JP6939833B2 - Image display device - Google Patents

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Description

本発明は、画像表示装置に関する。 The present invention relates to an image display device.

画像表示装置は、携帯電話、タブレット端末、パーソナルコンピューター、テレビ、PDA、電子辞書、カーナビゲーション、音楽プレーヤー、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ等において幅広く実用化されている。画像表示装置の小型化、軽量化が進むについて、その利用はもはやオフィスや屋内に限られず、屋外及び車や電車等での移動中の利用も拡大している。 Image display devices have been widely put into practical use in mobile phones, tablet terminals, personal computers, televisions, PDAs, electronic dictionaries, car navigation systems, music players, digital cameras, digital video cameras and the like. With the progress of miniaturization and weight reduction of image display devices, their use is no longer limited to offices and indoors, but their use is also expanding outdoors and while traveling by car or train.

そのような中、画像表示装置をサングラス等の偏光フィルタを介して視認する機会が増加している。一方、画像表示装置には、種々の要因から配向フィルムを使用することが提案されている。しかしながら、画像表示装置に配向フィルムを使用した場合、その副屈折性により、偏光板から射出した光の偏向特性に歪みが生じ、結果として偏光フィルタで画像を視認した場合に虹斑等の色調の乱れによって視認性が悪化するという問題がある(特許文献1)。 Under such circumstances, the chances of visually recognizing an image display device through a polarizing filter such as sunglasses are increasing. On the other hand, it has been proposed to use an alignment film for an image display device due to various factors. However, when an alignment film is used in the image display device, its subrefractive property distorts the deflection characteristics of the light emitted from the polarizing plate, and as a result, when the image is visually recognized by the polarizing filter, the color tone such as rainbow spots appears. There is a problem that visibility deteriorates due to disturbance (Patent Document 1).

WO2011/058774WO2011 / 058774

そこで本発明は、配向フィルムが使用された画像表示装置を偏光フィルタを介して視認した場合の視認性を改善することを1つの目的とする。 Therefore, one object of the present invention is to improve the visibility when the image display device using the alignment film is visually recognized through the polarizing filter.

本発明者等は、上記問題を解決すべく日夜研究を重ねたところ、配向フィルムのリタデーションを制御することにより、上記課題の解決が可能であることを見出した。本発明者等は、斯かる知見に基づき更なる検討と改良を重ね、本発明を完成するに至った。 The present inventors have conducted research day and night to solve the above problems, and have found that the above problems can be solved by controlling the retardation of the alignment film. Based on such findings, the present inventors have repeated further studies and improvements to complete the present invention.

代表的な本発明は、以下の通りである。
項1.
(1)画像表示セル、
(2)前記画像表示セルより視認側に配置される偏光子、及び
(3)前記偏光子より視認側に配置される、3000以上150000nm以下のリタデーションを有する配向フィルム、
を有する画像表示装置。
項2.
前記偏光子の偏光軸と前記配向フィルムの配向主軸とが形成する角が略45度である、項1に記載の画像表示装置。
項3.
前記画像表示セルが有機ELセルである、項1又は2に記載の画像表示装置。
A typical invention is as follows.
Item 1.
(1) Image display cell,
(2) A polarizing element arranged on the viewing side of the image display cell, and (3) an alignment film having a retardation of 3000 or more and 150,000 nm or less arranged on the viewing side of the polarizing element.
An image display device having.
Item 2.
Item 2. The image display device according to Item 1, wherein the angle formed by the polarizing axis of the polarizer and the alignment spindle of the alignment film is approximately 45 degrees.
Item 3.
Item 2. The image display device according to Item 1 or 2, wherein the image display cell is an organic EL cell.

本発明によれば、画像表示装置の視認性が改善される。特に、偏光フィルタを介して視認した場合に生じる虹斑に代表される画質の低下が軽減される。尚、本書において、「虹斑」とは、「色斑」、「色ずれ」及び「干渉色」を含む概念である。 According to the present invention, the visibility of the image display device is improved. In particular, the deterioration of image quality typified by rainbow spots that occurs when visually recognized through a polarizing filter is reduced. In this document, "rainbow spot" is a concept including "color spot", "color shift", and "interference color".

代表的な有機EL表示装置の模式的断面図を示す。A schematic cross-sectional view of a typical organic EL display device is shown. 代表的な液晶表示装置の模式的断面図を示す。A schematic cross-sectional view of a typical liquid crystal display device is shown. 代表的な有機ELセルの模式的断面図を示す。A schematic cross-sectional view of a typical organic EL cell is shown.

画像表示装置は、典型的に、画像表示セル及び偏光板を有する。画像表示セルには、典型的に、有機ELセル又は液晶セルが用いられる。画像表示セルとして有機ELセルを用いた画像表示装置(有機EL表示装置)の代表的な模式図を図1に示し、画像表示セルとして液晶セルを用いた画像表示装置(液晶表示装置)の代表的な模式図を図2に示す。以下、画像表示装置の代表的な構造を図1又は2を参照して説明するが、画像表示装置の構造をこれらに限定されず、種々の変更が可能である。 The image display device typically has an image display cell and a polarizing plate. An organic EL cell or a liquid crystal cell is typically used as the image display cell. A typical schematic diagram of an image display device (organic EL display device) using an organic EL cell as an image display cell is shown in FIG. 1, and a representative of an image display device (liquid crystal display device) using a liquid crystal cell as an image display cell. A schematic diagram is shown in FIG. Hereinafter, a typical structure of the image display device will be described with reference to FIGS. 1 or 2, but the structure of the image display device is not limited to these, and various changes can be made.

本書において、画像表示装置の画像が表示される側(ヒトが画像を視認する側)を「視認側」と呼び、視認側と反対側(即ち、有機EL表示装置において、光源としても機能する有機ELセルが設定される側、液晶表示装置において光源が配置される側)を「光源側」と称する。図1及び2では、右側が視認側であり、左側が光源側である。 In this document, the side on which the image of the image display device is displayed (the side on which a human visually recognizes the image) is referred to as the "viewing side", and the side opposite to the viewing side (that is, the organic EL display device also functions as a light source). The side where the EL cell is set and the side where the light source is arranged in the liquid crystal display device) are referred to as "light source side". In FIGS. 1 and 2, the right side is the viewing side and the left side is the light source side.

図1に示すように、有機EL表示装置(E1)は、有機ELセル(E4)、偏光板(E5)及びタッチパネル(E6)を有し得る。有機ELセル(E4)と偏光板(E5)との間には、1/4波長板(E16)を備えていても良い。偏光板(E5)は、典型的に、有機ELセル(E4)の視認側に設けられ、偏光子(E8)と呼ばれるフィルムの両側に偏光子保護フィルム(E10a,E10b)が積層された構造を有する。タッチパネル(E6)は、典型的に、視認側偏光板(E5)より視認側に設けられる。タッチパネル(E6)は、典型的に、2枚の透明導電性フィルム(E11,E12)がスペーサー(E13)を介して配置された構造を有する。透明導電性フィルム(E11,E12)は、基材フィルム(E11a,E12a)と透明導電層(E11b,E12b)とを積層した構造を有する。タッチパネル(E6)の光源側及び視認側には、任意の接着層を介して、透明基体である飛散防止フィルム(E14,E15)が設けられ得る。 As shown in FIG. 1, the organic EL display device (E1) may have an organic EL cell (E4), a polarizing plate (E5), and a touch panel (E6). A quarter wave plate (E16) may be provided between the organic EL cell (E4) and the polarizing plate (E5). The polarizing plate (E5) is typically provided on the visible side of the organic EL cell (E4), and has a structure in which a polarizing element protective film (E10a, E10b) is laminated on both sides of a film called a polarizing element (E8). Have. The touch panel (E6) is typically provided on the viewing side of the viewing side polarizing plate (E5). The touch panel (E6) typically has a structure in which two transparent conductive films (E11, E12) are arranged via a spacer (E13). The transparent conductive film (E11, E12) has a structure in which a base film (E11a, E12a) and a transparent conductive layer (E11b, E12b) are laminated. On the light source side and the visual recognition side of the touch panel (E6), shatterproof films (E14, E15) which are transparent substrates may be provided via an arbitrary adhesive layer.

図2に示すように、液晶表示装置(L1)は、光源(L2)、液晶セル(L4)、及びタッチパネル(L6)を有し得る。液晶セル(L4)の光源側及び視認側の両方には、典型的に、それぞれ偏光板(光源側偏光板(L3)及び視認側偏光板(L5))が設けられている。各偏光板(L3,L5)は、典型的に、偏光子(L7,L8)と呼ばれるフィルムの両側に偏光子保護フィルム(L9a,L9b,L10a,L10b)が積層された構造を有する。本書において、画像表示セルより視認側に存在する偏光板(L5)を「視認側偏光板」とも称し、それを構成する偏光子(L8)を「視認側偏光子」とも称する。タッチパネル(L6)は、典型的に、視認側偏光板(L5)よりも視認側に設けられる。タッチパネル(L6)は、典型的に、2枚の透明導電性フィルム(L11,L12)がスペーサー(L13)を介して配置された構造を有する。透明導電性フィルム(L11,L12)は、基材フィルム(L11a,L12a)と透明導電層(L11b,L12b)とを積層した構造を有する。また、タッチパネル(L6)の光源側及び視認側には、任意の接着層を介して、透明基体である飛散防止フィルム(L14,L15)が設けられ得る。 As shown in FIG. 2, the liquid crystal display device (L1) may have a light source (L2), a liquid crystal cell (L4), and a touch panel (L6). A polarizing plate (light source side polarizing plate (L3) and viewing side polarizing plate (L5)) is typically provided on both the light source side and the visual viewing side of the liquid crystal cell (L4), respectively. Each polarizing plate (L3, L5) typically has a structure in which a polarizing element protective film (L9a, L9b, L10a, L10b) is laminated on both sides of a film called a polarizing element (L7, L8). In this document, the polarizing plate (L5) existing on the viewing side of the image display cell is also referred to as a “visualizing side polarizing plate”, and the polarizing element (L8) constituting the polarizing plate (L8) is also referred to as a “visually visible side polarizing element”. The touch panel (L6) is typically provided on the viewing side of the viewing side polarizing plate (L5). The touch panel (L6) typically has a structure in which two transparent conductive films (L11, L12) are arranged via a spacer (L13). The transparent conductive film (L11, L12) has a structure in which a base film (L11a, L12a) and a transparent conductive layer (L11b, L12b) are laminated. Further, on the light source side and the visual recognition side of the touch panel (L6), shatterproof films (L14, L15) which are transparent substrates may be provided via an arbitrary adhesive layer.

なお、図1及び2においては、視認側偏光板(E5,L5)の視認側にタッチパネル(E6,L6)が示されるが、タッチパネルの存在は必須ではなく、任意のフィルムを有し得る。例えば、視認側偏光板の視認側には、1枚の飛散防止フィルムを有し得る。タッチパネルは、上記の抵抗膜式のタッチパネルに限らず、投影型静電容量式等の他の方式のタッチパネルを使用することが可能である。例えば、透明導電性フィルムは1枚であってもよい。飛散防止フィルムは、タッチパネルの両側に必ず配置しなければならないわけではなく、どちらか一方に配置した構成でもよいし、又は両側に飛散防止フィルムを配置しない構成でもよい。 In addition, in FIGS. For example, one shatterproof film may be provided on the visible side of the visible polarizing plate. The touch panel is not limited to the above-mentioned resistance film type touch panel, and other types of touch panels such as a projection type capacitance type can be used. For example, the number of transparent conductive films may be one. The shatterproof film does not necessarily have to be arranged on both sides of the touch panel, and may be arranged on either side or may not be arranged on both sides.

<配向フィルムの位置>
画像表示装置には、種々の目的で配向フィルムが使用され得る。本書において、配向フィルムとは、複屈折性を有する高分子フィルムのことを意味する。画像表示装置は、視認性を改善するという観点から、視認側偏光子より視認側に3000nm以上150000nm以下のリタデーションを有する配向フィルムを有することが好ましい。本書において、3000nm以上150000nm以下のリタデーションを有する配向フィルムを「高リタデーション配向フィルム」とも称する。よって、図1及び2に示す画像表示装置において、配向フィルムは、典型的に、視認側偏光子(E8,L8)より視認側にある偏光子保護フィルム(E10b,L10b)(以下、「視認側偏光子保護フィルム」と称する)、スペーサー(E13,L13)より光源側に配置される透明導電性フィルム(E11,L11)の基材フィルム(E11a,L11a)(以下、「光源側基材フィルム」と称する)、スペーサー(E13,L13)より視認側にある透明導電性フィルム(E12,L12)の基材フィルム(E12a,L12a)(以下、「視認側基材フィルム」と称する)、視認側偏光子保護フィルム(E10b,L10b)と光源側基材フィルム(E11a,L11a)との間にある飛散防止フィルム(E14,L14)(以下、「光源側飛散防止フィルム」と称する)及び/又は視認側基材フィルム(E12a,L12a)より視認側にある飛散防止フィルム(E15,L15)(以下、「視認側飛散防止フィルム」と称する)に使用され得る。
<Position of alignment film>
Alignment films can be used in image display devices for a variety of purposes. In this document, the alignment film means a polymer film having birefringence. From the viewpoint of improving visibility, the image display device preferably has an alignment film having a retardation of 3000 nm or more and 150,000 nm or less on the viewing side of the polarizing element on the viewing side. In this document, an alignment film having a retardation of 3000 nm or more and 150,000 nm or less is also referred to as a "high retardation alignment film". Therefore, in the image display devices shown in FIGS. 1 and 2, the alignment film is typically a polarizer protective film (E10b, L10b) (hereinafter, "visualizing side") that is on the visual viewing side of the visual viewing side polarizers (E8, L8). Substrate films (E11a, L11a) of transparent conductive films (E11, L11) arranged on the light source side from spacers (E13, L13) (hereinafter referred to as "polarizer protective film") (hereinafter, "light source side base film"). , The base film (E12a, L12a) of the transparent conductive film (E12, L12) on the viewing side of the spacers (E13, L13) (hereinafter referred to as "visual side base film"), viewing side polarization. The shatterproof film (E14, L14) (hereinafter referred to as "light source side shatterproof film") and / or the visual side between the child protective film (E10b, L10b) and the light source side base film (E11a, L11a). It can be used as a shatterproof film (E15, L15) (hereinafter, referred to as "visually visible shatterproof film") on the visual side of the base film (E12a, L12a).

