JP7016932B2 - Manufacturing method of optical laminate, liquid crystal laminate, and optical laminate - Google Patents
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Description
本発明は、光学積層体の製造方法、液晶積層体、及び光学積層体に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an optical laminate, a liquid crystal laminate, and an optical laminate.
液晶表示装置や有機EL表示装置等の表示装置には、偏光板や位相差板等の光学フィルムを含む部材が用いられている。このような光学フィルムを含む部材として、基材層上に重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布した後、重合性液晶化合物を重合硬化することによって位相差特性を有する液晶層を形成し、この液晶層上に接着剤層を介して偏光子を積層した光学積層体が知られている(例えば、特許文献1等)。 A member including an optical film such as a polarizing plate and a retardation plate is used in a display device such as a liquid crystal display device or an organic EL display device. As a member containing such an optical film, a liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound is applied onto a base material layer, and then the polymerizable liquid crystal compound is polymerized and cured to form a liquid crystal layer having retardation characteristics. An optical laminate in which a polarizing element is laminated on this liquid crystal layer via an adhesive layer is known (for example, Patent Document 1 and the like).
上記のような光学積層体の液晶層がフッ素原子を含む場合、液晶層上に接着剤層を介して偏光子等を積層した光学積層体では、シワや気泡といった欠陥が発生することが見出された。このような欠陥を有する光学積層体を表示装置に適用すると視認性が低下しやすい。 When the liquid crystal layer of the optical laminated body as described above contains fluorine atoms, it has been found that defects such as wrinkles and bubbles occur in the optical laminated body in which a polarizing element or the like is laminated on the liquid crystal layer via an adhesive layer. Was done. When an optical laminate having such a defect is applied to a display device, the visibility tends to be deteriorated.
本発明は、シワや気泡といった欠陥の発生が抑制された光学積層体の製造方法、液晶積層体、及び光学積層体を提供することを目的とする。 It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical laminate in which the generation of defects such as wrinkles and bubbles is suppressed, a liquid crystal laminate, and an optical laminate.
本発明は、以下に示す光学積層体の製造方法、液晶積層体、及び光学積層体を提供する。
〔1〕 重合性液晶化合物及びフッ素原子を含む第1液晶組成物を硬化してなる第1液晶層と、貼合層と、光学層とがこの順に積層された光学積層体の製造方法であって、
前記第1液晶層の一方の面に対して表面活性化処理を行う工程と、
前記表面活性化処理が施された前記一方の面に、貼合剤組成物を塗布することによって塗布層を形成する工程と、
前記塗布層上に光学層を積層する工程と、
前記塗布層から前記貼合層を形成する工程と、を含み、
前記表面活性化処理を行う工程を行う前の前記一方の面におけるフッ素原子量F1[atm%]と、前記表面活性化処理を行う工程を行った後の前記一方の面におけるフッ素原子量F2[atm%]とは、下記式(I)の関係を満たす、光学積層体の製造方法。
0.05×F1≦F2≦0.7×F1 (I)
〔2〕 前記第1液晶組成物は、レベリング剤を含む、〔1〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔3〕 前記レベリング剤は、前記フッ素原子を含む、〔2〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔4〕 前記光学層は、重合性液晶化合物の硬化物を含む第2液晶層である、〔1〕~〔3〕のいずれか1項に記載の光学積層体の製造方法。
〔5〕 前記第2液晶層は、表面活性化処理が施された面を有し、
前記積層する工程は、前記第2液晶層の前記表面活性化処理が施された面と、前記塗布層とが接するように、前記第2液晶層を積層する工程である、〔4〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔6〕 さらに、前記第1液晶層及び前記第2液晶層のうちの一方において、前記貼合層とは反対側に偏光板を積層する工程を含み、
前記偏光板は、直線偏光子の片面又は両面に保護層を有する、〔4〕又は〔5〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔7〕 前記光学層は、直線偏光子の片面又は両面に保護層を有する偏光板を含む、〔1〕~〔3〕のいずれか1項に記載の光学積層体の製造方法。
〔8〕 さらに、前記第1液晶層の前記貼合層とは反対側に、重合性液晶化合物の硬化物を含む第2’液晶層を積層する工程を含む、〔7〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔9〕 前記第1液晶層の前記一方の面に施される前記表面活性化処理は、コロナ処理である、〔1〕~〔8〕のいずれか1項に記載の光学積層体の製造方法。
〔10〕 前記表面活性化処理を行う工程は、前記コロナ処理の処理量が1kJ/m2以上8kJ/m2以下である、〔9〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔11〕 前記貼合層は、接着剤層である、〔1〕~〔10〕のいずれか1項に記載の光学積層体の製造方法。
〔12〕 重合性液晶化合物の硬化物を含む第1液晶層と貼合層とが積層された液晶積層体であって、
前記第1’液晶層の前記貼合層側の表面におけるフッ素原子量は、1.5atm%以上4.5atm%以下である、液晶積層体。
〔13〕 さらに、前記第1’液晶層の前記貼合層側とは反対側に基材層を有する、〔12〕に記載の液晶積層体。
〔14〕 〔12〕又は〔13〕に記載の液晶積層体と、光学層とを有する光学積層体であって、
前記光学層は、前記液晶積層体の前記貼合層側に積層されている、光学積層体。
〔15〕 前記光学層は、重合性液晶化合物の硬化物を含む第2液晶層である、〔14〕に記載の光学積層体。
〔16〕 前記第2液晶層の前記貼合層側の表面におけるフッ素原子量は、1.5atm%以上4.5atm%以下である、〔15〕に記載の光学積層体。
〔17〕 前記液晶積層体は、〔12〕に記載の液晶積層体であり、
前記光学積層体は、さらに、前記第1’液晶層及び前記第2液晶層のうちの一方において、前記貼合層側とは反対側に偏光板を有し、
前記偏光板は、直線偏光子の片面又は両面に保護層を有する偏光板を含む、〔15〕又は〔16〕に記載の光学積層体。
〔18〕 前記光学層は、直線偏光子の片面又は両面に保護層を有する偏光板を含む、〔14〕に記載の光学積層体。
〔19〕 前記液晶積層体は、請求項12に記載の液晶積層体であり、
前記光学積層体は、さらに、前記第1’液晶層の前記貼合層側とは反対側に、重合性液晶化合物の硬化物を含む第2’液晶層を有する、〔18〕に記載の光学積層体。
〔20〕
前記貼合層は、接着剤層である、〔14〕~〔19〕のいずれかに記載の光学積層体。
The present invention provides the following methods for manufacturing an optical laminate, a liquid crystal laminate, and an optical laminate.
[1] A method for producing an optical laminate in which a first liquid crystal layer obtained by curing a first liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound and a fluorine atom, a laminated layer, and an optical layer are laminated in this order. hand,
A step of performing a surface activation treatment on one surface of the first liquid crystal layer and
A step of forming a coating layer by applying a patch composition to the one surface to which the surface activation treatment has been performed, and a step of forming a coating layer.
The step of laminating the optical layer on the coating layer and
Including the step of forming the bonding layer from the coating layer.
Fluorine atomic weight F1 [atm%] on the one surface before the surface activation treatment and fluorine atomic weight F2 [atm%] on the one surface after the surface activation treatment. ] Is a method for manufacturing an optical laminate that satisfies the relationship of the following formula (I).
0.05 × F1 ≦ F2 ≦ 0.7 × F1 (I)
[2] The method for producing an optical laminate according to [1], wherein the first liquid crystal composition contains a leveling agent.
[3] The method for producing an optical laminate according to [2], wherein the leveling agent contains the fluorine atom.
[4] The method for producing an optical laminate according to any one of [1] to [3], wherein the optical layer is a second liquid crystal layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound.
[5] The second liquid crystal layer has a surface that has been subjected to a surface activation treatment.
The step of laminating the second liquid crystal layer is a step of laminating the second liquid crystal layer so that the surface of the second liquid crystal layer subjected to the surface activation treatment is in contact with the coating layer. Method for manufacturing an optical laminate.
[6] Further, a step of laminating a polarizing plate on the side opposite to the bonded layer in one of the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer is included.
The method for producing an optical laminate according to [4] or [5], wherein the polarizing plate has a protective layer on one side or both sides of a linear polarizing element.
[7] The method for producing an optical laminate according to any one of [1] to [3], wherein the optical layer includes a polarizing plate having a protective layer on one side or both sides of a linear polarizing element.
[8] The optical lamination according to [7], further comprising a step of laminating a second'liquid crystal layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound on the side of the first liquid crystal layer opposite to the bonded layer. How to make a body.
[9] The method for producing an optical laminate according to any one of [1] to [8], wherein the surface activation treatment applied to the one surface of the first liquid crystal layer is a corona treatment. ..
[10] The method for producing an optical laminate according to [9], wherein in the step of performing the surface activation treatment, the treatment amount of the corona treatment is 1 kJ / m 2 or more and 8 kJ / m 2 or less.
[11] The method for producing an optical laminate according to any one of [1] to [10], wherein the bonded layer is an adhesive layer.
[12] A liquid crystal laminate in which a first liquid crystal layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound and a bonded layer are laminated.
A liquid crystal laminate having a fluorine atomic weight on the surface of the 1'liquid crystal layer on the bonded layer side of 1.5 atm% or more and 4.5 atm% or less.
[13] The liquid crystal laminate according to [12], further having a base material layer on the side of the first'liquid crystal layer opposite to the bonded layer side.
[14] An optical laminate having the liquid crystal laminate according to [12] or [13] and an optical layer.
The optical layer is an optical laminate laminated on the bonded layer side of the liquid crystal laminate.
[15] The optical laminate according to [14], wherein the optical layer is a second liquid crystal layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound.
[16] The optical laminate according to [15], wherein the fluorine atomic weight on the surface of the second liquid crystal layer on the bonded layer side is 1.5 atm% or more and 4.5 atm% or less.
[17] The liquid crystal laminate is the liquid crystal laminate according to [12].
The optical laminate further has a polarizing plate on one of the first'liquid crystal layer and the second liquid crystal layer on the side opposite to the bonded layer side.
The optical laminate according to [15] or [16], wherein the polarizing plate includes a polarizing plate having a protective layer on one side or both sides of a linear polarizing element.
[18] The optical laminate according to [14], wherein the optical layer includes a polarizing plate having a protective layer on one side or both sides of a linear polarizing element.
[19] The liquid crystal laminate is the liquid crystal laminate according to claim 12.
The optics according to [18], wherein the optical laminate further has a second'liquid crystal layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound on the side of the first'liquid crystal layer opposite to the bonded layer side. Laminated body.
[20]
The optical laminate according to any one of [14] to [19], wherein the bonding layer is an adhesive layer.
本発明によれば、シワや気泡といった欠陥の発生が抑制された光学積層体を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical laminate in which the generation of defects such as wrinkles and bubbles is suppressed.
以下、図面を参照して本発明の光学積層体の製造方法の好ましい実施形態について説明する。以下に示す実施形態と各変形例は任意に組み合わせてもよい。各変形例において、それらよりも先に説明した部材と同じ部材については同じ符号を付してその説明を省略する。 Hereinafter, preferred embodiments of the method for producing an optical laminate of the present invention will be described with reference to the drawings. The embodiments shown below and each modification may be arbitrarily combined. In each modification, the same members as those described above are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.
