JP7061502B2 - Polymerizable compositions, photosensitive compositions for black matrices and color filters - Google Patents

Polymerizable compositions, photosensitive compositions for black matrices and color filters Download PDF

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Description

本発明は、重合性組成物、ブラックマトリクス(BM)用感光性組成物、該組成物の硬化物、該硬化物を用いたカラーフィルタ及び該硬化物の製造方法に関する。 The present invention relates to a polymerizable composition, a photosensitive composition for black matrix (BM), a cured product of the composition, a color filter using the cured product, and a method for producing the cured product.

従来、カラーフィルタは液晶表示装置等のカラー化の目的で広く用いられており、一般に赤、緑、青の画素がモザイク様に配置されている。このカラーフィルタを作成する方法としては、染色法、印刷法、インクジェット法、電着法、着色剤分散法等が知られている。特に、感光性ポリマー及び/又は感光性単量体とともに着色剤を分散させたカラーフィルタ用着色重合性組成物を用いてフォトリソグラフィーによって微細画素を形成させる着色剤分散法は、画素の平坦性に優れていることからカラーフィルタ製造法の主流となっている。 Conventionally, a color filter has been widely used for the purpose of colorizing a liquid crystal display device or the like, and generally, red, green, and blue pixels are arranged in a mosaic pattern. As a method for producing this color filter, a dyeing method, a printing method, an inkjet method, an electrodeposition method, a colorant dispersion method and the like are known. In particular, a colorant dispersion method in which fine pixels are formed by photolithography using a colored polymerizable composition for a color filter in which a colorant is dispersed together with a photosensitive polymer and / or a photosensitive monomer is used to improve the flatness of the pixels. Due to its superiority, it has become the mainstream of color filter manufacturing methods.

カラーフィルタの製造に用いられるBM用感光性組成物は、顔料、溶剤、分散剤、光重合性不飽和化合物、重合開始剤等を含有するものである。BM用感光性組成物は、紫外線又は電子線を照射することによって重合硬化させることができるので、カラーフィルタを構成するブラックマトリクス(BM)の製造に有用である。BMは、ガラス基板等に感光性材料を塗布して得られる塗工物から余剰の溶剤を乾燥除去した後、該塗工物に画素形成のためのフォトマスクを介して露光により活性エネルギー線を照射し、硬化(ネガ型)又はアルカリ溶解度を高め(ポジ型)、次いでアルカリ溶液等で溶解する部分を除去した後に、ポストベイクという230度以上の加熱を施すことにより形成される。
上記BM用感光性組成物において顔料を用いる場合、感光性組成物を調製する際に、顔料を予め樹脂や分散媒に分散させた顔料分散液を作成することが一般的である。
The photosensitive composition for BM used for producing a color filter contains a pigment, a solvent, a dispersant, a photopolymerizable unsaturated compound, a polymerization initiator and the like. Since the photosensitive composition for BM can be polymerized and cured by irradiating it with ultraviolet rays or electron beams, it is useful for producing a black matrix (BM) constituting a color filter. BM removes excess solvent from a coating material obtained by applying a photosensitive material to a glass substrate or the like by drying, and then exposes the coating material with active energy rays via a photomask for forming pixels. It is formed by irradiating, curing (negative type) or increasing alkaline solubility (positive type), and then removing a portion to be dissolved with an alkaline solution or the like, and then applying post-baking, which is heating at 230 degrees or higher.
When a pigment is used in the above-mentioned photosensitive composition for BM, it is common to prepare a pigment dispersion liquid in which the pigment is dispersed in a resin or a dispersion medium in advance when preparing the photosensitive composition.

特許文献1には、(メタ)アクリロイルオキシ基及びイソシアヌレート環構造を有する加水分解性シランと粒子とを反応させて得られる反応性粒子が開示され、特許文献2には、ブロックイソシアネートシランからなるシランカップリング剤を含有する基材との密着性に優れる感光性組成物が開示されている。 Patent Document 1 discloses reactive particles obtained by reacting particles with a hydrolyzable silane having a (meth) acryloyloxy group and an isocyanurate ring structure, and Patent Document 2 comprises blocked isocyanate silane. A photosensitive composition having excellent adhesion to a substrate containing a silane coupling agent is disclosed.

国際公開2011/086958号パンフレットInternational Publication 2011/086958 Pamphlet 国際公開2013/187209号パンフレットInternational Publication 2013/187209 Pamphlet

近年、カラー撮像素子、カラー液晶テレビの高品質化を反映し、表示パネルの高精細が強く求められている。そのため、遮光性が高く、低線幅なBMにおいても十分な接着性が確保できる高接着性BM用感光性組成物が検討されている。しかしながら、高感度で保存安定性に優れ、且つ、BMに求められる水準の遮光性及び高接着性を有する硬化物が得られるBM用感光性組成物がないという問題がある。 In recent years, there has been a strong demand for high-definition display panels, reflecting the high quality of color image sensors and color LCD televisions. Therefore, a photosensitive composition for a highly adhesive BM, which has a high light-shielding property and can secure sufficient adhesiveness even in a BM having a low line width, has been studied. However, there is a problem that there is no photosensitive composition for BM that can obtain a cured product having high sensitivity, excellent storage stability, and a level of light-shielding property and high adhesiveness required for BM.

本発明が解決しようとする課題は、高感度で保存安定性に優れ、且つ、BMに求められる水準の遮光性及び高接着性を有する硬化物が得られるBM用感光性組成物がこれまでなかったということである。 The problem to be solved by the present invention is that there has never been a photosensitive composition for BM that can obtain a cured product having high sensitivity, excellent storage stability, and a level of light-shielding property and high adhesiveness required for BM. That is to say.

本発明の目的は、高感度で保存安定性に優れ、且つ、BMに求められる水準の遮光性及び高接着性を有する硬化物が得られる重合性組成物及びBM用感光性組成物、該重合性組成物及びBM用感光性組成物により得られる硬化物、該硬化物を含有するカラーフィルタ、並びに該硬化物を製造する方法を提供することにある。 An object of the present invention is a polymerizable composition and a photosensitive composition for BM, which can obtain a cured product having high sensitivity, excellent storage stability, and a level of light-shielding property and high adhesiveness required for BM, the polymerization thereof. It is an object of the present invention to provide a cured product obtained from a sex composition and a photosensitive composition for BM, a color filter containing the cured product, and a method for producing the cured product.

本発明は、鋭意検討の末、下記〔1〕~〔10〕を提供することにより、上記目的を達成したものである。 The present invention has achieved the above object by providing the following [1] to [10] after diligent studies.

[1] 下記一般式(I)で表されるイソシアネート化合物とブロック化剤とを反応させて得られる構造を有するブロックイソシアネートシラン化合物(A)、重合性化合物(B)及び重合開始剤(C)を含有する重合性組成物。 [1] A blocked isocyanate silane compound (A), a polymerizable compound (B), and a polymerization initiator (C) having a structure obtained by reacting an isocyanate compound represented by the following general formula (I) with a blocking agent. A polymerizable composition containing.

Figure 0007061502000001
Figure 0007061502000001

(式中、Rは、水素原子又は炭素原子数1~8のアルキル基を表し、
は、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基、又は複素環を含有する炭素原子数2~20の基を表し、
は、炭素原子数1~20の炭化水素基、又は複素環を含有する炭素原子数2~20の基を表し、Zで表される基中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、酸素が隣り合わない条件で、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR-、-NRCO-、-S-、-CS-、-SO-、-SCO-、-COS-、-OCS-又はCSO-に置換される場合があり、
は、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、
aは1~3の数を表し、a≧2の場合、複数存在するRは同一である場合があり、異なる場合があり、
bは0~2の数を表し、b=2の場合、複数存在するRは、同一である場合があり、異なる場合があり、
a+b=3である。)
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
R 2 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a group having 2 to 20 carbon atoms containing a heterocycle.
Z 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a group having 2 to 20 carbon atoms containing a heterocycle, and one or more of the methylene groups in the group represented by Z 1 . -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR 4- , -NR 4 CO-, -S-, -CS-, -SO 2- , under the condition that oxygen is not adjacent to each other. May be replaced with -SCO-, -COS-, -OCS- or CSO-
R4 represents a hydrogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
a represents a number from 1 to 3, and when a ≧ 2, a plurality of R 1s may be the same or different.
b represents a number from 0 to 2, and when b = 2, multiple R 2s may be the same or different.
a + b = 3. )

[2] ブロックイソシアネートシラン化合物(A)が下記一般式(II)で表される化合物である請求項1に記載の重合性組成物。 [2] The polymerizable composition according to claim 1, wherein the blocked isocyanate silane compound (A) is a compound represented by the following general formula (II).

Figure 0007061502000002
Figure 0007061502000002

(式中、R、R、a、b及びZは上記一般式(I)と同様であり、
は、水素原子又はメチル基を表し、
及びXは、それぞれ独立に、直接結合又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、
は、炭素原子数1~20の炭化水素基、又は複素環を含有する炭素原子数2~20の基を表し、
、X及びXで表される基中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、酸素が隣り合わない条件で、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR-、-NRCO-、-S-、-CS-、-SO-、-SCO-、-COS-、-OCS-又はCSO-に置換される場合があり、
Yは、酸素原子、硫黄原子、又は-NR-を表し、
は、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、
cは、2~10の数を表し、
c≧2の場合、複数存在するRは、同一の場合があり異なる場合があり、
dは、1~3の数を表し、
d≧2の場合、R、R、X及びZは、それぞれ、同一の場合があり異なる場合がある。)
(In the formula, R 1 , R 2 , a, b and Z 1 are the same as those in the above general formula (I).
R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group.
X 1 and X 3 each independently represent a direct bond or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
X 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a group having 2 to 20 carbon atoms containing a heterocycle.
One or more of the methylene groups in the groups represented by X 1 , X 2 and X 3 are -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, under the condition that oxygen is not adjacent to each other. It may be replaced with -NR 4- , -NR 4 CO-, -S-, -CS-, -SO 2- , -SCO-, -COS-, -OCS- or CSO-.
Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -NR 4- , and represents
R4 represents a hydrogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
c represents a number from 2 to 10 and represents
When c ≧ 2, multiple R3s may be the same or different.
d represents a number from 1 to 3 and represents
When d ≧ 2, R 1 , R 2 , X 3 and Z 1 may be the same or different. )

[3] ブロックイソシアネートシラン化合物(A)が下記一般式(III)で表される基を有するブロックイソシアネートシラン化合物である[1]又は[2]に記載の重合性組成物。

Figure 0007061502000003
(式中の*は、一般式(III)で表される基が、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。) [3] The polymerizable composition according to [1] or [2], wherein the blocked isocyanate silane compound (A) is a blocked isocyanate silane compound having a group represented by the following general formula (III).
Figure 0007061502000003
(* In the formula means that the group represented by the general formula (III) is bonded to an adjacent group at the * part.)

[4] 上記重合性化合物(B)が、
下記一般式(IV)で表されるエポキシ化合物、
下記一般式(IV)で表されるエポキシ化合物と不飽和一塩基酸とをエステル化させた構造を有する不飽和化合物、又は
下記一般式(IV)で表されるエポキシ化合物と不飽和一塩基酸とをエステル化させた構造を有する不飽和化合物に、更に多塩基酸無水物をエステル化させた構造を有する不飽和化合物
である[1]~[3]の何れか一に記載の重合性組成物。
[4] The polymerizable compound (B) is
Epoxy compounds represented by the following general formula (IV),
An unsaturated compound having a structure in which an epoxy compound represented by the following general formula (IV) and an unsaturated monobasic acid are esterified, or an epoxy compound represented by the following general formula (IV) and an unsaturated monobasic acid. The polymerizable composition according to any one of [1] to [3], which is an unsaturated compound having a structure in which polybasic acid anhydride is further esterified to an unsaturated compound having a structure in which and is esterified. thing.

Figure 0007061502000004
Figure 0007061502000004

(式中、Mは直接結合、炭素原子数1~20の炭化水素基、-O-、-S-、-SO-、-SS-、-SO-、-CO-、-OCO-、又は下記式(a)、(b)、(c)及び(d)からなる群から選ばれる置換基を表し、
Mで表される炭素原子数1~20の炭化水素基中の1つ又は2つ以上の水素原子はハロゲン原子で置換される場合があり、
11、R12、R13、R14、R15、R16、R17及びR18は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基又はハロゲン原子を表し、
11~R18で表される基中のメチレン基は、酸素が隣り合わない条件で、-O-に置換されている場合があり、
nは0~10の数を表し、
nが0でない場合、複数存在するR11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18及びMは、それぞれ、同一である場合があり、異なる場合がある。)
(In the formula, M is a direct bond, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, -O-, -S-, -SO 2- , -SS-, -SO-, -CO-, -OCO-, or. Represents a substituent selected from the group consisting of the following formulas (a), (b), (c) and (d).
One or more hydrogen atoms in a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by M may be replaced with a halogen atom.
R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 and R 18 independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a halogen atom, respectively.
The methylene group among the groups represented by R 11 to R 18 may be replaced with —O— under the condition that oxygen is not adjacent to each other.
n represents a number from 0 to 10 and represents
When n is not 0, a plurality of R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , and M, which are present in plurality, may be the same or different from each other. )

Figure 0007061502000005
Figure 0007061502000005

(式中、R21は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、
22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38、R39、R40、R41、R42、R43、R44、R45、R46、R47、R48、R49及びR50は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数2~20の基、又はハロゲン原子を表し、
22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38、R39、R40、R41、R42、R43、R44、R45、R46、R47、R48、R49及びR50で表される基中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、酸素が隣り合わない条件で、-O-又は-S-に置換される場合があり、
22とR23、R23とR24、R24とR25、R25とR26、R27とR28、R28とR29、R29とR30、R35とR36、R36とR37、R37とR38、R43とR44、R44とR45、R45とR46、R47とR48、R48とR49及びR49とR50は結合して環を形成する場合があり、
式中の*は、(a)、(b)、(c)及び(d)で表される基が、*部分で隣接する基と結合することを意味する。)
(In the formula, R 21 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 . , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 , R 44 , R 45 , R 46 , R 47 , R 48 , R 49 and R 50 , respectively, independently have a hydrogen atom and 1 to 1 carbon atom. Represents 20 hydrocarbon groups, groups with 2 to 20 carbon atoms containing heterocycles, or halogen atoms.
R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 . , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 , R 44 , R 45 , R 46 , R 47 , R 48 , R 49 and one of the methylene groups in the group represented by R 50 . One or more may be replaced with -O- or -S- under the condition that oxygen is not adjacent to each other.
R 22 and R 23 , R 23 and R 24 , R 24 and R 25 , R 25 and R 26 , R 27 and R 28 , R 28 and R 29 , R 29 and R 30 , R 35 and R 36 , R 36 . And R 37 , R 37 and R 38 , R 43 and R 44 , R 44 and R 45 , R 45 and R 46 , R 47 and R 48 , R 48 and R 49 and R 49 and R 50 are coupled and ringed. May form,
* In the formula means that the group represented by (a), (b), (c) and (d) is bonded to the adjacent group at the * portion. )

[5] 重合開始剤(C)が、下記一般式(V)で表される基を有する化合物である[1]~[4]の何れか一に記載の重合性組成物。 [5] The polymerizable composition according to any one of [1] to [4], wherein the polymerization initiator (C) is a compound having a group represented by the following general formula (V).

Figure 0007061502000006
Figure 0007061502000006

(式中、R61及びR62は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数1~20の炭化水素基又は複素環を含有する炭素原子数2~20の基を表し、
61及びR62で表される基中の水素原子の1つ又は2つ以上はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は複素環を含有する炭素原子数2~20の基で置換されている場合があり、
61及びR62で表される基中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、酸素が隣り合わない条件で、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR63-、-NR63CO-、-S-、-CS-、-SO-、-SCO-、-COS-、-OCS-又はCSO-に置換される場合があり、
63は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、
mは0又は1を表し、
式中の*は、一般式(V)で表される基が、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。)
(In the formula, R 61 and R 62 each independently have a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a heterocycle having 2 to 20 carbon atoms. Represents the group
One or more of the hydrogen atoms in the groups represented by R 61 and R 62 are halogen atom, nitro group, cyano group, hydroxyl group, amino group, carboxyl group, methacryloyl group, acryloyl group, epoxy group and vinyl group. , A vinyl ether group, a mercapto group, an isocyanate group or a group having 2 to 20 carbon atoms containing a heterocycle may be substituted.
One or more of the methylene groups in the groups represented by R 61 and R 62 are -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR 63 under the condition that oxygen is not adjacent to each other. -, -NR 63 CO-, -S-, -CS-, -SO 2- , -SCO-, -COS-, -OCS- or CSO-may be replaced.
R 63 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
m represents 0 or 1 and represents
* In the formula means that the group represented by the general formula (V) is bonded to an adjacent group at the * part. )

[6] 更に着色剤(D)を含有する[1]~[5]の何れか一に記載の重合性組成物。 [6] The polymerizable composition according to any one of [1] to [5], which further contains a colorant (D).

[7] [1]~[6]の何れか一に記載の重合性組成物を含有するブラックマトリクス用感光性組成物。 [7] A photosensitive composition for a black matrix containing the polymerizable composition according to any one of [1] to [6].

[8] [1]~[6]の何れか一に記載の重合性組成物又は[7]に記載のブラックマトリクス用感光性組成物を光又は熱によって硬化させる硬化物の製造方法。 [8] A method for producing a cured product, wherein the polymerizable composition according to any one of [1] to [6] or the photosensitive composition for black matrix according to [7] is cured by light or heat.

[9] [1]~[6]の何れか一に記載の重合性組成物又は[7]に記載のブラックマトリクス用感光性組成物の硬化物。 [9] The polymerizable composition according to any one of [1] to [6] or the cured product of the photosensitive composition for black matrix according to [7].

[10] [9]に記載の硬化物を含有するカラーフィルタ。 [10] A color filter containing the cured product according to [9].

本発明によれば、保存安定性に優れ、且つBMに求められる水準の遮光性及び高接着性を有する得られる硬化物が得られる重合性組成物及びBM用感光性組成物が得られる。 According to the present invention, a polymerizable composition and a photosensitive composition for BM can be obtained, which can obtain a obtained cured product having excellent storage stability and the level of light-shielding property and high adhesiveness required for BM.

以下、本発明の重合性組成物について、好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。 Hereinafter, the polymerizable composition of the present invention will be described in detail based on a preferred embodiment.

本発明の重合性組成物は、上記一般式(I)で表されるイソシアネート化合物とブロック化剤とを反応させて得られるブロックイソシアネートシラン化合物(A)(以下、ブロックイソシアネートシラン化合物(A)とも記載)、重合性化合物(B)及び重合開始剤(C)を含有する。以下、各成分について順に説明する。 The polymerizable composition of the present invention is a blocked isocyanate silane compound (A) obtained by reacting an isocyanate compound represented by the above general formula (I) with a blocking agent (hereinafter, also referred to as a blocked isocyanate silane compound (A)). Description), a polymerizable compound (B) and a polymerization initiator (C). Hereinafter, each component will be described in order.

