JP6922701B2 - Dielectric compositions, electronic components and laminated electronic components - Google Patents

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Description

本発明は、誘電体組成物、電子部品および積層電子部品に関する。 The present invention relates to dielectric compositions, electronic components and laminated electronic components.

積層セラミックコンデンサは、その信頼性の高さやコストの安さから多くの電子機器に搭載されている。 Multilayer ceramic capacitors are installed in many electronic devices due to their high reliability and low cost.

近年では、例えば、車載用の電子部品に用いられる積層セラミックコンデンサ、基板がSiC、GaN等であるパワー半導体を用いた電子回路に搭載される積層セラミックコンデンサ等の用途では、−55℃〜250℃付近までの広範囲の温度において静電容量の温度変化率が小さいことが要求されている。 In recent years, for example, in applications such as multilayer ceramic capacitors used for in-vehicle electronic components and multilayer ceramic capacitors mounted on electronic circuits using power semiconductors whose substrates are SiC, GaN, etc., the temperature is -55 ° C to 250 ° C. It is required that the rate of change in capacitance is small in a wide range of temperatures up to the vicinity.

特許文献1には、十分な誘電率を示しつつ、かつ、175℃程度の高温においても、安定した静電容量温度特性と高い抵抗率ρが得られる誘電体セラミック組成物が開示されている。当該誘電体セラミック組成物は、組成式(1−a)(K1−xNa)(Sr1−y−zBaCaNb15−a(Ba1−bCa)TiOで表されるタングステンブロンズ構造系化合物とペロブスカイト構造系化合物との混晶系を主成分として含み、かつ、上記主成分100モル部に対して0.1〜40モル部の副成分を含有することを特徴とする。 Patent Document 1 discloses a dielectric ceramic composition that exhibits a sufficient dielectric constant and can obtain a stable capacitance temperature characteristic and a high resistivity ρ even at a high temperature of about 175 ° C. The dielectric ceramic composition, the composition formula (1-a) (K 1 -x Na x) (Sr 1-y-z Ba y Ca z) 2 Nb 5 O 15 -a (Ba 1-b Ca b) It contains a mixed crystal system of a tungsten bronze structural compound represented by TiO 3 and a perovskite structural compound as a main component, and contains 0.1 to 40 mol parts of a sub-component with respect to 100 mol parts of the main component. It is characterized by doing.

特許文献2には、チタン酸バリウムを含む主成分と、BaZrO、Mgの酸化物、 希土類元素、Alの酸化物等及びSi、Li、GeおよびBの副成分を含有する誘電体磁器組成物が開示されている。当該誘電体磁器組成物は上記の特徴を有することで、高温負荷寿命に優れ、中高圧用途に好適に用いることができる。 Patent Document 2 describes a dielectric porcelain composition containing a main component containing barium titanate, BaZrO 3 , Mg oxide, rare earth element, Al oxide and the like, and sub-components of Si, Li, Ge and B. Is disclosed. Since the dielectric porcelain composition has the above-mentioned characteristics, it has an excellent high-temperature load life and can be suitably used for medium- and high-pressure applications.

しかしながら、前記特許文献1に記載された誘電体セラミック組成物は、温度範囲の上限を250℃まで広げた場合において静電容量の温度変化が大きくなった。また、前記特許文献2に記載された誘電体磁器組成物は、主成分がチタン酸バリウムであるため、150℃を超えた温度域で比誘電率が急激に低下し、静電容量が低下した。 However, in the dielectric ceramic composition described in Patent Document 1, the temperature change of the capacitance becomes large when the upper limit of the temperature range is extended to 250 ° C. Further, since the main component of the dielectric porcelain composition described in Patent Document 2 is barium titanate, the relative permittivity sharply decreases in a temperature range exceeding 150 ° C., and the capacitance decreases. ..

国際公開第2008/155945号International Publication No. 2008/155945 特開2008−162830号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-162830

本発明は、250℃の高温雰囲気下において比誘電率が比較的高く、−55℃〜250℃において静電容量の温度変化率が小さい誘電体組成物と、それを用いた電子部品を提供することである。 The present invention provides a dielectric composition having a relatively high relative permittivity in a high temperature atmosphere of 250 ° C. and a small temperature change rate of capacitance at −55 ° C. to 250 ° C., and an electronic component using the same. That is.

上記目的を達成するため、本発明の誘電体組成物は、主成分と第1の副成分とを有する誘電体組成物であって、
前記主成分が化学式BaαR(Ti1.00−xZr2.00(Nb1.00−yTa3.0013.00+αで表されるタングステンブロンズ型複合酸化物を含み、
Rは希土類元素であり、
前記α、xおよびyが、
2.05≦α≦2.25
0.40≦x≦1.00
0.05≦y≦0.60
であり、
前記第1の副成分が、Vの酸化物およびWの酸化物を必須成分として含み、
前記第1の副成分が、さらにSiの酸化物および/またはGeの酸化物を含み、
前記主成分100molに対する前記Vの酸化物の含有量をV換算でC(mol)、前記Wの酸化物の含有量をW換算でC(mol)、前記Siの酸化物の含有量をSi換算でCSi(mol)、前記Geの酸化物の含有量をGe換算でCGe(mol)として
0.30≦C≦10.0
0.10≦C≦2.5
5.00≦CSi+CGe≦20.00
3.0≦C/C≦20.0
であることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the dielectric composition of the present invention is a dielectric composition having a main component and a first subcomponent.
The main component is a tungsten bronze type composite oxide represented by the chemical formula Ba α R (Ti 1.00-x Zr x ) 2.00 (Nb 1.00-y T y ) 3,000 O 13.00 + α. Including
R is a rare earth element
The α, x and y are
2.05 ≤ α ≤ 2.25
0.40 ≤ x ≤ 1.00
0.05 ≤ y ≤ 0.60
And
The first subcomponent contains an oxide of V and an oxide of W as essential components.
The first subcomponent further comprises an oxide of Si and / or an oxide of Ge.
The content of the oxide of V with respect to 100 mol of the main component is C V (mol) in terms of V, the content of the oxide of W is C W (mol) in terms of W, and the content of the oxide of Si is C Si (mol) in terms of Si, and C Ge (mol) in terms of Ge oxide content 0.30 ≤ C V ≤ 10.0
0.10 ≤ C W ≤ 2.5
5.00 ≤ C Si + C Ge ≤ 20.00
3.0 ≤ C V / C W ≤ 20.0
It is characterized by being.

誘電体組成物が上記の特徴を有することで、250℃程度の温度領域で使用されるのに適した比較的高い比誘電率と、−55℃〜250℃において良好な静電容量の温度変化率を有する誘電体組成物を提供することが可能となる。 Due to the above characteristics of the dielectric composition, a relatively high relative permittivity suitable for use in a temperature range of about 250 ° C. and a good temperature change of capacitance in -55 ° C. to 250 ° C. It becomes possible to provide a dielectric composition having a ratio.

さらに、第2の副成分を含んでもよく、前記第2の副成分がNiの酸化物、Feの酸化物、Euの酸化物およびMoの酸化物から選択される一種以上の酸化物を含み、
前記主成分100molに対する前記Niの酸化物の含有量をNi換算でCNi(mol)、前記Feの酸化物の含有量をFe換算でCFe(mol)、前記Euの酸化物の含有量をEu換算でCEu(mol)、前記Moの酸化物の含有量をMo換算でCMo(mol)として、
0.25≦CNi+CFe+CEu+CMo≦2.50
であってもよい。
Further, a second subcomponent may be contained, and the second subcomponent contains one or more oxides selected from Ni oxide, Fe oxide, Eu oxide and Mo oxide.
The content of the Ni oxide with respect to 100 mol of the main component is C Ni (mol) in terms of Ni, the content of the oxide of Fe is C Fe (mol) in terms of Fe, and the content of the oxide of Eu is C Eu (mol) in terms of Eu, and C Mo (mol) in terms of Mo for the oxide content of the Mo.
0.25 ≤ C Ni + C Fe + C Eu + C Mo ≤ 2.50
It may be.

RがLaであってもよい。 R may be La.

本発明に係る電子部品は、誘電体および電極を有する電子部品であって、
前記誘電体が上記の誘電体組成物からなる。
The electronic component according to the present invention is an electronic component having a dielectric and an electrode.
The dielectric comprises the above dielectric composition.

本発明に係る積層電子部品は、誘電体層と内部電極層とを交互に積層されてなる積層部分を有する積層電子部品であって、
前記誘電体層が上記の誘電体組成物からなる。
The laminated electronic component according to the present invention is a laminated electronic component having a laminated portion formed by alternately laminating a dielectric layer and an internal electrode layer.
The dielectric layer comprises the above dielectric composition.

