JP6816435B2 - Transparent conductive film - Google Patents

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Description

本発明は、透明導電性フィルムに関する。 The present invention relates to a transparent conductive film.

透明基材上に透明導電性薄膜が形成された透明導電性部材は、太陽電池、無機エレクトロルミネッセンス(EL)素子、及び有機EL素子用の透明電極基板、電磁波シールド材料、並びにタッチパネル等に幅広く利用されている。特に、近年、携帯電話や携帯ゲーム機器等へのタッチパネルの搭載率が上昇しており、多点検出が可能な静電容量方式のタッチパネル用の透明導電性部材の需要が急速に拡大している。 A transparent conductive member in which a transparent conductive thin film is formed on a transparent base material is widely used for solar cells, inorganic electroluminescence (EL) elements, transparent electrode substrates for organic EL elements, electromagnetic wave shielding materials, touch panels, and the like. Has been done. In particular, in recent years, the mounting rate of touch panels on mobile phones and mobile game devices has been increasing, and the demand for transparent conductive members for capacitive touch panels capable of multipoint detection is rapidly expanding. ..

透明導電性部材としては、ガラス上に酸化インジウムスズ(ITO)薄膜を形成した、いわゆる導電性ガラスがよく知られている。しかしながら、導電性ガラスは、基材がガラスであるために可撓性及び加工性に劣り、用途によっては適用が困難な場合がある。そのため、近年では、可撓性及び加工性に加えて、耐衝撃性に優れ、軽量であることなどの利点から、ポリエチレンテレフタレート等をはじめとするプラスチックフィルム基材上に導電性層を備えた透明導電性フィルムが普及している。 As a transparent conductive member, so-called conductive glass in which an indium tin oxide (ITO) thin film is formed on glass is well known. However, conductive glass is inferior in flexibility and workability because the base material is glass, and it may be difficult to apply it depending on the application. Therefore, in recent years, in addition to flexibility and workability, it has excellent impact resistance and is lightweight, so that it is transparent with a conductive layer on a plastic film base material such as polyethylene terephthalate. Conductive films are widespread.

特許文献1には、ポリエチレンテレフタレート(PET)又はポリエチレンナフタレートフィルムなどのプラスチックフィルムの表面に、銀塩写真技術によって形成された導電性金属部を有する細線構造部と、透明な導電膜とを備えた透明導電性フィルムが示されている。この導電膜としては、近年、ITO膜の代替材料として注目されている、PEDOT/PSS等の透明導電性樹脂、金属ナノワイヤ・ナノロッド等の導電性金属、又はカーボンナノチューブ等の導電性無機微粒子が用いられる。 Patent Document 1 includes a thin wire structure portion having a conductive metal portion formed by silver salt photographic technology on the surface of a plastic film such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate film, and a transparent conductive film. A transparent conductive film is shown. As this conductive film, transparent conductive resins such as PEDOT / PSS, conductive metals such as metal nanowires and nanorods, and conductive inorganic fine particles such as carbon nanotubes, which have been attracting attention as alternative materials for ITO films in recent years, are used. Be done.

特許文献2には、二軸延伸ポリエステル樹脂フィルムなどのプラスチックフィルムの表面上に、金属細線パターンと、その上に設けられた導電性ポリマー含有層とを備え、導電性ポリマー含有層がπ共役系導電性高分子とポリ陰イオンとを含んでなる導電性ポリマーを含有した透明導電性フィルムが示されている。 Patent Document 2 includes a fine metal wire pattern and a conductive polymer-containing layer provided on the surface of a plastic film such as a biaxially stretched polyester resin film, and the conductive polymer-containing layer is a π-conjugated system. A transparent conductive film containing a conductive polymer containing a conductive polymer and a polyanion is shown.

特許文献1及び2のように金属細線を設けることで、導電性樹脂のみからなる導電膜を用いた場合には達成され得ない、低い抵抗率が得られる。 By providing the thin metal wire as in Patent Documents 1 and 2, a low resistivity that cannot be achieved when a conductive film made of only a conductive resin is used can be obtained.

特開2009−4348号公報JP-A-2009-4348 特開2013−89397号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-89397

本発明者は、従来技術に係る透明導電性フィルムには、透明性について未だ改善の余地があることを見出した。 The present inventor has found that there is still room for improvement in transparency of the transparent conductive film according to the prior art.

上記事情に鑑み、本発明は、表面抵抗率が低く、可撓性に優れ、且つ透明性が高い透明導電性フィルムを提供する事を目的とする。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a transparent conductive film having a low surface resistivity, excellent flexibility, and high transparency.

本発明の第1側面によると、単層構造を有している自立膜としてのフィルムであって、脂環式エポキシ化合物(A)とポリオール化合物(B)と酸発生剤(C)とを含んだ樹脂組成物の硬化物からなるフィルムと、前記フィルムの片面又は両面に位置する導電層とを備え、前記脂環式エポキシ化合物(A)と前記ポリオール化合物(B)との合計量に占める前記脂環式エポキシ化合物(A)の量の割合は50乃至80質量%の範囲内にある透明導電性フィルムが提供される。 According to the first aspect of the present invention, the film as a self-supporting film having a single-layer structure contains an alicyclic epoxy compound (A), a polyol compound (B), and an acid generator (C). a film made of a cured product of the resin composition I, relative to the total amount of the Bei give a single-sided or conductive layer positioned on both sides of the film, the alicyclic epoxy compound (a) and the polyol compound (B) wherein the amount ratio of the alicyclic epoxy compound (a) is provided permeable transparent conductive films in the range of 50 to 80 wt%.

本発明の第2側面によると、前記酸発生剤(C)の量は、前記脂環式エポキシ化合物(A)と前記ポリオール化合物(B)との合計量100質量部に対して0.05乃至0.5質量部の範囲内にある第1側面に係る透明導電性フィルムが提供される。 According to a second aspect of the present invention, the amount of pre-hexane generator (C) with respect to the total amount 100 parts by weight of said alicyclic epoxy compound (A) and the polyol compound (B) 0.05 A transparent conductive film according to a first side surface in the range of to 0.5 parts by mass is provided.

本発明の第3側面によると、前記脂環式エポキシ化合物(A)は、3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート及びε−カプロラクトン変性3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートの少なくとも一方である第1又は第2側面に係る透明導電性フィルムが提供される。 According to the third aspect of the present invention, the alicyclic epoxy compound (A) contains 3', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and ε-caprolactone-modified 3', 4'-epoxycyclohexyl. A transparent conductive film according to a first or second aspect, which is at least one of methyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, is provided.

本発明の第4側面によると、前記ポリオール化合物(B)は、ポリカプロラクトントリオール及びポリカーボネートジオールの少なくとも一方である第1乃至第3側面の何れかに係る透明導電性フィルムが提供される。 According to the fourth aspect of the present invention, the polyol compound (B) provides a transparent conductive film according to any one of the first to third aspects, which is at least one of polycaprolactone triol and polycarbonate diol.

本発明の第5側面によると、前記酸発生剤(C)はスルホニウム塩を含んだ第1乃至第4側面の何れかに係る透明導電性フィルムが提供される。 According to the fifth aspect of the present invention, the acid generator (C) provides a transparent conductive film according to any one of the first to fourth aspects containing a sulfonium salt.

本発明の第6側面によると、前記ポリオール化合物(B)は、数平均分子量が200乃至100000g/molの範囲内にあり、水酸基価が190乃至550KOHmg/gの範囲内にある第1乃至第5側面の何れかに係る透明導電性フィルムが提供される。 According to the sixth aspect of the present invention, the polyol compound (B) has a number average molecular weight in the range of 200 to 100,000 g / mol and a hydroxyl value in the range of 190 to 550 KOH mg / g. A transparent conductive film according to any of the side surfaces is provided.

本発明の第7側面によると、全光線透過率が85%以上であり、前記透明導電性フィルムの面のうち、前記導電層が設けられている面の表面抵抗率が1000Ω/sq.以下である第1乃至第6側面の何れかに係る透明導電性フィルムが提供される。 According to the seventh aspect of the present invention, the total light transmittance is 85% or more, and the surface resistivity of the surface of the transparent conductive film on which the conductive layer is provided is 1000 Ω / sq. A transparent conductive film according to any one of the following first to sixth side surfaces is provided.

本発明の第8側面によると、第1乃至第7側面の何れかに記載の透明導電性フィルムを備えた電子デバイスが提供される。 According to the eighth aspect of the present invention, there is provided an electronic device provided with the transparent conductive film according to any one of the first to seventh aspects.

本発明によれば、表面抵抗率が低く、可撓性に優れ、且つ透明性が高い透明導電性フィルムが提供される。 According to the present invention, there is provided a transparent conductive film having a low surface resistivity, excellent flexibility, and high transparency.

本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムを概略的に示す断面図。A cross-sectional view schematically showing a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention. フィルム製造装置の一例を概略的に示す図。The figure which shows an example of the film manufacturing apparatus schematicly. 表面抵抗率の平均値と透明性の測定結果との関係を示すグラフ。A graph showing the relationship between the average value of surface resistivity and the measurement result of transparency.

以下に、本発明の実施形態を詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

<透明導電性フィルム>
図1は、本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムを概略的に示す断面図である。
図1に示す透明導電性フィルム3は、フィルム1と導電層2とを備えている。図1の例では、導電層2はフィルム1の片面に位置しているが、導電層2はフィルム1の両面に位置していてもよい。
<Transparent conductive film>
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention.
The transparent conductive film 3 shown in FIG. 1 includes a film 1 and a conductive layer 2. In the example of FIG. 1, the conductive layer 2 is located on one side of the film 1, but the conductive layer 2 may be located on both sides of the film 1.

<フィルム>
フィルム1は、単層構造を有している透明な自立膜である。ここで使用する用語「自立膜」とは、基板などの支持体によって支持されなくとも、それ自体を単独で取り扱うことができるフィルムを意味している。また、ここで使用する用語「フィルム」は、薄層形状及び可撓性を有している物品を意味し、厚さの概念は含まない。
<Film>
The film 1 is a transparent self-supporting film having a single-layer structure. The term "self-supporting film" used here means a film that can be handled by itself without being supported by a support such as a substrate. Further, the term "film" used here means an article having a thin layer shape and flexibility, and does not include the concept of thickness.

フィルム1は、後述する樹脂組成物の硬化物からなる。即ち、フィルム1は、ガラス、金属、炭素、タンパク質、セルロース、及び合成樹脂等の各種材料からなる織布又は不織布や、そのような材料からなる多孔質層を含んでいない。 The film 1 is made of a cured product of a resin composition described later. That is, the film 1 does not include a woven fabric or non-woven fabric made of various materials such as glass, metal, carbon, protein, cellulose, and synthetic resin, and a porous layer made of such materials.

<樹脂組成物>
樹脂組成物は、脂環式エポキシ化合物(A)と、ポリオール化合物(B)と、酸発生剤(C)とを含んでいる。以下に、各成分について説明する。
<Resin composition>
The resin composition contains an alicyclic epoxy compound (A), a polyol compound (B), and an acid generator (C). Each component will be described below.

[脂環式エポキシ化合物(A)]
脂環式エポキシ化合物(A)は、1分子内に脂環(脂肪族環)構造とエポキシ基とを含んだ化合物である。エポキシ基は、脂環において互いに隣り合った2つの炭素原子と酸素原子とで構成されていてもよく(以下、そのようなエポキシ基を「脂環エポキシ基」と称する)、脂環に単結合で直接結合していてもよい。
[Alicyclic epoxy compound (A)]
The alicyclic epoxy compound (A) is a compound containing an alicyclic (aliphatic ring) structure and an epoxy group in one molecule. The epoxy group may be composed of two carbon atoms and oxygen atoms adjacent to each other in the alicyclic (hereinafter, such an epoxy group is referred to as an "alicyclic epoxy group") and is single bonded to the alicyclic. It may be directly connected with.

脂環式エポキシ化合物(A)が1分子内に含む脂環構造の数は、1であってもよく、2以上であってもよい。また、脂環式エポキシ化合物(A)が1分子内に含むエポキシ基の数は、1であってもよく、2以上であってもよい。一例によれば、脂環式エポキシ化合物(A)は、1分子内に、2つの脂環構造と、2つのエポキシ基とを含み、それらエポキシ基は別々の脂環構造の炭素原子を含んだ脂環エポキシ基である。 The number of alicyclic structures contained in one molecule of the alicyclic epoxy compound (A) may be one or two or more. Further, the number of epoxy groups contained in one molecule of the alicyclic epoxy compound (A) may be 1, or may be 2 or more. According to one example, the alicyclic epoxy compound (A) contains two alicyclic structures and two epoxy groups in one molecule, and these epoxy groups contain carbon atoms having separate alicyclic structures. It is an alicyclic epoxy group.

