JP6988772B2 - Method for producing tetraalkenylsilane - Google Patents

Method for producing tetraalkenylsilane Download PDF

Info

Publication number
JP6988772B2
JP6988772B2 JP2018213723A JP2018213723A JP6988772B2 JP 6988772 B2 JP6988772 B2 JP 6988772B2 JP 2018213723 A JP2018213723 A JP 2018213723A JP 2018213723 A JP2018213723 A JP 2018213723A JP 6988772 B2 JP6988772 B2 JP 6988772B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
general formula
tetraalkenylsilane
producing
represented
grignard compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018213723A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2020079219A (en
Inventor
泰文 久保田
孝之 本間
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2018213723A priority Critical patent/JP6988772B2/en
Publication of JP2020079219A publication Critical patent/JP2020079219A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6988772B2 publication Critical patent/JP6988772B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、テトラアルケニルシランの製造方法に関し、さらに詳述すると、デンドリマー化合物の前駆体、シランカップリング剤の原料等として有用であるテトラアルケニルシランの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing tetraalkenylsilane, and more specifically to a method for producing tetraalkenylsilane, which is useful as a precursor of a dendrimer compound, a raw material for a silane coupling agent, and the like.

テトラアルケニルシランは、ヒドロシリル化反応可能なアルケニル基を分子内に4つ有していることから、ヒドロシリル化反応を利用したデンドリマー化合物の前駆体として利用できることが知られている(非特許文献1)。
このテトラアルケニルシランの製造方法としては、従来、テトラクロロシランにアルケニルグリニャール化合物を4当量反応させる方法が知られている(特許文献1、非特許文献2)。
Since tetraalkenylsilane has four alkenyl groups capable of hydrosilylation reaction in the molecule, it is known that it can be used as a precursor of a dendrimer compound utilizing a hydrosilylation reaction (Non-Patent Document 1). ..
As a method for producing this tetraalkenylsilane, a method of reacting tetrachlorosilane with an alkenyl Grignard compound in an amount of 4 equivalents is conventionally known (Patent Document 1 and Non-Patent Document 2).

特開2018−52918号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-52218

B. Boury, et al Chem. Mater. 1998, 10, 1795-1804.B. Boury, et al Chem. Mater. 1998, 10, 1795-1804. J. Chem. Soc., Chem. Commun., 1992, 1400-1401.J. Chem. Soc., Chem. Commun., 1992, 1400-1401.

しかし、グリニャール化合物は、一般的にTHF等のエーテル系溶媒を300〜500ml/mol用いて製造され、溶液として反応に用いられる。
したがって、非特許文献2記載の4当量のグリニャール化合物を用いてテトラアルケニルシランを製造する場合は、大量の溶媒が必要であり、反応機単位体積当たりの収量が低いという問題がある。
また、特許文献1でも、4当量のグリニャール化合物を用いて反応するため溶媒量が多いという問題がある。しかも、グリニャール合成反応後に、溶媒置換を行ったり、ハロシランとの反応後の後処理に濾過を行ったり等するため、製造工程が煩雑になり、生産性が悪いという問題がある。
However, Grignard compounds are generally produced using an ether solvent such as THF at 300 to 500 ml / mol and used as a solution in the reaction.
Therefore, when tetraalkenylsilane is produced using 4 equivalents of the Grignard compound described in Non-Patent Document 2, a large amount of solvent is required, and there is a problem that the yield per unit volume of the reactor is low.
Further, Patent Document 1 also has a problem that the amount of solvent is large because the reaction is carried out using 4 equivalents of Grignard compound. Moreover, since solvent substitution is performed after the Grignard synthesis reaction, filtration is performed for post-treatment after the reaction with halosilane, and the like, the production process becomes complicated and there is a problem that productivity is poor.

