JP6811337B2 - Transmission filter and immersion exposure equipment - Google Patents

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Description

本発明は、透過フィルター及び液浸露光装置に関する。 The present invention relates to a transmission filter and an immersion exposure apparatus.

従来、集積回路などの電子部品の製造プロセスにおいては、光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、レチクルのパターンをレジスト膜が形成された基板(ウエハ)上に投影する投影光学系とを備えた露光装置を用い、レジスト膜が形成された基板を露光してその後現像することで、基板にパターンを形成する微細加工が行われている。近年、集積回路の高集積化に伴い、サブミクロン領域又はミクロン領域の超微細パターン形成が要求されるようになってきている。それに伴い、露光波長もg線からi線へ、さらにはKrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザーへというように短波長化の傾向が見られる。
また、投影光学系の下面と基板表面との間を水等の液体(液浸液)で満たすことで解像度を向上する液浸露光装置が提案されている。
露光装置においては、レンズを含む光学系が基板又は液浸液と接触して故障又は汚染されるのを防ぐため、光学系を保護するための保護部材が用いられることがある(特許文献1参照)。
Conventionally, in the manufacturing process of electronic components such as integrated circuits, an illumination optical system that illuminates a reticle with light from a light source and a projection optical system that projects a reticle pattern onto a substrate (wafer) on which a resist film is formed. By exposing the substrate on which the resist film is formed and then developing it using an exposure apparatus equipped with the above, fine processing for forming a pattern on the substrate is performed. In recent years, with the increasing integration of integrated circuits, the formation of ultrafine patterns in the submicron region or the micron region has been required. Along with this, there is a tendency for the exposure wavelength to be shortened from g-line to i-line, and further to KrF excimer laser and ArF excimer laser.
Further, an immersion exposure apparatus has been proposed in which the resolution is improved by filling the space between the lower surface of the projection optical system and the surface of the substrate with a liquid (immersion liquid) such as water.
In the exposure apparatus, a protective member for protecting the optical system may be used in order to prevent the optical system including the lens from coming into contact with the substrate or the immersion liquid and being damaged or contaminated (see Patent Document 1). ).

また、特許文献2には、投影光学系の先端部の光学部材の底面に酸化ケイ素膜を、側面にフラクタル構造を有するアルキルケテンダイマーからなる超撥水膜を有する光学素子が記載されている。 Further, Patent Document 2 describes an optical element having a silicon oxide film on the bottom surface of an optical member at the tip of a projection optical system and a superhydrophobic film made of an alkyl ketene dimer having a fractal structure on the side surface.

なお、特許文献3には、ガラス基材の表面に結合固定された第1の微粒子と、第1の微粒子の表面に結合固定された、第1の微粒子よりも粒径の小さな第2の微粒子と、第1及び第2の微粒子の表面に形成された撥水撥油防汚性薄膜とを有する撥水撥油防汚性ガラスが記載されている。 In Patent Document 3, the first fine particles bonded and fixed to the surface of the glass substrate and the second fine particles bonded and fixed to the surface of the first fine particles and having a particle size smaller than that of the first fine particles are described. A water-repellent oil-repellent antifouling glass having a water-repellent oil-repellent antifouling thin film formed on the surfaces of the first and second fine particles is described.

特開2006−24706号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-24706 特開2010−118678号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-118678 特開2010−222199号公報JP-A-2010-222199

液浸露光装置において用いられる光学系を保護するための保護部材としては、主な露光光線である紫外線の透過率が高い透過フィルターを用いることが望ましいと考えられる。透過フィルターの紫外線の透過率が高い(紫外線透過性が高い)ということは、すなわち、透過フィルターが紫外線を吸収しにくいため露光耐久性に優れることになる。透過フィルターは透光部以外の部分(たとえば透光部の周辺の部分)であっても、反射等により露光光線の回り込みが生じるため、紫外線透過性が高いことが望ましい。また、露光耐久性の観点からは耐擦傷性にも優れることが望ましい。
従来の透過フィルターは、特に液浸液として水を用いた場合に重要な性能である、撥水性と露光耐久性とを両立しておらず、一定時間使用した後に交換のために露光装置の運転停止が必須となり、生産性が著しく悪かった。
As a protective member for protecting the optical system used in the immersion exposure apparatus, it is considered desirable to use a transmission filter having a high transmittance of ultraviolet rays, which are the main exposure rays. The high transmittance of ultraviolet rays of the transmissive filter (highly transmissive ultraviolet rays) means that the transmissive filter does not easily absorb ultraviolet rays, so that the exposure durability is excellent. Even if the transmission filter is a portion other than the translucent portion (for example, a portion around the translucent portion), the exposed light wraps around due to reflection or the like, so it is desirable that the transmissive filter has high ultraviolet transparency. Further, from the viewpoint of exposure durability, it is desirable to have excellent scratch resistance.
Conventional transmission filters do not have both water repellency and exposure durability, which are important performances especially when water is used as the immersion liquid, and the exposure device is operated for replacement after a certain period of use. The outage was mandatory and the productivity was significantly poor.

本発明の課題は、紫外線透過性、撥水性及び耐擦傷性のすべてに優れた透過フィルター、及び上記透過フィルターを備えた液浸露光装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a transmission filter having excellent ultraviolet transmission, water repellency and scratch resistance, and an immersion exposure apparatus provided with the transmission filter.

本発明者らは、紫外線の透過率が高い基材表面にモスアイ構造を有するフィルムを、透過フィルターに応用することが有効であると推察し、検討を重ねた結果、下記手段により上記課題を解決できることを見出した。 The present inventors have speculated that it is effective to apply a film having a moth-eye structure on the surface of a base material having a high ultraviolet transmittance to a transmission filter, and as a result of repeated studies, the above problems are solved by the following means. I found out what I could do.

<1>
波長315nmの光の透過率が65%以上である基材と、上記基材上に配置された撥水性層とを有する透過フィルターであって、
上記撥水性層は、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有しフッ素原子を含まない化合物(a1)を硬化した樹脂を含む層(ca)と、平均一次粒径が150nm以下の粒子(a2)と、フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体の反応物とを含み、
上記フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体の反応物の含有量が上記撥水性層の全固形分中の0.05質量%以上であり、
上記撥水性層の上記基材側とは反対側の表面は、上記粒子(a2)によって形成される凸部と、上記凸部間の凹部とを有し、
上記撥水性層の隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、上記隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aが0.50より大きく、
上記距離Aが315nm以下であり、
上記撥水性層の上記基材側とは反対側の表面の水の接触角が120°以上である、透過フィルター。
<2>
上記化合物(a1)が、分子内にケイ素原子に結合したアルコキシ基を少なくとも3つ有する化合物であり、
上記化合物(a1)を硬化した樹脂がシロキサン結合を有する樹脂である、
<1>に記載の透過フィルター。
<3>
上記粒子(a2)の押し込み硬度が400MPa以上である<1>又は<2>に記載の透過フィルター。
<4>
上記粒子(a2)が、未焼成シリカ粒子、焼成シリカ粒子又は合成石英粒子である<1>〜<3>のいずれか1項に記載の透過フィルター。
<5>
上記撥水性層の上記基材側とは反対側の表面の水の滑落角が30°以下である<1>〜<4>のいずれか1項に記載の透過フィルター。
<6>
上記凸部の上に、上記粒子(a2)よりも小さい平均一次粒径の粒子(a2e)と、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有する化合物(a1e)を硬化した樹脂を含む層(cae)と、を有し、
上記層(cae)の上記粒子(a2)側とは反対側の表面は、上記粒子(a2e)により形成される凸部を有する、<1>〜<5>のいずれか1項に記載の透過フィルター。
<7>
上記粒子(a2e)の平均一次粒径が5〜50nmである<6>に記載の透過フィルター。
<8>
上記粒子(a2e)の押し込み硬度が400MPa未満である<6>又は<7>に記載の透過フィルター。
<9>
上記粒子(a2e)が未焼成シリカ粒子である<6>〜<8>のいずれか1項に記載の透過フィルター。
<10>
上記撥水性層の上記基材側とは反対側の表面の水の接触角が130°以上である<1>〜<9>のいずれか1項に記載の透過フィルター。
<11>
液浸液を介して、光学系を透過した露光光線で露光対象物を露光する液浸露光装置の上記光学系を保護するために用いられる<1>〜<10>のいずれか1項に記載の透過フィルター。
<12>
上記距離Aが上記露光光線の波長以下である<11>に記載の透過フィルター。
<13>
上記粒子(a2)の平均一次粒径が上記露光光線の波長の9/14以下であり、上記距離Aが上記露光光線の波長の5/7以下である<12>に記載の透過フィルター。
<14>
上記粒子(a2)の平均一次粒径が上記露光光線の波長の9/19以下であり、上記距離Aが上記露光光線の波長の1/2以下である<13>に記載の透過フィルター。
<15>
上記粒子(a2)の平均一次粒径が上記露光光線の波長の7/19以下であり、上記距離Aが上記露光光線の波長の15/38以下である<14>に記載の透過フィルター。
<16>
上記基材上の上記撥水性層と同一面内に親水性層を有し、
上記撥水性層及び上記親水性層は面内方向に交互に配置されており、
面内方向に直交する方向から見た場合の上記撥水性層及び上記親水性層の形が三角形であり、
上記親水性層が、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有しフッ素原子を含まない化合物(a1)を硬化した樹脂を含む層(ca)と、平均一次粒径が150nm以下の粒子(a2)とを含み、
上記親水性層の上記基材側とは反対側の表面は、上記粒子(a2)によって形成される凸部と、上記凸部間の凹部とを有し、
上記親水性層の隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、上記隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aが0.50より大きく、
上記距離Aが315nm以下であり、
上記親水性層の上記基材側とは反対側の水の接触角が20°以下である、
<1>〜<15>のいずれか1項に記載の透過フィルター。
<17>
液浸液を介して、光学系を透過した露光光線で露光対象物を露光する液浸露光装置であって、<1>〜<16>のいずれか1項に記載の透過フィルターを備えた液浸露光装置。
<1>
A transmission filter having a base material having a light transmittance of 65% or more at a wavelength of 315 nm and a water-repellent layer arranged on the base material.
The water-repellent layer includes a layer (ca) containing a resin obtained by curing a compound (a1) having at least one (meth) acryloyl group and containing no fluorine atom, and particles (a2) having an average primary particle size of 150 nm or less. And a reaction product of a fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group.
The content of the reaction product of the fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group is 0.05% by mass or more in the total solid content of the water-repellent layer.
The surface of the water-repellent layer opposite to the base material side has a convex portion formed by the particles (a2) and a concave portion between the convex portions.
B / A, which is the ratio of the distance A between the vertices of the adjacent convex portions of the water-repellent layer to the distance B between the center and the concave portion between the vertices of the adjacent convex portions, is larger than 0.50.
The distance A is 315 nm or less,
A transmission filter having a water contact angle of 120 ° or more on the surface of the water-repellent layer opposite to the base material side.
<2>
The compound (a1) is a compound having at least three alkoxy groups bonded to a silicon atom in the molecule.
The resin obtained by curing the compound (a1) is a resin having a siloxane bond.
The transmission filter according to <1>.
<3>
The transmission filter according to <1> or <2>, wherein the indentation hardness of the particles (a2) is 400 MPa or more.
<4>
The transmission filter according to any one of <1> to <3>, wherein the particles (a2) are unfired silica particles, fired silica particles, or synthetic quartz particles.
<5>
The transmission filter according to any one of <1> to <4>, wherein the sliding angle of water on the surface of the water-repellent layer opposite to that of the base material is 30 ° or less.
<6>
A layer (cae) containing a resin obtained by curing particles (a2e) having an average primary particle size smaller than the particles (a2) and a compound (a1e) having at least one (meth) acryloyl group on the convex portion. And have
The transmission according to any one of <1> to <5>, wherein the surface of the layer (cae) opposite to the particle (a2) side has a convex portion formed by the particles (a2e). filter.
<7>
The transmission filter according to <6>, wherein the average primary particle size of the particles (a2e) is 5 to 50 nm.
<8>
The transmission filter according to <6> or <7>, wherein the indentation hardness of the particles (a2e) is less than 400 MPa.
<9>
The transmission filter according to any one of <6> to <8>, wherein the particles (a2e) are unfired silica particles.
<10>
The transmission filter according to any one of <1> to <9>, wherein the contact angle of water on the surface of the water-repellent layer opposite to that of the base material is 130 ° or more.
<11>
The item according to any one of <1> to <10> used for protecting the optical system of the immersion exposure apparatus that exposes an exposure object with an exposure ray transmitted through an optical system through an immersion liquid. Transmission filter.
<12>
The transmission filter according to <11>, wherein the distance A is equal to or less than the wavelength of the exposed light beam.
<13>
The transmission filter according to <12>, wherein the average primary particle size of the particles (a2) is 9/14 or less of the wavelength of the exposed light beam, and the distance A is 5/7 or less of the wavelength of the exposed light beam.
<14>
The transmission filter according to <13>, wherein the average primary particle size of the particles (a2) is 9/19 or less of the wavelength of the exposed light beam, and the distance A is 1/2 or less of the wavelength of the exposed light beam.
<15>
The transmission filter according to <14>, wherein the average primary particle size of the particles (a2) is 7/19 or less of the wavelength of the exposed light beam, and the distance A is 15/38 or less of the wavelength of the exposed light beam.
<16>
Having a hydrophilic layer in the same plane as the water-repellent layer on the base material,
The water-repellent layer and the hydrophilic layer are alternately arranged in the in-plane direction.
The shapes of the water-repellent layer and the hydrophilic layer when viewed from a direction orthogonal to the in-plane direction are triangular.
The hydrophilic layer is a layer (ca) containing a resin obtained by curing a compound (a1) having at least one (meth) acryloyl group and not containing a fluorine atom, and particles (a2) having an average primary particle size of 150 nm or less. Including and
The surface of the hydrophilic layer on the side opposite to the base material side has a convex portion formed by the particles (a2) and a concave portion between the convex portions.
B / A, which is the ratio of the distance A between the vertices of the adjacent convex portions of the hydrophilic layer to the distance B between the center and the concave portion between the vertices of the adjacent convex portions, is larger than 0.50.
The distance A is 315 nm or less,
The contact angle of water on the side of the hydrophilic layer opposite to that of the base material is 20 ° or less.
The transmission filter according to any one of <1> to <15>.
<17>
An immersion exposure apparatus that exposes an object to be exposed with an exposure ray that has passed through an optical system through an immersion liquid, and is provided with a transmission filter according to any one of <1> to <16>. Immersion exposure equipment.

本発明によれば、紫外線透過性、撥水性及び耐擦傷性のすべてに優れた透過フィルター、及び上記透過フィルターを備えた液浸露光装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a transmission filter having excellent ultraviolet transmission, water repellency and scratch resistance, and an immersion exposure apparatus provided with the transmission filter.

本発明の透過フィルターの一例を示す断面模式図である。It is sectional drawing which shows an example of the transmission filter of this invention. 本発明の透過フィルターの一例を示す断面模式図である。It is sectional drawing which shows an example of the transmission filter of this invention. 本発明の透過フィルターの一例を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows an example of the transmission filter of this invention. 本発明の透過フィルターの設置方法の一例を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating an example of the installation method of the transmission filter of this invention. 本発明の透過フィルターの製造方法の一例を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating an example of the manufacturing method of the transmission filter of this invention. 本発明の透過フィルターの製造方法の一例を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating an example of the manufacturing method of the transmission filter of this invention. 本発明の透過フィルターの製造方法の一例を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating an example of the manufacturing method of the transmission filter of this invention.

本明細書中、「(メタ)アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの少なくとも一種を表し、「(メタ)アクリル」はアクリル及びメタクリルの少なくとも一種を表し、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの少なくとも一種を表す。
本明細書中、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
In the present specification, "(meth) acrylate" represents at least one of acrylate and methacrylate, "(meth) acrylic" represents at least one of acrylic and methacrylic, and "(meth) acryloyl" represents at least one of acryloyl and methacryloyl. Represents a kind.
In the present specification, "~" is used to mean that the numerical values described before and after it are included as the lower limit value and the upper limit value.

[透過フィルター]
本発明の透過フィルターは、
波長315nmの光の透過率が65%以上である基材と、上記基材上に配置された撥水性層とを有する透過フィルターであって、
上記撥水性層は、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有しフッ素原子を含まない化合物(a1)を硬化した樹脂を含む層(ca)と、平均一次粒径が150nm以下の粒子(a2)と、フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体の反応物とを含み、
上記フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体の反応物の含有量が上記撥水性層の全固形分中の0.05質量%以上であり、
上記撥水性層の上記基材側とは反対側の表面は、上記粒子(a2)によって形成される凸部と、上記凸部間の凹部とを有し、
上記撥水性層の隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、上記隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aが0.50より大きく、
上記距離Aが315nm以下であり、
上記撥水性層の上記基材側とは反対側の表面の水の接触角が120°以上である、透過フィルターである。
[Transparent filter]
The transmission filter of the present invention
A transmission filter having a base material having a light transmittance of 65% or more at a wavelength of 315 nm and a water-repellent layer arranged on the base material.
The water-repellent layer includes a layer (ca) containing a resin obtained by curing a compound (a1) having at least one (meth) acryloyl group and containing no fluorine atom, and particles (a2) having an average primary particle size of 150 nm or less. And a reaction product of a fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group.
The content of the reaction product of the fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group is 0.05% by mass or more in the total solid content of the water-repellent layer.
The surface of the water-repellent layer opposite to the base material side has a convex portion formed by the particles (a2) and a concave portion between the convex portions.
B / A, which is the ratio of the distance A between the vertices of the adjacent convex portions of the water-repellent layer to the distance B between the center and the concave portion between the vertices of the adjacent convex portions, is larger than 0.50.
The distance A is 315 nm or less,
A transmission filter having a water contact angle of 120 ° or more on the surface of the water-repellent layer opposite to the base material side.

本発明の透過フィルターの用途は限定されず、光学系を保護するために用いられることが好ましく、特に、液浸液を介して、光学系を透過した露光光線で露光対象物を露光する液浸露光装置の光学系を保護するために用いられることが好ましい。 The application of the transmission filter of the present invention is not limited, and it is preferably used to protect the optical system. In particular, the immersion liquid exposes the object to be exposed with an exposure ray transmitted through the optical system. It is preferably used to protect the optical system of the exposure apparatus.

本発明の透過フィルターの好ましい実施形態の一例を図1に示す。
図1の透過フィルター10は、基材9と撥水性層2とを有する。撥水性層2は、粒子(a2)(符号3)と層(ca)(符号4)を含む。粒子(a2)は層(ca)の表面に凸部を形成しており、凸部と凸部の間は凹部になっている。隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、上記隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aが0.50より大きい。この凸部と凹部からなる凹凸形状はモスアイ構造であることが好ましい。
An example of a preferred embodiment of the transmission filter of the present invention is shown in FIG.
The transmission filter 10 of FIG. 1 has a base material 9 and a water-repellent layer 2. The water-repellent layer 2 includes particles (a2) (reference numeral 3) and layer (ca) (reference numeral 4). The particles (a2) form convex portions on the surface of the layer (ca), and there are concave portions between the convex portions. B / A, which is the ratio of the distance A between the vertices of the adjacent convex portions to the distance B between the center between the vertices of the adjacent convex portions and the concave portion, is larger than 0.50. The concave-convex shape composed of the convex portion and the concave portion preferably has a moth-eye structure.

(モスアイ構造)
モスアイ構造とは、通常、光の反射を抑制するための物質(材料)の加工された表面であって、周期的な微細構造パターンをもった構造のことを指す。本発明の透過フィルターにおいては、紫外線透過率が高い基材を用いることに加え、撥水性層の表面にモスアイ構造を有することにより、液浸露光装置に用いた場合に、露光光線の反射を抑制することで透過率を高めることができると考えられる。また、透過率が高いということは、すなわち露光光線のエネルギーを吸収しにくいともいうことができ、露光光線によるダメージを受けにくく、露光耐久性に優れるという利点もある。さらに表面の凹凸形状に起因する撥水性を付与することができると考えられる。
(Moss eye structure)
The moth-eye structure is usually a processed surface of a substance (material) for suppressing light reflection, and refers to a structure having a periodic fine structure pattern. In the transmission filter of the present invention, in addition to using a base material having a high ultraviolet transmittance, by having a moth-eye structure on the surface of the water-repellent layer, reflection of exposure light is suppressed when used in an immersion exposure apparatus. It is considered that the transmittance can be increased by doing so. Further, the high transmittance means that it is difficult to absorb the energy of the exposure light beam, and there is an advantage that it is not easily damaged by the exposure light beam and has excellent exposure durability. Further, it is considered that water repellency due to the uneven shape of the surface can be imparted.

本発明の透過フィルターの撥水性層において、上記距離Aは315nm以下であるが、上記距離Aはモスアイ構造における周期に相当するものであり、透過フィルターを液浸露光装置に用いる場合は、露光光線の反射を抑えて透過率を向上させる観点から、粒子(a2)の平均一次粒径が150nm以下であり、かつ上記距離Aが露光光線の波長以下であることが好ましい。 In the water-repellent layer of the transmission filter of the present invention, the distance A is 315 nm or less, but the distance A corresponds to the period in the moth-eye structure, and when the transmission filter is used in the immersion exposure apparatus, the exposure light beam From the viewpoint of suppressing the reflection of the particles and improving the transmittance, it is preferable that the average primary particle size of the particles (a2) is 150 nm or less and the distance A is not more than the wavelength of the exposed light beam.

紫外線透過性を向上させる観点から、上記距離Aが露光光線の波長の5/7以下であることが好ましい。この場合、粒子(a2)の平均一次粒径は露光光線の波長の9/14以下であることが好ましい。
距離Aは露光光線の波長の1/2以下であることがより好ましい。この場合、粒子(a2)の平均一次粒径は露光光線の波長の9/19以下であることが好ましい。上記条件では、露光光線の1次回折光を抑制できるため、紫外線透過性をより高くすることができる。
距離Aは露光光線の波長の15/38以下であることが更に好ましい。この場合、粒子(a2)の平均一次粒径は露光光線の波長の7/19以下であることが好ましい。上記条件では、露光光線の0次回折光をも抑制できるため、紫外線透過性を更に高くすることができる。
From the viewpoint of improving the ultraviolet transmittance, the distance A is preferably 5/7 or less of the wavelength of the exposed light beam. In this case, the average primary particle size of the particles (a2) is preferably 9/14 or less of the wavelength of the exposed light beam.
The distance A is more preferably 1/2 or less of the wavelength of the exposed light beam. In this case, the average primary particle size of the particles (a2) is preferably 9/19 or less of the wavelength of the exposed light beam. Under the above conditions, the primary diffracted light of the exposure light can be suppressed, so that the ultraviolet transmittance can be further increased.
It is more preferable that the distance A is 15/38 or less of the wavelength of the exposed light beam. In this case, the average primary particle size of the particles (a2) is preferably 7/19 or less of the wavelength of the exposed light beam. Under the above conditions, the 0th-order diffracted light of the exposed light beam can also be suppressed, so that the ultraviolet transmittance can be further increased.

本発明の透過フィルターの撥水性層の凹凸形状において、隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aが0.51以上であることが好ましく、0.55以上であることがより好ましい。
B/Aは、層(ca)に含まれる樹脂と粒子(a2)の体積比により制御することができる。そのため、層(ca)に含まれる樹脂と粒子(a2)の配合比を適切に設計することが好ましい。
In the uneven shape of the water-repellent layer of the transmission filter of the present invention, B / A, which is the ratio of the distance A between the vertices of adjacent convex portions and the distance B between the center and the concave portion between the vertices of adjacent convex portions, is It is preferably 0.51 or more, and more preferably 0.55 or more.
B / A can be controlled by the volume ratio of the resin contained in the layer (ca) and the particles (a2). Therefore, it is preferable to appropriately design the blending ratio of the resin contained in the layer (ca) and the particles (a2).

更に、低反射率を実現し、ヘイズの発生を抑制するには凸部を形成する粒子は均一に、適度な充填率で敷き詰められていることが好ましい。上記観点から、凸部を形成する粒子(a2)の含有量は、透過フィルター全体で均一になるように調整されるのが好ましい。充填率は、走査型電子顕微鏡(SEM)などにより表面から凸部を形成する無機粒子を観察したときの最も表面側に位置した粒子(a2)の面積占有率(粒子占有率)として測定することができ、25%〜94%が好ましく、30〜85%がより好ましく、35〜80%がさらに好ましい。 Further, in order to realize low reflectance and suppress the occurrence of haze, it is preferable that the particles forming the convex portion are uniformly spread with an appropriate filling rate. From the above viewpoint, it is preferable that the content of the particles (a2) forming the convex portion is adjusted so as to be uniform over the entire transmission filter. The filling rate is measured as the area occupancy rate (particle occupancy rate) of the particles (a2) located on the most surface side when observing the inorganic particles forming the convex portion from the surface with a scanning electron microscope (SEM) or the like. 25% to 94% is preferable, 30 to 85% is more preferable, and 35 to 80% is further preferable.

透過フィルターの面の均一性をヘイズで評価することができる。測定は、フィルム試料40mm×80mmを、25℃、相対湿度60%で、日本電色工業(株)製ヘーズメーターNDH4000で、JIS−K7136(2000年)に従って測定することができる。粒子同士が凝集し不均一であるものは、ヘイズが高くなる。ヘイズが低い方が好ましい。ヘイズの値は0.0〜3.0%が好ましく、0.0〜2.5%がより好ましく、0.0〜2.0%がさらに好ましい。 The surface uniformity of the transmission filter can be evaluated by haze. The measurement can be performed on a film sample of 40 mm × 80 mm at 25 ° C. and a relative humidity of 60% with a haze meter NDH4000 manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. according to JIS-K7136 (2000). If the particles are agglomerated and non-uniform, the haze will be high. The lower the haze, the better. The haze value is preferably 0.0 to 3.0%, more preferably 0.0 to 2.5%, and even more preferably 0.0 to 2.0%.

撥水性層の凹凸形状は、走査型電子顕微鏡(SEM)、原子間力顕微鏡(AFM)等により表面形状を観察することによって確認することができる。 The uneven shape of the water-repellent layer can be confirmed by observing the surface shape with a scanning electron microscope (SEM), an atomic force microscope (AFM), or the like.

以下、本発明の透過フィルターを構成する各要素について詳細に説明する。 Hereinafter, each element constituting the transmission filter of the present invention will be described in detail.

[基材]
本発明の透過フィルターの基材は、波長315nmの光の透過率が65%以上である。
基材が上記透過率を有することにより、透過フィルターを露光装置に用いる場合に、KrFエキシマレーザー(波長248nm)、ArFエキシマレーザー(波長193nm)、i線(365nm)などの紫外線を用いた露光が可能となる。
基材の波長315nmの光の透過率は、70%以上であることが好ましい。
基材を構成する成分としては、上記透過率を有する基材となるものであれば特に制限はなく、低膨張ガラス、合成石英、蛍石等が好ましい。低膨張ガラスとしては、コーニング社のパイレックス(登録商標)、ショット社のテンパックスフロート(登録商標)などを用いることもできる。
基材の厚さは、特に限定されず、通常、300μm〜20mm程度とすることができるが、生産の容易さの観点から700μm〜10mmが好ましい。
[Base material]
The substrate of the transmission filter of the present invention has a transmittance of light having a wavelength of 315 nm of 65% or more.
Since the base material has the above transmittance, when a transmission filter is used in an exposure apparatus, exposure using ultraviolet rays such as KrF excimer laser (wavelength 248 nm), ArF excimer laser (wavelength 193 nm), and i-line (365 nm) can be performed. It will be possible.
The transmittance of light having a wavelength of 315 nm of the base material is preferably 70% or more.
The component constituting the base material is not particularly limited as long as it is a base material having the above-mentioned transmittance, and low expansion glass, synthetic quartz, fluorite and the like are preferable. As the low expansion glass, Corning's Pyrex (registered trademark), Schott's Tempax Float (registered trademark), and the like can also be used.
The thickness of the base material is not particularly limited and can be usually about 300 μm to 20 mm, but 700 μm to 10 mm is preferable from the viewpoint of ease of production.

[撥水性層]
本発明の透過フィルターの撥水性層は、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有しフッ素原子を含まない化合物(a1)を硬化した樹脂を含む層(ca)と、平均一次粒径が150nm以下の粒子(a2)と、フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体の反応物とを含む。フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体の反応物の含有量は撥水性層の全固形分中の0.05質量%以上である。
[Water repellent layer]
The water-repellent layer of the transmission filter of the present invention includes a layer (ca) containing a resin obtained by curing a compound (a1) having at least one (meth) acryloyl group and not containing a fluorine atom, and an average primary particle size of 150 nm or less. (A2) and a reaction product of a fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group. The content of the reactant of the fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group is 0.05% by mass or more in the total solid content of the water-repellent layer.

(層(ca))
層(ca)は、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有しフッ素原子を含まない化合物(a1)(「化合物(a1)」とも呼ぶ。)を硬化した樹脂を含む層である。化合物(a1)を硬化した樹脂とは、モノマーである化合物(a1)を重合反応させて得られたポリマーである。なお、化合物(a1)を硬化した樹脂は、化合物(a1)とそれ以外の成分(たとえば、その他のモノマー、重合開始剤、溶剤など)とを含む組成物の硬化物であってもよい。化合物(a1)を硬化した樹脂は粒子(a2)と基材とを結着するバインダーとして機能することができる。
(Layer (ca))
The layer (ca) is a layer containing a resin obtained by curing a compound (a1) having at least one (meth) acryloyl group and containing no fluorine atom (also referred to as “compound (a1)”). The resin obtained by curing the compound (a1) is a polymer obtained by polymerizing the compound (a1) which is a monomer. The resin obtained by curing the compound (a1) may be a cured product of a composition containing the compound (a1) and other components (for example, other monomers, a polymerization initiator, a solvent, etc.). The resin obtained by curing the compound (a1) can function as a binder for binding the particles (a2) and the base material.