脂環エポキシ基を有する化合物としては、公知乃至慣用のものの中から任意に選択して使用することができる。脂環エポキシ基を有する化合物は、シクロヘキサン環において互いに隣り合った2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有すること、即ち、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物であることが好ましい。 As the compound having an alicyclic epoxy group, a compound can be arbitrarily selected and used from known or commonly used compounds. The compound having an alicyclic epoxy group is preferably a compound having an epoxy group composed of two carbon atoms and oxygen atoms adjacent to each other in the cyclohexane ring, that is, a compound having a cyclohexene oxide group.

脂環エポキシ基を有する化合物としては、特に、耐熱性、耐光性、及び透明性の点で、下記一般式(I)で表される脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)が好ましい。一般的に、エポキシ化合物は耐熱性に優れている。しかしながら、ビスフェノールA型エポキシ化合物等のベンゼン環を有するエポキシ化合物は、共役二重結合を有しているため、共役二重結合を有していないエポキシ化合物と比較して透明性の点で劣る。下記一般式(I)で表される脂環式エポキシ化合物を使用した場合、特に高い透明性を達成できる。 As the compound having an alicyclic epoxy group, an alicyclic epoxy compound (alicyclic epoxy resin) represented by the following general formula (I) is particularly preferable in terms of heat resistance, light resistance, and transparency. In general, epoxy compounds have excellent heat resistance. However, since an epoxy compound having a benzene ring, such as a bisphenol A type epoxy compound, has a conjugated double bond, it is inferior in transparency as compared with an epoxy compound having no conjugated double bond. When the alicyclic epoxy compound represented by the following general formula (I) is used, particularly high transparency can be achieved.

上記一般式(I)において、R乃至R18は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。 In the above general formula (I), R 1 to R 18 are groups independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, and an organic group.

有機基としては、例えば、炭化水素基であっても、炭素原子とハロゲン原子とからなる基であっても、炭素原子及び水素原子とともに、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、及びケイ素原子のようなヘテロ原子を含むような基であってもよい。ハロゲン原子の例としては、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子、及びフッ素原子等が挙げられる。 As the organic group, for example, whether it is a hydrocarbon group or a group composed of a carbon atom and a halogen atom, the halogen atom, the oxygen atom, the sulfur atom, the nitrogen atom, and silicon are used together with the carbon atom and the hydrogen atom. It may be a group containing a heteroatom such as an atom. Examples of halogen atoms include chlorine atom, bromine atom, iodine atom, fluorine atom and the like.

有機基としては、炭化水素基と、炭素原子、水素原子、及び酸素原子からなる基と、ハロゲン化炭化水素基と、炭素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる基と、炭素原子、水素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる基とが好ましい。有機基が炭化水素基である場合、炭化水素基は、芳香族炭化水素基でも、脂肪族炭化水素基でも、芳香族骨格と脂肪族骨格とを含む基でもよい。 Examples of the organic group include a hydrocarbon group, a group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, and an oxygen atom, a halogenated hydrocarbon group, a group consisting of a carbon atom, an oxygen atom, and a halogen atom, a carbon atom, and a hydrogen atom. , An oxygen atom, and a group consisting of a halogen atom are preferable. When the organic group is a hydrocarbon group, the hydrocarbon group may be an aromatic hydrocarbon group, an aliphatic hydrocarbon group, or a group containing an aromatic skeleton and an aliphatic skeleton.

炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、及びn−イコシル基等の鎖状アルキル基;ビニル基、1−プロペニル基、2−n−プロペニル基(アリル基)、1−n−ブテニル基、2−n−ブテニル基、及び3−n−ブテニル基等の鎖状アルケニル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロヘプチル基等のシクロアルキル基;フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、ビフェニル−4−イル基、ビフェニル−3−イル基、ビフェニル−2−イル基、アントリル基、及びフェナントリル基等のアリール基;並びに、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、α−ナフチルエチル基、及びβ−ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。 Specific examples of the hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group and an n-hexyl group. , N-Heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group. , N-Heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecil group, n-icosyl group and other chain alkyl groups; vinyl group, 1-propenyl group, 2-n-propenyl group (allyl group), 1-n Chain alkenyl groups such as -butenyl group, 2-n-butenyl group, and 3-n-butenyl group; cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, and cycloheptyl group; phenyl group , O-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, α-naphthyl group, β-naphthyl group, biphenyl-4-yl group, biphenyl-3-yl group, biphenyl-2-yl group, anthryl group, And aryl groups such as phenanthryl groups; and aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, α-naphthylethyl group and β-naphthylethyl group.

ハロゲン化炭化水素基の具体例としては、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、及びパーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロヘプチル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロノニル基、及びパーフルオロデシル基等のハロゲン化鎖状アルキル基;2−クロロシクロヘキシル基、3−クロロシクロヘキシル基、4−クロロシクロヘキシル基、2,4−ジクロロシクロヘキシル基、2−ブロモシクロヘキシル基、3−ブロモシクロヘキシル基、及び4−ブロモシクロヘキシル基等のハロゲン化シクロアルキル基;2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2,3−ジクロロフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2,5−ジクロロフェニル基、2,6−ジクロロフェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル基、2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、及び4−フルオロフェニル基等のハロゲン化アリール基;並びに、2−クロロフェニルメチル基、3−クロロフェニルメチル基、4−クロロフェニルメチル基、2−ブロモフェニルメチル基、3−ブロモフェニルメチル基、4−ブロモフェニルメチル基、2−フルオロフェニルメチル基、3−フルオロフェニルメチル基、及び4−フルオロフェニルメチル基等のハロゲン化アラルキル基が挙げられる。 Specific examples of the halogenated hydrocarbon group include chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, dibromomethyl group, tribromomethyl group, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2, 2,2-Trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, heptafluoropropyl group, perfluorobutyl group, and perfluoropentyl group, perfluorohexyl group, perfluoroheptyl group, perfluorooctyl group, perfluorononyl group, And halogenated chain alkyl groups such as perfluorodecyl group; 2-chlorocyclohexyl group, 3-chlorocyclohexyl group, 4-chlorocyclohexyl group, 2,4-dichlorocyclohexyl group, 2-bromocyclohexyl group, 3-bromocyclohexyl Group and halogenated cycloalkyl group such as 4-bromocyclohexyl group; 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 2,3-dichlorophenyl group, 2,4-dichlorophenyl group, 2,5-dichlorophenyl Group, 2,6-dichlorophenyl group, 3,4-dichlorophenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 2-fluorophenyl group, 3-fluoro Alyl halide groups such as phenyl group and 4-fluorophenyl group; and 2-chlorophenylmethyl group, 3-chlorophenylmethyl group, 4-chlorophenylmethyl group, 2-bromophenylmethyl group, 3-bromophenylmethyl group, Examples thereof include halogenated aralkyl groups such as 4-bromophenylmethyl group, 2-fluorophenylmethyl group, 3-fluorophenylmethyl group, and 4-fluorophenylmethyl group.

炭素原子、水素原子、及び酸素原子からなる基の具体例としては、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシ−n−プロピル基、及び4−ヒドロキシ−n−ブチル基等のヒドロキシ鎖状アルキル基;2−ヒドロキシシクロヘキシル基、3−ヒドロキシシクロヘキシル基、及び4−ヒドロキシシクロヘキシル基等のハロゲン化シクロアルキル基;2−ヒドロキシフェニル基、3−ヒドロキシフェニル基、4−ヒドロキシフェニル基、2,3−ジヒドロキシフェニル基、2,4−ジヒドロキシフェニル基、2,5−ジヒドロキシフェニル基、2,6−ジヒドロキシフェニル基、3,4−ジヒドロキシフェニル基、及び3,5−ジヒドロキシフェニル基等のヒドロキシアリール基;2−ヒドロキシフェニルメチル基、3−ヒドロキシフェニルメチル基、及び4−ヒドロキシフェニルメチル基等のヒドロキシアラルキル基;メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−トリデシルオキシ基、n−テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ基、n−ヘキサデシルオキシ基、n−ヘプタデシルオキシ基、n−オクタデシルオキシ基、n−ノナデシルオキシ基、及びn−イコシルオキシ基等の鎖状アルコキシ基;ビニルオキシ基、1−プロペニルオキシ基、2−n−プロペニルオキシ基(アリルオキシ基)、1−n−ブテニルオキシ基、2−n−ブテニルオキシ基、及び3−n−ブテニルオキシ基等の鎖状アルケニルオキシ基;フェノキシ基、o−トリルオキシ基、m−トリルオキシ基、p−トリルオキシ基、α−ナフチルオキシ基、β−ナフチルオキシ基、ビフェニル−4−イルオキシ基、ビフェニル−3−イルオキシ基、ビフェニル−2−イルオキシ基、アントリルオキシ基、及びフェナントリルオキシ基等のアリールオキシ基;ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、α−ナフチルメチルオキシ基、β−ナフチルメチルオキシ基、α−ナフチルエチルオキシ基、及びβ−ナフチルエチルオキシ基等のアラルキルオキシ基;メトキシメチル基、エトキシメチル基、n−プロピルオキシメチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−n−プロピルオキシエチル基、3−メトキシ−n−プロピル基、3−エトキシ−n−プロピル基、3−n−プロピルオキシ−n−プロピル基、4−メトキシ−n−ブチル基、4−エトキシ−n−ブチル基、及び4−n−プロピルオキシ−n−プチル基等のアルコキシアルキル基;メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、n−プロピルオキシメトキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ基、2−n−プロピルオキシエトキシ基、3−メトキシ−n−プロピルオキシ基、3−エトキシ−n−プロピルオキシ基、3−n−プロピルオキシ−n−プロピルオキシ基、4−メトキシ−n−ブチルオキシ基、4−エトキシ−n−ブチルオキシ基、及び4−n−プロピルオキシ−n−ブチルオキシ基等のアルコキシアルコキシ基;2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、及び4−メトキシフェニル基等のアルコキシアリール基;2−メトキシフェノキシ基、3−メトキシフェノキシ基、及び4−メトキシフェノキシ基等のアルコキシアリールオキシ基;ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、及びデカノイル基等の脂肪族アシル基;ベンゾイル基、α−ナフトイル基、及びβ−ナフトイル基等の芳香族アシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、及びn−デシルオキシカルボニル基等の鎖状アルキルオキシカルボニル基;フェノキシカルボニル基、α−ナフトキシカルボニル基、及びβ−ナフトキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基;ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、及びデカノイルオキシ基等の脂肪族アシルオキシ基;並びに、ベンゾイルオキシ基、α−ナフトイルオキシ基、及びβ−ナフトイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基が挙げられる。 Specific examples of the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, and an oxygen atom include a hydroxy chain such as a hydroxymethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 3-hydroxy-n-propyl group, and a 4-hydroxy-n-butyl group. State Alkyl group; Cycloalkyl halide group such as 2-hydroxycyclohexyl group, 3-hydroxycyclohexyl group, and 4-hydroxycyclohexyl group; 2-hydroxyphenyl group, 3-hydroxyphenyl group, 4-hydroxyphenyl group, 2, Hydroxyaryl such as 3-dihydroxyphenyl group, 2,4-dihydroxyphenyl group, 2,5-dihydroxyphenyl group, 2,6-dihydroxyphenyl group, 3,4-dihydroxyphenyl group, and 3,5-dihydroxyphenyl group. Group; hydroxyaralkyl group such as 2-hydroxyphenylmethyl group, 3-hydroxyphenylmethyl group, and 4-hydroxyphenylmethyl group; methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, Isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, n-nonyloxy group, n -Desyloxy group, n-undecyloxy group, n-tridecyloxy group, n-tetradecyloxy group, n-pentadecyloxy group, n-hexadecyloxy group, n-heptadecyloxy group, n-octadecyloxy group Chain alkoxy groups such as groups, n-nonadesyloxy groups, and n-icosyloxy groups; vinyloxy groups, 1-propenyloxy groups, 2-n-propenyloxy groups (allyloxy groups), 1-n-butenyloxy groups, 2-n. Chain alkenyloxy groups such as -butenyloxy group and 3-n-butenyloxy group; phenoxy group, o-tolyloxy group, m-tolyloxy group, p-tolyloxy group, α-naphthyloxy group, β-naphthyloxy group, biphenyl Aryloxy groups such as -4-yloxy group, biphenyl-3-yloxy group, biphenyl-2-yloxy group, anthryloxy group, and phenanthryloxy group; benzyloxy group, phenethyloxy group, α-naphthylmethyloxy Aralkyloxy groups such as groups, β-naphthylmethyloxy groups, α-naphthylethyloxy groups, and β-naphthylethyloxy groups; methoxymethyl groups, ethoxymethyl groups, n- Propyloxymethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-n-propyloxyethyl group, 3-methoxy-n-propyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 3-n-propyloxy Alkoxyalkyl groups such as -n-propyl group, 4-methoxy-n-butyl group, 4-ethoxy-n-butyl group, and 4-n-propyloxy-n-ptyl group; methoxymethoxy group, ethoxymethoxy group, n-propyloxymethoxy group, 2-methoxyethoxy group, 2-ethoxyethoxy group, 2-n-propyloxyethoxy group, 3-methoxy-n-propyloxy group, 3-ethoxy-n-propyloxy group, 3- alkoxyalkoxy groups such as n-propyloxy-n-propyloxy group, 4-methoxy-n-butyloxy group, 4-ethoxy-n-butyloxy group, and 4-n-propyloxy-n-butyloxy group; 2-methoxy Alkoxyaryl groups such as phenyl group, 3-methoxyphenyl group, and 4-methoxyphenyl group; alkoxyaryloxy group such as 2-methoxyphenoxy group, 3-methoxyphenoxy group, and 4-methoxyphenoxy group; formyl group, acetyl Aliphatic acyl groups such as groups, propionyl groups, butanoyl groups, pentanoyl groups, hexanoyl groups, heptanoyl groups, octanoyl groups, nonanoyl groups, and decanoyle groups; aromatic groups such as benzoyl groups, α-naphthoyl groups, and β-naphthoyl groups. Acyl group; methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, n-hexylcarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group Chain alkyloxycarbonyl groups such as groups, n-nonyloxycarbonyl groups, and n-decyloxycarbonyl groups; aryloxycarbonyl groups such as phenoxycarbonyl groups, α-naphthoxycarbonyl groups, and β-naphthoxycarbonyl groups; Aliphatic acyloxys such as formyloxy group, acetyloxy group, propionyloxy group, butanoyloxy group, pentanoyloxy group, hexanoyloxy group, heptanoyloxy group, octanoyloxy group, nonanoyloxy group, and decanoyyloxy group. Groups; and aromatic acyloxy groups such as benzoyloxy group, α-naphthyloxy group, and β-naphthyloxy group.

乃至R18は、特に硬化性組成物を用いて得られる硬化物の硬度の観点から、全てが水素原子であることがより好ましい。 It is more preferable that all of R 1 to R 18 are hydrogen atoms, particularly from the viewpoint of the hardness of the cured product obtained by using the curable composition.

また、上記一般式(I)において、Xは、単結合又は連結基(1以上の原子を有する2価の基)である。 Further, in the above general formula (I), X is a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms).

上記連結基としては、例えば、2価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル基(エーテル結合)、チオエーテル基(チオエーテル結合)、エステル基(エステル結合)、カーボネート基(カーボネート結合)、アミド基(アミド結合)、及びこれらが複数個連結した基等が挙げられる。 Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether group (ether bond), a thioether group (thioether bond), an ester group (ester bond), a carbonate group (carbonate bond), and an amide group (amide). Bonding), and groups in which a plurality of these are linked are mentioned.

上記2価の炭化水素基としては、例えば、炭素数が1乃至18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、及び、2価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1乃至18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、及びトリメチレン基が挙げられる。2価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、及びシクロヘキシリデン基等の2価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)が挙げられる。 Examples of the divalent hydrocarbon group include a linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, a divalent alicyclic hydrocarbon group and the like. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group and 1,3-cyclohexyl group. Examples thereof include a divalent cycloalkylene group (including a cycloalkylidene group) such as a silene group, a 1,4-cyclohexylene group and a cyclohexylidene group.

上記連結基Xとしては、酸素原子を含有する連結基が好ましい。そのような連結基Xとしては、例えば、−CO−(カルボニル基)、−O−CO−O−(カーボネート基)、−COO−(エステル基)、−O−(エーテル基)、−CONH−(アミド基)、これらの基が複数個連結した基、及びこれらの基の1又は2以上と2価の炭化水素基の1又は2以上とが連結した基が挙げられる。2価の炭化水素基としては、例えば、上記で例示したものが挙げられる。 As the linking group X, a linking group containing an oxygen atom is preferable. Examples of such a linking group X include -CO- (carbonyl group), -O-CO-O- (carbonate group), -COO- (ester group), -O- (ether group), and -CONH-. Examples thereof include (amide group), a group in which a plurality of these groups are linked, and a group in which one or two or more of these groups and one or two or more of divalent hydrocarbon groups are linked. Examples of the divalent hydrocarbon group include those exemplified above.

上記一般式(I)で表される脂環式エポキシ化合物としては、例えば、商品名「セロキサイド2021P」及び「セロキサイド2081」(何れも(株)ダイセル製)等の市販品を使用することもできる。また、一般式(I)で表される脂環式エポキシ化合物のうちXが単結合であるものとして、例えば、商品名「セロキサイド8000」((株)ダイセル製)などの市販品を用いることもできる。 As the alicyclic epoxy compound represented by the general formula (I), for example, commercially available products such as the trade names "Selokiside 2021P" and "Selokiside 2081" (both manufactured by Daicel Corporation) can be used. .. Further, as the alicyclic epoxy compound represented by the general formula (I) in which X is a single bond, for example, a commercially available product such as the trade name "Selokiside 8000" (manufactured by Daicel Corporation) may be used. it can.

脂環式エポキシ化合物(A)は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。上記の中でも、脂環式エポキシ化合物(A)としては、3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(商品名「セロキサイド2021P」)及びε−カプロラクトン変性3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートの少なくとも一方を使用することが特に好ましい。 The alicyclic epoxy compound (A) can be used alone or in combination of two or more. Among the above, as the alicyclic epoxy compound (A), 3', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (trade name "celloxide 2021P") and ε-caprolactone-modified 3', 4' It is particularly preferred to use at least one of the −epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate.

脂環式エポキシ化合物(A)とポリオール化合物(B)との合計量に占める脂環式エポキシ化合物(A)の量の割合は、50乃至80質量%の範囲内にあることが好ましく、70乃至75質量%の範囲内にあることがより好ましい。この割合が小さすぎると、樹脂組成物の硬化物において架橋密度が低くなり、高い耐熱性が得られない可能性がある。この割合が大きすぎると、樹脂組成物の硬化物は、硬く脆い性状となり、高い可撓性が得られない可能性がある。 The ratio of the amount of the alicyclic epoxy compound (A) to the total amount of the alicyclic epoxy compound (A) and the polyol compound (B) is preferably in the range of 50 to 80% by mass, and is preferably 70 to 80%. It is more preferably in the range of 75% by mass. If this ratio is too small, the crosslink density of the cured product of the resin composition becomes low, and high heat resistance may not be obtained. If this ratio is too large, the cured product of the resin composition becomes hard and brittle, and high flexibility may not be obtained.

[ポリオール化合物(B)]
樹脂組成物にポリオール化合物(B)を含めることにより、高い可撓性を有している硬化物を形成でき、また、樹脂組成物の硬化物のみで自立することができるシートの製造が可能となる。
[Polyform compound (B)]
By including the polyol compound (B) in the resin composition, it is possible to form a cured product having high flexibility, and it is possible to produce a sheet that can stand on its own only with the cured product of the resin composition. Become.

ポリオール化合物(B)とは、1分子内に2個以上の水酸基を有し、数平均分子量が例えば200以上の重合体(オリゴマー又はポリマー)である。ポリオール化合物(B)には、例えば、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、及びポリカーボネートポリオールが含まれる。なお、ポリオール化合物は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 The polyol compound (B) is a polymer (oligomer or polymer) having two or more hydroxyl groups in one molecule and having a number average molecular weight of, for example, 200 or more. The polyol compound (B) includes, for example, a polyether polyol, a polyester polyol, and a polycarbonate polyol. The polyol compound can be used alone or in combination of two or more.

ポリオール化合物(B)が有する水酸基(2個以上の水酸基)は、アルコール性水酸基であってもよいし、フェノール性水酸基であってもよい。また、ポリオール化合物(B)が1分子内に有する水酸基の数は、2以上であればよく、特に限定されない。 The hydroxyl group (two or more hydroxyl groups) contained in the polyol compound (B) may be an alcoholic hydroxyl group or a phenolic hydroxyl group. Further, the number of hydroxyl groups contained in one molecule of the polyol compound (B) may be 2 or more, and is not particularly limited.

ポリオール化合物(B)における水酸基(2個以上の水酸基)の位置は、特に限定されないが、硬化剤との反応性の観点で、ポリオール分子の少なくとも一方の末端(重合体主鎖の末端)に存在することが好ましく、ポリオール分子の少なくとも両末端に存在することが特に好ましい。 The positions of the hydroxyl groups (two or more hydroxyl groups) in the polyol compound (B) are not particularly limited, but are present at at least one end of the polyol molecule (the end of the polymer main chain) from the viewpoint of reactivity with the curing agent. It is particularly preferable that the polyol molecule is present at at least both ends.

ポリオール化合物(B)は、その他の成分と配合した後に液状の樹脂組成物を形成できればよく、それ自体は、固体であってもよいし、液体であってもよい。 The polyol compound (B) may be a solid or a liquid as long as it can form a liquid resin composition after being blended with other components.

ポリオール化合物(B)の数平均分子量は、特に限定されないが、例えば200以上であり、200乃至100000の範囲内にあることが好ましく、300乃至1000の範囲内にあることがより好ましい。数平均分子量が小さすぎると、樹脂組成物を塗工する基材から樹脂組成物の硬化物であるフィルムを剥離する際に、フィルムに破断やクラックが発生する場合がある。一方、数平均分子量が大きすぎると、液状の樹脂組成物においてポリオール化合物が析出するか、又は、ポリオール化合物を他の成分中に溶解させることができない場合がある。なお、ポリオール化合物(B)の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定される標準ポリスチレン換算の数平均分子量を意味する。 The number average molecular weight of the polyol compound (B) is not particularly limited, but is, for example, 200 or more, preferably in the range of 200 to 100,000, and more preferably in the range of 300 to 1000. If the number average molecular weight is too small, the film may be broken or cracked when the film, which is a cured product of the resin composition, is peeled off from the base material on which the resin composition is applied. On the other hand, if the number average molecular weight is too large, the polyol compound may precipitate in the liquid resin composition, or the polyol compound may not be dissolved in other components. The number average molecular weight of the polyol compound (B) means a standard polystyrene-equivalent number average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC).

ポリオール化合物(B)は、水酸基価が190乃至550KOHmg/gの範囲内にあることが好ましい。水酸基価が小さすぎると、樹脂組成物の硬化物において架橋密度が低くなり、高い耐熱性が得られない可能性がある。水酸基価が大きすぎると、エポキシ基の量に対し、水酸基の量が過剰となり、反応に寄与しない浮遊モノマーが硬化物中に発生する可能性がある。その結果、熱重量変化が大きくなり、耐熱性の低下、更には吸湿性の増加を生じる可能性がある。 The polyol compound (B) preferably has a hydroxyl value in the range of 190 to 550 KOH mg / g. If the hydroxyl value is too small, the crosslink density of the cured product of the resin composition becomes low, and high heat resistance may not be obtained. If the hydroxyl value is too large, the amount of hydroxyl groups becomes excessive with respect to the amount of epoxy groups, and suspended monomers that do not contribute to the reaction may be generated in the cured product. As a result, the change in thermogravimetric analysis becomes large, which may cause a decrease in heat resistance and an increase in hygroscopicity.

ポリオール化合物(B)としては、例えば、分子内にエステル骨格(ポリエステル骨格)を有するポリエステルポリオール(ポリエステルポリオールオリゴマーを含む)、分子内にエーテル骨格(ポリエーテル骨格)を有するポリエーテルポリオール(ポリエーテルポリオールオリゴマーを含む)、及び分子内にカーボネート骨格(ポリカーボネート骨格)を有するポリカーボネートポリオール(ポリカーボネートポリオールオリゴマーを含む)などが挙げられる。ポリオール化合物(B)には、その他化合物、例えば、フェノキシ樹脂、エポキシ当量が1000g/eq.を超えるビスフェノール型高分子エポキシ樹脂、水酸基を有するポリブタジエン類、及びアクリルポリオールも含まれる。 Examples of the polyol compound (B) include a polyester polyol (including a polyester polyol oligomer) having an ester skeleton (polyester skeleton) in the molecule, and a polyether polyol (polyether polyol) having an ether skeleton (polycarbonate skeleton) in the molecule. (Contains oligomers), polycarbonate polyols (including polycarbonate polyol oligomers) having a carbonate skeleton (polycarbonate skeleton) in the molecule, and the like. The polyol compound (B) includes other compounds such as phenoxy resin and epoxy equivalent of 1000 g / eq. Also included are bisphenol type high molecular weight epoxy resins exceeding the above, polybutadienes having hydroxyl groups, and acrylic polyols.

上記ポリエステルポリオールとしては、例えば、ポリオールとポリカルボン酸(多塩基酸)との又はヒドロキシカルボン酸の縮合重合(例えば、エステル交換反応)により得られるポリエステルポリオールや、ラクトン類の開環重合により得られるポリエステルポリオールなどが挙げられる。 The polyester polyol is, for example, a polyester polyol obtained by condensation polymerization of a polyol and a polycarboxylic acid (polycarboxylic acid) or a hydroxycarboxylic acid (for example, a transesterification reaction), or a polyester polyol obtained by ring-opening polymerization of lactones. Examples include polyester polyol.

