JP7103752B2 - 疼痛、掻痒症および炎症のためのストロンチウムをベースとする組成物および製剤 - Google Patents
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Description
出願データシートで特定されるあらゆる全ての優先権主張またはそれに対する任意の訂正は、米国特許法施行規則1.57条の下、参考として本明細書に援用される。この出願は、2016年8月17日に出願された米国特許出願第15/239,171号の一部継続であり、米国特許出願第15/239,171号は、2015年8月21日に出願された米国特許出願第62/208,249号の利益を主張する。上述の出願の各々は、その全体が参考として援用され、本明細書の一部を明示的に構成する。
本明細書中の開示は、疼痛、掻痒症、刺激、炎症、ならびにその刺激および炎症に起因する組織損傷を処置するための治療上活性な組成物および製剤に関する。本明細書中の開示はまた、創傷管理(高い感染リスクにある創傷を含む)のための治療上活性な組成物および製剤に関する。一実施形態において、本開示は、局所適用され得る、ストロンチウムおよびβ-ヒドロキシブチレートがベースの組成物ならびに製剤に関する。別の実施形態において、本開示は、局所適用され得る、ストロンチウムおよびヨウ素がベースの、またはストロンチウムおよび銀がベースの組成物ならびに製剤に関する。
局所投与されるストロンチウム(二価イオン形態にある)は、急性感覚刺激(例えば、刺痛(stinging)、熱感(burning)、疼痛および/もしくはかゆみ(itching))、ならびに化学刺激原、電磁放射、「環境的刺激物質」、アレルギー、および疾患に起因する付随する炎症を迅速に抑制する能力を有する。いかなる特定の生化学的機構によって拘束もされないし、別段限定もされないが、ストロンチウムの抗刺激原活性は、ストロンチウムがC線維侵害受容器(Type C Nociceptor)(TCN)(刺痛、熱感、疼痛、およびかゆみの感覚、ならびにTCN活性化に付随し得る神経原性炎症応答を生成および伝達する唯一の感覚神経)の活性化を選択的に抑制する能力に起因したと理論付けられた。
以下の単純化した要旨は、特許請求された主題のいくつかの局面の基礎的理解を提供する。この要旨は、網羅的な概説ではなく、欠かせない/不可欠な要素を同定するために、または特許請求された主題の範囲を線引きすることは意図されない。その目的は、以下で呈示されるより詳細な説明に対する序文として単純化された形態でいくつかの概念を呈示することである。
本開示は、ストロンチウムと第2の化合物とを組み合わせ、これによってその組み合わせの全体的な治療有効性を、別個の構成成分のうちのいずれかの有効性を超えて相乗効果的に増大する治療上活性な組成物に関する。具体的には、本明細書で記載される組み合わせは、ストロンチウムの以下の能力を増大させる:(1)急性感覚性掻痒症(acute sensory pruritus)、疼痛、発赤、腫脹、および炎症(この記載「刺激」の目的でまとめて定義される)を阻害する、(2)有痛性もしくは掻痒性の神経障害性の状態の発生および維持に寄与し得る慢性刺激を阻害する、(3)神経の増大した感受性もしくは反応性に寄与し得る神経障害性刺激を阻害する、(4)神経障害性の疼痛もしくは掻痒に寄与する神経障害性の正のフィードバックサイクルを壊す、(5)損傷した上皮組織における治癒を促進する、ならびに/または(6)創傷における感染を最小にする。
以下に続く説明において、多くの用語が広範に利用される。以下の非限定的な定義は、このような用語によって与えられる例示的な範囲を含め、本明細書および特許請求の範囲の明確かつ一貫した理解を提供する。別段定義されなければ、本明細書で使用される全ての技術用語および科学用語は、本発明が属する分野の当業者によって一般に理解されるのと同じ意味を有する。
侵害受容は、組織を損傷する可能性を有する刺激をコードし、処理するという神経プロセスを包含する。侵害受容器は、機械的変化、温度変化、もしくは化学的変化を検出する、身体全体に配置される特殊な神経である。侵害受容器には2つのクラスがあり、第1のクラスは、「Aδ」神経であり、これは、鋭い、刺すような質を有する疼痛感覚を伝達することによって、物理的外傷に応答する。第2のクラスは、「C型」神経(TCN)であり、これは、我々の環境(例えば、微生物、温度限界、および電離放射線)からの刺激原に応答しかつ灼熱痛、刺痛のする疼痛もしくはかゆみ(「刺激」)という広汎性の感覚を伝達する化学センサーである。過剰に刺激される場合には、TCNはまた、ヒスタミン含有マスト細胞を直接活性化し、かつ他の免疫系細胞(例えば、発赤、腫脹およびさらには局所的組織損傷を引き起こす好中球)を誘引および活性化する神経ペプチド(例えば、サブスタンスP)を放出し得る。刺激による活性化後に、侵害受容器は、後根神経節(DRG)の中の脊髄付近においてシナプス形成し、シグナルを脳へと中継する神経経路を活性化する神経伝達物質を放出する。脳は、疼痛もしくは掻痒の種々のタイプとしてシグナルを解釈する。
刺激への曝露は、侵害受容器を活性化する。刺激に依存して、侵害受容器の両方のタイプが活性化されてもよいし、多くの場合には、AδもしくはTCNのいずれかが、優先的に活性化される。TCNのみが、身体の最も外側の部分(例えば、皮膚、口、鼻、咽頭、眼など(本明細書では「上皮」もしくは「表皮」といわれる))に延びて、表皮の局所的生化学を変化させる実質的に任意のプロセスによって活性化され得るので、TCNは、大部分の刺激性刺激に応じて優先的に活性化される。皮膚におけるTCNの活性化に際して、TCNは、シグナルを脊髄へと伝達し、疼痛および掻痒シグナルを脳へと中継する脊髄の神経を活性化するDRGにおいて神経伝達物質放出の引き金を引く。
たとえ何が侵害受容器活性化を引き起こそうが、その事象は、ユニバーサルコード(翻って、侵害受容器全体を通じて伝達される細胞内カルシウム濃度の複雑な変化)へとコードされる。カルシウムは、このようにして、ユニバーサルな「二次メッセンジャー」として作用し、侵害受容器によって伝達される情報(疼痛もしくは掻痒症の強度および質が挙げられる)は、急速に変化するカルシウム濃度を構成する言語へと変換される。神経は一般に、および侵害受容器が特に、それらのカルシウムコードを代表的には約1/1000秒以内に伝達するので、そのタイミングおよびカルシウムの空間的分布は、そのコードされる情報を正確に伝達するように絶妙に調節されなければならない。実質的に全ての神経(侵害受容器を含む)において、そのシグナルの強度(例えば、疼痛もしくは掻痒症の重度)は、シナプスへと放出されかつ最終的には脳へとその情報を中継するシナプス後神経を活性化する神経伝達物質の引き金を引くカルシウム波の周波数の変化としてコードされる。周波数が高いほど、知覚される感覚はより強い。侵害受容器が活性化される場合、そのカルシウムシグナルは、複数の生化学的経路を通じて伝達され、その経路のうちの多くは、1つの経路の出力が次の経路の入力となるように順々に作動する。
多くの侵害受容器経路、ならびに侵害受容器による全体的な神経伝達物質放出は、代表的には、刺激の強度に対数的に関連する。例えば、刺激原が侵害受容器活性化を引き起こして、その活性化周波数(脱分極ともいわれる)を10/秒から50/秒へと増大させた場合、その得られた神経伝達物質放出の周波数は、1.7倍(Log10=1.0;Log50=1.7)程度増大し得るに過ぎない。この事実は、特に関連している。なぜならそれは、侵害受容器の活性化の比較的少量の阻害が有痛性もしくは掻痒性の刺激の知覚される重症度において大きな低減を引き起こし得るということを示すからである。刺激原の刺激をコードしかつ伝達するように順々に作用する侵害受容器においては、多くの別個の経路が存在するので、経路の工程のうちの1もしくはこれより多くにおいて連続した経路の各々を阻害することは、その有痛性もしくは掻痒性の感覚の非常に大きな累積的低減を生じる可能性を有する。
神経障害性の状態が発生するためには、侵害受容器は、強力な刺激によって連続して活性化されなければならない。必要とされる活性化の継続時間は、その特定の神経傷害もしくは刺激物に依存して実質的に変動し得る。このような活性化が起こる場合、皮膚および粘膜を神経支配する末梢侵害受容器は、数時間内に感作され得、刺激原へのそれらの感受性を増大させ続け得、通常は刺激性ではない刺激によってすら活性化され得る。HIVもしくはヘルペスウイルスのような感染、または細菌(例えば、アトピー性皮膚炎患者、火傷患者、および電離放射線もしくは神経への外傷性の損傷に罹患している患者の皮膚上で過剰なレベルで存在するStaphylococcus aureus)による慢性的なコロニー形成は、特に強力な侵害受容器感作物質である。何らかの外傷もしくは炎症に付随する複数の炎症メディエーターの放出はまた、感作への重要な寄与因子である。
