JP6860051B2 - Multilayer ceramic electronic components - Google Patents

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Description

本発明は、誘電体層がきわめて薄い積層セラミック電子部品に関する。 The present invention relates to a laminated ceramic electronic component having an extremely thin dielectric layer.

電子機器の小型化および薄型化と共に、その内部に収容される積層セラミック電子部品の小型化および薄型化が求められている。そこで、積層セラミック電子部品における誘電体層を薄くすることが求められている。 Along with the miniaturization and thinning of electronic devices, there is a demand for miniaturization and thinning of laminated ceramic electronic components housed therein. Therefore, it is required to make the dielectric layer of the laminated ceramic electronic component thin.

たとえば特許文献1にも示すように、積層セラミック電子部品における誘電体層を薄くすると、その製造時にクラックが生じることが知られており、そのクラックを防止するための方法が開発されている。 For example, as shown in Patent Document 1, it is known that when the dielectric layer in a laminated ceramic electronic component is thinned, cracks occur during the manufacture thereof, and a method for preventing the cracks has been developed.

しかしながら、従来では、誘電体層の厚みが1μm程度が限界であったが、最近の技術革新により、誘電体層の厚みを0.5μm以下にする技術が開発されている。従来では、誘電体層の厚みを0.5μm以下、さらには0.4μm以下に薄くした場合において、どのような手段によりクラックの発生を防止し、しかも静電容量を確保するかに関する技術が確立されていなかった。 However, in the past, the thickness of the dielectric layer was limited to about 1 μm, but recent technological innovations have led to the development of a technique for reducing the thickness of the dielectric layer to 0.5 μm or less. Conventionally, when the thickness of the dielectric layer is reduced to 0.5 μm or less, and further to 0.4 μm or less, a technique has been established for preventing cracks from occurring and ensuring capacitance. It wasn't done.

特開平7−74047号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-74047

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、誘電体層の厚みを薄くした場合においても、クラック発生を抑制することができ、しかも静電容量の低下が少ない積層セラミック電子部品を提供することである。 The present invention has been made in view of such an actual situation, and an object of the present invention is to suppress the occurrence of cracks even when the thickness of the dielectric layer is reduced, and the laminated ceramic electronic component has a small decrease in capacitance. Is to provide.

本発明者等は、上記目的について鋭意検討した結果、特定の寸法関係を満足させるのみで、誘電体層の厚みを0.5μm以下、さらには0.4μm以下に薄くした場合においても、クラック発生を抑制することができ、しかも静電容量の低下が少ない積層セラミック電子部品を提供することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of diligent studies on the above object, the present inventors have only satisfied a specific dimensional relationship, and cracks occur even when the thickness of the dielectric layer is reduced to 0.5 μm or less, further 0.4 μm or less. We have found that it is possible to provide a laminated ceramic electronic component having a small decrease in capacitance, and have completed the present invention.

すなわち、本発明に係る積層セラミック電子部品は、
複数の誘電体層と、複数の内部電極層とが交互に積層されて形成されたセラミック素体と、
セラミック素体の表面に前記内部電極層と接続される少なくとも一対の外部電極とを有する積層セラミック電子部品であって、
前記誘電体層の厚みは0.4μm以下であり、
前記セラミック素体の幅方向に沿った幅寸法(W0)は0.59mm以下であり、
前記セラミック素体の幅方向に沿って、前記セラミック素体の外面から前記内部電極層の端部までの隙間寸法(Wgap)は0.010〜0.025mmであり、
前記隙間寸法と前記幅寸法との比率(Wgap/W0寸法)は0.025以上であることを特徴とする。
That is, the laminated ceramic electronic component according to the present invention is
A ceramic body formed by alternately laminating a plurality of dielectric layers and a plurality of internal electrode layers,
A laminated ceramic electronic component having at least a pair of external electrodes connected to the internal electrode layer on the surface of the ceramic body.
The thickness of the dielectric layer is 0.4 μm or less, and the thickness is 0.4 μm or less.
The width dimension (W0) along the width direction of the ceramic element is 0.59 mm or less.
The gap dimension (Wgap) from the outer surface of the ceramic body to the end of the internal electrode layer along the width direction of the ceramic body is 0.010 to 0.025 mm.
The ratio of the gap dimension to the width dimension (Wgap / W0 dimension) is 0.025 or more.

本発明によれば、誘電体層の厚みを0.5μm以下、さらには0.4μm以下に薄くした場合においても、クラック発生を抑制することができ、しかも静電容量の低下が少ない積層セラミック電子部品を提供することができる。 According to the present invention, even when the thickness of the dielectric layer is reduced to 0.5 μm or less, and further to 0.4 μm or less, crack generation can be suppressed and the capacitance is reduced to a small extent. Parts can be provided.

好ましくは、前記内部電極層の厚み(te)と前記誘電体層の厚み(td)との比率(te/td)が、1.05以下である。 Preferably, the ratio (te / td) of the thickness (te) of the internal electrode layer to the thickness (td) of the dielectric layer is 1.05 or less.

好ましくは、積層方向に沿って前記内部電極層の間に位置する前記誘電体層を構成する第1誘電体粒子の平均粒径をDiとし、
前記積層方向に沿って前記内部電極層が前記誘電体層を挟んで積層する内装領域の積層方向外側に位置する外装領域に位置する第2誘電体粒子の平均粒径をDgとした場合に、
Dg/Di≧1である。
Preferably, the average particle size of the first dielectric particles constituting the dielectric layer located between the internal electrode layers along the stacking direction is Di.
When the average particle size of the second dielectric particles located in the exterior region located outside the stacking direction of the interior region in which the internal electrode layer is laminated with the dielectric layer sandwiched along the stacking direction is Dg,
Dg / Di ≧ 1.

あるいは、好ましくは、積層方向に沿って前記内部電極層の間に位置する前記誘電体層を構成する粒子の平均粒径をDiとし、
いずれか一方の前記外部電極に接続する前記内部電極層の引出部の間に位置する引出領域を構成する第3誘電体粒子の平均粒径をDhとした場合に、
Dh/Di≧1である。
Alternatively, preferably, the average particle size of the particles constituting the dielectric layer located between the internal electrode layers along the stacking direction is set to Di.
When the average particle size of the third dielectric particles constituting the extraction region located between the extraction portions of the internal electrode layer connected to the external electrode is Dh.
Dh / Di ≧ 1.

このような関係にある時に、誘電体層が薄層化しても、静電容量がさらに向上する。一般的には、誘電体層が薄くなるにつれて、比誘電率が低下することが報告されている。しかしながら、本発明者等は、特定領域の誘電体粒子の粒径をコントロールすることで、誘電体層を薄くしても比誘電率の低下を抑制することができることを見出した。 In such a relationship, even if the dielectric layer is thinned, the capacitance is further improved. Generally, it has been reported that the relative permittivity decreases as the dielectric layer becomes thinner. However, the present inventors have found that by controlling the particle size of the dielectric particles in a specific region, it is possible to suppress a decrease in the relative permittivity even if the dielectric layer is made thin.

図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention. 図2は図1に示すII−II線に沿う断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II shown in FIG. 図3は図1に示す積層セラミックコンデンサの製造過程におけるグリーンシートの積層工程を示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a process of laminating a green sheet in the process of manufacturing the monolithic ceramic capacitor shown in FIG. 図4は図3に示すIV-IV線に沿う内部電極層のパターンの一部を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a part of the pattern of the internal electrode layer along the IV-IV line shown in FIG. 図5Aは図3に示すグリーンシートを積層後の積層体のX−Z軸平面に平行な概略断面図である。FIG. 5A is a schematic cross-sectional view of the laminated body after laminating the green sheet shown in FIG. 3 parallel to the XX axis plane. 図5Bは図3に示すグリーンシートを積層後の積層体のY−Z軸平面に平行な概略拡大断面図である。FIG. 5B is a schematic enlarged cross-sectional view of the laminated body after laminating the green sheet shown in FIG. 3 parallel to the YZ axis plane.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。 Hereinafter, the present invention will be described based on the embodiments shown in the drawings.

積層セラミックコンデンサの全体構成
まず、本発明に係る積層セラミック電子部品の一実施形態として、積層セラミックコンデンサの全体構成について説明する。
Overall Configuration of Multilayer Ceramic Capacitor First, the overall configuration of the monolithic ceramic capacitor will be described as an embodiment of the monolithic ceramic electronic component according to the present invention.

図1に示すように、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2は、コンデンサ素体4と、第1端子電極6と第2端子電極8とを有する。コンデンサ素体4は、内側誘電体層10と、内部電極層12とを有し、内側誘電体層10の間に、内部電極層12が交互に積層してある。内側誘電体層10と、内部電極層12とが交互に積層される部分が内装領域13である。 As shown in FIG. 1, the multilayer ceramic capacitor 2 according to the present embodiment has a capacitor body 4, a first terminal electrode 6, and a second terminal electrode 8. The capacitor element 4 has an inner dielectric layer 10 and an inner electrode layer 12, and the inner electrode layers 12 are alternately laminated between the inner dielectric layers 10. The portion where the inner dielectric layer 10 and the inner electrode layer 12 are alternately laminated is the interior region 13.

コンデンサ素体4は、その積層方向Z(Z軸)の両端面に、外装領域11を有する。外装領域11は、内装領域13を構成する内側誘電体層10よりも厚い誘電体層を複数積層して形成してある。 The capacitor element 4 has exterior regions 11 on both end faces in the stacking direction Z (Z axis). The exterior region 11 is formed by laminating a plurality of dielectric layers thicker than the inner dielectric layer 10 constituting the interior region 13.

