JP7106698B2 - バンチ化されたイオンビームを生成するための装置及び技術 - Google Patents
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Description
(但し、vは速度)に従って調整されうる。上記距離は、所定の電圧について最大加速度を与えるが、何等かの望ましくない位相効果を生じさせうる。0.2D0程度の短いチューブを使用すると、より高い電圧が必要となるが、全体的に、より良好な結果が得られうる。収束長Lに関して、上記パラメータをより短くすることは有益であるが、より高い電圧を印加する必要がある。従って、Lは、様々な実施形態によれば、イオン種、電圧の考慮事項、及び他の効果に基づいて、300mmから1mまでの範囲でありうる。
Claims (10)
- イオン注入システムであって、
連続イオンビームを生成するイオン源と、
前記イオン源の下流に配置され、前記連続イオンビームを受け取ってバンチ化されたイオンビームを出力するバンチャーであって、ドリフトチューブアセンブリを備え、
前記ドリフトチューブアセンブリが、
連続イオンビームを受け入れるよう構成された第1の接地されたドリフトチューブ、
前記第1の接地されたドリフトチューブの下流の少なくとも2つのACドリフトチューブ、
前記少なくとも2つのACドリフトチューブの下流の第2の接地されたドリフトチューブ、及び、
前記少なくとも2つのACドリフトチューブに電気的に接続されたAC電圧アセンブリであって、前記少なくとも2つのACドリフトチューブに別々に接続された少なくとも2つのAC電圧源を含むAC電圧アセンブリ
を含む、バンチャーと、
前記バンチャーの下流に配置され、前記バンチ化されたイオンビームを受け取って加速させる、複数の加速段を含む線形加速器と
を備え、
前記AC電圧アセンブリは、
第1の周波数の第1のAC電圧信号を、前記少なくとも2つのACドリフトチューブの第1のACドリフトチューブに届けるよう接続された第1のAC電圧源と、
第2の周波数の第2のAC電圧信号を、前記少なくとも2つのACドリフトチューブの第2のACドリフトチューブに届けるよう接続された第2のAC電圧源と
を含み、
前記第2の周波数が、前記第1の周波数の整数倍を含み、
前記バンチャーが、
前記第1の接地されたドリフトチューブと、
前記第1の接地されたドリフトチューブより下流に、当該第1の接地されたドリフトチューブの直後に配置された第1のACドリフトチューブと、
前記第1のACドリフトチューブの下流に配置された、接地された中間ドリフトチューブと、
前記接地された中間ドリフトチューブより下流に、当該接地された中間ドリフトチューブの直後に配置された第2のACドリフトチューブと、
前記第2のACドリフトチューブより下流に、当該第2のACドリフトチューブの直後に配置された前記第2の接地されたドリフトチューブと
をさらに含む、
イオン注入システム。 - 前記第1の周波数が40MHzであり、前記第2の周波数が80MHzである、請求項1に記載のイオン注入システム。
- 前記第1の周波数が13.56MHzであり、前記第2の周波数が27.12MHzである、請求項1に記載のイオン注入システム。
- 前記バンチャーが、
前記第1の接地されたドリフトチューブと、
前記第1の接地されたドリフトチューブより下流に、当該第1の接地されたドリフトチューブの直後に配置された前記第1のACドリフトチューブと、
前記第1のACドリフトチューブより下流に配置された、第1の接地された中間ドリフトチューブと、
前記第1の接地された中間ドリフトチューブより下流に、当該第1の接地された中間ドリフトチューブの直後に配置された前記第2のACドリフトチューブと、
前記第2のACドリフトチューブより下流に、当該第2のACドリフトチューブの直後に配置された第2の接地された中間ドリフトチューブと、
前記第2の接地された中間ドリフトチューブより下流に、当該第2の接地された中間ドリフトチューブの直後に配置された第3のACドリフトチューブと、
前記第3のACドリフトチューブより下流に、当該第3のACドリフトチューブの直後に配置された前記第2の接地されたドリフトチューブと
をさらに含む、請求項1に記載のイオン注入システム。 - 前記AC電圧アセンブリが、第3の周波数の第3のAC電圧信号を前記第3のACドリフトチューブに届けるよう接続された第3のAC電圧源を含み、前記第3の周波数が、前記第2の周波数とは異なった、前記第1の周波数の整数倍を含む、請求項4に記載のイオン注入システム。
- 前記第2の周波数が、前記第1の周波数の2倍であり、前記第3の周波数が、前記第1の周波数の3倍である、請求項5に記載のイオン注入システム。
- 前記第1の周波数が、少なくとも13.56MHzの周波数を有し、前記第3の周波数が、120MHz以下の周波数を有する、請求項5に記載のイオン注入システム。
- 前記イオン源と前記バンチャーとの間に配置され、前記連続イオンビームを少なくとも200keVのエネルギーに加速させるよう構成されたDC加速カラムをさらに備える、請求項1に記載のイオン注入システム。
- イオン注入システムであって、
連続イオンビームを生成するイオン源と、
前記イオン源の下流に配置され、前記連続イオンビームを受け取ってバンチ化されたイオンビームを出力するバンチャーであって、
連続イオンビームを受け入れるよう構成された第1の接地されたドリフトチューブ、
前記第1の接地されたドリフトチューブより下流に、当該第1の接地されたドリフトチューブの直後に配置された第1のACドリフトチューブ、
前記第1のACドリフトチューブより下流に配置された、接地された中間ドリフトチューブ、
前記接地された中間ドリフトチューブより下流に、当該接地された中間ドリフトチューブの直後に配置された第2のACドリフトチューブ、
前記第2のACドリフトチューブより下流に、当該第2のACドリフトチューブの直後に配置された第2の接地されたドリフトチューブ
を含む、バンチャーと、
AC電圧アセンブリであって、
第1の周波数の第1のAC電圧信号を、前記第1のACドリフトチューブに届けるよう接続された第1のAC電圧源、及び
第2の周波数の第2のAC電圧信号を、前記第2のACドリフトチューブに届けるよう接続された第2のAC電圧源
を含み、前記第2の周波数が、前記第1の周波数の整数倍を含む、AC電圧アセンブリと、
前記バンチャーの下流に配置され、前記バンチ化されたイオンビームを受け取って加速させる線形加速器と
を備えたイオン注入システム。 - イオン注入システムであって、
連続イオンビームを生成するイオン源と、
前記イオン源の下流に配置され、前記連続イオンビームを受け取ってバンチ化されたイオンビームを出力するバンチャーであって、
第1の周波数の第1のAC信号を受け取る第1のACドリフトチューブ、及び、
前記第1のACドリフトチューブの下流に配置され、前記第1の周波数の整数倍である第2の周波数の第2のAC信号を受け取る第2のACドリフトチューブを含む、バンチャーと、
前記バンチャーの下流に配置され、前記バンチ化されたイオンビームを受け取って加速させる線形加速器と、
前記第1のACドリフトチューブの上流に配置された第1の接地されたドリフトチューブと、
前記第1のACドリフトチューブの下流に配置された、接地された中間ドリフトチューブと、
前記第2のACドリフトチューブの下流に配置され、当該第2のACドリフトチューブの直後に配置された第2の接地されたドリフトチューブと
を備えたイオン注入システム。
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