神経障害性の状態の発生の間に侵害受容器活性化を引き起こし得る多くの状態のうち、侵害受容器のレドックス状態は、存在する最も強力な急性および慢性の侵害受容器活性化刺激のうちのいくつかを生じ得る。細胞に、複数の炎症性および細胞保護免疫アクチベーターが活性化される防御状態へと変換させる最も重要な調節シグナルのうちの1つは、還元型グルタチオン(GSH) 対 酸化型グルタチオン(GSSG)の細胞内の比である。グルタチオンは、最も豊富な細胞内チオール抗酸化剤であり、中でも、細胞に、強力な炎症メディエーターを合成させて遺伝子を活性化させる(それら遺伝子は翻って、実質的にあらゆる免疫系炎症性細胞を活性化する)ように引き金を引く最も重要なシグナル生成器である。還元型グルタチオン(GSH) 対 酸化型(GSSG)の比は、通常は、9:1もしくはこれより大きい。細胞が外傷、感染、炎症もしくは炎症メディエーター、電離放射線もしくは一般的な「細胞ストレス」に曝される場合、還元型グルタチオンの量は急速に下がり、100を優に超える炎症メディエーター、炎症促進性サイトカイン(例えば、TNF-α、IL-1、IL-6および多くの他のもの)、炎症性免疫細胞を誘引および活性化するサイトカイン(これらのうちの全てが疼痛および掻痒性のシグナルを伝達し、そして翻って、神経原性炎症経路によるこれら炎症カスケードを増幅する侵害受容器を感作および活性化する)の合成を最終的にもたらす遺伝子活性化の複数のカスケードの引き金を直接的に引く。炎症および免疫防御の最も重要な細胞調節因子のうちの多くは、細胞のGSH濃度の低下に非常に敏感であり、細胞が酸化的レドックス状態にあることを示す低いGSH/GSSG比によって直接的に活性化される。
表皮細胞(例えば、ケラチノサイト)、粘膜細胞、および実質的に全ての炎症性免疫細胞は、侵害受容器活性化を引き起こし得る多くのレセプターを有する。中でも最も重要なのは、Toll様レセプター(TLR)(細菌、真菌およびウイルスの保存された分子構造を認識する分子)である。TLRは、細菌、原生動物、真菌、およびウイルスに存在する病原体関連分子パターン(PAMP)といわれる分子構造に結合する。活性化の際に、TLRは、複数の炎症性および侵害受容器活性化経路(そのうちの全てが、NF-κB活性化をもたらす)の引き金を引く。
本開示はまた、多くのウイルス(単純ヘルペスウイルス(HSV)、HIV、肝炎ウイルス、エプスタイン・バーウイルス、インフルエンザウイルス、アデノウイルス、およびサイトメガロウイルスを含む)が、宿主細胞に感染するためにNF-κBの活性化を要するという考えに基づく。感染後に、いくつかのウイルスはまた、その抗アポトーシス特性のために、宿主防御機構を逃れるかまたはウイルスが拡がる機構としてアポトーシスの引き金を引くかのいずれかのために、NF-κB経路を使用する。例えば、HSVは、NF-κBを2つの異なる相において活性化する;最初の相は、ウイルス吸着(viral absorption)の間であり、第2の相は、ウイルスタンパク質のデノボ合成の間である。
NF-κBの最も重要な結果のうちの1つは、好中球(代表的には、血液中で全WBCのうちの50%超を構成する血液由来白血球(WBC))を誘引および活性化するケモカイン(IL-8を含む)の生成を刺激することである。
ストロンチウムの特有の治療特性は、カルシウム(実質的に全ての細胞機能を調節する、神経および全ての他の細胞において最も重要かつユニバーサルな「二次メッセンジャー」である)へのその化学的類似点に起因する。カルシウムイオンは、2つの陽電荷を常に有し、そのイオン半径は、0.99Å(ほぼ水素原子のサイズ)である。全ての元素のうち、ストロンチウムは、カルシウムに最も近い。なぜならそれはまた、二価の正に荷電したイオンとしてのみ存在し、1.13Åのイオン半径を有するからである。これが理由で、ストロンチウムは、代表的には、カルシウム結合部位に結合し、カルシウムの活性を摸倣する。最も頻繁には、ストロンチウム誘発性応答はそれほど強力ではなく、カルシウムの約1/1000ほどの低さの活性であり得るが、ある種のカルシウム依存性活性については、ストロンチウムは、カルシウムとほぼ同程度またはカルシウムの1/10~1/30程度の活性の範囲の活性を有する。他のカルシウム依存性活性において、ストロンチウムは、カルシウムより活性であり得る。それは、ストロンチウムにその多くのかつ種々の活性を生じさせ得るストロンチウムのカルシウム摸倣活性である。カルシウムは、非常に多くの細胞機能にとって不可欠であるので、それが強力に阻害されれば、その効果は細胞にとって毒性である。対照的に、ストロンチウムは、代表的には、カルシウムの代用になり得るので、活性がより低いにも拘わらず、カルシウム依存性経路の活性は、停止されない。代わりに、その経路活性は、ラジオの音量コントロールを下げるのに類似して低下する。ストロンチウムは、暗喩的な意味では、カルシウム依存性経路の音量コントロールを、このような経路を停止するのではなく下げるだけなので、顕著な有害反応もしくは毒性の可能性は、経路を完全にブロックする薬物と比較すると遙かに低下する。
化学物質、疾患、外傷もしくは他の曝露に由来する刺激原が、TCNの表面上のレセプター(これは、細胞内カルシウム濃度における急速な変化としてそれらの応答の強度をコードする)を活性化する場合、これらの変化は、1/1000秒未満で起こり得、神経、ならびに急性の、慢性のおよび神経障害性の刺激を引き起こす経路のうちの引き金を引かれる大部分(全てではないが)を通じて伝播する、変化しているカルシウム濃度の非常に複雑な「波」を生じ得る。カルシウム波の周波数に加えて、カルシウム濃度の動態の変化は、TCN活性の不可欠な調節因子である共存する静電場を変化させるカルシウム波形の継続時間、規模および正確な形状を変化させる。これら変化は、複数の炎症メディエーター(プロスタグランジン(例えば、PGE2)、ロイコトリエン(例えば、LTB4、C4、D4、およびE4)および活性酸素種(ROS)(スーパーオキシド、過酸化水素、ヒドロキシルラジカル、次亜塩素酸およびペルオキシニトリルを含む)を含む)の放出を独立して活性化する。
ストロンチウムはまた、侵害受容器内のカルシウムの動態を制御するさらなる経路に影響を及ぼす一方で、急性、慢性、および神経障害性の状態の抑制にとって極めて重要である疼痛および掻痒がコードされるカルシウム波のカルシウム依存性伝達に対する1つのストロンチウム誘発性干渉が存在する。すなわち、ストロンチウムがシナプトタグミン-1(DRGにおける神経伝達物質放出を主に担う分子)を結合しかつ不活性化する能力。シナプトタグミン分子スーパーファミリーの他のメンバーおよび関連するカルシウム調節分子は、炎症性神経ペプチド(上皮におけるTCNの末梢部分からのサブスタンスPを含む)の放出を調節する。サブスタンスPは、実質的に全ての炎症性免疫「白血球」(WBC)(ヒスタミンおよび50超の種々の炎症性化学物質(腫瘍壊死因子-α(TNF-α)、インターロイキン1αおよびβ(IL-1αおよびβ)ならびにIL-6が挙げられる)を含むマスト細胞を含む)を活性化する、TCNから放出される最も重要な炎症性神経ペプチドであることが公知である。これら3種の炎症促進性サイトカインは、TCNを直接的に活性化して、疼痛および/もしくはかゆみを引き起こす「第1の応答者」であると考えられ、神経障害性の状態の発生および維持、ならびに炎症、疼痛もしくはかゆみと関連する大部分の皮膚状態への顕著な寄与因子であると考えられる。
大部分の(全てではないにしても)細胞は、近年同定された、細胞外カルシウム濃度を検出する表面レセプター(CaSR)を有する。ストロンチウムはまた、このCaSRレセプターにカルシウムと同程度に効率的に結合および活性化するが、さらなる活性の引き金を引く。このことに鑑みれば、単純なストロンチウム塩であるラネル酸ストロンチウム(これは、100を超える国々において骨粗鬆症処置のための経口投与される処方薬である)が商業的に開発された。カルシウムがCaSRを活性化し、そしてさらには、CaSRに関連付けられるさらなる経路を活性化する能力を摸倣するストロンチウムの特有な能力に起因して、ラネル酸ストロンチウムは、2つの独立した骨粗鬆症治療機構-ストロンチウムは、骨を吸収する破骨細胞を阻害することによって骨喪失を阻害し、新たな骨を生成する骨芽細胞を同時に刺激する-を有する唯一の公知の骨粗鬆症薬物である。
上述のように、皮膚上の細菌およびウイルスは、種々の炎症経路(例えば、TLR)を活性化する。TLRは、最終的にはNF-κBを活性化する。NF-κBを停止させることによって、ストロンチウムは、免疫系の活性化を防止し得る。
いかなる1つの理論によっても拘束されることを望まないが、ストロンチウムは、少なくとも2種の別個の機構の活性をブロックもしくは低減することによって、エンドサイトーシス小胞のパッケージングおよび形成に影響を及ぼすと考えられる。第1の機構は、VGLUT-2であり、これは、グルタミン酸を小胞へとパッケージするために使用される。第2の機構は、ダイナミンであり、これは、エンドサイトーシス小胞を膜から摘み取る(pinch off)ために使用される。各機構は、以下で簡潔に考察される。
TCN伝達に関与する2種の主要な神経伝達物質は、グルタミン酸およびサブスタンスPである。グルタミン酸およびサブスタンスPは、小胞中にパッケージされ、エキソサイトーシスによってシナプス前小胞から放出される。上述のように、グルタミン酸は、低周波数神経活性化で放出されるのに対して、サブスタンスPは、高周波数神経活性化でのみ放出される。
ストロンチウムが頻繁に、疼痛、かゆみもしくは炎症を完全にブロックできないという理由が、以下の2つの要因に起因するということが驚くべきことに発見された:(1)局所的に適用され得るストロンチウムの量の制限(適用後、ストロンチウム塩自体の高浸透圧効果が、疼痛、かゆみもしくは炎症を引き起こし始める);および(2)ストロンチウムが、ストロンチウムの固有の抗刺激原活性を打ち消すように作用し得る経路を刺激する能力(従って、全体的な治療利益を低減する)。
