JP6831356B2 - Halogen-free resin composition and adhesive film, cover film, copper-clad plate produced by it - Google Patents

Halogen-free resin composition and adhesive film, cover film, copper-clad plate produced by it Download PDF

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Description

本発明は、フレキシブルプリント回路板に関し、特にハロゲンフリー樹脂組成物及びそれにより製造された接着フィルム、カバーフィルム、銅張板に関する。 The present invention relates to a flexible printed circuit board, and more particularly to a halogen-free resin composition and an adhesive film, a cover film, and a copper-clad board manufactured by the same.

接着フィルム、カバーフィルム及び銅張板は、フレキシブルプリント回路板を製造するための基礎材料である。電子情報技術の開発の発展につれて、その性能、特に耐熱性、老化防止性、難燃性及び接着性への市場要求がより高くなっている。よく見られる接着フィルム、カバーフィルム及び3層法によるフレキシブル銅張板に用いられる接着剤は、エポキシ樹脂/ニトリルゴムを主成分とし且つ硬化剤、難燃剤及びその他の助剤成分を配合したものであり、その剥離強度が一般的に低く、耐熱性及び老化防止性も劣っている。耐熱性を改善するため、中国特許CN101323773B及び中国特許出願公開CN102199413Aには、ビスマレイミドプレポリマーでエポキシ樹脂/ニトリルゴム系を変性すること、中国特許出願公開CN104531030Aには、ニトリルゴムを使用せず、フェノール樹脂でフレキシブルエポキシ系を変性すること、及び中国特許CN103834343Bには、フレキシブル硬化剤で多官能エポキシ樹脂を硬化させることが記載されている。上記した方法は、何れも銅張板製品の耐熱性を向上させることができるが、製品のフレキシブル性能には大きな損失が生じることがある。 Adhesive films, cover films and copper-clad plates are the basic materials for manufacturing flexible printed circuit boards. With the development of electronic information technology, the market demand for its performance, especially heat resistance, anti-aging property, flame retardancy and adhesiveness, is increasing. Adhesives used for commonly used adhesive films, cover films, and flexible copper-clad plates by the three-layer method are mainly composed of epoxy resin / nitrile rubber and contain a curing agent, flame retardant, and other auxiliary components. Yes, its peeling strength is generally low, and its heat resistance and anti-aging property are also inferior. In order to improve heat resistance, the Chinese patent application CN101327373B and the Chinese patent application publication CN102199413A were modified with an epoxy resin / nitrile rubber system with a bismaleimide prepolymer, and the Chinese patent application publication CN104531030A did not use nitrile rubber. It is described that the flexible epoxy system is modified with a phenol resin, and that the polyfunctional epoxy resin is cured with a flexible curing agent in the Chinese patent CN103834343B. All of the above methods can improve the heat resistance of the copper-clad plate product, but may cause a large loss in the flexible performance of the product.

日本特許JP2009−96940A、中国特許出願公開CN105482442Aなどの、ポリウレタン樹脂を主樹脂として用いて、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などのその他の樹脂及び難燃剤を配合して製造されたカバーフィルム及び銅張板は、その製品のフレキシブル性も剥離強度も好適である。中国特許CN102822304Bでは、ポリウレタンを主樹脂とし、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂を配合し製造された接着剤は、その耐湿熱性能、低温での折り曲げ性能及び流動性が良い。しかし、ウレタン構造からの影響により、ポリウレタンは、その耐熱性及び老化防止性が劣り、スズ浸漬後の剥離強度も低い。 Cover films and copper-clad plates manufactured by using polyurethane resin as the main resin and blending other resins such as epoxy resin and phenol resin and flame retardants, such as Japanese patent JP2009-96940A and Chinese patent application publication CN105482442A. , The flexibility and peel strength of the product are suitable. In the Chinese patent CN102822304B, an adhesive produced by blending polyurethane as a main resin with polyester resin and epoxy resin has good moisture and heat resistance, bending performance at low temperature, and fluidity. However, due to the influence of the urethane structure, polyurethane is inferior in heat resistance and anti-aging property, and has low peel strength after tin immersion.

その故、新規な樹脂組成物であって、当該樹脂組成物から製造された接着フィルム、カバーフィルム及び銅張板を用いることによって、優れたフレキシブル性、耐熱性、老化防止性及び剥離強度を得る樹脂組成物の開発が急務となっている。 Therefore, by using a novel resin composition, such as an adhesive film, a cover film, and a copper-clad plate manufactured from the resin composition, excellent flexibility, heat resistance, anti-aging property, and peel strength can be obtained. There is an urgent need to develop a resin composition.

上記に記載された技術課題を出発点とし、本発明の一つの目的は、カルボキシル基含有ポリエステル樹脂、多官能エポキシ樹脂、含窒素エポキシ化合物を主成分とするハロゲンフリー樹脂組成物、及びそれにより製造された接着フィルム、カバーフィルム及び銅張板を提供することにある。本発明者らは、鋭意検討を行い、以下の発明に至った。 With the technical problems described above as a starting point, one object of the present invention is a halogen-free resin composition containing a carboxyl group-containing polyester resin, a polyfunctional epoxy resin, and a nitrogen-containing epoxy compound as main components, and the production thereof. It is an object of the present invention to provide an adhesive film, a cover film and a copper-clad plate. The present inventors have conducted diligent studies and have reached the following inventions.

本発明の一態様によれば、ハロゲンフリー樹脂組成物を提供する。上記ハロゲンフリー樹脂組成物が、
60乃至100重量部のカルボキシル基含有ポリエステル樹脂;
5乃至30重量部の多官能エポキシ樹脂;
0.5乃至10重量部の含窒素エポキシ化合物;
10乃至40重量部の難燃剤;及び
40乃至100重量部の溶媒を含む。
According to one aspect of the present invention, a halogen-free resin composition is provided. The halogen-free resin composition
60 to 100 parts by weight of carboxyl group-containing polyester resin;
5 to 30 parts by weight of polyfunctional epoxy resin;
0.5 to 10 parts by weight of nitrogen-containing epoxy compound;
Contains 10-40 parts by weight of flame retardant; and 40-100 parts by weight of solvent.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記カルボキシル基含有ポリエステル樹脂の数平均分子量が5000乃至50000の範囲内であり、ガラス転移温度が−10℃乃至70℃の範囲内であり、且つ酸価が5mgKOH/g乃至50mgKOH/gの範囲内である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the carboxyl group-containing polyester resin has a number average molecular weight in the range of 5000 to 50,000, a glass transition temperature in the range of −10 ° C. to 70 ° C., and an acid value. Is in the range of 5 mgKOH / g to 50 mgKOH / g.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記多官能エポキシ樹脂のエポキシ当量が100グラム/当量乃至500グラム/当量の範囲内であり、且つ数平均分子量が8000以下である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the epoxy equivalent of the polyfunctional epoxy resin is in the range of 100 g / equivalent to 500 g / equivalent, and the number average molecular weight is 8000 or less.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記多官能エポキシ樹脂は、フェノール型ノボラックエポキシ樹脂、オルソクレゾール型ノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールA型ノボラックエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂及びテトラ官能エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種類である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the polyfunctional epoxy resin is a phenol-type novolac epoxy resin, an orthocresol-type novolac epoxy resin, a bisphenol A-type novolac epoxy resin, a dicyclopentadiene-type epoxy resin, a biphenyl-type epoxy resin, and the like. It is at least one selected from the group consisting of naphthalene type epoxy resin and tetra functional epoxy resin.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記多官能エポキシ樹脂の含有量が10乃至30重量部の範囲内である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the content of the polyfunctional epoxy resin is in the range of 10 to 30 parts by weight.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記含窒素エポキシ化合物がグリシジルアミン構造を有する。 According to a preferred embodiment of the present invention, the nitrogen-containing epoxy compound has a glycidylamine structure.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記含窒素エポキシ化合物のエポキシ当量が50グラム/当量乃至500グラム/当量の範囲内であり、且つ数平均分子量が4000以下である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the epoxy equivalent of the nitrogen-containing epoxy compound is in the range of 50 g / equivalent to 500 g / equivalent, and the number average molecular weight is 4000 or less.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記含窒素エポキシ化合物が、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルp−アミノフェノール、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサノン及びN,N,N’,N’−テトラグリシジルm−キシレンジアミンからなる群から選択される少なくとも1種類である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the nitrogen-containing epoxy compound is tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidyl p-aminophenol, tetraglycidylbisaminomethylcyclohexanone and N, N, N', N'-tetraglycidyl m. -At least one selected from the group consisting of xylene diamines.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記含窒素エポキシ化合物の含有量が1乃至5重量部の範囲内である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the content of the nitrogen-containing epoxy compound is in the range of 1 to 5 parts by weight.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記難燃剤がりん含有難燃剤又は窒素含有難燃剤である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the flame retardant is a phosphorus-containing flame retardant or a nitrogen-containing flame retardant.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記ハロゲンフリー樹脂組成物が更に0乃至2重量部の硬化促進剤を含む。 According to a preferred embodiment of the present invention, the halogen-free resin composition further comprises 0 to 2 parts by weight of a curing accelerator.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記硬化促進剤が、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾール及びシアノイミダゾールからなる群から選択される少なくとも1種類である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the curing accelerator is at least selected from the group consisting of 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, undecylimidazole and cyanoimidazole. There is one type.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記ハロゲンフリー樹脂組成物が更に0乃至2重量部のアミン系硬化剤を含む。 According to a preferred embodiment of the present invention, the halogen-free resin composition further comprises 0 to 2 parts by weight of an amine-based curing agent.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記アミン系硬化剤が、ジシアンジアミド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン及び4,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選択される少なくとも1種類である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the amine-based curing agent is at least one selected from the group consisting of dicyandiamide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone and 4,4'-diaminodiphenyl ether.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記ハロゲンフリー樹脂組成物が更に0乃至2重量部のブロックイソシアネートを含む。 According to a preferred embodiment of the present invention, the halogen-free resin composition further comprises 0 to 2 parts by weight of blocked isocyanate.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記ブロックイソシアネートがブロックトリレンジイソシアネート、ブロックヘキサメチレンジイソシアネート及びブロックイソホロンジイソシアネートからなる群から選択される少なくとも1種類である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the blocked isocyanate is at least one selected from the group consisting of blocked tolylene diisocyanate, blocked hexamethylene diisocyanate and blocked isophorone diisocyanate.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記溶媒がアセトン、ブタノン、シクロヘキサノン、トルエン、エチレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及びジメチルホルムアミドからなる群から選択される1種類あるいは2種類以上である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the solvent is one selected from the group consisting of acetone, butanone, cyclohexanone, toluene, ethylene glycol methyl ether, propylene glycol methyl ether, propylene glycol methyl ether acetate and dimethylformamide. There are two or more types.

