JP6866743B2 - Half mirror - Google Patents

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本発明は、映像表示機能を有するミラー装置用のハーフミラーに関する。 The present invention relates to a half mirror for a mirror device having an image display function.

特許文献1に開示されるように、映像表示機能を有するミラー装置は、映像表示装置と、映像表示装置の前面側に設けられたハーフミラーとを備えている。こうしたミラー装置のハーフミラーは、映像非表示時には反射像を映し出す鏡面として機能し、映像表示時には映像表示装置から出力される映像を透過させて映し出す表示面として機能する。 As disclosed in Patent Document 1, a mirror device having an image display function includes an image display device and a half mirror provided on the front side of the image display device. The half mirror of such a mirror device functions as a mirror surface for displaying a reflected image when the image is not displayed, and functions as a display surface for transmitting and projecting the image output from the image display device when displaying the image.

特開2016−135667号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-135667

ところで、映像表示機能を有するミラー装置用のハーフミラーは、映像非表示時に映し出される反射像(鏡像)の視認性を確保しつつ、映像表示時に映し出される透過像(映像)の視認性を向上させることが課題となっている。すなわち、映像表示時に映し出される透過像の視認性を向上させるためには、ハーフミラーの表面における反射像の映り込みを少なくすることが好ましい。しかしながら、反射像の映り込みをできるだけ少なくすると、映像非表示時に映し出される反射像がぼやけてしまい、その視認性が大きく低下する。 By the way, a half mirror for a mirror device having an image display function improves the visibility of a transmitted image (image) projected when an image is displayed while ensuring the visibility of a reflected image (mirror image) projected when the image is not displayed. Is an issue. That is, in order to improve the visibility of the transmitted image projected at the time of displaying an image, it is preferable to reduce the reflection of the reflected image on the surface of the half mirror. However, if the reflection of the reflected image is reduced as much as possible, the reflected image projected when the image is not displayed becomes blurred, and its visibility is greatly reduced.

本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、映像表示機能を有するミラー装置用のハーフミラーに関して、映像非表示時に映し出される反射像の視認性の低下を抑制しつつ、映像表示時における反射像の映り込みを抑制することにある。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to suppress a decrease in visibility of a reflected image projected when an image is not displayed with respect to a half mirror for a mirror device having an image display function. The purpose is to suppress the reflection of the reflected image when the image is displayed.

上記の目的を達成するためのハーフミラーは、映像表示機能を有するミラー装置用のハーフミラーであって、第1主面及び第2主面を有し、前記第1主面側から前記第2主面側に向かって、アンチグレア層、透明基材層、及びハーフミラー層が順に設けられ、前記第1主面のグロス値が350〜420である。 The half mirror for achieving the above object is a half mirror for a mirror device having an image display function, has a first main surface and a second main surface, and has the first main surface side to the second main surface. An anti-glare layer, a transparent base material layer, and a half mirror layer are provided in this order toward the main surface side, and the gloss value of the first main surface is 350 to 420.

上記の目的を達成するためのハーフミラーは、映像表示機能を有するミラー装置用のハーフミラーであって、第1主面及び第2主面を有し、前記第1主面側から前記第2主面側に向かって、アンチグレア層、ハーフミラー層、及び透明基材層が順に設けられ、前記第1主面のグロス値が300〜380である。 The half mirror for achieving the above object is a half mirror for a mirror device having an image display function, has a first main surface and a second main surface, and has the first main surface side to the second main surface. An anti-glare layer, a half mirror layer, and a transparent base material layer are provided in this order toward the main surface side, and the gloss value of the first main surface is 300 to 380.

上記ハーフミラーにおいて、前記アンチグレア層は、SiO、Al、ZrO、TiOから選ばれる少なくとも一種からなるマトリックスにより構成されていることが好ましい。 In the half mirror, the anti-glare layer is preferably composed of a matrix composed of at least one selected from SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , and TiO 2.

上記ハーフミラーにおいて、ヘイズ値が6%以下であることが好ましい。 In the above half mirror, the haze value is preferably 6% or less.

本発明によれば、映像非表示時に映し出される反射像の視認性の低下を抑制しつつ、映像表示時における反射像の映り込みを抑制することができる。 According to the present invention, it is possible to suppress the reflection of the reflected image when the image is displayed while suppressing the deterioration of the visibility of the reflected image projected when the image is not displayed.

ミラー装置の概略図。Schematic of the mirror device. (a),(b)は、ハーフミラーの層構造を示す説明図。(A) and (b) are explanatory views which show the layer structure of a half mirror.

以下、本発明の一実施形態を説明する。
図1に示すように、本実施形態のハーフミラー10は、映像表示機能を有するミラー装置20のミラー部分として用いられる。映像表示機能を有するミラー装置20の用途としては、例えば、インナーミラー等の車両用途、窓ガラス用途、建材用途が挙げられる。また、ミラー装置20は、映像表示機能に加えて、タッチパネル機能を有するものであってもよい。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.
As shown in FIG. 1, the half mirror 10 of the present embodiment is used as a mirror portion of a mirror device 20 having an image display function. Examples of applications of the mirror device 20 having an image display function include vehicle applications such as inner mirrors, window glass applications, and building material applications. Further, the mirror device 20 may have a touch panel function in addition to the video display function.

ミラー装置20は、ハウジング21と、ハウジング21の内部に設けられた映像表示装置22と、映像表示装置22の前面22a側に位置するようにハウジング21に取り付けられたハーフミラー10とを備える。映像表示装置22としては、例えば、液晶表示装置、有機EL表示装置、プラズマ表示装置等の公知の映像表示装置を用いることができる。映像表示装置22とハーフミラー10とは、接していてもよいし、接していなくてもよい。なお、光の利用効率や映像の視認性の観点から、映像表示装置22とハーフミラー10との間に透明樹脂等の充填材23を充填して、両部材を密着させることが好ましい。 The mirror device 20 includes a housing 21, an image display device 22 provided inside the housing 21, and a half mirror 10 attached to the housing 21 so as to be located on the front surface 22a side of the image display device 22. As the image display device 22, for example, a known image display device such as a liquid crystal display device, an organic EL display device, or a plasma display device can be used. The image display device 22 and the half mirror 10 may or may not be in contact with each other. From the viewpoint of light utilization efficiency and image visibility, it is preferable that a filler 23 such as a transparent resin is filled between the image display device 22 and the half mirror 10 so that both members are brought into close contact with each other.

図1に示すように、ハーフミラー10は、第1主面11と、第1主面11の反対側に位置する第2主面12とを有する平板状の部材である。ハーフミラー10は、その第1主面11側がミラー装置20の外側(使用者側)に位置し、その第2主面12側がミラー装置20の内側(映像表示装置22側)に位置するように配置される。 As shown in FIG. 1, the half mirror 10 is a flat plate-like member having a first main surface 11 and a second main surface 12 located on the opposite side of the first main surface 11. The first main surface 11 side of the half mirror 10 is located on the outside of the mirror device 20 (user side), and the second main surface 12 side thereof is located on the inside of the mirror device 20 (image display device 22 side). Be placed.

図2(a)及び図2(b)に示すように、ハーフミラー10は、透明基材層13、ハーフミラー層14、及びアンチグレア層15を有し、これらの各層が特定の順番で配置された層構造を有する。ハーフミラー10における各層の配置順は、図2(a)に示すように、第1主面11側から第2主面12側に向かって、「アンチグレア層15」−「透明基材層13」−「ハーフミラー層14」の順、又は図2(b)に示すように、第1主面11側から第2主面12側に向かって、「アンチグレア層15」−「ハーフミラー層14」−「透明基材層13」の順である。なお、図2(a)に示すように、「アンチグレア層15」−「透明基材層13」−「ハーフミラー層14」の順であることがより好ましい。 As shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), the half mirror 10 has a transparent base material layer 13, a half mirror layer 14, and an anti-glare layer 15, and each of these layers is arranged in a specific order. It has a layered structure. As shown in FIG. 2A, the arrangement order of the layers in the half mirror 10 is as follows: "anti-glare layer 15"-"transparent base material layer 13" from the first main surface 11 side to the second main surface 12 side. -In the order of "half mirror layer 14", or as shown in FIG. 2B, from the first main surface 11 side to the second main surface 12 side, "anti-glare layer 15"-"half mirror layer 14" -The order is "transparent base material layer 13". As shown in FIG. 2A, the order of "anti-glare layer 15"-"transparent base material layer 13"-"half mirror layer 14" is more preferable.

透明基材層13は、透光性の透明基材からなる層である。透明基材層13の厚さは、例えば、0.05〜2.0mmである。透明基材層13の材質としては、例えば、ガラス、及び樹脂が挙げられる。透明基材層13の材質は、ガラスであることが好ましく、ガラスとしては、例えば、無アルカリガラス、アルミノシリケートガラス、ソーダライム等の公知のガラスを用いることができる。また、化学強化ガラス等の強化ガラスやLAS系結晶化ガラス等の結晶化ガラスを用いることができる。これらのなかでも、アルミノシリケートガラスを用いること、特に、質量%で、SiO:50〜80%、Al:5〜25%、B:0〜15%、NaO:1〜20%、KO:0〜10%を含有する化学強化ガラスを用いることが好ましい。また、樹脂としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、エポキシ樹脂が挙げられる。 The transparent base material layer 13 is a layer made of a translucent transparent base material. The thickness of the transparent base material layer 13 is, for example, 0.05 to 2.0 mm. Examples of the material of the transparent base material layer 13 include glass and resin. The material of the transparent base material layer 13 is preferably glass, and as the glass, for example, known glass such as non-alkali glass, aluminosilicate glass, and soda lime can be used. Further, tempered glass such as chemically strengthened glass and crystallized glass such as LAS-based crystallized glass can be used. Among these, aluminosilicate glass is used, in particular, in terms of mass%, SiO 2 : 50 to 80%, Al 2 O 3 : 5 to 25%, B 2 O 3 : 0 to 15%, Na 2 O: 1~20%, K 2 O: it is preferable to use a chemically strengthened glass containing 0-10%. Examples of the resin include polymethyl methacrylate, polycarbonate, and epoxy resin.

ハーフミラー層14は、入射光の一部を透過し、入射光の一部を反射する層である。ハーフミラー層14としては、例えば、誘電体多層膜からなるハーフミラー層、半透過性金属膜からなるハーフミラー層等の公知のハーフミラー層が挙げられる。なお、タッチパネル機能を有するミラー装置20に適用する場合には、誘電体多層膜からなるハーフミラー層14とすることが、可視光を吸収しにくいため好ましい。 The half mirror layer 14 is a layer that transmits a part of the incident light and reflects a part of the incident light. Examples of the half mirror layer 14 include known half mirror layers such as a half mirror layer made of a dielectric multilayer film and a half mirror layer made of a semitransparent metal film. When applied to the mirror device 20 having a touch panel function, it is preferable to use the half mirror layer 14 made of a dielectric multilayer film because it is difficult to absorb visible light.

誘電体多層膜は、高屈折率膜と、高屈折率膜よりも屈折率が低い低屈折率膜とを交互に積層した構造を有する。高屈折率膜としては、例えば、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ランタン、酸化タングステン、及び酸化ジルコニウムから選ばれる少なくとも一種が挙げられる。高屈折率膜は、酸化ニオブを含むことが好ましい。低屈折率膜としては、例えば、酸化ケイ素、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも一種が挙げられる。低屈折率膜は、酸化ケイ素を含むことが好ましい。 The dielectric multilayer film has a structure in which a high refractive index film and a low refractive index film having a lower refractive index than the high refractive index film are alternately laminated. Examples of the high refractive index film include at least one selected from niobium oxide, titanium oxide, tantalum oxide, lanthanum oxide, tungsten oxide, and zirconium oxide. The high refractive index film preferably contains niobium oxide. Examples of the low refractive index film include at least one selected from silicon oxide and aluminum oxide. The low refractive index film preferably contains silicon oxide.

誘電体多層膜の厚さは、例えば、200〜400nmである。誘電体多層膜における高屈折率膜と低屈折率膜との合計積層数は、例えば、4層以上、60層以下である。なお、誘電体多層膜では、高屈折率膜から低屈折率膜に向けて屈折率が漸減または漸増する漸移層を高屈折率膜と低屈折率膜との間に設けてもよい。また、ハーフミラー層14における透明基材層13側に、誘電体多層膜から透明基材層13に向けて屈折率が漸減する漸移層を設けてもよい。また、高屈折率膜と低屈折率膜以外にも、屈折率が高屈折率膜よりも小さく、かつ、低屈折率膜より大きい中屈折率膜を設けてもよい。 The thickness of the dielectric multilayer film is, for example, 200 to 400 nm. The total number of layers of the high-refractive index film and the low-refractive index film in the dielectric multilayer film is, for example, 4 layers or more and 60 layers or less. In the dielectric multilayer film, a gradual transition layer in which the refractive index gradually decreases or gradually increases from the high refractive index film to the low refractive index film may be provided between the high refractive index film and the low refractive index film. Further, a gradual transition layer in which the refractive index gradually decreases from the dielectric multilayer film to the transparent base material layer 13 may be provided on the transparent base material layer 13 side of the half mirror layer 14. Further, in addition to the high refractive index film and the low refractive index film, a medium refractive index film having a refractive index smaller than that of the high refractive index film and larger than that of the low refractive index film may be provided.

誘電体多層膜は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンビーム法、イオンプレーティング法、CVD法等の公知の成膜方法を用いて、透明基材層13の表面に形成することができる。これらの成膜方法の中でも、各層の厚さを高精度で制御することができるとともに、安定した膜質の誘電体多層膜が得られることから、スパッタリング法が好ましい。 The dielectric multilayer film can be formed on the surface of the transparent base material layer 13 by using a known film forming method such as a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, an ion beam method, an ion plating method, or a CVD method. .. Among these film forming methods, the sputtering method is preferable because the thickness of each layer can be controlled with high accuracy and a dielectric multilayer film having a stable film quality can be obtained.

