粒子径は、目的に応じて異なるが、例えばメジアン粒子径が5~50μmで、ほぼ球状のものが挙げられる。
The resin composition (S) may contain an inorganic filler (D) for the purpose of improving the physical properties and heat resistance of the resin.
The inorganic filler (D) is preferably 50 to 1000% by weight, more preferably 70 to 500% by weight, particularly preferably 90 to 250% by weight, based on the total weight of the epoxy resin (A) and the curing agent (B). % by weight.
Examples of the inorganic filler (D) include known fillers such as silica and alumina. The shape and particle size of (D) vary depending on the purpose, but examples thereof include those having a median particle size of 5 to 50 μm and being almost spherical.

また、樹脂組成物(S)には、前記(A)、(B)、(C)、(D)以外に、公知の添加剤(E)を含有していてもよい。
該添加剤(E)としては、難燃剤、酸化防止剤、イオントラップ剤が挙げられ、該(E)は、エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)との合計重量に基づいて、好ましくは5重量%以下、さらに好ましくは0.1~3重量%である。
Moreover, the resin composition (S) may contain a known additive (E) in addition to the above (A), (B), (C) and (D).
The additive (E) includes flame retardants, antioxidants, and ion trapping agents, and the (E) is preferably 5% by weight or less, more preferably 0.1 to 3% by weight.

本発明の樹脂組成物(S)は、前記(A)、(B)、(C)、必要により無機充填材(D)、添加剤(E)を、例えば、混合することにより製造できる。
なお、本発明の樹脂組成物(S)は水分の含有量を1000ppm以下に規制することが好ましい。
The resin composition (S) of the present invention can be produced, for example, by mixing the above (A), (B), (C), optionally an inorganic filler (D), and an additive (E).
The water content of the resin composition (S) of the present invention is preferably controlled to 1000 ppm or less.

<硬化物>
本発明の硬化物は、前記樹脂組成物(S)が硬化した硬化物である。硬化条件は、硬化促進剤(C)の種類、量などにより異なるが、例えば、温度は150~200℃、時間は1~10時間(h)で硬化できる。
<Cured product>
The cured product of the present invention is a cured product obtained by curing the resin composition (S). The curing conditions vary depending on the type and amount of the curing accelerator (C). For example, curing can be performed at a temperature of 150 to 200° C. and a time of 1 to 10 hours (h).

<電子部品>
本発明の電子部品は、樹脂組成物(S)の硬化物で封止した電子部品である。該電子部品としては、例えば、半導体が挙げられる。とりわけ、樹脂物性、耐熱性が必要な電子部品に好適に用いることができる。
<Electronic parts>
The electronic component of the present invention is an electronic component sealed with a cured product of the resin composition (S). Examples of the electronic parts include semiconductors. In particular, it can be suitably used for electronic parts that require resin physical properties and heat resistance.

次に本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明の主旨を逸脱しない限り本発明は実施例に限定されるものではない。なお、特記しない限り部は重量部、%は重量%を意味する。 EXAMPLES Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited to Examples unless it departs from the gist of the present invention. Unless otherwise specified, parts means parts by weight and % means % by weight.

<製造例1>
反応容器に、フェニルホスホン酸[東京化成工業社製]35.0部をアセトン30部に溶解して、これに1,8-ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン-7[サンアプロ社製、商品名:DBU]65.0部を徐々に加え、30分間攪拌し混合した。
次に、アセトンを減圧下で留去して、硬化促進剤(C-1)を得た。

<製造例2>
反応容器に、ホスホン酸エチル[東京化成工業社製]47.6部をアセトン50部およびイオン交換水20部に溶解して、これにDBU52.4部を徐々に加え、30分間攪拌し混合した。
次に、アセトンを減圧下で留去して、硬化促進剤(C-2)を得た。
<Production Example 1>
In a reaction vessel, 35.0 parts of phenylphosphonic acid [manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.] was dissolved in 30 parts of acetone, and 1,8-diazabicyclo(5,4,0)undecene-7 [manufactured by San-Apro Co., Ltd., product Name: DBU] 65.0 parts was gradually added and mixed by stirring for 30 minutes.
Next, acetone was distilled off under reduced pressure to obtain a curing accelerator (C-1).