交互に積層される一方の内部電極層12は、コンデンサ素体4のY軸方向第1端部の外側に形成してある第1端子電極6の内側に対して電気的に接続してある引出部12Aを有する。また、交互に積層される他方の内部電極層12は、コンデンサ素体4のY軸方向第2端部の外側に形成してある第2端子電極8の内側に対して電気的に接続してある引出部12Bを有する。 One of the alternately laminated internal electrode layers 12 is a drawer electrically connected to the inside of the first terminal electrode 6 formed on the outside of the first end portion in the Y-axis direction of the capacitor body 4. It has a part 12A. Further, the other internal electrode layer 12 that is alternately laminated is electrically connected to the inside of the second terminal electrode 8 formed on the outside of the second end portion in the Y-axis direction of the capacitor element 4. It has a drawer 12B.

内装領域13は、容量領域14と引出領域15A,15Bとを有する。容量領域14は、積層方向に沿って内部電極層12が内側誘電体層10を挟んで積層する領域である。引出領域15Aは、外部電極6に接続する内部電極層12の引出部12Aの間に位置する領域である。引出領域15Bは、外部電極8に接続する内部電極層12の引出部12Bの間に位置する領域である。 The interior region 13 has a capacity region 14 and drawer regions 15A and 15B. The capacitance region 14 is a region in which the internal electrode layer 12 is laminated with the inner dielectric layer 10 interposed therebetween along the stacking direction. The extraction region 15A is a region located between the extraction portions 12A of the internal electrode layer 12 connected to the external electrode 6. The extraction region 15B is a region located between the extraction portions 12B of the internal electrode layer 12 connected to the external electrode 8.

図2に示すように、コンデンサ素体4のX軸方向の両端部には、側面保護領域16が形成してある。側面保護領域16は、内側誘電体層10および/または外装領域11の誘電体層を構成する誘電体材質と同じ、または異なる誘電体材質で構成してある。また、引出領域15Aおよび15Bは、内側誘電体層10を構成する誘電体材質と同じ、または異なる誘電体材質で構成してある。 As shown in FIG. 2, side surface protection regions 16 are formed at both ends of the capacitor element 4 in the X-axis direction. The side protection region 16 is made of the same or different dielectric material as the dielectric material constituting the inner dielectric layer 10 and / or the dielectric layer of the outer region 11. Further, the drawer regions 15A and 15B are made of the same or different dielectric material as the dielectric material constituting the inner dielectric layer 10.

内側誘電体層10および外装領域11を構成する誘電体層の材質は、同じでも異なっていても良く、特に限定されず、たとえばABO3 などのペロブスカイト構造の誘電体材料で構成される。ABO3 において、Aは、たとえばCa、Ba、Srなどの少なくとも一種、Bは、Ti,Zrなどの少なくとも一種である。A/Bのモル比は、特に限定されず、0.980〜1.020である。 The materials of the dielectric layers forming the inner dielectric layer 10 and the outer region 11 may be the same or different, and are not particularly limited, and are made of a dielectric material having a perovskite structure such as ABO3. In ABO3, A is at least one kind such as Ca, Ba and Sr, and B is at least one kind such as Ti and Zr. The molar ratio of A / B is not particularly limited and is 0.980 to 1.020.

内部電極層12の材質は、特に限定されないが、たとえばNi、Cu、Ag、Pd、Alなどの金属、またはそれらの合金を用いることができる。 The material of the internal electrode layer 12 is not particularly limited, but for example, metals such as Ni, Cu, Ag, Pd, and Al, or alloys thereof can be used.

端子電極6および8の材質も特に限定されないが、通常、Ni,Pd,Ag,Au,Cu,Pt,Rh,Ru,Ir等の少なくとも1種、またはそれらの合金を用いることができる。通常は、Cu,Cu合金、NiまたはNi合金等や、Ag,Ag−Pd合金、In−Ga合金等が使用される。 The materials of the terminal electrodes 6 and 8 are not particularly limited, but usually at least one kind such as Ni, Pd, Ag, Au, Cu, Pt, Rh, Ru, Ir, or an alloy thereof can be used. Usually, Cu, Cu alloy, Ni or Ni alloy or the like, Ag, Ag-Pd alloy, In-Ga alloy or the like is used.

積層セラミックコンデンサ2の形状やサイズは、目的や用途に応じて適宜決定すればよい。積層セラミックコンデンサ2が直方体形状の場合は、通常、縦寸法L0(図1参照)は、0.2〜5.7mmであるが、本実施形態では、好ましくは0.3〜3.2mm、さらに好ましくは0.38〜2.1mm、特に好ましくは0.38〜1.60mmである。 The shape and size of the multilayer ceramic capacitor 2 may be appropriately determined according to the purpose and application. When the multilayer ceramic capacitor 2 has a rectangular parallelepiped shape, the vertical dimension L0 (see FIG. 1) is usually 0.2 to 5.7 mm, but in the present embodiment, it is preferably 0.3 to 3.2 mm, and further. It is preferably 0.38 to 2.1 mm, particularly preferably 0.38 to 1.60 mm.

なお、図1では、積層セラミックコンデンサ2の縦寸法L0を、コンデンサ素体4のY軸方向長さとして描いてあるが、端子電極6および8を含めた積層セラミックコンデンサ2のY軸方向長さと略同一である。図面では、図示の容易化のために、端子電極6および8の厚みを、実際よりも厚めに描いてあるが、実際には、それぞれ10〜50μm程度であり、縦寸法L0に比較してきわめて薄い。また、図面において、X軸、Y軸およびZ軸は、相互に垂直であり、Z軸が、内側誘電体層10および内部電極層12の積層方向に一致し、Y軸が、引出領域15Aおよび15B(引出部12Aおよび12B)が形成される方向に一致する。 In FIG. 1, the vertical dimension L0 of the multilayer ceramic capacitor 2 is drawn as the length in the Y-axis direction of the capacitor element 4, but it is the length in the Y-axis direction of the multilayer ceramic capacitor 2 including the terminal electrodes 6 and 8. It is almost the same. In the drawings, the thicknesses of the terminal electrodes 6 and 8 are drawn thicker than they actually are for the sake of facilitation of illustration, but in reality, they are each about 10 to 50 μm, which is extremely large compared to the vertical dimension L0. thin. Further, in the drawings, the X-axis, the Y-axis, and the Z-axis are perpendicular to each other, the Z-axis coincides with the stacking direction of the inner dielectric layer 10 and the inner electrode layer 12, and the Y-axis is the lead-out region 15A and. It coincides with the direction in which 15B (drawers 12A and 12B) is formed.

図2に示すように、積層セラミックコンデンサ2の高さ寸法H0は、内側誘電体層10および内部電極層12の積層数などにより変化するが、一般的には、0.2〜3.2mmであるが、本実施形態では、好ましくは0.2〜1.6mmである。なお、積層セラミックコンデンサ2の高さ寸法H0は、図2では、コンデンサ素体4のZ軸方向の厚みとして描いてあるが、図1に示す端子電極6および8の厚みが十分に薄いため、これらを含んだ厚みと略同一である。 As shown in FIG. 2, the height dimension H0 of the multilayer ceramic capacitor 2 varies depending on the number of layers of the inner dielectric layer 10 and the inner electrode layer 12, but is generally 0.2 to 3.2 mm. However, in this embodiment, it is preferably 0.2 to 1.6 mm. The height dimension H0 of the multilayer ceramic capacitor 2 is drawn as the thickness of the capacitor element 4 in the Z-axis direction in FIG. 2, but since the thickness of the terminal electrodes 6 and 8 shown in FIG. 1 is sufficiently thin, It is almost the same as the thickness including these.

積層セラミックコンデンサ2の幅寸法W0は、一般的には、0.2〜5.0mmであるが、本実施形態では、0.59mm以下、好ましくは0.10〜0.59mm、さらに好ましくは0.15〜0.59mm、特に好ましくは0.185〜0.47mmである。誘電体層の厚みが0.4μm以下の場合には、幅寸法W0が大きくなりすぎると、製造後のコンデンサ素体にクラックが生じやすくなる。その原因としては、次のことが考えられる。 The width dimension W0 of the multilayer ceramic capacitor 2 is generally 0.2 to 5.0 mm, but in the present embodiment, it is 0.59 mm or less, preferably 0.10 to 0.59 mm, and more preferably 0. It is .15 to 0.59 mm, particularly preferably 0.185 to 0.47 mm. When the thickness of the dielectric layer is 0.4 μm or less, if the width dimension W0 becomes too large, cracks are likely to occur in the manufactured capacitor body. The possible causes are as follows.

誘電体層の厚みが小さくなると、容量形成部である内装領域13において、内部電極層の密度が相対的に大きくなり、焼成時に側面保護領域16や外装領域11を構成するセラミック層との間に作用する応力が大きくなることなどが考えられる。特に、誘電体層の厚みが0.4μm以下であり、幅寸法W0が0.80mm以上になると容量形成部である内装領域13における内部電極の密度が大きく、さらにセラミックコンデンサ内に占める面積(体積)も大きいため、応力の影響が大きくクラックが生じやすい。 When the thickness of the dielectric layer is reduced, the density of the internal electrode layer is relatively increased in the interior region 13 which is the capacitance forming portion, and the density is relatively high between the dielectric layer and the ceramic layer forming the side surface protection region 16 and the exterior region 11 during firing. It is conceivable that the acting stress will increase. In particular, when the thickness of the dielectric layer is 0.4 μm or less and the width dimension W0 is 0.80 mm or more, the density of the internal electrodes in the interior region 13 which is the capacitance forming portion is large, and the area (volume) occupied in the ceramic capacitor is further increased. ) Is also large, so the influence of stress is large and cracks are likely to occur.

各内側誘電体層10の厚みtd(図2参照)は、数μm〜数十μmのものが一般的であるが、本実施形態では、0.4μm以下、好ましくは0.4〜0.1μm、さらに好ましくは0.4〜0.3μmである。内部電極層12の厚みte(図2参照)は、内側誘電体層10の厚みと同程度であることが好ましいが、さらに好ましくはte/tdが1.25未満となるように決定され、特に好ましくは、te/tdが0.95〜1.05となるように決定される。このように構成することで、クラック抑制効果が向上する。 The thickness td (see FIG. 2) of each inner dielectric layer 10 is generally several μm to several tens of μm, but in the present embodiment, it is 0.4 μm or less, preferably 0.4 to 0.1 μm. , More preferably 0.4 to 0.3 μm. The thickness te of the internal electrode layer 12 (see FIG. 2) is preferably about the same as the thickness of the inner dielectric layer 10, but more preferably te / td is determined to be less than 1.25, particularly. Preferably, the te / td is determined to be 0.95 to 1.05. With such a configuration, the crack suppressing effect is improved.

また、本実施形態では、図2に示す各側面保護領域16のX軸方向の幅Wgapは、セラミック素体4の幅方向(X軸方向)に沿って、セラミック素体4の外面(X軸方向の端面)から内部電極層12の端部までの隙間寸法に一致する。この幅Wgapは、0.010〜0.025mm、好ましくは0.015〜0.025mmである。この幅Wgapが小さすぎるとクラックが発生しやすくなり、この幅Wgapが大きすぎると、静電容量の低下が大きくなる傾向にある。 Further, in the present embodiment, the width Wgap of each side surface protection region 16 shown in FIG. 2 in the X-axis direction is the outer surface (X-axis) of the ceramic body 4 along the width direction (X-axis direction) of the ceramic body 4. It matches the clearance dimension from the end face in the direction to the end of the internal electrode layer 12. This width Wgap is 0.010 to 0.025 mm, preferably 0.015 to 0.025 mm. If this width Wgap is too small, cracks are likely to occur, and if this width Wgap is too large, the decrease in capacitance tends to be large.

この幅Wgapは、コンデンサ2の幅寸法W0との関係で決定され、本実施形態では、それらの比率Wgap/W0は、0.025以上であり、この比率が小さすぎると、クラックが発生しやすくなる傾向にある。なお、コンデンサ素体4のX軸方向の両側に形成される各側面保護領域16のX軸方向の幅Wgapのそれぞれは、上記の条件を満足することを条件に、相互に同じでも異なっていても良い。 This width Wgap is determined in relation to the width dimension W0 of the capacitor 2. In the present embodiment, their ratio Wgap / W0 is 0.025 or more, and if this ratio is too small, cracks are likely to occur. It tends to be. It should be noted that the widths Wgaps of the side surface protection regions 16 formed on both sides of the capacitor body 4 in the X-axis direction are the same or different from each other, provided that the above conditions are satisfied. Is also good.

また、外装領域11の厚みt0(図1参照)は、特に限定されないが、好ましくは、15〜200μm、さらに好ましくは15〜80μmの範囲である。このような厚みt0に設定することで、クラックを抑制しつつ、内部電極層12や内側誘電体層10の保護を図り、しかもサイズの小型化に寄与する。コンデンサ素体4のZ軸方向の両側に形成される外装領域11の厚みt0のそれぞれは、上記の条件を満足することを条件に、相互に同じでも異なっていても良い。 The thickness t0 of the exterior region 11 (see FIG. 1) is not particularly limited, but is preferably in the range of 15 to 200 μm, more preferably 15 to 80 μm. By setting such a thickness t0, cracks are suppressed, the internal electrode layer 12 and the inner dielectric layer 10 are protected, and the size is reduced. The thickness t0 of the exterior region 11 formed on both sides of the capacitor body 4 in the Z-axis direction may be the same or different from each other, provided that the above conditions are satisfied.

特に、本実施形態では、内側誘電体層10を構成する第1誘電体粒子の平均粒径をDiとし、外装領域11に位置する第2誘電体粒子の平均粒径をDgとした場合に、好ましくはDg/Di≧1、さらに好ましくはDg/Di≧1.05、特に好ましくはDg/Di≧1.15の関係にある。このように構成することで、誘電体層が薄層化しても、静電容量がさらに向上する。一般的には、誘電体層が薄くなるにつれて、比誘電率が低下することが報告されている。しかしながら、本発明者等は、特定領域の誘電体粒子の粒径をコントロールすることで、誘電体層を薄くしても比誘電率の低下を抑制することができることを見出した。 In particular, in the present embodiment, when the average particle size of the first dielectric particles constituting the inner dielectric layer 10 is Di and the average particle size of the second dielectric particles located in the exterior region 11 is Dg, The relationship is preferably Dg / Di ≧ 1, more preferably Dg / Di ≧ 1.05, and particularly preferably Dg / Di ≧ 1.15. With this configuration, even if the dielectric layer is thinned, the capacitance is further improved. Generally, it has been reported that the relative permittivity decreases as the dielectric layer becomes thinner. However, the present inventors have found that by controlling the particle size of the dielectric particles in a specific region, it is possible to suppress a decrease in the relative permittivity even if the dielectric layer is made thin.

また本実施形態では、内側誘電体層10を構成する第1誘電体粒子の平均粒径をDiとし、引出領域15Aおよび15Bを構成する第3誘電体粒子の平均粒径をDhとした場合に、好ましくはDh/Di≧1、さらに好ましくはDh/Di≧1.1、特に好ましくはDh/Di≧1.2の関係にある。このように構成することで、誘電体層が薄層化しても、静電容量がさらに向上する。一般的には、誘電体層が薄くなるにつれて、比誘電率が低下することが報告されている。しかしながら、本発明者等は、特定領域の誘電体粒子の粒径をコントロールすることで、誘電体層を薄くしても比誘電率の低下を抑制することができることを見出した。 Further, in the present embodiment, when the average particle size of the first dielectric particles constituting the inner dielectric layer 10 is Di, and the average particle size of the third dielectric particles constituting the extraction regions 15A and 15B is Dh. , Preferably Dh / Di ≧ 1, more preferably Dh / Di ≧ 1.1, and particularly preferably Dh / Di ≧ 1.2. With this configuration, even if the dielectric layer is thinned, the capacitance is further improved. Generally, it has been reported that the relative permittivity decreases as the dielectric layer becomes thinner. However, the present inventors have found that by controlling the particle size of the dielectric particles in a specific region, it is possible to suppress a decrease in the relative permittivity even if the dielectric layer is made thin.

誘電体層を薄くしても比誘電率の低下を抑制することができる理由としては、たとえば次のように考えられる。 The reason why the decrease in the relative permittivity can be suppressed even if the dielectric layer is made thin is considered as follows.

すなわち、外装領域11または引出領域15Aおよび15Bを構成する誘電体粒子の平均粒径を、容量領域14における誘電体粒子の平均粒径よりも大きくすることで、容量領域14の誘電体に圧縮応力を与えることになると考えられる。そのために、比誘電率が向上するのではないかと考えられる。積層セラミックコンデンサ2の容量領域14の誘電体は多結晶体であるため、圧縮方向は限定されないが、特に外装領域11または引出領域15Aおよび15Bの誘電体の結晶粒径を大きくすることが、比誘電率の向上に寄与すると考えられる。 That is, by making the average particle size of the dielectric particles constituting the exterior region 11 or the extraction regions 15A and 15B larger than the average particle size of the dielectric particles in the capacitance region 14, compressive stress is applied to the dielectric in the capacitance region 14. Is considered to be given. Therefore, it is considered that the relative permittivity is improved. Since the dielectric of the capacitance region 14 of the multilayer ceramic capacitor 2 is a polycrystalline material, the compression direction is not limited, but it is particularly possible to increase the crystal grain size of the dielectrics of the exterior region 11 or the extraction regions 15A and 15B. It is considered to contribute to the improvement of the dielectric constant.

特に、誘電体層10の厚みが0.5μm以下で特に効果があることが確認された。0.5μmより厚い誘電体層を有する場合においては、積層セラミックコンデンサの容量領域の誘電体に圧縮応力を与えなくても(粒子比率を制御しなくても)比誘電率は高いが、0.5μm以下の誘電体層においては、比誘電率の低下を抑制して、逆に比誘電率を向上させることができる。 In particular, it was confirmed that the dielectric layer 10 is particularly effective when the thickness of the dielectric layer 10 is 0.5 μm or less. When the dielectric layer is thicker than 0.5 μm, the relative permittivity is high even if the dielectric in the capacitance region of the multilayer ceramic capacitor is not subjected to compressive stress (even if the particle ratio is not controlled), but 0. In the dielectric layer of 5 μm or less, the decrease in the relative permittivity can be suppressed, and conversely, the relative permittivity can be improved.

このような観点からは、引出領域15Aおよび15Bと同様な誘電体粒子で構成されることが可能な側面保護領域16における誘電体粒子に関しても、同様なことが言える。すなわち、内側誘電体層10を構成する第1誘電体粒子の平均粒径をDiとし、側面保護領域16を構成する第4誘電体粒子の平均粒径をDh’とした場合に、好ましくはDh’/Di≧1、さらに好ましくはDh’/Di≧1.1、特に好ましくはDh’/Di≧1.2の関係にある。 From this point of view, the same can be said for the dielectric particles in the side protection region 16 which can be composed of the same dielectric particles as the extraction regions 15A and 15B. That is, when the average particle size of the first dielectric particles constituting the inner dielectric layer 10 is Di and the average particle size of the fourth dielectric particles forming the side surface protection region 16 is Dh', Dh is preferable. The relationship is'/ Di ≧ 1, more preferably Dh'/ Di ≧ 1.1, and particularly preferably Dh'/ Di ≧ 1.2.

積層セラミックコンデンサの製造方法
次に、本発明の一実施形態としての積層セラミックコンデンサ2の製造方法について説明する。
Method for Manufacturing Multilayer Ceramic Capacitor Next, a method for manufacturing the monolithic ceramic capacitor 2 as an embodiment of the present invention will be described.

まず、焼成後に図1に示す内側誘電体層10を構成することになる内側グリーンシート10aおよび外装領域11の外側誘電体層を構成することとなる外側グリーンシート11aを製造するために、内側グリーンシート用ペーストおよび外側グリーンシート用ペーストを準備する。 First, in order to manufacture the inner green sheet 10a that constitutes the inner dielectric layer 10 shown in FIG. 1 after firing and the outer green sheet 11a that constitutes the outer dielectric layer of the exterior region 11, the inner green Prepare the sheet paste and the outer green sheet paste.

内側グリーンシート用ペーストおよび外側グリーンシート用ペーストは、通常、セラミック粉末と有機ビヒクルとを混練して得られた有機溶剤系ペースト、または水系ペーストで構成される。 The inner green sheet paste and the outer green sheet paste are usually composed of an organic solvent-based paste or an aqueous paste obtained by kneading a ceramic powder and an organic vehicle.

セラミック粉末の原料としては、複合酸化物や酸化物となる各種化合物、たとえば炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物などから適宜選択され、混合して用いることができる。セラミック粉体の原料は、本実施形態では、平均粒子径が0.45μm以下、好ましくは0.1〜0.3μm程度の粉体として用いられる。なお、内側グリーンシートをきわめて薄いものとするためには、グリーンシート厚みよりも細かい粉体を使用することが望ましい。 As the raw material of the ceramic powder, various compounds to be composite oxides and oxides, for example, carbonates, nitrates, hydroxides, organometallic compounds and the like can be appropriately selected and mixed and used. In the present embodiment, the raw material of the ceramic powder is used as a powder having an average particle size of 0.45 μm or less, preferably about 0.1 to 0.3 μm. In order to make the inner green sheet extremely thin, it is desirable to use a powder finer than the thickness of the green sheet.

有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いるバインダは特に限定されず、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等の通常の各種バインダから適宜選択すればよい。 An organic vehicle is a binder dissolved in an organic solvent. The binder used for the organic vehicle is not particularly limited, and may be appropriately selected from various ordinary binders such as ethyl cellulose and polyvinyl butyral.

また、用いる有機溶剤も特に限定されず、印刷法やシート法など、利用する方法に応じて、ターピネオール、ブチルカルビトール、アセトン、トルエン等の各種有機溶剤から適宜選択すればよい。 Further, the organic solvent to be used is not particularly limited, and various organic solvents such as tarpineol, butyl carbitol, acetone, and toluene may be appropriately selected depending on the method to be used such as a printing method and a sheet method.

グリーンシート用ペースト中には、必要に応じて、各種分散剤、可塑剤、誘電体、副成分化合物、ガラスフリット、絶縁体などから選択される添加物が含有されていてもよい。 The green sheet paste may contain additives selected from various dispersants, plasticizers, dielectrics, subcomponent compounds, glass frits, insulators and the like, if necessary.

可塑剤としては、フタル酸ジオクチルやフタル酸ベンジルブチルなどのフタル酸エステル、アジピン酸、燐酸エステル、グリコール類などが例示される。 Examples of the plasticizer include phthalates such as dioctyl phthalate and benzyl butyl phthalate, adipic acid, phosphoric acid esters, and glycols.

次いで、図1に示す内部電極層12を形成するための内部電極パターン層用ペーストを準備する。内部電極パターン層用ペーストは、上記した各種導電性金属や合金からなる導電材、あるいは焼成後に上記した導電材となる各種酸化物、有機金属化合物、レジネート等と、上記した有機ビヒクルとを混練して調製する。なお、内部電極パターン層用ペーストには、必要に応じて、共材としてセラミック粉末が含まれていても良い。共材は、焼成過程において導電性粉末の焼結を抑制する作用を奏する。 Next, a paste for the internal electrode pattern layer for forming the internal electrode layer 12 shown in FIG. 1 is prepared. The paste for the internal electrode pattern layer is obtained by kneading the above-mentioned conductive material made of various conductive metals and alloys, or the above-mentioned various oxides, organometallic compounds, resinates, etc., which become the above-mentioned conductive material after firing, and the above-mentioned organic vehicle. To prepare. If necessary, the paste for the internal electrode pattern layer may contain ceramic powder as a co-material. The co-material has an effect of suppressing the sintering of the conductive powder in the firing process.

上記にて調製した内側グリーンシート用ペーストおよび内部電極パターン層用ペーストを使用して、図3に示すように、焼成後に内側誘電体層10となる内側グリーンシート10aと、焼成後に内部電極層12となる内部電極パターン層12aと、を交互に積層し、焼成後に内装領域13となる内部積層体13aを製造する。そして、内部積層体13aを製造した後に、または、その前に、外側グリーンシート用ペーストを使用して、焼成後に外装領域11の外側誘電体層となる外側グリーンシート11aを形成する。 Using the inner green sheet paste and the inner electrode pattern layer paste prepared above, as shown in FIG. 3, the inner green sheet 10a which becomes the inner dielectric layer 10 after firing and the inner electrode layer 12 after firing. The internal electrode pattern layer 12a and the internal electrode pattern layer 12a are alternately laminated to produce an internal laminated body 13a that becomes an interior region 13 after firing. Then, after or before the production of the inner laminate 13a, the outer green sheet paste is used to form the outer green sheet 11a which becomes the outer dielectric layer of the exterior region 11 after firing.

具体的には、まず、ドクターブレード法などにより、支持体としてのキャリアシート(たとえばPETフィルム)上に、内側グリーンシート10aを形成する。内側グリーンシート10aは、キャリアシート上に形成された後に乾燥される。 Specifically, first, the inner green sheet 10a is formed on a carrier sheet (for example, PET film) as a support by a doctor blade method or the like. The inner green sheet 10a is formed on the carrier sheet and then dried.

次いで、上記にて形成した内側グリーンシート10aの表面に、内部電極パターン層用ペーストを用いて、内部電極パターン層12aを形成し、内部電極パターン層12aを有する内側グリーンシート10aを得る。そして、得られた内部電極パターン層12aを有する内側グリーンシート10aを交互に積層し、内部積層体13aを得る。なお、内部電極パターン層12aの形成方法としては、特に限定されないが、印刷法、転写法などが例示される。なお、接着層を介して内部電極パターン層12aを有する内側グリーンシート10aを積層してもよい。 Next, the inner electrode pattern layer 12a is formed on the surface of the inner green sheet 10a formed above by using the paste for the inner electrode pattern layer to obtain the inner green sheet 10a having the inner electrode pattern layer 12a. Then, the inner green sheets 10a having the obtained inner electrode pattern layer 12a are alternately laminated to obtain the inner laminated body 13a. The method for forming the internal electrode pattern layer 12a is not particularly limited, and examples thereof include a printing method and a transfer method. The inner green sheet 10a having the internal electrode pattern layer 12a may be laminated via the adhesive layer.

外側グリーンシート11aは、内側グリーンシート10aと同様に、支持体としてのキャリアシート上に形成される。外側グリーンシート11aは、キャリアシート上に形成された後に乾燥される。なお、外側グリーンシート11aの厚みは、内側グリーンシート10aよりも十分に厚い。 The outer green sheet 11a is formed on the carrier sheet as a support, similarly to the inner green sheet 10a. The outer green sheet 11a is formed on the carrier sheet and then dried. The thickness of the outer green sheet 11a is sufficiently thicker than that of the inner green sheet 10a.

図4に示すように、内側グリーンシート10aの表面には、内部電極パターン層12aが形成され、それらの相互間には、内部電極パターン層12aの長手方向Yに沿う隙間30と、内部電極パターン層12aの短手方向Xに沿う隙間32とが形成され、これらは、平面から見て格子状のパターンとなる。これらの格子状のパターンの隙間30および32には、図3に示す段差吸収層20を形成しても良い。なお、図3では、隙間32のみが図示してある。 As shown in FIG. 4, an internal electrode pattern layer 12a is formed on the surface of the inner green sheet 10a, and a gap 30 along the longitudinal direction Y of the internal electrode pattern layer 12a and an internal electrode pattern are formed between them. A gap 32 along the lateral direction X of the layer 12a is formed, and these form a grid-like pattern when viewed from a plane. The step absorbing layer 20 shown in FIG. 3 may be formed in the gaps 30 and 32 of these grid-like patterns. In FIG. 3, only the gap 32 is shown.