上記の誘電体組成物からなる誘電体を有する電子部品、および、上記の誘電体組成物からなる誘電体層を積層されてなる積層部分を有する積層電子部品は、−55℃程度の低温領域から150℃程度の高温領域での使用が求められる車載用途の電子部品に用いることができる。また、250℃程度の高温領域での使用が求められるSiCやGaN系の半導体を用いたパワーデバイス用のスナバコンデンサに用いることができる。さらには、250℃程度の高温領域での使用が求められる自動車のエンジンルーム内のノイズ除去に用いるコンデンサ等に用いることができる。 An electronic component having a dielectric made of the above-mentioned dielectric composition and a laminated electronic component having a laminated portion made by laminating a dielectric layer made of the above-mentioned dielectric composition can be used from a low temperature region of about −55 ° C. It can be used for in-vehicle electronic components that are required to be used in a high temperature region of about 150 ° C. Further, it can be used as a snubber capacitor for a power device using a SiC or GaN-based semiconductor, which is required to be used in a high temperature region of about 250 ° C. Further, it can be used as a capacitor or the like used for noise removal in an automobile engine room, which is required to be used in a high temperature region of about 250 ° C.

本発明によれば、車載用の電子部品に用いられる積層セラミックコンデンサ、基板がSiC、GaN等であるパワー半導体を用いた電子回路に搭載される積層セラミックコンデンサ等の用途に対応した250℃の高温雰囲気下において、比誘電率が比較的高く、良好な静電容量の温度変化率を有する誘電体組成物と、それを用いた電子部品および積層電子部品とを提供することができる。 According to the present invention, a high temperature of 250 ° C. corresponding to applications such as a multilayer ceramic capacitor used for an in-vehicle electronic component and a multilayer ceramic capacitor mounted on an electronic circuit using a power semiconductor whose substrate is SiC, GaN or the like. It is possible to provide a dielectric composition having a relatively high relative permittivity and a good temperature change rate of capacitance in an atmosphere, and an electronic component and a laminated electronic component using the same.

図1は、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明の実施形態について図1を用いて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIG.

本実施形態に係る積層電子部品の一種である積層セラミックコンデンサ1は、誘電体層2と内部電極層3とが交互に積層された構成のコンデンサ素子本体10を有する。このコンデンサ素子本体10の両端部には、コンデンサ素子本体10の内部で交互に配置された内部電極層3と各々導通する一対の外部電極4が形成してある。コンデンサ素子本体10の形状は任意であるが、通常、直方体状とされる。また、その寸法も任意であり、用途に応じて適当な寸法とすればよい。また、誘電体層2と内部電極層3とが交互に積層されてなる部分を積層部分とする。 The laminated ceramic capacitor 1, which is a kind of laminated electronic component according to the present embodiment, has a capacitor element main body 10 having a structure in which a dielectric layer 2 and an internal electrode layer 3 are alternately laminated. At both ends of the capacitor element main body 10, a pair of external electrodes 4 that conduct with the internal electrode layers 3 alternately arranged inside the capacitor element main body 10 are formed. The shape of the capacitor element main body 10 is arbitrary, but is usually a rectangular parallelepiped shape. In addition, the dimensions are also arbitrary, and may be set to appropriate dimensions according to the intended use. Further, a portion in which the dielectric layer 2 and the internal electrode layer 3 are alternately laminated is referred to as a laminated portion.

内部電極層3は、各端部がコンデンサ素子本体10の対向する2端面の表面に交互に露出するように積層してある。一対の外部電極4は、コンデンサ素子本体10の両端面に形成され、交互に配置された内部電極層3の露出端に接続されて、コンデンサ回路を構成する。 The internal electrode layers 3 are laminated so that their respective ends are alternately exposed on the surfaces of the two opposite end faces of the capacitor element main body 10. The pair of external electrodes 4 are formed on both end faces of the capacitor element main body 10 and are connected to the exposed ends of the alternately arranged internal electrode layers 3 to form a capacitor circuit.

誘電体層2の厚さは任意であるが、一層あたり100μm以下であることが好ましく、より好ましくは30μm以下である。厚さの下限は任意であるが、たとえば0.5μm程度である。 The thickness of the dielectric layer 2 is arbitrary, but is preferably 100 μm or less, and more preferably 30 μm or less per layer. The lower limit of the thickness is arbitrary, but is, for example, about 0.5 μm.

誘電体層2の積層数は任意であるが、20以上であることが好ましく、より好ましくは50以上である。 The number of layers of the dielectric layer 2 is arbitrary, but is preferably 20 or more, and more preferably 50 or more.

内部電極層3に含有される導電材の種類は任意である。Ni、Ni系合金、CuまたはCu系合金が好ましい。より好ましくは、NiまたはNi系合金である。さらに好ましくは、内部電極層3の主成分をNiまたはNi系合金とし、副成分としてAl、Si、Li、CrおよびFeから選択される1種以上を含有する。なお、内部電極層3の主成分とは、内部電極層3全体に対して85wt%以上、含有する成分を指す。 The type of conductive material contained in the internal electrode layer 3 is arbitrary. Ni, Ni-based alloys, Cu or Cu-based alloys are preferable. More preferably, it is a Ni or Ni-based alloy. More preferably, the main component of the internal electrode layer 3 is a Ni or Ni-based alloy, and one or more selected from Al, Si, Li, Cr and Fe are contained as subcomponents. The main component of the internal electrode layer 3 refers to a component contained in an amount of 85 wt% or more with respect to the entire internal electrode layer 3.

内部電極層3の主成分をNiまたはNi系合金とし、副成分としてAl、Si、Li、CrおよびFeから選択される1種以上を含有することで、内部電極層3に含まれるNiが酸化されにくくなる。そして、250℃程度の高温下で積層セラミックコンデンサ1を連続使用しても内部電極層3の酸化による連続性および導電性の劣化が起こりにくくなる By using Ni or a Ni-based alloy as the main component of the internal electrode layer 3 and containing one or more selected from Al, Si, Li, Cr and Fe as subcomponents, Ni contained in the internal electrode layer 3 is oxidized. It becomes difficult to be done. Further, even if the monolithic ceramic capacitor 1 is continuously used at a high temperature of about 250 ° C., deterioration of continuity and conductivity due to oxidation of the internal electrode layer 3 is less likely to occur.

副成分としてAl、Si、Li、CrおよびFeから選択される1種以上を含有することで、内部電極層3に含まれるNiが酸化されにくくなる理由は下記の通りである。副成分としてAl、Si、Li、CrおよびFeから選択される1種以上を含有する場合には、Niが大気中の酸素と反応しNiOになる前に、上記副成分と酸素とが反応し、内部電極3に含まれるNiの表面に上記副成分の酸化膜を形成する。これにより、外気中の酸素は前記酸化膜を通過しないとNiと反応できなくなるため、Niが酸化され難くなる。 The reason why Ni contained in the internal electrode layer 3 is less likely to be oxidized by containing one or more selected from Al, Si, Li, Cr and Fe as a sub-component is as follows. When one or more selected from Al, Si, Li, Cr and Fe is contained as a sub-component, the above-mentioned sub-component reacts with oxygen before Ni reacts with oxygen in the atmosphere to become NiO. , An oxide film of the above subcomponent is formed on the surface of Ni contained in the internal electrode 3. As a result, oxygen in the outside air cannot react with Ni unless it passes through the oxide film, so that Ni is less likely to be oxidized.

なお、内部電極層3には、P等の各種微量成分が0.1質量%程度以下含まれていてもよい。また、内部電極層3は、市販の電極用ペーストを使用して形成してもよい。内部電極層3の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよい。 The internal electrode layer 3 may contain various trace components such as P in an amount of about 0.1% by mass or less. Further, the internal electrode layer 3 may be formed by using a commercially available electrode paste. The thickness of the internal electrode layer 3 may be appropriately determined according to the application and the like.

外部電極4に含有される導電材は任意である。本実施形態では、例えば、安価なNiまたはCu、耐熱性が高いAu、AgまたはPd、もしくはNi、Cu、Au、Agおよび/またはPdの合金を用いることができる。外部電極4の厚さは用途等に応じて適宜決定されればよいが、通常、10〜50μm程度であることが好ましい。 The conductive material contained in the external electrode 4 is arbitrary. In this embodiment, for example, inexpensive Ni or Cu, highly heat-resistant Au, Ag or Pd, or an alloy of Ni, Cu, Au, Ag and / or Pd can be used. The thickness of the external electrode 4 may be appropriately determined depending on the application and the like, but is usually preferably about 10 to 50 μm.