上記ポリエステルポリオールを得るための縮合重合に使用するポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,3,5−トリメチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2−エチル−1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジオール、2,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,2−ジメチロールシクロヘキサン、1,3−ジメチロールシクロヘキサン、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、1,12−ドデカンジオール、ポリブタジエンジオール、ネオペンチルグリコール、テトラメチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、1,3−ジヒドロキシアセトン、ヘキシレングリコール、1,2,6−ヘキサントリオール、ジトリメチロールプロパン、マンニトール、ソルビトール、及びペンタエリスリトールが挙げられる。 Examples of the polyol used for the condensation polymerization for obtaining the polyester polyol include ethylene glycol, diethylene glycol, 1,2-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,3-propanediol, and 1, 4-butanediol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 1,5-pentanediol, 2-methyl-1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2, 3,5-trimethyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2-ethyl-1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexanediol, 2,6- Hexanediol, 1,8-octanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,2-dimethylolcyclohexane, 1,3-dimethylolcyclohexane, 1,4-dimethylolcyclohexane, 1,12-dodecanediol, polybutadiene Diol, neopentyl glycol, tetramethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylol propane, 1,3-dihydroxyacetone, hexylene glycol, 1,2,6-hexanetriol, ditrimethylolpropane, mannitol, sorbitol , And pentaerythritol.

上記ポリエステルポリオールを得るための縮合重合に使用するポリカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、アジピン酸、セバシン酸、フマル酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アゼライン酸、クエン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シトラコン酸、1,10−デカンジカルボン酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、無水ピロメリット酸、及び無水トリメリット酸が挙げられる。 Examples of the polycarboxylic acid used for the condensation polymerization for obtaining the polyester polyol include oxalic acid, adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, azelaic acid, citric acid, 2,6. -Naphthalenedicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, citraconic acid, 1,10-decandicarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, Examples thereof include pyromellitic anhydride and trimellitic anhydride.

上記ポリエステルポリオールを得るための縮合重合に使用するヒドロキシカルボン酸としては、例えば、乳酸、りんご酸、グリコール酸、ジメチロールプロピオン酸、及びジメチロールブタン酸が挙げられる。 Examples of the hydroxycarboxylic acid used for the condensation polymerization for obtaining the polyester polyol include lactic acid, apple acid, glycolic acid, dimethylolpropionic acid, and dimethylolbutanoic acid.

上記ポリエステルポリオールを得るための開環重合に使用するラクトン類としては、例えば、ε−カプロラクトン、δ−バレロラクトン、及びγ−ブチロラクトンが挙げられる。 Examples of the lactones used for ring-opening polymerization for obtaining the polyester polyol include ε-caprolactone, δ-valerolactone, and γ-butyrolactone.

上記ポリエステルポリオールとしては、例えば、商品名「プラクセル205」、「プラクセル205H」、「プラクセル205U」、「プラクセル205BA」、「プラクセル208」、「プラクセル210」、「プラクセル210CP」、「プラクセル210BA」、「プラクセル212」、「プラクセル212CP」、「プラクセル220」、「プラクセル220CPB」、「プラクセル220NP1」、「プラクセル220BA」、「プラクセル220ED」、「プラクセル220EB」、「プラクセル220EC」、「プラクセル230」、「プラクセル230CP」、「プラクセル240」、「プラクセル240CP」、「プラクセル210N」、「プラクセル220N」、「プラクセルL205AL」、「プラクセルL208AL」、「プラクセルL212AL」、「プラクセルL220AL」、「プラクセルL230AL」、「プラクセル305」、「プラクセル308」、「プラクセル312」、「プラクセルL312AL」、「プラクセル320」、「プラクセルL320AL」、「プラクセルL330AL」、「プラクセル410」、「プラクセル410D」、「プラクセル610」、「プラクセルP3403」、及び「プラクセルCDE9P」(何れも(株)ダイセル製)等の市販品を使用することができる。 Examples of the polyester polyol include the trade names "Plaxel 205", "Plaxel 205H", "Plaxel 205U", "Plaxel 205BA", "Plaxel 208", "Plaxel 210", "Plaxel 210CP", "Plaxel 210BA", "Plaxel 212", "Plaxel 212CP", "Plaxel 220", "Plaxel 220CPB", "Plaxel 220NP1", "Plaxel 220BA", "Plaxel 220ED", "Plaxel 220EB", "Plaxel 220EC", "Plaxel 230", "Plaxel 230CP", "Plaxel 240", "Plaxel 240CP", "Plaxel 210N", "Plaxel 220N", "Plaxel L205AL", "Plaxel L208AL", "Plaxel L212AL", "Plaxel L220AL", "Plaxel L230AL", "Plaxel 305", "Plaxel 308", "Plaxel 312", "Plaxel L312AL", "Plaxel 320", "Plaxel L320AL", "Plaxel L330AL", "Plaxel 410", "Plaxel 410D", "Plaxel 610", Commercially available products such as "Plaxel P3403" and "Plaxel CDE9P" (both manufactured by Daicel Corporation) can be used.

上記ポリエーテルポリオールとしては、例えば、ポリオール類への環状エーテル化合物の付加反応により得られるポリエーテルポリオール、及びアルキレンオキシドの開環重合により得られるポリエーテルポリオールが挙げられる。 Examples of the above-mentioned polyether polyol include a polyether polyol obtained by an addition reaction of a cyclic ether compound to polyols and a polyether polyol obtained by ring-opening polymerization of an alkylene oxide.

上記ポリエーテルポリオールとしては、より具体的には、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,2−プロパンジオール(プロピレングリコール)、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール(テトラメチレングリコール)、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,3,5−トリメチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2−エチル−1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジオール、2,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,2−ジメチロールシクロヘキサン、1,3−ジメチロールシクロヘキサン、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、1,12−ドデカンジオール、ポリブタジエンジオール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、1,3−ジヒドロキシアセトン、ヘキシレングリコール、1,2,6−ヘキサントリオール、ジトリメチロールプロパン、マンニトール、ソルビトール、及びペンタエリスリトールなどのポリオール類の多量体;上記ポリオール類と、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、1,2−ブチレンオキサイド、1,3−ブチレンオキサイド、2,3−ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、及びエピクロロヒドリン等のアルキレンオキサイドとの付加物;並びにテトラヒドロフラン類などの環状エーテルの開環重合体(例えば、ポリテトラメチレングリコール)が挙げられる。 More specifically, the polyether polyols include, for example, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,2-propanediol (propylene glycol), 2-methyl-1,3-propanediol, 1,3-propanediol, and 1 , 4-Butandiol (Tetramethylene Glycol), 1,3-Butandiol, 2,3-Butandiol, 1,5-Pentanediol, 2-Methyl-1,5-Pentanediol, 3-Methyl-1,5 -Pentanediol, 2,3,5-trimethyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2-ethyl-1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexane Diol, 2,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,2-dimethylolcyclohexane, 1,3-dimethylolcyclohexane, 1,4-dimethylolcyclohexane, 1, 12-dodecanediol, polybutadienediol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, 1,3-dihydroxyacetone, hexylene glycol, 1,2,6-hexanetriol, ditrimethylolpropane, mannitol, sorbitol, And multimers of polyols such as pentaerythritol; the above polyols and ethylene oxide, propylene oxide, 1,2-butylene oxide, 1,3-butylene oxide, 2,3-butylene oxide, tetrahydrofuran, and epichlorohydrin. Additions with alkylene oxides such as; and ring-opening polymers of cyclic ethers such as tetrahydrofurans (eg, polytetramethylene glycol).

上記ポリエーテルポリオールとしては、例えば、商品名「PEP−101」(フロイント産業(株)製)、商品名「アデカプルロニックL」、「アデカプルロニックP」、「アデカプルロニックF」、「アデカプルロニックR」、「アデカプルロニックTR」、及び「アデカPEG」(何れもアデカ(株)製);商品名「PEG#1000」、「PEG#1500」、及び「PEG#11000」(何れも日油(株)製);商品名「ニューポールPE−34」、「ニューポールPE−61」、「ニューポールPE−78」、「ニューポールPE−108」、「PEG−200」、「PEG−600」、「PEG−2000」、「PEG−6000」、「PEG−10000」、及び「PEG−20000」(何れも三洋化成工業(株)製);商品名「PTMG1000」、「PTMG1800」、及び「PTMG2000」(何れも三菱化学(株)製);並びに「PTMGプレポリマー」(三菱樹脂(株)製)等の市販品を使用することができる。 Examples of the polyether polyol include the trade name "PEP-101" (manufactured by Freund Sangyo Co., Ltd.), the trade names "Adecapluronic L", "Adecapluronic P", "Adecapluronic F", and "Adecapluronic R". , "Adecapurronic TR", and "Adeca PEG" (both manufactured by Adeca Co., Ltd.); trade names "PEG # 1000", "PEG # 1500", and "PEG # 11000" (both manufactured by Nichiyu Co., Ltd.) Made by); Product names "New Pole PE-34", "New Pole PE-61", "New Pole PE-78", "New Pole PE-108", "PEG-200", "PEG-600", " PEG-2000, "PEG-6000", "PEG-10000", and "PEG-10000" (all manufactured by Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd.); trade names "PTMG1000", "PTMG1800", and "PTMG2000" ( In each case, commercially available products such as "PTMG prepolymer" (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd.) can be used.

上記ポリカーボネートポリオールとは、分子内に2個以上の水酸基を有するポリカーボネートである。中でも、上記ポリカーボネートポリオールとしては、分子内に2個の末端水酸基を有するポリカーボネートジオールが好ましい。 The polycarbonate polyol is a polycarbonate having two or more hydroxyl groups in the molecule. Among them, as the polycarbonate polyol, a polycarbonate diol having two terminal hydroxyl groups in the molecule is preferable.

上記ポリカーボネートポリオールは、通常のポリカーボネートポリオールを製造する方法と同じく、ホスゲン法、又は、ジメチルカーボネート及びジエチルカーボネートのようなジアルキルカーボネート又はジフェニルカーボネートを用いるカーボネート交換反応(特開昭62−187725号公報、特開平2−175721号公報、特開平2−49025号公報、特開平3−220233号公報、特開平3−252420号公報等)などにより合成される。上記ポリカーボネートポリオールにおけるカーボネート結合は熱分解を受けにくいため、ポリカーボネートポリオールを含む樹脂組成物の硬化物は高温高湿下でも優れた安定性を示す。 The above-mentioned polycarbonate polyol is a carbonate exchange reaction using a phosgene method or a dialkyl carbonate or a diphenyl carbonate such as dimethyl carbonate and diethyl carbonate (Japanese Patent Laid-Open No. 62-187725), in the same manner as a method for producing a normal polycarbonate polyol. It is synthesized according to Kaihei 2-175721, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-49025, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-220233, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-252420, etc.). Since the carbonate bond in the polycarbonate polyol is not easily decomposed by heat, the cured product of the resin composition containing the polycarbonate polyol exhibits excellent stability even under high temperature and high humidity.

上記ジアルキルカーボネート又はジフェニルカーボネートと共にカーボネート交換反応で用いられるポリオールとしては、例えば、1,6−ヘキサンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,12−ドデカンジオール、ブタジエンジオール、ネオペンチルグリコール、テトラメチレングリコール、プロピレングリコール、及びプロピレングリコールが挙げられる。 Examples of the polyol used in the carbonate exchange reaction together with the above dialkyl carbonate or diphenyl carbonate include 1,6-hexanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, and 1,3-butane. Diol, 2,3-butanediol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1 , 12-Dodecanediol, butadienediol, neopentyl glycol, tetramethylene glycol, propylene glycol, and propylene glycol.

上記ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、商品名「プラクセルCD205PL」、「プラクセルCD205HL」、「プラクセルCD210PL」、「プラクセルCD210HL」、「プラクセルCD220PL」、及び「プラクセルCD220HL」(何れも(株)ダイセル製);商品名「UH−CARB50」、「UH−CARB100」、「UH−CARB300」、「UH−CARB90(1/3)」、「UH−CARB90(1/1)」、及び「UC−CARB100」(何れも宇部興産(株)製);並びに、商品名「PCDL T4671」、「PCDL T4672」、「PCDL T5650J」、「PCDL T5651」、及び「PCDL T5652」(何れも旭化成ケミカルズ(株)製)等の市販品を使用することができる。 Examples of the polycarbonate polyol include the trade names "Plaxel CD205PL", "Plaxel CD205HL", "Plaxel CD210PL", "Plaxel CD210HL", "Plaxel CD220PL", and "Plaxel CD220HL" (all manufactured by Daicel Corporation). Product names "UH-CARB50", "UH-CARB100", "UH-CARB300", "UH-CARB90 (1/3)", "UH-CARB90 (1/1)", and "UC-CARB100" (any of them) Also manufactured by Ube Industries, Ltd.; and product names such as "PCDL T4671", "PCDL T4672", "PCDL T5650J", "PCDL T5651", and "PCDL T5652" (all manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.) Commercially available products can be used.

