JP7075355B2 - １，３，７－オクタトリエンとスチレンの共重合体およびその水素化物、並びに該共重合体の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、１，３，７－オクタトリエンとスチレンの共重合体およびその水素化物、並びに該共重合体の製造方法に関する。
フィルム、接着剤、弾性体、繊維および発泡体等の製造には、柔軟で弾性があり、且つ強靭な重合体を用いることが好ましく、これらの使用温度（通常は室温であり、約２５℃）よりも低いガラス転移温度を有する重合体が適することが知られている。室温よりもガラス転移温度が低い重合体としては熱可塑性樹脂が挙げられ、該熱可塑性樹脂の原料としては、安価で容易に利用できるブタジエンがよく利用されている。しかし、フィルム、接着剤、弾性体、繊維および発泡体等の物性の改善を行なうには、同じ原料を使用しているのでは限界があるため、これまであまり使用されていない共役ジエン化合物に対する興味が集まっている。１，３，７－オクタトリエンは、そのような共役ジエン化合物の１つである。
１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位を含有する重合体は側鎖に末端二重結合を有するため、例えば、エポキシ化、ハロゲン化、他の低分子化合物とのグラフト重合等の種々の反応により変性することができる。また、重合体中に存在する二重結合の反応性を利用し、無水マレイン酸、アクロレイン等を付加させることもできる。このようにして得られる化学変性した重合体は接着剤や潤滑剤等の機能性材料としての展開が期待されている。
しかしながら、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位を含有する重合体に関する報告例は極めて少ない。例えば、アニオン重合開始剤を用いた１，３，７－オクタトリエンの重合方法（特許文献１参照）、カチオン重合開始剤を用いた１，３，７－オクタトリエンの重合方法（特許文献２参照）、チタン系チーグラー型触媒を用いた１，３，７－オクタトリエンの重合方法（非特許文献１参照）が開示されているが、１，３，７－オクタトリエンとその他の共役ジエン化合物との共重合体としては、ネオジム系チーグラー型触媒を用いた重合方法（非特許文献２参照）が開示されている程度である。
１，３，７－オクタトリエンとその他の共役ジエン化合物との共重合体の製造方法に関する非特許文献２には、１，３，７－オクタトリエンとイソプレンからなる共重合体として、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位およびイソプレンに由来する構造単位の総量に対する１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位の含有率が２１．０モル％以下の共重合体であって、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が最も狭い１．４４のときに重量平均分子量（Ｍｗ）が７７，７６０であり、また、重量平均分子量（Ｍｗ）が最も大きい２０１，３００のときには分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．８３まで広くなった共重合体が開示されている。
Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第２８巻、２６９９～２７０３頁（１９６３年）
Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ＆ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ、第３５０巻、４３１～４３８頁（２００８年）
しかしながら、これまで１，３，７－オクタトリエンとスチレンの共重合体は開発されてこなかった。
そこで、本発明の課題は、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体およびその水素化物、並びに該共重合体の製造方法を提供することにある。
そこで、本発明の課題は、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体およびその水素化物、並びに該共重合体の製造方法を提供することにある。
本発明者らが鋭意検討した結果、これまで１，３，７－オクタトリエンとスチレンの共重合体が未開発であったのは重合制御の困難性が想定されていたためであるが、実際に実験を行なってみたところ、１，３，７－オクタトリエンとスチレンの共重合体を製造することができた。また、前記重合制御の困難性の原因は１，３，７－オクタトリエン自体にあるのではなく、１，３，７－オクタトリエンに含まれる僅かな量の特定の不純物が１，３，７－オクタトリエンとスチレンの重合反応に大きな悪影響を及ぼしており、該不純物の量が所定値以下とすることで、１，３，７－オクタトリエンとスチレンの重合反応を制御し易くなることを見出した。本発明者らは、特に過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇ以下の１，３，７－オクタトリエンを用いることにより、前記共重合体を容易に製造できることを見出した。
すなわち、本発明は以下の［１］～［２４］を提供する。
［１］１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体。
［２］分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が３．０以下である、上記［１］の共重合体。
［３］分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．５以下である、上記［１］または［２］の共重合体。
［４］分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５以下である、上記［１］～［３］のいずれかの共重合体。
［５］重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００～１，０００，０００である、上記［１］～［４］のいずれかの共重合体。
［６］重量平均分子量（Ｍｗ）が５，０００～９００，０００である、上記［１］～［５］のいずれかの共重合体。
［７］重量平均分子量（Ｍｗ）が５０，０００～７００，０００である、上記［１］～［６］のいずれかの共重合体。
［８］分子末端にリビングアニオン活性種を有する、上記［１］～［７］のいずれかの共重合体。
［９］分子末端に活性種を有さない、上記［１］～［７］のいずれかの共重合体。
［１０］さらに炭素数４以上の共役ジエン化合物に由来する構造単位を含有する、上記［１］～［９］のいずれかの共重合体。
［１１］前記炭素数４以上の共役ジエン化合物が、ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン、４，５－ジエチル－１，３－ブタジエン、２－フェニル－１，３－ブタジエン、２－ヘキシル－１，３－ブタジエン、２－ベンジル－１，３－ブタジエン、２－ｐ－トルイル－１，３－ブタジエン、２－メチル－１，３－ペンタジエン、３－メチル－１，３－ペンタジエン、２，３－ジメチル－１，３－ペンタジエン、２，３－ジエチル－１，３－ペンタジエン、１，３－ヘキサジエン、２，３－ジメチル－１，３－ヘキサジエン、２，３－ジエチル－１，３－ヘプタジエン、３－ブチル－１，３－オクタジエン、２，３－ジメチル－１，３－オクタジエン、４，５－ジエチル－１，３－オクタジエン、１，３－シクロヘキサジエンおよびミルセンからなる群から選択される少なくとも１つである、上記［１０］の共重合体。
［１２］上記［１］～［７］および［９］～［１１］のいずれかの共重合体の水素化物。
［１３］１，３，７－オクタトリエンと、スチレンとをアニオン重合に付す工程を有する、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体の製造方法であって、
前記１，３，７－オクタトリエン中に含まれ得る不純物に過酸化物およびその分解物からなる群から選択される少なくとも１種が含まれ、１，３，７－オクタトリエン中の前記過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇ以下である、共重合体の製造方法。
［１４］前記１，３，７－オクタトリエンのガスクロマトグラフィーによって求めた純度が９８．０％超である、上記［１３］の共重合体の製造方法。
［１５］前記アニオン重合をルイス塩基の存在下に実施する、上記［１３］または［１４］の共重合体の製造方法。
［１６］前記ルイス塩基と、前記アニオン重合に用いる重合開始剤とのモル比（ルイス塩基／重合開始剤）が０．０１～１，０００である、上記［１５］の共重合体の製造方法。
［１７］前記ルイス塩基が、分子内にエーテル結合および第三級アミノ基からなる群から選択される少なくとも１つを有する化合物である、上記［１５］または［１６］の共重合体の製造方法。
［１８］前記ルイス塩基が、非共有電子対を有する原子１つを有する化合物である、上記［１５］～［１７］のいずれかの共重合体の製造方法。
［１９］ルイス塩基が、非共有電子対を有する原子２つ以上を有する化合物である、上記［１５］～［１７］のいずれかの共重合体の製造方法。
［２０］前記ルイス塩基が多座配位性を有する、上記［１９］の共重合体の製造方法。
［２１］アニオン重合終了後の反応液の固形分濃度が１０～８０質量％である、上記［１３］～［２０］のいずれかの共重合体の製造方法。
［２２］－５０～２００℃でアニオン重合を実施する、上記［１３］～［２１］のいずれかの共重合体の製造方法。
［２３］アニオン重合終了後の、ガスクロマトグラフィーによって求めた１，３，７－オクタトリエンの転化率が８０．０％以上である、上記［１３］～［２２］のいずれかの共重合体の製造方法。
［２４］アニオン重合終了後の、ガスクロマトグラフィーによって求めた１，３，７－オクタトリエンの転化率が９０．０％以上である、上記［１３］～［２３］のいずれかの共重合体の製造方法。
［１］１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体。
［２］分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が３．０以下である、上記［１］の共重合体。
［３］分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．５以下である、上記［１］または［２］の共重合体。
［４］分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５以下である、上記［１］～［３］のいずれかの共重合体。
［５］重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００～１，０００，０００である、上記［１］～［４］のいずれかの共重合体。
［６］重量平均分子量（Ｍｗ）が５，０００～９００，０００である、上記［１］～［５］のいずれかの共重合体。
［７］重量平均分子量（Ｍｗ）が５０，０００～７００，０００である、上記［１］～［６］のいずれかの共重合体。
［８］分子末端にリビングアニオン活性種を有する、上記［１］～［７］のいずれかの共重合体。
［９］分子末端に活性種を有さない、上記［１］～［７］のいずれかの共重合体。
［１０］さらに炭素数４以上の共役ジエン化合物に由来する構造単位を含有する、上記［１］～［９］のいずれかの共重合体。
［１１］前記炭素数４以上の共役ジエン化合物が、ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン、４，５－ジエチル－１，３－ブタジエン、２－フェニル－１，３－ブタジエン、２－ヘキシル－１，３－ブタジエン、２－ベンジル－１，３－ブタジエン、２－ｐ－トルイル－１，３－ブタジエン、２－メチル－１，３－ペンタジエン、３－メチル－１，３－ペンタジエン、２，３－ジメチル－１，３－ペンタジエン、２，３－ジエチル－１，３－ペンタジエン、１，３－ヘキサジエン、２，３－ジメチル－１，３－ヘキサジエン、２，３－ジエチル－１，３－ヘプタジエン、３－ブチル－１，３－オクタジエン、２，３－ジメチル－１，３－オクタジエン、４，５－ジエチル－１，３－オクタジエン、１，３－シクロヘキサジエンおよびミルセンからなる群から選択される少なくとも１つである、上記［１０］の共重合体。
［１２］上記［１］～［７］および［９］～［１１］のいずれかの共重合体の水素化物。
［１３］１，３，７－オクタトリエンと、スチレンとをアニオン重合に付す工程を有する、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体の製造方法であって、
前記１，３，７－オクタトリエン中に含まれ得る不純物に過酸化物およびその分解物からなる群から選択される少なくとも１種が含まれ、１，３，７－オクタトリエン中の前記過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇ以下である、共重合体の製造方法。
［１４］前記１，３，７－オクタトリエンのガスクロマトグラフィーによって求めた純度が９８．０％超である、上記［１３］の共重合体の製造方法。
［１５］前記アニオン重合をルイス塩基の存在下に実施する、上記［１３］または［１４］の共重合体の製造方法。
［１６］前記ルイス塩基と、前記アニオン重合に用いる重合開始剤とのモル比（ルイス塩基／重合開始剤）が０．０１～１，０００である、上記［１５］の共重合体の製造方法。
［１７］前記ルイス塩基が、分子内にエーテル結合および第三級アミノ基からなる群から選択される少なくとも１つを有する化合物である、上記［１５］または［１６］の共重合体の製造方法。
［１８］前記ルイス塩基が、非共有電子対を有する原子１つを有する化合物である、上記［１５］～［１７］のいずれかの共重合体の製造方法。
［１９］ルイス塩基が、非共有電子対を有する原子２つ以上を有する化合物である、上記［１５］～［１７］のいずれかの共重合体の製造方法。
［２０］前記ルイス塩基が多座配位性を有する、上記［１９］の共重合体の製造方法。
［２１］アニオン重合終了後の反応液の固形分濃度が１０～８０質量％である、上記［１３］～［２０］のいずれかの共重合体の製造方法。
［２２］－５０～２００℃でアニオン重合を実施する、上記［１３］～［２１］のいずれかの共重合体の製造方法。
［２３］アニオン重合終了後の、ガスクロマトグラフィーによって求めた１，３，７－オクタトリエンの転化率が８０．０％以上である、上記［１３］～［２２］のいずれかの共重合体の製造方法。
［２４］アニオン重合終了後の、ガスクロマトグラフィーによって求めた１，３，７－オクタトリエンの転化率が９０．０％以上である、上記［１３］～［２３］のいずれかの共重合体の製造方法。
本発明により、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体およびその製造方法を提供することができる。また、本発明であれば、該共重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を狭いものとすることができる。
さらに、本発明により、１，３，７－オクタトリエンとスチレンの共重合体の製造において、短い重合時間で高い原料転化率を達成することも可能となる。
さらに、本発明により、１，３，７－オクタトリエンとスチレンの共重合体の製造において、短い重合時間で高い原料転化率を達成することも可能となる。
以下、本明細書における記載事項を任意に組み合わせた態様も全て本発明に含まれる。また、数値範囲の下限値および上限値は、それぞれ他の数値範囲の下限値および上限値と任意に組み合わせられる。
［共重合体］
本発明の共重合体は、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体に関する。
本発明の共重合体は、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体に関する。
本発明の共重合体は、過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇ以下の１，３，７－オクタトリエンを原料として用いることにより製造できる。特に、このような原料を用いて、アニオン重合を行うことによって製造できる。また、このような原料を用いることにより、短い重合時間で高い原料転化率を達成することも可能となる。
１，３，７－オクタトリエンの純度は、９８．０％超であることが好ましく、９８．５％以上、９８．８％以上であることがより好ましく、９９．０％以上であることがさらに好ましい。ここで、本発明において、１，３，７－オクタトリエンの純度は、ガスクロマトグラフィーによる分析によって、全オクタトリエンに帰属できるピーク面積の総和を算出し、これらのピーク面積総和に対する１，３，７－オクタトリエンのピーク面積の百分率であり、より具体的には実施例に記載の方法によって求めたものである。ここで、全オクタトリエンとは、１，３，７－オクタトリエンと、１，３，６－オクタトリエン、２，４，６－オクタトリエンおよび１，４，６－オクタトリエン等の二重結合異性体との全てを意味する。
１，３，７－オクタトリエンの純度は、９８．０％超であることが好ましく、９８．５％以上、９８．８％以上であることがより好ましく、９９．０％以上であることがさらに好ましい。ここで、本発明において、１，３，７－オクタトリエンの純度は、ガスクロマトグラフィーによる分析によって、全オクタトリエンに帰属できるピーク面積の総和を算出し、これらのピーク面積総和に対する１，３，７－オクタトリエンのピーク面積の百分率であり、より具体的には実施例に記載の方法によって求めたものである。ここで、全オクタトリエンとは、１，３，７－オクタトリエンと、１，３，６－オクタトリエン、２，４，６－オクタトリエンおよび１，４，６－オクタトリエン等の二重結合異性体との全てを意味する。
１，３，７－オクタトリエン中に含まれ得る不純物として、前述したように、過酸化物およびその分解物からなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。１，３，７－オクタトリエン中の前記過酸化物およびその分解物の合計含有量は、０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇ以下であることが好ましく、０．１５ｍｍｏｌ／ｋｇ以下であることがより好ましく、０．１０ｍｍｏｌ／ｋｇ以下であることがさらに好ましい（但し、一方が０ｍｍｏｌ／ｋｇでもよい）。ここで、本発明において、１，３，７－オクタトリエン中の過酸化物およびその分解物の合計含有量は、１，３，７－オクタトリエンにヨウ化カリウムを作用させることによって発生するヨウ素（Ｉ２）をチオ硫酸ナトリウムで滴定して求めた値であり、より具体的には実施例に記載の方法によって求めたものである。該過酸化物としては５－ヒドロペルオキシ－１，３，７－オクタトリエン、６－ヒドロペルオキシ－１，３，７－オクタトリエン等が挙げられる。また、該過酸化物の分解物としては、５－ヒドロペルオキシ－１，３，７－オクタトリエンまたは６－ヒドロペルオキシ－１，３，７－オクタトリエンが分解して生成し得る化合物であれば特に制限はないが、例えば５－ヒドロキシ－１，３，７－オクタトリエン、６－ヒドロキシ－１，３，７－オクタトリエン等が挙げられる。これらは、１，３，７－オクタトリエンの酸素酸化によって生成し得る不純物である。なお、過酸化物およびその分解物としては、特に、５－ヒドロペルオキシ－１，３，７－オクタトリエン、６－ヒドロペルオキシ－１，３，７－オクタトリエン、５－ヒドロキシ－１，３，７－オクタトリエン、６－ヒドロキシ－１，３，７－オクタトリエンが重要な化合物である。
１，３，７－オクタトリエンは、例えば４－ビニルシクロヘキセンおよび１，３，６－オクタトリエン等の副生成物との蒸留分離が極めて困難なため、純度９８．０％超の１，３，７－オクタトリエンは一般的には入手することが容易ではなく、通常、純度９７％以下となる傾向にある。しかし、特開２０１６－２１６３８５号公報または特開昭４７－１７７０３号公報に記載の方法を実施することによって、純度９８．０％超の１，３，７－オクタトリエンを製造することが可能であり、本発明では、この１，３，７－オクタトリエンを利用できる。
本発明の共重合体において、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、３．０以下であることが好ましく、２．５以下であることがより好ましく、２．０以下であることがより好ましく、１．５以下であることがさらに好ましく、１．３０以下であることが特に好ましく、１．２０以下であることが最も好ましい。該分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）の下限に特に制限はないが、通常、１．０３以上となることが多く、１．０７以上であってもよい。
本発明の共重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００～１，０００，０００であることが好ましく、５，０００～９００，０００であることがより好ましく、１０，０００～８００，０００であることがより好ましく、１０，０００～７００，０００であることがより好ましく、３０，０００～７００，０００であることがより好ましく、５０，０００～７００，０００であることがさらに好ましく、５０，０００～４６０，０００であることが特に好ましく、１００，０００～４００，０００であることが最も好ましい。
ここで、本発明において、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定によって求めた標準ポリスチレン換算の分子量であり、より詳細には、実施例に記載の測定方法によって測定した値である。また、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）はそれらから算出した値である。
本発明の共重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）が高く、且つ分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が狭いことが好ましい。しかし、一般的には、重量平均分子量（Ｍｗ）を高くすると、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が広くなる傾向にある。一方、本発明では、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を狭く維持した共重合体を提供できるため、工業的価値が大きい。
本発明の共重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００～１，０００，０００であることが好ましく、５，０００～９００，０００であることがより好ましく、１０，０００～８００，０００であることがより好ましく、１０，０００～７００，０００であることがより好ましく、３０，０００～７００，０００であることがより好ましく、５０，０００～７００，０００であることがさらに好ましく、５０，０００～４６０，０００であることが特に好ましく、１００，０００～４００，０００であることが最も好ましい。
