JP6998197B2 - Method for manufacturing a holder for a cylindrical body and a photosensitive drum - Google Patents

Method for manufacturing a holder for a cylindrical body and a photosensitive drum Download PDF

Info

Publication number
JP6998197B2
JP6998197B2 JP2017240279A JP2017240279A JP6998197B2 JP 6998197 B2 JP6998197 B2 JP 6998197B2 JP 2017240279 A JP2017240279 A JP 2017240279A JP 2017240279 A JP2017240279 A JP 2017240279A JP 6998197 B2 JP6998197 B2 JP 6998197B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
holding body
receiving
cleaning liquid
substrate
main body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017240279A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2019109276A (en
Inventor
学也 工藤
秀和 崎浜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko KK
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP2017240279A priority Critical patent/JP6998197B2/en
Publication of JP2019109276A publication Critical patent/JP2019109276A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6998197B2 publication Critical patent/JP6998197B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Discharging, Photosensitive Material Shape In Electrophotography (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Rolls And Other Rotary Bodies (AREA)

Description

本発明は、感光ドラム基体等の円筒体の洗浄及び乾燥時などに用いられる円筒体用保持体、及び、この保持体を用いた感光ドラムの製造方法に関する。 The present invention relates to a cylinder holder used for cleaning and drying a cylindrical body such as a photosensitive drum substrate, and a method for manufacturing a photosensitive drum using the holder.

円筒体として例えば電子写真装置用感光ドラムを製造するために感光ドラム基体を洗浄したり乾燥したりするとき、基体は一般にパレット上に設けられた保持体に起立状に保持される。 When the photosensitive drum substrate is washed or dried as a cylindrical body, for example, to manufacture a photosensitive drum for an electrophotographic apparatus, the substrate is generally held upright by a holder provided on a pallet.

特開2007-41210号公報(特許文献1)は、このような基体を保持する保持体として、筒状の大径支柱とその内側に配置された小径支柱とを有する保持体を開示している。大径支柱の周壁部にはその内側と外側を連通する連通孔が形成されている。洗浄液や乾燥用ガスはこの連通孔を通って流通する。 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-41210 (Patent Document 1) discloses a holding body having a cylindrical large-diameter support and a small-diameter support arranged inside the cylindrical large-diameter support as a holding body for holding such a substrate. .. A communication hole is formed in the peripheral wall of the large-diameter column to communicate the inside and the outside. Cleaning liquid and drying gas flow through this communication hole.

また、特開2011-22206号公報(特許文献2)は、保持体に起立状に保持された基体を洗浄液中から引き上げた後で基体を傾斜させることにより、洗浄液を短時間で除去することを開示している。 Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-22206 (Patent Document 2) states that the cleaning solution can be removed in a short time by pulling up the substrate held upright in the holding body from the cleaning solution and then tilting the substrate. It is disclosed.

特開2007-41210号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-41210 特開2011-22206号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-22206

ところで、保持体は、円筒体の下端面を当該下端面に接触して受ける受け面を有している。この受け面は一般に水平に形成されている。そのため、洗浄液で洗浄した基体を乾燥するときにこの受け面上に洗浄液が残り易かった。もし洗浄液が受け面上に残っていると、残った洗浄液が原因で基体に染みができたり次工程の環境を汚染したりするなどの問題が発生する。また、受け面上に洗浄液が残らないように洗浄液を乾燥除去するためには、基体の乾燥時間を長く設定しなければならなった。 By the way, the holding body has a receiving surface for receiving the lower end surface of the cylindrical body in contact with the lower end surface. This receiving surface is generally formed horizontally. Therefore, when the substrate washed with the cleaning liquid is dried, the cleaning liquid tends to remain on the receiving surface. If the cleaning liquid remains on the receiving surface, problems such as stains on the substrate and contamination of the environment of the next process occur due to the remaining cleaning liquid. Further, in order to dry and remove the cleaning liquid so that the cleaning liquid does not remain on the receiving surface, it is necessary to set a long drying time for the substrate.

本発明は、上述した技術背景に鑑みてなされたもので、その目的は、洗浄液を迅速に乾燥除去しうる円筒体用保持体、及びこの保持体を用いた感光ドラムの製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-mentioned technical background, and an object of the present invention is to provide a holder for a cylindrical body capable of rapidly drying and removing a cleaning liquid, and a method for manufacturing a photosensitive drum using the holder. It is in.

本発明は以下の手段を提供する。 The present invention provides the following means.

[1] 洗浄液で洗浄される円筒体の下端開口から前記円筒体の内側に挿入配置される保持体本体部と、
前記円筒体の下端を前記下端に接触して受ける受け面を有する受け部と、を備え、
前記保持体本体部の上端部が、前記円筒体を適正位置へ案内する、下方向に対して半径方向外側へ傾斜した案内面を有しており、
前記受け面の前記洗浄液に対する濡れ性が前記案内面の前記洗浄液に対する濡れ性よりも良い、円筒体用保持体。
[1] A holding body main body portion inserted and arranged inside the cylinder from the lower end opening of the cylinder washed with the cleaning liquid.
A receiving portion having a receiving surface for receiving the lower end of the cylindrical body in contact with the lower end is provided.
The upper end portion of the holding body main body portion has a guide surface inclined outward in the radial direction with respect to the downward direction for guiding the cylindrical body to an appropriate position.
A holding body for a cylindrical body in which the wettability of the receiving surface to the cleaning liquid is better than the wetting property of the guide surface to the cleaning liquid.

[2] 前記受け面に前記濡れ性を良くするための処理として粗面化処理が施されており、
前記案内面に前記粗面化処理が施されていない前項1記載の円筒体用保持体。
[2] The receiving surface is roughened as a treatment for improving the wettability.
The cylindrical holder according to item 1 above, wherein the guide surface is not roughened.

[3] 前記案内面を有する部位と前記受け面を有する部位とが分離可能に連結されている前項1又は2記載の円筒体用保持体。 [3] The holder for a cylindrical body according to item 1 or 2 above, wherein the portion having the guide surface and the portion having the receiving surface are separably connected.

[4] 前記保持体本体部と前記受け部が合成樹脂製である前項1~3のいずれかに記載の円筒体用保持体。 [4] The holding body for a cylindrical body according to any one of the above items 1 to 3, wherein the holding body main body portion and the receiving portion are made of synthetic resin.

[5] 前項1~4のいずれかに記載の保持体に円筒体としての感光ドラム基体を起立状に保持した状態で前記感光ドラム基体を洗浄液で洗浄し乾燥する、感光ドラムの製造方法。 [5] A method for manufacturing a photosensitive drum, wherein the photosensitive drum substrate is washed with a cleaning liquid and dried while the photosensitive drum substrate as a cylindrical body is held upright on the holder according to any one of the above items 1 to 4.

本発明は以下の効果を奏する。 The present invention has the following effects.

