JP6964791B2 - 投影とシュリーレンとの複合型光学試験システム - Google Patents

投影とシュリーレンとの複合型光学試験システム Download PDF

Info

Publication number
JP6964791B2
JP6964791B2 JP2020542855A JP2020542855A JP6964791B2 JP 6964791 B2 JP6964791 B2 JP 6964791B2 JP 2020542855 A JP2020542855 A JP 2020542855A JP 2020542855 A JP2020542855 A JP 2020542855A JP 6964791 B2 JP6964791 B2 JP 6964791B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
positive lens
test
aperture
lens
detector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020542855A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2021514055A (ja
Inventor
麦緑波
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
China North Standardization Center
Original Assignee
China North Standardization Center
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by China North Standardization Center filed Critical China North Standardization Center
Publication of JP2021514055A publication Critical patent/JP2021514055A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6964791B2 publication Critical patent/JP6964791B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02Testing optical properties
    • G01M11/0228Testing optical properties by measuring refractive power
    • G01M11/0235Testing optical properties by measuring refractive power by measuring multiple properties of lenses, automatic lens meters
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02Testing optical properties
    • G01M11/0242Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
    • G01M11/0278Detecting defects of the object to be tested, e.g. scratches or dust
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
    • G01N21/45Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B9/00Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or -
    • G02B9/04Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or - having two components only
    • G02B9/06Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or - having two components only two + components
    • G02B9/08Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or - having two components only two + components arranged about a stop
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B9/00Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or -
    • G02B9/04Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or - having two components only
    • G02B9/10Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or - having two components only one + and one - component

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Optical Measuring Cells (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Description