ここで、本発明において、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定によって求めた標準ポリスチレン換算の分子量であり、より詳細には、実施例に記載の測定方法によって測定した値である。また、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）はそれらから算出した値である。
本発明の共重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）が高く、且つ分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が狭いことが好ましい。しかし、一般的には、重量平均分子量（Ｍｗ）を高くすると、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が広くなる傾向にある。一方、本発明では、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を狭く維持した共重合体を提供できるため、工業的価値が大きい。
本発明の共重合体は、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有していればよく、さらにその他の共役ジエン化合物に由来する構造単位を含有していてもよい。また、本発明の共重合体は、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位のみから形成される共重合体であってもよい。
その他の共役ジエン化合物としては、炭素数４以上の共役ジエン化合物が好ましく、ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン、４，５－ジエチル－１，３－ブタジエン、２－フェニル－１，３－ブタジエン、２－ヘキシル－１，３－ブタジエン、２－ベンジル－１，３－ブタジエン、２－ｐ－トルイル－１，３－ブタジエン、２－メチル－１，３－ペンタジエン、３－メチル－１，３－ペンタジエン、２，３－ジメチル－１，３－ペンタジエン、２，３－ジエチル－１，３－ペンタジエン、１，３－ヘキサジエン、２，３－ジメチル－１，３－ヘキサジエン、２，３－ジエチル－１，３－ヘプタジエン、３－ブチル－１，３－オクタジエン、２，３－ジメチル－１，３－オクタジエン、４，５－ジエチル－１，３－オクタジエン、１，３－シクロヘキサジエンおよびミルセン（７－メチル－３－メチレンオクタ－１，６－ジエン）からなる群から選択される少なくとも１つであることがより好ましく、ブタジエンおよびイソプレンからなる群から選択される少なくとも１つであることがさらに好ましい。
その他の共役ジエン化合物としては、炭素数４以上の共役ジエン化合物が好ましく、ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン、４，５－ジエチル－１，３－ブタジエン、２－フェニル－１，３－ブタジエン、２－ヘキシル－１，３－ブタジエン、２－ベンジル－１，３－ブタジエン、２－ｐ－トルイル－１，３－ブタジエン、２－メチル－１，３－ペンタジエン、３－メチル－１，３－ペンタジエン、２，３－ジメチル－１，３－ペンタジエン、２，３－ジエチル－１，３－ペンタジエン、１，３－ヘキサジエン、２，３－ジメチル－１，３－ヘキサジエン、２，３－ジエチル－１，３－ヘプタジエン、３－ブチル－１，３－オクタジエン、２，３－ジメチル－１，３－オクタジエン、４，５－ジエチル－１，３－オクタジエン、１，３－シクロヘキサジエンおよびミルセン（７－メチル－３－メチレンオクタ－１，６－ジエン）からなる群から選択される少なくとも１つであることがより好ましく、ブタジエンおよびイソプレンからなる群から選択される少なくとも１つであることがさらに好ましい。
本発明の共重合体は、アニオン重合性化合物によって共重合変性されていてもよいし、変性されていなくてもよい。本発明の共重合体がアニオン重合性化合物によって変性されている場合、アニオン重合性化合物に由来する構造単位の含有量は、全構成単位中、５モル％以下であることが好ましく、３モル％以下であることがより好ましい。
アニオン重合性化合物としては、１，３，７－オクタトリエン、スチレンおよびその他の共役ジエン化合物以外の化合物であって、アニオン重合が可能な化合物であれば特に制限はない。例えば２－クロロスチレン、４－クロロスチレン、α－メチルスチレン、α－メチル－４－メチルスチレン、２－メチルスチレン、３－メチルスチレン、４－メチルスチレン、２，４－ジメチルスチレン、２，５－ジメチルスチレン、３，４－ジメチルスチレン、３，５－ジメチルスチレン、２－エチルスチレン、３－エチルスチレン、４－エチルスチレン、４－ｎ－プロピルスチレン、４－イソプロピルスチレン、４－ｔｅｒｔ－ブチルスチレン、４－シクロヘキシルスチレン、４－ドデシルスチレン、２－エチル－４－ベンジルスチレン、４－（４－フェニル－ｎ－ブチル）スチレン、１－ビニルナフタレン、２－ビニルナフタレン、１，１－ジフェニルエチレン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｐ－アミノエチルスチレン、Ｎ，Ｎ－ジエチル－ｐ－アミノエチルスチレン、１，２－ジビニルベンゼン、１，３－ジビニルベンゼン、１，４－ジビニルベンゼン、１，２－ジビニル－３，４－ジメチルベンゼン、２，４－ジビニルビフェニル、１，３－ジビニルナフタレン、１，２，４－トリビニルベンゼン、３，５，４’－トリビニルビフェニル、１，３，５－トリビニルナフタレン、１，５，６－トリビニル－３，７－ジエチルナフタレン等の芳香族ビニル化合物；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル等のα，β－不飽和ニトリル；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、３－メチルクロトン酸、３－ブテン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸等のα，β－不飽和カルボン酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸－ｓｅｃ－ブチル、アクリル酸－ｔｅｒｔ－ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸－２－エチルヘキシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸－ｓｅｃ－ブチル、メタクリル酸－ｔｅｒｔ－ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸－２－エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ステアリル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル等のα，β－不飽和カルボン酸エステル；Ｎ－メチルアクリルアミド、Ｎ－エチルアクリルアミド、Ｎ－プロピルアクリルアミド、Ｎ－ブチルアクリルアミド、Ｎ－オクチルアクリルアミド、Ｎ－フェニルアクリルアミド、Ｎ－グリシジルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’－エチレンビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、Ｎ－エチル－Ｎ－メチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジオクチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジフェニルアクリルアミド、Ｎ－エチル－Ｎ－グリシジルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアクリルアミド、Ｎ－メチル－Ｎ－（４－グリシジルオキシブチル）アクリルアミド、Ｎ－メチル－Ｎ－（５－グリシジルオキシペンチル）アクリルアミド、Ｎ－メチル－Ｎ－（６－グリシジルオキシヘキシル）アクリルアミド、Ｎ－アクリロイルピロリジン、Ｎ－アクリロイル－Ｌ－プロリンメチルエステル、Ｎ－アクリロイルピペリジン、Ｎ－アクリロイルモルホリン、１－アクリロイルイミダゾール、Ｎ，Ｎ’－ジエチル－Ｎ，Ｎ’－エチレンビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’－ジメチル－Ｎ，Ｎ’－ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジ（Ｎ，Ｎ’－エチレン）ビスアクリルアミド等のアクリルアミドなどが挙げられる。アニオン重合性化合物は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
アニオン重合性化合物としては、１，３，７－オクタトリエン、スチレンおよびその他の共役ジエン化合物以外の化合物であって、アニオン重合が可能な化合物であれば特に制限はない。例えば２－クロロスチレン、４－クロロスチレン、α－メチルスチレン、α－メチル－４－メチルスチレン、２－メチルスチレン、３－メチルスチレン、４－メチルスチレン、２，４－ジメチルスチレン、２，５－ジメチルスチレン、３，４－ジメチルスチレン、３，５－ジメチルスチレン、２－エチルスチレン、３－エチルスチレン、４－エチルスチレン、４－ｎ－プロピルスチレン、４－イソプロピルスチレン、４－ｔｅｒｔ－ブチルスチレン、４－シクロヘキシルスチレン、４－ドデシルスチレン、２－エチル－４－ベンジルスチレン、４－（４－フェニル－ｎ－ブチル）スチレン、１－ビニルナフタレン、２－ビニルナフタレン、１，１－ジフェニルエチレン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｐ－アミノエチルスチレン、Ｎ，Ｎ－ジエチル－ｐ－アミノエチルスチレン、１，２－ジビニルベンゼン、１，３－ジビニルベンゼン、１，４－ジビニルベンゼン、１，２－ジビニル－３，４－ジメチルベンゼン、２，４－ジビニルビフェニル、１，３－ジビニルナフタレン、１，２，４－トリビニルベンゼン、３，５，４’－トリビニルビフェニル、１，３，５－トリビニルナフタレン、１，５，６－トリビニル－３，７－ジエチルナフタレン等の芳香族ビニル化合物；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル等のα，β－不飽和ニトリル；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、３－メチルクロトン酸、３－ブテン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸等のα，β－不飽和カルボン酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸－ｓｅｃ－ブチル、アクリル酸－ｔｅｒｔ－ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸－２－エチルヘキシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸－ｓｅｃ－ブチル、メタクリル酸－ｔｅｒｔ－ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸－２－エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ステアリル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル等のα，β－不飽和カルボン酸エステル；Ｎ－メチルアクリルアミド、Ｎ－エチルアクリルアミド、Ｎ－プロピルアクリルアミド、Ｎ－ブチルアクリルアミド、Ｎ－オクチルアクリルアミド、Ｎ－フェニルアクリルアミド、Ｎ－グリシジルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’－エチレンビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、Ｎ－エチル－Ｎ－メチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジオクチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジフェニルアクリルアミド、Ｎ－エチル－Ｎ－グリシジルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアクリルアミド、Ｎ－メチル－Ｎ－（４－グリシジルオキシブチル）アクリルアミド、Ｎ－メチル－Ｎ－（５－グリシジルオキシペンチル）アクリルアミド、Ｎ－メチル－Ｎ－（６－グリシジルオキシヘキシル）アクリルアミド、Ｎ－アクリロイルピロリジン、Ｎ－アクリロイル－Ｌ－プロリンメチルエステル、Ｎ－アクリロイルピペリジン、Ｎ－アクリロイルモルホリン、１－アクリロイルイミダゾール、Ｎ，Ｎ’－ジエチル－Ｎ，Ｎ’－エチレンビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’－ジメチル－Ｎ，Ｎ’－ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジ（Ｎ，Ｎ’－エチレン）ビスアクリルアミド等のアクリルアミドなどが挙げられる。アニオン重合性化合物は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明の共重合体は、カップリング剤に由来する構造単位を含有していてもよいし、含有していなくてもよい。本発明の共重合体がカップリング剤に由来する構造単位を含有する場合、カップリング剤に由来する構造単位の含有量は、全構成単位中、２．５モル％以下であることが好ましく、１．０モル％以下であることがより好ましい。
カップリング剤としては、例えばジクロロメタン、ジブロモメタン、ジクロロエタン、ジブロモエタン、ジブロモベンゼン、安息香酸フェニル等が挙げられる。
カップリング剤としては、例えばジクロロメタン、ジブロモメタン、ジクロロエタン、ジブロモエタン、ジブロモベンゼン、安息香酸フェニル等が挙げられる。
（結合様式）
本発明の共重合体において、１，３，７－オクタトリエンの代表的な結合様式としては、１，２－結合、１，４－結合、３，４－結合および４，１－結合があり、各結合様式の結合順序および含有割合に特に制限はない。なお、本発明において、１，４－結合は４，１－結合と同一とみなす。
１，３，７－オクタトリエンの結合様式について、全結合様式に対する１，２－結合の含有割合は、３５～６５モル％であることが好ましく、４０～６０モル％であることがより好ましい。全結合様式に対する１，４－結合の含有割合は、２０～６５モル％であることが好ましく、３０～６０モル％であることがより好ましく、４０～６０モル％であることがさらに好ましい。全結合様式に対する３，４－結合の含有割合は、前記１，２－結合の含有割合と前記１，４－結合の含有割合を考慮して、その残部となる。つまり、全結合様式に対する３，４－結合の含有割合は、「１００－（１，２－結合の含有割合＋１，４－結合の含有割合）」から求められる。
本発明の共重合体において、１，３，７－オクタトリエンの代表的な結合様式としては、１，２－結合、１，４－結合、３，４－結合および４，１－結合があり、各結合様式の結合順序および含有割合に特に制限はない。なお、本発明において、１，４－結合は４，１－結合と同一とみなす。
１，３，７－オクタトリエンの結合様式について、全結合様式に対する１，２－結合の含有割合は、３５～６５モル％であることが好ましく、４０～６０モル％であることがより好ましい。全結合様式に対する１，４－結合の含有割合は、２０～６５モル％であることが好ましく、３０～６０モル％であることがより好ましく、４０～６０モル％であることがさらに好ましい。全結合様式に対する３，４－結合の含有割合は、前記１，２－結合の含有割合と前記１，４－結合の含有割合を考慮して、その残部となる。つまり、全結合様式に対する３，４－結合の含有割合は、「１００－（１，２－結合の含有割合＋１，４－結合の含有割合）」から求められる。
同様に、その他の共役ジエン化合物の結合様式にも特に制限はなく、各結合様式の結合順序および含有割合に特に制限はない。例えば、ブタジエンの代表的な結合様式としては、１，２－結合、１，４－結合があり、各結合様式の結合順序および含有割合に特に制限はない。
ブタジエンの結合様式について、例えば、全結合様式に対する１，２－結合の含有割合は、５～６０モル％であることが好ましく、１０～５０モル％であることがより好ましく、１５～４５モル％であることがさらに好ましい。全結合様式に対する１，４－結合の含有割合は、全結合様式に対する１，２－結合の含有割合の残部である。
ブタジエンの結合様式について、例えば、全結合様式に対する１，２－結合の含有割合は、５～６０モル％であることが好ましく、１０～５０モル％であることがより好ましく、１５～４５モル％であることがさらに好ましい。全結合様式に対する１，４－結合の含有割合は、全結合様式に対する１，２－結合の含有割合の残部である。
また、イソプレンの代表的な結合様式としては、１，２－結合、３，４－結合、１，４－結合があり、各結合様式の結合順序および含有割合に特に制限はない。
イソプレンの結合様式について、例えば、全結合様式に対する１，４－結合の含有割合は、４０～９５モル％であることが好ましく、５０～９０モル％であることがより好ましく、６０～８５モル％であることがさらに好ましい。全結合様式に対する３，４－結合の含有割合は、５～６０モル％であることが好ましく、５～４０モル％であることがより好ましく、１５～４０モル％であることがさらに好ましい。全結合様式に対する１，２－結合の含有割合は、前記１，４－結合の含有割合と前記３，４－結合の含有割合を考慮して、その残部となる。
各結合様式の割合は、１３Ｃ－ＮＭＲ測定によって求められる。具体的には、実施例に記載の方法に従って求めることができる。
イソプレンの結合様式について、例えば、全結合様式に対する１，４－結合の含有割合は、４０～９５モル％であることが好ましく、５０～９０モル％であることがより好ましく、６０～８５モル％であることがさらに好ましい。全結合様式に対する３，４－結合の含有割合は、５～６０モル％であることが好ましく、５～４０モル％であることがより好ましく、１５～４０モル％であることがさらに好ましい。全結合様式に対する１，２－結合の含有割合は、前記１，４－結合の含有割合と前記３，４－結合の含有割合を考慮して、その残部となる。
各結合様式の割合は、１３Ｃ－ＮＭＲ測定によって求められる。具体的には、実施例に記載の方法に従って求めることができる。
（結合形態）
本発明の共重合体において、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位との結合形態、さらには、その他の共役ジエン化合物に由来する構造単位を含有する場合にはそれらの結合形態は、特に制限されるものではないが、ランダム、完全交互、グラジエント、ブロック、テーパー、およびこれらの組み合わせが挙げられ、ランダムまたはブロックが好ましく、製造容易性の観点から、ランダムであることがより好ましい。ブロックは、ジブロック、トリブロック、テトラブロック等、特に制限はないが、ジブロック、トリブロックが好ましい。１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位を含有するブロックにおいては、前記その他の共役ジエン化合物に由来する構造単位が混在していてもよい。
本発明の共重合体において、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位との結合形態、さらには、その他の共役ジエン化合物に由来する構造単位を含有する場合にはそれらの結合形態は、特に制限されるものではないが、ランダム、完全交互、グラジエント、ブロック、テーパー、およびこれらの組み合わせが挙げられ、ランダムまたはブロックが好ましく、製造容易性の観点から、ランダムであることがより好ましい。ブロックは、ジブロック、トリブロック、テトラブロック等、特に制限はないが、ジブロック、トリブロックが好ましい。１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位を含有するブロックにおいては、前記その他の共役ジエン化合物に由来する構造単位が混在していてもよい。
本発明の共重合体において、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位、スチレンに由来する構造単位および必要に応じて使用するその他の共役ジエン化合物に由来する構造単位の総量に対する１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位の含有率（１，３，７－オクタトリエン含有率αと称することがある。）は、特に制限されるものではないが、例えば、１～９９モル％であってもよい。該１，３，７－オクタトリエン含有率αの下限値は、３モル％であってもよく、５モル％であってもよく、３０モル％であってもよく、５０モル％以上であってもよく、７０モル％であってもよく、８５モル％であってもよく、９０モル％であってもよい。一方、該１，３，７－オクタトリエン含有率αの上限値は、９８モル％以下であってもよく、９５モル％以下であってもよく、９０モル％以下であってもよく、８０モル％以下であってもよく、７０モル％以下であってもよく、６５モル％以下であってもよく、４０モル％以下であってもよい。１，３，７－オクタトリエン含有率αの下限値および上限値は、それぞれ、整合性のとれるように任意に選択すればよい。
また、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位、スチレンに由来する構造単位および必要に応じて使用するその他の共役ジエン化合物に由来する構造単位の総量に対するスチレンに由来する構造単位の含有率は、特に制限されるものではないが、例えば、１～９９モル％であってもよく、２～９５モル％であってもよく、５～９５モル％であってもよく、１０～８０モル％であってもよく、２０～７０モル％であってもよく、２０～５０モル％であってもよい。
本発明の共重合体がその他の共役ジエン化合物に由来する構造単位を含有する場合、その含有率は、前記１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位の残部である。
また、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位、スチレンに由来する構造単位および必要に応じて使用するその他の共役ジエン化合物に由来する構造単位の総量に対するスチレンに由来する構造単位の含有率は、特に制限されるものではないが、例えば、１～９９モル％であってもよく、２～９５モル％であってもよく、５～９５モル％であってもよく、１０～８０モル％であってもよく、２０～７０モル％であってもよく、２０～５０モル％であってもよい。
本発明の共重合体がその他の共役ジエン化合物に由来する構造単位を含有する場合、その含有率は、前記１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位の残部である。
本発明の共重合体を後述するアニオン重合によって製造する際、重合反応後に末端停止剤を反応させた後の段階では、分子末端にリビングアニオン活性種を有さない共重合体であり、本発明は、当該共重合体を提供する。
