JP7010023B2 - Gas barrier film - Google Patents

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本発明は、包装体に用いられるガスバリアフィルムに関する。 The present invention relates to a gas barrier film used for a package.

食品、医薬品等の包装には機密性が高く、水分や酸素による内容物の劣化を防ぐために各種プラスチックフィルムや金属箔、紙などの材質を用いた包装用材料が開発されている。特に、食品・医薬品用途において長期間保存可能な包装形態として、レトルトやボイルなどの加熱殺菌処理を行ったレトルト包装やボイル包装が一般的に行われている。レトルト・ボイル用包材に要求される特性として、各種ガスバリア性、耐熱水性、保香性、耐変色性、耐衝撃性、耐圧性、突き刺し耐性、屈曲耐性などが挙げられ、加熱処理条件や内容物に適したラミネート構成が設計される。 Packaging of foods, pharmaceuticals, etc. is highly airtight, and packaging materials using various plastic films, metal foils, papers, and other materials have been developed in order to prevent deterioration of the contents due to moisture and oxygen. In particular, as a packaging form that can be stored for a long period of time in food / pharmaceutical applications, retort packaging and boil packaging that have been heat-sterilized such as retort and boil are generally used. Characteristics required for packaging materials for retort and boiling include various gas barrier properties, heat-resistant water-resistant properties, aroma retention properties, discoloration resistance, impact resistance, pressure resistance, piercing resistance, bending resistance, etc., and heat treatment conditions and contents. A laminate configuration suitable for the object is designed.

そのような包装材料の一例として、例えば耐熱水性や保香性、印刷適性等を付与するために二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(以下PETと称する)フィルムを基材とし、耐衝撃性や突き刺し耐性を付与するために二軸延伸ナイロン(以下ONYと称する)フィルム、バリア性を付与するガスバリア層としてアルミニウム(Al)箔、もしくは蒸着膜を積層し、まずガスバリアフィルムを作製する。 As an example of such a packaging material, for example, in order to impart heat resistance, fragrance retention, printability, etc., a biaxially stretched polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) film is used as a base material to impart impact resistance and piercing resistance. A biaxially stretched nylon (hereinafter referred to as ONY) film, an aluminum (Al) foil as a gas barrier layer for imparting barrier properties, or a vapor-deposited film is laminated to prepare a gas barrier film.

さらに、ヒートシール性を付与するために耐熱グレードの未延伸ポリプロピレン(以下CPPと称する)フィルムやポリエチレンフィルム等をシーラントとして、接着剤を塗布した前記ガスバリアフィルムとドライラミネート法で貼り合わせ、ガスバリア積層体とすることにより加熱処理に適した包装材が得られる。 Further, in order to impart heat-sealing properties, a heat-resistant grade unstretched polypropylene (hereinafter referred to as CPP) film, a polyethylene film, or the like is used as a sealant and bonded to the gas barrier film coated with an adhesive by a dry laminating method to form a gas barrier laminate. By doing so, a packaging material suitable for heat treatment can be obtained.

レトルト処理は、一般に食品等を保存するために、カビ、酵母、細菌などの微生物を加圧殺菌する方法である。通常は、食品を包装したガスバリア積層体包装材を、105~140℃、0.15~0.30MPaで10~120分の条件で加圧殺菌処理をする。レトルト装置は、加熱蒸気を利用する蒸気式と加圧加熱水を利用する熱水式があり、内容物となる食品等の殺菌条件に応じて適宜使い分ける。 Retort treatment is a method of pressurizing and sterilizing microorganisms such as molds, yeasts, and bacteria in order to store foods and the like. Usually, the gas barrier laminate packaging material in which food is packaged is subjected to pressure sterilization treatment at 105 to 140 ° C. and 0.15 to 0.30 MPa under the conditions of 10 to 120 minutes. There are two types of retort pouches, a steam type that uses heated steam and a hot water type that uses pressurized heated water, and they are used appropriately according to the sterilization conditions of the food or the like to be the contents.

ボイル処理は、食品等を保存するため湿熱殺菌する方法である。通常は、内容物にもよるが、食品等の包装したガスバリア積層体包装材を、60~100℃、大気圧下で、10~120分の条件で湿熱殺菌処理を行う。ボイル処理は、通常、熱水槽を用いて100℃以下で処理を行う。方法としては、一定温度の熱水槽の中に浸漬し一定時間処理した後に取り出すバッチ式と、熱水槽の中をトンネル式に通して処理する連続式がある。 Boil treatment is a method of moist heat sterilization for preserving foods and the like. Usually, although it depends on the contents, the gas barrier laminated body packaging material in which food or the like is packaged is subjected to moist heat sterilization treatment under the conditions of 60 to 100 ° C. and atmospheric pressure for 10 to 120 minutes. The boiling treatment is usually carried out at 100 ° C. or lower using a hot water tank. As a method, there are a batch type in which the material is immersed in a hot water tank at a constant temperature and treated for a certain period of time and then taken out, and a continuous type in which the inside of the hot water tank is passed through a tunnel type for treatment.

例えば、レトルト処理の熱水加圧殺菌処理としては、105℃~130℃、圧力0.10~0.30MPa、処理時間10~60分の条件で熱水加圧殺菌処理をするために、ガスバリア積層体包装材のラミネート構成として、外側よりPET/Al/ONY/CPP、PET/ONY/Al/CPP、PET/蒸着層/ONY/CPPが使用される。このように、PETフィルムとONYフィルムの併用が一般的に行われる。 For example, as the hot water pressure sterilization treatment for retort treatment, a gas barrier is used for hot water pressure sterilization treatment under the conditions of 105 ° C. to 130 ° C., pressure 0.10 to 0.30 MPa, and treatment time of 10 to 60 minutes. PET / Al / ONY / CPP, PET / ONY / Al / CPP, and PET / thin-film layer / ONY / CPP are used from the outside as the laminated structure of the laminated body packaging material. As described above, the combined use of the PET film and the ONY film is generally performed.

他方、特許文献1には、ポリブチレンテレフタレート(以下PBTと称する)を用いることで、PBT/Al/CPP構成のレトルト包材への展開が提案されている。また、レトルト処理後のガスバリア性を向上するためにポリ(メタ)アクリル酸やポリビニルアルコールに代表される、分子内に親水性の高い高水素結合性基を含有する重合体が用いられているが、乾燥条件下においては非常に優れた酸素等のガスバリア性を有する一方で、高湿度条件下においては、その親水性に起因して酸素等のガスバリア性が大きく低下する問
題や、湿度や熱水に対する耐性が劣る問題があった。
On the other hand, Patent Document 1 proposes the development of a PBT / Al / CPP structure into a retort packaging material by using polybutylene terephthalate (hereinafter referred to as PBT). Further, in order to improve the gas barrier property after the retort treatment, a polymer having a highly hydrophilic high hydrogen-bonding group in the molecule, such as poly (meth) acrylic acid and polyvinyl alcohol, is used. While it has excellent gas barrier properties such as oxygen under dry conditions, it has a problem that the gas barrier properties such as oxygen are greatly reduced due to its hydrophilicity under high humidity conditions, and humidity and hot water. There was a problem of poor resistance to.

これらの問題を解決するために、ポリカルボン酸系重合体のカルボキシ基を多価金属イオンで中和することが提案されている。例えば特許文献2には、ポリカルボン酸系重合体と多価金属化合物とを同一又は隣接する層に含有し、赤外吸収スペクトルの特定波長におけるピーク比が0.25未満の前駆体フィルムを相対湿度20%以上の雰囲気下に置き、ポリカルボン酸系重合体の多価金属塩を形成させて前記ピーク比を0.25以上としたフィルムが開示されている。 In order to solve these problems, it has been proposed to neutralize the carboxy group of the polycarboxylic acid-based polymer with a polyvalent metal ion. For example, Patent Document 2 describes a precursor film containing a polycarboxylic acid-based polymer and a polyvalent metal compound in the same or adjacent layers and having a peak ratio of less than 0.25 at a specific wavelength in the infrared absorption spectrum. A film having a peak ratio of 0.25 or more by forming a polyvalent metal salt of a polycarboxylic acid-based polymer in an atmosphere having a humidity of 20% or more is disclosed.

特許文献3には、カルボキシ基及びカルボン酸無水物から選ばれる官能基を有し、該官能基が有する-COO-基の少なくとも一部が多価金属イオンで中和されている重合体と、ハロゲン原子及びアルコキシ基から選ばれる少なくとも1つの特性基が結合した金属原子を含む化合物の加水分解縮合物とを含む層を有するガスバリア性積層体が開示されている。 Patent Document 3 describes a polymer having a functional group selected from a carboxy group and a carboxylic acid anhydride, in which at least a part of the -COO- group of the functional group is neutralized with a polyvalent metal ion. A gas barrier laminate having a layer containing a hydrolysis condensate of a compound containing a metal atom to which at least one characteristic group selected from a halogen atom and an alkoxy group is bonded is disclosed.

一方、基材フィルムにガスバリア性を付与する方法として、金属酸化物等の無機化合物からなる無機蒸着層を設ける方法が知られている(例えば、特許文献4参照)。
また、無機蒸着層の基材フィルムへの密着性を高めるため、基材フィルムと無機蒸着層との間にプライマー層を設けることが提案されている(例えば、特許文献5参照)。
On the other hand, as a method of imparting gas barrier properties to a base film, a method of providing an inorganic vapor-deposited layer made of an inorganic compound such as a metal oxide is known (see, for example, Patent Document 4).
Further, it has been proposed to provide a primer layer between the base film and the inorganic vapor deposition layer in order to improve the adhesion of the inorganic vapor deposition layer to the base film (see, for example, Patent Document 5).

また、更なる高バリア性及び耐水性、耐湿性を付与するために、無機蒸着層上にガスバリア性被覆層を設けることが提案されている。例えば特許文献6では、無機蒸着層上に水溶性高分子と、I)1種類以上の金属アルコキシドまたは金属アルコキシド加水分解物、あるいはII)塩化錫を含む、水溶液、または水アルコール混合溶液とを主剤とするコーティング剤を塗布し、加熱、乾燥してなるガスバリア性被覆層を第2層として順次積層したガスバリア性包材を設ける手法が記載されている。 Further, in order to impart further high barrier property, water resistance and moisture resistance, it has been proposed to provide a gas barrier coating layer on the inorganic thin-film deposition layer. For example, in Patent Document 6, a water-soluble polymer and an aqueous solution or a water-alcohol mixed solution containing I) one or more kinds of metal alkoxides or metal alkoxide hydrolysates, or II) tin chloride are used as main components on an inorganic vapor deposition layer. Described is a method of providing a gas barrier packaging material in which a gas barrier coating layer formed by applying a coating agent to be heated and dried is sequentially laminated as a second layer.

しかし、無機蒸着層を備えるガスバリア性積層体は、加熱処理により無機蒸着層等のバリア層の材質の劣化が起こることで層間の密着性が低下しやすく、レトルト処理、ボイル処理、加熱調理等の加熱処理を行うと、無機蒸着層のデラミネーションが生じ、ガスバリア性が低下することがある。また、無機蒸着層は、無機化合物からなるため脆く、延伸、屈曲等によりガスバリア性フィルムに応力(虐待)を加えると、無機蒸着層がダメージを受け、ガスバリア性が低下しやすい。 However, in the gas barrier laminated body provided with the inorganic thin-film deposition layer, the adhesion between the layers tends to decrease due to deterioration of the material of the barrier layer such as the inorganic thin-film deposition layer due to the heat treatment, and retort treatment, boiling treatment, cooking, etc. When the heat treatment is performed, delamination of the inorganic thin-film deposition layer may occur, and the gas barrier property may be deteriorated. Further, since the inorganic thin-film deposition layer is made of an inorganic compound, it is fragile, and when stress (abuse) is applied to the gas barrier film by stretching, bending, etc., the inorganic vapor deposition layer is damaged and the gas barrier property tends to deteriorate.

特開2012-214248号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-214248 国際公開第2003/091317号International Publication No. 2003/091317 国際公開第2005/053954号International Publication No. 2005/053954 特許第3448872号公報Japanese Patent No. 3448872 特許第3736130号公報Japanese Patent No. 3736130 特許第2790054号公報Japanese Patent No. 2790054

既述のように、加熱処理、特にレトルト処理に関しての包装材構成としては、一般的にPETフィルムとONYフィルムの両者が併用されている。これは、PETフィルムの耐熱水性が高い長所である一方、突刺強度は低い短所があり、ONYフィルムが突刺強度が高い長所である一方、耐熱水性は低い短所があるため、お互いに長所短所を補完して用いるためである。しかし、PETとONYの両者を用いるためラミネート工程が増えて、環
境負荷への影響が懸念され、コスト面からも改善が求められている。
As described above, both the PET film and the ONY film are generally used in combination as the packaging material composition for the heat treatment, particularly the retort treatment. This is an advantage of PET film having high heat resistance and a disadvantage of low piercing strength, and an ONY film has an advantage of high piercing strength and a disadvantage of low heat resistance, so that the advantages and disadvantages are complemented with each other. This is for use. However, since both PET and ONY are used, the number of laminating processes increases, and there is a concern about the influence on the environmental load, and improvement is required from the viewpoint of cost.

本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであって、本発明の課題とするところは、長所補完のためにPETとONYの両方の層を用いることなく、レトルト処理等の熱水処理を行っても優れたガスバリア性を維持することができるとともに、突刺強度、及び物理衝撃に対する強度にも優れたガスバリアフィルムを提供することである。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to perform hot water treatment such as retort treatment without using both PET and ONY layers to complement the advantages. It is an object of the present invention to provide a gas barrier film which can maintain excellent gas barrier properties even when carried out and is also excellent in piercing strength and strength against physical impact.

上記課題を解決するために、本発明に係る第一の発明は、
ブチレンテレフタラート単位を主たる構成単位とするポリエステル樹脂を含有するフィルム基材の一方の面に、無機酸化物または金属酸化物からなる蒸着層と、第一のコーティング層と、第二のコーティング層とをこの順に積層してなり、
前記第一のコーティング層は、ポリカルボン酸系重合体と、一般式RSi(ORで表されるシランカップリング剤とその加水分解物及びそれらの縮合物からなる群から選択される少なくとも1種のケイ素含有化合物とを、99.5:0.5~80.0:20.0の質量比で含有する層であり、
前記第二のコーティング層は、多価金属化合物を含有する層であり、
前記フィルム基材の厚さが12μm以上である、
ことを特徴とするガスバリアフィルムである。
(ただし、Rはグリシジルオキシ基またはアミノ基を含む有機基であり、Rはアルキル基であり、3個のRは同一でなくともよい)
In order to solve the above problems, the first invention according to the present invention is
A vapor-deposited layer made of an inorganic oxide or a metal oxide, a first coating layer, and a second coating layer are formed on one surface of a film substrate containing a polyester resin having a butylene terephthalate unit as a main constituent unit. Are stacked in this order,
The first coating layer is selected from the group consisting of a polycarboxylic acid-based polymer, a silane coupling agent represented by the general formula R1Si (OR 2 ) 3 , a hydrolyzate thereof, and a condensate thereof. A layer containing at least one silicon-containing compound in a mass ratio of 99.5: 0.5 to 80.0: 20.0.
The second coating layer is a layer containing a polyvalent metal compound, and is a layer containing a polyvalent metal compound.
The thickness of the film substrate is 12 μm or more.
It is a gas barrier film characterized by this.
(However, R 1 is an organic group containing a glycidyloxy group or an amino group, R 2 is an alkyl group, and the three R 2s do not have to be the same.)

