JP7101469B2 - Substrate protection solution, substrate protection method, and substrate - Google Patents
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Description
本発明は、各種基体表面に正電荷および負電荷の組み合わせを付与することにより、防汚機能を発揮する基体保護膜を形成する基体保護液と、当該基体保護液による基体保護膜を形成する基体保護方法と、当該基体保護液による基体保護膜を形成した基体とに関するものである。 In the present invention, a substrate protective liquid that forms a substrate protective film that exerts an antifouling function by applying a combination of positive and negative charges to the surface of various substrates, and a substrate that forms a substrate protective film with the substrate protective liquid. It relates to a protection method and a substrate on which a substrate protective film is formed by the substrate protective liquid.
従来より、基体の経時的な退色ないし変色を防止ないし低減すると同時に、汚染物の付着を防止ないし低減する技術として、図3に示すように、基体aの表面に、正電荷物質bと、負電荷物質cとを配置させた電荷保持層dを設け、この電荷保持層dの静電的反発力によって汚染物の付着を防止するようになされたものが知られている。 Conventionally, as a technique for preventing or reducing discoloration or discoloration of the substrate over time and at the same time preventing or reducing the adhesion of contaminants, as shown in FIG. 3, the surface of the substrate a is negatively charged with a positive charge substance b. It is known that a charge holding layer d in which a charge substance c is arranged is provided, and the electrostatic repulsive force of the charge holding layer d prevents the adhesion of contaminants.
この技術においては、基体aの表面に設けた電荷保持層dのさらにその表面に、親水性、疎水性、撥水性などの被覆層eを形成することが行われている(例えば、特許文献1参照)。 In this technique, a coating layer e having hydrophilicity, hydrophobicity, water repellency, etc. is formed on the surface of the charge holding layer d provided on the surface of the substrate a (for example, Patent Document 1). reference).
しかし、上記従来のように、基体aの表面に設けた電荷保持層dのさらに表面に、被覆層eを設けてしまうと、電荷保持層dの静電的反発力が十分に生かされないことが懸念される。 However, if the coating layer e is provided on the surface of the charge holding layer d provided on the surface of the substrate a as in the conventional case, the electrostatic repulsive force of the charge holding layer d may not be fully utilized. I am concerned.
このうち、親水性については、被覆層eを設けなくても電荷保持層dだけで親水性を持たせることができるが、撥水性、撥油性については、被覆層eを設けなければならず、電荷保持層dの表面を被覆層eで被覆してしまうと、静電的反発力の低下による防汚機能の低下が懸念される。したがって、撥水性、撥油性が求められる環境下での汚染物の付着防止機能が十分に発揮されないことが懸念される。 Of these, for hydrophilicity, the charge holding layer d alone can be provided with hydrophilicity without providing the coating layer e, but for water repellency and oil repellency, the coating layer e must be provided. If the surface of the charge holding layer d is covered with the coating layer e, there is a concern that the antifouling function may be deteriorated due to the decrease in the electrostatic repulsive force. Therefore, there is a concern that the function of preventing the adhesion of contaminants in an environment where water repellency and oil repellency are required is not sufficiently exhibited.
本発明は、係る実情に鑑みてなされたものであって、撥水性、撥油性が求められる環境下であっても、静電的反発力による優れた防汚機能を発揮することができる基体保護液、当該基体保護液による基体保護方法、ならびに基体保護液による保護膜を形成した基体を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and is capable of exhibiting an excellent antifouling function due to electrostatic repulsion even in an environment where water repellency and oil repellency are required. It is an object of the present invention to provide a liquid, a method for protecting a substrate with the substrate protective liquid, and a substrate on which a protective film is formed with the substrate protective liquid.
上記課題を解決するための本発明の基体保護液は、基体の表面に塗布することで、当該表面に、物質の付着を低減する保護膜を形成する基体保護液であって、触媒を使用して、撥水性およびまたは撥油性の官能基を持つシラン化合物を縮重合および加水分解することによってケイ素に修飾させた状態の安定化したシラン化合物とした撥水/撥油性物質を含有する第一組成物と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質とのうち、少なくとも正電荷物質を含有する第二組成物とを具備し、これらを第一組成物と第二組成物とを混合して使用することで、基体の表面に、撥水性およびまたは撥油性を付与し、かつ、-50V~50Vの範囲の帯電圧にするようになされたものである。 The substrate protective liquid of the present invention for solving the above problems is a substrate protective liquid that forms a protective film on the surface of the substrate to reduce the adhesion of substances, and uses a catalyst. The first composition containing a water-repellent / oil-repellent substance as a stabilized silane compound modified into silicon by decomposing and hydrolyzing a silane compound having a water-repellent and / or oil-repellent functional group. A second composition containing at least a positively charged substance among a substance, a positively charged substance having a positive charge performance, and a negatively charged substance having a negative charge performance is provided, and these are the first composition and the second. By using it in combination with the composition, the surface of the substrate is imparted with water repellency and / or oil repellency, and the voltage band is in the range of −50 V to 50 V.
上記基体保護液において、第二組成物は、正電荷物質と、負電荷物質とを含有するものであってもよい。 In the substrate protective liquid, the second composition may contain a positively charged substance and a negatively charged substance.
上記基体保護液は、第一組成物と第二組成物とを混合して使用することで基体の表面に形成される保護膜の基体表面の帯電圧が、負電荷となされるものであってもよい。 In the above-mentioned substrate protective liquid, the voltage band on the substrate surface of the protective film formed on the surface of the substrate by using the first composition and the second composition in a mixed manner is negatively charged. May be good.
上記基体保護液は、第一組成物と第二組成物とを混合して使用することで基体の表面に形成される保護膜の基体表面の帯電圧が、正電荷となされるものであってもよい。 In the above-mentioned substrate protective liquid, the voltage band on the substrate surface of the protective film formed on the surface of the substrate by using the first composition and the second composition in a mixed manner has a positive charge. May be good.
上記課題を解決するための本発明の基体の保護方法は、触媒を使用して、撥水性およびまたは撥油性の官能基を持つシラン化合物を縮重合および加水分解することによってケイ素に修飾させた状態の安定化したシラン化合物とした撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質および負電荷性能を有する負電荷物質のうち、少なくとも正電荷物質と、を分散させた基体保護液を、基体の表面に塗布し、当該基体の表面に、撥水性およびまたは撥油性を有し、かつ、-50V~50Vの範囲の帯電圧となった保護膜を形成するものである。 The method for protecting the substrate of the present invention for solving the above-mentioned problems is a state in which a silane compound having a water-repellent and / or oil-repellent functional group is modified to silicon by shrinking and hydrolyzing using a catalyst. A substrate protective solution in which a water-repellent / oil-repellent substance as a stabilized silane compound and at least a positively charged substance among a positively charged substance having a positive charge performance and a negatively charged substance having a negative charge performance are dispersed. It is applied to the surface of a substrate to form a protective film having water repellency and / or oil repellency and having a charge in the range of −50 V to 50 V on the surface of the substrate.
上記基体の保護方法は、撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質との分散割合、または、撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質と、の分散割合、を調整することで、基体表面に-50V~50Vの範囲となった帯電圧で撥水性およびまたは撥油性の保護膜を形成するであってもよい。 The method for protecting the substrate is a dispersion ratio of a water- repellent / oil-repellent substance and a positively charged substance having a positive charge performance, or a water-repellent / oil-repellent substance, a positively charged substance having a positive charge performance, and a negative charge. By adjusting the dispersion ratio of the negatively charged substance having the performance, a water-repellent and / or oil-repellent protective film may be formed on the surface of the substrate at a band voltage in the range of −50 V to 50 V. ..
上記基体の保護方法は、撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質との分散割合、または、撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質と、の分散割合、を調整することで、基体表面に負電荷の帯電圧で撥水性の保護膜を形成するであってもよい。 The method for protecting the substrate is a dispersion ratio of a water- repellent / oil-repellent substance and a positively charged substance having a positive charge performance, or a water-repellent / oil-repellent substance, a positively charged substance having a positive charge performance, and a negative charge. By adjusting the dispersion ratio of the negatively charged substance having the performance, a water-repellent protective film may be formed on the surface of the substrate with a negatively charged voltage.
上記基体の保護方法は、撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質との分散割合、または、撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質と、の分散割合、を調整することで、基体表面に正電荷の帯電圧で撥水性およびまたは撥油性の保護膜を形成するであってもよい。 The method for protecting the substrate is a dispersion ratio of a water- repellent / oil-repellent substance and a positively charged substance having a positive charge performance, or a water-repellent / oil-repellent substance, a positively charged substance having a positive charge performance, and a negative charge. By adjusting the dispersion ratio of the negatively charged substance having the performance, a water-repellent and / or oil-repellent protective film may be formed on the surface of the substrate at a positively charged voltage.