<ブロックイソシアネートシラン化合物(A)>
ブロックイソシアネートシラン化合物(A)は、上記一般式(I)で表されるイソシアネート化合物とブロック化剤とを反応させて得られた構造を有する化合物である。
<Blocked isocyanate silane compound (A)>
The blocked isocyanate silane compound (A) is a compound having a structure obtained by reacting an isocyanate compound represented by the above general formula (I) with a blocking agent.

本発明のラジカル重合性組成物は、上記一般式(I)で表されるイソシアネート化合物とブロック化剤とを反応させて得られた構造を有するブロックイソシアネートシラン化合物(A)を必須成分とする。本発明においては、重合性組成物に必須成分として含まれるブロックイソシアネートシラン化合物(A)の原料として、多様な構造を有する化合物を用いることができる。そのため、「上記一般式(I)で表されるイソシアネート化合物とブロック化剤とを反応させて得られた構造を有するブロックイソシアネートシラン化合物(A)」の構造は、一般式(I)で表されるイソシアネート化合物及びブロック化剤の構造によって大きく異なるものとなる。このため「上記一般式(I)で表されるイソシアネート化合物とブロック化剤とを反応させて得られた構造を有するブロックイソシアネートシラン化合物(A)」の構造を一律にある種の一般式で表すことは到底できないのが現状であり、このことは当業者の技術常識である。そして、構造が特定されなければそれに応じて決まるその物質の特性も容易にはわからないことから、特性で表現することも到底できない。したがって、本発明では、重合性組成物に必須成分として含まれるブロックイソシアネートシラン化合物(A)を、「上記一般式(I)で表されるイソシアネート化合物とブロック化剤とを反応させて得られた構造を有するブロックイソシアネートシラン化合物(A)」、という表現で定義せざるを得ない。つまり、本発明で必須成分として使用されるブロックイソシアネートシラン化合物(A)に関し、「出願時において化合物をその構造又は特性により直接特定すること」が不可能又はおよそ非実際的である事情が存在する。 The radically polymerizable composition of the present invention contains a blocked isocyanate silane compound (A) having a structure obtained by reacting an isocyanate compound represented by the above general formula (I) with a blocking agent as an essential component. In the present invention, compounds having various structures can be used as a raw material for the blocked isocyanate silane compound (A) contained as an essential component in the polymerizable composition. Therefore, the structure of the "blocked isocyanate silane compound (A) having a structure obtained by reacting the isocyanate compound represented by the above general formula (I) with the blocking agent" is represented by the general formula (I). It varies greatly depending on the structure of the isocyanate compound and the blocking agent. Therefore, the structure of the "blocked isocyanate silane compound (A) having a structure obtained by reacting the isocyanate compound represented by the above general formula (I) with a blocking agent" is uniformly represented by a certain general formula. The current situation is that this cannot be done at all, and this is the common general knowledge of those skilled in the art. And since the characteristics of the substance, which are determined accordingly, cannot be easily understood unless the structure is specified, it cannot be expressed by the characteristics. Therefore, in the present invention, the blocked isocyanate silane compound (A) contained as an essential component in the polymerizable composition is obtained by reacting the isocyanate compound represented by the above general formula (I) with a blocking agent. It must be defined by the expression "blocked isocyanate silane compound (A) having a structure". That is, regarding the blocked isocyanate silane compound (A) used as an essential component in the present invention, there are circumstances in which it is impossible or approximately impractical to "directly specify the compound by its structure or characteristics at the time of filing". ..

上記一般式(I)で表されるイソシアネート化合物としては、例えば、3-イソシアナートトリメトキシプロピルシラン、3-イソシアナートトリエトキシプロピルシラン等が挙げられる。上記一般式(I)で表されるイソシアネート化合物の市販品としては、KBE-9007(信越シリコーン社製)、A-Link35(モーメンティブ社製)等が挙げられる。 Examples of the isocyanate compound represented by the general formula (I) include 3-isocyanatotrimethoxypropylsilane and 3-isocyanatotriethoxypropylsilane. Examples of commercially available isocyanate compounds represented by the general formula (I) include KBE-9007 (manufactured by Shinetsu Silicone Co., Ltd.) and A-Link35 (manufactured by Momentive Co., Ltd.).

本発明においてブロック化剤とは、イソシアネート基と反応又はイソシアネート基と配位する等してイソシアネート基を不活性化し、熱又は光などの外部刺激により乖離しイソシアネート基を再度活性化することができる化合物を意味する。上記ブロック化剤としては、従来用いられているものを用いることができ、例えば、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル等のカルボン酸エステル類;マロン酸、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル(アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等)等の活性メチレン化合物;ホルムアミドオキシム、アセトアミドオキシム、アセトオキシム、ジアセチルモノオキシム、ベンゾフェノンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、メチルエチルケトオキシム(MEKオキシム)、メチルイソブチルケトオキシム(MIBKオキシム)、ジメチルケトオキシム、ジエチルケトオキシム等のオキシム化合物;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、2-エチルヘキサノール、ヘプタノール、ヘキサノール、オクタノール、イソノニルアルコール、ステアリルアルコール等の脂肪族アルコール;ベンジルアルコール等の芳香族アルコール;イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジグリシジルエーテル等のイソシアヌレート酸変性アルコール;メチルグリコール、エチルグリコール、エチルジグリコール、エチルトリグリコール、ブチルグリコール、ブチルジグリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコール誘導体;フェノール、クレゾール、キシレノール、エチルフェノール、プロピルフェノール、ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、ニトロフェノール、クロロフェノール等のフェノール類又はこれらの異性体;フルオレン変性ビスアルコール;乳酸メチル、乳酸アミル等の水酸基含有エステル;ジブチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ-tert-ブチルアミン、ジ-2-エチルヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジフェニルアミン、アニリン、カルバゾール等のアミン化合物;エチレンイミン、ポリエチレンイミン等のイミン化合物;モノメチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、トリエチルエタノールアミン等のアルコールアミン;α-ピロリドン、β-ブチロラクタム、β-プロピオラクタム、γ-ブチロラクタム、δ-バレロラクタム、ε-カプロラクタム等のラクタム類;1,1,3,3-テトラメチルグアニジン等のグアニジン類;ブチルメルカプタン、ヘキシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン等のメルカプタン類;イミダゾール、2-エチルイミダゾール等のイミダゾール類;アセトアニリド、アクリルアミド、酢酸アミド、ダイマー酸アミド等の酸アミド類;コハク酸イミド、マレイン酸イミド、フタル酸イミド等の酸イミド類;尿素、チオ尿素、エチレン尿素等の尿素化合物;ベンゾトリアゾール類;3,5-ジメチルピラゾール等のピラゾール類等が挙げられる。これらのブロック化剤の1種を上記一般式(I)で表されるイソシアネート化合物と反応させることができ、或いは2種以上を上記一般式(I)で表されるイソシアネート化合物と反応させることができる。 In the present invention, the blocking agent can inactivate the isocyanate group by reacting with the isocyanate group or coordinating with the isocyanate group, dissociate by an external stimulus such as heat or light, and reactivate the isocyanate group. Means a compound. As the blocking agent, conventionally used agents can be used, for example, carboxylic acid esters such as dimethyl malonate and diethyl malonate; malonic acid, acetylacetone, and acetoacetic acid esters (methylacetate acetate, acetoacetic acid). Active methylene compounds such as ethyl); formamide oxime, acetamide oxime, acetoxime, diacetylmonooxime, benzophenone oxime, cyclohexanone oxime, methyl ethyl keto oxime (MEK oxime), methyl isobutyl keto oxime (MIBK oxime), dimethyl keto oxime, diethyl keto Oxime compounds such as oxime; aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, 2-ethylhexanol, heptanol, hexanol, octanol, isononyl alcohol, stearyl alcohol; aromatic alcohols such as benzyl alcohol; isocyanuric acid EO-modified di Isocyanurate-modified alcohols such as acrylates and EO-modified diglycidyl ethers of isocyanuric acid; methyl glycol, ethyl glycol, ethyl diglycol, ethyl triglycol, butyl glycol, butyl diglycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene. Glycol derivatives such as glycol monobutyl ether and propylene glycol monomethyl ether; phenols such as phenol, cresol, xylenol, ethylphenol, propylphenol, butylphenol, octylphenol, nonylphenol, nitrophenol, chlorophenol or their isomers; fluorene-modified bisalcohol Hydroxime-containing esters such as oxime lactate and amyl lactate; amine compounds such as dibutylamine, diisopropylamine, di-tert-butylamine, di-2-ethylhexylamine, dicyclohexylamine, benzylamine, diphenylamine, aniline and carbazole; ethyleneimine, Oxime compounds such as polyethyleneimine; alcohol amines such as monomethylethanolamine, diethylethanolamine, and triethylethanolamine; α-pyrrolidone, β-butyrolactam, β-propiolactam, γ-butyrolactam, δ-valerolactam, ε-caprolactam, etc. Oximes; guanidines such as 1,1,3,3-tetramethylguanidine; butyl mercaptan, f Mercaptans such as xyl mercaptan and dodecyl mercaptan; imidazoles such as imidazole and 2-ethylimidazole; acid amides such as acetanilide, acrylamide, acetate amide and dimer acid amide; Acid imides; urea compounds such as urea, thiourea and ethylene urea; benzotriazoles; pyrazoles such as 3,5-dimethylpyrazole and the like can be mentioned. One of these blocking agents can be reacted with the isocyanate compound represented by the general formula (I), or two or more thereof can be reacted with the isocyanate compound represented by the general formula (I). can.

上記ブロック化剤のうち、解離温度が100~200℃であるものが、プリベーク時には安定して存在し、ポストベイク時に反応する点から好ましく、中でもオキシム化合物が好ましく、特にホルムアミドオキシム、アセトアミドオキシム、アセトオキシム、ジアセチルモノオキシム、ベンゾフェノンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、メチルエチルケトオキシム(MEKオキシム)、メチルイソブチルケトオキシム(MIBKオキシム)、ジメチルケトオキシム、ジエチルケトオキシムが好ましく、メチルエチルケトオキシムが最も好ましい。 Among the above-mentioned blocking agents, those having a dissociation temperature of 100 to 200 ° C. are preferable because they are stable at the time of prebaking and react at the time of post-baking. , Diacetylmonooxime, benzophenone oxime, cyclohexanone oxime, methyl ethyl keto oxime (MEK oxime), methyl isobutyl keto oxime (MIBK oxime), dimethyl keto oxime, diethyl keto oxime are preferable, and methyl ethyl keto oxime is most preferable.

上記ブロック化剤のうち、フルオレン変性ビスアルコール、イソシアヌレート酸変性アルコールは、基材との密着性が向上することから好ましい。 Of the above blocking agents, fluorene-modified bis-alcohol and isocyanurate-modified alcohol are preferable because they improve the adhesion to the substrate.

上記ブロックイソシアネートシラン(A)を得るためのブロック化反応は、公知の反応方法により行うことができる。上記一般式(I)で表されるイソシアネート化合物に対するブロック化剤の添加量は、遊離のイソシアネート基1当量に対し、通常1~2当量、好ましくは1.05~1.5当量である。ブロック化反応の反応温度は、通常50~150℃であり、好ましくは60~120℃である。反応時間は1~7時間程度で行うのが好ましい。また、反応系に触媒や溶媒(芳香族炭化水素系、エステル系、エーテル系、ケトン系及びこれらの2種以上の混合溶媒等)を加えることができる。 The blocking reaction for obtaining the blocked isocyanate silane (A) can be carried out by a known reaction method. The amount of the blocking agent added to the isocyanate compound represented by the general formula (I) is usually 1 to 2 equivalents, preferably 1.05 to 1.5 equivalents, relative to 1 equivalent of the free isocyanate group. The reaction temperature of the blocking reaction is usually 50 to 150 ° C, preferably 60 to 120 ° C. The reaction time is preferably about 1 to 7 hours. Further, a catalyst or a solvent (aromatic hydrocarbon-based, ester-based, ether-based, ketone-based, or a mixed solvent of two or more of these) can be added to the reaction system.

上記一般式(I)におけるRで表される炭素原子数1~8のアルキル基としては、メ
チル、エチル、プロピル、iso-プロピル、ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、iso-ブチル、アミル、iso-アミル、tert-アミル、ヘキシル、2-ヘキシル、3-ヘキシル、シクロヘキシル、1-メチルシクロヘキシル、ヘプチル、2-ヘプチル、3-ヘプチル、iso-ヘプチル、tert-ヘプチル、1-オクチル、iso-オクチル、tert-オクチル等が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by R1 in the general formula (I) include methyl, ethyl, propyl, iso-propyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, iso-butyl and amyl. , Iso-amyl, tert-amyl, hexyl, 2-hexyl, 3-hexyl, cyclohexyl, 1-methylcyclohexyl, heptyl, 2-heptyl, 3-heptyl, iso-heptyl, tert-heptyl, 1-octyl, iso- Examples include octyl, tert-octyl and the like.

上記一般式(I)において、Rがメチル、エチル及びプロピル等の炭素原子数1~3のアルキル基であるイソシアネート化合物が、原料の入手の容易さの点から好ましい。
また、上記一般式(I)において、aが3であり、且つbが0であるイソシアネート化合物が、密着性の点から好ましい。
In the above general formula (I), an isocyanate compound in which R 1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as methyl, ethyl and propyl is preferable from the viewpoint of easy availability of raw materials.
Further, in the above general formula (I), an isocyanate compound in which a is 3 and b is 0 is preferable from the viewpoint of adhesion.

上記一般式(I)中のR及びRで表される炭素原子数1~20の炭化水素基は、特に限定されるものではないが、好ましくは炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数2~20のアルケニル基、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、炭素原子数4~20のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数6~20のアリール基及び炭素原子数7~20のアリールアルキル基等を表す。得られるブロックイソシアネートシラン化合物(A)の感度及び基材への密着性が良好なことから、炭素原子数1~10のアルキル基、炭素原子数2~10のアルケニル基、炭素原子数3~10のシクロアルキル基、炭素原子数4~10のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数6~10のアリール基及び炭素原子数7~10のアリールアルキル基等が好ましい。 The hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 and R 4 in the general formula (I) is not particularly limited, but is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. An alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, a cycloalkylalkyl group having 4 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms and 7 to 20 carbon atoms. Represents an arylalkyl group or the like. Since the obtained blocked isocyanate silane compound (A) has good sensitivity and adhesion to a substrate, it has an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and 3 to 10 carbon atoms. , A cycloalkylalkyl group having 4 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and the like are preferable.

上記炭素原子数1~20のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチル、アミル、イソアミル、t-アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、2-エチルヘキシル、t-オクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル及びイコシル等が挙げられる。上記炭素原子数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチル、アミル、イソアミル、t-アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、2-エチルヘキシル、t-オクチル、ノニル、イソノニル、デシル及びイソデシル等が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, heptyl, octyl and isooctyl. , 2-Ethylhexyl, t-octyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, icosyl and the like. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, heptyl, octyl and isooctyl. , 2-Ethylhexyl, t-octyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl and the like.

上記炭素原子数2~20のアルケニル基としては、例えば、ビニル、2-プロペニル、3-ブテニル、2-ブテニル、4-ペンテニル、3-ペンテニル、2-ヘキセニル、3-ヘキセニル、5-ヘキセニル、2-ヘプテニル、3-ヘプテニル、4-ヘプテニル、3-オクテニル、3-ノネニル、4-デセニル、3-ウンデセニル、4-ドデセニル、3-シクロヘキセニル、2,5-シクロヘキサジエニル-1-メチル、及び4,8,12-テトラデカトリエニルアリル等が挙げられる。上記炭素原子数2~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル、2-プロペニル、3-ブテニル、2-ブテニル、4-ペンテニル、3-ペンテニル、2-ヘキセニル、3-ヘキセニル、5-ヘキセニル、2-ヘプテニル、3-ヘプテニル、4-ヘプテニル、3-オクテニル、3-ノネニル及び4-デセニル等が挙げられる。 Examples of the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms include vinyl, 2-propenyl, 3-butenyl, 2-butenyl, 4-pentenyl, 3-pentenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 5-hexenyl, 2 -Heptenyl, 3-heptenyl, 4-heptenyl, 3-octenyl, 3-nonenyl, 4-decenyl, 3-undecenyl, 4-dodecenyl, 3-cyclohexenyl, 2,5-cyclohexadienyl-1-methyl, and 4 , 8,12-Tetradecatorienylallyl and the like. Examples of the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms include vinyl, 2-propenyl, 3-butenyl, 2-butenyl, 4-pentenyl, 3-pentenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 5-hexenyl, 2 -Heptenyl, 3-heptenyl, 4-heptenyl, 3-octenyl, 3-nonenyl, 4-decenyl and the like can be mentioned.

上記炭素原子数3~20のシクロアルキル基とは、3~20の炭素原子を有する、飽和単環式又は飽和多環式アルキル基を意味する。上記炭素原子数3~20のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、アダマンチル、デカハイドロナフチル、オクタヒドロペンタレン、ビシクロ[1.1.1]ペンタニル及びテトラデカヒドロアントラセニル等が挙げられる。上記炭素原子数3~10のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、アダマンチル、デカハイドロナフチル、オクタヒドロペンタレン及びビシクロ[1.1.1]ペンタニル等が挙げられる。 The cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms means a saturated monocyclic or saturated polycyclic alkyl group having 3 to 20 carbon atoms. Examples of the cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclononyl, cyclodecyl, adamantyl, decahydronaphthyl, octahydropentalene, and bicyclo [1. 1.1] Pentanyl, tetradecahydroanthrasenyl and the like can be mentioned. Examples of the cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclononyl, cyclodecyl, adamantyl, decahydronaphthyl, octahydropentalene and bicyclo [1. 1.1] Pentanyl and the like can be mentioned.