次に、本実施形態に係る誘電体層2を構成する誘電体組成物について詳細に説明する。 Next, the dielectric composition constituting the dielectric layer 2 according to the present embodiment will be described in detail.

本実施形態に係る誘電体組成物は、
主成分と第1の副成分とを有する誘電体組成物であって、
前記主成分が化学式BaαR(Ti1.00−xZr2.00(Nb1.00−yTa3.0013.00+αで表されるタングステンブロンズ型複合酸化物を含み、
Rは希土類元素であり、
前記α、xおよびyが、
2.05≦α≦2.25
0.40≦x≦1.00
0.05≦y≦0.60
であり、
前記第1の副成分が、Vの酸化物およびWの酸化物を必須成分として含み、
前記第1の副成分が、さらにSiの酸化物および/またはGeの酸化物を含み、
前記主成分100molに対する前記Vの酸化物の含有量をV換算でC(mol)、前記Wの酸化物の含有量をW換算でC(mol)、前記Siの酸化物の含有量をSi換算でCSi(mol)、前記Geの酸化物の含有量をGe換算でCGe(mol)として
0.30≦C≦10.0
0.10≦C≦2.5
5.00≦CSi+CGe≦20.00
3.0≦C/C≦20.0
であることを特徴とする。
The dielectric composition according to this embodiment is
A dielectric composition having a main component and a first subcomponent.
The main component is a tungsten bronze type composite oxide represented by the chemical formula Ba α R (Ti 1.00-x Zr x ) 2.00 (Nb 1.00-y T y ) 3,000 O 13.00 + α. Including
R is a rare earth element
The α, x and y are
2.05 ≤ α ≤ 2.25
0.40 ≤ x ≤ 1.00
0.05 ≤ y ≤ 0.60
And
The first subcomponent contains an oxide of V and an oxide of W as essential components.
The first subcomponent further comprises an oxide of Si and / or an oxide of Ge.
The content of the oxide of V with respect to 100 mol of the main component is C V (mol) in terms of V, the content of the oxide of W is C W (mol) in terms of W, and the content of the oxide of Si is C Si (mol) in terms of Si, and C Ge (mol) in terms of Ge oxide content 0.30 ≤ C V ≤ 10.0
0.10 ≤ C W ≤ 2.5
5.00 ≤ C Si + C Ge ≤ 20.00
3.0 ≤ C V / C W ≤ 20.0
It is characterized by being.

Rの種類は任意であるが、RとしてLaを用いることが好ましい。RとしてLaを用いることで、(均一な焼結体粒子)が得られ易い。また、R全体に対するLaの含有量は、50mol%以上であることが好ましく、Rが実質的にLaのみからなることが最も好ましい。Rが実質的にLaのみからなるとは、R全体に対するLaの含有量が95mol%以上であることを指す。 The type of R is arbitrary, but it is preferable to use La as R. By using La as R, (uniform sintered particles) can be easily obtained. Further, the content of La with respect to the whole R is preferably 50 mol% or more, and most preferably R is substantially composed of only La. The fact that R is substantially composed of only La means that the content of La with respect to the entire R is 95 mol% or more.

誘電体組成物が上記の特徴を有することで、誘電体層2の層間厚みを0.5μm〜30μmと薄くした場合でも、高い高温負荷寿命を有する積層セラミックコンデンサ1となる。さらに、250℃程度の高温で良好な比誘電率および−55℃〜250℃において良好な静電容量の温度変化率を有する誘電体組成物および積層セラミックコンデンサ1を提供することが可能となる。このような効果が得られる要因について以下に示す。 Since the dielectric composition has the above characteristics, the multilayer ceramic capacitor 1 has a high high temperature load life even when the interlayer thickness of the dielectric layer 2 is reduced to 0.5 μm to 30 μm. Further, it is possible to provide a dielectric composition and a monolithic ceramic capacitor 1 having a good relative permittivity at a high temperature of about 250 ° C. and a good temperature change rate of capacitance at −55 ° C. to 250 ° C. The factors for obtaining such an effect are shown below.

本実施形態では、2.05≦α≦2.25とすることで、−55℃〜150℃の温度範囲で、高い比誘電率および低い比誘電率の温度変化率が得られる。その結果、−55℃〜150℃の温度範囲で、良好な静電容量の温度変化率を有する積層セラミックコンデンサ1を得ることができる。 In the present embodiment, by setting 2.05 ≦ α ≦ 2.25, a high relative permittivity and a low relative permittivity temperature change rate can be obtained in the temperature range of −55 ° C. to 150 ° C. As a result, the monolithic ceramic capacitor 1 having a good capacitance temperature change rate can be obtained in the temperature range of −55 ° C. to 150 ° C.

本実施形態では、0.40≦x≦1.00および0.05≦y≦0.60とすることで、0℃〜200℃の温度範囲で、高い比誘電率および低い比誘電率の温度変化率が得られる。その結果、0℃〜200℃の温度範囲で、良好な静電容量の温度変化率有する積層セラミックコンデンサを得ることができる。 In the present embodiment, by setting 0.40 ≦ x ≦ 1.00 and 0.05 ≦ y ≦ 0.60, the temperature has a high relative permittivity and a low relative permittivity in the temperature range of 0 ° C. to 200 ° C. The rate of change is obtained. As a result, a monolithic ceramic capacitor having a good capacitance temperature change rate can be obtained in the temperature range of 0 ° C. to 200 ° C.

以上より、2.05≦α≦2.25、0.40≦x≦1.00および0.05≦y≦0.60を全て満たすことで、−55℃〜200℃の温度範囲で、比較的高い比誘電率でも、比誘電率の温度変化率が小さくなる効果が得られる。その結果、−55℃〜200℃の温度範囲で、良好な静電容量の温度変化率有する積層セラミックコンデンサを得ることができる。 From the above, by satisfying all of 2.05 ≦ α ≦ 2.25, 0.40 ≦ x ≦ 1.00 and 0.05 ≦ y ≦ 0.60, comparison is made in the temperature range of −55 ° C. to 200 ° C. Even with a relatively high relative permittivity, the effect of reducing the temperature change rate of the relative permittivity can be obtained. As a result, a monolithic ceramic capacitor having a good capacitance temperature change rate can be obtained in the temperature range of −55 ° C. to 200 ° C.

本実施形態に係る誘電体組成物は、第1の副成分としてVの酸化物およびWの酸化物を必須成分として含む。さらに、Siの酸化物および/またはGeの酸化物を含む。これにより、静電容量の温度変化率を改善できる。主成分100molに対するVの酸化物の含有量をV換算でC(mol)、Wの酸化物の含有量をW換算でC(mol)、Siの酸化物の含有量をSi換算でCSi(mol)、Geの酸化物の含有量をGe換算でCGe(mol)とする。0.30≦C≦10.0、0.10≦C≦2.5、5.00≦CSi+CGe≦20.00とすることで、−55℃〜250℃まで比誘電率の温度変化率を小さくできる。その結果、−55℃〜250℃の温度範囲で、良好な静電容量の温度変化率を有する積層セラミックコンデンサ1を得ることができる。 The dielectric composition according to the present embodiment contains an oxide of V and an oxide of W as essential components as a first subcomponent. Further, it contains an oxide of Si and / or an oxide of Ge. Thereby, the temperature change rate of the capacitance can be improved. The content of V oxide with respect to 100 mol of the main component is C V (mol) in V conversion, the content of W oxide is C W (mol) in W conversion, and the content of Si oxide is C in Si conversion. The oxide content of Si (mol) and Ge is defined as C Ge (mol) in terms of Ge. By setting 0.30 ≤ C V ≤ 10.0, 0.10 ≤ C W ≤ 2.5, 5.00 ≤ C Si + C Ge ≤ 20.00, the relative permittivity can be increased from -55 ° C to 250 ° C. The rate of temperature change can be reduced. As a result, the monolithic ceramic capacitor 1 having a good capacitance temperature change rate can be obtained in the temperature range of −55 ° C. to 250 ° C.

また、本実施形態に係る誘電体組成物は、第1の副成分として含まれるVの酸化物とWの酸化物との含有比(C/C)を3.0≦C/C≦20.0とすることで、良好な比誘電率の温度変化率を有しつつ、比較的高い比誘電率を両立することができる。その結果、−55℃〜250℃の温度範囲で、比較的高い比誘電率を維持しつつ、良好な静電容量の温度変化率有する積層セラミックコンデンサを得ることができた。 Further, the dielectric composition according to the present embodiment has a content ratio (C V / C W ) of V oxide and W oxide contained as a first subcomponent of 3.0 ≦ C V / C. By setting W ≦ 20.0, it is possible to achieve both a relatively high relative permittivity while having a good temperature change rate of the relative permittivity. As a result, it was possible to obtain a monolithic ceramic capacitor having a good capacitance temperature change rate while maintaining a relatively high relative permittivity in the temperature range of −55 ° C. to 250 ° C.