本発明の別の一態様によれば、接着フィルムを提供する。上記接着フィルムは、
離型フィルムと、
上記離型フィルムの上に積層された、上記ハロゲンフリー樹脂組成物からなる接着層と、
離型紙とを含む。
According to another aspect of the present invention, an adhesive film is provided. The above adhesive film is
Release film and
An adhesive layer made of the halogen-free resin composition laminated on the release film and
Includes paper pattern.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記離型フィルムの厚みが50μm乃至150μmの範囲内であり、上記接着層の厚みが5μm乃至45μmの範囲内であり、且つ上記離型紙の厚みが50μm乃至150μmの範囲内である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the thickness of the release film is in the range of 50 μm to 150 μm, the thickness of the adhesive layer is in the range of 5 μm to 45 μm, and the thickness of the release paper is 50 μm. It is in the range of to 150 μm.

本発明の別の一態様によれば、カバーフィルムを提供する。上記カバーフィルムは、
ポリイミド層と、
上記ポリイミド層の上に積層された、上記ハロゲンフリー樹脂組成物からなる接着層と、
上記接着層の上に積層された離型紙とを含む。
According to another aspect of the present invention, a cover film is provided. The above cover film
Polyimide layer and
An adhesive layer made of the halogen-free resin composition laminated on the polyimide layer and
Includes a paper pattern laminated on the adhesive layer.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記ポリイミド層の厚みが10μm乃至100μmの範囲内であり、上記接着層の厚みが5μm乃至45μmの範囲内であり、且つ上記離型紙の厚みが50μm乃至150μmの範囲内である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the thickness of the polyimide layer is in the range of 10 μm to 100 μm, the thickness of the adhesive layer is in the range of 5 μm to 45 μm, and the thickness of the release paper is 50 μm or more. It is within the range of 150 μm.

本発明の更に別の一態様によれば、銅張板を提供する。上記銅張板は、
ポリイミド層と、
上記ポリイミド層の上に積層された、上記ハロゲンフリー樹脂組成物からなる接着層と、
上記接着層の上に積層された銅箔とを含む。
According to yet another aspect of the present invention, a copper-clad plate is provided. The copper-clad plate is
Polyimide layer and
An adhesive layer made of the halogen-free resin composition laminated on the polyimide layer and
Includes a copper foil laminated on the adhesive layer.

本発明のある好ましい実施形態によれば、上記ポリイミド層の厚みが10μm乃至100μmの範囲内であり、上記接着層の厚みが5μm乃至45μmの範囲内であり、且つ上記銅箔の厚みが6μm乃至70μmの範囲内である。 According to a preferred embodiment of the present invention, the thickness of the polyimide layer is in the range of 10 μm to 100 μm, the thickness of the adhesive layer is in the range of 5 μm to 45 μm, and the thickness of the copper foil is in the range of 6 μm or more. It is within the range of 70 μm.

当分野における従来技術と比較して、本発明の利点は以下の通りである。本発明のハロゲンフリー樹脂組成物におけるカルボキシル基含有ポリエステル樹脂が多官能エポキシ樹脂及び含窒素エポキシ化合物と反応可能であり、上記含窒素エポキシ化合物が多官能エポキシ樹脂の自己重合及びそれとカルボキシル基含有ポリエステル樹脂との反応を促進することができるので、接着剤が相互貫入網目構造を形成でき、硬化物が優れた耐熱性、結着性能及び耐イオン移動性能を有する。当該ハロゲンフリー樹脂組成物から製造された接着フィルム、カバーフィルム及び銅張板が優れた耐熱性、老化防止性、フレキシブル性能及び高い剥離強度を有する。銅張板製品、並びに銅箔と貼り合わせられた接着フィルム及びカバーフィルムが360℃、20秒での高温スズ浸漬試験に合格できる。288℃でスズ浸漬60秒後の剥離強度保持率が高く、高温老化処理後の剥離強度保持率が高く、難燃等級がUL94−V0に到達するなどである。 The advantages of the present invention as compared with the prior art in the art are as follows. The carboxyl group-containing polyester resin in the halogen-free resin composition of the present invention can react with the polyfunctional epoxy resin and the nitrogen-containing epoxy compound, and the nitrogen-containing epoxy compound is self-polymerization of the polyfunctional epoxy resin and the carboxyl group-containing polyester resin. Since the reaction with the resin can be promoted, the adhesive can form a mutual penetration network structure, and the cured product has excellent heat resistance, binding performance and ion transfer resistance. The adhesive film, cover film and copper-clad plate produced from the halogen-free resin composition have excellent heat resistance, anti-aging property, flexible performance and high peel strength. Copper-clad plate products, and adhesive films and cover films bonded to copper foil can pass the high-temperature tin immersion test at 360 ° C. for 20 seconds. The peel strength retention rate after 60 seconds of tin immersion at 288 ° C. is high, the peel strength retention rate after high temperature aging treatment is high, and the flame retardancy grade reaches UL94-V0.

当然ながら、当業者は、本開示の範囲又は主旨から逸脱しない限り、本明細書の教示に従って他の様々な実施形態を考案でき、かつ、それらに変更を行うことができると理解されるべきである。その故、以下の具体的な実施形態は、限定的なものではない。 Of course, it should be understood that one of ordinary skill in the art can devise and make changes to various other embodiments in accordance with the teachings of this specification without departing from the scope or gist of the present disclosure. is there. Therefore, the following specific embodiments are not limited.

特に断りがない限り、本明細書および特許請求の範囲で使用される特徴の寸法、数量、および物理的・化学的特徴を表す全部の数字は、すべての場合において「約」という用語によって修飾されるものとして理解されるべきである。その故、逆の記載がない限り、上記明細書および特許請求の範囲に記載された数値パラメータは何れも近似値であり、当業者は、本明細書に開示された教示を用いて所望の特性を求めるため、これらの近似値を適切に変化させることができる。端点によって表される数値範囲を使用する際には、当該範囲内のすべての数値および当該範囲内の何れの範囲も含まれ、例えば、1乃至5には、1、1.1、1.3、1.5、2、2.75、3、3.80、4及び5などが含まれる。 Unless otherwise noted, all numbers representing the dimensions, quantities, and physical and chemical features of features used herein and in the claims are modified by the term "about" in all cases. It should be understood as a thing. Therefore, unless otherwise stated, the numerical parameters described above and in the claims are approximate values, and those skilled in the art will use the teachings disclosed herein to obtain the desired properties. These approximate values can be changed appropriately in order to obtain. When using the numerical range represented by the endpoints, all numerical values within the range and any range within the range are included, for example, 1 to 5 are 1, 1.1, 1.3. , 1.5, 2, 2.75, 3, 3.80, 4 and 5 and the like.

本発明の一態様によれば、ハロゲンフリー樹脂組成物を提供する。上記ハロゲンフリー樹脂組成物が、
60乃至100重量部のカルボキシル基含有ポリエステル樹脂;
5乃至30重量部の多官能エポキシ樹脂;
0.5乃至10重量部の含窒素エポキシ化合物;
10乃至40重量部の難燃剤;及び
40乃至100重量部の溶媒を含む。
According to one aspect of the present invention, a halogen-free resin composition is provided. The halogen-free resin composition
60 to 100 parts by weight of carboxyl group-containing polyester resin;
5 to 30 parts by weight of polyfunctional epoxy resin;
0.5 to 10 parts by weight of nitrogen-containing epoxy compound;
Contains 10-40 parts by weight of flame retardant; and 40-100 parts by weight of solvent.

本発明の上記技術案によれば、本発明の上記ハロゲンフリー樹脂組成物がカルボキシル基含有ポリエステル樹脂を主樹脂とし,それが多官能エポキシ樹脂とともに有机溶媒に溶解することができ、且つ互いに反応可能であり、多官能エポキシ樹脂と相互貫入網目構造を形成でき;含窒素エポキシ化合物が多官能エポキシ樹脂の自己重合及びそれとカルボキシル基含有ポリエステル樹脂との架橋を促進することができ、より数多く且つより種類多くの架橋点を形成できるので、硬化物の性能を向上させる。例えば、本発明のハロゲンフリー樹脂組成物により製造された接着フィルム、カバーフィルム及び銅張板がハロゲンフリー、耐高温、老化防止、フレキシブル性に優れ且つ剥離強度が高いなどの利点を有する。 According to the above-mentioned technical proposal of the present invention, the above-mentioned halogen-free resin composition of the present invention uses a carboxyl group-containing polyester resin as a main resin, which can be dissolved together with a polyfunctional epoxy resin in a cyclic solvent and can react with each other. And can form a cross-penetrating network structure with the polyfunctional epoxy resin; the nitrogen-containing epoxy compound can promote the self-polymerization of the polyfunctional epoxy resin and the cross-linking between it and the carboxyl group-containing polyester resin, and more and more types. Since many cross-linking points can be formed, the performance of the cured product is improved. For example, the adhesive film, cover film and copper-clad plate produced by the halogen-free resin composition of the present invention have advantages such as halogen-free, high temperature resistance, anti-aging, excellent flexibility and high peel strength.