<(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有しフッ素原子を含まない化合物(a1)>
(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有しフッ素原子を含まない化合物(a1)を用いることで、粒子(a2)同士を離した状態で化合物(a1)を一部硬化させて固定化でき、粒子(a2)を含む凸部と、凸部同士の間の凹部とを含む凹凸形状において、隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aを0.50より大きくすることができる。
化合物(a1)は、光重合性官能基として(メタ)アクリロイル基を有する化合物であり、各種モノマー、オリゴマー又はポリマーを用いることができる。
<Compound (a1) having at least one (meth) acryloyl group and not containing a fluorine atom>
By using the compound (a1) having at least one (meth) acryloyl group and not containing a fluorine atom, the compound (a1) can be partially cured and immobilized while the particles (a2) are separated from each other. In the concave-convex shape including the convex portion including (a2) and the concave portion between the convex portions, the distance A between the vertices of the adjacent convex portions and the distance B between the center and the concave portion between the apex of the adjacent convex portions B / A, which is the ratio with, can be made larger than 0.50.
The compound (a1) is a compound having a (meth) acryloyl group as a photopolymerizable functional group, and various monomers, oligomers or polymers can be used.

化合物(a1)の具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、1,6−ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
2,2−ビス{4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル}プロパン、2−2−ビス{4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル}プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類;等を挙げることができる。
Specific examples of the compound (a1) include (meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, and propylene glycol di (meth) acrylate;
(Meta) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate;
(Meta) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate;
Ethylene oxides such as 2,2-bis {4- (acryloxy diethoxy) phenyl} propane, 2-2-bis {4- (acryloxy polypropoxy) phenyl} propane, or (meth) acrylic acid diesters with propylene oxide adducts ; Etc. can be mentioned.

さらにはエポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類も、化合物(a1)として、好ましく用いられる。 Further, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates are also preferably used as the compound (a1).

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーを少なくとも1種含有することが好ましい。
例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO(エチレンオキサイド)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO(プロピレンオキサイド)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。
Among them, esters of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. More preferably, one molecule contains at least one polyfunctional monomer having three or more (meth) acryloyl groups.
For example, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO (ethylene oxide) modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO (propylene oxide) modified trimethylol Propanetri (meth) acrylate, EO-modified tri (meth) phosphate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, trimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate ) Acrylate, dipentaerythritol hex (meth) acrylate, pentaerythritol hex (meth) acrylate, 1,2,3-clohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate, caprolactone-modified trics (acryloxyethyl) isocyanurate, etc. Can be mentioned.

(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、日本化薬(株)製KAYARAD DPHA、同DPHA−2C、同PET−30、同TMPTA、同TPA−320、同TPA−330、同RP−1040、同T−1420、同D−310、同DPCA−20、同DPCA−30、同DPCA−60、同GPO−303、大阪有機化学工業(株)製V#3PA、V#400、V#36095D、V#1000、V#1080等のポリオールと(メタ)アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光UV−1400B、同UV−1700B、同UV−6300B、同UV−7550B、同UV−7600B、同UV−7605B、同UV−7610B、同UV−7620EA、同UV−7630B、同UV−7640B、同UV−6630B、同UV−7000B、同UV−7510B、同UV−7461TE、同UV−3000B、同UV−3200B、同UV−3210EA、同UV−3310EA、同UV−3310B、同UV−3500BA、同UV−3520TL、同UV−3700B、同UV−6100B、同UV−6640B、同UV−2000B、同UV−2010B、同UV−2250EA、同UV−2750B(日本合成化学(株)製)、UA−306H、UA−306I、UA−306T、UL−503LN(共栄社化学(株)製)、ユニディック17−806、同17−813、同V−4030、同V−4000BA(大日本インキ化学工業(株)製)、EB−1290K、EB−220、EB−5129、EB−1830,EB−4858(ダイセルUCB(株)製)、U−4HA、U−6HA、U−10HA、U−15HA(新中村化学工業(株)製)、ハイコープAU−2010、同AU−2020((株)トクシキ製)、アロニックスM−1960(東亜合成(株)製)、アートレジンUN−3320HA,UN−3320HC,UN−3320HS、UN−904,HDP−4Tなどの3官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスM−8100,M−8030,M−9050(東亞合成(株)製、KRM−8307(ダイセルサイテック(株)製)などの3官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。 Specific compounds of polyfunctional acrylate compounds having a (meth) acryloyl group include KAYARAD DPHA, DPHA-2C, PET-30, TMPTA, TPA-320, and TPA-manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. 330, RP-1040, T-1420, D-310, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, GPO-303, V # 3PA, V manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. Examples thereof include esterified compounds of polyols such as # 400, V # 36095D, V # 1000, V # 1080 and (meth) acrylic acid. In addition, purple light UV-1400B, UV-1700B, UV-6300B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7620EA, UV-7630B, UV-7640B. , UV-6630B, UV-7000B, UV-7510B, UV-7461TE, UV-3000B, UV-3200B, UV-3210EA, UV-3310EA, UV-3310B, UV-3500BA. , UV-3520TL, UV-3700B, UV-6100B, UV-6640B, UV-2000B, UV-2010B, UV-2250EA, UV-2750B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.), UA-306H, UA-306I, UA-306T, UL-503LN (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Unidic 17-806, 17-813, V-4030, V-4000BA (Dainippon Ink and Chemicals) EB-1290K, EB-220, EB-5129, EB-1830, EB-4858 (manufactured by Daicel UCB Co., Ltd.), U-4HA, U-6HA, U-10HA, U-15HA (manufactured by Daicel UCB Co., Ltd.) Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), Hicorp AU-2010, AU-2020 (Tokushiki Co., Ltd.), Aronix M-1960 (Toa Synthetic Co., Ltd.), Art Resin UN-3320HA, UN-3320HC, Trifunctional or higher urethane acrylate compounds such as UN-3320HS, UN-904, HDP-4T, Aronix M-8100, M-8030, M-9050 (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd., KRM-8307) (Dicel Cytec Co., Ltd.) A trifunctional or higher functional polyester compound such as (manufactured by) can also be preferably used.

さらに、3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等も挙げられる。 Furthermore, resins having three or more (meth) acryloyl groups, such as relatively low molecular weight polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, and polythiol polyene resins. , Oligomers such as polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols, prepolymers and the like.

また、特開2005−76005号公報、同2005−36105号公報に記載された化合物、SIRIUS−501、SUBARU−501(大阪有機化学工業(株)製)のようなデンドリマー、特開2005−60425号公報に記載のようなノルボルネン環含有モノマー、アルコキシオリゴマー(KR−513、アクリル基・メチル基含有、信越化学工業(製))を用いることもできる。 Further, the compounds described in JP-A-2005-76005 and JP-A-2005-36105, dendrimers such as SIRIUS-501 and SUBARU-501 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), JP-A-2005-60425. Norbornene ring-containing monomers and alkoxy oligomers (KR-513, acrylic / methyl group-containing, Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) as described in the publication can also be used.

本発明では、粒子(a2)と層(ca)とを結合させて強固な撥水性層にするために、化合物(a1)が更にケイ素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物(シランカップリング剤)であることが好ましく、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を3つ以上有する化合物であることがより好ましい。
なお、このようなシランカップリング剤のケイ素原子に結合したアルコキシ基は加水分解してその後縮合反応することにより、シロキサン結合を生成するため、化合物(a1)として、(メタ)アクリロイル基とケイ素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物を硬化した樹脂はシロキサン結合を有することが好ましい。
化合物(a1)は、下記一般式(1)又は(2)で表される化合物であることが好ましい。
In the present invention, in order to bond the particles (a2) and the layer (ca) to form a strong water-repellent layer, a compound (a1) having an alkoxy group further bonded to a silicon atom (silane coupling agent). It is more preferable that the compound has three or more alkoxy groups bonded to a silicon atom.
Since the alkoxy group bonded to the silicon atom of such a silane coupling agent is hydrolyzed and then subjected to a condensation reaction to form a siloxane bond, the compound (a1) contains a (meth) acryloyl group and a silicon atom. The resin obtained by curing the compound having an alkoxy group bonded to is preferably having a siloxane bond.
The compound (a1) is preferably a compound represented by the following general formula (1) or (2).

一般式(1): R−Si−OR Formula (1): R 1 -Si- OR 2 3

一般式(1)中、Rは(メタ)アクリロイル基を有する有機基を表す。
はアルキル基を表す。複数のRはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。
In the general formula (1), R 1 represents an organic group having a (meth) acryloyl group.
R 2 represents an alkyl group. The plurality of R 2s may be the same or different.

一般式(2): General formula (2):

一般式(2)中、Rは、(メタ)アクリロイル基を有する有機基、アルキル基、又はヒドロキシル基を表し、上記アルキル基は更に置換基を有していてもよい。
はアルキル基又は水素原子を表す。
mは3〜22の整数を表す。
複数のRはそれぞれ同じでも異なっていてもよいが、少なくとも1つは(メタ)アクリロイル基を有する有機基を表す。
複数のRはそれぞれ同じでも異なっていてもよいが、少なくとも3つはアルキル基を表す。
In the general formula (2), R 3 represents an organic group having a (meth) acryloyl group, an alkyl group, or a hydroxyl group, and the alkyl group may further have a substituent.
R 4 represents an alkyl group or a hydrogen atom.
m represents an integer of 3 to 22.
The plurality of R 3 may be the same or different, but at least one represents an organic group having a (meth) acryloyl groups.
A plurality of R 4 may be the same or different, respectively, but at least three represents an alkyl group.

一般式(1)又は(2)中のR及びRがそれぞれアルキル基を表す場合は、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素数1〜10のアルキル基がより好ましい。When R 2 and R 4 in the general formula (1) or (2) each represent an alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable.

一般式(2)中のRがアルキル基を表す場合、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、炭素数1〜5のアルキル基がより好ましく、反応性の観点から炭素数1〜3のアルキル基が更に好ましい。これらは更に置換基を有していてもよく、炭素原子以外の原子(例えば、フッ素原子以外のハロゲン原子、S、N、O、Siなど)を置換基中に有していてもよい。置換基の例としては、フッ素原子以外のハロゲン原子、メルカプト基、アミノ基、オキシラン環含有基等の官能基を例示することができる。When R 3 in the general formula (2) represents an alkyl group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is more preferable, and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferable from the viewpoint of reactivity. Alkyl groups are more preferred. These may further have a substituent, and may have an atom other than a carbon atom (for example, a halogen atom other than a fluorine atom, S, N, O, Si, etc.) in the substituent. Examples of the substituent include a halogen atom other than the fluorine atom, a mercapto group, an amino group, an oxylan ring-containing group, and other functional groups.

化合物(a1)として用いることができるシランカップリング剤の具体例としては、例えば、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルトリメトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルトリエトキシシラン、4−(メタ)アクリロキシブチルトリメトキシシラン、4−(メタ)アクリロキシブチルトリエトキシシラン等が挙げられる。具体的には、KBM−503、KBM−5103(信越化学工業(株)製)、特開2014−123091号公報に記載のシランカップリング剤X−12−1048、X−12−1049、X−12−1050(信越化学工業(株)製)、及び下記構造式で表される化合物C3等が挙げられる。 Specific examples of the silane coupling agent that can be used as the compound (a1) include 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, and 3- (meth). Acryloxypropyl dimethylmethoxysilane, 3- (meth) acryloxipropylmethyldiethoxysilane, 3- (meth) acryloxipropyltriethoxysilane, 2- (meth) acryloxiethyltrimethoxysilane, 2- (meth) acry Examples thereof include loxyethyltriethoxysilane, 4- (meth) acryloxibutyltrimethoxysilane, 4- (meth) acryloxibutyltriethoxysilane, and the like. Specifically, KBM-503, KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), silane coupling agents X-12-1048, X-12-1049, X- described in JP-A-2014-123091. Examples thereof include 12-1050 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and compound C3 represented by the following structural formula.

化合物(a1)としては、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。これら化合物(a1)の重合は、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。 As the compound (a1), only one type may be used, or two or more types may be used in combination. The polymerization of these compounds (a1) can be carried out by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photoradical initiator or a thermal radical initiator.

層(ca)は化合物(a1)を硬化した樹脂以外の化合物を更に含むことができる。
本発明では、化合物(a1)として、1分子中に2個以下の(メタ)アクリロイル基を有する化合物を用いてもよいが、特に、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物と、1分子中に2個以下の(メタ)アクリロイル基を有する化合物、または化合物(a1)以外の化合物として(メタ)アクリロイル基を有さない化合物を併用することが好ましい。
1分子中に2個以下の(メタ)アクリロイル基を有する化合物、又は(メタ)アクリロイル基を有さない化合物としては、重量平均分子量Mwが40<Mw<500であることが好ましい。
1分子中に2個以下の(メタ)アクリロイル基を有する化合物は、1分子中に1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物であることが好ましい。
The layer (ca) can further contain a compound other than the resin obtained by curing the compound (a1).
In the present invention, as the compound (a1), a compound having two or less (meth) acryloyl groups in one molecule may be used, but in particular, it has three or more (meth) acryloyl groups in one molecule. It is preferable to use the compound in combination with a compound having two or less (meth) acryloyl groups in one molecule, or a compound having no (meth) acryloyl group as a compound other than the compound (a1).
As a compound having two or less (meth) acryloyl groups in one molecule or a compound having no (meth) acryloyl group, the weight average molecular weight Mw is preferably 40 <Mw <500.
The compound having two or less (meth) acryloyl groups in one molecule is preferably a compound having one (meth) acryloyl group in one molecule.

さらに、1分子中に2個以下の(メタ)アクリロイル基を有する化合物、又は(メタ)アクリロイル基を有さない化合物は、25℃における粘度が100mPas以下であることが好ましく、1〜50mPasがより好ましい。このような粘度範囲にある化合物は、粒子(a2)の凝集を抑制するように働き、紫外線透過性及び撥水性がそれぞれ向上するため好ましい。 Further, the compound having two or less (meth) acryloyl groups in one molecule or the compound having no (meth) acryloyl group preferably has a viscosity at 25 ° C. of 100 mPas or less, more preferably 1 to 50 mPas. preferable. The compound in such a viscosity range is preferable because it works to suppress the aggregation of the particles (a2) and improves the ultraviolet transmittance and the water repellency, respectively.

(メタ)アクリロイル基を有さない化合物としては、エステル系化合物、アミン系化合物、エーテル系化合物、脂肪族アルコール系化合物、炭化水素系化合物などを好ましく用いることができ、エステル系化合物が特に好ましい。より具体的には、コハク酸ジメチル(粘度2.6mPas)、コハク酸ジエチル(粘度2.6mPas)、アジピン酸ジメチル(粘度2.8mPas)、コハク酸ジブチル(粘度3.9mPas)、アジピン酸ビス(2−ブトキシエチル)(粘度10.8mPas)、スベリン酸ジメチル(粘度3.7mPas)、フタル酸ジエチル(粘度9.8mPas)、フタル酸ジブチル(粘度13.7mPas)、クエン酸トリエチル(粘度22.6mPas)、クエン酸アセチルトリエチル(粘度29.7mPas)、ジフェニルエーテル(粘度3.8mPas)などが挙げられる。 As the compound having no (meth) acryloyl group, an ester compound, an amine compound, an ether compound, an aliphatic alcohol compound, a hydrocarbon compound and the like can be preferably used, and an ester compound is particularly preferable. More specifically, dimethyl succinate (viscosity 2.6 mPas), diethyl succinate (viscosity 2.6 mPas), dimethyl adipate (viscosity 2.8 mPas), dibutyl succinate (viscosity 3.9 mPas), bis adipate (viscosity 3.9 mPas). 2-Butoxyethyl) (viscosity 10.8 mPas), dimethyl sverate (viscosity 3.7 mPas), diethyl phthalate (viscosity 9.8 mPas), dibutyl phthalate (viscosity 13.7 mPas), triethyl citrate (viscosity 22.6 mPas) ), Acetyltriethyl citrate (viscosity 29.7 mPas), diphenyl ether (viscosity 3.8 mPas) and the like.

本発明における重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により下記の条件で測定された値である。
[溶媒] テトラヒドロフラン
[装置名] TOSOH HLC−8220GPC
[カラム] TOSOH TSKgel Super HZM−H
(4.6mm×15cm)を3本接続して使用。
[カラム温度] 25℃
[試料濃度] 0.1質量%
[流速] 0.35ml/min
[校正曲線] TOSOH製TSK標準ポリスチレン Mw=2800000〜1050までの7サンプルによる校正曲線を使用。
The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) in the present invention are values measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions.
[Solvent] Tetrahydrofuran [Device name] TOSOH HLC-8220GPC
[Column] TOSOH TSKgel Super HZM-H
Use by connecting 3 (4.6 mm x 15 cm).
[Column temperature] 25 ° C
[Sample concentration] 0.1% by mass
[Flow velocity] 0.35 ml / min
[Calibration curve] TOSOH TSK standard polystyrene Mw = 2800000-1050 7 samples calibration curve is used.

層(ca)は、上記した成分以外にも、たとえば、粒子(a2)の分散剤、金属キレート触媒等を含有していてもよい。
層(ca)に含みうる成分についての詳細は、後述する層(a)(硬化前の層(ca))の説明において記載する。
The layer (ca) may contain, for example, a dispersant for the particles (a2), a metal chelate catalyst, or the like, in addition to the above-mentioned components.
Details of the components that can be contained in the layer (ca) will be described later in the description of the layer (a) (layer before curing (ca)).

(平均一次粒径が150nm以下の粒子(a2))
粒子(a2)は、透過フィルターにおいて、層(ca)の表面に凸部を形成する。
粒子(a2)としては、金属酸化物粒子、樹脂粒子、金属酸化物粒子のコアと樹脂のシェルを有する有機無機ハイブリッド粒子などが挙げられるが、強度に優れる観点から金属酸化物粒子が好ましい。
金属酸化物粒子としては、シリカ粒子、チタニア粒子、ジルコニア粒子、五酸化アンチモン粒子などが挙げられるが、多くのバインダーと屈折率が近いためヘイズを発生しにくく、かつ所望の凹凸形状が形成し易い観点からシリカ粒子が好ましい。なお、本明細書では「シリカ粒子」は、「未焼成シリカ粒子(焼成されていないシリカ粒子)」も「焼成シリカ粒子(焼成されたシリカ粒子)」も両方含む意味で用いる。
樹脂粒子としては、ポリメタクリル酸メチル粒子、ポリスチレン粒子、メラミン粒子などが挙げられる。
(Particles with an average primary particle size of 150 nm or less (a2))
The particles (a2) form protrusions on the surface of the layer (ca) in the transmission filter.
Examples of the particles (a2) include metal oxide particles, resin particles, and organic-inorganic hybrid particles having a core of metal oxide particles and a resin shell, and metal oxide particles are preferable from the viewpoint of excellent strength.
Examples of the metal oxide particles include silica particles, titania particles, zirconia particles, antimony pentoxide particles, etc., but since the refractive index is close to that of many binders, haze is unlikely to occur and a desired uneven shape is easily formed. From the viewpoint, silica particles are preferable. In the present specification, "silica particles" are used in the sense of including both "uncalcined silica particles (uncalcined silica particles)" and "calcined silica particles (calcined silica particles)".
Examples of the resin particles include polymethyl methacrylate particles, polystyrene particles, melamine particles and the like.

粒子(a2)の平均一次粒径は、粒子が並んで所望の凹凸形状を形成でき、かつ紫外線透過性を高める観点から150nm以下である。
本発明の透過フィルターを露光装置に用いる場合は、粒子(a2)の平均一次粒径は、露光光線の回折を抑制し透過性をより高める観点から、露光波長の9/14以下であることが好ましく、9/19以下であることがより好ましく、7/19以下であることがさらに好ましい。
たとえば、露光光線としてArFエキシマレーザー(波長193nm)を用いる場合、粒子(a2)の平均一次粒径は、124nm以下であることが好ましく、91nm以下であることがより好ましく、72nm以下であることが更に好ましい。
粒子分散性の観点からは、粒子の平均一次粒径は5nm以上であることが好ましく、10nm以上であることがより好ましく、15nm以上であることが更に好ましい。
The average primary particle size of the particles (a2) is 150 nm or less from the viewpoint that the particles can be arranged side by side to form a desired uneven shape and the ultraviolet transparency is enhanced.
When the transmission filter of the present invention is used in an exposure apparatus, the average primary particle size of the particles (a2) is 9/14 or less of the exposure wavelength from the viewpoint of suppressing diffraction of the exposure light and further enhancing the transparency. It is more preferably 9/19 or less, and even more preferably 7/19 or less.
For example, when an ArF excimer laser (wavelength 193 nm) is used as the exposure light, the average primary particle size of the particles (a2) is preferably 124 nm or less, more preferably 91 nm or less, and more preferably 72 nm or less. More preferred.
From the viewpoint of particle dispersibility, the average primary particle size of the particles is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, and further preferably 15 nm or more.

粒子(a2)は、1種のみ使用してもよいし、平均一次粒径の異なる2種以上の粒子を用いてもよいし、粒子を構成する成分の異なる2種以上の粒子を用いてもよい。 As the particles (a2), only one kind may be used, two or more kinds of particles having different average primary particle sizes may be used, or two or more kinds of particles having different constituent components may be used. Good.

粒子(a2)の平均一次粒径は、体積平均粒径の累積の50%粒径を指す。粒径の測定には走査型電子顕微鏡(SEM)を用いる事ができる。粉体粒子(分散液の場合は乾燥させて溶剤を揮発させたもの)をSEM観察により適切な倍率(5000倍程度)で観察し、一次粒子100個のそれぞれの直径を測長してその体積を算出し、累積の50%粒径を平均一次粒径とすることができる。粒子が球形でない場合には、長径と短径の平均値をその一次粒子の直径とみなす。透過フィルター中に含まれる粒子を測定する場合は、透過フィルターを表面側から上記同様SEMで観察して算出する。この際、観察し易いように、試料にはカーボン蒸着、エッチング処理などを適宜施してよい。 The average primary particle size of the particles (a2) refers to a cumulative 50% particle size of the volume average particle size. A scanning electron microscope (SEM) can be used to measure the particle size. Observe the powder particles (in the case of a dispersion, dried and volatilized the solvent) at an appropriate magnification (about 5000 times) by SEM observation, measure the diameter of each of the 100 primary particles, and measure the volume thereof. Can be calculated and the cumulative 50% particle size can be used as the average primary particle size. If the particle is not spherical, the average of the major and minor diameters is considered to be the diameter of the primary particle. When measuring the particles contained in the transmission filter, the transmission filter is observed from the surface side by SEM in the same manner as described above and calculated. At this time, the sample may be appropriately subjected to carbon vapor deposition, etching treatment, or the like for easy observation.

粒子(a2)の形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。
粒子(a2)は、中実粒子であっても、中空粒子であってもよいが、中実粒子であることが好ましい。
また、シリカ粒子については、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよい。
The shape of the particles (a2) is most preferably spherical, but there is no problem even if the particles (a2) are not spherical such as indeterminate.
The particles (a2) may be solid particles or hollow particles, but are preferably solid particles.
Further, the silica particles may be either crystalline or amorphous.

粒子(a2)は作製過程における塗布液中での分散性向上、強度向上、凝集防止のために表面処理された無機微粒子を使用することが好ましい。表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開2007−298974号公報の<0119>〜<0147>に記載のものと同様である。
特に、バインダーである化合物(a1)を硬化した樹脂との結着性を付与し、強度を向上させる観点から、粒子表面を不飽和二重結合および粒子表面と反応性を有する官能基を有する化合物で表面修飾し、粒子表面に不飽和二重結合を付与することが好ましい。表面修飾に用いる化合物としては、化合物(a1)として上述した、(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤を好適に用いることができる。
As the particles (a2), it is preferable to use surface-treated inorganic fine particles in order to improve dispersibility in the coating liquid, improve strength, and prevent aggregation in the production process. Specific examples of the surface treatment method and preferable examples thereof are the same as those described in <0119> to <0147> of JP-A-2007-298974.
In particular, from the viewpoint of imparting the binding property of the binder compound (a1) to the cured resin and improving the strength, the compound having an unsaturated double bond on the particle surface and a functional group having reactivity with the particle surface. It is preferable to modify the surface with (1) to impart an unsaturated double bond to the particle surface. As the compound used for surface modification, the above-mentioned silane coupling agent having a (meth) acryloyl group as the compound (a1) can be preferably used.

平均一次粒径が150nm以下の粒子の具体的な例としては、シーホスターKE−P10(平均一次粒径100nm、日本触媒(株)製アモルファスシリカ)、スタフィロイド(アイカ工業(株)製多層構造有機微粒子)、ガンツパール(アイカ工業(株)製ポリメチルメタクリレ−ト、ポリスチレン粒子)などを好ましく用いることができる。 Specific examples of particles having an average primary particle size of 150 nm or less include Seahoster KE-P10 (average primary particle size of 100 nm, amorphous silica manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and stuffyloid (multilayer organic structure manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd.). Fine particles), Ganzpearl (polymethylmethacrylate, polystyrene particles manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd.) and the like can be preferably used.

粒子(a2)としては、紫外線透過性、粒子強度、化合物(a1)との結着性等の観点から、未焼成シリカ粒子、焼成シリカ粒子、合成石英粒子、又は蛍石粒子であることが好ましく、粒子強度の観点から、焼成シリカ粒子又は合成石英粒子であることがより好ましく、表面のヒドロキシル基量が適度に多く、かつ硬い粒子であるいという理由から、焼成シリカ粒子であることが特に好ましい。
焼成シリカ粒子は、加水分解が可能なシリコン化合物を水と触媒とを含む有機溶媒中で加水分解、縮合させることによってシリカ粒子を得た後、シリカ粒子を焼成するという公知の技術により製造することができ、たとえば特開2003−176121号公報、特開2008−137854号公報などを参照することができる。
焼成シリカ粒子を製造する原料のシリコン化合物としては特に限定されず、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン等のクロロシラン化合物;テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−(2−アミノエチルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン等のアルコキシシラン化合物;テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン等のアシロキシシラン化合物;ジメチルシランジオール、ジフェニルシランジオール、トリメチルシラノール等のシラノール化合物;等が挙げられる。上記例示のシラン化合物のうち、アルコキシシラン化合物が、より入手し易く、かつ、得られる焼成シリカ粒子に不純物としてハロゲン原子が含まれることが無いので特に好ましい。本発明にかかる焼成シリカ粒子の好ましい形態としては、ハロゲン原子の含有量が実質的に0%であり、ハロゲン原子が検出されないことが好ましい。
焼成温度は特に限定されず、800〜1300℃が好ましく、1000℃〜1200℃がより好ましい。
The particles (a2) are preferably unfired silica particles, fired silica particles, synthetic quartz particles, or fluorite particles from the viewpoint of ultraviolet transmission, particle strength, binding to compound (a1), and the like. From the viewpoint of particle strength, calcined silica particles or synthetic quartz particles are more preferable, and calcined silica particles are particularly preferable because the amount of hydroxyl groups on the surface is moderately large and the particles are hard. ..
The calcined silica particles are produced by a known technique of calcining silica particles after hydrolyzing and condensing a hydrolyzable silicon compound in an organic solvent containing water and a catalyst. For example, JP-A-2003-176121 and JP-A-2008-137854 can be referred to.
The silicon compound as a raw material for producing calcined silica particles is not particularly limited, and chlorosilanes such as tetrachlorosilane, methyltrichlorosilane, phenyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, methylvinyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, and methyldiphenylchlorosilane. Compounds; tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, trimethoxyvinylsilane, triethoxyvinylsilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-chloro Propyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3- (2-aminoethylamino) propyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, 3-glycid Alkoxysilanes such as xypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, trimethylmethoxysilane, and trimethylethoxysilane. Compounds; Asyloxysilane compounds such as tetraacetoxysilane, methyltriacetoxysilane, phenyltriacetoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, diphenyldiacetoxysilane, and trimethylacetoxysilane; silanol compounds such as dimethylsilanediol, diphenylsilanediol, and trimethylsilanol. ; Etc. can be mentioned. Among the above-exemplified silane compounds, the alkoxysilane compound is particularly preferable because it is more easily available and the obtained calcined silica particles do not contain halogen atoms as impurities. As a preferable form of the calcined silica particles according to the present invention, it is preferable that the content of halogen atoms is substantially 0% and no halogen atoms are detected.
The firing temperature is not particularly limited, and is preferably 800 to 1300 ° C, more preferably 1000 ° C to 1200 ° C.

粒子(a2)としては、粒子の平均一次粒径が150nm以下で、かつ粒径の分散度(CV値)が5%未満の単分散シリカ微粒子を一種類のみ含有することがモスアイ構造の凹凸の高さが均一になり、透過率がより高くなるため好ましい。CV値は通常レーザー回折型粒径測定装置を用いて測定されるが、他の粒径測定方式でも良いし、本発明の撥水性層の表面SEM像から、画像解析によって粒径分布を求め算出することもできる。CV値は4%未満であることがより好ましい。 As the particles (a2), only one type of monodisperse silica fine particles having an average primary particle size of 150 nm or less and a particle size dispersion (CV value) of less than 5% is contained in the unevenness of the moth-eye structure. It is preferable because the height becomes uniform and the transmittance becomes higher. The CV value is usually measured using a laser diffraction type particle size measuring device, but other particle size measuring methods may be used, and the particle size distribution is calculated by image analysis from the surface SEM image of the water-repellent layer of the present invention. You can also do it. More preferably, the CV value is less than 4%.

粒子(a2)の押し込み硬度は400MPa以上であることが好ましく、500MPa以上であることがより好ましく、600MPa以上であることがさらに好ましい。粒子(a2)の押し込み硬度が400MPa以上であるとモスアイ構造の厚み方向の圧力に対する耐久性が高くなるため好ましい。また、押し込み硬度が高すぎると脆くて割れやすくなる傾向があるため粒子(a2)の押し込み硬度は1000MPa以下であることが好ましい。
粒子(a2)の押し込み硬度は、ナノインデンター等によって測定することが出来る。試料は、粒子(a2)をそれ自身より硬い基板(ガラス板、石英板等)に基板の厚み方向に重なりが生じないように並べて粒子表面が露出した状態で樹脂などで動かないように固定したものを準備し、ダイヤモンド圧子で押し込んで測定することができる。トライボインデンターにより押し込み位置を特定するとなお良い。
押し込み硬度が400MPa以上である粒子としては、焼成シリカ粒子、合成石英粒子等を好ましく挙げることができる。
The indentation hardness of the particles (a2) is preferably 400 MPa or more, more preferably 500 MPa or more, and even more preferably 600 MPa or more. It is preferable that the indentation hardness of the particles (a2) is 400 MPa or more because the durability of the moth-eye structure against pressure in the thickness direction is high. Further, if the indentation hardness is too high, the particles (a2) tend to be brittle and easily cracked, so that the indentation hardness of the particles (a2) is preferably 1000 MPa or less.
The indentation hardness of the particle (a2) can be measured by a nano indenter or the like. In the sample, the particles (a2) were arranged on a substrate (glass plate, quartz plate, etc.) harder than itself so as not to overlap in the thickness direction of the substrate, and fixed with resin or the like with the particle surface exposed. You can prepare a sample and push it with a diamond indenter to measure it. It is even better to specify the pushing position with a tribo indenter.
As the particles having an indentation hardness of 400 MPa or more, calcined silica particles, synthetic quartz particles and the like can be preferably mentioned.

(フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体の反応物)
本発明の透過フィルターの撥水性層は、フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体(以下、「含フッ素共重合体(c)」とも呼ぶ)の反応物を撥水性層の全固形分中の0.05質量%以上含む。架橋基としては、ラジカル反応性基又はラジカル反応性基以外の反応性基が挙げられ、ラジカル反応性基であることが好ましい。
ラジカル反応性基としては、付加重合可能な不飽和結合を有する基(例えば(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリルアミド基、(メタ)アクリロニトリル基、アリル基、ビニル基、スチレン構造、ビニルエーテル構造、アセチレン構造等)、−SH、−PH、SiH、−GeH、ジスルフィド構造等が挙げられ、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基(重合性の炭素−炭素不飽和二重結合を有する基)が好ましく、中でも、(メタ)アクリロイル基及び−C(O)OCH=CHが好ましく、(メタ)アクリロイル基が最も好ましい。
ラジカル反応性基以外の反応性基としては、エポキシ基、アミノ基、ボロン酸基、ボロン酸エステル基、オキシラニル基、オキセタニル基、水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基等が挙げられる。
なお、フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体の反応物とは、フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体の架橋基が反応することで得られる架橋重合体である。
含フッ素共重合体(c)は、撥水性層内での偏在性の観点から、側鎖に低摩擦部位と架橋基を有し、重量平均分子量が6,000以上であるポリマーであることが好ましい。含フッ素共重合体(c)の重量平均分子量は、6,000〜100,000であることが好ましく、8,000〜80,000であることがより好ましい。なお、含フッ素共重合体(c)の重量平均分子量は、前述の化合物(a1)の重量平均分子量と同様の方法で求められる。
また含フッ素共重合体(c)は、耐薬品および耐久性の観点から、架橋基がC−C結合又はC−O結合で主鎖に連結していることが好ましい。
(Reactant of fluorine-containing copolymer having fluoroalkyl group and cross-linking group)
In the water-repellent layer of the transmission filter of the present invention, a reaction product of a fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group (hereinafter, also referred to as “fluorine-containing copolymer (c)”) is completely solidified in the water-repellent layer. Contains 0.05% by mass or more in minutes. Examples of the cross-linking group include a radical-reactive group and a reactive group other than the radical-reactive group, and a radical-reactive group is preferable.
Examples of the radically reactive group include a group having an unsaturated bond capable of addition polymerization (for example, (meth) acryloyl group, (meth) acrylamide group, (meth) acrylonitrile group, allyl group, vinyl group, styrene structure, vinyl ether structure, acetylene. Structure, etc.), -SH, -PH, SiH, -GeH, disulfide structure, etc., and polymerizable functional groups (polymerizable carbon-carbon non-polymeric groups) such as (meth) acryloyl group, vinyl group, styryl group, allyl group, etc. A group having a saturated double bond) is preferable, among them, a (meth) acryloyl group and −C (O) OCH = CH 2 are preferable, and a (meth) acryloyl group is most preferable.
Examples of the reactive group other than the radically reactive group include an epoxy group, an amino group, a boronic acid group, a boronic acid ester group, an oxylanyl group, an oxetanyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group and an isocyanate group.
The reaction product of the fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group is a cross-linked polymer obtained by reacting the cross-linking groups of the fluoroalkyl-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group.
From the viewpoint of uneven distribution in the water-repellent layer, the fluorine-containing copolymer (c) may be a polymer having a low friction site and a cross-linking group in the side chain and having a weight average molecular weight of 6,000 or more. preferable. The weight average molecular weight of the fluorine-containing copolymer (c) is preferably 6,000 to 100,000, more preferably 8,000 to 80,000. The weight average molecular weight of the fluorine-containing copolymer (c) is determined by the same method as the weight average molecular weight of the compound (a1) described above.
Further, from the viewpoint of chemical resistance and durability, the fluorine-containing copolymer (c) preferably has a cross-linking group linked to the main chain by a CC bond or a CO bond.

含フッ素共重合体(c)としては、例えば、下記一般式(3)で表される繰り返し単位を有する樹脂であることが好ましいが、本発明はこれに制限されない。なお、本発明では、化学式において、炭化水素鎖を炭素(C)及び水素(H)の記号を省略した簡略構造式で記載する場合もある。 The fluorine-containing copolymer (c) is preferably, for example, a resin having a repeating unit represented by the following general formula (3), but the present invention is not limited thereto. In the present invention, the hydrocarbon chain may be described by a simplified structural formula in which the symbols of carbon (C) and hydrogen (H) are omitted in the chemical formula.

一般式(3) General formula (3)

一般式(3)中、Rは水素原子又はフッ素原子を表す。 In the general formula (3), R represents a hydrogen atom or a fluorine atom.

含フッ素共重合体(c)の反応物の含有量は、凹凸構造全てに撥水性を持たせるためには、撥水性層の全固形分中の0.05質量%以上であり、0.1質量%以上が好ましく、0.2質量%以上が更に好ましい。また耐久性の観点からは、含フッ素共重合体(c)の反応物の含有量は、撥水性層の全固形分中の10質量%以下が好ましく、7質量%以下がより好ましく、5質量%以下が更に好ましい。 The content of the reactant of the fluorine-containing copolymer (c) is 0.05% by mass or more in the total solid content of the water-repellent layer in order to give water repellency to all the uneven structures, and is 0.1. Mass% or more is preferable, and 0.2% by mass or more is more preferable. From the viewpoint of durability, the content of the reactant of the fluorine-containing copolymer (c) is preferably 10% by mass or less, more preferably 7% by mass or less, and 5% by mass in the total solid content of the water-repellent layer. % Or less is more preferable.

本発明の透過フィルターは、撥水性を更に向上させる観点から、撥水性層の粒子(a2)によって層(ca)に形成された凸部の上に、粒子(a2)よりも小さい平均一次粒径の粒子(a2e)と、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有する化合物(a1e)を硬化した樹脂を含む層(cae)と、を有し、粒子(a2e)は、層(cae)の粒子(a2)側とは反対側の表面に凸部を形成していることが好ましい。
以下、上記構成を有する透過フィルターを「第2の態様の透過フィルター」とも呼ぶ。
From the viewpoint of further improving the water repellency, the transmission filter of the present invention has an average primary particle size smaller than that of the particles (a2) on the convex portion formed in the layer (ca) by the particles (a2) of the water repellent layer. Particles (a2e) and a layer (cae) containing a resin obtained by curing a compound (a1e) having at least one (meth) acryloyl group, and the particles (a2e) are particles of the layer (cae). It is preferable that a convex portion is formed on the surface opposite to the a2) side.
Hereinafter, the transmission filter having the above configuration is also referred to as a “transmission filter of the second aspect”.

第2の態様の透過フィルターの好ましい実施形態の一例を図2に示す。
図2の透過フィルター11は、基材9と撥水性層2とを有する。撥水性層2は、粒子(a2)(符号3)と層(ca)(符号4)を含む。粒子(a2)は層(ca)の表面に凸部を形成している。更に、この凸部の粒子(a2)の表面上に、粒子(a2)よりも小さい平均一次粒径の粒子(a2e)(符号3e)と、層(cae)(符号4e)とを有し、粒子(a2e)は、層(cae)の粒子(a2)側とは反対側の表面に凸部を形成している。
第2の態様の透過フィルターにおいても、図1の透過フィルター10と同様に、粒子(a2)を含む凸部と、凸部と凸部の間の凹部とを含んでなり、隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、上記隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aが0.50より大きい。また、この凹凸形状の好ましい範囲は前述したものと同様である。
なお、凸部の頂点とは、基材の面内方向に直交する方向において基材から最も遠い点であり、図2のように凸部が粒子(a2)とその上に配置された粒子(a2e)を含む場合は、凸部の頂点は粒子(a2e)上に存在する。
FIG. 2 shows an example of a preferred embodiment of the transmission filter of the second aspect.
The transmission filter 11 of FIG. 2 has a base material 9 and a water-repellent layer 2. The water-repellent layer 2 includes particles (a2) (reference numeral 3) and layer (ca) (reference numeral 4). The particles (a2) form convex portions on the surface of the layer (ca). Further, on the surface of the convex particles (a2), particles (a2e) (reference numeral 3e) having an average primary particle size smaller than those of the particles (a2) and layers (cae) (reference numeral 4e) are provided. The particles (a2e) form convex portions on the surface of the layer (cae) opposite to the particles (a2) side.
Similarly to the transmission filter 10 of FIG. 1, the transmission filter of the second aspect also includes a convex portion containing the particles (a2) and a concave portion between the convex portions, and has adjacent convex portions. B / A, which is the ratio of the distance A between the vertices and the distance B between the center between the vertices of the adjacent convex portions and the concave portion, is larger than 0.50. Further, the preferable range of this uneven shape is the same as that described above.
The apex of the convex portion is the point farthest from the substrate in the direction orthogonal to the in-plane direction of the substrate, and the convex portion is the particle (a2) and the particles arranged on the particle (a2) as shown in FIG. When a2e) is included, the apex of the convex portion exists on the particle (a2e).

本発明の透過フィルターは、第2の態様の構成とすることで、水滴の存在できる領域が更に限定され、撥水部のみで水滴が接触されることから、撥水性が更に向上するものと推察される。 It is presumed that the transmission filter of the present invention is further improved in water repellency because the region where water droplets can exist is further limited and the water droplets are brought into contact with only the water repellent portion by the configuration of the second aspect. Will be done.

<層(cae)>
層(cae)は、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有する化合物(a1e)(「化合物(a1e)」とも呼ぶ。)を硬化した樹脂を含む層である。
化合物(a1e)は、上述の化合物(a1)と同様である。
<Layer (cae)>
The layer (cae) is a layer containing a resin obtained by curing a compound (a1e) having at least one (meth) acryloyl group (also referred to as “compound (a1e)”).
The compound (a1e) is the same as the above-mentioned compound (a1).

層(cae)は、化合物(a1e)を硬化した樹脂以外の成分を更に含むことができ、具体的には、上述の層(ca)に含みうる成分が挙げられる。 The layer (cae) can further contain components other than the resin obtained by curing the compound (a1e), and specific examples thereof include components that can be contained in the above-mentioned layer (ca).

<粒子(a2e)>
粒子(a2e)は、粒子(a2)よりも小さい平均一次粒径を有する粒子である。
撥水性の観点から、粒子(a2e)の平均一次粒径は、5〜50nmであることが好ましく、10〜45nmであることがより好ましく、15〜40nmであることが更に好ましい。
粒子(a2e)としては、金属酸化物粒子、樹脂粒子、金属酸化物粒子のコアと樹脂のシェルを有する有機無機ハイブリッド粒子などが挙げられるが、膜強度に優れる観点から金属酸化物粒子が好ましい。
金属酸化物粒子としては、シリカ粒子、チタニア粒子、ジルコニア粒子、五酸化アンチモン粒子などが挙げられるが、分散性および沈降性の観点からシリカ粒子が好ましく、未焼成シリカ粒子であることが好ましい。
樹脂粒子としては、ポリメタクリル酸メチル粒子、ポリスチレン粒子、メラミン粒子などが挙げられる。
<Particle (a2e)>
The particles (a2e) are particles having an average primary particle size smaller than that of the particles (a2).
From the viewpoint of water repellency, the average primary particle size of the particles (a2e) is preferably 5 to 50 nm, more preferably 10 to 45 nm, and even more preferably 15 to 40 nm.
Examples of the particles (a2e) include metal oxide particles, resin particles, and organic-inorganic hybrid particles having a core of metal oxide particles and a resin shell, and metal oxide particles are preferable from the viewpoint of excellent film strength.
Examples of the metal oxide particles include silica particles, titania particles, zirconia particles, antimony pentoxide particles, etc., but silica particles are preferable from the viewpoint of dispersibility and precipitation, and unfired silica particles are preferable.
Examples of the resin particles include polymethyl methacrylate particles, polystyrene particles, melamine particles and the like.

粒子(a2e)として、1種のみ使用してもよいし、平均一次粒径の異なる2種以上の粒子を用いてもよいし、粒子を構成する成分が異なる2種以上の粒子を用いてもよい。 As the particles (a2e), only one type may be used, two or more types of particles having different average primary particle sizes may be used, or two or more types of particles having different constituent components may be used. Good.

粒子(a2e)の平均一次粒径は、体積平均粒径の累積の50%粒径を指す。粒径は、上記粒子(a2)と同様にして測定できる。 The average primary particle size of the particles (a2e) refers to a cumulative 50% particle size of the volume average particle size. The particle size can be measured in the same manner as the above particles (a2).

粒子(a2e)の形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。
粒子(a2e)は、中実粒子であっても、中空粒子であってもよいが、中実粒子であることが好ましい。
また、シリカ粒子については、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよい。
The shape of the particles (a2e) is most preferably spherical, but there is no problem even if the shape is other than spherical such as indeterminate form.
The particles (a2e) may be solid particles or hollow particles, but are preferably solid particles.
Further, the silica particles may be either crystalline or amorphous.

粒子(a2e)は作製過程における塗布液中での分散性向上、強度向上、凝集防止のために表面処理された無機微粒子を使用することが好ましい。表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開2007−298974号公報の<0119>〜<0147>に記載のものと同様である。
特に、バインダーである化合物(a1e)を硬化した樹脂との結着性を付与し、強度を向上させる観点から、粒子表面を不飽和二重結合および粒子表面と反応性を有する官能基を有する化合物で表面修飾し、粒子表面に不飽和二重結合を付与することが好ましい。表面修飾に用いる化合物としては、化合物(a1e)として上述した、(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤を好適に用いることができる。
As the particles (a2e), it is preferable to use surface-treated inorganic fine particles in order to improve dispersibility in the coating liquid, improve strength, and prevent aggregation in the production process. Specific examples of the surface treatment method and preferable examples thereof are the same as those described in <0119> to <0147> of JP-A-2007-298974.
In particular, from the viewpoint of imparting the binding property of the binder compound (a1e) to the cured resin and improving the strength, the compound having an unsaturated double bond on the particle surface and a functional group having reactivity with the particle surface. It is preferable to modify the surface with (1) to impart an unsaturated double bond to the particle surface. As the compound used for surface modification, the above-mentioned silane coupling agent having a (meth) acryloyl group as the compound (a1e) can be preferably used.

粒子(a2e)の具体的な例としては、MEK−ST(コロイダルシリカ、平均一次粒径15nm)、MEK−AC−2140Z(アクリル修飾コロイダルシリカ、平均一次粒径15nm),MEK−ST−L(コロイダルシリカ、平均一次粒径45nm),MEK−AC−4130Y(アクリル修飾コロイダルシリカ、平均一次粒径45nm)で以上日産化学工業(株)製などを好ましく用いることができる。 Specific examples of the particles (a2e) include MEK-ST (coloidal silica, average primary particle size 15 nm), MEK-AC-2140Z (acrylic modified colloidal silica, average primary particle size 15 nm), MEK-ST-L ( Colloidal silica with an average primary particle size of 45 nm) and MEK-AC-4130Y (acrylic modified colloidal silica with an average primary particle size of 45 nm) can preferably be manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. or the like.

粒子(a2e)としては、粒径の分散度(CV値)が5%未満の単分散シリカ微粒子を一種類のみ含有することが好ましい。CV値は粒子(a2)と同様の方法で測定できる。 As the particles (a2e), it is preferable that only one type of monodisperse silica fine particles having a particle size dispersion (CV value) of less than 5% is contained. The CV value can be measured by the same method as that of the particle (a2).

粒子単分散性の観点から、粒子(a2e)の押し込み硬度は400MPa未満であることが好ましく、10〜350MPaであることがより好ましく、50〜300MPaであることが更に好ましい。
粒子(a2e)の押し込み硬度は、粒子(a2)の押し込み硬度と同様の方法で測定することができる。
From the viewpoint of particle monodispersity, the indentation hardness of the particles (a2e) is preferably less than 400 MPa, more preferably 10 to 350 MPa, and even more preferably 50 to 300 MPa.
The indentation hardness of the particles (a2e) can be measured in the same manner as the indentation hardness of the particles (a2).

(水の接触角)
本発明の透過フィルターは、撥水性層の基材側とは反対側の表面の水の接触角が120°以上である。本発明の透過フィルターの撥水性層は、表面に特定の凹凸形状を有することにより、優れた撥水性を付与することができるものと本発明者らは推察している。
本発明の透過フィルターの撥水性層の水の接触角は125°以上であることが好ましく、130°以上であることがより好ましく、135°以上であることが更に好ましい。
(Water contact angle)
In the transmission filter of the present invention, the contact angle of water on the surface of the water-repellent layer opposite to the substrate side is 120 ° or more. The present inventors speculate that the water-repellent layer of the transmission filter of the present invention can impart excellent water repellency by having a specific uneven shape on the surface.
The water contact angle of the water-repellent layer of the transmission filter of the present invention is preferably 125 ° or more, more preferably 130 ° or more, and even more preferably 135 ° or more.

(水の滑落角)
本発明の透過フィルターは、撥水性層の基材側とは反対側の表面の水の滑落角が30°以下であることが好ましい。
液浸露光装置の稼働においては、露光前に液浸液としての水を投影光学系の下面とウエハ表面との間に付与し、露光後に水を吸引除去するという操作を繰り返しており、上記操作に要する時間が短いほど生産性が高く好ましい。また、水が光学系のレンズの下面とウエハ表面との間に長時間残存すると、水中に溶出したウエハに由来する成分によりレンズが汚染される場合がある。
水の滑落角を30°以下とし水の除去性を高めると、水の付与及び吸引除去操作時間を短縮できるため生産性が向上し、光学系のレンズの汚染を防止することができるため好ましい。
本発明の透過フィルターの撥水性層の基材側とは反対側の表面の水の滑落角は、20°以下であることがより好ましい。
(Water sliding angle)
In the transmission filter of the present invention, it is preferable that the sliding angle of water on the surface of the water-repellent layer opposite to the base material side is 30 ° or less.
In the operation of the immersion exposure apparatus, the operation of applying water as an immersion liquid between the lower surface of the projection optical system and the surface of the wafer before exposure and sucking and removing water after exposure is repeated. The shorter the time required for the immersion, the higher the productivity, which is preferable. Further, if water remains between the lower surface of the lens of the optical system and the surface of the wafer for a long time, the lens may be contaminated by the components derived from the wafer eluted in the water.
It is preferable to set the sliding angle of water to 30 ° or less to improve the water removability because the time required for water application and suction removal can be shortened, so that productivity can be improved and contamination of the lens of the optical system can be prevented.
It is more preferable that the sliding angle of water on the surface of the water-repellent layer of the transmission filter of the present invention opposite to the base material side is 20 ° or less.

本発明の透過フィルターは、露光装置の生産性向上のため水除去速度を速める観点から、
基材上の撥水性層と同一面内に親水性層を有し、
撥水性層及び親水性層は面内方向に交互に配置されており、
面内方向に直交する方向から見た場合の撥水性層及び親水性層の形が三角形であり、
親水性層が、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有しフッ素原子を含まない化合物(a1)を硬化した樹脂を含む層(ca)と、平均一次粒径が150nm以下の粒子(a2)とを含み、
親水性層の基材側とは反対側の表面は、粒子(a2)によって形成される凸部と、凸部間の凹部とを有し、
親水性層の隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aが0.50より大きく、
距離Aが315nm以下であり、
親水性層の基材側とは反対側の水の接触角が20°以下である、ことが好ましい。
The transmission filter of the present invention is used from the viewpoint of increasing the water removal rate in order to improve the productivity of the exposure apparatus.
Having a hydrophilic layer in the same plane as the water-repellent layer on the substrate,
The water-repellent layer and the hydrophilic layer are alternately arranged in the in-plane direction.
The shape of the water-repellent layer and the hydrophilic layer when viewed from the direction orthogonal to the in-plane direction is triangular.
The hydrophilic layer includes a layer (ca) containing a resin obtained by curing a compound (a1) having at least one (meth) acryloyl group and containing no fluorine atom, and particles (a2) having an average primary particle size of 150 nm or less. Including
The surface of the hydrophilic layer on the side opposite to the base material side has a convex portion formed by the particles (a2) and a concave portion between the convex portions.
B / A, which is the ratio of the distance A between the vertices of the adjacent convex portions of the hydrophilic layer to the distance B between the center and the concave portion between the vertices of the adjacent convex portions, is larger than 0.50.
The distance A is 315 nm or less,
It is preferable that the contact angle of water on the side opposite to the base material side of the hydrophilic layer is 20 ° or less.

上記親水性層の構成は、含フッ素共重合体(c)の反応物を含まないこと以外は撥水性層と同様であり、含フッ素共重合体(c)を用いないこと以外は撥水性層と同様の方法で形成することができる。 The constitution of the hydrophilic layer is the same as that of the water-repellent layer except that it does not contain the reactant of the fluorine-containing copolymer (c), and the water-repellent layer except that the fluorine-containing copolymer (c) is not used. It can be formed in the same manner as above.

上記の構成を有する透過フィルターを、「撥水/親水パターンを有する透過フィルター」とも呼ぶ。 A transmission filter having the above configuration is also referred to as a "transmission filter having a water-repellent / hydrophilic pattern".

撥水/親水パターンを有する透過フィルターの好ましい実施形態の一例を図3に示す。 FIG. 3 shows an example of a preferred embodiment of a transmission filter having a water repellent / hydrophilic pattern.

前述のように、本発明の透過フィルターは、液浸露光装置に適用すること好ましい。
図4は、本発明の透過フィルターを液浸露光装置の光学系のレンズに適用した状態を示す模式図である。図4では、レンズ54の液浸液側(露光光線が透過する部分)の表面54A及び側面54Bに、本発明の透過フィルター55を、基材の撥水性層を有する側とは反対側の表面が、光学的に接触するように設置している。
本発明の透過フィルターが、図1又は図2に示すような親水性層を有さない透過フィルターである場合、図4のレンズの側面54Bに光学的に接している部分のレンズから遠い側の表面に撥水性層が設けられることが好ましく、この場合はレンズの表面54Aに光学的に接している部分のレンズから遠い側の表面には親水性層が設けられてもよい。また、前述の撥水/親水パターンを設けてもよい。
本発明の透過フィルターが、撥水/親水パターンを有する透過フィルターである場合には、図4のレンズの表面54Aに光学的に接している部分のレンズから遠い側の表面には撥水/親水パターンが設けられることが好ましく、この場合はレンズの側面54Bに光学的に接している部分のレンズから遠い側の表面に撥水性層が設けられることが好ましい。
As described above, the transmission filter of the present invention is preferably applied to an immersion exposure apparatus.
FIG. 4 is a schematic view showing a state in which the transmission filter of the present invention is applied to the lens of the optical system of the immersion exposure apparatus. In FIG. 4, the transmission filter 55 of the present invention is applied to the surface 54A and the side surface 54B on the immersion side (the portion through which the exposure light is transmitted) of the lens 54, and the surface opposite to the side having the water-repellent layer of the base material. However, it is installed so as to make optical contact.
When the transmission filter of the present invention is a transmission filter having no hydrophilic layer as shown in FIG. 1 or 2, the side far from the lens of the portion optically in contact with the side surface 54B of the lens of FIG. 4 A water-repellent layer is preferably provided on the surface, and in this case, a hydrophilic layer may be provided on the surface of the portion of the lens that is in optical contact with the surface 54A on the side far from the lens. Moreover, the above-mentioned water-repellent / hydrophilic pattern may be provided.
When the transmission filter of the present invention is a transmission filter having a water-repellent / hydrophilic pattern, the surface of the portion optically in contact with the surface 54A of the lens of FIG. 4 is water-repellent / hydrophilic on the surface far from the lens. It is preferable that a pattern is provided, and in this case, a water-repellent layer is preferably provided on the surface of the portion that is optically in contact with the side surface 54B of the lens on the side far from the lens.

[透過フィルターの製造方法]
本発明の透過フィルターの製造方法は特に制限されず、
仮支持体上に、平均一次粒径が150nm以下の粒子(a2)と、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有しフッ素原子を含まない化合物(a1)と、フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体とを、上記化合物(a1)を含む層(a)中に上記粒子(a2)が埋没する厚みで設ける工程(1)、
上記層(a)の一部を硬化させて層(ca)を得る工程(2)、
支持体及び上記支持体上に粘着剤を含む層(b)を有する粘着フィルムの上記層(b)を、上記層(ca)と貼り合わせる工程(3)、
上記粒子(a2)が、上記層(ca)及び上記層(b)を合わせた層中に埋没し、かつ、上記層(ca)の上記支持体側の界面から突出するように、上記層(ca)の上記支持体側の界面の位置を上記仮支持体側に近づける工程(4)、
上記仮支持体を剥離する工程(5)、
上記層(ca)と、基材とを貼り合せる工程(6)、
上記粒子(a2)が、上記層(ca)と、上記層(b)とを合わせた層中に埋没した状態で上記層(ca)を硬化させる工程(7)、
上記粘着フィルムを剥離する工程(8)、
をこの順に有する製造方法により製造されることが好ましい。
[Manufacturing method of transmission filter]
The method for producing the transmission filter of the present invention is not particularly limited.
The temporary support has particles (a2) having an average primary particle size of 150 nm or less, a compound (a1) having at least one (meth) acryloyl group and not containing a fluorine atom, and a fluoroalkyl group and a bridging group. Step (1) of providing the fluorine-containing copolymer with a thickness at which the particles (a2) are embedded in the layer (a) containing the compound (a1).
Step (2) of obtaining a layer (ca) by curing a part of the layer (a).
Step (3) of laminating the layer (b) of the adhesive film having the support and the layer (b) containing the adhesive on the support with the layer (ca).
The layer (ca) is buried in the combined layer of the layer (ca) and the layer (b), and the particles (a2) protrude from the interface of the layer (ca) on the support side. ), The step (4) of bringing the position of the interface on the support side closer to the temporary support side.
Step (5) of peeling off the temporary support,
Step (6) of bonding the above layer (ca) and the base material,
A step (7) of curing the layer (ca) in a state where the particles (a2) are buried in a layer in which the layer (ca) and the layer (b) are combined.
Step (8) of peeling the adhesive film,
Is preferably produced by a production method having the above in this order.

上記製造方法において、上記工程(4)と上記工程(5)との間に、上記粒子(a2)が、上記層(ca)及び上記層(b)を合わせた層中に埋没した状態で上記層(ca)の一部を硬化させる工程(4−2)を有することが好ましい。 In the above-mentioned manufacturing method, the above-mentioned particles (a2) are buried in a layer in which the above-mentioned layer (ca) and the above-mentioned layer (b) are combined between the above-mentioned step (4) and the above-mentioned step (5). It is preferable to have a step (4-2) of curing a part of the layer (ca).

更に、工程(8)の後に、上記粒子(a2)が、上記層(ca)の上記基材側の界面とは反対側の界面から突出した状態で、上記層(ca)を硬化させる工程(9)、
溶剤で洗浄する工程(10)
をこの順に有することがより好ましい。
Further, after the step (8), the step of curing the layer (ca) in a state where the particles (a2) protrude from the interface on the side opposite to the interface on the base material side of the layer (ca) (ca). 9),
Step of cleaning with solvent (10)
Is more preferable to have in this order.

本発明において、「層(a)中に粒子(a2)が埋没」するということは、層(a)の厚みが粒子(a2)の平均一次粒径の0.8倍以上であることを表すものである。
また、本発明において、「粒子(a2)が、層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没」するということは、層(ca)及び層(b)を合わせた層の厚みが粒子(a2)の平均一次粒径の0.8倍以上であることを表すものである。
In the present invention, "the particles (a2) are buried in the layer (a)" means that the thickness of the layer (a) is 0.8 times or more the average primary particle size of the particles (a2). It is a thing.
Further, in the present invention, "the particles (a2) are buried in the layer in which the layer (ca) and the layer (b) are combined" means that the thickness of the layer in which the layer (ca) and the layer (b) are combined is used. Indicates that is 0.8 times or more the average primary particle size of the particles (a2).

本発明では、工程(1)において、粒子(a2)が埋没する厚みで層(a)を形成するため、工程(4)以降において、粒子(a2)の層(ca)から突出した表面を層(ca)の薄層が被覆する場合がある。上記薄層が被覆した粒子(a2)のことも、便宜上粒子(a2)と呼ぶものとする。 In the present invention, in the step (1), the layer (a) is formed with a thickness in which the particles (a2) are buried. Therefore, in the step (4) and thereafter, the surface protruding from the layer (ca) of the particles (a2) is layered. A thin layer of (ca) may cover. The particles (a2) coated with the thin layer are also referred to as particles (a2) for convenience.

まず、本発明の透過フィルターの製造方法の概要を図5及び6を用いて説明する。
図5及び6は、本発明の透過フィルターの製造方法の好ましい実施形態の一例を示す模式図である。
図5の(1)は、工程(1)において、仮支持体1上に、化合物(a1)を含む層(a)(図5中の符号4)中に平均一次粒径が150nm以下の粒子(a2)(図5中の符号3)が埋没する厚みで設けた状態を模式的に表している。
First, an outline of the method for manufacturing a transmission filter of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 and 6.
5 and 6 are schematic views showing an example of a preferred embodiment of the method for manufacturing a transmission filter of the present invention.
FIG. 5 (1) shows particles having an average primary particle size of 150 nm or less in the layer (a) (reference numeral 4 in FIG. 5) containing the compound (a1) on the temporary support 1 in the step (1). A state in which (a2) (reference numeral 3 in FIG. 5) is provided with a thickness to be buried is schematically shown.