また、本発明の共重合体を後述するアニオン重合によって製造する際、重合反応後に末端停止剤を反応させる前の段階では、分子末端にリビングアニオン活性種を有する共重合体（リビングアニオン共重合体と称することがある。）であり、本発明は当該共重合体も提供する。
また、本発明の共重合体を後述するアニオン重合によって製造する際、重合反応後に末端停止剤を反応させる前の段階では、分子末端にリビングアニオン活性種を有する共重合体（リビングアニオン共重合体と称することがある。）であり、本発明は当該共重合体も提供する。
（水素化物）
本発明の共重合体は、耐熱性および耐候性の観点から、前記共重合体の水素化物（一般的には、水素添加物とも称される。）であってもよい。本発明の共重合体が水素化物である場合、水素化率に特に制限はないが、共重合体において、炭素－炭素二重結合の８０モル％以上が水素化（水添とも称される。）されていることが好ましく、８５モル％以上が水素化されていることがより好ましく、９０モル％以上が水素化されていることがさらに好ましく、９３モル％以上が水素化されていることが特に好ましく、９５モル％以上が水素化されていることが最も好ましい。なお、該値を水素化率（水添率）と称することがある。水素化率の上限値に特に制限はないが、９９モル％以下であってもよい。
水素化率は、炭素－炭素二重結合の含有量を水素化後の１Ｈ－ＮＭＲ測定によって求められる。より具体的には、実施例に記載の方法に従って求めることができる。
本発明の共重合体は、耐熱性および耐候性の観点から、前記共重合体の水素化物（一般的には、水素添加物とも称される。）であってもよい。本発明の共重合体が水素化物である場合、水素化率に特に制限はないが、共重合体において、炭素－炭素二重結合の８０モル％以上が水素化（水添とも称される。）されていることが好ましく、８５モル％以上が水素化されていることがより好ましく、９０モル％以上が水素化されていることがさらに好ましく、９３モル％以上が水素化されていることが特に好ましく、９５モル％以上が水素化されていることが最も好ましい。なお、該値を水素化率（水添率）と称することがある。水素化率の上限値に特に制限はないが、９９モル％以下であってもよい。
水素化率は、炭素－炭素二重結合の含有量を水素化後の１Ｈ－ＮＭＲ測定によって求められる。より具体的には、実施例に記載の方法に従って求めることができる。
［共重合体の製造方法］
本発明の共重合体の製造方法は、１，３，７－オクタトリエンと、スチレンとをアニオン重合に付す工程を有する、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体の製造方法であって、
前記１，３，７－オクタトリエン中に含まれ得る不純物に過酸化物およびその分解物からなる群から選択される少なくとも１種が含まれ、１，３，７－オクタトリエン中の前記過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇ以下である。
本発明の共重合体の製造方法は、１，３，７－オクタトリエンと、スチレンとをアニオン重合に付す工程を有する、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体の製造方法であって、
前記１，３，７－オクタトリエン中に含まれ得る不純物に過酸化物およびその分解物からなる群から選択される少なくとも１種が含まれ、１，３，７－オクタトリエン中の前記過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇ以下である。
アニオン重合方法に特に制限はなく、公知のアニオン重合方法に準じることができる。
例えば、１，３，７－オクタトリエンとスチレンと、必要に応じて使用する前記共役ジエン化合物（以下、重合反応させる原料を、原料モノマーと称することがある。）との混合物に対して、アニオン重合開始剤を供給することによって重合反応させ、反応系内でリビングアニオン活性種を有する共重合体を形成する。次いで、重合停止剤を添加することによって、ランダム共重合体を製造できる。
また、いずれか１種の原料モノマーに対してアニオン重合開始剤を供給した後に、残りの原料モノマーを添加することによってリビングアニオン活性種を有する共重合体を形成した後に、重合停止剤を添加することによって、ブロック共重合体を製造できる。
所望に応じて、ルイス塩基および溶媒を使用してもよい。
例えば、１，３，７－オクタトリエンとスチレンと、必要に応じて使用する前記共役ジエン化合物（以下、重合反応させる原料を、原料モノマーと称することがある。）との混合物に対して、アニオン重合開始剤を供給することによって重合反応させ、反応系内でリビングアニオン活性種を有する共重合体を形成する。次いで、重合停止剤を添加することによって、ランダム共重合体を製造できる。
また、いずれか１種の原料モノマーに対してアニオン重合開始剤を供給した後に、残りの原料モノマーを添加することによってリビングアニオン活性種を有する共重合体を形成した後に、重合停止剤を添加することによって、ブロック共重合体を製造できる。
所望に応じて、ルイス塩基および溶媒を使用してもよい。
重合反応は、重合反応を阻害する水および酸素等が反応系内へ侵入するのを抑制するために、例えば、不活性ガスで加圧した反応器内部で実施することが好ましい。不活性ガス雰囲気下とすることで、アニオン重合開始剤および成長末端アニオンが水または酸素との反応で消費されるのを抑制でき、精度良く重合反応を制御できる。ここで、成長末端アニオンとは、重合反応中に反応系内に存在する共重合体が分子末端に有するアニオンのことであり、以下、同様である。
共重合体の製造に使用する、１，３，７－オクタトリエン、スチレン、前記共役ジエン化合物、後述のアニオン重合開始剤、後述のルイス塩基および後述の溶媒等は、成長末端アニオンと反応して重合反応を阻害するような物質、例えば、酸素、水、ヒドロキシ化合物、カルボニル化合物およびアルキン化合物等を実質的に含まないことが好ましく、また、遮光下で、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気下で保存されていることが好ましい。
１，３，７－オクタトリエン、スチレン、アニオン重合開始剤およびルイス塩基等は、それぞれ溶媒で希釈して使用してもよいし、溶媒で希釈せずにそのまま使用してもよい。
１，３，７－オクタトリエン、スチレン、アニオン重合開始剤およびルイス塩基等は、それぞれ溶媒で希釈して使用してもよいし、溶媒で希釈せずにそのまま使用してもよい。
本発明の共重合体の製造方法において重要な点は、前述の通り、過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇ以下の１，３，７－オクタトリエン（より好ましくは前述の通りである。）を使用することである。
スチレンおよび前記共役ジエン化合物も純度の高いものを使用することが好ましいが、スチレンおよび前記共役ジエン化合物に関しては、通常のスチレンまたは前記共役ジエン化合物の重合の際に使用するスチレンまたは前記共役ジエン化合物の純度以上であれば十分である。一般的には、スチレンおよび前記共役ジエン化合物の純度は、ガスクロマトグラフィーによって求めた純度が９９％以上であるものが好ましく、加えて、該共役ジエン化合物としては、アセチレン等のアルキン、エチレン等のアルケン、並びにカルボニル基およびヒドロキシル基等の官能基を有する炭化水素化合物を実質的に含有しないものを使用することがより好ましい。
スチレンおよび前記共役ジエン化合物も純度の高いものを使用することが好ましいが、スチレンおよび前記共役ジエン化合物に関しては、通常のスチレンまたは前記共役ジエン化合物の重合の際に使用するスチレンまたは前記共役ジエン化合物の純度以上であれば十分である。一般的には、スチレンおよび前記共役ジエン化合物の純度は、ガスクロマトグラフィーによって求めた純度が９９％以上であるものが好ましく、加えて、該共役ジエン化合物としては、アセチレン等のアルキン、エチレン等のアルケン、並びにカルボニル基およびヒドロキシル基等の官能基を有する炭化水素化合物を実質的に含有しないものを使用することがより好ましい。
（アニオン重合開始剤）
本発明の共重合体の製造方法はアニオン重合を利用するため、アニオン重合開始剤を使用する。該アニオン重合開始剤は、アニオン重合を開始できる化合物であればその種類に制限はない。
アニオン重合開始剤としては、芳香族ビニル化合物および共役ジエン化合物のアニオン重合において一般的に使用される有機アルカリ金属化合物を使用できる。該有機アルカリ金属化合物としては、例えばメチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルリチウム、イソブチルリチウム、ペンチルリチウム、ヘキシルリチウム、ブタジエニリルリチウム、シクロヘキシルリチウム、フェニルリチウム、ベンジルリチウム、ｐ－トルイルリチウム、スチリルリチウム、トリメチルシリルリチウム、１，４－ジリチオブタン、１，５－ジリチオペンタン、１，６－ジリチオヘキサン、１，１０－ジリチオデカン、１，１－ジリチオジフェニレン、ジリチオポリブタジエン、ジリチオポリイソプレン、１，４－ジリチオベンゼン、１，２－ジリチオ－１，２－ジフェニルエタン、１，４－ジリチオ－２－エチルシクロヘキサン、１，３，５－トリリチオベンゼン、１，３，５－トリリチオ－２，４，６－トリエチルベンゼン等の有機リチウム化合物；メチルナトリウム、エチルナトリウム、ｎ－プロピルナトリウム、イソプロピルナトリウム、ｎ－ブチルナトリウム、ｓｅｃ－ブチルナトリウム、ｔｅｒｔ－ブチルナトリウム、イソブチルナトリウム、フェニルナトリウム、ナトリウムナフタレン、シクロペンタジエニルナトリウム等の有機ナトリウム化合物などが挙げられる。中でも、ｎ－ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウムが好ましい。有機アルカリ金属化合物は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明の共重合体の製造方法はアニオン重合を利用するため、アニオン重合開始剤を使用する。該アニオン重合開始剤は、アニオン重合を開始できる化合物であればその種類に制限はない。
アニオン重合開始剤としては、芳香族ビニル化合物および共役ジエン化合物のアニオン重合において一般的に使用される有機アルカリ金属化合物を使用できる。該有機アルカリ金属化合物としては、例えばメチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルリチウム、イソブチルリチウム、ペンチルリチウム、ヘキシルリチウム、ブタジエニリルリチウム、シクロヘキシルリチウム、フェニルリチウム、ベンジルリチウム、ｐ－トルイルリチウム、スチリルリチウム、トリメチルシリルリチウム、１，４－ジリチオブタン、１，５－ジリチオペンタン、１，６－ジリチオヘキサン、１，１０－ジリチオデカン、１，１－ジリチオジフェニレン、ジリチオポリブタジエン、ジリチオポリイソプレン、１，４－ジリチオベンゼン、１，２－ジリチオ－１，２－ジフェニルエタン、１，４－ジリチオ－２－エチルシクロヘキサン、１，３，５－トリリチオベンゼン、１，３，５－トリリチオ－２，４，６－トリエチルベンゼン等の有機リチウム化合物；メチルナトリウム、エチルナトリウム、ｎ－プロピルナトリウム、イソプロピルナトリウム、ｎ－ブチルナトリウム、ｓｅｃ－ブチルナトリウム、ｔｅｒｔ－ブチルナトリウム、イソブチルナトリウム、フェニルナトリウム、ナトリウムナフタレン、シクロペンタジエニルナトリウム等の有機ナトリウム化合物などが挙げられる。中でも、ｎ－ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウムが好ましい。有機アルカリ金属化合物は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
アニオン重合開始剤の使用量は、所望とするリビングアニオン重合体の重量平均分子量または反応液の固形分濃度に応じて適宜設定できるが、例えば、原料モノマーの総量／アニオン重合開始剤（モル比）が１０～３，０００となることが好ましく、５０～２，５００となることがより好ましく、１００～２，５００となることがさらに好ましく、１００～２，０００となることが特に好ましく、１００～１，５００となることが最も好ましい。
（ルイス塩基）
本発明の共重合体の製造方法では、重合反応を制御する観点、特に、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を得るという観点から、ルイス塩基を使用してもよく、また、使用することが好ましい。該ルイス塩基としては、アニオン重合開始剤および成長末端アニオンと実質的に反応しない有機化合物であれば、その種類に特に制限はない。
ルイス塩基を使用する場合、ルイス塩基と、アニオン重合に用いる重合開始剤（アニオン重合開始剤）とのモル比（ルイス塩基／重合開始剤）は、０．０１～１，０００であることが好ましく、０．０１～４００であることがより好ましく、０．１～５０であることがさらに好ましく、０．１～２０であることが特に好ましい。この範囲であると、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を達成し易い。
本発明の共重合体の製造方法では、重合反応を制御する観点、特に、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を得るという観点から、ルイス塩基を使用してもよく、また、使用することが好ましい。該ルイス塩基としては、アニオン重合開始剤および成長末端アニオンと実質的に反応しない有機化合物であれば、その種類に特に制限はない。
ルイス塩基を使用する場合、ルイス塩基と、アニオン重合に用いる重合開始剤（アニオン重合開始剤）とのモル比（ルイス塩基／重合開始剤）は、０．０１～１，０００であることが好ましく、０．０１～４００であることがより好ましく、０．１～５０であることがさらに好ましく、０．１～２０であることが特に好ましい。この範囲であると、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を達成し易い。
ルイス塩基としては、（ｉ）分子内にエーテル結合および第三級アミノ基からなる群から選択される少なくとも１つを有する化合物［以下、ルイス塩基（ｉ）と称する。］が挙げられ、ルイス塩基（ｉ）の中でも、（ｉ-１）非共有電子対を有する原子１つを有する化合物［以下、ルイス塩基（ｉ-１）と称する。］および（ｉ-２）非共有電子対を有する原子２つ以上を有する化合物［以下、ルイス塩基（ｉ-２）と称する。］が挙げられる。
ルイス塩基としては、単座配位性を有するものであってもよいし、多座配位性を有するものであってもよい。また、ルイス塩基は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
ルイス塩基としては、単座配位性を有するものであってもよいし、多座配位性を有するものであってもよい。また、ルイス塩基は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
（ルイス塩基（ｉ））
ルイス塩基（ｉ）の中でも、ルイス塩基（ｉ-１）の具体例としては、ジメチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、ジオクチルエーテル、エチルフェニルエーテル、ジフェニルエーテル等の非環状モノエーテル；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等の、好ましくは合計炭素数２～４０（より好ましくは合計炭素数２～２０）の環状モノエーテル；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリｓｅｃ－ブチルアミン、トリｔｅｒｔ－ブチルアミン、トリｔｅｒｔ－ヘキシルアミン、トリｔｅｒｔ－オクチルアミン、トリｔｅｒｔ－デシルアミン、トリｔｅｒｔ－ドデシルアミン、トリｔｅｒｔ－テトラデシルアミン、トリｔｅｒｔ－ヘキサデシルアミン、トリｔｅｒｔ－オクタデシルアミン、トリｔｅｒｔ－テトラコサニルアミン、トリｔｅｒｔ－オクタコサニルアミン、１－メチル－１－アミノ－シクロヘキサン、トリペンチルアミン、トリイソペンチルアミン、トリネオペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルｓｅｃ－ブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルｔｅｒｔ－ブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルペンチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソペンチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルネオペンチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルヘプチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルオクチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルノニルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルデシルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルウンデシルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルドデシルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルフェニルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジプロピルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジブチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソブチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジｓｅｃ－ブチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジｔｅｒｔ－ブチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジペンチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソペンチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジネオペンチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジヘキシルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジヘプチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジオクチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジノニルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジデシルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジウンデシルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジドデシルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジフェニルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジベンジルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジプロピルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジブチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソブチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジｓｅｃ－ブチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジｔｅｒｔ－ブチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジペンチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソペンチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジネオペンチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジヘキシルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジヘプチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジオクチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジノニルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジデシルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジウンデシルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジドデシルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジフェニルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジベンジルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン、Ｎ－エチルピペラジン、Ｎ－メチル－Ｎ－エチルアニリン、Ｎ－メチルモルホリン等の、好ましくは合計炭素数３～６０（より好ましくは合計炭素数３～１５）の第三級モノアミンなどが挙げられる。
