JP6815440B2 - Measurement probe - Google Patents

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Description

本発明は、測定プローブに係り、特に、小型化可能で、かつスタイラス違いによらず、スタイラスの接触部を軸方向に移動可能とする移動部材の変位量を高い分解能で検出可能な測定プローブに関する。 The present invention relates to a measurement probe, and more particularly to a measurement probe that can be miniaturized and can detect the displacement amount of a moving member that makes the contact portion of the stylus movable in the axial direction with high resolution regardless of the stylus difference. ..

被測定物の表面に接触して、被測定物の表面の形状を測定する測定装置は、例えば、三次元測定機などが知られている。三次元測定機では、被測定物に接触してその表面形状を検出するための測定プローブが使用されている(特許文献1)。特許文献1で示す測定プローブは、被測定物(の表面)に接触する接触部を有するスタイラスと、該接触部を測定プローブの中心軸の方向(Z方向、軸方向Oとも称する)に移動可能とする移動部材を備える軸運動機構と、旋回運動によって該Z方向と直角をなす面に沿って前記接触部を移動可能とする旋回部材を備える旋回運動機構と、を備えている。特許文献1においては、軸運動機構と旋回運動機構とは、直列に接続されており、スタイラスの接触部の移動可能な方向を互いに異なるようにしている。 As a measuring device that comes into contact with the surface of the object to be measured and measures the shape of the surface of the object to be measured, for example, a three-dimensional measuring machine is known. In a three-dimensional measuring machine, a measuring probe for contacting an object to be measured and detecting its surface shape is used (Patent Document 1). The measurement probe shown in Patent Document 1 has a stylus having a contact portion in contact with (the surface of) the object to be measured, and the contact portion can be moved in the direction of the central axis of the measurement probe (also referred to as Z direction and axial direction O). It is provided with an axial motion mechanism including a moving member, and a swivel motion mechanism including a swivel member capable of moving the contact portion along a surface formed at right angles to the Z direction by swivel motion. In Patent Document 1, the axial motion mechanism and the swing motion mechanism are connected in series so that the movable directions of the contact portions of the stylus are different from each other.

特許第4417114号公報Japanese Patent No. 4417114

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本発明は、前記の問題点を解決するべくなされたもので、小型化可能で、かつスタイラス違いによらず、スタイラスの接触部を軸方向に移動可能とする移動部材の変位量を高い分解能で検出可能な測定プローブを提供することを課題とする。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems , and it is possible to reduce the size and to move the contact portion of the stylus in the axial direction with high resolution regardless of the stylus difference. An object of the present invention is to provide a detectable measurement probe.

本願の請求項1に係る発明は、被測定物に接触する接触部を有する脱着可能なスタイラスと、該接触部を軸方向に移動可能とする移動部材を備える軸運動機構と、旋回運動によって該軸方向と直角をなす面に沿って前記接触部を移動可能とする旋回部材を備える旋回運動機構と、を備える測定プローブであって、前記軸運動機構を支持する軸ハウジング部材と、前記スタイラスの質量に応じたバランスウェイトと、前記軸ハウジング部材に支持され、該スタイラスと該バランスウェイトとの間のバランスをとるカウンタバランス機構と、を備え、前記軸運動機構が前記移動部材を変位可能とする複数の第1ダイヤフラム構造体を備え、前記軸方向において、前記カウンタバランス機構が、該複数の第1ダイヤフラム構造体のうちの最も前記接触部に近い1つの該第1ダイヤフラム構造体と該接触部との間に配置され、前記旋回運動機構が前記旋回部材を変位可能とする第2ダイヤフラム構造体を備え、前記軸方向において、前記複数の第1ダイヤフラム構造体の間に、前記第2ダイヤフラム構造体が配置されていたことにより、前記課題を解決したものである。 The invention according to claim 1 of the present application comprises a removable stylus having a contact portion in contact with an object to be measured, an axial movement mechanism including a moving member that makes the contact portion movable in the axial direction, and a swivel motion. A measuring probe comprising a swivel mechanism comprising a swivel member that allows the contact portion to move along a surface perpendicular to the axial direction, the shaft housing member supporting the axial motion mechanism, and the stylus. A balance weight according to the mass and a counter balance mechanism that is supported by the shaft housing member and balances between the stylus and the balance weight are provided, and the shaft movement mechanism makes the moving member displaceable. A plurality of first diaphragm structures are provided, and in the axial direction, the counterbalance mechanism is one of the plurality of first diaphragm structures closest to the contact portion, and the first diaphragm structure and the contact portion. The second diaphragm structure is provided between the first diaphragm structures, and the second diaphragm structure is provided between the first diaphragm structures in the axial direction and the swivel motion mechanism is provided so as to displace the swivel member. The problem was solved because the body was arranged .

本願の請求項2に係る発明は、前記旋回運動機構が前記軸ハウジング部材を支持し、前記カウンタバランス機構を前記スタイラスに連結し該スタイラスとともに着脱可能としたものである。 In the invention according to claim 2 of the present application, the swivel motion mechanism supports the shaft housing member, the counter balance mechanism is connected to the stylus, and the stylus is detachable together with the stylus .

本願の請求項3に係る発明は、前記旋回運動機構を支持し前記軸運動機構に支持される旋回ハウジング部材を備え、前記カウンタバランス機構を該旋回ハウジング部材に連結したものである。 The invention according to claim 3 of the present application includes a swivel housing member that supports the swivel motion mechanism and is supported by the axial motion mechanism, and the counter balance mechanism is connected to the swivel housing member .

本願の請求項に係る発明は、前記旋回ハウジング部材を前記カウンタバランス機構とともに脱着可能としたものである。 The invention according to claim 4 of the present application makes the swivel housing member detachable together with the counter balance mechanism.

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本発明によれば、小型化が可能で、かつスタイラス違いによらず、スタイラスの接触部を軸方向に移動可能とする移動部材の変位量を高い分解能で検出することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to reduce the size and detect the displacement amount of the moving member that makes the contact portion of the stylus movable in the axial direction with high resolution regardless of the difference in the stylus .

本発明に係る測定プローブを用いた測定システムの一例を示す模式図Schematic diagram showing an example of a measurement system using the measurement probe according to the present invention. 本発明の第1実施形態に係る測定プローブの断面を示す模式図Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the first embodiment of the present invention. 測定プローブ及びその周辺部の構成を示すブロック図Block diagram showing the configuration of the measurement probe and its peripheral parts 測定プローブで用いられるダイヤフラム構造体の一例を示す模式図(軸運動機構で用いられる第1ダイヤフラム構造体の図(A)、旋回運動機構で用いられる第2ダイヤフラム構造体の図(B)、旋回運動機構で用いられる第2ダイヤフラム構造体の機能図(C))Schematic diagram showing an example of the diaphragm structure used in the measurement probe (the first diaphragm structure used in the axial motion mechanism (A), the second diaphragm structure used in the swivel motion mechanism (B), swivel). Functional diagram of the second diaphragm structure used in the motion mechanism (C)) 本発明に係る測定プローブの断面を示す模式図(第2実施形態の図(A)、第3実施形態の図(B))Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the present invention (FIG. (A) of the second embodiment, diagram (B) of the third embodiment). 本発明の第4実施形態に係る測定プローブの断面を示す模式図Schematic diagram showing a cross section of a measurement probe according to a fourth embodiment of the present invention. 本発明の第4実施形態に係る干渉光学系を示す模式図(構成要素の配置図(A)、変位検出器に干渉光が投射される様子を示す図(B)、変位検出器で検出される干渉光の位相と周波数を示す図(C))Schematic diagram showing the interference optical system according to the fourth embodiment of the present invention (arrangement diagram (A) of components, diagram (B) showing how interference light is projected onto the displacement detector, detected by the displacement detector. Figure (C) showing the phase and frequency of the interfering light 本発明に係る測定プローブの断面を示す模式図(第5実施形態の図(A)、第6実施形態の図(B))Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the present invention (FIG. (A) of the fifth embodiment, diagram (B) of the sixth embodiment). 図8(B)の測定プローブの一部を示す斜視図(旋回モジュールにスタイラスが連結された図(A)、カウンタバランス機構の図(B)、スタイラスの図(C))A perspective view showing a part of the measurement probe of FIG. 8 (B) (a diagram (A) in which a stylus is connected to a swivel module, a diagram (B) of a counter balance mechanism, and a diagram (C) of the stylus). 本発明に係る測定プローブの断面を示す模式図(第7実施形態の図(A)、第8実施形態の図(B))Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the present invention (FIG. (A) of the 7th embodiment, FIG. (B) of the 8th embodiment). 本発明に係る測定プローブの断面を示す模式図(第9実施形態の図(A)、第10実施形態の図(B))Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the present invention (FIG. (A) of the 9th embodiment, FIG. (B) of the 10th embodiment). 本発明に係る測定プローブの断面を示す模式図(第11実施形態の図(A)、第12実施形態の図(B))Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the present invention (FIG. (A) of the 11th embodiment, FIG. (B) of the 12th embodiment). 本発明の第12実施形態に係るスタイラス及びカウンタバランス機構を示す模式図(斜視図(A)、上面図(B)、断面図(C))Schematic diagram showing a stylus and a counter balance mechanism according to a twelfth embodiment of the present invention (strabismus (A), top view (B), cross-sectional view (C)). 本発明に係る測定プローブの断面を示す模式図(第13実施形態の図(A)、第14実施形態の図(B))Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the present invention (FIG. (A) of the 13th embodiment, FIG. (B) of the 14th embodiment). 本発明の第15実施形態に係る測定プローブの断面を示す模式図Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the fifteenth embodiment of the present invention. 本発明の第16実施形態に係る測定プローブの断面を示す模式図(中心軸Oからずれた図(A)、中心軸Oを通る図(B))Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the 16th embodiment of the present invention (a diagram (A) deviated from the central axis O, a diagram (B) passing through the central axis O). 本発明に係る測定プローブの断面を示す模式図(第17実施形態の図(A)、第18実施形態の図(B))Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the present invention (FIG. (A) of the 17th embodiment, FIG. (B) of the 18th embodiment). 本発明の第19実施形態に係る測定プローブの断面を示す模式図Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the 19th embodiment of the present invention. 本発明に係る測定プローブの断面を示す模式図(第20実施形態の図(A)、第21実施形態の図(B))Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the present invention (FIG. (A) of the 20th embodiment, FIG. (B) of the 21st embodiment). 本発明の第22実施形態に係る測定プローブの断面を示す模式図Schematic diagram showing a cross section of the measurement probe according to the 22nd embodiment of the present invention.

以下、図面を参照して、本発明の実施形態の一例を詳細に説明する。 Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

本発明に係る第1実施形態について図1〜図4を参照して説明する。 The first embodiment according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4.

最初に、測定システム100の全体構成を説明する。 First, the overall configuration of the measurement system 100 will be described.

測定システム100は、図1に示す如く、測定プローブ300を移動させる三次元測定機200と、手動操作するジョイスティック111を有する操作部110と、三次元測定機200の動作を制御するモーションコントローラ500と、を備える。また、測定システム100は、モーションコントローラ500を介して三次元測定機200を動作させるとともに三次元測定機200によって取得した測定データを処理して被測定物Wの寸法や形状などを求めるホストコンピュータ600と、測定条件等を入力する入力手段120と、測定結果を出力する出力手段130と、を備える。 As shown in FIG. 1, the measurement system 100 includes a three-dimensional measuring machine 200 for moving the measuring probe 300, an operation unit 110 having a joystick 111 for manual operation, and a motion controller 500 for controlling the operation of the three-dimensional measuring machine 200. , Equipped with. Further, the measurement system 100 operates the coordinate measuring machine 200 via the motion controller 500 and processes the measurement data acquired by the coordinate measuring machine 200 to obtain the dimensions and shape of the object W to be measured. An input means 120 for inputting measurement conditions and the like, and an output means 130 for outputting a measurement result are provided.

次に、各構成要素について説明する。 Next, each component will be described.

前記三次元測定機200は、図1に示す如く、測定プローブ300と、定盤210と、定盤210に立設されて測定プローブ300を三次元的に移動させる駆動機構220と、駆動機構220の駆動量を検出する駆動センサ230と、を備えている。 As shown in FIG. 1, the coordinate measuring machine 200 includes a measuring probe 300, a surface plate 210, a drive mechanism 220 that is erected on the surface plate 210 and moves the measurement probe 300 three-dimensionally, and a drive mechanism 220. It is provided with a drive sensor 230 that detects the drive amount of the above.

測定プローブ300は、図2に示す如く、スタイラス306と、軸運動機構310と、旋回運動機構334と、を備える。スタイラス306の接触部348は、軸運動機構310と旋回運動機構334とにより、被測定物Wの表面Sに接触した際にその形状に倣って3方向に自在に変位する構成とされている。 As shown in FIG. 2, the measuring probe 300 includes a stylus 306, an axial motion mechanism 310, and a swivel motion mechanism 334. The contact portion 348 of the stylus 306 is configured to be freely displaced in three directions according to its shape when it comes into contact with the surface S of the object to be measured W by the axial motion mechanism 310 and the swivel motion mechanism 334.

更に、図2を用いて、測定プローブ300の構成概略について説明する。なお、以下の説明のために、図2の紙面上下方向にZ方向をとり、紙面左右方向にX方向をとり、紙面垂直方向にY方向をとる。このため、測定プローブ300の中心軸Oの方向(軸方向O)は、Z方向と同一となる。 Further, the outline of the configuration of the measurement probe 300 will be described with reference to FIG. For the following explanation, the Z direction is taken in the vertical direction of the paper surface, the X direction is taken in the horizontal direction of the paper surface, and the Y direction is taken in the vertical direction of the paper surface. Therefore, the direction of the central axis O (axial direction O) of the measurement probe 300 is the same as the Z direction.

測定プローブ300は、図2に示す如く、被測定物Wに接触する接触部348を有するスタイラス306と、接触部348を軸方向Oに移動可能とする移動部材312を備える軸運動機構310と、旋回運動によって軸方向Oと直角をなす面に沿って接触部348を移動可能とする旋回部材RPを備える旋回運動機構334と、を備える。ここで、軸運動機構310は本体ハウジング(軸ハウジング部材)308に支持され、且つ、旋回運動機構334はモジュールハウジング(旋回ハウジング部材)330に支持されている。そして、軸運動機構310はモジュールハウジング330を支持し、且つ旋回部材RPはスタイラス306を直接的に支持する構成とされている。そして、測定プローブ300は、本体ハウジング308に支持され移動部材312の変位を検出する変位検出器328を備える。 As shown in FIG. 2, the measurement probe 300 includes a stylus 306 having a contact portion 348 in contact with the object W to be measured, an axial movement mechanism 310 including a moving member 312 that makes the contact portion 348 movable in the axial direction O, and the like. A swivel motion mechanism 334 including a swivel member RP that enables the contact portion 348 to move along a surface perpendicular to the axial direction O by the swivel motion. Here, the shaft motion mechanism 310 is supported by the main body housing (shaft housing member) 308, and the swivel motion mechanism 334 is supported by the module housing (swivel housing member) 330. The axial movement mechanism 310 supports the module housing 330, and the swivel member RP directly supports the stylus 306. The measurement probe 300 is supported by the main body housing 308 and includes a displacement detector 328 that detects the displacement of the moving member 312.

また、測定プローブ300は、図2に示す如く、プローブ本体302でスタイラス306を支持している。つまり、測定プローブ300は、プローブ本体302と旋回モジュール304の2つのモジュールを備え、プローブ本体302が旋回モジュール304を内蔵する形態となっている。そして、姿勢検出器322(後述)は、移動部材312と旋回部材RPの両方を支持する本体ハウジング(ハウジング部材)308を備えるプローブ本体302に内蔵されている(言い換えれば、姿勢検出器322は、本体ハウジング308に収納されている)。なお、「内蔵」は、それぞれのハウジング部材(「内蔵」の対象部材がプローブ本体302に「内蔵」されるのであれば本体ハウジング308、「内蔵」の対象部材が旋回モジュール304に「内蔵」されるのであればモジュールハウジング330)の径方向内側で支持され、且つその「内蔵」の対象部材がそれぞれのハウジング部材の外側に配置される他のモジュールもしくは他のハウジング部材の内側だけに入り込む部分を有さないことを意味するものとする。 Further, as shown in FIG. 2, the measurement probe 300 supports the stylus 306 with the probe main body 302. That is, the measurement probe 300 includes two modules, a probe main body 302 and a swivel module 304, and the probe main body 302 has a swivel module 304 built-in. The attitude detector 322 (described later) is built in the probe main body 302 including the main body housing (housing member) 308 that supports both the moving member 312 and the swivel member RP (in other words, the attitude detector 322 is It is housed in the main body housing 308). The "built-in" means that each housing member (if the "built-in" target member is "built-in" in the probe main body 302, the main body housing 308 and the "built-in" target member are "built-in" in the swivel module 304. If so, a portion that is supported radially inside the module housing 330) and whose "built-in" target member enters only the inside of another module or other housing member that is located outside each housing member. It shall mean that it does not have it.

以下、測定プローブ300について詳細に説明する。 Hereinafter, the measurement probe 300 will be described in detail.

前記プローブ本体302は、図2に示す如く、本体ハウジング308と、軸運動機構310と、旋回モジュール304と、姿勢検出器322と、変位検出器328と、信号処理回路329(図3)と、を備える。 As shown in FIG. 2, the probe main body 302 includes a main body housing 308, an axial motion mechanism 310, a swivel module 304, an attitude detector 322, a displacement detector 328, a signal processing circuit 329 (FIG. 3), and the like. To be equipped.

本体ハウジング308は、図2に示す如く、内側側面に段部308Aを備えた蓋付円筒形状とされている。そして、本体ハウジング308は、Z方向において、段部308Aの上側の径方向内側に軸運動機構310を支持している。また、本体ハウジング308は、Z方向において、段部308Aの下側に設けられた薄肉の延在部308Bの径方向内側に旋回モジュール304を収納している。 As shown in FIG. 2, the main body housing 308 has a cylindrical shape with a lid having a stepped portion 308A on the inner side surface. The main body housing 308 supports the axial movement mechanism 310 on the inner side in the radial direction on the upper side of the step portion 308A in the Z direction. Further, in the Z direction, the main body housing 308 houses the swivel module 304 inside in the radial direction of the thin-walled extending portion 308B provided below the step portion 308A.

軸運動機構310は、図2に示す如く、移動部材312と、移動部材312を本体ハウジング308に対して変位可能とする一対の第1ダイヤフラム構造体314、315と、を備える。 As shown in FIG. 2, the axial movement mechanism 310 includes a moving member 312 and a pair of first diaphragm structures 314 and 315 that allow the moving member 312 to be displaced with respect to the main body housing 308.

移動部材312は、図2に示す如く、軸心を中空部312Bとした略円筒形状とされている。そして、移動部材312は、Z方向において、第1ダイヤフラム構造体314に支持される位置の下方に凹部312Cを備えている。その凹部312Cに接触しない状態で本体ハウジング308の内側側面から支持部材319が延在している。そして、姿勢検出器322及びビームスプリッタ320が支持部材319に支持されている。移動部材312の下端部には、旋回運動機構334を備える旋回モジュール304が支持されている。つまり、姿勢検出器322は、旋回運動機構334と一対の第1ダイヤフラム構造体314、315との間に配置されている。 As shown in FIG. 2, the moving member 312 has a substantially cylindrical shape with a hollow portion 312B as the axis. The moving member 312 is provided with a recess 312C below the position supported by the first diaphragm structure 314 in the Z direction. The support member 319 extends from the inner side surface of the main body housing 308 without contacting the recess 312C. The attitude detector 322 and the beam splitter 320 are supported by the support member 319. A swivel module 304 including a swivel motion mechanism 334 is supported at the lower end of the moving member 312. That is, the attitude detector 322 is arranged between the swivel motion mechanism 334 and the pair of first diaphragm structures 314 and 315.

第1ダイヤフラム構造体314、315は、図4(A)に示す如く、弾性変形可能な略円盤形状の部材である。材質としてはリン青銅など(他の材料でもよい)である。第1ダイヤフラム構造体315は第1ダイヤフラム構造体314と同一とされている(これに限らず、互いに異なる形状とされていてもよい)。このため、第1ダイヤフラム構造体314についてのみ、図4(A)を用いて説明する。 As shown in FIG. 4A, the first diaphragm structure 314 and 315 are members having a substantially disk shape that can be elastically deformed. The material is phosphor bronze or the like (other materials may be used). The first diaphragm structure 315 is the same as the first diaphragm structure 314 (not limited to this, the shapes may be different from each other). Therefore, only the first diaphragm structure 314 will be described with reference to FIG. 4 (A).

第1ダイヤフラム構造体314には、図4(A)に示す如く、周方向で位相が120度ずれた3つの切り抜き部314Dが設けられている。切り抜き部314Dにより、第1ダイヤフラム構造体314の径方向外側から内側に向かって、外周部314Aとリム部314Bと中心部314Cとが設けられている。外周部314Aは、第1ダイヤフラム構造体314の最外周にあり、本体ハウジング308に固定される部分である。リム部314Bは隣接する2つの切り抜き部314Dにより周方向に帯状とされ、外周部314Aの内側に配置されている。そして、リム部314Bの両端部は、それぞれ外周部314Aと中心部314Cとに連結されている。中心部314Cは、移動部材312を支持する部分であり、リム部314Bのさらに内側に配置されている。本体ハウジング308に対する移動部材312の変位により、第1ダイヤフラム構造体314は、中心部314Cが上下動し、リム部314Bが弾性変形する構造となっている。なお、第1ダイヤフラム構造体の構造は、本実施形態で示す形状に限定されるものではない(第2ダイヤフラム構造体も同様である)。 As shown in FIG. 4A, the first diaphragm structure 314 is provided with three cutout portions 314D having a phase shift of 120 degrees in the circumferential direction. The cutout portion 314D provides an outer peripheral portion 314A, a rim portion 314B, and a central portion 314C from the radial outer side to the inner side of the first diaphragm structure 314. The outer peripheral portion 314A is located on the outermost circumference of the first diaphragm structure 314 and is a portion fixed to the main body housing 308. The rim portion 314B is formed into a band shape in the circumferential direction by two adjacent cutout portions 314D, and is arranged inside the outer peripheral portion 314A. Both ends of the rim portion 314B are connected to the outer peripheral portion 314A and the central portion 314C, respectively. The central portion 314C is a portion that supports the moving member 312, and is arranged further inside the rim portion 314B. The first diaphragm structure 314 has a structure in which the central portion 314C moves up and down and the rim portion 314B elastically deforms due to the displacement of the moving member 312 with respect to the main body housing 308. The structure of the first diaphragm structure is not limited to the shape shown in the present embodiment (the same applies to the second diaphragm structure).

旋回モジュール304は、図2に示す如く、フランジ部332と、モジュールハウジング330と、旋回運動機構334と、を備えている。 As shown in FIG. 2, the swivel module 304 includes a flange portion 332, a module housing 330, and a swivel motion mechanism 334.

フランジ部332は、図2に示す如く、移動部材312に連結されており、中心に開口部332Aを備えるフランジ形状とされている。 As shown in FIG. 2, the flange portion 332 is connected to the moving member 312 and has a flange shape having an opening 332A in the center.

モジュールハウジング330は、図2に示す如く、下端に開口部330Aを備える略円筒形状の部材である。そして、モジュールハウジング330は、旋回運動機構334を径方向内側で支持する。 As shown in FIG. 2, the module housing 330 is a substantially cylindrical member having an opening 330A at the lower end. Then, the module housing 330 supports the turning motion mechanism 334 in the radial direction.

旋回運動機構334は、図2に示す如く、フランジ部材342を除いてモジュールハウジング330の内側に収納されている。フランジ部材342は、スタイラス306の内側に入り込むことなく、スタイラス306に連結されている。そして、旋回運動機構334は、図2に示す如く、旋回部材RPと、旋回部材RPをモジュールハウジング330に対して変位可能とする第2ダイヤフラム構造体340と、を備える。 As shown in FIG. 2, the swivel motion mechanism 334 is housed inside the module housing 330 except for the flange member 342. The flange member 342 is connected to the stylus 306 without getting inside the stylus 306. Then, as shown in FIG. 2, the swivel motion mechanism 334 includes a swivel member RP and a second diaphragm structure 340 that allows the swivel member RP to be displaced with respect to the module housing 330.

旋回部材RPは、図2に示す如く、第2ダイヤフラム構造体340に支持される部材であって、バランス部材338と、上部部材336と、フランジ部材342と、を備える。 As shown in FIG. 2, the swivel member RP is a member supported by the second diaphragm structure 340, and includes a balance member 338, an upper member 336, and a flange member 342.

