JP6798182B2 - Film forming equipment, cages, and methods for manufacturing electronic components using these - Google Patents

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Description

本発明は、成膜装置、保持具、および、これらを用いた電子部品の製造方法に関する。 The present invention relates to a film forming apparatus, a holder, and a method for manufacturing an electronic component using these.

電子部品の製造方法を開示した先行文献として、特開平10−12486号公報(特許文献1)がある。特許文献1に記載された電子部品の製造方法においては、ホルダを傾け、部品本体の外周面と収納キャビティの内周面とが一部において接触するように部品本体を収納キャビティの一方側に片寄せし、このホルダを傾けた状態にしてスパッタリングすることにより、部品本体の両主面上の所定の位置に電極を形成している。 As a prior document that discloses a method for manufacturing an electronic component, there is Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-12486 (Patent Document 1). In the method for manufacturing an electronic component described in Patent Document 1, the holder is tilted and the component body is placed on one side of the storage cavity so that the outer peripheral surface of the component body and the inner peripheral surface of the storage cavity are partially in contact with each other. Electrodes are formed at predetermined positions on both main surfaces of the component body by bringing them together and sputtering with the holder tilted.

特開平10−12486号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-12486

特許文献1に記載の電子部品の製造方法においては、ホルダを傾けた状態にした後、スパッタリングによる電極形成工程に付しているため、ホルダを搬送する搬送機構は間欠運転している。そのため、成膜効率の観点から改善の余地がある。 In the method for manufacturing an electronic component described in Patent Document 1, since the holder is tilted and then subjected to an electrode forming step by sputtering, the transport mechanism for transporting the holder is intermittently operated. Therefore, there is room for improvement from the viewpoint of film formation efficiency.

本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであって、効率よく高精度に成膜できる、成膜装置、保持具、および、これらを用いた電子部品の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a film forming apparatus, a holder, and a method for manufacturing an electronic component using these, which can efficiently form a film with high accuracy. And.

本発明の第1の局面に基づく成膜装置は、成膜室と、成膜室の内部に位置する成膜源と、成膜室内において被成膜物が成膜源の上方を成膜源と対向しつつ通過するように被成膜物を搬送する搬送部と、水平方向に対して傾いて位置するように搬送部に取り付けられ、被成膜物を収容して保持する収容部を有する保持具とを備える。収容部は、略矩形状の内周壁を有している。被成膜物は、保持具の傾きにより、収容部内において内周壁の1つの角部に偏って位置して内周壁と接している。 In the film forming apparatus based on the first aspect of the present invention, the film forming chamber, the film forming source located inside the film forming chamber, and the film forming source in the film forming chamber above the film forming source. It has a transport unit that transports the film to be filmed so as to pass while facing the film, and a housing section that is attached to the transport section so as to be positioned at an angle with respect to the horizontal direction to accommodate and hold the film to be filmed. Equipped with a holder. The accommodating portion has a substantially rectangular inner peripheral wall. Due to the inclination of the holder, the film-deposited film is positioned unevenly at one corner of the inner peripheral wall in the accommodating portion and is in contact with the inner peripheral wall.

本発明の一形態においては、保持具は、内周壁を構成する枠部材と、枠部材と隣接したマスキング部材とを含む。 In one embodiment of the present invention, the holder includes a frame member constituting the inner peripheral wall and a masking member adjacent to the frame member.

本発明の一形態においては、成膜装置は、成膜室に隣接して設けられた第1減圧室と、成膜室に隣接して設けられた第2減圧室とをさらに備える。搬送部は、第1減圧室、成膜室および第2減圧室をこの順に通過する。 In one embodiment of the present invention, the film forming apparatus further includes a first decompression chamber provided adjacent to the film forming chamber and a second decompression chamber provided adjacent to the film forming chamber. The transport unit passes through the first decompression chamber, the film forming chamber, and the second decompression chamber in this order.

本発明の一形態においては、成膜源は、複数のターゲットからなる。複数のターゲットは、搬送部の搬送方向に並んで配置されている。 In one embodiment of the present invention, the film formation source comprises a plurality of targets. A plurality of targets are arranged side by side in the transport direction of the transport unit.

本発明の第2の局面に基づく保持具は、被成膜物を収容して保持する収容部を有する保持具である。保持具は、枠部材と、枠部材と隣接したマスキング部材とを備える。収容部は、略矩形状の内周壁を有している。枠部材は、内周壁を構成している。 The retainer based on the second aspect of the present invention is a retainer having an accommodating portion for accommodating and holding an object to be filmed. The holder includes a frame member and a masking member adjacent to the frame member. The accommodating portion has a substantially rectangular inner peripheral wall. The frame member constitutes the inner peripheral wall.

本発明の一形態においては、保持具は、水平方向に対して傾いて位置している。被成膜物は、保持具の傾きにより、収容部内において内周壁の1つの角部に偏って位置して前記内周壁と接している。 In one embodiment of the invention, the holder is tilted with respect to the horizontal direction. Due to the inclination of the holder, the film-deposited film is positioned unevenly at one corner of the inner peripheral wall in the accommodating portion and is in contact with the inner peripheral wall.

本発明の第3の局面に基づく電子部品の製造方法は、上記のいずれかの成膜装置において2つの保持具を用いて被成膜物である電子部品を製造する方法である。電子部品を製造する方法は、2つの保持具のうちの第1保持具の収容部に被成膜物を収容する工程と、2つの保持具のうちの第2保持具の収容部が第1保持具の対応する収容部と連通するように、第1保持具の枠部材上に第2保持具の枠部材を重ね合わせる工程と、第1保持具および第2保持具を搬送部に取り付ける工程と、搬送部を稼働させて、電子部品の下側を成膜する工程と、第1保持具と第2保持具とを上下反転させた状態で搬送部に取り付ける工程と、搬送部を稼働させて、上下反転した状態の電子部品の下側に成膜する工程とを備える。 The method for manufacturing an electronic component based on the third aspect of the present invention is a method for manufacturing an electronic component to be a film to be formed by using two holders in any of the above-mentioned film forming apparatus. The method of manufacturing the electronic component is a step of accommodating the film to be formed in the accommodating portion of the first retainer of the two retainers, and the accommodating portion of the second retainer of the two retainers is the first. A step of superimposing the frame member of the second holder on the frame member of the first holder and a step of attaching the first holder and the second holder to the transport portion so as to communicate with the corresponding accommodating portion of the holder. And, the process of operating the transport unit to form a film on the lower side of the electronic component, the process of attaching the first holder and the second holder to the transport unit in an inverted state, and the process of operating the transport unit. The process includes a step of forming a film on the lower side of the electronic component in an inverted state.

本発明によれば、効率よく高精度に成膜できる。 According to the present invention, a film can be formed efficiently and with high accuracy.

被成膜物の一例である3端子型の積層コンデンサの外観を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the appearance of the 3-terminal type multilayer capacitor which is an example of a film-deposited object. 図1の積層コンデンサをII−II線矢印方向から見た断面図である。It is sectional drawing which saw the laminated capacitor of FIG. 1 from the direction of the arrow of line II-II. 図1の積層コンデンサをIII−III線矢印方向から見た断面図である。It is sectional drawing which saw the multilayer capacitor of FIG. 1 from the direction of the arrow of line III-III. 被成膜物の一例である3端子型の積層コンデンサの製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the 3 terminal type multilayer capacitor which is an example of a film-deposited object. マザーシート群を構成するマザーシートを示す分解斜視図である。It is an exploded perspective view which shows the mother sheet which constitutes the mother sheet group. 本発明の一実施形態に係る成膜装置の構成を示す側面図である。It is a side view which shows the structure of the film forming apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 図6の成膜装置を矢印VII方向から見た図である。FIG. 6 is a view of the film forming apparatus of FIG. 6 viewed from the direction of arrow VII. 図6の成膜装置を矢印VIII方向から見た図である。FIG. 6 is a view of the film forming apparatus of FIG. 6 viewed from the direction of arrow VIII. 本発明の一実施形態に係る成膜装置の搬送部の一部の形状を示す平面図である。It is a top view which shows the shape of a part of the transport part of the film forming apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る成膜装置のトレーの形状を示す平面図である。It is a top view which shows the shape of the tray of the film forming apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る成膜装置の保持具の形状を示す平面図である。It is a top view which shows the shape of the holder of the film forming apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 図11中のXII部を拡大して示す斜視図である。It is a perspective view which shows the XII part in FIG. 11 enlarged. 図12の保持具の一部をXIII−XIII線矢印方向から見た断面図である。It is sectional drawing which saw a part of the holder of FIG. 12 from the direction of the arrow of line XIII-XIII. 図13の保持具の一部を矢印XIV方向から見た底面図である。It is a bottom view which saw a part of the holder of FIG. 13 from the direction of arrow XIV. 本発明の一実施形態に係る保持具の収容部内に被成膜物が収容された状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state in which the film-deposited object is housed in the house part of the holder which concerns on one Embodiment of this invention. 図15に示す保持具の収容部内に被成膜物が収容された状態をXVI−XVI線矢印方向から見た断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view of a state in which the film to be formed is contained in the accommodating portion of the holder shown in FIG. 15 as viewed from the direction of the arrow along the XVI-XVI line. 本発明の一実施形態に係る電子部品の製造方法において、第1保持具と第2保持具とを上下反転させた状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which the 1st holder and the 2nd holder are turned upside down in the manufacturing method of the electronic component which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態の変形例に係る保持具の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the holder which concerns on the modification of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態の変形例に係る第1保持具と第2保持具とを上下反転させた状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which the 1st holder and the 2nd holder which concerns on the modification of one Embodiment of this invention are turned upside down.

