JP6790804B2 - Semiconductor device, electronic device and test method for electronic device - Google Patents
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Description
本発明は、半導体装置、電子装置および電子装置の試験方法に関する。 The present invention relates to semiconductor devices, electronic devices and test methods for electronic devices.
電子部品等の複数の半導体装置を有する電子装置では、例えば、複数の半導体装置がプリント基板等の基板に搭載された後に、基板の配線を介して互いに接続される半導体装置間の接続不良を検出する試験が実行される。例えば、信号経路上の配線の断線等により半導体装置間の信号経路が開放状態になるオープン故障が発生している場合、一方の半導体装置から他方の半導体装置に出力される試験信号は、信号経路上のオープン故障の発生箇所で反射する。このため、オープン故障の発生箇所で反射する反射信号を検出してオープン故障の発生箇所を特定する試験方法が提案されている(例えば、特許文献1、2、3参照)。
In an electronic device having a plurality of semiconductor devices such as electronic components, for example, after a plurality of semiconductor devices are mounted on a substrate such as a printed circuit board, a connection failure between the semiconductor devices connected to each other via the wiring of the substrate is detected. The test is performed. For example, when an open failure occurs in which the signal path between semiconductor devices is opened due to a disconnection of wiring on the signal path, the test signal output from one semiconductor device to the other semiconductor device is a signal path. It reflects at the point where the above open failure occurs. Therefore, a test method has been proposed in which a reflected signal reflected at a location where an open failure occurs is detected to identify a location where an open failure occurs (see, for example,
半導体装置間の接続不良を検出する試験では、オープン故障の他に、信号経路が電源等に短絡するショート故障も、半導体装置間の接続不良として検出される。ショート故障が検出された場合、例えば、半導体装置と配線との接続部分等を外観検査して、ショート故障の発生箇所が特定される。しかしながら、半導体装置の高密度化実装に伴い、半導体装置と配線との接続部分等の外観検査が困難になってきている。この場合、ショート故障の発生箇所は、特定されない。 In the test for detecting a connection failure between semiconductor devices, in addition to an open failure, a short-circuit failure in which a signal path is short-circuited to a power source or the like is also detected as a connection failure between semiconductor devices. When a short-circuit failure is detected, for example, a visual inspection of the connection portion between the semiconductor device and the wiring is performed to identify the location where the short-circuit failure occurs. However, with the high-density mounting of semiconductor devices, it has become difficult to visually inspect the connection portion between the semiconductor device and the wiring. In this case, the location where the short failure occurs is not specified.
1つの側面では、本発明は、複数の半導体装置間の信号経路における故障の発生箇所を判定することを目的とする。 On one aspect, it is an object of the present invention to determine where a failure occurs in a signal path between a plurality of semiconductor devices.
1つの実施態様では、他の半導体装置に接続される半導体装置は、試験用の信号を試験対象の端子から他の半導体装置に出力する試験信号出力部と、試験対象の端子に伝搬される伝搬信号を受け、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値と伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成する比較部と、試験対象の端子と他の半導体装置とを接続する配線の長さに基づいて決定された判定タイミングが設定されるタイミング調整部と、比較信号を比較部から受け、判定タイミングで比較信号を取り込むことにより、故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として比較信号を保持する保持部とを有する。 In one embodiment, the semiconductor device connected to the other semiconductor device has a test signal output unit that outputs a test signal from the terminal to be tested to the other semiconductor device, and a propagation propagating to the terminal to be tested. A comparison unit that receives a signal, compares the threshold value according to the type of failure that occurred in the signal path with the propagated signal, and generates a comparison signal showing the comparison result, and connects the terminal to be tested and another semiconductor device. It is used to determine the location of a failure by receiving a comparison signal from the timing adjustment unit that sets the determination timing determined based on the length of the wiring and the comparison signal at the determination timing. It has a holding unit that holds a comparison signal as a signal.
別の実施態様では、電子装置は、互いに接続される複数の半導体装置を有し、複数の半導体装置のいずれかの半導体装置は、試験用の信号を試験対象の端子から他の半導体装置に出力する試験信号出力部と、試験対象の端子に伝搬される伝搬信号を受け、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値と伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成する比較部と、試験対象の端子と他の半導体装置とを接続する配線の長さに基づいて決定された判定タイミングが設定されるタイミング調整部と、比較信号を比較部から受け、判定タイミングで比較信号を取り込むことにより、故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として比較信号を保持する保持部とを有する。 In another embodiment, the electronic device has a plurality of semiconductor devices connected to each other, and one of the plurality of semiconductor devices outputs a test signal from the terminal under test to the other semiconductor device. A comparison that receives the propagated signal propagated to the terminal to be tested, compares the threshold value and the propagated signal according to the type of failure that occurred in the signal path, and generates a comparison signal that shows the comparison result. A timing adjustment unit that sets a determination timing determined based on the length of the wiring that connects the unit, the terminal to be tested, and another semiconductor device, and a comparison signal received from the comparison unit and compared at the determination timing. It has a holding unit that holds a comparison signal as a signal used when determining a location where a failure has occurred.
互いに接続される複数の半導体装置を有する電子装置の試験方法の一観点によれば、複数の半導体装置のいずれかの半導体装置が有する試験信号出力部が、試験用の信号を試験対象の端子から他の半導体装置に出力し、いずれかの半導体装置が有する比較部が、試験対象の端子に伝搬される伝搬信号を受け、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値と伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成し、いずれかの半導体装置が有する保持部が、比較信号を比較部から受け、試験対象の端子と他の半導体装置とを接続する配線の長さに基づいて決定された判定タイミングで比較信号を取り込むことにより、故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として比較信号を保持する試験方法が提供される。 According to one aspect of a test method for an electronic device having a plurality of semiconductor devices connected to each other, a test signal output unit of the semiconductor device of any of the plurality of semiconductor devices outputs a test signal from a terminal to be tested. Output to another semiconductor device, the comparison unit of one of the semiconductor devices receives the propagated signal propagated to the terminal to be tested, and compares the threshold value and the propagated signal according to the type of failure that occurred in the signal path. Then, a comparison signal indicating the comparison result is generated, and the holding unit of one of the semiconductor devices receives the comparison signal from the comparison unit and is based on the length of the wiring connecting the terminal to be tested and the other semiconductor device. By taking in the comparison signal at the determined determination timing, a test method for holding the comparison signal as a signal used when determining the location where the failure has occurred is provided.
1つの側面では、本発明は、複数の半導体装置間の信号経路における故障の発生箇所を判定できる。 On one aspect, the present invention can determine where a failure occurs in a signal path between a plurality of semiconductor devices.
以下、実施形態について、図面を用いて説明する。 Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.
図1は、半導体装置、電子装置および電子装置の試験方法の一実施形態を示す。図1に示す電子装置10は、例えば、サーバ等の情報処理装置である。電子装置10は、互いに接続される複数の半導体装置20(20A、20B)を有する。なお、電子装置10が有する半導体装置20の数は、2つに限定されない。
FIG. 1 shows an embodiment of a semiconductor device, an electronic device, and a test method for the electronic device. The
半導体装置20A、20Bは、例えば、プリント基板に搭載され、プリント基板上に配置された配線32(以下、プリント配線32とも称する)により互いに接続される。例えば、半導体装置20Aの端子30dは、長さL(以下、配線長Lとも称する)のプリント配線32により、半導体装置20Bの端子30rに接続される。半導体装置20A、20B間の接続不良の試験に使用される試験用ブロックの構成は、半導体装置20A、20Bで互いに同一または同様である。このため、図1では、半導体装置20Aについて説明する。
The
半導体装置20Aは、半導体装置20Aの本来の機能を実現する論理回路の他に、試験用ブロックとして、試験信号出力部40、比較部50、タイミング調整部60および保持部70を有する。試験信号出力部40、比較部50、タイミング調整部60および保持部70は、例えば、試験対象の端子30d毎に設けられる。
The
試験信号出力部40は、試験用の信号(以下、試験信号とも称する)を試験対象の端子30dから他の半導体装置20Bの端子30rに出力する。以下、試験信号を出力する半導体装置20は、ドライバ側とも称され、試験信号を受信する半導体装置20は、レシーバ側とも称される。例えば、試験信号出力部40は、端子30d、30r間の信号経路が開放状態になるオープン故障の発生箇所を判定する場合、試験信号の初期状態を接地電圧に設定した後、電圧VHの試験信号を、端子30dを介して端子30rに出力する。電圧VHは、例えば、半導体装置20Aの本来の機能を実現する論理回路等の電源電圧である。
The test
端子30d、30r間の信号経路が電源に短絡するショート故障の発生箇所を判定する場合、試験信号出力部40は、信号経路が接地電圧に短絡したか電源電圧に短絡したかで、異なる試験信号を端子30rに出力する。例えば、試験信号出力部40は、端子30d、30r間の信号経路が接地電圧に短絡するショート故障の発生箇所を判定する場合、オープン故障の発生箇所を判定する場合と同一または同様の試験信号を、端子30dを介して端子30rに出力する。また、試験信号出力部40は、端子30d、30r間の信号経路が電源電圧に短絡するショート故障の発生箇所を判定する場合、試験信号の初期状態を電源電圧に設定した後、接地電圧の試験信号を、端子30dを介して端子30rに出力する。
When determining the location of a short-circuit failure in which the signal path between the
比較部50は、試験対象の端子30dに接続され、試験対象の端子30dに伝搬される伝搬信号を受ける。そして、比較部50は、半導体装置20A、20B間の信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値VTH(VTH1、VTH2)と伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成する。故障の種類は、例えば、オープン故障、ショート故障等に分類される。
The
例えば、比較部50は、故障の種類がオープン故障の場合、オープン故障に対応付けられた閾値VTH2と伝搬信号とを比較し、故障の種類がショート故障の場合、ショート故障に対応付けられた閾値VTH1と伝搬信号とを比較する。オープン故障に対応付けられた閾値VTH2は、例えば、試験信号の電圧VHと電圧VHの2倍の電圧との間の電圧値(例えば、電圧VHの1.5倍)に予め設定される。また、ショート故障に対応付けられた閾値VTH1は、例えば、接地電圧と試験信号の電圧VHとの間の電圧値(例えば、電圧VHの0.5倍)に予め設定される。このように、オープン故障に対応付けられた閾値VTH2は、ショート故障に対応付けられた閾値VTH1より大きい電圧値に設定される。
For example, the
図1の括弧内に、半導体装置20A、20B間の信号経路に故障が発生している場合に比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧波形の一例を示す。図1の括弧内に示すタイミング図の縦軸は、伝搬信号の電圧を示し、横軸は、時間を示す。図1に示す例では、時刻t0に試験信号出力部40から出力された電圧VHの試験信号は、半導体装置20A内の伝搬遅延時間が経過した時刻t1に比較部50に到達する。時刻t1以降では、比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧は、半導体装置20A、20B間の信号経路に故障が発生した場合、故障の種類、発生箇所等により変化する。故障の発生箇所は、レシーバ側の端子30r、ドライバ側の端子30d等である。
An example of the voltage waveform of the propagated signal propagated to the
例えば、レシーバ側の端子30rでオープン故障が発生した場合、電圧VHの試験信号は、故障の発生箇所(例えば、プリント配線32の端子30r側の端部)で反射する。そして、故障の発生箇所で反射した試験信号(以下、試験信号の反射波とも称する)は、時刻t4に比較部50に到達する。なお、時刻t0から時刻t4までの時間は、半導体装置20A内の信号経路と配線長Lのプリント配線32とを含む信号経路を信号が往復する場合の伝搬時間である。
For example, when an open failure occurs at the terminal 30r on the receiver side, the voltage VH test signal is reflected at the location where the failure occurs (for example, the end of the printed
すなわち、レシーバ側の端子30rでオープン故障が発生した場合、比較部50は、時刻t1から時刻t4の間では、試験信号を伝搬信号として受け、時刻t4以降では、試験信号に試験信号の反射波が加算された伝搬信号を受ける。この場合、比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧は、時刻t1に、接地電圧から試験信号の電圧VHに変化し、時刻t1から時刻t4の間では、試験信号の電圧VHに維持される。そして、比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧は、時刻t4に、試験信号の反射波の電圧VHが電圧VHに加算された電圧、すなわち、試験信号の電圧VHの2倍の電圧(2×VH)に変化し、時刻t4以降では、試験信号の電圧VHの2倍の電圧に維持される。
That is, when an open failure occurs at the terminal 30r on the receiver side, the
また、ドライバ側の端子30dでオープン故障が発生した場合、電圧VHの試験信号は、故障の発生箇所である端子30dで反射し、試験信号の反射波は、時刻t2に比較部50に到達する。なお、時刻t0から時刻t2までの時間は、半導体装置20A内の信号経路を信号が往復する場合の伝搬時間である。
Further, when an open failure occurs at the terminal 30d on the driver side, the test signal of the voltage VH is reflected at the terminal 30d where the failure occurs, and the reflected wave of the test signal reaches the
すなわち、ドライバ側の端子30dでオープン故障が発生した場合、比較部50は、時刻t1から時刻t2の間では、試験信号を伝搬信号として受け、時刻t2以降では、試験信号に試験信号の反射波が加算された伝搬信号を受ける。この場合、比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧は、時刻t1に、接地電圧から試験信号の電圧VHに変化し、時刻t1から時刻t2の間では、試験信号の電圧VHに維持される。そして、比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧は、時刻t2に、試験信号の電圧VHの2倍の電圧(2×VH)に変化し、時刻t2以降では、試験信号の電圧VHの2倍の電圧に維持される。
That is, when an open failure occurs at the terminal 30d on the driver side, the
また、レシーバ側の端子30rが接地電圧に短絡するショート故障が発生した場合、電圧VHの試験信号が故障の発生箇所である端子30rに到達した後、接地電圧に短絡した端子30rからの伝搬信号(接地電圧の伝搬信号)が時刻t4に比較部50に到達する。すなわち、レシーバ側の端子30rが接地電圧に短絡するショート故障が発生した場合、比較部50は、時刻t1から時刻t4の間では、電圧VHの試験信号を伝搬信号として受け、時刻t4以降では、接地電圧の伝搬信号を受ける。この場合、比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧は、時刻t1に、接地電圧から試験信号の電圧VHに変化し、時刻t1から時刻t4の間では、試験信号の電圧VHに維持される。そして、比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧は、時刻t4に、電圧VHから接地電圧に変化し、時刻t4以降では、接地電圧に維持される。
Further, when a short-circuit failure occurs in which the terminal 30r on the receiver side is short-circuited to the ground voltage, the propagation signal from the
また、ドライバ側の端子30dが接地電圧に短絡するショート故障が発生した場合、電圧VHの試験信号が故障の発生箇所である端子30dに到達した後、接地電圧に短絡した端子30dからの伝搬信号(接地電圧の伝搬信号)が時刻t2に比較部50に到達する。すなわち、レシーバ側の端子30dが接地電圧に短絡するショート故障が発生した場合、比較部50は、時刻t1から時刻t2の間では、電圧VHの試験用の信号を伝搬信号として受け、時刻t2以降では、接地電圧の伝搬信号を受ける。この場合、比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧は、時刻t1に、接地電圧から試験信号の電圧VHに変化し、時刻t1から時刻t2の間では、試験信号の電圧VHに維持される。そして、比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧は、時刻t2に、電圧VHから接地電圧に変化し、時刻t2以降では、接地電圧に維持される。
Further, when a short-circuit failure occurs in which the terminal 30d on the driver side is short-circuited to the ground voltage, the propagation signal from the
このように、時刻t2から時刻t4の間では、比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧は、故障の発生箇所によって異なる。したがって、時刻t2から時刻t4の間では、故障の種類に応じた閾値VTHと伝搬信号との比較結果は、故障の発生箇所によって異なる。例えば、時刻t2から時刻t4の間では、比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧は、レシーバ側の端子30rでオープン故障が発生した場合、閾値VTH2より小さく、ドライバ側の端子30dでオープン故障が発生した場合、閾値VTH2より大きい。また、時刻t2から時刻t4の間では、比較部50に伝搬される伝搬信号の電圧は、レシーバ側の端子30rが接地電圧に短絡した場合、閾値VTH1より大きく、ドライバ側の端子30dが接地電圧に短絡した場合、閾値VTH1より小さい。
As described above, between the time t2 and the time t4, the voltage of the propagation signal propagated to the
例えば、比較部50は、伝搬信号の電圧が故障の種類に応じて比較した閾値VTHより大きい場合、論理値“1”の信号(例えば、電源電圧)を比較信号として保持部70に出力する。また、比較部50は、伝搬信号の電圧が故障の種類に応じて比較した閾値VTHより小さい場合、論理値“0”の信号(例えば、接地電圧)を比較信号として保持部70に出力する。なお、伝搬信号の電圧と閾値VTHとの大小関係を示す比較信号の論理値は、上述した例と逆でもよい。
For example, when the voltage of the propagation signal is larger than the threshold value VTH compared according to the type of failure, the
タイミング調整部60には、試験対象の端子30dと他の半導体装置20Bとを接続する配線32の長さLに基づいて決定された判定タイミングが設定される。タイミング調整部60は、試験信号が試験信号出力部40から出力された時刻t0から、判定時間TJが経過したとき、判定タイミングであることを示すパルス等の信号を保持部70に出力する。判定時間TJは、例えば、判定タイミングが時刻t2と時刻t4との中間になるように設定される。例えば、判定時間TJは、半導体装置20A内の信号経路を信号が往復する場合の伝搬時間と、配線長Lのプリント配線32を信号が伝搬する場合の片道の伝搬時間とを加算した時間である。
The
保持部70は、比較信号を比較部50から受け、判定タイミングで比較信号を取り込むことにより、故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として比較信号を保持する。例えば、保持部70は、判定タイミングであることを示すパルス等の信号をタイミング調整部60から受けた時刻(t0+TJ)に、比較部50から受ける比較信号を取り込んで保持する。
The holding
これにより、例えば、レシーバ側の端子30rでオープン故障が発生した場合、保持部70は、伝搬信号の電圧が閾値VTH2より小さいことを示す比較信号(例えば、論理値“0”の信号)を保持する。ドライバ側の端子30dでオープン故障が発生した場合、保持部70は、伝搬信号の電圧が閾値VTH2より大きいことを示す比較信号(論理値“1”の信号)を保持する。
As a result, for example, when an open failure occurs at the terminal 30r on the receiver side, the holding
また、例えば、レシーバ側の端子30rが接地電圧に短絡するショート故障が発生した場合、保持部70は、伝搬信号の電圧が閾値VTH1より大きいことを示す比較信号(例えば、論理値“1”の信号)を保持する。ドライバ側の端子30dが接地電圧に短絡するショート故障が発生した場合、保持部70は、伝搬信号の電圧が閾値VTH1より小さいことを示す比較信号(例えば、論理値“0”の信号)を保持する。
Further, for example, when a short-circuit failure occurs in which the terminal 30r on the receiver side is short-circuited to the ground voltage, the holding
また、例えば、レシーバ側の端子30rが電源電圧に短絡するショート故障が発生した場合、保持部70は、伝搬信号の電圧が閾値VTH1より小さいことを示す比較信号(例えば、論理値“0”の信号)を保持する。ドライバ側の端子30dが電源電圧に短絡するショート故障が発生した場合、保持部70は、伝搬信号の電圧が閾値VTH1より大きいことを示す比較信号(例えば、論理値“1”の信号)を保持する。
Further, for example, when a short-circuit failure occurs in which the terminal 30r on the receiver side is short-circuited to the power supply voltage, the holding
したがって、電子装置10を試験する試験装置(図示せず)は、故障の種類と、保持部70に保持された比較信号のレベル(論理値)とに基づいて、故障の発生箇所がレシーバ側かドライバ側かを判定できる。
Therefore, in the test device (not shown) for testing the
例えば、各半導体装置20がIEEE1149.1で規定されるバウンダリスキャン回路を有する場合、電子装置10を試験する試験装置は、バウンダリスキャン回路を使用して、半導体装置20A、20B間の信号経路の故障を検出する試験を実行する。そして、試験装置は、検出した故障の種類を判定する。以下、IEEE1149.1は、JTAG(Joint Test Action Group)とも称される。
For example, when each semiconductor device 20 has a boundary scan circuit specified by IEEE 1149.1, the test device for testing the
また、試験装置は、故障の種類を判定した後、試験信号出力部40、比較部50、タイミング調整部60、保持部70等を制御して、故障の発生箇所を判定する試験を実行する。例えば、信号経路が接地電圧に短絡したショート故障の発生箇所を判定する場合、試験信号出力部40は、試験装置からの制御に応じて、試験信号の初期状態を接地電圧に設定した後、電圧VHの試験信号を、端子30dを介して端子30rに出力する。また、比較部50は、試験装置からの制御に応じて、閾値VTH1、VTH2のうち、閾値VTH1を、伝搬信号と比較する閾値VTHとして選択する。そして、比較部50は、試験装置からの制御に応じて選択した閾値VTH1と伝搬信号の電圧とを比較し、比較結果を示す比較信号を保持部70に出力する。保持部70は、タイミング調整部60に設定された判定タイミングで比較信号を取り込んで保持する。試験装置は、保持部70に保持された比較信号を、バウンダリスキャン回路等を介して読み出す。そして、試験装置は、信号経路が接地電圧に短絡したショート故障の発生箇所を、保持部70から読み出した比較信号の論理値に基づいて判定する。
Further, after determining the type of failure, the test apparatus controls the test
このように、保持部70に保持される比較信号を用いることにより、外観検査を実行することなく、複数の半導体装置20間の信号経路における故障の発生箇所を判定することができる。ここで、例えば、BGA(Ball Grid Array)等によりプリント基板に実装された半導体装置20では、外観を検査することが内側のBGA端子については困難であるため、故障の発生箇所(例えば、故障を有する不良部品)を判定することが困難である。このため、良品が交換または修理される場合がある。この場合、製造コストが増加する。これに対し、電子装置10の試験では、上述したように、外観検査を実行することなく、故障の発生箇所がレシーバ側かドライバ側かを判定することができる。これにより、故障発生時の修理に掛かる費用等を低減させることができる。なお、電子装置10および半導体装置20の構成は、図1に示す例に限定されない。
In this way, by using the comparison signal held by the holding
以上、図1に示す実施形態では、複数の半導体装置20A、20Bのいずれかの半導体装置20Aが有する試験信号出力部40は、試験用の信号を試験対象の端子30dから他の半導体装置20Bに出力する。そして、半導体装置20Aが有する比較部50は、試験対象の端子30dに伝搬される伝搬信号を受け、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値VTHと伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成する。
As described above, in the embodiment shown in FIG. 1, the test
また、半導体装置20Aが有する保持部70は、比較信号を比較部50から受ける。そして、保持部70は、試験対象の端子30dと半導体装置20Bとを接続する配線32の長さLに基づいて決定された判定タイミングで比較信号を取り込むことにより、故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として比較信号を保持する。
Further, the holding
配線長Lに基づいて決定された判定タイミングで保持部70に取り込まれた比較信号を用いることにより、外観検査を実行することなく、複数の半導体装置20間の信号経路における故障の発生箇所を判定することができる。
By using the comparison signal captured in the holding
図2は、半導体装置、電子装置および電子装置の試験方法の別の実施形態を示す。図1で説明した要素と同一または同様の要素については、同一または同様の符号を付し、これ等については、詳細な説明を省略する。図2に示す電子装置100は、例えば、サーバ等の情報処理装置である。電子装置100は、IEEE1149.1で規定されるJTAGに対応した複数の半導体装置200(200A、200B)を有する。例えば、電子装置100には、TAP(Test Access Port)と呼ばれるインタフェース信号用の端子TCK(Test ClocK)、TMS(Test Mode Select)、TRST(Test ReSeT)、TDI(Test Data In)、TDO(Test Data Out)が設けられている。電子装置100を試験する場合、電子装置100は、端子TCK、TMS、TRST、TDI、TDOを介して試験装置1000に接続される。以下、端子TCK、TMS、TRST、TDI、TDOを介して供給される信号には、端子名と同じ符号を使用する。
FIG. 2 shows another embodiment of a semiconductor device, an electronic device, and a test method for the electronic device. Elements that are the same as or similar to those described in FIG. 1 are designated by the same or similar reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The
半導体装置200A、200Bは、例えば、プリント基板に搭載され、プリント基板上に配置された配線320(以下、プリント配線320とも称する)により互いに接続される。例えば、半導体装置200Aの複数の端子300dのうちの1つは、配線長Lのプリント配線320により、半導体装置200Bの複数の端子300rのうちの1つに接続される。なお、端子300dは、半導体装置200A、200B間の信号経路を試験する試験信号を出力する端子300を示し、端子300rは、試験信号を受信する端子300を示す。
The
図2では、図を見やすくするために、半導体装置200の本来の機能を実現する論理回路等の記載を省略している。さらに、半導体装置200Bでは、図を見やすくするために、試験回路400B以外のブロックの記載を省略している。半導体装置200A、200B間の接続不良の試験に使用される試験用ブロックの構成は、半導体装置200A、200Bで互いに同一または同様である。このため、図2では、半導体装置200Aについて説明する。
In FIG. 2, in order to make the figure easier to see, the description of the logic circuit or the like that realizes the original function of the semiconductor device 200 is omitted. Further, in the
半導体装置200Aは、試験回路400A、パルス生成部440、比較部500、遅延部600および保持部700を有する。試験回路400(400A、400B)は、例えば、IEEE1149.1で規定されるバウンダリスキャン回路であり、TAPコントローラ410、バウンダリセル420および出力バッファ430を有する。以下、バウンダリセルは、BC(Boundary Cell)とも称される。
The
TAPコントローラ410は、信号TCK、TMS、TRST等により制御される同期式のステートマシーンである。例えば、TAPコントローラ410は、テストモードを選択するための信号TMS等を受け、バウンダリセル420等を制御するための制御信号を出力する。
The
バウンダリセル420は、半導体装置200の各端子300に設けられたバウンダリスキャンレジスタである。例えば、試験装置1000は、半導体装置200の各端子300に対する読み書きを実行する場合、バウンダリセル420を、試験回路400B内に破線で示すように、シリアルに接続してシフトレジスタとして機能させる。そして、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、半導体装置200の各端子300に対する読み書きを実行する。なお、図2に示す半導体装置200Aでは、図を見やすくするために、バウンダリセル420をスキャン動作させる際の配線等の記載を省略している。
The boundary cell 420 is a boundary scan register provided at each terminal 300 of the semiconductor device 200. For example, when the
バウンダリセル420aは、例えば、スキャン動作により保持した信号を、試験信号として出力バッファ430等に出力する。なお、バウンダリセル420aは、試験用の信号(試験信号)を試験対象の端子300dから他の半導体装置200Bに出力する試験信号出力部の一例である。また、バウンダリセル420bは、保持部700から受ける比較信号を保持する。バウンダリセル420bに保持された比較信号は、スキャン動作により、試験装置1000に読み出される。
The
出力バッファ430は、バウンダリセル420aから受けた試験信号を、端子300dを介して半導体装置200Bの端子300rに出力する。なお、バウンダリセル420aと出力バッファ430とを含むブロックが、試験用の信号を試験対象の端子300dから他の半導体装置200Bに出力する試験信号出力部として定義されてもよい。
The
パルス生成部440は、バウンダリセル420aから出力される試験信号を受ける。そして、パルス生成部440は、試験信号の立ち上がりエッジまたは立ち下がりエッジを検出し、検出したエッジに同期するパルスを生成する。例えば、パルス生成部440は、試験信号が接地電圧から電圧VHに変化したことに応答してパルスを生成し、生成したパルスを遅延部600に出力する。このように、パルス生成部440は、試験用の信号がバウンダリセル420aから出力されるタイミングに同期してパルスを生成し、生成したパルスを遅延部600に出力する。
The pulse generation unit 440 receives the test signal output from the
遅延部600は、試験対象の端子300dと他の半導体装置200Bとを接続する配線320の長さLに基づいて決定された判定タイミングに対応する遅延時間が設定される。例えば、遅延部600には、判定タイミングに対応する遅延時間として図3等に示す判定時間TJが設定される。そして、遅延部600は、パルス生成部440から受けるパルスを判定時間TJだけ遅延させて保持部700に出力する。すなわち、遅延部600は、タイミング調整部の一例であり、判定時間TJは、判定タイミングに対応する遅延時間の一例である。
The
比較部500は、試験対象の端子300dに接続され、試験対象の端子300dに伝搬される伝搬信号を受ける。そして、比較部500は、半導体装置200A、200B間の信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値VTHと伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成する。例えば、比較部500は、閾値選択部510および信号比較部520を有する。
The
閾値選択部510は、例えば、信号経路で発生した故障の種類に基づいて、伝搬信号と比較する閾値VTHを、故障の種類毎に予め決められた閾値VTH1、VTH2から選択する。
The
信号比較部520は、閾値選択部510で選択された閾値VTHと伝搬信号との大小関係に応じた信号を比較信号として保持部700に出力する比較信号生成部の一例である。例えば、信号比較部520は、試験対象の端子300dに接続され、試験対象の端子300dに伝搬される伝搬信号を受ける。また、信号比較部520は、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値VTHを閾値選択部510から受ける。そして、信号比較部520は、伝搬信号の電圧が閾値選択部510から受けた閾値VTHより大きい場合、論理値“1”の信号(例えば、電源電圧)を比較信号として保持部700に出力する。また、信号比較部520は、伝搬信号の電圧が閾値選択部510から受けた閾値VTHより小さい場合、論理値“0”の信号(例えば、接地電圧)を比較信号として保持部700に出力する。なお、伝搬信号の電圧と閾値VTHとの大小関係を示す比較信号の論理値は、上述した例と逆でもよい。
The
保持部700は、比較信号を比較部500の信号比較部520から受け、判定タイミングで比較信号を取り込むことにより、故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として比較信号を保持する。保持部700は、例えば、Dフリップフロップであり、信号比較部520から受ける比較信号を遅延部600から受けるパルスに同期して取り込む。これにより、判定タイミングにおける比較信号が保持部700に保持される。そして、保持部700は、保持した比較信号をバウンダリセル420bに出力する。
The holding
なお、バウンダリセル420a、420b、出力バッファ430、パルス生成部440、比較部500、遅延部600および保持部700は、例えば、試験対象の端子300d毎に設けられる。また、電子装置100および半導体装置200の構成は、図2に示す例に限定されない。例えば、電子装置100が有する半導体装置200の数は、2つに限定されない。
The
図3は、オープン故障が発生した場合のドライバ側およびレシーバ側の電圧波形の一例を示す。なお、図3は、接地線に接続されたプルダウン抵抗がレシーバ側の端子300rに接続されている場合の電圧波形の一例を示す。図3では、半導体装置200Aをドライバ側とし、半導体装置200Bをレシーバ側として説明する。図3に示すバウンダリセル420a、信号比較部520、パルス生成部440、遅延部600および保持部700は、ドライバ側(半導体装置200A)のバウンダリセル420a、信号比較部520、パルス生成部440、遅延部600および保持部700である。
FIG. 3 shows an example of voltage waveforms on the driver side and the receiver side when an open failure occurs. Note that FIG. 3 shows an example of a voltage waveform when a pull-down resistor connected to the ground wire is connected to the
先ず、レシーバ側でオープン故障が発生した場合の電圧波形について説明する。 First, the voltage waveform when an open failure occurs on the receiver side will be described.
バウンダリセル420a(BC420a)の出力は、バウンダリセル420aから電圧VHの試験信号が出力されることにより、接地電圧から電圧VHに変化する。そして、バウンダリセル420aの出力は、電圧VHに維持される。
The output of the
信号比較部520の入力、すなわち、伝搬信号は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電圧VHに変化する。例えば、時間Tpfは、バウンダリセル420aから端子300dまでの信号経路を信号が伝搬する場合の伝搬時間である。そして、信号比較部520の入力は、接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tllpが経過した時刻に、伝搬信号の反射波により、電圧VHから電圧VHの2倍の電圧に変化する。なお、時間Tllpは、配線長Lのプリント配線320を信号が往復する場合の伝搬時間に、端子300dから信号比較部520までの信号経路を信号が伝搬する場合の伝搬時間Tpb(以下、時間Tpbとも称する)を加算した時間である。配線長Lのプリント配線320を信号が往復する場合の伝搬時間は、配線長Lのプリント配線320を信号が伝搬する場合の片道の伝搬時間を時間Tlとした場合、“2×Tl”で表される。
The input of the
また、バウンダリセル420aの出力の変化を基準にした場合、信号比較部520の入力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、電圧VHから電圧VHの2倍の電圧に変化する。そして、信号比較部520の入力は、電圧VHから電圧VHの2倍の電圧に変化した後、電圧VHの2倍の電圧に維持される。なお、時間Trは、時間Tpf、Tpb、Tlを用いて、式(1)で表される。
Further, when the change in the output of the
Tr=Tpf+(2×Tl)+Tpb ・・・(1)
信号比較部520の出力、すなわち、比較信号は、伝搬信号の電圧が閾値VTH2未満の期間では接地電圧に維持され、伝搬信号の電圧が閾値VTH2を超える期間では電源電圧に維持される。したがって、信号比較部520の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、信号比較部520の出力は、接地電圧から電源電圧に変化した後、電源電圧に維持される。なお、例えば、接地電圧の比較信号は、論理値“0”の信号に対応し、電源電圧の比較信号は、論理値“1”の信号に対応する。以下、信号のレベルを示す場合等では、接地電圧は、論理値“0”とも称され、電源電圧および電圧VHは、論理値“1”とも称される。
Tr = Tpf + (2 × Tl) + Tpb ・ ・ ・ (1)
The output of the
パルス生成部440の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻と同じ時刻またはほぼ同じ時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、パルス生成部440の出力は、接地電圧から電源電圧に変化した時刻から所定の時間が経過した後に、電源電圧から接地電圧に変化する。すなわち、パルス生成部440は、バウンダリセル420aの出力の立ち上がりエッジに同期してパルスを遅延部600に出力する。
The output of the pulse generation unit 440 changes from the ground voltage to the power supply voltage at the same time or substantially the same time when the output of the
遅延部600の出力は、パルス生成部440の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻から判定時間TJが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、遅延部600の出力は、パルス生成部440の出力が電源電圧から接地電圧に変化した時刻から判定時間TJが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。すなわち、遅延部600は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から判定時間TJが経過した判定タイミングで、パルスを保持部700に出力する。なお、判定時間TJ(遅延部600に設定される遅延時間)については、ドライバ側でオープン故障が発生した場合の電圧波形について説明した後に説明する。
The output of the
保持部700に保持される論理値は、遅延部600の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻(判定タイミング)における信号比較部520の出力が接地電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)に維持される。
The logical value held by the holding
なお、レシーバ側のバウンダリセル420c(BC420c)の論理値は、レシーバ側でオープン故障が発生しているため、ドライバ側のバウンダリセル420aから電圧VHの試験信号が送信される場合でも、初期状態の論理値“0”(接地電圧)に維持される。
The logical value of the
次に、ドライバ側でオープン故障が発生した場合の電圧波形について説明する。ドライバ側でオープン故障が発生した場合も、レシーバ側でオープン故障が発生した場合と同様に、レシーバ側のバウンダリセル420c(BC420c)の論理値は、初期状態の論理値“0”(接地電圧)に維持される。レシーバ側でオープン故障が発生した場合と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。
Next, the voltage waveform when an open failure occurs on the driver side will be described. Even if an open failure occurs on the driver side, the logical value of the
バウンダリセル420a(BC420a)の出力は、レシーバ側でオープン故障が発生した場合と同一または同様である。
The output of the
信号比較部520の入力、すなわち、伝搬信号は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電圧VHに変化する。そして、信号比較部520の入力は、接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpbが経過した時刻に、伝搬信号の反射波により、電圧VHから電圧VHの2倍の電圧に変化する。
The input of the
なお、バウンダリセル420aの出力の変化を基準にした場合、信号比較部520の入力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、電圧VHから電圧VHの2倍の電圧に変化する。そして、信号比較部520の入力は、電圧VHから電圧VHの2倍の電圧に変化した後、電圧VHの2倍の電圧に維持される。なお、時間Tdは、時間Tpf、Tpbを用いて、式(2)で表される。
When the change in the output of the
Td=Tpf+Tpb ・・・(2)
信号比較部520の出力、すなわち、比較信号は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、信号比較部520の出力は、接地電圧から電源電圧に変化した後、電源電圧に維持される。
Td = Tpf + Tpb ... (2)
The output of the
パルス生成部440の出力および遅延部600の出力は、レシーバ側でオープン故障が発生した場合と同一または同様である。
The output of the pulse generation unit 440 and the output of the
保持部700に保持される論理値は、遅延部600の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻(判定タイミング)における信号比較部520の出力が電源電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)から論理値“1”(電源電圧)に変化する。すなわち、保持部700に保持される論理値は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から判定時間TJが経過した判定タイミング以降では、論理値“1”(電源電圧)に維持される。
The logical value held in the holding
このように、保持部700は、レシーバ側でオープン故障が発生した場合、論理値“0”の比較信号を取り込んで保持し、ドライバ側でオープン故障が発生した場合、論理値“1”の比較信号を取り込んで保持する。
In this way, the holding
判定時間TJ(遅延部600に設定される遅延時間)は、例えば、式(3)で表される。 The determination time TJ (delay time set in the delay unit 600) is expressed by, for example, the equation (3).
TJ=(Td+Tr)/2=Td+Tl ・・・(3)
この場合、判定タイミングは、ドライバ側のオープン故障による試験信号の反射波が信号比較部520に到達するタイミングとレシーバ側のオープン故障による試験信号の反射波が信号比較部520に到達するタイミングとの中間になる。以下、ドライバ側のオープン故障による試験信号の反射波が信号比較部520に到達するタイミングは、ドライバ側からの反射波到達タイミングとも称される。また、レシーバ側のオープン故障による試験信号の反射波が信号比較部520に到達するタイミングは、レシーバ側からの反射波到達タイミングとも称される。
TJ = (Td + Tr) / 2 = Td + Tl ... (3)
In this case, the determination timing is the timing at which the reflected wave of the test signal due to the open failure on the driver side reaches the
なお、判定時間TJは、式(3)で表される時間に限定されない。判定時間TJは、時間Tdより大きく時間Tr未満の時間であればよい。すなわち、判定時間TJは、判定タイミングがドライバ側からの反射波到達タイミングとレシーバ側からの反射波到達タイミングとの間になるように、配線長Lに基づいて決定される。例えば、時間Tdが時間Tl未満の場合、遅延部600に設定される判定時間TJは、時間Tlでもよい。
The determination time TJ is not limited to the time represented by the equation (3). The determination time TJ may be a time larger than the time Td and less than the time Tr. That is, the determination time TJ is determined based on the wiring length L so that the determination timing is between the reflection wave arrival timing from the driver side and the reflected wave arrival timing from the receiver side. For example, when the time Td is less than the time Tl, the determination time TJ set in the
図4は、ショート故障が発生した場合のドライバ側およびレシーバ側の電圧波形の一例を示す。なお、図4は、端子300d、300rの一方が接地電圧に短絡した場合の電圧波形の一例を示す。図3で説明した電圧波形と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。
FIG. 4 shows an example of voltage waveforms on the driver side and the receiver side when a short-circuit failure occurs. Note that FIG. 4 shows an example of a voltage waveform when one of the
先ず、レシーバ側でショート故障が発生した場合の電圧波形について説明する。 First, the voltage waveform when a short-circuit failure occurs on the receiver side will be described.