上記課題を解決するための本発明の基体は、少なくとも表面の一部分に保護膜を形成するようになされた基体であって、前記保護膜は、触媒を使用して、撥水性およびまたは撥油性の官能基を持つシラン化合物を縮重合および加水分解することによってケイ素に修飾させた状態の安定化したシラン化合物とした撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質とが分散した状態、または、触媒を使用して、撥水性およびまたは撥油性の官能基を持つシラン化合物を縮重合および加水分解することによってケイ素に修飾させた状態の安定化したシラン化合物とした撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質とが分散した状態、で配置され、かつ、-50V~50Vの範囲となった帯電圧で撥水性およびまたは撥油性を有するようになされたものである。 The substrate of the present invention for solving the above-mentioned problems is a substrate formed so as to form a protective film on at least a part of the surface, and the protective film is water-repellent and / or oil-repellent by using a catalyst. A state in which a water-repellent / oil-repellent substance as a stabilized silane compound modified into silicon by hydrolyzing and hydrolyzing a silane compound having a functional group and a positively charged substance having positive charge performance are dispersed. Water / oil repellency as a stabilized silane compound modified to silicon by hydrolyzing and hydrolyzing a silane compound having a water repellent and / or oil repellent functional group using a catalyst. A substance, a positively charged substance having a positive charge performance, and a negatively charged substance having a negative charge performance are dispersed in a dispersed state, and are water repellent and / or repellent at a band voltage in the range of -50V to 50V. It is made to have oiliness.
上記課題を解決するための基体は、少なくとも表面の一部分に保護膜を形成するようになされた基体であって、前記保護膜は、撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質とが分散した状態、または、撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質とが分散した状態、で配置され、かつ、負電荷の帯電圧で撥水性およびまたは撥油性を有するようになされたものである。 The substrate for solving the above-mentioned problems is a substrate formed so as to form a protective film on at least a part of the surface, and the protective film is a water-repellent / oil-repellent substance and a positively charged substance having positive charge performance. Are arranged in a dispersed state, or in a state where a water- repellent / oil-repellent substance, a positively charged substance having a positive charge performance, and a negatively charged substance having a negative charge performance are dispersed, and a band of negative charges. It is made to have water repellency and / or oil repellency by electric charge.
上記課題を解決するための本発明の基体は、少なくとも表面の一部分に保護膜を形成するようになされた基体であって、前記保護膜は、撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質とが分散した状態、または、撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質とが分散した状態、で配置され、かつ、正電荷の帯電圧で撥水性およびまたは撥油性を有するようになされたものである。 The substrate of the present invention for solving the above problems is a substrate formed so as to form a protective film on at least a part of the surface, and the protective film has a water-repellent / oil-repellent substance and positive charge performance. It is arranged in a state in which a positively charged substance is dispersed, or a state in which a water- repellent / oil-repellent substance, a positively charged substance having a positive charge performance, and a negatively charged substance having a negative charge performance are dispersed, and is positive . It is made to have water repellency and / or oil repellency by the electric charge band voltage.
以上述べたように、本発明によると、触媒を使用して、撥水性およびまたは撥油性の官能基を持つシラン化合物を縮重合および加水分解することによってケイ素に修飾させた状態の安定化したシラン化合物とした撥水/撥油性物質は、帯電した保護層を被覆してしまうことなく、正電荷性能を有する正電荷物質および負電荷性能を有する負電荷物質のうち、少なくとも正電荷物質とともに、保護層に分散した状態となるので、基体保護液によって形成される保護層は、当該保護層に生じる静電的反発力を低下させることもなく、優れた防汚機能および撥水機能およびまたは撥油機能を発揮することができることとなる。 As described above, according to the present invention, a stabilized silane in a state of being modified to silicon by decomposing and hydrolyzing a silane compound having a water-repellent and / or oil-repellent functional group using a catalyst. The water-repellent / oil-repellent substance as a compound protects the positively charged substance having positive charge performance and the negatively charged substance having negative charge performance together with at least the positively charged substance without covering the charged protective layer. Since the protective layer is dispersed in the layer, the protective layer formed by the substrate protective liquid does not reduce the electrostatic repulsive force generated in the protective layer, and has excellent antifouling function, water repellent function, and / or oil repellency. It will be able to exert its function.
以下、本発明に係る実施の形態を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings.
図1および図2は、本発明に係る基体保護液によって基体1に保護膜2を形成した状態を示している。
1 and 2 show a state in which the
基体保護液は、基体1の表面に塗布することで、当該表面に、物質の付着を低減する保護膜2を形成する基体保護液であって、触媒を使用して、撥水性およびまたは撥油性の官能基を持つシラン化合物を縮重合および加水分解することによってケイ素に修飾させた状態の安定化したシラン化合物とした撥水/撥油性物質21を含有する第一組成物と、正電荷性能を有する正電荷物質22と、負電荷性能を有する負電荷物質23とのうち、少なくとも正電荷物質22を含有する第二組成物とを具備し、これらを第一組成物と第二組成物とを混合して使用することで、基体1の表面に、撥水/撥油性物質21と、正電荷物質22とが分散した状態(図2参照)、または、撥水/撥油性物質21と、正電荷物質22と、負電荷物質23とが分散した状態(図1参照)、で配置され、かつ、所定の帯電圧で撥水性およびまたは撥油性を有するようになされた単一の保護膜2を形成するものである。
The substrate protective liquid is a substrate protective liquid that forms a
なお、図1および図2において、撥水/撥油性物質21は、正電荷物質22の間隙(図2)、または、正電荷物質22と負電荷物質23との間隙に規則正しく設けられているが、あくまでもイメージ図であって、実際には、正電荷物質22および負電荷物質23は、10~80nm程度のばらつきのある大きさに形成されている。また、これら正電荷物質22および負電荷物質23は、物質によって、分子の重縮合体、分子の会合体、アモルファス、結晶などの形態となっている。一方、撥水/撥油性物質21は、10nm以下、小さい場合は1nm以下の大きさに形成されており、正電荷物質22の表面の官能基、または、正電荷物質22および負電荷物質23の表面の官能基と反応して、これら物質の表面に修飾された状態となっている。したがって、保護膜2は、撥水/撥油性物質21が、規則正しく設けられたものに限定されるものではなく、上記したように表面を修飾した場合を含み、各物質の大きさも上記したようなばらつきのある場合を含む。
In addition, in FIGS. 1 and 2, the water- repellent / oil-
第一組成物は、触媒を使用して、撥水性およびまたは撥油性の官能基を持つシラン化合物を縮重合および加水分解することによってケイ素に修飾させた状態の安定化したシラン化合物とした撥水/撥油性物質21を含有して構成される。
The first composition is water-repellent as a stabilized silane compound modified to silicon by polypolymerization and hydrolysis of a silane compound having a water-repellent and / or oil-repellent functional group using a catalyst. / Consists of an oil-
撥水/撥油性物質21に用いられる撥水性の官能基としては、基体保護液によって形成される保護膜2と水との接触角が80度以上、より好ましくは90度以上とすることができるものが使用される。例えば、炭化水素系の官能基を挙げることができる。
As the water-repellent functional group used in the water- repellent / oil-
炭化水素系の官能基としては、アルキル基、アルキレン基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ナフチル基、チエニル基、ピロリル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、メトキシエチル基、ビニル基、アクリロキシエチル基、メタクリロキシエチル基、グリシドキシプロピル基、またはアセトキシ基などを挙げることができる。 The hydrocarbon-based functional groups include an alkyl group, an alkylene group, a phenyl group, a benzyl group, a phenethyl group , a naphthyl group , a thienyl group, a pyrrolyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexenyl group, a cyclopentyl group, a cyclopentenyl group, and a methyl group . Examples thereof include a toxiethyl group , a vinyl group, an acryloxyethyl group, a methacryloxyethyl group, a glycidoxypropyl group, an acetoxy group and the like.
撥水/撥油性物質21に用いられる撥油性の官能基としては、基体保護液によって形成される保護膜2と油との接触角が50度以上、より好ましくは60度以上とすることができるものが使用される。例えば、フッ化物系の官能基を挙げることができる。
As the oil-repellent functional group used in the water- repellent / oil-
フッ化物系の官能基としては、フルオロアルキル基、フルオロアルキル基、フルオロアルキレン基、フルオロフェニル基、フルオロベンジル基、フルオロフェネチル基、フルオロナフチル基、フルオロチエニル基、フルオロピロリル基、フルオロシクロヘキシル基、フルオロシクロヘキセニル基、フルオロシクロペンチル基、フルオロシクロペンテニル基、フルオロメトキシエチル基、フルオロビニル基、またはフルオロアセトキシ基を挙げることができる。 Examples of the fluoride-based functional group include a fluoroalkyl group, a fluoroalkyl group, a fluoroalkylene group, a fluorophenyl group, a fluorobenzyl group, a fluorophenethyl group, a fluoronaphthyl group, a fluorothienyl group, a fluoropyrrrolyl group, and a fluorocyclohexyl group. Fluorocyclohexenyl group, fluorocyclopentyl group, fluorocyclopentenyl group, fluoromethoxyethyl group , fluorovinyl group, or fluoroacetoxy group can be mentioned.
上記官能基は、例えば、当該官能基を有するシラン化合物を縮重合および加水分解することによってケイ素に修飾させた状態の安定化したシラン化合物とすることで、造膜可能な撥水/撥油性物質21とすることができる。 The functional group is, for example, a water- repellent / oil-repellent substance capable of forming a film by forming a stabilized silane compound in a state of being modified to silicon by polycondensation and hydrolysis of the silane compound having the functional group. It can be 21.
上記縮重合および加水分解に使用される触媒としては、例えば、酸(塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、無機酸、有機酸など)、アルカリ(アンモニア、アミン類など)、アルコール(エチレングリコール、アミノアルコールなど)、β-ジケトン類(アセチルアセトンなど)、アミン(アルキルアミンなど)、アミド(ホルムアミドなど)などを使用することができる。 Examples of the catalyst used for the above-mentioned contraction polymerization and hydrolysis include acids (hydrogen, nitrate, sulfuric acid, acetic acid, inorganic acids, organic acids, etc.), alkalis (ammonia, amines, etc.), alcohols (ethylene glycol, amino alcohol, etc.). Etc.), β-diketones (acetylacetone, etc.), amines (alkylamines, etc.), amides (formamides, etc.) and the like can be used.
第二組成物は、正電荷性能を有する正電荷物質22と、負電荷性能を有する負電荷物質23とのうち、少なくとも正電荷物質22を含有して構成される。
The second composition is composed of at least a positively charged
正電荷性能を有する正電荷物質22としては、陽イオン、正電荷を有する導電体、正電荷を有する誘電体、正電荷を有する導電体および誘電体の複合体、正電荷を有する導電体および半導体の複合体、からなる群から選択される1種または2種以上のものを使用することができる。
Positively charged
上記陽イオンとしては、特に限定されるものではないが、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属のイオン;カルシウム等のアルカリ土類金属のイオン;アルミニウム、錫、セシウム、インジウム、セリウム、セレン、クロム、コバルト、ニッケル、アンチモン、鉄、銅、マンガン、タングステン、ジルコニウム、亜鉛等の金属元素のイオンが好ましく、特に銅イオンが好ましい。さらに、メチルバイオレット、ビスマルクブラウン、メチレンブルー、マラカイトグリーン等のカチオン基を備えた有機分子も使用可能である。イオンの価数も特に限定されるものではなく、例えば、1~4価の陽イオンが使用可能である。 The cation is not particularly limited, but is an ion of an alkali metal such as sodium and potassium; an ion of an alkaline earth metal such as calcium; aluminum, tin, cesium, indium, cerium, selenium, chromium and cobalt. , Nickel, antimony, iron, copper, manganese, tungsten, zirconium, zinc and other metal element ions are preferable, and copper ion is particularly preferable. Further, organic molecules having a cationic group such as methyl violet, bismarck brown, methylene blue and malachite green can also be used. The valence of the ion is not particularly limited, and for example, a cation having a valence of 1 to 4 can be used.
上記した陽イオンとしての金属イオンの供給源として、金属塩を使用することも可能である。具体的には塩化アルミニウム、塩化第1および第2錫、塩化クロム、塩化ニッケル、塩化第1および第2アンチモン、塩化第1および第2鉄、塩化セシウム、三塩化インジウム、塩化第1セリウム、四塩化セレン、塩化第2銅、塩化マンガン、四塩化タングステン、オキシ二塩化タングステン、タングステン酸カリウム、オキシ塩化ジルコニウム、塩化亜鉛、炭酸バリウム等の各種の金属塩が挙げられる。さらに水酸化アルミニウム、水酸化鉄、水酸化クロム、水酸化インジウム等の金属水酸化物、ケイタングステン酸等の水酸化物、または、油脂酸化物等の酸化物等も使用可能である。 It is also possible to use a metal salt as a source of the metal ion as the above-mentioned cation. Specifically, aluminum chloride, 1st and 2nd tin chloride, chromium chloride, nickel chloride, 1st and 2nd antimony chloride, 1st and 2nd iron chloride, cesium chloride, indium trichloride, 1st cerium chloride, 4 Examples thereof include various metal salts such as selenium chloride, cupric chloride, manganese chloride, tungsten tetrachloride, tungsten oxydichloride, potassium tungstate, zirconium oxychloride, zinc chloride and barium carbonate. Further, metal hydroxides such as aluminum hydroxide, iron hydroxide, chromium hydroxide and indium hydroxide, hydroxides such as silicate tungsten acid, and oxides such as oil and fat oxides can also be used.
本発明において使用される導電体は耐久性の点から金属が好ましく、アルミニウム、錫、インジウム、セリウム、セレン、クロム、ニッケル、アンチモン、鉄、銀、銅、マンガン、白金、タングステン、亜鉛等の金属が挙げられる。また、これらの金属の酸化物や複合体または合金も使用することができる。導電体の形状は特に制限されるものではなく、粒子状、薄片状、繊維状等の任意の形状をとることができる。 The conductor used in the present invention is preferably a metal from the viewpoint of durability, and is a metal such as aluminum, tin, indium, cerium, selenium, chromium, nickel, antimony, iron, silver, copper, manganese, platinum, tungsten and zinc. Can be mentioned. Oxides, complexes or alloys of these metals can also be used. The shape of the conductor is not particularly limited, and any shape such as a particle shape, a flaky shape, and a fibrous shape can be taken.
上記した導電体としては、一部の金属の金属塩も使用可能である。具体的には、塩化アルミニウム、塩化第1および第2錫、塩化クロム、塩化ニッケル、塩化第1および第2アンチモン、塩化第1および第2鉄、硝酸銀、塩化セシウム、三塩化インジウム、四塩化セレン、塩化第2銅、塩化マンガン、塩化第2白金、四塩化タングステン、オキシ二塩化タングステン、タングステン酸カリウム、塩化第2金、塩化亜鉛等の各種の金属塩が例示できる。また、水酸化インジウム、ケイタングステン等の水酸化物または酸化物等も使用可能である。 As the above-mentioned conductor, metal salts of some metals can also be used. Specifically, aluminum chloride, 1st and 2nd tin chloride, chromium chloride, nickel chloride, 1st and 2nd antimony chloride, 1st and 2nd iron chloride, silver nitrate, cesium chloride, indium trichloride, selenium tetrachloride. , Secondary copper chloride, manganese chloride, second platinum chloride, tungsten tetrachloride, tungsten oxydichloride, potassium tungstate, ferric chloride, zinc chloride and various other metal salts can be exemplified. Further, hydroxides or oxides such as indium hydroxide and silica tungsten can also be used.
さらに、上記した導電体としては、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリチオフェンビニロン、ポリイソチアナフテン、ポリアセチレン、ポリアルキルピロール、ポリアルキルチオフェン、ポリ-p-フェニレン、ポリフェニレンビニロン、ポリメトキシフェニレン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキシド、ポリアントラセン、ポリナフタレン、ポリピレン、ポリアズレン等の導電性高分子も使用可能である。 Further, as the above-mentioned conductors, polyaniline, polypyrrole, polythiophene, polythiophene vinylone, polyisothianaphene, polyacetylene, polyalkylpyrrole, polyalkylthiophene, poly-p-phenylene, polyphenylene sulfide, polymethoxyphenylene, polyphenylene sulfide, etc. Conductive polymers such as polyphenylene oxide, polyanthracene, polynaphthalene, polypyrene, and polyazulen can also be used.
正電荷を形成するための導電体との複合体を構成する半導体としては、例えば、C、Si、Ge、Sn、GaAs、InP、GaN、ZeSe、PbSnTe等があり、半導体酸化金属や光半導体金属、光半導体酸化金属も使用可能である。好ましくは、酸化チタン(TiO2)の他に、ZnO、SrTiOP3、CdS、CdO、CaP、InP、In2O3、CaAs、BaTiO3、K2NbO3、Fe2O3、Ta2O3、WO3、NiO、Cu2O、SiC、SiO2、MoS3、InSb、RuO2、CeO2等が使用されるが、半導体として使用する場合は、Na等で光触媒能を不活性化したものが好ましい。 Examples of semiconductors constituting a composite with a conductor for forming a positive charge include C, Si, Ge, Sn, GaAs, InP, GaN, ZeSe, PbSnTe, and the like, and are semiconductor oxide metals and opto-semiconductor metals. , Photo-semiconductor metal oxide can also be used. Preferably, in addition to titanium oxide (TiO 2 ), ZnO, SrTiOP 3 , CdS, CdO, CaP, InP, In 2 O 3 , CaAs, BaTiO 3 , K 2 NbO 3 , Fe 2 O 3 , Ta 2 O 3 , WO 3 , NiO, Cu 2 O, SiC, SiO 2 , MoS 3 , InSb, RuO 2 , CeO 2 , etc., but when used as a semiconductor, the photocatalytic activity is inactivated with Na etc. Is preferable.
正電荷を形成するための導電体との複合体を構成する誘電体としては、強誘電体であるチタン酸バリウム(PZT)いわゆるSBT、BLTや次に挙げるPZT、PLZT-(Pb、La)(Zr、Ti)O3、SBT、SBTN-SrBi2(Ta、Nb)2O9、BST-(Ba、Sr)TiO3、LSCO-(La、Sr)CoO3、BLT、BIT-(Bi、La)4Ti3O12、BSO-Bi2SiO5等の複合金属が使用可能である。また、有機ケイ素化合物であるシラン化合物、シリコーン化合物、いわゆる有機編成シリカ化合物も、使用可能である。 Examples of the dielectric constituting the composite with the conductor for forming a positive charge include barium titanate (PZT), which is a strong dielectric, so-called SBT, BLT, and the following PZT, PLZT- (Pb, La) (. Zr, Ti) O 3 , SBT, SBTN-SrBi 2 (Ta, Nb) 2 O 9 , BST- (Ba, Sr) TiO 3 , LSCO- (La, Sr) CoO 3 , BLT, BIT- (Bi, La) ) 4 Ti 3 O 12 , BSO-Bi 2 SiO 5 and other composite metals can be used. Further, a silane compound and a silicone compound, which are organosilicon compounds, so-called organoknitted silica compounds can also be used.
負電荷性能を有する負電荷物質23としては、陰イオン、負電荷を有する導電体、負電荷を有する誘電体、負電荷を有する導電体および誘電体の複合体、負電荷を有する導電体および半導体の複合体、光触媒機能を有する物質、からなる群から選択される1種または2種以上のものを使用することができる。
The negatively charged
上記陰イオンとしては、特に限定されるものではないが、フッ素化物イオン、塩化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲン化物イオン;水酸化物イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、炭酸イオン等の無機系イオン:酢酸イオン等の有機系イオンが挙げられる。イオンの価数も特に限定されるものではなく、例えば、1~4価の陰イオンが使用可能である。 The anion is not particularly limited, but is a halide ion such as a fluoride ion, a chloride ion, and an iodide ion; an inorganic ion such as a hydroxide ion, a sulfate ion, a nitrate ion, and a carbonate ion. : Organic ions such as acetate ion can be mentioned. The valence of the ion is not particularly limited, and for example, 1 to 4 valent anions can be used.
負電荷を有する導電体または誘電体としては、上記した陰イオン以外の、負電荷が発生した導電体または誘電体を挙げることができ、例えば、金、銀、白金、錫、ニッケル、セリウム、セレン等の金属;金属酸化物および無機物質;石墨、硫黄、セレン、テルル等の元素;硫化ヒ素、硫化アンチモン、硫化水銀等の硫化物;コンジョウ、インジゴ、アニリンブルー、エオシン、ナフトールイエロー等の染料のコロイドが挙げられる。これらの中でも金、銀、白金、錫、ニッケル、セリウム等の金属、および金属酸化物のコロイドが好ましく、特に錫コロイドがより好ましい。この他に、後述する各種の導電体からなる電池の負電極、並びに、負に帯電したハロゲン、フッ素樹脂、塩化ビニル、ポリエチレン、ポリエステル等の誘電体、並びに、これらの化合物および複合体が挙げられる。 Examples of the negatively charged conductor or dielectric include conductors or dielectrics in which a negative charge is generated other than the above-mentioned anions, and examples thereof include gold, silver, platinum, tin, nickel, cerium, and selenium. Metals such as; metal oxides and inorganic substances; elements such as stone ink, sulfur, selenium, tellurium; sulfides such as arsenic sulfide, antimony sulfide, mercury sulfide ; dyes such as konjo , indigo, aniline blue, eosin, naphthol yellow, etc. Colloid of. Among these, metals such as gold, silver, platinum, tin, nickel and cerium, and colloids of metal oxides are preferable, and tin colloids are more preferable. In addition to this, negative electrodes of batteries made of various conductors described later, dielectrics such as negatively charged halogens, fluororesins, vinyl chloride, polyethylene and polyester, and compounds and composites thereof can be mentioned. ..
本発明において使用する負電荷を有する導電体は、耐久性の点から金属が望ましく、錫、セリウム、セレン、銀、白金、タングステン、ニッケル等の金属が挙げられる。又、これらの金属の酸化物や複合体またはおよび合金も使用することができる。導電体の形状は特に限定されるものではなく、粒子状、薄片状、繊維状等の任意の形状をとることができる。 The conductor having a negative charge used in the present invention is preferably a metal from the viewpoint of durability, and examples thereof include metals such as tin, cerium, selenium, silver, platinum, tungsten, and nickel. Also, oxides, complexes or alloys of these metals can be used. The shape of the conductor is not particularly limited, and can be any shape such as a particle shape, a flaky shape, and a fibrous shape.
上記した負電荷を有する導電体としては、一部の金属の金属塩も使用可能である。具体的には、塩化第1および第2錫、硝酸銀、塩化第1セリウム、四塩化セレン、塩化第2白金、塩化第2金、塩化ニッケル等の各種金属塩が例示できる、また、水酸化インジウム、ケイタングステン酸等の水酸化物または酸化物等も使用可能である。 As the above-mentioned conductor having a negative charge, a metal salt of some metals can also be used. Specific examples thereof include various metal salts such as 1st and 2nd tin chloride, silver nitrate, 1st cerium chloride, selenium tetrachloride, 2nd platinum chloride, 2nd gold chloride and nickel chloride, and indium hydroxide. , Hydroxides such as silicotoxy, or oxides and the like can also be used.
さらに、上記した負電荷を有する導電体としては、導電性高分子も使用可能であり、例えば、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリチオフェンビニロン、ポリイソチアナフテン、ポリアセチレン、ポリアルキルピロール、ポリアルキルチオフェン、ポリ-p-フェニレン、ポリフェニレンビニロン、ポリメトキシフェニレン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキシド、ポリアントラセン、ポリナフタレン、ポリピレン、ポリアズレン等が挙げられる。 Further, as the above-mentioned conductor having a negative charge, a conductive polymer can also be used, for example, polyaniline, polypyrrole, polythiophene, polythiophene sulfide, polyisothianaften, polyacetylene, polyalkylpyrrole, polyalkylthiophene, poly. -P-Phenylene, polyphenylene viniron, polymethoxyphenylene, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyanthracene, polynaphthalene, polypyrene, polyazulen and the like can be mentioned.
負電荷を形成するための導電体との複合体を構成する半導体としては、例えば、C、Si、Ge、Sn、GaAs、InP、GaN、ZeSe、PbSnTe等があり、半導体酸化金属や光半導体金属、光半導体酸化金属も使用可能である。これらの半導体中、好ましくは、酸化チタン(TiO2)の他に、ZnO、SrTiOP3、CdS、CdO、CaP、InP、In2O3、CaAs、BaTiO3、K2NbO3、Fe2O3、Ta2O3、WO3、NiO、Cu2O、SiC、SiO2、MoS3、InSb、RuO2、CeO2等が使用されるが、半導体として使用する場合は、Na等で光触媒能を不活性化したものが好ましい。 Examples of semiconductors constituting a composite with a conductor for forming a negative charge include C, Si, Ge, Sn, GaAs, InP, GaN, ZeSe, PbSnTe, and the like, and are semiconductor oxide metals and opto-semiconductor metals. , Photo-semiconductor metal oxide can also be used. Among these semiconductors, preferably, in addition to titanium oxide (TiO 2 ), ZnO, SrTiOP 3 , CdS, CdO, CaP, InP, In 2 O 3 , CaAs, Bathio 3 , K 2 NbO 3 , Fe 2 O 3 , Ta 2 O 3 , WO 3 , NiO, Cu 2 O, SiC, SiO 2 , MoS 3 , InSb, RuO 2 , CeO 2 , etc., but when used as a semiconductor, photocatalytic activity is achieved with Na etc. Inactivated ones are preferred.
負電荷を形成するための導電体との複合体を構成する誘電体としては、強誘電体であるチタン酸バリウム(PZT)いわゆるSBT、BLTや次に挙げるPZT、PLZT-(Pb、La)(Zr、Ti)O3、SBT、SBTN-SrBi2(Ta、Nb)2O9、BST-(Ba、Sr)TiO3、LSCO-(La、Sr)CoO3、BLT、BIT-(Bi、La)4Ti3O12、BSO-Bi2SiO5等の複合金属が使用可能である。また、有機ケイ素化合物であるシラン化合物、シリコーン化合物、いわゆる有機編成シリカ化合物、また、有機ポリマー絶縁膜アリレンエーテル系ポリマー、ベンゾシクロブテン、フッ素系ポリマーパリレンN、またはF、フッ素化アモルファス炭素等の各種低誘電材料も使用可能である。 Examples of the dielectric constituting the composite with the conductor for forming a negative charge include barium titanate (PZT), which is a strong dielectric, so-called SBT, BLT, and the following PZT, PLZT- (Pb, La) ( Zr, Ti) O 3 , SBT, SBTN-SrBi 2 (Ta, Nb) 2 O 9 , BST- (Ba, Sr) TiO 3 , LSCO- (La, Sr) CoO 3 , BLT, BIT- (Bi, La) ) 4 Ti 3 O 12 , BSO-Bi 2 SiO 5 and other composite metals can be used. Further, silane compounds and silicone compounds which are organic silicon compounds, so-called organic knitting silica compounds, organic polymer insulating films, allylene ether-based polymers, benzocyclobutene, fluoropolymer parylene N, F, fluorinated amorphous carbon and the like. Various low dielectric materials can also be used.
光触媒機能を有する物質としては、特定の金属化合物を含んでおり、光励起により当該層表面の有機及び/又は無機化合物を酸化分解する機能を有するものを使用することができる。光触媒の原理は、特定の金属化合物が光励起により、空気中の水又は酸素からOH-やO2-のラジカル種を発生させ、このラジカル種が有機及び/又は無機化合物を酸化還元分解することであると一般的に理解されている。 As the substance having a photocatalytic function, a substance containing a specific metal compound and having a function of oxidatively decomposing the organic and / or inorganic compound on the surface of the layer by photoexcitation can be used. The principle of photocatalyst is that a specific metal compound generates OH- and O 2 -radical species from water or oxygen in the air by photoexcitation, and these radical species oxidatively decompose organic and / or inorganic compounds. It is generally understood that there is.
前記金属化合物としては、代表的な酸化チタン(TiO2)の他、ZnO、SrTiOP3、CdS、CdO、CaP、InP、In2O3、CaAs、BaTiO3、K2NbO3、Fe2O3、Ta2O5、WO3、NiO、Cu2O、SiC、SiO2、MoS3、InSb、RuO2、CeO2等が知られている。 Examples of the metal compound include typical titanium oxide (TIM 2 ), ZnO, SrTiOP 3 , CdS, CdO, CaP, InP, In 2 O 3 , CaAs, Bathio 3 , K 2 NbO 3 , and Fe 2 O 3 . , Ta 2 O 5 , WO 3 , NiO, Cu 2 O, SiC, SiO 2 , MoS 3 , InSb, RuO 2 , CeO 2 and the like are known.