半透過性金属膜の材質としては、例えば、チタン、アルミニウム、銀、錫から選ばれる少なくとも一種が挙げられる。これらのなかでも、チタンが特に好ましい。
半透過性金属膜の厚さは、例えば、10〜80nmであることが好ましい。
Examples of the material of the semi-transmissive metal film include at least one selected from titanium, aluminum, silver, and tin. Of these, titanium is particularly preferred.
The thickness of the semi-permeable metal film is preferably 10 to 80 nm, for example.

半透過性金属膜は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンビーム法、イオンプレーティング法、CVD法等の公知の成膜方法を用いて、透明基材層13の表面に形成することができる。これらの成膜方法の中でも、厚さを高精度で制御することができるとともに、安定した膜質の半透過性金属膜が得られることから、スパッタリング法が好ましい。 The translucent metal film can be formed on the surface of the transparent base material layer 13 by using a known film forming method such as a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, an ion beam method, an ion plating method, or a CVD method. it can. Among these film forming methods, the sputtering method is preferable because the thickness can be controlled with high accuracy and a semi-permeable metal film having a stable film quality can be obtained.

アンチグレア層15は、光を散乱させる凹凸構造をなす表面(アンチグレア面)を有する層である。アンチグレア層15及びその凹凸構造は、例えば、SiO、Al、ZrO、TiOからなるマトリックスにより構成される。アンチグレア面たる凹凸構造としては、例えば、複数の島状の凸部間に平坦部分を有する島状の凹凸構造が挙げられる。 The anti-glare layer 15 is a layer having a surface (anti-glare surface) having an uneven structure that scatters light. The anti-glare layer 15 and its uneven structure are composed of, for example, a matrix composed of SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , and TiO 2. Examples of the uneven structure as the anti-glare surface include an island-shaped uneven structure having a flat portion between a plurality of island-shaped convex portions.

アンチグレア層15は、例えば、マトリックス前駆体、及びマトリックス前駆体を溶解する液状媒体を含むコーティング剤を透明基材層13の表面、又はハーフミラー層14の表面に塗布し、加熱することにより形成できる。コーティング剤に含まれるマトリックス前駆体としては、例えば、シリカ前駆体、アルミナ前駆体、ジルコニア前駆体、チタニア前駆体等の無機前駆体が挙げられる。アンチグレア層15の屈折率を低くする点、反応性を制御しやすい点から、シリカ前駆体が好ましい。 The anti-glare layer 15 can be formed, for example, by applying a coating agent containing a matrix precursor and a liquid medium that dissolves the matrix precursor to the surface of the transparent base material layer 13 or the surface of the half mirror layer 14 and heating the layer. .. Examples of the matrix precursor contained in the coating agent include inorganic precursors such as silica precursor, alumina precursor, zirconia precursor, and titania precursor. A silica precursor is preferable because it lowers the refractive index of the anti-glare layer 15 and makes it easy to control the reactivity.

シリカ前駆体としては、ケイ素原子に結合した炭化水素基及び加水分解性基を有するシラン化合物、シラン化合物の加水分解縮合物、シラザン化合物等が挙げられる。アンチグレア層15を厚く形成した場合にもアンチグレア層15のクラックが充分に抑えられる点から、シラン化合物、及びその加水分解縮合物のいずれか一方又は両方を少なくとも含むことが好ましい。 Examples of the silica precursor include a silane compound having a hydrocarbon group and a hydrolyzable group bonded to a silicon atom, a hydrolyzed condensate of the silane compound, and a silazane compound. It is preferable to contain at least one or both of the silane compound and its hydrolyzed condensate from the viewpoint that cracks in the anti-glare layer 15 are sufficiently suppressed even when the anti-glare layer 15 is formed thickly.

シラン化合物は、ケイ素原子に結合した炭化水素基、及び加水分解性基を有する。炭化水素基は、炭素原子間に−O−、−S−、−CO−、及び−NR’−(R’は水素原子または1価の炭化水素基である。)から選ばれる1つ又は2つ以上を組み合わせた基を有していてもよい。 The silane compound has a hydrocarbon group bonded to a silicon atom and a hydrolyzable group. The hydrocarbon group is one or two selected from -O-, -S-, -CO-, and -NR'-(R'is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group) between carbon atoms. It may have a group in which one or more are combined.

炭化水素基は、1つのケイ素原子に結合した1価の炭化水素基であってもよく、2つのケイ素原子に結合した2価の炭化水素基であってもよい。1価の炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられる。2価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基等が挙げられる。 The hydrocarbon group may be a monovalent hydrocarbon group bonded to one silicon atom or a divalent hydrocarbon group bonded to two silicon atoms. Examples of the monovalent hydrocarbon group include an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group and the like. Examples of the divalent hydrocarbon group include an alkylene group, an alkaneylene group, an arylene group and the like.

加水分解性基としては、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアネート基、ハロゲン原子等が挙げられ、シラン化合物の安定性と加水分解のしやすさとのバランスの点から、アルコキシ基、イソシアネート基、及びハロゲン原子(特に塩素原子)が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数1〜3のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、又はエトキシ基がより好ましい。 Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group, an asyloxy group, a ketooxime group, an alkenyloxy group, an amino group, an aminoxic group, an amide group, an isocyanate group, a halogen atom and the like, and the stability of the silane compound and the ease of hydrolysis Alkoxy groups, isocyanate groups, and halogen atoms (particularly chlorine atoms) are preferable from the viewpoint of balance with the group. As the alkoxy group, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and a methoxy group or an ethoxy group is more preferable.

シラン化合物としては、アルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等)、アルキル基を有するアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等)、ビニル基を有するアルコキシシラン(ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等)、エポキシ基を有するアルコキシシラン(2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等)、アクリロイルオキシ基を有するアルコキシシラン(3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等)等が挙げられる。これらのシラン化合物のなかでも、アルコキシシラン、及びアルコキシシランの加水分解縮合物のいずれか一方、又は両方を用いることが好ましく、アルコキシシランの加水分解縮合物を用いることがより好ましい。 Examples of the silane compound include alkoxysilane (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, etc.), alkoxysilane having an alkyl group (methyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, etc.), and alkoxysilane having a vinyl group (vinyl). (Trimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, etc.), alkoxysilane having an epoxy group (2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyl) Diethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, etc.), alkoxysilane having an acryloyloxy group (3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, etc.) and the like can be mentioned. Among these silane compounds, it is preferable to use either one or both of the alkoxysilane and the hydrolyzed condensate of the alkoxysilane, and it is more preferable to use the hydrolyzed condensate of the alkoxysilane.

シラザン化合物は、その構造内にケイ素と窒素の結合(−SiN−)をもった化合物である。シラザン化合物としては、低分子化合物でも高分子化合物(所定の繰り返し単位を有するポリマー)であってもよい。低分子系のシラザン化合物としては、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサフェニルジシラザン、ジメチルアミノトリメチルシラン、トリシラザン、シクロトリシラザン、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルシクロトリシラザン等が挙げられる。 A silazane compound is a compound having a silicon-nitrogen bond (-SiN-) in its structure. The silazane compound may be a low molecular weight compound or a high molecular weight compound (a polymer having a predetermined repeating unit). Examples of the low molecular weight silazane compound include hexamethyldisilazane, hexaphenyldisilazane, dimethylaminotrimethylsilane, trisilazane, cyclotrisilazane, 1,1,3,3,5,5-hexamethylcyclotrisilazane and the like. Be done.

アルミナ前駆体としては、アルミニウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシドの加水分解縮合物、水溶性アルミニウム塩、アルミニウムキレート等が挙げられる。ジルコニア前駆体としては、ジルコニウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドの加水分解縮合物等が挙げられる。チタニア前駆体としては、チタンアルコキシド、チタンアルコキシドの加水分解縮合物等が挙げられる。 Examples of the alumina precursor include aluminum alkoxide, a hydrolyzed condensate of aluminum alkoxide, a water-soluble aluminum salt, and an aluminum chelate. Examples of the zirconia precursor include zirconium alkoxide and a hydrolyzed condensate of zirconium alkoxide. Examples of the titania precursor include titanium alkoxide and a hydrolyzed condensate of titanium alkoxide.

コーティング剤に含まれる液状媒体は、マトリックス前駆体を溶解する溶媒であり、マトリックス前駆体の種類に応じて適宜、選択される。液状媒体としては、例えば、水、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。 The liquid medium contained in the coating agent is a solvent that dissolves the matrix precursor, and is appropriately selected depending on the type of the matrix precursor. Examples of the liquid medium include water, alcohols, ketones, ethers, cellosolves, esters, glycol ethers, nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds and the like.

アルコール類としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール等が挙げられる。ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。エーテル類としては、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等が挙げられる。セロソルブ類としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等が挙げられる。エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル等が挙げられる。グリコールエーテル類としては、エチレングリコールモノアルキルエーテル等が挙げられる。含窒素化合物としては、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等が挙げられる。含硫黄化合物としては、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。液状媒体は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of alcohols include methanol, ethanol, isopropanol, butanol, diacetone alcohol and the like. Examples of the ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like. Examples of ethers include tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and the like. Examples of cellosolves include methyl cellosolve and ethyl cellosolve. Examples of the esters include methyl acetate, ethyl acetate and the like. Examples of glycol ethers include ethylene glycol monoalkyl ethers. Examples of the nitrogen-containing compound include N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and the like. Examples of the sulfur-containing compound include dimethyl sulfoxide and the like. As the liquid medium, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

なお、液状媒体は、水を含む液状媒体、すなわち、水、又は水と他の液状媒体の混合液であることが好ましい。他の液状媒体としては、アルコール類が好ましく、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールが特に好ましい。 The liquid medium is preferably a liquid medium containing water, that is, water or a mixed solution of water and another liquid medium. As the other liquid medium, alcohols are preferable, and methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and butanol are particularly preferable.

また、コーティング剤は、マトリックス前駆体の加水分解及び縮合を促進する酸触媒を含むものであってもよい。酸触媒は、マトリックス前駆体の加水分解及び縮合を促進し、アンチグレア層15を短時間で形成させる成分である。酸触媒は、コーティング剤の調製に先立って、マトリックス前駆体の溶液の調製の際に、原料(アルコキシシラン等)の加水分解、縮合のために添加されたものであってもよく、必須成分を調製した後にさらに添加されたものであってもよい。酸触媒としては、無機酸(硝酸、硫酸、塩酸等)、有機酸(ギ酸、シュウ酸、酢酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリクロル酢酸等)が挙げられる。 Further, the coating agent may contain an acid catalyst that promotes hydrolysis and condensation of the matrix precursor. The acid catalyst is a component that promotes hydrolysis and condensation of the matrix precursor to form the anti-glare layer 15 in a short time. The acid catalyst may be added for hydrolysis or condensation of the raw material (alkoxysilane, etc.) at the time of preparing the solution of the matrix precursor prior to the preparation of the coating agent, and may contain essential components. It may be further added after preparation. Examples of the acid catalyst include inorganic acids (nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, etc.) and organic acids (formic acid, oxalic acid, acetic acid, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, etc.).

コーティング剤の塗布方法としては、公知のウェットコート法(スプレーコート法、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スクリーンコート法、インクジェット法、フローコート法、グラビアコート法、バーコート法、フレキソコート法、スリットコート法、ロールコート法等)等が挙げられる。塗布方法としては、凹凸を形成しやすい点から、スプレーコート法が好ましい。 As a coating method, known wet coating methods (spray coating method, spin coating method, dip coating method, die coating method, curtain coating method, screen coating method, inkjet method, flow coating method, gravure coating method, bar coating) Method, flexo coat method, slit coat method, roll coat method, etc.) and the like. As a coating method, a spray coating method is preferable because unevenness is easily formed.

スプレーコート法に用いるノズルとしては、2流体ノズル、1流体ノズル等が挙げられる。ノズルから吐出されるコーティング剤の液滴の粒径は、通常0.1〜100μmであり、1〜50μmが好ましい。液滴の粒径が0.1μm以上であれば、防眩効果が充分に発揮される凹凸を短時間で形成できる。液滴の粒径が100μm以下であれば、防眩効果が充分に発揮される適度な凹凸を形成しやすい。コーティング剤の液滴の粒径は、ノズルの種類、スプレー圧力、液量等により適宜、調整できる。例えば、2流体ノズルでは、スプレー圧力が高くなるほど液滴は小さくなり、また、液量が多くなるほど液滴は大きくなる。なお、液滴の粒径は、レーザ測定器によって測定されるザウター平均粒子径である。 Examples of the nozzle used in the spray coating method include a two-fluid nozzle and a one-fluid nozzle. The particle size of the coating agent droplets discharged from the nozzle is usually 0.1 to 100 μm, preferably 1 to 50 μm. When the particle size of the droplet is 0.1 μm or more, unevenness on which the antiglare effect is sufficiently exhibited can be formed in a short time. When the particle size of the droplet is 100 μm or less, it is easy to form appropriate unevenness in which the antiglare effect is sufficiently exhibited. The particle size of the droplets of the coating agent can be appropriately adjusted depending on the type of nozzle, spray pressure, amount of liquid, and the like. For example, in a two-fluid nozzle, the higher the spray pressure, the smaller the droplets, and the larger the amount of liquid, the larger the droplets. The particle size of the droplet is the Sauter average particle size measured by a laser measuring device.

コーティング剤を塗布する際の塗布対象(例えば、透明基材)の表面温度は、例えば、20〜75℃であり、35℃以上であることが好ましく、60℃以上であることが更に好ましい。塗布対象を加熱する方法としては、例えば、温水循環式の加熱装置を用いることが好ましい。また、コーティング剤を塗布する際の湿度は、例えば、20〜80%であり、50%以上であることが好ましい。 The surface temperature of the object to be coated (for example, a transparent base material) when the coating agent is applied is, for example, 20 to 75 ° C., preferably 35 ° C. or higher, and more preferably 60 ° C. or higher. As a method of heating the object to be coated, for example, it is preferable to use a hot water circulation type heating device. The humidity when applying the coating agent is, for example, 20 to 80%, preferably 50% or more.

ハーフミラー10の全透過率は、好ましくは20%〜80%であり、より好ましくは30%〜70%であり、さらに好ましくは40%〜60%である。ハーフミラー10の全透過率は、例えば、ハーフミラー層14を構成する誘電体多層膜又は半透過性金属膜の厚みや、誘電体多層膜における高屈折率膜と低屈折率膜との合計積層数を制御することにより調整できる。 The total transmittance of the half mirror 10 is preferably 20% to 80%, more preferably 30% to 70%, and further preferably 40% to 60%. The total transmittance of the half mirror 10 is, for example, the thickness of the dielectric multilayer film or the semitransparent metal film constituting the half mirror layer 14, and the total lamination of the high refractive index film and the low refractive index film in the dielectric multilayer film. It can be adjusted by controlling the number.

ハーフミラー10は、そのグロス値及びヘイズ値がそれぞれ特定の範囲に設定されている。
ハーフミラー10のグロス値は、第1主面11の入射角60°におけるグロス値であり、JIS Z8741(1997)に準拠して測定される値である。上記グロス値は、図2(a)のハーフミラー10において、350〜420であり、360〜410であることが好ましい。また、図2(b)のハーフミラー10において、上記グロス値は300〜380であり、310〜370であることが好ましい。
The gloss value and haze value of the half mirror 10 are set in specific ranges, respectively.
The gloss value of the half mirror 10 is a gloss value at an incident angle of 60 ° on the first main surface 11, and is a value measured in accordance with JIS Z8741 (1997). The gloss value is 350 to 420, preferably 360 to 410, in the half mirror 10 of FIG. 2A. Further, in the half mirror 10 of FIG. 2B, the gloss value is 300 to 380, preferably 310 to 370.

上記グロス値は、アンチグレア層15の形成条件を変化させることにより制御することができる。例えば、スプレーコート法によりアンチグレア層15を形成する場合、単位時間当たりのコーティング剤の塗布量を増加させると、グロス値が低下する傾向があり、単位時間当たりのコーティング剤の塗布量を低下させると、グロス値が増加する傾向がある。 The gloss value can be controlled by changing the formation conditions of the anti-glare layer 15. For example, when the anti-glare layer 15 is formed by the spray coating method, if the coating amount applied per unit time is increased, the gloss value tends to decrease, and if the coating amount applied per unit time is decreased, the gloss value tends to decrease. , Gross values tend to increase.

ハーフミラー10のヘイズ値は、ハーフミラー10の第1主面11側から第2主面12側に向かって光を入射した場合におけるヘイズ値であり、JIS K7136(2000)に準拠して測定される値である。上記ヘイズ値は、6%以下であることが好ましく、4%以下であることがより好ましい。上記ヘイズ値は、アンチグレア層15の形成条件を変化させることにより制御することができる。例えば、スプレーコート法によりアンチグレア層15を形成する場合、単位時間当たりのコーティング剤の塗布量を低下させると、ヘイズ値が低下する傾向がある。 The haze value of the half mirror 10 is a haze value when light is incident from the first main surface 11 side to the second main surface 12 side of the half mirror 10, and is measured in accordance with JIS K7136 (2000). Value. The haze value is preferably 6% or less, and more preferably 4% or less. The haze value can be controlled by changing the formation conditions of the anti-glare layer 15. For example, when the anti-glare layer 15 is formed by the spray coating method, the haze value tends to decrease when the amount of the coating agent applied per unit time is decreased.

次に、本実施形態の作用及び効果について説明する。
(1)第1主面11及び第2主面12を有するハーフミラー10は、第1主面11側から第2主面12側に向かって、アンチグレア層15、透明基材層13、ハーフミラー層14が順に設けられており、グロス値が350〜420であり、好ましくは、ヘイズ値が6%以下である。
Next, the operation and effect of this embodiment will be described.
(1) The half mirror 10 having the first main surface 11 and the second main surface 12 has an anti-glare layer 15, a transparent base material layer 13, and a half mirror from the first main surface 11 side to the second main surface 12 side. The layers 14 are provided in order and have a gloss value of 350 to 420, preferably a haze value of 6% or less.

第1主面11及び第2主面12を有するハーフミラー10は、第1主面11側から第2主面12側に向かって、アンチグレア層15、ハーフミラー層14、透明基材層13が順に設けられており、グロス値が300〜380であり、好ましくは、ヘイズ値が6%以下である。 In the half mirror 10 having the first main surface 11 and the second main surface 12, the anti-glare layer 15, the half mirror layer 14, and the transparent base material layer 13 are formed from the first main surface 11 side to the second main surface 12 side. They are provided in order, and the gloss value is 300 to 380, preferably the haze value is 6% or less.

上記構成によれば、透明基材層13及びハーフミラー層14よりも第1主面11側(使用者側)に設けられたアンチグレア層15において、ハーフミラー10の第1主面11側における反射が拡散されることにより、反射像の映り込みが抑制される。これにより、映像表示時に映し出される映像の視認性が向上する。そして、ハーフミラー10のグロス値を上記の範囲に設定すること、好ましくは更にヘイズ値を上記の範囲に設定することにより、アンチグレア層15を設けた場合であっても、映像非表示時にハーフミラー10の第1主面11側に映し出される鏡像の視認性が良好なものとなる。 According to the above configuration, in the anti-glare layer 15 provided on the first main surface 11 side (user side) of the transparent base material layer 13 and the half mirror layer 14, reflection on the first main surface 11 side of the half mirror 10 Is diffused, so that the reflection of the reflected image is suppressed. This improves the visibility of the image projected when the image is displayed. Then, by setting the gloss value of the half mirror 10 in the above range, preferably further setting the haze value in the above range, even when the anti-glare layer 15 is provided, the half mirror is not displayed when the image is hidden. The visibility of the mirror image projected on the 11th side of the first main surface of 10 is good.

(2)アンチグレア層15は、SiO、Al、ZrO、TiOから選ばれる少なくとも一種からなるマトリックスにより構成されている。この場合には、上記(1)の効果をより確実に得ることができる。 (2) The anti-glare layer 15 is composed of a matrix composed of at least one selected from SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , and TiO 2. In this case, the effect of (1) above can be obtained more reliably.

なお、本実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
・ハーフミラー10は、透明基材層13、ハーフミラー層14、及びアンチグレア層15に加えて、その他の層を有するものであってもよい。その他の層としては、例えば、ハーフミラー10の最も第1主面11側に防汚(AF)層を設けることが挙げられる。
The present embodiment can be modified and embodied as follows.
The half mirror 10 may have other layers in addition to the transparent base material layer 13, the half mirror layer 14, and the anti-glare layer 15. As another layer, for example, an antifouling (AF) layer may be provided on the most first main surface 11 side of the half mirror 10.

・アンチグレア層15は、島状の凹凸構造のアンチグレア面を有する形状に限定されるものではない。例えば、透明基材層13やハーフミラー層14等の表面に対して、ブラスト処理やエッチング処理等の他の方法により形成される凹凸構造のアンチグレア面を有するアンチグレア層15であってもよい。 -The anti-glare layer 15 is not limited to a shape having an anti-glare surface having an island-shaped uneven structure. For example, the anti-glare layer 15 may have an anti-glare surface having an uneven structure formed on the surface of the transparent base material layer 13, the half mirror layer 14, or the like by another method such as a blast treatment or an etching treatment.

次に、上記実施形態及び変更例から把握できる技術的思想について、以下に記載する。
(イ)映像表示装置と、映像表示装置の前面側に設けられたハーフミラーとを備えるミラー装置であって、前記ハーフミラーは、前記映像表示装置の反対側に位置する第1主面及び前記映像表示装置側に位置する第2主面を有し、前記第1主面側から前記第2主面側に向かって、アンチグレア層、透明基材層、及びハーフミラー層が順に設けられ、前記第1主面のグロス値が350〜420であり、ヘイズ値が6%以下であるミラー装置。
Next, the technical idea that can be grasped from the above-described embodiment and modified example will be described below.
(A) A mirror device including a video display device and a half mirror provided on the front side of the video display device, wherein the half mirror is a first main surface located on the opposite side of the video display device and the said. It has a second main surface located on the image display device side, and an anti-glare layer, a transparent base material layer, and a half mirror layer are provided in this order from the first main surface side toward the second main surface side. A mirror device having a gloss value of 350 to 420 on the first main surface and a haze value of 6% or less.

(ロ)映像表示装置と、映像表示装置の前面側に設けられたハーフミラーとを備えるミラー装置であって、前記ハーフミラーは、前記映像表示装置の反対側に位置する第1主面及び前記映像表示装置側に位置する第2主面を有し、前記第1主面側から前記第2主面側に向かって、アンチグレア層、ハーフミラー層、及び透明基材層が順に設けられ、前記第1主面のグロス値が300〜380であり、ヘイズ値が6%以下であるミラー装置。 (B) A mirror device including a video display device and a half mirror provided on the front side of the video display device, wherein the half mirror is a first main surface located on the opposite side of the video display device and the said. It has a second main surface located on the image display device side, and an anti-glare layer, a half mirror layer, and a transparent base material layer are provided in this order from the first main surface side toward the second main surface side. A mirror device having a gloss value of 300 to 380 on the first main surface and a haze value of 6% or less.

以下に試験例を挙げ、上記実施形態をさらに具体的に説明する。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。
(試験例1)
第1主面側から第2主面側に向かって、ハーフミラー層、及び透明基材層が順に設けられた試験例1のハーフミラーを作製した。
The above embodiment will be described in more detail with reference to test examples below. The present invention is not limited thereto.
(Test Example 1)
A half mirror of Test Example 1 in which a half mirror layer and a transparent base material layer were provided in this order from the first main surface side to the second main surface side was produced.

厚さ1.1mmの板状のガラス基材(日本電気硝子社製:T2X−1)の第1主面側となる一方側の表面に対して、スパッタリング法を用いて酸化ニオブおよび酸化シリコンからなる誘電体多層膜を積層することにより厚さ495nmのハーフミラー層を形成した。 From niobium oxide and silicon oxide using a sputtering method on one surface, which is the first main surface side, of a plate-shaped glass substrate (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd .: T2X-1) having a thickness of 1.1 mm. A half mirror layer having a thickness of 495 nm was formed by laminating the dielectric multilayer films.

(試験例2〜6)
第1主面側から第2主面側に向かって、アンチグレア層、透明基材層、及びハーフミラー層が順に設けられた試験例2〜6のハーフミラーを作製した。
(Test Examples 2 to 6)
Half mirrors of Test Examples 2 to 6 in which an anti-glare layer, a transparent base material layer, and a half mirror layer were provided in this order from the first main surface side to the second main surface side were produced.

厚さ1.1mmの板状のガラス基材(日本電気硝子社製:T2X−1)の第1主面側となる一方側の表面に対して、ノズル径0.6mmのスプレーコーティング装置により、水を含む液状媒体にアンチグレア層の前駆体(オルトケイ酸テトラエチル)を溶解することで調製したコーティング剤を塗布することによりアンチグレア層を形成した。ガラス基材に対するコーティング剤の単位面積あたりの塗布量は3×10−5g/mmとした。アンチグレア層を形成する際の雰囲気温度は20℃とし、雰囲気湿度は60%とし、スプレー移動速度(ノズルの移動速度)は40m/分とし、スプレー距離は60mmとした。 A spray coating device with a nozzle diameter of 0.6 mm was applied to the surface of one side of a plate-shaped glass substrate (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd .: T2X-1) having a thickness of 1.1 mm, which is the first main surface side. An anti-glare layer was formed by applying a coating agent prepared by dissolving a precursor of the anti-glare layer (tetraethyl orthosilicate) in a liquid medium containing water. The amount of the coating agent applied to the glass substrate per unit area was 3 × 10-5 g / mm 2 . The atmospheric temperature at the time of forming the anti-glare layer was 20 ° C., the atmospheric humidity was 60%, the spray moving speed (nozzle moving speed) was 40 m / min, and the spray distance was 60 mm.

また、ガラス基材の第2主面側となる他方側の表面に対して、スパッタリング法を用いて酸化ニオブおよび酸化シリコンからなる誘電体多層膜を積層することにより厚さ495nmのハーフミラー層を形成した。なお、試験例2〜6は、表1に示すように、単位時間当たりのコーティング剤の塗布量がそれぞれ異なっている。 Further, a half mirror layer having a thickness of 495 nm is formed by laminating a dielectric multilayer film made of niobium oxide and silicon oxide on the surface of the other side, which is the second main surface side of the glass substrate, by using a sputtering method. Formed. As shown in Table 1, Test Examples 2 to 6 have different coating amounts per unit time.

(試験例7〜11)
第1主面側から第2主面側に向かって、アンチグレア層、ハーフミラー層、及び透明基材層が順に設けられた試験例7〜11のハーフミラーを作製した。
(Test Examples 7 to 11)
Half mirrors of Test Examples 7 to 11 in which an anti-glare layer, a half mirror layer, and a transparent base material layer were provided in this order from the first main surface side to the second main surface side were produced.

厚さ1.1mmの板状のガラス基材(日本電気硝子社製:T2X−1)の第1主面側となる一方側の表面に対して、スパッタリング法を用いて酸化ニオブおよび酸化シリコンからなる誘電体多層膜を積層することにより厚さ495nmのハーフミラー層を形成した。 From niobium oxide and silicon oxide using a sputtering method on one surface, which is the first main surface side, of a plate-shaped glass substrate (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd .: T2X-1) having a thickness of 1.1 mm. A half mirror layer having a thickness of 495 nm was formed by laminating the dielectric multilayer films.

形成されたハーフミラー層の表面に対して、ノズル径0.6mmのスプレーコーティング装置により、水を含む液状媒体にアンチグレア層の前駆体(オルトケイ酸テトラエチル)を溶解することで調製したコーティング剤を塗布することによりアンチグレア層を形成した。ハーフミラー層に対するコーティング剤の単位面積あたりの塗布量は3×10−5g/mmとした。アンチグレア層を形成する際の雰囲気温度は20℃とし、雰囲気湿度は60%とし、スプレー移動速度(ノズルの移動速度)は40m/分とし、スプレー距離は60mmとした。 A coating agent prepared by dissolving a precursor of an antiglare layer (tetraethyl orthosilicate) in a liquid medium containing water is applied to the surface of the formed half mirror layer by a spray coating device having a nozzle diameter of 0.6 mm. By doing so, an anti-glare layer was formed. The amount of the coating agent applied to the half mirror layer per unit area was 3 × 10 -5 g / mm 2 . The atmospheric temperature at the time of forming the anti-glare layer was 20 ° C., the atmospheric humidity was 60%, the spray moving speed (nozzle moving speed) was 40 m / min, and the spray distance was 60 mm.

なお、試験例7〜11は、表1に示すように、単位時間当たりのコーティング剤の塗布量がそれぞれ異なっている。
(試験例12)
第1主面側から第2主面側に向かって、ハーフミラー層、アンチグレア層、及び透明基材層が順に設けられた試験例12のハーフミラーを作製した。
As shown in Table 1, Test Examples 7 to 11 have different coating amounts per unit time.
(Test Example 12)
A half mirror of Test Example 12 in which a half mirror layer, an anti-glare layer, and a transparent base material layer were provided in this order from the first main surface side to the second main surface side was produced.

厚さ1.1mmの板状のガラス基材(日本電気硝子社製:T2X−1)の第1主面側となる一方側の表面に対して、ノズル径0.6mmのスプレーコーティング装置により、水を含む液状媒体にアンチグレア層の前駆体(オルトケイ酸テトラエチル)を溶解することで調製したコーティング剤を塗布することによりアンチグレア層を形成した。ガラス基材に対するコーティング剤の単位面積あたりの塗布量は3×10−5g/mmとした。アンチグレア層を形成する際の雰囲気温度は20℃とし、雰囲気湿度は60%とし、スプレー移動速度(ノズルの移動速度)は40m/分とし、スプレー距離は60mmとした。 A spray coating device with a nozzle diameter of 0.6 mm was applied to the surface of one side of a plate-shaped glass substrate (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd .: T2X-1) having a thickness of 1.1 mm, which is the first main surface side. An anti-glare layer was formed by applying a coating agent prepared by dissolving a precursor of the anti-glare layer (tetraethyl orthosilicate) in a liquid medium containing water. The amount of the coating agent applied to the glass substrate per unit area was 3 × 10-5 g / mm 2 . The atmospheric temperature at the time of forming the anti-glare layer was 20 ° C., the atmospheric humidity was 60%, the spray moving speed (nozzle moving speed) was 40 m / min, and the spray distance was 60 mm.

形成されたアンチグレア層の表面に対して、スパッタリング法を用いて酸化ニオブおよび酸化シリコンからなる誘電体多層膜を積層することにより厚さ495nmのハーフミラー層を形成した。 A half mirror layer having a thickness of 495 nm was formed by laminating a dielectric multilayer film composed of niobium oxide and silicon oxide on the surface of the formed anti-glare layer by a sputtering method.

(グロス値の測定)
JIS Z8741(1997)に準拠して、試験例1〜12のハーフミラーの第1主面の入射角60°におけるグロス値を測定した。その結果を表1に示す。
(Measurement of gross value)
According to JIS Z8741 (1997), the gloss value at an incident angle of 60 ° on the first main surface of the half mirrors of Test Examples 1 to 12 was measured. The results are shown in Table 1.

(ヘイズ値の測定)
JIS K7136(2000)に準拠して、試験例1〜12のハーフミラーのヘイズ値を測定した。なお、本測定は、ハーフミラーの第1主面側から第2主面側に向かって光を入射して行った。その結果を表1に示す。
(Measurement of haze value)
The haze value of the half mirrors of Test Examples 1 to 12 was measured according to JIS K7136 (2000). In addition, this measurement was performed by injecting light from the first main surface side of the half mirror toward the second main surface side. The results are shown in Table 1.

(官能評価)
映像表示装置(アップル社製:iPad(登録商標))の表示面の上に、各試験例のハーフミラーを、第2主面が映像表示装置側を向くようにして配置した。映像表示装置を作動させてハーフミラーに映像(透過像)を表示させた状態として、ハーフミラーの第1主面を目視(明所視)により観察し、映像表示時における映像の視認性を評価した。その結果を表1の「映像の視認性」欄に示す。
(sensory evaluation)
The half mirrors of each test example were arranged on the display surface of the image display device (manufactured by Apple Inc .: iPad (registered trademark)) so that the second main surface faces the image display device side. With the image display device activated and the image (transmission image) displayed on the half mirror, the first main surface of the half mirror is visually observed (photopic vision) to evaluate the visibility of the image when the image is displayed. did. The results are shown in the "Video Visibility" column of Table 1.

映像の視認性の評価は30人のパネラーにより実施し、「映像が鮮明であり、かつ映り込みが少ない」と評価したパネラーの人数が26人以上であるものを「◎」、当該人数が21人以上25人以下のものを「○」、当該人数が16人以上20人以下のものを「△」、当該人数が15人以下のものを「×」と評価した。 The visibility of the image was evaluated by 30 panelists, and those with 26 or more panelists who evaluated that "the image is clear and there is little reflection" are "◎", and the number is 21. Those with 25 or more people were evaluated as "○", those with 16 or more and 20 or less were evaluated as "Δ", and those with 15 or less were evaluated as "x".

また、映像表示装置を非作動とし、ハーフミラーの第1主面に鏡像(反射像)を表示させた状態として、ハーフミラーの第1主面を目視(明所視)により観察し、映像非表示時における鏡像の視認性を評価した。その結果を表1の「鏡像の視認性」欄に示す。 In addition, with the image display device inoperable and a mirror image (reflected image) displayed on the first main surface of the half mirror, the first main surface of the half mirror is visually observed (photopic vision), and the image is not displayed. The visibility of the mirror image at the time of display was evaluated. The results are shown in the "Mirror image visibility" column of Table 1.

鏡像の視認性の評価は30人のパネラーにより実施し、「鏡像が鮮明である」と評価したパネラーの人数が25人以上であるものを「◎」、当該人数が21人以上25人以下のものを「○」、当該人数が16人以上20人以下のものを「△」、当該人数が15人以下のものを「×」と評価した。 The visibility of the mirror image was evaluated by 30 panelists, and those with 25 or more panelists who evaluated that the mirror image was clear were marked with "◎", and the number of people was 21 or more and 25 or less. Those with "○" were evaluated as "○", those with 16 or more and 20 or less were evaluated as "Δ", and those with 15 or less were evaluated as "×".

Figure 0006866743
表1の「層構造欄」における「G」は透明基材層を示し、「HM」はハーフミラー層を示し、「AG」はアンチグレア層を示す。
Figure 0006866743
In the "layer structure column" of Table 1, "G" indicates a transparent base material layer, "HM" indicates a half mirror layer, and "AG" indicates an anti-glare layer.

表1に示すように、アンチグレア層を設けていない試験例1は、映り込みが強いために映像の視認性が悪い結果となった。
これに対して、第1主面側から第2主面側に向かって、「アンチグレア層」−「透明基材層」−「ハーフミラー層」の配置順の層構造である試験例2〜6の結果から、グロス値が350〜420である場合には、アンチグレア層により映像表示時の映り込みを抑制しつつ、映像の視認性及び鏡像の視認性が非常に優れたものになることが分かる。また、この場合のヘイズ値は6%以下であった。
As shown in Table 1, in Test Example 1 in which the anti-glare layer was not provided, the visibility of the image was poor due to the strong reflection.
On the other hand, Test Examples 2 to 6 have a layer structure in the order of arrangement of "anti-glare layer"-"transparent base material layer"-"half mirror layer" from the first main surface side to the second main surface side. From the results of the above, it can be seen that when the gloss value is 350 to 420, the visibility of the image and the visibility of the mirror image are very excellent while suppressing the reflection at the time of displaying the image by the anti-glare layer. .. The haze value in this case was 6% or less.

また、第1主面側から第2主面側に向かって、「アンチグレア層」−「ハーフミラー層」−「透明基材層」の配置順の層構造である試験例7〜11の結果から、グロス値が300〜380である場合には、アンチグレア層により映像表示時の映り込みを抑制しつつ、映像の視認性及び鏡像の視認性が優れたものになることが分かる。また、この場合のヘイズ値は6%以下であった。 Further, from the results of Test Examples 7 to 11, which are layer structures in the order of arrangement of "anti-glare layer"-"half mirror layer"-"transparent base material layer" from the first main surface side to the second main surface side. When the gloss value is 300 to 380, it can be seen that the visibility of the image and the visibility of the mirror image are excellent while suppressing the reflection at the time of displaying the image by the anti-glare layer. The haze value in this case was 6% or less.

一方、第1主面側から第2主面側に向かって、「ハーフミラー層」−「アンチグレア層」−「透明基材層」の配置順の層構造である試験例12は、第1主面側に位置するハーフミラー層において光が大きく拡散し、映像及び鏡像が共にぼやけて不鮮明になった。 On the other hand, Test Example 12, which has a layer structure in the order of arrangement of "half mirror layer"-"anti-glare layer"-"transparent base material layer" from the first main surface side to the second main surface side, is the first main surface. Light was greatly diffused in the half mirror layer located on the surface side, and both the image and the mirror image became blurry and unclear.

これらの結果から、特定の配置順の層構造とするとともに、グロス値を特定の範囲に設定することにより、映像非表示時に映し出される鏡像の視認性の低下を抑制しつつ、映像表示時における反射像の映り込みを抑制できることが分かる。 Based on these results, by adopting a layered structure in a specific arrangement order and setting the gloss value to a specific range, reflection during image display is suppressed while suppressing deterioration of visibility of the mirror image projected when the image is not displayed. It can be seen that the reflection of the image can be suppressed.

10…ハーフミラー、11…第1主面、12…第2主面、13…透明基材層、14…ハーフミラー層、15…アンチグレア層、20…ミラー装置、21…ハウジング、22…映像表示装置、22a…前面、23…充填材。 10 ... Half mirror, 11 ... 1st main surface, 12 ... 2nd main surface, 13 ... Transparent substrate layer, 14 ... Half mirror layer, 15 ... Anti-glare layer, 20 ... Mirror device, 21 ... Housing, 22 ... Video display Equipment, 22a ... front surface, 23 ... filler.

Claims (4)

映像表示機能を有するミラー装置に用いられ、映像表示装置の前面側に位置して、前記映像表示装置による非映像表示時には反射像を映し出し、前記映像表示装置による映像表示時には前記映像表示装置から出力される映像を透過させて映し出すハーフミラーであって、
第1主面及び第2主面を有し、前記第2主面側が前記映像表示装置側に位置するように配置して用いられ、
前記第1主面側から前記第2主面側に向かって、アンチグレア層、透明基材層、及びハーフミラー層が順に設けられ、
前記第1主面のグロス値が350〜420であることを特徴とするハーフミラー。
Used in a mirror device having an image display function, it is located on the front side of the image display device and projects a reflected image when the image display device does not display a non-image, and outputs the reflected image when the image is displayed by the image display device. It is a half mirror that transmits and projects the image to be displayed.
It has a first main surface and a second main surface, and is used by being arranged so that the second main surface side is located on the image display device side.
An anti-glare layer, a transparent base material layer, and a half mirror layer are provided in this order from the first main surface side to the second main surface side.
A half mirror characterized in that the gloss value of the first main surface is 350 to 420.
映像表示機能を有するミラー装置に用いられ、映像表示装置の前面側に位置して、前記映像表示装置による非映像表示時には反射像を映し出し、前記映像表示装置による映像表示時には前記映像表示装置から出力される映像を透過させて映し出すハーフミラーであって、
第1主面及び第2主面を有し、前記第2主面側が前記映像表示装置側に位置するように配置して用いられ、
前記第1主面側から前記第2主面側に向かって、アンチグレア層、ハーフミラー層、及び透明基材層が順に設けられ、
前記第1主面のグロス値が300〜380であることを特徴とするハーフミラー。
Used in a mirror device having an image display function, it is located on the front side of the image display device and projects a reflected image when the image display device does not display a non-image, and outputs the reflected image when the image is displayed by the image display device. It is a half mirror that transmits and projects the image to be displayed.
It has a first main surface and a second main surface, and is used by being arranged so that the second main surface side is located on the image display device side.
An anti-glare layer, a half mirror layer, and a transparent base material layer are provided in this order from the first main surface side to the second main surface side.
A half mirror characterized in that the gloss value of the first main surface is 300 to 380.
前記アンチグレア層は、SiO、Al、ZrO、TiOから選ばれる少なくとも一種からなるマトリックスにより構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のハーフミラー。 The half mirror according to claim 1 or 2 , wherein the anti-glare layer is composed of a matrix composed of at least one selected from SiO 2, Al 2 O 3 , ZrO 2 , and TiO 2. ヘイズ値が6%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のハーフミラー。 The half mirror according to any one of claims 1 to 3, wherein the haze value is 6% or less.
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