β-ヒドロキシブチレート(β-ヒドロキシ酪酸、β-ヒドロキシブタン酸、3-ヒドロキシブチレート、3-ヒドロキシ酪酸、3-ヒドロキシブタン酸、D-3-ヒドロキシブチレート、R(3-ヒドロキシ酪酸)、D,R(DおよびDのラセミ混合物)、および天然の形態としても公知であり、まとめて「BHB」といわれる)は、β-ヒドロキシ酸である。BHBは、ストロンチウムによって阻害される同じ炎症経路において異なる工程で作用し、従って、ストロンチウムの基本的な抗刺激原、抗疼痛活性および侵害受容器保護活性を実際には増幅する。欠かせない侵害受容および炎症経路のうちのいくつかに対するBHBの効果は、以下で考察される。
Gプロテイン共役レセプター109A(GPR109A)は、ニコチン酸(ナイアシンもしくはビタミンB3(まとめて「ナイアシン」といわれる)としても公知)のレセプターである。高用量のナイアシンは、ヒトにおいて高コレステロールレベルを処置するために一般に使用される。高用量のナイアシンの1つの望ましくない副作用は、潮紅/赤面であり、これは、かゆみもしくは焼けるような感覚にしばしば付随する血管拡張に起因して皮膚が赤くなることである。潮紅/赤面は、ナイアシンの結合に伴うGRP109Aの活性化に起因して起こる。GPR109Aの活性化は、サイクリックAMP(cAMP)レベルを増大させ、細胞膜からアラキドン酸を放出する。アラキドン酸は、プロスタグランジン(D2およびE2を含む)、プロスタサイクリン、およびトロンボキサンを生成するように代謝される。プロスタグランジンD2およびE2レセプター、EP4、ならびにIPレセプターの活性化は、血管の拡張をもたらし得、皮膚の潮紅/赤面を生じ得る。
ストロンチウムに類似して、BHBはまた、グルタミン酸(VGLUT2)およびATP(VNUT)の小胞充填に影響を及ぼす。しかし、BHBは、ストロンチウムとは異なる機構を使用する。上記で考察されるように、小胞の充填は、カルシウム/水素アンチポーターによって作り出される水素勾配を使用する。このカルシウム/水素アンチポーターは、機能するために塩化物の存在を要する特有の調節系を有する。BHBは、この塩化物結合部位をブロックし、従って、効力を低減するかまたはカルシウム/水素アンチポーターを停止しさえする。
マスト細胞は、免疫系の一部であり、ヒスタミン、ヘパリン、プロテオグリカン、セロトニンおよびプロテアーゼがパッケージされた顆粒を含む。マスト細胞は、多くの異なる機構によって活性化され得る。いったん活性化されると、マスト細胞は、急速に脱顆粒して、顆粒の内容物を放出し、これらは、種々の炎症経路を活性化する。
ポリヒドロキシフェノールは、少なくとも2個のヒドロキシル基を有するフェノール化合物である。一実施形態において、このポリヒドロキシフェノールはまた、1個もしくはこれより多くのカルボキシル基を示す。同じ構造を代表的には有するが、必ずしも有さなくてよい2個もしくはこれより多くの芳香族環を有するポリマー状のフェノール化合物はまた、本開示によって企図される。
ポリヒドロキシフェノールは、NF-κBの成分に直接結合し、活性化の直接的阻害を引き起こす強力な抗酸化剤である。それらはまた、スーパーオキシド、過酸化水素、ヒドロキシルラジカルおよび次亜塩素酸を直接的に不活性化し、従って、これらが細胞内GSH濃度をシフトさせて低減する(これは、NF-κBおよび他のレドックス活性化炎症性調節分子および侵害受容器を直接活性化する分子を活性化する)ことから防止する。ポリヒドロキシフェノールはまた、ICAM-1、VCAM-1および好中球および単球を血管から管外遊出させ、炎症部位に蓄積させ得、従って、侵害受容器活性化に寄与するセレクチン接着分子のメンバーのような複数の細胞接着分子の発現を阻害する。
ポリヒドロキシフェノールは、π-π結合スタッキングを介して、フェニルアラニン、チロシンおよびトリプトファンのような疎水性アミノ酸に結合することが公知である。そのヒドロキシ基はまた、それらがタンパク質中のペプチド骨格のアミド基およびカルボニル基、ならびに選ばれたアミノ酸側鎖に水素結合し得ることから、重要である。没食子酸および他のポリヒドロキシフェノールが結合するアミノ酸の中でも、プロリンおよび他の芳香族アミノ酸は、中でも最も重要である。
システインは、三文字アミノ酸記号Cysによって略記される。システインは、多くの食品およびタンパク質中に存在する天然に存在するアミノ酸である。システインは、チオール側鎖を有し、これは容易に酸化される。その高い反応性が原因で、システインのチオール基は、多くの生物学的機能を有する。広い意味では、システインは、以下の広い薬理学的活性を有する:(1)抗酸化活性、(2)レドックス感受性調節分子の直接的調節、および(3)疼痛および炎症の引き金を引く細胞内カルシウムレベルの阻害。これらの各々は、以下で考察される。
シスチンは、1個のジスルフィド結合によって一緒に結合した2個のシステイン分子から構成されるアミノ酸化合物である。細胞外環境では、シスチンは、優勢な形態であり、特異的アミノ酸交換分子、システムXc-アンチポーターによって細胞へと輸送される唯一の形態である。このタンパク質は、細胞外シスチンを細胞内グルタミン酸と、輸送エネルギーの供給源としてこの2つの間の相対的濃度勾配を使用して交換する。細胞内では、シスチンのジスルフィド結合は、システインの2つの分子(各々は、遊離スルフヒドリル基を有する)を形成するように還元される。遊離システインは、次いで、トリペプチドであるグルタチオン、γ-Glu-Cys-Glyへと組み込まれる。グルタチオンは、全ての細胞において最も優勢かつ重要な細胞内チオール抗酸化剤であり、数百もの調節性分子(そのうちの多くは、強力な疼痛および炎症誘発因子である)の発現を直接的もしくは間接的に制御する還元/酸化「レドックス」スイッチとして作用する。遊離システインはまた、調節性タンパク質を不活性化し得、そして脂質を酸化し得、異常な細胞増殖および癌をもたらし得るDNAの変異を直接的に引き起こし得る活性酸素種(ROS)を直接的に不活性化し得る。
そのチオール基に起因して、システインベースの抗酸化剤はまた、侵害受容器活性化に寄与する炎症経路の一部である分子内のシステイン残基のチオール基に直接結合する能力を有する。多くのチオール感受性調節分子が存在するので、システインベースの抗酸化剤は、このような分子中の欠かせないシステインの酸化をブロックし、従って、炎症および侵害受容器活性化の増大をもたらす活性化をブロックする能力を有する。多くのレドックス感受性システイン調節性経路に関しては、侵害受容器内のカルシウムの濃度が増大され、そして多くの他の侵害受容器アクチベーターに関しては、得られたカルシウム濃度がコードする疼痛、掻痒症および活性化のシグナルは、神経障害性の状態の形成および長期継続に寄与する。
ある種の状況において、システインベースの抗酸化剤は、利益より大きな害を引き起こし得る。低pH(例えば、酸性条件)および高い容量オスモル濃度(例えば、高いシステインベースの抗酸化剤濃度)の状況では、システインベースの抗酸化剤の存在は、組織における損傷を減少させるよりむしろ増大させると考えられる。各々は、以下で簡潔に考察される。
アトピー性皮膚炎(湿疹としても公知)は、乾燥、痒みのある、炎症を起こした皮膚として現れる状態である。この状態はまた、じくじくした、ひび割れのある、腫脹した、および痂皮で覆われている隆起した病変として現れ得る。この病変は、細菌、真菌、もしくはウイルス感染の増大したリスクを示す。アトピー性皮膚炎の原因は未知である一方で、多くの要因が、遺伝的性質、微生物、および環境が挙げられるが、これらに限定されない条件に寄与すると考えられる。
ヘルペスウイルス科は、人々および動物において疾患を引き起こす大きなウイルスの科である。この科は、単純ヘルペスウイルス1および2(HSV1、HSV2)、水痘帯状疱疹ウイルス、エプスタイン・バーウイルス、サイトメガロウイルス、ロゼオロウイルス、およびカポジ肉腫関連ヘルペスウイルスを含む。初期感染が消散した後、ヘルペスウイルスのうちの多くは、神経細胞体の中で潜伏性のまま残存する。そのウイルスは、数日後、数ヶ月後、数年後、もしくは数十年後にすら、再活性化され得る。活性化の際には、そのウイルスは、神経軸索を下って移動して、神経領域において皮膚のウイルス感染を引き起こす(例えば、水疱を起こさせる発疹)。
皮膚は、微生物感染に対する保護バリアを提供する。皮膚への損傷は、微生物感染の機会を示す。よって、感染制御は、創傷管理の重要な局面である。大部分の例(例えば、小さな切り傷)では、感染は、考慮事項としては小さい。しかし、損傷が広い面積の皮膚(例えば、火傷)もしくは長期の開放創(例えば、潰瘍)で起こる場合、感染制御は非常に重要になる。感染制御は通常、抗菌剤(例えば、抗生物質および抗真菌剤)の使用を通じて行う。しかし、長期の抗生物質使用は、細菌の耐性をもたらし得る。現在まで、2種の抗生物質のみ(ヨウ素および銀)が、細菌の耐性を一度も示したことがない。そうはいっても、ヨウ素も銀も、全身感染を処置するためには使用できない。
火傷は、熱、電気、化学物質、摩擦、もしくは放射線によって引き起こされ得る。火傷は、皮膚および下にある組織への損傷深度に基づいて分類される。I度もしくは表層の火傷は、皮膚の外層(すなわち、表皮)にのみ影響を及ぼす。II度もしくは中間層火傷(partial-thickness burn)は、皮膚の下にある層、すなわち、真皮上層にまで浸透する。III度もしくは全層性火傷(full thickness burn)は、皮膚の全ての層を貫通して拡がる。IV度火傷は、筋もしくは骨のようなより深部の組織が巻き込まれる。化学火傷は、酸、塩基、酸化剤、溶媒、還元剤もしくはアルキル化剤(alkylant)のような任意の腐食性物質によって引き起こされ得る。化学火傷は、その損傷が即座に目立たない可能性がある(例えば、皮膚の下)という点で普通ではない。化学火傷の1つの注目に値する原因は、兵器として使用されている化学物質から来るものである。非限定的な例としては、窒息性刺激原(choking irritant)、発疱薬/水疱形成剤(blistering agent)、血液剤(blood agent)、神経剤(nerve agent)、嘔吐剤(vomiting agent)、暴動鎮圧剤(riot control agent)、無力化剤(incapacitating agent)、毒素、およびアレルゲンが挙げられる。
感染の防止はまた、外科手術中および外科手術後、ならびに皮膚の破断を生じる外傷性のインシデント後には欠かせない。外科手術に関しては、医療関係者は、代表的には、ヨウ素溶液を使用して、彼らの手および手術部位をきれいにする。外科手術後に、切開は、通常、抗細菌剤で被覆され、包帯を使用して覆った状態にされる。本明細書で開示されるストロンチウムベースの組成物および製剤は、術後創および切断の断端を処置することにおいて有用であり得る。さらに、本明細書で開示されるストロンチウムベースの組成物および製剤は、術後創および切断の断端と関連する疼痛、掻痒、もしくは刺激を処置するにあたって有用であり得る。最後に、本明細書で開示されるストロンチウムベースの組成物および製剤は、瘢痕の形成を防止もしくは低減し得る。
一実施形態において、創傷処置における使用のためのストロンチウムベースの組成物および製剤は、さらなる抗菌剤支援を提供するために、ヨウ素もしくは銀をさらに含む。
火傷、外科的切開、および切断は、神経損傷を引き起こす傾向にあり、従って、神経障害性の疼痛を生じる。神経障害性の疼痛の発生を潜在的に最小にする1つの方法は、本明細書で開示されるストロンチウムベースの組成物および製剤の即座および/もしくは継続した適用を介することである。これは、慣用的な適用もしくは長期放出製剤、またはストロンチウムベースの組成物および製剤を連続して放出するデバイスの使用を通じて達成され得る。一実施形態において、処置は、最初の数日間もしくは数週間にわたって継続する。創傷が治癒するに従って、処置は、その患者の疼痛、掻痒、もしくは刺激レベルに基づいて、より断続的になり得る。最終的には、その患者の疼痛、掻痒、もしくは刺激の知覚は、適用の頻度を決定する。
不穏下肢症候群(RLS)(Willis-Ekbom病もしくはWittmaack-Ekbom症候群ともいわれる)は、脚(およびときおり、腕もしくは他の身体部分)に不快な「痒みのある」、「ピリピリする感じ(pins and needles)」、もしくは「虫が這いずり回る」感覚を引き起こす神経学的障害である。罹患した身体部分を動かすと、一時的な軽減が提供され得る。RLSの原因としては、遺伝的素因、鉄の不均衡(低すぎるもしくは高すぎる)、およびある種の薬物療法が挙げられる。
関節痛は、関節炎、傷害、および反復運動が挙げられるが、これらに限定されない多くの原因を有する。関節炎に関して、100を超える異なる関節炎の原因があり、これらは、2つの大きなカテゴリーに大きく分けられる。第1のカテゴリーは、軟骨の摩耗および断裂によって引き起こされる関節炎であり、第2のカテゴリーは、炎症と関連する、一般には、過度に活動的な免疫系と関連する関節炎である。関節炎の最も一般的な原因は、変形性関節症、関節リウマチ、および乾癬性関節炎である。傷害に関して、傷害は、腱、靱帯、もしくは軟骨の損傷および/もしくは炎症をもたらす捻挫、挫傷、もしくはねじれ(twist)であり得る。反復運動傷害に関しては、この用語は、反復労作、力の要る作業、振動、機械的圧迫、もしくは持続した/不自然な位置(sustain/awkward position)と関連する状態のある範囲を網羅するために使用される。反復運動傷害の非限定的な例としては、手根管症候群、肘部管症候群、ゴルフ肘、テニス肘、ドケルバン症候群、胸郭出口症候群、腱交差症候群(intersection syndrome)、狭窄性腱鞘炎、橈骨神経管症候群、および局所性ジストニアが挙げられる。
近年の研究は、高容量オスモル濃度製剤が侵害受容器、ケラチノサイトおよび免疫細胞もしくは炎症性細胞上に存在する特異的浸透圧センサーを活性化することを示した。この一例は、単純塩の濃縮溶液が創傷へと注がれる場合に、刺痛および熱感を引き起こす「傷口に塩(salt in the wound)」効果である。不快感を引き起こすことに加えて、高容量オスモル濃度溶液は、炎症性細胞を直接活性化し得、これら細胞に侵害受容器活性化を引き起こす化学物質を放出させ得る。
高浸透圧活性(400mOsmを超える(例えば、400~2000mOsmの間))を有する局所用製剤はまた、繊細な組織を損傷し得、特に、物理的外傷、感染もしくは炎症に起因して損傷した「バリア機能」を有する、粘膜または組織を有する非角質化皮膚において疼痛を引き起こし得る。このような高浸透圧誘発性損傷は「傷口に塩効果」として周知であり、それは、浸透力が細胞および組織から高浸透圧製剤へと水を流す原因となる場合に起こる。高浸透圧製剤の適用は、容量オスモル濃度センサーとして作用し、活性化される場合に、疼痛感知神経ならびに炎症および細胞損傷を生じ得る免疫細胞および非免疫細胞を活性化する、ある種の分子を直接活性化し得るとも考えられる。この近年の理解は、慢性もしくは神経障害性の疼痛の発生を防止するという目標にとって潜在的に欠かせない重要性を有する。
有痛性もしくは掻痒性の感覚および炎症を引き起こすことに加えて、侵害受容器活性化刺激原へのたとえ低レベルであっても慢性の曝露は、多数の病原性微生物による感染の素因を作り得る。その病原性微生物のうち、単純ヘルペスウイルス1および2(HSV)ならびにヒト免疫不全ウイルス(HIV)は、公衆衛生に最大の脅威を引き起こす。侵害受容器活性化および共存する炎症が、HSVおよびHIVによる感染をなぜ容易にするのかについての理由の多くのおよび種々の詳細な説明は、本明細書では詳細に考察されないが、本質的には、サブスタンスPのような炎症性神経ペプチドのC線維侵害受容器による放出は、ウイルス感染をブロックする角質化した皮膚および粘膜の両方の解剖学的「バリア」を損傷することが公知である。生じた炎症はまた、炎症性免疫細胞を活性化することが公知であり、このことは、皮肉にも、HSVおよびHIVの両方が急性感染を引き起こすことができ、そしてHSVの場合には、既存の潜伏感染の再活性化を引き起こすことができることに寄与する。
最初に、「傷口に塩」効果は、非特異的であると考えられた。すなわち、細胞による水の放出は、塩の存在に起因した。いかなる1つの理論によっても拘束されることを望まないが、浸透圧センサーは、細胞外環境に対する変化に応じて、侵害受容および炎症の引き金を引くと考えられる。浸透圧レセプターは、それらの内因性リガンドとしてのカルシウムを用いるG-プロテイン共役レセプターである。よって、カルシウムは、浸透圧ストレスの主な調節因子のうちの1つとして作用する。細胞内カルシウムレベルは、低浸透圧ストレスおよび高浸透圧ストレスの間に上昇する。ストロンチウムは、浸透圧センサー上のカルシウムレセプターに結合することによって浸透圧ショックを低減し得、従って、それらが侵害受容および炎症経路の引き金を引くことを妨げる。
ヒトの皮膚は、皮脂および発汗の層(しばしば、「酸外套」といわれる)で保護されている。この酸外套は、細菌および真菌の増殖を阻害し、環境要素(例えば、日光、汚染物質、もしくは化学物質)への曝露を低減することによって、皮膚を保護する一助になっている。酸外套に起因して、ヒトの皮膚の平均pHは、約5.5であり、4から7まで変動し得る。高い皮膚pHは、乾燥肌を引き起こす傾向にあるのに対して、低い皮膚pHは、脂性肌を引き起こす傾向にある。
本開示の組成物および製剤を、以下の機能のうちの1もしくはこれより多くを果たすように製剤化した:(1)急性感覚刺激(例えば、掻痒症および疼痛)、発赤、腫脹および炎症(この記載「刺激」の目的でまとめて定義される)を阻害する、(2)有痛性もしくは掻痒性の神経障害性の状態の発生および維持に特徴的でありこれらに寄与する慢性の刺激を阻害する、(3)神経感受性もしくは反応性の増大に寄与し得る神経障害性の刺激を阻害する、(4)神経障害性の疼痛もしくは掻痒に寄与する神経障害性の正のフィードバックサイクルを壊す、(5)神経障害性の状態の発生を防止する、(6)組織感染のリスクを低減する、ならびに/または(7)損傷した上皮組織における治癒を促進する。少なくとも、本開示の組成物および製剤は、ストロンチウムを含む。いくつかの実施形態において、このストロンチウム含有組成物および製剤はまた、以下で記載される有益な薬剤のうちの少なくとも1種を含む。いくつかの実施形態において、ストロンチウムおよび本明細書で記載される少なくとも1種の有益な薬剤の組み合わせは、複数の異なる分子経路を不活性化し、従って、各成分単独の作用を大いに凌ぐ相乗作用的効果を作り出すことによって、上記の目的を達成する。他の実施形態において、本開示のストロンチウムベースの組成物および製剤は、ストロンチウムベースの組成物および製剤への継続曝露/その適用を通じて、上記の目的を達成する。さらに他の実施形態において、この組成物および製剤は、治療利益を最大化するように、具体的疾患もしくは状態に合わせて作られる。例示的な組成物および製剤は、例えば、以下で考察される種々の成分を使用して製剤化される。これら例は、少なくとも3種の成分(そのうち、1つの成分は、ストロンチウムである)を含む3部分に分かれている錯体を含み、同様に、少なくとも2種の成分(そのうち、1つの成分は、ストロンチウムである)を含む2部分に分かれている錯体である。この3部分に分かれている錯体および2部分に分かれている錯体の成分は、以下で考察される。