バランス部材338は、図2に示す如く、第2ダイヤフラム構造体340の上部に配置され、スタイラス306に対応する重量とされている(つまり、旋回部材RPは、旋回運動機構334の旋回中心RCに対して反スタイラス側にバランス部材338を備えている構成である)。このバランス部材338を適切に設定する(あるいは、後述するように、旋回中心RCとバランス部材338との距離を調整する)ことで、スタイラス306を含めて旋回部材RPで支持される部材の重心位置を旋回中心RCに一致させることができる。このため、例えば、測定プローブ300を横向きにしても、スタイラス306の中心軸が軸方向Oから大きく傾くことを防止することができる。即ち、測定プローブ300の姿勢が変更されても、スタイラス306が姿勢検出器322(後述)の測定範囲の中央に留まることができ、姿勢検出器322としてより簡易化、小型化、高分解能化したものを採用することが可能となる。バランス部材338の上端部(旋回部材RPの反スタイラス側端部)には、基準部材316が設けられている。なお、バランス部材338の側面338Bとモジュールハウジング330の内側側面330Bとの距離は、バランス部材338の傾斜(変位)を規制して、第2ダイヤフラム構造体340が弾性変形の範囲内となるように定められている。即ち、旋回モジュール304は、第2ダイヤフラム構造体340の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第2制限部材となるモジュールハウジング330及びバランス部材338を備えているといえる。 As shown in FIG. 2, the balance member 338 is arranged on the upper part of the second diaphragm structure 340 and has a weight corresponding to the stylus 306 (that is, the swivel member RP is located at the swivel center RC of the swivel motion mechanism 334. On the other hand, the balance member 338 is provided on the anti-stylus side). By appropriately setting the balance member 338 (or adjusting the distance between the turning center RC and the balance member 338 as described later), the position of the center of gravity of the member supported by the turning member RP including the stylus 306 Can be matched to the turning center RC. Therefore, for example, even if the measurement probe 300 is turned sideways, it is possible to prevent the central axis of the stylus 306 from being significantly tilted from the axial direction O. That is, even if the attitude of the measurement probe 300 is changed, the stylus 306 can stay in the center of the measurement range of the attitude detector 322 (described later), and the attitude detector 322 is simpler, smaller, and has higher resolution. It becomes possible to adopt things. A reference member 316 is provided at the upper end of the balance member 338 (the end on the anti-stylus side of the swivel member RP). The distance between the side surface 338B of the balance member 338 and the inner side surface 330B of the module housing 330 regulates the inclination (displacement) of the balance member 338 so that the second diaphragm structure 340 is within the range of elastic deformation. It has been decided. That is, it can be said that the swivel module 304 includes a module housing 330 and a balance member 338, which are second limiting members that limit the amount of deformation of the second diaphragm structure 340 within the range of elastic deformation.

上部部材336は、図2に示す如く、第2ダイヤフラム構造体340に係合しバランス部材338を支持する構成となっている。なお、上部部材336の凸部336Aには、雄ねじが設けられている。そして、凸部336Aに対応するバランス部材338の凹部338Aには、雌ねじが設けられている。このため、バランス部材338の上部部材336への螺合状態を変化させることで、旋回中心RCとバランス部材338との距離が調整可能とされている。つまり、バランス部材338の旋回中心RCからの距離を変化させることで、重量または長さがそれぞれ異なるスタイラス306であっても、旋回部材RP(第2ダイヤフラム構造体340に支持される部材)の重心位置を旋回中心RCに一致させることが可能となる。 As shown in FIG. 2, the upper member 336 is configured to engage with the second diaphragm structure 340 to support the balance member 338. A male screw is provided on the convex portion 336A of the upper member 336. A female screw is provided in the concave portion 338A of the balance member 338 corresponding to the convex portion 336A. Therefore, the distance between the turning center RC and the balance member 338 can be adjusted by changing the screwed state of the balance member 338 to the upper member 336. That is, by changing the distance of the balance member 338 from the turning center RC, the center of gravity of the turning member RP (member supported by the second diaphragm structure 340) is centered even if the stylus 306 has a different weight or length. It is possible to match the position with the turning center RC.

第2ダイヤフラム構造体340も、図4(B)に示す如く、弾性変形可能な略円盤形状
の部材である。材質としてはリン青銅など(他の材料でもよい)である。第2ダイヤフラム構造体340には、周方向で位相が180度異なる2つの円弧形状の切り抜き部340Eが設けられ、2つのヒンジ部340Cが形成されている。切り抜き部340Eの径方向内側には、更に周方向で位相が180度異なる2つの円弧形状の切り抜き部340Fが設けられ、2つのヒンジ部340Dが形成されている。切り抜き部340E、340Fにより、第2ダイヤフラム構造体340の径方向外側から内側に向かって、外周部340Aとリム部340Gと中心部340Bとが設けられている。
As shown in FIG. 4B, the second diaphragm structure 340 is also a substantially disk-shaped member that can be elastically deformed. The material is phosphor bronze or the like (other materials may be used). The second diaphragm structure 340 is provided with two arc-shaped cutout portions 340E having a phase difference of 180 degrees in the circumferential direction, and two hinge portions 340C are formed. Inside the cutout portion 340E in the radial direction, two arc-shaped cutout portions 340F having a phase difference of 180 degrees in the circumferential direction are further provided, and two hinge portions 340D are formed. The cutout portions 340E and 340F provide an outer peripheral portion 340A, a rim portion 340G, and a central portion 340B from the radial outer side to the inner side of the second diaphragm structure 340.

外周部340Aは、図4(B)に示す如く、第2ダイヤフラム構造体340の最外周にあり、モジュールハウジング330に固定される部分である。リム部340Gは、径方向の両側に設けられた切り抜き部340E、340Fにより周方向に帯状とされている。そして、リム部340Gは、外周部340Aの内側に配置され、ヒンジ部340Cで外周部340Aと、ヒンジ部340Dで中心部340Bと連結されている。中心部340Bは、上部部材336を支持する部分であり、リム部340Gのさらに内側に配置されている。切り抜き部340Eと切り抜き部340Fとは位相が90度異なる。このため、第2ダイヤフラム構造体340の中心(旋回中心RC)を軸として、中心部340Bは互いに直交する2方向に傾斜可能(旋回可能)な構造となっている。 As shown in FIG. 4B, the outer peripheral portion 340A is located on the outermost circumference of the second diaphragm structure 340 and is a portion fixed to the module housing 330. The rim portion 340G is formed into a band shape in the circumferential direction by cutout portions 340E and 340F provided on both sides in the radial direction. The rim portion 340G is arranged inside the outer peripheral portion 340A, and is connected to the outer peripheral portion 340A by the hinge portion 340C and to the central portion 340B by the hinge portion 340D. The central portion 340B is a portion that supports the upper member 336, and is arranged further inside the rim portion 340G. The cutout portion 340E and the cutout portion 340F are 90 degrees out of phase. Therefore, the central portion 340B has a structure that can be tilted (swivelable) in two directions orthogonal to each other with the center (swivel center RC) of the second diaphragm structure 340 as an axis.

なお、図4(C)は、第2ダイヤフラム構造体340の機能を示す模式図であり、符号kは、中心部340Bが変位(旋回)した際の単位変位量(角度)当たりの復元力を示している。 Note that FIG. 4C is a schematic view showing the function of the second diaphragm structure 340, and reference numeral k indicates a restoring force per unit displacement amount (angle) when the central portion 340B is displaced (turned). Shown.

フランジ部材342は、図2に示す如く、第2ダイヤフラム構造体340を上部部材336と挟み込む形態で、上部部材336に支持されている。フランジ部材342の下端外周には、周方向で120度毎に一対のローラ342Aが3つ設けられている。そして、中心軸O上に永久磁石342Bが設けられている。なお、一対のローラ342Aの軸方向は、フランジ部材342の中心に向かう略径方向と同一とされている。 As shown in FIG. 2, the flange member 342 is supported by the upper member 336 in a form of sandwiching the second diaphragm structure 340 with the upper member 336. Three pairs of rollers 342A are provided on the outer periphery of the lower end of the flange member 342 every 120 degrees in the circumferential direction. A permanent magnet 342B is provided on the central axis O. The axial direction of the pair of rollers 342A is the same as the substantially radial direction toward the center of the flange member 342.

なお、段部308Aの下端部308ABとフランジ部332の上端部332Bとの距離は、一対の第1ダイヤフラム構造体314、315の弾性変形の範囲内となるように定められている。即ち、プローブ本体302は、一対の第1ダイヤフラム構造体314、315の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第1制限部材となる本体ハウジング308、移動部材312、支持部材319、及びモジュールハウジング330を備えているといえる。なお、延在部308Bにより、旋回モジュール304への直接的なXY方向からの外力も同時に防止することができる。もちろん、スタイラス306に過大な負荷が加わった場合には、この第1ダイヤフラム構造体314、315を保護するために、第1制限部材が作用する前に、スタイラス306が脱落する構成となっている。 The distance between the lower end portion 308AB of the step portion 308A and the upper end portion 332B of the flange portion 332 is set so as to be within the range of elastic deformation of the pair of first diaphragm structures 314 and 315. That is, the probe main body 302 is a main body housing 308, a moving member 312, a support member 319, and a module housing, which are first limiting members that limit the amount of deformation of the pair of first diaphragm structures 314 and 315 within the range of elastic deformation. It can be said that it has 330. The extending portion 308B can simultaneously prevent an external force directly from the XY direction on the swivel module 304. Of course, when an excessive load is applied to the stylus 306, the stylus 306 is configured to fall off before the first limiting member acts in order to protect the first diaphragm structures 314 and 315. ..

一方、移動部材312の上端部312Aには、図2に示す如く、スケールブラケット324が配置されている。スケールブラケット324上には、基準部材326が配置されている。そして、基準部材326に対向して、基準部材326からの反射光を検出する変位検出器328が配置されている。なお、変位検出器328は、基準部材326に光を照射する光源を内蔵している。基準部材326の変位検出器328側の表面には、光源からの光の反射率が異なるインクリメンタルパターンが一定間隔でZ方向に設けられている。即ち、基準部材326は、反射型のスケールとされている。この基準部材326、変位検出器328により、2相正弦波信号を出力する光電式インクリメンタル型リニアエンコーダが構成されている。つまり、変位検出器328は、本体ハウジング308に支持され移動部材312の変位を検出する構成となっている。そして、変位検出器328は、移動部材312の変位に対応してインクリメンタルパターンの所定の周期で繰り返される周期信号を出力する(つまり、変位検出器328は、移動部材312の相対的な位置の検出を可能とする相対位置検出信号を出力する構成である)。この周期信号は、信号処理回路329で波形整形される。そして、信号処理回路329からは、基準部材326のZ方向の変位を求めるためのZ2相sin波が出力される。 On the other hand, as shown in FIG. 2, a scale bracket 324 is arranged on the upper end portion 312A of the moving member 312. A reference member 326 is arranged on the scale bracket 324. A displacement detector 328 that detects the reflected light from the reference member 326 is arranged so as to face the reference member 326. The displacement detector 328 has a built-in light source that irradiates the reference member 326 with light. Incremental patterns having different reflectances of light from the light source are provided at regular intervals in the Z direction on the surface of the reference member 326 on the displacement detector 328 side. That is, the reference member 326 is a reflective scale. The reference member 326 and the displacement detector 328 constitute a photoelectric incremental linear encoder that outputs a two-phase sine wave signal. That is, the displacement detector 328 is supported by the main body housing 308 and detects the displacement of the moving member 312. Then, the displacement detector 328 outputs a periodic signal repeated at a predetermined cycle of the incremental pattern corresponding to the displacement of the moving member 312 (that is, the displacement detector 328 detects the relative position of the moving member 312. It is configured to output a relative position detection signal that enables This periodic signal is waveform-shaped by the signal processing circuit 329. Then, a Z2-phase sine wave for obtaining the displacement of the reference member 326 in the Z direction is output from the signal processing circuit 329.

また、本体ハウジング308の内側側面には、図2に示す如く、別の光源(光源部)318がビームスプリッタ320に対峙して設けられている。ビームスプリッタ320は、光源318から出射された光をZ方向に向ける。Z方向に向けられた光(光軸OAを通過する光)は、旋回部材RPの反スタイラス側端部に設けられた(光を反射する反射鏡とされた)基準部材316で反射される(即ち、プローブ本体302には、基準部材316へ光軸OAに沿って光を入射させる光源318が設けられている)。反射光は、ビームスプリッタ320を通過し、姿勢検出器322で基準部材316から反射された光を検出する。よって、基準部材316の変位(傾斜)により姿勢検出器322で検出される反射光の位置が変化することから、姿勢検出器322は基準部材316から反射される反射光の光軸OAからの変位を検出することができる。つまり、姿勢検出器322は、スタイラス306の旋回動作に対応する基準部材316の変位(傾斜)を検出することができる。光軸OAは、旋回運動機構334の旋回中心RCを通るように設けられている(つまり、中心軸Oと光軸OAとは一致する)。 Further, as shown in FIG. 2, another light source (light source unit) 318 is provided on the inner side surface of the main body housing 308 so as to face the beam splitter 320. The beam splitter 320 directs the light emitted from the light source 318 in the Z direction. The light directed in the Z direction (light passing through the optical axis OA) is reflected by the reference member 316 (which is a reflector that reflects light) provided at the anti-styrus side end of the swivel member RP (light). That is, the probe main body 302 is provided with a light source 318 that causes light to enter the reference member 316 along the optical axis OA). The reflected light passes through the beam splitter 320, and the attitude detector 322 detects the light reflected from the reference member 316. Therefore, since the position of the reflected light detected by the attitude detector 322 changes due to the displacement (tilt) of the reference member 316, the attitude detector 322 displaces the reflected light reflected from the reference member 316 from the optical axis OA. Can be detected. That is, the posture detector 322 can detect the displacement (tilt) of the reference member 316 corresponding to the turning motion of the stylus 306. The optical axis OA is provided so as to pass through the turning center RC of the swirling motion mechanism 334 (that is, the central axis O and the optical axis OA coincide with each other).

なお、基準部材316は、図2に示す如く、表面が凹面形状となっており、姿勢検出器322で検出される反射光の光軸OAからの変位量を少なくして姿勢検出器322のサイズの小型化を図っている。姿勢検出器322の出力も信号処理回路329に入力される。そして、姿勢検出器322の出力は信号処理回路329で波形整形される。そして、信号処理回路329からは、基準部材316の姿勢変化で生じる光軸OAからの反射光のXY方向への変位に基づく変位電圧(XY変位電圧)が出力される。 As shown in FIG. 2, the reference member 316 has a concave surface, and the size of the attitude detector 322 is reduced by reducing the amount of displacement of the reflected light detected by the attitude detector 322 from the optical axis OA. We are trying to reduce the size of the. The output of the attitude detector 322 is also input to the signal processing circuit 329. Then, the output of the attitude detector 322 is waveform-shaped by the signal processing circuit 329. Then, the signal processing circuit 329 outputs a displacement voltage (XY displacement voltage) based on the displacement of the reflected light from the optical axis OA caused by the posture change of the reference member 316 in the XY direction.

前記スタイラス306は、図2に示す如く、フランジ部344と、ロッド部346と、接触部348と、を備える。 As shown in FIG. 2, the stylus 306 includes a flange portion 344, a rod portion 346, and a contact portion 348.

フランジ部344は、図2に示す如く、フランジ部材342に対応する部材である。即ち、一対のローラ342Aの両方に接するように、球344Aがフランジ部344の周方向で120度毎に3つ配置されている。そして、フランジ部344には、永久磁石342Bに対向して、永久磁石342Bと引き合う磁性部材(永久磁石でよい)344Bが配置されている。 As shown in FIG. 2, the flange portion 344 is a member corresponding to the flange member 342. That is, three balls 344A are arranged every 120 degrees in the circumferential direction of the flange portion 344 so as to be in contact with both of the pair of rollers 342A. A magnetic member (permanent magnet may be used) 344B that faces the permanent magnet 342B and attracts the permanent magnet 342B is arranged on the flange portion 344.

ここで、3つの球344Aは、図2に示す如く、対応する一対のローラ342Aの表面それぞれに接触する。このため、永久磁石342Bと磁性部材344Bとが所定の力で引き合った状態では、フランジ部材342にフランジ部344が6点着座(接触)された状態となる。つまり、高い位置決め精度を実現しながら、フランジ部材342とフランジ部344とを連結することができる。即ち、フランジ部344とフランジ部材342とは、脱着可能な連結機構であるキネマティックジョイント(キネマティックカップリングとも称する。以降同じ)を構成している状態である。このキネマティックジョイントにより、スタイラス306とフランジ部材342とが脱着を繰り返しても、高い位置決め再現性を実現することが可能である。なお、キネマティックジョイントは、ローラと球との組み合わせだけでなく、V溝と球との組み合わせであってもよい。また、ローラと球との組み合わせでその順序が逆であってもよい。つまり、6点着座できる構造であれば、ローラと球との組み合わせに限定されない。なお、スタイラス306に横方向(軸方向Oと直交する方向)から大きな力が加わったときには、フランジ部材342からスタイラス306が脱落(すべてのローラ342Aに球344Aが接触しない状態となった場合だけでなく、一部でのみローラ342Aに球344Aが接触しない状態となった場合も含む。以降同じ)をして、プローブ本体302の破損を防止することが可能である(このため、永久磁石342Bと磁性部材344Bとの引き合う所定の力は、上述した大きな力に対応した力とされる。以降同じ)。 Here, the three spheres 344A come into contact with each of the surfaces of the corresponding pair of rollers 342A, as shown in FIG. Therefore, when the permanent magnet 342B and the magnetic member 344B are attracted to each other by a predetermined force, the flange portion 344 is seated (contacted) at 6 points on the flange member 342. That is, the flange member 342 and the flange portion 344 can be connected while achieving high positioning accuracy. That is, the flange portion 344 and the flange member 342 are in a state of forming a kinematic joint (also referred to as a kinematic coupling; the same applies hereinafter) which is a detachable connecting mechanism. With this kinematic joint, it is possible to realize high positioning reproducibility even if the stylus 306 and the flange member 342 are repeatedly attached and detached. The kinematic joint may be a combination of a V-groove and a sphere as well as a combination of a roller and a sphere. Further, the order may be reversed depending on the combination of the roller and the sphere. That is, the structure is not limited to the combination of the roller and the ball as long as it can seat at 6 points. When a large force is applied to the stylus 306 from the lateral direction (direction orthogonal to the axial direction O), the stylus 306 falls off from the flange member 342 (only when the ball 344A does not contact all the rollers 342A). It is possible to prevent the probe main body 302 from being damaged by performing the ball 344A in a state where the ball 344A does not come into contact with the roller 342A only in a part thereof (the same applies hereinafter) (for this reason, with the permanent magnet 342B). The predetermined force attracted to the magnetic member 344B is a force corresponding to the large force described above. The same shall apply hereinafter).

ロッド部346は、図2に示す如く、その基端がフランジ部344に取り付けられている。ロッド部346の先端には、球形の接触部348が設けられている。なお、スタイラス306にXY方向への変位がない状態においてスタイラス306の中心軸の方向がZ方向(軸方向O)となる。 As shown in FIG. 2, the base end of the rod portion 346 is attached to the flange portion 344. A spherical contact portion 348 is provided at the tip of the rod portion 346. The direction of the central axis of the stylus 306 is the Z direction (axial direction O) when the stylus 306 is not displaced in the XY direction.

次に、プローブ信号処理部530について、図3を用いて説明する。 Next, the probe signal processing unit 530 will be described with reference to FIG.

プローブ信号処理部530は、図3に示す如く、A/D回路532と、FPGA534と、カウンタ回路536と、を備える。A/D回路532は、入力するアナログ信号であるZ2相sin波及びXY変位電圧をAD変換して、それぞれをデジタル信号とする。即ち、このときのAD変換のビット数が多いほど、スタイラス306の変位に対する高ダイナミックレンジ化と高感度化とを実現することができる。FPGA534では、デジタル信号のXY変位電圧を変位信号に変換し位置演算部550へ出力し、且つデジタル信号のZ2相sin波をZ2相方形波に変換しカウンタ回路536へ出力する。そして、カウンタ回路536では、Z2相方形波を計測してZ方向の変位を求め位置演算部550へ出力する。 As shown in FIG. 3, the probe signal processing unit 530 includes an A / D circuit 532, an FPGA 534, and a counter circuit 536. The A / D circuit 532 AD-converts the Z2-phase sine wave and the XY displacement voltage, which are the input analog signals, and converts each into a digital signal. That is, the larger the number of AD conversion bits at this time, the higher the dynamic range and the higher sensitivity for the displacement of the stylus 306 can be realized. The FPGA 534 converts the XY displacement voltage of the digital signal into a displacement signal and outputs it to the position calculation unit 550, and converts the Z2-phase sine wave of the digital signal into a Z2-phase square wave and outputs it to the counter circuit 536. Then, the counter circuit 536 measures the Z2 phase square wave, obtains the displacement in the Z direction, and outputs the displacement to the position calculation unit 550.

本実施形態では、スタイラス306のXYZ方向への変位を実現するために、基本的にZ方向への移動を軸運動機構310で行い、XY方向への移動を旋回運動機構334で行うようにしている。このため、Z方向、XY方向それぞれにスタイラス306の変位を分離できるので、Z方向、XY方向の変位の検出を独立して行うことが容易であり、位置演算の簡素化を実現することが可能である。同時に、Z方向、XY方向それぞれにおける検出感度も独立して設定することができる。しかも、軸運動機構310がモジュールハウジング330を支持し、且つ旋回部材RPがスタイラス306を直接的に支持する構成とされている。このため、スタイラス306により近い旋回運動機構334による検出感度を向上させることが可能である。 In the present embodiment, in order to realize the displacement of the stylus 306 in the XYZ direction, the axial motion mechanism 310 basically moves in the Z direction, and the swivel motion mechanism 334 moves in the XY direction. There is. Therefore, since the displacement of the stylus 306 can be separated in each of the Z direction and the XY direction, it is easy to detect the displacement in the Z direction and the XY direction independently, and it is possible to realize the simplification of the position calculation. Is. At the same time, the detection sensitivities in each of the Z direction and the XY direction can be set independently. Moreover, the axial movement mechanism 310 supports the module housing 330, and the swivel member RP directly supports the stylus 306. Therefore, it is possible to improve the detection sensitivity by the turning motion mechanism 334, which is closer to the stylus 306.

また、本実施形態は、本体ハウジング308に支持され移動部材312の変位を検出する変位検出器328を備えている。即ち、本体ハウジング308に支持された変位検出器328は、同じく本体ハウジング308に支持された(XY方向への移動を原則的に行わずにZ方向に移動する)移動部材312の変位を検出する。このため、変位検出器328は、高価な検出器でなくても、移動部材312の本体ハウジング308に対する1方向の変位を純粋に検出することができる。即ち、変位検出器328は、移動部材312の変位を高い分解能で検出することが可能であり、移動部材312の変位の補正を行うことが容易である。同時に、リニアエンコーダなどの使用も容易で、移動部材312(即ち、スタイラス306)のロングストローク化も可能である。 Further, the present embodiment includes a displacement detector 328 that is supported by the main body housing 308 and detects the displacement of the moving member 312. That is, the displacement detector 328 supported by the main body housing 308 detects the displacement of the moving member 312, which is also supported by the main body housing 308 (moves in the Z direction without moving in the XY direction in principle). .. Therefore, the displacement detector 328 can purely detect the displacement of the moving member 312 with respect to the main body housing 308 in one direction without using an expensive detector. That is, the displacement detector 328 can detect the displacement of the moving member 312 with high resolution, and it is easy to correct the displacement of the moving member 312. At the same time, it is easy to use a linear encoder or the like, and the moving member 312 (that is, the stylus 306) can have a long stroke.

また、本実施形態では、変位検出器328が移動部材312の相対的な位置の検出を可能とする相対位置検出信号(所定の周期で繰り返される周期信号)を出力する。このため、変位検出器328で光電式インクリメンタル型リニアエンコーダを構成することで、極めて長い検出範囲(ダイナミックレンジ)を確保しつつ、移動部材312の移動位置で検出感度が異なるといった現象を回避することが可能である。同時に、この相対位置検出信号を高いビット数のAD変換を行うことで、より高い分解能でZ方向の変位を検出することが可能である。なお、これに限らず、変位検出器はインクリメンタルパターンを検出するのではなく、アブソリュートパターンを検出するようにされていてもよい。つまり、変位検出器は移動部材の絶対的な位置の検出を可能とする絶対位置検出信号を出力する構成であってもよい。 Further, in the present embodiment, the displacement detector 328 outputs a relative position detection signal (periodic signal repeated at a predetermined cycle) that enables detection of the relative position of the moving member 312. Therefore, by configuring the photoelectric incremental linear encoder with the displacement detector 328, it is possible to avoid the phenomenon that the detection sensitivity differs depending on the moving position of the moving member 312 while ensuring an extremely long detection range (dynamic range). Is possible. At the same time, by performing AD conversion of this relative position detection signal with a high number of bits, it is possible to detect the displacement in the Z direction with higher resolution. Not limited to this, the displacement detector may be configured to detect an absolute pattern instead of detecting an incremental pattern. That is, the displacement detector may be configured to output an absolute position detection signal that enables detection of the absolute position of the moving member.