画像表示装置に使用される高リタデーション配向フィルムの数は任意であり、特に制限されないが、少なくとも1枚の高リタデーション配向フィルムが上記のような位置に使用されることが好ましい。このような画像表示装置の代表例としては、図1又は2に示される有機EL表示装置又は液晶表示装置おいて、視認側飛散防止フィルム(E15,L15)に相当する位置に高リタデーション配向フィルムを備えた有機EL表示装置又は液晶表示装置を挙げることができる。この代表例において、前記高リタデーション配向フィルムは、その視認側の表面に、反射防止層を有していても良い。 The number of high retardation oriented films used in the image display device is arbitrary and is not particularly limited, but it is preferable that at least one high retardation oriented film is used at the above-mentioned positions. As a typical example of such an image display device, in the organic EL display device or the liquid crystal display device shown in FIGS. 1 or 2, a high retardation alignment film is placed at a position corresponding to a visible side shatterproof film (E15, L15). Examples thereof include an organic EL display device or a liquid crystal display device provided. In this representative example, the high retardation oriented film may have an antireflection layer on the surface on the visible side thereof.

画像表示装置の別の代表例としては、ガラス等の表面カバー板上に静電容量型のタッチパネルを設けた、「表面カバー板一体型タッチパネル」を有し、この「表面カバー板一体型タッチパネル」に高リタデーション配向フィルムを組み込んだものが挙げられる。この「表面カバー板一体型タッチパネル」の具体的な構成としては以下の(A)〜(F)のパターンを例示することができる。 As another typical example of the image display device, there is a "surface cover plate integrated touch panel" in which a capacitance type touch panel is provided on a surface cover plate such as glass, and this "surface cover plate integrated touch panel" is provided. Incorporated with a high retardation alignment film. The following patterns (A) to (F) can be exemplified as a specific configuration of this "surface cover plate integrated touch panel".

(A)表面カバー板の光源側又は視認側に透明導電層を設け、その透明導電層の表面又は表面カバー板の透明導電層とは反対面に高リタデーション配向フィルムを飛散防止フィルムとして貼り合わせた、表面カバー板一体型タッチパネル。透明導電層は、表面カバー板の光源側又は視認側のいずれに設けても良いが、光源側に設けることが好ましい。 (A) A transparent conductive layer is provided on the light source side or the visible side of the surface cover plate, and a high retardation oriented film is attached as a shatterproof film on the surface of the transparent conductive layer or on the surface of the surface cover plate opposite to the transparent conductive layer. , Touch panel with integrated surface cover plate. The transparent conductive layer may be provided on either the light source side or the visible side of the surface cover plate, but is preferably provided on the light source side.

(B)高リタデーション配向フィルムの両側にガラス板を貼り合わせて合わせガラスとし、この合わせガラスの光源側に透明導電層を設けた、表面カバー板一体型タッチパネル。 (B) A touch panel with an integrated surface cover plate, in which glass plates are laminated on both sides of a high retardation alignment film to form laminated glass, and a transparent conductive layer is provided on the light source side of the laminated glass.

(C)高リタデーションフィルムの片面に透明導電層を設け、これを表面カバー板の光源側又は視認側に貼り付けた、表面カバー板一体型タッチパネル。光源側に貼り付ける場合は高リタデーション配向フィルムの透明導電層が設けられていない側の表面又は透明導電層の表面のどちら側に貼り付けても良い。視認側に貼り付ける場合は、透明導電層の表面と表面カバー板とを貼り合わせることが好ましい。 (C) A surface cover plate integrated touch panel in which a transparent conductive layer is provided on one side of a high retardation film and the transparent conductive layer is attached to the light source side or the visual recognition side of the surface cover plate. When it is attached to the light source side, it may be attached to either the surface of the high retardation alignment film on which the transparent conductive layer is not provided or the surface of the transparent conductive layer. When sticking to the visual side, it is preferable to stick the surface of the transparent conductive layer and the surface cover plate.

(D)高レタデーションフィルムの両面に透明導電層を設け、これを表面カバー板の光源側に貼り付けた、表面カバー板一体型タッチパネル。 (D) A touch panel with an integrated surface cover plate, which is provided with transparent conductive layers on both sides of a high retardation film and attached to the light source side of the surface cover plate.

表面カバー板一体型タッチパネルの最内面(最も光源側の面)には反射防止層を設けることが好ましい。また、最内面が透明導電層である場合は、電極保護コート層を設け、その上に反射防止層を設けても良い。更に、表面カバー板一体型タッチパネルの最外面(最も視認側の面)には反射防止層、防眩層、帯電防止層、防汚層等を設けても良い。尚、各部位の張り合わせには基材レスの光学用粘着剤が好適に用いられる。 It is preferable to provide an antireflection layer on the innermost surface (the surface closest to the light source) of the touch panel integrated with the surface cover plate. When the innermost surface is a transparent conductive layer, an electrode protective coating layer may be provided and an antireflection layer may be provided on the electrode protective coating layer. Further, an antireflection layer, an antiglare layer, an antistatic layer, an antifouling layer and the like may be provided on the outermost surface (the surface on the most visible side) of the touch panel integrated with the surface cover plate. A substrate-less optical adhesive is preferably used for laminating each part.

(E)複屈折を有さないフィルムの片面もしくは両面に透明導電層を設け、これを表面カバー板と高レタデーション配向フィルムとを貼り合わせた表面カバー板一体型タッチパネル。ここで最表面(画像表示装置の最も視認側の表面)がカバー板か高レタデーション配向フィルムであれば、張り合わせ順序は任意である。 (E) A surface cover plate integrated touch panel in which a transparent conductive layer is provided on one or both sides of a film having no birefringence, and a surface cover plate and a high retardation alignment film are bonded to the transparent conductive layer. Here, if the outermost surface (the surface on the most visible side of the image display device) is a cover plate or a high retardation oriented film, the bonding order is arbitrary.

(F)ガラス等のシート状物の片面又は両面に透明導電層を設け、これを表面カバー板と高レタデーション配向フィルムとを貼り合わせた表面カバー板一体型タッチパネル。ここで最表面(画像表示装置の最も視認側の表面)がカバー板か高レタデーション配向フィルムであれば、張り合わせ他の順序は任意である。 (F) A surface cover plate integrated touch panel in which a transparent conductive layer is provided on one side or both sides of a sheet-like material such as glass, and a surface cover plate and a high retardation alignment film are bonded to the transparent conductive layer. Here, if the outermost surface (the surface on the most visible side of the image display device) is a cover plate or a high retardation oriented film, the other order of bonding is arbitrary.

高リタデーション配向フィルムのリタデーションの下限値は、虹斑を低減するという観点から、好ましくは4500nm以上、好ましくは6000nm以上、好ましくは8000nm以上、好ましくは10000nm以上である。一方、高リタデーション配向フィルムのリタデーションの上限は、それ以上のリタデーションを有するポリエステルフィルムを用いたとしても更なる視認性の改善効果は実質的に得られず、またリタデーションの高さに応じては配向フィルムの厚みも上昇する傾向があるため、薄型化への要請に反し兼ねないという観点から、150000nmと設定されるが、更に高い値とすることも理論的には可能である。画像表示装置が2枚以上の高リタデーション配向フィルムを有する場合、それらのリタデーションは同一であっても異なっていても良い。 The lower limit of retardation of the high retardation oriented film is preferably 4500 nm or more, preferably 6000 nm or more, preferably 8000 nm or more, and preferably 10000 nm or more from the viewpoint of reducing iridescent spots. On the other hand, the upper limit of the retardation of the high retardation oriented film is such that even if a polyester film having a higher retardation is used, the effect of further improving the visibility cannot be substantially obtained, and the orientation depends on the height of the retardation. Since the thickness of the film also tends to increase, it is set to 150,000 nm from the viewpoint that it may be contrary to the demand for thinning, but it is theoretically possible to set it to a higher value. When the image display device has two or more high retardation oriented films, the retardations may be the same or different.

虹斑をより効果的に抑制するという観点から、高リタデーション配向フィルムは、そのリタデーション(Re)と厚さ方向リタデーション(Rth)の比(Re/Rth)が、好ましくは0.2以上であり、好ましくは0.5以上、好ましくは0.6以上である。厚さ方向リタデーションとは、フィルムの厚さ方向断面から見たときの2つの複屈折△Nxz及び△Nyzにそれぞれフィルム厚みdを掛けて得られるリタデーションの平均値を意味する。Re/Rthが大きいほど、複屈折の作用は等方性を増し、画面への虹斑の発生をより効果的に抑制することができる。尚、本書において、単に「リタデーション」と記載する場合は、面内リタデーションを意味する。 From the viewpoint of more effectively suppressing rainbow spots, the ratio (Re / Rth) of the retardation (Re) to the thickness direction retardation (Rth) of the high retardation oriented film is preferably 0.2 or more. It is preferably 0.5 or more, preferably 0.6 or more. The thickness direction retardation means the average value of the retardation obtained by multiplying the two birefringences ΔNxz and ΔNyz when viewed from the cross section in the thickness direction of the film by the film thickness d, respectively. The larger Re / Rth, the more isotropic the action of birefringence, and the more effectively the occurrence of iridescent spots on the screen can be suppressed. In addition, when it is simply described as "retamination" in this document, it means in-plane retardation.

Re/Rthの最大値は2.0(即ち、完全な1軸対称性フィルム)であるが、完全な1軸対称性フィルムに近づくにつれて配向方向と直交する方向の機械的強度が低下する傾向がある。よって、ポリエステルフィルムのRe/Rthの上限は、好ましくは1.2以下、好ましくは1.0以下である。上記比率が1.0以下であっても、画像表示装置に求められる視野角特性(左右180度、上下120度程度)を満足することが可能である。 The maximum value of Re / Rth is 2.0 (that is, a perfect uniaxially symmetric film), but the mechanical strength in the direction orthogonal to the orientation direction tends to decrease as the film approaches the perfect uniaxially symmetric film. be. Therefore, the upper limit of Re / Rth of the polyester film is preferably 1.2 or less, preferably 1.0 or less. Even if the ratio is 1.0 or less, it is possible to satisfy the viewing angle characteristics (about 180 degrees left and right, 120 degrees up and down) required for an image display device.

配向フィルムのリタデーションは、公知の手法に従って測定することができる。具体的には、2軸方向の屈折率と厚みを測定して求めることができる。また、商業的に入手可能な自動複屈折測定装置(例えば、KOBRA−21ADH:王子計測機器株式会社製)を用いて求めることもできる。 The retardation of the alignment film can be measured according to a known method. Specifically, it can be obtained by measuring the refractive index and the thickness in the biaxial direction. It can also be obtained using a commercially available automatic birefringence measuring device (for example, KOBRA-21ADH: manufactured by Oji Measuring Instruments Co., Ltd.).

高リタデーション配向フィルムの配向主軸と視認側偏光子の偏光軸とが形成する角度(高リタデーション配向フィルムと偏光子とが同一平面状にあると仮定する)は、特に制限されないが、虹斑を低減するという観点から、45度に近いこと(略45度)が好ましい。例えば、前記角度は、45度±20度以下、好ましくは45度±15度、好ましくは45度±10、好ましくは45度±5度、好ましくは45度±3度、45度±2度、45度±1度、45度である。本書において、「以下」という用語は、「±」の次の数値にのみかかることを意味する。よって、例えば、前記「45度±20度以下」とは、45度を中心に上下20度の範囲の変動を許容することを意味する。 The angle formed by the alignment spindle of the high retardation alignment film and the polarization axis of the viewing side polarizer (assuming that the high retardation alignment film and the polarizer are in the same plane) is not particularly limited, but reduces rainbow spots. It is preferable that the temperature is close to 45 degrees (approximately 45 degrees). For example, the angle is 45 degrees ± 20 degrees or less, preferably 45 degrees ± 15 degrees, preferably 45 degrees ± 10, preferably 45 degrees ± 5 degrees, preferably 45 degrees ± 3 degrees, 45 degrees ± 2 degrees, 45 degrees ± 1 degree, 45 degrees. In this document, the term "less than or equal to" means that it applies only to the number following "±". Therefore, for example, the above-mentioned "45 degrees ± 20 degrees or less" means that fluctuations in the range of 20 degrees up and down around 45 degrees are allowed.

上記のように偏光軸と配向主軸とが一定の角度を満たすように偏光子及び高リタデーション配向フィルムを配置することは、例えば、切断された高リタデーション配向フィルムをその配向主軸が偏光子の偏光軸と特定の角度になるように配置する方法や、高リタデーション配向フィルムを斜め延伸する方法により行うことができる。 Arranging the polarizer and the high retardation alignment film so that the polarizing axis and the alignment spindle satisfy a certain angle as described above is, for example, to arrange the cut high retardation alignment film with the polarization axis whose alignment spindle is the polarizer. It can be carried out by a method of arranging the film at a specific angle or a method of diagonally stretching a high-polarization oriented film.

高リタデーション配向フィルムの配向主軸は、長方形であるディスプレイ画面の縦軸又は横軸と平行となるように画像表示装置内で配置されることが好ましい。高リタデーション配向フィルムの配向主軸がディスプレイの縦軸と略平行である場合には、画面を正面からではなく斜め方向から(横方向から)観察した場合でも虹斑が抑えられ視認性に優れるためである。一方、高リタデーション配向フィルムの配向主軸がディスプレイ画面の横方向とほぼ一致する場合には、画面を正面からではなく斜め方向(縦方向から)から観察した場合でも虹斑が抑えられ視認性に優れるためである。 The orientation principal axis of the high retardation alignment film is preferably arranged in the image display device so as to be parallel to the vertical axis or the horizontal axis of the rectangular display screen. When the orientation main axis of the high retardation alignment film is substantially parallel to the vertical axis of the display, rainbow spots are suppressed and visibility is excellent even when the screen is observed from an oblique direction (horizontal direction) instead of from the front. be. On the other hand, when the orientation principal axis of the high retardation alignment film almost coincides with the horizontal direction of the display screen, rainbow spots are suppressed and visibility is excellent even when the screen is observed from an oblique direction (vertical direction) instead of from the front. Because.

画像表示装置は、視認側偏光子より視認側に少なくとも1枚の高リタデーション配向フィルムを備える限り、任意の位置に3000nm未満のリタデーション配向フィルムを有していてもよい。このような配向フィルムは公知であり、商業的に入手することも可能である。 The image display device may have a retardation alignment film of less than 3000 nm at an arbitrary position as long as it is provided with at least one high retardation alignment film on the viewing side of the polarizing element on the viewing side. Such oriented films are known and are also commercially available.