ストロンチウムは、二価のカチオンとして存在する。ストロンチウムは、その一般に使用される原子記号「Sr」によって指定され、以下に示される。
脂肪族ヒドロキシ酸であるβ-ヒドロキシブチレート(β-ヒドロキシブタン酸、3-ヒドロキシ酪酸、および3-ヒドロキシブタン酸、ならびに共役塩基形態の3-ヒドロキシブチレートおよびβ-ヒドロキシブチレートとしても公知であり、まとめて、「BHB」と本明細書でいわれる)は、β-ヒドロキシ酸である。それは、ヒトでは絶食状態の間に肝臓によって合成され、しばしば糖尿病性ケトアシドーシスの指標として使用される。
ポリヒドロキシフェノールは、少なくとも2個のヒドロキシル基を、好ましくは、オルト位およびパラ位に有するフェノール化合物である。1つの例示的化合物は、3,4,5-トリヒドロキシ安息香酸(没食子酸ともいわれる)である。用語「ポリヒドロキシフェノール」は、カルボン酸(例えば、ラネレート)を含まない。ポリヒドロキシフェノールの非限定的な例としては、没食子酸、コーヒー酸、タンニン酸、エピカテキン、没食子酸エピガロカテキン、エピガロカテキン、没食子酸エピカテキン、エラグ酸、ミリセチン、ルテオリン、ナリンギン、ゲニステイン、アピゲニン、ノルジヒドログアイヤレチン酸、およびこれらのエステルが挙げられる。
用語「システインベースの」は、システインおよびシスチンを含む。あるいは、システインベースの化合物は、システインのアミノ基でアセチル化されて、N-アセチルシステイン(一般にはアセチルシステインもしくはNACと略称される)を生成する。システインベースの抗酸化剤の非限定的な例としては、システイン、シスチン、アセチルシステイン、ジアセチルシステイン、およびこれらのエステルが挙げられる。
銀およびヨウ素は、抗生物質耐性が一度も発生したことがない公知の抗菌剤である。非限定的な銀化合物としては、銀塩(例えば、硝酸銀)、スルファジアジン銀、銀ゼオライト、銀ナノ粒子、およびコロイド銀が挙げられる。
一実施形態において、本開示の錯体は、切断可能な結合を利用して、3部分に分かれている錯体においてβ-ヒドロキシブチレートおよびシステインベースの化合物を一緒に連結する。切断可能な結合を使用して、3部分に分かれている錯体においてβ-ヒドロキシブチレートおよびシステインベースの化合物を一緒に連結する錯体は、その化合物の「結合体化」形態といわれる。
有益な薬剤は、別個の分子経路を標的とすることによって、および/もしくは同じ分子経路に沿った異なる点を標的とすることによって、ストロンチウムの効果を相乗作用的に増強する。有益な薬剤はまた、疼痛、掻痒症、もしくは刺激を生じる状態を引き起こすかもしくは寄与する微生物を標的とし得る。最後に、有益な薬剤はまた、より高い送達もしくは長期の放出を可能にする特有の製剤を通じて、ストロンチウムを増強し得る。以下で列挙される有益な薬剤のいずれも、単独で、もしくは互いと組み合わせて使用され得る。
酢酸アルミニウムは、ツタウルシ/オーク、接触皮膚炎、みずむしなどに起因する軽い皮膚炎もしくは皮膚刺激(minor skin minor irritation)を処置することに関して認識されている。それは、ブーロヴ液中の活性成分である。
アスパルテームは、人工甘味料である。それは、アスパラギン酸およびフェニルアラニンのジペプチドのメチルエステルである。アスパルテームは、皮膚刺激を処置するために局所使用され得る。
コロイド状オートミールは、Avena sativa植物由来の、外皮を除いたエンバク種子の微細に製粉した粉末である。コロイド状オートミールは、皮膚に有益な多くの化合物を有する。コロイド状オートミールの有益な特性としては、かゆみ止め(anti-itch)、抗炎症、水分保持、および抗酸化剤能力が挙げられる。
コルチコステロイドは、副腎皮質において生成される分子のクラスである。それらは、ストレス応答、免疫応答、および炎症を含め、広い範囲の生理学的プロセスに関与する。コルチコステロイドの局所形態は、抗炎症特性を有し、発疹、湿疹、皮膚炎、乾癬、および他の皮膚状態の処置のために一般に使用される。局所用コルチコステロイドは一般に、短期間の間使用される。なぜなら長期間の使用は、二次的な細菌もしくは真菌の感染、皮膚萎縮、毛細血管拡張症、あざ(bruising)、および皮膚の脆弱性をもたらし得るからである。局所用コルチコステロイドの非限定的な例としては、ジプロピオン酸アルクロメタゾン、アムシノニド、ジプロピオン酸ベタメタゾン、プロピオン酸クロベタゾール、デソニド、デスオキシメタゾン、酢酸ジフロラゾン、フルオシノロンアセトニド、フルオシノニド、フルランドレノリド、プロピオン酸フルチカゾン、ハルシノニド、プロピオン酸ハロベタゾール、ハロメタゾン、ヒドロコルチゾン、酪酸ヒドロコルチゾン、吉草酸ヒドロコルチゾン、フランカルボン酸モメタゾン、プレドニゾン、およびトリアムシノロンアセトニドが挙げられる。
コールタール(液状炭素系洗浄液(liquor carbonis detergens)としても公知)は、フェノール、複素環式酸素(heterocyclic oxygen)、炭化水素、硫黄および窒素を含む、有機化合物の混合物である。コールタールは、皮膚に対して抗増殖効果および抗炎症効果を有し得る。
いくつかの抗うつ薬は、抗ヒスタミン薬効果を有し得、かゆみを処置するために使用され得る。非限定的な例としては、アミトリプチリン、パロキセチン、ドキセピン、ヒドロキシジン、およびミルタザピンが挙げられる。ドキセピンは、ノルエピネフリンおよびセロトニン(神経伝達物質)の再取り込みを低減して、それらのレベルを正常に戻す、三環系抗うつ薬および抗不安(anxiolytic)(抗不安(anti-anxiety))薬である。ドキセピンは、抗コリン作用薬(副交感神経をブロックする薬物)および鎮静剤である。それは、かゆみ、ならびにいくつかのタイプの疼痛を軽減する唯一の三環系抗うつ薬である。ミルタザピンは、ノルアドレナリン作用性かつ特異的セロトニン作用性の抗うつ薬である。それはまた、ヒスタミンH1レセプターアンタゴニストである。
多くの場合には、細菌、真菌、もしくはウイルスの存在は、皮膚障害と関連する症状を引き起こすかもしくは悪化させる。例えば、高レベルのStaphylococcus aureusは、アトピー性皮膚炎に寄与するといわれている。さらに、種々のCandida種は、乳幼児における過剰に湿った皮膚に起因する発疹を悪化させる。最後に、種々のヘルペスウイルスは、有痛性の水疱を形成する発疹を引き起こす。抗菌剤は、ストロンチウムと相乗効果的に作用して、疼痛および掻痒の軽減を促進し、治癒時間を短縮する。抗菌剤の非限定的な例としては、抗細菌剤、抗真菌剤、もしくは抗ウイルス剤が挙げられる。抗細菌剤の非限定的な例としては、銀、ヨウ素、バシトラシン、ポリミキシンB、ネオマイシン、ゲンタマイシン、ムピロシン、スルファセタミド、エリスロマイシン、ネオマイシン、および蜂蜜が挙げられる。抗真菌剤の非限定的な例としては、安息香酸、ウンデシレンアルカノールアミド(undecylenic alkanolamide)、シクロピロクスオラミンポリエン(ciclopirox olamine polyenes)、ナイスタチン、イミダゾール、ビホナゾール、クロトリマゾール、エコナゾール、ケトコナゾール、ミコナゾール、チオコナゾール、アリルアミン、テルビナフィン、チオカルバメート、トルシクラート、トルナフタート、アゾール、スルコナゾール、エフィナコナゾール、ルリコナゾール、ナフチフィン、ベンゾオキサボロール、タバボロール(tavaborole)および列挙されるものと同じクラスの中の他の薬物が挙げられる。抗ウイルス剤の非限定的な例としては、アシクロビル、ファムシクロビル、ペンシクロビル、バラシクロビル、ドコサノール、およびリジンが挙げられる。
多くの植物、薬草、および香辛料は、抗炎症、防腐、治癒、および/もしくは鎮静特性を有する。非限定的な例としては、ツリフネソウ、クロフサスグリ種子油、生姜、ティーツリー油、ミント、タイム、メントール、ショウノウ、カモミール、ヒレハリソウ(アラントイン)、ラベンダー、アロエ、ナツシロギク、ダイズ、ナハカノコソウ(Boerhavia diffusa)、キンセンカ(Calendula officinalis)、カンゾウ、セイヨウシロヤナギ樹皮、蜂蜜、緑茶、乳香、アメリカマンサク、クローブ、Arnica montana、およびバジルが挙げられる。
抗ヒスタミン薬は、アレルギー反応の症状を防止するために使用される薬物である。それらは、ヒスタミンレセプターをブロックすることによって機能する。4種のヒスタミンレセプター、H1、H2、H3、およびH4が存在する。H1レセプターの活性化は、血管拡張および細胞透過性の増大を引き起こす。H2レセプターの活性化は、胃酸分泌を刺激する。H3レセプターは、ヒスタミン含有ニューロン上のシナプス前自己レセプターとして機能する。H4レセプターは、骨髄からの好中球放出を調節し、マスト細胞化学走性に関与する。一般的な市販のH1抗ヒスタミン薬としては、ジフェンヒドラミン(ベナドリル)、フェキソフェナジン(アレグラ)、およびロラタジン(クラリチン)が挙げられる。一般的なH2抗ヒスタミン薬としては、シメチジン(タガメット(Tagament))、ファモチジン(ペプシド)、およびラニチジン(ザンタック)が挙げられる。H1抗ヒスタミン薬の非限定的な例としては、アクリバスチン、アゼラスチン、ビラスチン、ブロムフェニラミン、ブクリジン、ブロモジフェンヒドラミン、カルビノキサミン、セチリジン、クロルプロマジン、シクリジン、クロルフェニラミン、クロロジフェンヒドラミン、クレマスチン、シプロヘプタジン、デスロラタジン、デクスブロムフェニラミン、デクスクロルフェニラミン、ジメンヒドリナート、ジメチンデン、ジフェンヒドラミン、ドキシラミン、エバスチン、エンブラミン、フェキソフェナジン、ヒドロキシジン、レボセチリジン、ロラタジン、メクリジン、ミルタザピン、オロパタジン、オルフェナドリン、フェニンダミン、フェニラミン、フェニルトロキサミン、プロメタジン、ピリラミン、クエチアピン、ルパタジン、トリペレンナミン、およびトリプロリジンが挙げられる。H2抗ヒスタミン薬の非限定的な例としては、シメチジン、ファモチジン、ラフチジン、ニザチジン、ラニチジン、ロキサチジン、およびチオチジンが挙げられる。
局所麻酔薬は、それらが適用される領域の感覚を低減する薬剤である。非限定的な例としては、ベンゾカイン、ブタンベン、ジブカイン、リドカイン、オキシブプロカイン、プラモキシン、プロパラカイン、プロキシメタカイン、およびテトラカインが挙げられる。
局所適用されるビタミンは、疼痛および掻痒を処置するにあたっていくらか有望であることが示された。
保湿薬/皮膚保護薬(一般に保湿薬といわれる)は、表皮バリアの完全性を維持して、脱水、刺激原、アレルゲン、および感染性病原体(これらのうちの全てが掻痒および/もしくは疼痛を引き起こし得る)に対するその防御機能を促進する一助とするために使用され得る。非限定的な例としては、脂質、脂肪、油、ワックス、湿潤剤、グリセロール、蜂蜜、シアバター、ラノリン、ヒアルロン酸、シリコーンベースのもの、アラントイン、ジメチコン、およびセラミドが挙げられる。
FDAによって承認されるかまたは一般大衆によって使用されるとおりの上皮表面(例えば、皮膚もしくは粘膜)にとって有益な種々の市販の成分もまた、企図される。FDAによって承認されるかまたは一般大衆によって使用されるとおりの上皮表面にとって保護的な種々の市販の成分もまた、企図される。上皮表面にとって有益な種々のホメオパシー成分もまた、企図される。上皮表面にとって有益な種々の栄養補助食品もまた、企図される。前述のカテゴリーの非限定的な例としては、以下が挙げられる:遮光剤(非限定的な例としては、酸化亜鉛、二酸化チタン、p-アミノ安息香酸、パジメートO、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、シノキサート、ジオキシベンゾン、オキシベンゾン、アボベンゾン、ホモサラート、アントラニル酸メチル(menthyl anthranilate)、オクトクリレン(octorylene)、オクチルメトキシシンナメート、サリチル酸オクチル、スリソベンゾン、サリチル酸トロラミン、およびエカムスルが挙げられる)、昆虫忌避剤(非限定的な例としては、N,N-ジエチル-m-トルアミド、シトロネラ油、p-メンタン-3,8-ジオール、イカリジン、ニーム油、炭酸ジメチル(dimethyl carbate)、(3-[N-ブチル-N-アセチル]-アミノプロピオン酸、エチルエステル)、フタル酸ジメチル、およびSS220が挙げられる)、尿素、リジン、ヒドロキシ酸、ミョウバン、精油、オリブ油、アーモンド油、ココナツ油、および蜂蜜。
本明細書で開示されるストロンチウムベースの組成物はまた、生物製剤を含み得る。
本明細書で開示されるストロンチウムベースの組成物はまた、ポリマーを含み得る。ストロンチウムおよび他の化合物は、ポリマーとイオン会合し得、従って、マトリクスを形成し得る。マトリクス形成は、錯体のバイオアベイラビリティーを増強し得、従って、上記組成物の治療効果を長期化する(例えば、徐放性)。ポリマーの使用はまた、容量オスモル濃度を最小にし得る。前述のように、高容量オスモル濃度は、不安定な製剤をもたらし得、組織を物理的に損傷し得、疼痛を、特に、粘膜もしくは物理的な外傷、感染もしくは炎症に起因して損傷した「バリア機能」を有する角質化していない皮膚において引き起こし得る。ポリマーの非限定的な例としては、ポリビニルピロリドン(PVP)、デキストリン、シクロデキストリン、カラギーナン、イオタカラギーナン、アルギン酸、キサンタンガム、ガーゴム、硫酸化ポリサッカリド(例えば、カラギーナン)、デキストラン硫酸、ポリ硫酸ペントサン、コンドロイチン硫酸、水性ポリマー、脂肪酸、ヘパリン硫酸およびポリエチレングリコール(PEG)が挙げられる。
アルギン酸は、褐海藻から得られる天然に存在するポリサッカリドである。
ポリビニルピロリドン(PVP)は、治療上活性な分子の不活性キャリアとして一般に使用される。PVPポリマーの種々の極性構造に起因して、それは、複数の反復部位を示し、これに対して原子および分子がイオン力を介して結合し得る。イオン性媒体(例えば、水)へのその後の曝露の際に、その結合した物質は、長期間にわたってその媒体へと放出され得、従って、pHおよび他の調節可能な条件(例えば、温度など)の関数としてその物質を徐々に放出することを容易にし得る。よって、PVPは、治療用物質の徐放性を提供する「分子レザバ」として作用する。このPVPポリマーは、その天然の形態にあってもよいし、そのポリマーの「放出」特性を調節するために、誘導体化および/もしくは架橋によって化学改変されてもよい。一実施形態において、PVPは、没食子酸、関連没食子酸含有分子もしくは他のポリヒドロキシフェノール分子のキャリアとして使用される。
ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキシド、およびポリエチレンは、エチレンオキシドのポリマーである。本明細書で使用される場合、「PEG」とは、エチレンオキシドの全てのポリマーをいう。PEGの分子量は、300g/mol~10,000,000g/molの範囲に及ぶ。さらに、PEGは、いくつかの異なる幾何学的性状(例えば、直鎖状、分枝状、星状、および櫛状)を有し得る。その鎖長および幾何学的性状は、PEGの物理的特性に影響を及ぼし得る。
実験は、ストロンチウムおよび水の単純な溶液が、皮膚に局所適用される場合に疼痛および刺激を低減することにおいて有効であり得ることを示す。これは、ストロンチウムが皮膚浸透増強剤の包含なしに、皮膚の外側層を通過し得ることを示す。いかなる1つの理論によっても拘束されることを望まないが、ストロンチウムが皮膚の外側層を通過する1つの方法は、毛包脂腺単位の使用を通じて行われると考えられる。この毛包脂腺単位は、毛包、毛幹、および皮脂腺から構成される。毛包は、直径約1~4μmである。表皮は内旋して、毛包の内部を形成する。しかし、表皮の硬い最外層、すなわち、角質層は、遙かに薄くそして/または毛包内に存在しない。よって、毛包を通過するために十分小さな化合物は、より大きな化合物より良好に皮膚に浸透し得る。ストロンチウムが毛包の使用を通じて皮膚を浸透する能力は、皮膚浸透増強剤を製剤に添加する必要性を低減する。皮膚浸透増強剤は必要でない(いくつかの場合には)一方で、ある種の実施形態において、皮膚浸透増強剤を本開示の製剤に含めることは有益である。皮膚浸透増強剤の非限定的な例としては、乳酸、スルホキシド、ジメチルスルホキシド、アゾンおよび誘導体、ピロリドン、脂肪酸、精油、テルペン、テルペノイド、オキサゾリジノン、尿素および誘導体、アルコール、グリコール、酵素、界面活性剤、モノオレイン、イミノスルフラン、リン脂質などが挙げられる。
ストロンチウムまたはストロンチウムおよび有益な薬剤の組み合わせの放出を長期化し得る種々の化学物質もまた、企図される。このような因子としては、ポリマー、リポソーム、微粒子、ナノ粒子、フィルム形成などが挙げられるが、これらに限定されない。
本開示の化合物はまた、安定性を増大させる、固形錠剤の崩壊を増大させる、もしくは消費者アピールを増大させることが薬学分野で公知のさらなる成分とともに製剤化され得る。可能な賦形剤の非限定的な例としては、保存剤、結合剤、増量剤、希釈剤、甘味料、香味料、滑沢剤、および着色料が挙げられる。
局所用形態において上記実施形態の組成物を投与することは、一般に望ましい;しかし、他の投与経路もまた企図される。企図される投与経路としては、経口、非経口、および皮下が挙げられるが、これらに限定されない。組成物は、例えば、経口投与のために、そのように処置される予定の組織が口腔もしくは消化管の膜を含む場合には液体調製物へと製剤化され得る。適切なこのような形態としては、懸濁物、シロップ剤、エリキシル剤などが挙げられる。単回投与のために構成される単位投与形態は、調製され得る;しかし、ある種の実施形態において、1日に2回もしくはこれより多くの投与のための形態を構成することは、望ましいことであり得る。
ストロンチウムの抗刺激原活性は、二価のストロンチウムイオンに起因する。純粋なストロンチウムは、酸素および水と非常に反応性である。よって、ストロンチウムを含む製剤は、ストロンチウムの供給源としてストロンチウム塩を使用する。その2個の陽電荷に起因して、2個のアニオン性対イオンが静電荷のバランスをとり、それによって、ストロンチウム塩を作るために必要とされる。大部分の市販のストロンチウム塩を用いると、負に荷電した対イオン(例えば、硝酸イオン(NO3 -)もしくは塩化物イオン(Cl-)が、製剤のイオン強度および容量オスモル濃度に寄与するが、全体的な抗刺激原利益には寄与しない。さらに、臨床研究から、ストロンチウム濃度が高いほど、増大した臨床利益を生じることが示された。
大部分の局所適用される製剤のpHは、適用される表面のpHに調和させる傾向にある。例えば、皮膚のpHは、4~7の範囲に及び、よって、大部分の皮膚用製剤(例えば、ローション剤、石鹸、シャンプーなど)は、4~7の間のpHで製剤化される。慣習とは対照的に、局所用のストロンチウムベースの製剤は、皮膚のpHより低いpHでより良好に働くということが驚くべきことに見出された。一実施形態において、本開示の局所用製剤のpHは、4未満、もしくは3未満である。別の実施形態において、そのpHは、約2~約3である。
本明細書で記載されるストロンチウムベースの化合物は、長期放出のために製剤化され得る。ストロンチウムもしくはストロンチウムおよび有益な薬剤の組み合わせへの長期間暴露は、神経障害性の疼痛、掻痒、もしくは刺激のようなある種の状態を処置するにあたって有用であると考えられる。長期放出は、種々の方法において達成され得る;非限定的な例は、微小被包化、特別なポリマー、フィルム、ナノ粒子などを含む。
本明細書で記載されるストロンチウムベースの化合物は、種々の形態で製剤化され得る。その形態(例えば、ローション剤、乳剤、ヒドロゲル、錠剤、吸入薬など)は、最終生成物を作製するために必要とされるさらなる成分/物質を決める。さらに、商業的アピールを改善する成分が含められてもよい。非限定的な例としては、増粘剤、矯味矯臭剤、芳香剤、着色料、滑沢剤、溶媒、乳化剤、湿潤剤、および乾燥剤が挙げられる。
薬学的に受容可能な保存剤は、組成物の貯蔵寿命を増大させるために使用され得る。ベンジルアルコールは適切であり得るが、種々の保存剤(例えば、パラベン、チメロサール、クロロブタノール、もしくは塩化ベンザルコニウムが挙げられる)もまた、使用され得る。その保存剤の適切な濃度は、代表的には、組成物の総重量に基づいて約0.02%~約2%であるが、選択される薬剤に依存して、より多量もしくはより少量が使用され得る。還元剤は、有利には、その製剤の受容可能な貯蔵期間を維持するために使用され得る。
種々の実施形態の化合物は、投与する医師もしくは他のヘルスケア専門家に、または患者による自己投与のために、キットの形態で提供され得る。このキットは、適切なパッケージングの中に組成物を、およびこの組成物を投与するための説明書を含む容器を収容するパッケージである。このキットはまた、1種もしくはこれより多くのさらなる治療剤を必要に応じて含み得る。例えば、1種もしくはこれより多くのさらなる麻酔薬、抗細菌剤、および/または抗炎症剤と組み合わせて1種もしくはこれより多くの局所用組成物を含むキットが、提供され得る。このキットはまた、一連のもしくは逐次的投与のための別個の用量を含み得る。このキットは、1種もしくはこれより多くの診断ツールおよび使用説明書を必要に応じて含み得る。このキットは、適切な送達デバイス(例えば、シリンジ、ワイプなど)を、上記組成物および任意の他の薬剤を投与するための説明書とともに含み得る。上記キットは、含まれる任意のもしくは全ての組成物の貯蔵、再構成(適用可能であれば)、および投与のための説明書を必要に応じて含み得る。上記キットは、被験体に与えられる予定の投与回数を反映する複数の容器を含み得る。
本明細書で記載されるストロンチウムベースの化合物は、種々のアプリケーターデバイスを使用して適用され得る。非限定的な例としては、ラップ、帯具、フィルム、パッチ、ローラー、シリンジ、噴霧器、点滴注入器、ネブライザー、ミスト生成器、および吸入器が挙げられる。
本明細書で記載されるストロンチウムベースの組成物は、種々の要因および状態(例えば、医学的状態)に起因する疼痛、掻痒症、炎症、刺激を処置するために使用される。非限定的な例としては、アレルギー、刺虫症(例えば、膜翅類の昆虫、ノミ、トコジラミ、クモ、アリ、ダニなど)、刺す生物(例えば、クラゲ、サソリ、毛虫など)、遅延型過敏症、蕁麻疹、毒液への曝露、ツタウルシ、アトピー性皮膚炎、湿疹、ヘルペス、帯状疱疹、ざ瘡、乾癬、しゅさ、尋常性魚鱗癬、皮膚筋炎、熱傷、電離放射線、化学物質への曝露、外傷、外科手術、神経圧迫、背部痛、切断、外傷、口腔内潰瘍もしくは咽頭潰瘍、帯状疱疹後神経痛、多発性硬化症、パーキンソン病、狼瘡、糖尿病、糖尿病性ニューロパチー、関節リウマチ、乾癬性関節炎、強直性脊椎炎、特発性関節炎、細菌感染、ウイルス感染、および薬物使用が挙げられる。
一実施形態において、本明細書で記載されるストロンチウムベースの化合物は、急性の疼痛、掻痒症、炎症、もしくは刺激を処置するために使用される。急性の疼痛、炎症、もしくは刺激は、一般に、1か月未満、もしくはさらには2週間未満、もしくはさらには1週間未満持続し得る。急性の状態の非限定的な例としては、アレルギー、アトピー性皮膚炎、湿疹、刺す生物、刺虫症、遅延型過敏症、蕁麻疹、毒液への曝露、ツタウルシ、ヘルペス、帯状疱疹、ざ瘡、乾癬、しゅさ、熱傷、背部痛、電離放射線、化学物質への曝露、外傷、外科手術、神経圧迫、切断、細菌感染、およびウイルス感染が挙げられる。
別の実施形態において、本明細書で記載されるストロンチウムベースの化合物は、慢性の疼痛、掻痒症、炎症、もしくは刺激を処置するために使用される。慢性の疼痛、炎症、もしくは刺激は、一般に、2週間より長く、もしくはさらには1ヶ月間より長く、もしくはさらには3ヶ月間より長く、もしくはさらには6ヶ月間より長く、もしくはさらには9ヶ月間より長く、もしくはさらには1年より長く持続する。非限定的な慢性の状態としては、外傷、外科手術、湿疹、アトピー性皮膚炎、乾癬、しゅさ、背部痛、切断、神経圧迫、帯状疱疹後神経痛、多発性硬化症、パーキンソン病、狼瘡、糖尿病、糖尿病性ニューロパチー、関節リウマチ、乾癬性関節炎、および薬物使用が挙げられる。
別の実施形態において、本明細書で記載されるストロンチウムベースの化合物は、神経障害性の疼痛、掻痒症、炎症、もしくは刺激を処置するために使用される。神経障害性の疼痛、掻痒症、炎症、もしくは刺激は、急性もしくは慢性のいずれかであり得る。急性の神経障害性の状態の非限定的な例としては、外傷、外科的切開、帯状疱疹、切断、帯状疱疹後神経痛、および深部組織火傷(放射線熱傷もしくは熱傷)が挙げられる。慢性的な神経障害性の状態の非限定的な例としては、神経圧迫、帯状疱疹後神経痛、切断、外傷、糖尿病性ニューロパチー、および薬物使用が挙げられる。
別の実施形態において、本明細書で記載されるストロンチウムベースの化合物は、神経障害性の状態の発生を防止する、ならびに疼痛および掻痒を処置するために使用される。神経障害性の疼痛もしくは掻痒を引き起こすことが公知の事象が起こる状況において、本明細書で記載される化合物の早期の使用は、神経障害性の疼痛もしくは掻痒の発生を低減もしくは防止し得る。この事象の非限定的な例としては、外傷、火傷、外科手術、切断、および帯状疱疹(shingles/zoster)が挙げられる。
本明細書で記載されるストロンチウムベースの化合物はまた、損傷した上皮細胞/組織において治癒を促進するために使用される。非限定的な例としては、皮膚のプラーク、皮膚病、鱗屑、潰瘍、発疹、火傷(熱傷、放射線熱傷、電離線熱傷など)、ざ瘡、口唇ヘルペス、蕁麻疹、アフタ、水疱、帯状疱疹、疣贅、およびせつが挙げられる。上記の状態は、種々の原因(例えば、(以下に限定されない)乾癬、アトピー性皮膚炎、細菌、ウイルス、遅延型過敏症、日光による損傷、過剰な熱、放射線療法、およびアレルギー)に起因し得る。
本明細書で記載されるストロンチウムベースの化合物はまた、関節痛を処置するために使用され得る。関節痛は、頸部、背部、膝、足首、足指、肩、肘、手首、もしくは手指にあり得る。関節痛の原因の非限定的な例としては、傷害、関節炎、および反復運動が挙げられる。
一実施形態において、本明細書で記載されるストロンチウムベースの化合物は、単純ヘルペス感染と関連する疼痛、掻痒症、炎症、および刺激を処置するために使用される。別の実施形態において、本明細書で記載されるストロンチウムベースの化合物は、単純ヘルペス感染の強度および継続時間を低減するために使用される。
ストロンチウムおよびBHBを合わせる。さらに、賦形剤を添加して、局所用製剤を作製する。
ストロンチウム、BHB、およびコロイド状オートミールを合わせる。さらに、賦形剤を添加して、局所用製剤を作製する。
ストロンチウム、BHB、およびアセチルシスチンを合わせる。さらに、賦形剤を添加して、局所用製剤を作製する。
ストロンチウム、BHB、およびシスチンを合わせる。さらに、賦形剤を添加して、局所用製剤を作製する。
ストロンチウムおよびヨウ素を合わせる。さらに、賦形剤を添加して、局所用製剤を作製する。
ストロンチウム、BHB、およびヨウ素を合わせる。さらに、賦形剤を添加して、局所用製剤を作製する。
ストロンチウムおよび銀を合わせる。さらに、賦形剤を添加して、局所用製剤を作製する。
ストロンチウム、BHB、および銀を合わせる。さらに、賦形剤を添加して、局所用製剤を作製する。
ストロンチウム、銀、およびヨウ素を合わせる。さらに、賦形剤を添加して、局所用製剤を作製する。
ストロンチウム、BHB、銀、およびヨウ素を合わせる。さらに、賦形剤を添加して、局所用製剤を作製する。
(チオエステル結合したβ-ヒドロキシ酪酸およびNACの合成)
合成1:β-ヒドロキシ酪酸のヒドロキシル基を、40~50℃においてアセトニトリル中、tert-ブチルジメチルシリルクロリドおよびトリエチルアミンを使用して、tert-ブチルジメチルシリルエーテル(TBS)として選択的に保護した。その溶媒を部分的に除去し、そのヒドロキシ保護した化合物(化合物A)を、水で沈殿させた。その生成物を水で洗浄し、真空下で乾燥させた。
(ヒト酵素を使用するチオエステル結合の切断)
上記のように合成したチオエステル結合で3部分に分かれているストロンチウム化合物を、3種の異なる酵素、ヒトカルボキシルエステラーゼI(CES1)、ヒトカルボキシルエステラーゼII(CES2)、およびS9肝臓ミクロソーム酵素での酵素切断に供した。
BHBは、高用量のナイアシンを服用する個体において潮紅を引き起こす同じ経路に対して作用する。BHBを含む局所用製剤を評価して、この製剤がかゆみおよび紅斑を誘発したか否かを見た。このBHB製剤を、局所用ナイアシン製剤と比較した。