上記ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、及びポリカーボネートポリオール以外のポリオールとしては、例えば、商品名「YP−50」、「YP−50S」、「YP−55U」、「YP−70」、「ZX−1356−2」、「YPB−43C」、「YPB−43M」、「FX−316」、「FX−310T40」、「FX−280S」、「FX−293」、「YPS−007A30」、及び「TX−1016」(何れも新日鐵化学(株)製)や、商品名「jER1256」、「jER4250」、及び「jER4275」(何れも三菱化学(株)製)などのフェノキシ樹脂;商品名「エポトートYD−014」、「エポトートYD−017」、「エポトートYD−019」、「エポトートYD−020G」、「エポトートYD−904」、「エポトートYD−907」、及び「エポトートYD−6020」(何れも新日鐵化学(株)製)や、商品名「jER1007」、「jER1009」、「jER1010」、「jER1005F」、「jER1009F」、「jER1006FS」、及び「jER1007FS」(何れも三菱化学(株)製)などのエポキシ当量が1000g/eq.を超えるビスフェノール型高分子エポキシ樹脂;商品名「Poly bd R−45HT」、「Poly bd R−15HT」、「Poly ip」、及び「KRASOL」(何れも出光興産(株)製)や、商品名「α−ωポリブタジエングリコール G−1000」、「α−ωポリブタジエングリコール G−2000」、及び「α−ωポリブタジエングリコール G−3000」(何れも日本曹達(株)製)などの水酸基を有するポリブタジエン類;並びに、商品名「ヒタロイド3903」、「ヒタロイド3904」、「ヒタロイド3905」、「ヒタロイド6500」、「ヒタロイド6500B」、及び「ヒタロイド3018X」(何れも日立化成工業(株)製)や、商品名「アクリディックDL−1537」、「アクリディックBL−616」、「アクリディックAL−1157」、「アクリディックA−322」、「アクリディックA−817」、「アクリディックA−870」、「アクリディックA−859−B」、「アクリディックA−829」、及び「アクリディックA−49−394−IM」(何れもDIC(株)製)、商品名「ダイヤナールSR−1346」、「ダイヤナールSR−1237」、及び「ダイヤナールAS−1139」(何れも三菱レイヨン(株)製)などのアクリルポリオール等の市販品を使用することができる。 Examples of the polyols other than the above-mentioned polyether polyol, polyester polyol, and polycarbonate polyol include trade names "YP-50", "YP-50S", "YP-55U", "YP-70", and "ZX-1356-". 2 ”,“ YPB-43C ”,“ YPB-43M ”,“ FX-316 ”,“ FX-310T40 ”,“ FX-280S ”,“ FX-293 ”,“ YPS-007A30 ”, and“ TX-1016 ” (All manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) and phenoxy resins such as the product names "jER1256", "jER4250", and "jER4275" (both manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.); Product name "Epototo YD-" 014 ”,“ Epototo YD-017 ”,“ Epototo YD-019 ”,“ Epototo YD-020G ”,“ Epototo YD-904 ”,“ Epototo YD-907 ”, and“ Epototo YD-6020 ”(all new days (Made by Tetsugaku Co., Ltd.), product names "jER1007", "jER1009", "jER1010", "jER1005F", "jER1009F", "jER1006FS", and "jER1007FS" (all manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), etc. The epoxy equivalent of 1000 g / eq. Bisphenol type high molecular weight acrylic resin exceeding the above; trade names "Poly bd R-45HT", "Poly bd R-15HT", "Poly ip", and "KRASOL" (all manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.) and trade names. Polybutadienes having hydroxyl groups such as "α-ω polybutadiene glycol G-1000", "α-ω polybutadiene glycol G-2000", and "α-ω polybutadiene glycol G-3000" (all manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) In addition, the product names "Hitaroid 3903", "Hitaroid 3904", "Hitaroid 3905", "Hitaroid 6500", "Hitaroid 6500B", and "Hitaroid 3018X" (all manufactured by Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd.) and product names. "Acrylic DL-1537", "Acrydic BL-616", "Acrydic AL-1157", "Acrydic A-322", "Acrydic A-817", "Acrylic A-870", "Acrylic" "Dick A-859-B", "Acrylic A-829", and "Acrylic A-49-394-IM" (all manufactured by DIC Co., Ltd.), trade names "Dianar SR-1346", "Diamond" Commercially available products such as acrylic polyols such as "Nar SR-1237" and "Dianar AS-1139" (both manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) can be used.

なお、上記ポリオール化合物は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。ポリオール化合物(B)は、ポリエステルポリオール、例えば商品名「プラクセル305」及び「プラクセル308」(何れも(株)ダイセル製)などのポリカプロラクトントリオール、並びに、商品名「プラクセルCD205PL」((株)ダイセル製)などのカーボネートジオールの少なくとも一方であることが特に好ましい。 The above polyol compound can be used alone or in combination of two or more. The polyol compound (B) is a polyester polyol, for example, polycaprolactone triol such as the trade names "Plaxel 305" and "Plaxel 308" (both manufactured by Daicel Corporation), and the trade name "Plaxel CD205PL" (Daicel Co., Ltd.). It is particularly preferable that it is at least one of the carbonate diols such as (manufactured by).

脂環式エポキシ化合物(A)とポリオール化合物(B)との合計量に占めるポリオール化合物(B)の量の割合は、20乃至50質量%の範囲内にあることが好ましく、25乃至30質量%の範囲内にあることがより好ましい。この割合が小さすぎると、樹脂組成物の硬化物は、硬く脆い性状となり、高い可撓性が得られない可能性がある。この割合が大きすぎると、樹脂組成物の硬化物において架橋密度が低くなり、エポキシ基の量に対して水酸基の量が過剰となり、樹脂組成物を十分に硬化させることができない可能性がある。 The ratio of the amount of the polyol compound (B) to the total amount of the alicyclic epoxy compound (A) and the polyol compound (B) is preferably in the range of 20 to 50% by mass, preferably 25 to 30% by mass. It is more preferable that it is within the range of. If this ratio is too small, the cured product of the resin composition will have a hard and brittle property, and high flexibility may not be obtained. If this ratio is too large, the crosslink density in the cured product of the resin composition becomes low, the amount of hydroxyl groups becomes excessive with respect to the amount of epoxy groups, and the resin composition may not be sufficiently cured.

[酸発生剤(C)]
酸発生剤(C)は、樹脂組成物中のエポキシ基を有する化合物の重合を開始させる働きを有する。酸発生剤(C)としては、紫外線照射などの電離放射線照射又は加熱処理を施すことによりカチオン種を発生して、脂環式エポキシ化合物(A)の重合を開始させるカチオン重合開始剤が好ましい。酸発生剤(C)は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
[Acid generator (C)]
The acid generator (C) has a function of initiating the polymerization of the compound having an epoxy group in the resin composition. As the acid generator (C), a cationic polymerization initiator that generates cationic species by subjecting to ionizing radiation irradiation such as ultraviolet irradiation or heat treatment to initiate polymerization of the alicyclic epoxy compound (A) is preferable. The acid generator (C) can be used alone or in combination of two or more.

電離放射線照射によりカチオン種を発生するカチオン重合開始剤としては、例えば、ヘキサフルオロアンチモネート塩、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネート塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアルゼネート塩、トリアリルスルホニウム塩及びその誘導体、並びに、ジアリルヨウドニウム塩及びその誘導体を挙げることができる。 Examples of the cationic polymerization initiator that generates a cationic species by ionizing radiation irradiation include hexafluoroantimonate salt, pentafluorohydroxyantimonate salt, hexafluorophosphate salt, hexafluoroarsenate salt, triallylsulfonium salt and derivatives thereof. In addition, diallyl iodonium salt and its derivatives can be mentioned.

トリアリルスルホニウム塩及びその誘導体としては、例えば、トリアリルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート塩及びその誘導体、並びに、トリアリルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート塩及びその誘導体が挙げられる。
ジアリルヨウドニウム塩及びその誘導体としては、例えば、ジアリルヨウドニウムヘキサフルオロホスフェート塩及びその誘導体、並びに、ジアリルヨウドニウムテトラフルオロボレート塩及びその誘導体が挙げられる。
これらのカチオン重合開始剤(カチオン触媒)は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
Examples of the triallyl sulfonium salt and its derivative include a triallyl sulfonium hexafluorophosphate salt and its derivative, and a triallyl sulfonium hexafluoroantimonate salt and its derivative.
Examples of the diallyl iodonium salt and its derivative include a diallyl iodonium hexafluorophosphate salt and its derivative, and a diallyl iodonium tetrafluoroborate salt and its derivative.
These cationic polymerization initiators (cation catalysts) can be used alone or in combination of two or more.

このようなカチオン重合開始剤としては、例えば、商品名「UVACURE1590」(ダイセル・サイテック(株)製);商品名「CD−1010」、「CD−1011」、及び「CD−1012」(何れも米国サートマー社製);商品名「イルガキュア264」及び「イルガキュア250」(何れもチバ・ジャパン(株)製);商品名「CIT−1682」(日本曹達(株)製);商品名「CPI−101A」、「CPI−100P」、「CPI−210S」、及び「CPI−110A」(何れもサンアプロ(株)製);商品名「アデカオプトマーSP−170」、「アデカオプトマーSP−172」、及び「アデカオプトマーSP−150」(何れも(株)ADEKA製);並びに、商品名「シリコリース UV CATA211」(荒川化学工業(株)製)等の市販品を使用できる。好ましくは、商品名「SP−170」及び「SP−172」(何れも(株)ADEKA製)、並びに、商品名「CPI−210S」、「CPI−101A」及び「CPI−110A」(何れもサンアプロ(株)製)の1以上である。 Examples of such a cationic polymerization initiator include trade names "UVACURE1590" (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.); trade names "CD-1010", "CD-1011", and "CD-1012" (all of which are used. (Made by Sartmer, USA); Product names "Irgacure 264" and "Irgacure 250" (both manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.); Product name "CIT-1682" (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.); Product name "CPI-" 101A ”,“ CPI-100P ”,“ CPI-210S ”, and“ CPI-110A ”(all manufactured by Sun Appro Co., Ltd.); trade names“ ADEKA OPTMER SP-170 ”,“ ADEKA OPTMER SP-172 ” , And "ADEKA PUTMER SP-150" (both manufactured by ADEKA Corporation); and commercially available products such as the trade name "Cyricollies UV CATA211" (manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.) can be used. Preferably, the product names "SP-170" and "SP-172" (both manufactured by ADEKA Corporation), and the product names "CPI-210S", "CPI-101A" and "CPI-110A" (all are manufactured by ADEKA Corporation). One or more of Sun Appro Co., Ltd.

加熱処理を施すことによりカチオン種を発生するカチオン重合開始剤としては、例えば、アリールジアゾニウム塩、アリールヨードニウム塩、アリールスルホニウム塩、及びアレン−イオン錯体が挙げられる。 Examples of the cationic polymerization initiator that generates a cationic species by heat treatment include an aryldiazonium salt, an aryliodonium salt, an arylsulfonium salt, and an allene-ion complex.

このようなカチオン重合開始剤としては、例えば、商品名「PP−33」、「CP−66」、及び「CP−77」(何れもADEKA(株)製);商品名「FC−509」(スリーエム(株)製);商品名「UVE1014」(G.E.(株)製);商品名「サンエイド SI−60L」、「サンエイド SI−80L」、「サンエイド SI−100L」、「サンエイド SI−110L」、及び「サンエイド SI−150L」(何れも三新化学工業(株)製);並びに、商品名「CG−24−61」(チバ・ジャパン(株)製)等の市販品を使用できる。 Examples of such cationic polymerization initiators include trade names "PP-33", "CP-66", and "CP-77" (all manufactured by ADEKA Corporation); trade name "FC-509" ( 3M Ltd.); Product name "UVE1014" (GE Co., Ltd.); Product names "Sun Aid SI-60L", "Sun Aid SI-80L", "Sun Aid SI-100L", "Sun Aid SI-" "110L" and "Sun Aid SI-150L" (both manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.); and commercially available products such as the trade name "CG-24-61" (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) can be used. ..

更に、アルミニウムやチタンなどの金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とトリフェニルシラノール等のシラノールとの化合物、又は、アルミニウムやチタンなどの金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とビスフェノールS等のフェノール類との化合物も、上記カチオン重合開始剤として使用できる。 Further, a compound of a metal such as aluminum or titanium and a chelate compound of acetacetic acid or diketones and silanol such as triphenylsilanol, or a chelate compound of a metal such as aluminum or titanium and acetacetic acid or diketones and bisphenol S. Compounds with phenols such as the above can also be used as the above-mentioned cationic polymerization initiator.

酸発生剤(C)の量は、脂環式エポキシ化合物(A)とポリオール化合物(B)との合計量100質量部に対して、0.05乃至0.5質量部の範囲内にあることが好ましく、0.05乃至0.1重量部の範囲内にあることがより好ましい。酸発生剤(C)の量が少なすぎると、樹脂組成物の硬化物において架橋密度が小さくなり、高い耐熱性が得られない可能性がある。酸発生剤(C)の量が多すぎると、高い透明性を有する硬化物を得られない可能性がある。 The amount of the acid generator (C) shall be in the range of 0.05 to 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the alicyclic epoxy compound (A) and the polyol compound (B). Is preferable, and more preferably it is in the range of 0.05 to 0.1 parts by mass. If the amount of the acid generator (C) is too small, the crosslink density of the cured product of the resin composition becomes small, and high heat resistance may not be obtained. If the amount of the acid generator (C) is too large, it may not be possible to obtain a cured product having high transparency.

[その他の成分(D)]
樹脂組成物は、必要に応じて、他の成分(D)を更に含有することができる。
例えば、樹脂組成物は、硬化性調整のためにビニルエーテル化合物のようなカチオン反応性化合物を更に含有していてもよい。また、樹脂組成物は、その低粘度化や反応速度調整のためにオキセタン化合物を更に含有していてもよい。また、樹脂組成物は、基材と樹脂組成物を硬化してなる層との密着性調整のためにラジカル反応性化合物を更に含有していてもよい。
[Other components (D)]
The resin composition can further contain another component (D), if necessary.
For example, the resin composition may further contain a cationically reactive compound such as a vinyl ether compound for curability adjustment. Further, the resin composition may further contain an oxetane compound in order to reduce the viscosity and adjust the reaction rate. Further, the resin composition may further contain a radical reactive compound for adjusting the adhesion between the base material and the layer obtained by curing the resin composition.

樹脂組成物は、その他の成分、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤(HALS等)、つや消し剤(シリカ、ガラス粉、金属酸化物等)、着色剤(染料、顔料等)、光拡散剤、低収縮剤、沈降防止剤、消泡剤、帯電防止剤、防曇剤、分散剤、増粘剤、タレ止め剤、乾燥剤、レベリング剤、カップリング剤、付着促進剤、防錆顔料、熱安定剤、皮膜物質改質剤、スリップ剤、スリキズ剤、可塑剤、防菌剤、防カビ剤、防汚剤、難燃剤、重合防止剤、光重合促進剤、増感剤、熱開始剤(熱カチオン重合開始剤、熱ラジカル重合開始剤)、及び離型剤等の添加剤の1以上を更に含有していてもよい。 The resin composition contains other components such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer (HALS, etc.), a matting agent (silica, glass powder, metal oxide, etc.), a colorant (dye, pigment, etc.), Light diffusing agent, low shrinkage agent, anti-settling agent, defoaming agent, anti-static agent, anti-fog agent, dispersant, thickener, anti-sagging agent, desiccant, leveling agent, coupling agent, adhesion promoter, anti-corrosion Rust pigments, heat stabilizers, film initiators, slip agents, scratch agents, plasticizers, antibacterial agents, antifungal agents, antifouling agents, flame retardants, polymerization inhibitors, photopolymerization accelerators, sensitizers, It may further contain one or more of an additive such as a thermal initiator (thermal cationic polymerization initiator, thermal radical polymerization initiator) and a mold release agent.

成分(D)の量は、脂環式エポキシ化合物(A)とポリオール化合物(B)との合計量100質量部に対して、10質量部以下であることが好ましく、1重量部以下であることがより好ましい。 The amount of the component (D) is preferably 10 parts by mass or less, preferably 1 part by mass or less, based on 100 parts by mass of the total amount of the alicyclic epoxy compound (A) and the polyol compound (B). Is more preferable.

<樹脂組成物の調製>
上記の樹脂組成物は、上述した成分を均一に混合することにより得る。この混合には、例えば、特に限定されないが、ディスパーミキサ、ウルトラミキサ、ホモジナイザ、及び遊星攪拌脱泡機等の攪拌機を用いることができる。この混合は、酸発生剤の活性化を防止するため、電離放射線が照射されない環境下で行うことが好ましい。
<Preparation of resin composition>
The above resin composition is obtained by uniformly mixing the above-mentioned components. For this mixing, for example, a stirrer such as a dispermixer, an ultramixer, a homogenizer, and a planetary stirrer / defoamer can be used without particular limitation. This mixing is preferably performed in an environment not irradiated with ionizing radiation in order to prevent activation of the acid generator.

<フィルムの製造>
図1に示すフィルム1は、例えば、上記の樹脂組成物からなる塗膜を支持体上に形成し、この塗膜に電離放射線を照射し、更に、塗膜をポストベークに供して、塗膜を硬化させ、その後、硬化した膜を支持体から剥離することにより得る。フィルム1の製造には、例えば、図2に示す装置を利用することができる。
<Manufacturing of film>
In the film 1 shown in FIG. 1, for example, a coating film made of the above resin composition is formed on a support, the coating film is irradiated with ionizing radiation, and the coating film is further subjected to post-baking to obtain a coating film. Is cured, and then the cured film is peeled off from the support. For the production of the film 1, for example, the apparatus shown in FIG. 2 can be used.

図2は、フィルム製造装置の一例を概略的に示す図である。
このフィルム製造装置100は、ロール・ツー・ロール式のダイコータである。このフィルム製造装置は、巻出ロール110と、キャリアフィルム120と、ガイドロール130a乃至130eと、バックアップロール140と、ダイヘッド150と、電離放射線照射機160と、ヒータ170と、剥離ロール180と、巻取ロール190a及び190bとを含んでいる。
FIG. 2 is a diagram schematically showing an example of a film manufacturing apparatus.
The film manufacturing apparatus 100 is a roll-to-roll type die coater. This film manufacturing apparatus winds the unwinding roll 110, the carrier film 120, the guide rolls 130a to 130e, the backup roll 140, the die head 150, the ionizing radiation irradiator 160, the heater 170, and the peeling roll 180. Includes take rolls 190a and 190b.

巻出ロール110には、キャリアフィルム120が巻かれている。巻出ロール110は、キャリアフィルム120を巻き出す。 A carrier film 120 is wound around the unwinding roll 110. The unwinding roll 110 unwinds the carrier film 120.

キャリアフィルム120は、ベルト形状を有している。キャリアフィルム120上には、上述した樹脂組成物を塗布し、このキャリアフィルム120上で樹脂組成物からなる塗膜の硬化を行う。 The carrier film 120 has a belt shape. The above-mentioned resin composition is applied onto the carrier film 120, and the coating film made of the resin composition is cured on the carrier film 120.

キャリアフィルム120は、樹脂組成物の硬化物を剥離可能に支持し得るものである。キャリアフィルム120としては、例えば、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートフタレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム(CAPフィルム)、セルローストリアセテート及びセルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体からなるフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム、及びポリアリレート系フィルムを挙げることができる。 The carrier film 120 can releasably support the cured product of the resin composition. Examples of the carrier film 120 include polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose acetate phthalate film, cellulose acetate propionate film (CAP film), cellulose triacetate and cellulose. Films made of cellulose esters such as nitrates or derivatives thereof, polyvinylidene chloride films, polyvinyl alcohol films, ethylene vinyl alcohol films, syndiotactic polystyrene films, polycarbonate films, norbornene resin films, polymethylpentene films, poly Examples thereof include ether ketone film, polyether sulfone film, polysulfone film, polyether ketoneimide film, polyamide film, fluororesin film, nylon film, polymethylmethacrylate film, acrylic film, and polyarylate film.

キャリアフィルム120の厚さは、制限を設けるわけではないが、6乃至700μmの範囲内にあることが好ましく、40乃至250μmの範囲内にあることがより好ましく、50乃至150μmの範囲内にあることが更に好ましい。 The thickness of the carrier film 120 is not limited, but is preferably in the range of 6 to 700 μm, more preferably in the range of 40 to 250 μm, and in the range of 50 to 150 μm. Is more preferable.

ガイドロール130a乃至130eは、巻出ロール110から巻き出されたキャリアフィルム120を、ダイヘッド150とバックアップロール140との間の領域、電離放射線照射機160の正面の領域、ヒータ170、及び巻取ロール190aへと順次案内する。 The guide rolls 130a to 130e are formed by rolling the carrier film 120 unwound from the unwinding roll 110 into a region between the die head 150 and the backup roll 140, a region in front of the ionizing radiation irradiator 160, a heater 170, and a winding roll. We will guide you to 190a in sequence.

バックアップロール140は、ダイヘッド150と向き合うように設置されている。バックアップロール140は、ダイヘッド150とバックアップロール140との間を通過するキャリアフィルム120の裏面上を転動して、キャリアフィルム120とダイヘッド150との距離を一定に保つ役割を果たす。 The backup roll 140 is installed so as to face the die head 150. The backup roll 140 rolls on the back surface of the carrier film 120 passing between the die head 150 and the backup roll 140, and plays a role of keeping the distance between the carrier film 120 and the die head 150 constant.

ダイヘッド150は、ダイヘッド150とバックアップロール140との間を通過するキャリアフィルム120の表面上に樹脂組成物を供給する。これにより、キャリアフィルム120の表面上に、樹脂組成物からなる塗膜を形成する。 The die head 150 supplies the resin composition onto the surface of the carrier film 120 that passes between the die head 150 and the backup roll 140. As a result, a coating film made of the resin composition is formed on the surface of the carrier film 120.

ここでは、樹脂組成物の塗工にダイヘッド150を利用するダイコート法について説明しているが、樹脂組成物の塗工には他の方法を利用してもよい。樹脂組成物の塗工には、例えば、ディッピング法、ワイヤーバーを使用する方法、ロールコート法、グラビアコート法、リバースコート法、エアナイフコート法、コンマコート法、カーテン法、スクリーン印刷法、スプレーコート法、及びグラビアオフセット法等の周知の方法を用いることができる。 Although the die coating method using the die head 150 for coating the resin composition is described here, another method may be used for coating the resin composition. For coating the resin composition, for example, dipping method, wire bar method, roll coating method, gravure coating method, reverse coating method, air knife coating method, comma coating method, curtain method, screen printing method, spray coating method. Well-known methods such as the method and the gravure offset method can be used.

樹脂組成物からなる塗膜の硬化後の厚さ、即ち、フィルム1の厚さは、1乃至250μmの範囲内にあることが好ましい。薄すぎる場合、フィルム1の強度が低く、フィルム1がキャリアフィルム120から剥離する際に破断してしまう可能性が高い。厚すぎる場合、反応熱が高くなることで硬化物の貯蔵弾性率が非常に高くなり、その結果、フィルム1は、硬く脆い性状となり、可撓性が不十分となる可能性がある。 The thickness of the coating film made of the resin composition after curing, that is, the thickness of the film 1 is preferably in the range of 1 to 250 μm. If it is too thin, the strength of the film 1 is low, and there is a high possibility that the film 1 will break when peeled from the carrier film 120. If it is too thick, the heat of reaction will be high and the storage elastic modulus of the cured product will be very high, and as a result, the film 1 will have a hard and brittle property, and the flexibility may be insufficient.

電離放射線照射器160は、キャリアフィルム120の表面と向き合うように設置されている。キャリアフィルム120上の塗膜に対して、電離放射線を照射する。キャリアフィルム120が電離放射線を透過させるものである場合、電離放射線照射器160は、キャリアフィルム120の裏面と向き合うように設置してもよい。 The ionizing radiation irradiator 160 is installed so as to face the surface of the carrier film 120. The coating film on the carrier film 120 is irradiated with ionizing radiation. When the carrier film 120 transmits ionizing radiation, the ionizing radiation irradiator 160 may be installed so as to face the back surface of the carrier film 120.

ここで、用語「電離放射線」は、樹脂組成物が含む成分、具体的には酸発生剤を分解(電離)させて、樹脂組成物中に酸を発生させ得る高エネルギーな放射線、例えば、X線又は紫外線を意味している。電離放射線としては、典型的には、紫外線を利用する。 Here, the term "ionizing radiation" refers to high-energy radiation capable of decomposing (ionizing) a component contained in a resin composition, specifically an acid generator, to generate an acid in the resin composition, for example, X. It means a line or ultraviolet rays. Ultraviolet rays are typically used as the ionizing radiation.

電離放射線照射器160は、塗膜に電離放射線を照射することにより、樹脂組成物が含んでいる酸発生剤を活性化させる。即ち、酸発生剤を分解(電離)させて、樹脂組成物中に酸を発生させる。酸は、樹脂組成物中での重合や架橋を促進する触媒としての役割を果たす。従って、塗膜への電離放射線照射により、樹脂組成物では重合や架橋が進行し、その結果、塗膜は硬化する。 The ionizing radiation irradiator 160 activates the acid generator contained in the resin composition by irradiating the coating film with ionizing radiation. That is, the acid generator is decomposed (ionized) to generate an acid in the resin composition. The acid serves as a catalyst to promote polymerization and cross-linking in the resin composition. Therefore, when the coating film is irradiated with ionizing radiation, polymerization and cross-linking proceed in the resin composition, and as a result, the coating film is cured.

電離放射線照射器160の光源としては、(C)酸発生剤の分解に適した波長の光を放射するものを適宜選択する。この光源としては、400nm以下の波長を放射するランプが好ましい。そのようなランプとしては、例えば、ケミカルランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、及び可視光ハロゲンランプが挙げられる。 As the light source of the ionizing radiation irradiator 160, a light source having a wavelength suitable for decomposition of the (C) acid generator is appropriately selected. As the light source, a lamp that emits a wavelength of 400 nm or less is preferable. Examples of such lamps include chemical lamps, low pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, metal halide lamps, and visible light halogen lamps.

電離放射線照射は、空気中で行ってもよいし、窒素及びアルゴン等の不活性ガス中で行ってもよい。 The ionizing radiation irradiation may be carried out in air or in an inert gas such as nitrogen and argon.

電離放射線の積算光量は、10乃至3000mJ/cmの範囲内とすることが好ましく、100乃至1000mJ/cmの範囲内とすることがより好ましく、200乃至500mJ/cmの範囲内とすることが更に好ましい。 Integrated light quantity of ionizing radiation, preferably in the range of 10 to 3000 mJ / cm 2, more preferably in a range of 100 to 1000 mJ / cm 2, be in the range of 200 to 500 mJ / cm 2 Is more preferable.

ヒータ170は、電離放射線を照射した塗膜に対してポストベークを行う。ポストベークを行うことにより、樹脂組成物中での上記反応を完結させる。ポストベークを行うと、フィルム1における架橋密度を高めることができ、耐熱性が高まる。 The heater 170 post-bakes the coating film irradiated with ionizing radiation. By performing post-baking, the above reaction in the resin composition is completed. When post-baking is performed, the crosslink density in the film 1 can be increased, and the heat resistance is increased.

ヒータ170による加熱には、例えば、熱風乾燥、熱ロール乾燥、高周波照射、及び赤外線照射等の加熱方法を、単独で又は2種類以上組み合わせて用いることができる。加熱温度は、80乃至160℃の範囲内とすることが好ましい。加熱時間は、30乃至600秒の範囲内とすることが好ましい。 For heating by the heater 170, for example, heating methods such as hot air drying, hot roll drying, high frequency irradiation, and infrared irradiation can be used alone or in combination of two or more. The heating temperature is preferably in the range of 80 to 160 ° C. The heating time is preferably in the range of 30 to 600 seconds.

剥離ロール180は、キャリアフィルム120に支持されたフィルム1上を転動するように設置されている。剥離ロール180は、キャリアフィルム120の移動方向に対して、フィルム1の移動方向を急激且つ大きく異ならしめ、これにより、フィルム1をキャリアフィルム120から剥離する。 The release roll 180 is installed so as to roll on the film 1 supported by the carrier film 120. The peeling roll 180 sharply and greatly changes the moving direction of the film 1 with respect to the moving direction of the carrier film 120, thereby peeling the film 1 from the carrier film 120.

巻取ロール190aは、フィルム1を剥離したキャリアフィルム120を巻き取る。また、巻取ロール190bは、キャリアフィルム120から剥離したフィルム1を巻き取る。 The take-up roll 190a winds up the carrier film 120 from which the film 1 has been peeled off. Further, the take-up roll 190b winds up the film 1 peeled off from the carrier film 120.

巻取ロール190aは、キャリアフィルム120に張力を与える。巻取ロール190aがキャリアフィルム120に与える張力は、キャリアフィルム120の厚さや材質によって異なるが、10乃至500N/mの範囲内とすることが好ましい。
フィルム1は、例えば、以上のようにして製造する。
The take-up roll 190a applies tension to the carrier film 120. The tension applied to the carrier film 120 by the take-up roll 190a varies depending on the thickness and material of the carrier film 120, but is preferably in the range of 10 to 500 N / m.
The film 1 is manufactured, for example, as described above.

<導電層>
図1に示す導電層2としては、従来公知の透明導電膜等が挙げられる。
上記透明導電膜としては、金、銀、クロム、銅、及びタングステン等の金属からなる薄膜、ITO、酸化スズ、及び酸化亜鉛等の金属酸化物からなる薄膜、又はポリピロール、ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリアニリン、ポリアセン、ポリエチレンジオキシチオフェン、及びポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)等の導電性高分子化合物からなる薄膜等が挙げられる。導電層2は、塗布、印刷及び気相堆積法などの公知慣用技術によって形成してよい。また、導電層2は、パターニングされていてもよい。
<Conductive layer>
Examples of the conductive layer 2 shown in FIG. 1 include conventionally known transparent conductive films and the like.
The transparent conductive film includes a thin film made of a metal such as gold, silver, chromium, copper, and tungsten, a thin film made of a metal oxide such as ITO, tin oxide, and zinc oxide, or polypyrrole, polyacetylene, polythiophene, and polypara. Examples thereof include thin films made of conductive polymer compounds such as phenylene vinylene, polyaniline, polyacene, polyethylenedioxythiophene, and polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS). The conductive layer 2 may be formed by a known conventional technique such as coating, printing and vapor deposition method. Further, the conductive layer 2 may be patterned.

また、透明導電性フィルム3は、導電層2とフィルム1との間に、1以上の層を更に備えていてもよい。例えば、導電層2の膜厚範囲として、金属薄膜や金属酸化の場合、20nm〜250nm、導電性高分子の場合、50nm〜300nmが好ましい。透明導電性フィルム3は、例えば、透明な絶縁層、回路パターン、又はカラーフィルター層などを更に備えていてもよい。 Further, the transparent conductive film 3 may further include one or more layers between the conductive layer 2 and the film 1. For example, the film thickness range of the conductive layer 2 is preferably 20 nm to 250 nm in the case of a metal thin film or metal oxidation, and 50 nm to 300 nm in the case of a conductive polymer. The transparent conductive film 3 may further include, for example, a transparent insulating layer, a circuit pattern, a color filter layer, or the like.

上述の通り、この可撓性を有する透明導電性フィルム3は、従来技術では両立が困難であった低い表面抵抗率と高い透明性とを両立することが可能である。
ポリエチレンテレフタレート等をはじめとするプラスチックからなるフィルム基材は、透過率が低い。それ故、そのようなフィルム基材を用いて透過率が高い透明導電性フィルムを得るには、導電層を薄く形成せざるを得なかった。しかしながら、導電層を薄く形成すると、低い表面抵抗率を達成することができない。即ち、従来技術では、高い透過率と低い表面抵抗率とを同時に達成することはできなかった。
As described above, the transparent conductive film 3 having flexibility can achieve both low surface resistivity and high transparency, which were difficult to achieve in the prior art.
A film base material made of plastic such as polyethylene terephthalate has a low transmittance. Therefore, in order to obtain a transparent conductive film having high transmittance using such a film base material, it is necessary to form a thin conductive layer. However, if the conductive layer is formed thin, a low surface resistivity cannot be achieved. That is, in the prior art, it was not possible to achieve both high transmittance and low surface resistivity at the same time.

これに対し、上述した透明導電性フィルム3は、フィルム1の透明性が高いため、低抵抗な導電層を形成した場合であっても高い光透過率を達成することができる。即ち、この透明導電性フィルム3によると、低い表面抵抗率と高い透明性とを両立することが可能である。 On the other hand, since the transparent conductive film 3 described above has high transparency of the film 1, high light transmittance can be achieved even when a low resistance conductive layer is formed. That is, according to the transparent conductive film 3, it is possible to achieve both low surface resistivity and high transparency.

<透明導電性フィルムの応用>
図1に示す透明導電性フィルム3は、例えば、電磁波シールド材料として使用することができる。
また、図1に示す透明導電性フィルム3は、例えば、太陽電池、無機EL素子、及び有機EL素子等の透明電極基板、並びにタッチパネル等の電子デバイスの一部品として適用することができる。この透明導電性フィルム3を用いると、可撓性を有し、性能に優れた電子デバイスが得られる。
<Application of transparent conductive film>
The transparent conductive film 3 shown in FIG. 1 can be used as, for example, an electromagnetic wave shielding material.
Further, the transparent conductive film 3 shown in FIG. 1 can be applied as, for example, a transparent electrode substrate such as a solar cell, an inorganic EL element, and an organic EL element, and a component of an electronic device such as a touch panel. When this transparent conductive film 3 is used, an electronic device having flexibility and excellent performance can be obtained.

例えば、この透明導電性フィルム3の導電層2が設けられている主面上に、p型、i型、n型の薄膜シリコンを堆積させ、更にその上に裏面電極となる金属からなる層を設けて、太陽電池とすることができる。この透明導電性フィルム3は、透明性が高く、表面抵抗率が低いため、これを透明電極基板に用いた太陽電池は、効率良く発電することが可能である。 For example, p-type, i-type, and n-type thin film silicon is deposited on the main surface of the transparent conductive film 3 on which the conductive layer 2 is provided, and a layer made of metal serving as a back electrode is formed on the thin film silicon. It can be provided as a solar cell. Since the transparent conductive film 3 has high transparency and low surface resistivity, a solar cell using the transparent conductive film 3 as a transparent electrode substrate can generate electricity efficiently.

以下に、本発明の実施例を記載する。但し、本発明は、以下に記載する事項に限定されるわけではない。 Examples of the present invention will be described below. However, the present invention is not limited to the matters described below.

<実施例1>
図1に示すフィルム1を以下の手順で作製した。
先ず、70質量部の脂環式エポキシ化合物(A)と、30質量部のポリオール化合物(B)と、0.05質量部の酸発生剤(C)とを、遊星攪拌脱泡機(マゼルスターKK5000、KURABO製)を用いて15分間攪拌して、塗液を調製した。ここで、脂環式エポキシ化合物(A)としては、セロキサイド2021P((株)ダイセル製)を使用した。また、ポリオール化合物(B)としては、プラクセル305((株)ダイセル製)を使用した。そして、酸発生剤(C)としては、アデカオプトマーSP−170((株)ADEKA)を使用した。
<Example 1>
The film 1 shown in FIG. 1 was produced by the following procedure.
First, 70 parts by mass of the alicyclic epoxy compound (A), 30 parts by mass of the polyol compound (B), and 0.05 parts by mass of the acid generator (C) are mixed with a planetary stirring defoamer (Mazelstar KK5000). , KURABO) was stirred for 15 minutes to prepare a coating solution. Here, as the alicyclic epoxy compound (A), celloxide 2021P (manufactured by Daicel Corporation) was used. Further, as the polyol compound (B), Praxel 305 (manufactured by Daicel Corporation) was used. Then, as the acid generator (C), ADEKA PUTMER SP-170 (ADEKA Corporation) was used.

次に、この塗液を用いて、図2を参照しながら説明した方法により、厚さが50μmのフィルム1を製造した。ここでは、キャリアフィルム120として、厚さが250μmのポリエチレンテレフタレート(PET)製シート(メリネックスS、帝人(株)製)を使用した。電離放射線照射器160の光源としては、高圧水銀ランプ(アイグラフィックス(株)製)を使用した。露光は、積算光量が500mJ/cmとなるように行った。また、ポストベークは、150℃にて180秒間にわたって行った。なお、キャリアフィルム120は、50N/mの張力で巻きとられ、剥離されたフィルム1のロールを得た。 Next, using this coating liquid, a film 1 having a thickness of 50 μm was produced by the method described with reference to FIG. Here, as the carrier film 120, a polyethylene terephthalate (PET) sheet (Melinex S, manufactured by Teijin Limited) having a thickness of 250 μm was used. A high-pressure mercury lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) was used as the light source of the ionizing radiation irradiator 160. The exposure was performed so that the integrated light intensity was 500 mJ / cm 2 . Post-baking was performed at 150 ° C. for 180 seconds. The carrier film 120 was wound with a tension of 50 N / m to obtain a peeled roll of film 1.

次に、このフィルム1の一方の主面上に、図1に示す導電層2を以下の手順で形成した。
透明導電性樹脂PEDOT/PSS(中京油脂(株)製)50質量部と2−プロパノール75%水溶液50質量部とをスクリュー管にて攪拌し、PEDOT/PSS希釈液を得た。続いて、このPEDOT/PSS希釈液100質量部とシランカップリング剤1質量部とをスクリュー管にて攪拌し、PEDOT/PSS塗液を得た。
Next, the conductive layer 2 shown in FIG. 1 was formed on one main surface of the film 1 by the following procedure.
50 parts by mass of the transparent conductive resin PEDOT / PSS (manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.) and 50 parts by mass of a 2-propanol 75% aqueous solution were stirred with a screw tube to obtain a PEDOT / PSS diluted solution. Subsequently, 100 parts by mass of this PEDOT / PSS diluent and 1 part by mass of the silane coupling agent were stirred with a screw tube to obtain a PEDOT / PSS coating solution.

次に、上記で得られたフィルム1のロールを、図2に示す巻出ロール110に取り付け、キャリアフィルム120として搬送し、これにダイヘット150からPEDOT/PSS塗液を供給した。そして、以降の操作において、電離放射線照射器160による電離放射線照射を行わずに、フィルム1に導電層2が形成された透明導電性フィルム3を巻取ロール190aにてそのまま巻き取ったこと以外は、図2を参照しながら前述した方法と同様の方法により、透明導電性フィルム3を得た。以下の表1に示すように、導電層2の膜厚が異なること以外は同様の3種類の透明導電性フィルム3を製造した。これら透明導電性フィルム3は、何れも可撓性に優れていた。 Next, the roll of the film 1 obtained above was attached to the unwinding roll 110 shown in FIG. 2 and conveyed as a carrier film 120, to which the PEDOT / PSS coating liquid was supplied from the die head 150. Then, in the subsequent operations, the transparent conductive film 3 in which the conductive layer 2 is formed on the film 1 is wound as it is by the winding roll 190a without performing the ionizing radiation irradiation by the ionizing radiation irradiator 160. , A transparent conductive film 3 was obtained by the same method as described above with reference to FIG. As shown in Table 1 below, three types of transparent conductive films 3 similar to each other were produced except that the film thickness of the conductive layer 2 was different. All of these transparent conductive films 3 were excellent in flexibility.

<比較例1>
市販の透明PETフィルムであるルミラーT60#50(東レ(株)製)をフィルム1として使用したこと以外は、実施例1と同様の方法により透明導電性フィルムを作製した。
<Comparative example 1>
A transparent conductive film was produced by the same method as in Example 1 except that Lumirror T60 # 50 (manufactured by Toray Industries, Inc.), which is a commercially available transparent PET film, was used as the film 1.

<評価方法>
(透明性)
実施例1および比較例1で得られた透明導電性フィルム3の全光線透過率をHazeメーター(NDH7000SP 日本電色工業(株)製)を用い、JISK7361-1に準拠して測定した。
<Evaluation method>
(transparency)
The total light transmittance of the transparent conductive film 3 obtained in Example 1 and Comparative Example 1 was measured using a Haze meter (NDH7000SP manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.) in accordance with JIS K7361-1.

(表面抵抗率)
実施例1および比較例1で得られた透明導電性フィルム3を30cm×30cmの大きさに切り出し、導電層2の表面抵抗率を3回測定し、その平均値を透明導電性フィルム3の表面抵抗率とした。測定には表面抵抗測定装置(ロレスタAP MCP-T400 三菱油脂(株)製)を用い、JISK7194に準拠して行った。
(Surface resistivity)
The transparent conductive film 3 obtained in Example 1 and Comparative Example 1 was cut into a size of 30 cm × 30 cm, the surface resistivity of the conductive layer 2 was measured three times, and the average value was measured on the surface of the transparent conductive film 3. The resistivity was used. The measurement was performed in accordance with JIS K7194 using a surface resistance measuring device (Loresta AP MCP-T400 manufactured by Mitsubishi Oil & Fats Co., Ltd.).

透明性及び表面抵抗率の測定結果を表1及び図3に纏める。なお、表1におけるn1、n2、n3及び平均は、それぞれ、第1回目の表面抵抗率の測定結果、第2回目の表面抵抗率の測定結果、第3回目の表面抵抗率の測定結果、及びこれらの平均値を示す。図3は、表面抵抗率の平均値と透明性の測定結果との関係をグラフ化したものである。ここで、横軸は全光線透過率を示し、縦軸は表面抵抗率の平均値を示している。 The measurement results of transparency and surface resistivity are summarized in Table 1 and FIG. The n1, n2, n3 and the average in Table 1 are the first measurement result of the surface resistivity, the second measurement result of the surface resistivity, the third measurement result of the surface resistivity, and the average. The average value of these is shown. FIG. 3 is a graph showing the relationship between the average value of surface resistivity and the measurement result of transparency. Here, the horizontal axis shows the total light transmittance, and the vertical axis shows the average value of the surface resistivity.

表1及び図3に示すように、実施例1に係る透明導電性フィルムは、表面抵抗率が比較例1に係る透明導電性フィルムとほぼ同等である場合、透明性が2%程度向上していた。 As shown in Table 1 and FIG. 3, the transparency of the transparent conductive film according to Example 1 is improved by about 2% when the surface resistivity is substantially the same as that of the transparent conductive film according to Comparative Example 1. It was.

本発明に係る透明導電性フィルムは、表面抵抗率が低く、可撓性に優れ、且つ光透過性が高いため、例えば、大面積のエレクトロルミネッセンス素子の低電圧化及び面内輝度均一化、太陽電池等の電力取り出し効率の改良、並びに電子ペーパー等のフレキシブルディスプレイの低電圧・低消費電力化のために好ましく用いることができる。
以下に、当初の特許請求の範囲に記載していた発明を付記する。
[1]
単層構造を有している自立膜としてのフィルムであって、脂環式エポキシ化合物(A)とポリオール化合物(B)と酸発生剤(C)とを含んだ樹脂組成物の硬化物からなるフィルムと、
前記フィルムの片面又は両面に位置する導電層と
を備えた透明導電性フィルム。
[2]
前記脂環式エポキシ化合物(A)と前記ポリオール化合物(B)との合計量に占める前記脂環式エポキシ化合物(A)の量の割合は50乃至80質量%の範囲内にあり、前記酸発生剤(C)の量は、前記脂環式エポキシ化合物(A)と前記ポリオール化合物(B)との合計量100質量部に対して0.05乃至0.5質量部の範囲内にある項1に記載の透明導電性フィルム。
[3]
前記脂環式エポキシ化合物(A)は、3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート及びε−カプロラクトン変性3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートの少なくとも一方である項1又は2に記載の透明導電性フィルム。
[4]
前記ポリオール化合物(B)は、ポリカプロラクトントリオール及びポリカーボネートジオールの少なくとも一方である項1乃至3の何れか1項に記載の透明導電性フィルム。
[5]
前記酸発生剤(C)はスルホニウム塩を含んだ項1乃至4の何れか1項に記載の透明導電性フィルム。
[6]
前記ポリオール化合物(B)は、数平均分子量が200乃至100000g/molの範囲内にあり、水酸基価が190乃至550KOHmg/gの範囲内にある項1乃至5の何れか1項に記載の透明導電性フィルム。
[7]
全光線透過率が85%以上であり、前記透明導電性フィルムの面のうち、前記導電層が設けられている面の表面抵抗率が1000Ω/sq.以下である項1乃至6の何れか1項に記載の透明導電性フィルム。
[8]
項1乃至7の何れか1項に記載の透明導電性フィルムを備えた電子デバイス。
The transparent conductive film according to the present invention has a low surface resistance, excellent flexibility, and high light transmission. Therefore, for example, the voltage of a large-area electroluminescence element can be reduced, the in-plane brightness can be made uniform, and the sun can be used. It can be preferably used for improving the power extraction efficiency of batteries and the like, and for reducing the voltage and power consumption of flexible displays such as electronic paper.
The inventions described in the original claims are added below.
[1]
A film as a self-supporting film having a single-layer structure, which comprises a cured product of a resin composition containing an alicyclic epoxy compound (A), a polyol compound (B), and an acid generator (C). With the film
With conductive layers located on one or both sides of the film
Transparent conductive film with.
[2]
The ratio of the amount of the alicyclic epoxy compound (A) to the total amount of the alicyclic epoxy compound (A) and the polyol compound (B) is in the range of 50 to 80% by mass, and the acid generation. The amount of the agent (C) is in the range of 0.05 to 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the alicyclic epoxy compound (A) and the polyol compound (B). The transparent conductive film according to.
[3]
The alicyclic epoxy compound (A) contains 3', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and ε-caprolactone-modified 3', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate. Item 3. The transparent conductive film according to Item 1 or 2, which is at least one of the above.
[4]
Item 2. The transparent conductive film according to any one of Items 1 to 3, wherein the polyol compound (B) is at least one of polycaprolactone triol and polycarbonate diol.
[5]
Item 2. The transparent conductive film according to any one of Items 1 to 4, wherein the acid generator (C) contains a sulfonium salt.
[6]
Item 2. The transparent conductivity according to any one of Items 1 to 5, wherein the polyol compound (B) has a number average molecular weight in the range of 200 to 100,000 g / mol and a hydroxyl value in the range of 190 to 550 KOH mg / g. Sex film.
[7]
The total light transmittance is 85% or more, and the surface resistivity of the surface of the transparent conductive film on which the conductive layer is provided is 1000 Ω / sq. Item 2. The transparent conductive film according to any one of Items 1 to 6 below.
[8]
The electronic device provided with the transparent conductive film according to any one of Items 1 to 7.

1…フィルム、2…導電層、3…透明導電性フィルム、100…フィルム製造装置、110…巻出ロール、120…キャリアフィルム、130a乃至130e…ガイドロール、140…バックアップロール、150…ダイヘッド、160…電離放射線照射機、170…ヒータ、180…剥離ロール、190a及び190b…巻取ロール。 1 ... film, 2 ... conductive layer, 3 ... transparent conductive film, 100 ... film manufacturing equipment, 110 ... unwinding roll, 120 ... carrier film, 130a to 130e ... guide roll, 140 ... backup roll, 150 ... die head, 160 ... Ionizing radiation irradiator, 170 ... Heater, 180 ... Peeling roll, 190a and 190b ... Winding roll.

Claims (8)

単層構造を有している自立膜としてのフィルムであって、脂環式エポキシ化合物(A)とポリオール化合物(B)と酸発生剤(C)とを含んだ樹脂組成物の硬化物からなるフィルムと、
前記フィルムの片面又は両面に位置する導電層と
を備え、
前記脂環式エポキシ化合物(A)と前記ポリオール化合物(B)との合計量に占める前記脂環式エポキシ化合物(A)の量の割合は50乃至80質量%の範囲内にある透明導電性フィルム。
A film as a self-supporting film having a single-layer structure, which comprises a cured product of a resin composition containing an alicyclic epoxy compound (A), a polyol compound (B), and an acid generator (C). With the film
E Bei a conductive layer located on one or both sides of the film,
The alicyclic epoxy compound (A) and the polyol compound (B) to the amount of percentage permeable transparent conductive properties that are within the scope of 50 to 80 wt% of the alicyclic epoxy compound to the total amount (A) of the film.
記酸発生剤(C)の量は、前記脂環式エポキシ化合物(A)と前記ポリオール化合物(B)との合計量100質量部に対して0.05乃至0.5質量部の範囲内にある請求項1に記載の透明導電性フィルム。 The amount of pre-hexane generator (C), the alicyclic epoxy compound (A) and the polyol compound (B) 0.05 to the total amount of 100 parts by mass of the range of 0.5 part by weight The transparent conductive film according to claim 1. 前記脂環式エポキシ化合物(A)は、3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート及びε−カプロラクトン変性3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートの少なくとも一方である請求項1又は2に記載の透明導電性フィルム。 The alicyclic epoxy compound (A) contains 3', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and ε-caprolactone-modified 3', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate. The transparent conductive film according to claim 1 or 2, which is at least one of the above. 前記ポリオール化合物(B)は、ポリカプロラクトントリオール及びポリカーボネートジオールの少なくとも一方である請求項1乃至3の何れか1項に記載の透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 3, wherein the polyol compound (B) is at least one of polycaprolactone triol and polycarbonate diol. 前記酸発生剤(C)はスルホニウム塩を含んだ請求項1乃至4の何れか1項に記載の透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 4, wherein the acid generator (C) contains a sulfonium salt. 前記ポリオール化合物(B)は、数平均分子量が200乃至100000g/molの範囲内にあり、水酸基価が190乃至550KOHmg/gの範囲内にある請求項1乃至5の何れか1項に記載の透明導電性フィルム。 The transparency according to any one of claims 1 to 5, wherein the polyol compound (B) has a number average molecular weight in the range of 200 to 100,000 g / mol and a hydroxyl value in the range of 190 to 550 KOH mg / g. Conductive film. 全光線透過率が85%以上であり、前記透明導電性フィルムの面のうち、前記導電層が設けられている面の表面抵抗率が1000Ω/sq.以下である請求項1乃至6の何れか1項に記載の透明導電性フィルム。 The total light transmittance is 85% or more, and the surface resistivity of the surface of the transparent conductive film on which the conductive layer is provided is 1000 Ω / sq. The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 6 below. 請求項1乃至7の何れか1項に記載の透明導電性フィルムを備えた電子デバイス。 An electronic device comprising the transparent conductive film according to any one of claims 1 to 7.
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