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、反応機単位体積当たりの生産効率が改善された、効率のよいテトラアルケニルシランの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an efficient method for producing tetraalkenylsilane with improved production efficiency per reactor unit volume.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を行った結果、アルケニルトリハロシランおよびアルケニルグリニャール試薬を原料として用いることで、従来の製造方法に比較して、反応機単位体積当たりの生産効率を改善でき、効率よくテトラアルケニルシランを製造できることを見出し、本発明を完成した。 As a result of diligent studies to achieve the above object, the present inventors have used alkenyltrihalosilane and alkenylGrinard reagent as raw materials to produce per unit volume of the reactor as compared with the conventional production method. We have found that efficiency can be improved and tetraalkenylsilane can be efficiently produced, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、
1. 下記一般式(1)

Figure 0006988772
(式中、Xは、ハロゲン原子を表し、nは0〜16の整数を表す。)
で表されるアルケニルトリハロシランと、
下記一般式(2)
Figure 0006988772
(式中、Xおよびnは、前記と同じ意味を表す。)
で表されるグリニャール化合物とを反応させることを特徴とする、下記一般式(3)
Figure 0006988772
(式中、nは、前記と同じ意味を表す。)
で表されるテトラアルケニルシランの製造方法、
2. 前記一般式(2)で表されるグリニャール化合物に、前記一般式(1)で表されるアルケニルトリハロシランを添加して反応させる1のテトラアルケニルシランの製造方法、
3. 前記一般式(1)で表されるアルケニルトリハロシランが、ビニルトリハロシランまたはアリルトリハロシランである1または2のテトラアルケニルシランの製造方法、
4. 前記一般式(2)で表されるグリニャール化合物が、ビニルグリニャール化合物またはアリルグリニャール化合物である1または2のテトラアルケニルシランの製造方法
を提供する。 That is, the present invention
1. 1. The following general formula (1)
Figure 0006988772
(In the equation, X represents a halogen atom and n represents an integer from 0 to 16.)
Alkenyl trihalosilane represented by
The following general formula (2)
Figure 0006988772
(In the formula, X and n have the same meanings as described above.)
The following general formula (3), which comprises reacting with a Grignard compound represented by
Figure 0006988772
(In the formula, n has the same meaning as described above.)
Method for producing tetraalkenylsilane represented by,
2. 2. The method for producing tetraalkenylsilane (1), wherein the Grignard compound represented by the general formula (2) is reacted by adding an alkenyltrihalosilane represented by the general formula (1).
3. 3. The method for producing 1 or 2 tetraalkenylsilanes in which the alkenyltrihalosilane represented by the general formula (1) is vinyltrihalosilane or allyltrihalosilane.
4. Provided is a method for producing 1 or 2 tetraalkenylsilane in which the Grignard compound represented by the general formula (2) is a vinyl Grignard compound or an allyl Grignard compound.

本発明によれば、従来の製造方法に比較して、反応機単位体積あたりの生産効率が改善された、効率的なテトラアルケニルシランの製造方法を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide an efficient method for producing tetraalkenylsilane, which has improved production efficiency per reactor unit volume as compared with the conventional production method.

以下、本発明について具体的に説明する。
本発明に係る下記一般式(3)で表されるテトラアルケニルシランの製造方法は、下記一般式(1)で表されるアルケニルトリハロシランと、下記一般式(2)で表されるグリニャール試薬とを反応させることを特徴とする。
Hereinafter, the present invention will be specifically described.
The method for producing a tetraalkenylsilane represented by the following general formula (3) according to the present invention includes an alkenyltrihalosilane represented by the following general formula (1) and a Grignard reagent represented by the following general formula (2). It is characterized by reacting.

Figure 0006988772
Figure 0006988772

上記一般式(1)において、Xは、ハロゲン原子を表し、nは、0〜16の整数、好ましくは0〜8、より好ましくは0〜3、さらに好ましくは0または1の整数を表す。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、塩素原子が好ましい。
一方、上記一般式(2)において、Xは、ハロゲン原子を表し、nは、0〜16の整数、好ましくは0〜8、より好ましくは0〜3、さらに好ましくは0または1の整数を表す。ハロゲン原子としては、上記と同様のものが挙げられる。
なお、一般式(1)および(2)におけるXは、それぞれ同一でも異なっていてもよく、また、一般式(1)および(2)におけるnも、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
In the above general formula (1), X represents a halogen atom, and n represents an integer of 0 to 16, preferably 0 to 8, more preferably 0 to 3, and even more preferably an integer of 0 or 1.
Examples of the halogen atom include a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a chlorine atom is preferable.
On the other hand, in the above general formula (2), X represents a halogen atom, and n represents an integer of 0 to 16, preferably 0 to 8, more preferably 0 to 3, and even more preferably an integer of 0 or 1. .. Examples of the halogen atom include the same as above.
The X in the general formulas (1) and (2) may be the same or different, and the n in the general formulas (1) and (2) may be the same or different, respectively.

一般式(1)で表される化合物の具体例としては、ビニルトリクロロシラン、アリルトリクロロシラン、1−ブテニルトリクロロシラン、1−ヘキセニルトリクロロシラン、1−デセニルトリクロロシラン、1−オクタデセニルトリクロロシラン、ビニルトリブロモシラン、アリルトリブロモシラン、1−ブテニルトリブロモシラン、1−ヘキセニルトリブロモシラン、1−デセニルトリブロモシラン、1−オクタデセニルトリブロモシラン、ビニルトリヨードシラン、アリルトリヨードシラン、1−ブテニルトリヨードシラン、1−ヘキセニルトリヨードシラン、1−デセニルトリヨードシラン、1−オクタデセニルトリヨードシラン等が挙げられる。これらの中でも、ビニルトリクロロシラン、アリルトリクロロシランを用いることが好ましい。 Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include vinyltrichlorosilane, allyltrichlorosilane, 1-butenyltrichlorosilane, 1-hexenyltrichlorosilane, 1-decenyltrichlorosilane, and 1-octadecenyltri. Chlorosilane, vinyltribromosilane, allyltribromosilane, 1-butenyltribromosilane, 1-hexenyltribromosilane, 1-decenyltribromosilane, 1-octadecenyltribromosilane, vinyltriiodosilane, allyl Examples thereof include triiodosilane, 1-butenyl triiodosilane, 1-hexenyl triiodosilane, 1-decenyl triiodosilane, 1-octadecenyl triiodosilane and the like. Among these, vinyltrichlorosilane and allyltrichlorosilane are preferably used.

ここで、アリルトリハロシランは、アリルクロライドとトリハロシランの縮合反応により、また、ビニルトリハロシランは、アセチレンとトリハロシランのヒドロシリル化反応により、nが2〜16のアルケニルトリハロシラン類は、両末端アルカジエン類とトリハロシランのヒドロシリル化反応により、それぞれ製造することができる。 Here, allyltrihalosilane is produced by a condensation reaction of allylchloride and trihalosilane, vinyltrihalosilane is produced by a hydrosilylation reaction of acetylene and trihalosilane, and alkenyltrihalosilanes having n of 2 to 16 are alkazienes at both ends. It can be produced by hydrosilylation reaction of class and trihalosilane.

一般式(2)で表されるグリニャール化合物の具体例としては、ビニルマグネシウムクロライド、アリルマグネシウムクロライド、1−ブテニルマグネシウムクロライド、1−ヘキセニルマグネシウムクロライド、1−デセニルマグネシウムクロライド、1−ウンデセニルマグネシウムクロライド、ビニルマグネシウムブロマイド、アリルマグネシウムブロマイド、1−ブテニルマグネシウムブロマイド、1−ヘキセニルマグネシウムブロマイド、1−デセニルマグネシウムブロマイド、1−ウンデセニルマグネシウムブロマイド、ビニルマグネシウムアイオダイド、アリルマグネシウムアイオダイド、1−ブテニルマグネシウムアイオダイド、1−ヘキセニルマグネシウムアイオダイド、1−デセニルマグネシウムアイオダイド、1−ウンデセニルマグネシウムアイオダイド等が挙げられる。 Specific examples of the glignal compound represented by the general formula (2) include vinylmagnesium chloride, allylmagnesium chloride, 1-butenylmagnesium chloride, 1-hexenylmagnesium chloride, 1-decenylmagnesium chloride, and 1-undese. Nylmagnesium chloride, vinylmagnesium bromide, allylmagnesium bromide, 1-butenylmagnesium bromide, 1-hexenylmagnesium bromide, 1-decenylmagnesium bromide, 1-undecenylmagnesium bromide, vinylmagnesium iodide, allylmagnesium iodide , 1-butenyl magnesium iodide, 1-hexenyl magnesium iodide, 1-decenyl magnesium iodide, 1-undecenyl magnesium iodide and the like.

