JP6827086B2 - 基板撮像装置 - Google Patents
基板撮像装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6827086B2 JP6827086B2 JP2019174071A JP2019174071A JP6827086B2 JP 6827086 B2 JP6827086 B2 JP 6827086B2 JP 2019174071 A JP2019174071 A JP 2019174071A JP 2019174071 A JP2019174071 A JP 2019174071A JP 6827086 B2 JP6827086 B2 JP 6827086B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- light
- lens
- rotation holding
- held
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 103
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 62
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 42
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 72
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 22
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 19
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 13
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
図1に示されるように、基板処理システム1(基板処理装置)は、塗布現像装置2(基板処理装置)と、コントローラ10(制御部)とを備える。基板処理システム1には、露光装置3が併設されている。露光装置3は、基板処理システム1のコントローラ10と通信可能なコントローラ(図示せず)を備える。露光装置3は、塗布現像装置2との間でウエハW(基板)を授受して、ウエハWの表面Wa(図10等参照)に形成された感光性レジスト膜の露光処理(パターン露光)を行うように構成されている。具体的には、液浸露光等の方法により感光性レジスト膜(感光性被膜)の露光対象部分に選択的にエネルギー線を照射する。エネルギー線としては、例えばArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザー、g線、i線、又は極端紫外線(EUV:Extreme Ultraviolet)が挙げられる。
続いて、図4〜図20を参照して、検査ユニットU3についてさらに詳しく説明する。検査ユニットU3は、図4〜図6に示されるように、筐体100と、回転保持サブユニット200(回転保持部)と、表面撮像サブユニット300と、周縁撮像サブユニット400(基板撮像装置)と、裏面撮像サブユニット500とを有する。各サブユニット200〜500は、筐体100内に配置されている。筐体100のうち一端壁には、ウエハWを筐体100の内部に搬入及び筐体100の外部に搬出するための搬入出口101が形成されている。
コントローラ10は、図21に示されるように、機能モジュールとして、読取部M1と、記憶部M2と、処理部M3と、指示部M4とを有する。これらの機能モジュールは、コントローラ10の機能を便宜上複数のモジュールに区切ったものに過ぎず、コントローラ10を構成するハードウェアがこのようなモジュールに分かれていることを必ずしも意味するものではない。各機能モジュールは、プログラムの実行により実現されるものに限られず、専用の電気回路(例えば論理回路)、又は、これを集積した集積回路(ASIC:Application Specific Integrated Circuit)により実現されるものであってもよい。
本実施形態では、ミラー部材430が、保持台201の回転軸に対して傾斜すると共に保持台201に保持されたウエハWの端面Wcと裏面Wbの周縁領域Wdとに対向する反射面432を有している。また、本実施形態では、カメラ410の撮像素子412に、保持台201に保持されたウエハWの表面Waの周縁領域Wdからの光と、保持台201に保持されたウエハWの端面Wcからの光がミラー部材430の反射面432で反射された反射光とが共に、レンズ411を介して入力される。そのため、ウエハWの表面Waの周縁領域WdとウエハWの端面Wcとの双方が、1台のカメラ410で同時に撮像される。従って、複数のカメラが不要となる結果、複数のカメラを設置するためのスペースも不要となる。また、カメラ410を移動させるための機構も不要であるので、当該機構を設置するためのスペースも不要となる。このように、本実施形態では、検査ユニットU3の装置構成が極めて簡略化される。その結果、機器トラブルを抑制しつつ、検査ユニットU3の小型化及び低コスト化を図ることが可能となる。
以上、本開示に係る実施形態について詳細に説明したが、本発明の要旨の範囲内で種々の変形を上記の実施形態に加えてもよい。例えば、反射面432は、保持台201の回転軸に対して傾斜すると共に保持台201に保持されたウエハWの端面Wcと裏面Wbの周縁領域Wdとに対向していればよく、湾曲面以外の他の形状(例えば、平坦面)を呈していてもよい。
Claims (16)
- 基板を保持して回転させるように構成された回転保持部と、