具体的に、上記カルボキシル基含有ポリエステル樹脂の数平均分子量が5000乃至50000の範囲内であり、ガラス転移温度が−10℃乃至70℃の範囲内であり、且つ酸価が5mgKOH/g乃至50mgKOH/gの範囲内である。上記カルボキシル基含有ポリエステル樹脂の酸価が5mgKOH/g未満である場合、ハロゲンフリー樹脂組成物の硬化後の架橋密度が低くなり、機械的特性が悪くなる。上記カルボキシル基含有ポリエステル樹脂の酸価が50mgKOH/gを超える場合、ハロゲンフリー樹脂組成物の完全に硬化した後のフレキシブル性が低くなり、配線に対する充填性が悪くなる。上記カルボキシル基含有ポリエステル樹脂の含有量が60乃至100重量部であり、好ましくは70乃至100重量部である。使用量が多すぎると、樹脂組成物の架橋密度が低くなり、耐熱性が低下する;使用量が少なすぎると、上記樹脂組成物のフレキシブル性が低下し、且つそれにより製造されたカバーフィルムの糊はみ出しが多くなり、使用性が悪くなる。本発明で使用できる上記カルボキシル基含有ポリエステル樹脂の具体例として、日本東洋紡績会社からのBX−39SS(その数平均分子量が16000、ガラス転移温度が15℃、酸価が17mgKOH/g、且つ固体含有量が40重量%である)がある。 Specifically, the number average molecular weight of the carboxyl group-containing polyester resin is in the range of 5,000 to 50,000, the glass transition temperature is in the range of -10 ° C to 70 ° C, and the acid value is 5 mgKOH / g to 50 mgKOH /. It is within the range of g. When the acid value of the carboxyl group-containing polyester resin is less than 5 mgKOH / g, the crosslink density of the halogen-free resin composition after curing becomes low, and the mechanical properties deteriorate. When the acid value of the carboxyl group-containing polyester resin exceeds 50 mgKOH / g, the flexibility of the halogen-free resin composition after it is completely cured becomes low, and the filling property for wiring becomes poor. The content of the carboxyl group-containing polyester resin is 60 to 100 parts by weight, preferably 70 to 100 parts by weight. If the amount used is too large, the crosslink density of the resin composition decreases and the heat resistance decreases; if the amount used too small, the flexibility of the resin composition decreases, and the cover film produced thereby reduces the flexibility. The glue squeezes out a lot and the usability deteriorates. As a specific example of the above-mentioned carboxyl group-containing polyester resin that can be used in the present invention, BX-39SS from Nippon Toyo Spinning Co., Ltd. (its number average molecular weight is 16000, glass transition temperature is 15 ° C., acid value is 17 mgKOH / g, and solid content is contained. The amount is 40% by weight).

具体的に、本発明に用いられた上記多官能エポキシ樹脂のエポキシ当量が100グラム/当量乃至500グラム/当量の範囲内であり、且つ数平均分子量が8000以下である。好ましくは、上記多官能エポキシ樹脂の数平均分子量が6000以下である。好ましくは、上記多官能エポキシ樹脂の数平均分子量が400以上である。好ましくは、上記多官能エポキシ樹脂が、フェノール型ノボラックエポキシ樹脂、オルソクレゾール型ノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールA型ノボラックエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂及びテトラ官能エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種類である。上記多官能エポキシ樹脂が、樹脂組成物の硬化架橋密度を向上させることができ、さらに上記樹脂組成物からなる接着フィルム、カバーフィルム及び銅張板の耐熱性及び老化防止性を向上させることができる。好ましくは、上記多官能エポキシ樹脂は、分子量が6000以下のオルソクレゾール型ノボラックエポキシ樹脂である。好ましくは、上記多官能エポキシ樹脂の含有量が10乃至30重量部の範囲内である。上記多官能エポキシ樹脂の使用量が少なすぎると、上記樹脂組成物からなる接着フィルム、カバーフィルム及び銅張板の架橋密度が低くなる。上記多官能エポキシ樹脂の使用量が多すぎると、上記樹脂組成物からなる接着フィルム、カバーフィルム及び銅張板のフレキシブル性が悪くなる。好ましくは、上記多官能エポキシ樹脂の含有量が10乃至20重量部の範囲内である。本発明に用いられる多官能エポキシ樹脂の具体例として、韓国コーロン社からのオルソクレゾール型ノボラックエポキシ樹脂KEC−2185A75(そのエポキシ当量が214g/eq,数平均分子量が1100,且つ固体含有量が75重量%である)がある。 Specifically, the epoxy equivalent of the polyfunctional epoxy resin used in the present invention is in the range of 100 g / equivalent to 500 g / equivalent, and the number average molecular weight is 8000 or less. Preferably, the polyfunctional epoxy resin has a number average molecular weight of 6000 or less. Preferably, the polyfunctional epoxy resin has a number average molecular weight of 400 or more. Preferably, the polyfunctional epoxy resin is a phenol type novolac epoxy resin, an orthocresol type novolak epoxy resin, a bisphenol A type novolak epoxy resin, a dicyclopentadiene type epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin and a tetrafunctional epoxy resin. At least one selected from the group consisting of resins. The polyfunctional epoxy resin can improve the curing crosslink density of the resin composition, and can further improve the heat resistance and anti-aging property of the adhesive film, cover film and copper-clad plate made of the resin composition. .. Preferably, the polyfunctional epoxy resin is an orthocresol type novolak epoxy resin having a molecular weight of 6000 or less. Preferably, the content of the polyfunctional epoxy resin is in the range of 10 to 30 parts by weight. If the amount of the polyfunctional epoxy resin used is too small, the crosslink density of the adhesive film, the cover film and the copper-clad plate made of the resin composition becomes low. If the amount of the polyfunctional epoxy resin used is too large, the flexibility of the adhesive film, the cover film, and the copper-clad plate made of the resin composition deteriorates. Preferably, the content of the polyfunctional epoxy resin is in the range of 10 to 20 parts by weight. As a specific example of the polyfunctional epoxy resin used in the present invention, the orthocresol type novolac epoxy resin KEC-2185A75 (its epoxy equivalent is 214 g / eq, number average molecular weight is 1100, and solid content is 75 weight) from Koron Korea. %).

本発明の技術案によれば、上記ハロゲンフリー樹脂組成物には含窒素エポキシ化合物が添加される。上記含窒素エポキシ化合物が多官能エポキシ樹脂とカルボキシル基含有ポリエステル樹脂との反応、及び多官能エポキシ樹脂の自己重合反応を促進することができ、比較的に低い温度で短時間加熱することにより、本発明の樹脂組成物を半硬化状態にさせることができる。好ましくは、上記含窒素エポキシ化合物がグリシジルアミン構造を有する。好ましくは、上記含窒素エポキシ化合物のエポキシ当量が80グラム/当量乃至300グラム/当量の範囲内であり、且つ数平均分子量が2000以下の範囲内である。上記含窒素エポキシ化合物が、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルp−アミノフェノール、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサノン及びN,N,N’,N’−テトラグリシジルm−キシレンジアミンからなる群から選択される少なくとも1種類である。最も好ましくは、上記含窒素エポキシ化合物はトリグリシジルp−アミノフェノールである。上記含窒素エポキシ化合物の含有量が0.5乃至10重量部である。上記含窒素エポキシ化合物の量が0.5重量部未満である場合、その促進効果が悪くなり、半硬化状態にさせるために時間が掛かる。上記含窒素エポキシ化合物の量が10重量部を超える場合、剛性が高すぎ、結着性が低下し、且つ保管中において架橋反応を促進し易くなり、接着剤液の貯蔵性が悪くなる。好ましくは、上記含窒素エポキシ化合物の含有量が1乃至5重量部である。上記含窒素エポキシ化合物の具体例として、Shanghai Huayi社からのトリグリシジルp−アミノフェノール AFG−90(そのエポキシ当量が105グラム/当量、且つ数平均分子量が277である)がある。好ましくは、上記含窒素エポキシ化合物の含有量が1乃至5重量部の範囲内である。 According to the technical proposal of the present invention, a nitrogen-containing epoxy compound is added to the halogen-free resin composition. The nitrogen-containing epoxy compound can promote the reaction between the polyfunctional epoxy resin and the carboxyl group-containing polyester resin and the self-polymerization reaction of the polyfunctional epoxy resin, and by heating at a relatively low temperature for a short time, this The resin composition of the present invention can be semi-cured. Preferably, the nitrogen-containing epoxy compound has a glycidylamine structure. Preferably, the epoxy equivalent of the nitrogen-containing epoxy compound is in the range of 80 g / equivalent to 300 g / equivalent, and the number average molecular weight is in the range of 2000 or less. At least the nitrogen-containing epoxy compound is selected from the group consisting of tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, triglycidyl p-aminophenol, tetraglycidyl bisaminomethylcyclohexanone and N, N, N', N'-tetraglycidyl m-xylene diamine. There is one type. Most preferably, the nitrogen-containing epoxy compound is triglycidyl p-aminophenol. The content of the nitrogen-containing epoxy compound is 0.5 to 10 parts by weight. When the amount of the nitrogen-containing epoxy compound is less than 0.5 parts by weight, the accelerating effect is deteriorated, and it takes time to bring it into a semi-cured state. When the amount of the nitrogen-containing epoxy compound exceeds 10 parts by weight, the rigidity is too high, the binding property is lowered, the cross-linking reaction is easily promoted during storage, and the storability of the adhesive liquid is deteriorated. Preferably, the content of the nitrogen-containing epoxy compound is 1 to 5 parts by weight. Specific examples of the nitrogen-containing epoxy compound include triglycidyl p-aminophenol AFG-90 from Shanghai Huayi (the epoxy equivalent is 105 g / equivalent and the number average molecular weight is 277). Preferably, the content of the nitrogen-containing epoxy compound is in the range of 1 to 5 parts by weight.

本発明の技術案によれば、上記ハロゲンフリー樹脂組成物には、硬化後の樹脂組成物をハロゲンフリーで難燃性を付与するために、難燃剤を添加される。カバーフィルムの製造に用いられる場合、難燃剤の添加量が、難燃効率に加えてはみ出し量、剥離強度、貯蔵期限にも影響を与える。本発明に用いられる難燃剤の具体種類には制限がなく、難燃効果を提供することができ、且つ上記ハロゲンフリー樹脂組成物における各々成分の相互作用に影響を及ぼさず、且つ上記ハロゲンフリー樹脂組成物からなるカバーフィルムの機械的特性に影響を及ばないものであればよい。好ましくは、上記難燃剤はりん含有難燃剤又は窒素含有難燃剤である。りん含有難燃剤の具体例として、ドイツクラリアント社製のOP−930及びOP−935、並びに日本大塚化学株式会社製のSPB−100がある。上記りん含有難燃剤の中でも、難燃効率の高く且つ粒径の小さいOP−935が用いられることが好ましい。また、窒素含有難燃剤の具体例として、日本三菱ガス社製のMC−5S、及びTaixing Chemical Company製のHT−209がある。上記窒素含有難燃剤には、分散性の良いMC−5Sが好ましく使用される。本発明の技術案によれば、上記ハロゲンフリー樹脂組成物には10乃至40重量部の難燃剤が含まれる。 According to the technical proposal of the present invention, a flame retardant is added to the halogen-free resin composition in order to impart a halogen-free flame retardancy to the cured resin composition. When used in the production of cover films, the amount of flame retardant added affects not only flame retardancy but also the amount of protrusion, peel strength, and storage period. There is no limitation on the specific type of the flame retardant used in the present invention, the flame retardant effect can be provided, the interaction of each component in the halogen-free resin composition is not affected, and the halogen-free resin is used. Anything that does not affect the mechanical properties of the cover film made of the composition may be used. Preferably, the flame retardant is a phosphorus-containing flame retardant or a nitrogen-containing flame retardant. Specific examples of the phosphorus-containing flame retardant include OP-930 and OP-935 manufactured by Clariant AG of Germany, and SPB-100 manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd. of Japan. Among the phosphorus-containing flame retardants, OP-935 having a high flame retardant efficiency and a small particle size is preferably used. Specific examples of the nitrogen-containing flame retardant include MC-5S manufactured by Mitsubishi Japan Gas Co., Ltd. and HT-209 manufactured by Taixing Chemical Company. As the nitrogen-containing flame retardant, MC-5S having good dispersibility is preferably used. According to the technical proposal of the present invention, the halogen-free resin composition contains 10 to 40 parts by weight of a flame retardant.

