JP6801193B2 - Organic NTC element - Google Patents

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Description

本発明は、有機NTC(negative temperature coefficient)素子に関するものであり、より詳細には、携帯電話、移動体通信機器、パソコン等のバッテリの温度検知や電子機器のIC、トランジスタ、水晶発信器、液晶ディスプレイ等の温度補償に使用される有機NTC素子に関するものである。 The present invention relates to an organic NTC (negative semiconductor device) element, and more specifically, it is used for temperature detection of a battery of a mobile phone, a mobile communication device, a personal computer or the like, an IC of an electronic device, a transistor, a crystal transmitter, a liquid crystal display. It relates to an organic NTC element used for temperature compensation of a display or the like.

有機NTC素子は電気抵抗に関して負の温度特性を有し、温度の上昇に伴い電気抵抗が低下するという性質を有している。このような性質を利用して有機NTC素子は温度センサーや温度補償に広く用いられている。
従来のNTC素子のサーミスタとしては、マンガン、コバルト、ニッケル、鉄、銅等の遷移金属の酸化物を2種類以上選択し、所定の比率で配合した原料を高温焼成して得られた複合酸化物セラミックスが知られている(特許文献1)。しかし、このサーミスタ作製には高温での焼成を必要とするため、基板に直接NTC素子を形成することができず、はんだ付けが必要であり、工程が煩雑になるという問題があった。
The organic NTC element has a negative temperature characteristic with respect to electrical resistance, and has a property that the electrical resistance decreases as the temperature rises. Utilizing such properties, organic NTC elements are widely used in temperature sensors and temperature compensation.
As a conventional NTC element thermistor, a composite oxide obtained by selecting two or more types of oxides of transition metals such as manganese, cobalt, nickel, iron, and copper and firing a raw material mixed in a predetermined ratio at a high temperature. Ceramics are known (Patent Document 1). However, since the production of this thermistor requires firing at a high temperature, there is a problem that the NTC element cannot be directly formed on the substrate, soldering is required, and the process becomes complicated.

このような問題に対し、高温焼成を必要としない共役導電性高分子を用いる有機サーミスタ素子も報告されているが、共役導電性高分子の種類やドープ量により一義的に電気抵抗と温度依存性が決まってしまう為、共役導電性高分子のみでは物性の微調整が難しいという問題があった(特許文献2)。
一方で、導電性粉末と樹脂を溶剤に溶解・分散させてなるスラリーを塗布することで、缶便に薄膜の有機PTC素子を作製できることが報告されているが、PTC素子は温度上昇に伴い電気抵抗が増加する性質を有する為、温度センサーには適当でない(特許文献3)。
このような系で有機NTC素子を作製するためには、表面重合を行なった特殊なカーボンブラックを使用する必要があり工業化が難しいという問題があった(特許文献4)。
To solve such a problem, an organic thermistor element using a conjugated conductive polymer that does not require high-temperature firing has been reported, but the electrical resistance and temperature dependence are uniquely dependent on the type and doping amount of the conjugated conductive polymer. Therefore, there is a problem that it is difficult to finely adjust the physical properties only with the conjugated conductive polymer (Patent Document 2).
On the other hand, it has been reported that a thin-film organic PTC element can be produced in cans and stools by applying a slurry obtained by dissolving and dispersing a conductive powder and a resin in a solvent. However, the PTC element becomes electric as the temperature rises. It is not suitable for temperature sensors because it has the property of increasing resistance (Patent Document 3).
In order to produce an organic NTC element in such a system, it is necessary to use a special carbon black that has undergone surface polymerization, which causes a problem that it is difficult to industrialize (Patent Document 4).

特開平05−021209号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 05-021209 特開平03−211702号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 03-211702 国際公開第2013/047122号International Publication No. 2013/047122 特開昭63−110701号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-11701

本発明が解決しようとする課題は、良好な導電性、感度を有する有機NTC素子を簡便な方法により生産性良く得る事にある。 The problem to be solved by the present invention is to obtain an organic NTC element having good conductivity and sensitivity with good productivity by a simple method.

本発明者らは、少なくとも一対の電極を有し、一対の電極間に、中空導電性粒子とバインダー樹脂を特定の割合で含むサーミスタ層を有する有機NTC素子により、かかる課題を解決することに着目し本発明を完成するに至った。本発明の要旨は以下のとおりである。 The present inventors have focused on solving such a problem by an organic NTC device having at least a pair of electrodes and having a thermistor layer containing hollow conductive particles and a binder resin in a specific ratio between the pair of electrodes. The present invention has been completed. The gist of the present invention is as follows.

[1] 少なくとも一対の電極を有し、一対の電極間にサーミスタ層を有する有機NTC素子であって、サーミスタ層は中空導電性粒子とバインダー樹脂を含み、該中空導電性粒子の占める割合がサーミスタ層100質量部あたり5質量部以上50質量部以下であり、該中空導電性粒子の空隙率が50体積%以上である有機NTC素子。
[1] An organic NTC element having at least a pair of electrodes and having a thermistor layer between the pair of electrodes. The thermistor layer contains hollow conductive particles and a binder resin, and the ratio of the hollow conductive particles is the thermistor. layer 5 parts by mass or more, per 100 parts by 50 parts by Ri der hereinafter organic NTC element porosity of the hollow conductive particles Ru der least 50% by volume.

[2] 前記中空導電性粒子の平均一次粒径が20nm以上5000nm以下である[1]に記載の有機NTC素子。 [2] The organic NTC device according to [1], wherein the average primary particle size of the hollow conductive particles is 20 nm or more and 5000 nm or less.

[3] 前記中空導電性粒子が中空導電性炭素粒子である[1]又は[2]に記載の有機NTC素子。 [3] The organic NTC device according to [1] or [2], wherein the hollow conductive particles are hollow conductive carbon particles.