本発明は、投影及びシュリーレンの光学試験の技術分野に関し、具体的には、投影とシュリーレンとの複合型光学試験システムに関する。
可視光学材料又は赤外光学材料における縞は、光学部品の結像品質に影響を与える材料欠陥であり、このような欠陥に対して投影試験装置によって定性試験を行うことは一般的であり、試験の要求をより詳しくするために、シュリーレン試験装置によって半定量試験を行う必要がある。投影試験装置とシュリーレン試験装置に適用される光学原理は、異なっている。投影試験装置には、図1のa)及び図1のb)に示すように、望遠光学系又は平行光の原理が適用される。シュリーレン試験装置には、図2に示すように、撮影光学系の原理が適用される。そのため、それらは、別々に投影試験装置とシュリーレン試験装置との2つの装置として設計されなければならない。光学材料の縞の異なる目的の試験に対応するように、投影試験装置とシュリーレン試験装置との2つの異なる試験装置を用意する必要がある。
光学材料の縞の定性及び半定量の試験要求を満たすために、投影試験装置及びシュリーレン試験装置を兼ね備えることが要求され、これは試験装置のユーザに高い設備コストをもたらし、試験装置の配置空間を多く占め、また別々に2つの設備での試験による手間や時間消費を増やす。
本発明は、如何に投影光学系とシュリーレン光学系との機能を1つの光学系に融合して、投影試験装置及びシュリーレン試験装置の2つの試験装置を別々に設計や製造することによる資源浪費や高コスト、並びに2組の装置の占める配置空間を低減させるという技術課題を解決しようとする。
上記技術課題を解決するために、本発明は、平行光源システム1、第1の正レンズ2、絞り3、第2の正レンズ4、検出器5、負レンズ7、ナイフエッジ8及び試料台9を含む投影とシュリーレンとの複合型光学試験システムを提供する。
前記平行光源システム1からの平行光の均一性は一般的な閾値よりも高く、前記平行光源システム1のスペクトルは、試験試料の透明スペクトル内にあり、且つ検出器5の作動応答スペクトル内にある。
投影とシュリーレンとの複合型光学試験システムは、投影試験装置として使用される場合、光路方向で順次に前記平行光源システム1、試料台9、第1の正レンズ2、絞り3、第2の正レンズ4、検出器5が配置され、試料台9に試験試料401が配置され、前記絞り3として可変開口絞りが採用され、平行光源システム1によって試料台9に置かれた試験試料401に照射し、第1の正レンズ2の像焦点に前記絞り3を配置して、第2の正レンズ4の物焦点と第1の正レンズ2の像焦点とを重ね合わせ、望遠システムの放大倍率で入射された平行光の直径を小直径に圧縮して平行光を射出し、圧縮された出射平行光を検出器5に照射するための望遠光学系を形成し、前記望遠光学系の出射口径が検出器5の有効検出面のサイズにマッチし、第1の正レンズ2の焦点距離が第2の正レンズ4の焦点距離より大きく、且つ第1の正レンズ2の口径が第2の正レンズ4の口径より大きい。
投影とシュリーレンとの複合型光学試験システムは、シュリーレン装置として使用される場合、絞り3を取り除いて、第1の正レンズ2と第2の正レンズ4とを互いに近接させて、焦点距離がシュリーレン試験の所望の焦点距離であるシュリーレンシステムの撮影対物レンズ701に組み合わせ、第1の正レンズ2と第2の正レンズ4からなる撮影対物レンズ701を全体として移動させ、撮影対物レンズ701が試験試料401における欠陥を検出器5に結像するという光学結像関係を形成し、撮影対物レンズ701の物距離と像距離との比は試験試料401の口径と検出器5の有効サイズとの比であり、また試験の時に、ナイフエッジ8を撮影対物レンズ701の像焦点に位置させて、光軸に垂直である方向に沿って移動させて、試験を行う。
好ましくは、前記第1の正レンズ2、第2の正レンズ4、負レンズ7の何れもレンズ群である。
好ましくは、前記平行光源システム1の光源として、狭域スペクトル光源を採用する。
好ましくは、前記システムは、検出器5の感知したデータに対して収集、処理及び表示を行うためのデータ収集、処理及び表示システム6を更に含む。
好ましくは、前記データ収集、処理及び表示システム6は、更に、検出及び収集された試験試料401における縞次数、面積及び階調に対して材料欠陥の定性的スケールの評価を行うことに用いられる。
好ましくは、試験試料401に対して全口径試験を行うとすれば、第1の正レンズ2の口径は、試験試料401の口径よりも大きく設けられる。