<Production Example 2>
In a reaction vessel, 47.6 parts of ethyl phosphonate [manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.] was dissolved in 50 parts of acetone and 20 parts of ion-exchanged water. .
Next, acetone was distilled off under reduced pressure to obtain a curing accelerator (C-2).

<製造例3、4、6、比較製造例1>
製造例1において、塩基の種類とその部数、及びホスホン酸の種類とその部数を表1にしたがった以外は、製造例1と同様にして、硬化促進剤(C-3)、(C-4)、(C-6)および比較例用の硬化促進剤(C’-1)を得た。
<製造例5>
製造例2において、DBUをDBNに変え、その部数とホスホン酸の部数を表1にしたがった以外は、製造例2と同様にして、硬化促進剤(C-5)を得た。
<Production Examples 3, 4, 6, Comparative Production Example 1>
In Production Example 1, curing accelerators (C-3) and (C-4) were prepared in the same manner as in Production Example 1, except that the type and number of parts of the base and the type and number of parts of the phosphonic acid were according to Table 1. ), (C-6) and curing accelerator (C′-1) for comparative example were obtained.
<Production Example 5>
A curing accelerator (C-5) was obtained in the same manner as in Production Example 2 except that DBU was changed to DBN and the number of parts thereof and the number of parts of phosphonic acid were as shown in Table 1.

Figure 0007107802000005
Figure 0007107802000005

なお、表1中の原料は以下のとおりである。
DBN:1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]-ノネン-5:[サンアプロ社製、商品名:DBN]
In addition, the raw materials in Table 1 are as follows.
DBN: 1,5-diazabicyclo[4,3,0]-nonene-5: [manufactured by San-Apro, trade name: DBN]

<実施例1>
容器に、ビスフェノールA型ジシアネートエステル(B-1)[「CYSTER TA」、三菱ガス化学社製]44部、製造例1で得られた硬化促進剤(C-1)1.0部を入れ、100℃で1時間加熱し、続いて、フェノールノボラック型エポキシ(A-1)[「JER152」、エポキシ当量176、三菱化学社製]56部を加え、3分間攪拌した。
さらに、シリカ粒子(D-1)[デンカ溶融シリカFB-950、デンカ社製]100部を加え、3分間攪拌した後、室温(25℃)まで15分間かけて冷却して樹脂組成物(S-1)を得た。
<Example 1>
In a container, 44 parts of bisphenol A dicyanate ester (B-1) ["CYSTER TA", manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.] and 1.0 part of the curing accelerator (C-1) obtained in Production Example 1 are added. , 100° C. for 1 hour, then 56 parts of phenol novolac type epoxy (A-1) [“JER152”, epoxy equivalent 176, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation] was added and stirred for 3 minutes.
Furthermore, 100 parts of silica particles (D-1) [Denka Fused Silica FB-950, manufactured by Denka] are added, stirred for 3 minutes, and then cooled to room temperature (25 ° C.) over 15 minutes to form a resin composition (S -1) was obtained.

<実施例2~13、比較例1~2>
実施例1において、仕込組成(部)を、表2にしたがった以外は、実施例1と同様にして、樹脂組成物(S-2)~(S-13)、(S’-1)、(S’-2)を得た。
得られた樹脂組成物について、後述の方法に評価を行った。結果を表2に示す。
<Examples 2 to 13, Comparative Examples 1 to 2>
In Example 1, resin compositions (S-2) to (S-13), (S'-1), (S'-1), (S'-2) was obtained.
The obtained resin composition was evaluated by the method described below. Table 2 shows the results.