上記炭素原子数4~20のシクロアルキルアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、シクロアルキル基で置換された4~20の炭素原子を有する基を意味する。上記炭素原子数4~20のシクロアルキルアルキル基としては、例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、シクロノニルメチル、シクロデシルメチル、2-シクロブチルエチル、2-シクロペンチルエチル、2-シクロヘキシルエチル、2-シクロヘプチルエチル、2-シクロオクチルエチル、2-シクロノニルエチル、2-シクロデシルエチル、3-シクロブチルプロピル、3-シクロペンチルプロピル、3-シクロヘキシルプロピル、3-シクロヘプチルプロピル、3-シクロオクチルプロピル、3-シクロノニルプロピル、3-シクロデシルプロピル、4-シクロブチルブチル、4-シクロペンチルブチル、4-シクロヘキシルブチル、4-シクロヘプチルブチル、4-シクロオクチルブチル、4-シクロノニルブチル、4-シクロデシルブチル、3-3-アダマンチルプロピル及びデカハイドロナフチルプロピル等が挙げられる。上記炭素原子数4~10のシクロアルキルアルキル基としては、例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、シクロノニルメチル、2-シクロブチルエチル、2-シクロペンチルエチル、2-シクロヘキシルエチル、2-シクロヘプチルエチル、2-シクロオクチルエチル、3-シクロブチルプロピル、3-シクロペンチルプロピル、3-シクロヘキシルプロピル、3-シクロヘプチルプロピル、4-シクロブチルブチル、4-シクロペンチルブチル及び4-シクロヘキシルブチル等が挙げられる。 The cycloalkylalkyl group having 4 to 20 carbon atoms means a group having 4 to 20 carbon atoms in which the hydrogen atom of the alkyl group is substituted with the cycloalkyl group. Examples of the cycloalkylalkyl group having 4 to 20 carbon atoms include cyclopropylmethyl, cyclobutylmethyl, cyclopentylmethyl, cyclohexylmethyl, cycloheptylmethyl, cyclooctylmethyl, cyclononylmethyl, cyclodecylmethyl, and 2-cyclo. Butylethyl, 2-cyclopentylethyl, 2-cyclohexylethyl, 2-cycloheptylethyl, 2-cyclooctylethyl, 2-cyclononylethyl, 2-cyclodecylethyl, 3-cyclobutylpropyl, 3-cyclopentylpropyl, 3- Cyclohexylpropyl, 3-Cycloheptylpropyl, 3-Cyclooctylpropyl, 3-Cyclononylpropyl, 3-Cyclodecylpropyl, 4-Cyclobutylbutyl, 4-Cyclopentylbutyl, 4-Cyclohexylbutyl, 4-Cycloheptylbutyl, 4 -Cyclooctylbutyl, 4-cyclononylbutyl, 4-cyclodecylbutyl, 3-3-adamantylpropyl, decahydronaphthylpropyl and the like can be mentioned. Examples of the cycloalkylalkyl group having 4 to 10 carbon atoms include cyclopropylmethyl, cyclobutylmethyl, cyclopentylmethyl, cyclohexylmethyl, cycloheptylmethyl, cyclooctylmethyl, cyclononylmethyl, 2-cyclobutylethyl, and 2 -Cyclopentylethyl, 2-cyclohexylethyl, 2-cycloheptylethyl, 2-cyclooctylethyl, 3-cyclobutylpropyl, 3-cyclopentylpropyl, 3-cyclohexylpropyl, 3-cycloheptylpropyl, 4-cyclobutylbutyl, 4 -Cyclopentylbutyl, 4-cyclohexylbutyl and the like can be mentioned.

上記炭素原子数6~20のアリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニル、ナフチル、アンスリル及びフェナントレニル等、並びに、上記アルキル基、上記アルケニル基、カルボキシル基、ハロゲン原子等で1つ以上置換されたフェニル、ビフェニリル、ナフチル及びアンスリル等、具体的には、4-クロロフェニル、4-カルボキシルフェニル、4-ビニルフェニル、4-メチルフェニル及び2,4,6-トリメチルフェニル等が挙げられる。上記炭素原子数6~10のアリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニル及びナフチル等、並びに上記アルキル基、上記アルケニル基、カルボキシル基、ハロゲン原子等で1箇所以上置換されたフェニル、ビフェニリル、ナフチル及びアンスリル等、具体的には、4-クロロフェニル、4-カルボキシルフェニル、4-ビニルフェニル、4-メチルフェニル及び2,4,6-トリメチルフェニル等が挙げられる。 Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl, tolyl, xylyl, ethylphenyl, naphthyl, anthryl, phenanthrenyl and the like, and the alkyl group, the alkenyl group, the carboxyl group, the halogen atom and the like. Examples thereof include 4-chlorophenyl, 4-carboxyphenyl, 4-vinylphenyl, 4-methylphenyl, 2,4,6-trimethylphenyl and the like, which have been substituted above, such as phenyl, biphenylyl, naphthyl and anthryl. Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include phenyl, tolyl, xylyl, ethylphenyl and naphthyl, and phenyl substituted with one or more of the above alkyl group, the above alkenyl group, the carboxyl group, the halogen atom and the like. , Biphenylyl, naphthyl, anthryl and the like, and specific examples thereof include 4-chlorophenyl, 4-carboxyphenyl, 4-vinylphenyl, 4-methylphenyl and 2,4,6-trimethylphenyl.

上記炭素原子数7~20のアリールアルキル基とは、アルキル基の水素原子がアリール基で置き換えられた、7~20個の炭素原子を有する基を意味する。例えば、ベンジル、α-メチルベンジル、α、α-ジメチルベンジル、フェニルエチル及びナフチルプロピル等が挙げられる。上記炭素原子数7~10のアリールアルキル基としては、アルキル基の水素原子がアリール基で置き換えられた、7~10個の炭素原子を有する基を意味し、例えば、ベンジル、α-メチルベンジル、α、α-ジメチルベンジル及びフェニルエチル等が挙げられる。 The arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms means a group having 7 to 20 carbon atoms in which the hydrogen atom of the alkyl group is replaced with an aryl group. For example, benzyl, α-methylbenzyl, α, α-dimethylbenzyl, phenylethyl, naphthylpropyl and the like can be mentioned. The arylalkyl group having 7 to 10 carbon atoms means a group having 7 to 10 carbon atoms in which the hydrogen atom of the alkyl group is replaced with an aryl group, and examples thereof include benzyl and α-methylbenzyl. Examples thereof include α, α-dimethylbenzyl and phenylethyl.

本明細書においてハロゲン原子とは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を意味するものとする。 As used herein, the halogen atom means fluorine, chlorine, bromine or iodine.

上記一般式(I)中のRで表される複素環を含有する炭素原子数2~20の基としては、特に限定されるものではないが、例えば、ピロリル、ピリジル、ピリジルエチル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラニルエチル、ピラゾリル、トリアジル、トリアジルメチル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、イソシアヌレート、インドリル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、2-ピロリジノン-1-イル、2-ピペリドン-1-イル、2,4-ジオキシイミダゾリジン-3-イル及び2,4-ジオキシオキサゾリジン-3-イル等が挙げられ、置換基等を含めて具体的に記載すると下記の構造を有する基等が挙げられる。 The group having 2 to 20 carbon atoms containing the heterocycle represented by R2 in the above general formula (I) is not particularly limited, but for example, pyrrolyl, pyridyl, pyridylethyl, pyrimidyl, and the like. Pyridadil, piperazil, piperidil, pyranyl, pyranylethyl, pyrazolyl, triazil, triazilmethyl, pyrrolidyl, quinolyl, isocyanate, imidazolyl, benzoimidazolyl, triazolyl, furyl, furanyl, benzofuranyl, thienyl, thiophenyl, benzothiophenyl, thiadiazolyl, thiazolyl, benzothiazol. Oxazolidine, benzoxazolidine, isocyanazolidine, isooxazolyl, isocyanurate, indrill, morpholinyl, thiomorpholinyl, 2-pyrrolidinone-1-yl, 2-piperidone-1-yl, 2,4-dioxyimidazolidine-3- Examples thereof include yl and 2,4-dioxyoxazolidine-3-yl, and specific examples thereof include groups having the following structures including substituents and the like.

Figure 0007061502000007
(上記式中、Rは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1~6のアルキル基を表し、Zは直接結合又は炭素原子数1~6のアルキレン基を表し、*は結合手を意味する。)
Figure 0007061502000007
(In the above formula, R independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Z represents a direct bond or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and * means a bond. do.)

上記式中のRで表される炭素原子数1~6のアルキル基としては、上述した炭素原子数1~20のアルキル基として例示したものの中の炭素原子数1~6のものを挙げることができる。 Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R in the above formula include those having 1 to 6 carbon atoms among those exemplified as the above-mentioned alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. can.

上記式中のZで表される炭素原子数1~6のアルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン等が挙げられる。 Examples of the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms represented by Z in the above formula include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene and hexylene.

一般式(I)中のZで表される炭素原子数1~20の炭化水素基としては、上記Rで表される炭素原子数1~20の炭化水素基から水素原子が1つ脱離した2価の基が挙げられる。 As the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by Z 1 in the general formula (I), one hydrogen atom is removed from the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 above. The separated divalent groups can be mentioned.

一般式(I)中のZで表される複素環を含有する炭素原子数2~20基としては、上記Rで表される複素環を含有する炭素原子数2~20基から水素原子が1つ脱離した2価の基が挙げられる。 The 2 to 20 carbon atoms containing the heterocycle represented by Z 1 in the general formula (I) include hydrogen atoms from 2 to 20 carbon atoms containing the heterocycle represented by R2 . There is a divalent group in which one is eliminated.

上記一般式(II)で表されるブロックイソシアネート化合物(A)は、重合性組成物の感度が高くなることから好ましい。また、上記一般式(III)で表される基を有するブロックイソシアネート化合物(A)、特に、上記一般式(II)中のXが上記一般式(III)で表される基であるブロックイソシアネート化合物(A)は、得られる重合性組成物が基材との密着性が良好なものとなることから好ましい。 The blocked isocyanate compound (A) represented by the general formula (II) is preferable because it increases the sensitivity of the polymerizable composition. Further, the blocked isocyanate compound (A) having a group represented by the general formula (III), particularly the blocked isocyanate in which X2 in the general formula ( II ) is a group represented by the general formula (III). The compound (A) is preferable because the obtained polymerizable composition has good adhesion to the substrate.

一般式(II)中のX及びXで表される炭素原子数1~20の炭化水素基としては、上記Zで表される炭素原子数1~20の炭化水素基と同じものが挙げられる。 As the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by X 1 and X 3 in the general formula (II), the same hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by Z 1 is used. Can be mentioned.

一般式(II)中のRで表される炭素原子数1~20の炭化水素基としては、上記Rで表される炭素原子数1~20の炭化水素基と同じものが挙げられる。 Examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R4 in the general formula (II) include the same hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms represented by R2 .

一般式(II)中のXで表される炭素原子数1~20の炭化水素基としては、上記Rで表される炭素原子数1~20の炭化水素基から水素原子が3~13個脱離した3~13価の基が挙げられる。 As the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by X2 in the general formula ( II ), hydrogen atoms are 3 to 13 from the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R2 . Examples thereof include groups of 3 to 13 valences that have been desorbed.

一般式(II)中のXで表される複素環を含有する炭素原子数2~20基としては、上記Rで表される複素環を含有する炭素原子数2~20基から水素原子が3~13個脱離した3~13価の基が挙げられる。 The 2 to 20 carbon atoms containing the heterocycle represented by X2 in the general formula (II) include hydrogen atoms from 2 to 20 carbon atoms containing the heterocycle represented by R2 . There are 3 to 13 valent groups desorbed from 3 to 13.

一般式(II)中のaが2以上のブロックイソシアネート化合物(A)は、基材への密着性が良いことから好ましく、aが3のものが特に好ましい。 The blocked isocyanate compound (A) having 2 or more a in the general formula (II) is preferable because it has good adhesion to the substrate, and the one having 3 a is particularly preferable.

一般式(II)中のcが2以上のブロックイソシアネート化合物(A)は、重合性組成物に添加した場合、重合性組成物の感度が高くなることから好ましい。 The blocked isocyanate compound (A) having a c of 2 or more in the general formula (II) is preferable because the sensitivity of the polymerizable composition increases when it is added to the polymerizable composition.

本発明の重合性組成物において、上記ブロックイソシアネート化合物(A)の含有量は、本発明の重合性組成物中、0.1~5.0質量%、特に0.1~1.0質量%が好ましい。 In the polymerizable composition of the present invention, the content of the blocked isocyanate compound (A) is 0.1 to 5.0% by mass, particularly 0.1 to 1.0% by mass in the polymerizable composition of the present invention. Is preferable.

<重合性化合物(B)>
本発明の重合性組成物は重合性化合物(B)を含有する。
重合性化合物(B)としては、光硬化性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂を用いることができる(但し、上記ブロックイソシアネートシラン化合物(A)を除く)。
光硬化性樹脂としては、アクリル酸エステルの重合体;エポキシ樹脂に不飽和一塩基酸を反応させて得られるもの;エポキシ樹脂と不飽和一塩基酸との反応物に、更に多塩基酸無水物を反応させて得られるもの;テトラカルボン酸二無水物とジアミンからなるイミド分子鎖とカルボキシル基側鎖を持つ構成単位を少なくとも1個有するポリイミド樹脂;エポキシビニルエステル樹脂の水酸基に多塩基酸無水物を反応させた構造を有する酸ペンダント型エポキシビニルエステル樹脂等が挙げられる。
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ベンゾグアナミン誘導体、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、マレイミド化合物、ベンゾオキサジン化合物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、シクロカーボネート化合物、多官能オキセタン化合物、エピスルフィド樹脂等が挙げられる。
<Polymerizable compound (B)>
The polymerizable composition of the present invention contains the polymerizable compound (B).
As the polymerizable compound (B), a photocurable resin and / or a thermosetting resin can be used (however, the above-mentioned blocked isocyanate silane compound (A) is excluded).
Examples of the photocurable resin include a polymer of an acrylic acid ester; a product obtained by reacting an epoxy resin with an unsaturated monobasic acid; a reaction product of an epoxy resin and an unsaturated monobasic acid, and a polybasic acid anhydride. A polyimide resin having at least one structural unit having an imide molecular chain consisting of tetracarboxylic acid dianhydride and diamine and a carboxyl group side chain; a polybasic acid anhydride on the hydroxyl group of an epoxy vinyl ester resin. Examples thereof include an acid pendant type epoxy vinyl ester resin having a structure obtained by reacting with.
Examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, benzoguanamine derivative, isocyanate compound, blocked isocyanate compound, maleimide compound, benzoxazine compound, oxazoline compound, carbodiimide compound and cyclocarbonate compound. , Polyfunctional oxetane compounds, episulfide resins and the like.

上記アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸-2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸-2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)
アクリル酸-t-ブチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸n-オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノメチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸アミノプロピル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノプロピル、(メタ)アクリル酸エトキシエチル、(メタ)アクリル酸ポリ(エトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸ブトキシエトキシエチル、(メタ)アクリル酸エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸テトラヒドロフリル、(メタ)アクリル酸ビニル、(メタ)アクリル酸アリル、(メタ)アクリル酸ベンジル、4-(2-オキシラニルメトキシ)ブチル-2-プロペン酸エステル、7-オキサビシクロ[4.1.0]ヘプト-3-イル-2-プロペン酸エステル、7-オキサビシクロ[4.1.0]ヘプト-3-イル-2-プロペン酸エステル、7-オキサビシクロ[4.1.0]ヘプト-3-イルメチル-2-プロペン酸エステル、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、トリ[(メタ)アクリロイルエチル]イソシアヌレート、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー等が挙げられる。
Examples of the acrylic acid ester include (meth) acrylic acid-2-hydroxyethyl, (meth) acrylic acid-2-hydroxypropyl, (meth) glycidyl acrylate, (meth) methyl acrylate, and (meth) butyl acrylate. (Meta) Isobutyl acrylate, (Meta)
-T-butyl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate , (Meta) methoxyethyl acrylate, (meth) dimethylaminomethyl acrylate, (meth) dimethylaminoethyl acrylate, (meth) aminopropyl acrylate, (meth) dimethylaminopropyl acrylate, ethoxy (meth) acrylate Ethyl, poly (ethoxy) ethyl (meth) acrylate, butoxyethoxyethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid Vinyl, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 4- (2-oxylanylmethoxy) butyl-2-propenate, 7-oxabicyclo [4.1.0] hepto-3-yl -2-Propenic acid ester, 7-oxabicyclo [4.1.0] hept-3-yl-2-propenic acid ester, 7-oxabicyclo [4.1.0] hept-3-ylmethyl-2-propene Acid ester, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (Meta) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylol ethanetri (meth) acrylate, trimethylol propanetri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) ) Acrylic, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tricyclodecanedimethylol di (meth) acrylate, tri [(meth) acryloylethyl] isocyanurate, polyester (meth) acrylate oligomer, etc. Be done.

重合性化合物(B)としては、市販品を用いることもでき、例えば、カヤラッドDPHA、DPEA-12、PEG400DA、THE-330、RP-1040、NPGDA、PET30、R-684(以上、日本化薬社製);アロニックスM-215、M-350(以上、東亞合成製);NKエステルA-DPH、A-TMPT、A-DCP、A-HD-N、TMPT、DCP、NPG及びHD-N(以上、新中村化学工業製);SPC-1000、SPC-3000(以上、昭和電工製);WR-301(ADEKA社製)、V259ME(新日鉄住金化学)等が挙げられる。 As the polymerizable compound (B), a commercially available product can also be used, for example, Kayarad DPHA, DPEA-12, PEG400DA, THE-330, RP-1040, NPGDA, PET30, R-684 (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.). (Made); Aronix M-215, M-350 (above, manufactured by Toagosei); NK ester A-DPH, A-TMPT, A-DCP, A-HD-N, TMPT, DCP, NPG and HD-N (above) , Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.); SPC-1000, SPC-3000 (all manufactured by Showa Denko); WR-301 (manufactured by ADEKA), V259ME (Nippon Kayaku Sumikin Chemical Co., Ltd.) and the like.

上記エポキシ樹脂としては、フェノール及び/又はクレゾールノボラックエポキシ樹脂、多官能エポキシ基を有するポリフェニルメタン型エポキシ樹脂、上記一般式(IV)で表されるエポキシ化合物が挙げられる。 Examples of the epoxy resin include phenol and / or cresol novolac epoxy resin, polyphenylmethane type epoxy resin having a polyfunctional epoxy group, and an epoxy compound represented by the above general formula (IV).

本発明においては、上記一般式(IV)で表されるエポキシ化合物;上記一般式(IV)で表されるエポキシ化合物と不飽和一塩基酸とをエステル化させた構造を有する不飽和化合物;及び/又は上記一般式(IV)で表されるエポキシ化合物と不飽和一塩基酸とをエステル化させた構造を有する不飽和化合物に、更に多塩基酸無水物をエステル化させた構造を有する不飽和化合物を重合性化合物(B)として用いた場合、耐熱性が高い硬化物が得られることから好ましい。 In the present invention, the epoxy compound represented by the general formula (IV); the unsaturated compound having a structure obtained by esterifying the epoxy compound represented by the general formula (IV) and the unsaturated monobasic acid; and / Or an unsaturated compound having a structure in which an epoxy compound represented by the above general formula (IV) and an unsaturated monobasic acid are esterified, and an unsaturated compound having a structure in which a polybasic acid anhydride is further esterified. When the compound is used as the polymerizable compound (B), a cured product having high heat resistance can be obtained, which is preferable.

一般式(IV)中のMで表される炭素原子数1~20の炭化水素基としては、上記Zで表される炭素原子数1~20の炭化水素基と同様である。 The hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by M in the general formula (IV) is the same as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by Z1.

一般式(IV)中のR11~R18及びR21~R50で表される炭素原子数1~20の炭化水素基としては、上記Rで表される炭素原子数1~20の炭化水素基と同じ基が挙げられる。 As the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 11 to R 18 and R 21 to R 50 in the general formula (IV), the hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 is described above. The same group as the hydrogen group can be mentioned.