以下、本発明の一実施形態に係る、成膜装置、保持具、および、これらを用いた電子部品の製造方法について図を参照して説明する。以下の実施形態の説明においては、図中の同一または相当部分には同一符号を付して、その説明は繰り返さない。 Hereinafter, a film forming apparatus, a holder, and a method for manufacturing an electronic component using these according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of the embodiment, the same or corresponding parts in the drawings are designated by the same reference numerals, and the description will not be repeated.

まず、本発明の一実施形態に係る、成膜装置、保持具、および、これらを用いた電子部品の製造方法の各々が適用される被成膜物の一例である3端子型の積層コンデンサについて説明する。ただし、被成膜物は、3端子型の積層コンデンサに限られず、2端子型の積層コンデンサでもよく、スパッタリングなどの乾式めっき法により成膜される物であればよい。 First, a 3-terminal multilayer capacitor which is an example of a film-deposited object to which each of a film-forming apparatus, a holder, and a method for manufacturing an electronic component using these according to an embodiment of the present invention is applied. explain. However, the film to be filmed is not limited to the 3-terminal type laminated capacitor, and may be a 2-terminal type laminated capacitor as long as it is formed by a dry plating method such as sputtering.

図1は、被成膜物の一例である3端子型の積層コンデンサの外観を示す斜視図である。図2は、図1の積層コンデンサをII−II線矢印方向から見た断面図である。図3は、図1の積層コンデンサをIII−III線矢印方向から見た断面図である。図1〜3においては、後述する積層体の長さ方向をL、積層体の幅方向をW、積層体の高さ方向をHで示している。 FIG. 1 is a perspective view showing the appearance of a 3-terminal multilayer capacitor which is an example of a film to be filmed. FIG. 2 is a cross-sectional view of the multilayer capacitor of FIG. 1 as viewed from the direction of the arrow along line II-II. FIG. 3 is a cross-sectional view of the multilayer capacitor of FIG. 1 as viewed from the direction of the arrow along line III-III. In FIGS. 1 to 3, the length direction of the laminated body described later is shown by L, the width direction of the laminated body is shown by W, and the height direction of the laminated body is shown by H.

図1〜3に示すように、被成膜物の一例である3端子型の積層コンデンサ100は、積層体110と、積層体110の表面の一部に設けられた3つの外部電極とを備える。積層体110は、積層された複数の誘電体層140および複数の導電体層150を含む。誘電体層140と導電体層150とは、交互に積層されている。積層体110は、直方体形状である。誘電体層140と導電体層150との積層方向は、積層体110の長さ方向Lおよび積層体110の幅方向Wに対して直交している。すなわち、誘電体層140と導電体層150との積層方向は、積層体110の高さ方向Hと平行である。 As shown in FIGS. 1 to 3, the 3-terminal type multilayer capacitor 100, which is an example of the film to be filmed, includes a laminate 110 and three external electrodes provided on a part of the surface of the laminate 110. .. The laminated body 110 includes a plurality of laminated dielectric layers 140 and a plurality of conductor layers 150. The dielectric layer 140 and the conductor layer 150 are alternately laminated. The laminated body 110 has a rectangular parallelepiped shape. The stacking direction of the dielectric layer 140 and the conductor layer 150 is orthogonal to the length direction L of the laminate 110 and the width direction W of the laminate 110. That is, the stacking direction of the dielectric layer 140 and the conductor layer 150 is parallel to the height direction H of the laminated body 110.

積層体110は、積層体110の積層方向において相対する第1主面111および第2主面112、第1主面111と第2主面112とを結び直方体形状の長さ方向Lにおいて相対する2つの端面、および、第1主面111と第2主面112とを結び直方体形状の幅方向Wにおいて相対する2つの側面を有する。2つの端面のうち、一方は第1端面113であり、他方は第2端面114である。2つの側面のうち、一方は第1側面115であり、他方は第2側面116である。 The laminated body 110 connects the first main surface 111 and the second main surface 112, and the first main surface 111 and the second main surface 112 facing each other in the laminating direction of the laminated body 110, and faces each other in the length direction L of the rectangular parallelepiped shape. It has two end faces and two side surfaces facing each other in the width direction W of the rectangular parallelepiped shape connecting the first main surface 111 and the second main surface 112. Of the two end faces, one is the first end face 113 and the other is the second end face 114. Of the two sides, one is the first side 115 and the other is the second side 116.

第1側面115と第2側面116との最短距離は、第1端面113と第2端面114との最短距離未満である。積層体110は、直方体形状であるが、角部および稜線部の少なくとも一方に丸みを有していてもよい。また、積層体110の表面に凹凸が形成されていてもよい。 The shortest distance between the first side surface 115 and the second side surface 116 is less than the shortest distance between the first end surface 113 and the second end surface 114. Although the laminated body 110 has a rectangular parallelepiped shape, it may have a rounded shape at at least one of a corner portion and a ridgeline portion. Further, the surface of the laminated body 110 may have irregularities.

3つの外部電極は、積層体110の長さ方向Lの両側に設けられている1対の貫通電極120と、積層体110の長さ方向Lの中央部に環状に設けられたグランド電極130とからなる。 The three external electrodes include a pair of through electrodes 120 provided on both sides of the laminated body 110 in the length direction L, and a ground electrode 130 provided in an annular shape at the center of the laminated body 110 in the length direction L. Consists of.

具体的には、1対の貫通電極120の一方は、積層体110の第1端面113側に設けられ、1対の貫通電極120の他方は、第2端面114側に設けられている。 Specifically, one of the pair of through electrodes 120 is provided on the first end surface 113 side of the laminated body 110, and the other of the pair of through electrodes 120 is provided on the second end surface 114 side.

1対の貫通電極120の一方は、第1端面113から、第1主面111、第2主面112、第1側面115および第2側面116の各々の一部に亘って設けられている。1対の貫通電極120の一方は、第1端面113、第1側面115および第2側面116の各々に設けられた第1下地層121と、第1主面111および第2主面112の各々に設けられた第2下地層122と、第1下地層121および第2下地層122を覆うめっき層123とを含む。 One of the pair of through electrodes 120 is provided from the first end surface 113 to a part of each of the first main surface 111, the second main surface 112, the first side surface 115, and the second side surface 116. One of the pair of through electrodes 120 is a first base layer 121 provided on each of the first end surface 113, the first side surface 115, and the second side surface 116, and each of the first main surface 111 and the second main surface 112. The second base layer 122 provided in the above, and the plating layer 123 covering the first base layer 121 and the second base layer 122 are included.

1対の貫通電極120の他方は、第2端面114から、第1主面111、第2主面112、第1側面115および第2側面116の各々の一部に亘って設けられている。1対の貫通電極120の他方は、第2端面114、第1側面115および第2側面116の各々に設けられた第1下地層121と、第1主面111および第2主面112の各々に設けられた第2下地層122と、第1下地層121および第2下地層122を覆うめっき層123とを含む。 The other side of the pair of through electrodes 120 is provided from the second end surface 114 to a part of each of the first main surface 111, the second main surface 112, the first side surface 115, and the second side surface 116. The other side of the pair of through electrodes 120 is a first base layer 121 provided on each of the second end surface 114, the first side surface 115, and the second side surface 116, and each of the first main surface 111 and the second main surface 112. The second base layer 122 provided in the above, and the plating layer 123 covering the first base layer 121 and the second base layer 122 are included.

グランド電極130は、第1主面111、第2主面112、第1側面115および第2側面116の各々に亘って環状に設けられている。グランド電極130は、第1側面115および第2側面116の各々に設けられた第1下地層131と、第1主面111および第2主面112の各々に設けられた第2下地層132と、第1下地層131および第2下地層132を覆うめっき層133とを含む。 The ground electrode 130 is provided in an annular shape over each of the first main surface 111, the second main surface 112, the first side surface 115, and the second side surface 116. The ground electrode 130 includes a first base layer 131 provided on each of the first side surface 115 and the second side surface 116, and a second base layer 132 provided on each of the first main surface 111 and the second main surface 112. , A plating layer 133 covering the first base layer 131 and the second base layer 132.

ただし、3つの外部電極の配置は上記に限られず、複数の導電体層150の各々と電気的に接続可能、かつ、積層コンデンサ100が実装可能となるように、積層体110の表面の一部に設けられていればよい。 However, the arrangement of the three external electrodes is not limited to the above, and is a part of the surface of the laminated body 110 so that it can be electrically connected to each of the plurality of conductor layers 150 and the laminated capacitor 100 can be mounted. It may be provided in.

複数の導電体層150は、積層体110の長さ方向Lに延在して1対の貫通電極120の各々と接続された第1導電体層151と、第1側面115および第2側面116の各々においてグランド電極130と接続された第2導電体層152とから構成されている。第1導電体層151は、グランド電極130には接続されていない。第2導電体層152は、1対の貫通電極120には接続されていない。第1導電体層151と第2導電体層152とは、積層体110の積層方向において交互に位置している。 The plurality of conductor layers 150 include a first conductor layer 151 extending in the length direction L of the laminated body 110 and connected to each of the pair of through electrodes 120, and the first side surface 115 and the second side surface 116. Each of the above is composed of a second conductor layer 152 connected to the ground electrode 130. The first conductor layer 151 is not connected to the ground electrode 130. The second conductor layer 152 is not connected to the pair of through electrodes 120. The first conductor layer 151 and the second conductor layer 152 are alternately located in the stacking direction of the laminated body 110.

上記のように、1対の貫通電極120は、積層コンデンサ100の内部において導通しており、これらの間にコンデンサ要素は介在していない。一方、1対の貫通電極120とグランド電極130との間においては、コンデンサ要素が介在しており、互いに並列接続されている。このように、積層コンデンサ100は、貫通型の積層コンデンサである。 As described above, the pair of through electrodes 120 are conducting inside the multilayer capacitor 100, and no capacitor element is interposed between them. On the other hand, a capacitor element is interposed between the pair of through electrodes 120 and the ground electrode 130, and they are connected in parallel to each other. As described above, the multilayer capacitor 100 is a through-type multilayer capacitor.

以下、3端子型の積層コンデンサ100の製造方法について説明する。
図4は、被成膜物の一例である3端子型の積層コンデンサの製造方法を示すフローチャートである。なお、以下に示す積層コンデンサの製造方法は、製造過程の途中段階まで一括して加工処理を行なうことでマザー積層体を製作し、その後にマザー積層体を分断して個片化し、個片化後の軟質積層体にさらに加工処理を施すことによって複数の積層コンデンサ100を同時に大量に生産する方法である。
Hereinafter, a method for manufacturing the 3-terminal multilayer capacitor 100 will be described.
FIG. 4 is a flowchart showing a method of manufacturing a 3-terminal multilayer capacitor, which is an example of a film to be filmed. In the method of manufacturing a multilayer capacitor shown below, a mother laminate is manufactured by collectively processing until the middle stage of the manufacturing process, and then the mother laminate is divided into individual pieces and individualized. This is a method of simultaneously mass-producing a plurality of multilayer capacitors 100 by further processing the soft laminate afterwards.

図4に示すように、積層コンデンサ100を製造する際には、まず、セラミックスラリーが調製される(工程S11)。具体的には、セラミックス粉末、バインダおよび溶剤などが所定の配合比率で混合され、これによりセラミックスラリーが形成される。 As shown in FIG. 4, when manufacturing the multilayer capacitor 100, first, a ceramic slurry is prepared (step S11). Specifically, ceramic powder, a binder, a solvent, and the like are mixed in a predetermined blending ratio, whereby a ceramic slurry is formed.

次に、セラミックグリーンシートが形成される(工程S12)。具体的には、セラミックスラリーがキャリアフィルム上においてダイコータ、グラビアコータ、または、マイクログラビアコータなどを用いてシート状に成形されることにより、セラミックグリーンシートが形成される。 Next, a ceramic green sheet is formed (step S12). Specifically, the ceramic green sheet is formed by forming the ceramic slurry into a sheet on the carrier film using a die coater, a gravure coater, a microgravure coater, or the like.

次に、マザーシートが形成される(工程S13)。具体的には、セラミックグリーンシートに導電性ペーストが所定のパターンを有するようにスクリーン印刷法またはグラビア印刷法などを用いて印刷されることにより、セラミックグリーンシート上に所定の導電パターンが設けられたマザーシートが形成される。導電性ペーストは、Ni成分を含んでいる。 Next, a mother sheet is formed (step S13). Specifically, a predetermined conductive pattern is provided on the ceramic green sheet by printing the conductive paste on the ceramic green sheet by using a screen printing method, a gravure printing method, or the like so as to have a predetermined pattern. A mother sheet is formed. The conductive paste contains a Ni component.

ここで、形成されるマザーシートについて説明する。図5は、マザーシート群を構成するマザーシートを示す分解斜視図である。図5に示すように、マザーシート群110aは、互いに構成の異なる複数のマザーシート10,11,12が積層されて構成されている。 Here, the formed mother sheet will be described. FIG. 5 is an exploded perspective view showing the mother sheets constituting the mother sheet group. As shown in FIG. 5, the mother sheet group 110a is composed of a plurality of mother sheets 10, 11 and 12 having different configurations from each other.

マザーシート10は、その表面に導電パターンが形成されていないセラミック基材140aのみから構成されている。このように、マザーシートとしては、上記工程S13を経ることなく作製されたセラミックグリーンシートも準備される。マザーシート11,12は、セラミック基材140aの表面に所定の形状の導電パターン151a,152aが形成されたものである。 The mother sheet 10 is composed of only the ceramic base material 140a on which no conductive pattern is formed on the surface thereof. As described above, as the mother sheet, a ceramic green sheet produced without going through the step S13 is also prepared. The mother sheets 11 and 12 have conductive patterns 151a and 152a having a predetermined shape formed on the surface of the ceramic base material 140a.

図5に示すように、マザーシートが積層される(工程S14)。具体的には、導電パターンが形成されていないマザーシート10が所定枚数積層され、その上に、導電パターン151aが形成された複数のマザーシート11と導電パターン152aが形成された複数のマザーシート12とが1枚ずつ交互に積層され、その上に、導電パターンが形成されていないマザーシート10が所定枚数積層されることにより、マザーシート群110aが構成される。 As shown in FIG. 5, the mother sheets are laminated (step S14). Specifically, a predetermined number of mother sheets 10 on which no conductive pattern is formed are laminated, and a plurality of mother sheets 11 on which the conductive pattern 151a is formed and a plurality of mother sheets 12 on which the conductive pattern 152a is formed are formed. The mother sheet group 110a is formed by alternately laminating one sheet at a time and stacking a predetermined number of mother sheets 10 on which the conductive pattern is not formed.

次に、マザーシート群が圧着される(工程S15)。静水圧プレスまたは剛体プレスによってマザーシート群110aが積層方向に沿って加圧されて圧着されることにより、マザー積層体が形成される。 Next, the mother sheet group is crimped (step S15). A mother laminated body is formed by pressurizing and crimping the mother sheet group 110a along the laminating direction by a hydrostatic pressure press or a rigid body press.

次に、マザー積層体が分断される(工程S16)。具体的には、押し切りまたはダイシングによってマザー積層体がマトリックス状に分断され、複数の軟質積層体に個片化される。 Next, the mother laminate is divided (step S16). Specifically, the mother laminate is divided into a matrix by push-cutting or dicing, and is individualized into a plurality of soft laminates.

次に、軟質積層体がバレル研磨される(工程S17)。具体的には、軟質積層体が、セラミック材料よりも硬度の高いメディアボールとともにバレルと呼ばれる小箱内に封入され、当該バレルを回転させることにより、軟質積層体の外表面の角部および稜線部に曲面状の丸みがもたされる。 Next, the soft laminate is barrel-polished (step S17). Specifically, the soft laminate is enclosed in a small box called a barrel together with a media ball having a hardness higher than that of the ceramic material, and by rotating the barrel, the corners and ridges of the outer surface of the soft laminate are formed. Has a curved roundness.

次に、軟質積層体の表面に第1下地層となる導電性ペーストが付与される(工程S18)。具体的には、1対の貫通電極120の各々の第1下地層121となる導電性ペーストが、各種印刷法またはディップ法などにより軟質積層体の両端部に付与される。さらに、グランド電極130の第1下地層131となる導電性ペーストが、各種印刷法により軟質積層体の両側面に付与される。この導電性ペーストは、有機溶剤と金属粒子とセラミックとを含む。金属粒子は、Ni成分を含んでいる。 Next, a conductive paste to be the first base layer is applied to the surface of the soft laminate (step S18). Specifically, a conductive paste to be the first base layer 121 of each of the pair of through electrodes 120 is applied to both ends of the soft laminate by various printing methods or dipping methods. Further, the conductive paste serving as the first base layer 131 of the ground electrode 130 is applied to both side surfaces of the soft laminate by various printing methods. This conductive paste contains an organic solvent, metal particles and ceramic. The metal particles contain a Ni component.

次に、導電性ペーストが表面に付与された軟質積層体が焼成される(工程S19)。具体的には、導電性ペーストが表面に付与された軟質積層体が所定の温度に加熱され、これによりセラミック誘電体材料および導電体材料が焼成される。焼成温度は、セラミック誘電体材料および導電体材料の種類に応じて適宜設定され、たとえば、900℃以上1300℃以下の範囲内で設定される。導電体層150となる導電体材料と、第1下地層121および第1下地層131となる導電性ペーストとが、同時に焼成されることにより、第1下地層121および第1下地層131の各々と導電体層150との接続部において、第1下地層121および第1下地層131のNi成分と導電体層150のNi成分とが一体化する。 Next, the soft laminate to which the conductive paste is applied to the surface is fired (step S19). Specifically, the soft laminate with the conductive paste applied to the surface is heated to a predetermined temperature, whereby the ceramic dielectric material and the conductive material are fired. The firing temperature is appropriately set according to the types of the ceramic dielectric material and the conductor material, and is set, for example, in the range of 900 ° C. or higher and 1300 ° C. or lower. The conductor material to be the conductor layer 150 and the conductive paste to be the first base layer 121 and the first base layer 131 are fired at the same time, so that each of the first base layer 121 and the first base layer 131 is fired. At the connection portion between the conductor layer 150 and the conductor layer 150, the Ni component of the first base layer 121 and the first base layer 131 and the Ni component of the conductor layer 150 are integrated.

次に、第1下地層121および第1下地層131が設けられた積層体が、バレル研磨される(工程S20)。 Next, the laminate provided with the first base layer 121 and the first base layer 131 is barrel-polished (step S20).

次に、スパッタリングなどの乾式めっき法により積層体の第1主面111に第2下地層122および第2下地層132が設けられる(工程S21)。第2下地層122および第2下地層132の各々は、ニクロム(NiCr)、モネル(NiCu)、チタン(Ti)、銅(Cu)または銀(Ag)などの、純金属または合金からなる。 Next, the second base layer 122 and the second base layer 132 are provided on the first main surface 111 of the laminated body by a dry plating method such as sputtering (step S21). Each of the second base layer 122 and the second base layer 132 is made of a pure metal or alloy such as nichrome (NiCr), monel (NiCu), titanium (Ti), copper (Cu) or silver (Ag).

次に、スパッタリングなどの乾式めっき法により積層体の第2主面112に第2下地層122および第2下地層132が設けられる(工程S22)。 Next, the second base layer 122 and the second base layer 132 are provided on the second main surface 112 of the laminated body by a dry plating method such as sputtering (step S22).

次に、めっき処理により、第1下地層121および第2下地層122を覆うようにめっき層123が形成され、第1下地層131および第2下地層132を覆うようにめっき層133が形成される(工程S23)。めっき層123,133が形成されることにより、1対の貫通電極120およびグランド電極130が構成される。めっき層123,133には、Cu成分が含まれている。 Next, by the plating treatment, the plating layer 123 is formed so as to cover the first base layer 121 and the second base layer 122, and the plating layer 133 is formed so as to cover the first base layer 131 and the second base layer 132. (Step S23). By forming the plating layers 123 and 133, a pair of through electrodes 120 and a ground electrode 130 are formed. The plating layers 123 and 133 contain a Cu component.

上記の一連の工程を経ることにより、積層コンデンサ100が製造される。
以下、本発明の一実施形態に係る成膜装置の構成について図を参照して説明する。本実施形態に係る成膜装置200は、スパッタリング装置であるが、成膜装置200は、他の乾式めっきを行なう装置であってもよい。
The multilayer capacitor 100 is manufactured by going through the above series of steps.
Hereinafter, the configuration of the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The film forming apparatus 200 according to the present embodiment is a sputtering apparatus, but the film forming apparatus 200 may be another apparatus for performing dry plating.

図6は、本発明の一実施形態に係る成膜装置の構成を示す側面図である。図7は、図6の成膜装置を矢印VII方向から見た図である。図8は、図6の成膜装置を矢印VIII方向から見た図である。図9は、本発明の一実施形態に係る成膜装置の搬送部の一部の形状を示す平面図である。図10は、本発明の一実施形態に係る成膜装置のトレーの形状を示す平面図である。図11は、本発明の一実施形態に係る成膜装置の保持具の形状を示す平面図である。図12は、図11中のXII部を拡大して示す斜視図である。図13は、図12の保持具の一部をXIII−XIII線矢印方向から見た断面図である。図14は、図13の保持具の一部を矢印XIV方向から見た底面図である。図11においては、理解を容易にするために、保持具の枠部材のみを図示している。 FIG. 6 is a side view showing the configuration of the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 7 is a view of the film forming apparatus of FIG. 6 as viewed from the direction of arrow VII. FIG. 8 is a view of the film forming apparatus of FIG. 6 as viewed from the direction of arrow VIII. FIG. 9 is a plan view showing a part of the shape of the transport portion of the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 10 is a plan view showing the shape of the tray of the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 11 is a plan view showing the shape of the holder of the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 12 is an enlarged perspective view showing the XII portion in FIG. 11. FIG. 13 is a cross-sectional view of a part of the holder of FIG. 12 as viewed from the direction of the arrow along the line XIII-XIII. FIG. 14 is a bottom view of a part of the holder of FIG. 13 as viewed from the direction of arrow XIV. In FIG. 11, only the frame member of the holder is shown for ease of understanding.

図6〜14に示すように、本発明の一実施形態に係る成膜装置200は、成膜室220と、成膜室220に隣接して設けられた第1減圧室210と、成膜室220に隣接して設けられた第2減圧室230とを備える。なお、必ずしも、第1減圧室210および第2減圧室230は設けられていなくてもよい。第1減圧室210には、第1減圧室210内を減圧する真空ポンプ211が設けられている。成膜室220には、成膜室220内を減圧する真空ポンプ221が設けられている。第2減圧室230には、第2減圧室230内を減圧する真空ポンプ231が設けられている。成膜室220内は、第1減圧室210および第2減圧室230の各々の内部より気圧が低く、略真空状態になっている。 As shown in FIGS. 6 to 14, the film forming apparatus 200 according to the embodiment of the present invention includes a film forming chamber 220, a first decompression chamber 210 provided adjacent to the film forming chamber 220, and a film forming chamber. A second decompression chamber 230 provided adjacent to the 220 is provided. The first decompression chamber 210 and the second decompression chamber 230 do not necessarily have to be provided. The first decompression chamber 210 is provided with a vacuum pump 211 that depressurizes the inside of the first decompression chamber 210. The film forming chamber 220 is provided with a vacuum pump 221 that reduces the pressure inside the film forming chamber 220. The second decompression chamber 230 is provided with a vacuum pump 231 for depressurizing the inside of the second decompression chamber 230. The air pressure inside the film forming chamber 220 is lower than that inside each of the first decompression chamber 210 and the second decompression chamber 230, and the inside is in a substantially vacuum state.

成膜装置200は、第1減圧室210、成膜室220および第2減圧室230をこの順に通過する搬送部250をさらに備える。搬送部250の搬送方向20に沿って、搬送部250を支持する複数のローラ280が互いに間隔をあけて配置されている。本実施形態においては、搬送部250は、ベルトコンベアで構成されているが、搬送部250の構成は、ベルトコンベアに限られず、レール上を走行する台車などであってもよい。 The film forming apparatus 200 further includes a transport unit 250 that passes through the first decompression chamber 210, the film forming chamber 220, and the second decompression chamber 230 in this order. A plurality of rollers 280 that support the transport unit 250 are arranged at intervals from each other along the transport direction 20 of the transport unit 250. In the present embodiment, the transport unit 250 is composed of a belt conveyor, but the configuration of the transport unit 250 is not limited to the belt conveyor, and may be a trolley or the like traveling on rails.

図8に示すように、搬送部250は、水平方向に対して角度α傾いて位置するようにローラ280によって支持されている。角度αは、0°より大きく、たとえば5°である。図9に示すように、搬送部250には、平面視にて矩形状の開口部251、および、開口部251の外周に平面視にて矩形状の座繰り部252が設けられている。開口部251および座繰り部252が、ベルトコンベアの長手方向において等間隔に設けられている。 As shown in FIG. 8, the transport portion 250 is supported by the rollers 280 so as to be positioned at an angle α with respect to the horizontal direction. The angle α is greater than 0 °, for example 5 °. As shown in FIG. 9, the transport portion 250 is provided with a rectangular opening 251 in a plan view and a counterbore portion 252 having a rectangular shape in a plan view on the outer periphery of the opening 251. The openings 251 and counterbore 252 are provided at equal intervals in the longitudinal direction of the belt conveyor.

第1減圧室210の入口には、上下方向に開閉するシャッタ240が設けられている。第1減圧室210と成膜室220との境界には、上下方向に開閉するシャッタ241が設けられている。成膜室220と第2減圧室230との境界には、上下方向に開閉するシャッタ242が設けられている。第2減圧室230の出口には、上下方向に開閉するシャッタ243が設けられている。シャッタ240〜243の各々は、搬送部250による被搬送物の通過時のみ開いた状態となり、それ以外の時は閉じた状態になっている。 A shutter 240 that opens and closes in the vertical direction is provided at the entrance of the first decompression chamber 210. A shutter 241 that opens and closes in the vertical direction is provided at the boundary between the first decompression chamber 210 and the film forming chamber 220. A shutter 242 that opens and closes in the vertical direction is provided at the boundary between the film forming chamber 220 and the second decompression chamber 230. A shutter 243 that opens and closes in the vertical direction is provided at the outlet of the second decompression chamber 230. Each of the shutters 240 to 243 is in an open state only when the object to be transported is passed by the transport unit 250, and is in a closed state at other times.

成膜室220の内部には、成膜源が配置されている。本実施形態においては、成膜源として、3つのターゲット222,223,224が、搬送部250の搬送方向20に並んで1列に配置されている。ターゲット222,223,224は、成膜室220内において、搬送部250の直下に位置するように配置されている。搬送部250は、成膜室220内において被成膜物がターゲット222,223,224の上方をターゲット222,223,224と対向しつつ通過するように被成膜物を搬送する。なお、配置されるターゲットの数は、3つに限られず、1つ以上であればよい。 A film forming source is arranged inside the film forming chamber 220. In the present embodiment, three targets 222, 223, and 224 are arranged in a row in a line in the transport direction 20 of the transport unit 250 as the film forming source. The targets 222, 223, and 224 are arranged so as to be located directly below the transport portion 250 in the film forming chamber 220. The transport unit 250 transports the film to be formed so that the film to be formed passes above the target 222, 223, 224 in the film forming chamber 220 while facing the target 222, 223, 224. The number of targets to be arranged is not limited to three, and may be one or more.

ターゲット222,223,224の各々は、板状の外形を有している。ターゲット222,223,224の各々は、図8に示すように傾いた状態の搬送部250に取り付けられた保持具270と平行となるように傾いている。 Each of the targets 222, 223, and 224 has a plate-like outer shape. Each of the targets 222, 223, and 224 is tilted so as to be parallel to the holder 270 attached to the transport portion 250 in a tilted state as shown in FIG.

ターゲット222,223,224の各々の構成材料は、ニクロム(NiCr)、モネル(NiCu)、チタン(Ti)、銅(Cu)または銀(Ag)などの、純金属または合金である。 Each constituent material of the target 222, 223, 224 is a pure metal or alloy such as nichrome (NiCr), monel (NiCu), titanium (Ti), copper (Cu) or silver (Ag).

本実施形態においては、搬送部250の座繰り部252内に、図10に示すトレー260が配置される。トレー260は、平面視にて、搬送部250の座繰り部252より僅かに小さい矩形状の外形を有している。トレー260には、平面視にて矩形状の開口部261、および、開口部261の外周に平面視にて矩形状の座繰り部262が設けられている。本実施形態においては、開口部261および座繰り部262が、トレー260にマトリックス状に6つ設けられている。トレー260の6つの開口部261の各々は、搬送部250の開口部251上に位置している。 In the present embodiment, the tray 260 shown in FIG. 10 is arranged in the counterbore portion 252 of the transport portion 250. The tray 260 has a rectangular outer shape slightly smaller than the counterbore portion 252 of the transport portion 250 in a plan view. The tray 260 is provided with a rectangular opening 261 in a plan view and a counterbore portion 262 having a rectangular shape in a plan view on the outer periphery of the opening 261. In the present embodiment, six openings 261 and counterbore 262 are provided on the tray 260 in a matrix. Each of the six openings 261 of the tray 260 is located above the opening 251 of the transport section 250.

本実施形態に係る保持具270は、図7に示すように、トレー260の座繰り部262内に配置される。保持具270は、平面視にて、トレー260の座繰り部262より僅かに小さい矩形状の外形を有している。図11に示すように、保持具270の外形は、平面視にて、互いに平行な1対の第1辺272aと、互いに平行な第2辺272bとから構成されている。なお、必ずしもトレー260が設けられていなくてもよく、保持具270が搬送部250の座繰り部252内に直接配置されていてもよい。 As shown in FIG. 7, the holder 270 according to the present embodiment is arranged in the counterbore portion 262 of the tray 260. The holder 270 has a rectangular outer shape slightly smaller than the counterbore portion 262 of the tray 260 in a plan view. As shown in FIG. 11, the outer shape of the holder 270 is composed of a pair of first side 272a parallel to each other and a second side 272b parallel to each other in a plan view. The tray 260 may not necessarily be provided, and the holder 270 may be directly arranged in the counterbore portion 252 of the transport portion 250.

保持具270は、図11〜14に示すように、被成膜物を収容して保持する収容部273を有する。収容部273は、略矩形状の内周壁を有している。具体的には、保持具270は、内周壁を構成する枠部材272と、枠部材272と隣接したマスキング部材271とを含む。 As shown in FIGS. 11 to 14, the holder 270 has an accommodating portion 273 for accommodating and holding the film to be filmed. The accommodating portion 273 has a substantially rectangular inner peripheral wall. Specifically, the holder 270 includes a frame member 272 forming an inner peripheral wall and a masking member 271 adjacent to the frame member 272.

枠部材272は、平面視にて矩形状の板状の外形を有している。枠部材272の外形は、平面視にて、互いに平行な1対の第1辺272aと、互いに平行な第2辺272bとから構成されている。すなわち、平面視において、枠部材272の外形と保持具270の外形とは同一である。 The frame member 272 has a rectangular plate-like outer shape in a plan view. The outer shape of the frame member 272 is composed of a pair of first side 272a parallel to each other and a second side 272b parallel to each other in a plan view. That is, in a plan view, the outer shape of the frame member 272 and the outer shape of the holder 270 are the same.

収容部273の内周壁は、互いに対向する1対の第1辺272haおよび互いに対向する1対の第2辺272hbを含み略矩形である。内周壁の4つの角部には、ぬすみ加工が施されており、半円状の切欠が設けられている。 The inner peripheral wall of the accommodating portion 273 is substantially rectangular including a pair of first side 272ha facing each other and a pair of second side 272hb facing each other. The four corners of the inner peripheral wall are slimmed and provided with semicircular notches.

本実施形態においては、内周壁の第2辺272hbが、枠部材272の外形の第2辺272bに対して角度θをなすように、収容部273が設けられている。よって、複数の収容部273は、枠部材272の外形の第2辺272bに対して角度θをなす複数の仮想直線272d上にて、互いに間隔をあけて並んでいる。 In the present embodiment, the accommodating portion 273 is provided so that the second side 272hb of the inner peripheral wall forms an angle θ with respect to the second side 272b of the outer shape of the frame member 272. Therefore, the plurality of accommodating portions 273 are arranged at intervals from each other on a plurality of virtual straight lines 272d forming an angle θ with respect to the second side 272b of the outer shape of the frame member 272.

角度θは、0°より大きく、たとえば31°である。角度θは、角度αより大きいことが好ましい。具体的には、角度θは、20°以上40°以下であることが好ましい。この場合、後述するように、収容部273内に被成膜物を収容した際に、被成膜物の側面および端面と、第1辺272haおよび第2辺272hbとを、それぞれ接触させて、安定して被成膜物を保持することができる。 The angle θ is greater than 0 °, for example 31 °. The angle θ is preferably larger than the angle α. Specifically, the angle θ is preferably 20 ° or more and 40 ° or less. In this case, as will be described later, when the film-deposited object is accommodated in the accommodating portion 273, the side surface and the end surface of the film-deposited object are brought into contact with each other by contacting the first side 272ha and the second side 272hb, respectively. The film to be filmed can be stably held.

本実施形態においては、収容部273の内周壁の2本の対角線のうちのいずれか一方の対角線272cが、枠部材272の外形の第2辺272bと平行になるように、複数の収容部273が設けられている。 In the present embodiment, a plurality of accommodating portions 273 so that the diagonal line 272c of one of the two diagonal lines of the inner peripheral wall of the accommodating portion 273 is parallel to the second side 272b of the outer shape of the frame member 272. Is provided.

本実施形態においては、マスキング部材271は、互いに対向する2つのマスク部274を備えている。2つのマスク部274の各々は、収容部273の直下に位置して被成膜物と接する平坦部274tを有している。なお、マスク部274の数は、2つに限られず、1つ以上であればよい。 In the present embodiment, the masking member 271 includes two mask portions 274 facing each other. Each of the two mask portions 274 has a flat portion 274t located directly below the accommodating portion 273 and in contact with the film to be filmed. The number of mask portions 274 is not limited to two, and may be one or more.

本実施形態においては、マスキング部材271は、枠部材272の下面に接合されている。マスキング部材271の内側に、2つのマスク部274が設けられている。ただし、マスキング部材271および枠部材272が、一部材から形成されていてもよい。 In the present embodiment, the masking member 271 is joined to the lower surface of the frame member 272. Two mask portions 274 are provided inside the masking member 271. However, the masking member 271 and the frame member 272 may be formed from one member.

マスキング部材271は、枠部材272側とは反対側の端部に、内側に突出した1対の突出部271cを有している。図14に示すように、1対の突出部271cの各々の先端面は、1対の第1辺272haの各々と平行に位置している。マスキング部材271の厚さ方向に見て、マスキング部材271において、枠部材272側とは反対側の開口271hは、収容部273の内周壁の内側に位置している。 The masking member 271 has a pair of projecting portions 271c protruding inward at an end portion on the side opposite to the frame member 272 side. As shown in FIG. 14, each tip surface of the pair of protrusions 271c is located parallel to each of the pair of first side 272ha. When viewed in the thickness direction of the masking member 271, the opening 271h of the masking member 271 on the side opposite to the frame member 272 side is located inside the inner peripheral wall of the accommodating portion 273.

保持具270がトレー260の座繰り部262内に配置されることにより、図8に示すように、保持具270は、水平方向に対して傾いて位置するように搬送部250に取り付けられる。 By arranging the holder 270 in the counterbore portion 262 of the tray 260, the holder 270 is attached to the transport portion 250 so as to be positioned at an angle with respect to the horizontal direction, as shown in FIG.

ここで、本発明の一実施形態に係る電子部品の製造方法について説明する。本発明の一実施形態に係る電子部品の製造方法においては、ともに保持具270と同じ構成を有する第1保持具270aおよび第2保持具270bを用いて電子部品である積層コンデンサ100を製造する。 Here, a method for manufacturing an electronic component according to an embodiment of the present invention will be described. In the method for manufacturing an electronic component according to an embodiment of the present invention, the multilayer capacitor 100, which is an electronic component, is manufactured by using the first holder 270a and the second holder 270b, both of which have the same configuration as the holder 270.

被成膜物である積層体110を第1保持具270aの収容部273内に収容させる際には、第1保持具270aの枠部材272上に多数の積層体110を載置した状態で、シェーカにより第1保持具270aを振動させる。その結果、複数の積層体110が複数の収容部273内にそれぞれ収容される。 When the laminate 110, which is a film to be formed, is accommodated in the accommodating portion 273 of the first holder 270a, a large number of laminates 110 are placed on the frame member 272 of the first retainer 270a. The first holder 270a is vibrated by the shaker. As a result, the plurality of laminated bodies 110 are each accommodated in the plurality of accommodating portions 273.

次に、第2保持具270bの収容部273が第1保持具270aの対応する収容部273と連通するように、第1保持具270aの枠部材272上に第2保持具270bの枠部材272を重ね合わせる。この状態で、第1保持具270aと第2保持具270bとを、螺子などにより連結する。 Next, the frame member 272 of the second holder 270b is placed on the frame member 272 of the first holder 270a so that the housing portion 273 of the second holder 270b communicates with the corresponding housing portion 273 of the first holder 270a. Overlay. In this state, the first holder 270a and the second holder 270b are connected by a screw or the like.

互いに連結された第1保持具270aおよび第2保持具270bをプラズマ装置に挿入してArエッチングを行なうことにより、第1保持具270a、第2保持具270bおよび積層体110をクリーニングする。 The first retainer 270a, the second retainer 270b, and the laminate 110 are cleaned by inserting the first retainer 270a and the second retainer 270b connected to each other into the plasma apparatus and performing Ar etching.

次に、クリーニングした第1保持具270aおよび第2保持具270bを図6〜8に示すように、トレー260を介して搬送部250に取り付ける。 Next, the cleaned first holder 270a and second holder 270b are attached to the transport portion 250 via the tray 260 as shown in FIGS. 6 to 8.

図15は、本発明の一実施形態に係る保持具の収容部内に被成膜物が収容された状態を示す平面図である。図16は、図15に示す保持具の収容部内に被成膜物が収容された状態をXVI−XVI線矢印方向から見た断面図である。図16においては、第1保持具270a上に第2保持具270bを重ね合わせた状態を図示している。 FIG. 15 is a plan view showing a state in which the film to be formed is housed in the housing part of the holder according to the embodiment of the present invention. FIG. 16 is a cross-sectional view of a state in which the film to be formed is contained in the accommodating portion of the holder shown in FIG. 15 as viewed from the direction of the XVI-XVI line arrow. In FIG. 16, a state in which the second holder 270b is superposed on the first holder 270a is shown.

図15,16に示すように、積層体110は、矢印30で示すように、第1保持具270aの傾きにより、第1保持具270aの収容部273内において内周壁の1つの角部に偏って位置して内周壁と接している。具体的には、積層体110の第2端面114が第1保持具270aの第1辺272haと接し、積層体110の第1側面115が第1保持具270aの第2辺272hbと接している。 As shown in FIGS. 15 and 16, as shown by the arrow 30, the laminate 110 is biased to one corner of the inner peripheral wall in the accommodating portion 273 of the first holder 270a due to the inclination of the first holder 270a. It is located and is in contact with the inner peripheral wall. Specifically, the second end surface 114 of the laminated body 110 is in contact with the first side 272ha of the first holder 270a, and the first side surface 115 of the laminated body 110 is in contact with the second side 272hb of the first holder 270a. ..

その結果、複数の収容部273内にそれぞれ収容された複数の積層体110は、複数の収容部273内の各々における略同一の位置に配置されることになる。 As a result, the plurality of laminated bodies 110 each housed in the plurality of accommodating portions 273 are arranged at substantially the same position in each of the plurality of accommodating portions 273.

また、内周壁の4つの角部に半円状の切欠が設けられていることにより、積層体110の角部が上記切欠内に収容されるため、積層体110の第2端面114と第1辺272haとを安定して接触させることができるとともに、積層体110の第1側面115と第2辺272hbとを安定して接触させることができる。 Further, since the four corners of the inner peripheral wall are provided with semicircular cutouts, the corners of the laminated body 110 are accommodated in the cutouts, so that the second end faces 114 and the first of the laminated body 110 The side 272ha can be stably contacted, and the first side surface 115 of the laminated body 110 and the second side 272hb can be stably contacted.

搬送部250によって、第1保持具270aおよび第2保持具270bが成膜室220内に搬入された時点でスパッタリング加工が開始される。搬送部250が連続運転して、第1保持具270aおよび第2保持具270bがターゲット222,223,224の直上を順次通過することにより、積層体110の下側が成膜される。これにより、積層体の第1主面111に第2下地層122および第2下地層132が設けられる(工程S21)。 The sputtering process is started when the first holder 270a and the second holder 270b are carried into the film forming chamber 220 by the transport unit 250. The transport unit 250 continuously operates, and the first holder 270a and the second holder 270b sequentially pass directly above the targets 222, 223, and 224, whereby the lower side of the laminate 110 is formed. As a result, the second base layer 122 and the second base layer 132 are provided on the first main surface 111 of the laminated body (step S21).

ターゲット222,223,224の表面から飛散した金属原子1は、積層体110の下側の表面において、第1保持具270aのマスキング部材271に覆われていない部分に付着する。上記のように、複数の収容部273内にそれぞれ収容された複数の積層体110は、複数の収容部273内の各々における略同一の位置に配置されているため、高い位置精度で成膜できるとともに、複数の積層体110に対して均一に成膜することができる。 The metal atoms 1 scattered from the surfaces of the targets 222, 223, and 224 adhere to the portion of the lower surface of the laminate 110 that is not covered by the masking member 271 of the first holder 270a. As described above, since the plurality of laminated bodies 110 accommodated in the plurality of accommodating portions 273 are arranged at substantially the same positions in each of the plurality of accommodating portions 273, the film can be formed with high positional accuracy. At the same time, the film can be uniformly formed on the plurality of laminated bodies 110.

また、マスキング部材271の突出部271cによって、積層体110の両端面に第2下地層122が形成されることを抑制することができる。 Further, the protruding portion 271c of the masking member 271 can prevent the formation of the second base layer 122 on both end faces of the laminated body 110.

搬送部250によって、第1保持具270aおよび第2保持具270bが成膜室220外に搬出された時点でスパッタリング加工を停止する。 When the first holder 270a and the second holder 270b are carried out of the film forming chamber 220 by the transport unit 250, the sputtering process is stopped.

次に、第1保持具270aと第2保持具270bとを上下反転させた状態で、トレー260を介して搬送部250に取り付ける。図17は、本発明の一実施形態に係る電子部品の製造方法において、第1保持具と第2保持具とを上下反転させた状態を示す断面図である。 Next, the first holder 270a and the second holder 270b are attached to the transport unit 250 via the tray 260 in a state of being turned upside down. FIG. 17 is a cross-sectional view showing a state in which the first holder and the second holder are turned upside down in the method for manufacturing an electronic component according to an embodiment of the present invention.

第1保持具270aと第2保持具270bとを上下反転させることにより、図17に示すように、積層体110は、矢印30で示すように、第2保持具270bの傾きにより、第2保持具270bの収容部273内において内周壁の1つの角部に偏って位置して内周壁と接している。具体的には、積層体110の第2端面114が第2保持具270bの第1辺272haと接し、積層体110の第2側面116が第2保持具270bの第2辺272hbと接している。また、積層体110は、第2保持具270bのマスキング部材271に支持されている。具体的には、積層体110の第2主面112が、第2保持具270bのマスク部274の平坦部274tと接している。 By turning the first holder 270a and the second holder 270b upside down, as shown in FIG. 17, the laminated body 110 is held by the second holder 270b due to the inclination of the second holder 270b, as shown by the arrow 30. In the accommodating portion 273 of the tool 270b, the position is biased toward one corner of the inner peripheral wall and is in contact with the inner peripheral wall. Specifically, the second end surface 114 of the laminated body 110 is in contact with the first side 272ha of the second holder 270b, and the second side surface 116 of the laminated body 110 is in contact with the second side 272hb of the second holder 270b. .. Further, the laminated body 110 is supported by the masking member 271 of the second holder 270b. Specifically, the second main surface 112 of the laminated body 110 is in contact with the flat portion 274t of the mask portion 274 of the second holder 270b.