これらの隙間30および32に段差吸収層20を形成することで、グリーンシート10aの表面で内部電極パターン層12aによる段差がなくなり、最終的に得られるコンデンサ素体4の変形防止にも寄与する。段差吸収層20は、たとえば内部電極パターン層12aと同様にして、印刷法などで形成される。段差吸収層20は、グリーンシート10aと同様なセラミック粉末と有機ビヒクルとを含むが、グリーンシート11aと異なり、印刷により形成されるために、印刷しやすいように調整してある。印刷法としては、スクリーン印刷、グラビア印刷などが例示され、特に限定されないが、好ましくはスクリーン印刷である。 By forming the step absorbing layer 20 in these gaps 30 and 32, the step due to the internal electrode pattern layer 12a is eliminated on the surface of the green sheet 10a, which also contributes to the prevention of deformation of the finally obtained capacitor body 4. The step absorbing layer 20 is formed by a printing method or the like in the same manner as the internal electrode pattern layer 12a, for example. The step absorbing layer 20 contains the same ceramic powder and organic vehicle as the green sheet 10a, but unlike the green sheet 11a, it is formed by printing and is therefore adjusted so that it can be easily printed. Examples of the printing method include screen printing and gravure printing, and the printing method is not particularly limited, but screen printing is preferable.

段差吸収層20を形成するための印刷ペーストにおける有機結合材成分(高分子樹脂+可塑剤)と、各種添加物は、グリーンシート用スラリーに用いられるものと同様なものが用いられる。ただし、これらは、必ずしも、グリーンシート用スラリーに用いられるものと全く同じものである必要はなく、異なっていても良い。段差吸収層20の厚みは、特に限定されないが、内部電極パターン層12aの厚みに対して、好ましくは50〜100%の厚みである。 The organic binder component (polymer resin + plasticizer) in the printing paste for forming the step absorbing layer 20 and various additives are the same as those used for the green sheet slurry. However, these do not necessarily have to be exactly the same as those used for the green sheet slurry, and may be different. The thickness of the step absorbing layer 20 is not particularly limited, but is preferably 50 to 100% of the thickness of the internal electrode pattern layer 12a.

なお、外側グリーンシート11aに内部積層体13aを積層するかわりに、外側グリーンシート11aに直接内側グリーンシート10aと内部電極パターン層12aとを交互に所定数積層してもよい。また、複数枚の内側グリーンシート10aと複数枚の内部電極パターン層12aとを交互に積層した積層体ユニットを予め作製しておき、それらを外側グリーンシート11aに所定数積層してもよい。 Instead of laminating the inner laminated body 13a on the outer green sheet 11a, a predetermined number of the inner green sheet 10a and the inner electrode pattern layer 12a may be alternately laminated directly on the outer green sheet 11a. Further, a laminated body unit in which a plurality of inner green sheets 10a and a plurality of internal electrode pattern layers 12a are alternately laminated may be prepared in advance, and a predetermined number of them may be laminated on the outer green sheet 11a.

図5Aおよび図5Bに示すように、得られたグリーン積層体4aは、たとえば切断線Cに沿って所定の寸法に切断され、グリーンチップとする。グリーンチップは、固化乾燥により可塑剤が除去され固化される。固化乾燥後のグリーンチップは、メディアおよび研磨液とともに、バレル容器内に投入され、水平遠心バレル機などにより、バレル研磨される。バレル研磨後のグリーンチップは、水で洗浄され、乾燥される。乾燥後のグリーンチップに対して、脱バインダ工程、焼成工程、必要に応じて行われるアニール工程を行うことにより、図1に示すコンデンサ素体4が得られる。なお、図5Aおよび図5Bは、あくまで概略断面図であり、積層数や寸法関係などは、実際のものとは異なる。 As shown in FIGS. 5A and 5B, the obtained green laminate 4a is cut to a predetermined size along, for example, a cutting line C to obtain a green chip. The green chips are solidified by removing the plasticizer by solidification drying. The green chips after solidification and drying are put into a barrel container together with the media and the polishing liquid, and are barrel-polished by a horizontal centrifugal barrel machine or the like. After barrel polishing, the green chips are washed with water and dried. The capacitor element 4 shown in FIG. 1 is obtained by performing a binder removing step, a firing step, and an annealing step performed as necessary on the dried green chip. Note that FIGS. 5A and 5B are only schematic cross-sectional views, and the number of layers and the dimensional relationship are different from the actual ones.

このようにして得られた焼結体(素子本体4)には、バレル研磨等にて端面研磨を施し、端子電極用ペーストを焼きつけて端子電極6,8が形成される。そして、必要に応じ、端子電極6,8上にめっき等を行うことによりパッド層を形成する。なお、端子電極用ペーストは、上記した内部電極パターン層用ペーストと同様にして調製すればよい。 The sintered body (element body 4) thus obtained is subjected to end face polishing by barrel polishing or the like, and terminal electrode paste is baked to form terminal electrodes 6 and 8. Then, if necessary, a pad layer is formed by plating or the like on the terminal electrodes 6 and 8. The terminal electrode paste may be prepared in the same manner as the internal electrode pattern layer paste described above.

このようにして製造された積層セラミックコンデンサ2は、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。 The multilayer ceramic capacitor 2 manufactured in this manner is mounted on a printed circuit board or the like by soldering or the like, and is used in various electronic devices and the like.

本実施形態の積層セラミックコンデンサ2によれば、誘電体層10の厚みは0.4μm以下であり、幅寸法W0は0.59mm以下であり、隙間寸法Wgapは0.010〜0.025mmであり、隙間寸法と幅寸法との比率Wgap/W0寸法は0.025以上である。このため、誘電体層の厚みを薄くした場合においても、クラック発生を抑制することができ、しかも静電容量の低下が少ない。 According to the multilayer ceramic capacitor 2 of the present embodiment, the thickness of the dielectric layer 10 is 0.4 μm or less, the width dimension W0 is 0.59 mm or less, and the gap dimension Wgap is 0.010 to 0.025 mm. , The ratio of the gap dimension to the width dimension Wgap / W0 dimension is 0.025 or more. Therefore, even when the thickness of the dielectric layer is reduced, the occurrence of cracks can be suppressed and the decrease in capacitance is small.

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.

たとえば、上述した通常の製造方法では、図1および図2に示す内側誘電体層10、外装領域11、引出領域15Aおよび15Bを構成する各誘電体粒子を形成するための原料として誘電体ペーストに含まれる誘電体粒子の粒径が略同一である。そのため、結果として得られる図1および図2に示す積層セラミックコンデンサ2において、内部電極層12で挟まれている誘電体層10の厚みを0.4μm以下に薄くすると、内部電極層12で挟まれている誘電体層10の誘電体粒子の方が、内部電極層で挟まれていない領域11、15Aおよび15Bの誘電体粒子に比較して平均粒径が大きくなる。その原因としては、内部電極層12で挟まれている誘電体層10の誘電体粒子の方が粒成長が進みやすいからと考えられる。 For example, in the above-mentioned usual manufacturing method, a dielectric paste is used as a raw material for forming the dielectric particles constituting the inner dielectric layer 10, the outer region 11, and the extraction regions 15A and 15B shown in FIGS. 1 and 2. The particle sizes of the contained dielectric particles are substantially the same. Therefore, in the resulting multilayer ceramic capacitors 2 shown in FIGS. 1 and 2, when the thickness of the dielectric layer 10 sandwiched between the internal electrode layers 12 is reduced to 0.4 μm or less, the dielectric layers 10 are sandwiched between the internal electrode layers 12. The dielectric particles of the dielectric layer 10 have a larger average particle size than the dielectric particles of the regions 11, 15A and 15B not sandwiched by the internal electrode layers. It is considered that the cause is that the dielectric particles of the dielectric layer 10 sandwiched between the internal electrode layers 12 are more likely to promote grain growth.

すなわち、上述した実施形態では、誘電体層10を構成する第1誘電体粒子の平均粒径をDiとし、外装領域11に位置する第2誘電体粒子の平均粒径をDgとした場合に、Dg/Di<1となる。また、上述した実施形態では、引出領域15Aおよび15Bを構成する第3誘電体粒子の平均粒径をDhとした場合には、Dh/Di<1である。さらに、側面保護領域16を構成する第4誘電体粒子の平均粒径をDh’とした場合には、Dh’/Di<1である。 That is, in the above-described embodiment, when the average particle size of the first dielectric particles constituting the dielectric layer 10 is Di and the average particle size of the second dielectric particles located in the exterior region 11 is Dg. Dg / Di <1. Further, in the above-described embodiment, when the average particle size of the third dielectric particles constituting the extraction regions 15A and 15B is Dh, Dh / Di <1. Further, when the average particle size of the fourth dielectric particles constituting the side surface protection region 16 is Dh', Dh'/ Di <1.

そこで、本発明の他の実施形態に係る製造方法では、図1および図2に示す内側誘電体層10を構成するための誘電体ペースト原料としての誘電体粒子の平均粒径を、外装領域11および/または引出領域15A,15Bを構成する各誘電体粒子を形成するための誘電体ペースト原料に含まれる誘電体粒子の平均粒径に比較して大きくする。あるいは、逆に、内側誘電体層10を構成するための誘電体ペースト原料としての誘電体粒子の平均粒径に比較して、外装領域11および/または引出領域15A,15Bを構成する各誘電体粒子を形成するための誘電体ペースト原料に含まれる誘電体粒子の平均粒径を小さくする。 Therefore, in the production method according to another embodiment of the present invention, the average particle size of the dielectric particles as the dielectric paste raw material for forming the inner dielectric layer 10 shown in FIGS. 1 and 2 is set to the outer region 11. And / or make it larger than the average particle size of the dielectric particles contained in the dielectric paste raw material for forming the respective dielectric particles constituting the extraction regions 15A and 15B. Alternatively, conversely, the dielectrics constituting the exterior region 11 and / or the extraction regions 15A and 15B are compared with the average particle size of the dielectric particles as the dielectric paste raw material for forming the inner dielectric layer 10. The average particle size of the dielectric particles contained in the dielectric paste raw material for forming the particles is reduced.

その結果として、焼成後のコンデンサ素体4において、Dg/Di≧1、またはDh/Di≧1、またはDh’/Di≧1の関係、またはそれらの全ての関係を満足させることができる。その理由としては、次のように考えることができる。誘電体ペースト原料の誘電体粒子は粒径が小さいほど、熱に対して活性になるので、焼成時に、粒成長が起こり易くなる。したがって、容量部である内側誘電体層10を構成するための誘電体粒子の平均粒径より、外装領域11および/または引出領域15A,15Bを構成する誘電体粒子の平均粒径を小さくすることによって、容量部である内側誘電体層10を構成するための誘電体粒子より、外装領域11および/または引出領域15A,15Bを構成する誘電体粒子の方が粒成長し易くなります。すると、結果的に、外装領域11および/または引出領域15A,15Bの誘電体粒子の方をより大きくすることができる。 As a result, in the capacitor element 4 after firing, the relationship of Dg / Di ≧ 1, or Dh / Di ≧ 1, or Dh'/ Di ≧ 1, or all of them can be satisfied. The reason can be considered as follows. The smaller the particle size of the dielectric particles of the dielectric paste raw material, the more active it is with respect to heat, so that grain growth is likely to occur during firing. Therefore, the average particle size of the dielectric particles constituting the outer region 11 and / or the extraction regions 15A and 15B should be smaller than the average particle size of the dielectric particles for forming the inner dielectric layer 10 which is the capacitance portion. Therefore, the dielectric particles forming the outer region 11 and / or the extraction regions 15A and 15B are more likely to grow than the dielectric particles for forming the inner dielectric layer 10 which is the capacitance portion. Then, as a result, the dielectric particles in the exterior region 11 and / or the extraction regions 15A and 15B can be made larger.

このような関係にある時に、内側誘電体層10が薄層化しても、静電容量がさらに向上する。一般的には、誘電体層10が薄くなるにつれて、比誘電率が低下することが報告されている。しかしながら、本発明者等は、特定領域の誘電体粒子の粒径をコントロールすることで、誘電体層10を薄くしても比誘電率の低下を抑制することができることを見出した。 In such a relationship, even if the inner dielectric layer 10 is thinned, the capacitance is further improved. Generally, it has been reported that the relative permittivity decreases as the dielectric layer 10 becomes thinner. However, the present inventors have found that by controlling the particle size of the dielectric particles in a specific region, it is possible to suppress a decrease in the relative permittivity even if the dielectric layer 10 is made thinner.

さらに、本発明では、誘電体ペースト原料の誘電体粒子の平均粒子径を変えること以外の方法で、焼成後のコンデンサ素体4において、上述した関係を満足させても良い。たとえば内側誘電体層10を構成するための誘電体ペースト原料としての誘電体粒子の組成に比較して、外装領域11および/または引出領域15A,15Bを構成する各誘電体粒子を形成するための誘電体ペースト原料に含まれる誘電体粒子の組成を異ならせても良い。たとえば外装領域11および/または引出領域15A,15Bを構成する各誘電体粒子を形成するための誘電体ペースト原料に含まれる誘電体粒子の組成を、より粒成長しやすい組成にしてもよい。 Further, in the present invention, the above-mentioned relationship may be satisfied in the capacitor element 4 after firing by a method other than changing the average particle size of the dielectric particles of the dielectric paste raw material. For example, for forming the dielectric particles constituting the exterior region 11 and / or the extraction regions 15A and 15B as compared with the composition of the dielectric particles as the dielectric paste raw material for forming the inner dielectric layer 10. The composition of the dielectric particles contained in the dielectric paste raw material may be different. For example, the composition of the dielectric particles contained in the dielectric paste raw material for forming the dielectric particles constituting the exterior region 11 and / or the extraction regions 15A and 15B may be set to a composition that facilitates grain growth.

あるいは、外装領域11に、端子電極6,8には接続されないダミー電極を外側誘電体グリーンシートの間に介在させることなどでも、焼成後の誘電体粒子の粒径を制御することは可能である。 Alternatively, it is possible to control the particle size of the dielectric particles after firing by interposing a dummy electrode that is not connected to the terminal electrodes 6 and 8 between the outer dielectric green sheets in the exterior region 11. ..

なお、本発明の積層セラミック電子部品は、積層セラミックコンデンサに限らず、その他の積層型セラミック電子部品に適用することが可能である。その他の積層型セラミック電子部品としては、誘電体層が内部電極を介して積層される全ての電子部品であり、たとえばバンドパスフィルタ、インダクタ、積層三端子フィルタ、圧電素子、PTCサーミスタ、NTCサーミスタ、バリスタなどが例示される。 The multilayer ceramic electronic component of the present invention is not limited to the multilayer ceramic capacitor, and can be applied to other multilayer ceramic electronic components. Other laminated ceramic electronic components include all electronic components in which a dielectric layer is laminated via internal electrodes, such as a bandpass filter, an inductor, a laminated three-terminal filter, a piezoelectric element, a PTC thermistor, and an NTC thermistor. Varistors and the like are exemplified.

以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described based on more detailed examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
まず、主原料の原料紛体として平均粒子径が100nmの{(Ba1−x−y Cax Sry )O}u (Ti1−z Zrz )v O3 粉末(x=0.05、y=0、Z=0.05、u/v=1.004)を準備し、次にMgCO3 、MnCO3 、Y2 O3 、SiO2 を副成分として準備した。なお、副成分はあらかじめ予備解砕を行い、チタン酸バリウム原料の粒子径よりも小さい40nm程度に加工した。
Example 1
First, {(Ba1-x-y Cax Sry) O} u (Ti1-z Zrz) v O3 powder (x = 0.05, y = 0, Z = 0) having an average particle size of 100 nm as the raw material powder of the main raw material. .05, u / v = 1.004) was prepared, and then MgCO3, MnCO3, Y2 O3, and SiO2 were prepared as subcomponents. The sub-component was pre-crushed in advance and processed to about 40 nm, which is smaller than the particle size of the barium titanate raw material.

次に上記で準備した各原料粉末を主原料100モルに対して、MgCO3 粉末を0.5モル、MnCO3 粉末を0.3モル、Y2 O3 粉末を0.2モルおよびSiO2 粉末を2モル秤量した。これら各粉末をボールミルで20時間湿式混合、乾燥して、容量部の誘電体原料を得た。このとき添加したBaCO3 、MnCO3 は、焼成後にはそれぞれBaO、MnOとして誘電体磁器組成物中に含有されることとなる。 Next, each raw material powder prepared above was weighed against 100 mol of the main raw material, 0.5 mol of MgCO3 powder, 0.3 mol of MnCO3 powder, 0.2 mol of Y2 O3 powder and 2 mol of SiO2 powder. .. Each of these powders was wet-mixed and dried in a ball mill for 20 hours to obtain a dielectric raw material in a volume portion. The BaCO3 and MnCO3 added at this time will be contained in the dielectric porcelain composition as BaO and MnO, respectively, after firing.

次いで、得られた誘電体原料:100重量部と、ポリビニルブチラール樹脂:10重量部と、可塑剤としてのジオクチルフタレート(DOP):5重量部と、溶媒としてのアルコール:100重量部とをボールミルで混合してペースト化し、容量領域14の誘電体層用ペーストを得た。 Next, the obtained dielectric raw material: 100 parts by weight, polyvinyl butyral resin: 10 parts by weight, dioctyl phthalate (DOP) as a plasticizer: 5 parts by weight, and alcohol as a solvent: 100 parts by weight were charged by a ball mill. The mixture was mixed and made into a paste to obtain a paste for a dielectric layer in the capacitance region 14.

また、上記とは別に、Ni粒子:44.6重量部と、テルピネオール:52重量部と、エチルセルロース:3重量部と、ベンゾトリアゾール:0.4重量部とを、3本ロールにより混練し、ペースト化して内部電極層用ペーストを作製した。 Separately from the above, Ni particles: 44.6 parts by weight, terpineol: 52 parts by weight, ethyl cellulose: 3 parts by weight, and benzotriazole: 0.4 parts by weight are kneaded by three rolls and pasted. To prepare a paste for the internal electrode layer.

さらに、外装領域11の誘電体原料として、平均粒子径が、容量領域14の誘電体粒子と同じ100nmの主原料粉末を準備した。内装領域13の誘電体原料と同様の手法で、副成分と湿式混合とペースト化を行い、外装領域の誘電体用ペーストを得た。 Further, as a dielectric raw material for the exterior region 11, a main raw material powder having an average particle diameter of 100 nm, which is the same as the dielectric particles in the capacitance region 14, was prepared. Wet mixing and pasting with the sub-ingredients were carried out in the same manner as the dielectric material of the interior region 13 to obtain a dielectric paste for the exterior region.

そして、上記にて作製した誘電体層用ペーストを用いて、PETフィルム上にグリーンシートを形成した。このとき、グリーンシートの厚みは、表1に記載の焼成後の誘電体層の厚みtdが得られるように調整を行った。次いで、この上に内部電極層用ペーストを用いて、電極層を所定パターンで印刷した。所定パターンの電極層の厚みは、表1に記載の焼成後の内部電極層の厚みteが得られるように調整を行った。 Then, a green sheet was formed on the PET film using the dielectric layer paste prepared above. At this time, the thickness of the green sheet was adjusted so that the thickness td of the dielectric layer after firing shown in Table 1 could be obtained. Next, the electrode layer was printed in a predetermined pattern using the paste for the internal electrode layer on this. The thickness of the electrode layer having a predetermined pattern was adjusted so that the thickness te of the internal electrode layer after firing shown in Table 1 could be obtained.

さらに電極が印刷されていない部分の段差を埋めるために、容量領域14の誘電体用ペーストと同じものを使用してパターン印刷を行うことで、段差吸収層20を形成し、内部電極パターン層12aと段差吸収層20とを有するグリーンシート10aを作製した。 Further, in order to fill the step in the portion where the electrode is not printed, the step absorbing layer 20 is formed by performing pattern printing using the same paste as the dielectric paste in the capacitance region 14, to form the step absorbing layer 20 and to form the internal electrode pattern layer 12a. A green sheet 10a having the step absorbing layer 20 and the step absorbing layer 20 was produced.

次いで、外装領域11を形成するための誘電体ペーストを用いて、PETフィルム上にグリーンシートを形成した。外装領域11を形成するためのグリーンシートの厚みは10μmとした。このとき、100nmの誘電体原料を使用したグリーンシートを用い、外装領域11を形成するためのグリーンシートを形成した。 Next, a green sheet was formed on the PET film using the dielectric paste for forming the exterior region 11. The thickness of the green sheet for forming the exterior region 11 was set to 10 μm. At this time, a green sheet for forming the exterior region 11 was formed using a green sheet using a dielectric material having a diameter of 100 nm.

内部電極層を有する内装領域13のためのグリーンシートと、外装領域11のためのグリーンシートを複数枚積層し、加圧接着することによりグリーン積層体とし、このグリーン積層体を所定サイズに切断することにより、グリーンチップを得た。 A plurality of green sheets for the interior region 13 having an internal electrode layer and a plurality of green sheets for the exterior region 11 are laminated and pressure-bonded to form a green laminate, and the green laminate is cut to a predetermined size. As a result, a green chip was obtained.

次いで、得られたグリーンチップについて、脱バインダ処理、焼成およびアニールを下記条件にておこなって、積層セラミック焼成体を得た。 Next, the obtained green chips were subjected to binder removal treatment, firing and annealing under the following conditions to obtain a laminated ceramic fired body.

脱バインダ処理条件は、昇温速度25℃/時間、保持温度:235℃、保持時間:8時間、雰囲気:空気中とした。 The binder removal treatment conditions were a temperature rising rate of 25 ° C./hour, a holding temperature of 235 ° C., a holding time of 8 hours, and an atmosphere of air.

焼成条件は、昇温速度600〜1000℃/時間、保持温度1100〜1150℃とし、保持時間を1時間とした。降温速度は200℃/時間とした。なお、雰囲気ガスは、加湿したN2 +H2 混合ガスとし、酸素分圧が10−12MPaとなるようにした。 The firing conditions were a heating rate of 600 to 1000 ° C./hour, a holding temperature of 1100 to 1150 ° C., and a holding time of 1 hour. The temperature lowering rate was 200 ° C./hour. The atmospheric gas was a humidified N2 + H2 mixed gas so that the oxygen partial pressure was 10-12 MPa.

アニール条件は、昇温速度:200℃/時間、保持温度1050℃、保持時間:3時間、降温速度:200℃/時間、雰囲気ガス:加湿したN2 ガス(酸素分圧:10−7MPa)とした。 Annealing conditions are temperature rise rate: 200 ° C./hour, holding temperature 1050 ° C., holding time: 3 hours, temperature lowering rate: 200 ° C./hour, atmospheric gas: humidified N2 gas (oxygen partial pressure: 10-7 MPa). did.

なお、焼成およびアニールの際の雰囲気ガスの加湿には、ウェッターを使用した。 A wetter was used for humidifying the atmospheric gas during firing and annealing.

次いで、得られた積層セラミック焼成体の端面をバレル研磨した後、外部電極としてCuペーストを塗布し、還元雰囲気にて焼き付け処理を行い、表1に示す試料番号1〜25の積層セラミックコンデンサ試料(以下、単に「コンデンサ試料」と表記する場合がある)を得た。 Next, after barrel polishing the end face of the obtained laminated ceramic fired body, Cu paste was applied as an external electrode and baked in a reducing atmosphere, and the laminated ceramic capacitor samples of sample numbers 1 to 25 shown in Table 1 ( Hereinafter, it may be simply referred to as "capacitor sample").

得られたコンデンサ試料の縦寸法L0、幅寸法W0および幅Wgapは、表1に示すように、試料毎に変化させた。 The vertical dimension L0, the width dimension W0, and the width Wgap of the obtained capacitor sample were changed for each sample as shown in Table 1.

得られたコンデンサ試料について静電容量とクラック発生率を下記に示す方法で確認した。 The capacitance and crack occurrence rate of the obtained capacitor sample were confirmed by the methods shown below.

(静電容量)
静電容量は、コンデンサ試料に対し、基準温度25℃においてデジタルLCRメーターにて、周波数1.0kHz、入力信号レベル(測定電圧)1.0Vrmsの条件下で測定した。ただし、表1に示す静電容量の数値は、ある特定のL0寸法、W0寸法のコンデンサ素体に対して、Wgapが0.020であるときの静電容量を1としたときの静電容量比を表している。たとえば、試料番号3〜7の静電容量は、試料番号5の静電容量を基準とした比である。静電容量は0.90以上を良好とした。結果を表1に示す。
(Capacitance)
The capacitance was measured with respect to the capacitor sample with a digital LCR meter at a reference temperature of 25 ° C. under the conditions of a frequency of 1.0 kHz and an input signal level (measurement voltage) of 1.0 Vrms. However, the numerical value of the capacitance shown in Table 1 is the capacitance when the capacitance when Wgap is 0.020 is set to 1 for a specific L0 dimension and W0 dimension capacitor body. It represents the ratio. For example, the capacitance of sample numbers 3 to 7 is a ratio based on the capacitance of sample number 5. The capacitance was set to 0.90 or more as good. The results are shown in Table 1.

(クラック発生率)
クラック発生率の測定方法は、作製した試料(n=1000)の外観を顕微鏡などを用いて目視で観察し、クラックが検出された割合である。クラック発生率が、0〜1.0までが良好であり、0〜0.1が特に良好である。結果を表1に示す。
(Crack occurrence rate)
The method for measuring the crack occurrence rate is the rate at which cracks are detected by visually observing the appearance of the prepared sample (n = 1000) using a microscope or the like. The crack occurrence rate is good from 0 to 1.0, and particularly good from 0 to 0.1. The results are shown in Table 1.

Figure 0006860051
Figure 0006860051

実施例2
表2に示すように、焼成後の誘電体層10の厚みtdおよび焼成後の内部電極層12の厚みteを0.3μmとした以外は、実施例1と同様にして、積層セラミックコンデンサの試料を作製し、それらの静電容量とクラック発生率を測定した。結果を表2に示す。
Example 2
As shown in Table 2, a sample of a multilayer ceramic capacitor is obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness td of the dielectric layer 10 after firing and the thickness te of the internal electrode layer 12 after firing are set to 0.3 μm. Was prepared, and their capacitance and crack occurrence rate were measured. The results are shown in Table 2.

Figure 0006860051
Figure 0006860051

評価1
表1および表2に示す結果から、誘電体層の厚みtdは0.4μm以下であり、幅寸法W0は0.59mm以下であり、隙間寸法Wgapは0.010〜0.025mmであり、比率(Wgap/W0寸法)は0.025以上で、クラック発生率が少なく、静電容量の低下が少ない積層セラミックコンデンサが得られることが確認できた。
Evaluation 1
From the results shown in Tables 1 and 2, the thickness td of the dielectric layer is 0.4 μm or less, the width dimension W0 is 0.59 mm or less, the gap dimension Wgap is 0.010 to 0.025 mm, and the ratio is It was confirmed that (Wgap / W0 dimension) was 0.025 or more, and a multilayer ceramic capacitor having a low crack occurrence rate and a small decrease in capacitance could be obtained.

実施例3
表3に示すように、焼成後の内部電極層12の厚みteを変化させた以外は、実施例1と同様にして、積層セラミックコンデンサの試料を作製し、それらの静電容量とクラック発生率を測定した。結果を表3に示す。
Example 3
As shown in Table 3, samples of multilayer ceramic capacitors were prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness te of the internal electrode layer 12 after firing was changed, and their capacitances and crack occurrence rates were changed. Was measured. The results are shown in Table 3.

Figure 0006860051
Figure 0006860051

評価2
表3に示す結果から、te/tdが1.25未満、特に好ましくは、te/tdが0.95〜1.05となる場合に、クラック発生率が少なく、静電容量の低下が少ない積層セラミックコンデンサが得られることが確認できた。
Evaluation 2
From the results shown in Table 3, when te / td is less than 1.25, particularly preferably when te / td is 0.95 to 1.05, the crack generation rate is low and the capacitance is not reduced. It was confirmed that a ceramic capacitor can be obtained.

実施例4
表4に示すように、容量領域14の誘電体粒子の平均粒径Diに比較して、外装領域11の誘電体粒子の平均粒径Dgを変化させた以外は、実施例1の試料16と同様にして、積層セラミックコンデンサの試料(試料番号16a〜16b)を作製し、それらの静電容量とクラック発生率を測定した。結果を表4に示す。Dg/Diが1以上の関係を得るために、外装領域11を形成するための誘電体ペーストに含まれる原料の誘電体粒子の平均粒径を60nmとした。
Example 4
As shown in Table 4, the sample 16 of Example 1 was used, except that the average particle size Dg of the dielectric particles in the exterior region 11 was changed as compared with the average particle size Di of the dielectric particles in the capacitance region 14. In the same manner, samples of multilayer ceramic capacitors (sample numbers 16a to 16b) were prepared, and their capacitance and crack generation rate were measured. The results are shown in Table 4. In order to obtain a relationship of Dg / Di of 1 or more, the average particle size of the dielectric particles of the raw material contained in the dielectric paste for forming the exterior region 11 was set to 60 nm.

実施例5
表5に示すように、容量領域14の誘電体粒子の平均粒径Diに比較して、引出領域15A,15Bの誘電体粒子の平均粒径Dhを変化させた以外は、実施例1の試料16と同様にして、積層セラミックコンデンサの試料(試料番号16c〜16d)を作製し、それらの静電容量とクラック発生率を測定した。結果を表5に示す。Dh/Diが1以上の関係を得るために、引出領域12Aおよび12Bと側面保護領域16を形成するための段差吸収用誘電体ペーストに含まれる原料の誘電体粒子の平均粒径を60nmとした。
Example 5
As shown in Table 5, the sample of Example 1 except that the average particle size Dh of the dielectric particles in the extraction regions 15A and 15B was changed as compared with the average particle size Di of the dielectric particles in the capacitance region 14. Samples of multilayer ceramic capacitors (sample numbers 16c to 16d) were prepared in the same manner as in No. 16, and their capacitances and crack occurrence rates were measured. The results are shown in Table 5. In order to obtain a relationship of Dh / Di of 1 or more, the average particle size of the raw material dielectric particles contained in the step absorbing dielectric paste for forming the extraction regions 12A and 12B and the side surface protection region 16 was set to 60 nm. ..

なお、焼成後の誘電体粒子の平均粒径は下記に示す方法で確認した。 The average particle size of the dielectric particles after firing was confirmed by the method shown below.

(誘電体の平均粒子径)
コンデンサ試料を、積層方向が上側になるように垂直に立て、直径25mm、縦20mmのテフロン(登録商標)製の容器を用いて試料の周辺を硬化樹脂で埋めた。ついでサンドペーパーと微細加工研磨機を使用して試料の長手方向の断面が出るように研磨を行った後、表面のダメージを取り除くために、アルゴンイオンを使用したミリングを行った。
(Average particle size of dielectric)
The capacitor sample was erected vertically so that the stacking direction was on the upper side, and the periphery of the sample was filled with a cured resin using a container made of Teflon (registered trademark) having a diameter of 25 mm and a length of 20 mm. Then, sandpaper and a microfabrication polishing machine were used to polish the sample so that a cross section in the longitudinal direction was obtained, and then milling was performed using argon ions to remove surface damage.

加工を行った試料を電子顕微鏡を2万倍にして容量領域14、外装領域11、引出領域15A,15Bの誘電体粒子の観察を行い、画像処理ソフトを使用して500個の粒子の断面面積から円相当径の算出を行った。 The processed sample was magnified 20,000 times with an electron microscope to observe the dielectric particles in the capacitance region 14, the exterior region 11, and the extraction regions 15A and 15B, and the cross-sectional area of 500 particles was observed using image processing software. The equivalent circle diameter was calculated from.

Figure 0006860051
Figure 0006860051

Figure 0006860051
Figure 0006860051

評価3
表4に示す結果から、好ましくはDg/Di≧1、さらに好ましくはDg/Di≧1.05、特に好ましくはDg/Di≧1.15の関係にある時に、誘電体層が薄層化しても、静電容量がさらに向上し、しかもクラック発生率が低いことが確認できた。
Evaluation 3
From the results shown in Table 4, the dielectric layer is thinned when the relationship is preferably Dg / Di ≧ 1, more preferably Dg / Di ≧ 1.05, and particularly preferably Dg / Di ≧ 1.15. However, it was confirmed that the capacitance was further improved and the crack occurrence rate was low.

また、表5に示す結果から、Dh/Di≧1、さらに好ましくはDh/Di≧1.1、特に好ましくはDh/Di≧1.2の関係にある時に、誘電体層が薄層化しても、静電容量がさらに向上し、しかもクラック発生率が低いことが確認できた。 Further, from the results shown in Table 5, the dielectric layer is thinned when the relationship is Dh / Di ≧ 1, more preferably Dh / Di ≧ 1.1, and particularly preferably Dh / Di ≧ 1.2. However, it was confirmed that the capacitance was further improved and the crack occurrence rate was low.

なお、実施例5では、段差吸収用誘電体ペーストに含まれる原料の誘電体粒子の平均粒径を60nmとしたため、図2に示す側面保護領域16に含まれる焼成後の誘電体粒子の平均粒径Dh’と、容量領域14における誘電体粒子の平均粒径Diよりも大きくなり、Dh’/Diは、Dh/Diと略同一となることが確認されている。 In Example 5, since the average particle size of the raw material dielectric particles contained in the step absorbing dielectric paste was set to 60 nm, the average particle size of the fired dielectric particles contained in the side surface protection region 16 shown in FIG. 2 was set. It has been confirmed that the diameter Dh'is larger than the average particle size Di of the dielectric particles in the capacitance region 14, and Dh'/ Di is substantially the same as Dh / Di.

2… 積層セラミックコンデンサ
4… コンデンサ素体
6… 第1端子電極
8… 第2端子電極
10… 内側誘電体層
10a… 内側グリーンシート
11… 外装領域
11a… 外側グリーンシート
12… 内部電極層
12A,12B… 引出部
12a… 内部電極パターン層
13… 内装領域
13a… 内部積層体
14… 容量領域
15A,15B…引出領域
16… 側面保護領域
20… 段差吸収層
2 ... Multilayer ceramic capacitor 4 ... Capacitor element 6 ... 1st terminal electrode 8 ... 2nd terminal electrode 10 ... Inner dielectric layer 10a ... Inner green sheet 11 ... Exterior area 11a ... Outer green sheet 12 ... Internal electrode layers 12A, 12B ... Drawer portion 12a ... Internal electrode pattern layer 13 ... Interior area 13a ... Internal laminate 14 ... Capacitor area 15A, 15B ... Drawer area 16 ... Side protection area 20 ... Step absorption layer

Claims (3)

複数の誘電体層と、複数の内部電極層とが交互に積層されて形成されたセラミック素体と、
セラミック素体の表面に前記内部電極層と接続される少なくとも一対の外部電極とを有する積層セラミック電子部品であって、
前記誘電体層の厚みは0.5μm以下であり、
前記セラミック素体の幅方向に沿った幅寸法(W0)は0.59mm以下であり、
前記セラミック素体の幅方向に沿って、前記セラミック素体の外面から前記内部電極層の端部までの隙間寸法(Wgap)は0.010〜0.025mmであり、
前記隙間寸法と前記幅寸法との比率(Wgap/W0寸法)は0.025以上であり、
前記内部電極層の厚み(te)と前記誘電体層の厚み(td)との比率(te/td)が、1.25未満であることを特徴とする積層セラミック電子部品。
A ceramic body formed by alternately laminating a plurality of dielectric layers and a plurality of internal electrode layers,
A laminated ceramic electronic component having at least a pair of external electrodes connected to the internal electrode layer on the surface of the ceramic body.
The thickness of the dielectric layer is 0.5 μm or less, and the thickness is 0.5 μm or less.
The width dimension (W0) along the width direction of the ceramic element is 0.59 mm or less.
The gap dimension (Wgap) from the outer surface of the ceramic body to the end of the internal electrode layer along the width direction of the ceramic body is 0.010 to 0.025 mm.
Said ratio (WGAP / W0 dimensions) of the gap size and the width dimension Ri der 0.025 or more,
Wherein a thickness of the internal electrode layer (te) the ratio of the thickness of the dielectric layer (td) (te / td) is a multilayer ceramic electronic component, characterized in der Rukoto less than 1.25.
前記内部電極層の厚み(te)と前記誘電体層の厚み(td)との比率(te/td)が、0.95以上である請求項1に記載の積層セラミック電子部品。 The laminated ceramic electronic component according to claim 1, wherein the ratio (te / td) of the thickness (te) of the internal electrode layer to the thickness (td) of the dielectric layer is 0.95 or more. 前記内部電極層の厚み(te)と前記誘電体層の厚み(td)との比率(te/td)が、0.95〜1.05である請求項1または2に記載の積層セラミック電子部品。 The laminated ceramic electronic component according to claim 1 or 2 , wherein the ratio (te / td) of the thickness (te) of the internal electrode layer to the thickness (td) of the dielectric layer is 0.95 to 1.05. ..
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