JP6962449B2 - Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film and liquid crystal element - Google Patents
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本出願は、2018年3月7日に出願された日本出願番号2018−41168号に基づくもので、ここにその記載内容を援用する。 This application is based on Japanese Application No. 2018-41168 filed on March 7, 2018, the contents of which are incorporated herein by reference.
本開示は、液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子に関する。 The present disclosure relates to a liquid crystal alignment agent, a liquid crystal alignment film, and a liquid crystal element.
液晶素子は、テレビやパーソナルコンピュータ、スマートフォンなどの表示装置をはじめとする各種用途に用いられている。これら液晶素子は、液晶分子を一定の方向に配向させる機能を有する液晶配向膜を具備している。液晶配向膜は一般に、重合体成分が有機溶媒に溶解されてなる液晶配向剤を基板上に塗布し、好ましくは加熱することにより基板上に形成される。液晶配向剤の重合体成分としては、機械的強度や液晶配向性、液晶との親和性に優れていることから、ポリアミック酸や可溶性ポリイミドが広く使用されている。また、液晶配向剤の溶剤成分としては、ポリアミック酸や可溶性ポリイミド等の重合体に対する溶解性が高い溶媒(例えば、N−メチル−2−ピロリドンやγ−ブチロラクトン等の良溶媒)と、基板に対する濡れ広がり性が高い溶媒(例えば、ブチルセロソルブ等の貧溶媒)との混合溶媒が一般に使用されている(例えば、特許文献1、2参照)。
Liquid crystal elements are used in various applications such as display devices such as televisions, personal computers, and smartphones. These liquid crystal elements include a liquid crystal alignment film having a function of orienting liquid crystal molecules in a certain direction. The liquid crystal alignment film is generally formed on the substrate by applying a liquid crystal alignment agent in which the polymer component is dissolved in an organic solvent onto the substrate and preferably heating the substrate. As the polymer component of the liquid crystal alignment agent, polyamic acid and soluble polyimide are widely used because they are excellent in mechanical strength, liquid crystal orientation, and affinity with liquid crystal. Further, as the solvent component of the liquid crystal alignment agent, a solvent having high solubility in a polymer such as polyamic acid or soluble polyimide (for example, a good solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone or γ-butyrolactone) and wetness to the substrate are used. A mixed solvent with a solvent having high spreadability (for example, a poor solvent such as butyl cellosolve) is generally used (see, for example,
液晶テレビとしては、近年、さらなる表示品位の向上による臨場感を得るべく、4K(例えば3840画素×2160画素)や8K(例えば7680画素×4320画素)といった、画素数を増やした表示装置の規格が作られている。表示装置の画素数が増えて画素サイズが小さくなると、画素電極はさらに微細な構造となり、画素電極の形成面は、単位面積当たりの凹凸密度がより高くなる。この場合、画素電極の形成面に液晶配向剤を塗布して配向膜を形成する場合に、画素電極の微細な凹凸構造に対して液晶配向剤が濡れ広がりにくく、基板に対する塗布性を十分に確保できないことが懸念される。微細な凹凸構造に液晶配向剤を塗布する場合にも良好な塗布性が得られるようにするためには、液晶配向剤の溶剤成分としては、重合体に対する溶解性の低下を抑制しつつ、基板に対する濡れ広がり性を高めることが必要である。 As for LCD TVs, in recent years, there have been standards for display devices with an increased number of pixels, such as 4K (for example, 3840 pixels x 2160 pixels) and 8K (for example, 7680 pixels x 4320 pixels), in order to obtain a sense of realism by further improving the display quality. It is made. As the number of pixels in the display device increases and the pixel size decreases, the pixel electrodes have a finer structure, and the surface on which the pixel electrodes are formed has a higher uneven density per unit area. In this case, when the liquid crystal alignment agent is applied to the forming surface of the pixel electrode to form the alignment film, the liquid crystal alignment agent is difficult to wet and spread with respect to the fine uneven structure of the pixel electrode, and sufficient coatability to the substrate is ensured. There is concern that it cannot be done. In order to obtain good coatability even when the liquid crystal alignment agent is applied to a fine uneven structure, the solvent component of the liquid crystal alignment agent is a substrate while suppressing a decrease in solubility in a polymer. It is necessary to increase the wettability and spreadability.
また、工業的な生産の観点からは、液晶配向剤の基板への印刷時において印刷機上からの溶剤の揮発を抑えることができ、連続して印刷を行った場合にも印刷機上に重合体が析出しにくいこと、つまり連続印刷性が良好であることが求められる。 Further, from the viewpoint of industrial production, it is possible to suppress the volatilization of the solvent from the printing machine when printing the liquid crystal alignment agent on the substrate, and it is heavy on the printing machine even when printing is continuously performed. It is required that the coalescence is hard to precipitate, that is, the continuous printability is good.
さらに近年では、大画面の液晶パネルの普及が進み、従来よりも大型のラインが稼動するようになり、基板の大型化が進んでいる。基板を大型化するメリットとしては、基板一枚から複数枚のパネルが取れるため、工程時間及びコストの低減を図ることができる点や、液晶パネル自体の大型化に対応可能である点などが挙げられる。その一方で、大型基板上に液晶配向膜を形成する場合、従来に比べてポストベーク時に温度ムラが生じやすく、この温度ムラに起因して液晶配向膜のプレチルト角にばらつきが生じ、表示品位の低下を招くことが懸念される。 Furthermore, in recent years, large-screen liquid crystal panels have become widespread, and larger lines have come into operation than before, and the size of substrates has been increasing. The merits of increasing the size of the substrate are that it is possible to reduce the process time and cost because multiple panels can be taken from one substrate, and that it is possible to cope with the increase in the size of the liquid crystal panel itself. Be done. On the other hand, when a liquid crystal alignment film is formed on a large substrate, temperature unevenness is more likely to occur during post-baking than in the past, and the pretilt angle of the liquid crystal alignment film varies due to this temperature unevenness, resulting in display quality. There is concern that it will lead to a decline.
基板の大型化が進む一方で、スマートフォンやタブレットPCに代表される、タッチパネル式の小型表示パネルの開発も進められている。ここで、タッチパネル式の表示パネルにおいては、タッチパネルの可動面積をより広く、かつ液晶パネルの小型化を両立させるために狭額縁化を図ることが試みられている。また、液晶パネルの狭額縁化に伴い、経年等によりシール剤周辺で表示ムラが視認されることがある。液晶パネルの高精細化、高寿命化を図るためには、こうしたシール剤周辺での表示ムラが長期に亘って視認されにくい(ベゼルムラ耐性が高い)液晶素子が求められる。 While the size of the substrate is increasing, the development of a small touch panel type display panel represented by a smartphone or tablet PC is also underway. Here, in the touch panel type display panel, an attempt is made to narrow the frame in order to make the movable area of the touch panel wider and to make the liquid crystal panel smaller. Further, as the frame of the liquid crystal panel is narrowed, display unevenness may be visually recognized around the sealant due to aging or the like. In order to achieve high definition and long life of the liquid crystal panel, a liquid crystal element is required in which display unevenness around the sealant is hard to be visually recognized for a long period of time (high resistance to bezel unevenness).
本開示は上記課題に鑑みなされたものであり、微細な凹凸構造に対する塗布性及び連続印刷性が良好であり、膜形成時の加熱に際し温度ムラの影響を受けにくく、かつシール剤周辺の表示ムラが少ない液晶素子を得ることができる液晶配向剤を提供することを一つの目的とする。 The present disclosure has been made in view of the above problems, has good coatability and continuous printability on a fine uneven structure, is not easily affected by temperature unevenness during heating during film formation, and has display unevenness around the sealant. One object of the present invention is to provide a liquid crystal alignment agent capable of obtaining a liquid crystal element having a small amount of water.
本開示は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。 The present disclosure employs the following means to solve the above problems.
<1> 重合体成分と、下記の[A]化合物と、を含有する、液晶配向剤。
[A]カルボニル基を有する1価の基が酸素含有複素環の環部分に結合した化合物[A1]、及び、ケトン性カルボニル基及びオキシ有機基を有する化合物[A2]よりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物。
<2> 上記<1>の液晶配向剤を用いて液晶配向膜を形成する、液晶素子の製造方法。
<3> 上記<1>の液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜。
<4> 上記<2>の液晶配向膜を具備する液晶素子。<1> A liquid crystal alignment agent containing a polymer component and the following [A] compound.
[A] At least selected from the group consisting of a compound [A1] in which a monovalent group having a carbonyl group is bonded to the ring portion of an oxygen-containing heterocycle, and a compound [A2] having a ketone carbonyl group and an oxyorganic group. A kind of compound.
<2> A method for manufacturing a liquid crystal element, which forms a liquid crystal alignment film using the liquid crystal alignment agent of <1> above.
<3> A liquid crystal alignment film formed by using the liquid crystal alignment agent of <1> above.
<4> A liquid crystal element provided with the liquid crystal alignment film of <2> above.
本開示の液晶配向剤は、微細な凹凸構造を有する基板面に塗布した場合にも濡れ広がり性が良好であり、基板面に対し均一に液晶配向膜を形成することができる。また、製造プロセスにおいて連続して長時間印刷を行った場合にも、印刷機上に重合体が析出しにくい。しかも、本発明の液晶配向剤は、膜形成時の加熱の際に温度ムラの影響を受けにくく、よって、温度ムラに起因する特性ばらつきが抑制された液晶配向膜を得ることができる。また、シール剤周辺の表示ムラが少ない(ベゼルムラ耐性が良好な)液晶素子を得ることができる。 The liquid crystal alignment agent of the present disclosure has good wettability and spreadability even when applied to a substrate surface having a fine uneven structure, and can uniformly form a liquid crystal alignment film on the substrate surface. Further, even when printing is continuously performed for a long time in the manufacturing process, the polymer is unlikely to precipitate on the printing machine. Moreover, the liquid crystal alignment agent of the present invention is not easily affected by temperature unevenness during heating during film formation, and thus a liquid crystal alignment film in which characteristic variation due to temperature unevenness is suppressed can be obtained. Further, it is possible to obtain a liquid crystal element having less display unevenness around the sealant (good bezel unevenness resistance).
以下に、本開示の液晶配向剤に含まれる各成分、及び必要に応じて任意に配合されるその他の成分について説明する。液晶配向剤は、重合体成分と溶剤成分とを含有し、重合体成分が溶剤成分に溶解されてなる液状の重合体組成物である。 Hereinafter, each component contained in the liquid crystal alignment agent of the present disclosure, and other components optionally blended will be described. The liquid crystal alignment agent is a liquid polymer composition containing a polymer component and a solvent component, and the polymer component is dissolved in the solvent component.
≪重合体成分≫
液晶配向剤に含有される重合体成分は、その主骨格は特に限定されないが、例えばポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン、ポリエステル、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリベンゾオキサゾール、セルロース誘導体、ポリアセタール、スチレン−マレイミド系共重合体、ポリ(メタ)アクリレート等の主骨格が挙げられる。なお、(メタ)アクリレートは、アクリレート及びメタクリレートを含むことを意味する。
液晶素子の性能を十分に確保する等の観点から、重合体成分は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリアミド、及び重合性不飽和結合を有するモノマーに由来する構造単位を有する重合体よりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体(以下、「重合体[P]」ともいう。)であることが好ましく、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが特に好ましい。≪Polymer component≫
The main skeleton of the polymer component contained in the liquid crystal aligning agent is not particularly limited, but for example, polyamic acid, polyamic acid ester, polyimide, polyorganosiloxane, polyester, polyamide, polyamideimide, polybenzoxazole precursor, polybenzo Examples thereof include main skeletons such as oxazole, cellulose derivatives, polyacetals, styrene-maleimide copolymers, and poly (meth) acrylates. In addition, (meth) acrylate means containing acrylate and methacrylate.
From the viewpoint of ensuring sufficient performance of the liquid crystal element, the polymer component is composed of a polymer having a structural unit derived from a polyamic acid, a polyamic acid ester, a polyimide, a polyamide, and a monomer having a polymerizable unsaturated bond. It is preferably at least one polymer selected from the group (hereinafter, also referred to as "polymer [P]"), and particularly at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide. preferable.
<ポリアミック酸>
ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを反応させることにより得ることができる。<Polyamic acid>
The polyamic acid can be obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a diamine compound.
(テトラカルボン酸二無水物)
ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物などを挙げることができる。これらの具体例としては、脂肪族テトラカルボン酸二無水物として、例えば1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物などを;
脂環式テトラカルボン酸二無水物として、例えば1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−3a,4,5,9b−テトラヒドロナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−8−メチル−3a,4,5,9b−テトラヒドロナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、3−オキサビシクロ[3.2.1]オクタン−2,4−ジオン−6−スピロ−3’−(テトラヒドロフラン−2’,5’−ジオン)、2,4,6,8−テトラカルボキシビシクロ[3.3.0]オクタン−2:4,6:8−二無水物、4,9−ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン−3,5,8,10−テトラオン、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物などを;芳香族テトラカルボン酸二無水物として、例えばピロメリット酸二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメート、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、4,4’−カルボニルジフタル酸無水物などを;それぞれ挙げることができるほか、特開2010−97188号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。なお、上記テトラカルボン酸二無水物は、1種を単独で又は2種以上組み合わせて使用することができる。(Tetracarboxylic dianhydride)
Examples of the tetracarboxylic dianhydride used for the synthesis of polyamic acid include aliphatic tetracarboxylic dianhydride, alicyclic tetracarboxylic dianhydride, and aromatic tetracarboxylic dianhydride. .. Specific examples of these include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride;
As the alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride, for example, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic hydride, 5- (2,5-dioxo tetrahydrofuran-3-yl) -3a, 4,5,9b-tetrahydronaphtho [1,2-c] furan-1 , 3-Dione, 5- (2,5-dioxo tetrahydrofuran-3-yl) -8-methyl-3a, 4,5,9b-Tetrahydronaphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 3-Oxabicyclo [3.2.1] Octane-2,4-dione-6-spiro-3'-(Anhydride-2', 5'-dione), 2,4,6,8-Tetracarboxybicyclo [ 3.3.0] Octane-2: 4,6: 8-dianhydride, 4,9-dioxatricyclo [5.3.1.0 2,6 ] Undecane-3,5,8,10- Tetraone, cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride, cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride, etc .; as aromatic tetracarboxylic acid dianhydride, for example, pyromellitic acid dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene). Diphthalic anhydride, ethylene glycol bisanhydrotrimate, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride, 4,4'-carbonyldiphthalic anhydride, etc .; The tetracarboxylic dianhydride described in JP-A-2010-97188 can be used. The tetracarboxylic dianhydride may be used alone or in combination of two or more.
(ジアミン化合物)
ポリアミック酸の合成に使用するジアミン化合物としては、例えば脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサンなどを挙げることができる。これらジアミンの具体例としては、脂肪族ジアミンとして、例えばメタキシリレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどを;脂環式ジアミンとして、例えば1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)などを;
芳香族ジアミンとして、例えば、ドデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、3,5−ジアミノ安息香酸コレスタニル、3,5−ジアミノ安息香酸コレステニル、3,5−ジアミノ安息香酸ラノスタニル、3,6−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)コレスタン、3,6−ビス(4−アミノフェノキシ)コレスタン、2,4−ジアミノ−N,N−ジアリルアニリン、4−(4’−トリフルオロメトキシベンゾイロキシ)シクロヘキシル−3,5−ジアミノベンゾエート、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−ブチルシクロヘキサン、3,5−ジアミノ安息香酸=5ξ−コレスタン−3−イル、下記式(E−1)
で表される化合物、桂皮酸構造を側鎖に有するジアミンなどの側鎖型ジアミン:(Diamine compound)
Examples of the diamine compound used for the synthesis of the polyamic acid include an aliphatic diamine, an alicyclic diamine, an aromatic diamine, and a diaminoorganosiloxane. Specific examples of these diamines include, for example, metaxylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine and the like as aliphatic diamines; for example, 1,4 as alicyclic diamines. -Diaminocyclohexane, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine), etc .;
As aromatic diamines, for example, dodecanoxy-2,4-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,4-diaminobenzene, hexadecanoxy-2,4-diaminobenzene, octadecanoxy-2,4-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,5-diamino Benzene, octadecanoxy-2,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestenyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene, cholestenyloxy-2, 4-Diaminobenzene, cholestanyl 3,5-diaminobenzoate, cholestenyl 3,5-diaminobenzoate, lanostannyl 3,5-diaminobenzoate, 3,6-bis (4-aminobenzoyloxy) cholestan, 3,6- Bis (4-aminophenoxy) cholesterol, 2,4-diamino-N, N-diallylaniline, 4- (4'-trifluoromethoxybenzoyloxy) cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate, 1,1-bis ( 4-((Aminophenyl) methyl) phenyl) -4-butylcyclohexane, 3,5-diaminobenzoic acid = 5ξ-cholestane-3-yl, the following formula (E-1)
Side chain diamines such as compounds represented by, diamines having a cinnamic acid structure in the side chain:
p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4−アミノフェニル−4−アミノベンゾエート、4,4’−ジアミノアゾベンゼン、3,5−ジアミノ安息香酸、1,5−ビス(4−アミノフェノキシ)ペンタン、1,2−ビス(4−アミノフェノキシ)エタン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)プロパン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ブタン、1,5−ビス(4−アミノフェノキシ)ペンタン、1,6−ビス(4−アミノフェノキシ)ヘキサン、1,7−ビス(4−アミノフェノキシ)ヘプタン、1,10−ビス(4−アミノフェノキシ)デカン、1,2−ビス(4−アミノフェニル)エタン、1,5−ビス(4−アミノフェニル)ペンタン、1,6−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサン、1,4−ビス(4−アミノフェニルスルファニル)ブタン、ビス[2−(4−アミノフェニル)エチル]ヘキサン二酸、N,N−ビス(4−アミノフェニル)メチルアミン、2,6−ジアミノピリジン、1,4−ビス−(4−アミノフェニル)−ピペラジン、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−ベンジジン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−(フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−[4,4’−プロパン−1,3−ジイルビス(ピペリジン−1,4−ジイル)]ジアニリン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、4,4’−ジアミノスチルベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルアミン、1,3−ビス(4−アミノフェネチル)ウレア、1,3−ビス(4−アミノベンジル)ウレア、1,4−ビス(4−アミノフェニル)−ピペラジン、N−(4−アミノフェニルエチル)−N−メチルアミン、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−N,N’−ジメチルベンジジン等の主鎖型ジアミンなどを;ジアミノオルガノシロキサンとして、例えば、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−テトラメチルジシロキサンなどを;それぞれ挙げることができるほか、特開2010−97188号公報に記載のジアミンを用いることができる。 p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 4-aminophenyl-4-aminobenzoate, 4,4'-diaminoazobenzene, 3,5-diaminobenzoic acid, 1, 5-bis (4-aminophenoxy) pentane, 1,2-bis (4-aminophenoxy) ethane, 1,3-bis (4-aminophenoxy) propane, 1,4-bis (4-aminophenoxy) butane, 1,5-bis (4-aminophenoxy) pentane, 1,6-bis (4-aminophenoxy) hexane, 1,7-bis (4-aminophenoxy) heptane, 1,10-bis (4-aminophenoxy) Decane, 1,2-bis (4-aminophenyl) ethane, 1,5-bis (4-aminophenyl) pentane, 1,6-bis (4-aminophenyl) hexane, 1,4-bis (4-amino) Phenylsulfanyl) butane, bis [2- (4-aminophenyl) ethyl] hexanedioic acid, N, N-bis (4-aminophenyl) methylamine, 2,6-diaminopyridine, 1,4-bis- (4) -Aminophenyl) -piperazin, N, N'-bis (4-aminophenyl) -benzidine, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4 , 4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4, 4'-(phenylenediisopropylidene) bisaniline, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-[4,4'-propane -1,3-diylbis (piperidin-1,4-diyl)] dianiline, 4,4'-diaminobenzanilide, 4,4'-diaminostillbenzene, 4,4'-diaminodiphenylamine, 1,3-bis ( 4-Aminophenethyl) urea, 1,3-bis (4-aminobenzyl) urea, 1,4-bis (4-aminophenyl) -piperazin, N- (4-aminophenylethyl) -N-methylamine, N , N'-bis (4-aminophenyl) -N, N'-dimethylbenzidine and other main chain diamines; as diaminoorganosiloxane, for example, 1,3-bis (3-aminopropyl) -tetramethyldi Siloxane etc .; In addition to the above, the diamine described in JP-A-2010-97188 can be used.