本発明で用いるグリニャール化合物は、対応するハロゲン化物とマグネシウム金属とから、THFやジエチルエーテル、ジブチルエーテル等を溶媒として用いて製造できる。溶媒の使用量は、ハロゲン化物1モルに対し、好ましくは200〜700ml、より好ましくは300〜500mlである。 The Grignard compound used in the present invention can be produced from the corresponding halide and magnesium metal by using THF, diethyl ether, dibutyl ether or the like as a solvent. The amount of the solvent used is preferably 200 to 700 ml, more preferably 300 to 500 ml, relative to 1 mol of the halide.

上記一般式(1)のアルケニルトリハロシランと、一般式(2)のグリニャール化合物とを反応させて製造される一般式(3)で表されるテトラアルケニルシランの具体例としては、テトラビニルシラン、テトラアリルシラン、テトラ(1−ブテニルシラン)、テトラ(1−ヘキセニルシラン)等が挙げられる。 Specific examples of the tetraalkenylsilane represented by the general formula (3) produced by reacting the alkenyltrihalosilane of the general formula (1) with the glinal compound of the general formula (2) include tetravinylsilane and tetra. Examples thereof include allylsilane, tetra (1-butenylsilane), tetra (1-hexenylsilane) and the like.

上記一般式(1)のアルケニルトリハロシランと、一般式(2)のグリニャール化合物の反応は、アルケニルトリハロシランとグリニャール化合物を混合することで行われるが、この際、アルケニルトリハロシラン中にグリニャール化合物を添加して反応してもよく、グリニャール化合物中にアルケニルトリハロシランを添加して行ってもよい。
特に、対応するハロゲン化物とマグネシウム金属とから製造したグリニャール化合物溶液中にアルケニルトリハロシランを添加して行うことが好ましく、この手法によれば、1つの反応機で一連の反応を行うことができる。
なお、上記反応は、グリニャール化合物を製造する際に用いた溶媒のみで行うこともできるが、トルエンやキシレン等の溶媒をさらに添加して行ってもよい。
The reaction between the alkenyltrihalosilane of the general formula (1) and the glignal compound of the general formula (2) is carried out by mixing the alkenyltrihalosilane and the glignal compound, and at this time, the glignal compound is contained in the alkenyltrihalosilane. It may be added and reacted, or alkenyltrihalosilane may be added to the glignal compound.
In particular, it is preferable to add alkenyltrihalosilane to a Grignard compound solution prepared from the corresponding halide and magnesium metal, and according to this method, a series of reactions can be carried out with one reactor.
Although the above reaction can be carried out only with the solvent used for producing the Grignard compound, a solvent such as toluene or xylene may be further added.

本発明の製造方法において、グリニャール化合物の使用量は、アルケニルトリハロシラン1モルに対して、好ましくは2.8〜5.0モル、より好ましくは3.0〜4.0モルである。未反応のハロシランが残った場合に収率が低下することから、3.0モル以上用いることが好ましい。
上記反応温度は、特に制限されないが、常圧または加圧下で、好ましくは0〜200℃、より好ましくは20〜150℃であり、反応時間も特に制限されないが、好ましくは1〜30時間、より好ましくは1〜20時間である。
In the production method of the present invention, the amount of the glignal compound used is preferably 2.8 to 5.0 mol, more preferably 3.0 to 4.0 mol, based on 1 mol of the alkenyltrihalosilane. Since the yield decreases when unreacted halosilane remains, it is preferable to use 3.0 mol or more.
The reaction temperature is not particularly limited, but is preferably 0 to 200 ° C., more preferably 20 to 150 ° C. under normal pressure or pressure, and the reaction time is not particularly limited, but is preferably 1 to 30 hours. It is preferably 1 to 20 hours.