図5の(2)は、工程(2)において、粒子(a2)が層(a)中に埋没した状態で層(a)の一部を硬化しているところを模式的に表している。これにより層(a)の一部を硬化させて層(ca)を得る。なお、図5及び図6において、便宜上、層(a)も層(ca)も同じ符号4で表している。また、「UV」は紫外線を示している。 (2) of FIG. 5 schematically shows a part of the layer (a) being cured in a state where the particles (a2) are buried in the layer (a) in the step (2). As a result, a part of the layer (a) is cured to obtain the layer (ca). In FIGS. 5 and 6, for convenience, both the layer (a) and the layer (ca) are represented by the same reference numerals 4. In addition, "UV" indicates ultraviolet rays.

図5の(3)は、工程(3)において、支持体5及び上記支持体5上に粘着剤を含む層(b)(図5中の符号6)を有する粘着フィルム7の層(b)を、層(ca)(図5中の符号4)と貼り合わせた状態を模式的に表している。 FIG. 5 (3) shows the layer (b) of the pressure-sensitive adhesive film 7 having the support 5 and the layer (b) containing the pressure-sensitive adhesive (reference numeral 6 in FIG. 5) on the support 5 and the support 5 in the step (3). Is schematically shown in a state in which is bonded to the layer (ca) (reference numeral 4 in FIG. 5).

図5の(4)は、工程(4)において、粒子(a2)が、層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没し、かつ、層(ca)の支持体側の界面(層(ca)と層(b)の界面)から突出するように、層(ca)の支持体側の界面の位置を仮支持体側に近づけた状態を模式的に表している。なお、後述するように、層(ca)の支持体側の界面の位置を仮支持体側に近づける方法としては、化合物(a1)の一部を仮支持体に浸透(仮支持体が機能層を有する場合は機能層に浸透してもよい)させる方法、又は化合物(a1)の一部を粘着剤を含む層(b)に浸透させる方法が挙げられる。 In FIG. 5 (4), in the step (4), the particles (a2) are buried in the combined layer of the layer (ca) and the layer (b), and the interface of the layer (ca) on the support side ( The state in which the position of the interface on the support side of the layer (ca) is brought closer to the temporary support side so as to project from the interface between the layer (ca) and the layer (b)) is schematically shown. As will be described later, as a method of bringing the interface of the layer (ca) on the support side closer to the temporary support side, a part of the compound (a1) permeates the temporary support (the temporary support has a functional layer). In this case, it may permeate the functional layer), or a method of permeating a part of the compound (a1) into the layer (b) containing the adhesive.

図5の(4−2)は、工程(4−2)において、粒子(a2)が層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没した状態で層(ca)の一部をさらに硬化しているところを模式的に表している。 In FIG. 5 (4-2), a part of the layer (ca) is formed in a state where the particles (a2) are buried in the combined layer of the layer (ca) and the layer (b) in the step (4-2). The part that is further cured is schematically shown.

図5の(5)は、仮支持体1を剥離する工程(5)において、仮支持体1を剥離した後の状態(積層体8)を表している。
なお、工程(4−2)は必須ではないため、工程(4)の後、工程(4−2)を行わずに工程(5)を行ってもよい。
FIG. 5 (5) shows a state (laminated body 8) after the temporary support 1 is peeled off in the step (5) of peeling the temporary support 1.
Since the step (4-2) is not essential, the step (5) may be performed after the step (4) without performing the step (4-2).

図6の(6)は、工程(6)において、基材9を上記積層体8中の層(ca)(図6中の符号4)と貼り合せた状態を模式的に表している。 FIG. 6 (6) schematically shows a state in which the base material 9 is bonded to the layer (ca) (reference numeral 4 in FIG. 6) in the laminated body 8 in the step (6).

図6の(7)は、工程(7)において、粒子(a2)が層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没した状態で層(ca)をさらに硬化しているところを模式的に表している。 FIG. 6 (7) shows that the layer (ca) is further cured in the step (7) with the particles (a2) buried in the combined layer of the layer (ca) and the layer (b). It is represented schematically.

図6の(8)は、粘着フィルム7を剥離する工程(8)において、粘着フィルム7を剥離した後の状態を模式的に表している。工程(8)は上記積層体8から粘着フィルム7を剥離し、上記積層体8中の粒子(a2)(図6中の符号3)と層(ca)(図6中の符号4)を含む部分(図6中の符号2)を基材9上に転写する工程である。粒子(a2)と層(ca)を含む部分は、粒子(a2)が層(ca)の一方の表面から突出しており、所望の凹凸形状(好ましくはモスアイ構造)を形成している。すなわち、粒子(a2)と層(ca)を含む部分は撥水性層である。工程(8)により、基材上に、粒子(a2)と層(ca)からなる凹凸形状を有する撥水性層を有する透過フィルター10が得られる。工程(8)が完了した段階で透過フィルター10を得ることができるが、さらに工程(9)及び(10)を行うことが好ましい。 FIG. 6 (8) schematically shows a state after the adhesive film 7 is peeled off in the step (8) of peeling the adhesive film 7. The step (8) peels off the adhesive film 7 from the laminated body 8 and includes the particles (a2) (reference numeral 3 in FIG. 6) and the layer (ca) (reference numeral 4 in FIG. 6) in the laminated body 8. This is a step of transferring the portion (reference numeral 2 in FIG. 6) onto the base material 9. In the portion containing the particles (a2) and the layer (ca), the particles (a2) protrude from one surface of the layer (ca) to form a desired uneven shape (preferably a moth-eye structure). That is, the portion containing the particles (a2) and the layer (ca) is a water-repellent layer. By the step (8), a transmission filter 10 having a water-repellent layer having a concavo-convex shape composed of particles (a2) and a layer (ca) is obtained on the base material. Although the transmission filter 10 can be obtained when the step (8) is completed, it is preferable to further perform the steps (9) and (10).

図6の(9)は、工程(9)において、粒子(a2)が層(ca)の基材側の界面とは反対側の界面から突出した状態で層(ca)をさらに硬化しているところを模式的に表している。 In FIG. 6 (9), the layer (ca) is further cured in the step (9) with the particles (a2) protruding from the interface on the side opposite to the interface on the substrate side of the layer (ca). However, it is schematically represented.

図6の(10)は、工程(10)において、溶剤洗浄をした後の状態の透過フィルター10を表している。 FIG. 6 (10) shows the permeation filter 10 in the state after solvent cleaning in the step (10).

以下、本発明の透過フィルターの好ましい製造方法の各工程について更に詳細に説明する。 Hereinafter, each step of the preferable manufacturing method of the transmission filter of the present invention will be described in more detail.

[工程(1)]
工程(1)は、仮支持体上に、化合物(a1)と平均一次粒径が150nm以下の粒子(a2)とフルオロアルキル基および架橋基を有する含フッ素共重合体を0.05質量%以上含み、化合物(a1)を含む層(a)中に粒子(a2)が埋没する厚みで設ける工程である。
前述のように、本発明において、「層(a)中に粒子(a2)が埋没する厚み」とは、粒子(a2)の平均一次粒径の0.8倍以上の厚みを表すものとする。
[Step (1)]
In the step (1), 0.05% by mass or more of the compound (a1), particles (a2) having an average primary particle size of 150 nm or less, and a fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group are placed on the temporary support. This is a step of providing the particles (a2) with a thickness of being buried in the layer (a) containing the compound (a1).
As described above, in the present invention, the "thickness in which the particles (a2) are buried in the layer (a)" means a thickness of 0.8 times or more the average primary particle size of the particles (a2). ..

工程(1)において、仮支持体上に層(a)を設ける方法は特に限定されず、仮支持体上に層(a)を塗布することにより設けることが好ましい。この場合、層(a)は、化合物(a1)と、平均一次粒径が150nm以下の粒子(a2)とフルオロアルキル基および架橋基を有する含フッ素共重合体を0.05質量%以上含む層(a)形成用組成物を塗布してなる層である。塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。 In the step (1), the method of providing the layer (a) on the temporary support is not particularly limited, and it is preferable to provide the layer (a) by applying the layer (a) on the temporary support. In this case, the layer (a) contains 0.05% by mass or more of the compound (a1), particles (a2) having an average primary particle size of 150 nm or less, and a fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group. (A) A layer formed by applying a forming composition. The coating method is not particularly limited, and a known method can be used. For example, a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a die coating method and the like can be mentioned.

工程(1)で仮支持体上に設けられた層(a)において、層(a)の表面に直交する方向には粒子(a2)が複数存在しないことが好ましい。ここで、層(a)の表面に直交する方向には粒子(a2)が複数存在しないとは、層(a)の面内の10μm×10μmを走査型電子顕微鏡(SEM)で3視野観察した際に、表面に直交する方向に複数重なって存在していない状態の粒子(a2)の個数の割合が、80%以上であることを表し、好ましくは95%以上である。 In the layer (a) provided on the temporary support in the step (1), it is preferable that a plurality of particles (a2) do not exist in the direction orthogonal to the surface of the layer (a). Here, the fact that a plurality of particles (a2) do not exist in the direction orthogonal to the surface of the layer (a) means that 10 μm × 10 μm in the plane of the layer (a) was observed in three fields with a scanning electron microscope (SEM). At that time, the ratio of the number of particles (a2) in a state in which a plurality of particles (a2) are not present in a direction orthogonal to the surface is 80% or more, and is preferably 95% or more.

(仮支持体)
仮支持体としては表面が平滑な支持体であれば特に限定されない。仮支持体は、表面粗さが30nm以下程度の表面平坦性を有し、上記層(a)形成用組成物の塗布を妨げないものであることが好ましく、種々の材質からなる仮支持体を用いることができるが、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムやシクロオレフィン系樹脂フィルムが好ましく用いられる。
本発明において、表面粗さはSPA−400(日立ハイテクノサイエンス製)を使用し、測定範囲5μm×5μm、測定モード:DFM、測定周波数:2Hzの測定条件で測定する。
(Temporary support)
The temporary support is not particularly limited as long as it has a smooth surface. The temporary support preferably has a surface roughness of about 30 nm or less and does not interfere with the application of the composition for forming the layer (a), and is a temporary support made of various materials. Although it can be used, for example, a polyethylene terephthalate (PET) film or a cycloolefin resin film is preferably used.
In the present invention, the surface roughness is measured by using SPA-400 (manufactured by Hitachi High-TechnoScience) under the measurement conditions of a measurement range of 5 μm × 5 μm, a measurement mode: DFM, and a measurement frequency: 2 Hz.

(層(a))
層(a)は、化合物(a1)を含む層である。
層(a)に含まれる化合物(a1)は、硬化されることで、撥水性層中の樹脂(バインダー樹脂)となり得るものである。
工程(1)における層(a)の膜厚は、粒子(a2)の平均一次粒径の0.8倍以上2.0倍以下であることが好ましく、0.8倍以上1.5倍以下であることがより好ましく、0.9倍以上1.2倍以下であることが更に好ましい。
(Layer (a))
The layer (a) is a layer containing the compound (a1).
The compound (a1) contained in the layer (a) can become a resin (binder resin) in the water-repellent layer by being cured.
The film thickness of the layer (a) in the step (1) is preferably 0.8 times or more and 2.0 times or less, and 0.8 times or more and 1.5 times or less the average primary particle size of the particles (a2). It is more preferable that it is 0.9 times or more and 1.2 times or less.

層(a)に含まれる化合物(a1)の塗設量は、100mg/m〜800mg/mが好ましく、100mg/m〜600mg/mがさらに好ましく、100mg/m〜400mg/mが最も好ましい。
また、化合物(a1)と重合性官能基を有さない化合物とを併用する場合は、これらの合計の塗設量が上記範囲であることが好ましい。
Layer coating amount of the compound contained in (a) (a1) is preferably from 100mg / m 2 ~800mg / m 2 , more preferably 100mg / m 2 ~600mg / m 2 , 100mg / m 2 ~400mg / m 2 is the most preferable.
When the compound (a1) and the compound having no polymerizable functional group are used in combination, the total coating amount of these compounds is preferably in the above range.

粒子(a2)の塗設量は、50mg/m〜200mg/mが好ましく、100mg/m〜180mg/mがさらに好ましく、130mg/m〜170mg/mが最も好ましい。下限以上では、モスアイ構造の凸部が数多く形成できるため光透過性及び撥水性がより向上しやすく、上限以下であると、液中での凝集が生じにくく、良好なモスアイ構造を形成しやすい。The coating amount of the particles (a2) is preferably from 50mg / m 2 ~200mg / m 2 , more preferably 100mg / m 2 ~180mg / m 2 , 130mg / m 2 ~170mg / m 2 is most preferred. Above the lower limit, many convex portions of the moth-eye structure can be formed, so that light transmission and water repellency are more likely to be improved. When the value is lower than the upper limit, aggregation in the liquid is less likely to occur, and a good moth-eye structure is easily formed.

層(a)は、化合物(a1)及び粒子(a2)以外に、フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体(含フッ素共重合体(c))を含む。含フッ素共重合体(c)は前述したとおりである。 The layer (a) contains a fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group (fluorine-containing copolymer (c)) in addition to the compound (a1) and the particles (a2). The fluorine-containing copolymer (c) is as described above.

層(a)は、化合物(a1)、粒子(a2)及び含フッ素共重合体(c)に加えて、これら以外の成分を含有していてもよく、たとえば、前述の重合性官能基を有さない化合物、溶剤、重合開始剤、粒子(a2)の分散剤、レベリング剤、防汚剤、金属キレート触媒等を含有していてもよい。 The layer (a) may contain components other than these in addition to the compound (a1), the particles (a2) and the fluorine-containing copolymer (c), and has, for example, the above-mentioned polymerizable functional group. It may contain a compound, a solvent, a polymerization initiator, a dispersant for particles (a2), a leveling agent, an antifouling agent, a metal chelate catalyst, and the like.

<溶剤>
溶媒としては、粒子(a2)と極性が近いものを選ぶのが分散性を向上させる観点で好ましい。具体的には、例えば粒子(a2)が金属酸化物粒子の場合にはアルコール系の溶剤が好ましく、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノールなどが挙げられる。また、例えば粒子(a2)が疎水化表面修飾がされた金属樹脂粒子の場合には、ケトン系、エステル系、カーボネート系、アルカン、芳香族系等の溶剤が好ましく、メチルエチルケトン(MEK)、炭酸ジメチル、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド、シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらの溶剤は、分散性を著しく悪化させない範囲で複数種混ぜて用いてもかまわない。
<Solvent>
As the solvent, it is preferable to select a solvent having a polarity close to that of the particles (a2) from the viewpoint of improving dispersibility. Specifically, for example, when the particles (a2) are metal oxide particles, an alcohol-based solvent is preferable, and methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, and the like can be mentioned. Further, for example, when the particles (a2) are hydrophobic surface-modified metal resin particles, a solvent such as a ketone type, an ester type, a carbonate type, an alkane, or an aromatic type solvent is preferable, and methyl ethyl ketone (MEK) or dimethyl carbonate , Methyl acetate, acetone, methylene chloride, cyclohexanone and the like. A plurality of these solvents may be mixed and used as long as the dispersibility is not significantly deteriorated.

<粒子(a2)の分散剤>
粒子(a2)の分散剤は、粒子同士の凝集力を低下させることにより、粒子(a2)を均一に配置させ易くすることができる。分散剤としては、特に限定されず、硫酸塩、リン酸塩などのアニオン性化合物、脂肪族アミン塩、四級アンモニウム塩などのカチオン性化合物、非イオン性化合物、高分子化合物が好ましく、吸着基と立体反発基それぞれの選択の自由度が高いため高分子化合物がより好ましい。分散剤としては市販品を用いることもできる。例えば、ビックケミー・ジャパン(株)製のDISPERBYK160、DISPERBYK161、DISPERBYK162、DISPERBYK163、DISPERBYK164、DISPERBYK166、DISPERBYK167、DISPERBYK171、DISPERBYK180、DISPERBYK182、DISPERBYK2000、DISPERBYK2001、DISPERBYK2164、Bykumen、BYK−2009、BYK−P104、BYK−P104S、BYK−220S、Anti−Terra203、Anti−Terra204、Anti−Terra205(以上商品名)などが挙げられる。
<Dispersant for particles (a2)>
The dispersant of the particles (a2) can facilitate uniform arrangement of the particles (a2) by reducing the cohesive force between the particles. The dispersant is not particularly limited, and anionic compounds such as sulfates and phosphates, cationic compounds such as aliphatic amine salts and quaternary ammonium salts, nonionic compounds and polymer compounds are preferable, and adsorbing groups are preferable. A polymer compound is more preferable because the degree of freedom in selecting each of the steric repulsive groups is high. A commercially available product can also be used as the dispersant. For example, BYK Japan made of (stock) DISPERBYK160, DISPERBYK161, DISPERBYK162, DISPERBYK163, DISPERBYK164, DISPERBYK166, DISPERBYK167, DISPERBYK171, DISPERBYK180, DISPERBYK182, DISPERBYK2000, DISPERBYK2001, DISPERBYK2164, Bykumen, BYK-2009, BYK-P104, BYK-P104S, BYK-220S, Anti-Terra203, Anti-Terra204, Anti-Terra205 (hereinafter referred to as trade names) and the like can be mentioned.

<レベリング剤>
レベリング剤は、層(a)形成用組成物の表面張力を低下させることにより、塗布後の液を安定させ化合物(a1)及び粒子(a2)を均一に配置させ易くすることができる。例えば、特開2004−331812号公報、特開2004−163610号公報に記載の化合物等を用いることができる。
<Leveling agent>
By lowering the surface tension of the composition for forming the layer (a), the leveling agent can stabilize the liquid after coating and facilitate the uniform arrangement of the compound (a1) and the particles (a2). For example, the compounds described in JP-A-2004-331812 and JP-A-2004-163610 can be used.

上記レベリング剤は、層(a)形成用組成物の全固形分中に0.05〜5.0質量%含有されることが好ましく、0.05〜3.0質量%含有されることがより好ましく、0.05〜2.0質量%含有されることが最も好ましい。 The leveling agent is preferably contained in an amount of 0.05 to 5.0% by mass, more preferably 0.05 to 3.0% by mass, in the total solid content of the composition for forming the layer (a). It is preferably contained in an amount of 0.05 to 2.0% by mass, most preferably.

<防汚剤>
防汚剤は、凹凸構造に撥水撥油性を付与することにより、汚れの付着を抑制することができる。例えば、特開2012−88699号公報に記載の化合物等を用いることができる。
<Anti-fouling agent>
The antifouling agent can suppress the adhesion of dirt by imparting water and oil repellency to the uneven structure. For example, the compounds described in JP2012-88699A can be used.

防汚剤は層(a)中の全固形分に対して0.05〜15.0質量%含有されることが好ましく、0.05〜12.0質量%含有されることがより好ましく、0.05〜9.0質量%含有されることが最も好ましい。 The antifouling agent is preferably contained in an amount of 0.05 to 15.0% by mass, more preferably 0.05 to 12.0% by mass, and 0, based on the total solid content in the layer (a). Most preferably, it is contained in an amount of .05 to 9.0% by mass.

<重合開始剤>
層(a)には、重合開始剤を含んでいてもよい。
化合物(a1)が光重合性化合物である場合は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開2009−098658号公報の段落<0133>〜<0151>に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
<Polymerization initiator>
The layer (a) may contain a polymerization initiator.
When the compound (a1) is a photopolymerizable compound, it preferably contains a photopolymerization initiator.
Photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, etc. Fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, loffin dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, coumarins and the like can be mentioned. Specific examples of the photopolymerization initiator, preferred embodiments, commercially available products, and the like are described in paragraphs <0133> to <0151> of JP-A-2009-098658, and they can also be preferably used in the present invention. it can.

「最新UV硬化技術」{(株)技術情報協会}(1991年)、p.159、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著(平成元年、総合技術センター発行)、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。 "Latest UV Curing Technology" {Technical Information Association, Inc.} (1991), p. 159 and "Ultraviolet Curing System" by Kiyomi Kato (published by General Technology Center in 1989), p. Various examples are also described in 65 to 148, which are useful for the present invention.

層(a)中の重合開始剤の含有量は、層(a)に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分な量であり、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、層(a)中の全固形分に対して、0.1〜8質量%が好ましく、0.5〜5質量%がより好ましい。 The content of the polymerization initiator in the layer (a) is sufficient for polymerizing the polymerizable compound contained in the layer (a), and the starting point is set so as not to increase too much. , 0.1 to 8% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the total solid content in the layer (a).

層(a)には、上述したシランカップリング剤を反応させるために光あるいは熱により酸又は塩基を発生する化合物(以下、光酸発生剤、光塩基発生剤、熱酸発生剤、熱塩基発生剤と称する場合がある。)を含んでいてもよい。 In the layer (a), a compound that generates an acid or a base by light or heat in order to react the above-mentioned silane coupling agent (hereinafter, a photoacid generator, a photobase generator, a thermoacid generator, a thermobase generator). It may be referred to as an agent).

<光酸発生剤>
光酸発生剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等のオニウム塩、有機ハロゲン化合物、有機金属/有機ハロゲン化物、o−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、イミノスルフォネ−ト等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、ジスルホン化合物、ジアゾケトスルホン、ジアゾジスルホン化合物等を挙げることができる。また、トリアジン類(例えば、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジンなど)、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物を挙げることもできる。
また、光により酸を発生する基、または化合物をポリマーの主鎖もしくは側鎖に導入した化合物を用いることができる。
さらに、V.N.R.Pillai,Synthesis,(1),1(1980)、A.Abad et al.,Tetrahedron Lett.,(47)4555(1971)、D.H.R.Barton et al.,J.Chem.Soc.,(C),329(1970)、米国特許第3,779,778号、欧州特許第126,712号等に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。
<Photoacid generator>
Examples of the photoacid generator include onium salts such as diazonium salt, ammonium salt, phosphonium salt, iodonium salt, sulfonium salt, selenium salt, and arsonium salt, organic halogen compounds, organic metals / organic halides, and o-nitrobenzyl type. Examples thereof include photoacid generators having a protective group, compounds that photodecompose to generate sulfonic acid, such as iminosulfonet, disulfone compounds, diazoketosulfone, and diazodisulfone compounds. In addition, triazines (for example, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, etc.), quaternary ammonium salts, diazomethane compounds, imide sulfonate compounds, oximes. Sulfonate compounds can also be mentioned.
Further, a group in which an acid is generated by light or a compound in which a compound is introduced into a main chain or a side chain of a polymer can be used.
In addition, V. N. R. Pilrai, Synthesis, (1), 1 (1980), A.I. Abad et al. , Tetrahedron Lett. , (47) 4555 (1971), D.I. H. R. Barton et al. , J. Chem. Soc. , (C), 329 (1970), US Pat. No. 3,779,778, European Patent No. 126,712, etc., which generate acid by light can also be used.

<熱酸発生剤>
熱酸発生剤としては、酸と有機塩基からなる塩を挙げることができる。
上記の酸としては、スルホン酸、ホスホン酸、カルボン酸など有機酸や硫酸、リン酸のような無機酸が挙げられる。化合物(a1)に対する相溶性の観点からは、有機酸がより好ましく、スルホン酸、ホスホン酸が更に好ましく、スルホン酸が最も好ましい。好ましいスルホン酸としては、p−トルエンスルホン酸(PTS)、ベンゼンスルホン酸(BS)、p−ドデシルベンゼンスルホン酸(DBS)、p−クロロベンゼンスルホン酸(CBS)、1,4−ナフタレンジスルホン酸(NDS)、メタンスルホン酸(MsOH)、ノナフルオロブタン−1−スルホン酸(NFBS)などが挙げられる。
<Thermal acid generator>
Examples of the thermoacid generator include salts composed of acids and organic bases.
Examples of the above-mentioned acids include organic acids such as sulfonic acid, phosphonic acid and carboxylic acid, and inorganic acids such as sulfuric acid and phosphoric acid. From the viewpoint of compatibility with the compound (a1), an organic acid is more preferable, a sulfonic acid and a phosphonic acid are further preferable, and a sulfonic acid is the most preferable. Preferred sulfonic acids include p-toluene sulfonic acid (PTS), benzene sulfonic acid (BS), p-dodecylbenzene sulfonic acid (DBS), p-chlorobenzene sulfonic acid (CBS), 1,4-naphthalenedi sulfonic acid (NDS). ), Methanesulfonic acid (MsOH), nonafluorobutane-1-sulfonic acid (NFBS) and the like.

酸発生剤の具体例としては特開2016−803号に記載のものを好適に用いることができる。 As a specific example of the acid generator, those described in JP-A-2016-803 can be preferably used.

<光塩基発生剤>
光塩基発生剤としては、活性エネルギー線の作用により塩基を発生する物質を挙げることができる。より具体的には、(1)紫外線、可視光、又は赤外線の照射により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、(2)分子内求核置換反応や転位反応などにより分解してアミン類を放出する化合物、あるいは(3)紫外線、可視光、又は赤外線の照射により何らかの化学反応を起こして塩基を放出するものを使用できる。
本発明に用いられる光塩基発生剤は、紫外線、電子線、X線、赤外線および可視光線などの活性エネルギー線の作用により塩基を発生する物質であれば特に限定されない。
具体的には特開2010−243773に記載のものを好適に用いることができる。
<Photobase generator>
Examples of the photobase generator include substances that generate a base by the action of active energy rays. More specifically, (1) salts of organic acids and bases that are decarbonated and decomposed by irradiation with ultraviolet rays, visible light, or infrared rays, and (2) amines that are decomposed by intramolecular nucleophilic substitution reaction or rearrangement reaction. A compound that emits a kind, or (3) a compound that causes some chemical reaction by irradiation with ultraviolet rays, visible light, or infrared rays to release a base can be used.
The photobase generator used in the present invention is not particularly limited as long as it is a substance that generates a base by the action of active energy rays such as ultraviolet rays, electron beams, X-rays, infrared rays and visible rays.
Specifically, those described in JP-A-2010-243773 can be preferably used.

層(a)中の、光又は熱により酸又は塩基を発生する化合物の含有量は、層(a)に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分な量であり、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、層(a)中の全固形分に対して、0.1〜8質量%が好ましく、0.1〜5質量%がより好ましい。 The content of the compound that generates an acid or a base by light or heat in the layer (a) is an amount sufficient to polymerize the polymerizable compound contained in the layer (a), and the starting point is increased. 0.1 to 8% by mass is preferable, and 0.1 to 5% by mass is more preferable, based on the total solid content in the layer (a), because the setting is not too much.

<金属キレート触媒>
層(a)には、金属キレート触媒を含んでいてもよい。
金属キレート触媒は、上述したシランカップリング剤の縮合反応の触媒として作用することが好ましい。また、金属キレート触媒は、粒子(a2)とバインダー樹脂との結合力を高める作用も有する。
<Metal chelate catalyst>
The layer (a) may contain a metal chelate catalyst.
The metal chelate catalyst preferably acts as a catalyst for the condensation reaction of the above-mentioned silane coupling agent. The metal chelate catalyst also has an effect of enhancing the binding force between the particles (a2) and the binder resin.

金属キレート触媒としては、周期表の第2族、第4族、第5族、及び第13族から選ばれる金属元素と、β−ジケトン、ケトエステル、ヒドロキシカルボン酸又はそのエステル、アミノアルコール、及びエノール性活性水素化合物の中から選ばれるオキソ又はヒドロキシ酸素含有化合物とから構成される金属錯体であることが好ましい。
構成金属元素の中では、Mg、Ca、Sr、Baなどの第2族元素、Ti、Zrなどの第4族元素、V、Nb、Taなどの第5族元素、Al、Gaなどの第13族元素が好ましく、それぞれ触媒効果の優れた錯体を形成する。その中でもZr、Al及びTiから得られる金属錯体が好ましい。
The metal chelate catalyst includes metal elements selected from Group 2, Group 4, Group 5, and Group 13 of the periodic table, β-diketone, ketoester, hydroxycarboxylic acid or its ester, aminoalcohol, and enol. It is preferably a metal complex composed of an oxo or hydroxyoxygen-containing compound selected from the active hydrogen compounds.
Among the constituent metal elements, Group 2 elements such as Mg, Ca, Sr and Ba, Group 4 elements such as Ti and Zr, Group 5 elements such as V, Nb and Ta, and 13th elements such as Al and Ga. Group elements are preferable, and each forms a complex having an excellent catalytic effect. Among them, metal complexes obtained from Zr, Al and Ti are preferable.

金属錯体の配位子を構成するオキソ又はヒドロキシ酸素含有化合物は、アセチルアセトン(2,4−ペンタンジオン)、2,4−ヘプタンジオンなどのβジケトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ブチルなどのケトエステル類、乳酸、乳酸メチル、サリチル酸、サリチル酸エチル、サリチル酸フェニル、リンゴ酸,酒石酸、酒石酸メチルなどのヒドロキシカルボン酸及びそのエステル、4−ヒドロキシー4−メチル−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ヘプタノン、4−ヒドロキシ−2−ヘプタノンなどのケトアルコール類、モノエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N−メチル−モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミノアルコール類、メチロールメラミン、メチロール尿素、メチロールアクリルアミド、マロン酸ジエチルエステルなどのエノール性活性化合物、アセチルアセトン(2,4−ペンタンジオン)のメチル基、メチレン基またはカルボニル炭素に置換基を有する化合物が挙げられる。 The oxo or hydroxy oxygen-containing compounds constituting the ligand of the metal complex include β-diketones such as acetylacetone (2,4-pentandione) and 2,4-heptandione, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, butyl acetoacetate and the like. Ketoesters, lactic acid, methyl lactate, salicylic acid, ethyl salicylate, phenyl salicylate, malic acid, tartrate acid, methyl tartrate and other hydroxycarboxylic acids and their esters, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, 4-hydroxy-2- Keto alcohols such as pentanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-heptanone, 4-hydroxy-2-heptanone, monoethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N-methyl-monoethanolamine, diethanolamine, tri Amino alcohols such as ethanolamine, enol active compounds such as methylol melamine, methylol urea, methylol acrylamide, malonic acid diethyl ester, methyl group of acetylacetone (2,4-pentandione), methylene group or carbonyl carbon substituent Examples include compounds having.