(ポリアミック酸の合成)
ポリアミック酸は、上記のようなテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを、必要に応じて分子量調整剤とともに反応させることにより得ることができる。ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との使用割合は、ジアミン化合物のアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2〜2当量となる割合が好ましい。分子量調整剤としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸などの酸一無水物、アニリン、シクロヘキシルアミン、n−ブチルアミンなどのモノアミン化合物、フェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネートなどのモノイソシアネート化合物等を挙げることができる。分子量調整剤の使用割合は、使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の合計100質量部に対して、20質量部以下とすることが好ましい。(Synthesis of polyamic acid)
The polyamic acid can be obtained by reacting the tetracarboxylic dianhydride as described above with a diamine compound, if necessary, with a molecular weight modifier. The ratio of the tetracarboxylic acid dianhydride used in the polyamic acid synthesis reaction to the diamine compound is 0.2 for the acid anhydride group of the tetracarboxylic acid dianhydride with respect to 1 equivalent of the amino group of the diamine compound. A ratio of about 2 equivalents is preferable. Examples of the molecular weight adjusting agent include acid monoanhydrides such as maleic anhydride, phthalic anhydride and itaconic anhydride, monoamine compounds such as aniline, cyclohexylamine and n-butylamine, and monoisocyanate compounds such as phenylisocyanate and naphthylisocyanate. Can be mentioned. The ratio of the molecular weight adjusting agent used is preferably 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass in total of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound used.
ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。このときの反応温度は−20℃〜150℃が好ましく、反応時間は0.1〜24時間が好ましい。
反応に使用する有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素などを挙げることができる。特に好ましい有機溶媒は、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド、m−クレゾール、キシレノール及びハロゲン化フェノールよりなる群から選択される1種以上を溶媒として使用するか、あるいはこれらの1種以上と、他の有機溶媒(例えばブチルセロソルブ、ジエチレングリコールジエチルエーテルなど)との混合物を使用することが好ましい。有機溶媒の使用量(a)は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計量(b)が、反応溶液の全量(a+b)に対して、0.1〜50質量%になる量とすることが好ましい。
以上のようにして、ポリアミック酸を溶解してなる反応溶液が得られる。この反応溶液はそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。The polyamic acid synthesis reaction is preferably carried out in an organic solvent. The reaction temperature at this time is preferably −20 ° C. to 150 ° C., and the reaction time is preferably 0.1 to 24 hours.
Examples of the organic solvent used in the reaction include aprotonic polar solvents, phenolic solvents, alcohols, ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons, and hydrocarbons. Particularly preferred organic solvents are N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea, hexamethylphosphortriamide, m-cresol, xylenol. And one or more selected from the group consisting of halogenated phenol can be used as a solvent, or a mixture of one or more of these with another organic solvent (for example, butyl cellosolve, diethylene glycol diethyl ether, etc.) can be used. preferable. The amount of the organic solvent used (a) shall be such that the total amount (b) of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine is 0.1 to 50% by mass with respect to the total amount (a + b) of the reaction solution. Is preferable.
As described above, a reaction solution obtained by dissolving a polyamic acid is obtained. This reaction solution may be used as it is for the preparation of the liquid crystal alignment agent, or the polyamic acid contained in the reaction solution may be isolated and then used for the preparation of the liquid crystal alignment agent.
<ポリアミック酸エステル>
重合体[P]がポリアミック酸エステルである場合、当該ポリアミック酸エステルは、例えば、[I]上記合成反応により得られたポリアミック酸とエステル化剤とを反応させる方法、[II]テトラカルボン酸ジエステルとジアミン化合物とを反応させる方法、[III]テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物とジアミン化合物とを反応させる方法、などによって得ることができる。液晶配向剤に含有させるポリアミック酸エステルは、アミック酸エステル構造のみを有していてもよく、アミック酸構造とアミック酸エステル構造とが併存する部分エステル化物であってもよい。なお、ポリアミック酸エステルを溶解してなる反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸エステルを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。<Polyamic acid ester>
When the polymer [P] is a polyamic acid ester, the polyamic acid ester is, for example, [I] a method of reacting the polyamic acid obtained by the above synthetic reaction with an esterifying agent, [II] tetracarboxylic acid diester. It can be obtained by a method of reacting with a diamine compound, a method of reacting [III] a tetracarboxylic acid diester dihalide with a diamine compound, or the like. The polyamic acid ester contained in the liquid crystal aligning agent may have only an amic acid ester structure, or may be a partial esterified product in which the amic acid structure and the amic acid ester structure coexist. The reaction solution obtained by dissolving the polyamic acid ester may be used as it is for the preparation of the liquid crystal alignment agent, or the polyamic acid ester contained in the reaction solution may be isolated and then used for the preparation of the liquid crystal alignment agent. good.
<ポリイミド>
重合体[P]がポリイミドの場合、当該ポリイミドは、例えば上記の如くして合成されたポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。ポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造とが併存する部分イミド化物であってもよい。反応に使用するポリイミドは、そのイミド化率が20〜99%であることが好ましく、30〜90%であることがより好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。ここで、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。<Polyimide>
When the polymer [P] is a polyimide, the polyimide can be obtained, for example, by dehydrating and ring-closing the polyamic acid synthesized as described above to imidize it. The polyimide may be a completely imidized product obtained by dehydrating and ring-closing all of the amic acid structure possessed by the polyamic acid that is the precursor thereof, or by dehydrating and ring-closing only a part of the amic acid structure, and the amic acid structure and the imide. It may be a partially imidized product in which a ring structure coexists. The polyimide used in the reaction preferably has an imidization ratio of 20 to 99%, more preferably 30 to 90%. This imidization ratio is expressed as a percentage of the ratio of the number of imide ring structures to the total of the number of amic acid structures and the number of imide ring structures of polyimide. Here, a part of the imide ring may be an isoimide ring.
ポリアミック酸の脱水閉環は、好ましくはポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。この方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸のアミック酸構造の1モルに対して0.01〜20モルとすることが好ましい。脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等の3級アミンを用いることができる。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤1モルに対して0.01〜10モルとすることが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは0〜180℃である。反応時間は、好ましくは1.0〜120時間である。
このようにしてポリイミドを含有する反応溶液が得られる。この反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリイミドは、ポリアミック酸エステルのイミド化により得ることもできる。The dehydration ring closure of the polyamic acid is preferably carried out by dissolving the polyamic acid in an organic solvent, adding a dehydrating agent and a dehydration ring closure catalyst to the solution, and heating as necessary. In this method, as the dehydrating agent, acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and trifluoroacetic anhydride can be used. The amount of the dehydrating agent used is preferably 0.01 to 20 mol with respect to 1 mol of the amic acid structure of the polyamic acid. As the dehydration ring closure catalyst, for example, tertiary amines such as pyridine, colidin, lutidine, and triethylamine can be used. The amount of the dehydration ring closure catalyst used is preferably 0.01 to 10 mol with respect to 1 mol of the dehydrating agent used. Examples of the organic solvent used in the dehydration ring closure reaction include organic solvents exemplified as those used in the synthesis of polyamic acids. The reaction temperature of the dehydration ring closure reaction is preferably 0 to 180 ° C. The reaction time is preferably 1.0 to 120 hours.
In this way, a reaction solution containing polyimide is obtained. This reaction solution may be used as it is for the preparation of the liquid crystal alignment agent, or the polyimide may be isolated and then used for the preparation of the liquid crystal alignment agent. Polyimide can also be obtained by imidization of polyamic acid esters.
<ポリアミド>
重合体[P]がポリアミドである場合、当該ポリアミドは、例えばジカルボン酸とジアミン化合物とを反応させる方法等によって得ることができる。ここで、ジカルボン酸は、例えば塩化チオニル等の適当な塩素化剤を用いて酸クロリド化した後にジアミン化合物との反応に供することが好ましい。<Polyamide>
When the polymer [P] is a polyamide, the polyamide can be obtained, for example, by a method of reacting a dicarboxylic acid with a diamine compound or the like. Here, it is preferable that the dicarboxylic acid is acid chlorided with an appropriate chlorinating agent such as thionyl chloride and then subjected to a reaction with a diamine compound.
ポリアミドの合成に使用するジカルボン酸は特に制限されないが、例えばシュウ酸、マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、2−メチルアジピン酸、フマル酸等の脂肪族ジカルボン酸;シクロブタンジカルボン酸、1−シクロブテンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸;フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、5−メチルイソフタル酸、2,5−ジメチルテレフタル酸、4−カルボキシ桂皮酸、3,3’−[4,4’−(メチレンジ−p−フェニレン)]ジプロピオン酸、4,4’−[4,4’−(オキシジ−p−フェニレン)]二酪酸等の芳香族ジカルボン酸;等が挙げられる。合成に使用するジアミン化合物としては、例えばポリアミック酸の説明で例示したジアミン化合物等が挙げられる。ジカルボン酸及びジアミン化合物は、それぞれ1種を単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用することができる。 The dicarboxylic acid used for the synthesis of polyamide is not particularly limited, and for example, an aliphatic dicarboxylic acid such as oxalic acid, malonic acid, dimethylmalonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, 2-methyladipic acid, and fumaric acid; cyclobutane. Alicyclic dicarboxylic acids such as dicarboxylic acid, 1-cyclobutenedicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid; phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 5-methylisophthalic acid, 2,5-dimethylterephthalic acid, 4-carboxycatephotic acid, Aromatic dicarboxylic acids such as 3,3'-[4,4'-(methylenedi-p-phenylene)] dipropionic acid, 4,4'-[4,4'-(oxydi-p-phenylene)] dibutyric acid ; Etc. can be mentioned. Examples of the diamine compound used for the synthesis include the diamine compound exemplified in the description of the polyamic acid. One type of each of the dicarboxylic acid and the diamine compound may be used alone, or two or more types may be used in combination.
ジカルボン酸とジアミン化合物との反応は、好ましくは塩基の存在下、有機溶媒中において行われる。このとき、ジカルボン酸とジアミン化合物との使用割合は、ジアミン化合物のアミノ基1当量に対して、ジカルボン酸のカルボキシル基が0.2〜2当量となる割合が好ましい。反応温度は0℃〜200℃とすることが好ましく、反応時間は0.5〜48時間とすることが好ましい。有機溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン等を好ましく使用することができる。塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、N−エチル−N,N−ジイソプロピルアミン等の3級アミンを好ましく使用することができる。塩基の使用割合は、ジアミン化合物1モルに対して2〜4モルとすることが好ましい。上記反応により得られる溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミドを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。 The reaction of the dicarboxylic acid with the diamine compound is preferably carried out in the presence of a base in an organic solvent. At this time, the ratio of the dicarboxylic acid to the diamine compound is preferably 0.2 to 2 equivalents of the carboxyl group of the dicarboxylic acid with respect to 1 equivalent of the amino group of the diamine compound. The reaction temperature is preferably 0 ° C. to 200 ° C., and the reaction time is preferably 0.5 to 48 hours. As the organic solvent, for example, tetrahydrofuran, dioxane, toluene, chloroform, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone and the like can be preferably used. As the base, for example, tertiary amines such as pyridine, triethylamine, N-ethyl-N, and N-diisopropylamine can be preferably used. The ratio of the base used is preferably 2 to 4 mol with respect to 1 mol of the diamine compound. The solution obtained by the above reaction may be used as it is for the preparation of the liquid crystal alignment agent, or the polyamide contained in the reaction solution may be isolated and then used for the preparation of the liquid crystal alignment agent.
<重合性不飽和結合を有するモノマーに由来する構造単位を有する重合体>
重合体[P]が、重合性不飽和結合を有するモノマーに由来する構造単位を有する重合体(以下、「重合体(Q)」ともいう。)である場合、重合性不飽和結合を有するモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、マレイミド基等を有する化合物が挙げられる。こうした化合物の具体例としては、例えば、(メタ)アクリル酸、α−エチルアクリル酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル安息香酸等の不飽和カルボン酸:(メタ)アクリル酸アルキル(メタ)アクリル酸シクロアルキル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸トリメトキシシリルプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシルメチル、(メタ)アクリル酸3,4−エポキシブチル、アクリル酸4−ヒドロキシブチルグリシジルエーテル等の不飽和カルボン酸エステル:無水マレイン酸等の不飽和多価カルボン酸無水物:などの(メタ)アクリル系化合物;スチレン、メチルスチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族ビニル化合物;1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン等の共役ジエン化合物;N−メチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド等のマレイミド基含有化合物;などが挙げられる。なお、重合性不飽和結合を有するモノマーは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。<Polymer having a structural unit derived from a monomer having a polymerizable unsaturated bond>
When the polymer [P] is a polymer having a structural unit derived from a monomer having a polymerizable unsaturated bond (hereinafter, also referred to as “polymer (Q)”), the monomer having a polymerizable unsaturated bond. Examples thereof include compounds having a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, a maleimide group and the like. Specific examples of such compounds include unsaturated carboxylic acids such as (meth) acrylic acid, α-ethylacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, and vinyl benzoic acid: alkyl (meth) acrylic acid (meth) cycloacrylate. Alkyl, benzyl (meth) acrylate, -2-ethylhexyl (meth) acrylate, trimethoxysilylpropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic Unsaturated carboxylic acid esters such as acid 3,4-epoxycyclohexylmethyl, (meth) acrylic acid 3,4-epoxybutyl, and acrylic acid 4-hydroxybutylglycidyl ether: unsaturated polyvalent carboxylic acid anhydrides such as maleic anhydride. : Etc. (meth) acrylic compounds; aromatic vinyl compounds such as styrene, methylstyrene, divinylbenzene; conjugated diene compounds such as 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene; N-methylmaleimide, Maleimide group-containing compounds such as N-cyclohexylmaleimide and N-phenylmaleimide; and the like. As the monomer having a polymerizable unsaturated bond, one type can be used alone or two or more types can be used in combination.
重合体(Q)は、例えば重合性不飽和結合を有するモノマーを重合開始剤の存在下で重合することにより得ることができる。使用する重合開始剤としては、例えば2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物が好ましい。重合開始剤の使用割合は、反応に使用する全モノマー100質量部に対して、0.01〜30質量部とすることが好ましい。上記重合反応は、好ましくは有機溶媒中で行われる。反応に使用する有機溶媒としては、例えばアルコール、エーテル、ケトン、アミド、エステル、炭化水素化合物などが挙げられ、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが好ましい。反応温度は30℃〜120℃とすることが好ましく、反応時間は、1〜36時間とすることが好ましい。有機溶媒の使用量(a)は、反応に使用するモノマーの合計量(b)が、反応溶液の全体量(a+b)に対して、0.1〜60質量%になるような量にすることが好ましい。上記反応により得られる重合体溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれる重合体[Q]を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。 The polymer (Q) can be obtained, for example, by polymerizing a monomer having a polymerizable unsaturated bond in the presence of a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator used include 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), and 2,2'-azobis (4-methoxy-2). , 4-Dimethylvaleronitrile) and other azo compounds are preferred. The ratio of the polymerization initiator used is preferably 0.01 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of all the monomers used in the reaction. The polymerization reaction is preferably carried out in an organic solvent. Examples of the organic solvent used in the reaction include alcohols, ethers, ketones, amides, esters, hydrocarbon compounds and the like, and diethylene glycol ethyl methyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like are preferable. The reaction temperature is preferably 30 ° C. to 120 ° C., and the reaction time is preferably 1 to 36 hours. The amount (a) of the organic solvent used should be such that the total amount (b) of the monomers used in the reaction is 0.1 to 60% by mass with respect to the total amount (a + b) of the reaction solution. Is preferable. The polymer solution obtained by the above reaction may be used as it is for the preparation of the liquid crystal alignment agent, or the polymer [Q] contained in the reaction solution may be isolated and then used for the preparation of the liquid crystal alignment agent.
重合体[P]の溶液粘度は、濃度10質量%の溶液としたときに10〜800mPa・sの溶液粘度を持つものであることが好ましく、15〜500mPa・sの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。なお、溶液粘度(mPa・s)は、重合体(A)の良溶媒(例えばγ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン等)を用いて調製した濃度10質量%の重合体溶液につき、E型回転粘度計を用いて25℃において測定した値である。
重合体[P]のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは1,000〜500,000であり、より好ましくは2,000〜300,000である。Mwと、GPCにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)との比で表される分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは7以下であり、より好ましくは5以下である。なお、液晶配向剤に含有させる重合体[P]は、1種のみでもよく、又は2種以上を組み合わせてもよい。The solution viscosity of the polymer [P] preferably has a solution viscosity of 10 to 800 mPa · s when made into a solution having a concentration of 10% by mass, and has a solution viscosity of 15 to 500 mPa · s. Is more preferable. The solution viscosity (mPa · s) is E for a polymer solution having a concentration of 10% by mass prepared using a good solvent of the polymer (A) (for example, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, etc.). It is a value measured at 25 ° C. using a mold rotary viscosity meter.
The polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) of the polymer [P] measured by gel permeation chromatography (GPC) is preferably 1,000 to 500,000, more preferably 2,000 to 300,000. Is. The molecular weight distribution (Mw / Mn) represented by the ratio of Mw to the polystyrene-equivalent number average molecular weight (Mn) measured by GPC is preferably 7 or less, more preferably 5 or less. The polymer [P] contained in the liquid crystal alignment agent may be only one type or a combination of two or more types.
重合体[P]の含有割合(2種以上含有する場合にはその合計量)は、得られる液晶素子の品質をより良好にする観点から、液晶配向剤に含有される重合体成分の全量に対して、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましく、80質量%超であることがさらに好ましい。 The content ratio of the polymer [P] (the total amount when two or more types are contained) is the total amount of the polymer components contained in the liquid crystal aligning agent from the viewpoint of improving the quality of the obtained liquid crystal element. On the other hand, it is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and further preferably more than 80% by mass.