<光学積層体の製造方法>
図1は、本発明の光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。図2(a)~(c)は、本発明の光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。
<Manufacturing method of optical laminate>
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of the optical laminate of the present invention. 2 (a) to 2 (c) are schematic cross-sectional views schematically showing an example of a manufacturing process of the optical laminate of the present invention.
本実施形態の光学積層体の製造方法によって得られる光学積層体1は、図1に示すように、第1液晶層10、第1貼合層20(貼合層)、光学層30をこの順に有する。第1液晶層10は、重合性液晶化合物及びフッ素原子を含む第1液晶組成物を硬化してなる硬化物層である。第1貼合層20は、接着剤組成物の硬化物からなる接着剤層又は粘着剤層であり、接着剤層であることが好ましい。光学層30は、光を透過する、反射する、吸収する等の光学機能を有する層を意味する。
As shown in FIG. 1, in the optical laminate 1 obtained by the method for manufacturing an optical laminate of the present embodiment, the first
光学積層体1は、第1液晶層10の第1貼合層20とは反対側に、第1基材層11を有していてもよく、第1配向層及び第1基材層11をこの順に有していてもよい。光学積層体1は、枚葉体であってもよく、長尺のフィルム状物であってもよい。
The optical laminate 1 may have a first
光学積層体1の製造方法は、
第1液晶層10の一方の面(以下、「第1表面」ということがある。)10a(図2(a))に対して表面活性化処理を行う工程、
表面活性化処理が施された第1表面10aに、第1貼合剤組成物(貼合剤組成物)を塗布することによって塗布層25(図2(b))を形成する工程、
塗布層25上に光学層30(図2(c))を積層する工程、及び、
塗布層25から第1貼合層20を形成する工程、
を含み、
表面活性化処理を行う工程を行う前の第1表面10aにおけるフッ素原子量F1[atm%]と、表面活性化処理を行う工程を行った後の第1表面10aにおけるフッ素原子量F2[atm%]とは、下記式(I)の関係を満たす。
0.05×F1≦F2≦0.7×F1 (I)
The method for manufacturing the optical laminate 1 is as follows.
A step of performing a surface activation treatment on one surface (hereinafter, may be referred to as “first surface”) 10a (FIG. 2A) of the first
A step of forming a coating layer 25 (FIG. 2B) by applying a first patching agent composition (bonding agent composition) to a
The step of laminating the optical layer 30 (FIG. 2 (c)) on the
Step of forming the first bonded
Including
Fluorine atomic weight F1 [atm%] on the
0.05 × F1 ≦ F2 ≦ 0.7 × F1 (I)
第1液晶組成物は、レベリング剤を含むことが好ましい。レベリング剤は、上記したフッ素原子を含むことが好ましい。 The first liquid crystal composition preferably contains a leveling agent. The leveling agent preferably contains the above-mentioned fluorine atom.
第1液晶組成物に含まれるフッ素原子が、例えばレベリング剤に含まれるフッ素原子である場合、レベリング剤を含有する第1液晶組成物を硬化することによって形成された第1液晶層10の表面には、レベリング剤が集まりやすく、フッ素原子量が多くなることがある。このように、第1液晶層10の表面にフッ素原子が集まって存在している場合、この表面に第1貼合剤組成物を塗布すると、第1貼合剤組成物のハジキが発生しやすく、気泡等の欠陥が発生することがある。
When the fluorine atom contained in the first liquid crystal composition is, for example, the fluorine atom contained in the leveling agent, the surface of the first
本実施形態の光学積層体1の製造方法では、第1液晶層10の第1表面10aに対して表面活性化処理を行い、表面活性化処理の前後における第1表面10aのフッ素原子量F1及びF2が上記式(I)の関係を満たしている。この表面活性化処理により、第1液晶層10の第1表面10aに存在するフッ素原子量をF2にまで低減することができるため、第1貼合剤組成物を塗布したときに発生するハジキを抑制することができ、上記した欠陥の発生が抑制された光学積層体1を得ることができる。
In the method for producing the optical laminate 1 of the present embodiment, the surface activation treatment is performed on the
光学積層体1の製造方法で用いる各層(第1液晶層、光学層、第1基材層等)は、枚葉体であってもよく、長尺のフィルム状物であってもよい。上記の各層が長尺のフィルムである場合、光学積層体1の製造方法は、フィルム状物を連続的に搬送しながら各工程を行う、いわゆるRoll to Rollで行うことが好ましい。 Each layer (first liquid crystal layer, optical layer, first base material layer, etc.) used in the method for producing the optical laminate 1 may be a single-wafer body or a long film-like material. When each of the above layers is a long film, the method for manufacturing the optical laminate 1 is preferably performed by so-called Roll to Roll, in which each step is performed while continuously transporting the film-like material.
以下、光学積層体1の製造方法の各工程、光学積層体1の製造方法に含まれていてもよいその他の工程、光学積層体の製造方法の変形例、及び各工程で用いる材料等について、具体的に説明する。 Hereinafter, each step of the method for manufacturing the optical laminate 1, other steps that may be included in the method for manufacturing the optical laminate 1, modified examples of the method for manufacturing the optical laminate 1, materials used in each step, and the like will be described. This will be described in detail.
(表面活性化処理を行う工程)
光学積層体1の製造方法は、第1液晶層10の第1表面10aに対して表面活性化処理を行う工程を含む。
(Step of surface activation treatment)
The method for producing the optical laminate 1 includes a step of performing a surface activation treatment on the
第1液晶層10は、例えば、第1基材層11上に、フッ素原子を含むレベリング剤及び重合性液晶化合物を含有する第1液晶組成物を塗布し、第1液晶組成物を硬化することによって形成することができる。第1液晶組成物は、第1基材層11に接するように塗布されてもよく、第1基材層11に設けられた第1配向層に接するように塗布されてもよい。第1液晶組成物を第1基材層11上に塗布する方法としては、光学分野において用いられている公知の塗布方法が挙げられ、具体的には、スピンコ-ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、コンマコーティング法、アプリケータ法、フレキソ法等が挙げられる。第1液晶組成物の硬化は特に制限されず、従来より知られている重合性液晶化合物の重合硬化方法により行うことができる。
For the first
表面活性化処理を行う工程では、第1液晶層10の第1表面10aに対して表面活性化処理を行う。表面活性化処理としては、第1表面10aにおけるフッ素原子量を低減することができる処理を挙げることができる。具体的には、コロナ処理、プラズマ処理、グロー放電等の放電処理;火炎(フレーム)処理;オゾン処理;UVオゾン処理;紫外線処理、電子線処理のような電離活性線処理等が挙げられる。このうち、コロナ処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ処理がより好ましい。表面活性化処理は、上記した処理のうち1種又は2種以上を組み合わせて行うことができる。
In the step of performing the surface activation treatment, the surface activation treatment is performed on the
上記表面活性化処理は、上記式(I)の関係を満たすように行う。フッ素原子量F2は、0.65×F1[atm%]以下であることが好ましく、0.5×F1[atm%]以下であることがより好ましく、0.4×F1[atm%]以下であってもよく、0.3×F1[atm%]以下であってもよい。フッ素原子量F2は、0.08×F1[atm%]以上であってもよく、0.1×F1[atm%]以上であってもよく、0.15×F1[atm%]以上であってもよい。フッ素原子量は、後述する実施例に記載のように、X線光電子分光分析(XPS法)によって決定することができる。 The surface activation treatment is performed so as to satisfy the relationship of the above formula (I). The atomic weight of fluorine F2 is preferably 0.65 × F1 [atm%] or less, more preferably 0.5 × F1 [atm%] or less, and 0.4 × F1 [atm%] or less. It may be 0.3 × F1 [atm%] or less. The fluorine atomic weight F2 may be 0.08 × F1 [atm%] or more, 0.1 × F1 [atm%] or more, or 0.15 × F1 [atm%] or more. May be good. The fluorine atomic weight can be determined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS method) as described in Examples described later.