一般式(IV)中のR22~R50で表される複素環を含有する炭素原子数2~20基としては、上記Rで表される複素環を含有する炭素原子数2~20基と同じ基が挙げられる。 As the 2 to 20 carbon atoms containing the heterocycle represented by R 22 to R 50 in the general formula (IV), the number of carbon atoms containing the hetero ring represented by R 2 is 2 to 20. The same group as.

上記一般式(IV)中のR22とR23、R23とR24、R24とR25、R25とR26、R27とR28、R28とR29、R29とR30、R35とR36、R36とR37、R37とR38、R43とR44、R44とR45、R45とR46、R47とR48、R48とR49及びR49とR50が、結合して形成する環としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロペンテン、ベンゼン、ピロリジン、ピロール、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリン、テトラヒドロピリジン、ラクトン環及びラクタム環等の5~7員環並びにナフタレン及びアントラセン等の縮合環等が挙げられる。 R 22 and R 23 , R 23 and R 24 , R 24 and R 25 , R 25 and R 26 , R 27 and R 28 , R 28 and R 29 , R 29 and R 30 , in the above general formula (IV). R 35 and R 36 , R 36 and R 37 , R 37 and R 38 , R 43 and R 44 , R 44 and R 45 , R 45 and R 46 , R 47 and R 48 , R 48 and R 49 and R 49 . Examples of the ring formed by the combination of R50 and R50 include 5 to 7 members such as cyclopentane, cyclohexane, cyclopentene, benzene, pyrrolidine, pyrrol, piperazine, morpholine, thiomorpholine, tetrahydropyridine, lactone ring and lactam ring. Examples thereof include a ring and a fused ring such as naphthalene and anthracene.

上記不飽和一塩基酸とは、構造中に不飽和結合を有し、電離して水素イオンになることのできる水素原子を1分子あたり1個持つ酸を意味する。不飽和一塩基酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート・マレート、ヒドロキシエチルアクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルアクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート等が挙げられる。 The unsaturated monobasic acid means an acid having an unsaturated bond in its structure and having one hydrogen atom per molecule that can be ionized into a hydrogen ion. Examples of unsaturated monobasic acids include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, lauric acid, sorbic acid, hydroxyethyl methacrylate malate, hydroxyethyl acrylate malate, hydroxypropyl methacrylate malate, hydroxypropyl acrylate malate, and di. Cyclopentadiene malate and the like can be mentioned.

上記多塩基酸無水物とは、電離して水素イオンになることのできる水素原子を1分子あたり複数持つ多塩基酸の酸無水物を意味する。多塩基酸無水物としては、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、ビフタル酸無水物、無水マレイン酸、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、2,2’-3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセロールトリスアンヒドロトリメリテート、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、5-(2,5-ジオキソテトラヒドロフリル)-3-メチル-3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸-無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等が挙げられる。 The polybasic acid anhydride means a polybasic acid anhydride having a plurality of hydrogen atoms that can be ionized into hydrogen ions per molecule. Examples of polybasic acid anhydrides include biphenyltetracarboxylic dianhydride, tetrahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, biphthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, 2,2'. -3,3'-Benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, ethylene glycol bisamhydrotrimeritate, glycerol trisanhydrotrimeritate, hexahydroanhydride phthalic acid, methyltetrahydroanhydride phthalic acid, nagic acid anhydride, methylnagic acid anhydride , Trialkyltetrahydroanhydride, hexahydroanhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, trialkyltetrahydroanhydride -Maleic anhydride adduct, dodecenyl anhydride succinic acid, methyl hymic anhydride and the like can be mentioned.

上記エポキシ樹脂、上記不飽和一塩基酸及び上記多塩基酸無水物の反応モル比は、以下の通りとすることが好ましい。
即ち、上記エポキシ樹脂のエポキシ基1個に対し、上記不飽和一塩基酸のカルボキシル基が0.1~1.0個で付加させた構造を有するエポキシ付加物において、該エポキシ付加物の水酸基1個に対し、上記多塩基酸無水物の酸無水物構造が0.1~1.0個となる比率となるようにするのが好ましい。
上記エポキシ樹脂、上記不飽和一塩基酸及び上記多塩基酸無水物の反応は、常法に従って行うことができる。
The reaction molar ratios of the epoxy resin, the unsaturated monobasic acid and the polybasic acid anhydride are preferably as follows.
That is, in an epoxy adduct having a structure in which 0.1 to 1.0 carboxyl groups of the unsaturated monobasic acid are added to one epoxy group of the epoxy resin, the hydroxyl group 1 of the epoxy adduct 1 is added. It is preferable that the ratio of the acid anhydride structure of the polybasic acid anhydride is 0.1 to 1.0 with respect to the number of pieces.
The reaction of the epoxy resin, the unsaturated monobasic acid and the polybasic acid anhydride can be carried out according to a conventional method.

本発明においては、上記光硬化性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂とともに、単官能エポキシ化合物又は多官能エポキシ化合物を用いることができる。 In the present invention, a monofunctional epoxy compound or a polyfunctional epoxy compound can be used together with the photocurable resin and / or the thermosetting resin.

上記単官能エポキシ化合物としては、グリシジルメタクリレート、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、イソプロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、イソブチルグリシジルエーテル、t-ブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、ヘプチルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、ノニルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ウンデシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、ペンタデシルグリシジルエーテル、ヘキサデシルグリシジルエーテル、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、プロパルギルグリシジルエーテル、p-メトキシエチ
ルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、p-メトキシグリシジルエーテル、p-ブチルフェノールグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、2-メチルクレジルグリシジルエーテル、4-ノニルフェニルグリシジルエーテル、ベンジルグリシジルエーテル、p-クミルフェニルグリシジルエーテル、トリチルグリシジルエーテル、2,3-エポキシプロピルメタクリレート、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、グリシジルブチレート、ビニルシクロヘキサンモノオキシド、1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサン、スチレンオキシド、ピネンオキシド、メチルスチレンオキシド、シクロヘキセンオキシド、プロピレンオキシド、7-オキサビシクロ[4.1.0]ヘプト-3-イル-2-プロペン酸エステル等が挙げられる。
Examples of the monofunctional epoxy compound include glycidyl methacrylate, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, propyl glycidyl ether, isopropyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, isobutyl glycidyl ether, t-butyl glycidyl ether, pentyl glycidyl ether, hexyl glycidyl ether, and heptyl. Glycyzyl ether, octyl glycidyl ether, nonyl glycidyl ether, decyl glycidyl ether, undecyl glycidyl ether, dodecyl glycidyl ether, tridecyl glycidyl ether, tetradecyl glycidyl ether, pentadecyl glycidyl ether, hexadecyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, Allyl glycidyl ether, propargyl glycidyl ether, p-methoxyethyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, p-methoxy glycidyl ether, p-butylphenol glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, 2-methyl cresyl glycidyl ether, 4-nonylphenyl glycidyl ether , Benzyl glycidyl ether, p-cumylphenyl glycidyl ether, trityl glycidyl ether, 2,3-epoxypropyl methacrylate, epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, glycidyl butyrate, vinylcyclohexane monooxide, 1,2-epoxy- Examples thereof include 4-vinylcyclohexane, styrene oxide, pinene oxide, methylstyrene oxide, cyclohexene oxide, propylene oxide, 7-oxabicyclo [4.1.0] hept-3-yl-2-propenic acid ester and the like.

上記多官能エポキシ化合物としては、ビスフェノール型エポキシ化合物及びグリシジルエーテル類からなる群から選択される1種以上の化合物を用いると、特性の一層良好な重合性組成物を得ることができるので好ましい。
上記ビスフェノール型エポキシ化合物としては、水添ビスフェノール型エポキシ化合物等のビスフェノール型エポキシ化合物も用いることができる。
また上記グリシジルエーテル類としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、1,8-オクタンジオールジグリシジルエーテル、1,10-デカンジオールジグリシジルエーテル、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサエチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4-シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、1,1,1-トリ(グリシジルオキシメチル)プロパン、1,1,1-トリ(グリシジルオキシメチル)エタン、1,1,1-トリ(グリシジルオキシメチル)メタン、1,1,1,1-テトラ(グリシジルオキシメチル)メタン等を用いることができる。
その他、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物;3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、1-エポキシエチル-3,4-エポキシシクロヘキサン等の脂環式エポキシ化合物;フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類;テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルP-アミノフェノール、N,N-ジグリシジルアニリン等のグリシジルアミン類;1,3-ジグリシジル-5,5-ジメチルヒダントイン、トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ化合物;ジシクロペンタジエンジオキシド等のジオキシド化合物;ナフタレン型エポキシ化合物;トリフェニルメタン型エポキシ化合物;ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物等を用いることもできる。
As the polyfunctional epoxy compound, it is preferable to use one or more compounds selected from the group consisting of bisphenol type epoxy compounds and glycidyl ethers, because a polymerizable composition having better properties can be obtained.
As the bisphenol type epoxy compound, a bisphenol type epoxy compound such as a hydrogenated bisphenol type epoxy compound can also be used.
Examples of the glycidyl ethers include ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, and 1,8-octanediol diglycidyl ether. 1,10-decanediol diglycidyl ether, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, triethylene glycol diglycidyl ether, tetraethylene glycol diglycidyl ether, hexaethylene glycol diglycidyl Ether, 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, 1,1,1-tri (glycidyloxymethyl) propane, 1,1,1-tri (glycidyloxymethyl) ethane, 1,1,1-tri (glycidyl) Oxymethyl) methane, 1,1,1,1-tetra (glycidyloxymethyl) methane and the like can be used.
In addition, novolak type epoxy compounds such as phenol novolac type epoxy compound, biphenyl novolac type epoxy compound, cresol novolak type epoxy compound, bisphenol A novolak type epoxy compound, dicyclopentadiene novolac type epoxy compound; 3,4-epoxy-6-methyl. Alicyclic epoxy such as cyclohexylmethyl-3,4-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane Compounds; glycidyl esters such as phthalic acid diglycidyl ester, tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester, dimer acid glycidyl ester; glycidyl amines such as tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, triglycidyl P-aminophenol, N, N-diglycidyl aniline; Heterocyclic epoxy compounds such as 1,3-diglycidyl-5,5-dimethylhydantoin and triglycidyl isocyanurate; dioxide compounds such as dicyclopentadienedioxide; naphthalene type epoxy compounds; triphenylmethane type epoxy compounds; dicyclopentadiene A type epoxy compound or the like can also be used.

重合性化合物(B)として光硬化性樹脂を用いる場合、(メタ)アクリル酸エステル重合体やエポキシアクリレート樹脂を用いることが好ましい。また、重合性化合物(B)として熱硬化性樹脂を用いる場合、フェノールノボラック型エポキシ樹脂を用いることが好ましい。 When a photocurable resin is used as the polymerizable compound (B), it is preferable to use a (meth) acrylic acid ester polymer or an epoxy acrylate resin. When a thermosetting resin is used as the polymerizable compound (B), it is preferable to use a phenol novolac type epoxy resin.

本発明の重合性組成物において、上記重合性化合物(B)の含有量は、本発明の重合性組成物中、5~90質量%、特に10~70質量%が好ましい。 In the polymerizable composition of the present invention, the content of the polymerizable compound (B) is preferably 5 to 90% by mass, particularly preferably 10 to 70% by mass in the polymerizable composition of the present invention.

<重合開始剤(C)>
本発明の重合性組成物は重合開始剤(C)を含有する。
本発明の重合性組成物に用いられる重合開始剤(C)としては、ラジカル重合開始剤及びカチオン重合開始剤が挙げられる。ラジカル重合開始剤としては、光照射によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤、或いは加熱によりラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤を用いることができ、特に制限されず従来既知の化合物を用いることが可能である。光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物などのケトン系化合物、オキシムエステル系化合物などを好ましいものとして例示することができる。
<Polymer initiator (C)>
The polymerizable composition of the present invention contains a polymerization initiator (C).
Examples of the polymerization initiator (C) used in the polymerizable composition of the present invention include a radical polymerization initiator and a cationic polymerization initiator. As the radical polymerization initiator, a photoradical polymerization initiator that generates radicals by light irradiation or a thermal radical polymerization initiator that generates radicals by heating can be used, and conventionally known compounds can be used without particular limitation. It is possible. As the photoradical polymerization initiator, for example, a ketone compound such as an acetophenone compound, a benzyl compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, an oxime ester compound and the like can be exemplified as preferable ones.

アセトフェノン系化合物としては例えば、ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、4’-イソプロピル-2-ヒドロキシ
-2-メチルプロピオフェノン、2-ヒドロキシメチル-2-メチルプロピオフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、p-ターシャリブチルジクロロアセトフェノン、p-ターシャリブチルトリクロロアセトフェノン、p-アジドベンザルアセトフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパノン-1、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタノン-1、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン-n-ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン等が挙げられる。
Examples of the acetophenone compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone, and 2-hydroxymethyl-2. -Methylpropiophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, p-dimethylaminoacetophenone, p-tershaributyldichloroacetophenone, p-tershaributyltrichloroacetophenone, p-azidobenzal Acetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanol-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -Butanone-1, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2- Examples thereof include methyl-1-propane-1-one.

ベンジル系化合物としては、ベンジル等が挙げられる。 Examples of the benzyl compound include benzyl and the like.

ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーケトン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルスルフィドなどが挙げられる。 Examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, Michler ketone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide and the like. ..

チオキサントン系化合物としては、チオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-エチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン等が挙げられる。 Examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone and the like.

オキシムエステル系化合物としては、上記一般式(V)で表される基を有する化合物が挙げられる。重合開始剤(C)として上記一般式(V)で表される基を有する化合物を用いた場合、重合性組成物の感度が高くなることから好ましい。 Examples of the oxime ester compound include compounds having a group represented by the above general formula (V). When a compound having a group represented by the above general formula (V) is used as the polymerization initiator (C), the sensitivity of the polymerizable composition is increased, which is preferable.

一般式(V)中のR61~R63で表される炭素原子数1~20の炭化水素基としては、上記Rで表される炭素原子数1~20の炭化水素基と同じ基が挙げられる。 As the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 61 to R 63 in the general formula (V), the same group as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 is used. Can be mentioned.

一般式(V)中のR61~R62で表される複素環を含有する炭素原子数2~20基としては、上記Rで表される複素環を含有する炭素原子数2~20基と同じ基が挙げられる。 As the 2 to 20 carbon atoms containing the heterocycle represented by R 61 to R 62 in the general formula (V), the number of carbon atoms containing the hetero ring represented by R 2 is 2 to 20. The same group as.

オキシムエステル系化合物としては、特に、下記一般式(VI)で表される化合物が、
感度及び耐熱性の点から好ましい。
As the oxime ester compound, a compound represented by the following general formula (VI) is particularly suitable.
It is preferable from the viewpoint of sensitivity and heat resistance.

Figure 0007061502000008
Figure 0007061502000008

(式中、R71及びR72は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、炭素原子数1~20の炭化水素基又は複素環を含有する炭素原子数2~20基を表し、
73及びR74は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシル基、R75、OR76、SR77、NR7879、COR80、SOR81、SO82又はCONR8384を表し、
75~R84は、それぞれ独立に、炭素原子数1~20の炭化水素基又は複素環を含有する炭素原子数2~20基を表し、
83及びR84は互いに結合して環を形成している場合があり、
21は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、CR8586、CO、NR87又はPR88を表し、
22は、単結合又はCOを表し、
85~R88は、炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、
上記炭素原子数1~20の炭化水素基及び複素環を含有する炭素原子数2~20基中の水素原子の一つ又は2つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシル基又は複素環基で置換されている場合があり、上記炭素原子数1~20の炭化水素基及び複素環を含有する炭素原子数2~20基中のメチレン基の一つ以上が-O-に置換されている場合があり、
73及びR74は、それぞれ独立に、隣接するベンゼン環と一緒になって環を形成している場合があり、
jは、0~4の整数を表し、
kは、0~5の整数を表す。)
(In the formula, R 71 and R 72 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or 2 to 20 carbon atoms containing a heterocycle.
R 73 and R 74 are independently halogen atoms, nitro groups, cyano groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, R 75 , OR 76 , SR 77 , NR 78 R 79 , COR 80 , SOR 81 , SO 2 R 82 or Represents CONR 83 R 84
R 75 to R 84 independently represent hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms or 2 to 20 carbon atoms containing a heterocycle.
R 83 and R 84 may be coupled to each other to form a ring.
X 21 represents an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, CR 85 R 86 , CO, NR 87 or PR 88 .
X 22 represents a single bond or CO
R 85 to R 88 represent hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms.
One or more of the hydrogen atoms in the above-mentioned hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms and 2 to 20 carbon atoms containing a heterocycle are halogen atoms, nitro groups, cyano groups, hydroxyl groups, and carboxyl groups. Alternatively, it may be substituted with a heterocyclic group, and one or more of the hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms and the methylene group having 2 to 20 carbon atoms containing the heterocycle are converted to -O-. May have been replaced,
R 73 and R 74 may independently form a ring together with an adjacent benzene ring.
j represents an integer from 0 to 4 and represents
k represents an integer from 0 to 5. )

一般式(VI)中のR71~R72及びR75~R88で表される炭素原子数1~20の炭化水素基としては、上記Rで表される炭素原子数1~20の炭化水素基と同じ基が挙げられる。 As the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 71 to R 72 and R 75 to R 88 in the general formula (VI), the hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 is described above. The same group as the hydrogen group can be mentioned.

一般式(VI)中のR71~R72及びR75~R84で表される複素環を含有する炭素原子数2~20基としては、上記Rで表される複素環を含有する炭素原子数2~20基と同じ気が挙げられる。 The carbon having 2 to 20 carbon atoms containing the heterocycle represented by R 71 to R 72 and R 75 to R 84 in the general formula (VI) is the carbon containing the heterocycle represented by R2 . The same feeling as 2 to 20 atoms can be mentioned.

73及びR74が隣接するベンゼン環と一緒になって形成する環としては、例えば、カルバゾール、フルオレン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、フェノチラジン、チオキサントン、キサンテン、チオキサンテン及びジヒドロアクリジン等が挙げられる。 Examples of the ring formed by R 73 and R 74 together with the adjacent benzene ring include carbazole, fluorene, dibenzofuran, dibenzothiophene, phenotylazine, thioxanthone, xanthene, thioxanthene and dihydroacridine.

好ましい重合開始剤としては、例えば下記に示す化合物No.C1~No.C17が挙げられ、上記、一般式(VI)で表される化合物としては、例えば下記に示す化合物No.C1及びNo.C3~No.C16が挙げられる。但し、本発明は以下の化合物により何ら制限を受けるものではない。 Preferred polymerization initiators include, for example, Compound No. 1 shown below. C1-No. Examples of the compound represented by the above general formula (VI) include C17, for example, the compound No. 1 shown below. C1 and No. C3 to No. C16 can be mentioned. However, the present invention is not limited by the following compounds.