ルイス塩基（ｉ）の中でも、ルイス塩基（ｉ-１）の具体例としては、ジメチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、ジオクチルエーテル、エチルフェニルエーテル、ジフェニルエーテル等の非環状モノエーテル；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等の、好ましくは合計炭素数２～４０（より好ましくは合計炭素数２～２０）の環状モノエーテル；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリｓｅｃ－ブチルアミン、トリｔｅｒｔ－ブチルアミン、トリｔｅｒｔ－ヘキシルアミン、トリｔｅｒｔ－オクチルアミン、トリｔｅｒｔ－デシルアミン、トリｔｅｒｔ－ドデシルアミン、トリｔｅｒｔ－テトラデシルアミン、トリｔｅｒｔ－ヘキサデシルアミン、トリｔｅｒｔ－オクタデシルアミン、トリｔｅｒｔ－テトラコサニルアミン、トリｔｅｒｔ－オクタコサニルアミン、１－メチル－１－アミノ－シクロヘキサン、トリペンチルアミン、トリイソペンチルアミン、トリネオペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルｓｅｃ－ブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルｔｅｒｔ－ブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルペンチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソペンチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルネオペンチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルヘプチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルオクチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルノニルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルデシルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルウンデシルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルドデシルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルフェニルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジプロピルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジブチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソブチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジｓｅｃ－ブチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジｔｅｒｔ－ブチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジペンチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソペンチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジネオペンチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジヘキシルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジヘプチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジオクチルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジノニルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジデシルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジウンデシルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジドデシルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジフェニルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジベンジルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジプロピルモノメチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジブチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソブチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジｓｅｃ－ブチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジｔｅｒｔ－ブチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジペンチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソペンチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジネオペンチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジヘキシルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジヘプチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジオクチルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジノニルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジデシルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジウンデシルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジドデシルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジフェニルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジベンジルモノエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン、Ｎ－エチルピペラジン、Ｎ－メチル－Ｎ－エチルアニリン、Ｎ－メチルモルホリン等の、好ましくは合計炭素数３～６０（より好ましくは合計炭素数３～１５）の第三級モノアミンなどが挙げられる。
ルイス塩基（ｉ-１）は、アニオン重合開始剤の金属原子に対して単座配位性を有するルイス塩基である。
ルイス塩基（ｉ-１）としては、重合反応を制御する観点、特に、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を得るという観点から、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエチルアミンが好ましい。
ルイス塩基（ｉ-１）を使用する場合、ルイス塩基（ｉ-１）中の非共有電子対を有する原子と、前記アニオン重合に用いる重合開始剤の金属原子とのモル比（非共有電子対を有する原子／重合開始剤の金属原子）が０．０１～１，０００であることが好ましく、０．１～５００であることがより好ましく、２～３００であることがさらに好ましく、２～１００であることが特に好ましく、２～５０であることが最も好ましい。この範囲であると、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を達成し易い。
ルイス塩基（ｉ-１）としては、重合反応を制御する観点、特に、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を得るという観点から、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエチルアミンが好ましい。
ルイス塩基（ｉ-１）を使用する場合、ルイス塩基（ｉ-１）中の非共有電子対を有する原子と、前記アニオン重合に用いる重合開始剤の金属原子とのモル比（非共有電子対を有する原子／重合開始剤の金属原子）が０．０１～１，０００であることが好ましく、０．１～５００であることがより好ましく、２～３００であることがさらに好ましく、２～１００であることが特に好ましく、２～５０であることが最も好ましい。この範囲であると、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を達成し易い。
ルイス塩基（ｉ）の中でも、ルイス塩基（ｉ-２）の具体例としては、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、１，２－ジイソプロポキシエタン、１，２－ジブトキシエタン、１，２－ジフェノキシエタン、１，２－ジメトキシプロパン、１，２－ジエトキシプロパン、１，２－ジフェノキシプロパン、１，３－ジメトキシプロパン、１，３－ジエトキシプロパン、１，３－ジイソプロポキシプロパン、１，３－ジブトキシプロパン、１，３－ジフェノキシプロパン等の、好ましくは合計炭素数４～８０（より好ましくは合計炭素数４～４０）の非環状ジエーテル；１，４－ジオキサン、２，２－ジ（テトラヒドロフリル）プロパン等の、好ましくは合計炭素数４～８０（より好ましくは合計炭素数４～４０）の環状ジエーテル；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジブチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジブチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリブチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル、トリブチレングリコールジエチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラブチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジエチルエーテル、テトラプロピレングリコールジエチルエーテル、テトラブチレングリコールジエチルエーテル等の、好ましくは合計炭素数６～４０（より好ましくは合計炭素数６～２０）の非環状ポリエーテル；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ’’，Ｎ’’－ペンタメチルジエチレントリアミン、トリス［２－（ジメチルアミノ）エチル］アミン等の、好ましくは合計炭素数６～１２２（より好ましくは合計炭素数６～３２、さらに好ましくは合計炭素数６～１５）のポリアミンなどが挙げられる。
ルイス塩基（ｉ-２）の中には、アニオン重合開始剤の金属原子に対して単座配位性を有するルイス塩基と、アニオン重合開始剤の金属原子に対して多座配位性を有するルイス塩基とがある。
ルイス塩基（ｉ-２）としては、重合反応を制御する観点、特に、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を得るという観点から、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、１，２－ジイソプロポキシエタン、２，２－ジ（テトラヒドロフリル）プロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラエチルエチレンジアミンが好ましい。
ルイス塩基（ｉ-２）としては、重合反応を制御する観点、特に、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を得るという観点から、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、１，２－ジイソプロポキシエタン、２，２－ジ（テトラヒドロフリル）プロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラエチルエチレンジアミンが好ましい。
ルイス塩基（ｉ-２）を使用する場合は、アニオン重合開始剤の金属原子に対して単座配位性を有するルイス塩基と、アニオン重合開始剤の金属原子に対して多座配位性（例えば２座配位性）を有するルイス塩基とで、好ましい使用量に違いがある。ルイス塩基（ｉ-２）は非共有電子対を有する原子２つ以上有するが、このうちの非共有電子対を有する原子２つに着目したとき、それらを連結している最短架橋炭素数が１つである（例えば、－Ｏ－ＣＨ２－Ｏ－、＞Ｎ－ＣＨ２－Ｎ＜など）か、または３つ以上である（例えば、－Ｏ－Ｃ３Ｈ６－Ｏ－、＞Ｎ－Ｃ４Ｈ８－Ｎ＜、－Ｏ－Ｃ３Ｈ６－Ｎ＜など）場合には、各々の原子が単座配位性を有する傾向にある。一方、同じく非共有電子対を有する原子２つに着目したとき、それらを連結している最短架橋炭素数が２つである（例えば、－Ｏ－Ｃ２Ｈ４－Ｏ－、＞Ｎ－Ｃ２Ｈ４－Ｎ＜など）とき、それらの非共有電子対を有する原子２つがアニオン重合開始剤の金属原子１つに対して多座配位（２座配位）する傾向にある。
ルイス塩基（ｉ-２）が単座配位性を有するルイス塩基の場合、ルイス塩基（ｉ-２）中の非共有電子対を有する原子と、前記アニオン重合に用いる重合開始剤の金属原子とのモル比（非共有電子対を有する原子／重合開始剤の金属原子）が０．０１～１，０００であることが好ましく、０．１～５００であることがより好ましく、２～３００であることがさらに好ましく、２～１００であることが特に好ましく、２～５０であることが最も好ましい。この範囲であると、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を達成し易い。
一方、ルイス塩基（ｉ-２）が多座配位性（２座配位性）を有するルイス塩基の場合、ルイス塩基（ｉ-２）中の非共有電子対を有する原子と、前記アニオン重合に用いる重合開始剤の金属原子とのモル比（非共有電子対を有する原子／重合開始剤の金属原子）が０．０１～５０であることが好ましく、０．１～１０であることがより好ましく、０．１～５であることがさらに好ましく、０．３～４であることが特に好ましい。この範囲であると、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を達成し易い。
なお、単座配位性と多座配位性（２座配位性）を併せ持つルイス塩基の場合、単座配位性の非共有電子対を有する原子と、多座配位性（２座配位性）を有する非共有電子対を有する２つ以上の原子の組み合わせそれぞれに着目し、上記記載を参照してルイス塩基の使用量を決定することが好ましい。
一方、ルイス塩基（ｉ-２）が多座配位性（２座配位性）を有するルイス塩基の場合、ルイス塩基（ｉ-２）中の非共有電子対を有する原子と、前記アニオン重合に用いる重合開始剤の金属原子とのモル比（非共有電子対を有する原子／重合開始剤の金属原子）が０．０１～５０であることが好ましく、０．１～１０であることがより好ましく、０．１～５であることがさらに好ましく、０．３～４であることが特に好ましい。この範囲であると、短時間で１，３，７－オクタトリエンの高い転化率を達成し易い。
なお、単座配位性と多座配位性（２座配位性）を併せ持つルイス塩基の場合、単座配位性の非共有電子対を有する原子と、多座配位性（２座配位性）を有する非共有電子対を有する２つ以上の原子の組み合わせそれぞれに着目し、上記記載を参照してルイス塩基の使用量を決定することが好ましい。
（溶媒）
本発明の共重合体の製造方法は、溶媒の不存在下でも実施できるが、効率的に重合熱を除去する目的で、溶媒の存在下で実施することが好ましい。
溶媒としては、アニオン重合開始剤および成長末端アニオンと実質的に反応しない溶媒であれば特にその種類に制限はないが、重合時間および転化率を前記ルイス塩基によって精度良く制御する観点からは、炭化水素系溶媒が好ましい。
炭化水素系溶媒としては、例えばイソペンタン（２７．９℃；１ａｔｍでの沸点であり、以下、同様である。）、ペンタン（３６．１℃）、シクロペンタン（４９．３℃）、ヘキサン（６８．７℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、イソヘプタン（９０℃）、イソオクタン（９９℃）、２，２，４－トリメチルペンタン（９９℃）、メチルシクロヘキサン（１０１．１℃）、シクロヘプタン（１１８．１℃）、オクタン（１２５．７℃）、エチルシクロヘキサン（１３２℃）、メチルシクロヘプタン（１３５．８℃）、ノナン（１５０．８℃）、デカン（１７４．１℃）等の飽和脂肪族炭化水素；ベンゼン（８０．１℃）、トルエン（１１０．６℃）、エチルベンゼン（１３６．２℃）、ｐ－キシレン（１３８．４℃）、ｍ－キシレン（１３９．１℃）、ｏ－キシレン（１４４．４℃）、プロピルベンゼン（１５９．２℃）、ブチルベンゼン（１８３．４℃）等の芳香族炭化水素が挙げられる。
原料モノマーの１つである１，３，７－オクタトリエン（沸点１２５．５℃）よりも低い沸点の溶媒を使用すると、溶媒の還流凝縮冷却によって効率的に重合熱を除去でき、好ましい。この観点から、溶媒としては、イソペンタン（２７．９℃）、ペンタン（３６．１℃）、シクロペンタン（４９．３℃）、ヘキサン（６８．７℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、イソヘプタン（９０℃）、イソオクタン（９９℃）、２，２，４－トリメチルペンタン（９９℃）、メチルシクロヘキサン（１０１．１℃）、シクロヘプタン（１１８．１℃）、ベンゼン（８０．１℃）、トルエン（１１０．６℃）が好ましい。同様の観点から、中でも、シクロヘキサン、ｎ－ヘキサンがより好ましい。
溶媒は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明の共重合体の製造方法は、溶媒の不存在下でも実施できるが、効率的に重合熱を除去する目的で、溶媒の存在下で実施することが好ましい。
溶媒としては、アニオン重合開始剤および成長末端アニオンと実質的に反応しない溶媒であれば特にその種類に制限はないが、重合時間および転化率を前記ルイス塩基によって精度良く制御する観点からは、炭化水素系溶媒が好ましい。
炭化水素系溶媒としては、例えばイソペンタン（２７．９℃；１ａｔｍでの沸点であり、以下、同様である。）、ペンタン（３６．１℃）、シクロペンタン（４９．３℃）、ヘキサン（６８．７℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、イソヘプタン（９０℃）、イソオクタン（９９℃）、２，２，４－トリメチルペンタン（９９℃）、メチルシクロヘキサン（１０１．１℃）、シクロヘプタン（１１８．１℃）、オクタン（１２５．７℃）、エチルシクロヘキサン（１３２℃）、メチルシクロヘプタン（１３５．８℃）、ノナン（１５０．８℃）、デカン（１７４．１℃）等の飽和脂肪族炭化水素；ベンゼン（８０．１℃）、トルエン（１１０．６℃）、エチルベンゼン（１３６．２℃）、ｐ－キシレン（１３８．４℃）、ｍ－キシレン（１３９．１℃）、ｏ－キシレン（１４４．４℃）、プロピルベンゼン（１５９．２℃）、ブチルベンゼン（１８３．４℃）等の芳香族炭化水素が挙げられる。
原料モノマーの１つである１，３，７－オクタトリエン（沸点１２５．５℃）よりも低い沸点の溶媒を使用すると、溶媒の還流凝縮冷却によって効率的に重合熱を除去でき、好ましい。この観点から、溶媒としては、イソペンタン（２７．９℃）、ペンタン（３６．１℃）、シクロペンタン（４９．３℃）、ヘキサン（６８．７℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、イソヘプタン（９０℃）、イソオクタン（９９℃）、２，２，４－トリメチルペンタン（９９℃）、メチルシクロヘキサン（１０１．１℃）、シクロヘプタン（１１８．１℃）、ベンゼン（８０．１℃）、トルエン（１１０．６℃）が好ましい。同様の観点から、中でも、シクロヘキサン、ｎ－ヘキサンがより好ましい。
溶媒は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
溶媒の使用量に特に制限はないが、アニオン重合終了後の反応液の固形分濃度が好ましくは１０～８０質量％、より好ましくは１０～７０質量％、さらに好ましくは１５～６５質量％、特に好ましくは１５～５５質量％、最も好ましくは２５～５５質量％となるように調整する。また、反応系内におけるリビングアニオン重合体の濃度が５質量％以上となるように調整することが好ましく、リビングアニオン重合体の濃度が１０～８０質量％となるように調整することがより好ましい。このような量で溶媒を使用すれば、工業生産に適した水準で重合熱の除去を達成でき、そのため、重合時間の短縮をし易く、且つ１，３，７－オクタトリエンの高転化率を達成し易い。さらに、このような量で溶媒を使用すれば、分子量分布を狭くし易い。
（反応器）
反応器の形式に特段の制限はなく、完全混合型反応器、管型反応器、およびこれらを２基以上直列または並列に接続した反応装置を使用できる。高い溶液粘度で狭い分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）の共重合体を製造する観点から、完全混合型反応器を用いることが好適である。反応器の攪拌翼に特に制限はないが、マックスブレンド翼、フルゾーン翼、パドル翼、プロペラ翼、タービン翼、ファンタービン翼、ファウドラー翼、ブルーマージン翼等が挙げられ、これらのいずれかを２つ以上組み合わせたものでもよい。得られる重合体溶液の粘度が高い場合は、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を狭くすることおよびジャケット除熱を促進する観点から、マックスブレンド翼、フルゾーン翼を用いることが好ましい。
攪拌方法としては、上部攪拌であってもよいし、下部攪拌であってもよい。
重合方法に特に制限はなく、回分式、半回分式、連続式のいずれで実施してもよい。完全混合型反応器は、反応器内部の溶液の加熱冷却を目的として外部にジャケットを有していてもよく、その構造には特に制限なく、公知の方式のものが使用できる。また、所望に応じて冷却伝熱を増加させる目的で、反応器内部に冷却バッフルまたは冷却コイル等を付設してもよい。さらに、気相部分に直接式または間接式に還流凝縮器を付設してもよい。重合熱の除去量を制御する観点から、不活性ガスを用いて反応器を加圧してもよいし、大気圧以下になるように減圧してもよい。反応器の内圧を大気圧以下にする場合には、不活性ガスを排気するためのポンプを、還流凝縮器を介して設置していてもよい。還流凝縮器の構造に特に制限はないが、多管式還流凝縮器を使用することが好ましい。還流凝縮器は直列または並列で複数の還流凝縮器を連結していてもよく、各々の還流凝縮器に異なる冷媒を通じてもよい。還流凝縮器に通じる冷媒の温度は、還流する溶媒が凍結しない温度から反応液温度までの範囲であれば特に制限はないが、好ましくは－２０～５０℃、より好ましくは５～３０℃であれば、大型冷凍機を必要とせず、経済的である。
