JP7055821B2 - Machine-developed lithographic printing plate original plate, lithographic printing plate manufacturing method, machine-developed lithographic printing plate dummy plate, and printing method - Google Patents
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Description
本発明は、機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、機上現像型平版印刷版ダミー版、及び印刷方法に関する。 The present invention relates to an on-machine development type lithographic printing plate original plate, a method for producing a lithographic printing plate, an on-machine developing type lithographic printing plate dummy plate, and a printing method.
一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキとが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。 Generally, a lithographic printing plate comprises a lipophilic image portion that receives ink and a hydrophilic non-image portion that receives dampening water in the printing process. In flat plate printing, the property that water and oil-based ink repel each other is used to make the oil-based image part of the flat plate printing plate an ink receiving part and the hydrophilic non-image part a dampening water receiving part (ink non-receptive part). ), This is a method in which a difference in the adhesiveness of the ink is generated on the surface of the flat plate printing plate, the ink is inlaid only on the image portion, and then the ink is transferred to an object to be printed such as paper for printing.
現在、平版印刷版原版から平版印刷版を作製する製版工程においては、CTP(コンピュータ・トゥ・プレート)技術による画像露光が行われている。即ち、画像露光は、リスフィルムを介することなく、レーザーやレーザーダイオードを用いて直接平版印刷版原版に走査露光などにより行われる。 Currently, in a plate making process for producing a lithographic printing plate from a lithographic printing plate original plate, image exposure by CTP (computer to plate) technology is performed. That is, the image exposure is performed by scanning exposure directly to the lithographic printing plate precursor using a laser or a laser diode without using a lith film.
一方、地球環境への関心の高まりから、平版印刷版原版の製版に関して、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境問題がクローズアップされ、これに伴い、現像処理の簡易化又は無処理化が指向されている。簡易な現像処理の一つとして、「機上現像」と呼ばれる方法が提案されている。機上現像は、平版印刷版原版を画像露光後、従来の湿式現像処理を行わず、そのまま印刷機に取り付け、画像記録層の非画像部の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。 On the other hand, due to growing interest in the global environment, environmental problems related to waste liquid associated with wet processing such as development processing have been highlighted in the plate making of lithographic printing plate original plates, and along with this, the development processing has been simplified or eliminated. It is oriented. As one of the simple development processes, a method called "on-machine development" has been proposed. In-machine development is a method in which a lithographic printing plate precursor is exposed to an image, then attached to the printing machine as it is without performing the conventional wet development process, and the non-image portion of the image recording layer is removed at the initial stage of the normal printing process. be.
平版印刷版を用いて印刷する場合、通常の枚葉印刷機のように印刷版のサイズよりも小さい紙への印刷においては、印刷版の端部は紙面外の位置にあるので端部が印刷品質に影響することはない。しかし、新聞印刷のような輪転機を用いてロール状の紙に連続して印刷する場合には、印刷版の端部はロール紙面内にあるため、端部に付着したインキが紙に転写して線状の汚れ(エッジ汚れ)が発生し、印刷物の商品価値を著しく損ねることになる。 When printing using a lithographic printing plate, when printing on paper smaller than the size of the printing plate such as a normal sheet-fed printing press, the edge of the printing plate is located outside the paper surface, so the edge is printed. It does not affect the quality. However, when printing continuously on roll-shaped paper using a rotary press such as newspaper printing, the edge of the printing plate is inside the roll paper surface, so the ink adhering to the edge is transferred to the paper. Linear stains (edge stains) are generated, which significantly impairs the commercial value of printed matter.
上記エッジ汚れの発生を抑制することを目的として、特許文献1には、支持体と画像記録層とを有する平版印刷版原版の対向する2つの側面の端部の画像記録層側版面に、親水化成分により処理されてなる親水化領域が形成され、上記平版印刷版原版の対向する上記2つの側面の端部から内部に3mmまでの画像記録層側版面の領域Aに含まれる親水化成分の単位面積当たりの含有量が、上記領域A以外の領域における親水化成分の単位面積当たりの含有量より10mg/m2以上多い平版印刷版原版の積層体が提案されている。For the purpose of suppressing the occurrence of the edge stain, Patent Document 1 describes that the plate surface on the image recording layer side of the two opposite side surfaces of the lithographic printing plate original plate having the support and the image recording layer is hydrophilic. A hydrophilized region formed by the chemical conversion component is formed, and the hydrophilization component contained in the region A of the image recording layer side plate surface up to 3 mm from the end of the two opposite side surfaces of the lithographic printing plate original plate to the inside. A laminate of lithographic printing plate precursors having a content per unit area of 10 mg / m 2 or more higher than the content per unit area of a hydrophilic component in a region other than the region A has been proposed.
上記特許文献1に記載の平版印刷版原版においては、エッジ汚れの発生を抑制するために、上記親水化成分を含有する塗布液を塗布するなどの手段により、端部領域Aにおける水溶性化合物の含有量を、端部領域A以外の領域における親水化成分の含有量に比べて10mg/m2以上多くすることが特徴である。
しかしながら、平版印刷版原版の端部領域に、親水化成分を含有する塗布液を塗布するなどの親水化処理を施すと、親水化処理を施した端部領域において画像形成性が低下するという現象が生じることが分かった。このことは、親水化処理を施すことにより、画像記録層の機械的強度が低下すること、及び、画像記録層と支持体との密着力が低下することに起因して、機上現像時に、端部領域における画像記録層が保持されず、非画像部と共に除去されることが原因と考えられる。In the lithographic printing plate original plate described in Patent Document 1, in order to suppress the occurrence of edge stains, the water-soluble compound in the end region A is provided by means such as applying a coating liquid containing the hydrophilic component. It is characterized in that the content is increased by 10 mg / m 2 or more as compared with the content of the hydrophilizing component in the region other than the end region A.
However, when a hydrophilization treatment such as applying a coating liquid containing a hydrophilic component is applied to the edge region of the lithographic printing plate original plate, the image forming property is deteriorated in the hydrophilized edge region. Was found to occur. This is due to the fact that the mechanical strength of the image recording layer is reduced by the hydrophilization treatment and the adhesion between the image recording layer and the support is reduced, so that during on-machine development, It is considered that the cause is that the image recording layer in the edge region is not retained and is removed together with the non-image region.
本発明が解決しようとする課題は、端部の画像形成性、機上現像性などの特性を低下させることなく、長期保存後においても良好なエッジ汚れ防止性を示す機上現像型平版印刷版原版、及び機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法を提供することである。
また、本発明が解決しようとする課題は、機上現像性などの特性を低下させることなく、長期保存後においても良好なエッジ汚れ防止性を示す機上現像型平版印刷版原版ダミー版、及び印刷方法を提供することである。The problem to be solved by the present invention is an on-machine developing lithographic printing plate that exhibits good edge stain prevention even after long-term storage without deteriorating characteristics such as image formability and on-machine developability at the edges. It is an object of the present invention to provide a method for producing a lithographic printing plate using an original plate and a machine-developed lithographic printing plate original plate.
Further, the problem to be solved by the present invention is an on-machine developing type lithographic printing plate original plate dummy plate showing good edge stain prevention even after long-term storage without deteriorating characteristics such as on-machine developability. It is to provide a printing method.
上記課題を解決するための手段を以下に記載する。
[1]
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、上記平版印刷版原版は端部にダレ形状を有し、上記画像記録層の上に支持体吸着性を有する化合物(但し、エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム4水和物を除く)を含有する層を有し、上記化合物の含有量が上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じであり、
上記化合物の分子量が1,000以下であり、
上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層における上記支持体吸着性を有する化合物の含有量が、20mg/m
2
以上である機上現像型平版印刷版原版。
[2]
上記支持体吸着性を有する化合物から、式K1又は式K2で表される化合物を除く、[1]に記載の機上現像型平版印刷版原版。
K1及びK2中、R
K1
、R
K2
、R
K4
、R
K5
、R
K6
及びR
K7
は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1~3の直鎖アルキレン基を表し、R
K3
は(1+m)価の有機基を表し、R
K8
は(2+n)価の有機基を表し、Xはそれぞれ独立に、(-CH<)又は(-N<)を表し、Y
K1
~Y
K6
はそれぞれ独立に、-C(=O)OMで表される一価の基を表し、Aはカルボキシ基を表し、mは0~2の整数を表し、nは0~4の整数を表し、Mは、それぞれ独立に、水素原子、金属原子、又はアンモニウム基を表す。
[3]
上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層における上記支持体吸着性を有する化合物の含有量が20~150mg/m
2
である[1]又は[2]に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[4]
上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層が更に界面活性剤を含有する[1]~[3]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[5]
上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層が更に水溶性ポリマーを含有する[1]~[4]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[6]
上記化合物がオキソ酸又はその塩である[1]~[5]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[7]
上記化合物が、リン酸、ポリリン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ホスフィン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、i-プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、2-ヒドロキシエチルホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、アルキルホスホン酸モノアルキルエステル及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、アルキレンジホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、ヒドロキシエチリデンジホスホン酸、ポリビニルホスホン酸、p-トルエンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホフタル酸、又はクエン酸である[1]~[5]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[8]
上記化合物が下記式1で表わされる化合物である[1]~[7]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
式1中、nは、2~10の整数を表し、R1、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アルキル基又はアルキレンオキシド基を表す。
[9]
上記化合物がリン酸、ポリリン酸、ホスホン酸もしくはホスフィン酸又はこれらの塩である[1]~[8]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[10]
上記ダレ形状が、ダレ量Xが25~150μm、ダレ幅Yが70~300μmである[1]~[9]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[11]
上記平版印刷版原版のダレ幅Yに相当する領域の上記陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率が20%以下である[10]に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[12]
上記画像記録層が、ポリマー粒子を含有する[1]~[11]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[13]
上記ポリマー粒子が、スチレン化合物に由来するモノマー単位、及び/又は、(メタ)アクリロニトリル化合物に由来するモノマー単位を含むポリマーの粒子である[12]に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[14]
[1]~[13]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光する工程と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水から選ばれる少なくとも1つにより、画像記録層の未露光部分を除去する工程とを含む平版印刷版の作製方法。
[15]
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上にポリマー層を有する機上現像型平版印刷版ダミー版であって、上記平版印刷版ダミー版は端部にダレ形状を有し、上記ポリマー層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、上記化合物の含有量が上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じであり、
上記化合物の分子量が1,000以下であり、
上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層における上記支持体吸着性を有する化合物の含有量が、20mg/m
2
以上である機上現像型平版印刷版ダミー版(但し、アルミニウム支持体と、前記アルミニウム支持体上に直接的に形成された第1親水性層と、前記第1親水性層上に直接的に形成された第2親水性層とをこの順に有する平版印刷版ダミー版であって、前記第1親水性層及び前記第2親水性層の少なくとも一方が、350~800nmに吸収極大を有する着色剤を含み、前記第1親水性層が、支持体吸着性基と親水性基とを有する高分子化合物を含む、平版印刷版ダミー版を除く)。
[16]
上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層における上記支持体吸着性を有する化合物の含有量が20~150mg/m
2
である[15]に記載の機上現像型平版印刷版ダミー版。
[17]
上記化合物が、リン酸、ポリリン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ホスフィン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、i-プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、2-ヒドロキシエチルホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、アルキルホスホン酸モノアルキルエステル及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、アルキレンジホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、ヒドロキシエチリデンジホスホン酸、ポリビニルホスホン酸、p-トルエンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホフタル酸、又はクエン酸である[15]又は[16]に記載の機上現像型平版印刷版ダミー版。
[18]
上記化合物がリン酸、ポリリン酸、ホスホン酸もしくはホスフィン酸又はこれらの塩である[15]~[17]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版ダミー版。
[19]
[15]~[18]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版ダミー版、及び、アルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版を機上現像する工程を含む印刷方法。
[20]
上記画像記録層が、ポリマー粒子を含有する[19]に記載の印刷方法。
[21]
上記ポリマー粒子が、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体の粒子である[20]に記載の印刷方法。
本発明は、上記[1]~[21]に係る発明であるが、以下、それ以外の事項(例えば、下記(1)~(24))についても記載している。
The means for solving the above problems are described below.
[1]
An on-machine development type lithographic printing plate original plate having an image recording layer on an aluminum support having an anodic oxide film, the lithographic printing plate original plate has a sagging shape at an end and is supported on the image recording layer. In-plane of the layer containing the compound having body-adsorbability (however, excluding ethylenediamine tetraacetic acid tetrasodium tetrahydrate) and the content of the compound is the compound having the support-adsorbing property. Is substantially the same in
The molecular weight of the above compound is 1,000 or less, and the molecular weight is 1,000 or less.
An on-machine developing type lithographic printing plate original plate in which the content of the compound having the support-adsorbing property in the layer containing the compound having the support-adsorbing property is 20 mg / m 2 or more.
[2]
The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to [1], which excludes the compound represented by the formula K1 or the formula K2 from the compounds having the support-adsorbing property.
In K1 and K2, RK1 , RK2 , RK4 , RK5 , RK6 and RK7 each independently represent a single bond or a linear alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and RK3 is (1 + m). Valuable organic groups, RK8 represent (2 + n) valent organic groups, X independently represent (-CH <) or (-N <), Y K1 to Y K6 independently, respectively. -C (= O) represents a monovalent group represented by OM, A represents a carboxy group, m represents an integer of 0 to 2, n represents an integer of 0 to 4, and M represents an independent group. Represents a hydrogen atom, a metal atom, or an ammonium group.
[3]
The on-machine development type lithographic printing plate according to [1] or [2], wherein the content of the compound having the support-adsorbing property in the layer containing the compound having the support-adsorbing property is 20 to 150 mg / m 2 . Original version.
[4]
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of [1] to [3], wherein the layer containing the compound having the support-adsorbing property further contains a surfactant.
[5]
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of [1] to [4], wherein the layer containing the compound having the support-adsorbing property further contains a water-soluble polymer.
[6]
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of [1] to [5], wherein the compound is an oxo acid or a salt thereof.
[7]
The above compounds are phosphoric acid, polyphosphoric acid, metaphosphoric acid, ammonium primary phosphate, ammonium secondary phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium monohydrogen phosphate, potassium primary phosphate, potassium secondary phosphate, tripolyline. Sodium acid, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, phosphinic acid, ethylphosphonic acid, propylphosphonic acid, i-propylphosphonic acid, butylphosphonic acid, hexylphosphonic acid, octylphosphonic acid, dodecylphosphonic acid, octadecylphosphonic acid, 2- Hydroxyethylphosphonic acid and its sodium or potassium salt, alkylphosphonic acid monoalkyl ester and their sodium or potassium salt, alkylene diphosphonic acid and their sodium or potassium salt, hydroxyethylidene diphosphonic acid, polyvinylphosphonic acid , P-toluenesulfonic acid, sodium p-toluenesulfonate, sulfophthalic acid, or citric acid according to any one of [1] to [5].
[8]
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of [1] to [7], wherein the compound is a compound represented by the following formula 1.
In formula 1, n represents an integer of 2 to 10, and R1, R2, and R3 independently represent a hydrogen atom, an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt, an ammonium salt, an alkyl group, or an alkylene oxide group. ..
[9]
The machine-developed flat plate printing plate original plate according to any one of [1] to [8], wherein the compound is phosphoric acid, polyphosphoric acid, phosphoric acid, phosphinic acid, or a salt thereof.
[10]
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of [1] to [9], wherein the sagging shape has a sagging amount X of 25 to 150 μm and a sagging width Y of 70 to 300 μm.
[11]
The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to [10], wherein the area ratio of cracks existing on the surface of the anodic oxide film in the region corresponding to the sagging width Y of the lithographic printing plate original plate is 20% or less.
[12]
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of [1] to [11], wherein the image recording layer contains polymer particles.
[13]
The machine-developed flat plate printing plate original plate according to [12], wherein the polymer particles are polymer particles containing a monomer unit derived from a styrene compound and / or a monomer unit derived from a (meth) acrylonitrile compound.
[14]
A step of image-exposing the machine-developed lithographic printing plate precursor according to any one of [1] to [13] with an infrared laser, and at least one selected from printing ink and dampening water on the printing machine. A method for producing a lithographic printing plate, which comprises a step of removing an unexposed portion of an image recording layer.
[15]
An on-machine development type lithographic printing plate dummy plate having a polymer layer on an aluminum support having an anodic oxide film, the lithographic printing plate dummy plate has a sagging shape at an end and is supported on the polymer layer. It has a layer containing a compound having body adsorptivity, and the content of the compound is substantially the same in the plane of the layer containing the compound having the support adsorbability.
The molecular weight of the above compound is 1,000 or less, and the molecular weight is 1,000 or less.
The on-board development type flat plate printing plate dummy plate (provided that the aluminum support and the aluminum support) have a content of the compound having the support-adsorbing property of 20 mg / m 2 or more in the layer containing the compound having the support-adsorbing property. A flat plate printing plate dummy plate having a first hydrophilic layer directly formed on the aluminum support and a second hydrophilic layer directly formed on the first hydrophilic layer in this order. The first hydrophilic layer and at least one of the second hydrophilic layers contain a colorant having an absorption maximum at 350 to 800 nm, and the first hydrophilic layer is a support-adsorbing group and a hydrophilic group. (Excluding the flat plate printing plate dummy plate) containing a polymer compound having and.
[16]
The on-machine development type lithographic printing plate dummy plate according to [15], wherein the content of the compound having the support-adsorbing property in the layer containing the compound having the support-adsorbing property is 20 to 150 mg / m 2 .
[17]
The above compounds are phosphoric acid, polyphosphoric acid, metaphosphoric acid, ammonium primary phosphate, ammonium secondary phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium monohydrogen phosphate, potassium primary phosphate, potassium secondary phosphate, tripolyline. Sodium acid, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, phosphinic acid, ethylphosphonic acid, propylphosphonic acid, i-propylphosphonic acid, butylphosphonic acid, hexylphosphonic acid, octylphosphonic acid, dodecylphosphonic acid, octadecylphosphonic acid, 2- Hydroxyethylphosphonic acid and its sodium or potassium salt, alkylphosphonic acid monoalkyl ester and their sodium or potassium salt, alkylene diphosphonic acid and their sodium or potassium salt, hydroxyethylidene diphosphonic acid, polyvinylphosphonic acid , P-toluenesulfonic acid, sodium p-toluenesulfonate, sulfophthalic acid, or citric acid [15] or [16]. The machine-developed flat plate printing plate dummy plate.
[18]
The machine-developed flat plate printing plate dummy plate according to any one of [15] to [17], wherein the compound is phosphoric acid, polyphosphoric acid, phosphoric acid, phosphinic acid, or a salt thereof.
[19]
The machine-developed lithographic printing plate dummy plate according to any one of [15] to [18] and the machine-developed lithographic printing plate original plate having an image recording layer on an aluminum support are machine-developed. Printing method including steps.
[20]
The printing method according to [19], wherein the image recording layer contains polymer particles.
[21]
The printing method according to [20], wherein the polymer particles are copolymer particles containing styrene and acrylonitrile.
The present invention is the invention according to the above [1] to [21], but other matters (for example, the following (1) to (24)) are also described below.
(1) 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、上記平版印刷版原版は端部にダレ形状を有し、上記画像記録層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、上記化合物の含有量が上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版。
(2) 上記化合物の分子量が1,000以下である(1)に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(3) 上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層が更に界面活性剤を含有する(1)又は(2)に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(4) 上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層が更に水溶性ポリマーを含有する(1)~(3)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(5) 上記化合物がオキソ酸又はその塩である(1)~(4)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(6) 上記化合物が下記式1で表わされる化合物である(1)~(5)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。(1) An on-board development type lithographic printing plate original plate having an image recording layer on an aluminum support having an anodic oxide film, the lithographic printing plate original plate has a sagging shape at an end, and the image recording layer On-machine development type lithographic printing plate having a layer containing a compound having a support adsorptive property on the surface, and the content of the compound is substantially the same in the plane of the layer containing the compound having the support adsorbability. Print plate original plate.
(2) The machine-developed lithographic printing plate original plate according to (1), wherein the compound has a molecular weight of 1,000 or less.
(3) The machine-developed lithographic printing plate original plate according to (1) or (2), wherein the layer containing the compound having the support-adsorbing property further contains a surfactant.
(4) The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of (1) to (3), wherein the layer containing the compound having the support-adsorbing property further contains a water-soluble polymer.
(5) The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of (1) to (4), wherein the compound is an oxo acid or a salt thereof.
(6) The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of (1) to (5), wherein the compound is a compound represented by the following formula 1.
式1中、nは、2~10の整数を表し、R1、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アルキル基又はアルキレンオキシド基を表す。
(7) 上記化合物がリン酸、ポリリン酸、ホスホン酸もしくはホスフィン酸又はこれらの塩である(1)~(6)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(8) 上記化合物の含有量が20~150mg/m2である(1)~(7)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(9) 上記ダレ形状が、ダレ量Xが25~150μm、ダレ幅Yが70~300μmである(1)~(8)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(10) 上記平版印刷版原版のダレ幅Yに相当する領域の上記陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率が20%以下である(9)に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(11) 上記クラックの面積率が10%以下である(10)に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(12) 上記画像記録層が、ポリマー粒子を含有する(1)~(11)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(13) 上記ポリマー粒子が、スチレン化合物に由来するモノマー単位、及び/又は、(メタ)アクリロニトリル化合物に由来するモノマー単位を含むポリマーの粒子である(12)に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(14) 上記画像記録層が、重合開始剤、赤外線吸収剤及び重合性化合物を含有する(1)~(13)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(15) (1)~(14)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光する工程と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水から選ばれる少なくとも1つにより、画像記録層の未露光部分を除去する工程とを含む平版印刷版の作製方法。In formula 1, n represents an integer of 2 to 10, and R1, R2, and R3 independently represent a hydrogen atom, an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt, an ammonium salt, an alkyl group, or an alkylene oxide group. ..
(7) The machine-developed flat plate printing plate original plate according to any one of (1) to (6), wherein the compound is phosphoric acid, polyphosphoric acid, phosphoric acid, phosphinic acid or a salt thereof.
(8) The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of (1) to (7), wherein the content of the compound is 20 to 150 mg / m 2 .
(9) The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of (1) to (8), wherein the sagging shape has a sagging amount X of 25 to 150 μm and a sagging width Y of 70 to 300 μm.
(10) The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to (9), wherein the area ratio of cracks existing on the surface of the anodic oxide film in the region corresponding to the sagging width Y of the lithographic printing plate original plate is 20% or less. ..
(11) The machine-developed lithographic printing plate original plate according to (10), wherein the area ratio of the crack is 10% or less.
(12) The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of (1) to (11), wherein the image recording layer contains polymer particles.
(13) The machine-developed flat plate printing plate according to (12), wherein the polymer particles are polymer particles containing a monomer unit derived from a styrene compound and / or a monomer unit derived from a (meth) acrylonitrile compound. Original version.
(14) The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of (1) to (13), wherein the image recording layer contains a polymerization initiator, an infrared absorber and a polymerizable compound.
(15) The process of image-exposing the machine-developed lithographic printing plate precursor according to any one of (1) to (14) with an infrared laser, and the printing ink and dampening water selected on the printing machine. A method for producing a lithographic printing plate, which comprises a step of removing an unexposed portion of an image recording layer by at least one.
(16)
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上にポリマー層を有する機上現像型平版印刷版ダミー版であって、上記平版印刷版ダミー版は端部にダレ形状を有し、上記ポリマー層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、上記化合物の含有量が上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版ダミー版。
(17)
(16)に記載の機上現像型平版印刷版ダミー版、及び、アルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版を機上現像する工程を含む印刷方法。
(18)
上記画像記録層が有機ホウ素含有アニオンを含む重合開始剤を含有する(17)に記載の印刷方法。
(19)
上記重合開始剤が、有機ホウ素含有アニオン及びジアリールヨードニウムカチオンを含むヨードニウム化合物である(18)に記載の印刷方法。
(20)
上記画像記録層が、ポリマー微粒子を含有する(17)~(19)のいずれか一項に記載の印刷方法。
(21)
上記ポリマー微粒子が、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体の粒子である(20)に記載の印刷方法。
(22)
上記ポリマー微粒子が、ミクロゲルである(20)に記載の印刷方法。
(23)
上記機上現像型平版印刷版原版が、上記アルミニウム支持体と上記画像記録層の間に下塗り層を有する(17)~(22)のいずれか一項に記載の印刷方法。
(24)
上記機上現像型平版印刷版原版が、上記画像記録層の上に保護層を有する(17)~(23)のいずれか一項に記載の印刷方法。(16)
An on-machine development type lithographic printing plate dummy plate having a polymer layer on an aluminum support having an anodic oxide film, the lithographic printing plate dummy plate has a sagging shape at an end and is supported on the polymer layer. On-machine development type lithographic printing plate dummy having a layer containing a compound having body-adsorbability and having a content of the compound substantially the same in the plane of the layer containing the compound having support adsorbability. Edition.
(17)
A printing method comprising the steps of on-machine developing a machine-developing lithographic printing plate dummy plate according to (16) and a machine-developing lithographic printing plate original plate having an image recording layer on an aluminum support.
(18)
The printing method according to (17), wherein the image recording layer contains a polymerization initiator containing an organoboron-containing anion.
(19)
The printing method according to (18), wherein the polymerization initiator is an iodonium compound containing an organoboron-containing anion and a diallyl iodonium cation.
(20)
The printing method according to any one of (17) to (19), wherein the image recording layer contains polymer fine particles.
(21)
The printing method according to (20), wherein the polymer fine particles are copolymer particles containing styrene and acrylonitrile.
(22)
The printing method according to (20), wherein the polymer fine particles are microgels.
(23)
The printing method according to any one of (17) to (22), wherein the on-machine development type lithographic printing plate original plate has an undercoat layer between the aluminum support and the image recording layer.
(24)
The printing method according to any one of (17) to (23), wherein the on-machine development type lithographic printing plate original plate has a protective layer on the image recording layer.
本発明によれば、端部の画像形成性、機上現像性などの特性を低下させることなく、長期保存後においても良好なエッジ汚れ防止性を示す機上現像型平版印刷版原版、及び機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法を提供することができる。
また、本発明によれば、機上現像性などの特性を低下させることなく、長期保存後においても良好なエッジ汚れ防止性を示す機上現像型平版印刷版原版ダミー版、及び印刷方法を提供することができる。According to the present invention, an on-machine developing type lithographic printing plate original plate and a machine that show good edge stain prevention even after long-term storage without deteriorating characteristics such as image formability and on-machine developability of edges. It is possible to provide a method for producing a lithographic printing plate using a top-developing lithographic printing plate original plate.
Further, according to the present invention, there is provided an on-machine developing type lithographic printing plate, an original plate dummy plate, and a printing method, which show good edge stain prevention even after long-term storage without deteriorating characteristics such as on-machine developability. can do.
以下に、発明を実施するための形態を詳細に記載する。
本明細書において、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式において、「Rはアルキル基、アリール基又は複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表す」ことを意味する。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」の用語は「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」を意味する。「(メタ)アクリロイル基」、「(メタ)アクリル酸」、「(メタ)アクリル樹脂」等も同様である。Hereinafter, embodiments for carrying out the invention will be described in detail.
In the present specification, regarding the notation of a group in the compound represented by the formula, if substituted or unsubstituted is not described, and if the group can further have a substituent, unless otherwise specified. , Not only unsubstituted groups but also groups having substituents are included. For example, if there is a description in the formula that "R represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group", "R is an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group, or an unsubstituted". It means "representing a heterocyclic group or a substituted heterocyclic group".
As used herein, the term "(meth) acrylate" means "at least one of acrylate and methacrylate". The same applies to "(meth) acryloyl group", "(meth) acrylic acid", "(meth) acrylic resin" and the like.
[機上現像型平版印刷版原版]
本発明に係る機上現像型平版印刷版原版は、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体と画像記録層とを少なくとも有し、平版印刷版原版の端部にダレ形状を有し、画像記録層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、上記化合物の含有量が上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版である。[In-machine development type lithographic printing plate original plate]
The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to the present invention has at least an aluminum support having an anodic oxide film and an image recording layer, and has a sagging shape at the end of the lithographic printing plate original plate, and is an image recording layer. On-machine development type lithographic printing plate having a layer containing a compound having a support adsorptive property on the surface, and the content of the compound is substantially the same in the plane of the layer containing the compound having the support adsorbability. It is a print version original plate.
〔陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体〕
機上現像型平版印刷版原版を構成する陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体について記載する。[Aluminum support with anodic oxide film]
An aluminum support having an anodic oxide film constituting the machine-developed lithographic printing plate original plate will be described.
アルミニウム支持体に用いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属、即ちアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板から選ばれることが好ましい。 The aluminum plate used for the aluminum support is made of a metal whose main component is aluminum, which is dimensionally stable, that is, aluminum or an aluminum alloy. It is preferably selected from a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of foreign elements.
アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは製錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有する合金板でもよい。アルミニウム支持体に用いられるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来から公知のアルミニウム板、例えばJIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することが出来る。
アルミニウム板の厚さは、0.1~0.6mm程度が好ましい。Foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium. The content of foreign elements in the alloy is 10% by mass or less. A pure aluminum plate is preferable, but since completely pure aluminum is difficult to manufacture due to smelting technology, an alloy plate containing a slight amount of different elements may be used. The composition of the aluminum plate used for the aluminum support is not specified, and conventionally known aluminum plates such as JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, and JIS A 3005 may be appropriately used. I can.
The thickness of the aluminum plate is preferably about 0.1 to 0.6 mm.
陽極酸化皮膜は、陽極酸化処理によりアルミニウム板の表面に形成される、皮膜表面に略垂直であり、個々が均一に分布した極微細孔(マイクロポアともいう)を有する陽極酸化アルミニウム皮膜を意味する。マイクロポアは、陽極酸化皮膜表面から厚み方向に向かってのびている。 The anodic oxide film means an anodic aluminum film formed on the surface of an aluminum plate by anodization treatment, which is substantially perpendicular to the surface of the film and has ultrafine pores (also referred to as micropores) in which individuals are uniformly distributed. .. The micropores extend from the surface of the anodic oxide film in the thickness direction.
〔アルミニウム支持体の製造方法〕
アルミニウム支持体の製造方法は、特に限定されるものではない。アルミニウム支持体の製造方法の好ましい態様としては、アルミニウム板に粗面化処理を施す工程(粗面化処理工程)、粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程(陽極酸化処理工程)、陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程(ポアワイド処理工程)を含む方法が挙げられる。[Manufacturing method of aluminum support]
The method for manufacturing the aluminum support is not particularly limited. Preferred embodiments of the method for manufacturing the aluminum support include a step of roughening the aluminum plate (roughening treatment step), a step of anodizing the roughened aluminum plate (anodizing step), and a step of anodizing the roughened aluminum plate. Examples thereof include a method including a step (pore wide treatment step) of contacting an aluminum plate having an anodized film obtained in the anodizing step with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution to increase the diameter of micropores in the anodized film. ..
以下に、各工程を詳細に説明する。 Each process will be described in detail below.