得られる接着剤の架橋密度を更に向上させるため、上記ハロゲンフリー樹脂組成物が、硬化促進剤、アミン系硬化剤及びブロックイソシアネートのうちの1種又は複数種を任意に含むことができる。好ましくは、上記硬化促進剤が2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾール及びシアノイミダゾールからなる群から選択される少なくとも1種類である。また、ハロゲンフリー樹脂組成物には、0乃至2重量部の硬化促進剤が含まれる。好ましくは、上記アミン系硬化剤がジシアンジアミド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン及び4,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選択される少なくとも1種類である。また、上記ハロゲンフリー樹脂組成物には、0乃至2重量部のアミン系硬化剤が含まれる。好ましくは、上記ブロックイソシアネートが、ブロックトリレンジイソシアネート、ブロックヘキサメチレンジイソシアネート及びブロックイソホロンジイソシアネートからなる群から選択される少なくとも1種類である。また、上記ハロゲンフリー樹脂組成物には、0乃至2重量部のブロックイソシアネートが含まれる。 In order to further improve the crosslink density of the obtained adhesive, the halogen-free resin composition may optionally contain one or more of a curing accelerator, an amine-based curing agent and a blocked isocyanate. Preferably, the curing accelerator is at least one selected from the group consisting of 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, undecylimidazole and cyanoimidazole. Further, the halogen-free resin composition contains 0 to 2 parts by weight of a curing accelerator. Preferably, the amine-based curing agent is at least one selected from the group consisting of dicyandiamide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone and 4,4'-diaminodiphenyl ether. In addition, the halogen-free resin composition contains 0 to 2 parts by weight of an amine-based curing agent. Preferably, the blocked isocyanate is at least one selected from the group consisting of blocked tolylene diisocyanate, blocked hexamethylene diisocyanate and blocked isophorone diisocyanate. Further, the halogen-free resin composition contains 0 to 2 parts by weight of blocked isocyanate.

本発明のハロゲンフリー樹脂組成物には、各々成分を溶解するように溶媒を添加される。また、製造された樹脂接着剤液の粘度を調整するため、樹脂組成物の固形分の含有量を調整する。本発明に用いられる溶媒の具体的な種類には制限はなく、各々成分を溶解或いは分散させることができ且つ本発明の効果に影響を及ぼさないものであればよい。好ましくは、上記溶媒がアセトン、ブタノン、シクロヘキサノン、トルエン、エチレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及びジメチルホルムアミドから選ばれた1種又は複数種である。 A solvent is added to the halogen-free resin composition of the present invention so as to dissolve each component. Further, in order to adjust the viscosity of the produced resin adhesive liquid, the solid content of the resin composition is adjusted. The specific type of solvent used in the present invention is not limited as long as it can dissolve or disperse each component and does not affect the effect of the present invention. Preferably, the solvent is one or more selected from acetone, butanone, cyclohexanone, toluene, ethylene glycol methyl ether, propylene glycol methyl ether, propylene glycol methyl ether acetate and dimethylformamide.

本発明の別の一態様によれば、接着フィルムを提供する。上記接着フィルムが、
離型フィルムと、
上記離型フィルムの上に積層された、上記ハロゲンフリー樹脂組成物からなる接着層と、
離型紙とを含む。
According to another aspect of the present invention, an adhesive film is provided. The above adhesive film
Release film and
An adhesive layer made of the halogen-free resin composition laminated on the release film and
Includes paper pattern.

好ましくは、上記離型フィルムの厚みが50μm乃至150μmの範囲内であり、上記接着層の厚みが5μm乃至45μmの範囲内であり、且つ上記離型紙の厚みが50μm乃至150μmの範囲内である。 Preferably, the thickness of the release film is in the range of 50 μm to 150 μm, the thickness of the adhesive layer is in the range of 5 μm to 45 μm, and the thickness of the release paper is in the range of 50 μm to 150 μm.

当該接着フィルムの製造方法には、上記ハロゲンフリー樹脂組成物を上記離型フィルムの離型面に塗布し、さらに当該上記ハロゲンフリー樹脂組成物が塗布された離型フィルムを120〜160℃の高温試験装置中に置き、2〜6分ベークして半硬化を行い、さらに離型紙を、半硬化した接着層に貼り合わせる工程が含まれる。 In the method for producing the adhesive film, the halogen-free resin composition is applied to the release surface of the release film, and the release film coated with the halogen-free resin composition is applied at a high temperature of 120 to 160 ° C. It includes a step of placing it in a test device, baking it for 2 to 6 minutes to perform semi-curing, and further adhering the release paper to the semi-cured adhesive layer.

本発明の別の一態様によれば、カバーフィルムを提供する。上記カバーフィルムは、
ポリイミド層と、
上記ポリイミド層の上に積層された、上記ハロゲンフリー樹脂組成物からなる接着層と、
上記接着層の上に積層された離型紙とを含む。
According to another aspect of the present invention, a cover film is provided. The above cover film
Polyimide layer and
An adhesive layer made of the halogen-free resin composition laminated on the polyimide layer and
Includes a paper pattern laminated on the adhesive layer.

好ましくは、上記ポリイミド層の厚みが10μm乃至100μmの範囲内であり、上記接着層の厚みが5μm乃至45μmの範囲内であり、且つ上記離型紙の厚みが50μm乃至150μmの範囲内である。 Preferably, the thickness of the polyimide layer is in the range of 10 μm to 100 μm, the thickness of the adhesive layer is in the range of 5 μm to 45 μm, and the thickness of the release paper is in the range of 50 μm to 150 μm.

当該カバーフィルムの製造方法には、上記ハロゲンフリー樹脂組成物を上記ポリイミド薄膜の表面に塗布し、さらに当該塗布有樹脂組成物が塗布されたポリイミド層を120〜160℃の高温試験装置中に置き、2〜6分ベークして半硬化を行い、さらに離型紙を半硬化した接着層に張り合わせる工程が含まれる。 In the method for producing the cover film, the halogen-free resin composition is applied to the surface of the polyimide thin film, and the polyimide layer coated with the coated resin composition is placed in a high-temperature test apparatus at 120 to 160 ° C. , A step of baking for 2 to 6 minutes to perform semi-curing, and further laminating the release paper to the semi-cured adhesive layer is included.

本発明の更に別の一態様によれば、銅張板を提供する。上記銅張板は、
ポリイミド層と、
上記ポリイミド層の上に積層された、上記ハロゲンフリー樹脂組成物からなる接着層と、
上記接着層の上に積層された銅箔とを含む。
According to yet another aspect of the present invention, a copper-clad plate is provided. The copper-clad plate is
Polyimide layer and
An adhesive layer made of the halogen-free resin composition laminated on the polyimide layer and
Includes a copper foil laminated on the adhesive layer.

好ましくは、上記ポリイミド層の厚みが10μm乃至100μmの範囲内であり、上記接着層の厚みが5μm乃至45μmの範囲内であり、且つ上記銅箔の厚みが6μm乃至70μmの範囲内である。 Preferably, the thickness of the polyimide layer is in the range of 10 μm to 100 μm, the thickness of the adhesive layer is in the range of 5 μm to 45 μm, and the thickness of the copper foil is in the range of 6 μm to 70 μm.

好ましくは、上記銅張板は3層法による片面板又は両面板である。片面板を例として挙げると、3層法による片面銅張板は、ポリイミド層と、上記ポリイミド層の片側に積層された、上記ハロゲンフリー樹脂組成物からなる接着層と、上記接着層の上に積層された銅箔とを含む。好ましくは、上記ポリイミド層の厚みが10μm乃至100μmの範囲内であり、上記接着層の厚みが5μm乃至45μmの範囲内であり、且つ上記銅箔の厚みが6μm乃至70μmの範囲内である。当該3層法による片面銅張板の製造方法は以下の通りである。即ち、上記ハロゲンフリー樹脂組成物を上記ポリイミド膜の一方の側面に塗布し、当該樹脂組成物が塗布されたポリイミド膜を120〜160℃の高温試験装置中に置き、2〜6分ベークして半硬化を行い、さらに半硬化した接着層に銅箔を貼り合わせ、設定したプログラムに従ってこの半硬化状態の組成物を後硬化を行う方法である。 Preferably, the copper-clad plate is a single-sided plate or a double-sided plate by a three-layer method. Taking a single-sided plate as an example, a single-sided copper-clad plate by a three-layer method is formed on a polyimide layer, an adhesive layer made of the halogen-free resin composition laminated on one side of the polyimide layer, and the adhesive layer. Includes laminated copper foil. Preferably, the thickness of the polyimide layer is in the range of 10 μm to 100 μm, the thickness of the adhesive layer is in the range of 5 μm to 45 μm, and the thickness of the copper foil is in the range of 6 μm to 70 μm. The method for manufacturing a single-sided copper-clad plate by the three-layer method is as follows. That is, the halogen-free resin composition is applied to one side surface of the polyimide film, the polyimide film to which the resin composition is applied is placed in a high temperature test apparatus at 120 to 160 ° C., and baked for 2 to 6 minutes. This is a method in which a copper foil is attached to a semi-cured adhesive layer, and the composition in this semi-cured state is post-cured according to a set program.

