JP6997495B1 - ピスタチオ選別装置 - Google Patents
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Abstract
Description
検査領域内の前記被選別物に対して、最大ピーク波長が345nm~390nmの範囲内にある紫外線を照射する照明装置と、
500nm~600nmの波長範囲の光を選択的に透過させる光学フィルタと、
前記被選別物から発光され前記光学フィルタを透過した蛍光の2次元的な強度分布を検知して、前記検査領域内の前記蛍光の2次元強度分布を示す2次元画像データを生成するセンサと、
前記2次元画像データに基づいて前記被選別物の良否を各別に判定する判定装置と、を備えていることを第1の特徴とするピスタチオ選別装置を提供する。
図1に示すように、本選別装置1は、検査領域IA内に配置された1または複数の被選別物10である殻付きピスタチオに対して紫外線を照射する照明装置11、照明装置11から照射された紫外線によって励起され被選別物10から発光される蛍光の所定の波長範囲の光を選択的に透過させる光学フィルタ12、光学フィルタ12を透過した蛍光の2次元的な強度分布を検知して、検査領域IA内の蛍光の2次元強度分布を示す2次元画像データDAを生成するセンサ13、及び、2次元画像データDAに基づいて被選別物10の良否を各別に判定する判定装置14を備えて構成されている。
480nm≦λ1<500nm、好ましくは、490nm≦λ1<500nm
500nm<λ2≦520nm、好ましくは、500nm<λ2≦510nm
580nm≦λ3<600nm、好ましくは、590nm≦λ3<600nm
600nm<λ4≦620nm、好ましくは、600nm<λ4≦610nm
判定装置14による判定処理手順の第1変形例(第2判定処理手順)について、図13に示すフローチャートを参照して説明する。尚、第2判定処理手順のステップの処理内容が、第1判定処理手順のステップの処理内容と同じ場合は、図13において、ステップ番号の右側の括弧内に第1判定処理手順におけるステップ番号を付記する。
判定装置14による判定処理手順の第2変形例(第3判定処理手順)について、図14に示すフローチャートを参照して説明する。尚、第3判定処理手順のステップの処理内容が、第1または第2判定処理手順のステップの処理内容と同じ場合は、図14において、ステップ番号の右側の括弧内に第1または第2判定処理手順におけるステップ番号を付記する。
判定装置14による判定処理手順の第3変形例(第4判定処理手順)について、図15に示すフローチャートを参照して説明する。
<第5実施形態>
第5実施形態の本選別装置2は、図16に示すように、検査領域IA内に配置された1または複数の被選別物10である殻付きピスタチオに対して紫外線を照射する照明装置21、照明装置21から照射された紫外線によって励起され被選別物10から発光される蛍光の所定の波長範囲の光を選択的に透過させる光学フィルタ22、光学フィルタ22を透過した蛍光の1次元的な強度分布を複数回繰り返して検知して、検査領域IA内の蛍光の2次元強度分布を示す2次元画像データDAを生成するセンサ23、及び、2次元画像データDAに基づいて被選別物10の良否を各別に判定する判定装置24を備えて構成されている。
第5実施形態では、本選別装置2を構成する照明装置21とセンサ23が、紫外線LEDとラインセンサで構成される場合を説明したが、第6実施形態では、本選別装置3を構成する照明装置31は、光源に紫外線半導体レーザを備えて構成されており、その発光波長は、第1及び第5実施形態で説明した照明装置11,21の最大ピーク波長と同じに設定されている。
第7実施形態の本選別装置4は、図18に示すように、第1乃至第4実施形態で説明した本選別装置1に、判定装置14によって不良品と判別された被選別物10を物理的に除去する除去装置40を追加して構成されている。本選別装置1については、既に第1乃至第4実施形態で詳細に説明しているので、重複する説明は省略する。以下、除去装置40について説明する。
(1)判定装置14による判定処理手順は、上記第1乃至第4実施形態で説明した第1及び第4判定処理手順に必ずしも限定されない。種々の処理手順の変更が可能である。
10: 被選別物(殻付きピスタチオ)
11,21: 照明装置(紫外線LED)
12,22: 光学フィルタ
13: センサ(エリアカメラ)
14,24: 判定装置
15: 暗箱(遮光部)
23: センサ(ラインセンサ)
31: 照明装置
32: 光源(紫外線半導体レーザ)
33: ポリゴンミラー
34,35: Fθレンズ
36: 反射ミラー
40: 除去装置
50: ピスタチオ選別装置のシステム
51: プロセッサ
52: 記憶装置
53: 出力インタフェース