このように、第1保持具270aと第2保持具270bを上下反転させる際には、傾いた保持具270の下側に位置する積層体110の端面が入れ替わらないようにする。本実施形態においては、第2端面114が、第1保持具270aと第2保持具270bを上下反転させる前後においてともに、傾いた保持具270の下側に位置している。 In this way, when the first holder 270a and the second holder 270b are turned upside down, the end faces of the laminated body 110 located below the tilted holder 270 are prevented from being exchanged. In the present embodiment, the second end surface 114 is located below the tilted holder 270 both before and after the first holder 270a and the second holder 270b are turned upside down.

搬送部250によって、上下反転した状態の第1保持具270aおよび第2保持具270bが成膜室220内に搬入された時点でスパッタリング加工が開始される。搬送部250が連続運転して、第1保持具270aおよび第2保持具270bがターゲット222,223,224の直上を順次通過することにより、上下反転した状態の積層体110の下側が成膜される。これにより、積層体の第2主面112に第2下地層122および第2下地層132が設けられる(工程S22)。 Sputtering is started when the first holder 270a and the second holder 270b, which are upside down by the transport unit 250, are carried into the film forming chamber 220. The transport unit 250 continuously operates, and the first holder 270a and the second holder 270b sequentially pass directly above the targets 222, 223, and 224, whereby the lower side of the laminated body 110 in an upside down state is formed. To. As a result, the second base layer 122 and the second base layer 132 are provided on the second main surface 112 of the laminated body (step S22).

次に、搬送部250から第1保持具270aおよび第2保持具270bが取り外される。第1保持具270aと第2保持具270bとの連結が解除され、第2下地層122および第2下地層132が成膜された積層体110が収容部273から取り出される。その後、第2下地層122および第2下地層132が成膜された積層体110には、めっき処理(工程S23)が施される。 Next, the first holder 270a and the second holder 270b are removed from the transport unit 250. The connection between the first holder 270a and the second holder 270b is released, and the laminate 110 on which the second base layer 122 and the second base layer 132 are formed is taken out from the accommodating portion 273. After that, the laminated body 110 on which the second base layer 122 and the second base layer 132 are formed is subjected to a plating treatment (step S23).

上記のように、水平方向に対して傾いて位置するように保持具270を取り付けた搬送部250を連続運転させて、積層体110に第2下地層122および第2下地層132を設けることにより、積層体110に効率よく高精度に成膜することができる。 As described above, the transport unit 250 to which the holder 270 is attached is continuously operated so as to be positioned at an angle with respect to the horizontal direction, and the second base layer 122 and the second base layer 132 are provided on the laminated body 110. , It is possible to form a film on the laminated body 110 efficiently and with high accuracy.

なお、積層体110の両端面に第2下地層122が形成されることをより確実に抑制するために、マスキング部材271の枠部材272側にさらに突出部が設けられていてもよい。 In addition, in order to more reliably suppress the formation of the second base layer 122 on both end faces of the laminated body 110, a protrusion may be further provided on the frame member 272 side of the masking member 271.

図18は、本発明の一実施形態の変形例に係る保持具の構成を示す断面図である。図18においては、図16と同一の断面視にて図示している。 FIG. 18 is a cross-sectional view showing a configuration of a holder according to a modified example of the embodiment of the present invention. In FIG. 18, it is shown in the same cross-sectional view as in FIG.

図18に示すように、本発明の一実施形態の変形例に係る保持具においては、マスキング部材271の枠部材272側にさらに突出部271dが設けられている。突出部271dによって積層体110の両端面の下側の辺を覆うことにより、積層体110の両端面に第2下地層122が形成されることをより確実に抑制できる。 As shown in FIG. 18, in the holder according to the modified example of the embodiment of the present invention, a protruding portion 271d is further provided on the frame member 272 side of the masking member 271. By covering the lower sides of both end faces of the laminate 110 with the projecting portions 271d, it is possible to more reliably suppress the formation of the second base layer 122 on both end faces of the laminate 110.

図19は、本発明の一実施形態の変形例に係る第1保持具と第2保持具とを上下反転させた状態を示す断面図である。図19においては、図17と同一の断面視にて図示している。 FIG. 19 is a cross-sectional view showing a state in which the first holder and the second holder according to the modified example of the embodiment of the present invention are turned upside down. In FIG. 19, it is shown in the same cross-sectional view as in FIG.

図19に示すように、第1保持具270aと第2保持具270bとを上下反転させることにより、第2保持具270bの突出部271dによって積層体110の両端面の下側の辺を覆うことにより、上下反転した状態の積層体110の両端面に第2下地層122が形成されることをより確実に抑制できる。 As shown in FIG. 19, by turning the first holder 270a and the second holder 270b upside down, the protruding portions 271d of the second holder 270b cover the lower sides of both end faces of the laminated body 110. As a result, it is possible to more reliably suppress the formation of the second base layer 122 on both end faces of the laminated body 110 in the upside down state.

なお、本実施形態においては、第1保持具270aおよび第2保持具270bを用いたが、他の方法により積層体110を上下反転させる場合には、第2保持具270bを用いなくてもよい。 In this embodiment, the first holder 270a and the second holder 270b are used, but when the laminated body 110 is turned upside down by another method, the second holder 270b may not be used. ..

(実験例)
以下、搬送部250の水平方向に対する傾斜角度αを変更して成膜の位置精度を検証した実験例について説明する。
(Experimental example)
Hereinafter, an experimental example in which the position accuracy of the film formation is verified by changing the inclination angle α of the transport unit 250 with respect to the horizontal direction will be described.

傾斜角度αを、0°、5°、10°にして、積層体110の長さ方向Lの中央の位置と、積層体110の長さ方向Lにおけるグランド電極130の中央の位置との位置ずれ量を測定した。各サンプルを100個作製した。各サンプルの積層体110において、長さを1.0mm、幅を0.5mm、厚さを0.5mmとした。上記の位置ずれ量は、積層コンデンサの表面をSEM(Scanning Electron Microscope)などの電子顕微鏡を用いて撮像し、撮像した画像から、グランド電極130の中央の位置と積層体110の長さ方向Lの中央の位置との位置ずれ量を測定した。 When the inclination angle α is set to 0 °, 5 °, and 10 °, the positional deviation between the center position of the laminated body 110 in the length direction L and the center position of the ground electrode 130 in the length direction L of the laminated body 110 The amount was measured. 100 pieces of each sample were prepared. In the laminated body 110 of each sample, the length was 1.0 mm, the width was 0.5 mm, and the thickness was 0.5 mm. The above amount of misalignment is determined by imaging the surface of the laminated capacitor with an electron microscope such as a SEM (Scanning Electron Microscope), and from the image taken, the position at the center of the ground electrode 130 and the length direction L of the laminated body 110. The amount of misalignment with the center position was measured.

傾斜角度α=0°のときは、位置ずれ量の最大値が76μm、位置ずれ量の平均値が35μmであった。傾斜角度α=5°のときは、位置ずれ量の最大値が38μm、位置ずれ量の平均値が9μmであった。傾斜角度α=10°のときは、位置ずれ量の最大値が19μm、位置ずれ量の平均値が8μmであった。 When the inclination angle α = 0 °, the maximum value of the misalignment amount was 76 μm, and the average value of the misalignment amount was 35 μm. When the inclination angle α = 5 °, the maximum value of the misalignment amount was 38 μm, and the average value of the misalignment amount was 9 μm. When the inclination angle α = 10 °, the maximum value of the misalignment amount was 19 μm, and the average value of the misalignment amount was 8 μm.

上記の実験結果から、傾斜角度αは、5°以上が好ましく、10°以上がより好ましいことが確認できた。すなわち、保持具の傾きが大きくなるに従って、高い位置精度で成膜できることが確認できた。 From the above experimental results, it was confirmed that the inclination angle α is preferably 5 ° or more, and more preferably 10 ° or more. That is, it was confirmed that the film can be formed with higher position accuracy as the inclination of the holder increases.

本発明の一実施形態に係る、成膜装置、保持具、および、これらを用いた電子部品の製造方法は、電子部品として3端子型の積層コンデンサに効果的に適用することができる。ただし、これらを2端子型の積層コンデンサに適用しても効果的である。 The film forming apparatus, the holder, and the method for manufacturing an electronic component using these according to an embodiment of the present invention can be effectively applied to a 3-terminal multilayer capacitor as an electronic component. However, it is also effective to apply these to a two-terminal type multilayer capacitor.

今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 It should be considered that the embodiments disclosed this time are exemplary in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is shown by the scope of claims rather than the above description, and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims.