また、本実施形態では、軸運動機構310が、一対の同一の第1ダイヤフラム構造体314、315に支持されている。このため、軸運動機構310のZ方向以外への変位を低減でき、Z方向への高い移動精度を確保できる。同時に、エアベアリングなどを移動部材のガイドに併用する場合に比べて、速い応答性を実現することができる。なお、これに限らず、一対の同一の第1ダイヤフラム構造体が用いられず、第1ダイヤフラム構造体が1つ、あるいは3つ以上でも良い。あるいは、第1ダイヤフラム構造体が互いに異なる形状とされていてもよい。 Further, in the present embodiment, the axial movement mechanism 310 is supported by a pair of the same first diaphragm structures 314 and 315. Therefore, the displacement of the axial motion mechanism 310 in a direction other than the Z direction can be reduced, and high movement accuracy in the Z direction can be ensured. At the same time, faster responsiveness can be realized as compared with the case where an air bearing or the like is used together with the guide of the moving member. Not limited to this, a pair of the same first diaphragm structures may not be used, and one or three or more first diaphragm structures may be used. Alternatively, the first diaphragm structures may have different shapes from each other.

また、本実施形態では、旋回中心RCとバランス部材338との距離は調整可能とされている。このため、同じバランス部材338を採用しても、バランス部材338の位置を調整することで複数のスタイラス306に対して、それぞれのスタイラス306を連結した旋回部材RPの重心位置を旋回中心RCに一致させることが可能である。即ち、バランス部材338の種類を少なくできるので、バランス部材338の製造・管理に係るコストを低減することができる。なお、これに限らず、バランス部材の位置が調整不可能な形態であってもよい。 Further, in the present embodiment, the distance between the turning center RC and the balance member 338 is adjustable. Therefore, even if the same balance member 338 is adopted, the position of the center of gravity of the swivel member RP to which each stylus 306 is connected coincides with the swivel center RC for a plurality of styluses 306 by adjusting the position of the balance member 338. It is possible to make it. That is, since the types of the balance member 338 can be reduced, the cost related to the manufacture and management of the balance member 338 can be reduced. Not limited to this, the position of the balance member may not be adjustable.

また、本実施形態では、旋回部材RPの反スタイラス側端部に基準部材316が設けられ、姿勢検出器322が本体ハウジング308に収納されている。即ち、旋回モジュール304に姿勢検出器322を設けていないので、旋回モジュール304自体を小型化し、且つ低コスト化することができる。そして、基準部材316は旋回モジュール304に内蔵されている。即ち、基準部材が旋回モジュールから突出して延在するような構成に比べて、基準部材316から接触部348の位置までの距離を短くできる。即ち、基準部材316の変位から演算される接触部348の変位の演算誤差を少なくでき、接触部348の位置を高精度に求めることができる。 Further, in the present embodiment, the reference member 316 is provided at the end of the swivel member RP on the anti-stylus side, and the posture detector 322 is housed in the main body housing 308. That is, since the posture detector 322 is not provided in the swivel module 304, the swivel module 304 itself can be miniaturized and the cost can be reduced. The reference member 316 is built in the swivel module 304. That is, the distance from the reference member 316 to the position of the contact portion 348 can be shortened as compared with the configuration in which the reference member protrudes from the swivel module and extends. That is, the calculation error of the displacement of the contact portion 348 calculated from the displacement of the reference member 316 can be reduced, and the position of the contact portion 348 can be obtained with high accuracy.

また、本実施形態では、姿勢検出器322が旋回運動機構334と一対の第1ダイヤフラム構造体314、315との間に配置されている。このため、旋回部材RPの変位が大きくても、基準部材316と姿勢検出器322との距離を短くできるので、姿勢検出器322を小さくできる。即ち、プローブ本体302をより小型化することが可能となる。また、本実施形態では、基準部材316である反射鏡へ光軸OAに沿って光を入射させる光源318が設けられ、姿勢検出器322は、反射鏡から反射される反射光の光軸OAからの変位を検出する。即ち、姿勢検出器322による検出は、非接触式なので、基準部材316が設けられた旋回部材RPの旋回運動を阻害することなく、旋回部材RPの変位を高い感度で検出することができる。同時に、旋回部材RPの変位を検出する構成が光てこであり単純なので、測定プローブ300の低コスト化が可能である。なお、これに限らず、姿勢検出器は、接触式であってもよいし、非接触式でも磁気等を利用する方式でもよい。 Further, in the present embodiment, the posture detector 322 is arranged between the swivel motion mechanism 334 and the pair of first diaphragm structures 314 and 315. Therefore, even if the displacement of the swivel member RP is large, the distance between the reference member 316 and the posture detector 322 can be shortened, so that the posture detector 322 can be made small. That is, the probe main body 302 can be made smaller. Further, in the present embodiment, a light source 318 for injecting light along the optical axis OA to the reflector which is the reference member 316 is provided, and the attitude detector 322 is provided from the optical axis OA of the reflected light reflected from the reflector. Detects the displacement of. That is, since the detection by the attitude detector 322 is a non-contact type, the displacement of the swivel member RP can be detected with high sensitivity without hindering the swivel motion of the swivel member RP provided with the reference member 316. At the same time, the cost of the measuring probe 300 can be reduced because the configuration for detecting the displacement of the swivel member RP is simple and optical. The posture detector is not limited to this, and the posture detector may be a contact type, a non-contact type, or a type using magnetism or the like.

また、本実施形態では、光軸OAが旋回中心RCを通るよう設けられている。このため、旋回部材RPの旋回動作によって生じる反射光の変化には、Z方向への変位成分が含まれないので、旋回部材RPの変位をより高感度に検出することが可能である。なお、これに限らず、光軸OAが旋回中心RCを通らない構成であってもよい。 Further, in the present embodiment, the optical axis OA is provided so as to pass through the turning center RC. Therefore, since the change in the reflected light caused by the swirling operation of the swirling member RP does not include the displacement component in the Z direction, it is possible to detect the displacement of the swirling member RP with higher sensitivity. Not limited to this, the optical axis OA may not pass through the turning center RC.

また、本実施形態では、プローブ本体302が一対の第1ダイヤフラム構造体314、315の変形量を弾性変形の範囲内に制限する本体ハウジング308、移動部材312、支持部材319、及びモジュールハウジング330を備える。同時に、旋回モジュール304は、第2ダイヤフラム構造体340の変形量を弾性変形の範囲内に制限するモジュールハウジング330、バランス部材338、及びフランジ部材342を備える。このため、例えば、スタイラス306に過大な衝撃がキネマティックジョイントの機能しない方向に加わった場合であっても、第1ダイヤフラム構造体314、315及び第2ダイヤフラム構造体340の塑性変形や破損・破壊を防止することができる。なお、これに限らず、測定プローブは、第1、第2ダイヤフラム構造体の変形量を弾性変形の範囲内に制限する部材を備えなくてもよい。 Further, in the present embodiment, the probe main body 302 comprises a main body housing 308, a moving member 312, a support member 319, and a module housing 330 that limit the amount of deformation of the pair of first diaphragm structures 314 and 315 within the range of elastic deformation. Be prepared. At the same time, the swivel module 304 includes a module housing 330, a balance member 338, and a flange member 342 that limit the amount of deformation of the second diaphragm structure 340 within the range of elastic deformation. Therefore, for example, even when an excessive impact is applied to the stylus 306 in a direction in which the kinematic joint does not function, the first diaphragm structure 314, 315 and the second diaphragm structure 340 are plastically deformed, damaged or broken. Can be prevented. Not limited to this, the measuring probe may not be provided with a member that limits the amount of deformation of the first and second diaphragm structures within the range of elastic deformation.

即ち、本実施形態では、低コストを保ちながら高い測定精度を確保可能である。 That is, in the present embodiment, high measurement accuracy can be ensured while maintaining low cost.

本発明について上記実施形態を挙げて説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。即ち本発明の要旨を逸脱しない範囲においての改良並びに設計の変更が可能なことは言うまでもない。 Although the present invention has been described with reference to the above embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments. That is, it goes without saying that improvements and design changes can be made without departing from the gist of the present invention.

例えば、上記実施形態では、プローブ本体302に旋回モジュール304が内蔵された形態であったが、本発明はこれに限定されない。例えば、図5(A)に示す第2実施形態の如くであってもよい。第2実施形態では、第1実施形態とは主にプローブ本体と旋回モジュールとの連結状態が異なるだけなので、プローブ本体と旋回モジュールとの連結に係る構成以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 For example, in the above embodiment, the swivel module 304 is built in the probe main body 302, but the present invention is not limited to this. For example, it may be as in the second embodiment shown in FIG. 5 (A). In the second embodiment, since the connection state between the probe main body and the swivel module is mainly different from that in the first embodiment, the upper two digits of the code are basically used except for the configuration related to the connection between the probe main body and the swivel module. The description is omitted because it is only changed.

第2実施形態では、図5(A)に示す如く、プローブ本体352に旋回モジュール354が内蔵されない形態である。旋回モジュール354は、プローブ本体352と、ローラ362Eと球382B(係合部)で構成されるキネマティックジョイントで脱着可能に連結されている。なお、以降では、このプローブ本体352から分離可能な旋回モジュール354をプローブモジュールとも称する。 In the second embodiment, as shown in FIG. 5A, the swivel module 354 is not built in the probe main body 352. The swivel module 354 is detachably connected to the probe body 352 by a kinematic joint composed of a roller 362E and a ball 382B (engagement portion). Hereinafter, the swivel module 354 that can be separated from the probe main body 352 will also be referred to as a probe module.

なお、スタイラス356は、複数(接触部398の材質や位置や質量等が異なる)用意される。そして、スタイラス356に対応して、1つのプローブ本体352に対して、複数の旋回モジュール354(必ずしもスタイラス356の数と同一ではない)を用意することができる。 A plurality of styluses 356 (the material, position, mass, etc. of the contact portion 398 are different) are prepared. Then, corresponding to the stylus 356, a plurality of swivel modules 354 (not necessarily the same as the number of stylus 356) can be prepared for one probe main body 352.

軸運動機構360の下端部には、図5(A)に示す如く、フランジ部362Dが設けられている。軸運動機構360は、フランジ部362Dを除いて本体ハウジング358の内側に収納されている。フランジ部362Dは、旋回モジュール354の内側に入り込むことなく、旋回モジュール354に連結されている。 As shown in FIG. 5A, a flange portion 362D is provided at the lower end portion of the axial movement mechanism 360. The axial movement mechanism 360 is housed inside the main body housing 358 except for the flange portion 362D. The flange portion 362D is connected to the swivel module 354 without getting inside the swivel module 354.

フランジ部362Dの下端外周には、図5(A)に示す如く、周方向で120度毎に一対のローラ362Eが3つ設けられている。そして、ローラ362Eとは周方向で位相が60度ずれた状態で永久磁石362Fが3つ設けられている。なお、一対のローラ362Eの軸方向は、フランジ部362Dの中心に向かう略径方向と同一とされている。 As shown in FIG. 5A, three pairs of rollers 362E are provided on the outer periphery of the lower end of the flange portion 362D at every 120 degrees in the circumferential direction. Three permanent magnets 362F are provided in a state of being 60 degrees out of phase with the roller 362E in the circumferential direction. The axial direction of the pair of rollers 362E is the same as the substantially radial direction toward the center of the flange portion 362D.

旋回モジュール354は、図5(A)に示す如く、モジュールカバー382と、モジュールハウジング380と、旋回運動機構384と、を備えている。なお、本実施形態では、モジュールカバー382とモジュールハウジング380とで旋回ハウジング部材が構成されている。 As shown in FIG. 5A, the swivel module 354 includes a module cover 382, a module housing 380, and a swivel motion mechanism 384. In this embodiment, the swivel housing member is composed of the module cover 382 and the module housing 380.

モジュールカバー382は、図5(A)に示す如く、中心に開口部382Aを備えるフランジ形状とされている。モジュールカバー382は、フランジ部362Dに対応する部材である。永久磁石362Fと磁性部材382Cとが所定の力で引き合った状態で、フランジ部362Dにモジュールカバー382が脱着可能なキネマティックジョイントで連結されている。このキネマティックジョイントにより、旋回モジュール354とフランジ部362Dとが脱着を繰り返しても、高い位置決め再現性を実現することが可能である。なお、旋回モジュール354に横方向(Z方向と直交する方向)から大きな力が加わったときには、フランジ部362Dから旋回モジュール354が脱落して、プローブ本体352の破損を防止することが可能である。 As shown in FIG. 5A, the module cover 382 has a flange shape having an opening 382A in the center. The module cover 382 is a member corresponding to the flange portion 362D. The module cover 382 is connected to the flange portion 362D by a removable kinematic joint in a state where the permanent magnet 362F and the magnetic member 382C are attracted to each other by a predetermined force. With this kinematic joint, it is possible to realize high positioning reproducibility even if the swivel module 354 and the flange portion 362D are repeatedly attached and detached. When a large force is applied to the swivel module 354 from the lateral direction (direction orthogonal to the Z direction), the swivel module 354 falls off from the flange portion 362D, and it is possible to prevent the probe main body 352 from being damaged.

このように、本実施形態では、軸運動機構360はプローブ本体352に内蔵され、且つ旋回運動機構384は旋回モジュール354のみに内蔵されている。このため、例えば、スタイラス356を変更した際に、旋回運動機構384だけは性能的に変更したほうがよいといった場合があるとする。このとき、プローブ本体352を変えることなく旋回モジュール354を交換するだけで、例えば、接触部398から被測定物Wにかかる力を所望の測定力とすることができ、結果的に測定プローブ350で相応の検出感度及び復元力(スタイラス356の変位を元に戻す力)を実現することが可能である。逆に、同一の旋回モジュール354に対してプローブ本体352を交換するといったことも容易に実現することができる。また、旋回運動機構384のみが破損・性能低下した際には、旋回モジュール354の交換だけで測定プローブ350の機能を維持することができる。 As described above, in the present embodiment, the axial motion mechanism 360 is built in the probe main body 352, and the swivel motion mechanism 384 is built only in the swivel module 354. Therefore, for example, when the stylus 356 is changed, it may be better to change only the turning motion mechanism 384 in terms of performance. At this time, by simply replacing the swivel module 354 without changing the probe body 352, for example, the force applied to the object W to be measured from the contact portion 398 can be set as a desired measuring force, and as a result, the measuring probe 350 It is possible to realize a corresponding detection sensitivity and restoring force (force to restore the displacement of the stylus 356). On the contrary, it is possible to easily replace the probe main body 352 with respect to the same swivel module 354. Further, when only the swivel motion mechanism 384 is damaged or the performance deteriorates, the function of the measurement probe 350 can be maintained only by replacing the swivel module 354.

また、複数の旋回モジュール354のそれぞれの球382Bの位置を共通にしておくことで、複数の旋回モジュール354を容易にプローブ本体352へ脱着でき、且つ、高い位置再現性を実現することができる。 Further, by making the positions of the spheres 382B of the plurality of swivel modules 354 common, the plurality of swivel modules 354 can be easily attached to and detached from the probe main body 352, and high position reproducibility can be realized.

また、本実施形態では、プローブ本体352の1つに対して旋回モジュール354を複数用意し、旋回部材RPの変位した際の単位変位量当たりの復元力を旋回モジュール354毎に異なるようにすることができる。このため、スタイラス356や被測定物Wに個別に対応する復元力を設定することができ、XY方向への変位の高感度検出が可能であるとともに検出範囲の拡大などが容易に実現可能である。同時に、被測定物Wへの接触部398によるダメージなども低減することが可能である。なお、これに限らず、旋回部材RPの変位した際の単位変位量当たりの復元力をプローブモジュール毎に変えなくてもよい。 Further, in the present embodiment, a plurality of swivel modules 354 are prepared for one of the probe main bodies 352, and the restoring force per unit displacement amount when the swivel member RP is displaced is different for each swivel module 354. Can be done. Therefore, it is possible to set the restoring force individually corresponding to the stylus 356 and the object W to be measured, and it is possible to detect the displacement in the XY direction with high sensitivity and easily expand the detection range. .. At the same time, it is possible to reduce damage caused by the contact portion 398 with the object to be measured W. Not limited to this, the restoring force per unit displacement amount when the swivel member RP is displaced does not have to be changed for each probe module.

また、本実施形態では、旋回中心RCとバランス部材388との距離は調整可能とされている。そして、プローブ本体352の1つに対して旋回モジュール354を複数用意すると、同一部材の旋回部材RPで異なるバランスを有する旋回モジュール354を複数構成できるので、旋回モジュール354の低コスト化が可能である。なお、これに限らず、バランス部材の位置が調整不可能な形態であってもよい。 Further, in the present embodiment, the distance between the turning center RC and the balance member 388 is adjustable. If a plurality of swivel modules 354 are prepared for one of the probe main bodies 352, a plurality of swivel modules 354 having different balances can be configured by the swivel member RP of the same member, so that the cost of the swivel module 354 can be reduced. .. Not limited to this, the position of the balance member may not be adjustable.

また、本実施形態では、プローブ本体352の1つに対して旋回モジュール354を複数用意し、バランス部材388の質量が旋回モジュール354毎に異なるようにすることができる。このため、各スタイラス356に対して、対応するバランス部材388を備える旋回モジュール354を用いることで、それぞれのスタイラス356を連結した状態の旋回部材RPの重心位置を旋回中心RCに一致させることが可能である。なお、バランス部材388の位置の調整が更に可能である場合には、1つのプローブ本体352において、更に多くのスタイラス356により正確に対応可能な旋回モジュール354を提供することが可能である。 Further, in the present embodiment, a plurality of swivel modules 354 can be prepared for one of the probe main bodies 352 so that the mass of the balance member 388 is different for each swivel module 354. Therefore, by using the swivel module 354 provided with the corresponding balance member 388 for each stylus 356, it is possible to match the position of the center of gravity of the swivel member RP with each stylus 356 connected to the swivel center RC. Is. If the position of the balance member 388 can be further adjusted, it is possible to provide a swivel module 354 that can be accurately handled by a larger number of styluses 356 in one probe main body 352.

なお、第2実施形態では、姿勢検出器372が旋回運動機構384と一対の第1ダイヤフラム構造体364、365との間に配置されていたが、本発明はこれに限定されない。例えば、図5(B)に示す第3実施形態の如くであってもよい。第3実施形態では、第2実施形態とは主に姿勢検出器の位置が異なるだけなので、姿勢検出器の位置に係る構成以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 In the second embodiment, the posture detector 372 is arranged between the swivel motion mechanism 384 and the pair of first diaphragm structures 364 and 365, but the present invention is not limited to this. For example, it may be as in the third embodiment shown in FIG. 5 (B). In the third embodiment, since the position of the posture detector is mainly different from that of the second embodiment, the description is omitted because the upper two digits of the code are basically changed except for the configuration related to the position of the posture detector. To do.

第3実施形態では、移動部材412が、図5(B)に示す如く、軸心を中空部412Bとした略円筒形状とされている。より具体的には、移動部材412は、Z方向の上方から下方に向かって、肉厚部412C、肉薄部412D、及びフランジ部412Eが一体とされ構成されている。肉厚部412Cには、一対の第1ダイヤフラム構造体414、415が連結されている。肉薄部412Dは、肉厚部412Cの下方に形成されている。なお、本体ハウジング408の開口部408Aの開口径は、肉厚部412Cの外径よりも小さくされている。そして、フランジ部412Eの外径は、開口部408Aの開口径よりも大きくされている。ここで、肉厚部412Cの下端部412CAと開口部408Aの上端部408AAとの距離及びフランジ部412Eの上端部412EAと開口部408Aの下端部408ABとの距離は、移動部材412のZ方向への変位を規制して、一対の第1ダイヤフラム構造体414、415が弾性変形の範囲内となるように定められている。即ち、プローブ本体402は、一対の第1ダイヤフラム構造体414、415の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第1制限部材となる本体ハウジング408及び移動部材412を備えているといえる。 In the third embodiment, as shown in FIG. 5B, the moving member 412 has a substantially cylindrical shape with a hollow portion 412B as the axis. More specifically, the moving member 412 is configured such that the thick portion 412C, the thin portion 412D, and the flange portion 412E are integrated from the upper side to the lower side in the Z direction. A pair of first diaphragm structures 414 and 415 are connected to the thick portion 412C. The thin portion 412D is formed below the thick portion 412C. The opening diameter of the opening 408A of the main body housing 408 is smaller than the outer diameter of the thick portion 412C. The outer diameter of the flange portion 412E is larger than the opening diameter of the opening portion 408A. Here, the distance between the lower end 412CA of the thick portion 412C and the upper end 408AA of the opening 408A and the distance between the upper end 412EA of the flange 412E and the lower end 408AB of the opening 408A are in the Z direction of the moving member 412. The displacement of is regulated so that the pair of first diaphragm structures 414 and 415 are within the range of elastic deformation. That is, it can be said that the probe main body 402 includes a main body housing 408 and a moving member 412, which are first limiting members that limit the amount of deformation of the pair of first diaphragm structures 414 and 415 within the range of elastic deformation.

姿勢検出器422は、図5(B)に示す如く、移動部材412の上方であって、本体ハウジング408の内側上面に配置されている。そして、光源(光源部)418が本体ハウジング408の内側側面に設けられている。光源418から出射された光をZ方向に向けるビームスプリッタ420が、支持部材419に支持されている(なお、支持部材419も、本体ハウジング408の内側に固定されている)。Z方向に向けられた光は、移動部材412の中空部412Bを通過し、基準部材416で反射する構成となっている。Z方向に向けられた光の光軸OAは、旋回運動機構434の旋回中心RCを通るように設けられている。このため、本実施形態では、姿勢検出器422の配置が容易となり、プローブ本体402の製造を容易にしている。 As shown in FIG. 5B, the posture detector 422 is located above the moving member 412 and on the inner upper surface of the main body housing 408. A light source (light source unit) 418 is provided on the inner side surface of the main body housing 408. A beam splitter 420 that directs the light emitted from the light source 418 in the Z direction is supported by the support member 419 (note that the support member 419 is also fixed inside the main body housing 408). The light directed in the Z direction passes through the hollow portion 412B of the moving member 412 and is reflected by the reference member 416. The optical axis OA of the light directed in the Z direction is provided so as to pass through the turning center RC of the turning motion mechanism 434. Therefore, in the present embodiment, the posture detector 422 can be easily arranged, and the probe main body 402 can be easily manufactured.

なお、上記実施形態では、変位検出器を用いて光電式インクリメンタル型リニアエンコーダを構成していたが、本発明はこれに限定されない。例えば、図6に示す第4実施形態の如くであってもよい。第4実施形態では、第2実施形態とは主に変位検出器周辺の構成が異なるだけなので、主に変位検出器周辺の構成以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 In the above embodiment, the displacement detector is used to configure the photoelectric incremental linear encoder, but the present invention is not limited to this. For example, it may be as in the fourth embodiment shown in FIG. In the fourth embodiment, since the configuration around the displacement detector is mainly different from that in the second embodiment, the explanation is based on the assumption that the upper two digits of the code are basically changed except for the configuration around the displacement detector. Omit.

第4実施形態では、図6、図7(A)に示す如く、プローブ本体452には、光源(干渉光源部)478と、光源478からの光を反射する参照ミラー475と、移動部材462に配置されるとともに光源478からの光を反射する基準部材(ターゲットミラー)474と、を備え、参照ミラー475及び基準部材474からの反射光それぞれを干渉させて複数の干渉縞ILを生成可能な干渉光学系IFが設けられている。光源478と参照ミラー475とは、本体ハウジング458の内側に固定されている。光源478と移動部材462の上端部462Aに配置された基準部材474とはZ方向に並んでおり、その間にビームスプリッタ477が配置されている。ビームスプリッタ477も本体ハウジング458の内側に固定され、全体でマイケルソン型の干渉光学系IFが構成されている。 In the fourth embodiment, as shown in FIGS. 6 and 7 (A), the probe main body 452 includes a light source (interference light source unit) 478, a reference mirror 475 that reflects light from the light source 478, and a moving member 462. Interference that includes a reference member (target mirror) 474 that is arranged and reflects light from the light source 478, and can generate a plurality of interference fringes IL by interfering with the reference mirror 475 and the reflected light from the reference member 474. An optical system IF is provided. The light source 478 and the reference mirror 475 are fixed to the inside of the main body housing 458. The light source 478 and the reference member 474 arranged at the upper end portion 462A of the moving member 462 are arranged in the Z direction, and the beam splitter 477 is arranged between them. The beam splitter 477 is also fixed inside the main body housing 458, and a Michelson-type interference optical system IF is configured as a whole.

