JP6922735B2 - Touch panel sensor and manufacturing method of touch panel sensor - Google Patents

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Description

本発明は、タッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法に関し、より詳しくは、X電極及びY電極の境界を視認困難化できるタッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法に関する。 The present invention relates to a touch panel sensor and a method for manufacturing a touch panel sensor, and more particularly to a method for manufacturing a touch panel sensor and a touch panel sensor that can make the boundary between the X electrode and the Y electrode difficult to see.

静電容量式タッチパネルは、透明基材の一面に複数並列されたX電極を備え、透明基材の他面に複数並列されたY電極を備えており、これらの電極と人間の指との間での静電気結合に基づく静電容量の変化に伴って発生する誘導電流を利用して、タッチパネル上の位置座標を検知する。 The capacitive touch panel includes a plurality of X electrodes arranged in parallel on one surface of the transparent base material, and a plurality of Y electrodes arranged in parallel on the other surface of the transparent base material, and between these electrodes and a human finger. The position coordinates on the touch panel are detected by using the induced current generated by the change of the capacitance based on the electrostatic coupling in.

このようなX電極及びY電極としては、スパッタリング法で製膜されたインジウム−スズの複合酸化物(ITO)からなる透明導電膜が用いられてきた。 As such an X electrode and a Y electrode, a transparent conductive film made of an indium-tin composite oxide (ITO) formed by a sputtering method has been used.

一方、ITO透明導電膜に代えて、導線の集合体からなる透明導電膜によってX電極及びY電極を構成することも試みられている(特許文献1)。 On the other hand, instead of the ITO transparent conductive film, it has been attempted to construct the X electrode and the Y electrode with a transparent conductive film composed of an aggregate of conductors (Patent Document 1).

導線の集合体からなる透明導電膜は、ITO透明導電膜よりも低抵抗を実現することができる。これにより大面積タッチパネルや、ペン入力タッチパネル等を好適に製造できるようになる。 A transparent conductive film made of an aggregate of conductors can realize a lower resistance than an ITO transparent conductive film. This makes it possible to suitably manufacture a large area touch panel, a pen input touch panel, and the like.

しかしながら、導線の材料として特に抵抗の低い金属等を用いる場合には、材料自体が遮光するため、導線を細線化しても透過率の向上に限界がある。配置される導線の間隔を広げたり、導線の線幅を細くする等の対応によって、ある程度の透過率の改善は可能であるが、その分、抵抗値が高くなったり、欠線が生じ易くなったりする。 However, when a metal having a particularly low resistance is used as the material of the conductor, the material itself shields light, so that there is a limit to the improvement of the transmittance even if the conductor is thinned. It is possible to improve the transmittance to some extent by widening the distance between the arranged conductors or narrowing the wire width, but the resistance value will increase and disconnection will easily occur. Or

そのため、導線の集合体からなる透明導電膜を完全に透明にすることは困難であり、これを視認されにくくするための技術が求められる。 Therefore, it is difficult to make a transparent conductive film composed of an aggregate of conductors completely transparent, and a technique for making it difficult to see is required.

特開2012−103761号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-103761

特許文献1は、パターン形成及びX電極及びY電極を重ね合わせが正確であることが望ましいが、両電極を重ね合わせる際の誤差や、導線の形状誤差により、X電極及びY電極を構成する細線との配置関係が乱れる可能性があるため、線太りや干渉縞が生じやすい。このため、線太りや干渉縞を起こさないようにするためには、重ね合わせには高精度が要求され、コストアップにつながる問題があった旨開示する。したがって、これを解決するために、X電極及びY電極を構成する導線を特定のパターンで交差させることによって、両電極を重ね合わせる際の誤差や、導線の形状誤差があっても、格子形状に違和感を感じない効果が得られるとしている。 In Patent Document 1, it is desirable that the pattern formation and the superposition of the X electrode and the Y electrode are accurate. Since the arrangement relationship with and may be disturbed, line thickening and interference fringes are likely to occur. Therefore, in order to prevent line thickening and interference fringes, high accuracy is required for superposition, and it is disclosed that there is a problem leading to cost increase. Therefore, in order to solve this problem, by crossing the conductors constituting the X electrode and the Y electrode in a specific pattern, even if there is an error in superimposing the two electrodes or a shape error of the conductors, the grid shape is formed. It is said that an effect that does not make you feel uncomfortable can be obtained.

しかし、使用時においてユーザー側に設けられるX電極に対して、Y電極は透明基材を介して配置されるため、例えば光路長の差などに起因してX電極の視認性がY電極の視認性よりも高くなる。その結果、ユーザーにおいて、X電極とY電極の境界が視認されてしまうという課題が見出された。 However, since the Y electrode is arranged via the transparent base material with respect to the X electrode provided on the user side at the time of use, the visibility of the X electrode is the visibility of the Y electrode due to, for example, the difference in the optical path length. Higher than sex. As a result, it has been found that the user can visually recognize the boundary between the X electrode and the Y electrode.

そこで本発明の課題は、X電極及びY電極の境界を視認困難化できるタッチパネルセンサー及びタッチパネルセンサーの製造方法を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a touch panel sensor and a method for manufacturing a touch panel sensor that can make the boundary between the X electrode and the Y electrode difficult to see.

また本発明の他の課題は、以下の記載によって明らかとなる。 Further, other problems of the present invention will be clarified by the following description.

上記課題は、以下の各発明によって解決される。 The above problems are solved by the following inventions.

1.
透明基材の一面にX電極を備え、該透明基材の他面にY電極を備え、該Y電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーであって、
前記X電極及び前記Y電極は、それぞれ1組2本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて構成されており、
前記X電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記X電極と前記Y電極の視認性の差を減じるように、前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状及び又は性状を異ならせたタッチパネルセンサー。
2.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が線幅であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせた前記1記載のタッチパネルセンサー。
3.
前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さい前記2記載のタッチパネルセンサー。
4.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせた前記1記載のタッチパネルセンサー。
5.
前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さい前記4記載のタッチパネルセンサー。
6.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせた前記1記載のタッチパネルセンサー。
7.
前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さい前記6記載のタッチパネルセンサー。
8.
前記X電極が形成された支持体と、前記Y電極が形成された支持体とを貼り合わせてなる前記1〜7の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
9.
同一支持体の両面に前記X電極と前記Y電極が各々形成されている前記1〜8の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
10.
前記X電極及び前記Y電極を構成する導電性平行細線は、前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて形成されたものである前記1〜9の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
11.
前記X電極及び前記Y電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線は、メッキにより形成された金属膜を備える前記1〜10の何れかに記載のタッチパネルセンサー。
12.
透明基材の一面にX電極を備え、該透明基材の他面にY電極を備え、該Y電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーの製造方法であって、
前記X電極及び前記Y電極を、それぞれ1組2本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて形成すると共に、
前記X電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記X電極と前記Y電極の視認性の差を減じるように、前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状及び又は性状を異ならせるタッチパネルセンサーの製造方法。
13.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状とが線幅であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせる前記12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
14.
前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける前記13記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
15.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせる前記12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
16.
前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける前記15記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
17.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせる前記12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
18.
前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける前記17記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
19.
前記X電極が形成された支持体と、前記Y電極が形成された支持体とを貼り合わせる前記12〜18の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
20.
同一支持体の両面に前記X電極と前記Y電極を各々形成する前記12〜19の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
21.
前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて前記X電極及び前記Y電極を構成する導電性平行細線を形成する前記12〜20の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
22.
前記X電極及び前記Y電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線に、メッキにより金属膜を形成する前記12〜21の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
1. 1.
A touch panel sensor having an X electrode on one surface of a transparent base material, a Y electrode on the other side of the transparent base material, and a display arranged on the Y electrode side.
The X electrode and the Y electrode are composed of a combination of a plurality of sets of conductive parallel thin wires each consisting of a set of two conductive thin wires.
The conductive thin wire constituting the X electrode and the conductivity constituting the Y electrode so as to reduce the difference in visibility between the X electrode and the Y electrode when the touch panel sensor is viewed from the X electrode side. A touch panel sensor that differs in shape and / or properties from the fine wire.
2.
The shape of the conductive thin wire forming the X electrode and the conductive thin wire forming the Y electrode is a line width, and the line width of the conductive thin wire forming the X electrode and the Y electrode are used. The touch panel sensor according to 1 above, which has a different line width from the constituent thin conductive wires.
3. 3.
2. The touch panel sensor according to 2, wherein the line width of the conductive thin wire constituting the X electrode is smaller than the line width of the conductive thin wire constituting the Y electrode.
4.
The property of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is the reflectance, and the reflectance of the conductive thin wire constituting the X electrode and the Y electrode are used. The touch panel sensor according to 1 above, which has a different reflectance from the constituent thin conductive wire.
5.
4. The touch panel sensor according to 4, wherein the reflectance of the conductive thin wire constituting the X electrode is smaller than the reflectance of the conductive thin wire constituting the Y electrode.
6.
The shape of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is the film thickness, and the film thickness of the conductive thin wire constituting the X electrode and the Y electrode are used. The touch panel sensor according to 1 above, wherein the thickness of the conductive thin wire is different from that of the constituent wire.
7.
The touch panel sensor according to 6, wherein the film thickness of the conductive thin wire constituting the X electrode is smaller than the film thickness of the conductive thin wire constituting the Y electrode.
8.
The touch panel sensor according to any one of 1 to 7, wherein the support on which the X electrode is formed and the support on which the Y electrode is formed are bonded together.
9.
The touch panel sensor according to any one of 1 to 8, wherein the X electrode and the Y electrode are formed on both sides of the same support.
10.
The conductive parallel thin wires constituting the X electrode and the Y electrode use the conductive material as the line-shaped liquid when the line-shaped liquid containing the conductive material applied on the transparent base material is dried. The touch panel sensor according to any one of 1 to 9 above, which is formed by selectively depositing on both edges.
11.
The touch panel sensor according to any one of 1 to 10, wherein the conductive thin wire constituting one or both of the X electrode and the Y electrode includes a metal film formed by plating.
12.
A method for manufacturing a touch panel sensor in which an X electrode is provided on one surface of a transparent base material, a Y electrode is provided on the other side of the transparent base material, and a display is arranged on the Y electrode side.
The X electrode and the Y electrode are formed by combining a plurality of sets of conductive parallel thin wires each consisting of a set of two conductive thin wires.
The conductive thin wire constituting the X electrode and the conductivity constituting the Y electrode so as to reduce the difference in visibility between the X electrode and the Y electrode when the touch panel sensor is viewed from the X electrode side. A method for manufacturing a touch panel sensor that differs in shape and / or properties from the fine wire.
13.
The shape of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is a line width, and the line width of the conductive thin wire constituting the X electrode and the Y electrode 12. The method for manufacturing a touch panel sensor according to 12.
14.
13. The touch panel sensor according to 13. Production method.
15.
The property of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is the reflectance, and the reflectance of the conductive thin wire constituting the X electrode and the Y electrode are used. The method for manufacturing a touch panel sensor according to 12.
16.
The touch panel sensor according to 15. Production method.
17.
The shape of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is the film thickness, and the film thickness of the conductive thin wire constituting the X electrode and the Y electrode are used. The method for manufacturing a touch panel sensor according to the above 12, wherein the thickness of the conductive thin wire to be configured is different.
18.
The touch panel sensor according to 17. Production method.
19.
The method for manufacturing a touch panel sensor according to any one of 12 to 18, wherein the support on which the X electrode is formed and the support on which the Y electrode is formed are bonded together.
20.
The method for manufacturing a touch panel sensor according to any one of 12 to 19, wherein the X electrode and the Y electrode are formed on both sides of the same support.
21.
When the line-shaped liquid containing the conductive material applied on the transparent substrate is dried, the conductive material is selectively deposited on both edges of the line-shaped liquid to form the X electrode and the Y electrode. The method for manufacturing a touch panel sensor according to any one of 12 to 20 above, which forms a conductive parallel thin wire constituting the above.
22.
The method for manufacturing a touch panel sensor according to any one of 12 to 21, wherein a metal film is formed on the conductive thin wire constituting one or both of the X electrode and the Y electrode.

本発明によれば、X電極及びY電極の境界を視認困難化できるタッチパネルセンサー及び該タッチパネルセンサーの製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a touch panel sensor capable of making the boundary between the X electrode and the Y electrode difficult to see, and a method for manufacturing the touch panel sensor.

タッチパネルセンサーの一例を説明する図The figure explaining an example of a touch panel sensor 図1に示したタッチパネルセンサーの要部拡大図Enlarged view of the main part of the touch panel sensor shown in FIG. 図2におけるX電極を説明する図The figure explaining the X electrode in FIG. 図2におけるY電極を説明する図The figure explaining the Y electrode in FIG. タッチパネルセンサーの他の例を説明する図Diagram illustrating another example of a touch panel sensor タッチパネルセンサーの更なる他の例を説明する図A diagram illustrating yet another example of a touch panel sensor. コーヒーステイン現象を説明する図Diagram explaining the coffee stain phenomenon 透明基材上に形成された平行線の一例を説明する図The figure explaining an example of the parallel line formed on the transparent base material 透明基材が単層構造である場合の一例を説明する図The figure explaining an example when the transparent base material has a single layer structure 透明基材が積層構造である場合の一例を説明する図The figure explaining an example when the transparent base material has a laminated structure

以下に、本発明を実施するための形態について詳しく説明する。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail.

図1は、本発明のタッチパネルセンサーの一例を説明する図である。 FIG. 1 is a diagram illustrating an example of the touch panel sensor of the present invention.

タッチパネルセンサー1は、シート状の透明基材2の表面に帯状のX電極3を所定間隔でX軸方向に複数本並設すると共に、裏面に帯状のY電極4を所定間隔でY軸方向に複数本並設してなる。ここで、透明基材2の表面というのは、タッチパネルセンサー1の使用時においてユーザー側に配置される面である。透明基材2の裏面側にはディスプレイを配置して用いることができる。 In the touch panel sensor 1, a plurality of strip-shaped X electrodes 3 are arranged side by side in the X-axis direction at predetermined intervals on the front surface of the sheet-shaped transparent base material 2, and strip-shaped Y electrodes 4 are arranged in the Y-axis direction at predetermined intervals on the back surface. Multiple pieces are installed side by side. Here, the surface of the transparent base material 2 is a surface arranged on the user side when the touch panel sensor 1 is used. A display can be arranged and used on the back surface side of the transparent base material 2.

X軸方向とY軸方向は互いに交差する関係にある。X電極とY電極とは、交差部5において透明基材2の厚みに対応する間隔を隔てて互いに交差している。X電極3及びY電極4は透明基材2により互いに絶縁されている。 The X-axis direction and the Y-axis direction intersect each other. The X electrode and the Y electrode intersect each other at the intersection 5 at intervals corresponding to the thickness of the transparent base material 2. The X electrode 3 and the Y electrode 4 are insulated from each other by the transparent base material 2.

タッチパネルセンサー1は、これらX電極3及びY電極4を各々制御回路に接続して、例えば静電容量方式等のタッチパネルのセンサーとして好適に用いることができる。静電容量方式のタッチパネルであれば、操作時において、これらX電極3及びY電極4にユーザーの指や導体等が接近、接触した際に生じる静電容量変化に基づく誘導電流を利用して、指や導体等の位置座標を検知することができる。 The touch panel sensor 1 can be suitably used as a sensor for a touch panel of, for example, a capacitance method by connecting the X electrode 3 and the Y electrode 4 to a control circuit. In the case of a capacitance type touch panel, an induced current based on a change in capacitance generated when a user's finger, a conductor, or the like approaches or comes into contact with the X electrode 3 and the Y electrode 4 during operation is used. It can detect the position coordinates of fingers, conductors, etc.

各々1本のX電極3は、導電性細線の集合体により構成されている。各々1本のY電極4もまた、導電性細線の集合体により構成されている。これについて、図2〜図4を参照して説明する。図2は、図1に示したタッチパネルセンサー1の要部拡大図であり、交差部5の一部(図1中、Aで示した正方形部分)を拡大して示している。また、図3は図2におけるX電極3のみを、図4は図2におけるY電極4のみをそれぞれ示している。 Each one of the X electrodes 3 is composed of an aggregate of conductive thin wires. Each Y electrode 4 is also composed of an aggregate of conductive thin wires. This will be described with reference to FIGS. 2 to 4. FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the touch panel sensor 1 shown in FIG. 1, and a part of the intersection 5 (a square part shown by A in FIG. 1) is enlarged and shown. Further, FIG. 3 shows only the X electrode 3 in FIG. 2, and FIG. 4 shows only the Y electrode 4 in FIG.

まず、図3に示すように、X電極3は導電性細線31の集合体により構成されている。具体的には、X電極3は互いに平行な2本1組の導電性細線31、31からなる導電性平行線(以下、単に平行線という場合がある)32を複数組み合わせて構成されている。図示の例では、3組の平行線32を所定間隔で並設してなる第1細線セット33aと、3組の平行線32を所定間隔で並設してなる第2細線セット33bを互いに交差するようにメッシュ状に複数配置してX電極3を構成している。 First, as shown in FIG. 3, the X electrode 3 is composed of an aggregate of conductive thin wires 31. Specifically, the X electrode 3 is configured by combining a plurality of conductive parallel lines (hereinafter, may be simply referred to as parallel lines) 32 composed of a set of two conductive thin wires 31 and 31 parallel to each other. In the illustrated example, the first wire set 33a in which three sets of parallel lines 32 are juxtaposed at predetermined intervals and the second wire set 33b in which three sets of parallel lines 32 are juxtaposed at predetermined intervals intersect each other. A plurality of X electrodes 3 are arranged in a mesh shape so as to form an X electrode 3.

また、図4に示すように、Y電極4も導電性細線41の集合体により構成されている。具体的には、Y電極4は互いに平行な2本1組の導電性細線41、41からなる平行線42を複数組み合わせて構成されている。図示の例では、3組の平行線42を所定間隔で並設してなる第1細線セット43aと、3組の平行線42を所定間隔で並設してなる第2細線セット43bを互いに交差するようにメッシュ状に複数配置してY電極4を構成している。 Further, as shown in FIG. 4, the Y electrode 4 is also composed of an aggregate of conductive thin wires 41. Specifically, the Y electrode 4 is configured by combining a plurality of parallel wires 42 composed of a set of two conductive thin wires 41 and 41 parallel to each other. In the illustrated example, the first wire set 43a in which three sets of parallel lines 42 are juxtaposed at predetermined intervals and the second wire set 43b in which three sets of parallel lines 42 are juxtaposed at predetermined intervals intersect each other. A plurality of Y electrodes 4 are arranged in a mesh shape so as to form a Y electrode 4.

図2に示すように、透明基材2を透視した際に、X電極3を構成する第1細線セット33aと、Y電極4を構成する第1細線セット43aとは、互いに平行な関係にあり、且つ互いに重ならないように交互に配置されている。同様に、透明基材2を透視した際に、X電極3を構成する第2細線セット33bと、Y電極4を構成する第2細線セット43bとは、互いに平行な関係にあり、且つ互いに重ならないように交互に配置されている。各細線セット33a、33b、43a、43bを構成する複数組の平行線32、42は、これらに含まれる導電性細線31、41が等間隔で配置されるように並設されている。 As shown in FIG. 2, when the transparent base material 2 is seen through, the first wire set 33a constituting the X electrode 3 and the first wire set 43a constituting the Y electrode 4 are in a parallel relationship with each other. And they are arranged alternately so as not to overlap each other. Similarly, when the transparent base material 2 is viewed through, the second wire set 33b constituting the X electrode 3 and the second wire set 43b constituting the Y electrode 4 are in a parallel relationship with each other and overlap each other. They are arranged alternately so that they do not become. A plurality of sets of parallel wires 32, 42 constituting each of the thin wire sets 33a, 33b, 43a, 43b are arranged side by side so that the conductive thin wires 31, 41 included therein are arranged at equal intervals.

X電極3及びY電極4をそれぞれ導電性細線31、41の集合体によって構成する際に、X電極3側からタッチパネルセンサー1を見たときのX電極3とY電極4の視認性の差を減じるように、X電極3を構成する導電性細線31と、Y電極4を構成する導電性細線41の形状及び又は性状を異ならせる。これにより、X電極3及びY電極4の境界を視認困難化できる。導電性細線31、41の形状及び又は性状は、該導電性細線31、41により構成されるX電極3及びY電極4の視認性に影響を与え得る。形状として、例えば導電性細線31、41の断面形状、より具体的には線幅、膜厚等を好ましく挙げることができる。性状として、例えば導電性細線31、41の表面性状、より具体的には反射率等を好ましく挙げることができる。 When the X electrode 3 and the Y electrode 4 are composed of an aggregate of conductive thin wires 31 and 41, respectively, the difference in visibility between the X electrode 3 and the Y electrode 4 when the touch panel sensor 1 is viewed from the X electrode 3 side is observed. The shapes and / or properties of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 and the conductive thin wire 41 constituting the Y electrode 4 are different so as to be reduced. As a result, the boundary between the X electrode 3 and the Y electrode 4 can be made difficult to see. The shape and / or properties of the conductive thin wires 31 and 41 may affect the visibility of the X electrode 3 and the Y electrode 4 composed of the conductive thin wires 31 and 41. As the shape, for example, the cross-sectional shape of the conductive thin wires 31 and 41, more specifically, the line width, the film thickness, and the like can be preferably mentioned. As the properties, for example, the surface properties of the conductive thin wires 31 and 41, more specifically, the reflectance and the like can be preferably mentioned.

導電性細線31、41の線幅を異ならせる場合は、線幅を大きくすることにより視認性が高くなり、線幅を小さくすることにより視認性が低くなる。使用時においてユーザー側に配置されるX電極3はY電極4に対して視認性が高くなるため、X電極3を構成する導電性細線31の線幅は、Y電極4を構成する導電性細線41の線幅よりも小さいことが好ましい。これにより、X電極3とY電極4の境界を好適に視認困難化できる。Y電極4を構成する導電性細線41の線幅は、X電極3を構成する導電性細線31の線幅の1.1倍以上1.5倍未満の範囲であることが好ましい。この範囲であれば、視認困難化の効果に優れると共に、Y電極4の光透過性が得られやすく、Y電極4が見え過ぎることも好適に防止できる。X電極3及びY電極4を構成する導電性細線31、41の各線幅は格別限定されないが、好ましくは1μm以上20μm以下の範囲、更に好ましくは2μm以上15μm以下の範囲とすることができ、この範囲内で上述した線幅の差を付与することが好ましい。 When the line widths of the conductive thin wires 31 and 41 are different, the visibility is increased by increasing the line width, and the visibility is decreased by decreasing the line width. Since the X electrode 3 arranged on the user side during use has higher visibility than the Y electrode 4, the line width of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 is the conductive thin wire constituting the Y electrode 4. It is preferably smaller than the line width of 41. As a result, the boundary between the X electrode 3 and the Y electrode 4 can be suitably made difficult to see. The line width of the conductive thin wire 41 constituting the Y electrode 4 is preferably in the range of 1.1 times or more and less than 1.5 times the line width of the conductive thin wire 31 forming the X electrode 3. Within this range, the effect of making visibility difficult is excellent, the light transmission of the Y electrode 4 is easily obtained, and it is possible to preferably prevent the Y electrode 4 from being overvisible. The line widths of the conductive thin wires 31 and 41 constituting the X electrode 3 and the Y electrode 4 are not particularly limited, but are preferably in the range of 1 μm or more and 20 μm or less, and more preferably in the range of 2 μm or more and 15 μm or less. It is preferable to give the above-mentioned difference in line width within the range.

導電性細線31、41の反射率を異ならせる場合は、反射率を大きくすることにより視認性が大きくなり、反射率を小さくすることにより視認性が小さくなる。使用時においてユーザー側に配置されるX電極3はY電極4に対して視認性が高くなるため、X電極3を構成する導電性細線31の反射率は、Y電極4を構成する導電性細線41の反射率よりも小さいことが好ましい。これにより、X電極3とY電極4の境界を好適に視認困難化できる。反射率は、分光光度計を用いて測定対象となる導電性細線が形成された面について測定された分光反射率から求めることができる。具体的には分光光度計としてU−4000型(日立製作所製)を用い、測定対象となる導電性細線が形成された面の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域(400〜700nm)の反射率の測定を行うことができる。Y電極4を構成する導電性細線41の反射率は、X電極3を構成する導電性細線31の反射率の1.1倍以上1.6倍未満の範囲であることが好ましい。この範囲であれば、視認困難化の効果に優れると共に、Y電極4が見え過ぎることも好適に防止できる。X電極3及びY電極4を構成する導電性細線31、41の各反射率は格別限定されないが、好ましくは1%以上20%以下の範囲、更に好ましくは5%以上15%以下の範囲とすることができ、この範囲内で上述した反射率の差を付与することが好ましい。 When the reflectances of the conductive thin wires 31 and 41 are different, the visibility is increased by increasing the reflectance, and the visibility is decreased by decreasing the reflectance. Since the X electrode 3 arranged on the user side during use has higher visibility than the Y electrode 4, the reflectance of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 is the conductive thin wire constituting the Y electrode 4. It is preferably smaller than the reflectance of 41. As a result, the boundary between the X electrode 3 and the Y electrode 4 can be suitably made difficult to see. The reflectance can be obtained from the spectral reflectance measured on the surface on which the conductive thin wire to be measured is formed using a spectrophotometer. Specifically, a U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.) is used as a specular photometer, and after roughening the back surface of the surface on which the conductive thin wire to be measured is formed, light absorption treatment is performed with a black spray. It is possible to prevent the reflection of light on the back surface and measure the reflectance in the visible light region (400 to 700 nm) under the condition of 5 degree specular reflection. The reflectance of the conductive thin wire 41 constituting the Y electrode 4 is preferably in the range of 1.1 times or more and less than 1.6 times the reflectance of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3. Within this range, the effect of making it difficult to see is excellent, and it is possible to preferably prevent the Y electrode 4 from being overvisible. The reflectances of the conductive thin wires 31 and 41 constituting the X electrode 3 and the Y electrode 4 are not particularly limited, but are preferably in the range of 1% or more and 20% or less, and more preferably in the range of 5% or more and 15% or less. It is possible, and it is preferable to impart the above-mentioned difference in reflectance within this range.

導電性細線31、41の膜厚を異ならせる場合は、膜厚を大きくすることにより視認性が高くなり、膜厚を小さくすることにより視認性が低くなる。使用時においてユーザー側に配置されるX電極3はY電極4に対して視認性が高くなるため、X電極3を構成する導電性細線31の膜厚は、Y電極4を構成する導電性細線41の膜厚よりも小さいことが好ましい。これにより、X電極3とY電極4の境界を好適に視認困難化できる。Y電極4を構成する導電性細線41の膜厚は、X電極3を構成する導電性細線31の膜厚の1.1倍以上2.0倍未満の範囲であることが好ましい。この範囲であれば、視認困難化の効果に優れると共に、Y電極4の光透過性が得られやすく、Y電極4が見え過ぎることも好適に防止できる。X電極3及びY電極4を構成する導電性細線31、41の各膜厚は格別限定されないが、好ましくは50nm以上10μm以下の範囲、更に好ましくは1μm以上5μm以下の範囲とすることができ、この範囲内で上述した膜厚の差を付与することが好ましい。 When the film thicknesses of the conductive thin wires 31 and 41 are different, the visibility is increased by increasing the film thickness, and the visibility is decreased by decreasing the film thickness. Since the X electrode 3 arranged on the user side during use has higher visibility than the Y electrode 4, the film thickness of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 is the conductive thin wire constituting the Y electrode 4. It is preferably smaller than the film thickness of 41. As a result, the boundary between the X electrode 3 and the Y electrode 4 can be suitably made difficult to see. The film thickness of the conductive thin wire 41 constituting the Y electrode 4 is preferably in the range of 1.1 times or more and less than 2.0 times the film thickness of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3. Within this range, the effect of making visibility difficult is excellent, the light transmission of the Y electrode 4 is easily obtained, and it is possible to preferably prevent the Y electrode 4 from being overvisible. The film thicknesses of the conductive thin wires 31 and 41 constituting the X electrode 3 and the Y electrode 4 are not particularly limited, but are preferably in the range of 50 nm or more and 10 μm or less, and more preferably in the range of 1 μm or more and 5 μm or less. It is preferable to impart the above-mentioned difference in film thickness within this range.

形状及び又は性状を設定する際には、X電極3を構成する導電性細線31の全てについて形状及び又は性状を同様の条件に設定してもよいし、X電極3を構成する導電性細線31の部分ごとに形状及び又は性状を異なる条件に設定してもよい。以下に、X電極3を構成する導電性細線31の部分ごとに形状及び又は性状を異なる条件に設定する例について、図5を参照して説明する。 When setting the shape and / or properties, the shape and / or properties of all the conductive thin wires 31 constituting the X electrode 3 may be set under the same conditions, or the conductive thin wires 31 constituting the X electrode 3 may be set. The shape and / or properties may be set to different conditions for each part of. Hereinafter, an example in which the shape and / or properties are set to different conditions for each portion of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 will be described with reference to FIG.

図5において、X電極3は細線セット33a、33bを組み合わせて形成されている。細線セット33a、33bにおいて、両外側に配置された平行線32を構成する導電性細線31は、中央側に配置された平行線32を構成する導電性細線31よりも線幅が小さく設けられている。両外側に配置された平行線32を構成する導電性細線31は、Y電極4を構成する導電性細線41に隣接するものである。かかる導電性細線31の線幅を小さくして視認性を低下させることにより、比較的視認性が低い導電性細線41に対する視認性の差を減じることができる。その結果、X電極3からY電極4にかけて、導電性細線31、41の視認性が段階的に緩やかに変化し、X電極3とY電極4の境界を視認困難化できる。 In FIG. 5, the X electrode 3 is formed by combining thin wire sets 33a and 33b. In the thin wire sets 33a and 33b, the conductive thin wires 31 forming the parallel wires 32 arranged on both outer sides are provided to have a smaller line width than the conductive thin wires 31 forming the parallel wires 32 arranged on the center side. There is. The conductive thin wires 31 forming the parallel wires 32 arranged on both outer sides are adjacent to the conductive thin wires 41 forming the Y electrode 4. By reducing the line width of the conductive thin wire 31 to reduce the visibility, it is possible to reduce the difference in visibility with respect to the conductive thin wire 41 having a relatively low visibility. As a result, the visibility of the conductive thin wires 31 and 41 gradually changes gradually from the X electrode 3 to the Y electrode 4, and the boundary between the X electrode 3 and the Y electrode 4 can be made difficult to see.

図5の説明では、導電性細線31、41の線幅を異ならせる場合について示したが、これに限定されず、形状及び又は性状を異ならせるものであればよく、例えば反射率、膜厚等を異ならせることができる。 In the explanation of FIG. 5, the case where the line widths of the conductive thin wires 31 and 41 are different is shown, but the present invention is not limited to this, and any shape and / or property may be different, for example, reflectance, film thickness, etc. Can be different.

また、図5の説明では、X電極3を構成する導電性細線31の部分ごとに形状及び又は性状を異なる条件に設定する例について示したが、Y電極4を構成する導電性細線41の部分ごとに形状及び又は性状を異なる条件に設定することも好ましい。 Further, in the description of FIG. 5, an example in which the shape and / or properties are set to different conditions for each portion of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 has been shown, but the portion of the conductive thin wire 41 constituting the Y electrode 4 has been shown. It is also preferable to set the shape and / or properties of each to different conditions.

以上に説明した例では、X電極3の細線セット33a、33bを3組の平行線32により構成し、Y電極4の細線セット43a、43bを3組の平行線42により構成する場合について示したが、これに限定されない。X電極3の細線セット33a、33bを構成する平行線32の組数と、Y電極4の細線セット43a、43bを構成する平行線42の組数は、それぞれ個別に設定することができ、例えば2〜10組の範囲で設定することが好ましい。X電極3の細線セット33a、33bを構成する平行線32の組数と、Y電極4の細線セット43a、43bを構成する平行線42の組数とで、同じ値を設定してもよいが、異なる値を設定することも好ましいことである。 In the example described above, the case where the thin wire sets 33a and 33b of the X electrode 3 are composed of three sets of parallel wires 32 and the thin wire sets 43a and 43b of the Y electrode 4 are composed of three sets of parallel wires 42 is shown. However, it is not limited to this. The number of sets of parallel lines 32 constituting the thin wire sets 33a and 33b of the X electrode 3 and the number of sets of parallel lines 42 forming the thin wire sets 43a and 43b of the Y electrode 4 can be set individually, for example. It is preferable to set in the range of 2 to 10 sets. The same value may be set for the number of sets of parallel lines 32 constituting the thin wire sets 33a and 33b of the X electrode 3 and the number of sets of parallel lines 42 constituting the thin wire sets 43a and 43b of the Y electrode 4. , It is also preferable to set different values.

例えば、形状として線幅や膜厚等のような断面形状等を変化させると、当該導電性細線の抵抗値も変化する。かかる抵抗値の変化に伴って、電極としてのシート抵抗が変化することを抑制するために、細線セットを構成する平行線の組数を、X電極とY電極で異ならせることも好ましいことである。これについて、図6を参照して説明する。 For example, when the cross-sectional shape such as the line width and the film thickness is changed as the shape, the resistance value of the conductive thin wire also changes. In order to suppress the change in sheet resistance as an electrode with such a change in resistance value, it is also preferable to make the number of sets of parallel lines constituting the thin wire set different between the X electrode and the Y electrode. .. This will be described with reference to FIG.

図6の例では、X電極3の細線セット33a、33bを構成する平行線32の組数(図示の例では4組)を、Y電極4の細線セット43a、43bを構成する平行線42の組数(図示の例では3組)より多くしている。このようにして、例えば、X電極3を構成する導電性細線31の線幅や膜厚が、Y電極4を構成する導電性細線41よりも小さい場合であっても、X電極3のシート抵抗とY電極4のシート抵抗に差が生じることを抑制できる。 In the example of FIG. 6, the number of sets of parallel lines 32 constituting the thin wire sets 33a and 33b of the X electrode 3 (4 sets in the illustrated example) is set to the number of parallel lines 42 forming the thin wire sets 43a and 43b of the Y electrode 4. The number of pairs is larger than the number of pairs (3 pairs in the illustrated example). In this way, for example, even when the line width and film thickness of the conductive thin wire 31 constituting the X electrode 3 is smaller than the conductive thin wire 41 constituting the Y electrode 4, the sheet resistance of the X electrode 3 It is possible to suppress the difference between the sheet resistance of the Y electrode 4 and the sheet resistance of the Y electrode 4.

以上の説明では、X電極3、Y電極4の形成方向に対して導電性細線31、41を傾斜する方向に配置しているが、これに限定されるものではない。例えば、X電極3、Y電極4の形成方向に対して導電性細線31、41を平行又は直交する方向に配置してもよい。 In the above description, the conductive thin wires 31 and 41 are arranged in a direction in which the conductive thin wires 31 and 41 are inclined with respect to the forming direction of the X electrode 3 and the Y electrode 4, but the present invention is not limited to this. For example, the conductive thin wires 31 and 41 may be arranged in a direction parallel to or orthogonal to the forming direction of the X electrode 3 and the Y electrode 4.

導電性細線31、41を形成する方法は格別限定されないが、導電性細線31、41の形状及び又は性状を好適に調整する観点で、コーヒーステイン現象を利用して形成する方法を好ましく用いることができる。これについて、図7を参照して説明する。なお、以下の説明では主にX電極3を構成する導電性細線31を形成する場合について説明するが、Y電極4を構成する導電性細線41合も同様に形成することができる。 The method for forming the conductive thin wires 31 and 41 is not particularly limited, but from the viewpoint of suitably adjusting the shape and / or properties of the conductive thin wires 31 and 41, a method for forming the conductive thin wires 31 and 41 by utilizing the coffee stain phenomenon is preferably used. can. This will be described with reference to FIG. In the following description, the case where the conductive thin wire 31 forming the X electrode 3 is mainly formed will be described, but the conductive thin wire 41 forming the Y electrode 4 can also be formed in the same manner.

まず、透明基材2の表面に、導電性材料を含む液体6をライン状に付与する(図7(a))。ライン状液体6の付与には、例えばインクジェット法などの液滴吐出法を好ましく用いることができる。次いで、このライン状液体6を蒸発させ、乾燥させる際に、コーヒーステイン現象を利用して、ライン状液体6の両縁に導電性材料を選択的に堆積させる。その結果、透明基材2上に、導電性材料を含む互いに平行な2本1組の導電性細線31、31からなる平行線32が形成される(図7(b))。 First, the liquid 6 containing the conductive material is applied in a line shape to the surface of the transparent base material 2 (FIG. 7A). A droplet ejection method such as an inkjet method can be preferably used for applying the line-shaped liquid 6. Next, when the linear liquid 6 is evaporated and dried, the conductive material is selectively deposited on both edges of the linear liquid 6 by utilizing the coffee stain phenomenon. As a result, parallel lines 32 composed of a set of two conductive thin wires 31 and 31 parallel to each other containing the conductive material are formed on the transparent base material 2 (FIG. 7 (b)).

更に、上記により形成された平行線32と交差するように更なるライン状液体6を付与し(図7(c))、次いで、該ライン状液体6を蒸発させ、乾燥させる際に、上記と同様にコーヒーステイン現象を利用することで、先に形成された平行線32と交差するように平行線32を形成することができる(図7(d))。 Further, when a further line-shaped liquid 6 is applied so as to intersect the parallel lines 32 formed as described above (FIG. 7 (c)), and then the line-shaped liquid 6 is evaporated and dried, the above-mentioned Similarly, by utilizing the coffee stain phenomenon, the parallel line 32 can be formed so as to intersect with the previously formed parallel line 32 (FIG. 7 (d)).

複数組の平行線32を組み合わせることによって、例えば図2に示したようなX電極3を形成することができる。Y電極4も同様にして形成できる。 By combining a plurality of sets of parallel lines 32, for example, the X electrode 3 as shown in FIG. 2 can be formed. The Y electrode 4 can also be formed in the same manner.

コーヒーステイン現象を促進させるように、ライン状液体6を乾燥させる際の条件設定を行うことは好ましいことである。即ち、透明基材2上に配置されたライン状液体6の乾燥は中央部と比べ縁において速く、ライン状液体6の縁に導電性材料の局所的な堆積が起こる。この堆積した導電性材料によりライン状液体6の縁が固定化された状態となり、それ以降の乾燥に伴うライン状液体6の幅方向の収縮が抑制される。ライン状液体6の液体は、縁で蒸発により失った分の液体を補うように中央部から縁に向かう流動を形成する。この流動によって更なる導電性材料が縁に運ばれて堆積する。この流動は、乾燥に伴うライン状液体6の接触線の固定化とライン状液体6中央部と縁の蒸発量の差に起因する。そのため、この流動を促進させるように、導電性材料濃度、ライン状液体6と透明基材2の接触角、ライン状液体6の量、透明基材2の加熱温度、ライン状液体6の配置密度、又は温度、湿度、気圧の環境因子等の条件を設定することが好ましい。 It is preferable to set the conditions for drying the linear liquid 6 so as to promote the coffee stain phenomenon. That is, the linear liquid 6 arranged on the transparent substrate 2 dries faster at the edge than the central portion, and local deposition of the conductive material occurs at the edge of the linear liquid 6. The edge of the line-shaped liquid 6 is fixed by the deposited conductive material, and the shrinkage of the line-shaped liquid 6 in the width direction due to the subsequent drying is suppressed. The liquid of the line-shaped liquid 6 forms a flow from the central portion to the edge so as to make up for the amount of liquid lost due to evaporation at the edge. This flow carries additional conductive material to the edges and deposits. This flow is due to the immobilization of the contact line of the line-shaped liquid 6 and the difference in the amount of evaporation between the central portion and the edge of the line-shaped liquid 6 due to drying. Therefore, in order to promote this flow, the concentration of the conductive material, the contact angle between the line-shaped liquid 6 and the transparent base material 2, the amount of the line-shaped liquid 6, the heating temperature of the transparent base material 2, and the arrangement density of the line-shaped liquid 6 , Or it is preferable to set conditions such as temperature, humidity, and environmental factors of atmospheric pressure.

例えばインクジェット法などの液滴吐出法を用いることによりライン状液体を細く形成することが可能であるが、コーヒーステイン現象によって該ライン状液体から形成される導電性細線は、該ライン状液体よりも更に細いものになる。コーヒーステイン現象を利用することで、単独では視認困難な程度に導電性細線を細くすることができる。しかし、導電性細線の集合体によってX電極及びY電極を形成したときには、そのままではX電極とY電極の境界が視認されてしまう。上述したように導電性細線の形状及び又は性状をX電極とY電極で異ならせることによって、かかる境界を視認困難化することができる。 For example, it is possible to form a thin line-shaped liquid by using a droplet ejection method such as an inkjet method, but the conductive thin wire formed from the line-shaped liquid by the coffee stain phenomenon is larger than the line-shaped liquid. It becomes even thinner. By utilizing the coffee stain phenomenon, the conductive thin wire can be thinned to the extent that it is difficult to see by itself. However, when the X electrode and the Y electrode are formed by the aggregate of the conductive thin wires, the boundary between the X electrode and the Y electrode is visually recognized as it is. By making the shape and / or property of the conductive thin wire different between the X electrode and the Y electrode as described above, it is possible to make such a boundary difficult to see.

コーヒーステイン現象を利用して導電性細線を形成する場合は、ライン状液体に含有させる導電性材料の濃度を調整することにより、導電性細線の線幅を好適に調整することができる。具体的には、導電性細線の線幅を大きくする場合は、ライン状液体に含有させる導電性材料の濃度を高くすればよく、導電性細線の線幅を小さくする場合は、ライン状液体に含有させる導電性材料の濃度を低くすればよい。X電極を構成する導電性細線に用いるライン状液体における導電性材料の濃度を、Y電極を構成する導電性細線に用いるライン状液体における導電性材料の濃度よりも低くすることは好ましいことである。 When the conductive thin wire is formed by utilizing the coffee stain phenomenon, the line width of the conductive thin wire can be suitably adjusted by adjusting the concentration of the conductive material contained in the linear liquid. Specifically, when increasing the line width of the conductive thin wire, the concentration of the conductive material contained in the linear liquid may be increased, and when decreasing the line width of the conductive thin wire, the linear liquid may be used. The concentration of the conductive material to be contained may be lowered. It is preferable that the concentration of the conductive material in the linear liquid used for the conductive thin wire constituting the X electrode is lower than the concentration of the conductive material in the linear liquid used for the conductive thin wire constituting the Y electrode. ..

また、コーヒーステイン現象を利用して導電性細線を形成する場合は、ライン状液体に含有させる導電性材料として導電性微粒子を用い、且つ該導電性微粒子の体積平均粒子径を調整することにより、導電性細線の反射率を好適に調整することができる。X電極を構成する導電性細線に用いる導電性微粒子として、Y電極を構成する導電性細線に用いる導電性微粒子よりも、体積平均粒子径が小さいものを用いることは好ましいことである。 When forming a conductive thin wire by utilizing the coffee stain phenomenon, the conductive fine particles are used as the conductive material to be contained in the linear liquid, and the volume average particle diameter of the conductive fine particles is adjusted. The reflectance of the conductive thin wire can be suitably adjusted. As the conductive fine particles used for the conductive thin wires constituting the X electrode, it is preferable to use those having a smaller volume average particle diameter than the conductive fine particles used for the conductive fine wires constituting the Y electrode.

ライン状液体に含有される導電性材料としては、例えば、導電性微粒子、導電性ポリマー等を好ましく例示できる。 As the conductive material contained in the line-shaped liquid, for example, conductive fine particles, a conductive polymer and the like can be preferably exemplified.

導電性微粒子としては、格別限定されないが、Au、Pt、Ag、Cu、Ni、Cr、Rh、Pd、Zn、Co、Mo、Ru、W、Os、Ir、Fe、Mn、Ge、Sn、Ga、In等の微粒子を好ましく例示でき、中でも、Au、Ag、Cuのような金属微粒子を用いると、電気抵抗が低く、かつ腐食に強い導電性細線を形成することができるので、より好ましい。コスト及び安定性の観点から、Agを含む金属微粒子、特に銀ナノ粒子が最も好ましい。これらの金属微粒子の体積平均粒子径は、好ましくは1〜100nmの範囲、より好ましくは3〜50nmの範囲とされる。粒径測定はマルバーン社製ゼータサイザ1000HSにより行った。 The conductive fine particles are not particularly limited, but Au, Pt, Ag, Cu, Ni, Cr, Rh, Pd, Zn, Co, Mo, Ru, W, Os, Ir, Fe, Mn, Ge, Sn, Ga. , In and other fine particles can be preferably exemplified. Among them, metal fine particles such as Au, Ag and Cu are more preferable because they can form conductive thin wires having low electrical resistance and resistance to corrosion. From the viewpoint of cost and stability, metal fine particles containing Ag, particularly silver nanoparticles, are most preferable. The volume average particle size of these metal fine particles is preferably in the range of 1 to 100 nm, more preferably in the range of 3 to 50 nm. The particle size was measured with a Zetasizer 1000HS manufactured by Malvern.

また、導電性微粒子として、カーボン微粒子を用いることも好ましい。カーボン微粒子としては、グラファイト微粒子、カーボンナノチューブ、フラーレン等を好ましく例示できる。 It is also preferable to use carbon fine particles as the conductive fine particles. As the carbon fine particles, graphite fine particles, carbon nanotubes, fullerenes and the like can be preferably exemplified.

導電性材料として導電性微粒子を用いる場合は、上述したように送電製細線の反射率を調整するために、該導電性微粒子の体積平均粒子径を調整して用いることができる。 When conductive fine particles are used as the conductive material, the volume average particle diameter of the conductive fine particles can be adjusted and used in order to adjust the reflectance of the power transmission fine wire as described above.

導電性ポリマーとしては、格別限定されないが、π共役系導電性高分子を好ましく挙げることができる。 The conductive polymer is not particularly limited, but a π-conjugated conductive polymer can be preferably mentioned.

π共役系導電性高分子としては、特に限定されず、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリアズレン類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等の鎖状導電性ポリマーを利用することができる。中でも、高い導電性が得られる点で、ポリチオフェン類やポリアニリン類が好ましい。ポリエチレンジオキシチオフェンであることが最も好ましい。 The π-conjugated conductive polymer is not particularly limited, and polythiophenes, polypyrroles, polyindoles, polycarbazoles, polyanilines, polyacetylenes, polyfurans, polyparaphenylenes, polyparaphenylene vinylenes, and poly Chain conductive polymers such as paraphenylene sulfides, polyazulenes, polyisothianaftens, and polythiazils can be used. Of these, polythiophenes and polyanilines are preferable because high conductivity can be obtained. Most preferably, it is polyethylene dioxythiophene.

導電性ポリマーは、より好ましくは、上述したπ共役系導電性高分子とポリアニオンとを含んで成ることである。こうした導電性ポリマーは、π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤と酸化触媒と、ポリアニオンの存在下で化学酸化重合することによって容易に製造できる。 The conductive polymer more preferably comprises the above-mentioned π-conjugated conductive polymer and polyanion. Such a conductive polymer can be easily produced by chemically oxidatively polymerizing a precursor monomer forming a π-conjugated conductive polymer in the presence of an appropriate oxidizing agent, an oxidation catalyst, and a polyanion.

ポリアニオンは、置換若しくは未置換のポリアルキレン、置換若しくは未置換のポリアルケニレン、置換若しくは未置換のポリイミド、置換若しくは未置換のポリアミド、置換若しくは未置換のポリエステル及びこれらの共重合体であって、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位とからなるものである。 Polyanions are substituted or unsubstituted polyalkylenes, substituted or unsubstituted polyalkenylenes, substituted or unsubstituted polyimides, substituted or unsubstituted polyamides, substituted or unsubstituted polyesters, and copolymers thereof, which are anions. It is composed of a structural unit having a group and a structural unit having no anionic group.

このポリアニオンは、π共役系導電性高分子を溶媒に可溶化させる可溶化高分子である。また、ポリアニオンのアニオン基は、π共役系導電性高分子に対するドーパントとして機能して、π共役系導電性高分子の導電性と耐熱性を向上させる。 This polyanion is a solubilized polymer that solubilizes a π-conjugated conductive polymer in a solvent. Further, the anionic group of the polyanion functions as a dopant for the π-conjugated conductive polymer, and improves the conductivity and heat resistance of the π-conjugated conductive polymer.

ポリアニオンのアニオン基としては、π共役系導電性高分子への化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよいが、中でも、製造の容易さ及び安定性の観点からは、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。さらに、官能基のπ共役系導電性高分子へのドープ効果の観点より、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシ基がより好ましい。 The anionic group of the polyanion may be a functional group capable of chemically oxidizing a π-conjugated conductive polymer, but from the viewpoint of ease of production and stability, a monosubstituted sulfate group is used. A monosubstituted phosphoric acid ester group, a phosphoric acid group, a carboxy group, a sulfo group and the like are preferable. Further, from the viewpoint of the doping effect of the functional group on the π-conjugated conductive polymer, a sulfo group, a monosubstituted sulfate group and a carboxy group are more preferable.

ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、2種以上の共重合体であってもよい。 Specific examples of the polyanion include polyvinyl sulfonic acid, polystyrene sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, ethyl acrylate poly acrylate, butyl sulfonic acid poly acrylate, poly-2-acrylamide-2-methyl propane sulfonic acid, and polyisoprene sulfonic acid. Examples thereof include acids, polyvinylcarboxylic acids, polystyrene carboxylic acids, polyallylcarboxylic acids, polyacrylic carboxylic acids, polymethacrylcarboxylic acids, poly-2-acrylamide-2-methylpropanecarboxylic acids, polyisoprenecarboxylic acids, and polyacrylic acids. .. These homopolymers may be used, or two or more kinds of copolymers may be used.

また、化合物内にF(フッ素原子)を有するポリアニオンであってもよい。具体的には、パーフルオロスルホン酸基を含有するナフィオン(Dupont社製)、カルボン酸基を含有するパーフルオロ型ビニルエーテルからなるフレミオン(旭硝子社製)等を挙げることができる。 Further, it may be a polyanion having F (fluorine atom) in the compound. Specific examples thereof include Nafion (manufactured by DuPont) containing a perfluorosulfonic acid group, Flemion (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) made of perfluoro vinyl ether containing a carboxylic acid group, and the like.

これらのうち、スルホン酸を有する化合物であると、インクジェット印刷方式を用いた際にインク射出安定性が特に良好であり、かつ高い導電性が得られることから、より好ましい。 Of these, a compound having a sulfonic acid is more preferable because the ink ejection stability is particularly good and high conductivity can be obtained when the inkjet printing method is used.

さらに、これらの中でも、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリアニオンは、導電性に優れるという効果を奏する。 Further, among these, polystyrene sulfonic acid, polyisoprene sulfonic acid, ethyl sulfonic acid polyacrylate, and butyl sulfonic acid polyacrylate are preferable. These polyanions have the effect of being excellent in conductivity.

ポリアニオンの重合度は、モノマー単位が10〜100000個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点からは、50〜10000個の範囲がより好ましい。 The degree of polymerization of the polyanion is preferably in the range of 10 to 100,000 monomer units, and more preferably in the range of 50 to 10000 from the viewpoint of solvent solubility and conductivity.

導電性ポリマーは市販の材料も好ましく利用できる。例えば、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸からなる導電性ポリマー(PEDOT/PSSと略す)が、H.C.Starck社からCLEVIOSシリーズとして、Aldrich社からPEDOT−PSS483095、560598として、Nagase Chemtex社からDenatronシリーズとして市販されている。また、ポリアニリンが、日産化学社からORMECONシリーズとして市販されている。 As the conductive polymer, a commercially available material can also be preferably used. For example, a conductive polymer (abbreviated as PEDOT / PSS) composed of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid is used in H. C. It is commercially available from Starck as the CLEVIOS series, from Aldrich as PEDOT-PSS483095, 560598, and from Nagase Chemtex as the Denartron series. In addition, polyaniline is commercially available from Nissan Chemical Industries, Ltd. as the ORMECON series.

ライン状液体における導電性材料の濃度は、上述したように導電性細線の線幅を調整するために調整されることが好ましい。例えば、0.01[wt%]以上0.5[wt%]以下の濃度範囲内で調整することが好ましい。 The concentration of the conductive material in the linear liquid is preferably adjusted in order to adjust the line width of the conductive thin wire as described above. For example, it is preferable to adjust the concentration within the concentration range of 0.01 [wt%] or more and 0.5 [wt%] or less.

ライン状液体を形成する際に用いる、導電性材料を含有させる液体としては、水や、有機溶剤等の1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 As the liquid containing the conductive material used when forming the line-shaped liquid, one kind or a combination of two or more kinds such as water and an organic solvent can be used.

有機溶剤は、格別限定されないが、例えば、1,2−ヘキサンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、プロピレングリコールなどのアルコール類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類等を例示できる。 The organic solvent is not particularly limited, but for example, alcohols such as 1,2-hexanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and propylene glycol. Examples thereof include ethers such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, and dipropylene glycol monoethyl ether.

また、導電性材料を含有させる液体には、界面活性剤など種々の添加剤を含有させてもよい。 Further, the liquid containing the conductive material may contain various additives such as a surfactant.

界面活性剤を用いることで、例えば、インクジェット法などの液滴吐出法を用いてライン状液体を形成するような場合などに、表面張力等を調整して吐出の安定化を図ること等が可能になる。界面活性剤としては、格別限定されないが、シリコン系界面活性剤等を用いることができる。シリコン系界面活性剤とはジメチルポリシロキサンの側鎖または末端をポリエーテル変性したものであり、例えば、信越化学工業製のKF−351A、KF−642やビッグケミー製のBYK347、BYK348などが市販されている。界面活性剤の添加量は、ライン状液体を形成する液体の全量に対して、1重量%以下であることが好ましい。 By using a surfactant, for example, when a line-shaped liquid is formed by using a droplet ejection method such as an inkjet method, it is possible to adjust the surface tension or the like to stabilize the ejection. become. The surfactant is not particularly limited, but a silicon-based surfactant or the like can be used. Silicon-based surfactants are those in which the side chains or ends of dimethylpolysiloxane are modified with polyether. For example, KF-351A and KF-642 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and BYK347 and BYK348 manufactured by Big Chemie are commercially available. There is. The amount of the surfactant added is preferably 1% by weight or less with respect to the total amount of the liquid forming the line-shaped liquid.

また、導電性細線の形状及び又は性状を調整する観点で、導電性細線にメッキ処理を施すことも好ましいことである。即ち、X電極を構成する導電性細線、及び、Y電極を構成する導電性細線の一方又は両方に、メッキにより金属膜を形成することが好ましい。 Further, from the viewpoint of adjusting the shape and / or properties of the conductive thin wire, it is also preferable to perform plating treatment on the conductive thin wire. That is, it is preferable to form a metal film by plating on one or both of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode.

導電性細線にメッキ処理を施す場合は、メッキ条件を調整することにより、導電性細線の膜厚を調整することができる。特に膜厚の調整を好適に行う観点で、電解メッキを好ましく用いることができる。 When plating the conductive thin wire, the film thickness of the conductive thin wire can be adjusted by adjusting the plating conditions. In particular, electrolytic plating can be preferably used from the viewpoint of preferably adjusting the film thickness.

メッキ条件としては、例えばメッキ処理の処理時間、メッキ液中のメッキ金属イオン濃度、電流等を挙げることができるが、これらに限定されない。 Examples of the plating conditions include, but are not limited to, the processing time of the plating process, the concentration of plating metal ions in the plating solution, the current, and the like.

メッキ金属は格別限定されないが、例えば銀、銅、ニッケル等を好ましく例示できる。 The plated metal is not particularly limited, but for example, silver, copper, nickel and the like can be preferably exemplified.

導電性細線に対して、メッキ金属が異なる複数のメッキ処理を施すことも好ましい。例えば、銀からなる導電性細線に対して、先ず電解銅メッキを施し、次いで電解ニッケルメッキを施すことにより、導電性細線の膜厚の調整とともに導電性細線に高い導電性と耐久性を付与できる。 It is also preferable to perform a plurality of plating treatments on the conductive thin wire with different plating metals. For example, by first subjecting a conductive thin wire made of silver to electrolytic copper plating and then subjecting it to electrolytic nickel plating, it is possible to adjust the film thickness of the conductive thin wire and impart high conductivity and durability to the conductive thin wire. ..

次に、透明基材上に形成された平行線の例を図8に基づいて説明する。なお、以下の説明では主にX電極3を構成する平行線32について説明するが、この説明はY電極4を構成する平行線42にも援用することができる。 Next, an example of parallel lines formed on the transparent substrate will be described with reference to FIG. In the following description, the parallel lines 32 constituting the X electrode 3 will be mainly described, but this description can also be applied to the parallel lines 42 forming the Y electrode 4.

図8は、基材上に形成された平行線の一例を示す一部切り欠き斜視図であり、断面は、平行線の形成方向に対して直交する方向で切断した縦断面に対応する。 FIG. 8 is a partially cutaway perspective view showing an example of parallel lines formed on the base material, and the cross section corresponds to a vertical cross section cut in a direction orthogonal to the forming direction of the parallel lines.

平行線32を構成する1組2本の導電性細線31、31は、必ずしも互いに完全に独立した島状である必要はない。図示するように、2本の導電性細線31、31は、該導電性細線31、31間に亘って、該導電性細線31、31の高さよりも低い高さで形成された薄膜部30によって接続された連続体として形成されることも好ましいことである。 The pair of two conductive thin wires 31 and 31 constituting the parallel wire 32 do not necessarily have to be island-shaped completely independent of each other. As shown in the figure, the two conductive thin wires 31 and 31 are formed by a thin film portion 30 formed between the conductive thin wires 31 and 31 at a height lower than the height of the conductive thin wires 31 and 31. It is also preferable that it is formed as a connected continuum.

平行線32を構成する導電性細線31、31の線幅W1、W2は、各々10μm以下であることが好ましい。10μm以下であれば、通常、1本の細線として視認できないレベルとなるので、透明性を向上する観点からより好ましい。導電性細線31、31の安定性も考慮すると、線幅W1、W2は、各々2μm以上10μm以下の範囲であることが好ましい。ここで、上述したY電極を構成する導電性細線については、X電極側から見た際の視認性が低下することを考慮して、10μmを超える線幅であってもよい。 The line widths W1 and W2 of the conductive thin wires 31 and 31 constituting the parallel line 32 are preferably 10 μm or less, respectively. If it is 10 μm or less, it is usually invisible as a single thin line, which is more preferable from the viewpoint of improving transparency. Considering the stability of the conductive thin wires 31 and 31, the line widths W1 and W2 are preferably in the range of 2 μm or more and 10 μm or less, respectively. Here, the conductive thin wire constituting the Y electrode described above may have a line width of more than 10 μm in consideration of a decrease in visibility when viewed from the X electrode side.

導電性細線31、31の幅W1、W2とは、該導電性細線31、31間において導電性材料の厚みが最薄となる最薄部分の高さをZとし、更に該Zからの導電性細線31、31の突出高さをY1、Y2としたときに、Y1、Y2の半分の高さにおける導電性細線31、31の幅とすることができる。例えば、平行線32が上述した薄膜部30を有する場合は、該薄膜部30における最薄部分の高さをZとすることができる。なお、導電性細線31、31間における導電性材料の最薄部分の高さが0であるときは、導電性細線31、31の線幅W1、W2は、透明基材2表面からの導電性細線31、31の高さH1、H2の半分の高さにおける導電性細線31、31の幅とすることができる。 The widths W1 and W2 of the conductive thin wires 31 and 31 mean that the height of the thinnest portion between the conductive thin wires 31 and 31 where the thickness of the conductive material is the thinnest is Z, and further, conductivity from the Z. When the protruding heights of the thin wires 31 and 31 are Y1 and Y2, the widths of the conductive thin wires 31 and 31 at half the height of Y1 and Y2 can be set. For example, when the parallel line 32 has the above-mentioned thin film portion 30, the height of the thinnest portion in the thin film portion 30 can be Z. When the height of the thinnest portion of the conductive material between the conductive thin wires 31 and 31 is 0, the line widths W1 and W2 of the conductive thin wires 31 and 31 are conductive from the surface of the transparent base material 2. The height of the thin wires 31 and 31 can be the width of the conductive thin wires 31 and 31 at half the height of H1 and H2.

平行線32を構成する導電性細線31、31の線幅W1、W2は、上述した通り極めて細いものとすることができるため、断面積を確保して低抵抗化を図る観点で、透明基材2表面からの導電性細線31、31の高さ(膜厚ともいう)H1、H2は高い方が望ましい。具体的には、導電性細線31、31の高さH1、H2は、50nm以上5μm以下の範囲であることが好ましい。 Since the line widths W1 and W2 of the conductive thin wires 31 and 31 constituting the parallel wire 32 can be extremely thin as described above, a transparent base material is used from the viewpoint of securing the cross-sectional area and reducing the resistance. 2 It is desirable that the heights (also referred to as film thickness) H1 and H2 of the conductive thin wires 31 and 31 from the surface are high. Specifically, the heights H1 and H2 of the conductive thin wires 31 and 31 are preferably in the range of 50 nm or more and 5 μm or less.

平行線32の安定性を向上する観点から、H1/W1比、H2/W2比は、各々0.01以上1以下の範囲であることが好ましい。 From the viewpoint of improving the stability of the parallel lines 32, the H1 / W1 ratio and the H2 / W2 ratio are preferably in the range of 0.01 or more and 1 or less, respectively.

平行線32の細線化を更に向上する観点から、導電性細線31、31間において導電性材料の厚みが最薄となる最薄部分の高さZ、具体的には薄膜部30の最薄部分の高さZが10nm以下の範囲であることが好ましい。最も好ましいのは、透明性と安定性のバランスの両立を図るために、0<Z≦10nmの範囲で、薄膜部30を備えることである。 From the viewpoint of further improving the thinning of the parallel lines 32, the height Z of the thinnest portion between the conductive thin wires 31 and 31 where the thickness of the conductive material is the thinnest, specifically, the thinnest portion of the thin film portion 30. The height Z of the above is preferably in the range of 10 nm or less. Most preferably, the thin film portion 30 is provided in the range of 0 <Z ≦ 10 nm in order to achieve both transparency and stability.

平行線32の更なる細線化向上のために、H1/Z比、H2/Z比は、各々5以上であることが好ましく、10以上であることがより好ましく、20以上であることが特に好ましい。 In order to further improve the thinning of the parallel lines 32, the H1 / Z ratio and the H2 / Z ratio are preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and particularly preferably 20 or more. ..

導電性細線31、31の配置間隔Iの範囲は格別限定されず、ライン状液体の形成幅の設定により適宜設定することができる。配置間隔Iを、例えば50μm以上、100μm以上、200μm以上、300μm以上、400μm以上、更には500μm以上という大きい値に設定することも好ましい。透明導電膜等を形成する場合などにおいては、配置間隔Iは、例えば100μm以上〜1000μm以下の範囲とすることが好ましく、100μm以上〜500μm以下の範囲とすることが更に好ましい。なお、導電性細線31、31の配置間隔Iとは、導電性細線31、31の各最大突出部間の距離とすることができる。 The range of the arrangement interval I of the conductive thin wires 31 and 31 is not particularly limited, and can be appropriately set by setting the formation width of the linear liquid. It is also preferable to set the arrangement interval I to a large value such as 50 μm or more, 100 μm or more, 200 μm or more, 300 μm or more, 400 μm or more, and further 500 μm or more. When forming a transparent conductive film or the like, the arrangement interval I is preferably in the range of, for example, 100 μm or more and 1000 μm or less, and more preferably 100 μm or more and 500 μm or less. The arrangement interval I of the conductive thin wires 31 and 31 can be the distance between the maximum protrusions of the conductive thin wires 31 and 31.

1本のライン状液体から生成される平行線32を構成する導電性細線31、31に同様の形状(同程度の断面積)を付与することが好ましく、具体的には、導電性細線31、31の高さH1とH2とを実質的に等しい値とすることが好ましい。これと同様に、導電性細線31、31の線幅W1とW2とについても実質的に等しい値とすることが好ましい。導電性細線の形状の調整のために、X電極とY電極で、導電性細線の高さ(膜厚)及び線幅を異なる値に設定することは好ましいことである。 It is preferable to give the same shape (similar cross-sectional area) to the conductive thin wires 31 and 31 constituting the parallel lines 32 generated from one line-shaped liquid, and specifically, the conductive thin wires 31 and 31. It is preferable that the heights H1 and H2 of 31 are substantially equal values. Similarly, it is preferable that the line widths W1 and W2 of the conductive thin wires 31 and 31 have substantially the same value. In order to adjust the shape of the conductive thin wire, it is preferable to set the height (film thickness) and line width of the conductive thin wire to different values for the X electrode and the Y electrode.

導電性細線31、31は、必ずしも完全な平行である必要性はなく、少なくとも線分方向のある長さJに亘って、導電性細線31、31が結合していなければ良い。好ましくは、少なくとも線分方向のある長さJに亘って、導電性細線31、31が実質的に平行であることである。導電性細線31、31の線分方向の長さJは、導電性細線31、31の配置間隔Iの5倍以上であることが好ましく、10倍以上であることがより好ましい。 The conductive thin wires 31 and 31 do not necessarily have to be completely parallel, and it is sufficient that the conductive thin wires 31 and 31 are not connected at least over a certain length J in the line segment direction. Preferably, the conductive thin wires 31, 31 are substantially parallel over at least a certain length J in the line segment direction. The length J of the conductive thin wires 31 and 31 in the line segment direction is preferably 5 times or more, more preferably 10 times or more the arrangement interval I of the conductive thin wires 31 and 31.

長さJ及び配置間隔Iは、ライン状液体の形成長さ及び形成幅に対応して設定することができる。 The length J and the arrangement interval I can be set corresponding to the formation length and formation width of the linear liquid.

導電性細線31、31は、線幅W1、W2が2本線間距離(配置間隔I)に比して、十分に細いものであることが好ましい。 It is preferable that the conductive thin wires 31 and 31 have line widths W1 and W2 sufficiently thinner than the distance between the two lines (arrangement interval I).

1本のライン状液体から生成される平行線32を構成する導電性細線31、31は、同時に形成されたものであることが好ましい。 It is preferable that the conductive thin wires 31 and 31 forming the parallel wire 32 generated from one linear liquid are formed at the same time.

平行線32を構成する導電性細線31、31は、下記(ア)〜(ウ)の条件を全て満たすことが特に好ましい。これにより、パターンが視認されにくくなり、透明性を向上できると共に、線分が安定化され、パターンの抵抗値を低下できる効果に優れる。 It is particularly preferable that the conductive thin wires 31 and 31 constituting the parallel wire 32 satisfy all of the following conditions (a) to (c). As a result, the pattern is less likely to be visually recognized, transparency can be improved, line segments are stabilized, and the resistance value of the pattern can be reduced.

(ア)各導電性細線31、31の高さをH1、H2とし、該導電性細線31、31間における最薄部分の高さをZとしたときに、5≦H1/Z、且つ5≦H2/Zであること。
(イ)各導電性細線31、31の幅をW1、W2としたときに、W1≦10μm、且つW2≦10μmであること。
(ウ)各導電性細線31、31の高さをH1、H2としたときに、50nm<H1<5μm、且つ50nm<H2<5μmであること。
(A) When the heights of the conductive thin wires 31 and 31 are H1 and H2 and the height of the thinnest portion between the conductive thin wires 31 and 31 is Z, 5 ≦ H1 / Z and 5 ≦ Must be H2 / Z.
(A) When the widths of the conductive thin wires 31 and 31 are W1 and W2, W1 ≦ 10 μm and W2 ≦ 10 μm.
(C) When the heights of the conductive thin wires 31 and 31 are H1 and H2, 50 nm <H1 <5 μm and 50 nm <H2 <5 μm.

透明基材は格別限定されないが、例えばガラス、プラスチックなどを挙げることができ、中でもプラスチックが好ましい。プラスチックとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート等が好適である。透明基材は単層構造であっても積層構造であってもよい。 The transparent base material is not particularly limited, and examples thereof include glass and plastic, and among them, plastic is preferable. As the plastic, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, acrylic, polyester, polyamide, polycarbonate and the like are suitable. The transparent base material may have a single-layer structure or a laminated structure.

図9は透明基材2が単層構造である場合の一例を示している。この場合、当該透明基材2の一面にX電極3を形成し、次いで他の面にY電極4を形成するか、あるいは、当該透明基材2の一面にY電極4を形成し、次いで他の面にX電極3を形成することにより、タッチパネルセンサー1とすることができる。即ち、同一支持体(透明基材)の両面にX電極3とY電極4が各々形成されたタッチパネルセンサー1とすることができる。 FIG. 9 shows an example of the case where the transparent base material 2 has a single-layer structure. In this case, the X electrode 3 is formed on one surface of the transparent base material 2, and then the Y electrode 4 is formed on the other surface, or the Y electrode 4 is formed on one surface of the transparent base material 2, and then the other. By forming the X electrode 3 on the surface of the touch panel sensor 1, the touch panel sensor 1 can be obtained. That is, it can be a touch panel sensor 1 in which the X electrode 3 and the Y electrode 4 are formed on both sides of the same support (transparent base material).

図10は透明基材2が積層構造である場合の一例を示している。かかる積層構造は、2枚の支持体21、21と、該支持体21、21間に配された接着フィルム22から構成されている。かかる積層構造を形成する際には、X電極3を透明な第1支持体21上に形成し、Y電極を透明な第2支持体21上に形成した後、これら支持体21、21を、透明な接着フィルム22を介して貼り合わせることによりタッチパネルセンサー1とすることができる。 FIG. 10 shows an example in the case where the transparent base material 2 has a laminated structure. Such a laminated structure is composed of two supports 21 and 21 and an adhesive film 22 arranged between the supports 21 and 21. When forming such a laminated structure, the X electrode 3 is formed on the transparent first support 21, the Y electrode is formed on the transparent second support 21, and then the supports 21, 21 are formed. The touch panel sensor 1 can be obtained by sticking them together via a transparent adhesive film 22.

積層構造を用いる場合は、同一基材の両面に電極形成する必要が生じる単層構造の場合と比較して、比較的容易に製造できる利点がある。単層構造を用いる場合も、積層構造を用いる場合も、上述したように導電性細線の形状及び又は性状を調整することで、X電極とY電極の境界を視認困難化できる。 When a laminated structure is used, there is an advantage that it can be manufactured relatively easily as compared with the case of a single-layer structure in which electrodes need to be formed on both sides of the same base material. Whether a single-layer structure or a laminated structure is used, the boundary between the X electrode and the Y electrode can be made difficult to see by adjusting the shape and / or properties of the conductive thin wire as described above.

以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はかかる実施例により限定されない。 Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to such examples.

(実施例1)
実施例1では、導電性細線の線幅を調整した。
(Example 1)
In Example 1, the line width of the conductive thin wire was adjusted.

<X電極の形成>
ロール状巻回体から繰り出されるPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(厚さ50μm)の搬送方向の上流側と下流側にそれぞれ設けられたラインヘッドを用いて、該PETフィルム上に複数の平行線を組み合わせたX電極を形成した。ラインヘッドは、インクジェットヘッド(コニカミノルタ社製、ピエゾヘッド(標準液適量42pl))を前記搬送方向と直交する方向に複数組み合わせて構成されている。
<Formation of X electrode>
Using line heads provided on the upstream side and the downstream side of the PET (polyethylene terephthalate) film (thickness 50 μm) unwound from the roll-shaped wound body in the transport direction, a plurality of parallel lines are combined on the PET film. X electrode was formed. The line head is configured by combining a plurality of inkjet heads (Piezo heads (appropriate amount of standard liquid 42pl) manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) in a direction orthogonal to the transport direction.

具体的には、まず、上流側ラインヘッドを用いて、水性銀ナノインク(体積平均粒子径20nm、固形分濃度0.8wt%、表面張力27mN/m)を透明基材上に付与して、3本セットのライン状液体を複数形成した。各ライン状液体を乾燥させる際に、乾燥条件を制御して、銀ナノ粒子を両縁に選択的に堆積させて、1組2本の平行線を形成した。導電性細線の配置間隔Iは250μmとした。3組の平行線からなる第1細線セット(6本の導電性細線により構成されている)を所定の間隔をおいて複数並設した。 Specifically, first, using the upstream line head, water-based silver nanoink (volume average particle diameter 20 nm, solid content concentration 0.8 wt%, surface tension 27 mN / m) is applied onto the transparent substrate, and 3 A plurality of line-shaped liquids of this set were formed. When each line-shaped liquid was dried, the drying conditions were controlled and silver nanoparticles were selectively deposited on both edges to form a set of two parallel lines. The arrangement interval I of the conductive thin wires was set to 250 μm. A plurality of first thin wire sets (composed of 6 conductive thin wires) composed of 3 sets of parallel wires were arranged side by side at predetermined intervals.

次いで、下流側ラインヘッドを用いて、第1細線セットと同様にして、該第1細線セットと交差する第2細線セットを形成し、図3に示したものと同様のX電極を形成した。このとき、X電極形成時のインクの銀ナノ粒子の濃度を変更し、導電性細線の線幅が表1に示す値になるようにして、試料1−1〜1−5とした。 Next, using the downstream line head, a second wire set intersecting the first wire set was formed in the same manner as the first wire set, and an X electrode similar to that shown in FIG. 3 was formed. At this time, the concentration of the silver nanoparticles of the ink at the time of forming the X electrode was changed so that the line width of the conductive thin line became the value shown in Table 1, and the samples were prepared as Samples 1-1 to 1-5.

<Y電極の形成>
X電極と同様の方法で、PETフィルム上に、図4に示したものと同様のY電極を形成した。このとき、Y電極形成時のインクの銀ナノ粒子の濃度を変更し、導電性細線の線幅が表1に示す値になるようにして、試料1−1〜1−5とした。
<Formation of Y electrode>
A Y electrode similar to that shown in FIG. 4 was formed on the PET film in the same manner as the X electrode. At this time, the concentration of the silver nanoparticles of the ink at the time of forming the Y electrode was changed so that the line width of the conductive thin wire became the value shown in Table 1, and the samples were prepared as Samples 1-1 to 1-5.

<貼り合わせ>
X電極が形成されたPETフィルムと、Y電極が形成されたPETフィルムとを、接着フィルムを介して貼り合わせて、図10に示すような、透明基材が積層構造を有するタッチパネルセンサーを得た。このタッチパネルセンサーは、貼り合わせ時の位置調整により、図2に示したように、透明基材を透視した際に、X電極を構成する第1細線セットと、Y電極を構成する第1細線セットとが、互いに重ならないように交互に配置されている。同様に、透明基材を透視した際に、X電極を構成する第2細線セットと、Y電極を構成する第2細線セットとが、互いに重ならないように交互に配置されている。
<Lasting>
The PET film on which the X electrode was formed and the PET film on which the Y electrode was formed were bonded together via an adhesive film to obtain a touch panel sensor having a laminated structure of transparent substrates as shown in FIG. .. As shown in FIG. 2, this touch panel sensor has a first thin wire set constituting the X electrode and a first thin wire set constituting the Y electrode when the transparent base material is seen through by adjusting the position at the time of bonding. Are arranged alternately so that they do not overlap each other. Similarly, when the transparent substrate is viewed through, the second wire set constituting the X electrode and the second wire set constituting the Y electrode are alternately arranged so as not to overlap each other.

<評価方法>
得られたタッチパネルセンサー(試料1−1〜1−5)を、30cmの距離を置いてX電極側から観察し、X電極とY電極の境界の視認困難性を下記の評価基準で評価した。結果を表1に示す。
<Evaluation method>
The obtained touch panel sensor (Samples 1-1 to 1-5) was observed from the X electrode side at a distance of 30 cm, and the difficulty in visually recognizing the boundary between the X electrode and the Y electrode was evaluated according to the following evaluation criteria. The results are shown in Table 1.

[評価基準]
下記5段階評価とした。
5:境界がほとんど見えない
4:境界がごく僅かに見える
3:境界が僅かに見える
2:境界が見える
1:境界がくっきり見える
[Evaluation criteria]
The following five grades were used.
5: The boundary is almost invisible 4: The boundary is very slightly visible 3: The boundary is slightly visible 2: The boundary is visible 1: The boundary is clearly visible

なお、上記評価基準において3〜5が実用上好ましい。 In the above evaluation criteria, 3 to 5 are practically preferable.

Figure 0006922735
Figure 0006922735

<評価>
表1より、X電極を構成する導電性細線の線幅を、Y電極を構成する導電性細線の線幅よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることがわかる。
<Evaluation>
From Table 1, by making the line width of the conductive thin wire constituting the X electrode smaller than the line width of the conductive thin wire constituting the Y electrode, the boundary between the X electrode and the Y electrode can be suitably made difficult to see. Recognize.

(実施例2)
実施例2では、透明基材としてPETフィルムからなる単層構造のものを用いたこと以外は、実施例1と同様に、導電性細線の線幅を調整した。
(Example 2)
In Example 2, the line width of the conductive thin wire was adjusted in the same manner as in Example 1 except that a single-layer structure made of PET film was used as the transparent base material.

具体的には、PETフィルムの一面にX電極を形成した後、該PETフィルムの他面にY電極を形成して、図9に示したようなタッチパネルセンサーを得た。 Specifically, after forming an X electrode on one surface of the PET film, a Y electrode was formed on the other surface of the PET film to obtain a touch panel sensor as shown in FIG.

実施例1と同様に視認困難性を評価した結果、透明基材として単層構造のものを用いる場合においても、X電極を構成する導電性細線の線幅を、Y電極を構成する導電性細線の線幅よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることが確認された。 As a result of evaluating the visibility difficulty in the same manner as in Example 1, even when a single-layer structure is used as the transparent base material, the line width of the conductive thin wire constituting the X electrode is changed to the conductive thin wire constituting the Y electrode. It was confirmed that the boundary between the X electrode and the Y electrode can be suitably made difficult to see by making it smaller than the line width of.

(実施例3)
実施例3では、導電性細線の反射率を調整した。
(Example 3)
In Example 3, the reflectance of the conductive thin wire was adjusted.

実施例1において、導電性細線の線幅を一定(6μm)とし、銀ナノ粒子の体積平均粒子径を変更し、反射率が表2に示す値となるようにして、試料3−1〜3−5のタッチパネルセンサーを得た。 In Example 1, the line width of the conductive thin wire was kept constant (6 μm), the volume average particle diameter of the silver nanoparticles was changed, and the reflectance was set to the value shown in Table 2, and the samples 3-1 to 3 were set. A -5 touch panel sensor was obtained.

実施例1と同様に視認困難性を評価した結果を表2に示す。 Table 2 shows the results of evaluating the visibility difficulty in the same manner as in Example 1.

Figure 0006922735
Figure 0006922735

<評価>
表2より、X電極を構成する導電性細線の反射率を、Y電極を構成する導電性細線の反射率よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることがわかる。表2に示した反射率は、分光光度計を用いて測定対象となる導電性細線が形成された面について測定された分光反射率から求めた値である。
<Evaluation>
From Table 2, by making the reflectance of the conductive thin wire constituting the X electrode smaller than the reflectance of the conductive thin wire constituting the Y electrode, the boundary between the X electrode and the Y electrode can be suitably made difficult to see. Recognize. The reflectance shown in Table 2 is a value obtained from the spectral reflectance measured on the surface on which the conductive thin wire to be measured is formed using a spectrophotometer.

(実施例4)
実施例4では、導電性細線の膜厚を調整した。
(Example 4)
In Example 4, the film thickness of the conductive thin wire was adjusted.

実施例1で得られた試料1−1のタッチパネルセンサーのX電極及び又はY電極を構成する導電性細線に電解銅メッキ処理を施した。メッキ条件を変えて、メッキされる銅膜厚を変更し、導電性細線の膜厚が表3に示す値となるようにして、試料4−1〜4−5のタッチパネルセンサーを得た。 The conductive thin wires constituting the X electrode and / or the Y electrode of the touch panel sensor of Sample 1-1 obtained in Example 1 were subjected to electrolytic copper plating treatment. The touch panel sensors of Samples 4-1 to 4-5 were obtained by changing the plating conditions and changing the film thickness of the copper to be plated so that the film thickness of the conductive thin wire became the value shown in Table 3.

実施例1と同様に視認困難性を評価した結果を表3に示す。 Table 3 shows the results of evaluating the visibility difficulty in the same manner as in Example 1.

Figure 0006922735
Figure 0006922735

<評価>
表2より、X電極を構成する導電性細線の膜厚を、Y電極を構成する導電性細線の膜厚よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることがわかる。
<Evaluation>
From Table 2, by making the film thickness of the conductive thin wire constituting the X electrode smaller than the film thickness of the conductive thin wire constituting the Y electrode, the boundary between the X electrode and the Y electrode can be suitably made difficult to see. Recognize.

(実施例5)
実施例5では、透明基材としてPETフィルムからなる単層構造のものを用いたこと以外は、実施例4と同様に、導電性細線の膜厚を調整した。
(Example 5)
In Example 5, the film thickness of the conductive thin wire was adjusted in the same manner as in Example 4, except that a single-layer structure made of PET film was used as the transparent base material.

具体的には、PETフィルムの一面にX電極を形成した後、該PETフィルムの他面にY電極を形成して、図9に示したようなタッチパネルセンサーを得た。 Specifically, after forming an X electrode on one surface of the PET film, a Y electrode was formed on the other surface of the PET film to obtain a touch panel sensor as shown in FIG.

実施例1と同様に視認困難性を評価した結果、透明基材として単層構造のものを用いる場合においても、X電極を構成する導電性細線の膜厚を、Y電極を構成する導電性細線の膜厚よりも小さくすることにより、X電極とY電極の境界を好適に視認困難化できることが確認された。 As a result of evaluating the visibility difficulty in the same manner as in Example 1, even when a single-layer structure is used as the transparent base material, the thickness of the conductive thin wire constituting the X electrode is set to the thickness of the conductive thin wire constituting the Y electrode. It was confirmed that the boundary between the X electrode and the Y electrode can be suitably made difficult to see by making the thickness smaller than the thickness of.

1:タッチパネルセンサー
2:透明基材
21:支持体
22:接着フィルム
3:X電極
31:導電性細線
32:導電性平行細線(平行線)
33a、33b:細線セット
4:Y電極
41:導電性細線
42:導電性平行細線(平行線)
43a、43b:細線セット
5:交差部
6:ライン状液体
1: Touch panel sensor 2: Transparent base material 21: Support 22: Adhesive film 3: X electrode 31: Conductive thin wire 32: Conductive parallel thin wire (parallel wire)
33a, 33b: Fine wire set 4: Y electrode 41: Conductive thin wire 42: Conductive parallel thin wire (parallel wire)
43a, 43b: Fine wire set 5: Intersection 6: Line-shaped liquid

Claims (23)

透明基材の一面にX電極を備え、該透明基材の他面にY電極を備え、該Y電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーであって、
前記X電極及び前記Y電極は、それぞれ1組2本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて構成されており、前記透明基材を透視した際に、前記X電極を構成する導電性細線と、前記Y電極を構成する導電性細線とは、互いに線分として重ならないように配置されており、
前記X電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記X電極の視認性と前記Y電極の視認性の差を減じるように、前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線とが互いに線分として重ならない部分において、前記各導電性細線の形状及び又は性状を互いに異ならせ、前記X電極の視認性を低くしたタッチパネルセンサー。
A touch panel sensor having an X electrode on one surface of a transparent base material, a Y electrode on the other side of the transparent base material, and a display arranged on the Y electrode side.
The X electrode and the Y electrode are formed by combining a plurality of sets of conductive parallel thin wires each consisting of a set of two conductive thin wires, and form the X electrode when the transparent substrate is viewed through. The conductive thin wire and the conductive thin wire constituting the Y electrode are arranged so as not to overlap each other as a line segment.
Wherein the X electrode side so as to reduce the difference between the visibility of the Y electrode and the visibility of the X electrode when viewed the touch panel sensor, and the conductive fine wires constituting the X electrode, the Y electrode A touch panel sensor in which the shapes and / or properties of the respective conductive thin wires are made different from each other in a portion where the constituent conductive thin wires do not overlap each other as a line segment, so that the visibility of the X electrode is lowered.
前記X電極は、互いに平行な導電性細線を所定間隔で並設してなる第1細線セットと、互いに平行な導電性細線を所定間隔で並設してなる第2細線セットとを互いに交差するようにメッシュ状に複数配置して構成され、
前記Y電極は、互いに平行な導電性細線を所定間隔で並設してなる第1細線セットと、互いに平行な導電性細線を所定間隔で並設してなる第2細線セットとを互いに交差するようにメッシュ状に複数配置して構成され、
前記透明基材を透視した際に、前記X電極を構成する前記第1細線セットと、前記Y電極を構成する前記第1細線セットとは、互いに平行な関係にあり、且つ互いに重ならないように交互に配置され、前記X電極を構成する前記第2細線セットと、前記Y電極を構成する前記第2細線セットとは、互いに平行な関係にあり、且つ互いに重ならないように交互に配置されている請求項1記載のタッチパネルセンサー。
The X electrode intersects a first wire set in which conductive wires parallel to each other are arranged side by side at predetermined intervals and a second wire set in which conductive wires parallel to each other are arranged in parallel at predetermined intervals. It is composed by arranging multiple pieces in a mesh like
The Y electrode intersects a first wire set in which conductive wires parallel to each other are arranged side by side at predetermined intervals and a second wire set in which conductive wires parallel to each other are arranged in parallel at predetermined intervals. It is composed by arranging multiple pieces in a mesh like
When the transparent substrate is viewed through, the first wire set constituting the X electrode and the first wire set constituting the Y electrode are parallel to each other and do not overlap each other. The second wire set that is alternately arranged and constitutes the X electrode and the second wire set that constitutes the Y electrode are arranged alternately so as to be parallel to each other and not to overlap each other. The touch panel sensor according to claim 1.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が線幅であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせた請求項1又は2記載のタッチパネルセンサー。 The shape of the conductive thin wire forming the X electrode and the conductive thin wire forming the Y electrode is a line width, and the line width of the conductive thin wire forming the X electrode and the Y electrode are used. The touch panel sensor according to claim 1 or 2, wherein the line width of the constituent thin conductive wire is different. 前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さい請求項3記載のタッチパネルセンサー。 The touch panel sensor according to claim 3, wherein the line width of the conductive thin wire constituting the X electrode is smaller than the line width of the conductive thin wire constituting the Y electrode. 前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせた請求項1又は2記載のタッチパネルセンサー。 The property of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is the reflectance, and the reflectance of the conductive thin wire constituting the X electrode and the Y electrode are used. The touch panel sensor according to claim 1 or 2, wherein the reflectance of the constituent thin conductive wire is different from that of the touch panel sensor. 前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さい請求項5記載のタッチパネルセンサー。 The touch panel sensor according to claim 5, wherein the reflectance of the conductive thin wire constituting the X electrode is smaller than the reflectance of the conductive thin wire constituting the Y electrode. 前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせた請求項1又は2記載のタッチパネルセンサー。 The shape of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is the film thickness, and the film thickness of the conductive thin wire constituting the X electrode and the Y electrode are used. The touch panel sensor according to claim 1 or 2, wherein the thickness of the constituent thin conductive wire is different. 前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さい請求項7記載のタッチパネルセンサー。 The touch panel sensor according to claim 7, wherein the film thickness of the conductive thin wire constituting the X electrode is smaller than the film thickness of the conductive thin wire constituting the Y electrode. 前記X電極が形成された支持体と、前記Y電極が形成された支持体とを貼り合わせてなる請求項1〜8の何れかに記載のタッチパネルセンサー。 The touch panel sensor according to any one of claims 1 to 8, wherein the support on which the X electrode is formed and the support on which the Y electrode is formed are bonded together. 同一支持体の両面に前記X電極と前記Y電極が各々形成されている請求項1〜9の何れかに記載のタッチパネルセンサー。 The touch panel sensor according to any one of claims 1 to 9, wherein the X electrode and the Y electrode are formed on both sides of the same support. 前記X電極及び前記Y電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線は、メッキにより形成された金属膜を備える請求項1〜10の何れかに記載のタッチパネルセンサー。 The touch panel sensor according to any one of claims 1 to 10, wherein the conductive thin wire constituting one or both of the X electrode and the Y electrode includes a metal film formed by plating. 透明基材の一面にX電極を備え、該透明基材の他面にY電極を備え、該Y電極側にディスプレイを配置して使用するタッチパネルセンサーの製造方法であって、
前記X電極及び前記Y電極を、それぞれ1組2本の導電性細線からなる導電性平行細線を複数組組み合わせて形成すると共に、前記X電極を構成する導電性細線と、前記Y電極を構成する導電性細線とを、前記透明基材を透視した際に、互いに線分として重ならないように配置し、
前記X電極側から当該タッチパネルセンサーを見たときの前記X電極の視認性と前記Y電極の視認性の差を減じるように、前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線とが互いに線分として重ならない部分において、前記各導電性細線の形状及び又は性状を互いに異ならせ、前記X電極の視認性を低くしたタッチパネルセンサーの製造方法。
A method for manufacturing a touch panel sensor in which an X electrode is provided on one surface of a transparent base material, a Y electrode is provided on the other side of the transparent base material, and a display is arranged on the Y electrode side.
The X electrode and the Y electrode are formed by combining a plurality of sets of conductive parallel thin wires each consisting of a set of two conductive thin wires, and the conductive thin wires constituting the X electrode and the Y electrode are formed. The conductive thin wires are arranged so as not to overlap each other as a line segment when the transparent base material is viewed through.
Wherein the X electrode side so as to reduce the difference between the visibility of the Y electrode and the visibility of the X electrode when viewed the touch panel sensor, and the conductive fine wires constituting the X electrode, the Y electrode A method for manufacturing a touch panel sensor in which the shapes and / or properties of the respective conductive thin wires are made different from each other in a portion where the constituent conductive thin wires do not overlap each other as a line segment, so that the visibility of the X electrode is lowered.
前記X電極は、互いに平行な導電性細線を所定間隔で並設してなる第1細線セットと、互いに平行な導電性細線を所定間隔で並設してなる第2細線セットとを互いに交差するようにメッシュ状に複数配置して構成し、
前記Y電極は、互いに平行な導電性細線を所定間隔で並設してなる第1細線セットと、互いに平行な導電性細線を所定間隔で並設してなる第2細線セットとを互いに交差するようにメッシュ状に複数配置して構成し、
前記X電極を構成する前記第1細線セットと、前記Y電極を構成する前記第1細線セットとを、前記透明基材を透視した際に、互いに平行な関係とし、且つ互いに重ねないように交互に配置し、前記X電極を構成する前記第2細線セットと、前記Y電極を構成する前記第2細線セットとを、前記透明基材を透視した際に、互いに平行な関係とし、且つ互いに重ねないように交互に配置する請求項12記載のタッチパネルセンサーの製造方法。
The X electrode intersects a first wire set in which conductive wires parallel to each other are arranged side by side at predetermined intervals and a second wire set in which conductive wires parallel to each other are arranged in parallel at predetermined intervals. By arranging multiple pieces in a mesh like
The Y electrode intersects a first wire set in which conductive wires parallel to each other are arranged side by side at predetermined intervals and a second wire set in which conductive wires parallel to each other are arranged in parallel at predetermined intervals. By arranging multiple pieces in a mesh like
When the transparent base material is seen through, the first wire set constituting the X electrode and the first wire set constituting the Y electrode are in a parallel relationship with each other and alternate so as not to overlap each other. The second wire set forming the X electrode and the second wire set forming the Y electrode are arranged in parallel with each other and overlap each other when the transparent base material is viewed through. The method for manufacturing a touch panel sensor according to claim 12, wherein the touch panel sensors are arranged alternately so as not to be present.
前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状とが線幅であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅とを異ならせる請求項12又は13記載のタッチパネルセンサーの製造方法。 The shape of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is a line width, and the line width of the conductive thin wire constituting the X electrode and the Y electrode The method for manufacturing a touch panel sensor according to claim 12 or 13, wherein the line width of the conductive thin wire constituting the above is different. 前記X電極を構成する前記導電性細線の線幅が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の線幅より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける請求項14記載のタッチパネルセンサーの製造方法。 The touch panel sensor according to claim 14, wherein the X electrode and the Y electrode are provided so that the line width of the conductive thin wire constituting the X electrode is smaller than the line width of the conductive thin wire constituting the Y electrode. Manufacturing method. 前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との性状が反射率であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率とを異ならせる請求項12又は13記載のタッチパネルセンサーの製造方法。 The property of the conductive thin wire constituting the X electrode and the conductive thin wire constituting the Y electrode is the reflectance, and the reflectance of the conductive thin wire constituting the X electrode and the Y electrode are used. The method for manufacturing a touch panel sensor according to claim 12 or 13, wherein the reflectance of the constituent thin conductive wire is different. 前記X電極を構成する前記導電性細線の反射率が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の反射率より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける請求項16記載のタッチパネルセンサーの製造方法。 The touch panel sensor according to claim 16, wherein the X electrode and the Y electrode are provided so that the reflectance of the conductive thin wire constituting the X electrode is smaller than the reflectance of the conductive thin wire constituting the Y electrode. Manufacturing method. 前記X電極を構成する前記導電性細線と、前記Y電極を構成する前記導電性細線との形状が膜厚であり、前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚と、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚とを異ならせる請求項12又は13記載のタッチパネルセンサーの製造方法。 The shape of the conductive thin wire forming the X electrode and the conductive thin wire forming the Y electrode is the film thickness, and the film thickness of the conductive thin wire forming the X electrode and the Y electrode are used. The method for manufacturing a touch panel sensor according to claim 12 or 13, wherein the film thickness of the constituent conductive thin wire is different. 前記X電極を構成する前記導電性細線の膜厚が、前記Y電極を構成する前記導電性細線の膜厚より小さくなるように、該X電極及び該Y電極を設ける請求項18記載のタッチパネルセンサーの製造方法。 The touch panel sensor according to claim 18, wherein the X electrode and the Y electrode are provided so that the thickness of the conductive thin wire constituting the X electrode is smaller than the thickness of the conductive thin wire constituting the Y electrode. Manufacturing method. 前記X電極が形成された支持体と、前記Y電極が形成された支持体とを貼り合わせる請求項12〜19の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。 The method for manufacturing a touch panel sensor according to any one of claims 12 to 19, wherein the support on which the X electrode is formed and the support on which the Y electrode is formed are bonded together. 同一支持体の両面に前記X電極と前記Y電極を各々形成する請求項12〜20の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。 The method for manufacturing a touch panel sensor according to any one of claims 12 to 20, wherein the X electrode and the Y electrode are formed on both sides of the same support. 前記透明基材上に付与された導電性材料を含有するライン状液体を乾燥させる際に、該導電性材料を該ライン状液体の両縁に選択的に堆積させて前記X電極及び前記Y電極を構成する導電性平行細線を形成する請求項12〜21の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造 When the line-shaped liquid containing the conductive material applied on the transparent substrate is dried, the conductive material is selectively deposited on both edges of the line-shaped liquid to form the X electrode and the Y electrode. The manufacture of the touch panel sensor according to any one of claims 12 to 21, which forms a conductive parallel thin wire constituting the above. 前記X電極及び前記Y電極の一方又は両方を構成する前記導電性細線に、メッキにより金属膜を形成することを特徴とする請求項12〜22の何れかに記載のタッチパネルセンサーの製造方法。 The method for manufacturing a touch panel sensor according to any one of claims 12 to 22, wherein a metal film is formed by plating on the conductive thin wire constituting one or both of the X electrode and the Y electrode.
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WO2018146963A1 (en) * 2017-02-09 2018-08-16 コニカミノルタ株式会社 Touch screen and method for manufacturing touch screen
JP2018169974A (en) * 2017-03-30 2018-11-01 トッパン・フォームズ株式会社 Transparent Conductive Substrate

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5638027B2 (en) * 2011-05-17 2014-12-10 富士フイルム株式会社 Conductive sheet and capacitive touch panel
KR101477340B1 (en) * 2012-05-07 2014-12-30 주식회사 엘지화학 Transparent Conducting Polymer Electrodes Formed Using Inkjet Printing Process, Display Apparatus Comprising The Same and Manufacturing Method The Same
JP2014035612A (en) * 2012-08-08 2014-02-24 Fujikura Ltd Touch panel
JP6007776B2 (en) * 2012-12-17 2016-10-12 コニカミノルタ株式会社 Parallel line pattern forming method, manufacturing method of substrate with transparent conductive film, device and manufacturing method of electronic apparatus
FR2997794A1 (en) * 2012-11-08 2014-05-09 Commissariat Energie Atomique STRUCTURING ELECTRODES OF PEMFC
JP5795038B2 (en) * 2013-10-01 2015-10-14 日本写真印刷株式会社 Electrode sheet for capacitive touch panel

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