バウンダリセル420a(BC420a)の出力、パルス生成部440の出力および遅延部600の出力は、図3で説明したオープン故障が発生した場合と同一または同様である。すなわち、判定タイミングは、オープン故障が発生した場合とショート故障が発生した場合とで同じである。
The output of the
信号比較部520の入力、すなわち、伝搬信号は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電圧VHに変化する。そして、信号比較部520の入力は、接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tllpが経過した時刻に、接地電圧に短絡したレシーバ側の端子300rからの伝搬信号により、電圧VHから接地電圧に変化する。
The input of the
なお、バウンダリセル420aの出力の変化を基準にした場合、信号比較部520の入力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、電圧VHから接地電圧に変化する。そして、信号比較部520の入力は、電圧VHから接地電圧に変化した後、接地電圧に維持される。
When the change in the output of the
信号比較部520の出力、すなわち、比較信号は、伝搬信号の電圧が閾値VTH1未満の期間では接地電圧に維持され、伝搬信号の電圧が閾値VTH1を超える期間では電源電圧に維持される。したがって、信号比較部520の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、信号比較部520の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。また、信号比較部520の出力は、電源電圧から接地電圧に変化した後、接地電圧に維持される。
The output of the
保持部700に保持される論理値は、遅延部600の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻(判定タイミング)における信号比較部520の出力が電源電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)から論理値“1”(電源電圧)に変化する。すなわち、保持部700に保持される論理値は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から判定時間TJが経過した判定タイミング以降では、論理値“1”(電源電圧)に維持される。
The logical value held in the holding
レシーバ側のバウンダリセル420c(BC420c)の論理値は、端子300rが接地電圧に短絡しているため、ドライバ側のバウンダリセル420aから電圧VHの試験信号が送信される場合でも、論理値“0”(接地電圧)に維持される。以下、ショート故障のうち、信号経路が接地電圧に短絡するショート故障は、“0”固定のショート故障とも称される。
The logical value of the
次に、ドライバ側でショート故障が発生した場合の電圧波形について説明する。レシーバ側でショート故障が発生した場合と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。 Next, the voltage waveform when a short-circuit failure occurs on the driver side will be described. A detailed description will be omitted for the same or similar voltage waveform as when a short failure occurs on the receiver side.
バウンダリセル420a(BC420a)の出力、パルス生成部440の出力および遅延部600の出力は、レシーバ側でショート故障が発生した場合と同一または同様である。
The output of the
信号比較部520の入力、すなわち、伝搬信号は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電圧VHに変化する。そして、信号比較部520の入力は、接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpbが経過した時刻に、接地電圧に短絡したドライバ側の端子300dからの伝搬信号により、電圧VHから接地電圧に変化する。
The input of the
なお、バウンダリセル420aの出力の変化を基準にした場合、信号比較部520の入力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、電圧VHから接地電圧に変化する。そして、信号比較部520の入力は、電圧VHから接地電圧に変化した後、接地電圧に維持される。
When the change in the output of the
信号比較部520の出力、すなわち、比較信号は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、信号比較部520の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。また、信号比較部520の出力は、電源電圧から接地電圧に変化した後、接地電圧に維持される。
The output of the
保持部700に保持される論理値は、遅延部600の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻(判定タイミング)における信号比較部520の出力が接地電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)に維持される。
The logical value held by the holding
レシーバ側のバウンダリセル420c(BC420c)の論理値は、端子300dが接地電圧に短絡しているため、ドライバ側のバウンダリセル420aから電圧VHの試験信号が送信される場合でも、論理値“0”(接地電圧)に維持される。
The logical value of the
このように、保持部700は、レシーバ側で“0”固定のショート故障が発生した場合、論理値“1”の比較信号を取り込んで保持し、ドライバ側で“0”固定のショート故障が発生した場合、論理値“0”の比較信号を取り込んで保持する。
In this way, when a short-circuit failure fixed at "0" occurs on the receiver side, the holding
なお、信号経路が電源電圧に短絡するショート故障が発生した場合では、バウンダリセル420a(BC420a)は、図4に示した試験信号と逆の極性の試験信号を出力バッファ430に出力する。この場合、図9に示すように、バウンダリセル420aの出力、信号比較部520の入力、信号比較部520の出力、保持部700に保持される論理値およびレシーバ側のバウンダリセル420cの論理値は、図4に示した例と逆の極性になる。例えば、信号経路が電源電圧に短絡するショート故障では、レシーバ側のバウンダリセル420c(BC420c)の論理値は、ドライバ側のバウンダリセル420aから電圧VHの試験信号が送信される場合でも、論理値“1”(電源電圧)に維持される。以下、ショート故障のうち、信号経路が電源電圧に短絡するショート故障は、“1”固定のショート故障とも称される。
When a short-circuit failure occurs in which the signal path is short-circuited to the power supply voltage, the
図5は、図2に示した電子装置100の試験方法の一例を示す。なお、図5に示す試験は、例えば、図2に示した半導体装置200A、200B間の信号経路の故障を検出する試験であり、電子装置100を試験する試験装置1000からの制御に基づいて実行される。
FIG. 5 shows an example of the test method of the
ステップS100では、試験装置1000は、半導体装置200A、200B間の信号経路のうち、試験対象の信号経路を選択する。これにより、試験対象の端子300dが選択される。
In step S100, the
次に、ステップS110では、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路を用いて、ドライバ側のバウンダリセル420から論理値“1”(電源電圧)の試験信号をレシーバ側に出力する。例えば、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、ステップS100で選択した試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aに論理値“1”をセットする。
Next, in step S110, the
これにより、例えば、ステップS100で選択された試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aは、出力バッファ430を介して、論理値“1”の試験信号を試験対象の端子300dからレシーバ側の端子300rに出力する。なお、例えば、全てのバウンダリセル420の初期値は、ステップS110の処理が実行される前に、論理値“0”(接地電圧)にセットされる。
As a result, for example, the
次に、ステップS120では、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路のレシーバ側のバウンダリセル420の論理値を読み込む。例えば、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、バウンダリセル420の論理値を読み込む。
Next, in step S120, the
次に、ステップS130では、試験装置1000は、ステップS120でレシーバ側のバウンダリセル420から読み込んだ論理値(以下、読み取り値とも称する)が論理値“1”であるか否かを判定する。読み取り値が論理値“1”である場合、試験装置1000の動作は、ステップS140に移る。一方、読み取り値が論理値“1”でない場合、すなわち、読み取り値が論理値“0”である場合、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路に故障が発生していると判定し、動作をステップS170に移す。
Next, in step S130, the
ステップS140では、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路を用いて、ドライバ側のバウンダリセル420から論理値“0”の試験信号をレシーバ側に出力する。例えば、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、全てのバウンダリセル420の初期値を論理値“1”にセットする。そして、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、ステップS100で選択した試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aに論理値“0”をセットする。これにより、例えば、ステップS100で選択された試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aは、出力バッファ430を介して、論理値“0”の試験信号を試験対象の端子300dからレシーバ側の端子300rに出力する。
In step S140, the
次に、ステップS150では、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路のレシーバ側のバウンダリセル420の論理値を読み込む。例えば、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、バウンダリセル420の論理値を読み込む。
Next, in step S150, the
次に、ステップS160では、試験装置1000は、ステップS150でレシーバ側のバウンダリセル420から読み込んだ論理値(読み取り値)が論理値“0”であるか否かを判定する。読み取り値が論理値“0”である場合、試験装置1000の動作は、ステップS180に移る。一方、読み取り値が論理値“0”でない場合、すなわち、読み取り値が論理値“1”である場合、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路に“1”固定のショート故障が発生していると判定し、動作をステップS170に移す。
Next, in step S160, the
ステップS170では、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路に発生した故障の種類を判定し、判定した故障の種類を信号経路に対応付けて不良ネットリストに登録する。不良ネットリストは、例えば、試験装置1000がアクセス可能なメモリ等の記憶装置、または、試験装置1000に内蔵されたメモリ等の記憶装置に格納される。なお、故障の種類がオープン故障かショート故障かを判定する方法は、特に限定されない。ステップS170の処理が実行された後、試験装置1000の動作は、ステップS180に移る。
In step S170, the
ステップS180では、試験装置1000は、半導体装置200A、200B間の信号経路のうち、故障の検出対象の全ての信号経路に対して試験が完了したか否かを判定する。全ての信号経路に対して試験が完了した場合、試験装置1000の動作は、ステップS190に移る。一方、試験が完了していない信号経路が存在する場合、試験装置1000の動作は、ステップS100に戻る。
In step S180, the
ステップS190では、試験装置1000は、不良ネットリストが空か否かを判定する。なお、不良ネットリストは、故障が発生していると判定された信号経路が存在しない場合、ステップS170の処理が実行されないため、空の状態(初期状態)である。不良ネットリストが空の場合、試験装置1000の動作は、ステップS200に移る。一方、不良ネットリストが空でない場合、すなわち、故障が発生した信号経路が不良ネットリストに登録されている場合、試験装置1000の動作は、ステップS300に移る。
In step S190, the
ステップS200では、試験装置1000は、電子装置100を良品と判定し、半導体装置200A、200B間の信号経路の故障を検出する試験を終了する。
In step S200, the
ステップS300では、試験装置1000は、故障の発生箇所を判定する。例えば、試験装置1000は、図6に示す試験を実行して、故障の発生箇所がレシーバ側かドライバ側かを判定する。電子装置100は、故障の発生箇所の判定結果に基づいて修理される。例えば、故障の発生箇所がレシーバ側の端子300である場合、レシーバ側の端子300の接続不良等が修理され、故障の発生箇所がドライバ側の端子300である場合、ドライバ側の端子300の接続不良等が修理される。ステップS300の処理の終了により、半導体装置200A、200B間の信号経路の故障を検出する試験は終了する。
In step S300, the
なお、電子装置100の試験方法は、図5に示す例に限定されない。例えば、ステップS170の処理における故障の種類の判定は、故障の発生箇所を判定するステップS300の処理を実行する際に実行されてもよい。この場合、ステップS170では、“1”固定のショート故障か否かを示す情報が信号経路に対応付けて不良ネットリストに登録される。
The test method of the
図6は、図2に示した電子装置100の故障の発生箇所の判定方法の一例を示す。なお、図6に示す試験は、図5に示したステップS300の処理であり、電子装置100を試験する試験装置1000からの制御に基づいて実行される。また、図6に示す試験は、図5に示したステップS170で不良ネットリストに登録された信号経路毎に実行される。ステップS320からステップS328までの一連の処理は、“0”固定のショート故障の発生箇所を判定する処理であり、ステップS330からステップS338までの一連の処理は、“1”固定のショート故障の発生箇所を判定する処理である。また、ステップS340からステップS348までの一連の処理は、オープン故障の発生箇所を判定する処理である。
FIG. 6 shows an example of a method for determining a failure occurrence location of the
ステップS310では、試験装置1000は、試験対象の信号経路の故障の種類がショート故障か否かを、不良ネットリストに基づいて判定する。信号経路の故障の種類がショート故障である場合、試験装置1000の動作は、ステップS312に移る。一方、信号経路の故障の種類がショート故障でない場合、すなわち、信号経路の故障の種類がオープン故障である場合、試験装置1000の動作は、ステップS340に移る。
In step S310, the
ステップS312では、試験装置1000は、信号経路のショート故障が“0”固定のショート故障か否かを、不良ネットリストに基づいて判定する。信号経路のショート故障が“0”固定のショート故障である場合、試験装置1000の動作は、ステップS320に移る。一方、信号経路のショート故障が“0”固定のショート故障でない場合、すなわち、信号経路のショート故障が“1”固定のショート故障である場合、試験装置1000の動作は、ステップS330に移る。
In step S312, the
ステップS320では、試験装置1000は、信号比較部520に伝搬される伝搬信号と比較する閾値VTHを、ショート故障に対応付けられた閾値VTH1に設定する。例えば、試験装置1000は、信号経路で発生した故障の種類がショート故障であることを示す種別情報を閾値選択部510に送信し、伝搬信号と比較する閾値VTHとして閾値VTH1を閾値選択部510から信号比較部520に出力させる。
In step S320, the
すなわち、閾値選択部510は、試験装置1000から受けた種別情報がショート故障を示す場合、ショート故障に対応付けられた閾値VTH1とオープン故障に対応付けられた閾値VTH2とのうち、閾値VTH1を伝搬信号と比較する閾値VTHとして選択する。これにより、信号比較部520の2つの入力のうちの一方の電圧は、閾値VTH1に設定される。ステップS320の処理が実行された後、試験装置1000の動作は、ステップS322に移る。
That is, when the type information received from the
ステップS322では、試験装置1000は、試験対象の信号経路に対応するドライバ側のバウンダリセル420の出力を論理値“0”から論理値“1”に変更する。すなわち、試験装置1000は、試験信号の論理値を論理値“0”から論理値“1”に変化させる。
In step S322, the
例えば、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、全てのバウンダリセル420の初期値を論理値“0”にセットする。そして、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aに論理値“1”をセットする。
For example, the
これにより、例えば、試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aから出力される試験信号は、論理値“0”から論理値“1”に変化する。すなわち、試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aは、試験装置1000からの制御に応じて、論理値“1”の試験信号を、試験対象の端子300dからレシーバ側に出力する。
As a result, for example, the test signal output from the
また、バウンダリセル420aの出力が論理値“0”から論理値“1”に変化することにより、図3等で説明したように、パルス生成部440は、試験信号の立ち上がりエッジに同期したパルスを遅延部600に出力する。ステップS322の処理が実行された後、試験装置1000の動作は、ステップS324に移る。
Further, as the output of the
ステップS324では、試験装置1000は、試験信号の論理値を論理値“0”から論理値“1”に変化させてから、判定時間TJが経過したか否かを判定する。判定時間TJが経過していない場合、試験装置1000の動作は、ステップS324に戻る。すなわち、試験装置1000は、判定時間TJに対応する判定タイミングで保持部700が比較信号を取り込むまで、ステップS326の処理を待機する。
In step S324, the
例えば、保持部700は、試験信号が論理値“0”から論理値“1”に変化した時刻から判定時間TJが経過した判定タイミングで、遅延部600からパルスを受ける。そして、保持部700は、遅延部600から受けたパルスに同期して、閾値VTH1と伝搬信号との大小関係を示す比較信号を信号比較部520から取り込んで保持する。
For example, the holding
そして、判定タイミングで保持部700が比較信号を取り込んで保持した後、試験装置1000の動作は、ステップS326に移る。すなわち、判定時間TJが経過した場合、試験装置1000の動作は、ステップS326に移る。
Then, after the holding
ステップS326では、試験装置1000は、保持部700に保持された比較信号の論理値を読み込む。例えば、試験装置1000は、保持部700に保持された比較信号の論理値をバウンダリセル420bに書き込む。そして、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、バウンダリセル420bの論理値を読み込む。このように、試験装置1000は、判定タイミングで保持部700に取り込まれた比較信号の論理値を、保持部700から読み込む。
In step S326, the
次に、ステップS328では、試験装置1000は、ステップS326で保持部700から読み込んだ論理値(読み取り値)が論理値“1”であるか否かを判定する。読み取り値が論理値“1”である場合、試験装置1000は、ステップS350において、故障の発生箇所をレシーバ側と判定し、故障の発生箇所を判定する試験を終了する。一方、読み取り値が論理値“1”でない場合、すなわち、読み取り値が論理値“0”である場合、試験装置1000は、ステップS352において、故障の発生箇所をドライバ側と判定し、故障の発生箇所を判定する試験を終了する。このように、試験装置1000は、保持部700から読み出した比較信号の論理値に基づいて、故障の発生箇所を判定する。
Next, in step S328, the
ステップS330では、試験装置1000は、ステップS320と同一または同様の処理により、信号比較部520に伝搬される伝搬信号と比較する閾値VTHを、ショート故障に対応付けられた閾値VTH1に設定する。
In step S330, the
次に、ステップS332では、試験装置1000は、試験対象の信号経路に対応するドライバ側のバウンダリセル420の出力を論理値“1”から論理値“0”に変更する。すなわち、試験装置1000は、試験信号の論理値を論理値“1”から論理値“0”に変化させる。ステップS332の処理は、試験信号の極性がステップS322と逆であることを除いて、ステップS322の処理と同一または同様である。
Next, in step S332, the
例えば、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、全てのバウンダリセル420の初期値を論理値“1”にセットする。そして、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aに論理値“0”をセットする。
For example, the
このように、試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aは、試験装置1000からの制御に応じて、論理値“0”の試験信号を、試験対象の端子300dからレシーバ側に出力する。また、バウンダリセル420aの出力が論理値“1”から論理値“0”に変化することにより、パルス生成部440は、試験信号の立ち下がりエッジに同期したパルスを遅延部600に出力する。
As described above, the
次に、ステップS334では、試験装置1000は、試験信号の論理値を論理値“1”から論理値“0”に変化させてから、判定時間TJが経過したか否かを判定する。判定時間TJが経過していない場合、試験装置1000の動作は、ステップS334に戻る。すなわち、試験装置1000は、判定時間TJに対応する判定タイミングで保持部700が閾値VTH1と伝搬信号との大小関係を示す比較信号を取り込むまで、ステップS336の処理を待機する。
Next, in step S334, the
一方、判定時間TJが経過した場合、試験装置1000の動作は、ステップS336に移る。すなわち、判定タイミングで保持部700が閾値VTH1と伝搬信号との大小関係を示す比較信号を取り込んで保持した後、試験装置1000の動作は、ステップS336に移る。
On the other hand, when the determination time TJ has elapsed, the operation of the
ステップS336では、試験装置1000は、ステップS326と同一または同様の処理により、保持部700に保持された比較信号の論理値を読み込む。
In step S336, the
次に、ステップS338では、試験装置1000は、ステップS336で保持部700から読み込んだ論理値(読み取り値)が論理値“1”であるか否かを判定する。読み取り値が論理値“1”である場合、試験装置1000は、ステップS352において、故障の発生箇所をドライバ側と判定し、故障の発生箇所を判定する試験を終了する。一方、読み取り値が論理値“1”でない場合、すなわち、読み取り値が論理値“0”である場合、試験装置1000は、ステップS350において、故障の発生箇所をレシーバ側と判定し、故障の発生箇所を判定する試験を終了する。
Next, in step S338, the
ステップS340では、試験装置1000は、信号比較部520に伝搬される伝搬信号と比較する閾値VTHを、オープン故障に対応付けられた閾値VTH2に設定する。例えば、試験装置1000は、信号経路で発生した故障の種類がオープン故障であることを示す種別情報を閾値選択部510に送信し、伝搬信号と比較する閾値VTHとして閾値VTH2を閾値選択部510から信号比較部520に出力させる。
In step S340, the
すなわち、閾値選択部510は、試験装置1000から受けた種別情報がオープン故障を示す場合、オープン故障に対応付けられた閾値VTH1とオープン故障に対応付けられた閾値VTH2とのうち、閾値VTH2を伝搬信号と比較する閾値VTHとして選択する。これにより、信号比較部520の2つの入力のうちの一方の電圧は、閾値VTH2に設定される。ステップS340の処理が実行された後、試験装置1000の動作は、ステップS342に移る。
That is, when the type information received from the
ステップS342では、試験装置1000は、ステップS322の処理と同一または同様の処理により、試験対象の信号経路に対応するドライバ側のバウンダリセル420の出力を論理値“0”から論理値“1”に変更する。すなわち、試験装置1000は、試験信号の論理値を論理値“0”から論理値“1”に変化させる。ステップS322で説明したように、試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aは、試験装置1000からの制御に応じて、論理値“0”の試験信号を、試験対象の端子300dからレシーバ側に出力する。また、パルス生成部440は、試験信号の立ち上がりエッジに同期したパルスを遅延部600に出力する。
In step S342, the
次に、ステップS344では、試験装置1000は、試験信号の論理値を論理値“0”から論理値“1”に変化させてから、判定時間TJが経過したか否かを判定する。判定時間TJが経過していない場合、試験装置1000の動作は、ステップS344に戻る。すなわち、試験装置1000は、判定時間TJに対応する判定タイミングで保持部700が閾値VTH2と伝搬信号との大小関係を示す比較信号を取り込むまで、ステップS346の処理を待機する。
Next, in step S344, the
一方、判定時間TJが経過した場合、試験装置1000の動作は、ステップS346に移る。すなわち、判定タイミングで保持部700が閾値VTH2と伝搬信号との大小関係を示す比較信号を取り込んで保持した後、試験装置1000の動作は、ステップS346に移る。
On the other hand, when the determination time TJ has elapsed, the operation of the
ステップS346では、試験装置1000は、ステップS326と同一または同様の処理により、保持部700に保持された比較信号の論理値を読み込む。
In step S346, the
次に、ステップS348では、試験装置1000は、ステップS346で保持部700から読み込んだ論理値(読み取り値)が論理値“1”であるか否かを判定する。読み取り値が論理値“1”である場合、試験装置1000は、ステップS352において、故障の発生箇所をドライバ側と判定し、故障の発生箇所を判定する試験を終了する。一方、読み取り値が論理値“1”でない場合、すなわち、読み取り値が論理値“0”である場合、試験装置1000は、ステップS350において、故障の発生箇所をレシーバ側と判定し、故障の発生箇所を判定する試験を終了する。
Next, in step S348, the
このように、試験装置1000は、ステップS322、S332、S342のいずれかにおいて、試験用の信号の論理値を変化させる。例えば、複数の半導体装置200のいずれかの半導体装置200Aが有するバウンダリセル420aは、ステップS322、S332、S342のいずれかにおいて、試験用の信号を試験対象の端子300dから他の半導体装置200Bに出力する。これにより、半導体装置200Aが有する比較部500は、試験対象の端子300dに伝搬される伝搬信号を受ける。
In this way, the
また、比較部500は、ステップS320、S330、S340のいずれかにおいて、信号経路で発生した故障の種類を示す種別情報を受け、伝搬信号と比較する閾値VTHを、故障の種類毎に予め決められた閾値VTH1、VTH2から種別情報に基づいて選択する。このように、比較部500は、ステップS320、S330、S340のいずれかにおいて、信号経路で発生した故障の種類に基づいて、伝搬信号と比較する閾値VTHを、故障の種類毎に予め決められた閾値VTH1、VTH2から選択する。そして、比較部500は、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値VTHと伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成する。例えば、比較部500は、試験装置1000から受けた種別情報に基づいて選択した閾値VTHと伝搬信号との大小関係に応じた信号を比較信号として保持部700に出力する。
Further, in any of steps S320, S330, and S340, the
これにより、半導体装置200Aが有する保持部700は、閾値VTHと伝搬信号との大小関係を示す比較信号を比較部500から受ける。そして、保持部700は、試験対象の端子300dと他の半導体装置200Bとを接続する配線320の長さLに基づいて決定された判定タイミングで比較信号を取り込むことにより、故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として比較信号を保持する。
As a result, the holding
したがって、試験装置1000は、保持部700に保持された比較信号の論理値の読み込みを、試験信号の論理値を変化させてから判定時間TJが経過するまで待機する。これにより、試験装置1000は、ステップS326、S336、S346のいずれかにおいて、判定タイミングで保持部700に取り込まれた比較信号の論理値を、保持部700から読み込む。そして、試験装置1000は、ステップS350、S352等において、保持部700から読み出した比較信号の論理値に基づいて、故障の発生箇所を判定する。
Therefore, the
なお、故障の発生箇所の判定方法は、図6に示す例に限定されない。例えば、試験装置1000は、故障の発生箇所を判定する際に、オープン故障か“0”固定のショート故障かを判定してもよい。この場合、試験装置1000は、例えば、“1”固定のショート故障以外では、ステップS320からステップS328までの一連の処理と、ステップS340からステップS348までの一連の処理との両方を実行する。そして、試験装置1000は、ステップS326、S346の処理でそれぞれ読み込んだ論理値の組み合わせに基づいて、故障の種類および故障の発生箇所を判定してもよい。
The method for determining the location of failure is not limited to the example shown in FIG. For example, the
以上、図2から図6に示す実施形態においても、図1に示した実施形態と同様の効果を得ることができる。例えば、複数の半導体装置200A、200Bのいずれかの半導体装置200Aが有するパルス生成部440は、試験用の信号がバウンダリセル420a(試験信号出力部)から出力されるタイミングに同期してパルスを生成する。そして、パルス生成部440は、試験用の信号に同期して生成したパルスを、半導体装置200Aが有する遅延部600(タイミング調整部)に出力する。遅延部600は、パルス生成部440から受けるパルスを、判定タイミングに対応する判定時間TJ(遅延時間)だけ遅延させて保持部700に出力する。そして、保持部700は、比較部500から受ける比較信号を遅延部600から受けるパルスに同期して取り込む。例えば、試験装置1000は、配線長Lに基づいて決定された判定タイミングで保持部700に取り込まれた比較信号を読み込むことにより、外観検査を実行することなく、複数の半導体装置200間の信号経路における故障の発生箇所を判定できる。
As described above, even in the embodiments shown in FIGS. 2 to 6, the same effects as those in the embodiment shown in FIG. 1 can be obtained. For example, the pulse generation unit 440 of the
図7は、半導体装置、電子装置および電子装置の試験方法の別の実施形態を示す。図1から図6で説明した要素と同一または同様の要素については、同一または同様の符号を付し、これ等については、詳細な説明を省略する。図7に示す電子装置102は、図2に示した半導体装置200(200A、200B)の代わりに半導体装置202(202A、202B)を有することを除いて、図2に示した電子装置100と同一または同様である。例えば、電子装置102は、サーバ等の情報処理装置であり、JTAGに対応した複数の半導体装置202(202A、202B)を有する。そして、電子装置102は、電子装置102を試験する場合、端子TCK、TMS、TRST、TDI、TDOを介して試験装置1000に接続される。
FIG. 7 shows another embodiment of a semiconductor device, an electronic device, and a test method for the electronic device. Elements that are the same as or similar to the elements described with reference to FIGS. 1 to 6 are designated by the same or similar reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The
半導体装置202(202A、202B)は、図2に示した試験回路400(400A、400B)の代わりに試験回路402(402A、402B)を有する。また、半導体装置202では、図2に示したパルス生成部440が半導体装置200から省かれる。半導体装置202のその他の構成は、図2に示した半導体装置200と同一または同様である。なお、図7では、図を見やすくするために、図2と同様に、半導体装置202の本来の機能を実現する論理回路等の記載を省略している。 The semiconductor device 202 (202A, 202B) has a test circuit 402 (402A, 402B) instead of the test circuit 400 (400A, 400B) shown in FIG. Further, in the semiconductor device 202, the pulse generation unit 440 shown in FIG. 2 is omitted from the semiconductor device 200. Other configurations of the semiconductor device 202 are the same as or similar to those of the semiconductor device 200 shown in FIG. Note that, in FIG. 7, in order to make the figure easier to see, the description of the logic circuit or the like that realizes the original function of the semiconductor device 202 is omitted as in FIG.
半導体装置202A、202Bは、例えば、プリント基板に搭載され、プリント基板上に配置されたプリント配線320により互いに接続される。例えば、半導体装置202Aの複数の端子300dのうちの1つは、配線長Lのプリント配線320により、半導体装置202Bの複数の端子300rのうちの1つに接続される。半導体装置202A、202B間の接続不良の試験に使用される試験用ブロックの構成は、半導体装置202A、202Bで互いに同一または同様である。このため、図7では、半導体装置202Aについて説明する。
The
半導体装置202Aは、試験回路402A、比較部500、遅延部600および保持部700を有する。試験回路402Aは、図2に示したTAPコントローラ410の代わりにTAPコントローラ412を有することを除いて、図2に示した試験回路400Aと同一または同様である。例えば、試験回路402Aは、IEEE1149.1で規定されるバウンダリスキャン回路であり、TAPコントローラ412、バウンダリセル420および出力バッファ430を有する。
The
TAPコントローラ412は、パルスとして信号UpdataDRを遅延部600に出力することを除いて、図2に示したTAPコントローラ410と同一または同様である。信号UpdataDRは、IEEE1149.1−2013のFig.6.5(TAP controller implementation-state registers and output logic)に記載されているUpdataDRである。TAPコントローラ412は、Updata−DR状態への状態遷移に同期して信号UpdataDRを遅延部600に出力する。すなわち、TAPコントローラ412は、試験用の信号がバウンダリセル420aから出力されるタイミングに同期して、信号UpdataDR(パルス)を遅延部600に出力する。
The
バウンダリセル420(420a、420b)および出力バッファ430は、図2に示したバウンダリセル420(420a、420b)および出力バッファ430と同一または同様である。例えば、バウンダリセル420bは、TAPコントローラ412の状態がCapture−DR状態に遷移した場合、保持部700から受ける比較信号を取り込んで保持する。例えば、TAPコントローラ412の状態は、Updata−DR状態においてバウンダリセル420aが試験信号を出力バッファ430に出力してから、テストクロックである信号TCKの2.5周期後にCapture−DR状態に遷移する。以下、信号TCKは、テストクロックTCKとも称される。
The boundary cell 420 (420a, 420b) and the
比較部500、遅延部600および保持部700は、図2に示した比較部500、遅延部600および保持部700と同一または同様である。なお、図7に示す遅延部600は、図2に示したパルス生成部440で生成されるパルスの代わりに、信号UpdataDRをTAPコントローラ412から受ける。バウンダリセル420a、420b、出力バッファ430、比較部500、遅延部600および保持部700は、例えば、試験対象の端子300d毎に設けられる。
The
電子装置102の試験方法および電子装置102の故障の発生箇所の判定方法は、図5に示した試験方法および図6に示した判定方法と同一または同様である。例えば、電子装置102の故障の発生箇所の判定方法は、電子装置100、半導体装置200、パルス生成部440等を電子装置102、半導体装置202、TAPコントローラ412等にそれぞれ読み替えることにより、図6で説明される。
The test method of the
なお、電子装置102および半導体装置202の構成は、図7に示す例に限定されない。例えば、電子装置102が有する半導体装置202の数は、2つに限定されない。また、例えば、TAPコントローラ412の状態がUpdata−DR状態からCapture−DR状態に遷移するまでの遷移時間が時間Tdより大きく時間Tr未満の場合、遅延部600および保持部700は省かれてもよい。すなわち、テストクロックTCKの2.5周期が時間Tdより大きく時間Tr未満の場合、遅延部600および保持部700は省かれてもよい。
The configurations of the
図8は、オープン故障が発生した場合のドライバ側およびレシーバ側の電圧波形の一例を示す。なお、図8は、接地線に接続されたプルダウン抵抗がレシーバ側の端子300rに接続されている場合の電圧波形の一例を示す。図3で説明した電圧波形と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。
FIG. 8 shows an example of voltage waveforms on the driver side and the receiver side when an open failure occurs. Note that FIG. 8 shows an example of a voltage waveform when a pull-down resistor connected to the ground wire is connected to the
バウンダリセル420a(BC420a)の出力の電圧波形、信号比較部520の入力の電圧波形および信号比較部520の出力の電圧波形は、図3で説明した各々の電圧波形と同一または同様である。
The output voltage waveform of the
信号UpdataDRの電圧波形は、図3で説明したパルス生成部440の出力の電圧波形と同一または同様である。例えば、信号UpdataDRの電圧は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻と同じ時刻またはほぼ同じ時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、信号UpdataDRの電圧は、接地電圧から電源電圧に変化した時刻からテストクロックTCKの0.5周期後に、電源電圧から接地電圧に変化する。すなわち、信号UpdataDRは、バウンダリセル420aの出力に同期してTAPコントローラ412から遅延部600に出力される。
The voltage waveform of the signal UpdataDR is the same as or similar to the voltage waveform of the output of the pulse generator 440 described with reference to FIG. For example, the voltage of the signal UpdataDR changes from the ground voltage to the power supply voltage at the same time or almost the same time when the output of the
遅延部600の出力の電圧波形は、図3で説明した遅延部600の出力の電圧波形と同一または同様である。また、保持部700に保持される論理値およびレシーバ側のバウンダリセル420c(BC420c)の論理値は、図3で説明した保持部700に保持される論理値およびレシーバ側のバウンダリセル420c(BC420c)の論理値と同一または同様である。
The voltage waveform of the output of the
図9は、ショート故障が発生した場合のドライバ側およびレシーバ側の電圧波形の一例を示す。なお、図9は、端子300d、300rの一方が電源電圧に短絡した場合の電圧波形の一例を示す。図3、図4および図8で説明した電圧波形と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。例えば、信号UpdataDRおよび遅延部600の出力は、図8で説明したオープン故障が発生した場合と同一または同様である。
FIG. 9 shows an example of voltage waveforms on the driver side and the receiver side when a short-circuit failure occurs. Note that FIG. 9 shows an example of a voltage waveform when one of the
先ず、レシーバ側でショート故障が発生した場合の電圧波形について説明する。 First, the voltage waveform when a short-circuit failure occurs on the receiver side will be described.
バウンダリセル420a(BC420a)の出力は、バウンダリセル420aから接地電圧の試験信号が出力されることにより、電圧VHから接地電圧に変化する。そして、バウンダリセル420aの出力は、接地電圧に維持される。このように、信号経路が電源電圧に短絡するショート故障が発生した場合では、バウンダリセル420a(BC420a)は、図4に示した試験信号と逆の極性の試験信号を出力バッファ430に出力する。
The output of the
信号比較部520の入力、すなわち、伝搬信号は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、電圧VHから接地電圧に変化する。そして、信号比較部520の入力は、電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tllpが経過した時刻に、電源電圧に短絡したレシーバ側の端子300rからの伝搬信号により、接地電圧から電圧VHに変化する。
The input of the
なお、バウンダリセル420aの出力の変化を基準にした場合、信号比較部520の入力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、接地電圧から電圧VHに変化する。そして、信号比較部520の入力は、接地電圧から電圧VHに変化した後、電圧VHに維持される。
When the change in the output of the
信号比較部520の出力、すなわち、比較信号は、伝搬信号の電圧が閾値VTH1未満の期間では接地電圧に維持され、伝搬信号の電圧が閾値VTH1を超える期間では電源電圧に維持される。したがって、信号比較部520の出力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。そして、信号比較部520の出力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。また、信号比較部520の出力は、接地電圧から電源電圧に変化した後、接地電圧に維持される。
The output of the
保持部700に保持される論理値は、遅延部600の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻(判定タイミング)における信号比較部520の出力が接地電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)に維持される。
The logical value held by the holding
レシーバ側のバウンダリセル420c(BC420c)の論理値は、端子300rが電源電圧に短絡しているため、ドライバ側のバウンダリセル420aから接地電圧の試験信号が送信される場合でも、論理値“1”(電源電圧)に維持される。
The logical value of the
次に、ドライバ側でショート故障が発生した場合の電圧波形について説明する。レシーバ側でショート故障が発生した場合と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。 Next, the voltage waveform when a short-circuit failure occurs on the driver side will be described. A detailed description will be omitted for the same or similar voltage waveform as when a short failure occurs on the receiver side.
バウンダリセル420a(BC420a)の出力、信号UpdataDR、遅延部600の出力およびレシーバ側のバウンダリセル420c(BC420c)の論理値は、レシーバ側でショート故障が発生した場合と同一または同様である。
The output of the
信号比較部520の入力、すなわち、伝搬信号は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、電圧VHから接地電圧に変化する。そして、信号比較部520の入力は、電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tpbが経過した時刻に、電源電圧に短絡したドライバ側の端子300dからの伝搬信号により、接地電圧から電圧VHに変化する。
The input of the
なお、バウンダリセル420aの出力の変化を基準にした場合、信号比較部520の入力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、接地電圧から電圧VHに変化する。そして、信号比較部520の入力は、接地電圧から電圧VHに変化した後、電圧VHに維持される。
When the change in the output of the
信号比較部520の出力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。そして、信号比較部520の出力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。また、信号比較部520の出力は、接地電圧から電源電圧に変化した後、電源電圧に維持される。
The output of the
保持部700に保持される論理値は、遅延部600の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻(判定タイミング)における信号比較部520の出力が電源電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)から論理値“1”(電源電圧)に変化する。すなわち、保持部700に保持される論理値は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から判定時間TJが経過した判定タイミング以降では、論理値“1”(電源電圧)に維持される。
The logical value held in the holding
このように、保持部700は、レシーバ側で“1”固定のショート故障が発生した場合、論理値“0”の比較信号を取り込んで保持し、ドライバ側で“1”固定のショート故障が発生した場合、論理値“1”の比較信号を取り込んで保持する。
In this way, when a short-circuit failure fixed at "1" occurs on the receiver side, the holding
なお、信号経路が接地電圧に短絡するショート故障が発生した場合では、バウンダリセル420aの出力、信号比較部520の入力および出力、保持部700に保持される論理値等は、図4に示した例と同一または同様である。
When a short-circuit failure occurs in which the signal path is short-circuited to the ground voltage, the output of the
以上、図7から図9に示す実施形態においても、図2から図6に示した実施形態と同様の効果を得ることができる。例えば、TAPコントローラ412は、試験信号がバウンダリセル420aから出力されるタイミングに同期して信号UpdataDRを遅延部600に出力する。遅延部600は、TAPコントローラ412から受ける信号UpdataDRを、判定タイミングに対応する判定時間TJだけ遅延させて保持部700に出力する。そして、保持部700は、比較部500から受ける比較信号を遅延部600から受けるパルス(判定時間TJだけ遅延した信号UpdataDR)に同期して取り込む。例えば、試験装置1000は、配線長Lに基づいて決定された判定タイミングで保持部700に取り込まれた比較信号を読み込むことにより、外観検査を実行することなく、複数の半導体装置202間の信号経路における故障の発生箇所を判定できる。
As described above, even in the embodiments shown in FIGS. 7 to 9, the same effects as those in the embodiments shown in FIGS. 2 to 6 can be obtained. For example, the
さらに、半導体装置202では、TAPコントローラ412で生成される信号UpdataDRを遅延させたパルスを用いて、保持部700による比較信号の取り込みのタイミングを制御するため、パルス生成部440を設ける場合に比べて、回路規模を低減できる。
Further, in the semiconductor device 202, in order to control the timing of capturing the comparison signal by the holding
図10は、半導体装置、電子装置および電子装置の試験方法の別の実施形態を示す。図1から図9で説明した要素と同一または同様の要素については、同一または同様の符号を付し、これ等については、詳細な説明を省略する。図10に示す電子装置104は、図2に示した半導体装置200(200A、200B)の代わりに半導体装置204(204A、204B)を有することを除いて、図2に示した電子装置100と同一または同様である。例えば、電子装置104は、サーバ等の情報処理装置であり、JTAGに対応した複数の半導体装置204(204A、204B)を有する。そして、電子装置104は、電子装置104を試験する場合、端子TCK、TMS、TRST、TDI、TDOを介して試験装置1000に接続される。
FIG. 10 shows another embodiment of a semiconductor device, an electronic device, and a test method for the electronic device. Elements that are the same as or similar to the elements described with reference to FIGS. 1 to 9 are designated by the same or similar reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The
半導体装置204(204A、204B)は、図2に示した比較部500の代わりに比較部502を有することを除いて、図2に示した半導体装置200と同一または同様である。なお、図10では、図を見やすくするために、図2と同様に、半導体装置204の本来の機能を実現する論理回路等の記載を省略している。
The semiconductor device 204 (204A, 204B) is the same as or similar to the semiconductor device 200 shown in FIG. 2, except that it has a comparison unit 502 instead of the
半導体装置204A、204Bは、例えば、プリント基板に搭載され、プリント基板上に配置されたプリント配線320により互いに接続される。例えば、半導体装置204Aの複数の端子300dのうちの1つは、配線長Lのプリント配線320により、半導体装置204Bの複数の端子300rのうちの1つに接続される。半導体装置204A、204B間の接続不良の試験に使用される試験用ブロックの構成は、半導体装置204A、204Bで互いに同一または同様である。このため、図10では、半導体装置204Aについて説明する。
The
半導体装置204Aは、試験回路400A、パルス生成部440、比較部502、遅延部600および保持部700を有する。試験回路400A、パルス生成部440、遅延部600および保持部700は、図2に示した試験回路400A、パルス生成部440、遅延部600および保持部700と同一または同様である。
The
比較部502は、試験対象の端子300dに接続され、試験対象の端子300dに伝搬される伝搬信号を受ける。そして、比較部502は、半導体装置204A、204B間の信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値VTHと伝搬信号との比較結果を示す比較信号を生成する。例えば、比較部502は、信号比較部522、インバータ530およびノア回路540を有する。
The comparison unit 502 is connected to the terminal 300d to be tested and receives a propagation signal propagated to the terminal 300d to be tested. Then, the comparison unit 502 generates a comparison signal showing the comparison result between the threshold value VTH and the propagation signal according to the type of failure that occurred in the signal path between the
信号比較部522は、オープン故障に対応付けられた閾値VTH2と伝搬信号との大小関係に応じた第1比較信号を生成する第1信号生成部の一例である。例えば、信号比較部522は、試験対象の端子300dに伝搬される伝搬信号がオープン故障に対応付けられた閾値VTH2より大きい場合に真を示す第1比較信号を生成し、伝搬信号が閾値VTH2より小さい場合に偽を示す第1比較信号を生成する。そして、信号比較部522は、閾値VTH2と伝搬信号との大小関係を示す第1比較信号をノア回路540に出力する。ここで、例えば、真を示す第1比較信号は、論理値“1”(電源電圧)の信号であり、偽を示す第1比較信号は、論理値“0”(接地電圧)の信号である。
The
インバータ530は、ショート故障に対応付けられた閾値VTH1と伝搬信号との大小関係に応じた第2比較信号を生成する第2信号生成部の一例である。例えば、インバータ530は、試験対象の端子300dに伝搬される伝搬信号を反転した信号を、第2比較信号としてノア回路540に出力する。なお、インバータ530の閾値は、例えば、ショート故障に対応付けられた閾値VTH1である。したがって、インバータ530は、伝搬信号がショート故障に対応付けられた閾値VTH1より大きい場合に偽を示す第2比較信号を生成し、伝搬信号が閾値VTH1より小さい場合に真を示す第2比較信号を生成する。例えば、真を示す第2比較信号は、論理値“1”(電源電圧)の信号であり、偽を示す第2比較信号は、論理値“0”(接地電圧)の信号である。
The
ノア回路540は、第1比較信号および第2比較信号に基づいて比較信号を生成し、生成した比較信号を保持部700に出力する比較信号生成部の一例である。例えば、ノア回路540は、第1比較信号と第2比較信号との否定論理和を演算し、演算結果を比較信号として保持部700に出力する。
The
これにより、例えば、ノア回路540は、伝搬信号の電圧が閾値VTH1未満の場合、または、伝搬信号の電圧が閾値VTH2より大きい場合、論理値“0”の信号を比較信号として保持部700に出力する。また、ノア回路540は、伝搬信号の電圧が閾値VTH1より大きく閾値VTH2未満の場合、論理値“1”の信号を比較信号として保持部700に出力する。このように、比較部502は、信号経路で発生した故障の種類に応じて閾値VTHを切り替える処理を実行することなく、故障の種類に応じた閾値VTHと伝搬信号との大小関係を示す比較信号を生成できる。
As a result, for example, when the voltage of the propagation signal is less than the threshold value VTH1 or the voltage of the propagation signal is larger than the threshold value VTH2, the
なお、バウンダリセル420a、420b、出力バッファ430、パルス生成部440、比較部502、遅延部600および保持部700は、例えば、試験対象の端子300d毎に設けられる。また、電子装置104および半導体装置204の構成は、図10に示す例に限定されない。例えば、電子装置104が有する半導体装置204の数は、2つに限定されない。また、半導体装置204は、試験回路400Aの代わりに図7に示した試験回路402Aを有し、パルス生成部440が省かれてもよい。すなわち、図7に示す半導体装置202が、比較部500の代わりに比較部502を有してもよい。
The
図11は、オープン故障が発生した場合のドライバ側の電圧波形の一例を示す。図3、図4、図8および図9で説明した電圧波形と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。例えば、バウンダリセル420a(BC420a)の出力、パルス生成部440の出力および遅延部600の出力は、図3で説明したオープン故障が発生した場合と同一または同様である。
FIG. 11 shows an example of the voltage waveform on the driver side when an open failure occurs. Detailed description of the voltage waveforms that are the same as or similar to the voltage waveforms described with reference to FIGS. 3, 4, 8 and 9 will be omitted. For example, the output of the
先ず、レシーバ側でオープン故障が発生した場合の電圧波形について説明する。 First, the voltage waveform when an open failure occurs on the receiver side will be described.
信号比較部522およびインバータ530の入力、すなわち、伝搬信号の電圧波形は、図3で説明した信号比較部520の入力の電圧波形と同一または同様である。例えば、信号比較部522およびインバータ530の入力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電圧VHに変化する。そして、信号比較部522およびインバータ530の入力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、電圧VHから電圧VHの2倍の電圧に変化する。
The voltage waveform of the input of the
信号比較部522の出力、すなわち、第1比較信号は、伝搬信号の電圧が閾値VTH2未満の期間では接地電圧に維持され、伝搬信号の電圧が閾値VTH2を超える期間では電源電圧に維持される。したがって、信号比較部522の出力の電圧波形は、図3で説明した信号比較部520の出力の電圧波形と同一または同様である。例えば、信号比較部522の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、信号比較部522の出力は、接地電圧から電源電圧に変化した後、電源電圧に維持される。すなわち、信号比較部522の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Trが経過した時刻以降では、電源電圧に維持される。
The output of the
インバータ530の出力、すなわち、第2比較信号は、伝搬信号の電圧が閾値VTH1未満の期間では電源電圧に維持され、伝搬信号の電圧が閾値VTH1を超える期間では接地電圧に維持される。したがって、インバータ530の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。そして、インバータ530の出力は、電源電圧から接地電圧に変化した後、接地電圧に維持される。
The output of the
ノア回路540の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、ノア回路540の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。また、ノア回路540の出力は、電源電圧から接地電圧に変化した後、接地電圧に維持される。
The output of the
保持部700に保持される論理値は、遅延部600の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻(判定タイミング)におけるノア回路540の出力が電源電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)から論理値“1”(電源電圧)に変化する。すなわち、保持部700に保持される論理値は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から判定時間TJが経過した判定タイミング以降では、論理値“1”(電源電圧)に維持される。
The logical value held in the holding
次に、ドライバ側でオープン故障が発生した場合の電圧波形について説明する。レシーバ側でオープン故障が発生した場合と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。 Next, the voltage waveform when an open failure occurs on the driver side will be described. A detailed description will be omitted for the same or similar voltage waveform as when an open failure occurs on the receiver side.
バウンダリセル420a(BC420a)の出力、パルス生成部440の出力および遅延部600の出力は、レシーバ側でオープン故障が発生した場合と同一または同様である。
The output of the
信号比較部522およびインバータ530の入力、すなわち、伝搬信号の電圧波形は、図3で説明した信号比較部520の入力の電圧波形と同一または同様である。例えば、信号比較部522およびインバータ530の入力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電圧VHに変化する。そして、信号比較部522およびインバータ530の入力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、電圧VHから電圧VHの2倍の電圧に変化する。
The voltage waveform of the input of the
信号比較部522の出力、すなわち、第1比較信号の電圧波形は、図3で説明した信号比較部520の出力の電圧波形と同一または同様である。例えば、信号比較部522の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、信号比較部522の出力は、接地電圧から電源電圧に変化した後、電源電圧に維持される。すなわち、信号比較部522の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tdが経過した時刻以降では、電源電圧に維持される。
The output of the
インバータ530の出力、すなわち、第2比較信号は、レシーバ側でオープン故障が発生した場合と同一または同様である。例えば、インバータ530の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。
The output of the
ノア回路540の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、ノア回路540の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。また、ノア回路540の出力は、電源電圧から接地電圧に変化した後、接地電圧に維持される。
The output of the
保持部700に保持される論理値は、遅延部600の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻(判定タイミング)におけるノア回路540の出力が接地電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)に維持される。
The logical value held in the holding
このように、保持部700は、レシーバ側でオープン故障が発生した場合、論理値“1”の比較信号を取り込んで保持し、ドライバ側でオープン故障が発生した場合、論理値“0”の比較信号を取り込んで保持する。
In this way, the holding
図12は、ショート故障が発生した場合のドライバ側の電圧波形の一例を示す。なお、図12は、端子300d、300rの一方が接地電圧に短絡した場合の電圧波形の一例を示す。図3、図4、図8、図9および図11で説明した電圧波形と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。例えば、バウンダリセル420a(BC420a)の出力、パルス生成部440の出力および遅延部600の出力は、図4で説明したオープン故障が発生した場合と同一または同様である。
FIG. 12 shows an example of the voltage waveform on the driver side when a short-circuit failure occurs. Note that FIG. 12 shows an example of a voltage waveform when one of the
先ず、レシーバ側でショート故障が発生した場合の電圧波形について説明する。 First, the voltage waveform when a short-circuit failure occurs on the receiver side will be described.
信号比較部522およびインバータ530の入力、すなわち、伝搬信号の電圧波形は、図4で説明した信号比較部520の入力の電圧波形と同一または同様である。例えば、信号比較部522およびインバータ530の入力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電圧VHに変化する。そして、信号比較部522およびインバータ530の入力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、電圧VHから接地電圧に変化する。
The voltage waveform of the input of the
信号比較部522の出力、すなわち、第1比較信号は、信号比較部522の入力の電圧が閾値VTH2未満であるため、接地電圧に維持される。
The output of the
インバータ530の出力、すなわち、第2比較信号は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。そして、インバータ530の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。また、インバータ530の出力は、接地電圧から電源電圧に変化した後、電源電圧に維持される。
The output of the
ノア回路540の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、ノア回路540の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。また、ノア回路540の出力は、電源電圧から接地電圧に変化した後、接地電圧に維持される。このように、ノア回路540の出力は、レシーバ側でオープン故障が発生した場合と同一または同様になる。
The output of the
保持部700に保持される論理値は、遅延部600の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻(判定タイミング)におけるノア回路540の出力が電源電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)から論理値“1”(電源電圧)に変化する。すなわち、保持部700に保持される論理値は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から判定時間TJが経過した判定タイミング以降では、論理値“1”(電源電圧)に維持される。
The logical value held in the holding
次に、ドライバ側でショート故障が発生した場合の電圧波形について説明する。レシーバ側でショート故障が発生した場合と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。 Next, the voltage waveform when a short-circuit failure occurs on the driver side will be described. A detailed description will be omitted for the same or similar voltage waveform as when a short failure occurs on the receiver side.
バウンダリセル420a(BC420a)の出力、パルス生成部440の出力および遅延部600の出力は、レシーバ側でショート故障が発生した場合と同一または同様である。
The output of the
信号比較部522およびインバータ530の入力、すなわち、伝搬信号の電圧波形は、図4で説明した信号比較部520の入力の電圧波形と同一または同様である。例えば、信号比較部522およびインバータ530の入力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電圧VHに変化する。そして、信号比較部522およびインバータ530の入力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、電圧VHから接地電圧に変化する。
The voltage waveform of the input of the
信号比較部522の出力、すなわち、第1比較信号は、信号比較部522の入力の電圧が閾値VTH2未満であるため、接地電圧に維持される。
The output of the
インバータ530の出力、すなわち、第2比較信号は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。そして、インバータ530の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。また、インバータ530の出力は、接地電圧から電源電圧に変化した後、電源電圧に維持される。
The output of the
ノア回路540の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、ノア回路540の出力は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。また、ノア回路540の出力は、電源電圧から接地電圧に変化した後、接地電圧に維持される。このように、ノア回路540の出力は、ドライバ側でオープン故障が発生した場合と同一または同様になる。
The output of the
保持部700に保持される論理値は、遅延部600の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻(判定タイミング)におけるノア回路540の出力が接地電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)に維持される。
The logical value held in the holding
このように、保持部700は、レシーバ側で“0”固定のショート故障が発生した場合、論理値“1”の比較信号を取り込んで保持し、ドライバ側で“0”固定のショート故障が発生した場合、論理値“0”の比較信号を取り込んで保持する。
In this way, when a short-circuit failure fixed at "0" occurs on the receiver side, the holding
図13は、ショート故障が発生した場合のドライバ側の電圧波形の別の例を示す。なお、図13は、端子300d、300rの一方が電源電圧に短絡した場合の電圧波形の一例を示す。図3、図4、図8、図9、図11および図12で説明した電圧波形と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。例えば、バウンダリセル420a(BC420a)の出力は、図9で説明したショート故障が発生した場合と同一または同様である。すなわち、バウンダリセル420a(BC420a)の出力は、図12に示したレシーバ側で“0”固定のショート故障が発生した場合と逆の極性になる。また、例えば、パルス生成部440の出力および遅延部600の出力は、図12で説明したショート故障が発生した場合と同一または同様である。
FIG. 13 shows another example of the voltage waveform on the driver side when a short-circuit failure occurs. Note that FIG. 13 shows an example of a voltage waveform when one of the
先ず、レシーバ側でショート故障が発生した場合の電圧波形について説明する。 First, the voltage waveform when a short-circuit failure occurs on the receiver side will be described.
信号比較部522およびインバータ530の入力、すなわち、伝搬信号の電圧波形は、図9で説明した信号比較部520の入力の電圧波形と同一または同様である。例えば、信号比較部522およびインバータ530の入力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、電圧VHから接地電圧に変化する。そして、信号比較部522およびインバータ530の入力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、接地電圧から電圧VHに変化する。
The input of the
信号比較部522の出力、すなわち、第1比較信号は、信号比較部522の入力の電圧が閾値VTH2未満であるため、接地電圧に維持される。このように、信号比較部522の出力は、レシーバ側で“0”固定のショート故障が発生した場合と同一または同様になる。
The output of the
インバータ530の出力、すなわち、第2比較信号は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、インバータ530の出力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。また、インバータ530の出力は、電源電圧から接地電圧に変化した後、接地電圧に維持される。このように、インバータ530の出力は、レシーバ側で“0”固定のショート故障が発生した場合と逆の極性になる。
The output of the
ノア回路540の出力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。そして、ノア回路540の出力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Trが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。また、ノア回路540の出力は、接地電圧から電源電圧に変化した後、電源電圧に維持される。このように、ノア回路540の出力は、レシーバ側で“0”固定のショート故障が発生した場合と逆の極性になる。
The output of the
保持部700に保持される論理値は、遅延部600の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻(判定タイミング)におけるノア回路540の出力が接地電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)に維持される。
The logical value held in the holding
次に、ドライバ側でショート故障が発生した場合の電圧波形について説明する。レシーバ側でショート故障が発生した場合と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。 Next, the voltage waveform when a short-circuit failure occurs on the driver side will be described. A detailed description will be omitted for the same or similar voltage waveform as when a short failure occurs on the receiver side.
バウンダリセル420a(BC420a)の出力、パルス生成部440の出力および遅延部600の出力は、レシーバ側でショート故障が発生した場合と同一または同様である。
The output of the
信号比較部522およびインバータ530の入力、すなわち、伝搬信号の電圧波形は、図9で説明した信号比較部520の入力の電圧波形と同一または同様である。例えば、信号比較部522およびインバータ530の入力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、電圧VHから接地電圧に変化する。そして、信号比較部522およびインバータ530の入力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、接地電圧から電圧VHに変化する。
The input of the
信号比較部522の出力、すなわち、第1比較信号は、信号比較部522の入力の電圧が閾値VTH2未満であるため、接地電圧に維持される。このように、信号比較部522の出力は、ドライバ側で“0”固定のショート故障が発生した場合と同一または同様になる。すなわち、信号比較部522の出力は、ショート故障が発生した場合、接地電圧に維持される。
The output of the
インバータ530の出力、すなわち、第2比較信号は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、インバータ530の出力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。また、インバータ530の出力は、電源電圧から接地電圧に変化した後、接地電圧に維持される。このように、インバータ530の出力は、ドライバ側で“0”固定のショート故障が発生した場合と逆の極性になる。
The output of the
ノア回路540の出力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tpfが経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。そして、ノア回路540の出力は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から時間Tdが経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。また、ノア回路540の出力は、接地電圧から電源電圧に変化した後、電源電圧に維持される。このように、ノア回路540の出力は、ドライバ側で“0”固定のショート故障が発生した場合と逆の極性になる。
The output of the
保持部700に保持される論理値は、遅延部600の出力が接地電圧から電源電圧に変化した時刻(判定タイミング)におけるノア回路540の出力が電源電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)から論理値“1”(電源電圧)に変化する。すなわち、保持部700に保持される論理値は、バウンダリセル420aの出力が電圧VHから接地電圧に変化した時刻から判定時間TJが経過した判定タイミング以降では、論理値“1”(電源電圧)に維持される。
The logical value held in the holding
このように、保持部700は、レシーバ側で“1”固定のショート故障が発生した場合、論理値“0”の比較信号を取り込んで保持し、ドライバ側で“1”固定のショート故障が発生した場合、論理値“1”の比較信号を取り込んで保持する。すなわち、保持部700は、“1”固定のショート故障が発生した場合、“0”固定のショート故障が発生した場合と逆の極性の比較信号を保持する。
In this way, when a short-circuit failure fixed at "1" occurs on the receiver side, the holding
図14は、図10に示した電子装置104の故障の発生箇所の判定方法の一例を示す。なお、電子装置104の試験方法は、図5に示した試験方法と同一または同様である。すなわち、図14に示す試験は、図5に示したステップS300の処理であり、電子装置104を試験する試験装置1000からの制御に基づいて実行される。また、図14に示す試験は、図5に示したステップS170で不良ネットリストに登録された信号経路毎に実行される。図14に示す試験では、図6に示したステップS310、S312の処理の代わりにステップS314の処理が実行される。また、図14に示す試験では、図6に示したステップS320、S330、S340の各処理と、ステップS340からステップS348までの一連の処理とが図6に示した試験から省かれる。図14に示す試験のその他のステップは、図6に示したステップと同一または同様である。図6で説明したステップと同一または同様のステップについては、詳細な説明を省略する。
FIG. 14 shows an example of a method for determining a failure occurrence location of the
ステップS322からステップS328までの一連の処理は、“0”固定のショート故障の発生箇所、または、オープン故障の発生箇所を判定する処理である。また、ステップS332からステップS338までの一連の処理は、“1”固定のショート故障の発生箇所を判定する処理である。 The series of processes from step S322 to step S328 is a process of determining the location where a short failure occurs fixed at "0" or the location where an open failure occurs. Further, the series of processes from step S332 to step S338 is a process of determining the occurrence location of a short failure fixed at "1".
ステップS314では、試験装置1000は、試験対象の信号経路の故障の種類が“1”固定のショート故障か否かを、不良ネットリストに基づいて判定する。信号経路の故障の種類が“1”固定のショート故障である場合、試験装置1000の動作は、ステップS332に移る。一方、信号経路の故障の種類が“1”固定のショート故障でない場合、すなわち、信号経路の故障の種類が“0”固定のショート故障、あるいは、オープン故障である場合、試験装置1000の動作は、ステップS322に移る。
In step S314, the
ステップS322からステップS328までの一連の処理は、図6に示したステップS322からステップS328までの一連の処理と同一または同様である。例えば、試験装置1000は、ステップS326で保持部700から読み込んだ論理値(読み取り値)が論理値“1”である場合、ステップS350において、故障の発生箇所をレシーバ側と判定し、故障の発生箇所を判定する試験を終了する。また、例えば、試験装置1000は、ステップS326で保持部700から読み込んだ論理値(読み取り値)が論理値“0”である場合、ステップS352において、故障の発生箇所をドライバ側と判定し、故障の発生箇所を判定する試験を終了する。
The series of processes from step S322 to step S328 is the same as or similar to the series of processes from step S322 to step S328 shown in FIG. For example, when the logical value (reading value) read from the holding
ステップS332からステップS338までの一連の処理は、図6に示したステップS332からステップS338までの一連の処理と同一または同様である。例えば、試験装置1000は、ステップS336で保持部700から読み込んだ論理値(読み取り値)が論理値“1”である場合、ステップS352において、故障の発生箇所をドライバ側と判定し、故障の発生箇所を判定する試験を終了する。また、例えば、試験装置1000は、ステップS336で保持部700から読み込んだ論理値(読み取り値)が論理値“0”である場合、ステップS350において、故障の発生箇所をレシーバ側と判定し、故障の発生箇所を判定する試験を終了する。
The series of processes from step S332 to step S338 is the same as or similar to the series of processes from step S332 to step S338 shown in FIG. For example, when the logical value (reading value) read from the holding
このように、電子装置104では、信号経路で発生した故障の種類に応じて閾値VTHを切り替える処理を実行することなく、故障の種類に応じた閾値VTHと伝搬信号との大小関係を示す比較信号を保持部700に保持させることができる。なお、故障の発生箇所の判定方法は、図14に示す例に限定されない。
As described above, in the
以上、図10から図14に示す実施形態においても、図2から図6に示した実施形態と同様の効果を得ることができる。例えば、パルス生成部440は、試験信号がバウンダリセル420aから出力されるタイミングに同期してパルスを遅延部600に出力する。遅延部600は、パルス生成部440から受けるパルスを、判定タイミングに対応する判定時間TJだけ遅延させて保持部700に出力する。そして、保持部700は、比較部502から受ける比較信号を遅延部600から受けるパルスに同期して取り込む。例えば、試験装置1000は、配線長Lに基づいて決定された判定タイミングで保持部700に取り込まれた比較信号を読み込むことにより、外観検査を実行することなく、複数の半導体装置204間の信号経路における故障の発生箇所を判定できる。
As described above, even in the embodiments shown in FIGS. 10 to 14, the same effects as those in the embodiments shown in FIGS. 2 to 6 can be obtained. For example, the pulse generation unit 440 outputs the pulse to the
さらに、比較部502は、信号経路で発生した故障の種類に応じて閾値VTHを切り替える処理を実行することなく、故障の種類に応じた閾値VTHと伝搬信号との大小関係を示す比較信号を生成できる。これにより、故障の発生箇所を判定する際の制御を、故障の種類に応じて閾値VTHを切り替える処理を実行する場合に比べて簡易にすることができる。 Further, the comparison unit 502 generates a comparison signal indicating the magnitude relationship between the threshold value VTH and the propagation signal according to the type of failure without executing the process of switching the threshold value VTH according to the type of failure occurring in the signal path. it can. As a result, the control at the time of determining the occurrence location of the failure can be simplified as compared with the case of executing the process of switching the threshold value VTH according to the type of the failure.
図15は、半導体装置、電子装置および電子装置の試験方法の別の実施形態を示す。図1から図14で説明した要素と同一または同様の要素については、同一または同様の符号を付し、これ等については、詳細な説明を省略する。図15に示す電子装置106は、図10に示した半導体装置204(204A、204B)の代わりに半導体装置206(206A、206B)を有することを除いて、図10に示した電子装置104と同一または同様である。例えば、電子装置106は、サーバ等の情報処理装置であり、JTAGに対応した複数の半導体装置206(206A、206B)を有する。そして、電子装置106は、電子装置106を試験する場合、端子TCK、TMS、TRST、TDI、TDOを介して試験装置1000に接続される。
FIG. 15 shows another embodiment of a semiconductor device, an electronic device, and a test method for the electronic device. Elements that are the same as or similar to the elements described with reference to FIGS. 1 to 14 are designated by the same or similar reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The
半導体装置206(206A、206B)は、図10に示した試験回路400(400A、400B)、比較部502および遅延部600の代わりに、試験回路402(402A、402B)、比較部504および遅延部602を有する。また、半導体装置206では、図10に示したパルス生成部440が半導体装置204から省かれ、セレクタ610が半導体装置204に追加される。半導体装置206のその他の構成は、図10に示した半導体装置204と同一または同様である。なお、図15では、図を見やすくするために、図10と同様に、半導体装置206の本来の機能を実現する論理回路等の記載を省略している。
The semiconductor device 206 (206A, 206B) replaces the test circuit 400 (400A, 400B), the comparison unit 502, and the
半導体装置206A、206Bは、例えば、プリント基板に搭載され、プリント基板上に配置されたプリント配線320により互いに接続される。例えば、半導体装置206Aの複数の端子300dのうちの1つは、配線長Lのプリント配線320により、半導体装置206Bの複数の端子300rのうちの1つに接続される。半導体装置206A、206B間の接続不良の試験に使用される試験用ブロックの構成は、半導体装置206A、206Bで互いに同一または同様である。このため、図15では、半導体装置206Aについて説明する。
The
半導体装置206Aは、試験回路402A、比較部504、遅延部602、セレクタ610および保持部700を有する。試験回路402Aは、図7に示した試験回路402Aと同一または同様である。例えば、試験回路402Aが有するTAPコントローラ412は、信号UpdataDRを遅延部602に出力する。
The
遅延部602は、タイミング調整部の一例である。例えば、遅延部602には、試験対象の端子300dと他の半導体装置206Bとを接続する配線320の長さLに基づいて決定された判定タイミングに対応する遅延時間として、図16等に示す判定時間TJ1が設定される。そして、遅延部602は、TAPコントローラ412から受ける信号UpdataDRを判定時間TJ1だけ遅延させたパルスPLS1を、セレクタ610に出力する。なお、判定時間TJ1は、図3等で説明した判定時間TJである。すなわち、判定時間TJ1は、判定タイミングに対応する遅延時間の一例である。したがって、パルスPLS1は、判定タイミングに対応するエッジを有する。
The
さらに、遅延部602には、時間Trより大きい遅延時間として図16等に示す判定時間TJ2が設定される。そして、遅延部602は、TAPコントローラ412から受ける信号UpdataDRを判定時間TJ2だけ遅延させたパルスPLS2を、セレクタ610に出力する。以下、パルスPLS1、PLS2は、区別せずに、パルスPLSとも称される。
Further, the
セレクタ610は、例えば、遅延部602から受けたパルスPLS1、PLS2のうちの一方を、試験装置1000からの制御に基づいて選択する。そして、セレクタ610は、試験装置1000からの制御に基づいて選択したパルスPLSを保持部700に出力する。例えば、セレクタ610は、故障の種類を判定する場合、パルスPLS2を保持部700に出力し、故障の発生箇所を判定する場合、パルスPLS1を保持部700に出力する。
The
比較部504は、試験対象の端子300dに接続され、試験対象の端子300dに伝搬される伝搬信号を受ける。そして、比較部504は、半導体装置206A、206B間の信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値VTHと伝搬信号との比較結果を示す比較信号SIG3を生成する。また、比較部504は、試験対象の端子300dに伝搬される伝搬信号と閾値VTH2との大小関係を示す第1比較信号SIG1(以下、比較信号SIG1とも称する)を生成する。そして、比較部504は、例えば、試験装置1000からの制御に基づいて、比較信号SIG1、SIG3のうちの一方を保持部700に出力する。
The comparison unit 504 is connected to the terminal 300d to be tested and receives a propagation signal propagated to the terminal 300d to be tested. Then, the comparison unit 504 generates a comparison signal SIG3 showing a comparison result between the threshold value VTH and the propagation signal according to the type of failure that occurred in the signal path between the
例えば、比較部504は、図10に示した比較部502にセレクタ550が追加されることを除いて、比較部502と同一または同様である。すなわち、比較部504は、信号比較部522、インバータ530、ノア回路540およびセレクタ550を有する。
For example, the comparison unit 504 is the same as or similar to the comparison unit 502, except that the
信号比較部522、インバータ530およびノア回路540は、図10に示した信号比較部522、インバータ530およびノア回路540と同一または同様である。例えば、信号比較部522は、試験対象の端子300dに伝搬される伝搬信号と閾値VTH2との大小関係を示す第1比較信号SIG1をノア回路540に出力する。さらに、信号比較部522は、第1比較信号SIG1をセレクタ550に出力する。また、例えば、インバータ530は、試験対象の端子300dに伝搬される伝搬信号を反転した第2比較信号SIG2(以下、比較信号SIG2とも称する)をノア回路540に出力する。そして、ノア回路540は、第1比較信号SIG1と第2比較信号SIG2との否定論理和を演算し、演算結果を示す比較信号SIG3をセレクタ550に出力する。
The
したがって、ノア回路540は、伝搬信号の電圧が閾値VTH1未満の場合、または、伝搬信号の電圧が閾値VTH2より大きい場合、論理値“0”の信号を比較信号SIG3としてセレクタ550に出力する。また、ノア回路540は、伝搬信号の電圧が閾値VTH1より大きく閾値VTH2未満の場合、論理値“1”の信号を比較信号SIG3としてセレクタ550に出力する。以下、比較信号SIG11、SIG2、SIG3は、区別せずに、比較信号SIGとも称される。
Therefore, when the voltage of the propagation signal is less than the threshold value VTH1 or the voltage of the propagation signal is larger than the threshold value VTH2, the
セレクタ550は、例えば、信号比較部522から受けた比較信号SIG1とノア回路540から受けた比較信号SIG3とのうちの一方を、試験装置1000からの制御に基づいて選択する。そして、セレクタ550は、試験装置1000からの制御に基づいて選択した比較信号SIGを保持部700に出力する。例えば、セレクタ550は、故障の種類を判定する場合、比較信号SIG1を保持部700に出力し、故障の発生箇所を判定する場合、比較信号SIG3を保持部700に出力する。
The
このように、比較部504は、信号経路で発生した故障の種類に応じて閾値VTHを切り替える処理を実行することなく、故障の種類に応じた閾値VTHと伝搬信号との大小関係を示す比較信号SIG3を生成できる。 As described above, the comparison unit 504 does not execute the process of switching the threshold value VTH according to the type of failure occurring in the signal path, and the comparison signal showing the magnitude relationship between the threshold value VTH and the propagation signal according to the type of failure. SIG3 can be generated.
保持部700は、図2に示した保持部700と同一または同様である。例えば、保持部700は、比較部504のセレクタ550から受ける比較信号SIGを遅延部602からセレクタ610を介して受けるパルスPLSに同期して取り込んで保持する。そして、保持部700は、保持した比較信号SIGをバウンダリセル420bに出力する。
The holding
例えば、故障の種類を判定する場合、保持部700は、セレクタ550から受ける比較信号SIG1を、セレクタ610から受けるパルスPLS2に同期して取り込んで保持する。また、故障の発生箇所を判定する場合、保持部700は、セレクタ550から受ける比較信号SIG3を、セレクタ610から受けるパルスPLS1に同期して取り込んで保持する。
For example, when determining the type of failure, the holding
このように、保持部700は、判定タイミングに対応するエッジを有するパルスPLS1に同期して比較信号SIG3を取り込むことにより、故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として比較信号SIG3を保持する。また、保持部700は、パルスPLS2に同期して比較信号SIG1を取り込むことにより、故障の種類を判定する際に使用する信号として比較信号SIG1を保持する。
In this way, the holding
なお、バウンダリセル420a、420b、出力バッファ430、比較部504、遅延部602、セレクタ610および保持部700は、例えば、試験対象の端子300d毎に設けられる。また、電子装置106および半導体装置206の構成は、図15に示す例に限定されない。例えば、電子装置106が有する半導体装置206の数は、2つに限定されない。また、半導体装置206は、試験回路402Aの代わりに図10に示した試験回路400Aを有し、パルス生成部440が追加されてもよい。
The
図16は、オープン故障が発生した場合のドライバ側の電圧波形の一例を示す。なお、図16では、遅延部602の出力として、パルスPLS1を破線で示し、パルスPLS2を実線で示す。また、保持部700に保持される論理値は、保持部700がパルスPLS2に同期して比較信号SIGを取り込んだ場合を示す。図3、図4、図8、図9、図11、図12および図13で説明した電圧波形と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。
FIG. 16 shows an example of the voltage waveform on the driver side when an open failure occurs. In FIG. 16, as the output of the
バウンダリセル420a(BC420a)の出力の電圧波形、信号比較部522およびインバータ530の入力の電圧波形は、図11で説明した各々の電圧波形と同一または同様である。また、信号比較部522の出力(比較信号SIG1)の電圧波形、インバータ530の出力(比較信号SIG2)の電圧波形およびノア回路540の出力(比較信号SIG3)の電圧波形は、図11で説明した各々の電圧波形と同一または同様である。信号UpdataDRの電圧波形は、図8で説明した信号UpdataDRの電圧波形と同一または同様である。例えば、信号UpdataDRは、バウンダリセル420aの出力に同期してTAPコントローラ412から遅延部602に出力される。
The output voltage waveform of the
遅延部602の2つの出力のうちの一方の出力であるパルスPLS1の電圧波形は、破線で示すように、図8で説明した遅延部600の出力の電圧波形と同一または同様である。すなわち、遅延部602は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から判定時間TJ1が経過した判定タイミングで、パルスPLS1をセレクタ610に出力する。
As shown by the broken line, the voltage waveform of the pulse PLS1, which is one of the two outputs of the
また、遅延部602の2つの出力のうちの他方の出力であるパルスPLS2の電圧は、実線で示すように、信号UpdataDRが接地電圧から電源電圧に変化した時刻から判定時間TJ2が経過した時刻に、接地電圧から電源電圧に変化する。そして、パルスPLS2は、信号UpdataDRが電源電圧から接地電圧に変化した時刻から判定時間TJ2が経過した時刻に、電源電圧から接地電圧に変化する。すなわち、遅延部602は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から判定時間TJ2が経過したタイミングで、パルスPLS2をセレクタ610に出力する。なお、判定時間TJ2は、図15で説明したよに、時間Trより大きい遅延時間として遅延部602に予め設定される。
Further, the voltage of the pulse PLS2, which is the other output of the two outputs of the
図16に示す例では、保持部700に保持される論理値は、故障の種類を判定する場合に保持部700に保持される論理値を示す。この場合、保持部700は、パルスPLS1、PLS2のうちのパルスPLS2をセレクタ610から受け、比較信号SIG1、SIG3のうちの比較信号SIG1をセレクタ550から受ける。
In the example shown in FIG. 16, the logical value held in the holding
したがって、保持部700に保持される論理値は、パルスPLS2の立ち上がりにおける比較信号SIG1の電圧が電源電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)から論理値“1”(電源電圧)に変化する。すなわち、保持部700に保持される論理値は、故障の種類を判定する場合、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から判定時間TJ2が経過したタイミング以降では、論理値“1”(電源電圧)に維持される。
Therefore, as for the logical value held in the holding
なお、故障の発生箇所を判定する場合では、保持部700に保持される論理値は、図11で説明した保持部700に保持される論理値と同一または同様である。
When determining the location where a failure has occurred, the logical value held in the holding
図17は、ショート故障が発生した場合のドライバ側の電圧波形の一例を示す。なお、図17では、図16と同様に、遅延部602の出力として、パルスPLS1を破線で示し、パルスPLS2を実線で示す。また、保持部700に保持される論理値は、図16と同様に、保持部700がパルスPLS2に同期して比較信号SIGを取り込んだ場合を示す。図3、図4、図8、図9、図11、図12、図13および図16で説明した電圧波形と同一または同様の電圧波形については、詳細な説明を省略する。
FIG. 17 shows an example of the voltage waveform on the driver side when a short-circuit failure occurs. In FIG. 17, as in FIG. 16, the pulse PLS1 is shown by a broken line and the pulse PLS2 is shown by a solid line as the output of the
バウンダリセル420a(BC420a)の出力の電圧波形、信号比較部522およびインバータ530の入力の電圧波形は、図12で説明した各々の電圧波形と同一または同様である。また、信号比較部522の出力(比較信号SIG1)の電圧波形、インバータ530の出力(比較信号SIG2)の電圧波形およびノア回路540の出力(比較信号SIG3)の電圧波形は、図12で説明した各々の電圧波形と同一または同様である。信号UpdataDRの電圧波形および遅延部602の出力の電圧波形は、図16で説明した信号UpdataDRの電圧波形および遅延部602の出力の電圧波形と同一または同様である。
The output voltage waveform of the
図17に示す例では、保持部700に保持される論理値は、故障の種類を判定する場合に保持部700に保持される論理値を示す。この場合、保持部700は、パルスPLS1、PLS2のうちのパルスPLS2をセレクタ610から受け、比較信号SIG1、SIG3のうちの比較信号SIG1をセレクタ550から受ける。
In the example shown in FIG. 17, the logical value held in the holding
したがって、保持部700に保持される論理値は、パルスPLS2の立ち上がりにおける比較信号SIG1の電圧が接地電圧であるため、初期状態の論理値“0”(接地電圧)に維持される。なお、故障の発生箇所を判定する場合では、保持部700に保持される論理値は、図12で説明した保持部700に保持される論理値と同一または同様である。
Therefore, the logical value held by the holding
図16および図17に示したように、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から判定時間TJ2が経過したタイミングでは、比較信号SIG1の論理値は、故障の種類がオープン故障か否かによって異なる。したがって、保持部700は、パルスPLS2に同期して比較信号SIG1を取り込むことにより、故障の種類を判定する際に使用する比較信号SIG1を保持できる。例えば、保持部700は、図16に示したように、オープン故障が発生した場合、故障の発生箇所に拘わらず、論理値“1”の比較信号SIGを保持する。また、保持部700は、図17に示したように、ショート故障が発生した場合、故障の発生箇所に拘わらず、論理値“0”の比較信号SIGを保持する。したがって、例えば、試験装置1000は、パルスPLS2に同期して保持部700に取り込まれた比較信号SIGの論理値に基づいて、半導体装置204間の信号経路に発生した故障の種類を判定することができる。
As shown in FIGS. 16 and 17, at the timing when the determination time TJ2 elapses from the time when the output of the
図18は、図15に示した電子装置106の試験方法の一例を示す。なお、図18に示す試験は、例えば、図15に示した半導体装置206A、206B間の信号経路の故障を検出する試験であり、電子装置106を試験する試験装置1000からの制御に基づいて実行される。図18に示す試験では、ステップS102、S112、S114が図5に示した試験に追加され、図5に示したステップS170の処理の代わりにステップS172、S174、S176の各処理が実行される。図18に示す試験のその他のステップは、図5に示したステップと同一または同様である。図5で説明したステップと同一または同様のステップについては、詳細な説明を省略する。
FIG. 18 shows an example of the test method of the
ステップS100では、試験装置1000は、半導体装置206A、206B間の信号経路のうち、試験対象の信号経路を選択する。これにより、試験対象の端子300dが選択される。
In step S100, the
次に、ステップS102では、試験装置1000は、ステップS100で選択された試験対象の端子300dに対応するセレクタ610の出力として、パルスPLS1、PLS2のうち、パルスPLS2を選択する。さらに、試験装置1000は、ステップS100で選択された試験対象の端子300dに対応する比較部504のセレクタ550の出力として、比較信号SIG1、SIG3のうち、比較信号SIG1を選択する。これにより、例えば、ステップS100で選択された試験対象の端子300dに対応するセレクタ610は、遅延部602から受けるパルスPLS1、PLS2のうち、パルスPLS2を保持部700に出力する。また、ステップS100で選択された試験対象の端子300dに対応する比較部504のセレクタ550は、比較信号SIG1、SIG3のうち、比較信号SIG1を保持部700に出力する。
Next, in step S102, the
次に、ステップS110では、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路を用いて、ドライバ側のバウンダリセル420から論理値“1”(電源電圧)の試験信号をレシーバ側に出力する。なお、図5で説明したように、全てのバウンダリセル420の初期値は、ステップS110の処理が実行される前に、論理値“0”(接地電圧)にセットされる。
Next, in step S110, the
ステップS110の処理により、例えば、ステップS100で選択された試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aは、出力バッファ430を介して、論理値“1”の試験信号を試験対象の端子300dからレシーバ側の端子300rに出力する。また、保持部700は、試験信号が論理値“0”から論理値“1”に変化した時刻から判定時間TJ2が経過したタイミングで、遅延部602からセレクタ610を介してパルスPLS2を受ける。そして、保持部700は、比較部504のセレクタ550から受ける比較信号SIG1をパルスPLS2に同期して取り込んで保持する。なお、試験装置1000は、保持部700がパルスPLS2に同期して比較信号SIG1を取り込むまで、ステップS112の処理を待機する。例えば、試験装置1000は、ステップS110の処理を実行してから判定時間TJ2が経過した場合、動作をステップS112に移す。
By the processing of step S110, for example, the
ステップS112では、試験装置1000は、保持部700に保持された比較信号SIG1の論理値を読み込む。例えば、試験装置1000は、保持部700に保持された比較信号SIG1の論理値をバウンダリセル420bに書き込む。そして、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、バウンダリセル420bの論理値を読み込む。このように、試験装置1000は、判定時間TJ2に対応するタイミングで保持部700に取り込まれた比較信号SIG1の論理値を保持部700から読み込む。
In step S112, the
次に、ステップS114では、試験装置1000は、ステップS112で保持部700から読み込んだ論理値(読み取り値)が論理値“0”であるか否かを判定する。読み取り値が論理値“0”である場合、試験装置1000の動作は、ステップS120に移る。一方、読み取り値が論理値“0”でない場合、すなわち、読み取り値が論理値“1”である場合、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路にオープン故障が発生していると判定し、動作をステップS172に移す。
Next, in step S114, the
ステップS120では、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路のレシーバ側のバウンダリセル420の論理値を読み込む。例えば、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、バウンダリセル420の論理値を読み込む。
In step S120, the
次に、ステップS130では、試験装置1000は、ステップS120でレシーバ側のバウンダリセル420から読み込んだ論理値(読み取り値)が論理値“1”であるか否かを判定する。読み取り値が論理値“1”である場合、試験装置1000の動作は、ステップS140に移る。一方、読み取り値が論理値“1”でない場合、すなわち、読み取り値が論理値“0”である場合、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路に“0”固定のショート故障が発生していると判定し、動作をステップS174に移す。
Next, in step S130, the
ステップS140では、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路を用いて、ドライバ側のバウンダリセル420から論理値“0”の試験信号をレシーバ側に出力する。例えば、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、全てのバウンダリセル420の初期値を論理値“1”にセットする。そして、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、ステップS100で選択した試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aに論理値“0”をセットする。これにより、例えば、ステップS100で選択された試験対象の端子300dに対応するバウンダリセル420aは、出力バッファ430を介して、論理値“0”の試験信号を試験対象の端子300dからレシーバ側の端子300rに出力する。
In step S140, the
次に、ステップS150では、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路のレシーバ側のバウンダリセル420の論理値を読み込む。例えば、試験装置1000は、バウンダリセル420をスキャン動作させることにより、バウンダリセル420の論理値を読み込む。
Next, in step S150, the
次に、ステップS160では、試験装置1000は、ステップS150でレシーバ側のバウンダリセル420から読み込んだ論理値(読み取り値)が論理値“0”であるか否かを判定する。読み取り値が論理値“0”である場合、試験装置1000の動作は、ステップS180に移る。一方、読み取り値が論理値“0”でない場合、すなわち、読み取り値が論理値“1”である場合、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路に“1”固定のショート故障が発生していると判定し、動作をステップS176に移す。
Next, in step S160, the
ステップS172では、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路に発生した故障の種類をオープン故障と判定し、判定した故障の種類を信号経路に対応付けて不良ネットリストに登録する。ステップS172の処理が実行された後、試験装置1000の動作は、ステップS180に移る。
In step S172, the
ステップS174では、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路に発生した故障の種類を“0”固定のショート故障と判定し、判定した故障の種類を信号経路に対応付けて不良ネットリストに登録する。ステップS174の処理が実行された後、試験装置1000の動作は、ステップS180に移る。
In step S174, the
ステップS176では、試験装置1000は、ステップS100で選択した信号経路に発生した故障の種類を“1”固定のショート故障と判定し、判定した故障の種類を信号経路に対応付けて不良ネットリストに登録する。ステップS176の処理が実行された後、試験装置1000の動作は、ステップS180に移る。
In step S176, the
ステップS180では、試験装置1000は、半導体装置206A、206B間の信号経路のうち、故障の検出対象の全ての信号経路に対して試験が完了したか否かを判定する。全ての信号経路に対して試験が完了した場合、試験装置1000の動作は、ステップS190に移る。一方、試験が完了していない信号経路が存在する場合、試験装置1000の動作は、ステップS100に戻る。
In step S180, the
ステップS190では、試験装置1000は、不良ネットリストが空か否かを判定する。不良ネットリストが空の場合、試験装置1000の動作は、ステップS200に移る。一方、不良ネットリストが空でない場合、すなわち、故障が発生した信号経路が不良ネットリストに登録されている場合、試験装置1000の動作は、ステップS302に移る。
In step S190, the
ステップS200では、試験装置1000は、電子装置106を良品と判定し、半導体装置206A、206B間の信号経路の故障を検出する試験を終了する。
In step S200, the
ステップS302では、試験装置1000は、故障の発生箇所を判定する。例えば、試験装置1000は、図19に示す試験を実行して、故障の発生箇所がレシーバ側かドライバ側かを判定する。ステップS302の処理の終了により、半導体装置206A、206B間の信号経路の故障を検出する試験は終了する。なお、電子装置106の試験方法は、図18に示す例に限定されない。
In step S302, the
図19は、図15に示した電子装置106の故障の発生箇所の判定方法の一例を示す。なお、図19に示す試験は、図18に示したステップS302の処理であり、電子装置106を試験する試験装置1000からの制御に基づいて実行される。また、図19に示す試験は、図18に示したステップS172、S174、S176で不良ネットリストに登録された信号経路毎に実行される。図19に示す試験は、ステップS313が図14に示した試験に追加されることを除いて、図14に示した試験と同一または同様である。図14で説明したステップと同一または同様のステップについては、詳細な説明を省略する。
FIG. 19 shows an example of a method for determining a location where a failure occurs in the
ステップS322からステップS328までの一連の処理は、“0”固定のショート故障の発生箇所、または、オープン故障の発生箇所を判定する処理である。また、ステップS332からステップS338までの一連の処理は、“1”固定のショート故障の発生箇所を判定する処理である。 The series of processes from step S322 to step S328 is a process of determining the location where a short failure occurs fixed at "0" or the location where an open failure occurs. Further, the series of processes from step S332 to step S338 is a process of determining the occurrence location of a short failure fixed at "1".
ステップS313では、試験装置1000は、試験対象の端子300dに対応するセレクタ610の出力として、パルスPLS1、PLS2のうち、パルスPLS1を選択する。さらに、試験装置1000は、試験対象の端子300dに対応する比較部504のセレクタ550の出力として、比較信号SIG1、SIG3のうち、比較信号SIG3を選択する。これにより、例えば、試験対象の端子300dに対応するセレクタ610は、遅延部602から受けるパルスPLS1、PLS2のうち、パルスPLS1を保持部700に出力する。また、試験対象の端子300dに対応する比較部504のセレクタ550は、比較信号SIG1、SIG2のうち、比較信号SIG3を保持部700に出力する。
In step S313, the
すなわち、保持部700が受けるパルスPLS1および比較信号SIG3は、図14に示した試験において保持部700が受けるパルスおよび比較信号と同一または同様である。このため、ステップS314以降の処理は、図14に示した試験と同一または同様である。したがって、電子装置106においても、信号経路で発生した故障の種類に応じて閾値VTHを切り替える処理を実行することなく、故障の種類に応じた閾値VTHと伝搬信号との大小関係を示す比較信号SIG3を保持部700に保持させることができる。なお、故障の発生箇所の判定方法は、図19に示す例に限定されない。
That is, the pulse PLS1 and the comparison signal SIG3 received by the holding
以上、図15から図19に示す実施形態においても、図10から図14に示した実施形態と同様の効果を得ることができる。例えば、保持部700は、比較部504から受ける比較信号SIG3を遅延部600から受けるパルスPLS1に同期して取り込む。試験装置1000は、配線長Lに基づいて決定された判定タイミングで保持部700に取り込まれた比較信号を読み込むことにより、外観検査を実行することなく、複数の半導体装置206間の信号経路における故障の発生箇所を判定できる。
As described above, even in the embodiments shown in FIGS. 15 to 19, the same effects as those in the embodiments shown in FIGS. 10 to 14 can be obtained. For example, the holding
また、半導体装置206は、TAPコントローラ412で生成される信号UpdataDRを遅延させたパルスを用いて、保持部700による比較信号SIGの取り込みのタイミングを制御する。このため、パルス生成部440を設ける場合に比べて、回路規模を低減することができる。
Further, the semiconductor device 206 controls the timing of capturing the comparison signal SIG by the holding
また、比較部504は、信号経路で発生した故障の種類に応じて閾値VTHを切り替える処理を実行することなく、故障の種類に応じた閾値VTHと伝搬信号との大小関係を示す比較信号SIG3を生成できる。これにより、故障の発生箇所を判定する際の制御を、故障の種類に応じて閾値VTHを切り替える処理を実行する場合に比べて簡易にすることができる。 Further, the comparison unit 504 sets the comparison signal SIG3 indicating the magnitude relationship between the threshold value VTH and the propagation signal according to the type of failure without executing the process of switching the threshold value VTH according to the type of failure occurring in the signal path. Can be generated. As a result, the control at the time of determining the occurrence location of the failure can be simplified as compared with the case of executing the process of switching the threshold value VTH according to the type of the failure.
さらに、比較部504は、故障の種類を判定する場合、オープン故障に対応付けられた閾値VTH2と伝搬信号との比較結果を示す比較信号SIG1を保持部700に出力する。比較信号SIG1の論理値は、バウンダリセル420aの出力が接地電圧から電圧VHに変化した時刻から判定時間TJ2が経過したタイミング以降では、故障の種類がオープン故障か否かによって異なる。したがって、保持部700は、故障の種類を判定する場合、判定時間TJ2の経過後に受けるパルスPLS2に同期して比較信号SIG1を取り込む。この結果、例えば、試験装置1000は、パルスPLS2に同期して保持部700に取り込まれた比較信号SIG1を読み込むことにより、故障の種類を判定できる。
Further, when determining the type of failure, the comparison unit 504 outputs a comparison signal SIG1 indicating a comparison result between the threshold value VTH2 associated with the open failure and the propagation signal to the holding
以上の実施形態において説明した発明を整理して、付記として以下の通り開示する。
(付記1)
他の半導体装置に接続される半導体装置において、
試験用の信号を試験対象の端子から前記他の半導体装置に出力する試験信号出力部と、
前記試験対象の端子に伝搬される伝搬信号を受け、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値と前記伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成する比較部と、
前記試験対象の端子と前記他の半導体装置とを接続する配線の長さに基づいて決定された判定タイミングが設定されるタイミング調整部と、
前記比較信号を前記比較部から受け、前記判定タイミングで前記比較信号を取り込むことにより、前記故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として前記比較信号を保持する保持部とを有する
ことを特徴とする半導体装置。
(付記2)
付記1に記載の半導体装置において、
前記試験用の信号が前記試験信号出力部から出力されるタイミングに同期してパルスを生成し、生成した前記パルスを前記タイミング調整部に出力するパルス生成部をさらに有し、
前記タイミング調整部は、前記パルス生成部から受ける前記パルスを、前記判定タイミングに対応する遅延時間だけ遅延させて前記保持部に出力し、
前記保持部は、前記比較部から受ける前記比較信号を前記タイミング調整部から受ける前記パルスに同期して取り込む
ことを特徴とする半導体装置。
(付記3)
付記1または付記2に記載の半導体装置において、
前記比較部は、
前記信号経路で発生した前記故障の種類に基づいて、前記伝搬信号と比較する前記閾値を、前記故障の種類毎に予め決められた前記閾値から選択する閾値選択部と、
前記閾値選択部で選択された前記閾値と前記伝搬信号との大小関係に応じた信号を前記比較信号として前記保持部に出力する比較信号生成部とを有する
ことを特徴とする半導体装置。
(付記4)
付記1または付記2に記載の半導体装置において、
前記故障の種類は、前記信号経路が開放状態になるオープン故障と前記信号経路が電源に短絡するショート故障とを含み、
前記オープン故障に対応付けられた前記閾値は、前記ショート故障に対応付けられた前記閾値より大きい電圧値に設定され、
前記比較部は、
前記オープン故障に対応付けられた前記閾値と前記伝搬信号との大小関係に応じた第1比較信号を生成する第1信号生成部と、
前記ショート故障に対応付けられた前記閾値と前記伝搬信号との大小関係に応じた第2比較信号を生成する第2信号生成部と、
前記第1比較信号および前記第2比較信号に基づいて前記比較信号を生成し、生成した前記比較信号を前記保持部に出力する比較信号生成部とを有する
ことを特徴とする半導体装置。
(付記5)
付記4に記載の半導体装置において、
前記第1信号生成部は、前記伝搬信号が前記オープン故障に対応付けられた前記閾値より大きい場合に真を示す前記第1比較信号を生成し、前記伝搬信号が前記オープン故障に対応付けられた前記閾値より小さい場合に偽を示す前記第1比較信号を生成し、
前記第2信号生成部は、前記伝搬信号が前記ショート故障に対応付けられた前記閾値より大きい場合に偽を示す前記第2比較信号を生成し、前記伝搬信号が前記ショート故障に対応付けられた前記閾値より小さい場合に真を示す前記第2比較信号を生成し、
前記比較信号生成部は、前記第1比較信号と前記第2比較信号との否定論理和を演算し、演算結果を前記比較信号として前記保持部に出力する
ことを特徴とする半導体装置。
(付記6)
互いに接続される複数の半導体装置を有する電子装置において、
前記複数の半導体装置のいずれかの半導体装置は、
試験用の信号を試験対象の端子から他の半導体装置に出力する試験信号出力部と、
前記試験対象の端子に伝搬される伝搬信号を受け、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値と前記伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成する比較部と、
前記試験対象の端子と前記他の半導体装置とを接続する配線の長さに基づいて決定された判定タイミングが設定されるタイミング調整部と、
前記比較信号を前記比較部から受け、前記判定タイミングで前記比較信号を取り込むことにより、前記故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として前記比較信号を保持する保持部とを有する
ことを特徴とする電子装置。
(付記7)
付記6に記載の電子装置において、
前記いずれかの半導体装置は、前記試験用の信号が前記試験信号出力部から出力されるタイミングに同期してパルスを生成し、生成した前記パルスを前記タイミング調整部に出力するパルス生成部をさらに有し、
前記タイミング調整部は、前記パルス生成部から受ける前記パルスを、前記判定タイミングに対応する遅延時間だけ遅延させて前記保持部に出力し、
前記保持部は、前記比較部から受ける前記比較信号を前記タイミング調整部から受ける前記パルスに同期して取り込む
ことを特徴とする電子装置。
(付記8)
付記6または付記7に記載の電子装置において、
前記比較部は、
前記信号経路で発生した前記故障の種類に基づいて、前記伝搬信号と比較する前記閾値を、前記故障の種類毎に予め決められた前記閾値から選択する閾値選択部と、
前記閾値選択部で選択された前記閾値と前記伝搬信号との大小関係に応じた信号を前記比較信号として前記保持部に出力する比較信号生成部とを有する
ことを特徴とする電子装置。
(付記9)
付記6または付記7に記載の電子装置において、
前記故障の種類は、前記信号経路が開放状態になるオープン故障と前記信号経路が電源に短絡するショート故障とを含み、
前記オープン故障に対応付けられた前記閾値は、前記ショート故障に対応付けられた前記閾値より大きい電圧値に設定され、
前記比較部は、
前記オープン故障に対応付けられた前記閾値と前記伝搬信号との大小関係に応じた第1比較信号を生成する第1信号生成部と、
前記ショート故障に対応付けられた前記閾値と前記伝搬信号との大小関係に応じた第2比較信号を生成する第2信号生成部と、
前記第1比較信号および前記第2比較信号に基づいて前記比較信号を生成し、生成した前記比較信号を前記保持部に出力する比較信号生成部とを有する
ことを特徴とする電子装置。
(付記10)
付記9に記載の電子装置において、
前記第1信号生成部は、前記伝搬信号が前記オープン故障に対応付けられた前記閾値より大きい場合に真を示す前記第1比較信号を生成し、前記伝搬信号が前記オープン故障に対応付けられた前記閾値より小さい場合に偽を示す前記第1比較信号を生成し、
前記第2信号生成部は、前記伝搬信号が前記ショート故障に対応付けられた前記閾値より大きい場合に偽を示す前記第2比較信号を生成し、前記伝搬信号が前記ショート故障に対応付けられた前記閾値より小さい場合に真を示す前記第2比較信号を生成し、
前記比較信号生成部は、前記第1比較信号と前記第2比較信号との否定論理和を演算し、演算結果を前記比較信号として前記保持部に出力する
ことを特徴とする電子装置。
(付記11)
互いに接続される複数の半導体装置を有する電子装置の試験方法において、
前記複数の半導体装置のいずれかの半導体装置が有する試験信号出力部が、試験用の信号を試験対象の端子から他の半導体装置に出力し、
前記いずれかの半導体装置が有する比較部が、前記試験対象の端子に伝搬される伝搬信号を受け、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値と前記伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成し、
前記いずれかの半導体装置が有する保持部が、前記比較信号を前記比較部から受け、前記試験対象の端子と前記他の半導体装置とを接続する配線の長さに基づいて決定された判定タイミングで前記比較信号を取り込むことにより、前記故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として前記比較信号を保持する
ことを特徴とする電子装置の試験方法。
(付記12)
付記11に記載の電子装置の試験方法において、
前記いずれかの半導体装置が有するパルス生成部が、前記試験用の信号が前記試験信号出力部から出力されるタイミングに同期してパルスを生成し、生成した前記パルスを前記いずれかの半導体装置が有するタイミング調整部に出力し、
前記タイミング調整部が、前記パルス生成部から受ける前記パルスを、前記判定タイミングに対応する遅延時間だけ遅延させて前記保持部に出力し、
前記保持部が、前記比較部から受ける前記比較信号を前記タイミング調整部から受ける前記パルスに同期して取り込む
ことを特徴とする電子装置の試験方法。
(付記13)
付記11または付記12に記載の電子装置の試験方法において、
前記比較部が有する閾値選択部が、前記信号経路で発生した前記故障の種類に基づいて、前記伝搬信号と比較する前記閾値を、前記故障の種類毎に予め決められた前記閾値から選択し、
前記比較部が有する比較信号生成部が、前記閾値選択部で選択された前記閾値と前記伝搬信号との大小関係に応じた信号を前記比較信号として前記保持部に出力する
ことを特徴とする電子装置の試験方法。
(付記14)
付記11または付記12に記載の電子装置の試験方法において、
前記故障の種類は、前記信号経路が開放状態になるオープン故障と前記信号経路が電源に短絡するショート故障とを含み、
前記オープン故障に対応付けられた前記閾値は、前記ショート故障に対応付けられた前記閾値より大きい電圧値に設定され、
前記比較部が有する第1信号生成部が、前記オープン故障に対応付けられた前記閾値と前記伝搬信号との大小関係に応じた第1比較信号を生成し、
前記比較部が有する第2信号生成部が、前記ショート故障に対応付けられた前記閾値と前記伝搬信号との大小関係に応じた第2比較信号を生成し、
前記比較部が有する比較信号生成部が、前記第1比較信号および前記第2比較信号に基づいて前記比較信号を生成し、生成した前記比較信号を前記保持部に出力する
ことを特徴とする電子装置の試験方法。
(付記15)
付記14に記載の電子装置の試験方法において、
前記第1信号生成部が、前記伝搬信号が前記オープン故障に対応付けられた前記閾値より大きい場合に真を示す前記第1比較信号を生成し、前記伝搬信号が前記オープン故障に対応付けられた前記閾値より小さい場合に偽を示す前記第1比較信号を生成し、
前記第2信号生成部が、前記伝搬信号が前記ショート故障に対応付けられた前記閾値より大きい場合に偽を示す前記第2比較信号を生成し、前記伝搬信号が前記ショート故障に対応付けられた前記閾値より小さい場合に真を示す前記第2比較信号を生成し、
前記比較信号生成部が、前記第1比較信号と前記第2比較信号との否定論理和を演算し、演算結果を前記比較信号として前記保持部に出力する
ことを特徴とする電子装置の試験方法。
(付記16)
互いに接続される複数の半導体装置を有し、前記複数の半導体装置のいずれかの半導体装置が、試験用の信号を試験対象の端子から他の半導体装置に出力する試験信号出力部と、前記試験対象の端子に伝搬される伝搬信号を受け、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値と前記伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成する比較部と、前記試験対象の端子と前記他の半導体装置とを接続する配線の長さに基づいて決定された判定タイミングが設定されるタイミング調整部と、前記比較信号を前記比較部から受け、前記判定タイミングで前記比較信号を取り込むことにより、前記故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として前記比較信号を保持する保持部とを有する電子装置の試験方法において、
前記電子装置を試験する試験装置が、
前記試験用の信号の論理値を変化させ、
前記判定タイミングで前記保持部に取り込まれた前記比較信号の論理値を、前記保持部から読み込み、
前記保持部から読み出した前記比較信号の論理値に基づいて、前記故障の発生箇所を判定する
ことを特徴とする電子装置の試験方法。
The inventions described in the above embodiments are organized and disclosed as an appendix as follows.
(Appendix 1)
In semiconductor devices connected to other semiconductor devices
A test signal output unit that outputs a test signal from the terminal to be tested to the other semiconductor device,
A comparison unit that receives the propagation signal propagated to the terminal to be tested, compares the threshold value according to the type of failure that occurred in the signal path with the propagation signal, and generates a comparison signal showing the comparison result.
A timing adjusting unit in which a determination timing determined based on the length of wiring connecting the terminal to be tested and the other semiconductor device is set, and a timing adjusting unit.
It is characterized by having a holding unit that holds the comparison signal as a signal used when determining the location where the failure has occurred by receiving the comparison signal from the comparison unit and taking in the comparison signal at the determination timing. Semiconductor device.
(Appendix 2)
In the semiconductor device described in
Further, it has a pulse generation unit that generates a pulse in synchronization with the timing at which the test signal is output from the test signal output unit and outputs the generated pulse to the timing adjustment unit.
The timing adjusting unit delays the pulse received from the pulse generating unit by a delay time corresponding to the determination timing and outputs the pulse to the holding unit.
The holding unit is a semiconductor device that captures the comparison signal received from the comparison unit in synchronization with the pulse received from the timing adjusting unit.
(Appendix 3)
In the semiconductor device according to
The comparison unit
A threshold selection unit that selects the threshold value to be compared with the propagated signal from the threshold values predetermined for each type of failure based on the type of the failure generated in the signal path.
A semiconductor device including a comparison signal generation unit that outputs a signal corresponding to the magnitude relationship between the threshold value selected by the threshold value selection unit and the propagation signal to the holding unit as the comparison signal.
(Appendix 4)
In the semiconductor device according to
The types of failures include an open failure in which the signal path is in an open state and a short circuit failure in which the signal path is short-circuited to a power source.
The threshold value associated with the open failure is set to a voltage value larger than the threshold value associated with the short failure.
The comparison unit
A first signal generation unit that generates a first comparison signal according to the magnitude relationship between the threshold value associated with the open failure and the propagation signal.
A second signal generation unit that generates a second comparison signal according to the magnitude relationship between the threshold value and the propagation signal associated with the short failure.
A semiconductor device including a comparison signal generation unit that generates the comparison signal based on the first comparison signal and the second comparison signal and outputs the generated comparison signal to the holding unit.
(Appendix 5)
In the semiconductor device described in Appendix 4,
The first signal generation unit generates the first comparison signal indicating true when the propagated signal is larger than the threshold value associated with the open failure, and the propagated signal is associated with the open failure. The first comparison signal indicating false when it is smaller than the threshold value is generated.
The second signal generation unit generates the second comparison signal indicating false when the propagate signal is larger than the threshold value associated with the short failure, and the propagate signal is associated with the short failure. The second comparison signal indicating true when it is smaller than the threshold value is generated.
The semiconductor device is characterized in that the comparison signal generation unit calculates a NOR of the first comparison signal and the second comparison signal, and outputs the calculation result as the comparison signal to the holding unit.
(Appendix 6)
In an electronic device having a plurality of semiconductor devices connected to each other
The semiconductor device of any of the plurality of semiconductor devices
A test signal output unit that outputs a test signal from the terminal to be tested to another semiconductor device,
A comparison unit that receives the propagation signal propagated to the terminal to be tested, compares the threshold value according to the type of failure that occurred in the signal path with the propagation signal, and generates a comparison signal showing the comparison result.
A timing adjusting unit in which a determination timing determined based on the length of wiring connecting the terminal to be tested and the other semiconductor device is set, and a timing adjusting unit.
It is characterized by having a holding unit that holds the comparison signal as a signal used when determining the location where the failure has occurred by receiving the comparison signal from the comparison unit and taking in the comparison signal at the determination timing. Electronic device.
(Appendix 7)
In the electronic device described in Appendix 6,
The semiconductor device further includes a pulse generation unit that generates a pulse in synchronization with the timing at which the test signal is output from the test signal output unit and outputs the generated pulse to the timing adjustment unit. Have and
The timing adjusting unit delays the pulse received from the pulse generating unit by a delay time corresponding to the determination timing and outputs the pulse to the holding unit.
The holding unit is an electronic device that captures the comparison signal received from the comparison unit in synchronization with the pulse received from the timing adjusting unit.
(Appendix 8)
In the electronic device according to Appendix 6 or Appendix 7,
The comparison unit
A threshold selection unit that selects the threshold value to be compared with the propagated signal from the threshold values predetermined for each type of failure based on the type of the failure generated in the signal path.
An electronic device including a comparison signal generation unit that outputs a signal corresponding to the magnitude relationship between the threshold value selected by the threshold value selection unit and the propagation signal to the holding unit as the comparison signal.
(Appendix 9)
In the electronic device according to Appendix 6 or Appendix 7,
The types of failures include an open failure in which the signal path is in an open state and a short circuit failure in which the signal path is short-circuited to a power source.
The threshold value associated with the open failure is set to a voltage value larger than the threshold value associated with the short failure.
The comparison unit
A first signal generation unit that generates a first comparison signal according to the magnitude relationship between the threshold value associated with the open failure and the propagation signal.
A second signal generation unit that generates a second comparison signal according to the magnitude relationship between the threshold value and the propagation signal associated with the short failure.
An electronic device including a comparison signal generation unit that generates the comparison signal based on the first comparison signal and the second comparison signal and outputs the generated comparison signal to the holding unit.
(Appendix 10)
In the electronic device described in Appendix 9,
The first signal generation unit generates the first comparison signal indicating true when the propagated signal is larger than the threshold value associated with the open failure, and the propagated signal is associated with the open failure. The first comparison signal indicating false when it is smaller than the threshold value is generated.
The second signal generation unit generates the second comparison signal indicating false when the propagate signal is larger than the threshold value associated with the short failure, and the propagate signal is associated with the short failure. The second comparison signal indicating true when it is smaller than the threshold value is generated.
The electronic device is characterized in that the comparison signal generation unit calculates a logical sum of the first comparison signal and the second comparison signal, and outputs the calculation result as the comparison signal to the holding unit.
(Appendix 11)
In a test method for an electronic device having a plurality of semiconductor devices connected to each other,
The test signal output unit of any of the plurality of semiconductor devices outputs a test signal from the terminal to be tested to the other semiconductor device.
The comparison unit of any of the semiconductor devices receives the propagated signal propagated to the terminal to be tested, compares the threshold value according to the type of failure generated in the signal path with the propagated signal, and compares the result. Generate a comparison signal to show
The holding unit of any of the semiconductor devices receives the comparison signal from the comparison unit, and at a determination timing determined based on the length of the wiring connecting the terminal to be tested and the other semiconductor device. A method for testing an electronic device, which comprises capturing the comparison signal and holding the comparison signal as a signal used when determining a location where the failure has occurred.
(Appendix 12)
In the method for testing an electronic device according to Appendix 11,
The pulse generation unit of any of the semiconductor devices generates a pulse in synchronization with the timing at which the test signal is output from the test signal output unit, and the generated pulse is generated by the semiconductor device. Output to the timing adjustment unit that has
The timing adjusting unit delays the pulse received from the pulse generating unit by a delay time corresponding to the determination timing and outputs the pulse to the holding unit.
A test method for an electronic device, wherein the holding unit captures the comparison signal received from the comparison unit in synchronization with the pulse received from the timing adjusting unit.
(Appendix 13)
In the test method for the electronic device according to Appendix 11 or Appendix 12,
The threshold selection unit included in the comparison unit selects the threshold value to be compared with the propagation signal from the threshold values predetermined for each type of failure based on the type of the failure generated in the signal path.
An electron characterized in that the comparison signal generation unit included in the comparison unit outputs a signal corresponding to the magnitude relationship between the threshold value selected by the threshold value selection unit and the propagation signal to the holding unit as the comparison signal. How to test the device.
(Appendix 14)
In the test method for the electronic device according to Appendix 11 or Appendix 12,
The types of failures include an open failure in which the signal path is in an open state and a short circuit failure in which the signal path is short-circuited to a power source.
The threshold value associated with the open failure is set to a voltage value larger than the threshold value associated with the short failure.
The first signal generation unit included in the comparison unit generates a first comparison signal according to the magnitude relationship between the threshold value associated with the open failure and the propagation signal.
The second signal generation unit included in the comparison unit generates a second comparison signal according to the magnitude relationship between the threshold value associated with the short failure and the propagation signal.
An electron characterized in that a comparison signal generation unit included in the comparison unit generates the comparison signal based on the first comparison signal and the second comparison signal, and outputs the generated comparison signal to the holding unit. How to test the device.
(Appendix 15)
In the method for testing an electronic device according to Appendix 14,
The first signal generation unit generates the first comparison signal indicating true when the propagated signal is larger than the threshold value associated with the open failure, and the propagated signal is associated with the open failure. The first comparison signal indicating false when it is smaller than the threshold value is generated.
The second signal generation unit generates the second comparison signal indicating false when the propagate signal is larger than the threshold value associated with the short failure, and the propagate signal is associated with the short failure. The second comparison signal indicating true when it is smaller than the threshold value is generated.
A test method for an electronic device, wherein the comparison signal generation unit calculates a NOR of the first comparison signal and the second comparison signal, and outputs the calculation result as the comparison signal to the holding unit. ..
(Appendix 16)
A test signal output unit having a plurality of semiconductor devices connected to each other and one of the plurality of semiconductor devices outputs a test signal from a terminal to be tested to another semiconductor device, and the test. A comparison unit that receives the propagation signal propagated to the target terminal, compares the threshold value according to the type of failure that occurred in the signal path with the propagated signal, and generates a comparison signal showing the comparison result, and the test target. A timing adjustment unit in which a determination timing determined based on the length of the wiring connecting the terminal and the other semiconductor device is set, and the comparison signal is received from the comparison unit, and the comparison signal is received at the determination timing. In the test method of an electronic device having a holding unit that holds the comparison signal as a signal used when determining the location where the failure has occurred by incorporating the signal.
The test device for testing the electronic device is
By changing the logical value of the test signal,
The logical value of the comparison signal taken into the holding unit at the determination timing is read from the holding unit.
A method for testing an electronic device, which comprises determining a location where a failure occurs based on a logical value of the comparison signal read from the holding unit.
以上の詳細な説明により、実施形態の特徴点および利点は明らかになるであろう。これは、特許請求の範囲がその精神および権利範囲を逸脱しない範囲で前述のような実施形態の特徴点および利点にまで及ぶことを意図するものである。また、当該技術分野において通常の知識を有する者であれば、あらゆる改良および変更に容易に想到できるはずである。したがって、発明性を有する実施形態の範囲を前述したものに限定する意図はなく、実施形態に開示された範囲に含まれる適当な改良物および均等物に拠ることも可能である。 The above detailed description will clarify the features and advantages of the embodiments. It is intended that the claims extend to the features and advantages of the embodiments as described above, without departing from their spirit and scope of rights. Also, anyone with ordinary knowledge in the art should be able to easily come up with any improvements or changes. Therefore, there is no intention to limit the scope of the embodiments having invention to those described above, and it is possible to rely on suitable improvements and equivalents included in the scope disclosed in the embodiments.
10‥電子装置;20‥半導体装置;30‥端子;40‥試験信号出力部;50‥比較部;60‥タイミング調整部;70‥保持部;100、102、104、106‥電子装置;200、202、204、206‥半導体装置;300‥端子;400、402‥試験回路;410、412‥TAPコントローラ;420‥バウンダリセル;430‥出力バッファ;440‥パルス生成部;500、502、504‥比較部;510‥閾値選択部;520、522‥信号比較部;530‥インバータ;540‥ノア回路;550‥セレクタ;600、602‥遅延部;610‥セレクタ;700‥保持部;1000‥試験装置 10 Electronic device; 20 Semiconductor device; 30 Terminal; 40 Test signal output unit; 50 Comparison unit; 60 Timing adjustment unit; 70 Holding unit; 100, 102, 104, 106 Electronic device; 200, 202, 204, 206 ... Semiconductor device; 300 ... Terminal; 400, 402 ... Test circuit; 410, 412 ... TAP controller; 420 ... Boundary cell; 430 ... Output buffer; 440 ... Pulse generator; 500, 502, 504 ... Comparison Unit; 510 ... Threshold selection unit; 520 ... Signal comparison unit; 530 ... Inverter; 540 ... Noah circuit; 550 ... Selector; 600, 602 ... Delay part; 610 ... Selector; 700 ... Holding unit; 1000 ... Test device
Claims (7)
試験用の信号を試験対象の端子から前記他の半導体装置に出力する試験信号出力部と、
前記試験対象の端子に伝搬される伝搬信号を受け、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値と前記伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成する比較部と、
前記試験対象の端子と前記他の半導体装置とを接続する配線の長さに基づいて決定された判定タイミングが設定されるタイミング調整部と、
前記比較信号を前記比較部から受け、前記判定タイミングで前記比較信号を取り込むことにより、前記故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として前記比較信号を保持する保持部とを有する
ことを特徴とする半導体装置。 In semiconductor devices connected to other semiconductor devices
A test signal output unit that outputs a test signal from the terminal to be tested to the other semiconductor device,
A comparison unit that receives the propagation signal propagated to the terminal to be tested, compares the threshold value according to the type of failure that occurred in the signal path with the propagation signal, and generates a comparison signal showing the comparison result.
A timing adjusting unit in which a determination timing determined based on the length of the wiring connecting the terminal to be tested and the other semiconductor device is set, and a timing adjusting unit.
It is characterized by having a holding unit that holds the comparison signal as a signal used when determining the location where the failure has occurred by receiving the comparison signal from the comparison unit and taking in the comparison signal at the determination timing. Semiconductor device.
前記試験用の信号が前記試験信号出力部から出力されるタイミングに同期してパルスを生成し、生成した前記パルスを前記タイミング調整部に出力するパルス生成部をさらに有し、
前記タイミング調整部は、前記パルス生成部から受ける前記パルスを、前記判定タイミングに対応する遅延時間だけ遅延させて前記保持部に出力し、
前記保持部は、前記比較部から受ける前記比較信号を前記タイミング調整部から受ける前記パルスに同期して取り込む
ことを特徴とする半導体装置。 In the semiconductor device according to claim 1,
Further, it has a pulse generation unit that generates a pulse in synchronization with the timing at which the test signal is output from the test signal output unit and outputs the generated pulse to the timing adjustment unit.
The timing adjusting unit delays the pulse received from the pulse generating unit by a delay time corresponding to the determination timing and outputs the pulse to the holding unit.
The holding unit is a semiconductor device that captures the comparison signal received from the comparison unit in synchronization with the pulse received from the timing adjusting unit.
前記比較部は、
前記信号経路で発生した前記故障の種類に基づいて、前記伝搬信号と比較する前記閾値を、前記故障の種類毎に予め決められた前記閾値から選択する閾値選択部と、
前記閾値選択部で選択された前記閾値と前記伝搬信号との大小関係に応じた信号を前記比較信号として前記保持部に出力する比較信号生成部とを有する
ことを特徴とする半導体装置。 In the semiconductor device according to claim 1 or 2.
The comparison unit
A threshold selection unit that selects the threshold value to be compared with the propagated signal from the threshold values predetermined for each type of failure based on the type of the failure generated in the signal path.
A semiconductor device including a comparison signal generation unit that outputs a signal corresponding to the magnitude relationship between the threshold value selected by the threshold value selection unit and the propagation signal to the holding unit as the comparison signal.
前記故障の種類は、前記信号経路が開放状態になるオープン故障と前記信号経路が電源に短絡するショート故障とを含み、
前記オープン故障に対応付けられた前記閾値は、前記ショート故障に対応付けられた前記閾値より大きい電圧値に設定され、
前記比較部は、
前記オープン故障に対応付けられた前記閾値と前記伝搬信号との大小関係に応じた第1比較信号を生成する第1信号生成部と、
前記ショート故障に対応付けられた前記閾値と前記伝搬信号との大小関係に応じた第2比較信号を生成する第2信号生成部と、
前記第1比較信号および前記第2比較信号に基づいて前記比較信号を生成し、生成した前記比較信号を前記保持部に出力する比較信号生成部とを有する
ことを特徴とする半導体装置。 In the semiconductor device according to claim 1 or 2.
The types of failures include an open failure in which the signal path is in an open state and a short circuit failure in which the signal path is short-circuited to a power source.
The threshold value associated with the open failure is set to a voltage value larger than the threshold value associated with the short failure.
The comparison unit
A first signal generation unit that generates a first comparison signal according to the magnitude relationship between the threshold value associated with the open failure and the propagation signal.
A second signal generation unit that generates a second comparison signal according to the magnitude relationship between the threshold value and the propagation signal associated with the short failure.
A semiconductor device including a comparison signal generation unit that generates the comparison signal based on the first comparison signal and the second comparison signal and outputs the generated comparison signal to the holding unit.
前記第1信号生成部は、前記伝搬信号が前記オープン故障に対応付けられた前記閾値より大きい場合に真を示す前記第1比較信号を生成し、前記伝搬信号が前記オープン故障に対応付けられた前記閾値より小さい場合に偽を示す前記第1比較信号を生成し、
前記第2信号生成部は、前記伝搬信号が前記ショート故障に対応付けられた前記閾値より大きい場合に偽を示す前記第2比較信号を生成し、前記伝搬信号が前記ショート故障に対応付けられた前記閾値より小さい場合に真を示す前記第2比較信号を生成し、
前記比較信号生成部は、前記第1比較信号と前記第2比較信号との否定論理和を演算し、演算結果を前記比較信号として前記保持部に出力する
ことを特徴とする半導体装置。 In the semiconductor device according to claim 4,
The first signal generation unit generates the first comparison signal indicating true when the propagated signal is larger than the threshold value associated with the open failure, and the propagated signal is associated with the open failure. The first comparison signal indicating false when it is smaller than the threshold value is generated.
The second signal generation unit generates the second comparison signal indicating false when the propagate signal is larger than the threshold value associated with the short failure, and the propagate signal is associated with the short failure. The second comparison signal indicating true when it is smaller than the threshold value is generated.
The semiconductor device is characterized in that the comparison signal generation unit calculates a NOR of the first comparison signal and the second comparison signal, and outputs the calculation result as the comparison signal to the holding unit.
前記複数の半導体装置のいずれかの半導体装置は、
試験用の信号を試験対象の端子から他の半導体装置に出力する試験信号出力部と、
前記試験対象の端子に伝搬される伝搬信号を受け、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値と前記伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成する比較部と、
前記試験対象の端子と前記他の半導体装置とを接続する配線の長さに基づいて決定された判定タイミングが設定されるタイミング調整部と、
前記比較信号を前記比較部から受け、前記判定タイミングで前記比較信号を取り込むことにより、前記故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として前記比較信号を保持する保持部とを有する
ことを特徴とする電子装置。 In an electronic device having a plurality of semiconductor devices connected to each other
The semiconductor device of any of the plurality of semiconductor devices
A test signal output unit that outputs a test signal from the terminal to be tested to another semiconductor device,
A comparison unit that receives the propagation signal propagated to the terminal to be tested, compares the threshold value according to the type of failure that occurred in the signal path with the propagation signal, and generates a comparison signal showing the comparison result.
A timing adjusting unit in which a determination timing determined based on the length of the wiring connecting the terminal to be tested and the other semiconductor device is set, and a timing adjusting unit.
It is characterized by having a holding unit that holds the comparison signal as a signal used when determining the location where the failure has occurred by receiving the comparison signal from the comparison unit and taking in the comparison signal at the determination timing. Electronic device.
前記複数の半導体装置のいずれかの半導体装置が有する試験信号出力部が、試験用の信号を試験対象の端子から他の半導体装置に出力し、
前記いずれかの半導体装置が有する比較部が、前記試験対象の端子に伝搬される伝搬信号を受け、信号経路で発生した故障の種類に応じた閾値と前記伝搬信号とを比較し、比較結果を示す比較信号を生成し、
前記いずれかの半導体装置が有する保持部が、前記比較信号を前記比較部から受け、前記試験対象の端子と前記他の半導体装置とを接続する配線の長さに基づいて決定された判定タイミングで前記比較信号を取り込むことにより、前記故障の発生箇所を判定する際に使用する信号として前記比較信号を保持する
ことを特徴とする電子装置の試験方法。 In a test method for an electronic device having a plurality of semiconductor devices connected to each other,
The test signal output unit of any of the plurality of semiconductor devices outputs a test signal from the terminal to be tested to the other semiconductor device.
The comparison unit of any of the semiconductor devices receives the propagated signal propagated to the terminal to be tested, compares the threshold value according to the type of failure generated in the signal path with the propagated signal, and compares the result. Generate a comparison signal to show
The holding unit of any of the semiconductor devices receives the comparison signal from the comparison unit, and at a determination timing determined based on the length of the wiring connecting the terminal to be tested and the other semiconductor device. A method for testing an electronic device, which comprises capturing the comparison signal and holding the comparison signal as a signal used when determining a location where the failure has occurred.
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