反応器の形式に特段の制限はなく、完全混合型反応器、管型反応器、およびこれらを２基以上直列または並列に接続した反応装置を使用できる。高い溶液粘度で狭い分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）の共重合体を製造する観点から、完全混合型反応器を用いることが好適である。反応器の攪拌翼に特に制限はないが、マックスブレンド翼、フルゾーン翼、パドル翼、プロペラ翼、タービン翼、ファンタービン翼、ファウドラー翼、ブルーマージン翼等が挙げられ、これらのいずれかを２つ以上組み合わせたものでもよい。得られる重合体溶液の粘度が高い場合は、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を狭くすることおよびジャケット除熱を促進する観点から、マックスブレンド翼、フルゾーン翼を用いることが好ましい。
攪拌方法としては、上部攪拌であってもよいし、下部攪拌であってもよい。
重合方法に特に制限はなく、回分式、半回分式、連続式のいずれで実施してもよい。完全混合型反応器は、反応器内部の溶液の加熱冷却を目的として外部にジャケットを有していてもよく、その構造には特に制限なく、公知の方式のものが使用できる。また、所望に応じて冷却伝熱を増加させる目的で、反応器内部に冷却バッフルまたは冷却コイル等を付設してもよい。さらに、気相部分に直接式または間接式に還流凝縮器を付設してもよい。重合熱の除去量を制御する観点から、不活性ガスを用いて反応器を加圧してもよいし、大気圧以下になるように減圧してもよい。反応器の内圧を大気圧以下にする場合には、不活性ガスを排気するためのポンプを、還流凝縮器を介して設置していてもよい。還流凝縮器の構造に特に制限はないが、多管式還流凝縮器を使用することが好ましい。還流凝縮器は直列または並列で複数の還流凝縮器を連結していてもよく、各々の還流凝縮器に異なる冷媒を通じてもよい。還流凝縮器に通じる冷媒の温度は、還流する溶媒が凍結しない温度から反応液温度までの範囲であれば特に制限はないが、好ましくは－２０～５０℃、より好ましくは５～３０℃であれば、大型冷凍機を必要とせず、経済的である。
（重合温度）
重合温度に特に制限はないが、薬品の凝固点を超える温度以上、且つ薬品が熱分解しない温度以下の範囲で実施することが好ましい。好ましくは－５０～２００℃、より好ましくは－２０～１２０℃、さらに好ましくは１５～１００℃であれば、重合時間の短縮と１，３，７－オクタトリエンの高転化率を維持したままで、成長末端アニオンの部分的熱劣化に起因する低分子量重合体の生成を抑制してなる力学物性に優れた共重合体を製造できる。
重合温度に特に制限はないが、薬品の凝固点を超える温度以上、且つ薬品が熱分解しない温度以下の範囲で実施することが好ましい。好ましくは－５０～２００℃、より好ましくは－２０～１２０℃、さらに好ましくは１５～１００℃であれば、重合時間の短縮と１，３，７－オクタトリエンの高転化率を維持したままで、成長末端アニオンの部分的熱劣化に起因する低分子量重合体の生成を抑制してなる力学物性に優れた共重合体を製造できる。
（重合圧力）
成長末端アニオンと反応して重合反応を阻害するような物質、例えば酸素と水を含有する大気の混入が抑制される限りにおいて、本発明の重合は好適に実施できる。
重合温度以下の沸点を有する溶媒を使用する場合には、不活性ガスによって圧力を制御して溶媒蒸気の発生量を制御することで温度を制御してもよく、重合温度を超える沸点を有する溶媒を使用する場合には排気ポンプを用いて反応系内を減圧し、溶媒の蒸気の発生量を制御することで温度を制御してもよい。
重合圧力に特に制限はないが、０．０１～１０ＭＰａＧ、より好ましくは０．１～１ＭＰａＧであれば、不活性ガスの使用量低減のみならず、高い耐圧の反応器および不活性ガスを系外に排気するポンプが不要となることから経済的有利に重合できる。
成長末端アニオンと反応して重合反応を阻害するような物質、例えば酸素と水を含有する大気の混入が抑制される限りにおいて、本発明の重合は好適に実施できる。
重合温度以下の沸点を有する溶媒を使用する場合には、不活性ガスによって圧力を制御して溶媒蒸気の発生量を制御することで温度を制御してもよく、重合温度を超える沸点を有する溶媒を使用する場合には排気ポンプを用いて反応系内を減圧し、溶媒の蒸気の発生量を制御することで温度を制御してもよい。
重合圧力に特に制限はないが、０．０１～１０ＭＰａＧ、より好ましくは０．１～１ＭＰａＧであれば、不活性ガスの使用量低減のみならず、高い耐圧の反応器および不活性ガスを系外に排気するポンプが不要となることから経済的有利に重合できる。
（重合時間）
重合時間に特に制限はないが、好ましくは０．１～２４時間、より好ましくは０．５～１２時間であれば、成長末端アニオンの部分的熱劣化に起因する低分子量重合体の生成を抑制し、力学物性に優れた共重合体を製造し易い。
重合時間に特に制限はないが、好ましくは０．１～２４時間、より好ましくは０．５～１２時間であれば、成長末端アニオンの部分的熱劣化に起因する低分子量重合体の生成を抑制し、力学物性に優れた共重合体を製造し易い。
（重合停止剤およびカップリング剤）
本発明の共重合体の製造方法では、反応系へ重合停止剤を添加することによって重合反応を停止することが好ましい。重合停止剤としては、例えば、水素分子；酸素分子；水；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘプタノール、シクロヘキサノール、フェノール、ベンジルアルコール、ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、グリセリン、カテコール等のアルコール；塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、塩化ブチル、臭化ブチル、ヨウ化ブチル、塩化ベンジル、臭化ベンジル、ヨウ化ベンジル、弗化トリメチルシリル、塩化トリメチルシリル、臭化トリメチルシリル、ヨウ化トリメチルシリル、弗化トリエチルシリル、塩化トリエチルシリル、臭化トリエチルシリル、ヨウ化トリエチルシリル、弗化トリブチルシリル、塩化トリブチルシリル、臭化トリブチルシリル、ヨウ化トリブチルシリル、弗化トリフェニルシリル、塩化トリフェニルシリル、臭化トリフェニルシリル、ヨウ化トリフェニルシリル等のハロゲン化合物；２－ヘプタノン、４－メチル－２－ペンタノン、シクロペンタノン、２－ヘキサノン、２－ペンタノン、シクロヘキサノン、３－ペンタノン、アセトフェノン、２－ブタノン、アセトン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル；エチレンオキシド、プロピレンオキシド、１，２－ブチレンオキシド、２，３－ブチレンオキシド、スチレンオキシド、シクロヘキセンオキシド等のエポキシ化合物；メチルジクロロシラン、エチルジクロロシラン、プロピルジクロロシラン、ブチルジクロロシラン、ペンチルジクロロシラン、ヘキシルジクロロシラン、ヘプチルジクロロシラン、オクチルジクロロシラン、ノニルジクロロシラン、デシルジクロロシラン、フェニルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、ジエチルクロロシラン、ジプロピルクロロシラン、ジブチルクロロシラン、ジペンチルクロロシラン、ジヘキシルクロロシラン、ジヘプチルクロロシラン、ジオクチルクロロシラン、ジノニルクロロシラン、ジデシルクロロシラン、メチルプロピルクロロシラン、メチルヘキシルクロロシラン、メチルフェニルクロロシラン、ジフェニルクロロシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルフェノキシシラン、ジメチルベンジルオキシシラン、ジエチルメトキシシラン、ジエチルエトキシシラン、ジエチルプロポキシシラン、ジエチルブトキシシラン、ジエチルフェノキシシラン、ジエチルベンジルオキシシラン、ジプロピルメトキシシラン、ジプロピルエトキシシラン、ジプロピルプロポキシシラン、ジプロピルブトキシシラン、ジプロピルフェノキシシラン、ジプロピルベンジルオキシシラン、ジブチルメトキシシラン、ジブチルエトキシシラン、ジブチルプロポキシシラン、ジブチルブトキシシラン、ジブチルフェノキシシラン、ジブチルベンジルオキシシラン、ジフェニルメトキシシラン、ジフェニルエトキシシラン、ジフェニルプロポキシシラン、ジフェニルブトキシシラン、ジフェニルフェノキシシラン、ジフェニルベンジルオキシシラン、ジメチルシラン、ジエチルシラン、ジプロピルシラン、ジブチルシラン、ジフェニルシラン、ジフェニルメチルシラン、ジフェニルエチルシラン、ジフェニルプロピルシラン、ジフェニルブチルシラン、トリメチルシラン、トリエチルシラン、トリプロピルシラン、トリブチルシラン、トリフェニルシラン、メチルシラン、エチルシラン、プロピルシラン、ブチルシラン、フェニルシラン、メチルジアセトキシシラン、ポリメチルヒドロシロキサン、ポリエチルヒドロシロキサン、ポリプロピルヒドロシロキサン、ポリブチルヒドロシロキサン、ポリペンチルヒドロシロキサン、ポリヘキシルヒドロシロキサン、ポリヘプチルヒドロシロキサン、ポリオクチルヒドロシロキサン、ポリノニルヒドロシロキサン、ポリデシルヒドロシロキサン、ポリフェニルヒドロシロキサン、１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン、メチルヒドロシクロシロキサン、エチルヒドロシクロシロキサン、プロピルヒドロシクロシロキサン、ブチルヒドロシクロシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン、１，１，３，３－テトラメチルジシラザン、１，１，３，３－テトラエチルジシラザン、１，１，３，３－テトラプロピルジシラザン、１，１，３，３－テトラブチルジシラザン、１，１，３，３－テトラフェニルジシラザン等のシリルヒドリド化合物などが挙げられる。
重合停止剤は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
重合停止剤は、重合反応に使用できる溶媒で希釈して用いてもよい。重合停止剤の使用量に特に制限はないが、成長末端アニオンに対して重合停止剤が余剰量とならないようにすることが溶媒回収再使用の観点から好ましく、且つ、共重合体を水素化する場合には水素化触媒の使用量を低減できる点でも好ましい。
本発明の共重合体の製造方法では、反応系へ重合停止剤を添加することによって重合反応を停止することが好ましい。重合停止剤としては、例えば、水素分子；酸素分子；水；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘプタノール、シクロヘキサノール、フェノール、ベンジルアルコール、ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、グリセリン、カテコール等のアルコール；塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、塩化ブチル、臭化ブチル、ヨウ化ブチル、塩化ベンジル、臭化ベンジル、ヨウ化ベンジル、弗化トリメチルシリル、塩化トリメチルシリル、臭化トリメチルシリル、ヨウ化トリメチルシリル、弗化トリエチルシリル、塩化トリエチルシリル、臭化トリエチルシリル、ヨウ化トリエチルシリル、弗化トリブチルシリル、塩化トリブチルシリル、臭化トリブチルシリル、ヨウ化トリブチルシリル、弗化トリフェニルシリル、塩化トリフェニルシリル、臭化トリフェニルシリル、ヨウ化トリフェニルシリル等のハロゲン化合物；２－ヘプタノン、４－メチル－２－ペンタノン、シクロペンタノン、２－ヘキサノン、２－ペンタノン、シクロヘキサノン、３－ペンタノン、アセトフェノン、２－ブタノン、アセトン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル；エチレンオキシド、プロピレンオキシド、１，２－ブチレンオキシド、２，３－ブチレンオキシド、スチレンオキシド、シクロヘキセンオキシド等のエポキシ化合物；メチルジクロロシラン、エチルジクロロシラン、プロピルジクロロシラン、ブチルジクロロシラン、ペンチルジクロロシラン、ヘキシルジクロロシラン、ヘプチルジクロロシラン、オクチルジクロロシラン、ノニルジクロロシラン、デシルジクロロシラン、フェニルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、ジエチルクロロシラン、ジプロピルクロロシラン、ジブチルクロロシラン、ジペンチルクロロシラン、ジヘキシルクロロシラン、ジヘプチルクロロシラン、ジオクチルクロロシラン、ジノニルクロロシラン、ジデシルクロロシラン、メチルプロピルクロロシラン、メチルヘキシルクロロシラン、メチルフェニルクロロシラン、ジフェニルクロロシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルフェノキシシラン、ジメチルベンジルオキシシラン、ジエチルメトキシシラン、ジエチルエトキシシラン、ジエチルプロポキシシラン、ジエチルブトキシシラン、ジエチルフェノキシシラン、ジエチルベンジルオキシシラン、ジプロピルメトキシシラン、ジプロピルエトキシシラン、ジプロピルプロポキシシラン、ジプロピルブトキシシラン、ジプロピルフェノキシシラン、ジプロピルベンジルオキシシラン、ジブチルメトキシシラン、ジブチルエトキシシラン、ジブチルプロポキシシラン、ジブチルブトキシシラン、ジブチルフェノキシシラン、ジブチルベンジルオキシシラン、ジフェニルメトキシシラン、ジフェニルエトキシシラン、ジフェニルプロポキシシラン、ジフェニルブトキシシラン、ジフェニルフェノキシシラン、ジフェニルベンジルオキシシラン、ジメチルシラン、ジエチルシラン、ジプロピルシラン、ジブチルシラン、ジフェニルシラン、ジフェニルメチルシラン、ジフェニルエチルシラン、ジフェニルプロピルシラン、ジフェニルブチルシラン、トリメチルシラン、トリエチルシラン、トリプロピルシラン、トリブチルシラン、トリフェニルシラン、メチルシラン、エチルシラン、プロピルシラン、ブチルシラン、フェニルシラン、メチルジアセトキシシラン、ポリメチルヒドロシロキサン、ポリエチルヒドロシロキサン、ポリプロピルヒドロシロキサン、ポリブチルヒドロシロキサン、ポリペンチルヒドロシロキサン、ポリヘキシルヒドロシロキサン、ポリヘプチルヒドロシロキサン、ポリオクチルヒドロシロキサン、ポリノニルヒドロシロキサン、ポリデシルヒドロシロキサン、ポリフェニルヒドロシロキサン、１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン、メチルヒドロシクロシロキサン、エチルヒドロシクロシロキサン、プロピルヒドロシクロシロキサン、ブチルヒドロシクロシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン、１，１，３，３－テトラメチルジシラザン、１，１，３，３－テトラエチルジシラザン、１，１，３，３－テトラプロピルジシラザン、１，１，３，３－テトラブチルジシラザン、１，１，３，３－テトラフェニルジシラザン等のシリルヒドリド化合物などが挙げられる。
重合停止剤は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
重合停止剤は、重合反応に使用できる溶媒で希釈して用いてもよい。重合停止剤の使用量に特に制限はないが、成長末端アニオンに対して重合停止剤が余剰量とならないようにすることが溶媒回収再使用の観点から好ましく、且つ、共重合体を水素化する場合には水素化触媒の使用量を低減できる点でも好ましい。
アニオン重合終了後のガスクロマトグラフィーによって求めた１，３，７－オクタトリエンの転化率は８０．０％以上であることが好ましく、９０．０％以上であることがより好ましく、９５．０％以上であることがさらに好ましく、９７．０％以上であることが特に好ましく、９８．０％以上であることが最も好ましい。
（水素化反応）
共重合体の耐熱性、耐酸化性、耐候性、耐オゾン性等の観点から、共重合体が有する炭素－炭素二重結合の少なくとも一部または全部を水素化してもよい。通常、前記共重合体の製造方法において重合停止することによって得られる重合体溶液または必要に応じて前記溶媒で希釈した重合体溶液に、水素化触媒を添加して水素と作用させることで共重合体の水素化物を製造できる。
共重合体の耐熱性、耐酸化性、耐候性、耐オゾン性等の観点から、共重合体が有する炭素－炭素二重結合の少なくとも一部または全部を水素化してもよい。通常、前記共重合体の製造方法において重合停止することによって得られる重合体溶液または必要に応じて前記溶媒で希釈した重合体溶液に、水素化触媒を添加して水素と作用させることで共重合体の水素化物を製造できる。
水素化触媒としては、例えば、ラネーニッケル；Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｎｉ等の金属をカーボン、アルミナ、珪藻土等の単体に担持させた不均一系触媒；遷移金属化合物とアルキルアルミニウム化合物、アルキルリチウム化合物等との組み合わせからなるチーグラー型触媒；メタロセン系触媒等が挙げられる。
水素化反応の温度は、溶媒の凝固点以上から共重合体の熱分解温度以下である－２０～２５０℃であることが好ましく、共重合体の水素化物を工業的有利に生産する観点から、３０～１５０℃であることがより好ましい。３０℃以上であれば水素化反応が進行し、１５０℃以下であれば水素化触媒の熱分解が併発しても、少ない水素化触媒の使用量で水素化反応を実施できる。水素化触媒の使用量を低減する観点からは、６０～１００℃がさらに好ましい。
水素はガス状で使用でき、その圧力は常圧以上であれば特に制限はないが、共重合体の水素化物を工業的有利に生産する観点から、０．１～２０ＭＰａＧであることが好ましい。２０ＭＰａＧ以下であれば、水素化触媒の水素分解が併発しても、少ない水素化触媒の使用量で水素化反応を実施できる。水素化触媒の使用量を低減する観点からは、０．５～１０ＭＰａＧがより好ましい。
水素化反応に要する時間は条件によって適宜選択できるが、共重合体の水素化物を工業的有利に生産する観点から、触媒との共存開始から１０分～２４時間の範囲であることが好ましい。
水素化反応を終了した後の反応混合液は、必要に応じて前記溶媒で希釈するかまたは濃縮してから、塩基性水溶液または酸性水溶液で洗浄し、水素化触媒を除去することができる。
水素はガス状で使用でき、その圧力は常圧以上であれば特に制限はないが、共重合体の水素化物を工業的有利に生産する観点から、０．１～２０ＭＰａＧであることが好ましい。２０ＭＰａＧ以下であれば、水素化触媒の水素分解が併発しても、少ない水素化触媒の使用量で水素化反応を実施できる。水素化触媒の使用量を低減する観点からは、０．５～１０ＭＰａＧがより好ましい。
水素化反応に要する時間は条件によって適宜選択できるが、共重合体の水素化物を工業的有利に生産する観点から、触媒との共存開始から１０分～２４時間の範囲であることが好ましい。
水素化反応を終了した後の反応混合液は、必要に応じて前記溶媒で希釈するかまたは濃縮してから、塩基性水溶液または酸性水溶液で洗浄し、水素化触媒を除去することができる。
重合反応後に得られる重合体溶液または水素化反応後に得られる重合体溶液は、濃縮操作を施した後に押出機に供給して共重合体を単離してもよいし、スチームと接触させて溶媒等を除去することによって共重合体を単離してもよいし、加熱状態の不活性ガスと接触させて溶媒等を除去することによって共重合体を単離してもよい。
（１，３，７－オクタトリエンの製造方法）
１，３，７－オクタトリエンの製造方法としては、１，３，７－オクタトリエン中の過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇになる限り特に制限はなく、例えば、特公昭４６－２４００３号公報に記載の、パラジウム触媒によってブタジエンを二量化する方法、および特開昭４７－１７７０３号公報に記載の、１－アセトキシ－２，７－オクタジエンの脱アセチル化反応等が利用できる。１，３，７－オクタトリエン中の過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇを超えた場合は、過酸化物およびその分解物の含有量を低減してから１，３，７－オクタトリエンを使用する必要がある。過酸化物およびその分解物の含有量を低減する方法に特に制限はないが、例えば、アルミナ処理；酸化防止剤としての機能を有する、１，３，７－オクタトリエンよりも沸点の高い化合物（例えば、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール、トリフェニルホスフィン等）を１，３，７－オクタトリエンと混合してから蒸留処理する方法などが挙げられる。中でも、アルミナ処理を利用するのが好ましい。
なお、１，３，７－オクタトリエンの製造に際して、二重結合の位置の異なる１，３，６－オクタトリエンまたは２，４，６－オクタトリエン等が副生することが知られている。これらの副生成物の沸点が１，３，７－オクタトリエンの沸点と近いことに起因して、副生成物の１，３，７－オクタトリエンからの蒸留分離が困難であるため、副生成物の少ない１，３，７－オクタトリエンの製造方法を採用することが好ましい。その観点から、前述の通り、ガスクロマトグラフィーによって求めた１，３，７－オクタトリエンの純度が９８．０％を超える１，３，７－オクタトリエンを製造することが好ましい。
１，３，７－オクタトリエンの製造方法としては、１，３，７－オクタトリエン中の過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇになる限り特に制限はなく、例えば、特公昭４６－２４００３号公報に記載の、パラジウム触媒によってブタジエンを二量化する方法、および特開昭４７－１７７０３号公報に記載の、１－アセトキシ－２，７－オクタジエンの脱アセチル化反応等が利用できる。１，３，７－オクタトリエン中の過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇを超えた場合は、過酸化物およびその分解物の含有量を低減してから１，３，７－オクタトリエンを使用する必要がある。過酸化物およびその分解物の含有量を低減する方法に特に制限はないが、例えば、アルミナ処理；酸化防止剤としての機能を有する、１，３，７－オクタトリエンよりも沸点の高い化合物（例えば、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール、トリフェニルホスフィン等）を１，３，７－オクタトリエンと混合してから蒸留処理する方法などが挙げられる。中でも、アルミナ処理を利用するのが好ましい。
なお、１，３，７－オクタトリエンの製造に際して、二重結合の位置の異なる１，３，６－オクタトリエンまたは２，４，６－オクタトリエン等が副生することが知られている。これらの副生成物の沸点が１，３，７－オクタトリエンの沸点と近いことに起因して、副生成物の１，３，７－オクタトリエンからの蒸留分離が困難であるため、副生成物の少ない１，３，７－オクタトリエンの製造方法を採用することが好ましい。その観点から、前述の通り、ガスクロマトグラフィーによって求めた１，３，７－オクタトリエンの純度が９８．０％を超える１，３，７－オクタトリエンを製造することが好ましい。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はかかる実施例により何ら限定されるものではない。
なお、１，３，７－オクタトリエンの製造は、特に断りがなくとも、窒素およびアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施した。
薬液はいずれも、特に断りの無い限りは、溶存ガスを不活性ガス置換し、且つ酸化防止剤および水を除去したものを使用した。
