JP6964791B2 - 投影とシュリーレンとの複合型光学試験システム - Google Patents
投影とシュリーレンとの複合型光学試験システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6964791B2 JP6964791B2 JP2020542855A JP2020542855A JP6964791B2 JP 6964791 B2 JP6964791 B2 JP 6964791B2 JP 2020542855 A JP2020542855 A JP 2020542855A JP 2020542855 A JP2020542855 A JP 2020542855A JP 6964791 B2 JP6964791 B2 JP 6964791B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- positive lens
- test
- aperture
- lens
- detector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000012360 testing method Methods 0.000 title claims description 112
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 76
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 10
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 10
- 238000013480 data collection Methods 0.000 claims description 7
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 claims description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012113 quantitative test Methods 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0228—Testing optical properties by measuring refractive power
- G01M11/0235—Testing optical properties by measuring refractive power by measuring multiple properties of lenses, automatic lens meters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
- G01M11/0278—Detecting defects of the object to be tested, e.g. scratches or dust
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
- G01N21/45—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B9/00—Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or -
- G02B9/04—Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or - having two components only
- G02B9/06—Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or - having two components only two + components
- G02B9/08—Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or - having two components only two + components arranged about a stop
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B9/00—Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or -
- G02B9/04—Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or - having two components only
- G02B9/10—Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or - having two components only one + and one - component
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Geometry (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Optical Measuring Cells (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Description
2 第1の正レンズ
3 絞り
4 第2の正レンズ
5 検出器
6 データ収集、処理及び表示システム
7 負レンズ
8 ナイフエッジ
9 試料台
401 試験試料
D1 望遠光学系の入射口径
D2 望遠光学系の出射口径
S 検出器の有効サイズ
701 撮影対物レンズ
Claims (9)
- 平行光源システム(1)、第1の正レンズ(2)、絞り(3)、第2の正レンズ(4)、検出器(5)、負レンズ(7)、ナイフエッジ(8)及び試料台(9)を含む投影とシュリーレンとの複合型光学試験システムにおいて、
前記平行光源システム(1)からの平行光の均一性は一般的な閾値よりも高く、前記平行光源システム(1)のスペクトルは、試験試料の透明スペクトル内にあり、且つ検出器(5)の作動応答スペクトル内にあり、
投影試験装置として使用される場合、光路方向で順次に前記平行光源システム(1)、試料台(9)、第1の正レンズ(2)、絞り(3)、第2の正レンズ(4)、検出器(5)が配置され、試料台(9)に試験試料(401)が配置され、前記絞り(3)として可変開口絞りが採用され、平行光源システム(1)によって試料台(9)に置かれた試験試料(401)に照射し、第1の正レンズ(2)の像焦点に前記絞り(3)を配置して、第2の正レンズ(4)の物焦点と第1の正レンズ(2)の像焦点とを重ね合わせ、望遠システムの拡大倍率で入射された平行光の直径を小直径に圧縮して平行光を射出し、圧縮された出射平行光を検出器(5)に照射するための望遠光学系を形成し、前記望遠光学系の出射口径が検出器(5)の有効検出面のサイズにマッチし、第1の正レンズ(2)の焦点距離が第2の正レンズ(4)の焦点距離より大きく、且つ第1の正レンズ(2)の口径が第2の正レンズ(4)の口径より大きく、