上記一般式(1)のアルケニルトリハロシランと、上記一般式(2)のグリニャール化合物を反応させて、上記一般式(3)のテトラアルケニルシランを製造する際には、副生物としてマグネシウム塩が精製する。副生するマグネシウム塩は、水を添加して溶解し、分液により除去してもよく、濾過により除去してもよいが、工程が簡略なことから、水を添加してマグネシウム塩を溶解し、分液により除去する手法が好ましい。
分液後のテトラアルケニルシランを含む溶液は、蒸留により精製することが好ましい。蒸留は、製造するテトラアルケニルシランの沸点に応じて、常圧または減圧下で行うことができる。
When the alkenyltrihalosilane of the general formula (1) is reacted with the Grignard compound of the general formula (2) to produce the tetraalkenylsilane of the general formula (3), the magnesium salt is purified as a by-product. do. The magnesium salt produced as a by-product may be dissolved by adding water and removed by liquid separation, or may be removed by filtration. However, since the process is simple, water is added to dissolve the magnesium salt. , A method of removing by liquid separation is preferable.
The solution containing tetraalkenylsilane after liquid separation is preferably purified by distillation. Distillation can be carried out under normal pressure or reduced pressure depending on the boiling point of the tetraalkenylsilane to be produced.

以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

[実施例1]
2Lの4つ口フラスコに、撹拌機、冷却管、温度計、ガス吹き込み管を取り付け、マグネシウム76.5g(3.15mol)とTHF1008mlを仕込み、35〜45℃に温調しながら、ビニルクロライドを6.5時間で吹き込み、同温度で1時間熟成すると、マグネシウムが消失し、ビニルマグネシウムクロライドのTHF溶液が得られた。ビニルクロライドの吹き込み量は、412.5gであった。
得られたビニルマグネシウムクロライドのTHF溶液に、20〜50℃でビニルトリクロロシラン161.5g(1.0mol)を3時間かけて滴下した後、還流温度に昇温して1時間熟成した。得られた反応液を室温まで冷却した後、水550gを添加して副生したマグネシウム塩を溶解し、分液により除去した。得られた有機層を、減圧下に蒸留して、テトラビニルシラン104.3g(0.765mol)を得た。収率は、76.5%であった。
[Example 1]
A stirrer, a cooling tube, a thermometer, and a gas blowing tube are attached to a 2 L 4-necked flask, and 76.5 g (3.15 mol) of magnesium and 1008 ml of THF are charged, and vinyl chloride is added while controlling the temperature at 35 to 45 ° C. After blowing in for 6.5 hours and aging at the same temperature for 1 hour, magnesium disappeared and a THF solution of vinylmagnesium chloride was obtained. The amount of vinyl chloride blown was 412.5 g.
161.5 g (1.0 mol) of vinyltrichlorosilane was added dropwise to the obtained THF solution of vinylmagnesium chloride at 20 to 50 ° C. over 3 hours, and then the temperature was raised to a reflux temperature and aged for 1 hour. After cooling the obtained reaction solution to room temperature, 550 g of water was added to dissolve the magnesium salt produced as a by-product, and the solution was removed by separation. The obtained organic layer was distilled under reduced pressure to obtain 104.3 g (0.765 mol) of tetravinylsilane. The yield was 76.5%.

[比較例1]
3Lの4つ口フラスコに、撹拌機、冷却管、温度計、ガス吹き込み管を取り付け、マグネシウム102.1g(4.2mol)とTHF1344mlを仕込み、35〜45℃に温調しながら、ビニルクロライドを6.5時間で吹き込み、同温度で1時間熟成すると、マグネシウムが消失し、ビニルマグネシウムクロライドのTHF溶液が得られた。ビニルクロライドの吹き込み量は、560.2gであった。
得られたビニルマグネシウムクロライドのTHF溶液に、20〜50℃でテトラクロロシラン169.9g(1.0mol)を3時間かけて滴下した。途中で撹拌困難となったため、THF126mlを追加した。滴下終了後、還流温度に昇温して1時間熟成した。得られた反応液を室温まで冷却した後、水740gを添加して副生したマグネシウム塩を溶解し、分液により除去した。得られた有機層を、減圧下に蒸留して、テトラビニルシラン84.5g(0.62mol)を得た。収率は、62.0%であった。
ビニルトリクロロシランを原料として用いた場合に比較して、使用溶媒量、塩溶解のための水の量が多く、単位体積あたりの収量は低くなった。
[Comparative Example 1]
A stirrer, a cooling tube, a thermometer, and a gas blowing tube are attached to a 3 L 4-necked flask, and 102.1 g (4.2 mol) of magnesium and 1344 ml of THF are charged, and vinyl chloride is added while controlling the temperature at 35 to 45 ° C. After blowing in for 6.5 hours and aging at the same temperature for 1 hour, magnesium disappeared and a THF solution of vinylmagnesium chloride was obtained. The amount of vinyl chloride blown was 560.2 g.
169.9 g (1.0 mol) of tetrachlorosilane was added dropwise to the obtained THF solution of vinylmagnesium chloride at 20 to 50 ° C. over 3 hours. Since it became difficult to stir on the way, 126 ml of THF was added. After completion of the dropping, the temperature was raised to the reflux temperature and the mixture was aged for 1 hour. After cooling the obtained reaction solution to room temperature, 740 g of water was added to dissolve the magnesium salt produced as a by-product, and the solution was removed by separation. The obtained organic layer was distilled under reduced pressure to obtain 84.5 g (0.62 mol) of tetravinylsilane. The yield was 62.0%.
Compared with the case where vinyltrichlorosilane was used as a raw material, the amount of solvent used and the amount of water for salt dissolution were large, and the yield per unit volume was low.