好ましい配位子はアセチルアセトン誘導体であり、アセチルアセトン誘導体は、アセチルアセトンのメチル基、メチレン基またはカルボニル炭素に置換基を有する化合物を指す。アセチルアセトンのメチル基に置換する置換基としては、いずれも炭素数が1〜3の直鎖又は分岐のアルキル基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基であり、アセチルアセトンのメチレン基に置換する置換基としてはカルボキシル基、いずれも炭素数が1〜3の直鎖又は分岐のカルボキシアルキル基及びヒドロキシアルキル基であり、アセチルアセトンのカルボニル炭素に置換する置換基としては炭素数が1〜3のアルキル基であってこの場合はカルボニル酸素には水素原子が付加して水酸基となる。 A preferred ligand is an acetylacetone derivative, which refers to a compound having a substituent on the methyl, methylene or carbonyl carbon of acetylacetone. The substituents to be substituted with the methyl group of acetylacetone are linear or branched alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, acyl groups, hydroxyalkyl groups, carboxyalkyl groups, alkoxy groups and alkoxyalkyl groups, all of which are acetylacetones. The substituent substituting the methylene group of acetylacetone is a carboxyl group, both of which are linear or branched carboxyalkyl groups and hydroxyalkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, and the substituent substituting the carbonyl carbon of acetylacetone has the number of carbon atoms. Is an alkyl group of 1 to 3, and in this case, a hydrogen atom is added to the carbonyl oxygen to form a hydroxyl group.

好ましいアセチルアセトン誘導体の具体例としては、エチルカルボニルアセトン、n−プロピルカルボニルアセトン、i−プロピルカルボニルアセトン、ジアセチルアセトン、1―アセチル−1−プロピオニル−アセチルアセトン、ヒドロキシエチルカルボニルアセトン、ヒドロキシプロピルカルボニルアセトン、アセト酢酸、アセトプロピオン酸、ジアセト酢酸、3,3−ジアセトプロピオン酸、4,4−ジアセト酪酸、カルボキシエチルカルボニルアセトン、カルボキシプロピルカルボニルアセトン、ジアセトンアルコールが挙げられる。中でも、アセチルアセトン及びジアセチルアセトンがとくに好ましい。上記のアセチルアセトン誘導体と上記金属元素の錯体は、金属元素1個当たりにアセチルアセトン誘導体が1〜4分子配位する単核錯体であり、金属元素の配位可能の手がアセチルアセトン誘導体の配位可能結合手の数の総和よりも多い場合には、水分子、ハロゲンイオン、ニトロ基、アンモニオ基など通常の錯体に汎用される配位子が配位してもよい。 Specific examples of preferable acetylacetone derivatives include ethylcarbonylacetone, n-propylcarbonylacetone, i-propylcarbonylacetone, diacetylacetone, 1-acetyl-1-propionyl-acetylacetone, hydroxyethylcarbonylacetone, hydroxypropylcarbonylacetone, and acetoacetic acid. , Acetpropionic acid, diacetacetic acid, 3,3-diacetpropionic acid, 4,4-diacetbutyric acid, carboxyethylcarbonylacetone, carboxypropylcarbonylacetone, diacetone alcohol. Of these, acetylacetone and diacetylacetone are particularly preferable. The complex of the acetylacetone derivative and the metal element is a mononuclear complex in which 1 to 4 molecules of the acetylacetone derivative are coordinated per metal element, and the coordinable hand of the metal element is the coordinable bond of the acetylacetone derivative. If the total number of hands is larger than the total number of hands, a ligand generally used for a normal complex such as a water molecule, a halogen ion, a nitro group, and an ammonio group may be coordinated.

好ましい金属錯体の例としては、トリス(アセチルアセトナト)アルミニウム錯塩、ジ(アセチルアセトナト)アルミニウム・アコ錯塩、モノ(アセチルアセトナト)アルミニウム・クロロ錯塩、ジ(ジアセチルアセトナト)アルミニウム錯塩、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、環状アルミニウムオキサイドイソプロピレート、トリス(アセチルアセトナト)バリウム錯塩、ジ(アセチルアセトナト)チタニウム錯塩、トリス(アセチルアセトナト)チタニウム錯塩、ジ−i−プロポキシ・ビス(アセチルアセトナト)チタニウム錯塩、ジルコニウムトリス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムトリス(安息香酸)錯塩、等が挙げられる。これらは水系塗布液での安定性及び、加熱乾燥時のゾルゲル反応でのゲル化促進効果に優れているが、中でも、特にエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、ジ(アセチルアセトナト)チタニウム錯塩、ジルコニウムトリス(エチルアセトアセテート)が好ましい。 Examples of preferred metal complexes include tris (acetylacetonato) aluminum complex, di (acetylacetonato) aluminum-acco complex, mono (acetylacetonato) aluminum-chloro complex, di (diacetylacetonato) aluminum complex, ethylacet. Aluminum diisopropirate acetate, aluminum tris (ethylacetacetate), cyclic aluminum oxide isopropylate, tris (acetylacetonato) barium complex salt, di (acetylacetonato) titanium complex salt, tris (acetylacetonato) titanium complex salt, di-i -Propoxy bis (acetylacetonato) titanium complex salt, zirconium tris (ethylacetacetate), zirconium tris (benzoic acid) complex salt, and the like. These are excellent in stability in an aqueous coating solution and gelation promoting effect in a sol-gel reaction during heating and drying. Among them, ethylacetate acetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethylacetate acetate), and di (di (ethylacetate acetate)) Acetylacetonato) titanium complex salt and zirconium tris (ethylacetacetate) are preferable.

上記した金属錯体の対塩の記載を本明細書においては省略しているが、対塩の種類は、錯体化合物としての電荷の中性を保つ水溶性塩である限り任意であり、例えば硝酸塩、ハロゲン酸塩、硫酸塩、燐酸塩などの化学量論的中性が確保される塩の形が用いられる。
金属錯体のシリカゾルゲル反応での挙動については、J.Sol−Gel.Sci.and Tec.16.209(1999)に詳細な記載がある。
Although the description of the salt of the metal complex described above is omitted in the present specification, the type of salt is arbitrary as long as it is a water-soluble salt that maintains the neutrality of the charge as the complex compound, for example, nitrate. Salt forms such as halides, sulfates and phosphates that ensure chemical neutrality are used.
Regarding the behavior of the metal complex in the silica solgel reaction, refer to J. Sol-Gel. Sci. and Tec. There is a detailed description in 16.209 (1999).

上記の金属キレート触媒は、市販品として容易に入手でき、また公知の合成方法、例えば各金属塩化物とアルコールとの反応によっても得られる。 The above-mentioned metal chelate catalyst is easily available as a commercially available product, and can also be obtained by a known synthetic method, for example, a reaction between each metal chloride and an alcohol.

層(a)中の、金属キレート触媒の含有量は、化合物(a1)に対して、0.1質量%以上10質量%以下が好ましく、0.5質量%以上5質量%以下がより好ましく、1質量%以上3質量%以下が更に好ましい。0.1質量%以上であれば膜の硬度が十分であり、10質量%以下であればバインダー樹脂の縮合が進行しすぎないため、金属酸化物粒子とバインダー樹脂の結合が十分であり、金属酸化物粒子が脱落しにくくなる。 The content of the metal chelate catalyst in the layer (a) is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 5% by mass or less, based on the compound (a1). More preferably, it is 1% by mass or more and 3% by mass or less. If it is 0.1% by mass or more, the hardness of the film is sufficient, and if it is 10% by mass or less, the condensation of the binder resin does not proceed too much. Therefore, the bond between the metal oxide particles and the binder resin is sufficient, and the metal Oxide particles are less likely to fall off.

[工程(2)]
工程(2)は、工程(1)の層(a)の一部を硬化させて層(ca)を得る工程であり、具体的には、工程(1)の層(a)中の化合物(a1)の一部を硬化させて、硬化された化合物(a1c)を含む層(ca)を得る工程である。
工程(2)で化合物(a1)の一部を硬化させることにより、粒子(a2)を動きにくくして、粒子(a2)が凝集することを抑制することができる。
化合物(a1)の一部を硬化させるとは、化合物(a1)のすべてではなく、一部のみを硬化させることを表す。工程(2)で化合物(a1)の一部のみを硬化させ、未硬化の化合物(a1)の一部を工程(4)で仮支持体に浸透(仮支持体が機能層を有する場合は機能層に浸透してもよい)させる方法、又は層(b)へ浸透させる方法などにより、層(ca)の厚みを薄くして、粒子(a2)を層(ca)の支持体側の界面から突出させて、良好な凹凸形状(モスアイ構造)を形成することができる。
[Step (2)]
The step (2) is a step of curing a part of the layer (a) of the step (1) to obtain the layer (ca), and specifically, the compound (specifically, the compound in the layer (a) of the step (1)). This is a step of curing a part of a1) to obtain a layer (ca) containing the cured compound (a1c).
By curing a part of the compound (a1) in the step (2), the particles (a2) can be made difficult to move and the agglomeration of the particles (a2) can be suppressed.
Curing a part of compound (a1) means curing only a part of compound (a1), not all of it. Only a part of the compound (a1) is cured in the step (2), and a part of the uncured compound (a1) is permeated into the temporary support in the step (4) (function when the temporary support has a functional layer). The thickness of the layer (ca) is reduced by a method of permeating the layer (b) or a method of permeating the layer (b) so that the particles (a2) protrude from the interface of the layer (ca) on the support side. It is possible to form a good uneven shape (moss eye structure).

硬化は電離放射線を照射することで行うことができる。電離放射線の種類については、特に制限はなく、X線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、化合物(a1)が光硬化性の化合物であって、工程(2)において光(好ましくは紫外線)を照射することにより、化合物(a1)の一部を硬化させることが好ましい。
工程(2)の化合物(a1)の一部を硬化させる条件が、層(a)形成用組成物から粒子(a2)を除いた組成物を仮支持体上に2μmの厚さで塗布し、硬化させた場合に、硬化率が2〜20%となる条件であることが好ましく、硬化率が3〜15%となる条件であることがより好ましく、硬化率が5〜12%となる条件であることが更に好ましい。
Curing can be performed by irradiating with ionizing radiation. The type of ionizing radiation is not particularly limited and includes X-rays, electron beams, ultraviolet rays, visible light, infrared rays and the like. However, the compound (a1) is a photocurable compound and the light is emitted in the step (2). It is preferable to cure a part of the compound (a1) by irradiating (preferably ultraviolet rays).
The condition for curing a part of the compound (a1) in the step (2) is that the composition obtained by removing the particles (a2) from the composition for forming the layer (a) is applied onto the temporary support to a thickness of 2 μm. When cured, it is preferable that the curing rate is 2 to 20%, more preferably the curing rate is 3 to 15%, and the curing rate is 5 to 12%. It is more preferable to have.

硬化率は、
(1−硬化後の残存重合性官能基数/硬化前の重合性官能基数)×100%であり、以下の方法で測定される。
なお、重合性官能基は、重合性の炭素−炭素不飽和二重結合を有する基である。
より具体的には、Thermo electron corporationのNICOLET6700 FT−IR(フーリエ変換赤外分光光度計)を使用して硬化前の硬化性化合物そのものをKBr−IR測定しカルボニル基のピーク(1660−1800cm−1)面積と重合性の炭素−炭素不飽和二重結合のピーク高さ(808cm−1)を求め、硬化後の一回反射のIR(infrared spectroscopy)測定から同様にカルボニル基ピーク面積に対する重合性の炭素−炭素不飽和二重結合のピークを求め、紫外線照射前後で比較することにより硬化率を算出した。ここで硬化率の計算に際し、808cm−1における測定深度を821nm、1660−1800cm−1における深度を384nmとして規格化している。
Curing rate is
(1-Number of residual polymerizable functional groups after curing / Number of polymerizable functional groups before curing) × 100%, which is measured by the following method.
The polymerizable functional group is a group having a polymerizable carbon-carbon unsaturated double bond.
More specifically, the curable compound itself before curing was measured by KBr-IR using the NICOLET 6700 FT-IR (Fourier transform infrared spectrophotometer) of Thermo electron corporation, and the peak of the carbonyl group (1660-1800 cm -1). ) Area and the peak height (808 cm -1 ) of the polymerizable carbon-carbon unsaturated double bond were obtained, and the IR (infrared spectroscopy) measurement of the single reflection after curing showed that the carbonyl group peak area was similarly polymerizable. The peak of the carbon-carbon unsaturated double bond was determined, and the curing rate was calculated by comparing before and after irradiation with ultraviolet rays. When calculating hardening rate here is normalized measurement depth at 808cm -1 821nm, a depth of 1660-1800Cm -1 as 384 nm.

工程(2)において、紫外線を1〜90mJ/cmの照射量で照射することが好ましく、1.2〜40mJ/cmの照射量で照射することがより好ましく、1.5〜10mJ/cmの照射量で照射することが更に好ましい。照射量の最適値は層(a)形成用組成物の組成によって異なるため、適宜調整することができる。In step (2), it is preferable to irradiate the irradiation amount of ultraviolet 1~90mJ / cm 2, it is more preferable to irradiate the irradiation amount of 1.2~40mJ / cm 2, 1.5~10mJ / cm It is more preferable to irradiate with an irradiation amount of 2 . Since the optimum value of the irradiation amount differs depending on the composition of the layer (a) forming composition, it can be appropriately adjusted.

工程(2)において、層(a)の仮支持体側とは反対側から紫外線を照射して化合物(a1)の一部を硬化させることが製造適正上好ましい。 In the step (2), it is preferable in terms of manufacturing suitability that a part of the compound (a1) is cured by irradiating ultraviolet rays from the side of the layer (a) opposite to the temporary support side.

酸素濃度0.1〜5.0体積%の環境下で工程(2)を行うことが好ましく、酸素濃度0.5〜1.0体積%の環境下で工程(2)を行うことがより好ましい。酸素濃度を上記範囲とすることで、特に層(a)の仮支持体側の領域を硬化させることができる。 It is preferable to carry out the step (2) in an environment having an oxygen concentration of 0.1 to 5.0% by volume, and more preferably to carry out the step (2) in an environment having an oxygen concentration of 0.5 to 1.0% by volume. .. By setting the oxygen concentration in the above range, it is possible to cure the region of the layer (a) on the temporary support side in particular.

化合物(a1c)は、化合物(a1)の硬化物である。
化合物(a1c)の分子量は特に限定されない。また、化合物(a1c)は、未反応の重合性官能基を有していてもよい。
工程(2)で得られる層(ca)は、層中に化合物(a1)と化合物(a1c)とを含む層である。
なお、本発明では、工程(2)の後、工程(4−2)、(7)、及び(9)において、層(ca)を更に硬化させうるものであり、それぞれの工程における硬化前と硬化後で各層が含有する成分及びその組成(化合物(a1)とその硬化物である化合物(a1c)の組成比など)は異なるが、本発明では便宜的にいずれの段階においても層(ca)と呼ぶものとする。
Compound (a1c) is a cured product of compound (a1).
The molecular weight of compound (a1c) is not particularly limited. Further, the compound (a1c) may have an unreacted polymerizable functional group.
The layer (ca) obtained in the step (2) is a layer containing the compound (a1) and the compound (a1c) in the layer.
In the present invention, the layer (ca) can be further cured in the steps (4-2), (7), and (9) after the step (2), and before the curing in each step. Although the components contained in each layer after curing and their compositions (composition ratio of compound (a1) and its cured product (a1c), etc.) are different, in the present invention, the layer (ca) is conveniently used at any stage. It shall be called.

[工程(3)]
工程(3)は、支持体及び上記支持体上に粘着剤を含む層(b)を有する粘着フィルムの層(b)を、上記層(ca)と貼り合わせる工程である。
層(ca)と粘着フィルムの層(b)とを貼り合わせる方法としては特に限定されず、公知の方法を用いることができ、たとえばラミネート法が挙げられる。
層(ca)と層(b)とが接するように粘着フィルムを貼り合わせることが好ましい。
工程(3)の前に、層(ca)を乾燥する工程を有していてもよい。層(ca)を乾燥する工程を有する場合は、層(ca)の乾燥温度は20〜60℃が好ましく、20〜40℃がより好ましい。乾燥時間は0.1〜120秒が好ましく、1〜30秒がより好ましい。
[Step (3)]
The step (3) is a step of laminating the layer (b) of the adhesive film having the support and the layer (b) containing the adhesive on the support with the layer (ca).
The method of bonding the layer (ca) and the layer (b) of the adhesive film is not particularly limited, and a known method can be used, and examples thereof include a laminating method.
It is preferable to attach the adhesive film so that the layer (ca) and the layer (b) are in contact with each other.
Prior to step (3), there may be a step of drying the layer (ca). When the step of drying the layer (ca) is provided, the drying temperature of the layer (ca) is preferably 20 to 60 ° C, more preferably 20 to 40 ° C. The drying time is preferably 0.1 to 120 seconds, more preferably 1 to 30 seconds.

本発明では、工程(3)において粘着フィルムの層(b)と層(ca)とを貼り合わせ、後述する工程(4)において粒子(a2)を、層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没し、かつ、層(ca)の支持体側の界面から突出させることで、また、より好ましくは工程(4−2)において粒子(a2)が層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没した状態で層(ca)の一部をさらに硬化することで、粒子(a2)が層(ca)の硬化前に空気界面に露出しないようにして、凝集を抑制し、粒子(a2)によって形成された良好な凹凸形状を作製できる。 In the present invention, the layer (b) and the layer (ca) of the adhesive film are bonded together in the step (3), and the particles (a2) are combined with each other in the step (4) described later, and the layer (ca) and the layer (b) are combined. By burying it in the layer and projecting it from the interface of the layer (ca) on the support side, and more preferably, in the step (4-2), the particles (a2) are formed in the layer (ca) and the layer (b). By further curing a part of the layer (ca) while being buried in the combined layer, the particles (a2) are not exposed to the air interface before the layer (ca) is cured, and aggregation is suppressed. , A good uneven shape formed by the particles (a2) can be produced.

(粘着フィルム)
粘着フィルムは、支持体と粘着剤を含む層(b)とを有する。
(Adhesive film)
The pressure-sensitive adhesive film has a support and a layer (b) containing a pressure-sensitive adhesive.

<層(b)>
層(b)は、粘着剤を含む層であり、粘着剤は、ゲル分率が95.0%以上の粘着剤であることが好ましい。
粘着剤のゲル分率が95.0%以上であることで、本発明の透過フィルターの製造において、粘着フィルムを剥離する際に、粘着剤成分が透過フィルター表面に残りにくくなり、粘着剤成分が粒子の凹凸間を埋めることで生じる透過率低下を抑制する効果が高い。
粘着剤のゲル分率は、95.0%以上99.9%以下であることが好ましく、97.0%以上99.9%以下であることがより好ましく、98.0%以上99.9%以下であることが更に好ましい。
粘着剤のゲル分率は、粘着剤を、25℃で、テトラヒドロフラン(THF)に12時間浸漬した後の不溶解分の比率であり、下記式から求められる。
ゲル分率=(粘着剤のTHFへの不溶解分の質量)/(粘着剤の総質量)×100(%)
<Layer (b)>
The layer (b) is a layer containing a pressure-sensitive adhesive, and the pressure-sensitive adhesive is preferably a pressure-sensitive adhesive having a gel fraction of 95.0% or more.
When the gel content of the pressure-sensitive adhesive is 95.0% or more, in the production of the transmission filter of the present invention, when the pressure-sensitive adhesive film is peeled off, the pressure-sensitive adhesive component is less likely to remain on the surface of the transmission filter, and the pressure-sensitive adhesive component becomes It is highly effective in suppressing the decrease in transmittance caused by filling the gaps between the irregularities of the particles.
The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive is preferably 95.0% or more and 99.9% or less, more preferably 97.0% or more and 99.9% or less, and 98.0% or more and 99.9%. The following is more preferable.
The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive is the ratio of the insoluble content after immersing the pressure-sensitive adhesive in tetrahydrofuran (THF) at 25 ° C. for 12 hours, and is calculated from the following formula.
Gel fraction = (mass of adhesive insoluble in THF) / (total mass of adhesive) x 100 (%)

粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が10000以下であることが好ましく、7000以下であることがより好ましく、5000以下であることが最も好ましい。ゾル成分の重量平均分子量を上記範囲にすることによって、本発明の透過フィルターの製造において、粘着フィルムを剥離する際に、粘着剤成分が透過フィルター表面に残りにくくすることができる。
粘着剤のゾル成分は、粘着剤を、25℃で、テトラヒドロフラン(THF)に12時間浸漬した後のTHFへの溶解分を表す。重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で分析することができる。
The weight average molecular weight of the sol component in the pressure-sensitive adhesive is preferably 10,000 or less, more preferably 7,000 or less, and most preferably 5,000 or less. By setting the weight average molecular weight of the sol component in the above range, it is possible to prevent the pressure-sensitive adhesive component from remaining on the surface of the transmission filter when the pressure-sensitive adhesive film is peeled off in the production of the transmission filter of the present invention.
The sol component of the pressure-sensitive adhesive represents the dissolved content in THF after the pressure-sensitive adhesive is immersed in tetrahydrofuran (THF) for 12 hours at 25 ° C. The weight average molecular weight can be analyzed by gel permeation chromatography (GPC).

粘着剤の30℃、1Hzでの貯蔵弾性率(G’)が1.3GPa以下であり、かつ粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が10000以下であることも好ましい。
粘着剤の30℃、1Hzでの貯蔵弾性率(G’)が1.3×10Pa以下であり、かつ粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が10000以下であることも好ましい。
粘着剤の30℃、1Hzでの貯蔵弾性率(G’)は0.1×10Pa以上1.3×10Pa以下がより好ましく、0.1×10Pa以上1.2×10Pa以下が更に好ましい。貯蔵弾性率が0.1×10Pa以上であると、粘着剤の凝集破壊が起こりにくく、取り扱いが容易である。貯蔵弾性率が1.3×10Pa以下であると、粒子の隙間に粘着剤が入り込みやすくなるため、粒子の凝集を抑制する効果が得られやすくなり、1.2×10Pa以下であると特に良好な透過率を有する透過フィルターが得られる。
また、この場合の粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量の好ましい範囲も前述したものと同様である。
It is also preferable that the storage elastic modulus (G') of the pressure-sensitive adhesive at 30 ° C. and 1 Hz is 1.3 GPa or less, and the weight average molecular weight of the sol component in the pressure-sensitive adhesive is 10,000 or less.
30 ° C. of the adhesive, and the storage modulus (G ') 1.3 × 10 5 Pa or less at 1 Hz, and it is also preferable weight average molecular weight of sol component in the adhesive is less than or equal to 10000.
30 ° C. of the adhesive, the storage elastic modulus at 1 Hz (G ') is more preferably 0.1 × 10 5 Pa or more 1.3 × 10 5 Pa or less, 0.1 × 10 5 Pa or more 1.2 × 10 It is more preferably 5 Pa or less. When the storage elastic modulus is 0.1 × 10 5 Pa or more, hardly causes cohesive failure of the pressure-sensitive adhesive, it is easy to handle. When the storage elastic modulus is 1.3 × 10 5 Pa or less, the adhesive easily enters the gaps between the particles, so that the effect of suppressing the aggregation of the particles can be easily obtained, and at 1.2 × 10 5 Pa or less. If there is, a transmission filter having a particularly good transmittance can be obtained.
Further, the preferable range of the weight average molecular weight of the sol component in the pressure-sensitive adhesive in this case is also the same as that described above.

層(b)の膜厚は0.1μm以上50μm以下であることが好ましく、1μm以上30μm以下であることがより好ましく、1μm以上20μm以下であることが更に好ましい。 The film thickness of the layer (b) is preferably 0.1 μm or more and 50 μm or less, more preferably 1 μm or more and 30 μm or less, and further preferably 1 μm or more and 20 μm or less.

粘着剤としては、重合体を含むことが好ましく、(メタ)アクリル系重合体を含むことがより好ましい。特に、アルキル基の炭素数が1〜18の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの少なくとも1種のモノマーの重合体(2種以上のモノマーの場合は共重合体)が好ましい。(メタ)アクリル系重合体の重量平均分子量は、20万〜200万であることが好ましい。 The pressure-sensitive adhesive preferably contains a polymer, and more preferably contains a (meth) acrylic polymer. In particular, a polymer of at least one type of (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (a copolymer in the case of two or more types of monomers) is preferable. The weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer is preferably 200,000 to 2,000,000.

アルキル基の炭素数が1〜18の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、イソセチル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレートモノマーが挙げられる。アルキル(メタ)アクリレートモノマーのアルキル基は、直鎖、分枝状、環状のいずれでもよい。上記モノマーは2種以上併用されてもよい。 Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and isobutyl (meth) acrylate. , Pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate , Decyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, isosetyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, myristyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate , Stearyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate and other alkyl (meth) acrylate monomers. The alkyl group of the alkyl (meth) acrylate monomer may be linear, branched or cyclic. Two or more kinds of the above-mentioned monomers may be used in combination.

脂肪族環を有する(メタ)アクリレートモノマーの好適な例としては、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘプチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。中でもシクロヘキシル(メタ)アクリレートであることが特に好ましい。 Preferable examples of the (meth) acrylate monomer having an aliphatic ring include cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate and the like. Of these, cyclohexyl (meth) acrylate is particularly preferable.

(メタ)アクリル系重合体は、アルキル基の炭素数が1〜18の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの少なくとも1種と、他の共重合性モノマーの少なくとも1種とからなる共重体であってもよい。この場合、他の共重合性モノマーとしては、水酸基、カルボキシル基、及びアミノ基から選ばれる少なくとも1種の基を含有する共重合性ビニルモノマー、ビニル基を有する共重合性ビニルモノマー、芳香族系モノマー等が挙げられる。 The (meth) acrylic polymer is a copolymer composed of at least one (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms and at least one other copolymerizable monomer. You may. In this case, as the other copolymerizable monomer, a copolymerizable vinyl monomer containing at least one group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group, a copolymerizable vinyl monomer having a vinyl group, and an aromatic type Examples include monomers.

水酸基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル類、及び、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等の水酸基含有(メタ)アクリルアミド類などが挙げられ、これらの化合物群の中から選択された、少なくとも1種であることが好ましい。 Examples of the copolymerizable vinyl monomer containing a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 6-. Hydroxyl-containing (meth) acrylic acid esters such as hydroxyhexyl (meth) acrylate and 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, and N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, and N-hydroxyethyl. Examples thereof include hydroxyl group-containing (meth) acrylamides such as (meth) acrylamide, and at least one selected from these compound groups is preferable.

(メタ)アクリル系重合体の100質量部に対して、水酸基を含有する共重合性ビニルモノマーを0.1〜15質量部含有することが好ましい。 It is preferable that 0.1 to 15 parts by mass of a copolymerizable vinyl monomer containing a hydroxyl group is contained with respect to 100 parts by mass of the (meth) acrylic polymer.

カルボキシル基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレートからなどが挙げられ、これらの化合物群の中から選択された、少なくとも1種であることが好ましい。 Examples of the copolymerizable vinyl monomer containing a carboxyl group include (meth) acrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, carboxyethyl (meth) acrylate, and carboxypentyl (meth) acrylate. It is preferably at least one selected from these compound groups.

(メタ)アクリル共重合体の100質量部に対して、カルボキシル基を含有する共重合性ビニルモノマーを0.1〜2質量部含有することが好ましい。 It is preferable that 0.1 to 2 parts by mass of a copolymerizable vinyl monomer containing a carboxyl group is contained with respect to 100 parts by mass of the (meth) acrylic copolymer.

アミノ基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、モノメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、モノエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、モノメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、モノエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート等のモノアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the copolymerizable vinyl monomer containing an amino group include monoalkyls such as monomethylaminoethyl (meth) acrylate, monoethylaminoethyl (meth) acrylate, monomethylaminopropyl (meth) acrylate, and monoethylaminopropyl (meth) acrylate. Aminoalkyl (meth) acrylate and the like can be mentioned.

芳香族系モノマーとしては、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の芳香族基含有(メタ)アクリル酸エステル類のほか、スチレン等が挙げられる。 Examples of the aromatic monomer include aromatic group-containing (meth) acrylic acid esters such as benzyl (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate, as well as styrene and the like.

上記以外の共重合性ビニルモノマーとしては、アクリルアミド、アクリロニトリル、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、酢酸ビニル、塩化ビニルなどの各種ビニルモノマーが挙げられる。 Examples of copolymerizable vinyl monomers other than the above include various vinyl monomers such as acrylamide, acrylonitrile, methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, vinyl acetate, and vinyl chloride.

粘着剤は、粘着剤を形成するための組成物(粘着剤組成物ともいう)の硬化物を含むものであってもよい。
粘着剤組成物は、上記重合体と架橋剤とを含むことが好ましく、熱又は紫外線(UV)などを用いて架橋しても良い。架橋剤としては、2官能以上のイソシアネート系架橋剤、2官能以上のエポキシ系架橋剤、アルミニウムキレート系架橋剤からなる化合物群のうちから選択される1種以上の架橋剤が好ましい。架橋剤を用いる場合は、本発明の透過フィルターの製造において、粘着フィルムを剥離する際に、粘着剤成分を透過フィルター表面に残りにくくする観点から、上記重合体の100質量部に対して、0.1〜15質量部含有することが好ましく、3.5〜15質量部含有することがより好ましく、3.5質量部超15質量部未満が更に好ましく、5.1〜10質量部含有することが特に好ましい。
The pressure-sensitive adhesive may contain a cured product of a composition for forming the pressure-sensitive adhesive (also referred to as a pressure-sensitive adhesive composition).
The pressure-sensitive adhesive composition preferably contains the above polymer and a cross-linking agent, and may be cross-linked using heat, ultraviolet rays (UV), or the like. As the cross-linking agent, one or more cross-linking agents selected from the compound group consisting of a bifunctional or higher functional isocyanate-based cross-linking agent, a bifunctional or higher functional epoxy-based cross-linking agent, and an aluminum chelate-based cross-linking agent are preferable. When a cross-linking agent is used, in the production of the transmission filter of the present invention, 0 is obtained with respect to 100 parts by mass of the polymer from the viewpoint of making it difficult for the pressure-sensitive adhesive component to remain on the surface of the transmission filter when the pressure-sensitive adhesive film is peeled off. .1 to 15 parts by mass is preferable, 3.5 to 15 parts by mass is more preferable, more than 3.5 parts by mass and less than 15 parts by mass is further preferable, and 5.1 to 10 parts by mass is contained. Is particularly preferable.