シュリーレン装置として使用される場合、絞り(3)を取り除いて、第1の正レンズ(2)と第2の正レンズ(4)とを互いに近接させて、焦点距離がシュリーレン試験の所望の焦点距離であるシュリーレンシステムの撮影対物レンズ(701)に組み合わせ、第1の正レンズ(2)と第2の正レンズ(4)からなる撮影対物レンズ(701)を全体として移動させ、撮影対物レンズ(701)が試験試料(401)における欠陥を検出器(5)に結像するという光学結像関係を形成し、撮影対物レンズ(701)の物距離と像距離との比は試験試料(401)の口径と検出器(5)の有効サイズとの比であり、また試験の時に、ナイフエッジ(8)を撮影対物レンズ(701)の像焦点に位置させて、光軸に垂直である方向に沿って移動させて、試験を行うことを特徴とする投影とシュリーレンとの複合型光学試験システム。 - 前記第1の正レンズ(2)、第2の正レンズ(4)、負レンズ(7)の何れもレンズ群であることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記平行光源システム(1)の光源として、狭域スペクトル光源を採用することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 検出器(5)の感知したデータに対して収集、処理及び表示を行うためのデータ収集、処理及び表示システム(6)を更に含むことを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記データ収集、処理及び表示システム(6)は、更に、検出及び収集された試験試料(401)における縞次数、面積及び階調に対して材料欠陥の定性的スケールの評価を行うことに用いられることを特徴とする請求項4に記載のシステム。
- 前記第1の正レンズ(2)の口径は、試験試料(401)の口径よりも大きく設けられることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 投影試験装置として使用される場合、前記第2の正レンズ(4)を負レンズ(7)に取り替えて、且つ前記負レンズ(7)の物焦点と前記第2の正レンズ(4)の像焦点とを重ね合わせることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 投影試験装置として使用される場合、前記望遠光学系の出射口径D2を検出器(5)の有効サイズSに等しく設計することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 入射光口径D1の前記望遠光学系により圧縮された口径をD2とし、圧縮係数はkであり、kは第2の正レンズ(4)の焦点距離f2を第1の正レンズ(2)の焦点距離f1で割ったものであり、つまりk=f2/f1であり、望遠光学系の出射口径D2=kD1であることを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811138868.2A CN109141835B (zh) | 2018-09-28 | 2018-09-28 | 投影及纹影二合一光学测试系统 |
CN201811138868.2 | 2018-09-28 | ||
PCT/CN2019/108499 WO2020063842A1 (zh) | 2018-09-28 | 2019-09-27 | 投影及纹影二合一光学测试系统 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021514055A JP2021514055A (ja) | 2021-06-03 |
JP6964791B2 true JP6964791B2 (ja) | 2021-11-10 |
Family
ID=64813138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020542855A Active JP6964791B2 (ja) | 2018-09-28 | 2019-09-27 | 投影とシュリーレンとの複合型光学試験システム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10962488B2 (ja) |
JP (1) | JP6964791B2 (ja) |
CN (1) | CN109141835B (ja) |
WO (1) | WO2020063842A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109141835B (zh) | 2018-09-28 | 2019-12-24 | 中国兵器工业标准化研究所 | 投影及纹影二合一光学测试系统 |
US20210215925A1 (en) * | 2020-01-09 | 2021-07-15 | Kimball Electronics Indiana, Inc. | Imaging system for leak detection |
CN112683494B (zh) * | 2020-12-03 | 2023-05-09 | 西安科佳光电科技有限公司 | 一种光学镜头综合性能参数测试装置及方法 |
CN112611518B (zh) * | 2020-12-09 | 2023-01-20 | 广东电网有限责任公司电力科学研究院 | 一种sf6绝缘金属封闭式开关设备的气体检漏装置与方法 |
CN113203705B (zh) * | 2021-04-06 | 2023-03-14 | 西安工业大学 | 可实现光路快速调节测试的双折射式纹影系统及方法 |
CN113916507B (zh) * | 2021-10-11 | 2024-03-08 | 北京环境特性研究所 | 小空间高集成度红外共孔径光学系统测试装置及方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69517220T2 (de) * | 1994-03-09 | 2000-10-12 | Daewoo Electronics Co., Ltd. | Optisches Projektionssystem |
JPH10239236A (ja) * | 1997-02-25 | 1998-09-11 | Nikon Corp | 光学材料の均質性検査装置 |
JP2003121385A (ja) * | 2001-10-18 | 2003-04-23 | Tosoh Corp | 石英ガラス材内部の欠陥検査方法および検査装置 |
JP2005233695A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 透明板欠陥検査装置 |
CN201477055U (zh) * | 2009-08-14 | 2010-05-19 | 成都光明光电股份有限公司 | 条纹检测装置 |