54: LEDドライバ
55: 入力/出力インタフェース
56: ロボットインタフェース
57: 外部記憶インタフェース
58: 外部記憶装置
CB: コンベアベルト
D1: 判定処理手順で得られる種々のデータ
D2: 中心座標の座標データ(不良品座標)
DA: 2次元画像データ
IA: 検査領域
LB0~2: レーザ光
P1: 制御プログラム
P2: 判定処理プログラム
Claims (11)
- 1または複数の被選別物である殻付きピスタチオの殻に付着した蛍光物質を検出して前記被選別物の良否を各別に判定して選別するピスタチオ選別装置であって、
検査領域内の前記被選別物に対して、最大ピーク波長が345nm~390nmの範囲内にある紫外線を照射する照明装置と、
500nm~600nmの波長範囲の光を選択的に透過させる光学フィルタと、
前記被選別物から発光され前記光学フィルタを透過した蛍光の2次元的な強度分布を検知して、前記検査領域内の前記蛍光の2次元強度分布を示す2次元画像データを生成するセンサと、
前記2次元画像データに基づいて前記被選別物の良否を各別に判定する判定装置と、を備えていることを特徴とするピスタチオ選別装置。 - 前記検査領域を内部に構成するとともに、前記検査領域内への外部からの環境光の進入を遮断する遮光部を備えていることを特徴とする請求項1に記載のピスタチオ選別装置。
- 前記照明装置が、前記検査領域内の前記被選別物に対して、最大ピーク波長が350nm~375nmの範囲内にある紫外線を照射することを特徴とする請求項1または2に記載のピスタチオ選別装置。
- 前記判定装置が、前記2次元画像データに基づいて、前記被選別物の殻全体の面積と、前記被選別物の前記殻全体の存在範囲内における前記2次元画像データの各画素値で示される蛍光強度が所定の閾値以上の前記蛍光物質の付着面積との面積比に基づいて前記被選別物の良否を各別に判定するように構成されていることを特徴とする請求項1~3の何れか1項に記載のピスタチオ選別装置。
- 前記判定装置が、前記2次元画像データに基づいて、前記検査領域内における前記被選別物の殻全体の存在範囲内における、前記被選別物の前記2次元画像データの各画素値で示される蛍光強度の最大値に基づいて前記被選別物の良否を各別に判定するように構成されていることを特徴とする請求項1~3の何れか1項に記載のピスタチオ選別装置。
- 前記判定装置が、前記2次元画像データに基づいて、前記被選別物の殻全体の面積と、前記被選別物の前記殻全体の存在範囲内における前記2次元画像データの各画素値で示される蛍光強度が所定の閾値以上の前記蛍光物質の付着面積との面積比と、前記検査領域内における前記被選別物の前記殻全体の存在範囲内における、前記被選別物の前記2次元画像データの各画素値で示される蛍光強度の最大値とに基づいて前記被選別物の良否を各別に判定するように構成されていることを特徴とする請求項1~3の何れか1項に記載のピスタチオ選別装置。
- 前記判定装置が、前記2次元画像データに基づいて、予め登録した幾何学形状とのパターンマッチングを実施して、前記被選別物の外縁を前記幾何学形状で近似し、前記幾何学形状の面積を前記被選別物の前記殻全体の面積として算出するように構成されていることを特徴とする請求項4または6に記載のピスタチオ選別装置。
- 前記判定装置が、前記2次元画像データに基づいて、予め登録した幾何学形状とのパターンマッチングを実施して、前記被選別物の外縁を前記幾何学形状で近似し、前記検査領域内における前記幾何学形状の存在範囲を前記被選別物の前記殻全体の存在範囲として算出するように構成されていることを特徴とする請求項5または6に記載のピスタチオ選別装置。
- 前記検査領域内に前記被選別物が複数存在する場合において、前記判定装置が、前記2次元画像データに基づいて、前記検査領域から不良品と判別され得る前記被選別物の存在し得ない範囲を除外した処理範囲を特定し、前記処理範囲内において前記パターンマッチングを実施することを特徴とする請求項7または8に記載のピスタチオ選別装置。
- 前記判定装置が、不良品と判別された前記被選別物の前記検査領域内での位置を示す2次元座標の不良品座標として、当該被選別物の外縁を近似した幾何学形状の中心の2次元座標を算出するように構成されていることを特徴とする請求項1~9の何れか1項に記載のピスタチオ選別装置。
- 前記判定装置が、不良品と判別された前記被選別物の前記検査領域内での位置を示す2次元座標を不良品座標として算出するように構成されており、
前記判定装置が算出した前記不良品座標に基づいて、前記不良品と判別された前記被選別物を除去する除去装置を備えることを特徴とする請求項1~10の何れか1項に記載のピスタチオ選別装置。
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