<粗面化処理工程>
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。粗面化処理工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、実施しなくてもよい。<Roughening process>
The roughening treatment step is a step of applying a roughening treatment including an electrochemical roughening treatment to the surface of the aluminum plate. The roughening treatment step is preferably carried out before the anodizing treatment step described later, but it may not be carried out if the surface of the aluminum plate already has a preferable surface shape.
粗面化処理は、電気化学的粗面化処理のみを施してもよいが、電気化学的粗面化処理と機械的粗面化処理および/または化学的粗面化処理とを組み合わせて施してもよい。
機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を施すのが好ましい。The roughening treatment may be performed only by the electrochemical roughening treatment, but the roughening treatment may be performed by combining the electrochemical roughening treatment with the mechanical roughening treatment and / or the chemical roughening treatment. May be good.
When the mechanical roughening treatment and the electrochemical roughening treatment are combined, it is preferable to perform the electrochemical roughening treatment after the mechanical roughening treatment.
電気化学的粗面化処理は、硝酸や塩酸の水溶液中で施すのが好ましい。 The electrochemical roughening treatment is preferably carried out in an aqueous solution of nitric acid or hydrochloric acid.
機械的粗面化処理は、一般的には、アルミニウム板の表面を表面粗さRa:0.35~1.0μmとする目的で施される。
機械的粗面化処理の諸条件は特に限定されないが、例えば、特公昭50-40047号公報に記載されている方法に従って施すことができる。機械的粗面化処理は、パミストン懸濁液を使用したブラシグレイン処理により施したり、転写方式で施したりすることができる。
また、化学的粗面化処理も特に限定されず、公知の方法に従って施すことができる。The mechanical roughening treatment is generally performed for the purpose of making the surface of the aluminum plate a surface roughness Ra: 0.35 to 1.0 μm.
The conditions of the mechanical roughening treatment are not particularly limited, but can be applied, for example, according to the method described in Japanese Patent Publication No. 50-40047. The mechanical roughening treatment can be performed by a brush grain treatment using a Pamiston suspension or by a transfer method.
Further, the chemical roughening treatment is not particularly limited, and can be performed according to a known method.
機械的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を施すのが好ましい。
機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、平版印刷版の耐汚れ性を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子等の不要物を除去するために行われる。
化学エッチング処理としては、酸によるエッチングやアルカリによるエッチングが知られているが、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ溶液を用いる化学エッチング処理(以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。)が挙げられる。After the mechanical roughening treatment, it is preferable to perform the following chemical etching treatment.
The chemical etching treatment applied after the mechanical roughening treatment smoothes the uneven edge part of the surface of the aluminum plate, prevents ink from getting caught during printing, and improves the stain resistance of the lithographic printing plate. At the same time, it is performed to remove unnecessary substances such as abrasive particles remaining on the surface.
As the chemical etching process, etching with an acid or etching with an alkali is known, but as a method particularly excellent in terms of etching efficiency, a chemical etching process using an alkaline solution (hereinafter, also referred to as "alkali etching process"). ).
アルカリ溶液に用いられるアルカリ剤は、特に限定されないが、例えば、カセイソーダ、カセイカリ、メタケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、グルコン酸ソーダ等が好適に挙げられる。
また、アルカリ剤は、アルミニウムイオンを含有してもよい。アルカリ溶液の濃度は、0.01質量%以上であるのが好ましく、3質量%以上であるのがより好ましく、また、30質量%以下であるのが好ましく、25質量%以下であるのがより好ましい。
更に、アルカリ溶液の温度は室温以上であるのが好ましく、30℃以上であるのがより好ましく、80℃以下であるのが好ましく、75℃以下であるのがより好ましい。The alkaline agent used in the alkaline solution is not particularly limited, and examples thereof include caustic soda, caustic acid, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium aluminate, and sodium gluconate.
Further, the alkaline agent may contain aluminum ions. The concentration of the alkaline solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, more preferably 30% by mass or less, and more preferably 25% by mass or less. preferable.
Further, the temperature of the alkaline solution is preferably room temperature or higher, more preferably 30 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or lower, and even more preferably 75 ° C. or lower.
エッチング量は、0.1g/m2以上であるのが好ましく、1g/m2以上であるのがより好ましく、また、20g/m2以下であるのが好ましく、10g/m2以下であるのがより好ましい。
また、処理時間は、エッチング量に対応して2秒~5分であるのが好ましく、生産性向上の点から2~10秒であるのがより好ましい。The etching amount is preferably 0.1 g / m 2 or more, more preferably 1 g / m 2 or more, and preferably 20 g / m 2 or less, and 10 g / m 2 or less. Is more preferable.
The processing time is preferably 2 seconds to 5 minutes according to the etching amount, and more preferably 2 to 10 seconds from the viewpoint of improving productivity.
機械的粗面化処理後にアルカリエッチング処理を施した場合、アルカリエッチング処理により生じる生成物を除去するために、低温の酸性溶液を用いて化学エッチング処理(以下、「デスマット処理」ともいう。)を施すのが好ましい。
酸性溶液に用いられる酸は、特に限定されないが、例えば、硫酸、硝酸、塩酸が挙げられる。酸性溶液の濃度は、1~50質量%であるのが好ましい。また、酸性溶液の温度は、20~80℃であるのが好ましい。酸性溶液の濃度および温度がこの範囲であると、アルミニウム支持体を用いた平版印刷版の耐ポツ状汚れ性がより向上する。When the alkaline etching treatment is performed after the mechanical roughening treatment, a chemical etching treatment (hereinafter, also referred to as "desmat treatment") is performed using a low-temperature acidic solution in order to remove the product produced by the alkaline etching treatment. It is preferable to apply.
The acid used in the acidic solution is not particularly limited, and examples thereof include sulfuric acid, nitric acid, and hydrochloric acid. The concentration of the acidic solution is preferably 1 to 50% by mass. The temperature of the acidic solution is preferably 20 to 80 ° C. When the concentration and temperature of the acidic solution are in this range, the spot-like stain resistance of the lithographic printing plate using the aluminum support is further improved.
上記粗面化処理は、所望により機械的粗面化処理および化学エッチング処理を施した後に、電気化学的粗面化処理を施す処理であるが、機械的粗面化処理を行わずに電気化学的粗面化処理を施す場合にも、電気化学的粗面化処理の前に、カセイソーダ等のアルカリ水溶液を用いて化学エッチング処理を施すことができる。これにより、アルミニウム板の表面近傍に存在する不純物等を除去することができる。 The roughening treatment is a treatment in which a mechanical roughening treatment and a chemical etching treatment are performed as desired, and then an electrochemical roughening treatment is performed. However, the roughening treatment is performed without performing the mechanical roughening treatment. Even in the case of performing the target roughening treatment, the chemical etching treatment can be performed using an alkaline aqueous solution such as Kasei soda before the electrochemical roughening treatment. This makes it possible to remove impurities and the like existing near the surface of the aluminum plate.
電気化学的粗面化処理は、アルミニウム板の表面に微細な凹凸(ピット)を付与することが容易であるため、印刷性の優れた平版印刷版を作るのに適している。
電気化学的粗面化処理は、硝酸または塩酸を主体とする水溶液中で、直流または交流を用いて行われる。The electrochemical roughening treatment is suitable for producing a lithographic printing plate having excellent printability because it is easy to impart fine irregularities (pits) to the surface of the aluminum plate.
The electrochemical roughening treatment is performed using direct current or alternating current in an aqueous solution mainly composed of nitric acid or hydrochloric acid.
また、電気化学的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を行うのが好ましい。電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板の表面には、スマットや金属間化合物が存在する。電気化学的粗面化処理の後に行われる化学エッチング処理においては、特にスマットを効率よく除去するため、まず、アルカリ溶液を用いて化学エッチング処理(アルカリエッチング処理)をするのが好ましい。アルカリ溶液を用いた化学エッチング処理の諸条件は、処理温度は20~80℃であるのが好ましく、また、処理時間は1~60秒であるのが好ましい。また、アルカリ溶液中にアルミニウムイオンを含有するのが好ましい。 Further, it is preferable to perform the following chemical etching treatment after the electrochemical roughening treatment. Smuts and intermetallic compounds are present on the surface of the aluminum plate after the electrochemical roughening treatment. In the chemical etching treatment performed after the electrochemical roughening treatment, it is preferable to first perform the chemical etching treatment (alkali etching treatment) using an alkaline solution in order to remove the smut particularly efficiently. As for the conditions of the chemical etching treatment using the alkaline solution, the treatment temperature is preferably 20 to 80 ° C., and the treatment time is preferably 1 to 60 seconds. Further, it is preferable to contain aluminum ions in the alkaline solution.
更に、電気化学的粗面化処理後にアルカリ溶液を用いる化学エッチング処理を行った後、それにより生じる生成物を除去するために、低温の酸性溶液を用いて化学エッチング処理(デスマット処理)を行うのが好ましい。
また、電気化学的粗面化処理後にアルカリエッチング処理を行わない場合においても、スマットを効率よく除去するため、デスマット処理を行うのが好ましい。Further, after the chemical etching treatment using an alkaline solution after the electrochemical roughening treatment, a chemical etching treatment (desmat treatment) is performed using a low-temperature acidic solution in order to remove the product produced by the chemical etching treatment. Is preferable.
Further, even when the alkali etching treatment is not performed after the electrochemical roughening treatment, it is preferable to perform the desmat treatment in order to efficiently remove the smut.
上記化学エッチング処理は、いずれも浸せき法、シャワー法、塗布法等により行うことができ、特に限定されない。 The chemical etching treatment can be performed by a dipping method, a shower method, a coating method, or the like, and is not particularly limited.
<陽極酸化処理工程>
陽極酸化処理工程は、上記粗面化処理が施されたアルミニウム板に陽極酸化処理を施すことにより、アルミニウム板表面に深さ方向(厚み方向)にのびるマイクロポアを有するアルミニウムの酸化皮膜を形成する工程である。この陽極酸化処理によりアルミニウム板の表面に、マイクロポアを有するアルミニウムの陽極酸化皮膜が形成される。<Anodizing process>
In the anodizing treatment step, the roughened aluminum plate is anodized to form an aluminum oxide film having micropores extending in the depth direction (thickness direction) on the surface of the aluminum plate. It is a process. By this anodic oxidation treatment, an anodic oxide film of aluminum having micropores is formed on the surface of the aluminum plate.
陽極酸化処理は、この分野で従来から行われている方法で行うことができるが、上記マイクロポアを最終的に形成できるように適宜製造条件が設定される。具体的には、陽極酸化処理工程において形成されるマイクロポアの平均径(平均開口径)は、通常、4~14nm程度であり、好ましくは5~10nmである。上記範囲内であれば、所定の形状を有するマイクロポアが形成しやすく、得られる平版印刷版原版および平版印刷版の性能もより優れる。 The anodizing treatment can be carried out by a method conventionally performed in this field, but manufacturing conditions are appropriately set so that the micropores can be finally formed. Specifically, the average diameter (average opening diameter) of the micropores formed in the anodic oxidation treatment step is usually about 4 to 14 nm, preferably 5 to 10 nm. Within the above range, micropores having a predetermined shape are easily formed, and the performance of the obtained lithographic printing plate original plate and lithographic printing plate is more excellent.
また、マイクロポアの深さは、通常、10nm以上100nm未満程度であり、好ましくは20~60nmである。上記範囲内であれば、所定の形状を有するマイクロポアが形成しやすく、得られる平版印刷版原版および平版印刷版の性能もより優れる。 The depth of the micropores is usually about 10 nm or more and less than 100 nm, preferably 20 to 60 nm. Within the above range, micropores having a predetermined shape are easily formed, and the performance of the obtained lithographic printing plate original plate and lithographic printing plate is more excellent.
マイクロポアのポア密度は特に限定されないが、ポア密度が50~4000個/μm2であることが好ましく、100~3000個/μm2であることがより好ましい。上記範囲内であれば、得られる平版印刷版の耐刷性および放置払い性、並びに、平版印刷版原版の機上現像性に優れる。The pore density of the micropores is not particularly limited, but the pore density is preferably 50 to 4000 pieces / μm 2 , and more preferably 100 to 3000 pieces / μm 2 . Within the above range, the obtained lithographic printing plate has excellent printing durability and neglectability, and the on-machine developability of the lithographic printing plate original plate is excellent.
陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、シュウ酸、等の水溶液を主に電解浴として用いることができる。場合によっては、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフォン酸等またはこれらの二種以上を組み合わせた水溶液または非水溶液を用いることもできる。電解浴中でアルミニウム板に直流または交流を流すと、アルミニウム板表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。なお、電解浴にはアルミニウムイオンが含まれていてもよい。アルミニウムイオンの含有量は特に限定されないが、1~10g/Lが好ましい。 In the anodizing treatment step, an aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, etc. can be mainly used as an electrolytic bath. In some cases, an aqueous solution or a non-aqueous solution obtained by using chromic acid, sulfamic acid, benzenesulphonic acid, etc. or a combination of two or more thereof may be used. By passing direct current or alternating current through the aluminum plate in the electrolytic bath, an anodic oxide film can be formed on the surface of the aluminum plate. The electrolytic bath may contain aluminum ions. The content of aluminum ions is not particularly limited, but is preferably 1 to 10 g / L.
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、一般的には、電解液の濃度が1~80質量%(好ましくは5~20質量%)、液温5~70℃(好ましくは10~60℃)、電流密度0.5~60A/dm2(好ましくは5~50A/dm2)、電圧1~100V(好ましくは5~50V)、電解時間1~100秒(好ましくは5~60秒)の範囲が適当である。The conditions for the anodizing treatment are appropriately set depending on the electrolytic solution used, but in general, the concentration of the electrolytic solution is 1 to 80% by mass (preferably 5 to 20% by mass), and the liquid temperature is 5 to 70 ° C. (preferably 5 to 20% by mass). (Preferably 10 to 60 ° C.), current density 0.5 to 60 A / dm 2 (preferably 5 to 50 A / dm 2 ), voltage 1 to 100 V (preferably 5 to 50 V), electrolysis time 1 to 100 seconds (preferably 5 to 100 seconds). A range of 5 to 60 seconds) is appropriate.
これらの陽極酸化処理のうちでも特に、英国特許第1,412,768号明細書に記載されている、硫酸中にて高電流密度で陽極酸化する方法が好ましい。 Among these anodizing treatments, the method described in British Patent No. 1,421,768 for anodizing in sulfuric acid at a high current density is particularly preferable.
<ポアワイド処理工程>
ポアワイド処理工程は、上記陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径(ポア径)を拡大させる処理(孔径拡大処理)である。このポアワイド処理により、マイクロポアの径が拡大され、より大きな平均径を有するマイクロポアを有する陽極酸化皮膜が形成される。ポアワイド処理後のマイクロポアの平均径は10nm超100nm以下が適当である。耐刷性、耐汚れ性、及び画像視認性のバランスの観点から、ポアワイド処理後のマイクロポアの平均径は15~60nmが好ましく、20~50nmがより好ましく、24~40nmが更に好ましい。<Pore wide processing process>
The pore-wide treatment step is a treatment (pore diameter enlargement treatment) for enlarging the diameter (pore diameter) of the micropores existing in the anodic oxide film formed by the anodic oxidation treatment step. This pore-wide treatment enlarges the diameter of the micropores and forms an anodic oxide film with micropores having a larger average diameter. It is appropriate that the average diameter of the micropores after the pore wide treatment is more than 10 nm and 100 nm or less. From the viewpoint of the balance between printing resistance, stain resistance, and image visibility, the average diameter of the micropores after the pore wide treatment is preferably 15 to 60 nm, more preferably 20 to 50 nm, and even more preferably 24 to 40 nm.
ポアワイド処理は、上記陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液またはアルカリ水溶液に接触させることにより行う。接触させる方法は、特に限定されず、例えば、浸せき法、スプレー法が挙げられる。中でも、浸せき法が好ましい。 The pore-wide treatment is performed by bringing the aluminum plate obtained in the above anodizing treatment step into contact with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution. The contact method is not particularly limited, and examples thereof include a dipping method and a spraying method. Above all, the dipping method is preferable.
ポアワイド処理工程においてアルカリ水溶液を使用する場合、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、および水酸化リチウムからなる群から選ばれる少なくとも一つのアルカリ水溶液を用いることが好ましい。アルカリ水溶液の濃度は0.1~5質量%であるのが好ましい。なお、アルカリ水溶液のpHを11~13に調整した後、10~70℃(好ましくは20~50℃)の条件下で、アルミニウム板をアルカリ水溶液に1~300秒(好ましくは1~50秒)接触させることが適当である。この際、アルカリ処理液中に炭酸塩、硼酸塩、燐酸塩等の多価弱酸の金属塩を含んでもよい。 When an alkaline aqueous solution is used in the pore wide treatment step, it is preferable to use at least one alkaline aqueous solution selected from the group consisting of sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. The concentration of the alkaline aqueous solution is preferably 0.1 to 5% by mass. After adjusting the pH of the alkaline aqueous solution to 11 to 13, the aluminum plate was immersed in the alkaline aqueous solution for 1 to 300 seconds (preferably 1 to 50 seconds) under the conditions of 10 to 70 ° C (preferably 20 to 50 ° C). It is appropriate to make contact. At this time, a metal salt of a polyvalent weak acid such as a carbonate, a borate, or a phosphate may be contained in the alkaline treatment liquid.
ポアワイド処理工程において酸水溶液を使用する場合、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸等の無機酸またはこれらの混合物の水溶液を用いることが好ましい。酸水溶液の濃度は、1~80質量%が好ましく、より好ましくは5~50質量%である。なお、酸水溶液の液温5~70℃(好ましくは10~60℃)の条件下で、アルミニウム板を酸水溶液に1~300秒(好ましくは1~150秒)接触させることが適当である。なお、アルカリ水溶液または酸水溶液中にはアルミニウムイオンが含まれていてもよい。アルミニウムイオンの含有量は特に限定されないが、1~10g/Lが好ましい。 When an aqueous acid solution is used in the pore wide treatment step, it is preferable to use an aqueous solution of an inorganic acid such as sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, or hydrochloric acid, or a mixture thereof. The concentration of the aqueous acid solution is preferably 1 to 80% by mass, more preferably 5 to 50% by mass. It is appropriate to bring the aluminum plate into contact with the acid aqueous solution for 1 to 300 seconds (preferably 1 to 150 seconds) under the condition that the liquid temperature of the acid aqueous solution is 5 to 70 ° C. (preferably 10 to 60 ° C.). Aluminum ions may be contained in the alkaline aqueous solution or the acid aqueous solution. The content of aluminum ions is not particularly limited, but is preferably 1 to 10 g / L.
<端部ポアワイド処理工程>
ポアワイド処理工程は支持体上の一部の領域(端部)でのみ実施されることも好ましい。上記のようにポアワイド処理を支持体の全面ではなく、一部の領域で実施することにより、耐キズ性の低下を防止することができる。<End pore wide processing process>
It is also preferable that the pore wide treatment step is carried out only in a partial region (end) on the support. By performing the pore-wide treatment not on the entire surface of the support but in a part of the area as described above, it is possible to prevent a decrease in scratch resistance.
一部の領域でのみポアワイド処理を実施する方法としては、ダイコート方、ディップコート方、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコード法、グラビアコート法、スライドコート法、インクジェットコート法、ディスペンサーコート法、スプレー法等の公知の方法を利用することができるが、酸水溶液またはアルカリ水溶液を支持体上の一部に塗布する必要がある点から、インクジェットコート法、又は、ディスペンサーコート法が好ましい。また、塗布する領域は裁断後の平版印刷原版の対向する2辺にあたることが好ましい。 As a method of performing the pore wide treatment only in a part of the area, the die coating method, the dip coating method, the air knife coating method, the curtain coating method, the roller coating method, the wire bar cord method, the gravure coating method, the slide coating method, and the inkjet coating method. A known method such as a method, a dispenser coating method, or a spray method can be used, but since it is necessary to apply an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution to a part of the support, the inkjet coating method or the dispenser coating method or the dispenser coating method can be used. The method is preferred. Further, it is preferable that the area to be applied corresponds to two opposite sides of the lithographic printing original plate after cutting.
酸水溶液またはアルカリ水溶液は、支持体の端部から塗布してもよいし、支持体の端部以外の位置に塗布してもよく、これらの塗布する位置を組み合わせてもよい。また、支持体の端部から塗布する場合と、支持体の端部以外の位置に塗布する場合のどちらの場合でも、一定の幅を持った帯状に塗布することが好ましい。好ましい塗布幅は1~50mmである。塗布幅の塗布領域上を裁断し、裁断後の端部より1cm以内に塗布領域が存在することが好ましい。裁断は、塗布領域上の1箇所を裁断してもよいし、同一塗布領域上の2箇所で裁断していてもよい。 The acid aqueous solution or the alkaline aqueous solution may be applied from the end portion of the support, may be applied to a position other than the end portion of the support, or these application positions may be combined. Further, in both the case of applying from the end of the support and the case of applying to a position other than the end of the support, it is preferable to apply in a strip shape having a certain width. The preferred coating width is 1 to 50 mm. It is preferable that the coating area is cut on the coating area of the coating width, and the coating area exists within 1 cm from the cut end portion. For cutting, one place on the coating area may be cut, or two places on the same coating area may be cut.
<親水化処理工程>
アルミニウム支持体の製造方法は、上記ポアワイド処理工程の後、親水化処理を施す親水化処理工程を有していてもよい。親水化処理としては、特開2005-254638号公報の段落0109~0114に開示される公知の方法が使用できる。<Hydrophilic treatment process>
The method for producing an aluminum support may include a hydrophilization treatment step of performing a hydrophilic treatment after the pore wide treatment step. As the hydrophilization treatment, a known method disclosed in paragraphs 0109 to 0114 of JP-A-2005-254638 can be used.
ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬させる方法、親水性ビニルポリマーまたは親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成させる方法等により、親水化処理を行うのが好ましい。 Hydrophilization treatment is performed by immersing in an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate, or by applying a hydrophilic vinyl polymer or a hydrophilic compound to form a hydrophilic undercoat layer. It is preferable to do so.
ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第2,714,066号明細書および米国特許第3,181,461号明細書に記載されている方法および手順に従って行うことができる。 The hydrophilization treatment with an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate and potassium silicate is described in US Pat. No. 2,714,066 and US Pat. No. 3,181,461. It can be done according to the methods and procedures.
アルミニウム支持体は、必要に応じて、画像記録層とは反対側の面に、特開平5-45885号公報に記載の有機高分子化合物又は特開平6-35174号公報に記載のケイ素のアルコキシ化合物などを含むバックコート層を有していてもよい。 The aluminum support is, if necessary, on the surface opposite to the image recording layer, the organic polymer compound described in JP-A-5-45885 or the silicon alkoxy compound described in JP-A-6-35174. It may have a back coat layer including the above.
〔画像記録層〕
機上現像型平版印刷版原版を構成する画像記録層について記載する。画像記録層は、その非画像部が、印刷機上で印刷インキ及び湿し水から選ばれる少なくとも1つにより除去される性質を有する層である。画像記録層としては、機上現像型平版印刷版原版を構成する公知の画像記録層を用いることができる。[Image recording layer]
The image recording layer constituting the machine-developed lithographic printing plate original plate will be described. The image recording layer is a layer having a property that the non-image portion is removed by at least one selected from printing ink and dampening water on a printing machine. As the image recording layer, a known image recording layer constituting the on-machine development type lithographic printing plate original plate can be used.
1つの態様によれば、画像記録層は、ポリマー粒子を含有することが好ましい。 According to one embodiment, the image recording layer preferably contains polymer particles.
<ポリマー粒子>
ポリマー粒子は、機上現像性の向上に寄与する。ポリマー粒子は、熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できるポリマー粒子であることが好ましい。ポリマー粒子は、疎水性熱可塑性ポリマー粒子、熱反応性ポリマー粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。<Polymer particles>
The polymer particles contribute to the improvement of on-machine developability. The polymer particles are preferably polymer particles that can convert the image recording layer into hydrophobic when heat is applied. The polymer particles are at least one selected from hydrophobic thermoplastic polymer particles, heat-reactive polymer particles, polymer particles having a polymerizable group, microcapsules containing a hydrophobic compound, and microgels (crosslinked polymer particles). Is preferable.
疎水性熱可塑性ポリマー粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9-123387号公報、同9-131850号公報、同9-171249号公報、同9-171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の疎水性熱可塑性ポリマー粒子が好適に挙げられる。
疎水性熱可塑性ポリマー粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマーもしくはコポリマー又はそれらの混合物が挙げられる。好ましくは、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルが挙げられる。疎水性熱可塑性ポリマー粒子の平均粒径は0.01~2.0μmが好ましい。As the hydrophobic thermoplastic polymer particles, Research Disclosure No. 1 of January 1992. The hydrophobic thermoplastic polymer particles described in 33303, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250, European Patent No. 913647, etc. are preferable. Listed in.
Specific examples of the polymer constituting the hydrophobic thermoplastic polymer particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinylcarbazole, and polyalkylene structure. Examples include homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates or mixtures thereof. Preferred are copolymers containing polystyrene, styrene and acrylonitrile, polymethyl methacrylate. The average particle size of the hydrophobic thermoplastic polymer particles is preferably 0.01 to 2.0 μm.
熱反応性ポリマー粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。熱反応性基を有するポリマー粒子は、熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。 Examples of the heat-reactive polymer particles include polymer particles having a heat-reactive group. The polymer particles having a heat-reactive group form a hydrophobic region by cross-linking by a heat reaction and the change of the functional group at that time.
熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよく、重合性基が好ましい。その例としては、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好適に挙げられる。 The heat-reactive group in the polymer particles having a heat-reactive group may be a functional group that undergoes any reaction as long as a chemical bond is formed, and a polymerizable group is preferable. Examples include ethylenically unsaturated groups (eg, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.) and cationically polymerizable groups (eg, vinyl group, vinyloxy group, epoxy group, oxetanyl group, etc.) that undergo a radical polymerization reaction. , Etc.), a functional group having an isocyanato group or a block thereof, an epoxy group, a vinyloxy group and an active hydrogen atom which is a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, etc.), and a condensation reaction. Preferable examples thereof include a carboxy group to be carried out, a hydroxy group or an amino group as a reaction partner, an acid anhydride for carrying out a ring-opening addition reaction, and an amino group or a hydroxy group to be a reaction partner.
マイクロカプセルとしては、例えば、特開2001-277740号公報及び特開2001-277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させたものが挙げられる。画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセルを含有する画像記録層としては、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。 Examples of the microcapsules include those in which all or part of the constituent components of the image recording layer are encapsulated in microcapsules, as described in JP-A-2001-277740 and JP-A-2001-277742. The components of the image recording layer can also be contained outside the microcapsules. As the image recording layer containing the microcapsules, it is a preferable embodiment that the hydrophobic component is encapsulated in the microcapsules and the hydrophilic component is contained outside the microcapsules.
ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)は、その内部及び表面の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が画像形成感度や耐刷性の観点から好ましい。 The microgel (crosslinked polymer particles) can contain a part of the constituents of the image recording layer in at least one of the inside and the surface thereof. In particular, an embodiment in which a reactive microgel is formed by having a radically polymerizable group on the surface thereof is preferable from the viewpoint of image formation sensitivity and printing resistance.
画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化又はミクロゲル化するためには、公知の方法を用いることができる。
マイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01~3.0μmが好ましく、0.05~2.0μmがより好ましく、0.10~1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。A known method can be used for microencapsulating or microgelling the constituents of the image recording layer.
The average particle size of the microcapsules and microgels is preferably 0.01 to 3.0 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and particularly preferably 0.10 to 1.0 μm. Good resolution and stability over time can be obtained within this range.
ポリマー粒子としては、機上現像性への寄与の観点から、スチレン化合物に由来するモノマー単位、及び/又は、(メタ)アクリロニトリル化合物に由来するモノマー単位を含むポリマーの粒子が好ましい。また、ポリ(エチレングリコール)アルキルエーテルメタクリレート化合物に由来するモノマー単位を更に含むポリマーの粒子が好ましい。 As the polymer particles, polymer particles containing a monomer unit derived from a styrene compound and / or a monomer unit derived from a (meth) acrylonitrile compound are preferable from the viewpoint of contributing to on-machine developability. Further, polymer particles further containing a monomer unit derived from a poly (ethylene glycol) alkyl ether methacrylate compound are preferable.
ポリマー粒子は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
ポリマー粒子の含有量は、画像記録層の全固形分中、5~90質量%が好ましく、5~80質量%がより好ましく、10~75質量%が更に好ましい。The polymer particles may be used alone or in combination of two or more.
The content of the polymer particles is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 5 to 80% by mass, still more preferably 10 to 75% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
もう1つの態様によれば、画像記録層は、重合開始剤、赤外線吸収剤、重合性化合物を含有することが好ましい。 According to another aspect, the image recording layer preferably contains a polymerization initiator, an infrared absorber, and a polymerizable compound.
<重合開始剤>
重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルやカチオン等の重合開始種を発生する化合物であり、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などから適宜選択して用いることができる。
重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤が好ましい。また、重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましい。
ラジカル重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化物、カルボニル化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、メタロセン化合物、アジド化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、及び、オニウム塩化合物が挙げられる。<Polymer initiator>
A polymerization initiator is a compound that generates a polymerization initiator such as a radical or a cation by energy of light, heat, or both, and is a known thermal polymerization initiator, a compound having a bond having a small bond dissociation energy, and a photopolymerization initiator. It can be appropriately selected and used from the above.
As the polymerization initiator, an infrared photosensitive polymerization initiator is preferable. Further, as the polymerization initiator, a radical polymerization initiator is preferable.
Examples of the radical polymerization initiator include organic halides, carbonyl compounds, azo compounds, organic peroxides, metallocene compounds, azide compounds, hexaarylbiimidazole compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, and onium salt compounds. Be done.
有機ハロゲン化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0022~0023に記載の化合物が好ましい。
カルボニル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0024に記載の化合物が好ましい。
アゾ化合物としては、例えば、特開平8-108621号公報に記載のアゾ化合物等が挙げられる。
有機過酸化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0025に記載の化合物が好ましい。
メタロセン化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0026に記載の化合物が好ましい。
アジド化合物としては、例えば、2,6-ビス(4-アジドベンジリデン)-4-メチルシクロヘキサノン等の化合物が挙げられる。
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0027に記載の化合物が好ましい。
ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭61-166544号、特開2002-328465号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
オキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0028~0030に記載の化合物が好ましい。As the organic halide, for example, the compounds described in paragraphs 0022 to 0023 of JP-A-2008-195018 are preferable.
As the carbonyl compound, for example, the compound described in paragraph 0024 of JP-A-2008-195018 is preferable.
Examples of the azo compound include the azo compounds described in JP-A-8-108621.
As the organic peroxide, for example, the compound described in paragraph 0025 of JP-A-2008-195018 is preferable.
As the metallocene compound, for example, the compound described in paragraph 0026 of JP-A-2008-195018 is preferable.
Examples of the azide compound include compounds such as 2,6-bis (4-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone.
