JP6873125B2 - X-ray generator and analyzer equipped with it - Google Patents

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Description

本発明は、特性X線を出射するX線発生装置に関し、特にX線発生装置を備える分析装置に関する。 The present invention relates to an X-ray generator that emits characteristic X-rays, and more particularly to an analyzer that includes an X-ray generator.

鉄鋼品種(例えば、低合金鋼や炭素鋼やステンレス鋼や低合鋳鉄等)や非鉄金属品種の多様化や高品質化や製鋼加工技術の発展に伴い、母材(例えば、Fe、Cu、Al等)中に含有される微量成分、特にC、Si、S、P、Mn、Ni等の元素の量を厳密にコントロールすることが要求されてきており、鉄鋼材や非鉄金属材等の生産工場等での製鋼・精練工程において、母材中に含有される微量成分を定量することが重要となってきている。
そこで、近年、試料に特性X線を照射し、特性X線により励起されて放出される蛍光X線の強度を検出することによって、その試料に含まれる元素の定性や定量分析を行う蛍光X線分析装置が生産工場等で広く利用されるようになってきている。
With the diversification and quality improvement of steel varieties (for example, low alloy steel, carbon steel, stainless steel, low cast iron, etc.) and non-ferrous metal varieties, and the development of steelmaking processing technology, base materials (eg, Fe, Cu, Al Etc.) It has been required to strictly control the amount of trace components contained in, especially elements such as C, Si, S, P, Mn, Ni, etc., and production plants for steel materials, non-ferrous metal materials, etc. In the steelmaking / refining process such as, it is becoming important to quantify the trace components contained in the base metal.
Therefore, in recent years, by irradiating a sample with characteristic X-rays and detecting the intensity of fluorescent X-rays excited and emitted by the characteristic X-rays, fluorescent X-rays are used to perform qualitative and quantitative analysis of the elements contained in the sample. Analyzers are becoming widely used in production plants and the like.

図4は、蛍光X線分析装置の構成を示す図であり、図5は、図4に示すX線発生装置101の回路図である。蛍光X線分析装置160は、X線発生装置101と、試料Sが配置される試料台61と、蛍光X線のエネルギと強度とを検出する検出器62と、入力装置71やCPU 172等を有するコンピュータ170とを備える。 FIG. 4 is a diagram showing the configuration of a fluorescent X-ray analyzer, and FIG. 5 is a circuit diagram of the X-ray generator 101 shown in FIG. The fluorescent X-ray analyzer 160 includes an X-ray generator 101, a sample table 61 on which the sample S is arranged, a detector 62 for detecting the energy and intensity of fluorescent X-rays, an input device 71, a CPU 172, and the like. The computer 170 is provided.

X線発生装置101は、特性X線を出射するX線管球10と、高電圧Vhighを印加するための高電圧生成DC電源(高電圧電源)20と、低電圧Vlowを印加するためのフィラメント用電源(低電圧電源)30と、高電圧生成DC電源20を制御する管電圧制御回路(高圧電源制御回路)140と、フィラメント用電源30を制御するフィラメント電流制御回路(低圧電源制御回路)150とを備える(例えば特許文献1参照)。The X-ray generator 101 applies an X-ray tube 10 that emits characteristic X-rays, a high-voltage generation DC power supply (high-voltage power supply) 20 for applying a high-voltage V high , and a low-voltage V low. Filament power supply (low voltage power supply) 30, tube voltage control circuit (high voltage power supply control circuit) 140 that controls the high voltage generation DC power supply 20, and filament current control circuit (low voltage power supply control circuit) that controls the filament power supply 30. ) 150 (see, for example, Patent Document 1).

図6は、図4に示すX線管球10の断面図である。X線管球10は、陽極であるターゲット11と、陰極であるフィラメント12と、ターゲット11とフィラメント12とを内部に有する略円筒形状の筐体13とを備える。 FIG. 6 is a cross-sectional view of the X-ray tube 10 shown in FIG. The X-ray tube 10 includes a target 11 as an anode, a filament 12 as a cathode, and a substantially cylindrical housing 13 having the target 11 and the filament 12 inside.

筐体13の側壁には、円形状の出射窓13aが形成されており、出射窓13aと対向する位置にターゲット11の端面11aが配置されるとともに、ターゲット11の端面11aと対向する位置にフィラメント12が配置されている。そして、フィラメント用電源30及びフィラメント電流制御回路150が、低電圧用ケーブル16を介してフィラメント12と接続されている。また、高電圧生成DC電源20及び管電圧制御回路140が、高電圧用ケーブル15を介してターゲット11と接続されている。さらに、高電圧生成DC電源20の負極は、フィラメント12の一端と接続されている。 A circular exit window 13a is formed on the side wall of the housing 13, an end face 11a of the target 11 is arranged at a position facing the exit window 13a, and a filament is arranged at a position facing the end face 11a of the target 11. 12 are arranged. Then, the filament power supply 30 and the filament current control circuit 150 are connected to the filament 12 via the low voltage cable 16. Further, the high voltage generating DC power supply 20 and the tube voltage control circuit 140 are connected to the target 11 via the high voltage cable 15. Further, the negative electrode of the high voltage generation DC power supply 20 is connected to one end of the filament 12.

管電圧制御回路140は、入力装置71からの入力信号に基づいて、ターゲット11に高電圧Vhighを印加するようになっている。例えば、分析者が入力装置71を用いて電圧値1kV〜50kV程度の内から管電圧値Vhighを選択すると、管電圧制御回路140はその選択された管電圧値Vhighをターゲット11に印加することにより、ターゲット11の電位を管電圧値Vhighとする。このとき、管電圧制御回路140は、ターゲット11の電位が管電圧値Vhighと乖離がないようにフィードバック制御を行う。The tube voltage control circuit 140 applies a high voltage V high to the target 11 based on the input signal from the input device 71. For example, when the analyst selects the tube voltage value V high from the voltage values of about 1 kV to 50 kV using the input device 71, the tube voltage control circuit 140 applies the selected tube voltage value V high to the target 11. As a result, the potential of the target 11 is set to the tube voltage value V high . At this time, the tube voltage control circuit 140 performs feedback control so that the potential of the target 11 does not deviate from the tube voltage value V high.

フィラメント電流制御回路150は、入力装置71からの入力信号に基づいて、フィラメント12に低電圧Vlowを印加するようになっている。例えば、分析者が入力装置71を用いて電流値5mA〜100mA程度の内から管電流値Iを選択すると、フィラメント電流制御回路150はその選択された管電流値Iと乖離がないように、フィラメント12にフィラメント電流を流すフィードバック制御を行う。The filament current control circuit 150 applies a low voltage V low to the filament 12 based on an input signal from the input device 71. For example, when the analyst selects the tube current value I from the current values of about 5 mA to 100 mA using the input device 71, the filament current control circuit 150 does not deviate from the selected tube current value I. Feedback control is performed to pass a filament current through 12.

このようなX線発生装置101によれば、分析を行うための入力信号が入力されると、図5(a)に示すように、ターゲット11に高電圧Vhighを印加してターゲット11の電位を管電圧値Vhighとするとともに、フィラメント12に低電圧Vlowを印加してフィラメント電流を流すことにより、フィラメント12から放射された熱電子eを加速して、ターゲット11の端面11aに衝突させることで、ターゲット11の端面11aで発生した特性X線を出射窓13aから出射している。なお、この特性X線の強度やエネルギは、管電圧値Vhighと管電流値Iとを変えることで制御される。According to such an X-ray generator 101, when an input signal for performing analysis is input, a high voltage V high is applied to the target 11 as shown in FIG. 5A, and the potential of the target 11 is reached. Is set to the tube voltage value V high, and a low voltage V low is applied to the filament 12 to allow a filament current to flow, thereby accelerating the thermoelectrons e radiated from the filament 12 and causing them to collide with the end face 11a of the target 11. As a result, the characteristic X-ray generated at the end surface 11a of the target 11 is emitted from the emission window 13a. The intensity and energy of this characteristic X-ray are controlled by changing the tube voltage value V high and the tube current value I.

特開2007−165081号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-165081

ところで、分析が終了してX線発生装置101を停止するためには、フィラメント12に低電圧Vlowを印加することを停止した後、ターゲット11に高電圧Vhighを印加することを停止して、ターゲット11の電位を管電圧値Vhighから0Vに低下させる必要があるが、ターゲット11の電位が0Vに低下する待ち時間が長かった(例えば管電圧値Vhighの低下速度1.8kV/s)。By the way, in order to stop the X-ray generator 101 after the analysis is completed, the application of the low voltage V low to the filament 12 is stopped, and then the application of the high voltage V high to the target 11 is stopped. , It is necessary to reduce the potential of the target 11 from the tube voltage value V high to 0 V, but the waiting time for the potential of the target 11 to decrease to 0 V was long (for example, the rate of decrease of the tube voltage value V high is 1.8 kV / s). ).

なお、フィラメント電流制御回路150は、管電流値Iと乖離がないようにフィードバック制御を行っているので、管電流が流れなくなると、フィラメント電流が最大値となり、フィラメント12の温度が最高温度となる。フィラメント12の温度が高くなるほど、フィラメント12が消耗するので、フィラメント12の寿命が短くなる。そのため、X線発生装置101を停止するための入力信号「OFF」が入力されると、フィラメント電流制御回路150が、フィラメント12に低電圧Vlowを印加することを停止した後、管電圧制御回路140が、ターゲット11に高電圧Vhighを印加することを停止している。Since the filament current control circuit 150 performs feedback control so as not to deviate from the tube current value I, when the tube current stops flowing, the filament current becomes the maximum value and the temperature of the filament 12 becomes the maximum temperature. .. The higher the temperature of the filament 12, the more the filament 12 is consumed, so that the life of the filament 12 is shortened. Therefore, when the input signal "OFF" for stopping the X-ray generator 101 is input, the filament current control circuit 150 stops applying the low voltage V low to the filament 12, and then the tube voltage control circuit. 140 has stopped applying the high voltage V high to the target 11.

本出願人は、ターゲット11の電位を短時間で低下させる方法について検討した。フィラメント12に低電圧Vlowを印加することを停止した後、ターゲット11に高電圧V highを印加することを停止することにより、図5(b)に示すように、筐体13や高電圧用ケーブル15の絶縁体の抵抗に流れる極わずかな電流iによって管電圧値Vhig を逃がしている。 The applicant examined a method for lowering the potential of the target 11 in a short time. Low voltage V on filament 12lowAfter stopping the application of high voltage V to the target 11. highBy stopping the application of, as shown in FIG. 5 (b), the tube voltage value V is caused by the extremely small current i flowing through the resistance of the insulator of the housing 13 and the high voltage cable 15.high hIs missing.

そこで、図7に示すように高耐圧抵抗とスイッチとを設け、入力信号「OFF」が入力されると、フィラメント12に低電圧Vlowを印加することを停止した後、ターゲット11に高電圧Vhighを印加することを停止するとともに、スイッチで高耐圧抵抗とターゲット11とを接続することにより、管電圧値Vhighを逃がすことが考えられる。しかし、高耐圧抵抗やスイッチ等の部品を設ける必要がある。Therefore, as shown in FIG. 7, a high withstand voltage resistor and a switch are provided, and when the input signal “OFF” is input , the application of the low voltage V low to the filament 12 is stopped, and then the high voltage V is applied to the target 11. to stop applying the high, by connecting the high-voltage resistor and the target 11 by the switch, it is conceivable to escape the tube voltage value V high. However, it is necessary to provide parts such as high withstand voltage resistors and switches.

よって、X線発生装置101を停止する際に、まず管電流値Iを0Aとするのではなく、適切な所定値(0.3A以上5.0A以下)のフィラメント電流をフィラメント12に流すことにより熱電子e’をターゲット11に照射することで、管電圧値Vhighを管電流I’として逃がすことを見出した(図2(b)参照)。その結果、管電圧値Vhig の低下速度が3.0kV/sとなり、早くなった。Therefore, when stopping the X-ray generator 101, instead of first setting the tube current value I to 0A, a filament current of an appropriate predetermined value (0.3A or more and 5.0A or less) is passed through the filament 12. It was found that by irradiating the target 11 with thermions e', the tube voltage value V high is released as the tube current I'(see FIG. 2B). As a result, the rate of decrease in the tube voltage value V hig h is 3.0 kV / s, and the became faster.

すなわち、本発明のX線発生装置は、筐体と、前記筐体の内部に配置された陽極であるターゲットと、前記筐体の内部に配置された陰極であるフィラメントとを有し、前記フィラメントから放射される熱電子を前記ターゲットで受容して、前記ターゲットで発生したX線を出射するX線管と、前記ターゲットに高電圧を印加するための高電圧電源と、前記フィラメントに低電圧を印加するための低電圧電源と、前記高電圧電源を制御する高電圧電源制御回路と、X線発生装置を停止するためのOFF信号の入力操作が可能な入力装置と、前記低電圧電源を制御し、前記X線発生装置を停止するためのOFF信号が入力される低電圧電源制御回路とを備えるX線発生装置であって、前記OFF信号が入力されたときに、前記高電圧電源制御回路が前記ターゲットに高電圧を印加することを停止した後、前記低電圧電源制御回路が前記フィラメントに所定時間、所定値の低電圧を印加するようにしている。 That is, the X-ray generator of the present invention has a housing, a target which is an anode arranged inside the housing, and a filament which is a cathode arranged inside the housing. An X-ray tube that receives thermoelectrons emitted from the target and emits X-rays generated by the target, a high-voltage power supply for applying a high voltage to the target, and a low voltage to the filament. Controls a low-voltage power supply for applying, a high-voltage power supply control circuit for controlling the high-voltage power supply, an input device capable of inputting an OFF signal for stopping the X-ray generator, and the low-voltage power supply. An X-ray generator including a low-voltage power supply control circuit to which an OFF signal for stopping the X-ray generator is input, and the high-voltage power supply control circuit when the OFF signal is input. Stops applying the high voltage to the target, and then the low voltage power supply control circuit applies the low voltage of a predetermined value to the filament for a predetermined time.

本発明のX線発生装置によれば、ターゲットの電位の管電圧値Vhighを低下させるために、ターゲットの電位の管電圧値Vhighを管電流I’として逃がすため、管電圧値Vhighを逃がす待ち時間を短くすることができる。また、回路を切替える機構や部品(高耐圧抵抗やスイッチ)を必要としない。According to the X-ray generator of the present invention, in order to reduce the tube voltage value V high of the target potential, the tube voltage value V high of the target potential is released as the tube current I', so that the tube voltage value V high is set. The waiting time for escape can be shortened. In addition, no mechanism or component (high withstand voltage resistor or switch) for switching circuits is required.

(他の課題を解決するための手段および効果)
また、上記の発明において、前記所定時間は、前記ターゲットの電位が低下するための時間であるようにしてもよい。
(Means and effects to solve other problems)
Further, in the above invention, the predetermined time may be a time for the potential of the target to decrease.

また、上記の発明において、前記所定値の低電圧は、0.3A以上5.0A以下のフィラメント電流を前記フィラメントに流すためのものであるようにしてもよい。
なお、0.3A以上5.0A以下のフィラメント電流は、フィラメントの温度が適切な温度となり、フィラメントが消耗することを防止するものとなっている。
Further, in the above invention, the low voltage of the predetermined value may be for passing a filament current of 0.3 A or more and 5.0 A or less through the filament.
The filament current of 0.3 A or more and 5.0 A or less prevents the filament from being consumed when the filament temperature becomes an appropriate temperature.

そして、本発明の分析装置は、上述したようなX線発生装置と、検出器とを備える分析装置にしてもよい。 The analyzer of the present invention provides an X-ray CT apparatus as described above, may be Ru analyzer and a detector.

実施形態に係る蛍光X線分析装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the fluorescent X-ray analyzer which concerns on embodiment. 図1に示すX線発生装置の回路図。The circuit diagram of the X-ray generator shown in FIG. 停止方法について説明するためのフローチャート。A flowchart for explaining how to stop. 蛍光X線分析装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the fluorescence X-ray analyzer. 図4に示すX線発生装置の回路図。The circuit diagram of the X-ray generator shown in FIG. 図4に示すX線管球の断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view of the X-ray tube shown in FIG. X線発生装置の回路図。Circuit diagram of the X-ray generator.

以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は、以下に説明するような実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の態様が含まれることはいうまでもない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. It goes without saying that the present invention is not limited to the embodiments described below, and various aspects are included without departing from the spirit of the present invention.

図1は、実施形態に係る蛍光X線分析装置の構成を示す図であり、図2は、図1に示すX線発生装置の回路図である。なお、蛍光X線分析装置160と同様のものについては、同じ符号を付している。
蛍光X線分析装置60は、X線発生装置1と、試料Sが配置される試料台61と、蛍光X線のエネルギと強度とを検出する検出器62と、入力装置71やCPU 72等を有するコンピュータ70とを備える。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a fluorescent X-ray analyzer according to an embodiment, and FIG. 2 is a circuit diagram of the X-ray generator shown in FIG. The same reference numerals are given to those similar to the fluorescent X-ray analyzer 160.
The fluorescent X-ray analyzer 60 includes an X-ray generator 1, a sample table 61 on which the sample S is arranged, a detector 62 for detecting the energy and intensity of fluorescent X-rays, an input device 71, a CPU 72, and the like. The computer 70 is provided.

X線発生装置1は、特性X線を出射するX線管球10と、高電圧Vhighを印加するための高電圧生成DC電源(高電圧電源)20と、低電圧Vlowを印加するためのフィラメント用電源(低電圧電源)30と、高電圧生成DC電源20を制御する管電圧制御回路(高圧電源制御回路)40と、フィラメント用電源30を制御するフィラメント電流制御回路(低圧電源制御回路)50とを備える。The X-ray generator 1 applies an X-ray tube 10 that emits characteristic X-rays, a high-voltage generation DC power supply (high-voltage power supply) 20 for applying a high-voltage V high , and a low-voltage V low. Filament power supply (low voltage power supply) 30, tube voltage control circuit (high voltage power supply control circuit) 40 that controls the high voltage generation DC power supply 20, and filament current control circuit (low voltage power supply control circuit) that controls the filament power supply 30. ) 50.

フィラメント電流制御回路50は、入力装置71からの入力信号に基づいて、フィラメント12に低電圧Vlowを印加するようになっている。例えば、分析者が入力装置71を用いて電流値5mA〜100mA程度の内から管電流値Iを選択すると、フィラメント電流制御回路50はその選択された管電流値Iと乖離がないように、フィラメント12にフィラメント電流を流すフィードバック制御を行う。
また、実施形態に係るフィラメント電流制御回路50は、X線発生装置1を停止するための入力信号「OFF」が入力された際には、フィラメント12に所定時間(例えば20秒以下)、所定値の低電圧Vlow’を印加することにより、所定値(0.3A以上5.0A以下)のフィラメント電流を流すようになっている。
上記所定値としては、0.3A以上5.0A以下であること等が挙げられるが、蛍光X線分析装置60では、回路構成を考慮して3.4Aとした。これにより、減少スピードもX線管球10の構造によって変わるが、蛍光X線分析装置60では、50kV(最大管電圧)/3kV(一秒あたりの減少スピード)= 16.6s となり、16.6秒で電位が低下するようになった。
The filament current control circuit 50 applies a low voltage V low to the filament 12 based on an input signal from the input device 71. For example, when the analyst selects the tube current value I from the current values of about 5 mA to 100 mA using the input device 71, the filament current control circuit 50 does not deviate from the selected tube current value I. Feedback control is performed to pass a filament current through 12.
Further, in the filament current control circuit 50 according to the embodiment, when the input signal “OFF” for stopping the X-ray generator 1 is input, the filament 12 has a predetermined time (for example, 20 seconds or less) and a predetermined value. by applying a low voltage V low 'of, and for channeling the filament current of a predetermined value (0.3 a or 5.0A or less).
The predetermined value may be 0.3 A or more and 5.0 A or less, but in the fluorescent X-ray analyzer 60, it was set to 3.4 A in consideration of the circuit configuration. As a result, the reduction speed also changes depending on the structure of the X-ray tube 10, but in the fluorescent X-ray analyzer 60, 50 kV (maximum tube voltage) / 3 kV (decrease speed per second) = 16.6 s, which is 16.6. The potential began to drop in seconds.

管電圧制御回路40は、入力装置71からの入力信号に基づいて、ターゲット11に高電圧Vhighを印加するようになっている。例えば、分析者が入力装置71を用いて電圧値1kV〜50kV程度の内から管電圧値Vhighを選択すると、管電圧制御回路40はその選択された管電圧値Vhighをターゲット11に印加することにより、ターゲット11の電位を管電圧値Vhighとする。このとき、管電圧制御回路40は、ターゲット11の電位が管電圧値Vhighと乖離がないようにフィードバック制御を行う。
また、実施形態に係る管電圧制御回路40は、X線発生装置1を停止するための入力信号「OFF」が入力されると、フィラメント12に低電圧Vlow’を印加することを停止する前に、ターゲット11に高電圧Vhighを印加することを停止するようになっている。
The tube voltage control circuit 40 applies a high voltage V high to the target 11 based on the input signal from the input device 71. For example, when the analyst selects the tube voltage value V high from the voltage values of about 1 kV to 50 kV using the input device 71, the tube voltage control circuit 40 applies the selected tube voltage value V high to the target 11. As a result, the potential of the target 11 is set to the tube voltage value V high . At this time, the tube voltage control circuit 40 performs feedback control so that the potential of the target 11 does not deviate from the tube voltage value V high.
Further, the tube voltage control circuit 40 according to the embodiment does not stop applying the low voltage V low'to the filament 12 when the input signal “OFF” for stopping the X-ray generator 1 is input. In addition, the application of the high voltage V high to the target 11 is stopped.

ここで、X線発生装置1を停止する停止方法について説明する。図3は、停止方法について説明するためのフローチャートである。
まず、ステップS101の処理において、CPU72はX線発生装置1を停止するための入力信号「OFF」が入力されたか否かを判定する。入力信号「OFF」が入力されていないと判定したときには、ステップS101の処理を繰り返す。
Here, a stop method for stopping the X-ray generator 1 will be described. FIG. 3 is a flowchart for explaining a stop method.
First, in the process of step S101, the CPU 72 determines whether or not the input signal "OFF" for stopping the X-ray generator 1 has been input. When it is determined that the input signal "OFF" has not been input, the process of step S101 is repeated.

一方、入力信号「OFF」が入力されたと判定したときには、ステップS102の処理において、フィラメント電流制御回路50は、フィラメント12に所定値の低電圧Vlo ’を印加することにより、所定値(3.4A)のフィラメント電流を流す。このとき、フィラメント12の温度が最高温度とならないので、フィラメント12の消耗を防止することができる。
次に、ステップS103の処理において、管電圧制御回路40は、ターゲット11に高電圧Vhighを印加することを停止する。
On the other hand, when the input signal "OFF" is determined to have been input, the process of step S102, the filament current control circuit 50, by applying a low voltage V lo w 'of predetermined value to the filament 12, a predetermined value (3 .4A) Filament current is applied. At this time, since the temperature of the filament 12 does not reach the maximum temperature, it is possible to prevent the filament 12 from being consumed.
Next, in the process of step S103, the tube voltage control circuit 40 stops applying the high voltage V high to the target 11.

次に、ステップS104の処理において、CPU72は所定時間(20秒)が経過したか否かを判定する。所定時間が経過していないと判定したときには、ステップS104の処理を繰り返す。このとき、管電圧値Vhighが管電流I’として逃げる(図2(b)参照)。
次に、所定時間が経過したと判定したときには、ステップS105の処理において、フィラメント電流制御回路50は、フィラメント12に所定値の低電圧Vlow’を印加することを停止する。
そして、ステップS105の処理が終了すると、本フローチャートを終了させることになる。
Next, in the process of step S104, the CPU 72 determines whether or not a predetermined time (20 seconds) has elapsed. When it is determined that the predetermined time has not elapsed, the process of step S104 is repeated. At this time, the tube voltage value V high escapes as the tube current I'(see FIG. 2B).
Next, when it is determined that the predetermined time has elapsed, in the process of step S105, the filament current control circuit 50 stops applying the low voltage V low'of a predetermined value to the filament 12.
Then, when the process of step S105 is completed, this flowchart is terminated.

以上のように、本発明に係る蛍光X線分析装置60によれば、ターゲット11の電位の管電圧値Vhighを低下させるために、ターゲット11の電位の管電圧値Vhighを管電流I’として逃がすため、管電圧値Vhighを逃がす待ち時間を短くすることができる。As described above, according to the fluorescent X-ray analyzer 60 according to the present invention, in order to reduce the tube voltage value V high of the potential of the target 11, the tube voltage value V high of the potential of the target 11 is set to the tube current I'. Therefore, the waiting time for releasing the tube voltage value V high can be shortened.

<他の実施形態>
(1)上述した実施形態では蛍光X線分析装置60を例に説明を行ったが、連続的にX線を発生する装置(非破壊検査装置や医療用X線装置等)に対しても本発明を同様に適用することができる。また、最大管電圧は装置によって変わるため、表面分析のため比較的低い管電圧を使用している蛍光X線分析装置60を例に説明を行ったが、高い管電圧を使用している装置に適用してもよい。
<Other Embodiments>
(1) In the above-described embodiment, the fluorescent X-ray analyzer 60 has been described as an example, but the present invention also applies to an apparatus that continuously generates X-rays (non-destructive inspection apparatus, medical X-ray apparatus, etc.). The invention can be applied in the same way. Further, since the maximum tube voltage varies depending on the device, the explanation was given using the fluorescent X-ray analyzer 60, which uses a relatively low tube voltage for surface analysis, as an example. May be applied.

(2)上述した蛍光X線分析装置60では、所定時間(20秒)が経過したか否かを判定するような構成を示したが、ターゲット11の電位が所定値(1kV)以下となったか否かを判定するような構成としてもよい。 (2) The fluorescent X-ray analyzer 60 described above has a configuration for determining whether or not a predetermined time (20 seconds) has elapsed, but whether the potential of the target 11 is equal to or less than a predetermined value (1 kV). It may be configured to determine whether or not.

本発明は、試料中に含まれる元素の濃度を算出する蛍光X線分析装置等に利用することができる。 The present invention can be used in a fluorescent X-ray analyzer or the like for calculating the concentration of an element contained in a sample.

1 X線発生装置
10 X線管
11 ターゲット
12 フィラメント
13 筐体
15 高電圧用ケーブル
16 低電圧用ケーブル
20 高電圧電源
30 低電圧電源
40 高電圧電源制御回路
50 低電圧電源制御回路
1 X-ray generator 10 X-ray tube 11 Target 12 Filament 13 Housing 15 High-voltage cable 16 Low-voltage cable 20 High-voltage power supply 30 Low-voltage power supply 40 High-voltage power supply control circuit 50 Low-voltage power supply control circuit

Claims (4)

筐体と、前記筐体の内部に配置された陽極であるターゲットと、前記筐体の内部に配置された陰極であるフィラメントとを有し、前記フィラメントから放射される熱電子を前記ターゲットで受容して、前記ターゲットで発生したX線を出射するX線管と、
前記ターゲットに高電圧を印加するための高電圧電源と、
前記フィラメントに低電圧を印加するための低電圧電源と、
前記高電圧電源を制御する高電圧電源制御回路と、
X線発生装置を停止するためのOFF信号の入力操作が可能な入力装置と、
前記X線管に流れる管電流値と選択された管電流値の間に乖離が無いように前記低電圧電源をフィードバック制御し、前記X線発生装置を停止するためのOFF信号が入力される低電圧電源制御回路とを備えるX線発生装置であって、
前記OFF信号が入力されたときに、前記高電圧電源制御回路が前記ターゲットに高電圧を印加することを停止した後、前記低電圧電源制御回路が前記フィードバック制御を停止して前記フィラメントに所定時間、所定値の低電圧を印加することを特徴とするX線発生装置。
The target has a housing, a target which is an anode arranged inside the housing, and a filament which is a cathode arranged inside the housing, and receives thermoelectrons radiated from the filament at the target. Then, an X-ray tube that emits X-rays generated at the target and
A high-voltage power supply for applying a high voltage to the target,
A low-voltage power supply for applying a low voltage to the filament,
The high-voltage power supply control circuit that controls the high-voltage power supply and
An input device that can input an OFF signal to stop the X-ray generator,
The low voltage power supply is feedback-controlled so that there is no discrepancy between the tube current value flowing through the X-ray tube and the selected tube current value, and an OFF signal for stopping the X-ray generator is input. An X-ray generator equipped with a voltage power supply control circuit.
When the OFF signal is input, the high voltage power supply control circuit stops applying a high voltage to the target, and then the low voltage power supply control circuit stops the feedback control for a predetermined time on the filament. , An X-ray generator characterized by applying a low voltage of a predetermined value.
前記所定時間は、前記ターゲットの電位が低下するための時間であることを特徴とする請求項1に記載のX線発生装置。 The X-ray generator according to claim 1, wherein the predetermined time is a time for the potential of the target to decrease. 前記所定値の低電圧は、0.3A以上5.0A以下のフィラメント電流を前記フィラメントに流すためのものであることを特徴とする請求項1に記載のX線発生装置。 The X-ray generator according to claim 1, wherein the low voltage of the predetermined value is for passing a filament current of 0.3 A or more and 5.0 A or less through the filament. 請求項1に記載のX線発生装置と、検出器とを備えた分析装置。 An analyzer including the X-ray generator according to claim 1 and a detector.
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