好ましくは、投影とシュリーレンとの複合型光学試験システムが投影試験装置として使用される場合、前記第2の正レンズ4を負レンズ7に取り替えて、且つ前記負レンズ7の物焦点と前記第2の正レンズ4の像焦点とを重ね合わせる。
好ましくは、投影とシュリーレンとの複合型光学試験システムが投影試験装置として使用される場合、前記望遠光学系の出射口径Dを検出器5の有効サイズSに等しく設計する。
好ましくは、入射光口径Dの前記望遠光学系により圧縮された口径をDとし、圧縮係数はkであり、kは第2の正レンズ4の焦点距離f2を第1の正レンズ2の焦点距離f1で割ったものであり、つまりk=f2/f1であり、望遠光学系の出射口径D=kDである。
本発明は、1組の試験システムにおいて、2つのレンズを移動させる光学特性の組み合わせを適用することで、別々に投影望遠光学系及びシュリーレン撮影光学系を形成し、1組の光学系装置が投影光学系及びシュリーレン光学という2つの機能を有することを達成させる。本発明によれば、2つの異なる光学原理による2つの光学試験機能の装置を1つの装置で達成させ、試験装置の設計や製造費用を大幅に節約すると共に、試験装置の機能を増やし、試験作業を便利に進展させ、試験設備の配置空間を節約する。
従来技術に係る投影光学系を示す図である。 従来技術に係る投影光学系を示す図である。 従来技術に係るシュリーレン光学系を示す図である。 本発明に係る投影とシュリーレンとの複合型光学系を示す組合図である。 本発明で配置された第1の投影光学系を示す組合図である。 本発明で配置された第2の投影光学系を示す組合図である。 本発明の投影光学系における望遠光学系の出射光のサイズと検出器の有効面積の大きさとのマッチング関係を示す模式図である。 本発明で配置されたシュリーレン光学系における撮影対物レンズの組合を示す関係図である。 本発明で配置されたシュリーレン光学系を示す組合図である。
本発明の目的、内容、及びメリットをより明確にするために、以下、添付図面及び実施例に合わせて、本発明の発明を実施するための最良の形態を更に詳しく説明する。
本発明の発明者により、試験試料の視方向(すなわち、本説明書の図面に示す試験試料の右方)で、2つのレンズを適用して異なる間隔で変化させて組み合させることで、望遠光学系及び撮影光学系を別々に形成することができ、1台の装置で投影試験及びシュリーレン試験の2つの機能を別々に達成させることができることは発見される。
本発明は、投影光学系及びシュリーレン光学系の光学結像の本質に対する突っ込んだ把握に基づいて、2つの光学レンズ同士の巧妙な組合関係を適用して、投影光学系とシュリーレン光学系との複合型の光学系を作成する。
図3に示すように、本発明の提供する投影とシュリーレンとの複合型光学試験システムは、平行光源システム1、第1の正レンズ2、絞り3、第2の正レンズ4、検出器5、データ収集、処理及び表示システム6、負レンズ7、ナイフエッジ8、試料台9からなる。収差の打ち消しの要求に応じて、第1の正レンズ2、第2の正レンズ4、負レンズ7は、レンズ群であってよい。第1の正レンズ2の焦点距離は第2の正レンズ4の焦点距離より数倍も長く、且つ第1の正レンズ2の口径も第2の正レンズ4の口径より大きい。
平行光源システム1からの平行光は、高均一性の平行光(輝度均一性が一般的に5%以下でなければならない)であるべき、光源の均一性がよいほど、試験の結果より現実的になるが、そうでなければ、光源自体の不均一性が試料の均一性の問題とされ、試料の問題を正確に反応できず、大きな試験誤差をもたらす。
平行光源システム1のスペクトルは、試験試料の透明スペクトル内にあり、且つ検出器5の作動応答スペクトル内にあるべきである。光源としては、広域スペクトル光源を使用してもよいし、狭域スペクトル光源を使用してもよく、狭域スペクトル光源で試験する場合より正確であるが、検出器が試料の低階調の縞に応答できるように、十分量の光束を要求する(光源の出力電力を高く要求する)。
図4に示すように、投影とシュリーレンとの複合型光学試験システムを投影試験装置として使用しようとする場合、光路方向で(左から右へ)順次に前記平行光源システム1、試料台9、第1の正レンズ2、絞り3、第2の正レンズ4、検出器5が配置され、試料台9に試験試料401が配置され、前記絞り3として可変開口絞りが採用され、平行光源システム1によって試料台9に置かれた試験試料401に照射し、第1の正レンズ2の像焦点に前記絞り3を配置して、第2の正レンズ4の物焦点と第1の正レンズ2の像焦点とを重ね合わせ、望遠システムの放大倍率で入射された平行光の直径を小直径に圧縮して平行光を射出し、圧縮された出射平行光を検出器5に照射する望遠光学系を形成し、データ収集、処理及び表示システム6は、検出器5の感知したデータに対して収集、処理、表示を行い、更に、検出及び収集された試験試料401における縞次数、面積及び階調に対して材料欠陥の定性的スケールの評価を行う。