2官能以上のイソシアネート系化合物としては、1分子中に少なくとも2個以上のイソシアネート(NCO)基を有するポリイソシアネート化合物であればよく、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等のジイソシアネート類(1分子中に2個のNCO基を有する化合物)のビュレット変性体、及びイソシアヌレート変性体、トリメチロールプロパン又はグリセリン等の3価以上のポリオール(1分子中に少なくとも3個以上のOH基を有する化合物)とのアダクト体(ポリオール変性体)などが挙げられる。
また、3官能以上のイソシアネート化合物が、1分子中に少なくとも3個以上のイソシアネート(NCO)基を有するポリイソシアネート化合物であり、特にヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体からなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。
2官能以上のイソシアネート系架橋剤は、重合体100質量部に対して、0.01〜5.0質量部含まれることが好ましく、0.02〜3.0質量部含まれることがより好ましい。
The bifunctional or higher functional isocyanate compound may be a polyisocyanate compound having at least two or more isocyanate (NCO) groups in one molecule, and may be hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, or xylylene. Bullet-modified products of diisocyanates (compounds having two NCO groups in one molecule) such as isocyanates, and trivalent or higher polyols such as isocyanurate-modified products, trimethylolpropane or glycerin (at least three in one molecule). Examples thereof include an adduct form (polypolymodified form) with the above compound having an OH group.
Further, the trifunctional or higher functional isocyanate compound is a polyisocyanate compound having at least three or more isocyanate (NCO) groups in one molecule, particularly an isocyanurate form of a hexamethylene diisocyanate compound and an isocyanurate form of an isophorone diisocyanate compound. It is preferably at least one selected from the compound group consisting of an adduct of a hexamethylene diisocyanate compound, an adduct of an isophorone diisocyanate compound, a bullet body of a hexamethylene diisocyanate compound, and a bullet body of an isophorone diisocyanate compound.
The bifunctional or higher functional isocyanate-based cross-linking agent is preferably contained in an amount of 0.01 to 5.0 parts by mass, more preferably 0.02 to 3.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer.

粘着剤組成物は、帯電防止性能を付与するため、帯電防止剤を含有してもよい。帯電防止剤はイオン化合物であることが好ましく4級オニウム塩であることがさらに好ましい。 The pressure-sensitive adhesive composition may contain an antistatic agent in order to impart antistatic performance. The antistatic agent is preferably an ionic compound, more preferably a quaternary onium salt.

4級オニウム塩である帯電防止剤としては、例えば、炭素数8〜18のアルキル基を有するアルキルジメチルベンジルアンモニウム塩、炭素数8〜18のアルキル基を有するジアルキルメチルベンジルアンモニウム塩、炭素数8〜18のアルキル基を有するトリアルキルベンジルアンモニウム塩、炭素数8〜18のアルキル基を有するテトラアルキルアンモニウム塩、炭素数8〜18のアルキル基を有するアルキルジメチルベンジルホスホニウム塩、炭素数8〜18のアルキル基を有するジアルキルメチルベンジルホスホニウム塩、炭素数8〜18のアルキル基を有するトリアルキルベンジルホスホニウム塩、炭素数8〜18のアルキル基を有するテトラアルキルホスホニウム塩、炭素数14〜20のアルキル基を有するアルキルトリメチルアンモニウム塩、炭素数14〜20のアルキル基を有するアルキルジメチルエチルアンモニウム塩などを用いることができる。これらのアルキル基は、不飽和結合を有するアルケニル基であってもよい。 Examples of the antistatic agent which is a quaternary onium salt include an alkyldimethylbenzylammonium salt having an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, a dialkylmethylbenzylammonium salt having an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, and an alkyl methylbenzylammonium salt having 8 to 18 carbon atoms. A trialkylbenzylammonium salt having 18 alkyl groups, a tetraalkylammonium salt having an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, an alkyldimethylbenzylphosphonium salt having an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, an alkyl having 8 to 18 carbon atoms. A dialkylmethylbenzylphosphonium salt having a group, a trialkylbenzylphosphonium salt having an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, a tetraalkylphosphonium salt having an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, and an alkyl group having 14 to 20 carbon atoms. Alkyltrimethylammonium salts, alkyldimethylethylammonium salts having an alkyl group having 14 to 20 carbon atoms, and the like can be used. These alkyl groups may be alkenyl groups having an unsaturated bond.

帯電防止剤としては、他にノニオン系、カチオン系、アニオン系、両性系の界面活性剤、イオン性液体、アルカリ金属塩、金属酸化物、金属微粒子、導電性ポリマー、カーボン、カーボンナノチューブなども用いることができる。 Other antistatic agents include nonionic, cationic, anionic, and amphoteric surfactants, ionic liquids, alkali metal salts, metal oxides, metal fine particles, conductive polymers, carbon, carbon nanotubes, and the like. be able to.

アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウムからなる金属塩などが挙げられ、イオン性物質の安定化のため、ポリオキシアルキレン構造を含有する化合物を添加しても良い。 Examples of the alkali metal salt include a metal salt composed of lithium, sodium, and potassium, and a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added to stabilize the ionic substance.

帯電防止剤は、重合体100質量部に対して、0.1〜10質量部含有することが好ましい。 The antistatic agent is preferably contained in an amount of 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer.

粘着剤組成物は、さらに帯電防止補助剤としてHLBが7〜15のポリエーテル変性シロキサン化合物を含有することもできる。
HLBとは、例えばJIS(日本工業規格) K3211(界面活性剤用語)等で規定する親水親油バランス(親水性親油性比)である。
The pressure-sensitive adhesive composition may further contain a polyether-modified siloxane compound having an HLB of 7 to 15 as an antistatic auxiliary agent.
HLB is a hydrophilic lipophilic balance (hydrophilic lipophilic ratio) defined by, for example, JIS (Japanese Industrial Standards) K3211 (surfactant term).

粘着剤組成物は、さらに架橋促進剤を含有することもできる。架橋促進剤は、ポリイソシアネート化合物を架橋剤とする場合に、共重合体と架橋剤との反応(架橋反応)に対して触媒として機能する物質であればよく、第三級アミン等のアミン系化合物、金属キレート化合物、有機錫化合物、有機鉛化合物、有機亜鉛化合物等の有機金属化合物等が挙げられる。本発明では、架橋促進剤として、金属キレート化合物又は有機錫化合物が好ましい。 The pressure-sensitive adhesive composition may further contain a cross-linking accelerator. The cross-linking accelerator may be a substance that functions as a catalyst for the reaction between the copolymer and the cross-linking agent (cross-linking reaction) when the polyisocyanate compound is used as the cross-linking agent, and is an amine-based substance such as a tertiary amine. Examples thereof include organic metal compounds such as compounds, metal chelate compounds, organotin compounds, organolead compounds, and organozinc compounds. In the present invention, a metal chelate compound or an organic tin compound is preferable as the cross-linking accelerator.

架橋促進剤は、共重合体の100質量部に対して、0.001〜0.5質量部含まれることが好ましい。 The cross-linking accelerator is preferably contained in an amount of 0.001 to 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copolymer.

図5の(5)に示す積層体8は、層(b)の層(ca)側の表面に1分子中に架橋基を3つ以上持ち、架橋基当量が450以下であり、フッ素ないしシリコーンからなる低摩擦部位を有する滑り剤(以下、「滑り剤a」とも呼ぶ。)が存在することが好ましい。
層(b)の層(ca)側の表面に滑り剤aが存在することで、本発明の透過フィルターの製造において、粘着フィルムを剥離する際に、層(b)中の粘着剤が透過フィルターの表面に残る(転写される)ことを効果的に防ぐことができる。
The laminate 8 shown in FIG. 5 (5) has three or more cross-linking groups in one molecule on the surface of the layer (b) on the layer (ca) side, has a cross-linking group equivalent of 450 or less, and is made of fluorine or silicone. It is preferable that a slip agent having a low friction portion (hereinafter, also referred to as “slip agent a”) is present.
Due to the presence of the slip agent a on the surface of the layer (b) on the layer (ca) side, the pressure-sensitive adhesive in the layer (b) is a transmission filter when the pressure-sensitive adhesive film is peeled off in the production of the transmission filter of the present invention. It can be effectively prevented from remaining (transferred) on the surface of the film.

<支持体>
粘着フィルムにおける支持体について説明する。
支持体としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなるプラスチックフィルムが好ましく用いられる。支持体用のプラスチックフィルムとしては、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステルフィルム、(メタ)アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、セルロースアシレート等のセルロース系樹脂等からなるフィルムが挙げられる。ただし、上記(メタ)アクリル系樹脂は、ラクトン環構造を有する重合体、無水グルタル酸環構造を有する重合体、グルタルイミド環構造を有する重合体を含む。
このほか、必要な強度を有しかつ光学適性を有するものであれば、他のプラスチックフィルムも使用可能である。支持体は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されていてもよく、また、延伸倍率又は延伸の結晶化に伴い形成される軸方法の角度を制御したプラスチックフィルムでもよい。
<Support>
The support in the adhesive film will be described.
As the support, a plastic film made of a transparent and flexible resin is preferably used. Suitable plastic films for the support include polyester films such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate, and polybutylene terephthalate, (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, and polyolefin resin. Examples thereof include a film made of a resin, a cyclic polyolefin resin, a polyethylene resin such as cellulose acylate, and the like. However, the (meth) acrylic resin includes a polymer having a lactone ring structure, a polymer having a glutaric anhydride ring structure, and a polymer having a glutarimide ring structure.
In addition, other plastic films can be used as long as they have the required strength and optical suitability. The support may be a non-stretched film, uniaxially or biaxially stretched, or may be a plastic film in which the stretching ratio or the angle of the axial method formed by the crystallization of stretching is controlled.

支持体としては、紫外線透過性を有するものが好ましい。紫外線透過性を有することで、工程(4−2)及び(7)において層(ca)を硬化する際、支持体側から紫外線照射が可能になるため、製造適性上好ましい。
具体的には、支持体の波長250nm〜300nmにおける最大透過率が20%以上であることが好ましく、40%以上であることがさらに好ましく、60%以上であることが最も好ましい。波長250nm〜300nmにおける最大透過率が20%以上であると支持体側から紫外線を照射して層(ca)を硬化させやすく好ましい。
また、支持体上に層(b)を形成した粘着フィルムの波長250nm〜300nmにおける最大透過率が20%以上であることが好ましく、40%以上であることがさらに好ましく、60%以上であることが最も好ましい。
As the support, one having ultraviolet transparency is preferable. Having ultraviolet transparency enables ultraviolet irradiation from the support side when the layer (ca) is cured in steps (4-2) and (7), which is preferable in terms of production suitability.
Specifically, the maximum transmittance of the support at a wavelength of 250 nm to 300 nm is preferably 20% or more, more preferably 40% or more, and most preferably 60% or more. When the maximum transmittance at a wavelength of 250 nm to 300 nm is 20% or more, it is preferable that the layer (ca) is easily cured by irradiating ultraviolet rays from the support side.
Further, the maximum transmittance of the pressure-sensitive adhesive film having the layer (b) formed on the support at a wavelength of 250 nm to 300 nm is preferably 20% or more, more preferably 40% or more, and more preferably 60% or more. Is the most preferable.

支持体の膜厚は特に限定されず、10μm以上100μm以下であることが好ましく、10μm以上50μm以下であることがより好ましく、10μm以上40μm以下であることが更に好ましい。 The film thickness of the support is not particularly limited, and is preferably 10 μm or more and 100 μm or less, more preferably 10 μm or more and 50 μm or less, and further preferably 10 μm or more and 40 μm or less.

支持体上に層(b)を形成した粘着フィルムとしては、市販の保護フィルムを好適に用いることができる。具体的には、藤森工業(株)製のAS3−304、AS3−305、AS3−306、AS3−307、AS3−310、AS3−0421、AS3−0520、AS3−0620、LBO−307、NBO−0424、ZBO−0421、S−362、TFB−4T3−367AS等が挙げられる。 As the adhesive film having the layer (b) formed on the support, a commercially available protective film can be preferably used. Specifically, AS3-304, AS3-305, AS3-306, AS3-307, AS3-310, AS3-0421, AS3-0520, AS3-0620, LBO-307, NBO- manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd. 0424, ZBO-0421, S-362, TFB-4T3-367AS and the like can be mentioned.

工程(4−2)及び(7)では、粒子(a2)が層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没した状態を維持しながら層(ca)を硬化するが、工程(4−2)の前の段階(すなわち工程(4)の完了後)において、層(ca)の支持体側の界面から突出した粒子(a2)によって形成された凹凸形状を有していることが好ましい。こうすることで、工程(7)で層(ca)を硬化した後、工程(8)で層(b)を剥離すると、層(a)の表面から粒子(a2)が突出した状態の透過フィルターを得ることができる。
工程(4−2)の前の段階で、層(ca)の支持体側の界面から突出した粒子(a2)によって形成された凹凸形状を有しているようにするためには、工程(4)で、化合物(a1)の一部を層(b)に浸透させることが好ましい。
In steps (4-2) and (7), the particles (a2) are cured while maintaining the state of being buried in the combined layer of the layer (ca) and the layer (b), but the step (ca) is performed. In the step before step 4-2) (that is, after the completion of step (4)), it is preferable to have an uneven shape formed by particles (a2) protruding from the interface on the support side of the layer (ca). .. By doing so, when the layer (ca) is cured in the step (7) and then the layer (b) is peeled off in the step (8), the transmission filter in a state where the particles (a2) protrude from the surface of the layer (a). Can be obtained.
In order to have the uneven shape formed by the particles (a2) protruding from the interface on the support side of the layer (ca) in the step before the step (4-2), the step (4) Therefore, it is preferable to allow a part of the compound (a1) to penetrate into the layer (b).

[工程(4)]
工程(4)は、粒子(a2)が、層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没し、かつ、層(ca)の支持体側の界面から突出するように、層(ca)の支持体側の界面(好ましくは層(ca)と層(b)の界面)の位置を仮支持体側に近づける工程である。
なお、「粒子(a2)が、層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没し、かつ、層(ca)の支持体側の界面から突出する」とは、別の言い方をすると、「粒子(a2)が、層(ca)及び層(b)を合わせた層から表出しておらず、かつ、層(ca)及び層(b)の両層にまたがって存在している(粒子(a2)が層(ca)と層(b)との界面を横切って存在している)」とも言える。
工程(4)は、化合物(a1)の一部を層(b)に浸透させることにより行われることが好ましい。
工程(4)において、化合物(a1)の一部を層(b)に浸透させる場合、工程(3)が完了した後の積層体を60℃未満に保つことが好ましく、40℃以下に保つことがより好ましい。温度を40℃以下に保つことで、化合物(a1)、化合物(a1c)、及び粘着剤の粘度を高く保つことができるとともに、粒子(a2)の熱運動を抑制することができるため、粒子(a2)の凝集による光透過性能の低下及び撥水性能の低下を防ぐ効果が大きい。上記積層体を保つ温度の下限は特に限定されるものではなく、室温であっても、室温より低い温度であってもよい。
[Step (4)]
In step (4), the layer (ca) is such that the particles (a2) are buried in the combined layer of the layer (ca) and the layer (b) and protrude from the interface on the support side of the layer (ca). ) Is a step of bringing the position of the interface on the support side (preferably the interface between the layer (ca) and the layer (b)) closer to the temporary support side.
In other words, "the particles (a2) are buried in the combined layer of the layer (ca) and the layer (b) and protrude from the interface on the support side of the layer (ca)". , "Particles (a2) are not exposed from the combined layer of layer (ca) and layer (b), and are present across both layers (ca) and layer (b) ( Particles (a2) exist across the interface between the layer (ca) and the layer (b)) ".
The step (4) is preferably carried out by infiltrating a part of the compound (a1) into the layer (b).
When a part of the compound (a1) is permeated into the layer (b) in the step (4), the laminate after the completion of the step (3) is preferably kept below 60 ° C., and kept at 40 ° C. or lower. Is more preferable. By keeping the temperature below 40 ° C., the viscosities of the compound (a1), the compound (a1c), and the pressure-sensitive adhesive can be kept high, and the thermal motion of the particles (a2) can be suppressed. The effect of preventing the deterioration of the light transmission performance and the water repellency performance due to the aggregation of a2) is great. The lower limit of the temperature at which the laminate is maintained is not particularly limited, and may be room temperature or a temperature lower than room temperature.

[工程(4−2)]
工程(4−2)は、粒子(a2)が層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没した状態で層(ca)の一部を硬化させる工程であり、具体的には、層(ca)中の化合物(a1)及び化合物(a1c)からなる群より選択される化合物の一部を硬化させる工程である。
層(ca)の一部を硬化するとは、層(ca)中の化合物(a1)及び化合物(a1c)のすべてではなく、一部のみを硬化させることを表す。これにより、透過フィルターの撥水性層におけるバインダー樹脂を形成することができる。また、工程(4−2)の完了後の層(ca)中に未硬化の化合物(a1)を残存させることで、後述する工程(6)において、層(ca)と基材との貼合又は接着が可能となる。
工程(4−2)で粒子(a2)が層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没した状態を維持することで、粒子(a2)の凝集を抑制し、モスアイ構造を形成することができる。
なお、層(b)を設けた後に層(b)又は層(ca)の成分の揮発などにより、粒子(a2)が層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没した状態を維持できないと考えられる場合は、層(b)をあらかじめ厚くしておく等の操作を行うことができる。
[Step (4-2)]
The step (4-2) is a step of curing a part of the layer (ca) in a state where the particles (a2) are buried in the combined layer of the layer (ca) and the layer (b), specifically. , A step of curing a part of the compound selected from the group consisting of the compound (a1) and the compound (a1c) in the layer (ca).
Curing a part of the layer (ca) means curing only a part of the compound (a1) and the compound (a1c) in the layer (ca), not all of them. This makes it possible to form a binder resin in the water-repellent layer of the transmission filter. Further, by leaving the uncured compound (a1) in the layer (ca) after the completion of the step (4-2), the layer (ca) and the base material are bonded to each other in the step (6) described later. Alternatively, it can be bonded.
By maintaining the state in which the particles (a2) are buried in the combined layer of the layer (ca) and the layer (b) in the step (4-2), the aggregation of the particles (a2) is suppressed and the moth-eye structure is formed. can do.
After the layer (b) is provided, the particles (a2) are buried in the combined layer of the layer (ca) and the layer (b) due to volatilization of the layer (b) or the components of the layer (ca). If it is considered that the layer (b) cannot be maintained, an operation such as thickening the layer (b) in advance can be performed.

工程(4−2)における硬化は電離放射線を照射することで行うことができる。電離放射線の種類については、特に制限はなく、X線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が広く用いられる。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより10mJ/cm〜1000mJ/cmの照射量の紫外線を照射して層(ca)中の化合物(a1)の一部を硬化するのが好ましい。紫外線の照射量が10mJ/cm以上であれば、層(b)と粒子(a2)及び層(ca)を含む部分との密着力が適度に強くなり、仮支持体を剥離する工程(5)において仮支持体上に粒子(a2)及び層(ca)が残存しにくく、得られる透過フィルターに欠陥(撥水性が上がらない領域)が生じにくい。また、紫外線の照射量が1000mJ/cm以下であれば、工程(4−2)の完了後の層(ca)中の化合物(a1)の残存量が減少しすぎず、工程(6)において層(ca)と基材との適度な接着力が得られる。工程(4−2)における照射量は特に限定されず、使用する層(b)と粒子(a2)及び層(ca)を含む部分との密着力、及び層(ca)と基材との密着力を考慮して適宜調整することができる。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。紫外線ランプ種としては、メタルハライドランプ又は高圧水銀ランプ等が好適に用いられる。Curing in step (4-2) can be performed by irradiating ionizing radiation. The type of ionizing radiation is not particularly limited, and examples thereof include X-rays, electron beams, ultraviolet rays, visible light, and infrared rays, but ultraviolet rays are widely used. For example, if the coating film is UV curable, it is to cure a portion of the ultraviolet lamp and an irradiation amount of 10mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 layer (ca) compounds in (a1) preferable. When the irradiation amount of ultraviolet rays is 10 mJ / cm 2 or more, the adhesion between the layer (b) and the portion containing the particles (a2) and the layer (ca) becomes moderately strong, and the step of peeling off the temporary support (5). ), The particles (a2) and the layer (ca) are less likely to remain on the temporary support, and defects (regions in which water repellency does not increase) are less likely to occur in the obtained transmission filter. Further, when the irradiation amount of ultraviolet rays is 1000 mJ / cm 2 or less, the residual amount of the compound (a1) in the layer (ca) after the completion of the step (4-2) does not decrease too much, and in the step (6). An appropriate adhesive force between the layer (ca) and the base material can be obtained. The irradiation amount in the step (4-2) is not particularly limited, and the adhesion between the layer (b) to be used and the portion containing the particles (a2) and the layer (ca) and the adhesion between the layer (ca) and the base material It can be adjusted appropriately in consideration of the force. At the time of irradiation, the above energy may be applied all at once, or may be divided and irradiated. As the ultraviolet lamp type, a metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp, or the like is preferably used.

工程(4−2)における硬化時の酸素濃度は0〜1.0体積%であることが好ましく、0〜0.1体積%であることがさらに好ましく、0〜0.05体積%であることが最も好ましい。硬化時の酸素濃度を1.0体積%よりも小さくすることで、酸素による硬化阻害の影響を受けにくくなり、強固な膜となる。 The oxygen concentration at the time of curing in the step (4-2) is preferably 0 to 1.0% by volume, more preferably 0 to 0.1% by volume, and 0 to 0.05% by volume. Is the most preferable. By making the oxygen concentration at the time of curing smaller than 1.0% by volume, the film is less susceptible to the inhibition of curing by oxygen, and a strong film is formed.

工程(4−2)において、層(ca)中の化合物(a1)及び化合物(a1c)からなる群より選択される化合物の一部を硬化させる際、支持体の層(ca)側とは反対側から紫外線を照射してもよいし、仮支持体側から紫外線を照射してもよい。 In step (4-2), when a part of the compound selected from the group consisting of the compound (a1) and the compound (a1c) in the layer (ca) is cured, it is opposite to the layer (ca) side of the support. Ultraviolet rays may be irradiated from the side, or ultraviolet rays may be irradiated from the temporary support side.

[工程(5)]
工程(5)は、工程(4)又は(4−2)の完了後の積層体から仮支持体を剥離する工程である。
工程(4)又は(4−2)の完了後の積層体から仮支持体を剥離できるためには、層(ca)と仮支持体との間に適度な接着力が付与されていることにより、層(ca)及び粒子(a2)を含む部分(図5の符号3で示される粒子(a2)と符号4で示される層(ca)とからなる部分であり、図5の撥水性層2に相当する部分)を粘着フィルムに転写できる状態となっていることが好ましい。例えば、製造プロセス中の積層体の曲げ又は搬送テンションでは層(ca)及び粒子(a2)を含む部分は仮支持体から脱離しないが、層(b)に接触させた際、又は層(b)に接触させて紫外線照射を施した際に層(ca)及び粒子(a2)を含む部分が脱離する状態となっていることが好ましい。
[Step (5)]
The step (5) is a step of peeling the temporary support from the laminated body after the completion of the step (4) or (4-2).
In order for the temporary support to be peeled off from the laminated body after the completion of the step (4) or (4-2), an appropriate adhesive force is provided between the layer (ca) and the temporary support. , A portion including a layer (ca) and particles (a2) (a portion composed of a particle (a2) indicated by reference numeral 3 in FIG. 5 and a layer (ca) indicated by reference numeral 4 and the water-repellent layer 2 in FIG. It is preferable that the portion corresponding to) can be transferred to the adhesive film. For example, during bending or transport tension of the laminate during the manufacturing process, the portion containing the layer (ca) and the particles (a2) does not separate from the temporary support, but when it is brought into contact with the layer (b) or the layer (b). ), And the portion containing the layer (ca) and the particles (a2) is preferably in a desorbed state when irradiated with ultraviolet rays.

工程(2)、(3)、(4)、(4−2)、(5)において、層(ca)の表面に直交する方向には粒子(a2)が複数存在しないことが好ましい。
ここで、層(ca)の表面に直交する方向には粒子(a2)が複数存在しないとは、層(ca)の面内の10μm×10μmを走査型電子顕微鏡(SEM)で3視野観察した際に、表面に直交する方向に複数重なって存在していない状態の粒子(a2)の個数の割合が、80%以上であることを表し、好ましくは95%以上である。
In steps (2), (3), (4), (4-2), and (5), it is preferable that a plurality of particles (a2) do not exist in the direction orthogonal to the surface of the layer (ca).
Here, the fact that there are no plurality of particles (a2) in the direction orthogonal to the surface of the layer (ca) means that 10 μm × 10 μm in the plane of the layer (ca) was observed in three fields with a scanning electron microscope (SEM). At that time, the ratio of the number of particles (a2) in a state in which a plurality of particles (a2) are not present in a direction orthogonal to the surface is 80% or more, and is preferably 95% or more.

工程(4)、(4−2)、(5)において、層(ca)の膜厚と層(b)の膜厚の合計の膜厚が、粒子(a2)の平均一次粒径よりも大きいことが好ましい。
層(ca)の膜厚と層(b)の膜厚の合計の膜厚が、粒子(a2)の平均一次粒径よりも大きいと粒子(a2)が層(ca)及び層(b)を合わせた層中に埋没した状態にすることができるため好ましい。
In steps (4), (4-2), and (5), the total film thickness of the film thickness of the layer (ca) and the film thickness of the layer (b) is larger than the average primary particle size of the particles (a2). Is preferable.
When the total film thickness of the film thickness of the layer (ca) and the film thickness of the layer (b) is larger than the average primary particle size of the particles (a2), the particles (a2) form the layer (ca) and the layer (b). It is preferable because it can be buried in the combined layers.

さらに、工程(4)、(4−2)、(5)において、層(ca)の膜厚は、粒子(a2)の平均一次粒径の5〜70%であることが好ましく、20〜40%であることがより好ましい。層(ca)の膜厚が粒子(a2)の平均一次粒径の5%以上であると、後述する工程(8)で粘着フィルムを剥離して、層(ca)及び粒子(a2)を含む部分を基材へ転写した後に得られる透過フィルターから粒子(a2)が脱落しにくく耐擦傷性が向上するため好ましい。また、層(ca)の膜厚が粒子(a2)の平均一次粒径の70%以下であると屈折率の傾斜が十分となり、十分な光透過性能が得られる。層(ca)の膜厚が粒子(a2)の平均一次粒径の20〜40%であると、十分な耐擦傷性と光透過性能が両立できるため好ましい。後述の工程(6)〜(10)においても同様である。
工程(5)の完了後の層(ca)の膜厚は、層(ca)の膜断面を、走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、任意に100箇所の膜厚を計測してその平均値を求めた場合に、10nm〜100nm(より好ましくは20nm〜90nm、さらに好ましくは30nm〜70nm)となるように調整するのが好ましい。
Further, in steps (4), (4-2) and (5), the film thickness of the layer (ca) is preferably 5 to 70% of the average primary particle size of the particles (a2), and is preferably 20 to 40%. More preferably. When the film thickness of the layer (ca) is 5% or more of the average primary particle size of the particles (a2), the adhesive film is peeled off in the step (8) described later to include the layer (ca) and the particles (a2). It is preferable because the particles (a2) are hard to fall off from the transmission filter obtained after the portion is transferred to the substrate and the scratch resistance is improved. Further, when the film thickness of the layer (ca) is 70% or less of the average primary particle size of the particles (a2), the inclination of the refractive index becomes sufficient and sufficient light transmission performance can be obtained. It is preferable that the film thickness of the layer (ca) is 20 to 40% of the average primary particle size of the particles (a2) because sufficient scratch resistance and light transmission performance can be achieved at the same time. The same applies to the steps (6) to (10) described later.
The film thickness of the layer (ca) after the completion of the step (5) is obtained by observing the film cross section of the layer (ca) with a scanning electron microscope (SEM) and arbitrarily measuring the film thickness at 100 points and averaging the film thickness. When the value is determined, it is preferable to adjust the value to 10 nm to 100 nm (more preferably 20 nm to 90 nm, further preferably 30 nm to 70 nm).

工程(5)が完了して得られる積層体における層(ca)の層(b)側とは反対側の面からは粒子(a2)が突出していないことが好ましい。
工程(5)が完了して得られる積層体における層(ca)の層(b)側とは反対側の面の表面粗さは、30nm以下が好ましく、10nm以下がより好ましい。
層(ca)の層(b)側とは反対側の面の表面粗さが30nm以下であると、粒子(a2)が層(ca)の層(b)側とは反対側の面から突出しておらず、後述する工程(8)で粘着フィルムを剥離して、層(ca)及び粒子(a2)を含む部分(撥水性層)を基材へ転写する際に転写されやすく、また、転写後に撥水性層に欠陥が生じにくい。また、層(ca)の層(b)側とは反対側の面の表面粗さが10nm以下であると工程(6)において層(ca)と基材とを貼り合せる際に良好な密着を確保することができ、透過フィルターのヘイズの上昇を引き起こす転写層(粒子(a2)及び層(ca)を含む部分)−基材間の空隙発生を抑制することができるため好ましい。
本発明において、表面粗さはSPA−400(日立ハイテクノサイエンス製)を使用し、測定範囲5μm×5μm、測定モード:DFM,測定周波数:2Hzの測定条件で測定した。
It is preferable that the particles (a2) do not protrude from the surface of the layer (ca) obtained by completing the step (5) on the side opposite to the layer (b) side.
The surface roughness of the surface of the layer (ca) on the side opposite to the layer (b) side of the laminate obtained by completing the step (5) is preferably 30 nm or less, more preferably 10 nm or less.
When the surface roughness of the surface of the layer (ca) opposite to the layer (b) side is 30 nm or less, the particles (a2) protrude from the surface of the layer (ca) opposite to the layer (b) side. It is not easily transferred when the adhesive film is peeled off in the step (8) described later and the portion (water-repellent layer) containing the layer (ca) and the particles (a2) is transferred to the base material. The water-repellent layer is less likely to be defective later. Further, if the surface roughness of the surface of the layer (ca) opposite to the layer (b) side is 10 nm or less, good adhesion is obtained when the layer (ca) and the base material are bonded together in the step (6). It is preferable because it can be secured and the generation of voids between the transfer layer (the portion containing the particles (a2) and the layer (ca)) and the base material that causes an increase in the haze of the transmission filter can be suppressed.
In the present invention, the surface roughness was measured using SPA-400 (manufactured by Hitachi High-TechnoScience) under the measurement conditions of a measurement range of 5 μm × 5 μm, a measurement mode: DFM, and a measurement frequency: 2 Hz.

