JP6965122B2 - Data processing equipment, measurement system and data processing program - Google Patents

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Description

本発明は、波形データの信号波形に放電波形成分が含まれているか否かを特定するための放電有無特定用データを生成するデータ処理装置およびデータ処理用プログラム、並びにそのようなデータ処理装置と波形データを生成する測定装置とを備えて構成された測定システムに関するものである。 The present invention includes a data processing device and a data processing program that generate data for specifying the presence or absence of discharge for specifying whether or not a discharge waveform component is included in the signal waveform of waveform data, and such a data processing device. It relates to a measurement system configured with a measuring device for generating waveform data.

例えば、下記の特許文献には、被測定コイルの良否を検査するコイル試験装置およびコイル試験方法(以下、単に「試験装置」および「試験方法」ともいう)が開示されている。この試験装置および試験方法では、被測定コイルに高圧インパルス電圧を印加して減衰振動電圧波形を発生させて諸特性(減衰振動時間、実効値、および測定値の絶対値の積分値等)を測定し、測定結果に基づいて被測定コイルの良否を判定する構成・方法が採用されている。具体的には、この試験装置および試験方法では、複数回の測定において測定結果がどの程度変動するかに基づいて「レアーショート不良」が生じているか否かを判定したり、測定結果と基準値とを比較して「コイル巻数不良」が生じているか否かを判定したりする構成・方法が採用されている。 For example, the following patent documents disclose a coil test device and a coil test method (hereinafter, also simply referred to as “test device” and “test method”) for inspecting the quality of the coil to be measured. In this test device and test method, a high-pressure impulse voltage is applied to the coil under test to generate a damped vibration voltage waveform, and various characteristics (damped vibration time, effective value, and integrated value of absolute values of measured values, etc.) are measured. However, a configuration / method for determining the quality of the coil to be measured based on the measurement result is adopted. Specifically, in this test device and test method, it is determined whether or not a "lear short defect" has occurred based on how much the measurement result fluctuates in a plurality of measurements, and the measurement result and the reference value are used. A configuration / method is adopted in which it is determined whether or not a "coil turn defect" has occurred by comparing with the above.

特開平6−88849号公報(第5−8頁、第1−5図)Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-88849 (Page 5-8, Fig. 1-5)

ところが、上記の特許文献に開示の試験装置および試験方法には、以下のような問題点が存在する。具体的には、上記特許文献に開示の試験装置および試験方法では、測定結果の変動幅の大きさに基づいて被測定コイルに「レアーショート不良」が生じているか否かを判定する構成が採用されている。 However, the test apparatus and test method disclosed in the above patent document have the following problems. Specifically, in the test apparatus and test method disclosed in the above patent document, a configuration is adopted in which it is determined whether or not a "rear short defect" has occurred in the coil to be measured based on the magnitude of the fluctuation range of the measurement result. Has been done.

この場合、この種の装置・方法による前述のような試験(測定)に際しては、測定対象や測定装置の温度、および測定装置に対して供給される電力の状態などの測定環境の変化に起因して測定結果にばらつきが生じることがある。このため、1つの測定対象に対する測定処理を複数回に亘って行ったときに、各測定処理毎の測定環境が相違する状態となって各測定処理毎の測定結果にばらつきが生じることがある。この結果、上記の特許文献に開示の試験装置および試験方法では、実際には「レアーショート不良」が生じていないにもかかわらず、測定環境の変化に起因して測定結果の変動幅が規定値を超えて、「レアーショート不良」が生じていると誤判定されるおそれがある。 In this case, in the above-mentioned test (measurement) using this type of device / method, it is caused by changes in the measurement environment such as the temperature of the measurement target and the measurement device, and the state of the power supplied to the measurement device. Therefore, the measurement results may vary. Therefore, when the measurement process for one measurement target is performed a plurality of times, the measurement environment for each measurement process may be different and the measurement result for each measurement process may vary. As a result, in the test apparatus and test method disclosed in the above patent document, the fluctuation range of the measurement result is a specified value due to the change in the measurement environment even though "rear short defect" does not actually occur. There is a risk that it will be erroneously determined that a "lear short defect" has occurred.

この場合、複数回の測定処理における測定結果の変動幅に基づく判定に代えて、「コイル巻数不良」の試験方法のように測定結果と基準値との差に基づいて「レアーショート不良」が生じているか否かを判定した場合においても、基準値を取得するための測定処理時と、良否判定対象の測定対象についての測定処理時とで測定環境が相違した場合には、測定結果が相違し、「レアーショート不良」の有無を誤判定するおそれがある。 In this case, instead of the judgment based on the fluctuation range of the measurement result in the multiple measurement processes, "rear short defect" occurs based on the difference between the measurement result and the reference value as in the test method of "coil turn failure". Even when it is judged whether or not it is, if the measurement environment is different between the measurement process for acquiring the reference value and the measurement process for the measurement target to be judged as good or bad, the measurement result is different. , There is a risk of erroneously determining the presence or absence of "rear short defect".

また、この種の装置・方法による前述のような試験(測定)においては、たとえ同種の測定対象(同じ型式の被測定コイル等)であっても、各個体毎に測定結果が僅かに相違するため、これらのばらつきを考慮した基準値を得るためには、複数個の良品の測定対象について複数回の測定処理を実行して最適値を特定する必要がある。この場合、複数個の良品の測定対象の個体差に起因する測定結果のばらつきの大きさが、1つの個体(いずれかの測定対象)に不良が生じているか否かによって生じる測定結果の相違量と同程度、或いはそれ以上となることもある。このため、正確な良否判定が可能な基準値の取得自体が困難となる。 Further, in the above-mentioned test (measurement) using this type of device / method, the measurement result is slightly different for each individual even if the measurement target is the same type (measured coil of the same type, etc.). Therefore, in order to obtain a reference value in consideration of these variations, it is necessary to execute a plurality of measurement processes on a plurality of non-defective product measurement targets to specify the optimum value. In this case, the amount of variation in the measurement results due to individual differences in the measurement targets of a plurality of non-defective products is the amount of difference in the measurement results caused by whether or not one individual (one of the measurement targets) is defective. May be as good as or better than. For this reason, it becomes difficult to obtain a reference value that enables accurate judgment of quality.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、基準値を取得する処理を別途行うことなく測定対象の良否を正確に判定可能なデータを提供し得るデータ処理装置およびデータ処理用プログラム、並びにそのようなデータ処理装置を備えて構成された測定システムを提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem, and is a data processing apparatus and a data processing program capable of providing data capable of accurately determining the quality of a measurement target without separately performing a process of acquiring a reference value. , As well as providing a measurement system configured with such a data processing device.

上記目的を達成すべく、請求項1記載のデータ処理装置は、予め規定されたサンプリング周期で測定された複数の測定値が記録されている波形データに基づき、当該波形データの信号波形に放電波形成分が含まれているか否かを特定するための放電有無特定用データを生成する処理部を備えたデータ処理装置であって、前記処理部は、前記放電波形成分が含まれているか否かの特定の基準となる測定値範囲の測定値範囲データと、当該測定値範囲との対比によって前記放電波形成分が含まれているか否かを特定可能な比較値データとを前記波形データに基づいて生成し、生成した当該測定値範囲データおよび当該比較値データを含めて前記放電有無特定用データを生成する処理において、前記波形データの前記各測定値のなかから連続するNサンプリング内(Nは、予め規定された2以上の自然数)の変化量が予め規定された量以上の第1の値を抽出して第1のデータを生成する第1の処理と、前記波形データの前記各測定値を、対象の当該測定値を含んで連続するMサンプリング分(Mは、予め規定された2以上の自然数)の当該測定値を平均化した第2の値にそれぞれ置き換えて第2のデータを生成する第2の処理と、前記第2のデータの前記各第2の値のなかから前記連続するNサンプリング内の変化量が前記予め規定された量以上の第3の値を抽出して第3のデータを生成する第3の処理と、前記第3のデータの前記各第3の値を絶対値化した第4の値を演算して第4のデータを生成する第4の処理と、前記波形データの前記各測定値を、対象の当該測定値を含んで連続するLサンプリング分(Lは、予め規定された2以上の自然数)の当該測定値を平均化した値に置き換えると共に置換え後の当該測定値を微分した第5の値を演算して第5のデータを生成する第5の処理と、前記第5のデータの前記各第5の値を微分した第6の値を演算して第6のデータを生成する第6の処理と、前記第6のデータの前記各第6の値の絶対値を正規化した第7の値を演算して第7のデータを生成する第7の処理と、前記第1のデータの前記各第1の値を絶対値化した第8の値を演算して第8のデータを生成する第8の処理と、2次元グラフの縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方に前記第4のデータの前記各第4の値を対応させると共に当該2次元グラフの縦軸および横軸の他方に当該各第4の値のサンプリングタイミングに対応する前記第7のデータの前記各第7の値を対応させて当該第4の値および当該第7の値の第1の対応点を当該2次元グラフ上にそれぞれプロットする第9の処理と、前記2次元グラフの前記縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方に前記第8のデータの前記各第8の値を対応させると共に当該2次元グラフの前記縦軸および横軸の他方に当該各第8の値のサンプリングタイミングに対応する前記第7のデータの前記各第7の値を対応させて当該第8の値および当該第7の値の第2の対応点を当該2次元グラフ上にそれぞれプロットしたときに前記放電波形成分の前記測定値に対応する当該第2の対応点がプロットされない第1の判定領域、および当該放電波形成分の当該測定値に対応する当該第2の対応点がプロットされる第2の判定領域の少なくとも一方の領域を、当該2次元グラフ上の前記各第1の対応点の配置に基づいて予め規定された領域規定手順に従って当該2次元グラフ上に前記測定値範囲として規定する第10の処理とを実行し、前記第10の処理によって規定した前記少なくとも一方の領域を特定可能な領域データを前記測定値範囲データとし、かつ、前記第7のデータおよび前記第8のデータを前記比較値データとして前記放電有無特定用データを生成するIn order to achieve the above object, the data processing apparatus according to claim 1 has a discharge waveform in the signal waveform of the waveform data based on waveform data in which a plurality of measured values measured in a predetermined sampling cycle are recorded. A data processing device including a processing unit that generates data for specifying the presence or absence of discharge for specifying whether or not a component is contained, and the processing unit determines whether or not the discharge waveform component is contained. Based on the waveform data, the measurement value range data of the measurement value range that serves as a specific reference and the comparison value data that can specify whether or not the discharge waveform component is included by comparison with the measurement value range are generated. Then, in the process of generating the discharge presence / absence identification data including the generated measurement value range data and the comparison value data, within N sampling continuous from each measurement value of the waveform data (N is in advance). The first process of extracting the first value in which the amount of change of (2 or more specified natural numbers) is equal to or more than the predetermined amount to generate the first data, and the measured values of the waveform data are described. A second data is generated by replacing the measured values of the continuous M sampling portion (M is a predetermined natural number of 2 or more) including the measured value of the target with the averaged second value. The third data is obtained by extracting a third value from the second values of the second data and the second data in which the amount of change in the continuous N sampling is equal to or greater than the predetermined amount. The third process of generating the third data, the fourth process of calculating the fourth value obtained by converting each third value of the third data into an absolute value, and generating the fourth data, and the waveform data. Each of the above-mentioned measurement values of the above is replaced with an averaged value of the measurement value of a continuous L sampling portion (L is a predetermined natural number of 2 or more) including the measurement value of the target, and the measurement after replacement. The fifth process of calculating the fifth value obtained by differentiating the values to generate the fifth data, and the sixth value obtained by differentiating the fifth value of the fifth data are calculated to generate the sixth value. The sixth process of generating the data of the above, and the seventh process of calculating the seventh value obtained by normalizing the absolute value of each of the sixth values of the sixth data to generate the seventh data. , The eighth process of calculating the eighth value obtained by absoluteizing each of the first values of the first data to generate the eighth data, and either the vertical axis or the horizontal axis of the two-dimensional graph. Correspond to each of the fourth values of the fourth data with one of the predetermined values, and sampling timing of each of the fourth values with the other of the vertical and horizontal axes of the two-dimensional graph. A ninth value in which the seventh value of the seventh data corresponding to the data is associated with the fourth value and the first corresponding point of the seventh value is plotted on the two-dimensional graph, respectively. The processing and the respective eighth values of the eighth data are made to correspond to one of the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph, whichever is predetermined, and the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph are associated with each other. On the other hand, the 7th value of the 7th data corresponding to the sampling timing of the 8th value is associated with the 8th value and the 2nd corresponding point of the 7th value. A first determination region in which the second corresponding point corresponding to the measured value of the discharge waveform component is not plotted when plotted on a two-dimensional graph, and the first determination area corresponding to the measured value of the discharge waveform component. At least one of the second determination regions on which the two corresponding points are plotted is plotted on the two-dimensional graph according to a predetermined region defining procedure based on the arrangement of the first corresponding points on the two-dimensional graph. The tenth process defined above as the measured value range is executed, and the area data that can identify at least one of the areas defined by the tenth process is used as the measured value range data, and the seventh process is performed. Data and the eighth data are used as the comparison value data to generate the discharge presence / absence identification data .

また、請求項記載のデータ処理装置は、請求項記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記第9の処理に先立ち、前記第5のデータの前記各第5の値の絶対値を最大値が1となるように正規化した第9の値を演算して第9のデータを生成すると共に、当該第9のデータの当該各第9の値に係数Ka(Kaは、予め規定された1以下の正数)を乗じた値と、当該各第9の値のサンプリングタイミングに対応する前記第7のデータの前記各第7の値とのいずれか大きい一方を新たな第7の値として新たな前記第7のデータを生成する第11の処理を実行する。 Further, the data processing apparatus according to claim 2 is the data processing apparatus according to claim 1 , wherein the processing unit is an absolute value of each fifth value of the fifth data prior to the ninth processing. The ninth value is calculated so that the maximum value is 1, and the ninth data is generated. At the same time, the coefficient Ka (Ka is defined in advance) is added to each of the ninth values of the ninth data. The value obtained by multiplying the value obtained by multiplying the positive number of 1 or less) and the 7th value of the 7th data corresponding to the sampling timing of the 9th value, whichever is larger, is the new 7th value. The eleventh process of generating the seventh data as a value is executed.

また、請求項記載のデータ処理装置は、請求項記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記第9の処理に先立ち、前記第7のデータの前記各第7の値を、対象の当該第7の値に対してJaサンプリング前(Jaは、予め規定された任意の自然数)の当該第7の値から当該対象の第7の値までの(Ja+1)個の当該第7の値、および当該対象の第7の値から当該対象の第7の値に対してJbサンプリング後(Jbは、予め規定された任意の自然数)の当該第7の値までの(Jb+1)個の当該第7の値の少なくとも一方を含む予め規定されたJc個(Jcは、予め規定された2以上の自然数)の当該第7の値のうちの最大値にそれぞれ置き換えて新たな前記第7のデータを生成する第12の処理を実行する。 Further, the data processing apparatus according to claim 3, wherein the data process unit according to claim 1, wherein the processing unit, prior to the ninth process, the respective seventh value of said seventh data, subject 7 values from the 7th value before Ja sampling (Ja is an arbitrary natural number defined in advance) to the 7th value of the target (Ja + 1) with respect to the 7th value of , And the (Jb + 1) number of the 7th value from the 7th value of the object to the 7th value after Jb sampling (Jb is an arbitrary natural number defined in advance) with respect to the 7th value of the object. The new seventh data is replaced with the maximum value of the seventh value of the predetermined Jc pieces (Jc is two or more predetermined natural numbers) including at least one of the values of 7. The twelfth process to be generated is executed.

また、請求項記載のデータ処理装置は、請求項記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記第9の処理に先立ち、前記第7のデータの前記各第7の値のうち、Iサンプリング前(Iは、予め規定された任意の自然数)の当該第7の値よりも小さい当該第7の値を、当該Iサンプリング前の第7の値よりも小さい当該第7の値と、当該Iサンプリング前の第7の値に係数Kb(Kbは、予め規定された1以下の正数)を乗じた第10の値とのいずれか大きい一方に置き換えて新たな前記第7のデータを生成する第13の処理を実行する。 Further, the data processing apparatus according to claim 4 is the data processing apparatus according to claim 1 , wherein the processing unit has, prior to the ninth processing, among the seventh values of the seventh data. The 7th value, which is smaller than the 7th value before I sampling (I is an arbitrary natural number defined in advance), is combined with the 7th value, which is smaller than the 7th value before I sampling. The new seventh data is replaced with the tenth value obtained by multiplying the seventh value before the I sampling by the coefficient Kb (Kb is a predetermined positive number of 1 or less), whichever is larger. The thirteenth process to be generated is executed.

さらに、請求項記載のデータ処理装置は、請求項からのいずれかに記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記第9の処理に先立ち、前記第7のデータの前記各第7の値のうちの最大値に対応する前記測定値よりも後にサンプリングされた前記測定値に対応する当該第7の値を、対象の当該第7の値に対してHaサンプリング前(Haは、予め規定された任意の自然数)の当該第7の値が、当該対象の当該第7の値を含んで連続するHbサンプリング分(Hbは、予め規定された2以上の自然数)の当該第7の値を平均化した値に係数Kc(Kcは、予め規定された任意の正数)を乗じた第11の値以下のときに、当該対象の第7の値と、前記Haサンプリング前の第7の値に予め規定された係数Kd(Kdは、Kcよりも大きい予め規定された任意の正数)を乗じた第12の値とのいずれか小さい一方に置き換えて新たな前記第7のデータを生成する第14の処理を実行する。 Further, the data processing apparatus according to claim 5 is the data processing apparatus according to any one of claims 1 to 4 , wherein the processing unit performs the first of the seventh data prior to the ninth processing. The 7th value corresponding to the measured value sampled after the measured value corresponding to the maximum value among the 7 values is set to the target 7th value before Ha sampling (Ha is The 7th value of the predetermined arbitrary natural number) is the 7th value of the continuous Hb sampling portion (Hb is 2 or more predetermined natural numbers) including the 7th value of the object. When the value is equal to or less than the 11th value obtained by multiplying the averaged value by the coefficient Kc (Kc is an arbitrary positive number defined in advance), the 7th value of the target and the 7th value before the Ha sampling are performed. The new seventh data is replaced with the twelfth value obtained by multiplying the value of by a predetermined coefficient Kd (Kd is an arbitrary positive number larger than Kc) and whichever is smaller. The 14th process to be generated is executed.

また、請求項記載のデータ処理装置は、請求項記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記第14の処理において、前記Haサンプリング前の第7の値が、前記Hbサンプリング分の第7の値を平均化した値に係数Ke(Keは、予め規定された任意の正数)を乗じた第13の値よりも小さいときに、当該対象の第7の値を当該第13の値に置き換える。 Further, the data processing apparatus according to claim 6, wherein the data process unit according to claim 5, wherein the processing unit, in the process of the first 14, the seventh value before the Ha sampling, the Hb samplings When it is smaller than the thirteenth value obtained by multiplying the averaged value of the seventh value by the coefficient Ke (Ke is an arbitrary positive number defined in advance), the seventh value of the object is the thirteenth value. Replace with a value.

さらに、請求項記載のデータ処理装置は、請求項からのいずれかに記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記第9の処理に先立ち、前記第7のデータの前記各第7の値のうちの最大値に対応する前記測定値よりも前にサンプリングされた前記測定値に対応する当該第7の値を、対象の当該第7の値と、当該対象の第7の値に対してHcサンプリング前(Hcは、予め規定された任意の自然数)の当該第7の値に係数Kf(Keは、予め規定された任意の正数)を乗じた第14の値とのいずれか大きい一方に置き換えて新たな前記第7のデータを生成する第15の処理を実行する。 Furthermore, the data processing apparatus according to claim 7, wherein the data process unit according to any one of claims 1 to 6, wherein the processing unit prior to the ninth process, first each of the seventh data The 7th value corresponding to the measured value sampled before the measured value corresponding to the maximum value among the 7 values is the 7th value of the target and the 7th value of the target. Which is the 14th value obtained by multiplying the 7th value before Hc sampling (Hc is an arbitrary natural number specified in advance) by the coefficient Kf (Ke is an arbitrary positive number specified in advance). The fifteenth process of generating the new seventh data by replacing it with one of the larger ones is executed.

また、請求項記載のデータ処理装置は、請求項記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記第15の処理において、前記対象の第7の値および前記第14の値の双方が、当該対象の第7の値を含んで連続するHdサンプリング分(Hdは、予め規定された2以上の自然数)の当該第7の値を平均化した値に係数Kg(Kgは、予め規定された任意の正数)を乗じた第15の値よりも小さいときに、当該対象の第7の値を当該第15の値に置き換える。 Further, the data processing device according to claim 8 is the data processing device according to claim 7 , and the processing unit uses both the seventh value and the fourteenth value of the target in the fifteenth process. , The coefficient Kg (Kg is predetermined) to the value obtained by averaging the 7th value of the continuous Hd sampling portion (Hd is a predetermined natural number of 2 or more) including the 7th value of the object. When it is smaller than the fifteenth value multiplied by any positive number), the seventh value of the object is replaced with the fifteenth value.

さらに、請求項記載のデータ処理装置は、請求項からのいずれかに記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記第10の処理において、前記2次元グラフの原点を通過する前記各第1の対応点の回帰直線を特定し、特定した当該回帰直線における当該2次元グラフの前記縦軸および横軸の他方の値が1のときの当該2次元グラフの前記縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方の値を第16の値として特定し、かつ、当該2次元グラフの原点、当該予め規定された一方の値が当該第16の値で当該他方の値が1の第1の点、および当該予め規定された一方の値が0で当該他方の値が1の第2の点の3点を頂点とする三角形領域を特定すると共に、特定した当該三角形領域に基づいて前記少なくとも一方の領域を規定する。 Further, the data processing apparatus according to claim 9 is the data processing apparatus according to any one of claims 1 to 8 , wherein the processing unit passes through the origin of the two-dimensional graph in the tenth process. The regression line of each first corresponding point is specified, and the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph when the other value of the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph in the specified regression line is 1. One of the predetermined values is specified as the 16th value, and the origin of the two-dimensional graph, the predetermined one value is the 16th value, and the other value is 1. A triangular region having the three points of the first point and the second point where the predetermined one value is 0 and the other value is 1 is specified, and based on the specified triangular region. At least one of the above areas is defined.

また、請求項10記載のデータ処理装置は、請求項記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記2次元グラフの前記縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方に前記第1のデータの前記各第1の値を対応させると共に当該2次元グラフの前記縦軸および横軸の他方に当該各第1の値のサンプリングタイミングに対応する前記第7のデータの前記各第7の値を対応させて当該第1の値および当該第7の値の第3の対応点を当該2次元グラフ上にそれぞれプロットすると共に、前記縦軸および横軸の他方の値が「0.5」以下の予め規定された第17の値以下である前記第3の対応点を抽出し、抽出した前記各第3の対応点における前記縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方の値の標準偏差nσ(nは、予め規定された任意の自然数)を演算すると共に、前記原点、前記第1の点、前記予め規定された一方の値が前記標準偏差nσと前記第16の値との和で前記他方の値が1の第3の点、および当該予め規定された一方の値が当該標準偏差nσで当該他方の値が0の第4の点の4点を頂点とする第1の矩形領域を特定し、特定した当該第1の矩形領域および前記三角形領域に基づいて前記少なくとも一方の領域を規定する。 The data processing apparatus according to claim 10 is the data processing apparatus according to claim 9 , wherein the processing unit is the first one of the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph, whichever is predetermined. Corresponds to the first value of the data of the above, and corresponds to the other of the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph of the seventh of the seventh data corresponding to the sampling timing of the first value. The first value and the third corresponding point of the seventh value are plotted on the two-dimensional graph by associating the values, and the other value on the vertical axis and the horizontal axis is "0.5". The third corresponding point, which is equal to or less than the following predetermined 17th value, is extracted, and the value of either the vertical axis or the horizontal axis at each of the extracted third corresponding points is defined in advance. The standard deviation nσ (n is an arbitrary natural number defined in advance) is calculated, and the origin, the first point, and one of the predetermined values are the standard deviation nσ and the 16th value. A first point having four points of the sum of the third point where the other value is 1 and the fourth point where the predetermined one value is the standard deviation nσ and the other value is 0. A rectangular region is specified, and at least one of the regions is defined based on the identified first rectangular region and the triangular region.

さらに、請求項11記載のデータ処理装置は、請求項からのいずれかに記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記第10の処理において、すべての前記第1の対応点が含まれる最小の方形領域を特定すると共に、特定した当該方形領域に基づいて前記少なくとも一方の領域を規定する。 Furthermore, the data processing apparatus according to claim 11, wherein the data process unit according to any one of claims 1 to 8, wherein the processing unit, in the process of the tenth, includes all of the first corresponding point The smallest square region is specified, and at least one of the regions is defined based on the specified square region.

さらに、請求項12記載のデータ処理装置は、請求項から11のいずれかに記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記放電有無特定用データに基づき、前記第2の対応点と前記少なくとも一方の領域との位置関係を特定して前記波形データの信号波形に前記放電波形成分が含まれているか否かを判定する判定処理を実行し、当該判定処理の判定結果を特定可能な判定結果データを生成する。 Further, the data processing apparatus according to claim 12 is the data processing apparatus according to any one of claims 1 to 11 , wherein the processing unit has the second corresponding point and the said based on the data for specifying the presence or absence of discharge. Judgment processing that specifies the positional relationship with at least one region and determines whether or not the discharge waveform component is included in the signal waveform of the waveform data is executed, and the determination result of the determination processing can be specified. Generate result data.