１，３，７－オクタトリエンの製造原料である２，７－オクタジエン－１－オールは、株式会社クラレ製の純度９９．５４％の２，７－オクタジエン－１－オールを使用した。該純度は、下記測定方法に従って求めた。
なお、１，３，７－オクタトリエンの製造は、特に断りがなくとも、窒素およびアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施した。
薬液はいずれも、特に断りの無い限りは、溶存ガスを不活性ガス置換し、且つ酸化防止剤および水を除去したものを使用した。
１，３，７－オクタトリエンの製造原料である２，７－オクタジエン－１－オールは、株式会社クラレ製の純度９９．５４％の２，７－オクタジエン－１－オールを使用した。該純度は、下記測定方法に従って求めた。
（２，７－オクタジエン－１－オールの純度の測定方法）
２，７－オクタジエン－１－オールの純度を下記測定条件のガスクロマトグラフィーによる分析によって求めた。具体的には、「保持時間５～２０分に検出されるピーク面積の総和」に対する「保持時間約１７．６分の観測できる１本の２，７－オクタジエン－１－オールに帰属できるピーク面積」の百分率を求め、これを２，７－オクタジエン－１－オールの純度とした。２，７－オクタジエン－１－オールの純度は９９．５４％であった。
＜ガスクロマトグラフィー測定条件＞
装置：株式会社島津製作所製「ＧＣ－２０１０Ｐｌｕｓ」
カラム：Ｒｅｓｔｅｋ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製「Ｒｘｉ－５ｍｓ」（内径０．２５ｍｍ、長さ３０ｍ、膜厚１μｍ）
キャリアガス：ヘリウム（１１３．７ｋＰａＧ）を流量１．３７ｍＬ／分で流通させた。
サンプル注入量：薬液０．１μＬをスプリット比１００／１で注入した。
検出器：ＦＩＤ
検出器温度：２８０℃
気化室温度：２８０℃
昇温条件：７０℃で１２分保持した後、２０℃／分で２８０℃まで昇温した後、５分保時した。
２，７－オクタジエン－１－オールの純度を下記測定条件のガスクロマトグラフィーによる分析によって求めた。具体的には、「保持時間５～２０分に検出されるピーク面積の総和」に対する「保持時間約１７．６分の観測できる１本の２，７－オクタジエン－１－オールに帰属できるピーク面積」の百分率を求め、これを２，７－オクタジエン－１－オールの純度とした。２，７－オクタジエン－１－オールの純度は９９．５４％であった。
＜ガスクロマトグラフィー測定条件＞
装置：株式会社島津製作所製「ＧＣ－２０１０Ｐｌｕｓ」
カラム：Ｒｅｓｔｅｋ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製「Ｒｘｉ－５ｍｓ」（内径０．２５ｍｍ、長さ３０ｍ、膜厚１μｍ）
キャリアガス：ヘリウム（１１３．７ｋＰａＧ）を流量１．３７ｍＬ／分で流通させた。
サンプル注入量：薬液０．１μＬをスプリット比１００／１で注入した。
検出器：ＦＩＤ
検出器温度：２８０℃
気化室温度：２８０℃
昇温条件：７０℃で１２分保持した後、２０℃／分で２８０℃まで昇温した後、５分保時した。
［製造例１］１，３，７－オクタトリエンの製造
（２，７－オクタジエン－１－オールのアセチル化反応）
温度計、窒素導入口、容量２Ｌの滴下ロートおよび攪拌機を備えた容量１０Ｌのフラスコを準備した。内部を窒素で置換し、２，７－オクタジエン－１－オール１５００．８ｇ（１１．８９２ｍｏｌ）、トリエチルアミン１８０６．３ｇ（１７．８５１ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン７２．６０ｇ（０．５９４ｍｏｌ）を順次仕込んだ後に、１４０ｒｐｍで撹拌しながらドライアイスアセトン浴を用いて液温が－４０℃になるまで冷却して混合液を得た。一方で、滴下ロートに無水酢酸１８２１．５ｇ（１７．８４２ｍｏｌ）を仕込み、前記混合液の液温が－５０～－３０℃を維持するように１時間かけて無水酢酸を滴下した。
滴下終了後、１時間反応を続け、蒸留水７００．０ｇを加えて反応を停止した。有機相を回収して５％塩酸１Ｌで２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１Ｌで２回、蒸留水１Ｌで１回、飽和塩化ナトリウム水溶液１Ｌで１回、順次洗浄した。こうして得られた有機相に無水硫酸ナトリウム１７０ｇを加えて脱水した後、無水硫酸ナトリウムを濾去して有機相を回収した。
回収した有機相について、前記２，７－オクタジエン－１－オールの純度分析と同じ条件でガスクロマトグラフィーによって分析し、１－アセトキシ－２，７－オクタジエンの純度を算出した。「保持時間５～２０分に検出されるピーク面積の総和」に対する「保持時間約１９．２分と約１９．３分の観測できる２本のピーク面積の総和」の百分率、つまり１－アセトキシ－２，７－オクタジエンの純度は９９．５１％であった。当該純度の１－アセトキシ－２，７－オクタジエンを１８５１．１ｇ（収率９２．５％）取得した。
（２，７－オクタジエン－１－オールのアセチル化反応）
温度計、窒素導入口、容量２Ｌの滴下ロートおよび攪拌機を備えた容量１０Ｌのフラスコを準備した。内部を窒素で置換し、２，７－オクタジエン－１－オール１５００．８ｇ（１１．８９２ｍｏｌ）、トリエチルアミン１８０６．３ｇ（１７．８５１ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン７２．６０ｇ（０．５９４ｍｏｌ）を順次仕込んだ後に、１４０ｒｐｍで撹拌しながらドライアイスアセトン浴を用いて液温が－４０℃になるまで冷却して混合液を得た。一方で、滴下ロートに無水酢酸１８２１．５ｇ（１７．８４２ｍｏｌ）を仕込み、前記混合液の液温が－５０～－３０℃を維持するように１時間かけて無水酢酸を滴下した。
滴下終了後、１時間反応を続け、蒸留水７００．０ｇを加えて反応を停止した。有機相を回収して５％塩酸１Ｌで２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１Ｌで２回、蒸留水１Ｌで１回、飽和塩化ナトリウム水溶液１Ｌで１回、順次洗浄した。こうして得られた有機相に無水硫酸ナトリウム１７０ｇを加えて脱水した後、無水硫酸ナトリウムを濾去して有機相を回収した。
回収した有機相について、前記２，７－オクタジエン－１－オールの純度分析と同じ条件でガスクロマトグラフィーによって分析し、１－アセトキシ－２，７－オクタジエンの純度を算出した。「保持時間５～２０分に検出されるピーク面積の総和」に対する「保持時間約１９．２分と約１９．３分の観測できる２本のピーク面積の総和」の百分率、つまり１－アセトキシ－２，７－オクタジエンの純度は９９．５１％であった。当該純度の１－アセトキシ－２，７－オクタジエンを１８５１．１ｇ（収率９２．５％）取得した。
（１－アセトキシ－２，７－オクタジエンの脱アセチル化反応）
リービッヒ冷却器を介して受器と接続したクライゼン管蒸留ヘッド、攪拌機および温度計を備えた３Ｌ減圧蒸留装置の内部を窒素で置換し、上記方法で得た１－アセトキシ－２，７－オクタジエン１２０５．７ｇ（７．１６７ｍｏｌ）、酢酸パラジウム２６．７ｇ（０．１１９ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン１２４．８ｇ（０．４７５８ｍｏｌ）を仕込んだ。２００ｒｐｍで攪拌しながら減圧一定装置を用いて内圧を１．５２～１．３５ｋＰａＡに制御し、液温が９０℃になるように加熱しながら８．０ｇ／分で留出させた。留出初期の４１．４ｇを除去した後、その後留出した７９９．７ｇを回収した。
回収留分を０．２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液５００ｍＬで３回、蒸留水５００ｍＬで１回、飽和塩化ナトリウム水溶液５００ｍＬで１回、順次洗浄した。有機相に無水硫酸ナトリウム５０ｇを加えて乾燥した後、無水硫酸ナトリウムを濾去して有機層を回収した。
回収した有機相について、前記２，７－オクタジエン－１－オールの純度分析と同じ条件でガスクロマトグラフィーにより分析したところ、１，３，７－オクタトリエン４６．９％と１－アセトキシ－２，７－オクタジエン２３．７％と３－アセトキシ－１，７－オクタジエン２９．４％からなる混合物であった。有機層６３７．０ｇをマクマホンパッキンで充填してなる内径２５．４ｍｍで高さ２４０ｍｍの蒸留装置に仕込んだ。２２．１～１３．０ｋＰａＡの条件下、７９．１～６０．３℃において還流比が２となるように留分を回収した。
回収した有機相について、前記２，７－オクタジエン－１－オールの純度分析と同じ条件でガスクロマトグラフィーにより分析し、１，３，７－オクタトリエンの純度を算出した。「全オクタトリエンに帰属できる、保持時間５～２０分に検出されるピーク面積の総和」に対する「１，３，７－オクタトリエンに帰属できる、保持時間８．７分と９．０分の付近に観測できる２本のピーク面積の和」の百分率を下記数式１に従って計算したところ、９９．３％であった。ここで、全オクタトリエンとは、１，３，７－オクタトリエンと、１，３，６－オクタトリエン、２，４，６－オクタトリエンおよび１，４，６－オクタトリエン等の二重結合異性体との全てを意味する。
リービッヒ冷却器を介して受器と接続したクライゼン管蒸留ヘッド、攪拌機および温度計を備えた３Ｌ減圧蒸留装置の内部を窒素で置換し、上記方法で得た１－アセトキシ－２，７－オクタジエン１２０５．７ｇ（７．１６７ｍｏｌ）、酢酸パラジウム２６．７ｇ（０．１１９ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン１２４．８ｇ（０．４７５８ｍｏｌ）を仕込んだ。２００ｒｐｍで攪拌しながら減圧一定装置を用いて内圧を１．５２～１．３５ｋＰａＡに制御し、液温が９０℃になるように加熱しながら８．０ｇ／分で留出させた。留出初期の４１．４ｇを除去した後、その後留出した７９９．７ｇを回収した。
回収留分を０．２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液５００ｍＬで３回、蒸留水５００ｍＬで１回、飽和塩化ナトリウム水溶液５００ｍＬで１回、順次洗浄した。有機相に無水硫酸ナトリウム５０ｇを加えて乾燥した後、無水硫酸ナトリウムを濾去して有機層を回収した。
回収した有機相について、前記２，７－オクタジエン－１－オールの純度分析と同じ条件でガスクロマトグラフィーにより分析したところ、１，３，７－オクタトリエン４６．９％と１－アセトキシ－２，７－オクタジエン２３．７％と３－アセトキシ－１，７－オクタジエン２９．４％からなる混合物であった。有機層６３７．０ｇをマクマホンパッキンで充填してなる内径２５．４ｍｍで高さ２４０ｍｍの蒸留装置に仕込んだ。２２．１～１３．０ｋＰａＡの条件下、７９．１～６０．３℃において還流比が２となるように留分を回収した。
回収した有機相について、前記２，７－オクタジエン－１－オールの純度分析と同じ条件でガスクロマトグラフィーにより分析し、１，３，７－オクタトリエンの純度を算出した。「全オクタトリエンに帰属できる、保持時間５～２０分に検出されるピーク面積の総和」に対する「１，３，７－オクタトリエンに帰属できる、保持時間８．７分と９．０分の付近に観測できる２本のピーク面積の和」の百分率を下記数式１に従って計算したところ、９９．３％であった。ここで、全オクタトリエンとは、１，３，７－オクタトリエンと、１，３，６－オクタトリエン、２，４，６－オクタトリエンおよび１，４，６－オクタトリエン等の二重結合異性体との全てを意味する。
上記方法で得た１，３，７－オクタトリエン中の過酸化物およびその分解物の合計含有量を下記測定方法に従って測定した。
（過酸化物およびその分解物の合計含有量の測定方法）
ガス供給口および凝縮器を備えた１００ｍＬの三つ口フラスコを窒素置換した後に、上記方法で得た１，３，７－オクタトリエン５．００ｇを精秤し、イソプロピルアルコール２０．０ｇ、蒸留水５．０ｇおよび酢酸２．０ｇと、さらに蒸留水１．５ｇに溶解したヨウ化カリウム１．６ｇとを添加した後、９５℃のオイルバスを用いて５分間加熱攪拌した。
三つ口フラスコをオイルバスから取り出した後、イソプロピルアルコール６．０ｇおよび蒸留水１．５ｇの混合溶媒で凝縮器内部を洗浄し、洗浄液を三つ口フラスコ内の溶液と混合した。室温まで放冷後、三つ口フラスコへ０．００５ｍｍｏｌ／ｍＬのチオ硫酸ナトリウム水溶液を滴下して、黄色から無色に退色する容量から下記数式２を用いて過酸化物およびその分解物の合計含有量を算出した。１，３，７－オクタトリエン中の過酸化物およびその分解物の合計含有量は、０．０１５ｍｍｏｌ／ｋｇ未満であった。
（過酸化物およびその分解物の合計含有量の測定方法）
ガス供給口および凝縮器を備えた１００ｍＬの三つ口フラスコを窒素置換した後に、上記方法で得た１，３，７－オクタトリエン５．００ｇを精秤し、イソプロピルアルコール２０．０ｇ、蒸留水５．０ｇおよび酢酸２．０ｇと、さらに蒸留水１．５ｇに溶解したヨウ化カリウム１．６ｇとを添加した後、９５℃のオイルバスを用いて５分間加熱攪拌した。
三つ口フラスコをオイルバスから取り出した後、イソプロピルアルコール６．０ｇおよび蒸留水１．５ｇの混合溶媒で凝縮器内部を洗浄し、洗浄液を三つ口フラスコ内の溶液と混合した。室温まで放冷後、三つ口フラスコへ０．００５ｍｍｏｌ／ｍＬのチオ硫酸ナトリウム水溶液を滴下して、黄色から無色に退色する容量から下記数式２を用いて過酸化物およびその分解物の合計含有量を算出した。１，３，７－オクタトリエン中の過酸化物およびその分解物の合計含有量は、０．０１５ｍｍｏｌ／ｋｇ未満であった。
以上より、純度９９．３％および過酸化物およびその分解物の合計含有量０．０１５ｍｍｏｌ／ｋｇ未満の１，３，７－オクタトリエンを得た。結果を表１に示す。
［製造例２］１，３，７－オクタトリエンの製造
製造例１において、１，３，７－オクタトリエンの純度が表１に記載の通りとなるように反応系からの１，３，７－オクタトリエンの留出速度を６．０ｇ／分としたこと以外は同様にして操作を行った。但し、蒸留精製してなる１，３，７－オクタトリエンに１０質量％の中性活性アルミナを加えて窒素雰囲気下で２０時間保存した。得られた１，３，７－オクタトリエンの純度並びに過酸化物およびその分解物の合計含有量について表１に示す。
製造例１において、１，３，７－オクタトリエンの純度が表１に記載の通りとなるように反応系からの１，３，７－オクタトリエンの留出速度を６．０ｇ／分としたこと以外は同様にして操作を行った。但し、蒸留精製してなる１，３，７－オクタトリエンに１０質量％の中性活性アルミナを加えて窒素雰囲気下で２０時間保存した。得られた１，３，７－オクタトリエンの純度並びに過酸化物およびその分解物の合計含有量について表１に示す。
［製造例３］１，３，７－オクタトリエンの製造
製造例１において、１，３，７－オクタトリエンの純度が表１に記載の通りとなるように反応系からの１，３，７－オクタトリエンの留出速度を５．０ｇ／分としたこと以外は同様にして操作を行った。但し、蒸留精製してなる１，３，７－オクタトリエンに１０質量％の中性活性アルミナを加えて窒素雰囲気下で２０時間保存した。得られた１，３，７－オクタトリエンの純度並びに過酸化物およびその分解物の合計含有量について表１に示す。
製造例１において、１，３，７－オクタトリエンの純度が表１に記載の通りとなるように反応系からの１，３，７－オクタトリエンの留出速度を５．０ｇ／分としたこと以外は同様にして操作を行った。但し、蒸留精製してなる１，３，７－オクタトリエンに１０質量％の中性活性アルミナを加えて窒素雰囲気下で２０時間保存した。得られた１，３，７－オクタトリエンの純度並びに過酸化物およびその分解物の合計含有量について表１に示す。
［製造例４］１，３，７－オクタトリエンの製造
製造例１において、１，３，７－オクタトリエンの純度が表１に記載の通りとなるように反応系からの１，３，７－オクタトリエンの留出速度を２．０ｇ／分としたこと以外は同様にして操作を行った。但し、蒸留精製してなる１，３，７－オクタトリエンに１０質量％の中性活性アルミナを加えて窒素雰囲気下で２０時間保存した。得られた１，３，７－オクタトリエンの純度並びに過酸化物およびその分解物の合計含有量について表１に示す。
製造例１において、１，３，７－オクタトリエンの純度が表１に記載の通りとなるように反応系からの１，３，７－オクタトリエンの留出速度を２．０ｇ／分としたこと以外は同様にして操作を行った。但し、蒸留精製してなる１，３，７－オクタトリエンに１０質量％の中性活性アルミナを加えて窒素雰囲気下で２０時間保存した。得られた１，３，７－オクタトリエンの純度並びに過酸化物およびその分解物の合計含有量について表１に示す。
［製造例５］１，３，７－オクタトリエンの製造（参考例１用）
製造例１で取得した１，３，７－オクタトリエンをガラスフラスコに移送し、空気雰囲気下、２，０００時間冷蔵保存した。得られた１，３，７－オクタトリエンの純度並びに過酸化物およびその分解物の合計含有量について表１に示す。
製造例１で取得した１，３，７－オクタトリエンをガラスフラスコに移送し、空気雰囲気下、２，０００時間冷蔵保存した。得られた１，３，７－オクタトリエンの純度並びに過酸化物およびその分解物の合計含有量について表１に示す。
以下、共重合体の製造は、特に断りがなくとも、アルゴンガス雰囲気下で実施した。
また、各例において使用する試薬は、以下のものを用いた。
スチレンは、和光純薬工業株式会社製のスチレン（安定剤含有）からモレキュラーシーブス３Ａおよび中性活性アルミナを用いて水分および安定剤を除去し、さらにアルゴンガスでバブリングして溶存ガスを置換してから使用した。
ブタジエンは、ＪＳＲ株式会社製のブタジエン（安定剤含有）からモレキュラーシーブス３Ａおよび中性活性アルミナを用いて水分および安定剤を除去し、さらにアルゴンガスでバブリングして溶存ガスを置換してから使用した。
イソプレンは、和光純薬工業株式会社製のイソプレン（安定剤含有）からモレキュラーシーブス３Ａおよび中性活性アルミナを用いて水分および安定剤を除去し、さらにアルゴンガスでバブリングして溶存ガスを置換してから使用した。
シクロヘキサンは、和光純薬工業株式会社製のシクロヘキサン（安定剤不含）からモレキュラーシーブス３Ａを用いて水分を除去し、さらにアルゴンガスでバブリングして溶存ガスを置換してから使用した。
ｓｅｃ－ブチルリチウムは、アジアリチウム株式会社製のｓｅｃ－ブチルリチウムのシクロヘキサン溶液に、上記シクロヘキサンを用いて１．２６ｍｍｏｌ／ｇの濃度に調製したものを使用した。
テトラヒドロフラン（安定剤不含）、ジエチルエーテル（安定剤含有）、トリエチルアミン、１，２－ジエトキシエタン（ＤＥＥ）およびＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）は和光純薬工業株式会社製のものを、２，２－ジ（２－テトラヒドロフリル）プロパン（ＤＴＨＦＰ）は東京化成工業株式会社製のものを、いずれも中性活性アルミナを用いて水分および安定剤を除去し、さらにアルゴンガスでバブリングして溶存ガスを置換してから使用した。
ポリスチレンは、和光純薬工業株式会社製の標準ポリスチレン（重量平均分子量（Ｍｗ）＝１，３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．０６）を使用した。
また、各例において使用する試薬は、以下のものを用いた。
スチレンは、和光純薬工業株式会社製のスチレン（安定剤含有）からモレキュラーシーブス３Ａおよび中性活性アルミナを用いて水分および安定剤を除去し、さらにアルゴンガスでバブリングして溶存ガスを置換してから使用した。
ブタジエンは、ＪＳＲ株式会社製のブタジエン（安定剤含有）からモレキュラーシーブス３Ａおよび中性活性アルミナを用いて水分および安定剤を除去し、さらにアルゴンガスでバブリングして溶存ガスを置換してから使用した。
イソプレンは、和光純薬工業株式会社製のイソプレン（安定剤含有）からモレキュラーシーブス３Ａおよび中性活性アルミナを用いて水分および安定剤を除去し、さらにアルゴンガスでバブリングして溶存ガスを置換してから使用した。
シクロヘキサンは、和光純薬工業株式会社製のシクロヘキサン（安定剤不含）からモレキュラーシーブス３Ａを用いて水分を除去し、さらにアルゴンガスでバブリングして溶存ガスを置換してから使用した。
ｓｅｃ－ブチルリチウムは、アジアリチウム株式会社製のｓｅｃ－ブチルリチウムのシクロヘキサン溶液に、上記シクロヘキサンを用いて１．２６ｍｍｏｌ／ｇの濃度に調製したものを使用した。
テトラヒドロフラン（安定剤不含）、ジエチルエーテル（安定剤含有）、トリエチルアミン、１，２－ジエトキシエタン（ＤＥＥ）およびＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）は和光純薬工業株式会社製のものを、２，２－ジ（２－テトラヒドロフリル）プロパン（ＤＴＨＦＰ）は東京化成工業株式会社製のものを、いずれも中性活性アルミナを用いて水分および安定剤を除去し、さらにアルゴンガスでバブリングして溶存ガスを置換してから使用した。
ポリスチレンは、和光純薬工業株式会社製の標準ポリスチレン（重量平均分子量（Ｍｗ）＝１，３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．０６）を使用した。
また、以下の各例において、１，３，７－オクタトリエン、スチレン、ブタジエンおよびイソプレンの転化率、並びに共重合体の収率、重量平均分子量（Ｍｗ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）、並びに結合様式については、以下の測定方法に従って求めた。
（転化率の測定方法）
重合反応終了後に得た重合停止液５．００ｇに対してエチレングリコールジメチルエーテル１．００ｇを加え、この混合液を以下の測定条件でガスクロマトグラフィーにより分析した。
なお、「重合反応の開始０時間における１，３，７－オクタトリエンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」と「重合反応終了後の未反応１，３，７－オクタトリエンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」から、下記数式３に基づいて１，３，７－オクタトリエンの転化率（％）を算出した。
また、「重合反応の開始０時間としての反応前のスチレンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」と「反応後の未反応スチレンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」から下記数式４に基づいてスチレンの転化率（％）を算出した。
そして、「重合反応の開始０時間としての反応前のブタジエンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」と「反応後の未反応ブタジエンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」から下記数式５に基づいてブタジエンの転化率（％）を算出した。
さらに、「重合反応の開始０時間としての反応前のイソプレンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」と「反応後の未反応イソプレンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」から下記数式６に基づいてイソプレンの転化率（％）を算出した。
＜ガスクロマトグラフィー測定条件＞
装置：株式会社島津製作所製「ＧＣ－１４Ｂ」