試験試料401に対して全口径試験を行うとすれば、第1の正レンズ2の口径は、試験試料401の口径より大きくなければならない。
投影とシュリーレンとの複合型光学試験システムは、画像を表示するには図1及び図2におけるスクリーンを採用せず、検出器5によって試験画像を受信し、またデータ収集、処理及び表示システム6によって試験画像を収集、処理及び表示し、試験試料401の試験画像を保存及び分析できるようにし、試験試料のデータのファイル管理及び技術データの累積を容易にする。
図4における第2の正レンズ4は負レンズ7に取り替えられてもよく、この場合、投影の望遠システムの結像関係が図5に示されている。図4における第2の正レンズ4の像焦点と図5における負レンズ7の物焦点とが重なり合い、正レンズと負レンズからなる投影システムによって器具の占める空間を小さくすることができる。
図4及び図5における望遠光学系の出射口径は、図6に示すように、検出器5の有効検出面のサイズにマッチするべきである。図6において、前記望遠光学系の出射口径Dが検出器5の有効サイズSより大きくあるべきでもなければ、小さくあるべきでもなく、大きくなると、試験試料401の一部の試験領域が溢れ出て、試料全体の欠陥状況を得ないが、小さくなると、試験試料401の試験領域の画像があまり圧縮されて、欠陥の細部を見分けにくくなる。
入射光口径Dの前記望遠光学系により圧縮された口径はDであり、圧縮係数はkであり、kは第2の正レンズ4の焦点距離f2を第1の正レンズ2の焦点距離f1で割ったものであり、つまりk=f2/f1であり、望遠光学系の出射口径D=kDであり、kは1より小さい数である。
投影とシュリーレンとの複合型光学試験システムをシュリーレン装置として使用しようとする場合、図7に示すように、図4における第1の正レンズ2と第2の正レンズ4とを互いに近接させて、シュリーレンシステムの撮影対物レンズ701を組み合わせ、絞り3を取り除く。図7において、第1の正レンズ2と第2の正レンズ4との距離が小さいほど、その両者からなる撮影対物レンズ701の焦点距離は短くなり、撮影対物レンズ701の焦点距離がシュリーレン試験の所望の焦点距離となるまでにする。
図8に示すように、第1の正レンズ2と第2の正レンズ4からなる撮影対物レンズ701を全体として移動させ(一定の組合関係を保持する)、撮影対物レンズ701が試験試料401における欠陥を検出器5に結像するという光学結像関係を形成し(結像関係を組み立てる間に、試験試料401と検出器5との位置は、結像の要求に応じて調整されてよい)、撮影対物レンズ701の物距離と像距離との比は試験試料401の口径と検出器5の有効サイズとの比である。試験の時に、ナイフエッジ8を撮影対物レンズ701の像焦点に位置させて、光軸に垂直である方向に沿って移動させて、試験を行う。
光学材料の屈折率均一性の試験については、一般的に、まず投影光学系によって大まかな試験を行い、試験材料の屈折率均一性が合格の境の状態にある場合、更に、シュリーレン光学系によって半定量の精密な試験を行うことが要求され、また、材料の屈折率均一性の問題を分析する場合にも、シュリーレン光学系によって詳しく分析することが要求される。本発明によれば、2つの異なる光学原理による2つの光学試験機能の装置を1つの装置で達成させ、試験装置の設計や製造費用を大幅に節約すると共に、試験装置の機能を増やし、試験作業を便利に進展させ、試験設備の配置空間を節約する。
本発明の複合型投影及びシュリーレン光学系は、可視光、赤外等の光学材料の縞試験に加えて、気体、液体の動きフィールドの均一性に対する試験にも適用され、1台の設備によって投影及びシュリーレンの2つの試験設備の機能を完成することができる。
上記は、単に本発明の好適な実施形態であり、指摘すべきなのは、当業者であれば、本発明の技術原理から逸脱せずに、若干の改善や変形を加えてもよく、これらの改善や変形も本発明の保護範囲として見なされるべきである。
1 平行光源システム
2 第1の正レンズ
3 絞り
4 第2の正レンズ
5 検出器
6 データ収集、処理及び表示システム
7 負レンズ
8 ナイフエッジ
9 試料台
401 試験試料
望遠光学系の入射口径
望遠光学系の出射口径
S 検出器の有効サイズ
701 撮影対物レンズ

Claims (9)

  1. 平行光源システム(1)、第1の正レンズ(2)、絞り(3)、第2の正レンズ(4)、検出器(5)、負レンズ(7)、ナイフエッジ(8)及び試料台(9)を含む投影とシュリーレンとの複合型光学試験システムにおいて、
    前記平行光源システム(1)からの平行光の均一性は一般的な閾値よりも高く、前記平行光源システム(1)のスペクトルは、試験試料の透明スペクトル内にあり、且つ検出器(5)の作動応答スペクトル内にあり、
    投影試験装置として使用される場合、光路方向で順次に前記平行光源システム(1)、試料台(9)、第1の正レンズ(2)、絞り(3)、第2の正レンズ(4)、検出器(5)が配置され、試料台(9)に試験試料(401)が配置され、前記絞り(3)として可変開口絞りが採用され、平行光源システム(1)によって試料台(9)に置かれた試験試料(401)に照射し、第1の正レンズ(2)の像焦点に前記絞り(3)を配置して、第2の正レンズ(4)の物焦点と第1の正レンズ(2)の像焦点とを重ね合わせ、望遠システムの拡大倍率で入射された平行光の直径を小直径に圧縮して平行光を射出し、圧縮された出射平行光を検出器(5)に照射するための望遠光学系を形成し、前記望遠光学系の出射口径が検出器(5)の有効検出面のサイズにマッチし、第1の正レンズ(2)の焦点距離が第2の正レンズ(4)の焦点距離より大きく、且つ第1の正レンズ(2)の口径が第2の正レンズ(4)の口径より大きく、
    シュリーレン装置として使用される場合、絞り(3)を取り除いて、第1の正レンズ(2)と第2の正レンズ(4)とを互いに近接させて、焦点距離がシュリーレン試験の所望の焦点距離であるシュリーレンシステムの撮影対物レンズ(701)に組み合わせ、第1の正レンズ(2)と第2の正レンズ(4)からなる撮影対物レンズ(701)を全体として移動させ、撮影対物レンズ(701)が試験試料(401)における欠陥を検出器(5)に結像するという光学結像関係を形成し、撮影対物レンズ(701)の物距離と像距離との比は試験試料(401)の口径と検出器(5)の有効サイズとの比であり、また試験の時に、ナイフエッジ(8)を撮影対物レンズ(701)の像焦点に位置させて、光軸に垂直である方向に沿って移動させて、試験を行うことを特徴とする投影とシュリーレンとの複合型光学試験システム。
  2. 前記第1の正レンズ(2)、第2の正レンズ(4)、負レンズ(7)の何れもレンズ群であることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
  3. 前記平行光源システム(1)の光源として、狭域スペクトル光源を採用することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
  4. 検出器(5)の感知したデータに対して収集、処理及び表示を行うためのデータ収集、処理及び表示システム(6)を更に含むことを特徴とする請求項1に記載のシステム。
  5. 前記データ収集、処理及び表示システム(6)は、更に、検出及び収集された試験試料(401)における縞次数、面積及び階調に対して材料欠陥の定性的スケールの評価を行うことに用いられることを特徴とする請求項4に記載のシステム。
  6. 前記第1の正レンズ(2)の口径は、試験試料(401)の口径よりも大きく設けられることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
  7. 投影試験装置として使用される場合、前記第2の正レンズ(4)を負レンズ(7)に取り替えて、且つ前記負レンズ(7)の物焦点と前記第2の正レンズ(4)の像焦点とを重ね合わせることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
  8. 投影試験装置として使用される場合、前記望遠光学系の出射口径Dを検出器(5)の有効サイズSに等しく設計することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
  9. 入射光口径Dの前記望遠光学系により圧縮された口径をDとし、圧縮係数はkであり、kは第2の正レンズ(4)の焦点距離f2を第1の正レンズ(2)の焦点距離f1で割ったものであり、つまりk=f2/f1であり、望遠光学系の出射口径D=kDであることを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載のシステム。
JP2020542855A 2018-09-28 2019-09-27 投影とシュリーレンとの複合型光学試験システム Active JP6964791B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811138868.2A CN109141835B (zh) 2018-09-28 2018-09-28 投影及纹影二合一光学测试系统
CN201811138868.2 2018-09-28
PCT/CN2019/108499 WO2020063842A1 (zh) 2018-09-28 2019-09-27 投影及纹影二合一光学测试系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021514055A JP2021514055A (ja) 2021-06-03
JP6964791B2 true JP6964791B2 (ja) 2021-11-10