Figure 0007061502000009
Figure 0007061502000009

Figure 0007061502000010
Figure 0007061502000010

その他のラジカル重合開始剤としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド系化合物及びビス(シクロペンタジエニル)-ビス[2,6-ジフルオロ-3-(ピル-1-イル)]チタニウム等のチタノセン系化合物等が挙げられる。 Other radical polymerization initiators include phosphine oxide compounds such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis (cyclopentadienyl) -bis [2,6-difluoro-3- (pill-1). -Il)] Titanocene compounds such as titanium can be mentioned.

市販のラジカル重合開始剤としては、アデカオプトマーN-1414、N-1717、N-1919、アデカアークルズNCI-831、NCI-930(以上、ADEKA製);IRGACURE184、IRGACURE369、IRGACURE651、IRGACURE907、IRGACURE OXE 01、IRGACURE OXE 02、IRGACURE784(以上、BASF製);TR-PBG-304、TR-PBG-305、TR-PBG-309及びTR-PBG-314(以上、Tronly製);等が挙げられる。 Examples of commercially available radical polymerization initiators include ADEKA PTOMER N-1414, N-1717, N-1919, ADEKA ARCLUS NCI-831, NCI-930 (all manufactured by ADEKA); IRGACURE184, IRGACURE369, IRGACURE651, IRGACURE907, IRGACURE. OXE 01, IRGACURE OXE 02, IRGACURE784 (above, manufactured by BASF); TR-PBG-304, TR-PBG-305, TR-PBG-309 and TR-PBG-314 (above, manufactured by Trony); and the like.

上記ラジカル重合開始剤は、所望の性能に応じて、1種を単独で用いることができ、2種以上を組合わせて用いることができる。 As the radical polymerization initiator, one type may be used alone or two or more types may be used in combination depending on the desired performance.

上記熱ラジカル重合開始剤としては、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス(メチルイソブチレ-ト)、2,2’-アゾビス-2,4-ジメチルバレロニトリル、1,1’-アゾビス(1-アセトキシ-1-フェニルエタン)等のアゾ系開始剤;ベンゾイルパーオキサイド、ジ-t-ブチルベンゾイルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシピバレート、ジ(4-t-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート等の過酸化物系開始剤、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等の過硫酸塩等が挙げられる。 Examples of the thermal radical polymerization initiator include 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (methylisobutyrate), 2,2'-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, 1, Azo-based initiators such as 1'-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane); benzoyl peroxide, di-t-butylbenzoyl peroxide, t-butylperoxypivalate, di (4-t-butylcyclohexyl). ) Examples thereof include peroxide-based initiators such as peroxydicarbonate, persulfates such as ammonium persulfate, sodium persulfate, and potassium persulfate.

カチオン重合開始剤としては、光照射又は加熱によりカチオン重合を開始させる物質を放出させることが可能な化合物であればどのようなものでも差し支えないが、好ましくは、オニウム塩が用いられる。 As the cationic polymerization initiator, any compound that can release a substance that initiates cationic polymerization by light irradiation or heating may be used, but an onium salt is preferably used.

上記オニウム塩としては、例えば、[M]r+[G]r-で表される陽イオンと陰イオンの塩が挙げられる。
ここで陽イオン[M]r+はオニウムであることが好ましく、その構造は、例えば、下記一般式、[(R29Q]r+で表すことができる。
Examples of the onium salt include salts of cations and anions represented by [M] r + [G] r− .
Here, the cation [M] r + is preferably onium, and its structure can be expressed by, for example, the following general formula, [(R 29 ) f Q] r + .

上記R29は、炭素原子数が1~60であり、炭素原子以外の原子をいくつ含んでいてもよい有機の基である。fは1~5なる整数である。f個のR29は各々独立で、同一でも異なっていてもよい。また、少なくとも1つは、芳香環を有する上記の如き有機の基であることが好ましい。QはS,N,Se,Te,P,As,Sb,Bi,O,I,Br,Cl,F,N=Nからなる群から選ばれる原子或いは原子団である。また、陽イオン[M]r+中のQの原子価をqとしたとき、r=f-qなる関係が成り立つことが必要である(但し、N=Nは原子価0として扱う)。 The R 29 is an organic group having 1 to 60 carbon atoms and may contain any number of atoms other than carbon atoms. f is an integer of 1 to 5. The f R 29s are independent of each other and may be the same or different. Further, at least one is preferably an organic group as described above having an aromatic ring. Q is an atom or atomic group selected from the group consisting of S, N, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl, F and N = N. Further, when the valence of Q in the cation [M] r + is q, it is necessary that the relationship r = f−q is established (however, N = N is treated as having a valence of 0).

また、陰イオン[G]r-の具体例としては、一価のものとして、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、フッ化物イオン等のハロゲン化物イオン;過塩素酸イオン、塩素酸イオン、チオシアン酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン等の無機系陰イオン;テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラ(3,5-ジフルオロ-4-メトキシフェニル)ボレート、テトラフルオロボレート、テトラアリールボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等のボレート系陰イオン;メタンスルホン酸イオン、ドデシルスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ナフタレンスルホン酸イオン、ジフェニルアミン-4-スルホン酸イオン、2-アミノ-4-メチル-5-クロロベンゼンスルホン酸イオン、2-アミノ-5-ニトロベンゼンスルホン酸イオン、フタロシアニンスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸陰イオン、カンファースルホン酸イオン、ノナフロロブタンスルホン酸イオン、ヘキサデカフロロオクタンスルホン酸イオン、重合性置換基を有するスルホン酸イオン、特開平10-235999、特開平10-337959、特開平11-102088、特開2000-108510、特開2000-168223、特開2001-209969、特開2001-322354、特開2006-248180、特開2006-297907、特開平8-253705号公報、特表2004-503379号公報、特開2005-336150号公報、国際公開2006/28006号公報等に記載されたスルホン酸イオン等の有機スルホン酸系陰イオン;オクチルリン酸イオン、ドデシルリン酸イオン、オクタデシルリン酸イオン、フェニルリン酸イオン、ノニルフェニルリン酸イオン、2,2’-メチレンビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)ホスホン酸イオン等の有機リン酸系陰イオン、ビストリフルオロメチルスルホニルイミドイオン、ビスパーフルオロブタンスルホニルイミドイオン、パーフルオロ-4-エチルシクロヘキサンスルホン酸イオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸イオン、トリス(フルオロアルキルスルホニル)カルボアニオン等が挙げられ、二価のものとしては、例えば、ベンゼンジスルホン酸イオン、ナフタレンジスルホン酸イオン等が挙げられる。 Specific examples of the anion [G] r- include halide ions such as chloride ion, bromide ion, iodide ion, and fluoride ion; perchlorate ion, chlorate ion, and the like. Inorganic anions such as thiocyanate ion, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate ion, tetrafluoroborate ion; tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tetra (3,5-difluoro-4-methoxyphenyl) borate , Tetrafluoroborate, tetraarylborate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate and other borate anions; methanesulphonate ion, dodecylsulphonic acid ion, benzenesulphonic acid ion, toluenessulphonic acid ion, trifluoromethanesulphonic acid ion, naphthalene. Sulfonic acid ion, diphenylamine-4-sulfonic acid ion, 2-amino-4-methyl-5-chlorobenzene sulfonic acid ion, 2-amino-5-nitrobenzene sulfonic acid ion, phthalocyanine sulfonic acid ion, fluorosulfonic acid ion, trinitrobenzene Sulfonic acid anion, camphor sulfonic acid ion, nonafluorobutane sulfonic acid ion, hexadecafluorooctane sulfonic acid ion, sulfonic acid ion having a polymerizable substituent, JP-A-10-235999, JP-A-10-337959, JP-A-11. -102088, JP-A-2000-108510, JP-A-2000-168223, JP-A-2001-20969, JP-A-2001-322354, JP-A-2006-248180, JP-A-2006-297907, JP-A-8-253705, JP-A-2004. Organic sulfonic acid-based anions such as sulfonic acid ions described in JP-A-503379, JP-A-2005-336150, International Publication No. 2006/2806, etc .; octyl phosphate ion, dodecyl phosphate ion, octadecyl phosphate ion. , Phenylphosphate ion, Nonylphenylphosphate ion, Organic phosphate-based anions such as 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) phosphonate ion, Bistrifluoromethylsulfonylimide ion, Bis Perfluorobutane sulfonylimide ion, perfluoro-4-ethylcyclohexanesulfonic acid ion, tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion, tris (fluoroalkylsulfonyl) carboanion and the like are bivalent. Examples thereof include benzenedisulfonic acid ion, naphthalene disulfonic acid ion and the like.

本発明では、このようなオニウム塩の中でも、アリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等の芳香族オニウム塩を使用することが特に有効である。これらの中から、その1種を単独で、又は2種以上を混合して使用することができる。 In the present invention, among such onium salts, it is particularly effective to use aromatic onium salts such as aryldiazonium salts, diallyliodonium salts and triarylsulfonium salts. From these, one of them can be used alone, or two or more of them can be mixed and used.

また、その他好ましいものとしては、(η-2,4-シクロペンタジエン-1-イル
)〔(1,2,3,4,5,6-η)-(1-メチルエチル)ベンゼン〕-アイアン-ヘキサフルオロホスフェート等の鉄-アレーン錯体や、トリス(アセチルアセトナト)アルミニウム、トリス(エチルアセトナトアセタト)アルミニウム、トリス(サリチルアルデヒダト)アルミニウム等のアルミニウム錯体とトリフェニルシラノール等のシラノール類との混合物等も挙げることができる。
Other preferable ones are (η 5-2,4 -cyclopentadiene-1-yl) [(1,2,3,4,5,6-η)-(1-methylethyl) benzene] -iron. -Iron-arene complex such as hexafluorophosphate, aluminum complex such as tris (acetylacetonato) aluminum, tris (ethylacetonatoacetato) aluminum, tris (salitylaldehidato) aluminum, and silanols such as triphenylsilanol. A mixture of the above can also be mentioned.

これらの中でも、実用面と光感度の観点から、芳香族スルホニウム塩を用いることが好ましい。
上記芳香族スルホニウム塩としては、市販のものを用いることもでき、例えば、WPAG-336、WPAG-367、WPAG-370、WPAG-469、WPAG-638(和光純薬工業社製)、CPI-100P、CPI-101A、CPI-200K、CPI-210S(サンアプロ社製)、アデカオプトマーSP-056、アデカオプトマーSP-066、アデカオプトマーSP-130、アデカオプトマーSP-140、アデカオプトマーSP-082、アデカオプトマーSP-103、アデカオプトマーSP-601、アデカオプトマーSP-606、アデカオプトマーSP-701(ADEKA社製)等が挙げられる。
Among these, it is preferable to use an aromatic sulfonium salt from the viewpoint of practical use and photosensitivity.
As the aromatic sulfonium salt, commercially available ones can also be used, for example, WPAG-336, WPAG-376, WPAG-370, WPAG-469, WPAG-638 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), CPI-100P. , CPI-101A, CPI-200K, CPI-210S (manufactured by San-Apro), ADEKA OPTMER SP-506, ADEKA PTMER SP-066, ADEKA PTMER SP-130, ADEKA PTMER SP-140, ADEKA OPTMER SP. -082, ADEKA PTOMER SP-103, ADEKA PTOMER SP-601, ADEKA PTOMER SP-606, ADEKA PTOMER SP-701 (manufactured by ADEKA) and the like.

本発明の重合性組成物において、上記重合開始剤(C)の含有量は、本発明の重合性組成物の固形分中、0.1~30質量%、特に0.5~10質量%が好ましい。上記重合開始剤の含有量が0.1質量%より小さいと、露光による硬化が不十分になる場合があり、30質量%より大きいと、樹脂組成物中に開始剤が析出する場合がある。 In the polymerizable composition of the present invention, the content of the polymerization initiator (C) is 0.1 to 30% by mass, particularly 0.5 to 10% by mass, based on the solid content of the polymerizable composition of the present invention. preferable. If the content of the polymerization initiator is less than 0.1% by mass, curing by exposure may be insufficient, and if it is more than 30% by mass, the initiator may precipitate in the resin composition.

また、本発明の重合性組成物が重合開始剤(C)として光ラジカル重合開始剤又は光カチオン重合開始剤を含有する場合、該重合性組成物を硬化させる際に用いられる活性光の光源としては、波長300~450nmの光を発光するものを用いることができる。具体的には、光源として、例えば、超高圧水銀、水銀蒸気アーク、カーボンアーク、キセノンアーク等を用いることができる。 Further, when the polymerizable composition of the present invention contains a photoradical polymerization initiator or a photocationic polymerization initiator as the polymerization initiator (C), it is used as a light source of active light used when curing the polymerizable composition. Can be used to emit light having a wavelength of 300 to 450 nm. Specifically, as the light source, for example, ultra-high pressure mercury, mercury vapor arc, carbon arc, xenon arc and the like can be used.

本発明の重合性組成物は、更に、着色剤(D)を含有する場合がある。
上記着色剤(D)としては、例えば、顔料、染料、天然色素等が挙げられる。
The polymerizable composition of the present invention may further contain a colorant (D).
Examples of the colorant (D) include pigments, dyes, natural pigments and the like.

上記顔料としては、例えば、ニトロソ化合物;ニトロ化合物;アゾ化合物;ジアゾ化合物;キサンテン化合物;キノリン化合物;アントラキノン化合物;クマリン化合物;フタロシアニン化合物;イソインドリノン化合物;イソインドリン化合物;キナクリドン化合物;アンタンスロン化合物;ペリノン化合物;ペリレン化合物;ジケトピロロピロール化合物;チオインジゴ化合物;ジオキサジン化合物;トリフェニルメタン化合物;キノフタロン化合物;ナフタレンテトラカルボン酸;アゾ染料、シアニン染料の金属錯体化合物;レーキ顔料;ファーネス法、チャンネル法又はサーマル法によって得られるカーボンブラック、或いはアセチレンブラック、ケッチェンブラック又はランプブラック等のカーボンブラック;上記カーボンブラックをエポキシ樹脂で調整又は被覆したもの、上記カーボンブラックを予め溶媒中で樹脂で分散処理し、20~200mg/gの樹脂を吸着させたもの、上記カーボンブラックを酸性又はアルカリ性表面処理したもの、平均粒径が8nm以上でDBP吸油量が90ml/100g以下のもの、950℃における揮発分中のCO及びCOから算出した全酸素量が、カーボンブラックの表面積100m当たり9mg以上であるもの;黒鉛、黒鉛化カーボンブラック、ペリレンブラック、ラクタムブラック、活性炭、炭素繊維、カーボンナノチューブ、カーボンマイクロコイル、カーボンナノホーン、カーボンエアロゲル、フラーレン;アニリンブラック、ピグメントブラック7及びチタンブラック等の黒色顔料;酸化クロム緑、ミロリブルー、コバルト緑、コバルト青、マンガン系、フェロシアン化物、リン酸塩群青、紺青、ウルトラマリン、セルリアンブルー、ピリジアン、エメラルドグリーン、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(III))、カドミウム赤、合成鉄黒、アンバー、体質顔料等の有機又は無機顔料を用いることができる。これらの顔料は単独で、或いは複数を混合して用いることができる。 Examples of the pigment include nitroso compounds; nitro compounds; azo compounds; diazo compounds; xanthene compounds; quinoline compounds; anthraquinone compounds; coumarin compounds; phthalocyanine compounds; isoindolinone compounds; isoindolin compounds; quinacridone compounds; antanthrone compounds; perinone. Compounds; Perylene compounds; Diketopyrrolopyrrole compounds; Thioindigo compounds; Dioxazine compounds; Triphenylmethane compounds; Kinophthalone compounds; Naphthalenetetracarboxylic acids; Azo dyes, cyanine dye metal complex compounds; Lake pigments; Furness method, channel method or thermal Carbon black obtained by the method, or carbon black such as acetylene black, ketjen black, or lamp black; the above carbon black adjusted or coated with an epoxy resin, the above carbon black is previously dispersed with a resin in a solvent, and 20 A compound adsorbed with a resin of up to 200 mg / g, an acidic or alkaline surface-treated carbon black, a compound having an average particle size of 8 nm or more and a DBP oil absorption of 90 ml / 100 g or less, CO in a volatile content at 950 ° C. And the total amount of oxygen calculated from CO 2 is 9 mg or more per 100 m 2 of the surface area of carbon black; graphite, graphitized carbon black, perylene black, lactam black, activated carbon, carbon fiber, carbon nanotube, carbon microcoil, carbon. Nanohorn, carbon aerogel, fullerene; black pigments such as aniline black, pigment black 7 and titanium black; chromium oxide green, miloli blue, cobalt green, cobalt blue, manganese, ferrocyanide, phosphate ultramarine, navy blue, ultramarine, Organic or inorganic pigments such as cerulean blue, pyridian, emerald green, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron oxide (III), cadmium red, synthetic iron black, amber, and extender pigment can be used. These pigments can be used alone or in combination of two or more.

上記顔料としては、市販の顔料を用いることもでき、例えば、ピグメントレッド1、2、3、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48、49、88、90、97、112、119、122、123、144、149、166、168、169、170、171、177、179、180、184、185、192、200、202、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、254;ピグメントオレンジ13、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、65、71;ピグメントイエロー1、3、12、13、14、16、17、20、24、55、60、73、81、83、86、93、95、97、98、100、109、110、113、114、117、120、125、126、127、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、166、168、175、180、185;ピグメントグリ-ン7、10、36;ピグメントブルー15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:5、15:6、22、24、56、60、61、62、64;ピグメントバイオレット1、19、23、27、29、30、32、37、40、50等が挙げられる。 As the above pigment, a commercially available pigment may be used, for example, Pigment Red 1, 2, 3, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48, 49, 88, 90, 97, 112, 119, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 169, 170, 171, 177, 179, 180, 184, 185, 192, 200, 202, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 254; Pigment Orange 13, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 65, 71; Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 16, 17, 20, 24, 55, 60, 73, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 100, 109, 110, 113, 114, 117, 120, 125, 126, 127, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 166, 168, 175, 180, 185; Pigment Green 7, 10, 36; Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 5, 15: 6, 22, 24, 56, 60, 61, 62, 64; Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 50 and the like can be mentioned.

上記染料としては、アゾ染料、アントラキノン染料、インジゴイド染料、トリアリールメタン染料、キサンテン染料、アリザリン染料、アクリジン染料スチルベン染料、チアゾール染料、ナフトール染料、キノリン染料、ニトロ染料、インダミン染料、オキサジン染料、フタロシアニン染料、シアニン染料等の染料等が挙げられ、これらは複数を混合して用いてもよい。 Examples of the above dyes include azo dyes, anthraquinone dyes, indigoid dyes, triarylmethane dyes, xanthene dyes, alizarin dyes, aclysine dyes, stillben dyes, thiazole dyes, naphthol dyes, quinoline dyes, nitro dyes, indamine dyes, oxadin dyes, and phthalocyanine dyes. , Dyes such as cyanine dyes and the like, and these may be used in combination of a plurality.

本発明の重合性組成物において、上記着色剤(D)の含有量は、重合性化合物(B)100質量部に対して、好ましくは0.01~10質量部、より好ましくは0.1~5質量部である。 In the polymerizable composition of the present invention, the content of the colorant (D) is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound (B). 5 parts by mass.

<充填剤>
本発明の重合性組成物は充填剤を含有する場合がある。充填剤として、無機充填剤又は有機充填剤を用いることができる。無機充填剤は、通常シリコーン樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物等の封止材料に配合されるものを使用することができる。例えば、溶融シリカ、溶融球状シリカ、結晶性シリカ、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、シリカゲル等のシリカ類;アルミナ、酸化鉄、三酸化アンチモン等の金属酸化物;窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素等のセラミックス;マイカやモンモリロナイト等の鉱物;水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物或いはこれらを有機変性処理等により改質したもの;炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム等の金属炭酸塩或いはこれらを有機変性処理等により改質したもの;金属ホウ酸塩、カーボンブラック等の顔料;炭素繊維、グラファイト、ウィスカ、カオリン、タルク、ガラス繊維、ガラスビーズ、ガラスマイクロスフィア、シリカガラス、層状粘土鉱物、クレー、炭化ケイ素、石英、アルミニウム、亜鉛等が挙げられる。有機充填剤としては、アクリルビーズ、ポリマー微粒子、透明樹脂ビーズ、木粉、パルプ、木綿チップ等が挙げられる。
<Filler>
The polymerizable composition of the present invention may contain a filler. As the filler, an inorganic filler or an organic filler can be used. As the inorganic filler, those usually blended in a sealing material such as a silicone resin composition and an epoxy resin composition can be used. For example, silicas such as fused silica, fused spherical silica, crystalline silica, colloidal silica, fumed silica, silica gel; metal oxides such as alumina, iron oxide and antimony trioxide; silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, carbonized. Ceramics such as silicon; Minerals such as mica and montmorillonite; Metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide or those modified by organic modification treatment; Calcium carbonate, calcium silicate, magnesium carbonate, barium carbonate Metal carbonates such as or modified by organic modification treatment; pigments such as metal borate and carbon black; carbon fibers, graphite, whisker, kaolin, talc, glass fibers, glass beads, glass microspheres, etc. Examples thereof include silica glass, layered clay minerals, clay, silicon carbide, quartz, aluminum and zinc. Examples of the organic filler include acrylic beads, polymer fine particles, transparent resin beads, wood flour, pulp, cotton chips and the like.

充填剤の中では、シリカ類、金属酸化物、金属酸塩が好ましく、結晶シリカ、タルク、硫酸バリウム、酸化チタンが特に好ましい。 Among the fillers, silicas, metal oxides and metal acid salts are preferable, and crystalline silica, talc, barium sulfate and titanium oxide are particularly preferable.

本発明の重合性組成物において、上記充填剤の含有量は、重合性化合物(B)100質量部に対して、5~500質量部、特に5~200質量部が好ましい。 In the polymerizable composition of the present invention, the content of the filler is preferably 5 to 500 parts by mass, particularly 5 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound (B).

本発明の重合性組成物には、更に溶剤を加えることができる。該溶剤としては、通常、必要に応じて上記の各成分((重合性化合物(B)、及び重合開始剤(C)等)を溶解又は分散しえる溶剤、例えば、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン等のケトン類;エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン、1,2-ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸-n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル、酢酸シクロヘキシル、乳酸エチル、コハク酸ジメチル、テキサノール等のエステル系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のセロソルブ系溶剤;メタノール、エタノール、イソ-又はn-プロパノール、イソ-又はn-ブタノール、アミルアルコール等のアルコール系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール-1-モノメチルエーテル-2-アセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシブチルエーテルアセテート、エトキシエチルエーテルプロピオネート等のエーテルエステル系溶剤;ベンゼン、トルエン、キシレン等のBTX系溶剤;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤;テレピン油、D-リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油;ミネラルスピリット、スワゾール#310(コスモ松山石油社)、ソルベッソ#100(エクソン化学社)等のパラフィン系溶剤;四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤;クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤;カルビトール系溶剤;アニリン;トリエチルアミン;ピリジン;酢酸;アセトニトリル;二硫化炭素;N,N-ジメチルホルムアミド;N,N-ジメチルアセトアミド;N-メチルピロリドン;ジメチルスルホキシド;水等が挙げられ、これらの溶剤は1種又は2種以上の混合溶剤として使用することができる。
これらの中でも、ケトン類、エーテルエステル系溶剤等、特にプロピレングリコール-1-モノメチルエーテル-2-アセテート、シクロヘキサノン等が、感光性組成物において、レジストと重合開始剤の相溶性がよいので好ましい。
A solvent can be further added to the polymerizable composition of the present invention. As the solvent, usually, a solvent capable of dissolving or dispersing each of the above components ((polymerizable compound (B), polymerization initiator (C), etc.), etc.), for example, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, diethyl, etc. Ketones such as ketones, acetone, methylisopropyl ketones, methylisobutylketones, cyclohexanones, 2-heptanones; ethyl ethers, dioxane, tetrahydrofurans, 1,2-dimethoxyethanes, 1,2-diethoxyethanes, dipropylene glycol dimethyl ethers and the like. Ether solvent; ester solvent such as methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, cyclohexyl acetate, ethyl lactate, dimethyl succinate, texanol; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl Cellosolve-based solvents such as ether; alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, iso- or n-propanol, iso-or n-butanol, amyl alcohol; ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol-1 -Ether ester solvents such as monomethyl ether-2-acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl ether acetate, ethoxyethyl ether propionate; BTX solvents such as benzene, toluene and xylene; hexane, heptane, octane , Cyclohexane and other aliphatic hydrocarbon solvents; Telepin oil, D-limonen, Pinen and other terpene-based hydrocarbon oils; Mineral Spirit, Swazole # 310 (Cosmo Matsuyama Petroleum Co., Ltd.), Solbesso # 100 (Exxon Chemical Co., Ltd.), etc. Paraffin-based solvent; Halogened aliphatic hydrocarbon-based solvent such as carbon tetrachloride, chloroform, trichloroethylene, methylene chloride, 1,2-dichloroethane; Halogenized aromatic hydrocarbon-based solvent such as chlorobenzene; Carbitol-based solvent; Aniline; Triethylamine; pyridine; acetic acid; acetonitrile; carbon disulfide; N, N-dimethylformamide; N, N-dimethylacetamide; N-methylpyrrolidone; dimethylsulfoxide; water, etc., and these solvents may be one or more. Can be used as a mixed solvent of.
Among these, ketones, ether ester solvents and the like, particularly propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, cyclohexanone and the like are preferable because they have good compatibility between the resist and the polymerization initiator in the photosensitive composition.

また、本発明の重合性組成物には、必要に応じて、光/熱酸発生剤;熱硬化触媒;p-アニソール、ハイドロキノン、ピロカテコール、t-ブチルカテコール、フェノチアジン等の熱重合抑制剤;可塑剤;接着促進剤;消泡剤;レベリング剤;表面調整剤;酸化防止剤;紫外線吸収剤;分散剤;分散助剤;凝集防止剤;触媒;潜在性硬化剤;硬化促進剤;密着促進剤;架橋剤;増粘剤等の慣用の添加物を加えることができる。 Further, in the polymerizable composition of the present invention, if necessary, a light / thermoacid generator; a thermosetting catalyst; a thermal polymerization inhibitor such as p-anisole, hydroquinone, pyrocatechol, t-butylcatechol, phenothiazine; Plasticizers; Adhesive promoters; Antifoaming agents; Leveling agents; Surface conditioners; Antioxidants; UV absorbers; Dispersants; Dispersing aids; Antiaggregating agents; Catalysts; Potential curing agents; Curing accelerators; Adhesion promotion Conventional additives such as agents; cross-linking agents; thickeners can be added.

本発明の重合性組成物において、上記ブロックイソシアネートシラン化合物(A)、重合性化合物(B)、重合開始剤(C)、着色剤(D)、充填剤及び溶剤以外の任意成分の使用量は、その使用目的に応じて適宜選択され、特に制限されないが、好ましくは、ブロックイソシアネートシラン化合物(A)、重合性化合物(B)、重合開始剤(C)、着色剤及び充填剤の総量100質量部に対して合計で50質量部以下とする。 In the polymerizable composition of the present invention, the amount of any component other than the blocked isocyanate silane compound (A), the polymerizable compound (B), the polymerization initiator (C), the colorant (D), the filler and the solvent is , Is appropriately selected according to the purpose of use, and is not particularly limited, but preferably, the total amount of the blocked isocyanate silane compound (A), the polymerizable compound (B), the polymerization initiator (C), the colorant and the filler is 100% by mass. The total amount is 50 parts by mass or less.

本発明の重合性組成物には、着色剤を分散させる分散剤を加えることができる。該分散剤としては、着色剤又は無機化合物を分散、安定化できるものであれば制限されず、市販の分散剤、例えば、ビックケミー社製のBYKシリーズ等を用いることができる。特に、塩基性官能基を有するポリエステル、ポリエーテル、又はポリウレタンからなる高分子分散剤、塩基性官能基として窒素原子を有し、窒素原子を有する官能基がアミン、及び/又はその四級塩であり、アミン価が1~100mgKOH/gのものが好適に用いられる。 A dispersant that disperses the colorant can be added to the polymerizable composition of the present invention. The dispersant is not limited as long as it can disperse and stabilize a colorant or an inorganic compound, and a commercially available dispersant, for example, BYK series manufactured by Big Chemie, or the like can be used. In particular, a polymer dispersant made of polyester, polyether, or polyurethane having a basic functional group, an amine having a nitrogen atom as a basic functional group, and / or a quaternary salt thereof. Yes, those having an amine value of 1 to 100 mgKOH / g are preferably used.

また、本発明の重合性組成物は、他の有機重合体を用いることによって、硬化物の特性を改善することもできる。該有機重合体としては、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート-エチルアクリレート重合体、ポリ(メタ)アクリル酸、スチレン-(メタ)アクリル酸重合体、(メタ)アクリル酸-メチルメタクリレート重合体、エチレン-塩化ビニル重合体、エチレン-ビニル重合体、ポリ塩化ビニル樹脂、ABS樹脂、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、ウレタン樹脂、ポリカーボネートポリビニルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエステル、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられ、これらの中でも、ポリスチレン、(メタ)アクリル酸-メチルメタクリレート重合体、エポキシ樹脂が好ましい。他の有機重合体を使用する場合、その使用量は、上記重合性化合物(B)100質量部に対して、好ましくは10~100質量部である。 Further, the polymerizable composition of the present invention can also improve the characteristics of the cured product by using another organic polymer. Examples of the organic polymer include polystyrene, polymethylmethacrylate, methylmethacrylate-ethylacrylate polymer, poly (meth) acrylic acid, styrene- (meth) acrylic acid polymer, and (meth) acrylic acid-methylmethacrylate polymer. , Ethylene-vinyl chloride polymer, ethylene-vinyl polymer, polyvinyl chloride resin, ABS resin, nylon 6, nylon 66, nylon 12, urethane resin, polycarbonate polyvinyl butyral, cellulose ester, polyacrylamide, saturated polyester, phenol resin, Examples thereof include phenoxy resin, polyamideimide resin, polyamic acid resin, and epoxy resin, and among these, polystyrene, (meth) acrylic acid-methylmethacrylate polymer, and epoxy resin are preferable. When another organic polymer is used, the amount used is preferably 10 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound (B).

本発明の重合性組成物は、更に、連鎖移動剤、増感剤、界面活性剤、他のシランカップリング剤等を含有する場合がある。 The polymerizable composition of the present invention may further contain a chain transfer agent, a sensitizer, a surfactant, another silane coupling agent and the like.

上記連鎖移動剤又は増感剤としては、一般的に硫黄原子含有化合物が用いられる。例えばチオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、2-メルカプトプロピオン酸、3-メルカプトプロピオン酸、3-メルカプト酪酸、N-(2-メルカプトプロピオニル)グリシン、2-メルカプトニコチン酸、3-[N-(2-メルカプトエチル)カルバモイル]プロピオン酸、3-[N-(2-メルカプトエチル)アミノ]プロピオン酸、N-(3-メルカプトプロピオニル)アラニン、2-メルカプトエタンスルホン酸、3-メルカプトプロパンスルホン酸、4-メルカプトブタンスルホン酸、ドデシル(4-メチルチオ)フェニルエーテル、2-メルカプトエタノール、3-メルカプト-1,2-プロパンジオール、1-メルカプト-2-プロパノール、3-メルカプト-2-ブタノール、メルカプトフェノール、2-メルカプトエチルアミン、2-メルカプトイミダゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプト-3-ピリジノール、2-メルカプトベンゾチアゾール、メルカプト酢酸、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)等のメルカプト化合物、該メルカプト化合物を酸化して得られるジスルフィド化合物、ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、2-ヨードエタノール、2-ヨードエタンスルホン酸、3-ヨードプロパンスルホン酸等のヨード化アルキル化合物、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトイソブチレート)、ブタンジオールビス(3-メルカプトイソブチレート)、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、1,4-ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ブタンジオールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、ジエチルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン、下記化合物No.C1、トリメルカプトプロピオン酸トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等の脂肪族多官能チオール化合物、昭和電工社製カレンズMT BD1、PE1、NR1等が挙げられる。 As the chain transfer agent or sensitizer, a sulfur atom-containing compound is generally used. For example, thioglycolic acid, thioapple acid, thiosalicylic acid, 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N- (2-mercaptopropionyl) glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3-[N-( 2-mercaptoethyl) carbamoyl] propionic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) amino] propionic acid, N- (3-mercaptopropionyl) alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-mercaptopropanesulfonic acid, 4-mercaptobutanesulfonic acid, dodecyl (4-methylthio) phenyl ether, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto-2-propanol, 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol , 2-Mercaptoethylamine, 2-Mercaptoimidazole, 2-Mercaptobenzoimidazole, 2-Mercapto-3-pyridinol, 2-Mercaptobenzothiazole, Mercaptoacetic acid, Trimethylol propanthris (3-mercaptopropionate), Pentaerythritol tetrakis A mercapto compound such as (3-mercaptopropionate), a disulfide compound obtained by oxidizing the mercapto compound, iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid. Iodized alkyl compounds such as, trimethylolpropanetris (3-mercaptoisobutyrate), butanediol bis (3-mercaptoisobutyrate), hexanedithiol, decandithiol, 1,4-dimethylmercaptobenzene, butanediol bisthio. Propionate, Butanediol bisthioglycolate, Ethyleneglycol bisthioglycolate, Trimethylol propanetristhioglycolate, Butanediol bisthiopropionate, Trimethylol propanetristhiopropionate, Trimethylol propanetristhioglycolate , Pentaerythritol tetrakisthiopropionate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, trishydroxyethyl tristhiopropionate, diethylthioxanthone, diisopropylthioxanthone, the following compound No. Examples thereof include aliphatic polyfunctional thiol compounds such as C1, tris (2-hydroxyethyl) trimercaptopropionate, and isocyanurate, and Karenz MT BD1, PE1, and NR1 manufactured by Showa Denko KK.

Figure 0007061502000011
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上記界面活性剤としては、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等のフッ素界面活性剤;高級脂肪酸アルカリ塩、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等のアニオン系界面活性剤;高級アミンハロゲン酸塩、第四級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤;ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド等の非イオン界面活性剤;両性界面活性剤;シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤を用いることができ、これらは組合わせて用いてもよい。 Examples of the surfactant include fluorosurfactants such as perfluoroalkyl phosphates and perfluoroalkyl carboxylates; anionic surfactants such as higher fatty acid alkali salts, alkyl sulfonates and alkyl sulfates; higher amines. Cationic surfactants such as halides and quaternary ammonium salts; Nonionic surfactants such as polyethylene glycol alkyl ethers, polyethylene glycol fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid monoglycerides; Amphoteric surfactants; Silicone surfactants Surfactants such as agents can be used, and these may be used in combination.

上記他のシランカップリング剤としては、例えば信越化学社製シランカップリング剤を用いることができ、その中でも、KBE-9007、KBM-502、KBE-403等の、イソシアネート基、メタクリロイル基又はエポキシ基を有するシランカップリング剤が好適に用いられる。 As the above-mentioned other silane coupling agent, for example, a silane coupling agent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can be used, among which isocyanate groups, methacryloyl groups or epoxy groups such as KBE-9007, KBM-502 and KBE-403 can be used. A silane coupling agent having the above is preferably used.

本発明の重合性組成物及び硬化物は、硬化性塗料、ワニス、硬化性接着剤、プリント基板、ディスプレイ表示装置(カラーテレビ、PCモニタ、携帯情報端末及びデジタルカメラ等のカラー表示の液晶表示パネルにおけるカラーフィルタ、種々の表示用途用のカラーフィルタ、CCDイメージセンサのカラーフィルタ、タッチパネル、電気発光表示装置、プラズマ表示パネル、有機ELの黒色隔壁)、粉末コーティング、印刷インク、印刷版、接着剤、ゲルコート、電子工学用のフォトレジスト、電気メッキレジスト、エッチングレジスト、はんだレジスト、絶縁膜、ブラックマトリクス、及びLCDの製造工程において構造を形成するためのレジスト、電気及び電子部品を封入するための組成物、ソルダーレジスト、磁気記録材料、微小機械部品、導波路、光スイッチ、めっき用マスク、エッチングマスク、カラー試験系、ガラス繊維ケーブルコーティング、スクリーン印刷用ステンシル、ステレオリトグラフィによって三次元物体を製造するための材料、ホログラフィ記録用材料、画像記録材料、微細電子回路、脱着色剤料、画像記録材料のための脱着色剤料、マイクロカプセルを使用する画像記録材料用の脱着色剤料、印刷配線板用フォトレジスト材料、UV及び可視レーザー直接画像系用のフォトレジスト材料、プリント回路基板の逐次積層における誘電体層形成に使用するフォトレジスト材料及び保護膜等の各種の用途に使用することができ、その用途に特に制限はないが、上記用途の中でもディスプレイ表示装置には、特に好適に用いることができる。 The polymerizable composition and cured product of the present invention are a curable paint, a varnish, a curable adhesive, a printed substrate, a display display device (color television, PC monitor, mobile information terminal, digital camera, or the like, and a color display liquid crystal display panel. Color filters, color filters for various display applications, color filters for CCD image sensors, touch panels, electric emission display devices, plasma display panels, black partition walls of organic EL), powder coatings, printing inks, printing plates, adhesives, Gel coats, photo resists for electronic engineering, electroplated resists, etching resists, solder resists, insulating films, black matrices, and resists for forming structures in the manufacturing process of LCDs, compositions for encapsulating electrical and electronic components. , Solder resist, magnetic recording material, micromechanical parts, waveguide, optical switch, plating mask, etching mask, color test system, glass fiber cable coating, screen printing stencil, for manufacturing three-dimensional objects by stereolithography. Materials, holographic recording materials, image recording materials, microelectronic circuits, decolorizing agents, decolorizing agents for image recording materials, decolorizing agents for image recording materials using microcapsules, printed wiring boards It can be used in various applications such as photoresist materials for UV and visible laser direct imaging systems, photoresist materials used for forming dielectric layers in sequential lamination of printed circuit boards, and protective films. The application is not particularly limited, but among the above applications, it can be particularly preferably used for a display display device.

有機ELの黒色隔壁として本発明の重合性組成物を用いる場合、パターン形状の垂直化、現像密着性の向上、耐熱性が向上することから重量平均分子量5000以上のアルカリ現像性化合物を用いることが好ましく、更に好ましくは重量平均分子量7000~15000のアルカリ現像性化合物を用いることが好ましい。更に、アルカリ現像性化合物が、上記一般式(I)で表されるエポキシ化合物に不飽和一塩基酸を付加させた構造を有するエポキシ付加化合物と、多塩基酸無水物とのエステル化反応により得られる構造を有する不飽和化合物である場合が特に好ましい。 When the polymerizable composition of the present invention is used as the black partition of the organic EL, it is possible to use an alkaline developable compound having a weight average molecular weight of 5000 or more because the pattern shape is verticalized, the developing adhesion is improved, and the heat resistance is improved. It is preferable, and more preferably, an alkali developable compound having a weight average molecular weight of 7,000 to 15,000 is used. Further, the alkali-developable compound is obtained by an esterification reaction between an epoxy-added compound having a structure in which an unsaturated monobasic acid is added to an epoxy compound represented by the above general formula (I) and a polybasic acid anhydride. It is particularly preferable that the unsaturated compound has such a structure.

本発明の重合性組成物を用いて硬化物を製造する方法について、以下に詳細に説明する。 A method for producing a cured product using the polymerizable composition of the present invention will be described in detail below.

本発明の重合性組成物は、スピンコーター、ロールコーター、バーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、ソーダガラス、石英ガラス、半導体基板、金属、紙、プラスチック等の基材上に塗布することができる。また、一旦フィルム等の基材上に施した後、他の基材上に転写することもでき、その塗布方法に制限はない。
また、重合性組成物の塗膜を基板上に形成し、該塗膜に所定のパターン形状を有するマスクを介して活性光を照射した後、露光後の被膜を現像液(特にアルカリ現像液)にて現像し、現像後の該被膜を加熱する工程によりパターニングすることもできる。
The polymerizable composition of the present invention is a known means such as a spin coater, a roll coater, a bar coater, a die coater, a curtain coater, various types of printing, and dipping, soda glass, quartz glass, a semiconductor substrate, metal, paper, and plastic. It can be applied on a substrate such as. Further, once applied on a substrate such as a film, it can be transferred onto another substrate, and the coating method is not limited.
Further, a coating film of a polymerizable composition is formed on a substrate, the coating film is irradiated with active light through a mask having a predetermined pattern shape, and then the exposed film is a developer (particularly an alkaline developer). It is also possible to perform patterning by a step of developing the film in the above-mentioned manner and heating the film after the development.

本発明の重合性組成物において、重合性化合物(B)として熱硬化性樹脂を含有している場合、例えば約140~180℃の温度に加熱して熱硬化させることにより、上記光硬化性樹脂のカルボキシル基とエポキシ樹脂等の熱硬化性成樹脂が反応し、諸特性に優れた硬化塗膜を形成することができる。尚、熱硬化性樹脂を含有していない場合でも、熱処理することにより、露光時に未反応の状態で残った光硬化性成分のエチレン性不飽和結合が熱ラジカル重合し、塗膜特性が向上するため、目的・用途により、熱処理(熱硬化)してもよい。 When the polymerizable composition of the present invention contains a thermosetting resin as the polymerizable compound (B), the photocurable resin is heat-cured by heating to a temperature of, for example, about 140 to 180 ° C. The carboxyl group of the above reacts with a thermosetting resin such as an epoxy resin to form a cured coating film having excellent various properties. Even if it does not contain a thermosetting resin, the heat treatment improves the coating properties by thermally radically polymerizing the ethylenically unsaturated bonds of the photocurable components that remain unreacted during exposure. Therefore, heat treatment (thermosetting) may be performed depending on the purpose and application.

また、本発明の重合性組成物を硬化させる際に用いられるエネルギー線の光源としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク灯、キセノンアーク灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、エキシマーランプ、殺菌灯、発光ダイオード、CRT光源等から得られる2000オングストロームから7000オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電子線、X線、放射線等の高エネルギー線を利用することができるが、好ましくは、波長300~450nmの光を発光する超高圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク灯、カーボンアーク灯、キセノンアーク灯等が挙げられる。 Further, as the light source of the energy ray used for curing the polymerizable composition of the present invention, an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a mercury steam arc lamp, a xenon arc lamp, etc. High electromagnetic energy, electron beam, X-ray, radiation, etc. with wavelengths of 2000 angstrom to 7000 angstrom obtained from carbon arc lamps, metal halide lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, excimer lamps, germicidal lamps, light emitting diodes, CRT light sources, etc. Although energy rays can be used, preferred examples thereof include ultrahigh pressure mercury lamps, mercury steam arc lamps, carbon arc lamps, xenon arc lamps and the like that emit light having a wavelength of 300 to 450 nm.

更に、露光光源にレーザー光を用いることにより、マスクを用いずに、コンピューター等のデジタル情報から直接画像を形成するレーザー直接描画法が、生産性のみならず、解像性や位置精度等の向上も図れることから有用であり、そのレーザー光としては、340~430nmの波長の光が好適に使用されるが、エキシマーレーザー、窒素レーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ヘリウムネオンレーザー、クリプトンイオンレーザー、各種半導体レーザー及びYAGレーザー等の可視から赤外領域の光を発するものも用いられる。これらのレーザーを使用する場合には、可視から赤外の当該領域を吸収する増感色素が加えられる。 Furthermore, the laser direct drawing method, which forms an image directly from digital information of a computer or the like without using a mask by using a laser beam as an exposure light source, improves not only productivity but also resolution and position accuracy. As the laser light, light having a wavelength of 340 to 430 nm is preferably used, but an excimer laser, a nitrogen laser, an argon ion laser, a helium cadmium laser, a helium neon laser, and a krypton ion laser are used. , Various semiconductor lasers, YAG lasers and the like that emit light in the visible to infrared region are also used. When these lasers are used, a sensitizing dye that absorbs the visible to infrared region is added.

本発明の重合性組成物は、フィルム上に塗布乾燥することによりドライフィルムを形成するための感光性組成物として有用である。 The polymerizable composition of the present invention is useful as a photosensitive composition for forming a dry film by applying and drying on a film.

ドライフィルムは、キャリアフィルムと、ソルダーレジスト層と、必要に応じて用いられる剥離可能なカバーフィルムとが、この順序に積層された構造を有するものである。ソルダーレジスト層は、アルカリ現像性の重合性組成物をキャリアフィルム又はカバーフィルムに塗布・乾燥して得られる層である。キャリアフィルムにソルダーレジスト層を形成した後に、カバーフィルムをその上に積層するか、カバーフィルムにソルダーレジスト層を形成し、この積層体をキャリアフィルムに積層すればドライフィルムが得られる。 The dry film has a structure in which a carrier film, a solder resist layer, and a peelable cover film used as needed are laminated in this order. The solder resist layer is a layer obtained by applying and drying an alkali-developable polymerizable composition on a carrier film or a cover film. A dry film can be obtained by forming a solder resist layer on a carrier film and then laminating a cover film on the cover film, or by forming a solder resist layer on a cover film and laminating this laminate on a carrier film.

キャリアフィルムとしては、2~150μmの厚みのポリエステルフィルム等の熱可塑性フィルムが用いられる。
ソルダーレジスト層は、重合性組成物をブレードコーター、リップコーター、コンマコーター、フィルムコーター等でキャリアフィルム又はカバーフィルムに5~100μmの厚さで均一に塗布し乾燥して形成される。
カバーフィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等を使用することができるが、ソルダーレジスト層との接着力が、キャリアフィルムよりも小さいものが良い。
As the carrier film, a thermoplastic film such as a polyester film having a thickness of 2 to 150 μm is used.
The solder resist layer is formed by uniformly applying the polymerizable composition to a carrier film or a cover film with a blade coater, a lip coater, a comma coater, a film coater or the like to a thickness of 5 to 100 μm, and drying the layer.
As the cover film, a polyethylene film, a polypropylene film or the like can be used, but one having a smaller adhesive force with the solder resist layer than the carrier film is preferable.

ドライフィルムを用いてプリント配線板上にソルダーレジスト膜を作製するには、カバーフィルムを剥がし、ソルダーレジスト層と回路形成された基材を重ね、ラミネーター等を用いて張り合わせ、回路形成された基材上にソルダーレジスト層を形成する。形成されたソルダーレジスト層に対し、上記と同様に露光、現像、加熱硬化すれば、硬化塗膜を形成することができる。キャリアフィルムは、露光前又は露光後の何れかに剥離すればよい。 To make a solder resist film on a printed wiring board using a dry film, the cover film is peeled off, the solder resist layer and the circuit-formed base material are overlapped, and the circuit-formed base material is laminated using a laminator or the like. A solder resist layer is formed on the solder resist layer. A cured coating film can be formed by exposing, developing, and heat-curing the formed solder resist layer in the same manner as described above. The carrier film may be peeled off either before or after exposure.

以下、製造例、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例等に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Production Examples, Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples and the like.

[製造例1]ブロックイソシアネートシラン化合物No.1の合成
四ツ口フラスコ中に、窒素雰囲気化において下記ブロック化剤No.1を0.1mol仕込み、温度を35℃に調整した後、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン0.1molを温度が40℃以上に上がらないようコントロールしながら滴下した。その後、内温40℃で1時間撹拌した。IRでイソシアネート基のピークが消失したことを確認し、下記ブロックイソシアネートシランNo.1を得た。
[Production Example 1] Blocked isocyanate silane compound No. Synthesis of No. 1 In a four-necked flask, the following blocking agent No. After charging 0.1 mol of 1 and adjusting the temperature to 35 ° C., 0.1 mol of 3-isocyanatepropyltriethoxysilane was added dropwise while controlling the temperature so as not to rise above 40 ° C. Then, the mixture was stirred at an internal temperature of 40 ° C. for 1 hour. After confirming that the peak of the isocyanate group disappeared by IR, the following blocked isocyanate silane No. I got 1.

Figure 0007061502000012
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[製造例2]ブロックイソシアネートシランNo.2の合成
ブロック化剤No.1の代わりにペンタエリスリトールトリアクリレートを用いた以外は、[製造例1]と同様の操作を行い、ブロックイソシアネートシランNo.2を得た。
[Production Example 2] Blocked isocyanate silane No. No. 2 synthetic blocking agent No. Except for the fact that pentaerythritol triacrylate was used instead of 1, the same operation as in [Production Example 1] was carried out, and the blocked isocyanate silane No. I got 2.

[製造例3]重合性化合物B-1PGMEA溶液の調製
1,1-ビス〔4-(2,3-エポキシプロピルオキシ)フェニル〕インダンの184g、アクリル酸58g、2,6-ジ-tert-ブチル-p-クレゾール0.26g、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロミド0.11g及びPGMEA105gを仕込み、120℃で16時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、PGMEA160g、ビフタル酸無水物59g及びテトラ-n-ブチルアンモニウムブロミド0.24gを加えて、120℃で4時間撹拌した。更に、テトラヒドロ無水フタル酸20gを加え、120℃で4時間、100℃で3時間、80℃で4時間、60℃で6時間、40℃で11時間撹拌した後、PGMEA128gを加えて、PGMEA溶液として重合性化合物B-1を得た(Mw=5000、Mn=2100、酸価(固形分換算)92.7mgKOH/g)。
[Production Example 3] Preparation of Polymerizable Compound B-1PGMEA Solution 184 g of 1,1-bis [4- (2,3-epoxypropyloxy) phenyl] indane, 58 g of acrylic acid, 2,6-di-tert-butyl 0.26 g of -p-cresol, 0.11 g of tetra-n-butylammonium bromide and 105 g of PGMEA were charged and stirred at 120 ° C. for 16 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, 160 g of PGMEA, 59 g of biphthalic anhydride and 0.24 g of tetra-n-butylammonium bromide were added, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 4 hours. Further, 20 g of tetrahydrophthalic anhydride was added, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 4 hours, 100 ° C. for 3 hours, 80 ° C. for 4 hours, 60 ° C. for 6 hours, and 40 ° C. for 11 hours, and then 128 g of PGMEA was added to obtain a PGMEA solution. The polymerizable compound B-1 was obtained (Mw = 5000, Mn = 2100, acid value (solid content equivalent) 92.7 mgKOH / g).

[製造例4]重合性化合物B-2PGMEA溶液の製造
9,9-ビス(4-グリシジルオキシフェニル)フルオレン75.0g、アクリル酸23.8g、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール0.273g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.585g、及びPGMEA65.9gを仕込み、90℃で1時間、100℃で1時間、110℃で1時間及び120℃で14時間撹拌した。室温まで冷却し、無水コハク酸25.9g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.427g、及びPGMEA1.37gを加えて、100℃で5時間撹拌した。更に、9,9-ビス(4-グリシジルオキシフェニル)フルオレン30.0g、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール0.269g、及びPGMEA1.50gを加えて、90℃で90分、120℃で4時間撹拌後、PGMEA122.2gを加えて、PGMEA溶液として目的物である重合性化合物B-2を得た(Mw=4190、Mn=2170,酸価(固形分換算)52mg・KOH/g)
[Production Example 4] Production of Polymerizable Compound B-2PGMEA Solution 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene 75.0 g, acrylic acid 23.8 g, 2,6-di-t-butyl-p-cresol 0.273 g, 0.585 g of tetrabutylammonium chloride, and 65.9 g of PGMEA were charged and stirred at 90 ° C. for 1 hour, 100 ° C. for 1 hour, 110 ° C. for 1 hour and 120 ° C. for 14 hours. After cooling to room temperature, 25.9 g of succinic anhydride, 0.427 g of tetrabutylammonium chloride, and 1.37 g of PGMEA were added, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 5 hours. Further, add 30.0 g of 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene, 0.269 g of 2,6-di-t-butyl-p-cresol, and 1.50 g of PGMEA at 90 ° C. for 90 minutes. After stirring at 120 ° C. for 4 hours, 122.2 g of PGMEA was added to obtain the desired polymerizable compound B-2 as a PGMEA solution (Mw = 4190, Mn = 2170, acid value (solid content equivalent) 52 mg · KOH). / G)

[製造例5]カーボンブラックNo.1の製造
MA100(三菱化学社製カーボンブラック)150g及びペルオキソ2硫酸ナトリウム脱イオン水溶液(濃度2.0N)3000mlを混合し、60℃で10時間撹拌した。ろ過し、得られたスラリーを水酸化ナトリウムで中和し、ダイアフィルトレーションにより処理し、得られた固体を75℃で一晩乾燥し、黒色粉末としてカーボンブラックNo.1を得た。
[Production Example 5] Carbon Black No. Production of No. 1 150 g of MA100 (carbon black manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and 3000 ml of a peroxo disodium sulfate deionized aqueous solution (concentration 2.0 N) were mixed and stirred at 60 ° C. for 10 hours. After filtration, the obtained slurry was neutralized with sodium hydroxide, treated by diafiltration, and the obtained solid was dried at 75 ° C. overnight to obtain carbon black No. 1 as a black powder. I got 1.

[製造例6]カーボンブラック分散液No.1の製造
カーボンブラックNo.1を16g、重合性化合物B-1PGMEA溶液を3.6g、DISPERBYK-161(ビックケミー製、分散剤)を2.4g及びPGMEAを78g、それぞれ秤量して合わせ、ビーズミルにより処理して、カーボンブラック分散液No.1を得た。
[Production Example 6] Carbon Black Dispersion Liquid No. Production of carbon black No. 1 16 g of 1 and 3.6 g of the polymerizable compound B-1PGMEA solution, 2.4 g of DISPERBYK-161 (manufactured by BIC Chemie, dispersant) and 78 g of PGMEA were weighed and combined, and treated with a bead mill to disperse carbon black. Liquid No. I got 1.

[実施例1~6及び比較例1~4]重合性組成物の調製
[表1]及び[表2]の配合に従って各成分を混合し、重合性組成物(実施例1~6及び比較例1~4)を得た。尚、表中の配合の数値は質量部を表す。また、表中の符号は、下記の成分を表す。
A-1:ブロックイソシアネートシラン化合物No.1
A-2:ブロックイソシアネートシラン化合物No.2
A-3:KBE-9007(信越シリコーン社製)
A-4:KBM-5103(信越シリコーン社製)
A-5:KBM-503 (信越シリコーン社製)
A-6:KBM-403 (信越シリコーン社製)
B-1:重合性化合物B-1PGMEA溶液(固形分45%)
B-2:重合性化合物B-2PGMEA溶液(固形分45%)
B-3:カヤラッドDPHA(日本化薬社製)
C-1:化合物No.C9
C-2:化合物No.C15
D-1:カーボンブラック分散液No.1(固形分20%PGMEA分散液)
E-1:PGMEA
[Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4] Preparation of polymerizable composition Each component is mixed according to the formulation of [Table 1] and [Table 2] to form a polymerizable composition (Examples 1 to 6 and Comparative Example). 1 to 4) were obtained. The numerical values of the formulations in the table represent parts by mass. The reference numerals in the table represent the following components.
A-1: Blocked isocyanate silane compound No. 1
A-2: Blocked isocyanate silane compound No. 2
A-3: KBE-9007 (manufactured by Shinetsu Silicone Co., Ltd.)
A-4: KBM-5103 (manufactured by Shinetsu Silicone Co., Ltd.)
A-5: KBM-503 (manufactured by Shinetsu Silicone Co., Ltd.)
A-6: KBM-403 (manufactured by Shinetsu Silicone Co., Ltd.)
B-1: Polymerizable compound B-1PGMEA solution (solid content 45%)
B-2: Polymerizable compound B-2PGMEA solution (solid content 45%)
B-3: Kayarad DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
C-1: Compound No. C9
C-2: Compound No. C15
D-1: Carbon black dispersion liquid No. 1 (solid content 20% PGMEA dispersion)
E-1: PGMEA

実施例1~6及び比較例1~4で調製した重合性化合物について下記の評価を行った。評価結果を[表1]及び[表2]に併記する。 The polymerizable compounds prepared in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 were evaluated as follows. The evaluation results are also shown in [Table 1] and [Table 2].