カラム：Ｒｅｓｔｅｋ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製「Ｒｘｉ－５ｍｓ」（内径０．２５ｍｍ、長さ３０ｍ、膜厚０．２５μｍ）
キャリアガス：ヘリウム（１４０．０ｋＰａＧ）を流量１．５０ｍＬ／分で流通させた。
サンプル注入量：薬液０．１μＬをスプリット比５０／１で注入した。
検出器：ＦＩＤ
検出器温度：２８０℃
気化室温度：２８０℃
昇温条件：４０℃で１０分保持した後、２０℃／分で２５０℃まで昇温した後、５分保持した。
重合反応終了後に得た重合停止液５．００ｇに対してエチレングリコールジメチルエーテル１．００ｇを加え、この混合液を以下の測定条件でガスクロマトグラフィーにより分析した。
なお、「重合反応の開始０時間における１，３，７－オクタトリエンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」と「重合反応終了後の未反応１，３，７－オクタトリエンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」から、下記数式３に基づいて１，３，７－オクタトリエンの転化率（％）を算出した。
また、「重合反応の開始０時間としての反応前のスチレンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」と「反応後の未反応スチレンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」から下記数式４に基づいてスチレンの転化率（％）を算出した。
そして、「重合反応の開始０時間としての反応前のブタジエンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」と「反応後の未反応ブタジエンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」から下記数式５に基づいてブタジエンの転化率（％）を算出した。
さらに、「重合反応の開始０時間としての反応前のイソプレンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」と「反応後の未反応イソプレンとエチレングリコールジメチルエーテルの相対面積比」から下記数式６に基づいてイソプレンの転化率（％）を算出した。
＜ガスクロマトグラフィー測定条件＞
装置：株式会社島津製作所製「ＧＣ－１４Ｂ」
カラム：Ｒｅｓｔｅｋ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製「Ｒｘｉ－５ｍｓ」（内径０．２５ｍｍ、長さ３０ｍ、膜厚０．２５μｍ）
キャリアガス：ヘリウム（１４０．０ｋＰａＧ）を流量１．５０ｍＬ／分で流通させた。
サンプル注入量：薬液０．１μＬをスプリット比５０／１で注入した。
検出器：ＦＩＤ
検出器温度：２８０℃
気化室温度：２８０℃
昇温条件：４０℃で１０分保持した後、２０℃／分で２５０℃まで昇温した後、５分保持した。
（共重合体の収率の測定方法）
原料モノマーの仕込み量を基準とし、下記数式７に基づいて、得られた共重合体の収率を求めた。
原料モノマーの仕込み量を基準とし、下記数式７に基づいて、得られた共重合体の収率を求めた。
（重量平均分子量（Ｍｗ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）の測定方法）
得られた共重合体０．１０ｇにテトラヒドロフラン６０．０ｇを加えて均一な溶液を調製し、この溶液を以下の測定条件でゲルパーミエーションクロマトグラフィー分析し、標準ポリスチレン換算で重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を求め、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を算出した。
＜ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定条件＞
装置：東ソー株式会社製「ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ ＥｃｏＳＥＣ」
カラム：東ソー株式会社製「ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＭｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＺ－Ｍ」（内径４．６ｍｍ、長さ１５０ｍｍ）を２本直列に接続して使用した。
溶離液：テトラヒドロフランを流量０．３５ｍＬ／分で流通させた。
サンプル注入量：１０μＬ
検出器：ＲＩ
検出器温度：４０℃
得られた共重合体０．１０ｇにテトラヒドロフラン６０．０ｇを加えて均一な溶液を調製し、この溶液を以下の測定条件でゲルパーミエーションクロマトグラフィー分析し、標準ポリスチレン換算で重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を求め、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を算出した。
＜ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定条件＞
装置：東ソー株式会社製「ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ ＥｃｏＳＥＣ」
カラム：東ソー株式会社製「ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＭｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＺ－Ｍ」（内径４．６ｍｍ、長さ１５０ｍｍ）を２本直列に接続して使用した。
溶離液：テトラヒドロフランを流量０．３５ｍＬ／分で流通させた。
サンプル注入量：１０μＬ
検出器：ＲＩ
検出器温度：４０℃
（結合様式）
得られた共重合体１５０ｍｇに重クロロホルム１．００ｇを加えて均一な溶液を調製し、この溶液を以下の測定条件で１３Ｃ－ＮＭＲ測定に供した。
＜１３Ｃ－ＮＭＲ測定条件＞
装置：日本電子株式会社製「ＪＮＭ－ＬＡ５００」
基準物質：テトラメチルシラン
測定温度：２５℃
積算回数：１５，０００回
得られた共重合体１５０ｍｇに重クロロホルム１．００ｇを加えて均一な溶液を調製し、この溶液を以下の測定条件で１３Ｃ－ＮＭＲ測定に供した。
＜１３Ｃ－ＮＭＲ測定条件＞
装置：日本電子株式会社製「ＪＮＭ－ＬＡ５００」
基準物質：テトラメチルシラン
測定温度：２５℃
積算回数：１５，０００回
上記１３Ｃ－ＮＭＲ測定の結果、１，３，７－オクタトリエンの「１，２－結合の炭素原子１つに帰属できるピーク」をδ１３８．１～１３８．６ｐｐｍに観測した。このピーク面積を「面積ａ」と略する。「１，２－結合の炭素原子１つおよび１，４－結合の炭素原子１つに帰属できるピーク」をδ１２６．９～１３２．６ｐｐｍに観測した。このピーク面積を「面積ｂ」と略する。「１，４－結合の炭素原子１つおよび３，４－結合の炭素原子１つに帰属できるピーク」をδ１３８．８～１３９．４ｐｐｍに観測した。このピーク面積を「面積ｃ」と略する。「３，４－結合の炭素原子１つに帰属できるピーク」をδ１４０．９～１４１．６ｐｐｍに観測した。このピーク面積を「面積ｄ」と略する。
ブタジエンの「１，２－結合の炭素原子１つに帰属できるピーク」をδ１４２．２～１４３．７ｐｐｍに観測した。このピーク面積を「面積ｅ」と略する。「１，４－結合の炭素原子２つに帰属できるピークをδ１２６．９～１３２．０ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｆ」と略する。
イソプレンの「１，２－結合の炭素原子１つに帰属できるピーク」をδ１４０．５～１４１．０ｐｐｍに観測した。このピーク面積を「面積ｇ」と略する。「１，４－結合の炭素原子１つに帰属できるピークをδ１２２．０～１２６．９ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｈ」と略する。「３，４－結合の炭素原子１つに帰属できるピークをδ１１０．２～１１２．２ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｉ」と略する。「３，４－結合の炭素原子１つに帰属できるピークをδ１４５．５～１５０．３ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｊ」と略する。
スチレンの「炭素原子１つに帰属できるピークをδ１２５．１～１２６．２ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｋ」と略する。「炭素原子４つに帰属できるピークをδ１２６．９～１２９．０ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｌ」と略する。「炭素原子１つに帰属できるピークをδ１４４．７～１４６．５ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｍ」と略する。
１，３，７－オクタトリエンの、１，２－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ａ」、１，４－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｃ－面積ｄ」、３，４－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｄ」、である。
ブタジエンの、１，２－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｅ」、１，４－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「｛面積ｂ＋面積ｆ＋面積ｌ－（面積ａ＋面積ｃ－面積ｄ）－４×（面積ｊ＋面積ｍ－面積ｉ）｝／２」、である。
イソプレンの、１，２－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｇ」、１，４－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｈ＋面積ｋ－（面積ｊ＋面積ｍ－面積ｉ）」、３，４－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｉ」、である。
スチレンの炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｍ＋面積ｊ－面積ｉ」である。
共重合体に含まれる１，３，７－オクタトリエンに由来する１，２－結合、１，４－結合および３，４－結合の割合、ブタジエンに由来する１，２－結合および１，４－結合の割合、並びにイソプレンに由来する１，２－結合、１，４－結合および３，４－結合の割合は、それぞれ下記数式８～１０から求めた。
ブタジエンの「１，２－結合の炭素原子１つに帰属できるピーク」をδ１４２．２～１４３．７ｐｐｍに観測した。このピーク面積を「面積ｅ」と略する。「１，４－結合の炭素原子２つに帰属できるピークをδ１２６．９～１３２．０ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｆ」と略する。
イソプレンの「１，２－結合の炭素原子１つに帰属できるピーク」をδ１４０．５～１４１．０ｐｐｍに観測した。このピーク面積を「面積ｇ」と略する。「１，４－結合の炭素原子１つに帰属できるピークをδ１２２．０～１２６．９ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｈ」と略する。「３，４－結合の炭素原子１つに帰属できるピークをδ１１０．２～１１２．２ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｉ」と略する。「３，４－結合の炭素原子１つに帰属できるピークをδ１４５．５～１５０．３ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｊ」と略する。
スチレンの「炭素原子１つに帰属できるピークをδ１２５．１～１２６．２ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｋ」と略する。「炭素原子４つに帰属できるピークをδ１２６．９～１２９．０ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｌ」と略する。「炭素原子１つに帰属できるピークをδ１４４．７～１４６．５ｐｐｍ」に観測した。このピーク面積を「面積ｍ」と略する。
１，３，７－オクタトリエンの、１，２－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ａ」、１，４－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｃ－面積ｄ」、３，４－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｄ」、である。
ブタジエンの、１，２－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｅ」、１，４－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「｛面積ｂ＋面積ｆ＋面積ｌ－（面積ａ＋面積ｃ－面積ｄ）－４×（面積ｊ＋面積ｍ－面積ｉ）｝／２」、である。
イソプレンの、１，２－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｇ」、１，４－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｈ＋面積ｋ－（面積ｊ＋面積ｍ－面積ｉ）」、３，４－結合の炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｉ」、である。
スチレンの炭素原子１つに相当するピーク面積は「面積ｍ＋面積ｊ－面積ｉ」である。
共重合体に含まれる１，３，７－オクタトリエンに由来する１，２－結合、１，４－結合および３，４－結合の割合、ブタジエンに由来する１，２－結合および１，４－結合の割合、並びにイソプレンに由来する１，２－結合、１，４－結合および３，４－結合の割合は、それぞれ下記数式８～１０から求めた。
［実施例１］ランダム共重合体の製造
温度計、電気ヒーター、電磁誘導攪拌装置、薬液仕込み口、およびサンプリング口を備えた容量１ＬのＳＵＳ３１６（登録商標）製オートクレーブの内部をアルゴンで置換した後にシクロヘキサン２９３．５ｇを仕込んだ。続いて、アルゴンで内圧を０．１ＭＰａＧにした後、２５０ｒｐｍで攪拌しながら３０分かけて５０℃に昇温した。アルゴン気流下でテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）０．３７０ｇ（５．１４ｍｍｏｌ）を仕込み、続いてｓｅｃ－ブチルリチウムを１．２６０ｍｍｏｌ／ｇ含有するシクロヘキサン溶液０．８２ｇ（ｓｅｃ－ブチルリチウムとして１．０３ｍｍｏｌ）を仕込んだ後に、アルゴンで内圧を０．３ＭＰａＧにした。
一方、製造例１で得た１，３，７－オクタトリエン８０．１６ｇ（０．７４１ｍｏｌ）およびスチレン１１５．７１ｇ（１．１１１ｍｏｌ）を混合してから、ｓｅｃ－ブチルリチウムが内在するオートクレーブに１時間（表２中の「原料モノマーの供給時間」に相当する。）かけて供給した。仕込み開始の時点を重合反応の開始０時間として、液温が５０℃となるように制御しながら２時間（表２中の「原料モノマーの供給時間を含めた重合時間」に相当する。）反応させた。
その後、エタノールを２．５０ｍｍｏｌ／ｇ含有するシクロヘキサン溶液を０．４１２ｇ（エタノールとして１．０３ｍｍｏｌ）を加えて重合反応を停止した。
次いで、得られた重合停止液全量を３Ｌのナスフラスコに移し、ロータリーエバポレーターを用いて１００ｋＰａＡ下で４０℃に加熱しながら溶媒の殆どを留去した。さらに、減圧乾燥器に前記ナスフラスコを移し、０．１ｋＰａＡ下で２５℃に加熱しながら１２時間乾燥させ、固体状の共重合体１９１．２ｇを取得した。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表２に示す。
温度計、電気ヒーター、電磁誘導攪拌装置、薬液仕込み口、およびサンプリング口を備えた容量１ＬのＳＵＳ３１６（登録商標）製オートクレーブの内部をアルゴンで置換した後にシクロヘキサン２９３．５ｇを仕込んだ。続いて、アルゴンで内圧を０．１ＭＰａＧにした後、２５０ｒｐｍで攪拌しながら３０分かけて５０℃に昇温した。アルゴン気流下でテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）０．３７０ｇ（５．１４ｍｍｏｌ）を仕込み、続いてｓｅｃ－ブチルリチウムを１．２６０ｍｍｏｌ／ｇ含有するシクロヘキサン溶液０．８２ｇ（ｓｅｃ－ブチルリチウムとして１．０３ｍｍｏｌ）を仕込んだ後に、アルゴンで内圧を０．３ＭＰａＧにした。
一方、製造例１で得た１，３，７－オクタトリエン８０．１６ｇ（０．７４１ｍｏｌ）およびスチレン１１５．７１ｇ（１．１１１ｍｏｌ）を混合してから、ｓｅｃ－ブチルリチウムが内在するオートクレーブに１時間（表２中の「原料モノマーの供給時間」に相当する。）かけて供給した。仕込み開始の時点を重合反応の開始０時間として、液温が５０℃となるように制御しながら２時間（表２中の「原料モノマーの供給時間を含めた重合時間」に相当する。）反応させた。
その後、エタノールを２．５０ｍｍｏｌ／ｇ含有するシクロヘキサン溶液を０．４１２ｇ（エタノールとして１．０３ｍｍｏｌ）を加えて重合反応を停止した。
次いで、得られた重合停止液全量を３Ｌのナスフラスコに移し、ロータリーエバポレーターを用いて１００ｋＰａＡ下で４０℃に加熱しながら溶媒の殆どを留去した。さらに、減圧乾燥器に前記ナスフラスコを移し、０．１ｋＰａＡ下で２５℃に加熱しながら１２時間乾燥させ、固体状の共重合体１９１．２ｇを取得した。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表２に示す。
［実施例２～２４および２６］ランダム共重合体の製造
実施例１において、各試薬およびその使用量並びに反応条件を表２または表３に記載の通りに変更したこと以外は同様にして重合反応を行ない、共重合体を得た。重合時間は表２または表３に記載の通りであった。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表２および表３に示す。
実施例１において、各試薬およびその使用量並びに反応条件を表２または表３に記載の通りに変更したこと以外は同様にして重合反応を行ない、共重合体を得た。重合時間は表２または表３に記載の通りであった。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表２および表３に示す。
［実施例２５］
実施例１において、各試薬およびその使用量並びに反応条件を表３に記載の通りに変更し、さらに製造例１で得た１，３，７－オクタトリエンの代わりに製造例２で得た１，３，７－オクタトリエンを使用したこと以外は同様にして重合反応を行ない、共重合体を得た。重合時間は表３に記載の通りであった。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表３に示す。
実施例１において、各試薬およびその使用量並びに反応条件を表３に記載の通りに変更し、さらに製造例１で得た１，３，７－オクタトリエンの代わりに製造例２で得た１，３，７－オクタトリエンを使用したこと以外は同様にして重合反応を行ない、共重合体を得た。重合時間は表３に記載の通りであった。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表３に示す。
［実施例２７］
実施例１において、各試薬およびその使用量並びに反応条件を表３に記載の通りに変更し、さらに製造例１で得た１，３，７－オクタトリエンの代わりに製造例３で得た１，３，７－オクタトリエンを使用したこと以外は同様にして重合反応を行ない、共重合体を得た。重合時間は表３に記載の通りであった。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表３に示す。
実施例１において、各試薬およびその使用量並びに反応条件を表３に記載の通りに変更し、さらに製造例１で得た１，３，７－オクタトリエンの代わりに製造例３で得た１，３，７－オクタトリエンを使用したこと以外は同様にして重合反応を行ない、共重合体を得た。重合時間は表３に記載の通りであった。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表３に示す。
［実施例２８］
実施例１において、各試薬およびその使用量並びに反応条件を表３に記載の通りに変更し、さらに製造例１で得た１，３，７－オクタトリエンの代わりに製造例４で得た１，３，７－オクタトリエンを使用したこと以外は同様にして重合反応を行ない、共重合体を得た。重合時間は表３に記載の通りであった。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表３に示す。
実施例１において、各試薬およびその使用量並びに反応条件を表３に記載の通りに変更し、さらに製造例１で得た１，３，７－オクタトリエンの代わりに製造例４で得た１，３，７－オクタトリエンを使用したこと以外は同様にして重合反応を行ない、共重合体を得た。重合時間は表３に記載の通りであった。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表３に示す。
［実施例２９（１）］
実施例１において、各試薬の使用量を表３に記載の通りに変更することによってアニオン重合終了後の反応液の固形分濃度が４０質量％としたこと以外は同様にして反応させ、分子末端にリビングアニオン活性種を有する共重合体を得た。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表３に示す。
実施例１において、各試薬の使用量を表３に記載の通りに変更することによってアニオン重合終了後の反応液の固形分濃度が４０質量％としたこと以外は同様にして反応させ、分子末端にリビングアニオン活性種を有する共重合体を得た。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表３に示す。
［実施例２９（２）］
実施例２９（１）で得たリビングアニオン活性種を有する共重合体を含むオートクレーブに製造例１で得た１，３，７－オクタトリエン２７．８ｇ（０．２５７ｍｏｌ）およびスチレン４１．４ｇ（０．３９７ｍｏｌ）を混合してから加えて反応させ、共重合体を得た。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表３に示す。
実施例２９（１）で得たリビングアニオン活性種を有する共重合体を含むオートクレーブに製造例１で得た１，３，７－オクタトリエン２７．８ｇ（０．２５７ｍｏｌ）およびスチレン４１．４ｇ（０．３９７ｍｏｌ）を混合してから加えて反応させ、共重合体を得た。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表３に示す。
［参考例１］