As the hexaarylbiimidazole compound, for example, the compound described in paragraph 0027 of JP-A-2008-195018 is preferable.
Examples of the disulfone compound include the compounds described in JP-A-61-166544 and JP-A-2002-328465.
As the oxime ester compound, for example, the compounds described in paragraphs 0028 to 0030 of JP-A-2008-195018 are preferable.
重合開始剤の中でも、より好ましいものとして、ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が特に好ましい。ヨードニウム塩及びスルホニウム塩の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Among the polymerization initiators, more preferable ones include onium salts such as iodonium salt, sulfonium salt and azinium salt. Iodonium and sulfonium salts are particularly preferred. Specific examples of the iodonium salt and the sulfonium salt are shown below, but the present invention is not limited thereto.
ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に、電子供与性基を置換基として有する、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-メトキシフェニル-4-(2-メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-(2-メチルプロピル)フェニル-p-トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4-ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=1-ペルフルオロブタンスルホナート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4-t-ブチルフェニル)ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。 As an example of the iodonium salt, a diphenyl iodonium salt is preferable, and in particular, a diphenyl iodonium salt having an electron donating group as a substituent, for example, a diphenyl iodonium salt substituted with an alkyl group or an alkoxyl group is preferable, and an asymmetric diphenyl iodonium salt is preferable. preferable. Specific examples include diphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4- (2-methylpropyl) phenyliodonium = hexafluorophosphate, 4- (2-methylpropyl) phenyl-p-tolyliodonium = hexa. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium = tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphart, bis (4-t-butylphenyl) ) Iodonium = hexafluorophosphart can be mentioned.
スルホニウム塩の例としては、トリアリールスルホニウム塩が好ましく、特に電子求引性基を置換基として有する、例えば、芳香環上の基の少なくとも一部がハロゲン原子で置換されたトリアリールスルホニウム塩が好ましく、芳香環上のハロゲン原子の総置換数が4以上であるトリアリールスルホニウム塩が更に好ましい。具体例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4-クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4-クロロフェニル)-4-メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4-クロロフェニル)スルホニウム=3,5-ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナート、トリス(4-クロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリス(2,4-ジクロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。 As an example of the sulfonium salt, a triarylsulfonium salt is preferable, and in particular, a triarylsulfonium salt having an electron-attracting group as a substituent, for example, a triarylsulfonium salt in which at least a part of the group on the aromatic ring is substituted with a halogen atom is preferable. , A triarylsulfonium salt having a total number of substitutions of halogen atoms on the aromatic ring of 4 or more is more preferable. Specific examples include triphenylsulfonium = hexafluorophosphate, triphenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) phenylsulfonium = benzoylformate, and bis (4-chlorophenyl) -4-methylphenylsulfonium = tetrafluoro. Borat, Tris (4-chlorophenyl) Sulfonium = 3,5-bis (methoxycarbonyl) Benzene Sulfonium, Tris (4-chlorophenyl) Sulfonium = Hexafluorophosphate, Tris (2,4-dichlorophenyl) Sulfonium = Hexafluorophos Fert is mentioned.
重合開始剤としては、以下の5種類の重合開始剤も用いることができる。(i)アルキル又はアリールアート錯体:酸化的に炭素-ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、ボレート化合物等が挙げられる。(ii)アミノ酢酸化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC-X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシ基、トリメチルシリル基又はベンジル基が好ましい。具体的には、N-フェニルグリシン類(フェニル基に置換基を有していてもよい。)、N-フェニルイミノジ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもよい。)等が挙げられる。(iii)含硫黄化合物:上述のアミノ酢酸化合物の窒素原子を硫黄原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。具体的には、フェニルチオ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもよい。)等が挙げられる。(iv)含錫化合物:上述のアミノ酢酸化合物の窒素原子を錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。(v)スルフィン酸塩類:酸化により活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等が挙げられる。 As the polymerization initiator, the following five types of polymerization initiators can also be used. (I) Alkyl or arylate complex: It is considered that the carbon-heterobond is oxidatively cleaved to generate an active radical. Specific examples thereof include borate compounds. (Ii) Aminoacetic acid compound: It is considered that the CX bond on the carbon adjacent to nitrogen is broken by oxidation to generate an active radical. As X, a hydrogen atom, a carboxy group, a trimethylsilyl group or a benzyl group is preferable. Specific examples thereof include N-phenylglycines (may have a substituent on the phenyl group), N-phenyliminodiacetic acid (may have a substituent on the phenyl group) and the like. Will be. (Iii) Sulfur-containing compound: The above-mentioned aminoacetic acid compound in which the nitrogen atom is replaced with a sulfur atom can generate an active radical by the same action. Specific examples thereof include phenylthioacetic acid (which may have a substituent on the phenyl group) and the like. (Iv) Tin-containing compound: A compound in which the nitrogen atom of the above-mentioned aminoacetic acid compound is replaced with a tin atom can generate an active radical by the same action. (V) Sulfinates: Oxidation can generate active radicals. Specific examples thereof include arylsulfinic acid sodium and the like.
これら5種類の重合開始剤の中で、ボレート化合物が好ましい。ボレート化合物としては、テトラアリールボレート化合物又はモノアルキルトリアリールボレート化合物が好ましく、化合物安定性の観点から、テトラアリールボレート化合物がより好ましい。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、アルカリ金属イオン又はテトラアルキルアンモニウムイオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン又はテトラブチルアンモニウムイオンがより好ましい。Of these five types of polymerization initiators, borate compounds are preferable. As the borate compound, a tetraarylborate compound or a monoalkyltriarylborate compound is preferable, and a tetraarylborate compound is more preferable from the viewpoint of compound stability.
As the counter cation contained in the borate compound, an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion is preferable, and a sodium ion, a potassium ion or a tetrabutylammonium ion is more preferable.
ボレート化合物の具体としては、以下に示す化合物が挙げられる。ここで、Xc +は一価のカチオンを表し、アルカリ金属イオン又はテトラアルキルアンモニウムイオンが好ましく、アルカリ金属イオン又はテトラブチルアンモニウムイオンがより好ましい。また、Buはn-ブチル基を表す。Specific examples of the borate compound include the following compounds. Here, X c + represents a monovalent cation, and an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion is preferable, and an alkali metal ion or a tetrabutylammonium ion is more preferable. Bu represents an n-butyl group.
重合開始剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
重合開始剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.01~50質量%が好ましく、0.05~30質量%がより好ましく、0.1~20質量%が更に好ましい。The polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
The content of the polymerization initiator is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.05 to 30% by mass, still more preferably 0.1 to 20% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
<赤外線吸収剤>
赤外線吸収剤は、赤外線により励起して重合開始剤等に電子移動及び/又はエネルギー移動する機能を有する。また、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有する。赤外線吸収剤は、750~1,400nmの波長域に極大吸収を有することが好ましい。赤外線吸収剤としては、染料又は顔料が挙げられ、染料が好ましく用いられる。<Infrared absorber>
The infrared absorber has a function of being excited by infrared rays to transfer electrons and / or energy to a polymerization initiator or the like. It also has a function of converting absorbed infrared rays into heat. The infrared absorber preferably has maximum absorption in the wavelength range of 750 to 1,400 nm. Examples of the infrared absorber include dyes and pigments, and dyes are preferably used.
染料としては、市販の染料、及び、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知の染料が利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
染料のうち、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩が好ましく、シアニン色素がより好ましく、インドレニンシアニン色素が特に好ましい。As the dye, a commercially available dye and a known dye described in a document such as "Dye Handbook" (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes. Can be mentioned.
Among the dyes, cyanine pigments, squarylium pigments, and pyrylium salts are preferable, cyanine pigments are more preferable, and indorenine cyanine pigments are particularly preferable.
シアニン色素としては、下記式(a)で表されるシアニン色素が挙げられる。 Examples of the cyanine pigment include a cyanine pigment represented by the following formula (a).
式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、-N(R9)(R10)、-X2-L1又は以下に示す基を表す。ここで、R9及びR10は、同じでも異なってもよく、それぞれ独立に炭素数6~10の芳香族炭化水素基、炭素数1~8のアルキル基又は水素原子を表すか、あるいは、R9とR10とが互いに結合して環を形成してもよい。炭素数6~10の芳香族炭化水素基又は炭素数1~8のアルキル基は置換基を有していてもよい。R9とR10は共にフェニル基が好ましい。X2は酸素原子又は硫黄原子を表し、L1は、炭素数1~12の炭化水素基又はヘテロ原子を含む炭素数1~12の炭化水素基を表す。ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを表す。以下に示す基において、Xa-は後述するZa-と同義であり、Raは、水素原子、又はアルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基及びハロゲン原子から選択される置換基を表す。In formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -N (R 9 ) (R 10 ), -X 2 -L 1 or a group shown below. Here, R 9 and R 10 may be the same or different, and independently represent an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a hydrogen atom, respectively. 9 and R 10 may be coupled to each other to form a ring. An aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms may have a substituent. Both R 9 and R 10 are preferably phenyl groups. X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. Here, the hetero atom represents N, S, O, a halogen atom, and Se. In the groups shown below, Xa - is synonymous with Za - described later, and Ra represents a hydrogen atom or a substituent selected from an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.
式(a)中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1~12の炭化水素基を表す。画像記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素数2以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1及びR2とは互いに結合して、5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。In formula (a), R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the viewpoint of storage stability of the image recording layer coating liquid, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and further, R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or a 5-membered ring. It is particularly preferable to form a 6-membered ring.
式(a)中、Ar1、Ar2は、同じでも異なっていてもよく、それぞれ芳香族炭化水素基を表す。芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基及びナフタレン環基が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素数12以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素数12以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、同じでも異なっていてもよく、それぞれ硫黄原子又は炭素数12以下のジアルキルメチレン基を表す。R3、R4は、同じでも異なっていてもよく、それぞれ炭素数20以下の炭化水素基を表す。炭素数20以下の炭化水素基は置換基を有していてもよい。好ましい置換基としては、炭素数12以下のアルコキシ基、カルボキシ基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7およびR8は、同じでも異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は炭素数12以下の炭化水素基を表す。原料の入手容易性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを表す。ただし、式(a)で表されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。Za-は、画像記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、又はスルホン酸イオンが好ましく、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、又はアリールスルホン酸イオンがより好ましい。In the formula (a), Ar 1 and Ar 2 may be the same or different, and each represents an aromatic hydrocarbon group. The aromatic hydrocarbon group may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include benzene ring groups and naphthalene ring groups. In addition, preferred substituents include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different, and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different, and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. A hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms may have a substituent. Preferred substituents include an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carboxy group and a sulfo group. R5, R6, R7 and R8 may be the same or different and represent hydrogen atoms or hydrocarbon groups having 12 or less carbon atoms, respectively. A hydrogen atom is preferable because of the availability of a raw material. Further, Za − represents a counter anion. However, if the cyanine dye represented by the formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not required, Za − is not required. Za − is preferably halide ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, or sulfonic acid ion, and is preferably perchlorate ion or hexafluorophosphate ion, from the viewpoint of storage stability of the image recording layer coating liquid. , Or aryl sulfonate ions are more preferred.
式(a)で表されるシアニン色素において、X1がジフェニルアミノ基であることがより好ましい。また、X1がジフェニルアミノ基であり、Y1及びY2が共にジメチルメチレン基であることが更に好ましい。In the cyanine dye represented by the formula (a), it is more preferable that X 1 is a diphenylamino group. Further, it is more preferable that X 1 is a diphenylamino group and Y 1 and Y 2 are both dimethylmethylene groups.
シアニン色素の具体例としては、特開2001-133969号公報の段落0017~0019に記載の化合物、特開2002-023360号公報の段落0016~0021、特開2002-040638号公報の段落0012~0037に記載の化合物、好ましくは特開2002-278057号公報の段落0034~0041、特開2008-195018公報の段落0080~0086に記載の化合物、特に好ましくは特開2007-90850号公報の段落0035~0043に記載の化合物が挙げられる。
また、特開平5-5005号公報の段落0008~0009、特開2001-222101号公報の段落0022~0025に記載の化合物も好ましく使用することができる。
顔料としては、特開2008-195018号公報の段落0072~0076に記載の化合物が好ましい。Specific examples of the cyanine dye include the compounds described in paragraphs 0017 to 0019 of JP-A-2001-133769, paragraphs 0016 to 0021 of JP-A-2002-0233360, and paragraphs 0012 to 0037 of JP-A-2002-040638. , Preferably the compounds described in paragraphs 0034 to 0041 of JP-A-2002-278057, paragraphs 0080-0086 of JP-A-2008-195018, and particularly preferably paragraphs 0035 to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-90850. Examples thereof include the compounds described in 0043.
Further, the compounds described in paragraphs 0008 to 0009 of JP-A-5-5005 and paragraphs 0022 to 0025 of JP-A-2001-222101 can also be preferably used.
As the pigment, the compounds described in paragraphs 0072 to 0076 of JP-A-2008-195018 are preferable.
赤外線吸収剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.05~30質量%が好ましく、0.1~20質量%がより好ましく、0.2~10質量%が更に好ましい。The infrared absorber may be used alone or in combination of two or more.
The content of the infrared absorber is preferably 0.05 to 30% by mass, more preferably 0.1 to 20% by mass, still more preferably 0.2 to 10% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
<重合性化合物>
重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物(エチレン性不飽和化合物)であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物が好ましく、末端エチレン性不飽和結合を2個以上有する化合物がより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、即ち、2量体、3量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態を持つことができる。<Polymerizable compound>
The polymerizable compound may be, for example, a radically polymerizable compound or a cationically polymerizable compound, but is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond (ethylenically unsaturated compound). It is preferable to have. As the ethylenically unsaturated compound, a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond is preferable, and a compound having two or more terminal ethylenically unsaturated bonds is more preferable. The polymerizable compound can have a chemical form such as, for example, a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer or an oligomer, or a mixture thereof.
モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸)や、そのエステル類、アミド類が挙げられる。好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と、単官能若しくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン原子、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することもできる。これら化合物は、特表2006-508380号公報、特開2002-287344号公報、特開2008-256850号公報、特開2001-342222号公報、特開平9-179296号公報、特開平9-179297号公報、特開平9-179298号公報、特開2004-294935号公報、特開2006-243493号公報、特開2002-275129号公報、特開2003-64130号公報、特開2003-280187号公報、特開平10-333321号公報等に記載されている。 Examples of the monomer include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid), esters thereof, and amides. Preferably, esters of unsaturated carboxylic acid and polyhydric alcohol compound, and amides of unsaturated carboxylic acid and polyhydric amine compound are used. Further, an addition reaction product of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a nucleophilic substituent such as a hydroxy group, an amino group or a mercapto group with monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxys, and monofunctional or A dehydration condensation reaction product with a polyfunctional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a polyelectron substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols, and a halogen atom, Substitutable reactions of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a desorbing substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols are also suitable. Further, as another example, a compound group in which the above unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like can also be used. These compounds are described in JP-A-2006-508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, JP-A-9-179297. JP, JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, It is described in JP-A No. 10-333321.
多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等が挙げられる。メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔p-(3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔p-(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等が挙げられる。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスアクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。 Specific examples of the monomer of the ester of the polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, and propylene glycol diacrylate, as acrylic acid esters. Examples thereof include trimethylolpropane triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) modified triacrylate, and polyester acrylate oligomer. Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl]. Examples thereof include dimethylmethane and bis [p- (methacrylicoxyethoxy) phenyl] dimethylmethane. Specific examples of the amide monomer of the polyvalent amine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, 1,6-hexamethylenebisacrylamide, and 1,6-hexamethylenebismethacrylate. Examples thereof include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, and xylylenebismethacrylamide.
また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、その具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報に記載されている、1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に下記式(M)で表されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させて得られる1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
CH2=C(RM4)COOCH2CH(RM5)OH (M)
式(M)中、RM4及びRM5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。Further, a urethane-based addition-polymerizable compound produced by using an addition reaction of isocyanate and a hydroxy group is also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in Japanese Patent Publication No. 48-41708. Vinyl containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxy group represented by the following formula (M) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Examples include urethane compounds.
CH 2 = C (RM4) COOCH 2 CH ( RM5 ) OH ( M )
In formula ( M ), RM4 and RM5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
また、特開昭51-37193号公報、特公平2-32293号公報、特公平2-16765号公報、特開2003-344997号公報、特開2006-65210号公報に記載のウレタンアクリレート類、特公昭58-49860号公報、特公昭56-17654号公報、特公昭62-39417号公報、特公昭62-39418号公報、特開2000-250211号公報、特開2007-94138号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類、米国特許第7153632号明細書、特表平8-505958号公報、特開2007-293221号公報、特開2007-293223号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。 Further, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-A-2-32293, JP-A-2-16765, JP-A-2003-344997, JP-A-2006-65210, and Japanese Patent Publication No. The ethylene described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-49860, Japanese Patent Publication No. 56-17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-39418, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-250211, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-94138. Urethane compounds having an oxide-based skeleton, urethane compounds having a hydrophilic group described in US Pat. No. 7,153,632, JP-A-8-505598, JP-A-2007-293221, JP-A-2007-293223. Kind is also suitable.
重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、平版印刷版原版の最終的な用途等を考慮して任意に設定できる。
重合性化合物の含有量は、画像記録層の全固形分中、1~50質量%が好ましく、3~30質量%がより好ましく、5~20質量%が更に好ましい。The details of the structure of the polymerizable compound, whether it is used alone or in combination, and the method of use such as the amount of addition can be arbitrarily set in consideration of the final use of the lithographic printing plate original plate.
The content of the polymerizable compound is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 3 to 30% by mass, still more preferably 5 to 20% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
画像記録層は、バインダーポリマー、連鎖移動剤、低分子親水性化合物、感脂化剤、その他の成分を含有することができる。 The image recording layer can contain a binder polymer, a chain transfer agent, a small molecule hydrophilic compound, a greasing agent, and other components.
<バインダーポリマー>
バインダーポリマーとしては、皮膜性を有するポリマーが好ましく、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂などが好ましく挙げられる。<Binder polymer>
As the binder polymer, a polymer having a film property is preferable, and (meth) acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin and the like are preferably mentioned.
機上現像型平版印刷版原版の画像記録層に用いられるバインダーポリマー(以下、機上現像用バインダーポリマーともいう)について、詳細に記載する。
機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキサイド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキサイド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ(アルキレンオキサイド)部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ(アルキレンオキサイド)を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ(アルキレンオキサイド)含有繰返し単位で構成されるブロックと(アルキレンオキサイド)非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
ポリ(アルキレンオキサイド)部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリ(アルキレンオキサイド)部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に(メタ)アクリル樹脂が好ましい。A binder polymer used for the image recording layer of the machine-developed lithographic printing plate original plate (hereinafter, also referred to as a binder polymer for machine-developing) will be described in detail.
As the binder polymer for on-machine development, a binder polymer having an alkylene oxide chain is preferable. The binder polymer having an alkylene oxide chain may have a poly (alkylene oxide) moiety in the main chain or the side chain. Further, it may be a graft polymer having poly (alkylene oxide) in the side chain, or a block copolymer having a block composed of poly (alkylene oxide) -containing repeating units and a block composed of (alkylene oxide) -free repeating units.
When the main chain has a poly (alkylene oxide) moiety, a polyurethane resin is preferable. When the polymer of the main chain has a poly (alkylene oxide) moiety in the side chain, the polymer of the main chain is (meth) acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyimide resin, polyamide resin, epoxy resin, polystyrene resin, novolak type. Examples thereof include phenol resin, polyester resin, synthetic rubber and natural rubber, and (meth) acrylic resin is particularly preferable.
アルキレンオキサイドとしては炭素数が2~6のアルキレンオキサイドが好ましく、エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドが特に好ましい。
ポリ(アルキレンオキサイド)部位におけるアルキレンオキサイドの繰返し数は2~120が好ましく、2~70がより好ましく、2~50が更に好ましい。
アルキレンオキサイドの繰返し数が120以下であれば、摩耗による耐刷性、インキ受容性による耐刷性の両方が低下することがなく好ましい。As the alkylene oxide, an alkylene oxide having 2 to 6 carbon atoms is preferable, and ethylene oxide or propylene oxide is particularly preferable.
The number of repetitions of the alkylene oxide in the poly (alkylene oxide) moiety is preferably 2 to 120, more preferably 2 to 70, and even more preferably 2 to 50.
When the number of repetitions of the alkylene oxide is 120 or less, both the printing resistance due to abrasion and the printing resistance due to ink acceptability do not decrease, which is preferable.
ポリ(アルキレンオキサイド)部位は、バインダーポリマーの側鎖として、下記式(AO)で表される構造で含有されることが好ましく、(メタ)アクリル樹脂の側鎖として、下記式(AO)で表される構造で含有されることがより好ましい。 The poly (alkylene oxide) moiety is preferably contained as a side chain of the binder polymer in a structure represented by the following formula (AO), and is represented by the following formula (AO) as a side chain of a (meth) acrylic resin. It is more preferable that it is contained in the structure to be used.
式(AO)中、yは2~120を表し、R1は水素原子又はアルキル基を表し、R2は水素原子又は一価の有機基を表す。
一価の有機基としては、炭素数1~6のアルキル基が好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、1,1-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。
式(AO)において、yは2~70が好ましく、2~50がより好ましい。R1は水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。R2は水素原子又はメチル基が特に好ましい。In formula (AO), y represents 2 to 120, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.
As the monovalent organic group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable. Specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, n- Examples thereof include a hexyl group, an isohexyl group, a 1,1-dimethylbutyl group, a 2,2-dimethylbutyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.
In the formula (AO), y is preferably 2 to 70, more preferably 2 to 50. R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, and a hydrogen atom is particularly preferable. R2 is particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。ポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合などの架橋性官能基を高分子の主鎖中又は側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、ポリマー反応により導入してもよい。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ-1,4-ブタジエン、ポリ-1,4-イソプレンなどが挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドのポリマーであって、エステル又はアミドの残基(-COOR又は-CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。The binder polymer may have crosslinkability in order to improve the film strength of the image portion. In order to impart crosslinkability to the polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization or by a polymer reaction.
Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene, poly-1,4-isoprene and the like.
An example of a polymer having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of a molecule is a polymer of an ester or amide of acrylic acid or methacrylic acid in which the residue of the ester or amide (-COOR or -R of -CONHR) A polymer having an ethylenically unsaturated bond can be mentioned.
エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、-(CH2)nCR1A=CR2AR3A、-(CH2O)nCH2CR1A=CR2AR3A、-(CH2CH2O)nCH2CR1A=CR2AR3A、-(CH2)nNH-CO-O-CH2CR1A=CR2AR3A、-(CH2)n-O-CO-CR1A=CR2AR3A及び-(CH2CH2O)2-XA(式中、RA1~RA3はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、RA1とRA2又はRA3とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1~10の整数を表す。XAは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。Examples of residues having an ethylenically unsaturated bond (R above) are-(CH 2 ) n CR 1A = CR 2AR 3A ,-(CH 2 O) n CH 2 CR 1A = CR 2A R 3A ,-. (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1A = CR 2A R 3A ,-(CH 2 ) n NH-CO-O-CH 2 CR 1A = CR 2AR 3A ,-(CH 2 ) n -O-CO -CR 1A = CR 2A R 3A and-(CH 2 CH 2 O) 2 -X A (In the formula, RA1 to RA3 are independent hydrogen atoms, halogen atoms, and alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, respectively. It represents an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group, and RA1 and RA2 or RA3 may be bonded to each other to form a ring. N represents an integer of 1 to 10. X A represents a di. Represents a cyclopentadienyl residue.).
エステル残基の具体例としては、-CH2CH=CH2、-CH2CH2O-CH2CH=CH2、-CH2C(CH3)=CH2、-CH2CH=CH-C6H5、-CH2CH2OCOCH=CH-C6H5、-CH2CH2-NHCOO-CH2CH=CH2及び-CH2CH2O-X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、-CH2CH=CH2、-CH2CH2-Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)及び-CH2CH2-OCO-CH=CH2が挙げられる。Specific examples of ester residues include -CH 2 CH = CH 2 , -CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2 , -CH 2 C (CH 3 ) = CH 2 , -CH 2 CH = CH-. C 6 H 5 , -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5 , -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 and -CH 2 CH 2 O-X (in the formula, X is dicyclo Represents a pentadienyl residue.).
Specific examples of the amide residue include -CH 2 CH = CH 2 , -CH 2 CH 2 -Y (in the formula, Y represents a cyclohexene residue) and -CH 2 CH 2 -OCO-CH = CH 2 . Can be mentioned.
架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接に又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。 A crosslinkable binder polymer has, for example, a free radical (a polymerization initiation radical or a growth radical in the polymerization process of a polymerizable compound) added to the crosslinkable functional group to directly or chain the polymerization of the polymerizable compound between the polymers. Through addition polymerization, crosslinks are formed between the polymer molecules and the polymer molecules are cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to functional cross-linking groups) are abstracted by free radicals to generate polymer radicals that bond to each other, resulting in cross-linking between the polymer molecules. Formed and cured.
バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、良好な感度と良好な保存安定性の観点から、バインダーポリマー1g当たり、0.1~10.0mmolが好ましく、1.0~7.0mmolがより好ましく、2.0~5.5mmolが更に好ましい。 The content of crosslinkable groups in the binder polymer (content of unsaturated double bonds that can be radically polymerized by iodine titration) is 0.1 per 1 g of the binder polymer from the viewpoint of good sensitivity and good storage stability. It is preferably ~ 10.0 mmol, more preferably 1.0 to 7.0 mmol, still more preferably 2.0 to 5.5 mmol.
以下にバインダーポリマーの具体例1~11を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記例示化合物中、各繰返し単位に併記される数値(主鎖繰返し単位に併記される数値)は、繰返し単位のモル百分率を表す。側鎖の繰返し単位に併記される数値は、繰返し部位の繰返し数を示す。また、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Phはフェニル基を表す。 Specific examples 1 to 11 of the binder polymer are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following exemplified compounds, the numerical value written together with each repeating unit (the numerical value written together with the main chain repeating unit) represents the molar percentage of the repeating unit. The numerical value written together with the repeating unit of the side chain indicates the number of repetitions at the repeating site. Further, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, and Ph represents a phenyl group.
バインダーポリマーの分子量は、GPC法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量(Mw)が、2,000以上であり、5,000以上が好ましく、10,000~300,000がより好ましい。 As for the molecular weight of the binder polymer, the weight average molecular weight (Mw) is 2,000 or more, preferably 5,000 or more, and more preferably 10,000 to 300,000 in terms of polystyrene by the GPC method.
必要に応じて、特開2008-195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。 If necessary, hydrophilic polymers such as polyacrylic acid and polyvinyl alcohol described in JP-A-2008-195018 can be used in combination. In addition, a lipophilic polymer and a hydrophilic polymer can be used in combination.
バインダーポリマーは、1種単独で使用してよいし、2種以上を併用してもよい。
バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分中、1~90質量%が好ましく、5~80質量%がより好ましい。The binder polymer may be used alone or in combination of two or more.
The content of the binder polymer is preferably 1 to 90% by mass, more preferably 5 to 80% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
<連鎖移動剤>
連鎖移動剤は、平版印刷版原版から作製される平版印刷版における耐刷性の向上に寄与する。
連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点(揮発し難さ)の観点で炭素数7以上のチオールがより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物(芳香族チオール化合物)が更に好ましい。チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。<Chain transfer agent>
The chain transfer agent contributes to the improvement of printing durability in a lithographic printing plate produced from a lithographic printing plate original plate.
As the chain transfer agent, a thiol compound is preferable, a thiol having 7 or more carbon atoms is more preferable from the viewpoint of boiling point (difficulty in volatilization), and a compound having a mercapto group on the aromatic ring (aromatic thiol compound) is further preferable. The thiol compound is preferably a monofunctional thiol compound.
連鎖移動剤の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。 Specific examples of the chain transfer agent include the following compounds.
連鎖移動剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.01~50質量%が好ましく、0.05~40質量%がより好ましく、0.1~30質量%が更に好ましい。The chain transfer agent may be used alone or in combination of two or more.
The content of the chain transfer agent is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.05 to 40% by mass, still more preferably 0.1 to 30% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
<低分子親水性化合物>
低分子親水性化合物は、平版印刷版原版から作製される平版印刷版の耐刷性を低下させることなく、平版印刷版原版の機上現像性の向上に寄与する。低分子親水性化合物は、分子量1,000未満の化合物が好ましく、分子量800未満の化合物がより好ましく、分子量500未満の化合物が更に好ましい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類等が挙げられる。<Small molecule hydrophilic compound>
The low molecular weight hydrophilic compound contributes to the improvement of the on-machine developability of the lithographic printing plate original plate without deteriorating the printing durability of the lithographic printing plate original plate produced from the lithographic printing plate original plate. The low molecular weight hydrophilic compound is preferably a compound having a molecular weight of less than 1,000, more preferably a compound having a molecular weight of less than 800, and further preferably a compound having a molecular weight of less than 500.
Examples of the low molecular weight hydrophilic compound include glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol and tripropylene glycol, ethers or ester derivatives thereof, and glycerin as water-soluble organic compounds. Polyols such as pentaerythritol and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, organic amines such as triethanolamine, diethanolamine and monoethanolamine and salts thereof, organic sulfates such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid. Acids and salts thereof, organic sulfamic acids such as alkylsulfamic acid and salts thereof, organic sulfates such as alkylsulfuric acid and alkyl ether sulfuric acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, quench Examples thereof include organic carboxylic acids such as acids, malic acid, lactic acid, gluconic acid and amino acids, salts thereof, betaines and the like.
低分子親水性化合物は、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類及びベタイン類から選ばれる少なくとも1つが好ましい。 The low molecular weight hydrophilic compound is preferably at least one selected from polyols, organic sulfates, organic sulfonates and betaines.
有機スルホン酸塩類の具体例としては、n-ブチルスルホン酸ナトリウム、n-ヘキシルスルホン酸ナトリウム、2-エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、n-オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩;5,8,11-トリオキサペンタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、5,8,11-トリオキサヘプタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、13-エチル-5,8,11-トリオキサヘプタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、5,8,11,14-テトラオキサテトラコサン-1-スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p-トルエンスルホン酸ナトリウム、p-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p-スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル-5-スルホン酸ナトリウム、1-ナフチルスルホン酸ナトリウム、4-ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5-ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6-ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開2007-276454号公報の段落0026~0031及び特開2009-154525号公報の段落0020~0047に記載の化合物等が挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。 Specific examples of the organic sulfonates include alkyl sulfonates such as sodium n-butyl sulfonate, sodium n-hexyl sulfonate, sodium 2-ethylhexyl sulfonate, sodium cyclohexyl sulfonate, sodium n-octyl sulfonate; 5 , 8,11-Trioxapentadecane-1-sodium sulfonate, 5,8,11-trioxaheptadecane-1-sodium sulfonate, 13-ethyl-5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfon Alkyl sulfonates containing ethylene oxide chains such as sodium acid, 5,8,11,14-sodium tetraoxatetracosan-1-sulfonate; sodium benzenesulfonate, sodium p-toluenesulfonate, p-hydroxybenzenesulfonic acid Sodium, sodium p-styrene sulfonate, dimethyl-5-sulfonate sodium isophthalate, sodium 1-naphthyl sulfonate, sodium 4-hydroxynaphthyl sulfonate, disodium 1,5-naphthalenedi sulfonate, 1,3,6- Examples thereof include aryl sulfonates such as trisodium naphthalenetrisulfonate, and compounds described in paragraphs 0026 to 0031 of JP-A-2007-276454 and paragraphs 0020-0047 of JP-A-2009-154525. The salt may be a potassium salt or a lithium salt.
有機硫酸塩類としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位の数は1~4が好ましく、塩はナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。具体例としては、特開2007-276454号公報の段落0034~0038に記載の化合物が挙げられる。 Examples of the organic sulfates include sulfates of alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic monoether of polyethylene oxide. The number of ethylene oxide units is preferably 1 to 4, and the salt is preferably a sodium salt, a potassium salt or a lithium salt. Specific examples thereof include the compounds described in paragraphs 0034 to 0038 of JP-A-2007-276454.
ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素数が1~5である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、3-ヒドロキシ-4-トリメチルアンモニオブチラート、4-(1-ピリジニオ)ブチラート、1-ヒドロキシエチル-1-イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、3-トリメチルアンモニオ-1-プロパンスルホナート、3-(1-ピリジニオ)-1-プロパンスルホナート等が挙げられる。 As betaines, compounds having 1 to 5 carbon atoms of the hydrocarbon substituent on the nitrogen atom are preferable, and specific examples thereof include trimethylammonium acetate, dimethylpropylammonium acetate, and 3-hydroxy-4-trimethylammoni. Obutyrate, 4- (1-pyridinio) butyrate, 1-hydroxyethyl-1-imidazolio acetate, trimethylammonium methanesulfonate, dimethylpropylammonium methanesulfonate, 3-trimethylammonio-1-propanesulfonate, 3 -(1-Pyridinio) -1-Propyl sulfonate and the like can be mentioned.
低分子親水性化合物は疎水性部分の構造が小さく、界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部(画像部)へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持することができる。 Since the low-molecular-weight hydrophilic compound has a small structure of the hydrophobic part and has almost no surface-active action, dampening water permeates the exposed part (image part) of the image recording layer and reduces the hydrophobicity and film strength of the image part. It is possible to maintain good ink acceptability and printing durability of the image recording layer.
低分子親水性化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
低分子親水性化合物の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.5~20質量%が好ましく、1~15質量%がより好ましく、2~10質量%が更に好ましい。The small molecule hydrophilic compound may be used alone or in combination of two or more.
The content of the small molecule hydrophilic compound is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, still more preferably 2 to 10% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
<感脂化剤>
感脂化剤は、平版印刷版原版から作製される平版印刷版におけるインキの着肉性(以下、単に「着肉性」ともいう)の向上に寄与する。感脂化剤としては、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどが挙げられる。特に、平版印刷版原版が保護層に無機層状化合物を含有する場合、これらの化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制する機能を有する。
感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することがより好ましい。<Fat sensitive agent>
The oil-sensitive agent contributes to the improvement of the inking property (hereinafter, also simply referred to as “meat-setting property”) of the ink in the lithographic printing plate produced from the lithographic printing plate original plate. Examples of the fat sensitive agent include phosphonium compounds, nitrogen-containing small molecule compounds, and ammonium group-containing polymers. In particular, when the lithographic printing plate precursor contains an inorganic layered compound in the protective layer, these compounds function as a surface coating agent for the inorganic layered compound, and have a function of suppressing deterioration of inking property during printing due to the inorganic layered compound. Have.
As the fat-sensing agent, it is preferable to use a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, and an ammonium group-containing polymer in combination, and the phosphonium compound, a quaternary ammonium salt, and an ammonium group-containing polymer are used in combination. Is more preferable.
ホスホニウム化合物としては、特開2006-297907号公報及び特開2007-50660号公報に記載のホスホニウム化合物が挙げられる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4-ビス(トリフェニルホスホニオ)ブタン=ジ(ヘキサフルオロホスファート)、1,7-ビス(トリフェニルホスホニオ)ヘプタン=スルファート、1,9-ビス(トリフェニルホスホニオ)ノナン=ナフタレン-2,7-ジスルホナート等が挙げられる。 Examples of the phosphonium compound include the phosphonium compounds described in JP-A-2006-297907 and JP-A-2007-50660. Specific examples include tetrabutylphosphonium iodide, butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, 1,4-bis (triphenylphosphonio) butane-di (hexafluorophosphate), and 1,7-bis (tri). Phenylphosphonio) heptane-sulfate, 1,9-bis (triphenylphosphonio) nonan-naphthalen-2,7-disulfonate and the like can be mentioned.
含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。また、イミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。中でも、第四級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p-トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、特開2008-284858号公報の段落0021~0037、特開2009-90645号公報の段落0030~0057に記載の化合物等が挙げられる。 Examples of the nitrogen-containing small molecule compound include amine salts and quaternary ammonium salts. Further, imidazolinium salts, benzoimidazolinium salts, pyridinium salts, quinolinium salts and the like can also be mentioned. Of these, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferable. Specific examples include tetramethylammonium = hexafluorophosphate, tetrabutylammonium = hexafluorophosphate, dodecyltrimethylammonium = p-toluenesulfonate, benzyltriethylammonium = hexafluorophosphate, and benzyldimethyloctylammonium = hexafluorophos. Examples thereof include fert, benzyldimethyldodecylammonium = hexafluorophosphate, compounds described in paragraphs 0021 to 0037 of JP-A-2008-284858 and paragraphs 0030 to 0057 of JP-A-2009-90645.
アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すればよく、側鎖にアンモニウム基を有する(メタ)アクリレートを共重合成分として5~80モル%含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開2009-208458号公報の段落0089~0105に記載のポリマーが挙げられる。 The ammonium group-containing polymer may have an ammonium group in its structure, and a polymer containing 5 to 80 mol% of (meth) acrylate having an ammonium group in the side chain as a copolymerization component is preferable. Specific examples thereof include the polymers described in paragraphs 809-0105 of JP-A-2009-208458.
アンモニウム基含有ポリマーは、特開2009-208458号公報に記載の測定方法に従って求められる還元比粘度(単位:ml/g)の値が、5~120の範囲のものが好ましく、10~110の範囲のものがより好ましく、15~100の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を重量平均分子量(Mw)に換算した場合、10,000~150,0000が好ましく、17,000~140,000がより好ましく、20,000~130,000が特に好ましい。 The ammonium group-containing polymer preferably has a reduction specific viscosity (unit: ml / g) in the range of 5 to 120, which is obtained according to the measurement method described in JP-A-2009-208458, and is in the range of 10 to 110. Those in the range of 15 to 100 are particularly preferable. When the reduced specific viscosity is converted into a weight average molecular weight (Mw), it is preferably 10,000 to 150,000, more preferably 17,000 to 140,000, and particularly preferably 20,000 to 130,000.
以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
(1)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90、Mw4.5万)
(2)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(3)2-(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70、Mw4.5万)
(4)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2-エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(5)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60、Mw7.0万)
(6)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比25/75、Mw6.5万)
(7)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.5万)
(8)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13-エチル-5,8,11-トリオキサ-1-ヘプタデカンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw7.5万)
(9)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート/2-ヒドロキシ-3-メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5、Mw6.5万)Specific examples of the ammonium group-containing polymer are shown below.
(1) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (
(2) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (
(3) 2- (Ethyldimethylammonio) Ethylmethacrylate = p-toluenesulfonate / hexylmethacrylate copolymer (
(4) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 2-ethylhexyl methacrylate copolymer (
(5) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = methyl sulfate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 40/60, Mw 7,000,000)
(6) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 25/75, Mw 65,000)
(7) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl acrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (
(8) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = 13-ethyl-5,8,11-trioxa-1-heptadecanesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (
(9) 2- (Butyldimethylammonio) Ethyl Methacrylate = Hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate / 2-Hydroxy-3-methacloyloxypropyl methacrylate copolymer (molar ratio 15/80/5) , Mw 65,000)
感脂化剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.01~30質量%が好ましく、0.1~15質量%がより好ましく、1~10質量%が更に好ましい。 The content of the oil-sensitive agent is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, still more preferably 1 to 10% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.
<その他の成分>
画像記録層は、その他の成分として、界面活性剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機粒子、無機層状化合物等を含有することができる。具体的には、特開2008-284817号公報の段落0114~0159に記載の各成分を用いることができる。<Other ingredients>
The image recording layer can contain a surfactant, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, inorganic particles, an inorganic layered compound and the like as other components. Specifically, each component described in paragraphs 0114 to 0159 of JP-A-2008-284817 can be used.
画像記録層の一つの形態によれば、画像記録層は、赤外線吸収剤、重合性化合物、重合開始剤、並びに、バインダーポリマー及びポリマー粒子の少なくとも1つを含有する。画像記録層は、更に、連鎖移動剤を含有することが好ましい。画像記録層のもう一つの形態によれば、画像記録層は、赤外線吸収剤、熱融着性粒子、及び、バインダーポリマーを含有する。 According to one form of the image recording layer, the image recording layer contains an infrared absorber, a polymerizable compound, a polymerization initiator, and at least one of a binder polymer and polymer particles. The image recording layer preferably further contains a chain transfer agent. According to another form of the image recording layer, the image recording layer contains an infrared absorber, heat-sealing particles, and a binder polymer.
<画像記録層の形成>
画像記録層は、例えば、特開2008-195018号公報の段落0142~0143に記載のように、必要な上記各成分を適宜公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体にバーコーター塗布など公知の方法で塗布、乾燥することにより形成することができる。塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得る観点から、0.3~3.0g/m2程度が好ましい。<Formation of image recording layer>
For the image recording layer, for example, as described in paragraphs 0142 to 0143 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-195018, necessary above-mentioned components are appropriately dispersed or dissolved in a known solvent to prepare a coating liquid, and the coating liquid is prepared. It can be formed by applying it to a support by a known method such as applying a bar coater and drying it. The coating amount (solid content) of the image recording layer after coating and drying varies depending on the application, but from the viewpoint of obtaining good sensitivity and good film characteristics of the image recording layer, it is about 0.3 to 3.0 g / m 2 . Is preferable.
〔支持体吸着性を有する化合物を含有する層〕
機上現像型平版印刷版原版を構成する支持体吸着性を有する化合物を含有する層について記載する。[Layer containing a compound having support adsorptivity]
A layer containing a compound having a support-adsorbing property, which constitutes an on-machine development type lithographic printing plate original plate, will be described.
支持体吸着性を有する化合物(以下、特定化合物ともいう)を含有する層(以下、特定化合物含有層ともいう)は、支持体吸着性を有する化合物を含有する。端部の画像形成性、機上現像性などの特性を低下させることなく、エッジ汚れ防止性を有効に発現させる観点から、特定化合物含有層は印刷機上で印刷インキ及び湿し水から選ばれる少なくとも1つにより除去される性質を有する層であることが好ましい。特定化合物含有層は、特定化合物を容易に溶出させるために、水溶性であることがより好ましい。 The layer (hereinafter, also referred to as a specific compound-containing layer) containing a compound having a support adsorptive property (hereinafter, also referred to as a specific compound) contains a compound having a support adsorptive property. The specific compound-containing layer is selected from printing ink and dampening water on a printing machine from the viewpoint of effectively exhibiting edge stain prevention without deteriorating characteristics such as image formability and on-machine developability of edges. It is preferable that the layer has a property of being removed by at least one. The specific compound-containing layer is more preferably water-soluble in order to easily elute the specific compound.
特定化合物含有層は、特定化合物を含有する連続した層である形態のみならず、特定化合物が非連続に島状に点在するような形態も包含する。 The specific compound-containing layer includes not only a form in which the specific compound is a continuous layer containing the specific compound, but also a form in which the specific compound is discontinuously scattered in an island shape.
特定化合物含有層は、画像記録層の上に存在すればよい。即ち、画像記録層よりも支持体から遠い位置に存在すればよい。例えば、画像記録層に接してその上に存在することが好ましい。 The specific compound-containing layer may be present on the image recording layer. That is, it suffices if it exists at a position farther from the support than the image recording layer. For example, it is preferable that it is in contact with and above the image recording layer.
<支持体吸着性を有する化合物>
特定化合物含有層が含有する支持体吸着性を有する化合物(特定化合物)は、支持体吸着性を有することが、1つの特徴である。ここで、「支持体吸着性」とは、アルミニウム支持体が有する陽極酸化皮膜に対する吸着性を意味する。陽極酸化皮膜に対する吸着性の有無は、以下の方法により、容易に判定することができる。
即ち、試験化合物を易溶性溶媒(例えば、水)に溶解した溶液を調製する。この溶液を乾燥後の塗布量が30mg/m2となるように陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に塗布し乾燥させる。次に試験化合物を塗布したアルミニウム支持体を、上記易溶性溶媒を用いて洗浄と乾燥を5回繰り返した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定する。残存量の測定は、残存する試験化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量し、この値を用いて残存する試験化合物量を算出してもよい。試験化合物の定量は、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定などで実施することができる。
残存量が、1mg/m2以上であれば、試験化合物は、支持体吸着性を有すると判定される。<Compounds with support adsorption>
One of the characteristics of the compound having the support adsorptivity (specific compound) contained in the specific compound-containing layer is that the compound has the support adsorbability. Here, the "support adsorptivity" means the adsorptivity of the aluminum support to the anodic oxide film. The presence or absence of adsorptivity to the anodic oxide film can be easily determined by the following method.
That is, a solution in which the test compound is dissolved in an easily soluble solvent (for example, water) is prepared. This solution is applied onto an aluminum support having an anodic oxide film so that the applied amount after drying is 30 mg / m 2 , and dried. Next, the aluminum support coated with the test compound is washed and dried 5 times using the above-mentioned easily soluble solvent, and then the residual amount of the test compound not removed by washing is measured. The residual amount may be measured by directly quantifying the residual test compound amount, or by quantifying the test compound amount dissolved in the washing solution and using this value to calculate the residual test compound amount. The quantification of the test compound can be carried out, for example, by fluorescent X-ray measurement, reflection spectroscopic absorbance measurement, or the like.
If the residual amount is 1 mg / m 2 or more, the test compound is determined to have support adsorptivity.
特定化合物は、支持体吸着性を有するために、アルミニウム支持体が有する陽極酸化皮膜に対して吸着性を示す基を有することが好ましい。アルミニウム支持体が有する陽極酸化皮膜に対して吸着性を示す基としては、陽極酸化皮膜の表面に存在する物質(例えば、金属、金属酸化物)又は官能基(例えば、水酸基)と、化学結合(例えば、イオン結合、水素結合、配位結合)を形成することができる官能基が挙げられる。このような官能基は当業界でよく知られている。
このような官能基の中で、酸基が好ましい。酸基は、酸解離定数(pKa)が7以下であることが好ましい。酸基の例としては、フェノール性水酸基、カルボキシル基、-SO3H、-OSO3H、-PO3H2、-OPO3H2、-CONHSO2-、-SO2NHSO2-、-COCH2COCH3などが挙げられる。特に、-OPO3H2及び-PO3H2が好ましい。酸基は、塩を形成していてもよい。酸基が形成する塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩などが挙げられる。Since the specific compound has a support adsorptive property, it is preferable that the specific compound has a group that exhibits adsorptivity to the anodic oxide film of the aluminum support. Examples of the group exhibiting adsorptivity to the anodic oxide film of the aluminum support include a chemical bond (for example, a hydroxyl group) with a substance (for example, metal, metal oxide) or a functional group (for example, a hydroxyl group) existing on the surface of the anodic oxide film. For example, functional groups capable of forming ionic bonds, hydrogen bonds, coordination bonds) can be mentioned. Such functional groups are well known in the art.
Among such functional groups, an acid group is preferable. The acid group preferably has an acid dissociation constant (pKa) of 7 or less. Examples of acid groups include phenolic hydroxyl groups, carboxyl groups, -SO 3 H, -OSO 3 H, -PO 3 H 2 , -OPO 3 H 2 , -CONHSO 2- , -SO 2 NHSO 2- , -COCH. 2 COCH 3 and the like can be mentioned. In particular, -OPO 3 H 2 and -PO 3 H 2 are preferable. The acid group may form a salt. Examples of the salt formed by the acid group include an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt, and an ammonium salt.
特定化合物の分子量は、1,000以下であることが好ましい。分子量が1,000以下であることにより、機上現像時に特定化合物が特定化合物含有層から平版印刷版原版の端部における陽極酸化皮膜の表面に移動しやすく、優れたエッジ汚れ防止効果が得られると考えられる。分子量は、好ましくは50~1,000、より好ましくは50~800、更に好ましくは50~600である。 The molecular weight of the specific compound is preferably 1,000 or less. When the molecular weight is 1,000 or less, the specific compound easily moves from the specific compound-containing layer to the surface of the anodic oxide film at the edge of the lithographic printing plate original plate during on-machine development, and an excellent edge stain prevention effect can be obtained. it is conceivable that. The molecular weight is preferably 50 to 1,000, more preferably 50 to 800, and even more preferably 50 to 600.
特定化合物としては、オキソ酸を用いることができる。オキソ酸は、同じ原子にヒドロキシル基(-OH)とオキソ基(=O)が結合し、且つそのヒドロキシル基が酸性プロトンを与える化合物を指す。オキソ酸は塩の形で用いてもよい。塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩などが挙げられる。 Oxyacid can be used as the specific compound. Oxyacid refers to a compound in which a hydroxyl group (-OH) and an oxo group (= O) are bonded to the same atom, and the hydroxyl group gives an acidic proton. Oxyacids may be used in the form of salts. Examples of the salt include alkali metal salts, alkaline earth metal salts, ammonium salts and the like.
特定化合物としては、下記式1で表される化合物も用いることができる。 As the specific compound, a compound represented by the following formula 1 can also be used.
式1中、nは、2~10の整数を表し、R1、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アルキル基又はアルキレンオキシド基を表す。 In formula 1, n represents an integer of 2 to 10, and R1, R2, and R3 independently represent a hydrogen atom, an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt, an ammonium salt, an alkyl group, or an alkylene oxide group. ..
式1におけるアルキル基は、炭素数1~10のアルキル基が好ましく、炭素数1~5のアルキル基がより好ましく、炭素数1~3のアルキル基が更に好ましい。式1におけるアルキレンオキシド基は、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~10個有するアルキレンオキシド基が好ましく、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~5個有するアルキレンオキシド基がより好ましく、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~3個有するアルキレンオキシド基が更に好ましい。 The alkyl group in the formula 1 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and further preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. The alkylene oxide group in the formula 1 is preferably an alkylene oxide group having 1 to 10 alkylene oxide units having 2 or 3 carbon atoms, and more preferably an alkylene oxide group having 1 to 5 alkylene oxide units having 2 or 3 carbon atoms. , An alkylene oxide group having 1 to 3 alkylene oxide units having 2 or 3 carbon atoms is more preferable.
特定化合物の具体例としては、リン酸、ポリリン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ホスフィン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、i-プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、2-ヒドロキシエチルホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、メチルホスホン酸メチル、エチルホスホン酸メチル、2-ヒドロキシエチルホスホン酸メチルなどのアルキルホスホン酸モノアルキルエステル及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、メチレンジホスホン酸、エチレンジホスホン酸等のアルキレンジホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、ヒドロキシエチリデンジホスホン酸、ポリビニルホスホン酸、p-トルエンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホフタル酸、クエン酸などが挙げられる。 Specific examples of the specific compound include phosphoric acid, polyphosphoric acid, metaphosphate, ammonium primary phosphate, ammonium secondary phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium monohydrogen phosphate, potassium primary phosphate, and secondary phosphorus. Potassium acid, sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, phosphinic acid, ethylphosphonic acid, propylphosphonic acid, i-propylphosphonic acid, butylphosphonic acid, hexylphosphonic acid, octylphosphonic acid, dodecylphosphonic acid, octadecylphosphon Alkylphosphonic acid monoalkyl esters such as acids, 2-hydroxyethylphosphonic acid and their sodium or potassium salts, methyl methylphosphonate, methyl ethylphosphonate, 2-hydroxyethylphosphonate and their sodium or potassium salts, Alkylene diphosphonic acids such as methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid and their sodium or potassium salts, hydroxyethylidene diphosphonic acid, polyvinylphosphonic acid, p-toluenesulfonic acid, sodium p-toluenesulfonate, sulfophthalic acid, Examples include citrate.
特定化合物としては、陽極酸化皮膜への吸着性の観点から、リン酸、ポリリン酸、ホスホン酸及びホスフィン酸並びにこれらの塩が特に好ましい。 As the specific compound, phosphoric acid, polyphosphoric acid, phosphoric acid, phosphinic acid and salts thereof are particularly preferable from the viewpoint of adsorptivity to the anodic oxide film.
特定化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
特定化合物含有層における特定化合物の含有量は、20~150mg/m2が好ましく、30~100mg/m2がより好ましく、50~100mg/m2が更に好ましい。
本発明の平版印刷版原版においては、特定化合物の含有量が特定化合物含有層の面内において実質的に同じであることが特徴の1つである。ここで、「特定化合物の含有量が特定化合物含有層の面内において実質的に同じである」とは、特定化合物が特定化合物含有層の面内においてほぼ均一に存在し、平版印刷版原版の中央部と端部において、特定化合物の含有量に実質的な差がないことを意味する。即ち、特定化合物含有層を塗布した際に通常発生し得る特定化合物含有層の面内における特定化合物の含有量差以外には、含有量差がないことを意味する。
従って、本発明は、平版印刷版原版の端部のみに、意図的に特定化合物を適用して、端部における特定化合物の含有量を端部以外の領域における特定化合物の含有量より多くする状態を形成することとは異なる。The specific compound may be used alone or in combination of two or more.
The content of the specific compound in the specific compound-containing layer is preferably 20 to 150 mg / m 2 , more preferably 30 to 100 mg / m 2 , and even more preferably 50 to 100 mg / m 2 .
One of the features of the lithographic printing plate original plate of the present invention is that the content of the specific compound is substantially the same in the plane of the specific compound-containing layer. Here, "the content of the specific compound is substantially the same in the plane of the specific compound-containing layer" means that the specific compound is present almost uniformly in the plane of the specific compound-containing layer, and the lithographic printing plate original plate. It means that there is no substantial difference in the content of the specific compound between the central portion and the edge portion. That is, it means that there is no difference in content other than the difference in the content of the specific compound in the plane of the specific compound-containing layer that can normally occur when the specific compound-containing layer is applied.
Therefore, in the present invention, the specific compound is intentionally applied only to the end portion of the lithographic printing plate original plate so that the content of the specific compound at the end portion is larger than the content of the specific compound in the region other than the end portion. Is different from forming.
特定化合物含有層は、界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤は、特定化合物含有層塗布液の表面張力を調整し、均一な塗布面状を与える効果を有する。
界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤が挙げられる。アニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤が好ましい。アニオン性界面活性剤としては、特開2014-104631号公報の段落番号〔0022〕にアニオン型界面活性剤として記載されている化合物が挙げられる。非イオン性界面活性剤としては、特開2014-104631号公報の段落番号〔0031〕に非イオン型界面活性剤として記載されている化合物が挙げられる。界面活性剤は、必要に応じて、2種類以上を混合して使用することもできる。
特定化合物含有層における界面活性剤の含有量は、5~50mg/m2が好ましく、5~20mg/m2がより好ましく、8~15mg/m2が更に好ましい。The specific compound-containing layer preferably contains a surfactant. The surfactant has the effect of adjusting the surface tension of the specific compound-containing layer coating liquid and giving a uniform coating surface shape.
Examples of the surfactant include anionic surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, and amphoteric surfactants. Anionic surfactants and nonionic surfactants are preferable. Examples of the anionic surfactant include compounds described as anionic surfactants in paragraph No. [0022] of JP-A-2014-104631. Examples of the nonionic surfactant include compounds described as nonionic surfactants in paragraph number [0031] of JP-A-2014-104631. If necessary, two or more kinds of surfactants may be mixed and used.
The content of the surfactant in the specific compound-containing layer is preferably 5 to 50 mg / m 2 , more preferably 5 to 20 mg / m 2 , and even more preferably 8 to 15 mg / m 2 .
特定化合物含有層は、水溶性ポリマーを含有することが好ましい。水溶性ポリマーは、特定化合物含有層のバインダーとして機能する。また、水溶性ポリマーは機上現像時、湿し水などの作用により溶解し、特定化合物を溶出させる効果もある。
水溶性ポリマーとしては、平版印刷版原版の保護層(オーバーコート層と呼ばれることもある。)に用いられる水溶性ポリマーを好適に用いることができる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。水溶性ポリマーは、必要に応じて、2種類以上を混合して使用することもできる。
特定化合物含有層における水溶性ポリマーの含有量は、30~300mg/m2が好ましく、30~150mg/m2がより好ましく、50~120mg/m2が更に好ましい。The specific compound-containing layer preferably contains a water-soluble polymer. The water-soluble polymer functions as a binder for the specific compound-containing layer. In addition, the water-soluble polymer has the effect of dissolving the specific compound by the action of dampening water or the like during on-machine development.
As the water-soluble polymer, a water-soluble polymer used for a protective layer (sometimes referred to as an overcoat layer) of a lithographic printing plate precursor can be preferably used. Specific examples thereof include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly (meth) acrylonitrile, and the like. If necessary, the water-soluble polymer may be used as a mixture of two or more kinds.
The content of the water-soluble polymer in the specific compound-containing layer is preferably 30 to 300 mg / m 2 , more preferably 30 to 150 mg / m 2 , and even more preferably 50 to 120 mg / m 2 .
<特定化合物含有層の形成>
特定化合物含有層は、例えば、必要な各成分を適宜水などの溶剤に溶解して塗布液を調製し、塗布液を画像記録層上に公知の方法で塗布、乾燥することにより形成することができる。
特定化合物含有層は保護層と一体化し、1つの層として画像記録層の上に形成することもできる。このような形態については、後述する保護層において説明する。<Formation of specific compound-containing layer>
The specific compound-containing layer can be formed, for example, by appropriately dissolving each necessary component in a solvent such as water to prepare a coating liquid, applying the coating liquid on an image recording layer by a known method, and drying the coating liquid. can.
The specific compound-containing layer can be integrated with the protective layer and formed on the image recording layer as one layer. Such a form will be described in the protective layer described later.
本発明に係る機上現像型平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある。)を有することができる。 The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to the present invention may have an undercoat layer (sometimes referred to as an intermediate layer) between the image recording layer and the support.
〔下塗り層〕
下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわずに現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。[Undercoat layer]
The undercoat layer strengthens the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed area, and makes it easy for the image recording layer to peel off from the support in the unexposed area, so that the developability is not impaired. Contributes to improving. Further, in the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, which also has an effect of preventing heat generated by the exposure from diffusing to the support and reducing the sensitivity.
下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、2種以上を混合して使用してもよい。 Examples of the compound used for the undercoat layer include polymers having an adsorptive group and a hydrophilic group that can be adsorbed on the surface of the support. In order to improve the adhesion to the image recording layer, a polymer having an adsorptive group and a hydrophilic group and further having a crosslinkable group is preferable. The compound used for the undercoat layer may be a small molecule compound or a polymer. As the compound used for the undercoat layer, two or more kinds may be mixed and used as needed.
下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、-PO3H2、-OPO3H2、-CONHSO2-、-SO2NHSO2-、-COCH2COCH3が好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、当該極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。When the compound used for the undercoat layer is a polymer, a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group and a monomer having a crosslinkable group is preferable.
Adsorbable groups that can be adsorbed on the surface of the support include phenolic hydroxy group, carboxy group, -PO 3 H 2 , -OPO 3 H 2 , -CONHSO 2- , -SO 2 NHSO 2- , -COCH 2 COCH 3 Is preferable. As the hydrophilic group, a sulfo group or a salt thereof, or a salt of a carboxy group is preferable. As the crosslinkable group, an acrylic group, a methacrylic group, an acrylamide group, a methacrylicamide group, an allyl group and the like are preferable.
The polymer may have a polar substituent of the polymer and a crosslinkable group introduced by salt formation with a substituent having a countercharge with the polar substituent and a compound having an ethylenically unsaturated bond. A monomer other than the above, preferably a hydrophilic monomer may be further copolymerized.
具体的には、特開平10-282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2-304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005-238816号、特開2005-125749号、特開2006-239867号、特開2006-215263号の各公報に記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開2005-125749号及び特開2006-188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。Specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A No. 10-282679, and an ethylenic substance described in JP-A-2-304441. A phosphorus compound having a double bond reactive group is preferably mentioned. Crosslinkable groups (preferably ethylenically unsaturated bonding groups) and supports described in JP-A-2005-238816, JP-A-2005-125479, JP-A-2006-239867, and JP-A-2006-215263. Low molecular weight or high molecular weight compounds having functional and hydrophilic groups that interact with the surface are also preferably used.
More preferable examples thereof include polymer polymers having an adsorptive group, a hydrophilic group and a crosslinkable group that can be adsorbed on the surface of the support described in JP-A-2005-125479 and JP-A-2006-188038.
下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー1g当たり、好ましくは0.1~10.0mmol、より好ましくは0.2~5.5mmolである。
下塗り層に用いられるポリマーの質量平均分子量(Mw)は、5,000以上が好ましく、1万~30万がより好ましい。The content of the ethylenically unsaturated bond group in the polymer used for the undercoat layer is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 0.2 to 5.5 mmol per 1 g of the polymer.
The mass average molecular weight (Mw) of the polymer used for the undercoat layer is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000.
下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物(例えば、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6-テトラヒドロキシ-p-キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸など)等を含有してもよい。 In addition to the above-mentioned compound for the undercoat layer, the undercoat layer includes a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, an amino group or a functional group having a polymerization prohibitive ability and a support surface in order to prevent stains over time. Compounds with groups that interact with (eg, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranyl, sulfophthalic acid, hydroxy Ethylethylenediamine triacetic acid, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, etc.) may be contained.
下塗り層は、例えば、必要な各成分を適宜溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製し、塗布液を支持体上に公知の方法で塗布、乾燥することにより形成することができる。下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1~100mg/m2が好ましく、1~30mg/m2がより好ましい。The undercoat layer can be formed, for example, by appropriately dissolving or dispersing each necessary component in a solvent to prepare a coating liquid, applying the coating liquid on a support by a known method, and drying the coating liquid. The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably 0.1 to 100 mg / m 2 and more preferably 1 to 30 mg / m 2 .
本発明に係る機上現像型平版印刷版原版は、特定化合物含有層の上に保護層(オーバーコート層と呼ばれることもある。)を有することができる。あるいは、特定化合物含有層と保護層を一体化し、1つの層として画像記録層の上に形成してもよい。 The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to the present invention may have a protective layer (sometimes referred to as an overcoat layer) on the specific compound-containing layer. Alternatively, the specific compound-containing layer and the protective layer may be integrated and formed as one layer on the image recording layer.
〔保護層〕
保護層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。[Protective layer]
The protective layer has a function of suppressing an image formation inhibitory reaction by blocking oxygen, a function of preventing scratches in the image recording layer, and a function of preventing ablation during high-illuminance laser exposure.
このような特性の保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55-49729号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて、2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005-250216号公報及び特開2006-259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。Protective layers with such properties are described, for example, in US Pat. Nos. 3,458,311 and JP-A-55-49729. As the oxygen low-permeability polymer used for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and if necessary, two or more kinds may be mixed and used. You can also. Specific examples thereof include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly (meth) acrylonitrile, and the like.
As the modified polyvinyl alcohol, an acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group is preferably used. Specific examples thereof include the modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.
保護層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有することが好ましい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式:3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式:A(B,C)2-5D4O10(OH,F,O)2〔ただし、Aは、K、Na、Caのいずれか、B及びCは、Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、Vのいずれかであり、Dは、Si又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。The protective layer preferably contains an inorganic layered compound in order to enhance the oxygen blocking property. The inorganic layered compound is a particle having a thin flat plate shape, for example, a group of mica such as natural mica and synthetic mica, formula: talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite represented by 3MgO · 4SiO · H2O . Examples include light, zirconium phosphate and the like.
The inorganic layered compound preferably used is a mica compound. Examples of the mica compound include formula: A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2 [However, A is any of K, Na, Ca, and B and C are It is any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. ], Mica groups such as natural mica and synthetic mica can be mentioned.
雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母KMg3(AlSi3O10)F2、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si4O10)F2等の非膨潤性雲母、及び、NaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si4O10)F2、Na又はLiテニオライト(Na,Li)Mg2Li(Si4O10)F2、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si4O10)F2等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。In the mica group, natural mica includes muscovite, paragonite, phlogopite, biotite and lepidolite. As synthetic mica, non-swelling mica such as fluorine gold mica KMg 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potash tetrasilicon mica KM g 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilic mica NaMg 2. 5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or Li hectrite (Na, Li) 1/8 Mg 2 / Examples thereof include swelling mica such as 5 Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2 . In addition, synthetic smectites are also useful.
雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。即ち、膨潤性合成雲母は、10~15Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi+、Na+、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがLi+、Na+の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。Among the mica compounds, fluorine-based swelling mica is particularly useful. That is, the swellable synthetic mica has a laminated structure composed of a unit crystal lattice layer having a thickness of about 10 to 15 Å, and the metal atom substitution in the lattice is significantly larger than that of other clay minerals. As a result, the lattice layer causes a positive charge shortage, and in order to compensate for it, cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , and Mg 2+ are adsorbed between the layers. The cations intervening between these layers are called exchangeable cations and can be exchanged with various cations. In particular, when the cations between layers are Li + and Na + , the bond between the layered crystal lattices is weak because the ionic radius is small, and the cations are greatly swollen by water. When share is applied in that state, it easily cleaves and forms a stable sol in water. Swellable synthetic mica has a strong tendency to this and is particularly preferably used.
雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは20以上であり、より好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。 As for the shape of the mica compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the thickness, the better, and the plane size is better as long as it does not impair the smoothness of the coated surface and the permeability of the active light beam. Therefore, the aspect ratio is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the major axis to the thickness of the particle, which can be measured, for example, from a micrograph projection of the particle. The larger the aspect ratio, the greater the effect obtained.
雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは0.3~20μm、より好ましくは0.5~10μm、特に好ましくは1~5μmである。粒子の平均の厚さは、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.05μm以下、特に好ましくは0.01μm以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが1~50nm程度、面サイズ(長径)が1~20μm程度である。 The average major axis of the mica compound is preferably 0.3 to 20 μm, more preferably 0.5 to 10 μm, and particularly preferably 1 to 5 μm. The average thickness of the particles is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less. Specifically, for example, in the case of a swellable synthetic mica which is a typical compound, the preferred embodiment is such that the thickness is about 1 to 50 nm and the surface size (major axis) is about 1 to 20 μm.
無機層状化合物の含有量は、保護層の全固形分に対して、0~60質量%が好ましく、3~50質量%がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。 The content of the inorganic layered compound is preferably 0 to 60% by mass, more preferably 3 to 50% by mass, based on the total solid content of the protective layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, it is preferable that the total amount of the inorganic layered compounds is the above-mentioned content. Oxygen blocking property is improved in the above range, and good sensitivity can be obtained. In addition, it is possible to prevent a decrease in meat-forming property.
保護層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機微粒子など公知の添加物を含有してもよい。また、画像記録層において記載した感脂化剤を保護層に含有させてもよい。 The protective layer may contain known additives such as a plasticizer for imparting flexibility, a surfactant for improving coatability, and inorganic fine particles for controlling the slipperiness of the surface. Further, the protective layer may contain the greasing agent described in the image recording layer.
保護層は、例えば、必要な各成分を適宜溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製し、塗布液を画像記録層上に公知の方法で塗布、乾燥することにより形成することができる。保護層の塗布量(固形分)は、0.01~10g/m2が好ましく、0.02~3g/m2がより好ましく、0.02~1g/m2が特に好ましい。The protective layer can be formed, for example, by appropriately dissolving or dispersing each necessary component in a solvent to prepare a coating liquid, applying the coating liquid on the image recording layer by a known method, and drying the coating liquid. The coating amount (solid content) of the protective layer is preferably 0.01 to 10 g / m 2 , more preferably 0.02 to 3 g / m 2 , and particularly preferably 0.02 to 1 g / m 2 .
上述のように、特定化合物含有層と保護層を一体化し、1つの層として画像記録層の上に形成してもよい。この場合、特定化合物含有層は、例えば、特定化合物含有層及び保護層に必要な各成分を適宜溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製し、塗布液を画像記録層上に公知の方法で塗布、乾燥することにより形成することができる。 As described above, the specific compound-containing layer and the protective layer may be integrated and formed on the image recording layer as one layer. In this case, for the specific compound-containing layer, for example, each component required for the specific compound-containing layer and the protective layer is appropriately dissolved or dispersed in a solvent to prepare a coating liquid, and the coating liquid is applied onto the image recording layer by a known method. It can be formed by applying and drying.
〔平版印刷版原版の端部ダレ形状〕
本発明に係る機上現像型平版印刷版原版は、端部に、ダレ形状を有する。ダレ形状は、ダレ量Xが25~150μm、ダレ幅Yが70~300μmであることが好ましい。[End sagging shape of lithographic printing plate original plate]
The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to the present invention has a sagging shape at the end. As for the sagging shape, it is preferable that the sagging amount X is 25 to 150 μm and the sagging width Y is 70 to 300 μm.
図1は、平版印刷版原版の端部の断面形状を模式的に示す図である。
図1において、平版印刷版原版1はその端部にダレ2を有している。平版印刷版原版1の端面1cの上端(ダレ2と端面1cとの境界点)と、特定化合物含有層面(更に保護層が形成されている場合には保護層面)1aの延長線との距離Xを「ダレ量」といい、平版印刷版原版1の特定化合物含有層面1aがダレ始める点と端面1cの延長線上との距離Yを「ダレ幅」という。FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross-sectional shape of an end portion of a lithographic printing plate original plate.
In FIG. 1, the planographic printing plate original plate 1 has a sagging 2 at its end. Distance X between the upper end of the
端部のダレ量は35μm以上がより好ましく、40μm以上が更に好ましい。ダレ量の上限は、端部表面状態の悪化による機上現像性の劣化を防止する観点から150μmが好ましい。機上現像性が劣化すると残存する画像記録層にインキが付着しエッジ汚れ発生の原因となる。ダレ量が少な過ぎると、端部に付着したインキがブランケットに転写しやすくなりエッジ汚れ発生の原因となる場合がある。ダレ量の範囲が25~150μmの場合、ダレ幅が小さいと、端部におけるクラックの発生が増大し、そこに印刷インキが溜まることによりエッジ汚れの原因となる。このような観点から、ダレ幅は70~300μmの範囲が好ましく、80~250μmの範囲がより好ましい。なお、上記ダレ量とダレ幅の範囲は、平版印刷版原版1の支持体面1bのエッジ形状には関わらない。
通常、平版印刷版原版1の端部において、画像記録層と支持体との境界B、及び、支持体面1bも、特定化合物含有層面1aと同様に、ダレが発生している。The amount of sagging at the end is more preferably 35 μm or more, further preferably 40 μm or more. The upper limit of the amount of sagging is preferably 150 μm from the viewpoint of preventing deterioration of on-machine developability due to deterioration of the surface condition of the end portion. When the on-machine developability deteriorates, ink adheres to the remaining image recording layer and causes edge stains. If the amount of sagging is too small, the ink adhering to the end portion is likely to be transferred to the blanket, which may cause edge stains. When the range of the amount of sagging is 25 to 150 μm, if the sagging width is small, the generation of cracks at the edges increases, and the printing ink accumulates there, which causes edge stains. From such a viewpoint, the sagging width is preferably in the range of 70 to 300 μm, more preferably in the range of 80 to 250 μm. The amount of sagging and the range of sagging width are not related to the edge shape of the
Normally, at the end of the lithographic printing plate original plate 1, the boundary B between the image recording layer and the support and the
上記ダレ形状を有する端部の形成は、例えば、平版印刷版原版の裁断条件を調整することにより行うことができる。
具体的には、平版印刷版原版の裁断時に使用するスリッター装置における上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量、刃先角度などを調整することにより行うことができる。
例えば、図2は、スリッター装置の裁断部を示す概念図である。スリッター装置には、上下一対の裁断刃10、20が左右に配置されている。裁断刃10、20は円板上の丸刃からなり、上側裁断刃10a及び10bは回転軸11に、下側裁断刃20a及び20bは回転軸21に、それぞれ同軸上に支持されている。上側裁断刃10a及び10bと下側裁断刃20a及び20bとは、相反する方向に回転される。平版印刷版原版30は、上側裁断刃10a、10bと下側裁断刃20a,20bとの間を通されて所定の幅に裁断される。スリッター装置の裁断部の上側裁断刃10aと下側裁断刃20aとの隙間及び上側裁断刃10bと下側裁断刃20bとの隙間を調整することによりダレ形状を有する端部を形成することができる。The end portion having the sagging shape can be formed, for example, by adjusting the cutting conditions of the planographic printing plate original plate.
Specifically, this can be performed by adjusting the gap between the upper cutting blade and the lower cutting blade, the biting amount, the cutting edge angle, and the like in the slitter device used when cutting the lithographic printing plate original plate.
For example, FIG. 2 is a conceptual diagram showing a cut portion of a slitter device. A pair of upper and
本発明に係る機上現像型平版印刷版原版においては、エッジ汚れを更に抑制する観点から、ダレ幅Yに相当する領域における、陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率が20%以下であることが好ましい。
ここで、ダレ幅Yに相当する領域とは、上記図1における特定化合物含有層面(更に保護層が形成されている場合には保護層面)1aの延長線と端面1cの延長線との交点から1aの延長線が特定化合物含有層面(更に保護層が形成されている場合には保護層面)の接するまでの領域を意味する。In the machine-developed lithographic printing plate original plate according to the present invention, the area ratio of cracks existing on the surface of the anodic oxide film in the region corresponding to the sagging width Y is 20% or less from the viewpoint of further suppressing edge stains. It is preferable to have.
Here, the region corresponding to the sagging width Y is from the intersection of the extension line of the specific compound-containing layer surface (the protective layer surface when the protective layer is further formed) 1a and the extension line of the
陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率は、以下の方法で算出される。
平版印刷版原版の構成層(下塗り層、画像記録層、特定化合物含有層、保護層)を、ヤマト科学(株)製PlasmaReactorPR300を用いて除去する。露出したアルミニウム支持体の陽極酸化皮膜の表面を、Pt-Pd膜を3nm蒸着して導電処理して試料を作成する。この試料を、(株)日立ハイテクノロジーズ製S-4800型電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)を用いて、加速電圧30kVでSEM観察を行い、観察倍率1,500倍で端部から中央部に向かって連続写真を取得し、150×50μmの画像を得る。この画像に対して、画像処理ソフトにより、クラック部と陽極酸化皮膜層表面の輝度差を利用してクラック形状を抽出、2値化処理を行い、150×50μm範囲におけるクラックの割合を算出し、クラックの面積率とする。The area ratio of cracks existing on the surface of the anodic oxide film is calculated by the following method.
The constituent layers (undercoat layer, image recording layer, specific compound-containing layer, protective layer) of the lithographic printing plate original plate are removed using PlasmaReactor PR300 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd. A sample is prepared by subjecting the surface of the anodic oxide film of the exposed aluminum support to a 3 nm vapor deposition of a Pt-Pd film and conducting a conductive treatment. This sample was observed by SEM at an acceleration voltage of 30 kV using an S-4800 type field emission scanning electron microscope (FE-SEM) manufactured by Hitachi High-Technologies Co., Ltd., and the observation magnification was 1,500 times from the end to the center. A series of photographs are taken toward the section to obtain an image of 150 × 50 μm. For this image, the crack shape is extracted by using the image processing software using the difference in brightness between the crack portion and the surface of the anodized film layer, and binarization processing is performed to calculate the crack ratio in the range of 150 × 50 μm. The area ratio of cracks.
クラックの面積率は、エッジ汚れの発生を防止する観点から、10%以下が特に好ましい。 The area ratio of cracks is particularly preferably 10% or less from the viewpoint of preventing the occurrence of edge stains.
ダレ幅Yに相当する領域における、陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率を10%以下に調整するためには、上記陽極酸化皮膜の陽極酸化皮膜量を0.5~5.0g/m2の範囲に制御することが好ましい。陽極酸化皮膜量は、エッジ汚れを更に抑制する観点から、0.8~1.2g/m2の範囲に制御することがより好ましい。In order to adjust the area ratio of cracks existing on the surface of the anodized film to 10% or less in the region corresponding to the sagging width Y, the amount of the anodized film of the anodized film is 0.5 to 5.0 g / g. It is preferable to control it within the range of m 2 . The amount of the anodic oxide film is more preferably controlled in the range of 0.8 to 1.2 g / m 2 from the viewpoint of further suppressing edge stains.
陽極酸化皮膜の陽極酸化皮膜量は、以下の方法で算出される。
平版印刷版原版の構成層(下塗り層、画像記録層、特定化合物含有層、保護層)を、ヤマト科学(株)製PlasmaReactor PR300を用いて除去する。露出したアルミニウム支持体の陽極酸化皮膜の表面を、蛍光X線分析装置((株)リガク製ZSX PrimusII)で測定し、別途作成した検量線を用いて陽極酸化皮膜の陽極酸化皮膜量(g/m2)を算出する。検量線は蛍光X線分析装置から得られるコンプトン散乱線強度とメイソン法で算出した陽極酸化皮膜量の関係から作成した。メイソン法の測定精度を上げるため、メイソン液は全て新液を用いた。蛍光X線分析の条件は以下のとおりである。X線管球:Rh、測定スペクトル:RhLα、管電圧:50kV、管電流:60mA、スリット:S2、分光結晶:Ge、検出器:PC、分析面積:30mmφ、ピーク位置(2θ):89.510deg.、バックグランド(2θ):87.000deg.及び92.000deg.、積算時間:60秒/sampleThe amount of the anodic oxide film of the anodic oxide film is calculated by the following method.
The constituent layers (undercoat layer, image recording layer, specific compound-containing layer, protective layer) of the lithographic printing plate precursor are removed using PlasmaReactor PR300 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd. The surface of the anodic oxide film of the exposed aluminum support was measured with a fluorescent X-ray analyzer (ZSX PrimusII manufactured by Rigaku Co., Ltd.), and the amount of anodic oxide film (g / g /) of the anodic oxide film was measured using a calibration curve prepared separately. Calculate m 2 ). The calibration curve was created from the relationship between the Compton scattered radiation intensity obtained from the fluorescent X-ray analyzer and the amount of the anodic oxide film calculated by the Mason method. In order to improve the measurement accuracy of the Mason method, all new Mason solutions were used. The conditions for X-ray fluorescence analysis are as follows. X-ray tube: Rh, measurement spectrum: RhLα, tube voltage: 50 kV, tube current: 60 mA, slit: S2, spectroscopic crystal: Ge, detector: PC, analysis area: 30 mmφ, peak position (2θ): 89.510 deg .. , Background (2θ): 87.000deg. And 92.000 deg. , Accumulated time: 60 seconds / sample
陽極酸化皮膜の陽極酸化皮膜量を制御するには、例えば、陽極酸化処理における電解時間を調整する方法が挙げられる。 In order to control the amount of the anodic oxide film of the anodic oxide film, for example, a method of adjusting the electrolysis time in the anodic oxidation treatment can be mentioned.
ダレ幅Yに相当する領域における、陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率を10%以下に調整するためには、上記陽極酸化皮膜の表面に存在するマイクロポアの平均径を5~35nmの範囲に制御することが好ましい。 In order to adjust the area ratio of cracks existing on the surface of the anodic oxide film to 10% or less in the region corresponding to the sagging width Y, the average diameter of the micropores existing on the surface of the anodic oxide film is 5 to 35 nm. It is preferable to control within the range of.
陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は、以下の方法で算出される。
平版印刷版原版の構成層(下塗り層、画像記録層、特定化合物含有層、保護層)を、ヤマト科学(株)製PlasmaReactorPR300を用いて除去する。露出したアルミニウム支持体の陽極酸化皮膜の表面を、カーボン又はPt-Pd膜を3nm蒸着して導電処理して試料を作成する。この試料を、(株)日立ハイテクノロジーズ製S-4800型電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)を用いて、観察倍率150,000倍で端部から中央部に向かって連続写真を取得し、400×600nmの画像を4枚得る。この4枚の画像に存在するマイクロポア90個の直径を測定し、平均してマイクロポアの平均径とする。なお、マイクロポアの形状が円形でない場合には、マイクロポアの投影面積と同じ投影面積を持つ円を想定し、その円の直径をマイクロポアの直径とする。The average diameter of the micropores of the anodic oxide film is calculated by the following method.
The constituent layers (undercoat layer, image recording layer, specific compound-containing layer, protective layer) of the lithographic printing plate original plate are removed by using PlasmaReactor PR300 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd. A sample is prepared by subjecting the surface of the anodic oxide film of the exposed aluminum support to a vapor deposition of carbon or Pt-Pd film at 3 nm and conducting a conductive treatment. Using an S-4800 field emission scanning electron microscope (FE-SEM) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, this sample was continuously photographed from the end to the center at an observation magnification of 150,000 times. , Four images of 400 × 600 nm are obtained. The diameters of 90 micropores present in these four images are measured and averaged to obtain the average diameter of the micropores. When the shape of the micropore is not circular, a circle having the same projected area as the projected area of the micropore is assumed, and the diameter of the circle is defined as the diameter of the micropore.
陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径を制御するには、例えば、ポアワイド処理における処理時間を調整する方法が挙げられる。 In order to control the average diameter of the micropores of the anodic oxide film, for example, a method of adjusting the treatment time in the pore wide treatment can be mentioned.
本発明に係る機上現像型平版印刷版原版は、端部にダレ形状を有することと、画像記録層の上に特定化合物含有層を有することにより、端部の画像形成性、機上現像性などの特性を低下させることなく、長期保存後においても良好なエッジ汚れ防止性を示すことができるという特徴を有する。
更に、本発明に係る機上現像型平版印刷版原版においては、端部に、水溶性化合物を含有する塗布液を塗布するなどの親水化処理を施すことなく、長期保存後においても良好なエッジ汚れ防止性を示すことができるという特徴を有する。
その理由は明らかではないが、以下の通りと推測される。
本発明に係る機上現像型平版印刷版原版は、画像記録層の上に特定化合物含有層を有する。長期保存下において、画像形成層における重合性化合物が、活性種により暗重合を行ったとしても、特定化合物含有層に含まれる特定化合物は、画像記録層とは異なる層に存在しており、画像記録層の影響を受けにくくなっている。そのため、上記特定化合物は、印刷インキ及び湿し水から選ばれる少なくとも1つにより溶出し、機上現像型平版印刷版原版の端部に移動することで、端部を親水化させることができ、エッジ汚れ防止性がより向上するものと推測される。
また、後述の機上現像型平版印刷版ダミー版は、通常、画像記録層を有していないため、長期保存下においても、良好なエッジ汚れ防止性を示すものと推測される。The machine-developing lithographic printing plate original plate according to the present invention has a sagging shape at the end and has a specific compound-containing layer on the image recording layer, so that the image-forming property and the machine-developing property of the edge are formed. It has a feature that it can show good edge stain prevention even after long-term storage without deteriorating such characteristics.
Further, in the machine-developed lithographic printing plate original plate according to the present invention, a good edge is obtained even after long-term storage without subjecting the end portion to a hydrophilization treatment such as applying a coating liquid containing a water-soluble compound. It has the feature of being able to show antifouling properties.
The reason is not clear, but it is presumed to be as follows.
The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to the present invention has a specific compound-containing layer on the image recording layer. Even if the polymerizable compound in the image-forming layer is subjected to dark polymerization with an active species under long-term storage, the specific compound contained in the specific compound-containing layer is present in a layer different from the image recording layer, and the image is imaged. It is less susceptible to the effects of the recording layer. Therefore, the specific compound is eluted with at least one selected from printing ink and dampening water, and moved to the end of the machine-developed lithographic printing plate original plate to make the end hydrophilic. It is presumed that the edge stain prevention property will be further improved.
Further, since the machine-developed planographic printing plate dummy plate described later usually does not have an image recording layer, it is presumed that it exhibits good edge stain prevention even under long-term storage.
[平版印刷版の作製方法]
本発明に係る平版印刷版の作製方法は、本発明に係る平版印刷版原版を画像露光する工程(露光工程)、及び、画像露光後の平版印刷版原版を印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方により、画像記録層の未露光部を除去する工程(機上現像工程)を含む。[How to make a lithographic printing plate]
The method for producing a lithographic printing plate according to the present invention includes a step of image-exposing the lithographic printing plate original plate according to the present invention (exposure step), and printing ink and wetting the lithographic printing plate original plate after image exposure on a printing machine. A step (on-machine development step) of removing an unexposed portion of the image recording layer with at least one of water is included.
〔露光工程〕
画像露光は、デジタルデータを赤外線レーザー等により走査露光する方法により行うことが好ましい。
露光光源の波長は、750~1,400nmが好ましく用いられる。750~1,400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。露光機構は内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。
露光工程はプレートセッターなどにより公知の方法で行うことができる。また、露光装置を備えた印刷機を用いて、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で露光を行ってもよい。[Exposure process]
The image exposure is preferably performed by a method of scanning and exposing digital data with an infrared laser or the like.
The wavelength of the exposure light source is preferably 750 to 1,400 nm. As a light source having a diameter of 750 to 1,400 nm, a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays is suitable. The exposure mechanism may be any of an inner drum method, an outer drum method, a flatbed method and the like.
The exposure step can be performed by a known method using a platesetter or the like. Further, a printing machine provided with an exposure apparatus may be used to mount the lithographic printing plate original plate on the printing machine and then perform exposure on the printing machine.
〔機上現像工程〕
機上現像工程においては、画像露光後の平版印刷版原版に何らの現像処理を施すことなく、印刷機上において印刷インキ及び湿し水を供給して印刷を開始すると、印刷途上の初期の段階で平版印刷版原版の未露光部分が除去され、それに伴って親水性支持体表面が露出し非画像部が形成される。印刷インキ及び湿し水としては、公知の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が用いられる。最初に平版印刷版原版表面に供給されるのは、印刷インキでも湿し水でもよいが、湿し水が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給することが好ましい。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。[In-machine development process]
In the on-machine development process, when printing is started by supplying printing ink and dampening water on the printing machine without performing any development processing on the lithographic printing plate original plate after image exposure, the initial stage during printing is performed. The unexposed portion of the lithographic printing plate original plate is removed, and the surface of the hydrophilic support is exposed accordingly to form a non-image portion. As the printing ink and dampening water, known printing inks and dampening water for lithographic printing are used. The surface of the lithographic printing plate precursor may be supplied with printing ink or dampening water first, but the printing ink is first supplied in order to prevent the dampening water from being contaminated by the removed image recording layer component. Is preferable to supply.
In this way, the lithographic printing plate original plate is developed on the offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.
本発明に係る平版印刷版の作製方法は、上記工程以外に、公知の他の工程を含んでいてもよい。他の工程としては、例えば、各工程の前に平版印刷版原版の位置や向き等を確認する検版工程や、機上現像工程の後に、印刷画像を確認する確認工程等が挙げられる。 The method for producing a lithographic printing plate according to the present invention may include other known steps in addition to the above steps. Examples of other steps include a plate inspection step of confirming the position and orientation of the lithographic printing plate original plate before each step, a confirmation step of confirming a printed image after the on-machine development step, and the like.
[機上現像型平版印刷版ダミー版]
カラーの新聞印刷のような多色印刷の分野において、一部の紙面を2色又は1色で印刷を行う必要がある場合等には、印刷機の版胴の印刷を必要としない部分に、印刷版の代りにダミー版を取り付けて印刷を行うことがある。このようなダミー版は、捨版、水版、ブランク版と称されることもある。
本発明は、ダミー版、具体的には機上現像型平版印刷版ダミー版にも関する。[In-machine development type lithographic printing plate dummy plate]
In the field of multicolor printing such as color newspaper printing, when it is necessary to print a part of the paper surface in two colors or one color, etc., in the part that does not require printing on the plate cylinder of the printing machine, Printing may be performed by attaching a dummy plate instead of the printing plate. Such dummy plates are sometimes referred to as waste plates, water plates, and blank plates.
The present invention also relates to a dummy plate, specifically, an on-machine development type lithographic printing plate dummy plate.
本発明に係る機上現像型平版印刷版ダミー版は、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上にポリマー層を有する機上現像型平版印刷版ダミー版であって、上記平版印刷版ダミー版は端部にダレ形状を有し、上記ポリマー層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、上記化合物の含有量が上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版ダミー版である。 The on-machine development type lithographic printing plate dummy plate according to the present invention is an on-machine development type lithographic printing plate dummy plate having a polymer layer on an aluminum support having an anodized film, and the above-mentioned lithographic printing plate dummy plate is an end. In-plane of the layer having a sagging shape in the portion, having a layer containing a compound having support adsorbability on the polymer layer, and having a content of the compound containing the compound having the support adsorbability. It is an on-board development type lithographic printing plate dummy plate that is substantially the same in the above.
〔陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体〕
機上現像型平版印刷版原版ダミー版を構成する陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体は、特に限定されないが、上記機上現像型平版印刷版原版を構成する陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体と同様のものが挙げられる。[Aluminum support with anodic oxide film]
The aluminum support having an anodic oxide film constituting the machine-developed lithographic printing plate original plate is not particularly limited, but is the same as the aluminum support having an anodic oxide film constituting the above-mentioned machine-developed lithographic printing plate original plate. Can be mentioned.
〔ポリマー層〕
機上現像型平版印刷版ダミー版を構成するポリマー層は、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に存在する。
ポリマー層は、バインダーポリマーを含有することが好ましい。ポリマー層のバインダーポリマーとしては、被膜形成性を有するポリマーが好適である。ポリマー層に含有されるバインダーポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしては、カルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005-250216号及び特開2006-259137号の各公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。[Polymer layer]
The polymer layer constituting the machine-developed planographic printing plate dummy plate exists on an aluminum support having an anodic oxide film.
The polymer layer preferably contains a binder polymer. As the binder polymer of the polymer layer, a polymer having a film-forming property is suitable. Examples of the binder polymer contained in the polymer layer include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, a water-soluble cellulose derivative, poly (meth) acrylonitrile, and the like.
As the modified polyvinyl alcohol, an acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group is preferably used. Specific examples thereof include the modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.
ポリマー層のバインダーポリマーとしては、支持体吸着性基を有する繰り返し単位と親水性基を有する繰り返し単位とを含む水溶性高分子化合物が特に好ましい。これにより、平版印刷版ダミー版自体の機上現像性が向上し、また、エッジ汚れが抑制される。エッジ汚れとは、新聞印刷のように輪転機を用いてロール状の印刷用紙に連続して印刷を行う場合、平版印刷版ダミー版の端部が印刷用紙面内にあるため、端部に付着したインキが印刷用紙に転写されて線状の汚れを生じる現象のことである。 As the binder polymer of the polymer layer, a water-soluble polymer compound containing a repeating unit having a support-adsorbing group and a repeating unit having a hydrophilic group is particularly preferable. As a result, the on-machine developability of the planographic printing plate dummy plate itself is improved, and edge stains are suppressed. Edge stains are those that adhere to the edges of the lithographic printing plate dummy plate because the edges of the lithographic printing plate dummy plate are inside the printing paper surface when printing continuously on roll-shaped printing paper using a rotary machine such as newspaper printing. This is a phenomenon in which the printed ink is transferred to printing paper and causes linear stains.
以下に、支持体吸着性基を有する繰り返し単位と親水性基を有する繰り返し単位とを含む水溶性高分子化合物について詳述する。 Hereinafter, the water-soluble polymer compound containing a repeating unit having a support-adsorbing group and a repeating unit having a hydrophilic group will be described in detail.
(支持体吸着性基)
支持体吸着性基としては、例えば、陽極酸化処理又は親水化処理を施した支持体上に存在する金属、金属酸化物、ヒドロキシ基等とイオン結合形成、水素結合形成、極性相互作用などの相互作用が可能な基が挙げられる。
支持体吸着性基の具体例を以下に挙げる。(Support adsorptive group)
Examples of the support adsorptive group include mutual ionic bond formation, hydrogen bond formation, polar interaction, etc. with metals, metal oxides, hydroxy groups, etc. existing on the support subjected to anodization treatment or hydrophilization treatment. Examples include groups capable of action.
Specific examples of the support adsorptive group are given below.
式中、M1及びM2はそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属に含まれる金属原子又はアンモニウム基を表す。耐汚れ性の観点から、支持体吸着性基は、ホスホン酸基、リン酸基、カルボン酸基及びこれらの塩から選ばれる少なくとも1つの基であることが好ましい。支持体吸着性基は、ホスホン酸基もしくはその塩(構造1)、リン酸エステル基もしくはその塩(構造2)、カルボン酸基もしくはその塩であることがより好ましく、リン酸エステル基もしくはその塩又はホスホン酸基もしくはその塩であることが更に好ましい。
支持体吸着性基を有する繰り返し単位は、具体的には下記一般式(B1)で表されることが好ましい。In the formula, M 1 and M 2 independently represent a hydrogen atom, a metal atom contained in an alkali metal or an alkaline earth metal, or an ammonium group. From the viewpoint of stain resistance, the support adsorptive group is preferably at least one group selected from a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, a carboxylic acid group and salts thereof. The support adsorptive group is more preferably a phosphonic acid group or a salt thereof (Structure 1), a phosphate ester group or a salt thereof (Structure 2), a carboxylic acid group or a salt thereof, and a phosphoric acid ester group or a salt thereof. Alternatively, it is more preferably a phosphonic acid group or a salt thereof.
The repeating unit having a support-adsorbing group is preferably represented by the following general formula (B1).
式(B1)中、Ra~Rcは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基又はハロゲン原子を表す。Qは支持体吸着性基を表し、好ましい態様は上述したものと同じである。
Lは、単結合又は2価の連結基を表す。2価の連結基は、1から60個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から100個までの水素原子、及び0個から20個までの硫黄原子から成り、より具体的には、下記の構造単位又はこれらが組み合わさって構成されるものを挙げることができる。In the formula (B1 ), Ra to R c independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. Q represents a support adsorptive group, and the preferred embodiment is the same as described above.
L represents a single bond or a divalent linking group. Divalent linking groups are 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 to 0. It is composed of up to 20 sulfur atoms, and more specifically, the following structural units or those composed of a combination thereof can be mentioned.
上記構造において、Rd及びReは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基又はハロゲン原子を表す。nは1~4の整数を表す。In the above structure, R d and Re each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a halogen atom. n represents an integer of 1 to 4.
以下に、支持体吸着性基を有する繰り返し単位の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the repeating unit having a support-adsorbing group are shown below, but the present invention is not limited thereto.
上記高分子化合物は、支持体吸着性基を1種のみ有していても、2種以上有していてもよい。
支持体吸着性基を有する繰り返し単位の含有量は、高分子化合物の全繰り返し単位に対して、2~80モル%が好ましく、2~70モル%がより好ましく、5~50モル%が更に好ましく、10~40モル%が特に好ましい。The polymer compound may have only one type of support-adsorbing group or may have two or more types.
The content of the repeating unit having a support-adsorptive group is preferably 2 to 80 mol%, more preferably 2 to 70 mol%, still more preferably 5 to 50 mol%, based on all the repeating units of the polymer compound. 10-40 mol% is particularly preferred.
(親水性基)
上記高分子化合物は、アルミニウム支持体支持体表面の親水性を高めて、エッチ汚れを抑制するために、親水性基を有する繰り返し単位を有する。
親水性基の具体例を以下に挙げる。(Hydrophilic group)
The polymer compound has a repeating unit having a hydrophilic group in order to increase the hydrophilicity of the surface of the aluminum support support and suppress etch stains.
Specific examples of hydrophilic groups are given below.
上式中、M1は水素原子、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属に含まれる金属原子又はアンモニウム基を表す。
X+は、-N+R1R2-、-S+R1-、-I+-、-P+R1R2-で示される基を表す。
R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、R3はアルキレン基を表し、R4はアルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。
nは1~100の整数を表す。Lは前述のLと同義である。In the above formula, M 1 represents a hydrogen atom, a metal atom contained in an alkali metal or an alkaline earth metal, or an ammonium group.
X + represents a group represented by -N + R 1 R 2- , -S + R 1- , -I + -, -P + R 1 R 2- .
R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group or an alkynyl group, R 3 represents an alkylene group, and R 4 represents an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group or an alkynyl group. Represents.
n represents an integer from 1 to 100. L is synonymous with the above-mentioned L.
親水性基としては、水との親和性が高くなる官能基であれば何れも好適に使用することができるが、スルホン酸(塩)基、アミド基、ポリアルキレンオキシド基、ヒドロキシル基、硫酸モノエステル(塩)基、スルホンアミド基、アミノ基、硫酸モノアミド(塩)基、ベタイン構造が好ましく、スルホン酸(塩)基、アミド基、ポリアルキレンオキシド基、ヒドロキシル基、硫酸モノエステル(塩)基、スルホンアミド基、アミノ基、硫酸モノアミド(塩)基、ベタイン構造がより好ましく、スルホン酸(塩)基、アミド基、ポリアルキレンオキシド基、ヒドロキシル基、ベタイン構造が特に好ましい。
親水性基は、スルホン酸基及びその塩、アミド基並びにベタイン構造から選ばれる少なくとも1つの基又は構造であることが特に好ましい。As the hydrophilic group, any functional group having a high affinity with water can be preferably used, but a sulfonic acid (salt) group, an amide group, a polyalkylene oxide group, a hydroxyl group, and a sulfate mono Ester (salt) group, sulfonamide group, amino group, sulfate monoamide (salt) group, betaine structure are preferable, sulfonic acid (salt) group, amide group, polyalkylene oxide group, hydroxyl group, sulfate monoester (salt) group. , Sulfonamide group, amino group, sulfate monoamide (salt) group and betaine structure are more preferable, and sulfonic acid (salt) group, amide group, polyalkylene oxide group, hydroxyl group and betaine structure are particularly preferable.
The hydrophilic group is particularly preferably at least one group or structure selected from a sulfonic acid group and a salt thereof, an amide group and a betaine structure.
親水性基を有する繰り返し単位は、具体的には下記一般式(B2)で表されることが好ましい。 The repeating unit having a hydrophilic group is preferably represented by the following general formula (B2).
式(B2)中、Ra~Rcは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基又はハロゲン原子を表す。Lは前述のLと同義である。Wは親水性基を表し、好ましい態様は上述したものと同じである。In the formula (B2 ), Ra to R c independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. L is synonymous with the above-mentioned L. W represents a hydrophilic group, and preferred embodiments are the same as those described above.
以下に、親水性基を有する繰り返し単位の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the repeating unit having a hydrophilic group are shown below, but the present invention is not limited thereto.
上記高分子化合物は、親水性基を1種のみ有していても、2種以上有していてもよい。
親水性基を有する繰り返し単位の含有量は、高分子化合物の全繰り返し単位に対して、30~98モル%が好ましく、40~90モル%がより好ましく、50~90モル%が更に好ましい。The polymer compound may have only one type of hydrophilic group or two or more types.
The content of the repeating unit having a hydrophilic group is preferably 30 to 98 mol%, more preferably 40 to 90 mol%, still more preferably 50 to 90 mol%, based on all the repeating units of the polymer compound.
(その他の繰り返し単位)
上記高分子化合物は、上記支持体吸着性基を有する繰り返し単位及び親水性基を有する繰り返し単位以外に、他の繰り返し単位(以下、単に、「その他の繰り返し単位」ということもある。)を有する共重合体であってもよい。その他の繰り返し単位としては、既知の種々のモノマーに由来する繰り返し単位を挙げることができる。(Other repeating units)
The polymer compound has other repeating units (hereinafter, may be simply referred to as “other repeating units”) in addition to the repeating unit having a support-adsorbing group and the repeating unit having a hydrophilic group. It may be a copolymer. Other repeating units include repeating units derived from various known monomers.
上記高分子化合物は、例えば、支持体吸着性基を有する繰り返し単位、親水性基を有する繰り返し単位の他に、(メタ)アクリル酸アルキル又はアラルキルエステルに対応する繰り返し単位、(メタ)アクリルアミド又はその誘導体に対応する繰り返し単位、α-ヒドロキシメチルアクリレートに対応する繰り返し単位、スチレン誘導体に対応する繰り返し単位を有していてもよい。
(メタ)アクリル酸アルキルエステルのアルキル基は、好ましくは炭素数1~5のアルキル基、炭素数2~8の前述の置換基を有するアルキル基であり、メチル基がより好ましい。(メタ)アクリル酸アラルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸ベンジル等が挙げられる。
(メタ)アクリルアミド誘導体としては、N-イソプロピルアクリルアミド、N-フェニルメタクリルアミド、N-(4-メトキシカルボニルフェニル)メタアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、モルホリノアクリルアミド等が挙げられる。
α-ヒドロキシメチルアクリレートとしては、α-ヒドロキシメチルアクリル酸エチル、α-ヒドロキシメチルアクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。
スチレン誘導体としては、スチレン、4-tertブチルスチレン等が挙げられる。The polymer compound may be, for example, a repeating unit having a support-adsorbing group, a repeating unit having a hydrophilic group, a repeating unit corresponding to an alkyl (meth) acrylate or an aralkyl ester, (meth) acrylamide or a repeating unit thereof. It may have a repeating unit corresponding to a derivative, a repeating unit corresponding to α-hydroxymethyl acrylate, and a repeating unit corresponding to a styrene derivative.
The alkyl group of the (meth) acrylic acid alkyl ester is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and the above-mentioned substituent having 2 to 8 carbon atoms, and a methyl group is more preferable. Examples of the (meth) acrylic acid aralkyl ester include benzyl (meth) acrylic acid.
Examples of the (meth) acrylamide derivative include N-isopropylacrylamide, N-phenylmethacrylamide, N- (4-methoxycarbonylphenyl) metaacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, morpholinoacrylamide and the like.
Examples of the α-hydroxymethyl acrylate include ethyl α-hydroxymethyl acrylate and cyclohexyl α-hydroxymethyl acrylate.
Examples of the styrene derivative include styrene and 4-tert-butyl styrene.
その他の繰り返し単位の含有量は、上記高分子化合物の全繰り返し単位に対して、40モル%以下が好ましく、30モル%がより好ましく、20モル%以下が更に好ましい。 The content of the other repeating units is preferably 40 mol% or less, more preferably 30 mol%, still more preferably 20 mol% or less, based on all the repeating units of the polymer compound.
上記高分子化合物は、上記支持体吸着性基としてホスホン酸基、リン酸基、カルボン酸基及びこれらの塩から選ばれる少なくとも1つの基を有する繰り返し単位と、上記親水性基としてスルホン酸基及びその塩、アミド基並びにベタイン構造から選ばれる少なくとも1つの基又は構造を有する繰り返し単位とを含む共重合体であることが特に好ましい。 The polymer compound has a repeating unit having at least one group selected from a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, a carboxylic acid group and a salt thereof as the support adsorptive group, and a sulfonic acid group as the hydrophilic group. Particularly preferred is a copolymer comprising the salt, an amide group and a repeating unit having at least one group or structure selected from the betaine structure.
ポリマー層に含有されるバインダーポリマーは、1種類を単独で使用してもよいし、2種類以上を混合して使用してもよい。
ポリマー層は、1層であってもよく、2層以上存在しても良い。
ポリマー層におけるバインダーポリマーの含有量は、ポリマー層の全固形分に対して、10~100質量%が好ましく、30~95質量%がより好ましく、40~90質量%が更に好ましい。As the binder polymer contained in the polymer layer, one kind may be used alone, or two or more kinds may be mixed and used.
The polymer layer may be one layer or two or more layers.
The content of the binder polymer in the polymer layer is preferably 10 to 100% by mass, more preferably 30 to 95% by mass, still more preferably 40 to 90% by mass, based on the total solid content of the polymer layer.
〔下塗り層〕
本発明に係る機上現像型平版印刷版ダミー版は、ポリマー層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある。)を有することができる。
下塗り層としては、特に限定されないが、上記機上現像型平版印刷版原版が、画像記録層と支持体との間に有しても良い上記下塗り層(中間層と呼ばれることもある。)を挙げることができる。上記下塗り層がポリマーを含有することにより、下塗り層はポリマー層に該当する。[Undercoat layer]
The machine-developed planographic printing plate dummy plate according to the present invention may have an undercoat layer (sometimes referred to as an intermediate layer) between the polymer layer and the support.
The undercoat layer is not particularly limited, but the undercoat layer (sometimes referred to as an intermediate layer) that the machine-developed planographic printing plate original plate may have between the image recording layer and the support is provided. Can be mentioned. Since the undercoat layer contains a polymer, the undercoat layer corresponds to a polymer layer.
〔支持体吸着性を有する化合物を含有する層〕
本発明に係る機上現像型平版印刷版ダミー版は、上記ポリマー層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有する。
機上現像型平版印刷版ダミー版を構成する支持体吸着性を有する化合物を含有する層は、上記機上現像型平版印刷版原版を構成する支持体吸着性を有する化合物を含有する層と同様である。[Layer containing a compound having support adsorptivity]
The on-machine development type lithographic printing plate dummy plate according to the present invention has a layer containing a compound having support-adsorbing property on the polymer layer.
The layer containing the compound having the support adsorptive property constituting the machine-developed lithographic printing plate dummy plate is the same as the layer containing the compound having the support adsorptive property constituting the above-mentioned machine-developing lithographic printing plate original plate. Is.
〔保護層〕
本発明に係る機上現像型平版印刷版ダミー版は、支持体吸着性を有する化合物を含有する層(特定化合物含有層)の上に保護層(オーバーコート層と呼ばれることもある。)を有することができる。あるいは、支持体吸着性を有する化合物を含有する層と保護層を一体化し、1つの層として支持体吸着性を有する化合物を含有する層の上に形成してもよい。
機上現像型平版印刷版ダミー版が有しても良い保護層は、上記機上現像型平版印刷版原版が有しても良い保護層と同様である。
上述のように、支持体吸着性を有する化合物を含有する層と保護層を一体化し、1つの層としてポリマー層の上に形成してもよい。この場合、支持体吸着性を有する化合物を含有する層は、例えば、支持体吸着性を有する化合物を含有する層及び保護層に必要な各成分を適宜溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製し、塗布液を画像記録層上に公知の方法で塗布、乾燥することにより形成することができる。[Protective layer]
The on-machine development type lithographic printing plate dummy plate according to the present invention has a protective layer (sometimes referred to as an overcoat layer) on a layer containing a compound having a support-adsorbing property (specific compound-containing layer). be able to. Alternatively, the layer containing the compound having the support-adsorbing property and the protective layer may be integrated and formed as one layer on the layer containing the compound having the support-adsorbing property.
The protective layer that the machine-developed lithographic printing plate dummy plate may have is the same as the protective layer that the machine-developed lithographic printing plate original plate may have.
As described above, the layer containing the compound having the support-adsorbing property and the protective layer may be integrated and formed on the polymer layer as one layer. In this case, for the layer containing the compound having the support adsorptive property, for example, each component required for the layer containing the compound having the support adsorbability and the protective layer is appropriately dissolved or dispersed in a solvent to prepare a coating liquid. Then, the coating liquid can be formed by applying the coating liquid on the image recording layer by a known method and drying it.
〔機上現像型平版印刷版ダミー版の端部ダレ形状〕
本発明に係る機上現像型平版印刷版ダミー版は、端部に、ダレ形状を有する。
上記ダレ形状としては、上記機上現像型平版印刷版原版が、端部に有する、ダレ形状として記載したダレ形状と同様である。[Dripping shape at the end of the machine-developed planographic printing plate dummy plate]
The on-machine development type lithographic printing plate dummy plate according to the present invention has a sagging shape at the end.
The sagging shape is the same as the sagging shape described as the sagging shape that the machine-developed planographic printing plate original plate has at the end.
〔印刷方法〕
本発明に係る印刷方法は、上記機上現像型平版印刷版ダミー版、及び、アルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版を機上現像する工程を含む。
より具体的には、本発明に係る印刷方法は、印刷機の同一の版胴上に取り付けられた、上記機上現像型平版印刷版ダミー版、及び、アルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版を機上現像する工程を含む。[Printing method]
The printing method according to the present invention includes the above-mentioned on-machine development type lithographic printing plate dummy plate and the step of on-machine developing the on-machine developing type lithographic printing plate original plate having an image recording layer on an aluminum support.
More specifically, the printing method according to the present invention has the on-machine development type lithographic printing plate dummy plate mounted on the same plate cylinder of the printing machine, and an image recording layer on an aluminum support. On-machine development type lithographic printing plate Includes the process of on-machine development of the original plate.
本発明の係る印刷方法においては、例えば、印刷機の同一の版胴上に、上記機上現像型平版印刷版ダミー版及び上記機上現像型平版印刷版原版を取り付ける。印刷機としては、例えば、新聞用オフセット輪転印刷機((株)東京機械製作所製や三菱重工業(株)製など)が用いられる。
その後、通常の方法で、印刷を行う。即ち、湿し水と印刷インキとを供給すると、供給された湿し水及び/又は印刷インキによって、機上現像型平版印刷版ダミー版及び機上現像型平版印刷版原版の構成層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性のアルミニウム支持体表面又は親水性の下塗り層成分が表面に吸着したアルミニウム支持体が露出する。その結果、湿し水は露出した親水性の表面に付着し、印刷インキの付着は阻止される。
ここで、最初に機上現像型平版印刷版ダミー版及び機上現像型平版印刷版原版の表面に供給されるのは、湿し水でもよく印刷インキでもよいが、湿し水を浸透させ構成層の機上現像性を促進するために、最初に湿し水を供給することが好ましい。In the printing method according to the present invention, for example, the above-mentioned machine-developing lithographic printing plate dummy plate and the above-mentioned machine-developing lithographic printing plate original plate are mounted on the same plate cylinder of the printing machine. As the printing machine, for example, an offset rotary printing machine for newspapers (manufactured by Tokyo Kikai Seisakusho Co., Ltd., Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., etc.) is used.
After that, printing is performed by a normal method. That is, when the dampening water and the printing ink are supplied, the constituent layers of the machine-developed lithographic printing plate dummy plate and the machine-developed lithographic printing plate original plate are melted or dissolved by the supplied dampening water and / or the printing ink. The surface is dispersed and removed, and the surface of the hydrophilic aluminum support or the aluminum support on which the hydrophilic undercoat layer component is adsorbed on the surface is exposed. As a result, the dampening water adheres to the exposed hydrophilic surface, and the adhesion of the printing ink is prevented.
Here, the surface of the machine-developed lithographic printing plate dummy plate and the machine-developing lithographic printing plate original plate may be supplied first with dampening water or printing ink, but is configured by permeating the fountain solution. In order to promote the on-machine developability of the layer, it is preferable to supply dampening water first.
上記機上現像型平版印刷版原版は、印刷機の版胴上に取り付けられる前に、常法に従って画像露光される。画像露光は、デジタルデータを赤外線レーザー等により走査露光する方法により行うことが好ましい。
露光光源の波長は、750~1,400nmが好ましく用いられる。750~1,400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。露光機構は内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。
画像露光はプレートセッターなどにより公知の方法で行うことができる。また、露光装置を備えた印刷機を用いて、上記機上現像型平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で露光を行ってもよい。The machine-developed lithographic printing plate original plate is image-exposed according to a conventional method before being mounted on the plate cylinder of the printing machine. The image exposure is preferably performed by a method of scanning and exposing digital data with an infrared laser or the like.
The wavelength of the exposure light source is preferably 750 to 1,400 nm. As a light source having a diameter of 750 to 1,400 nm, a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays is suitable. The exposure mechanism may be any of an inner drum method, an outer drum method, a flatbed method and the like.
Image exposure can be performed by a known method using a platesetter or the like. Further, using a printing machine equipped with an exposure device, the on-machine development type lithographic printing plate original plate may be mounted on the printing machine and then exposed on the printing machine.
上記印刷方法に用いられる機上現像型平版印刷版原版は、アルミニウム支持体上に画像記録層を有する。
アルミニウム支持体としては、平版印刷版原版に用いられる公知のアルミニウム支持体(アルミニウム合金支持体を含む)が用いられる。なかでも、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましく用いられる。
アルミニウム支持体としては、特に限定されないが、上記「陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、平版印刷版原版は端部にダレ形状を有し、画像記録層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、化合物の含有量が支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版」における「陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体」と同様のものを挙げることができる。The on-board development type lithographic printing plate original plate used in the above printing method has an image recording layer on an aluminum support.
As the aluminum support, a known aluminum support (including an aluminum alloy support) used for the lithographic printing plate original plate is used. Among them, an aluminum plate that has been roughened and anodized by a known method is preferably used.
The aluminum support is not particularly limited, but is the above-mentioned "on-machine development type lithographic printing plate original plate having an image recording layer on an aluminum support having an anodic oxide film, and the lithographic printing plate original plate has a sagging shape at the end. The image recording layer has a layer containing a compound having a support-adsorbing property, and the content of the compound is substantially the same in the plane of the layer containing the compound having a support-adsorbing property. The same as "aluminum support having an anodic oxide film" in "a certain on-board development type lithographic printing plate original plate" can be mentioned.
上記印刷方法に用いられる機上現像型平版印刷版原版における画像記録層としては、特に限定されないが、上記「陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、平版印刷版原版は端部にダレ形状を有し、画像記録層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、化合物の含有量が上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版」における画像記録層で記載したものと同様のものを挙げることができる。 The image recording layer in the on-board development type lithographic printing plate original plate used in the above printing method is not particularly limited, but the above-mentioned "on-machine development type lithographic printing plate having an image recording layer on an aluminum support having an anodic oxide film" is not particularly limited. It is an original plate, and the lithographic printing plate original plate has a sagging shape at the end, has a layer containing a compound having support adsorbability on the image recording layer, and the content of the compound is the support adsorbability. The same as those described in the image recording layer in the "on-machine development type lithographic printing plate original plate" which is substantially the same in the plane of the layer containing the compound having the above can be mentioned.
上記印刷方法に用いられる機上現像型平版印刷版原版における画像記録層は、重合開始剤を含有することが好ましい。
重合開始剤としては、特に限定されないが、上記「陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、平版印刷版原版は端部にダレ形状を有し、画像記録層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、化合物の含有量が前支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版」における画像記録層に含有されても良い重合開始剤にて記載したものと同様のものを挙げることができるThe image recording layer in the machine-developed lithographic printing plate precursor used in the above printing method preferably contains a polymerization initiator.
The polymerization initiator is not particularly limited, but is the above-mentioned "on-machine development type flat plate printing plate original plate having an image recording layer on an aluminum support having an anodized film, and the flat plate printing plate original plate has a sagging shape at the end. And has a layer containing a compound having support adsorbability on the image recording layer, and the content of the compound is substantially the same in the plane of the layer containing the compound having pre-support adsorbability. The same as those described in the polymerization initiator that may be contained in the image recording layer in the “on-board development type flat plate printing plate original plate” can be mentioned.
上記印刷方法に用いられる機上現像型平版印刷版原版における画像記録層は、有機ホウ素含有アニオンを含む重合開始剤を含有することも好ましい。 It is also preferable that the image recording layer in the on-board development type lithographic printing plate original plate used in the above printing method contains a polymerization initiator containing an organoboron-containing anion.
有機ホウ素含有アニオンを含む重合開始剤において、有機ホウ素含有アニオンとしては、テトラアリールボレートアニオンが好ましい。
テトラアリールボレートアニオンは、下記一般式(I)で表される。In the polymerization initiator containing an organoboron-containing anion, the tetraarylborate anion is preferable as the organoboron-containing anion.
The tetraarylborate anion is represented by the following general formula (I).
一般式(I)
一般式(I)中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立に、炭素数6~20のアリール基又は炭素数5~20のヘテロアリール基を表す。アリール基及びヘテロアリール基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基等が挙げられる。
アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ジュリル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ナフチル等が挙げられる。ヘテロアリール基の具体例としては、ピリジル基、ピリミジル基、フラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、インドリル基、キノリニル基、オキサジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基等が挙げられる。
一般式(I)において、R1、R2、R3及びR4は、置換又は無置換のフェニル基であることが好ましい。R1、R2、R3及びR4の少なくとも3つが、同一の置換又は無置換のフェニル基であることがより好ましい。In the general formula (I), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 independently represent an aryl group having 6 to 20 carbon atoms or a heteroaryl group having 5 to 20 carbon atoms. Aryl groups and heteroaryl groups may have substituents. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group and the like.
Specific examples of the aryl group include phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, juryl group, methoxyphenyl group, dimethoxyphenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, pentafluorophenyl group and naphthyl. And so on. Specific examples of the heteroaryl group include a pyridyl group, a pyrimidyl group, a furanyl group, a pyrrolyl group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a tetrazolyl group, an indolyl group, a quinolinyl group, an oxadiazolyl group, a benzoxazolyl group and the like.
In the general formula (I), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are preferably substituted or unsubstituted phenyl groups. It is more preferred that at least three of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same substituted or unsubstituted phenyl group.
有機ホウ素含有アニオンを含む重合開始剤において、有機ホウ素含有アニオンの対イオンを形成するカチオンとしては、ヨードニウムカチオンが好ましく、特に、ジアリールヨードニウムカチオンが好ましい。ジアリールヨードニウムカチオンとしては、米国特許第7,524,614号明細書の構造(I)で表される化合物が好適である。 In the polymerization initiator containing an organic boron-containing anion, an iodonium cation is preferable as a cation forming a counterion of the organic boron-containing anion, and a diaryliodonium cation is particularly preferable. As the diallyl iodonium cation, the compound represented by the structure (I) of US Pat. No. 7,524,614 is suitable.
有機ホウ素含有アニオンを含む重合開始剤の中で、有機ホウ素含有アニオン及びジアリールヨードニウムカチオンを含むヨードニウム化合物が好ましい。
有機ホウ素含有アニオン及びジアリールヨードニウムカチオンを含むヨードニウム化合物の具体例としては、4-オクチルオキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、[4-[(2-ヒドロキシテトラデシル)オキシ]フェニル]フェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、ビス(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウムテトラフェニルボレート、4-メチルフェニル-4’-ヘキシルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、4-メチルフェニル-4’-シクロヘキシルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、ビス(tert-ブチルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4-ヘキシルフェニルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、4-シクロヘキシルフェニルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、2-メチル-4-tert-ブチルフェニル-4’-メチルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、4-メチルフェニル-4’-ドデシルフェニルヨードニウムテトラキス(4-フルオロフェニル)ボレート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、及びビス(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウムテトラキス(1-イミダゾリル)ボレート等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中で、ビス(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウムテトラフェニルボレート、4-メチルフェニル-4’-ヘキシルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、2-メチル-4-tert-ブチルフェニル-4’-メチルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレート、及び4-メチルフェニル-4’-シクロヘキシルフェニルヨードニウムテトラフェニルボレートが好ましい。Among the polymerization initiators containing an organoboron-containing anion, an iodonium compound containing an organoboron-containing anion and a diallyl iodonium cation is preferable.
Specific examples of the iodonium compound containing an organic boron-containing anion and a diaryliodonium cation include 4-octyloxyphenylphenyliodonium tetraphenylborate, [4-[(2-hydroxytetradecyl) oxy] phenyl] phenyliodonium tetraphenylborate, Bis (4-tert-butylphenyl) iodonium tetraphenylborate, 4-methylphenyl-4'-hexylphenyl iodonium tetraphenylborate, 4-methylphenyl-4'-cyclohexylphenyliodonium tetraphenylborate, bis (tert-butylphenyl) ) Iodium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 4-hexylphenylphenyliodonium tetraphenylborate, 4-cyclohexylphenylphenyliodonium tetraphenylborate, 2-methyl-4-tert-butylphenyl-4'-methylphenyliodonium tetraphenylborate , 4-Methylphenyl-4'-dodecylphenyl iodonium tetrakis (4-fluorophenyl) borate, bis (dodecylphenyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and bis (4-tert-butylphenyl) iodonium tetrakis (1- Imidazolyl) Borate and the like, but are not limited to these. Among these, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium tetraphenylborate, 4-methylphenyl-4'-hexylphenyl iodonium tetraphenylborate, 2-methyl-4-tert-butylphenyl-4'-methylphenyl Iodonium tetraphenylborate and 4-methylphenyl-4'-cyclohexylphenyliodonium tetraphenylborate are preferred.
有機ホウ素含有アニオンを含む重合開始剤は、1種類を単独で使用してもよいし、2種類以上を混合して使用してもよい。
有機ホウ素含有アニオンを含む重合開始剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して0.1~50質量%が好ましく、0.5~30質量%がより好ましく、0.8~20質量%が特に好ましい。As the polymerization initiator containing an organoboron-containing anion, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
The content of the polymerization initiator containing the organoboron-containing anion is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and 0.8 to 20% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Mass% is particularly preferred.
上記印刷方法に用いられる機上現像型平版印刷版原版における画像記録層は、ポリマー粒子を含有することが好ましい。
ポリマー粒子としては、特に限定されないが、上記「陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、平版印刷版原版は端部にダレ形状を有し、画像記録層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、化合物の含有量が支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版」における画像記録層に含有されても良いポリマー粒子にて記載したものと同様のものを挙げることができるThe image recording layer in the machine-developed lithographic printing plate precursor used in the above printing method preferably contains polymer particles.
The polymer particles are not particularly limited, but are the above-mentioned "on-machine development type lithographic printing plate original plate having an image recording layer on an aluminum support having an anodic oxide film, and the lithographic printing plate original plate has a sagging shape at the end. It has a layer containing a compound having support adsorbability on the image recording layer, and the content of the compound is substantially the same in the plane of the layer containing the compound having support adsorbability. Examples of the same as those described in the polymer particles that may be contained in the image recording layer in the "on-machine development type lithographic printing plate original plate" can be mentioned.
上記ポリマー粒子は、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体の粒子であることが好ましい。
上記ポリマー粒子が、ミクロゲルであることが好ましい。The polymer particles are preferably copolymer particles containing styrene and acrylonitrile.
The polymer particles are preferably microgels.
本発明の印刷方法に用いる機上現像型平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある。)を有することができる。
下塗り層は、上記「陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、平版印刷版原版は端部にダレ形状を有し、画像記録層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、化合物の含有量が支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版」が有しても良い下塗り層にて記載したものと同様である。The machine-developed lithographic printing plate original plate used in the printing method of the present invention may have an undercoat layer (sometimes referred to as an intermediate layer) between the image recording layer and the support.
The undercoat layer is the above-mentioned "on-machine development type lithographic printing plate original plate having an image recording layer on an aluminum support having an anodic oxide film, and the lithographic printing plate original plate has a sagging shape at the end and is an image recording layer. On-machine development lithographic printing, which has a layer containing a compound having a support-adsorbing property on the surface, and the content of the compound is substantially the same in the plane of the layer containing the compound having a support-adsorbing property. It is the same as that described in the undercoat layer that the "plate original plate" may have.
本発明の印刷方法に用いられる機上現像型平版印刷版原版は、画像記録層の上に保護層(オーバーコート層と呼ばれることもある。)を有することができる。
保護層は、上記「陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、平版印刷版原版は端部にダレ形状を有し、画像記録層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、化合物の含有量が支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版」が有しても良い保護層にて記載したものと同様である。The on-machine development type lithographic printing plate original plate used in the printing method of the present invention may have a protective layer (sometimes referred to as an overcoat layer) on the image recording layer.
The protective layer is the above-mentioned "on-machine development type lithographic printing plate original plate having an image recording layer on an aluminum support having an anodic oxide film, and the lithographic printing plate original plate has a sagging shape at an end and is an image recording layer. On-machine development lithographic printing, which has a layer containing a compound having a support-adsorbing property on the surface, and the content of the compound is substantially the same in the plane of the layer containing the compound having a support-adsorbing property. It is the same as that described in the protective layer that the "plate original plate" may have.
本発明に係る機上現像型平版印刷版ダミー版は、端部にダレ形状を有することと、ポリマー層の上に特定化合物含有層を有することにより、端部の機上現像性などの特性を低下させることなく、長期保存後においても良好なエッジ汚れ防止性を示すことができるという特徴を有する。
本発明に係る機上現像型平版印刷版ダミー版においては、端部に、水溶性化合物を含有する塗布液を塗布するなどの親水化処理を施すことなく、長期保存後においても良好なエッジ汚れ防止性を示すことができるという特徴を有する。
本発明に係る印刷方法において、本発明に係る機上現像型平版印刷版ダミー版においては、端部に、水溶性化合物を含有する塗布液を塗布するなどの親水化処理を施すことなく、良好なエッジ汚れ防止性を示すことができるという特徴を有する。
本発明に係る印刷方法において、本発明に係る機上現像型平版印刷版ダミー版においては、端部に、水溶性化合物を含有する塗布液を塗布するなどの親水化処理を施すことなく、良好なエッジ汚れ防止性を示すことができるという特徴を有する。
また、本発明に係る印刷方法における機上現像型平版印刷版ダミー版と機上現像型平版印刷版原版を機上現像する工程において、機上現像型平版印刷版ダミー版の支持体吸着性を有する化合物を含有する層における特定化合物が、印刷インキ及び湿し水から選ばれる少なくとも1つにより溶出し、機上現像型平版印刷版原ダミー版の端部及び機上現像型平版印刷版原版の端部に移動することで、端部を親水化させることができ、良好なエッジ汚れ防止性を示すことができるという特徴を有する。The on-machine development type lithographic printing plate dummy plate according to the present invention has characteristics such as on-machine developability at the end by having a sagging shape at the end and having a specific compound-containing layer on the polymer layer. It has a feature that it can show good edge stain prevention even after long-term storage without lowering it.
In the machine-developed lithographic printing plate dummy plate according to the present invention, good edge stains are obtained even after long-term storage without subjecting the end portion to a hydrophilization treatment such as applying a coating liquid containing a water-soluble compound. It has the feature that it can show preventiveness.
In the printing method according to the present invention, in the machine-developed planographic printing plate dummy plate according to the present invention, the end portion is not subjected to a hydrophilization treatment such as applying a coating liquid containing a water-soluble compound, which is good. It has a feature that it can show a good edge stain prevention property.
In the printing method according to the present invention, in the machine-developed planographic printing plate dummy plate according to the present invention, the end portion is not subjected to a hydrophilization treatment such as applying a coating liquid containing a water-soluble compound, which is good. It has a feature that it can show a good edge stain prevention property.
Further, in the process of on-machine developing the machine-developed lithographic printing plate dummy plate and the machine-developing lithographic printing plate original plate in the printing method according to the present invention, the support adsorption property of the machine-developing lithographic printing plate dummy plate is improved. The specific compound in the layer containing the compound is eluted with at least one selected from printing ink and dampening water, and the end of the machine-developed lithographic printing plate original dummy plate and the machine-developed lithographic printing plate original plate. By moving to the end portion, the end portion can be made hydrophilic, and it has a feature that good edge stain prevention property can be exhibited.
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量はゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算値とした質量平均分子量(Mw)であり、繰り返し単位の比率はモル百分率である。また、「部」、「%」は、特に断りのない限り、「質量部」、「質量%」を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. In the polymer compound, the molecular weight is the mass average molecular weight (Mw) as a polystyrene-equivalent value by the gel permeation chromatography (GPC) method, and the ratio of the repeating unit is a molar percentage, except for those specified specifically. Further, "part" and "%" mean "parts by mass" and "% by mass" unless otherwise specified.
[実施例1~25及び比較例1~2] [Examples 1 to 25 and Comparative Examples 1 to 2]
<支持体(1)の作製> <Preparation of support (1)>
アルミニウム板に、下記(a)~(g)の各処理を順次施し、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体(支持体(1))を作製した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施した。 The following treatments (a) to (g) were sequentially applied to the aluminum plate to prepare an aluminum support (support (1)) having an anodic oxide film. A water washing treatment was performed between all the treatment steps.
(a)アルカリエッチング処理
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質JIS 1052)に、カセイソーダ濃度25質量%、アルミニウムイオン濃度100g/L、温度60℃の水溶液をスプレー管から吹き付けて、エッチング処理を行った。アルミニウム板の電気化学的粗面化処理を施す面のエッチング量は、3g/m2であった。(A) Alkaline etching treatment An aqueous solution having a Kasei soda concentration of 25% by mass, an aluminum ion concentration of 100 g / L, and a temperature of 60 ° C. is sprayed onto an aluminum plate (material JIS 1052) having a thickness of 0.3 mm from a spray tube to perform etching treatment. rice field. The etching amount of the surface of the aluminum plate to be subjected to the electrochemical roughening treatment was 3 g / m 2 .
(b)デスマット処理
アルミニウム板に、温度35℃の硫酸水溶液(濃度300g/L)をスプレー管から5秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。(B) Desmat treatment Desmat treatment was performed by spraying an aqueous sulfuric acid solution (concentration 300 g / L) at a temperature of 35 ° C. on an aluminum plate from a spray tube for 5 seconds.
(c)電気化学的粗面化処理
アルミニウム板を、1質量%塩酸水溶液に塩化アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lとした電解液(液温35℃)を用い、60Hzの交流電源を用いて、フラットセル型の電解槽を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。交流電源の波形は、正弦波を用いた。電気化学的粗面化処理において、交流のピーク時におけるアルミニウム板のアノード反応時の電流密度は、30A/dm2であった。アルミニウム板のアノード反応時の電気量総和とカソード反応時の電気量総和との比は0.95であった。電気量はアルミニウム板のアノード時の電気量総和で480C/dm2であった。電解液はポンプを用いて液を循環させることで、電解槽内の撹拌を行った。(C) Electrochemical roughening treatment Using an electrolytic solution (liquid temperature 35 ° C.) in which aluminum chloride was dissolved in a 1% by mass hydrochloric acid aqueous solution to adjust the aluminum ion concentration to 4.5 g / L, the aluminum plate was subjected to 60 Hz. Using an AC power source, the electrochemical roughening treatment was continuously performed using a flat cell type electrolytic cell. A sine wave was used as the waveform of the AC power supply. In the electrochemical roughening treatment, the current density during the anode reaction of the aluminum plate at the peak of alternating current was 30 A / dm 2 . The ratio of the total amount of electricity during the anode reaction to the total amount of electricity during the cathode reaction of the aluminum plate was 0.95. The total amount of electricity at the anode of the aluminum plate was 480 C / dm 2 . The electrolytic cell was stirred in the electrolytic cell by circulating the liquid using a pump.
(d)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度5g/L、温度35℃の水溶液をスプレー管から吹き付けて、エッチング処理を行った。アルミニウム板の電気化学的粗面化処理を施した面のエッチング量は、0.05g/m2であった。(D) Alkaline etching treatment An aqueous solution having a caustic soda concentration of 5% by mass, an aluminum ion concentration of 5 g / L, and a temperature of 35 ° C. was sprayed onto an aluminum plate from a spray tube to perform an etching treatment. The etching amount of the surface of the aluminum plate subjected to the electrochemical roughening treatment was 0.05 g / m 2 .
(e)デスマット処理
アルミニウム板に、硫酸濃度300g/L、アルミニウムイオン濃度5g/L、液温35℃の水溶液をスプレー管から5秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。(E) Desmat treatment Desmat treatment was performed by spraying an aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 300 g / L, an aluminum ion concentration of 5 g / L, and a liquid temperature of 35 ° C. on an aluminum plate from a spray tube for 5 seconds.
(f)陽極酸化処理
15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)の電解液を用い、40℃、電流密度15A/dm2の条件で厚さ1,000nmの直流陽極酸化皮膜を設けた。その後、スプレーによる水洗を行った。(F) Anodizing treatment Using an electrolytic solution of 15% by mass sulfuric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions), a DC anodizing film having a thickness of 1,000 nm under the conditions of 40 ° C. and a current density of 15 A / dm 2 . Was provided. Then, it was washed with water by spraying.
(g)ポアワイド処理
アルミニウム板を、NaOH5%水溶液を用い35℃で15秒間アルカリ処理して支持体(1)を作製した。支持体(1)の陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は25nmであった。陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は先に記載した方法に従って算出した数値である(以下同様)。(G) Pore Wide Treatment An aluminum plate was treated with an alkali at 35 ° C. for 15 seconds using a 5% NaOH aqueous solution to prepare a support (1). The average diameter of the micropores of the anodic oxide film of the support (1) was 25 nm. The average diameter of the micropores of the anodic oxide film is a numerical value calculated according to the method described above (the same applies hereinafter).
<支持体(2)の作製>
支持体(1)の作製において、陽極酸化処理の時間を調整して、陽極酸化皮膜の厚さを750nmとする他は、支持体(1)の作製と同様にして、支持体(2)を作製した。支持体(2)の陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は25nmであった。<Preparation of support (2)>
In the production of the support (1), the support (2) is formed in the same manner as in the production of the support (1), except that the time of the anodizing treatment is adjusted so that the thickness of the anodizing film is 750 nm. Made. The average diameter of the micropores of the anodic oxide film of the support (2) was 25 nm.
<支持体(3)の作製>
支持体(1)の作製において、陽極酸化処理の時間を調整して、陽極酸化皮膜の厚さを500nmとする他は、支持体(1)の作製と同様にして、支持体(3)を作製した。支持体(3)の陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は25nmであった。<Preparation of support (3)>
In the production of the support (1), the support (3) is formed in the same manner as in the production of the support (1), except that the time of the anodizing treatment is adjusted so that the thickness of the anodizing film is 500 nm. Made. The average diameter of the micropores of the anodic oxide film of the support (3) was 25 nm.
<支持体(4)の作製>
支持体(1)の作製において、(f)陽極酸化処理を以下のように変更する他は、支持体(1)の作製と同様にして、支持体(4)を作製した。支持体(4)の陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は35nmであった。<Preparation of support (4)>
In the production of the support (1), the support (4) was produced in the same manner as the production of the support (1) except that the (f) anodizing treatment was changed as follows. The average diameter of the micropores of the anodic oxide film of the support (4) was 35 nm.
(f)陽極酸化処理
22質量%リン酸水溶液の電解液を用い、38℃、電流密度15A/dm2の条件で厚さ500nmの直流陽極酸化皮膜を設けた。その後、スプレーによる水洗を行った。(F) Anodic oxidation treatment A DC anodic oxide film having a thickness of 500 nm was provided under the conditions of 38 ° C. and a current density of 15 A / dm 2 using an electrolytic solution of a 22 mass% phosphoric acid aqueous solution. Then, it was washed with water by spraying.
<画像記録層(1)の形成>
支持体上に、下記組成の画像記録層塗布液(1)をバー塗布し、100℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が1.0g/m2の画像記録層(1)を形成した。
画像記録層塗布液(1)は下記感光液(1)及びミクロゲル液を塗布直前に混合し攪拌することにより調製した。<Formation of image recording layer (1)>
An image recording layer coating liquid (1) having the following composition is bar-coated on the support and dried in an oven at 100 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer (1) having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 . bottom.
The image recording layer coating liquid (1) was prepared by mixing and stirring the following photosensitive liquid (1) and microgel liquid immediately before coating.
<感光液(1)>
・バインダーポリマー(1)〔下記構造〕 0.240部
・重合開始剤(1)〔下記構造〕 0.245部
・赤外線吸収剤(1)〔下記構造〕 0.046部
・ボレート化合物 0.010部
TPB〔下記構造〕
・重合性化合物 0.192部
トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
(NKエステル A-9300、新中村化学(株)製)
・低分子親水性化合物 0.062部
トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート
・低分子親水性化合物(1)〔下記構造〕 0.050部
・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕 0.008部
・2-ブタノン 1.091部
・1-メトキシ-2-プロパノール 8.609部<Photosensitive liquid (1)>
-Binder polymer (1) [following structure] 0.240 parts-polymerization initiator (1) [following structure] 0.245 parts-infrared absorber (1) [following structure] 0.046 parts-borate compound 0.010 Part TPB [Structure below]
-Polymerable compound 0.192 parts Tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate (NK ester A-9300, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
-Small molecule hydrophilic compound 0.062 parts Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate-Small molecule hydrophilic compound (1) [The following structure] 0.050 parts-Fluorosurfactant (1) [The following structure] 0 .008 parts ・ 2-butanone 1.091 parts ・ 1-methoxy-2-propanol 8.609 parts
<ミクロゲル液>
・ミクロゲル(1) 2.640部
・蒸留水 2.425部<Microgel liquid>
・ Microgel (1) 2.640 parts ・ Distilled water 2.425 parts
上記感光液(1)に用いたバインダーポリマー(1)、重合開始剤(1)、赤外線吸収剤(1)、TPB、低分子親水性化合物(1)及びフッ素系界面活性剤(1)の構造を以下に示す。 Structure of binder polymer (1), polymerization initiator (1), infrared absorber (1), TPB, small molecule hydrophilic compound (1) and fluorine-based surfactant (1) used in the photosensitive liquid (1). Is shown below.
上記ミクロゲル液に用いたミクロゲル(1)の調製法を以下に示す。
<多価イソシアネート化合物(1)の調製>
イソホロンジイソシアネート17.78g(80mmol)と下記多価フェノール化合物(1)7.35g(20mmol)との酢酸エチル(25.31g)懸濁溶液に、ビスマストリス(2-エチルヘキサノエート)(ネオスタン U-600、日東化成(株)製)43mgを加えて攪拌した。発熱が収まった時点で反応温度を50℃に設定し、3時間攪拌して多価イソシアネート化合物(1)の酢酸エチル溶液(50質量%)を得た。The preparation method of the microgel (1) used in the above microgel solution is shown below.
<Preparation of multivalent isocyanate compound (1)>
Bismuth tris (2-ethylhexanoate) (neostan U) in a suspension solution of ethyl acetate (25.31 g) containing 17.78 g (80 mmol) of isophorone diisocyanate and 7.35 g (20 mmol) of the following polyhydric phenol compound (1). -600, 43 mg (manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) was added and stirred. When the exotherm subsided, the reaction temperature was set to 50 ° C. and the mixture was stirred for 3 hours to obtain an ethyl acetate solution (50% by mass) of the polyhydric isocyanate compound (1).
<ミクロゲル(1)の調製>
下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を45℃で4時間攪拌後、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン-オクチル酸塩(U-CAT SA102、サンアプロ(株)製)の10質量%水溶液5.20gを加え、室温で30分攪拌し、45℃で24時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を20質量%になるように調整し、ミクロゲル(1)の水分散液が得られた。光散乱法により平均粒径を測定したところ、0.28μmであった。<Preparation of microgel (1)>
The following oil phase components and aqueous phase components were mixed and emulsified at 12000 rpm for 10 minutes using a homogenizer. After stirring the obtained emulsion at 45 ° C. for 4 hours, 10 mass of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-en-octylate (U-CAT SA102, manufactured by San-Apro Co., Ltd.) 5.20 g of% aqueous solution was added, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and allowed to stand at 45 ° C. for 24 hours. The solid content concentration was adjusted to 20% by mass with distilled water to obtain an aqueous dispersion of microgel (1). When the average particle size was measured by the light scattering method, it was 0.28 μm.
(油相成分)
(成分1)酢酸エチル:12.0g
(成分2)トリメチロールプロパン(6モル)とキシレンジイソシアネート(18モル)を付加させ、これにメチル辺末端ポリオキシエチレン(1モル、オキシエチレン単位の繰返し数:90)を付加させた付加体(50質量%酢酸エチル溶液、三井化学(株)製):3.76g
(成分3)多価イソシアネート化合物(1)(50質量%酢酸エチル溶液):15.0g
(成分4)ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR-399、サートマー社製)の65質量%酢酸エチル溶液:11.54g
(成分5)スルホン酸塩型界面活性剤(パイオニンA-41-C、竹本油脂(株)製)の10%酢酸エチル溶液:4.42g(Oil phase component)
(Component 1) Ethyl acetate: 12.0 g
(Component 2) An adduct (component 2) to which trimethylolpropane (6 mol) and xylene diisocyanate (18 mol) are added, and methyl flank polyoxyethylene (1 mol, number of repetitions of oxyethylene unit: 90) is added thereto (component 2). 50% by mass ethyl acetate solution, manufactured by Mitsui Kagaku Co., Ltd.): 3.76 g
(Component 3) Multivalent isocyanate compound (1) (50% by mass ethyl acetate solution): 15.0 g
(Component 4) 65% by mass ethyl acetate solution of dipentaerythritol pentaacrylate (SR-399, manufactured by Sartmer): 11.54 g
(Component 5) 10% ethyl acetate solution of sulfonate-type surfactant (Pionin A-41-C, manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd .): 4.42 g
(水相成分)蒸留水:46.87g (Aquatic phase component) Distilled water: 46.87 g
<画像記録層(2)の形成>
支持体上に、下記組成の画像記録層塗布液(2)をバー塗布し、94℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が0.85g/m2の画像記録層(2)を形成した。<Formation of image recording layer (2)>
An image recording layer coating liquid (2) having the following composition is bar-coated on the support and dried in an oven at 94 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer (2) having a dry coating amount of 0.85 g / m 2 . bottom.
(画像記録層塗布液(2))
・重合性化合物1*1 0.325部
・グラフトコポリマー1*2 0.060部
・グラフトコポリマー2*3 0.198部
・メルカプト-3-トリアゾール*4 0.180部
・Irgacure250*5 0.032部
・赤外線吸収剤1〔下記構造〕 0.007部
・テトラフェニルホウ酸ナトリウム〔下記構造〕 0.040部
・Klucel 99M*6 0.007部
・Byk 336*7 0.015部
・n-プロパノール 7.470部
・水 1.868部(Image recording layer coating liquid (2))
・ Polymerizable compound 1 * 1 0.325 parts ・ Graft copolymer 1 * 2 0.060 parts ・ Graft copolymer 2 * 3 0.198 parts ・ Mercapto-3-triazole * 4 0.180 parts ・ Irgure250 * 5 0.032 Part ・ Infrared absorber 1 [The following structure] 0.007 part ・ Sodium tetraphenylborate [The following structure] 0.040 part ・ Klucel 99M * 6 0.007 part ・ Byk 336 * 7 0.015 part ・ n-propanol 7.470 copies, water 1.868 copies
*1:重合性化合物1は、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村化学工業(株)製)である。
*2:グラフトコポリマー1は、ポリ(オキシ-1,2-エタンジイル),α-(2-メチル-1-オキソ-2-プロペニル)-ω-メトキシ-,エテニルベンゼンでグラフトされたポリマーであり、これを、80%n-プロパノール/20%水の溶剤中25%の分散物である。
*3:グラフトコポリマー2は、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート/スチレン/アクリロニトリル=10:9:81のグラフトコポリマーのポリマー粒子であり、これを、n-プロパノール/水の質量比が80/20である溶媒中に、24質量%含有している分散物である。ポリマー粒子の体積平均粒径は193nmである。
*4:メルカプト-3-トリアゾールは、PCAS社(フランス)から入手可能な3-メルカプト-1H,2,4-トリアゾールである。
*5:Irgacure 250は、Ciba Specialty Chemicals社から入手可能な、ヨードニウム (4-メチルフェニル)[4-(2-メチルプロピル)フェニル]ヘキサフルオロホスフェートの75%プロピレンカーボネート溶液である。
*6:Klucel 99Mは、Hercules社から入手可能な、ヒドロキシプロピルセルロース増粘剤の1%水溶液である。
*7:Byk 336は、Byk Chemie社から入手可能な、変性ジメチルポリシロキサンコポリマーの25%キシレン/メトキシプロピルアセテート溶液である。* 1: The polymerizable compound 1 is dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.).
* 2: Graft copolymer 1 is a polymer grafted with poly (oxy-1,2-ethandyl), α- (2-methyl-1-oxo-2-propenyl) -ω-methoxy-, and ethenylbenzene. , This is a 25% dispersion in a solvent of 80% n-propanol / 20% water.
* 3: Graft copolymer 2 is a polymer particle of a graft copolymer of poly (ethylene glycol) methyl ether methacrylate / styrene / acrylonitrile = 10: 9: 81, and has a mass ratio of n-propanol / water of 80/20. It is a dispersion containing 24% by mass in the solvent. The volume average particle size of the polymer particles is 193 nm.
* 4: Mercapto-3-triazole is 3-mercapto-1H, 2,4-triazole available from PCAS (France).
* 5: Irgacure 250 is a 75% propylene carbonate solution of iodonium (4-methylphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl] hexafluorophosphate available from Ciba Specialty Chemicals.
* 6: Klucel 99M is a 1% aqueous solution of a hydroxypropyl cellulose thickener available from Hercules.
* 7: Byk 336 is a 25% xylene / methoxypropyl acetate solution of a modified dimethylpolysiloxane copolymer available from Byk Chemie.
<特定化合物含有層(1)の形成>
画像記録層上に、下記組成の特定化合物含有層塗布液(1)をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が0.15g/m2の特定化合物含有層を形成した。<Formation of specific compound-containing layer (1)>
A specific compound-containing layer coating solution (1) having the following composition is bar-coated on the image recording layer and dried in an oven at 120 ° C. for 60 seconds to form a specific compound-containing layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2 . bottom.
<特定化合物含有層塗布液(1)>
・無機層状化合物分散液(1)〔下記〕 1.5部
・ポリビニルアルコール(CKS50、日本合成化学工業(株)製、スルホン酸変性、けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液
0.55部
・ポリビニルアルコール(PVA-405、(株)クラレ製、
けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液
0.03部
・界面活性剤(ポリオキシエチレンラウリルエーテル、エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)1質量%水溶液 0.86部
・特定化合物〔表1に記載の化合物〕 〔表1に記載の量〕
・イオン交換水 6.0部<Specific compound-containing layer coating liquid (1)>
-Inorganic layered compound dispersion (1) [below] 1.5 parts-Polyvinyl alcohol (CKS50, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., sulfonic acid modification, saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6% by mass aqueous solution
0.55 parts, polyvinyl alcohol (PVA-405, manufactured by Kuraray Co., Ltd.,
Saponification degree 81.5 mol%, polymerization degree 500) 6% by mass aqueous solution
0.03 parts ・ Surfactant (polyoxyethylene lauryl ether, Emarex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 1% by mass aqueous solution 0.86 parts ・ Specific compound [Compounds shown in Table 1] [Table 1 Amount]
・ 6.0 copies of ion-exchanged water
上記特定化合物含有層塗布液(1)に用いた無機層状化合物分散液(1)の調製法を以下に示す。
<無機層状化合物分散液(1)の調製>
イオン交換水193.6gに合成雲母(ソマシフME-100、コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。The preparation method of the inorganic layered compound dispersion liquid (1) used for the specific compound-containing layer coating liquid (1) is shown below.
<Preparation of Inorganic Layered Compound Dispersion Liquid (1)>
6.4 g of synthetic mica (Somasif ME-100, manufactured by CO-OP CHEMICAL CO., LTD.) Was added to 193.6 g of ion-exchanged water, and the mixture was dispersed using a homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 3 μm. The aspect ratio of the obtained dispersed particles was 100 or more.
<特定化合物含有層(2)の形成>
画像記録層上に、下記組成の特定化合物含有層塗布液(2)をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して、特定化合物の乾燥塗布量が0.06g/m2の特定化合物含有層を形成した。<Formation of specific compound-containing layer (2)>
A specific compound-containing layer coating solution (2) having the following composition is bar-coated on the image recording layer, dried in an oven at 120 ° C. for 60 seconds, and contains a specific compound having a dry coating amount of 0.06 g / m 2 . Formed a layer.
<特定化合物含有層塗布液(2)>
・界面活性剤(ポリオキシエチレンラウリルエーテル、エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)1質量%水溶液 0.86部
・特定化合物〔表1に記載の化合物〕 〔表1に記載の量〕
・イオン交換水 6.0部<Specific compound-containing layer coating liquid (2)>
-Surfactant (polyoxyethylene lauryl ether, Emarex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.86 parts by mass% aqueous solution-Specific compound [Compounds shown in Table 1] [Amounts shown in Table 1]
・ 6.0 copies of ion-exchanged water
〔平版印刷版原版の作製〕
上記支持体、画像記録層及び特定化合物含有層を表1に記載するように組み合わせて平版印刷版原版を作製した。特定化合物含有層は、実施例1~24及び比較例1~2では、特定化合物含有層塗布液(1)を、実施例25では、特定化合物含有層塗布液(2)を用いて形成した。
比較例2の平版印刷版原版は、以下のようにして作製した。支持体(1)上に、下記組成の下塗り層塗布液(1)を乾燥塗布量が20mg/m2になるよう塗布した後、乾燥せずに、特定化合物としてリン酸二水素ナトリウムの水溶液を、塗布装置として兵神装置(株)製2NL04を用いて塗布した。即ち、塗布装置のクリアランスを0.3mmに固定し、送液量を調整することにより、特定化合物の含有量が150mg/m2になるように、端部から3cmの位置に6mmの幅で特定化合物の水溶液を塗布した。その後、100℃で60秒間オーブン乾燥した。この下塗り層の上に、画像記録層及び特定化合物含有層を表1に記載のように組み合わせて形成し、平版印刷版原版を作製した。[Preparation of lithographic printing plate original plate]
The lithographic printing plate original plate was prepared by combining the support, the image recording layer, and the specific compound-containing layer as shown in Table 1. The specific compound-containing layer was formed by using the specific compound-containing layer coating liquid (1) in Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 and 2, and the specific compound-containing layer coating liquid (2) in Example 25.
The lithographic printing plate original plate of Comparative Example 2 was produced as follows. After applying the undercoat layer coating solution (1) having the following composition on the support (1) so that the dry coating amount is 20 mg / m 2 , an aqueous solution of sodium dihydrogen phosphate as a specific compound is applied as a specific compound without drying. , 2NL04 manufactured by Hyojin Kikai Co., Ltd. was used as the coating device. That is, by fixing the clearance of the coating device to 0.3 mm and adjusting the amount of liquid to be sent, the content of the specific compound is specified at a position of 3 cm from the end with a width of 6 mm so that the content of the specific compound becomes 150 mg / m 2 . An aqueous solution of the compound was applied. Then, it was dried in an oven at 100 ° C. for 60 seconds. An image recording layer and a specific compound-containing layer were combined and formed on the undercoat layer as shown in Table 1 to prepare a lithographic printing plate original plate.
<下塗り層塗布液(1)>
・下塗り層用化合物(1)〔下記構造〕 0.18g
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸 0.05g
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)
0.03g
・水 28.0g<Undercoat layer coating liquid (1)>
-Compound for undercoat layer (1) [Structure below] 0.18 g
・ Hydroxyethyliminodiacetic acid 0.05g
-Surfactant (Emarex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
0.03g
・ Water 28.0g
〔平版印刷版原版の裁断〕
平版印刷版原版を、図2に示すような回転刃を用いて、上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量及び刃先角度を調整して裁断し、ダレ量50μm及びダレ幅150μmを有するダレ形状を形成した。なお、比較例2の平版印刷版原版については、6mm幅の特定化合物の水溶液が塗布された領域の中心で裁断を行い、端部に3mm幅の特定化合物塗布領域を有する平版印刷版原版を得た。
陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率を先に記載した方法に従って算出したところ、支持体(1)は、13%、支持体(2)は、8%、支持体(3)及び(4)は、6%であった。[Cutting of lithographic printing plate original]
The original plate for flat plate printing is cut by adjusting the gap between the upper cutting blade and the lower cutting blade, the biting amount and the cutting edge angle using a rotary blade as shown in FIG. 2, and the sagging amount is 50 μm and the sagging width is 150 μm. The sagging shape to have was formed. The lithographic printing plate original plate of Comparative Example 2 was cut at the center of the region coated with the aqueous solution of the specific compound having a width of 6 mm to obtain a lithographic printing plate original plate having a specific compound coating region having a width of 3 mm at the end. rice field.
When the area ratio of cracks existing on the surface of the anodic oxide film was calculated according to the method described above, the support (1) was 13%, the support (2) was 8%, and the supports (3) and ( 4) was 6%.
〔平版印刷版原版の評価〕
平版印刷版原版について、製造後及び強制経時後のエッジ汚れ防止性、端部の画像形成性、及び機上現像性を以下のように評価した。評価結果を表1に示す。[Evaluation of lithographic printing plate original]
Regarding the lithographic printing plate original plate, the edge stain prevention property, the image forming property of the edge portion, and the on-machine developability after manufacturing and forced aging were evaluated as follows. The evaluation results are shown in Table 1.
<製造後のエッジ汚れ防止性>
平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxcel PLATESETTER T-6000IIIにて、外面ドラム回転数1,000rpm、レーザー出力70%、解像度2,4000dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像、50%網点、非画像部を含むチャートを用いた。
画像露光した平版印刷版原版を、(株)東京機械製作所製オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製 ソイビーKKST-S(紅)、湿し水として、東洋インキ(株)製東洋ALKYを用いて、新聞用紙に100,000枚/時のスピードで印刷し、地汚れ解消の水目盛から1.3倍の水目盛で、2,000枚目の印刷物をサンプリングし、平版印刷版原版の端部に起因する線状汚れの程度を観察し、下記の基準で評価した。5、4、3が許容レベルである。
5:線状汚れは全く認められない。
4:非連続の線状汚れがうっすらと認められる。
3:連続した線状汚れがうっすらと認められる。
2:非連続のはっきりした線状汚れが認められる。
1:連続したはっきりした線状汚れが認められる。<Prevention of edge stains after manufacturing>
The lithographic printing plate original plate was exposed on a Luxcel PLATESETTER T-6000III manufactured by Fujifilm Corporation equipped with an infrared semiconductor laser under the conditions of an outer surface drum rotation speed of 1,000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2,000 dpi. As the exposed image, a chart including a solid image, 50% halftone dots, and a non-image portion was used.
The image-exposed flat plate printing plate original plate is attached to an offset rotary printing machine manufactured by Tokyo Kikai Seisakusho Co., Ltd., and used as printing ink for newspapers, Soybee KKST-S (red) manufactured by Inktech Co., Ltd. Using Toyo ALKY manufactured by Ink Co., Ltd., print on newspaper at a speed of 100,000 sheets / hour, and print the 2,000th sheet with a water scale 1.3 times from the water scale for eliminating background stains. Sampling was performed, the degree of linear stain caused by the edge of the flat plate printing plate original plate was observed, and the evaluation was made according to the following criteria. 5, 4, and 3 are acceptable levels.
5: No linear stains are observed.
4: Discontinuous linear stains are slightly recognized.
3: Continuous linear stains are slightly recognized.
2: Discontinuous and clear linear stains are observed.
1: Continuous and clear linear stains are observed.
<強制経時後のエッジ汚れ防止性>
平版印刷版原版を、温度60℃/湿度60%の湿熱環境下に2日間保管した後、上記製造後のエッジ汚れ防止性と同様にして強制経時後のエッジ汚れ防止性を評価した。温度60℃/湿度60%の湿熱環境下2日間の保管は、自然経時(温度25℃/湿度50%)10ヵ月間に相当する。<Prevention of edge stains after forced aging>
After the lithographic printing plate precursor was stored in a moist heat environment with a temperature of 60 ° C. and a humidity of 60% for 2 days, the edge stain prevention property after forced aging was evaluated in the same manner as the edge stain prevention property after the above production. Storage for 2 days in a moist heat environment with a temperature of 60 ° C. / humidity of 60% corresponds to 10 months of natural time (temperature 25 ° C./humidity 50%).
<端部の画像形成性>
上記エッジ汚れ防止性の評価と同様にして画像露光した平版印刷版原版を、(株)東京機械製作所製オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製ソイビーKKST-S(紅)、湿し水としてサカタインクス(株)製エコセブンN-1を用い、新聞用紙に100,000枚/時のスピードで印刷し、5,000、10,000、50,000、100,000枚目の印刷物をサンプリングし、平版印刷版原版の端部から内側に1mmまでの領域における画像形成性を以下の基準で評価した。5、4、3が許容レベルである。
5:100,000枚印刷後も画像が印刷できている。
4:50,000枚印刷後も画像が印刷できている。
3:10,000枚印刷後も画像が印刷できている。
2:5,000枚印刷後も画像が印刷できている。
1:5,000枚印刷後では画像が印刷できていない。<Image formation at the edges>
The flat plate printing plate original plate exposed in the same manner as the above evaluation of edge stain prevention was attached to an offset rotary printing machine manufactured by Tokyo Kikai Seisakusho Co., Ltd., and used as a printing ink for newspapers by Inktech Co., Ltd. Soyby KKST- S (red), using Eco Seven N-1 manufactured by Sakata Inks Co., Ltd. as dampening water, prints on newspaper at a speed of 100,000 sheets / hour, and prints at a speed of 5,000, 10,000, 50,000, 100, The 000nd printed matter was sampled, and the image formability in the region from the edge of the flat plate printing plate original plate to 1 mm inward was evaluated according to the following criteria. 5, 4, and 3 are acceptable levels.
5: The image can be printed even after printing 100,000 sheets.
The image can be printed even after printing 4: 50,000 sheets.
The image can be printed even after printing 3: 10,000 sheets.
The image can be printed even after printing 2: 5,000 sheets.
No image can be printed after printing 1: 5,000 sheets.
<機上現像性>
上記エッジ汚れ防止性の評価と同様にして画像露光した平版印刷版原版を、(株)東京機械製作所製オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製ソイビーKKST-S(紅)、湿し水としてサカタインクス(株)製エコセブンN-1を用い、新聞用紙に100,000枚/時のスピードで印刷した。平版印刷版原版の端部から内側に50mmまでの領域において、画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した新聞用紙の枚数を機上現像枚数として計測し、以下の基準で評価した。5、4、3、2が許容レベルである。
5:機上現像枚数が25枚以下である。
4:機上現像枚数が26~30枚である。
3:機上現像枚数が31~35枚である。
2:機上現像枚数が36~40枚である。
1:機上現像枚数が41枚以上である。<In-machine developability>
The flat plate printing plate original plate exposed in the same manner as the above evaluation of edge stain prevention was attached to an offset rotary printing machine manufactured by Tokyo Kikai Seisakusho Co., Ltd., and used as a printing ink for newspapers, Soiby KKST- S (red) and Eco Seven N-1 manufactured by Sakata Inks Co., Ltd. were used as dampening water, and printing was performed on newspaper at a speed of 100,000 sheets / hour. In the area from the edge of the lithographic printing plate original to 50 mm inward, it is necessary to complete the on-machine development of the unexposed part of the image recording layer on the printing machine and to prevent the ink from being transferred to the non-image part. The number of sheets of newspaper developed was measured as the number of sheets developed on the machine, and evaluated according to the following criteria. 5, 4, 3 and 2 are acceptable levels.
5: The number of sheets developed on the machine is 25 or less.
4: The number of machine-developed sheets is 26 to 30.
3: The number of machine-developed sheets is 31 to 35.
2: The number of sheets developed on the machine is 36 to 40.
1: The number of machine-developed sheets is 41 or more.
表1に記載の結果から、本発明に係る特定化合物を、画像記録層上に設けられた特定化合物含有層の面内において実質的に同じ量含有する平版印刷版原版は、端部の画像形成性、機上現像性などの特性を低下させることなく、長期保存後においても良好なエッジ汚れ防止性を示すことがわかる。これに対して、特定化合物を含有しない比較例1の平版印刷版原版では、はっきりした線状のエッジ汚れが発生している。また、特開平2017-19206号公報の実施例のように、平版印刷版原版の端部に親水化処理領域を有する比較例2の平版印刷版原版では、端部の画像形成性が低下していることがわかる。 From the results shown in Table 1, a lithographic printing plate original plate containing substantially the same amount of the specific compound according to the present invention in the plane of the specific compound-containing layer provided on the image recording layer has an image formation at the end. It can be seen that it exhibits good edge stain prevention even after long-term storage without deteriorating properties such as properties and on-machine developability. On the other hand, in the lithographic printing plate original plate of Comparative Example 1 containing no specific compound, clear linear edge stains are generated. Further, in the lithographic printing plate original plate of Comparative Example 2 having a hydrophilization treatment region at the end portion of the lithographic printing plate original plate as in the examples of JP-A-2017-19206, the image formability of the end portion is deteriorated. You can see that there is.
[実施例26~27及び比較例3~4]
<第1ポリマー層(1)の形成>
支持体(1)上に、上記組成の下塗り層塗布液(1)をバー塗布した後、100℃で60秒オーブン乾燥し、乾燥塗布量20mg/m2の第1ポリマー層を形成した。[Examples 26 to 27 and Comparative Examples 3 to 4]
<Formation of the first polymer layer (1)>
The undercoat layer coating liquid (1) having the above composition was bar-coated on the support (1) and then dried in an oven at 100 ° C. for 60 seconds to form a first polymer layer having a dry coating amount of 20 mg / m 2 .
<第2ポリマー層(1)の形成>
第1ポリマー層(1)(下塗り層)上に、下記組成の第2ポリマー層用塗布液(1)をバー塗布した後、100℃で60秒オーブン乾燥し、乾燥塗布量0.5g/m2の第2ポリマー層を形成した。<Formation of the second polymer layer (1)>
After the coating liquid (1) for the second polymer layer having the following composition is bar-coated on the first polymer layer (1) (undercoat layer), it is dried in an oven at 100 ° C. for 60 seconds, and the dry coating amount is 0.5 g / m. A second polymer layer of 2 was formed.
(第2ポリマー層用塗布液(1))
・ポリビニルピロリドンK30(富士フイルム和光純薬株式会社)
0.500部
・フッ素系界面活性剤(1)(上記構造) 0.004部
・1-メトキシ-2-プロパノール 12.101部
・メタノール 1.345部
・純水 0.036部(Coating liquid for the second polymer layer (1))
・ Polyvinylpyrrolidone K30 (Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
0.500 parts ・ Fluorosurfactant (1) (Structure) 0.004 parts ・ 1-methoxy-2-propanol 12.101 parts ・ Methanol 1.345 parts ・ Pure water 0.036 parts
<特定化合物含有層(3)の形成>
第2ポリマー層上に、下記組成の特定化合物含有層塗布液(3)をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が0.15g/m2の特定化合物含有層を形成した。<Formation of specific compound-containing layer (3)>
A specific compound-containing layer coating solution (3) having the following composition is bar-coated on the second polymer layer and dried in an oven at 120 ° C. for 60 seconds to obtain a specific compound-containing layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2 . Formed.
<特定化合物含有層塗布液(3)>
・無機層状化合物分散液(1)〔上記〕 1.5部
・ポリビニルアルコール(CKS50、日本合成化学工業(株)製、スルホン酸変性、けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液
0.55部
・ポリビニルアルコール(PVA-405、(株)クラレ製、
けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液
0.03部
・界面活性剤(ポリオキシエチレンラウリルエーテル、エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)1質量%水溶液 0.86部
・特定化合物〔表2に記載の化合物〕 〔表2に記載の量〕
・イオン交換水 6.0部<Specific compound-containing layer coating liquid (3)>
-Inorganic layered compound dispersion (1) [above] 1.5 parts-Polyvinyl alcohol (CKS50, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., sulfonic acid modification, saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6% by mass aqueous solution
0.55 parts, polyvinyl alcohol (PVA-405, manufactured by Kuraray Co., Ltd.,
Saponification degree 81.5 mol%, polymerization degree 500) 6% by mass aqueous solution
0.03 parts ・ Surfactant (polyoxyethylene lauryl ether, Emarex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 1% by mass aqueous solution 0.86 parts ・ Specific compound [Compounds shown in Table 2] [Table 2 Amount]
・ 6.0 copies of ion-exchanged water
〔平版印刷版ダミー版の作製〕
上記支持体、第1ポリマー層、第2ポリマー層及び特定化合物含有層を表2に記載するように組み合わせて平版印刷版ダミー版を作製した。特定化合物含有層は、実施例26~27及び比較例3~4では、特定化合物含有層塗布液(3)を用いて形成した。
実施例27の平版印刷版ダミー版は、以下のようにして作製した。支持体(1)上に、上記組成の下塗り層塗布液(1)をバー塗布した後、100℃で60秒オーブン乾燥し、乾燥塗布量20mg/m2の第1ポリマー層を形成した。第1ポリマー層上に、上記組成の特定化合物含有層塗布液(3)をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が0.15g/m2の特定化合物含有層を形成し、平版印刷版ダミー版を作製した。
比較例4の平版印刷版ダミー版は、以下のようにして作製した。支持体(1)上に、上記組成の下塗り層塗布液(1)をバー塗布した後、100℃で60秒オーブン乾燥し、乾燥塗布量20mg/m2の第1ポリマー層を形成した。第1ポリマー層上に、上記組成の特定化合物含有層塗布液(3)をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が0.15g/m2の特定化合物含有層を形成し、平版印刷版ダミー版を作成した。[Making a lithographic printing plate dummy plate]
The support, the first polymer layer, the second polymer layer, and the specific compound-containing layer were combined as shown in Table 2 to prepare a lithographic printing plate dummy plate. The specific compound-containing layer was formed by using the specific compound-containing layer coating liquid (3) in Examples 26 to 27 and Comparative Examples 3 to 4.
The planographic printing plate dummy plate of Example 27 was produced as follows. The undercoat layer coating liquid (1) having the above composition was bar-coated on the support (1) and then dried in an oven at 100 ° C. for 60 seconds to form a first polymer layer having a dry coating amount of 20 mg / m 2 . The specific compound-containing layer coating liquid (3) having the above composition is bar-coated on the first polymer layer and dried in an oven at 120 ° C. for 60 seconds to obtain a specific compound-containing layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2 . It was formed and a lithographic printing plate dummy plate was produced.
The planographic printing plate dummy plate of Comparative Example 4 was produced as follows. The undercoat layer coating liquid (1) having the above composition was bar-coated on the support (1) and then dried in an oven at 100 ° C. for 60 seconds to form a first polymer layer having a dry coating amount of 20 mg / m 2 . The specific compound-containing layer coating liquid (3) having the above composition is bar-coated on the first polymer layer and dried in an oven at 120 ° C. for 60 seconds to obtain a specific compound-containing layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2 . It was formed and a lithographic printing plate dummy plate was created.
〔平版印刷版ダミー版の裁断〕
平版印刷版ダミー版を、図2に示すような回転刃を用いて、上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量及び刃先角度を調整して裁断し、ダレ量50μm及びダレ幅150μmを有するダレ形状を形成した。
陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率を先に記載した方法に従って算出したところ、支持体(1)は、13%であった。[Cut of lithographic printing plate dummy plate]
The flat plate printing plate dummy plate is cut by adjusting the gap between the upper cutting blade and the lower cutting blade, the biting amount and the cutting edge angle using a rotary blade as shown in FIG. 2, and the sagging amount is 50 μm and the sagging width is 150 μm. Formed a sagging shape with.
When the area ratio of the cracks existing on the surface of the anodic oxide film was calculated according to the method described above, the support (1) was 13%.
〔平版印刷版ダミー版の評価〕
平版印刷版ダミー版について、製造後及び強制経時後のエッジ汚れ防止性、及び機上現像性を以下のように評価した。評価結果を表2に示す。[Evaluation of lithographic printing plate dummy plate]
Regarding the lithographic printing plate dummy plate, the edge stain prevention property and the on-machine developability after manufacturing and after forced aging were evaluated as follows. The evaluation results are shown in Table 2.
<製造後のエッジ汚れ防止性>
平版印刷版ダミー版を、(株)東京機械製作所製オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製 ソイビーKKST-S(紅)、湿し水として、東洋インキ(株)製東洋ALKYを用いて、新聞用紙に100,000枚/時のスピードで印刷し、地汚れ解消の水目盛から1.3倍の水目盛で、2,000枚目の印刷物をサンプリングし、平版印刷版ダミー版の端部に起因する線状汚れの程度を観察し、下記の基準で評価した。5、4、3が許容レベルである。
5:線状汚れは全く認められない。
4:非連続の線状汚れがうっすらと認められる。
3:連続した線状汚れがうっすらと認められる。
2:非連続のはっきりした線状汚れが認められる。
1:連続したはっきりした線状汚れが認められる。<Prevention of edge stains after manufacturing>
The flat plate printing plate dummy plate is attached to an offset rotary printing machine manufactured by Tokyo Kikai Seisakusho Co., Ltd., and used as printing ink for newspapers, Soybee KKST-S (red) manufactured by Inktech Co., Ltd., and as dampening water, Toyo Ink ( Using Toyo ALKY Co., Ltd., print on newspaper at a speed of 100,000 sheets / hour, and sample the 2,000th printed matter with a water scale 1.3 times the water scale for removing ground stains. , The degree of linear stain caused by the edge of the flat plate printing plate dummy plate was observed and evaluated according to the following criteria. 5, 4, and 3 are acceptable levels.
5: No linear stains are observed.
4: Discontinuous linear stains are slightly recognized.
3: Continuous linear stains are slightly recognized.
2: Discontinuous and clear linear stains are observed.
1: Continuous and clear linear stains are observed.
<強制経時後のエッジ汚れ防止性>
平版印刷版ダミー版を、温度60℃/湿度60%の湿熱環境下に2日間保管した後、上記製造後のエッジ汚れ防止性と同様にして強制経時後のエッジ汚れ防止性を評価した。温度60℃/湿度60%の湿熱環境下2日間の保管は、自然経時(温度25℃/湿度50%)10ヵ月間に相当する。<Prevention of edge stains after forced aging>
After the planographic printing plate dummy plate was stored in a moist heat environment with a temperature of 60 ° C. and a humidity of 60% for 2 days, the edge stain prevention property after forced aging was evaluated in the same manner as the edge stain prevention property after the above production. Storage for 2 days in a moist heat environment with a temperature of 60 ° C. / humidity of 60% corresponds to 10 months of natural time (temperature 25 ° C./humidity 50%).
<機上現像性>
平版印刷版ダミー版を、(株)東京機械製作所製オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製ソイビーKKST-S(紅)、湿し水としてサカタインクス(株)製エコセブンN-1を用い、新聞用紙に100,000枚/時のスピードで印刷した。平版印刷版ダミー版の端部から内側に50mmまでの領域において、機上現像が完了し、インキが転写しない状態になるまでに要した新聞用紙の枚数を機上現像枚数として計測し、以下の基準で評価した。5、4、3、2が許容レベルである。
5:機上現像枚数が25枚以下である。
4:機上現像枚数が26~30枚である。
3:機上現像枚数が31~35枚である。
2:機上現像枚数が36~40枚である。
1:機上現像枚数が41枚以上である。<In-machine developability>
The flat plate printing plate dummy plate is attached to an offset rotary printing machine manufactured by Tokyo Kikai Seisakusho Co., Ltd., soybee KKST-S (red) manufactured by Inktech Co., Ltd. as printing ink for newspapers, and Sakata Inks Co., Ltd. as dampening water. Using Eco Seven N-1, printing was performed on newspaper at a speed of 100,000 sheets / hour. In the area from the edge of the planographic printing plate dummy plate to the inside up to 50 mm, the number of newspapers required until the on-machine development is completed and the ink is not transferred is measured as the number of on-machine developments, and is as follows. Evaluated by criteria. 5, 4, 3 and 2 are acceptable levels.
5: The number of sheets developed on the machine is 25 or less.
4: The number of machine-developed sheets is 26 to 30.
3: The number of machine-developed sheets is 31 to 35.
2: The number of sheets developed on the machine is 36 to 40.
1: The number of machine-developed sheets is 41 or more.
表2に記載の結果から、本発明に係る特定化合物を、ポリマー層上に設けられた特定化合物含有層の面内において実質的に同じ量含有する平版印刷版ダミー版は、機上現像性の特性を低下させることなく、長期保存後においても良好なエッジ汚れ防止性を示すことがわかる。これに対して、特定化合物を含有しない比較例3、4の平版印刷版ダミー版では、はっきりした線状のエッジ汚れが発生している。 From the results shown in Table 2, a lithographic printing plate dummy plate containing substantially the same amount of the specific compound according to the present invention in the plane of the specific compound-containing layer provided on the polymer layer is in-machine developable. It can be seen that good edge stain prevention is exhibited even after long-term storage without deteriorating the characteristics. On the other hand, in the lithographic printing plate dummy plates of Comparative Examples 3 and 4 containing no specific compound, clear linear edge stains are generated.
[実施例28~29及び比較例5~6]
〔平版印刷版ダミー版の作製〕
支持体(1)を支持体(4)に変更した以外は、実施例26と同様にして、実施例28の平版印刷版ダミー版を作成した。
支持体(1)を支持体(4)に変更した以外は、実施例27と同様にして、実施例29の平版印刷版ダミー版を作成した。
支持体(1)を支持体(4)に変更した以外は、比較例3と同様にして、比較例5の平版印刷版ダミー版を作成した。
支持体(1)を支持体(4)に変更した以外は、比較例4と同様にして、比較例6の平版印刷版ダミー版を作成した。[Examples 28 to 29 and Comparative Examples 5 to 6]
[Making a lithographic printing plate dummy plate]
A planographic printing plate dummy plate of Example 28 was prepared in the same manner as in Example 26 except that the support (1) was changed to the support (4).
A planographic printing plate dummy plate of Example 29 was prepared in the same manner as in Example 27 except that the support (1) was changed to the support (4).
A planographic printing plate dummy plate of Comparative Example 5 was prepared in the same manner as in Comparative Example 3 except that the support (1) was changed to the support (4).
A planographic printing plate dummy plate of Comparative Example 6 was prepared in the same manner as in Comparative Example 4 except that the support (1) was changed to the support (4).
〔平版印刷版ダミー版の裁断〕
平版印刷版ダミー版を、図2に示すような回転刃を用いて、上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量及び刃先角度を調整して裁断し、ダレ量50μm及びダレ幅150μmを有するダレ形状を形成した。
陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率を先に記載した方法に従って算出したところ、支持体(4)は、6%であった。[Cut of lithographic printing plate dummy plate]
The flat plate printing plate dummy plate is cut by adjusting the gap between the upper cutting blade and the lower cutting blade, the biting amount and the cutting edge angle using a rotary blade as shown in FIG. 2, and the sagging amount is 50 μm and the sagging width is 150 μm. Formed a sagging shape with.
When the area ratio of the cracks existing on the surface of the anodic oxide film was calculated according to the method described above, the support (4) was 6%.
[実施例30~31]
〔平版印刷版原版の作製〕
特定化合物含有層における特定化合物を除いた(即ち、特定化合物含有層塗布液(1)における特定化合物を除いた)以外は、実施例3と同様にして、実施例30の平版印刷版原版を作成した。
特定化合物含有層における特定化合物を除いた(即ち、特定化合物含有層塗布液(1)における特定化合物を除いた)以外は、実施例23と同様にして、実施例31の平版印刷版原版を作成した。[Examples 30 to 31]
[Preparation of lithographic printing plate original plate]
A planographic printing plate original plate of Example 30 was prepared in the same manner as in Example 3 except that the specific compound in the specific compound-containing layer was removed (that is, the specific compound in the specific compound-containing layer coating liquid (1) was excluded). bottom.
A planographic printing plate original plate of Example 31 was prepared in the same manner as in Example 23 except that the specific compound in the specific compound-containing layer was removed (that is, the specific compound in the specific compound-containing layer coating liquid (1) was excluded). bottom.
〔平版印刷版原版の裁断〕
平版印刷版原版を、図2に示すような回転刃を用いて、上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量及び刃先角度を調整して裁断し、ダレ量50μm及びダレ幅150μmを有するダレ形状を形成した。
陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率を先に記載した方法に従って算出したところ、支持体(1)は、13%で、支持体(4)は、6%であった。[Cutting of lithographic printing plate original]
The original plate for flat plate printing is cut by adjusting the gap between the upper cutting blade and the lower cutting blade, the biting amount and the cutting edge angle using a rotary blade as shown in FIG. 2, and the sagging amount is 50 μm and the sagging width is 150 μm. The sagging shape to have was formed.
When the area ratio of the cracks existing on the surface of the anodic oxide film was calculated according to the method described above, the support (1) was 13% and the support (4) was 6%.
[実施例32~35及び比較例7~10]
実施例30、31で得られた平版印刷版原版と実施例26~29、比較例3~6で得られた平版印刷版ダミー版を下記表3に示すように組み合わせて、以下の評価を行った。[Examples 32 to 35 and Comparative Examples 7 to 10]
The lithographic printing plate original plates obtained in Examples 30 and 31 and the lithographic printing plate dummy plates obtained in Examples 26 to 29 and Comparative Examples 3 to 6 were combined as shown in Table 3 below, and the following evaluation was performed. rice field.
<平版印刷版原版と平版印刷版ダミー版のエッジ汚れ防止性>
平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxcel PLATESETTER T-6000IIIにて、外面ドラム回転数1,000rpm、レーザー出力70%、解像度2,4000dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像、50%網点、非画像部を含むチャートを用いた。
画像露光した平版印刷版原版1枚と露光していない平版印刷版ダミー版1枚を、(株)東京機械製作所製オフセット輪転印刷機の同一の版胴上に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製 ソイビーKKST-S(紅)、湿し水として、東洋インキ(株)製東洋ALKYを用いて、新聞用紙に100,000枚/時のスピードで印刷し、地汚れ解消の水目盛から1.3倍の水目盛で、2,000枚目の印刷物をサンプリングし、隣り合っている平版印刷版原版の端部と平版印刷版ダミー版の端部に起因する線状汚れの程度を観察し、下記の基準で評価した。5、4、3が許容レベルである。
5:線状汚れは全く認められない。
4:非連続の線状汚れがうっすらと認められる。
3:連続した線状汚れがうっすらと認められる。
2:非連続のはっきりした線状汚れが認められる。
1:連続したはっきりした線状汚れが認められる。<Prevention of edge stains on lithographic printing plate original plate and lithographic printing plate dummy plate>
The lithographic printing plate original plate was exposed on a Luxcel PLATESETTER T-6000III manufactured by Fujifilm Corporation equipped with an infrared semiconductor laser under the conditions of an outer surface drum rotation speed of 1,000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2,000 dpi. As the exposed image, a chart including a solid image, 50% halftone dots, and a non-image portion was used.
One unexposed flat plate printing plate original plate and one unexposed flat plate printing plate dummy plate were mounted on the same plate cylinder of an offset rotary printing machine manufactured by Tokyo Kikai Seisakusho Co., Ltd., and used as printing ink for newspapers. Soybee KKST-S (red) manufactured by Inktech Co., Ltd. and Toyo ALKY manufactured by Toyo Ink Co., Ltd. are used as dampening water to print on newspaper at a speed of 100,000 sheets / hour to eliminate background stains. The 2,000th printed matter is sampled with a water scale 1.3 times from the water scale, and linear stains caused by the edges of the adjacent flat plate printing plate original plate and the edges of the flat plate printing plate dummy plate are found. The degree was observed and evaluated according to the following criteria. 5, 4, and 3 are acceptable levels.
5: No linear stains are observed.
4: Discontinuous linear stains are slightly recognized.
3: Continuous linear stains are slightly recognized.
2: Discontinuous and clear linear stains are observed.
1: Continuous and clear linear stains are observed.
表3に記載の結果から、本発明に係る特定化合物を、ポリマー層上に設けられた特定化合物含有層の面内において実質的に同じ量含有する平版印刷版ダミー版を用いた場合は、平版印刷版ダミー版について良好なエッジ汚れ防止性が得られると共に、平版印刷版原版についても良好なエッジ汚れ防止性が得られることがわかる。 From the results shown in Table 3, when a lithographic printing plate dummy plate containing substantially the same amount of the specific compound according to the present invention in the plane of the specific compound-containing layer provided on the polymer layer was used, a lithographic printing plate was used. It can be seen that good edge stain prevention is obtained for the printing plate dummy plate, and good edge stain prevention is also obtained for the lithographic printing plate original plate.
本発明によれば、端部の画像形成性、機上現像性などの特性を低下させることなく、長期保存後においても良好なエッジ汚れ防止性を示す機上現像型平版印刷版原版、及び機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法を提供することができる。
また、本発明によれば、機上現像性などの特性を低下させることなく、長期保存後においても良好なエッジ汚れ防止性を示す機上現像型平版印刷版原版ダミー版、及び印刷方法を提供することができる。According to the present invention, an on-machine developing type lithographic printing plate original plate and a machine that show good edge stain prevention even after long-term storage without deteriorating characteristics such as image formability and on-machine developability of edges. It is possible to provide a method for producing a lithographic printing plate using a top-developing lithographic printing plate original plate.
Further, according to the present invention, there is provided an on-machine development type lithographic printing plate, an original plate dummy plate, and a printing method, which show good edge stain prevention even after long-term storage without deteriorating characteristics such as on-machine developability. can do.
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、2018年1月31日出願の日本特許出願(特願2018-15063)に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。Although the present invention has been described in detail and with reference to specific embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention.
This application is based on a Japanese patent application filed on January 31, 2018 (Japanese Patent Application No. 2018-15603), the contents of which are incorporated herein by reference.
1 平版印刷版原版
1a 特定化合物含有層面
1b 支持体面
1c 端面
2 ダレ
X ダレ量
Y ダレ幅
B 画像記録層面と支持体との境界
10 裁断刃
10a 上側裁断刃
10b 上側裁断刃
11 回転軸
20 裁断刃
20a 下側裁断刃
20b 下側裁断刃
21 回転軸
30 平版印刷版原版
1 Flat plate printing plate
Claims (21)
前記化合物の分子量が1,000以下であり、
前記支持体吸着性を有する化合物を含有する層における前記支持体吸着性を有する化合物の含有量が、20mg/m2以上である機上現像型平版印刷版原版。 An on-machine development type lithographic printing plate original plate having an image recording layer on an aluminum support having an anodic oxide film, the lithographic printing plate original plate has a sagging shape at an end and is supported on the image recording layer. In-plane of a layer containing a compound having body-adsorbability (excluding ethylenediamine tetraacetic acid tetrasodium tetrahydrate) and having a content of the compound containing the compound having support adsorbability. Is substantially the same in
The compound has a molecular weight of 1,000 or less and has a molecular weight of 1,000 or less.
An on-machine developing type lithographic printing plate original plate in which the content of the compound having the support-adsorbing property in the layer containing the compound having the support-adsorbing property is 20 mg / m 2 or more.
K1及びK2中、RIn K1 and K2, R K1K1 、R, R K2K2 、R, R K4K4 、R, R K5K5 、R, R K6K6 及びRAnd R K7K7 は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1~3の直鎖アルキレン基を表し、REach independently represents a single bond or a linear alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and R K3K3 は(1+m)価の有機基を表し、RRepresents a (1 + m) valent organic group, R K8K8 は(2+n)価の有機基を表し、Xはそれぞれ独立に、(-CH<)又は(-N<)を表し、YRepresents a (2 + n) -valent organic group, X independently represents (-CH <) or (-N <), and Y K1K1 ~Y~ Y K6K6 はそれぞれ独立に、-C(=O)OMで表される一価の基を表し、Aはカルボキシ基を表し、mは0~2の整数を表し、nは0~4の整数を表し、Mは、それぞれ独立に、水素原子、金属原子、又はアンモニウム基を表す。Each independently represents a monovalent group represented by -C (= O) OM, A represents a carboxy group, m represents an integer of 0 to 2, and n represents an integer of 0 to 4. M independently represents a hydrogen atom, a metal atom, or an ammonium group.
式1中、nは、2~10の整数を表し、R1、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アルキル基又はアルキレンオキシド基を表す。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 7 , wherein the compound is a compound represented by the following formula 1.
In formula 1, n represents an integer of 2 to 10, and R1, R2, and R3 independently represent a hydrogen atom, an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt, an ammonium salt, an alkyl group, or an alkylene oxide group. ..
前記化合物の分子量が1,000以下であり、
前記支持体吸着性を有する化合物を含有する層における前記支持体吸着性を有する化合物の含有量が、20mg/m2以上である機上現像型平版印刷版ダミー版(但し、アルミニウム支持体と、前記アルミニウム支持体上に直接的に形成された第1親水性層と、前記第1親水性層上に直接的に形成された第2親水性層とをこの順に有する平版印刷版ダミー版であって、前記第1親水性層及び前記第2親水性層の少なくとも一方が、350~800nmに吸収極大を有する着色剤を含み、前記第1親水性層が、支持体吸着性基と親水性基とを有する高分子化合物を含む、平版印刷版ダミー版を除く)。 An on-machine development type lithographic printing plate dummy plate having a polymer layer on an aluminum support having an anodic oxide film, the lithographic printing plate dummy plate has a sagging shape at an end and is supported on the polymer layer. It has a layer containing a compound having body adsorptivity, and the content of the compound is substantially the same in the plane of the layer containing the compound having the support adsorbability.
The compound has a molecular weight of 1,000 or less and has a molecular weight of 1,000 or less.
The on-board development type flat plate printing plate dummy plate (provided that the aluminum support and the aluminum support) have a content of the compound having the support-adsorbing property of 20 mg / m 2 or more in the layer containing the compound having the support-adsorbing property. A flat plate printing plate dummy plate having a first hydrophilic layer directly formed on the aluminum support and a second hydrophilic layer directly formed on the first hydrophilic layer in this order. The first hydrophilic layer and at least one of the second hydrophilic layers contain a colorant having an absorption maximum at 350 to 800 nm, and the first hydrophilic layer is a support-adsorbing group and a hydrophilic group. (Excluding the flat plate printing plate dummy plate) containing a polymer compound having and .
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Citations (4)
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---|---|---|---|---|
JP2007090564A (en) | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | Platemaking method of original plate of lithographic printing plate |
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---|---|---|---|---|
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JP2005091472A (en) * | 2003-09-12 | 2005-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developing solution for photosensitive lithographic printing plate and platemaking method for lithographic printing plate |
JP4684685B2 (en) * | 2005-03-03 | 2011-05-18 | 富士フイルム株式会社 | Photosensitive lithographic printing plate and method for producing the same |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007090564A (en) | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | Platemaking method of original plate of lithographic printing plate |
JP2016179592A (en) | 2015-03-24 | 2016-10-13 | 富士フイルム株式会社 | Original plate of planographic printing plate, plate-making method for planographic printing plate, and printing method |
JP2017136844A (en) | 2016-01-29 | 2017-08-10 | 富士フイルム株式会社 | Lithographic printing plate dummy plate, printing method using lithographic printing plate dummy plate, and, plate making method of lithographic printing plate dummy plate |
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