Figure 0007107802000006
Figure 0007107802000006

なお、表2中の各原料は以下のとおりである。
ビスフェノールE型ジシアネートエステル(B-2):「LECY」[LOZNA社製]
ビスフェノールA型エポキシ(A-2):「JER828」[エポキシ当量180、三菱化学社製、]
脂環式エポキシ樹脂(A-3):「セロキサイド2021P」[エポキシ当量140、ダイセル社製]
ナフタレン型エポキシ樹脂(A-4):「EPICLON HP-4032D」[エポキシ当量145、DIC社製]
硬化促進剤(C’-2):2-エチルー4-メチルイミダゾール(東京化成工業社製)
In addition, each raw material in Table 2 is as follows.
Bisphenol E-type dicyanate ester (B-2): "LECY" [manufactured by LOZNA]
Bisphenol A type epoxy (A-2): "JER828" [epoxy equivalent 180, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation]
Alicyclic epoxy resin (A-3): "Celoxide 2021P" [epoxy equivalent 140, manufactured by Daicel]
Naphthalene type epoxy resin (A-4): "EPICLON HP-4032D" [epoxy equivalent 145, manufactured by DIC Corporation]
Curing accelerator (C'-2): 2-ethyl-4-methylimidazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)

<硬化性>
得られた樹脂組成物(S)4gをそれぞれ入れた20mlの試験管を180℃のオイルバスに入れ、樹脂組成物(S)がゲル化するまでの硬化時間を測定した。
<Curability>
A 20-ml test tube containing 4 g of the obtained resin composition (S) was placed in an oil bath at 180° C., and the curing time until gelation of the resin composition (S) was measured.

<ガラス転移温度、線膨張係数>
得られた樹脂組成物を140℃で2時間、さらに180℃で4時間加熱して、硬化させた。
JIS K 7197:2012に記載の方法に基づいて、製造したシート状の硬化物を、5×5×15mmの試験片にそれぞれを加工した後、それらの試験片を熱膨張計TMA8140C(株式会社リガク社製)にセットした。そして、昇温5℃/分の加熱と、19.6mNの一定荷重が加わるように設定し、25℃から300℃までの間で試験片の寸法変化を測定した。この寸法変化と温度との関係をグラフにプロットした。
このようにして得られた寸法変化と温度とのグラフから、変曲点の温度以下で寸法変化-温度曲線の接線が得られる任意の温度2点をT1及びT2とし、変曲点の温度以上で同様の接線が得られる任意の温度2点をT1’及びT2’とした。
1及びT2における寸法変化をそれぞれD1及びD2として、点(T1、D1)と点(T2
、D2)とを結ぶ直線と、T1’及びT2’における寸法変化をそれぞれD1’及びD2’と
して、点(T1’、D1’)と点(T2’、D2’)とを結ぶ直線との交点をガラス転移温度(Tg)とした。また、T1~T2の傾きをTg以下の線膨張係数とした。
<Glass transition temperature, coefficient of linear expansion>
The obtained resin composition was cured by heating at 140° C. for 2 hours and further at 180° C. for 4 hours.
Based on the method described in JIS K 7197: 2012, the produced sheet-shaped cured product was processed into test pieces of 5 × 5 × 15 mm, and then the test pieces were subjected to a thermal dilatometer TMA8140C (Rigaku Corporation company). Then, the dimensional change of the test piece was measured between 25°C and 300°C by setting the heating rate to 5°C/min and applying a constant load of 19.6mN. The relationship between this dimensional change and temperature was plotted on a graph.
From the graph of dimensional change and temperature obtained in this way, two arbitrary temperature points at which the tangent line of the dimensional change-temperature curve can be obtained below the temperature of the inflection point are T 1 and T 2 , and the inflection point T 1 ' and T 2 ' are two arbitrary temperature points at which similar tangents are obtained above the temperature.
Let D 1 and D 2 be the dimensional changes at T 1 and T 2 , respectively, and point (T 1 , D 1 ) and point (T 2
, D 2 ) and the dimensional changes at T 1 ' and T 2 ' as D 1 ' and D 2 ' respectively, points (T 1 ', D 1 ') and points (T 2 ', D 2 ') was taken as the glass transition temperature (T g ). Also, the slope of T 1 to T 2 was defined as a coefficient of linear expansion below Tg.

