JP7028955B2 - 堆積プロセスにおける化学前駆体のバブリングのためのエーロゾルフリー型ベッセル - Google Patents
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Description
本願は、2017年4月10日出願の米国仮出願第62/483,784号に対する出願であり、その全体をここに参照することによって本明細書の内容とする。
開始点、終点、および開始点と終点との間の方向転換を有する流管、および、
開始点から流れるエーロゾルを含む流体、
を含んでおり、その方向転換は、蒸気への相転移のために、エーロゾルフリー型ベッセル中のエーロゾルの滞留時間を最大化し、そして流管は、開始点から終点へと漸次に上昇している。
側壁、
基底部、
蓋、
少なくとも1つの開示された、その蓋に取り付けられたエーロゾルフリー型ベッセル、
その蓋を通過する入口管、および、
その蓋を通過する出口、
を含む容器であり、ここで出口は、最後のエーロゾルフリー型ベッセルの出口と流体連結されている。
少なくとも1つの開示されたエーロゾルフリー型ベッセル、
化学前駆体をプロセス装置へと供給するための容器であって、
側壁、
基底部、
蓋、および、
この蓋を通過する出口、
ここで、この蓋は、開示された少なくとも1つのエーロゾルフリー型ベッセルが取り付けられており、そしてこの出口は、最後のエーロゾルフリー型ベッセルの出口と流体連結されている、ならびに、
容器の出口からの化学前駆体の蒸気、
を含んでいる容器、
を含む装置である。
少なくとも1つのエーロゾルフリー型ベッセルを準備する工程、
容器であって、
側壁、
基底部、
蓋、および、
この蓋を通過する出口、
ここで、この蓋は、開示された少なくとも1つのエーロゾルフリー型ベッセルに取り付けられており、そしてこの出口は、最後のエーロゾルフリー型ベッセルの出口と流体連結されている、
を含む容器を準備する工程、
化学前駆体の蒸気を、前記容器の前記出口からプロセス装置へと供給する工程、
を含む方法である。
Claims (11)
- ベッセルであって、
開始点、終点、および前記開始点と前記終点との間の方向転換を有する流管、ならびに、
前記開始点から流れるエーロゾルを含む流体、
を含んでなり、
前記方向転換が、前記ベッセル中の前記エーロゾルの、蒸気への相転移のための滞留時間を最大化し、そして、
前記流管が、前記開始点から前記終点まで徐々に上昇しており、
前記ベッセルの出口においてエーロゾルを含まない、
ベッセル(但し、前記方向転換がバッフルによって引き起こされるベッセルを除く)。 - 前記流管は、少なくとも円形の一部、少なくとも楕円形の、少なくとも正方形の一部、少なくとも矩形の一部、およびそれらの組み合わせ、からなる群から選択された形状を有する横断面を有しており、前記流管の横断面積は、前記開始点から前記終点まで減少している、請求項1記載のベッセル。
- 前記流管を覆う蓋を更に含む、請求項1記載のベッセル。
- 前記流管が、螺旋または蛇行した形状を有する管である、請求項1記載のベッセル。
- 上部表面をさらに含み、前記ベッセルの前記上部表面が、円形、楕円、正方形、矩形、蛇行した形状、およびそれらの組み合わせから選択された形状を有する、請求項1記載のベッセル。
- 前記流管の前記開始点が、前記ベッセルに入るエーロゾルを低減するようにスクリーンを含む、請求項1記載のベッセル。
- 蒸気への相転移を促進するためのヒータを更に含む、請求項1記載のベッセル。
- 前記ベッセルを容器の蓋または少なくとも1つの他のベッセルに取り付けるための、取り付け用の穴をさらに含む、請求項1記載のベッセル。
- 化学前駆体をプロセス装置へと供給するためのバブラー容器であって、
側壁、
基底部、
蓋、
前記蓋に取り付けられた、少なくとも1つの、請求項1~8のいずれか1項記載のベッセル、
前記蓋を通過する入口管、前記入口管は、前記バブラー容器のための浸漬管である、ならびに、
前記蓋を通過する出口、
を含んでなり、
前記出口が、最後の前記ベッセルの前記出口と流体連結されている、
バブラー容器。 - 化学前駆体をプロセス装置へ貯蔵および供給するための装置であって、
化学前駆体をプロセス装置へと供給するためのバブラー容器であって、
側壁、
基底部、
蓋、
前記蓋に取り付けられた、少なくとも1つの、請求項1~8のいずれか1項記載のベッセル、
前記蓋を通過する入口管、前記入口管は、前記バブラー容器のための浸漬管である、ならびに、
前記蓋を通過する出口、
を含んでなり、
前記出口が、最後の前記ベッセルの前記出口と流体連結されている、
を含むバブラー容器、ならびに、
前記バブラー容器の前記出口からの化学前駆体の蒸気、
含んでなる、装置。 - 化学前駆体をプロセス装置へ貯蔵および供給するための方法であって、
請求項10記載の装置を準備する工程、ならびに、
前記化学前駆体の前記蒸気を、前記バブラー容器の前記出口から前記プロセス装置へと供給する工程、
を含んでなる、方法。
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Citations (1)
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US3690638A (en) * | 1970-05-15 | 1972-09-12 | Republic Steel Corp | Apparatus and method for vaporizing molten metal |
US5360572A (en) * | 1991-11-29 | 1994-11-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Aerogel mesh getter |
US5887117A (en) * | 1997-01-02 | 1999-03-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Flash evaporator |
US6358323B1 (en) * | 1998-07-21 | 2002-03-19 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for improved control of process and purge material in a substrate processing system |
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