光触媒機能を有する物質は光触媒性能が向上する金属(Ag、Pt)を含んでいてもよい。また、金属塩等の各種物質を、光触媒機能を失活させない程度の範囲で含むことできる。前記金属塩としては、例えば、アルミニウム、錫、クロム、ニッケル、アンチモン、鉄、銀、セシウム、インジウム、セリウム、セレン、銅、マンガン、カルシウム、白金、タングステン、ジルコニウム、亜鉛等の金属塩があり、それ以外にも一部の金属或いは非金属等については水酸化物又は酸化物も使用可能である。具体的には、塩化アルミニウム、塩化第一及び第二錫、塩化クロム、塩化ニッケル、塩化第一及び第二アンチモン、塩化第一及び第二鉄、硝酸銀、塩化セシウム、三塩化インジウム、塩化第一セリウム、四塩化セレン、塩化第二銅、塩化マンガン、塩化カルシウム、塩化第二白金、四塩化タングステン、オキシ二塩化タングステン、タングステン酸カリウム、塩化第二金、オキシ塩化ジルコニウム、塩化亜鉛等の各種金属塩が例示できる。また、金属塩以外の化合物としては、水酸化インジウム、ケイタングステン酸、シリカゾル、水酸化カルシウム等が例示できる。 The substance having a photocatalytic function may contain a metal (Ag, Pt) that improves the photocatalytic performance. Further, various substances such as metal salts can be contained within a range that does not deactivate the photocatalytic function. Examples of the metal salt include metal salts such as aluminum, tin, chromium, nickel, antimony, iron, silver, cesium, indium, cerium, selenium, copper, manganese, calcium, platinum, tungsten, zirconium, and zinc. In addition, hydroxides or oxides can be used for some metals or non-metals. Specifically, aluminum chloride, first and second tin chloride, chromium chloride, nickel chloride, first and second antimony chloride, first and second iron chloride, silver nitrate, cesium chloride, indium trichloride, first chloride. Various metals such as cerium, selenium tetrachloride, cupric chloride, manganese chloride, calcium chloride, basal platinum chloride, tungsten tetrachloride, tungsten oxydichloride, potassium tungstate, ferric chloride, zirconium oxychloride, zinc chloride, etc. A salt can be exemplified. Examples of the compound other than the metal salt include indium hydroxide, silicotungstic acid, silica sol, calcium hydroxide and the like.
前記の光触媒機能を有する物質は、励起状態においてはその物質表面の物理的吸着水や酸素からOH-(水酸化ラジカル)、O2-(酸素化ラジカル)を吸着させて、その表面は陰イオンの特性を有しているが、そこに正電荷物質を共存させると、その濃度比に合せて、いわゆる光触媒活性は低下もしくは喪失する。しかし、本発明では、光触媒機能を有する物質が汚染物質に対して酸化分解作用をする必要はないので、負電荷物質として使用できる。そして、正電荷物質を共存させることにより、光触媒機能を有する物質のバインダー(典型的には無機系高分子及び有機系高分子)の酸化分解による劣化を回避することができる。したがって、光触媒機能を有する物質をバインダーによって固定して使用する場合であっても、正電荷物質と共存させることにより、当該バインダーの劣化を抑制しつつ正・負両方の電荷特性による防汚機能を発現させることができる。 In the excited state, the above-mentioned substance having a photocatalytic function adsorbs OH- (hydroxide radical) and O 2- (oxygenation radical) from the physically adsorbed water and oxygen on the surface of the substance, and the surface thereof is an anion. However, when a positively charged substance coexists there, the so-called photocatalytic activity decreases or is lost according to the concentration ratio. However, in the present invention, since the substance having a photocatalytic function does not need to have an oxidative decomposition action on the pollutant, it can be used as a negatively charged substance. By coexisting a positively charged substance, deterioration of the binder (typically, an inorganic polymer and an organic polymer) of the substance having a photocatalytic function due to oxidative decomposition can be avoided. Therefore, even when a substance having a photocatalytic function is fixed with a binder and used, by coexisting with the positively charged substance, the deterioration of the binder can be suppressed and the antifouling function due to both positive and negative charge characteristics can be obtained. Can be expressed.
第二組成物における上記正電荷物質22と負電荷物質23との配合量は、第一組成物における撥水/撥油性物質21の配合量を考慮して調製される。
The blending amount of the positively charged
例えば、正電荷の電荷特性を有する物質および負電荷の電荷特性を有する物質の両方の物質が基体1に付着するのを防止したい場合、第二組成物における正電荷物質22と負電荷物質23との配合量は、第二組成物における正電荷物質22の正電荷量と、第一組成物における撥水/撥油性物質21の負電荷量および第二組成物における負電荷物質23の負電荷量の合計の負電荷量とが、均衡していることが好ましく、具体的には、基体1に塗布後に形成される保護膜2における帯電圧が-50Vから+50Vの範囲内となるように調製されることが好適である。
For example, when it is desired to prevent both a substance having a positive charge characteristic and a substance having a negative charge characteristic from adhering to the
正電荷の電荷特性を有する物質が基体1に付着するのを防止したい場合、第二組成物における正電荷物質22と負電荷物質23との配合量は、第二組成物における正電荷物質22の正電荷量よりも、第一組成物における撥水/撥油性物質21の負電荷量および第二組成物における負電荷物質23の負電荷量の合計の負電荷量が、過剰に大きいことが好ましく、具体的には、基体1に塗布後に形成される保護膜2における帯電圧が負電荷の帯電圧となるように調製されることが好適である。
When it is desired to prevent a substance having a positive charge characteristic from adhering to the
負電荷の電荷特性を有する物質が基体1に付着するのを防止したい場合、第二組成物における正電荷物質22と負電荷物質23との配合量は、第二組成物における正電荷物質22の正電荷量よりも、第一組成物における撥水/撥油性物質21の負電荷量および第二組成物における負電荷物質23の負電荷量の合計の負電荷量が、過剰に小さいことが好ましく、具体的には、基体1に塗布後に形成される保護膜2における帯電圧が正電荷の帯電圧となるように調製されることが好適である。
When it is desired to prevent a substance having a negative charge characteristic from adhering to the
上記した第一組成物と第二組成物とは、両組成物を溶媒に溶解した状態または分散した状態とした1液型の基体保護液であっても良いし、第一組成物と第二組成物とをそれぞれ溶媒に溶解した状態または分散した状態として2つの溶液を用意しておき、使用時に両溶液を混合する2液型の基体保護液であってもよい。この際、第一組成物および第二組成物に使用される溶媒としては、基体保護液として均一な保護膜を形成することができるものであれば、特に限定されるものではない。ただし、第一組成物を溶解または分散した溶液と、第二組成物を溶解または分散した溶液とを混合する場合は、これら2つの溶液の溶媒は、相溶性を有する溶媒であればよい。例えば、一方の溶液が「水」または「水+アルコール」を溶媒とする場合には、他方の溶液は「アルコール」または「アルコール+溶剤系分散剤」を溶媒とすることが出来る。具体的な溶媒としては、プロトン性極性溶媒、非プロトン性非極性溶媒、非プロトン性極性溶媒など各種溶媒を用いることができる。プロトン性極性溶媒としては例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノールなどが使用できる。非プロトン性非極性溶媒としては例えばトルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、ベンジルアルコールなどが使用できる。非プロトン性極性溶媒としてはアセトン、2-ブタノン、4-メチル-2-ペンタノン、アセトニトリル、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、N-N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロロホルムなどが使用できる。 The above-mentioned first composition and second composition may be a one-component substrate protective liquid in which both compositions are dissolved or dispersed in a solvent, or the first composition and the second composition may be used. It may be a two-component substrate protective liquid in which two solutions are prepared in a state where the composition is dissolved or dispersed in a solvent, and both solutions are mixed at the time of use. At this time, the solvent used in the first composition and the second composition is not particularly limited as long as it can form a uniform protective film as the substrate protective liquid. However, when the solution in which the first composition is dissolved or dispersed and the solution in which the second composition is dissolved or dispersed are mixed, the solvent of these two solutions may be a solvent having compatibility. For example, when one solution uses "water" or "water + alcohol" as a solvent, the other solution can use "alcohol" or "alcohol + solvent-based dispersant" as a solvent. As a specific solvent, various solvents such as a protic and aprotic polar solvent, an aprotic non-polar solvent, and an aprotic polar solvent can be used. As the protonic polar solvent, for example, water, methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol and the like can be used. As the aprotic non-polar solvent, for example, toluene, xylene, hexane, cyclohexane, benzene, benzyl alcohol and the like can be used. As the aprotonic polar solvent, acetone, 2-butanone, 4-methyl-2-pentanone, acetonitrile, ethyl acetate, tetrahydrofuran, NN-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, chloroform and the like can be used.
なお、第二組成物には、正電荷物質22と負電荷物質23との両方が入っているが、基体1に塗布後に形成される保護膜2における帯電圧を上記したように均衡状態、負電荷状態、正電荷状態にそれぞれ調製できるのであれば、負電荷物質23が入っていないものであってもよい。この場合、第二組成物における正電荷物質22の配合量は、当該第二組成物の正電荷物質22の正電荷量と、第一組成物の撥水/撥油性物質21の負電荷量が、それぞれ上記したように、均衡状態、負電荷状態、正電荷状態となるように、それぞれ調製される。
Although both the positively charged
このようにして構成される基体保護液は、基体1の表面に塗布することによって使用される。
The substrate protective liquid thus constructed is used by applying it to the surface of the
塗布方法としては、例えば、上記基体保護液に、基体1を浸漬してディップコーティングを行うものであってもよいし、当該基体保護液を、基体1上にスプレーコート、ロールコート、刷毛塗り、スポンジ塗り、スピンコーティング等で塗布するものであってもよい。塗布後は、乾燥する工程を少なくとも1回行うことによって、基体1の表面に、保護膜2を形成することができる。
As a coating method, for example, the
本発明の対象となる基体1としては、特に限定されるものではなく、各種の、親水性または疎水性の無機系基体および有機系基体、或いは、それらの組み合わせを使用することができる。
The
無機系基体としては、例えば、ソーダライムガラス等の透明または不透明ガラス、ジルコニア等の金属酸化物、セラミックス、コンクリート、モルタル、石材、金属等の物質からなる基体が挙げられる。また、有機系基体としては、例えば、有機樹脂、木材、紙等の物質からなる基体が挙げられる。有機樹脂をより具体的に例示すると、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ボリカーボネート、アクリル樹脂、PET等のポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ABS樹脂、ポリ塩化ビニル、シリコーン、メラミン樹脂、尿素樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、セルロース、エポキシ変性樹脂等が挙げられる。 Examples of the inorganic substrate include transparent or opaque glass such as soda lime glass, metal oxides such as zirconia, and substrates made of substances such as ceramics, concrete, mortar, stone, and metal. Examples of the organic substrate include a substrate made of a substance such as an organic resin, wood, and paper. More specifically, examples of organic resins include polyethylene, polypropylene, polyvinyl carbonate, acrylic resin, PET and other polyesters, polyamides, polyurethanes, ABS resins, polyvinyl chlorides, silicones, melamine resins, urea resins, silicone resins, and fluorine. Examples thereof include resins, celluloses, and epoxy-modified resins.
基体1の形状は特に限定されるものではなく、立方体、直方体、球形、シート形、繊維状等の任意の形状をとることができる。なお、基体は多孔質であってもよい。
The shape of the
基体1の表面はコロナ放電処理または紫外線照射処理等によって親水性化されていてもよい。基体1としては、建築・土木用基板またはシーリング材や、機器、装置搬送用ボディ、表示画面が好適である。
The surface of the
基体1の表面は塗装されていてもよく、塗装材としては、アルキド樹脂、アクリル樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリルシリコン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、紫外線硬化樹脂、フェノール樹脂、塩化ビニル樹脂、含成樹脂エマルジョン等の合成樹脂と着色剤とを含有するいわゆるペンキ塗料を好適に使用することができる。
The surface of the
このようにして基体1の表面に基体保護液を塗布することで、図1に示すように、基体1の表面には、撥水/撥油性物質21と、正電荷物質22と、負電荷物質23と、とによる保護膜2が形成されることとなる。また、第二組成物に負電荷物質23が入っていない基体保護液を塗布した場合、図2に示すように、基体1の表面には、撥水/撥油性物質21と、正電荷物質22ととによる保護膜2が形成されることとなる。
By applying the substrate protective liquid to the surface of the
基体1に、正電荷量と負電荷量とが、均衡している基体保護液を塗布して保護膜2を形成した場合、当該保護膜2は、撥水効果およびまたは撥油効果に加えて、防汚効果を発揮することができることとなる。
When a substrate protective liquid in which a positive charge amount and a negative charge amount are balanced is applied to the
基体1に、正電荷量よりも負電荷量が、過剰に大きい基体保護液を塗布して保護膜2を形成した場合、当該保護膜2は、撥水効果およびまたは撥油効果に加えて、負電荷の電荷特性を有する物質が基体1に付着することを防止することができることとなる。
When the
基体1に、正電荷量よりも負電荷量が、過剰に小さい基体保護液を塗布して保護膜2を形成した場合、当該保護膜2は、撥水効果およびまたは撥油効果に加えて、正電荷の電荷特性を有する物質が基体1に付着することを防止することができることとなる。
When the
[実施例1]
-第二組成物の調製-
正電荷物質および負電荷物質を含有する第二組成物として、サスティナブル・テクノロジー株式会社製のものを用いた。具体的には、銅ドープアナターゼ型過酸化チタン、カリウムドープポリシリケートがそれぞれ全量中に0.18wt%,0.70wt%の割合で混合されたものを正電荷物質および負電荷物質を含有する第二組成物として用いた。
[Example 1]
-Preparation of the second composition-
As the second composition containing a positively charged substance and a negatively charged substance, one manufactured by Sustainable Technology Co., Ltd. was used. Specifically, copper-doped anatase-type titanium peroxide and potassium-doped polysilicate are mixed in the total amount at a ratio of 0.18 wt% and 0.70 wt%, respectively, and contain a positively charged substance and a negatively charged substance. (2) Used as a composition.
-第一組成物の調製-
撥水基としてメチル基を用い、当該メチル基を修飾するための材料としてメチルトリメトキシシランを使用して第一組成物を調製した。具体的には、純水、アルコール、メチルトリメトキシシランをそれぞれ7wt%,77wt%、16wt%の比率で触媒を添加した状態で混合した。触媒は酢酸を用い、溶液のpHが3-4の間になるように調整した。混合溶液の反応が終わるまで12時間静置し、撥水基を、ケイ素に修飾させた撥水性負電荷物質を含有する第一組成物を得た。
-Preparation of the first composition-
A first composition was prepared using a methyl group as a water-repellent group and methyltrimethoxysilane as a material for modifying the methyl group. Specifically, pure water, alcohol, and methyltrimethoxysilane were mixed at 7 wt%, 77 wt%, and 16 wt%, respectively, with the catalyst added. Acetic acid was used as the catalyst, and the pH of the solution was adjusted to be between 3-4. The mixture was allowed to stand for 12 hours until the reaction of the mixed solution was completed to obtain a first composition containing a water-repellent negatively charged substance in which the water-repellent group was modified to silicon.
-基体保護液による保護膜の形成-
上記第一組成物と第二組成物とからなる基体保護液を用意した。
第一組成物と第二組成物とを5:100の質量割合で混合し、スキージ法により、100mm×100mmのガラス基板(フロートガラス)の表面上に、形成後の厚みが100nmとなるように塗布した。塗膜は、200℃で15分硬化させることにより、ガラス基板(基体)の表面上に保護膜として形成した。
-Formation of protective film with substrate protective liquid-
A substrate protective liquid composed of the first composition and the second composition was prepared.
The first composition and the second composition are mixed at a mass ratio of 5: 100, and the thickness after formation is 100 nm on the surface of a glass substrate (float glass) of 100 mm × 100 mm by the squeegee method. Applied. The coating film was formed as a protective film on the surface of the glass substrate (base) by curing at 200 ° C. for 15 minutes.
[実施例2]
-第一組成物の調製-
撥水基としてプロピル基を用い、当該プロピル基を修飾するための材料としてヘキシルトリメトキシシランを使用して第一組成物を調製した。具体的には、純水、アルコール、ヘキシルトリメトキシシランをそれぞれ7wt%,77wt%、16wt%の比率で触媒を添加した状態で混合した。触媒は酢酸を用い、溶液のpHが3-4の間になるように調整した。混合溶液の反応が終わるまで12時間静置し、撥水基を、ケイ素に修飾させた撥水性負電荷物質を含有する第一組成物を得た。
[Example 2]
-Preparation of the first composition-
A first composition was prepared using a propyl group as a water repellent group and hexyltrimethoxysilane as a material for modifying the propyl group. Specifically, pure water, alcohol, and hexyltrimethoxysilane were mixed at 7 wt%, 77 wt%, and 16 wt%, respectively, with the catalyst added. Acetic acid was used as the catalyst, and the pH of the solution was adjusted to be between 3-4. The mixture was allowed to stand for 12 hours until the reaction of the mixed solution was completed to obtain a first composition containing a water-repellent negatively charged substance in which the water-repellent group was modified to silicon.
-第二組成物の調製-
上記実施例1と同じ第二組成物を使用した。
-Preparation of the second composition-
The same second composition as in Example 1 was used.
-基体保護液による保護膜の形成-
第一組成物と第二組成物とを5:100の質量割合で混合し、以降は上記実施例1と同様の方法で、ガラス基板(基体)の表面上に厚みが100nmの保護膜を形成した。
-Formation of protective film with substrate protective liquid-
The first composition and the second composition are mixed at a mass ratio of 5: 100, and thereafter, a protective film having a thickness of 100 nm is formed on the surface of the glass substrate (base) by the same method as in Example 1 above. did.
[実施例3]
-第一組成物の調製-
撥水基としてフルオロアルキル基を用い、当該フルオロアルキル基を修飾するための材料として1H,1H,2H,2H-ノナフルオロヘキシルトリメトキシシランを使用して第一組成物を調製した。具体的には、純水、アルコール、1H,1H,2H,2H-ノナフルオロヘキシルトリメトキシシランをそれぞれ7wt%,77wt%、16wt%の比率で触媒を添加した状態で混合した。触媒は酢酸を用い、溶液のpHが3-4の間になるように調整した。混合溶液の反応が終わるまで12時間静置し、撥水基を、ケイ素に修飾させた撥水性負電荷物質を含有する第一組成物を得た。
[Example 3]
-Preparation of the first composition-
A first composition was prepared using a fluoroalkyl group as the water repellent group and 1H, 1H, 2H, 2H-nonafluorohexyltrimethoxysilane as a material for modifying the fluoroalkyl group. Specifically, pure water, alcohol, 1H, 1H, 2H, and 2H-nonafluorohexyltrimethoxysilane were mixed at 7 wt%, 77 wt%, and 16 wt%, respectively, with the catalyst added. Acetic acid was used as the catalyst, and the pH of the solution was adjusted to be between 3-4. The mixture was allowed to stand for 12 hours until the reaction of the mixed solution was completed to obtain a first composition containing a water-repellent negatively charged substance in which the water-repellent group was modified to silicon.
-第二組成物の調製-
上記実施例1と同じ第二組成物を使用した。
-Preparation of the second composition-
The same second composition as in Example 1 was used.
-基体保護液による保護膜の形成-
第一組成物と第二組成物とを5:100の質量割合で混合し、以降は上記実施例1と同様の方法で、ガラス基板(基体)の表面上に厚みが100nmの保護膜を形成した。
-Formation of protective film with substrate protective liquid-
The first composition and the second composition are mixed at a mass ratio of 5: 100, and thereafter, a protective film having a thickness of 100 nm is formed on the surface of the glass substrate (base) by the same method as in Example 1 above. did.
[実施例4]
-第一組成物の調製-
上記実施例1と同じ第一組成物を使用した。
[Example 4]
-Preparation of the first composition-
The same first composition as in Example 1 was used.
-第二組成物の調製-
負電荷物質を含まず、正電荷物質を含有する第二組成物として、サスティナブル・テクノロジー株式会社製のものを用いた。具体的には、銅ドープアナターゼ型過酸化チタン、ポリシリケートがそれぞれ全量中に0.18wt%,0.70wt%の割合で混合されたものを正電荷物質を含有する第二組成物として用いた。
-Preparation of the second composition-
As the second composition containing a positively charged substance without containing a negatively charged substance, a composition manufactured by Sustainable Technology Co., Ltd. was used. Specifically, a mixture of copper-doped anatase-type titanium peroxide and polysilicate in the total amount of 0.18 wt% and 0.70 wt%, respectively, was used as the second composition containing a positively charged substance. ..
-基体保護液による保護膜の形成-
第一組成物と第二組成物とを5:100の質量割合で混合し、以降は上記実施例1と同様の方法で、ガラス基板(基体)の表面上に厚みが100nmの保護膜を形成した。
-Formation of protective film with substrate protective liquid-
The first composition and the second composition are mixed at a mass ratio of 5: 100, and thereafter, a protective film having a thickness of 100 nm is formed on the surface of the glass substrate (base) by the same method as in Example 1 above. did.
[実施例5]
-第一組成物の調製-
上記実施例1と同じ第一組成物を使用した。
[Example 5]
-Preparation of the first composition-
The same first composition as in Example 1 was used.
-第二組成物の調製-
負電荷物質を含まず、正電荷物質を含有する第二組成物として、サスティナブル・テクノロジー株式会社製のものを用いた。具体的には、銅ドープアナターゼ型過酸化チタン、カリウムドープポリシリケートがそれぞれ全量中に0.18wt%,0.70wt%の割合で混合されたものを正電荷物質を含有する第二組成物として用いた。
-Preparation of the second composition-
As the second composition containing a positively charged substance without containing a negatively charged substance, a composition manufactured by Sustainable Technology Co., Ltd. was used. Specifically, a second composition containing a positively charged substance obtained by mixing copper-doped anatase-type titanium peroxide and potassium-doped polysilicate in the total amount at a ratio of 0.18 wt% and 0.70 wt%, respectively. Using.
-基体保護液による保護膜の形成-
第一組成物と第二組成物とを5:100の質量割合で混合し、以降は上記実施例1と同様の方法で、ガラス基板(基体)の表面上に厚みが100nmの保護膜を形成した。
-Formation of protective film with substrate protective liquid-
The first composition and the second composition are mixed at a mass ratio of 5: 100, and thereafter, a protective film having a thickness of 100 nm is formed on the surface of the glass substrate (base) by the same method as in Example 1 above. did.
[比較例1]
-基体保護液の調製-
正電荷物質および負電荷物質を含有する溶液として、サスティナブル・テクノロジー株式会社製のものを用いた。具体的には、銅ドープアナターゼ型過酸化チタン、錫ドープアナターゼ型過酸化チタン、Zrドープアナターゼ型過酸化チタン、カリウムドープポリシリケートがそれぞれ全量中に0.06wt%,0.06wt%,0.06wt%,0.70wt%の割合で混合されたものを正電荷物質および負電荷物質を含有する基体保護液として調製した。
[Comparative Example 1]
-Preparation of substrate protective solution-
As a solution containing a positively charged substance and a negatively charged substance, a solution manufactured by Sustainable Technology Co., Ltd. was used. Specifically, copper-doped anatase-type titanium peroxide, tin-doped anatase-type titanium peroxide, Zr-doped anatase-type titanium peroxide, and potassium-doped polysilicate are 0.06 wt%, 0.06 wt%, and 0. A mixture of 06 wt% and 0.70 wt% was prepared as a substrate protective solution containing a positively charged substance and a negatively charged substance.
-基体保護液による保護膜の形成-
上記基体保護液を上記実施例1と同様の方法で塗布し、ガラス基板(基体)の表面上に厚みが100nmの保護膜を形成した。
-Formation of protective film with substrate protective liquid-
The substrate protective liquid was applied in the same manner as in Example 1 to form a protective film having a thickness of 100 nm on the surface of the glass substrate (base).
[比較例2]
-基体保護液の調製-
実施例1の第二組成物を基体保護液として使用した。
[Comparative Example 2]
-Preparation of substrate protective solution-
The second composition of Example 1 was used as a substrate protective liquid.
-基体保護液と蒸着による保護膜の形成-
まず、上記基体保護液を上記実施例1と同様の方法で塗布し、ガラス基板(基体)の表面上に厚みが100nmの両性電荷膜を形成した。
-Formation of protective film by substrate protective liquid and thin film deposition-
First, the substrate protective liquid was applied in the same manner as in Example 1 to form an amphoteric charge film having a thickness of 100 nm on the surface of the glass substrate (base).
上記両性電荷膜を形成したガラス板と、メチルトリメトキシシラン0.5mlとを密閉容器内に収容し、その密閉容器を真空加熱炉内に配置した。そして、炉内圧力0.1kPa以下の減圧雰囲気下において170℃で2時間加熱することにより、両性電荷膜の表面上にメチル基を吸着させて、自己組織化単分子膜(SAM)を形成し、これら2層の膜によって形成された膜全体を保護膜とした。 The glass plate on which the amphoteric charge film was formed and 0.5 ml of methyltrimethoxysilane were housed in a closed container, and the closed container was placed in a vacuum heating furnace. Then, by heating at 170 ° C. for 2 hours in a reduced pressure atmosphere with a furnace pressure of 0.1 kPa or less, a methyl group is adsorbed on the surface of the amphoteric charge film to form a self-assembled monolayer (SAM). The entire film formed by these two layers of film was used as a protective film.
[比較例3]
未処理のガラス基板を比較例3とする。
[Comparative Example 3]
The untreated glass substrate is referred to as Comparative Example 3.
[評価]
上記実施例1-5,比較例1-3のそれぞれのサンプルについて以下の評価を実施した。
[evaluation]
The following evaluations were carried out for each of the samples of Examples 1-5 and Comparative Example 1-3.
<外観の目視検査>
保護膜の外観を目視により確認し、未塗布ガラスの透明度と同一レベルの透明度を確認した場合をOK、不透明もしくは成分が偏在した膜(局所的に白濁部分がある膜)を確認した場合をNGとした。
<Visual inspection of appearance>
The appearance of the protective film is visually confirmed, and it is OK when the transparency of the uncoated glass is confirmed to the same level as the transparency, and NG when the film is opaque or has uneven distribution of components (a film having a locally cloudy part). And said.
<水の接触角測定>
それぞれのサンプルについて、水の接触角をサンプルの各5点で測定し、その平均値を測定値として算出した。測定は、共和界面化学社製接触角計DMo-501を使用した。
<Measurement of water contact angle>
For each sample, the contact angle of water was measured at each of the five points of the sample, and the average value was calculated as the measured value. For the measurement, a contact angle meter DMo-501 manufactured by Kyowa Surface Chemistry Co., Ltd. was used.
<初期透過率の測定>
それぞれのサンプルについて、サンプルの左中央、中央、右中央の各3点で可視光透過率を測定し、その平均値を初期可視光透過率として算出した。可視光透過率を測定する装置としては、オーシャンオプティクス製ファイバマルチチャンネル分光システムUSB4E03215を使用し、JIS R3106の試験方法で可視光透過率を測定した。
<Measurement of initial transmittance>
For each sample, the visible light transmittance was measured at each of the three points of the left center, the center, and the right center of the sample, and the average value was calculated as the initial visible light transmittance. As a device for measuring the visible light transmittance, the fiber multi-channel spectroscopic system USB4E03215 manufactured by Ocean Optics was used, and the visible light transmittance was measured by the test method of JIS R3106.