(項目1)
二価カチオン性ストロンチウム部分;
シスチン、N-アセチルシステイン、N-アセチルシステイネート、N-アセチルシスチン、N,S-ジアセチルシステイン、およびこれらのエステルからなる群より選択されるシステインベースの部分;ならびに
β-ヒドロキシブチレート部分;
の錯体を含む組成物であって、
ここで前記システインベースの抗酸化剤部分および前記β-ヒドロキシブチレート部分は、切断可能な結合によって一緒に結合体化されている、組成物。
(項目2)
前記システインベースの抗酸化剤部分は、N-アセチルシステインもしくはそのエステルである、前記項目に記載の組成物。
(項目3)
前記ストロンチウム部分は、塩化ストロンチウム、塩化ストロンチウム六水和物、硫酸ストロンチウム、炭酸ストロンチウム、硝酸ストロンチウム、水酸化ストロンチウム、硫化水素ストロンチウム、酸化ストロンチウム、酢酸ストロンチウム、グルタミン酸ストロンチウム、アスパラギン酸ストロンチウム、マロン酸ストロンチウム、マレイン酸ストロンチウム、クエン酸ストロンチウム、トレオン酸ストロンチウム、乳酸ストロンチウム、ピルビン酸ストロンチウム、アスコルビン酸ストロンチウム、α-ケトグルタル酸ストロンチウム、およびコハク酸ストロンチウムからなる群より選択されるストロンチウム塩である、前記項目のいずれか1項に記載の組成物。
(項目4)
前記切断可能な結合は、ペプチド結合、エステル結合、チオエステル結合、酵素により切断可能な結合、ジスルフィド結合、およびpH依存性結合からなる群より選択される、前記項目のいずれか1項に記載の組成物。
(項目5)
前記切断可能な結合は、チオエステル結合である、前記項目のいずれか1項に記載の組成物。
(項目6)
ポリマーをさらに含む、前記項目のいずれか1項に記載の組成物。
(項目7)
前記ポリマーは、ポリビニルピロリドン、シクロデキストリン、カラギーナン、アルギン酸、キサンタンガム、硫酸化ポリサッカリド、ポリ硫酸ペントサン、コンドロイチン硫酸、デキストラン硫酸およびヘパリン硫酸からなる群より選択される、前記項目のいずれか1項に記載の組成物。
(項目8)
二価カチオン性ストロンチウム、N-アセチルシステインもしくはそのエステルおよびβ-ヒドロキシブチレートの錯体を含み、ここで前記N-アセチルシステインもしくはそのエステルおよび前記β-ヒドロキシブチレートは、前記N-アセチルシステインもしくはそのエステルのスルフヒドリル基および前記β-ヒドロキシブチレート部分のカルボキシル基によって形成されるチオエステル結合によって一緒に結合体化される、前記項目のいずれか1項に記載の組成物。
(項目9)
前記項目のいずれか1項に記載の組成物および少なくとも1種の薬学的に受容可能な賦形剤を含む製剤。
(項目10)
前記製剤は、局所投与のために構成される、前記項目のいずれか1項に記載の製剤。
(項目11)
前記製剤は、経口投与もしくは全身投与のために構成される、前記項目のいずれか1項に記載の製剤。
(項目12)
前記製剤は、経口摂取のために構成される、前記項目のいずれか1項に記載の製剤。
(項目13)
ポリマーをさらに含む、前記項目のいずれか1項に記載の製剤。
(項目14)
前記ポリマーは、中性ポリマーもしくはアニオン性ポリマーである、前記項目のいずれか1項に記載の製剤。
(項目15)
前記中性ポリマーは、ポリビニルピロリドンである、前記項目のいずれか1項に記載の製剤。
(項目16)
前記ポリビニルピロリドンは、誘導体化および/もしくは架橋によって化学改変される、前記項目のいずれか1項に記載の製剤。
(項目17)
前記ポリマーは、前記錯体とのイオン会合のために構成され、前記二価カチオン性ストロンチウムの制御放出を容易にする、前記項目のいずれか1項に記載の製剤。
(項目18)
前記ポリマーは、容量オスモル濃度の最小化のために構成される、前記項目のいずれか1項に記載の製剤。
(項目19)
ヒスチジン、チロシン、フェニルアラニンおよびトリプトファンからなる群より選択される少なくとも1種の芳香族アミノ酸をさらに含む、前記項目のいずれか1項に記載の製剤。
(項目20)
前記少なくとも1種の芳香族アミノ酸は、L-異性体である、前記項目のいずれか1項に記載の製剤。
(項目21)
前記項目のいずれか1項に記載の組成物もしくは前記項目のいずれか1項に記載の製剤を含む、疼痛を処置するための薬学的組成物。
(項目22)
前記項目のいずれか1項に記載の組成物もしくは前記項目のいずれか1項に記載の製剤を含む、掻痒症を処置するための薬学的組成物。
疼痛、掻痒症、刺激、炎症、ならびに刺激および炎症に起因する組織損傷を処置するための治療上活性な組成物および製剤、ならびに高い感染リスクにある創傷を含む創傷管理のための治療上活性な組成物および製剤。局所適用され得る、ストロンチウムおよびβ-ヒドロキシブチレートがベースの組成物および製剤。
Claims (23)
- 二価カチオン性ストロンチウム塩;
シスチン、N-アセチルシステイン、N-アセチルシステイネート、N-アセチルシスチン、N,S-ジアセチルシステイン、およびこれらのエステルからなる群より選択される抗酸化剤;ならびに
β-ヒドロキシブチレート;
の錯体を含む、炎症に関連する皮膚状態を処置するための組成物であって、
ここで前記抗酸化剤および前記β-ヒドロキシブチレートは、切断可能な結合によって一緒に結合体化されており、前記組成物が皮膚に局所投与されることを特徴とする、
組成物。 - 前記抗酸化剤は、N-アセチルシステインもしくはそのエステルである、請求項1に記載の組成物。
- 前記ストロンチウム塩は、塩化ストロンチウム、塩化ストロンチウム六水和物、硫酸ストロンチウム、炭酸ストロンチウム、硝酸ストロンチウム、水酸化ストロンチウム、硫化水素ストロンチウム、酸化ストロンチウム、酢酸ストロンチウム、グルタミン酸ストロンチウム、アスパラギン酸ストロンチウム、マロン酸ストロンチウム、マレイン酸ストロンチウム、クエン酸ストロンチウム、トレオン酸ストロンチウム、乳酸ストロンチウム、ピルビン酸ストロンチウム、アスコルビン酸ストロンチウム、α-ケトグルタル酸ストロンチウム、およびコハク酸ストロンチウムからなる群より選択される、請求項1~2のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記切断可能な結合は、ペプチド結合、エステル結合、チオエステル結合、酵素により切断可能な結合、ジスルフィド結合、およびpH依存性結合からなる群より選択される、請求項1~2のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記切断可能な結合は、チオエステル結合である、請求項1~2のいずれか1項に記載の組成物。
- ポリマーをさらに含む、請求項1~2のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記ポリマーは、ポリビニルピロリドン、シクロデキストリン、カラギーナン、アルギン酸、キサンタンガム、硫酸化ポリサッカリド、ポリ硫酸ペントサン、コンドロイチン硫酸、デキストラン硫酸およびヘパリン硫酸からなる群より選択される、請求項6に記載の組成物。
- 二価カチオン性ストロンチウム、N-アセチルシステインもしくはそのエステルおよびβ-ヒドロキシブチレートの錯体を含み、ここで前記N-アセチルシステインもしくはそのエステルおよび前記β-ヒドロキシブチレートは、前記N-アセチルシステインもしくはそのエステルのスルフヒドリル基および前記β-ヒドロキシブチレートのカルボキシル基によって形成されるチオエステル結合によって一緒に結合体化される、請求項1~2のいずれか1項に記載の組成物。
- 請求項1~8のいずれか1項に記載の組成物および少なくとも1種の薬学的に受容可能な賦形剤を含む、炎症に関連する皮膚状態を処置するための製剤であって、ここで、前記製剤は、局所用製剤であり、前記製剤が皮膚に局所投与されることを特徴とする、製剤。
- ポリマーをさらに含む、請求項9に記載の製剤。
- 前記ポリマーは、中性ポリマーもしくはアニオン性ポリマーである、請求項10に記載の製剤。
- 前記中性ポリマーは、ポリビニルピロリドンである、請求項11に記載の製剤。
- 前記ポリビニルピロリドンは、架橋によって化学改変される、請求項12に記載の製剤。
- 前記ポリマーは、前記錯体とイオン会合しており、前記二価カチオン性ストロンチウムの制御放出を容易にするマトリクスを形成する、請求項10に記載の製剤。
- 前記製剤の容量オスモル濃度が、400~2000mOsmである、請求項10に記載の製剤。
- ヒスチジン、チロシン、フェニルアラニンおよびトリプトファンからなる群より選択される少なくとも1種の芳香族アミノ酸をさらに含む、請求項9に記載の製剤。
- 前記少なくとも1種の芳香族アミノ酸は、L-異性体である、請求項16に記載の製剤。
- 掻痒症を処置するための医薬の製造における、請求項1~8のいずれか1項に記載の組成物の使用。
- 掻痒症を処置するための医薬の製造における、請求項9~17のいずれか1項に記載の製剤の使用。
- 炎症に関連する皮膚状態を処置するための医薬の製造における、請求項1~8のいずれか1項に記載の組成物の使用。
- 炎症に関連する皮膚状態を処置するための医薬の製造における、請求項9~17のいずれか1項に記載の製剤の使用。
- 掻痒症を処置するための、請求項1~8のいずれか1項に記載の組成物。
- 掻痒症を処置するための、請求項9~17のいずれか1項に記載の製剤。
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