図6、図7(A)に示す如く、ビームスプリッタ477は、光源478からの光を参照ミラー475の方向に分岐させる。また、ビームスプリッタ477は、基準部材474で反射される反射光を、参照ミラー475と対向しビームスプリッタ477に対向する変位検出器476に導く。同時に、変位検出器476には、参照ミラー475で反射されビームスプリッタ477を通過した光が入射する構成とされている。このため、変位検出器476は、図7(B)に示す如く、干渉光学系IFで生成される複数の干渉縞ILの位相変化PSを検出可能としている。 As shown in FIGS. 6 and 7A, the beam splitter 477 splits the light from the light source 478 in the direction of the reference mirror 475. Further, the beam splitter 477 guides the reflected light reflected by the reference member 474 to the displacement detector 476 facing the reference mirror 475 and facing the beam splitter 477. At the same time, the displacement detector 476 is configured to receive light reflected by the reference mirror 475 and passed through the beam splitter 477. Therefore, as shown in FIG. 7B, the displacement detector 476 can detect the phase change PS of the plurality of interference fringes IL generated by the interference optical system IF.

なお、図7(C)には、変位検出器476で検出される複数の干渉縞ILの光量Iを示している。ここで、位相変化PSは、基準部材474のZ方向への移動量を反映している。このため、この位相変化PSを求めることで、移動部材462のZ方向への変位量を求めることができる。このときに、複数の干渉縞ILは干渉光で構成され且つ周期的なので、位相変化PSを高精度に求めることができる(本実施形態でも、変位検出器476は、移動部材462の相対的な位置の検出を可能とする相対位置検出信号を出力する構成ということができる)。 Note that FIG. 7C shows the light intensity I of the plurality of interference fringes IL detected by the displacement detector 476. Here, the phase change PS reflects the amount of movement of the reference member 474 in the Z direction. Therefore, by obtaining this phase change PS, the amount of displacement of the moving member 462 in the Z direction can be obtained. At this time, since the plurality of interference fringes IL are composed of interference light and are periodic, the phase change PS can be obtained with high accuracy (also in this embodiment, the displacement detector 476 is a relative of the moving member 462. It can be said that it is configured to output a relative position detection signal that enables position detection).

つまり、本実施形態では、上記実施形態よりもさらに移動部材462のZ方向への変位を精度良く求めることが可能である。同時に、この複数の干渉縞ILの光量Iの周期1/Fは、基準部材474の傾きを反映している。このため、この周期1/Fの変化を求めることで、移動部材462のわずかなXY方向への傾きを求めることができる。つまり、本実施形態では、変位検出器476の出力から移動部材462のZ方向への変位に伴う移動部材462のわずかなXY方向への傾きを求めることもできるので、接触部498のXY方向への変位をより高精度に求めることが可能である。なお、本実施形態の干渉光学系IFだけが移動部材462のXY方向への傾きを求められるわけではなく、原理的には他の実施形態で示される変位検出器であってもXY方向への傾きを求めることができる。また、本実施形態では、1波長のみを使用することを想定しているが、2波長以上を使用する場合には、変位検出器が移動部材の絶対的な位置の検出を可能とする絶対位置検出信号を出力することが可能となる。 That is, in the present embodiment, it is possible to obtain the displacement of the moving member 462 in the Z direction more accurately than in the above embodiment. At the same time, the period 1 / F of the light intensity I of the plurality of interference fringes IL reflects the inclination of the reference member 474. Therefore, by obtaining the change in the period 1 / F, it is possible to obtain a slight inclination of the moving member 462 in the XY direction. That is, in the present embodiment, since it is possible to obtain a slight inclination of the moving member 462 in the XY direction due to the displacement of the moving member 462 in the Z direction from the output of the displacement detector 476, the inclination of the moving member 462 in the XY direction can be obtained. It is possible to obtain the displacement of with higher accuracy. It should be noted that not only the interference optical system IF of the present embodiment is required to incline the moving member 462 in the XY direction, and in principle, even the displacement detector shown in the other embodiment can be tilted in the XY direction. The inclination can be calculated. Further, in the present embodiment, it is assumed that only one wavelength is used, but when two or more wavelengths are used, the displacement detector enables the detection of the absolute position of the moving member. It is possible to output a detection signal.

なお、上記実施形態では、スタイラスが変更された際に、スタイラスの質量に従って移動部材の軸方向Oへの変位を許容する構成であったが、本発明はこれに限定されない。例えば、図8(A)に示す第5実施形態の如くであってもよい。第5実施形態では、第2実施形態とは主にプローブ本体と旋回モジュールとの連結状態が異なるだけなので、主にプローブ本体と旋回モジュールの周辺の構成以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 In the above embodiment, when the stylus is changed, the moving member is allowed to be displaced in the axial direction O according to the mass of the stylus, but the present invention is not limited to this. For example, it may be as in the fifth embodiment shown in FIG. 8 (A). In the fifth embodiment, since the connection state between the probe main body and the swivel module is mainly different from that in the second embodiment, the upper two digits of the code are basically used except for the configuration around the probe main body and the swivel module. The description is omitted because it is only changed.

第5実施形態では、図8(A)に示す如く、旋回モジュール704が、スタイラス706の質量に応じたバランスウェイト731Cと、カウンタバランス機構731と、備える。カウンタバランス機構731は、本体ハウジング(軸ハウジング部材)708に支持され、モジュールハウジング(旋回ハウジング部材)730を介してスタイラス706とバランスウェイト731Cとの間のZ方向におけるバランスをとる構成とされている。カウンタバランス機構731は、モジュールハウジング730と共に脱着可能とされている。 In the fifth embodiment, as shown in FIG. 8A, the swivel module 704 includes a balance weight 731C corresponding to the mass of the stylus 706 and a counter balance mechanism 731. The counter balance mechanism 731 is supported by the main body housing (shaft housing member) 708, and is configured to balance the stylus 706 and the balance weight 731C in the Z direction via the module housing (swing housing member) 730. .. The counter balance mechanism 731 is removable together with the module housing 730.

具体的に説明すると、図8(A)に示す如く、本体ハウジング708は旋回モジュール704の外周下端までを覆うように、Z方向下方に延在された円筒形状の延在部708Aを備えている。そして、延在部708Aの内側において周方向に均等間隔で3か所以上に、永久磁石708Bが設けられている。 Specifically, as shown in FIG. 8A, the main body housing 708 includes a cylindrical extending portion 708A extending downward in the Z direction so as to cover up to the lower end of the outer circumference of the swivel module 704. .. Permanent magnets 708B are provided at three or more locations inside the extending portion 708A at equal intervals in the circumferential direction.

一方、カウンタバランス機構731は、図8(A)に示す如く、永久磁石708Bの位置と数に対応して、モジュールハウジング730の3か所以上に設けられている。カウンタバランス機構731は、支持部材731Aと支持軸731Bと連結軸731Dを備える。支持部材731Aの上面には永久磁石708Bに吸着可能な磁性部材(磁石でもよい)731AAが設けられている。支持軸731Bは、支持部材731Aに固定され、支持軸731Bから重心位置がずれた状態でバランスウェイト731Cが連結されている。バランスウェイト731Cには、Z方向と直交する方向に連結軸731Dが設けられており、その先端がモジュールハウジング730に連結されている。 On the other hand, as shown in FIG. 8A, the counter balance mechanism 731 is provided at three or more locations in the module housing 730, corresponding to the position and number of the permanent magnets 708B. The counter balance mechanism 731 includes a support member 731A, a support shaft 731B, and a connecting shaft 731D. On the upper surface of the support member 731A, a magnetic member (which may be a magnet) 731AA that can be attracted to the permanent magnet 708B is provided. The support shaft 731B is fixed to the support member 731A, and the balance weight 731C is connected in a state where the center of gravity is displaced from the support shaft 731B. The balance weight 731C is provided with a connecting shaft 731D in a direction orthogonal to the Z direction, and the tip thereof is connected to the module housing 730.

これにより、本実施形態では、プローブ本体702の1つに対して旋回モジュール704を複数用意し、バランスウェイト731Cの質量を旋回モジュール704毎に異なるようにすることができる。つまり、スタイラス706を交換した際に、そのスタイラス706の質量に対応したバランスウェイト731Cが設けられた旋回モジュール704を用いることで、スタイラス706の質量の増減分を本体ハウジング708で直接受け止めることができる。即ち、スタイラス706違いによって、移動部材712の初期位置のZ方向の変動を防止することが可能である。つまり、本実施形態では、上記実施形態に比べて移動部材712の可動範囲を狭くでき、プローブ本体702の一層の小型化が可能となる。同時に、検出範囲(ダイナミックレンジ)を狭くできることから、移動部材712の変位量をより高い分解能で検出することが可能である。 Thereby, in the present embodiment, a plurality of swivel modules 704 can be prepared for one of the probe main bodies 702, and the mass of the balance weight 731C can be made different for each swivel module 704. That is, when the stylus 706 is replaced, the increase / decrease in the mass of the stylus 706 can be directly received by the main body housing 708 by using the swivel module 704 provided with the balance weight 731C corresponding to the mass of the stylus 706. .. That is, it is possible to prevent the initial position of the moving member 712 from fluctuating in the Z direction due to the difference in the stylus 706. That is, in the present embodiment, the movable range of the moving member 712 can be narrowed as compared with the above embodiment, and the probe main body 702 can be further miniaturized. At the same time, since the detection range (dynamic range) can be narrowed, it is possible to detect the displacement amount of the moving member 712 with higher resolution.

なお、図8(B)は、第5実施形態のバリエーションである第6実施形態を示している。ここでは、本体ハウジングが円筒形状の延在部を一体的に備えるのではなく、カウンタバランス機構781の支持部材781Aが、円環形状とされて旋回モジュール754の一部としてプローブ本体752から分離可能な構成となっている。 Note that FIG. 8B shows a sixth embodiment, which is a variation of the fifth embodiment. Here, the main body housing is not integrally provided with a cylindrical extending portion, but the support member 781A of the counter balance mechanism 781 is formed into an annular shape and can be separated from the probe main body 752 as a part of the swivel module 754. It has a good structure.

図8(B)に示す如く、本体ハウジング758の開口部758Aの外周には、周方向で120度毎に一対のローラ758B(係合部)が3つ設けられている。そして、ローラ758Bの径方向内側に位置する移動部材762のフランジ部762Dに円環形状の永久磁石762Eが設けられている。そして、図8(B)、図9(A)に示す如く、ローラ758Bに対応する球781Fを、支持部材781Aのフランジ部781Eに設けている(なお、フランジ部781Eは、支持軸781Bを支持している)。また、図8(B)、図9(A)、(B)に示す如く、永久磁石762Eに対応する磁性部材780Aをモジュールハウジング780に設けている。 As shown in FIG. 8B, three pairs of rollers 758B (engagement portions) are provided on the outer periphery of the opening 758A of the main body housing 758 at every 120 degrees in the circumferential direction. An annular permanent magnet 762E is provided on the flange portion 762D of the moving member 762 located inside the roller 758B in the radial direction. Then, as shown in FIGS. 8 (B) and 9 (A), a sphere 781F corresponding to the roller 758B is provided on the flange portion 781E of the support member 781A (the flange portion 781E supports the support shaft 781B). doing). Further, as shown in FIGS. 8 (B), 9 (A), and (B), a magnetic member 780A corresponding to the permanent magnet 762E is provided in the module housing 780.

つまり、本実施形態では、第5実施形態とは異なり、フランジ部762Dから一対のローラを排除し且つハウジングカバーを無くして、ローラ758Bに対応する球781Fをモジュールハウジング780の外側の支持部材781Aに設けている。このため、本実施形態では、軸運動機構760及び旋回運動機構784を軽量化することが可能である。なお、図9(C)に示す如く、フランジ部材792の永久磁石792Bに対応する磁性部材(永久磁石でもよい)794Bはリング形状とされ、フランジ部794の球794Aの配置された径方向位置より内側に配置されている。 That is, in the present embodiment, unlike the fifth embodiment, the pair of rollers is removed from the flange portion 762D and the housing cover is eliminated, and the ball 781F corresponding to the roller 758B is attached to the support member 781A outside the module housing 780. It is provided. Therefore, in the present embodiment, it is possible to reduce the weight of the axial movement mechanism 760 and the turning movement mechanism 784. As shown in FIG. 9C, the magnetic member (which may be a permanent magnet) 794B corresponding to the permanent magnet 792B of the flange member 792 has a ring shape, and the ball 794A of the flange portion 794 is arranged from the radial position. It is located inside.

なお、第1実施形態では、軸運動機構310がモジュールハウジング(旋回ハウジング部材)330を支持し、且つ旋回部材RPがスタイラス306を直接的に支持する構成とされていたが、本発明はこれに限定されない。例えば、図10(A)に示す第7実施形態の如くであってもよい。第7実施形態では、上記実施形態とは主に軸運動機構と旋回運動機構の配置が逆となり、変位検出器の種類が異なるだけなので、主に軸運動機構と旋回運動機構の配置及び変位検出器に係る構成以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 In the first embodiment, the axial movement mechanism 310 supports the module housing (swivel housing member) 330, and the swivel member RP directly supports the stylus 306. Not limited. For example, it may be as in the seventh embodiment shown in FIG. 10 (A). In the seventh embodiment, the arrangement of the axial movement mechanism and the turning movement mechanism is mainly reversed from that of the above embodiment, and only the types of displacement detectors are different. Therefore, the arrangement and displacement detection of the axial movement mechanism and the turning movement mechanism are mainly performed. Except for the configuration related to the device, the description is omitted because basically only the upper two digits of the code are changed.

第7実施形態では、図10(A)に示す如く、旋回運動機構834がモジュールハウジング(軸ハウジング部材)830を支持し、且つ移動部材812がスタイラス806を直接的に支持する構成とされている。ここでは、軸運動機構810を備えているモジュールを直動モジュール804と称する。つまり、測定プローブ800は、プローブ本体802と直動モジュール804の2つのモジュールを備え、プローブ本体802が直動モジュール804を内蔵する形態となっている。 In the seventh embodiment, as shown in FIG. 10A, the swivel motion mechanism 834 supports the module housing (shaft housing member) 830, and the moving member 812 directly supports the stylus 806. .. Here, the module provided with the axial movement mechanism 810 is referred to as a linear motion module 804. That is, the measurement probe 800 includes two modules, a probe main body 802 and a linear motion module 804, and the probe main body 802 includes the linear motion module 804.

旋回運動機構834は、図10(A)に示す如く、旋回部材842と、旋回部材842を本体ハウジング808に対して変位可能とする第2ダイヤフラム構造体840と、を備える。 As shown in FIG. 10A, the swivel motion mechanism 834 includes a swivel member 842 and a second diaphragm structure 840 that allows the swivel member 842 to be displaced with respect to the main body housing 808.

旋回部材842は、図10(A)に示す如く、軸心を中空部842Bとした略円環形状とされている。旋回部材842の下端に設けられたフランジ部842Eは、円筒形状のモジュールハウジング830と連結されており、直動モジュール804を構成している。 As shown in FIG. 10A, the swivel member 842 has a substantially annular shape with a hollow portion 842B as the axis. The flange portion 842E provided at the lower end of the swivel member 842 is connected to the cylindrical module housing 830 and constitutes the linear motion module 804.

軸運動機構810は、図10(A)に示す如く、モジュールハウジング830の径方向内側に支持されており、移動部材812のフランジ部812Eを除いてモジュールハウジング830の内側に収納されている。フランジ部812Eは、スタイラス806の内側に入り込むことなく、スタイラス806に連結されている。そして、軸運動機構810は、図10(A)に示す如く、移動部材812と、移動部材812をモジュールハウジング830に対して変位可能とする一対の第1ダイヤフラム構造体814、815と、を備える。 As shown in FIG. 10 (A), the axial movement mechanism 810 is supported inside the module housing 830 in the radial direction, and is housed inside the module housing 830 except for the flange portion 812E of the moving member 812. The flange portion 812E is connected to the stylus 806 without getting inside the stylus 806. Then, as shown in FIG. 10A, the axial movement mechanism 810 includes a moving member 812 and a pair of first diaphragm structures 814 and 815 that allow the moving member 812 to be displaced with respect to the module housing 830. ..

なお、図10(A)に示す如く、移動部材812の上端部812Aには、反射鏡とされた基準部材816が配置されており、旋回部材842の中空部842Bを通過した光が基準部材816で反射する構成となっている。また、移動部材812に対向して、移動部材812の変位を検出する変位検出器826がモジュールハウジング830の内側に配置されている(即ち、変位検出器826は直動モジュール804に内蔵されている)。ここでは、変位検出器826が、差動トランスを構成している。具体的には、移動部材812の外周に設けられた基準部材824が、円筒形状の金属部材である。そして、変位検出器826は、円筒形状であり、基準部材824の外周に近接して対峙している。変位検出器826は、高周波で発振する励磁コイル(例えば、1kHz以上の正弦波電圧を使用)と、それを両側から挟むように配置される1組の差動結合された受信コイルと、から構成される。受信コイルでは、基準部材824のモジュールハウジング830に対する1方向の変位(絶対位置)を検出することができる。即ち、変位検出器826は、移動部材812の絶対的な位置の検出を可能とする絶対位置検出信号を出力する構成とされている。 As shown in FIG. 10A, a reference member 816 as a reflector is arranged at the upper end portion 812A of the moving member 812, and the light passing through the hollow portion 842B of the swivel member 842 is the reference member 816. It is configured to reflect with. Further, a displacement detector 826 for detecting the displacement of the moving member 812 facing the moving member 812 is arranged inside the module housing 830 (that is, the displacement detector 826 is built in the linear motion module 804). ). Here, the displacement detector 826 constitutes a differential transformer. Specifically, the reference member 824 provided on the outer circumference of the moving member 812 is a cylindrical metal member. The displacement detector 826 has a cylindrical shape and faces the outer circumference of the reference member 824 in close proximity to each other. The displacement detector 826 is composed of an exciting coil that oscillates at a high frequency (for example, a sinusoidal voltage of 1 kHz or more is used) and a set of differentially coupled receiving coils arranged so as to sandwich it from both sides. Will be done. In the receiving coil, the displacement (absolute position) of the reference member 824 with respect to the module housing 830 in one direction can be detected. That is, the displacement detector 826 is configured to output an absolute position detection signal that enables detection of the absolute position of the moving member 812.

このように、本実施形態では、旋回運動機構834がモジュールハウジング830を支持し、且つ移動部材812がスタイラス806を直接的に支持する構成とされている。このため、スタイラス806により近い軸運動機構810による検出感度を向上させることが可能である。同時に、軸運動機構810を軽くできるので、軸運動機構810の応答性を高くすることができる。また、モジュールハウジング830に対する1方向の変位(絶対位置)の検出に差動トランスを用いるので、接触部848の軸方向Oの絶対位置の算出も容易に行うことが可能である。 As described above, in the present embodiment, the swivel motion mechanism 834 supports the module housing 830, and the moving member 812 directly supports the stylus 806. Therefore, it is possible to improve the detection sensitivity by the axial movement mechanism 810, which is closer to the stylus 806. At the same time, since the axial movement mechanism 810 can be made lighter, the responsiveness of the axial movement mechanism 810 can be increased. Further, since the differential transformer is used to detect the displacement (absolute position) in one direction with respect to the module housing 830, it is possible to easily calculate the absolute position of the contact portion 848 in the axial direction O.

なお、図10(B)は、第7実施形態のバリエーションである第8実施形態を示している。ここでは、差動トランスを構成する基準部材874が移動部材862の上端部862Aに設けられ、且つ変位検出器876が旋回部材892の中空部892Bの内側側面に設けられている。そして、基準部材866は、旋回部材892の上端部892Aに配置されている。そのほかの要素は、第7実施形態と同様なので、説明は省略する。 Note that FIG. 10B shows an eighth embodiment which is a variation of the seventh embodiment. Here, the reference member 874 constituting the differential transformer is provided on the upper end portion 862A of the moving member 862, and the displacement detector 876 is provided on the inner side surface of the hollow portion 892B of the swivel member 892. The reference member 866 is arranged at the upper end portion 892A of the swivel member 892. Since the other elements are the same as those in the seventh embodiment, the description thereof will be omitted.

なお、第7、第8実施形態では、プローブ本体に直動モジュールが内蔵された形態であったが、本発明はこれに限定されない。例えば、図11(A)に示す第9実施形態の如くであってもよい。第9実施形態では、第7実施形態とは主にプローブ本体と直動モジュールとの連結状態が異なるだけである。しかも、その連結状態は、第3実施形態と略同一である。このため、第3、第7実施形態とは異なる構成以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 In the seventh and eighth embodiments, the linear motion module is built in the probe body, but the present invention is not limited to this. For example, it may be as in the ninth embodiment shown in FIG. 11 (A). In the ninth embodiment, the connection state between the probe main body and the linear motion module is mainly different from that in the seventh embodiment. Moreover, the connected state is substantially the same as that of the third embodiment. Therefore, except for the configuration different from the third and seventh embodiments, the description will be omitted assuming that the upper two digits of the code are basically changed.

第9実施形態では、図11(A)に示す如く、プローブ本体902に直動モジュール904が内蔵されない形態である。直動モジュール904は、プローブ本体902と互いに位置決め可能なローラ942Fと球932B(係合部)で脱着可能に連結されている。なお、以降では、このプローブ本体902から分離可能な直動モジュール904をプローブモジュールとも称する。なお、変位検出器928は、移動部材912を支持するモジュールハウジング930に支持され、移動部材912の側面に設けられた基準部材926とともに、第2実施形態で示した光電式インクリメンタル型リニアエンコーダ(光電式や磁気式や電磁誘導式などのアブソリュート型リニアエンコーダでもよい)を構成している。 In the ninth embodiment, as shown in FIG. 11A, the linear motion module 904 is not built in the probe main body 902. The linear motion module 904 is detachably connected to the probe main body 902 by a roller 942F that can be positioned with each other and a ball 932B (engagement portion). Hereinafter, the linear motion module 904 separable from the probe main body 902 will also be referred to as a probe module. The displacement detector 928 is supported by a module housing 930 that supports the moving member 912, and together with a reference member 926 provided on the side surface of the moving member 912, the photoelectric incremental linear encoder (photoelectric) shown in the second embodiment. An absolute linear encoder such as a type, a magnetic type, or an electromagnetic induction type may be used).

なお、スタイラス906は、複数(接触部948の材質や位置や質量等が異なる)用意される。そして、スタイラス906に対応して、1つのプローブ本体902に対して、複数の直動モジュール904(必ずしもスタイラス906の数と同一ではない)を用意することができる。 A plurality of styluses 906 (the material, position, mass, etc. of the contact portion 948 are different) are prepared. Then, corresponding to the stylus 906, a plurality of linear motion modules 904 (not necessarily the same as the number of the stylus 906) can be prepared for one probe main body 902.

プローブ本体902は、図11(A)に示す如く、本体ハウジング908と、姿勢検出器922と、旋回運動機構934と、を備える。旋回運動機構934は、本体ハウジング908の径方向内側に支持されている。旋回運動機構934は、旋回部材942のフランジ部942Eを除いて本体ハウジング908の内側に収納されている。旋回運動機構934は、旋回部材942と、旋回部材942を本体ハウジング908に対して変位可能とする第2ダイヤフラム構造体940とを備える。 As shown in FIG. 11A, the probe main body 902 includes a main body housing 908, a posture detector 922, and a swivel motion mechanism 934. The swivel motion mechanism 934 is supported radially inside the main body housing 908. The swivel motion mechanism 934 is housed inside the main body housing 908 except for the flange portion 942E of the swivel member 942. The swivel motion mechanism 934 includes a swivel member 942 and a second diaphragm structure 940 that allows the swivel member 942 to be displaced with respect to the main body housing 908.

旋回部材942は、図11(A)に示す如く、軸心を中空部942Bとした略円筒形状とされている。より具体的には、旋回部材942は、Z方向の上方から下方に向かって、肉厚部942C、肉薄部942D、及びフランジ部942Eが一体とされ構成されている。肉厚部942Cには、第2ダイヤフラム構造体940が連結されている。肉薄部942Dは、肉厚部942Cの下方に形成されている。なお、本体ハウジング908の開口部908Aの開口径は、肉厚部942Cの外径よりも小さくされている。そして、フランジ部942Eの外径は、開口部908Aの開口径よりも大きくされている。ここで、肉厚部942Cの下端部942CAと開口部908Aの上端部908AAとの距離及びフランジ部942Eの上端部942EAと開口部908Aの下端部908ABとの距離で、旋回部材942の変位を規制して、第2ダイヤフラム構造体940が弾性変形の範囲内となるように定めてもよい。また、肉薄部942Dの外側面と開口部908Aの内端面との距離で、旋回部材942の変位を規制して、第2ダイヤフラム構造体940が弾性変形の範囲内となるように定めてもよい(この場合には、プローブ本体902は、第2ダイヤフラム構造体940の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第2制限部材となる本体ハウジング908及び旋回部材942を備えているといえる)。なお、フランジ部942Eは、直動モジュール904の内側に入り込むことなく、直動モジュール904に連結されている。 As shown in FIG. 11A, the swivel member 942 has a substantially cylindrical shape with a hollow portion 942B as the axis. More specifically, the swivel member 942 is configured such that the thick portion 942C, the thin portion 942D, and the flange portion 942E are integrated from the upper side to the lower side in the Z direction. A second diaphragm structure 940 is connected to the thick portion 942C. The thin portion 942D is formed below the thick portion 942C. The opening diameter of the opening 908A of the main body housing 908 is smaller than the outer diameter of the thick portion 942C. The outer diameter of the flange portion 942E is larger than the opening diameter of the opening 908A. Here, the displacement of the swivel member 942 is regulated by the distance between the lower end 942CA of the thick portion 942C and the upper end 908AA of the opening 908A and the distance between the upper end 942EA of the flange 942E and the lower end 908AB of the opening 908A. Then, the second diaphragm structure 940 may be determined to be within the range of elastic deformation. Further, the displacement of the swivel member 942 may be regulated by the distance between the outer surface of the thin portion 942D and the inner end surface of the opening 908A so that the second diaphragm structure 940 is within the range of elastic deformation. (In this case, it can be said that the probe main body 902 includes a main body housing 908 and a swivel member 942 which are second limiting members that limit the amount of deformation of the second diaphragm structure 940 within the range of elastic deformation). The flange portion 942E is connected to the linear motion module 904 without entering the inside of the linear motion module 904.

フランジ部942Eの下端外周には、図11(A)に示す如く、周方向で120度毎に一対のローラ942Fが3つ設けられている。そして、ローラ942Fとは周方向で位相が60度ずれた状態で永久磁石942Gが3つ設けられている。なお、一対のローラ942Fの軸方向は、フランジ部942Eの中心に向かう略径方向と同一とされている。 As shown in FIG. 11A, three pairs of rollers 942F are provided on the outer periphery of the lower end of the flange portion 942E at every 120 degrees in the circumferential direction. Three permanent magnets 942G are provided in a state of being 60 degrees out of phase with the roller 942F in the circumferential direction. The axial direction of the pair of rollers 942F is the same as the substantially radial direction toward the center of the flange portion 942E.

直動モジュール904は、図11(A)に示す如く、モジュールカバー932と、モジュールハウジング930と、軸運動機構910と、を備えている。なお、本実施形態では、モジュールカバー932とモジュールハウジング930とで軸ハウジング部材が構成されている。 As shown in FIG. 11A, the linear motion module 904 includes a module cover 932, a module housing 930, and an axial motion mechanism 910. In this embodiment, the shaft housing member is composed of the module cover 932 and the module housing 930.

モジュールカバー932は、図11(A)に示す如く、中心に開口部932Aを備えるフランジ形状とされている。モジュールカバー932は、フランジ部942Eに対応する部材である。即ち、一対のローラ942Fの両方に接するように、球932Bがモジュールカバー932の周方向で120度毎に3つ配置されている。そして、永久磁石942Gに対応して、永久磁石942Gと引き合う磁性部材(永久磁石でよい)932Cが、球932Bとは60度位相がずれた状態で配置されている。 As shown in FIG. 11A, the module cover 932 has a flange shape having an opening 932A in the center. The module cover 932 is a member corresponding to the flange portion 942E. That is, three balls 932B are arranged every 120 degrees in the circumferential direction of the module cover 932 so as to be in contact with both of the pair of rollers 942F. Then, corresponding to the permanent magnet 942G, a magnetic member (may be a permanent magnet) 932C that attracts the permanent magnet 942G is arranged in a state of being 60 degrees out of phase with the sphere 932B.

即ち、モジュールカバー932とフランジ部942Eとは、脱着可能なキネマティックジョイントで連結されている。このように、本実施形態では、旋回運動機構934がプローブ本体902に内蔵され、且つ軸運動機構910が直動モジュール904のみに内蔵されている。このため、例えば、スタイラス906を変更した際に、軸運動機構910だけは性能的に変更したほうがよいといった場合があるとする。このとき、プローブ本体902を変えることなく直動モジュール904を交換するだけで、例えば、一対の第1ダイヤフラム構造体914、915の距離をより広げることで、軸運動機構910の移動部材912の直進性を向上させることが可能である(つまり、移動部材912のモジュールハウジング930に対する1方向からずれた変位の発生を低減することができる)。逆に、同一の直動モジュール904に対してプローブ本体902を交換するといったことも容易に実現することができる。また、軸運動機構910のみが破損・性能低下した際には、直動モジュール904の交換だけで測定プローブ900の機能を維持することができる。 That is, the module cover 932 and the flange portion 942E are connected by a removable kinematic joint. As described above, in the present embodiment, the turning motion mechanism 934 is built in the probe main body 902, and the axial motion mechanism 910 is built only in the linear motion module 904. Therefore, for example, when the stylus 906 is changed, it may be better to change only the axial movement mechanism 910 in terms of performance. At this time, by simply replacing the linear motion module 904 without changing the probe body 902, for example, by further increasing the distance between the pair of first diaphragm structures 914 and 915, the moving member 912 of the axial motion mechanism 910 travels straight. It is possible to improve the property (that is, it is possible to reduce the occurrence of displacement of the moving member 912 with respect to the module housing 930 in one direction). On the contrary, it is possible to easily replace the probe main body 902 with respect to the same linear motion module 904. Further, when only the axial movement mechanism 910 is damaged or the performance deteriorates, the function of the measurement probe 900 can be maintained only by replacing the linear motion module 904.

また、本実施形態では、プローブ本体902と直動モジュール904とが互いに位置決め可能なローラ942Fと球932Bで脱着可能に連結されている。このため、直動モジュール904の脱着を繰り返しても、連結位置を高い精度で再現することが可能である。また、複数の直動モジュール904の球932Bの位置を共通にしておくことで、複数の直動モジュール904を容易にプローブ本体902へ脱着でき、且つ高い位置再現性を実現することができる。 Further, in the present embodiment, the probe main body 902 and the linear motion module 904 are detachably connected to each other by a roller 942F and a ball 932B that can be positioned with each other. Therefore, even if the linear motion module 904 is repeatedly attached and detached, the connection position can be reproduced with high accuracy. Further, by making the positions of the spheres 932B of the plurality of linear motion modules 904 common, the plurality of linear motion modules 904 can be easily attached to and detached from the probe main body 902, and high position reproducibility can be realized.

また、本実施形態では、プローブ本体902の1つに対して直動モジュール904を複数用意し、軸運動機構910の変位した際の単位変位量当たりの復元力を直動モジュール904毎に異なるようにすることができる。このため、スタイラス906や被測定物Wに個別に対応する復元力を設定することができ、モジュールハウジング930に対する1方向への変位の高感度検出が可能であるとともに検出範囲の拡大などが容易に実現可能である。同時に、被測定物Wへのダメージなども低減することが可能である。 Further, in the present embodiment, a plurality of linear motion modules 904 are prepared for one of the probe main bodies 902, and the restoring force per unit displacement amount when the axial motion mechanism 910 is displaced is different for each linear motion module 904. Can be. Therefore, the restoring force corresponding to the stylus 906 and the object W to be measured can be set individually, and the displacement in one direction with respect to the module housing 930 can be detected with high sensitivity, and the detection range can be easily expanded. It is feasible. At the same time, it is possible to reduce damage to the object to be measured W.

なお、第9実施形態では、姿勢検出器922が、移動部材912と旋回部材942の両方を支持する本体ハウジング908に収納されていたが、本発明はこれに限定されない。例えば、図11(B)に示す第10実施形態の如くであってもよい。第10実施形態は、丁度、第9実施形態のプローブ本体902が軸方向Oでビームスプリッタ920と旋回部材942との間で分離可能とされた形態となっている。つまり、第9実施形態とは主に姿勢検出器の位置が異なるだけなので、主に姿勢検出器の位置に係る構成以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 In the ninth embodiment, the posture detector 922 is housed in the main body housing 908 that supports both the moving member 912 and the swivel member 942, but the present invention is not limited to this. For example, it may be as in the tenth embodiment shown in FIG. 11 (B). The tenth embodiment is such that the probe main body 902 of the ninth embodiment can be split between the beam splitter 920 and the swivel member 942 in the axial direction O. That is, since the position of the posture detector is mainly different from that of the ninth embodiment, the description will be omitted assuming that the upper two digits of the code are basically changed except for the configuration mainly related to the position of the posture detector.

第10実施形態では、図11(B)に示す如く、移動部材962と旋回部材992の両方を支持する本体ハウジング958を、位置決め可能なローラ951BBと球957B(係合部)で脱着可能に連結し支持する前段モジュール951を備えている。そして、姿勢検出器972は、前段モジュール951に内蔵されている。 In the tenth embodiment, as shown in FIG. 11B, the main body housing 958 that supports both the moving member 962 and the swivel member 992 is detachably connected by a positionable roller 951BB and a ball 957B (engaging portion). It is equipped with a front-stage module 951 that supports and supports it. The attitude detector 972 is built in the front-stage module 951.

具体的に、前段モジュール951は、図11(B)に示す如く、前段ハウジング(前段ハウジング部材)951Aと、光源968と、ビームスプリッタ970と、姿勢検出器972と、を備えている。前段ハウジング951Aは、光源968とビームスプリッタ970と姿勢検出器972とを径方向内側で支持しており、下端に下カバー951Bを備えている。下カバー951Bは、中心に開口部951BAを備えるフランジ形状とされている。下カバー951Bの下端外周には、図11(B)に示す如く、周方向で120度毎に一対のローラ951BBが3つ設けられている。そして、ローラ951BBとは周方向で位相が60度ずれた状態で永久磁石951BCが3つ設けられている。つまり、前段ハウジング951Aは、本体ハウジング958を位置決め可能なローラ951BBと球957Bで脱着可能に連結し支持している。そして、前段ハウジング951Aは、姿勢検出器972を収納している構成である。 Specifically, as shown in FIG. 11B, the front-stage module 951 includes a front-stage housing (front-stage housing member) 951A, a light source 968, a beam splitter 970, and an attitude detector 972. The front housing 951A supports the light source 968, the beam splitter 970, and the attitude detector 972 in the radial direction, and has a lower cover 951B at the lower end. The lower cover 951B has a flange shape having an opening 951BA in the center. As shown in FIG. 11B, three pairs of rollers 951BB are provided on the outer periphery of the lower end of the lower cover 951B at every 120 degrees in the circumferential direction. Three permanent magnets 951BC are provided in a state of being 60 degrees out of phase with the roller 951BB in the circumferential direction. That is, the front housing 951A detachably connects and supports the main body housing 958 with a positionable roller 951BB and a ball 957B. The front housing 951A has a configuration in which the posture detector 972 is housed.

プローブ本体952は、図11(B)に示す如く、上カバー957と、本体ハウジング958と、旋回運動機構984と、を備えている。上カバー957は、図11(B)に示す如く、中心に開口部957Aを備えるフランジ形状とされている。上カバー957は、下カバー951Bに対応する部材である(このため、開口部957Aにより、基準部材966への入射光及び基準部材966からの反射光の光路が確保されている)。また、一対のローラ951BBの両方に接するように、球957Bが上カバー957の周方向で120度毎に3つ配置されている。そして、永久磁石951BCに対応して、磁性部材(永久磁石でよい)957Cが配置されている。つまり、即ち、下カバー951Bと上カバー957とは、脱着可能なキネマティックジョイントで連結されている。 As shown in FIG. 11B, the probe main body 952 includes an upper cover 957, a main body housing 958, and a swivel motion mechanism 984. As shown in FIG. 11B, the upper cover 957 has a flange shape having an opening 957A in the center. The upper cover 957 is a member corresponding to the lower cover 951B (for this reason, the opening 957A secures an optical path for the incident light to the reference member 966 and the reflected light from the reference member 966). Further, three balls 957B are arranged every 120 degrees in the circumferential direction of the upper cover 957 so as to be in contact with both of the pair of rollers 951BB. Then, a magnetic member (may be a permanent magnet) 957C is arranged corresponding to the permanent magnet 951BC. That is, the lower cover 951B and the upper cover 957 are connected by a removable kinematic joint.

このように、本実施形態では、プローブ本体952には旋回運動機構984のみが内蔵され且つ前段モジュール951には光源968とビームスプリッタ970と姿勢検出器972とが内蔵された形態である。このため、旋回運動機構984のみの変更が容易であるとともに、前段モジュール951の変更も容易である。つまり、旋回運動機構984と姿勢検出器972とを別個に性能変更することや交換することが可能となり、そのコストを低減することができる。また、例えば、プローブ本体952を装着せずに、前段モジュール951に直接的に直動モジュール954を装着して、姿勢検出器972の出力を利用して直動モジュール954の直進性を検査すること等も可能となる。なお、本実施形態では、直動モジュール954がスタイラス956を支持していたが、第3実施形態の如く旋回モジュールがスタイラスを支持している際に前段モジュールが設けられている形態でもよい。 As described above, in the present embodiment, only the swirling motion mechanism 984 is built in the probe main body 952, and the light source 968, the beam splitter 970, and the attitude detector 972 are built in the front-stage module 951. Therefore, it is easy to change only the turning motion mechanism 984, and it is also easy to change the front-stage module 951. That is, the performance of the turning motion mechanism 984 and the posture detector 972 can be changed or replaced separately, and the cost can be reduced. Further, for example, without mounting the probe main body 952, the linear motion module 954 is directly mounted on the front-stage module 951, and the straightness of the linear motion module 954 is inspected by using the output of the attitude detector 972. Etc. are also possible. In the present embodiment, the linear motion module 954 supports the stylus 956, but as in the third embodiment, the pre-stage module may be provided when the swivel module supports the stylus.

なお、第7実施形態では、延在部808Aの内側側面とモジュールハウジング830の外側側面との距離が、旋回部材842の変位を規制して、第2ダイヤフラム構造体840が弾性変形の範囲内となるように定められていた。即ち、プローブ本体802は、第2ダイヤフラム構造体840の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第2制限部材となる本体ハウジング808及びモジュールハウジング830を備えているといえる。これに対して、例えば、図12(A)に示す第11実施形態の如くであってもよい。第11実施形態では、第7実施形態とは主に本体ハウジングの形状、及びモジュールハウジングの形状が異なるだけなので、主に本体ハウジングと旋回部材との関係、及び移動部材とモジュールハウジングとの関係以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。なお、図12(A)では、図示しない変位検出器が内壁部1030Aを回避した状態で第7実施形態と同様にモジュールハウジング1030の径方向内側に配置(固定)されている。 In the seventh embodiment, the distance between the inner side surface of the extending portion 808A and the outer side surface of the module housing 830 regulates the displacement of the swivel member 842, and the second diaphragm structure 840 is within the range of elastic deformation. It was set to be. That is, it can be said that the probe main body 802 includes a main body housing 808 and a module housing 830 which are second limiting members that limit the amount of deformation of the second diaphragm structure 840 within the range of elastic deformation. On the other hand, for example, it may be as in the eleventh embodiment shown in FIG. 12 (A). In the eleventh embodiment, since the shape of the main body housing and the shape of the module housing are mainly different from those of the seventh embodiment, other than the relationship between the main body housing and the swivel member and the relationship between the moving member and the module housing. Is basically changed only in the upper two digits of the code, and the description thereof will be omitted. In FIG. 12A, a displacement detector (not shown) is arranged (fixed) inside the module housing 1030 in the radial direction in the same manner as in the seventh embodiment in a state where the inner wall portion 1030A is avoided.

第11実施形態では、図12(A)に示す如く、旋回部材1042のフランジ部1042Eの上端部に対峙するように、本体ハウジング1008にリング部1008Bが設けられている。即ち、リング部1008Bは、本体ハウジング1008と一体とされて配置される第2壁部材といえる。そして、リング部1008B(の下端部)とフランジ部1042E(の上端部)との間の少なくとも一部の隙間にグリースオイルなどの第2粘性材料SVが充填されている。ここでの「充填」は、XY方向の少なくとも一か所でリング部1008Bと旋回部材1042との間に第2粘性材料SVが隙間なく配置されることで満たされるとする(必ずしも軸対称で、充填される必要はない)。これにより、少なくとも第2粘性材料SVがリング部1008Bに対する旋回部材1042の変位をダンピングし、測定プローブ1000の移動に伴って生じるXY方向への振動などを低減でき、測定プローブ1000の高感度化に伴うノイズの増大を防止することが可能となる。 In the eleventh embodiment, as shown in FIG. 12A, a ring portion 1008B is provided in the main body housing 1008 so as to face the upper end portion of the flange portion 1042E of the swivel member 1042. That is, it can be said that the ring portion 1008B is a second wall member that is arranged integrally with the main body housing 1008. Then, at least a part of the gap between the ring portion 1008B (lower end portion) and the flange portion 1042E (upper end portion) is filled with a second viscous material SV such as grease oil. It is assumed that the "filling" here is satisfied by arranging the second viscous material SV between the ring portion 1008B and the swivel member 1042 without a gap at at least one place in the XY direction (not necessarily axially symmetric). Does not need to be filled). As a result, at least the second viscous material SV can dampen the displacement of the swivel member 1042 with respect to the ring portion 1008B, and the vibration in the XY direction caused by the movement of the measurement probe 1000 can be reduced, resulting in higher sensitivity of the measurement probe 1000. It is possible to prevent the accompanying increase in noise.

また、同時に、図12(A)に示す如く、移動部材1012の外側側面に対峙するように、モジュールハウジング1030に内壁部1030Aが設けられている。即ち、内壁部1030Aは、モジュールハウジング1030と一体とされて配置され移動部材1012に対峙して配置される第1壁部材といえる。そして、内壁部1030A(の内側側面)と移動部材1012(の外側側面)との間の少なくとも一部の隙間にグリースオイルなどの第1粘性材料FVが充填されている。ここでの「充填」は、Z方向の少なくとも一か所で内壁部1030Aと移動部材1012との間に第1粘性材料FVが隙間なく配置されることで満たされるとする(必ずしも軸対称で、充填される必要はない)。これにより、少なくとも第1粘性材料FVが内壁部1030Aに対する移動部材1012の変位をダンピングし、測定プローブ1000の移動に伴って生じるZ方向への振動などを低減でき、測定プローブ1000の高感度化に伴うノイズの増大を防止することが可能となる。つまり、第1粘性材料FVと第2粘性材料SVとにより、測定プローブ1000の高速移動を行っても、ノイズの増大を抑えることが可能となる。 At the same time, as shown in FIG. 12A, the module housing 1030 is provided with an inner wall portion 1030A so as to face the outer side surface of the moving member 1012. That is, it can be said that the inner wall portion 1030A is a first wall member that is arranged integrally with the module housing 1030 and is arranged so as to face the moving member 1012. Then, at least a part of the gap between the inner wall portion 1030A (inner side surface) and the moving member 1012 (outer side surface) is filled with the first viscous material FV such as grease oil. It is assumed that the "filling" here is satisfied by arranging the first viscous material FV between the inner wall portion 1030A and the moving member 1012 without a gap at at least one place in the Z direction (not necessarily axially symmetric). Does not need to be filled). As a result, at least the first viscous material FV can dampen the displacement of the moving member 1012 with respect to the inner wall portion 1030A, and the vibration in the Z direction caused by the movement of the measuring probe 1000 can be reduced, resulting in higher sensitivity of the measuring probe 1000. It is possible to prevent the accompanying increase in noise. That is, the first viscous material FV and the second viscous material SV make it possible to suppress an increase in noise even when the measurement probe 1000 is moved at high speed.

加えて、本実施形態では、Z方向とXY方向のダンピング構造を別々に有するので、第1粘性材料FV、第2粘性材料SVとを個別に変更できる。このため、Z方向とXY方向とでダンピング特性を個別に最適化できる。 In addition, in the present embodiment, since the damping structures in the Z direction and the damping structure in the XY directions are separately provided, the first viscous material FV and the second viscous material SV can be individually changed. Therefore, the damping characteristics can be individually optimized in the Z direction and the XY directions.

なお、第7実施形態とは異なり、例えば、図12(B)に示す第12実施形態の如くであってもよい。第12実施形態では、第7実施形態とは主にバランス部材及び第5、第6実施形態で示したカウンタバランス機構が追加されただけなので、主にバランス部材及びカウンタバランス機構の構成以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 Note that, unlike the seventh embodiment, for example, the twelfth embodiment shown in FIG. 12B may be used. In the twelfth embodiment, since the balance member and the counter balance mechanism shown in the fifth and sixth embodiments are mainly added to the seventh embodiment, except for the configuration of the balance member and the counter balance mechanism. Basically, the description is omitted assuming that only the upper two digits of the code are changed.

第12実施形態では、図12(B)に示す如く、旋回部材1092が旋回運動機構1084の旋回中心RCに対して反スタイラス側に円環形状のバランス部材1088を備えている。バランス部材1088は、旋回部材1092の上端部に設けられた支持部1087に支持されている。バランス部材1088は支持部1087に係合した状態で移動可能であり、支持部1087により旋回中心RCとバランス部材1088との距離は調整可能とされている。このため、バランス部材1088の旋回中心RCからの距離を変化させることで、異なるスタイラス1056を連結した状態の旋回部材1092(第2ダイヤフラム構造体1090に支持される部材)の重心位置を旋回中心RCに一致させることが可能となる。従って、本実施形態では、上記実施形態よりもさらなる測定プローブ1050の高感度化が可能である。なお、このような位置調整可能なバランス部材は、第11実施形態などで示す軸運動機構が旋回運動機構を支持する構造に適用されてもよい。 In the twelfth embodiment, as shown in FIG. 12B, the swivel member 1092 is provided with a ring-shaped balance member 1088 on the anti-stylus side with respect to the swivel center RC of the swivel motion mechanism 1084. The balance member 1088 is supported by a support portion 1087 provided at the upper end portion of the swivel member 1092. The balance member 1088 can be moved in a state of being engaged with the support portion 1087, and the distance between the turning center RC and the balance member 1088 can be adjusted by the support portion 1087. Therefore, by changing the distance of the balance member 1088 from the turning center RC, the position of the center of gravity of the turning member 1092 (member supported by the second diaphragm structure 1090) in a state where different styluses 1056 are connected is set to the turning center RC. Can be matched to. Therefore, in the present embodiment, it is possible to further increase the sensitivity of the measurement probe 1050 as compared with the above embodiment. The position-adjustable balance member may be applied to a structure in which the axial movement mechanism shown in the eleventh embodiment or the like supports the turning movement mechanism.

また、図12(B)に示す如く、モジュールハウジング1080で支持する第1ダイヤフラム構造体1064の下方には、周方向で120度毎に支持部1080Cが設けられている。そして、支持部1080Cの先端には、永久磁石1080CAが配置されている。 Further, as shown in FIG. 12B, a support portion 1080C is provided below the first diaphragm structure 1064 supported by the module housing 1080 at every 120 degrees in the circumferential direction. A permanent magnet 1080CA is arranged at the tip of the support portion 1080C.

移動部材1062のフランジ部1062Eに支持されるスタイラス1056は、図12(B)に示す如く、スタイラス1056の質量に応じたバランスウェイト1081Cと、カウンタバランス機構1081と、備える。カウンタバランス機構1081は、第5、第6実施形態と同様に、(支持部1080Cを介して)モジュールハウジング(軸ハウジング部材)1080に支持され、スタイラス1056とバランスウェイト1081Cとの間のZ方向におけるバランスをとる構成とされている。カウンタバランス機構1081は、スタイラス1056と共に脱着可能とされている。 As shown in FIG. 12B, the stylus 1056 supported by the flange portion 1062E of the moving member 1062 includes a balance weight 1081C corresponding to the mass of the stylus 1056 and a counter balance mechanism 1081. The counter balance mechanism 1081 is supported by the module housing (shaft housing member) 1080 (via the support portion 1080C) and in the Z direction between the stylus 1056 and the balance weight 1081C, as in the fifth and sixth embodiments. It is designed to be balanced. The counter balance mechanism 1081 is removable together with the stylus 1056.

カウンタバランス機構1081は、図13(A)〜(C)に示す如く、永久磁石1080CAの位置と数に対応して、スタイラス1056の3か所以上に設けられている。カウンタバランス機構1081は、支持部材1081Aと支持軸1081Bと連結軸1081Dを備える。支持部材1081Aの上面には永久磁石1080CAに吸着可能な磁性部材(磁石でもよい)1081AAが設けられている。支持軸1081Bは、支持部材1081Aに固定され、支持軸1081Bから重心位置がずれた状態でバランスウェイト1081Cが連結されている。バランスウェイト1081Cには、Z方向と直交する方向に連結軸1081Dが設けられており、その先端がスタイラス1056のフランジ部1094に連結されている。 As shown in FIGS. 13 (A) to 13 (C), the counter balance mechanism 1081 is provided at three or more locations on the stylus 1056, corresponding to the position and number of the permanent magnets 1080CA. The counter balance mechanism 1081 includes a support member 1081A, a support shaft 1081B, and a connecting shaft 1081D. A magnetic member (which may be a magnet) 1081AA that can be attracted to the permanent magnet 1080CA is provided on the upper surface of the support member 1081A. The support shaft 1081B is fixed to the support member 1081A, and the balance weight 1081C is connected in a state where the center of gravity is displaced from the support shaft 1081B. The balance weight 1081C is provided with a connecting shaft 1081D in a direction orthogonal to the Z direction, and the tip thereof is connected to the flange portion 1094 of the stylus 1056.

これにより、プローブ本体1052の1つに対してスタイラス1056を交換した際には、そのスタイラス1056の質量に対応したバランスウェイト1081Cが必然的に用いられることとなる。このため、スタイラス1056の質量の増減分をモジュールハウジング1080で直接受け止めることができる。即ち、スタイラス1056の違いによって、移動部材1062のZ方向の初期位置の変動を防止することが可能である。つまり、本実施形態では、第7実施形態に比べて移動部材1062の可動範囲を狭くでき、直動モジュール1054の一層の小型化が可能となる。同時に、検出範囲を狭くできることから、移動部材1062の変位量をより高い分解能で検出することが可能である。 As a result, when the stylus 1056 is replaced with one of the probe main bodies 1052, the balance weight 1081C corresponding to the mass of the stylus 1056 is inevitably used. Therefore, the increase / decrease in the mass of the stylus 1056 can be directly received by the module housing 1080. That is, it is possible to prevent the movement member 1062 from fluctuating in the initial position in the Z direction due to the difference in the stylus 1056. That is, in the present embodiment, the movable range of the moving member 1062 can be narrowed as compared with the seventh embodiment, and the linear motion module 1054 can be further miniaturized. At the same time, since the detection range can be narrowed, the displacement amount of the moving member 1062 can be detected with higher resolution.

また、本実施形態では、更に、モジュールハウジング1080の外側側面に凸部1080Bが設けられている。即ち、延在部1058Aの内側側面1058AAとモジュールハウジング1080の凸部1080Bとの距離が、旋回部材1092の変位を規制して、第2ダイヤフラム構造体1090が弾性変形の範囲内となるように定められている。即ち、プローブ本体1052は、第2ダイヤフラム構造体1090の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第2制限部材となる本体ハウジング1058及びモジュールハウジング1080を備えているといえる。 Further, in the present embodiment, a convex portion 1080B is further provided on the outer side surface of the module housing 1080. That is, the distance between the inner side surface 1058AA of the extending portion 1058A and the convex portion 1080B of the module housing 1080 regulates the displacement of the swivel member 1092 so that the second diaphragm structure 1090 is within the range of elastic deformation. Has been done. That is, it can be said that the probe main body 1052 includes a main body housing 1058 and a module housing 1080 which are second limiting members that limit the amount of deformation of the second diaphragm structure 1090 within the range of elastic deformation.

同時に、本実施形態では、モジュールハウジング1080の内側側面に凹部1080Aが設けられている。移動部材1062には棒状の抑制部材1063が固定されており、抑制部材1063は凹部1080Aの内側に非接触で配置されている。即ち、凹部1080Aの上端部1080AAと抑制部材1063の上端部1063Aとの距離、及び凹部1080Aの下端部1080ABと抑制部材1063の下端部1063Bとの距離が、移動部材1062の変位を規制して、一対の第1ダイヤフラム構造体1064、1065が弾性変形の範囲内となるように定められている。即ち、直動モジュール1054は、一対の第1ダイヤフラム構造体1064、1065の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第1制限部材となるモジュールハウジング1080及び抑制部材1063を備えているといえる。 At the same time, in the present embodiment, the recess 1080A is provided on the inner side surface of the module housing 1080. A rod-shaped restraining member 1063 is fixed to the moving member 1062, and the restraining member 1063 is arranged inside the recess 1080A in a non-contact manner. That is, the distance between the upper end 1080AA of the recess 1080A and the upper end 1063A of the restraining member 1063 and the distance between the lower end 1080AB of the recess 1080A and the lower end 1063B of the restraining member 1063 regulate the displacement of the moving member 1062. The pair of first diaphragm structures 1064 and 1065 are defined to be within the range of elastic deformation. That is, it can be said that the linear motion module 1054 includes a module housing 1080 and a restraining member 1063 which are first limiting members that limit the amount of deformation of the pair of first diaphragm structures 1064 and 1065 within the range of elastic deformation.

なお、上記実施形態では、軸方向Oで、一対の第1ダイヤフラム構造体と第2ダイヤフラム構造体とが順番に配置されていたが、本発明はこれに限定されない。例えば、図14(A)に示す第13実施形態の如くであってもよい。第13実施形態では、上記実施形態とは主に一対の第1ダイヤフラム構造体と第2ダイヤフラム構造体との配置状態が異なるだけなので、主に一対の第1ダイヤフラム構造体と第2ダイヤフラム構造体との配置の構成以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 In the above embodiment, the pair of the first diaphragm structure and the second diaphragm structure are arranged in order in the axial direction O, but the present invention is not limited to this. For example, it may be as in the thirteenth embodiment shown in FIG. 14 (A). In the thirteenth embodiment, since the arrangement state of the pair of the first diaphragm structure and the second diaphragm structure is mainly different from that of the above embodiment, the pair of first diaphragm structure and the second diaphragm structure are mainly different. Except for the configuration of the arrangement with, the description is omitted because basically only the upper two digits of the code are changed.

第13実施形態では、図14(A)に示す如く、軸方向Oで、一対の第1ダイヤフラム構造体1114、1115の間に第2ダイヤフラム構造体1140が配置されている。そして、プローブ本体1102内では旋回運動機構1134が旋回部材(軸ハウジング部材)1136を支持し、且つ移動部材1112がスタイラス1106を直接的に支持する構成とされている。 In the thirteenth embodiment, as shown in FIG. 14A, the second diaphragm structure 1140 is arranged between the pair of first diaphragm structures 1114 and 1115 in the axial direction O. In the probe body 1102, the swivel movement mechanism 1134 supports the swivel member (shaft housing member) 1136, and the moving member 1112 directly supports the stylus 1106.

旋回運動機構1134の旋回部材1136は、図14(A)に示す如く、第2ダイヤフラム構造体1140に支持される部材であり、支持部1136AAを除いて、軸方向Oで第2ダイヤフラム構造体1140に対して対称な略鼓形状とされている。旋回部材1136は、2つのリング部1136Aと、2つ接続部1136Bと、2つの円筒部1136Cと、2つの接合部1136Dと、が一体的に形成されている。リング部1136Aはリング形状であり、リング部1136Aにはそれぞれ、第1ダイヤフラム構造体1114、1115の外周部が固定されている。接続部1136Bはそれぞれ、リング部1136Aの径方向内側に延在しており、第1ダイヤフラム構造体1114、1115に対向している。円筒部1136Cは軸心がそれぞれ、中空とされており、接続部1136Bに一体的に設けられている。2つの接合部1136Dは互いに第2ダイヤフラム構造体1140を挟み込んで連結する形状とされている。即ち、軸方向Oにおいて、一対の第1ダイヤフラム構造体1114、1115は第2ダイヤフラム構造体1140に対して、対称な距離に配置されている構成である(完全な対称な距離を必要とするものではなく、設計上・製造上の誤差などを許容するものとする)。つまり、一対の第1ダイヤフラム構造体1114、1115によって生じうる移動部材1112の旋回中心を旋回運動機構1134の旋回中心RCに一致させることができる。支持部1136AAは、リング部1136Aの一部から軸方向O外側に延在しており、変位検出器1126を支持している。 As shown in FIG. 14A, the swivel member 1136 of the swivel motion mechanism 1134 is a member supported by the second diaphragm structure 1140, and the second diaphragm structure 1140 is axially O except for the support portion 1136AA. The shape is symmetrical with respect to the drum. In the swivel member 1136, two ring portions 1136A, two connection portions 1136B, two cylindrical portions 1136C, and two joint portions 1136D are integrally formed. The ring portion 1136A has a ring shape, and the outer peripheral portions of the first diaphragm structures 1114 and 1115 are fixed to the ring portions 1136A, respectively. Each of the connecting portions 1136B extends radially inward of the ring portion 1136A and faces the first diaphragm structures 1114 and 1115. The cylindrical portion 1136C has a hollow axial center, and is integrally provided with the connecting portion 1136B. The two joints 1136D have a shape in which the second diaphragm structure 1140 is sandwiched and connected to each other. That is, in the axial direction O, the pair of first diaphragm structures 1114 and 1115 are arranged at a symmetrical distance with respect to the second diaphragm structure 1140 (those that require a completely symmetrical distance). However, design and manufacturing errors shall be tolerated). That is, the turning center of the moving member 1112 that can be generated by the pair of first diaphragm structures 1114 and 1115 can be aligned with the turning center RC of the turning motion mechanism 1134. The support portion 1136AA extends outward from a part of the ring portion 1136A in the axial direction O, and supports the displacement detector 1126.

なお、図14(A)に示す如く、符号Lhは、旋回部材1136によって第1ダイヤフラム構造体1114、1115間の距離を示している。また、符号Lwは、第1ダイヤフラム構造体1114、1115を固定するリング部1136Aの内周面直径を示している。本実施形態では、距離Lhは、2倍の直径Lwよりも大きくされている(Lh>2*Lw)。このため、第1ダイヤフラム構造体1114、1115による移動部材1112の変位量においては、旋回部材1136の中心軸上の移動成分を旋回部材1136の中心軸に対する旋回成分よりも比率を大きくすることが可能となっている。即ち、本実施形態では、移動部材1112の1方向への変位精度を高くすること(高い直進精度の確保)ができる(これに限らず、距離Lhは、2倍の直径Lw以下であってもよい)。なお、このような関係は、すべての実施形態で適用可能となっている。 As shown in FIG. 14A, the reference numeral Lh indicates the distance between the first diaphragm structures 1114 and 1115 by the swivel member 1136. Further, reference numeral Lw indicates the diameter of the inner peripheral surface of the ring portion 1136A for fixing the first diaphragm structure 1114 and 1115. In this embodiment, the distance Lh is made larger than the double diameter Lw (Lh> 2 * Lw). Therefore, in the displacement amount of the moving member 1112 by the first diaphragm structure 1114 and 1115, the ratio of the moving component on the central axis of the swivel member 1136 can be made larger than that of the swirling component with respect to the central axis of the swivel member 1136. It has become. That is, in the present embodiment, it is possible to increase the displacement accuracy of the moving member 1112 in one direction (ensure high straight-line accuracy) (not limited to this, even if the distance Lh is twice the diameter Lw or less. Good). It should be noted that such a relationship is applicable in all embodiments.

なお、図14(A)に示す如く、リング部1136Aの外側側面と本体ハウジング(旋回ハウジング部材)1108の内側側面との距離は、旋回部材1136の傾斜(変位)を規制して、第2ダイヤフラム構造体1140が弾性変形の範囲内となるように定められている。即ち、プローブ本体1102は、第2ダイヤフラム構造体1140の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第2制限部材となる本体ハウジング1108及び旋回部材1136を備えているといえる。 As shown in FIG. 14A, the distance between the outer side surface of the ring portion 1136A and the inner side surface of the main body housing (swivel housing member) 1108 regulates the inclination (displacement) of the swivel member 1136 and determines the second diaphragm. The structure 1140 is defined to be within the range of elastic deformation. That is, it can be said that the probe main body 1102 includes a main body housing 1108 and a swivel member 1136 which are second limiting members that limit the amount of deformation of the second diaphragm structure 1140 within the range of elastic deformation.

軸運動機構1110は、図14(A)に示す如く、旋回部材1136の径方向内側に支持されている。つまり、旋回部材1136と軸運動機構1110とで直動モジュール1104が構成されている。 As shown in FIG. 14A, the axial movement mechanism 1110 is supported on the inside of the swivel member 1136 in the radial direction. That is, the linear motion module 1104 is composed of the swivel member 1136 and the axial motion mechanism 1110.

軸運動機構1110の移動部材1112は、図14(A)に示す如く、Z方向の下方から上方に向かって、連結部1112A、ロッド部1112B、部材配置部1112C、及びバランス部材1138が一体とされ構成されている。バランス部材1138は、特定のスタイラス1106の質量に対応した質量を備えている。つまり、バランス部材1138によって、特定のスタイラス1106が移動部材1112を介して旋回部材1136に支持された際に、旋回運動機構1134の旋回中心RCに第2ダイヤフラム構造体1140で支持される部材の重心が一致する構成とされている。なお、本実施形態では、特定のスタイラス1106は本実施形態の測定プローブ1100が最も装着すると想定したスタイラスとされている。 As shown in FIG. 14A, the moving member 1112 of the axial movement mechanism 1110 is integrated with the connecting portion 1112A, the rod portion 1112B, the member arranging portion 1112C, and the balance member 1138 from the lower side to the upper side in the Z direction. It is configured. The balance member 1138 has a mass corresponding to the mass of the specific stylus 1106. That is, when the specific stylus 1106 is supported by the swivel member 1136 via the moving member 1112 by the balance member 1138, the center of gravity of the member supported by the swivel center RC of the swivel motion mechanism 1134 by the second diaphragm structure 1140. Is configured to match. In the present embodiment, the specific stylus 1106 is a stylus that is assumed to be most mounted on the measurement probe 1100 of the present embodiment.

バランス部材1138の上端部には、図14(A)に示す如く、基準部材1116が設けられている(基準部材1116と姿勢検出器1122との組み合わせは第7実施形態と同様なので説明は省略する)。部材配置部1112Cは、バランス部材1138の下方に形成されており、その側面に基準部材1124が配置されている。ロッド部1112Bは、部材配置部1112Cの下方に形成されており、一対の第1ダイヤフラム構造体1114、1115の間にくる構成となっている。そして、ロッド部1112Bは、旋回部材1136に収納される形態となっている。連結部1112Aは、ロッド部1112Bの下方に形成されている。連結部1112Aの下端には、フランジ部材1142が取付けられている。 As shown in FIG. 14A, a reference member 1116 is provided at the upper end of the balance member 1138 (the combination of the reference member 1116 and the posture detector 1122 is the same as that of the seventh embodiment, and thus the description thereof will be omitted. ). The member arranging portion 1112C is formed below the balance member 1138, and the reference member 1124 is arranged on the side surface thereof. The rod portion 1112B is formed below the member arranging portion 1112C, and is configured to be between the pair of first diaphragm structures 1114 and 1115. The rod portion 1112B is housed in the swivel member 1136. The connecting portion 1112A is formed below the rod portion 1112B. A flange member 1142 is attached to the lower end of the connecting portion 1112A.

図14(A)に示す如く、本体ハウジング1108の開口部1108Aの開口径は、フランジ部材1142の外径よりも小さくされている。そして、フランジ部材1142の上端部1142Cと開口部1108Aの下端部1108ABとの距離は、フランジ部材1142のZ方向の上側への変位を規制して、一対の第1ダイヤフラム構造体1114、1115が弾性変形の範囲内となるようにされている。即ち、プローブ本体1102は、一対の第1ダイヤフラム構造体1114、1115の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第1制限部材となる本体ハウジング1108及びフランジ部材1142を備えているといえる。 As shown in FIG. 14A, the opening diameter of the opening 1108A of the main body housing 1108 is smaller than the outer diameter of the flange member 1142. The distance between the upper end 1142C of the flange member 1142 and the lower end 1108AB of the opening 1108A regulates the upward displacement of the flange member 1142 in the Z direction, and the pair of first diaphragm structures 1114 and 1115 are elastic. It is designed to be within the range of deformation. That is, it can be said that the probe main body 1102 includes a main body housing 1108 and a flange member 1142 which are first limiting members that limit the amount of deformation of the pair of first diaphragm structures 1114 and 1115 within the range of elastic deformation.

なお、支持部1136AAに配置された変位検出器1126は、図14(A)に示す如く、部材配置部1112Cに配置された基準部材1124に対向しており、基準部材1124からの反射光を検出する。基準部材1124の変位検出器1126側の表面には、光源(不図示)からの光の反射率が異なるインクリメンタルパターンが一定間隔で軸方向Oに設けられている。この基準部材1124、変位検出器1126、光源により、2相正弦波信号を出力する光電式インクリメンタル型リニアエンコーダ(光電式アブソリュート型リニアエンコーダでもよい)が構成されている。 As shown in FIG. 14A, the displacement detector 1126 arranged in the support portion 1136AA faces the reference member 1124 arranged in the member arrangement portion 1112C, and detects the reflected light from the reference member 1124. To do. Incremental patterns having different reflectances of light from a light source (not shown) are provided in the axial direction O at regular intervals on the surface of the reference member 1124 on the displacement detector 1126 side. The reference member 1124, the displacement detector 1126, and the light source constitute a photoelectric incremental linear encoder (a photoelectric absolute linear encoder may be used) that outputs a two-phase sine wave signal.

本実施形態では、軸方向Oにおいて、一対の第1ダイヤフラム構造体1114、1115の間に、第2ダイヤフラム構造体1140が配置されている。このため、軸方向Oにおいて、軸運動機構1110と旋回運動機構1134とが直列接続であるにも関わらず、軸運動機構1110と旋回運動機構1134の軸方向O長さを単純に加算した場合よりも、軸運動機構1110と旋回運動機構1134とにより構成される懸架機構の軸方向O長さを短くすることが可能である。なお、これに限らず、第1ダイヤフラム構造体は、1対を構成するのではなく、単に複数であってもよい。 In the present embodiment, the second diaphragm structure 1140 is arranged between the pair of first diaphragm structures 1114 and 1115 in the axial direction O. Therefore, in the axial direction O, even though the axial motion mechanism 1110 and the swivel motion mechanism 1134 are connected in series, the axial motion O lengths of the axial motion mechanism 1110 and the swivel motion mechanism 1134 are simply added. Also, it is possible to shorten the axial O length of the suspension mechanism composed of the axial movement mechanism 1110 and the turning movement mechanism 1134. Not limited to this, the first diaphragm structure does not form a pair, but may simply be a plurality.

そして、本実施形態では、特定のスタイラス1106が旋回部材1136に支持された際に、旋回運動機構1134の旋回中心RCに第2ダイヤフラム構造体1140で支持される部材の重心が一致する構成とされている。このため、例えば、測定プローブ1100を横向きにしても、スタイラス1106の中心軸が軸方向Oから傾くことを防止することができる。即ち、測定プローブ1100自体の傾斜などの姿勢変化が生じても、スタイラス1106(移動部材1112)の直進精度に影響を与えないので、測定精度に変化が生じることを防止することができる。 Then, in the present embodiment, when the specific stylus 1106 is supported by the swivel member 1136, the center of gravity of the member supported by the second diaphragm structure 1140 coincides with the swivel center RC of the swivel motion mechanism 1134. ing. Therefore, for example, even if the measurement probe 1100 is turned sideways, it is possible to prevent the central axis of the stylus 1106 from being tilted from the axial direction O. That is, even if a posture change such as an inclination of the measurement probe 1100 itself occurs, the straight-line accuracy of the stylus 1106 (moving member 1112) is not affected, so that it is possible to prevent the measurement accuracy from changing.

更に、本実施形態では、一対の第1ダイヤフラム構造体1114、1115が、第2ダイヤフラム構造体1140に対して、対称な距離に配置されている(つまり、一対の第1ダイヤフラム構造体1114、1115間の中間位置に旋回中心RCが一致する)。このため、懸架機構をバランス良く構成できるとともに、懸架機構の意図しない変形を防止でき、測定プローブ1100の高精度化を図ることができる。同時に、例えば、スタイラス1106の中心軸が軸方向Oに対して傾いた状態であっても、スタイラス1106(移動部材1112)の直進精度に影響を与えないので、測定精度に変化が生じることを防止することができる。なお、これに限らず、一対の第1ダイヤフラム構造体が、第2ダイヤフラム構造体に対して、対称な距離に配置されていなくてもよい。また、第1ダイヤフラム構造体が2つではなく、4、6、・・・といった偶数とされ、第1ダイヤフラム構造体それぞれが、第2ダイヤフラム構造体に対して互いに対称な位置に配置されていてもよい。
また、本実施形態では、旋回運動機構1134が(軸運動機構1110を支持する)旋回部材1136を支持することで、移動部材1112がスタイラス1106を直接的に支持する構成とされている。このため、軸運動機構が(旋回運動機構を支持する)移動部材を支持する場合に比べて、移動部材1112で支持する部材の質量を低減でき、一対の第1ダイヤフラム構造体1114、1115の復元力の最適化することが容易となる。結果的に、軸運動機構1110によるスタイラス1106の軸方向Oの変位を高感度に検出することができる。同時に、軸運動機構1110の応答性を向上させることができる。即ち、本実施形態では、軸方向O長さの短縮と軽量化を可能とし、且つ形状誤差を低減し測定精度向上を可能とする。
Further, in the present embodiment, the pair of first diaphragm structures 1114 and 1115 are arranged at a symmetrical distance with respect to the second diaphragm structure 1140 (that is, the pair of first diaphragm structures 1114 and 1115). The turning center RC coincides with the intermediate position between them). Therefore, the suspension mechanism can be configured in a well-balanced manner, unintended deformation of the suspension mechanism can be prevented, and the accuracy of the measurement probe 1100 can be improved. At the same time, for example, even if the central axis of the stylus 1106 is tilted with respect to the axial direction O, the straight-line accuracy of the stylus 1106 (moving member 1112) is not affected, so that the measurement accuracy is prevented from changing. can do. Not limited to this, the pair of first diaphragm structures may not be arranged at a symmetrical distance with respect to the second diaphragm structure. Further, the first diaphragm structure is not two but an even number such as 4, 6, ..., And each of the first diaphragm structures is arranged at a position symmetrical with respect to the second diaphragm structure. May be good.
Further, in the present embodiment, the swivel movement mechanism 1134 supports the swivel member 1136 (supporting the axial movement mechanism 1110), so that the moving member 1112 directly supports the stylus 1106. Therefore, the mass of the member supported by the moving member 1112 can be reduced as compared with the case where the axial movement mechanism supports the moving member (supporting the turning movement mechanism), and the pair of first diaphragm structures 1114 and 1115 can be restored. It becomes easy to optimize the force. As a result, the displacement of the stylus 1106 in the axial direction by the axial motion mechanism 1110 can be detected with high sensitivity. At the same time, the responsiveness of the axial movement mechanism 1110 can be improved. That is, in the present embodiment, it is possible to shorten the axial O length and reduce the weight, reduce the shape error, and improve the measurement accuracy.

なお、図14(B)は、本実施形態のバリエーションである第14実施形態を示す。ここでは、移動部材1162の変位を、第7実施形態の差動トランスを用いて検出している。具体的には、移動部材1162に設けられた基準部材1174は、渦電流の生じる円筒形状の金属部材である。そして、変位検出器1176は、円筒形状であり、基準部材1174に近接して対峙している。変位検出器1176は、高周波で発振する励磁コイルと、それを両側から挟むように配置される1組の差動結合された受信コイルと、から構成される。なお、支持部1186AAは、円筒形状となっており、変位検出器1176をその径方向内側で支持している。そのほかの要素は、第13実施形態と同様なので、説明は省略する。 Note that FIG. 14B shows a 14th embodiment which is a variation of the present embodiment. Here, the displacement of the moving member 1162 is detected using the differential transformer of the seventh embodiment. Specifically, the reference member 1174 provided in the moving member 1162 is a cylindrical metal member in which an eddy current is generated. The displacement detector 1176 has a cylindrical shape and faces the reference member 1174 in close proximity to the reference member 1174. The displacement detector 1176 is composed of an exciting coil that oscillates at a high frequency and a pair of differentially coupled receiving coils arranged so as to sandwich the exciting coil from both sides. The support portion 1186AA has a cylindrical shape and supports the displacement detector 1176 inside in the radial direction. Since the other elements are the same as those in the thirteenth embodiment, the description thereof will be omitted.

なお、第13、第14実施形態では、旋回運動機構が(軸運動機構を支持する)旋回部材を支持することで、移動部材がスタイラスを直接的に支持する構成とされていたが、本発明はこれに限定されない。例えば、図15に示す第15実施形態の如くであってもよい。第15実施形態では、第13実施形態とは主に旋回運動機構と軸運動機構の支持関係が異なり、且つ第3実施形態と同様の構成なので、第3、第13実施形態とは異なる構成以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 In the thirteenth and fourteenth embodiments, the swivel motion mechanism supports the swivel member (which supports the axial motion mechanism) so that the moving member directly supports the stylus. Is not limited to this. For example, it may be as in the fifteenth embodiment shown in FIG. In the fifteenth embodiment, the support relationship between the turning motion mechanism and the axial motion mechanism is mainly different from that of the thirteenth embodiment, and the configuration is the same as that of the third embodiment. Is basically changed only by changing the upper two digits of the code, and the description thereof will be omitted.

第15実施形態では、図15に示す如く、軸運動機構1210が(旋回運動機構1234を支持する)移動部材(旋回ハウジング部材)1212を支持することで、旋回部材RPがスタイラス1206を直接的に支持する構成とされている。即ち、本体ハウジング(軸ハウジング部材)1208が軸運動機構1210を支持している。このため、変位検出器1228は、本体ハウジング1208の内側側面で支持されている。そして、移動部材1212は、軸方向Oで第2ダイヤフラム構造体1240に対して対称な円筒形状とされている。 In the fifteenth embodiment, as shown in FIG. 15, the axial motion mechanism 1210 supports the moving member (swivel housing member) 1212 (which supports the swivel motion mechanism 1234), so that the swivel member RP directly supports the stylus 1206. It is said to be a supportive configuration. That is, the main body housing (shaft housing member) 1208 supports the shaft movement mechanism 1210. Therefore, the displacement detector 1228 is supported on the inner side surface of the main body housing 1208. The moving member 1212 has a cylindrical shape that is symmetrical with respect to the second diaphragm structure 1240 in the axial direction O.

具体的には、図15に示す如く、移動部材1212は、2つの円筒部1212Cと2つの接合部1212Dとが一体的に形成されている。2つの円筒部1212Cの外側端部近傍にはそれぞれ、第1ダイヤフラム構造体1214、1215の中心部が固定されている。2つの接合部1212Dの内径はそれぞれ、円筒部1212Cの中空部1212Bの内径よりも大きくされている。そして、2つの接合部1212Dは、第2ダイヤフラム構造体1240を挟み込んで連結する形態とされている。即ち、本実施形態も、軸方向Oにおいて、一対の第1ダイヤフラム構造体1214、1215は第2ダイヤフラム構造体1240に対して、対称な距離に配置されている構成である。なお、移動部材1212の上端部1212Aには、変位検出器1228に対峙して基準部材1226が設けられている。 Specifically, as shown in FIG. 15, in the moving member 1212, two cylindrical portions 1212C and two joint portions 1212D are integrally formed. The central portions of the first diaphragm structures 1214 and 1215 are fixed in the vicinity of the outer end portions of the two cylindrical portions 1212C, respectively. The inner diameters of the two joints 1212D are each larger than the inner diameter of the hollow portion 1212B of the cylindrical portion 1212C. The two joints 1212D are connected by sandwiching the second diaphragm structure 1240. That is, this embodiment also has a configuration in which the pair of first diaphragm structures 1214 and 1215 are arranged at a symmetrical distance with respect to the second diaphragm structure 1240 in the axial direction O. A reference member 1226 is provided on the upper end portion 1212A of the moving member 1212 so as to face the displacement detector 1228.

旋回運動機構1234は、図15に示す如く、移動部材1212の径方向内側に支持されている。つまり、移動部材1212と旋回運動機構1234とで旋回モジュール1204が構成されている。なお、旋回部材RPは、上部部材1236、バランス部材1238、及びフランジ部材1242で構成されている。そして、バランス部材1238の上端部は、移動部材1212の上端部1212Aから突出し、そこに基準部材1216が設けられている。つまり、本実施形態では、旋回部材RPの反スタイラス側端部には、基準部材1216が設けられている構成である。 As shown in FIG. 15, the swivel motion mechanism 1234 is supported in the radial direction of the moving member 1212. That is, the swivel module 1204 is composed of the moving member 1212 and the swivel motion mechanism 1234. The swivel member RP is composed of an upper member 1236, a balance member 1238, and a flange member 1242. The upper end of the balance member 1238 protrudes from the upper end 1212A of the moving member 1212, and the reference member 1216 is provided there. That is, in the present embodiment, the reference member 1216 is provided at the anti-stylus side end portion of the swivel member RP.

本実施形態では、旋回運動機構が軸運動機構を支持する場合に比べて、旋回部材RPで支持する部材の質量を低減でき、旋回運動機構1234によるスタイラス1206のXY方向への変位を高感度に検出することができる。 In the present embodiment, the mass of the member supported by the swivel member RP can be reduced as compared with the case where the swivel motion mechanism supports the axial motion mechanism, and the displacement of the stylus 1206 by the swivel motion mechanism 1234 in the XY direction is made highly sensitive. Can be detected.

また、本実施形態では、図15に示す如く、本体ハウジング1208の開口部1208Aの開口径が、フランジ部材1242の外径よりも小さくされている。そして、フランジ部材1242の上端部1242Cと開口部1208Aの下端部1208ABとの距離は、フランジ部材1242のZ方向の上側への変位を規制して、一対の第1ダイヤフラム構造体1214、1215が弾性変形の範囲内となるようにされている。即ち、プローブ本体1202は、一対の第1ダイヤフラム構造体1214、1215の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第1制限部材となる本体ハウジング1208及びフランジ部材1242を備えているといえる。 Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 15, the opening diameter of the opening 1208A of the main body housing 1208 is made smaller than the outer diameter of the flange member 1242. The distance between the upper end portion 1242C of the flange member 1242 and the lower end portion 1208AB of the opening 1208A regulates the upward displacement of the flange member 1242 in the Z direction, and the pair of first diaphragm structures 1214 and 1215 are elastic. It is designed to be within the range of deformation. That is, it can be said that the probe main body 1202 includes a main body housing 1208 and a flange member 1242 which are first limiting members that limit the amount of deformation of the pair of first diaphragm structures 1214 and 1215 within the range of elastic deformation.

なお、第15実施形態では、変位検出器1228が光電式インクリメンタル型リニアエンコーダを構成していたが、本発明はこれに限定されない。例えば、図16(A)、(B)に示す第16実施形態の如くであってもよい。第16実施形態では、第15実施形態の変位検出器周辺の構成とは異なり、第4実施形態で示した干渉光学系IFを用いている。このため、第4、第15実施形態とは異なる構成以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 In the fifteenth embodiment, the displacement detector 1228 constitutes a photoelectric incremental linear encoder, but the present invention is not limited to this. For example, it may be as in the 16th embodiment shown in FIGS. 16A and 16B. In the 16th embodiment, unlike the configuration around the displacement detector in the 15th embodiment, the interference optical system IF shown in the 4th embodiment is used. Therefore, except for the configuration different from the fourth and fifteenth embodiments, the description will be omitted assuming that the upper two digits of the code are basically changed.

第16実施形態では、図16(A)、(B)に示す如く、本体ハウジング1258の内側上面の中心軸O上に姿勢検出器1272が配置されている。このため、図16(B)に示す中心軸OからX方向にずれた位置に、干渉光学系IFを構成する基準部材1274、参照ミラー1275、ビームスプリッタ1277、及び光源1278と、変位検出器1276の光路を設けている。この構成により、第4実施形態と同様に、XYZ方向への測定精度の向上が可能である。なお、本実施形態では、フランジ部材1292に、スタイラス1256との位置決め用にローラではなくV溝を設けている。 In the 16th embodiment, as shown in FIGS. 16A and 16B, the posture detector 1272 is arranged on the central axis O on the inner upper surface of the main body housing 1258. Therefore, the reference member 1274, the reference mirror 1275, the beam splitter 1277, the light source 1278, and the displacement detector 1276 constituting the interference optical system IF are located at positions deviated from the central axis O shown in FIG. 16 (B) in the X direction. The optical path of is provided. With this configuration, it is possible to improve the measurement accuracy in the XYZ directions as in the fourth embodiment. In this embodiment, the flange member 1292 is provided with a V-groove instead of a roller for positioning with the stylus 1256.

なお、第13実施形態とは異なり、例えば、図17(A)に示す第17実施形態の如くであってもよい。第17実施形態では、第13実施形態に対して主に、第12実施形態で示したカウンタバランス機構が追加されたスタイラスを用いただけなので、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 Note that, unlike the thirteenth embodiment, for example, the seventeenth embodiment shown in FIG. 17 (A) may be used. In the 17th embodiment, since the stylus to which the counter balance mechanism shown in the 12th embodiment is added is mainly used for the 13th embodiment, the explanation is basically based on the fact that only the upper two digits of the code are changed. Omit.

第17実施形態においても、プローブ本体1302の1つに対してスタイラス1306を交換した際には、そのスタイラス1306の質量に対応したバランスウェイト1331Cが必然的に用いられることとなる。このため、スタイラス1306の質量の増減分を旋回部材(軸ハウジング部材)1336で直接受け止めることができる。即ち、スタイラス1306違いによって、移動部材1312のZ方向の初期位置の変動を防止することが可能である。つまり、本実施形態では、第13実施形態に比べて移動部材1312の可動範囲を狭くでき、直動モジュール1304の一層の小型化が可能となる。同時に、検出範囲を狭くできることから、移動部材1312の変位量をより高い分解能で検出することが可能である。 Also in the 17th embodiment, when the stylus 1306 is replaced with one of the probe main bodies 1302, the balance weight 1331C corresponding to the mass of the stylus 1306 is inevitably used. Therefore, the increase / decrease in the mass of the stylus 1306 can be directly received by the swivel member (shaft housing member) 1336. That is, it is possible to prevent the movement member 1312 from fluctuating in the initial position in the Z direction due to the difference in the stylus 1306. That is, in the present embodiment, the movable range of the moving member 1312 can be narrowed as compared with the thirteenth embodiment, and the linear motion module 1304 can be further miniaturized. At the same time, since the detection range can be narrowed, it is possible to detect the displacement amount of the moving member 1312 with higher resolution.

なお、図17(B)は、本実施形態のバリエーションである第18実施形態を示す。ここでは、第12実施形態と同じく、支持部1387でバランス部材1388が位置調整可能に支持されている。第18実施形態では、第17実施形態に対して主に、第12実施形態で示したバランス部材が追加されただけなので、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。なお、変位検出器は、第13、第14実施形態のように支持される。 Note that FIG. 17B shows an 18th embodiment which is a variation of the present embodiment. Here, as in the twelfth embodiment, the balance member 1388 is supported by the support portion 1387 so that the position can be adjusted. In the 18th embodiment, since the balance member shown in the 12th embodiment is mainly added to the 17th embodiment, the description will be omitted assuming that the upper two digits of the code are basically changed. The displacement detector is supported as in the 13th and 14th embodiments.

なお、カウンタバランス機構は、第15実施形態で示した測定プローブ1200に適用することも可能である。例えば、図18に示す第19実施形態の如くであってもよい。第19実施形態では、第15実施形態に第17実施形態とは異なるカウンタバランス機構が追加されただけなので、第15実施形態とは異なる構成以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 The counter balance mechanism can also be applied to the measurement probe 1200 shown in the fifteenth embodiment. For example, it may be as in the 19th embodiment shown in FIG. In the 19th embodiment, since the counter balance mechanism different from that of the 17th embodiment is only added to the 15th embodiment, basically only the upper two digits of the code are changed except for the configuration different from the 15th embodiment. The description is omitted.

第19実施形態では、図18に示す如く、プローブ本体1402がスタイラス1406の質量に応じたバランスウェイト1431CDと、カウンタバランス機構1431と、備える。3つのカウンタバランス機構1431は、第12実施形態とは異なり、スタイラス1406とは分離され、本体ハウジング(軸ハウジング部材)1408に支持されると共に、スタイラス1406とバランスウェイト1431CDとの間のZ方向におけるバランスをとる構成とされている。具体的に、カウンタバランス機構1431は、支持部材1431Aと、支持軸1431Bと、連結部1431CAと、永久磁石1431CBと、連結軸1431Dを備える。支持部材1431Aは、本体ハウジング1408の下端部の周方向で120度毎に配置されている。支持軸1431Bは、支持部材1431Aに固定され、連結部1431CAを支持している。支持軸1431Bに対して連結部1431CAの中心軸O側端部には、Z方向と直交する方向に連結軸1431Dが設けられている。一方、移動部材1412の下端部には、接続部1412Eが設けてあり、接続部1412Eに連結軸1431Dの先端が連結されている。支持軸1431Bに対して連結部1431CAの反連結軸側端部には、永久磁石1431CBが配置されている。 In the nineteenth embodiment, as shown in FIG. 18, the probe main body 1402 includes a balance weight 1431CD corresponding to the mass of the stylus 1406 and a counter balance mechanism 1431. Unlike the twelfth embodiment, the three counter balance mechanisms 1431 are separated from the stylus 1406, supported by the main body housing (shaft housing member) 1408, and in the Z direction between the stylus 1406 and the balance weight 1431CD. It is designed to be balanced. Specifically, the counter balance mechanism 1431 includes a support member 1431A, a support shaft 1431B, a connecting portion 1431CA, a permanent magnet 1431CB, and a connecting shaft 1431D. The support member 1431A is arranged every 120 degrees in the circumferential direction of the lower end portion of the main body housing 1408. The support shaft 1431B is fixed to the support member 1431A and supports the connecting portion 1431CA. A connecting shaft 1431D is provided at the O-side end of the central shaft O of the connecting portion 1431CA with respect to the support shaft 1431B in a direction orthogonal to the Z direction. On the other hand, a connecting portion 1412E is provided at the lower end of the moving member 1412, and the tip of the connecting shaft 1431D is connected to the connecting portion 1412E. A permanent magnet 1431CB is arranged at the end on the opposite side of the connecting portion 1431CA with respect to the supporting shaft 1431B.

バランスウェイト1431CDは、図18に示す如く、円環形状であり(カウンタバランス機構1431の数に対応して分割されていてもよい)、その上面には永久磁石1431CBに吸着可能な磁性部材(磁石でもよい)1431CCが設けられている。なお、バランスウェイト1431CDの内径は、フランジ部材1442及びフランジ部1444の外径よりも大きくされている。そのため、スタイラス1406の連結後にもバランスウェイト1431CDを着脱できる。 As shown in FIG. 18, the balance weight 1431CD has a ring shape (may be divided according to the number of counter balance mechanisms 1431), and a magnetic member (magnet) capable of being attracted to the permanent magnet 1431CB is on the upper surface thereof. (May be) 1431CC is provided. The inner diameter of the balance weight 1431CD is larger than the outer diameter of the flange member 1442 and the flange portion 1444. Therefore, the balance weight 1431CD can be attached and detached even after the stylus 1406 is connected.

これにより、プローブ本体1402の1つに対してスタイラス1406を交換した際に、そのスタイラス1406の質量に対応したバランスウェイト1431CDをカウンタバランス機構1431に自在に装着させることで、スタイラス1406の質量の増減分を本体ハウジング1408で直接受け止めることができる。即ち、スタイラス1406の違いによって、移動部材1412のZ方向の初期位置の変動を防止することが可能である。つまり、本実施形態では、第15実施形態に比べて移動部材1412の可動範囲を狭くでき、プローブ本体1402の一層の小型化が可能となる。同時に、検出範囲を狭くできることから、移動部材1412の変位量をより高い分解能で検出することが可能である。 As a result, when the stylus 1406 is replaced with one of the probe main bodies 1402, the balance weight 1431CD corresponding to the mass of the stylus 1406 can be freely attached to the counter balance mechanism 1431 to increase or decrease the mass of the stylus 1406. Minutes can be received directly by the main body housing 1408. That is, it is possible to prevent fluctuations in the initial position of the moving member 1412 in the Z direction due to the difference in the stylus 1406. That is, in the present embodiment, the movable range of the moving member 1412 can be narrowed as compared with the fifteenth embodiment, and the probe main body 1402 can be further miniaturized. At the same time, since the detection range can be narrowed, it is possible to detect the displacement amount of the moving member 1412 with higher resolution.

なお、第15実施形態では、開口部1208Aの下端部1208ABとフランジ部材1242の上端部1242Cとの距離が、移動部材1212の変位を規制して、一対の第1ダイヤフラム構造体1214、1215が弾性変形の範囲内となるように定められていた。即ち、プローブ本体1202は、一対の第1ダイヤフラム構造体1214、1215の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第1制限部材となる本体ハウジング1208及びフランジ部材1242を備えているといえる。これに対して、例えば、図19(A)に示す第20実施形態の如くであってもよい。第20実施形態では、第15実施形態とは主に本体ハウジングと移動部材との関係、及び旋回部材と移動部材との関係が異なるだけなので、主に本体ハウジングと移動部材との関係、及び旋回部材と移動部材との関係以外は、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 In the fifteenth embodiment, the distance between the lower end portion 1208AB of the opening 1208A and the upper end portion 1242C of the flange member 1242 regulates the displacement of the moving member 1212, and the pair of first diaphragm structures 1214 and 1215 are elastic. It was set to be within the range of deformation. That is, it can be said that the probe main body 1202 includes a main body housing 1208 and a flange member 1242 which are first limiting members that limit the amount of deformation of the pair of first diaphragm structures 1214 and 1215 within the range of elastic deformation. On the other hand, for example, it may be as in the twentieth embodiment shown in FIG. 19 (A). In the twentieth embodiment, the relationship between the main body housing and the moving member and the relationship between the swivel member and the moving member are different from those of the fifteenth embodiment, so that the relationship between the main body housing and the moving member and the swivel are mainly different. Except for the relationship between the member and the moving member, the description is omitted because basically only the upper two digits of the code are changed.

第20実施形態では、図19(A)に示す如く、旋回部材RPの連結部1486Aの上端部に対峙するように、移動部材(旋回ハウジング部材)1462の下端部にリング部1462Cが設けられている。即ち、リング部1462Cは、移動部材1462と一体とされて配置される第2壁部材といえる。そして、リング部1462C(の下端部)と連結部1486A(の上端部)との間の少なくとも一部の隙間にグリースオイルなどの第2粘性材料SVが充填されている。これにより、少なくとも第2粘性材料SVがリング部1462Cに対する旋回部材RPの変位をダンピングし、測定プローブ1450の移動に伴って生じるXY方向への振動などを低減でき、測定プローブ1450の高感度化に伴うノイズの増大を防止することが可能となる。 In the twentieth embodiment, as shown in FIG. 19A, a ring portion 1462C is provided at the lower end portion of the moving member (swivel housing member) 1462 so as to face the upper end portion of the connecting portion 1486A of the swivel member RP. There is. That is, it can be said that the ring portion 1462C is a second wall member that is arranged integrally with the moving member 1462. Then, at least a part of the gap between the ring portion 1462C (lower end portion) and the connecting portion 1486A (upper end portion) is filled with a second viscous material SV such as grease oil. As a result, at least the second viscous material SV can dampen the displacement of the swivel member RP with respect to the ring portion 1462C, and the vibration in the XY direction caused by the movement of the measurement probe 1450 can be reduced, resulting in higher sensitivity of the measurement probe 1450. It is possible to prevent the accompanying increase in noise.

また、同時に、図19(A)に示す如く、移動部材1462の外側側面に対峙するように、本体ハウジング(軸ハウジング部材)1458に内壁部1458Bが設けられている。即ち、内壁部1458Bは、本体ハウジング1458と一体とされて配置され移動部材1462に対峙して配置される第1壁部材といえる。そして、内壁部1458B(の内側側面)と移動部材1462(の外側側面)との間の少なくとも一部の隙間にグリースオイルなどの第1粘性材料FVが充填されている。これにより、少なくとも第1粘性材料FVが内壁部1458Bに対する移動部材1462の変位をダンピングし、測定プローブ1450の移動に伴って生じるZ方向への振動などを低減でき、測定プローブ1450の高感度化に伴うノイズの増大を防止することが可能となる。 At the same time, as shown in FIG. 19A, an inner wall portion 1458B is provided on the main body housing (shaft housing member) 1458 so as to face the outer side surface of the moving member 1462. That is, it can be said that the inner wall portion 1458B is a first wall member that is arranged integrally with the main body housing 1458 and is arranged so as to face the moving member 1462. Then, at least a part of the gap between the inner wall portion 1458B (inner side surface) and the moving member 1462 (outer side surface) is filled with the first viscous material FV such as grease oil. As a result, at least the first viscous material FV can dampen the displacement of the moving member 1462 with respect to the inner wall portion 1458B, and the vibration in the Z direction caused by the movement of the measuring probe 1450 can be reduced, resulting in higher sensitivity of the measuring probe 1450. It is possible to prevent the accompanying increase in noise.

加えて、本実施形態でも、Z方向とXY方向のダンピング構造を別々に有するので、第1粘性材料FV、第2粘性材料SVとを個別に変更できる。このため、Z方向とXY方向とでダンピング特性を個別に最適化できるので、測定プローブ1450の更なる高感度化が可能である。 In addition, also in this embodiment, since the damping structures in the Z direction and the damping structure in the XY directions are separately provided, the first viscous material FV and the second viscous material SV can be individually changed. Therefore, since the damping characteristics can be individually optimized in the Z direction and the XY directions, the sensitivity of the measurement probe 1450 can be further increased.

なお、図19(A)に示す如く、本体ハウジング1458にはフランジ部材1492を収納し、フランジ部材1492の過度の変位を規制する凹部1458Cが設けられている。また、Z方向で、移動部材1462の接合部1462Dの近傍に内壁部1458Bが設けられている。このため、内壁部1458Bの上端部1458BAと移動部材1462の接合部1462Dの下端部1462DAとの距離、及び凹部1458Cの上端部1458CAとフランジ部材1492の上端部1492Bとの距離は、移動部材1462の変位を規制して、一対の第1ダイヤフラム構造体1464、1465が弾性変形の範囲内となるように定められている。即ち、プローブ本体1452は、一対の第1ダイヤフラム構造体1464、1465の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第1制限部材となる本体ハウジング1458、移動部材1462、及びフランジ部材1492を備えているといえる。 As shown in FIG. 19A, the main body housing 1458 is provided with a recess 1458C for accommodating the flange member 1492 and restricting excessive displacement of the flange member 1492. Further, in the Z direction, an inner wall portion 1458B is provided in the vicinity of the joint portion 1462D of the moving member 1462. Therefore, the distance between the upper end 1458BA of the inner wall portion 1458B and the lower end 1462DA of the joint portion 1462D of the moving member 1462 and the distance between the upper end 1458CA of the recess 1458C and the upper end 1492B of the flange member 1492 is the distance of the moving member 1462. Displacement is regulated so that the pair of first diaphragm structures 1464, 1465 is within the range of elastic deformation. That is, the probe main body 1452 includes a main body housing 1458, a moving member 1462, and a flange member 1492, which are first limiting members that limit the amount of deformation of the pair of first diaphragm structures 1464 and 1465 within the range of elastic deformation. It can be said that there is.

また、図19(A)に示す如く、凹部1458Cの側面1458CBとフランジ部材1492の側面1492Aとの距離は、旋回部材RPの変位を規制して、第2ダイヤフラム構造体1490が弾性変形の範囲内となるように定められている。即ち、プローブ本体1452は、第2ダイヤフラム構造体1490の変形量を弾性変形の範囲内に制限する第2制限部材となる本体ハウジング1458及びフランジ部材1492を備えているといえる。 Further, as shown in FIG. 19A, the distance between the side surface 1458CB of the recess 1458C and the side surface 1492A of the flange member 1492 regulates the displacement of the swivel member RP, and the second diaphragm structure 1490 is within the range of elastic deformation. It is stipulated to be. That is, it can be said that the probe main body 1452 includes a main body housing 1458 and a flange member 1492 which are second limiting members that limit the amount of deformation of the second diaphragm structure 1490 within the range of elastic deformation.

なお、図19(B)は、本実施形態の第1粘性材料FV、第2粘性材料SVに係るバリエーションとなる第21実施形態を示す。ここでは、第13実施形態等と同じく旋回運動機構が軸ハウジング部材となる旋回部材を支持し、且つ移動部材がスタイラスを直接的に支持する構成とされている。第21実施形態では、第13実施形態等に対して主に、第1粘性材料FV、第2粘性材料SVを留めるための構成が異なるだけなので、第1粘性材料FV、第2粘性材料SVに関係する構成以外は基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。なお、変位検出器は、第13実施形態等のように支持されている。また、図19(B)に示す如く、スタイラス1506は、キネマティックジョイントを用いずに直接的に移動部材1512にフランジ部1544で固定されている。 Note that FIG. 19B shows a 21st embodiment which is a variation of the first viscous material FV and the second viscous material SV of the present embodiment. Here, as in the thirteenth embodiment and the like, the swivel motion mechanism supports the swivel member serving as the shaft housing member, and the moving member directly supports the stylus. In the 21st embodiment, since the configuration for retaining the first viscous material FV and the second viscous material SV is mainly different from that of the thirteenth embodiment and the like, the first viscous material FV and the second viscous material SV are used. Except for the related configurations, the description is omitted because basically only the upper two digits of the code are changed. The displacement detector is supported as in the thirteenth embodiment and the like. Further, as shown in FIG. 19B, the stylus 1506 is directly fixed to the moving member 1512 by a flange portion 1544 without using a kinematic joint.

第21実施形態では、図19(B)に示す如く、移動部材1512の外側側面に対峙して旋回部材(軸ハウジング部材)1536の円筒部1536Cの内側側面が配置されている。即ち、旋回部材1536は、移動部材1512に対峙して配置される第1壁部材といえる。そして、円筒部1536C(の内側側面)と移動部材1512(の外側側面)との間の隙間にグリースオイルなどの第1粘性材料FVが充填されている。これにより、少なくとも第1粘性材料FVが、旋回部材1536に対する移動部材1512の変位をダンピングし、測定プローブ1500の移動に伴って生じるZ方向への振動などを低減でき、測定プローブ1500の高感度化に伴うノイズの増大を防止することが可能となる。 In the 21st embodiment, as shown in FIG. 19B, the inner side surface of the cylindrical portion 1536C of the swivel member (shaft housing member) 1536 is arranged so as to face the outer side surface of the moving member 1512. That is, it can be said that the swivel member 1536 is a first wall member arranged so as to face the moving member 1512. Then, the gap between the cylindrical portion 1536C (inner side surface) and the moving member 1512 (outer side surface) is filled with a first viscous material FV such as grease oil. As a result, at least the first viscous material FV can dampen the displacement of the moving member 1512 with respect to the swirling member 1536, reduce the vibration in the Z direction caused by the movement of the measuring probe 1500, and increase the sensitivity of the measuring probe 1500. It is possible to prevent an increase in noise due to the above.