以下、実施例を参照して本発明をより詳細に説明する。なお、これらの説明および実施例は、本発明を限定するのではなく、本発明の理解を容易にすることのみを意図している。本発明の保護範囲は、特許請求の範囲によるものである。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. It should be noted that these descriptions and examples are not intended to limit the present invention, but to facilitate the understanding of the present invention. The scope of protection of the present invention is the scope of claims.

本発明において、特に断らない限り、使用される試薬は、何れも市販品であり、さらに精製することなくそのまま使用される。また、言及された「部」は「重量部」である。 Unless otherwise specified, the reagents used in the present invention are all commercially available products and are used as they are without further purification. Also, the mentioned "part" is a "weight part".

測定方法
本発明に開示された内容において、下記の実施例1〜8及び比較例1〜8で得られたカバーフィルム又は銅張板の各性能(埋め込み性、極限耐浸漬はんだ付け温度、剥離強度、難燃性及び耐浸漬はんだ付け性)について測定を行った。具体測定方法は以下通りである。
Measuring method In the contents disclosed in the present invention, each performance (embedding property, extreme immersion resistant soldering) of the cover film or copper-clad plate obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 8 below. Temperature, peel strength, flame retardancy and immersion soldering resistance) were measured. The specific measurement method is as follows.

埋め込み性
埋め込み性は、下記の実施例1〜4及び比較例1〜4で得られたカバーフィルムの、プリント回路板における回路に対する充填能を定性的に反映できるものである。埋め込み性は、具体的に下述した方法によって測定した。
Embedding property The embedding property can qualitatively reflect the filling ability of the cover films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 below for a circuit in a printed circuit board. The implantability was measured by the method specifically described below.

下記の実施例及び比較例で得られたカバーフィルムをそれぞれ試験回路に張り合わせて、EWEDO−KY04Cクイックプレス機を用いて、180℃、100Kgfの条件で80sクイックプレスし、50倍以上の拡大鏡で観察し、回路の間には接着剤の欠如、泡、充填不良、未圧密又は使用に影響を与えるその他の欠陥が存在するか否かを検査した。 The cover films obtained in the following examples and comparative examples were attached to the test circuit, respectively, and then quick-pressed for 80s at 180 ° C. and 100 kgf using an EWEDO-KY04C quick press machine, and with a magnifying glass of 50 times or more. Observations were made to check for lack of adhesive, foam, poor filling, unconsolidation or other defects affecting use between the circuits.

試験回路には100mm±10mm長い直線、半円及び直角のパターンが含まれ、回路の銅の厚みが25μm,線幅及びスペース幅が100μmである。 The test circuit contains 100 mm ± 10 mm long straight, semicircular and right angle patterns, the copper thickness of the circuit is 25 μm, and the line width and space width are 100 μm.

測定結果によれば、接着剤の欠如、泡、充填不良、未圧密又は使用に影響を与えるその他の欠陥が無い場合、合格と評価され、そうでなければ、不合格と評価される。 According to the measurement results, if there is no lack of adhesive, foam, poor filling, unconsolidation or other defects that affect use, it is evaluated as acceptable, otherwise it is evaluated as rejected.

極限耐浸漬はんだ付け温度
極限耐浸漬はんだ付け温度は、実施例1〜8及び比較例1〜8で得られたカバーフィルム又は銅張板の耐熱性を定性的に反映するためものである。極限耐浸漬はんだ付け温度は、具体的に下述した方法によって測定した。
Extreme immersion resistant soldering temperature The ultimate immersion resistant soldering temperature is for qualitatively reflecting the heat resistance of the cover film or copper-clad plate obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 8. Is. The ultimate immersion resistant soldering temperature was specifically measured by the method described below.

カバーフィルム:下記の実施例及び比較例で得られたカバーフィルムの離型紙を剥がし、且つ上記カバーフィルムの接着層をサイズが5cm×5cmの銅箔の光沢面と張り合わせ、EWEDO−KY04Cクイックプレス機を用いて180℃、100Kgfの条件で1分間クイックプレスしてから、一般的な恒温試験装置中に置き170℃で1時間硬化して、カバーフィルムが張り付けられた銅箔を得た。サンプルを複数製造して、それぞれ280+10n℃(n=1、2、3、4、5、6、7及び8)のスズ液に20s浸漬し、取り出した後で、層分離、溶融又は発泡の現象が存在するか否かを観察した。合格できる最高な温度を極限耐浸漬はんだ付け温度とした。 Cover film: The release paper of the cover film obtained in the following Examples and Comparative Examples is peeled off, and the adhesive layer of the cover film is bonded to the glossy surface of a copper foil having a size of 5 cm × 5 cm, and the EWEDO-KY04C quick press machine is used. After quick pressing at 180 ° C. and 100 kgf for 1 minute, the copper foil was placed in a general constant temperature test apparatus and cured at 170 ° C. for 1 hour to obtain a copper foil to which a cover film was attached. Multiple samples are produced, immersed in a tin solution at 280 + 10 n ° C. (n = 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 and 8) for 20 seconds, taken out, and then layer-separated, melted or foamed. Was observed to exist. The highest temperature that can be passed was set as the ultimate immersion resistant soldering temperature.

銅張板:下記の実施例及び比較例で得られた銅張板を170℃で2時間硬化させた後で、5cm×5cmのサンプルを切り出し、カバーフィルムのスズ浸漬方法に従って試験を行った。 Copper-clad plate: After curing the copper-clad plates obtained in the following Examples and Comparative Examples at 170 ° C. for 2 hours, a 5 cm × 5 cm sample was cut out and tested according to the tin dipping method of the cover film.

剥離強度
下記の実施例1〜4及び比較例1〜4で得られたカバーフィルムのそれぞれから、離型紙を剥がし、且つそれぞれ上記カバーフィルムの接着層をサイズが20cm(長)×20cm(幅)×18μm(厚み)の銅箔の光沢面と張り合わせ、EWEDO−KY04Cクイックプレス機を用いて180℃、100Kgfの条件で1分間クイックプレスしてから、一般的な恒温試験装置中に置き170℃で1時間硬化して、それぞれ実施例1〜4及び比較例1〜4に対応するカバーフィルムが張り付けられた銅箔を得た。
Peeling strength The release paper is peeled off from each of the cover films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 below, and the adhesive layer of the cover film is 20 cm (long) in size × It is bonded to the glossy surface of a copper foil of 20 cm (width) x 18 μm (thickness), and quickly pressed for 1 minute at 180 ° C. and 100 kgf using an EWEDO-KY04C quick press machine, and then put into a general constant temperature test device. After standing at 170 ° C. for 1 hour, copper foils to which cover films corresponding to Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were attached were obtained.

IPC−TM−6502.4.9方法に従い、上記方法により得られたそれぞれ実施例1〜4及び比較例1〜4に対応するカバーフィルムが張り付けられた銅箔、及び、下記の実施例5〜8及び比較例5〜8で得られた銅張板の剥離強度を測定した。測定結果が以下の表1〜4に示された。中でも、「剥離強度(A状態)」とは、製造されたカバーフィルムが張り付けられた銅箔又は銅張板を何らの処理もせず測定した剥離強度であり;「剥離強度(288℃スズ浸漬20s)」とは、製造されたカバーフィルム又は銅張板を288℃のスズ液で20秒浸漬した後で測定した剥離強度であり;「剥離強度(288℃スズ浸漬60s)」とは、製造されたカバーフィルム又は銅張板を288℃のスズ液で60秒浸漬した後で測定した剥離強度であり;「剥離強度(170℃エージング10h)」とは、製造されたカバーフィルム又は銅張板を170℃で10時間エージングした後で測定した剥離強度である。 According to the IPC-TM-6502.4.9 method, the copper foil to which the cover films corresponding to Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 obtained by the above method are attached, and the following Examples 5 to 4 are attached. The peel strength of the copper-clad plates obtained in No. 8 and Comparative Examples 5 to 8 was measured. The measurement results are shown in Tables 1 to 4 below. Among them, the "peeling strength (A state)" is the peeling strength measured without any treatment on the copper foil or the copper-clad plate to which the manufactured cover film is attached; "Peeling strength (288 ° C. tin immersion 20s)" ) ”Is the peel strength measured after immersing the manufactured cover film or copper clad plate in a tin solution at 288 ° C for 20 seconds;“ peel strength (288 ° C tin dipping 60s) ”is manufactured. The peel strength measured after immersing the cover film or copper-clad plate in a tin solution at 288 ° C. for 60 seconds; “peeling strength (170 ° C. aging 10h)” means the manufactured cover film or copper-clad plate. It is the peeling strength measured after aging at 170 ° C. for 10 hours.

難燃性
UL94垂直燃焼法に従い下記の実施例1〜8及び比較例1〜8で得られたカバーフィルム又は銅張板の難燃性を測定した。中でも、実施例1〜4及び比較例1〜4で得られたカバーフィルムは、GOULD社18μm圧延銅箔と張り合わせ、硬化した後で、測定した。
Flame Retardant The flame retardancy of the cover film or copper-clad plate obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 8 below was measured according to the UL94 vertical combustion method. Among them, the cover films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were laminated with GOULD 18 μm rolled copper foil, cured, and then measured.

実施例1
90重量部のカルボキシル基含有ポリエステル樹脂(日本東洋紡績会社からのBX−39SS)、8重量部のオルソクレゾール型エポキシ樹脂(韓国コーロン社からのKEC−2185A75)、2重量部のトリグリシジルp‐アミノフェノール(Shanghai Huayi社からのAFG−90)、25重量部の窒素含有難燃剤(日本三菱ガス社からのMC−5S)及び50重量部のブタノン(MEK)溶媒を混合し、撹拌して、ハロゲンフリー樹脂組成物(樹脂接着剤液)を得た。
Example 1
90 parts by weight of carboxyl group-containing polyester resin (BX-39SS from Japan Toyo Spinning Co., Ltd.), 8 parts by weight of orthocresol type epoxy resin (KEC-2185A75 from Koron Korea), 2 parts by weight of triglycidyl p-amino A phenol (AFG-90 from Shanghai Huayi), 25 parts by weight of nitrogen-containing flame retardant (MC-5S from Mitsubishi Japan Gas Co., Ltd.) and 50 parts by weight of butanone (MEK) solvent are mixed, stirred and halogen. A free resin composition (resin adhesive liquid) was obtained.