[4] 前記バインダー樹脂において、ガラス転移温度が−50℃以上80℃以下である熱可塑性樹脂を含む[1]〜[3]のいずれかに記載の有機NTC素子。 [4] The organic NTC device according to any one of [1] to [3], which comprises a thermoplastic resin having a glass transition temperature of −50 ° C. or higher and 80 ° C. or lower in the binder resin.

[5] 前記サーミスタ層と前記電極が同一基材面上にる[1]〜[4]のいずれかに記載の有機NTC素子。
[5] The organic NTC device according to any one of the thermistor layer and the electrode is Ru Oh on the same substrate surface [1] to [4].

[6] 25℃から50℃にかけてのB定数が100K以上10000K以下である[1]〜[5]のいずれかに記載の有機NTC素子。 [6] The organic NTC device according to any one of [1] to [5], wherein the B constant from 25 ° C. to 50 ° C. is 100 K or more and 10000 K or less.

本発明が提案する有機NTC素子は、塗布プロセスにより容易に薄膜を得ることができ、良好な導電性、感度を有し、温度センサーや回路の突入電流制御に好適に用いることができる。 The organic NTC element proposed by the present invention can easily obtain a thin film by a coating process, has good conductivity and sensitivity, and can be suitably used for inrush current control of a temperature sensor or a circuit.

本発明の有機NTC素子の構成の一例を示した断面図である。It is sectional drawing which showed an example of the structure of the organic NTC element of this invention.

以下、本発明の実施形態の一例を説明する。 Hereinafter, an example of the embodiment of the present invention will be described.

本発明において、「X〜Y」(X,Yは任意の数字)と表現した場合、特にことわらない限り「X以上Y以下」の意と共に、「好ましくはXより大きい」及び「好ましくはYより小さい」の意を包含する。
また、本発明において、「X以上」(Xは任意の数字)と表現した場合、特にことわらない限り「好ましくはXより大きい」の意を包含し、「Y以下」(Yは任意の数字)と表現した場合、特にことわらない限り「好ましくはYより小さい」の意を包含する。
In the present invention, when expressed as "X to Y" (X, Y are arbitrary numbers), unless otherwise specified, it means "X or more and Y or less", and "preferably larger than X" and "preferably Y". Includes the meaning of "smaller".
Further, in the present invention, when expressed as "X or more" (X is an arbitrary number), it includes the meaning of "preferably larger than X" unless otherwise specified, and "Y or less" (Y is an arbitrary number). ) Includes the meaning of "preferably smaller than Y" unless otherwise specified.

1.有機NTC素子
本発明の有機NTC素子は、少なくとも一対の電極を有し、一対の電極間にサーミスタ層を有する有機NTC素子であって、サーミスタ層は中空導電性粒子とバインダー樹脂を含み、該中空導電性粒子の占める割合がサーミスタ層100質量部あたり5質量部以上50質量部以下であることを特徴とする。具体的な態様の例としては、図1に示すように、基材上に少なくとも1対の電極とその電極間に配置されたサーミスタ層を有する。
素子の態様としては、2枚の平面電極間にサーミスタ層を挟み込む積層型と、同一基材面上に2枚の平面電極とサーミスタ層が並列する平面型に大別されるが、外圧の影響が小さく、より薄膜化できるという観点で、平面型が好ましい。
平面型の場合、基材としてポリエチレンテレフタラートやポリイミドなどのフィルム上に銀蒸着や銀インクを印刷あるいは銀箔や銅箔を貼付して電極を形成し、その後、電極間の基材上にサーミスタ層を構成する組成物を塗布する方法が簡便で好ましい。
なお、本発明においては、基材との密着性を上げる為に密着層、及び、サーミスタ層や電極を保護する為の保護層などを設けてもよい。
1. 1. Organic NTC element The organic NTC element of the present invention is an organic NTC element having at least a pair of electrodes and having a thermistor layer between the pair of electrodes. The thermistor layer contains hollow conductive particles and a binder resin, and the hollow is formed. The proportion of the conductive particles is 5 parts by mass or more and 50 parts by mass or less per 100 parts by mass of the thermistor layer. As an example of a specific embodiment, as shown in FIG. 1, at least one pair of electrodes and a thermistor layer arranged between the electrodes are provided on the base material.
The mode of the element is roughly classified into a laminated type in which a thermistor layer is sandwiched between two flat electrodes and a flat type in which two flat electrodes and a thermistor layer are arranged in parallel on the same substrate surface. The flat type is preferable from the viewpoint that the size is small and the film can be made thinner.
In the case of the flat type, an electrode is formed by printing silver vapor deposition or silver ink on a film such as polyethylene terephthalate or polyimide as a base material or pasting silver foil or copper foil, and then a thermistor layer is formed on the base material between the electrodes. The method of applying the composition constituting the above is convenient and preferable.
In the present invention, an adhesion layer, a thermistor layer, a protective layer for protecting the electrodes, and the like may be provided in order to improve the adhesion to the base material.

本発明の有機NTC素子において、室温(25℃)における電気抵抗は10Ω以上50kΩ以下であることが好ましい。10Ω以上であることで、温度センサーとして組み込んだ際に充分な精度が得られる。一方で、50kΩ以下であることで素子の発熱を低減できるという効果がある。 In the organic NTC device of the present invention, the electric resistance at room temperature (25 ° C.) is preferably 10Ω or more and 50kΩ or less. When it is 10Ω or more, sufficient accuracy can be obtained when it is incorporated as a temperature sensor. On the other hand, when it is 50 kΩ or less, there is an effect that the heat generation of the element can be reduced.

本発明の有機NTC素子において、25℃から50℃にかけてB定数が100K以上10000K以下であることが重要である。B定数が100K以上であることで、温度センサーとして組み込んだ際に充分な精度を発現することができる。一方で、10000K以下であることで、電子回路に組み込んだ際の急激な電流変動を抑えられるという効果がある。B定数については後述の方法で測定することができる。 In the organic NTC device of the present invention, it is important that the B constant is 100 K or more and 10000 K or less from 25 ° C. to 50 ° C. When the B constant is 100 K or more, sufficient accuracy can be exhibited when incorporated as a temperature sensor. On the other hand, when the current is 10,000 K or less, there is an effect that a sudden current fluctuation when incorporated in an electronic circuit can be suppressed. The B constant can be measured by the method described later.