また第二の発明は、前記フィルム基材と前記蒸着層との間に、アンカーコート剤を含有する密着層を備えることを特徴とするガスバリアフィルムである。 The second invention is a gas barrier film characterized in that an adhesion layer containing an anchor coating agent is provided between the film base material and the vapor-deposited layer.

第三の発明は、前記無機酸化物が、酸化アルミニウムもしくは、酸化ケイ素であることを特徴とするガスバリアフィルムである。 The third invention is a gas barrier film characterized in that the inorganic oxide is aluminum oxide or silicon oxide.

第四の発明は、前記ポリカルボン酸系重合体の数平均分子量が、2,000~10,000,000の範囲であることを特徴とするガスバリアフィルムである。 The fourth invention is a gas barrier film characterized in that the number average molecular weight of the polycarboxylic acid-based polymer is in the range of 2,000 to 10,000,000.

第五の発明は、前記ガスバリアフィルムを、50℃~150℃の温度で10N/m~70N/mの張力をかけたときのフィルム走行方向(MD方向)の伸び率Y(下記数式1)が、30%以下であることを特徴とするガスバリアフィルムである。
伸び率Y=((所定の温度で張力をかけたときのフィルムの長さ)-(室温で張力をかけていないときの長さ))/(所定の温度で張力をかけたときのフィルムの長さ) ・・・(数式1)
In the fifth invention, the elongation rate Y (formula 1 below) in the film traveling direction (MD direction) when the gas barrier film is tensioned at 10 N / m to 70 N / m at a temperature of 50 ° C to 150 ° C. , 30% or less, which is a gas barrier film.
Elongation rate Y = ((length of film when tensioned at a predetermined temperature)-(length when tension is not applied at room temperature))) / (length of film when tension is applied at a predetermined temperature) Length) ・ ・ ・ (Formula 1)

第六の発明は、前記ガスバリアフィルムにおいて、前記伸び率Yが、任意のフィルムにかかる温度X(℃)、張力Z(N/m)により、下記数式2で示される基準値Gに対して、Y≦Gとなることを特徴とするガスバリアフィルムである。
基準値G=0.8×(フィルムにかかる温度X(℃)-50)×(0.9×(張力Z(N/m)-5)/40) ・・・(数式2)
In the sixth invention, in the gas barrier film, the elongation rate Y is based on the temperature X (° C.) and the tension Z (N / m) applied to the arbitrary film with respect to the reference value G represented by the following formula 2. It is a gas barrier film characterized in that Y ≦ G.
Reference value G = 0.8 × (temperature applied to film X (° C.) -50) × (0.9 × (tension Z (N / m) -5) / 40) ・ ・ ・ (Formula 2)

本発明に係るガスバリアフィルムにより、耐熱水性、突刺強度が高く、レトルト処理、ボイル処理、加熱調理等を行っても優れたガスバリア性を維持することのできるガスバリアフィルムが可能となった。 The gas barrier film according to the present invention has made it possible to obtain a gas barrier film having high heat resistance and piercing strength and capable of maintaining excellent gas barrier properties even after retort treatment, boiling treatment, cooking and the like.

本発明に係るガスバリアフィルムの一様態を示した模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view which showed the uniformity of the gas barrier film which concerns on this invention.

以下、本発明の実施の形態について図面をもって説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1に示すように、本発明の実施形態に係るガスバリアフィルム10は、フィルム基材1の上に密着層2、蒸着層3、第一のコーティング層(A)4、第二のコーティング層(B)5を順次積層してなる。なお、本発明において、密着層2は必須構成ではなく、フィルム基材1と蒸着層3との密着性が充分であれば密着層2は省略が可能である。 As shown in FIG. 1, the gas barrier film 10 according to the embodiment of the present invention has an adhesion layer 2, a thin-film deposition layer 3, a first coating layer (A) 4, and a second coating layer (on a film substrate 1). B) 5 is sequentially laminated. In the present invention, the adhesion layer 2 is not an essential configuration, and the adhesion layer 2 can be omitted if the adhesion between the film base material 1 and the vapor-film deposition layer 3 is sufficient.

第一のコーティング層(A)4は、ポリカルボン酸系重合体と、一般式RSi(OR(ただし、Rはグリシジルオキシ基またはアミノ基を含む有機基であり、Rはアルキル基であり、3個のRはそれぞれ同一であっても異なっていても良い)で表されるシランカップリング剤と、その加水分解物及びそれらの縮合物からなる群から選択される少なくとも1種のケイ素含有化合物とを、99.5:0.5~80.0:20.0の質量比(但し、前記ケイ素含有化合物の質量は前記シランカップリング剤換算の質量である)で含有する層である。
また第二のコーティング層(B)5は、多価金属化合物を含有する層である。
The first coating layer (A) 4 is a polycarboxylic acid-based polymer and a general formula R 1 Si (OR 2 ) 3 (where R 1 is an organic group containing a glycidyloxy group or an amino group, and R 2 Is an alkyl group, and the three R2s may be the same or different from each other). At least one kind of silicon-containing compound is mixed with a mass ratio of 99.5: 0.5 to 80.0: 20.0 (however, the mass of the silicon-containing compound is the mass in terms of the silane coupling agent). It is a layer containing.
The second coating layer (B) 5 is a layer containing a polyvalent metal compound.

(フィルム基材)
本発明に用いるフィルム基材1は、ブチレンテレフタレート(PBT)単位を主たる構成単位とするポリエステル樹脂を含有するものである。
またフィルム基材1としては、キャスト方式による未延伸フィルムではなく、延伸フィルムが用いられる。未延伸PBTフィルムは強度や寸法安定性に問題があるため用途が限定されており、レトルト処理、ボイル処理などの加熱調理等の包材としては適していない。延伸PBTフィルムは、未延伸PBTフィルムよりも強度が高く、耐衝撃性、耐熱性、耐水性に優れるためにレトルト処理やボイル処理に使用することが可能である。延伸方法としては、インフレーションによる延伸フィルム、または一軸延伸、二軸延伸PBTフィルムなど、寸法が安定されたフィルムが供給可能ならば、どの方法で製膜されたものでもかまわない。
(Film base material)
The film substrate 1 used in the present invention contains a polyester resin containing a butylene terephthalate (PBT) unit as a main constituent unit.
Further, as the film base material 1, a stretched film is used instead of an unstretched film produced by a casting method. The unstretched PBT film has problems in strength and dimensional stability, so its use is limited, and it is not suitable as a packaging material for cooking such as retort treatment and boiling treatment. The stretched PBT film has higher strength than the unstretched PBT film, and is excellent in impact resistance, heat resistance, and water resistance, so that it can be used for retort treatment and boiling treatment. As the stretching method, any method may be used as long as a film having stable dimensions such as a stretched film by inflation or a uniaxially stretched or biaxially stretched PBT film can be supplied.

フィルム基材1の厚さは用途によって適宜選択できるが、12μm~200μm程度のものを使用できる。この厚さを12μm以上とすることによって、耐衝撃性が高く、また熱変形等によるバリア性の低下を防ぐことができる。 The thickness of the film substrate 1 can be appropriately selected depending on the intended use, but a film having a thickness of about 12 μm to 200 μm can be used. By setting this thickness to 12 μm or more, the impact resistance is high and the deterioration of the barrier property due to thermal deformation or the like can be prevented.

またこのフィルム基材1には、その積層面にバリア性能を損なわない範囲でコロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理などの各種前処理を施したり、易接着層などのコート層を設けても構わない。 Further, the film substrate 1 may be subjected to various pretreatments such as corona treatment, plasma treatment, frame treatment, etc., or a coat layer such as an easy-adhesion layer may be provided on the laminated surface as long as the barrier performance is not impaired. ..

(密着層)
本発明の密着層2は、透明プラスチック材料からなる基材フィルム上に設けられ、フィルム基材1と無機蒸着層3の密着性能向上と、平面を平滑にすることで次工程の蒸着層を欠陥なく均一に成膜し高いバリア性を発現することの、二つの効果を得ることを目的とした層であって、アンカーコート剤を含有する層である。
(Adhesion layer)
The adhesion layer 2 of the present invention is provided on a base film made of a transparent plastic material, and by improving the adhesion performance between the film base material 1 and the inorganic vapor deposition layer 3 and smoothing the flat surface, the vapor deposition layer in the next step is defective. It is a layer for the purpose of obtaining two effects of uniformly forming a film without forming a film and exhibiting a high barrier property, and is a layer containing an anchor coating agent.

このような密着層2に含有するアンカーコート剤としては、例えば、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂が挙げられる。これらのアンカーコート剤の中でも、耐熱性及び層間接着強度の観点から、ポリエステル系ポリウレタン樹脂が好ましい。 Examples of the anchor coating agent contained in such an adhesion layer 2 include polyester-based polyurethane resin and polyether-based polyurethane resin. Among these anchor coating agents, polyester-based polyurethane resins are preferable from the viewpoint of heat resistance and interlayer adhesion strength.

また、このような密着層2の厚さは特に限定されないが、この厚さが0.01~5μmの範囲であることが好ましく、0.03~3μmの範囲であることがより好ましく、0.05~2μmの範囲であることが特に好ましい。密着層2の厚さが前記下限値未満では、層間接着強度が不十分となる傾向にあり、他方、前記上限値を超えると所望のガスバリア性が発現しない傾向にある。 The thickness of the adhesion layer 2 is not particularly limited, but the thickness is preferably in the range of 0.01 to 5 μm, more preferably in the range of 0.03 to 3 μm, and 0. It is particularly preferably in the range of 05 to 2 μm. If the thickness of the adhesion layer 2 is less than the lower limit value, the interlayer adhesive strength tends to be insufficient, while if it exceeds the upper limit value, the desired gas barrier property tends not to be exhibited.

また、密着層2を前記フィルム基材1上に塗工する方法としては、公知の塗工方法が特に制限なく使用可能であり、浸漬法(ディッピング法);スプレー、コーター、印刷機、刷毛等を用いる方法が挙げられる。また、これらの方法に用いられるコーター及び印刷機の種類並びにそれらの塗工方式としては、ダイレクトグラビア方式、リバースグラビア方式、キスリバースグラビア方式、オフセットグラビア方式等のグラビアコーター、リバースロールコーター、マイクログラビアコーター、チャンバードクター併用コーター、エアナイフコーター、ディップコーター、バーコーター、コンマコーター、ダイコーター等を挙げることができる。 Further, as a method of coating the adhesion layer 2 on the film substrate 1, a known coating method can be used without particular limitation, and a dipping method (dipping method); a spray, a coater, a printing machine, a brush, etc. Is mentioned. The types of coaters and printing machines used in these methods and their coating methods include gravure coaters such as direct gravure method, reverse gravure method, kiss reverse gravure method, and offset gravure method, reverse roll coater, and micro gravure. Examples include coaters, chamber doctor combined coaters, air knife coaters, dip coaters, bar coaters, comma coaters, and die coaters.

さらに、このような密着層2の塗布量としては、アンカーコート剤を塗工して乾燥した後の1mあたりの質量が0.01~5g/mであることが好ましく、0.03~3g/mであることがより好ましい。アンカーコート剤を塗工して乾燥した後の1mあたりの質量が前記下限未満では、成膜が不十分となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると乾燥が不十分で溶剤が残留しやすくなる傾向にある。 Further, as for the coating amount of such an adhesion layer 2, the mass per 1 m 2 after the anchor coating agent is applied and dried is preferably 0.01 to 5 g / m 2 , preferably 0.03 to 0.03. More preferably, it is 3 g / m 2 . If the mass per 1 m 2 after applying the anchor coating agent and drying is less than the lower limit, the film formation tends to be insufficient, while if it exceeds the upper limit, the drying is insufficient and the solvent remains. It tends to be easier.

また、このような密着層2を乾燥させる方法としては、特に限定されないが、自然乾燥による方法や、所定の温度に設定したオーブン中で乾燥させる方法、前記コーター付属の乾燥機、例えばアーチドライヤー、フローティングドライヤー、ドラムドライヤー、赤外線ドライヤー等を用いる方法を挙げることができる。さらに、乾燥の条件としては、乾燥させる方法により適宜選択することでき、例えばオーブン中で乾燥させる方法においては、温度60~100℃にて、1秒間~2分間程度乾燥することが好ましい。 The method for drying the adhesion layer 2 is not particularly limited, but a method by natural drying, a method of drying in an oven set to a predetermined temperature, a dryer attached to the coater, for example, an arch dryer, etc. Examples thereof include a method using a floating dryer, a drum dryer, an infrared dryer and the like. Further, the drying conditions can be appropriately selected depending on the method of drying. For example, in the method of drying in an oven, it is preferable to dry at a temperature of 60 to 100 ° C. for about 1 second to 2 minutes.

(蒸着層)
本発明のガスバリアフィルム10で用いる蒸着層3には、Al、Siの少なくとも一種が含有されていることが好ましい。より具体的には、SiOx、AlOxで表わされる金属酸化物、もしくはその混合物を用いることができるが、窒素やアルミの単体原子を含有していても差し支えない。
(Embedded layer)
The vapor-filmed layer 3 used in the gas barrier film 10 of the present invention preferably contains at least one of Al and Si. More specifically, a metal oxide represented by SiOx or AlOx, or a mixture thereof can be used, but it may contain a simple substance atom of nitrogen or aluminum.

蒸着層3の膜厚は、5nm以上100nm以下であることが好ましい。膜厚が5nm未満であると、十分な水蒸気バリア性を得ることができない。また、100nmより大きいと、薄膜の内部応力による変形によりクラックが発生し、水蒸気バリア性が低下する。さらに、材料使用量の増加、膜形成時間の長時間化等に起因してコストが増加し、経済的観点からも好ましくない。 The film thickness of the thin-film deposition layer 3 is preferably 5 nm or more and 100 nm or less. If the film thickness is less than 5 nm, sufficient water vapor barrier properties cannot be obtained. If it is larger than 100 nm, cracks are generated due to deformation of the thin film due to internal stress, and the water vapor barrier property is lowered. Further, the cost increases due to an increase in the amount of material used, a long film forming time, and the like, which is not preferable from an economical point of view.

蒸着層3は、少なくとも1層は真空成膜で形成されることが必要である。真空成膜では、例えば物理気相成長法あるいは化学気相成長法を用いることができる。物理気相成長法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。化学気相成長法としては、熱CVD法、プラズマCVD法、光CVD法等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 At least one of the thin-film deposition layers 3 needs to be formed by vacuum film formation. In the vacuum film formation, for example, a physical vapor deposition method or a chemical vapor deposition method can be used. Examples of the physical vapor deposition method include, but are not limited to, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. Examples of the chemical vapor deposition method include, but are not limited to, a thermal CVD method, a plasma CVD method, and an optical CVD method.

前記真空成膜では、抵抗加熱式真空蒸着法、EB(Electron Beam)加熱式真空蒸着法、誘導加熱式真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、デュアルマグネトロンスパッタリング法、プラズマ化学気相堆積法(PECVD法)等が特に好ましく用いられる。 In the vacuum film formation, resistance heating type vacuum deposition method, EB (Electron Beam) heating type vacuum deposition method, induction heating type vacuum deposition method, sputtering method, reactive sputtering method, dual magnetron sputtering method, plasma chemical vapor deposition method (PECVD method) and the like are particularly preferably used.

前記のスパッタリング法以降の方法ではプラズマを用いるが、DC(Direct Current)方式、RF(Radio Frequency)方式、MF(Middle Frequency)方式、DCパルス方式、RFパルス方式、DC+RF重畳方式等のプラズマの生成法を適用することができる。 Although plasma is used in the methods after the sputtering method, plasma generation such as DC (Direct Current) method, RF (Radio Frequency) method, MF (Middle Frequency) method, DC pulse method, RF pulse method, DC + RF superimposition method and the like is used. The law can be applied.

スパッタリング法の場合、陰極であるターゲットに負の電位勾配が生じ、Arイオンが電位エネルギーを受け、ターゲットに衝突する。ここで、プラズマが発生しても負の自己バイアス電位が生じないとスパッタリングを行うことができない。MW(Micro Wave)プラズマは自己バイアスが生じないため、スパッタリングには適していない。しかし、PECVD法では、プラズマ中の気相反応を利用して化学反応、堆積のプロセスが進むため、自己バイアスが無くても膜の生成が可能であり、MWプラズマを利用することができる。 In the case of the sputtering method, a negative potential gradient is generated in the target, which is a cathode, and Ar ions receive potential energy and collide with the target. Here, even if plasma is generated, sputtering cannot be performed unless a negative self-bias potential is generated. MW (Micro Wave) plasma is not suitable for sputtering because it does not self-bias. However, in the PECVD method, since the chemical reaction and deposition processes proceed using the gas phase reaction in the plasma, it is possible to form a film without self-bias, and MW plasma can be used.

次に、コーティング層について説明する。コーティング層は、下記の第一のコーティング層(A)4と、多価金属化合物を含有する第二のコーティング層(B)5とを含む。 Next, the coating layer will be described. The coating layer includes the following first coating layer (A) 4 and a second coating layer (B) 5 containing a polyvalent metal compound.

(第一のコーティング層(A))
第一のコーティング層(A)4は、ポリカルボン酸系重合体ポリカルボン酸系重合体(以下、「ポリカルボン酸系重合体(A1)成分」と称する)と、一般式RSi(OR(ただし、Rはグリシジルオキシ基またはアミノ基を含む有機基であり、Rはアルキル基であり、3個のRはそれぞれ同一であっても異なっていても良い)で表されるシランカップリング剤、その加水分解物、およびそれらの縮合物、からなる群から選択される少なくとも1種類のケイ素含有化合物(以下「ケイ素含有化合物(A2)」成分という)とを、(A1):(A2)=99.5:0.5~80.0:20.0の質量比(但し、前記ケイ素含有化合物成分(A2)の質量は前記シランカップリング剤換算の質量である)で含有している第一のコーティング層(A)である。
(First coating layer (A))
The first coating layer (A) 4 includes a polycarboxylic acid-based polymer, a polycarboxylic acid-based polymer (hereinafter referred to as “polycarboxylic acid-based polymer (A1) component”), and a general formula R1Si (OR). 2 ) 3 (However, R 1 is an organic group containing a glycidyloxy group or an amino group, R 2 is an alkyl group, and the three R 2s may be the same or different from each other). At least one kind of silicon-containing compound (hereinafter referred to as "silicon-containing compound (A2)" component) selected from the group consisting of the silane coupling agent, its hydrolyzate, and a condensate thereof is (A1). ): (A2) = 99.5: 0.5 to 80.0: 20.0 (however, the mass of the silicon-containing compound component (A2) is the mass in terms of the silane coupling agent). It is the first coating layer (A) contained.

ポリカルボン酸系重合体(A1)成分のポリカルボン酸系重合体とは、分子内に2個以上のカルボキシ基を有する重合体である。 The polycarboxylic acid-based polymer as a component of the polycarboxylic acid-based polymer (A1) is a polymer having two or more carboxy groups in the molecule.

ポリカルボン酸系重合体(A1)成分としては、たとえばエチレン性不飽和カルボン酸の(共)重合体;エチレン性不飽和カルボン酸と他のエチレン性不飽和単量体との共重合体;アルギン酸、カルボキシメチルセルロース、ペクチン等の分子内にカルボキシル基を有する酸性多糖類が挙げられる。前記エチレン性不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等が挙げられる。エチレン性不飽和カルボン酸と共重合可能なエチレン性不飽和単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、酢酸ビニル等の飽和カルボン酸ビニルエステル類、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、アクリルアミド、アクリロニトリル等が挙げられる。これらのポリカルボン酸系重合体は1種を単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。 The components of the polycarboxylic acid-based polymer (A1) include, for example, a (co) polymer of an ethylenically unsaturated carboxylic acid; a copolymer of an ethylenically unsaturated carboxylic acid and another ethylenically unsaturated monomer; an alginic acid. , Carboxymethyl cellulose, pectin and the like, and examples thereof include acidic polysaccharides having a carboxyl group in the molecule. Examples of the ethylenically unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid. Examples of the ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with the ethylenically unsaturated carboxylic acid include saturated carboxylic acid vinyl esters such as ethylene, propylene and vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, styrene, acrylamide and acrylonitrile. Can be mentioned. These polycarboxylic acid-based polymers may be used alone or in combination of two or more.

ポリカルボン酸系重合体(A1)成分としては、上記の中でも、得られるガスバリア性の観点から、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、およびクロトン酸からなる群から選ばれる少なくとも1種の重合性単量体から誘導される構成単位を含む重合体が好ましく、アクリル酸、マレイン酸、メタクリル酸およびイタコン酸からなる群から選ばれる少なくとも1種の重合性単量体から誘導される構成単位を含む重合体が特に好ましい。 Among the above, the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component is at least selected from the group consisting of acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid from the viewpoint of the obtained gas barrier property. Polymers containing structural units derived from one polymerizable monomer are preferred, and are derived from at least one polymerizable monomer selected from the group consisting of acrylic acid, maleic acid, methacrylic acid and itaconic acid. A polymer containing a structural unit is particularly preferable.

該重合体において、前記アクリル酸、マレイン酸、メタクリル酸およびイタコン酸からなる群から選ばれる少なくとも1種の重合性単量体から誘導される構成単位の割合は、80mol%以上であることが好ましく、90mol%以上であることがより好ましい(ただし、該重合体を構成する全構成単位の合計を100mol%とする)。該重合体は、単独重合体でも、共重合体でもよい。該重合体が、上記構成単位以外の他の構成要素としては、例えば前述のエチレン性不飽和カルボン酸と共重合可能なエチレン性不飽和単量体から誘導される構成単位などが挙げられる。 In the polymer, the proportion of the structural unit derived from at least one polymerizable monomer selected from the group consisting of acrylic acid, maleic acid, methacrylic acid and itaconic acid is preferably 80 mol% or more. , 90 mol% or more is more preferable (however, the total of all the constituent units constituting the polymer is 100 mol%). The polymer may be a homopolymer or a copolymer. Examples of the constituent elements other than the above-mentioned constituent units of the polymer include constituent units derived from the ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with the above-mentioned ethylenically unsaturated carboxylic acid.

ポリカルボン酸系重合体(A1)成分の数平均分子量は、2,000~10,000,000の範囲が好ましく、5,000~1,000,000がより好ましい。数平均分子量が2,000未満では、得られるガスバリア層は充分な耐水性を達成できず、水分によってガスバリア性や透明性が悪化する場合や、白化の発生が起こる場合がある。一方、数平均分子量が10,000,000を超えると、塗工によって第一のコーティング層(A)を形成する前に、粘度が高くなり塗工性が損なわれる場合がある。 The number average molecular weight of the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component is preferably in the range of 2,000 to 10,000,000, more preferably 5,000 to 1,000,000. If the number average molecular weight is less than 2,000, the obtained gas barrier layer cannot achieve sufficient water resistance, and moisture may deteriorate the gas barrier property and transparency, or whitening may occur. On the other hand, if the number average molecular weight exceeds 10,000,000, the viscosity may increase and the coatability may be impaired before the first coating layer (A) is formed by coating.

ポリカルボン酸系重合体(A1)成分は、カルボキシ基の一部が予め塩基性化合物で中和されていても良い。ポリカルボン酸系重合体(A1)成分の有するカルボキシ基の一部を予め中和することにより、耐水性や耐熱性をさらに向上させることができる。塩基性化合物として、多価金属化合物、一価金属化合物およびアンモニアからなる群から選択される少なくとも1種の塩基性化合物が好ましい。多価金属化合物としては、第二のガスバリア層(B)の説明で挙げる多価金属化合物と同様のものが挙げられ、多価金属化合物である塩基性化合物としては、例えば酸化亜鉛、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム等が挙げられる。一価金属化合物である塩基性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。 In the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component, a part of the carboxy group may be neutralized with a basic compound in advance. By neutralizing a part of the carboxy group of the polycarboxylic acid polymer (A1) component in advance, water resistance and heat resistance can be further improved. As the basic compound, at least one basic compound selected from the group consisting of a polyvalent metal compound, a monovalent metal compound and ammonia is preferable. Examples of the polyvalent metal compound include those similar to the polyvalent metal compound described in the description of the second gas barrier layer (B), and examples of the basic compound as the polyvalent metal compound include zinc oxide and calcium carbonate. Examples include sodium carbonate. Examples of the basic compound which is a monovalent metal compound include sodium hydroxide and potassium hydroxide.

カルボキシ基の中和度として、第一のコーティング層(A)をポリカルボン酸系重合体(A1)成分と前記ケイ素含有化合物(A2)成分とを含有する第一のコーティング液(a)(後述)からなる塗膜を乾燥することにより形成する場合は、該第一のコーティング液(a)の塗工性や塗液安定性の観点から、30mol%以下であることが好ましく、25mol%以下であることがより好ましい。ポリカルボン酸系重合体(A1)成分としては、1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 As the degree of neutralization of the carboxy group, the first coating liquid (a) containing the first coating layer (A) containing the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component and the silicon-containing compound (A2) component (described later). When the coating film made of) is formed by drying, it is preferably 30 mol% or less, preferably 25 mol% or less, from the viewpoint of coatability and coating stability of the first coating liquid (a). It is more preferable to have. As the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component, one type may be used alone, or two or more types may be mixed and used.

前記ケイ素含有化合物(A2)成分は、一般式RSi(OR(ただし、Rはグリシジルオキシ基またはアミノ基を含む有機基であり、Rはアルキル基であり、3個のRはそれぞれ同一であっても異なっていても良い)で表されるシランカップリング剤、その加水分解物、およびそれらの縮合物からなる群から選択される少なくとも1種のケイ素含有化合物である。前記ケイ素含有化合物(A2)成分は、少量でも密着層2と第一のコーティング層(A)4との密着性を向上させ、耐熱性、耐水性等を向上させる。 The silicon-containing compound (A2) component is a general formula R 1 Si (OR 2 ) 3 (where R 1 is an organic group containing a glycidyloxy group or an amino group, R 2 is an alkyl group, and three. R2 is at least one silicon-containing compound selected from the group consisting of a silane coupling agent represented by (which may be the same or different), a hydrolyzate thereof, and a condensate thereof. .. The silicon-containing compound (A2) component improves the adhesion between the adhesion layer 2 and the first coating layer (A) 4 even in a small amount, and improves heat resistance, water resistance, and the like.

前記一般式中、Rにおける有機基としては、例えば、グリシジルオキシアルキル基、アミノアルキル基等が挙げられる。Rのアルキル基としては、炭素数1~6のアルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。前記シランカップリング剤の具体例としては、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシランが好ましい。 In the above general formula, examples of the organic group in R 1 include a glycidyloxyalkyl group and an aminoalkyl group. As the alkyl group of R2 , an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, and a methyl group or an ethyl group is particularly preferable. Specific examples of the silane coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane and the like. .. Among these, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and γ-aminopropyltrimethoxysilane are preferable.

前記ケイ素含有化合物(A2)成分は、前記シランカップリング剤自体であってもよく、該シランカップリング剤が加水分解した加水分解物でもよく、これらの縮合物であってもよい。加水分解物としては、前記一般式中の3つのORのうち少なくとも1つがOHとなったものが挙げられる。縮合物としては、少なくとも2分子の加水分解物のSi-OH同士が縮合してSi-O-Si結合を形成したものが挙げられる。なお、以下においては、シランカップリング剤の加水分解物が縮合したものを加水分解縮合物と記すことがある。 The silicon-containing compound (A2) component may be the silane coupling agent itself, a hydrolyzate obtained by hydrolyzing the silane coupling agent, or a condensate thereof. Examples of the hydrolyzate include those in which at least one of the three OR 2s in the general formula is OH. Examples of the condensate include those in which at least two molecules of the hydrolyzate Si—OH are condensed to form a Si—O—Si bond. In the following, the condensed product of the hydrolyzate of the silane coupling agent may be referred to as a hydrolyzed condensate.

前記ケイ素含有化合物(A2)成分としては、ゾルゲル法を用いて、シランカップリング剤の加水分解および縮合反応を行ったもの用いることができる。通常、シランカップリング剤は加水分解が容易におこり、また、酸、アルカリ存在下では容易に縮合反応がおこるため、シランカップリング剤のみ、その加水分解物のみ、またはそれらの縮合物のみで存在することは稀である。すなわち前記ケイ素含有化合物(A2)成分は、通常シランカップリング剤、その加水分解物、およびこれらの縮合物が混在している。また、加水分解物には、部分加水分解物、完全加水分解物が含まれる。 As the silicon-containing compound (A2) component, a silane coupling agent that has been hydrolyzed and condensed using the sol-gel method can be used. Normally, a silane coupling agent easily hydrolyzes, and a condensation reaction easily occurs in the presence of an acid or an alkali. Therefore, it exists only in the silane coupling agent, its hydrolyzate alone, or its condensate only. It is rare to do. That is, the silicon-containing compound (A2) component usually contains a silane coupling agent, a hydrolyzate thereof, and a condensate thereof. Further, the hydrolyzate includes a partial hydrolyzate and a complete hydrolyzate.

前記ケイ素含有化合物(A2)成分としては、少なくとも加水分解縮合物を含むことが好ましい。加水分解縮合物を製造する際の方法としては、シランカップリング剤を上記ポリカルボン酸系重合体(A1)成分および水を含む液に直接混合してもよく、シランカップリング剤に水を加えることによって、加水分解およびそれに続く縮合反応を行い、ポリカルボン酸系重合体と混合する前に、加水分解縮合物を得てもよい。 The silicon-containing compound (A2) component preferably contains at least a hydrolyzed condensate. As a method for producing the hydrolyzed condensate, the silane coupling agent may be directly mixed with the liquid containing the polycarboxylic acid polymer (A1) component and water, or water is added to the silane coupling agent. Thereby, a hydrolysis condensate may be obtained before the hydrolysis and the subsequent condensation reaction are carried out and mixed with the polycarboxylic acid-based polymer.

第一のコーティング層(A)4はポリカルボン酸系重合体(A1)成分と、前記ケイ素含有化合物(A2)成分との比率(A1:A2)を、99.5:0.5~80.0:20.0の質量比で含有する。ただし、前記ケイ素含有化合物(A2)成分の質量は、前記シランカップリング剤換算の質量である。 The first coating layer (A) 4 has a ratio (A1: A2) of the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component to the silicon-containing compound (A2) component, which is 99.5: 0.5 to 80. It is contained in a mass ratio of 0: 20.0. However, the mass of the silicon-containing compound (A2) component is the mass in terms of the silane coupling agent.

ここで、前記ケイ素含有化合物(A2)成分は上記のとおり、通常シランカップリング剤、その加水分解物、およびこれらの縮合物が混在するが、前記ケイ素含有化合物(A2)成分の質量は、前記シランカップリング剤に換算した値、すなわちシランカップリング剤の仕込み量である。上記範囲であると、耐虐待性に優れるガスバリア積層体を得ることができる。 Here, as described above, the silicon-containing compound (A2) component is usually a mixture of a silane coupling agent, a hydrolyzate thereof, and a condensate thereof, but the mass of the silicon-containing compound (A2) component is the above. It is a value converted into a silane coupling agent, that is, the amount of the silane coupling agent charged. Within the above range, a gas barrier laminate having excellent abuse resistance can be obtained.

さらに、前記ケイ素含有化合物(A2)成分が存在することにより、本発明のガスバリア層が酸に対する耐性を有する。シランカップリング剤として、Rがグリシジルオキシ基を含む有機基であるもの(γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランや、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン)を用いる場合には、ポリカルボン酸系重合体(A1)成分と前記ケイ素含有化合物(A2)成分との質量比は、99.5:0.5~90.0:10.0であることが好ましく、99.0:1.0~95.0:5.0であることが特に好ましい。 Further, the presence of the silicon-containing compound (A2) component makes the gas barrier layer of the present invention resistant to acid. When R 1 is an organic group containing a glycidyloxy group (γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane or γ-glycidoxypropyltriethoxysilane) as the silane coupling agent, a polycarboxylic acid is used. The mass ratio of the system polymer (A1) component to the silicon-containing compound (A2) component is preferably 99.5: 0.5 to 90.0: 10.0, preferably 99.0: 1.0. It is particularly preferable that it is ~ 95.0: 5.0.

前記シランカップリング剤として、Rがアミノ基を含む有機基であるもの(γ-アミノプロピルトリメトキシシランや、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン)を用いる場合には、ポリカルボン酸系重合体(A1)成分と前記ケイ素含有化合物(A2)成分との質量比は、99.0:1.0~80.0:20.0であることが好ましく、95.0:5.0~80.0:20.0であることが特に好ましい。 When a polycarboxylic acid-based polymer (γ-aminopropyltrimethoxysilane or γ-aminopropyltriethoxysilane) in which R 1 is an organic group containing an amino group is used as the silane coupling agent, a polycarboxylic acid-based polymer ( The mass ratio of the A1) component to the silicon-containing compound (A2) component is preferably 99.0: 1.0 to 80.0: 20.0, preferably 95.0: 5.0 to 80.0. : 20.0 is particularly preferable.

第一のコーティング層(A)には、各種の添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては可塑剤、樹脂、分散剤、界面活性剤、柔軟材、安定剤、アンチブロッキング剤、膜形成剤、粘着剤、酸素吸収剤等が挙げられる。例えば、可塑剤としては、公知の可塑剤から適宜選択して使用することが可能である。該可塑剤の具体例としては、例えば、エチレングレコール、トリメチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、1,3-ブタンジオール、2,3-ブタンジオール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール、エチレン-ビニルアルコール共重合体、ポリエチレンオキサイド、ソルビトール、マンニトール、ズルシトール、エリトリトール、グリセリン、乳酸、脂肪酸、澱粉、フタル酸エステルなどを例示することができる。これらは必要に応じて、混合物で用いてもよい。 The first coating layer (A) may contain various additives. Examples of the additive include plasticizers, resins, dispersants, surfactants, softeners, stabilizers, anti-blocking agents, film-forming agents, pressure-sensitive adhesives, oxygen absorbers and the like. For example, as the plasticizer, it is possible to appropriately select and use from known plasticizers. Specific examples of the plasticizer include ethylene glycol, trimethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, pentamethylene glycol, hexamethylene glycol, and diethylene glycol. Examples thereof include triethylene glycol, polyethylene glycol, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyethylene oxide, sorbitol, mannitol, zulcitol, erythritol, glycerin, lactic acid, fatty acid, starch, and phthalate ester. These may be used as a mixture if necessary.

これらの中でも、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール、エチレン-ビニルアルコール共重合体、グリセリン、澱粉が延伸性とガスバリア性の観点から好ましい。このような可塑剤が含まれる場合には、耐虐待性をさらに向上させることができる。添加剤として、ポリビニルアルコール等の水酸基を2つ以上有する化合物を含む場合、該化合物の水酸基と、ポリカルボン酸系重合体(A1)成分のカルボキシ基の一部とがエステル結合を形成していてもよい。第一のコーティング層(A)に添加剤が含まれている場合には、ポリカルボン酸系重合体(A1)成分と添加剤との質量比(ポリカルボン酸系重合体(A1)成分:添加剤)は通常70:30~99.9:0.1の範囲であり、80:20~98:2であることが好ましい。 Among these, polyethylene glycol, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, glycerin, and starch are preferable from the viewpoint of stretchability and gas barrier property. When such a plasticizer is contained, the abuse resistance can be further improved. When the additive contains a compound having two or more hydroxyl groups such as polyvinyl alcohol, the hydroxyl group of the compound and a part of the carboxy group of the polycarboxylic acid polymer (A1) component form an ester bond. May be good. When the first coating layer (A) contains an additive, the mass ratio of the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component to the additive (polycarboxylic acid-based polymer (A1) component: addition The agent) is usually in the range of 70:30 to 99.9: 0.1, preferably 80:20 to 98: 2.

第一のコーティング層(A)の厚さは、ガスバリア性の観点から、好ましくは0.01~5μmの範囲であり、より好ましくは0.02~3μmの範囲であり、さらに好ましくは0.04~1.2μmの範囲である。なお、コーティング層が第一のコーティング層(A)を複数含む場合でも、コーティング層中の第一のコーティング層(A)の合計の好ましい厚さは上記と同じである。 The thickness of the first coating layer (A) is preferably in the range of 0.01 to 5 μm, more preferably in the range of 0.02 to 3 μm, and further preferably in the range of 0.04 from the viewpoint of gas barrier properties. The range is ~ 1.2 μm. Even when the coating layer contains a plurality of the first coating layers (A), the total preferable thickness of the first coating layers (A) in the coating layer is the same as described above.

(第一のコーティング層(A)の形成方法)
第一のコーティング層(A)は通常、公知のコーティング法により形成することができる。具体的には、ポリカルボン酸系重合体(A1)成分と前記ケイ素含有化合物(A2)成分とを含有する液第一のコーティング液(a)からなる塗布膜を乾燥することにより形成できる。第一のコーティング液(a)に含まれるポリカルボン酸系重合体(A1)成分、前記ケイ素含有化合物(A2)成分としてはそれぞれ、前記と同様のものを用いることができる。
(Method for forming the first coating layer (A))
The first coating layer (A) can usually be formed by a known coating method. Specifically, it can be formed by drying a coating film composed of a liquid-first coating liquid (a) containing a polycarboxylic acid-based polymer (A1) component and the silicon-containing compound (A2) component. As the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component and the silicon-containing compound (A2) component contained in the first coating liquid (a), the same components as described above can be used.

第一のコーティング液(a)は、ポリカルボン酸系重合体(A1)成分と、前記ケイ素含有化合物(A2)成分とを、99.5:0.5~80.0:20.0の質量比(ただし、前記ケイ素含有化合物(A2)成分の質量は、前記シランカップリング剤換算の質量)である。その好ましい理由は前記と同じである。 The first coating liquid (a) contains the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component and the silicon-containing compound (A2) component in a mass ratio of 99.5: 0.5 to 80.0: 20.0. The ratio (however, the mass of the silicon-containing compound (A2) component is the mass in terms of the silane coupling agent). The preferred reason is the same as described above.

シランカップリング剤として、Rがグリシジルオキシ基を含む有機基であるもの(γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランや、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン)を用いる場合には、ポリカルボン酸系重合体(A1)成分とケイ素含有化合物(A2)成分との質量比は、99.5:0.5~90.0:10.0であることが好ましく、99.0:1.0~95.0:5.0であることが特に好ましい。 When R 1 is an organic group containing a glycidyloxy group (γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane or γ-glycidoxypropyltriethoxysilane) as the silane coupling agent, a polycarboxylic acid is used. The mass ratio of the system polymer (A1) component to the silicon-containing compound (A2) component is preferably 99.5: 0.5 to 90.0: 10.0, and 99.0: 1.0 to 10. 95.0: 5.0 is particularly preferable.

シランカップリング剤として、Rがアミノ基を含む有機基であるもの(γ-アミノプロピルトリメトキシシランや、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン)を用いる場合には、ポリカルボン酸系重合体(A1)成分とケイ素含有化合物(A2)成分との質量比は、99.0:1.0~80.0:20.0であることが好ましく、95.0:5.0~80.0:20.0であることが特に好ましい。 When a silane coupling agent in which R 1 is an organic group containing an amino group (γ-aminopropyltrimethoxysilane or γ-aminopropyltriethoxysilane) is used, a polycarboxylic acid-based polymer (A1) is used. The mass ratio of the component) to the silicon-containing compound (A2) component is preferably 99.0: 1.0 to 80.0: 20.0, preferably 95.0: 5.0 to 80.0: 20. It is particularly preferable to be 0.0.

なお、通常は第一のコーティング液(a)に含まれるポリカルボン酸系重合体(A1)成分とケイ素含有化合物(A2)成分との質量比と、該第一のコーティング液(a)を用いて形成される第一のガスバリア層(A)におけるポリカルボン酸系重合体(A1)成分
とケイ素含有化合物(A2)成分との質量比とは同様であるが、例えばポリカルボン酸系重合体(A1)成分と添加剤とが反応した場合や、ポリカルボン酸系重合体(A1)成分とケイ素含有化合物(A2)成分とが反応した場合等には、異なる場合がある。
Normally, the mass ratio of the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component and the silicon-containing compound (A2) component contained in the first coating liquid (a) and the first coating liquid (a) are used. The mass ratio of the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component to the silicon-containing compound (A2) component in the first gas barrier layer (A) formed is the same, but for example, the polycarboxylic acid-based polymer ( It may be different when the A1) component reacts with the additive, or when the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component reacts with the silicon-containing compound (A2) component.

第一のコーティング液(a)は、ポリカルボン酸系重合体(A1)成分とケイ素含有化合物(A2)成分と必要に応じて含まれる添加剤とを、溶媒と混合することにより調整できる。 The first coating liquid (a) can be adjusted by mixing a polycarboxylic acid-based polymer (A1) component, a silicon-containing compound (A2) component, and an additive contained as necessary with a solvent.

第一のコーティング液(a)に用いる溶媒としては、ポリカルボン酸系重合体(A1)成分およびケイ素含有化合物(A2)成分を溶解し得るものであれば特に限定は無いが、通常シランカップリング剤の加水分解反応を行うための水が必要であることから、水、水との有機溶媒との混合溶媒等が好ましい。ポリカルボン酸系重合体(A1)成分の溶解性、コストの点では、水が最も好ましい。 The solvent used for the first coating liquid (a) is not particularly limited as long as it can dissolve the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component and the silicon-containing compound (A2) component, but is usually silane coupling. Since water is required for the hydrolysis reaction of the agent, water, a mixed solvent of water and an organic solvent, and the like are preferable. Water is most preferable in terms of solubility and cost of the polycarboxylic acid polymer (A1) component.

アルコール等の有機溶媒は、シランカップリング剤の溶解性、第一のコーティング液(a)の塗工性を向上する点で好ましい。有機溶媒としては、炭素数1~5のアルコールおよび炭素数3~5のケトンからなる群から選択される少なくとも1種の有機溶媒等を用いることが好ましい。このような有機溶媒としては、具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、sec-ブタノール、tert-ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。水と有機溶媒との混合溶媒としては、上述した水と有機溶媒との混合溶媒が好ましく、水と炭素数1~5のアルコールとの混合溶媒がより好ましい。混合溶媒としては、水が20~95質量%の量で存在し、有機溶媒が80~5質量%の量で存在する(ただし、水と有機溶媒との合計を100質量%とする)ものが好ましい。 An organic solvent such as alcohol is preferable in terms of improving the solubility of the silane coupling agent and the coatability of the first coating liquid (a). As the organic solvent, it is preferable to use at least one organic solvent selected from the group consisting of alcohols having 1 to 5 carbon atoms and ketones having 3 to 5 carbon atoms. Specific examples of such an organic solvent include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, tert-butanol, acetone, methyl ethyl ketone and the like. As the mixed solvent of water and the organic solvent, the above-mentioned mixed solvent of water and the organic solvent is preferable, and the mixed solvent of water and alcohol having 1 to 5 carbon atoms is more preferable. As the mixed solvent, water is present in an amount of 20 to 95% by mass, and an organic solvent is present in an amount of 80 to 5% by mass (however, the total of water and the organic solvent is 100% by mass). preferable.

第一のコーティング液(a)においては、ガスバリア性および塗工性の観点から、第一のコーティング液(a)中のポリカルボン酸系重合体(A1)成分と、ケイ素含有化合物(A2)成分と、必要に応じて含まれる添加剤との合計含有量(固形分)が、第一のコーティング液(a)の総重量に対して、0.5~50質量%が好ましく、0.8~30質量%がより好ましく、1.0~20質量%が特に好ましい。 In the first coating liquid (a), from the viewpoint of gas barrier property and coatability, the polycarboxylic acid-based polymer (A1) component and the silicon-containing compound (A2) component in the first coating liquid (a). The total content (solid content) of the above and the additives contained as necessary is preferably 0.5 to 50% by mass, preferably 0.8 to 50% by mass, based on the total weight of the first coating liquid (a). 30% by mass is more preferable, and 1.0 to 20% by mass is particularly preferable.

この第一のコーティング液(a)を、第一のガスバリア層(A)として積層する面、すなわち密着層2上に塗工して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥することにより、第一のコーティング層(A)を形成できる。 The first coating liquid (a) is applied onto the surface to be laminated as the first gas barrier layer (A), that is, on the adhesion layer 2, to form a coating film, and the coating film is dried to obtain the first coating film. One coating layer (A) can be formed.

第一のコーティング液(a)の塗工方法としては、特に限定されず公知のコート法の中から適宜選択でき、例えばキャスト法、ディッピング法、ロールコート法、グラビアコート法、スクリーン印刷法、リバースコート法、スプレーコート法、キットコート法、ダイコート法、メタリングバーコート法、チャンバードクター併用コート法、カーテンコート法等が挙げられる。第一のコーティング液(a)の塗工量は、形成する第一のコーティング層(A)の厚さに応じて設定される。 The coating method of the first coating liquid (a) is not particularly limited and can be appropriately selected from known coating methods. For example, a casting method, a dipping method, a roll coating method, a gravure coating method, a screen printing method, and a reverse method can be selected. Examples include a coating method, a spray coating method, a kit coating method, a die coating method, a metering bar coating method, a chamber doctor combined coating method, and a curtain coating method. The amount of the first coating liquid (a) applied is set according to the thickness of the first coating layer (A) to be formed.

第一のコーティング液(a)を塗工した後、乾燥により、塗液に含まれる第一のコーティング液(a)の溶媒を除去することによって、第一のコーティング層(A)が形成される。 After applying the first coating liquid (a), the first coating layer (A) is formed by removing the solvent of the first coating liquid (a) contained in the coating liquid by drying. ..

乾燥方法としては、特に限定は無く、例えば熱風乾燥法、熱ロール接触法、赤外線加熱法、マイクロ波加熱法等の方法が挙げられる。これらの方法はいずれかを単独で用いても2種以上を組み合わせてもよい。このようにして形成される第一のガスバリア層(A)には、ポリカルボン酸系重合体(A1)成分とケイ素含有化合物(A2)成分とが含まれ、
さらに、第一のコーティング液(a)に添加剤等の他の成分が含まれる場合には、当該他の成分が含まれている。第一のコーティング液(a)の添加剤として、ポリビニルアルコール等の水酸基を2つ以上有する化合物を用いた場合、上記乾燥、熟成処理、熱処理等の際に、該化合物の水酸基とポリカルボン酸系重合体(A1)成分のカルボキシ基の一部とが反応してエステル結合を形成してもよい。
The drying method is not particularly limited, and examples thereof include a hot air drying method, a hot roll contact method, an infrared heating method, and a microwave heating method. Any of these methods may be used alone or in combination of two or more. The first gas barrier layer (A) thus formed contains a polycarboxylic acid-based polymer (A1) component and a silicon-containing compound (A2) component.
Further, when the first coating liquid (a) contains other components such as additives, the other components are contained. When a compound having two or more hydroxyl groups such as polyvinyl alcohol is used as an additive for the first coating liquid (a), the hydroxyl groups of the compound and the polycarboxylic acid system are used during the drying, aging treatment, heat treatment and the like. A part of the carboxy group of the polymer (A1) component may react with each other to form an ester bond.

(第二のコーティング層(B))
第二のコーティング層(B)は、多価金属化合物を含有する。多価金属化合物とは、金属イオンの価数が2以上の多価金属の化合物である。多価金属としては、例えばベリリウム、マグネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属;チタン、ジルコニウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛などの遷移金属;アルミニウム、ケイ素が挙げられる。多価金属としては、耐熱性、耐水性、透明性の観点から、カルシウムまたは亜鉛が特に好ましい。多価金属化合物としては、カルシウム化合物または亜鉛化合物が上述の理由より好ましい。
(Second coating layer (B))
The second coating layer (B) contains a polyvalent metal compound. The polyvalent metal compound is a compound of a polyvalent metal having a metal ion valence of 2 or more. Examples of polyvalent metals include alkaline earth metals such as beryllium, magnesium and calcium; transition metals such as titanium, zirconium, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper and zinc; aluminum and silicon. As the multivalent metal, calcium or zinc is particularly preferable from the viewpoint of heat resistance, water resistance and transparency. As the polyvalent metal compound, a calcium compound or a zinc compound is preferable for the above-mentioned reasons.

多価金属化合物としては、例えば多価金属の単体、酸化物、水酸化物、炭酸塩、有機酸塩(例えば、酢酸塩)もしくは無機酸塩、多価金属酸化物のアンモニウム錯体もしくは2~4級アミン錯体、またはそれらの炭酸塩もしくは有機酸塩が挙げられる。これらの多価金属化合物の中でも、ガスバリア性、高温水蒸気や熱水に対する耐性、製造性の観点から、アルカリ土類金属、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、アルミニウムまたはケイ素の酸化物、水酸化物、塩化物、炭酸塩または酢酸塩、銅または亜鉛のアンモニウム錯体またはそれらの炭酸塩を用いることが好ましい。これらの中でも、工業的生産性の観点から、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、酢酸亜鉛、酢酸カルシウムが好ましく、酸化亜鉛または炭酸カルシウムが特に好ましい。 Examples of the polyvalent metal compound include a simple substance of the polyvalent metal, an oxide, a hydroxide, a carbonate, an organic acid salt (for example, an acetate) or an inorganic acid salt, an ammonium complex of the polyvalent metal oxide, or 2 to 4 Examples thereof include primary amine complexes, or carbonates or organic acid salts thereof. Among these polyvalent metal compounds, alkaline earth metals, cobalt, nickel, copper, zinc, aluminum or silicon oxides, hydroxides, from the viewpoint of gas barrier properties, resistance to high temperature steam and hot water, and manufacturability, It is preferred to use chlorides, carbonates or acetates, ammonium complexes of copper or zinc or carbonates thereof. Among these, zinc oxide, aluminum oxide, calcium hydroxide, calcium carbonate, zinc acetate and calcium acetate are preferable, and zinc oxide or calcium carbonate is particularly preferable, from the viewpoint of industrial productivity.

第二のコーティング層(B)を、多価金属化合物を含有する第二のコーティング液(b)からなる塗膜を乾燥することにより形成する場合、多価金属化合物の形態は、粒子状であっても、非粒子状であっても、溶解していてもよいが、分散性、ガスバリア性、生産性の観点からは、粒子状であることが好ましい。 When the second coating layer (B) is formed by drying a coating film composed of the second coating liquid (b) containing the polyvalent metal compound, the form of the polyvalent metal compound is particulate. However, it may be in the form of non-particulates or may be dissolved, but it is preferably in the form of particles from the viewpoint of dispersibility, gas barrier property and productivity.

また、このような粒子の平均粒子径は特に限定されないが、ガスバリア性、コーティング適性の観点から、平均粒子径が5μm以下であることが好ましく、1μm以下であることがより好ましく、0.1μm以下であることが特に好ましい。 The average particle size of such particles is not particularly limited, but from the viewpoint of gas barrier properties and coating suitability, the average particle size is preferably 5 μm or less, more preferably 1 μm or less, and 0.1 μm or less. Is particularly preferable.

第二のコーティング層(B)は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、多価金属化合物のほかに、各種添加物を含有してもよい。該添加物としては、例えば、第二のコーティング層(B)を、多価金属化合物を含有する第二のコーティング液(b)からなる塗膜を乾燥することにより形成する場合、第二のコーティング液(b)に用いる溶媒に可溶または分散可能な樹脂、該溶媒に可溶または分散可能な分散剤、界面活性剤、柔軟材、安定剤、膜形成剤、増粘剤等を含有してもよい。
上記の中でも、第二のコーティング液(b)に用いる溶媒に可溶または分散可能な樹脂を含有することが好ましい。これにより、第二のコーティング液(b)の塗工性、製膜性が向上する。このような樹脂としては、例えばアルキッド樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、イソシアネート樹脂等が挙げられる。
The second coating layer (B) may contain various additives in addition to the polyvalent metal compound, if necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired. As the additive, for example, when the second coating layer (B) is formed by drying a coating film composed of the second coating liquid (b) containing a polyvalent metal compound, the second coating is used. It contains a resin that is soluble or dispersible in the solvent used in the liquid (b), a dispersant that is soluble or dispersible in the solvent, a surfactant, a softener, a stabilizer, a film-forming agent, a thickener, and the like. May be good.
Among the above, it is preferable to contain a resin that is soluble or dispersible in the solvent used for the second coating liquid (b). As a result, the coatability and film forming property of the second coating liquid (b) are improved. Examples of such resins include alkyd resins, melamine resins, acrylic resins, urethane resins, polyester resins, phenol resins, amino resins, fluororesins, epoxy resins, isocyanate resins and the like.

また、第二のコーティング液(b)に用いる溶媒に可溶または分散可能な分散剤を含有することが好ましい。これにより、多価金属化合物の分散性が向上する。該分散剤として、アニオン系界面活性剤や、ノニオン系界面活性剤を用いることができる。該界面活性剤としては、(ポリ)カルボン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルフォコハク酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩、芳香族リン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、アルキルアリル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ソルビタンアルキルエステル、グリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、蔗糖脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、ポリオキシ脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン等の各種界面活性剤が挙げられる。これらの界面活性剤は単独で用いても、二種以上を混合して用いてもよい。 Further, it is preferable to contain a dispersant that is soluble or dispersible in the solvent used for the second coating liquid (b). This improves the dispersibility of the polyvalent metal compound. As the dispersant, an anionic surfactant or a nonionic surfactant can be used. Examples of the surfactant include (poly) carboxylate, alkyl sulfate ester salt, alkylbenzene sulfonate, alkylnaphthalene sulfonate, alkylsulfosuccinate, alkyldiphenylether disulfonate, alkylphosphate, and aromatic. Phosphoric acid ester, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenol ether, polyoxyethylene alkyl ester, alkylallyl sulfate ester salt, polyoxyethylene alkyl phosphate ester, sorbitan alkyl ester, glycerin fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, citrus fatty acid Various surfactants such as esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan alkyl esters, polyoxyethylene alkyl allyl ethers, polyoxyethylene derivatives, polyoxyethylene sorbitol fatty acid esters, polyoxy fatty acid esters, polyoxyethylene alkylamines, etc. Be done. These surfactants may be used alone or in combination of two or more.

第二のコーティング層(B)に添加剤が含まれている場合には、多価金属化合物と添加剤との質量比(多価金属化合物:添加剤)は、30:70~99:1の範囲内であることが好ましく、50:50~98:2の範囲内であることが好ましい。 When the additive is contained in the second coating layer (B), the mass ratio of the polyvalent metal compound to the additive (polyvalent metal compound: additive) is 30:70 to 99: 1. It is preferably within the range, preferably within the range of 50:50 to 98: 2.

第二のコーティング層(B)の厚さは、ガスバリア性の観点から、好ましくは0.01~5μmの範囲であり、より好ましくは0.03~3μmの範囲であり、さらに好ましくは0.1~1.2μmの範囲である。なお、コーティング層が第二のコーティング層(B)を複数含む場合でも、コーティング層中の第二のコーティング層(B)の合計の好ましい厚さは上記と同じである。 The thickness of the second coating layer (B) is preferably in the range of 0.01 to 5 μm, more preferably in the range of 0.03 to 3 μm, and further preferably in the range of 0.1 from the viewpoint of gas barrier properties. The range is ~ 1.2 μm. Even when the coating layer contains a plurality of the second coating layers (B), the total preferable thickness of the second coating layers (B) in the coating layer is the same as described above.

(第二のコーティング層(B)の形成方法)
第二のコーティング層(B)の形成方法としては、例えば、コーティング法、ディッピング法等が挙げられる。これらの中でも、生産性の観点からコーティング法が好ましい。以下、コーティング法により第二のコーティング層(B)を形成する場合について説明する。
(Method for forming the second coating layer (B))
Examples of the method for forming the second coating layer (B) include a coating method and a dipping method. Among these, the coating method is preferable from the viewpoint of productivity. Hereinafter, a case where the second coating layer (B) is formed by the coating method will be described.

コーティング法による第二のコーティング層(B)の形成は、具体的には多価金属化合物を含有する第二のコーティング液(b)からなる塗膜を乾燥することにより形成できる。 The formation of the second coating layer (B) by the coating method can be specifically formed by drying a coating film composed of the second coating liquid (b) containing a polyvalent metal compound.

第二のコーティング液(b)に含まれる多価金属化合物としては、前記と同様なものを用いることができ、カルシウム化合物または亜鉛化合物が好ましい。 As the polyvalent metal compound contained in the second coating liquid (b), the same compounds as described above can be used, and a calcium compound or a zinc compound is preferable.

第二のコーティング液(b)は必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、多価金属化合物のほかに各種添加剤を含んでいてもよい。該添加剤としては、例えば、第二のコーティング液(b)に用いる溶媒に可溶または分散可能な樹脂、該溶媒に可溶または分散可能な分散剤、その他の界面活性剤、柔軟剤、安定剤、膜形成剤、増粘剤などが挙げられる。 The second coating liquid (b) may contain various additives in addition to the polyvalent metal compound, if necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of the additive include a resin that is soluble or dispersible in the solvent used in the second coating liquid (b), a dispersant that is soluble or dispersible in the solvent, other surfactants, softeners, and stables. Agents, film-forming agents, thickeners and the like can be mentioned.

上記の中でも、第二のコーティング液(b)には、第二のコーティング液(b)の塗工性、成膜性を向上させる目的で、第二のコーティング液(b)に用いる溶媒に可溶または分散可能な樹脂を混合して用いることが好ましい。このような樹脂としては、前記第二のコーティング層(B)が含有してもよい各種添加剤として挙げたものと同様のものが挙げられる。 Among the above, the second coating liquid (b) can be used as a solvent for the second coating liquid (b) for the purpose of improving the coatability and film forming property of the second coating liquid (b). It is preferable to use a mixture of meltable or dispersible resins. Examples of such a resin include those similar to those mentioned as various additives that may be contained in the second coating layer (B).

また、添加剤として、多価金属化合物の分散性を向上させる目的で、第二のコーティング液(b)に用いる溶媒に可溶または分散可能な分散剤を混合して用いることが好ましい。該分散剤としては、第二のコーティング層(B)が含有してもよい各種添加剤として前記で挙げたものと同様のものが挙げられる。 Further, as an additive, it is preferable to mix a soluble or dispersible dispersant with the solvent used in the second coating liquid (b) for the purpose of improving the dispersibility of the polyvalent metal compound. Examples of the dispersant include those similar to those mentioned above as various additives that may be contained in the second coating layer (B).

第二のコーティング液(b)に添加剤が含まれている場合には、多価金属化合物と添加剤との質量比(多価金属化合物:添加剤)は、30:70~99:1の範囲内であることが好ましく、50:50~98:2の範囲内であることがより好ましい。 When the second coating liquid (b) contains an additive, the mass ratio of the polyvalent metal compound to the additive (polyvalent metal compound: additive) is 30:70 to 99: 1. It is preferably within the range, and more preferably within the range of 50:50 to 98: 2.

第二のコーティング液(b)に用いる溶媒としては、例えば、水、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、n-プロピルアルコール、n-ブチルアルコール、n-ペンチルアルコール、ジメチルスルフォキシド、ジメチルフォルムアミド、ジメチルアセトアミド、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが挙げられる。また、これらの溶媒は1種単独で用いても、2種以上を混合しても良い。 Examples of the solvent used for the second coating liquid (b) include water, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, n-butyl alcohol, n-pentyl alcohol, dimethylsulfoxide, and dimethylformamide. , Dimethylacetamide, toluene, hexane, heptane, cyclohexane, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethyl acetate, butyl acetate and the like. In addition, these solvents may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、塗工性の観点から、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、トルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン、水が好ましい。また、生産性の観点から、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、水が好ましい。なお、第一のコーティング液(a)から形成される第一のガスバリア層(A)は耐水性が優れているために、第二のコーティング液(b)に用いる溶媒として水を用いることができる。 Among these, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, toluene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone and water are preferable from the viewpoint of coatability. Further, from the viewpoint of productivity, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol and water are preferable. Since the first gas barrier layer (A) formed from the first coating liquid (a) has excellent water resistance, water can be used as the solvent used for the second coating liquid (b). ..

この第二のコーティング液(b)を、第二のコーティング層(B)を積層する面、例えば第一のコーティング層(A)上などに塗工して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥することにより第二のコーティング層(B)を形成できる。 The second coating liquid (b) is applied to a surface on which the second coating layer (B) is laminated, for example, on the first coating layer (A) to form a coating film, and the coating film is formed. The second coating layer (B) can be formed by drying.

第二のコーティング液(b)の塗工方法としては、特に限定されず公知のコート法の中から適宜選択でき、例えばキャスト法、ディッピング法、ロールコート法、グラビアコート法、スクリーン印刷法、リバースコート法、スプレーコート法、キットコート法、ダイコート法、メタリングバーコート法、チャンバードクター併用コート法、カーテンコート法等が挙げられる。 The coating method of the second coating liquid (b) is not particularly limited and can be appropriately selected from known coating methods. For example, a casting method, a dipping method, a roll coating method, a gravure coating method, a screen printing method, and a reverse method can be selected. Examples include a coating method, a spray coating method, a kit coating method, a die coating method, a metering bar coating method, a chamber doctor combined coating method, and a curtain coating method.

第二のコーティング液(b)の塗工量は、形成する第二のガスバリア層(B)の厚さに応じて設定される。第二のコーティング液(b)を塗工した後、乾燥により塗膜に含まれる第二のコーティング液(b)の溶媒を除去することによって、第二のコーティング層(B)が形成される。 The amount of the second coating liquid (b) applied is set according to the thickness of the second gas barrier layer (B) to be formed. After applying the second coating liquid (b), the solvent of the second coating liquid (b) contained in the coating film is removed by drying to form the second coating layer (B).

乾燥方法としては、特に限定は無く、例えば熱風乾燥法、熱ロール接触法、赤外線加熱法、マイクロ波加熱法等の方法が挙げられる。これらの方法はいずれかを単独で用いても、2種以上を組み合わせてもよい。乾燥温度として特に限定は無いが、溶媒として上述した水や、水と有機溶媒との混合溶媒を用いる場合には、通常50℃~160℃が好ましい。また、乾燥の際の圧力は通常、常圧または減圧下で行い、設備簡便性の観点から常圧で行うことが好ましい。このようにして形成される第二のコーティング層(B)には、多価金属化合物が含まれ、さらに、第二のコーティング液(b)に添加剤等の他の成分が含まれる場合には、該当他の成分が含まれる。 The drying method is not particularly limited, and examples thereof include a hot air drying method, a hot roll contact method, an infrared heating method, and a microwave heating method. Any of these methods may be used alone or in combination of two or more. The drying temperature is not particularly limited, but when the above-mentioned water or a mixed solvent of water and an organic solvent is used as the solvent, it is usually preferably 50 ° C. to 160 ° C. Further, the pressure at the time of drying is usually performed under normal pressure or reduced pressure, and it is preferable to perform at normal pressure from the viewpoint of equipment convenience. When the second coating layer (B) thus formed contains a polyvalent metal compound, and further, when the second coating liquid (b) contains other components such as additives, , Applicable other ingredients are included.

また、前記第二のコーティング層(B)5の上にシーラント層(図示せず)を備えることで、より実用性の高い包装材料とすることができるガスバリア積層体を提供することができる。シーラント層は、袋状包装体などを形成する際の接着部に利用されるものであり、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-メタクリル酸共重合体、エチレン-メタクリル酸エステル共重合体、エチレン-アクリル酸共重合体、エチレン-アクリル酸エステル共重合体、及びそれらの金属架橋物等の樹脂が用いられる。 Further, by providing a sealant layer (not shown) on the second coating layer (B) 5, it is possible to provide a gas barrier laminate that can be used as a more practical packaging material. The sealant layer is used for an adhesive portion when forming a bag-shaped package or the like, and is, for example, polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methacrylate copolymer, or ethylene-methacrylate. Resins such as ester copolymers, ethylene-acrylic acid copolymers, ethylene-acrylic acid ester copolymers, and metal crosslinked products thereof are used.

シーラント層の厚さは目的に応じて決められるが、一般的には15~200μmの範囲である。また、包装体の形状により基材側にシーラント層を設ける構成、両側に設ける構成である場合もある。 The thickness of the sealant layer is determined according to the purpose, but is generally in the range of 15 to 200 μm. Further, depending on the shape of the package, the sealant layer may be provided on the base material side or may be provided on both sides.

フィルム基材1のPBTフィルムは温度に依存して、高温ほどフィルムの伸び率が高くなる。一方、蒸着層3はフィルムが伸びると割れてバリアが発現しない。蒸着層3の上に積層するコーティング層(A)4およびコーティング層(B)5のコーティング液を塗工、乾燥する際の、乾燥オーブン内の温度、張力によっては、蒸着層3が割れてバリア性、特に水蒸気バリア性が発現しない。 The PBT film of the film substrate 1 depends on the temperature, and the higher the temperature, the higher the elongation rate of the film. On the other hand, the thin-film deposition layer 3 cracks when the film is stretched, and the barrier does not appear. Depending on the temperature and tension in the drying oven when the coating liquids of the coating layer (A) 4 and the coating layer (B) 5 laminated on the vapor deposition layer 3 are applied and dried, the vapor deposition layer 3 cracks and becomes a barrier. No property, especially water vapor barrier property, is exhibited.

そこで、本発明者らが鋭意研究の結果、ロールコーティングにおいて、蒸着層3を割らずに、コーティング層(A)4およびコーティング層(B)5をコーティングする際の張力および乾燥条件は、前記蒸着層3を積層したフィルム形状における伸び率のパラメータで規定できることがわかった。 Therefore, as a result of diligent research by the present inventors, in roll coating, the tension and drying conditions when coating the coating layer (A) 4 and the coating layer (B) 5 without breaking the vapor deposition layer 3 are the above-mentioned vapor deposition. It was found that it can be specified by the parameter of the elongation rate in the film shape in which the layers 3 are laminated.

すなわち、任意の温度で10~70N/mの張力をかけたときのフィルム走行方向(MD方向)の伸び率Y(下記数式1)が、30%以下であればよい。
伸び率Y=((任意の温度で張力をかけたときのフィルムの長さ)-(室温で張力をかけていないときの長さ))/(任意の温度で張力をかけたときのフィルムの長さ)
・・・(数式1)
That is, the elongation rate Y (formula 1 below) in the film traveling direction (MD direction) when a tension of 10 to 70 N / m is applied at an arbitrary temperature may be 30% or less.
Elongation rate Y = ((length of film when tensioned at arbitrary temperature)-(length when tension is not applied at room temperature)) / (film length when tension is applied at arbitrary temperature) length)
... (Formula 1)

上記の伸び率Yは、好ましくは15%以下であることが望ましい。コーティング層(A)4およびコーティング層(B)5のコーティングの際の張力条件において、加工のマージンを広く設定することが可能である。 伸び率は、低ければ低いほど蒸着層を割らずにコーティングによってコーティング層を積層することが出来るが、伸び率が低くなると突刺強度、及び物理衝撃に対する強度が落ちるため、突刺強度、及び物理衝撃を確認した上で設定する必要がある。 The elongation rate Y is preferably 15% or less. It is possible to set a wide processing margin under the tension conditions at the time of coating the coating layer (A) 4 and the coating layer (B) 5. The lower the elongation rate, the more the coating layer can be laminated by coating without breaking the thin-film deposition layer. It is necessary to confirm and set.

伸び率の測定方法としては、熱機械分析(TMA)が用いられる。TMAは試料に非振動的荷重(一定荷重)をかけながらの温度に対する変形を計測する手法である。荷重および温度は次工程で実施されるロールコーティング加工時の張力および乾燥温度を想定して測定条件を選定できる。 Thermomechanical analysis (TMA) is used as a method for measuring the elongation rate. TMA is a method of measuring deformation with respect to temperature while applying a non-oscillating load (constant load) to a sample. The load and temperature can be selected by assuming the tension and drying temperature during the roll coating process performed in the next process.

例えば、コーティング層の形成を、60N/mの張力でフィルムを搬送させ、コーティング液の乾燥を80℃で実施する場合を想定する。
乾燥温度は、乾燥機の設定温度ではなく、フィルムに実際にかかる温度を指す。例えば、ヒートラベル(示温素子を紙ラベルに特殊加工し、表面には指示温度が印刷され、裏面は、耐熱性粘着剤が塗布された、温度測定シール)等をフィルムに貼り付けたまま、前述の(A1)成分液、(A2)成分液を塗布、乾燥させた後に示される温度である。
For example, it is assumed that the coating layer is formed by transporting the film with a tension of 60 N / m and drying the coating liquid at 80 ° C.
The drying temperature refers to the temperature actually applied to the film, not the set temperature of the dryer. For example, the above-mentioned heat label (a temperature measuring sticker in which the temperature indicating element is specially processed into a paper label, the indicated temperature is printed on the front surface, and the back surface is coated with a heat-resistant adhesive) is attached to the film. It is a temperature shown after applying (A1) component liquid and (A2) component liquid and drying.

ロールコーティングを想定して、日立ハイテクサイエンス製(TA700)において、蒸着層3を積層したフィルムをフィルム幅4mmで荷重2Nの荷重をかけた状態で50℃~150℃まで温度を可変させたときのフィルムの伸び率を測定した場合、80℃でのフィルム伸び率が30%を超えるフィルムでは、上述のロールコーティング条件では、蒸着層3が割れてバリア性が発現しない。 Assuming roll coating, in Hitachi High-Tech Science (TA700), when the temperature of the film on which the vapor deposition layer 3 is laminated is changed from 50 ° C to 150 ° C with a film width of 4 mm and a load of 2N. When the elongation rate of the film is measured, in a film having a film elongation rate of more than 30% at 80 ° C., the vapor deposition layer 3 is cracked and the barrier property is not exhibited under the above-mentioned roll coating conditions.

一方、同じ蒸着層3を積層したフィルムでも、乾燥温度が低くなれば伸び率は低くなる。乾燥温度を50℃と設定して、フィルム伸び率が30%以下となれば、蒸着層は割れずにバリア性を発現する。 On the other hand, even in a film in which the same thin-film deposition layer 3 is laminated, the elongation rate decreases as the drying temperature decreases. When the drying temperature is set to 50 ° C. and the film elongation rate is 30% or less, the vapor-filmed layer does not crack and exhibits barrier properties.

また、同じ蒸着層3を積層したフィルムでも、張力が低くなれば伸び率は低くなる。フィルム幅4mmで荷重0.4Nの荷重をかけた状態で50℃~150℃まで温度を可変させたときのフィルムの伸び率を測定した場合、同じフィルムでも、乾燥温度80℃でのフィルム伸び率が30%以下となれば、蒸着層は割れずにバリア性を発現する。 Further, even in a film in which the same thin-film deposition layer 3 is laminated, the elongation rate decreases as the tension decreases. When the elongation rate of the film was measured when the temperature was changed from 50 ° C to 150 ° C with a film width of 4 mm and a load of 0.4 N, the film elongation rate at a drying temperature of 80 ° C was measured even for the same film. When the temperature is 30% or less, the vapor-filmed layer does not crack and exhibits barrier properties.

さらに発明者は、伸び率Yがフィルムにかかる温度と張力が、以下の数式2によって表される基準値G以下であれば、蒸着層はコーティングによって割れずにバリア性を発現することを見出した。
すなわち、前記金属酸化物からなる蒸着層を積層したフィルム形状において、10N/m~70N/mの張力をかけたときのフィルム走行方向(MD方向)の前記伸び率Yが、コーティング層形成時にフィルムにかかる温度X(℃)、張力Z(N/m)に従い、下記数式2で示される基準値G以下となることが好ましい。
基準値G(%)=0.8×(フィルムにかかる温度X(℃)-50)×(0.9×(張力Z(N/m)-5)/40) ・・・(数式2)
なお、基準値Gは、フィルム上に複数のコーティング層を形成する場合は、それぞれのコーティング層形成条件に対して求めることができ、伸び率Yはいずれのコーティング層形成条件に対しても基準値G以下であることが好ましい。
Further, the inventor has found that if the elongation rate Y is equal to or less than the reference value G expressed by the following mathematical formula 2 on the film, the vapor-deposited layer exhibits barrier properties without being cracked by the coating. ..
That is, in the film shape in which the vapor-filmed layer made of the metal oxide is laminated, the elongation rate Y in the film traveling direction (MD direction) when a tension of 10 N / m to 70 N / m is applied is the film when the coating layer is formed. It is preferable that the value is not less than the reference value G shown in the following formula 2 according to the temperature X (° C.) and the tension Z (N / m).
Reference value G (%) = 0.8 x (temperature applied to the film X (° C.) -50) x (0.9 x (tension Z (N / m) -5) / 40) ... (Formula 2)
When a plurality of coating layers are formed on the film, the reference value G can be obtained for each coating layer forming condition, and the elongation ratio Y is a reference value for any coating layer forming condition. It is preferably G or less.

蒸着層3を積層したフィルム基材1の伸び率を調整する方法として、フィルムの厚みを厚くすれば、伸び率は低くすることが可能である。また、基材であるPBTフィルムのフィルム製膜方法や延伸方法によってもフィルムの伸び率の調整が可能である。また密着層2の厚みや選定される樹脂成分によっても伸び率の調整が可能である。また密着層2をコーティングにより積層する際の張力や乾燥温度によって基材フィルムをアニール処理化することにより蒸着層を積層する前にフィルムの伸び率を調整することが可能である。 As a method of adjusting the elongation rate of the film base material 1 on which the thin-film deposition layer 3 is laminated, the elongation rate can be lowered by increasing the thickness of the film. Further, the elongation rate of the film can be adjusted by the film forming method or the stretching method of the PBT film as the base material. Further, the elongation rate can be adjusted by the thickness of the adhesion layer 2 and the selected resin component. Further, it is possible to adjust the elongation rate of the film before laminating the thin-film deposition layer by annealing the base film according to the tension and the drying temperature when laminating the adhesion layer 2 by coating.

シーラント層の形成方法としては、上述の樹脂からなるフィルム状となるものを一液硬化型もしくは二液硬化型ウレタン系接着剤で貼りあわせるドライラミネート法、無溶剤接着剤を用いて貼りあわせるノンソルベントドライラミネート法、上述した樹脂を加熱溶融させ、カーテン状に押し出し、貼りあわせるエキストルージョンラミネート法等、いずれも公知の積層方法により形成することができるが、後述する熱水加熱処理、特に120℃以上の高温熱水処理に対して好ましいのはドライラミネート法である。85℃以下の温度での処理であれば、ラミネート方式を問わず用いることは可能である。 As a method for forming the sealant layer, a dry laminating method in which a film made of the above-mentioned resin is bonded with a one-component curing type or two-component curing type urethane adhesive, and a non-solvent method for bonding using a solvent-free adhesive are used. Both can be formed by a known laminating method such as a dry laminating method, an extrusion laminating method in which the above-mentioned resin is heated and melted, extruded into a curtain shape, and bonded together. The dry laminating method is preferable for the high temperature hot water treatment. Any laminating method can be used as long as the treatment is performed at a temperature of 85 ° C. or lower.

加熱殺菌処理方法として、レトルト処理、ボイル処理などが挙げられる。レトルト処理は、一般に食品等を保存するために、カビ、酵母、細菌などの微生物を加圧殺菌する方法である。通常は、食品を包装したガスバリア積層体包装材を、105~140℃、0.15~0.30MPaで10~120分の条件で加圧殺菌処理をする。
レトルト装置は、加熱蒸気を利用する蒸気式と加圧加熱水を利用する熱水式があり、内容物となる食品等の殺菌条件に応じて適宜使い分ける。
Examples of the heat sterilization treatment method include retort treatment and boiling treatment. Retort treatment is a method of pressurizing and sterilizing microorganisms such as molds, yeasts, and bacteria in order to store foods and the like. Usually, the gas barrier laminate packaging material in which food is packaged is subjected to pressure sterilization treatment at 105 to 140 ° C. and 0.15 to 0.30 MPa under the conditions of 10 to 120 minutes.
There are two types of retort pouches, a steam type that uses heated steam and a hot water type that uses pressurized heated water, and they are used appropriately according to the sterilization conditions of the food or the like to be the contents.

ボイル処理は、食品等を保存するため湿熱殺菌する方法である。通常は、内容物にもよるが、食品等の包装したガスバリア積層体包装材を、60~100℃、大気圧下で、10~120分の条件で湿熱殺菌処理を行う。ボイル処理は、通常、熱水槽を用いて行うが、一定温度の熱水槽の中に浸漬し一定時間後に取り出すバッチ式と、熱水槽の中をトンネル式に通して殺菌する連続式がある。 Boil treatment is a method of moist heat sterilization for preserving foods and the like. Usually, although it depends on the contents, the gas barrier laminated body packaging material in which food or the like is packaged is subjected to moist heat sterilization treatment under the conditions of 60 to 100 ° C. and atmospheric pressure for 10 to 120 minutes. The boiling treatment is usually performed using a hot water tank, but there are a batch type in which the water is immersed in a hot water tank at a constant temperature and taken out after a certain period of time, and a continuous type in which the inside of the hot water tank is sterilized by passing through a tunnel type.

本発明のガスバリアフィルム10は、温度30℃、相対湿度70%RHにおける酸素透過度が好ましくは50cc/m・day・MPa以下であり、より好ましくは30cc
/m・day・MPa以下である。酸素透過度は低いほど好ましく、その下限としては特に限定は無いが通常は0.1cc/m・day・MPa以上である。
The gas barrier film 10 of the present invention has an oxygen permeability of preferably 50 cc / m 2 · day · MPa or less at a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 70% RH, more preferably 30 cc.
It is less than / m 2 · day · MPa. The lower the oxygen permeability, the more preferable, and the lower limit thereof is not particularly limited, but is usually 0.1 cc / m 2 , day, MPa or more.

本発明のガスバリアフィルム10は、加熱殺菌処理が行われる前に延伸や屈曲等の応力(虐待)が加えられても、優れたガスバリア性を有している。例えば、後述の実施例に記載の条件で耐虐待性を評価した後でも、温度30℃、相対湿度70%における酸素透過度が前記とほぼ同等の酸素透過度を有している。 The gas barrier film 10 of the present invention has excellent gas barrier properties even if stress (abuse) such as stretching or bending is applied before the heat sterilization treatment is performed. For example, even after the abuse resistance is evaluated under the conditions described in Examples described later, the oxygen permeability at a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 70% has almost the same oxygen permeability as described above.

以下に、本発明の具体的実施例について説明する。 Specific examples of the present invention will be described below.

密着層2の材料として、以下の手順で塗液1を調製した。 As the material of the adhesion layer 2, the coating liquid 1 was prepared by the following procedure.

[塗液1]:三井化学(株)製接着剤溶液(主剤:タケラックA-525(内 ウレタン樹脂の前駆体50質量%、酢酸エチル50質量%)/硬化剤:タケネートA-52(内 ウレタン樹脂の硬化剤55質量%、酢酸エチル45質量%)/溶媒:酢酸エチル)
これをA-525:A-52:酢酸エチル=9:1:165(固形分濃度3質量%)で配合した。
[Coating solution 1]: Adhesive solution manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. (main agent: Takelac A-525 (inner urethane resin precursor 50% by mass, ethyl acetate 50% by mass) / curing agent: Takenate A-52 (inner urethane) Resin curing agent 55% by mass, ethyl acetate 45% by mass) / solvent: ethyl acetate)
This was blended at A-525: A-52: ethyl acetate = 9: 1: 165 (solid content concentration 3% by mass).

第一のコーティング液(a)として、以下の手順で塗液2を調整した。
[塗液2]:数平均分子量200,000のPAA(ポリアクリル酸)水溶液(東亞合成製アロンA-10H、固形分濃度25質量%)/GPTMS(γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)/溶剤:水、イソプロピルアルコール(IPA)
これをアロンA-10H:GPTMS:水:IPA=10:0.17:66:7(固形分濃度15質量%)で配合した。
As the first coating liquid (a), the coating liquid 2 was prepared by the following procedure.
[Coating solution 2]: PAA (polyacrylic acid) aqueous solution having a number average molecular weight of 200,000 (Aron A-10H manufactured by Toagosei, solid content concentration 25% by mass) / GPTMS (γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane) / Solvent: water, isopropyl alcohol (IPA)
This was blended at Aron A-10H: GPTMS: water: IPA = 10: 0.17: 66: 7 (solid content concentration 15% by mass).

なお、GPTMS(γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)は信越化学工業製のものを使用した。 As GPTMS (γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane), one manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.

第二のコーティング液(b)として、下記の手順で塗液3を調整した。 As the second coating liquid (b), the coating liquid 3 was prepared by the following procedure.

[塗液3]:酸化亜鉛含有樹脂組成物:K035A(住友大阪セメント製 酸化亜鉛16.6質量%、ウレタン樹脂の前駆体1.74質量%、分散剤1.66質量%、トルエン72質量%、メチルエチルケトン8質量%)/硬化剤:C-320(内 ウレタン樹脂の硬化剤75質量%、酢酸エチル25質量%)/溶媒:トルエン、メチルエチルケトン(MEK)、IPA
これをK035A:C-320:トルエン:MEK:IPA=100:3:24:3:3(固形分濃度15質量%)で配合した。
[Coating solution 3]: Zinc oxide-containing resin composition: K035A (Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. 16.6% by mass of zinc oxide, 1.74% by mass of urethane resin precursor, 1.66% by mass of dispersant, 72% by mass of toluene , Methyl ethyl ketone 8% by mass) / Hardener: C-320 (including 75% by mass of urethane resin curing agent, 25% by mass of ethyl acetate) / Solvent: Toluene, Methyl ethyl ketone (MEK), IPA
This was blended at K035A: C-320: toluene: MEK: IPA = 100: 3: 24: 3: 3 (solid content concentration 15% by mass).

(実施例1)
フィルム基材である二軸延伸ポリブチレンテレフタレートフィルム(PBT、厚さ15μm)のコロナ処理側にグラビアコートを用いて、上記の塗液1をグラビアロールコート法にて、張力70N/m、乾燥温度60℃にて塗工し、ポリエステル樹脂を0.1g/m硬化させ、密着層2を形成した。
次に金属酸化物の蒸着層として、電子ビーム式真空蒸着法により、酸素を導入しながらアルミを蒸発させ、厚み10nmのAlOx蒸着膜を形成した。次いで前記塗液2を、張力60N/m、乾燥温度70℃の条件でコーティング加工を行って第一のコーティング層(A)を形成し、さらに前記塗液3を、張力60N/m、乾燥温度60℃の条件でコーティング加工を行って、第二のコーティング層(B)を形成した。
これにより、フィルム基材上に密着層(0.1g/m)/AlOx蒸着層(10nm
)/PAA(0.4g/m)/ZnO(ZnOとして、0.4g/m)からなる透明なガスバリアフィルムを得た。
(Example 1)
A gravure coat was used on the corona-treated side of a biaxially stretched polybutylene terephthalate film (PBT, thickness 15 μm), which is a film base material, and the above coating liquid 1 was subjected to a gravure roll coating method to a tension of 70 N / m and a drying temperature. The coating was applied at 60 ° C., and the polyester resin was cured by 0.1 g / m 2 to form the adhesion layer 2.
Next, as the metal oxide thin-film deposition layer, aluminum was evaporated while introducing oxygen by an electron beam type vacuum vapor deposition method to form an AlOx thin-film deposition film having a thickness of 10 nm. Next, the coating liquid 2 is coated under the conditions of a tension of 60 N / m and a drying temperature of 70 ° C. to form the first coating layer (A), and the coating liquid 3 is further subjected to a tension of 60 N / m and a drying temperature. The coating process was performed under the condition of 60 ° C. to form the second coating layer (B).
As a result, the adhesion layer (0.1 g / m 2 ) / AlOx vapor deposition layer (10 nm) is placed on the film substrate.
) / PAA (0.4 g / m 2 ) / ZnO (0.4 g / m 2 as ZnO) to obtain a transparent gas barrier film.

乾燥温度はいずれも、塗工時のフィルムにサーモラベル(アイビー技研株式会社製 5点表示ラベルCR)を貼って乾燥オーブンを通すことで、フィルムにかかる実際の温度を測定した。 As for the drying temperature, the actual temperature applied to the film was measured by attaching a thermo label (5-point display label CR manufactured by Ivy Giken Co., Ltd.) to the film at the time of coating and passing it through a drying oven.

<1>フィルム伸び率の評価:[TMAの測定方法]
熱機械分析装置(日立ハイテクサイエンス社製 TA700)を用いて、蒸着膜を形成したフィルムを、フィルムの流れ方向に沿って、幅4mmに断裁し、装置にセットし、張力60N/mになるように荷重をセットした。温度を50℃から150℃まで、10℃/minで昇温させて、60℃と70℃でのフィルムの伸び率Yを測定した。フィルム伸び率Yは、以下の式で表される。
伸び率Y=((任意の温度で張力をかけたときのフィルムの長さ)-(室温で張力をかけていないときの長さ))/(任意の温度で張力をかけたときのフィルムの長さ)
・・・(数式1)
<1> Evaluation of film elongation: [Measuring method of TMA]
Using a thermomechanical analyzer (TA700 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.), cut the film on which the vapor-film-deposited film was formed to a width of 4 mm along the flow direction of the film, set it in the device, and set the tension to 60 N / m. The load was set to. The temperature was raised from 50 ° C. to 150 ° C. at 10 ° C./min, and the elongation rate Y of the film at 60 ° C. and 70 ° C. was measured. The film elongation rate Y is expressed by the following formula.
Elongation rate Y = ((length of film when tensioned at arbitrary temperature)-(length when tension is not applied at room temperature)) / (film length when tension is applied at arbitrary temperature) length)
... (Formula 1)

<2>ガスバリア性の評価
得られたガスバリアフィルムの酸素透過度および水蒸気透過度の測定を実施した。また、実験例としてこのガスバリアフィルムを用いてパウチを作成しレトルト処理を行った。
<2> Evaluation of gas barrier properties
The oxygen permeability and water vapor transmission rate of the obtained gas barrier film were measured. In addition, as an experimental example, a pouch was prepared using this gas barrier film and retort-treated.

[酸素透過度の測定方法]
酸素透過度測定装置(Modern Control社製 OXTRAN 2/20)を用いて、温度30℃、相対湿度70%の条件で測定した。測定方法は、JIS K-7126、B法(等圧法)に準拠し、測定値は単位[cc/m・day・MPa]で表記した(N=3平均値)。
[Measurement method of oxygen permeability]
The measurement was performed using an oxygen permeability measuring device (OXTRAN 2/20 manufactured by Modern Control) under the conditions of a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 70%. The measuring method was based on JIS K-7126, B method (isopressure method), and the measured values were expressed in units [cc / m 2 , day, MPa] (N = 3 average value).

[水蒸気透過度の測定方法]
水蒸気透過度測定装置(Modern Control社製 PERMATRAN 3/33)を用いて、温度40℃、相対湿度90%の条件で測定した。測定方法は、JIS K-7126、B法(等圧法)に準拠し、測定値は単位[g/m・day]で表記した(N=3平均値)。
[Measurement method of water vapor transmission rate]
It was measured using a water vapor transmission rate measuring device (PERMATRAN 3/33 manufactured by Modern Control) under the conditions of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%. The measuring method was based on JIS K-7126, B method (isopressure method), and the measured values were expressed in units [g / m 2 · day] (N = 3 average value).

[実験例1]
実施例1のガスバリアフィルムのZnO層の上に、未延伸ポリプロピレンフィルム(CPP:東レフィルム加工製 トレファンNO ZK207、厚さ70μm)を2液型の接着剤(三井化学 A525/A52)を用いてドライラミネート法によってラミネートし、〔透明ガスバリアフィルム/接着剤層/CPP(70μm)〕の構成を有するラミネートフィルムを得た。
[Experimental Example 1]
An unstretched polypropylene film (CPP: Toray Film Processed Trefan NO ZK207, thickness 70 μm) was placed on the ZnO layer of the gas barrier film of Example 1 using a two-component adhesive (Mitsui Chemicals A525 / A52). Laminating by the dry laminating method, a laminated film having a composition of [transparent gas barrier film / adhesive layer / CPP (70 μm)] was obtained.

次に、得られたラミネートフィルムを15cm×10cmのパウチ状に3方インパルスシールし、内容物に200mlの水道水を入れ、残り一辺をインパルスシールして、4方パウチを作成した。このパウチをレトルト装置にて0.2MPa、121℃で30分レトルト(熱水加熱)処理を行った。 Next, the obtained laminated film was impulse-sealed in a 15 cm × 10 cm pouch shape, 200 ml of tap water was added to the contents, and the remaining one side was impulse-sealed to prepare a four-way pouch. This pouch was retorted (heated with hot water) at 0.2 MPa and 121 ° C. for 30 minutes using a retort device.

(実施例2)
フィルム基材に2軸延伸ポリブチレンテレフタレートフィルム(PBT、厚さ25μm)を用いた以外は、実施例1と同様にして透明ガスバリアフィルムを得た。続いて上記実験例1と同様に接着剤を用いてラミネートしてパウチを作成し、同様にレトルト処理をしたものを得た。
(Example 2)
A transparent gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a biaxially stretched polybutylene terephthalate film (PBT, thickness 25 μm) was used as the film substrate. Subsequently, a pouch was prepared by laminating with an adhesive in the same manner as in Experimental Example 1 above, and a pouch treated in the same manner was obtained.

(実施例3)
フィルム基材にインフレーション法で延伸製膜したポリブチレンテレフタレートフィルム(PBT、厚さ15μm)を用いた以外は実施例1と同様にして透明ガスバリアフィルムを得た。続いて実験例1と同様に接着剤を用いてラミネートしてパウチを作成し、同様にレトルト処理をしたものを得た。
(Example 3)
A transparent gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a polybutylene terephthalate film (PBT, thickness 15 μm) stretched and formed by an inflation method was used as a film substrate. Subsequently, a pouch was prepared by laminating with an adhesive in the same manner as in Experimental Example 1, and a pouch treated in the same manner was obtained.

(比較例1)
フィルム基材に2軸延伸ポリブチレンテレフタレートフィルム(PBT、厚さ9μm)を用いた以外は実施例1と同様にして透明ガスバリアフィルムを得た。続いて実験例1と同様に接着剤を用いてラミネートしてパウチを作成し、同様にレトルト処理をしたものを得た。
(Comparative Example 1)
A transparent gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a biaxially stretched polybutylene terephthalate film (PBT, thickness 9 μm) was used as the film substrate. Subsequently, a pouch was prepared by laminating with an adhesive in the same manner as in Experimental Example 1, and a pouch treated in the same manner was obtained.

(比較例2)
フィルム基材である二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(PET、厚み12μm)のコロナ処理側にグラビアコートを用いて、塗液1~3を実施例1と同様に塗工して、透明ガスバリアフィルムを得た。続いて実験例1と同様に接着剤を用いてラミネートしてパウチを作成し、同様にレトルト処理をしたものを得た。
(Comparative Example 2)
A transparent gas barrier film is obtained by applying coating solutions 1 to 3 in the same manner as in Example 1 using a gravure coat on the corona-treated side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (PET, thickness 12 μm) which is a film base material. rice field. Subsequently, a pouch was prepared by laminating with an adhesive in the same manner as in Experimental Example 1, and a pouch treated in the same manner was obtained.

(比較例3)
フィルム基材である二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(PET、厚み12μm)のコロナ処理側にグラビアコートを用いて、塗液1~3を実施例1と同様に塗工して、透明ガスバリアフィルムを得た。次にその透明ガスバリア積層体のZnO層の上に、二軸延伸ナイロンフィルム(ONY:ユニチカ製 ONBC 厚さ15μm)を2液型の接着剤(三井化学 A525/A52)を用いてドライラミネート法によってラミネートし、続けてONY上に未延伸ポリプロピレンフィルム(CPP:東レフィルム加工製 トレファンNO ZK207、厚さ70μm)を2液型の接着剤(三井化学 A525/A52)を用いてドライラミネート法によってラミネートし、〔透明ガスバリアフィルム/接着剤層/ONY(15μm)/接着剤層/CPP(70μm)〕の構成を有するラミネートフィルムを得た。続いて、実験例1と同様にパウチを作成してレトルト処理をしたものを得た。
(Comparative Example 3)
A transparent gas barrier film is obtained by applying coating solutions 1 to 3 in the same manner as in Example 1 using a gravure coat on the corona-treated side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (PET, thickness 12 μm) which is a film base material. rice field. Next, on the ZnO layer of the transparent gas barrier laminate, a biaxially stretched nylon film (ONY: ONBC thickness 15 μm manufactured by Unitika) was applied by a dry laminating method using a two-component adhesive (Mitsui Kagaku A525 / A52). Laminate and then laminate unstretched polypropylene film (CPP: Toray Film Processing Trefan NO ZK207, thickness 70 μm) on ONY by dry laminating method using a two-component adhesive (Mitsui Kagaku A525 / A52). Then, a laminated film having a composition of [transparent gas barrier film / adhesive layer / ONY (15 μm) / adhesive layer / CPP (70 μm)] was obtained. Subsequently, a pouch was prepared in the same manner as in Experimental Example 1 and retort-treated to obtain a pouch.

以下にレトルト(熱水加熱)処理後のパウチ評価を述べる。なお、レトルト処理後に中身の水道水を捨て、十分に乾燥させた状態で評価を行った。 The pouch evaluation after the retort (hot water heating) treatment is described below. After the retort treatment, the tap water inside was discarded and the evaluation was performed in a sufficiently dried state.

<3>レトルト処理後のガスバリア性の評価
[酸素透過度の測定方法]
酸素透過度測定装置(Modern Control社製 OXTRAN 2/20)を用いて、温度30℃、相対湿度70%の条件で測定した。測定方法は、JIS K-7126、B法(等圧法)に準拠し、測定値は単位[cc/m・day・MPa]で表記した(N=3平均値)。
<3> Evaluation of gas barrier property after retort treatment [Measurement method of oxygen permeability]
The measurement was performed using an oxygen permeability measuring device (OXTRAN 2/20 manufactured by Modern Control) under the conditions of a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 70%. The measuring method was based on JIS K-7126, B method (isopressure method), and the measured values were expressed in units [cc / m 2 , day, MPa] (N = 3 average value).

<4>低温落下試験の評価
200mlの水を入れたパウチを5℃の環境下に24時間保管した後、同環境下で、床から1mの高さより床上へ自由落下させて破袋するまでの回数を確認した(N=3、最大落下回数50回)。
<4> Evaluation of low temperature drop test After storing a pouch containing 200 ml of water in an environment of 5 ° C for 24 hours, the pouch is freely dropped from a height of 1 m from the floor to the floor and the bag is torn. The number of times was confirmed (N = 3, maximum number of drops 50 times).

以上の評価結果を、下記表1及び表2に示す。 The above evaluation results are shown in Tables 1 and 2 below.

Figure 0007010023000001
Figure 0007010023000001

Figure 0007010023000002
Figure 0007010023000002

表1は、シーラント(CPPフィルム)をラミネートする前のフィルムで評価したものである。表1(b)に示すとおり、実施例1~3は蒸着フィルムの70℃と60℃の伸び率Yがいずれも30%以内であるため、コーティング層4,5を積層したガスバリアフィルムの酸素透過度および水蒸気透過度が低く、バリア性が発現したことを示している。
一方比較例1では、蒸着フィルムの60℃の伸び率Yは30%以内であるが、70℃の伸び率が35%で、30%を大きく超えているため、ガスバリア積層フィルムのバリアが発現しておらず、特に水蒸気バリア性が低い。
Table 1 is an evaluation of the film before laminating the sealant (CPP film). As shown in Table 1 (b), in Examples 1 to 3, since the elongation rates Y of the vapor-filmed films at 70 ° C. and 60 ° C. are both within 30%, oxygen permeation of the gas barrier film laminated with the coating layers 4 and 5 is performed. The degree and water vapor transmission rate were low, indicating that barrier properties were exhibited.
On the other hand, in Comparative Example 1, the elongation rate Y at 60 ° C. of the vapor-filmed film was within 30%, but the elongation rate at 70 ° C. was 35%, which greatly exceeded 30%, so that the barrier of the gas barrier laminated film was developed. It does not have a particularly low water vapor barrier property.

表2は、パウチの実用試験として、シーラント(CPPフィルム)をラミネート後の状態で評価したものである。
表2に示すとおり、実用試験では実施例1~3はレトルト後も高いバリア性を保持している。
一方、比較例1では酸素バリア性、水蒸気透過度の両方とも値が大きく、バリア性が発現していない。これは、基材の厚みが実施例と比べて薄すぎたため、フィルムの伸び率Yが高く、基準値Gに対してY>Gとなり、蒸着層に割れが生じてバリア性が劣化したと考えられる。
また比較例2、3はPET基材であり、実施例1~3と同等のバリア性を示しているが、落下試験によるフィルムの強靭性は、PETフィルムである比較例2では破袋が発生し、フィルムの強靭性が乏しいのに対し、実施例1~3では破袋せず、PET及びONYを使用しない構成であっても、比較例3のPET/ONY/CPP構成に匹敵する強い衝撃強度を示した。
Table 2 shows the evaluation of the sealant (CPP film) in the state after laminating as a practical test of the pouch.
As shown in Table 2, in the practical test, Examples 1 to 3 maintain high barrier properties even after retort.
On the other hand, in Comparative Example 1, both the oxygen barrier property and the water vapor transmission rate have large values, and the barrier property is not exhibited. It is considered that this is because the thickness of the base material was too thin as compared with the examples, so that the elongation rate Y of the film was high, Y> G with respect to the reference value G, and the vapor deposition layer was cracked and the barrier property was deteriorated. Be done.
Further, Comparative Examples 2 and 3 are PET base materials and show the same barrier properties as those of Examples 1 to 3, but the toughness of the film by the drop test is such that bag breakage occurs in Comparative Example 2 which is a PET film. However, while the toughness of the film is poor, the film does not break in Examples 1 to 3, and even if the configuration does not use PET and ONY, it has a strong impact comparable to the PET / ONY / CPP configuration of Comparative Example 3. Shown the strength.

本発明のガスバリア積層体は、二軸延伸PBTフィルムを基材にすることでレトルト用途包材の層構成として2層に簡略しても、熱水加熱処理後に十分な低温落下衝撃強度を得ることができ、バリア性にも優れるボイル・レトルト用途に適した包装部材として利用可能である。 The gas barrier laminate of the present invention can obtain sufficient low-temperature drop impact strength after hot water heat treatment even if the layer structure of the packaging material for retort pouch is simplified to two by using a biaxially stretched PBT film as a base material. It can be used as a packaging member suitable for boiling and retort applications, which has excellent barrier properties.

1 フィルム基材
2 密着層
3 蒸着層
4 第一のコーティング層(A)
5 第二のコーティング層(B)
1 Film base material
2 Adhesive layer
3 Thin-film deposition layer 4 First coating layer (A)
5 Second coating layer (B)

Claims (6)

ブチレンテレフタラート単位を主たる構成単位とするポリエステル樹脂を含有するフィルム基材の一方の面に、無機酸化物または金属酸化物からなる蒸着層と、第一のコーティング層と、第二のコーティング層とをこの順に積層してなり、
前記第一のコーティング層は、ポリカルボン酸系重合体と、一般式RSi(ORで表されるシランカップリング剤とその加水分解物及びそれらの縮合物からなる群から選択される少なくとも1種のケイ素含有化合物とを、99.5:0.5~80.0:20.0の質量比で含有する層であり、
前記第二のコーティング層は、多価金属化合物を含有する層であり、
前記フィルム基材の厚さが12μm以上であることを特徴とするガスバリアフィルムであって、
前記フィルム基材が延伸フィルムであり、
前記ガスバリアフィルムを、50℃~150℃の温度で10N/m~70N/mの張力をかけたときのフィルム走行方向(MD方向)の伸び率Y(下記数式1)が、30%以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。
伸び率Y=((所定の温度で張力をかけたときのフィルムの長さ)-(室温で張力をかけていないときの長さ))/(所定の温度で張力をかけたときのフィルムの長さ) ・・・(数式1)
(ただし、Rはグリシジルオキシ基またはアミノ基を含む有機基であり、Rはアルキル基であり、3個のRは同一でなくともよい)
A vapor-deposited layer made of an inorganic oxide or a metal oxide, a first coating layer, and a second coating layer are formed on one surface of a film substrate containing a polyester resin having a butylene terephthalate unit as a main constituent unit. Are stacked in this order,
The first coating layer is selected from the group consisting of a polycarboxylic acid-based polymer, a silane coupling agent represented by the general formula R1Si (OR 2 ) 3 , a hydrolyzate thereof, and a condensate thereof. A layer containing at least one silicon-containing compound in a mass ratio of 99.5: 0.5 to 80.0: 20.0.
The second coating layer is a layer containing a polyvalent metal compound, and is a layer containing a polyvalent metal compound.
A gas barrier film characterized in that the thickness of the film base material is 12 μm or more.
The film base material is a stretched film.
When a tension of 10 N / m to 70 N / m is applied to the gas barrier film at a temperature of 50 ° C. to 150 ° C., the elongation rate Y (formula 1 below) in the film traveling direction (MD direction) is 30% or less. A gas barrier film characterized by that.
Elongation rate Y = ((length of film when tensioned at a predetermined temperature)-(length when tension is not applied at room temperature))) / (length of film when tension is applied at a predetermined temperature) Length) ・ ・ ・ (Formula 1)
(However, R 1 is an organic group containing a glycidyloxy group or an amino group, R 2 is an alkyl group, and the three R 2s do not have to be the same.)
前記ガスバリアフィルムにおいて、前記伸び率Yが、任意のフィルムにかかる温度X(℃)、張力Z(N/m)により、下記数式2で示される基準値Gに対して、Y≦Gとなることを特徴とする請求項1に記載のガスバリアフィルム。 In the gas barrier film, the elongation rate Y is Y ≦ G with respect to the reference value G represented by the following formula 2 depending on the temperature X (° C.) and the tension Z (N / m) applied to the arbitrary film. The gas barrier film according to claim 1.
基準値G(%)=0.8×(フィルムにかかる温度X(℃)-50)×(0.9×(張力Z(N/m)-5)/40) ・・・(数式2)Reference value G (%) = 0.8 x (temperature applied to the film X (° C.) -50) x (0.9 x (tension Z (N / m) -5) / 40) ... (Formula 2)
前記フィルム基材と前記蒸着層との間に、アンカーコート剤を含有する密着層を備えることを特徴とする請求項1または2に記載のガスバリアフィルム。 The gas barrier film according to claim 1 or 2, wherein an adhesion layer containing an anchor coating agent is provided between the film base material and the thin-film deposition layer. 前記密着層が、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂を含有することを特徴とする請求項3に記載のガスバリアフィルム。 The gas barrier film according to claim 3, wherein the adhesive layer contains a polyester-based polyurethane resin and a polyether-based polyurethane resin. 前記無機酸化物が、酸化アルミニウムもしくは、酸化ケイ素であることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載のガスバリアフィルム。 The gas barrier film according to any one of claims 1 to 4, wherein the inorganic oxide is aluminum oxide or silicon oxide. 前記ポリカルボン酸系重合体の数平均分子量が、2,000~10,000,000の範囲であることを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載のガスバリアフィルム。 The gas barrier film according to any one of claims 1 to 5, wherein the polycarboxylic acid-based polymer has a number average molecular weight in the range of 2,000 to 10,000,000.
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005337405A (en) 2004-05-27 2005-12-08 Kureha Chem Ind Co Ltd Vacuum heat insulating material
JP2006082319A (en) 2004-09-15 2006-03-30 Dainippon Printing Co Ltd Barrier film and laminated material using it
US20120148785A1 (en) 2010-12-09 2012-06-14 Industrial Technology Research Institute Gas-barrier heat-seal composite films and vacuum insulation panels comprising the same
JP2013252618A (en) 2012-06-05 2013-12-19 Toppan Printing Co Ltd Gas barrier precursor laminate, gas barrier laminate and manufacturing method of gas barrier laminate
JP2014061935A (en) 2012-09-24 2014-04-10 Toppan Printing Co Ltd Gas barrier packaging bag and method of producing gas barrier package using the same
JP2014065155A (en) 2012-09-24 2014-04-17 Toppan Printing Co Ltd Gas barrier precursor laminate, gas barrier laminate and method for manufacturing gas barrier laminate
JP2015006757A (en) 2013-06-25 2015-01-15 凸版印刷株式会社 Gas barrier laminate
JP2015150836A (en) 2014-02-18 2015-08-24 凸版印刷株式会社 gas barrier laminate
WO2016171173A1 (en) 2015-04-24 2016-10-27 東洋紡株式会社 Biaxially stretched polyester film, and production method therefor
WO2017170574A1 (en) 2016-04-01 2017-10-05 凸版印刷株式会社 Gas barrier film

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005337405A (en) 2004-05-27 2005-12-08 Kureha Chem Ind Co Ltd Vacuum heat insulating material
JP2006082319A (en) 2004-09-15 2006-03-30 Dainippon Printing Co Ltd Barrier film and laminated material using it
US20120148785A1 (en) 2010-12-09 2012-06-14 Industrial Technology Research Institute Gas-barrier heat-seal composite films and vacuum insulation panels comprising the same
JP2013252618A (en) 2012-06-05 2013-12-19 Toppan Printing Co Ltd Gas barrier precursor laminate, gas barrier laminate and manufacturing method of gas barrier laminate
JP2014061935A (en) 2012-09-24 2014-04-10 Toppan Printing Co Ltd Gas barrier packaging bag and method of producing gas barrier package using the same
JP2014065155A (en) 2012-09-24 2014-04-17 Toppan Printing Co Ltd Gas barrier precursor laminate, gas barrier laminate and method for manufacturing gas barrier laminate
JP2015006757A (en) 2013-06-25 2015-01-15 凸版印刷株式会社 Gas barrier laminate
JP2015150836A (en) 2014-02-18 2015-08-24 凸版印刷株式会社 gas barrier laminate
WO2016171173A1 (en) 2015-04-24 2016-10-27 東洋紡株式会社 Biaxially stretched polyester film, and production method therefor
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