アプリケーターで当該樹脂接着剤液を、厚みが12.5μmのポリイミド薄膜(TaimideTL−012,台湾Taimide)に、接着剤コーティング(乾いた接着剤)の厚みが15μmになるように塗布し、その後140℃の高温試験装置で2分間ベークして、ポリイミド薄膜の上に一部架橋硬化した接着層を形成した。そして、離型紙(厚み50μm,日本住友化学社)を当該接着層と張り合わせ、フレキシブルプリント回路板用カバーフィルムを製造した。 The resin adhesive liquid is applied to a polyimide thin film (Taimide TL-012, Taiwan Taimide) having a thickness of 12.5 μm with an applicator so that the thickness of the adhesive coating (dry adhesive) is 15 μm, and then 140 ° C. The adhesive layer was partially crosslinked and cured on the polyimide thin film by baking for 2 minutes in the high temperature test apparatus of. Then, a release paper (thickness 50 μm, Sumitomo Chemical Japan Co., Ltd.) was laminated with the adhesive layer to manufacture a cover film for a flexible printed circuit board.

実施例2
70重量部のカルボキシル基含有ポリエステル樹脂(日本東洋紡績会社からのBX−39SS)、25重量部のオルソクレゾール型エポキシ樹脂(韓国コーロン社からのKEC−2185A75)、5重量部のトリグリシジルp‐アミノフェノール (Shanghai Huayi社からのAFG−90)、25重量部の窒素含有難燃剤(日本三菱ガス社からのMC−5S)及び75重量部のブタノン(MEK)溶媒を混合し、撹拌して、ハロゲンフリー樹脂組成物(樹脂接着剤液)を得た。
Example 2
70 parts by weight of carboxyl group-containing polyester resin (BX-39SS from Japan Toyo Spinning Co., Ltd.), 25 parts by weight of orthocresol type epoxy resin (KEC-2185A75 from Koron Korea), 5 parts by weight of triglycidyl p-amino Phenol (AFG-90 from Shanghai Huayi), 25 parts by weight of nitrogen-containing flame retardant (MC-5S from Mitsubishi Japan Gas Co., Ltd.) and 75 parts by weight of butanone (MEK) solvent are mixed, stirred and halogen. A free resin composition (resin adhesive liquid) was obtained.

実施例1に類似する方式によって、フレキシブルプリント回路板用カバーフィルムを製造した。 A cover film for a flexible printed circuit board was manufactured by a method similar to that of Example 1.

実施例3
80重量部のカルボキシル基含有ポリエステル樹脂(日本東洋紡績会社からのBX−39SS)、17重量部のオルソクレゾール型エポキシ樹脂(韓国コーロン社からのKEC−2185A75)、3重量部のトリグリシジルp‐アミノフェノール(Shanghai Huayi社からのAFG−90)、15重量部の窒素含有難燃剤(日本三菱ガス社からのMC−5S)及び45重量部のブタノン(MEK)溶媒を混合し、撹拌して、ハロゲンフリー樹脂組成物(樹脂接着剤液)を得た。
Example 3
80 parts by weight of carboxyl group-containing polyester resin (BX-39SS from Japan Toyo Spinning Co., Ltd.), 17 parts by weight of orthocresol type epoxy resin (KEC-2185A75 from Koron Korea), 3 parts by weight of triglycidyl p-amino Phenol (AFG-90 from Shanghai Huayi), 15 parts by weight of nitrogen-containing flame retardant (MC-5S from Mitsubishi Japan Gas Co., Ltd.) and 45 parts by weight of butanone (MEK) solvent are mixed, stirred and halogen. A free resin composition (resin adhesive liquid) was obtained.

実施例1に類似する方式によって、フレキシブルプリント回路板用カバーフィルムを製造した。 A cover film for a flexible printed circuit board was manufactured by a method similar to that of Example 1.

実施例4
80重量部のカルボキシル基含有ポリエステル樹脂(日本東洋紡績会社からのBX−39SS)、17重量部のオルソクレゾール型エポキシ樹脂(韓国コーロン社からのKEC−2185A75)、3重量部のトリグリシジルp‐アミノフェノール(Shanghai Huayi社からのAFG−90)、15重量部の窒素含有難燃剤(ドイツクラリアント社からのOP−935)及び45重量部のブタノン(MEK)溶媒を混合し、撹拌して、ハロゲンフリー樹脂組成物(樹脂接着剤液)を得た。
Example 4
80 parts by weight of carboxyl group-containing polyester resin (BX-39SS from Japan Toyo Spinning Co., Ltd.), 17 parts by weight of orthocresol type epoxy resin (KEC-2185A75 from Koron Korea), 3 parts by weight of triglycidyl p-amino Phenol (AFG-90 from Shanghai Huayi), 15 parts by weight of nitrogen-containing flame retardant (OP-935 from Clariant, Germany) and 45 parts by weight of butanone (MEK) solvent are mixed, stirred and halogen-free. A resin composition (resin adhesive liquid) was obtained.

実施例1に類似する方式によって、フレキシブルプリント回路板用カバーフィルムを製造した。 A cover film for a flexible printed circuit board was manufactured by a method similar to that of Example 1.

実施例5
上記実施例1で得られたハロゲンフリー樹脂組成物を、12.5μmのポリイミド薄膜(TaimideTL−012,台湾Taimide)に、接着剤(乾接着剤)の厚みが15μmになるように塗布した。当該ハロゲンフリー樹脂組成物が塗布されたポリイミド薄膜を140℃の高温試験装置中に置き、2分間ベークして半硬化させた。さらに、サイズが40cm(長)×25cm(幅)×18μm(厚み)の圧延銅箔(Nippon Mining社からのBHY−22B−T)を、半硬化した接着層に張り合わせ、100℃でラミネート加工し、180℃/100kgの圧力で60sクイックプレスし、170℃で2時間硬化させて、フレキシブルプリント回路板用片面銅張板を製造した。
Example 5
The halogen-free resin composition obtained in Example 1 was applied to a 12.5 μm polyimide thin film (Taimide TL-012, Taiwan Taimide) so that the thickness of the adhesive (dry adhesive) was 15 μm. The polyimide thin film coated with the halogen-free resin composition was placed in a high-temperature test apparatus at 140 ° C. and baked for 2 minutes to be semi-cured. Further, a rolled copper foil (BHY-22B-T from Nippon Mining) having a size of 40 cm (length) x 25 cm (width) x 18 μm (thickness) is laminated on a semi-cured adhesive layer and laminated at 100 ° C. , 60 s quick press at a pressure of 180 ° C./100 kg and cured at 170 ° C. for 2 hours to produce a single-sided copper-clad plate for a flexible printed circuit board.

実施例6
実施例2で得られたハロゲンフリー樹脂組成物を使用した以外は、実施例5と同じ方式によって、フレキシブルプリント回路板用片面銅張板を製造した。
Example 6
A single-sided copper-clad plate for a flexible printed circuit board was manufactured by the same method as in Example 5 except that the halogen-free resin composition obtained in Example 2 was used.

実施例7
実施例3で得られたハロゲンフリー樹脂組成物を使用した以外は、実施例5と同じ方式によって、フレキシブルプリント回路板用片面銅張板を製造した。
Example 7
A single-sided copper-clad plate for a flexible printed circuit board was manufactured by the same method as in Example 5 except that the halogen-free resin composition obtained in Example 3 was used.

実施例8
実施例4で得られたハロゲンフリー樹脂組成物を使用した以外は、実施例5と同じ方式によって、フレキシブルプリント回路板用片面銅張板を製造した。
Example 8
A single-sided copper-clad plate for a flexible printed circuit board was manufactured by the same method as in Example 5 except that the halogen-free resin composition obtained in Example 4 was used.

比較例1
75重量部のポリエステル型ポリウレタン樹脂(日本東洋紡績会社からのUR−3500,其酸価が35mgKOH/g)、20重量部のオルソクレゾール型エポキシ樹脂(韓国コーロン社からのKEC−2185A75)、5重量部のトリグリシジルp‐アミノフェノール(Shanghai Huayi社からのAFG−90)、25重量部の窒素含有難燃剤(日本三菱ガス社からのMC−5S)及び70重量部のブタノン(MEK)溶媒を混合し、撹拌して、ハロゲンフリー樹脂組成物(樹脂接着剤液)を得た。
Comparative Example 1
75 parts by weight polyester type polyurethane resin (UR-3500 from Japan Toyo Spinning Company, its acid value is 35 mgKOH / g), 20 parts by weight orthocresol type epoxy resin (KEC-2185A75 from Korea Koron), 5 weight A mixture of 25 parts by weight of triglycidyl p-aminophenol (AFG-90 from Shanghai Huayi), 25 parts by weight of a nitrogen-containing flame retardant (MC-5S from Mitsubishi Japan Gas Co., Ltd.) and 70 parts by weight of butanone (MEK) solvent. Then, the mixture was stirred to obtain a halogen-free resin composition (resin adhesive solution).

実施例1に類似する方式によって、フレキシブルプリント回路板用カバーフィルムを製造した。 A cover film for a flexible printed circuit board was manufactured by a method similar to that of Example 1.

比較例2
75重量部のカルボキシル基含有ポリエステル樹脂(日本東洋紡績会社からのBX−39SS)、20重量部のオルソクレゾール型エポキシ樹脂(韓国コーロン社からのKEC−2185A75)、5重量部のブロックイソシアネート(ドイツDegussa社からのB−1358A)、25重量部の窒素含有難燃剤(日本三菱ガス社からのMC−5S)及び70重量部のブタノン(MEK)溶媒を混合し、撹拌して、ハロゲンフリー樹脂組成物(樹脂接着剤液)を得た。
Comparative Example 2
75 parts by weight of carboxyl group-containing polyester resin (BX-39SS from Japan Toyo Spinning Co., Ltd.), 20 parts by weight of orthocresol type epoxy resin (KEC-2185A75 from Koron Korea), 5 parts by weight of blocked isocyanate (Degussa, Germany) B-1358A), 25 parts by weight of nitrogen-containing flame retardant (MC-5S from Mitsubishi Japan Gas Co., Ltd.) and 70 parts by weight of butanone (MEK) solvent are mixed and stirred to form a halogen-free resin composition. (Resin adhesive liquid) was obtained.

実施例1に類似する方式によって、フレキシブルプリント回路板用カバーフィルムを製造した。 A cover film for a flexible printed circuit board was manufactured by a method similar to that of Example 1.