本実施形態に係る誘電体組成物は、主に主成分からなる主相粒子および主相粒子間に存在する粒界からなる。なお、主相粒子に占める主成分の割合は、例えば平均で90wt%以上である。また、主相粒子の粒径も任意である。例えば平均で0.5μm以上2.0μm以下としてもよい。 The dielectric composition according to the present embodiment is composed of a main phase particle mainly composed of a main component and a grain boundary existing between the main phase particles. The ratio of the principal component to the main phase particles is, for example, 90 wt% or more on average. The particle size of the main phase particles is also arbitrary. For example, the average may be 0.5 μm or more and 2.0 μm or less.

本実施形態においては、第1の副成分であるVの酸化物、Wの酸化物、Siの酸化物およびGeの酸化物は、主成分BaαR(Ti1.00−xZr2.00(Nb1.00−yTa3.0013.00+αに固溶していてもよく、主相粒子に固溶せず粒界に存在していてもよい。いずれの場合も良好な静電容量の温度変化率を得ることができる。 In the present embodiment, the first subcomponent V oxide, W oxide, Si oxide and Ge oxide are the main components Ba α R (Ti 1.00-x Zr x ) 2 .00 (Nb 1.00-y Ta y ) 3.00 O 13.00 + α may also be dissolved in may be present in the grain boundary without solid solution in the main phase grains. In either case, a good rate of change in capacitance can be obtained.

本実施形態に係る誘電体組成物は、第2の副成分として、Niの酸化物、Feの酸化物、Euの酸化物およびMoの酸化物から選択される一種以上の酸化物を含有していてもよい。また、主成分100molに対して、Niの酸化物の含有量をNi換算でCNi、Feの酸化物の含有量をFe換算でCFe、Euの酸化物の含有量をEu換算でCEu、Moの酸化物の含有量をMo換算でCMoとして、0.25≦0.25≦CNi+CFe+CEu+CMo≦2.50であることが好ましい。第2の副成分を合計0.25mol〜2.50mol含有することで、比誘電率の温度変化率をより良好にする効果が得られる。その結果、−55℃〜250℃においてより良好な静電容量の温度変化率を有する誘電体組成物を提供することが可能となる。 The dielectric composition according to the present embodiment contains, as a second subcomponent, one or more oxides selected from Ni oxide, Fe oxide, Eu oxide and Mo oxide. You may. For 100 mol of the main component, the Ni oxide content is C Ni in terms of Ni, the Fe oxide content is C Fe in Fe conversion, and the Eu oxide content is C Eu in Eu conversion. , Mo oxide content is preferably C Mo in terms of Mo , and is preferably 0.25 ≤ 0.25 ≤ C Ni + C Fe + C Eu + C Mo ≤ 2.50. By containing a total of 0.25 mol to 2.50 mol of the second sub-component, the effect of improving the temperature change rate of the relative permittivity can be obtained. As a result, it becomes possible to provide a dielectric composition having a better rate of change in capacitance at −55 ° C. to 250 ° C.

このように、本実施形態に係る誘電体組成物は、高温領域において良好な特性を示すため、SiCやGaN系のパワーデバイスの使用温度域(−55℃〜250℃)において好適に用いることができる。また、自動車のエンジンルームなど、過酷な環境下において、ノイズ除去用などの電子部品として好適に用いることができる。 As described above, since the dielectric composition according to the present embodiment exhibits good characteristics in a high temperature region, it can be suitably used in the operating temperature range (-55 ° C. to 250 ° C.) of a SiC or GaN-based power device. can. Further, it can be suitably used as an electronic component for noise removal in a harsh environment such as an engine room of an automobile.

また、本実施形態に係る誘電体組成物は、静電容量の温度変化率を大きく悪化させるものでなければ、微少な不純物や前記第1の副成分および第2の副成分以外の副成分を含んでいてもかまわない。例えば、Cr、Zn、Cu、Ga等が誘電体組成物に含まれてもよい。したがって、誘電体組成物全体に対する主成分の含有量は任意である。たとえば誘電体組成物全体に対して65モル%以上、94.6モル%以下であってもよい。 Further, the dielectric composition according to the present embodiment contains minute impurities and subcomponents other than the first subcomponent and the second subcomponent unless the rate of change in temperature of the capacitance is significantly deteriorated. It may be included. For example, Cr, Zn, Cu, Ga and the like may be contained in the dielectric composition. Therefore, the content of the principal component in the entire dielectric composition is arbitrary. For example, it may be 65 mol% or more and 94.6 mol% or less with respect to the whole dielectric composition.

次に、本実施形態の積層セラミックコンデンサ1の製造方法の一例を説明する。また、下記の製造方法では、RがLaである場合について説明する。 Next, an example of the manufacturing method of the multilayer ceramic capacitor 1 of the present embodiment will be described. Further, in the following manufacturing method, a case where R is La will be described.

本実施形態の積層セラミックコンデンサ1は、従来の積層セラミックコンデンサと同様に、ペーストを用いた通常の印刷法やシート法によりグリーンチップを作製し、これを焼成した後、外部電極を塗布して焼成することにより製造される。以下、製造方法について具体的に説明する。 In the multilayer ceramic capacitor 1 of the present embodiment, like the conventional multilayer ceramic capacitor, a green chip is produced by a normal printing method or a sheet method using a paste, and after firing, an external electrode is applied and fired. Manufactured by Hereinafter, the manufacturing method will be specifically described.

まず、主成分の仮焼き粉末を準備する。主成分BaαLa(Ti1.00−xZr2.00(Nb1.00−yTa3.0013.00+αの出発原料としてBa、La、Ti、Zr、TaおよびNbを主として構成される酸化物および混合物の粉末を準備する。各粉末の平均粒子径は、好ましくは1.0μm以下である。また、焼成により上述した酸化物となる各種化合物、たとえば炭酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物等から適宜選択し、混合して用いることもできる。各出発原料を所定の割合に秤量した後、ボールミル等を用いて所定の時間、湿式混合を行う。混合粉を乾燥後、大気中において1000℃以下の熱処理を行い、主成分であるBaαLa(Ti1.00−xZr2.00(Nb1.00−yTa3.0013.00+αの仮焼き粉末を得る。 First, the pre-baked powder of the main component is prepared. Main component Ba α La (Ti 1.00-x Zr x ) 2.00 (Nb 1.00-y T y ) 3,000 O 13.00 + α as a starting material for Ba, La, Ti, Zr, Ta And Nb-based oxides and mixture powders are prepared. The average particle size of each powder is preferably 1.0 μm or less. Further, various compounds that become oxides by firing, for example, carbonates, oxalates, nitrates, hydroxides, organic metal compounds and the like can be appropriately selected and mixed for use. After each starting material is weighed to a predetermined ratio, wet mixing is performed for a predetermined time using a ball mill or the like. After drying the mixed powder was heat-treated for 1000 ° C. or less in the atmosphere, which is the main component Ba α La (Ti 1.00-x Zr x) 2.00 (Nb 1.00-y Ta y) 3.00 Obtain a heat-treated powder of O 13.00 + α.

次に、副成分の仮焼き粉末を準備する。第1の副成分は、出発原料として平均粒径が2.0μm以下であるVの酸化物粉末、Wの酸化物粉末、Siの酸化物粉末およびGeの酸化物粉末を準備する。また、必要に応じて第2の副成分の出発原料である平均粒径が2.0μm以下のNi、Fe、Eu、Moの酸化物粉末を準備する。これらを所定の割合に秤量した後、ボールミル等を用いて所定の時間、湿式混合を行う。また、焼成により上述した酸化物となる各種化合物、たとえば炭酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物等から適宜選択し、混合して用いることもできる。その後、混合粉を乾燥させた後、大気中において、700℃〜800℃にて1時間〜5時間熱処理を行い、副成分の仮焼き粉末を得る。なお、熱処理を行わずに乾燥した混合粉末を使用してもよい。 Next, the temporary baking powder of the auxiliary component is prepared. As the first subcomponent, V oxide powder, W oxide powder, Si oxide powder and Ge oxide powder having an average particle size of 2.0 μm or less are prepared as starting materials. Further, if necessary, an oxide powder of Ni, Fe, Eu, and Mo having an average particle size of 2.0 μm or less, which is a starting material for the second subcomponent, is prepared. After weighing these at a predetermined ratio, wet mixing is performed for a predetermined time using a ball mill or the like. Further, various compounds that become oxides by firing, for example, carbonates, oxalates, nitrates, hydroxides, organic metal compounds and the like can be appropriately selected and mixed for use. Then, after the mixed powder is dried, it is heat-treated in the air at 700 ° C. to 800 ° C. for 1 hour to 5 hours to obtain a calcined powder of an auxiliary component. A mixed powder that has been dried without heat treatment may be used.

