JP6798182B2 - Film forming equipment, cages, and methods for manufacturing electronic components using these - Google Patents
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Description
本発明は、成膜装置、保持具、および、これらを用いた電子部品の製造方法に関する。 The present invention relates to a film forming apparatus, a holder, and a method for manufacturing an electronic component using these.
電子部品の製造方法を開示した先行文献として、特開平10−12486号公報(特許文献1)がある。特許文献1に記載された電子部品の製造方法においては、ホルダを傾け、部品本体の外周面と収納キャビティの内周面とが一部において接触するように部品本体を収納キャビティの一方側に片寄せし、このホルダを傾けた状態にしてスパッタリングすることにより、部品本体の両主面上の所定の位置に電極を形成している。
As a prior document that discloses a method for manufacturing an electronic component, there is Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-12486 (Patent Document 1). In the method for manufacturing an electronic component described in
特許文献1に記載の電子部品の製造方法においては、ホルダを傾けた状態にした後、スパッタリングによる電極形成工程に付しているため、ホルダを搬送する搬送機構は間欠運転している。そのため、成膜効率の観点から改善の余地がある。
In the method for manufacturing an electronic component described in
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであって、効率よく高精度に成膜できる、成膜装置、保持具、および、これらを用いた電子部品の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a film forming apparatus, a holder, and a method for manufacturing an electronic component using these, which can efficiently form a film with high accuracy. And.
本発明の第1の局面に基づく成膜装置は、成膜室と、成膜室の内部に位置する成膜源と、成膜室内において被成膜物が成膜源の上方を成膜源と対向しつつ通過するように被成膜物を搬送する搬送部と、水平方向に対して傾いて位置するように搬送部に取り付けられ、被成膜物を収容して保持する収容部を有する保持具とを備える。収容部は、略矩形状の内周壁を有している。被成膜物は、保持具の傾きにより、収容部内において内周壁の1つの角部に偏って位置して内周壁と接している。 In the film forming apparatus based on the first aspect of the present invention, the film forming chamber, the film forming source located inside the film forming chamber, and the film forming source in the film forming chamber above the film forming source. It has a transport unit that transports the film to be filmed so as to pass while facing the film, and a housing section that is attached to the transport section so as to be positioned at an angle with respect to the horizontal direction to accommodate and hold the film to be filmed. Equipped with a holder. The accommodating portion has a substantially rectangular inner peripheral wall. Due to the inclination of the holder, the film-deposited film is positioned unevenly at one corner of the inner peripheral wall in the accommodating portion and is in contact with the inner peripheral wall.
本発明の一形態においては、保持具は、内周壁を構成する枠部材と、枠部材と隣接したマスキング部材とを含む。 In one embodiment of the present invention, the holder includes a frame member constituting the inner peripheral wall and a masking member adjacent to the frame member.
本発明の一形態においては、成膜装置は、成膜室に隣接して設けられた第1減圧室と、成膜室に隣接して設けられた第2減圧室とをさらに備える。搬送部は、第1減圧室、成膜室および第2減圧室をこの順に通過する。 In one embodiment of the present invention, the film forming apparatus further includes a first decompression chamber provided adjacent to the film forming chamber and a second decompression chamber provided adjacent to the film forming chamber. The transport unit passes through the first decompression chamber, the film forming chamber, and the second decompression chamber in this order.
本発明の一形態においては、成膜源は、複数のターゲットからなる。複数のターゲットは、搬送部の搬送方向に並んで配置されている。 In one embodiment of the present invention, the film formation source comprises a plurality of targets. A plurality of targets are arranged side by side in the transport direction of the transport unit.
本発明の第2の局面に基づく保持具は、被成膜物を収容して保持する収容部を有する保持具である。保持具は、枠部材と、枠部材と隣接したマスキング部材とを備える。収容部は、略矩形状の内周壁を有している。枠部材は、内周壁を構成している。 The retainer based on the second aspect of the present invention is a retainer having an accommodating portion for accommodating and holding an object to be filmed. The holder includes a frame member and a masking member adjacent to the frame member. The accommodating portion has a substantially rectangular inner peripheral wall. The frame member constitutes the inner peripheral wall.
本発明の一形態においては、保持具は、水平方向に対して傾いて位置している。被成膜物は、保持具の傾きにより、収容部内において内周壁の1つの角部に偏って位置して前記内周壁と接している。 In one embodiment of the invention, the holder is tilted with respect to the horizontal direction. Due to the inclination of the holder, the film-deposited film is positioned unevenly at one corner of the inner peripheral wall in the accommodating portion and is in contact with the inner peripheral wall.
本発明の第3の局面に基づく電子部品の製造方法は、上記のいずれかの成膜装置において2つの保持具を用いて被成膜物である電子部品を製造する方法である。電子部品を製造する方法は、2つの保持具のうちの第1保持具の収容部に被成膜物を収容する工程と、2つの保持具のうちの第2保持具の収容部が第1保持具の対応する収容部と連通するように、第1保持具の枠部材上に第2保持具の枠部材を重ね合わせる工程と、第1保持具および第2保持具を搬送部に取り付ける工程と、搬送部を稼働させて、電子部品の下側を成膜する工程と、第1保持具と第2保持具とを上下反転させた状態で搬送部に取り付ける工程と、搬送部を稼働させて、上下反転した状態の電子部品の下側に成膜する工程とを備える。 The method for manufacturing an electronic component based on the third aspect of the present invention is a method for manufacturing an electronic component to be a film to be formed by using two holders in any of the above-mentioned film forming apparatus. The method of manufacturing the electronic component is a step of accommodating the film to be formed in the accommodating portion of the first retainer of the two retainers, and the accommodating portion of the second retainer of the two retainers is the first. A step of superimposing the frame member of the second holder on the frame member of the first holder and a step of attaching the first holder and the second holder to the transport portion so as to communicate with the corresponding accommodating portion of the holder. And, the process of operating the transport unit to form a film on the lower side of the electronic component, the process of attaching the first holder and the second holder to the transport unit in an inverted state, and the process of operating the transport unit. The process includes a step of forming a film on the lower side of the electronic component in an inverted state.
本発明によれば、効率よく高精度に成膜できる。 According to the present invention, a film can be formed efficiently and with high accuracy.
以下、本発明の一実施形態に係る、成膜装置、保持具、および、これらを用いた電子部品の製造方法について図を参照して説明する。以下の実施形態の説明においては、図中の同一または相当部分には同一符号を付して、その説明は繰り返さない。 Hereinafter, a film forming apparatus, a holder, and a method for manufacturing an electronic component using these according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of the embodiment, the same or corresponding parts in the drawings are designated by the same reference numerals, and the description will not be repeated.
まず、本発明の一実施形態に係る、成膜装置、保持具、および、これらを用いた電子部品の製造方法の各々が適用される被成膜物の一例である3端子型の積層コンデンサについて説明する。ただし、被成膜物は、3端子型の積層コンデンサに限られず、2端子型の積層コンデンサでもよく、スパッタリングなどの乾式めっき法により成膜される物であればよい。 First, a 3-terminal multilayer capacitor which is an example of a film-deposited object to which each of a film-forming apparatus, a holder, and a method for manufacturing an electronic component using these according to an embodiment of the present invention is applied. explain. However, the film to be filmed is not limited to the 3-terminal type laminated capacitor, and may be a 2-terminal type laminated capacitor as long as it is formed by a dry plating method such as sputtering.
図1は、被成膜物の一例である3端子型の積層コンデンサの外観を示す斜視図である。図2は、図1の積層コンデンサをII−II線矢印方向から見た断面図である。図3は、図1の積層コンデンサをIII−III線矢印方向から見た断面図である。図1〜3においては、後述する積層体の長さ方向をL、積層体の幅方向をW、積層体の高さ方向をHで示している。 FIG. 1 is a perspective view showing the appearance of a 3-terminal multilayer capacitor which is an example of a film to be filmed. FIG. 2 is a cross-sectional view of the multilayer capacitor of FIG. 1 as viewed from the direction of the arrow along line II-II. FIG. 3 is a cross-sectional view of the multilayer capacitor of FIG. 1 as viewed from the direction of the arrow along line III-III. In FIGS. 1 to 3, the length direction of the laminated body described later is shown by L, the width direction of the laminated body is shown by W, and the height direction of the laminated body is shown by H.
図1〜3に示すように、被成膜物の一例である3端子型の積層コンデンサ100は、積層体110と、積層体110の表面の一部に設けられた3つの外部電極とを備える。積層体110は、積層された複数の誘電体層140および複数の導電体層150を含む。誘電体層140と導電体層150とは、交互に積層されている。積層体110は、直方体形状である。誘電体層140と導電体層150との積層方向は、積層体110の長さ方向Lおよび積層体110の幅方向Wに対して直交している。すなわち、誘電体層140と導電体層150との積層方向は、積層体110の高さ方向Hと平行である。
As shown in FIGS. 1 to 3, the 3-terminal
積層体110は、積層体110の積層方向において相対する第1主面111および第2主面112、第1主面111と第2主面112とを結び直方体形状の長さ方向Lにおいて相対する2つの端面、および、第1主面111と第2主面112とを結び直方体形状の幅方向Wにおいて相対する2つの側面を有する。2つの端面のうち、一方は第1端面113であり、他方は第2端面114である。2つの側面のうち、一方は第1側面115であり、他方は第2側面116である。
The
第1側面115と第2側面116との最短距離は、第1端面113と第2端面114との最短距離未満である。積層体110は、直方体形状であるが、角部および稜線部の少なくとも一方に丸みを有していてもよい。また、積層体110の表面に凹凸が形成されていてもよい。
The shortest distance between the
3つの外部電極は、積層体110の長さ方向Lの両側に設けられている1対の貫通電極120と、積層体110の長さ方向Lの中央部に環状に設けられたグランド電極130とからなる。
The three external electrodes include a pair of through
具体的には、1対の貫通電極120の一方は、積層体110の第1端面113側に設けられ、1対の貫通電極120の他方は、第2端面114側に設けられている。
Specifically, one of the pair of through
1対の貫通電極120の一方は、第1端面113から、第1主面111、第2主面112、第1側面115および第2側面116の各々の一部に亘って設けられている。1対の貫通電極120の一方は、第1端面113、第1側面115および第2側面116の各々に設けられた第1下地層121と、第1主面111および第2主面112の各々に設けられた第2下地層122と、第1下地層121および第2下地層122を覆うめっき層123とを含む。
One of the pair of through
1対の貫通電極120の他方は、第2端面114から、第1主面111、第2主面112、第1側面115および第2側面116の各々の一部に亘って設けられている。1対の貫通電極120の他方は、第2端面114、第1側面115および第2側面116の各々に設けられた第1下地層121と、第1主面111および第2主面112の各々に設けられた第2下地層122と、第1下地層121および第2下地層122を覆うめっき層123とを含む。
The other side of the pair of through
グランド電極130は、第1主面111、第2主面112、第1側面115および第2側面116の各々に亘って環状に設けられている。グランド電極130は、第1側面115および第2側面116の各々に設けられた第1下地層131と、第1主面111および第2主面112の各々に設けられた第2下地層132と、第1下地層131および第2下地層132を覆うめっき層133とを含む。
The
ただし、3つの外部電極の配置は上記に限られず、複数の導電体層150の各々と電気的に接続可能、かつ、積層コンデンサ100が実装可能となるように、積層体110の表面の一部に設けられていればよい。
However, the arrangement of the three external electrodes is not limited to the above, and is a part of the surface of the
複数の導電体層150は、積層体110の長さ方向Lに延在して1対の貫通電極120の各々と接続された第1導電体層151と、第1側面115および第2側面116の各々においてグランド電極130と接続された第2導電体層152とから構成されている。第1導電体層151は、グランド電極130には接続されていない。第2導電体層152は、1対の貫通電極120には接続されていない。第1導電体層151と第2導電体層152とは、積層体110の積層方向において交互に位置している。
The plurality of conductor layers 150 include a
上記のように、1対の貫通電極120は、積層コンデンサ100の内部において導通しており、これらの間にコンデンサ要素は介在していない。一方、1対の貫通電極120とグランド電極130との間においては、コンデンサ要素が介在しており、互いに並列接続されている。このように、積層コンデンサ100は、貫通型の積層コンデンサである。
As described above, the pair of through
以下、3端子型の積層コンデンサ100の製造方法について説明する。
図4は、被成膜物の一例である3端子型の積層コンデンサの製造方法を示すフローチャートである。なお、以下に示す積層コンデンサの製造方法は、製造過程の途中段階まで一括して加工処理を行なうことでマザー積層体を製作し、その後にマザー積層体を分断して個片化し、個片化後の軟質積層体にさらに加工処理を施すことによって複数の積層コンデンサ100を同時に大量に生産する方法である。
Hereinafter, a method for manufacturing the 3-
FIG. 4 is a flowchart showing a method of manufacturing a 3-terminal multilayer capacitor, which is an example of a film to be filmed. In the method of manufacturing a multilayer capacitor shown below, a mother laminate is manufactured by collectively processing until the middle stage of the manufacturing process, and then the mother laminate is divided into individual pieces and individualized. This is a method of simultaneously mass-producing a plurality of
図4に示すように、積層コンデンサ100を製造する際には、まず、セラミックスラリーが調製される(工程S11)。具体的には、セラミックス粉末、バインダおよび溶剤などが所定の配合比率で混合され、これによりセラミックスラリーが形成される。
As shown in FIG. 4, when manufacturing the
次に、セラミックグリーンシートが形成される(工程S12)。具体的には、セラミックスラリーがキャリアフィルム上においてダイコータ、グラビアコータ、または、マイクログラビアコータなどを用いてシート状に成形されることにより、セラミックグリーンシートが形成される。 Next, a ceramic green sheet is formed (step S12). Specifically, the ceramic green sheet is formed by forming the ceramic slurry into a sheet on the carrier film using a die coater, a gravure coater, a microgravure coater, or the like.
次に、マザーシートが形成される(工程S13)。具体的には、セラミックグリーンシートに導電性ペーストが所定のパターンを有するようにスクリーン印刷法またはグラビア印刷法などを用いて印刷されることにより、セラミックグリーンシート上に所定の導電パターンが設けられたマザーシートが形成される。導電性ペーストは、Ni成分を含んでいる。 Next, a mother sheet is formed (step S13). Specifically, a predetermined conductive pattern is provided on the ceramic green sheet by printing the conductive paste on the ceramic green sheet by using a screen printing method, a gravure printing method, or the like so as to have a predetermined pattern. A mother sheet is formed. The conductive paste contains a Ni component.
ここで、形成されるマザーシートについて説明する。図5は、マザーシート群を構成するマザーシートを示す分解斜視図である。図5に示すように、マザーシート群110aは、互いに構成の異なる複数のマザーシート10,11,12が積層されて構成されている。
Here, the formed mother sheet will be described. FIG. 5 is an exploded perspective view showing the mother sheets constituting the mother sheet group. As shown in FIG. 5, the
マザーシート10は、その表面に導電パターンが形成されていないセラミック基材140aのみから構成されている。このように、マザーシートとしては、上記工程S13を経ることなく作製されたセラミックグリーンシートも準備される。マザーシート11,12は、セラミック基材140aの表面に所定の形状の導電パターン151a,152aが形成されたものである。
The
図5に示すように、マザーシートが積層される(工程S14)。具体的には、導電パターンが形成されていないマザーシート10が所定枚数積層され、その上に、導電パターン151aが形成された複数のマザーシート11と導電パターン152aが形成された複数のマザーシート12とが1枚ずつ交互に積層され、その上に、導電パターンが形成されていないマザーシート10が所定枚数積層されることにより、マザーシート群110aが構成される。
As shown in FIG. 5, the mother sheets are laminated (step S14). Specifically, a predetermined number of
次に、マザーシート群が圧着される(工程S15)。静水圧プレスまたは剛体プレスによってマザーシート群110aが積層方向に沿って加圧されて圧着されることにより、マザー積層体が形成される。
Next, the mother sheet group is crimped (step S15). A mother laminated body is formed by pressurizing and crimping the
次に、マザー積層体が分断される(工程S16)。具体的には、押し切りまたはダイシングによってマザー積層体がマトリックス状に分断され、複数の軟質積層体に個片化される。 Next, the mother laminate is divided (step S16). Specifically, the mother laminate is divided into a matrix by push-cutting or dicing, and is individualized into a plurality of soft laminates.
次に、軟質積層体がバレル研磨される(工程S17)。具体的には、軟質積層体が、セラミック材料よりも硬度の高いメディアボールとともにバレルと呼ばれる小箱内に封入され、当該バレルを回転させることにより、軟質積層体の外表面の角部および稜線部に曲面状の丸みがもたされる。 Next, the soft laminate is barrel-polished (step S17). Specifically, the soft laminate is enclosed in a small box called a barrel together with a media ball having a hardness higher than that of the ceramic material, and by rotating the barrel, the corners and ridges of the outer surface of the soft laminate are formed. Has a curved roundness.
次に、軟質積層体の表面に第1下地層となる導電性ペーストが付与される(工程S18)。具体的には、1対の貫通電極120の各々の第1下地層121となる導電性ペーストが、各種印刷法またはディップ法などにより軟質積層体の両端部に付与される。さらに、グランド電極130の第1下地層131となる導電性ペーストが、各種印刷法により軟質積層体の両側面に付与される。この導電性ペーストは、有機溶剤と金属粒子とセラミックとを含む。金属粒子は、Ni成分を含んでいる。
Next, a conductive paste to be the first base layer is applied to the surface of the soft laminate (step S18). Specifically, a conductive paste to be the
次に、導電性ペーストが表面に付与された軟質積層体が焼成される(工程S19)。具体的には、導電性ペーストが表面に付与された軟質積層体が所定の温度に加熱され、これによりセラミック誘電体材料および導電体材料が焼成される。焼成温度は、セラミック誘電体材料および導電体材料の種類に応じて適宜設定され、たとえば、900℃以上1300℃以下の範囲内で設定される。導電体層150となる導電体材料と、第1下地層121および第1下地層131となる導電性ペーストとが、同時に焼成されることにより、第1下地層121および第1下地層131の各々と導電体層150との接続部において、第1下地層121および第1下地層131のNi成分と導電体層150のNi成分とが一体化する。
Next, the soft laminate to which the conductive paste is applied to the surface is fired (step S19). Specifically, the soft laminate with the conductive paste applied to the surface is heated to a predetermined temperature, whereby the ceramic dielectric material and the conductive material are fired. The firing temperature is appropriately set according to the types of the ceramic dielectric material and the conductor material, and is set, for example, in the range of 900 ° C. or higher and 1300 ° C. or lower. The conductor material to be the
次に、第1下地層121および第1下地層131が設けられた積層体が、バレル研磨される(工程S20)。
Next, the laminate provided with the
次に、スパッタリングなどの乾式めっき法により積層体の第1主面111に第2下地層122および第2下地層132が設けられる(工程S21)。第2下地層122および第2下地層132の各々は、ニクロム(NiCr)、モネル(NiCu)、チタン(Ti)、銅(Cu)または銀(Ag)などの、純金属または合金からなる。
Next, the
次に、スパッタリングなどの乾式めっき法により積層体の第2主面112に第2下地層122および第2下地層132が設けられる(工程S22)。
Next, the
次に、めっき処理により、第1下地層121および第2下地層122を覆うようにめっき層123が形成され、第1下地層131および第2下地層132を覆うようにめっき層133が形成される(工程S23)。めっき層123,133が形成されることにより、1対の貫通電極120およびグランド電極130が構成される。めっき層123,133には、Cu成分が含まれている。
Next, by the plating treatment, the
上記の一連の工程を経ることにより、積層コンデンサ100が製造される。
以下、本発明の一実施形態に係る成膜装置の構成について図を参照して説明する。本実施形態に係る成膜装置200は、スパッタリング装置であるが、成膜装置200は、他の乾式めっきを行なう装置であってもよい。
The
Hereinafter, the configuration of the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The
図6は、本発明の一実施形態に係る成膜装置の構成を示す側面図である。図7は、図6の成膜装置を矢印VII方向から見た図である。図8は、図6の成膜装置を矢印VIII方向から見た図である。図9は、本発明の一実施形態に係る成膜装置の搬送部の一部の形状を示す平面図である。図10は、本発明の一実施形態に係る成膜装置のトレーの形状を示す平面図である。図11は、本発明の一実施形態に係る成膜装置の保持具の形状を示す平面図である。図12は、図11中のXII部を拡大して示す斜視図である。図13は、図12の保持具の一部をXIII−XIII線矢印方向から見た断面図である。図14は、図13の保持具の一部を矢印XIV方向から見た底面図である。図11においては、理解を容易にするために、保持具の枠部材のみを図示している。 FIG. 6 is a side view showing the configuration of the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 7 is a view of the film forming apparatus of FIG. 6 as viewed from the direction of arrow VII. FIG. 8 is a view of the film forming apparatus of FIG. 6 as viewed from the direction of arrow VIII. FIG. 9 is a plan view showing a part of the shape of the transport portion of the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 10 is a plan view showing the shape of the tray of the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 11 is a plan view showing the shape of the holder of the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 12 is an enlarged perspective view showing the XII portion in FIG. 11. FIG. 13 is a cross-sectional view of a part of the holder of FIG. 12 as viewed from the direction of the arrow along the line XIII-XIII. FIG. 14 is a bottom view of a part of the holder of FIG. 13 as viewed from the direction of arrow XIV. In FIG. 11, only the frame member of the holder is shown for ease of understanding.
図6〜14に示すように、本発明の一実施形態に係る成膜装置200は、成膜室220と、成膜室220に隣接して設けられた第1減圧室210と、成膜室220に隣接して設けられた第2減圧室230とを備える。なお、必ずしも、第1減圧室210および第2減圧室230は設けられていなくてもよい。第1減圧室210には、第1減圧室210内を減圧する真空ポンプ211が設けられている。成膜室220には、成膜室220内を減圧する真空ポンプ221が設けられている。第2減圧室230には、第2減圧室230内を減圧する真空ポンプ231が設けられている。成膜室220内は、第1減圧室210および第2減圧室230の各々の内部より気圧が低く、略真空状態になっている。
As shown in FIGS. 6 to 14, the
成膜装置200は、第1減圧室210、成膜室220および第2減圧室230をこの順に通過する搬送部250をさらに備える。搬送部250の搬送方向20に沿って、搬送部250を支持する複数のローラ280が互いに間隔をあけて配置されている。本実施形態においては、搬送部250は、ベルトコンベアで構成されているが、搬送部250の構成は、ベルトコンベアに限られず、レール上を走行する台車などであってもよい。
The
図8に示すように、搬送部250は、水平方向に対して角度α傾いて位置するようにローラ280によって支持されている。角度αは、0°より大きく、たとえば5°である。図9に示すように、搬送部250には、平面視にて矩形状の開口部251、および、開口部251の外周に平面視にて矩形状の座繰り部252が設けられている。開口部251および座繰り部252が、ベルトコンベアの長手方向において等間隔に設けられている。
As shown in FIG. 8, the
第1減圧室210の入口には、上下方向に開閉するシャッタ240が設けられている。第1減圧室210と成膜室220との境界には、上下方向に開閉するシャッタ241が設けられている。成膜室220と第2減圧室230との境界には、上下方向に開閉するシャッタ242が設けられている。第2減圧室230の出口には、上下方向に開閉するシャッタ243が設けられている。シャッタ240〜243の各々は、搬送部250による被搬送物の通過時のみ開いた状態となり、それ以外の時は閉じた状態になっている。
A
成膜室220の内部には、成膜源が配置されている。本実施形態においては、成膜源として、3つのターゲット222,223,224が、搬送部250の搬送方向20に並んで1列に配置されている。ターゲット222,223,224は、成膜室220内において、搬送部250の直下に位置するように配置されている。搬送部250は、成膜室220内において被成膜物がターゲット222,223,224の上方をターゲット222,223,224と対向しつつ通過するように被成膜物を搬送する。なお、配置されるターゲットの数は、3つに限られず、1つ以上であればよい。
A film forming source is arranged inside the
ターゲット222,223,224の各々は、板状の外形を有している。ターゲット222,223,224の各々は、図8に示すように傾いた状態の搬送部250に取り付けられた保持具270と平行となるように傾いている。
Each of the
ターゲット222,223,224の各々の構成材料は、ニクロム(NiCr)、モネル(NiCu)、チタン(Ti)、銅(Cu)または銀(Ag)などの、純金属または合金である。
Each constituent material of the
本実施形態においては、搬送部250の座繰り部252内に、図10に示すトレー260が配置される。トレー260は、平面視にて、搬送部250の座繰り部252より僅かに小さい矩形状の外形を有している。トレー260には、平面視にて矩形状の開口部261、および、開口部261の外周に平面視にて矩形状の座繰り部262が設けられている。本実施形態においては、開口部261および座繰り部262が、トレー260にマトリックス状に6つ設けられている。トレー260の6つの開口部261の各々は、搬送部250の開口部251上に位置している。
In the present embodiment, the
本実施形態に係る保持具270は、図7に示すように、トレー260の座繰り部262内に配置される。保持具270は、平面視にて、トレー260の座繰り部262より僅かに小さい矩形状の外形を有している。図11に示すように、保持具270の外形は、平面視にて、互いに平行な1対の第1辺272aと、互いに平行な第2辺272bとから構成されている。なお、必ずしもトレー260が設けられていなくてもよく、保持具270が搬送部250の座繰り部252内に直接配置されていてもよい。
As shown in FIG. 7, the
保持具270は、図11〜14に示すように、被成膜物を収容して保持する収容部273を有する。収容部273は、略矩形状の内周壁を有している。具体的には、保持具270は、内周壁を構成する枠部材272と、枠部材272と隣接したマスキング部材271とを含む。
As shown in FIGS. 11 to 14, the
枠部材272は、平面視にて矩形状の板状の外形を有している。枠部材272の外形は、平面視にて、互いに平行な1対の第1辺272aと、互いに平行な第2辺272bとから構成されている。すなわち、平面視において、枠部材272の外形と保持具270の外形とは同一である。
The
収容部273の内周壁は、互いに対向する1対の第1辺272haおよび互いに対向する1対の第2辺272hbを含み略矩形である。内周壁の4つの角部には、ぬすみ加工が施されており、半円状の切欠が設けられている。
The inner peripheral wall of the
本実施形態においては、内周壁の第2辺272hbが、枠部材272の外形の第2辺272bに対して角度θをなすように、収容部273が設けられている。よって、複数の収容部273は、枠部材272の外形の第2辺272bに対して角度θをなす複数の仮想直線272d上にて、互いに間隔をあけて並んでいる。
In the present embodiment, the
角度θは、0°より大きく、たとえば31°である。角度θは、角度αより大きいことが好ましい。具体的には、角度θは、20°以上40°以下であることが好ましい。この場合、後述するように、収容部273内に被成膜物を収容した際に、被成膜物の側面および端面と、第1辺272haおよび第2辺272hbとを、それぞれ接触させて、安定して被成膜物を保持することができる。
The angle θ is greater than 0 °, for example 31 °. The angle θ is preferably larger than the angle α. Specifically, the angle θ is preferably 20 ° or more and 40 ° or less. In this case, as will be described later, when the film-deposited object is accommodated in the
本実施形態においては、収容部273の内周壁の2本の対角線のうちのいずれか一方の対角線272cが、枠部材272の外形の第2辺272bと平行になるように、複数の収容部273が設けられている。
In the present embodiment, a plurality of
本実施形態においては、マスキング部材271は、互いに対向する2つのマスク部274を備えている。2つのマスク部274の各々は、収容部273の直下に位置して被成膜物と接する平坦部274tを有している。なお、マスク部274の数は、2つに限られず、1つ以上であればよい。
In the present embodiment, the masking
本実施形態においては、マスキング部材271は、枠部材272の下面に接合されている。マスキング部材271の内側に、2つのマスク部274が設けられている。ただし、マスキング部材271および枠部材272が、一部材から形成されていてもよい。
In the present embodiment, the masking
マスキング部材271は、枠部材272側とは反対側の端部に、内側に突出した1対の突出部271cを有している。図14に示すように、1対の突出部271cの各々の先端面は、1対の第1辺272haの各々と平行に位置している。マスキング部材271の厚さ方向に見て、マスキング部材271において、枠部材272側とは反対側の開口271hは、収容部273の内周壁の内側に位置している。
The masking
保持具270がトレー260の座繰り部262内に配置されることにより、図8に示すように、保持具270は、水平方向に対して傾いて位置するように搬送部250に取り付けられる。
By arranging the
ここで、本発明の一実施形態に係る電子部品の製造方法について説明する。本発明の一実施形態に係る電子部品の製造方法においては、ともに保持具270と同じ構成を有する第1保持具270aおよび第2保持具270bを用いて電子部品である積層コンデンサ100を製造する。
Here, a method for manufacturing an electronic component according to an embodiment of the present invention will be described. In the method for manufacturing an electronic component according to an embodiment of the present invention, the
被成膜物である積層体110を第1保持具270aの収容部273内に収容させる際には、第1保持具270aの枠部材272上に多数の積層体110を載置した状態で、シェーカにより第1保持具270aを振動させる。その結果、複数の積層体110が複数の収容部273内にそれぞれ収容される。
When the laminate 110, which is a film to be formed, is accommodated in the
次に、第2保持具270bの収容部273が第1保持具270aの対応する収容部273と連通するように、第1保持具270aの枠部材272上に第2保持具270bの枠部材272を重ね合わせる。この状態で、第1保持具270aと第2保持具270bとを、螺子などにより連結する。
Next, the
互いに連結された第1保持具270aおよび第2保持具270bをプラズマ装置に挿入してArエッチングを行なうことにより、第1保持具270a、第2保持具270bおよび積層体110をクリーニングする。
The
次に、クリーニングした第1保持具270aおよび第2保持具270bを図6〜8に示すように、トレー260を介して搬送部250に取り付ける。
Next, the cleaned
図15は、本発明の一実施形態に係る保持具の収容部内に被成膜物が収容された状態を示す平面図である。図16は、図15に示す保持具の収容部内に被成膜物が収容された状態をXVI−XVI線矢印方向から見た断面図である。図16においては、第1保持具270a上に第2保持具270bを重ね合わせた状態を図示している。
FIG. 15 is a plan view showing a state in which the film to be formed is housed in the housing part of the holder according to the embodiment of the present invention. FIG. 16 is a cross-sectional view of a state in which the film to be formed is contained in the accommodating portion of the holder shown in FIG. 15 as viewed from the direction of the XVI-XVI line arrow. In FIG. 16, a state in which the
図15,16に示すように、積層体110は、矢印30で示すように、第1保持具270aの傾きにより、第1保持具270aの収容部273内において内周壁の1つの角部に偏って位置して内周壁と接している。具体的には、積層体110の第2端面114が第1保持具270aの第1辺272haと接し、積層体110の第1側面115が第1保持具270aの第2辺272hbと接している。
As shown in FIGS. 15 and 16, as shown by the
その結果、複数の収容部273内にそれぞれ収容された複数の積層体110は、複数の収容部273内の各々における略同一の位置に配置されることになる。
As a result, the plurality of
また、内周壁の4つの角部に半円状の切欠が設けられていることにより、積層体110の角部が上記切欠内に収容されるため、積層体110の第2端面114と第1辺272haとを安定して接触させることができるとともに、積層体110の第1側面115と第2辺272hbとを安定して接触させることができる。
Further, since the four corners of the inner peripheral wall are provided with semicircular cutouts, the corners of the
搬送部250によって、第1保持具270aおよび第2保持具270bが成膜室220内に搬入された時点でスパッタリング加工が開始される。搬送部250が連続運転して、第1保持具270aおよび第2保持具270bがターゲット222,223,224の直上を順次通過することにより、積層体110の下側が成膜される。これにより、積層体の第1主面111に第2下地層122および第2下地層132が設けられる(工程S21)。
The sputtering process is started when the
ターゲット222,223,224の表面から飛散した金属原子1は、積層体110の下側の表面において、第1保持具270aのマスキング部材271に覆われていない部分に付着する。上記のように、複数の収容部273内にそれぞれ収容された複数の積層体110は、複数の収容部273内の各々における略同一の位置に配置されているため、高い位置精度で成膜できるとともに、複数の積層体110に対して均一に成膜することができる。
The
また、マスキング部材271の突出部271cによって、積層体110の両端面に第2下地層122が形成されることを抑制することができる。
Further, the protruding
搬送部250によって、第1保持具270aおよび第2保持具270bが成膜室220外に搬出された時点でスパッタリング加工を停止する。
When the
次に、第1保持具270aと第2保持具270bとを上下反転させた状態で、トレー260を介して搬送部250に取り付ける。図17は、本発明の一実施形態に係る電子部品の製造方法において、第1保持具と第2保持具とを上下反転させた状態を示す断面図である。
Next, the
第1保持具270aと第2保持具270bとを上下反転させることにより、図17に示すように、積層体110は、矢印30で示すように、第2保持具270bの傾きにより、第2保持具270bの収容部273内において内周壁の1つの角部に偏って位置して内周壁と接している。具体的には、積層体110の第2端面114が第2保持具270bの第1辺272haと接し、積層体110の第2側面116が第2保持具270bの第2辺272hbと接している。また、積層体110は、第2保持具270bのマスキング部材271に支持されている。具体的には、積層体110の第2主面112が、第2保持具270bのマスク部274の平坦部274tと接している。
By turning the
このように、第1保持具270aと第2保持具270bを上下反転させる際には、傾いた保持具270の下側に位置する積層体110の端面が入れ替わらないようにする。本実施形態においては、第2端面114が、第1保持具270aと第2保持具270bを上下反転させる前後においてともに、傾いた保持具270の下側に位置している。
In this way, when the
搬送部250によって、上下反転した状態の第1保持具270aおよび第2保持具270bが成膜室220内に搬入された時点でスパッタリング加工が開始される。搬送部250が連続運転して、第1保持具270aおよび第2保持具270bがターゲット222,223,224の直上を順次通過することにより、上下反転した状態の積層体110の下側が成膜される。これにより、積層体の第2主面112に第2下地層122および第2下地層132が設けられる(工程S22)。
Sputtering is started when the
次に、搬送部250から第1保持具270aおよび第2保持具270bが取り外される。第1保持具270aと第2保持具270bとの連結が解除され、第2下地層122および第2下地層132が成膜された積層体110が収容部273から取り出される。その後、第2下地層122および第2下地層132が成膜された積層体110には、めっき処理(工程S23)が施される。
Next, the
上記のように、水平方向に対して傾いて位置するように保持具270を取り付けた搬送部250を連続運転させて、積層体110に第2下地層122および第2下地層132を設けることにより、積層体110に効率よく高精度に成膜することができる。
As described above, the
なお、積層体110の両端面に第2下地層122が形成されることをより確実に抑制するために、マスキング部材271の枠部材272側にさらに突出部が設けられていてもよい。
In addition, in order to more reliably suppress the formation of the
図18は、本発明の一実施形態の変形例に係る保持具の構成を示す断面図である。図18においては、図16と同一の断面視にて図示している。 FIG. 18 is a cross-sectional view showing a configuration of a holder according to a modified example of the embodiment of the present invention. In FIG. 18, it is shown in the same cross-sectional view as in FIG.
図18に示すように、本発明の一実施形態の変形例に係る保持具においては、マスキング部材271の枠部材272側にさらに突出部271dが設けられている。突出部271dによって積層体110の両端面の下側の辺を覆うことにより、積層体110の両端面に第2下地層122が形成されることをより確実に抑制できる。
As shown in FIG. 18, in the holder according to the modified example of the embodiment of the present invention, a protruding
図19は、本発明の一実施形態の変形例に係る第1保持具と第2保持具とを上下反転させた状態を示す断面図である。図19においては、図17と同一の断面視にて図示している。 FIG. 19 is a cross-sectional view showing a state in which the first holder and the second holder according to the modified example of the embodiment of the present invention are turned upside down. In FIG. 19, it is shown in the same cross-sectional view as in FIG.
図19に示すように、第1保持具270aと第2保持具270bとを上下反転させることにより、第2保持具270bの突出部271dによって積層体110の両端面の下側の辺を覆うことにより、上下反転した状態の積層体110の両端面に第2下地層122が形成されることをより確実に抑制できる。
As shown in FIG. 19, by turning the
なお、本実施形態においては、第1保持具270aおよび第2保持具270bを用いたが、他の方法により積層体110を上下反転させる場合には、第2保持具270bを用いなくてもよい。
In this embodiment, the
(実験例)
以下、搬送部250の水平方向に対する傾斜角度αを変更して成膜の位置精度を検証した実験例について説明する。
(Experimental example)
Hereinafter, an experimental example in which the position accuracy of the film formation is verified by changing the inclination angle α of the
傾斜角度αを、0°、5°、10°にして、積層体110の長さ方向Lの中央の位置と、積層体110の長さ方向Lにおけるグランド電極130の中央の位置との位置ずれ量を測定した。各サンプルを100個作製した。各サンプルの積層体110において、長さを1.0mm、幅を0.5mm、厚さを0.5mmとした。上記の位置ずれ量は、積層コンデンサの表面をSEM(Scanning Electron Microscope)などの電子顕微鏡を用いて撮像し、撮像した画像から、グランド電極130の中央の位置と積層体110の長さ方向Lの中央の位置との位置ずれ量を測定した。
When the inclination angle α is set to 0 °, 5 °, and 10 °, the positional deviation between the center position of the
傾斜角度α=0°のときは、位置ずれ量の最大値が76μm、位置ずれ量の平均値が35μmであった。傾斜角度α=5°のときは、位置ずれ量の最大値が38μm、位置ずれ量の平均値が9μmであった。傾斜角度α=10°のときは、位置ずれ量の最大値が19μm、位置ずれ量の平均値が8μmであった。 When the inclination angle α = 0 °, the maximum value of the misalignment amount was 76 μm, and the average value of the misalignment amount was 35 μm. When the inclination angle α = 5 °, the maximum value of the misalignment amount was 38 μm, and the average value of the misalignment amount was 9 μm. When the inclination angle α = 10 °, the maximum value of the misalignment amount was 19 μm, and the average value of the misalignment amount was 8 μm.
上記の実験結果から、傾斜角度αは、5°以上が好ましく、10°以上がより好ましいことが確認できた。すなわち、保持具の傾きが大きくなるに従って、高い位置精度で成膜できることが確認できた。 From the above experimental results, it was confirmed that the inclination angle α is preferably 5 ° or more, and more preferably 10 ° or more. That is, it was confirmed that the film can be formed with higher position accuracy as the inclination of the holder increases.
本発明の一実施形態に係る、成膜装置、保持具、および、これらを用いた電子部品の製造方法は、電子部品として3端子型の積層コンデンサに効果的に適用することができる。ただし、これらを2端子型の積層コンデンサに適用しても効果的である。 The film forming apparatus, the holder, and the method for manufacturing an electronic component using these according to an embodiment of the present invention can be effectively applied to a 3-terminal multilayer capacitor as an electronic component. However, it is also effective to apply these to a two-terminal type multilayer capacitor.
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 It should be considered that the embodiments disclosed this time are exemplary in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is shown by the scope of claims rather than the above description, and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims.
1 金属原子、10,11,12 マザーシート、20 搬送方向、100 積層コンデンサ、110 積層体、110a マザーシート群、111 第1主面、112 第2主面、113 第1端面、114 第2端面、115 第1側面、116 第2側面、120 貫通電極、121,131 第1下地層、122,132 第2下地層、123,133 めっき層、130 グランド電極、140 誘電体層、140a セラミック基材、150 導電体層、151 第1導電体層、151a,152a 導電パターン、152 第2導電体層、200 成膜装置、210 第1減圧室、211,221,231 真空ポンプ、220 成膜室、222,223,224 ターゲット、230 第2減圧室、240,241,242,243 シャッタ、250 搬送部、251,261 開口部、252,262 座繰り部、260 トレー、270 保持具、270a 第1保持具、270b 第2保持具、271 マスキング部材、271c,271d 突出部、271h 開口、272 枠部材、272a,272ha 第1辺、272b,272hb 第2辺、272c 対角線、272d 仮想直線、273 収容部、274 マスク部、274t 平坦部、280 ローラ。 1 Metal atom, 10, 11, 12 Mother sheet, 20 Conducting direction, 100 Multilayer capacitor, 110 Laminate, 110a Mother sheet group, 111 1st main surface, 112 2nd main surface, 113 1st end surface, 114 2nd end surface , 115 1st side surface, 116 2nd side surface, 120 through electrode, 121, 131 1st base layer, 122, 132 2nd base layer, 123, 133 plating layer, 130 ground electrode, 140 dielectric layer, 140a ceramic base material , 150 Conductor layer, 151 1st conductor layer, 151a, 152a Conductive pattern, 152 2nd conductor layer, 200 film forming apparatus, 210 1st decompression chamber, 211,221,231 vacuum pump, 220 film forming chamber, 222,223,224 Target, 230 Second Decompression Chamber, 240,241,242,243 Shutter, 250 Conductor, 251,261 Opening, 252,262 Counterbore, 260 Tray, 270 Holder, 270a First Hold Tool, 270b 2nd holder, 271 masking member, 271c, 271d projecting part, 271h opening, 272 frame member, 272a, 272ha 1st side, 272b, 272hb 2nd side, 272c diagonal line, 272d virtual straight line, 273 housing part, 274 mask part, 274t flat part, 280 rollers.
Claims (5)
前記成膜室の内部に位置する成膜源と、
前記成膜室内において被成膜物が前記成膜源の上方を前記成膜源と対向しつつ通過するように被成膜物を搬送する搬送部と、
水平方向に対して角度αだけ傾いて位置するように前記搬送部に取り付けられ、被成膜物を収容して保持する複数の収容部を有する保持具とを備え、
前記複数の収容部の各々は、略矩形状の内周壁を有し、
被成膜物は、前記保持具の傾きにより、前記複数の収容部の各々の内部において前記内周壁の1つの角部に偏って位置して前記内周壁と接しており、
前記内周壁は、互いに対向する1対の第1辺および互いに対向する1対の第2辺を含み、
前記保持具は、
前記内周壁を構成する枠部材と、
前記枠部材と隣接したマスキング部材とを含み、
前記枠部材は、平面視にて矩形状の外形を有しており、
前記枠部材の外形は、互いに平行な1対の第1辺と、互いに平行な1対の第2辺とから構成されており、
前記枠部材の第1辺は、前記搬送部の搬送方向に沿って延在しており、
前記内周壁の第2辺が前記枠部材の第2辺に対して角度θをなすように前記複数の収容部が設けられており、
前記角度θは、前記角度αより大きい、成膜装置。 The film formation room and
The film formation source located inside the film formation chamber and
A transport unit that conveys the film-deposited object so that the film-deposited object passes above the film-forming source while facing the film-forming source in the film-forming chamber.
It is provided with a holder which is attached to the transport portion so as to be positioned at an angle α with respect to the horizontal direction and has a plurality of accommodating portions for accommodating and holding the film to be filmed.
Each of the plurality of accommodating portions has a substantially rectangular inner peripheral wall.
Deposition was, by the slope of the holder, in contact with the inner peripheral wall positioned biased to one corner of the inner wall at the inner portion of each of the plurality of accommodating portions,
The inner peripheral wall includes a pair of first sides facing each other and a pair of second sides facing each other.
The holder is
The frame member constituting the inner peripheral wall and
Including the frame member and an adjacent masking member
The frame member has a rectangular outer shape in a plan view, and has a rectangular outer shape.
The outer shape of the frame member is composed of a pair of first sides parallel to each other and a pair of second sides parallel to each other.
The first side of the frame member extends along the transport direction of the transport portion.
The plurality of accommodating portions are provided so that the second side of the inner peripheral wall forms an angle θ with respect to the second side of the frame member.
A film forming apparatus in which the angle θ is larger than the angle α .
前記成膜室に隣接して設けられた第2減圧室とをさらに備え、
前記搬送部は、前記第1減圧室、前記成膜室および前記第2減圧室をこの順に通過する、請求項1に記載の成膜装置。 A first decompression chamber provided adjacent to the film forming chamber and
A second decompression chamber provided adjacent to the film forming chamber is further provided.
The film forming apparatus according to claim 1, wherein the transport section passes through the first decompression chamber, the film forming chamber, and the second decompression chamber in this order.
前記複数のターゲットは、前記搬送部の搬送方向に並んで配置されている、請求項1または請求項2に記載の成膜装置。 The film formation source consists of a plurality of targets.
The film forming apparatus according to claim 1 or 2, wherein the plurality of targets are arranged side by side in the transport direction of the transport unit.
枠部材と、
前記枠部材と隣接したマスキング部材とを備え、
前記複数の収容部の各々は、略矩形状の内周壁を有し、
前記枠部材は、前記内周壁を構成しており、
前記内周壁は、互いに対向する1対の第1辺および互いに対向する1対の第2辺を含み、
前記保持具は、水平方向に対して角度αだけ傾いて位置した状態で搬送され、
被成膜物は、前記保持具の傾きにより、前記収容部内において前記内周壁の1つの角部に偏って位置して前記内周壁と接しており、
前記枠部材は、平面視にて矩形状の外形を有しており、
前記枠部材の外形は、互いに平行な1対の第1辺と、互いに平行な1対の第2辺とから構成されており、
前記枠部材の第1辺は、前記保持具の搬送方向に沿って延在しており、
前記内周壁の第2辺が前記枠部材の第2辺に対して角度θをなすように前記複数の収容部が設けられており、
前記角度θは、前記角度αより大きい、保持具。 A holder having a plurality of accommodating portions for accommodating and holding an object to be film-formed.
Frame member and
A masking member adjacent to the frame member is provided.
Each of the plurality of accommodating portions has a substantially rectangular inner peripheral wall.
The frame member constitutes the inner peripheral wall .
The inner peripheral wall includes a pair of first sides facing each other and a pair of second sides facing each other.
The holder is conveyed in a state of being tilted by an angle α with respect to the horizontal direction.
Due to the inclination of the holder, the film-deposited film is positioned unevenly at one corner of the inner peripheral wall in the accommodating portion and is in contact with the inner peripheral wall.
The frame member has a rectangular outer shape in a plan view, and has a rectangular outer shape.
The outer shape of the frame member is composed of a pair of first sides parallel to each other and a pair of second sides parallel to each other.
The first side of the frame member extends along the transport direction of the holder.
The plurality of accommodating portions are provided so that the second side of the inner peripheral wall forms an angle θ with respect to the second side of the frame member.
A holder in which the angle θ is larger than the angle α .
2つの前記保持具のうちの第1保持具の前記収容部に被成膜物を収容する工程と、
2つの前記保持具のうちの第2保持具の前記収容部が前記第1保持具の対応する前記収容部と連通するように、前記第1保持具の前記枠部材上に前記第2保持具の前記枠部材を重ね合わせる工程と、
前記第1保持具および前記第2保持具を前記搬送部に取り付ける工程と、
前記搬送部を稼働させて、前記電子部品の下側を成膜する工程と、
前記第1保持具と前記第2保持具とを上下反転させた状態で前記搬送部に取り付ける工程と、
前記搬送部を稼働させて、上下反転した状態の前記電子部品の下側に成膜する工程とを備える、電子部品の製造方法。 A method of manufacturing an electronic component to be a film to be formed by using the two holders in the film forming apparatus according to claim 1 .
A step of accommodating the film to be formed in the accommodating portion of the first retainer of the two retainers, and
The second holder is placed on the frame member of the first holder so that the storage portion of the second holder of the two holders communicates with the corresponding storage portion of the first holder. And the process of superimposing the frame members
A step of attaching the first holder and the second holder to the transport portion, and
The process of operating the transport unit to form a film on the lower side of the electronic component,
A step of attaching the first holder and the second holder to the transport unit in a state of being turned upside down,
A method for manufacturing an electronic component, comprising a step of operating the transport unit to form a film on the lower side of the electronic component in an upside down state.
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