比較例3
75重量部のカルボキシル基含有ポリエステル樹脂(日本東洋紡績会社からのBX−39SS)、25重量部のオルソクレゾール型エポキシ樹脂(韓国コーロン社からのKEC−2185A75)、25重量部の窒素含有難燃剤(日本三菱ガス社からのMC−5S)及び65重量部のブタノン(MEK)溶媒を混合し、撹拌して、ハロゲンフリー樹脂組成物(樹脂接着剤液)を得た。
Comparative Example 3
75 parts by weight of carboxyl group-containing polyester resin (BX-39SS from Japan Toyo Spinning Co., Ltd.), 25 parts by weight of orthocresol type epoxy resin (KEC-2185A75 from Koron Korea), 25 parts by weight of nitrogen-containing flame retardant ( MC-5S) from Mitsubishi Japan Gas Co., Ltd. and 65 parts by weight of butanone (MEK) solvent were mixed and stirred to obtain a halogen-free resin composition (resin adhesive solution).

実施例1に類似する方式によって、フレキシブルプリント回路板用カバーフィルムを製造した。 A cover film for a flexible printed circuit board was manufactured by a method similar to that of Example 1.

比較例4
50重量部のカルボキシル基含有ポリエステル樹脂(日本東洋紡績会社からのBX−39SS)、35重量部のオルソクレゾール型エポキシ樹脂(韓国コーロン社からのKEC−2185A75)、15重量部のトリグリシジルp‐アミノフェノール(Shanghai Huayi社からのAFG−90)、25重量部の窒素含有難燃剤(日本三菱ガス社からのMC−5S)及び100重量部のブタノン(MEK)溶媒を混合し、撹拌して、ハロゲンフリー樹脂組成物(樹脂接着剤液)を得た。
Comparative Example 4
50 parts by weight of carboxyl group-containing polyester resin (BX-39SS from Japan Toyo Spinning Co., Ltd.), 35 parts by weight of orthocresol type epoxy resin (KEC-2185A75 from Koron Korea), 15 parts by weight of triglycidyl p-amino A phenol (AFG-90 from Shanghai Huayi), 25 parts by weight of nitrogen-containing flame retardant (MC-5S from Mitsubishi Japan Gas Co., Ltd.) and 100 parts by weight of butanone (MEK) solvent are mixed, stirred and halogen. A free resin composition (resin adhesive liquid) was obtained.

実施例1に類似する方式によって、フレキシブルプリント回路板用カバーフィルムを製造した。 A cover film for a flexible printed circuit board was manufactured by a method similar to that of Example 1.

比較例5
比較例1で得られたハロゲンフリー樹脂組成物を使用した以外は、実施例5と同じ方式によって、フレキシブルプリント回路板用片面銅張板を製造した。
Comparative Example 5
A single-sided copper-clad plate for a flexible printed circuit board was manufactured by the same method as in Example 5 except that the halogen-free resin composition obtained in Comparative Example 1 was used.

比較例6
比較例2で得られたハロゲンフリー樹脂組成物を使用した以外は、実施例5と同じ方式によって、フレキシブルプリント回路板用片面銅張板を製造した。
Comparative Example 6
A single-sided copper-clad plate for a flexible printed circuit board was manufactured by the same method as in Example 5 except that the halogen-free resin composition obtained in Comparative Example 2 was used.

比較例7
比較例3で得られたハロゲンフリー樹脂組成物を使用した以外は、実施例5と同じ方式によって、フレキシブルプリント回路板用片面銅張板を製造した。
Comparative Example 7
A single-sided copper-clad plate for a flexible printed circuit board was manufactured by the same method as in Example 5 except that the halogen-free resin composition obtained in Comparative Example 3 was used.

比較例8
比較例4で得られたハロゲンフリー樹脂組成物を使用した以外は、実施例5と同じ方式によって、フレキシブルプリント回路板用片面銅張板を製造した。
Comparative Example 8
A single-sided copper-clad plate for a flexible printed circuit board was manufactured by the same method as in Example 5 except that the halogen-free resin composition obtained in Comparative Example 4 was used.

上記測定方法の項目で説明した測定方法によれば、上記実施例1〜8及び比較例1〜8で得られたカバーフィルム又は銅張板の各性能(埋め込み性、極限耐浸漬はんだ付け温度、剥離強度、難燃性及び耐浸漬はんだ付け性)について測定を行った。中でも、フレキシブルプリント回路板用カバーフィルムの測定結果は、下記の表1〜表2に示し;フレキシブルプリント回路板用片面銅張板の測定結果は、下記の表3〜表4に示した。 According to the measurement method described in the item of the above measurement method , each performance of the cover film or the copper-clad plate obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 8 (embeddability, extreme immersion-resistant soldering temperature, Peeling strength, flame retardancy and immersion soldering resistance) were measured. Among them, the measurement results of the cover film for the flexible printed circuit board are shown in Tables 1 and 2 below; the measurement results of the single-sided copper-clad plate for the flexible printed circuit board are shown in Tables 3 to 4 below.

Figure 0006831356
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Figure 0006831356
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表1における実施例1〜4の測定結果から分かるように、本発明のハロゲンフリー樹脂組成物により製造されたカバーフィルムは、優れた耐熱性を有し、極限耐浸漬はんだ付け温度が360℃を超え、288℃スズ浸漬20sでの剥離強度の保持率が85%を超えた。窒素含有難燃剤が配合された場合、288℃スズ浸漬60sでの剥離強度の保持率が依然として85%を超え、一部の製品の剥離強度が更に向上し、170℃エージング10h後の剥離強度の保持率が何れも80%を超えた。また、カバーフィルムのはみ出し量が適切であり、埋め込み性が合格し、銅箔が張り合わせられた後の燃焼性がV0レベルに到達した。 As can be seen from the measurement results of Examples 1 to 4 in Table 1, the cover film produced by the halogen-free resin composition of the present invention has excellent heat resistance, and the ultimate immersion-resistant soldering temperature is 360 ° C. The retention rate of the peel strength in 20 s of tin immersion at 288 ° C. exceeded 85%. When a nitrogen-containing flame retardant is blended, the retention rate of the peel strength at 288 ° C. tin immersion 60s still exceeds 85%, the peel strength of some products is further improved, and the peel strength after 10 hours of aging at 170 ° C. The retention rate exceeded 80% in each case. In addition, the amount of protrusion of the cover film was appropriate, the embedding property was passed, and the flammability after the copper foil was laminated reached the V0 level.

それに対して、表2における比較例1〜4の測定結果から分かるように、比較例1におけるポリウレタン接着剤により製造されたカバーフィルムは、極限耐浸漬はんだ付け温度が本発明の樹脂組成物から製造されたカバーフィルムと比べて明確に低くなり、且つ、スズ浸漬後の剥離強度が急激に低下した。比較例2において、含窒素エポキシ化合物に替えて、イソシアネートによって樹脂組成物の硬化を促進させ、カバーフィルムを得た。360℃スズ浸漬20sの条件で発泡現象はないにもかかわらず、288℃スズ浸漬後の剥離強度が急激に低下することは、その総合的な耐熱性が悪いことを示した。比較例3の結果から分かるように、硬化促進剤としての含窒素エポキシ化合物が無ければ、接着剤の半硬化状態に到達する時間が長くなり、288℃スズ浸漬後の剥離強度が急激に低下した。また、比較例4に用いられた樹脂の種類が本発明と同じにもかかわらず、成分の割合が違っているので、その耐熱性に乏しく、埋め込み性が劣化したと分かった。その故、本発明の樹脂組成物について、カルボキシル基含有ポリエステル樹脂と多官能エポキシ樹脂と含窒素エポキシ化合物との組み合せが必要であるだけではなく、その各成分の配合割合への要求も必要となり、この場合こそ優れた性能を有するカバーフィルムを製造できる。 On the other hand, as can be seen from the measurement results of Comparative Examples 1 to 4 in Table 2, the cover film produced by the polyurethane adhesive in Comparative Example 1 is produced from the resin composition of the present invention at an extreme immersion-resistant soldering temperature. It was clearly lower than that of the covered film, and the peel strength after tin immersion was sharply reduced. In Comparative Example 2, the resin composition was cured by isocyanate instead of the nitrogen-containing epoxy compound to obtain a cover film. Although there was no foaming phenomenon under the condition of soaking in tin at 360 ° C., the sharp decrease in peel strength after soaking in tin at 288 ° C. indicated that the overall heat resistance was poor. As can be seen from the results of Comparative Example 3, without the nitrogen-containing epoxy compound as the curing accelerator, it took a long time to reach the semi-cured state of the adhesive, and the peel strength after immersion in tin at 288 ° C. decreased sharply. .. Further, it was found that although the type of resin used in Comparative Example 4 was the same as that of the present invention, the proportions of the components were different, so that the heat resistance was poor and the embedding property was deteriorated. Therefore, for the resin composition of the present invention, it is necessary not only to combine a carboxyl group-containing polyester resin, a polyfunctional epoxy resin, and a nitrogen-containing epoxy compound, but also to require a blending ratio of each component. Only in this case can a cover film having excellent performance be manufactured.

Figure 0006831356
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Figure 0006831356
Figure 0006831356

表3及び表4から分かるように、フレキシブルプリント回路板用片面銅張板の剥離強度、耐浸漬はんだ付け性能、老化防止性とハロゲンフリー樹脂組成物の処方との関係は、カバーフィルムとハロゲンフリー樹脂組成物の処方との関係に類似している。本発明の上記した方法に従い実施された実施例で得られた銅張板は、性能に優れたものである。 As can be seen from Tables 3 and 4, the relationship between the peel strength of the single-sided copper-clad plate for flexible printed circuit boards, the immersion soldering resistance, the anti-aging property and the formulation of the halogen-free resin composition is as follows: cover film and halogen-free. It is similar to the relationship with the formulation of resin compositions. The copper-clad plate obtained in the examples carried out according to the above-mentioned method of the present invention has excellent performance.

以上から分かるように、本発明のハロゲンフリー樹脂組成物には、カルボキシル基含有ポリエステル樹脂、多官能エポキシ樹脂、含窒素エポキシ化合物、難燃剤及び有机溶媒が含まれる。中でも、カルボキシル基含有ポリエステル樹脂が多官能エポキシ樹脂と反応可能であり、多官能エポキシ樹脂が自己重合反応を発生することができ、且つ含窒素エポキシ化合物が上記反応を促進することができ、相互貫入網目構造の形成を促進することができるので、硬化物が優れた耐熱性、老化防止性及び結着性能を有する。 As can be seen from the above, the halogen-free resin composition of the present invention contains a carboxyl group-containing polyester resin, a polyfunctional epoxy resin, a nitrogen-containing epoxy compound, a flame retardant, and a charged solvent. Among them, the carboxyl group-containing polyester resin can react with the polyfunctional epoxy resin, the polyfunctional epoxy resin can generate a self-polymerization reaction, and the nitrogen-containing epoxy compound can promote the above reaction, and can penetrate each other. Since the formation of the network structure can be promoted, the cured product has excellent heat resistance, anti-aging property and binding performance.

本発明の樹脂組成物から製造されたカバーフィルム及び銅張板が、優れた耐熱性、老化防止性や高い剥離強度を有し、銅箔が張り合わせた後の難燃性レベルがUL94−V0レベルに到達し、総合性能にも優れた。 The cover film and the copper-clad plate produced from the resin composition of the present invention have excellent heat resistance, anti-aging property and high peel strength, and the flame retardancy level after the copper foil is laminated is UL94-V0 level. Has reached, and the overall performance is also excellent.

本発明において、具体的な実施形態が提示及び記載されているが、当業者であれば分かるように、本発明の範囲から逸脱しない範囲で、提示及び記載されている具体的な実施形態の代わりに様々な代替および/または等価の実施形態を利用することができる。本出願は、本発明において論じられた具体的な実施形態に対する任意の改良または変更を含むことを意図するものである。その故、本発明は、特許請求の範囲およびその等価物のみに限定される。 In the present invention, specific embodiments are presented and described, but as can be understood by those skilled in the art, substitutes for the specific embodiments presented and described without departing from the scope of the present invention. Various alternative and / or equivalent embodiments are available for. The present application is intended to include any improvement or modification to the specific embodiments discussed in the present invention. Therefore, the present invention is limited to the claims and their equivalents.

当業者であれば分かるように、本発明の範囲から逸脱することなく、様々な修正および変更を行うことができる。そのような修正および変更は、本願特許請求の範囲によって限定される本発明の範囲内に含まれる。 As will be appreciated by those skilled in the art, various modifications and modifications can be made without departing from the scope of the present invention. Such modifications and modifications are included within the scope of the invention, which is limited by the claims of the present application.

Claims (18)

60乃至100重量部のカルボキシル基含有ポリエステル樹脂;
5乃至30重量部の多官能エポキシ樹脂;
1乃至10重量部の含窒素エポキシ化合物;
10乃至40重量部の難燃剤;及び
40乃至100重量部の溶媒を含み、
上記カルボキシル基含有ポリエステル樹脂の数平均分子量が5000乃至50000の範囲内であり、ガラス転移温度が−10℃乃至70℃の範囲内であり、且つ酸価が5mgKOH/g乃至50mgKOH/gの範囲内であり、
上記多官能エポキシ樹脂が、フェノール型ノボラックエポキシ樹脂、オルソクレゾール型ノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールA型ノボラックエポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂及びテトラ官能エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種類であり、
上記含窒素エポキシ化合物がトリグリシジルp−アミノフェノールである、
ハロゲンフリー樹脂組成物。
60 to 100 parts by weight of carboxyl group-containing polyester resin;
5 to 30 parts by weight of polyfunctional epoxy resin;
1 to 10 parts by weight of nitrogen-containing epoxy compound;
Contains 10-40 parts by weight of flame retardant; and 40-100 parts by weight of solvent.
The number average molecular weight of the carboxyl group-containing polyester resin is in the range of 5000 to 50,000, the glass transition temperature is in the range of -10 ° C to 70 ° C, and the acid value is in the range of 5 mgKOH / g to 50 mgKOH / g. And
The polyfunctional epoxy resin is at least one selected from the group consisting of phenol-type novolac epoxy resin, orthocresol-type novolac epoxy resin, bisphenol A-type novolac epoxy resin, biphenyl-type epoxy resin, naphthalene-type epoxy resin, and tetra-functional epoxy resin. Kind,
The nitrogen-containing epoxy compound is triglycidyl p-aminophenol.
Halogen-free resin composition.
上記多官能エポキシ樹脂のエポキシ当量が100グラム/当量乃至500グラム/当量の範囲内であり、且つ数平均分子量が8000以下である、請求項1に記載のハロゲンフリー樹脂組成物。 The halogen-free resin composition according to claim 1, wherein the epoxy equivalent of the polyfunctional epoxy resin is in the range of 100 g / equivalent to 500 g / equivalent, and the number average molecular weight is 8000 or less. 上記多官能エポキシ樹脂の含有量が10乃至30重量部の範囲内である、請求項1に記載のハロゲンフリー樹脂組成物。 The halogen-free resin composition according to claim 1, wherein the content of the polyfunctional epoxy resin is in the range of 10 to 30 parts by weight. 上記含窒素エポキシ化合物の含有量が1乃至5重量部の範囲内である、請求項1に記載のハロゲンフリー樹脂組成物。 The halogen-free resin composition according to claim 1, wherein the content of the nitrogen-containing epoxy compound is in the range of 1 to 5 parts by weight. 上記難燃剤がりん含有難燃剤又は窒素含有難燃剤である、請求項1に記載のハロゲンフリー樹脂組成物。 The halogen-free resin composition according to claim 1, wherein the flame retardant is a phosphorus-containing flame retardant or a nitrogen-containing flame retardant. 上記ハロゲンフリー樹脂組成物が更に0乃至2重量部の硬化促進剤を含む、請求項1に記載のハロゲンフリー樹脂組成物。 The halogen-free resin composition according to claim 1, wherein the halogen-free resin composition further contains 0 to 2 parts by weight of a curing accelerator. 上記硬化促進剤が、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾール及びシアノイミダゾールからなる群から選択される少なくとも1種類である、請求項に記載のハロゲンフリー樹脂組成物。 6. The method according to claim 6 , wherein the curing accelerator is at least one selected from the group consisting of 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, undecylimidazole and cyanoimidazole. Halogen-free resin composition. 上記ハロゲンフリー樹脂組成物が更に0乃至2重量部のアミン系硬化剤を含む、請求項1に記載のハロゲンフリー樹脂組成物。 The halogen-free resin composition according to claim 1, wherein the halogen-free resin composition further contains 0 to 2 parts by weight of an amine-based curing agent. 上記アミン系硬化剤が、ジシアンジアミド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン及び4,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選択される少なくとも1種類である、請求項に記載のハロゲンフリー樹脂組成物。 The halogen-free resin composition according to claim 8 , wherein the amine-based curing agent is at least one selected from the group consisting of dicyandiamide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone and 4,4'-diaminodiphenyl ether. 上記ハロゲンフリー樹脂組成物が、さらに0乃至2重量部のブロックイソシアネートを含む、請求項1に記載のハロゲンフリー樹脂組成物。 The halogen-free resin composition according to claim 1, wherein the halogen-free resin composition further contains 0 to 2 parts by weight of blocked isocyanate. 上記ブロックイソシアネートが、ブロックトリレンジイソシアネート、ブロックヘキサメチレンジイソシアネート及びブロックイソホロンジイソシアネートからなる群から選択される少なくとも1種類である、請求項10に記載のハロゲンフリー樹脂組成物。 The halogen-free resin composition according to claim 10 , wherein the blocked isocyanate is at least one selected from the group consisting of blocked tolylene diisocyanate, blocked hexamethylene diisocyanate and blocked isophorone diisocyanate. 上記溶媒が、アセトン、ブタノン、シクロヘキサノン、トルエン、エチレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及びジメチルホルムアミドから選ばれた1種又は複数種である、請求項1に記載のハロゲンフリー樹脂組成物。 The halogen-free according to claim 1, wherein the solvent is one or more selected from acetone, butanone, cyclohexanone, toluene, ethylene glycol methyl ether, propylene glycol methyl ether, propylene glycol methyl ether acetate and dimethylformamide. Resin composition. 離型フィルムと、
上記離型フィルムの上に積層された、請求項1〜12のいずれか一項に記載のハロゲンフリー樹脂組成物からなる接着層と、
離型紙とを含む、接着フィルム。
Release film and
An adhesive layer made of the halogen-free resin composition according to any one of claims 1 to 12 laminated on the release film.
Adhesive film, including paper pattern.
上記離型フィルムの厚みが50μm乃至150μmの範囲内であり、上記接着層の厚みが5μm乃至45μmの範囲内であり、且つ上記離型紙の厚みが50μm乃至150μmの範囲内である、請求項13に記載の接着フィルム。 13. Claim 13 that the thickness of the release film is in the range of 50 μm to 150 μm, the thickness of the adhesive layer is in the range of 5 μm to 45 μm, and the thickness of the release paper is in the range of 50 μm to 150 μm. Adhesive film described in. ポリイミド層と、
上記ポリイミド層の上に積層された、請求項1〜12のいずれか一項に記載のハロゲンフリー樹脂組成物からなる接着層と、
上記接着層の上に積層された離型紙とを含む、カバーフィルム。
Polyimide layer and
An adhesive layer made of the halogen-free resin composition according to any one of claims 1 to 12 laminated on the polyimide layer.
A cover film containing a release paper laminated on the adhesive layer.
上記ポリイミド層の厚みが10μm乃至100μmの範囲内であり、上記接着層の厚みが5μm乃至45μmの範囲内であり、且つ上記離型紙の厚みが50μm乃至150μmの範囲内である、請求項15に記載のカバーフィルム。 In the range thickness of 10μm to 100μm of the polyimide layer is in a range thickness of 5μm to 45μm for the adhesive layer, and the thickness of the release paper is in the range of 50μm to 150 [mu] m, to claim 15 The cover film described. ポリイミド層と、
上記ポリイミド層の上に積層された、請求項1〜12のいずれか一項に記載のハロゲンフリー樹脂組成物からなる接着層と、
上記接着層の上に積層された銅箔とを含む、銅張板。
Polyimide layer and
An adhesive layer made of the halogen-free resin composition according to any one of claims 1 to 12 laminated on the polyimide layer.
A copper-clad plate containing a copper foil laminated on the adhesive layer.
上記ポリイミド層の厚みが10μm乃至100μmの範囲内であり、上記接着層の厚みが5μm乃至45μmの範囲内であり、且つ上記銅箔の厚みが6μm乃至70μmの範囲内である、請求項17に記載の銅張板。 In the range thickness of 10μm to 100μm of the polyimide layer is in a range thickness of 5μm to 45μm for the adhesive layer, and the thickness of the copper foil is in the range of 6μm to 70 [mu] m, in claim 17 The copper-clad plate described.
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