≪溶剤成分≫
本開示の液晶配向剤は、下記の化合物[A]を含有する。
[A]カルボニル基を有する1価の基が酸素含有複素環の環部分に結合した化合物[A1]、及び、ケトン性カルボニル基及びオキシ有機基を有する化合物[A2]よりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物。
化合物[A]によれば、上記構造を有することにより、重合体成分の溶剤に対する溶解性を改善でき、微細な凹凸形状の電極構造を有する基板表面に対する液晶配向剤の塗布性(印刷性)を改善することができる。また、化合物[A]を用いることによって、液晶配向剤の溶剤成分の沸点を適度な高さに調整することができ、膜形成時の加熱に際し温度ムラの影響を受けにくい。さらに、シール剤周辺の表示ムラの抑制効果を得ることができる点において好適である。≪Solvent component≫
The liquid crystal alignment agent of the present disclosure contains the following compound [A].
[A] At least selected from the group consisting of a compound [A1] in which a monovalent group having a carbonyl group is bonded to the ring portion of an oxygen-containing heterocycle, and a compound [A2] having a ketone carbonyl group and an oxyorganic group. A kind of compound.
According to the compound [A], by having the above structure, the solubility of the polymer component in the solvent can be improved, and the coating property (printability) of the liquid crystal aligning agent on the surface of the substrate having the electrode structure having a fine uneven shape can be improved. Can be improved. Further, by using the compound [A], the boiling point of the solvent component of the liquid crystal alignment agent can be adjusted to an appropriate height, and it is not easily affected by temperature unevenness during heating at the time of film formation. Further, it is preferable in that the effect of suppressing display unevenness around the sealant can be obtained.
<化合物[A1]>
化合物[A1]が有する酸素含有複素環は、5〜7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがより好ましい。酸素含有複素環の環部分を構成する炭素数は、3〜6であることが好ましく、3〜5であることがより好ましい。
酸素含有複素環は、環内に含まれるヘテロ原子として酸素原子のみを有していてもよいし、酸素原子以外のその他の原子(例えば、硫黄原子、窒素原子等)を有していてもよい。塗布性及びベゼルムラ耐性の改善効果を好適に得ることができる点で、環内のヘテロ原子は酸素原子のみであることが好ましい。
環内の酸素原子の数は、1又は2個であることが好ましい。また、酸素含有複素環は、飽和及び不飽和のいずれでもよい。塗布性、連続印刷性、ポストベーク時の温度ムラ耐性、及びベゼルムラ耐性の性能をバランス良く発現することができる点で、化合物[A1]が有する酸素含有複素環は、環内に炭素−炭素不飽和結合を有さない複素環であることが好ましい。<Compound [A1]>
The oxygen-containing heterocycle contained in the compound [A1] is preferably a 5- to 7-membered ring, and more preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. The number of carbon atoms constituting the ring portion of the oxygen-containing heterocycle is preferably 3 to 6, and more preferably 3 to 5.
The oxygen-containing heterocycle may have only an oxygen atom as a heteroatom contained in the ring, or may have other atoms other than the oxygen atom (for example, sulfur atom, nitrogen atom, etc.). .. It is preferable that the hetero atom in the ring is only an oxygen atom in that the effect of improving the coatability and the resistance to bezel unevenness can be preferably obtained.
The number of oxygen atoms in the ring is preferably 1 or 2. Further, the oxygen-containing heterocycle may be saturated or unsaturated. The oxygen-containing heterocycle of compound [A1] has no carbon-carbon in the ring in that it can exhibit the performance of coatability, continuous printability, temperature unevenness resistance during post-baking, and bezel unevenness resistance in a well-balanced manner. It is preferably a heterocycle having no saturated bond.
化合物[A1]が有する酸素含有複素環の具体例としては、例えば、オキシラン、オキセタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ヘキサメチレンオキシド、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、モルホリン、1,3−ジオキソラン、γ−ブチロラクトン、δ-バレロラクトン、フラン、2,3−ジヒドロフラン、2,5−ジヒドロフラン、オキセピン、オキサゾール、ピラン、5,6−ジヒドロピラン、3,4−ジヒドロピラン、1,3−ジオキソール、2−フラノン、3−フラノン、1,3−オキサチオラン、1,3−オキサチオラン−2−オン等が挙げられる。これらのうち、好ましくは、フラン、2,3−ジヒドロフラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,3−ジオキソラン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、γ−ブチロラクトン、5,6−ジヒドロピラン又は3,4−ジヒドロピランであり、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン又はテトラヒドロピランであることが特に好ましい。 Specific examples of the oxygen-containing heterocycle contained in compound [A1] include, for example, oxylan, oxetane, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, hexamethylene oxide, 1,3-dioxane, 1,4-dioxane, morpholin, 1,3-dioxoran. , Γ-Butylollactone, δ-Valerolactone, furan, 2,3-dihydrofuran, 2,5-dihydrofuran, oxepine, oxazole, pyran, 5,6-dihydropyran, 3,4-dihydropyran, 1,3- Examples thereof include dioxol, 2-furanone, 3-furanone, 1,3-oxathiolane and 1,3-oxathiolan-2-one. Of these, preferred are furan, 2,3-dihydrofuran, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,3-dioxolane, 1,3-dioxane, 1,4-dioxane, γ-butyrolactone, 5,6-dihydropyran or It is 3,4-dihydropyran, particularly preferably tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane or tetrahydropyran.
化合物[A1]が有する、カルボニル基を有する1価の基(以下、「カルボニル含有基T」ともいう。)は、好ましくは、カルボキシル基、アミド基(−CO−NH2)又は炭素数1〜6の1価の有機基である。なお、本明細書において「有機基」とは、炭化水素基を有する基を意味する。酸素含有複素環の環部分には、カルボニル含有基T以外の置換基(以下、「置換基U」ともいう。)がさらに導入されていてもよい。置換基Uとしては、例えば炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基等が挙げられ、メチル基又はエチル基が好ましい。置換基Uの数は、酸素含有複素環の環員数に応じて適宜設定されるが、0〜3個であることが好ましく、0〜2個であることがより好ましい。The monovalent group having a carbonyl group (hereinafter, also referred to as “carbonyl-containing group T”) contained in the compound [A1] is preferably a carboxyl group, an amide group (-CO-NH 2 ) or 1 to 1 carbon atoms. It is a monovalent organic group of 6. In addition, in this specification, an "organic group" means a group having a hydrocarbon group. Substituents other than the carbonyl-containing group T (hereinafter, also referred to as "substituent U") may be further introduced into the ring portion of the oxygen-containing heterocycle. Examples of the substituent U include an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and a methyl group or an ethyl group is preferable. The number of substituents U is appropriately set according to the number of ring members of the oxygen-containing heterocycle, but is preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2.
化合物[A1]は、これらのうち、下記式(1)で表される化合物であることが好ましい。
式(1)において、A1(酸素含有複素環基)が有する酸素含有複素環の具体例及び好ましい例については上記の説明が適用される。A1は、環部分に、「−R2−(O−R3)a−(O)b−COR1」とは異なる置換基をさらに有していてもよい。
R1のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、置換アルキル基、置換アルコキシ基、置換アルケニル基、及び置換アルケニルオキシ基の炭化水素部分は、直鎖状及び分岐状のいずれでもよい。R1の具体例としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、3−メチルブチル基、1−メチルブチル基、1−エチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ビニル基、1−プロぺニル基、アリル基、イソプロぺニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、及びこれらの基の炭素原子に結合する水素原子が水酸基、シアノ基又はアルコキシ基で置換された基等が挙げられる。
R2及びR3のアルカンジイル基、アルケンジイル基は、直鎖状及び分岐状のいずれでもよいが、直鎖状であることが好ましい。
aは0又は1であることが好ましい。
A1を除いた残りの部分(−R2−(O−R3)a−(O)b−CO−R1)、すなわちカルボニル含有基Tの炭素数は、塗布性及び長期印刷性の改善効果がより高い点で、1〜6であることが好ましく、1〜4であることがより好ましく、2〜4であることがさらに好ましい。In the formula (1), the above description is applied to specific examples and preferable examples of the oxygen-containing heterocycle contained in A 1 (oxygen-containing heterocyclic group). A 1 may further have a substituent on the ring portion different from that of "-R 2- (OR 3 ) a- (O) b- COR 1".
The hydrocarbon moiety of the alkyl group, alkoxy group, alkenyl group, substituted alkyl group, substituted alkoxy group, substituted alkenyl group, and substituted alkenyloxy group of R 1 may be linear or branched. Specific examples of R 1 include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and 3-methylbutyl group. , 1-Methylbutyl group, 1-ethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, pentoxy group, vinyl group, 1-propenyl group, allyl Examples thereof include a group, an isopropenyl group, a 1-butenyl group, a 2-butenyl group, and a group in which a hydrogen atom bonded to a carbon atom of these groups is substituted with a hydroxyl group, a cyano group or an alkoxy group.
The alkanediyl group and the arcendyl group of R 2 and R 3 may be linear or branched, but are preferably linear.
a is preferably 0 or 1.
The remaining portion except A 1 (-R 2- (OR 3 ) a- (O) b- CO-R 1 ), that is, the carbon number of the carbonyl-containing group T improves coatability and long-term printability. In terms of higher effect, it is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, and even more preferably 2 to 4.
化合物[A1]は、好ましくは下記式(1−A)で表される化合物である。
式(1−A)において、X1は、好ましくは単結合、酸素原子又は炭素数1〜3のアルカンジイル基である。R5は、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基又はアルケニルオキシ基であることが好ましく、アルキル基又はアルコキシ基であることがより好ましい。
A1を除いた残りの部分(−X1−CO−R5)の炭素数は、2〜6であることが好ましく、2〜4であることがより好ましい。In formula (1-A), X 1 is preferably a single bond, an oxygen atom or an alkanediyl group having 1-3 carbon atoms. R 5 is preferably an alkyl group, an alkoxy group, an alkenyl group or an alkenyloxy group, and more preferably an alkyl group or an alkoxy group.
The carbon number of the remaining portion (-X 1- CO-R 5 ) excluding A 1 is preferably 2 to 6, and more preferably 2 to 4.
<化合物[A2]>
化合物[A2]が有する「ケトン性カルボニル基」とは、カルボニル基(−C(=O)−)のうち、カルボニル基を構成する炭素原子に2個の炭素原子が結合しているものをいう。「オキシ有機基」とは、「−O−有機基」で表される基をいう。オキシ有機基の炭素数は、20以下であることが好ましく、15以下であることがより好ましく、10以下であることがさらに好ましく、1〜6であることが特に好ましい。<Compound [A2]>
The "ketonic carbonyl group" contained in the compound [A2] refers to a carbonyl group (-C (= O)-) in which two carbon atoms are bonded to a carbon atom constituting the carbonyl group. .. The "oxyorganic group" means a group represented by "-O-organic group". The carbon number of the oxyorganic group is preferably 20 or less, more preferably 15 or less, further preferably 10 or less, and particularly preferably 1 to 6.
オキシ有機基において、炭素数1〜20の有機基としては、例えば炭素数1〜20の1価の炭化水素基、当該炭化水素基の炭素−炭素結合間に2価のヘテロ原子含有基を含む基、上記炭化水素基及び2価のヘテロ原子含有基を含む基が有する水素原子の一部又は全部を1価のヘテロ原子含有基で置換した基等が挙げられる。
炭素数1〜20の1価の炭化水素基としては、例えば炭素数1〜20の1価の鎖状炭化水素基、炭素数3〜20の1価の脂環式炭化水素基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。これらの具体例としては、炭素数1〜20の1価の鎖状炭化水素基として、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基等のアルキル基;エテニル基、プロペニル基、ブテニル基等のアルケニル基;エチニル基、プロピニル基、ブチニル基等のアルキニル基などが挙げられる。In the oxyorganic group, the organic group having 1 to 20 carbon atoms includes, for example, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and a divalent heteroatom-containing group between the carbon-carbon bonds of the hydrocarbon group. Examples thereof include a group in which a part or all of the hydrogen atoms of the group containing the above-mentioned hydrocarbon group and divalent heteroatom-containing group are replaced with a monovalent heteroatom-containing group.
Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include a monovalent chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, and 6 carbon atoms. Examples thereof include monovalent aromatic hydrocarbon groups of ~ 20. Specific examples of these include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group and i-propyl group as monovalent chain hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms; ethenyl group, propenyl group, etc. Alkenyl groups such as butenyl groups; alkynyl groups such as ethynyl groups, propynyl groups, butynyl groups and the like can be mentioned.
また、炭素数3〜20の1価の脂環式炭化水素基としては、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等の単環の脂環式飽和炭化水素基;シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の単環の脂環式不飽和炭化水素基;ノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基等の多環の脂環式飽和炭化水素基;ノルボルネニル基、トリシクロデセニル基等の多環の脂環式不飽和炭化水素基などが挙げられる。
炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、アントリルメチル基等のアラルキル基などが挙げられる。
1価及び2価のヘテロ原子含有基を構成するヘテロ原子としては、例えば酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、ケイ素原子、ハロゲン原子等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
2価のヘテロ原子含有基としては、例えば−O−、−CO−、−S−、−CS−、−NR’−、これらのうちの2つ以上を組み合わせた基等が挙げられる。R’は、水素原子又は1価の炭化水素基である。Examples of the monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms include a monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon group such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group; and a monocyclic ring such as a cyclopentenyl group and a cyclohexenyl group. Alicyclic unsaturated hydrocarbon group; polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group such as norbornyl group, adamantyl group, tricyclodecyl group; polycyclic alicyclic such as norbornenyl group and tricyclodecenyl group Examples include unsaturated hydrocarbon groups.
Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms include an aryl group such as a phenyl group, a tolyl group, a xsilyl group, a naphthyl group and an anthryl group; a benzyl group, a phenethyl group, a naphthylmethyl group and an anthrylmethyl group. Examples include an aralkyl group such as a group.
Examples of the hetero atom constituting the monovalent and divalent hetero atom-containing groups include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a phosphorus atom, a silicon atom, a halogen atom and the like. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the divalent heteroatom-containing group include -O-, -CO-, -S-, -CS-, -NR'-, a group in which two or more of these are combined, and the like. R'is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group.
炭素数1〜20の1価のオキシ有機基は、上記のうち、炭素数1〜20のオキシ炭化水素基が好ましく、炭素数1〜20のアルコキシ基がより好ましく、炭素数1〜6のアルコキシ基がさらに好ましく、炭素数1〜3のアルコキシ基が特に好ましい。 Of the above, the monovalent oxyorganic group having 1 to 20 carbon atoms is preferably an oxyhydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. A group is more preferable, and an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms is particularly preferable.
化合物[A2]が有するケトン性カルボニル基の数は、1〜5個であることが好ましく、1〜3個であることがより好ましく、1又は2個であることがさらに好ましく、1個であることが特に好ましい。また、化合物[A2]が有するオキシ有機基の数は、1〜10個であることが好ましく、1〜6個であることがより好ましく、2〜4個であることがさらに好ましく、2個であることが特に好ましい。 The number of ketonic carbonyl groups contained in the compound [A2] is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1 or 2. Is particularly preferred. The number of oxyorganic groups contained in the compound [A2] is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, further preferably 2 to 4, and 2 It is particularly preferable to have.
化合物[A2]において、ケトン性カルボニル基とオキシ有機基とは、例えば炭素数1〜20の炭素原子鎖を介して一分子内に存在するものとすることができる。上記炭素原子鎖の炭素数は、1〜10であることが好ましく、1〜3であることがより好ましく、1又は2であることがさらに好ましく、1であることが特に好ましい。化合物[A2]の好ましい具体例としては、下記式(3)で表される化合物が挙げられる。
R6〜R11で表される炭素数1〜20の1価の有機基の具体例としては、例えば化合物[A2]が有するオキシ有機基における有機基として例示した基等が挙げられる。
R6及びR8は、水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基が好ましく、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基がより好ましく、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基がさらに好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
R7及びR9としては、水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基が好ましく、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基がより好ましく、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基がさらに好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
R10及びR11としては、炭素数1〜10の1価の炭化水素基が好ましく、炭素数1〜6のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜3のアルキル基がさらに好ましい。Specific examples of the monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 6 to R 11 include a group exemplified as an organic group in the oxy organic group possessed by the compound [A2].
R 6 and R 8 are preferably a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkyl having a hydrogen atom or 1 to 3 carbon atoms. Groups are more preferred, and hydrogen atoms or methyl groups are particularly preferred.
As R 7 and R 9 , a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable. Alkyl groups are more preferred, and hydrogen atoms or methyl groups are particularly preferred.
As R 10 and R 11 , a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is further preferable.
化合物[A]は、液晶配向剤の溶剤として使用した場合に本開示の効果を十分に得る観点から、1気圧での融点が25℃以下であって且つ沸点が150℃以上であることが好ましい。化合物[A]の1気圧での沸点は、好ましくは160℃以上であり、より好ましくは165〜250℃であり、さらに好ましくは170〜245℃である。また、化合物[A]の1気圧での融点は、好ましくは、20℃以下であり、より好ましくは10℃以下である。 The compound [A] preferably has a melting point of 25 ° C. or lower and a boiling point of 150 ° C. or higher at 1 atm from the viewpoint of sufficiently obtaining the effects of the present disclosure when used as a solvent for a liquid crystal alignment agent. .. The boiling point of compound [A] at 1 atm is preferably 160 ° C. or higher, more preferably 165 to 250 ° C., and even more preferably 170 to 245 ° C. The melting point of compound [A] at 1 atm is preferably 20 ° C. or lower, more preferably 10 ° C. or lower.
化合物[A]の具体例としては、例えば下記式(1−1)〜式(1−122)のそれぞれで表される化合物等を挙げることができる。なお、化合物[A]としては、1種を単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。下記式中、「Ac」はアセチル基(−COCH3)を表す。
<溶剤[B]>
溶剤成分は、濡れ広がり性がより良好な液晶配向剤とすることができる点で、化合物[A]と共に、アルコール系溶剤、鎖状エステル系溶剤、エーテル系溶剤、及びケトン系溶剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種であって化合物[A]とは異なる溶剤(以下、「溶剤[B]」ともいう。)を更に含むことが好ましい。<Solvent [B]>
The solvent component is composed of an alcohol-based solvent, a chain ester-based solvent, an ether-based solvent, and a ketone-based solvent together with the compound [A] in that a liquid crystal aligning agent having better wet spreadability can be obtained. It is preferable to further contain a solvent (hereinafter, also referred to as “solvent [B]”) which is at least one selected and is different from the compound [A].
溶剤[B]の具体例としては、アルコール系溶剤として、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、トリエチレングリコール、ダイアセトンアルコール、3−メトキシ−1−ブタノール、3−メトキシ−3−メチルブタノール、ベンジルアルコール等を;
鎖状エステル系溶剤として、例えば乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート等を;
エーテル系溶剤として、例えばジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコール−i−プロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、テトラヒドロフラン、ジイソペンチルエーテル等を;
ケトン系溶剤として、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロペンタノン、3−メチルシクロヘキサノン、4−メチルシクロヘキサノン、ジイソブチルケトン等を、それぞれ挙げることができる。Specific examples of the solvent [B] include, as alcohol-based solvents, for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, triethylene glycol, diacetone alcohol, 3 −methoxy-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, benzyl alcohol, etc.;
Examples of the chain ester solvent include ethyl lactate, butyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, diethyl oxalate, diethyl malonate, isoamyl propionate, and the like. Isoamyl isobutyrate, etc.;
Examples of ether-based solvents include diethyl ether, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol-i-propyl ether, ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, and ethylene glycol ethyl. Ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) ), Diethyl, diisopentyl ether, etc .;
Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cycloheptanone, cyclopentanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, diisobutyl ketone and the like.
溶剤[B]としては、塗布性の改善効果がより高い点で、上記のうち、アルコール系溶剤、鎖状エステル系溶剤、及びエーテル系溶剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましく、アルコール系溶剤及びエーテル系溶剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種であることがより好ましく、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、ダイアセトンアルコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、及び3−メトキシ−1−ブタノールよりなる群から選ばれる一種であることがさらに好ましい。なお、溶剤[B]としては、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 The solvent [B] is preferably at least one selected from the group consisting of alcohol-based solvents, chain ester-based solvents, and ether-based solvents, because it has a higher effect of improving coatability. It is more preferable that it is at least one selected from the group consisting of alcohol-based solvents and ether-based solvents, and it is more preferably ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve), diacetone alcohol, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, propylene glycol monomethyl ether. , Propylene glycol monomethyl ether acetate, and 3-methoxy-1-butanol are more preferably one selected from the group. As the solvent [B], one type can be used alone or two or more types can be used in combination.
<溶剤[C]>
溶剤成分は、溶剤成分に対する重合体の溶解性を担保し、塗布工程における重合体の析出に伴う製品歩留まり低下を抑制することを目的として、化合物[A]と共に、1気圧における沸点が200℃以上であって化合物[A]とは異なる溶剤(以下、「溶剤[C]」ともいう。)を更に含むことが好ましい。<Solvent [C]>
The solvent component, together with compound [A], has a boiling point of 200 ° C. or higher at 1 atm for the purpose of ensuring the solubility of the polymer in the solvent component and suppressing the decrease in product yield due to the precipitation of the polymer in the coating step. However, it is preferable that a solvent different from that of the compound [A] (hereinafter, also referred to as “solvent [C]”) is further contained.
溶剤[C]は、非プロトン性極性溶媒及びフェノール類よりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましく、非プロトン性極性溶媒であることがより好ましい。具体的には、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ガンマブチロラクトン、プロピレンカーボネート及び下記式(2)で表される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが特に好ましい。
(式(2)で表される化合物)
上記式(2)において、R21及びR22の炭素数1〜6の1価の炭化水素基としては、例えば炭素数1〜6の鎖状炭化水素基、炭素数3〜6の脂環式炭化水素基、炭素数5又は6の芳香族炭化水素基などが挙げられる。また、当該炭化水素基の炭素−炭素結合間に「−O−」を有する1価の基としては、例えば炭素数2〜6のアルコキシアルキル基等が挙げられる。
R21及びR22は、互いに結合することにより、R21及びR22が結合する窒素原子と共に環を形成してもよい。R21,R22が互いに結合して形成される環としては、例えばピロリジン環、ピペリジン環等を挙げることができ、これらの環にはメチル基等の1価の鎖状炭化水素基が結合されていてもよい。
R21及びR22は、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基であり、更に好ましくは水素原子又はメチル基である。
R23の炭素数1〜4のアルキル基は、直鎖状でも分岐状でもよい。R23は、好ましくはメチル基又はエチル基である。(Compound represented by formula (2))
In the above formula (2), the monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms of R 21 and R 22 is, for example, a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and an alicyclic group having 3 to 6 carbon atoms. Examples include hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups having 5 or 6 carbon atoms. Further, examples of the monovalent group having "-O-" between the carbon-carbon bonds of the hydrocarbon group include an alkoxyalkyl group having 2 to 6 carbon atoms.
R 21 and R 22 may form a ring together with the nitrogen atom to which R 21 and R 22 are bonded by bonding to each other. Examples of the ring formed by bonding R 21 and R 22 to each other include a pyrrolidine ring and a piperidine ring, and a monovalent chain hydrocarbon group such as a methyl group is bonded to these rings. May be.
R 21 and R 22 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group. ..
The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms of R 23 may be linear or branched. R 23 is preferably a methyl group or an ethyl group.
上記式(2)で表される化合物の具体例としては、例えば3−ブトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド、3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド、3−ヘキシルオキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド、イソプロポキシ−N−イソプロピル−プロピオンアミド、n−ブトキシ−N−イソプロピル−プロピオンアミドなどが挙げられる。なお、溶剤[C]としては、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 Specific examples of the compound represented by the above formula (2) include 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-hexyloxy-N, N-. Examples thereof include dimethylpropanamide, isopropoxy-N-isopropyl-propionamide, n-butoxy-N-isopropyl-propionamide and the like. As the solvent [C], one type can be used alone or two or more types can be used in combination.
溶剤成分のうち、化合物[A]の含有割合は、液晶配向剤に含有される溶剤成分の全量に対して、10質量%以上とすることが好ましい。10質量%未満とした場合、液晶配向剤の塗布性の改善効果を十分に得られにくい傾向がある。重合体成分の溶解性と液晶配向剤の濡れ広がり性とのバランスをより良好にできる点で、化合物[A]の含有割合は、より好ましくは15質量%以上であり、さらに好ましくは20質量%以上である。また、化合物[A]の含有割合は、85質量%以下であることが好ましく、75質量%以下であることがより好ましく、70質量%以下であることが特に好ましい。 The content ratio of the compound [A] among the solvent components is preferably 10% by mass or more with respect to the total amount of the solvent components contained in the liquid crystal alignment agent. When it is less than 10% by mass, it tends to be difficult to sufficiently obtain the effect of improving the coatability of the liquid crystal alignment agent. The content ratio of the compound [A] is more preferably 15% by mass or more, still more preferably 20% by mass, in that the balance between the solubility of the polymer component and the wettability of the liquid crystal alignment agent can be improved. That is all. The content of the compound [A] is preferably 85% by mass or less, more preferably 75% by mass or less, and particularly preferably 70% by mass or less.
溶剤[B]の含有割合は、液晶配向剤の濡れ広がり性をより高くできる点で、液晶配向剤に含有される溶剤成分の全量に対して、10質量%以上とすることが好ましく、15質量%以上とすることがより好ましく、20質量%以上とすることがさらに好ましい。また、溶剤[B]の含有割合は、液晶配向剤に含有される溶剤成分の全量に対して、90質量%以下であることが好ましく、80質量%以下であることがより好ましく、70質量%以下であることがさらに好ましく、50質量以下であることが特に好ましい。 The content ratio of the solvent [B] is preferably 10% by mass or more, preferably 15% by mass, based on the total amount of the solvent components contained in the liquid crystal alignment agent, in that the wet spreadability of the liquid crystal alignment agent can be further increased. % Or more, more preferably 20% by mass or more. The content ratio of the solvent [B] is preferably 90% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, and 70% by mass, based on the total amount of the solvent components contained in the liquid crystal alignment agent. It is more preferably less than or equal to, and particularly preferably 50 or less by mass.
溶剤[C]の含有割合は、膜形成時の加熱温度をより低温で行うことができる点で、70質量%以下とすることが好ましい。当該含有割合は、より好ましくは65質量%以下であり、さらに好ましくは60質量%以下である。また、重合体成分の溶剤に対する溶解性を担保する観点から、溶剤[C]の含有割合は、液晶配向剤に含有される溶剤成分の全量に対して、1質量%以上とすることが好ましく、5質量%以上とすることがより好ましく、10質量%以上とすることがさらに好ましい。 The content ratio of the solvent [C] is preferably 70% by mass or less in that the heating temperature at the time of film formation can be lowered. The content ratio is more preferably 65% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less. Further, from the viewpoint of ensuring the solubility of the polymer component in the solvent, the content ratio of the solvent [C] is preferably 1% by mass or more with respect to the total amount of the solvent component contained in the liquid crystal aligning agent. It is more preferably 5% by mass or more, and further preferably 10% by mass or more.
液晶配向剤は、溶剤成分として化合物[A]のみを含んでいてもよいが、溶剤成分が、化合物[A]と溶剤[B]とからなるか、又は化合物[A]と溶剤[B]と溶剤[C]とからなることが特に好ましい。ただし、本明細書において「溶剤成分が、化合物[A]と溶剤[B]とからなる」及び「溶剤成分が、化合物[A]と溶剤[B]と溶剤[C]とからなる」とは、化合物[A]、溶剤[B]及び溶剤[C]以外のその他の溶剤を、本発明の効果の妨げにならない程度に含有することは許容される。
その他の溶剤としては、例えばハロゲン化炭化水素系溶剤、炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらの具体例としては、ハロゲン化炭化水素系溶剤として、例えばジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,4−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロルベンゼン等を;炭化水素系溶剤として、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等を、それぞれ挙げることができる。その他の溶剤の含有割合は、液晶配向剤に含有される溶剤成分の全量に対して、1質量%以下とすることが好ましく、0.5質量%以下とすることがより好ましく、0.2質量%以下とすることがさらに好ましい。The liquid crystal alignment agent may contain only the compound [A] as the solvent component, but the solvent component is composed of the compound [A] and the solvent [B], or the solvent [A] and the solvent [B]. It is particularly preferably composed of the solvent [C]. However, in the present specification, "the solvent component is composed of the compound [A] and the solvent [B]" and "the solvent component is composed of the compound [A], the solvent [B] and the solvent [C]". , Compound [A], solvent [B] and other solvents other than solvent [C] are allowed to be contained to the extent that they do not interfere with the effects of the present invention.
Examples of other solvents include halogenated hydrocarbon solvents and hydrocarbon solvents. Specific examples of these include dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,4-dichlorobutane, trichloroethane, chlorobenzene and the like as hydrocarbon-based solvents; hexane, heptane, octane and the like as hydrocarbon solvents. , Benzene, toluene, xylene and the like, respectively. The content ratio of the other solvent is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, and 0.2% by mass, based on the total amount of the solvent components contained in the liquid crystal alignment agent. It is more preferably% or less.
≪その他の成分≫
液晶配向剤は、重合体成分及び溶剤成分を含有するが、必要に応じてその他の成分を含有していてもよい。かかるその他の成分としては、例えば、エポキシ基含有化合物(例えば、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン等)、官能性シラン化合物(例えば、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等)、酸化防止剤、金属キレート化合物、硬化触媒、硬化促進剤、界面活性剤、充填剤、分散剤、光増感剤等が挙げられる。その他の成分の配合割合は、本発明の効果を損なわない範囲で、各化合物に応じて適宜選択することができる。≪Other ingredients≫
The liquid crystal alignment agent contains a polymer component and a solvent component, but may contain other components if necessary. Such other components include, for example, epoxy group-containing compounds (eg, N, N, N', N'-tetraglycidyl-m-xylene diamine, N, N, N', N'-tetraglycidyl-4,4. '-Diaminodiphenylmethane, etc.), functional silane compounds (eg, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, etc.), antioxidants, metal chelate compounds, curing Examples thereof include catalysts, curing accelerators, surfactants, fillers, dispersants, photosensitizers and the like. The blending ratio of the other components can be appropriately selected according to each compound as long as the effects of the present invention are not impaired.
液晶配向剤における固形分濃度(液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合)は、粘性、揮発性などを考慮して適宜に選択されるが、好ましくは1〜10質量%の範囲である。固形分濃度が1質量%未満である場合には、塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜が得にくくなる。一方、固形分濃度が10質量%を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜が得にくく、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布性が低下する傾向にある。 The solid content concentration in the liquid crystal alignment agent (the ratio of the total mass of the components other than the solvent of the liquid crystal alignment agent to the total mass of the liquid crystal alignment agent) is appropriately selected in consideration of viscosity, volatility, etc., but is preferable. It is in the range of 1 to 10% by mass. When the solid content concentration is less than 1% by mass, the film thickness of the coating film becomes too small and it becomes difficult to obtain a good liquid crystal alignment film. On the other hand, when the solid content concentration exceeds 10% by mass, the film thickness of the coating film becomes excessive and it is difficult to obtain a good liquid crystal alignment film, and the viscosity of the liquid crystal alignment agent increases and the coatability deteriorates. There is a tendency.
≪液晶配向膜及び液晶素子≫
本開示の液晶素子は、上記で説明した液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜を具備する。液晶素子は種々の用途に有効に適用することができ、例えば、時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、PDA、デジタルカメラ、携帯電話、スマートフォン、各種モニター、液晶テレビ、インフォメーションディスプレイなどの各種表示装置や、調光フィルム、位相差フィルム等として用いることができる。液晶表示装置として用いる場合、液晶の動作モードは特に限定されず、例えばTN型、STN型、垂直配向型(VA−MVA型、VA−PVA型などを含む。)、IPS型、FFS型、OCB(Optically Compensated Bend)型など種々の動作モードに適用することができる。≪Liquid crystal alignment film and liquid crystal element≫
The liquid crystal element of the present disclosure includes a liquid crystal alignment film formed by using the liquid crystal alignment agent described above. The liquid crystal element can be effectively applied to various applications, for example, a clock, a portable game, a word processor, a notebook computer, a car navigation system, a camcorder, a PDA, a digital camera, a mobile phone, a smartphone, various monitors, and a liquid crystal television. , It can be used as various display devices such as information displays, dimming films, retardation films, and the like. When used as a liquid crystal display device, the operation mode of the liquid crystal is not particularly limited, and for example, TN type, STN type, vertically oriented type (including VA-MVA type, VA-PVA type, etc.), IPS type, FFS type, OCB. It can be applied to various operation modes such as (Optically Compensated Bend) type.
液晶素子の製造方法について液晶表示素子を一例に挙げて説明する。液晶表示素子は、例えば以下の工程1〜工程3を含む方法により製造することができる。工程1は、所望の動作モードによって使用基板が異なる。工程2及び工程3は各動作モード共通である。
A method of manufacturing a liquid crystal element will be described by taking a liquid crystal display element as an example. The liquid crystal display element can be manufactured, for example, by a method including the following
(工程1:塗膜の形成)
先ず、基板上に液晶配向剤を塗布し、好ましくは塗布面を加熱することにより基板上に塗膜を形成する。基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ(脂環式オレフィン)などのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。基板の一方の面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ(SnO2)からなるNESA膜(米国PPG社登録商標)、酸化インジウム−酸化スズ(In2O3−SnO2)からなるITO膜などを用いることができる。TN型、STN型又はVA型の液晶素子を製造する場合には、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板二枚を用いる。一方、IPS型又はFFS型の液晶素子を製造する場合には、櫛歯型にパターニングされた透明導電膜又は金属膜からなる電極が設けられている基板と、電極が設けられていない対向基板とを用いる。金属膜としては、例えばクロムなどの金属からなる膜を使用することができる。基板への液晶配向剤の塗布は、電極形成面上に、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法、ロールコーター法、フレキソ印刷法又はインクジェット印刷法により行う。(Step 1: Formation of coating film)
First, a liquid crystal alignment agent is applied onto the substrate, and preferably the coated surface is heated to form a coating film on the substrate. As the substrate, for example, glass such as float glass and soda glass; a transparent substrate made of plastic such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether sulfone, polycarbonate, and poly (aliphatic olefin) can be used. As the transparent conductive film provided on one surface of the substrate, NESA film (US PPG registered trademark) made of tin oxide (SnO 2), indium oxide - ITO made of tin oxide (In 2 O 3 -SnO 2) film Etc. can be used. When manufacturing a TN type, STN type or VA type liquid crystal element, two substrates provided with a patterned transparent conductive film are used. On the other hand, in the case of manufacturing an IPS type or FFS type liquid crystal element, a substrate provided with an electrode made of a transparent conductive film or a metal film patterned in a comb-teeth shape and an opposing substrate not provided with an electrode. Is used. As the metal film, a film made of a metal such as chromium can be used. The liquid crystal alignment agent is applied to the substrate by an offset printing method, a spin coating method, a roll coater method, a flexographic printing method or an inkjet printing method, preferably on the electrode forming surface.
液晶配向剤を塗布した後、塗布した液晶配向剤の液垂れ防止などの目的で、好ましくは予備加熱(プレベーク)が実施される。プレベーク温度は、好ましくは30〜200℃であり、プレベーク時間は、好ましくは0.25〜10分である。その後、溶剤を完全に除去し、必要に応じて、重合体が有するアミック酸構造を熱イミド化することを目的として焼成(ポストベーク)工程が実施される。焼成温度(ポストベーク温度)は、好ましくは80〜300℃であり、ポストベーク時間は、好ましくは5〜200分である。このようにして形成される膜の膜厚は、好ましくは0.001〜1μmである。基板上に液晶配向剤を塗布した後、有機溶媒を除去することによって、液晶配向膜又は液晶配向膜となる塗膜が形成される。 After the liquid crystal alignment agent is applied, preheating is preferably performed for the purpose of preventing the applied liquid crystal alignment agent from dripping. The pre-baking temperature is preferably 30 to 200 ° C., and the pre-baking time is preferably 0.25 to 10 minutes. Then, a firing (post-baking) step is carried out for the purpose of completely removing the solvent and, if necessary, thermally imidizing the amic acid structure of the polymer. The firing temperature (post-baking temperature) is preferably 80 to 300 ° C., and the post-baking time is preferably 5 to 200 minutes. The film thickness of the film thus formed is preferably 0.001 to 1 μm. By applying the liquid crystal alignment agent on the substrate and then removing the organic solvent, a liquid crystal alignment film or a coating film to be a liquid crystal alignment film is formed.
(工程2:配向処理)
TN型、STN型、IPS型又はFFS型の液晶表示素子を製造する場合、上記工程1で形成した塗膜に液晶配向能を付与する処理(配向処理)を実施する。これにより、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜となる。配向処理としては、例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで塗膜を一定方向に擦るラビング処理や、液晶配向剤を用いて基板上に形成した塗膜に光照射を行って塗膜に液晶配向能を付与する光配向処理等が挙げられる。一方、垂直配向型の液晶素子を製造する場合には、上記工程1で形成した塗膜をそのまま液晶配向膜として使用することができるが、該塗膜に対し配向処理を施してもよい。垂直配向型の液晶表示素子に好適な液晶配向剤は、PSA(Polymer sustained alignment)型の液晶表示素子にも好適に用いることができる。(Step 2: Orientation treatment)
When manufacturing a TN type, STN type, IPS type or FFS type liquid crystal display element, a treatment (alignment treatment) for imparting a liquid crystal alignment ability to the coating film formed in the
(工程3:液晶セルの構築)
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を2枚準備し、対向配置した2枚の基板間に液晶を配置することにより液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば、(1)液晶配向膜が対向するように間隙(スペーサー)を介して2枚の基板を対向配置し、2枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止する方法、(2)液晶配向膜を形成した一方の基板上の所定の場所にシール剤を塗布し、さらに液晶配向膜面上の所定の数箇所に液晶を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせるとともに液晶を基板の全面に押し広げる方法(ODF方式)等が挙げられる。製造した液晶セルにつき、さらに、用いた液晶が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶充填時の流動配向を除去することが望ましい。(Step 3: Construction of liquid crystal cell)
A liquid crystal cell is manufactured by preparing two substrates on which a liquid crystal alignment film is formed as described above and arranging the liquid crystal between the two substrates arranged opposite to each other. In order to manufacture a liquid crystal cell, for example, (1) two substrates are arranged facing each other through a gap (spacer) so that the liquid crystal alignment films face each other, and the peripheral portion of the two substrates is covered with a sealant. A method of sealing the injection holes after laminating, injecting and filling the liquid crystal in the substrate surface and the cell gap partitioned by the sealant, (2) sealing at a predetermined place on one substrate on which the liquid crystal alignment film is formed. A method in which an agent is applied, liquid crystal is dropped onto a predetermined number of places on the liquid crystal alignment film surface, the other substrate is bonded so that the liquid crystal alignment film faces each other, and the liquid crystal is spread over the entire surface of the substrate (ODF method). ) Etc. can be mentioned. It is desirable to remove the flow orientation at the time of filling the liquid crystal by further heating the manufactured liquid crystal cell to a temperature at which the used liquid crystal takes an isotropic phase and then slowly cooling it to room temperature.
シール剤としては、例えば硬化剤及びスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂などを用いることができる。スペーサーとしては、フォトスペーサー、ビーズスペーサー等を用いることができる。液晶としては、ネマチック液晶及びスメクチック液晶を挙げることができ、その中でもネマチック液晶が好ましい。また、ネマチック液晶又はスメクチック液晶に、例えばコレステリック液晶、カイラル剤、強誘電性液晶などを添加して使用してもよい。 As the sealing agent, for example, an epoxy resin containing an aluminum oxide sphere as a curing agent and a spacer can be used. As the spacer, a photo spacer, a bead spacer, or the like can be used. Examples of the liquid crystal include a nematic liquid crystal and a smectic liquid crystal, and among them, the nematic liquid crystal is preferable. Further, for example, a cholesteric liquid crystal, a chiral agent, a ferroelectric liquid crystal or the like may be added to the nematic liquid crystal or the smectic liquid crystal for use.
続いて、必要に応じて液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせる。偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「H膜」と称される偏光フィルムを酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、又はH膜そのものからなる偏光板が挙げられる。こうして液晶表示素子が得られる。 Subsequently, if necessary, a polarizing plate is attached to the outer surface of the liquid crystal cell. Examples of the polarizing plate include a polarizing plate in which a polarizing film called "H film" in which polyvinyl alcohol is stretch-oriented and iodine is absorbed is sandwiched between a cellulose acetate protective film, or a polarizing plate made of the H film itself. In this way, a liquid crystal display element can be obtained.
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
以下の例において、重合体の重量平均分子量Mw、重合体溶液中のポリイミドのイミド化率、重合体溶液の溶液粘度、及びエポキシ当量は以下の方法により測定した。以下の実施例で用いた原料化合物及び重合体の必要量は、下記の合成例に示す合成スケールでの合成を必要に応じて繰り返すことにより確保した。 In the following examples, the weight average molecular weight Mw of the polymer, the imidization ratio of the polyimide in the polymer solution, the solution viscosity of the polymer solution, and the epoxy equivalent were measured by the following methods. The required amounts of the raw material compounds and polymers used in the following examples were secured by repeating the synthesis on the synthetic scale shown in the following synthesis examples as necessary.
[重合体の重量平均分子量Mw]
重量平均分子量Mwは、以下の条件におけるGPCにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム:東ソー(株)製、TSKgelGRCXLII
溶剤:テトラヒドロフラン、又はリチウムブロミド及びリン酸含有のN,N−ジメチルホルムアミド溶液
温度:40℃
圧力:68kgf/cm2
[ポリイミドのイミド化率]
ポリイミドの溶液を純水に投入し、得られた沈殿を室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温で1H−NMRを測定した。得られた1H−NMRスペクトルから、下記数式(1)によりイミド化率[%]を求めた。
イミド化率[%]=(1−(A1/(A2×α)))×100 …(1)
(数式(1)中、A1は化学シフト10ppm付近に現れるNH基のプロトン由来のピーク面積であり、A2はその他のプロトン由来のピーク面積であり、αは重合体の前駆体(ポリアミック酸)におけるNH基のプロトン1個に対するその他のプロトンの個数割合である。)
[重合体溶液の溶液粘度]
重合体溶液の溶液粘度(mPa・s)は、E型回転粘度計を用いて25℃で測定した。
[エポキシ当量]
エポキシ当量は、JIS C 2105に記載の塩酸−メチルエチルケトン法により測定した。[Weight average molecular weight Mw of polymer]
The weight average molecular weight Mw is a polystyrene-equivalent value measured by GPC under the following conditions.
Column: Made by Tosoh Corporation, TSKgelGRCXLII
Solvent: Tetrahydrofuran or N, N-dimethylformamide solution containing lithium bromide and phosphoric acid Temperature: 40 ° C
Pressure: 68 kgf / cm 2
[Imidization rate of polyimide]
The polyimide solution was poured into pure water, the obtained precipitate was sufficiently dried under reduced pressure at room temperature, dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide, and 1 H-NMR was measured at room temperature using tetramethylsilane as a reference substance. From the obtained 1 H-NMR spectrum, the imidization rate [%] was determined by the following mathematical formula (1).
Imidization rate [%] = (1- (A 1 / (A 2 x α))) x 100 ... (1)
(In formula (1), A 1 is the peak area derived from the proton of the NH group appearing near the chemical shift of 10 ppm, A 2 is the peak area derived from other protons, and α is the precursor of the polymer (polyamic acid). ) Is the ratio of the number of other protons to one proton of the NH group.)
[Solution viscosity of polymer solution]
The solution viscosity (mPa · s) of the polymer solution was measured at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer.
[Epoxy equivalent]
Epoxy equivalents were measured by the hydrochloric acid-methylethylketone method described in JIS C 2105.
化合物の略号は以下の通りである。なお、以下では、式(DA−X)で表される化合物(ただし、Xは1〜8の整数)を単に「化合物(DA−X)」と示すことがある。
(ジアミン化合物)
(Diamine compound)
(溶剤)
<重合体の合成>
[合成例1:ポリイミド(PI−1)の合成]
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物(TCA)22.4g(0.1モル)、ジアミンとしてp−フェニレンジアミン(PDA)8.6g(0.08モル)及び3,5−ジアミノ安息香酸コレスタニル(HCDA)10.5g(0.02モル)を、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)166gに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を20質量%含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は90mPa・sであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液に、NMPを追加してポリアミック酸濃度7質量%の溶液とし、ピリジン11.9g及び無水酢酸15.3gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなNMPで溶媒置換(本操作によって脱水閉環反応に使用したピリジン及び無水酢酸を系外に除去した。以下同じ。)することにより、イミド化率約68%のポリイミド(PI−1)を26質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は45mPa・sであった。次いで、反応溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させることにより、ポリイミド(PI−1)を得た。<Synthesis of polymer>
[Synthesis Example 1: Synthesis of Polyimide (PI-1)]
22.4 g (0.1 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride (TCA) as tetracarboxylic dianhydride, and 8.6 g (0.08 mol) of p-phenylenediamine (PDA) as diamine. ) And 10.5 g (0.02 mol) of cholestanyl 3,5-diaminobenzoate (HCDA) were dissolved in 166 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and reacted at 60 ° C. for 6 hours to carry out a polyamic acid. Was obtained in an amount of 20% by mass. A small amount of the obtained polyamic acid solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by mass was 90 mPa · s.
Next, NMP was added to the obtained polyamic acid solution to prepare a solution having a polyamic acid concentration of 7% by mass, 11.9 g of pyridine and 15.3 g of acetic anhydride were added, and a dehydration ring closure reaction was carried out at 110 ° C. for 4 hours. .. After the dehydration ring closure reaction, the solvent in the system was replaced with a new NMP (the pyridine and acetic anhydride used in the dehydration ring closure reaction were removed from the system by this operation. The same applies hereinafter), so that the imidization rate was about 68. A solution containing 26% by mass of% polyimide (PI-1) was obtained. A small amount of the obtained polyimide solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 45 mPa · s. The reaction solution was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at 40 ° C. for 15 hours to obtain polyimide (PI-1).
[合成例2:ポリイミド(PI−2)の合成]
テトラカルボン酸二無水物として、TCA110g(0.50モル)及び1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン160g(0.50モル)、ジアミンとして、PDA91g(0.85モル)、1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン25g(0.10モル)及び3,6−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)コレスタン25g(0.040モル)、並びにモノアミンとしてアニリン1.4g(0.015モル)を、NMP960gに溶解し、60℃で6時間反応を行うことにより、ポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は60mPa・sであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にNMP2,700gを追加し、ピリジン390g及び無水酢酸410gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなγ−ブチロラクトン(GBL)で溶媒置換することにより、イミド化率約95%のポリイミド(PI−2)を15質量%含有する溶液約2,500gを得た。この溶液を少量分取し、NMPを加え、ポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は70mPa・sであった。次いで、反応溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させることにより、ポリイミド(PI−2)を得た。[Synthesis Example 2: Synthesis of Polyimide (PI-2)]
As tetracarboxylic acid dianhydride, 110 g (0.50 mol) of TCA and 1,3,3a,4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) naphtho [1,2-c] Furan-1,3-dione 160 g (0.50 mol), PDA 91 g (0.85 mol) as diamine, 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane 25 g ( 0.10 mol) and 25 g (0.040 mol) of 3,6-bis (4-aminobenzoyloxy) cholesterol, and 1.4 g (0.015 mol) of aniline as a monoamine were dissolved in 960 g of NMP at 60 ° C. The reaction was carried out for 6 hours to obtain a solution containing a polyamic acid. A small amount of the obtained polyamic acid solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by mass was 60 mPa · s.
Next, 2,700 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 390 g of pyridine and 410 g of acetic anhydride were added, and a dehydration ring closure reaction was carried out at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration ring closure reaction, the solvent in the system is replaced with a new γ-butyrolactone (GBL) to obtain about 2,500 g of a solution containing 15% by mass of polyimide (PI-2) having an imidization ratio of about 95%. Obtained. A small amount of this solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 70 mPa · s. The reaction solution was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at 40 ° C. for 15 hours to obtain polyimide (PI-2).
[合成例3:ポリイミド(PI−3)の合成]
使用するジアミンを、3,5−ジアミノ安息香酸(3,5DAB)0.08モル及びコレスタニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン(HCODA)0.02モルに変更した以外は、上記合成例1と同様の方法によりポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は80mPa・sであった。
次いで、上記合成例1と同様の方法によりイミド化を行い、イミド化率約65%のポリイミド(PI−3)を26質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は40mPa・sであった。次いで、反応溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させることにより、ポリイミド(PI−3)を得た。[Synthesis Example 3: Synthesis of Polyimide (PI-3)]
Except that the diamine used was changed to 0.08 mol of 3,5-diaminobenzoic acid (3,5 DAB) and 0.02 mol of cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene (HCODA), the same as in Synthesis Example 1 above. A polyamic acid solution was obtained by the same method. A small amount of the obtained polyamic acid solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by mass was 80 mPa · s.
Next, imidization was carried out by the same method as in Synthesis Example 1 to obtain a solution containing 26% by mass of polyimide (PI-3) having an imidization ratio of about 65%. A small amount of the obtained polyimide solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 40 mPa · s. The reaction solution was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at 40 ° C. for 15 hours to obtain polyimide (PI-3).
[合成例4:ポリイミド(PI−4)の合成]
使用するジアミンを、4,4’−ジアミノジフェニルメタン0.06モル、化合物(DA−1) 0.02モル、及び化合物(DA−2) 0.02モルに変更した以外は、上記合成例1と同様の方法によりポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は60mPa・sであった。
次いで、上記合成例1と同様の方法によりイミド化を行い、イミド化率約65%のポリイミド(PI−4)を26質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は33mPa・sであった。次いで、反応溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させることにより、ポリイミド(PI−4)を得た。[Synthesis Example 4: Synthesis of Polyimide (PI-4)]
Except that the diamine used was changed to 0.06 mol of 4,4'-diaminodiphenylmethane, 0.02 mol of compound (DA-1), and 0.02 mol of compound (DA-2), the same as in Synthesis Example 1 above. A polyamic acid solution was obtained by the same method. A small amount of the obtained polyamic acid solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by mass was 60 mPa · s.
Next, imidization was carried out by the same method as in Synthesis Example 1 to obtain a solution containing 26% by mass of polyimide (PI-4) having an imidization ratio of about 65%. A small amount of the obtained polyimide solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 33 mPa · s. The reaction solution was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at 40 ° C. for 15 hours to obtain polyimide (PI-4).
[合成例5:ポリイミド(PI−5)の合成]
使用するジアミンを、4−アミノフェニル−4−アミノベンゾエート(上記式(DA−3)で表される化合物)0.098モル、及び化合物(DA−4)0.002モルに変更した以外は、上記合成例1と同様の方法によりポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は70mPa・sであった。
次いで、上記合成例1と同様の方法によりイミド化を行い、イミド化率約60%のポリイミド(PI−5)を26質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は45mPa・sであった。次いで、反応溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させることにより、ポリイミド(PI−5)を得た。[Synthesis Example 5: Synthesis of Polyimide (PI-5)]
Except that the diamine used was changed to 0.098 mol of 4-aminophenyl-4-aminobenzoate (compound represented by the above formula (DA-3)) and 0.002 mol of compound (DA-4). A polyamic acid solution was obtained by the same method as in Synthesis Example 1 above. A small amount of the obtained polyamic acid solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by mass was 70 mPa · s.
Next, imidization was carried out by the same method as in Synthesis Example 1 to obtain a solution containing 26% by mass of polyimide (PI-5) having an imidization ratio of about 60%. A small amount of the obtained polyimide solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 45 mPa · s. The reaction solution was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at 40 ° C. for 15 hours to obtain polyimide (PI-5).
[合成例6:ポリアミック酸(PA−1)の合成]
テトラカルボン酸二無水物として1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CB)200g(1.0モル)、ジアミンとして2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル210g(1.0モル)を、NMP370g及びGBL3,300gの混合溶媒に溶解し、40℃で3時間反応を行い、固形分濃度10質量%、溶液粘度160mPa・sのポリアミック酸溶液を得た。次いで、このポリアミック酸溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させることにより、ポリアミック酸(PA−1)を得た。[Synthesis Example 6: Synthesis of Polyamic Acid (PA-1)]
1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride (CB) 200 g (1.0 mol) as tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl 210 g as diamine (1.0 mol) was dissolved in a mixed solvent of 370 g of NMP and 3,300 g of GBL, and the reaction was carried out at 40 ° C. for 3 hours to obtain a polyamic acid solution having a solid content concentration of 10% by mass and a solution viscosity of 160 mPa · s. The polyamic acid solution was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at 40 ° C. for 15 hours to obtain a polyamic acid (PA-1).
[合成例7:ポリアミック酸(PA−2)の合成]
テトラカルボン酸二無水物としてTCA7.0g(0.031モル)、ジアミンとして化合物(DA−5)13g(TCA1モルに対して1モルに相当する。)を、NMP80gに溶解し、60℃で4時間反応を行うことにより、ポリアミック酸(PA−2)を20質量%含有する溶液を得た。このポリアミック酸溶液の溶液粘度は2,000mPa・sであった。なお、化合物(DA−5)は、特開2011−100099号公報の記載に従って合成した。次いで、このポリアミック酸溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させることにより、ポリアミック酸(PA−2)を得た。[Synthesis Example 7: Synthesis of Polyamic Acid (PA-2)]
7.0 g (0.031 mol) of TCA as tetracarboxylic dianhydride and 13 g of compound (DA-5) as diamine (corresponding to 1 mol with respect to 1 mol of TCA) were dissolved in 80 g of NMP and 4 at 60 ° C. By carrying out a time reaction, a solution containing 20% by mass of polyamic acid (PA-2) was obtained. The solution viscosity of this polyamic acid solution was 2,000 mPa · s. The compound (DA-5) was synthesized according to the description in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-10099. The polyamic acid solution was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at 40 ° C. for 15 hours to obtain a polyamic acid (PA-2).
[合成例8:ポリアミック酸(PA−3)の合成]
使用するジアミンを、1,3−ビス(4−アミノフェネチル)ウレア(上記式(DA−6)で表される化合物)0.7モル、及び化合物(DA−7)0.3モルに変更した以外は、上記合成例6と同様の方法によりポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は95mPa・sであった。次いで、このポリアミック酸溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させることにより、ポリアミック酸(PA−3)を得た。[Synthesis Example 8: Synthesis of Polyamic Acid (PA-3)]
The diamine used was changed to 0.7 mol of 1,3-bis (4-aminophenethyl) urea (compound represented by the above formula (DA-6)) and 0.3 mol of compound (DA-7). A polyamic acid solution was obtained by the same method as in Synthesis Example 6 except for the above. A small amount of the obtained polyamic acid solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by mass was 95 mPa · s. The polyamic acid solution was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at 40 ° C. for 15 hours to obtain a polyamic acid (PA-3).
[合成例9:ポリアミック酸(PA−4)の合成]
使用するテトラカルボン酸二無水物を、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物1.0モルに変更するとともに、使用するジアミンを、p−フェニレンジアミン0.3モル、化合物(DA−7)0.2モル、及び1,2−ビス(4−アミノフェノキシ)エタン0.5モルに変更した以外は、上記合成例6と同様の方法によりポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は90mPa・sであった。次いで、このポリアミック酸溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させることにより、ポリアミック酸(PA−4)を得た。[Synthesis Example 9: Synthesis of Polyamic Acid (PA-4)]
The tetracarboxylic acid dianhydride used was changed to 1.0 mol of 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, and the diamine used was p-phenylenediamine 0. Polyamic acid solution by the same method as in Synthesis Example 6 above, except that it was changed to 3 mol, 0.2 mol of compound (DA-7), and 0.5 mol of 1,2-bis (4-aminophenoxy) ethane. Got A small amount of the obtained polyamic acid solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by mass was 90 mPa · s. The polyamic acid solution was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at 40 ° C. for 15 hours to obtain a polyamic acid (PA-4).
[合成例10:ポリアミック酸(PA−5)の合成]
使用するジアミンを、2,4−ジアミノ−N,N−ジアリルアニリン0.2モル、4,4’−ジアミノジフェニルアミン0.2モル、及び4,4’−ジアミノジフェニルメタン0.6モルに変更した以外は、上記合成例6と同様の方法によりポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は95mPa・sであった。次いで、このポリアミック酸溶液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させることにより、ポリアミック酸(PA−5)を得た。[Synthesis Example 10: Synthesis of Polyamic Acid (PA-5)]
Except that the diamine used was changed to 0.2 mol of 2,4-diamino-N, N-diallylaniline, 0.2 mol of 4,4'-diaminodiphenylamine, and 0.6 mol of 4,4'-diaminodiphenylmethane. Obtained a polyamic acid solution by the same method as in Synthesis Example 6 above. A small amount of the obtained polyamic acid solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by mass was 95 mPa · s. The polyamic acid solution was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at 40 ° C. for 15 hours to obtain a polyamic acid (PA-5).
[合成例11:ポリアミック酸エステル(PAE−1)の合成]
2,4−ビス(メトキシカルボニル)−1,3−ジメチルシクロブタン−1,3−ジカルボン酸0.035モルを塩化チオニル20mlに加え、N,N−ジメチルホルムアミドを触媒量添加し、その後80℃にて1時間攪拌した。その後、反応液を濃縮し、残留物をγ-ブチロラクトン(GBL)113gに溶解した(この溶液を反応液Aとした。)。別途、p−フェニレンジアミン0.01モル、1,2−ビス(4−アミノフェノキシ)エタン0.01モル、及び化合物(DA−8)0.014モルをピリジン6.9g、NMP44.5g及びGBL33.5gに加えて溶解させ、これを0℃に冷却した。次いで、この溶液へ反応液Aを1時間かけてゆっくりと滴下し、滴下終了後、室温にて4時間撹拌した。得られたポリアミック酸エステルの溶液を800mlの純水に撹拌しながら滴下し、析出した沈殿物をろ過した。続いて、400mlのイソプロピルアルコール(IPA)で5回洗浄し、乾燥することでポリマー粉末15.5gを得た。得られたポリアミック酸エステル(PAE−1)の重量平均分子量Mwは34,000であった。[Synthesis Example 11: Synthesis of Polyamic Acid Ester (PAE-1)]
0.035 mol of 2,4-bis (methoxycarbonyl) -1,3-dimethylcyclobutane-1,3-dicarboxylic acid was added to 20 ml of thionyl chloride, N, N-dimethylformamide was added in a catalytic amount, and then the temperature was increased to 80 ° C. Stirred for 1 hour. Then, the reaction solution was concentrated, and the residue was dissolved in 113 g of γ-butyrolactone (GBL) (this solution was designated as reaction solution A). Separately, 0.01 mol of p-phenylenediamine, 0.01 mol of 1,2-bis (4-aminophenoxy) ethane, and 0.014 mol of compound (DA-8) were added to 6.9 g of pyridine, 44.5 g of NMP, and GBL33. It was dissolved in addition to 5.5 g and cooled to 0 ° C. Then, the reaction solution A was slowly added dropwise to this solution over 1 hour, and after completion of the addition, the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. The obtained solution of polyamic acid ester was added dropwise to 800 ml of pure water with stirring, and the precipitated precipitate was filtered. Subsequently, it was washed 5 times with 400 ml of isopropyl alcohol (IPA) and dried to obtain 15.5 g of polymer powder. The weight average molecular weight Mw of the obtained polyamic acid ester (PAE-1) was 34,000.
[合成例12:ポリオルガノシロキサン(APS−1)の合成]
撹拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応容器に、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(ECETS)100.0g、メチルイソブチルケトン500g及びトリエチルアミン10.0gを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水100gを滴下漏斗より30分かけて滴下した後、還流下で撹拌しつつ、80℃で6時間反応を行った。反応終了後、有機層を取り出し、0.2質量%硝酸アンモニウム水溶液により、洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒及び水を留去することにより、反応性ポリオルガノシロキサン(EPS−1)を粘調な透明液体として得た。この反応性ポリオルガノシロキサン(EPS−1)について、1H−NMR分析を行ったところ、化学シフト(δ)=3.2ppm付近にエポキシ基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。得られた反応性ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Mwは3,500、エポキシ当量は180g/モルであった。
次いで、200mLの三口フラスコに、反応性ポリオルガノシロキサン(EPS−1)を10.0g、溶媒としてメチルイソブチルケトン30.28g、反応性化合物として4−ドデシルオキシ安息香酸3.98g、及び触媒としてUCAT 18X(商品名、サンアプロ(株)製)0.10gを仕込み、100℃で48時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを加えて得た溶液を3回水洗し、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥した後、溶剤を留去することにより、液晶配向性ポリオルガノシロキサン(APS−1)を9.0g得た。得られた重合体の重量平均分子量Mwは9,900であった。[Synthesis Example 12: Synthesis of Polyorganosiloxane (APS-1)]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a reflux condenser, 100.0 g of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (ECETS), 500 g of methyl isobutyl ketone and 10.0 g of triethylamine were placed. It was charged and mixed at room temperature. Then, 100 g of deionized water was added dropwise from the dropping funnel over 30 minutes, and then the reaction was carried out at 80 ° C. for 6 hours while stirring under reflux. After completion of the reaction, the organic layer was taken out, washed with a 0.2 mass% ammonium nitrate aqueous solution until the washed water became neutral, and then the solvent and water were distilled off under reduced pressure to obtain a reactive polyorganosiloxane. (EPS-1) was obtained as a viscous transparent liquid. When 1 H-NMR analysis was performed on this reactive polyorganosiloxane (EPS-1), a peak based on an epoxy group was obtained near chemical shift (δ) = 3.2 ppm according to the theoretical intensity, and during the reaction. It was confirmed that no side reaction of the epoxy group occurred. The weight average molecular weight Mw of the obtained reactive polyorganosiloxane was 3,500, and the epoxy equivalent was 180 g / mol.
Next, 10.0 g of reactive polyorganosiloxane (EPS-1), 30.28 g of methyl isobutyl ketone as a solvent, 3.98 g of 4-dodecyloxybenzoic acid as a reactive compound, and UCAT as a catalyst were placed in a 200 mL three-necked flask. 0.10 g of 18X (trade name, manufactured by Sun Appro Co., Ltd.) was charged, and the reaction was carried out at 100 ° C. for 48 hours with stirring. After completion of the reaction, the solution obtained by adding ethyl acetate to the reaction mixture was washed with water three times, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off to obtain a liquid crystal oriented polyorganosiloxane (APS-). 1) was obtained in 9.0 g. The weight average molecular weight Mw of the obtained polymer was 9,900.
[実施例1]
1.液晶配向剤の調製
上記合成例1で得たポリイミド(PI−1)に、溶剤として2−アセチルメチルフラン(AcMeF)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)及びブチルセロソルブ(BC)を加えて、固形分濃度6.5質量%、溶剤の混合比がAcMeF:NMP:BC=10:60:30(質量比)の溶液とした。この溶液を十分に撹拌した後、孔径1μmのフィルターで濾過することにより液晶配向剤(S−1)を調製した。なお、液晶配向剤(S−1)は、主に垂直配向型の液晶表示素子の製造用である。[Example 1]
1. 1. Preparation of liquid crystal alignment agent To the polyimide (PI-1) obtained in Synthesis Example 1 above, 2-acetylmethylfuran (AcMeF), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and butyl cellosolve (BC) were added as solvents. A solution having a solid content concentration of 6.5% by mass and a solvent mixing ratio of AcMeF: NMP: BC = 10: 60: 30 (mass ratio) was prepared. After sufficiently stirring this solution, a liquid crystal alignment agent (S-1) was prepared by filtering through a filter having a pore size of 1 μm. The liquid crystal alignment agent (S-1) is mainly for manufacturing a vertically oriented liquid crystal display element.
2.表面凹凸性(印刷性)の評価
上記1.で調製した液晶配向剤(S−1)を、ガラス基板上にスピンナーを用いて塗布し、80℃のホットプレートで1分間プレベークを行った後、庫内を窒素置換した200℃のオーブンで1時間加熱(ポストベーク)することにより平均膜厚0.1μmの塗膜を形成した。得られた塗膜の表面を原子間力顕微鏡(AFM)にて観察し、中心平均粗さ(Ra)を測定した。Raが5nm以下の場合を印刷性「良好(○)」、5nmよりも大きく10nm未満であった場合を「可(△)」、10nm以上の場合を「不良(×)」と評価した。その結果、本実施例では印刷性「良好」の評価であった。2. Evaluation of surface unevenness (printability) 1. The liquid crystal alignment agent (S-1) prepared in the above was applied onto a glass substrate using a spinner, prebaked on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute, and then the inside of the refrigerator was replaced with nitrogen in an oven at 200 ° C. 1 A coating film having an average film thickness of 0.1 μm was formed by heating (post-baking) for a time. The surface of the obtained coating film was observed with an atomic force microscope (AFM), and the center average roughness (Ra) was measured. When Ra was 5 nm or less, the printability was evaluated as “good (◯)”, when it was larger than 5 nm and less than 10 nm, it was evaluated as “possible (Δ)”, and when it was 10 nm or more, it was evaluated as “poor (×)”. As a result, in this example, the printability was evaluated as "good".
3.連続印刷性の評価
上記で調製した液晶配向剤(S−1)について、基板への印刷を連続して行った場合の印刷性(連続印刷性)について評価した。評価は以下のようにして行った。まず、液晶配向膜印刷機(日本写真印刷機(株)製、オングストローマー形式「S40L−532」)を用いて、アニロックスロールへの液晶配向剤(S−1)の滴下量を往復20滴(約0.2g)の条件にて、ITO膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面に印刷した。基板への印刷は、1分間隔で新しい基板を用いながら20回実施した。
続いて、液晶配向剤(S−1)を1分間隔でアニロックスロール上にディスペンス(片道)し、その都度、アニロックスロールと印刷版とを接触させる作業(以下、空運転という)を合計10回行った(この間、ガラス基板への印刷は行わない)。なお、この空運転は、液晶配向剤の印刷を意図的に過酷な状況下で実施するようにするために行った操作である。
10回の空運転の後、続いてガラス基板を用いて本印刷を行った。本印刷では、空運転後、基板を30秒間隔で5枚投入し、印刷後のそれぞれの基板を80℃で1分間加熱(プレベーク)して溶媒を除去した後、200℃で10分間加熱(ポストベーク)して、膜厚約0.08μmの塗膜を形成した。この塗膜を倍率20倍の顕微鏡で観察することにより印刷性(連続印刷性)を評価した。評価は、空運転後の本印刷1回目から重合体の析出が観察されない場合を連続印刷性「良好(○)」、空運転後の本印刷1回目では重合体の析出が観察されるが、本印刷を5回実施する間に重合体の析出が観察されなくなる場合を連続印刷性「可(△)」、本印刷を5回繰り返した後においても重合体の析出が観察される場合を連続印刷性「不良(×)」とした。その結果、この実施例では連続印刷性「良好(○)」であった。なお、印刷性が良好な液晶配向剤では、連続で基板を投入している間に重合体の析出が良化(消失)することが実験により分かっている。また更に、空運転の回数を15回、20回、25回に変更し、それぞれについて上記と同様にして液晶配向剤の印刷性を評価したところ、この実施例では、空運転を15回及び20回としたときには「良好(○)」、25回のときには「可(△)」であった。3. 3. Evaluation of Continuous Printability The liquid crystal alignment agent (S-1) prepared above was evaluated for printability (continuous printability) when printing on a substrate was continuously performed. The evaluation was performed as follows. First, using a liquid crystal alignment film printing machine (manufactured by Nissha Printing Machine Co., Ltd., ongstromer type "S40L-532"), the amount of the liquid crystal alignment agent (S-1) dropped onto the anilox roll is 20 drops reciprocating. Under the condition of (about 0.2 g), printing was performed on the transparent electrode surface of a glass substrate with a transparent electrode made of an ITO film. Printing on the substrate was carried out 20 times using a new substrate at 1-minute intervals.
Subsequently, the liquid crystal alignment agent (S-1) is dispensed (one way) on the anilox roll at 1-minute intervals, and each time the anilox roll and the printing plate are brought into contact with each other (hereinafter referred to as idle operation), a total of 10 times. It was done (during this time, printing on the glass substrate was not performed). It should be noted that this idle operation is an operation performed in order to intentionally print the liquid crystal alignment agent under harsh conditions.
After 10 idle runs, the main printing was subsequently performed using a glass substrate. In this printing, after idle operation, five substrates are put in at intervals of 30 seconds, and each substrate after printing is heated (prebaked) at 80 ° C. for 1 minute to remove the solvent, and then heated at 200 ° C. for 10 minutes (prebaking). Post-baking) was performed to form a coating film having a film thickness of about 0.08 μm. The printability (continuous printability) was evaluated by observing this coating film with a microscope having a magnification of 20 times. In the evaluation, continuous printability is "good (○)" when no precipitation of the polymer is observed from the first main printing after the idle operation, and precipitation of the polymer is observed in the first main printing after the idle operation. Continuous printability is "possible (Δ)" when the precipitation of the polymer is not observed during the main printing 5 times, and continuous when the precipitation of the polymer is observed even after the main printing is repeated 5 times. Printability was defined as "poor (x)". As a result, the continuous printability was "good (◯)" in this example. It has been experimentally found that with a liquid crystal alignment agent having good printability, the precipitation of the polymer is improved (disappeared) while the substrate is continuously charged. Furthermore, when the number of idle operations was changed to 15, 20, and 25 times, and the printability of the liquid crystal alignment agent was evaluated in the same manner as above for each, in this embodiment, the idle operations were performed 15 times and 20 times. When it was set to 25 times, it was "good (○)", and when it was 25 times, it was "OK (Δ)".
4.微細凹凸表面への塗布性評価
図1に示す評価用ITO電極基板10を用いて、微細凹凸表面に対する液晶配向剤の塗布性を評価した。評価用ITO電極基板10としては、ガラス基板11の一方の表面に、ストライプ形状のITO電極12が所定間隔をあけて複数配置されたものを使用した(図1参照)。なお、電極幅Aは50μm、電極間距離Bは2μm、電極高さCは0.2μmとした。この評価用ITO電極基板10の電極形成面に、濡れ性評価装置LSE−A100T(ニック社製)を用いて、上記1.で調製した液晶配向剤(S−1)を滴下し、基板の凹凸表面への馴染みやすさを評価した。このとき、液量に対する液滴の濡れ広がり面積S(mm2/μL)が大きいほど、液滴の濡れ広がりが大きく、微細凹凸表面に対する液晶配向剤の塗布性が良好であるといえる。
評価は、面積Sが15mm2/μL以上である場合に「優良(◎)」、面積Sが10mm2/μL以上15mm2/μL未満である場合に「良好(○)」、面積Sが5mm2/μLよりも大きく10mm2/μL未満である場合に「可(△)」、面積Sが5mm2/μL以下である場合に「不良(×)」とした。その結果、本実施例では面積Sは14mm2/μLであり、微細凹凸表面への塗布性は「良好」と判断された。4. Evaluation of Applicability to Fine Concavo-convex Surface Using the evaluation ITO electrode substrate 10 shown in FIG. 1, the applicability of the liquid crystal alignment agent to the fine concavo-convex surface was evaluated. As the evaluation ITO electrode substrate 10, a plurality of
Evaluation, if the area S is 15 mm 2 / [mu] L or more "good (◎)", when the area S is less than 10 mm 2 / [mu] L or more 15 mm 2 / [mu] L "good (○)", the area S is 5mm When it was larger than 2 / μL and less than 10 mm 2 / μL, it was evaluated as “OK (Δ)”, and when the area S was 5 mm 2 / μL or less, it was evaluated as “Defective (×)”. As a result, in this example, the area S was 14 mm 2 / μL, and the applicability to the fine uneven surface was judged to be “good”.
5.垂直配向型液晶表示素子の製造
固形分濃度を3.5質量%とした点、及びフィルターの孔径を0.2μmとした点以外は上記1.と同様にして液晶配向剤(S−1)を調製した。この調製した液晶配向剤(S−1)を、一対(2枚)のITO膜からなる透明電極付きガラス基板にスピンナーを用いて塗布し、80℃ のホットプレートで1分間プレベークを行った後、窒素に置換したオーブン中、200℃で1時間加熱して溶媒を除去することにより、膜厚0.08μmの塗膜(液晶配向膜)を形成した。この塗膜に対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数400rpm、ステージ移動速度3cm/秒、毛足押し込み長さ0.1mmでラビング処理を行った。その後、超純水中で1分間超音波洗浄を行い、次いで、100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板を得た。この操作を繰り返し、液晶配向膜を有する基板を一対(2枚)得た。なお、このラビング処理は、液晶の倒れ込みを制御し、配向分割を簡易な方法で行う目的で行った弱いラビング処理である。
上記基板のうちの1枚の液晶配向膜を有する面の外周に、直径3.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した後、一対の基板の液晶配向膜面を、対向させて重ね合わせて圧着し、150℃で1時間加熱して接着剤を熱硬化した。次いで、液晶注入口より基板の間隙にネガ型液晶(メルク製、MLC−6608) を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止し、さらに液晶注入時の流動配向を除くために、これを150℃ で10分間加熱した後に室温まで徐冷した。さらに、基板の外側両面に、偏光板を2枚の偏光板の偏光方向が互いに直交するように貼り合わせることにより液晶表示素子を製造した。5. Manufacture of vertically oriented liquid crystal display element The above 1. A liquid crystal alignment agent (S-1) was prepared in the same manner as in the above. The prepared liquid crystal alignment agent (S-1) is applied to a glass substrate with a transparent electrode made of a pair (2 sheets) of ITO films using a spinner, prebaked on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute, and then prebaked. A coating film (liquid crystal alignment film) having a film thickness of 0.08 μm was formed by removing the solvent by heating at 200 ° C. for 1 hour in an oven replaced with nitrogen. The coating film was subjected to a rubbing treatment using a rubbing machine having a roll wrapped with rayon cloth at a roll rotation speed of 400 rpm, a stage moving speed of 3 cm / sec, and a fluff pushing length of 0.1 mm. Then, ultrasonic cleaning was performed in ultrapure water for 1 minute, and then the substrate was dried in a 100 ° C. clean oven for 10 minutes to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film. This operation was repeated to obtain a pair (two) of substrates having a liquid crystal alignment film. It should be noted that this rubbing process is a weak rubbing process performed for the purpose of controlling the collapse of the liquid crystal display and performing the orientation division by a simple method.
After applying an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 3.5 μm by screen printing on the outer periphery of the surface of one of the substrates having the liquid crystal alignment film, the liquid crystal alignment film surfaces of the pair of substrates face each other. The adhesive was heat-cured by heating the adhesive at 150 ° C. for 1 hour. Next, after filling the gap between the substrates from the liquid crystal injection port with a negative liquid crystal display (MLC-6608 manufactured by Merck), the liquid crystal injection port is sealed with an epoxy adhesive, and further, in order to eliminate the flow orientation during liquid crystal injection. This was heated at 150 ° C. for 10 minutes and then slowly cooled to room temperature. Further, a liquid crystal display element was manufactured by laminating polarizing plates on both outer sides of the substrate so that the polarization directions of the two polarizing plates were orthogonal to each other.
6.ポストベークの温度ムラに対するプレチルト角のばらつき特性(ポストベークマージン)の評価
上記5.の方法に従い、異なるポストベーク温度(120℃、180℃及び230℃)で液晶配向膜を作製し、得られた液晶表示素子のプレチルト角をそれぞれ測定した。そして、230℃の測定値を基準プレチルト角θpとし、基準プレチルト角θpと測定値θaとの差Δθ(=θp−θa)により、ポストベークの温度ムラに対するプレチルト角のばらつき特性を評価した。なお、Δθが小さいほど、温度ムラに対するプレチルト角のばらつきが小さく優れていると言える。プレチルト角の測定は、非特許文献(T. J. Scheffer et.al. J.Appl.Phys. vo.19, p.2013(1980))に記載の方法に準拠して、He−Neレーザー光を用いる結晶回転法により測定した液晶分子の基板面からの傾き角の値をプレチルト角[°]とした。評価は、Δθが0.2°以下であった場合を「良好(○)」、0.2°よりも大きく0.5°未満であった場合を「可(△)」、0.5°以上であった場合を「不良(×)」とした。その結果、この実施例では、ポストベーク温度が180℃の場合にポストベークマージン「良好」、120℃の場合に「良好」の評価であった。6. Evaluation of variation characteristics (post-bake margin) of pre-tilt angle with respect to post-bake temperature unevenness 5. Liquid crystal alignment films were prepared at different post-baking temperatures (120 ° C., 180 ° C. and 230 ° C.) according to the above method, and the pretilt angles of the obtained liquid crystal display elements were measured. Then, the measured value at 230 ° C. was set as the reference pretilt angle θp, and the variation characteristic of the pretilt angle with respect to the temperature unevenness of the postbake was evaluated by the difference Δθ (= θp−θa) between the reference pretilt angle θp and the measured value θa. It can be said that the smaller Δθ is, the smaller the variation in the pretilt angle with respect to the temperature unevenness is and the better. The measurement of the pre-tilt angle is performed in accordance with the method described in the non-patent document (TJ Scheffer et. Al. J. Appl. Phys. Vo. 19, p. 2013 (1980)). The value of the inclination angle of the liquid crystal molecule from the substrate surface measured by the crystal rotation method using the above was defined as the pretilt angle [°]. The evaluation was "good (○)" when Δθ was 0.2 ° or less, "possible (Δ)" when it was greater than 0.2 ° and less than 0.5 °, 0.5 °. The case of the above was regarded as "defective (x)". As a result, in this example, the post-bake margin was evaluated as "good" when the post-bake temperature was 180 ° C. and "good" when the post-bake temperature was 120 ° C.
7.ベゼルムラ耐性の評価
上記5.の方法に従い、固形分濃度3.5質量%の液晶配向剤(S−1)を用いて垂直配向型液晶表示素子を製造した。得られた垂直配向型液晶表示素子につき、25℃、50%RHの条件下に30日保管し、その後、交流電圧5Vで駆動して点灯状態を観察した。評価は、シール剤周辺にて、輝度差(モアブラック又はモアホワイト)が視認されなければ「良好(○)」、視認されるが、点灯後20分以内に輝度差が消失すれば「可(△)」、20分経過しても輝度差が視認される場合を「不良(×)」とした。その結果、この液晶表示素子は「可」と判断された。7. Evaluation of bezel unevenness resistance 5. A vertically oriented liquid crystal display element was manufactured using a liquid crystal aligning agent (S-1) having a solid content concentration of 3.5% by mass according to the above method. The obtained vertically oriented liquid crystal display element was stored under the conditions of 25 ° C. and 50% RH for 30 days, and then driven by an AC voltage of 5 V to observe the lighting state. The evaluation is "good (○)" if the brightness difference (more black or more white) is not visible around the sealant, but it is "OK" if the brightness difference disappears within 20 minutes after lighting. Δ) ”, the case where the difference in brightness was visually recognized even after 20 minutes had passed was defined as“ defective (×) ”. As a result, this liquid crystal display element was judged to be "OK".
[実施例2〜10及び比較例1〜8]
重合体の種類及び配合量、並びに溶剤組成をそれぞれ下記表1に記載の通りとしたほかは実施例1と同様にして液晶配向剤を調製した。また、調製した液晶配向剤を用いて実施例1と同様にして各種評価を行った。評価結果を下記表2に示した。[Examples 2 to 10 and Comparative Examples 1 to 8]
A liquid crystal alignment agent was prepared in the same manner as in Example 1 except that the types and amounts of the polymers and the solvent composition were as shown in Table 1 below. In addition, various evaluations were carried out in the same manner as in Example 1 using the prepared liquid crystal alignment agent. The evaluation results are shown in Table 2 below.
[実施例11]
1.液晶配向剤の調製
重合体成分及び溶剤組成を下記表1に記載のとおりに変更した以外は実施例1と同様にして液晶配向剤(S−11)を調製した。なお、液晶配向剤(S−11)は、主に水平配向型の液晶表示素子の製造用である。
2.液晶配向剤の評価
液晶配向剤(S−11)を使用した以外は実施例1と同様にして表面凹凸性、連続印刷性及び微細凹凸表面への塗布性を評価した。それらの結果を下記表2に示した。[Example 11]
1. 1. Preparation of Liquid Crystal Alignment Agent A liquid crystal alignment agent (S-11) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polymer components and the solvent composition were changed as shown in Table 1 below. The liquid crystal alignment agent (S-11) is mainly for manufacturing a horizontally oriented liquid crystal display element.
2. Evaluation of Liquid Crystal Aligning Agent The surface unevenness, continuous printability, and applicability to a finely uneven surface were evaluated in the same manner as in Example 1 except that the liquid crystal alignment agent (S-11) was used. The results are shown in Table 2 below.
3.ラビングFFS型液晶表示素子の製造
固形分濃度を3.5質量%とした点、及びフィルターの孔径を0.2μmとした点以外は実施例11の上記1.と同様にして液晶配向剤(S−11)を調製した。続いて、平板電極(ボトム電極)、絶縁層及び櫛歯状電極(トップ電極)がこの順で片面に積層されたガラス基板と、電極が設けられていない対向ガラス基板とのそれぞれの面上に、固形分濃度3.5質量%の液晶配向剤(S−11)を、スピンナーを用いて塗布し、80℃のホットプレートで1分間加熱(プレベーク)した。その後、庫内を窒素置換した200℃のオーブンで1時間乾燥(ポストベーク)を行い、平均膜厚0.08μmの塗膜を形成した。
次いで、塗膜表面に対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数500rpm、ステージ移動速度3cm/秒、毛足押し込み長さ0.4mmでラビング処理を行った。その後、超純水中で1分間超音波洗浄を行い、次いで100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板を得た。
次いで、液晶配向膜を有する一対の基板につき、液晶配向膜を形成した面の縁に液晶注入口を残して直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷塗布した後、基板を重ね合わせて圧着し、150℃で1時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、一対の基板間に液晶注入口よりネマチック液晶(メルク社製、MLC−6221)を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを120℃で加熱してから室温まで徐冷し、液晶セルを製造した。なお、一対の基板を重ねあわせる際には、それぞれの基板のラビング方法が反平行となるようにした。また、2枚の偏光板の偏光方向が各々、ラビング方向と平行及び直交方向となるように偏光板を貼り合わせた。
なお、トップ電極については、電極の線幅を4μm、電極間の距離を6μmとした。また、トップ電極としては、電極A、電極B、電極C及び電極Dの4系統の駆動電極を用いた。この場合、ボトム電極は、4系統の駆動電極のすべてに作用する共通電極として働き、4系統の駆動電極の領域のそれぞれが画素領域となる。
4.ラビングFFS型液晶表示素子の評価
上記3.で得られたラビングFFS型液晶表示素子を使用した以外は実施例1と同様にしてポストベークマージンを評価した。また、上記3.に記載の方法に従ってラビングFFS型液晶表示素子を製造し、ベゼルムラ耐性を評価した。それらの結果を下記表2に示した。3. 3. Manufacture of rubbing FFS type liquid crystal display element The above 1. A liquid crystal alignment agent (S-11) was prepared in the same manner as in the above. Subsequently, a flat plate electrode (bottom electrode), an insulating layer, and a comb-shaped electrode (top electrode) are laminated on one side in this order on a glass substrate and a counter glass substrate on which no electrode is provided. A liquid crystal aligning agent (S-11) having a solid content concentration of 3.5% by mass was applied using a spinner, and heated (prebaked) on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute. Then, the inside of the chamber was dried (post-baked) for 1 hour in a nitrogen-substituted oven at 200 ° C. to form a coating film having an average film thickness of 0.08 μm.
Next, the surface of the coating film was subjected to a rubbing treatment using a rubbing machine having a roll wrapped with rayon cloth at a roll rotation speed of 500 rpm, a stage moving speed of 3 cm / sec, and a fluff pushing length of 0.4 mm. Then, it was ultrasonically cleaned in ultrapure water for 1 minute and then dried in a clean oven at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film.
Next, for a pair of substrates having a liquid crystal alignment film, an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 μm was screen-printed and applied, leaving a liquid crystal injection port on the edge of the surface on which the liquid crystal alignment film was formed, and then the substrate was applied. The adhesive was overlapped and crimped, and the adhesive was heat-cured at 150 ° C. for 1 hour. Next, a nematic liquid crystal (MLC-6221, manufactured by Merck & Co., Inc.) was filled between the pair of substrates from the liquid crystal injection port, and then the liquid crystal injection port was sealed with an epoxy adhesive. Further, in order to eliminate the flow orientation at the time of liquid crystal injection, this was heated at 120 ° C. and then slowly cooled to room temperature to produce a liquid crystal cell. When stacking a pair of substrates, the rubbing method of each substrate was set to be antiparallel. Further, the polarizing plates were attached so that the polarization directions of the two polarizing plates were parallel and orthogonal to the rubbing direction, respectively.
For the top electrode, the line width of the electrode was set to 4 μm, and the distance between the electrodes was set to 6 μm. As the top electrode, four types of driving electrodes, electrode A, electrode B, electrode C, and electrode D, were used. In this case, the bottom electrode acts as a common electrode that acts on all of the four drive electrodes, and each of the regions of the four drive electrodes becomes a pixel region.
4. Evaluation of rubbing FFS type liquid crystal display element 3. The post-bake margin was evaluated in the same manner as in Example 1 except that the rubbing FFS type liquid crystal display element obtained in 1 was used. In addition, the above 3. A rubbing FFS type liquid crystal display element was manufactured according to the method described in the above, and the bezel unevenness resistance was evaluated. The results are shown in Table 2 below.
[実施例12及び13]
重合体成分及び溶剤組成を下記表1に記載のとおりに変更した以外は実施例1と同様にして液晶配向剤(S−12)、(S−13)をそれぞれ調製した。また、液晶配向剤(S−12)、(S−13)をそれぞれ使用した以外は実施例1と同様にして表面凹凸性、連続印刷性及び微細凹凸表面への塗布性を評価するとともに、実施例11と同様にしてラビングFFS型液晶表示素子を製造して各種評価を行った。それらの結果を下記表2に示した。[Examples 12 and 13]
Liquid crystal alignment agents (S-12) and (S-13) were prepared in the same manner as in Example 1 except that the polymer components and the solvent composition were changed as shown in Table 1 below. In addition, the surface unevenness, continuous printability, and coatability on the finely uneven surface were evaluated and carried out in the same manner as in Example 1 except that the liquid crystal alignment agents (S-12) and (S-13) were used, respectively. A rubbing FFS type liquid crystal display element was manufactured in the same manner as in Example 11 and various evaluations were performed. The results are shown in Table 2 below.
[実施例14]
1.液晶配向剤の調製
重合体成分及び溶剤組成を下記表1に記載のとおりに変更した以外は実施例1の1.と同様にして液晶配向剤(S−14)を調製した。なお、液晶配向剤(S−14)は、主にPSA型の液晶表示素子の製造用である。
2.液晶配向剤の評価
液晶配向剤(S−14)を使用した以外は実施例1と同様にして表面凹凸性、連続印刷性及び微細凹凸表面への塗布性を評価した。それらの結果を下記表2に示した。[Example 14]
1. 1. Preparation of liquid
2. Evaluation of Liquid Crystal Aligning Agent The surface unevenness, continuous printability, and applicability to a finely uneven surface were evaluated in the same manner as in Example 1 except that the liquid crystal alignment agent (S-14) was used. The results are shown in Table 2 below.
3.液晶組成物の調製
ネマチック液晶(メルク社製、MLC−6608)10gに対し、下記式(L1−1) で表される液晶性化合物を5質量%、及び下記式(L2−1)で表される光重合性化合物 を0.3質量%添加して混合することにより液晶組成物LC1を得た。
4.PSA型液晶表示素子の製造
固形分濃度を3.5質量%とした点、及びフィルターの孔径を0.2μmとした点以外は実施例14の上記1.と同様にして液晶配向剤(S−14)を調製するとともに、調製した液晶配向剤(S−14)を用いて、実施例1の「5.垂直配向型液晶表示素子の製造」に記載の方法と同様にして、液晶配向膜を有する基板を一対(2枚) 得た。次いで、MLC−6608に代えて、上記で調製した液晶組成物LC1を用いた点、及び偏光板を貼り合わせなかった点以外は、実施例1と同様にして液晶セルを製造した。
次いで、上記で得た液晶セルに対し、電極間に周波数60Hzの交流10Vを印加し、液晶が駆動している状態で、光源にメタルハライドランプを使用した紫外線照射装置を用いて、紫外線を50,000J/m2の照射量にて照射した。なお、この照射量は、波長365nm基準で計測される光量計を用いて計測した値である。さらに、基板の外側両面に、偏光板を2枚の偏光板の偏光方向が互いに直交するように貼り合わせることにより液晶表示素子を製造した。
5.PSA型液晶表示素子の評価
上記4.で得られたPSA型液晶表示素子を使用した以外は実施例1と同様にしてポストベークマージンを評価した。また、上記4.に記載の方法に従ってPSA型液晶表示素子を製造してベゼルムラ耐性を評価した。それらの結果を下記表2に示した。4. Manufacture of PSA type liquid crystal display element The above 1. The liquid crystal alignment agent (S-14) is prepared in the same manner as in the above, and the prepared liquid crystal alignment agent (S-14) is used to describe in "5. Production of a vertically oriented liquid crystal display element" of Example 1. In the same manner as the method, a pair (two) of substrates having a liquid crystal alignment film was obtained. Next, a liquid crystal cell was produced in the same manner as in Example 1 except that the liquid crystal composition LC1 prepared above was used instead of MLC-6608 and that the polarizing plate was not bonded.
Next, an AC 10V having a frequency of 60 Hz was applied between the electrodes to the liquid crystal cell obtained above, and in a state where the liquid crystal was driven, 50 ultraviolet rays were emitted using an ultraviolet irradiation device using a metal halide lamp as a light source. The irradiation was performed at an irradiation rate of 000 J / m 2. The irradiation amount is a value measured using a photometer measured based on a wavelength of 365 nm. Further, a liquid crystal display element was manufactured by laminating polarizing plates on both outer sides of the substrate so that the polarization directions of the two polarizing plates were orthogonal to each other.
5. Evaluation of PSA type liquid crystal display element 4. The post-bake margin was evaluated in the same manner as in Example 1 except that the PSA type liquid crystal display element obtained in 1 was used. In addition, the above 4. A PSA type liquid crystal display element was manufactured according to the method described in 1 and the bezel unevenness resistance was evaluated. The results are shown in Table 2 below.
[実施例15〜17、27、28、及び比較例9]
重合体成分及び溶剤組成を下記表1に記載のとおりに変更した以外は実施例1と同様にして液晶配向剤をそれぞれ調製した。また、各液晶配向剤を使用した以外は実施例1と同様にして表面凹凸性、連続印刷性及び微細凹凸表面への塗布性を評価するとともに、実施例14と同様にしてPSA型液晶セルを製造してポストベークマージン及びベゼルムラ耐性を評価した。それらの結果を下記表2に示した。[Examples 15 to 17, 27, 28, and Comparative Example 9]
Liquid crystal alignment agents were prepared in the same manner as in Example 1 except that the polymer components and the solvent composition were changed as shown in Table 1 below. In addition, the surface unevenness, continuous printability, and coatability on the finely uneven surface were evaluated in the same manner as in Example 1 except that each liquid crystal alignment agent was used, and the PSA type liquid crystal cell was formed in the same manner as in Example 14. It was manufactured and evaluated for post-bake margin and bezel unevenness resistance. The results are shown in Table 2 below.
[実施例18]
1.液晶配向剤の調製
重合体成分及び溶剤組成を下記表1に記載のとおりに変更した以外は実施例1の1.と同様にして液晶配向剤(S−18)を調製した。なお、液晶配向剤(S−18)は、主に光垂直配向型の液晶表示素子の製造用である。
2.液晶配向剤の評価
液晶配向剤(S−18)を使用した以外は実施例1と同様にして表面凹凸性、連続印刷性及び微細凹凸表面への塗布性を評価した。それらの結果を下記表2に示した。[Example 18]
1. 1. Preparation of liquid
2. Evaluation of Liquid Crystal Aligning Agent The surface unevenness, continuous printability, and applicability to a finely uneven surface were evaluated in the same manner as in Example 1 except that the liquid crystal alignment agent (S-18) was used. The results are shown in Table 2 below.
3.光垂直配向型液晶表示素子の製造
固形分濃度を3.5質量%とした点、及びフィルターの孔径を0.2μmとした点以外は実施例18の上記1.と同様にして液晶配向剤(S−18)を調製した。また、調製した液晶配向剤(S−18)を用い、ラビング処理に代えて、Hg−Xeランプ及びグランテーラープリズムを用いた偏光紫外線の照射を行ったほかは、実施例1の「5.垂直配向型液晶表示素子の製造」に記載の方法と同様にして、光垂直配向型液晶表示素子を製造した。なお、偏光紫外線の照射は、基板法線から40°傾いた方向から行い、照射量は200J/m2とし、偏光方向はp−偏光とした。また、この照射量は、波長313nm基準で計測される光量計を用いて計測した値である。
4.光垂直配向型液晶表示素子の評価
上記3.で得られた光垂直配向型液晶セルを使用した以外は実施例1と同様にしてポストベークマージンを評価した。また、上記3.に記載の方法に従って光垂直型液晶表示素子を製造してベゼルムラ耐性を評価した。それらの結果を下記表2に示した。3. 3. Manufacture of optical vertical alignment type liquid crystal display element The above 1. A liquid crystal alignment agent (S-18) was prepared in the same manner as in the above. In addition, the prepared liquid crystal alignment agent (S-18) was used, and instead of the rubbing treatment, polarized ultraviolet rays were irradiated using an Hg-Xe lamp and a Gran Tailor prism. An optical vertical alignment type liquid crystal display element was manufactured in the same manner as described in "Manufacture of Orientation Type Liquid Crystal Display Element". The irradiation of polarized ultraviolet rays was performed from a direction inclined by 40 ° from the normal of the substrate, the irradiation amount was 200 J / m 2 , and the polarization direction was p-polarized light. Further, this irradiation amount is a value measured using a photometer measured based on a wavelength of 313 nm.
4. Evaluation of optical vertical alignment type liquid crystal display element 3. The post-bake margin was evaluated in the same manner as in Example 1 except that the optical vertical alignment type liquid crystal cell obtained in 1 was used. In addition, the above 3. An optical vertical liquid crystal display element was manufactured according to the method described in 1 and the bezel unevenness resistance was evaluated. The results are shown in Table 2 below.
[実施例19及び20]
重合体成分及び溶剤組成を下記表1に記載のとおりに変更した以外は実施例1の1.と同様にして液晶配向剤をそれぞれ調製した。また、各液晶配向剤を使用した以外は実施例1と同様にして表面凹凸性、連続印刷性及び微細凹凸表面への塗布性を評価するとともに、実施例18と同様にして光垂直配向型液晶表示素子を製造してポストベークマージン及びベゼルムラ耐性をした。それらの結果を下記表2に示した。[Examples 19 and 20]
Example 1 1. Except that the polymer components and solvent composition were changed as shown in Table 1 below. The liquid crystal aligning agent was prepared in the same manner as in the above. Further, the surface unevenness, continuous printability, and coatability on the finely uneven surface were evaluated in the same manner as in Example 1 except that each liquid crystal alignment agent was used, and the optical vertical alignment type liquid crystal was evaluated in the same manner as in Example 18. A display element was manufactured to withstand post-bake margin and bezel unevenness. The results are shown in Table 2 below.
[実施例21]
1.液晶配向剤の調製
重合体成分及び溶剤組成を下記表1に記載のとおりに変更した以外は実施例1の1.と同様にして液晶配向剤(S−21)を調製した。なお、液晶配向剤(S−21)は、主に光FFS型の液晶表示素子の製造用である。
2.液晶配向剤の評価
上記1.で調製した液晶配向剤(S−21)を使用した以外は実施例1と同様にして表面凹凸性、連続印刷性及び微細凹凸表面への塗布性を評価した。それらの結果を下記表2に示した。[Example 21]
1. 1. Preparation of liquid
2. Evaluation of liquid
3.光FFS型液晶セルの製造
固形分濃度を3.5質量%とした点、及びフィルターの孔径を0.2μmとした点以外は実施例21の上記1.と同様にして液晶配向剤(S−21)を調製した。また、調製した液晶配向剤(S−21)を用い、ラビング処理に代えて、Hg−Xeランプ及びグランテーラープリズムを用いた偏光紫外線の照射を行ったほかは、実施例11の「3.ラビングFFS型液晶表示素子の製造」に記載の方法と同様にして、光FFS型液晶表示素子を製造した。なお、偏光紫外線の照射は、基板から垂直方向から行い、照射量は10,000J/m2とし、偏光方向は、実施例11におけるラビング処理の方向と直交する方向とした。また、この照射量は、波長254nm 基準で計測される光量計を用いて計測した値である。
4.光FFS型液晶表示素子の評価
上記3.で得られた光FFS型液晶表示素子を使用した以外は実施例1と同様にしてポストベークマージンを評価した。また、上記3.に記載の方法に従って光FFS型液晶表示素子を製造してベゼルムラ耐性を評価した。それらの結果を下記表2に示した。3. 3. Production of Optical FFS Type Liquid Crystal Cell The above 1. A liquid crystal alignment agent (S-21) was prepared in the same manner as in the above. In addition, the prepared liquid crystal alignment agent (S-21) was used, and instead of the rubbing treatment, polarized ultraviolet rays were irradiated using an Hg-Xe lamp and a Gran Tailor prism. An optical FFS type liquid crystal display element was manufactured in the same manner as described in "Manufacture of FFS type liquid crystal display element". The irradiation of polarized ultraviolet rays was performed from the vertical direction from the substrate, the irradiation amount was 10,000 J / m 2 , and the polarization direction was a direction orthogonal to the direction of the rubbing treatment in Example 11. Further, this irradiation amount is a value measured using a photometer measured based on a wavelength of 254 nm.
4. Evaluation of optical FFS type liquid crystal display element 3. The post-bake margin was evaluated in the same manner as in Example 1 except that the optical FFS type liquid crystal display element obtained in 1 was used. In addition, the above 3. An optical FFS type liquid crystal display element was manufactured according to the method described in 1 and the bezel unevenness resistance was evaluated. The results are shown in Table 2 below.
[実施例22〜26]
重合体成分及び溶剤組成を下記表1に記載のとおりに変更した以外は実施例1の1.と同様にして液晶配向剤をそれぞれ調製した。また、各液晶配向剤を使用した以外は実施例1と同様にして表面凹凸性、連続印刷性及び微細凹凸表面への塗布性を評価するとともに、実施例21と同様にして光FFS型液晶セルを製造して各種評価を行った。それらの結果を下記表2に示した。[Examples 22 to 26]
Example 1 1. Except that the polymer components and solvent composition were changed as shown in Table 1 below. The liquid crystal aligning agent was prepared in the same manner as in the above. Further, the surface unevenness, continuous printability, and coatability on the finely uneven surface were evaluated in the same manner as in Example 1 except that each liquid crystal alignment agent was used, and the optical FFS type liquid crystal cell was evaluated in the same manner as in Example 21. Was manufactured and various evaluations were performed. The results are shown in Table 2 below.
[実施例29]
1.液晶配向剤の調製
重合体成分及び溶剤組成を下記表1に記載のとおりに変更した以外は実施例1の1.と同様にして液晶配向剤(S−29)を調製した。なお、液晶配向剤(S−29)は、主にTNモード型の液晶表示素子の製造用である。
2.液晶配向剤の評価
上記1.で調製した液晶配向剤(S−29)を使用した以外は実施例1と同様にして表面凹凸性、連続印刷性及び微細凹凸表面への塗布性を評価した。それらの結果を下記表2に示した。[Example 29]
1. 1. Preparation of liquid
2. Evaluation of liquid
3.TN型液晶表示素子の製造
固形分濃度を3.5質量%とした点、及びフィルターの孔径を0.2μmとした点以外は実施例29の上記1.と同様にして液晶配向剤(S−29)を調製した。続いて、この液晶配向剤(S−29)を用い、ラビング処理を、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数500rpm 、ステージ移動速度3cm/秒、毛足押しこみ長さ0.4mmの条件で行ったほかは、実施例1の「5.垂直配向型液晶表示素子の製造」に記載の方法と同様にして、液晶配向膜を有する基板を一対(2枚)得た。次に、MLC−6608に代えて、ポジ型液晶(メルク製、MLC−6221)を用い、一対の基板を重ね合わせる際にそれぞれの基板のラビング方法が直交するようにし、2枚の偏光板の偏光方向が各々の基板のラビング方向と平行方向となるようにしたほかは実施例1と同様にして、TN型液晶表示素子を製造した。
4.TN型液晶表示素子の評価
上記3.で得られたTN型液晶表示素子を使用した以外は実施例1と同様にしてポストベークマージンを評価した。また、上記3.に記載の方法に従ってTN型液晶表示素子を製造してベゼルムラ耐性を評価した。それらの結果を下記表2に示した。3. 3. Manufacture of TN type liquid crystal display element The above 1. A liquid crystal alignment agent (S-29) was prepared in the same manner as in the above. Subsequently, using this liquid crystal alignment agent (S-29), the rubbing process is performed by a rubbing machine having a roll wrapped with rayon cloth, a roll rotation speed of 500 rpm, a stage moving speed of 3 cm / sec, and a hair-foot pushing length of 0. A pair (two) of substrates having a liquid crystal alignment film was obtained in the same manner as in the method described in "5. Manufacture of a vertically oriented liquid crystal display element" of Example 1 except that the operation was performed under the condition of .4 mm. Next, instead of MLC-6608, a positive liquid crystal display (MLC-6221 made by Merck) was used so that the rubbing methods of the respective substrates were orthogonal to each other when the pair of substrates were overlapped, and the two polarizing plates were used. A TN type liquid crystal display element was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the polarization direction was parallel to the rubbing direction of each substrate.
4. Evaluation of TN type liquid crystal display element 3. The post-bake margin was evaluated in the same manner as in Example 1 except that the TN type liquid crystal display element obtained in 1 was used. In addition, the above 3. A TN type liquid crystal display element was manufactured according to the method described in 1 and the bezel unevenness resistance was evaluated. The results are shown in Table 2 below.
表1中、重合体成分の数値は、液晶配向剤の調製に使用した重合体成分の合計100質量部に対する各重合体の配合割合(質量部)を示す。溶剤組成の数値は、液晶配向剤の調製に使用した溶剤成分の合計100質量部に対する各溶剤の配合割合(質量部)を示す。化合物の略号は以下の通りである。各例では、固形分濃度が異なる2種類の液晶配向剤(固形分濃度6.5質量%及び3.5質量%)を調製し、連続印刷性及び凹凸塗布性の評価では固形分濃度6.5質量%の液晶配向剤を用い、ベークマージン及びベゼルムラ耐性の評価では固形分濃度3.5質量%の液晶配向剤を用いた(下記表3についても同じ)。
<溶剤>
a:2−アセチルメチルフラン
b:2−フランカルボン酸メチル
c:フラクトン
d:酢酸テトラヒドロフルフリル
e:α−アセチル−γ−ブチロラクトン
f:α−メトキシカルボニル−γ−ブチロラクトン
g:テトラヒドロピラン−4−カルボン酸メチル
h:酢酸=3−ジヒドロピラニル
i:4−アセチル(テトラヒドロピラン)
j:2−(アセチルメチル)ジオキサン
k:γ−ブチロラクトン
m:プロピレンカーボネート
n:フルフリルアルコール
o:テトラヒドロフルフリルアルコール
p:テトラヒドロ−4−ピラノール
q:ソルケタール
r:N−メチル−2−ピロリドン
s:ブチルセロソルブ
t:ダイアセトンアルコール
u:ジエチレングリコールジエチルエーテル
v:N−エチル−2−ピロリドンIn Table 1, the numerical values of the polymer components indicate the blending ratio (parts by mass) of each polymer with respect to the total 100 parts by mass of the polymer components used for preparing the liquid crystal alignment agent. The numerical value of the solvent composition indicates the mixing ratio (parts by mass) of each solvent with respect to the total 100 parts by mass of the solvent components used for preparing the liquid crystal alignment agent. The abbreviations of the compounds are as follows. In each example, two types of liquid crystal alignment agents having different solid content concentrations (solid content concentration 6.5% by mass and 3.5% by mass) were prepared, and the solid content concentration was 6. A liquid crystal alignment agent having a solid content concentration of 3.5% by mass was used in the evaluation of the bake margin and bezel unevenness resistance using a liquid crystal alignment agent having a solid content of 5% by mass (the same applies to Table 3 below).
<Solvent>
a: 2-Acetylmethylfuran b: Methyl 2-furancarboxylic acid c: Flactone d: Tetrahydropyran acetate e: α-Acetyl-γ-butyrolactone f: α-methoxycarbonyl-γ-butyrolactone g: Tetrahydropyran-4- Methyl carboxylate h: Acetic acid = 3-dihydropyranyl i: 4-Acetyl (tetrahydropyran)
j: 2- (acetylmethyl) dioxane k: γ-butyrolactone m: propylene carbonate n: furfuryl alcohol o: tetrahydrofurfuryl alcohol p: tetrahydro-4-pyranol q: Solketal r: N-methyl-2-pyrrolidone s: Butyl cellosolve t: Diacetone alcohol u: Diethylene glycol diethyl ether v: N-ethyl-2-pyrrolidone
表2から分かるように、化合物[A]を含む実施例1〜29は、印刷性、連続印刷性、及び微細凹凸表面に対する塗布性のいずれも、「優良」、「良好」又は「可」の評価であった。また、ポストベークマージンも小さく、得られた液晶表示素子のベゼルムラ耐性は「良好」又は「可」の評価であった。これらの中でも、溶剤c、d、e、f、g、h、i、jを用いた場合には、連続印刷性により優れており、溶剤c、d、e、f、gを用いた場合には、さらにベゼルムラ耐性に優れていた。また、溶剤c、d、gを用いた場合には、さらに凹凸塗布性に優れていた。これらの中でも、連続印刷性、凹凸塗布性、ポストベークマージン及びベゼルムラ耐性の改善効果がより高い点で、溶剤c、dが特に優れていた。
これに対し、化合物[A]を含まない比較例1〜9は、微細凹凸表面に対する塗布性が実施例よりも劣っていた。また、比較例1〜3、9は重合体が析出しやすく、連続印刷性も劣っていた。As can be seen from Table 2, Examples 1 to 29 containing the compound [A] are "excellent", "good" or "possible" in all of the printability, the continuous printability, and the coatability on the fine uneven surface. It was an evaluation. In addition, the post-bake margin was small, and the bezel unevenness resistance of the obtained liquid crystal display element was evaluated as "good" or "possible". Among these, when the solvents c, d, e, f, g, h, i, and j are used, the continuous printability is superior, and when the solvents c, d, e, f, and g are used, the continuous printability is excellent. Was also excellent in bezel unevenness resistance. Further, when the solvents c, d, and g were used, the uneven coating property was further excellent. Among these, the solvents c and d were particularly excellent in that they were more effective in improving continuous printability, unevenness coating property, post-bak margin and bezel unevenness resistance.
On the other hand, Comparative Examples 1 to 9 containing no compound [A] were inferior in coatability to the fine uneven surface as compared with Examples. Further, in Comparative Examples 1 to 3 and 9, the polymer was easily precipitated and the continuous printability was also inferior.
[実施例30〜33]
重合体の種類及び配合量、並びに溶剤組成をそれぞれ下記表3に記載の通りとしたほかは実施例1と同様にして液晶配向剤を調製した。また、調製した液晶配向剤を用いて実施例1と同様にして各種評価を行った。評価結果を下記表4に示した。[Examples 30 to 33]
A liquid crystal alignment agent was prepared in the same manner as in Example 1 except that the types and amounts of the polymers and the solvent composition were as shown in Table 3 below. In addition, various evaluations were carried out in the same manner as in Example 1 using the prepared liquid crystal alignment agent. The evaluation results are shown in Table 4 below.
化合物の略号は以下の通りである。
w:2,4−ジメトキシ−2,4−ジメチルペンタン−3−オン
x:2,4−ジエトキシ−2,4−ジメチルペンタン−3−オン
y:2,4−ジメトキシペンタン−3−オン
z:2,4−ジメトキシプロパン−3−オンThe abbreviations of the compounds are as follows.
w: 2,4-dimethoxy-2,4-dimethylpentane-3-one x: 2,4-diethoxy-2,4-dimethylpentane-3-one y: 2,4-dimethoxypentane-3-one z: 2,4-dimethoxypropane-3-one
表4から分かるように、化合物[A]を含む実施例30〜33は、印刷性、連続印刷性、及び微細凹凸表面に対する塗布性のいずれも「良好」の評価であった。また、ポストベークマージンも小さく、得られた液晶表示素子のベゼルムラ耐性は「良好」の評価であった。 As can be seen from Table 4, Examples 30 to 33 containing the compound [A] were evaluated as "good" in all of the printability, the continuous printability, and the coatability on the fine uneven surface. In addition, the post-bake margin was small, and the bezel unevenness resistance of the obtained liquid crystal display element was evaluated as "good".
10…評価用ITO電極基板、11…ガラス基板、12…ITO電極 10 ... Evaluation ITO electrode substrate, 11 ... Glass substrate, 12 ... ITO electrode
Claims (15)
[A]カルボニル基を有する1価の基が酸素含有複素環の環部分に結合した化合物[A1]、及び、ケトン性カルボニル基及びオキシ有機基を有する化合物[A2]よりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物
と、を含有し、
前記[A]化合物は溶剤であり、
前記[A]化合物の含有割合は、前記液晶配向剤に含まれる溶剤成分の全量に対して1 0質量%以上である、液晶配向剤。A polymer component, [A] compounds <br/> [A] compounds monovalent group bonded to the ring portion of the oxygen-containing heterocyclic ring having a carbonyl group of the following [A1], and, and ketonic carbonyl group compounds having an oxy organic group of at least one compound selected from the group consisting of [A2]
And, containing,
The compound [A] is a solvent and
The content of [A] compounds, Der Ru 1 0 wt% or more based on the total amount of the solvent component included in the liquid crystal alignment agent, a liquid crystal aligning agent.
前記溶剤[C]の含有割合は、前記液晶配向剤に含まれる溶剤成分の全量に対して10〜70質量%である、請求項4に記載の液晶配向剤。Content before Symbol solvent [B] is 20 to 80 wt% based on the total amount of the solvent component included in the liquid crystal alignment agent,
The liquid crystal alignment agent according to claim 4 , wherein the content ratio of the solvent [C] is 10 to 70% by mass with respect to the total amount of the solvent components contained in the liquid crystal alignment agent.
[A]カルボニル基を有する1価の基が酸素含有複素環の環部分に結合した化合物[A [A] A compound in which a monovalent group having a carbonyl group is bonded to the ring portion of an oxygen-containing heterocycle [A] 1]、及び、ケトン性カルボニル基及びオキシ有機基を有する化合物[A2]よりなる群1] and a group consisting of a compound [A2] having a ketone carbonyl group and an oxyorganic group. から選ばれる少なくとも一種の化合物At least one compound selected from
と、When,
アルコール系溶剤、鎖状エステル系溶剤、エーテル系溶剤及びケトン系溶剤よりなる群 Group consisting of alcohol solvents, chain ester solvents, ether solvents and ketone solvents から選ばれる少なくとも一種である溶剤[B]と、Solvent [B], which is at least one selected from
を含有し、Contains,
前記[A]化合物は溶剤であり、 The compound [A] is a solvent and
前記溶剤[B]の含有割合は、前記液晶配向剤に含まれる溶剤成分の全量に対して20 The content ratio of the solvent [B] is 20 with respect to the total amount of the solvent components contained in the liquid crystal alignment agent. 〜90質量%である、液晶配向剤。A liquid crystal alignment agent in an amount of up to 90% by mass.
[A]カルボニル基を有する1価の基が酸素含有複素環の環部分に結合した化合物[A [A] A compound in which a monovalent group having a carbonyl group is bonded to the ring portion of an oxygen-containing heterocycle [A] 1]、及び、ケトン性カルボニル基及びオキシ有機基を有する化合物[A2]よりなる群1] and a group consisting of a compound [A2] having a ketone carbonyl group and an oxyorganic group. から選ばれる少なくとも一種の化合物At least one compound selected from
と、When,
アルコール系溶剤、鎖状エステル系溶剤、エーテル系溶剤及びケトン系溶剤よりなる群 Group consisting of alcohol solvents, chain ester solvents, ether solvents and ketone solvents から選ばれる少なくとも一種である溶剤[B]と、Solvent [B], which is at least one selected from
1気圧における沸点が200℃以上である溶剤[C]と、 A solvent [C] having a boiling point of 200 ° C. or higher at 1 atm and
を含有し、Contains,
前記[A]化合物は溶剤であり、 The compound [A] is a solvent and
前記溶剤[B]の含有割合は、前記液晶配向剤に含まれる溶剤成分の全量に対して20 The content ratio of the solvent [B] is 20 with respect to the total amount of the solvent components contained in the liquid crystal alignment agent. 〜80質量%であり、~ 80% by mass,
前記溶剤[C]の含有割合は、前記液晶配向剤に含まれる溶剤成分の全量に対して10 The content ratio of the solvent [C] is 10 with respect to the total amount of the solvent components contained in the liquid crystal alignment agent. 〜70質量%である、液晶配向剤。A liquid crystal alignment agent in an amount of ~ 70% by mass.
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