JP7069604B2 - Manufacturing method of precipitated silica - Google Patents
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Description
本発明は、沈降シリカの製造法に関する。 The present invention relates to a method for producing precipitated silica.
近年、二酸化炭素の増加に伴い、地球温暖化が危惧されている。二酸化炭素排出量が規制され始め、化石燃料の代替エネルギーが世界中で探索されている。その一つとしてバイオマスエネルギーが注目を集めている。籾殻を燃料としてボイラーを稼働させる工場を有する企業が世界で増加している。籾殻の原料は光合成で生育したイネであるため、籾殻を燃焼しても二酸化炭素を増大させたということにはならない。そのため地球環境に負荷をかけないことを目指す企業がこの技術に注目している。 In recent years, there is concern about global warming due to the increase in carbon dioxide. Carbon dioxide emissions have begun to be regulated, and alternative energy sources for fossil fuels are being sought around the world. Biomass energy is attracting attention as one of them. An increasing number of companies in the world have factories that operate boilers using rice husks as fuel. Since the raw material of rice husks is rice grown by photosynthesis, burning rice husks does not mean that carbon dioxide has increased. Therefore, companies aiming to reduce the burden on the global environment are paying attention to this technology.
しかし、籾殻を燃焼した後に灰が残るが、この灰の処分に企業は苦労している。籾殻には二酸化ケイ素を多量に含んでいるため、コンクリートに混ぜて建築材料として利用されている場合もあるが、非常に安価で取引されるため、企業にとって処理に費用がかかっている。 However, ash remains after burning rice husks, and companies are having a hard time disposing of this ash. Since rice husks contain a large amount of silicon dioxide, they are sometimes mixed with concrete and used as building materials, but because they are traded at a very low price, they are expensive to process.
一方で、いわゆる水ガラスと呼ばれるケイ酸ナトリウム水溶液から工業用の沈降シリカを得る方法は以前から検討され、現在では多くの工業製品が出ている。水ガラスから得られる沈降シリカは、シリカゲルと異なり、粒状で、ろ過しやすく、品質が安定している。沈降シリカの分散時の粒径は、比較的小さく、数μmの場合や1μm以下の場合もある。沈降シリカは、その大きさや比表面積等に応じて、塗料の艶消し、タイヤ、歯磨きの研磨剤等の幅広い用途に応用されている。例えば、特許文献1には、インクジェット記録紙填料やフィルムのアンチブロッキング剤に応用可能な比表面積の大きい沈降シリカの製造法が記載されている。また、特許文献2、3には、タイヤ用途の高分散シリカの製法が記載されている。 On the other hand, a method for obtaining industrial precipitated silica from a so-called water glass aqueous solution of sodium silicate has been studied for a long time, and many industrial products are now available. Precipitated silica obtained from water glass is granular, easy to filter, and stable in quality, unlike silica gel. The particle size of the precipitated silica when dispersed is relatively small, and may be several μm or 1 μm or less. Precipitated silica is applied to a wide range of applications such as matting paints, tires, and abrasives for toothpaste, depending on its size, specific surface area, and the like. For example, Patent Document 1 describes a method for producing precipitated silica having a large specific surface area, which can be applied to an inkjet recording paper filler and an anti-blocking agent for a film. Further, Patent Documents 2 and 3 describe a method for producing highly dispersed silica for tire applications.
沈降シリカは、典型的には、加熱しながら水ガラスと硫酸などの鉱酸を同時に一定の時間をかけてpHを8-10のアルカリ性に保ちながら水に滴下し、最後にpH3に調整し、安定状態に戻し、ろ過、水洗、加熱することによって得られることが良く知られている(非特許文献1)。 Precipitated silica is typically heated by dropping water glass and a mineral acid such as sulfuric acid into water at the same time while keeping the pH alkaline at 8-10 over a period of time, and finally adjusting to pH 3. It is well known that it can be obtained by returning to a stable state, filtering, washing with water, and heating (Non-Patent Document 1).
また、特許文献2、3では、水ガラスをシリカ重量濃度換算で0.5~7%になるように低濃度になるまで希釈し、陽イオン交換樹脂によってナトリウムカチオンを取り除き、加熱することで数nm程度の小さなシリカ粒子が安定に分散した状態である、いわゆるシード液を調製し、それに対して水ガラスと硫酸を同時滴下することによって、高分散かつ粒径の小さなシリカを得ることに成功している。しかし、イオン交換樹脂工程を入れるとコストが上がってしまう。 Further, in Patent Documents 2 and 3, water glass is diluted to a low concentration of 0.5 to 7% in terms of silica weight concentration, sodium cations are removed with a cation exchange resin, and the mixture is heated. We have succeeded in obtaining highly dispersed silica with a small particle size by preparing a so-called seed solution in which small silica particles of about nm are stably dispersed, and by simultaneously dropping water glass and sulfuric acid. ing. However, the cost increases when the ion exchange resin process is included.
また、特許文献4には、希釈したケイ酸ナトリウム水溶液に、希釈したケイ酸ナトリウム水溶液と濃硫酸を滴下することにより、沈降シリカを製造する方法が開示されている。 Further, Patent Document 4 discloses a method for producing precipitated silica by dropping a diluted sodium silicate aqueous solution and concentrated sulfuric acid into a diluted sodium silicate aqueous solution.
沈降シリカ製造に用いられる水ガラスは、珪砂にアルカリを添加し1000℃程度に加熱融解して得られるものであり、この高温加熱にも石油エネルギーが用いられている。したがって、通常の水ガラスから得られる沈降シリカを用いる製品は二酸化炭素を増加させている製品と言える。特許文献1~4に用いられている水ガラス、すなわちケイ酸ソーダは鉱物由来であり、シリカとアルカリのモル比SiO2/Na2O=2~4のものが使用されている。 The water glass used for producing precipitated silica is obtained by adding an alkali to silica sand and heating and melting it at about 1000 ° C., and petroleum energy is also used for this high temperature heating. Therefore, it can be said that a product using precipitated silica obtained from ordinary water glass is a product that increases carbon dioxide. The water glass used in Patent Documents 1 to 4, that is, sodium silicate is derived from a mineral, and a silica-alkali molar ratio SiO 2 / Na 2 O = 2 to 4 is used.
特許文献5では、籾殻灰等を水酸化ナトリウム水溶液に懸濁し、100℃前後で加熱、攪拌することで得られるケイ酸アルカリ水溶液を、濃硫酸と同時に水に滴下することにより、沈降シリカを得ている。しかし、この方法では、粒径の大きな沈降シリカしか得られない。 In Patent Document 5, precipitated silica is obtained by suspending rice husk ash or the like in an aqueous solution of sodium hydroxide, heating and stirring at around 100 ° C., and dropping an aqueous solution of silicate alkali obtained by dropping it into water at the same time as concentrated sulfuric acid. ing. However, this method can only obtain precipitated silica with a large particle size.
また、特許文献6では、籾殻灰から得た水ガラスを希釈し、それに酸を加えて沈降シリカを得ているが、水ガラスに直接酸を加えているため、短時間かつ高濃度の状態でpHが凡そ9から3の大きな範囲で変化するので、一部ゲル化が起こっている。また、この方法では、粒径の大きな沈降シリカしか得られない。 Further, in Patent Document 6, water glass obtained from rice husk ash is diluted and acid is added to obtain precipitated silica. However, since acid is directly added to water glass, the acid is added directly to the water glass in a short time and in a high concentration state. Since the pH changes in a large range of about 9 to 3, some gelation occurs. Further, with this method, only precipitated silica having a large particle size can be obtained.
本発明は、分散性がよく、且つ表面積の大きい沈降シリカを製造する方法を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a method for producing precipitated silica having good dispersibility and a large surface area.
本発明者らは、種々検討の結果、まず、籾殻灰をアルカリで抽出してケイ酸アルカリ水溶液を調製し、次いで、ケイ酸アルカリ水溶液を水で希釈し、所定のpHに調整してシード液を調製し、次いで、シード液にpHを維持しながらケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を同時に滴下することにより、分散性がよく、且つ表面積の大きい沈降シリカが簡便に製造できることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of various studies, the present inventors first extract rice husk ash with an alkali to prepare an alkaline silicate aqueous solution, and then dilute the alkaline silicate aqueous solution with water and adjust the pH to a predetermined pH to prepare a seed solution. Then, by simultaneously dropping an alkaline silicate aqueous solution and a mineral acid into the seed solution while maintaining the pH, it was found that precipitated silica having good dispersibility and a large surface area can be easily produced. Completed.
すなわち、本発明は、以下を包含する。
[1]
沈降シリカの製造方法であって、
下記工程A~Cを含む、方法:
(A)シリカ含有植物体の灰をアルカリ水溶液中で加熱することにより、ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2を調製する工程;
(B)前記ケイ酸アルカリ水溶液S1のpHを8~10に調整することにより、シード液を調製する工程;
(C)前記シード液に、前記ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸を滴下することにより、沈降シリカを調製する工程。
[2]
前記工程Bが、前記ケイ酸アルカリ水溶液S1を希釈することを含む、前記方法。
[3]
前記希釈が、前記pH調整の前に実施される、前記方法。
[4]
前記希釈後の前記ケイ酸アルカリ水溶液S1中のシリカ濃度が、0.03%(w/w)~1.0%(w/w)である、前記方法。
[5]
前記シード液中のシリカ濃度が、0.03%(w/w)~1.0%(w/w)である、前記方法。
[6]
前記工程Bにおいて、前記ケイ酸アルカリ水溶液S1のpHが、鉱酸の添加により8~10に調整される、前記方法。
[7]
前記工程Bにおいて、前記ケイ酸アルカリ水溶液S1のpHが、鉱酸の添加により2~4に調整された後に、さらにアルカリの添加により8~10に調整される、前記方法。
[8]
前記pH調整に用いられるアルカリが、ケイ酸アルカリ水溶液S3であり、
前記工程Aが、下記工程A1である、前記方法:
(A1)シリカ含有植物体の灰をアルカリ水溶液中で加熱することにより、ケイ酸アルカリ水溶液S1、S2、およびS3を調製する工程。
[9]
前記工程Cで滴下される鉱酸が、0.1モル/L~2モル/Lの硫酸である、前記方法。
[10]
前記工程Cにおいて、前記シード液に前記ケイ酸アルカリ水溶液S2および前記鉱酸が同時に滴下される、前記方法。
[11]
前記工程Cにおいて、前記滴下中、前記シード液のpHが、8~11に維持される、前記方法。
[12]
前記工程Cが、前記滴下後の前記シード液に追加の鉱酸を滴下することを含む、前記方法。
[13]
前記ケイ酸アルカリ水溶液S2の滴下量が、シリカ量に換算して、前記シード液の量の40倍~50倍である、前記方法。
[14]
前記工程AまたはA1で用いられる灰が、籾殻灰である、前記方法。
[15]
前記ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2が、前記工程Aにおいてまとめて調製される、前記方法。
[16]
前記ケイ酸アルカリ水溶液S1、S2、およびS3が、前記工程A1においてまとめて調製される、前記方法。
[17]
前記ケイ酸アルカリ水溶液S1、S2、および/またはS3中のシリカ濃度が、3~50%(w/w)である、前記方法。
[18]
さらに、下記工程Dを含む、前記方法:
(D)前記工程Cで得られた沈降シリカを超音波破砕することにより、該沈降シリカの平均粒径を1μm以下に調整する工程。
[19]
前記超音波破砕が、粒径1μm以上のシリカ粒子が残存しないように実施される、前記
方法。
[20]
前記沈降シリカのBET比表面積値が、100m2/g~250m2/gである、前記方法。
[21]
前記方法により得られた沈降シリカ。
[22]
沈降シリカであって、
BET比表面積値が100m2/g~250m2/gであり、且つ
超音波破砕後の平均粒径が1μm以下である、沈降シリカ。
[23]
沈降シリカを原料として目的物を製造する方法であって、
前記沈降シリカが、前記方法により得られる沈降シリカ、または前記沈降シリカであり、
前記目的物が、インクジェット記録紙填料、塗料の艶消し剤、ジョギングシューズ、またはタイヤである、方法。
That is, the present invention includes the following.
[1]
It is a method for producing precipitated silica.
A method comprising the following steps A to C:
(A) A step of preparing alkaline silicate aqueous solutions S1 and S2 by heating the ash of a silica-containing plant body in an alkaline aqueous solution;
(B) A step of preparing a seed solution by adjusting the pH of the alkaline aqueous silicate solution S1 to 8 to 10.
(C) A step of preparing precipitated silica by dropping the alkaline aqueous silicate solution S2 and mineral acid into the seed solution.
[2]
The method, wherein the step B comprises diluting the alkaline aqueous silicate solution S1.
[3]
The method, wherein the dilution is performed prior to the pH adjustment.
[4]
The method according to the method, wherein the silica concentration in the diluted alkaline aqueous solution of silicate S1 is 0.03% (w / w) to 1.0% (w / w).
[5]
The method according to which the silica concentration in the seed solution is 0.03% (w / w) to 1.0% (w / w).
[6]
In the step B, the pH of the alkaline aqueous silicate solution S1 is adjusted to 8 to 10 by adding a mineral acid.
[7]
In the step B, the pH of the aqueous alkali silicate solution S1 is adjusted to 2 to 4 by adding a mineral acid, and then further adjusted to 8 to 10 by adding an alkali.
[8]
The alkali used for the pH adjustment is an aqueous alkali silicate solution S3.
The method A is the following step A1.
(A1) A step of preparing alkaline aqueous silicate solutions S1, S2, and S3 by heating the ash of a silica-containing plant in an alkaline aqueous solution.
[9]
The method according to the above method, wherein the mineral acid dropped in the step C is sulfuric acid of 0.1 mol / L to 2 mol / L.
[10]
The method in which the alkaline aqueous silicate solution S2 and the mineral acid are simultaneously added dropwise to the seed solution in the step C.
[11]
The method of step C, wherein the pH of the seed solution is maintained at 8-11 during the dropping.
[12]
The method, wherein the step C comprises dropping an additional mineral acid into the seed solution after the dropping.
[13]
The method according to the method, wherein the dropping amount of the alkaline aqueous silicate solution S2 is 40 to 50 times the amount of the seed liquid in terms of the amount of silica.
[14]
The method, wherein the ash used in step A or A1 is rice husk ash.
[15]
The method in which the alkaline aqueous silicate solutions S1 and S2 are collectively prepared in the step A.
[16]
The method, wherein the alkaline aqueous silicate solutions S1, S2, and S3 are collectively prepared in step A1.
[17]
The method according to the method, wherein the silica concentration in the alkaline aqueous silicate solution S1, S2, and / or S3 is 3 to 50% (w / w).
[18]
Further, the method comprising the following step D:
(D) A step of adjusting the average particle size of the precipitated silica to 1 μm or less by ultrasonically crushing the precipitated silica obtained in the step C.
[19]
The method according to which the ultrasonic crushing is carried out so that silica particles having a particle size of 1 μm or more do not remain.
[20]
The method according to which the BET specific surface area value of the precipitated silica is 100 m 2 / g to 250 m 2 / g.
[21]
Precipitated silica obtained by the above method.
[22]
Precipitated silica
Precipitated silica having a BET specific surface area value of 100 m 2 / g to 250 m 2 / g and an average particle size of 1 μm or less after ultrasonic crushing.
[23]
It is a method of producing an object using precipitated silica as a raw material.
The precipitated silica is the precipitated silica obtained by the method, or the precipitated silica.
A method in which the object is an inkjet recording paper filler, a paint matte, jogging shoes, or a tire.
本発明によれば、分散性がよく、且つ表面積の大きい沈降シリカを安価に製造できる。 According to the present invention, precipitated silica having good dispersibility and a large surface area can be produced at low cost.
<1>本発明の方法
本発明の方法は、下記工程A~Cを含む、沈降シリカの製造方法である:
(A)シリカ含有植物体の灰をアルカリ水溶液中で加熱することにより、ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2を調製する工程;
(B)前記ケイ酸アルカリ水溶液S1のpHを8~10に調整することにより、シード液を調製する工程;
(C)前記シード液に前記ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸を滴下することにより、沈降シリカを調製する工程。
<1> Method of the present invention The method of the present invention is a method for producing precipitated silica, which comprises the following steps A to C:
(A) A step of preparing alkaline silicate aqueous solutions S1 and S2 by heating the ash of a silica-containing plant body in an alkaline aqueous solution;
(B) A step of preparing a seed solution by adjusting the pH of the alkaline aqueous silicate solution S1 to 8 to 10.
(C) A step of preparing precipitated silica by dropping the alkaline aqueous silicate solution S2 and mineral acid into the seed solution.
<工程A>
工程Aにおいては、シリカ含有植物体の灰をアルカリ水溶液中で加熱することにより、ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2を調製することができる。
<Process A>
In step A, the silica-containing alkaline aqueous solutions S1 and S2 can be prepared by heating the silica-containing plant ash in an alkaline aqueous solution.
工程Aにおいては、さらに、ケイ酸アルカリ水溶液S3(後述)を調製することもできる。すなわち、工程Aは、下記工程A1であってもよい:
(A1)シリカ含有植物体の灰をアルカリ水溶液中で加熱することにより、ケイ酸アルカリ水溶液S1、S2、およびS3を調製する工程。
In step A, an aqueous alkaline silicate solution S3 (described later) can also be prepared. That is, the step A may be the following step A1:
(A1) A step of preparing alkaline aqueous silicate solutions S1, S2, and S3 by heating the ash of a silica-containing plant in an alkaline aqueous solution.
ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2は、それぞれ、工程BおよびCで用いられる。ケイ酸アルカリ水溶液S3は、工程Bにおいて用いられる場合がある。 Alkaline silicate aqueous solutions S1 and S2 are used in steps B and C, respectively. The alkaline aqueous silicate solution S3 may be used in step B.
ケイ酸アルカリ水溶液S1~S3は、それぞれ個別に調製されてもよく、そうでなくてもよい。すなわち、ケイ酸アルカリ水溶液S1~S3の一部または全部をまとめて調製することもできる。例えば、ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2、S1およびS3、S2およびS3、またはS1~S3をまとめて調製することができる。 The alkaline silicate aqueous solutions S1 to S3 may or may not be prepared individually. That is, a part or all of the alkaline silicate aqueous solutions S1 to S3 can be prepared together. For example, aqueous alkaline silicate solutions S1 and S2, S1 and S3, S2 and S3, or S1 to S3 can be collectively prepared.
具体的には、例えば、工程Aをケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2について個別に実施することにより、ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2をそれぞれ個別に調製することができる。また、具体的には、例えば、工程Aをケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2に
ついてまとめて実施することにより、ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2をまとめて調製することができる。なお、「ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2をまとめて調製する」とは、ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2として共通に用いるケイ酸アルカリ水溶液を調製することを意味する。すなわち、ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2をまとめて調製する場合、調製されたケイ酸アルカリ水溶液の一部をケイ酸アルカリ水溶液S1として、残部の一部または全部をケイ酸アルカリ水溶液S2として用いることができる。他の組み合わせの場合についても同様である。
Specifically, for example, by carrying out the step A individually for the alkaline silicate aqueous solutions S1 and S2, the silicate alkaline aqueous solutions S1 and S2 can be individually prepared. Further, specifically, for example, by carrying out the step A collectively for the alkaline silicate aqueous solutions S1 and S2, the silicate alkaline aqueous solutions S1 and S2 can be collectively prepared. In addition, "preparing the silicate alkaline aqueous solution S1 and S2 together" means preparing the silicate alkaline aqueous solution commonly used as the silicate alkaline aqueous solution S1 and S2. That is, when the alkaline silicate aqueous solutions S1 and S2 are collectively prepared, a part of the prepared alkaline silicate aqueous solution may be used as the silicate alkaline aqueous solution S1, and a part or all of the rest may be used as the silicate alkaline aqueous solution S2. can. The same applies to the cases of other combinations.
複数のケイ酸アルカリ水溶液を個別に調製する場合、工程Aの実施条件(原料の種類、原料の濃度、加熱温度、加熱時間等)は、それぞれについて、同一であってもよく、そうでなくてもよい。また、複数のケイ酸アルカリ水溶液を個別に調製する場合、それらの組成(シリカ濃度等)は、同一であってもよく、そうでなくてもよい。 When a plurality of alkaline silicate aqueous solutions are individually prepared, the implementation conditions of step A (type of raw material, concentration of raw material, heating temperature, heating time, etc.) may or may not be the same for each. May be good. Further, when a plurality of aqueous alkali silicate solutions are individually prepared, their compositions (silica concentration, etc.) may or may not be the same.
ケイ酸アルカリ水溶液S1~S3としては、それぞれ、1種のケイ酸アルカリ水溶液を用いてもよく、2種またはそれ以上のケイ酸アルカリ水溶液を組み合わせて用いてもよい。 As the alkaline silicate aqueous solutions S1 to S3, one kind of alkaline silicate aqueous solution may be used, or two or more kinds of alkaline silicate aqueous solutions may be used in combination.
本発明の方法においては、シリカ含有植物体の灰を沈降シリカの原料として用いる。以下、シリカ含有植物体の灰を、「原料灰」ともいう。「シリカ含有植物体」とは、シリカ含有植物の植物体の全体またはその一部をいう。シリカ含有植物は、所望の程度にシリカを含有するものであれば、特に制限されない。シリカ含有植物としては、例えば、イネ、コムギ、オオムギ、カラスムギ、ライムギ、ハトムギ、キビ、アワ、ヒエ、トウモロコシ等のイネ科植物が挙げられる。植物体の一部は、所望の程度にシリカを含有するものであれば、特に制限されない。植物体の一部としては、例えば、籾殻や藁が挙げられる。植物体の一部としては、特に、籾殻が挙げられる。すなわち、原料灰としては、特に、籾殻灰が挙げられる。原料灰は、シリカ含有植物体を燃焼させることにより得られる。原料灰は、具体的には、例えば、シリカ含有植物体を燃料としてバイオマスボイラーで燃焼させた際に発生する副生物として得られる。原料灰を製造する際の燃焼温度は、特に制限されない。燃焼温度は、例えば、400℃~900℃であってよい。原料灰としては、1種の原料灰を用いてもよく、2種またはそれ以上の原料灰を組み合わせて用いてもよい。また、原料灰は、原料灰中に微量に含まれるアルカリ土類金属類、重金属類、有機化合物等の夾雑物を除去するために、鉱酸中で加熱し、次いでろ過し、水洗してから使用してもよい。この場合に用いる鉱酸に制限はなく、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などを用いてよく、水で希釈してから使用してもよい。 In the method of the present invention, silica-containing plant ash is used as a raw material for precipitated silica. Hereinafter, the ash of the silica-containing plant body is also referred to as “raw material ash”. "Silica-containing plant" means the whole or a part of the silica-containing plant. The silica-containing plant is not particularly limited as long as it contains silica to a desired degree. Examples of the silica-containing plant include grasses such as rice, wheat, barley, crow wheat, rye, honeybee, millet, millet, Japanese millet, and corn. The part of the plant is not particularly limited as long as it contains silica to a desired degree. Examples of parts of the plant include rice husks and straw. Rice husks are particularly mentioned as a part of the plant body. That is, as the raw material ash, rice husk ash is particularly mentioned. The raw material ash is obtained by burning a silica-containing plant. Specifically, the raw material ash is obtained, for example, as a by-product generated when a silica-containing plant is burned in a biomass boiler as a fuel. The combustion temperature when producing the raw material ash is not particularly limited. The combustion temperature may be, for example, 400 ° C to 900 ° C. As the raw material ash, one kind of raw material ash may be used, or two or more kinds of raw material ash may be used in combination. In addition, the raw material ash is heated in mineral acid, then filtered and washed with water in order to remove impurities such as alkaline earth metals, heavy metals, and organic compounds contained in the raw material ash in a trace amount. You may use it. The mineral acid used in this case is not limited, and hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and the like may be used, and the mineral acid may be diluted with water before use.