<粒子付着試験実施後の透過率の測定>
それぞれのサンプルについて、試験用に調製した混合粒子(カーボンブラック1(FW-200「エボニックデグサ社製」):2.3wt%、カーボンブラック2(JIS Z 8901試験用粉体12種「社団法人日本粉体工業技術協会製」):9.3wt%、イエローオーカー(顔料用天然黄土「ホルベイン工業株式会社製」):62.8wt%、焼成関東ローム(JIS Z 8901試験用ダスト8種「社団法人 日本粉体工業技術協会製」):20.9wt%、シリカ粉(JIS Z 8901試験用ダスト3種「社団法人 日本粉体工業技術協会製」):4.7wt%)を、30分間断続的に吹き付ける粒子付着試験を行った。この粒子付着試験は、ボックス内にそれぞれのサンプルを収納し、0.02MPaの吐出圧力で汚れの粒子をボックス内に吐出することによって行った。
<Measurement of transmittance after particle adhesion test>
For each sample, mixed particles prepared for testing (Carbon Black 1 (FW-200 "Ebonic Degusa"): 2.3 wt%, Carbon Black 2 (JIS Z 8901 test powder 12 types "Japan Corporation" Made by Powder Industry Technology Association ”): 9.3 wt%, Yellow Oaker (Natural yellow clay for pigments“ Made by Holbain Industry Co., Ltd. ”): 62.8 wt%, Baked Kanto Roam (JIS Z 8901 test dust 8 types” Japan Powder Industry Technology Association "): 20.9 wt%, silica powder (JIS Z 8901 test dust 3 types" Japan Powder Industry Technology Association "): 4.7 wt%) intermittently for 30 minutes A particle adhesion test was performed. This particle adhesion test was performed by storing each sample in a box and discharging dirty particles into the box at a discharge pressure of 0.02 MPa.
この粒子付着試験後の各サンプルについて、サンプルの左中央、中央、右中央の各3点で可視光透過率を測定し、その平均値を初期可視光透過率として算出した。可視光透過率を測定する装置としては、オーシャンオプティクス製ファイバマルチチャンネル分光システムUSB4E03215を使用し、JIS R3106の試験方法で可視光透過率を測定した。 For each sample after this particle adhesion test, the visible light transmittance was measured at each of the three points of the left center, the center, and the right center of the sample, and the average value was calculated as the initial visible light transmittance. As a device for measuring the visible light transmittance, the fiber multi-channel spectroscopic system USB4E03215 manufactured by Ocean Optics was used, and the visible light transmittance was measured by the test method of JIS R3106.
各評価結果を表1に示す。 The evaluation results are shown in Table 1.
表1の評価結果から、実施例1-5は、それぞれ外観は良好であり、初期透過率も比較例3の未処理ガラス板とほぼ同等であり、保護膜の成膜による外観上の問題はみられない。 From the evaluation results in Table 1, the appearance of each of Examples 1-5 was good, the initial transmittance was almost the same as that of the untreated glass plate of Comparative Example 3, and there was no problem in appearance due to the film formation of the protective film. Not seen.
実施例1-5のそれぞれの水の接触角は90度以上を示しており、比較例2の2回プロセスの自己組織化膜と同等な値となっている。 The contact angle of each water of Example 1-5 is 90 degrees or more, which is the same value as that of the self-assembled monolayer of the two-time process of Comparative Example 2.
実施例1-5のそれぞれの粒子付着試験後の透過率は、比較例3に比べて高くなっており、良好な付着防止性能を示している。 The transmittance of Example 1-5 after each particle adhesion test is higher than that of Comparative Example 3, indicating good adhesion prevention performance.
1 基体
2 保護膜
21 撥水/撥油性物質
22 正電荷物質
23 負電荷物質
1
22 Positively charged
Claims (11)
触媒を使用して、撥水性およびまたは撥油性の官能基を持つシラン化合物を縮重合および加水分解することによってケイ素に修飾させた状態の安定化したシラン化合物とした 撥水/撥油性物質を含有する第一組成物と、
正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質とのうち、少なくとも正電荷物質を含有する第二組成物とを具備し、
これらを第一組成物と第二組成物とを混合して使用することで、基体の表面に、撥水性およびまたは撥油性を付与し、かつ、-50V~50Vの範囲の帯電圧にするようになされたことを特徴とする基体保護液。 A substrate protective liquid that, when applied to the surface of a substrate, forms a protective film on the surface that reduces the adhesion of substances.
A catalyst was used to polycondensate and hydrolyze a silane compound having a water-repellent and / or oil-repellent functional group to obtain a stabilized silane compound in a silicon-modified state. The first composition containing a water / oil repellent substance and
A second composition containing at least a positively charged substance among a positively charged substance having a positive charge performance and a negatively charged substance having a negative charge performance is provided.
By using these as a mixture of the first composition and the second composition, the surface of the substrate is imparted with water repellency and / or oil repellency, and the voltage band is in the range of -50V to 50V. A substrate protective solution characterized by being made.
正電荷性能を有する正電荷物質および負電荷性能を有する負電荷物質のうち、少なくとも正電荷物質と、を分散させた基体保護液を、基体の表面に塗布し、 A substrate protective solution in which at least a positive charge substance among a positive charge substance having a positive charge performance and a negative charge substance having a negative charge performance is dispersed is applied to the surface of the substrate.
当該基体の表面に、撥水性およびまたは撥油性を有し、かつ、-50V~50Vの範囲の帯電圧となった保護膜を形成することを特徴とする基体の保護方法。 A method for protecting a substrate, which comprises forming a protective film having water repellency and / or oil repellency on the surface of the substrate and having a voltage band in the range of -50V to 50V.
撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質と、の分散割合、を調整することで、
基体表面に-50V~50Vの範囲となった帯電圧で撥水性およびまたは撥油性の保護膜を形成する請求項5に記載の基体の保護方法。 Dispersion ratio of water / oil repellent substance and positively charged substance having positive charge performance, or
By adjusting the dispersion ratio of the water-repellent / oil-repellent substance, the positively charged substance having positive charge performance, and the negatively charged substance having negative charge performance,
The fifth aspect of the present invention, wherein a water-repellent and / or oil-repellent protective film is formed on the surface of the substrate at a voltage band in the range of -50V to 50V.How to protect the substrate.
撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質と、の分散割合、
を調整することで、
基体表面に負電荷の帯電圧で撥水性の保護膜を形成する請求項5に記載の基体の保護方法。 Dispersion ratio of water / oil repellent substance and positively charged substance having positive charge performance, or
Dispersion ratio of water- repellent / oil-repellent substances, positively charged substances having positive charge performance, and negatively charged substances having negative charge performance,
By adjusting
The method for protecting a substrate according to claim 5 , wherein a water-repellent protective film is formed on the surface of the substrate with a negatively charged voltage .
撥 水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質と、の分散割合、
を調整することで、
基体表面に正電荷の帯電圧で撥水性およびまたは撥油性の保護膜を形成する請求項5に記載の基体の保護方法。 Repellent Dispersion ratio of water / oil repellent substance and positively charged substance having positive charge performance, or,
Repellent Dispersion ratio of water / oil-repellent substance, positively charged substance having positive charge performance, and negatively charged substance having negative charge performance,
By adjusting
On the surface of the substratePositiveWater repellency with charged voltageAnd or oil repellentClaim to form a protective film of5The method for protecting a substrate according to.
前記保護膜は、触媒を使用して、撥水性およびまたは撥油性の官能基を持つシラン化合物を縮重合および加水分解することによってケイ素に修飾させた状態の安定化したシラン化合物とした撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質とが分散した状態、または、 The protective film is a water-repellent / stabilized silane compound modified to silicon by polypolymerizing and hydrolyzing a silane compound having a water-repellent and / or oil-repellent functional group using a catalyst. A state in which an oil-repellent substance and a positively charged substance having positive charge performance are dispersed, or
触媒を使用して、撥水性およびまたは撥油性の官能基を持つシラン化合物を縮重合および加水分解することによってケイ素に修飾させた状態の安定化したシラン化合物とした撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質とが分散した状態、で配置され、かつ、-50V~50Vの範囲となった帯電圧で撥水性およびまたは撥油性を有するようになされたことを特徴とする基体。 Water- and oil-repellent substances, which are stabilized silane compounds modified to silicon by hydrolyzing and hydrolyzing a silane compound having a water-repellent and / or oil-repellent functional group using a catalyst. It is arranged in a state where a positive charge substance having a positive charge performance and a negative charge substance having a negative charge performance are dispersed, and has water repellency and / or oil repellency at a band voltage in the range of -50V to 50V. A substrate characterized by being made in this way.
前記保護膜は、撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質とが分散した状態、または、
撥 水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質とが分散した状態、で配置され、かつ、負電荷の帯電圧で撥水性およびまたは撥油性を有するようになされた請求項9に記載の基体。 A substrate designed to form a protective film on at least a part of the surface.
The protective film is, RepellentA state in which a water / oil-repellent substance and a positively charged substance having positive charge performance are dispersed, or,
Repellent The water / oil-repellent substance, the positively charged substance having positive charge performance, and the negatively charged substance having negative charge performance are dispersed in a dispersed state, andThe ninth aspect of the present invention is made to have water repellency and / or oil repellency at a negative charge voltage.Hypokeimenon.
前記保護膜は、撥水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質とが分散した状態、または、
撥 水/撥油性物質と、正電荷性能を有する正電荷物質と、負電荷性能を有する負電荷物質とが分散した状態、で配置され、かつ、正電荷の帯電圧で撥水性およびまたは撥油性を有するようになされた請求項9に記載の基体。 A substrate designed to form a protective film on at least a part of the surface.
The protective film is, RepellentA state in which a water / oil-repellent substance and a positively charged substance having positive charge performance are dispersed, or,
Repellent The water / oil-repellent substance, the positively charged substance having positive charge performance, and the negatively charged substance having negative charge performance are dispersed in a dispersed state, andPositiveA claim made to have water repellency and / or oil repellency at a voltage band of electric charge.9The substrate according to.
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