前項1では、受け部の受け面の洗浄液に対する濡れ性が良いので、受け面上に残る洗浄液が玉状になりにくく、乾燥時において受け面上の洗浄液の乾燥用ガス(空気、温風、熱風等を含む)との接触面積が増加する。これにより、受け面上の洗浄液を迅速に乾燥除去することができる。また、保持体本体部の案内面の洗浄液に対する濡れ性は受け面のそれよりも悪く、案内面に付着した洗浄液は例えば略玉状になり案内面上を滑り落ち易くなる。これにより、案内面上の洗浄液についても迅速に乾燥除去することができる。 In item 1 above, since the receiving surface of the receiving portion has good wettability to the cleaning liquid, the cleaning liquid remaining on the receiving surface does not easily become ball-shaped, and the drying gas (air, warm air, hot air) of the cleaning liquid on the receiving surface during drying is performed. The contact area with (including, etc.) increases. As a result, the cleaning liquid on the receiving surface can be quickly dried and removed. Further, the wettability of the guide surface of the holding body to the cleaning liquid is worse than that of the receiving surface, and the cleaning liquid adhering to the guide surface becomes, for example, substantially a ball shape and easily slides off on the guide surface. As a result, the cleaning liquid on the guide surface can be quickly dried and removed.

前項2では、受け面に濡れ性を良くするための処理として粗面化処理が施されることにより、受け面の洗浄液に対する濡れ性を確実に良くすることができる。 In item 2 above, by performing a roughening treatment on the receiving surface as a treatment for improving the wettability, the wettability of the receiving surface with respect to the cleaning liquid can be surely improved.

前項3では、案内面を有する部位と受け面を有する部位とが分離可能に連結されているので、例えば、受け面に洗浄液に対する濡れ性を良くするための処理(例:ショットブラストによる粗面化処理)を施す際に、案内面を有する部位と受け面を有する部位とを分離することにより、案内面に濡れ性を良くするための処理が施されないようにするための作業(例:マスキング作業)を行う必要がなくなる。これにより、受け面の濡れ性を良くするための処理について作業性が向上する。 In the preceding item 3, since the portion having the guide surface and the portion having the receiving surface are separably connected, for example, a treatment for improving the wettability of the receiving surface with the cleaning liquid (eg, roughening by shot blasting). Work (eg, masking work) to prevent the guide surface from being treated to improve the wettability by separating the part having the guide surface and the part having the receiving surface when performing the treatment). ) Is no longer necessary. This improves workability in the process for improving the wettability of the receiving surface.

さらに、受け面が円筒体の下端との接触により局部的に摩耗した場合、案内面を有する部位と受け面を有する部位とを分離することにより、保持体全体のうち受け面を有する部位だけを新しいものと交換することができる。そのため、保持体についてランニングコストの削減を図りうる。 Further, when the receiving surface is locally worn due to contact with the lower end of the cylindrical body, by separating the portion having the guide surface and the portion having the receiving surface, only the portion having the receiving surface in the entire holding body is separated. Can be replaced with a new one. Therefore, it is possible to reduce the running cost of the holding body.

前項5では、保持体本体部と受け部が合成樹脂製であることにより、円筒体を保持体に保持する際における円筒体の保持体との接触による円筒体の傷付き及び変形を抑制することができる。 In item 5 above, since the holding body and the receiving part are made of synthetic resin, it is possible to suppress damage and deformation of the cylinder due to contact with the holding body when the cylinder is held by the holding body. Can be done.

前項6では、感光ドラムを製造する際に前項1~5の効果のいずれかの効果を奏し得る。 In the preceding item 6, any one of the effects of the preceding items 1 to 5 can be exerted when the photosensitive drum is manufactured.

図1は、本発明の一実施形態に係る保持体の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a holding body according to an embodiment of the present invention. 図2は、同保持体の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the holding body. 図3は、同保持体をパレット上に固定した状態で示す側面図である。FIG. 3 is a side view showing the holding body fixed on the pallet. 図4は、同保持体を、案内面を有する部位と受け面を有する部位とに分離した状態で示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing the holding body separated into a portion having a guide surface and a portion having a receiving surface. 図5は、同保持体に保持された円筒体としての感光ドラム基体を洗浄及び乾燥する場合を説明する図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a case where the photosensitive drum substrate as a cylindrical body held by the holding body is washed and dried. 図6は、感光ドラムを製造する際の感光ドラム基体の洗浄工程図である。FIG. 6 is a cleaning process diagram of the photosensitive drum substrate when manufacturing the photosensitive drum. 図7は、受け面の洗浄液に対する接触角を説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a contact angle of the receiving surface with respect to the cleaning liquid. 図8は、案内面の洗浄液に対する接触角を説明する図である。FIG. 8 is a diagram illustrating a contact angle of the guide surface with respect to the cleaning liquid. 図9は、受け面の光学顕微鏡写真である。FIG. 9 is an optical micrograph of the receiving surface. 図10は、案内面の光学顕微鏡写真である。FIG. 10 is an optical micrograph of the guide surface.

次に、本発明の一実施形態について図面を参照して以下に説明する。 Next, an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1及び2に示すように、本発明の一実施形態に係る保持体1は、円筒体としての感光ドラム基体(二点鎖線で示す)30を起立状に保持するものである。 As shown in FIGS. 1 and 2, the holding body 1 according to the embodiment of the present invention holds the photosensitive drum substrate (indicated by a two-dot chain line) 30 as a cylindrical body in an upright position.

基体30は電子写真装置用のものであり、その形状は円筒状であり詳述すると円管状である。基体30は、図5に示すように洗浄槽45内の洗浄液40中に浸漬されて洗浄され、その後、洗浄液40から引き上げられて乾燥されるものである。 The substrate 30 is for an electrophotographic apparatus, and its shape is cylindrical, and in detail, it is a circular tube. As shown in FIG. 5, the substrate 30 is immersed in the cleaning liquid 40 in the cleaning tank 45 for cleaning, and then pulled up from the cleaning liquid 40 and dried.

基体30の外径、肉厚及び長さはそれぞれ限定されるものではなく、例えば、その外径は10~100mm、その肉厚は0.1~5mm及びその長さは50~500mmである。基体30の材質は限定されるものではなく、例えばアルミニウム(その合金を含む)等の金属である。 The outer diameter, wall thickness and length of the substrate 30 are not limited, for example, the outer diameter thereof is 10 to 100 mm, the wall thickness is 0.1 to 5 mm, and the length thereof is 50 to 500 mm. The material of the substrate 30 is not limited, and is, for example, a metal such as aluminum (including an alloy thereof).

保持体1は、図3及び5に示すように例えば水平に配置されるパレット20上に複数立設されるものである。詳述すると、各保持体1はパレット20上に固定ボルト25によって取外し可能に固定状態に取り付けられるものである。固定ボルト25は例えば六角穴付ボルトからなる。保持体1の軸線Pは鉛直方向に向いている。 As shown in FIGS. 3 and 5, a plurality of holding bodies 1 are erected on, for example, horizontally arranged pallets 20. More specifically, each holding body 1 is detachably attached to the pallet 20 by a fixing bolt 25 in a fixed state. The fixing bolt 25 is made of, for example, a hexagon socket head cap screw. The axis P of the holding body 1 faces in the vertical direction.

保持体1は、図1及び2に示すように保持体本体部2と台状の受け部10とを備えている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the holding body 1 includes a holding body main body portion 2 and a trapezoidal receiving portion 10.