<5%重量減少温度の測定>
得られた樹脂組成物を140℃で2時間、さらに180℃で4時間加熱して、硬化させた。硬化物を5×5×15mmの試験片にそれぞれを加工した後、それらの試験片を熱重量分析装置Pyris 1 TGA(パーキンエルマージャパン社製)にセットした。
そして、昇温5℃/分に設定し、25℃から550℃まで大気下において、各試験片の重量の5%が減少する温度(以下、5%重量減少温度)を測定した。
<Measurement of 5% Weight Loss Temperature>
The obtained resin composition was cured by heating at 140° C. for 2 hours and further at 180° C. for 4 hours. After the cured product was processed into test pieces of 5×5×15 mm, the test pieces were set in a thermogravimetric analyzer Pyris 1 TGA (manufactured by PerkinElmer Japan).
Then, the temperature was set to rise at 5° C./min, and the temperature at which the weight of each test piece decreased by 5% (hereinafter referred to as 5% weight loss temperature) was measured from 25° C. to 550° C. under the atmosphere.

<高温保管後のクラックの評価>
得られた樹脂組成物を、型に流し込み、上面の直径2mm、下面の直径5mm、高さ3mmの円錐台形状の試験片としてシリコンチップ上に載せ、試験片を140℃で2h、さらに180℃で4h加熱して、硬化させた。硬化後、得られた試験片を200℃のオーブンにて1000時間保管後、室温まで冷却して冷却して、蛍光物質(ウラニン)の1%水溶液を試験片に滴下し、減圧乾燥後の試験片にブラックライトで発光させ、クラックの有無を測定した。
<Evaluation of cracks after high temperature storage>
The resulting resin composition was poured into a mold, placed on a silicon chip as a truncated cone-shaped test piece with an upper diameter of 2 mm, a lower diameter of 5 mm, and a height of 3 mm. for 4 h to cure. After curing, the obtained test piece was stored in an oven at 200 ° C. for 1000 hours, cooled to room temperature and cooled, a 1% aqueous solution of a fluorescent substance (uranin) was dropped on the test piece, and dried under reduced pressure. The piece was exposed to black light and the presence or absence of cracks was measured.

<粘度増加率の評価>
得られた樹脂組成物の10分後の粘度(以下、初期粘度。単位:mPa・s)を各組成物について、JIS Z8803に準じて、25℃の設定温度で、E型粘度計を用いて測定した。また、樹脂組成物を25℃で12時間保持した後の粘度を同様にして測定し、粘度増加率(単位:%)を算出した。
ここで、粘度増加率は、
粘度増加率=[(12時間後の粘度)-(初期粘度)]/(初期粘度)×100
で算出した。
<Evaluation of viscosity increase rate>
The viscosity of the resulting resin composition after 10 minutes (hereinafter referred to as initial viscosity. Unit: mPa s) was measured for each composition at a set temperature of 25°C according to JIS Z8803 using an E-type viscometer. It was measured. In addition, the viscosity of the resin composition after being held at 25° C. for 12 hours was similarly measured to calculate the viscosity increase rate (unit: %).
where the viscosity increase rate is
Viscosity increase rate = [(viscosity after 12 hours) - (initial viscosity)] / (initial viscosity) x 100
Calculated by

表1~2の結果から、本発明の樹脂組成物(S)は、比較のものと比べて、硬化性に優れ、その硬化物は、樹脂物性に優れ、さらに、耐熱性に優れることがわかる。 From the results in Tables 1 and 2, it can be seen that the resin composition (S) of the present invention has excellent curability, and the cured product thereof has excellent resin physical properties and excellent heat resistance as compared with the comparative composition. .

本発明の樹脂組成物(S)は、硬化性に優れ、その硬化物は樹脂物性に優れ、さらに耐熱性に優れることから、種々の熱硬化性樹脂用途、とくに電子部品用途、半導体用途、とりわけ封止材用途として好適に使用できる。 The resin composition (S) of the present invention has excellent curability, and the cured product thereof has excellent resin physical properties and excellent heat resistance. It can be suitably used as a sealing material.

Claims (7)

エポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)および硬化促進剤(C)を含有してなり、前記硬化剤(B)がジシクロペンタジエン型シアネートエステル硬化剤、トリアジン骨格含有フェノール硬化剤、ノボラック型シアネートエステル硬化剤、及びビスフェノール型シアネートエステル硬化剤からなる群から選ばれる少なくとも1種であり、前記硬化促進剤(C)が、一般式(1)で表されるホスホン酸(エステル)と、一般式(2)で表される塩基とから構成される塩である樹脂組成物(S)。
Figure 0007107802000007

[一般式(1)中、R、RおよびRは、それぞれ独立にシクロヘキシル基、フェニル基、炭素数1~20のアルキル基又は水素原子であり、R、R又はRの少なくとも1つは水素原子である。]
Figure 0007107802000008
[一般式(2)中、mは2~6の整数であり、それぞれのメチレン基の水素原子は有機基で置換されていてよい。]
It contains an epoxy resin (A), a curing agent (B) and a curing accelerator (C), and the curing agent (B) is a dicyclopentadiene type cyanate ester curing agent, a triazine skeleton-containing phenol curing agent, or a novolac type cyanate. It is at least one selected from the group consisting of an ester curing agent and a bisphenol-type cyanate ester curing agent, and the curing accelerator (C) is a phosphonic acid (ester) represented by the general formula (1) and the general formula A resin composition (S) which is a salt composed of a base represented by (2).
Figure 0007107802000007

[In the general formula (1), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a cyclohexyl group, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a hydrogen atom, and R 1 , R 2 or R 3 At least one is a hydrogen atom. ]
Figure 0007107802000008
[In general formula (2), m is an integer of 2 to 6, and a hydrogen atom of each methylene group may be substituted with an organic group. ]
前記エポキシ樹脂(A)が、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂及びブタジエン構造を有するエポキシ樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の樹脂組成物。 The epoxy resin (A) is a phenol novolak type epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, a naphthol type epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, or a naphthylene ether. 2. The resin composition according to claim 1, wherein the resin composition is at least one selected from the group consisting of type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, glycidyl ester type epoxy resins, anthracene type epoxy resins and epoxy resins having a butadiene structure. 前記硬化促進剤(C)の含有量が、エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)との合計重量に基づいて、0.01~5重量%である請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the content of the curing accelerator (C) is 0.01 to 5% by weight based on the total weight of the epoxy resin (A) and the curing agent (B). thing. 前記エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)との重量比[(A)/(B)]が3/97~97/3である請求項1~のいずれか記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 3 , wherein the weight ratio [(A)/(B)] of the epoxy resin (A) and the curing agent (B) is 3/97 to 97/3. さらに、無機充填材(D)を含有してなり、該(D)の含有量がエポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)との合計重量に基づいて、50~1000重量%である請求項1~のいずれか記載の樹脂組成物。 Furthermore, it contains an inorganic filler (D), and the content of said (D) is 50 to 1000% by weight based on the total weight of the epoxy resin (A) and the curing agent (B). 5. The resin composition according to any one of 1 to 4 . 請求項1~のいずれか記載の樹脂組成物(S)を硬化させてなる硬化物。 A cured product obtained by curing the resin composition (S) according to any one of claims 1 to 5 . 請求項1~のいずれか記載の樹脂組成物(S)の硬化物で封止した電子部品。 An electronic component sealed with a cured product of the resin composition (S) according to any one of claims 1 to 5 .
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