原料灰をアルカリ水溶液中で加熱することにより、ケイ酸イオンを含有する水溶液(ケイ酸アルカリ水溶液)を調製することができる。言い換えると、原料灰を含有するアルカリ水溶液を加熱することにより、ケイ酸アルカリ水溶液を調製することができる。原料灰を含有するアルカリ水溶液を、「原料混合液」ともいう。原料混合液は、例えば、原料灰、アルカリ、および水を混合することにより得られる。混合の順番は特に制限されない。原料混合液は、具体的には、例えば、原料灰とアルカリ水溶液とを混合することにより得られる。アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムが挙げられる。アルカリとしては、特に、水酸化ナトリウムが挙げられる。アルカリとしては、1種のアルカリを用いてもよく、2種またはそれ以上のアルカリを組み合わせて用いてもよい。 By heating the raw material ash in an alkaline aqueous solution, an aqueous solution containing silicate ions (alkali silicate aqueous solution) can be prepared. In other words, the alkaline aqueous solution of silicate can be prepared by heating the alkaline aqueous solution containing the raw material ash. An alkaline aqueous solution containing raw material ash is also referred to as a "raw material mixed solution". The raw material mixture is obtained, for example, by mixing raw material ash, alkali, and water. The order of mixing is not particularly limited. Specifically, the raw material mixed solution is obtained by mixing, for example, raw material ash and an alkaline aqueous solution. Examples of the alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. Examples of the alkali include sodium hydroxide. As the alkali, one kind of alkali may be used, or two or more kinds of alkalis may be used in combination.
原料灰とアルカリの使用量比や使用濃度は、本発明の方法に使用できるケイ酸アルカリ水溶液が得られる限り、特に制限されない。以下、特に、原料灰とアルカリ水溶液とを混合して原料混合液を得る場合を想定して原料灰とアルカリの使用量比や使用濃度について説明するが、当該説明は他の手順で原料混合液を得る場合にも準用できる。アルカリの使
用濃度は、原料灰との混合前のアルカリ水溶液中のアルカリ濃度として、例えば、0.1モル/L以上、0.3モル/L以上、0.5モル/L以上、1モル/L以上、または1.5モル/L以上であってもよく、4モル/L以下、3モル/L以下、または2モル/L以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。アルカリの使用濃度は、原料灰との混合前のアルカリ水溶液中のアルカリ濃度として、具体的には、例えば、1モル/L~4モル/Lであってもよい。使用されるアルカリの当量は、乾燥原料灰1gに対して、例えば、1ミリモル以上、5ミリモル以上、10ミリモル以上、または15ミリモル以上であってもよく、100ミリモル以下、50ミリモル以下、または20ミリモル以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。使用されるアルカリの当量は、乾燥原料灰1gに対して、具体的には、例えば、10ミリモル~100ミリモルであってもよい。また、原料混合液中のアルカリ濃度や原料灰濃度は、上記例示した原料灰との混合前のアルカリ水溶液中のアルカリ濃度と、上記例示した原料灰とアルカリの使用量比とから算出される範囲であってよい。
The usage amount ratio and the usage concentration of the raw material ash and the alkali are not particularly limited as long as an aqueous alkali silicate solution that can be used in the method of the present invention can be obtained. Hereinafter, the ratio of the amount of the raw material ash to the alkali used and the concentration to be used will be described on the assumption that the raw material ash and the alkaline aqueous solution are mixed to obtain the raw material mixed solution. Can also be applied mutatis mutandis when obtaining. The concentration of alkali used is, for example, 0.1 mol / L or more, 0.3 mol / L or more, 0.5 mol / L or more, 1 mol / L or more as the alkali concentration in the alkaline aqueous solution before mixing with the raw material ash. It may be L or more, 1.5 mol / L or more, 4 mol / L or less, 3 mol / L or less, or 2 mol / L or less, or a combination thereof. The concentration of the alkali used may be, for example, 1 mol / L to 4 mol / L as the alkali concentration in the alkaline aqueous solution before mixing with the raw material ash. The equivalent amount of alkali used may be, for example, 1 mmol or more, 5 mmol or more, 10 mmol or more, or 15 mmol or more, 100 mmol or less, 50 mmol or less, or 20 to 1 g of dry raw material ash. It may be less than or equal to millimole, or a combination thereof. The equivalent of the alkali used may be, for example, 10 mmol to 100 mmol, specifically, with respect to 1 g of the dry raw material ash. The alkali concentration and the raw material ash concentration in the raw material mixed solution are in the range calculated from the alkali concentration in the alkaline aqueous solution before mixing with the raw material ash exemplified above and the usage amount ratio of the raw material ash and the alkali exemplified above. May be.
加熱条件は、本発明の方法に使用できるケイ酸アルカリ水溶液が得られる限り、特に制限されない。加熱温度は、例えば、50℃以上、60℃以上、または80℃以上であってもよく、100℃以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。加熱は、例えば、静置条件で実施してもよく、撹拌しながら実施してもよい。激しく攪拌した方が、高い抽出効率でシリカを抽出することができる。加熱時間は、例えば、1時間以上、3時間以上、5時間以上、または10時間以上であってもよく、24時間以下、18時間以下、12時間以下、または6時間以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。加熱時間は、具体的には、例えば、5時間~24時間であってよい。加熱後の原料混合液は、例えば、そのまま、あるいは希釈、濃縮、精製等の処理をしてから、以降の工程に用いることができる。例えば、加熱後、原料混合液から炭素分を除去することができる。炭素分は、例えば、フィルタープレス等で原料混合液を濾過することにより除去することができる。 The heating conditions are not particularly limited as long as an alkaline silicate aqueous solution that can be used in the method of the present invention can be obtained. The heating temperature may be, for example, 50 ° C. or higher, 60 ° C. or higher, or 80 ° C. or higher, 100 ° C. or lower, or a combination thereof. The heating may be carried out under static conditions or may be carried out with stirring, for example. Silica can be extracted with high extraction efficiency by stirring vigorously. The heating time may be, for example, 1 hour or more, 3 hours or more, 5 hours or more, or 10 hours or more, and may be 24 hours or less, 18 hours or less, 12 hours or less, or 6 hours or less. It may be a combination thereof. Specifically, the heating time may be, for example, 5 hours to 24 hours. The heated raw material mixture can be used as it is, or after being diluted, concentrated, purified, or the like, and then used in the subsequent steps. For example, after heating, carbon content can be removed from the raw material mixture. The carbon content can be removed by filtering the raw material mixture with, for example, a filter press or the like.
ケイ酸アルカリ水溶液中のシリカ濃度は、ケイ酸アルカリ水溶液を用いて本発明の方法を実施できる限り、特に制限されない。ケイ酸アルカリ水溶液中のシリカ濃度は、ケイ酸アルカリ水溶液の使用態様等の諸条件に応じて、適宜設定できる。ケイ酸アルカリ水溶液中のシリカ濃度は、例えば、0.03%(w/w)以上、0.1%(w/w)以上、0.3%(w/w)以上、1%(w/w)以上、または3%(w/w)以上であってもよく、50%(w/w)以下、30%(w/w)以下、15%(w/w)以下、10%(w/w)以下、5%(w/w)以下、3%(w/w)以下、または1%(w/w)以下であってもよく、それらの矛盾しない組み合わせであってもよい。ケイ酸アルカリ水溶液中のシリカ濃度は、具体的には、例えば、0.03%(w/w)~50%(w/w)であってもよく、0.03%(w/w)~1.0%(w/w)であってもよく、3%(w/w)~50%(w/w)であってもよい。ケイ酸アルカリ水溶液S1中のシリカ濃度は、特に、工程Bにおいて希釈を実施しない場合に、0.03%(w/w)~1.0%(w/w)であってもよい。また、ケイ酸アルカリ水溶液S1中のシリカ濃度は、特に、工程Bにおいて希釈を実施する場合に、3%(w/w)~50%(w/w)であってもよい。また、ケイ酸アルカリ水溶液S2中のシリカ濃度は、特に、3%(w/w)~50%(w/w)であってもよい。また、ケイ酸アルカリ水溶液S3中のシリカ濃度は、特に、3%(w/w)~50%(w/w)であってもよい。シリカ濃度は、常法により測定することができる。シリカ濃度は、例えば、パックテストシリカ(共立理化学研究所)を用いて測定することができる。 The silica concentration in the alkaline silicate aqueous solution is not particularly limited as long as the method of the present invention can be carried out using the alkaline silicate aqueous solution. The silica concentration in the alkaline silicate aqueous solution can be appropriately set according to various conditions such as the usage mode of the alkaline silicate aqueous solution. The silica concentration in the alkaline aqueous solution of silicate is, for example, 0.03% (w / w) or more, 0.1% (w / w) or more, 0.3% (w / w) or more, and 1% (w / w /). It may be w) or more, or 3% (w / w) or more, 50% (w / w) or less, 30% (w / w) or less, 15% (w / w) or less, and 10% (w). / W) or less, 5% (w / w) or less, 3% (w / w) or less, or 1% (w / w) or less, or a consistent combination thereof. Specifically, the silica concentration in the alkaline aqueous solution of silicate may be, for example, 0.03% (w / w) to 50% (w / w), and 0.03% (w / w) to 0.03% (w / w). It may be 1.0% (w / w) or 3% (w / w) to 50% (w / w). The silica concentration in the aqueous alkali silicate solution S1 may be 0.03% (w / w) to 1.0% (w / w), particularly when the dilution is not carried out in the step B. Further, the silica concentration in the aqueous alkali silicate solution S1 may be 3% (w / w) to 50% (w / w), particularly when the dilution is carried out in the step B. Further, the silica concentration in the aqueous alkali silicate solution S2 may be particularly 3% (w / w) to 50% (w / w). Further, the silica concentration in the aqueous alkali silicate solution S3 may be particularly 3% (w / w) to 50% (w / w). The silica concentration can be measured by a conventional method. The silica concentration can be measured using, for example, pack test silica (Kyoritsu Institute of Physical and Chemical Research).
<工程B>
工程Bにおいては、ケイ酸アルカリ水溶液S1のpHを所定の範囲に調整することにより、シード液を調製することができる。
<Process B>
In step B, the seed solution can be prepared by adjusting the pH of the alkaline aqueous silicate solution S1 to a predetermined range.
「シード」とは、シリカの微粒子をいう。すなわち、工程Bにおいては、具体的には、ケイ酸アルカリ水溶液S1中のケイ酸イオンをシリカの微粒子として析出させる。工程Bにおいてシリカの微粒子を予め調製することで、続く工程Cにおいて分散性の良い沈降シリカが得られる。 "Seed" refers to fine particles of silica. That is, in step B, specifically, the silicate ions in the silicate alkaline aqueous solution S1 are precipitated as silica fine particles. By preparing fine particles of silica in advance in step B, precipitated silica having good dispersibility can be obtained in subsequent step C.
pH調整には、鉱酸やアルカリを用いることができる。鉱酸としては、例えば、硫酸、塩酸、リン酸、硝酸が挙げられる。鉱酸としては、特に、硫酸が挙げられる。アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムが挙げられる。アルカリとしては、特に、水酸化ナトリウムが挙げられる。また、アルカリとしては、特に、ケイ酸アルカリ水溶液S3も挙げられる。鉱酸としては、1種の鉱酸を用いてもよく、2種またはそれ以上の鉱酸を組み合わせて用いてもよい。アルカリとしては、1種のアルカリを用いてもよく、2種またはそれ以上のアルカリを組み合わせて用いてもよい。鉱酸やアルカリの濃度は、特に制限されない。鉱酸やアルカリの濃度は、それぞれ、例えば、0.1モル/L以上、0.3モル/L以上、0.5モル/L以上、1モル/L以上、または1.5モル/L以上であってもよく、4モル/L以下、3モル/L以下、または2モル/L以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。鉱酸の濃度は、具体的には、例えば、0.1モル/L~2モル/Lであってもよい。アルカリの濃度は、具体的には、例えば、1モル/L~4モル/Lであってもよい。鉱酸やアルカリは、それぞれ、例えば、上記例示した濃度の水溶液として用いることができる。 Mineral acid or alkali can be used for pH adjustment. Examples of the mineral acid include sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, and nitric acid. Examples of the mineral acid include sulfuric acid. Examples of the alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. Examples of the alkali include sodium hydroxide. Further, as the alkali, in particular, the alkaline aqueous solution S3 silicate can be mentioned. As the mineral acid, one kind of mineral acid may be used, or two or more kinds of mineral acids may be used in combination. As the alkali, one kind of alkali may be used, or two or more kinds of alkalis may be used in combination. The concentration of mineral acid or alkali is not particularly limited. The concentrations of mineral acid and alkali are, for example, 0.1 mol / L or more, 0.3 mol / L or more, 0.5 mol / L or more, 1 mol / L or more, or 1.5 mol / L or more, respectively. It may be 4 mol / L or less, 3 mol / L or less, or 2 mol / L or less, or a combination thereof. Specifically, the concentration of the mineral acid may be, for example, 0.1 mol / L to 2 mol / L. Specifically, the concentration of alkali may be, for example, 1 mol / L to 4 mol / L. Each of the mineral acid and the alkali can be used, for example, as an aqueous solution having the above-exemplified concentrations.
工程BにおけるpHの「所定の範囲」は、8~10である。工程BにおけるpHの「所定の範囲」は、例えば、8.5以上であってもよく、9.5以下であってもよく、8.5~9.5であってもよい。 The "predetermined range" of pH in step B is 8-10. The "predetermined range" of pH in step B may be, for example, 8.5 or more, 9.5 or less, or 8.5 to 9.5.
工程Bにおいて、ケイ酸アルカリ水溶液S1のpHは、所定の範囲に調整される前に、所定の範囲未満に調整されてもよく、されなくてもよい。すなわち、ケイ酸アルカリ水溶液S1のpHは、所定の範囲未満に調整されることなく、所定の範囲に調整されてよい。あるいは、ケイ酸アルカリ水溶液S1のpHは、所定の範囲未満に調整された後に、さらに所定の範囲に調整されてもよい。所定の範囲未満は、例えば、2以上であってもよく、8.5未満、8未満、または4以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。所定の範囲未満は、具体的には、例えば、2~4であってもよい。すなわち、ケイ酸アルカリ水溶液S1のpHは、例えば、2~4に調整された後に、さらに8~10に調整されてもよい。なお、ケイ酸アルカリ水溶液S1のpHが所定の範囲未満に調整されない場合と比較して、ケイ酸アルカリ水溶液S1のpHが所定の範囲未満に調整される場合には、一次粒径が小さくなる傾向が認められる。よって、沈降シリカの所望の粒径に応じてpH調整の態様を変更することができる。 In step B, the pH of the alkaline aqueous silicate solution S1 may or may not be adjusted to less than the predetermined range before being adjusted to the predetermined range. That is, the pH of the alkaline silicate aqueous solution S1 may be adjusted to a predetermined range without being adjusted to less than a predetermined range. Alternatively, the pH of the alkaline aqueous silicate solution S1 may be adjusted to less than a predetermined range and then further adjusted to a predetermined range. The amount less than the predetermined range may be, for example, 2 or more, less than 8.5, less than 8, or 4 or less, or a combination thereof. Specifically, the amount less than the predetermined range may be, for example, 2 to 4. That is, the pH of the alkaline aqueous silicate solution S1 may be adjusted to, for example, 2 to 4 and then further adjusted to 8 to 10. When the pH of the alkaline silicate aqueous solution S1 is adjusted to less than the predetermined range, the primary particle size tends to be smaller than when the pH of the alkaline silicate aqueous solution S1 is adjusted to less than the predetermined range. Is recognized. Therefore, the mode of pH adjustment can be changed according to the desired particle size of the precipitated silica.
鉱酸やアルカリは、単独で、あるいは適宜組み合わせて、pH調整に用いることができる。例えば、pH調整は、鉱酸の添加により実施されてよい。すなわち、例えば、ケイ酸アルカリ水溶液S1に鉱酸を添加してpHを所定の範囲に調整してもよい。また、例えば、pH調整は、鉱酸およびアルカリの添加により実施されてよい。すなわち、例えば、ケイ酸アルカリ水溶液S1に鉱酸を添加してpHを所定の範囲未満に調整し、さらにケイ酸アルカリ水溶液S3や他のアルカリ等のアルカリを添加してpHを所定の範囲に調整してもよい。pHの増減は、複数回繰り返されてもよい。 Mineral acids and alkalis can be used alone or in combination as appropriate for pH adjustment. For example, pH adjustment may be carried out by the addition of mineral acid. That is, for example, mineral acid may be added to the alkaline aqueous solution S1 of silicate to adjust the pH within a predetermined range. Further, for example, the pH adjustment may be carried out by adding a mineral acid and an alkali. That is, for example, mineral acid is added to the silicate alkaline aqueous solution S1 to adjust the pH to less than a predetermined range, and further, an alkali such as silicate alkaline aqueous solution S3 or another alkali is added to adjust the pH to a predetermined range. You may. The increase / decrease in pH may be repeated a plurality of times.
pHを所定の範囲に調整にした後、すぐに工程Cを実施してもよいし、所定の時間が経過してから工程Cを実施してもよい。また、pHを所定の範囲未満に調整する場合、pHを所定の範囲未満にした後、すぐにpHを所定の範囲に調整してもよいし、所定の時間が経過してからpHを所定の範囲に調整してもよい。所定の時間の長さは、特に制限されな
い。pHを所定の範囲に調整した後の所定の時間の長さは、例えば、0時間超、1時間以上、3時間以上、または5時間以上であってもよく、24時間以下、18時間以下、12時間以下、または8時間以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。pHを所定の範囲に調整にした後の所定の時間の長さは、具体的には、例えば、0時間超24時間以下であってもよい。pHを所定の範囲未満に調整にした後の所定の時間の長さは、例えば、0時間超、0.5時間以上、または1時間以上であってもよく、10時間以下、5時間以下、または3時間以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。pHを所定の範囲未満に調整にした後の所定の時間の長さは、具体的には、例えば、0時間超5時間以下であってもよい。所定の時間が経過する際の温度は特に制限されない。時間経過時の温度は、例えば、室温であってもよく、室温より高くてもよい。すなわち、時間経過時にはケイ酸アルカリ水溶液S1を加熱してもよい。加熱温度は、例えば、20℃以上、40℃以上、または60℃以上であってもよく、100℃以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。pH調整や時間経過は、例えば、静置条件で実施してもよく、撹拌しながら実施してもよい。
Step C may be carried out immediately after adjusting the pH to a predetermined range, or step C may be carried out after a predetermined time has elapsed. When adjusting the pH to less than a predetermined range, the pH may be adjusted to a predetermined range immediately after the pH is adjusted to a value lower than the predetermined range, or the pH may be adjusted to a predetermined range after a predetermined time has elapsed. It may be adjusted to a range. The length of the predetermined time is not particularly limited. The length of the predetermined time after adjusting the pH to a predetermined range may be, for example, more than 0 hours, 1 hour or more, 3 hours or more, or 5 hours or more, 24 hours or less, 18 hours or less, It may be 12 hours or less, 8 hours or less, or a combination thereof. Specifically, the length of the predetermined time after adjusting the pH to a predetermined range may be, for example, more than 0 hours and 24 hours or less. The length of the predetermined time after adjusting the pH to less than the predetermined range may be, for example, more than 0 hours, 0.5 hours or more, or 1 hour or more, and 10 hours or less, 5 hours or less, Alternatively, it may be 3 hours or less, or a combination thereof. Specifically, the length of the predetermined time after adjusting the pH to less than the predetermined range may be, for example, more than 0 hours and 5 hours or less. The temperature when a predetermined time elapses is not particularly limited. The temperature over time may be, for example, room temperature or higher than room temperature. That is, the alkaline aqueous silicate solution S1 may be heated over time. The heating temperature may be, for example, 20 ° C. or higher, 40 ° C. or higher, or 60 ° C. or higher, 100 ° C. or lower, or a combination thereof. The pH adjustment and the passage of time may be carried out, for example, under static conditions or with stirring.
工程Bの実施の際に、ケイ酸アルカリ水溶液S1を希釈してもよい。すなわち、工程Bは、ケイ酸アルカリ水溶液S1を希釈することを含んでいてもよい。希釈は、pH調整の前に実施してもよく、pH調整中に実施してもよく、pH調整後に実施してもよい。希釈は、特に、pH調整の前に実施してよい。希釈とpH調整は、その一部または全部を同時に実施してもよい。希釈とpH調整を同時に実施することは、例えば、水とpH調整用の成分とを同時に添加することや、pH調整用の成分で希釈を実施することにより達成できる。言い換えると、希釈には、水やpH調整用の成分を用いることができる。これらは、単独で、あるいは適宜組み合わせて、希釈に用いることができる。 At the time of carrying out step B, the aqueous alkali silicate solution S1 may be diluted. That is, step B may include diluting the alkaline aqueous solution S1 of silicate. Dilution may be performed before the pH adjustment, during the pH adjustment, or after the pH adjustment. Dilution may be performed, in particular, prior to pH adjustment. Dilution and pH adjustment may be carried out in part or in whole at the same time. Simultaneous dilution and pH adjustment can be achieved, for example, by adding water and a pH adjusting component at the same time, or by performing dilution with a pH adjusting component. In other words, water or pH adjusting components can be used for dilution. These can be used alone or in combination as appropriate for dilution.
希釈は、例えば、ケイ酸アルカリ水溶液S1中のシリカ濃度が所定の範囲となるように実施することができる。言い換えると、希釈は、例えば、ケイ酸アルカリ水溶液S1中のシリカ濃度が所定の範囲よりも高い場合に実施することができる。 Dilution can be carried out, for example, so that the silica concentration in the alkaline aqueous silicate solution S1 is within a predetermined range. In other words, the dilution can be carried out, for example, when the silica concentration in the aqueous alkali silicate solution S1 is higher than a predetermined range.
また、希釈は、例えば、工程Bにおいて所定の範囲のシリカ濃度のシード液が得られるように実施することができる。 Further, the dilution can be carried out, for example, so as to obtain a seed solution having a silica concentration in a predetermined range in step B.
希釈後のケイ酸アルカリ水溶液S1中のシリカ濃度およびシード液中のシリカ濃度は、それぞれ、例えば、0.03%(w/w)以上、0.05%(w/w)以上、または0.08%(w/w)以上であってもよく、1%(w/w)以下、0.5%(w/w)以下、または0.3%(w/w)以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。希釈後のケイ酸アルカリ水溶液S1中のシリカ濃度およびシード液中のシリカ濃度は、それぞれ、具体的には、例えば、0.03~1.0%(w/w)であってもよい。シリカ濃度は、常法により測定することができる。シリカ濃度は、例えば、パックテストシリカ(共立理化学研究所)を用いて測定することができる。なお、パックテストシリカによれば、ケイ酸イオンの形態で存在するシリカのみが検出される。よって、シリカ粒子等のケイ酸イオン以外の形態で存在するシリカを含有するサンプル(シード液等)中のシリカ濃度は、例えば、JIS K 0101 44.2あるいは44.3に従ってサンプルを前処理(シリカのイオン化
)した後で、パックテストシリカ(共立理化学研究所)を用いて測定することができる。
The silica concentration in the diluted alkaline aqueous silicate solution S1 and the silica concentration in the seed solution are, for example, 0.03% (w / w) or more, 0.05% (w / w) or more, or 0. It may be 08% (w / w) or more, 1% (w / w) or less, 0.5% (w / w) or less, or 0.3% (w / w) or less. , They may be a combination thereof. Specifically, the silica concentration in the diluted alkaline aqueous silicate solution S1 and the silica concentration in the seed solution may be, for example, 0.03 to 1.0% (w / w), respectively. The silica concentration can be measured by a conventional method. The silica concentration can be measured using, for example, pack test silica (Kyoritsu Institute of Physical and Chemical Research). According to the pack test silica, only silica existing in the form of silicate ion is detected. Therefore, the silica concentration in a sample (seed solution, etc.) containing silica existing in a form other than silicate ions such as silica particles was determined by pretreating the sample (silica ionization) according to, for example, JIS K 0101 44.2 or 44.3. Later, it can be measured using pack test silica (Kyoritsu Institute of Physical and Chemical Research).
なお、工程Bにおいて言及される「ケイ酸アルカリ水溶液S1」とは、特記しない限り、pH調整、加熱、希釈等の操作のタイミングや進行度に応じて、それらの操作が部分的または完全に実施された後のケイ酸アルカリ水溶液S1を意味し得る。すなわち、例えば、工程Cにおいて希釈される「ケイ酸アルカリ水溶液S1」や工程Cにおいて加熱される「ケイ酸アルカリ水溶液S1」とは、部分的または完全にシード液へと変換されたものであり得る。 Unless otherwise specified, the "alkali silicate aqueous solution S1" referred to in step B is partially or completely carried out depending on the timing and progress of operations such as pH adjustment, heating and dilution. It may mean the aqueous alkali silicate solution S1 after being diluted. That is, for example, the "alkali silicate aqueous solution S1" diluted in step C and the "alkali silicate aqueous solution S1" heated in step C may be partially or completely converted into a seed solution. ..
<工程C>
工程Cにおいては、シード液にケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸を滴下することにより、沈降シリカを調製することができる。当該滴下される鉱酸を、以下、「鉱酸M1」ともいう。
<Process C>
In step C, precipitated silica can be prepared by dropping the alkaline aqueous silicate solution S2 and the mineral acid into the seed solution. The dropped mineral acid is also hereinafter referred to as "mineral acid M1".
ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下は、例えば、同時に実施することができる。すなわち、シード液にケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1を同時に滴下することができる。「ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下が同時に実施される」とは、ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下が、それらが滴下される期間の一部または全部の期間において同時に実施されることをいう。「ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下が同時に実施される」とは、例えば、滴下されるケイ酸アルカリ水溶液S2の全量の80%(v/v)以上、90%(v/v)以上、または95%(v/v)以上の量が滴下される期間中、ケイ酸アルカリ水溶液S2を滴下しつつ鉱酸M1が滴下され、且つ、滴下される鉱酸M1の全量の80%(v/v)以上、90%(v/v)以上、または95%(v/v)以上の量が滴下される期間中、鉱酸M1を滴下しつつケイ酸アルカリ水溶液S2が滴下されていることであってよい。 The dropping of the alkaline aqueous silicate solution S2 and the mineral acid M1 can be carried out at the same time, for example. That is, the alkaline aqueous solution S2 of silicate and the mineral acid M1 can be added dropwise to the seed solution at the same time. "Dripping of alkaline aqueous silicate solution S2 and M1 mineral acid is carried out simultaneously" means that dropping of alkaline aqueous silicate solution S2 and M1 mineral acid is carried out simultaneously during a part or all of the period during which they are dropped. It means to be done. "The dropping of the alkaline aqueous silicate solution S2 and the M1 mineral acid is carried out at the same time" means, for example, 80% (v / v) or more and 90% (v / v) of the total amount of the alkaline aqueous silicate solution S2 to be dropped. During the period in which the amount of the above or 95% (v / v) or more is dropped, the mineral acid M1 is dropped while dropping the alkaline aqueous silicate solution S2, and 80% of the total amount of the dropped mineral acid M1 ( During the period in which an amount of v / v) or more, 90% (v / v) or more, or 95% (v / v) or more is dropped, the alkali silicate aqueous solution S2 is dropped while dropping the mineral acid M1. It may be that.
ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下は、例えば、シード液のpHが所定の範囲に維持されるように実施することができる。すなわち、ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下中、シード液のpHは、所定の範囲に維持されてよい。工程CにおけるpHの「所定の範囲」は、例えば、8以上、または8.5以上であってもよく、11以下、または9.5以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。工程CにおけるpHの「所定の範囲」は、具体的には、例えば、8~11、好ましくは8.5~9.5であってよい。 The dropping of the alkaline aqueous silicate solution S2 and the mineral acid M1 can be carried out, for example, so that the pH of the seed solution is maintained in a predetermined range. That is, the pH of the seed solution may be maintained within a predetermined range during the dropping of the alkaline aqueous solution S2 silicate and the mineral acid M1. The "predetermined range" of pH in step C may be, for example, 8 or more, 8.5 or more, 11 or less, or 9.5 or less, or a combination thereof. .. Specifically, the “predetermined range” of pH in step C may be, for example, 8 to 11, preferably 8.5 to 9.5.
ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下は、特に、シード液のpHが所定の範囲に維持されるように同時に実施することができる。 The dropping of the alkaline aqueous silicate solution S2 and the mineral acid M1 can be carried out simultaneously so that the pH of the seed solution is maintained in a predetermined range.
ケイ酸アルカリ水溶液S2の滴下量は、所望の沈降シリカが得られる限り、特に制限されない。ケイ酸アルカリ水溶液S2の滴下量は、シリカ量に換算して、例えば、シード液の量の、20倍以上、30倍以上、または40倍以上であってもよく、100倍以下、70倍以下、または50倍以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。ケイ酸アルカリ水溶液S2の滴下量は、シリカ量に換算して、具体的には、例えば、シード液の量の、40倍~50倍であってもよい。ケイ酸アルカリ水溶液S2の滴下量は、例えば、所望のBET値や粒度分布等の諸条件に応じて適宜設定できる。 The amount of the alkaline silicate aqueous solution S2 dropped is not particularly limited as long as the desired precipitated silica can be obtained. The dropping amount of the alkaline aqueous silicate solution S2 may be, for example, 20 times or more, 30 times or more, or 40 times or more, 100 times or less, 70 times or less the amount of the seed liquid in terms of the amount of silica. , Or 50 times or less, or a combination thereof. The dropping amount of the alkaline aqueous silicate solution S2 may be, for example, 40 to 50 times the amount of the seed solution in terms of the amount of silica. The dropping amount of the alkaline aqueous silicate solution S2 can be appropriately set, for example, according to various conditions such as a desired BET value and a particle size distribution.
鉱酸M1としては、例えば、硫酸、塩酸、リン酸、硝酸が挙げられる。鉱酸M1としては、特に、硫酸が挙げられる。鉱酸M1としては、1種の鉱酸を用いてもよく、2種またはそれ以上の鉱酸を組み合わせて用いてもよい。鉱酸M1の濃度は、特に制限されない。鉱酸M1の濃度が低い方が、pHのぶれが小さく滴下を実施しやすい場合がある。鉱酸M1の濃度は、例えば、0.1モル/L以上、0.3モル/L以上、0.5モル/L以上、または1モル/L以上であってもよく、4モル/L以下、3モル/L以下、2モル/L以下、または1.5モル/L以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。鉱酸M1の濃度は、具体的には、例えば、0.1モル/L~2モル/Lであってもよい。鉱酸M1の滴下量は、所望の沈降シリカが得られる限り、特に制限されない。鉱酸M1の滴下量は、例えば、ケイ酸アルカリ水溶液S2の滴下量等の諸条件に応じて適宜設定できる。鉱酸M1の滴下量は、例えば、シード液のpHが所定の範囲に維持される量に設定することができる。 Examples of the mineral acid M1 include sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, and nitric acid. Examples of the mineral acid M1 include sulfuric acid. As the mineral acid M1, one kind of mineral acid may be used, or two or more kinds of mineral acids may be used in combination. The concentration of mineral acid M1 is not particularly limited. The lower the concentration of the mineral acid M1, the smaller the pH fluctuation and the easier it is to carry out the dropping. The concentration of the mineral acid M1 may be, for example, 0.1 mol / L or more, 0.3 mol / L or more, 0.5 mol / L or more, or 1 mol / L or more, and 4 mol / L or less. It may be 3 mol / L or less, 2 mol / L or less, or 1.5 mol / L or less, or a combination thereof. Specifically, the concentration of the mineral acid M1 may be, for example, 0.1 mol / L to 2 mol / L. The amount of the mineral acid M1 dropped is not particularly limited as long as the desired precipitated silica can be obtained. The dropping amount of the mineral acid M1 can be appropriately set according to various conditions such as, for example, the dropping amount of the alkaline aqueous silicate solution S2. The dropping amount of the mineral acid M1 can be set to, for example, an amount at which the pH of the seed solution is maintained within a predetermined range.
ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下条件は、所望の沈降シリカが得られる限り、特に制限されない。ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下時間は、例えば、15分以上、20分以上、または30分以上であってもよく、60分以下、50分以下、または40分以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下時間は、具体的には、例えば、15分~60分、好ましくは20分~50分であってよい。ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下速度は、例えば、上記例示した滴下量や滴下時間を満たすように設定することができる。ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下時のシード液の温度は、例えば、50℃以上、60℃以上、または70℃以上であってもよく、100℃以下、90℃以下、または80℃以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下時のシード液の温度は、具体的には、例えば、50℃~100℃、好ましくは70℃~90℃であってもよい。 The dropping conditions of the alkaline aqueous silicate solution S2 and the mineral acid M1 are not particularly limited as long as the desired precipitated silica is obtained. The dropping time of the alkaline aqueous silicate solution S2 and the mineral acid M1 may be, for example, 15 minutes or more, 20 minutes or more, or 30 minutes or more, or 60 minutes or less, 50 minutes or less, or 40 minutes or less. Often, it may be a combination thereof. Specifically, the dropping time of the alkaline aqueous silicate solution S2 and the mineral acid M1 may be, for example, 15 minutes to 60 minutes, preferably 20 minutes to 50 minutes. The dropping speeds of the alkaline aqueous silicate solution S2 and the mineral acid M1 can be set, for example, so as to satisfy the above-exemplified dropping amount and dropping time. The temperature of the seed liquid at the time of dropping the aqueous alkaline silicate solution S2 and the mineral acid M1 may be, for example, 50 ° C. or higher, 60 ° C. or higher, or 70 ° C. or higher, and 100 ° C. or lower, 90 ° C. or lower, or 80 ° C. It may be the following, or it may be a combination thereof. Specifically, the temperature of the seed liquid at the time of dropping the aqueous alkali silicate solution S2 and the mineral acid M1 may be, for example, 50 ° C to 100 ° C, preferably 70 ° C to 90 ° C.
ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の使用態様(種類、濃度、滴下条件等)は、滴下の全期間において同一であってもよく、そうでなくてもよい。 The usage mode (type, concentration, dropping conditions, etc.) of the alkaline aqueous silicate solution S2 and the mineral acid M1 may or may not be the same during the entire period of dropping.
ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下後、シード液に追加の鉱酸を滴下することができる。当該滴下される追加の鉱酸を、以下、「鉱酸M2」ともいう。すなわち、工程Cは、ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下後に、シード液に鉱酸M2を滴下することを含んでいてもよい。言い換えると、工程Cは、ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下後のシード液に鉱酸M2を滴下することを含んでいてもよい。鉱酸M2については、鉱酸M1についての説明を準用できる。鉱酸M2の種類や濃度は、それぞれ、鉱酸M1の種類や濃度と同一であってもよく、なくてもよい。鉱酸M2は、例えば、シード液のpHが酸性になるまで滴下することができる。鉱酸M2の滴下後のシード液のpHは、シリカがゲル化せずに安定に存在する範囲であれば特に制限されない。鉱酸M2の滴下後のシード液のpHは、例えば、1.5以上、または2以上であってもよく、6以下、または3.5以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。鉱酸M2の滴下後のシード液のpHは、具体的には、例えば、1.5~6、好ましくは2~3.5であってよい。鉱酸M2の滴下は、例えば、ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下後に、鉱酸M1の滴下を継続することにより、実施することができる。言い換えると、鉱酸M1を鉱酸M2としても用いることができる。鉱酸M2の滴下速度や鉱酸M2の滴下時のシード液の温度については、鉱酸M1の滴下速度や鉱酸M1の滴下時のシード液の温度についての説明を準用できる。鉱酸M2の滴下速度や鉱酸M2の滴下時のシード液の温度は、それぞれ、鉱酸M1の滴下速度や鉱酸M1の滴下時のシード液の温度と同一であってもよく、なくてもよい。鉱酸M2の使用態様(種類、濃度、滴下条件等)は、滴下の全期間において同一であってもよく、そうでなくてもよい。 After dropping the aqueous alkali silicate solution S2 and the mineral acid M1, additional mineral acid can be added dropwise to the seed solution. The added mineral acid to be dropped is also hereinafter referred to as "mineral acid M2". That is, the step C may include dropping the mineral acid M2 into the seed solution after dropping the silicate alkaline aqueous solution S2 and the mineral acid M1. In other words, step C may include dropping the mineral acid M2 into the seed solution after dropping the aqueous alkali silicate solution S2 and the mineral acid M1. As for the mineral acid M2, the description of the mineral acid M1 can be applied mutatis mutandis. The type and concentration of the mineral acid M2 may or may not be the same as the type and concentration of the mineral acid M1, respectively. The mineral acid M2 can be added dropwise, for example, until the pH of the seed solution becomes acidic. The pH of the seed solution after dropping the mineral acid M2 is not particularly limited as long as the silica does not gel and is stably present. The pH of the seed solution after dropping the mineral acid M2 may be, for example, 1.5 or more, or 2 or more, 6 or less, or 3.5 or less, or a combination thereof. good. Specifically, the pH of the seed solution after dropping the mineral acid M2 may be, for example, 1.5 to 6, preferably 2 to 3.5. The dropping of the mineral acid M2 can be carried out, for example, by continuing the dropping of the mineral acid M1 after the dropping of the alkaline aqueous solution S2 of silicate and the mineral acid M1. In other words, the mineral acid M1 can also be used as the mineral acid M2. Regarding the dropping rate of the mineral acid M2 and the temperature of the seed liquid at the time of dropping the mineral acid M2, the description of the dropping speed of the mineral acid M1 and the temperature of the seed liquid at the time of dropping the mineral acid M1 can be applied mutatis mutandis. The dropping rate of the mineral acid M2 and the temperature of the seed liquid at the time of dropping the mineral acid M2 may or may not be the same as the dropping speed of the mineral acid M1 and the temperature of the seed liquid at the time of dropping the mineral acid M1, respectively. May be good. The mode of use (type, concentration, dropping conditions, etc.) of the mineral acid M2 may or may not be the same during the entire period of dropping.
なお、工程Cにおいて言及される「シード液」とは、特記しない限り、ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下や鉱酸M2の滴下等の操作のタイミングや進行度に応じて、それらの操作が部分的または完全に実施された後のシード液を意味し得る。すなわち、例えば、工程Cにおける「シード液のpH」とは、ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸M1の滴下の開始後にあってはシード液とケイ酸アルカリ水溶液S2と鉱酸M1の混合物のpHを意味し、鉱酸M2の滴下の開始後にあってはシード液とケイ酸アルカリ水溶液S2と鉱酸M1と鉱酸M2の混合物のpHを意味する。 Unless otherwise specified, the "seed liquid" referred to in step C refers to the "seed liquid" according to the timing and progress of operations such as dropping of the alkaline aqueous solution S2 of silicate and the dropping of the mineral acid M1 and dropping of the mineral acid M2. It can mean the seed solution after the operation has been partially or completely performed. That is, for example, the "pH of the seed solution" in step C is the pH of the seed solution, the pH of the mixture of the alkaline silicate aqueous solution S2 and the mineral acid M1 after the start of dropping of the alkaline silicate aqueous solution S2 and the mineral acid M1. This means the pH of the mixture of the seed solution, the alkaline aqueous solution of silicate S2, the mineral acid M1 and the mineral acid M2 after the start of the dropping of the mineral acid M2.
このようにして工程A~Cを実施することにより、沈降シリカが生成する。 By carrying out steps A to C in this way, precipitated silica is produced.
生成した沈降シリカは、適宜、回収することができる。沈降シリカは、例えば、フィルタープレス等でシード液(沈降シリカ生成後のもの)を濾過することにより回収することができる。濾取物は、次いで、水等の洗浄用媒体で洗浄することができる。洗浄された沈
降シリカは、次いで、乾燥することができる。乾燥は、例えば、通常の乾燥機を用い、80℃以上の温度で加熱乾燥により実施できる。乾燥は、例えば、沈降シリカの水分含量が5~10%(w/w)となるまで実施してよい。
The produced precipitated silica can be recovered as appropriate. Precipitated silica can be recovered, for example, by filtering the seed liquid (the one after forming the precipitated silica) with a filter press or the like. The collected material can then be washed with a washing medium such as water. The washed precipitated silica can then be dried. Drying can be carried out by heating and drying at a temperature of 80 ° C. or higher using, for example, a normal dryer. Drying may be carried out, for example, until the water content of the precipitated silica reaches 5 to 10% (w / w).
このようにして得られた沈降シリカは、分散性に優れている。このようにして得られた沈降シリカは、例えば、超音波破砕することにより、粒径を調整することができる。本発明の方法は、このようにして得られた沈降シリカを超音波破砕することにより、粒径を調整する工程を含んでいてもよい。超音波破砕により、例えば、沈降シリカの平均粒径を1μm以下に調整することができる。また、超音波破砕は、例えば、粒径1μm以上のシリカ粒子が残存しないように実施することができる。超音波破砕は、例えば、水中で実施することができる。超音波破砕の条件としては、沈降シリカ等の凝集物を分散させる通常の条件が挙げられる。なお、「平均粒径」とは、レーザー回折・散乱法によって得られた粒度分布における算術平均粒径(体積基準分布)を意味する。 The precipitated silica thus obtained is excellent in dispersibility. The particle size of the precipitated silica thus obtained can be adjusted, for example, by ultrasonically crushing the silica. The method of the present invention may include a step of adjusting the particle size by ultrasonically crushing the precipitated silica thus obtained. By ultrasonic crushing, for example, the average particle size of the precipitated silica can be adjusted to 1 μm or less. Further, ultrasonic crushing can be carried out, for example, so that silica particles having a particle size of 1 μm or more do not remain. Ultrasonic crushing can be performed, for example, in water. Examples of the ultrasonic crushing conditions include normal conditions for dispersing aggregates such as precipitated silica. The "average particle size" means the arithmetic average particle size (volume-based distribution) in the particle size distribution obtained by the laser diffraction / scattering method.
また、このようにして得られた沈降シリカは、高い比表面積を有する。比表面積は、通常、BET(Brunauer-Emmett-Teller法)比表面積として測定することができる。このようにして得られた沈降シリカのBET比表面積は、例えば、100m2/g以上であってもよく、250m2/g以下であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。このようにして得られた沈降シリカのBET比表面積は、具体的には、例えば、100m2/g~250m2/gであってもよい。沈降シリカの比表面積は、例えば、工程Bにおけるシリカ濃度、pH、および加熱時間、並びに工程Cにおけるケイ酸アルカリ水溶液S2の滴下量等によって調整することができる。 Further, the precipitated silica thus obtained has a high specific surface area. The specific surface area can usually be measured as a BET (Brunauer-Emmett-Teller method) specific surface area. The BET specific surface area of the precipitated silica thus obtained may be, for example, 100 m 2 / g or more, 250 m 2 / g or less, or a combination thereof. Specifically, the BET specific surface area of the precipitated silica thus obtained may be, for example, 100 m 2 / g to 250 m 2 / g. The specific surface area of the precipitated silica can be adjusted, for example, by adjusting the silica concentration, pH, and heating time in step B, the dropping amount of the alkaline silicate aqueous solution S2 in step C, and the like.
<2>本発明の沈降シリカ
本発明の沈降シリカは、所定の性質を有する沈降シリカである。本発明の沈降シリカの性質については、本発明の方法により得られる沈降シリカの性質の説明を準用できる。すなわち、本発明の沈降シリカは、本発明の方法により得られる沈降シリカの性質から選択される1つまたはそれ以上の性質を有していてよい。本発明の沈降シリカは、例えば、下記性質(1)~(3)から選択される1つまたはそれ以上の性質を有していてよい:
(1)BET比表面積値が、100m2/g~250m2/gである;
(2)超音波破砕後の平均粒径が、1μm以下である;
(3)超音波破砕後に、粒径1μm以上のシリカ粒子を含有しない。
<2> Precipitated silica of the present invention The precipitated silica of the present invention is a precipitated silica having predetermined properties. As for the properties of the precipitated silica of the present invention, the description of the properties of the precipitated silica obtained by the method of the present invention can be applied mutatis mutandis. That is, the precipitated silica of the present invention may have one or more properties selected from the properties of the precipitated silica obtained by the method of the present invention. The precipitated silica of the present invention may have, for example, one or more properties selected from the following properties (1) to (3):
(1) The BET specific surface area value is 100 m 2 / g to 250 m 2 / g;
(2) The average particle size after ultrasonic crushing is 1 μm or less;
(3) After ultrasonic crushing, it does not contain silica particles having a particle size of 1 μm or more.
「超音波破砕後の平均粒径が、1μm以下である」とは、沈降シリカを超音波破砕に供することにより平均粒径が1μm以下になることで足り、超音波破砕前の平均粒径は問わない。よって、平均粒径が1μm超の沈降シリカであっても、超音波破砕に供することにより平均粒径が1μm以下になるものであれば、上記性質(2)を有する沈降シリカに該当する。 "The average particle size after ultrasonic crushing is 1 μm or less" means that the average particle size after ultrasonic crushing is 1 μm or less by subjecting the precipitated silica to ultrasonic crushing, and the average particle size before ultrasonic crushing is sufficient. It doesn't matter. Therefore, even if the precipitated silica has an average particle size of more than 1 μm, it corresponds to the precipitated silica having the above-mentioned property (2) as long as the average particle size becomes 1 μm or less by being subjected to ultrasonic crushing.
「超音波破砕後に、粒径1μm以上のシリカ粒子を含有しない」とは、沈降シリカを超音波破砕に供することにより粒径1μm以上のシリカ粒子がなくなることで足り、超音波破砕前に粒径1μm以上のシリカ粒子を含有するか否かは問わない。よって、粒径1μm以上のシリカ粒子を含有する沈降シリカであっても、超音波破砕に供することにより粒径1μm以上のシリカ粒子がなくなるものであれば、上記性質(3)を有する沈降シリカに該当する。 "Does not contain silica particles with a particle size of 1 μm or more after ultrasonic crushing" means that the silica particles with a particle size of 1 μm or more are eliminated by subjecting the precipitated silica to ultrasonic crushing, and the particle size before ultrasonic crushing is sufficient. It does not matter whether or not it contains silica particles of 1 μm or more. Therefore, even if the precipitated silica contains silica particles having a particle size of 1 μm or more, if the silica particles having a particle size of 1 μm or more disappear by being subjected to ultrasonic crushing, the precipitated silica having the above property (3) can be obtained. Applicable.
本発明の沈降シリカは、例えば、少なくとも、上記性質の(1)を有していてもよく、(1)と(2)を有していてもよい。 The precipitated silica of the present invention may have, for example, at least the above-mentioned property (1), or may have (1) and (2).
本発明の沈降シリカを製造する方法は特に制限されない。本発明の沈降シリカは、例え
ば、本発明の方法により製造することができる。すなわち、本発明の沈降シリカの一態様は、本発明の方法により得られる沈降シリカである。
The method for producing the precipitated silica of the present invention is not particularly limited. The precipitated silica of the present invention can be produced, for example, by the method of the present invention. That is, one aspect of the precipitated silica of the present invention is the precipitated silica obtained by the method of the present invention.
<3>本発明の沈降シリカの利用
本発明の沈降シリカの用途は特に制限されない。本発明の沈降シリカは、例えば、目的物の製造における原料として利用することができる。すなわち、本発明は、例えば、本発明の沈降シリカを原料として目的物を製造する方法を提供する。目的物としては、例えば、一般的に沈降シリカを原料として製造され得るものが挙げられる。目的物として、具体的には、例えば、インクジェット記録紙填料、塗料の艶消し剤、ジョギングシューズ、タイヤが挙げられる。目的物としては、特に、タイヤが挙げられる。目的物は、本発明の沈降シリカを原料として用いること以外は、例えば、目的物の通常の原料を用いて通常の方法により製造することができる。
<3> Utilization of Precipitated Silica of the Present Invention The use of the precipitated silica of the present invention is not particularly limited. The precipitated silica of the present invention can be used, for example, as a raw material in the production of an object. That is, the present invention provides, for example, a method for producing an object using the precipitated silica of the present invention as a raw material. Examples of the target product include those that can be generally produced from precipitated silica as a raw material. Specific examples of the object include an inkjet recording paper filler, a paint matting agent, jogging shoes, and a tire. The object is, in particular, a tire. The target product can be produced, for example, by a normal method using the usual raw material of the target product, except that the precipitated silica of the present invention is used as a raw material.
以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
<1>沈降シリカの調製1
<1-1>籾殻灰からのケイ酸ナトリウム水溶液の調製
2モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液335mLに籾殻灰50gを加え、攪拌棒によっ
て攪拌した(250rpm)。80℃で6時間加熱攪拌し、次いで室温に戻し、遠心分離(日立工機(株) CF16RX II、8000×g、10分)して炭素分を沈殿させ、上清を
桐山ロートによりろ過した(ろ紙No.5B)。次いで、沈殿物に水を加え攪拌した後、再び遠心分離(8000g、10分)し、上清を桐山ロートでろ過し、先のろ液と混ぜた。次いで、このろ液の合計重量が400gになるように水で希釈し、ケイ酸ナトリウム水溶液400gを得た。このケイ酸ナトリウム水溶液0.1gをとり、水で4000倍に希釈後、「パックテストシリカ」((株)共立理化学研究所)で定量した。その結果、ケイ酸ナトリウム水溶液中のシリカ濃度は、10.2%(W/W)であった。
<1> Preparation of precipitated silica 1
<1-1> Preparation of sodium silicate aqueous solution from rice husk ash 50 g of rice husk ash was added to 335 mL of a 2 mol / L sodium hydroxide aqueous solution, and the mixture was stirred with a stirring rod (250 rpm). The mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 6 hours, then returned to room temperature, centrifuged (Hitachi Koki Co., Ltd. CF16RX II, 8000 × g, 10 minutes) to precipitate carbon, and the supernatant was filtered through a Kiriyama funnel (). Filter paper No. 5B). Then, water was added to the precipitate, and the mixture was stirred and then centrifuged again (8000 g, 10 minutes), and the supernatant was filtered through a Kiriyama funnel and mixed with the above filtrate. Then, the filtrate was diluted with water so as to have a total weight of 400 g to obtain 400 g of an aqueous sodium silicate solution. 0.1 g of this sodium silicate aqueous solution was taken, diluted 4000-fold with water, and then quantified by "Packtest Silica" (Kyoritsu Rikagaku Kenkyusho Co., Ltd.). As a result, the silica concentration in the sodium silicate aqueous solution was 10.2% (W / W).
<1-2>シード液の調製
上記<1-1>で得たケイ酸ナトリウム水溶液2gを水196gに希釈し、1モル/L硫酸2gを添加することによりpH2.7に調整した。これを80℃で3時間加熱した。次いで上記<1-1>で得たケイ酸ナトリウム水溶液1gを添加することによりpH9.2に調整し、さらに80℃で6時間加熱した。この溶液を水で200gになるように希釈し、シード液とした。
<1-2> Preparation of seed solution The pH of 2 g of the sodium silicate aqueous solution obtained in <1-1> above was adjusted to 2.7 by diluting it with 196 g of water and adding 2 g of 1 mol / L sulfuric acid. This was heated at 80 ° C. for 3 hours. Then, the pH was adjusted to 9.2 by adding 1 g of the sodium silicate aqueous solution obtained in <1-1> above, and the mixture was further heated at 80 ° C. for 6 hours. This solution was diluted with water to 200 g to obtain a seed solution.
<1-3>沈降シリカの調製
上記<1-2>で得たシード液100gをとり、80℃に加熱し攪拌した。上記<1-1>で得たケイ酸ナトリウム水溶液60gと、1モル/L硫酸をシード液に対して同時に24分かけて滴下しながら攪拌を続けた(253rpm)。この時pHは8.5~9.5の範囲に保った。ケイ酸ナトリウム水溶液の滴下終了後、1モル/L硫酸のみ同じ速度で滴下を続け、pH2.9になった時点で滴下を終了した。滴下した1モル/L硫酸は49gであった。生じた白色沈殿物を桐山ロート(ろ紙No.5B)でろ過し、ろ取物を水100gで洗浄した。これをもう一度繰り返し、ろ取物を乾燥機(ADVANTEC FV-430)にて80℃で3時間加熱し、白色のフロック状沈降シリカを4.6g得た。これを沈降シリカNo.1とした。
<1-3> Preparation of Precipitated Silica 100 g of the seed solution obtained in <1-2> above was taken, heated to 80 ° C., and stirred. Stirring was continued while simultaneously dropping 60 g of the sodium silicate aqueous solution obtained in <1-1> and 1 mol / L sulfuric acid on the seed solution over 24 minutes (253 rpm). At this time, the pH was kept in the range of 8.5 to 9.5. After the addition of the sodium silicate aqueous solution was completed, only 1 mol / L sulfuric acid was continued to be added dropwise at the same rate, and the addition was completed when the pH reached 2.9. The amount of 1 mol / L sulfuric acid dropped was 49 g. The resulting white precipitate was filtered through a Kiriyama funnel (filter paper No. 5B), and the filtrate was washed with 100 g of water. This was repeated once more, and the filtrate was heated in a dryer (ADVANTEC FV-430) at 80 ° C. for 3 hours to obtain 4.6 g of white floc-like precipitated silica. This was called Precipitated Silica No. It was set to 1.
<2>沈降シリカの調製2
<2-1>シード液の調製
上記<1-1>で得たケイ酸ナトリウム水溶液3gを水194.9gに希釈し、1モル/L硫酸2.1gを添加することによりpH9.4に調整した。これを80℃で9時間加
熱した。加熱後、この溶液を水で200gになるように希釈し、シード液とした。
<2> Preparation of precipitated silica 2
<2-1> Preparation of seed solution Adjust the pH to 9.4 by diluting 3 g of the sodium silicate aqueous solution obtained in <1-1> above to 194.9 g of water and adding 2.1 g of 1 mol / L sulfuric acid. bottom. This was heated at 80 ° C. for 9 hours. After heating, this solution was diluted with water to 200 g to obtain a seed solution.
<2-2>沈降シリカ調製
上記<2-1>で得たシード液100gをとり、80℃に加熱し攪拌した。上記<1-1>で得たケイ酸ナトリウム水溶液60gと、1モル/L硫酸をシード液に対して同時に26分かけて滴下しながら攪拌を続けた(269rpm)。この時pHは8.5~9.5の範囲に保った。ケイ酸ナトリウム水溶液の滴下終了後、1モル/L硫酸のみ同じ速度で滴下を続け、pH3.2になった時点で滴下を終了した。滴下した1モル/L硫酸は45gであった。生じた白色沈殿物を桐山ロート(ろ紙No.5B)でろ過し、ろ取物を水100gで洗浄した。これをもう一度繰り返し、ろ取物を乾燥機(ADVANTEC FV-430)にて90℃で2時間加熱し、白色のフロック状沈降シリカを4.8g得た。これを沈降シリカNo.2とした。
<2-2> Preparation of Precipitated Silica 100 g of the seed solution obtained in <2-1> above was taken, heated to 80 ° C., and stirred. Stirring was continued while simultaneously dropping 60 g of the sodium silicate aqueous solution obtained in <1-1> and 1 mol / L sulfuric acid onto the seed solution over 26 minutes (269 rpm). At this time, the pH was kept in the range of 8.5 to 9.5. After the addition of the sodium silicate aqueous solution was completed, only 1 mol / L sulfuric acid was continued to be added dropwise at the same rate, and when the pH reached 3.2, the addition was completed. The amount of 1 mol / L sulfuric acid dropped was 45 g. The resulting white precipitate was filtered through a Kiriyama funnel (filter paper No. 5B), and the filtrate was washed with 100 g of water. This was repeated once more, and the filtrate was heated in a dryer (ADVANTEC FV-430) at 90 ° C. for 2 hours to obtain 4.8 g of white floc-like precipitated silica. This was called Precipitated Silica No. It was set to 2.
<3>沈降シリカの調製3
<3-1>シード液の調製
上記<1-1>で得たケイ酸ナトリウム水溶液3gを水194.8gに希釈し、1モル/L硫酸2.2gを添加することによりpH8.7に調整した。
<3> Preparation of precipitated silica 3
<3-1> Preparation of seed solution Adjust the pH to 8.7 by diluting 3 g of the sodium silicate aqueous solution obtained in <1-1> above to 194.8 g of water and adding 2.2 g of 1 mol / L sulfuric acid. bottom.
<3-2>沈降シリカ調製
上記<3-1>で得たシード液100gをとり、80℃に加熱し攪拌した。上記<1-1>で得たケイ酸ナトリウム水溶液75gと、1モル/L硫酸をシード液に対して同時に36分かけて滴下しながら攪拌を続けた(256rpm)。この時pHは8.5~9.5の範囲に保った。ケイ酸ナトリウム水溶液の滴下終了後、1モル/L硫酸のみ同じ速度で滴下を続け、pH3.1になった時点で滴下を終了した。滴下した1モル/L硫酸は54gであった。生じた白色沈殿物を桐山ロート(ろ紙No.5B)でろ過し、ろ取物を水100gで洗浄した。これをもう一度繰り返し、ろ取物を乾燥機(ADVANTEC FV-430)にて90℃で2時間加熱し、白色のフロック状沈降シリカを5.3g得た。これを沈降シリカNo.3とした。
<3-2> Preparation of Precipitated Silica 100 g of the seed solution obtained in <3-1> above was taken, heated to 80 ° C., and stirred. Stirring was continued while simultaneously dropping 75 g of the sodium silicate aqueous solution obtained in <1-1> and 1 mol / L sulfuric acid with respect to the seed solution over 36 minutes (256 rpm). At this time, the pH was kept in the range of 8.5 to 9.5. After the addition of the sodium silicate aqueous solution was completed, only 1 mol / L sulfuric acid was continued to be added dropwise at the same rate, and when the pH reached 3.1, the addition was completed. The amount of 1 mol / L sulfuric acid dropped was 54 g. The resulting white precipitate was filtered through a Kiriyama funnel (filter paper No. 5B), and the filtrate was washed with 100 g of water. This was repeated once more, and the filtrate was heated in a dryer (ADVANTEC FV-430) at 90 ° C. for 2 hours to obtain 5.3 g of white floc-like precipitated silica. This was called Precipitated Silica No. It was set to 3.
<4>沈降シリカの調製4
水100gを80℃に加熱し攪拌した。上記<1-1>で得たケイ酸ナトリウム水溶液75gと、1モル/L硫酸をこの水に対して同時に33分かけて滴下しながら攪拌を続けた(253rpm)。この時pHは8.5~9.5の範囲に保った。ケイ酸ナトリウム水溶液の滴下終了後、1モル/L硫酸のみ同じ速度で滴下を続け、pH3.1になった時点で滴下を終了した。生じた白色スラリーを桐山ロート(ろ紙No.5B)でろ過し、ろ取物を水100gで洗浄した。これをもう一度繰り返し、ろ取物を乾燥機(ADVANTEC FV-430)にて80℃で3時間加熱し、白色のフロック状シリカを4.5g得た。これを沈降シリカNo.4とした。
<4> Preparation of precipitated silica 4
100 g of water was heated to 80 ° C. and stirred. Stirring was continued while adding 75 g of the sodium silicate aqueous solution obtained in <1-1> and 1 mol / L sulfuric acid to this water at the same time for 33 minutes (253 rpm). At this time, the pH was kept in the range of 8.5 to 9.5. After the addition of the sodium silicate aqueous solution was completed, only 1 mol / L sulfuric acid was continued to be added dropwise at the same rate, and when the pH reached 3.1, the addition was completed. The resulting white slurry was filtered through a Kiriyama funnel (filter paper No. 5B), and the filtrate was washed with 100 g of water. This was repeated once more, and the filtrate was heated in a dryer (ADVANTEC FV-430) at 80 ° C. for 3 hours to obtain 4.5 g of white floc-like silica. This was called Precipitated Silica No. It was set to 4.
<5>沈降シリカの調製5
上記<1-1>で得たケイ酸ナトリウム水溶液1.5gを水98.5gに加え、80℃に加熱し攪拌した。撹拌物のpHは10.6であった。これに上記<1-1>で得たケイ酸ナトリウム水溶液75gと、1モル/L硫酸を同時に32分かけて滴下しながら攪拌を続けた(261rpm)。この時pHは8.5~9.5の範囲に保った。ケイ酸ナトリウム水溶液の滴下終了後、1モル/L硫酸のみ同じ速度で滴下を続け、pH3.1になった時点で滴下を終了した。生じた白色スラリーを桐山ロート(ろ紙No.5B)でろ過し、ろ取物を水100gで洗浄した。これをもう一度繰り返し、ろ取物を乾燥機(ADVANTEC FV-430)にて90℃で2時間加熱し、白色のフロック状シリカを7.7g得た。これを沈降シリカNo.5とした。
<5> Preparation of precipitated silica 5
1.5 g of the sodium silicate aqueous solution obtained in <1-1> above was added to 98.5 g of water, and the mixture was heated to 80 ° C. and stirred. The pH of the agitated product was 10.6. Stirring was continued while simultaneously dropping 75 g of the sodium silicate aqueous solution obtained in <1-1> and 1 mol / L sulfuric acid over 32 minutes (261 rpm). At this time, the pH was kept in the range of 8.5 to 9.5. After the addition of the sodium silicate aqueous solution was completed, only 1 mol / L sulfuric acid was continued to be added dropwise at the same rate, and when the pH reached 3.1, the addition was completed. The resulting white slurry was filtered through a Kiriyama funnel (filter paper No. 5B), and the filtrate was washed with 100 g of water. This was repeated once more, and the filtrate was heated in a dryer (ADVANTEC FV-430) at 90 ° C. for 2 hours to obtain 7.7 g of white floc-like silica. This was called Precipitated Silica No. It was set to 5.
<6>沈降シリカの分析
得られた沈降シリカNo.1~5に水を加え、それぞれ、超音波破砕装置を用いて60Wで20分間粉砕した。粉砕物の平均粒径を直ちに粒度分布計((株)堀場製作所 LA-920)にて測定した。結果を表1に示す。
<6> Analysis of Precipitated Silica The obtained Precipitated Silica No. Water was added to 1 to 5, and each was pulverized at 60 W for 20 minutes using an ultrasonic crusher. The average particle size of the crushed material was immediately measured with a particle size distribution meter (LA-920, HORIBA, Ltd.). The results are shown in Table 1.
沈降シリカNo.1~4のBET比表面積を、それぞれ、測定した(マイクロトラックベル(株) BELSORP-mini、吸着質 窒素、吸着温度 77K)。結果を表2に示す。 Precipitated silica No. The BET specific surface areas of 1 to 4 were measured, respectively (Microtrac Bell Co., Ltd. BELSORP-mini, adsorbent nitrogen, adsorption temperature 77K). The results are shown in Table 2.
表1及び表2から、鉱酸を添加して所定のpHのシード液を調整し、それにケイ酸ナトリウム水溶液を鉱酸と同時にpHを保ちながら滴下することにより、粒度分布の小さく、且つBET比表面積の大きい沈降シリカが得られた(No.1~3)。一方、水またはpH調整をしていないケイ酸ナトリウム希釈液に対してケイ酸ナトリウム水溶液を鉱酸と同時滴下して生成した沈降シリカは、粒度分布が大きく、分散性の劣るシリカであった(No.4~5)。 From Tables 1 and 2, mineral acid is added to prepare a seed solution having a predetermined pH, and an aqueous sodium silicate solution is added dropwise to the mineral acid at the same time while maintaining the pH, so that the particle size distribution is small and the BET ratio is small. Precipitated silica having a large surface surface was obtained (Nos. 1 to 3). On the other hand, the precipitated silica produced by simultaneously dropping an aqueous solution of sodium silicate with water or a diluted solution of sodium silicate without adjusting the pH was silica having a large particle size distribution and poor dispersibility (s). No. 4-5).
本発明によれば、分散性がよく、且つ表面積の大きい沈降シリカを安価に製造できる。 According to the present invention, precipitated silica having good dispersibility and a large surface area can be produced at low cost.
Claims (20)
下記工程A~Cを含み:
(A)シリカ含有植物体の灰をアルカリ水溶液中で加熱することにより、ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2を調製する工程;
(B)前記ケイ酸アルカリ水溶液S1のpHを8~10に調整することにより、シード液を調製する工程;
(C)前記シード液に、前記ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸を滴下することにより、沈降シリカを調製する工程;
前記工程Aにおいて、前記ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2が個別に調製されるか、または前記ケイ酸アルカリ水溶液S1およびS2の一部もしくは全部がまとめて調製され、
前記工程Bにおいて調製された前記シード液中のシリカ濃度が、0.08%(w/w)~0.3%(w/w)であり、
前記工程Cにおいて、前記ケイ酸アルカリ水溶液S2および鉱酸の滴下時の前記シード液の温度は80℃以下である、方法。 It is a method for producing precipitated silica.
Including the following steps A to C:
(A) A step of preparing alkaline silicate aqueous solutions S1 and S2 by heating the ash of a silica-containing plant body in an alkaline aqueous solution;
(B) A step of preparing a seed solution by adjusting the pH of the alkaline aqueous silicate solution S1 to 8 to 10.
(C) A step of preparing precipitated silica by dropping the alkaline aqueous silicate solution S2 and mineral acid into the seed solution ;
In the step A, the alkaline aqueous silicate solutions S1 and S2 are prepared individually, or a part or all of the alkaline aqueous silicate solutions S1 and S2 are prepared together.
The silica concentration in the seed solution prepared in the step B is 0.08% (w / w) to 0.3% (w / w).
The method in which the temperature of the seed liquid at the time of dropping the alkaline aqueous silicate solution S2 and the mineral acid in the step C is 80 ° C. or lower .
前記工程Aが、下記工程A1であり:
(A1)シリカ含有植物体の灰をアルカリ水溶液中で加熱することにより、ケイ酸アルカリ水溶液S1、S2、およびS3を調製する工程;
前記工程A1において、前記ケイ酸アルカリ水溶液S1、S2およびS3が個別に調製されるか、または前記ケイ酸アルカリ水溶液S1、S2およびS3の一部もしくは全部がまとめて調製される、請求項6に記載の方法。 The alkali used for the pH adjustment is an aqueous alkali silicate solution S3.
The step A is the following step A1:
(A1) A step of preparing alkaline silicate aqueous solutions S1, S2, and S3 by heating the ash of a silica-containing plant body in an alkaline aqueous solution ;
The sixth aspect of the invention, wherein in the step A1, the alkaline aqueous silicate solutions S1, S2 and S3 are individually prepared, or a part or all of the alkaline aqueous silicate solutions S1, S2 and S3 are prepared together. The method described .
(D)前記工程Cで得られた沈降シリカを超音波破砕することにより、該沈降シリカの平均粒径を1μm以下に調整する工程。 The method according to any one of claims 1 to 16 , further comprising the following step D:
(D) A step of adjusting the average particle size of the precipitated silica to 1 μm or less by ultrasonically crushing the precipitated silica obtained in the step C.
前記沈降シリカが、請求項1~19のいずれか1項に記載の方法により得られる沈降シリカである、方法。 A method of manufacturing inkjet recording paper fillers, paint matting agents, jogging shoes, or tires using precipitated silica as a raw material.
The method, wherein the precipitated silica is the precipitated silica obtained by the method according to any one of claims 1 to 19 .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017163581A JP7069604B2 (en) | 2017-08-28 | 2017-08-28 | Manufacturing method of precipitated silica |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017163581A JP7069604B2 (en) | 2017-08-28 | 2017-08-28 | Manufacturing method of precipitated silica |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019038728A JP2019038728A (en) | 2019-03-14 |
JP7069604B2 true JP7069604B2 (en) | 2022-05-18 |
Family
ID=65727201
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017163581A Active JP7069604B2 (en) | 2017-08-28 | 2017-08-28 | Manufacturing method of precipitated silica |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7069604B2 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7466856B2 (en) * | 2019-12-26 | 2024-04-15 | デンカ株式会社 | Insulation filler, insulation material, insulation structure |
JP2022179157A (en) | 2021-05-21 | 2022-12-02 | 住友ゴム工業株式会社 | Cap tread and passenger car tire |
JP2022179158A (en) | 2021-05-21 | 2022-12-02 | 住友ゴム工業株式会社 | Rubber composition for passenger car tire and passenger car tire |
JP2022179159A (en) | 2021-05-21 | 2022-12-02 | 住友ゴム工業株式会社 | Cap tread and passenger car tire |
CN115340101B (en) * | 2022-07-22 | 2023-09-26 | 江西黑猫炭黑股份有限公司 | Production method of silicon dioxide for green tire |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003529518A (en) | 2000-03-31 | 2003-10-07 | アグリテック,インク. | Precipitated silica and silica gel with or without deposited carbon from biomass ash solution and process |
JP2004091313A (en) | 2002-07-10 | 2004-03-25 | Tokuyama Corp | Easily dispersible precipitated silica cake and manufacturing method therefor |
JP2005500238A (en) | 2001-08-13 | 2005-01-06 | ロディア・シミ | Silica production process, silica with specific pore size and / or particle size distribution and their use especially for polymer reinforcement |
JP2005220010A (en) | 2004-01-07 | 2005-08-18 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Silica dispersion liquid and inkjet recording material obtained by using the same |
JP2006517900A (en) | 2003-02-18 | 2006-08-03 | ザ レジストラー インディアン インスティテュート オブ サイエンス | Process and apparatus for producing precipitated silica from rice husk ash |
JP2007510613A (en) | 2003-11-10 | 2007-04-26 | ユニバシティ テクノロジ マレーシア | Improvement of silica airgel |
JP2007522069A (en) | 2004-02-13 | 2007-08-09 | ナン,ゲリー,ロバート | Soluble biogenic silica and uses thereof |
JP2010513200A (en) | 2006-12-22 | 2010-04-30 | ロディア オペレーションズ | A novel method for producing precipitated silica using high-speed blender |
JP2015502324A (en) | 2011-12-23 | 2015-01-22 | ローディア オペレーションズ | Method for producing precipitated silica |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2649089B1 (en) * | 1989-07-03 | 1991-12-13 | Rhone Poulenc Chimie | CONTROLLED POROSITY SILICA AND PROCESS FOR OBTAINING SAME |
-
2017
- 2017-08-28 JP JP2017163581A patent/JP7069604B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003529518A (en) | 2000-03-31 | 2003-10-07 | アグリテック,インク. | Precipitated silica and silica gel with or without deposited carbon from biomass ash solution and process |
JP2005500238A (en) | 2001-08-13 | 2005-01-06 | ロディア・シミ | Silica production process, silica with specific pore size and / or particle size distribution and their use especially for polymer reinforcement |
JP2004091313A (en) | 2002-07-10 | 2004-03-25 | Tokuyama Corp | Easily dispersible precipitated silica cake and manufacturing method therefor |
JP2006517900A (en) | 2003-02-18 | 2006-08-03 | ザ レジストラー インディアン インスティテュート オブ サイエンス | Process and apparatus for producing precipitated silica from rice husk ash |
JP2007510613A (en) | 2003-11-10 | 2007-04-26 | ユニバシティ テクノロジ マレーシア | Improvement of silica airgel |
JP2005220010A (en) | 2004-01-07 | 2005-08-18 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Silica dispersion liquid and inkjet recording material obtained by using the same |
JP2007522069A (en) | 2004-02-13 | 2007-08-09 | ナン,ゲリー,ロバート | Soluble biogenic silica and uses thereof |
JP2010513200A (en) | 2006-12-22 | 2010-04-30 | ロディア オペレーションズ | A novel method for producing precipitated silica using high-speed blender |
JP2015502324A (en) | 2011-12-23 | 2015-01-22 | ローディア オペレーションズ | Method for producing precipitated silica |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019038728A (en) | 2019-03-14 |
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