保持体本体部2は、基体30の下端開口33から基体30の内側31に挿入配置されるものであり(図3参照)、受け部10に対して上方突出状に受け部10に設けられている。 The holding body main body 2 is inserted and arranged from the lower end opening 33 of the substrate 30 to the inner side 31 of the substrate 30 (see FIG. 3), and is provided in the receiving portion 10 so as to project upward with respect to the receiving portion 10. There is.

保持体本体部2の直径(太さ)は基体30の内径よりも小さく、具体的には基体30の内径に対して50~98%に設定されている。保持体本体部2の長さは通常、基体30の長さよりも短く、具体的には基体30の長さに対して例えば20~80%の範囲に設定されている。 The diameter (thickness) of the holding body main body 2 is smaller than the inner diameter of the substrate 30, and specifically, it is set to 50 to 98% of the inner diameter of the substrate 30. The length of the holding body main body 2 is usually shorter than the length of the substrate 30, and specifically, it is set in the range of, for example, 20 to 80% with respect to the length of the substrate 30.

受け部10は保持体本体部2よりも大径に形成されたものであり、基体30の下端としての下端面32を当該下端面32に接触して受ける受け面11を有している。受け部10の直径(太さ)は、基体30の下端面32を受けうる大きさであれば限定されるものではなく、基体30の外径よりも大きく設定されている。 The receiving portion 10 is formed to have a diameter larger than that of the holding body main body portion 2, and has a receiving surface 11 that contacts and receives the lower end surface 32 as the lower end surface of the substrate 30. The diameter (thickness) of the receiving portion 10 is not limited as long as it can receive the lower end surface 32 of the substrate 30, and is set to be larger than the outer diameter of the substrate 30.

保持体本体部2と受け部10は合成樹脂製である。合成樹脂として耐熱性及び耐薬品性に優れたものを使用することが望ましく、具体的には、ポリテトラフルオロエチレン樹脂(PTFE樹脂)、硬質フッ素ゴム等のフッ素系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂(PPS樹脂)等を使用できる。保持体本体部2の材料と受け部10の材料は同種であっても良いし異種であっても良い。 The holding body main body 2 and the receiving portion 10 are made of synthetic resin. It is desirable to use a synthetic resin having excellent heat resistance and chemical resistance. Specifically, polytetrafluoroethylene resin (PTFE resin), fluororesin such as hard fluororubber, polyamide resin, and polyphenylene sulfide resin. (PPS resin) or the like can be used. The material of the holding body main body 2 and the material of the receiving portion 10 may be the same type or different types.

保持体本体部2は、保持体1の軸線Pに対して半径外方向へ放射状に突出し且つ保持体本体部2(保持体1)の上端から下方向に連続して延びた複数の板状の羽根部3(これを説明の便宜上「第1羽根部3」という)を備えている。複数の第1羽根部3の大きさ及び形状は互いに同じである。 The holding body main body 2 has a plurality of plate-like shapes that protrude radially outward from the axis P of the holding body 1 and continuously extend downward from the upper end of the holding body main body 2 (holding body 1). A blade portion 3 (this is referred to as a "first blade portion 3" for convenience of explanation) is provided. The size and shape of the plurality of first blade portions 3 are the same as each other.

第1羽根部3の下端は、受け部10の受け面11の高さ位置と同等の高さか又は受け面11の高さ位置よりも下側に位置しており、本実施形態では受け面11の高さ位置よりも下側の位置である受け部10の下端に位置している。 The lower end of the first blade portion 3 is located at the same height as the height position of the receiving surface 11 of the receiving portion 10 or below the height position of the receiving surface 11, and in the present embodiment, the receiving surface 11 is located. It is located at the lower end of the receiving portion 10, which is a position lower than the height position of the above.

複数の第1羽根部3は保持体1の軸線P位置で互いに一体に連結されており、更に、図2に示すように保持体1の周方向に略均等に配置されている。本実施形態では、第1羽根部3の枚数は4枚であり、これらの第1羽根部3の横断面形状は略十字状であり、したがって保持体1の平面視において各第1羽根部3、3間の角度は約90°である。 The plurality of first blade portions 3 are integrally connected to each other at the axis P position of the holding body 1, and are further arranged substantially evenly in the circumferential direction of the holding body 1 as shown in FIG. In the present embodiment, the number of the first blade portions 3 is four, and the cross-sectional shape of these first blade portions 3 is substantially cross-shaped. Therefore, in the plan view of the holding body 1, each first blade portion 3 is formed. The angle between the three is about 90 °.

なお本発明では、第1羽根部3の枚数は4枚に限定されるものではなく、その他に例えば3枚であってこれらの第1羽根部3の横断面形状が略三ツ矢状であっても良い。 In the present invention, the number of the first blade portions 3 is not limited to four, and even if the number of the first blade portions 3 is, for example, three and the cross-sectional shape of the first blade portions 3 is substantially three-pointed. good.

図1及び3に示すように、保持体本体部2の上端部は先細り状に形成されており、これにより保持体本体部2を基体30の下端開口33から基体30の内側31に挿入し易くなっている。 As shown in FIGS. 1 and 3, the upper end portion of the holding body main body 2 is formed in a tapered shape, which makes it easy to insert the holding body main body 2 from the lower end opening 33 of the base 30 into the inner 31 of the base 30. It has become.

すなわち、保持体本体部2の上端部には、下方向に対して半径方向外側へ傾斜した案内面4が形成されている。案内面4は、保持体本体部2の基体30内側31への挿入時に基体30を適正位置に案内するためのものである。本実施形態では、案内面4は、保持体本体部2の上端部としての、各第1羽根部3の上端部に、その上端から下方向に対して半径方向外側へ直線状に傾斜している。 That is, a guide surface 4 inclined outward in the radial direction with respect to the downward direction is formed at the upper end portion of the holding body main body portion 2. The guide surface 4 is for guiding the base 30 to an appropriate position when the holder main body 2 is inserted into the base 30 inside 31. In the present embodiment, the guide surface 4 is linearly inclined outward in the radial direction from the upper end to the upper end portion of each first blade portion 3 as the upper end portion of the holding body main body portion 2. There is.

保持体1の軸線Pに対する案内面4の傾斜角αは15~60°の範囲であることが望ましい。この場合、基体30を適正位置に確実に案内することができるし、案内面4に付着した洗浄液40を案内面4上から確実に滑り落ち易くすることができる。 It is desirable that the inclination angle α of the guide surface 4 with respect to the axis P of the holding body 1 is in the range of 15 to 60 °. In this case, the substrate 30 can be reliably guided to an appropriate position, and the cleaning liquid 40 adhering to the guide surface 4 can be reliably slipped off from the guide surface 4.

ここで、本実施形態では案内面4は上述したように直線状に傾斜したものであるが、本発明では案内面はこれに限定されずその他に例えば断面円弧状に傾斜したものであっても良く、この場合、その曲率半径は限定されるものではなく例えば5~50mmの範囲に設定される。 Here, in the present embodiment, the guide surface 4 is inclined linearly as described above, but in the present invention, the guide surface is not limited to this, and even if the guide surface is inclined in an arc shape in a cross section, for example. Well, in this case, the radius of curvature is not limited, but is set in the range of, for example, 5 to 50 mm.