本発明の有機NTC素子は、素子を曲げた時の最小半径(最小許容半径)が0mmより大きく150mm以下であることが好ましい。最小許容曲げ半径は、有機NTC素子を基材層が内側となるように、半径150mmから5mmまで任意の半径を有する円柱に巻き付け、割れや剥離が生じずに巻きつけることのできる最小の円柱の直径を測定することにより、求めることができる。 In the organic NTC element of the present invention, the minimum radius (minimum allowable radius) when the element is bent is preferably larger than 0 mm and 150 mm or less. The minimum permissible bending radius is the smallest cylinder that can be wound by winding the organic NTC element around a cylinder with an arbitrary radius from 150 mm to 5 mm so that the base material layer is on the inside, without cracking or peeling. It can be determined by measuring the diameter.

以下、本発明の有機NTC素子を構成するサーミスタ層、電極、基材について詳述する。 Hereinafter, the thermistor layer, electrodes, and base material constituting the organic NTC device of the present invention will be described in detail.

2.サーミスタ層
本発明に用いられるサーミスタ層は、サーミスタ層は中空導電性粒子とバインダー樹脂を含み、中空導電性粒子の占める割合がサーミスタ層100質量部あたり5質量部以上50質量部以下であることを特徴とする。前記中空導電性粒子の占める割合が5質量部以上であることで、NTC素子とした際に充分な導電性を発現することができる。一方で50質量部以下であることで、NTC素子とした際に充分な温度応答性を発現することができる。
2. 2. Thermistor layer In the thermistor layer used in the present invention, the thermistor layer contains hollow conductive particles and a binder resin, and the proportion of the hollow conductive particles is 5 parts by mass or more and 50 parts by mass or less per 100 parts by mass of the thermistor layer. It is a feature. When the proportion of the hollow conductive particles is 5 parts by mass or more, sufficient conductivity can be exhibited when the NTC element is used. On the other hand, when it is 50 parts by mass or less, sufficient temperature responsiveness can be exhibited when the NTC element is used.

本発明に用いられる中空導電性粒子は、中空であることが重要である。中空であることとは、粒子内部に空隙を有していることを意味するが、本発明の中空導電性粒子は、その空隙率が50体積%以上であることが好ましく、55体積%以上であることがより好ましい。 It is important that the hollow conductive particles used in the present invention are hollow. Being hollow means having voids inside the particles, but the hollow conductive particles of the present invention preferably have a porosity of 50% by volume or more, preferably 55% by volume or more. More preferably.

空隙率は、特開2012−216537公報に記載の方法で測定したものである。つまり、前記公報中、図2にあるように、公知のHgポロシメトリー測定(水銀圧入法)により得られた細孔分布(積分曲線)(L)を元に傾きの最小値に対して接線(M)を引き、当該接線(M)と前記積分曲線(L)の分岐点(P)を求め、その分岐点よりも小さい細孔容積を粒子内細孔量(cm/g)(V)として定義する。得られた粒子内細孔量と黒鉛の真密度から空隙率を算出できる。算出に用いる黒鉛の真密度は、一般的な黒鉛の真密度である2.26g/cmを用いる。算出式を式1に示す。 The porosity was measured by the method described in JP2012-216537A. That is, as shown in FIG. 2 in the above publication, a tangent line (L) to the minimum value of the slope based on the pore distribution (integral curve) (L) obtained by the known Hg porosymometry measurement (mercury injection method). M) is drawn to obtain the branch point (P) between the tangent line (M) and the integral curve (L), and the pore volume smaller than the branch point is the intraparticle pore volume (cm 3 / g) (V). Defined as. The porosity can be calculated from the obtained amount of pores in the particles and the true density of graphite. As the true density of graphite used for the calculation, 2.26 g / cm 3 , which is the true density of general graphite, is used. The calculation formula is shown in Equation 1.

式1
空隙率(%)=[粒子内細孔量/{粒子内細孔量+(1/黒鉛の真密度)}]×100
Equation 1
Porosity (%) = [Amount of pores in particles / {Amount of pores in particles + (1 / true density of graphite)}] x 100

詳細なメカニズムはわかっていないが、導電性粒子が中空であることで、NTC特性が発現するという効果がある。導電性粒子が中空であることにより、温度に対する膨張収縮の寄与が大きくなり、NTC特性が発現しているものと推定される。
本発明に用いられる中空導電性粒子としては、中空炭素粒子、中空金ナノ粒子、中空銀ナノ粒子などが挙げられるが、中空導電性粒子の柔軟性・入手性の観点から中空導電性炭素粒子が好ましい。
中空炭素粒子の例としては、ケッチェンブラック(ライオンスペシャリティケミカルズ社製)、カーボンナノバルーン(豊橋キャンパスイノベーション社製)、リグニンブラック(大王製紙社製)などが挙げられる。
Although the detailed mechanism is unknown, the hollow conductive particles have the effect of exhibiting NTC characteristics. It is presumed that the hollowness of the conductive particles increases the contribution of expansion and contraction to temperature, and the NTC characteristics are exhibited.
Examples of the hollow conductive particles used in the present invention include hollow carbon particles, hollow gold nanoparticles, and hollow silver nanoparticles. From the viewpoint of flexibility and availability of the hollow conductive particles, the hollow conductive carbon particles are used. preferable.
Examples of hollow carbon particles include Ketjen Black (manufactured by Lion Specialty Chemicals Co., Ltd.), Carbon Nano Balloon (manufactured by Toyohashi Campus Innovation Co., Ltd.), and Lignin Black (manufactured by Daio Paper Corporation).

本発明で用いられる中空導電性粒子の平均一次粒径は、20nm以上5000nm以下であることが好ましく、より好ましくは20nm以上3000nm以下、更に好ましくは20nm以上2000nm以下である。平均一次粒径が20nm以上であることで、NTC特性を発現する。一方、5000nm以下であることで、スラリーとした際に分離を防ぎ、また平滑性に優れた薄膜NTC素子を得ることができる。なお、平均一次粒径は電子顕微鏡で観察して求めた算術平均径により測定できる。 The average primary particle size of the hollow conductive particles used in the present invention is preferably 20 nm or more and 5000 nm or less, more preferably 20 nm or more and 3000 nm or less, and further preferably 20 nm or more and 2000 nm or less. When the average primary particle size is 20 nm or more, NTC characteristics are exhibited. On the other hand, when it is 5000 nm or less, it is possible to prevent separation when the slurry is formed and to obtain a thin film NTC element having excellent smoothness. The average primary particle size can be measured by the arithmetic mean diameter obtained by observing with an electron microscope.

本発明で用いられるバインダー樹脂は熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。熱可塑性樹脂を使用することで、温度上昇時に樹脂の弾性率が低下し、中空導電性粒子の膨張を助けるという効果がある。熱可塑性樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリ−1,4−シクロへキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンサクシネート、ポリ乳酸、及び、ポリ−ε−カプロラクタム等のポリエステル系樹脂;高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、及び、直鎖状ポリエチレン等のポリエチレン系樹脂;エチレン−酢酸ビニル共重合体やエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル−一酸化炭素共重合体、エチレン−酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、及び、エチレン−αオレフィン共重合体等のエチレン系共重合体;メチルメタクリレート、アクリロニトリル―メチルアクリレート共重合体等のアクリル系共重合体;ポリプロピレン系樹脂;ポリブテン系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリオキシメチレン系樹脂;ポリメチルペンテン系樹脂;ポリビニルアルコール系樹脂;ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン等のフッ素系樹脂;セルロース系樹脂;ポリフェニレンサルファイド、ポリパラフェニレンテレフタルアミド等のエンジニアリングプラスチック;スーパーエンジニアリングプラスチックなどを挙げることができる。これらの中でもエチレン系共重合体やアクリル系樹脂が好ましい。 The binder resin used in the present invention preferably contains a thermoplastic resin. By using the thermoplastic resin, the elastic modulus of the resin decreases when the temperature rises, which has the effect of assisting the expansion of the hollow conductive particles. Examples of the thermoplastic resin include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexylene methylene terephthalate, polyethylene succinate, polybutylene succinate, polylactic acid, and Polyester-based resins such as poly-ε-caprolactam; polyethylene-based resins such as high-density polyethylene, low-density polyethylene, and linear polyethylene; ethylene-vinyl acetate copolymers and ethylene- (meth) acrylic acid copolymers, Ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate-carbon monoxide copolymer, ethylene-vinyl acetate-vinyl chloride copolymer , And ethylene-based copolymers such as ethylene-α-olefin copolymers; acrylic copolymers such as methyl methacrylate and acrylonitrile-methyl acrylate copolymers; polypropylene-based resins; polybutene-based resins; polyamide-based resins; polyoxy Methylene-based resin; Polymethylpentene-based resin; Polypolyalcohol-based resin; Fluorine-based resin such as polytetrafluoroethylene and polyfluorinated vinyl acetate; Cellulous resin; Engineering plastics such as polyphenylene sulfide and polyparaphenylene terephthalamide; Super engineering plastics, etc. Can be mentioned. Among these, ethylene-based copolymers and acrylic-based resins are preferable.

バインダー樹脂として用いられる熱可塑性樹脂のガラス転移温度は、−50℃以上80℃以下が好ましく、−30℃以上60℃以下がより好ましく、−20℃以上50℃以下が更に好ましい。ガラス転移温度が−50℃以上であることで、有機NTC素子として組み込んだ際の電気抵抗が安定するという効果がある。一方、ガラス転移温度が80℃以下であることで、サーミスタ層の割れや剥離を抑えるという効果がある。ガラス転移温度はJIS K 7121−1987に準じた手法により測定できる。 The glass transition temperature of the thermoplastic resin used as the binder resin is preferably −50 ° C. or higher and 80 ° C. or lower, more preferably −30 ° C. or higher and 60 ° C. or lower, and further preferably −20 ° C. or higher and 50 ° C. or lower. When the glass transition temperature is −50 ° C. or higher, there is an effect that the electric resistance when incorporated as an organic NTC element is stable. On the other hand, when the glass transition temperature is 80 ° C. or lower, there is an effect of suppressing cracking and peeling of the thermistor layer. The glass transition temperature can be measured by a method according to JIS K 7121-1987.

バインダー樹脂のサーミスタ層100質量部あたりに占める割合は50質量部以上95質量部以下である。この範囲にあることで、割れや剥離のない素子を作成することができ、中空導電性粒子もその機能を発揮することができる。 The ratio of the binder resin to 100 parts by mass of the thermistor layer is 50 parts by mass or more and 95 parts by mass or less. Within this range, an element without cracking or peeling can be produced, and hollow conductive particles can also exert their functions.

本発明において、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で安定性や成型性、導電性の観点から、導電性粒子とバインダー樹脂以外に分散剤、架橋剤、熱安定剤、酸化防止剤、界面活性剤、イオン液体、半導体高分子などの第3成分をサーミスタ層の構成成分として添加しても構わない。 In the present invention, in addition to the conductive particles and the binder resin, a dispersant, a cross-linking agent, a heat stabilizer, an antioxidant, from the viewpoint of stability, moldability, and conductivity within a range not deviating from the technical idea of the present invention. A third component such as a surfactant, an ionic liquid, or a semiconductor polymer may be added as a component of the thermista layer.

本発明に用いられるサーミスタ層の形成方法としては、主に以下の3つの手法が挙げられるが、容易に薄膜の有機NTC素子が得られることから、(1)の塗布乾燥による方法が好ましい。
(1)中空導電性粒子とバインダー樹脂を含む溶液スラリーを塗布乾燥して得る方法
(2)中空導電性粒子とバインダー樹脂を溶融混練して圧延してシート状物を得る方法
(3)バインダー樹脂の前駆体となるモノマー中に中空導電性粒子を分散し、重合する方法
The method for forming the thermistor layer used in the present invention mainly includes the following three methods, but the method (1) by coating and drying is preferable because a thin-film organic NTC element can be easily obtained.
(1) Method of applying and drying a solution slurry containing hollow conductive particles and a binder resin (2) Method of melting and kneading hollow conductive particles and a binder resin and rolling to obtain a sheet (3) Binder resin A method of dispersing hollow conductive particles in a monomer that is a precursor of

前記塗布工程における塗布方式としては、必要とする層厚や塗布面積を実現できる方式であれば特に限定されない。このような塗布方法としては、例えば、グラビアコーター法、小径グラビアコーター法、リバースロールコーター法、トランスファロールコーター法、キスコーター法、ディップコーター法、ナイフコーター法、エアドクタコーター法、ブレードコーター法、ロッドコーター法、スクイズコーター法、キャストコーター法、ダイコーター法、スクリーン印刷法、スプレー塗布法、及び、インクジェット法等が挙げられる。 The coating method in the coating step is not particularly limited as long as it can realize the required layer thickness and coating area. Examples of such coating methods include a gravure coater method, a small diameter gravure coater method, a reverse roll coater method, a transfer roll coater method, a kiss coater method, a dip coater method, a knife coater method, an air doctor coater method, a blade coater method, and a rod. Examples thereof include a coater method, a squeeze coater method, a cast coater method, a die coater method, a screen printing method, a spray coating method, and an inkjet method.

前記溶液スラリーの溶媒としては、水;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤;エタノール、イソプロピルアルコールなどの低級アルコール;アセトニトリル、グリコール類、グリセリン、及び、乳酸エステルなどが挙げられるが、環境面で水単独あるいはアルコールと水の混合溶剤であることが好ましい。 As the solvent of the solution slurry, water; an amide solvent such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide; an ether solvent such as tetrahydrofuran and dioxane; a ketone solvent such as acetone and methyl ethyl ketone. Solvents; lower alcohols such as ethanol and isopropyl alcohol; acetonitrile, glycols, glycerin, lactic acid esters and the like can be mentioned, but in terms of the environment, water alone or a mixed solvent of alcohol and water is preferable.

前記スラリーを調製する工程において、例えば、ボールミル、ビーズミル、遊星ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、コロイドミル、アトライター、ロールミル、高速インペラー分散、ディスパーザー、ホモジナイザー、高速衝撃ミル、超音波分散、撹拌羽根等による機械撹拌法等が挙げられる。 In the step of preparing the slurry, for example, a ball mill, a bead mill, a planetary ball mill, a vibrating ball mill, a sand mill, a colloid mill, an attritor, a roll mill, a high-speed impeller dispersion, a disperser, a homogenizer, a high-speed impact mill, an ultrasonic dispersion, a stirring blade, etc. The mechanical stirring method by the above can be mentioned.

なお、本発明においてサーミスタ層の厚みは、特に限定するものではないが、剛性の観点から5μm〜50μmであることが好ましい。 In the present invention, the thickness of the thermistor layer is not particularly limited, but is preferably 5 μm to 50 μm from the viewpoint of rigidity.

3.電極
電極は公知の導電性材料を好適に用いることができる。形態としては、塊状物、膜状物、線状物などが挙げられるが、薄膜化と導電性を両立できるという点で、膜状物が好ましい。
導電性材料としては、金、銀、銅、鉄、白金、パラジウム、スズ、鉛、亜鉛、クロム、ニッケル、アルミニウム、マグネシウム、炭素、インジウムスズ酸化物(ITO)、アンチモンスズ酸化物(ATO)、及び、亜鉛スズ酸化物(ZTO)等が挙げられるが、導電安定性や接触抵抗の観点から、金、銀、銅、アルミニウム、及び、炭素が好ましい。
3. 3. Electrodes As the electrodes, known conductive materials can be preferably used. Examples of the form include a lump, a film, a linear, and the like, but the film is preferable in that both thinning and conductivity can be achieved.
Conductive materials include gold, silver, copper, iron, platinum, palladium, tin, lead, zinc, chromium, nickel, aluminum, magnesium, carbon, indium tin oxide (ITO), antimonz tin oxide (ATO), And zinc tin oxide (ZTO) and the like can be mentioned, but gold, silver, copper, aluminum, and carbon are preferable from the viewpoint of conductivity stability and contact resistance.

なお、電極の厚みは、特に限定するものではないが、剛性の観点から特に0.01μm〜40μmが好ましい。 The thickness of the electrode is not particularly limited, but is particularly preferably 0.01 μm to 40 μm from the viewpoint of rigidity.

4.基材
本発明において、サーミスタ層と電極が同一基材上に塗布あるいは蒸着形成されてなることが好ましい。基材としては、ポリエチレンテレフタラートやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂フィルム、ポリエーテルイミドやポリイミドなどのイミド系樹脂フィルム、薄膜ガラスなどが好適に用いられる。
一方本発明においては、基材を使用せずに電極間に直接サーミスタ層を構成する組成物を塗布し、サーミスタ層を形成させることもできる。
4. Base material In the present invention, it is preferable that the thermistor layer and the electrode are coated or vapor-deposited on the same base material. As the base material, a polyester resin film such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, an imide resin film such as polyetherimide or polyimide, or a thin film glass is preferably used.
On the other hand, in the present invention, the thermistor layer can be formed by directly applying the composition constituting the thermistor layer between the electrodes without using a base material.

なお、基材の厚みは、特に限定するものではないが、剛性の観点から、30μm〜400μm、特に50μm〜200μmとするのが好ましい。 The thickness of the base material is not particularly limited, but is preferably 30 μm to 400 μm, particularly preferably 50 μm to 200 μm from the viewpoint of rigidity.

本発明において、有機NTC素子の形態は特に限定するものではなく、板状、シート状、フィルム状その他の形態を包含する。 In the present invention, the form of the organic NTC element is not particularly limited, and includes plate-like, sheet-like, film-like and other forms.

一般的に「フィルム」とは、長さ及び幅に比べて厚みが極めて小さく、最大厚みが任意に限定されている薄い平らな製品で、通常、ロールの形で供給されるものをいい(日本工業規格JISK6900)、一般的に「シート」とは、JISにおける定義上、薄く、一般にその厚みが長さと幅のわりには小さく平らな製品をいう。しかし、シートとフィルムの境界は定かでなく、本発明において文言上両者を区別する必要がないので、本発明においては、「フィルム」と称する場合でも「シート」を含むものとし、「シート」と称する場合でも「フィルム」を含むものとする。 Generally, a "film" is a thin, flat product whose thickness is extremely small compared to its length and width, and whose maximum thickness is arbitrarily limited, and is usually supplied in the form of a roll (Japan). Industrial standard JISK6900), generally, "sheet" refers to a product that is thin by definition in JIS and whose thickness is generally small for its length and width. However, since the boundary between the sheet and the film is not clear and it is not necessary to distinguish between the two in the present invention, the term "film" is used to include the "sheet" and is referred to as the "sheet" in the present invention. Even if it is, it shall include "film".

以下に実施例を示し、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で種々の応用が可能である。 Examples will be shown below and the present invention will be described in more detail. However, the present invention is not limited thereto, and various applications are possible without departing from the technical idea of the present invention.

<測定及び評価方法>
先ずは、実施例・比較例で得たサンプルの各種物性値の測定方法及び評価方法について説明する。
<Measurement and evaluation method>
First, a method for measuring and evaluating various physical property values of the samples obtained in Examples and Comparative Examples will be described.

(1)中空導電性粒子の占める割合
中空導電性粒子の固形分質量をサーミスタの全固形分質量で除することで、サーミスタ層100質量部あたりの中空導電性粒子の占める割合を求めた。
(1) Percentage of Hollow Conductive Particles The proportion of hollow conductive particles per 100 parts by mass of the thermistor layer was determined by dividing the solid content mass of the hollow conductive particles by the total solid content mass of the thermistor.

(2)有機NTC素子の厚み
1/1000mmのダイアルゲージにて、サーミスタ成分が塗工された部分の面内を不特定に5箇所測定し、その平均値を有機NTC素子の厚みとした。
(2) Thickness of Organic NTC Element An unspecified 5 points were measured in the in-plane of the portion coated with the thermistor component with a dial gauge of 1/1000 mm, and the average value was taken as the thickness of the organic NTC element.

(3)サーミスタ層の厚み
作製した有機NTCにおいて、サーミスタ成分が塗工された部分の面内を不特定に5箇所測定し、その平均値から基材の厚みを引き去ることでサーミスタ層の厚みとした。
(3) Thickness of the thermistor layer In the produced organic NTC, the thickness of the thermistor layer is measured by unspecifiedly measuring 5 points in the plane of the portion coated with the thermistor component and subtracting the thickness of the base material from the average value. And said.

(4)電気抵抗
有機NTC素子の電極間を25℃の室温下、2点法にて測定し、電気抵抗とした。
(4) Electrical resistance The distance between the electrodes of the organic NTC element was measured by a two-point method at room temperature of 25 ° C. to obtain electrical resistance.

(5)導電性
有機NTC素子の導電性を下記の基準で評価した。
○:電気抵抗が50kΩ以下である。
×:電気抵抗が50kΩを超える。
(5) Conductivity The conductivity of the organic NTC element was evaluated according to the following criteria.
◯: The electrical resistance is 50 kΩ or less.
X: The electrical resistance exceeds 50 kΩ.

(6)B定数
ホットプレート(アズワン社製;ND−2)上に有機NTC素子を設置し、25℃から50℃まで5℃ごとに昇温し、それぞれの温度域で安定した際の有機NTC素子の電極間の電気抵抗を2点法で測定しプロットした。
なお、25℃から50℃のB定数は下記の式にて算出した。
B定数(K)={ln(R25)−ln(R50)}/{(1/298.15)−(1/323.15)}
25:25℃における電気抵抗
50:50℃における電気抵抗
(6) B constant Organic NTC element is installed on a hot plate (manufactured by AS ONE Corporation; ND-2), the temperature is raised from 25 ° C to 50 ° C in 5 ° C increments, and the temperature is stabilized in each temperature range. The electrical resistance between the electrodes of the device was measured and plotted by the two-point method.
The B constant from 25 ° C. to 50 ° C. was calculated by the following formula.
B constant (K) = {ln (R 25 ) -ln (R 50 )} / {(1 / 298.15)-(1 / 323.15)}
R 25 : Electrical resistance at 25 ° C R 50 : Electrical resistance at 50 ° C

(7)感度
有機NTC素子の感度は以下の基準で評価した。
○:25℃から50℃におけるB定数が、100K以上10000K以下
×:25℃から50℃におけるB定数が、100K未満、又は10000Kを超える
(8)最小許容曲げ半径
有機NTC素子を基材層が内側となるように、半径150mmから5mmまで任意の半径を有する円柱に巻き付けることで、割れや剥離が生じずに巻きつけることのできる最小の円柱の直径を求めた。
(9)柔軟性
有機NTC素子の柔軟性は以下の基準で評価した。
◎:最小許容曲げ半径が0より大きく5mm未満
○:最小許容曲げ半径が5mm以上150mm以下
×:最小許容曲げ半径が150mmを超える。
(7) Sensitivity
The sensitivity of the organic NTC device was evaluated according to the following criteria.
◯: B constant from 25 ° C. to 50 ° C. is 100K or more and 10000K or less ×: B constant from 25 ° C. to 50 ° C. is less than 100K or more than 10000K (8) Minimum allowable bending radius The base material layer of the organic NTC element By winding the cylinder around a cylinder having an arbitrary radius from 150 mm to 5 mm so as to be inside, the minimum diameter of the cylinder that can be wound without cracking or peeling was determined.
(9) Flexibility The flexibility of the organic NTC device was evaluated according to the following criteria.
⊚: Minimum allowable bending radius is greater than 0 and less than 5 mm ◯: Minimum allowable bending radius is 5 mm or more and 150 mm or less ×: Minimum allowable bending radius exceeds 150 mm.

<実施例1>
(サーミスタの前駆体スラリー)
中空導電性粒子として固形分16.5質量%のケッチェンブラックペースト(ライオンスペシャリティケミカルズ社製:ライオンペーストW−311N、平均一次粒径40nm、空隙率60体積%)50質量部と、バインダー樹脂として固形分45質量%のアクリル樹脂ラテックス(日本ゼオン社製:Nipol LX−852)50質量部を混合し、サーミスタの前駆体スラリーを作製した。
<Example 1>
(Thermistor precursor slurry)
As hollow conductive particles, 50 parts by mass of Ketjen Black Paste (manufactured by Lion Specialty Chemicals Co., Ltd .: Lion Paste W-311N, average primary particle size 40 nm, porosity 60% by mass) with a solid content of 16.5% by mass, and as a binder resin 50 parts by mass of acrylic resin latex (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .: Nipol LX-852) having a solid content of 45% by mass was mixed to prepare a precursor slurry of a thermista.

(電極付き基材フィルムの作製)
基材として厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(三菱樹脂社製:ダイアホイルT100−50)を15cm×10cmに切り出し、2つの長辺側に15cm×2.5cmのアルミテープをそれぞれ平行に貼り、1対の電極を作製することで電極付きの基材フィルムを得た。この時電極間の距離は5cmであった。
(Preparation of base film with electrodes)
A polyethylene terephthalate film (manufactured by Mitsubishi Plastics: Diafoil T100-50) with a thickness of 50 μm was cut out as a base material to a size of 15 cm × 10 cm, and 15 cm × 2.5 cm aluminum tapes were attached in parallel to each of the two long sides, and a pair A base film with an electrode was obtained by producing the electrode of. At this time, the distance between the electrodes was 5 cm.

(有機NTC素子の作製)
前述の電極付きの基材フィルムの電極間に、サーミスタの前駆体スラリーを流し込み、#16のバーコーターを用いて均一に塗布し、50℃のオーブンで5分間乾燥させることで有機NTC素子を得た。評価結果を表1に示す。
(Manufacturing of organic NTC elements)
An organic NTC device is obtained by pouring a thermistor precursor slurry between the electrodes of the above-mentioned base film with electrodes, applying the slurry uniformly using a # 16 bar coater, and drying in an oven at 50 ° C. for 5 minutes. It was. The evaluation results are shown in Table 1.

<実施例2>
中空導電性粒子として固形分16.5質量%のケッチェンブラックペースト(ライオンスペシャリティケミカルズ社製:ライオンペーストW−356A、平均一次粒径34nm、空隙率78体積%)を用いた点以外は、実施例1と同様にして目的の有機NTC素子を得た。評価結果を表1に示す。
<Example 2>
Implemented except that Ketjen Black Paste with a solid content of 16.5% by mass (Lion Specialty Chemicals: Lion Paste W-356A, average primary particle size 34 nm, porosity 78% by volume) was used as the hollow conductive particles. The desired organic NTC element was obtained in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

<比較例1>
中空導電性粒子として固形分16.5質量%のケッチェンブラックペースト(ライオンスペシャリティケミカルズ社製:ライオンペーストW−311N、平均一次粒径40nm、空隙率60体積%)10質量部と、バインダー樹脂として固形分45質量%のアクリル樹脂ラテックス(日本ゼオン社製:Nipol LX−852)90質量部を混合し、サーミスタの前駆体スラリーを作製した点以外は、実施例1と同様にして素子を得た。評価結果を表1に示す。なお、素子を製作した段階で既に割れや剥離を生じていたため、最小許容曲げ半径は測定していない。
<Comparative example 1>
As hollow conductive particles, 10 parts by mass of Ketjen Black Paste (manufactured by Lion Specialty Chemicals Co., Ltd .: Lion Paste W-311N, average primary particle size 40 nm, void ratio 60% by mass) with a solid content of 16.5% by mass, and as a binder resin An element was obtained in the same manner as in Example 1 except that 90 parts by mass of an acrylic resin latex (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .: Nipol LX-852) having a solid content of 45% by mass was mixed to prepare a precursor slurry of a thermista. .. The evaluation results are shown in Table 1. The minimum allowable bending radius has not been measured because cracks and peeling have already occurred at the stage of manufacturing the element.

<比較例2>
中空導電性粒子として固形分16.5質量%のケッチェンブラックペースト(ライオンスペシャリティケミカルズ社製:ライオンペーストW−311N、平均一次粒径40nm、空隙率60体積%)90質量部と、バインダー樹脂として固形分45質量%のアクリル樹脂ラテックス(日本ゼオン社製:Nipol LX−852)10質量部を混合し、サーミスタの前駆体スラリーを作製した点以外は、実施例1と同様にして素子を得た。評価結果を表1に示す。
<Comparative example 2>
90 parts by mass of Ketjen Black Paste (manufactured by Lion Specialty Chemicals Co., Ltd .: Lion Paste W-311N, average primary particle size 40 nm, void ratio 60% by mass) with a solid content of 16.5% by mass as hollow conductive particles, and as a binder resin An element was obtained in the same manner as in Example 1 except that 10 parts by mass of an acrylic resin latex (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .: Nipol LX-852) having a solid content of 45% by mass was mixed to prepare a precursor slurry of a thermista. .. The evaluation results are shown in Table 1.

<比較例3>
導電性粒子として8.25質量部のアセチレンブラック(電気化学工業社製:デンカブラックHS−100、平均一次粒径48nm、空隙率22体積%)を、41.75質量部のイオン交換樹脂に分散させ、続いてバインダー樹脂として固形分45質量%のアクリル樹脂ラテックス(日本ゼオン社製:Nipol LX−852)50質量部を混合し、スラリーを作製した。
得られたスラリーを前述の電極付きの基材フィルムの電極間に流し込み、#16のバーコーターを用いて均一に塗布し、50℃のオーブンで5分間乾燥させることで素子を得た。評価結果を表1に示す。
<Comparative example 3>
8.25 parts by mass of acetylene black (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd .: Denka Black HS-100, average primary particle size 48 nm, porosity 22% by mass) is dispersed as conductive particles in 41.75 parts by mass of ion exchange resin. Subsequently, 50 parts by mass of an acrylic resin latex (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .: Nipol LX-852) having a solid content of 45% by mass was mixed as a binder resin to prepare a slurry.
The obtained slurry was poured between the electrodes of the above-mentioned base film with electrodes, uniformly applied using a # 16 bar coater, and dried in an oven at 50 ° C. for 5 minutes to obtain an element. The evaluation results are shown in Table 1.

<比較例4>
導電性粒子として8.25質量部の天然黒鉛(日本黒鉛社製:CBG−10、平均一次粒径40000nm、空隙率17体積%)を、41.75質量部のイオン交換樹脂に分散させ、続いてバインダー樹脂として固形分45質量%のアクリル樹脂ラテックス(日本ゼオン社製:Nipol LX−852)50質量部を混合し、スラリーを作製した。
得られたスラリーを前述の電極付きの基材フィルムの電極間に流し込み、#16のバーコーターを用いて均一に塗布し、50℃のオーブンで5分間乾燥させることで素子を得た。評価結果を表1に示す。
<Comparative example 4>
8.25 parts by mass of natural graphite as conductive particles (manufactured by Nippon Graphite Co., Ltd .: CBG-10, average primary particle size 40,000 nm, porosity 17% by volume) was dispersed in 41.75 parts by mass of an ion exchange resin, followed by As a binder resin, 50 parts by mass of an acrylic resin latex (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .: Nipol LX-852) having a solid content of 45% by mass was mixed to prepare a slurry.
The obtained slurry was poured between the electrodes of the above-mentioned base film with electrodes, uniformly applied using a # 16 bar coater, and dried in an oven at 50 ° C. for 5 minutes to obtain an element. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例1、2では、優れたNTC特性を有するNTC素子が得られた。
一方で、比較例1では中空導電性粒子の量が少ない為、電気抵抗が高く、NTC素子としては使えないものであった。比較例2では、中空導電性粒子の量が多すぎる為、NTC素子として感度が低いものであった。比較例3、4では導電性粒子が中空ではない為バインダー樹脂の熱膨張が優勢となりB定数が負となり、NTC特性が発現せずPTC特性が発現した。
In Examples 1 and 2, NTC devices having excellent NTC characteristics were obtained.
On the other hand, in Comparative Example 1, since the amount of hollow conductive particles was small, the electric resistance was high and the element could not be used as an NTC element. In Comparative Example 2, since the amount of hollow conductive particles was too large, the sensitivity of the NTC element was low. In Comparative Examples 3 and 4, since the conductive particles were not hollow, the thermal expansion of the binder resin became predominant and the B constant became negative, and the NTC characteristics were not exhibited and the PTC characteristics were exhibited.

11:基材
12:電極
13:サーミスタ層
11: Base material 12: Electrode 13: Thermistor layer

Claims (6)

少なくとも一対の電極を有し、一対の電極間にサーミスタ層を有する有機NTC素子であって、サーミスタ層は中空導電性粒子とバインダー樹脂を含み、かつ、有機けい素化合物重合体を含まず、該中空導電性粒子の占める割合がサーミスタ層100質量部あたり5質量部以上50質量部以下であり、該中空導電性粒子の空隙率が50体積%以上である有機NTC素子。 An organic NTC element having at least a pair of electrodes and having a thermistor layer between the pair of electrodes, wherein the thermistor layer contains hollow conductive particles and a binder resin, and does not contain an organic silicon compound polymer. An organic NTC element in which the proportion of hollow conductive particles is 5 parts by mass or more and 50 parts by mass or less per 100 parts by mass of the thermistor layer, and the void ratio of the hollow conductive particles is 50% by volume or more. 前記中空導電性粒子の平均一次粒径が20nm以上5000nm以下である請求項1に記載の有機NTC素子。 The organic NTC device according to claim 1, wherein the average primary particle size of the hollow conductive particles is 20 nm or more and 5000 nm or less. 前記中空導電性粒子が中空導電性炭素粒子である請求項1又は2に記載の有機NTC素子。 The organic NTC device according to claim 1 or 2, wherein the hollow conductive particles are hollow conductive carbon particles. 前記バインダー樹脂において、ガラス転移温度が−50℃以上80℃以下である熱可塑性樹脂を含む請求項1〜3のいずれかに記載の有機NTC素子。 The organic NTC device according to any one of claims 1 to 3, wherein the binder resin contains a thermoplastic resin having a glass transition temperature of −50 ° C. or higher and 80 ° C. or lower. 前記サーミスタ層と前記電極が同一基材面上にある請求項1〜4のいずれかに記載の有機NTC素子。 The organic NTC device according to any one of claims 1 to 4, wherein the thermistor layer and the electrode are on the same substrate surface. 25℃から50℃にかけてのB定数が100K以上10000K以下である請求項1〜5のいずれかに記載の有機NTC素子。 The organic NTC device according to any one of claims 1 to 5, wherein the B constant from 25 ° C. to 50 ° C. is 100 K or more and 10000 K or less.
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