1 金属原子、10,11,12 マザーシート、20 搬送方向、100 積層コンデンサ、110 積層体、110a マザーシート群、111 第1主面、112 第2主面、113 第1端面、114 第2端面、115 第1側面、116 第2側面、120 貫通電極、121,131 第1下地層、122,132 第2下地層、123,133 めっき層、130 グランド電極、140 誘電体層、140a セラミック基材、150 導電体層、151 第1導電体層、151a,152a 導電パターン、152 第2導電体層、200 成膜装置、210 第1減圧室、211,221,231 真空ポンプ、220 成膜室、222,223,224 ターゲット、230 第2減圧室、240,241,242,243 シャッタ、250 搬送部、251,261 開口部、252,262 座繰り部、260 トレー、270 保持具、270a 第1保持具、270b 第2保持具、271 マスキング部材、271c,271d 突出部、271h 開口、272 枠部材、272a,272ha 第1辺、272b,272hb 第2辺、272c 対角線、272d 仮想直線、273 収容部、274 マスク部、274t 平坦部、280 ローラ。 1 Metal atom, 10, 11, 12 Mother sheet, 20 Conducting direction, 100 Multilayer capacitor, 110 Laminate, 110a Mother sheet group, 111 1st main surface, 112 2nd main surface, 113 1st end surface, 114 2nd end surface , 115 1st side surface, 116 2nd side surface, 120 through electrode, 121, 131 1st base layer, 122, 132 2nd base layer, 123, 133 plating layer, 130 ground electrode, 140 dielectric layer, 140a ceramic base material , 150 Conductor layer, 151 1st conductor layer, 151a, 152a Conductive pattern, 152 2nd conductor layer, 200 film forming apparatus, 210 1st decompression chamber, 211,221,231 vacuum pump, 220 film forming chamber, 222,223,224 Target, 230 Second Decompression Chamber, 240,241,242,243 Shutter, 250 Conductor, 251,261 Opening, 252,262 Counterbore, 260 Tray, 270 Holder, 270a First Hold Tool, 270b 2nd holder, 271 masking member, 271c, 271d projecting part, 271h opening, 272 frame member, 272a, 272ha 1st side, 272b, 272hb 2nd side, 272c diagonal line, 272d virtual straight line, 273 housing part, 274 mask part, 274t flat part, 280 rollers.

Claims (5)

成膜室と、
前記成膜室の内部に位置する成膜源と、
前記成膜室内において被成膜物が前記成膜源の上方を前記成膜源と対向しつつ通過するように被成膜物を搬送する搬送部と、
水平方向に対して角度αだけ傾いて位置するように前記搬送部に取り付けられ、被成膜物を収容して保持する複数の収容部を有する保持具とを備え、
前記複数の収容部の各々は、略矩形状の内周壁を有し、
被成膜物は、前記保持具の傾きにより、前記複数の収容部の各々のにおいて前記内周壁の1つの角部に偏って位置して前記内周壁と接しており、
前記内周壁は、互いに対向する1対の第1辺および互いに対向する1対の第2辺を含み、
前記保持具は、
前記内周壁を構成する枠部材と、
前記枠部材と隣接したマスキング部材とを含み、
前記枠部材は、平面視にて矩形状の外形を有しており、
前記枠部材の外形は、互いに平行な1対の第1辺と、互いに平行な1対の第2辺とから構成されており、
前記枠部材の第1辺は、前記搬送部の搬送方向に沿って延在しており、
前記内周壁の第2辺が前記枠部材の第2辺に対して角度θをなすように前記複数の収容部が設けられており、
前記角度θは、前記角度αより大きい、成膜装置。
The film formation room and
The film formation source located inside the film formation chamber and
A transport unit that conveys the film-deposited object so that the film-deposited object passes above the film-forming source while facing the film-forming source in the film-forming chamber.
It is provided with a holder which is attached to the transport portion so as to be positioned at an angle α with respect to the horizontal direction and has a plurality of accommodating portions for accommodating and holding the film to be filmed.
Each of the plurality of accommodating portions has a substantially rectangular inner peripheral wall.
Deposition was, by the slope of the holder, in contact with the inner peripheral wall positioned biased to one corner of the inner wall at the inner portion of each of the plurality of accommodating portions,
The inner peripheral wall includes a pair of first sides facing each other and a pair of second sides facing each other.
The holder is
The frame member constituting the inner peripheral wall and
Including the frame member and an adjacent masking member
The frame member has a rectangular outer shape in a plan view, and has a rectangular outer shape.
The outer shape of the frame member is composed of a pair of first sides parallel to each other and a pair of second sides parallel to each other.
The first side of the frame member extends along the transport direction of the transport portion.
The plurality of accommodating portions are provided so that the second side of the inner peripheral wall forms an angle θ with respect to the second side of the frame member.
A film forming apparatus in which the angle θ is larger than the angle α .
前記成膜室に隣接して設けられた第1減圧室と、
前記成膜室に隣接して設けられた第2減圧室とをさらに備え、
前記搬送部は、前記第1減圧室、前記成膜室および前記第2減圧室をこの順に通過する、請求項1に記載の成膜装置。
A first decompression chamber provided adjacent to the film forming chamber and
A second decompression chamber provided adjacent to the film forming chamber is further provided.
The film forming apparatus according to claim 1, wherein the transport section passes through the first decompression chamber, the film forming chamber, and the second decompression chamber in this order.
前記成膜源は、複数のターゲットからなり、
前記複数のターゲットは、前記搬送部の搬送方向に並んで配置されている、請求項1または請求項2に記載の成膜装置。
The film formation source consists of a plurality of targets.
The film forming apparatus according to claim 1 or 2, wherein the plurality of targets are arranged side by side in the transport direction of the transport unit.
被成膜物を収容して保持する複数の収容部を有する保持具であって、
枠部材と、
前記枠部材と隣接したマスキング部材とを備え、
前記複数の収容部の各々は、略矩形状の内周壁を有し、
前記枠部材は、前記内周壁を構成しており、
前記内周壁は、互いに対向する1対の第1辺および互いに対向する1対の第2辺を含み、

前記保持具は、水平方向に対して角度αだけ傾いて位置した状態で搬送され、
被成膜物は、前記保持具の傾きにより、前記収容部内において前記内周壁の1つの角部に偏って位置して前記内周壁と接しており、
前記枠部材は、平面視にて矩形状の外形を有しており、
前記枠部材の外形は、互いに平行な1対の第1辺と、互いに平行な1対の第2辺とから構成されており、
前記枠部材の第1辺は、前記保持具の搬送方向に沿って延在しており、
前記内周壁の第2辺が前記枠部材の第2辺に対して角度θをなすように前記複数の収容部が設けられており、
前記角度θは、前記角度αより大きい、保持具。
A holder having a plurality of accommodating portions for accommodating and holding an object to be film-formed.
Frame member and
A masking member adjacent to the frame member is provided.
Each of the plurality of accommodating portions has a substantially rectangular inner peripheral wall.
The frame member constitutes the inner peripheral wall .
The inner peripheral wall includes a pair of first sides facing each other and a pair of second sides facing each other.

The holder is conveyed in a state of being tilted by an angle α with respect to the horizontal direction.
Due to the inclination of the holder, the film-deposited film is positioned unevenly at one corner of the inner peripheral wall in the accommodating portion and is in contact with the inner peripheral wall.
The frame member has a rectangular outer shape in a plan view, and has a rectangular outer shape.
The outer shape of the frame member is composed of a pair of first sides parallel to each other and a pair of second sides parallel to each other.
The first side of the frame member extends along the transport direction of the holder.
The plurality of accommodating portions are provided so that the second side of the inner peripheral wall forms an angle θ with respect to the second side of the frame member.
A holder in which the angle θ is larger than the angle α .
請求項に記載の成膜装置において2つの前記保持具を用いて被成膜物である電子部品を製造する方法であって、
2つの前記保持具のうちの第1保持具の前記収容部に被成膜物を収容する工程と、
2つの前記保持具のうちの第2保持具の前記収容部が前記第1保持具の対応する前記収容部と連通するように、前記第1保持具の前記枠部材上に前記第2保持具の前記枠部材を重ね合わせる工程と、
前記第1保持具および前記第2保持具を前記搬送部に取り付ける工程と、
前記搬送部を稼働させて、前記電子部品の下側を成膜する工程と、
前記第1保持具と前記第2保持具とを上下反転させた状態で前記搬送部に取り付ける工程と、
前記搬送部を稼働させて、上下反転した状態の前記電子部品の下側に成膜する工程とを備える、電子部品の製造方法。
A method of manufacturing an electronic component to be a film to be formed by using the two holders in the film forming apparatus according to claim 1 .
A step of accommodating the film to be formed in the accommodating portion of the first retainer of the two retainers, and
The second holder is placed on the frame member of the first holder so that the storage portion of the second holder of the two holders communicates with the corresponding storage portion of the first holder. And the process of superimposing the frame members
A step of attaching the first holder and the second holder to the transport portion, and
The process of operating the transport unit to form a film on the lower side of the electronic component,
A step of attaching the first holder and the second holder to the transport unit in a state of being turned upside down,
A method for manufacturing an electronic component, comprising a step of operating the transport unit to form a film on the lower side of the electronic component in an upside down state.
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