また、同時に、図19(B)に示す如く、第2ダイヤフラム構造体1540を両側から覆うように粘性材料溜め1531が設けられている。粘性材料溜め1531は、対向部1531Aと拡張部1531Bとが一体となった部材を向かい合わせにして、本体ハウジング(旋回ハウジング部材)1508に固定されている。対向部1531Aは、第2ダイヤフラム構造体1540に対向する部分である。拡張部1531Bは、移動部材1512の接合部1536Dを非接触で覆う部分であり、円筒部1536Cが貫通可能な開口部1531Cを備えている。即ち、粘性材料溜め1531は、本体ハウジング1508と一体とされて配置される第2壁部材といえる。そして、粘性材料溜め1531(の内側側面)と第2ダイヤフラム構造体1540との間の隙間にグリースオイルなどの第2粘性材料SVが充填されている。これにより、少なくとも第2粘性材料SVが粘性材料溜め1531に対する第2ダイヤフラム構造体1540の変位をダンピングし、測定プローブ1500の移動に伴って生じるXY方向への振動などを低減でき、測定プローブ1500の高感度化に伴うノイズの増大を防止することが可能となる。 At the same time, as shown in FIG. 19B, a viscous material reservoir 1531 is provided so as to cover the second diaphragm structure 1540 from both sides. The viscous material reservoir 1531 is fixed to the main body housing (swivel housing member) 1508 with the members in which the facing portion 1531A and the expansion portion 1531B are integrated facing each other. The facing portion 1531A is a portion facing the second diaphragm structure 1540. The expansion portion 1531B is a portion that covers the joint portion 1536D of the moving member 1512 in a non-contact manner, and includes an opening portion 1531C through which the cylindrical portion 1536C can penetrate. That is, it can be said that the viscous material reservoir 1531 is a second wall member that is integrally arranged with the main body housing 1508. Then, the gap between the viscous material reservoir 1531 (inner side surface) and the second diaphragm structure 1540 is filled with the second viscous material SV such as grease oil. As a result, at least the second viscous material SV can dampen the displacement of the second diaphragm structure 1540 with respect to the viscous material reservoir 1531, and the vibration in the XY direction caused by the movement of the measurement probe 1500 can be reduced. It is possible to prevent an increase in noise due to high sensitivity.

加えて、本実施形態でも、Z方向とXY方向のダンピング構造を別々に有するので、第1粘性材料FV、第2粘性材料SVとを個別に変更できる。このため、Z方向とXY方向とでダンピング特性を個別に最適化できるので、測定プローブ1500の更なる高感度化が可能である。 In addition, also in this embodiment, since the damping structures in the Z direction and the damping structure in the XY directions are separately provided, the first viscous material FV and the second viscous material SV can be individually changed. Therefore, since the damping characteristics can be individually optimized in the Z direction and the XY directions, the sensitivity of the measurement probe 1500 can be further increased.

なお、第13実施形態から第21実施形態では、姿勢検出器がプローブ本体に内蔵されていたが、本発明はこれに限定されない。例えば、図20に示す第22実施形態の如くであってもよい。第22実施形態は、丁度、第13、第14実施形態のプローブ本体が軸方向Oでビームスプリッタと基準部材との間で分離可能とされた形態となっている。つまり、第13、第14実施形態とは主に姿勢検出器の位置が異なり、その分離した構成における前段モジュールの構成は、第10実施形態と略同一である。このため、基本的に符号上位2桁を変更しただけとして説明は省略する。 In the thirteenth to twenty-first embodiments, the posture detector is built in the probe body, but the present invention is not limited to this. For example, it may be as in the 22nd embodiment shown in FIG. The 22nd embodiment is such that the probe main body of the 13th and 14th embodiments can be split between the beam splitter and the reference member in the axial direction O. That is, the position of the posture detector is mainly different from that of the thirteenth and fourteenth embodiments, and the configuration of the front-stage module in the separated configuration is substantially the same as that of the tenth embodiment. Therefore, the description will be omitted assuming that the upper two digits of the code are basically changed.

第22実施形態では、図20に示す如く、プローブ本体1552に軸運動機構1560と旋回運動機構1584と変位検出器1576が内蔵され、且つ前段モジュール1551に姿勢検出器1572等が内蔵された形態である。このため、プローブ本体1552の変更が容易であるとともに、前段モジュール1551の変更も容易である。つまり、軸運動機構1560と旋回運動機構1584と変位検出器1576のセットと姿勢検出器1572とを別個に性能変更することや交換することが可能となり、そのコストを低減することができる。また、姿勢検出器1572をプローブ本体1552から分離できるので、プローブ本体1552の小型化と低コスト化が可能となる。なお、本実施形態では、移動部材1562が直接的にスタイラス1556を支持していたが、第20実施形態の如く旋回部材RPがスタイラスを直接的に支持している際に前段モジュールが設けられていてもよい。 In the 22nd embodiment, as shown in FIG. 20, the probe main body 1552 has an axial motion mechanism 1560, a swivel motion mechanism 1584, and a displacement detector 1576 built-in, and the pre-stage module 1551 has a posture detector 1572 or the like built-in. is there. Therefore, it is easy to change the probe main body 1552, and it is also easy to change the front-stage module 1551. That is, the performance of the set of the axial motion mechanism 1560, the swivel motion mechanism 1584, the displacement detector 1576, and the posture detector 1572 can be changed or replaced separately, and the cost can be reduced. Further, since the attitude detector 1572 can be separated from the probe main body 1552, the probe main body 1552 can be miniaturized and the cost can be reduced. In the present embodiment, the moving member 1562 directly supports the stylus 1556, but the pre-stage module is provided when the swivel member RP directly supports the stylus as in the twentieth embodiment. You may.

なお、第13〜第22実施形態では、基本的にスタイラスを含めた第2ダイヤフラム構造体で支持される部材の重心位置が、旋回中心RCと一致する構成とされていたが、本発明はこれに限定されない。例えば、スタイラスを含めた第2ダイヤフラム構造体で支持される部材の重心位置を、敢えて旋回中心RCからスタイラス側におく構成としてもよい。その際には、旋回中心RCに対して反スタイラス側にくる第2ダイヤフラム構造体で支持される部材の質量・体積を最小限にすることができる。このため、測定プローブの固有振動数を高くでき、第13〜第22実施形態の測定プローブよりも高い周波数に感度を有する測定プローブ(高速応答動作可能など)を実現することが可能となる。 In the 13th to 22nd embodiments, the position of the center of gravity of the member supported by the second diaphragm structure including the stylus is basically the same as that of the turning center RC. Not limited to. For example, the position of the center of gravity of the member supported by the second diaphragm structure including the stylus may be intentionally placed on the stylus side from the turning center RC. In that case, the mass and volume of the member supported by the second diaphragm structure on the anti-stylus side with respect to the turning center RC can be minimized. Therefore, the natural frequency of the measurement probe can be increased, and a measurement probe having sensitivity to a higher frequency than the measurement probes of the 13th to 22nd embodiments (such as capable of high-speed response operation) can be realized.

なお、上記実施形態では、測定プローブは倣いプローブとして使用されていたが、本発明はこれに限定されず、例えば、タッチプローブとして使用されてもよい。 In the above embodiment, the measurement probe is used as a copy probe, but the present invention is not limited to this, and may be used as a touch probe, for example.

本発明は、被測定物の三次元形状を測定するため使用される測定プローブに広く適用することができる。 The present invention can be widely applied to a measuring probe used for measuring the three-dimensional shape of an object to be measured.

100…測定システム
110…操作部
111…ジョイスティック
120…入力手段
130…出力手段
200…三次元測定機
210…定盤
220…駆動機構
221…ビーム支持体
222…ビーム
223…コラム
224…スピンドル
230…駆動センサ
300、350、400、450、700、750〜1500、1550…測定プローブ
302、352、402、452、702、752〜1502、1552…プローブ本体
304、354、404、454、704、754、1204、1254、1404、1454…旋回モジュール
306、356、406、456、706、756〜1506、1556…スタイラス
308、358、408、458、708、758〜1508、1558…本体ハウジング
308A…段部
308AB、330AA、408AB、412CA、908AB、942CA、1063B、1080AB、1108AB、1208AB、1462DA…下端部
308B、708A、808A、858A、1008A、1058A、1308A、1358A…延在部
308BB、330B、1058AA…内側側面
310、360、410、460、710、760〜1510、1560…軸運動機構
312、362、412、462、712、762〜1512、1562…移動部材
312A、312D、319A、332B、342C、362A、408AA、412A、412EA、462A、812A、862A、892A、908AA、912A、942EA、1063A、1080AA、1142C、1212A、1242C、1262A、1412A、1458BA、1458CA、1462A、1492B…上端部
312B、362B、412B、842B、892B、942B、992B、1042B、1092B、1212B、1412B…中空部
312C、338A、362C、462C、712C、1080A、1458C…凹部
314、315、364、365、414、415、464、465、714、715〜1564、1565…第1ダイヤフラム構造体
314A、340A…外周部
314B、340G…リム部
314C、340B…中心部
314D、340E、340F…切り抜き部
316、326、366、376、416、426、466、474、716、726、816、824、866、874、916、926、966、976、1016、1066、1074、1116、1124、1166、1174、1216、1226、1266、1274、1316、1324、1416、1426、1466、1476…基準部材
318、368、418、468、478、718、818、868、918、968、1018、1068、1118、1168、1218、1268、1278、1318、1418、1468…光源
319、369、419、719、731A、781A、819、869、919、969、1019、1069、1081A、1331A、1381A、1431A…支持部材
320、370、420、470、477、720、820、870、920、970、1020、1070、1120、1170、1220、1270、1277、1320、1420、1470…ビームスプリッタ(BS)
322、372、422、472、722、822、872、922、972、1022、1072、1122、1172、1222、1272、1322、1422、1472、1572…姿勢検出器
324、374、424、724、1224、1424、1474…スケールブラケット
328、378、428、476、728、826、876、928、978、1076、1126、1176、1228、1276、1326、1428、1478、1576…変位検出器
329…信号処理回路
330、380、430、480、730、780、830、880、930、980、1030、1080…モジュールハウジング
330A、332A、362G、382A、408A、758A、908A、932A、951BA、957A、1108A、1208A、1388A、1531C、1551BA、1557A、1558A…開口部
330C…外側側面
332、344、362D、394、412E、444、462D、494、712D、744、762D、781E、794、812E、842E、844、862E、892E、894、912E、942E、944、1042E、1062E、1092E、1094、1144、1194、1244、1294、1344、1394、1444、1494、1544、1594…フランジ部
334、384、434、484、734、784〜1534、1584…旋回運動機構
336、386、436、486、736、786、1236、1286、1436、1486…上部部材
336A、1080B…凸部
338、388、438、488、738、788、1088、1138、1188、1238、1288、1338、1388、1438、1488、1538、1588…バランス部材
338B、1458CB、1492A…側面
340、390、440、490、740、790〜1540、1590…第2ダイヤフラム構造体
340C、340D…ヒンジ部
342、392、442、492、742、792、1142、1192、1242、1292、1342、1442、1492、1592…フランジ部材
342A、362E、758B、792A、942F、951BB、1142A、1342A、1442A…ローラ
342B、362F、708B、762E、792B、942G、951BC、1080CA、1142B、1342B、1336AC、1386AC、1442B、1431CB、1551BC、1592B…永久磁石
344A、382B、781F、794A、932B、957B、1094A、1144A、1344A、1444A、1557B、1594A…球
344B、382C、731AA、780A、781AA、794B、932C、957C、1081AA、1094B、1144B、1331AA、1344B、1381AA、1431CC、1444B、1557C、1594B…磁性部材
346、396、446、496、746、796、846、896、946、1096、1112B、1146、1162B、1196、1246、1296、1312B、1346、1396、1446、1496、1546、1596…ロッド部
348、398、448、498、748、798、848、898、948、998、1098、1148、1198、1248、1298、1348、1398、1448、1498、1548、1598…接触部
382、432、482、732、932、982…モジュールカバー
412C、842C、892C、942C…肉厚部
412D、842D、892D、942D…肉薄部
475、1275…参照ミラー
500…モーションコントローラ
530…プローブ信号処理部
532…A/D回路
534…FPGA
536…カウンタ回路
550…位置演算部
600…ホストコンピュータ
731、781、1081、1331、1381、1431…カウンタバランス機構
731B、781B、1081B、1331B、1381B、1431B…支持軸
731C、781C、1081C、1331C、1381C、1431CD…バランスウェイト
731D、781D、1081D、1331D、1381D、1431D…連結軸
804、854、904、954、1004、1054、1104、1154、1304、1354、1504、1554…直動モジュール
951、1551…前段モジュール
951A、1551A…前段ハウジング
951B、1551B…下カバー
957、1557…上カバー
1008B、1136A、1462C、1536A…リング部
1030A、1458B…内壁部
1063…抑制部材
1080C、1087、1136AA、1186AA、1336AA、1336AB、1386AB、1387…支持部
1112A、1162A、1236A、1286A、1312A、1362A、1431CA、1436A、1486A…連結部
1112C、1162C、1312C…部材配置部
1136B、1412E、1536B…接続部
1136C、1212C、1412C、1462B、1536C…円筒部
1136D、1212D、1412D、1462D、1536D…接合部
1531…粘性材料溜め
1531A…対向部
1531B…拡張部
1551BB、1592A…V溝
F…周波数
FV…第1粘性材料
I…光量
IF…干渉光学系
IL…干渉縞
k…角度当たりの復元力
O…軸方向
OA…光軸
PS…位相変化
RC…旋回中心
RP、842、892、942、992、1042、1092、1136、1186、1336、1386、1536、1586…旋回部材
S…表面
SV…第2粘性材料
W…被測定物
100 ... Measurement system 110 ... Operation unit 111 ... Joystick 120 ... Input means 130 ... Output means 200 ... Three-dimensional measuring machine 210 ... Plate 220 ... Drive mechanism 221 ... Beam support 222 ... Beam 223 ... Column 224 ... Spindle 230 ... Drive Sensors 300, 350, 400, 450, 700, 750 to 1500, 1550 ... Measuring probes 302, 352, 402, 452, 702, 725 to 1502, 1552 ... Probe body 304, 354, 404, 454, 704, 754, 1204 , 1254, 1404, 1454 ... Swivel module 306, 356, 406, 456, 706, 756 to 1506, 1556 ... Stylus 308, 358, 408, 458, 708, 758 to 1508, 1558 ... Main body housing 308A ... Step 308AB, 330AA, 408AB, 412CA, 908AB, 942CA, 1063B, 1080AB, 1108AB, 1208AB, 1462DA ... Lower end 308B, 708A, 808A, 858A, 10008A, 1058A, 1308A, 1358A ... Extension 308BB, 330B, 1058AA ... Inner side surface 310 360, 410, 460, 710, 760 to 1510, 1560 ... Axial motion mechanism 312, 362, 412, 462, 712, 762 to 1512, 1562 ... Moving members 312A, 312D, 319A, 332B, 342C, 362A, 408AA, 412A, 412EA, 462A, 812A, 862A, 892A, 908AA, 912A, 942EA, 1063A, 1080AA, 1142C, 1212A, 1242C, 1262A, 1412A, 1458BA, 1458CA, 1462A, 1492B ... Upper end 312B, 362B, 412B, 892B, 942B, 992B, 1042B, 1092B, 1212B, 1412B ... Hollow parts 312C, 338A, 362C, 462C, 712C, 1080A, 1458C ... Recesses 314, 315, 364, 365, 414, 415, 464, 465, 714, 715 ~ 1564, 1565 ... 1st diaphragm structure 314A, 340A ... outer peripheral part 314B, 340G ... rim part 314C, 340B ... central part 314D, 340E, 340F ... cutout part 316, 326, 366, 376, 416, 426, 466, 474, 716, 726, 816 , 824, 866, 874, 916, 926, 966, 976, 1016, 1066, 1074, 1116, 1124, 1166, 1174, 1216, 1226, 1266, 1274, 1316, 1324, 1416, 1426, 1466, 1476 ... Criteria Members 318, 368, 418, 468, 478, 718, 818, 868, 918, 968, 1018, 1068, 1118, 1168, 1218, 1268, 1278, 1318, 1418, 1468 ... Light sources 319, 369, 419, 719, 731A, 781A, 819, 869, 919, 969, 1019, 1069, 1081A, 1331A, 1381A, 1431A ... Support members 320, 370, 420, 470, 477, 720, 820, 870, 920, 970, 1020, 1070, 1120, 1170, 1220, 1270, 1277, 1320, 1420, 1470 ... Beam splitter (BS)
322, 372, 422, 472, 722, 822, 872, 922, 972, 1022, 1072, 1122, 1172, 1222, 1272, 1322, 1422, 1472, 1572 ... Attitude detectors 324, 374, 424, 724, 1224 , 1424, 1474 ... Scale bracket 328, 378, 428, 476, 728, 826, 876, 928, 978, 1076, 1126, 1176, 1228, 1276, 1326, 1428, 1478, 1576 ... Displacement detector 329 ... Signal processing Circuits 330, 380, 430, 480, 730, 780, 830, 880, 930, 980, 1030, 1080 ... Module housing 330A, 332A, 362G, 382A, 408A, 758A, 908A, 932A, 951BA, 957A, 1108A, 1208A , 1388A, 1531C, 1551BA, 1557A, 1558A ... Opening 330C ... Outer side surface 332, 344, 362D, 394, 421E, 444, 462D, 494, 712D, 744, 762D, 781E, 794, 812E, 842E, 844, 862E , 892E, 894, 912E, 942E, 944, 1042E, 1062E, 1092E, 1094, 1144, 1194, 1244, 1294, 1344, 1394, 1444, 1494, 1544, 1594 ... Flange portions 334, 384, 434, 484, 734. , 784 to 1534, 1584 ... Swirling motion mechanism 336, 386, 436, 486, 736, 786, 1236, 1286, 1436, 1486 ... Upper member 336A, 1080B ... Convex 338, 388, 438, 488, 738, 788, 1088, 1138, 1188, 1238, 1288, 1338, 1388, 1438, 1488, 1538, 1588 ... Balance member 338B, 1458CB, 1492A ... Side 340, 390, 440, 490, 740, 790 to 1540, 1590 ... Second diaphragm Structures 340C, 340D ... Hinge parts 342, 392, 442, 492, 742, 792, 1142, 1192, 1242, 1292, 1342, 1442, 1492, 1592 ... Flange members 342A, 362E, 758B, 792A, 942F, 591BB, 1142A, 1342A, 1442A ... Rollers 342B, 362F, 708B, 762E, 792B, 942G, 951BC, 1080CA, 1142B, 1342B, 1336AC, 1386AC, 1442B, 1431CB, 1551BC, 1592B ... Permanent magnets 344A, 382B, 781F, 794A, 932B, 957B, 1094A, 1144A, 1344A, 1444A, 1557B, 1594A , 382C, 731AA, 780A, 781AA, 794B, 932C, 957C, 1081AA, 1094B, 1144B, 1331AA, 1344B, 1381AA, 1431CC, 1444B, 1557C, 1594B ... Magnetic members 346, 396, 446, 494, 746, 996, , 896, 946, 1096, 1112B, 1146, 1162B, 1196, 1246, 1296, 1312B, 1346, 1396, 1446, 1496, 1546, 1596 ... Rod parts 348, 398, 448, 948, 748, 798, 848, 898 , 948, 998, 1098, 1148, 1198, 1248, 1298, 1348, 1398, 1448, 1498, 1548, 1598 ... Contact parts 382, 432, 482, 732, 932, 982 ... Module covers 412C, 842C, 892C, 942C ... Thick part 412D, 842D, 892D, 942D ... Thin part 475, 1275 ... Reference mirror 500 ... Motion controller 530 ... Probe signal processing unit 532 ... A / D circuit 534 ... FPGA
536 ... Counter circuit 550 ... Position calculation unit 600 ... Host computer 731, 781, 1081, 1331, 1381, 1431 ... Counter balance mechanism 731B, 781B, 1081B, 1331B, 1381B, 1431B ... Support shaft 731C, 781C, 1081C, 1331C, 1381C, 1431CD ... Balance weights 731D, 781D, 1081D, 1331D, 1381D, 1431D ... Connecting shafts 804, 854, 904, 954, 1004, 1054, 1104, 1154, 1304, 1354, 1504, 1554 ... Linear modules 951, 1551 ... Front module 951A, 1551A ... Front housing 951B, 1551B ... Lower cover 957, 1557 ... Upper cover 1008B, 1136A, 1462C, 1536A ... Ring part 1030A, 1458B ... Inner wall part 1063 ... Suppressing member 1080C, 1087, 1136AA, 1186AA, 1336AA , 1336AB, 1386AB, 1387 ... Support parts 1112A, 1162A, 1236A, 1286A, 1312A, 1362A, 1431CA, 1436A, 1486A ... Connecting parts 1112C, 1162C, 1312C ... Member arrangement parts 1136B, 1412E, 1536B ... Connecting parts 1136C, 1212C, 1412C, 1462B, 1536C ... Cylindrical part 1136D, 1212D, 1412D, 1462D, 1536D ... Joint part 1531 ... Viscous material reservoir 1531A ... Opposing part 1531B ... Expansion part 1551BB, 1592A ... V groove F ... Frequency FV ... First viscous material I ... Light quantity IF ... Interference optical system IL ... Interference fringe k ... Restoring force per angle O ... Axial direction OA ... Optical axis PS ... Phase change RC ... Turning center RP, 842, 892, 942, 992, 1042, 1092, 1136, 1186 , 1336, 1386, 1536, 1586 ... Swivel member S ... Surface SV ... Second viscous material W ... Object to be measured

Claims (4)

被測定物に接触する接触部を有する脱着可能なスタイラスと、該接触部を軸方向に移動可能とする移動部材を備える軸運動機構と、旋回運動によって該軸方向と直角をなす面に沿って前記接触部を移動可能とする旋回部材を備える旋回運動機構と、を備える測定プローブであって、
前記軸運動機構を支持する軸ハウジング部材と、
前記スタイラスの質量に応じたバランスウェイトと、
前記軸ハウジング部材に支持され、該スタイラスと該バランスウェイトとの間のバランスをとるカウンタバランス機構と、を備え、
前記軸運動機構は前記移動部材を変位可能とする複数の第1ダイヤフラム構造体を備え、
前記軸方向において、前記カウンタバランス機構は、該複数の第1ダイヤフラム構造体のうちの最も前記接触部に近い1つの該第1ダイヤフラム構造体と該接触部との間に配置され
前記旋回運動機構は前記旋回部材を変位可能とする第2ダイヤフラム構造体を備え、
前記軸方向において、前記複数の第1ダイヤフラム構造体の間に、前記第2ダイヤフラム構造体が配置されている
ことを特徴とする測定プローブ。
A detachable stylus having a contact portion in contact with an object to be measured, an axial movement mechanism including a moving member that enables the contact portion to move in the axial direction, and a plane formed at right angles to the axial direction by swirling motion. A measurement probe including a swivel motion mechanism including a swivel member that makes the contact portion movable.
A shaft housing member that supports the shaft movement mechanism and
The balance weight according to the mass of the stylus and
A counter-balancing mechanism that is supported by the shaft housing member and balances the stylus and the balance weight is provided.
The axial movement mechanism includes a plurality of first diaphragm structures that allow the moving member to be displaced.
In the axial direction, the counterbalance mechanism is arranged between the first diaphragm structure and the contact portion, which is the closest to the contact portion among the plurality of first diaphragm structures .
The swivel motion mechanism includes a second diaphragm structure that allows the swivel member to be displaced.
A measurement probe characterized in that the second diaphragm structure is arranged between the plurality of first diaphragm structures in the axial direction .
請求項1において、
前記旋回運動機構は前記軸ハウジング部材を支持し、
前記カウンタバランス機構は前記スタイラスに連結され該スタイラスとともに着脱可能とされていることを特徴とする測定プローブ。
In claim 1,
The swivel mechanism supports the shaft housing member and
A measurement probe characterized in that the counter balance mechanism is connected to the stylus and is detachable together with the stylus.
請求項1において、
前記旋回運動機構を支持し前記軸運動機構に支持される旋回ハウジング部材を備え、
前記カウンタバランス機構は該旋回ハウジング部材に連結されていることを特徴とする測定プローブ。
In claim 1,
A swivel housing member that supports the swivel motion mechanism and is supported by the axial motion mechanism is provided.
A measurement probe characterized in that the counter balance mechanism is connected to the swivel housing member.
請求項3において、
前記旋回ハウジング部材は前記カウンタバランス機構とともに脱着可能とされていることを特徴とする測定プローブ。
In claim 3,
A measurement probe in which the swivel housing member is detachable together with the counter balance mechanism.
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