<シール強度>
ガラス基板上に上記重合性組成物をスピンコート(500rpm、10秒間)し乾燥させた後、100℃で100秒間プリベークを行った。光源として超高圧水銀ランプを用いて露光後した後、230℃で30分間ベークすることで樹脂製ブラックマトリクス層のあるガラス基板を得た。ガラス基板に6mmx3.5mmの面積で熱硬化接着剤(シール剤:三井化学社製XN-21S)を塗布し、樹脂製ブラックマトリクス層のあるガラス基板と、ブラックマトリクス層が接着面となるように貼りあわせ、接着剤を硬化させた。貼りあわされた基板を120℃、2atm、相対湿度100%の条件の高温高湿装置内に5時間静置した。このサンプルについて島津製EZ-Graphにて3点支持曲げ試験を実施し、密着強度を測定した。
<Seal strength>
The above-mentioned polymerizable composition was spin-coated (500 rpm, 10 seconds) on a glass substrate, dried, and then prebaked at 100 ° C. for 100 seconds. After exposure using an ultra-high pressure mercury lamp as a light source, the glass substrate having a resin black matrix layer was obtained by baking at 230 ° C. for 30 minutes. Apply a thermosetting adhesive (seal agent: XN-21S manufactured by Mitsui Kagaku Co., Ltd.) to the glass substrate in an area of 6 mm x 3.5 mm so that the glass substrate with the resin black matrix layer and the black matrix layer serve as the adhesive surface. They were pasted together and the adhesive was cured. The pasted substrate was allowed to stand in a high-temperature and high-humidity device under the conditions of 120 ° C., 2 atm and 100% relative humidity for 5 hours. A three-point support bending test was carried out on this sample with Shimadzu EZ-Graph, and the adhesion strength was measured.

<碁盤目試験>
ガラス基板上に上記重合性組成物をスピンコート(500rpm、10秒間)し乾燥させた後、100℃で100秒間プリベークを行った。光源として超高圧水銀ランプを用いて露光後した後、230℃で30分間ベークすることで樹脂製ブラックマトリクス層のあるガラス基板を得た。得られた樹脂製ブラックマトリクス層のある基板を120℃、2atm、相対湿度100%の条件にて高温高湿装置内に5時間静置した。JIS K5600-5-6に従って、カッターにて黒色層に1mmのマスを100個作成した。その上にポリイミドテープを貼り付け、黒色層がハガレ割合を観察した。全くハガレなかったものを○、部分的にハガレたものを△、全てハガレたものを×とした。
<Go board test>
The above-mentioned polymerizable composition was spin-coated (500 rpm, 10 seconds) on a glass substrate, dried, and then prebaked at 100 ° C. for 100 seconds. After exposure using an ultra-high pressure mercury lamp as a light source, the glass substrate having a resin black matrix layer was obtained by baking at 230 ° C. for 30 minutes. The obtained substrate with the resin black matrix layer was allowed to stand in a high-temperature and high-humidity device at 120 ° C., 2 atm, and a relative humidity of 100% for 5 hours. According to JIS K5600-5-6, 100 1 mm 2 squares were prepared on the black layer with a cutter. A polyimide tape was attached on it, and the black layer was observed to have a peeling ratio. Those that did not come off at all were marked with ○, those that were partially peeled off were marked with △, and those that were completely peeled off were marked with ×.

<保存安定性>
上記重合性組成物をスクリュー管瓶に充填し、40℃において3日間静置した。静置後のレジスト液の粘度を測定し、粘度変化が5%以内であれば○、5%以上あるものを×とした。
<Storage stability>
The above polymerizable composition was filled in a screw tube bottle and allowed to stand at 40 ° C. for 3 days. The viscosity of the resist solution after standing was measured, and if the change in viscosity was within 5%, it was evaluated as ◯, and if the change in viscosity was 5% or more, it was evaluated as x.

<OD値>
基板上に上記重合性組成物をスピンコート(500rpm、10秒間)し乾燥させた後、100℃で100秒間プリベークを行った。光源として超高圧水銀ランプを用いて露光後した後、230℃で30分間ベークして硬化物を作成した。得られた膜のOD値を、マクベス透過濃度計を用いて測定し、該OD値をポストベイク後の厚さで割って、1μmあたりのOD値を算出した。
1μmあたりのOD値が3.5以上の硬化物はブラックマトリクスとして使用することができ、厚さあたりのOD値が4.0以上の硬化物はブラックマトリクスとして好ましく使用することができる。
<OD value>
The above-mentioned polymerizable composition was spin-coated (500 rpm, 10 seconds) on a substrate, dried, and then prebaked at 100 ° C. for 100 seconds. After exposure using an ultra-high pressure mercury lamp as a light source, a cured product was prepared by baking at 230 ° C. for 30 minutes. The OD value of the obtained membrane was measured using a Macbeth permeation densitometer, and the OD value was divided by the thickness after post-baking to calculate the OD value per 1 μm.
A cured product having an OD value of 3.5 or more per μm can be used as a black matrix, and a cured product having an OD value of 4.0 or more per thickness can be preferably used as a black matrix.

<感度>
(感度)
マスク開口6μmのフォトマスクを用いて、露光量を10mJ/cm~100mJ/cmの間において10mJ/cm間隔で現像を行い、現像後のパターンが6μm以上となった部分を感度とし、露光量が40cJ/cm以下のものをブラックマトリクスとして好ましく使用することができる。
<Sensitivity>
(sensitivity)
Using a photomask with a mask opening of 6 μm, development was performed at intervals of 10 mJ / cm with an exposure amount of 10 mJ / cm 2 to 100 mJ / cm 2 , and the portion where the developed pattern became 6 μm or more was used as the sensitivity and exposed. A black matrix having an amount of 40 cJ / cm 2 or less can be preferably used.

Figure 0007061502000013
Figure 0007061502000013

Figure 0007061502000014
Figure 0007061502000014

[表1]及び[表2]から明らかなように、実施例1~6の重合性組成物は、保存安定性に優れ、感度が高く、且つ、重合性組成物を用いて得られる硬化物は、基材への接着力、密着力に優れることは明らかである。
それに対して、比較例1~3の重合性組成物又は硬化物は、保存安定性、感度、基材への接着力、密着力の全てにおいて優れるものはなかった。
よって、本発明の重合性組成物は、ディスプレイ表示装置などの部材として好適に用いられることは明らかである。
As is clear from [Table 1] and [Table 2], the polymerizable compositions of Examples 1 to 6 have excellent storage stability, high sensitivity, and a cured product obtained by using the polymerizable composition. Is clearly excellent in adhesiveness and adhesion to the substrate.
On the other hand, the polymerizable compositions or cured products of Comparative Examples 1 to 3 were not excellent in storage stability, sensitivity, adhesiveness to a substrate, and adhesion.
Therefore, it is clear that the polymerizable composition of the present invention is suitably used as a member of a display display device or the like.

Claims (8)

下記一般式(II)で表されるブロックイソシアネートシラン化合物(A)、重合性化合物(B)及びラジカル重合開始剤(C)を含有する重合性組成物であって、
Figure 0007061502000015

(式中、R は、水素原子又は炭素原子数1~8のアルキル基を表し、
は、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基、又は複素環を含有する炭素原子数2~20の基を表し、
は、炭素原子数1~20の炭化水素基、又は複素環を含有する炭素原子数2~20の基を表し、Z で表される基中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、酸素が隣り合わない条件で、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR -、-NR CO-、-S-、-CS-、-SO -、-SCO-、-COS-、-OCS-又はCSO-に置換される場合があり、
は、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、
aは1~3の数であり、a≧2の場合、複数存在するR は同一である場合があり、異なる場合があり、
bは0~2の数を表し、b=2の場合、複数存在するR は、同一である場合があり、異なる場合があり、
a+b=3であり、
は、水素原子又はメチル基を表し、
及びX は、それぞれ独立に、直接結合又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、
は、炭素原子数1~20の炭化水素基、又は複素環を含有する炭素原子数2~20の基を表し、
、X 及びX で表される基中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、酸素が隣り合わない条件で、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR -、-NR CO-、-S-、-CS-、-SO -、-SCO-、-COS-、-OCS-又はCSO-に置換される場合があり、
Yは、酸素原子、硫黄原子、又は-NR -を表し、
cは、2~10の数を表し、
c≧2の場合、複数存在するR は、同一の場合があり異なる場合があり、
dは、1~3の数を表し、
d≧2の場合、R 、R 、X 及びZ は、それぞれ、同一の場合があり、異なる場合がある。)
上記重合性化合物(B)が、
下記一般式(IV)で表されるエポキシ化合物と不飽和一塩基酸とをエステル化させた構造を有する不飽和化合物に、更に多塩基酸無水物をエステル化させた構造を有する不飽和化合物、及び
トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリ[(メタ)アクリロイルエチル]イソシアヌレート及びポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーから選ばれるアクリル酸エステルである、重合性組成物
Figure 0007061502000016

(式中、Mは直接結合、炭素原子数1~20の炭化水素基、-O-、-S-、-SO -、-SS-、-SO-、-CO-、-OCO-、又は下記式(a)、(b)、(c)及び(d)からなる群から選ばれる置換基を表し、
Mで表される炭素原子数1~20の炭化水素基中の1つ又は2つ以上の水素原子はハロゲン原子で置換される場合があり、
11 、R 12 、R 13 、R 14 、R 15 、R 16 、R 17 及びR 18 は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基又はハロゲン原子を表し、
11 ~R 18 で表される基中のメチレン基は、酸素が隣り合わない条件で、-O-に置換されている場合があり、
nは0~10の数を表し、
nが0でない場合、複数存在するR 11 、R 12 、R 13 、R 14 、R 15 、R 16 、R 17 、R 18 及びMは、それぞれ、同一である場合があり、異なる場合がある。)
Figure 0007061502000017

(式中、R 21 は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、
22 、R 23 、R 24 、R 25 、R 26 、R 27 、R 28 、R 29 、R 30 、R 31 、R 32 、R 33 、R 34 、R 35 、R 36 、R 37 、R 38 、R 39 、R 40 、R 41 、R 42 、R 43 、R 44 、R 45 、R 46 、R 47 、R 48 、R 49 及びR 50 は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1~20の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数2~20の基、又はハロゲン原子を表し、
22 、R 23 、R 24 、R 25 、R 26 、R 27 、R 28 、R 29 、R 30 、R 31 、R 32 、R 33 、R 34 、R 35 、R 36 、R 37 、R 38 、R 39 、R 40 、R 41 、R 42 、R 43 、R 44 、R 45 、R 46 、R 47 、R 48 、R 49 及びR 50 で表される基中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、酸素が隣り合わない条件で、-O-又は-S-に置換される場合があり、
22 とR 23 、R 23 とR 24 、R 24 とR 25 、R 25 とR 26 、R 27 とR 28 、R 28 とR 29 、R 29 とR 30 、R 35 とR 36 、R 36 とR 37 、R 37 とR 38 、R 43 とR 44 、R 44 とR 45 、R 45 とR 46 、R 47 とR 48 、R 48 とR 49 及びR 49 とR 50 は結合して環を形成する場合があり、
式中の*は、(a)、(b)、(c)及び(d)で表される基が、*部分で隣接する基と結合することを意味する。)
A polymerizable composition containing a blocked isocyanate silane compound (A) represented by the following general formula (II) , a polymerizable compound (B), and a radical polymerization initiator (C) .
Figure 0007061502000015

(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
R 2 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a group having 2 to 20 carbon atoms containing a heterocycle.
Z 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a group having 2 to 20 carbon atoms containing a heterocycle, and one or more of the methylene groups in the group represented by Z 1 . -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR 4-, -NR 4 CO-, -S-, -CS-, -SO 2-, under the condition that oxygen is not adjacent to each other . May be replaced with -SCO-, -COS-, -OCS- or CSO-
R4 represents a hydrogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
a is a number from 1 to 3, and when a ≧ 2, a plurality of R 1s may be the same or different.
b represents a number from 0 to 2, and when b = 2, multiple R 2s may be the same or different.
a + b = 3,
R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group.
X 1 and X 3 each independently represent a direct bond or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
X 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a group having 2 to 20 carbon atoms containing a heterocycle.
One or more of the methylene groups in the groups represented by X 1 , X 2 and X 3 are -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, under the condition that oxygen is not adjacent to each other. It may be replaced with -NR 4- , -NR 4 CO-, -S- , -CS-, -SO 2-, -SCO-, -COS-, -OCS- or CSO- .
Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -NR 4-, and represents
c represents a number from 2 to 10 and represents
When c ≧ 2, multiple R3s may be the same or different.
d represents a number from 1 to 3 and represents
When d ≧ 2, R 1 , R 2 , X 3 and Z 1 may be the same or different. )
The polymerizable compound (B) is
An unsaturated compound having a structure obtained by esterifying an epoxy compound represented by the following general formula (IV) and an unsaturated monobasic acid, and an unsaturated compound having a structure obtained by further esterifying a polybasic acid anhydride. as well as
Trimethylolethanetri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) A polymerizable composition which is an acrylic acid ester selected from acrylates, tri [(meth) acryloylethyl] isocyanurates and polyester (meth) acrylate oligomers .
Figure 0007061502000016

(In the formula, M is a direct bond, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, -O-, -S-, -SO 2- , -SS-, -SO-, -CO-, -OCO-, or. Represents a substituent selected from the group consisting of the following formulas (a), (b), (c) and (d).
One or more hydrogen atoms in a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by M may be replaced with a halogen atom.
R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 and R 18 independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a halogen atom, respectively.
The methylene group among the groups represented by R 11 to R 18 may be replaced with —O— under the condition that oxygen is not adjacent to each other.
n represents a number from 0 to 10 and represents
When n is not 0, a plurality of R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , and M, which are present in plurality, may be the same or different from each other. )
Figure 0007061502000017

(In the formula, R 21 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 . , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 , R 44 , R 45 , R 46 , R 47 , R 48 , R 49 and R 50 , respectively, independently have a hydrogen atom and 1 to 1 carbon atom. Represents 20 hydrocarbon groups, groups with 2 to 20 carbon atoms containing heterocycles, or halogen atoms.
R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 . , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 , R 44 , R 45 , R 46 , R 47 , R 48 , R 49 and one of the methylene groups in the group represented by R 50 . One or more may be replaced with -O- or -S- under the condition that oxygen is not adjacent to each other.
R 22 and R 23 , R 23 and R 24 , R 24 and R 25 , R 25 and R 26 , R 27 and R 28 , R 28 and R 29 , R 29 and R 30 , R 35 and R 36 , R 36 . And R 37 , R 37 and R 38 , R 43 and R 44 , R 44 and R 45 , R 45 and R 46 , R 47 and R 48 , R 48 and R 49 and R 49 and R 50 are coupled and ringed. May form,
* In the formula means that the group represented by (a), (b), (c) and (d) is bonded to the adjacent group at the * portion. )
ブロックイソシアネートシラン化合物(A)が下記一般式(III)で表される基を有するブロックイソシアネートシラン化合物である請求項1に記載の重合性組成物。
Figure 0007061502000018

(式中の*は、一般式(III)で表される基が、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。)
The polymerizable composition according to claim 1 , wherein the blocked isocyanate silane compound (A) is a blocked isocyanate silane compound having a group represented by the following general formula (III).
Figure 0007061502000018

(* In the formula means that the group represented by the general formula (III) is bonded to an adjacent group at the * part.)
ラジカル重合開始剤(C)が、下記一般式(V)で表される基を有する化合物である請求項1又は2に記載の重合性組成物。
Figure 0007061502000019

(式中、R61及びR62は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数1~20の炭化水素基又は複素環を含有する炭素原子数2~20の基を表し、
61及びR62で表される基中の水素原子の1つ又は2つ以上はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は複素環を含有する炭素原子数2~20の基で置換されている場合があり、
61及びR62で表される基中のメチレン基の1つ又は2つ以上は、酸素が隣り合わない条件で、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR63-、-NR63CO-、-S-、-CS-、-SO-、-SCO-、-COS-、-OCS-又はCSO-に置換される場合があり、
63は、水素原子又は炭素原子数1~20の炭化水素基を表し、
mは0又は1を表し、
式中の*は、一般式(V)で表される基が、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。)
The polymerizable composition according to claim 1 or 2 , wherein the radical polymerization initiator (C) is a compound having a group represented by the following general formula (V).
Figure 0007061502000019

(In the formula, R 61 and R 62 each independently have a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a heterocycle having 2 to 20 carbon atoms. Represents the group
One or more of the hydrogen atoms in the groups represented by R 61 and R 62 are halogen atom, nitro group, cyano group, hydroxyl group, amino group, carboxyl group, methacryloyl group, acryloyl group, epoxy group and vinyl group. , A vinyl ether group, a mercapto group, an isocyanate group or a group having 2 to 20 carbon atoms containing a heterocycle may be substituted.
One or more of the methylene groups in the groups represented by R 61 and R 62 are -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR 63 under the condition that oxygen is not adjacent to each other. -, -NR 63 CO-, -S-, -CS-, -SO 2- , -SCO-, -COS-, -OCS- or CSO-may be replaced.
R 63 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
m represents 0 or 1 and represents
* In the formula means that the group represented by the general formula (V) is bonded to an adjacent group at the * part. )
更に着色剤(D)を含有する請求項1~3の何れか一項に記載の重合性組成物。 The polymerizable composition according to any one of claims 1 to 3 , further comprising a colorant (D). 請求項1~4の何れか一項に記載の重合性組成物を含有するブラックマトリクス用感光性組成物。 A photosensitive composition for a black matrix containing the polymerizable composition according to any one of claims 1 to 4 . 請求項1~4の何れか一項に記載の重合性組成物又は請求項5に記載のブラックマトリクス用感光性組成物を光又は熱によって硬化させる、硬化物の製造方法。 A method for producing a cured product, wherein the polymerizable composition according to any one of claims 1 to 4 or the photosensitive composition for a black matrix according to claim 5 is cured by light or heat. 請求項1~4の何れか一項に記載の重合性組成物又は請求項5に記載のブラックマトリクス用感光性組成物の硬化物。 The polymerizable composition according to any one of claims 1 to 4 , or the cured product of the photosensitive composition for a black matrix according to claim 5 . 請求項7に記載の硬化物を含有するカラーフィルタ。 A color filter containing the cured product according to claim 7 .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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KR20240024196A (en) * 2021-12-22 2024-02-23 가부시끼가이샤 레조낙 Photosensitive resin composition, photosensitive element, printed wiring board, and method for producing printed wiring board

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009084398A (en) 2007-09-28 2009-04-23 Nidek Co Ltd Resin composition and process for production thereof
JP2011086958A (en) 1995-08-03 2011-04-28 Asm America Inc Process chamber with inner support
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JP2013187209A (en) 2012-03-06 2013-09-19 Sanken Electric Co Ltd Semiconductor light-emitting device
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06287470A (en) * 1993-04-05 1994-10-11 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Abrasion resistive coating composition

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011086958A (en) 1995-08-03 2011-04-28 Asm America Inc Process chamber with inner support
JP2009084398A (en) 2007-09-28 2009-04-23 Nidek Co Ltd Resin composition and process for production thereof
JP2011144233A (en) 2010-01-13 2011-07-28 Kansai Paint Co Ltd Active energy ray-curable composition and coated article
JP2013101588A (en) 2011-10-12 2013-05-23 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Resin composition, and protective film and touch panel insulating film using the same
JP2013187209A (en) 2012-03-06 2013-09-19 Sanken Electric Co Ltd Semiconductor light-emitting device
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