工程(5)が完了して得られる積層体における粒子(a2)及び層(ca)を含む部分は、粘着フィルムの層(b)から剥離できるものである。
粒子(a2)及び層(ca)を含む部分が粘着フィルムの層(b)から剥離できるとは、粒子(a2)及び層(ca)を含む部分と粘着フィルムの層(b)との間に適度な接着力が付与されていることにより、後述の転写工程(工程(8))において粒子(a2)及び層(ca)を含む部分が層(b)の表面から脱離して基材表面に転写できる状態となっていることを示す。粒子(a2)及び層(ca)を含む部分(撥水性層)が基材表面に転写できる、すなわち転写性があるとは、転写後の透過フィルターの転写面(撥水性層を有する面)とは反対側に、粘着剤付き黒色ポリエチレンテレフタレートシート(巴川製紙所製;「くっきりみえーる」)を貼り合わせて目視観察した際、撥水性層を転写する前よりも撥水性が向上している領域の面積の割合が、転写する面積に対して、80%以上であることを表す。粒子(a2)及び層(ca)を含む部分と層(b)との接着力については特に限定されず、例えば幅25mmの転写部材(工程(5)が完了して得られる積層体)の粒子(a2)及び層(ca)を含む部分を接着剤を用いて厚み1.1mmのガラス基材に固定化し、粒子(a2)及び層(ca)を含む部分と層(b)を90°方向に速度1000mm/minで剥離させたときの剥離力によって測定することができる。上記方法によって測定した剥離力が0.2N/25mm〜4.0N/25mmであることが好ましく、0.6N/25mm〜4.0N/25mmであることがより好ましい。剥離力が0.6N/25mm以上であると、工程(5)において、仮支持体を剥離する際に、仮支持体上に粒子(a2)及び層(ca)の一部が残存しにくいため、最終的に得られる透過フィルターの撥水性が向上する。剥離力が4.0N/25mm以下であると、工程(8)において、粘着フィルムを剥離する際、層(b)に粒子(a2)の一部が残存しにくいため、最終的に得られる透過フィルターの撥水性が向上する。
The portion of the laminate obtained by completing the step (5) containing the particles (a2) and the layer (ca) can be peeled off from the layer (b) of the adhesive film.
The part containing the particles (a2) and the layer (ca) can be peeled off from the layer (b) of the adhesive film between the part containing the particles (a2) and the layer (ca) and the layer (b) of the adhesive film. By imparting an appropriate adhesive force, in the transfer step (step (8)) described later, the portion containing the particles (a2) and the layer (ca) is separated from the surface of the layer (b) and becomes the surface of the base material. Indicates that the film is ready for transfer. The portion (water-repellent layer) containing the particles (a2) and the layer (ca) can be transferred to the surface of the base material, that is, the transferability is defined as the transfer surface (the surface having the water-repellent layer) of the transmission filter after transfer. When a black polyethylene terephthalate sheet with adhesive (manufactured by Tomagawa Paper Co., Ltd .; "Clear Mieru") was attached to the opposite side and visually observed, the water repellency was improved compared to before the water repellent layer was transferred. It means that the ratio of the area of the region is 80% or more with respect to the area to be transferred. The adhesive strength between the portion containing the particles (a2) and the layer (ca) and the layer (b) is not particularly limited, and for example, particles of a transfer member having a width of 25 mm (a laminate obtained by completing step (5)). The portion containing the particles (a2) and the layer (ca) is fixed to a glass substrate having a thickness of 1.1 mm using an adhesive, and the portion containing the particles (a2) and the layer (ca) and the layer (b) are oriented in the 90 ° direction. It can be measured by the peeling force when peeling at a speed of 1000 mm / min. The peeling force measured by the above method is preferably 0.2 N / 25 mm to 4.0 N / 25 mm, and more preferably 0.6 N / 25 mm to 4.0 N / 25 mm. If the peeling force is 0.6 N / 25 mm or more, part of the particles (a2) and the layer (ca) is unlikely to remain on the temporary support when the temporary support is peeled in the step (5). , The water repellency of the finally obtained transmission filter is improved. When the peeling force is 4.0 N / 25 mm or less, when the adhesive film is peeled off in the step (8), a part of the particles (a2) is unlikely to remain in the layer (b), so that the final transmission is obtained. The water repellency of the filter is improved.

[工程(6)]
工程(6)は、上述の工程(5)が完了して得られた積層体における層(ca)と基材とを貼り合せる工程である。
層(ca)と基材とを貼り合わせる方法としては特に限定されず公知の方法を用いることができ、たとえばロールラミネート法が挙げられる。
層(ca)と基材とが接するように粘着フィルムを貼り合わせることが好ましい。
[Step (6)]
The step (6) is a step of laminating the layer (ca) and the base material in the laminated body obtained by completing the above-mentioned step (5).
The method of bonding the layer (ca) and the base material is not particularly limited, and a known method can be used, and examples thereof include a roll laminating method.
It is preferable to attach the adhesive film so that the layer (ca) and the base material are in contact with each other.

[工程(7)]
工程(7)は、粒子(a2)が、層(b)及び層(ca)を合わせた層中に埋没した状態で層(ca)を硬化させる工程であり、具体的には、層(ca)中の化合物(a1)及び化合物(a1c)からなる群より選択される化合物の一部又は全部を硬化させる工程である。なお、層(ca)中の化合物(a1)及び化合物(a1c)からなる群より選択される化合物の全部を硬化させるとは、通常の方法で硬化させた場合に、硬化しきれなかった化合物が残っている場合も含むものである。工程(7)における硬化率については、特に限定されないが、膜強度の観点から硬化率が60%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましい。
工程(7)により、上記工程(6)で貼り合せた基材と層(ca)とを接着させることができる。
[Step (7)]
The step (7) is a step of curing the layer (ca) in a state where the particles (a2) are buried in the combined layer of the layer (b) and the layer (ca), and specifically, the layer (ca). ) Is a step of curing a part or all of the compound selected from the group consisting of the compound (a1) and the compound (a1c). It should be noted that curing all of the compounds selected from the group consisting of the compound (a1) and the compound (a1c) in the layer (ca) means that the compounds that could not be completely cured when cured by a usual method It also includes cases where it remains. The curing rate in the step (7) is not particularly limited, but from the viewpoint of film strength, the curing rate is preferably 60% or more, and more preferably 80% or more.
By the step (7), the base material bonded in the above step (6) and the layer (ca) can be adhered to each other.

工程(7)における硬化は上記工程(4−2)に記載の条件と同様の条件で行うことが好ましい。 The curing in the step (7) is preferably performed under the same conditions as those described in the above step (4-2).

[工程(8)]
工程(8)は、工程(7)で得られた積層体から粘着フィルムを剥離する工程である。
工程(8)において粘着フィルムを剥離するためには、工程(5)が完了して得られる積層体における粒子(a2)及び層(ca)を含む部分と層(b)との接着力の指標として、上記測定法にて測定した剥離力が、0.2N/25mm〜4.0N/25mm以下であることが好ましい。
[Step (8)]
The step (8) is a step of peeling the adhesive film from the laminate obtained in the step (7).
In order to peel off the adhesive film in the step (8), an index of the adhesive force between the portion containing the particles (a2) and the layer (ca) and the layer (b) in the laminate obtained by completing the step (5). As a result, the peeling force measured by the above measuring method is preferably 0.2 N / 25 mm to 4.0 N / 25 mm or less.

工程(8)が完了した後には、層(ca)の表面に粒子(a2)によって形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する透過フィルターが得られるが、その後に更に工程(9)及び(10)を行ってもよい。 After the step (8) is completed, a transmission filter having a moth-eye structure having a concavo-convex shape formed by particles (a2) on the surface of the layer (ca) is obtained, and then further steps (9) and (10) are obtained. ) May be performed.

[工程(9)]
工程(9)は、粒子(a2)が、層(ca)の基材側の界面とは反対側の界面から突出した状態で、層(ca)を硬化させる工程であり、具体的には、層(ca)中の化合物(a1)及び化合物(a1c)を全て硬化させる工程である。なお、前述の工程(7)で層(ca)中の化合物(a1)及び化合物(a1c)を全て硬化させた場合は、工程(9)を行わなくてもよい。
[Step (9)]
The step (9) is a step of curing the layer (ca) in a state where the particles (a2) protrude from the interface on the side opposite to the interface on the base material side of the layer (ca). This is a step of curing all the compound (a1) and the compound (a1c) in the layer (ca). When all the compounds (a1) and the compound (a1c) in the layer (ca) are cured in the above-mentioned step (7), the step (9) does not have to be performed.

工程(9)における硬化は上記工程(4−2)に記載の条件と同様の条件で行うことが好ましい。
工程(9)において、層(ca)の基材側とは反対側から紫外線を照射して層(ca)中の化合物(a1)及び化合物(a1c)を硬化させることが製造適正上好ましい。
The curing in the step (9) is preferably performed under the same conditions as those described in the above step (4-2).
In the step (9), it is preferable in terms of production suitability that the compound (a1) and the compound (a1c) in the layer (ca) are cured by irradiating ultraviolet rays from the side opposite to the base material side of the layer (ca).

工程(9)の完了後の層(ca)は、層中に化合物(a1c)を含む層である。ただし、前述の通り、通常の方法で硬化させた場合に、硬化しきれなかった化合物が残っていてもよい。 The layer (ca) after the completion of the step (9) is a layer containing the compound (a1c) in the layer. However, as described above, when the compound is cured by a usual method, the compound that has not been completely cured may remain.

[工程(10)]
工程(10)は、工程(9)完了後の積層体を溶剤で洗浄する工程である。
上述の本発明の透過フィルターの製造方法においては、支持体及び層(b)を剥離した際にも層(ca)側に粘着剤が残りにくいが、工程(10)により、基材及び層(ca)は溶解せずに、粘着剤を溶解する溶剤(メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン等)を用いて洗浄してもよい。
[Step (10)]
The step (10) is a step of cleaning the laminate after the completion of the step (9) with a solvent.
In the above-mentioned method for producing a transmission filter of the present invention, the adhesive does not easily remain on the layer (ca) side even when the support and the layer (b) are peeled off, but the base material and the layer (10) are subjected to the step (10). Ca) may not be dissolved and may be washed with a solvent (methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, acetone, etc.) that dissolves the pressure-sensitive adhesive.

上述の第2の態様の透過フィルターは、上記工程(8)、(9)又は(10)の終了後の積層体8と、後述する積層体20とを用いて製造することができる。 The transmission filter of the second aspect described above can be manufactured by using the laminated body 8 after the completion of the above steps (8), (9) or (10) and the laminated body 20 described later.

積層体20は以下の工程(1e)〜(5e)を含む製造方法で製造することができる。
仮支持体上に、粒子(a2)よりも小さい平均一次粒径の粒子(a2e)と(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有する化合物(a1e)とを、上記化合物(a1e)を含む層(ae)中に上記粒子(a2e)が埋没する厚みで設ける工程(1e)、
上記層(ae)の一部を硬化させて層(cae)を得る工程(2e)、
支持体及び上記支持体上に粘着剤を含む層(b)を有する粘着フィルムの上記層(b)を、上記層(cae)と貼り合わせる工程(3e)、
上記粒子(a2e)が、上記層(cae)及び上記層(b)を合わせた層中に埋没し、かつ、上記層(cae)の上記支持体側の界面から突出するように、上記層(cae)の上記支持体側の界面の位置を上記仮支持体側に近づける工程(4e)、
上記仮支持体を剥離する工程(5e)
The laminated body 20 can be manufactured by a manufacturing method including the following steps (1e) to (5e).
On the temporary support, particles (a2e) having an average primary particle size smaller than the particles (a2) and a compound (a1e) having at least one (meth) acryloyl group are formed on a layer (ae) containing the compound (a1e). ), The step (1e) of providing the particles (a2e) with a thickness of burying them.
Step (2e) of obtaining a layer (cae) by curing a part of the layer (ae).
Step (3e) of laminating the layer (b) of the adhesive film having the support and the layer (b) containing the adhesive on the support with the layer (cae).
The layer (cae) is buried in the combined layer of the layer (cae) and the layer (b), and the particles (a2e) protrude from the interface of the layer (cae) on the support side. ), The step (4e) of bringing the position of the interface on the support side closer to the temporary support side.
Step of peeling off the temporary support (5e)

上記製造方法において、上記工程(4e)と上記工程(5e)との間に、上記粒子(a2e)が、上記層(cae)及び上記層(b)を合わせた層中に埋没した状態で上記層(cae)の一部を硬化させる工程(4−2e)を有することが好ましい。 In the above-mentioned manufacturing method, the above-mentioned particles (a2e) are buried in a layer in which the above-mentioned layer (cae) and the above-mentioned layer (b) are combined between the above-mentioned step (4e) and the above-mentioned step (5e). It is preferable to have a step (4-2e) of curing a part of the layer (cae).

上記工程(5e)が終了した段階で得られる積層体20と、前述の積層体8とを用いて、上述の第2の態様の透過フィルターを製造する方法について以下に説明する。
上述の第2の態様の透過フィルターは、上記工程(8)、(9)又は(10)の終了後の積層体8と、上記積層体20とを用いて、以下の工程(6e)〜(8e)を含む製造方法により製造することができる。
The method for manufacturing the transmission filter of the second aspect described above by using the laminated body 20 obtained at the stage where the step (5e) is completed and the laminated body 8 described above will be described below.
The transmission filter of the second aspect described above uses the laminated body 8 after the completion of the above steps (8), (9) or (10) and the above-mentioned laminated body 20, and the following steps (6e) to ( It can be produced by a production method including 8e).

上記積層体20の層(cae)と、上記積層体8の粒子(a2)の上記層(ca)の上記基材側とは反対側の表面(凹凸形状を有する表面)とを貼り合せる工程(6e)、
上記粒子(a2e)が、上記層(cae)と、上記層(b)とを合わせた層中に埋没した状態で上記層(cae)を硬化させる工程(7e)、
上記粘着フィルムを剥離する工程(8e)、
をこの順に有する製造方法により製造されることが好ましい。
A step of laminating the layer (cae) of the laminated body 20 and the surface (surface having an uneven shape) of the particles (a2) of the laminated body 8 on the side opposite to the base material side of the layer (ca). 6e),
A step (7e) of curing the layer (cae) in a state where the particles (a2e) are buried in a layer in which the layer (cae) and the layer (b) are combined.
Step of peeling the adhesive film (8e),
Is preferably produced by a production method having the above in this order.

更に、工程(8e)の後に、上記粒子(a2e)が、上記層(cae)の上記粒子(a2)側の界面とは反対側の界面から突出した状態で、上記層(cae)を硬化させる工程(9e)、
溶剤で洗浄する工程(10e)
をこの順に有することがより好ましい。
Further, after the step (8e), the layer (cae) is cured in a state where the particles (a2e) protrude from the interface on the side opposite to the interface on the particle (a2) side of the layer (cae). Step (9e),
Step of cleaning with solvent (10e)
Is more preferable to have in this order.

上記工程(1e)〜(10e)の詳細は、上述の工程(1)〜(10)を参照しうるものである。ただし、工程(1)〜(10)における「粒子(a2)」、「化合物(a1)」、「層(a)」、「層(ca)」、及び「基材」を、「粒子(a2e)」、「化合物(a1e)」、「層(ae)」、「層(cae)」、及び「粒子(a2)の層(ca)の基材側とは反対側の表面(凹凸形状を有する表面)」とそれぞれ読み替えるものとする。 For details of the above steps (1e) to (10e), the above steps (1) to (10) can be referred to. However, the "particles (a2)", "compound (a1)", "layer (a)", "layer (ca)", and "base material" in the steps (1) to (10) are referred to as "particles (a2e)". ) ”,“ Compound (a1e) ”,“ Layer (ae) ”,“ Layer (cae) ”, and“ Particle (a2) has a surface (having an uneven shape) opposite to the substrate side of the layer (ca). It shall be read as "surface)".

図7に上記工程(6e)を説明するための模式図を示す。図7の積層体20は、粒子(a2e)(符号13)が、上記層(cae)(符号14)と層(b)(符号16)とを合わせた層中に埋没した状態で、かつ上記層(cae)(符号14)と層(b)(符号16)とにまたがって存在しており、上記層(cae)(符号14)と層(b)(符号16)との界面を横切って存在している。層(b)(符号16)の上記層(cae)(符号14)側とは反対側の面には支持体15が積層されている。
前述の工程(8)〜(10)のいずれかで得られた透過フィルター10と、前述の工程(5e)で得られた積層体20とを貼り合せる。この際、図2に示した光学系保護部材11のように粒子(a2)上に粒子(a2e)が配置されるように調整することが好ましい。
FIG. 7 shows a schematic diagram for explaining the above step (6e). In the laminated body 20 of FIG. 7, the particles (a2e) (reference numeral 13) are embedded in the combined layer of the layer (cae) (reference numeral 14) and the layer (b) (reference numeral 16), and the above-mentioned It exists across the layer (cae) (reference numeral 14) and the layer (b) (reference numeral 16), and crosses the interface between the layer (cae) (reference numeral 14) and the layer (b) (reference numeral 16). Existing. The support 15 is laminated on the surface of the layer (b) (reference numeral 16) opposite to the layer (cae) (reference numeral 14) side.
The transmission filter 10 obtained in any of the above steps (8) to (10) and the laminate 20 obtained in the above step (5e) are bonded together. At this time, it is preferable to adjust so that the particles (a2e) are arranged on the particles (a2) as in the optical system protection member 11 shown in FIG.

また、工程(1e)における、層(ae)に含まれる化合物(a1e)の塗設量は、5mg/m〜75mg/mが好ましく、10mg/m〜70mg/mがさらに好ましく、15mg/m〜65mg/mが最も好ましい。Further, in the step (1e), the coating amount of the compound contained in the layer (ae) (a1e) is preferably from 5mg / m 2 ~75mg / m 2 , more preferably 10mg / m 2 ~70mg / m 2 , 15mg / m 2 ~65mg / m 2 is most preferred.

粒子(a2e)の塗設量は、1mg/m〜23mg/mが好ましく、2mg/m〜21mg/mがさらに好ましく、3mg/m〜19mg/mが最も好ましい。The coating amount of the particles (a2e) is preferably from 1mg / m 2 ~23mg / m 2 , more preferably 2mg / m 2 ~21mg / m 2 , 3mg / m 2 ~19mg / m 2 is most preferred.

[液浸露光装置]
本発明の透過フィルターは、液浸露光装置に適用することができる。本発明の液浸露光装置は本発明の透過フィルターを具備するものである。
[Immersion exposure device]
The transmission filter of the present invention can be applied to an immersion exposure apparatus. The immersion exposure apparatus of the present invention includes the transmission filter of the present invention.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The materials, reagents, amounts of substances and their ratios, operations, etc. shown in the following examples can be appropriately changed as long as they do not deviate from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following specific examples.

[シリカ粒子P1の合成]
撹拌機、滴下装置および温度計を備えた容量200Lの反応器に、メチルアルコール67.54kgと、28質量%アンモニア水(水および触媒)26.33kgとを仕込み、撹拌しながら液温を33℃に調節した。一方、滴下装置に、テトラメトキシシラン12.70kgをメチルアルコール5.59kgに溶解させた溶液を仕込んだ。反応器中の液温を33℃に保持しながら、滴下装置から上記溶液を44分間かけて滴下し、滴下終了後、さらに21分間、液温を上記温度に保持しながら撹拌することにより、テトラメトキシシランの加水分解および縮合を行い、シリカ粒子前駆体を含有する分散液を得た。この分散液を、瞬間真空蒸発装置((ホソカワミクロン(株)製クラックス・システムCVX−8B型)を用いて加熱管温度175℃、減圧度200torr(27kPa)の条件で気流乾燥させることにより、シリカ粒子P1を得た。
シリカ粒子P1の平均一次粒径は80nm、粒径の分散度(CV値)は4.8%、押し込み硬度は340MPaであった。
[Synthesis of silica particles P1]
67.54 kg of methyl alcohol and 26.33 kg of 28% by mass aqueous ammonia (water and catalyst) were charged into a 200 L reactor equipped with a stirrer, a dropping device and a thermometer, and the liquid temperature was adjusted to 33 ° C. while stirring. Adjusted to. On the other hand, a solution prepared by dissolving 12.70 kg of tetramethoxysilane in 5.59 kg of methyl alcohol was charged into the dropping device. While maintaining the liquid temperature in the reactor at 33 ° C., the above solution was added dropwise from the dropping device over 44 minutes, and after the completion of the dropping, stirring was performed for another 21 minutes while maintaining the liquid temperature at the above temperature to tetra. Hydrolysis and condensation of methoxysilane were carried out to obtain a dispersion containing a silica particle precursor. Silica particles are dried by airflow using an instantaneous vacuum evaporator ((Cracks System CVX-8B type manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd.) at a heating tube temperature of 175 ° C. and a reduced pressure of 200 torr (27 kPa). Obtained P1.
The average primary particle size of the silica particles P1 was 80 nm, the dispersion degree (CV value) of the particle size was 4.8%, and the indentation hardness was 340 MPa.

[焼成シリカ粒子P2の作製]
5kgのシリカ粒子P1をルツボに入れ、電気炉を用いて900℃で2時間焼成した後、冷却して、次いで粉砕機を用いて粉砕し、分級前焼成シリカ粒子を得た。さらにジェット粉砕分級機(日本ニューマ社製IDS−2型)を用いて解砕および分級を行うことにより焼成シリカ粒子P2を得た。
[Preparation of calcined silica particles P2]
5 kg of silica particles P1 were placed in a crucible and calcined at 900 ° C. for 2 hours using an electric furnace, cooled, and then pulverized using a crusher to obtain preclassified calcined silica particles. Further, calcined silica particles P2 were obtained by crushing and classifying using a jet crushing classifier (IDS-2 type manufactured by Nippon Pneumatic Co., Ltd.).

[シランカップリング剤処理シリカ粒子P3の作製]
5kgの焼成シリカ粒子P2を、加熱ジャケットを備えた容量20Lのヘンシェルミキサ(三井鉱山株式会社製FM20J型)に仕込んだ。焼成シリカ粒子P2を撹拌しているところに、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM5103)45gを、メチルアルコール90gに溶解させた溶液を滴下して混合した。その後、混合撹拌しながら150℃まで約1時間かけて昇温し、150℃で12時間保持して加熱処理を行った。加熱処理では、掻き落とし装置を撹拌羽根とは逆方向に常時回転させながら、壁面付着物の掻き落としを行った。また、適宜、へらを用いて壁面付着物を掻き落とすことも行った。加熱後、冷却し、ジェット粉砕分級機を用いて解砕および分級を行い、シランカップリング剤処理シリカ粒子P3を得た。
シランカップリング剤処理シリカ粒子P3の平均一次粒径は72nm、粒径の分散度(CV値)は4.9%、押し込み硬度は470MPaであった。
[Preparation of Silane Coupling Agent-treated Silane Particles P3]
5 kg of calcined silica particles P2 were charged into a 20 L Henschel mixer (FM20J type manufactured by Mitsui Mining Co., Ltd.) equipped with a heating jacket. While stirring the calcined silica particles P2, 45 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (KBM5103 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added dropwise by dissolving a solution in 90 g of methyl alcohol and mixed. Then, the temperature was raised to 150 ° C. over about 1 hour while mixing and stirring, and the temperature was maintained at 150 ° C. for 12 hours for heat treatment. In the heat treatment, the scraping device was constantly rotated in the direction opposite to that of the stirring blade to scrape off the deposits on the wall surface. In addition, a spatula was used to scrape off the wall deposits as appropriate. After heating, it was cooled and crushed and classified using a jet pulverization classifier to obtain silane coupling agent-treated silica particles P3.
The average primary particle size of the silane coupling agent-treated silica particles P3 was 72 nm, the particle size dispersion (CV value) was 4.9%, and the indentation hardness was 470 MPa.

[シリカ粒子分散液PA−1の作製]
シリカ粒子P1を50g、メチルエチルケトン(MEK)200g、直径0.05mmジルコニアビーズ600gを直径12cmの1L瓶容器に入れ、ボールミルV−2M(入江商会)にセットし、250回転/分で10時間分散した。このようにして、シリカ粒子分散液PA−1(固形分濃度20質量%)を作製した。
[Preparation of silica particle dispersion PA-1]
50 g of silica particles P1, 200 g of methyl ethyl ketone (MEK), and 600 g of zirconia beads having a diameter of 0.05 mm were placed in a 1 L bottle container having a diameter of 12 cm, set in a ball mill V-2M (Irie Shokai), and dispersed at 250 rpm for 10 hours. .. In this way, the silica particle dispersion liquid PA-1 (solid content concentration 20% by mass) was prepared.

[シリカ粒子分散液PA−2の作製]
シランカップリング剤処理シリカ粒子P3を50g、MEK200g、直径0.05mmジルコニアビーズ600gを直径12cmの1L瓶容器に入れ、ボールミルV−2M(入江商会)にセットし、250回転/分で10時間分散した。このようにして、シリカ粒子分散液PA−2(固形分濃度20質量%)を作製した。
[Preparation of silica particle dispersion PA-2]
50 g of silane coupling agent-treated silica particles P3, 200 g of MEK, and 600 g of zirconia beads with a diameter of 0.05 mm are placed in a 1 L bottle container with a diameter of 12 cm, set in a ball mill V-2M (Irie Shokai), and dispersed at 250 rpm for 10 hours. did. In this way, a silica particle dispersion liquid PA-2 (solid content concentration 20% by mass) was prepared.

<実施例1>
[層(a)形成用組成物の調製]
下記の組成となるように各成分をミキシングタンクに投入し、60分間攪拌し、30分間超音波分散機により分散し、塗布液とした。このようにして、層(a)形成用組成物である組成物(A−1)を調製した。
<Example 1>
[Preparation of composition for forming layer (a)]
Each component was put into a mixing tank so as to have the following composition, stirred for 60 minutes, and dispersed by an ultrasonic disperser for 30 minutes to prepare a coating liquid. In this way, the composition (A-1), which is the composition for forming the layer (a), was prepared.

組成物(A−1)
SIRIUS−501:1.4質量部
化合物C3:1.5質量部
A−TMPT:1.7質量部
クエン酸トリエチル:4.1質量部
イルガキュア127:0.2質量部
化合物P:0.1質量部
化合物E:0.1質量部
シリカ粒子分散液PA−1:32.3質量部
エタノール:12.7質量部
メチルエチルケトン:33.2質量部
アセトン:12.7質量部
Composition (A-1)
SIRIUS-501: 1.4 parts by mass Compound C3: 1.5 parts by mass A-TMPT: 1.7 parts by mass Triethyl citrate: 4.1 parts by mass Irgacure 127: 0.2 parts by mass Compound P: 0.1 parts by mass Part Compound E: 0.1 part by mass Silica particle dispersion PA-1: 32.3 parts by mass Ethanol: 12.7 parts by mass Methyl ethyl ketone: 33.2 parts by mass Acetone: 12.7 parts by mass

使用した成分について以下に示す。
SIRIUS−501:デンドリマー型多官能アクリレート(大阪有機化学工業(株)製)
The ingredients used are shown below.
SIRIUS-501: Dendrimer type polyfunctional acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)

A−TMPT:多官能アクリレート(新中村化学工業(株)製)
イルガキュア127:光重合開始剤(BASFジャパン(株)製)
化合物P:下記構造式で表される光酸発生剤(和光純薬(株)製)
A-TMPT: Polyfunctional acrylate (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.)
Irgacure 127: Photopolymerization Initiator (manufactured by BASF Japan Ltd.)
Compound P: Photoacid generator represented by the following structural formula (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

化合物E:下記式(13)で表される構造の含フッ素共重合体(重量平均分子量17000)の固形分濃度40質量%のMEK溶液
式(13)
Compound E: MEK solution formula (13) having a solid content concentration of 40% by mass of a fluorine-containing copolymer (weight average molecular weight 17,000) having a structure represented by the following formula (13).

組成物(A−1)において、SIRIUS−501、化合物C3、及びA−TMPTが、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有しフッ素原子を含まない化合物(a1)である。 In the composition (A-1), SIRIUS-501, compound C3, and A-TMPT are compounds (a1) having at least one (meth) acryloyl group and containing no fluorine atom.

<透過フィルター1の作製>
(工程(1) 層(a)の塗工)
仮支持体として100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(FD100M、富士フイルム(製))上に、組成物(A−1)をダイコーターを用いて2.8ml/m塗布し、30℃で90秒乾燥させた。
<Manufacturing of transmission filter 1>
(Process (1) Coating of layer (a))
The composition (A-1) was applied 2.8 ml / m 2 using a die coater on a 100 μm polyethylene terephthalate film (FD100M, manufactured by FUJIFILM Corporation) as a temporary support, and dried at 30 ° C. for 90 seconds. It was.

(工程(2) 層(a)のプレ露光)
酸素濃度が1.4体積%の雰囲気になるように窒素パージしながら、高圧水銀ランプ(Dr.honle AG社製 型式:33351N 部品番号:LAMP−HOZ 200 D24 U 450 E)を用いて層(a)側から照射量2.4mJ/cm、照度0.60mWで光照射し、化合物(a1)の一部を硬化させて層(ca)を得た。なお、照射量の測定は、アイグラフィック社製 アイ紫外線積算照度計 UV METER UVPF−A1にHEAD SENSER PD−365を取り付け、測定レンジ0.00にて測定した。
(Step (2) Pre-exposure of layer (a))
A layer (a) using a high-pressure mercury lamp (Dr. honle AG model: 33351N part number: LAMP-HOZ 200 D24 U 450 E) while purging nitrogen so that the oxygen concentration becomes an atmosphere of 1.4% by volume. ) Side was irradiated with light at an irradiation volume of 2.4 mJ / cm 2 and an illuminance of 0.60 mW, and a part of the compound (a1) was cured to obtain a layer (ca). The irradiation amount was measured in a measurement range of 0.00 by attaching a HEAD SENSER PD-365 to the UV METER UVPF-A1 eye ultraviolet integrated illuminance meter manufactured by Eye Graphic.

(工程(3) 粘着フィルムの貼り合わせ)
次いで、層(ca)上に、藤森工業(株)製の保護フィルム(マスタックTFB AS3−304)から剥離フィルムを剥離して得られる粘着フィルムを、粘着剤層(層(b))が層(ca)側になるように貼り合わせた。貼り合わせには、業務用ラミネーターBio330(DAE−EL Co.製)を使用し、速度1で実施した。
なお、ここでの保護フィルムとは、支持体/粘着剤層/剥離フィルムから構成される積層体を指し、保護フィルムから剥離フィルムを剥がした、支持体/粘着剤層から構成される積層体が粘着フィルムである。
(Step (3) Adhesive film bonding)
Next, an adhesive film obtained by peeling the release film from the protective film (Musstack TFB AS3-304) manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd. is formed on the layer (ca), and the adhesive layer (layer (b)) is layered ( It was pasted so that it was on the ca) side. For bonding, a commercial laminator Bio330 (manufactured by DAE-EL Co.) was used, and the bonding was performed at a speed of 1.
The protective film here refers to a laminate composed of a support / adhesive layer / release film, and a laminate composed of a support / adhesive layer obtained by peeling the release film from the protective film. It is an adhesive film.

使用した保護フィルムを以下に示す。
マスタックTFB AS3−304(藤森工業(株)製 帯電防止機能付き光学用保護フィルム)(以下、「AS3−304」ともいう)
支持体:ポリエステルフィルム(厚み38μm)
粘着剤層厚み:20μm
剥離フィルムを剥がした状態での波長250nm〜300nmにおける最大透過率:0.1%未満
The protective film used is shown below.
Massac TFB AS3-304 (Optical protective film with antistatic function manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) (hereinafter also referred to as "AS3-304")
Support: Polyester film (thickness 38 μm)
Adhesive layer thickness: 20 μm
Maximum transmittance at wavelengths of 250 nm to 300 nm with the release film peeled off: less than 0.1%

透過率の測定は、島津製作所(株)製の紫外可視近赤外分光光度計UV3150を用いて行った。 The transmittance was measured using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer UV3150 manufactured by Shimadzu Corporation.

(工程(4) 化合物(a1)の層(b)への浸透)
粘着フィルムの貼り合わせ後、25℃の環境下で5分間静置し、化合物(a1)を層(b)へ浸透させた。
(Step (4) Penetration of compound (a1) into layer (b))
After the adhesive film was attached, the mixture was allowed to stand in an environment of 25 ° C. for 5 minutes to allow the compound (a1) to penetrate into the layer (b).

(工程(4−2) 層(ca)の部分硬化)
続いて、酸素濃度が0.01体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、支持体の層(ca)側とは反対側から照度150mW/cm、照射量600mJ/cmの紫外線を照射して層(ca)の一部を硬化させた。
(Partial curing of step (4-2) layer (ca))
Subsequently, a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) was used while purging nitrogen so that the oxygen concentration became 0.01% by volume or less, and the layer (ca) side of the support was used. A part of the layer (ca) was cured by irradiating ultraviolet rays having an illuminance of 150 mW / cm 2 and an irradiation amount of 600 mJ / cm 2 from the opposite side.

(工程(5) 仮支持体の剥離 積層体の作製)
上記積層体から、仮支持体であるFD100Mを180°方向に速度30m/minで剥離した。このようにして積層体1を作製した。
(Step (5) Peeling of temporary support Preparation of laminated body)
The FD100M, which is a temporary support, was peeled from the laminated body in the 180 ° direction at a speed of 30 m / min. In this way, the laminated body 1 was produced.

(工程(6) 基材の貼り合せ)
CONTURANテンパックスフロート(厚み2mm、波長315nmの光の透過率72%、SCHOOT(株)製)と工程(5)で仮支持体を取り除いた積層体1の層(ca)側を貼り合わせた。貼り合わせには、業務用ラミネーターBio330(DAE−EL
Co.製)を使用し、速度1で実施した。
(Step (6) Lamination of base materials)
The layer (ca) side of the laminate 1 from which the temporary support was removed in the step (5) was bonded to the CONTURAN Tempax float (thickness 2 mm, light transmittance of 315 nm, 72%, manufactured by SCHOOTT Co., Ltd.). For bonding, commercial laminator Bio330 (DAE-EL)
Co. Was carried out at a speed of 1.

(工程(7) 層(ca)の部分硬化)
続いて、酸素濃度が0.01体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、支持体の層(ca)側とは反対側から照度150mW/cm、照射量600mJ/cmの紫外線を照射して層(ca)の一部を硬化させた。
(Step (7) Partial curing of layer (ca))
Subsequently, a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) was used while purging nitrogen so that the oxygen concentration became 0.01% by volume or less, and the layer (ca) side of the support was used. A part of the layer (ca) was cured by irradiating ultraviolet rays having an illuminance of 150 mW / cm 2 and an irradiation amount of 600 mJ / cm 2 from the opposite side.

(工程(8) 粘着フィルムの剥離)
上記作製した積層体から粘着フィルム(マスタックTFB AS3−304から剥離フィルムを剥がしたもの)を剥離した。
(Step (8) Peeling of adhesive film)
The adhesive film (the release film was peeled off from Massac TFB AS3-304) was peeled off from the above-mentioned laminated body.

(工程(9) 層(ca)の硬化)
続いて、酸素濃度が0.01体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、層(ca)の基材とは反対側から照度150mW/cm、照射量600mJ/cmの紫外線を照射して層(ca)を硬化させた。
(Step (9) Curing of layer (ca))
Subsequently, a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) was used while purging nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 0.01% by volume or less, and the base material of the layer (ca) was used. The layer (ca) was cured by irradiating ultraviolet rays having an illuminance of 150 mW / cm 2 and an irradiation volume of 600 mJ / cm 2 from the opposite side.

(工程(10) 洗浄)
続いて、粘着フィルムが貼り合わせてあった面にメチルイソブチルケトンを掛け流して粘着剤層の残渣を洗い流した。その後、25℃で10分乾燥して透過フィルター1を得た。
(Step (10) Cleaning)
Subsequently, methyl isobutyl ketone was poured over the surface to which the adhesive film was bonded to wash away the residue of the adhesive layer. Then, it was dried at 25 degreeC for 10 minutes to obtain a transmission filter 1.

<実施例2>
層(a)形成用組成物中の粒子(a2)の種類を表1のように変更した以外は積層体1及び透過フィルター1の作製と同様にして積層体2及び透過フィルター2を作製した。
<実施例6〜9>
層(a)形成用組成物中の粒子(a2)、化合物(a1)及び含フッ素共重合体(C)の種類、基材の種類を表1のように変更した以外は積層体1及び透過フィルター1の作製と同様にして積層体6〜9及び透過フィルター6〜9を作製した。なお、実施例6〜9では、層(a)形成用組成物中に、KR−513を2.2質量部、化合物C3を2.4質量部用いた。
<Example 2>
The laminate 2 and the transmission filter 2 were produced in the same manner as in the production of the laminate 1 and the transmission filter 1 except that the types of the particles (a2) in the layer (a) forming composition were changed as shown in Table 1.
<Examples 6 to 9>
Laminated body 1 and permeation except that the types of particles (a2), compound (a1) and fluorine-containing copolymer (C) in the layer (a) forming composition and the type of base material were changed as shown in Table 1. Laminates 6 to 9 and transmission filters 6 to 9 were produced in the same manner as in the production of the filter 1. In Examples 6 to 9, 2.2 parts by mass of KR-513 and 2.4 parts by mass of compound C3 were used in the composition for forming the layer (a).

<実施例3>
[層(ae)形成用組成物の調製]
下記の組成となるように各成分をミキシングタンクに投入し、60分間攪拌し、30分間超音波分散機により分散し、塗布液とした。このようにして、層(ae)形成用組成物である組成物(B−1)を調製した。
<Example 3>
[Preparation of composition for layer (ae) formation]
Each component was put into a mixing tank so as to have the following composition, stirred for 60 minutes, and dispersed by an ultrasonic disperser for 30 minutes to prepare a coating liquid. In this way, the composition (B-1), which is a composition for forming a layer (ae), was prepared.

組成物(B−1)
SIRIUS−501:1.4質量部
化合物C3:1.5質量部
A−TMPT:1.7質量部
クエン酸トリエチル:4.1質量部
イルガキュア127:0.2質量部
化合物P:0.1質量部
化合物E:0.1質量部
MEK−AC−4130Y:32.3質量部
エタノール:12.7質量部
メチルエチルケトン:33.2質量部
アセトン:12.7質量部
Composition (B-1)
SIRIUS-501: 1.4 parts by mass Compound C3: 1.5 parts by mass A-TMPT: 1.7 parts by mass Triethyl citrate: 4.1 parts by mass Irgacure 127: 0.2 parts by mass Compound P: 0.1 parts by mass Part Compound E: 0.1 parts by mass MEK-AC-4130Y: 32.3 parts by mass Ethanol: 12.7 parts by mass Methyl ethyl ketone: 33.2 parts by mass acetone: 12.7 parts by mass

使用した成分について前述した以外のものを以下に示す。
MEK−AC−4130Y:アクリル修飾コロイダルシリカ、平均一次粒径45nm、日産化学工業(株)製
MEK−AC−2140Z:アクリル修飾コロイダルシリカ、平均一次粒径15nm、日産化学工業(株)製
The components used other than those mentioned above are shown below.
MEK-AC-4130Y: Acrylic modified colloidal silica, average primary particle size 45 nm, manufactured by Nissan Chemical Industry Co., Ltd. MEK-AC-2140Z: Acrylic modified colloidal silica, average primary particle size 15 nm, manufactured by Nissan Chemical Industry Co., Ltd.

<透過フィルター3の作製>
(工程(1e) 層(ae)の塗工)
仮支持体として100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(FD100M、富士フイルム(製))上に、組成物(B−1)をダイコーターを用いて2.8ml/m塗布し、30℃で90秒乾燥させた。
<Preparation of transmission filter 3>
(Coating of process (1e) layer (ae))
The composition (B-1) was applied to a polyethylene terephthalate film (FD100M, manufactured by FUJIFILM Corporation) of 100 μm as a temporary support at 2.8 ml / m 2 using a die coater, and dried at 30 ° C. for 90 seconds. It was.

(工程(2e)〜(5e))
前述の透過フィルター1の作製の工程(2)〜(5)において、層(a)の代わりに上記層(ae)を用いた以外は、全て同様にして、層(ae)を含む積層体3を作製した。
(Steps (2e) to (5e))
In the steps (2) to (5) for producing the transmission filter 1 described above, the laminate 3 containing the layer (ae) is formed in the same manner except that the layer (ae) is used instead of the layer (a). Was produced.

(工程(6e) 基材の貼り合せ)
上記積層体3の層(ae)側と、上記で作製した透過フィルター1の層(ca)側(凹凸形状を有する側)を貼り合わせた。貼り合わせには、業務用ラミネーターBio330(DAE−EL Co.製)を使用し、速度1で実施した。
(Step (6e) Lamination of base materials)
The layer (ae) side of the laminated body 3 and the layer (ca) side (side having an uneven shape) of the transmission filter 1 produced above were bonded together. For bonding, a commercial laminator Bio330 (manufactured by DAE-EL Co.) was used, and the bonding was performed at a speed of 1.

(工程(7e)〜(10e))
前述の透過フィルター1の作製の工程(7)〜(10)を同様に実施し、透過フィルター3を作製した。
(Steps (7e) to (10e))
The steps (7) to (10) for producing the transmission filter 1 described above were carried out in the same manner to produce the transmission filter 3.

<実施例4>
透過フィルター3の作製において、透過フィルター1の代わりに透過フィルター2を用いた以外は同様にして、透過フィルター4を作製した。
<実施例5>
層(ae)形成用組成物中の粒子(a2e)の種類を表1のように変更した以外は透過フィルター4の作製と同様にして透過フィルター5を作製した。
<Example 4>
In the production of the transmission filter 3, the transmission filter 4 was produced in the same manner except that the transmission filter 2 was used instead of the transmission filter 1.
<Example 5>
A transmission filter 5 was produced in the same manner as the transmission filter 4 except that the types of particles (a2e) in the layer (ae) forming composition were changed as shown in Table 1.

実施例に用いた上記した以外の成分は以下のとおりである。
合成石英AQT;深紫外エキシマレーザー用グレード合成石英(旭硝子(株)製、厚み2mm、波長315nmの光の透過率92%)
合成石英粒子PA−3;特開2003−12331号公報の実施例3に記載の合成石英粒子と同様に作製した粒径違い品(平均一次粒径72nm)
RS−90;パーフルオロ基含有アクリレートポリマー(DIC(株)製)
KR−513;アクリロイル基及びメチル基含有シランカップリング剤(信越化学工業(株)製)
The components other than those mentioned above used in the examples are as follows.
Synthetic quartz AQT; Grade synthetic quartz for deep ultraviolet excimer laser (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., thickness 2 mm, wavelength 315 nm, light transmittance 92%)
Synthetic quartz particles PA-3; Products with different particle sizes (average primary particle size 72 nm) produced in the same manner as the synthetic quartz particles described in Example 3 of JP-A-2003-12331.
RS-90; Perfluoro group-containing acrylate polymer (manufactured by DIC Corporation)
KR-513; Acryloyl group and methyl group-containing silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

<比較例1、2、4、5>
層(a)形成用組成物中の粒子(a2)、化合物(a1)及び含フッ素共重合体(C)の種類、基材の種類を表1のように変更した以外は積層体1及び透過フィルター1の作製と同様にして積層体101、102、104、105及び透過フィルター101、102、104、105を作製した。
<Comparative Examples 1, 2, 4, 5>
Laminated body 1 and permeation except that the types of particles (a2), compound (a1) and fluorine-containing copolymer (C) in the layer (a) forming composition and the type of base material were changed as shown in Table 1. Laminates 101, 102, 104, 105 and transmission filters 101, 102, 104, 105 were produced in the same manner as in the production of the filter 1.

なお、比較例に用いた上記した以外の成分は以下のとおりである。
TU2261;UV硬化型中空シリカ含有含フッ素低屈折率材料(JSR(株)製)
ZF−14:厚み100μm(0.1mm)のシクロオレフィン系樹脂フィルム(ZEONOR ZF−14、日本ゼオン(製)、波長315nmの光の透過率87%)
ソーダライムガラス#0050:松浪硝子(株)製、厚さ2mm、波長315nmの光の透過率55%
The components other than those described above used in the comparative example are as follows.
TU2661; UV curable hollow silica-containing fluorine-containing low refractive index material (manufactured by JSR Corporation)
ZF-14: Cycloolefin resin film with a thickness of 100 μm (0.1 mm) (ZEONOR ZF-14, ZEON Corporation, light transmittance of 315 nm wavelength 87%)
Soda lime glass # 0050: Made by Matsunami Glass Co., Ltd., thickness 2 mm, wavelength 315 nm, light transmittance 55%

<比較例3>
特許第6142562号公報の実施例の実施形態1において、ガラス基板をCONTURANテンパックスフロートに置き換えた以外は同様にして、TMCTS(テトラメチルシクロテトラシロキサン)を原料としてプラズマ処理した超微粒子シリカ化合物からなる超撥水材料を作製した。
<Comparative example 3>
It is composed of an ultrafine silica compound plasma-treated using TMCTS (tetramethylcyclotetrasiloxane) as a raw material in the same manner except that the glass substrate is replaced with CONTURAN Tempax Float in the first embodiment of the embodiment of Japanese Patent No. 6142562. A superhydrophobic material was produced.

表1には、下記測定法にて測定及び算出した上記距離A及びB/Aについても記載した。
透過フィルターをダイヤモンドカッターで傷をつけた後に、傷に沿って割ることで断面を出し、断面にカーボン蒸着後10分間エッチング処理した。走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて5000倍で20視野観察、撮影した。得られた画像で、空気と試料が作る界面において、隣り合う凸部の頂点間の距離A、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bを100点測長し、A、及び、B/Aの平均値として算出した。
隣り合った粒子同士が接触し、凸部の頂点間の距離Aが不均一になり、大小2極化した場合、又は、同様に距離Bが不均一になり、大小2極化した場合は、「測定不能」と評価した。
Table 1 also shows the distances A and B / A measured and calculated by the following measurement methods.
After scratching the transmission filter with a diamond cutter, a cross section was obtained by breaking along the scratch, and the cross section was etched for 10 minutes after carbon vapor deposition. A scanning electron microscope (SEM) was used to observe and photograph 20 fields of view at 5000 times. In the obtained image, at the interface between the air and the sample, the distance A between the vertices of the adjacent convex portions and the distance B between the center and the concave portion between the vertices of the adjacent convex portions are measured at 100 points, and A and , B / A was calculated as an average value.
When adjacent particles come into contact with each other and the distance A between the vertices of the convex portion becomes non-uniform and the size becomes bipolar, or when the distance B becomes non-uniform and the size becomes bipolar. It was evaluated as "unmeasurable".

(透過フィルターの評価方法)
以下の方法により透過フィルターの諸特性の評価を行った。結果を表2に示す。
(Evaluation method of transmission filter)
Various characteristics of the transmission filter were evaluated by the following method. The results are shown in Table 2.

(水の接触角)
水の接触角とは、透過フィルターの表面(基材側とは反対側の表面)に純水を滴下し、接線法により求めた水の接触角を言う。接触角の測定は、協和界面科学製の接触角測定装置DM−700を用いて測定を行った。
(Water contact angle)
The contact angle of water refers to the contact angle of water obtained by tangential method by dropping pure water on the surface of a permeation filter (the surface opposite to the base material side). The contact angle was measured using a contact angle measuring device DM-700 manufactured by Kyowa Interface Science.

(紫外線透過性:UV−A透過率)
紫外線透過性の指標であるUV−A透過率は、25℃、相対湿度55%の雰囲気下で、分光光度計:UV3150(島津製作所製)を用いて、190nm〜780nmの範囲で測定されたもののうち、波長315nmの透過率をUV−A透過率とした。
(Ultraviolet transmittance: UV-A transmittance)
The UV-A transmittance, which is an index of ultraviolet transmittance, was measured in the range of 190 nm to 780 nm using a spectrophotometer: UV3150 (manufactured by Shimadzu Corporation) in an atmosphere of 25 ° C. and 55% relative humidity. Of these, the transmittance at a wavelength of 315 nm was defined as the UV-A transmittance.

(耐擦傷性)
速度6m/minで往復する装置(学振型摩擦堅牢度試験機AB−301型、テスター産業(株)製)の摩擦子に不織布(ベンコットM−3、旭化成(株)製)を取り付け、試験片台に本発明の透過フィルターを設置し、4.9N/cmの荷重をかけて往復して擦った後に以下の基準で評価した。
A:透過フィルターは、30往復の後にも外見上の変化は認められなかった。
B:透過フィルターは、21〜30往復の間に僅かに白味が上昇した。
C:透過フィルターは、11〜20往復の間に僅かに白味が上昇した。
D:透過フィルターは、1〜10往復の間に僅かに白味が上昇した。
E:透過フィルターは、1〜9往復の間に大きく白味が上昇した。
(Scratch resistance)
A non-woven fabric (Bencot M-3, manufactured by Asahi Kasei Corporation) is attached to the friction element of a device (Gakushin type friction fastness tester AB-301, manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.) that reciprocates at a speed of 6 m / min for testing. The transmission filter of the present invention was installed on one stand, and after reciprocating and rubbing with a load of 4.9 N / cm 2 , the evaluation was performed according to the following criteria.
A: No change in appearance was observed in the transmission filter even after 30 round trips.
B: The whiteness of the transmission filter increased slightly between 21 and 30 round trips.
C: The whiteness of the transmission filter increased slightly between 11 and 20 round trips.
D: The whiteness of the transmission filter increased slightly between 1 and 10 round trips.
E: The whiteness of the transmission filter increased significantly between 1 and 9 round trips.

(水滑落角)
水滑落角は、透過フィルターの表面(基材側とは反対側の表面)に純水を滴下し、透過フィルターを傾斜させていった時に、水滴の動き出す角度を言う。滑落角の測定は、協和界面科学製の接触角測定装置DM−700に、滑落法キット(DM−SA)を付属させて行った。
(Water sliding angle)
The water sliding angle refers to the angle at which water droplets start to move when pure water is dropped on the surface of the transmission filter (the surface opposite to the base material side) and the transmission filter is tilted. The sliding angle was measured by attaching the sliding method kit (DM-SA) to the contact angle measuring device DM-700 manufactured by Kyowa Interface Science.

表2の結果から分かるように、実施例の透過フィルターは、水の接触角が120°以上であり、撥水性に優れることが分かった。特に上記第2の態様の構成の実施例3〜5においては撥水性が特に高いことが分かった。また、実施例の透過フィルターは、UV−A透過率及び耐擦傷性が良好であることから、繰返し露光耐久性にも優れることが分かった。
以上より本発明の透過フィルターは、特に液浸露光装置における透過フィルターとして撥水性と繰返し露光耐久性に優れた光学部材である。
As can be seen from the results in Table 2, it was found that the transmission filter of the example had a water contact angle of 120 ° or more and was excellent in water repellency. In particular, it was found that the water repellency was particularly high in Examples 3 to 5 having the configuration of the second aspect. Further, it was found that the transmission filter of the example was also excellent in repeated exposure durability because it had good UV-A transmittance and scratch resistance.
From the above, the transmission filter of the present invention is an optical member having excellent water repellency and repeated exposure durability, particularly as a transmission filter in an immersion exposure apparatus.

1 仮支持体
2 撥水性層
3 粒子(a2)
4 層(a)又は層(ca)
5 支持体
6 層(b)
7 粘着フィルム
8 積層体
9 基材
10、11、23、55 透過フィルター
3e 粒子(a2e)
4e 層(ae)又は層(cae)
A 隣り合う凸部の頂点間の距離
B 隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離
21 撥水性層
22 親水性層
54 レンズ
54A レンズの表面
54B レンズの側面
UV 紫外線
1 Temporary support 2 Water repellent layer 3 Particles (a2)
4 layer (a) or layer (ca)
5 Support 6 layers (b)
7 Adhesive film 8 Laminated body 9 Base material 10, 11, 23, 55 Transmission filter 3e Particles (a2e)
4e layer (ae) or layer (cae)
A Distance between the vertices of adjacent convex parts B Distance between the center and concave part between the vertices of adjacent convex parts 21 Water-repellent layer 22 Hydrophilic layer 54 Lens 54A Lens surface 54B Lens side surface UV UV

Claims (17)

波長315nmの光の透過率が65%以上である基材と、前記基材上に配置された撥水性層とを有する透過フィルターであって、
前記撥水性層は、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有しフッ素原子を含まない化合物(a1)を硬化した樹脂を含む層(ca)と、平均一次粒径が150nm以下の粒子(a2)と、フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体の反応物とを含み、
前記フルオロアルキル基及び架橋基を有する含フッ素共重合体の反応物の含有量が前記撥水性層の全固形分中の0.05質量%以上であり、
前記撥水性層の前記基材側とは反対側の表面は、前記粒子(a2)によって形成される凸部と、前記凸部間の凹部とを有し、
前記撥水性層の隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、前記隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aが0.50より大きく、
前記距離Aが315nm以下であり、
前記撥水性層の前記基材側とは反対側の表面の水の接触角が120°以上である、透過フィルター。
A transmission filter having a base material having a light transmittance of 65% or more at a wavelength of 315 nm and a water-repellent layer arranged on the base material.
The water-repellent layer includes a layer (ca) containing a resin obtained by curing a compound (a1) having at least one (meth) acryloyl group and containing no fluorine atom, and particles (a2) having an average primary particle size of 150 nm or less. And a reaction product of a fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group.
The content of the reactant of the fluorine-containing copolymer having a fluoroalkyl group and a cross-linking group is 0.05% by mass or more in the total solid content of the water-repellent layer.
The surface of the water-repellent layer opposite to the base material side has a convex portion formed by the particles (a2) and a concave portion between the convex portions.
B / A, which is the ratio of the distance A between the vertices of the adjacent convex portions of the water-repellent layer to the distance B between the center and the concave portion between the vertices of the adjacent convex portions, is larger than 0.50.
The distance A is 315 nm or less,
A transmission filter having a water contact angle of 120 ° or more on the surface of the water-repellent layer opposite to the base material side.
前記化合物(a1)が、分子内にケイ素原子に結合したアルコキシ基を少なくとも3つ有する化合物であり、
前記化合物(a1)を硬化した樹脂がシロキサン結合を有する樹脂である、
請求項1に記載の透過フィルター。
The compound (a1) is a compound having at least three alkoxy groups bonded to a silicon atom in the molecule.
The resin obtained by curing the compound (a1) is a resin having a siloxane bond.
The transmission filter according to claim 1.
前記粒子(a2)の押し込み硬度が400MPa以上である請求項1又は2に記載の透過フィルター。 The transmission filter according to claim 1 or 2, wherein the indentation hardness of the particles (a2) is 400 MPa or more. 前記粒子(a2)が、未焼成シリカ粒子、焼成シリカ粒子又は合成石英粒子である請求項1〜3のいずれか1項に記載の透過フィルター。 The transmission filter according to any one of claims 1 to 3, wherein the particles (a2) are unfired silica particles, fired silica particles, or synthetic quartz particles. 前記撥水性層の前記基材側とは反対側の表面の水の滑落角が30°以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載の透過フィルター。 The transmission filter according to any one of claims 1 to 4, wherein the sliding angle of water on the surface of the water-repellent layer opposite to that of the base material is 30 ° or less. 前記凸部の上に、前記粒子(a2)よりも小さい平均一次粒径の粒子(a2e)と、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有する化合物(a1e)を硬化した樹脂を含む層(cae)と、を有し、
前記層(cae)の前記粒子(a2)側とは反対側の表面は、前記粒子(a2e)により形成される凸部を有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の透過フィルター。
A layer (cae) containing a resin obtained by curing particles (a2e) having an average primary particle size smaller than the particles (a2) and a compound (a1e) having at least one (meth) acryloyl group on the convex portion. And have
The transmission filter according to any one of claims 1 to 5, wherein the surface of the layer (cae) opposite to the particle (a2) side has a convex portion formed by the particles (a2e).
前記粒子(a2e)の平均一次粒径が5〜50nmである請求項6に記載の透過フィルター。 The transmission filter according to claim 6, wherein the average primary particle size of the particles (a2e) is 5 to 50 nm. 前記粒子(a2e)の押し込み硬度が400MPa未満である請求項6又は7に記載の透過フィルター。 The transmission filter according to claim 6 or 7, wherein the indentation hardness of the particles (a2e) is less than 400 MPa. 前記粒子(a2e)が未焼成シリカ粒子である請求項6〜8のいずれか1項に記載の透過フィルター。 The transmission filter according to any one of claims 6 to 8, wherein the particles (a2e) are unfired silica particles. 前記撥水性層の前記基材側とは反対側の表面の水の接触角が130°以上である請求項1〜9のいずれか1項に記載の透過フィルター。 The transmission filter according to any one of claims 1 to 9, wherein the contact angle of water on the surface of the water-repellent layer opposite to that of the base material is 130 ° or more. 液浸液を介して、光学系を透過した露光光線で露光対象物を露光する液浸露光装置の前記光学系を保護するために用いられる請求項1〜10のいずれか1項に記載の透過フィルター。 The transmission according to any one of claims 1 to 10, which is used to protect the optical system of the immersion exposure apparatus that exposes an exposure object with an exposure ray transmitted through the optical system through the immersion liquid. filter. 前記距離Aが前記露光光線の波長以下である請求項11に記載の透過フィルター。 The transmission filter according to claim 11, wherein the distance A is equal to or less than the wavelength of the exposed light beam. 前記粒子(a2)の平均一次粒径が前記露光光線の波長の9/14以下であり、前記距離Aが前記露光光線の波長の5/7以下である請求項12に記載の透過フィルター。 The transmission filter according to claim 12, wherein the average primary particle size of the particles (a2) is 9/14 or less of the wavelength of the exposed light beam, and the distance A is 5/7 or less of the wavelength of the exposed light beam. 前記粒子(a2)の平均一次粒径が前記露光光線の波長の9/19以下であり、前記距離Aが前記露光光線の波長の1/2以下である請求項13に記載の透過フィルター。 The transmission filter according to claim 13, wherein the average primary particle size of the particles (a2) is 9/19 or less of the wavelength of the exposed light beam, and the distance A is 1/2 or less of the wavelength of the exposed light beam. 前記粒子(a2)の平均一次粒径が前記露光光線の波長の7/19以下であり、前記距離Aが前記露光光線の波長の15/38以下である請求項14に記載の透過フィルター。 The transmission filter according to claim 14, wherein the average primary particle size of the particles (a2) is 7/19 or less of the wavelength of the exposed light beam, and the distance A is 15/38 or less of the wavelength of the exposed light beam. 前記基材上の前記撥水性層と同一面内に親水性層を有し、
前記撥水性層及び前記親水性層は面内方向に交互に配置されており、
面内方向に直交する方向から見た場合の前記撥水性層及び前記親水性層の形が三角形であり、
前記親水性層が、(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ有しフッ素原子を含まない化合物(a1)を硬化した樹脂を含む層(ca)と、平均一次粒径が150nm以下の粒子(a2)とを含み、
前記親水性層の前記基材側とは反対側の表面は、前記粒子(a2)によって形成される凸部と、前記凸部間の凹部とを有し、
前記親水性層の隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、前記隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aが0.50より大きく、
前記距離Aが315nm以下であり、
前記親水性層の前記基材側とは反対側の水の接触角が20°以下である、
請求項1〜15のいずれか1項に記載の透過フィルター。
Having a hydrophilic layer in the same plane as the water-repellent layer on the substrate,
The water-repellent layer and the hydrophilic layer are alternately arranged in the in-plane direction.
The shape of the water-repellent layer and the hydrophilic layer when viewed from a direction orthogonal to the in-plane direction is triangular.
The hydrophilic layer is a layer (ca) containing a resin obtained by curing a compound (a1) having at least one (meth) acryloyl group and containing no fluorine atom, and particles (a2) having an average primary particle size of 150 nm or less. Including and
The surface of the hydrophilic layer opposite to the base material side has a convex portion formed by the particles (a2) and a concave portion between the convex portions.
B / A, which is the ratio of the distance A between the vertices of the adjacent convex portions of the hydrophilic layer to the distance B between the center and the concave portion between the vertices of the adjacent convex portions, is larger than 0.50.
The distance A is 315 nm or less,
The contact angle of water on the side of the hydrophilic layer opposite to that of the base material is 20 ° or less.
The transmission filter according to any one of claims 1 to 15.
液浸液を介して、光学系を透過した露光光線で露光対象物を露光する液浸露光装置であって、請求項1〜16のいずれか1項に記載の透過フィルターを備えた液浸露光装置。
An immersion exposure apparatus for exposing an object to be exposed with an exposure ray transmitted through an optical system through an immersion liquid, the immersion exposure device including the transmission filter according to any one of claims 1 to 16. apparatus.
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