[実施例2]
2Lの4つ口フラスコに、撹拌機、冷却管、温度計、滴下ロートを取り付け、マグネシウム76.5g(3.15mol)とTHF1008mlを仕込み、50〜65℃に温調しながら、アリルトリクロロシラン175.5g(1.0mol)と塩化アリル241.0g(3.15mol)の混合液を6時間で滴下し、還流下で3時間熟成した。得られた反応液を室温まで冷却した後、水550gを添加して副生したマグネシウム塩を溶解し、分液により除去した。得られた有機層を、減圧下に蒸留して、テトラアリルシランを136.6g(0.71mol)得た。収率は、71.0%であった。
[Example 2]
A stirrer, a condenser, a thermometer, and a dropping funnel are attached to a 2 L 4-necked flask, and 76.5 g (3.15 mol) of magnesium and 1008 ml of THF are charged, and allyltrichlorosilane 175 is adjusted to 50 to 65 ° C. A mixed solution of .5 g (1.0 mol) and 241.0 g (3.15 mol) of allyl chloride was added dropwise over 6 hours and aged under reflux for 3 hours. After cooling the obtained reaction solution to room temperature, 550 g of water was added to dissolve the magnesium salt produced as a by-product, and the solution was removed by separation. The obtained organic layer was distilled under reduced pressure to obtain 136.6 g (0.71 mol) of tetraallylsilane. The yield was 71.0%.

Claims (4)

下記一般式(1)
Figure 0006988772
(式中、Xは、ハロゲン原子を表し、nは0〜16の整数を表す。)
で表されるアルケニルトリハロシランと、
下記一般式(2)
Figure 0006988772
(式中、Xは、ハロゲン原子を表し、nは、式(1)と同一であり、0〜16の整数を表す。)
で表されるグリニャール化合物とを反応させることを特徴とする、下記一般式(3)
Figure 0006988772
(式中、nは、全て同一であり、0〜16の整数を表す。)
で表されるテトラアルケニルシランの製造方法。
The following general formula (1)
Figure 0006988772
(In the equation, X represents a halogen atom and n represents an integer from 0 to 16.)
Alkenyl trihalosilane represented by
The following general formula (2)
Figure 0006988772
(In the formula, X represents a halogen atom, n is the same as formula (1), and represents an integer of 0 to 16.)
The following general formula (3), which comprises reacting with a Grignard compound represented by
Figure 0006988772
(In the formula, n is all the same and represents an integer from 0 to 16.)
A method for producing tetraalkenylsilane represented by.
前記一般式(2)で表されるグリニャール化合物に、前記一般式(1)で表されるアルケニルトリハロシランを添加して反応させる請求項1記載のテトラアルケニルシランの製造方法。 The method for producing tetraalkenylsilane according to claim 1, wherein the Grignard compound represented by the general formula (2) is reacted by adding the alkenyltrihalosilane represented by the general formula (1). 前記一般式(1)で表されるアルケニルトリハロシランが、ビニルトリハロシランまたはアリルトリハロシランである請求項1または2記載のテトラアルケニルシランの製造方法。 The method for producing a tetraalkenylsilane according to claim 1 or 2, wherein the alkenyltrihalosilane represented by the general formula (1) is a vinyltrihalosilane or an allyltrihalosilane. 前記一般式(2)で表されるグリニャール化合物が、ビニルグリニャール化合物またはアリルグリニャール化合物である請求項1または2記載のテトラアルケニルシランの製造方法。 The method for producing tetraalkenylsilane according to claim 1 or 2, wherein the Grignard compound represented by the general formula (2) is a vinyl Grignard compound or an allyl Grignard compound.
JP2018213723A 2018-11-14 2018-11-14 Method for producing tetraalkenylsilane Active JP6988772B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018213723A JP6988772B2 (en) 2018-11-14 2018-11-14 Method for producing tetraalkenylsilane