その後、得られた主成分の仮焼き粉末と、副成分の仮焼き粉末または副成分の混合粉末とを混合・解砕し、誘電体組成物原料を得る。誘電体組成物原料の平均粒径は任意である。例えば、0.5μm〜2.0μmである。 Then, the obtained calcined powder of the main component and the calcined powder of the sub-component or the mixed powder of the sub-component are mixed and crushed to obtain a raw material for the dielectric composition. The average particle size of the dielectric composition raw material is arbitrary. For example, it is 0.5 μm to 2.0 μm.

得られた誘電体組成物原料を塗料化して、誘電体層用ペーストを調製する。誘電体層用ペーストは、誘電体混合粉末と有機ビヒクルとを混練した有機系の塗料であってもよく、水系の塗料であってもよい。 The obtained dielectric composition raw material is made into a paint to prepare a paste for a dielectric layer. The paste for the dielectric layer may be an organic paint obtained by kneading a mixed dielectric powder and an organic vehicle, or may be a water-based paint.

有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いるバインダの種類は任意であり、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等の本技術分野において通常用いられる各種バインダから適宜選択すればよい。有機溶剤の種類も任意である。積層セラミックコンデンサを製造する方法(例えば印刷法やシート法など)に応じて、テルピネオール、ブチルカルビトール、アセトン等の各種有機溶剤から適宜選択すればよい。 An organic vehicle is a binder dissolved in an organic solvent. The type of binder used for the organic vehicle is arbitrary, and may be appropriately selected from various binders usually used in the present technical field such as ethyl cellulose and polyvinyl butyral. The type of organic solvent is also arbitrary. Depending on the method for producing the multilayer ceramic capacitor (for example, the printing method, the sheet method, etc.), various organic solvents such as terpineol, butyl carbitol, and acetone may be appropriately selected.

また、誘電体層用ペーストを水系の塗料とする場合には、水溶性のバインダや分散剤などを水に溶解させた水系ビヒクルと、誘電体原料とを混練すればよい。水系ビヒクルに用いる水溶性バインダの種類は任意である。たとえば、ポリビニルアルコール、セルロース、水溶性アクリル樹脂などを用いることができる。 When the paste for the dielectric layer is used as a water-based paint, the water-based vehicle in which a water-soluble binder, a dispersant, or the like is dissolved in water may be kneaded with the dielectric material. The type of water-soluble binder used for the water-based vehicle is arbitrary. For example, polyvinyl alcohol, cellulose, water-soluble acrylic resin and the like can be used.

内部電極層用ペーストは、上記した各種導電性金属や合金からなる導電材、あるいは焼成後に上記した導電材となる各種酸化物、有機金属化合物、レジネート等と、上記した有機ビヒクルとを混練して調製する。 The paste for the internal electrode layer is obtained by kneading the above-mentioned conductive material made of various conductive metals and alloys, or the above-mentioned various oxides, organic metal compounds, resinates and the like which become the above-mentioned conductive material after firing, and the above-mentioned organic vehicle. Prepare.

外部電極用ペーストは、上記した内部電極層用ペーストと同様にして調製することができる。 The paste for the external electrode can be prepared in the same manner as the paste for the internal electrode layer described above.

上記した各ペースト中の有機ビヒクルの含有量に特に制限はなく、通常の含有量、例えば、バインダは1質量%〜5質量%程度、溶剤は10質量%〜50質量%程度とすれば良い。また、各ペースト中には、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、誘電体材料、絶縁体材料等から選択される添加物が含有されていてもよい。これらの総含有量は、10質量%以下とすることが好ましい。 The content of the organic vehicle in each of the above-mentioned pastes is not particularly limited, and may be a normal content, for example, about 1% by mass to 5% by mass for the binder and about 10% by mass to 50% by mass for the solvent. Further, each paste may contain an additive selected from various dispersants, plasticizers, dielectric materials, insulator materials and the like, if necessary. The total content of these is preferably 10% by mass or less.

分散剤の種類は任意である。例えば、界面活性剤型分散剤、高分子型分散剤を用いることができる。可塑剤の種類は任意である。例えば、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチルを用いることができる。誘電体材料の種類は任意である。例えば、BaTiO系、CaZrO系を用いることができる。絶縁体材料の種類は任意である。例えば、Al、SiOを用いることができる。 The type of dispersant is arbitrary. For example, a surfactant-type dispersant and a polymer-type dispersant can be used. The type of plasticizer is arbitrary. For example, dioctyl phthalate and dibutyl phthalate can be used. The type of dielectric material is arbitrary. For example, BaTiO 3 system and CaZrO 3 system can be used. The type of insulator material is arbitrary. For example, Al 2 O 3 and SiO 2 can be used.

印刷法を用いる場合には、誘電体層用ペーストおよび内部電極層用ペーストをPET等の基板上に印刷、積層し、所定形状に切断した後、基板から剥離してグリーンチップとする。 When the printing method is used, the paste for the dielectric layer and the paste for the internal electrode layer are printed and laminated on a substrate such as PET, cut into a predetermined shape, and then peeled from the substrate to obtain a green chip.

また、シート法を用いる場合、誘電体層用ペーストを用いてグリーンシートを形成し、この上に内部電極層用ペーストを印刷した後、これらを積層してグリーンチップとする。 When the sheet method is used, a green sheet is formed using the paste for the dielectric layer, the paste for the internal electrode layer is printed on the green sheet, and then these are laminated to form a green chip.

焼成前に、グリーンチップに脱バインダ処理を施してもよい。脱バインダ処理条件は任意である。昇温速度を好ましくは5℃/時間〜300℃/時間、保持温度を好ましくは180℃〜500℃、温度保持時間を好ましくは0.5時間〜24時間とする。また、脱バインダ処理の雰囲気は、空気もしくは還元雰囲気とする。また、上記した脱バインダ処理において、Nガスや混合ガス等を加湿する方法は任意である。たとえばウェッター等を使用すればよい。この場合、水温は5℃〜75℃程度が好ましい。 Before firing, the green chips may be subjected to a binder removal treatment. The binder removal processing conditions are arbitrary. The heating rate is preferably 5 ° C./hour to 300 ° C./hour, the holding temperature is preferably 180 ° C. to 500 ° C., and the temperature holding time is preferably 0.5 hour to 24 hours. The atmosphere of the binder removal treatment is air or a reducing atmosphere. Further, in the above-mentioned debinder treatment, the method of humidifying the N 2 gas, the mixed gas, or the like is arbitrary. For example, a wetter or the like may be used. In this case, the water temperature is preferably about 5 ° C to 75 ° C.

また、焼成時の保持温度は任意である。好ましくは1100℃〜1400℃である。保持温度が低すぎると、緻密化が不十分となる。保持温度が高すぎると、内部電極層の異常焼結による電極の途切れ、および、内部電極層構成材料の拡散による容量変化率の悪化が生じやすくなる。さらに、主相粒子が粗大化して、高温負荷寿命を低下させてしまうおそれがある。 Moreover, the holding temperature at the time of firing is arbitrary. It is preferably 1100 ° C to 1400 ° C. If the holding temperature is too low, the densification will be insufficient. If the holding temperature is too high, the electrode is likely to be interrupted due to abnormal sintering of the internal electrode layer, and the capacity change rate is likely to deteriorate due to diffusion of the internal electrode layer constituent material. Further, the main phase particles may become coarse and the high temperature load life may be shortened.

焼成時の昇温速度は任意である。好ましくは、200℃/時間〜5000℃/時間とする。焼成時の温度保持時間、および、焼成後の冷却速度は任意である。焼結後の主相粒子の粒度分布を0.5μm〜5.0μmの範囲内に制御し、主相粒子同士の体積拡散を抑制するため、焼成時の温度保持時間を好ましくは0.5時間〜2.0時間、焼成後の冷却速度を好ましくは100℃/時間〜500℃/時間とする。 The rate of temperature rise during firing is arbitrary. Preferably, it is set to 200 ° C./hour to 5000 ° C./hour. The temperature holding time during firing and the cooling rate after firing are arbitrary. In order to control the particle size distribution of the main phase particles after sintering within the range of 0.5 μm to 5.0 μm and suppress the volume diffusion between the main phase particles, the temperature holding time during firing is preferably 0.5 hours. The cooling rate after firing is preferably 100 ° C./hour to 500 ° C./hour for ~ 2.0 hours.

また、焼成する雰囲気としては、加湿したNとHとの混合ガスを用い、酸素分圧10−2〜10−6Paで焼成することが好ましい。しかし、内部電極層がNiを含む場合に酸素分圧が高い状態で焼成を行うと、Niが酸化してしまい、導電性が低下してしまう場合がある。上記の通り、Niを主成分とする導電材に対し、Al、Si、Li、Cr、Feから選択された1種類以上の内部電極用副成分を含有させることで、Niの耐酸化性が向上し、酸素分圧が高い雰囲気で焼成する場合でも、内部電極層の導電性を確保することが容易となる。 Further, as the atmosphere for firing, it is preferable to use a mixed gas of humidified N 2 and H 2 and fire at an oxygen partial pressure of 10-2 to 10-6 Pa. However, when the internal electrode layer contains Ni and firing is performed in a state where the oxygen partial pressure is high, Ni may be oxidized and the conductivity may be lowered. As described above, the oxidation resistance of Ni is improved by adding one or more kinds of sub-components for internal electrodes selected from Al, Si, Li, Cr, and Fe to the conductive material containing Ni as the main component. However, even when firing in an atmosphere with a high oxygen partial pressure, it becomes easy to secure the conductivity of the internal electrode layer.

焼成後、得られたコンデンサ素子本体に対し、必要に応じてアニール処理を行う。アニール処理条件は、公知の条件とすればよい。たとえば、アニール処理時の酸素分圧を焼成時の酸素分圧よりも高い酸素分圧とし、保持温度を1000℃以下とすることが好ましい。 After firing, the obtained capacitor element main body is annealed as necessary. The annealing treatment conditions may be known conditions. For example, it is preferable that the oxygen partial pressure during the annealing treatment is higher than the oxygen partial pressure during firing, and the holding temperature is 1000 ° C. or lower.

また、上記の製造方法では脱バインダ処理、焼成およびアニール処理を独立して行っているが、連続して行なってもよい。 Further, in the above manufacturing method, the binder removal treatment, the firing and the annealing treatment are performed independently, but they may be performed continuously.

上記のようにして得られたコンデンサ素子本体に、例えばバレル研磨やサンドブラストなどにより端面研磨を施し、外部電極用ペーストを塗布して焼成し、外部電極4を形成する。そして、必要に応じ、外部電極4の表面に、めっき等により被覆層を形成する。 The capacitor element body obtained as described above is subjected to end face polishing by, for example, barrel polishing or sandblasting, and an external electrode paste is applied and fired to form an external electrode 4. Then, if necessary, a coating layer is formed on the surface of the external electrode 4 by plating or the like.

以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は、上述した実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々に改変することができる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention, but the present invention is not limited to these examples.

(実験例1)
まず、主成分の出発原料として平均粒径1.0μm以下のBaCO、La(OH)、TiO、ZrO、Ta、Nbの各粉末を準備した。最終的に得られる誘電体組成物に含まれる主成分BaαLa(Ti1.00−xZr2.00(Nb1.00−yTa3.0013.00+αが表1〜表2に記載されたα、xおよびyを満足するように、これらの原料を秤量した。その後、分散媒としてエタノールを用いてボールミルにより24時間湿式混合した。その後、得られた混合物を乾燥して混合原料粉末を得た。その後、大気中で保持温度900℃、保持時間2時間の条件で熱処理を行い、主成分の仮焼き粉末を得た。
(Experimental Example 1)
First, each powder of BaCO 3 , La (OH) 3 , TiO 2 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , and Nb 2 O 5 having an average particle size of 1.0 μm or less was prepared as a starting material for the main component. Main component Ba alpha La contained in the finally dielectric composition obtained (Ti 1.00-x Zr x) 2.00 (Nb 1.00-y Ta y) 3.00 O 13.00 + α is These raw materials were weighed so as to satisfy α, x and y shown in Tables 1 and 2. Then, ethanol was used as a dispersion medium and wet-mixed by a ball mill for 24 hours. Then, the obtained mixture was dried to obtain a mixed raw material powder. Then, heat treatment was carried out in the air under the conditions of a holding temperature of 900 ° C. and a holding time of 2 hours to obtain a calcined powder as a main component.

次に、第1の副成分の出発原料としてV、WO、SiOおよびGeOの各粉末を用意した。第2の副成分の出発原料としてNiO、FeO、EuおよびMoOの各粉末を用意した。なお、第1の副成分の出発原料および第2の副成分の出発原料の平均粒径は0.2μm以上2.0μm以下とした。これらの出発原料を表1に記載の配合比となるように秤量した。その後、分散媒としてエタノールを用いてボールミルにより各副成分の出発原料を24時間湿式混合した。その後、得られた混合物を乾燥して混合粉末を得た。その後、大気中で保持温度800℃、保持時間2時間の条件で熱処理を行い、副成分の仮焼き粉末を得た。 Was then prepared powders of V 2 O 5, WO 3, SiO 2 and GeO 2 as starting materials in the first subcomponent. NiO, FeO, Eu 2 O 3 and MoO 3 powders were prepared as starting materials for the second subcomponent. The average particle size of the starting material of the first auxiliary component and the starting material of the second auxiliary component was set to 0.2 μm or more and 2.0 μm or less. These starting materials were weighed so as to have the compounding ratios shown in Table 1. Then, using ethanol as a dispersion medium, the starting materials of each subcomponent were wet-mixed for 24 hours by a ball mill. Then, the obtained mixture was dried to obtain a mixed powder. Then, heat treatment was carried out in the air under the conditions of a holding temperature of 800 ° C. and a holding time of 2 hours to obtain a calcined powder of an auxiliary component.

Figure 0006922701
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上記の方法で得られた主成分の仮焼き粉末と副成分の仮焼き粉末とを混合・解砕し、誘電体組成物原料を得た。次に誘電体組成物原料1000gに対して、トルエン+エタノール溶液(トルエン:エタノール=50:50(重量比))、可塑剤(フタル酸ジオクチル(DOP)(ジェイ・プラス製))および分散剤(マリアリムAKM−0531(日油製))を90:6:4(重量比)で混合した溶剤を700g添加した。次にバスケットミルを用いて2時間分散させ、誘電体層用ペーストを作製した。なお、全ての実施例および比較例において、誘電体層用ペーストの粘性が約200cpsになるように調整した。具体的には、トルエン+エタノール溶液を微量添加することで粘度の調整を行った。 The main component calcined powder and the sub-component calcined powder obtained by the above method were mixed and crushed to obtain a raw material for a dielectric composition. Next, a toluene + ethanol solution (toluene: ethanol = 50: 50 (weight ratio)), a plasticizer (dioctyl phthalate (DOP) (manufactured by J-PLUS)) and a dispersant (manufactured by J-PLUS Co., Ltd.) and a dispersant (toluene: ethanol = 50: 50 (weight ratio)) and a dispersant (manufactured by J-PLUS Co., Ltd.) and a dispersant (toluene: ethanol = 50: 50 (weight ratio)) and a plasticizer (dioctyl phthalate (DOP) (manufactured by J-PLUS Co., Ltd.)) 700 g of a solvent prepared by mixing Marialim AKM-0531 (manufactured by Nichiyu) at a ratio of 90: 6: 4 (weight ratio) was added. Next, the paste was dispersed for 2 hours using a basket mill to prepare a paste for a dielectric layer. In all the examples and comparative examples, the viscosity of the dielectric layer paste was adjusted to be about 200 cps. Specifically, the viscosity was adjusted by adding a small amount of a toluene + ethanol solution.

内部電極層の原料として、平均粒径が0.2μmのNi、平均粒径が0.1μm以下のAlの酸化物、および、平均粒径が0.1μm以下のSiの酸化物を準備し、AlおよびSiの合計がNiに対して5質量%となるように秤量し、混合した。その後、1200℃以上の加湿したNとHとの混合ガス中で熱処理し、ボールミル等を用いて解砕することで、平均粒径0.20μmの原料粉末を準備した。 As raw materials for the internal electrode layer, Ni oxide having an average particle size of 0.2 μm, Al oxide having an average particle size of 0.1 μm or less, and Si oxide having an average particle size of 0.1 μm or less are prepared. Weighed and mixed so that the total of Al and Si was 5% by mass with respect to Ni. Then, the raw material powder having an average particle size of 0.20 μm was prepared by heat-treating in a mixed gas of N 2 and H 2 humidified at 1200 ° C. or higher and crushing the mixture using a ball mill or the like.

前記原料粉末100質量部、有機ビヒクル(エチルセルロース樹脂8質量部をブチルカルビトール92質量部に溶解したもの)30質量部、およびブチルカルビトール8質量部を、3本ロールにより混練、ペースト化し、内部電極層用ペーストを得た。 100 parts by mass of the raw material powder, 30 parts by mass of an organic vehicle (8 parts by mass of ethyl cellulose resin dissolved in 92 parts by mass of butyl carbitol), and 8 parts by mass of butyl carbitol are kneaded and pasted with three rolls to form an inside. A paste for the electrode layer was obtained.

そして、作製した誘電体層用ペーストをPETフィルム上に塗布してグリーンシートを形成した。この際に、乾燥後のグリーンシートの厚みが10μmとなるようにした。次いで、内部電極層用ペーストを用いて、所定パターンの内部電極層をグリーンシート上に印刷した。その後、PETフィルムからグリーンシートを剥離することで、内部電極層が所定パターンで印刷されたグリーンシートを作製した。次いで、内部電極層が所定パターンで印刷されたグリーンシートを複数枚積層し、加圧接着することによりグリーン積層体とした。さらに、グリーン積層体を所定の形状に切断することにより、グリーンチップを得た。 Then, the prepared paste for the dielectric layer was applied onto the PET film to form a green sheet. At this time, the thickness of the green sheet after drying was adjusted to 10 μm. Next, a predetermined pattern of the internal electrode layer was printed on the green sheet using the internal electrode layer paste. Then, by peeling the green sheet from the PET film, a green sheet in which the internal electrode layer was printed in a predetermined pattern was produced. Next, a plurality of green sheets on which the internal electrode layer was printed in a predetermined pattern were laminated and pressure-bonded to obtain a green laminate. Further, a green chip was obtained by cutting the green laminate into a predetermined shape.

次いで、得られたグリーンチップについて、脱バインダ処理、焼成およびアニール処理を行うことで積層セラミック焼成体を得た。脱バインダ処理、焼成およびアニールの条件は以下に示す通りである。また、脱バインダ処理、焼成およびアニール処理において、雰囲気ガスの加湿にはウェッターを用いた。 Next, the obtained green chips were subjected to a binder removal treatment, a firing treatment, and an annealing treatment to obtain a laminated ceramic fired body. The conditions for debinder treatment, firing and annealing are as shown below. In addition, a wetter was used for humidifying the atmospheric gas in the binder removal treatment, firing and annealing treatment.

(脱バインダ処理)
昇温速度:100℃/時間
保持温度:400℃
温度保持時間:8.0時間
雰囲気ガス:加湿したNとHとの混合ガス
(Binder removal processing)
Temperature rise rate: 100 ° C / hour Holding temperature: 400 ° C
Temperature holding time: 8.0 hours Atmospheric gas: Mixed gas of humidified N 2 and H 2

(焼成)
昇温速度:500℃/時間
保持温度:1200℃〜1350℃
温度保持時間:2.0時間
冷却速度:100℃/時間
雰囲気ガス:加湿したNとHとの混合ガス
酸素分圧:10−5〜10−9Pa
(Baking)
Temperature rise rate: 500 ° C / hour Holding temperature: 1200 ° C to 1350 ° C
Temperature holding time: 2.0 hours Cooling rate: 100 ° C / hour Atmospheric gas: Mixed gas of humidified N 2 and H 2 Oxygen partial pressure: 10-5 to 10-9 Pa

(アニール処理)
保持温度:800℃〜1000℃
温度保持時間:2.0時間
昇温、降温速度:200℃/時間
雰囲気ガス:加湿したNガス
(Annealing process)
Holding temperature: 800 ° C to 1000 ° C
Temperature holding time: 2.0 hours Raising and lowering rate: 200 ° C / hour Atmospheric gas: Humidified N 2 gas

得られた各積層セラミック焼結体の誘電体層(誘電体組成物)についてICP発光分光分析法を用いて組成分析を行い、表1に記載されている組成と実質的に同組成であることを確認した。また、X線回折測定を行い、X線回析パターンより、タングステンブロンズ型の結晶構造を有していることも確認した。 The composition of the dielectric layer (dielectric composition) of each of the obtained laminated ceramic sintered bodies is analyzed by using ICP emission spectroscopic analysis, and the composition is substantially the same as the composition shown in Table 1. It was confirmed. In addition, X-ray diffraction measurement was performed, and it was confirmed from the X-ray diffraction pattern that it had a tungsten bronze type crystal structure.

得られた積層セラミック焼結体の端面をサンドブラストにて研磨した後、外部電極としてIn−Ga共晶合金を塗布し、図1に示す積層セラミックコンデンサと同形状の各積層セラミックコンデンサ試料を得た。得られた積層セラミックコンデンサ試料のサイズは、いずれも3.2mm×1.6mm×1.2mmであり、誘電体層の厚み7μm、内部電極層の厚み2μm、内部電極層に挟まれた誘電体層の数は50層とした。 After polishing the end face of the obtained multilayer ceramic sintered body by sandblasting, In—Ga eutectic alloy was applied as an external electrode to obtain each laminated ceramic capacitor sample having the same shape as the laminated ceramic capacitor shown in FIG. .. The sizes of the obtained multilayer ceramic capacitor samples are 3.2 mm × 1.6 mm × 1.2 mm, the thickness of the dielectric layer is 7 μm, the thickness of the internal electrode layer is 2 μm, and the dielectric material sandwiched between the internal electrode layers. The number of layers was 50.

得られた積層セラミックコンデンサ試料について、比誘電率、静電容量の温度変化率、比抵抗、直流耐電圧および高温負荷寿命を下記に示す方法により測定、評価し、表3および表4に示す。 The obtained multilayer ceramic capacitor sample was measured and evaluated by the methods shown below for the relative permittivity, the rate of change in capacitance, the resistivity, the withstand voltage of DC, and the high temperature load life, and are shown in Tables 3 and 4.

[250℃での比誘電率]
積層セラミックコンデンサ試料に対し、250℃において、デジタルLCRメータ(YHP社製4284A)にて、周波数1kHz、入力信号レベル(測定電圧)1Vrmsの信号を入力し、静電容量を測定した。そして、比誘電率(単位なし)を、誘電体層の厚みと、有効電極面積と、測定の結果得られた静電容量とに基づき算出した。比誘電率は高いほうが好ましく、本実施例では500以上を良好であると判断した。
[Relative permittivity at 250 ° C]
A signal having a frequency of 1 kHz and an input signal level (measurement voltage) of 1 Vrms was input to the multilayer ceramic capacitor sample at 250 ° C. with a digital LCR meter (4284A manufactured by YHP), and the capacitance was measured. Then, the relative permittivity (without unit) was calculated based on the thickness of the dielectric layer, the effective electrode area, and the capacitance obtained as a result of the measurement. The higher the relative permittivity, the better, and in this example, 500 or more was judged to be good.

[静電容量の温度変化率]
積層セラミックコンデンサコンデンサ試料をDespatch社製恒温槽内に載置し、−55〜250℃の温度範囲で1Vrmsの測定電圧での静電容量を測定した。そして、+25℃での静電容量(C25)に対する温度T(℃)での静電容量(C)の変化率(ΔC/C25(%))を、ΔC/C25={(C−C25)/C25}×100の式より算出した。T=−55℃の場合とT=250℃の場合とで静電容量の変化率を測定した。本実施例では、静電容量の温度変化率がT=−55℃の場合およびT=250℃の場合において±15%の範囲内であるものを良好とし、±10%の範囲内であるものをさらに良好とした。
[Cacitance temperature change rate]
Multilayer Ceramic Capacitor A capacitor sample was placed in a constant temperature bath manufactured by Despatch, and the capacitance was measured at a measurement voltage of 1 Vrms in a temperature range of −55 to 250 ° C. Then, +25 capacitance at ° C. capacitance at a temperature T (° C.) for (C 25) (C T) rate of change (ΔC T / C 25 (% )) a, ΔC T / C 25 = { (C T -C 25) / C 25} was calculated from the formula of × 100. The rate of change in capacitance was measured between the case of T = −55 ° C. and the case of T = 250 ° C. In this embodiment, when the temperature change rate of the capacitance is within the range of ± 15% when T = −55 ° C. and when T = 250 ° C., it is considered to be good, and it is within the range of ± 10%. Was made even better.

[250℃での比抵抗]
積層セラミックコンデンサ試料に対し、250℃において、デジタル抵抗メータ(ADVANTEST社製R8340)にて、測定電圧350V(50V/μm)、測定時間60秒の条件で絶縁抵抗を測定した。絶縁抵抗の測定値、コンデンサ試料の電極面積および誘電体層の厚みから比抵抗を算出した。比抵抗は高いほうが好ましく、本実施例では1.00×1010Ωcm以上を良好であると判断した。より好ましくは1.00×1011Ωcm以上である。
[Specific resistance at 250 ° C]
The insulation resistance of the multilayer ceramic capacitor sample was measured at 250 ° C. with a digital resistance meter (R8340 manufactured by ADVANTEST) under the conditions of a measurement voltage of 350 V (50 V / μm) and a measurement time of 60 seconds. The specific resistance was calculated from the measured value of insulation resistance, the electrode area of the capacitor sample, and the thickness of the dielectric layer. It is preferable that the specific resistance is high, and in this example, 1.00 × 10 10 Ωcm or more was judged to be good. More preferably, it is 1.00 × 10 11 Ωcm or more.

Figure 0006922701
Figure 0006922701

Figure 0006922701
Figure 0006922701

表3および表4に示す結果によれば、本発明の範囲内にある積層セラミックコンデンサ試料は、250℃における比誘電率が500以上であり、比抵抗が1.00×1010Ωcm以上であり、静電容量の温度変化率が±15%以内であることが確認できた。 According to the results shown in Tables 3 and 4, the multilayer ceramic capacitor sample within the range of the present invention has a relative permittivity of 500 or more and a specific resistance of 1.00 × 10 10 Ωcm or more at 250 ° C. It was confirmed that the temperature change rate of the capacitance was within ± 15%.

これに対し、本発明の範囲外である場合には、静電容量の温度変化を抑制する作用が十分得られず、静電容量の温度変化率の絶対値が大きくなりすぎてしまうことが確認できた。 On the other hand, when it is outside the scope of the present invention, it is confirmed that the action of suppressing the temperature change of the capacitance is not sufficiently obtained and the absolute value of the temperature change rate of the capacitance becomes too large. did it.

また、第2の副成分を前記主成分100molに対して、0.25mol〜2.50mol含む各試料は、250℃の比抵抗をさらに高め、静電容量の温度変化率の絶対値をさらに小さくする効果があることが確認できた。 Further, each sample containing 0.25 mol to 2.50 mol of the second sub-component with respect to 100 mol of the main component further increases the specific resistance at 250 ° C. and further reduces the absolute value of the temperature change rate of the capacitance. It was confirmed that there is an effect of

(実験例2)
試料No.63について希土類元素の種類等を変化させて表5に記載の各積層セラミックコンデンサ試料を作製し、各種特性を評価した。結果を表5および表6に示す。
(Experimental Example 2)
Sample No. For 63, each multilayer ceramic capacitor sample shown in Table 5 was prepared by changing the type of rare earth element and the like, and various characteristics were evaluated. The results are shown in Tables 5 and 6.

Figure 0006922701
Figure 0006922701

Figure 0006922701
Figure 0006922701

表5および表6より、希土類元素の種類を変化させても同様の傾向を示した。 From Tables 5 and 6, the same tendency was shown even when the types of rare earth elements were changed.

今回開示された実施の形態と実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は以上の実施の形態と実施例ではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正や変形を含むものであることが意図される。 It should be considered that the embodiments and examples disclosed this time are exemplary in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is not shown in the above embodiments and examples, but is indicated by the claims and is intended to include all modifications and modifications within the meaning and scope equivalent to the claims.

本発明の誘電体組成物は、250℃という高温領域において高い高温負荷寿命を有する為、車載用としてエンジンルームに近接する環境下で適用でき、さらに、SiCやGaN系の半導体を用いたパワーデバイス近傍に搭載される電子部品としての用途にも適用できる。 Since the dielectric composition of the present invention has a high high-temperature load life in a high-temperature region of 250 ° C., it can be applied to an environment close to an engine room for in-vehicle use, and further, a power device using a SiC or GaN-based semiconductor. It can also be applied to applications as electronic components mounted in the vicinity.

1 積層セラミックコンデンサ
2 誘電体層
3 内部電極層
4 外部電極
10 コンデンサ素子本体
1 Multilayer ceramic capacitor 2 Dielectric layer 3 Internal electrode layer 4 External electrode 10 Capacitor element body

Claims (5)

主成分と第1の副成分とを有する誘電体組成物であって、
前記主成分が化学式BaαR(Ti1.00−xZr2.00(Nb1.00−yTa3.0013.00+αで表されるタングステンブロンズ型複合酸化物を含み、
Rは希土類元素であり、
前記α、xおよびyが、
2.05≦α≦2.25
0.40≦x≦1.00
0.05≦y≦0.60
であり、
前記第1の副成分が、Vの酸化物およびWの酸化物を必須成分として含み、
前記第1の副成分が、さらにSiの酸化物および/またはGeの酸化物を含み、
前記主成分100molに対する前記Vの酸化物の含有量をV換算でC(mol)、前記Wの酸化物の含有量をW換算でC(mol)、前記Siの酸化物の含有量をSi換算でCSi(mol)、前記Geの酸化物の含有量をGe換算でCGe(mol)として
0.30≦C≦10.0
0.10≦C≦2.5
5.00≦CSi+CGe≦20.00
3.0≦C/C≦20.0
であることを特徴とする誘電体組成物。
A dielectric composition having a main component and a first subcomponent.
The main component is a tungsten bronze type composite oxide represented by the chemical formula Ba α R (Ti 1.00-x Zr x ) 2.00 (Nb 1.00-y T y ) 3,000 O 13.00 + α. Including
R is a rare earth element
The α, x and y are
2.05 ≤ α ≤ 2.25
0.40 ≤ x ≤ 1.00
0.05 ≤ y ≤ 0.60
And
The first subcomponent contains an oxide of V and an oxide of W as essential components.
The first subcomponent further comprises an oxide of Si and / or an oxide of Ge.
The content of the oxide of V with respect to 100 mol of the main component is C V (mol) in terms of V, the content of the oxide of W is C W (mol) in terms of W, and the content of the oxide of Si is C Si (mol) in terms of Si, and C Ge (mol) in terms of Ge oxide content 0.30 ≤ C V ≤ 10.0
0.10 ≤ C W ≤ 2.5
5.00 ≤ C Si + C Ge ≤ 20.00
3.0 ≤ C V / C W ≤ 20.0
A dielectric composition characterized by being.
さらに、第2の副成分を含み、前記第2の副成分がNiの酸化物、Feの酸化物、Euの酸化物およびMoの酸化物から選択される一種以上の酸化物を含み、
前記主成分100molに対する前記Niの酸化物の含有量をNi換算でCNi(mol)、前記Feの酸化物の含有量をFe換算でCFe(mol)、前記Euの酸化物の含有量をEu換算でCEu(mol)、前記Moの酸化物の含有量をMo換算でCMo(mol)として、
0.25≦CNi+CFe+CEu+CMo≦2.50
である請求項1に記載の誘電体組成物。
Further, it contains a second subcomponent, and the second subcomponent contains one or more oxides selected from Ni oxide, Fe oxide, Eu oxide and Mo oxide.
The content of the Ni oxide with respect to 100 mol of the main component is C Ni (mol) in terms of Ni, the content of the oxide of Fe is C Fe (mol) in terms of Fe, and the content of the oxide of Eu is C Eu (mol) in terms of Eu, and C Mo (mol) in terms of Mo for the oxide content of the Mo.
0.25 ≤ C Ni + C Fe + C Eu + C Mo ≤ 2.50
The dielectric composition according to claim 1.
RがLaである請求項1または2に記載の誘電体組成物。 The dielectric composition according to claim 1 or 2, wherein R is La. 誘電体および電極を有する電子部品であって、
前記誘電体が請求項1〜3のいずれかに記載の誘電体組成物からなる電子部品。
An electronic component with a dielectric and electrodes
An electronic component in which the dielectric is the dielectric composition according to any one of claims 1 to 3.
誘電体層と内部電極層とを交互に積層されてなる積層部分を有する積層電子部品であって、
前記誘電体層が請求項1〜3のいずれかに記載の誘電体組成物からなる積層電子部品。
A laminated electronic component having a laminated portion formed by alternately laminating a dielectric layer and an internal electrode layer.
A laminated electronic component in which the dielectric layer comprises the dielectric composition according to any one of claims 1 to 3.
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