JP6899868B2 - 流れ及び1投与量の変動を減少させる方法によるアスペクト比が大きい物体への異なるコーティング - Google Patents
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Claims (10)
- 長さ(L)と内径(D)がL>>Dを満足する入力端と、出力端と、入力端と出力端との間でチャネルを画定する内面とを有する細長チューブと、
前記細長チューブの第1領域の内面上に位置し、L未満の長さl1を有し、第1電気抵抗、第1電子放出特性、又はその両方を提供するように選択される第1導電層と、
前記細長チューブの第2領域の内面上に配置され、前記第2領域は、前記第1領域と重ならず、Lとl1との差である長さl2を有し、第2電気抵抗、第2電子放出特性、又はその両方を提供するように選択される第2導電層と、
入力端に形成された第1電極と、
前記細長チューブの出力端に形成された第2電極と、
を備え、
前記細長チューブの前記第1領域及び前記第2領域に隣接する前記内面上の複数の追加の領域上に複数の追加の導電層を備え、前記複数の追加の領域は互いに隣接し、前記追加の導電層の各々はL未満の長さを有し、前記複数の導電層の各々は、隣接する領域内の導電層より大きいか又はそれ未満である電気抵抗を提供するように選択され、それによって、抵抗勾配が前記チャネルの長さLに沿って提供されるチャネル型電子増倍器。 - 前記第1及び第2導電層と、前記複数の追加の導電層とは、前記チャネルに沿って連続的な導電経路を提供するように、それらの共通の境界で接触している、請求項1に記載のチャネル型電子増倍器。
- 長さ(L)と内径(D)がL>>Dを満足する入力端と、出力端と、入力端と出力端との間でチャネルを画定する内面とを有する細長チューブと、
前記細長チューブの第1領域の内面上に位置し、L未満の長さl1を有し、第1電気抵抗、第1電子放出特性、又はその両方を提供するように選択される第1導電層と、
前記細長チューブの第2領域の内面上に配置され、前記第2領域は、前記第1領域と重ならず、Lとl1との差である長さl2を有し、第2電気抵抗、第2電子放出特性、又はその両方を提供するように選択される第2導電層と、
入力端に形成された第1電極と、
前記細長チューブの出力端に形成された第2電極と、
前記第2導電層の内面に沿って形成された電気絶縁材料の絶縁層と、
絶縁層の内部表面に沿って形成された電気抵抗材料の抵抗層と、
を備え、
前記第2導電層は、前記絶縁層及び前記抵抗層を越えて半径方向に延在する部分を有し、前記抵抗層は、前記絶縁層を越えて延在する部分を有し、前記第2電極を提供するチャネル電子増倍器。 - 前記絶縁層は、前記第2導電層と同心であり、前記抵抗層は、前記絶縁層及び前記第2導電層と同心である、請求項3に記載のチャネル型電子増倍器。
- 長さ(L)と内径(D)がL>>Dを満足する第1端、第2端、及び、第1端と第2端との間のチャネルを画定する内面を有する細長チューブを提供する処理と、
前記細長チューブの第1端を閉鎖する処理と、
前記細長チューブの第1領域内の内面上に第1導電層を形成し、前記第1導電層は、L未満の長さl1を有し、前記第1導電層は、第1電気抵抗、第1電子放出特性、又はその両方を提供するように選択されるように、前記細長チューブの第2端に原子層堆積によって第1導電材料を堆積する処理と、
前記細長チューブの第2端を閉鎖する処理と、
前記細長チューブの第2領域内の内面上に第2導電層を形成し、前記第2領域は、前記第1領域と重ならず、前記第2導電層は、Lとl1との差である長さl2を有し、前記第2導電層は、第2電気抵抗、第2電子放出特性、又はその両方を提供するように選択されるように、前記細長チューブの第1端に原子層堆積によって第2導電材料を堆積する処理と、
前記細長チューブの第1端に第1電極を形成する処理と、
前記細長チューブの第2端に第2電極を形成する処理と、
を備えるチャネル型電子増倍器の製造方法。 - 前記第1導電層及び前記第2導電層は、それらがそれらの共通の境界で接触して、前記チャネル全体を通る連続的な導電経路を提供するように形成される、請求項5に記載の方法。
- 前記第1導電材料を堆積する処理は、
キャリアガスの予め選択された量の第1前駆体材料を前記細長チューブ内で振動させる処理と、
前記予め選択された量の第1前駆体材料が前記細長チューブの内部に沿って伝播し、長さl1に沿って内部表面に堆積するのを待つ処理と、
予め選択された量のキャリアガスを前記細長チューブ内で振動させる処理と、
前記第1前駆体材料の堆積していない残留物を取り除くためにキャリアガスを待つ処理と、
キャリアガス中の予め選択された量の第2前駆体材料を前記細長チューブ内で振動させる処理と、
前記予め選択された量の第2前駆体材料が前記細長チューブの内部に沿って伝搬し、長さl1に沿って内部表面上に堆積するのを待つ処理と、
2回目の予め選択された量のキャリアガスを前記細長チューブ内で振動させる処理と、
を含む請求項5に記載の方法。 - 前記第2導電層を堆積する処理は、
キャリアガス中の予め選択された量の第3前駆体材料を前記細長チューブ内で振動させる処理と、
前記第3前駆体材料が前記細長チューブの内部に沿って伝搬し、長さl2に沿って内面に堆積するのを待つ処理と、
予め選択された量のキャリアガスを前記細長チューブ内で振動させる処理と、
堆積されていない第3前駆体材料の残留物を除去するためにキャリアガスを待つ処理と、
キャリアガス中の予め選択された量の第4前駆体材料を前記細長チューブ内で振動させる処理と、
第4前駆体材料の1投与量が前記細長チューブの内部に沿って伝播し、長さl2に沿って内面に堆積するのを待つ処理と、
2回目の予め選択された量のキャリアガスを前記細長チューブ内で振動させる処理と、
を含む請求項7に記載の方法。 - 前記細長チューブの前記第1領域及び前記第2領域に隣接する複数の追加の領域の内面上に複数の追加の導電層を形成する処理であって、前記複数の追加の領域は互いに隣接して形成され、前記追加の導電層のそれぞれはL未満の長さを有するように形成され、前記複数の導電層のそれぞれは、隣接する領域の前記導電層よりも大きいか又はそれよりも小さい電気抵抗を提供するように選択される処理を含む、請求項5に記載の方法。
- 長さ(L)と内径(D)がL>>Dを満足し、入口端、出口端、及び、入口端と出口端との間のチャネルを画定する内面を有する細長チューブを提供する処理と、
以下の処理により、前記細長チューブの内面に複数の導電層を形成する処理と、
を備える抵抗勾配が前記チャネルの長さによって提供されるチャネル型電子増倍器の製造方法。
(a)管の内部に形成する導電層の数を選択し、初期のサイクル値を設定する処理
(b)現在のサイクル値が選択した数より小さいかどうかをチェックする処理
現在のサイクル値が選択した数より小さい場合、以下の処理を実行する処理
(c)キャリアガス内の予め選択された量の第1前駆体材料を前記細長チューブ内で振動させる処理
(d)管の内部に沿って伝搬し、長さl1に沿って内部表面上に堆積する第1前駆体材料のための第1予選択時間、待機する処理
(e)予め選択された量のキャリアガスを前記細長チューブ内で振動させる処理
(f)キャリアガス中の予め選択された量の第2前駆体材料を前記細長チューブ内で振動させる処理
(g)予め選択された量の第2前駆体材料がチューブの内部に沿って伝播し、長さl1に沿って内部表面上に堆積し、第1前駆体材料と反応するための第2予選択時間、待機する処理
(h)2回目の予め選択された量のキャリアガスを前記細長チューブ内で振動させる処理
(i)第1予選択時間を変更する処理
(j)第1前駆体材料の予め選択された量の濃度を変更する処理
(k)第2予選択時間を変更する処理
(l)第2前駆体材料の予め選択された量の濃度を変更する処理
(m)現在のサイクル値を増分する処理
(n)増分サイクル値が選択された数より小さいかどうかをチェックする処理
(o)増分サイクル値が選択された数より小さい場合、処理(c)〜(n)を再び実行する処理
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