フッ素原子量F2が上記式(I)の範囲内にあることにより、第1液晶層10の第1表面10aにおけるフッ素原子量を十分に低減することができるため、第1表面10aに第1貼合剤組成物を塗布したときに発生するハジキを抑制することができる。
Since the fluorine atomic weight F2 is within the range of the above formula (I), the fluorine atomic weight on the
表面活性化処理を行う工程を行う前の第1表面10aにおけるフッ素原子量F1は、12atm%以上であることが好ましく、14atm%以上であることがより好ましく、16atm%以上であってもよく、18atm%以上であってもよい。フッ素原子量F1は、通常25atm%以下であり、23atm%以下であってもよい。
The fluorine atomic weight F1 on the
表面活性化処理を行う工程を行った後の第1表面10aにおけるフッ素原子量F2は、12atm%未満であることが好ましく、10atm%以下であることがより好ましく、9atm%以下であってもよく、6atm%以下であってもよく、5atm%以下であってもよい。フッ素原子量F2は、通常0atm%超であり、0.5atm%以上であってもよく、1atm%以上であってもよい。
The fluorine atomic weight F2 on the
上記表面活性化処理を行う工程によって、フッ素原子量F1及びF2が上記式(I)を満たすことにより、第1液晶層10の第1表面10aにおけるフッ素原子量F1が上記のように比較的大きい値である場合にも、第1表面10aに第1貼合剤組成物を塗布したときに発生するハジキを抑制することができる。
By the step of performing the surface activation treatment, the fluorine atomic weights F1 and F2 satisfy the above formula (I), so that the fluorine atomic weight F1 on the
表面活性化処理の処理量は、第1液晶層10の第1表面10aにおけるフッ素原子量を式(I)の関係を満たすように低減できる量であれば特に限定されない。例えば表面活性化処理がコロナ処理である場合、コロナ処理の処理量は、1kJ/m2以上であることが好ましく、1.5kJ/m2以上であることがより好ましく、1.8kJ/m2以上であることが最も好ましい。コロナ処理量は、8kJ/m2以下であることが好ましく、7kJ/m2以下であることがより好ましく、6kJ/m2以下であってもよい。コロナ処理の処理量が1kJ/m2未満である場合には、第1表面10aにおけるフッ素原子量F2を所望の範囲に調整することが難しくなる傾向にある。コロナ処理量が8kJ/m2を超える場合には、コロナ処理によって発生した熱により第1液晶層10の変形等の不具合が生じる場合がある。
The amount of the surface activation treatment is not particularly limited as long as it can reduce the amount of fluorine atomic weight on the
(塗布層25を形成する工程)
塗布層25を形成する工程では、表面活性化処理を行う工程を行った第1液晶層10の第1表面10aに、第1貼合剤組成物を塗布することによって塗布層25を形成する。第1貼合剤組成物は、第1貼合層20を形成するための組成物であり、第1貼合層20が接着剤層である場合は接着剤組成物であり、第1貼合層20が粘着剤層である場合は粘着剤組成物である。
(Step of forming the coating layer 25)
In the step of forming the
第1貼合剤組成物を塗布する方法としては、第1液晶組成物を第1基材層11上に塗布する方法として例示した方法が挙げられる。第1貼合剤組成物を塗布する方法としては、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法が好ましい。
Examples of the method for applying the first patching agent composition include a method exemplified as a method for applying the first liquid crystal composition on the first
第1貼合剤組成物の温度25℃における粘度は、1mPa・sec以上であることが好ましく、10mPa・sec以上であることがより好ましく、20mPa・sec以上であってもよい。第1貼合剤組成物の温度25℃における粘度は、150mPa・sec以下であることが好ましく、140mPa・sec以下であることがより好ましく、130mPa・sec以下であってもよい。光学積層体1の製造方法によれば、第1貼合剤組成物の粘度が上記の範囲にある場合であっても、第1液晶層10の第1表面10aに、ハジキを抑制して第1貼合剤組成物を塗布することができる。これにより、上記した欠陥の発生が抑制された光学積層体1を得ることができる。第1貼合剤組成物の粘度は、後述する実施例に記載の方法によって測定することができる。
The viscosity of the first patch composition at a temperature of 25 ° C. is preferably 1 mPa · sec or more, more preferably 10 mPa · sec or more, and may be 20 mPa · sec or more. The viscosity of the first patch composition at a temperature of 25 ° C. is preferably 150 mPa · sec or less, more preferably 140 mPa · sec or less, and may be 130 mPa · sec or less. According to the method for producing the optical laminate 1, even when the viscosity of the first patch composition is in the above range, cissing is suppressed on the
(光学層30を積層する工程)
光学層30を積層する工程では、塗布層25を形成する工程で形成した塗布層25上に光学層30を積層する。これにより、第1貼合層20を介して第1液晶層10と光学層30とが積層された光学積層体1を得ることができる。
(Step of laminating the optical layer 30)
In the step of laminating the
(第1貼合層20を形成する工程)
塗布層25は、第1貼合剤組成物の種類に応じて、そのまま第1貼合層20とすることができ、あるいは、塗布層25を形成した後や塗布層25上に光学層30を積層した後に、乾燥処理や硬化処理等を行うことにより第1貼合層20とすることができる。
(Step of forming the first bonded layer 20)
The
第1貼合層20を形成する工程としては、特に限定されないが、例えば、
塗布層25が接着剤組成物を用いて形成された層である場合には、光学層30を積層する工程の後に、塗布層25に含まれる接着剤組成物中の硬化性成分を硬化するための硬化処理工程を行い、第1貼合層20を形成する工程;
塗布層25が粘着剤組成物を用いて形成された層である場合には、塗布層25を形成する工程の後又は光学層30を積層する工程の後に、塗布層25を乾燥するための乾燥工程を行い、第1貼合層20を形成する工程等が挙げられる。
The step of forming the first bonded
When the
When the
(その他の工程)
光学積層体1の製造方法は、上記以外のその他の工程を含んでいてもよい。その他の工程としては、例えば、
第1基材層11の一方の面に第1配向層を形成し、この第1配向層の第1基材層11とは反対側に第1液晶層10を形成する工程;
光学層30を積層する工程の後に、第1基材層11、又は、第1基材層11及び第1配向層を剥離する工程等が挙げられる。これらの工程は1種又は2種以上を組合わせて行うことができる。
(Other processes)
The method for manufacturing the optical laminate 1 may include other steps other than the above. Other steps include, for example,
A step of forming a first alignment layer on one surface of the
After the step of laminating the
(変形例1)
図3は、本発明の光学積層体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。図4(a)~(d)は、本発明の光学積層体の製造工程の他の一例を模式的に示す概略断面図である。
(Modification 1)
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view schematically showing another example of the optical laminate of the present invention. 4 (a) to 4 (d) are schematic cross-sectional views schematically showing another example of the manufacturing process of the optical laminate of the present invention.
本変形例の光学積層体の製造方法によって得られる光学積層体2は、図1に示す光学積層体1における光学層30が第2液晶層32であるものである。光学積層体2は、図3に示すように、第1液晶層10、第1貼合層20、及び第2液晶層32(光学層)をこの順に有する。第2液晶層32は、重合性液晶化合物を重合硬化することによって形成された重合性液晶化合物の硬化物層である。
In the
光学積層体2はさらに、第2液晶層32の第1貼合層20とは反対側に、第2貼合層21及び偏光板35がこの順に積層されていてもよく(図3)、第2配向層、第2貼合層21、及び偏光板35がこの順に積層されていてもよい。図示していないが、光学積層体2はさらに、第1液晶層10の第1貼合層20とは反対側に第2貼合層及び偏光板がこの順に積層されていてもよく、第1配向層、第2貼合層、及び偏光板がこの順に積層されていてもよい。偏光板35は、直線偏光子の片面又は両面に保護層を有するものである。第2貼合層は、接着剤組成物の硬化物からなる接着剤層又は粘着剤層である。
In the
光学積層体2はさらに、第2液晶層32の第1貼合層20とは反対側に、第2基材層31を有していてもよく(図4(c))、第2配向層及び第2基材層31をこの順に有していてもよい。光学積層体2は、第1液晶層10の第1貼合層20とは反対側に、第1基材層11を有していてもよく(図3、図4(c))、第1配向層及び第1基材層11をこの順に有していてもよい。
The
光学積層体2の製造方法では、第2液晶層32の表面活性化処理が施された面と、塗布層25とが接するように、第2液晶層32を積層することができる(図4(b))。
In the method for manufacturing the
第2液晶層32は、例えば、重合性液晶化合物を含む第2液晶組成物を第2基材層31(図4(a))上に塗布し、第2液晶組成物を硬化することによって形成することができる。第2液晶組成物は、第2基材層31に接するように塗布されてもよく、第2基材層31に設けられた第2配向層に接するように塗布されてもよい。第2液晶組成物の塗布方法としては、第1液晶組成物の塗布方法として例示した方法が挙げられる。第2液晶組成物の硬化は特に制限されず、従来より知られている重合性液晶化合物の重合硬化方法により行うことができる。
The second
第2液晶層32の表面活性化処理が施された面は、例えば、第2液晶層32の一方の面(以下、「第2表面32a」ということがある。)(図4(a))に対して表面活性化処理を行うことによって形成することができる。表面活性化処理としては、上記光学積層体1の製造方法で例示した表面活性化処理が挙げられる。表面活性化処理は、コロナ処理、プラズマ処理であることが好ましく、コロナ処理であることがより好ましい。
The surface of the second
第2表面32aに対して行う表面活性化処理の処理量は、特に限定されないが、第2表面32aと塗布層25との接着性(密着性)が向上するように行うことが好ましい。第2表面32aに対して行う表面活性化処理の前後における第2表面32aでのフッ素原子量の低減量は、上記光学積層体1の製造方法の表面活性化処理を行う工程で行う表面活性化処理の前後における第1表面10aでのフッ素原子量の低減量よりも小さくてもよい。この理由は明らかではないが、第1液晶層10の第1表面10aには第1貼合剤組成物が塗布されるのに対し、第2表面32aに直接第1貼合剤組成物は塗布されず、第1貼合剤組成物を塗布することによって形成された塗布層25上に積層される表面であるためと考えられる。つまり、第1貼合剤組成物が塗布される第1表面10aでは、第1貼合剤組成物のハジキが問題となりやすいが、塗布層25上に積層される第2表面32aでは、第1貼合剤組成物のハジキが生じにくいと推測される。
The amount of the surface activation treatment performed on the
表面活性化処理を行う前の第2表面32aにおけるフッ素原子量をF1’[atm%]と、表面活性化処理を行った後の第2表面32aにおけるフッ素原子量をF2’[atm%]とは、例えば下記式(I’)の関係を満たしていてもよい。
0.01×F1’≦F2’≦0.9×F1’ (I’)
The fluorine atomic weight on the
0.01 x F1'≤F2'≤0.9 x F1'(I')
フッ素原子量F2’は、0.85×F1’[atm%]以下であってもよく、0.8×F1’[atm%]以下であってもよく、0.7×F1’[atm%]以下であってもよく、0.6×F1’[atm%]以下であってもよい。フッ素原子量F2’は、0.05×F1’[atm%]以上であってもよく、0.1×F1’[atm%]以上であってもよい。フッ素原子量は、X線光電子分光分析(XPS法)によって決定することができる。 The atomic weight of fluorine F2'may be 0.85 x F1'[atm%] or less, may be 0.8 x F1'[atm%] or less, and 0.7 x F1'[atm%]. It may be less than or equal to 0.6 × F1'[atm%] or less. The fluorine atomic weight F2'may be 0.05 x F1'[atm%] or more, or 0.1 x F1'[atm%] or more. The atomic weight of fluorine can be determined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS method).
表面活性化処理を行う前の第2表面32aにおけるフッ素原子量F1’は、第1液晶層10の第1表面10aに表面活性処理を行う前の第1表面10aにおけるフッ素原子量F1と同じであってもよく、異なっていてもよい。フッ素原子量F1’とフッ素原子量F1とが互いに異なる場合、フッ素原子量F1’は、フッ素原子量F1よりも大きくてもよく、小さくてもよい。フッ素原子量F1’は、14atm%以上であることが好ましく、18atm%以上であってもよく、20atm%以上であってもよい。フッ素原子量F1’は、通常28atm%以下であり、25atm%以下であってもよい。
The fluorine atomic weight F1'on the
表面活性化処理を行った後の第2表面32aにおけるフッ素原子量F2’は、第1液晶層10の第1表面10aに表面活性処理を行った後の第1表面10aにおけるフッ素原子量F2と同じであってもよく、異なっていてもよい。フッ素原子量F2’とフッ素原子量F2とが互いに異なる場合、フッ素原子量F2’は、フッ素原子量F2よりも大きくてもよく、小さくてもよい。フッ素原子量F2’は、例えば20atm%以下であることが好ましく、18atm%以下であることがより好ましく、15atm%以下であってもよい。フッ素原子量F2’は、通常0atm%超であり、0.5atm%以上であってもよく、1atm%以上であってもよい。
The fluorine atomic weight F2'on the
第2表面32aに対する表面活性化処理の処理量は、第2表面32aと塗布層25との接着性(密着性)が向上するように行うことができれば特に限定されない。例えば表面活性化処理がコロナ処理である場合、コロナ処理の処理量は、0.5kJ/m2以上であることが好ましく、1kJ/m2以上であることがより好ましく、1.5kJ/m2以上であることが最も好ましい。コロナ処理量は、8kJ/m2以下であることが好ましく、7kJ/m2以下であることがより好ましく、6kJ/m2以下であってもよい。
The amount of the surface activation treatment on the
光学層30を積層する工程では、塗布層25を形成する工程で形成した塗布層25上に、表面活性化処理が施された第2表面32a側が塗布層25に対向するように第2液晶層32を積層する(図4(b))。これにより、第1貼合層20を介して第1液晶層10と第2液晶層32とが積層された光学積層体2を得ることができる(図4(c))。上記したように、塗布層25は、第1貼合剤組成物の種類に応じて、そのまま第1貼合層20とすることができ、あるいは、乾燥処理や硬化処理等を行うことにより第1貼合層20とすることができる。
In the step of laminating the
光学積層体2の製造方法は、上記した工程に加えてさらに、第1液晶層10及び第2液晶層32のうちの一方において、貼合層20とは反対側に偏光板35(図3)を積層する工程を含んでいてもよい。
In the method for manufacturing the
偏光板35を積層する工程を行う場合、光学層30を積層する工程の後に、第1基材層11又は第2基材層31を剥離する工程を行い(図4(d))、第1基材層11又は第2基材層31を剥離することによって露出した露出面に、偏光板35を積層すればよい。図4(d)では、第2基材層31を剥離する場合を示している。第1基材層11を剥離する場合、第1基材層11とともに第1配向層を剥離してもよく、第2基材層31を剥離する場合、第2基材層31とともに第2配向層を剥離してもよい。
When the step of laminating the
上記のようにして露出面を形成した場合、偏光板35を積層する工程では、上記した露出面に、例えば第2貼合層21を介して偏光板35を積層することができる(図3)。第2貼合層21を形成するための第2貼合剤組成物の組成物層は、第1液晶層10又は第2液晶層32側に形成してもよく、偏光板35側に形成してもよい。
When the exposed surface is formed as described above, in the step of laminating the
(変形例2)
図5は、本発明の光学積層体のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。図6(a)~(c)は、本発明の光学積層体の製造工程のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。
(Modification 2)
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view schematically showing still another example of the optical laminate of the present invention. 6 (a) to 6 (c) are schematic cross-sectional views schematically showing still another example of the manufacturing process of the optical laminate of the present invention.