高リタデーション配向フィルムは、公知の手法を適宜選択して製造することができる。例えば、高リタデーション配向フィルムは、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、シクロオレフィン樹脂、液晶性ポリマー樹脂、及びセルロース系樹脂に液晶化合物を添加した樹脂から成る群より選択される一種以上を用いて製造することができる。従って、高リタデーション配向フィルムは、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、シンジオタクチックポリスチレンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、シクロオレフィンフィルム、液晶性フィルム、セルロース系樹脂に液晶化合物が添加されたフィルムであり得る。 The high retardation oriented film can be produced by appropriately selecting a known method. For example, the high retardation alignment film is a polyester resin, a polycarbonate resin, a polystyrene resin, a syndiotactic polystyrene resin, a polyether ether ketone resin, a polyphenylene sulfide resin, a cycloolefin resin, a liquid crystal polymer resin, and a cellulose resin with a liquid crystal compound. It can be produced using one or more selected from the group consisting of added resins. Therefore, in the high retardation oriented film, a liquid crystal compound is added to a polyester film, a polycarbonate film, a polystyrene film, a syndiotactic polystyrene film, a polyether ether ketone film, a polyphenylene sulfide film, a cycloolefin film, a liquid crystal film, and a cellulose resin. It can be a film.

高リタデーション配向フィルムの好ましい原料樹脂は、ポリカーボネート及び/又はポリエステル、シンジオタクチックポリスチレンである。これらの樹脂は透明性に優れるとともに、熱的、機械的特性にも優れており、延伸加工によって容易にリタデーションを制御することができる。ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートに代表されるポリエステルは固有複屈折が大きく、フィルムの厚みが薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られるので好ましい。特に、ポリエチレンナフタレートは、ポリエステルの中でも固有複屈折率が大きいことから、リタデーションを特に高くしたい場合や、リタデーションを高く保ちながらフィルム厚みを薄くしたい場合に好適である。ポリエステル樹脂を代表例として、より具体的な高リタデーション配向フィルムの製造方法を後述する。 Preferred raw material resins for high retardation oriented films are polycarbonate and / or polyester, syndiotactic polystyrene. These resins are excellent in transparency as well as thermal and mechanical properties, and retardation can be easily controlled by stretching. Polyesters typified by polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferable because they have a large intrinsic birefringence and a large retardation can be obtained relatively easily even if the film thickness is thin. In particular, polyethylene naphthalate has a large intrinsic birefringence among polyesters, and is therefore suitable for cases where it is desired to have a particularly high retardation or when it is desired to reduce the film thickness while maintaining a high retardation. Taking polyester resin as a typical example, a more specific method for producing a high retardation oriented film will be described later.

3000nm未満のリタデーションを有する配向フィルムは、公知の手法を適宜選択して製造することができる。例えば、ポリエステル樹脂、アセテート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂(ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、環状ポリオレフィン等)、(メタ)アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアリレート樹脂、及びポリフェニレンサルファイド樹脂、酢酸セルロース樹脂(トリアセチルセルロース等)等からなる群から選択される樹脂を原料として得ることができる。これらの中でも、ポリエステル樹脂及びポリオレフィン樹脂が好ましく、より好ましくはポリエステル樹脂であり、更に好ましくはポリエチレンテレフタレート及び/又はポリプロピレン樹脂である。 An oriented film having a retardation of less than 3000 nm can be produced by appropriately selecting a known method. For example, polyester resin, acetate resin, polyether sulfone resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin, polyolefin resin (polyethylene resin, polypropylene resin, cyclic polyolefin, etc.), (meth) acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride. A resin selected from the group consisting of resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins, polyphenylene sulfide resins, cellulose acetate resins (triacetyl cellulose, etc.) and the like can be obtained as a raw material. Among these, polyester resin and polyolefin resin are preferable, polyester resin is more preferable, and polyethylene terephthalate and / or polypropylene resin is more preferable.

<配向フィルムの製造方法>
以下に、ポリエステルフィルムを例に、高リタデーション配向フィルムを含む配向フィルムの製造方法を説明する。ポリエステルフィルムは、任意のジカルボン酸とジオールとを縮合させて得ることができる。ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、2,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルスルホンカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、3,3−ジエチルコハク酸、グルタル酸、2,2−ジメチルグルタル酸、アジピン酸、2−メチルアジピン酸、トリメチルアジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、ダイマー酸、セバシン酸、スベリン酸、ドデカジカルボン酸等を挙げることができる。
<Manufacturing method of alignment film>
Hereinafter, a method for producing an alignment film including a high retardation alignment film will be described using a polyester film as an example. The polyester film can be obtained by condensing an arbitrary dicarboxylic acid with a diol. Examples of the dicarboxylic acid include terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, 2,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, and diphenylcarboxylic acid. Acid, diphenoxyetanedicarboxylic acid, diphenylsulfoncarboxylic acid, anthracendicarboxylic acid, 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, hexahydroterephthalic acid, hexahydroisophthalic acid Acids, malonic acids, dimethylmalonic acids, succinic acids, 3,3-diethylsuccinic acid, glutaric acid, 2,2-dimethylglutaric acid, adipic acid, 2-methyladipic acid, trimethyladipic acid, pimelic acid, azelaic acid, Examples thereof include dimer acid, sebacic acid, suberic acid, dodecadicarboxylic acid and the like.

ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、デカメチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサジオール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン等を挙げることができる。 Examples of the diol include ethylene glycol, propylene glycol, hexamethylene glycol, neopentyl glycol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, decamethylene glycol, 1,3-propanediol, and 1,4. Examples thereof include -butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexadiol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, and bis (4-hydroxyphenyl) sulfone.

ポリエステルフィルムを構成するジカルボン酸成分とジオール成分はそれぞれ1種又は2種以上を用いても良い。ポリエステルフィルムを構成する具体的なポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられ、好ましくはポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートであり、より好ましくはポリエチレンテレフタレートである。ポリエステル樹脂は他の共重合成分を含んでも良く、機械強度の点からは共重合成分の割合は3モル%以下が好ましく、より好ましくは2モル%以下、更に好ましくは1.5モル%以下である。これらの樹脂は透明性に優れるとともに、熱的、機械的特性にも優れる。また、これらの樹脂は、延伸加工によって容易にリタデーションを制御することができる。 As the dicarboxylic acid component and the diol component constituting the polyester film, one kind or two or more kinds may be used respectively. Specific examples of the polyester resin constituting the polyester film include polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate and the like, preferably polyethylene terephthalate and polyethylene terephthalate, and more preferably polyethylene terephthalate. be. The polyester resin may contain other copolymerization components, and the proportion of the copolymerization components is preferably 3 mol% or less, more preferably 2 mol% or less, still more preferably 1.5 mol% or less from the viewpoint of mechanical strength. be. These resins are excellent in transparency as well as thermal and mechanical properties. In addition, the retardation of these resins can be easily controlled by stretching.

ポリエステルフィルムは、一般的な製造方法に従って得ることができる。具体的には、ポリエステル樹脂を溶融し、シート状に押出し成形された無配向ポリエステルをガラス転移温度以上の温度において、ロールの速度差を利用して縦方向に延伸した後、テンターにより横方向に延伸し、熱処理を施すことにより配向ポリエステルフィルムが挙げられる。ポリエステルフィルムは、一軸延伸フィルムであっても、二軸延伸フィルムであっても良い。高リタデーション配向フィルムは斜め45度に延伸されたものであってもよい。 The polyester film can be obtained according to a general manufacturing method. Specifically, a non-oriented polyester obtained by melting a polyester resin and extruding it into a sheet is stretched in the vertical direction at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature by utilizing the speed difference of the rolls, and then laterally stretched by a tenter. An oriented polyester film can be mentioned by stretching and heat-treating. The polyester film may be a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film. The high retardation alignment film may be stretched at an angle of 45 degrees.

ポリエステルフィルムを得るための製造条件は、公知の手法に従って適宜設定することが出来る。例えば、縦延伸温度及び横延伸温度は、通常80〜130℃であり、好ましくは90〜120℃である。縦延伸倍率は、通常1.0〜3.5倍であり、好ましくは1.0倍〜3.0倍である。また、横延伸倍率は、通常2.5〜6.0倍であり、好ましくは3.0〜5.5倍である。 The production conditions for obtaining the polyester film can be appropriately set according to a known method. For example, the longitudinal stretching temperature and the transverse stretching temperature are usually 80 to 130 ° C., preferably 90 to 120 ° C. The longitudinal stretching ratio is usually 1.0 to 3.5 times, preferably 1.0 to 3.0 times. The lateral stretching ratio is usually 2.5 to 6.0 times, preferably 3.0 to 5.5 times.

リタデーションを特定範囲に制御することは、延伸倍率や延伸温度、フィルムの厚みを適宜設定することにより行うことができる。例えば、縦延伸と横延伸の延伸倍率差が高いほど、延伸温度が低いほど、フィルムの厚みが厚いほど高いリタデーションを得やすくなる。逆に、縦延伸と横延伸の延伸倍率差が低いほど、延伸温度が高いほど、フィルムの厚みが薄いほど低いリタデーションを得やすくなる。また、延伸温度が高いほど、トータル延伸倍率が低いほど、リタデーションと厚さ方向リタデーションの比(Re/Rth)が低いフィルムが得やすくなる。逆に、延伸温度が低いほど、トータル延伸倍率が高いほど、リタデーションと厚さ方向リタデーションの比(Re/Rth)が高いフィルムが得られる。更に、熱処理温度は、通常140〜240℃が好ましく、好ましくは180〜240℃である。 Controlling the retardation within a specific range can be performed by appropriately setting the stretching ratio, stretching temperature, and film thickness. For example, the higher the difference in stretching ratio between longitudinal stretching and transverse stretching, the lower the stretching temperature, and the thicker the film, the easier it is to obtain high retardation. On the contrary, the lower the difference in stretching ratio between the longitudinal stretching and the transverse stretching, the higher the stretching temperature, and the thinner the film thickness, the easier it is to obtain lower retardation. Further, the higher the stretching temperature and the lower the total stretching ratio, the easier it is to obtain a film having a low ratio (Re / Rth) of retardation and retardation in the thickness direction. On the contrary, the lower the stretching temperature and the higher the total stretching ratio, the higher the ratio of retardation to thickness direction retardation (Re / Rth) can be obtained. Further, the heat treatment temperature is usually preferably 140 to 240 ° C, preferably 180 to 240 ° C.

ポリエステルフィルムにおけるリタデーションの変動を抑制する為には、フィルムの厚み斑が小さいことが好ましい。リタデーション差をつけるために縦延伸倍率を低くすると、縦厚み斑の値が高くなる場合がある。縦厚み斑の値は延伸倍率のある特定の範囲で非常に高くなる領域があるため、そのような範囲を外すように製膜条件を設定することが望ましい。 In order to suppress fluctuations in retardation in the polyester film, it is preferable that the thickness unevenness of the film is small. If the longitudinal stretching ratio is lowered in order to make a difference in retardation, the value of the longitudinal thickness spot may increase. Since there is a region where the value of the vertical thickness spot becomes very high in a specific range of the draw ratio, it is desirable to set the film forming conditions so as to exclude such a range.

配向ポリエステルフィルムの厚み斑は5.0%以下であることが好ましく、4.5%以下であることがさらに好ましく、4.0%以下であることがよりさらに好ましく、3.0%以下であることが特に好ましい。フィルムの厚み斑は、任意の手段で測定することができる。例えば、フィルムの流れ方向に連続したテープ状サンプル(長さ3m)を採取し、市販される測定器(例えば、(株)セイコー・イーエム製電子マイクロメータ ミリトロン1240)を用いて、1cmピッチで100点の厚みを測定し、厚みの最大値(dmax)、最小値(dmin)、平均値(d)を求め、下記式にて厚み斑(%)を算出することができる。
厚み斑(%)=((dmax−dmin)/d)×100
The thickness unevenness of the oriented polyester film is preferably 5.0% or less, further preferably 4.5% or less, further preferably 4.0% or less, and 3.0% or less. Is particularly preferred. The thickness unevenness of the film can be measured by any means. For example, a tape-shaped sample (length 3 m) continuous in the flow direction of the film is taken, and a commercially available measuring instrument (for example, an electronic micrometer Millitron 1240 manufactured by Seiko EM Co., Ltd.) is used to measure 100 at a pitch of 1 cm. The thickness of the points is measured, the maximum value (dmax), the minimum value (dmin), and the average value (d) of the thickness are obtained, and the thickness unevenness (%) can be calculated by the following formula.
Thickness spot (%) = ((dmax-dmin) / d) × 100

<画像表示セル及び光源>
画像表示装置において、画像表示セルから射出される光は、虹斑を抑制するという観点から、連続的で幅広い発光スペクトルを有することが好ましい。ここで、「連続的で幅広い発光スペクトル」とは、少なくとも450〜650nmの波長領域、好ましくは可視光の領域において光の強度がゼロになる波長領域が存在しない発光スペクトルを意味する。可視光領域とは、例えば、400〜760nmの波長領域であり、360〜760nm、400〜830nm、又は360〜830nmであり得る。
<Image display cell and light source>
In an image display device, the light emitted from the image display cell preferably has a continuous and wide emission spectrum from the viewpoint of suppressing rainbow spots. Here, the "continuous and wide emission spectrum" means an emission spectrum in which there is no wavelength region in which the light intensity becomes zero in a wavelength region of at least 450 to 650 nm, preferably in the visible light region. The visible light region is, for example, a wavelength region of 400 to 760 nm, and may be 360 to 760 nm, 400 to 830 nm, or 360 to 830 nm.

画像表示装置が画像表示セルとして有機ELセルを備える場合、有機ELセル自体が連続的で幅広い発光スペクトルを有する光源としての機能を有する。一方、画像表示装置が画像表示セルとして液晶セルを備える場合、連続的で幅広い発光スペクトルを有する白色光源を備えることが好ましい。 When the image display device includes an organic EL cell as an image display cell, the organic EL cell itself has a function as a light source having a continuous and wide emission spectrum. On the other hand, when the image display device includes a liquid crystal cell as an image display cell, it is preferable to include a white light source having a continuous and wide emission spectrum.

連続的で幅広い発光スペクトルを有する白色光源の方式及び構造は特に制限されず、例えば、エッジライト方式又は直下型方式であり得る。そのような白色光源としては、例えば、白色発光ダイオード(白色LED)を挙げることができる。白色LEDには、蛍光体方式のもの(即ち、化合物半導体を使用した青色光、及び紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子)並びに有機発光ダイオード(Organic light−emitting diode:OLED)等を挙げることができる。連続的で幅広い発光スペクトルを有し、且つ、発光効率にも優れているという観点から、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードが好ましい。 The method and structure of the white light source having a continuous and wide emission spectrum are not particularly limited, and may be, for example, an edge light method or a direct type method. Examples of such a white light source include a white light emitting diode (white LED). White LEDs include phosphor-type ones (that is, blue light using a compound semiconductor, and an element that emits white light by combining a light emitting diode that emits ultraviolet light and a phosphor) and an organic light-emitting diode. : OLED) and the like. White light consisting of a blue light emitting diode using a compound semiconductor and a yttrium aluminum garnet yellow phosphor combined from the viewpoint of having a continuous and wide emission spectrum and excellent luminous efficiency. Light emitting diodes are preferred.

有機ELセルは、当該技術分野において知られる有機ELセルを適宜選択して使用することができる。有機ELセルの使用は、広視野角、高コントラスト、及び高速応答である点で、好ましい。代表的な有機ELセルの模式的断面図を図3に示す。有機ELセル(E4)は、典型的に透明基板(E17)上に透明電極である陽極(E18)、有機発光層(E19)、及び金属電極である陰極(E20)を視認側からこの順で積層した構造を有する発光体(有機エレクトロルミネセンス発光体)である。有機ELセルは、陽極と陰極との間に電圧が印加されたときに、陽極から注入されたホール(正孔)と陰極から注入された電子とが有機発光層中で再結合することによって発光する。 As the organic EL cell, an organic EL cell known in the art can be appropriately selected and used. The use of organic EL cells is preferred in that it has a wide viewing angle, high contrast, and fast response. A schematic cross-sectional view of a typical organic EL cell is shown in FIG. The organic EL cell (E4) typically has an anode (E18) which is a transparent electrode, an organic light emitting layer (E19), and a cathode (E20) which is a metal electrode on a transparent substrate (E17) in this order from the visual side. It is a luminescent material having a laminated structure (organic electroluminescence luminescent material). When a voltage is applied between the anode and the cathode, the organic EL cell emits light by recombination of holes injected from the anode and electrons injected from the cathode in the organic light emitting layer. do.

前記透明基板としては、任意の透明基板を採用し得る。例えば、透明基板は、ガラス基板、セラミックス基板、半導体基板、金属基板、及びプラスチック基板から成る群より選択され得る。具体的なプラスチック基板としては、後述するタッチパネルに用いられる基材フィルムとして従来から使用される透明樹脂フィルムを挙げることができる。透明基板は、必要に応じて、表面処理層が設けられていても良い。表面処理層としては、例えば、透湿防止層、ガスバリア層、ハードコート層、アンダーコート層等を挙げることができる。 Any transparent substrate may be adopted as the transparent substrate. For example, the transparent substrate can be selected from the group consisting of glass substrates, ceramic substrates, semiconductor substrates, metal substrates, and plastic substrates. Specific examples of the plastic substrate include a transparent resin film conventionally used as a base film used for a touch panel described later. The transparent substrate may be provided with a surface treatment layer, if necessary. Examples of the surface treatment layer include a moisture permeation prevention layer, a gas barrier layer, a hard coat layer, an undercoat layer and the like.

陽極及び陰極を構成する材料は、金属、酸化金属、合金、電気伝導性化合物、これらの混合物等を挙げることができる。陽極を構成するより具体的な材料としては、金、銀、クロム、ニッケル、ヨウ化銅、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化スズ、酸化亜鉛等の導電性透明材料が挙げられる。陰極を構成するより具体的な材料としては、マグネシウム、アルミニウム、インジウム、リチウム、ナトリウム、セシウム、銀、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、及びリチウム−アルミニウム合金等が挙げられる。 Examples of the material constituting the anode and the cathode include metals, metals oxide, alloys, electrically conductive compounds, and mixtures thereof. More specific materials constituting the anode include conductive transparent materials such as gold, silver, chromium, nickel, copper iodide, indium tin oxide (ITO), tin oxide, and zinc oxide. More specific materials constituting the cathode include magnesium, aluminum, indium, lithium, sodium, cesium, silver, magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, lithium-aluminum alloy and the like.

陽極及び陰極の厚みは、陽極及び陰極を構成する材料に応じて、任意に設定することができる。陽極の厚みは、例えば、10nm〜200nm、好ましくは10nm〜100nmの範囲から適宜設定することができる。陰極の厚みは、例えば、10nm〜1000nmであり、好ましくは10nm〜200nmの範囲から適宜設定することができる。 The thickness of the anode and the cathode can be arbitrarily set according to the material constituting the anode and the cathode. The thickness of the anode can be appropriately set, for example, from the range of 10 nm to 200 nm, preferably 10 nm to 100 nm. The thickness of the cathode is, for example, 10 nm to 1000 nm, and is preferably set from the range of 10 nm to 200 nm.

有機発光層は、電圧印加時に、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。上記有機発光層は、有機発光材料を含み、単層構造であっても、2層以上の積層構造であってもよい。積層構造の場合、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。上記有機発光層の厚みは、任意であり、例えば、3nm〜3μmの範囲で適宜設定することができる。 The organic light emitting layer is a layer having a function of providing a field for recombination of holes and electrons to emit light when a voltage is applied. The organic light emitting layer contains an organic light emitting material and may have a single layer structure or a laminated structure of two or more layers. In the case of a laminated structure, each layer may emit light with a different emission color. The thickness of the organic light emitting layer is arbitrary and can be appropriately set in the range of, for example, 3 nm to 3 μm.

有機発光層に使用される有機発光材料は、任意の発光材料から適宜選択することができる。具体的には、4,4’−(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニル等のオレフィン系発光材料;9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン、9,10−ビス(3,5−ジフェニルフェニル)アントラセン、9,10−ビス(9,9−ジメチルフルオレニル)アントラセン、9,10−(4−(2,2−ジフェニルビニル)フェニル)アントラセン、9,10’−ビス(2−ビフェニリル)−9,9’−ビスアントラセン、9,10、9’、10’−テトラフェニル−2,2’−ビアントリル、1,4−ビス(9−フェニル−10−アントラセン)ベンゼン等のアントラセン系発光材料;2,7,2’,7’−テトラキス(2,2−ジフェニルビニル)スピロビフルオレン等のスピロ系発光材料;4,4’−ジカルバゾルビフェニル、1,3−ジカルバゾリルベンゼン等のカルバゾール系発光材料;1,3,5−トリピレニンベンゼン等のピレン系発光材料等から成る群から適宜選択することができる。 The organic light emitting material used for the organic light emitting layer can be appropriately selected from any light emitting materials. Specifically, olefin-based luminescent materials such as 4,4'-(2,2-diphenylvinyl) biphenyl; 9,10-di (2-naphthyl) anthracene, 9,10-bis (3,5-diphenylphenyl). ) Anthracene, 9,10-bis (9,9-dimethylfluorenyl) anthracene, 9,10- (4- (2,2-diphenylvinyl) phenyl) anthracene, 9,10'-bis (2-biphenylyl) Anthracene-based luminescent materials such as -9,9'-bisanthracene, 9,10,9', 10'-tetraphenyl-2,2'-bianthracene, 1,4-bis (9-phenyl-10-anthracene) benzene Spiro-based luminescent materials such as 2,7,2', 7'-tetrakis (2,2-diphenylvinyl) spirobifluorene; 4,4'-dicarbazolbiphenyl, 1,3-dicarbazolylbenzene, etc. Carbazole-based luminescent material; can be appropriately selected from the group consisting of pyrene-based luminescent materials such as 1,3,5-tripireninbenzene and the like.

有機ELセルは、上記基材上の陽極、有機発光層、及び陰極で構成される有機EL素子を外気から遮断するために、有機EL素子を覆うように形成される封止部材を備えていても良い。封止部材を備えることにより、外気中の水分及び酸素によって有機発光層の発光特性の劣化を防止することができる。 The organic EL cell includes a sealing member formed so as to cover the organic EL element in order to shield the organic EL element composed of the anode, the organic light emitting layer, and the cathode on the base material from the outside air. Is also good. By providing the sealing member, it is possible to prevent deterioration of the light emitting characteristics of the organic light emitting layer due to moisture and oxygen in the outside air.

有機EL素子は、任意の部材(例えば、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、及び/又は電子輸送層)を任意の適切な位置に更に備えていても良い。 The organic EL device may further include any member (eg, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and / or an electron transport layer) at any suitable position.

画像表示セルとして有機ELセルを用いる場合、通常、画像表示装置における偏光板は必須ではない。しかし、有機発光層の厚みが10nm程度と薄いために、外光が金属電極で反射して再び視認側へ出射され、外部から視認したとき、有機EL表示装置の表示面が鏡面のように見える場合がある。このような外光の鏡面反射を遮蔽するために、有機ELセルの視認側には、偏光板を設け、更に有機ELセルと前記偏光板との間に1/4波長板を設けることが好ましい。これらの視認側偏光板と1/4波長板との組合せにより円偏光板を構成することにより、有機ELセルの金属電極で鏡面反射した外光が、円偏光板で遮蔽されるため、画像表示装置の視認性の低下を抑制することができる。 When an organic EL cell is used as an image display cell, a polarizing plate in an image display device is usually not essential. However, since the thickness of the organic light emitting layer is as thin as about 10 nm, the external light is reflected by the metal electrode and emitted to the visual recognition side again, and when visually recognized from the outside, the display surface of the organic EL display device looks like a mirror surface. In some cases. In order to shield such specular reflection of external light, it is preferable to provide a polarizing plate on the visual side of the organic EL cell and further provide a 1/4 wave plate between the organic EL cell and the polarizing plate. .. By forming a circularly polarizing plate by combining these viewing-side polarizing plates and a 1/4 wave plate, the external light reflected on the mirror surface by the metal electrode of the organic EL cell is shielded by the circularly polarizing plate, so that an image is displayed. It is possible to suppress a decrease in the visibility of the device.

液晶セルは、液晶表示装置において使用され得る任意の液晶セルを適宜選択して使用することができ、その方式や構造は特に制限されない。例えば、VAモード、IPSモード、TNモード、STNモードやベンド配向(π型)等の液晶セルを適宜選択して使用できる。よって、液晶セルは、公知の液晶材料及び今後開発され得る液晶材料で作製された液晶を適宜選択して使用することができる。一実施形態において好ましい液晶セルは、透過型の液晶セルである。 As the liquid crystal cell, any liquid crystal cell that can be used in the liquid crystal display device can be appropriately selected and used, and the method and structure thereof are not particularly limited. For example, a liquid crystal cell such as a VA mode, an IPS mode, a TN mode, an STN mode, or a bend orientation (π type) can be appropriately selected and used. Therefore, as the liquid crystal cell, a liquid crystal made of a known liquid crystal material or a liquid crystal material that can be developed in the future can be appropriately selected and used. A preferred liquid crystal cell in one embodiment is a transmissive liquid crystal cell.

<偏光板及び偏光子保護フィルム>
偏光板は、フィルム状の偏光子の両側を2枚の保護フィルム(「偏光子保護フィルム」と称する場合もある)で挟んだ構造を有する。偏光子は、当該技術分野において使用される任意の偏光子(又は偏光フィルム)を適宜選択して使用することができる。代表的な偏光子としては、ポリビニルアルコール(PVA)フィルム等にヨウ素等の二色性材料を染着させたものを挙げることができるが、これに限定されるものではなく、公知及び今後開発され得る偏光子を適宜選択して用いることができる。
<Polarizer and polarizer protective film>
The polarizing plate has a structure in which both sides of a film-shaped polarizing element are sandwiched between two protective films (sometimes referred to as "polarizer protective films"). As the polarizing element, any polarizing element (or polarizing film) used in the art can be appropriately selected and used. As a typical polarizer, a polyvinyl alcohol (PVA) film or the like dyed with a dichroic material such as iodine can be mentioned, but the present invention is not limited to this, and is known and developed in the future. The obtained polarizer can be appropriately selected and used.

PVAフィルムは、市販品を用いることができ、例えば、「クラレビニロン((株)クラレ製)」、「トーセロビニロン(東セロ(株)製)]、「日合ビニロン(日本合成化学(株)製)]等を用いることができる。二色性材料としてはヨウ素、ジアゾ化合物、ポリメチン染料等を挙げることができる。 Commercially available PVA films can be used, for example, "Kuraray Vinylon (manufactured by Kuraray Co., Ltd.)", "Tosero Vinylon (manufactured by Tohcello Co., Ltd.)", "Nigo Vinylon (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.)". (Manufactured)] and the like. Examples of the bicolor material include iodine, a diazo compound, a polymethine dye and the like.

偏光子は、任意の手法で得ることができ、例えば、PVAフィルムを二色性材料で染着させたものをホウ酸水溶液中で一軸延伸し、延伸状態を保ったまま洗浄及び乾燥を行うことにより得ることができる。一軸延伸の延伸倍率は、通常4〜8倍程度であるが特に制限されない。他の製造条件等は公知の手法に従って適宜設定することができる。 The polarizer can be obtained by any method. For example, a PVA film dyed with a dichroic material is uniaxially stretched in an aqueous boric acid solution, and washed and dried while maintaining the stretched state. Can be obtained by The draw ratio of uniaxial stretching is usually about 4 to 8 times, but is not particularly limited. Other manufacturing conditions and the like can be appropriately set according to a known method.

視認側偏光子の視認側の保護フィルム(視認側偏光子保護フィルム)は、高リタデーション配向フィルム、又は偏光子保護フィルムとして従来から使用される任意のフィルムであり得るが、これらに限定されるものではない。 The protective film on the visual side of the polarizing element on the visual side (protective film on the polarizing element on the visual side) can be a high retardation alignment film or any film conventionally used as a polarizing element protective film, but is limited thereto. is not it.

視認側偏光子の光源側の保護フィルム及び光源側偏光子の保護フィルムの種類は任意であり、従来から保護フィルムとして使用されるフィルムを適宜選択して使用することができる。取り扱い性及び入手の容易性といった観点から、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム、アクリルフィルム、及び環状オレフィン系フィルム(例えば、ノルボルネン系フィルム)、ポリプロピレンフィルム、及びポリオレフィン系フィルム(例えば、TPX)等から成る群より選択される一種以上の複屈折性を有さないフィルムを用いることが好ましい。 The type of the protective film on the light source side of the polarizing element on the viewing side and the protective film on the polarizing element on the light source side are arbitrary, and a film conventionally used as a protective film can be appropriately selected and used. From the viewpoint of handleability and availability, for example, triacetyl cellulose (TAC) film, acrylic film, cyclic olefin film (for example, norbornene film), polypropylene film, polyolefin film (for example, TPX) and the like. It is preferable to use one or more non-polyrefractive films selected from the group consisting of.

一実施形態において、視認側偏光子の光源側保護フィルム及び光源側偏光子の視認側保護フィルムは、光学補償機能を有する光学補償フィルムであることが好ましい。そのような光学補償フィルムは画像表示セルの各方式に合わせて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース中に液晶化合物(例えば、ディスコティック液晶化合部及び/又は複屈折性化合物)を分散させた樹脂、環状オレフィン樹脂(例えば、ノルボルネン樹脂)、プロピオニルアセテート樹脂、ポリカーボネートフィルム樹脂、アクリル樹脂、スチレンアクリロニトリル共重合体樹脂、ラクトン環含有樹脂、及びイミド基含有ポリオレフィン樹脂等なら成る群より選択される1種以上から得られるものを挙げることができる。 In one embodiment, the light source side protective film of the viewing side polarizer and the viewing side protective film of the light source side polarizing element are preferably optical compensation films having an optical compensation function. Such an optical compensation film can be appropriately selected according to each method of the image display cell, and for example, a liquid crystal compound (for example, a discotic liquid crystal compounding portion and / or a birefractive compound) is dispersed in triacetyl cellulose. Selected from the group consisting of a resin, a cyclic olefin resin (for example, norbornene resin), a propionyl acetate resin, a polycarbonate film resin, an acrylic resin, a styrene acrylonitrile copolymer resin, a lactone ring-containing resin, an imide group-containing polyolefin resin, and the like. The ones obtained from one or more kinds can be mentioned.

光学補償フィルムは、商業的に入手可能であるため、それらを適宜選択して使用することも可能である。例えば、TN方式用の「ワイドビュー−EA」及び「ワイドビュー−T」(富士フイルム社製)、VA方式用の「ワイドビュー−B」(富士フイルム社製)、VA−TAC(コニカミノルタ社製)、「ゼオノアフィルム」(日本ゼオン社製)、「アートン」(JSR社製)、「X−plate」(日東電工社製)、並びにIPS方式用の「Z−TAC」(富士フイルム社製)、「CIG」(日東電工社製)、「P−TAC」(大倉工業社製)等が挙げられる。 Since the optical compensation films are commercially available, they can be appropriately selected and used. For example, "Wide View-EA" and "Wide View-T" for TN method (manufactured by Fujifilm), "Wide View-B" for VA method (manufactured by Fujifilm), VA-TAC (Konica Minolta) (Manufactured by), "Zeonor Film" (manufactured by Nippon Zeon), "Arton" (manufactured by JSR), "X-plat" (manufactured by Nitto Denko), and "Z-TAC" for IPS system (manufactured by Fujifilm) ), "CIG" (manufactured by Nitto Denko Corporation), "P-TAC" (manufactured by Okura Industrial Co., Ltd.) and the like.

偏光子保護フィルムは偏光子上に直接又は接着剤層を介して積層することができる。接着性向上の点から、接着剤を介して積層することが好ましい。接着剤としては、特に制限されず任意のものを使用できる。接着剤層を薄くする観点から、水系のもの(即ち、接着剤成分を水に溶解したもの又は水に分散させたもの)が好ましい。例えば、偏光子保護フィルムとしてポリエステルフィルムを用いる場合は、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂、ウレタン樹脂などを用い、接着性を向上させるために、必要に応じてイソシアネート系化合物、エポキシ化合物などを配合した組成物を接着剤として用いることができる。接着剤層の厚みは10μm以下が好ましく、5μm以下がより好ましく、3μm以下がさらに好ましい。 The polarizer protective film can be laminated directly on the polarizer or via an adhesive layer. From the viewpoint of improving adhesiveness, it is preferable to laminate via an adhesive. The adhesive is not particularly limited and any adhesive can be used. From the viewpoint of thinning the adhesive layer, an aqueous type (that is, an adhesive component dissolved in water or dispersed in water) is preferable. For example, when a polyester film is used as the polarizer protective film, a polyvinyl alcohol-based resin, a urethane resin, or the like is used as the main component, and an isocyanate-based compound, an epoxy compound, or the like is blended as necessary in order to improve the adhesiveness. The composition can be used as an adhesive. The thickness of the adhesive layer is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less, and even more preferably 3 μm or less.

偏光子保護フィルムとしてTACフィルムを用いる場合、ポリビニルアルコール系の接着剤を用いて張り合わせることができる。偏光子保護フィルムとして、アクリルフィルム、環状オレフィン系フィルム、ポリプロピレフィルム、又はTPX等の透湿性の低いフィルムを用いる場合は、接着剤として光硬化性接着剤を用いることが好ましい。光硬化性樹脂としては、例えば、光硬化性エポキシ樹脂と光カチオン重合開始剤との混合物などを
挙げることができる。
When a TAC film is used as the polarizer protective film, it can be bonded using a polyvinyl alcohol-based adhesive. When a film having low moisture permeability such as an acrylic film, a cyclic olefin film, a polypropire film, or TPX is used as the polarizer protective film, it is preferable to use a photocurable adhesive as the adhesive. Examples of the photocurable resin include a mixture of a photocurable epoxy resin and a photocationic polymerization initiator.

偏光子保護フィルムの厚みは任意であり、例えば、15〜300μmの範囲、好ましくは30〜200μmの範囲で適宜設定できる。 The thickness of the polarizer protective film is arbitrary, and can be appropriately set, for example, in the range of 15 to 300 μm, preferably in the range of 30 to 200 μm.

<タッチパネル、透明導電性フィルム、基材フィルム、飛散防止フィルム>
画像表示装置は、タッチパネルを備え得る。タッチパネルの種類及び方式は特に制限されないが、例えば、抵抗膜方式タッチパネル及び静電容量方式タッチパネルを挙げることができる。タッチパネルは、その方式に関係なく、通常、1枚又は2枚以上の透明導電性フィルムを有する。透明導電性フィルムは、基材フィルム上に透明導電層が積層された構造を有する。基材フィルムとして、高リタデーション配向フィルム又は従来から基材フィルムとして用いられる他のフィルム若しくはガラス板等の剛性板を用いることができる。
<Touch panel, transparent conductive film, base film, shatterproof film>
The image display device may include a touch panel. The type and method of the touch panel are not particularly limited, and examples thereof include a resistive touch panel and a capacitance type touch panel. The touch panel usually has one or more transparent conductive films regardless of the method. The transparent conductive film has a structure in which a transparent conductive layer is laminated on a base film. As the base film, a high retardation oriented film or another film conventionally used as a base film or a rigid plate such as a glass plate can be used.

基材フィルムとして従来から用いられる他のフィルムとしては、透明性を有する各種の樹脂フィルムを挙げることができる。例えば、ポリエステル樹脂、アセテート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアリレート樹脂、及びポリフェニレンサルファイド樹脂等から成る群から選択される1種以上の樹脂から得られるフィルムを使用することができる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、及びポリオレフィン樹脂が好ましく、より好ましくはポリエステル樹脂である。 Examples of other films conventionally used as the base film include various transparent resin films. For example, polyester resin, acetate resin, polyether sulfone resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin, polyolefin resin, (meth) acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyarylate. A film obtained from one or more kinds of resins selected from the group consisting of resins, polyphenylene sulfide resins and the like can be used. Among these, polyester resin, polycarbonate resin, and polyolefin resin are preferable, and polyester resin is more preferable.

基材フィルムの厚みは任意であるが、15〜500μmの範囲が好ましい。 The thickness of the base film is arbitrary, but is preferably in the range of 15 to 500 μm.

基材フィルムは、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理や下塗り処理を施してもよい。これにより、基材フィルム上に設けられる透明導電層等との密着性を向上させることができる。また、透明導電層等を設ける前に、必要に応じて基材フィルムの表面を溶剤洗浄や超音波洗浄などにより除塵、清浄化してもよい。 The surface of the base film may be subjected to an etching treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, oxidation, or an undercoating treatment in advance. This makes it possible to improve the adhesion with the transparent conductive layer or the like provided on the base film. Further, before providing the transparent conductive layer or the like, the surface of the base film may be dust-removed and cleaned by solvent cleaning, ultrasonic cleaning, or the like, if necessary.

透明導電層は、直接基材フィルムに積層されても良いが、易接着層及び/又は種々の他の層を介して積層することが出来る。他の層としては、例えば、ハードコート層、インデックスマッチング(IM)層、及び低屈折率層等を挙げることができる。代表的な透明導電性フィルムの積層構造としては、次の6パターンを挙げることが出来るが、これらに限定されるわけではない。
(1)基材フィルム/易接着層/透明導電層
(2)基材フィルム/易接着層/ハードコート層/透明導電層
(3)基材フィルム/易接着層/IM(インデックスマッチング)層/透明導電層
(4)基材フィルム/易接着層/ハードコート層/IM(インデックスマッチング)層/透明導電層
(5)基材フィルム/易接着層/ハードコート層(高屈折率でIMを兼ねる)/透明導電層(6)基材フィルム/易接着層/ハードコート層(高屈折率)/低屈折率層/透明導電性薄膜
The transparent conductive layer may be laminated directly on the base film, but can be laminated via an easy-adhesion layer and / or various other layers. Examples of other layers include a hard coat layer, an index matching (IM) layer, a low refractive index layer, and the like. The following six patterns can be mentioned as a typical laminated structure of the transparent conductive film, but the laminated structure is not limited to these.
(1) Base film / Easy-adhesion layer / Transparent conductive layer (2) Base film / Easy-adhesion layer / Hard coat layer / Transparent conductive layer (3) Base film / Easy-adhesion layer / IM (index matching) layer / Transparent conductive layer (4) Base film / Easy-adhesion layer / Hard coat layer / IM (index matching) layer / Transparent conductive layer (5) Base film / Easy-adhesion layer / Hard coat layer (also serves as IM with high refractive index ) / Transparent conductive layer (6) Base film / Easy-adhesion layer / Hard coat layer (high refractive index) / Low refractive index layer / Transparent conductive thin film

IM層は、それ自体が高屈折率層/低屈折率層の積層構成(透明導電性薄膜側が低屈折率層)であるため、これを用いることにより、液晶表示画面を見た際にITOパターンを見え難くすることができる。上記(6)のように、IM層の高屈折率層とハードコート層を一体化させることもでき、薄型化の観点から好ましい。 Since the IM layer itself has a laminated structure of a high refractive index layer / a low refractive index layer (the transparent conductive thin film side is a low refractive index layer), by using this, the ITO pattern is displayed when the liquid crystal display screen is viewed. Can be obscured. As described in (6) above, the high refractive index layer of the IM layer and the hard coat layer can be integrated, which is preferable from the viewpoint of thinning.

上記(3)〜(6)の構成は、静電容量式のタッチパネルにおける使用に特に適している。また、上記(2)〜(6)の構成は、基材フィルムの表面にオリゴマーが析出することが防止できるという観点で好ましく、基材フィルムのもう一方の片面にもハードコート層を設けることが好ましい。 The configurations (3) to (6) above are particularly suitable for use in a capacitive touch panel. Further, the above configurations (2) to (6) are preferable from the viewpoint of preventing oligomers from depositing on the surface of the base film, and a hard coat layer may be provided on the other side of the base film. preferable.

基材フィルム上の透明導電層は、導電性金属酸化物により形成される。透明導電層を構成する導電性金属酸化物は特に限定されず、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも1種の金属の導電性金属酸化物が用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。好ましい透明導電層は、例えば、スズドープ酸化インジウム(ITO)層及びアンチモンドープ酸化スズ(ATO)層であり、より好ましくはITO層である。また、Agナノワイヤー、Agインク、Agインクの自己組織化導電膜、網目状電極、CNTインク、導電性高分子であってもよい。 The transparent conductive layer on the base film is formed of a conductive metal oxide. The conductive metal oxide constituting the transparent conductive layer is not particularly limited, and is composed of the group consisting of indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, copper, palladium and tungsten. Conductive metal oxides of at least one selected metal are used. The metal oxide may further contain the metal atoms shown in the above group, if necessary. Preferred transparent conductive layers are, for example, a tin-doped indium oxide (ITO) layer and an antimony-doped tin oxide (ATO) layer, and more preferably an ITO layer. Further, it may be Ag nanowire, Ag ink, self-assembled conductive film of Ag ink, mesh-like electrode, CNT ink, or conductive polymer.

透明導電層の厚みは特に制限されないが、10nm以上であることが好ましく、15〜40nmであることがより好ましく、20〜30nmであることがさらに好ましい。透明導電層の厚みが15nm以上であると、表面抵抗が例えば1×103Ω/□以下の良好な連続被膜が得られ易い。また、透明導電層の厚みが40nm以下であると、より透明性の高い層とすることができる。 The thickness of the transparent conductive layer is not particularly limited, but is preferably 10 nm or more, more preferably 15 to 40 nm, and further preferably 20 to 30 nm. When the thickness of the transparent conductive layer is 15 nm or more, it is easy to obtain a good continuous coating having a surface resistance of, for example, 1 × 10 3 Ω / □ or less. Further, when the thickness of the transparent conductive layer is 40 nm or less, a more transparent layer can be obtained.

透明導電層は、公知の手順に従って形成することができる。例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法を例示できる。透明導電層は、アモルファスであってもよく、結晶性のものであってもよい。結晶性の透明導電層を形成する方法としては、一旦基材上にアモルファス膜を形成した後、該アモルファス膜を可撓性透明基材とともに加熱・結晶化することによって形成することが好ましい。 The transparent conductive layer can be formed according to a known procedure. For example, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and an ion plating method can be exemplified. The transparent conductive layer may be amorphous or crystalline. As a method for forming the crystalline transparent conductive layer, it is preferable to form the amorphous film once on the substrate and then heat and crystallize the amorphous film together with the flexible transparent substrate.

本発明の透明導電性フィルムは、透明導電層の面内の一部が除去されてパターン化されたものであってもよい。透明導電層がパターン化された透明導電性フィルムは、基材フィルム上に透明導電層が形成されているパターン形成部と、基材フィルム上に透明導電層を有していないパターン開口部とを有する。パターン形成部の形状は、例えば、ストライプ状の他、スクエア状等が挙げられる。 The transparent conductive film of the present invention may be patterned by removing a part of the transparent conductive layer in the plane. The transparent conductive film in which the transparent conductive layer is patterned has a pattern forming portion in which the transparent conductive layer is formed on the base film and a pattern opening having no transparent conductive layer on the base film. Have. Examples of the shape of the pattern forming portion include a striped shape and a square shape.

タッチパネルの光源側及び/又は視認側には、上記透明基体として1枚又は2枚以上の飛散防止フィルムを有することが好ましい。飛散防止フィルムは、上述した高リタデーション配向フィルム又は従来から飛散防止フィルムとして用いられる各種のフィルム(例えば、上記基材フィルムについて記載した透明樹脂フィルム)を用いることもできる。飛散防止フィルムが2枚以上設けられる場合、それらは同一の材料から形成されていてもよく、異なっていても良い。 It is preferable to have one or more shatterproof films as the transparent substrate on the light source side and / or the visual recognition side of the touch panel. As the shatterproof film, the above-mentioned high retardation alignment film or various films conventionally used as the shatterproof film (for example, the transparent resin film described for the above-mentioned base film) can also be used. When two or more shatterproof films are provided, they may be made of the same material or may be different.

配向フィルムを画像表示装置の表面カバー板の飛散防止フィルムとして使用する場合、配向フィルムの配置は表面カバー板の光源側であっても視認側であっても良い。また、配向フィルムの両側にガラスを積層させた合わせガラス構造であっても良い。配向フィルムが表面カバー板の光源側である場合には、配向フィルムの表面カバー板とは反対側に反射防止層を設けることが好ましい。反射防止層を設けることによって明るくクリアな画像が得られる。 When the alignment film is used as a shatterproof film on the surface cover plate of the image display device, the alignment film may be arranged on the light source side or the visual recognition side of the surface cover plate. Further, it may have a laminated glass structure in which glass is laminated on both sides of the alignment film. When the alignment film is on the light source side of the surface cover plate, it is preferable to provide an antireflection layer on the side opposite to the surface cover plate of the alignment film. A bright and clear image can be obtained by providing the antireflection layer.

配向フィルムを飛散防止フィルムとして用いる場合には、配向フィルムに紫外線吸収機能を付与することが好ましい。紫外線吸収機能の付与は、配向フィルムに紫外線吸収剤を添加すること、又は配向フィルムの視認側に紫外線吸収コートを施すこと等によって行うことができる。配向フィルムが表面カバー板の視認側にある場合には、配向フィルムの表面カバー板とは反対側に反射防止層、防眩層、帯電防止層、防汚層等を設けることが好ましい。この場合、最表面の表面カバー板の光源側に反射防止層を設けても良いし、視認側の他の部材と接着材で貼り合わせても良い。 When the alignment film is used as a shatterproof film, it is preferable to impart an ultraviolet absorbing function to the alignment film. The ultraviolet absorbing function can be imparted by adding an ultraviolet absorber to the alignment film, or by applying an ultraviolet absorbing coating to the visible side of the alignment film. When the alignment film is on the visible side of the surface cover plate, it is preferable to provide an antireflection layer, an antiglare layer, an antistatic layer, an antifouling layer, etc. on the side opposite to the surface cover plate of the alignment film. In this case, an antireflection layer may be provided on the light source side of the outermost surface cover plate, or may be bonded to another member on the visual viewing side with an adhesive.

偏光子保護フィルム、基材フィルム、及び飛散防止フィルムは、本発明の効果を妨げない範囲で、各種の添加剤を含有させることができる。例えば、紫外線吸収剤、無機粒子、耐熱性高分子粒子、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、リン化合物、帯電防止剤、耐光剤、難燃剤、熱安定剤、酸化防止剤、ゲル化防止剤、界面活性剤等が挙げられる。また、高い透明性を奏するためにはポリエステルフィルムに実質的に粒子を含有しないことも好ましい。「粒子を実質的に含有させない」とは、例えば無機粒子の場合、ケイ光X線分析で無機元素を定量した場合に重量で50ppm以下、好ましくは10ppm以下、特に好ましくは検出限界以下となる含有量を意味する。 The polarizer protective film, the base film, and the shatterproof film can contain various additives as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, UV absorbers, inorganic particles, heat-resistant polymer particles, alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, phosphorus compounds, antistatic agents, lightfasteners, flame retardants, heat stabilizers, antioxidants, antigelling agents. , Surfactants and the like. Further, in order to obtain high transparency, it is also preferable that the polyester film contains substantially no particles. "Substantially free of particles" means, for example, in the case of inorganic particles, when the inorganic elements are quantified by Keiko X-ray analysis, the weight is 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, and particularly preferably the detection limit or less. Means quantity.

配向フィルムは、種々の機能層を有していても良い。そのような機能層としては、例えば、ハードコート層、防眩層、反射防止層、低反射層、低反射防眩層、反射防止防眩層、帯電防止層、シリコーン層、粘着層、防汚層、撥水層、及びブルーカット層等からなる群より選択される1種以上を用いることができる。防眩層、反射防止層、低反射層、低反射防眩層、及び/又は反射防止防眩層を設けることにより、斜め方向から観察したときの色斑が改善されるという効果も期待できる。 The alignment film may have various functional layers. Such functional layers include, for example, a hard coat layer, an antiglare layer, an antireflection layer, a low reflection layer, a low reflection antiglare layer, an antireflection antiglare layer, an antistatic layer, a silicone layer, an adhesive layer, and an antifouling layer. One or more selected from the group consisting of a layer, a water-repellent layer, a blue-cut layer, and the like can be used. By providing the antiglare layer, the antireflection layer, the low reflection layer, the low reflection antiglare layer, and / or the antireflection antiglare layer, it can be expected that the color spots when observed from an oblique direction are improved.

種々の機能層を設けるに際して、配向フィルムの表面に易接着層を有することが好ましい。その際、反射光による干渉を抑える観点から、易接着層の屈折率を、機能層の屈折率と配向フィルムの屈折率の相乗平均近傍になるように調整することが好ましい。易接着層の屈折率の調整は、公知の方法を採用することができ、例えば、バインダー樹脂に、チタンやジルコニウム、その他の金属種を含有させることで容易に調整することができる。 When providing various functional layers, it is preferable to have an easy-adhesion layer on the surface of the alignment film. At that time, from the viewpoint of suppressing interference due to reflected light, it is preferable to adjust the refractive index of the easy-adhesion layer so as to be close to the geometric mean of the refractive index of the functional layer and the refractive index of the alignment film. A known method can be adopted for adjusting the refractive index of the easy-adhesion layer, and for example, it can be easily adjusted by adding titanium, zirconium, or other metal species to the binder resin.

(ハードコート層)
ハードコート層は、硬度及び透明性を有する層であれば良く、通常、紫外線又は電子線で代表的には硬化させる電離放射線硬化性樹脂、熱で硬化させる熱硬化性樹脂等の各種の硬化性樹脂の硬化樹脂層として形成されたものが利用される。これら硬化性樹脂に、適宜柔軟性、その他物性等を付加する為に、熱可塑性樹脂等も適宜添加してもよい。硬化性樹脂のなかでも、代表的であり且つ優れた硬質塗膜が得られる点で好ましいのが電離放射線硬化性樹脂である。
(Hard coat layer)
The hard coat layer may be a layer having hardness and transparency, and usually has various curability such as an ionizing radiation curable resin that is typically cured by ultraviolet rays or an electron beam, and a thermosetting resin that is cured by heat. What is formed as a cured resin layer of the resin is used. A thermoplastic resin or the like may be appropriately added to these curable resins in order to appropriately add flexibility and other physical properties. Among the curable resins, the ionizing radiation curable resin is preferable in that a typical and excellent hard coating film can be obtained.

上記電離放射線硬化性樹脂としては、従来公知の樹脂を適宜採用すれば良い。なお、電離放射線硬化性樹脂としては、エチレン性二重結合を有するラジカル重合性化合物、エポキシ化合物等の様なカチオン重合性化合物等が代表的に用いられ、これら化合物はモノマー、オリゴマー、プレポリマー等としてこれらを単独で、或いは2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。代表的な化合物は、ラジカル重合性化合物である各種(メタ)アクリレート系化合物である。(メタ)アクリレート系化合物の中で、比較的低分子量で用いる化合物としては、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、アクリル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、等が挙げられる。 As the ionizing radiation curable resin, a conventionally known resin may be appropriately used. As the ionizing radiation curable resin, radically polymerizable compounds having an ethylenic double bond, cationically polymerizable compounds such as epoxy compounds and the like are typically used, and these compounds are monomers, oligomers, prepolymers and the like. These can be used alone or in combination of two or more as appropriate. Typical compounds are various (meth) acrylate compounds which are radically polymerizable compounds. Among the (meth) acrylate compounds, examples of the compound used at a relatively low molecular weight include polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, acrylic (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and urethane (meth). ) Acrylate, etc. can be mentioned.

モノマーとしては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー;或いは、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6‐ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の多官能モノマー等も適宜用いられる。(メタ)アクリレートとは、アクリレート或いはメタクリレートを意味する。 Examples of the monomer include monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, and N-vinylpyrrolidone; or, for example, trimethylpropantri (meth) acrylate and tripropylene glycol di. (Meta) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. Polyfunctional monomers and the like are also used as appropriate. (Meta) acrylate means acrylate or methacrylate.

電離放射線硬化性樹脂を電子線で硬化させる場合、光重合開始剤は不要であるが、紫外線で硬化させる場合は、公知の光重合開始剤を用いる。例えば、ラジカル重合系の場合は、光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることができる。カチオン重合系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合して用いることができる。 When the ionizing radiation curable resin is cured with an electron beam, a photopolymerization initiator is not required, but when it is cured with ultraviolet rays, a known photopolymerization initiator is used. For example, in the case of a radical polymerization system, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoins, benzoin methyl ethers and the like can be used alone or in combination as the photopolymerization initiator. In the case of a cationic polymerization system, an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodonium salt, a metaserone compound, a benzoin sulfonic acid ester and the like can be used alone or in combination as the photopolymerization initiator.

ハードコート層の厚みは、適宜の厚さとすればよく、例えば0.1〜100μmであるが、通常は1〜30μmとする。また、ハードコート層は公知の各種塗工法を適宜採用して形成することができる。 The thickness of the hard coat layer may be an appropriate thickness, for example, 0.1 to 100 μm, but usually 1 to 30 μm. Further, the hard coat layer can be formed by appropriately adopting various known coating methods.

電離放射線硬化性樹脂には、適宜物性調整等の為に、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂等も適宜添加することができる。熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂としては、各々、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。 A thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like can be appropriately added to the ionizing radiation curable resin in order to adjust the physical properties as appropriate. Examples of the thermoplastic resin or the thermosetting resin include acrylic resin, urethane resin, polyester resin and the like.

ハードコート層に耐光性を付与し、日光等に含まれる紫外線による変色、強度劣化、亀裂発生等を防止する為には、電離放射線硬化性樹脂中に紫外線吸収剤を添加することも好ましい。紫外線吸収剤を添加する場合、該紫外線吸収剤によってハードコート層の硬化が阻害されることを確実に防ぐ為、電離放射線硬化性樹脂は電子線で硬化させることが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物等の有機系紫外線吸収剤、或いは粒径0.2μm以下の微粒子状の酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム等の無機系紫外線吸収剤等、公知の物の中から選択して用いれば良い。紫外線吸収剤の添加量は、電離放射線硬化性樹脂組成物中に0.01〜5質量%程度である。耐光性をより向上させる為に、紫外線吸収剤と併用して、ヒンダードアミン系ラジカル捕捉剤等のラジカル捕捉剤を添加するのが好ましい。なお、電子線照射は加速電圧70kV〜1MV、照射線量5〜100kGy(0.5〜10Mrad)程度である。 It is also preferable to add an ultraviolet absorber to the ionizing radiation curable resin in order to impart light resistance to the hard coat layer and prevent discoloration, strength deterioration, crack generation and the like due to ultraviolet rays contained in sunlight and the like. When an ultraviolet absorber is added, the ionizing radiation curable resin is preferably cured by an electron beam in order to prevent the curing of the hard coat layer from being hindered by the ultraviolet absorber. Examples of the ultraviolet absorber include organic ultraviolet absorbers such as benzotriazole compounds and benzophenone compounds, and inorganic ultraviolet absorbers such as fine zinc oxide, titanium oxide and cerium oxide having a particle size of 0.2 μm or less. It may be selected from known substances and used. The amount of the ultraviolet absorber added is about 0.01 to 5% by mass in the ionizing radiation curable resin composition. In order to further improve the light resistance, it is preferable to add a radical scavenger such as a hindered amine radical scavenger in combination with an ultraviolet absorber. The electron beam irradiation has an acceleration voltage of 70 kV to 1 MV and an irradiation dose of about 5 to 100 kGy (0.5 to 10 Mrad).

(防眩層)
防眩層としては、従来公知のものを適宜採用すれば良く、一般的に、樹脂中に防眩剤を分散した層として形成される。防眩剤としては、無機系又は有機系の微粒子が用いられる。これら微粒子の形状は、真球状、楕円状等である。微粒子は、好ましくは透明性のものが良い。この様な微粒子は、例えば、無機系微粒子としてはシリカビーズ、有機系微粒子としては樹脂ビーズが挙げられる。樹脂ビーズとしては、例えば、スチレンビーズ、メラミンビーズ、アクリルビーズ、アクリルースチレンビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒドビーズなどが挙げられる。微粒子は、通常、樹脂分100質量部に対し、2〜30質量部、好ましくは10〜25質量部程度添加することができる。
(Anti-glare layer)
As the antiglare layer, a conventionally known one may be appropriately adopted, and is generally formed as a layer in which an antiglare agent is dispersed in a resin. As the antiglare agent, inorganic or organic fine particles are used. The shape of these fine particles is a true sphere, an ellipse, or the like. The fine particles are preferably transparent. Examples of such fine particles include silica beads as inorganic fine particles and resin beads as organic fine particles. Examples of the resin beads include styrene beads, melamine beads, acrylic beads, acrylic-styrene beads, polycarbonate beads, polyethylene beads, benzoguanamine-formaldehyde beads and the like. The fine particles can be usually added in an amount of 2 to 30 parts by mass, preferably about 10 to 25 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin content.

防眩剤を分散保持する上記樹脂は、ハードコート層と同じ様に、なるべく硬度が高い方が好ましい。よって、上記樹脂として、例えば、上記ハードコート層で述べた電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等の硬化性樹脂等を用いることができる。 As with the hard coat layer, the resin that disperses and holds the antiglare agent preferably has as high hardness as possible. Therefore, as the resin, for example, a curable resin such as an ionizing radiation curable resin or a thermosetting resin described in the hard coat layer can be used.

防眩層の厚みは、適宜の厚さとすればよく、通常は1〜20μm程度とする。防眩層は公知の各種塗工法を適宜採用して形成することができる。なお、防眩層を形成する為の塗液中には、防眩剤の沈殿を防ぐ為に、シリカ等の公知の沈降防止剤を適宜添加することが好ましい。 The thickness of the antiglare layer may be an appropriate thickness, and is usually about 1 to 20 μm. The antiglare layer can be formed by appropriately adopting various known coating methods. It is preferable to appropriately add a known anti-precipitation agent such as silica to the coating liquid for forming the anti-glare layer in order to prevent the anti-glare agent from precipitating.

(反射防止層)
反射防止層としては、従来公知のものを適宜採用すれば良い。一般に、反射防止層は少なくとも低屈折率層からなり、更に低屈折率層と(該低屈折率層よりも屈折率が高い)高屈折率層とを交互に隣接積層し且つ表面側を低屈折率層とした多層の層からなる。低屈折率層及び高屈折率層の各厚みは、用途に応じた適宜厚みとすれば良く、隣接積層時は各々0.1μm前後、低屈折率層単独時は0.1〜1μm程度であることが好ましい。
(Anti-reflective layer)
As the antireflection layer, a conventionally known one may be appropriately adopted. In general, the antireflection layer is composed of at least a low refractive index layer, and further, a low refractive index layer and a high refractive index layer (which has a higher refractive index than the low refractive index layer) are alternately laminated adjacent to each other, and the surface side is low-refractive. It consists of a multi-layered layer. The thickness of each of the low-refractive-index layer and the high-refractive-index layer may be appropriately set according to the intended use, and is about 0.1 μm each when adjacently laminated, and about 0.1 μm when the low-refractive index layer alone is used. Is preferable.

低屈折率層としては、シリカ、フッ化マグネシウム等の低屈折率物質を樹脂中に含有させた層、フッ素系樹脂等の低屈折率樹脂の層、低屈折率物質を低屈折率樹脂中に含有させた層、シリカ、フッ化マグネシウム等の低屈折率物質からなる層を薄膜形成法(例えば、蒸着、スパッタ、CVD、等の物理的又は化学的気相成長法)で形成した薄膜、酸化ケイ素のゾル液から酸化ケイ素ゲル膜を形成するゾルゲル法で形成した膜、或いは、低屈折率物質として空隙含有微粒子を樹脂中に含有させた層等が挙げられる。 As the low refractive index layer, a layer containing a low refractive index substance such as silica or magnesium fluoride in the resin, a layer of a low refractive index resin such as a fluororesin, and a low refractive index substance in the low refractive index resin. A thin film formed by a thin film forming method (for example, a physical or chemical vapor phase growth method such as vapor deposition, sputtering, CVD, etc.) or oxidation of the contained layer or a layer made of a low refractive index substance such as silica or magnesium fluoride. Examples thereof include a film formed by a sol-gel method for forming a silicon oxide gel film from a silicon sol solution, and a layer in which void-containing fine particles are contained in a resin as a low refractive index substance.

上記空隙含有微粒子とは、内部に気体を含む微粒子、気体を含む多孔質構造の微粒子等のことであり、微粒子固体部分の本来の屈折率に対して、該気体による空隙によって微粒子全体としては、見かけ上屈折率が低下した微粒子を意味する。この様な空隙含有微粒子としては、特開2001−233611号公報に開示のシリカ微粒子等が挙げられる。また、空隙含有微粒子としては、シリカの様な無機物以外に、特開2002−805031号公報等に開示の中空ポリマー微粒子も挙げられる。空隙含有微粒子の粒径は、例えば5〜300nm程度である。 The void-containing fine particles are fine particles containing a gas inside, fine particles having a porous structure containing a gas, and the like. It means fine particles with an apparently reduced refractive index. Examples of such void-containing fine particles include silica fine particles disclosed in JP-A-2001-233611. In addition to inorganic substances such as silica, the void-containing fine particles include hollow polymer fine particles disclosed in JP-A-2002-805031 and the like. The particle size of the void-containing fine particles is, for example, about 5 to 300 nm.

高屈折率層としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛等の高屈折率物質を樹脂中に含有させた層、フッ素非含有樹脂等の高屈折率樹脂の層、高屈折率物質を高屈折率樹脂中に含有させた層、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛等の高屈折率物質からなる層を薄膜形成法(例えば、蒸着、スパッタ、CVD、等の物理的乃至は化学的気相成長法)で形成した薄膜等が挙げられる。 Examples of the high refractive index layer include a layer containing a high refractive index substance such as titanium oxide, zirconium oxide, and zinc oxide in the resin, a layer of a high refractive index resin such as a fluorine-free resin, and a high refractive index substance. A layer contained in a rate resin and a layer made of a high refractive index substance such as titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, etc. are formed by a thin film forming method (for example, physical or chemical vapor phase growth such as vapor deposition, sputtering, CVD, etc.). The thin film formed by the method) can be mentioned.

(帯電防止層)
帯電防止層としては、従来公知のものを適宜採用すれば良く、一般的に、樹脂中に帯電防止層を含有させた層として形成される。帯電防止層としては、有機系や無機系の化合物が用いられる。例えば、有機系化合物の帯電防止層としては、カチオン系帯電防止剤、アニオン系帯電防止剤、両性系帯電防止剤、ノニオン系帯電防止剤、有機金属系帯電防止剤等が挙げられ、またこれら帯電防止剤は低分子化合物として用いられるほか、高分子化合物としても用いられる。また、帯電防止剤としては、ポリチオフェン、ポリアニリン等の導電性ポリマー等も用いられる。また、帯電防止剤として例えば金属酸化物からなる導電性微粒子等も用いられる。導電性微粒子の粒径は透明性の点で、例えば平均粒径0.1nm〜0.1μm程度である。なお、該金属酸化物としては、例えば、ZnO、CeO、Sb、SnO、ITO(インジウムドープ酸化錫)、In、Al、ATO(アンチモンドープ酸化錫)、AZO(アルミニウムドープ酸化亜鉛)等が挙げられる。
(Antistatic layer)
As the antistatic layer, a conventionally known one may be appropriately adopted, and is generally formed as a layer containing an antistatic layer in a resin. As the antistatic layer, an organic compound or an inorganic compound is used. For example, examples of the antistatic layer of the organic compound include a cationic antistatic agent, an anionic antistatic agent, an amphoteric antistatic agent, a nonionic antistatic agent, an organic metal antistatic agent, and the like. The inhibitor is used not only as a low molecular weight compound but also as a high molecular weight compound. Further, as the antistatic agent, a conductive polymer such as polythiophene or polyaniline is also used. Further, as an antistatic agent, for example, conductive fine particles made of a metal oxide or the like are also used. The particle size of the conductive fine particles is, for example, about 0.1 nm to 0.1 μm on average in terms of transparency. Examples of the metal oxide include ZnO, CeO 2 , Sb 2 O 2 , SnO 2 , ITO (indium-doped tin oxide), In 2 O 3 , Al 2 O 3 , ATO (antimon-doped tin oxide), and the like. AZO (aluminum-doped zinc oxide) and the like can be mentioned.

帯電防止層を含有させる上記樹脂としては、例えば、上記ハードコート層で述べた様な、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等の硬化性樹脂等が使用される他、帯電防止層を中間層として形成して帯電防止層自体の表面強度が不要な場合には、熱可塑性樹脂等も使用される。帯電防止層の厚みは、適宜厚さとすればよく、通常は0.01〜5μm程度とする。帯電防止層は公知の各種塗工法を適宜採用して形成することができる。 As the resin containing the antistatic layer, for example, a curable resin such as an ionizing radiation curable resin or a thermosetting resin as described in the hard coat layer is used, and an antistatic layer is used as an intermediate. When the antistatic layer itself is formed as a layer and the surface strength of the antistatic layer itself is not required, a thermoplastic resin or the like is also used. The thickness of the antistatic layer may be appropriately adjusted, and is usually about 0.01 to 5 μm. The antistatic layer can be formed by appropriately adopting various known coating methods.

配向フィルムを偏光子保護フィルムとして使用する場合には、その表層に帯電防止層を積層することが好ましい。帯電防止層を積層する場合、帯電防止層と防眩層とを重ねて積層すること、又は防眩層に帯電防止剤を加え、両層を兼ね備えるような層を積層することが好ましい。尚、画像表示装置を組み立てる際、偏光板表面にはプロセス部材として偏光板保護フィルム(偏光子保護フィルムとは異なり、液晶表示装置内には最終的に組み入られず、液晶表示装置の製造工程途中で捨てられる部材)が使用されることが通常であるが、この偏光板保護フィルムが偏光板に接する側又はその反対側に帯電防止層を設けることが好ましい。 When the alignment film is used as a polarizer protective film, it is preferable to laminate an antistatic layer on the surface layer thereof. When laminating the antistatic layer, it is preferable to stack the antistatic layer and the antiglare layer on top of each other, or to add an antistatic agent to the antistatic layer and laminate a layer having both layers. When assembling the image display device, the polarizing plate protective film (unlike the polarizing element protective film) is not finally incorporated into the liquid crystal display device as a process member on the surface of the polarizing plate, and is in the middle of the manufacturing process of the liquid crystal display device. (Members discarded in the above) are usually used, but it is preferable to provide an antistatic layer on the side where the polarizing plate protective film is in contact with the polarizing plate or on the opposite side.

(防汚層)
防汚層としては、従来公知のものを適宜採用すれば良く、一般的に、樹脂中に、シリコーンオイル、シリコーン樹脂等の珪素系化合物;フッ素系界面活性剤、フッ素系樹脂等のフッ素系化合物;ワックス等の防汚染剤を含む塗料を用いて公知の塗工法で形成することができる。防汚層の厚みは、適宜厚さとすればよく、通常は1〜10μm程度とすることが出来る。
(Anti-fouling layer)
As the antifouling layer, a conventionally known one may be appropriately adopted, and generally, a silicon-based compound such as silicone oil or silicone resin; a fluorine-based compound such as a fluorine-based surfactant or a fluorine-based resin is contained in the resin. It can be formed by a known coating method using a paint containing an antifouling agent such as wax. The thickness of the antifouling layer may be appropriately set, and is usually about 1 to 10 μm.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記実施例によって制限を受けるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜変更を加えて実施することも可能であり、それらは、いずれも本発明の技術的範囲に含まれる。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited by the following Examples, and is carried out with appropriate modifications to the extent that it can be adapted to the gist of the present invention. It is also possible, all of which are within the technical scope of the invention.

虹斑の評価
下記構成1及び2を有する画像表示装置において、視認側表面に、視認側表面と平行になるように偏光フィルムを配置して画面に白画像を表示させた。前記平行状態を維持したまま偏光フィルムの偏光軸と画像表示装置の視認側偏光子の偏光軸とが形成する角を360度回転させながら白画像を眺めて虹斑発生の有無及び程度を確認し、下記の基準に従って評価した。
Evaluation of Rainbow Spots In an image display device having the following configurations 1 and 2, a polarizing film was arranged on the viewing side surface so as to be parallel to the viewing side surface, and a white image was displayed on the screen. While maintaining the parallel state, the white image is viewed while rotating the angle formed by the polarization axis of the polarizing film and the polarization axis of the polarizing element on the visual side of the image display device by 360 degrees to confirm the presence or absence and degree of rainbow spots. , Evaluated according to the following criteria.

<評価基準>
◎:正面から観察しても、斜めから観察しても、特に虹斑は観察されず視認性は良好
○:正面から観察したときは特に虹斑は観察されないが、斜めから観察したときに薄く虹斑が観察されるものの実用上の問題ない視認性が得られた。
×:正面から観察しても、斜めから観察しても虹斑が観察される。
<Evaluation criteria>
⊚: No rainbow spots are observed when observed from the front or diagonally, and visibility is good. ○: No rainbow spots are observed when observed from the front, but thin when observed from an angle. Although rainbow spots were observed, visibility was obtained without any practical problems.
X: Iridescent spots are observed whether observed from the front or from an angle.

<画像表示装置の構成1>
(1)画像表示セル:有機ELセル
(2)視認側偏光板:PVAとヨウ素からなる偏光子の両側の保護フィルムとしてTACフィルム(富士フイルム(株)社製、厚み80μm)を貼り合わせた偏光板の画像表示セル側に1/4波長板を貼りあわせた偏光板。
(3)視認側飛散防止フィルム:下記配向フィルム1〜5
なお、飛散防止フィルムはガラス板にOCA(Optical Clear Adhesive)を介して張り合わせ、飛散防止フィルムが画像表示セル側となるよう、画像表示装置を組み立てた。
<Configuration 1 of image display device>
(1) Image display cell: Organic EL cell (2) Visualizing side polarizing plate: Polarized light to which a TAC film (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., thickness 80 μm) is bonded as a protective film on both sides of a polarizing element composed of PVA and iodine. A polarizing plate in which a 1/4 wave plate is attached to the image display cell side of the plate.
(3) Visible side shatterproof film: The following oriented films 1 to 5
The shatterproof film was attached to a glass plate via OCA (Optical Clear Adhesive), and an image display device was assembled so that the shatterproof film was on the image display cell side.

<画像表示装置の構成2>
(1)バックライト光源:白色LED又は冷陰極管
(2)光源側偏光板:PVAとヨウ素からなる偏光子の両側の保護フィルムとしてTACフィルムを有する。
(3)画像表示セル:液晶セル
(4)視認側偏光板:PVAとヨウ素からなる偏光子の両側保護フィルムとしてTACフィルム(富士フイルム(株)社製、厚み80μm)を貼り合わせた偏光板
(5)光源側飛散防止フィルム:下配向フィルム1〜5
(6)タッチパネル:ガラス基材上にITOからなる透明導電層を設けて作成した透明導電性フィルムを、スペーサーを介して配置した構造を有する抵抗膜方式タッチパネル。
<Configuration 2 of image display device>
(1) Backlight light source: White LED or cold cathode tube (2) Light source side polarizing plate: A TAC film is provided as a protective film on both sides of a polarizer composed of PVA and iodine.
(3) Image display cell: Liquid crystal cell (4) Visualizing side polarizing plate: A polarizing plate to which a TAC film (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., thickness 80 μm) is bonded as a protective film on both sides of a polarizer composed of PVA and iodine. 5) Light source side shatterproof film: bottom-aligned films 1-5
(6) Touch panel: A resistance film type touch panel having a structure in which a transparent conductive film formed by providing a transparent conductive layer made of ITO on a glass base material is arranged via a spacer.

製造例−PET(A)
エステル化反応缶を昇温し200℃に到達した時点で、テレフタル酸を86.4質量部およびエチレングリコール64.6質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを0.017質量部、酢酸マグネシウム4水和物を0.064質量部、トリエチルアミン0.16質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行いゲージ圧0.34MPa、240℃の条件で加圧エステル化反応を行った後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸0.014質量部を添加した。さらに、15分かけて260℃に昇温し、リン酸トリメチル0.012質量部を添加した。次いで15分後に、高圧分散機で分散処理を行い、15分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、280℃で減圧下重縮合反応を行った。
Production example-PET (A)
When the temperature of the esterification reaction can was raised to 200 ° C., 86.4 parts by mass of terephthalic acid and 64.6 parts by mass of ethylene glycol were charged, and 0.017 parts by mass of antimony trioxide was used as a catalyst while stirring. 0.064 parts by mass of magnesium acetate tetrahydrate and 0.16 parts by mass of triethylamine were charged. Then, the pressure was raised and the pressure esterification reaction was carried out under the conditions of a gauge pressure of 0.34 MPa and 240 ° C., the esterification reaction can was returned to normal pressure, and 0.014 parts by mass of phosphoric acid was added. Further, the temperature was raised to 260 ° C. over 15 minutes, and 0.012 parts by mass of trimethyl phosphate was added. Then, after 15 minutes, dispersion treatment was carried out with a high-pressure disperser, and after 15 minutes, the obtained esterification reaction product was transferred to a polycondensation reaction can, and a polycondensation reaction was carried out under reduced pressure at 280 ° C.

重縮合反応終了後、95%カット径が5μmのナスロン(登録商標)製フィルタで濾過処理を行い、ノズルからストランド状に押出し、予め濾過処理(孔径:1μm以下)を行った冷却水を用いて冷却、固化させ、ペレット状にカットした。得られたポリエチレンテレフタレート樹脂(A)の固有粘度は0.62dl/gであり、不活性粒子及び内部析出粒子は実質上含有していなかった。(以後、PET(A)と略す。) After completion of the polycondensation reaction, filtration is performed with a filter made by Naslon (registered trademark) having a 95% cut diameter of 5 μm, extruded into a strand shape from a nozzle, and using cooling water that has been previously filtered (pore diameter: 1 μm or less). It was cooled, solidified, and cut into pellets. The intrinsic viscosity of the obtained polyethylene terephthalate resin (A) was 0.62 dl / g, and it contained substantially no inert particles and internally precipitated particles. (Hereafter, it is abbreviated as PET (A).)

配向フィルム1
粒子を含有しないPET(A)樹脂ペレット135℃で6時間減圧乾燥(1Torr)した後、押出機に供給し、285℃で溶解した。このポリマーを、ステンレス焼結体の濾材(公称濾過精度10μm粒子95%カット)で濾過し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。
Orientation film 1
The PET (A) resin pellets containing no particles were dried under reduced pressure (1 Torr) at 135 ° C. for 6 hours, then supplied to an extruder and dissolved at 285 ° C. This polymer is filtered through a stainless sintered filter medium (nominal filtration accuracy of 10 μm particles 95% cut), extruded into a sheet from the base, and then cast into a casting drum with a surface temperature of 30 ° C. using an electrostatic application casting method. It was wound and cooled and solidified to make an unstretched film.

未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度125℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に4.0倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度225℃、30秒間で処理し、さらに幅方向に3%の緩和処理を行い、フィルム厚み約50μmの一軸配向の配向フィルム1を得た。配向フィルム1のReは5177nm、Rthは6602nm、Re/Rthは0.784であった。 The unstretched film was guided to a tenter stretching machine, and while gripping the end of the film with a clip, it was guided to a hot air zone having a temperature of 125 ° C. and stretched 4.0 times in the width direction. Next, while maintaining the width stretched in the width direction, the film was treated at a temperature of 225 ° C. for 30 seconds, and further subjected to a relaxation treatment of 3% in the width direction to obtain a uniaxially oriented oriented film 1 having a film thickness of about 50 μm. rice field. The Re of the alignment film 1 was 5177 nm, the Rth was 6602 nm, and the Re / Rth was 0.784.

配向フィルム2
未延伸フィルムの厚みを変更することにより、フィルムの厚みを約100μmとする以外は、配向フィルム1と同様にして一軸配向の配向フィルム2を得た。配向フィルム2のReは10200nm、Rthは13233nm、Re/Rthは0.771であった。
Orientation film 2
By changing the thickness of the unstretched film, a uniaxially oriented oriented film 2 was obtained in the same manner as the oriented film 1 except that the film thickness was set to about 100 μm. The Re of the alignment film 2 was 10200 nm, the Rth was 13233 nm, and the Re / Rth was 0.771.

配向フィルム3
未延伸フィルムを、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて105℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に1.5倍延伸した後、配向フィルム1と同様の方法で幅方向に4.0倍延伸した以外は配向フィルム1と同様にして、フィルム厚み約50μmの二軸配向の配向フィルム3を得た。配向フィルム3のReは3915nm、Rthは6965nm、Re/Rthは0.562であった。
Orientation film 3
The unstretched film is heated to 105 ° C. using a heated roll group and an infrared heater, then stretched 1.5 times in the traveling direction by the roll group having a peripheral speed difference, and then stretched 1.5 times in the traveling direction, and then in the same manner as in the alignment film 1. A biaxially oriented oriented film 3 having a film thickness of about 50 μm was obtained in the same manner as the oriented film 1 except that the film was stretched 4.0 times in the width direction. The Re of the alignment film 3 was 3915 nm, the Rth was 6965 nm, and the Re / Rth was 0.562.

配向フィルム4
走行方向に3.6倍、幅方向に4.0倍延伸した以外は配向フィルム3と同様にして、フィルム厚み約38μmの二軸配向の配向フィルム4を得た。配s向フィルム4のReは1178nm、Rthは6365nm、Re/Rthは0.185であった。
Orientation film 4
A biaxially oriented oriented film 4 having a film thickness of about 38 μm was obtained in the same manner as the oriented film 3 except that the film was stretched 3.6 times in the traveling direction and 4.0 times in the width direction. The Re of the orientation film 4 was 1178 nm, the Rth was 6365 nm, and the Re / Rth was 0.185.

配向フィルム5
未延伸フィルムの厚みを変更することにより、フィルムの厚みを約200μmとする以外は、配向フィルム1と同様にして一軸配向の配向フィルム5を得た。配向フィルム5のReは20500nmであった。
Orientation film 5
By changing the thickness of the unstretched film, a uniaxially oriented oriented film 5 was obtained in the same manner as the oriented film 1 except that the film thickness was set to about 200 μm. The Re of the alignment film 5 was 20500 nm.

リタデーション(Re)及び厚さ方向リタデーション(Rth)は、次の通り測定した。即ち、二枚の偏光板を用いて、フィルムの配向主軸方向を求め、配向主軸方向が直交するように4cm×2cmの長方形を切り出し、測定用サンプルとした。このサンプルについて、直交する二軸の屈折率(Nx,Ny)、及び厚さ方向の屈折率(Nz)をアッベ屈折率計(アタゴ社製、NAR−4T)によって求め、前記二軸の屈折率差の絶対値(|Nx−Ny|)を屈折率の異方性(△Nxy)として求めた。フィルムの厚みd(nm)は電気マイクロメータ(ファインリューフ社製、ミリトロン1245D)を用いて測定し、単位をnmに換算した。屈折率の異方性(△Nxy)とフィルムの厚みd(nm)の積(△Nxy×d)より、リタデーション(Re)を求めた。また、リタデーションの測定と同様の方法でNx、Ny、Nzとフィルム厚みd(nm)を求め、(△Nxz×d)、(△Nyz×d)の平均値を算出して厚さ方向リタデーション(Rth)を求めた。 The retardation (Re) and the thickness direction retardation (Rth) were measured as follows. That is, the orientation spindle direction of the film was determined using two polarizing plates, and a rectangle of 4 cm × 2 cm was cut out so that the orientation spindle directions were orthogonal to each other, and used as a measurement sample. For this sample, the refractive indexes (Nx, Ny) of the two axes orthogonal to each other and the refractive index (Nz) in the thickness direction were determined by an Abbe refractive index meter (NAR-4T manufactured by Atago Co., Ltd.), and the refractive indexes of the two axes were obtained. The absolute value of the difference (| Nx-Ny |) was determined as the anisotropy of the refractive index (ΔNxy). The film thickness d (nm) was measured using an electric micrometer (Millitron 1245D, manufactured by Finereuf), and the unit was converted to nm. The retardation (Re) was determined from the product (ΔNxy × d) of the anisotropy of the refractive index (ΔNxy) and the thickness d (nm) of the film. Further, Nx, Ny, Nz and the film thickness d (nm) are obtained by the same method as the measurement of retardation, and the average value of (ΔNxz × d) and (ΔNyz × d) is calculated to perform thickness direction retardation (ΔNyz × d). Rth) was calculated.

評価結果を下記の表1に示す。 The evaluation results are shown in Table 1 below.

Figure 0006939833
Figure 0006939833

上記表1に示される通り、3000nm以上のリタデーションを有する配向フィルムを視認側偏光子よりも視認側に設けることにより、画像表示セルとして有機ELセル及び液晶セル(光源が冷陰極管の場合を除く)のいずれを用いた場合にも、虹斑の発生が抑制されることが確認された。 As shown in Table 1 above, by providing an alignment film having a retardation of 3000 nm or more on the viewing side of the polarizing element on the viewing side, an organic EL cell and a liquid crystal cell (excluding the case where the light source is a cold cathode tube) are provided as image display cells. It was confirmed that the occurrence of iridescent spots was suppressed when any of) was used.

E1 有機EL表示装置
E4 有機ELセル
E5 視認側偏光板
E6 タッチパネル
E7 光源側偏光子
E8 視認側偏光子
E9a 偏光子保護フィルム
E9b 偏光子保護フィルム
E10a 偏光子保護フィルム
E10b 視認側偏光子保護フィルム
E11 光源側透明導電性フィルム
E11a 光源側基材フィルム
E11b 透明導電層
E12 視認側透明導電性フィルム
E12a 視認側基材フィルム
E12b 透明導電層
E13 スペーサー
E14 光源側飛散防止フィルム
E15 視認側飛散防止フィルム
E16 1/4波長板
L1 液晶表示装置
L2 光源
L3 光源側偏光板
L4 液晶セル
L5 視認側偏光板
L6 タッチパネル
L7 光源側偏光子
L8 視認側偏光子
L9a 偏光子保護フィルム
L9b 偏光子保護フィルム
L10a 偏光子保護フィルム
L10b 視認側偏光子保護フィルム
L11 光源側透明導電性フィルム
L11a 光源側基材フィルム
L11b 透明導電層
L12 視認側透明導電性フィルム
L12a 視認側基材フィルム
L12b 透明導電層
L13 スペーサー
L14 光源側飛散防止フィルム
L15 視認側飛散防止フィルム
E17 基板
E18 陽極
E19 有機発光層
E20 陰極
E1 Organic EL display device E4 Organic EL cell E5 Visualizing side polarizing plate E6 Touch panel E7 Light source side polarizing element E8 Visualizing side polarizing element E9a Polarizer protective film E9b Polarizer protective film E10a Polarizer protective film E10b Visualizing side polarizing element protective film E11 Light source Side transparent conductive film E11a Light source side base film E11b Transparent conductive layer E12 Visible side transparent conductive film E12a Visible side base film E12b Transparent conductive layer E13 Spacer E14 Light source side shatterproof film E15 Visible side shatterproof film E16 1/4 Wavelength plate L1 Liquid crystal display device L2 Light source L3 Light source side polarizing plate L4 Liquid crystal cell L5 Visualizing side polarizing plate L6 Touch panel L7 Light source side polarizer L8 Visualizing side polarizer L9a Polarizer protective film L9b Polarizer protective film L10a Polarizer protective film L10b Visual recognition Side polarizer protective film L11 Light source side transparent conductive film L11a Light source side base film L11b Transparent conductive layer L12 Visible side transparent conductive film L12a Visible side base film L12b Transparent conductive layer L13 Spacer L14 Light source side shatterproof film L15 Visible side Anti-scattering film E17 Substrate E18 Polarized light E19 Organic light emitting layer E20 Polarized light

Claims (1)

(1)有機ELセル、
(2)前記有機ELセルより視認側に配置される偏光板、及び
(3)前記偏光板より視認側に配置される、6000nm以上150000nm以下の面内リタデーションを有する配向フィルム
を有し、前記配向フィルムの面内リタデーションと厚さ方向リタデーションの比(Re/Rth)が0.771以上1.0以下である、有機EL表示装置。
(1) Organic EL cell,
It has an alignment film having (2) a polarizing plate arranged on the visible side of the organic EL cell and (3) an alignment film having in-plane retardation of 6000 nm or more and 150,000 nm or less arranged on the visible side of the polarizing plate. An organic EL display device in which the ratio (Re / Rth) of the in-plane retardation of the alignment film to the retardation in the thickness direction is 0.771 or more and 1.0 or less.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004170875A (en) 2002-11-22 2004-06-17 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd Liquid crystal display device
JP2005157082A (en) * 2003-11-27 2005-06-16 Stanley Electric Co Ltd Display device
JP2008003541A (en) 2006-01-27 2008-01-10 Fujifilm Corp Polarizer protective film, and polarizer and liquid crystal display using the same
JP4878582B2 (en) 2007-07-03 2012-02-15 富士フイルム株式会社 Polarizing plate protective film, and polarizing plate and liquid crystal display device using the same
JP5115403B2 (en) * 2008-08-29 2013-01-09 住友化学株式会社 Protective film for image display device, polarizing plate, and image display device
JP2012230491A (en) * 2011-04-25 2012-11-22 Nitto Denko Corp Transparent conductive film for touch panel, and image display device
CN103649791B (en) 2011-05-18 2016-03-02 东洋纺株式会社 Be applicable to Polarizer and the liquid crystal indicator of 3-D view display reply liquid crystal indicator
JP5472464B2 (en) * 2011-05-18 2014-04-16 東洋紡株式会社 Liquid crystal display device, polarizing plate and polarizer protective film

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