Family

ID=64813138

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020542855A Active JP6964791B2 (ja) 2018-09-28 2019-09-27 投影とシュリーレンとの複合型光学試験システム

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10962488B2 (ja)
JP (1) JP6964791B2 (ja)
CN (1) CN109141835B (ja)
WO (1) WO2020063842A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109141835B (zh) 2018-09-28 2019-12-24 中国兵器工业标准化研究所 投影及纹影二合一光学测试系统
US20210215925A1 (en) * 2020-01-09 2021-07-15 Kimball Electronics Indiana, Inc. Imaging system for leak detection
CN112683494B (zh) * 2020-12-03 2023-05-09 西安科佳光电科技有限公司 一种光学镜头综合性能参数测试装置及方法
CN112611518B (zh) * 2020-12-09 2023-01-20 广东电网有限责任公司电力科学研究院 一种sf6绝缘金属封闭式开关设备的气体检漏装置与方法
CN113203705B (zh) * 2021-04-06 2023-03-14 西安工业大学 可实现光路快速调节测试的双折射式纹影系统及方法
CN113916507B (zh) * 2021-10-11 2024-03-08 北京环境特性研究所 小空间高集成度红外共孔径光学系统测试装置及方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69517220T2 (de) * 1994-03-09 2000-10-12 Daewoo Electronics Co., Ltd. Optisches Projektionssystem
JPH10239236A (ja) * 1997-02-25 1998-09-11 Nikon Corp 光学材料の均質性検査装置
JP2003121385A (ja) * 2001-10-18 2003-04-23 Tosoh Corp 石英ガラス材内部の欠陥検査方法および検査装置
JP2005233695A (ja) * 2004-02-17 2005-09-02 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 透明板欠陥検査装置
CN201477055U (zh) * 2009-08-14 2010-05-19 成都光明光电股份有限公司 条纹检测装置
CN201754206U (zh) * 2010-04-29 2011-03-02 中国科学技术大学 纹影准单色光源装置
JP5069364B2 (ja) * 2011-06-17 2012-11-07 株式会社ミツトヨ 光電式インクリメンタル型エンコーダ
CN102841452B (zh) * 2011-11-15 2016-04-06 中国科学院光电研究院 激光偏振纹影检测装置
CN202548427U (zh) * 2012-02-20 2012-11-21 南阳示佳光电有限公司 变焦投影镜头
CN103884486B (zh) * 2014-02-27 2017-01-11 中国科学院力学研究所 纹影测量成像系统及方法
CN108226188A (zh) * 2018-01-02 2018-06-29 中国科学院上海光学精密机械研究所 大尺寸激光钕玻璃条纹检测装置
CN109141835B (zh) * 2018-09-28 2019-12-24 中国兵器工业标准化研究所 投影及纹影二合一光学测试系统

Also Published As

Publication number Publication date
WO2020063842A1 (zh) 2020-04-02
CN109141835A (zh) 2019-01-04
US20200355624A1 (en) 2020-11-12
US10962488B2 (en) 2021-03-30
JP2021514055A (ja) 2021-06-03
CN109141835B (zh) 2019-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6964791B2 (ja) 投影とシュリーレンとの複合型光学試験システム
US9824432B2 (en) Peripheral inspection system and method
US12130418B2 (en) Microscope system
JP6506908B2 (ja) 合焦方法、計測方法、合焦装置、及び計測装置
JP2008502929A (ja) 反射または透過赤外光による微細構造の検査装置または検査方法
CN112243519A (zh) 光学测试件的材料测试
JP2015192238A (ja) 画像データ生成装置および画像データ生成方法
JP2010156558A (ja) 透過照明装置、検査システム、および透過照明方法
US10310247B2 (en) Sample observation device and sample observation method
CN209283391U (zh) 微距离的镜头检测装置
Potemin et al. Hybrid ray tracing method for photorealistic image synthesis in head-up displays
KR101555542B1 (ko) 평판패널 검사장치
JP2015191362A (ja) 画像データ生成装置および画像データ生成方法
Coveney Dimensional measurement using vision systems.
Brousseau et al. SITELLE optical design, assembly, and testing
JP6249681B2 (ja) 顕微鏡システムおよび測定方法
KR101517097B1 (ko) 평판패널 검사장치
JP5325481B2 (ja) 光学素子の測定方法及び光学素子の製造方法
Gerton et al. A novel method for optical distortion quantification
JP3819981B2 (ja) カメラの描写性能評価装置
Meyer et al. Optical realization and calibration of a light field generator
Scopatz et al. Automated and semi-automated field testing of night vision goggles
CN105571714A (zh) 具独立光谱装置及观测装置的摄像系统及该光谱装置
Hassani et al. Modified matching Ronchi test to visualize lens aberrations
Gonzales et al. Optical behavior simulation of the divergence adapter elements in a Ronchi deflectometry configuration for convex surfaces.

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200901

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20210402

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210706

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210806

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211012

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211019

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6964791

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250