さらに、各第1羽根部3の上端部には案内面4の下端から保持体1の軸線Pに平行に鉛直面5が形成されている。さらに、保持体本体部2の上端部と下端部との間の部位は、当該上端部及び当該下端部よりも小径に形成されている。 Further, a vertical surface 5 is formed at the upper end of each first blade portion 3 from the lower end of the guide surface 4 in parallel with the axis P of the holding body 1. Further, the portion between the upper end portion and the lower end portion of the holding body main body 2 is formed to have a smaller diameter than the upper end portion and the lower end portion.

受け部10は、保持体1の軸線Pと同軸に形成された円筒状の軸部12を備えており、更に、軸部12の外周面から保持体1の軸線Pに対して半径外方向へ放射状に突出し且つ保持体1の軸線P方向に延びた複数の羽根部15(これを説明の便宜上「第2羽根部15」という)を備えている。複数の第2羽根部15の大きさ及び形状は互いに同じである。第2羽根部15は第1羽根部3よりも半径外方向へ突出している。 The receiving portion 10 includes a cylindrical shaft portion 12 formed coaxially with the axis P of the holding body 1, and further, from the outer peripheral surface of the shaft portion 12 in a radial direction with respect to the axis P of the holding body 1. It is provided with a plurality of blade portions 15 (this is referred to as "second blade portion 15" for convenience of explanation) that protrudes radially and extends in the axis P direction of the holding body 1. The size and shape of the plurality of second blade portions 15 are the same as each other. The second blade portion 15 protrudes from the first blade portion 3 in the direction outside the radius.

複数の第2羽根部15は軸部12の外周面に一体に形成されており、更に、図2に示すように保持体1の周方向に略均等に配置されている。本実施形態では、第2羽根部15の枚数は第1羽根部3の枚数と同じ(即ち4枚)であり、これらの第2羽根部15の横断面形状は略十字状であり、したがって保持体1の平面視において各第2羽根部15、15間の角度は約90°である。 The plurality of second blade portions 15 are integrally formed on the outer peripheral surface of the shaft portion 12, and are further arranged substantially evenly in the circumferential direction of the holding body 1 as shown in FIG. In the present embodiment, the number of the second blade portions 15 is the same as the number of the first blade portions 3 (that is, four), and the cross-sectional shape of these second blade portions 15 is substantially cross-shaped, and therefore held. In the plan view of the body 1, the angle between the second blade portions 15 and 15 is about 90 °.

第1羽根部3と第2羽根部15は保持体1の周方向に離間しており、詳述すると図2に示すように保持体1の平面視において各第2羽根部15、15間に第1羽根部3が一枚ずつ配置されるように第1羽根部3と第2羽根部15が保持体1の周方向に離間している。保持体1の平面視において第1羽根部3と第2羽根部15との間の角度は約45°である。 The first blade portion 3 and the second blade portion 15 are separated from each other in the circumferential direction of the holding body 1, and more specifically, as shown in FIG. 2, between the second blade portions 15 and 15 in the plan view of the holding body 1. The first blade portion 3 and the second blade portion 15 are separated from each other in the circumferential direction of the holding body 1 so that the first blade portions 3 are arranged one by one. In the plan view of the holding body 1, the angle between the first blade portion 3 and the second blade portion 15 is about 45 °.

第2羽根部15の上端面16は上述の受け面11を含んでおり、即ち受け面11は第2羽根部15の上端面16の一部からなる。詳述すると、受け面11は、第2羽根部15の上端面16における第2羽根部15の突出方向の中間から先端までの部分からなる。 The upper end surface 16 of the second blade portion 15 includes the above-mentioned receiving surface 11, that is, the receiving surface 11 is a part of the upper end surface 16 of the second blade portion 15. More specifically, the receiving surface 11 is composed of a portion of the upper end surface 16 of the second blade portion 15 from the middle to the tip in the protruding direction of the second blade portion 15.

第2羽根部15の上端面16(受け面11を含む)は平坦状に形成されており、基体30を保持する状態では水平に配置される。さらに、第2羽根部15の上端面16における受け面11よりも軸線P(軸部12)側の部分には切欠き部17が局部的に設けられており、これにより、当該部分が受け面11よりも低い高さ位置になるように形成されている。 The upper end surface 16 (including the receiving surface 11) of the second blade portion 15 is formed in a flat shape, and is arranged horizontally while holding the substrate 30. Further, a notch 17 is locally provided in a portion of the upper end surface 16 of the second blade portion 15 on the axis P (shaft portion 12) side of the receiving surface 11, whereby the portion is provided as a receiving surface. It is formed so as to be at a height position lower than 11.

受け部10の下端面は複数の第2羽根部15の下端面からなる。軸部12の下端部は受け部10の下端面よりも若干下側に突出している。これにより、受け部10の下端面の中心部に、軸部12の突出した下端部からなる位置決め用突出部13が形成されている。 The lower end surface of the receiving portion 10 is composed of the lower end surfaces of the plurality of second blade portions 15. The lower end portion of the shaft portion 12 projects slightly below the lower end surface of the receiving portion 10. As a result, a positioning protruding portion 13 including a protruding lower end portion of the shaft portion 12 is formed at the center of the lower end surface of the receiving portion 10.

図4に示すように、保持体本体部2は、受け部10の受け面11よりも上側の高さ位置にて、受け部10側の部位2B(これを説明の便宜上「下本体部2B」という)とその上側の部位2A(これを説明の便宜上「上本体部2A」という)とに分割されている。 As shown in FIG. 4, the holding body main body 2 is located at a height above the receiving surface 11 of the receiving portion 10 and is located on the receiving portion 10 side (this is referred to as “lower main body 2B” for convenience of explanation”. It is divided into a portion 2A above it (referred to as "upper body portion 2A" for convenience of explanation).

保持体本体部2の第1羽根部3は、保持体本体部2が下本体部2Bと上本体部2Aに分割されることによって、受け部10側の部位3B(これを説明の便宜上「下第1羽根部3B」という)とその上側の部位3A(これを説明の便宜上「上第1羽根部3A」という)とに分割されている。したがって、上本体部2Aは上述の案内面4を有している。 In the first blade portion 3 of the holding body main body 2, the holding body main body 2 is divided into a lower main body portion 2B and an upper main body portion 2A, so that a portion 3B on the receiving portion 10 side (this is described as “lower” for convenience of explanation. It is divided into a "first blade portion 3B") and a portion 3A above it (referred to as "upper first blade portion 3A" for convenience of explanation). Therefore, the upper main body portion 2A has the above-mentioned guide surface 4.

下本体部2Bと受け部10は一体に形成されており、したがって、受け部10は下本体部2Bを一体に有している。 The lower main body portion 2B and the receiving portion 10 are integrally formed, and therefore, the receiving portion 10 has the lower main body portion 2B integrally.

上本体部2Aと下本体部2Bが連結された状態において、受け部10の軸部12の上端は上本体部2Aの下端に位置している。 In a state where the upper main body portion 2A and the lower main body portion 2B are connected, the upper end of the shaft portion 12 of the receiving portion 10 is located at the lower end of the upper main body portion 2A.

下第1羽根部3Bは、下本体部2Bの上端(即ち軸部12の上端)から保持体1の下端(即ち受け部10の下端)まで下方向に連続して延びている。 The lower first blade portion 3B continuously extends downward from the upper end of the lower main body portion 2B (that is, the upper end of the shaft portion 12) to the lower end of the holding body 1 (that is, the lower end of the receiving portion 10).

図4に示すように、上本体部2Aの下端面の中心部には、下方向に突出した横断面円形状の嵌合突出部7が一体に形成されている。そして、嵌合突出部7が軸部12の内側12aにその上側から嵌脱自在に嵌合されることにより、上本体部2Aと下本体部2Bが分離可能に連結されて保持体本体部2が構成されている。 As shown in FIG. 4, a fitting protrusion 7 having a circular cross-section that protrudes downward is integrally formed at the center of the lower end surface of the upper main body 2A. Then, the fitting protrusion 7 is fitted to the inner side 12a of the shaft portion 12 so as to be freely fitted and detached from above, so that the upper main body portion 2A and the lower main body portion 2B are detachably connected to each other and the holding body main body portion 2 is connected. Is configured.

嵌合突出部7が軸部12の内側12aに嵌合された状態(即ち上本体部2Aと下本体部2Bが連結された状態)では、図1及び2に示すように、保持体1の周方向における上第1羽根部3Aの位置と下第1羽根部3Bの位置とが全て一致している。 In a state where the fitting protrusion 7 is fitted to the inner side 12a of the shaft portion 12 (that is, a state in which the upper main body portion 2A and the lower main body portion 2B are connected), as shown in FIGS. 1 and 2, the holding body 1 The position of the upper first blade portion 3A and the position of the lower first blade portion 3B in the circumferential direction are all the same.

保持体1は上述したようにパレット20上に固定ボルト25によって上方突出状に固定される。 As described above, the holding body 1 is fixed on the pallet 20 in an upward projecting manner by the fixing bolts 25.

すなわち、図4に示すように上本体部2Aの嵌合突出部7の下端面には当該下端面から上方向に延びた、固定ボルト25に螺合するねじ穴8が形成されている。パレット20には固定ボルト25用挿通孔22が穿設されている。そして、嵌合突出部7が軸部12の内側12aに嵌合された状態で、挿通孔22にその下側から挿通された固定ボルト25が嵌合突出部7のねじ穴8に螺合することにより、上本体部2Aと下本体部2Bとが連結されて保持体1が構成されるとともに保持体1がパレット20上に上方突出状に固定される。 That is, as shown in FIG. 4, a screw hole 8 screwed into the fixing bolt 25 extending upward from the lower end surface is formed on the lower end surface of the fitting protrusion 7 of the upper main body portion 2A. The pallet 20 is provided with an insertion hole 22 for a fixing bolt 25. Then, in a state where the fitting protrusion 7 is fitted to the inner side 12a of the shaft portion 12, the fixing bolt 25 inserted from below the insertion hole 22 is screwed into the screw hole 8 of the fitting protrusion 7. As a result, the upper main body portion 2A and the lower main body portion 2B are connected to form the holding body 1, and the holding body 1 is fixed on the pallet 20 in an upward projecting manner.

さらに、このような保持体1の固定状態において、保持体1の位置決め用突出部13がパレット20の上面20aに設けられた位置決め用凹部21に嵌脱自在に嵌合される。これにより、保持体1をパレット20上に固定する際にパレット20上における保持体1の固定位置が決定される。 Further, in such a fixed state of the holding body 1, the positioning protrusion 13 of the holding body 1 is removably fitted into the positioning recess 21 provided on the upper surface 20a of the pallet 20. Thereby, when the holding body 1 is fixed on the pallet 20, the fixing position of the holding body 1 on the pallet 20 is determined.

保持体1において、下本体部2Bを一体に有する受け部10には、その外表面全体に亘って洗浄液40に対する濡れ性を良くするための処理として粗面化処理が施されている。粗面化処理は本実施形態ではショットブラストにより行われる。これに対して、上本体部2Aの外表面にはそのような処理が一切施されていない。これにより、受け部10における少なくとも受け面11の洗浄液40に対する濡れ性は、上本体部2Aにおける少なくとも案内面4の洗浄液40に対する濡れ性よりも良くなっている。 In the holding body 1, the receiving portion 10 integrally having the lower main body portion 2B is subjected to a roughening treatment as a treatment for improving the wettability to the cleaning liquid 40 over the entire outer surface thereof. The roughening treatment is performed by shot blasting in this embodiment. On the other hand, the outer surface of the upper body portion 2A is not subjected to such treatment at all. As a result, the wettability of at least the receiving surface 11 of the receiving portion 10 with respect to the cleaning liquid 40 is better than the wettability of at least the guide surface 4 of the upper main body portion 2A with respect to the cleaning liquid 40.

受け面11にショットブラストによる粗面化処理を施す場合、当該処理を行う前に、下本体部2Bを一体に有する受け部10(即ち受け面11を有する部位)と上本体部2A(即ち案内面4を有する部位)とを分離しておき、その後、下本体部2Bを一体に有する受け部10だけについてショットブラストによる粗面化処理を施すことが望ましい。この場合、上本体部2Aの案内面4にショットブラストによる粗面化処理が施されないようにするための作業(例:マスキング作業)を行う必要がなくなり、ショットブラストによる粗面化処理について作業性が向上するし、保持体1を低コストで製造することができる。 When the receiving surface 11 is roughened by shot blasting, the receiving portion 10 (that is, the portion having the receiving surface 11) and the upper main body portion 2A (that is, the guide) having the lower main body portion 2B integrally are subjected to the roughening treatment. It is desirable to separate the portion having the surface 4) and then perform roughening treatment by shot blasting only on the receiving portion 10 having the lower main body portion 2B integrally. In this case, it is not necessary to perform work (eg, masking work) for preventing the roughening treatment by shot blasting on the guide surface 4 of the upper main body 2A, and the roughening treatment by shot blasting is workable. The holding body 1 can be manufactured at low cost.

洗浄液40に対する濡れ性を良くするためのショットブラストによる粗面化処理の条件は限定されるものではなく、例えば、使用するショットメディア(投射材)はガラスビーズ、投射時間は5minである。 The conditions for the roughening treatment by shot blasting for improving the wettability to the cleaning liquid 40 are not limited. For example, the shot media (projection material) used is glass beads, and the projection time is 5 min.

受け面11は洗浄液40に対する濡れ性が良いので、図7に示すように受け面11における洗浄液40の接触角θ1が小さい。したがって、基体30の洗浄時に受け面11に洗浄液40が付着した場合、洗浄液40は玉状にならず、乾燥用ガス(空気、温風、熱風等を含む)との接触面積が大きくなる。これにより、洗浄液40を迅速に乾燥除去することができる。 Since the receiving surface 11 has good wettability with respect to the cleaning liquid 40, the contact angle θ1 of the cleaning liquid 40 on the receiving surface 11 is small as shown in FIG. Therefore, when the cleaning liquid 40 adheres to the receiving surface 11 during cleaning of the substrate 30, the cleaning liquid 40 does not become a ball shape, and the contact area with the drying gas (including air, warm air, hot air, etc.) becomes large. As a result, the cleaning liquid 40 can be quickly dried and removed.

案内面4には洗浄液40に対する濡れ性を良くするための処理が施されていないので、図8に示すように案内面4における洗浄液40の接触角θ2がθ1よりも大きい(θ2>θ1)。したがって、基体30の洗浄時に案内面4に洗浄液40が付着した場合、洗浄液40は略玉状になり、案内面4上の洗浄液40が案内面4上を滑り落ち易くなる。これにより、洗浄液40を迅速に乾燥除去することができる。 Since the guide surface 4 is not subjected to a treatment for improving the wettability with respect to the cleaning liquid 40, the contact angle θ2 of the cleaning liquid 40 on the guide surface 4 is larger than θ1 (θ2> θ1). Therefore, when the cleaning liquid 40 adheres to the guide surface 4 when cleaning the substrate 30, the cleaning liquid 40 becomes substantially ball-shaped, and the cleaning liquid 40 on the guide surface 4 easily slides down on the guide surface 4. As a result, the cleaning liquid 40 can be quickly dried and removed.

受け部10が合成樹脂製である場合において、受け面11は、受け面11の表面粗さRzが5.0~20μmの範囲になるように粗面化処理が施されることが望ましい。この場合、受け面11上の洗浄液40を確実に迅速に乾燥除去することができる。 When the receiving portion 10 is made of synthetic resin, it is desirable that the receiving surface 11 is roughened so that the surface roughness Rz of the receiving surface 11 is in the range of 5.0 to 20 μm. In this case, the cleaning liquid 40 on the receiving surface 11 can be reliably and quickly dried and removed.

保持体本体部2が合成樹脂製である場合において、案内面4の表面粗さRzは1.0μm以下であることが望ましい。この場合、案内面4上の洗浄液40を確実に滑り落ち易くすることができ、これにより案内面4上の洗浄液40を確実に迅速に乾燥除去することができる。案内面4の表面粗さRzの望ましい下限は限定されるものではなく、例えば0.01μmである。 When the holding body main body 2 is made of synthetic resin, it is desirable that the surface roughness Rz of the guide surface 4 is 1.0 μm or less. In this case, the cleaning liquid 40 on the guide surface 4 can be reliably and easily slipped off, whereby the cleaning liquid 40 on the guide surface 4 can be reliably and quickly dried and removed. The desirable lower limit of the surface roughness Rz of the guide surface 4 is not limited, and is, for example, 0.01 μm.

受け面11の表面状態の一例として図9に受け面11の光学顕微鏡写真を示すように、受け面11にはショットブラストにより粗面化処理が施されており、そのため微細な凹凸が形成されている。同図の場合では受け面11の表面粗さRzは5.0μmである。 As shown in FIG. 9 as an example of the surface state of the receiving surface 11, the receiving surface 11 is roughened by shot blasting, so that fine irregularities are formed. There is. In the case of the figure, the surface roughness Rz of the receiving surface 11 is 5.0 μm.

案内面4の表面状態の一例として図10に案内面4の光学顕微鏡写真を示すように、案内面4には保持体1を成型した際に用いた金型の製作時のツールマークの転写や、案内面4への切削加工時のツールマークがあり、したがって案内面4には積極的な粗面化処理は施されていない。同図の場合では案内面4の表面粗さRzは0.290μmである。 As an example of the surface state of the guide surface 4, as shown in FIG. 10 is an optical micrograph of the guide surface 4, the guide surface 4 has a transfer of a tool mark used for molding the holding body 1 and a tool mark at the time of manufacturing. , There is a tool mark on the guide surface 4 at the time of cutting, and therefore the guide surface 4 is not positively roughened. In the case of the figure, the surface roughness Rz of the guide surface 4 is 0.290 μm.

なお、上述の表面粗さRzはいずれもJIS(日本工業規格) B0601:2001に準拠して測定された最大高さを意味している。 The above-mentioned surface roughness Rz all mean the maximum height measured in accordance with JIS (Japanese Industrial Standards) B0601: 2001.

基体30を保持体1に保持する場合、基体30をチャック装置(図示せず)のチャック部で把持する。そして、図3に示すように基体30の下端開口33からその内側31に保持体1の保持体本体部2が挿入されるように基体30を下降していき、基体30の下端面32が保持体1の受け部10の受け面11に接触したとき基体30の下降を停止する。そして、チャック装置のチャック部による基体30の把持を解除する。これにより、図1に示すように基体30が保持体1に起立状に保持される。 When the substrate 30 is held by the holding body 1, the substrate 30 is gripped by a chuck portion of a chuck device (not shown). Then, as shown in FIG. 3, the substrate 30 is lowered from the lower end opening 33 of the substrate 30 so that the holding body main body portion 2 of the holding body 1 is inserted into the inner 31 thereof, and the lower end surface 32 of the substrate 30 is held. When it comes into contact with the receiving surface 11 of the receiving portion 10 of the body 1, the lowering of the substrate 30 is stopped. Then, the grip of the substrate 30 by the chuck portion of the chuck device is released. As a result, as shown in FIG. 1, the substrate 30 is held upright by the holding body 1.

このように基体30が保持体1に保持された状態では、基体30の下端面32は受け面11に接触して受け面11で受けられており、基体30は、その下端面32の受け面11との接触部分を除いて保持体1のどの部位とも接触していない。 In the state where the substrate 30 is held by the holding body 1 in this way, the lower end surface 32 of the substrate 30 is in contact with the receiving surface 11 and is received by the receiving surface 11, and the substrate 30 is the receiving surface of the lower end surface 32 thereof. It is not in contact with any part of the holder 1 except the contact portion with 11.

上述した基体30の保持体1への保持操作において、基体30の下端開口33からその内側31に保持体1の保持体本体部2を挿入させる際に基体30の下端面32が保持体本体部2の上端部に接触した場合、基体30の下端面32は案内面4によって受け面11に向かうように下側に案内される。その結果、基体30は、保持体1における基体30の洗浄時の適正位置に配置される。 In the above-mentioned holding operation of the base 30 to the holding body 1, the lower end surface 32 of the base 30 is the holding body main body when the holding body main body 2 of the holding body 1 is inserted from the lower end opening 33 of the base 30 to the inner side 31 thereof. When in contact with the upper end portion of 2, the lower end surface 32 of the substrate 30 is guided downward by the guide surface 4 toward the receiving surface 11. As a result, the substrate 30 is arranged at an appropriate position when the substrate 30 is washed in the holding body 1.

基体30から感光ドラムを製造する場合、図5に示すようにパレット20上に立設された複数の保持体1にそれぞれ基体30を起立状に保持し、この状態で複数の基体30に対して一般に図6に示す洗浄工程が行われる。その後、基体30の外表面に感光体層等の所定の層が形成されて感光ドラムが得られる。 When the photosensitive drum is manufactured from the substrate 30, the substrate 30 is held upright on each of the plurality of holding bodies 1 erected on the pallet 20 as shown in FIG. 5, and in this state, the substrate 30 is held against the plurality of substrates 30. Generally, the cleaning step shown in FIG. 6 is performed. After that, a predetermined layer such as a photoconductor layer is formed on the outer surface of the substrate 30, and a photosensitive drum is obtained.

洗浄工程は、同図に示すように、予備洗浄工程S1と脱脂工程S2と第1リンス工程S3と中和工程S4と第2リンス工程S5と浸漬及び引き上げ乾燥工程S6と最終乾燥工程S7を含んでおり、この記載順に行われる。これらの工程S1~S7のうち脱脂工程S2~浸漬及び引き上げ乾燥工程S6は、図5に示すようにパレット20上の複数の保持体1に複数の基体30が起立状に保持された状態のままで基体30が洗浄槽45内の洗浄液40中に浸漬されることにより、行われる。 As shown in the figure, the cleaning step includes a preliminary cleaning step S1, a degreasing step S2, a first rinsing step S3, a neutralizing step S4, a second rinsing step S5, a dipping and pulling drying step S6, and a final drying step S7. It is done in the order described. Of these steps S1 to S7, in the degreasing step S2 to the dipping and pulling drying step S6, as shown in FIG. 5, the plurality of substrates 30 remain upright held by the plurality of holding bodies 1 on the pallet 20. This is performed by immersing the substrate 30 in the cleaning liquid 40 in the cleaning tank 45.

予備洗浄工程S1では、基体30はシャワー洗浄により洗浄される。脱脂工程S2では、基体30は洗浄液40としての酸性溶液で洗浄される。第1リンス工程S3では、基体30は洗浄液40としての純水で洗浄される。中和工程S4では、基体30は洗浄液40としてのアルカリ性溶液で洗浄される。第2リンス工程S5では、基体30は洗浄液40としての純水で洗浄される。浸漬及び引き上げ乾燥工程S6では、基体30は洗浄液40としての温純水中に浸漬されることにより洗浄され、その後、基体30が温純水中から引き上げられることにより、温純水を基体30から落下させるとともに温純水の予熱で乾燥される。最終乾燥工程S7では、基体30は引き上げ乾燥工程S6の後に残った温純水を除去するために乾燥用ガスとして例えば温風で乾燥される。 In the pre-cleaning step S1, the substrate 30 is washed by shower washing. In the degreasing step S2, the substrate 30 is washed with an acidic solution as a washing liquid 40. In the first rinsing step S3, the substrate 30 is washed with pure water as the washing liquid 40. In the neutralization step S4, the substrate 30 is washed with an alkaline solution as a washing liquid 40. In the second rinsing step S5, the substrate 30 is washed with pure water as the washing liquid 40. In the dipping and pulling-up drying step S6, the substrate 30 is washed by being immersed in warm pure water as a cleaning liquid 40, and then the substrate 30 is pulled up from the warm pure water to drop the warm pure water from the substrate 30 and preheat the warm pure water. To be dried. In the final drying step S7, the substrate 30 is dried with, for example, warm air as a drying gas in order to remove the warm pure water remaining after the pull-up drying step S6.

これらの工程S1~S7のうち例えば浸漬及び引き上げ乾燥工程S6では、一般に保持体1の受け面11上に洗浄液(詳述すると温純水)40が残り易い。しかし、受け面11の洗浄液40に対する濡れ性が良いので、受け面11上の洗浄液40は迅速に乾燥除去される。また、保持体本体部2の案内面4は鉛直に形成されたものではなく傾斜しているので、一般に案内面4上に洗浄液40が残り易い。しかし、案内面4には洗浄液40に対する濡れ性を良くするための処理が施されていないので、案内面4に付着した洗浄液40は略玉状になり案内面4上を滑り落ち易くなっており、そのため案内面4上の洗浄液40についても迅速に乾燥除去される。したがって、基体30の乾燥時間を短縮することができるし基体30を確実に乾燥することができる。 Of these steps S1 to S7, for example, in the dipping and pulling-up drying steps S6, the cleaning liquid (more specifically, warm pure water) 40 tends to remain on the receiving surface 11 of the holding body 1. However, since the receiving surface 11 has good wettability with respect to the cleaning liquid 40, the cleaning liquid 40 on the receiving surface 11 is quickly dried and removed. Further, since the guide surface 4 of the holding body main body 2 is not formed vertically but is inclined, the cleaning liquid 40 tends to remain on the guide surface 4 in general. However, since the guide surface 4 is not treated to improve the wettability with respect to the cleaning liquid 40, the cleaning liquid 40 adhering to the guide surface 4 becomes substantially ball-shaped and easily slides down on the guide surface 4. Therefore, the cleaning liquid 40 on the guide surface 4 is also quickly dried and removed. Therefore, the drying time of the substrate 30 can be shortened, and the substrate 30 can be reliably dried.

さらに、保持体1は合成樹脂製であるから、基体30を保持体1に保持する際における基体30の保持体1との接触による基体30の傷付き及び変形を抑制することができる。 Further, since the holding body 1 is made of synthetic resin, it is possible to suppress the damage and deformation of the base 30 due to the contact of the base 30 with the holding body 1 when the base 30 is held by the holding body 1.

さらに、保持体1では、受け部10の受け面11よりも軸線P(軸部12)側の部分が受け面11よりも低い高さ位置になるように形成されているので、乾燥時に当該部分上に残った洗浄液40が受け面11側へ流動して基体30の下端面32に付着する不具合を抑制することができる。これにより、基体30を更に確実に乾燥することができるし、当該残った洗浄液40が原因で発生することのある基体30の染みや次工程の環境の汚染を確実に抑制することができる。 Further, in the holding body 1, the portion of the receiving portion 10 on the axis P (shaft portion 12) side of the receiving surface 11 is formed so as to be at a height lower than that of the receiving surface 11, so that the portion is formed during drying. It is possible to suppress the problem that the cleaning liquid 40 remaining on the surface flows to the receiving surface 11 side and adheres to the lower end surface 32 of the substrate 30. As a result, the substrate 30 can be dried more reliably, and stains on the substrate 30 and pollution of the environment in the next step, which may be generated due to the remaining cleaning liquid 40, can be reliably suppressed.

また、保持体本体部2が上本体部2Aと下本体部2Bとに分離可能であるから、保持体1の受け部10の受け面11が摩耗した場合、上本体部2Aと下本体部2Bとを分離することにより、保持体1全体のうち下本体部2Bを一体に有する受け部10(即ち受け面11を有する部位)だけを新しいものと交換することができる。そのため、保持体1についてランニングコストの削減を図りうる。 Further, since the holding body main body 2 can be separated into the upper main body 2A and the lower main body 2B, when the receiving surface 11 of the receiving portion 10 of the holding body 1 is worn, the upper main body 2A and the lower main body 2B By separating and, only the receiving portion 10 (that is, the portion having the receiving surface 11) having the lower main body portion 2B integrally among the entire holding body 1 can be replaced with a new one. Therefore, it is possible to reduce the running cost of the holding body 1.

以上で本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で様々に変更可能である。 Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment and can be variously modified without departing from the gist of the present invention.

例えば、本発明に係る保持体は、その受け部がパレット20に一体に設けられたものであっても良いし、受け部が台状に形成されていなくても良く、すなわち受け部の受け面が例えばパレット20の上面20aに形成されていても良い。 For example, in the holding body according to the present invention, the receiving portion may be integrally provided on the pallet 20, or the receiving portion may not be formed in a trapezoidal shape, that is, the receiving portion of the receiving portion. May be formed on, for example, the upper surface 20a of the pallet 20.

また、本発明に係る保持体に保持される円筒体は、上記実施形態に示したように感光ドラム基体であることが特に望ましいが、これに限定されず、その他の円筒状の被洗浄体であっても良い。 Further, it is particularly desirable that the cylindrical body held by the holding body according to the present invention is a photosensitive drum substrate as shown in the above embodiment, but the cylindrical body is not limited to this, and other cylindrical bodies to be cleaned may be used. May be there.

本発明は、感光ドラム基体等の円筒体の洗浄及び乾燥時などに用いられる円筒体用保持体、及び、感光ドラムの製造方法に利用可能である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for a cylinder holder used for cleaning and drying a cylindrical body such as a photosensitive drum substrate, and a method for manufacturing a photosensitive drum.

1:保持体
2:保持体本体部
4:案内面
10:受け部
11:受け面
30:基体(円筒体)
32:基体の下端面(円筒体の下端)
40:洗浄液
1: Holding body 2: Holding body main body 4: Guide surface 10: Receiving part 11: Receiving surface 30: Substrate (cylindrical body)
32: Lower end surface of the substrate (lower end of the cylindrical body)
40: Cleaning liquid

Claims (5)

洗浄液で洗浄される円筒体を起立状に保持する円筒体用保持体であって、
前記円筒体の下端開口から前記円筒体の内側に挿入配置される保持体本体部と、
前記円筒体の下端を前記下端に接触して受ける受け面を有する受け部と、を備え、
前記受け面は水平に配置され、
前記保持体本体部の上端部が、前記円筒体を適正位置へ案内する、下方向に対して半径方向外側へ傾斜した案内面を有しており、
前記受け面の前記洗浄液に対する濡れ性が前記案内面の前記洗浄液に対する濡れ性よりも良く、
前記受け面に前記濡れ性を良くするための処理として粗面化処理が施されている、円筒体用保持体。
A cylinder holder that holds the cylinder washed with the cleaning liquid in an upright position.
A holding body main body inserted and arranged inside the cylinder from the lower end opening of the cylinder,
A receiving portion having a receiving surface for receiving the lower end of the cylindrical body in contact with the lower end is provided.
The receiving surface is arranged horizontally and
The upper end portion of the holding body main body portion has a guide surface inclined outward in the radial direction with respect to the downward direction for guiding the cylindrical body to an appropriate position.
The wettability of the receiving surface to the cleaning liquid is better than the wetting property of the guide surface to the cleaning liquid.
A holding body for a cylindrical body, wherein the receiving surface is subjected to a roughening treatment as a treatment for improving the wettability .
記案内面に前記粗面化処理が施されていない請求項1記載の円筒体用保持体。 The cylinder holder according to claim 1, wherein the guide surface is not roughened. 前記案内面を有する部位と前記受け面を有する部位とが分離可能に連結されている請求項1又は2記載の円筒体用保持体。 The holding body for a cylindrical body according to claim 1 or 2, wherein the portion having the guide surface and the portion having the receiving surface are separably connected. 前記保持体本体部と前記受け部が合成樹脂製である請求項1~3のいずれかに記載の円筒体用保持体。 The holding body for a cylindrical body according to any one of claims 1 to 3, wherein the holding body main body portion and the receiving portion are made of synthetic resin. 請求項1~4のいずれかに記載の保持体に円筒体としての感光ドラム基体を起立状に保持した状態で前記感光ドラム基体を洗浄液で洗浄し乾燥する、感光ドラムの製造方法。 A method for manufacturing a photosensitive drum, wherein the photosensitive drum substrate as a cylindrical body is held upright in the holding body according to any one of claims 1 to 4, and the photosensitive drum substrate is washed with a cleaning liquid and dried.
JP2017240279A 2017-12-15 2017-12-15 Method for manufacturing a holder for a cylindrical body and a photosensitive drum Active JP6998197B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017240279A JP6998197B2 (en) 2017-12-15 2017-12-15 Method for manufacturing a holder for a cylindrical body and a photosensitive drum

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017240279A JP6998197B2 (en) 2017-12-15 2017-12-15 Method for manufacturing a holder for a cylindrical body and a photosensitive drum

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019109276A JP2019109276A (en) 2019-07-04
JP6998197B2 true JP6998197B2 (en) 2022-01-18

Family

ID=67179591

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017240279A Active JP6998197B2 (en) 2017-12-15 2017-12-15 Method for manufacturing a holder for a cylindrical body and a photosensitive drum

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6998197B2 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006251227A (en) 2005-03-09 2006-09-21 Ricoh Co Ltd Drying device for component for electrophotographic apparatus and method for drying component for electrophotographic apparatus
JP2007083127A (en) 2005-09-20 2007-04-05 Fuji Xerox Co Ltd Coating apparatus
JP2012022130A (en) 2010-07-14 2012-02-02 Canon Inc Method for cleaning cylindrical substrate for electrophotography, and method for manufacturing cylindrical electrophotographic photoreceptor

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0518015Y2 (en) * 1987-11-16 1993-05-13
JPH04107257U (en) * 1991-02-26 1992-09-16 三田工業株式会社 drum support

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006251227A (en) 2005-03-09 2006-09-21 Ricoh Co Ltd Drying device for component for electrophotographic apparatus and method for drying component for electrophotographic apparatus
JP2007083127A (en) 2005-09-20 2007-04-05 Fuji Xerox Co Ltd Coating apparatus
JP2012022130A (en) 2010-07-14 2012-02-02 Canon Inc Method for cleaning cylindrical substrate for electrophotography, and method for manufacturing cylindrical electrophotographic photoreceptor

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019109276A (en) 2019-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4937886B2 (en) Combustion exhaust gas treatment equipment
US6802099B2 (en) Cleaning member and cylindrical cleaning element
JP2020027807A5 (en)
JP6998197B2 (en) Method for manufacturing a holder for a cylindrical body and a photosensitive drum
TW201903832A (en) Method of recycling substrate processing parts
KR101738089B1 (en) Electrodeposition coating method that generation of bubbles is prevented
KR20010049878A (en) Wet processing apparatus
TWI412630B (en) Surface treatment fixture
US10483126B2 (en) Semiconductor manufacturing apparatus and manufacturing method of semiconductor device
JP2019062018A (en) Substrate processing method, substrate processing apparatus and storage medium
TWI608189B (en) Gas purification device and gas purification method
JP2006147672A (en) Substrate rotation type treatment device
JP2010239026A (en) Substrate holding member and liquid treatment apparatus
JP6819568B2 (en) Manufacturing method of partially plated steel pipe and manufacturing method of inner surface coated steel pipe
JP2014022495A (en) Substrate processing apparatus
TWI701088B (en) Fixture and method for wet cleaning of electrostatic chuck
KR101358188B1 (en) Electrode of CVD chamber and method for recycling thereof
JP2007264166A (en) Optical component holder and optical component holding component
JP2018001132A (en) Oil hole cleaning method for oil holed drill
JP2005200214A (en) Substrate support body adapter system
JP3710293B2 (en) Retainer
JP3756211B2 (en) Manufacturing method of substrate for electrophotographic photosensitive member
KR200337984Y1 (en) A Jig for lens to partial vapor depositioning
JP2017204517A (en) Substrate cleaning device
JP7399452B2 (en) cleaning equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200925

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210806

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210817

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211014

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211207

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211220

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6998197

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350