また、請求項13記載のデータ処理装置は、請求項12記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記第1の判定領域を前記少なくとも一方の領域とするときには前記第2の対応点の総数に占める当該第1の判定領域に含まれない当該第2の対応点の割合を特定すると共に、前記第2の判定領域を当該少なくとも一方の領域とするときには当該第2の対応点の総数に占める当該第2の判定領域に含まれる当該第2の対応点の割合を特定し、特定した割合が予め規定された割合以上のときに、予め規定された報知処理を実行する。 The data processing device according to claim 13 is the data processing device according to claim 12 , wherein the processing unit is the total number of the second corresponding points when the first determination area is at least one of the areas. When the ratio of the second corresponding point not included in the first determination area to the first determination area is specified and the second determination area is set to at least one of the areas, it occupies the total number of the second corresponding points. The ratio of the second corresponding point included in the second determination area is specified, and when the specified ratio is equal to or more than the predetermined ratio, the predetermined notification process is executed.

また、請求項14記載のデータ処理装置は、請求項12記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記2次元グラフを前記縦軸および横軸の他方の方向でGa個(Gaは、予め規定された2以上の自然数)に分割したGa個の第2の矩形領域を特定し、前記第1の判定領域を当該少なくとも一方の領域とするときには当該第1の判定領域以外の領域に当該第2の対応点が含まれている当該第2の矩形領域の数を特定すると共に、前記第2の判定領域を前記少なくとも一方の領域とするときには当該第2の判定領域に当該第2の対応点が含まれている前記第2の矩形領域の数を特定し、特定した数が予め規定された数以上のときに、予め規定された報知処理を実行する。 Further, the data processing apparatus according to claim 14 is the data processing apparatus according to claim 12 , wherein the processing unit displays the two-dimensional graph in the other direction of the vertical axis and the horizontal axis in advance. When Ga second rectangular regions divided into (defined two or more natural numbers) are specified and the first determination region is at least one of the regions, the region other than the first determination region is the first. When the number of the second rectangular regions including the corresponding points of 2 is specified and the second determination region is at least one of the regions, the second determination region is used as the second correspondence point. Is specified, and when the specified number is equal to or greater than the predetermined number, the predetermined notification process is executed.

さらに、請求項15記載のデータ処理装置は、請求項12から14のいずれかに記載のデータ処理装置において、前記処理部は、前記第2の対応点をプロットした前記2次元グラフと前記少なくとも一方の領域を示す領域表示とを前記判定処理の判定結果と共に表示部に表示させる。 Further, the data processing apparatus according to claim 15 is the data processing apparatus according to any one of claims 12 to 14 , wherein the processing unit has the two-dimensional graph in which the second corresponding points are plotted and at least one of the two-dimensional graphs. The area display indicating the area of is displayed on the display unit together with the determination result of the determination process.

また、請求項16記載の測定システムは、請求項1から15のいずれかに記載のデータ処理装置と、測定対象についての前記予め規定されたサンプリング周期での測定を実行して前記波形データを出力する測定装置とを備えて構成されている。 Further, the measurement system according to claim 16 executes measurement of the measurement target with the data processing device according to any one of claims 1 to 15 at the predetermined sampling cycle, and outputs the waveform data. It is configured to be equipped with a measuring device.

また、請求項17記載のデータ処理用プログラムは、予め規定されたサンプリング周期で測定された複数の測定値が記録されている波形データに基づき、当該波形データの信号波形に放電波形成分が含まれているか否かを特定するための放電有無特定用データを生成する処理をデータ処理装置の処理部に実行させるデータ処理用プログラムであって、前記放電波形成分が含まれているか否かの特定の基準となる測定値範囲の測定値範囲データと、当該測定値範囲との対比によって前記放電波形成分が含まれているか否かを特定可能な比較値データとを前記波形データに基づいて生成し、生成した当該測定値範囲データおよび当該比較値データを含めて前記放電有無特定用データを生成する処理において、前記波形データの前記各測定値のなかから連続するNサンプリング内(Nは、予め規定された2以上の自然数)の変化量が予め規定された量以上の第1の値を抽出して第1のデータを生成する第1の処理と、前記波形データの前記各測定値を、対象の当該測定値を含んで連続するMサンプリング分(Mは、予め規定された2以上の自然数)の当該測定値を平均化した第2の値にそれぞれ置き換えて第2のデータを生成する第2の処理と、前記第2のデータの前記各第2の値のなかから前記連続するNサンプリング内の変化量が前記予め規定された量以上の第3の値を抽出して第3のデータを生成する第3の処理と、前記第3のデータの前記各第3の値を絶対値化した第4の値を演算して第4のデータを生成する第4の処理と、前記波形データの前記各測定値を、対象の当該測定値を含んで連続するLサンプリング分(Lは、予め規定された2以上の自然数)の当該測定値を平均化した値に置き換えると共に置換え後の当該測定値を微分した第5の値を演算して第5のデータを生成する第5の処理と、前記第5のデータの前記各第5の値を微分した第6の値を演算して第6のデータを生成する第6の処理と、前記第6のデータの前記各第6の値の絶対値を正規化した第7の値を演算して第7のデータを生成する第7の処理と、前記第1のデータの前記各第1の値を絶対値化した第8の値を演算して第8のデータを生成する第8の処理と、2次元グラフの縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方に前記第4のデータの前記各第4の値を対応させると共に当該2次元グラフの縦軸および横軸の他方に当該各第4の値のサンプリングタイミングに対応する前記第7のデータの前記各第7の値を対応させて当該第4の値および当該第7の値の第1の対応点を当該2次元グラフ上にそれぞれプロットする第9の処理と、前記2次元グラフの前記縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方に前記第8のデータの前記各第8の値を対応させると共に当該2次元グラフの前記縦軸および横軸の他方に当該各第8の値のサンプリングタイミングに対応する前記第7のデータの前記各第7の値を対応させて当該第8の値および当該第7の値の第2の対応点を当該2次元グラフ上にそれぞれプロットしたときに前記放電波形成分の前記測定値に対応する当該第2の対応点がプロットされない第1の判定領域、および当該放電波形成分の当該測定値に対応する当該第2の対応点がプロットされる第2の判定領域の少なくとも一方の領域を、当該2次元グラフ上の前記各第1の対応点の配置に基づいて予め規定された領域規定手順に従って当該2次元グラフ上に前記測定値範囲として規定する第10の処理とを前記処理部に実行させると共に、前記第10の処理によって規定した前記少なくとも一方の領域を特定可能な領域データを前記測定値範囲データとし、かつ、前記第7のデータおよび前記第8のデータを前記比較値データとして前記放電有無特定用データを生成させる処理を前記処理部に実行させる。 Further, the data processing program according to claim 17 includes a discharge waveform component in the signal waveform of the waveform data based on waveform data in which a plurality of measured values measured in a predetermined sampling cycle are recorded. It is a data processing program that causes the processing unit of the data processing apparatus to execute a process of generating data for specifying whether or not there is discharge, and specifies whether or not the discharge waveform component is included. Based on the waveform data, the measurement value range data of the reference measurement value range and the comparison value data capable of specifying whether or not the discharge waveform component is included by comparison with the measurement value range are generated. In the process of generating the discharge presence / absence identification data including the generated measurement value range data and the comparison value data, within N sampling continuous from each measurement value of the waveform data (N is defined in advance). The first process of extracting the first value in which the amount of change of (2 or more natural numbers) is equal to or more than a predetermined amount to generate the first data, and the measured values of the waveform data of the target. A second data is generated by replacing the measured values of consecutive M samplings (M is a predetermined natural number of 2 or more) with the averaged second value including the measured values. Processing and extracting a third value from the second values of the second data in which the amount of change in the continuous N sampling is equal to or greater than the predetermined amount to generate the third data. The third process of calculating the third value, the fourth process of calculating the fourth value obtained by converting each third value of the third data into an absolute value, and generating the fourth data, and the said waveform data. Each measurement value is replaced with an averaged value of the measurement value of a continuous L sampling portion (L is a predetermined natural number of 2 or more) including the measurement value of the target, and the measurement value after replacement is used. The fifth process of calculating the differentiated fifth value to generate the fifth data, and the sixth data obtained by calculating the sixth value obtained by differentiating each of the fifth values of the fifth data. The sixth process of generating the sixth data, the seventh process of calculating the seventh value obtained by normalizing the absolute value of each of the sixth values of the sixth data, and the seventh process of generating the seventh data. The eighth process of calculating the eighth value obtained by converting each of the first values of the first data into absolute values to generate the eighth data, and either the vertical axis or the horizontal axis of the two-dimensional graph in advance. Each of the fourth values of the fourth data is associated with the specified one, and the sun of each of the fourth values is associated with the other of the vertical and horizontal axes of the two-dimensional graph. A ninth value in which the seventh value of the seventh data corresponding to the pulling timing is associated with each other, and the first corresponding point of the fourth value and the seventh value is plotted on the two-dimensional graph, respectively. And the 8th value of the 8th data correspond to one of the vertical axis and the horizontal axis of the 2D graph, whichever is predetermined, and the vertical axis and the horizontal axis of the 2D graph. The other of the axes is associated with each of the seventh values of the seventh data corresponding to the sampling timing of each of the eighth values, and the eighth value and the second corresponding point of the seventh value are set. The first determination region in which the second corresponding point corresponding to the measured value of the discharge waveform component is not plotted when plotted on the two-dimensional graph, and the measurement value corresponding to the measured value of the discharge waveform component. At least one of the second determination regions on which the second corresponding points are plotted is placed in the two dimensions according to a predetermined region defining procedure based on the arrangement of the first corresponding points on the two-dimensional graph. The processing unit is made to execute the tenth process defined as the measured value range on the graph, and the area data capable of specifying at least one of the areas defined by the tenth process is set as the measured value range data. In addition, the processing unit is made to execute a process of generating the discharge presence / absence identification data by using the seventh data and the eighth data as the comparison value data.

さらに、請求項18記載のデータ処理用プログラムは、請求項17記載のデータ処理用プログラムにおいて、前記放電有無特定用データに基づき、前記第2の対応点が前記少なくとも一方の領域に含まれているか否かを判別して前記波形データの信号波形に前記放電波形成分が含まれているか否かを判定する判定処理、および当該判定処理の判定結果を特定可能な判定結果データを生成する処理を前記処理部に実行させる。 Further, in the data processing program according to claim 18 , whether the second corresponding point is included in the at least one region based on the discharge presence / absence identification data in the data processing program according to claim 17. The determination process of determining whether or not the signal waveform of the waveform data includes the discharge waveform component, and the process of generating determination result data capable of specifying the determination result of the determination process are described above. Let the processing unit execute it.

請求項1記載のデータ処理装置では、処理部が、放電波形成分が含まれているか否かを特定する基準となる測定値範囲の測定値範囲データと、測定値範囲データとの対比によって放電波形成分が含まれているか否かを特定可能な比較値データとを波形データに基づいて生成し、生成した測定値範囲データおよび比較値データを含めて放電有無特定用データを生成する。具体的には、処理部が、波形データを使用して第1の処理から第10の処理までの各処理を順次実行し、第10の処理によって規定した測定値範囲としての第1の判定領域および第2の判定領域の少なくとも一方の領域を特定可能な領域データを測定値範囲データとし、かつ第7の処理によって生成した第7のデータ、および第8の処理によって生成した第8のデータを比較値データとして放電有無特定用データを生成する。また、請求項17記載のデータ処理用プログラムは、上記の各処理をデータ処理装置の処理部に実行させる。 In the data processing apparatus according to claim 1, the processing unit compares the measured value range data of the measured value range, which is a reference for specifying whether or not the discharge waveform component is contained, with the measured value range data to discharge the discharge waveform. Comparison value data that can specify whether or not a component is included is generated based on the waveform data, and discharge presence / absence identification data is generated including the generated measurement value range data and comparison value data. Specifically, processing unit, the processing from the first processing to the processing of the 10 sequentially performed using the waveform data, a first determination as a measure range specified by the processing of the 10 The area data that can identify at least one of the area and the second determination area is used as the measured value range data, and the seventh data generated by the seventh process and the eighth data generated by the eighth process. Is used as the comparison value data to generate data for specifying the presence or absence of discharge. Further, the data processing program according to claim 17 causes the processing unit of the data processing apparatus to execute each of the above processes.

したがって、請求項1記載のデータ処理装置、および請求項17記載のデータ処理用プログラムによれば、測定対象について取得した1つの波形データに基づいて、放電波形成分が存在するか否かを判定するための領域データ(測定値範囲データ)と、領域データの判定領域(第1の判定領域および/または第2の判定領域:測定値範囲)との対比によって放電波形成分が存在するか否かを判定可能な第7のデータおよび第8のデータ(比較値データ)とを生成することができる。このため、複数回の測定処理が不要となり、複数の測定対象についての個体差の影響や、測定処理毎の測定環境の相違に起因する測定値のばらつきの影響を受けることがなくなるため、放電現象が発生しているか否かの判定精度を十分に向上させることができるだけでなく、判定用の基準値(閾値)を生成する処理を別個に行う必要もなくなることから、利用者の負担を十分に軽減することができる。 Accordingly, claim 1 Symbol placement of the data processing apparatus, and according to claim 17, wherein the data processing program, the determination based on a single waveform data obtained for the measurement object, whether the discharge waveform component is present Whether or not the discharge waveform component exists by comparing the region data (measured value range data) for the purpose and the determination region of the region data (first determination region and / or second determination region: measurement value range). It is possible to generate a seventh data and an eighth data (comparison value data) capable of determining. For this reason, it is not necessary to perform a plurality of measurement processes, and it is not affected by individual differences for a plurality of measurement targets or variations in measured values due to differences in the measurement environment for each measurement process. Not only can the accuracy of determining whether or not is occurring is sufficiently improved, but it is not necessary to separately perform a process for generating a reference value (threshold) for determination, so that the burden on the user is sufficient. Can be mitigated.

請求項記載のデータ処理装置では、処理部が、第9の処理に先立ち、第5のデータの各第5の値の絶対値を最大値が1となるように正規化した第9の値を演算して第9のデータを生成すると共に、第9のデータの各第9の値に係数Kaを乗じた値と、各第9の値のサンプリングタイミングに対応する第7のデータの各第7の値とのいずれか大きい一方を新たな第7の値として新たな第7のデータを生成する第11の処理を実行する。 In the data processing apparatus according to claim 2 , the processing unit normalizes the absolute value of each fifth value of the fifth data so that the maximum value becomes 1, prior to the ninth processing. To generate the ninth data, the value obtained by multiplying each ninth value of the ninth data by the coefficient Ka, and each of the seventh data corresponding to the sampling timing of each ninth value. The eleventh process of generating new seventh data is executed with the larger one of the values of 7 as the new seventh value.

また、請求項記載のデータ処理装置では、処理部が、第9の処理に先立ち、第7のデータの各第7の値を、対象の第7の値に対してJaサンプリング前の第7の値から対象の第7の値までの(Ja+1)個の第7の値、および対象の第7の値から対象の第7の値に対してJbサンプリング後の第7の値までの(Jb+1)個の第7の値の少なくとも一方を含む予め規定されたJc個の第7の値のうちの最大値にそれぞれ置き換えて新たな第7のデータを生成する第12の処理を実行する。 Further, in the data processing apparatus according to claim 3 , the processing unit sets each 7th value of the 7th data to the 7th value of the target 7th value before Ja sampling prior to the 9th processing. (Ja + 1) 7th values from the value of the target to the 7th value of the target, and (Jb + 1) from the 7th value of the target to the 7th value after Jb sampling for the 7th value of the target. ) The twelfth process of generating new seventh data by replacing each with the maximum value of Jc seventh values including at least one of the seventh values is executed.

また、請求項記載のデータ処理装置では、処理部が、第9の処理に先立ち、第7のデータの各第7の値のうち、Iサンプリング前の第7の値よりも小さい第7の値を、Iサンプリング前の第7の値よりも小さい第7の値と、Iサンプリング前の第7の値に係数Kbを乗じた第10の値とのいずれか大きい一方に置き換えて新たな第7のデータを生成する第13の処理を実行する。 Further, in the data processing apparatus according to claim 4 , prior to the ninth processing, the processing unit has a seventh value of each of the seventh values of the seventh data, which is smaller than the seventh value before I sampling. Replace the value with the 7th value, which is smaller than the 7th value before I sampling, or the 10th value, which is the 7th value before I sampling multiplied by the coefficient Kb, whichever is larger. The thirteenth process of generating the data of 7 is executed.

したがって、請求項記載のデータ処理装置、およびそのような処理を実行させるデータ処理用プログラムによれば、第7の値が「0」に近い値となる特異点の数を十分に減少させることができ、これにより、放電波形成分の有無を一層高精度に判定し得る第1の判定領域および/または第2の判定領域を規定することができると共に、放電有無特定用データに基づいて放電波形成分の有無を判定する際に、新たな第7のデータに基づいて2次元グラフ上に第2の対応点をプロットすることで放電波形成分の有無を一層高精度に判定することが可能となる。 Therefore, according to the data processing apparatus according to claims 2 to 4 and the data processing program that executes such processing, the number of singular points at which the seventh value is close to "0" is sufficiently reduced. This makes it possible to define a first determination region and / or a second determination region in which the presence / absence of the discharge waveform component can be determined with higher accuracy, and based on the discharge presence / absence identification data. When determining the presence or absence of the discharge waveform component, it is possible to determine the presence or absence of the discharge waveform component with higher accuracy by plotting the second corresponding point on the two-dimensional graph based on the new seventh data. It becomes.

請求項記載のデータ処理装置では、処理部が、第9の処理に先立ち、第7のデータの各第7の値のうちの最大値に対応する測定値よりも後にサンプリングされた測定値に対応する第7の値を、対象の第7の値に対してHaサンプリング前の第7の値が、対象の第7の値を含んで連続するHbサンプリング分の第7の値を平均化した値に係数Kcを乗じた第11の値以下のときに、対象の第7の値と、Haサンプリング前の第7の値に予め規定された係数Kdを乗じた第12の値とのいずれか小さい一方に置き換えて新たな第7のデータを生成する第14の処理を実行する。 In the data processing apparatus according to claim 5 , the processing unit sets the measured value sampled after the measured value corresponding to the maximum value of each of the seventh values of the seventh data prior to the ninth processing. The corresponding 7th value was obtained by averaging the 7th value of the target 7th value with respect to the 7th value of the continuous Hb sampling including the 7th value of the target. Either the 7th value of interest or the 12th value obtained by multiplying the 7th value before Ha sampling by the predetermined coefficient Kd when the value is equal to or less than the 11th value obtained by multiplying the value by the coefficient Kc. The 14th process of replacing with the smaller one and generating the new 7th data is executed.

したがって、請求項記載のデータ処理装置、およびそのような処理を実行させるデータ処理用プログラムによれば、測定値の変化率が徐々に小さくなる波形データを対象とするときに、変化率の減少の度合いとは不釣り合いに第7の値が急激に大きな値に変化するような変化状態を、変化率の減少の度合いに応じた適当な変化状態とすることができ、これにより、放電波形成分の有無を一層高精度に判定し得る第1の判定領域および/または第2の判定領域を規定することができると共に、放電有無特定用データに基づいて放電波形成分の有無を判定する際に、新たな第7のデータに基づいて2次元グラフ上に第2の対応点をプロットすることで放電波形成分の有無を一層高精度に判定することが可能となる。 Therefore, according to the data processing apparatus according to claim 5 and the data processing program that executes such processing, the rate of change decreases when the target is waveform data in which the rate of change of the measured value gradually decreases. A change state in which the seventh value suddenly changes to a large value disproportionately to the degree of change can be changed to an appropriate change state according to the degree of decrease in the rate of change, whereby the discharge waveform component can be set. It is possible to define a first determination region and / or a second determination region that can determine the presence / absence of the discharge with higher accuracy, and when determining the presence / absence of the discharge waveform component based on the discharge presence / absence identification data. By plotting the second corresponding point on the two-dimensional graph based on the new seventh data, it is possible to determine the presence or absence of the discharge waveform component with higher accuracy.

請求項記載のデータ処理装置では、処理部が、第14の処理において、Haサンプリング前の第7の値が、Hbサンプリング分の第7の値を平均化した値に係数Keを乗じた第13の値よりも小さいときに、対象の第7の値を第13の値に置き換える。したがって、請求項記載のデータ処理装置、およびそのような処理を実行させるデータ処理用プログラムによれば、第7の値の変化状態を一層好適な状態とすることができる。 In the data processing apparatus according to claim 6 , in the 14th process, the processing unit multiplies the value obtained by averaging the 7th value for Hb sampling with the 7th value before Ha sampling multiplied by the coefficient Ke. When it is smaller than the value of 13, the seventh value of interest is replaced with the thirteenth value. Therefore, according to the data processing apparatus according to claim 6 and the data processing program for executing such processing, the change state of the seventh value can be made a more suitable state.

請求項記載のデータ処理装置では、処理部が、第9の処理に先立ち、第7のデータの各第7の値のうちの最大値に対応する測定値よりも前にサンプリングされた測定値に対応する第7の値を、対象の第7の値と、対象の第7の値に対してHcサンプリング前の第7の値に係数Kfを乗じた第14の値とのいずれか大きい一方に置き換えて新たな第7のデータを生成する第15の処理を実行する。 In the data processing apparatus according to claim 7 , the processing unit performs a measurement value sampled prior to the measurement value corresponding to the maximum value of each of the seventh values of the seventh data prior to the ninth processing. The 7th value corresponding to is the larger of the 7th value of the target and the 14th value obtained by multiplying the 7th value of the target by the 7th value before Hc sampling and the coefficient Kf. Is replaced with, and the fifteenth process of generating new seventh data is executed.

したがって、請求項記載のデータ処理装置、およびそのような処理を実行させるデータ処理用プログラムによれば、測定値の変化率が徐々に大きくなる波形データを対象とするときに、第7の値が「0」に近い値となる特異点の数を十分に減少させることができ、これにより、放電波形成分の有無を一層高精度に判定し得る第1の判定領域および/または第2の判定領域を規定することができると共に、放電有無特定用データに基づいて放電波形成分の有無を判定する際に、新たな第7のデータに基づいて2次元グラフ上に第2の対応点をプロットすることで放電波形成分の有無を一層高精度に判定することが可能となる。 Therefore, according to the data processing apparatus according to claim 7 , and the data processing program that executes such processing, the seventh value is used when targeting waveform data in which the rate of change of the measured value gradually increases. The number of singular points where is close to "0" can be sufficiently reduced, whereby the presence or absence of the discharge waveform component can be determined with higher accuracy in the first determination region and / or the second determination. The region can be defined, and the second corresponding point is plotted on the two-dimensional graph based on the new seventh data when determining the presence or absence of the discharge waveform component based on the discharge presence / absence identification data. This makes it possible to determine the presence or absence of the discharge waveform component with higher accuracy.

請求項記載のデータ処理装置では、処理部が、第15の処理において、対象の第7の値および第14の値の双方が、対象の第7の値を含んで連続するHdサンプリング分の第7の値を平均化した値に係数Kgを乗じた第15の値よりも小さいときに、対象の第7の値を第15の値に置き換える。したがって、請求項記載のデータ処理装置、およびそのような処理を実行させるデータ処理用プログラムによれば、第7の値が「0」に近い値となる特異点の数をさらに減少させることができる。 In the data processing apparatus according to claim 8 , in the fifteenth process, the processing unit has a continuous Hd sampling portion in which both the seventh value and the fourteenth value of the target include the seventh value of the target. When it is smaller than the fifteenth value obtained by multiplying the averaged value of the seventh value by the coefficient Kg, the seventh value of interest is replaced with the fifteenth value. Therefore, according to the data processing apparatus according to claim 8 and the data processing program that executes such processing, the number of singular points at which the seventh value is close to "0" can be further reduced. can.

請求項記載のデータ処理装置では、処理部が、第10の処理において、2次元グラフの原点を通過する各第1の対応点の回帰直線を特定し、特定した回帰直線における2次元グラフの縦軸および横軸の他方の値が1のときの2次元グラフの縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方の値を第16の値として特定し、かつ、2次元グラフの原点、予め規定された一方の値が第16の値で他方の値が1の第1の点、および予め規定された一方の値が0で他方の値が1の第2の点の3点を頂点とする三角形領域を特定すると共に、特定した三角形領域に基づいて少なくとも一方の領域を規定する。 In the data processing apparatus according to claim 9 , in the tenth process, the processing unit specifies a regression line of each first corresponding point passing through the origin of the two-dimensional graph, and the two-dimensional graph in the specified regression line When the other value of the vertical axis and the horizontal axis is 1, one of the predetermined values of the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph is specified as the sixteenth value, and the origin of the two-dimensional graph, The apex is the first point where one of the predetermined values is the 16th value and the other value is 1, and the second point where one of the predetermined values is 0 and the other value is 1. In addition to specifying the triangular area to be defined, at least one area is specified based on the specified triangular area.

したがって、請求項記載のデータ処理装置、およびそのような処理を実行させるデータ処理用プログラムによれば、放電波形成分の値に対応する第2の対応点がプロットされる可能性が極めて低い三角形領域を確実かつ容易に特定することができ、この三角形領域に基づいて、第1の判定領域および/または第2の判定領域を容易に特定して領域データを生成することができる。 Therefore, according to the data processing apparatus according to claim 9 and the data processing program that executes such processing, it is extremely unlikely that a second corresponding point corresponding to the value of the discharge waveform component will be plotted. The region can be reliably and easily specified, and based on this triangular region, the first determination region and / or the second determination region can be easily specified to generate region data.

請求項10記載のデータ処理装置では、処理部が、2次元グラフの縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方に第1のデータの各第1の値を対応させると共に2次元グラフの縦軸および横軸の他方に各第1の値のサンプリングタイミングに対応する第7のデータの各第7の値を対応させて第1の値および第7の値の第3の対応点を2次元グラフ上にそれぞれプロットすると共に、縦軸および横軸の他方の値が「0.5」以下の予め規定された第17の値以下である第3の対応点を抽出し、抽出した各第3の対応点における縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方の値の標準偏差nσを演算すると共に、原点、第1の点、予め規定された一方の値が標準偏差nσと第16の値との和で他方の値が1の第3の点、および予め規定された一方の値が標準偏差nσで他方の値が0の第4の点の4点を頂点とする第1の矩形領域を特定し、特定した第1の矩形領域および三角形領域に基づいて少なくとも一方の領域を規定する。 In the data processing apparatus according to claim 10 , the processing unit associates each first value of the first data with either the vertical axis or the horizontal axis of the two-dimensional graph, whichever is predetermined, and the two-dimensional graph. The other of the vertical axis and the horizontal axis is associated with each seventh value of the seventh data corresponding to the sampling timing of each first value, and the third corresponding point of the first value and the seventh value is set to 2. Each of the extracted third points is plotted on a dimensional graph, and the other value of the vertical axis and the horizontal axis is "0.5" or less and is equal to or less than a predetermined 17th value. The standard deviation nσ of one of the predetermined values on the vertical axis and the horizontal axis at the corresponding points of 3 is calculated, and the origin, the first point, and one of the predetermined values are the standard deviation nσ and the 16th. A first point having a third point having the other value of 1 as the sum of the values of, and a fourth point having a predetermined deviation of nσ and the other value of 0 as vertices. A rectangular area is specified and at least one area is defined based on the identified first rectangular area and triangular area.

したがって、請求項10記載のデータ処理装置、およびそのような処理を実行させるデータ処理用プログラムによれば、特定した第1の矩形領域および三角形領域に基づいて第1の判定領域および/または第2の判定領域を容易に特定することができ、波形データの信号波形に放電波形成分が含まれているか否かを高精度に判定可能な第1の判定領域および/または第2の判定領域の領域データを容易に生成することができる。 Therefore, according to the data processing apparatus according to claim 10 , and the data processing program that executes such processing, the first determination area and / or the second determination area is based on the specified first rectangular area and triangular area. The region of the first determination region and / or the region of the second determination region, which can easily identify the determination region of the above and can determine with high accuracy whether or not the signal waveform of the waveform data contains a discharge waveform component. Data can be easily generated.

請求項11記載のデータ処理装置では、処理部が、第10の処理において、すべての第1の対応点が含まれる最小の方形領域を特定すると共に、特定した方形領域に基づいて少なくとも一方の領域を規定する。したがって、請求項11記載のデータ処理装置、およびそのような処理を実行させるデータ処理用プログラムによれば、非常に単純な処理によって第1の判定領域および/または第2の判定領域の領域データを生成することができる。 In the data processing apparatus according to claim 11 , in the tenth process, the processing unit identifies the smallest square area including all the first corresponding points, and at least one area based on the specified square area. To specify. Therefore, according to the data processing apparatus according to claim 11 , and the data processing program that executes such processing, the area data of the first determination area and / or the second determination area can be obtained by a very simple process. Can be generated.

請求項12記載のデータ処理装置では、処理部が、放電有無特定用データに基づき、第2の対応点と少なくとも一方の領域との位置関係を特定して波形データの信号波形に放電波形成分が含まれているか否かを判定する判定処理を実行し、判定処理の判定結果を特定可能な判定結果データを生成する。また、請求項18記載のデータ処理用プログラムは、上記の処理をデータ処理装置の処理部に実行させる。 In the data processing apparatus according to claim 12 , the processing unit specifies the positional relationship between the second corresponding point and at least one region based on the discharge presence / absence identification data, and the discharge waveform component is added to the signal waveform of the waveform data. Judgment processing for determining whether or not it is included is executed, and determination result data capable of specifying the determination result of the determination process is generated. Further, the data processing program according to claim 18 causes the processing unit of the data processing apparatus to execute the above processing.

したがって、請求項12記載のデータ処理装置、および請求項18記載のデータ処理用プログラムによれば、複数回の測定処理が不要となり、複数の測定対象についての個体差の影響や、測定処理毎の測定環境の相違に起因する測定値のばらつきの影響を受けることがなくなるため、放電現象が発生しているか否かの判定精度を十分に向上させることができる。また、基準値(閾値)との比較による判定とは異なり、測定環境の変化の影響による誤判定を回避して判定精度を十分に高めることができる。 Therefore, according to the data processing apparatus according to claim 12 and the data processing program according to claim 18 , a plurality of measurement processes are not required, the influence of individual differences on a plurality of measurement targets, and each measurement process. Since it is not affected by the variation in the measured values due to the difference in the measurement environment, the accuracy of determining whether or not the discharge phenomenon has occurred can be sufficiently improved. Further, unlike the judgment by comparison with the reference value (threshold value), it is possible to avoid the erroneous judgment due to the influence of the change in the measurement environment and sufficiently improve the judgment accuracy.

請求項13記載のデータ処理装置では、処理部が、第1の判定領域を少なくとも一方の領域とするときには第2の対応点の総数に占める第1の判定領域に含まれない第2の対応点の割合を特定すると共に、第2の判定領域を少なくとも一方の領域とするときには第2の対応点の総数に占める第2の判定領域に含まれる第2の対応点の割合を特定し、特定した割合が予め規定された割合以上のときに、予め規定された報知処理を実行する。 In the data processing apparatus according to claim 13 , when the processing unit sets the first determination area as at least one area, the second corresponding point is not included in the first determination area occupying the total number of the second corresponding points. And when the second determination area is at least one area, the ratio of the second correspondence point included in the second determination area to the total number of the second correspondence points is specified and specified. When the ratio is equal to or higher than the predetermined ratio, the predetermined notification process is executed.

また、請求項14記載のデータ処理装置では、処理部が、2次元グラフを縦軸および横軸の他方の方向でGa個に分割したGa個の第2の矩形領域を特定し、第1の判定領域を少なくとも一方の領域とするときには第1の判定領域以外の領域に第2の対応点が含まれている第2の矩形領域の数を特定すると共に、第2の判定領域を少なくとも一方の領域とするときには第2の判定領域に第2の対応点が含まれている第2の矩形領域の数を特定し、特定した数が予め規定された数以上のときに、予め規定された報知処理を実行する。 Further, in the data processing apparatus according to claim 14 , the processing unit identifies Ga second rectangular regions obtained by dividing the two-dimensional graph into Ga in the other directions of the vertical axis and the horizontal axis, and first. When the determination area is at least one area, the number of the second rectangular areas in which the second corresponding point is included in the area other than the first determination area is specified, and the second determination area is at least one of them. When the area is set, the number of the second rectangular areas in which the second corresponding point is included in the second determination area is specified, and when the specified number is equal to or more than the predetermined number, the predetermined notification is given. Execute the process.

したがって、請求項1314記載のデータ処理装置、およびそのような処理を実行させるデータ処理用プログラムによれば、波形データの信号波形に放電波形成分が含まれているか否かの判定結果を確実かつ容易に認識させることができる。 Therefore, according to the data processing apparatus according to claims 13 and 14 , and the data processing program that executes such processing, it is possible to reliably determine whether or not the signal waveform of the waveform data contains a discharge waveform component. And it can be easily recognized.

請求項15記載のデータ処理装置では、処理部が、第2の対応点をプロットした2次元グラフと少なくとも一方の領域を示す領域表示とを判定処理の判定結果と共に表示部に表示させる。したがって、請求項15記載のデータ処理装置、およびそのような処理を実行させるデータ処理用プログラムによれば、波形データの信号波形に放電波形成分が含まれているか否かの判定結果を一層確実かつ一層容易に認識させることができる。 In the data processing apparatus according to claim 15 , the processing unit causes the display unit to display a two-dimensional graph plotting the second corresponding points and an area display indicating at least one area together with the determination result of the determination process. Therefore, according to the data processing apparatus according to claim 15 , and the data processing program that executes such processing, it is more reliable to determine whether or not the signal waveform of the waveform data contains a discharge waveform component. It can be recognized more easily.

請求項16記載の測定システムでは、請求項から15のいずれかに記載のデータ処理装置と、測定対象についての予め規定されたサンプリング周期での測定を実行して波形データを出力する測定装置とを備えて構成されている。したがって、請求項16記載の測定システムによれば、波形データの取得(生成)から放電有無特定用データの生成(または、放電有無特定用データおよび判定結果データの生成)までの一連の処理を1つのシステムで実行することができる。 In the measurement system according to claim 16, the data processing device according to any one of claims 1 to 15 and a measuring device that executes measurement of a measurement target at a predetermined sampling cycle and outputs waveform data. It is configured with. Therefore, according to the measurement system according to claim 16, a series of processes from acquisition (generation) of waveform data to generation of discharge presence / absence identification data (or generation of discharge presence / absence identification data and determination result data) is performed in 1 It can be run on one system.

測定システム1の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the measurement system 1. 測定装置2から出力される波形データD0の波形W0の一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W0 of the waveform data D0 output from the measuring apparatus 2. 波形データD1の波形W1の一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W1 of the waveform data D1. 波形データD0の波形W0および波形データD2の波形W2の一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W0 of the waveform data D0 and the waveform W2 of the waveform data D2. 波形データD3の波形W3の一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W3 of the waveform data D3. 波形データD4の波形W4の一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W4 of the waveform data D4. 波形データD0の波形W0および波形データD0fの波形W0fの一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W0 of the waveform data D0 and the waveform W0f of the waveform data D0f. 波形データD5の波形W5の一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W5 of the waveform data D5. 波形データD6の波形W6の一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W6 of the waveform data D6. 波形データD7の波形W7の一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W7 of the waveform data D7. 波形データD8の波形W8の一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W8 of the waveform data D8. 波形データD9の波形W9の一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W9 of the waveform data D9. 波形データD9の値に基づいて生成された値の波形W9a、波形データD7の波形W7,および波形データD9a,D7の各値から抽出された値の波形W7aの一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W9a of the value generated based on the value of the waveform data D9, the waveform W7 of the waveform data D7, and the waveform W7a of the value extracted from each value of waveform data D9a, D7. 波形データD9の波形W9、波形データD7の波形W7,および波形データD9,D7の各値から抽出された値の波形W7bの一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W7b of the value extracted from each value of the waveform W9 of the waveform data D9, the waveform W7 of the waveform data D7, and the waveform data D9, D7. 新たな波形データD7の波形W7cの一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W7c of the new waveform data D7. 新たな波形データD7の波形W7dの一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W7d of the new waveform data D7. 処理前の波形データD7の波形W7e、および新たな波形データD7の波形W7fの一例を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows an example of the waveform W7e of the waveform data D7 before processing, and the waveform W7f of new waveform data D7. 波形データD4の値および波形データD7の値の「第1の対応点」をプロットした2次元グラフの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the 2D graph which plotted the "first correspondence point" of the value of waveform data D4 and the value of waveform data D7. 波形データD8の値および波形データD7の値の「第2の対応点」をプロットした2次元グラフの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the 2D graph which plotted the "second correspondence point" of the value of waveform data D8 and the value of waveform data D7. 波形データD8の値および波形データD7の値の「第2の対応点」をプロットした2次元グラフの他の一例を示す図である。It is a figure which shows another example of the 2D graph which plotted the "second correspondence point" of the value of waveform data D8 and the value of waveform data D7. 波形データD0の波形W0、波形データD1のW1、波形データD1の各値が放電波形成分であるか否かの閾値を示す波形Waの関係の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the relationship of the waveform Wa which shows the threshold of whether or not each value of the waveform W0 of the waveform data D0, W1 of the waveform data D1 and the waveform data D1 is a discharge waveform component. 判定領域Aa,Abの規定方法、並びに規定された判定領域Aa,Abと「第1の対応点」および「第2の対応点」との関係について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the definition method of the determination area Aa, Ab, and the relationship between the defined determination area Aa, Ab and "the first correspondence point" and "the second correspondence point". 判定領域Aa,Abの規定方法、並びに規定された判定領域Aa,Abと「第1の対応点」および「第2の対応点」との関係について説明するための他の説明図である。It is another explanatory diagram for demonstrating the definition method of the determination area Aa, Ab, and the relationship between the defined determination area Aa, Ab and a "first correspondence point" and a "second correspondence point". 波形データD1の値および波形データD7の値の対応点をプロットした2次元グラフの他の一例を示す図である。It is a figure which shows another example of the 2D graph which plotted the correspondence point of the value of the waveform data D1 and the value of the waveform data D7. 判定領域Ac,Adの規定方法、並びに規定された判定領域Ac,Adと「第1の対応点」および「第2の対応点」との関係について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the definition method of the determination area Ac, Ad, and the relationship between the defined determination area Ac, Ad and "the first correspondence point" and "the second correspondence point". 2次元グラフにプロットされた波形データD8の値および波形データD7の値の「第2の対応点」と判定領域Aa,Abおよび矩形領域A10〜A19との関係について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the relationship between the "second correspondence point" of the value of the waveform data D8 and the value of the waveform data D7 plotted on the two-dimensional graph, and the determination area Aa, Ab and the rectangular area A10-A19. ..

以下、データ処理装置、測定システムおよびデータ処理用プログラムの実施の形態について、添付図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of a data processing apparatus, a measurement system, and a data processing program will be described with reference to the accompanying drawings.

最初に、測定システム1の構成について説明する。図1に示す測定システム1は、「測定装置」および「データ処理装置」を有する「測定システム」と、後述する「放電有無特定用データ」に基づいて検査対象(測定対象)Xの良否を検査する「検査装置」とを備えて構成された「インパルス試験システム」であって、測定装置2およびデータ処理装置3を備えて構成されている。この場合、検査対象Xは、「測定対象」の一例であって、本例では、一例として巻線部品(コイル)を検査対象Xとして各種の処理を実行する例について説明する。 First, the configuration of the measurement system 1 will be described. The measurement system 1 shown in FIG. 1 inspects the quality of the inspection target (measurement target) X based on the "measurement system" having the "measurement device" and the "data processing device" and the "data for specifying the presence or absence of discharge" described later. It is an "impulse test system" configured to include an "inspection device", and is configured to include a measuring device 2 and a data processing device 3. In this case, the inspection target X is an example of the “measurement target”, and in this example, an example of executing various processes with the winding component (coil) as the inspection target X will be described.

測定装置2は、「測定装置」に相当し、一例として、データ処理装置3の制御に従い、検査対象Xを対象とする各種の測定処理を実行可能に構成されている。具体的には、測定装置2は、測定信号発生部11、A/D変換部12、処理部13および記憶部14などを備えている。測定信号発生部11は、処理部13の制御に従って検査対象Xの両端間に測定信号としてのインパルス電圧を印加する。A/D変換部12は、一例として、処理部13の制御に従い、指定された周期(「予め規定されたサンプリング周期:測定周期)で測定対象を流れる電流の電流値をA/D変換(サンプリング:測定)して測定値Ds(サンプリング値:「測定値」の一例)を処理部13に順次出力する。なお、電流値のサンプリングに代えて、指定された周期で測定対象の両端間の電圧値をA/D変換(サンプリング:測定)して測定値Dsを出力する構成を採用することもできる。 The measuring device 2 corresponds to a “measuring device”, and as an example, is configured to be capable of executing various measurement processes targeting the inspection target X under the control of the data processing device 3. Specifically, the measuring device 2 includes a measurement signal generation unit 11, an A / D conversion unit 12, a processing unit 13, a storage unit 14, and the like. The measurement signal generation unit 11 applies an impulse voltage as a measurement signal between both ends of the inspection target X according to the control of the processing unit 13. As an example, the A / D conversion unit 12 performs A / D conversion (sampling) of the current value of the current flowing through the measurement target in a specified cycle (“predetermined sampling cycle: measurement cycle) under the control of the processing unit 13. : Measurement) and the measured value Ds (sampling value: an example of "measured value") is sequentially output to the processing unit 13. Instead of sampling the current value, it is also possible to adopt a configuration in which the voltage value between both ends of the measurement target is A / D converted (sampling: measured) and the measured value Ds is output at a specified cycle.

処理部13は、測定装置2を総括的に制御する。具体的には、処理部13は、測定信号発生部11を制御して測定対象にインパルス電圧を印加させると共に、A/D変換部12を制御して任意の周期で電流値のA/D変換処理(サンプリング処理)を実行させる。また、処理部13は、A/D変換部12から出力される測定値Dsを記憶部14に記憶させ、かつ測定値Dsに基づいて波形データD0(「波形データ」の一例)を生成して記憶部14に記憶させると共に、生成した波形データD0をデータ処理装置3に出力する。記憶部14は、処理部13の動作プログラムや、上記の測定値Ds(波形データD0)などを記憶する。なお、実際の測定装置2には、測定装置2の動作条件を指示するための各種の操作スイッチや、測定条件の設定画面および測定値の表示画面などを表示する表示部を備えて構成されているが、これらについての図示および説明を省略する。 The processing unit 13 comprehensively controls the measuring device 2. Specifically, the processing unit 13 controls the measurement signal generation unit 11 to apply an impulse voltage to the measurement target, and also controls the A / D conversion unit 12 to perform A / D conversion of the current value at an arbitrary cycle. The process (sampling process) is executed. Further, the processing unit 13 stores the measured value Ds output from the A / D conversion unit 12 in the storage unit 14, and generates waveform data D0 (an example of “waveform data”) based on the measured value Ds. It is stored in the storage unit 14, and the generated waveform data D0 is output to the data processing device 3. The storage unit 14 stores the operation program of the processing unit 13, the above-mentioned measured value Ds (waveform data D0), and the like. The actual measuring device 2 is configured to include various operation switches for instructing the operating conditions of the measuring device 2, and a display unit for displaying a measurement condition setting screen, a measurement value display screen, and the like. However, illustration and description of these will be omitted.

一方、データ処理装置3は、「データ処理装置」に相当し、後述するように測定装置2から取得した波形データD0に基づき、検査対象Xについての検査を行うための検査用データDc(「波形データの信号波形に放電波形成分が含まれているか否かを特定するための放電有無特定用データ」の一例)を生成する。また、データ処理装置3は、「検査装置」に相当し、生成した検査用データDcに基づき、検査対象Xの良否を検査する。この場合、本例の測定システム1では、一例として、「データ処理用プログラム」に相当するデータ処理用プログラムDpが既存のパーソナルコンピュータにインストールされてデータ処理装置3が構成されている。 On the other hand, the data processing device 3 corresponds to a "data processing device", and the inspection data Dc ("waveform") for inspecting the inspection target X based on the waveform data D0 acquired from the measuring device 2 as described later. An example of "data for specifying the presence or absence of discharge for specifying whether or not the signal waveform of the data contains a discharge waveform component") is generated. Further, the data processing device 3 corresponds to an "inspection device" and inspects the quality of the inspection target X based on the generated inspection data Dc. In this case, in the measurement system 1 of this example, as an example, the data processing program Dp corresponding to the "data processing program" is installed in an existing personal computer to configure the data processing device 3.

具体的には、このデータ処理装置3は、操作部21、表示部22、処理部23および記憶部24を備えている。操作部21は、キーボード、およびマウスやタッチパネルなどのポインティングデバイスを備え(図示せず)、これらに対する操作に応じた操作信号を処理部23に出力する。表示部22は、「表示部」の一例であって、処理部23の制御に従い、測定結果や検査結果(良否判定の結果)などを示す各種の表示画面を表示する。 Specifically, the data processing device 3 includes an operation unit 21, a display unit 22, a processing unit 23, and a storage unit 24. The operation unit 21 includes a keyboard and pointing devices such as a mouse and a touch panel (not shown), and outputs an operation signal corresponding to the operation for these to the processing unit 23. The display unit 22 is an example of the “display unit” and displays various display screens showing measurement results, inspection results (results of pass / fail determination), and the like under the control of the processing unit 23.

処理部23は、「処理部」の一例であって、データ処理装置3を総括的に制御する。具体的には、処理部23は、後述するようにデータ処理用プログラムDpに従い、測定装置2を制御して検査対象Xを対象とする測定処理を実行させると共に、測定装置2から出力される波形データD0に基づいて検査用データDcを生成するデータ生成処理を実行する。また、処理部23は、データ処理用プログラムDpに従い、検査用データDcに基づいて検査対象Xの良否を検査する検査処理(良否の判定処理)を実行して検査結果データDrを生成する。 The processing unit 23 is an example of the “processing unit” and controls the data processing device 3 in a comprehensive manner. Specifically, the processing unit 23 controls the measuring device 2 to execute the measurement processing targeting the inspection target X according to the data processing program Dp as described later, and the waveform output from the measuring device 2. A data generation process for generating inspection data Dc based on the data D0 is executed. Further, the processing unit 23 executes an inspection process (good / bad determination process) for inspecting the quality of the inspection target X based on the inspection data Dc according to the data processing program Dp, and generates the inspection result data Dr.

記憶部24は、データ処理用プログラムDp(処理部23の動作プログラムのデータ)、測定システム1から出力される波形データD0、および処理部23によって生成される各種のデータを記憶する。 The storage unit 24 stores the data processing program Dp (data of the operation program of the processing unit 23), the waveform data D0 output from the measurement system 1, and various data generated by the processing unit 23.

次に、測定システム1による検査対象Xの検査方法について、添付図面を参照して説明する。なお、データ処理装置3にデータ処理用プログラムDpをインストールする作業や、測定装置2とデータ処理装置3とを接続する作業については既に完了しているものとする。 Next, the inspection method of the inspection target X by the measurement system 1 will be described with reference to the attached drawings. It is assumed that the work of installing the data processing program Dp in the data processing device 3 and the work of connecting the measuring device 2 and the data processing device 3 have already been completed.

検査対象Xの検査に際しては、まず、検査対象Xについての測定装置2による測定処理を実行する。具体的には、検査対象Xを測定装置2に接続すると共に、データ処理装置3の操作部21を操作して測定処理の開始を指示する。これに応じて、処理部23は、データ処理用プログラムDpに従って測定装置2を制御して検査対象Xについての測定処理を開始させる。 When inspecting the inspection target X, first, the measurement process of the inspection target X by the measuring device 2 is executed. Specifically, the inspection target X is connected to the measuring device 2, and the operation unit 21 of the data processing device 3 is operated to instruct the start of the measurement process. In response to this, the processing unit 23 controls the measuring device 2 according to the data processing program Dp to start the measurement processing for the inspection target X.

この際に、測定装置2では、処理部13が、まず、A/D変換部12を制御してデータ処理装置3(処理部23)から指示されたサンプリング周期での電流値のサンプリング(測定)を開始させる。これにより、A/D変換部12から検査対象Xについての測定値Ds(検査対象Xを流れる電流の電流値)が順次出力されて記憶部14に記憶される。また、処理部13は、測定信号発生部11を制御して検査対象Xにインパルス電圧を印加させる。この際には、検査対象Xを流れる電流についての測定値Ds(電流値)が、図2に示す波形W0(「波形データの信号波形」の一例)のように変化する。 At this time, in the measuring device 2, the processing unit 13 first controls the A / D conversion unit 12 to sample (measure) the current value in the sampling cycle instructed by the data processing device 3 (processing unit 23). To start. As a result, the measured value Ds (current value of the current flowing through the inspection target X) for the inspection target X is sequentially output from the A / D conversion unit 12 and stored in the storage unit 14. Further, the processing unit 13 controls the measurement signal generation unit 11 to apply an impulse voltage to the inspection target X. At this time, the measured value Ds (current value) for the current flowing through the inspection target X changes like the waveform W0 (an example of the “signal waveform of waveform data”) shown in FIG.

次いで、処理部13は、一例として、検査対象Xに対するインパルス電圧の印加を開始させる直前の時点から、処理部23によって指示された時間が経過した時点において、この時間内にA/D変換部12から出力された複数の測定値Ds,Ds・・を記録して波形データD0を生成し、生成した波形データD0を記憶部14に記憶させる。また、処理部13は、生成した波形データD0をデータ処理装置3に出力する。また、データ処理装置3では、処理部23が、測定装置2から出力された波形データD0を検査対象Xに関連付けて記憶部24に記憶させる。これにより、検査対象Xについての測定処理が完了する。 Next, as an example, the processing unit 13 has an A / D conversion unit 12 within this time when the time instructed by the processing unit 23 has elapsed from the time immediately before starting the application of the impulse voltage to the inspection target X. A plurality of measured values Ds, Ds ... Output from the above are recorded to generate waveform data D0, and the generated waveform data D0 is stored in the storage unit 14. Further, the processing unit 13 outputs the generated waveform data D0 to the data processing device 3. Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 stores the waveform data D0 output from the measuring device 2 in the storage unit 24 in association with the inspection target X. As a result, the measurement process for the inspection target X is completed.

一方、データ処理装置3では、波形データD0の取得が完了したときに、処理部23が、データ処理用プログラムDpに従い、検査対象Xが良品か不良品かを検査するための検査用データDcを生成する「データ生成処理」を開始する。 On the other hand, in the data processing device 3, when the acquisition of the waveform data D0 is completed, the processing unit 23 obtains the inspection data Dc for inspecting whether the inspection target X is a non-defective product or a defective product according to the data processing program Dp. Start the "data generation process" to generate.

この「データ生成処理」において、処理部23は、まず、波形データD0の各測定値Dsのなかから連続するNサンプリング内の変化量が予め規定された量以上の測定値(「第1の値」の一例)を抽出して波形データD1(「第1のデータ」の一例)を生成する「第1の処理」を実行する。具体的には、処理部23は、一例として、ハイパスフィルタや1次元のラプラシアンフィルタ等を用いたフィルタリング処理により、波形データD0の各測定値Dsのなかから連続するN=2サンプリング内の変化量が規定量を超える測定値Dsを抽出して波形データD1を生成する。これにより、図3に示す波形W1のように、波形データD0の生成時(測定処理時)に検査対象Xに生じた放電現象の成分や、大きなノイズ等の成分に対応する急峻な変化の波形成分の測定値が波形データD1として取得され、「第1の処理」が完了する。 In this "data generation process", the processing unit 23 first measures a measured value ("first value") in which the amount of change in continuous N sampling from each measured value Ds of the waveform data D0 is equal to or greater than a predetermined amount. 1) is extracted to generate waveform data D1 (an example of the "first data"), and the "first process" is executed. Specifically, the processing unit 23 performs filtering processing using a high-pass filter, a one-dimensional Laplacian filter, or the like as an example, and the amount of change within continuous N = 2 sampling from each measured value Ds of the waveform data D0. Extracts the measured value Ds exceeding the specified amount to generate the waveform data D1. As a result, as shown in the waveform W1 shown in FIG. 3, the waveform of the sharp change corresponding to the component of the discharge phenomenon generated in the inspection target X at the time of generating the waveform data D0 (during the measurement process) and the component such as large noise. The measured value of the component is acquired as the waveform data D1, and the "first process" is completed.

また、処理部23は、波形データD0の各測定値Dsを、対象の測定値Dsを含んで連続するMサンプリング分の測定値Dsを平均化した値(「第2の値」の一例)にそれぞれ置き換えて波形データD2(「第2のデータ」の一例)を生成する「第2の処理」を実行する。具体的には、処理部23は、一例として、波形データD0の各測定値Dsのうちのnサンプリング目の測定値Dsを測定値Dsnとし、かつ上記の「M」の値を「3」に規定したときに、測定値Dsnの1サンプリング前の測定値Ds(n−1)と、測定値Dsnの1サンプリング後の測定値Ds(n+1)と、測定値Dsnとの合計値を「M=3」で除した値(連続する3サンプリング分の測定値Dsの値の平均値)を「第2の値」として演算して波形データD2を生成する。 Further, the processing unit 23 sets each measured value Ds of the waveform data D0 into a value obtained by averaging the measured values Ds of the continuous M sampling including the target measured value Ds (an example of "second value"). The "second process" for generating the waveform data D2 (an example of the "second data") is executed by replacing each of them. Specifically, as an example, the processing unit 23 sets the measured value Ds of the nth sampling value of each measured value Ds of the waveform data D0 as the measured value Dsn, and sets the value of the above "M" to "3". When specified, the total value of the measured value Ds (n-1) before one sampling of the measured value Dsn, the measured value Ds (n + 1) after one sampling of the measured value Dsn, and the measured value Dsn is set to "M =". The value divided by "3" (the average value of the measured values Ds for three consecutive samplings) is calculated as the "second value" to generate the waveform data D2.

これにより、図4に破線で示す波形W2のように、波形データD0において、上記の「第1の処理」において抽出した「放電現象の成分や、大きなノイズ等の成分に対応する急峻な変化の波形成分」の影響が十分に軽減された測定値の波形データD2が生成され、「第2の処理」が完了する。なお、同図では、「第2の処理」についての理解を容易とするために、図2に示す波形W0における時間軸方向の一部を拡大し、その波形W0の測定値Dsに基づいて演算される値の波形W2を波形W0に重ねて図示している。また、「第2の処理」については、上記の例にようにM=3値の3点平均値を求める処理に限定されず、M=3以外の複数値の平均値を求める処理や、ハミング窓等を用いた平均化処理を「第2の処理」として実行してもよい。 As a result, as shown by the waveform W2 shown by the broken line in FIG. 4, in the waveform data D0, the sudden change corresponding to the component of the discharge phenomenon and the component such as large noise extracted in the above-mentioned "first process" The waveform data D2 of the measured value with the influence of the “waveform component” sufficiently reduced is generated, and the “second process” is completed. In the figure, in order to facilitate understanding of the "second process", a part of the waveform W0 shown in FIG. 2 in the time axis direction is enlarged and calculated based on the measured value Ds of the waveform W0. The waveform W2 of the value to be obtained is shown superimposed on the waveform W0. Further, the "second process" is not limited to the process of obtaining the three-point average value of M = 3 values as in the above example, but also the process of obtaining the average value of a plurality of values other than M = 3 and humming. The averaging process using a window or the like may be executed as a "second process".

続いて、処理部23は、波形データD2の各測定値のなかから連続するNサンプリング内の変化量が予め規定された量以上の測定値(「第3の値」の一例)を抽出して波形データD3(「第3のデータ」の一例)を生成する「第3の処理」を実行する。具体的には、処理部23は、前述した「第1の処理」において使用したフィルタと同じフィルタを用いたフィルタリング処理により、波形データD2の各測定値のなかから連続するN=2サンプリング内の変化量が規定量を超える測定値を抽出して波形データD3を生成する。これにより、図5に示す波形W3のように、上記の「第2の処理」において「急峻な変化の波形成分」の影響が十分に軽減された波形データD2について、「第1の処理」において使用したフィルタと同じフィルタを用いてフィルタリングされた波形データD3が生成され、「第3の処理」が完了する。 Subsequently, the processing unit 23 extracts from each measured value of the waveform data D2 a measured value (an example of a "third value") in which the amount of change in continuous N sampling is equal to or greater than a predetermined amount. The "third process" for generating the waveform data D3 (an example of the "third data") is executed. Specifically, the processing unit 23 performs a filtering process using the same filter as the filter used in the above-mentioned "first process", so that the continuous N = 2 sampling from each measured value of the waveform data D2 is performed. Waveform data D3 is generated by extracting measured values in which the amount of change exceeds a specified amount. As a result, as in the waveform W3 shown in FIG. 5, the waveform data D2 in which the influence of the “waveform component of abrupt change” is sufficiently reduced in the above “second processing” is obtained in the “first processing”. Waveform data D3 filtered using the same filter as the one used is generated, and the "third process" is completed.

次いで、処理部23は、波形データD3の各測定値を絶対値化した値(「第4の値」の一例)を演算して波形データD4(「第4のデータ」の一例)を生成する「第4の処理」を実行する。これにより、図6に示す波形W4のような波形の波形データD4が生成され、「第4の処理」が完了する。 Next, the processing unit 23 calculates the absolute value of each measured value of the waveform data D3 (an example of the “fourth value”) to generate the waveform data D4 (an example of the “fourth data”). The "fourth process" is executed. As a result, waveform data D4 having a waveform like the waveform W4 shown in FIG. 6 is generated, and the "fourth process" is completed.

続いて、処理部23は、波形データD0の各測定値Dsを、対象の測定値Dsを含んで連続するLサンプリング分の測定値Dsを平均化した値に置き換えると共に、置換え後の測定値を微分した値(「第5の値」の一例)を演算して波形データD5(「第5のデータ」の一例)を生成する「第5の処理」を実行する。具体的には、処理部23は、一例として、まず、対象の測定値Dsを対象の測定値Dsの5サンプリング前の測定値Dsから、対象の測定値Dsの5サンプリング後の測定値DsまでのL=5+5+1=11サンプリング分の測定値Dsの平均値に置き換えて波形データD0fを生成する。これにより、図7に示す波形W0fのように、各サンプリング毎のばらつきの度合いが小さい測定値の波形データD0fが生成される。 Subsequently, the processing unit 23 replaces each measured value Ds of the waveform data D0 with a value obtained by averaging the measured values Ds for continuous L sampling including the target measured value Ds, and replaces the replaced measured values. The "fifth process" of calculating the differentiated value (an example of the "fifth value") and generating the waveform data D5 (an example of the "fifth data") is executed. Specifically, as an example, the processing unit 23 first sets the target measured value Ds from the measured value Ds before 5 samplings of the target measured value Ds to the measured value Ds after 5 samplings of the target measured value Ds. The waveform data D0f is generated by substituting the average value of the measured values Ds for L = 5 + 5 + 1 = 11 samplings. As a result, as in the waveform W0f shown in FIG. 7, the waveform data D0f of the measured value having a small degree of variation for each sampling is generated.

なお、同図では、「第5の処理」についての理解を容易とするために、図2に示す波形W0における時間軸方向の一部を拡大し、その波形W0の測定値Dsに基づいて演算される平均値の波形W0fを波形W0に重ねて図示している。また、波形データD0fの生成に際しては、上記の11サンプリング分の平均値に置き換える処理に代えて、11サンプリング以外の複数サンプリング分の平均値に置き換える処理や、ハミング窓等を用いた平均化処理を実行してもよい。 In the figure, in order to facilitate understanding of the "fifth process", a part of the waveform W0 shown in FIG. 2 in the time axis direction is enlarged and calculated based on the measured value Ds of the waveform W0. The waveform W0f of the average value to be measured is shown superimposed on the waveform W0. Further, when generating the waveform data D0f, instead of the above-mentioned processing of replacing with the average value of 11 samplings, a processing of replacing with an average value of a plurality of samplings other than 11 samplings and an averaging processing using a humming window or the like are performed. You may do it.

次いで処理部23は、波形データD0fの各測定値を微分した値(一階微分値:第5の値)を演算して波形データD5を生成する。これにより、図8に示す波形W5のような波形データD5が生成され、「第5の処理」が完了する。なお、この「第5の処理」については、波形データD0fの値を微分する上記の処理に代えて、波形データD0fの値を最小二乗法などで「変化率を示す値」に置き換える処理を実行することもできる。 Next, the processing unit 23 calculates the value obtained by differentiating each measured value of the waveform data D0f (first derivative value: fifth value) to generate the waveform data D5. As a result, waveform data D5 such as the waveform W5 shown in FIG. 8 is generated, and the "fifth process" is completed. Regarding this "fifth process", instead of the above process of differentiating the value of the waveform data D0f, a process of replacing the value of the waveform data D0f with a "value indicating the rate of change" by the least squares method or the like is executed. You can also do it.

続いて、処理部23は、波形データD5の各値(第5の値)を微分した値(二階微分値:第6の値)を演算して波形データD6(「第6のデータ」の一例)を生成する。これにより、図9に示す波形W6のような波形データD6が生成され、「第6の処理」が完了する。なお、この「第6の処理」についても、波形データD5の値を微分する上記の処理に代えて、波形データD5の値を最小二乗法などで「変化率を示す値」に置き換える処理を実行することもできる。 Subsequently, the processing unit 23 calculates a value (second derivative value: sixth value) obtained by differentiating each value (fifth value) of the waveform data D5, and calculates an example of the waveform data D6 (“sixth data””. ) Is generated. As a result, waveform data D6 such as the waveform W6 shown in FIG. 9 is generated, and the "sixth process" is completed. Also for this "sixth process", instead of the above process of differentiating the value of the waveform data D5, a process of replacing the value of the waveform data D5 with a "value indicating the rate of change" by the least squares method or the like is executed. You can also do it.

次いで、処理部23は、波形データD6の各値の絶対値を正規化した値(「第7の値」の一例)を演算して波形データD7(「第7のデータ」の一例)を生成する「第7の処理」を実行する。これにより、図10に示す波形W7のような波形データD7が生成され、「第7の処理」が完了する。 Next, the processing unit 23 calculates a value obtained by normalizing the absolute value of each value of the waveform data D6 (an example of the "seventh value") to generate the waveform data D7 (an example of the "seventh data"). Execute the "seventh process". As a result, waveform data D7 such as the waveform W7 shown in FIG. 10 is generated, and the "seventh process" is completed.

続いて、処理部23は、波形データD1の各測定値を絶対値化した値(「第8の値」の一例)を演算して波形データD8(「第8のデータ」の一例)を生成する「第8の処理」を実行する。これにより、図11に示す波形W8のような波形データD8が生成され、「第8の処理」が完了する。 Subsequently, the processing unit 23 calculates the absolute value of each measured value of the waveform data D1 (an example of the "eighth value") to generate the waveform data D8 (an example of the "eighth data"). The "eighth process" is executed. As a result, waveform data D8 such as the waveform W8 shown in FIG. 11 is generated, and the "eighth process" is completed.

次いで、処理部23は、後述する「第9の処理」の開始に先立ち、以下に説明する「第11の処理」から「第13の処理」までの各処理のうちのいずれか、または任意の複数を実行して、処理前の波形データD7の各値に存在する下記のような特異点の数を減少させる。具体的には、前述した「第7の処理」によって生成された波形データD7では、図10に示すように、対応する波形データD6の各値の変化率が2値連続して同程度のとき(波形W6の傾きが2サンプリング分連続して同じとき)に、その値(第7の値)が「0」に近い値(非常に小さな値)となる特異点が発生する。この特異点(「0」に近い値)は、後の良否判定において正確な判定を阻害するため、予め規定された条件に従って各値を処理することで、特異点を減少させた新たな波形データD7を生成するのが好ましい。 Next, the processing unit 23 receives any one or any of the processes from the "11th process" to the "13th process" described below prior to the start of the "9th process" described later. A plurality of executions are performed to reduce the number of the following singular points existing in each value of the waveform data D7 before processing. Specifically, in the waveform data D7 generated by the above-mentioned "seventh process", as shown in FIG. 10, when the rate of change of each value of the corresponding waveform data D6 is about the same for two consecutive values. At (when the slope of the waveform W6 is the same for two consecutive samplings), a singular point occurs in which the value (seventh value) is close to "0" (very small value). Since this singular point (value close to "0") hinders accurate judgment in the subsequent pass / fail judgment, new waveform data in which the singular point is reduced by processing each value according to a predetermined condition It is preferable to generate D7.

この場合、特異点を減少させる処理の1つとしては、以下に説明する「第11の処理」を実行する。まず、波形データD5の各値(第5の値)の絶対値を、最大値が「1」となるように正規化した値(「第9の値」の一例)を演算して波形データD9(「第9のデータ」の一例)を生成する。これにより、図12に示す波形W9のような波形データD9が生成される。次いで、処理部23は、波形データD9の各の値(第9の値)に係数Ka(一例として、Ka=0.1)を乗じた値(図13に示す波形W9aの値)と、波形データD9の値(第9の値)のサンプリングタイミングに対応する波形データD7の値(第7の値:図13に示す波形W7の値)とのいずれか大きい一方を、新たな値(新たな第7の値)として新たな波形データD7を生成する。この際には、図13に太線で示す波形W7aのような波形データD7(新たな波形データD7)が生成され、「第11の処理」が完了する。 In this case, as one of the processes for reducing the singularity, the "11th process" described below is executed. First, the absolute value of each value (fifth value) of the waveform data D5 is normalized so that the maximum value is "1" (an example of the "ninth value"), and the waveform data D9 (An example of "9th data") is generated. As a result, waveform data D9 such as the waveform W9 shown in FIG. 12 is generated. Next, the processing unit 23 multiplies each value (9th value) of the waveform data D9 by a coefficient Ka (Ka = 0.1 as an example) (value of the waveform W9a shown in FIG. 13) and a waveform. One of the larger one of the waveform data D7 value (7th value: the value of the waveform W7 shown in FIG. 13) corresponding to the sampling timing of the data D9 value (9th value) is a new value (new value). New waveform data D7 is generated as the seventh value). At this time, waveform data D7 (new waveform data D7) such as the waveform W7a shown by the thick line in FIG. 13 is generated, and the “11th process” is completed.

なお、「第11の処理」において使用する「係数Ka」については、「1」以下で「0.1」以外の任意の正数とすることができる。また、上記の「第11の処理」に代えて、波形データD9の各の値(第9の値)に係数Kaを乗じない値(すなわち、第9の値:図14に示す波形W9の値)と、波形データD9の値(第9の値)のサンプリングタイミングに対応する波形データD7の値(第7の値:図14に示す波形W7の値)とのいずれか大きい一方を、新たな値(新たな第7の値)として新たな波形データD7を生成する処理を実行することもできる。この際には、同図に太線で示す波形W7bのような新たな波形データD7が生成される。 The "coefficient Ka" used in the "11th process" can be any positive number other than "0.1" with "1" or less. Further, instead of the above "11th process", each value (9th value) of the waveform data D9 is not multiplied by the coefficient Ka (that is, the 9th value: the value of the waveform W9 shown in FIG. 14). ) And the value of the waveform data D7 (7th value: the value of the waveform W7 shown in FIG. 14) corresponding to the sampling timing of the value of the waveform data D9 (9th value), whichever is larger, is new. It is also possible to execute a process of generating new waveform data D7 as a value (a new seventh value). At this time, new waveform data D7 such as the waveform W7b shown by the thick line in the figure is generated.

また、特異点を減少させる処理の他の1つとしては、以下に説明する「第12の処理」を実行する。この「第12の処理」では、波形データD7の各値(第7の値)を、対象の値に対してJaサンプリング前の値から対象の値までの(Ja+1)個の値と、対象の値から対象の値に対してJbサンプリング後の値までの(Jb+1)個の値の少なくとも一方を含む予め規定されたJc個の第7の値のうちの最大値にそれぞれ置き換えて新たな波形データD7を生成する。 Further, as one of the processes for reducing the singularity, the "twelfth process" described below is executed. In this "12th process", each value (7th value) of the waveform data D7 is set to (Ja + 1) values from the value before Ja sampling to the target value with respect to the target value, and the target value. New waveform data by replacing each with the maximum value of the predetermined Jc seventh values including at least one of the (Jb + 1) values from the value to the value after Jb sampling with respect to the target value. Generate D7.

具体的には、一例として、波形データD7の各値(第7の値)を、対象の値に対してJa=2サンプリング前の値から対象の値までの(Ja+1)個の値と、対象の値から対象の値に対してJb=2サンプリング後の値までの(Jb+1)個の値の双方を含む予め規定されたJa+Jb+1=Jc=5個の値のうちの最大値にそれぞれ置き換えて新たな波形データD7を生成する。この際には、図15に示す波形W7cのような新たな波形データD7が生成される。なお、「Ja」および「Jb」については「2」以外の任意の自然数に規定することができ、「Jc」についても「5」以外の任意の自然数とすることができる。 Specifically, as an example, each value (seventh value) of the waveform data D7 is set to (Ja + 1) values from the value before Ja = 2 sampling to the target value with respect to the target value, and the target. Replaced with the maximum value of the predetermined Ja + Jb + 1 = Jc = 5 values including both (Jb + 1) values from the value of to the value after Jb = 2 sampling with respect to the target value. Waveform data D7 is generated. At this time, new waveform data D7 such as the waveform W7c shown in FIG. 15 is generated. Note that "Ja" and "Jb" can be defined as any natural number other than "2", and "Jc" can also be any natural number other than "5".

さらに、特異点を減少させる処理のさらに他の1つとしては、以下に説明する「第13の処理」を実行する。この「第13の処理」では、波形データD7の各値(第7の値)のうち、Iサンプリング前の値よりも小さい値を、その値(第7の値)と、Iサンプリング前の値に係数Kb(一例として、Kb=0.9)を乗じた値(「第10の値」の一例)とのいずれか大きい一方に置き換えて新たな前波形データD7を生成する。この際には、図16に示す波形W7dのような新たな波形データD7が生成される。なお、「第13の処理」において使用する「係数Kb」については、「1」以下で「0.9」以外の任意の正数とすることができる。 Further, as still one of the processes for reducing the singularity, the "thirteenth process" described below is executed. In this "thirteenth process", among each value (seventh value) of the waveform data D7, a value smaller than the value before I sampling is selected as the value (seventh value) and the value before I sampling. Is replaced with a value obtained by multiplying by a coefficient Kb (as an example, Kb = 0.9) (an example of the "tenth value"), whichever is larger, to generate new pre-waveform data D7. At this time, new waveform data D7 such as the waveform W7d shown in FIG. 16 is generated. The "coefficient Kb" used in the "thirteenth process" can be any positive number other than "0.9" with "1" or less.

また、本例のような減衰振動波形の波形データD0に基づいて検査用データDcを生成する場合、後述する「第9の処理」の開始に先立ち、以下に説明する「第14の処理」を実行するのが好ましい。この場合、波形データD0のような減衰振動波形に基づいて生成した波形データD7では、その値(第7の値)が最大値となった時点以降において波形の変化量が時間の経過とともに小さくなる。このため、最大値以降の各値(第7の値)に関し、その変化量が極めて大きくなった場合は、正常な過渡現象ではなく、測定処理時に放電波形成分を含む測定値Dsが測定されたと判定できるように波形データD7の値を処理することで、判定精度を高めることが可能となる。したがって、波形データD7の値のうちの最大値以降の値に関し、以下のように処理する。 Further, when the inspection data Dc is generated based on the waveform data D0 of the damped vibration waveform as in this example, the "14th process" described below is performed prior to the start of the "9th process" described later. It is preferable to carry out. In this case, in the waveform data D7 generated based on the damped vibration waveform such as the waveform data D0, the amount of change in the waveform becomes smaller with the passage of time after the time when the value (seventh value) becomes the maximum value. .. Therefore, when the amount of change of each value (7th value) after the maximum value becomes extremely large, it is not a normal transient phenomenon, but the measured value Ds including the discharge waveform component is measured during the measurement process. By processing the value of the waveform data D7 so that the determination can be made, the determination accuracy can be improved. Therefore, the values after the maximum value among the values of the waveform data D7 are processed as follows.

具体的には、「第14の処理」においては、波形データD7の各値(第7の値)のうちの最大値に対応する測定値Dsよりも後にサンプリングされた測定値Dsに対応する値(第7の値)を対象として、対象の値(第7の値)に対してHaサンプリング前(一例として、1サンプリング前)の値(第7の値)が、対象の値を含んで連続するHbサンプリング分(一例として、Ha=1サンプリング前の値を含むHb=101サンプリング分)の値(第7の値)を平均化した値に係数Kc(一例として、Kc=1.0)を乗じた値(第11の値)以下のとき(すなわち、Hbサンプリング分の値の平均値に係数Kcを乗じた値が、対象の値のHaサンプリング前の値よりも大きいとき:対象の値を含むHbサンプリング分の値が急激に大きくなったとき)に、対象の値と、Haサンプリング前の値に予め規定された係数Kd(一例として、1.4)を乗じた値(第12の値)とのいずれか小さい一方に置き換えて新たな波形データD7を生成する。 Specifically, in the "14th process", the value corresponding to the measured value Ds sampled after the measured value Ds corresponding to the maximum value of each value (7th value) of the waveform data D7. For (7th value), the value (7th value) before Ha sampling (for example, 1 sampling before) with respect to the target value (7th value) is continuous including the target value. The coefficient Kc (as an example, Kc = 1.0) is added to the value obtained by averaging the value (seventh value) of the Hb sampling amount (for example, Hb = 101 sampling amount including the value before Ha = 1 sampling). When it is less than or equal to the multiplied value (11th value) (that is, when the value obtained by multiplying the average value of the values for Hb sampling by the coefficient Kc is larger than the value before Ha sampling of the target value: the target value The value (12th value) obtained by multiplying the target value by the value before Ha sampling and the predetermined coefficient Kd (1.4 as an example) when the value of the included Hb sampling suddenly increases). ) And the smaller one, and new waveform data D7 is generated.

この際に、上記のHaサンプリング前の値(第7の値)が、上記のHbサンプリング分の値(第7の値)を平均化した値に係数Ke(一例として、Ke=0.1)を乗じた値(「第13の値」の一例)よりも小さいときに、対象の値(第7の値)を、平均化した値に係数Keを乗じた値(第13の値)に置き換えることにより、特異点の数を減少させることができる。このような「第14の処理」を実行することにより、波形データD7の値のうちの最大値以降の値(すなわち、変化量が徐々に小さくなるべき各値)について、図17に実線で示す波形W7eの値のように急激に値が大きくなっていた場合には、その増加量が制限されて同図に破線で示す波形W7fに置き換えられて、新たな波形データD7が生成される。 At this time, the value before Ha sampling (7th value) is a coefficient Ke (for example, Ke = 0.1) obtained by averaging the value for Hb sampling (7th value). When it is smaller than the value multiplied by (an example of "13th value"), the target value (7th value) is replaced with the value obtained by multiplying the averaged value by the coefficient Ke (13th value). Thereby, the number of singular points can be reduced. By executing such "14th process", the values after the maximum value among the values of the waveform data D7 (that is, each value whose change amount should be gradually reduced) are shown by a solid line in FIG. When the value suddenly increases like the value of the waveform W7e, the amount of increase is limited and replaced with the waveform W7f shown by the broken line in the figure, and new waveform data D7 is generated.

なお、「第14の処理」において使用する「係数Kc」については、「1」以外の任意の正数とすることができ、「係数Kd」については、「係数Kc」よりも大きい「1.4」以外の任意の正数とすることができ、「係数Ke」については、「0.1」以外の任意の正数とすることができる。また、「Haサンプリング前の値」についても「2サンプリング以上の複数サンプリング前の値」とすることができ、「Hbサンプリング分を平均化した値」についても「100サンプリング分以下の複数サンプリング分を平均化した値」や「102サンプリング分以上の複数サンプリング分を平均化した値」とすることができる。 The "coefficient Kc" used in the "14th process" can be any positive number other than "1", and the "coefficient Kd" is larger than the "coefficient Kc". It can be any positive number other than "4", and the "coefficient Ke" can be any positive number other than "0.1". In addition, the "value before Ha sampling" can also be the "value before multiple samplings of 2 samplings or more", and the "value obtained by averaging the Hb samplings" is also "the value of 100 samplings or less for multiple samplings". It can be an "averaged value" or an "averaged value of a plurality of samplings of 102 samplings or more".

さらに、本例のような減衰振動波形の波形データD0に基づいて検査用データDcを生成する場合、後述する「第9の処理」の開始に先立ち、以下に説明する「第15の処理」も実行するのが好ましい。この場合、波形データD0のような振動波形であって検査対象Xに対する電圧の印加前からの測定値Dsを含む複数の測定値Dsに基づいて生成した波形データD7では、その値(第7の値)が最大値となる時点以前において波形の変化量が時間の経過とともに徐々に大きくなる傾向がある。このため、最大値以前の各値(第7の値)に関し、その変化量が変化率の増加の度合いとは不釣り合いに局所的に極めて小さいときには、ノイズ等の影響によってそのような極く小さな変化率の変化が生じたものとみなし、そのような変化の影響を十分に小さくするように波形データD7の値を処理することで、判定精度を高めることが可能となる。したがって、波形データD7の値のうちの最大値以前の値に関し、以下のように処理する。 Further, when the inspection data Dc is generated based on the waveform data D0 of the damped vibration waveform as in this example, the "15th process" described below is also performed prior to the start of the "9th process" described later. It is preferable to carry out. In this case, in the waveform data D7 generated based on a plurality of measured values Ds including the measured values Ds before the voltage is applied to the inspection target X, which is a vibration waveform such as the waveform data D0, the value (7th). The amount of change in the waveform tends to gradually increase with the passage of time before the time when the value) reaches the maximum value. Therefore, for each value (7th value) before the maximum value, when the amount of change is locally extremely small disproportionately to the degree of increase in the rate of change, it is such extremely small due to the influence of noise or the like. By assuming that a change in the rate of change has occurred and processing the value of the waveform data D7 so as to sufficiently reduce the influence of such a change, it is possible to improve the determination accuracy. Therefore, the values before the maximum value among the values of the waveform data D7 are processed as follows.

具体的には、「第15の処理」においては、波形データD7の各値(第7の値)のうちの最大値に対応する測定値Dsよりも前にサンプリングされた測定値Dsに対応する値(第7の値)を対象として、対象の値と、対象の第7の値に対してHcサンプリング前(一例として、Hc=1サンプリング前)の値(第7の値)に係数Kf(一例として、Ke=0.9)を乗じた値(「第14の値」の一例)とのいずれか大きい一方に置き換えて新たな波形データD7を生成する。 Specifically, in the "15th process", it corresponds to the measured value Ds sampled before the measured value Ds corresponding to the maximum value of each value (7th value) of the waveform data D7. For the value (7th value), the coefficient Kf (7th value) is added to the target value and the value (7th value) before Hc sampling (for example, before Hc = 1 sampling) with respect to the target 7th value. As an example, new waveform data D7 is generated by substituting one of the values multiplied by Ke = 0.9) (an example of the “14th value”), whichever is larger.

この際に、対象の値(第7の値)、およびHcサンプリング前の値(第7の値)に係数Kfを乗じた値(第14の値)の双方が、対象の値を含んで連続するHdサンプリング分(一例として、Hd=101サンプリング分)の値(第7の値)を平均化した値に係数Kg(一例として、Kg=1)を乗じた値(「第15の値」の一例)よりも小さいときに、対象の値を、Hdサンプリング分の値を平均化した値に係数Kgを乗じた値(第15の値)に置き換えることもできる。このような「第15の処理」を実行することにより、波形データD7の値のうちの最大値以前の値について、値の増加量が過剰に小さいときに、その増加量が本来的な増加量に対応して補強された値に置き換えられ、新たな波形データD7が生成される。 At this time, both the target value (7th value) and the value before Hc sampling (7th value) multiplied by the coefficient Kf (14th value) are continuous including the target value. The value (7th value) obtained by multiplying the averaged value (7th value) of the Hd sampling amount (for example, Hd = 101 sampling amount) is multiplied by the coefficient Kg (for example, Kg = 1) (of the "15th value"). When it is smaller than (1 example), the target value can be replaced with a value (15th value) obtained by multiplying the averaged value of Hd sampling by the coefficient Kg. By executing such "15th process", when the increase amount of the value before the maximum value of the waveform data D7 is excessively small, the increase amount is the original increase amount. Is replaced with a reinforced value corresponding to, and new waveform data D7 is generated.

なお、「第15の処理」において使用する「係数Kg」については、「1」以外の任意の正数とすることができる。また、「Hcサンプリング前の値」についても「2サンプリング前以上の複数サンプリング前の値」とすることができ、「Hdサンプリング分を平均化した値」についても「100サンプリング分以下の複数サンプリング分を平均化した値」や「102サンプリング分以上の複数サンプリング分を平均化した値」とすることができる。 The "coefficient Kg" used in the "15th process" can be any positive number other than "1". Further, the "value before Hc sampling" can be set to "the value before multiple samplings of 2 samplings or more", and the "value obtained by averaging the Hd samplings" can also be set to "multiple samplings of 100 samplings or less". Can be an averaged value or a value obtained by averaging a plurality of samplings of 102 samplings or more.

一方、処理部23は、上記の「第11の処理」から「第13の処理」や、「第14の処理」および「第15の処理」のうちの予め規定された処理を完了したときに、「第9の処理」を開始する。なお、「第11の処理」から「第15の処理」までの各処理を実行しないよう規定されているときには、前述した「第8の処理」を完了した時点において「第9の処理」を開始する。 On the other hand, when the processing unit 23 completes the predetermined processing among the above-mentioned "11th processing" to "13th processing" and "14th processing" and "15th processing". , "Ninth process" is started. When it is specified not to execute each process from the "11th process" to the "15th process", the "9th process" is started when the above-mentioned "8th process" is completed. do.

具体的には、この「第9の処理」では、処理部23は、図18に示すように、一例として、2次元グラフの縦軸に波形データD4の値(第4の値)を対応させると共に(「縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方」を「縦軸」とした例)、2次元グラフの横軸に波形データD4の各値のサンプリングタイミングに対応する波形データD7の各値(第7の値)を対応させて(「縦軸および横軸の他方」を「横軸」とした例)、波形データD4の値、および波形データD7の値の対応点(「第1の対応点」の一例)を2次元グラフ上にそれぞれプロットする。なお、同図では、両値の対応点(第1の対応点)を「◆」で表している。 Specifically, in this "nineth process", as shown in FIG. 18, the processing unit 23 associates the value of the waveform data D4 (fourth value) with the vertical axis of the two-dimensional graph as an example. (Example in which "either the vertical axis or the horizontal axis is predetermined" is the "vertical axis"), and the horizontal axis of the two-dimensional graph is the waveform data D7 corresponding to the sampling timing of each value of the waveform data D4. Corresponding points of the values of the waveform data D4 and the values of the waveform data D7 (“the seventh value”) by associating each value (seventh value) (an example in which the “other of the vertical axis and the horizontal axis” is the “horizontal axis”). An example of "corresponding point of 1") is plotted on a two-dimensional graph. In the figure, the corresponding point (first corresponding point) of both values is represented by "◆".

この際には、前述した「第4の処理」において生成された波形データD4の値、すなわち、波形データD0の測定値Dsのうちの「放電成分と判定されるべき変化量と同程度に短時間で大きく変化した値」が平均化されて絶対値化された値(第4の値)と、「第7の処理」において生成された波形データD7の値、または、波形データD7の値に対して各種の処理を施した新たな波形データD7の値、すなわち、波形データD0の測定値Dsのうちの「放電成分と判定されるべき変化量と同程度に短時間で大きく変化した値」が平均化されて絶対値化された値の二階微分値が絶対値化された値(第7の値)との対応点が「第1の対応点」として2次元グラフ上にそれぞれプロットされる。 At this time, the value of the waveform data D4 generated in the above-mentioned "fourth process", that is, the value of the measured value Ds of the waveform data D0, is as short as the "change amount to be determined as the discharge component". The value that has changed significantly with time "is averaged and absoluteized (fourth value), and the value of waveform data D7 generated in" seventh processing "or the value of waveform data D7. On the other hand, the value of the new waveform data D7 that has undergone various processing, that is, the "value that has changed significantly in a short time as much as the amount of change that should be determined as the discharge component" among the measured values Ds of the waveform data D0. The corresponding points of the second-order differential values of the averaged and absolute values with the absolute values (seventh value) are plotted as "first corresponding points" on the two-dimensional graph. ..

つまり、2次元グラフ上の各「第1の対応点」は、仮に波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれていたとしても、その放電波形成分の影響を排除された値(第4の値および第7の値)に基づく「対応点」がプロットされるべき領域内にプロットされることとなる。したがって、処理部23は、上記の「第9の処理」においてプロットした各「第1の対応点」の2次元グラフ上の配置に基づき、予め規定された「領域規定手順」に従って2次元グラフ上に「判定領域」を規定する(「第10の処理」の実行)。 That is, each "first corresponding point" on the two-dimensional graph is a value excluding the influence of the discharge waveform component even if the waveform W0 of the waveform data D0 contains the discharge waveform component (fourth). The "correspondence point" based on (the value of and the seventh value) will be plotted in the area to be plotted. Therefore, the processing unit 23 is on the two-dimensional graph according to the predetermined "area defining procedure" based on the arrangement of each "first corresponding point" plotted in the above "ninth processing" on the two-dimensional graph. The "judgment area" is defined in (execution of the "tenth process").

なお、この「第10の処理」の具体的な手順については、後に詳細に説明するが、本例の測定システム1(データ処理装置3)では、波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれているときに、その放電波形成分に対応する値の後述する「第2の対応点」がプロットされない判定領域Aa(「測定値範囲」としての「第1の判定領域」の一例)と、波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれているときに、その放電波形成分に対応する値の後述する「第2の対応点」がプロットされる判定領域Ab(「測定値範囲」としての「第2の判定領域」の一例)との少なくとも一方を規定する処理を「第10の処理」として実行する。 The specific procedure of this "tenth process" will be described in detail later, but in the measurement system 1 (data processing device 3) of this example, the waveform W0 of the waveform data D0 includes a discharge waveform component. When the data corresponds to the discharge waveform component, the "second corresponding point" described later is not plotted in the determination area Aa (an example of the "first determination area" as the "measurement value range"). When the waveform W0 of the waveform data D0 contains a discharge waveform component, the determination region Ab (as the “measured value range”” on which the “second corresponding point” described later of the value corresponding to the discharge waveform component is plotted. A process that defines at least one of the "second determination area") is executed as the "tenth process".

続いて、処理部23は、「第10の処理」によって規定した判定領域Aaおよび/または判定領域Abを特定可能な領域データDa(「測定値範囲データ」としての「領域データ」の一例)を生成すると共に、生成した領域データDaおよび波形データD7,D8(「比較値データ」の一例)を検査対象Xに関連付けて記録して検査用データDc(「放電有無特定用データ」の一例)を生成して記憶部14に記憶させる。以上により、「データ生成処理」が完了する。 Subsequently, the processing unit 23 uses the area data Da (an example of "area data" as "measured value range data") capable of specifying the determination area Aa and / or the determination area Ab defined by the "tenth process". Along with the generation, the generated area data Da and waveform data D7 and D8 (an example of "comparison value data") are recorded in association with the inspection target X, and the inspection data Dc (an example of "discharge presence / absence identification data") is recorded. It is generated and stored in the storage unit 14. With the above, the "data generation process" is completed.

次いで、処理部23は、生成した検査用データDcに基づき、検査対象Xについて測定した波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれているか否かの「判定処理(すなわち、検査対象Xが良品であるか不良品であるかの検査処理)」を実行する。 Next, the processing unit 23 determines whether or not the discharge waveform component is included in the waveform W0 of the waveform data D0 measured for the inspection target X based on the generated inspection data Dc (that is, the inspection target X is Inspection process of whether it is a good product or a defective product) ”is executed.

具体的には、処理部23は、まず、検査用データDcに記録されている領域データDaに基づき、2次元グラフ上に判定領域Aaおよび/または判定領域Abを規定する。また、処理部23は、検査用データDcに記録されている波形データD7,D8に基づき、2次元グラフ上に「第2の対応点」をそれぞれプロットする。この際に、本例の測定システム1(データ処理装置3)では、一例として、2次元グラフの縦軸に波形データD8の各値(第8の値)を対応させると共に(「縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方」を「縦軸」とした例)、2次元グラフの横軸に波形データD8の値のサンプリングタイミングに対応する波形データD7の各値(第7の値)を対応させて(「縦軸および横軸の他方」を「横軸」とした例)、波形データD8の値および波形データD7の値の対応点(第2の対応点)を2次元グラフ上にそれぞれプロットする。 Specifically, the processing unit 23 first defines the determination area Aa and / or the determination area Ab on the two-dimensional graph based on the area data Da recorded in the inspection data Dc. Further, the processing unit 23 plots the "second corresponding point" on the two-dimensional graph based on the waveform data D7 and D8 recorded in the inspection data Dc, respectively. At this time, in the measurement system 1 (data processing device 3) of this example, as an example, each value (eighth value) of the waveform data D8 is associated with the vertical axis of the two-dimensional graph (“vertical axis and horizontal axis”). An example in which "one of the axes defined in advance" is defined as the "vertical axis") The horizontal axis of the two-dimensional graph is each value of the waveform data D7 corresponding to the sampling timing of the value of the waveform data D8 (seventh value). (Example in which "the other of the vertical axis and the horizontal axis" is the "horizontal axis"), and the corresponding points (second corresponding points) of the values of the waveform data D8 and the values of the waveform data D7 are displayed on the two-dimensional graph. Plot each.

また、本例の測定システム1(データ処理装置3)では、図19,20に示すように、上記の2次元グラフと、2次元グラフ上に規定した判定領域Aaおよび/または判定領域Abとを表示部22に表示させると共に、新たな「第2の対応点」をプロットする都度、その「第2の対応点」を示す記号または図柄を2次元グラフ上に表示させる。なお、両図の例では、「第2の対応点」を示す記号の一例である「■」を2次元グラフ上に表示させた(プロットした)例を図示している。 Further, in the measurement system 1 (data processing device 3) of this example, as shown in FIGS. 19 and 20, the above two-dimensional graph and the determination area Aa and / or the determination area Ab defined on the two-dimensional graph are displayed. The display unit 22 is displayed, and each time a new "second corresponding point" is plotted, a symbol or symbol indicating the "second corresponding point" is displayed on the two-dimensional graph. In the examples of both figures, an example in which "■", which is an example of a symbol indicating a "second corresponding point", is displayed (plotted) on a two-dimensional graph is shown.

この場合、波形データD8は、前述した「第1の処理」において波形データD0の各測定値Dsのなかから連続するNサンプリング内の変化量が予め規定された量以上の測定値(第1の値:放電波形成分を構成する値と同様にNサンプリング内に急峻に変化した値)を「第8の処理」において絶対値化した値で構成されている。 In this case, the waveform data D8 is a measured value (first) in which the amount of change in continuous N sampling from each measured value Ds of the waveform data D0 in the above-mentioned "first process" is equal to or larger than a predetermined amount. Value: A value that is abruptly changed in N sampling like the value constituting the discharge waveform component) is converted into an absolute value in the "eighth process".

このため、この波形データD8の元となった波形データD0の各測定値DsがNサンプリング内に急峻に変化しなかったとき、すなわち、波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれていないときには、図19に示すように、すべての「第2の対応点」が判定領域Aa内(判定領域Ab外)にプロットされることとなる。これに対して、波形データD8の元となった波形データD0の各測定値DsがNサンプリング内に急峻に変化したとき、すなわち、波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれていたときには、図20に示すように、幾つかの「第2の対応点」(放電波形成分の測定値Dsに対応する波形データD7,8の対応点)が判定領域Aa外(判定領域Ab内)にプロットされることとなる。 Therefore, when each measured value Ds of the waveform data D0, which is the source of the waveform data D8, does not change sharply within N sampling, that is, the waveform W0 of the waveform data D0 does not contain a discharge waveform component. Occasionally, as shown in FIG. 19, all "second corresponding points" are plotted in the determination area Aa (outside the determination area Ab). On the other hand, when each measured value Ds of the waveform data D0, which is the source of the waveform data D8, changes sharply within N sampling, that is, when the waveform W0 of the waveform data D0 contains a discharge waveform component. , As shown in FIG. 20, some "second corresponding points" (corresponding points of the waveform data D7 and 8 corresponding to the measured value Ds of the discharge waveform component) are outside the determination area Aa (inside the determination area Ab). It will be plotted.

したがって、処理部23は、すべての「第2の対応点」のプロットを完了したときに、まず、上記の「第2の対応点」と判定領域Aa、および/または判定領域Abとの位置関係を特定する。この際に、すべての「第2の対応点」が判定領域Aa内にプロットされているとき(すべての「第2の対応点」が判定領域Ab外にプロットされているとき)に、処理部23は、波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれていないと判定する。また、幾つかの「第2の対応点」が判定領域Aa外にプロットされているとき(幾つかの「第2の対応点」が判定領域Ab内にプロットされているとき)に、処理部23は、波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれていると判定する。 Therefore, when the processing unit 23 completes the plotting of all the "second corresponding points", first, the positional relationship between the above "second corresponding points" and the determination area Aa and / or the determination area Ab. To identify. At this time, when all the "second corresponding points" are plotted in the determination area Aa (when all the "second corresponding points" are plotted outside the determination area Ab), the processing unit. 23 determines that the waveform W0 of the waveform data D0 does not contain a discharge waveform component. Further, when some "second corresponding points" are plotted outside the determination area Aa (when some "second corresponding points" are plotted inside the determination area Ab), the processing unit. 23 determines that the waveform W0 of the waveform data D0 contains a discharge waveform component.

また、処理部23は、操作部21の操作による使用者からの指示に従い、上記の図19,20に示す2次元グラフに代えて(または、両図に示す2次元グラフと共に)図21に示す2次元グラフを表示部22に表示させる。この2次元グラフは、波形データD0の波形W0、波形データD1の波形W1、および前述した判定領域Aaと判定領域Abと境界に対応する波形Waとが重ねて表示されている。したがって、同図に示すように、波形データD1の波形W1の一部が波形Waよりも上方に描画されているときには、その部位に対応する波形W0の一部が放電波形成分であり、波形データD1の波形W1において波形Waよりも下方に描画されている部位については、その部位に対応する波形W0の部位が放電波形成分ではないと直感的に認識させることが可能となる。 Further, the processing unit 23 is shown in FIG. 21 in place of (or together with the two-dimensional graphs shown in both figures) the two-dimensional graphs shown in FIGS. 19 and 20 above according to the instruction from the user by the operation of the operation unit 21. The two-dimensional graph is displayed on the display unit 22. In this two-dimensional graph, the waveform W0 of the waveform data D0, the waveform W1 of the waveform data D1, and the above-mentioned determination area Aa, the determination area Ab, and the waveform Wa corresponding to the boundary are superimposed and displayed. Therefore, as shown in the figure, when a part of the waveform W1 of the waveform data D1 is drawn above the waveform Wa, a part of the waveform W0 corresponding to the portion is a discharge waveform component, and the waveform data. With respect to the portion of the waveform W1 of D1 drawn below the waveform Wa, it is possible to intuitively recognize that the portion of the waveform W0 corresponding to that portion is not a discharge waveform component.

この後、処理部23は、上記の放電波形成分の有無の判定処理とは別個に行う他の検査項目に関する判定処理の結果と共に、放電波形成分の有無の判定処理の判定結果を検査対象Xに関連付けて記録して検査結果データDrを生成する。また、すべての検査項目において不良なしと判定したときには、検査対象Xが良品であるとの事項を検査結果データDrに記録すると共に、いずれかの検査項目において不良ありと判定したときには、検査対象Xが不良品であるとの事項を検査結果データDrに記録する。以上により、検査対象Xについての一連の検査処理が完了する。 After that, the processing unit 23 sets the determination result of the determination process for the presence / absence of the discharge waveform component as the inspection target X together with the result of the determination process for other inspection items performed separately from the determination process for the presence / absence of the discharge waveform component. The inspection result data Dr is generated by associating and recording. Further, when it is determined that there is no defect in all the inspection items, the item that the inspection target X is a non-defective product is recorded in the inspection result data Dr, and when it is determined that there is a defect in any of the inspection items, the inspection target X is recorded. Record the matter that is a defective product in the inspection result data Dr. As described above, a series of inspection processes for the inspection target X is completed.

次に、検査対象Xについての上記の一連の処理のうちの「第10の処理(2次元グラフ上に判定領域Aa,Abを規定する処理)」について、添付図面を参照して詳細に説明する。 Next, the "tenth process (process for defining the determination areas Aa and Ab on the two-dimensional graph)" in the above series of processes for the inspection target X will be described in detail with reference to the attached drawings. ..

上記の「第10の処理」において判定領域Aa(または、判定領域Ab)を規定するときに、処理部23は、まず、図22,23に示すように「第9の処理」においてプロットした「第1の対応点」の位置(両図における各「◇」の位置)を特定すると共に、2次元グラフの原点P0を通過する「各第1の対応点の回帰直線」を特定する。この際には、一例として、両図に示す二点鎖線Lが「回帰直線」として特定される。次いで、処理部23は、特定した回帰直線(二点鎖線L)における2次元グラフの横軸(「縦軸および横軸の他方」の一例)の値が「1」のときの2次元グラフの縦軸(縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方」の一例)の値(本例では、約0.08:「第16の値」の一例)を特定する。 When the determination area Aa (or the determination area Ab) is defined in the above "10th process", the processing unit 23 first plots "9th process" as shown in FIGS. 22 and 23. The position of the "first corresponding point" (the position of each "◇" in both figures) is specified, and the "regression straight line of each first corresponding point" passing through the origin P0 of the two-dimensional graph is specified. In this case, as an example, the alternate long and short dash line L shown in both figures is specified as a “regression straight line”. Next, the processing unit 23 determines that the value of the horizontal axis (an example of "the other of the vertical axis and the horizontal axis") of the two-dimensional graph on the specified regression line (dashed-dotted line L) is "1". The value of the vertical axis (an example of "one of the vertical axis and the horizontal axis defined in advance") (in this example, about 0.08: an example of the "16th value") is specified.

続いて、2次元グラフの原点P0、縦軸の値が「第16の値」で横軸の値が「1」の点P1(「第1の点」の一例)、および縦軸の値が「0」で横軸の値が「1」の点2(「第2の点」の一例)の3点を頂点とする三角形領域A1を特定すると共に、特定した三角形領域A1に基づいて判定領域Aaおよび/または、判定領域Abを規定する。 Next, the origin P0 of the two-dimensional graph, the point P1 where the value on the vertical axis is the "16th value" and the value on the horizontal axis is "1" (an example of the "first point"), and the value on the vertical axis are A triangle region A1 having three points of "0" and a value of "1" on the horizontal axis of "1" (an example of a "second point") as vertices is specified, and a determination region is determined based on the specified triangle region A1. Aa and / or the determination area Ab is defined.

具体的には、処理部23は、図24に示すように、2次元グラフの縦軸(「縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方」の一例)に波形データD1の値(第1の値)を対応させると共に、2次元グラフの横軸(「縦軸および横軸の他方」の一例)に波形データD1の各値のサンプリングタイミングに対応する波形データD7の値(第7の値)を対応させて波形データD1の値、および波形データD7の値の対応点(「第3の対応点」の一例)を2次元グラフ上にそれぞれプロットする。なお、同図では、両値の対応点(第3の対応点)を「■」で表している。 Specifically, as shown in FIG. 24, the processing unit 23 sets the value of the waveform data D1 (the first) on the vertical axis of the two-dimensional graph (an example of "one of the vertical axis and the horizontal axis defined in advance"). The value of waveform data D7 (7th) corresponding to the sampling timing of each value of waveform data D1 on the horizontal axis of the two-dimensional graph (an example of "the other of the vertical axis and the horizontal axis"). The corresponding points of the waveform data D1 and the values of the waveform data D7 (an example of the "third corresponding point") are plotted on a two-dimensional graph in correspondence with each other. In the figure, the corresponding point (third corresponding point) of both values is represented by "■".

この場合、波形データD0のような減衰振動波形(過渡現象の波形)の値に基づく「第3の対応点」は、変化率が小さい値が多くなるため、同図の2次元グラフの例では、横軸方向の原点側の部位に数多くの「第3の対応点」がプロットされることとなる。また、横軸方向の原点側の部位にプロットされた各「第3の対応点」は、対応する「第1の値」の自体が小さいことから、その分布が2次元グラフ上において縦軸方向に大きく分離せずに密集した状態となる。 In this case, the "third corresponding point" based on the value of the damped vibration waveform (waveform of the transient phenomenon) such as the waveform data D0 has many values with a small rate of change. , A large number of "third corresponding points" will be plotted on the part on the origin side in the horizontal axis direction. Further, since each "third corresponding point" plotted on the part on the origin side in the horizontal axis direction has a small corresponding "first value" itself, its distribution is in the vertical axis direction on the two-dimensional graph. It becomes a dense state without being separated greatly.

したがって、処理部23は、一例として、横軸の値が「0.1(「縦軸および横軸の他方の値が「0.5」以下の予め規定された第17の値」の一例)」以下である「第3の対応点」、すなわち、各「第3の対応点」のうちの大半を占める通常の測定値Dsに対応する「第3の対応点」(放電波形成分や大きなノイズ成分が存在する場合に、そのような特異な測定値Dsを除く測定値Dsに対応する「第3の対応点」)を抽出する。なお、上記の「第17の値」については、「0.5」以下の「0.1」以外の任意の正数とすることができる。 Therefore, as an example, the processing unit 23 has a value on the horizontal axis of "0.1 (an example of" a predetermined 17th value in which the other value of the vertical axis and the horizontal axis is "0.5" or less)). The "third corresponding point" below, that is, the "third corresponding point" (discharge waveform component and large noise) corresponding to the normal measured value Ds which occupies most of each "third corresponding point". When a component is present, a "third corresponding point") corresponding to the measured value Ds excluding such a peculiar measured value Ds is extracted. The above "17th value" can be any positive number other than "0.1" which is "0.5" or less.

次いで、処理部23は、抽出した各「第3の対応点」における縦軸の値の標準偏差nσを演算する。この場合、「n」については、測定値Dsの数(サンプリング数)に応じて任意の自然数を予め規定しておく。具体的には、一例として、波形データD0における測定値Dsの数が「10,000」であって、この波形データD0の波形W0に放電波形成分が存在しないときに、標準偏差nσ=3σの範囲内に含まれる測定値Dsは、「10,000×約99.73%≒9,973値」で「10,000−9,973=27値」が標準偏差nσの範囲外となる可能性があり、標準偏差nσ=4σの範囲内に含まれる測定値Dsは、「10,000×約99.994%≒9,999.4値」で「10,000−9,999.4=0.6値」が標準偏差nσの範囲外となる可能性がある。 Next, the processing unit 23 calculates the standard deviation nσ of the value on the vertical axis at each of the extracted “third corresponding points”. In this case, for "n", an arbitrary natural number is defined in advance according to the number of measured values Ds (sampling number). Specifically, as an example, when the number of measured values Ds in the waveform data D0 is "10,000" and there is no discharge waveform component in the waveform W0 of the waveform data D0, the standard deviation nσ = 3σ. The measured value Ds included in the range is "10,000 x about 99.73% ≒ 9,973 value", and "10,000-9,973 = 27 value" may be outside the range of the standard deviation nσ. The measured value Ds included in the range of standard deviation nσ = 4σ is “10,000 × about 99.994% ≒ 9,999.4 value” and “10,000-9,999.4 = 0”. The "0.6 value" may be outside the range of the standard deviation nσ.

また、標準偏差nσ=5σの範囲内に含まれる測定値Dsは、「10,000×約99.9999%≒9,999.99値」で「10,000−9,999.99=0.01値」が標準偏差nσの範囲外となる可能性があり、標準偏差nσ=6σの範囲内に含まれる測定値Dsは、「10,000×約99.999999%≒9,999.9999値」で「10,000−9,999.999999=0.000001値」が標準偏差nσの範囲外となる可能性がある。したがって、この「第10の処理」においては、標準偏差nσ(n≧3)、好ましくは、標準偏差5σ、または標準偏差6σを演算することで、放電波形成分が存在するとの誤判定が生じさせる可能性が十分に低い判定領域Aa(または、判定領域Ab)を規定することが可能となる。 Further, the measured value Ds included in the range of the standard deviation nσ = 5σ is “10,000 × about 99.99999% ≒ 9,999.99 value” and “10,000-9,999.99 = 0. The “01 value” may be outside the range of the standard deviation nσ, and the measured value Ds included in the range of the standard deviation nσ = 6σ is “10,000 × about 99.999999% ≈ 9,999.9999 value”. , "10,000-9,999.99999999 = 0.000001 value" may be outside the range of standard deviation nσ. Therefore, in this "tenth process", by calculating the standard deviation nσ (n ≧ 3), preferably the standard deviation 5σ, or the standard deviation 6σ, it is erroneously determined that the discharge waveform component exists. It is possible to define a determination area Aa (or a determination area Ab) that is sufficiently unlikely.

続いて、処理部23は、図22,23に示すように、前述した原点P0、および点P1と、縦軸の値が標準偏差nσと「第16の値(本例では、約0.08)」との和で横軸の値が「1」の点P3(「第3の点」の一例)と、縦軸の値が標準偏差nσで横軸の値が「0」の点P4(「第4の点」の一例)との4点を頂点とする矩形領域A2(「第1の矩形領域」の一例)を特定する。また、処理部23は、処理部23は、判定領域Aaを規定するときには、上記の三角形領域A1と矩形領域A2とを足し合わせた領域を判定領域Aaとし、判定領域Abを規定するときには、2次元グラフにおいて上記の三角形領域A1および矩形領域A2を除く領域を判定領域Abとし、これらの判定領域Aaおよび/または判定領域Abを特定可能なデータを領域データDaとして検査用データDcに記録する。以上により、判定領域Aaおよび/または判定領域Abを規定する「第10の処理」が完了する。 Subsequently, as shown in FIGS. 22 and 23, the processing unit 23 has the origin P0 and the point P1 described above, and the values on the vertical axis have the standard deviation nσ and the “16th value (about 0.08 in this example). ) ”, A point P3 with a value of“ 1 ”on the horizontal axis (an example of a“ third point ”), and a point P4 with a standard deviation nσ on the vertical axis and a value of“ 0 ”on the horizontal axis. A rectangular region A2 (an example of the "first rectangular region") having four points as vertices with the "fourth point") is specified. Further, in the processing unit 23, when the processing unit 23 defines the determination area Aa, the area obtained by adding the triangular area A1 and the rectangular area A2 is defined as the determination area Aa, and when the determination area Ab is defined, 2 In the dimensional graph, the area other than the triangular area A1 and the rectangular area A2 is defined as the determination area Ab, and the data capable of identifying these determination areas Aa and / or the determination area Ab is recorded in the inspection data Dc as the area data Da. As described above, the "tenth process" for defining the determination area Aa and / or the determination area Ab is completed.

この場合、図22に示すように、波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれていないときには、検査用データDcに記録されている波形データD8の値および波形データD7の値の「第2の対応点(同図に示す「■」の点)」を2次元グラフ上にそれぞれプロットしたときに、すべての「第2の対応点」が判定領域Aa内(判定領域Ab外)にプロットされる。これに対して、図23に示すように、波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれていたときには、検査用データDcに記録されている波形データD8の値および波形データD7の値の「第2の対応点(同図に示す「■」の点)」を2次元グラフ上にそれぞれプロットしたときに、幾つかの「第2の対応点」(放電波形成分の測定値Dsに対応する「第2の対応点」)が判定領域Aa外(判定領域Ab内)にプロットされる。したがって、上記のような手順で判定領域Aa、および/または判定領域Abを規定することにより、そのような領域データDaと、波形データD7,D8とに基づき、波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれているか否かを好適に判定できる。 In this case, as shown in FIG. 22, when the waveform W0 of the waveform data D0 does not contain the discharge waveform component, the value of the waveform data D8 and the value of the waveform data D7 recorded in the inspection data Dc are "th. When the two corresponding points (points "■" shown in the figure) are plotted on the two-dimensional graph, all the "second corresponding points" are plotted in the judgment area Aa (outside the judgment area Ab). Will be done. On the other hand, as shown in FIG. 23, when the waveform W0 of the waveform data D0 contains a discharge waveform component, the value of the waveform data D8 and the value of the waveform data D7 recorded in the inspection data Dc When the "second corresponding point (point" ■ "shown in the figure)" is plotted on the two-dimensional graph, some "second corresponding points" (corresponding to the measured value Ds of the discharge waveform component). The "second corresponding point") is plotted outside the determination area Aa (inside the determination area Ab). Therefore, by defining the determination area Aa and / or the determination area Ab by the procedure as described above, the discharge waveform is added to the waveform W0 of the waveform data D0 based on such area data Da and the waveform data D7 and D8. It can be suitably determined whether or not the component is contained.

一方、「第1の判定領域および第2の判定領域の少なくとも一方の領域」を規定する「第10の処理」は、上記の手順に限定されず、以下のように「少なくとも一方の領域」を簡易に規定することもできる。具体的には、処理部23は、「第10の処理」として、まず、図25に示すように「第9の処理」においてプロットした「第1の対応点」の位置(同図における各「◇」の位置)を特定すると共に、特定したすべての「第1の対応点」が含まれる最小の方形領域A3(「最小の方形領域」の一例)を特定する。次いで、一例として、上記の判定領域Aa,Abの規定に際して特定した手順と同様の手順に従って標準偏差nσを演算する。 On the other hand, the "tenth process" that defines "at least one region of the first determination region and the second determination region" is not limited to the above procedure, and "at least one region" is defined as follows. It can also be specified simply. Specifically, the processing unit 23 first, as the "tenth process", first plots the positions of the "first corresponding points" in the "ninth process" as shown in FIG. 25 (each "1st corresponding point" in the figure). The position of "◇") is specified, and the smallest square area A3 (an example of the "minimum square area") including all the specified "first corresponding points" is specified. Next, as an example, the standard deviation nσ is calculated according to the same procedure as the procedure specified in defining the determination areas Aa and Ab above.

続いて、方形領域A3を2次元グラフの縦軸方向に標準偏差nσだけ拡大し、拡大後の方形領域を「測定値範囲」としての「第1の判定領域」の他の一例である判定領域Acとし、かつ2次元グラフにおける判定領域Acを除く領域を「測定値範囲」としての「第2の判定領域」の他の一例である判定領域Adとして規定すると共に、これらの判定領域Acおよび/または判定領域Adを特定可能なデータを領域データDaとして検査用データDcに記録する。以上により、判定領域Acおよび/または判定領域Adを規定する「第10の処理」が完了する。 Subsequently, the square region A3 is expanded in the vertical direction of the two-dimensional graph by the standard deviation nσ, and the enlarged square region is a determination region which is another example of the “first determination region” as the “measurement value range”. The area excluding the determination area Ac in the two-dimensional graph is defined as Ac and is defined as the determination area Ad which is another example of the "second determination area" as the "measured value range", and these determination areas Ac and / Alternatively, data that can identify the determination area Ad is recorded in the inspection data Dc as the area data Da. As described above, the "tenth process" for defining the determination area Ac and / or the determination area Ad is completed.

次に、前述の検査対象Xについての前述した一連の処理のうちの「判定処理」(波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれているか否かの判定)について、添付図面を参照して詳細に説明する。 Next, with respect to the "judgment process" (determination of whether or not the waveform W0 of the waveform data D0 contains a discharge waveform component) in the series of processes described above for the inspection target X described above, refer to the attached drawing. Will be explained in detail.

検査用データDcにおける領域データDaおよび波形データD7,D8に基づいて波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれているか否かを判定する場合、「第10の処理」において判定領域Aaや判定領域Acを過剰に狭く規定したとき(判定領域Abや判定領域Adを過剰に広く規定したとき)に、放電波形成分ではないノイズ成分等が放電波形成分であると誤判定されるおそれがある。したがって、本例の測定システム1(データ処理装置3)では、「判定処理」において放電波形成分の有無を判定したときに、以下のような「報知処理」を行うことで、判定領域Aa〜Adが好適に規定されているか否かを利用者に把握させる構成が採用されている。 When determining whether or not the waveform W0 of the waveform data D0 contains a discharge waveform component based on the region data Da and the waveform data D7 and D8 in the inspection data Dc, in the "10th process", the determination region Aa or When the determination area Ac is specified excessively narrowly (when the determination area Ab or the determination area Ad is specified excessively wide), a noise component or the like that is not a discharge waveform component may be erroneously determined to be a discharge waveform component. .. Therefore, in the measurement system 1 (data processing device 3) of this example, when the presence or absence of the discharge waveform component is determined in the "determination process", the following "notification process" is performed to perform the determination areas Aa to Ad. Is adopted so that the user can understand whether or not is preferably specified.

具体的には、一例として、処理部23は、まず、判定領域Aaや判定領域Ac(第1の判定領域)を「少なくとも一方の領域」とするときには、「第2の対応点」の総数に占める判定領域Aaや判定領域Acに含まれない「第2の対応点」の割合を特定すると共に、判定領域Abや判定領域Ad(第2の判定領域)を「少なくとも一方の領域」とするときには、「第2の対応点」の総数に占める判定領域Abや判定領域Adに含まれる「第2の対応点」の割合を特定する。つまり、各「第2の対応点」に占める「放電波形成分に対応すると判定される第2の対応点」の割合を特定する。 Specifically, as an example, when the determination area Aa and the determination area Ac (first determination area) are set to "at least one area", the processing unit 23 first sets the total number of "second corresponding points". When specifying the ratio of the "second corresponding point" that is not included in the judgment area Aa or the judgment area Ac, and setting the judgment area Ab or the judgment area Ad (second judgment area) as "at least one area" , The ratio of the "second corresponding point" included in the determination area Ab and the determination area Ad to the total number of "second corresponding points" is specified. That is, the ratio of the "second corresponding point determined to correspond to the discharge waveform component" to each "second corresponding point" is specified.

次いで、特定した割合が「予め規定された割合(一例として、10%)」以上のときに、「放電波形成分と判定されるポイント数が10%を超えました」とのメッセージを表示部22に表示させる(「予め規定された報知処理」の一例)。したがって、このメッセージを見た利用者は、波形データD0の測定時にそれほど多くの放電現象が発生している筈がないと判断したときには、判定領域Aa,Acを狭く規定し過ぎた(判定領域Ab,Adを広く規定し過ぎた)と判断し、判定領域Aa,Ac、および/または判定領域Ab,Adの広さを手動で調整したり、上記の一連の手順における各係数を変更して新たな判定領域Aa,Ac、および/または判定領域Ab,Adを規定させたりする。なお、上記の「予め規定された割合」は、「0%」よりも大きく「100%」よりも小さい範囲内で「10%」以外の任意の割合に規定することができる。 Next, when the specified ratio is "predetermined ratio (10% as an example)" or more, the message "The number of points determined to be the discharge waveform component has exceeded 10%" is displayed on the display unit 22. (An example of "predetermined notification processing"). Therefore, when the user who sees this message determines that so many discharge phenomena should not have occurred when measuring the waveform data D0, the determination areas Aa and Ac are defined too narrowly (determination area Ab). , Ad was defined too broadly), and the size of the judgment areas Aa, Ac, and / or the judgment areas Ab, Ad was manually adjusted, or each coefficient in the above series of procedures was changed to make a new one. Judgment areas Aa, Ac, and / or judgment areas Ab, Ad are defined. The above-mentioned "predetermined ratio" can be defined as any ratio other than "10%" within a range larger than "0%" and smaller than "100%".

また、「報知処理」としては、上記の処理に代えて、以下のような処理を行うこともできる。具体的には、一例として、処理部23は、「判定処理」において、図26に示すように、まず、2次元グラフを横軸(「縦軸および横軸の他方」の一例)の方向で10個(「Ga=10個」の例)に分割したGa=10個の矩形領域A10〜A19(「第2の矩形領域」の一例)を特定する。次いで、処理部23は、判定領域Aaを「少なくとも一方の領域」とするときには判定領域Aa以外の領域に「第2の対応点」が含まれている矩形領域A10〜A19の数を特定すると共に、判定領域Abを「少なくとも一方の領域」とするときには判定領域Abに「第2の対応点」が含まれている矩形領域A10〜A19の数を特定する。つまり、矩形領域A10〜A19のうちの「放電波形成分に対応すると判定される第2の対応点」が存在する領域の数を特定する。この際に、同図に示す例では、該当する領域が矩形領域A10の1つであると特定される。 Further, as the "notification process", the following process can be performed instead of the above process. Specifically, as an example, in the "determination process", as shown in FIG. 26, the processing unit 23 first plots the two-dimensional graph in the direction of the horizontal axis (an example of "an example of" the other of the vertical axis and the horizontal axis "). Specify Ga = 10 rectangular regions A10 to A19 (an example of the "second rectangular region") divided into 10 (example of "Ga = 10"). Next, when the determination area Aa is set to "at least one area", the processing unit 23 specifies the number of rectangular areas A10 to A19 in which the "second corresponding point" is included in the area other than the determination area Aa. When the determination area Ab is set to "at least one area", the number of rectangular areas A10 to A19 in which the determination area Ab includes the "second corresponding point" is specified. That is, the number of regions in the rectangular regions A10 to A19 in which the "second corresponding point determined to correspond to the discharge waveform component" exists is specified. At this time, in the example shown in the figure, the corresponding region is specified as one of the rectangular regions A10.

続いて、処理部23は、特定した領域の数が「予め規定された数(一例として、Ga=10/2=5)」以上のときに、「放電波形成分と判定されるポイントが位置する領域が50%を超えました」とのメッセージを表示部22に表示させる(「予め規定された報知処理」の他の一例)。なお、同図に示す例では、特定された領域の数が1つだけのため、上記のようなメッセージが表示されることなく、前述したような判定結果が表示部22に表示されるが、上記のようなメッセージが表示された場合、そのメッセージを見た利用者は、波形データD0の測定時にそれほど多くの放電現象が発生している筈がないと判断したときには、判定領域Aaを狭く規定し過ぎた(判定領域Abを広く規定し過ぎた)と判断し、判定領域Aa、および/または判定領域Abの広さを手動で調整したり、上記の一連の手順における各係数を変更して新たな判定領域Aa、および/または判定領域Abを規定させたりする。なお、上記の「Ga個」は、10個以外で2以上の任意の自然数に規定することができる。また、「予め規定された数」についても、5個以外でGa個以下の任意の自然数に規定することができる。 Subsequently, the processing unit 23 positions a "point determined to be a discharge waveform component" when the number of the specified regions is "a predetermined number (for example, Ga = 10/2 = 5)" or more. The message "The area has exceeded 50%" is displayed on the display unit 22 (another example of "predetermined notification processing"). In the example shown in the figure, since the number of the specified regions is only one, the above-mentioned determination result is displayed on the display unit 22 without displaying the above-mentioned message. When the above message is displayed, the user who sees the message narrowly defines the determination area Aa when it is determined that so many discharge phenomena should not have occurred when measuring the waveform data D0. It is judged that the judgment area Ab is too wide (the judgment area Ab is defined too broadly), and the size of the judgment area Aa and / or the judgment area Ab is manually adjusted, or each coefficient in the above series of procedures is changed. A new determination area Aa and / or a determination area Ab may be defined. The above-mentioned "Ga" can be defined as any natural number of 2 or more other than 10. Further, the "predetermined number" can be defined as any natural number other than 5 and Ga or less.

このように、このデータ処理装置3では、放電波形成分が含まれているか否かを特定する基準となる「測定値範囲」の「測定値範囲データ」と、「測定値範囲データ」との対比によって放電波形成分が含まれているか否かを特定可能な「比較値データ」とを波形データD0に基づいて生成し、生成した「測定値範囲データ」および「比較値データ」を含めて検査用データDcを生成する。具体的には、処理部23が、波形データD0を使用して「第1の処理」から「第10の処理」までの各処理を順次実行し、「第10の処理」によって規定した「測定値範囲としての少なくとも一方の領域(本例では、「第1の判定領域」としての判定領域Aa(または、判定領域Ac)、および「第2の判定領域」としての判定領域Ab(または、判定領域Ad)の双方)」を特定可能な領域データDa(測定値範囲データ)と、「第7の処理」によって生成した波形データD7、および「第8の処理」によって生成した波形データD8(比較値データ)とを含めて検査用データDcを生成する。また、このデータ処理用プログラムDpは、上記の各処理をデータ処理装置3の処理部23に実行させる。 As described above, in the data processing device 3, the "measured value range data" of the "measured value range", which is a reference for specifying whether or not the discharge waveform component is included, is compared with the "measured value range data". "Comparison value data" that can specify whether or not the discharge waveform component is included is generated based on the waveform data D0, and the generated "measurement value range data" and "comparison value data" are included for inspection. Generate data Dc. Specifically, the processing unit 23 sequentially executes each process from the "first process" to the "tenth process" using the waveform data D0, and the "measurement" defined by the "tenth process". At least one area as the value range (in this example, the determination area Aa (or determination area Ac) as the "first determination area", and the determination area Ab (or determination) as the "second determination area". Area data Da (measured value range data) that can specify "both areas Ad)", waveform data D7 generated by "seventh process", and waveform data D8 (comparison) generated by "eighth process". The inspection data Dc including the value data) is generated. Further, the data processing program Dp causes the processing unit 23 of the data processing device 3 to execute each of the above processes.

したがって、このデータ処理装置3およびデータ処理用プログラムDpによれば、検査対象Xについて取得した1つの波形データD0に基づいて、放電波形成分が存在するか否かを判定するための領域データDaと、領域データDaの判定領域(判定領域Aa〜Ad)との対比によって放電波形成分が存在するか否かを判定可能な波形データD7,D8とを生成することができる。このため、複数回の測定処理が不要となり、複数の「測定対象」についての個体差の影響や、測定処理毎の測定環境の相違に起因する測定値Dsのばらつきの影響を受けることがなくなるため、放電現象が発生しているか否かの判定精度を十分に向上させることができるだけでなく、判定用の基準値(閾値)を生成する処理を別個に行う必要もなくなることから、利用者の負担を十分に軽減することができる。 Therefore, according to the data processing device 3 and the data processing program Dp, the area data Da for determining whether or not a discharge waveform component exists is provided based on one waveform data D0 acquired for the inspection target X. , Waveform data D7 and D8 that can determine whether or not a discharge waveform component exists can be generated by comparing the region data Da with the determination region (determination regions Aa to Ad). For this reason, it is not necessary to perform a plurality of measurement processes, and the influence of individual differences on a plurality of "measurement targets" and the variation of the measured value Ds due to the difference in the measurement environment for each measurement process are not affected. Not only can the accuracy of determining whether or not a discharge phenomenon has occurred be sufficiently improved, but it is not necessary to separately perform a process for generating a reference value (threshold) for determination, which is a burden on the user. Can be sufficiently reduced.

また、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第9の処理」に先立ち、波形データD5の各「第5の値」の絶対値を最大値が「1」となるように正規化した「第9の値」を演算して波形データD9を生成すると共に、各「第9の値」に係数Kaを乗じた値と、各「第9の値」のサンプリングタイミングに対応する波形データD7の各「第7の値」とのいずれか大きい一方を新たな「第7の値」として新たな波形データD7を生成する「第11の処理」を実行する。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 normalizes the absolute value of each “fifth value” of the waveform data D5 so that the maximum value becomes “1” prior to the “ninth processing”. Waveform data D9 is generated by calculating the "9th value", and the value obtained by multiplying each "9th value" by the coefficient Ka and the waveform data corresponding to the sampling timing of each "9th value". The "11th process" for generating new waveform data D7 is executed with the larger one of each "seventh value" of D7 as a new "seventh value".

また、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第9の処理」に先立ち、波形データD7の各「第7の値」を、対象の「第7の値」に対してJaサンプリング前の「第7の値」から対象の「第7の値」までの(Ja+1)個の「第7の値」、および対象の「第7の値」から対象の「第7の値」に対してJbサンプリング後の「第7の値」までの(Jb+1)個の「第7の値」の少なくとも一方を含む予め規定されたJc個の「第7の値」のうちの最大値にそれぞれ置き換えて新たな波形データD7を生成する「第12の処理」を実行する。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 sets each "seventh value" of the waveform data D7 with respect to the target "seventh value" before Ja sampling prior to the "nineth processing". For (Ja + 1) "7th values" from the "7th value" of the target to the "7th value" of the target, and for the "7th value" of the target from the "7th value" of the target Replaced with the maximum value of the predetermined Jc "7th values" including at least one of the (Jb + 1) "7th values" up to the "7th value" after Jb sampling. The "12th process" for generating new waveform data D7 is executed.

また、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第9の処理」に先立ち、波形データD7の各「第7の値」のうち、Iサンプリング前の「第7の値」よりも小さい「第7の値」を、Iサンプリング前の「第7の値」よりも小さい「第7の値」と、Iサンプリング前の「第7の値」に係数Kbを乗じた「第10の値」とのいずれか大きい一方に置き換えて新たな波形データD7を生成する「第13の処理」を実行する。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 is smaller than the "seventh value" before I sampling among each "seventh value" of the waveform data D7 prior to the "ninth processing". The "seventh value" is the "seventh value" that is smaller than the "seventh value" before I sampling, and the "seventh value" before I sampling multiplied by the coefficient Kb. The "thirteenth process" for generating new waveform data D7 is executed by replacing it with one of the larger ones.

したがって、このデータ処理装置3およびデータ処理用プログラムDpによれば、「第7の値」が「0」に近い値となる特異点の数を十分に減少させることができ、これにより、放電波形成分の有無を一層高精度に判定し得る判定領域Aaおよび/または判定領域Abを規定することができると共に、検査用データDcに基づいて放電波形成分の有無を判定する際に、新たな波形データD7に基づいて2次元グラフ上に「第2の対応点」をプロットすることで放電波形成分の有無を一層高精度に判定することが可能となる。 Therefore, according to the data processing device 3 and the data processing program Dp, the number of singular points at which the "seventh value" is close to "0" can be sufficiently reduced, thereby causing the discharge waveform. A determination area Aa and / or a determination area Ab that can determine the presence or absence of a component with higher accuracy can be defined, and new waveform data is used when determining the presence or absence of a discharge waveform component based on the inspection data Dc. By plotting the "second corresponding point" on the two-dimensional graph based on D7, it is possible to determine the presence or absence of the discharge waveform component with higher accuracy.

また、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第9の処理」に先立ち、波形データD7の各「第7の値」のうちの最大値に対応する測定値Dsよりも後にサンプリングされた測定値Dsに対応する「第7の値」を、対象の「第7の値」に対してHaサンプリング前の「第7の値」が、対象の「第7の値」を含んで連続するHbサンプリング分の「第7の値」を平均化した値に係数Kcを乗じた「第11の値」以下のときに、対象の「第7の値」と、Haサンプリング前の「第7の値」に予め規定された係数Kdを乗じた「第12の値」とのいずれか小さい一方に置き換えて新たな波形データD7を生成する「第14の処理」を実行する。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 is sampled prior to the “9th process” and after the measured value Ds corresponding to the maximum value of each “7th value” of the waveform data D7. The "seventh value" corresponding to the measured value Ds is continuously obtained by including the target "seventh value" and the "seventh value" before Ha sampling with respect to the target "seventh value". When the value is equal to or less than the "11th value" obtained by multiplying the averaged value of the "7th value" of the Hb sampling to be performed by the coefficient Kc, the target "7th value" and the "7th value" before Ha sampling are applied. The "14th process" of generating new waveform data D7 is executed by substituting the "value of" with the "12th value" obtained by multiplying the predetermined coefficient Kd by whichever is smaller.

したがって、このデータ処理装置3およびデータ処理用プログラムDpによれば、測定値の変化率が徐々に小さくなる波形データD0を対象とするときに、変化率の減少の度合いとは不釣り合いに「第7の値」が急激に大きな値に変化するような変化状態を、変化率の減少の度合いに応じた適当な変化状態とすることができ、これにより、放電波形成分の有無を一層高精度に判定し得る判定領域Aaおよび/または判定領域Abを規定することができると共に、検査用データDcに基づいて放電波形成分の有無を判定する際に、新たな波形データD7に基づいて2次元グラフ上に「第2の対応点」をプロットすることで放電波形成分の有無を一層高精度に判定することが可能となる。 Therefore, according to the data processing device 3 and the data processing program Dp, when the waveform data D0 in which the rate of change of the measured value gradually decreases is targeted, the degree of decrease in the rate of change is disproportionately “third”. The change state in which the "value of 7" suddenly changes to a large value can be changed to an appropriate change state according to the degree of decrease in the rate of change, whereby the presence or absence of the discharge waveform component can be made more accurate. A determination area Aa and / or a determination area Ab that can be determined can be defined, and when determining the presence or absence of a discharge waveform component based on the inspection data Dc, on a two-dimensional graph based on the new waveform data D7. By plotting the "second corresponding point", the presence or absence of the discharge waveform component can be determined with higher accuracy.

さらに、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第14の処理」において、Haサンプリング前の「第7の値」が、Hbサンプリング分の「第7の値」を平均化した値に係数Keを乗じた「第13の値」よりも小さいときに、対象の「第7の値」を「第13の値」に置き換える。したがって、このデータ処理装置3およびデータ処理用プログラムDpによれば、「第7の値」の変化状態を一層好適な状態とすることができる。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 sets the "seventh value" before Ha sampling to the average value of the "seventh value" for Hb sampling in the "14th processing". When it is smaller than the "13th value" multiplied by the coefficient Ke, the target "7th value" is replaced with the "13th value". Therefore, according to the data processing device 3 and the data processing program Dp, the changed state of the "seventh value" can be made a more suitable state.

また、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第9の処理」に先立ち、波形データD7の各「第7の値」のうちの最大値に対応する測定値Dsよりも前にサンプリングされた測定値Dsに対応する「第7の値」を、対象の「第7の値」と、対象の「第7の値」に対してHcサンプリング前の「第7の値」に係数Kfを乗じた「第14の値」とのいずれか大きい一方に置き換えて新たな波形データD7を生成する「第15の処理」を実行する。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 samples before the measured value Ds corresponding to the maximum value of each “7th value” of the waveform data D7 prior to the “9th processing”. The "7th value" corresponding to the measured value Ds is converted into the "7th value" of the target and the "7th value" before Hc sampling with respect to the "7th value" of the target, and the coefficient Kf. Is replaced with the larger one of the "14th value" multiplied by, and the "15th process" for generating new waveform data D7 is executed.

したがって、このデータ処理装置3およびデータ処理用プログラムDpによれば、測定値の変化率が徐々に大きくなる波形データD0を対象とするときに、「第7の値」が「0」に近い値となる特異点の数を十分に減少させることができ、これにより、放電波形成分の有無を一層高精度に判定し得る判定領域Aaおよび/または判定領域Abを規定することができると共に、検査用データDcに基づいて放電波形成分の有無を判定する際に、新たな波形データD7に基づいて2次元グラフ上に「第2の対応点」をプロットすることで放電波形成分の有無を一層高精度に判定することが可能となる。 Therefore, according to the data processing device 3 and the data processing program Dp, when the waveform data D0 in which the rate of change of the measured value gradually increases is targeted, the "seventh value" is a value close to "0". The number of singular points that become When determining the presence or absence of the discharge waveform component based on the data Dc, the presence or absence of the discharge waveform component can be more accurately determined by plotting the "second corresponding point" on the two-dimensional graph based on the new waveform data D7. It becomes possible to judge.

さらに、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第15の処理」において、対象の「第7の値」および「第14の値」の双方が、対象の「第7の値」を含んで連続するHdサンプリング分の「第7の値」を平均化した値に係数Kgを乗じた「第15の値」よりも小さいときに、対象の「第7の値」を「第15の値」に置き換える。したがって、このデータ処理装置3およびデータ処理用プログラムDpによれば、「第7の値」が「0」に近い値となる特異点の数をさらに減少させることができる。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 sets the target "seventh value" by both the target "seventh value" and the target "seventh value" in the "fifteenth process". When the value is smaller than the "15th value" obtained by multiplying the averaged value of the "7th value" of the continuous Hd sampling including the product by the coefficient Kg, the target "7th value" is set to the "15th value". Replace with "value". Therefore, according to the data processing device 3 and the data processing program Dp, the number of singular points at which the "seventh value" is close to "0" can be further reduced.

また、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第10の処理」において、2次元グラフの原点P0を通過する各「第1の対応点」の回帰直線(図22,23における二点鎖線L)を特定し、特定した回帰直線における2次元グラフの横軸の値が「1」のときの縦軸の値を「第16の値」として特定し、かつ、2次元グラフの原点P0、縦軸の値が「第16の値」で横軸の値が「1」の点P1、および縦軸の値が「0」で横軸の値が「1」の点P2の3点を頂点とする三角形領域A1を特定すると共に、特定した三角形領域A1に基づいて「少なくとも一方の領域」を規定する。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 performs a regression line (two points in FIGS. 22 and 23) of each “first corresponding point” passing through the origin P0 of the two-dimensional graph in the “tenth processing”. The chain line L) is specified, the value on the vertical axis when the value on the horizontal axis of the two-dimensional graph in the specified regression line is "1" is specified as the "16th value", and the origin P0 of the two-dimensional graph is specified. , The point P1 where the vertical axis value is "16th value" and the horizontal axis value is "1", and the point P2 where the vertical axis value is "0" and the horizontal axis value is "1". The triangular region A1 to be the apex is specified, and "at least one region" is defined based on the specified triangular region A1.

したがって、このデータ処理装置3およびデータ処理用プログラムDpによれば、放電波形成分の値に対応する「第2の対応点」がプロットされる可能性が極めて低い三角形領域A1を確実かつ容易に特定することができ、この三角形領域A1に基づいて、判定領域Aaおよび/または判定領域Abを容易に特定して領域データDaを生成することができる。 Therefore, according to the data processing device 3 and the data processing program Dp, the triangular region A1 in which the "second corresponding point" corresponding to the value of the discharge waveform component is extremely unlikely to be plotted is reliably and easily identified. Based on this triangular region A1, the determination region Aa and / or the determination region Ab can be easily specified and the region data Da can be generated.

さらに、このデータ処理装置3では、処理部23が、2次元グラフの縦軸に波形データD1の各「第1の値」を対応させると共に2次元グラフの横軸に各「第1の値」のサンプリングタイミングに対応する波形データD7の各「第7の値」を対応させて「第1の値」および「第7の値」の「第3の対応点」を2次元グラフ上にそれぞれプロットすると共に、横軸の値が「0.5」以下の予め規定された「第17の値」以下である「第3の対応点」を抽出し、抽出した各「第3の対応点」における縦軸の値の標準偏差nσを演算すると共に、原点P0、点P1、縦軸の値が標準偏差nσと「第16の値」との和で横軸の値が「1」の点P3、および縦軸の値が標準偏差nσで横軸の値が「0」の点P4の4点を頂点とする矩形領域A2を特定し、特定した矩形領域A2および三角形領域A1に基づいて「少なくとも一方の領域」を規定する。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 associates each "first value" of the waveform data D1 with the vertical axis of the two-dimensional graph and each "first value" with the horizontal axis of the two-dimensional graph. The "third corresponding point" of the "first value" and the "seventh value" is plotted on a two-dimensional graph by associating each "seventh value" of the waveform data D7 corresponding to the sampling timing of. At the same time, a "third corresponding point" in which the value on the horizontal axis is "0.5" or less and is equal to or less than the predetermined "17th value" is extracted, and in each extracted "third corresponding point". While calculating the standard deviation nσ of the value on the vertical axis, the origin P0, the point P1, the value on the vertical axis is the sum of the standard deviation nσ and the "16th value", and the value on the horizontal axis is the point P3 with "1". A rectangular region A2 having four points of points P4 having a standard deviation nσ on the vertical axis and a value of “0” on the horizontal axis is specified, and “at least one of them” is specified based on the specified rectangular region A2 and triangular region A1. The area of "is defined.

したがって、このデータ処理装置3およびデータ処理用プログラムDpによれば、特定した矩形領域A2および三角形領域A1に基づいて判定領域Aaおよび/または判定領域Abを容易に特定することができ、波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれているか否かを高精度に判定可能な判定領域Aaおよび/または判定領域Abの領域データDaを容易に生成することができる。 Therefore, according to the data processing device 3 and the data processing program Dp, the determination area Aa and / or the determination area Ab can be easily specified based on the specified rectangular area A2 and triangular area A1, and the waveform data D0. It is possible to easily generate the determination region Aa and / or the region data Da of the determination region Ab, which can determine with high accuracy whether or not the discharge waveform component is included in the waveform W0.

また、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第10の処理」において、すべての「第1の対応点」が含まれる最小の方形領域A3を特定すると共に、特定した方形領域A3に基づいて「少なくとも一方の領域」を規定する。したがって、このデータ処理装置3およびデータ処理用プログラムDpによれば、非常に単純な処理によって判定領域Acおよび/または判定領域Adの領域データDaを生成することができる。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 specifies the smallest square area A3 including all the "first corresponding points" in the "tenth process", and in the specified square area A3. Define "at least one area" based on. Therefore, according to the data processing device 3 and the data processing program Dp, the area data Da of the determination area Ac and / or the determination area Ad can be generated by a very simple process.

さらに、このデータ処理装置3では、処理部23が、検査用データDcに基づき、「第2の対応点」と「少なくとも一方の領域」との位置関係を特定して波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれているか否かを判定する「判定処理」を実行し、「判定処理」の判定結果を特定可能な検査結果データDrを生成する。また、このデータ処理用プログラムDpは、上記の処理をデータ処理装置3の処理部23に実行させる。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 specifies the positional relationship between the “second corresponding point” and the “at least one region” based on the inspection data Dc, and converts the waveform data D0 into the waveform W0. The "determination process" for determining whether or not the discharge waveform component is included is executed, and the inspection result data Dr capable of specifying the determination result of the "determination process" is generated. Further, the data processing program Dp causes the processing unit 23 of the data processing device 3 to execute the above processing.

したがって、このデータ処理装置3およびデータ処理用プログラムDpによれば、複数回の測定処理が不要となり、、複数の「測定対象」についての個体差の影響や、測定処理毎の測定環境の相違に起因する測定値Dsのばらつきの影響を受けることがなくなるため、放電現象が発生しているか否かの判定精度を十分に向上させることができる。また、基準値(閾値)との比較による判定とは異なり、測定環境の変化の影響による誤判定を回避して判定精度を十分に高めることができる。 Therefore, according to the data processing device 3 and the data processing program Dp, it is not necessary to perform a plurality of measurement processes, which affects the influence of individual differences on a plurality of "measurement targets" and the difference in the measurement environment for each measurement process. Since it is not affected by the variation of the measured value Ds due to the occurrence, the accuracy of determining whether or not the discharge phenomenon has occurred can be sufficiently improved. Further, unlike the judgment by comparison with the reference value (threshold value), it is possible to avoid the erroneous judgment due to the influence of the change in the measurement environment and sufficiently improve the judgment accuracy.

また、このデータ処理装置3では、処理部23が、判定領域Aa(または、判定領域Ac)を「少なくとも一方の領域」とするときには「第2の対応点」の総数に占める判定領域Aa(または、判定領域Ac)に含まれない「第2の対応点」の割合を特定すると共に、判定領域Ab(または、判定領域Ad)を「少なくとも一方の領域」とするときには「第2の対応点」の総数に占める判定領域Ab(または、判定領域Ad)に含まれる「第2の対応点」の割合を特定し、特定した割合が予め規定された割合以上のときに、予め規定された「報知処理」を実行する。 Further, in the data processing device 3, when the processing unit 23 sets the determination area Aa (or the determination area Ac) as the "at least one area", the determination area Aa (or the determination area Aa (or) occupies the total number of "second corresponding points". , When the ratio of the "second corresponding point" not included in the determination area Ac) is specified and the determination area Ab (or the determination area Ad) is set to "at least one area", the "second corresponding point" is specified. The ratio of the "second corresponding point" included in the determination area Ab (or the determination area Ad) to the total number of the data is specified, and when the specified ratio is equal to or more than the predetermined ratio, the predetermined "notification" is specified. Execute "processing".

また、このデータ処理装置3では、処理部23が、2次元グラフを横軸の方向でGa個に分割したGa個の矩形領域A10〜A19を特定し、判定領域Aa(または、判定領域Ac)を「少なくとも一方の領域」とするときには判定領域Aa(または、判定領域Ac)以外の領域に「第2の対応点」が含まれている矩形領域A10〜A19の数を特定すると共に、判定領域Ab(または、判定領域Ad)を「少なくとも一方の領域」とするときには判定領域Ab(または、判定領域Ad)に「第2の対応点」が含まれている矩形領域A10〜A19の数を特定し、特定した数が予め規定された数以上のときに、予め規定された「報知処理」を実行する。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 identifies Ga rectangular areas A10 to A19 obtained by dividing the two-dimensional graph into Ga pieces in the direction of the horizontal axis, and determines the determination area Aa (or the determination area Ac). When is set to "at least one region", the number of rectangular regions A10 to A19 in which the "second corresponding point" is included in the region other than the determination region Aa (or the determination region Ac) is specified, and the determination region is specified. When the Ab (or determination area Ad) is set to "at least one area", the number of rectangular areas A10 to A19 in which the determination area Ab (or determination area Ad) includes the "second corresponding point" is specified. Then, when the specified number is equal to or greater than the predetermined number, the predetermined "notification process" is executed.

したがって、このデータ処理装置3およびデータ処理用プログラムDpによれば、波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれているか否かの判定結果を確実かつ容易に認識させることができる。 Therefore, according to the data processing device 3 and the data processing program Dp, it is possible to reliably and easily recognize the determination result of whether or not the waveform W0 of the waveform data D0 contains a discharge waveform component.

また、このデータ処理装置3では、処理部23が、「第2の対応点」をプロットした2次元グラフと「少なくとも一方の領域」を示す「領域表示」とを「判定処理」の判定結果と共に表示部22に表示させる。したがって、このデータ処理装置3およびデータ処理用プログラムDpによれば、波形データD0の波形W0に放電波形成分が含まれているか否かの判定結果を一層確実かつ一層容易に認識させることができる。 Further, in the data processing device 3, the processing unit 23 displays a two-dimensional graph plotting the "second corresponding point" and the "area display" indicating the "at least one area" together with the determination result of the "determination process". It is displayed on the display unit 22. Therefore, according to the data processing device 3 and the data processing program Dp, it is possible to more reliably and more easily recognize the determination result of whether or not the waveform W0 of the waveform data D0 contains the discharge waveform component.

また、この測定システム1では、上記のデータ処理装置3と、測定対象(検査対象X)についての予め規定されたサンプリング周期での測定を実行して波形データD0を出力する測定装置2とを備えて構成されている。したがって、この測定システム1によれば、波形データD0の取得(生成)から検査用データDcの生成(または、検査用データDcおよび検査結果データDrの生成)までの一連の処理を1つのシステムで実行することができる。 Further, the measurement system 1 includes the above-mentioned data processing device 3 and a measurement device 2 that executes measurement of a measurement target (inspection target X) at a predetermined sampling cycle and outputs waveform data D0. It is composed of. Therefore, according to this measurement system 1, a series of processes from acquisition (generation) of waveform data D0 to generation of inspection data Dc (or generation of inspection data Dc and inspection result data Dr) can be performed by one system. Can be executed.

なお、「データ処理装置」および「測定システム」の構成や、「データ処理用プログラム」による処理の手順は、上記のデータ処理装置3の構成、およびデータ処理装置3を備えて構成された測定システム1の構成の例や、データ処理用プログラムDpの記述の内容の例に限定されない。例えば、「第1の対応点」から「第3の対応点」のプロット時に、「縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方」を「縦軸」とし、かつ「縦軸および横軸の他方」を「横軸」とした例について説明したが、「縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方」を「横軸」とし、「縦軸および横軸の他方」を「縦軸」としてプロットしてもよい。 The configuration of the "data processing device" and the "measurement system" and the processing procedure by the "data processing program" are the above-mentioned configuration of the data processing device 3 and the measurement system configured including the data processing device 3. It is not limited to the example of the configuration of 1 and the example of the description of the data processing program Dp. For example, when plotting from the "first corresponding point" to the "third corresponding point", "one of the vertical axis and the horizontal axis defined in advance" is set as the "vertical axis", and the "vertical axis and the horizontal axis" are set. Although the example in which "the other of the vertical axis" is set to "horizontal axis" is described, "one of the vertical axis and the horizontal axis defined in advance" is set to "horizontal axis", and "the other of the vertical axis and the horizontal axis" is set to "vertical axis". It may be plotted as an "axis".

また、検査用データDcの生成処理、および検査用データDcに基づく「放電波形成分が存在するか否かの判定処理」の双方をデータ処理装置3において実行する構成を例に挙げて説明したが、検査用データDcを生成するデータ処理装置3とは別個の「データ処理装置」において検査用データDcに基づく「判定処理」を実行する構成を採用することもできる。さらに、「判定処理」の判定結果をデータ処理装置3の構成要素である表示部22に表示させる構成を例に挙げて説明したが、外部装置としての表示装置(表示部)に判定結果を表示させる構成を採用することもできる。 Further, the configuration in which both the generation process of the inspection data Dc and the "determination process of whether or not the discharge waveform component is present" based on the inspection data Dc is executed in the data processing device 3 has been described as an example. It is also possible to adopt a configuration in which a "determination process" based on the inspection data Dc is executed in a "data processing device" separate from the data processing device 3 that generates the inspection data Dc. Further, the configuration in which the determination result of the "determination process" is displayed on the display unit 22 which is a component of the data processing device 3 has been described as an example, but the determination result is displayed on the display device (display unit) as an external device. It is also possible to adopt a configuration that allows.

また、測定装置2と、測定装置2とは別体のデータ処理装置3とを備えて測定システム1を構成した例について説明したが、「測定装置」および「データ処理装置」を一体化した装置を「測定システム」として構成することもできる。加えて、「測定対象」としての巻線部品についてのデータを処理して検査する例について説明したが、「データ処理装置」によるデータ処理の対象や、「測定システム」による検査の対象はこれに限定されず、コンデンサや抵抗体などの各種の電子部品や、回路基板上の任意の検査ポイント間についての「波形データ」に基づいてデータ処理や検査処理を実行することができる。 Further, an example in which the measuring device 2 and the data processing device 3 separate from the measuring device 2 are provided to configure the measuring system 1 has been described, but the device in which the “measuring device” and the “data processing device” are integrated has been described. Can also be configured as a "measurement system". In addition, an example of processing and inspecting data about a wound component as a "measurement target" has been described, but this includes the target of data processing by the "data processing device" and the target of inspection by the "measurement system". Not limited to this, data processing and inspection processing can be executed based on various electronic components such as capacitors and resistors, and "waveform data" between arbitrary inspection points on the circuit board.

1 測定システム
2 測定装置
3 データ処理装置
21 操作部
22 表示部
23 処理部
24 記憶部
Aa〜Ad 判定領域
A1 三角形領域
A2,A10〜A19 矩形領域
A3 方形領域
Ds 測定値
D0,D0f,D1〜D9 波形データ
Da 領域データ
Dc 検査用データ
Dp データ処理用プログラム
Dr 検査結果データ
P0 原点
P1〜P4 点
W0,W0f,W1〜W7,W7a〜W7f,W8,W9,Wa 波形
X 検査対象
1 Measurement system 2 Measuring device 3 Data processing device 21 Operation unit 22 Display unit 23 Processing unit 24 Storage unit Aa to Ad Judgment area A1 Triangular area A2, A10 to A19 Rectangular area A3 Square area Ds Measured values D0, D0f, D1 to D9 Waveform data Da area data Dc Inspection data Dp Data processing program Dr Inspection result data P0 Origin P1 to P4 points W0, W0f, W1 to W7, W7a to W7f, W8, W9, Wa Waveform X Inspection target

Claims (18)

予め規定されたサンプリング周期で測定された複数の測定値が記録されている波形データに基づき、当該波形データの信号波形に放電波形成分が含まれているか否かを特定するための放電有無特定用データを生成する処理部を備えたデータ処理装置であって、
前記処理部は、前記放電波形成分が含まれているか否かの特定の基準となる測定値範囲の測定値範囲データと、当該測定値範囲との対比によって前記放電波形成分が含まれているか否かを特定可能な比較値データとを前記波形データに基づいて生成し、生成した当該測定値範囲データおよび当該比較値データを含めて前記放電有無特定用データを生成する処理において、
前記波形データの前記各測定値のなかから連続するNサンプリング内(Nは、予め規定された2以上の自然数)の変化量が予め規定された量以上の第1の値を抽出して第1のデータを生成する第1の処理と、
前記波形データの前記各測定値を、対象の当該測定値を含んで連続するMサンプリング分(Mは、予め規定された2以上の自然数)の当該測定値を平均化した第2の値にそれぞれ置き換えて第2のデータを生成する第2の処理と、
前記第2のデータの前記各第2の値のなかから前記連続するNサンプリング内の変化量が前記予め規定された量以上の第3の値を抽出して第3のデータを生成する第3の処理と、
前記第3のデータの前記各第3の値を絶対値化した第4の値を演算して第4のデータを生成する第4の処理と、
前記波形データの前記各測定値を、対象の当該測定値を含んで連続するLサンプリング分(Lは、予め規定された2以上の自然数)の当該測定値を平均化した値に置き換えると共に置換え後の当該測定値を微分した第5の値を演算して第5のデータを生成する第5の処理と、
前記第5のデータの前記各第5の値を微分した第6の値を演算して第6のデータを生成する第6の処理と、
前記第6のデータの前記各第6の値の絶対値を正規化した第7の値を演算して第7のデータを生成する第7の処理と、
前記第1のデータの前記各第1の値を絶対値化した第8の値を演算して第8のデータを生成する第8の処理と、
2次元グラフの縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方に前記第4のデータの前記各第4の値を対応させると共に当該2次元グラフの縦軸および横軸の他方に当該各第4の値のサンプリングタイミングに対応する前記第7のデータの前記各第7の値を対応させて当該第4の値および当該第7の値の第1の対応点を当該2次元グラフ上にそれぞれプロットする第9の処理と、
前記2次元グラフの前記縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方に前記第8のデータの前記各第8の値を対応させると共に当該2次元グラフの前記縦軸および横軸の他方に当該各第8の値のサンプリングタイミングに対応する前記第7のデータの前記各第7の値を対応させて当該第8の値および当該第7の値の第2の対応点を当該2次元グラフ上にそれぞれプロットしたときに前記放電波形成分の前記測定値に対応する当該第2の対応点がプロットされない第1の判定領域、および当該放電波形成分の当該測定値に対応する当該第2の対応点がプロットされる第2の判定領域の少なくとも一方の領域を、当該2次元グラフ上の前記各第1の対応点の配置に基づいて予め規定された領域規定手順に従って当該2次元グラフ上に前記測定値範囲として規定する第10の処理とを実行し、
前記第10の処理によって規定した前記少なくとも一方の領域を特定可能な領域データを前記測定値範囲データとし、かつ、前記第7のデータおよび前記第8のデータを前記比較値データとして前記放電有無特定用データを生成するデータ処理装置。
For specifying the presence or absence of discharge to specify whether or not a discharge waveform component is included in the signal waveform of the waveform data based on waveform data in which a plurality of measured values measured in a predetermined sampling cycle are recorded. A data processing device equipped with a processing unit that generates data.
Whether or not the processing unit includes the discharge waveform component by comparing the measured value range data of the measured value range, which is a specific reference for whether or not the discharge waveform component is included, with the measured value range. In the process of generating the comparison value data that can be specified based on the waveform data, and generating the discharge presence / absence identification data including the generated measurement value range data and the comparison value data .
From each of the measured values of the waveform data, a first value in which the amount of change in continuous N sampling (N is a predetermined natural number of 2 or more) is equal to or greater than a predetermined amount is extracted and the first value is extracted. The first process to generate the data of
Each of the measured values of the waveform data is converted into a second value obtained by averaging the measured values of a continuous M sampling portion (M is a predetermined natural number of 2 or more) including the measured value of the target. The second process of replacing and generating the second data,
A third value in which the amount of change in the continuous N sampling is equal to or greater than the predetermined amount is extracted from each of the second values of the second data to generate the third data. Processing and
A fourth process of calculating a fourth value obtained by converting each third value of the third data into an absolute value to generate a fourth data, and
After each measurement value of the waveform data is replaced with an averaged value of the measurement value of a continuous L sampling portion (L is a predetermined natural number of 2 or more) including the measurement value of the target. The fifth process of calculating the fifth value obtained by differentiating the measured value of the above to generate the fifth data, and
A sixth process of calculating the sixth value obtained by differentiating each of the fifth values of the fifth data to generate the sixth data, and
A seventh process of calculating the seventh value obtained by normalizing the absolute value of each of the sixth values of the sixth data to generate the seventh data, and
An eighth process of calculating an eighth value obtained by converting each first value of the first data into an absolute value to generate an eighth data, and
Correspond to each of the fourth values of the fourth data with either the vertical axis or the horizontal axis of the two-dimensional graph, and the other of the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph with each of the fourth values. Corresponding each of the 7th values of the 7th data corresponding to the sampling timing of the 4 values, the 4th value and the 1st corresponding point of the 7th value are displayed on the two-dimensional graph, respectively. Ninth process to plot and
One of the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph is associated with each of the eighth values of the eighth data, and the other of the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph is associated with the other. The two-dimensional graph shows the eighth value and the second corresponding point of the seventh value by associating the seventh value of the seventh data corresponding to the sampling timing of the eighth value. A first determination region in which the second corresponding point corresponding to the measured value of the discharge waveform component is not plotted when plotted above, and the second correspondence corresponding to the measured value of the discharge waveform component. At least one region of the second determination region on which the points are plotted is placed on the two-dimensional graph according to a predetermined region defining procedure based on the arrangement of the first corresponding points on the two-dimensional graph. Execute the tenth process specified as the measured value range,
The region data that can identify at least one region defined by the tenth process is used as the measured value range data, and the seventh data and the eighth data are used as the comparison value data to identify the presence or absence of discharge. A data processing device that generates data for use.
前記処理部は、前記第9の処理に先立ち、前記第5のデータの前記各第5の値の絶対値を最大値が1となるように正規化した第9の値を演算して第9のデータを生成すると共に、当該第9のデータの当該各第9の値に係数Ka(Kaは、予め規定された1以下の正数)を乗じた値と、当該各第9の値のサンプリングタイミングに対応する前記第7のデータの前記各第7の値とのいずれか大きい一方を新たな第7の値として新たな前記第7のデータを生成する第11の処理を実行する請求項記載のデータ処理装置。 Prior to the ninth process, the processing unit calculates a ninth value obtained by normalizing the absolute value of each fifth value of the fifth data so that the maximum value is 1, and the ninth value. The value obtained by multiplying each of the 9th values of the 9th data by a coefficient Ka (Ka is a predetermined positive number of 1 or less) and sampling of each of the 9th values. 1 The data processing device described. 前記処理部は、前記第9の処理に先立ち、前記第7のデータの前記各第7の値を、対象の当該第7の値に対してJaサンプリング前(Jaは、予め規定された任意の自然数)の当該第7の値から当該対象の第7の値までの(Ja+1)個の当該第7の値、および当該対象の第7の値から当該対象の第7の値に対してJbサンプリング後(Jbは、予め規定された任意の自然数)の当該第7の値までの(Jb+1)個の当該第7の値の少なくとも一方を含む予め規定されたJc個(Jcは、予め規定された2以上の自然数)の当該第7の値のうちの最大値にそれぞれ置き換えて新たな前記第7のデータを生成する第12の処理を実行する請求項記載のデータ処理装置。 Prior to the ninth process, the processing unit sets each of the seventh values of the seventh data to the target seventh value before Ja sampling (Ja is an arbitrary predetermined value). Jb sampling from the 7th value of the natural number) to the 7th value of the object (Ja + 1) and the 7th value of the object to the 7th value of the object. Pre-defined Jc pieces (Jc is pre-defined) including at least one of the (Jb + 1) 7th values up to the 7th value after (Jb is any pre-defined natural number). the data processing apparatus according to claim 1, wherein replacing each performing a twelfth process of generating a new said seventh data to the maximum value of among the seventh value of a natural number of 2 or more). 前記処理部は、前記第9の処理に先立ち、前記第7のデータの前記各第7の値のうち、Iサンプリング前(Iは、予め規定された任意の自然数)の当該第7の値よりも小さい当該第7の値を、当該Iサンプリング前の第7の値よりも小さい当該第7の値と、当該Iサンプリング前の第7の値に係数Kb(Kbは、予め規定された1以下の正数)を乗じた第10の値とのいずれか大きい一方に置き換えて新たな前記第7のデータを生成する第13の処理を実行する請求項記載のデータ処理装置。 Prior to the ninth processing, the processing unit uses the seventh value of the seventh data of the seventh data before I sampling (I is an arbitrary natural number defined in advance). The 7th value, which is also smaller than the 7th value before the I sampling, is combined with the 7th value, which is smaller than the 7th value before the I sampling, and the 7th value before the I sampling. 10 value and the data processing apparatus according to claim 1, wherein replacing either one large executes thirteenth process of generating a new said seventh data in multiplied by a positive number) of. 前記処理部は、前記第9の処理に先立ち、前記第7のデータの前記各第7の値のうちの最大値に対応する前記測定値よりも後にサンプリングされた前記測定値に対応する当該第7の値を、対象の当該第7の値に対してHaサンプリング前(Haは、予め規定された任意の自然数)の当該第7の値が、当該対象の当該第7の値を含んで連続するHbサンプリング分(Hbは、予め規定された2以上の自然数)の当該第7の値を平均化した値に係数Kc(Kcは、予め規定された任意の正数)を乗じた第11の値以下のときに、当該対象の第7の値と、前記Haサンプリング前の第7の値に予め規定された係数Kd(Kdは、Kcよりも大きい予め規定された任意の正数)を乗じた第12の値とのいずれか小さい一方に置き換えて新たな前記第7のデータを生成する第14の処理を実行する請求項からのいずれかに記載のデータ処理装置。 The processing unit corresponds to the measured value sampled after the measured value corresponding to the maximum value of each of the seventh values of the seventh data prior to the ninth process. The value of 7 is continuously obtained by the 7th value before Ha sampling (Ha is an arbitrary natural number defined in advance) with respect to the 7th value of the target including the 7th value of the target. The eleventh value obtained by multiplying the value obtained by averaging the seventh value of the Hb sampling amount (Hb is a predetermined natural number of two or more) by the coefficient Kc (Kc is an arbitrary positive number prescribed in advance). When it is less than or equal to the value, the 7th value of the target is multiplied by the 7th value before Ha sampling and the predetermined coefficient Kd (Kd is an arbitrary predetermined positive number larger than Kc). The data processing apparatus according to any one of claims 1 to 4 , wherein the fourteenth process of generating the new seventh data by substituting the twelfth value with the smaller one is executed. 前記処理部は、前記第14の処理において、前記Haサンプリング前の第7の値が、前記Hbサンプリング分の第7の値を平均化した値に係数Ke(Keは、予め規定された任意の正数)を乗じた第13の値よりも小さいときに、当該対象の第7の値を当該第13の値に置き換える請求項記載のデータ処理装置。 In the 14th process, the processing unit uses a coefficient Ke (Ke is an arbitrary predetermined value) to a value obtained by averaging the 7th value of the Hb sampling before the 7th value of the Ha sampling. The data processing apparatus according to claim 5 , wherein the seventh value of the target is replaced with the thirteenth value when the value is smaller than the thirteenth value multiplied by a positive number). 前記処理部は、前記第9の処理に先立ち、前記第7のデータの前記各第7の値のうちの最大値に対応する前記測定値よりも前にサンプリングされた前記測定値に対応する当該第7の値を、対象の当該第7の値と、当該対象の第7の値に対してHcサンプリング前(Hcは、予め規定された任意の自然数)の当該第7の値に係数Kf(Keは、予め規定された任意の正数)を乗じた第14の値とのいずれか大きい一方に置き換えて新たな前記第7のデータを生成する第15の処理を実行する請求項からのいずれかに記載のデータ処理装置。 The processing unit corresponds to the measured value sampled prior to the measured value corresponding to the maximum value of each of the seventh values of the seventh data prior to the ninth process. A coefficient Kf (Hc is an arbitrary natural number defined in advance) is added to the 7th value of the target and the 7th value of the target before Hc sampling (Hc is an arbitrary natural number). Claims 1 to 6 execute the fifteenth process of generating new seventh data by replacing Ke with one of the fourteenth values multiplied by (arbitrarily a predetermined positive number), whichever is larger. The data processing apparatus according to any one of. 前記処理部は、前記第15の処理において、前記対象の第7の値および前記第14の値の双方が、当該対象の第7の値を含んで連続するHdサンプリング分(Hdは、予め規定された2以上の自然数)の当該第7の値を平均化した値に係数Kg(Kgは、予め規定された任意の正数)を乗じた第15の値よりも小さいときに、当該対象の第7の値を当該第15の値に置き換える請求項記載のデータ処理装置。 In the fifteenth process, the processing unit has a continuous Hd sampling amount (Hd is defined in advance) including the seventh value of the target and the fourteenth value of the target. When it is smaller than the fifteenth value obtained by multiplying the averaged value of the seventh value of (two or more natural numbers) by the coefficient Kg (Kg is an arbitrary positive number defined in advance), the subject is concerned. The data processing apparatus according to claim 7 , wherein the seventh value is replaced with the fifteenth value. 前記処理部は、前記第10の処理において、前記2次元グラフの原点を通過する前記各第1の対応点の回帰直線を特定し、特定した当該回帰直線における当該2次元グラフの前記縦軸および横軸の他方の値が1のときの当該2次元グラフの前記縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方の値を第16の値として特定し、かつ、当該2次元グラフの原点、当該予め規定された一方の値が当該第16の値で当該他方の値が1の第1の点、および当該予め規定された一方の値が0で当該他方の値が1の第2の点の3点を頂点とする三角形領域を特定すると共に、特定した当該三角形領域に基づいて前記少なくとも一方の領域を規定する請求項からのいずれかに記載のデータ処理装置。 In the tenth process, the processing unit identifies a regression line of each of the first corresponding points passing through the origin of the two-dimensional graph, and the vertical axis of the two-dimensional graph in the identified regression line and the vertical axis of the two-dimensional graph. When the other value on the horizontal axis is 1, either the vertical axis or the horizontal axis of the two-dimensional graph is specified as the 16th value, and the origin of the two-dimensional graph, The first point where one of the predetermined values is the 16th value and the other value is 1, and the second point where the predetermined one value is 0 and the other value is 1. The data processing apparatus according to any one of claims 1 to 8 , which specifies a triangular region having the three points as vertices and defines at least one region based on the specified triangular region. 前記処理部は、前記2次元グラフの前記縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方に前記第1のデータの前記各第1の値を対応させると共に当該2次元グラフの前記縦軸および横軸の他方に当該各第1の値のサンプリングタイミングに対応する前記第7のデータの前記各第7の値を対応させて当該第1の値および当該第7の値の第3の対応点を当該2次元グラフ上にそれぞれプロットすると共に、前記縦軸および横軸の他方の値が「0.5」以下の予め規定された第17の値以下である前記第3の対応点を抽出し、抽出した前記各第3の対応点における前記縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方の値の標準偏差nσ(nは、予め規定された任意の自然数)を演算すると共に、前記原点、前記第1の点、前記予め規定された一方の値が前記標準偏差nσと前記第16の値との和で前記他方の値が1の第3の点、および当該予め規定された一方の値が当該標準偏差nσで当該他方の値が0の第4の点の4点を頂点とする第1の矩形領域を特定し、特定した当該第1の矩形領域および前記三角形領域に基づいて前記少なくとも一方の領域を規定する請求項記載のデータ処理装置。 The processing unit associates each of the first values of the first data with one of the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph, whichever is predetermined, and the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph. The other of the horizontal axes is associated with each of the seventh values of the seventh data corresponding to the sampling timing of the first value, and the first value and the third corresponding point of the seventh value are associated with each other. Is plotted on the two-dimensional graph, and the third corresponding point in which the other value of the vertical axis and the horizontal axis is "0.5" or less and is equal to or less than the predetermined 17th value is extracted. , The standard deviation nσ (n is an arbitrary predetermined natural number) of one of the predetermined values of the vertical axis and the horizontal axis at each of the extracted third corresponding points is calculated, and the origin is described. , The first point, the third point where the one predetermined value is the sum of the standard deviation nσ and the sixteenth value and the other value is 1, and the one defined in advance. A first rectangular region having four points of the fourth point whose value is the standard deviation nσ and the other value is 0 is specified, and the first rectangular region and the triangular region are specified. The data processing apparatus according to claim 9, which defines at least one area. 前記処理部は、前記第10の処理において、すべての前記第1の対応点が含まれる最小の方形領域を特定すると共に、特定した当該方形領域に基づいて前記少なくとも一方の領域を規定する請求項からのいずれかに記載のデータ処理装置。 The processing unit specifies the smallest square region including all the first corresponding points in the tenth process, and defines at least one region based on the identified square region. The data processing apparatus according to any one of 1 to 8. 前記処理部は、前記放電有無特定用データに基づき、前記第2の対応点と前記少なくとも一方の領域との位置関係を特定して前記波形データの信号波形に前記放電波形成分が含まれているか否かを判定する判定処理を実行し、当該判定処理の判定結果を特定可能な判定結果データを生成する請求項から11のいずれかに記載のデータ処理装置。 Based on the discharge presence / absence identification data, the processing unit specifies the positional relationship between the second corresponding point and the at least one region, and whether the signal waveform of the waveform data includes the discharge waveform component. The data processing apparatus according to any one of claims 1 to 11 , which executes a determination process for determining whether or not to perform, and generates determination result data capable of specifying the determination result of the determination process. 前記処理部は、前記第1の判定領域を前記少なくとも一方の領域とするときには前記第2の対応点の総数に占める当該第1の判定領域に含まれない当該第2の対応点の割合を特定すると共に、前記第2の判定領域を当該少なくとも一方の領域とするときには当該第2の対応点の総数に占める当該第2の判定領域に含まれる当該第2の対応点の割合を特定し、特定した割合が予め規定された割合以上のときに、予め規定された報知処理を実行する請求項12記載のデータ処理装置。 When the first determination region is at least one of the regions, the processing unit specifies the ratio of the second correspondence points not included in the first determination region to the total number of the second correspondence points. At the same time, when the second determination area is set to the at least one area, the ratio of the second correspondence point included in the second determination area to the total number of the second correspondence points is specified and specified. The data processing apparatus according to claim 12 , wherein when the ratio is equal to or higher than a predetermined ratio, the predetermined notification processing is executed. 前記処理部は、前記2次元グラフを前記縦軸および横軸の他方の方向でGa個(Gaは、予め規定された2以上の自然数)に分割したGa個の第2の矩形領域を特定し、前記第1の判定領域を当該少なくとも一方の領域とするときには当該第1の判定領域以外の領域に当該第2の対応点が含まれている当該第2の矩形領域の数を特定すると共に、前記第2の判定領域を前記少なくとも一方の領域とするときには当該第2の判定領域に当該第2の対応点が含まれている前記第2の矩形領域の数を特定し、特定した数が予め規定された数以上のときに、予め規定された報知処理を実行する請求項12記載のデータ処理装置。 The processing unit identifies Ga second rectangular regions obtained by dividing the two-dimensional graph into Ga (Ga is two or more natural numbers defined in advance) in the other direction of the vertical axis and the horizontal axis. When the first determination area is set to at least one of the areas, the number of the second rectangular areas in which the second corresponding point is included in the area other than the first determination area is specified, and the number of the second rectangular areas is specified. When the second determination region is set to at least one of the regions, the number of the second rectangular regions in which the second corresponding point is included in the second determination region is specified, and the specified number is predetermined. The data processing apparatus according to claim 12 , wherein a predetermined notification process is executed when the number is equal to or more than a specified number. 前記処理部は、前記第2の対応点をプロットした前記2次元グラフと前記少なくとも一方の領域を示す領域表示とを前記判定処理の判定結果と共に表示部に表示させる請求項12から14のいずれかに記載のデータ処理装置。 Any of claims 12 to 14 , wherein the processing unit displays the two-dimensional graph plotting the second corresponding points and the area display indicating the at least one area on the display unit together with the determination result of the determination process. The data processing apparatus described in 1. 請求項1から15のいずれかに記載のデータ処理装置と、
測定対象についての前記予め規定されたサンプリング周期での測定を実行して前記波形データを出力する測定装置とを備えて構成されている測定システム。
The data processing device according to any one of claims 1 to 15.
A measurement system including a measuring device that executes measurement of a measurement target at a predetermined sampling cycle and outputs the waveform data.
予め規定されたサンプリング周期で測定された複数の測定値が記録されている波形データに基づき、当該波形データの信号波形に放電波形成分が含まれているか否かを特定するための放電有無特定用データを生成する処理をデータ処理装置の処理部に実行させるデータ処理用プログラムであって、
前記放電波形成分が含まれているか否かの特定の基準となる測定値範囲の測定値範囲データと、当該測定値範囲との対比によって前記放電波形成分が含まれているか否かを特定可能な比較値データとを前記波形データに基づいて生成し、生成した当該測定値範囲データおよび当該比較値データを含めて前記放電有無特定用データを生成する処理において、
前記波形データの前記各測定値のなかから連続するNサンプリング内(Nは、予め規定された2以上の自然数)の変化量が予め規定された量以上の第1の値を抽出して第1のデータを生成する第1の処理と、
前記波形データの前記各測定値を、対象の当該測定値を含んで連続するMサンプリング分(Mは、予め規定された2以上の自然数)の当該測定値を平均化した第2の値にそれぞれ置き換えて第2のデータを生成する第2の処理と、
前記第2のデータの前記各第2の値のなかから前記連続するNサンプリング内の変化量が前記予め規定された量以上の第3の値を抽出して第3のデータを生成する第3の処理と、
前記第3のデータの前記各第3の値を絶対値化した第4の値を演算して第4のデータを生成する第4の処理と、
前記波形データの前記各測定値を、対象の当該測定値を含んで連続するLサンプリング分(Lは、予め規定された2以上の自然数)の当該測定値を平均化した値に置き換えると共に置換え後の当該測定値を微分した第5の値を演算して第5のデータを生成する第5の処理と、
前記第5のデータの前記各第5の値を微分した第6の値を演算して第6のデータを生成する第6の処理と、
前記第6のデータの前記各第6の値の絶対値を正規化した第7の値を演算して第7のデータを生成する第7の処理と、
前記第1のデータの前記各第1の値を絶対値化した第8の値を演算して第8のデータを生成する第8の処理と、
2次元グラフの縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方に前記第4のデータの前記各第4の値を対応させると共に当該2次元グラフの縦軸および横軸の他方に当該各第4の値のサンプリングタイミングに対応する前記第7のデータの前記各第7の値を対応させて当該第4の値および当該第7の値の第1の対応点を当該2次元グラフ上にそれぞれプロットする第9の処理と、
前記2次元グラフの前記縦軸および横軸のいずれか予め規定された一方に前記第8のデータの前記各第8の値を対応させると共に当該2次元グラフの前記縦軸および横軸の他方に当該各第8の値のサンプリングタイミングに対応する前記第7のデータの前記各第7の値を対応させて当該第8の値および当該第7の値の第2の対応点を当該2次元グラフ上にそれぞれプロットしたときに前記放電波形成分の前記測定値に対応する当該第2の対応点がプロットされない第1の判定領域、および当該放電波形成分の当該測定値に対応する当該第2の対応点がプロットされる第2の判定領域の少なくとも一方の領域を、当該2次元グラフ上の前記各第1の対応点の配置に基づいて予め規定された領域規定手順に従って当該2次元グラフ上に前記測定値範囲として規定する第10の処理とを前記処理部に実行させると共に、
前記第10の処理によって規定した前記少なくとも一方の領域を特定可能な領域データを前記測定値範囲データとし、かつ、前記第7のデータおよび前記第8のデータを前記比較値データとして前記放電有無特定用データを生成させる処理を前記処理部に実行させるデータ処理用プログラム。
For specifying the presence or absence of discharge to specify whether or not a discharge waveform component is included in the signal waveform of the waveform data based on waveform data in which a plurality of measured values measured in a predetermined sampling cycle are recorded. A data processing program that causes the processing unit of a data processing device to execute data generation processing.
It is possible to specify whether or not the discharge waveform component is included by comparing the measured value range data of the measured value range, which is a specific reference for whether or not the discharge waveform component is included, with the measured value range. In the process of generating the comparison value data based on the waveform data and generating the discharge presence / absence identification data including the generated measurement value range data and the comparison value data .
From each of the measured values of the waveform data, a first value in which the amount of change in continuous N sampling (N is a predetermined natural number of 2 or more) is equal to or greater than a predetermined amount is extracted and the first value is extracted. The first process to generate the data of
Each of the measured values of the waveform data is converted into a second value obtained by averaging the measured values of a continuous M sampling portion (M is a predetermined natural number of 2 or more) including the measured value of the target. The second process of replacing and generating the second data,
A third value in which the amount of change in the continuous N sampling is equal to or greater than the predetermined amount is extracted from each of the second values of the second data to generate the third data. Processing and
A fourth process of calculating a fourth value obtained by converting each third value of the third data into an absolute value to generate a fourth data, and
After each measurement value of the waveform data is replaced with an averaged value of the measurement value of a continuous L sampling portion (L is a predetermined natural number of 2 or more) including the measurement value of the target. The fifth process of calculating the fifth value obtained by differentiating the measured value of the above to generate the fifth data, and
A sixth process of calculating the sixth value obtained by differentiating each of the fifth values of the fifth data to generate the sixth data, and
A seventh process of calculating the seventh value obtained by normalizing the absolute value of each of the sixth values of the sixth data to generate the seventh data, and
An eighth process of calculating an eighth value obtained by converting each first value of the first data into an absolute value to generate an eighth data, and
Correspond to each of the fourth values of the fourth data with either the vertical axis or the horizontal axis of the two-dimensional graph, and the other of the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph with each of the fourth values. Corresponding each of the 7th values of the 7th data corresponding to the sampling timing of the 4 values, the 4th value and the 1st corresponding point of the 7th value are displayed on the two-dimensional graph, respectively. Ninth process to plot and
One of the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph is associated with each of the eighth values of the eighth data, and the other of the vertical axis and the horizontal axis of the two-dimensional graph is associated with the other. The two-dimensional graph shows the eighth value and the second corresponding point of the seventh value by associating the seventh value of the seventh data corresponding to the sampling timing of the eighth value. A first determination region in which the second corresponding point corresponding to the measured value of the discharge waveform component is not plotted when plotted above, and the second correspondence corresponding to the measured value of the discharge waveform component. At least one region of the second determination region on which the points are plotted is placed on the two-dimensional graph according to a predetermined region defining procedure based on the arrangement of the first corresponding points on the two-dimensional graph. In addition to having the processing unit execute the tenth process defined as the measured value range,
The region data that can identify at least one region defined by the tenth process is used as the measured value range data, and the seventh data and the eighth data are used as the comparison value data to specify the presence or absence of discharge. A data processing program that causes the processing unit to execute a process for generating data for data.
前記放電有無特定用データに基づき、前記第2の対応点が前記少なくとも一方の領域に含まれているか否かを判別して前記波形データの信号波形に前記放電波形成分が含まれているか否かを判定する判定処理、および当該判定処理の判定結果を特定可能な判定結果データを生成する処理を前記処理部に実行させる請求項17記載のデータ処理用プログラム。 Based on the discharge presence / absence identification data, it is determined whether or not the second corresponding point is included in the at least one region, and whether or not the discharge waveform component is included in the signal waveform of the waveform data. The data processing program according to claim 17 , wherein the processing unit executes a determination process for determining the above and a process for generating determination result data capable of specifying the determination result of the determination process.
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JPH11248783A (en) * 1998-03-06 1999-09-17 Mitsubishi Electric Corp Partial discharge detection apparatus
JP4258412B2 (en) * 2004-03-25 2009-04-30 トヨタ自動車株式会社 Inspection apparatus and inspection method for rotating electrical machine
JP2009115505A (en) * 2007-11-02 2009-05-28 Mitsubishi Electric Corp Winding inspection device and inspection method
US8334700B2 (en) * 2008-02-14 2012-12-18 Mks Instruments, Inc. Arc detection
JP2012207937A (en) * 2011-03-29 2012-10-25 Toshiba Corp Insulation diagnosis device
JP6134101B2 (en) * 2012-03-14 2017-05-24 東芝三菱電機産業システム株式会社 Partial discharge measurement system and partial discharge measurement method using repetitive impulse voltage

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