CN201754206U (zh) * | 2010-04-29 | 2011-03-02 | 中国科学技术大学 | 纹影准单色光源装置 |
JP5069364B2 (ja) * | 2011-06-17 | 2012-11-07 | 株式会社ミツトヨ | 光電式インクリメンタル型エンコーダ |
CN102841452B (zh) * | 2011-11-15 | 2016-04-06 | 中国科学院光电研究院 | 激光偏振纹影检测装置 |
CN202548427U (zh) * | 2012-02-20 | 2012-11-21 | 南阳示佳光电有限公司 | 变焦投影镜头 |
CN103884486B (zh) * | 2014-02-27 | 2017-01-11 | 中国科学院力学研究所 | 纹影测量成像系统及方法 |
CN108226188A (zh) * | 2018-01-02 | 2018-06-29 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 大尺寸激光钕玻璃条纹检测装置 |
CN109141835B (zh) * | 2018-09-28 | 2019-12-24 | 中国兵器工业标准化研究所 | 投影及纹影二合一光学测试系统 |
-
2018
- 2018-09-28 CN CN201811138868.2A patent/CN109141835B/zh active Active
-
2019
- 2019-09-27 JP JP2020542855A patent/JP6964791B2/ja active Active
- 2019-09-27 WO PCT/CN2019/108499 patent/WO2020063842A1/zh active Application Filing
-
2020
- 2020-07-27 US US16/939,547 patent/US10962488B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2020063842A1 (zh) | 2020-04-02 |
CN109141835A (zh) | 2019-01-04 |
US20200355624A1 (en) | 2020-11-12 |
US10962488B2 (en) | 2021-03-30 |
JP2021514055A (ja) | 2021-06-03 |
CN109141835B (zh) | 2019-12-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6964791B2 (ja) | 投影とシュリーレンとの複合型光学試験システム | |
US9824432B2 (en) | Peripheral inspection system and method | |
US12130418B2 (en) | Microscope system | |
JP6506908B2 (ja) | 合焦方法、計測方法、合焦装置、及び計測装置 | |
JP2008502929A (ja) | 反射または透過赤外光による微細構造の検査装置または検査方法 | |
CN112243519A (zh) | 光学测试件的材料测试 | |
JP2015192238A (ja) | 画像データ生成装置および画像データ生成方法 | |
JP2010156558A (ja) | 透過照明装置、検査システム、および透過照明方法 | |
US10310247B2 (en) | Sample observation device and sample observation method | |
CN209283391U (zh) | 微距离的镜头检测装置 | |
Potemin et al. | Hybrid ray tracing method for photorealistic image synthesis in head-up displays | |
KR101555542B1 (ko) | 평판패널 검사장치 | |
JP2015191362A (ja) | 画像データ生成装置および画像データ生成方法 | |
Coveney | Dimensional measurement using vision systems. | |
Brousseau et al. | SITELLE optical design, assembly, and testing | |
JP6249681B2 (ja) | 顕微鏡システムおよび測定方法 | |
KR101517097B1 (ko) | 평판패널 검사장치 | |
JP5325481B2 (ja) | 光学素子の測定方法及び光学素子の製造方法 | |
Gerton et al. | A novel method for optical distortion quantification | |
JP3819981B2 (ja) | カメラの描写性能評価装置 | |
Meyer et al. | Optical realization and calibration of a light field generator | |
Scopatz et al. | Automated and semi-automated field testing of night vision goggles | |
CN105571714A (zh) | 具独立光谱装置及观测装置的摄像系统及该光谱装置 | |
Hassani et al. | Modified matching Ronchi test to visualize lens aberrations | |
Gonzales et al. | Optical behavior simulation of the divergence adapter elements in a Ronchi deflectometry configuration for convex surfaces. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200901 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20210402 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210706 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210806 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211012 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211019 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6964791 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |