JP7019315B2 - Manufacturing method of dimming film - Google Patents

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Description

本発明は、調光フィルム製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a light control film.

従来、ポリマーと液晶材料との複合体による光散乱効果を利用した調光機能を有する高分子分散液晶素子(PDLC調光フィルム)が知られている(例えば、特許文献1、2)。高分子分散液晶素子においては、ポリマーマトリクス内で液晶材料が相分離または分散した構造をとることから、ポリマーと液晶材料の屈折率をマッチングすること、および、該複合体に電圧を印加して液晶材料の配向を変化させることによって、光を透過させる透過モードと光を散乱させる散乱モードとを制御することができる。このような駆動を実現するため、上記高分子分散液晶素子は、通常、上記複合体を含む調光層を、透明導電性フィルムで挾持して構成される。 Conventionally, a polymer-dispersed liquid crystal element (PDLC dimming film) having a dimming function utilizing a light scattering effect due to a composite of a polymer and a liquid crystal material is known (for example, Patent Documents 1 and 2). In the polymer-dispersed liquid crystal element, since the liquid crystal material has a structure in which the liquid crystal material is phase-separated or dispersed in the polymer matrix, the refractive index of the polymer and the liquid crystal material is matched, and a voltage is applied to the composite to make the liquid crystal. By changing the orientation of the material, it is possible to control the transmission mode in which light is transmitted and the scattering mode in which light is scattered. In order to realize such driving, the polymer-dispersed liquid crystal element is usually configured by holding a light control layer containing the composite with a transparent conductive film.

ポリマーと液晶材料との複合体の製造方法としては、液晶材料とマトリクスポリマーとの相分離状態を形成する相分離法、エマルション化した液晶材料と樹脂とを含む塗工液を塗工するエマルション法等が挙げられる(例えば、特許文献1、3、4)。 As a method for producing a composite of a polymer and a liquid crystal material, a phase separation method for forming a phase-separated state between the liquid crystal material and a matrix polymer, and an emulsion method for applying a coating liquid containing an emulsified liquid crystal material and a resin. Etc. (for example, Patent Documents 1, 3, and 4).

エマルション法は、塗工液中にあらかじめ、所定サイズ(例えば、径が1μm~10μm)の液晶の液滴が存在することから、簡便に所望の調光層を形成することができる。また、エマルション法は、ロールトゥロールプロセスに適するという利点もある。一方、液晶材料および樹脂ともにエマルション化された塗工液を用いた場合、高速塗工が困難であり、塗工層の厚みが不均一になるという問題がある。 In the emulsion method, since liquid crystal droplets having a predetermined size (for example, a diameter of 1 μm to 10 μm) are present in the coating liquid in advance, a desired dimming layer can be easily formed. The emulsion method also has the advantage of being suitable for roll-to-roll processes. On the other hand, when a coating liquid in which both the liquid crystal material and the resin are emulsified is used, there is a problem that high-speed coating is difficult and the thickness of the coating layer becomes non-uniform.

特表昭58-501631号公報Special Table No. 58-501631 特開昭60-502128号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-502128 特開昭60-252687号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-252687 特表平11-500757号公報Special Table No. 11-500757 Gazette

本発明の発明者らは、エマルション法により調光層を形成した場合、該調光層には、光散乱性が異常となる外観欠点が生じやすい傾向にあり、その原因は厚みムラにあることを見いだした。さらに、光散乱性が異常となる箇所は、塗工液を透明導電性フィルムに塗工する際に、透明導電性フィルムの背面(すなわち、透明導電性フィルムの塗工面とは反対側の面であり、透明導電性フィルムと搬送体(例えば、バックロール)との間)に極微小な異物が存在した箇所に対応することを見いだした。 When the dimming layer is formed by the emulsion method, the inventors of the present invention tend to have an appearance defect in which the light scattering property becomes abnormal, and the cause is uneven thickness. I found it. Further, the part where the light scattering property becomes abnormal is the surface on the back surface of the transparent conductive film (that is, the surface opposite to the coated surface of the transparent conductive film) when the coating liquid is applied to the transparent conductive film. It was found that it corresponds to the place where a very small foreign substance was present between the transparent conductive film and the carrier (for example, the back roll).

本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、エマルション法により厚みが均一な調光層を形成することを含む、調光フィルムの製造方法を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for producing a light control film, which comprises forming a light control layer having a uniform thickness by an emulsion method. There is something in it.

本発明の調光フィルムの製造方法は、スロットダイを用いて、透明導電性フィルムに、液晶化合物と樹脂とを含む塗工液を塗工する塗工工程を含む、調光フィルムの製造方法であって、該塗工工程におけるライン速度が、2m/分以上であり、該スロットダイのリップ先端と該透明導電性フィルムとのギャップが100μm以上であり、該調光フィルムが、透過モードと散乱モードとに切換可能切り替え可能であり、該調光フィルムの散乱モードにおけるヘイズ値が、80%以上である。
1つの実施形態においては、上記スロットダイのリップ幅が、2mm以下である。
1つの実施形態においては、上記透明導電性フィルムの厚みが、10μm~200μmである。
1つの実施形態においては、上記液晶化合物と前記樹脂との合計量が、前記塗工液100重量部に対して、30重量部~70重量部である。
1つの実施形態においては、上記塗工液の粘度が、前記スロットダイから吐出する時点において、20mPas~400mPasである。
The method for producing a light control film of the present invention is a method for manufacturing a light control film, which comprises a coating step of applying a coating liquid containing a liquid crystal compound and a resin to a transparent conductive film using a slot die. The line speed in the coating process is 2 m / min or more, the gap between the lip tip of the slot die and the transparent conductive film is 100 μm or more, and the dimming film is scattered in the transmission mode. It can be switched to and from the mode, and the haze value in the scattering mode of the light control film is 80% or more.
In one embodiment, the slot die has a lip width of 2 mm or less.
In one embodiment, the thickness of the transparent conductive film is 10 μm to 200 μm.
In one embodiment, the total amount of the liquid crystal compound and the resin is 30 parts by weight to 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the coating liquid.
In one embodiment, the viscosity of the coating liquid is 20 mPas to 400 mPas at the time of discharging from the slot die.

本発明によれば、スロットダイを用いて塗工液を塗工し、スロットダイと塗工基材(透明導電性フィルム)とのギャップを100μm以上とすることにより、厚みが均一な調光層を形成することができる。本発明によれば、塗工液として、エマルション化した液晶材料と樹脂とを含む塗工液を用いた場合においても、厚みが均一な調光層を形成することができる。本発明により形成された調光層は、光散乱性異常部分の発生を防止することができ、外観に優れる。 According to the present invention, a dimming layer having a uniform thickness is formed by applying a coating liquid using a slot die and setting the gap between the slot die and the coating base material (transparent conductive film) to 100 μm or more. Can be formed. According to the present invention, even when a coating liquid containing an emulsified liquid crystal material and a resin is used as the coating liquid, a dimming layer having a uniform thickness can be formed. The dimming layer formed by the present invention can prevent the occurrence of an abnormal light scattering property and has an excellent appearance.

本発明の1つの実施形態による製造方法により製造される調光フィルムの概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of the light control film manufactured by the manufacturing method by one Embodiment of this invention. 本願発明の塗工工程におけるスロットダイのリップ近傍を示す概略断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the vicinity of the lip of a slot die in the coating process of this invention. 本発明の1つの実施形態による第1の透明導電性フィルムの概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of the 1st transparent conductive film by one Embodiment of this invention.

A.調光フィルムの製造方法の概要
本発明の調光フィルムの製造方法は、スロットダイを用いて、透明導電性フィルムに液晶化合物と樹脂とを含む塗工液を塗工する塗工工程を含む。該塗工工程においては、スロットダイのリップ先端と透明導電性フィルムとのギャップが100μm以上である。また、塗工工程におけるライン速度は、2m/分以上である。上記塗工液においては、液晶化合物および樹脂がともにエマルション化されている。1つの実施形態においては、塗工工程において第1の透明導電性フィルムに塗工液を塗工して調光層を形成した後、該調光層に第2の透明導電性フィルムを貼り合わせて、調光フィルムが得られる。
A. Outline of Method for Manufacturing Light Control Film The method for manufacturing a light control film of the present invention includes a coating step of applying a coating liquid containing a liquid crystal compound and a resin to a transparent conductive film using a slot die. In the coating process, the gap between the lip tip of the slot die and the transparent conductive film is 100 μm or more. The line speed in the coating process is 2 m / min or more. In the above coating liquid, both the liquid crystal compound and the resin are emulsified. In one embodiment, in the coating process, a coating liquid is applied to a first transparent conductive film to form a dimming layer, and then a second transparent conductive film is bonded to the dimming layer. A dimming film can be obtained.

図1は、本発明の1つの実施形態による製造方法により製造される調光フィルムの概略断面図である。調光フィルム100は、第1の透明導電性フィルム110と、調光層120と、第2の透明導電性フィルム130とをこの順に備える。上記調光層は、液晶化合物を含む。液晶化合物を含む調光層は、樹脂マトリクス中に液晶化合物を分散させて構成される。該調光層においては、電圧印加の有無により、液晶化合物の配向度を変化させて、透過モードと散乱モードとを切り替えることができる。1つの実施形態においては、電圧が印加された状態で透過モードとなり、電圧が印加されていない状態で散乱モードとなる(ノーマルモード)。この実施形態においては、電圧無印加時においては液晶化合物が配向しておらず散乱モードとなり、電圧印加時に液晶化合物が配向して透過モードとなる。別の実施形態においては、電圧が印加された状態で散乱モードとなり、電圧が印加されていない状態で透過モードとなる(リバースモード)。この実施形態においては、電圧無印加時には液晶化合物が配向しており、配向状態の液晶化合物が樹脂マトリクスと略同一の屈折率を示し、透過モードとなる。一方、電圧の印加によって該液晶化合物の配向が乱れて散乱モードとなる。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a light control film manufactured by the manufacturing method according to one embodiment of the present invention. The light control film 100 includes a first transparent conductive film 110, a light control layer 120, and a second transparent conductive film 130 in this order. The dimming layer contains a liquid crystal compound. The dimming layer containing the liquid crystal compound is configured by dispersing the liquid crystal compound in the resin matrix. In the dimming layer, the degree of orientation of the liquid crystal compound can be changed depending on the presence or absence of voltage application, and the transmission mode and the scattering mode can be switched. In one embodiment, the transmission mode is set when a voltage is applied, and the scattering mode is set when no voltage is applied (normal mode). In this embodiment, when no voltage is applied, the liquid crystal compound is not oriented and the scattering mode is set, and when the voltage is applied, the liquid crystal compound is oriented and the transmission mode is set. In another embodiment, the scattering mode is set when a voltage is applied, and the transmission mode is set when no voltage is applied (reverse mode). In this embodiment, the liquid crystal compound is oriented when no voltage is applied, and the oriented liquid crystal compound exhibits a refractive index substantially the same as that of the resin matrix, and is in the transmission mode. On the other hand, when a voltage is applied, the orientation of the liquid crystal compound is disturbed and the scattering mode is established.

本発明の製造方法により製造される調光フィルムは、散乱モードにおけるヘイズ値が、80%以上であり、好ましくは80%~99%であり、より好ましくは90%~99%である。ヘイズ値は、JIS7136に準じて測定される。 The light control film produced by the production method of the present invention has a haze value of 80% or more, preferably 80% to 99%, and more preferably 90% to 99% in the scattering mode. The haze value is measured according to JIS7136.

上記調光フィルムの透過モードにおけるヘイズ値は、好ましくは50%未満であり、より好ましくは20%以下であり、さらに好ましくは10%以下である。透過モードにおけるヘイズ値の下限は、例えば、1%である。 The haze value of the light control film in the transmission mode is preferably less than 50%, more preferably 20% or less, still more preferably 10% or less. The lower limit of the haze value in the transmission mode is, for example, 1%.

上記のとおり、本発明の製造方法においては、エマルション化された液晶化合物および樹脂を含む塗工液を用いる。当該塗工液においては、液晶化合物が所定サイズ(例えば、径が1μm~10μm)の液滴状態で存在している。このような塗工液を用いれば、簡便に所望の調光層を形成することができ、また、ロールトゥロールプロセスにより調光層を容易に形成することができる。このような利点がある一方で、エマルション化された塗工液を用いると、塗工する際のライン速度を速くし(2m/分以上)、かつ、散乱モードにおけるヘイズ値が高い(80%以上)調光フィルムを得る場合に、外観欠点(光散乱性が異常となる箇所)が生じやすい傾向にあることを、本発明の発明者らは見いだした。発明者らが鋭意検討したところ、部分的に生じる塗布層の厚み変動が外観欠点の要因であることが推測され、当該厚み変動による欠点は調光フィルムのヘイズ値が高いほど目視されやすいことが分かった。塗布層の厚み変動は、塗工基材としての透明導電性フィルムの背面(すなわち、透明導電性フィルムの塗工面とは反対側の面であり、透明導電性フィルムと搬送体(例えば、バックロール)との間)に存在する極微小な異物をきっかけとして生じると考えられる。また、塗布層の厚み変動の一因として、透明導電性フィルムの部分的な厚み変動も挙げられる。 As described above, in the production method of the present invention, a coating liquid containing an emulsified liquid crystal compound and a resin is used. In the coating liquid, the liquid crystal compound is present in a droplet state having a predetermined size (for example, a diameter of 1 μm to 10 μm). By using such a coating liquid, a desired dimming layer can be easily formed, and a dimming layer can be easily formed by a roll-to-roll process. On the other hand, when the emulsified coating liquid is used, the line speed at the time of coating is increased (2 m / min or more), and the haze value in the scattering mode is high (80% or more). ) The inventors of the present invention have found that when a dimming film is obtained, appearance defects (locations where the light scattering property becomes abnormal) tend to occur. As a result of diligent studies by the inventors, it is speculated that the partial thickness variation of the coating layer is the cause of the appearance defect, and the defect due to the thickness variation is more easily visible as the haze value of the light control film is higher. Do you get it. The thickness variation of the coating layer is the back surface of the transparent conductive film as the coating base material (that is, the surface opposite to the coating surface of the transparent conductive film, and the transparent conductive film and the carrier (for example, back roll). It is thought that it is triggered by a very small foreign substance existing between) and). Further, as one of the causes of the thickness variation of the coating layer, the partial thickness variation of the transparent conductive film can be mentioned.

外観欠点発生について推測されるメカニズムの詳細は以下のとおりである。スロットダイを用い、エマルション化された塗工液を所定速度以上で透明導電性フィルムに塗工する際、極微小な異物が存在する部分においては、スロットダイ吐出口と透明導電性フィルムとの間の距離が、瞬間的に近くなる。このような瞬間的変動をきっかけに、スロットダイの上流側および/または下流側(特に下流側)のリップ近傍において塗工液のビード(液だまり)が乱れ、所定時間、乱れた状態が継続する。この乱れた状態が収束し再びビードが安定するまでの間、塗布層の厚みが変動すると考えられる。この厚み変動に起因して、異物の大きさよりも格段に大きい外観欠点が生じると考えられる。このような現象は、通常の塗工液(エマルション化していない塗工液、例えば、有機溶剤系の塗工液)を用いる際には生じず、エマルション化された塗工液を用いた際に特有の現象であると考えられる。 The details of the mechanism inferred for the occurrence of appearance defects are as follows. When an emulsified coating liquid is applied to a transparent conductive film at a predetermined speed or higher using a slot die, between the slot die discharge port and the transparent conductive film in a portion where extremely minute foreign substances are present. The distance becomes closer momentarily. Due to such a momentary fluctuation, the bead (pool) of the coating liquid is disturbed in the vicinity of the lip on the upstream side and / or the downstream side (particularly the downstream side) of the slot die, and the disturbed state continues for a predetermined time. .. It is considered that the thickness of the coating layer fluctuates until this disordered state converges and the bead stabilizes again. It is considered that this thickness variation causes an appearance defect that is significantly larger than the size of the foreign matter. Such a phenomenon does not occur when a normal coating liquid (non-emulsified coating liquid, for example, an organic solvent-based coating liquid) is used, and when an emulsified coating liquid is used. It is considered to be a peculiar phenomenon.

本発明は、スロットダイのリップ先端と透明導電性フィルムとのギャップを100μm以上とすることにより、上記の新規な課題を解決する発明である。図2は、本願発明の塗工工程におけるスロットダイのリップ近傍を示す概略断面図である。図2においては、搬送体(バックロール)300上で搬送される透明導電性フィルム110上に、スロットダイ200を用いて、塗工液が塗布されている。スロットダイ200のリップ210の先端211と透明導電性フィルム110とのギャップは、図2のギャップLに該当する。なお、スロットダイのリップ先端と透明導電性フィルムとのギャップは、透明導電性フィルムの背面に異物等がない状態で測定されたギャップである。本発明においては、当該ギャップLを100μm以上とすることにより、塗工液のビード(液だまり)の乱れを防止することができ、厚み均一性に優れる塗布層を形成することができる。その結果、外観欠点(光散乱性が異常となる箇所)の発生を防止することができる。スロットダイのリップ先端と透明導電性フィルムとのギャップLは、好ましくは100μm~550μmであり、より好ましくは100μm~350μmである。 The present invention is an invention that solves the above-mentioned novel problem by setting the gap between the lip tip of the slot die and the transparent conductive film to 100 μm or more. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the vicinity of the lip of the slot die in the coating process of the present invention. In FIG. 2, the coating liquid is applied on the transparent conductive film 110 conveyed on the conveying body (back roll) 300 by using the slot die 200. The gap between the tip 211 of the lip 210 of the slot die 200 and the transparent conductive film 110 corresponds to the gap L in FIG. The gap between the tip of the lip of the slot die and the transparent conductive film is a gap measured in a state where there is no foreign matter or the like on the back surface of the transparent conductive film. In the present invention, by setting the gap L to 100 μm or more, it is possible to prevent the bead (liquid pool) of the coating liquid from being disturbed, and it is possible to form a coating layer having excellent thickness uniformity. As a result, it is possible to prevent the occurrence of appearance defects (locations where the light scattering property becomes abnormal). The gap L between the lip tip of the slot die and the transparent conductive film is preferably 100 μm to 550 μm, and more preferably 100 μm to 350 μm.

B.塗工工程
上記塗工工程は、調光フィルムを構成する一対の透明導電性フィルムのうちの一方に、エマルション化された液晶化合物および樹脂を含む塗工液を塗工(塗布・乾燥)する工程である。当該塗工工程を経て、樹脂マトリクス中に液晶化合物が分散して存在して構成された調光層を得ることができる。
B. Coating process The coating process is a step of coating (applying / drying) a coating liquid containing an emulsified liquid crystal compound and a resin on one of a pair of transparent conductive films constituting the light control film. Is. Through the coating step, it is possible to obtain a dimming layer in which the liquid crystal compound is dispersed and present in the resin matrix.

(塗工液)
上記塗工液は、任意の適切な方法により調製され得る。例えば、液晶化合物と水に溶解させた水溶性高分子(水性相)もしくは樹脂エマルション(ラテックス)とを混合して攪拌することにより得られる。エマルション化された液晶化合物および樹脂を含む塗工液の調製方法の詳細は、例えば、特表58-501631号公報、特開昭60-252687号公報、特表11-500757号公報等に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
(Coating liquid)
The coating liquid can be prepared by any suitable method. For example, it can be obtained by mixing and stirring a liquid crystal compound and a water-soluble polymer (aqueous phase) or resin emulsion (latex) dissolved in water. Details of the method for preparing the coating liquid containing the emulsified liquid crystal compound and the resin are described in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 58-501631, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-2526887, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-500757 and the like. ing. The entire description of the publication is incorporated herein by reference.

塗工液に含まれる液晶化合物としては、任意の適切な液晶化合物が用いられ得る。例えば、ネマティック型、スメクティック型、コレステリック型液晶化合物が挙げられる。透過モードにおいて優れた透明性を実現できることから、ネマティック型液晶化合物を用いることが好ましい。上記ネマティック型液晶化合物としては、ビフェニル系化合物、フェニルベンゾエート系化合物、シクロヘキシルベンゼン系化合物、アゾキシベンゼン系化合物、アゾベンゼン系化合物、アゾメチン系化合物、ターフェニル系化合物、ビフェニルベンゾエート系化合物、シクロヘキシルビフェニル系化合物、フェニルピリジン系化合物、シクロヘキシルピリミジン系化合物、コレステロール系化合物等が挙げられる。 As the liquid crystal compound contained in the coating liquid, any suitable liquid crystal compound can be used. Examples thereof include nematic type, smectic type and cholesteric type liquid crystal compounds. It is preferable to use a nematic liquid crystal compound because excellent transparency can be realized in the transmission mode. Examples of the nematic liquid crystal compound include biphenyl compounds, phenylbenzoate compounds, cyclohexylbenzene compounds, azoxybenzene compounds, azobenzene compounds, azomethine compounds, terphenyl compounds, biphenylbenzoate compounds, and cyclohexyl biphenyl compounds. , Phenylpyridine compounds, cyclohexylpyrimidine compounds, cholesterol compounds and the like.

塗工液に含まれる樹脂としては、任意の適切な樹脂が用いられ得る。例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリアクリル系樹脂等が挙げられる。また、メタクリレート/アクリロニトリル共重合体、ウレタン/アクリレート共重合体、アクリレート/アクリロニトリル共重合体等の共重合体を用いてもよい。 As the resin contained in the coating liquid, any suitable resin can be used. For example, polyurethane resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyacrylic resin and the like can be mentioned. Further, a copolymer such as a methacrylate / acrylonitrile copolymer, a urethane / acrylate copolymer, or an acrylate / acrylonitrile copolymer may be used.

上記液晶化合物と樹脂との合計量は、塗工液100重量部に対して、好ましくは30重量部~70重量部であり、より好ましくは40重量部~60重量部である。このような範囲であれば、安定したエマルション塗工液を得ることができる。 The total amount of the liquid crystal compound and the resin is preferably 30 parts by weight to 70 parts by weight, and more preferably 40 parts by weight to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the coating liquid. Within such a range, a stable emulsion coating liquid can be obtained.

上記液晶化合物と樹脂との重量比(樹脂/液晶化合物)は、好ましくは10/90~90/10であり、より好ましくは30/70~70/30である。液晶化合物の割合が大きすぎる場合、液晶のエマルションが安定せず、経時で液滴サイズが容易に粗大化してしまうおそれがある。一方、液晶化合物の割合が小さすぎる場合、調光フィルムの調光機能が十分に発現しないおそれがある。 The weight ratio (resin / liquid crystal compound) of the liquid crystal compound to the resin is preferably 10/90 to 90/10, more preferably 30/70 to 70/30. If the proportion of the liquid crystal compound is too large, the liquid crystal emulsion may not be stable and the droplet size may easily become coarse over time. On the other hand, if the proportion of the liquid crystal compound is too small, the dimming function of the dimming film may not be sufficiently exhibited.

上記塗工液は、架橋剤をさらに含んでいてもよい。架橋剤を含む塗工液を用いれば、架橋構造を有する樹脂マトリクスから構成された調光層を形成することができる。架橋剤としては、任意の適切な架橋剤が用いられ得る。例えば、アジリジン系架橋剤、イソシアネート系架橋剤等が挙げられる。架橋剤の含有割合は、塗工液100重量部に対して、好ましくは0.5重量部~10重量部であり、より好ましくは0.8重量部~5重量部である。 The coating liquid may further contain a cross-linking agent. If a coating liquid containing a cross-linking agent is used, a dimming layer composed of a resin matrix having a cross-linked structure can be formed. As the cross-linking agent, any suitable cross-linking agent can be used. For example, an aziridine-based cross-linking agent, an isocyanate-based cross-linking agent, and the like can be mentioned. The content ratio of the cross-linking agent is preferably 0.5 parts by weight to 10 parts by weight, and more preferably 0.8 parts by weight to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the coating liquid.

塗工液の粘度は、スロットダイから吐出する時点において、好ましくは20mPas~400mPasであり、より好ましくは30mPas~300mPasであり、さらに好ましくは40mPas~200mPasである。本発明においては、このような範囲の粘度を有する塗工液を用いる場合において、特に優れた効果を得ることができる。粘度が20mPas未満の場合、溶媒(水)を乾燥させる際に溶媒の対流が顕著となり、調光層の厚みが不安定となるおそれがある。また、粘度が400mPasを超える場合、塗工液のビードが安定しないおそれがある。塗工液の粘度は、アントンパール社製レオメーターMCR302により測定することができる。ここでの粘度は、20℃、せん断速度1000(1/s)の条件でのせん断粘度の値を用いている。 The viscosity of the coating liquid is preferably 20 mPas to 400 mPas, more preferably 30 mPas to 300 mPas, and further preferably 40 mPas to 200 mPas at the time of discharging from the slot die. In the present invention, a particularly excellent effect can be obtained when a coating liquid having a viscosity in such a range is used. If the viscosity is less than 20 mPas, convection of the solvent becomes remarkable when the solvent (water) is dried, and the thickness of the light control layer may become unstable. Further, when the viscosity exceeds 400 mPas, the bead of the coating liquid may not be stable. The viscosity of the coating liquid can be measured by the Leometer MCR302 manufactured by Anton Pearl Co., Ltd. As the viscosity here, the value of the shear viscosity under the conditions of 20 ° C. and a shear rate of 1000 (1 / s) is used.

(塗工液の塗布)
塗工液の塗布は、スロットダイを用いて行われる。より詳細には、塗工液の塗布は、搬送体上で透明導電性フィルムを搬送しながら、スロットダイから塗工液を吐出し、該透明導電性フィルムに塗布層を形成するようにして行われ得る。透明導電性フィルムを搬送する搬送体としては、任意の適切な搬送体が用いられ得る。好ましくは、透明導電性フィルムをロール搬送しながら、塗工液の塗布が行われる。スロットダイのリップ先端と透明導電性フィルムとのギャップLは、上記のとおり、100μm以上である。
(Applying coating liquid)
The coating liquid is applied using a slot die. More specifically, the coating liquid is applied by discharging the coating liquid from the slot die while transporting the transparent conductive film on the carrier to form a coating layer on the transparent conductive film. I can be. Any suitable carrier can be used as the carrier for transporting the transparent conductive film. Preferably, the coating liquid is applied while the transparent conductive film is rolled and conveyed. The gap L between the lip tip of the slot die and the transparent conductive film is 100 μm or more as described above.

ギャップLと塗布層の厚み(ウエット厚みであり、図2における厚みT)Tとの比(L/T)は、好ましくは1.5~20であり、より好ましくは1.7~15であり、さらに好ましくは2~13である。このような範囲であれば、本発明の効果は顕著となる。 The ratio (L / T) of the gap L to the thickness (wet thickness, thickness T in FIG. 2) T of the coating layer is preferably 1.5 to 20, and more preferably 1.7 to 15. , More preferably 2 to 13. Within such a range, the effect of the present invention becomes remarkable.

スロットダイのリップ幅(図2における幅W1)は、好ましくは5mm以下であり、より好ましくは2mm以下である。このような範囲であれば、塗工液のビードの乱れを防止することができ、また、ビードの乱れが生じたとしても、乱れた状態が短時間で解消されるため、厚み均一性に優れる塗布層を形成することができる。なお、スロットダイのリップの端面211は、吐出方向Dに対して略垂直であることが好ましい。また、スロットダイは、上流側リップの端面と下流側の端面とが、同一平面にあるように構成されていてもよく、上流側リップと下流側リップとが段差を有するように構成されていてもよい。好ましくは、図2に示すように、上流側リップの端面と下流側の端面とが、同一平面にあるように構成される。また、上流側リップと下流側リップとが段差を有するように構成されている場合、上記ギャップLは、透明導電性フィルムに最も近いリップ先端と、透明導電性フィルムとの距離を意味する。 The lip width of the slot die (width W1 in FIG. 2) is preferably 5 mm or less, more preferably 2 mm or less. Within such a range, it is possible to prevent the bead of the coating liquid from being disturbed, and even if the bead is disturbed, the disordered state is eliminated in a short time, so that the thickness uniformity is excellent. A coating layer can be formed. The end face 211 of the lip of the slot die is preferably substantially perpendicular to the discharge direction D. Further, the slot die may be configured such that the end face of the upstream lip and the end face of the downstream side are in the same plane, and the upstream lip and the downstream lip are configured to have a step. May be good. Preferably, as shown in FIG. 2, the end face of the upstream lip and the end face of the downstream side are configured to be in the same plane. Further, when the upstream lip and the downstream lip are configured to have a step, the gap L means the distance between the lip tip closest to the transparent conductive film and the transparent conductive film.

スロットダイの開口幅(図2における幅W2)は、好ましくは0.1mm~5mmであり、より好ましくは0.1mm~2mmである。 The opening width of the slot die (width W2 in FIG. 2) is preferably 0.1 mm to 5 mm, more preferably 0.1 mm to 2 mm.

スロットダイは、任意の適切な材料から構成される。スロットダイを構成する材料としては、例えば、鉄、ステンレス、ニッケルコート鉄等が挙げられる。 The slot die is made of any suitable material. Examples of the material constituting the slot die include iron, stainless steel, nickel-coated iron and the like.

上記スロットダイは、吐出方向Dが塗工面に対して所定の角度を有するように配置されていてもよい。スロットダイの吐出方向Dと塗工面とのなす角度は、好ましくは70°~110°であり、より好ましくは80°~100°である。なお、透明導電性フィルムがロール搬送される場合、上記塗工面は、搬送ロールの半径方向と吐出方向とが一致する場合に吐出方向に対して垂直となる面(接平面)とする。 The slot die may be arranged so that the discharge direction D has a predetermined angle with respect to the coated surface. The angle formed by the discharge direction D of the slot die and the coated surface is preferably 70 ° to 110 °, more preferably 80 ° to 100 °. When the transparent conductive film is transported by roll, the coated surface is a surface (tangent plane) perpendicular to the discharge direction when the radial direction of the transport roll and the discharge direction coincide with each other.

塗工液の吐出量は、所望とする塗布層厚み、塗布層の幅、ライン速度等に応じて、任意の適切な吐出量に設定され得る。 The discharge amount of the coating liquid can be set to an arbitrary appropriate discharge amount according to the desired coating layer thickness, coating layer width, line speed, and the like.

塗工液を塗工する際のライン速度は、2m/分以上であり、好ましくは2m/分~50m/分である。このようなライン速度は、塗工液のビードの乱れが生じやすいライン速度であるが、本願発明によれば、上記範囲のライン速度で塗工液を塗工しても、塗工液のビードの乱れを防止することができ、厚み均一性に優れる塗布層を形成することができる。また、上記範囲のライン速度であれば、効率よく調光層を形成することができる。 The line speed at which the coating liquid is applied is 2 m / min or more, preferably 2 m / min to 50 m / min. Such a line speed is a line speed at which the bead of the coating liquid is likely to be disturbed. However, according to the present invention, even if the coating liquid is applied at a line speed within the above range, the bead of the coating liquid is easily generated. It is possible to prevent the disturbance of the coating layer and form a coating layer having excellent thickness uniformity. Further, if the line speed is in the above range, the dimming layer can be efficiently formed.

塗工液の塗布は、減圧しながら行ってもよい。好ましくは、ライン方向上流側から減圧する。減圧度は、大気圧に対して、好ましくは0.05kPa~5kPaであり、より好ましくは0.1kPa~2kPaである。減圧しながら塗工液を塗布することにより、ビードが安定し、厚み均一性に優れる塗布層を形成することができる。 The coating liquid may be applied while reducing the pressure. Preferably, the pressure is reduced from the upstream side in the line direction. The degree of decompression is preferably 0.05 kPa to 5 kPa, more preferably 0.1 kPa to 2 kPa, with respect to atmospheric pressure. By applying the coating liquid while reducing the pressure, the beads can be stabilized and a coating layer having excellent thickness uniformity can be formed.

塗布層の厚みTは、好ましくは10μm~100μmであり、より好ましくは20μm~100μmである。このような範囲であれば、散乱モードにおいて高いヘイズ値を示し、かつ、厚みの均一性に優れる調光層を得ることができる。 The thickness T of the coating layer is preferably 10 μm to 100 μm, more preferably 20 μm to 100 μm. Within such a range, it is possible to obtain a dimming layer that exhibits a high haze value in the scattering mode and has excellent thickness uniformity.

(塗布層の乾燥)
塗工液を塗布した後、任意の適切な方法により、塗布層を乾燥させて、調光層を形成する。乾燥方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、加熱乾燥、熱風乾燥等が挙げられる。1つの実施形態においては、塗工液が架橋剤を含む場合、乾燥工程において、樹脂マトリクスの架橋構造が形成される。乾燥温度は、好ましくは30℃~80℃であり、より好ましくは35℃~60℃である。乾燥時間は、好ましくは1分~15分であり、より好ましくは2分~10分である。乾燥温度および乾燥時間を適切に設定することにより、厚み精度に優れる調光層を得ることができる。
(Drying of coating layer)
After applying the coating liquid, the coating layer is dried by any suitable method to form a dimming layer. As the drying method, any suitable method can be adopted. For example, heat drying, hot air drying and the like can be mentioned. In one embodiment, when the coating liquid contains a cross-linking agent, a cross-linked structure of the resin matrix is formed in the drying step. The drying temperature is preferably 30 ° C to 80 ° C, more preferably 35 ° C to 60 ° C. The drying time is preferably 1 minute to 15 minutes, more preferably 2 minutes to 10 minutes. By appropriately setting the drying temperature and the drying time, a dimming layer having excellent thickness accuracy can be obtained.

B.調光フィルム
上記のとおり、1つの実施形態においては、本発明の製造方法により得られる調光フィルムは、第1の透明導電性フィルムと、調光層と、第2の透明導電性フィルムとをこの順に備える。
B. Light control film As described above, in one embodiment, the light control film obtained by the production method of the present invention includes a first transparent conductive film, a light control layer, and a second transparent conductive film. Prepare in this order.

調光フィルムの厚みは、好ましくは110μm~440μmであり、より好ましくは150μm~400μmである。 The thickness of the light control film is preferably 110 μm to 440 μm, and more preferably 150 μm to 400 μm.

(透明導電性フィルム)
図3は、本発明の1つの実施形態による第1の透明導電性フィルムの概略断面図である。第1の透明導電性フィルム110は、透明基材10と、該透明基材10の両側または片側(図示例では片側)に配置された透明導電層20とを含む。第2の透明導電性フィルムも、第1の透明導電性フィルムと同様、透明基材と該透明基材の両側または片側に配置された透明導電層とを含み得る。第1の透明導電性フィルムと第2の透明導電性フィルムとは同じ構成であってもよく、異なる構成であってもよい。第1の透明導電性フィルムと第2の透明導電性フィルムとは、それぞれの透明導電層が対向するようにして配置されることが好ましい。以下、第1の透明導電性および第2の透明導電性フィルムを、総称して、透明導電性フィルムと言うこともある。
(Transparent conductive film)
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the first transparent conductive film according to one embodiment of the present invention. The first transparent conductive film 110 includes a transparent base material 10 and a transparent conductive layer 20 arranged on both sides or one side (one side in the illustrated example) of the transparent base material 10. The second transparent conductive film, like the first transparent conductive film, may include a transparent substrate and transparent conductive layers arranged on both sides or one side of the transparent substrate. The first transparent conductive film and the second transparent conductive film may have the same configuration or may have different configurations. It is preferable that the first transparent conductive film and the second transparent conductive film are arranged so that their respective transparent conductive layers face each other. Hereinafter, the first transparent conductive film and the second transparent conductive film may be collectively referred to as a transparent conductive film.

透明導電性フィルムの厚みは、好ましくは10μm~200μmであり、より好ましくは20μm~200μmである。このような範囲であれば、座屈し難く、座屈による欠点が少ない調光フィルムを得ることができる。厚みの厚いフィルムに塗工液を塗工する場合、噛みこんだ異物の影響が出やすい傾向にあるが、本発明の製造方法によれば、比較的厚みの厚い透明導電性フィルムに塗工液を塗工しても、異物の影響なく、外観決定の少ない調光フィルムを得ることができる。一方、厚みが200μmを超える透明導電性フィルムは、ロール搬送しがたい点で不利である。 The thickness of the transparent conductive film is preferably 10 μm to 200 μm, more preferably 20 μm to 200 μm. Within such a range, it is possible to obtain a light control film that is difficult to buckle and has few defects due to buckling. When the coating liquid is applied to a thick film, the influence of foreign matter caught in the film tends to appear. However, according to the production method of the present invention, the coating liquid is applied to a relatively thick transparent conductive film. It is possible to obtain a dimming film with less determination of appearance without being affected by foreign matter even if it is coated with. On the other hand, a transparent conductive film having a thickness of more than 200 μm is disadvantageous in that it is difficult to carry the roll.

上記透明導電性フィルムの表面抵抗値は、好ましくは0.1Ω/□~1000Ω/□であり、より好ましくは0.5Ω/□~300Ω/□であり、特に好ましくは1Ω/□~200Ω/□である。 The surface resistance value of the transparent conductive film is preferably 0.1Ω / □ to 1000Ω / □, more preferably 0.5Ω / □ to 300Ω / □, and particularly preferably 1Ω / □ to 200Ω / □. Is.

上記透明導電性フィルムのヘイズ値は、好ましくは20%以下であり、より好ましくは10%以下であり、さらに好ましくは0.1%~5%である。 The haze value of the transparent conductive film is preferably 20% or less, more preferably 10% or less, and further preferably 0.1% to 5%.

上記透明導電性フィルムの全光線透過率は、好ましくは30%以上であり、より好ましくは60%以上であり、特に好ましくは80%以上である。 The total light transmittance of the transparent conductive film is preferably 30% or more, more preferably 60% or more, and particularly preferably 80% or more.

透明導電層は、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化錫(SnO)等の金属酸化物を用いて形成され得る。あるいは、透明導電層は、銀ナノワイヤ(AgNW)等の金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブ(CNT)、有機導電膜、金属層またはこれらの積層体によって形成され得る。透明導電層は、目的に応じて、所望の形状にパターニングされ得る。 The transparent conductive layer can be formed by using, for example, a metal oxide such as indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), and tin oxide (SnO 2 ). Alternatively, the transparent conductive layer may be formed of metal nanowires such as silver nanowires (AgNW), carbon nanotubes (CNTs), organic conductive films, metal layers or laminates thereof. The transparent conductive layer can be patterned into a desired shape depending on the purpose.

上記透明基材を構成する材料は、任意の適切な材料が用いられ得る。具体的には、例えば、フィルムやプラスチック基材などの高分子基材が好ましく用いられる。平滑性および透明導電層形成用組成物に対する濡れ性に優れ、また、ロールによる連続生産により生産性を大幅に向上させ得るからである。 Any suitable material can be used as the material constituting the transparent substrate. Specifically, for example, a polymer base material such as a film or a plastic base material is preferably used. This is because it is excellent in smoothness and wettability to the composition for forming a transparent conductive layer, and productivity can be significantly improved by continuous production by rolls.

上記透明基材を構成する材料は、代表的には熱可塑性樹脂を主成分とする高分子フィルムである。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂;ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系樹脂;アクリル系樹脂;ポリカーボネート樹脂;セルロース系樹脂等が挙げられる。なかでも好ましくは、ポリエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂またはアクリル系樹脂である。これらの樹脂は、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性などに優れる。上記熱可塑性樹脂は、単独で、または2種以上組み合わせて用いてもよい。また、偏光板に用いられるような光学フィルム、例えば、低位相差基材、高位相差基材、位相差板、輝度向上フィルム等を基材として用いることも可能である。 The material constituting the transparent substrate is typically a polymer film containing a thermoplastic resin as a main component. Examples of the thermoplastic resin include polyester resins; cycloolefin resins such as polynorbornene; acrylic resins; polycarbonate resins; cellulose resins and the like. Of these, polyester-based resins, cycloolefin-based resins, and acrylic-based resins are preferable. These resins are excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property and the like. The above thermoplastic resin may be used alone or in combination of two or more. Further, it is also possible to use an optical film such as that used for a polarizing plate, for example, a low retardation base material, a high retardation base material, a retardation plate, a luminance improving film, or the like as a base material.

上記透明基材の厚みは、好ましくは50μm~200μmであり、より好ましくは60μm~150μmである。 The thickness of the transparent substrate is preferably 50 μm to 200 μm, and more preferably 60 μm to 150 μm.

上記透明基材の全光線透過率は、好ましくは30%以上であり、より好ましくは35%以上であり、さらに好ましくは40%以上である。 The total light transmittance of the transparent substrate is preferably 30% or more, more preferably 35% or more, and further preferably 40% or more.

(調光層)
1つの実施形態において、上記調光層は、液晶化合物を含む。液晶化合物を含む調光層は、樹脂マトリクス中に液晶化合物を分散させて構成される。調光層は上記A項で説明した方法により形成され得る。
(Dimming layer)
In one embodiment, the dimming layer comprises a liquid crystal compound. The dimming layer containing the liquid crystal compound is configured by dispersing the liquid crystal compound in the resin matrix. The dimming layer can be formed by the method described in Section A above.

上記のような調光層としては、高分子分散型液晶を含む調光層を含む調光層等が挙げられる。高分子分散型液晶は、高分子内において液晶化合物が液滴状態で存在して構成される。 Examples of the light control layer as described above include a light control layer including a light control layer including a polymer-dispersed liquid crystal display. The polymer-dispersed liquid crystal is composed of a liquid crystal compound present in a droplet state in the polymer.

調光層中の液晶化合物の液滴は、径が1μm~10μmであることが好ましく、2μm~7μmであることがより好ましい。 The liquid crystal compound droplets in the light control layer preferably have a diameter of 1 μm to 10 μm, and more preferably 2 μm to 7 μm.

上記液晶化合物としては、特に限定されず、A項で説明した液晶化合物が用いられ得る。 The liquid crystal compound is not particularly limited, and the liquid crystal compound described in Section A can be used.

調光層中における液晶化合物の含有量は、調光層100重量部に対して、好ましくは10重量部~90重量部であり、より好ましくは30重量部~70重量部である。 The content of the liquid crystal compound in the light control layer is preferably 10 parts by weight to 90 parts by weight, and more preferably 30 parts by weight to 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the light control layer.

調光層を構成する樹脂マトリクスを形成する樹脂としては、特に限定されず、例えば、A項で説明した樹脂により、樹脂マトリクスが形成される。 The resin forming the resin matrix constituting the light control layer is not particularly limited, and for example, the resin matrix is formed by the resin described in Section A.

調光層中における樹脂マトリクスの含有量は、調光層100重量部に対して、好ましくは10重量部~90重量部であり、より好ましくは30重量部~70重量部である。 The content of the resin matrix in the light control layer is preferably 10 parts by weight to 90 parts by weight, and more preferably 30 parts by weight to 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the light control layer.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。実施例における評価方法は以下のとおりである。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The evaluation method in the examples is as follows.

[製造例1]
(塗工液の調製)
液晶化合物(チッソ社製、商品名「JM1000XX」)50重量部に、水性脂肪族ポリウレタンラテックス(ゼネカ社製、商品名「Neorez R-967」、ラテックス粒子35重量%を含む)50重量部を添加した後、攪拌部を40℃に保持しつつ、エクセルオートホモジナイザー(日本精機製)を用いて撹拌して、塗工液(エマルション塗工液)を得た。得られた塗工液の粘度は、65mPasであった。
[Manufacturing Example 1]
(Preparation of coating liquid)
50 parts by weight of an aqueous aliphatic polyurethane latex (manufactured by Geneca, trade name "Neorez R-967", including 35% by weight of latex particles) is added to 50 parts by weight of a liquid crystal compound (manufactured by Chisso, trade name "JM1000XX"). Then, while maintaining the stirring portion at 40 ° C., stirring was performed using an Excel autohomogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) to obtain a coating liquid (emulsion coating liquid). The viscosity of the obtained coating liquid was 65 mPas.

[実施例1]
図2に示すようなスロットダイ(リップの厚み(幅)3mm)を用いて、製造例1で得られた塗工液を、第1の透明導電性フィルム上に塗工(塗布、乾燥)して、厚みが20μmの塗工層(調光層)を形成した。その後、塗工層(調光層)上に第2の透明導電性フィルムを積層して、調光層フィルムを得た。
なお、第1の透明導電性フィルムおよび第2の透明導電性フィルムとしては、PET基材上にITO層からなる透明導電層が配置して構成されており、厚みが188μmの透明導電性フィルム(表面抵抗値:100Ω/□)を用いた。
塗工液の塗布条件は、ライン速度:6m/、スロットダイのリップ先端と透明導電性フィルムとのギャップL:150μm、上流からのバキューム圧:0.4kPaとした。当該条件の塗布により、ウエット厚み40μmの塗布層が形成された。塗布層の乾燥条件は、40℃、5分とした。
[Example 1]
Using a slot die (lip thickness (width) 3 mm) as shown in FIG. 2, the coating liquid obtained in Production Example 1 is applied (coated, dried) on the first transparent conductive film. A coating layer (light control layer) having a thickness of 20 μm was formed. Then, a second transparent conductive film was laminated on the coating layer (light control layer) to obtain a light control layer film.
The first transparent conductive film and the second transparent conductive film are configured by arranging a transparent conductive layer made of an ITO layer on a PET substrate, and have a thickness of 188 μm (transparent conductive film). Surface resistance value: 100Ω / □) was used.
The application conditions of the coating liquid were a line speed of 6 m / min , a gap L between the lip tip of the slot die and the transparent conductive film: 150 μm, and a vacuum pressure from the upstream: 0.4 kPa. By coating under the above conditions, a coating layer having a wet thickness of 40 μm was formed. The drying conditions of the coating layer were 40 ° C. and 5 minutes.

[実施例2]
塗工液の塗布条件において、ギャップLを250μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは45μmであり、調光層の厚みは22μmであった。
[Example 2]
A photochromic film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the gap L was 250 μm under the coating conditions of the coating liquid. The wet thickness of the coating layer was 45 μm, and the thickness of the dimming layer was 22 μm.

[実施例3]
リップの厚みが1mmであるスロットダイを用い、ギャップLを150μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは49μmであり、調光層の厚みは25μmであった。
[Example 3]
A photochromic film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a slot die having a lip thickness of 1 mm was used and the gap L was set to 150 μm. The wet thickness of the coating layer was 49 μm, and the thickness of the dimming layer was 25 μm.

[実施例4]
塗工液の塗布条件において、ギャップLを250μmとしたこと以外は、実施例3と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは50μmであり、調光層の厚みは25μmであった。
[Example 4]
A photochromic film was obtained in the same manner as in Example 3 except that the gap L was 250 μm under the coating conditions of the coating liquid. The wet thickness of the coating layer was 50 μm, and the thickness of the dimming layer was 25 μm.

[実施例5]
塗工液の塗布条件において、ギャップLを350μmとしたこと以外は、実施例3と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは44μmであり、調光層の厚みは22μmであった。
[Example 5]
A light control film was obtained in the same manner as in Example 3 except that the gap L was set to 350 μm under the coating conditions of the coating liquid. The wet thickness of the coating layer was 44 μm, and the thickness of the dimming layer was 22 μm.

[実施例6]
塗工液の塗布条件において、ギャップLを400μmとしたこと以外は、実施例3と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは39μmであり、調光層の厚みは19μmであった。
[Example 6]
A light control film was obtained in the same manner as in Example 3 except that the gap L was 400 μm under the coating conditions of the coating liquid. The wet thickness of the coating layer was 39 μm, and the thickness of the dimming layer was 19 μm.

[比較例1]
塗工液の塗布条件において、ギャップLを50μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは43μmであり、調光層の厚みは21μmであった。
[Comparative Example 1]
A photochromic film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the gap L was set to 50 μm under the coating conditions of the coating liquid. The wet thickness of the coating layer was 43 μm, and the thickness of the dimming layer was 21 μm.

[比較例2]
塗工液の塗布条件において、ギャップLを50μmとしたこと以外は、実施例3と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは45μmであり、調光層の厚みは22μmであった。
[Comparative Example 2]
A dimming film was obtained in the same manner as in Example 3 except that the gap L was set to 50 μm under the coating conditions of the coating liquid. The wet thickness of the coating layer was 45 μm, and the thickness of the dimming layer was 22 μm.

[参考例1]
塗工液の塗布条件において、ライン速度を0.5m/とし、ギャップLを50μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは40μmであり、調光層の厚みは20μmであった。
[Reference Example 1]
A dimming film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the line speed was 0.5 m / min and the gap L was 50 μm under the coating conditions of the coating liquid. The wet thickness of the coating layer was 40 μm, and the thickness of the dimming layer was 20 μm.

<評価>
実施例、比較例および参考例で得られた調光フィルムを以下の評価に供した。結果を表1に示す。
<Evaluation>
The photochromic films obtained in Examples, Comparative Examples and Reference Examples were subjected to the following evaluations. The results are shown in Table 1.

(1)ヘイズ値
得られた調光フィルム(ノーマルモード、電圧無印加時)のヘイズ値をJIS7136に準じて、測定した。
(1) Haze value The haze value of the obtained light control film (normal mode, when no voltage was applied) was measured according to JIS7136.

(2)外観1(光散乱異常)
暗室にて、光源に蛍光灯を用いて、調光フィルムに光を透過させ、透過した光を目視にて観察した。膜厚ムラにより部分的に円状の濃淡が観察された部分を光散乱異常とし、その数を測定した。
(2) Appearance 1 (light scattering abnormality)
In a dark room, a fluorescent lamp was used as a light source, light was transmitted through a dimming film, and the transmitted light was visually observed. The part where the circular shading was partially observed due to the uneven film thickness was regarded as a light scattering abnormality, and the number was measured.

(3)外観1(塗工スジ)
暗室にて、光源に蛍光灯を用いて、調光フィルムに光を透過させ、透過した光を目視にて観察した。MD方向に連続的に濃淡が観察された部分を塗工スジとし、その数を測定した。
(3) Appearance 1 (painting streaks)
In a dark room, a fluorescent lamp was used as a light source, light was transmitted through a dimming film, and the transmitted light was visually observed. The portion where the shading was continuously observed in the MD direction was defined as a coating streak, and the number was measured.

Figure 0007019315000001
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表1から明らかなように、本発明によれば、ギャップLを100μm以上とすることにより、ライン速度が高速であっても、エマルション塗工液による調光層を外観よく形成することができる。外観向上効果は、スロットダイのリップ厚みを小さくすること、また、ギャップLを350μm以下とすることにより、さらに顕著となる。 As is clear from Table 1, according to the present invention, by setting the gap L to 100 μm or more, it is possible to form a light control layer by the emulsion coating liquid with a good appearance even if the line speed is high. The effect of improving the appearance becomes even more remarkable by reducing the lip thickness of the slot die and setting the gap L to 350 μm or less.

10 透明基材
20 透明導電層
100 調光フィルム
110 第1の透明導電性フィルム
120 調光層
130 第2の透明導電性フィルム
10 Transparent base material 20 Transparent conductive layer 100 Dimming film 110 First transparent conductive film 120 Dimming layer 130 Second transparent conductive film

Claims (4)

スロットダイを用いて、透明導電性フィルムに、エマルション化された液晶化合物とエマルション化された樹脂とを含む塗工液を塗工する塗工工程を含む、調光フィルムの製造方法であって、
該塗工工程におけるライン速度が、2m/分~50m/分であり、
該スロットダイのリップ先端と該透明導電性フィルムとのギャップが100μm~550μmであり、
該スロットダイのリップ幅が、5mm以下であり、
該塗工液の粘度が、該スロットダイから吐出する時点において、20mPas~400mPasであり、
該調光フィルムが、透過モードと散乱モードとに切り替え可能であり、
該調光フィルムの散乱モードにおけるヘイズ値が、80%以上である、
調光フィルムの製造方法。
A method for producing a light control film, which comprises a coating step of applying a coating liquid containing an emulsified liquid crystal compound and an emulsified resin to a transparent conductive film using a slot die.
The line speed in the coating process is 2 m / min to 50 m / min .
The gap between the lip tip of the slot die and the transparent conductive film is 100 μm to 550 μm.
The lip width of the slot die is 5 mm or less.
The viscosity of the coating liquid is 20 mPas to 400 mPas at the time of discharging from the slot die.
The dimming film can be switched between a transmission mode and a scattering mode.
The haze value of the light control film in the scattering mode is 80% or more.
A method for manufacturing a light control film.
前記スロットダイのリップ幅が、2mm以下である、請求項1に記載の調光フィルムの製造方法。 The method for manufacturing a light control film according to claim 1, wherein the lip width of the slot die is 2 mm or less. 前記透明導電性フィルムの厚みが、10μm~200μmである、請求項1または2に記載の調光フィルムの製造方法。 The method for producing a dimming film according to claim 1 or 2, wherein the transparent conductive film has a thickness of 10 μm to 200 μm. 前記液晶化合物と前記樹脂との合計量が、前記塗工液100重量部に対して、30重量部~70重量部である、請求項1から3にいずれかに記載の調光フィルムの製造方法。 The method for producing a light control film according to any one of claims 1 to 3, wherein the total amount of the liquid crystal compound and the resin is 30 parts by weight to 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the coating liquid. ..
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