実施例１において、各試薬およびその使用量並びに反応条件を表３に記載の通りに変更し、さらに製造例１で得た１，３，７－オクタトリエンの代わりに製造例５で得た１，３，７－オクタトリエンを使用したこと以外は同様にして重合反応を行ない、共重合体を得た。重合時間は表３に記載の通りであった。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表３に示す。
実施例１において、各試薬およびその使用量並びに反応条件を表３に記載の通りに変更し、さらに製造例１で得た１，３，７－オクタトリエンの代わりに製造例５で得た１，３，７－オクタトリエンを使用したこと以外は同様にして重合反応を行ない、共重合体を得た。重合時間は表３に記載の通りであった。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表３に示す。
表２および表３中に記載のルイス塩基は、以下のとおりである。
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
Ｅｔ２Ｏ：ジエチルエーテル
ＮＥｔ３：トリエチルアミン
ＴＭＥＤＡ：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン
ＤＥＥ：１，２－ジエトキシエタン
ＤＴＨＦＰ：２，２－ジ（２－テトラヒドロフリル）プロパン
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
Ｅｔ２Ｏ：ジエチルエーテル
ＮＥｔ３：トリエチルアミン
ＴＭＥＤＡ：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン
ＤＥＥ：１，２－ジエトキシエタン
ＤＴＨＦＰ：２，２－ジ（２－テトラヒドロフリル）プロパン
表２および表３より、実施例１～２８において、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体が得られた。また、過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇ以下である１，３，７－オクタトリエンをスチレン等とアニオン重合させることにより、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体を重合制御しながら容易に製造できた。なお、得られた共重合体（実施例参照）は、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が狭い。また、実施例では、短時間で高転化率を達成できる傾向にある。さらに、実施例で得た共重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）が大きい。
［実施例３０］ブロック共重合体の製造
（第１スチレンブロックの製造）
温度計、電気ヒーター、電磁誘導攪拌装置、薬液仕込み口、およびサンプリング口を備えた容量１ＬのＳＵＳ３１６（登録商標）製オートクレーブの内部をアルゴンで置換した後にシクロヘキサン３５０．０ｇを仕込んだ。続いて、アルゴンで内圧を０．１ＭＰａＧにした後、２５０ｒｐｍで攪拌しながら３０分かけて５０℃に昇温した。アルゴン気流下でｓｅｃ－ブチルリチウムを１．２６０ｍｍｏｌ／ｇ含有するシクロヘキサン溶液０．４１７ｇ（ｓｅｃ－ブチルリチウムとして０．５２５ｍｍｏｌ）を仕込んだ。続いて、スチレン５．８３２ｇ（０．０５６ｍｏｌ）を０．１時間よりも短い時間で仕込んでアルゴンで内圧を０．１５ＭＰａＧにした。仕込み開始の時点を重合反応の開始０時間として、液温が５０℃となるように制御しながら１時間（表３中の「第１スチレンの供給時間を含めた第１スチレンブロックの重合時間」に相当する。）反応させた。これによって、第１スチレンブロックを製造した。
（ジエン系ブロックの製造）
続いて、第１スチレンブロックを製造したオートクレーブへテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）０．１８９ｇ（２．６３ｍｍｏｌ）を仕込んだ。その後速やかに、ジエン系モノマーとして、製造例１で得た１，３，７－オクタトリエン２７．１５ｇ（０．２５１ｍｏｌ）を０．１時間よりも短い時間で仕込み、アルゴンで内圧を０．２０ＭＰａＧにした。
ジエン系モノマーの仕込み開始の時点をジエン重合反応の開始０時間として、液温が５０℃となるように制御しながら５時間（表３中の「ジエン系モノマーの供給時間を含めたジエン系ブロックの重合時間」に相当する。）反応させた。これによって、第１スチレンブロックにジエンブロックが結合したジブロック体を製造した。
（第２スチレンブロックの製造）
続いて、スチレン５．８３２ｇ（０．０５６ｍｏｌ）を０．１時間よりも短い時間で仕込み、アルゴンで内圧を０．１５ＭＰａＧにした。仕込み開始の時点を重合反応の開始０時間として、液温が５０℃となるように制御しながら２時間（表３中の「第２スチレンの供給時間を含めた第２スチレンブロックの重合時間」に相当する。）反応させた。これによって、第１スチレンブロックとジエン系ブロックと第２スチレンブロックとが結合してなるトリブロック体を製造した。
その後、エタノールを２．５０ｍｍｏｌ／ｇ含有するシクロヘキサン溶液を０．２１０ｇ（エタノールとして０．５２５ｍｍｏｌ）を加えて重合反応を停止した。
次いで、得られた重合停止液全量を３Ｌのナスフラスコに移し、ロータリーエバポレーターを用いて１００ｋＰａＡ下で４０℃に加熱しながら溶媒の殆どを留去した。さらに、減圧乾燥器に前記ナスフラスコを移し、０．１ｋＰａＡ下で２５℃に加熱しながら１２時間乾燥させ、固体状の共重合体（共重合体Ａと称する。）３７．５７ｇを取得した。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表４に示す。
（第１スチレンブロックの製造）
温度計、電気ヒーター、電磁誘導攪拌装置、薬液仕込み口、およびサンプリング口を備えた容量１ＬのＳＵＳ３１６（登録商標）製オートクレーブの内部をアルゴンで置換した後にシクロヘキサン３５０．０ｇを仕込んだ。続いて、アルゴンで内圧を０．１ＭＰａＧにした後、２５０ｒｐｍで攪拌しながら３０分かけて５０℃に昇温した。アルゴン気流下でｓｅｃ－ブチルリチウムを１．２６０ｍｍｏｌ／ｇ含有するシクロヘキサン溶液０．４１７ｇ（ｓｅｃ－ブチルリチウムとして０．５２５ｍｍｏｌ）を仕込んだ。続いて、スチレン５．８３２ｇ（０．０５６ｍｏｌ）を０．１時間よりも短い時間で仕込んでアルゴンで内圧を０．１５ＭＰａＧにした。仕込み開始の時点を重合反応の開始０時間として、液温が５０℃となるように制御しながら１時間（表３中の「第１スチレンの供給時間を含めた第１スチレンブロックの重合時間」に相当する。）反応させた。これによって、第１スチレンブロックを製造した。
（ジエン系ブロックの製造）
続いて、第１スチレンブロックを製造したオートクレーブへテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）０．１８９ｇ（２．６３ｍｍｏｌ）を仕込んだ。その後速やかに、ジエン系モノマーとして、製造例１で得た１，３，７－オクタトリエン２７．１５ｇ（０．２５１ｍｏｌ）を０．１時間よりも短い時間で仕込み、アルゴンで内圧を０．２０ＭＰａＧにした。
ジエン系モノマーの仕込み開始の時点をジエン重合反応の開始０時間として、液温が５０℃となるように制御しながら５時間（表３中の「ジエン系モノマーの供給時間を含めたジエン系ブロックの重合時間」に相当する。）反応させた。これによって、第１スチレンブロックにジエンブロックが結合したジブロック体を製造した。
（第２スチレンブロックの製造）
続いて、スチレン５．８３２ｇ（０．０５６ｍｏｌ）を０．１時間よりも短い時間で仕込み、アルゴンで内圧を０．１５ＭＰａＧにした。仕込み開始の時点を重合反応の開始０時間として、液温が５０℃となるように制御しながら２時間（表３中の「第２スチレンの供給時間を含めた第２スチレンブロックの重合時間」に相当する。）反応させた。これによって、第１スチレンブロックとジエン系ブロックと第２スチレンブロックとが結合してなるトリブロック体を製造した。
その後、エタノールを２．５０ｍｍｏｌ／ｇ含有するシクロヘキサン溶液を０．２１０ｇ（エタノールとして０．５２５ｍｍｏｌ）を加えて重合反応を停止した。
次いで、得られた重合停止液全量を３Ｌのナスフラスコに移し、ロータリーエバポレーターを用いて１００ｋＰａＡ下で４０℃に加熱しながら溶媒の殆どを留去した。さらに、減圧乾燥器に前記ナスフラスコを移し、０．１ｋＰａＡ下で２５℃に加熱しながら１２時間乾燥させ、固体状の共重合体（共重合体Ａと称する。）３７．５７ｇを取得した。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表４に示す。
［実施例３１～４２］ブロック共重合体の製造
実施例３０において、各試薬およびその使用量並びに反応条件を表４に記載の通りに変更したこと以外は同様にして重合反応を行ない、共重合体Ｂ～Ｍを得た。重合時間は表４に記載の通りであった。なお、実施例３３～３６では第２スチレンブロックは形成しなかった。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表４に示す。
実施例３０において、各試薬およびその使用量並びに反応条件を表４に記載の通りに変更したこと以外は同様にして重合反応を行ない、共重合体Ｂ～Ｍを得た。重合時間は表４に記載の通りであった。なお、実施例３３～３６では第２スチレンブロックは形成しなかった。各試薬の使用量、反応条件および反応成績を表４に示す。
表４中に記載のルイス塩基は、以下のとおりである。
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＴＭＥＤＡ：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＴＭＥＤＡ：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン
表４より、実施例３０～４２においても、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体が得られた。また、過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇ以下である１，３，７－オクタトリエンをスチレン等とアニオン重合させることにより、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体を重合制御しながら容易に製造できた。なお、得られた共重合体（実施例参照）は、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が狭い。また、実施例では、短時間で高転化率を達成できる傾向にある。さらに、実施例で得た共重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）が大きい。
［実施例４３］水素化物の製造
（水素化触媒の調製）
窒素置換してなる１Ｌの三ツ口フラスコにビス（２－エチルヘキサン酸）ニッケル（II）の２－エチルヘキサン酸溶液（和光純薬工業株式会社製）２５．１ｇ（ニッケル原子を５３．５ｍｍｏｌ含有する）をシクロヘキサン２８４．４ｇに溶解した後、トリイソブチルアルミニウム（日本アルキルアルミニウム株式会社製）３１．８ｇ（１６０．３ｍｍｏｌ）を１０分かけて加え、３０分攪拌することによって、水素化触媒を調製し、下記水素化反応に用いた。
（水素化触媒の調製）
窒素置換してなる１Ｌの三ツ口フラスコにビス（２－エチルヘキサン酸）ニッケル（II）の２－エチルヘキサン酸溶液（和光純薬工業株式会社製）２５．１ｇ（ニッケル原子を５３．５ｍｍｏｌ含有する）をシクロヘキサン２８４．４ｇに溶解した後、トリイソブチルアルミニウム（日本アルキルアルミニウム株式会社製）３１．８ｇ（１６０．３ｍｍｏｌ）を１０分かけて加え、３０分攪拌することによって、水素化触媒を調製し、下記水素化反応に用いた。
（水素化反応）
まず、実施例３０と同様の操作によって、オートクレーブ内で、スチレンと１，３，７－オクタトリエンからなるジブロック体（共重合体Ａ）を含むシクロヘキサン溶液を得た。オートクレーブ内部を水素ガスによって置換し、さらに水素ガスで０．２ＭＰａＧまで加圧し、次いで液温が７５℃になるように加温した。
その後、共重合体に対するニッケル金属として１５０質量ｐｐｍ相当の水素化触媒を加えて内圧を０．９８ＭＰａＧにした。水素化触媒を最初に仕込んだ時点を０時間として、０時間にニッケル金属として１５０質量ｐｐｍ、２時間にニッケル金属として１５０質量ｐｐｍ、４時間にニッケル金属として１５０質量ｐｐｍ、６時間にニッケル金属として１５０質量ｐｐｍ、６時間目の触媒仕込みから２時間でさらに反応せしめた。すなわち、合計６００質量ｐｐｍであり、水素化反応の時間は、最初の水素化触媒を導入してから８時間であった。
まず、実施例３０と同様の操作によって、オートクレーブ内で、スチレンと１，３，７－オクタトリエンからなるジブロック体（共重合体Ａ）を含むシクロヘキサン溶液を得た。オートクレーブ内部を水素ガスによって置換し、さらに水素ガスで０．２ＭＰａＧまで加圧し、次いで液温が７５℃になるように加温した。
その後、共重合体に対するニッケル金属として１５０質量ｐｐｍ相当の水素化触媒を加えて内圧を０．９８ＭＰａＧにした。水素化触媒を最初に仕込んだ時点を０時間として、０時間にニッケル金属として１５０質量ｐｐｍ、２時間にニッケル金属として１５０質量ｐｐｍ、４時間にニッケル金属として１５０質量ｐｐｍ、６時間にニッケル金属として１５０質量ｐｐｍ、６時間目の触媒仕込みから２時間でさらに反応せしめた。すなわち、合計６００質量ｐｐｍであり、水素化反応の時間は、最初の水素化触媒を導入してから８時間であった。
まず、水素化前の共重合体１５０ｍｇに重クロロホルム１．００ｇを加えて均一な溶液を調製し、この溶液を以下の測定条件で１Ｈ－ＮＭＲ測定に供した。また、共重合体の水素化物１５０ｍｇに重クロロホルム１．００ｇを加えて均一な溶液を調製し、この溶液も以下の測定条件で１Ｈ－ＮＭＲ測定に供した。
＜１Ｈ－ＮＭＲ測定条件＞
装置：日本電子株式会社製「ＪＮＭ－ＬＡ５００」
基準物質：テトラメチルシラン
測定温度：２５℃
積算回数：２５４回
＜１Ｈ－ＮＭＲ測定条件＞
装置：日本電子株式会社製「ＪＮＭ－ＬＡ５００」
基準物質：テトラメチルシラン
測定温度：２５℃
積算回数：２５４回
１Ｈ－ＮＭＲ測定の結果、オクタトリエンを構成単位とする結合様式として、「１，２－結合の水素原子４つと１，４－結合の水素原子４つと３，４－結合の水素原子４つに帰属できるピーク」をδ４．８～５．５ｐｐｍに、「３，４－結合の水素原子１つに帰属できるピーク」をδ５．５～５．７ｐｐｍに、「１，２－結合の水素原子１つと１，４－結合の水素原子１つと３，４－結合の水素原子１つに帰属できるピーク」をδ５．７～５．９ｐｐｍに観測した。「ポリスチレンブロックの芳香環の水素原子５つに帰属できるピーク」をδ６．２～７．５ｐｐｍに観測した。
ブタジエンを構成単位とする結合様式として、「１，２－結合の水素原子２つに帰属できるピーク」をδ４．８～５．１ｐｐｍに、「１，４－結合の水素原子２つに帰属できるピーク」をδ５．２～５．５ｐｐｍに、「１，２－結合の水素原子１つに帰属できるピーク」をδ５．５～５．７ｐｐｍに観測した。また、イソプレンを構成単位とする結合様式として、「３，４－結合の水素原子２つに帰属できるピーク」をδ４．６～４．８ｐｐｍに、「１，４－結合の水素原子１つに帰属できるピーク」をδ５．１～５．３ｐｐｍに、「１，２－結合の水素原子１つに帰属できるピーク」をδ５．７～６．０ｐｐｍに観測した。
水素化前の共重合体におけるスチレンブロックを形成するスチレンの総モル数に対する水素化されていない１，３，７－オクタトリエンおよびブタジエンおよびイソプレンなどのジエンの二重結合モル数と、水素化処理後の共重合体（水素化物）におけるスチレンブロックを形成するスチレンの総モル数に対する水素化されていない１，３，７－オクタトリエンおよびブタジエンおよびイソプレンなどのジエンの二重結合モル数から、１，３，７－オクタトリエン、並びにブタジエンおよびイソプレン等のその他の共役ジエン化合物（１，３，７－オクタトリエンも含めて、ジエン系化合物と総称する。）に由来する二重結合で水素化されたものの割合としての水素化率を９６．８％と算出した。結果を表５に示す。
ブタジエンを構成単位とする結合様式として、「１，２－結合の水素原子２つに帰属できるピーク」をδ４．８～５．１ｐｐｍに、「１，４－結合の水素原子２つに帰属できるピーク」をδ５．２～５．５ｐｐｍに、「１，２－結合の水素原子１つに帰属できるピーク」をδ５．５～５．７ｐｐｍに観測した。また、イソプレンを構成単位とする結合様式として、「３，４－結合の水素原子２つに帰属できるピーク」をδ４．６～４．８ｐｐｍに、「１，４－結合の水素原子１つに帰属できるピーク」をδ５．１～５．３ｐｐｍに、「１，２－結合の水素原子１つに帰属できるピーク」をδ５．７～６．０ｐｐｍに観測した。
水素化前の共重合体におけるスチレンブロックを形成するスチレンの総モル数に対する水素化されていない１，３，７－オクタトリエンおよびブタジエンおよびイソプレンなどのジエンの二重結合モル数と、水素化処理後の共重合体（水素化物）におけるスチレンブロックを形成するスチレンの総モル数に対する水素化されていない１，３，７－オクタトリエンおよびブタジエンおよびイソプレンなどのジエンの二重結合モル数から、１，３，７－オクタトリエン、並びにブタジエンおよびイソプレン等のその他の共役ジエン化合物（１，３，７－オクタトリエンも含めて、ジエン系化合物と総称する。）に由来する二重結合で水素化されたものの割合としての水素化率を９６．８％と算出した。結果を表５に示す。
［実施例４４～４９］
実施例４３において、共重合体Ａの代わりに、共重合体Ｂ～Ｇを使用したこと以外は同様にして水素化反応を行ない、水素化物を得た。結果を表５に示す。
実施例４３において、共重合体Ａの代わりに、共重合体Ｂ～Ｇを使用したこと以外は同様にして水素化反応を行ない、水素化物を得た。結果を表５に示す。
［実施例５０～５１］
実施例４３において、共重合体Ａの代わりに、共重合体ＨまたはＩを使用し、下記表６に示す水素化反応条件に変更したこと以外は同様にして水素化反応を行ない、水素化物を得た。水素化率、水素化体の重量平均分子量、水素化体の分子量分布について表６に示す。
実施例４３において、共重合体Ａの代わりに、共重合体ＨまたはＩを使用し、下記表６に示す水素化反応条件に変更したこと以外は同様にして水素化反応を行ない、水素化物を得た。水素化率、水素化体の重量平均分子量、水素化体の分子量分布について表６に示す。
［実施例５２］
実施例２６で得た共重合体を２５℃にまで冷却したのちに重合体溶液２００ｇを抜き取り、続いて、シクロヘキサン２９０ｇを導入した。
また、実施例４３と同様にして水素化触媒を調製し、下記水素化反応に用いた。
（水素化反応）
前記重合溶液を内在するオートクレーブ内部を水素ガスによって置換し、さらに水素ガスで０．２ＭＰａＧまで加圧し、次いで液温が８０℃になるように加温した。その後、前記水素化触媒４．８４ｇ（共重合体に対するニッケル金属として３８４質量ｐｐｍ相当）を加え、続いて水素ガスを用いて内圧を０．８ＭＰａＧにして２時間反応させた。
その後、２時間ごとに前記水素化触媒４．８４ｇ（共重合体に対するニッケル金属として３８４質量ｐｐｍ相当）を４回加えた。水素化触媒の使用量は、ニッケル金属換算で、共重合体に対して合計１，９２０質量ｐｐｍであり、水素化反応の時間は、最初の水素化触媒を導入してから１０時間であった。
得られた水素化物の水素化率を実施例４３と同様にして１Ｈ－ＮＭＲ測定によって求めた。また、前記測定方法に従って水素化物の重量平均分子量および分子量分布を求めた。水素化反応条件および結果について表７に示す。
実施例２６で得た共重合体を２５℃にまで冷却したのちに重合体溶液２００ｇを抜き取り、続いて、シクロヘキサン２９０ｇを導入した。
また、実施例４３と同様にして水素化触媒を調製し、下記水素化反応に用いた。
（水素化反応）
前記重合溶液を内在するオートクレーブ内部を水素ガスによって置換し、さらに水素ガスで０．２ＭＰａＧまで加圧し、次いで液温が８０℃になるように加温した。その後、前記水素化触媒４．８４ｇ（共重合体に対するニッケル金属として３８４質量ｐｐｍ相当）を加え、続いて水素ガスを用いて内圧を０．８ＭＰａＧにして２時間反応させた。
その後、２時間ごとに前記水素化触媒４．８４ｇ（共重合体に対するニッケル金属として３８４質量ｐｐｍ相当）を４回加えた。水素化触媒の使用量は、ニッケル金属換算で、共重合体に対して合計１，９２０質量ｐｐｍであり、水素化反応の時間は、最初の水素化触媒を導入してから１０時間であった。
得られた水素化物の水素化率を実施例４３と同様にして１Ｈ－ＮＭＲ測定によって求めた。また、前記測定方法に従って水素化物の重量平均分子量および分子量分布を求めた。水素化反応条件および結果について表７に示す。
本発明の共重合体は、改質剤等の機能性材料として有用である。
Claims (12)
- １，３，７－オクタトリエンと、スチレンとをアニオン重合に付す工程を有する、１，３，７－オクタトリエンに由来する構造単位とスチレンに由来する構造単位とを含有する共重合体の製造方法であって、
前記１，３，７－オクタトリエン中に含まれ得る不純物に過酸化物およびその分解物からなる群から選択される少なくとも１種が含まれ、１，３，７－オクタトリエン中の前記過酸化物およびその分解物の合計含有量が０．３０ｍｍｏｌ／ｋｇ以下である、共重合体の製造方法。 - 前記１，３，７－オクタトリエンのガスクロマトグラフィーによって求めた純度が９８．０％超である、請求項１に記載の共重合体の製造方法。
- 前記アニオン重合をルイス塩基の存在下に実施する、請求項１または２に記載の共重合体の製造方法。
- 前記ルイス塩基と、前記アニオン重合に用いる重合開始剤とのモル比（ルイス塩基／重合開始剤）が０．０１～１，０００である、請求項３に記載の共重合体の製造方法。
- 前記ルイス塩基が、分子内にエーテル結合および第三級アミノ基からなる群から選択される少なくとも１つを有する化合物である、請求項３または４に記載の共重合体の製造方法。
- 前記ルイス塩基が、非共有電子対を有する原子１つを有する化合物である、請求項３～５のいずれか１項に記載の共重合体の製造方法。
- 前記ルイス塩基が、非共有電子対を有する原子２つ以上を有する化合物である、請求項３～５のいずれか１項に記載の共重合体の製造方法。
- 前記ルイス塩基が多座配位性を有する、請求項７に記載の共重合体の製造方法。
- アニオン重合終了後の反応液の固形分濃度が１０～８０質量％である、請求項１～８のいずれか１項に記載の共重合体の製造方法。
- －５０～２００℃でアニオン重合を実施する、請求項１～９のいずれか１項に記載の共重合体の製造方法。
- アニオン重合終了後の、ガスクロマトグラフィーによって求めた１，３，７－オクタトリエンの転化率が８０．０％以上である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の共重合体の製造方法。
- アニオン重合終了後の、ガスクロマトグラフィーによって求めた１，３，７－オクタトリエンの転化率が９０．０％以上である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の共重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
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