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018213723A JP6988772B2 (en) 2018-11-14 2018-11-14 Method for producing tetraalkenylsilane

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020079219A JP2020079219A (en) 2020-05-28
JP6988772B2 true JP6988772B2 (en) 2022-01-05

Family

ID=70801453

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018213723A Active JP6988772B2 (en) 2018-11-14 2018-11-14 Method for producing tetraalkenylsilane

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6988772B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111718366A (en) * 2020-07-16 2020-09-29 苏州矽索新材料有限公司 Preparation method of tetravinylsilane
CN114573626A (en) * 2020-12-02 2022-06-03 张家港市国泰华荣化工新材料有限公司 Synthesis method of tetravinyl silane
CN114478611B (en) * 2022-02-15 2024-01-12 河北圣泰材料股份有限公司 Synthesis method of tetraethylene silane

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050191503A1 (en) * 2004-02-27 2005-09-01 Jones Brian A. Polycarbosilane treatment of substrates
JP4666941B2 (en) * 2004-04-20 2011-04-06 独立行政法人科学技術振興機構 Novel sugar chain-supporting carbosilane dendrimer, method for producing the same, and dengue virus infection inhibitor, antiviral agent and anti-HIV agent target substance for screening
CN1312160C (en) * 2005-05-23 2007-04-25 南京工业大学 Process for preparing allyl silicane

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020079219A (en) 2020-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6988772B2 (en) Method for producing tetraalkenylsilane
JP5902572B2 (en) Method for producing halogenated cyclic silane compound having silicon-halogen bond or salt thereof
EP3275886B1 (en) Method for producing dialkylaminosilane
TW201233680A (en) Method for preparing purified aminosilane
JP2008143855A (en) Method for producing aminoalkylsilane compound
JP2014525409A5 (en)
JPH0786115B2 (en) Method for producing halogenated silane containing tertiary hydrocarbon group
JP6906424B2 (en) Manufacturing method of aminosilanes
JPS63250388A (en) Production of monoalkoxysilane compound
JP2020522576A (en) Method for producing halosiloxane
JP2002167391A (en) Manufacturing method of organic silane
JPH11236390A (en) Production of alkoxyslane
KR100371312B1 (en) Preparation of alkyl(amino) dialkoxysilanes
JP6265431B2 (en) Process for producing alkoxyhalosilane compound
JP4178369B2 (en) Method for producing silyl (meth) acrylate compound
JP2867118B2 (en) Method for producing silicon compound
JPS62192389A (en) 1,1-dichloro-1,2,2,-trimethyl-2-phenyldisilane and production thereof
JP6665437B2 (en) Method for producing tertiary alkyl silane and tertiary alkyl alkoxy silane
JP5896356B2 (en) Method for producing silicon compound
JP2005519013A (en) Preparation of mixed halogen halosilanes
JP6588320B2 (en) Cyclic halosilane compound and method for producing the same, and method for producing cyclic silane compound
JP4891536B2 (en) Method for producing aminoaryl group-containing organosilicon compound, and method for producing an intermediate thereof
JP2000327685A (en) Production of silylated aniline derivative
EP0234412A1 (en) 1,2-dichloro-1,2,2-trimethyl-1-phenyldisilane and method for producing the same
JP2799619B2 (en) Method for producing N, 0-bis (t-butyldimethylsilyl) trifluoroacetamide

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20201124

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210729

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210810

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211005

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211102

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211115

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6988772

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150