本変形例の光学積層体の製造方法によって得られる光学積層体3は、図1に示す光学積層体1における光学層30が偏光板35’であるものである。光学積層体3は、図5に示すように、第1液晶層10、第1貼合層20、及び偏光板35’(光学層)をこの順に有する。
In the
光学積層体3はさらに、第1液晶層10の第1貼合層20とは反対側に、第2’液晶層32’を有していてもよく、第3貼合層22及び第2’液晶層32’をこの順に有していてもよい(図5)。また、光学積層体3はさらに、第2’液晶層32’の第3貼合層22とは反対側に第2基材層31を有していてもよく(図6(c))、第2配向層及び第2基材層31をこの順に有していてもよい。光学積層体3はさらに、第1液晶層10と第3貼合層22との間に第1配向層を有していてもよい。第2’液晶層32’は、例えば第2液晶層32と同様に、重合性液晶化合物を重合硬化することによって形成された重合性液晶化合物の硬化物層とすることができる。第3貼合層22は、接着剤組成物の硬化物からなる接着剤層又は粘着剤層である。
The
光学積層体3の製造方法では、光学層30を偏光板35’としたこと以外は光学積層体1の製造方法と同様にして、第1基材層11、第1液晶層10、第1貼合層20、及び偏光板35’をこの順に積層した積層体を製造する(図6(a))。また、第2液晶層32を第2’液晶層32’としたこと以外は、光学積層体2の製造方法で第2液晶層32の形成、及び、第2表面32aの表面活性化処理と同様にして、第2’液晶層32’の形成、及び、第2’液晶層32’の第2基材層31とは反対側の表面に表面活性化処理を行う。次に、第1基材層11、又は第1基材層11及び第1配向層を剥離し(図6(b))、この剥離によって露出した露出面に表面活性化処理を行う。露出面に行う表面活性化処理としては、上記で説明した表面活性化処理が挙げられる。
The method for manufacturing the
その後、上記露出面上に、第2’液晶層32’の表面活性化処理側が対向するようにして、第3貼合層22を介して第2液晶層32’を積層する(図6(c))。第3貼合層22を形成するための第3貼合剤組成物の組成物層は、上記露出面側に形成してもよく、第2液晶層32’の表面活性化処理を施した面側に形成してもよい。組成物層は、第3貼合剤組成物の種類に応じて、そのまま第3貼合層22とすることができ、あるいは、乾燥処理や硬化処理等を行うことにより第3貼合層22とすることができる。第2液晶層32’を積層した後、必要に応じて第2基材層31、又は第2基材層31及び第2配向層を剥離してもよい。
After that, the second liquid crystal layer 32'is laminated on the exposed surface with the surface activation treatment side of the second'liquid crystal layer 32' facing each other via the third bonded layer 22 (FIG. 6 (c). )). The composition layer of the third patch composition for forming the
<液晶積層体>
図7及び図8は、本発明の液晶積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。本実施形態の液晶積層体8は、図7に示すように、重合性液晶化合物の硬化物を含む第1’液晶層10’と第1貼合層(貼合層)20とが積層されたものである。本実施形態の液晶積層体9は、図8に示すように、さらに、第1’液晶層10’の第1貼合層20側とは反対側に第1基材層11(基材層)を有していてもよく、第1配向層及び第1基材層11をこの順に有していてもよい。液晶積層体8,9は、枚葉体であってもよく、長尺のフィルム状物であってもよい。
<LCD laminate>
7 and 8 are schematic cross-sectional views schematically showing an example of the liquid crystal laminate of the present invention. In the
第1’液晶層10’は、重合性液晶化合物及びフッ素原子を含む第1液晶組成物を硬化してなる硬化物層であってもよい。第1液晶組成物の説明については、上記したとおりである。 The 1'liquid crystal layer 10'may be a cured product layer obtained by curing a first liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound and a fluorine atom. The description of the first liquid crystal composition is as described above.
第1’液晶層10’の第1貼合層20側の表面(以下、「第1’表面」ということがある。)10bにおけるフッ素原子量は、1.5atm%以上であり、2.0atm%以上であってもよく、2.5atm%以上であってもよい。第1’液晶層10’の第1’表面10bにおけるフッ素原子量は、4.5atm%以下であり、4.0atm%以下であってもよく、3.8atm%以下であってもよく、3.5atm%以下であってもよい。
The fluorine atomic weight in the
フッ素原子量が上記の範囲内であることにより、第1’表面10b上に第1貼合層20を形成するための第1貼合剤組成物を塗布したときに発生するハジキを抑制することができる。そのため、第1貼合層20に気泡等の欠陥が発生することが抑制された液晶層積層体8,9を得ることができる。
When the amount of fluorine atomic weight is within the above range, it is possible to suppress repelling generated when the first patch composition for forming the
第1貼合層20についての説明は、上記したとおりである。液晶層積層体8,9は、例えば図2に基づいて説明した光学積層体1の製造方法に準じて製造することができる。
The description of the first bonded
<光学積層体>
図9~図12は、本発明の光学積層体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。図9に示す光学積層体4は、図7に示す液晶積層体8の第1貼合層20側に光学層30が積層されたものである。図10に示す光学積層体5は、図8に示す液晶積層体9の第1貼合層20側に光学層30が積層されたものである。光学層30についての説明は、上記したとおりである。光学積層体4,5はそれぞれ液晶積層体8,9を備えているため、光学積層体4,5において、気泡等の欠陥の発生が抑制することができる。図9及び図10に示す光学積層体4,5は、例えば図2に基づいて説明した光学積層体1の製造方法に準じて製造することができる。
<Optical laminate>
9 to 12 are schematic cross-sectional views schematically showing another example of the optical laminate of the present invention. The
図11に示す光学積層体6は、図9に示す光学積層体4又は図10に示す光学積層体5において、光学層30が第2液晶層32(光学層)であるものである。光学積層体6はさらに、図11に示すように、第2液晶層32の第1貼合層20とは反対側に、第2貼合層21及び偏光板35がこの順に積層されていてもよい。あるいは、第2貼合層21及び偏光板35を積層することに代えて、光学積層体6は、第2液晶層32の第1貼合層20とは反対側に、第2基材層31を有していてもよく、第2配向層及び第2基材層31をこの順に有していてもよい。第2液晶層32、第2貼合層21、偏光板35の説明については、上記したとおりである。図11に示す光学積層体6は、例えば図4に基づいて説明した光学積層体2の製造方法に準じて製造することができる。
In the
図11に示す光学積層体6において、第2液晶層32の第1貼合層20側の表面(以下、「第2’表面」ということがある。)32bのフッ素原子量は、1.5atm%以上であることが好ましく、2.0atm%以上であってもよく、2.5atm%以上であってもよく、また、4.5atm%以下であることが好ましく、4.0atm%以下であることがより好ましく、3.8atm%以下であってもよく、3.5atm%以下であってもよい。第2’表面32bのフッ素原子量は、第1’液晶層10’の第2表面10bのフッ素原子量と同じであってもよく、異なっていてもよい。第2’表面32bのフッ素原子量と第2表面10bのフッ素原子量とが互いに異なる場合、第2’表面32bのフッ素原子量は、第2表面10bのフッ素原子量よりも大きくてもよく、小さくてもよい。第2’表面32bのフッ素原子量が上記の範囲内であることにより、光学積層体6において、シワや気泡等の欠陥の発生をより一層抑制することができる。
In the
図12に示す光学積層体7は、図9に示す光学積層体4又は図10に示す光学積層体5において、光学層30が偏光板35’(光学層)であるものである。光学積層体7はさらに、図12に示すように、第1’液晶層10’の第1貼合層20とは反対側に、第2’液晶層32’を有していてもよく、第3貼合層22及び第2’液晶層32’をこの順に有していてもよい。また、光学積層体7はさらに、第2’液晶層32’の第3貼合層22とは反対側に第2基材層31を有していてもよく、第2配向層及び第2基材層31をこの順に有していてもよい。偏光板35’、第2’液晶層32’、第3貼合層22、及び第2基材層31の説明については、上記したとおりである。図12に示す光学積層体7は、例えば図6に基づいて説明した光学積層体3の製造方法に順じて製造することができる。
In the
(光学積層体)
光学積層体1~3は、第1液晶層10、第1貼合層20、及び光学層30がこの順に積層されたものであれば特に限定されず、光学積層体4~7は、第1’液晶層10’、第1貼合層20、及び光学層30がこの順に積層されたものであれば特に限定されない。光学積層体1~7は、円偏光板であってもよい。光学積層体1~7が円偏光板である場合、偏光板及び1/4波長板(逆波長分散性である場合を含む。)を含むことが好ましい。光学積層体1~7が円偏光板である場合、[a]偏光板、1/2波長板、及び1/4波長板をこの順に含む、若しくは[b]偏光板、逆波長分散性の1/4波長板、ポジティブC板をこの順に含む、又は、偏光板、ポジティブC板、逆波長分散性の1/4波長板をこの順に含むことが好ましい。この場合、1/2波長板、1/4波長板(逆波長分散性である場合を含む。)、及びポジティブC板は、第1液晶層10、第1’液晶層10’、第2液晶層32、及び第2’液晶層32’のうちのいずれかであることが好ましい。光学層30は、偏光板であってもよく、1/2波長板、1/4波長板(逆波長分散性である場合を含む。)、又はポジティブC板のいずれかであってもよく、これらのうちの2種以上を積層したものであってもよい。
(Optical laminate)
The optical laminates 1 to 3 are not particularly limited as long as the first
例えば、図1、図9、及び図10に示す光学積層体1,4,5が円偏光板である場合、光学層30は偏光板であり、第1液晶層10又は第1’液晶層10’は1/4波長板(逆波長分散性である場合を含む。)であることが好ましい。図3又は図11に示す光学積層体2,6が円偏光板である場合、第2液晶層32(光学層30)及び第1液晶層10又は第1’液晶層10’は、1/2波長板及び1/4波長板であるか、逆波長分散性の1/4波長板及びポジティブC板であることが好ましい。この場合、第1液晶層10又は第1’液晶層10’、及び、第2液晶層32が有する位相差特性は、偏光板35の積層位置に応じて選択すればよい。図5又は図12に示す光学積層体3,7が円偏光板である場合、光学層30は偏光板35’であり、第1液晶層10又は第1’液晶層10’、及び、第2’液晶層32’は、それぞれ1/2波長板及び1/4波長板であるか、逆波長分散性の1/4波長板及びポジティブC板であることが好ましい。
For example, when the
以下、上記で説明した光学積層体1~7、液晶積層体8,9で用いる材料等について、具体的に説明する。
Hereinafter, the materials and the like used in the optical laminates 1 to 7 and the
(第1液晶層、第1’液晶層)
第1液晶層10は、フッ素原子及び重合性液晶化合物の硬化物を含むものであれば特に限定されないが、位相差特性を有する位相差層であることが好ましい。第1’液晶層10’は、フッ素原子及び重合性液晶化合物の硬化物を含むものであって、第1’液晶層10の第1貼合層20側の表面におけるフッ素濃度が特定範囲内にあるものであれば特に限定されない。
(1st liquid crystal layer, 1st'liquid crystal layer)
The first
第1液晶層10及び第1’液晶層10’の厚みは特に限定されないが、それぞれ独立して20μm以下であってもよく、15μm以下であってもよく、13μm以下であってもよく、10μm以下であってもよく、5μm以下であってもよく、通常0.1μm以上であり、0.3μm以上であってもよい。
The thicknesses of the first
第1液晶層10は、フッ素原子及び重合性液晶化合物を含有する第1液晶組成物を用いて形成することができる。第1’液晶層10’は、フッ素原子及び重合性液晶化合物を含有する第1’液晶組成物を用いて形成することができる。第1液晶組成物及び第1’液晶組成物は、レベリング剤を含むことが好ましく、上記したフッ素原子を含むレベリング剤(F)であることがより好ましい。
The first
レベリング剤(F)としては、「メガファック(登録商標)R-08」、同「R-30」、同「R-90」、同「F-410」、同「F-411」、同「F-443」、同「F-445」、同「F-470」、同「F-471」、同「F-477」、同「F-479」、同「F-482」、同「F-483」、及び同「F-556」(DIC(株));「サーフロン(登録商標)S-381」、同「S-382」、同「S-383」、同「S-393」、同「SC-101」、同「SC-105」、「KH-40」、及び「SA-100」(AGCセイミケミカル(株));「E1830」、「E5844」((株)ダイキンファインケミカル研究所);「エフトップEF301」、「エフトップEF303」、「エフトップEF351」、及び「エフトップEF352」(三菱マテリアル電子化成(株))等が挙げられる。 The leveling agent (F) includes "Megafuck (registered trademark) R-08", "R-30", "R-90", "F-410", "F-411", and "F-411". "F-443", "F-445", "F-470", "F-471", "F-477", "F-479", "F-482", "F" -483 "and" F-556 "(DIC Co., Ltd.);" Surflon (registered trademark) S-381 "," S-382 "," S-383 "," S-393 ", "SC-101", "SC-105", "KH-40", and "SA-100" (AGC Seimi Chemical Co., Ltd.); "E1830", "E5844" (Daikin Fine Chemical Laboratory Co., Ltd.) ); "Ftop EF301", "Ftop EF303", "Ftop EF351", "Ftop EF352" (Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
重合性液晶化合物は、重合性反応基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。重合性反応基は、重合反応に関与する基であり、光重合性反応基であることが好ましい。光重合性反応基は、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基をいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、1-クロロビニル基、イソプロペニル基、4-ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。重合性液晶化合物の液晶性は、液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。 The polymerizable liquid crystal compound is a compound having a polymerizable reactive group and exhibiting liquid crystallinity. The polymerizable reactive group is a group involved in the polymerization reaction, and is preferably a photopolymerizable reactive group. The photopolymerizable reactive group refers to a group that can participate in the polymerization reaction by an active radical, an acid, or the like generated from the photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerizable functional group include a vinyl group, a vinyloxy group, a 1-chlorovinyl group, an isopropenyl group, a 4-vinylphenyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an oxylanyl group, an oxetanyl group and the like. Of these, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxylanyl group and an oxetanyl group are preferable, and an acryloyloxy group is more preferable. The type of the polymerizable liquid crystal compound is not particularly limited, and a rod-shaped liquid crystal compound, a disk-shaped liquid crystal compound, and a mixture thereof can be used. The liquid crystal property of the polymerizable liquid crystal compound may be a thermotropic liquid crystal or a lyotropic liquid crystal, and the phase-ordered structure may be a nematic liquid crystal or a smectic liquid crystal.
第1液晶組成物に含まれるレベリング剤(F)は、重合性液晶化合物100質量部に対して0.01質量部以上であることが好ましく、0.05質量部以上であることがより好ましく、また、5質量部以下であることが好ましく、3質量部以下であることがより好ましい。 The leveling agent (F) contained in the first liquid crystal composition is preferably 0.01 part by mass or more, more preferably 0.05 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. Further, it is preferably 5 parts by mass or less, and more preferably 3 parts by mass or less.
第1液晶組成物及び第1’液晶組成物は、さらに、重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、溶媒、レベリング剤(F)以外のレベリング剤等を含んでいてもよい。 The first liquid crystal composition and the first'liquid crystal composition may further contain a polymerization initiator, a photosensitizer, a polymerization inhibitor, a solvent, a leveling agent other than the leveling agent (F), and the like.
(第2液晶層、第2’液晶層)
第2液晶層32及び第2’液晶層32’は、重合性液晶化合物の硬化物を含むものであれば特に限定されないが、位相差特性を有する位相差層であることが好ましい。
(2nd liquid crystal layer, 2nd'liquid crystal layer)
The second
第2液晶層32及び第2’液晶層32’の厚みは特に限定されないが、それぞれ独立して、20μm以下であってもよく、15μm以下であってもよく、13μm以下であってもよく、10μm以下であってもよく、5μm以下であってもよく、通常0.1μm以上であり、0.3μm以上であってもよい。
The thicknesses of the second
第2液晶層32及び第2’液晶層32’は、重合性液晶化合物を含有する第2液晶組成物を用いて形成することができる。重合性液晶化合物としては、上記第1液晶層10で説明した化合物を用いることができる。第2液晶組成物は、重合性液晶化合物の他に、重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、溶媒、レベリング剤(F)、レベリング剤(F)以外のレベリング剤等を含んでいてもよい。
The second
(第1基材層、第2基材層)
第1基材層11及び第2基材層31は、それぞれ独立して樹脂材料で形成されたフィルムであることが好ましい。樹脂材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性等に優れるものを用いることが好ましい。樹脂材料は、熱可塑性樹脂であることが好ましく、例えば、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂;ポリスルホン系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂;ポリイミド系樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系樹脂;シクロ系及びノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン系樹脂);(メタ)アクリル系樹脂;ポリアリレート系樹脂;ポリスチレン系樹脂;ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。第1基材層11及び第2基材層31はそれぞれ独立して、単層構造であってもよく、多層構造を有していてもよく、多層構造である場合、各層は同じ樹脂材料で形成されていてもよく、異なる樹脂材料で形成されていてもよい。
(1st base material layer, 2nd base material layer)
It is preferable that the first
第1基材層11及び第2基材層31の厚みは、強度や加工性の観点から、それぞれ独立して5~300μmであることが好ましく、10~200μmであることがより好ましい。
From the viewpoint of strength and processability, the thickness of the first
(第1配向層、第2配向層)
第1配向層及び第2配向層は、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる配向規制力を有するものである。第1配向層及び第2配向層としては、それぞれ第1液晶組成物及び第2液晶組成物の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有し、溶剤の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。第1配向層及び第2配向層としては、それぞれ独立して、配向性ポリマーを含む配向層、光配向層、表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向層等が挙げられる。
(1st alignment layer, 2nd alignment layer)
The first alignment layer and the second alignment layer have an orientation regulating force that orients the polymerizable liquid crystal compound in a desired direction. The first alignment layer and the second alignment layer have solvent resistance that does not dissolve due to application of the first liquid crystal composition and the second liquid crystal composition, respectively, and are heated for removing the solvent and orienting the polymerizable liquid crystal compound. Those having heat resistance in the treatment are preferable. Examples of the first alignment layer and the second alignment layer include an alignment layer containing an orientation polymer, a photo-alignment layer, and a grub alignment layer in which an uneven pattern or a plurality of grooves are formed and oriented on the surface.
(光学層)
光学層30は、光を透過する、反射する、吸収する等の光学機能を有する層であり、樹脂フィルムであってもよく、液晶層であってもよい。光学層30は、単層構造であってもよく、貼合層等を介して積層された2層以上の積層構造を有していてもよい。
(Optical layer)
The
光学層30としては、直線偏光子;直線偏光子の片面又は両面に保護層が積層された偏光板;偏光板の片面にプロテクトフィルムが積層されたプロテクトフィルム付き偏光板;反射フィルム;半透過性反射フィルム;輝度向上フィルム;光学補償フィルム;防眩機能付きフィルム;位相差フィルム又は位相差層等を挙げることができる。
The
(偏光板)
光学積層体は、光学層として偏光板を含んでいてもよく、光学層とは別に偏光板を含んでいてもよい。偏光板は、直線偏光子の片面又は両面に保護層が積層されたものである。偏光板が片面にのみ保護層を積層したものである場合、光学積層体において保護層は、直線偏光子の第1液晶層10や第2液晶層32とは反対側に設けられることが好ましい。
(Polarizer)
The optical laminate may include a polarizing plate as an optical layer, or may include a polarizing plate separately from the optical layer. The polarizing plate is one in which a protective layer is laminated on one side or both sides of a linear polarizing element. When the polarizing plate has a protective layer laminated on only one side, it is preferable that the protective layer is provided on the side opposite to the first
直線偏光子と保護層とは、接着剤層又は粘着剤層を介して貼合されていることが好ましい。接着剤層を形成するための接着剤組成物、及び粘着剤層を形成するための粘着剤組成物としては、後述の接着剤組成物及び粘着剤組成物が挙げられる。保護層としては、第1基材層11及び第2基材層31で例示した樹脂材料を用いて形成されたフィルムが挙げられる。
It is preferable that the linear polarizing element and the protective layer are bonded to each other via an adhesive layer or an adhesive layer. Examples of the adhesive composition for forming the adhesive layer and the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer include the adhesive composition and the pressure-sensitive adhesive composition described later. Examples of the protective layer include films formed by using the resin materials exemplified in the first
偏光板の厚みは、例えば200μm以下であってもよく、120μm以下であってもよく、100μm以下であってもよく、50μm以下であってもよく、30μm以下であってもよく、通常10μm以上であり、15μm以上であってもよく、20μm以上であってもよい。 The thickness of the polarizing plate may be, for example, 200 μm or less, 120 μm or less, 100 μm or less, 50 μm or less, 30 μm or less, and usually 10 μm or more. It may be 15 μm or more, or 20 μm or more.
(直線偏光子)
直線偏光子は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させたPVA偏光層や、重合性液晶化合物の硬化層中で二色性色素が配向している液晶偏光層が挙げられる。
(Linear deflector)
Examples of the linear polarizing element include a PVA polarizing layer in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol-based resin film, and a liquid crystal polarizing layer in which the dichroic dye is oriented in a cured layer of a polymerizable liquid crystal compound. Be done.
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを構成するポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得ることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルと共重合可能な単量体と酢酸ビニルとの共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルと共重合可能な単量体としては、不飽和カルボン酸、オレフィン、ビニルエーテル、不飽和スルホン酸、アンモニウム基を有する(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。 The polyvinyl alcohol-based resin constituting the polyvinyl alcohol-based resin film can be obtained by saponifying the polyvinyl acetate-based resin. Examples of the polyvinyl acetate-based resin include polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, and a copolymer of a monomer copolymerizable with vinyl acetate and vinyl acetate. Examples of the monomer copolymerizable with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acid, olefin, vinyl ether, unsaturated sulfonic acid, and (meth) acrylamide having an ammonium group.
ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常85~100モル%、好ましくは98モル%以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール又はポリビニルアセタール等を用いることもできる。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、通常1000~10000、好ましくは1500~5000である。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、JIS K 6726に準拠して求めることができる。 The saponification degree of the polyvinyl alcohol-based resin is usually 85 to 100 mol%, preferably 98 mol% or more. The polyvinyl alcohol-based resin may be modified, and for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes may be used. The average degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-based resin is usually 1000 to 10000, preferably 1500 to 5000. The average degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-based resin can be determined in accordance with JIS K 6726.
通常、ポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものをPVA偏光層の原反フィルムとして用いる。ポリビニルアルコール系樹脂は、公知の方法で製膜することができる。原反フィルムの厚みは、通常1~150μmであり、延伸のしやすさなども考慮すれば、好ましくは10μm以上である。 Usually, a film made of a polyvinyl alcohol-based resin is used as the raw film of the PVA polarizing layer. The polyvinyl alcohol-based resin can be formed into a film by a known method. The thickness of the raw film is usually 1 to 150 μm, and is preferably 10 μm or more in consideration of ease of stretching and the like.
PVA偏光層は、例えば、原反フィルムに対して、一軸延伸する工程、二色性色素でフィルムを染色してその二色性色素を吸着させる工程、ホウ酸水溶液でフィルムを処理する工程、及び、フィルムを水洗する工程が施され、最後に乾燥されて製造される。PVA偏光層の厚みは、20μm以下であってもよく、15μm以下であってもよく、10μm以下であってもよく、通常3μm以上であり、5μm以上であってもよい。 The PVA polarizing layer is, for example, a step of uniaxially stretching the raw film, a step of dyeing the film with a dichroic dye and adsorbing the dichroic dye, a step of treating the film with a boric acid aqueous solution, and a step of treating the film with a boric acid aqueous solution. , The film is washed with water and finally dried to produce. The thickness of the PVA polarizing layer may be 20 μm or less, 15 μm or less, 10 μm or less, usually 3 μm or more, and 5 μm or more.
PVA偏光層は、[i]原反フィルムとしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムの単独フィルムを用い、このフィルムに対して一軸延伸処理及び二色性色素の染色処理を施す方法の他、[ii]基材フィルムにポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工液(水溶液等)を塗工、乾燥させてポリビニルアルコール系樹脂層を有する基材フィルムを得た後、これを基材フィルムごと一軸延伸し、延伸後のポリビニルアルコール系樹脂層に対して二色性色素の染色処理を施し、次いで基材フィルムを剥離除去する方法によっても得ることができる。基材フィルムとしては、第1基材層11及び第2基材層31で説明した樹脂材料を用いて形成されたフィルムが挙げられる。
As the PVA polarizing layer, [i] a single film of a polyvinyl alcohol-based resin film is used as a raw film, and this film is subjected to a uniaxial stretching treatment and a bicolor dye dyeing treatment, as well as a [ii] base material. A coating liquid (aqueous solution, etc.) containing a polyvinyl alcohol-based resin is applied to the film and dried to obtain a base film having a polyvinyl alcohol-based resin layer, which is uniaxially stretched together with the base film, and after stretching. It can also be obtained by subjecting the polyvinyl alcohol-based resin layer of the above to a dyeing treatment of a bicolor dye and then peeling off the base film. Examples of the base film include films formed by using the resin materials described in the first
液晶偏光層を形成するために用いる重合性液晶化合物としては、第1液晶組成物及び第2液晶組成物で例示した重合性反応基を有する重合性液晶化合物を用いることができる。液晶偏光層は、[iii]例えば基材フィルム上に形成した配向層上に、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を重合して硬化させる方法、[iv]基材フィルム上に、偏光層形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材フィルムとともに延伸する方法によって形成することができる。基材フィルムとしては、上記[ii]で用いた基材フィルムが挙げられる。液晶偏光層の厚みは、20μm以下であってもよく、15μm以下であってもよく、13μm以下であってもよく、10μm以下であってもよく、5μm以下であってもよく、通常0.1μm以上であり、0.3μm以上であってもよい。 As the polymerizable liquid crystal compound used for forming the liquid crystal polarizing layer, the polymerizable liquid crystal compound having a polymerizable reactive group exemplified in the first liquid crystal composition and the second liquid crystal composition can be used. As the liquid crystal polarizing layer, [iii], for example, a composition for forming a polarizing layer containing a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye is applied onto an alignment layer formed on a base film, and the polymerizable liquid crystal compound is polymerized. It can be formed by a method of curing, a method of applying a composition for forming a polarizing layer on a [iv] base film to form a coating film, and then stretching the coating film together with the base film. Examples of the base film include the base film used in the above [ii]. The thickness of the liquid crystal polarizing layer may be 20 μm or less, 15 μm or less, 13 μm or less, 10 μm or less, 5 μm or less, and is usually 0. It is 1 μm or more, and may be 0.3 μm or more.
(第1貼合層、第2貼合層、第3貼合層)
第1貼合層20、第2貼合層21、及び第3貼合層22(以下、「第1~3貼合層20~22」ということがある。)は、接着剤組成物の硬化物である接着剤層、又は粘着剤層である。第1~3貼合層20~22はそれぞれ、第1~3貼合剤組成物を用いて形成することができる。第1~3貼合剤組成物は、第1~3貼合層20~22が接着剤層である場合は接着剤組成物であり、第1~3貼合層20~22が粘着剤層である場合は粘着剤組成物である。
(1st bonding layer, 2nd bonding layer, 3rd bonding layer)
The first bonded
接着剤組成物は、硬化性成分として硬化性の樹脂成分を含むものであって、後述する感圧型接着剤(粘着剤)以外の接着剤である。接着剤組成物としては、硬化性の樹脂成分を水に溶解又は分散させた水系接着剤、活性エネルギー線硬化性化合物を含有する活性エネルギー線硬化性接着剤、熱硬化性接着剤等が挙げられる。 The adhesive composition contains a curable resin component as a curable component, and is an adhesive other than the pressure-sensitive adhesive (adhesive) described later. Examples of the adhesive composition include a water-based adhesive in which a curable resin component is dissolved or dispersed in water, an active energy ray-curable adhesive containing an active energy ray-curable compound, a thermosetting adhesive, and the like. ..
水系接着剤に含有される樹脂成分としては、ポリビニルアルコール系樹脂やウレタン系樹脂等が挙げられる。 Examples of the resin component contained in the water-based adhesive include polyvinyl alcohol-based resin and urethane-based resin.
活性エネルギー線硬化性接着剤としては、紫外線、可視光、電子線、X線等の活性エネルギー線の照射によって硬化する組成物が挙げられる。このうち、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂組成物であることが好ましい。活性エネルギー線硬化性接着剤は、硬化性成分としてエポキシ化合物を含むことが好ましく、脂環式エポキシ化合物を含むことがより好ましい。活性エネルギー線硬化性接着剤は、エポキシ化合物とともに(メタ)アクリル系化合物等を含有していてもよい。「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルからなる群より選択される少なくとも一方を意味する。 Examples of the active energy ray-curable adhesive include compositions that are cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays. Of these, an ultraviolet curable resin composition that is cured by irradiation with ultraviolet rays is preferable. The active energy ray-curable adhesive preferably contains an epoxy compound as a curable component, and more preferably contains an alicyclic epoxy compound. The active energy ray-curable adhesive may contain a (meth) acrylic compound or the like together with the epoxy compound. "(Meta) acrylic" means at least one selected from the group consisting of acrylic and methacrylic.
熱硬化性接着剤としては、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂等を主成分として含むものが挙げられる。接着剤組成物は、硬化性成分以外に、溶剤、増感剤、重合促進剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤等の添加剤を含んでいてもよい。 Examples of the thermosetting adhesive include those containing an epoxy resin, a silicone resin, a phenol resin, a melamine resin and the like as a main component. In addition to the curable component, the adhesive composition comprises a solvent, a sensitizer, a polymerization accelerator, an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, a tackifier, a thermoplastic resin, a filler, a flow conditioner, and a plasticizer. It may contain additives such as an agent, a defoaming agent, an antistatic agent, and a leveling agent.
粘着剤組成物は、粘着剤を含む粘着剤は、それ自体を被着体に貼り付けることで接着性を発現するものであり、いわゆる感圧型接着剤と称されるものである。粘着剤としては、(メタ)アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、ポリウレタン系ポリマー、ポリエーテル系ポリマー、又はゴム系ポリマー等のポリマーを主成分として含むものが挙げられる。本明細書において、主成分とは、粘着剤の全固形分のうち50質量%以上を含む成分をいう。粘着剤は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよく、活性エネルギー線照射や加熱により、架橋度や接着力を調整してもよい。 In the pressure-sensitive adhesive composition, the pressure-sensitive adhesive containing the pressure-sensitive adhesive exhibits adhesiveness by attaching itself to the adherend, and is a so-called pressure-sensitive adhesive. Examples of the pressure-sensitive adhesive include those containing a polymer such as a (meth) acrylic polymer, a silicone polymer, a polyester polymer, a polyurethane polymer, a polyether polymer, or a rubber polymer as a main component. In the present specification, the main component means a component containing 50% by mass or more of the total solid content of the pressure-sensitive adhesive. The pressure-sensitive adhesive may be an active energy ray-curable type or a thermosetting type, and the degree of cross-linking and the adhesive strength may be adjusted by irradiation with active energy rays or heating.
第1貼合層20は接着剤層であることが好ましい。この場合、第1貼合剤組成物は、接着剤組成物であり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であることが好ましく、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
The
以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these examples.
[フッ素原子量の算出]
フッ素原子量の算出は、X線光電子分光装置(サーモサイエンティフィック社製、K-Alpha)を用いたX線光電子分光分析により、次の手順で行った。
[Calculation of fluorine atomic weight]
The fluorine atom content was calculated by the following procedure by X-ray photoelectron spectroscopy using an X-ray photoelectron spectroscope (K-Alpha, manufactured by Thermo Scientific Co., Ltd.).
まず、第1液晶層の表面の測定スポットにおいて、ワイドスキャンスペクトルを取得し、ワイドスキャンスペクトルで検出されたすべての元素について、ナロースキャンスペクトルを取得した。次に、全元素のナロースキャンスペクトルのピーク面積を求め、各測定スポットにおける元素組成比[atom%]を算出し、測定スポットにおけるフッ素原子の元素量を算出した。測定条件は、次のとおりである。
(測定条件)
・X線源:Al-Kαモノクロ(1486.7eV)
・X線スポットサイズ(測定スポットの径):400μm
・ワイドスキャン分析(Survey scan);
測定範囲:-10~1350eV、パスエネルギー:200eV、
ドゥエルタイム:25m秒、ステップ:1.0eV、積算回数:5回・ナロースキャン分析(Snap scan);
パスエネルギー:150eV、取込み時間:1秒、積算回数:10回
First, a wide scan spectrum was acquired at the measurement spot on the surface of the first liquid crystal layer, and narrow scan spectra were acquired for all the elements detected in the wide scan spectrum. Next, the peak area of the narrow scan spectrum of all the elements was obtained, the elemental composition ratio [atom%] at each measurement spot was calculated, and the elemental amount of the fluorine atom at the measurement spot was calculated. The measurement conditions are as follows.
(Measurement condition)
-X-ray source: Al-Kα monochrome (1486.7 eV)
-X-ray spot size (measurement spot diameter): 400 μm
-Wide scan analysis (Survey scan);
Measurement range: -10 to 1350 eV, path energy: 200 eV,
Duel time: 25 msec, step: 1.0 eV, number of integrations: 5 times ・ Narrow scan analysis (Snap scan);
Pass energy: 150 eV, capture time: 1 second, total number of times: 10 times
[貼合剤組成物の粘度の測定]
E型粘度計(東機産業(株)製、“TVE-25”)を用いて、温度25℃、10rpmにおける粘度を測定した。
[Measurement of viscosity of patch composition]
The viscosity at a temperature of 25 ° C. and 10 rpm was measured using an E-type viscometer (“TVE-25” manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).
[製造例1:基材層上に形成された液晶層を有する積層体Aの作製]
(配向層形成用組成物の調製)
ポリビニルアルコール(ポリビニルアルコール1000完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製)の2質量%水溶液を配向層形成用組成物とした。
[Production Example 1: Fabrication of a laminated body A having a liquid crystal layer formed on a base material layer]
(Preparation of composition for forming an alignment layer)
A 2% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (polyvinyl alcohol 1000 completely saponified type, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used as a composition for forming an oriented layer.
(液晶層形成用組成物の調製)
以下に示す重合性液晶化合物A、及び重合性液晶化合物Bを90:10の質量比で混合した混合物に対して、レベリング剤(F-556;DIC社製)を2.0部、及び重合開始剤である2-ジメチルアミノ-2-ベンジル-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン(「イルガキュア369(Irg369)」、BASFジャパン株式会社製)を6部添加した。さらに、固形分濃度が13%となるようにN-メチル-2-ピロリドン(NMP)を添加し、80℃で1時間撹拌することにより、液晶層形成用組成物を得た。
(Preparation of composition for forming liquid crystal layer)
2.0 parts of a leveling agent (F-556; manufactured by DIC Corporation) was added to a mixture of the polymerizable liquid crystal compound A and the polymerizable liquid crystal compound B shown below at a mass ratio of 90:10, and polymerization was started. Six parts of the agent 2-dimethylamino-2-benzyl-1- (4-morpholinophenyl) butane-1-one (“Irgacure 369 (Irg369)”, manufactured by BASF Japan KK) were added. Further, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added so that the solid content concentration became 13%, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour to obtain a liquid crystal layer forming composition.
重合性液晶化合物Aは特開2010-31223号公報に記載の方法で製造した。また、重合性液晶化合物Bは、特開2009-173893号公報に記載の方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。
<重合性液晶化合物A>
<重合性液晶化合物B>
<Polymerizable liquid crystal compound A>
<Polymerizable liquid crystal compound B>
(積層体Aの作製)
基材層として厚みが50μmのシクロオレフィン系フィルム〔日本ゼオン(株)製の商品名「ZF-14-50」〕上にコロナ処理を実施した後、配向層形成用組成物をダイコーターで塗布し、60℃で1分間、さらに80℃で3分乾燥し、厚み89nmの膜を形成した。続いて、得られた膜の表面にラビング処理を施して、配向層を形成した。ラビング処理は、半自動ラビング装置(商品名:LQ-008型、常陽工学株式会社製)を用いて、布(商品名:YA-20-RW、吉川化工株式会社製)によって、押し込み量0.15mm、回転数500rpm、16.7mm/sの条件で行った。なお、ラビング処理の方向は、直線偏光子に貼り合わせる際に直線偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て反時計回りに45°方向となるようにした。
(Preparation of laminated body A)
After corona treatment is performed on a cycloolefin-based film [trade name "ZF-14-50" manufactured by Nippon Zeon Corporation] having a thickness of 50 μm as a base material layer, the composition for forming an alignment layer is applied with a die coater. Then, it was dried at 60 ° C. for 1 minute and further at 80 ° C. for 3 minutes to form a film having a thickness of 89 nm. Subsequently, the surface of the obtained film was subjected to a rubbing treatment to form an oriented layer. The rubbing process uses a semi-automatic rubbing device (trade name: LQ-008 type, manufactured by Joyo Engineering Co., Ltd.) and a cloth (trade name: YA-20-RW, manufactured by Yoshikawa Kako Co., Ltd.) with a pushing amount of 0.15 mm. The procedure was carried out under the conditions of a rotation speed of 500 rpm and 16.7 mm / s. The direction of the rubbing process was set to be 45 ° counterclockwise when viewed from the visual recognition side with respect to the direction of the absorption axis of the linear polarizing element when it was attached to the linear splitter.
次いで、配向層上に、ダイコーターを用いて液晶層形成用組成物を塗布し、120℃で1分間乾燥した後、高圧水銀ランプ〔ウシオ電機(株)の商品名:「ユニキュアVB-15201BY-A」〕を用いて、紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長365nmにおける積算光量:500mJ/cm2)することにより、液晶層を形成し、基材層、配向層、及び液晶層がこの順に積層された積層体Aを得た。積層体Aの液晶層表面のフッ素原子量を上記した方法で測定したところ、18.5atm%であった。 Next, the composition for forming a liquid crystal layer was applied onto the alignment layer using a die coater, dried at 120 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp [Ushio, Inc. trade name: "UNICURE VB-15201BY-". A ”] is used to irradiate ultraviolet rays (integrated light intensity at a wavelength of 365 nm under a nitrogen atmosphere: 500 mJ / cm 2 ) to form a liquid crystal layer, and the base material layer, the alignment layer, and the liquid crystal layer are laminated in this order. The obtained laminated body A was obtained. When the fluorine atomic weight on the surface of the liquid crystal layer of the laminated body A was measured by the above method, it was 18.5 atm%.
[製造例2:基材層上に形成された液晶層を有する積層体Bの作製]
積層体Aの液晶層表面に、1.5kJ/m2のコロナ処理量でコロナ処理を行い、積層体Bを得た。積層体Bの液晶層表面のフッ素原子量を上記した方法で測定したところ、11.5atm%であった。積層体Bには変形等の不具合は確認されなかった。
[Manufacturing Example 2: Fabrication of Laminated Body B Having a Liquid Crystal Layer Formed on a Base Material Layer]
The surface of the liquid crystal layer of the laminated body A was subjected to corona treatment at a corona treatment amount of 1.5 kJ / m 2 to obtain a laminated body B. The fluorine atomic weight on the surface of the liquid crystal layer of the laminated body B was measured by the above method and found to be 11.5 atm%. No defects such as deformation were confirmed in the laminated body B.
[製造例3:基材層上に形成された液晶層を有する積層体Cの作製]
積層体Aの液晶層表面に、2.3kJ/m2のコロナ処理量でコロナ処理を行い、積層体Cを得た。積層体Cの液晶層表面のフッ素原子量を上記した方法で測定したところ、8.3atm%であった。積層体Cには変形等の不具合は確認されなかった。
[Production Example 3: Production of Laminated Body C Having a Liquid Crystal Layer Formed on a Base Material Layer]
The surface of the liquid crystal layer of the laminated body A was subjected to corona treatment with a corona treatment amount of 2.3 kJ / m 2 to obtain a laminated body C. When the fluorine atomic weight on the surface of the liquid crystal layer of the laminated body C was measured by the above method, it was 8.3 atm%. No defects such as deformation were confirmed in the laminated body C.
[製造例4:基材層上に形成された液晶層を有する積層体Dの作製]
積層体Aの液晶層表面に、3.6kJ/m2のコロナ処理量でコロナ処理を行い、積層体Dを得た。積層体Dの液晶層表面のフッ素原子量を上記した方法で測定したところ、4.4atm%であった。積層体Dには変形等の不具合は確認されなかった。
[Production Example 4: Production of Laminated Body D Having a Liquid Crystal Layer Formed on a Base Material Layer]
The surface of the liquid crystal layer of the laminated body A was subjected to corona treatment with a corona treatment amount of 3.6 kJ / m 2 to obtain a laminated body D. When the fluorine atomic weight on the surface of the liquid crystal layer of the laminated body D was measured by the above method, it was 4.4 atm%. No defects such as deformation were confirmed in the laminated body D.
[製造例5:基材層上に形成された液晶層を有する積層体Eの作製]
積層体Aの液晶層表面に、4.5kJ/m2のコロナ処理量でコロナ処理を行い、積層体Eを得た。積層体Eの液晶層表面のフッ素原子量を上記した方法で測定したところ、3.3atm%であった。積層体Eには変形等の不具合は確認されなかった。
[Production Example 5: Preparation of a laminated body E having a liquid crystal layer formed on a base material layer]
The surface of the liquid crystal layer of the laminated body A was subjected to corona treatment with a corona treatment amount of 4.5 kJ / m 2 to obtain a laminated body E. When the fluorine atomic weight on the surface of the liquid crystal layer of the laminated body E was measured by the above method, it was 3.3 atm%. No defects such as deformation were confirmed in the laminated body E.
[製造例6:貼合剤組成物の調製]
、3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル 3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート〔株式会社ダイセル製の商品名「セロキサイド2021P」〕75質量部に対して、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル〔ナガセケムテックス株式会社製の商品名「EX-214L」〕25質量部、及び、光重合開始剤〔サンアプロ株式会社製の商品名「CPI-100P」〕5.0質量部を添加し、混合することによって、貼合剤組成物(接着剤組成物)を調製した。調製した貼合剤組成物の粘度は、112mPa・secであった。
[Production Example 6: Preparation of patch composition]
3,4-
〔実施例1〕
積層体B(幅1000mm、長さ100m)を2つ用意し、一方の積層体Bの液晶層表面に、製造例6で調製した貼合剤組成物を塗布し、もう一方の積層体Bの液晶層表面側と貼り合わせた後、紫外線(積算光量400mJ/cm2(UV-B))を照射し、貼合剤組成物を硬化させて貼合層(接着剤層)を形成し、光学積層体(1)を得た。この際、一方の積層体Bに貼合剤組成物を塗布してから、もう一方の積層体Bと貼り合わせるまでの搬送時間は30秒であった。光学積層体(1)の全長を、10倍のルーペを用いて目視にて検査し、平面視における外接円の直径が50μm以上の気泡の平均個数を測定したところ、0.97個/m2であった。
[Example 1]
Two laminates B (width 1000 mm, length 100 m) are prepared, and the binder composition prepared in Production Example 6 is applied to the surface of the liquid crystal layer of one laminate B, and the other laminate B is used. After bonding to the surface side of the liquid crystal layer, it is irradiated with ultraviolet rays (integrated light amount 400 mJ / cm 2 (UV-B)) to cure the bonding agent composition to form a bonding layer (adhesive layer), and optics. The laminated body (1) was obtained. At this time, the transport time from applying the patching agent composition to one laminated body B to bonding with the other laminated body B was 30 seconds. The total length of the optical laminate (1) was visually inspected using a 10-fold loupe, and the average number of bubbles having a diameter of the circumscribed circle of 50 μm or more in a plan view was measured. Met.
〔実施例2〕
積層体C(幅400mm、長さ100m)の液晶層表面に、製造例6で調製した貼合剤組成物をグラビアコータで塗布し、製造例2で作製した積層体Bの液晶層表面と貼り合わせたこと以外は、実施例1と同様の手順で光学積層体(2)を得た。光学積層体(2)のうち長さ10mの領域を、10倍のルーペを用いて目視にて検査し、平面視における外接円の直径が50μm以上の気泡の平均個数を測定したところ、0.15個/m2であった。
[Example 2]
The patching agent composition prepared in Production Example 6 is applied to the surface of the liquid crystal layer of the laminate C (width 400 mm, length 100 m) with a gravure coater, and is attached to the surface of the liquid crystal layer of the laminate B produced in Production Example 2. An optical laminated body (2) was obtained in the same procedure as in Example 1 except that they were combined. A region of the optical laminate (2) having a length of 10 m was visually inspected using a 10-fold loupe, and the average number of bubbles having a diameter of the circumscribed circle of 50 μm or more in a plan view was measured. It was 15 pieces / m 2 .
〔実施例3〕
積層体D(幅400mm、長さ100m)の液晶層表面に、製造例6で調製した貼合剤組成物を塗布し、製造例2で作製した積層体Bの液晶層表面と貼り合わせたこと以外は、実施例1と同様の手順で光学積層体(3)を得た。光学積層体(3)のうち長さ10mの領域を、10倍のルーペを用いて目視にて検査し、平面視における外接円の直径が50μm以上の気泡の平均個数を測定したところ、0.04個/m2であった。
[Example 3]
The binder composition prepared in Production Example 6 was applied to the surface of the liquid crystal layer of the laminate D (width 400 mm, length 100 m) and bonded to the surface of the liquid crystal layer B of the laminate B produced in Production Example 2. An optical laminate (3) was obtained in the same procedure as in Example 1 except for the above. A region of the optical laminate (3) having a length of 10 m was visually inspected using a 10-fold loupe, and the average number of bubbles having a diameter of the circumscribed circle of 50 μm or more in a plan view was measured. It was 04 pieces / m 2 .
〔実施例4〕
積層体E(幅400mm、長さ100m)の液晶層表面に、製造例6で調製した貼合剤組成物を塗布し、製造例2で作製した積層体Bの液晶層表面と貼り合わせたこと以外は、実施例1と同様の手順で光学積層体(4)を得た。光学積層体(4)のうち長さ10mの領域を、10倍のルーペを用いて目視にて検査し、平面視における外接円の直径が50μm以上の気泡の平均個数を測定したところ、0.01個/m2であった。
[Example 4]
The binder composition prepared in Production Example 6 was applied to the surface of the liquid crystal layer of the laminate E (width 400 mm, length 100 m) and bonded to the surface of the liquid crystal layer B of the laminate B produced in Production Example 2. An optical laminate (4) was obtained in the same procedure as in Example 1 except for the above. A region of the optical laminate (4) having a length of 10 m was visually inspected using a 10-fold loupe, and the average number of bubbles having a diameter of the circumscribed circle of 50 μm or more in a plan view was measured. It was 01 pieces / m 2 .
〔比較例1〕
積層体A(幅400mm、長さ100m)の液晶層表面に、製造例6で調製した貼合剤組成物を塗布し、製造例2で作製した積層体Bの液晶層表面と貼り合わせたこと以外は、実施例1と同様の手順で光学積層体(5)を得た。光学積層体(5)のうち長さ10mの領域を、10倍のルーペを用いて目視にて検査したところ多数の気泡が確認され、平面視における外接円の直径が50μm以上の気泡の平均個数を測定することができなかった。
[Comparative Example 1]
The binder composition prepared in Production Example 6 was applied to the surface of the liquid crystal layer of the laminate A (width 400 mm, length 100 m) and bonded to the surface of the liquid crystal layer B of the laminate B produced in Production Example 2. An optical laminate (5) was obtained in the same procedure as in Example 1 except for the above. When a region of the optical laminate (5) having a length of 10 m was visually inspected using a 10-fold loupe, a large number of bubbles were confirmed, and the average number of bubbles having a diameter of the circumscribed circle of 50 μm or more in a plan view was confirmed. Could not be measured.
1~7 光学積層体、8,9 液晶積層体、10 第1液晶層、10’ 第1’液晶層、10a 第1表面、10b 第1’表面、11 第1基材層、20 第1貼合層(貼合層)、21 第2貼合層、22 第3貼合層、25 塗布層、30 光学層、31 第2基材層、32 第2液晶層(光学層)、32’ 第2’液晶層、32a 第2表面、32b 第2’表面、35 偏光板、35’ 偏光板(光学層)。 1 to 7 optical laminate, 8, 9 liquid crystal laminate, 10 first liquid crystal layer, 10'first' liquid crystal layer, 10a first surface, 10b first'surface, 11 first substrate layer, 20 first sticking Laminated layer (bonded layer), 21 2nd bonded layer, 22 3rd bonded layer, 25 coated layer, 30 optical layer, 31 2nd base material layer, 32 2nd liquid crystal layer (optical layer), 32'first 2'liquid crystal layer, 32a second surface, 32b second'surface, 35 polarizing plate, 35'polarizing plate (optical layer).
Claims (20)
前記第1液晶層の一方の面に対して表面活性化処理を行う工程と、
前記表面活性化処理が施された前記一方の面に、貼合剤組成物を塗布することによって塗布層を形成する工程と、
前記塗布層上に光学層を積層する工程と、
前記塗布層から前記貼合層を形成する工程と、を含み、
前記表面活性化処理を行う工程を行う前の前記一方の面におけるフッ素原子量F1[atm%]と、前記表面活性化処理を行う工程を行った後の前記一方の面におけるフッ素原子量F2[atm%]とは、下記式(I)の関係を満たし、
前記フッ素原子量F1は、12atm%以上25atm%以下であり、
前記貼合剤組成物の温度25℃における粘度は、1mPa・sec以上150mPa・sec以下である、光学積層体の製造方法。
0.05×F1≦F2≦0.5×F1 (I) A method for producing an optical laminate in which a first liquid crystal layer obtained by curing a first liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound and a fluorine atom, a laminated layer, and an optical layer are laminated in this order.
A step of performing a surface activation treatment on one surface of the first liquid crystal layer and
A step of forming a coating layer by applying a patch composition to the one surface to which the surface activation treatment has been performed, and a step of forming a coating layer.
The step of laminating the optical layer on the coating layer and
Including the step of forming the bonding layer from the coating layer.
Fluorine atomic weight F1 [atm%] on the one surface before the surface activation treatment and fluorine atomic weight F2 [atm%] on the one surface after the surface activation treatment. ] Means the relationship of the following formula (I),
The fluorine atomic weight F1 is 12 atm% or more and 25 atm% or less.
A method for producing an optical laminate , wherein the viscosity of the patch composition at a temperature of 25 ° C. is 1 mPa · sec or more and 150 mPa · sec or less .
0.05 × F1 ≦ F2 ≦ 0.5 × F1 (I)
前記積層する工程は、前記第2液晶層の前記表面活性化処理が施された面と、前記塗布層とが接するように、前記第2液晶層を積層する工程である、請求項4に記載の光学積層体の製造方法。 The second liquid crystal layer has a surface that has been subjected to a surface activation treatment, and has a surface that has been subjected to a surface activation treatment.
The step according to claim 4, wherein the laminating step is a step of laminating the second liquid crystal layer so that the surface of the second liquid crystal layer subjected to the surface activation treatment is in contact with the coating layer. How to manufacture an optical laminate.
前記偏光板は、直線偏光子の片面又は両面に保護層を有する、請求項4又は5に記載の光学積層体の製造方法。 Further, a step of laminating a polarizing plate on the side opposite to the bonded layer in one of the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer is included.
The method for manufacturing an optical laminate according to claim 4 or 5, wherein the polarizing plate has a protective layer on one side or both sides of a linear polarizing element.
前記第1’液晶層の前記貼合層側の表面におけるフッ素原子量は、1.5atm%以上4.5atm%以下である、液晶積層体。 A liquid crystal laminate in which a first'liquid crystal layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound and a laminated layer are laminated.
A liquid crystal laminate having a fluorine atomic weight on the surface of the 1'liquid crystal layer on the bonded layer side of 1.5 atm% or more and 4.5 atm% or less.
前記光学層は、前記液晶積層体の前記貼合層側に積層されている、光学積層体。 An optical laminate having the liquid crystal laminate according to claim 12 or 13 and an optical layer.
The optical layer is an optical laminate laminated on the bonded layer side of the liquid crystal laminate.
前記光学積層体は、さらに、前記第1’液晶層及び前記第2液晶層のうちの一方において、前記貼合層側とは反対側に偏光板を有し、
前記偏光板は、直線偏光子の片面又は両面に保護層を有する偏光板を含む、請求項15又は16に記載の光学積層体。 The liquid crystal laminate is the liquid crystal laminate according to claim 12.
The optical laminate further has a polarizing plate on one of the first'liquid crystal layer and the second liquid crystal layer on the side opposite to the bonded layer side.
The optical laminate according to claim 15 or 16, wherein the polarizing plate includes a polarizing plate having a protective layer on one side or both sides of a linear polarizing element.
前記光学積層体は、さらに、前記第1’液晶層の前記貼合層側とは反対側に、重合性液晶化合物の硬化物を含む第2’液晶層を有する、請求項18に記載の光学積層体。 The liquid crystal laminate is the liquid crystal laminate according to claim 12.
18. The optics according to claim 18, wherein the optical laminate further has a second'liquid crystal layer containing a cured product of a polymerizable liquid crystal compound on the side of the first'liquid crystal layer opposite to the bonded layer side. Laminated body.
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