前記回転保持部の回転軸に対して傾斜すると共に、前記回転保持部に保持された前記基板の端面と裏面の周縁領域とに対向する反射面を有するミラー部材と、
前記回転保持部に保持された前記基板の表面からの第1の光が前記反射面で反射されずにレンズを介して入力されると共に、前記回転保持部に保持された前記基板の端面からの第2の光が前記反射面で反射された反射光が前記レンズを介して入力される撮像素子を有する第1のカメラとを備える、基板撮像装置。 - 前記基板の端面の結像位置を前記撮像素子に合わせるように構成された焦点調節レンズを更に備え、
前記焦点調節レンズは、前記第1の光が通過せず且つ前記反射光が通過するように、前記第2の光が前記ミラー部材の前記反射面で反射されて前記レンズに至るまでの間の光路の途中に配置される、請求項1に記載の基板撮像装置。 - 基板を保持して回転させるように構成された回転保持部と、
前記回転保持部の回転軸に対して傾斜すると共に、前記回転保持部に保持された前記基板の端面と裏面の周縁領域とに対向する反射面を有するミラー部材と、
前記回転保持部に保持された前記基板の表面からの第1の光と、前記回転保持部に保持された前記基板の端面からの第2の光が前記ミラー部材の反射面で反射された反射光とが共にレンズを介して入力される撮像素子を有する第1のカメラと、
前記回転保持部に保持された前記基板の表面よりも上方に配置される第1の光源と、
前記第1の光源と前記基板の表面との間に配置され、前記第1の光源からの光を透過し、且つ前記第1の光と前記反射光とを反射するように構成された第1のハーフミラーと、
前記基板の端面の結像位置を前記撮像素子に合わせるように構成された焦点調節レンズとを備え、
前記第1のカメラと前記第1のハーフミラーとは、水平方向に沿って並んで配置され、
前記焦点調節レンズは、前記第1の光が通過せず且つ前記反射光が通過するように、前記第2の光が前記ミラー部材の前記反射面で反射されて前記レンズに至るまでの間の光路の途中に配置される、基板撮像装置。 - 前記焦点調節レンズは、前記第1の光と前記反射光とが前記レンズに到達するまでの光路を含む光路孔の一部を塞ぐように当該光路孔に設けられる、請求項2又は3に記載の基板撮像装置。
- 前記焦点調節レンズは、屈折力が異なる2つの部分を有する二重焦点レンズである、請求項2〜4のいずれか一項に記載の基板撮像装置。
- 前記第1の光は、前記基板の表面の周縁領域からの光である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の基板撮像装置。
- 前記反射面は、前記回転保持部に保持された前記基板の端面から離れる側に向けて窪んだ湾曲面である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板撮像装置。
- 前記反射面の曲率半径は、10mm〜30mmである、請求項7に記載の基板撮像装置。
- 前記回転保持部に保持された前記基板の裏面からの第3の光がレンズを介して入力される撮像素子を有する第2のカメラを更に備える、請求項1〜8のいずれか一項に記載の基板撮像装置。
- 前記回転保持部に保持された前記基板の裏面よりも下方に配置される第2の光源と、
前記第2の光源と前記基板の裏面との間に配置され、前記第2の光源からの光を透過し、且つ前記第3の光を反射するように構成された第2のハーフミラーとを更に備え、
前記第2のカメラと前記第2のハーフミラーとは、水平方向に沿って並んで配置される、請求項9に記載の基板撮像装置。 - 前記回転保持部に保持された前記基板の表面からの第4の光がレンズを介して入力される撮像素子を有する第3のカメラを更に備える、請求項1〜10のいずれか一項に記載の基板撮像装置。
- 前記回転保持部に保持された前記基板の表面からの第4の光がレンズを介して入力される撮像素子を有する第3のカメラを更に備え、
前記第3のカメラは、上方から見て、前記第2の光源からの照射範囲と重なり合わない撮像範囲を撮像するように構成されている、請求項10に記載の基板撮像装置。 - 前記回転保持部に保持された前記基板の表面よりも上方に配置される第3の光源と、
前記第3の光源と前記基板の表面との間に配置され、前記第3の光源からの光を透過し、且つ前記第4の光を反射するように構成された第3のハーフミラーとを更に備え、
前記第3のカメラと前記第3のハーフミラーとは、水平方向に沿って並んで配置される、請求項11又は12に記載の基板撮像装置。 - 前記回転保持部に保持された前記基板を水平方向に沿って移動させるように構成された駆動部を更に備え、
前記第3のカメラは、前記駆動部により移動している前記基板の表面を撮像するように構成されている、請求項11〜13のいずれか一項に記載の基板撮像装置。 - 前記回転保持部に保持された前記基板の表面よりも上方に配置される第3の光源と、
前記第3の光源と前記基板の表面との間に配置され、前記第3の光源からの光を透過し、且つ前記第4の光を反射するように構成された第3のハーフミラーと、
前記回転保持部に保持された前記基板を水平方向に沿って移動させるように構成された駆動部とを更に備え、
前記第3のカメラは、前記駆動部により移動している前記基板の表面を撮像するように構成されており、
前記第3のハーフミラーは、上方から見て、前記駆動部による前記基板の移動方向と交差する交差方向に沿って延びており、
前記交差方向における前記第3のハーフミラーの長さは、前記基板の直径よりも大きい、請求項11又は12に記載の基板撮像装置。 - 前記ミラー部材及び前記駆動部を収容する筐体を更に備え、
前記筐体には前記基板が搬入出される搬入出口が形成され、
前記ミラー部材は、前記搬入出口を基準として前記筐体の奥側に配置され、
前記駆動部は、前記回転保持部に保持された前記基板を、前記搬入出口の近傍と前記ミラー部材の近傍との間を移動させるように構成されている、請求項14又は15に記載の基板撮像装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019174071A JP6827086B2 (ja) | 2019-09-25 | 2019-09-25 | 基板撮像装置 |
JP2020169156A JP6972270B2 (ja) | 2019-09-25 | 2020-10-06 | 照明モジュール及び基板撮像装置 |
JP2021179315A JP7314237B2 (ja) | 2019-09-25 | 2021-11-02 | 基板撮像装置及び基板撮像方法 |
JP2023114646A JP2023133341A (ja) | 2019-09-25 | 2023-07-12 | 基板撮像装置及び基板撮像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019174071A JP6827086B2 (ja) | 2019-09-25 | 2019-09-25 | 基板撮像装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016031361A Division JP6617050B2 (ja) | 2016-02-22 | 2016-02-22 | 基板撮像装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020169156A Division JP6972270B2 (ja) | 2019-09-25 | 2020-10-06 | 照明モジュール及び基板撮像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020004998A JP2020004998A (ja) | 2020-01-09 |
JP6827086B2 true JP6827086B2 (ja) | 2021-02-10 |
Family
ID=69100829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019174071A Active JP6827086B2 (ja) | 2019-09-25 | 2019-09-25 | 基板撮像装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6827086B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101069088B (zh) * | 2004-11-30 | 2010-05-12 | 芝浦机械电子株式会社 | 表面检查装置 |
JP2007155448A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-21 | Olympus Corp | 端面検査装置 |
JP2009025003A (ja) * | 2007-07-17 | 2009-02-05 | Nikon Corp | 表面状態検査装置 |
-
2019
- 2019-09-25 JP JP2019174071A patent/JP6827086B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020004998A (ja) | 2020-01-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6617050B2 (ja) | 基板撮像装置 | |
TWI783270B (zh) | 基板處理方法、基板處理裝置及電腦可讀取記錄媒體 | |
TWI818077B (zh) | 基板檢查方法、基板檢查裝置及記錄媒體 | |
JP6827086B2 (ja) | 基板撮像装置 | |
JP6972270B2 (ja) | 照明モジュール及び基板撮像装置 | |
JP7314237B2 (ja) | 基板撮像装置及び基板撮像方法 | |
TWI834967B (zh) | 基板拍攝裝置 | |
JP6788089B2 (ja) | 基板処理方法、基板処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
JP7038178B2 (ja) | 基板処理方法、基板処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
JP6608507B2 (ja) | 基板処理方法、基板処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190925 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190925 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200722 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200811 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201006 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201222 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210118 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6827086 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |