JP6789771B2 - Electrophotographic components, process cartridges and electrophotographic equipment - Google Patents

Electrophotographic components, process cartridges and electrophotographic equipment Download PDF

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Description

本発明は、電子写真装置に用いられる電子写真用部材、該電子写真用部材を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。 The present invention relates to an electrophotographic member used in an electrophotographic apparatus, a process cartridge having the electrophotographic member, and an electrophotographic apparatus.

電子写真装置において、現像ローラ、帯電部材、トナー供給ローラ、クリーニングブレードおよび現像ブレードの如き電子写真用部材として、例えば、1×10〜1×10Ωの如き電気抵抗値(以降、「抵抗値」という)を有する導電層を備えた電子写真用部材が用いられている。特許文献1には、特定のカチオン構造を有するイオン液体を導電剤として含むゴム状弾性体からなる導電性ゴム部材をコア部材の周囲に設けた導電性ロールが記載されている。また、特許文献2には、軸体の外周面に形成された弾性層と、該弾性層の外周面に形成されたウレタンコート層を有し、該ウレタンコート層が、ウレタン樹脂と、ピリジニウム系イオン液体およびアミン系イオン液体から選ばれる少なくとも一方のイオン液体とを含む導電性ローラが記載されている。 In an electrophotographic apparatus, as an electrophotographic member such as a developing roller, a charging member, a toner supply roller, a cleaning blade, and a developing blade, an electric resistance value such as 1 × 10 5 to 1 × 10 9 Ω (hereinafter, “resistance”). An electrophotographic member having a conductive layer (referred to as "value") is used. Patent Document 1 describes a conductive roll in which a conductive rubber member made of a rubber-like elastic body containing an ionic liquid having a specific cation structure as a conductive agent is provided around the core member. Further, Patent Document 2 has an elastic layer formed on the outer peripheral surface of the shaft body and a urethane coat layer formed on the outer peripheral surface of the elastic layer, and the urethane coat layer is a urethane resin and a pyridinium type. Conductive rollers containing at least one ionic liquid selected from ionic liquids and amine-based ionic liquids are described.

特開2003−202722号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-202722 特開2011−53658号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-53658

近年、電子写真装置には、より苛酷な環境下においても高画質、高耐久性を維持できることが求められている。本発明者らの検討によれば、特許文献1に係る導電性ロールや特許文献2に係る導電性ローラは、特に温度0℃の如き低温環境下において抵抗値が上昇する場合があった。 In recent years, electrophotographic devices are required to be able to maintain high image quality and high durability even in a harsher environment. According to the study by the present inventors, the resistance value of the conductive roll according to Patent Document 1 and the conductive roller according to Patent Document 2 may increase particularly in a low temperature environment such as a temperature of 0 ° C.

本発明は、温度0℃の如き低温環境下においても抵抗値の上昇が少ない電子写真用部材の提供に向けたものである。また、本発明は、高品位な電子写真画像を安定して出力できる電子写真装置およびそれに用いられるプロセスカートリッジの提供に向けたものである。 The present invention is aimed at providing an electrophotographic member having a small increase in resistance value even in a low temperature environment such as a temperature of 0 ° C. The present invention also aims to provide an electrophotographic apparatus capable of stably outputting a high-quality electrophotographic image and a process cartridge used therein.

本発明の一態様によれば、導電性の基体と樹脂層とを有する電子写真用部材であって、該樹脂層は、下記構造式(1)および(2)からなる群より選択される少なくとも1つの構造と、下記構造式(3)〜(6)からなる群より選択される少なくとも1つのカチオン構造とを有する樹脂と、アニオンと、を含む電子写真用部材が提供される: According to one aspect of the present invention, it is an electrophotographic member having a conductive substrate and a resin layer, and the resin layer is at least selected from the group consisting of the following structural formulas (1) and (2). Provided is an electrophotographic member comprising a resin having one structure and at least one cation structure selected from the group consisting of the following structural formulas (3) to (6), and an anion:

Figure 0006789771
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(構造式(1)中、R1は、水素原子、フッ素原子またはメチル基を表す。X1は、式(X101)もしくは(X102)から選択されるいずれかの構造またはフッ素原子を表す: (In structural formula (1), R1 represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a methyl group. X1 represents any structure or fluorine atom selected from the formula (X101) or (X102):

Figure 0006789771
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式(X101)および(X102)中、Y1は、炭素数1以上6以下のフルオロアルキル基を表す。); In formulas (X101) and (X102), Y1 represents a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. );

Figure 0006789771
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(構造式(2)中、R2は、水素原子またはメチル基を表す。X2は、式(X201)または(X202)から選択されるいずれかの構造を表す。 (In the structural formula (2), R2 represents a hydrogen atom or a methyl group. X2 represents any structure selected from the formula (X201) or (X202).

Figure 0006789771
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式(X201)および(X202)中、R3〜R5は、各々独立に、炭素数1以上4以下の炭化水素鎖を表す。Y2は、直鎖または分岐を有するシリコーン基を表す。); In formulas (X201) and (X202), R3 to R5 each independently represent a hydrocarbon chain having 1 or more and 4 or less carbon atoms. Y2 represents a straight or branched silicone group. );

Figure 0006789771
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(構造式(3)中、R6は、水素原子または炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。Z1〜Z3のうちの少なくとも1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造を表し、それ以外は、炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。 (In the structural formula (3), R6 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 or more and 4 or less carbon atoms. At least one of Z1 to Z3 is a group consisting of structural formulas (Z101) to (Z103). Represents one of the structures selected from the above, and represents a hydrocarbon group having 1 or more and 4 or less carbon atoms.

Figure 0006789771
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(構造式(4)中、R7およびR8は、各々独立に、構造式(4)における含窒素複素環が、5員環、6員環または7員環を形成するために必要な炭化水素鎖を表す。Z4〜Z7のうちの少なくとも1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造を表し、それ以外は、水素原子または炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。構造式(4)における含窒素複素環に含まれる2つのNのうち一方はNである。) (In the structural formula (4), R7 and R8 are independently each of the hydrocarbon chains required for the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (4) to form a 5-membered ring, a 6-membered ring or a 7-membered ring. Represents at least one of Z4 to Z7 represents any structure selected from the group consisting of structural formulas (Z101) to (Z103), and the others represent hydrogen atoms or carbon atoms 1 or more and 4 or less. One of the two Ns contained in the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (4) is N + .)

Figure 0006789771
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(構造式(5)中、R9は、構造式(5)における含窒素複素環が、5員環、6員環または7員環を形成するために必要な炭化水素鎖を表す。Z8〜Z10のうちの少なくとも1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造を表し、それ以外は、水素原子または炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。) (In the structural formula (5), R9 represents a hydrocarbon chain required for the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (5) to form a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a 7-membered ring. Z8 to Z10. At least one of them represents any structure selected from the group consisting of structural formulas (Z101) to (Z103), and the other represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 or more and 4 or less carbon atoms. .)

Figure 0006789771
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(構造式(6)中、R10は、構造式(6)における含窒素複素環が、5員環、6員環または7員環を形成するために必要な炭化水素鎖を表す。Z11〜Z13のうちの少なくとも1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造を表し、それ以外は、水素原子または炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。) (In the structural formula (6), R10 represents a hydrocarbon chain required for the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (6) to form a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a 7-membered ring. Z11 to Z13. At least one of them represents any structure selected from the group consisting of structural formulas (Z101) to (Z103), and the other represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 or more and 4 or less carbon atoms. .)

Figure 0006789771
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(構造式(Z101)〜(Z103)中、R11、R12およびR13は、各々独立に、直鎖または分岐を有する炭化水素鎖を表す。記号「*」は、構造式(3)における窒素原子との結合部位、または、構造式(4)〜(6)における含窒素複素環を構成する窒素原子もしくは炭素原子との結合部位を表し、記号「**」は、該樹脂を構成するポリマー鎖中の炭素原子との結合部位を表す。)。 (In the structural formulas (Z101) to (Z103), R11, R12 and R13 each independently represent a hydrocarbon chain having a straight chain or a branch. The symbol "*" represents a nitrogen atom in the structural formula (3). Represents the bond site with the nitrogen atom or carbon atom constituting the nitrogen-containing heterocycle in the structural formulas (4) to (6), and the symbol "**" represents the bond site with the nitrogen atom or carbon atom constituting the resin. Represents the bond site with the carbon atom of.).

また、本発明の他の態様によれば、電子写真装置の本体に着脱可能に構成されているプロセスカートリッジであって、電子写真用部材の少なくとも1つが、上記の電子写真用部材であるプロセスカートリッジが提供される。
さらに、本発明の他の態様によれば、電子写真感光体を備えている電子写真装置であって、電子写真用部材の少なくとも1つが、上記の電子写真用部材である電子写真装置が提供される。
Further, according to another aspect of the present invention, the process cartridge is a process cartridge that is detachably attached to the main body of the electrophotographic apparatus, and at least one of the electrophotographic members is the above-mentioned electrophotographic member. Is provided.
Further, according to another aspect of the present invention, there is provided an electrophotographic apparatus including an electrophotographic photosensitive member, wherein at least one of the electrophotographic members is the above-mentioned electrophotographic member. To.

本発明の一態様によれば、温度0℃の如き低温環境下においても抵抗値の上昇が少ない電子写真用部材が得られる。また本発明の他の態様によれば、高品位な電子写真画像を安定して出力できる電子写真装置およびそれに用いられるプロセスカートリッジが得られる。 According to one aspect of the present invention, an electrophotographic member having a small increase in resistance value can be obtained even in a low temperature environment such as a temperature of 0 ° C. Further, according to another aspect of the present invention, an electrophotographic apparatus capable of stably outputting a high-quality electrophotographic image and a process cartridge used therein can be obtained.

本発明の一実施形態に係る電子写真用ローラの概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of the roller for electrophotographic which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る電子写真用ブレードの概略断面図である。It is schematic cross-sectional view of the electrophotographic blade which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る電子写真装置の概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of the electrophotographic apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るプロセスカートリッジの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the process cartridge which concerns on one Embodiment of this invention. 現像ローラの抵抗値を評価するための冶具の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the jig for evaluating the resistance value of a developing roller.

本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた。その結果、特定の化学構造を有する樹脂とアニオンとを樹脂層に含む電子写真用部材を用いることにより、温度0℃の如き低温環境下においても抵抗値の上昇が抑制されることを見出し、本発明を為すに至った。 The present inventors have made extensive studies to achieve the above object. As a result, they have found that by using an electrophotographic member containing a resin having a specific chemical structure and an anion in the resin layer, an increase in resistance value is suppressed even in a low temperature environment such as a temperature of 0 ° C. I came to make an invention.

(1)電子写真用部材
本発明の一実施形態に係る電子写真用部材は、導電性の基体と、該基体上の少なくとも一層の導電性の樹脂層を有する。
(1) Electrophotographic member The electrophotographic member according to an embodiment of the present invention has a conductive substrate and at least one conductive resin layer on the substrate.

電子写真用部材の一例として、ローラ形状の電子写真用部材(電子写真用ローラ)を図1(a)〜(c)に示す。図1(a)に示す電子写真用ローラ1Aは、導電性の基体2と、その外周に設けられた導電性の樹脂層3とからなる。図1(b)に示すように、基体2と樹脂層3との間に、さらに弾性層4が設けられていてもよい。また、電子写真用ローラ1Aは、図1(c)に示すように、弾性層4と樹脂層3の間に中間層5を配置した3層構造であってもよく、中間層5が複数配置された多層構成であってもよい。電子写真用ローラ1Aにおいて、本発明の一実施形態に係る効果をより効果的に奏するためには、図1(a)〜(c)に示すように、樹脂層3が電子写真用ローラ1Aの最表層として存在していることが好ましい。また、電子写真用ローラ1Aは、弾性層4を有することが好ましい。
なお、電子写真用ローラ1Aの層構成は、樹脂層3が電子写真用ローラ1Aの最表層に存在するものに限定されるものではない。電子写真用ローラ1Aの具体例としては、基体2とその外周に設けられた導電性の樹脂層3の上にさらに表面層を有するものや、樹脂層3を中間層5として有するものが挙げられる。
As an example of the electrophotographic member, roller-shaped electrophotographic members (electrophotograph rollers) are shown in FIGS. 1 (a) to 1 (c). The electrophotographic roller 1A shown in FIG. 1A is composed of a conductive substrate 2 and a conductive resin layer 3 provided on the outer periphery thereof. As shown in FIG. 1B, an elastic layer 4 may be further provided between the substrate 2 and the resin layer 3. Further, as shown in FIG. 1C, the electrophotographic roller 1A may have a three-layer structure in which an intermediate layer 5 is arranged between the elastic layer 4 and the resin layer 3, and a plurality of intermediate layers 5 are arranged. It may have a multi-layered structure. In order to more effectively exert the effect according to the embodiment of the present invention in the electrophotographic roller 1A, as shown in FIGS. 1A to 1C, the resin layer 3 is the electrophotographic roller 1A. It preferably exists as the outermost layer. Further, the electrophotographic roller 1A preferably has an elastic layer 4.
The layer structure of the electrophotographic roller 1A is not limited to the resin layer 3 existing on the outermost surface layer of the electrophotographic roller 1A. Specific examples of the electrophotographic roller 1A include those having a surface layer on the substrate 2 and the conductive resin layer 3 provided on the outer periphery thereof, and those having the resin layer 3 as an intermediate layer 5. ..

また、電子写真用部材の他の例として、ブレード形状の電子写真用部材(電子写真用ブレード)が挙げられる。図2(a)、(b)は、電子写真用ブレード1Bの概略断面図である。図2(a)に示す電子写真用ブレード1Bは、導電性の基体2と、その外周に設けられた導電性の樹脂層3とから構成されている。図2(b)に示す電子写真用ブレード1Bにおいては、基体2と樹脂層3との間にさらに弾性層4が設けられている。 Further, as another example of the electrophotographic member, a blade-shaped electrophotographic member (electrophotograph blade) can be mentioned. 2 (a) and 2 (b) are schematic cross-sectional views of the electrophotographic blade 1B. The electrophotographic blade 1B shown in FIG. 2A is composed of a conductive substrate 2 and a conductive resin layer 3 provided on the outer periphery thereof. In the electrophotographic blade 1B shown in FIG. 2B, an elastic layer 4 is further provided between the substrate 2 and the resin layer 3.

電子写真用部材は、現像ローラ、帯電部材、トナー供給ローラ、現像ブレード、およびクリーニングブレードに用いることが可能である。特に、現像ローラ、現像ブレードおよびトナー供給ローラとして好適に用いることが可能である。以下、本発明の一実施形態に係る電子写真用部材の構成を詳細に説明する。 The electrophotographic member can be used for a developing roller, a charging member, a toner supply roller, a developing blade, and a cleaning blade. In particular, it can be suitably used as a developing roller, a developing blade, and a toner supply roller. Hereinafter, the configuration of the electrophotographic member according to the embodiment of the present invention will be described in detail.

<基体>
基体2は、電子写真用部材の支持部材、および場合によっては電極として機能する。基体2は、アルミニウム、銅合金、ステンレス鋼の如き金属または合金;クロム又はニッケルで鍍金処理を施した鉄;導電性を有する合成樹脂の如き導電性の材質で構成される。電子写真用部材がローラ形状である場合、基体2は、中実円柱状または中空円筒状であり、電子写真用部材がブレード形状である場合、基体2は、薄板形状である。
<Hpokeimenon>
The substrate 2 functions as a support member for the electrophotographic member and, in some cases, as an electrode. The substrate 2 is made of a metal or alloy such as aluminum, copper alloy, stainless steel; iron plated with chromium or nickel; a conductive material such as a conductive synthetic resin. When the electrophotographic member has a roller shape, the base 2 has a solid cylindrical shape or a hollow cylindrical shape, and when the electrophotographic member has a blade shape, the base 2 has a thin plate shape.

<弾性層>
弾性層4は、特に、電子写真用部材がローラ形状である場合において(電子写真用ローラ1A)、電子写真用ローラ1Aと感光体との当接部において、所定の幅のニップを形成するために必要な弾性を電子写真用ローラ1Aに与えるものである。弾性層4は、ゴム材料の成形体であることが好ましい。ゴム材料としては、以下のものが挙げられる。エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム、アクリルニトリル−ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、フッ素ゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、ウレタンゴム。これらは1種を単独で、または2種以上を混合して用いることができる。これらの中でも、圧縮永久歪みおよび柔軟性の観点から、シリコーンゴムが好ましい。シリコーンゴムとしては、付加硬化型のシリコーンゴムの硬化物が挙げられる。
<Elastic layer>
The elastic layer 4 forms a nip having a predetermined width at the contact portion between the electrophotographic roller 1A and the photoconductor, particularly when the electrophotographic member has a roller shape (electrophotograph roller 1A). The elastic required for the electrophotographic roller 1A is provided. The elastic layer 4 is preferably a molded product made of a rubber material. Examples of the rubber material include the following. Ethylene-propylene-diene copolymer rubber, acrylic nitrile-butadiene rubber, chloroprene rubber, natural rubber, isoprene rubber, styrene-butadiene rubber, fluororubber, silicone rubber, epichlorohydrin rubber, urethane rubber. These can be used alone or in admixture of two or more. Among these, silicone rubber is preferable from the viewpoint of compression set and flexibility. Examples of the silicone rubber include a cured product of an addition-curable silicone rubber.

弾性層4の成形方法としては、液状ゴム材料を型成形する方法や、混練ゴム材料を押出し成形する方法が挙げられる。弾性層の厚さは、0.3mm以上4.0mm以下であることが好ましい。 Examples of the molding method of the elastic layer 4 include a method of molding a liquid rubber material and a method of extruding a kneaded rubber material. The thickness of the elastic layer is preferably 0.3 mm or more and 4.0 mm or less.

弾性層4には、導電性を付与するために、導電性付与剤が適宜配合される。導電性付与剤としては、カーボンブラック;アルミニウム、銅の如き導電性金属;酸化錫、酸化チタンの如き導電性金属酸化物の微粒子を用いることができる。これらの中でも、比較的容易に入手でき、良好な導電性が得られる点から、カーボンブラックが好ましい。導電性付与剤としてカーボンブラックを用いる場合は、ゴム100質量部に対してカーボンブラックを2〜50質量部配合することが好ましい。 A conductivity-imparting agent is appropriately added to the elastic layer 4 in order to impart conductivity. As the conductivity-imparting agent, fine particles of conductive metal oxide such as carbon black; aluminum and copper; and conductive metal oxide such as tin oxide and titanium oxide can be used. Among these, carbon black is preferable because it can be obtained relatively easily and good conductivity can be obtained. When carbon black is used as the conductivity-imparting agent, it is preferable to add 2 to 50 parts by mass of carbon black to 100 parts by mass of rubber.

弾性層4には、非導電性充填剤、架橋剤、触媒の如き各種添加剤が適宜配合されていてもよい。非導電性充填剤としては、シリカ、石英粉末、酸化チタン、又は炭酸カルシウムが挙げられる。架橋剤としては、ジ−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン又はジクミルパーオキサイドが挙げられる。触媒としては、白金触媒が挙げられる。 Various additives such as a non-conductive filler, a cross-linking agent, and a catalyst may be appropriately blended in the elastic layer 4. Non-conductive fillers include silica, quartz powder, titanium oxide, or calcium carbonate. Examples of the cross-linking agent include di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butyl peroxy) hexane or dicumyl peroxide. Examples of the catalyst include a platinum catalyst.

<樹脂層>
以下、本発明の一実施形態における樹脂層3の構成について、詳細に説明する。本発明の一実施形態に係る樹脂層は、前記構造式(1)および(2)からなる群より選択される少なくとも1つの構造と、前記構造式(3)〜(6)からなる群より選択される少なくとも1つの構造とを有する樹脂と、アニオンとを含む。
<Resin layer>
Hereinafter, the configuration of the resin layer 3 according to the embodiment of the present invention will be described in detail. The resin layer according to one embodiment of the present invention is selected from at least one structure selected from the group consisting of the structural formulas (1) and (2) and the group consisting of the structural formulas (3) to (6). Includes a resin having at least one structure and an anion.

本発明に係る樹脂のうち、構造式(1)で示される構造は、例えば、フルオロエチレン、フルオロアルキル基を有するビニル化合物、フルオロアルキル基を有する(メタ)アクリレートに由来する構造を表す。また、構造式(2)で示される構造は、例えば、シリコーン基を有する(メタ)アクリレートに由来する構造を表す。なお、「(メタ)アクリレート」は、メタクリレートあるいはアクリレートを意味する(以下、同様)。 Among the resins according to the present invention, the structure represented by the structural formula (1) represents, for example, a structure derived from fluoroethylene, a vinyl compound having a fluoroalkyl group, or a (meth) acrylate having a fluoroalkyl group. The structure represented by the structural formula (2) represents, for example, a structure derived from a (meth) acrylate having a silicone group. In addition, "(meth) acrylate" means methacrylate or acrylate (hereinafter, the same applies).

同様に、構造式(3)〜(6)からなる群より選択される少なくとも1つの構造は、例えば、カチオン構造中に水酸基、アミノ基、グリシジル基を少なくとも1個有するイオン化合物と、ポリイソシアネートやメラミン等とを反応させることにより得られる。構造式(3)〜(6)において、構造式(Z101)は、例えば、カチオンに導入された水酸基と、マトリックス樹脂が有するイソシアネート基とが反応して形成される残基である。構造式(Z102)は、例えば、カチオンに導入されたアミノ基と、マトリックス樹脂が有するイソシアネート基とが反応して形成される残基である。構造式(Z103)は、例えば、カチオンに導入されたグリシジル基と、マトリックス樹脂が有する水酸基とが反応して形成される残基である。 Similarly, at least one structure selected from the group consisting of structural formulas (3) to (6) includes, for example, an ionic compound having at least one hydroxyl group, amino group, and glycidyl group in the cation structure, polyisocyanate, and the like. It is obtained by reacting with melamine or the like. In the structural formulas (3) to (6), the structural formula (Z101) is a residue formed by reacting, for example, a hydroxyl group introduced into a cation with an isocyanate group contained in a matrix resin. The structural formula (Z102) is, for example, a residue formed by reacting an amino group introduced into a cation with an isocyanate group contained in a matrix resin. The structural formula (Z103) is, for example, a residue formed by reacting a glycidyl group introduced into a cation with a hydroxyl group of a matrix resin.

Figure 0006789771
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本発明に係る樹脂と、アニオンとを含有する樹脂層を有することによって、0℃近辺の低温域での抵抗値の上昇が抑制されるという予期せぬ効果を奏する理由について、本発明者らは以下のように推測している。
一般的に、イオン導電剤を添加した樹脂は、低温域において、イオン化合物が解離してカチオンとアニオンとなる比率(イオン化率)が低下する。すなわち、低温域では、カチオンとアニオンとがイオン結合した「塩」になりやすいため、導電性が低下する傾向にある。そのため、低温域での導電性の低下を抑制するためには、イオン化合物がカチオンとアニオンに解離した状態を安定化させる必要がある。
本発明において、該樹脂は、カチオン部位の近傍に、水酸基、アミノ基またはグリシジル基と、イソシアネート基とが反応した残基(反応残基)に由来する構造式(Z101)〜(Z103)で示される構造を少なくとも1個有することを特徴とする。この反応残基がカチオン部位の近傍に存在すると、該カチオンと該反応残基との水素結合による相互作用によって、カチオンの正電荷が安定化されて、低温域でのイオン化率の向上に寄与すると考えられる。
The present inventors discuss the reason why having the resin layer containing the resin and the anion according to the present invention has an unexpected effect of suppressing an increase in the resistance value in a low temperature range near 0 ° C. I guess as follows.
In general, in a resin to which an ionic conductive agent is added, the ratio of ionic compounds dissociating into cations and anions (ionization rate) decreases in a low temperature range. That is, in the low temperature region, the cation and the anion tend to form an ionic bond "salt", so that the conductivity tends to decrease. Therefore, in order to suppress the decrease in conductivity in the low temperature range, it is necessary to stabilize the state in which the ionic compound is dissociated into cations and anions.
In the present invention, the resin is represented by structural formulas (Z101) to (Z103) derived from residues (reaction residues) in which a hydroxyl group, an amino group or a glycidyl group reacts with an isocyanate group in the vicinity of a cation site. It is characterized by having at least one structure. When this reaction residue is present in the vicinity of the cation site, the positive charge of the cation is stabilized by the interaction between the cation and the reaction residue by hydrogen bonding, which contributes to the improvement of the ionization rate in the low temperature range. Conceivable.

また、該樹脂中に存在する構造式(1)および(2)で示される構造は、それぞれフッ素原子およびシリコーン成分を含有するため、相対的に疎水性の部位である。一方、構造式(3)〜(6)で示されるカチオン構造は、親水性を有する部位である。そのため、樹脂中で親水部同士、疎水部同士が密集しやすくなると考えられる。その結果、構造式(3)〜(6)中のカチオン構造が密集し、同一密集領域内において、カチオン構造の周囲に存在する別のカチオン構造の反応残基からも、カチオンの安定化作用を受けると考えられる。以上述べた2つのカチオン安定化作用により、低温域においても、高いイオン化率が維持され、抵抗値の上昇が抑制されると考えられる。 Further, the structures represented by the structural formulas (1) and (2) existing in the resin are relatively hydrophobic sites because they contain a fluorine atom and a silicone component, respectively. On the other hand, the cation structures represented by the structural formulas (3) to (6) are hydrophilic sites. Therefore, it is considered that the hydrophilic parts and the hydrophobic parts are likely to be densely packed in the resin. As a result, the cation structures in the structural formulas (3) to (6) are densely packed, and the reaction residue of another cation structure existing around the cation structure in the same dense region also has a cation stabilizing action. It is considered to receive. It is considered that the two cation stabilizing actions described above maintain a high ionization rate even in a low temperature range and suppress an increase in resistance value.

以下に、構造式(1)および(2)で示される構造と、構造式(3)〜(6)で示されるカチオン構造について詳細に説明する。 The structures represented by the structural formulas (1) and (2) and the cation structures represented by the structural formulas (3) to (6) will be described in detail below.

Figure 0006789771
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構造式(1)中、R1は、水素原子、フッ素原子またはメチル基を表す。X1は、(X101)もしくは(X102)から選択されるいずれかの構造またはフッ素原子を表す。
式(X101)および(X102)中、Y1は、炭素数1以上6以下のフルオロアルキル基を表す。
In the structural formula (1), R1 represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a methyl group. X1 represents any structure or fluorine atom selected from (X101) or (X102).
In formulas (X101) and (X102), Y1 represents a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

構造式(1)で示される構造としては、例えば、ポリフルオロエチレン、または、フルオロアルキル(メタ)アクリレート、フルオロアルキルビニル化合物に由来する構造が挙げられる。
ポリフルオロエチレンとしては、具体的には、例えば、1−フルオロエチレン、1,1−ジフルオロエチレンが挙げられる。構造式(1)で示される構造とともに、1,1,2−トリフルオロエチレン、1,1,2,2−テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、α,β,β−トリフルオロスチレンを共重合した構造とすることもできる。
Examples of the structure represented by the structural formula (1) include structures derived from polyfluoroethylene, fluoroalkyl (meth) acrylate, and fluoroalkyl vinyl compounds.
Specific examples of the polyfluoroethylene include 1-fluoroethylene and 1,1-difluoroethylene. Along with the structure represented by the structural formula (1), 1,1,2-trifluoroethylene, 1,1,2,2-tetrafluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, tetrafluoroethylene, α, β, β-trifluoro It can also have a structure in which styrene is copolymerized.

フルオロアルキル(メタ)アクリレートとしては、具体的には、例えば、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロエチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,3H−ヘキサフルオロブチル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、1H,1H,7H−ドデカフルオロ(メタ)アクリレート、1H−1−(トリフルオロメチル)トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、1,2,2,2−テトラフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチル(メタ)アクリレートが挙げられる。 Specific examples of the fluoroalkyl (meth) acrylate include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoroethyl (meth) acrylate, 2-. (Perfluoroethyl) Ethyl (Meta) Acrylate, 2- (Perfluorobutyl) Ethyl (Meta) Acrylate, 2- (Perfluorohexyl) Ethyl (Meta) Acrylate, 1H, 1H, 3H-Tetrafluoropropyl (Meta) Acrylate , 1H, 1H, 3H-hexafluorobutyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 7H-dodecafluoro (meth) acrylate, 1H-1- (trifluoromethyl) ) Trifluoroethyl (meth) acrylate, 1,2,2,2-tetrafluoro-1- (trifluoromethyl) ethyl (meth) acrylate can be mentioned.

フルオロアルキルビニル化合物としては、具体的には、例えば、トリフルオロメチルエチレン、パーフルオロエチルエチレン、4,4,4−トリフルオロ−1−ブテン、パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、3−(パーフルオロブチル)−1−プロペン、3−(パーフルオロヘキシル)−1−プロペンが挙げられる。 Specific examples of the fluoroalkyl vinyl compound include trifluoromethylethylene, perfluoroethylethylene, 4,4,4-trifluoro-1-butene, perfluorobutylethylene, perfluorohexylethylene, 3-(. Perfluorobutyl) -1-propene and 3- (perfluorohexyl) -1-propene can be mentioned.

構造式(1)で示される構造を有する市販のポリオール材料を用いることも可能である。市販品(いずれも商品名)としては、例えば、セフラルコート(登録商標)PX−40、A202B、A606X、CF803(以上、セントラル硝子社製);ルミフロン(登録商標)LF−100、LF−200、LF−302、LF−400、LF−554、LF−600、LF−986N(旭硝子社製);ザフロンFC−110、FC−220、FC−250、FC−275、FC−310、FC−575、XFC−973(以上、東亞合成社製);ゼッフル(登録商標)GK−510(ダイキン工業社製);フルオネートシリーズ(大日本インキ化学工業社製)等を挙げることができる。 It is also possible to use a commercially available polyol material having the structure represented by the structural formula (1). Commercially available products (all trade names) include, for example, Cefral Coat (registered trademark) PX-40, A202B, A606X, CF803 (all manufactured by Central Glass Co., Ltd.); Lumiflon (registered trademark) LF-100, LF-200, LF. -302, LF-400, LF-554, LF-600, LF-986N (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.); Zaflon FC-110, FC-220, FC-250, FC-275, FC-310, FC-575, XFC -973 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.); Zeffle (registered trademark) GK-510 (manufactured by Daikin Industries, Ltd.); Fluonate series (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) and the like.

Figure 0006789771
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構造式(2)中、R2は、水素原子またはメチル基を表す。X2は、式(X201)または(X202)から選択されるいずれかの構造を表す。
式(X201)および(X202)中、R3〜R5は、各々独立に、炭素数1以上4以下の炭化水素鎖を表す。Y2は、直鎖または分岐を有するシリコーン基を表す。
In the structural formula (2), R2 represents a hydrogen atom or a methyl group. X2 represents either structure selected from formula (X201) or (X202).
In formulas (X201) and (X202), R3 to R5 each independently represent a hydrocarbon chain having 1 or more and 4 or less carbon atoms. Y2 represents a straight or branched silicone group.

構造式(2)で示される構造としては、例えば、シリコーン基を有する(メタ)アクリレートに由来する構造が挙げられる。シリコーン基を有する(メタ)アクリレートとしては、シロキサン結合を側鎖に有する重合性化合物が挙げられ、各種市販品を用いることができる。具体的には、片末端変性ジメチルポリシロキサンとしては、以下の市販品(いずれも商品名)を用いることができる。サイラプレーン(登録商標)FM−0711、サイラプレーンFM−0725(以上、JNC社製)、およびX−22−174DX(信越化学工業社製)。また、X−22−2426、X−22−174ASX(いずれも商品名、信越化学工業社製)を用いることもできる。これらのシロキサン結合を側鎖に有する重合性化合物は、1種を単独で、または2種以上を混合して使用することができる。 Examples of the structure represented by the structural formula (2) include a structure derived from (meth) acrylate having a silicone group. Examples of the (meth) acrylate having a silicone group include polymerizable compounds having a siloxane bond in the side chain, and various commercially available products can be used. Specifically, as the one-terminal modified dimethylpolysiloxane, the following commercially available products (both are trade names) can be used. Silaplane (registered trademark) FM-0711, Silaplane FM-0725 (above, manufactured by JNC Corporation), and X-22-174DX (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Further, X-22-2426 and X-22-174ASX (both trade names, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) can also be used. The polymerizable compound having these siloxane bonds in the side chain can be used alone or in combination of two or more.

本発明に係る樹脂層は、構造式(1)で示される構造と、構造式(2)で示される構造の両方を含むことがより好ましい。比較的疎水性が高い構造式(1)で示される構造は、前述のカチオン構造を密集させる効果がより高い。さらに、低温域において該樹脂の結晶性を低下しやすい構造式(2)で示される構造を含むことにより、アニオンの移動度の低下も抑制されて、より高い効果が得られると考えられる。 It is more preferable that the resin layer according to the present invention contains both the structure represented by the structural formula (1) and the structure represented by the structural formula (2). The structure represented by the structural formula (1) having a relatively high hydrophobicity has a higher effect of condensing the above-mentioned cation structure. Further, it is considered that the inclusion of the structure represented by the structural formula (2), which tends to reduce the crystallinity of the resin in the low temperature range, suppresses the decrease in the mobility of the anion, and a higher effect can be obtained.

構造式(1)または(2)で示される構造単位を有する部分の数平均分子量は、通電時の抵抗値の上昇を抑制する効果と相溶性の両観点から、2000以上、70000以下であることが好ましい。構造式(1)および(2)で示される構造の両方を有する場合は、各々の構造単位を有する部分の数平均分子量の合計が2000以上、70000以下であることが好ましい。数平均分子量が2000以上であると、通電時の抵抗変動抑制に優れ、70000以下であるとバインダー樹脂との相溶性に優れる。 The number average molecular weight of the portion having the structural unit represented by the structural formula (1) or (2) shall be 2000 or more and 70,000 or less from the viewpoint of both the effect of suppressing the increase in the resistance value at the time of energization and the compatibility. Is preferable. When having both the structures represented by the structural formulas (1) and (2), it is preferable that the total number average molecular weight of the portions having the respective structural units is 2000 or more and 70,000 or less. When the number average molecular weight is 2000 or more, the resistance fluctuation during energization is suppressed, and when it is 70,000 or less, the compatibility with the binder resin is excellent.

(カチオン構造)
本実施形態に係る樹脂は、構造式(3)〜(6)からなる群より選択される少なくとも1つのカチオン構造を分子内に有する。これらの構造は、例えば、カチオン構造中に水酸基、アミノ基、グリシジル基を少なくとも1個有するイオン化合物と、ポリイソシアネートを反応させることにより得られる。
(Cation structure)
The resin according to this embodiment has at least one cation structure selected from the group consisting of structural formulas (3) to (6) in the molecule. These structures can be obtained, for example, by reacting a polyisocyanate with an ionic compound having at least one hydroxyl group, amino group, or glycidyl group in the cation structure.

構造式(3)〜(6)において、Z1〜Z3のうちの少なくとも1つ、Z4〜Z7のうちの少なくとも1つ、Z8〜Z10のうちの少なくとも1つ、およびZ11〜Z13のうちの少なくとも1つは、各々独立に、下記構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造を表す。 In structural formulas (3) to (6), at least one of Z1 to Z3, at least one of Z4 to Z7, at least one of Z8 to Z10, and at least one of Z11 to Z13. Each independently represents any structure selected from the group consisting of the following structural formulas (Z101) to (Z103).

Figure 0006789771
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構造式(Z101)〜(Z103)中、R11、R12およびR13は、各々独立に、直鎖または分岐を有する炭化水素鎖を表す。該炭化水素鎖としては、炭素数1以上8以下のアルキレン基が好ましい。記号「*」は、該構造式(3)における窒素原子との結合部位、または、該構造式(4)〜(6)における含窒素複素環を構成する窒素原子もしくは炭素原子との結合部位を表し、記号「**」は、該樹脂を構成するポリマー鎖中の炭素原子との結合部位を表す。 In the structural formulas (Z101) to (Z103), R11, R12 and R13 each independently represent a hydrocarbon chain having a straight chain or a branch. As the hydrocarbon chain, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms is preferable. The symbol "*" indicates a bond site with a nitrogen atom in the structural formula (3) or a bond site with a nitrogen atom or a carbon atom constituting the nitrogen-containing heterocycle in the structural formulas (4) to (6). Representing, the symbol "**" represents a bonding site with a carbon atom in a polymer chain constituting the resin.

構造式(Z101)は、例えば、カチオンに導入された水酸基と、マトリックス樹脂が有するイソシアネート基とが反応して形成される残基である。
構造式(Z102)は、例えば、カチオンに導入されたアミノ基と、マトリックス樹脂が有するイソシアネート基とが反応して形成される残基である。
構造式(Z103)は、例えば、カチオンに導入されたグリシジル基と、マトリックス樹脂が有する水酸基とが反応して形成される残基である。
The structural formula (Z101) is, for example, a residue formed by reacting a hydroxyl group introduced into a cation with an isocyanate group contained in a matrix resin.
The structural formula (Z102) is, for example, a residue formed by reacting an amino group introduced into a cation with an isocyanate group contained in a matrix resin.
The structural formula (Z103) is, for example, a residue formed by reacting a glycidyl group introduced into a cation with a hydroxyl group of a matrix resin.

Figure 0006789771
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構造式(3)中、R6は、水素原子または炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。Z1〜Z3のうちの少なくとも1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造を表し、それ以外は、炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。構造式(3)は、具体的には、樹脂との結合部を有するアンモニウムカチオンを表す。 In the structural formula (3), R6 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 or more and 4 or less carbon atoms. As the hydrocarbon group, an alkyl group is preferable. At least one of Z1 to Z3 represents any structure selected from the group consisting of structural formulas (Z101) to (Z103), and the other represents a hydrocarbon group having 1 or more and 4 or less carbon atoms. .. As the hydrocarbon group, an alkyl group is preferable. The structural formula (3) specifically represents an ammonium cation having a bonding portion with a resin.

構造式(3)で示される構造は、例えば水酸基、アミノ基、グリシジル基を少なくとも1個有するイオン化合物を、イソシアネートと反応させることにより得られる。 The structure represented by the structural formula (3) can be obtained, for example, by reacting an ionic compound having at least one hydroxyl group, amino group or glycidyl group with isocyanate.

構造式(3)で示される構造を与える、水酸基を有するカチオンとしては、具体的には、例えば、
2−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムカチオン、2−ヒドロキシエチルトリエチルアンモニウムカチオン、4−ヒドロキシブチルトリメチルアンモニウムカチオン、4−ヒドロキシブチル−トリ−n−ブチルアンモニウムカチオン、8−ヒドロキシオクチルトリメチルアンモニウムカチオン、8−ヒドロキシオクチル−トリ−n−ブチルアンモニウムカチオン;
ビス(ヒドロキシメチル)ジメチルアンモニウムカチオン、ビス(2−ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニウムカチオン、ビス(3−ヒドロキシプロピル)ジメチルアンモニウムカチオン、ビス(4−ヒドロキシブチル)ジメチルアンモニウムカチオン、ビス(8−ヒドロキオクチル)ジメチルアンモニウムカチオン、ビス(8−ヒドロキオクチル)−ジ−n−ブチルアンモニウムカチオン;
トリス(ヒドロキシメチル)メチルアンモニウムカチオン、トリス(2−ヒドロキシエチル)メチルアンモニウムカチオン、トリス(3−ヒドロキシプロピル)メチルアンモニウムカチオン、トリス(4−ヒドロキシブチル)メチルアンモニウムカチオン、トリス(8−ヒドロキシオクチル)メチルアンモニウムカチオン;およびこれらの誘導体が挙げられる。
Specific examples of the cation having a hydroxyl group that gives the structure represented by the structural formula (3) include, for example.
2-Hydroxyethyltrimethylammonium cation, 2-hydroxyethyltriethylammonium cation, 4-hydroxybutyltrimethylammonium cation, 4-hydroxybutyl-tri-n-butylammonium cation, 8-hydroxyoctyltrimethylammonium cation, 8-hydroxyoctyl- Tri-n-butylammonium cation;
Bis (hydroxymethyl) dimethylammonary cation, bis (2-hydroxyethyl) dimethylammonium cation, bis (3-hydroxypropyl) dimethylammonary cation, bis (4-hydroxybutyl) dimethylammonary cation, bis (8-hydrochioctyl) dimethyl Ammonium cations, bis (8-hydrochioctyl) -di-n-butylammonium cations;
Tris (hydroxymethyl) methylammonium cation, tris (2-hydroxyethyl) methylammonium cation, tris (3-hydroxypropyl) methylammonium cation, tris (4-hydroxybutyl) methylammonium cation, tris (8-hydroxyoctyl) methyl Ammonium cations; and derivatives thereof.

アミノ基、グリシジル基を有するアンモニウムカチオンとしては、上記カチオン中の水酸基を、アミノ基、グリシジル基で置換した構造のカチオンが挙げられる。 Examples of the ammonium cation having an amino group and a glycidyl group include cations having a structure in which the hydroxyl group in the cation is replaced with an amino group and a glycidyl group.

Figure 0006789771
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構造式(4)中、R7およびR8は、各々独立に、構造式(4)における含窒素複素環が、5員環、6員環または7員環を形成するために必要な炭化水素鎖を表す。Z4〜Z7のうちの少なくとも1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造を表し、それ以外は、水素原子または炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。少なくとも、Z4またはZ5のいずれか1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造であることが好ましい。構造式(4)における含窒素複素環に含まれる2つのNのうち一方はNである。構造式(4)は、具体的には、樹脂との結合部を有し、環構造中に窒素原子を2個含む複素環カチオンを表す。 In the structural formula (4), R7 and R8 independently form the hydrocarbon chains required for the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (4) to form a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a 7-membered ring. Represent. At least one of Z4 to Z7 represents any structure selected from the group consisting of structural formulas (Z101) to (Z103), and the other is a hydrogen atom or a hydrocarbon having 1 or more and 4 or less carbon atoms. Represents a group. As the hydrocarbon group, an alkyl group is preferable. At least one of Z4 and Z5 is preferably any structure selected from the group consisting of structural formulas (Z101) to (Z103). One of the two Ns contained in the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (4) is N + . The structural formula (4) specifically represents a heterocyclic cation having a bond with a resin and containing two nitrogen atoms in the ring structure.

構造式(4)における含窒素複素環としては、イミダゾリウム、イミダゾリジニウム、イミダゾリニウム;ピラジニウム、ピリミジニウム、ピペラジニウム;[1,3]−ジアゼパニウム、[1,4]−ジアゼパニウムが挙げられる。該含窒素複素環は、5員環または6員環であることが好ましく、イミダゾリウムがより好ましい。 Examples of the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (4) include imidazolium, imidazolidinium, imidazolinium; pyrazinium, pyrimidinium, piperazinium; [1,3] -diazepanium, and [1,4] -diazepanium. The nitrogen-containing heterocycle is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring, more preferably imidazolium.

一例として、構造式(4)で示される構造を与える、イミダゾリウム環構造を有し、水酸基を有するカチオンを以下に挙げる。
1−メチル−3−ヒドロキシメチルイミダゾリウムカチオン、1−メチル−3−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、1−メチル−3−(3−ヒドロキシプロピル)イミダゾリウムカチオン、1−メチル−3−(4−ヒドロキシブチル)イミダゾリウムカチオン、1−メチル−3−(6−ヒドロキシヘキシル)イミダゾリウムカチオン、1−メチル−3−(8−ヒドロキシオクチル)イミダゾリウムカチオン、1−エチル−3−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、1−n−ブチル−3−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、1,3−ジメチル−2−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、1,3−ジメチル−2−(4−ヒドロキシブチル)イミダゾリウムカチオン、1,3−ジメチル−4−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン;
1,3−ビスヒドロキシメチルイミダゾリウムカチオン、1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、2−メチル−1,3−ビスヒドロキシメチルイミダゾリウムカチオン、2−メチル−1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、4−メチル−1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、2−エチル−1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、4−エチル−1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、2−n−ブチル−1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、4−n−ブチル−1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、1,3−ビス(3−ヒドロキシプロピル)イミダゾリウムカチオン、1,3−ビス(4−ヒドロキシブチル)イミダゾリウムカチオン、1,3−ビス(6−ヒドロキシヘキシル)イミダゾリウムカチオン、1,3−ビス(8−ヒドロキシオクチル)イミダゾリウムカチオン、1−メチル−2,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、1−メチル−3,4−ビス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、1−メチル−3,5−ビス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン;
1,2,3−トリスヒドロキシメチルイミダゾリウムカチオン、1,2,3−トリス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、1,2,3−トリス(3−ヒドロキシプロピル)イミダゾリウムカチオン、1,2,3−トリス(4−ヒドロキシブチル)イミダゾリウムカチオン、1,2,3−トリス(6−ヒドロキシヘキシル)イミダゾリウムカチオン、1,2,3−トリス(8−ヒドロキシオクチル)イミダゾリウムカチオン、1,3,4−トリス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウムカチオン、1,3,4−トリス(3−ヒドロキシプロピル)イミダゾリウムカチオン、1,3,4−トリス(4−ヒドロキシブチル)イミダゾリウムカチオン、1,3,4−トリス(6−ヒドロキシヘキシル)イミダゾリウムカチオン、1,3,4−トリス(8−ヒドロキシオクチル)イミダゾリウムカチオン;およびこれらの誘導体。
As an example, a cation having an imidazolium ring structure and a hydroxyl group, which gives the structure represented by the structural formula (4), is listed below.
1-Methyl-3-hydroxymethylimidazolium cation, 1-methyl-3- (2-hydroxyethyl) imidazolium cation, 1-methyl-3- (3-hydroxypropyl) imidazolium cation, 1-methyl-3-3 (4-Hydroxybutyl) imidazolium cation, 1-methyl-3- (6-hydroxyhexyl) imidazolium cation, 1-methyl-3- (8-hydroxyoctyl) imidazolium cation, 1-ethyl-3- (2) -Hydroxyethyl) imidazolium cation, 1-n-butyl-3- (2-hydroxyethyl) imidazolium cation, 1,3-dimethyl-2- (2-hydroxyethyl) imidazolium cation, 1,3-dimethyl- 2- (4-Hydroxybutyl) imidazolium cation, 1,3-dimethyl-4- (2-hydroxyethyl) imidazolium cation;
1,3-Bishydroxymethylimidazolium cation, 1,3-bis (2-hydroxyethyl) imidazolium cation, 2-methyl-1,3-bishydroxymethylimidazolium cation, 2-methyl-1,3-bis (2-Hydroxyethyl) imidazolium cation, 4-methyl-1,3-bis (2-hydroxyethyl) imidazolium cation, 2-ethyl-1,3-bis (2-hydroxyethyl) imidazolium cation, 4- Ethyl-1,3-bis (2-hydroxyethyl) imidazolium cation, 2-n-butyl-1,3-bis (2-hydroxyethyl) imidazolium cation, 4-n-butyl-1,3-bis ( 2-Hydroxyethyl) imidazolium cation, 1,3-bis (3-hydroxypropyl) imidazolium cation, 1,3-bis (4-hydroxybutyl) imidazolium cation, 1,3-bis (6-hydroxyhexyl) Imidazolium cation, 1,3-bis (8-hydroxyoctyl) imidazolium cation, 1-methyl-2,3-bis (2-hydroxyethyl) imidazolium cation, 1-methyl-3,4-bis (2-) Hydroxyethyl) imidazolium cation, 1-methyl-3,5-bis (2-hydroxyethyl) imidazolium cation;
1,2,3-Trishydroxymethylimidazolium cation, 1,2,3-tris (2-hydroxyethyl) imidazolium cation, 1,2,3-tris (3-hydroxypropyl) imidazolium cation, 1,2 , 3-Tris (4-Hydroxybutyl) imidazolium cation, 1,2,3-Tris (6-hydroxyhexyl) imidazolium cation, 1,2,3-Tris (8-hydroxyoctyl) imidazolium cation, 1, 3,4-Tris (2-hydroxyethyl) imidazolium cation, 1,3,4-tris (3-hydroxypropyl) imidazolium cation, 1,3,4-tris (4-hydroxybutyl) imidazolium cation, 1, , 3,4-Tris (6-hydroxyhexyl) imidazolium cation, 1,3,4-tris (8-hydroxyoctyl) imidazolium cation; and derivatives thereof.

アミノ基、グリシジル基を有するカチオンとしては、上記カチオン中の水酸基を、アミノ基、グリシジル基で置換した構造のカチオンが挙げられる。 Examples of the cation having an amino group and a glycidyl group include cations having a structure in which the hydroxyl group in the above cation is replaced with an amino group and a glycidyl group.

構造式(3)〜(6)で示されるカチオン構造の中でも、構造式(4)で示されるカチオン構造を有する樹脂を含む場合、カチオンの化学構造に起因して、低温域でもイオン化率が高いため、0℃の如き低温環境下においても抵抗値が上昇しにくく、好ましい。 Among the cation structures represented by the structural formulas (3) to (6), when the resin having the cation structure represented by the structural formula (4) is contained, the ionization rate is high even in a low temperature range due to the chemical structure of the cation. Therefore, the resistance value does not easily increase even in a low temperature environment such as 0 ° C., which is preferable.

Figure 0006789771
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構造式(5)および(6)中、R9およびR10は、各々独立に、構造式(5)または(6)における含窒素複素環が、5員環、6員環または7員環を形成するために必要な炭化水素鎖を表す。Z8〜Z10のうちの少なくとも1つ、およびZ11〜Z13のうちの少なくとも1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造を表し、それ以外は、水素原子または炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。構造式(5)において、少なくとも、Z8またはZ9のいずれか1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造であることが好ましい。また、構造式(6)において、Z11は、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造であることが好ましい。構造式(5)および(6)は、具体的には、樹脂との結合部を有し、環構造中に窒素原子を1個含む複素環カチオンを表す。 In the structural formulas (5) and (6), R9 and R10 independently form a 5-membered ring, a 6-membered ring or a 7-membered ring by the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (5) or (6), respectively. Represents the hydrocarbon chain required for this. At least one of Z8 to Z10 and at least one of Z11 to Z13 represent any structure selected from the group consisting of structural formulas (Z101) to (Z103), otherwise hydrogen. Represents an atom or a hydrocarbon group having 1 or more and 4 or less carbon atoms. As the hydrocarbon group, an alkyl group is preferable. In the structural formula (5), at least one of Z8 and Z9 is preferably any structure selected from the group consisting of the structural formulas (Z101) to (Z103). Further, in the structural formula (6), Z11 is preferably any structure selected from the group consisting of the structural formulas (Z101) to (Z103). The structural formulas (5) and (6) specifically represent a heterocyclic cation having a bond with a resin and containing one nitrogen atom in the ring structure.

構造式(5)における含窒素複素環としては、ピロリジニウム、ピロリウム、ピロリニウム;ピペリジニウム;アゼパニウムが挙げられる。該含窒素複素環は、5員環または6員環であることが好ましく、ピロリジニウムがより好ましい。
構造式(6)における含窒素複素環は、5員環または6員環であることが好ましく、ピリジニウムがより好ましい。
Examples of the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (5) include pyrrolidinium, pyrrolium, pyrrolinium; piperidinium; and azepanium. The nitrogen-containing heterocycle is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring, and more preferably pyrrolidinium.
The nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (6) is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring, and more preferably pyridinium.

一例として、構造式(5)で示される構造を与える、ピロリジニウム環構造を有し、水酸基を有するカチオンを以下に挙げる。
1−メチル−1,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)ピロリジニウムカチオン、1−エチル−1,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)ピロリジニウムカチオン、1−ブチル−1,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)ピロリジニウムカチオン、1−メチル−1,2−ビス(4−ヒドロキシブチル)ピロリジニウムカチオン;およびこれらの誘導体。
As an example, cations having a pyrrolidinium ring structure and having a hydroxyl group, which give the structure represented by the structural formula (5), are listed below.
1-Methyl-1,2-bis (2-hydroxyethyl) pyrrolidinium cation, 1-ethyl-1,2-bis (2-hydroxyethyl) pyrrolidinium cation, 1-butyl-1,2-bis ( 2-Hydroxyethyl) pyrrolidinium cation, 1-methyl-1,2-bis (4-hydroxybutyl) pyrrolidinium cation; and derivatives thereof.

一例として、構造式(6)で示される構造を与える、ピリジニウム環構造を有し、水酸基を有するカチオンを以下に挙げる。
1−ヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、1−(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、1−(3−ヒドロキシプロピル)ピリジニウムカチオン、1−(4−ヒドロキシブチル)ピリジニウムカチオン、1−(6−ヒドロキシヘキシル)ピリジニウムカチオン、1−(8−ヒドロキシオクチル)ピリジニウムカチオン、2−メチル−1−(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、3−メチル−1−(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、4−メチル−1−(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、3−エチル−1−(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、3−n−ブチル−1−(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、1−メチル−2−ヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、1−メチル−3−ヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、1−メチル−4−ヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、1−メチル−2−(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、1−メチル−3−(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、1−メチル−4−(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、1−エチル−3−(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、1−n−ブチル−3−(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、2−メチル−4−n−ブチル−1−(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン;
1,2−ビスヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、1,3−ビスヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、1,4−ビスヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、1,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、1,4−ビス(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、1,2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)ピリジニウムカチオン、1,3−ビス(3−ヒドロキシプロピル)ピリジニウムカチオン、1,4−ビス(3−ヒドロキシプロピル)ピリジニウムカチオン、1,2−ビス(4−ヒドロキシブチル)ピリジニウムカチオン、1,3−ビス(4−ヒドロキシブチル)ピリジニウムカチオン、1,4−ビス(4−ヒドロキシブチル)ピリジニウムカチオン、1,2−ビス(6−ヒドロキシヘキシル)ピリジニウムカチオン、1,3−ビス(6−ヒドロキシヘキシル)ピリジニウムカチオン、1,4−ビス(6−ヒドロキシヘキシル)ピリジニウムカチオン、1,2−ビス(8−ヒドロキシオクチル)ピリジニウムカチオン、1,3−ビス(8−ヒドロキシオクチル)ピリジニウムカチオン、1,4−ビス(8−ヒドロキシオクチル)ピリジニウムカチオン、2−メチル−1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、2−エチル−1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、5−メチル−1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、5−エチル−1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン;
1,2,4−トリスヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、1,2,4−トリス(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、1,2,4−トリス(3−ヒドロキシプロピル)ピリジニウムカチオン、1,2,4−トリス(4−ヒドロキシブチル)ピリジニウムカチオン、1,2,4−トリス(6−ヒドロキシヘキシル)ピリジニウムカチオン、1,2,4−トリス(8−ヒドロキシオクチル)ピリジニウムカチオン、1,3,5−トリスヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)ピリジニウムカチオン、1,3,5−トリス(3−ヒドロキシプロピル)ピリジニウムカチオン、1,3,5−トリス(4−ヒドロキシブチル)ピリジニウムカチオン、1,3,5−トリス(6−ヒドロキシヘキシル)ピリジニウムカチオン、1,3,5−トリス(8−ヒドロキシオクチル)ピリジニウムカチオン;およびこれらの誘導体。
As an example, cations having a pyridinium ring structure and having a hydroxyl group, which give the structure represented by the structural formula (6), are listed below.
1-Hydroxymethylpyridinium cation, 1- (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 1- (3-hydroxypropyl) pyridinium cation, 1- (4-hydroxybutyl) pyridinium cation, 1- (6-hydroxyhexyl) pyridinium cation , 1- (8-Hydroxyoctyl) pyridinium cation, 2-methyl-1- (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 3-methyl-1- (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 4-methyl-1- (2) -Hydroxyethyl) pyridinium cation, 3-ethyl-1- (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 3-n-butyl-1- (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 1-methyl-2-hydroxymethylpyridinium cation, 1-Methyl-3-hydroxymethylpyridinium cation, 1-methyl-4-hydroxymethylpyridinium cation, 1-methyl-2- (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 1-methyl-3- (2-hydroxyethyl) pyridinium Cation, 1-methyl-4- (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 1-ethyl-3- (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 1-n-butyl-3- (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 2 -Methyl-4-n-Butyl-1- (2-hydroxyethyl) pyridinium cation;
1,2-Bishydroxymethylpyridinium cation, 1,3-bishydroxymethylpyridinium cation, 1,4-bishydroxymethylpyridinium cation, 1,2-bis (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 1,3-bis ( 2-Hydroxyethyl) pyridinium cation, 1,4-bis (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 1,2-bis (3-hydroxypropyl) pyridinium cation, 1,3-bis (3-hydroxypropyl) pyridinium cation, 1,4-bis (3-hydroxypropyl) pyridinium cation, 1,2-bis (4-hydroxybutyl) pyridinium cation, 1,3-bis (4-hydroxybutyl) pyridinium cation, 1,4-bis (4-hydroxybutyl) pyridinium cation Hydroxybutyl) pyridinium cation, 1,2-bis (6-hydroxyhexyl) pyridinium cation, 1,3-bis (6-hydroxyhexyl) pyridinium cation, 1,4-bis (6-hydroxyhexyl) pyridinium cation, 1, 2-Bis (8-Hydroxyoctyl) pyridinium cation, 1,3-bis (8-hydroxyoctyl) pyridinium cation, 1,4-bis (8-hydroxyoctyl) pyridinium cation, 2-methyl-1,3-bis (2-methyl-1,3-bis) 2-Hydroxyethyl) pyridinium cation, 2-ethyl-1,3-bis (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 5-methyl-1,3-bis (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 5-ethyl-1,5, 3-Bis (2-hydroxyethyl) pyridinium cation;
1,2,4-Tris hydroxymethylpyridinium cation, 1,2,4-tris (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 1,2,4-tris (3-hydroxypropyl) pyridinium cation, 1,2,4- Tris (4-hydroxybutyl) pyridinium cation, 1,2,4-tris (6-hydroxyhexyl) pyridinium cation, 1,2,4-tris (8-hydroxyoctyl) pyridinium cation, 1,3,5-trishydroxy Methylpyridinium cation, 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) pyridinium cation, 1,3,5-tris (3-hydroxypropyl) pyridinium cation, 1,3,5-tris (4-hydroxybutyl) pyridinium Cations, 1,3,5-tris (6-hydroxyhexyl) pyridinium cations, 1,3,5-tris (8-hydroxyoctyl) pyridinium cations; and derivatives thereof.

アミノ基、グリシジル基を有するカチオンとしては、上記カチオン中の水酸基を、アミノ基、グリシジル基で置換した構造のカチオンが挙げられる。 Examples of the cation having an amino group and a glycidyl group include cations having a structure in which the hydroxyl group in the above cation is replaced with an amino group and a glycidyl group.

(アニオン)
本発明に係る樹脂層は、構造式(1)および(2)からなる群より選択される少なくとも1つの構造と、構造式(3)〜(6)からなる群より選択される少なくとも1つのカチオン構造とともに、アニオンを含有することを特徴とする。
アニオンとしては、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン、フルオロスルホニルイミドアニオン、フルオロアルキルスルホネートアニオン、フルオロスルホネートアニオン、フルオロアルキルカルボン酸アニオン、フルオロアルキルメチドアニオン、フルオロホウ酸アニオン、フルオロリン酸アニオン、ジシアナミドアニオン、チオシアネートアニオン、ビスオキサラトホウ酸アニオン、過塩素酸アニオン、およびこれらの誘導体が挙げられる。
(Anion)
The resin layer according to the present invention has at least one structure selected from the group consisting of structural formulas (1) and (2) and at least one cation selected from the group consisting of structural formulas (3) to (6). It is characterized by containing an anion as well as a structure.
Examples of anions include fluoroalkylsulfonylimide anion, fluorosulfonylimide anion, fluoroalkylsulfonate anion, fluorosulfonate anion, fluoroalkylcarboxylic acid anion, fluoroalkylmethide anion, fluoroborate anion, fluorophosphate anion, disianamide anion, and thiocyanate. Included are anions, bisoxalatoborate anions, perchlorate anions, and derivatives thereof.

フルオロアルキルスルホニルイミドアニオンとしては、具体的には、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオン、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニルイミドアニオン、ビス(ヘプタフルオロプロパンスルホニル)イミドアニオン、ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミドアニオン、ビス(ドデカフルオロペンタンスルホニル)イミドアニオン、ビス(パーフルオロヘキサンスルホニル)イミドアニオンの如き、炭素数1以上6以下のフルオロアルキル基を有するフルオロアルキルスルホニルイミドアニオン、および、N,N−ヘキサフルオロプロパン−1,3−ジスルホニルイミドの如き環状のフルオロアルキルスルホニルイミドアニオンが挙げられる。
フルオロスルホニルイミドアニオンとしては、具体的には、ビス(フルオロスルホニル)イミドアニオンが挙げられる。
Specific examples of the fluoroalkylsulfonylimide anion include bis (trifluoromethanesulfonyl) imide anion, bis (pentafluoroethanesulfonylimide anion, bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide anion, and bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide anion. , Bis (dodecafluoropentane sulfonyl) imide anion, bis (perfluorohexanesulfonyl) imide anion, fluoroalkylsulfonylimide anion having 1 or more and 6 or less carbon atoms, and N, N-hexafluoropropane. Cyclic fluoroalkylsulfonylimide anions such as -1,3-disulfonylimide can be mentioned.
Specific examples of the fluorosulfonylimide anion include a bis (fluorosulfonyl) imide anion.

フルオロアルキルスルホネートアニオンとしては、具体的には、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、フルオロメタンスルホン酸アニオン、パーフルオロエタンスルホン酸アニオン、パーフルオロプロパンスルホン酸アニオン、パーフルオロブタンスルホン酸アニオン、パーフルオロペンタンスルホン酸アニオン、パーフルオロヘキサンスルホン酸アニオン、パーフルオロオクタンスルホン酸アニオンが挙げられる。
フルオロアルキルカルボン酸アニオンとしては、具体的には、トリフルオロ酢酸アニオン、パーフルオロプロピオン酸アニオン、パーフルオロ酪酸アニオン、パーフルオロ吉草酸アニオン、パーフルオロカプロン酸アニオンが挙げられる。
Specific examples of the fluoroalkyl sulfonate anion include trifluoromethanesulfonic acid anion, fluoromethanesulfonic acid anion, perfluoroethanesulfonic acid anion, perfluoropropanesulfonic acid anion, perfluorobutanesulfonic acid anion, and perfluoropentanesulfonic acid. Examples thereof include anions, perfluorohexane sulfonic acid anions, and perfluorooctane sulfonic acid anions.
Specific examples of the fluoroalkylcarboxylic acid anion include trifluoroacetic acid anion, perfluoropropionic acid anion, perfluorobutyrate anion, perfluorovalerate anion, and perfluorocaproate anion.

フルオロアルキルメチドアニオンとしては、具体的には、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチドアニオン、トリス(パーフルオロエタンスルホニル)メチドアニオン、トリス(パーフルオロプロパンスルホニル)メチドアニオン、トリス(パーフルオロブタンスルホニル)メチドアニオン、トリス(パーフルオロペンタンスルホニル)メチドアニオン、トリス(パーフルオロヘキサンスルホニル)メチドアニオン、トリス(パーフルオロオクタンスルホニル)メチドアニオン等のフッ化アルキルスルホニルメチドアニオンが挙げられる。 Specific examples of the fluoroalkylmethide anion include tris (trifluoromethanesulfonyl) methide anion, tris (perfluoroethanesulfonyl) methide anion, tris (perfluoropropanesulfonyl) methide anion, tris (perfluorobutanesulfonyl) methide anion, and tris (perfluorobutanesulfonyl) methide anion. Examples thereof include fluoroalkylsulfonylmethideanions such as perfluoropentanesulfonyl) methideanion, tris (perfluorohexanesulfonyl) methideanion, and tris (perfluorooctanesulfonyl) methideanion.

フルオロホウ酸アニオンとしては、具体的には、例えばテトラフルオロホウ酸アニオンが挙げられる。
フルオロリン酸アニオンしては、具体的には、例えばヘキサフルオロリン酸アニオンが挙げられる。
Specific examples of the fluoroborate anion include tetrafluoroborate anion.
Specific examples of the fluorophosphate anion include hexafluorophosphate anion.

これらのアニオンの中でも、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン、フルオロスルホニルイミドアニオン、フルオロホウ酸アニオン、ジシアナミドアニオン、チオシアネートアニオンは、低温環境下における導電性の低下がより少ないため、特に好ましい。 Among these anions, fluoroalkylsulfonylimide anions, fluorosulfonylimide anions, fluoroboric acid anions, disyanamide anions, and isothiocyanate anions are particularly preferable because they have less decrease in conductivity in a low temperature environment.

(マトリックス樹脂)
本発明において、樹脂層は、構造式(1)、(2)で示される構造および構造式(3)〜(6)で示される構造以外の構造を有する樹脂をマトリックス樹脂として含むことが好ましい。
(Matrix resin)
In the present invention, the resin layer preferably contains a resin having a structure represented by the structural formulas (1) and (2) and a structure other than the structures represented by the structural formulas (3) to (6) as the matrix resin.

マトリックス樹脂として含まれる樹脂としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、またはメラミンの如きアミノ樹脂が挙げられる。皮膜の強度およびトナー帯電性の観点から、ポリウレタン樹脂、メラミン架橋樹脂が好ましい。中でも、熱硬化性ポリエーテルポリウレタン樹脂、熱硬化性ポリエステルポリウレタン樹脂は、柔軟性を併せ持つため好適に用いられる。これらの熱硬化性ポリウレタン樹脂は、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオール等の公知のポリオール成分と、イソシアネート化合物との反応により得られる。 Examples of the resin contained as the matrix resin include polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, and amino resin such as melamine. From the viewpoint of film strength and toner chargeability, polyurethane resin and melamine crosslinked resin are preferable. Among them, a thermosetting polyether polyurethane resin and a thermosetting polyester polyurethane resin are preferably used because they have flexibility. These thermosetting polyurethane resins are obtained by reacting a known polyol component such as a polyether polyol or a polyester polyol with an isocyanate compound.

ポリオール成分としては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオールまたはポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール、アクリルポリオール、が挙げられる。これらの中でも、自己膜補強性、およびイオン化合物との相溶性の観点から、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオールまたはポリカーボネートポリオール、およびこれらとイソシアネートを反応させたウレタンプレポリマーポリオールが好ましい。 Examples of the polyol component include polyether polyols, polyester polyols or polycarbonate polyols, polyolefin polyols, and acrylic polyols. Among these, a polyether polyol, a polyester polyol or a polycarbonate polyol, and a urethane prepolymer polyol obtained by reacting these with an isocyanate are preferable from the viewpoint of self-membrane reinforcing property and compatibility with an ionic compound.

ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールが挙げられる。
またポリエステルポリオールとしては、以下のものが挙げられる。1,4−ブタンジオール、3−メチル−1,4−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコールの如きジオール成分、またはトリメチロールプロパンの如きトリオール成分と、アジピン酸、無水フタル酸、テレフタル酸、ヘキサヒドロキシフタル酸の如きジカルボン酸との縮合反応により得られるポリエステルポリオール。
Examples of the polyether polyol include polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol.
Further, examples of the polyester polyol include the following. Diol components such as 1,4-butanediol, 3-methyl-1,4-pentanediol, neopentyl glycol, or triol components such as trimethylolpropane, and adipic acid, phthalic anhydride, terephthalic acid, hexahydroxyphthalic acid. A polyester polyol obtained by a condensation reaction with a dicarboxylic acid such as.

また、ポリカーボネートポリオールとしては、以下のものが挙げられる。1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールの如きジオール成分と、ホスゲン、ジメチルカーボネートの如きジアルキルカーボネート、または、エチレンカーボネートの如き環状カカーボネートとの縮合反応により得られるポリカーボネートポリオール。 Further, examples of the polycarbonate polyol include the following. With diol components such as 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, diethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol, A polycarbonate polyol obtained by a condensation reaction with a dialkyl carbonate such as phosgen or dimethyl carbonate, or a cyclic calcarbonate such as ethylene carbonate.

ポリウレタン樹脂を用いる際、下記構造式(7)〜(10)で示される分岐状のエーテル構造、構造式(11)で示される分岐状のエステル構造を有するポリオールを用いた場合には、マトリックス樹脂としての結晶性が低下し、温度0℃の如き低温環境下における抵抗値がより低下するため、特に好ましい。すなわち、マトリックス樹脂は、下記構造式(7)〜(11)からなる群より選択されるいずれかの構造を有するポリオールとイソシアネート化合物との反応物を含有することが好ましい。 When a polyurethane resin is used, a matrix resin is used when a polyol having a branched ether structure represented by the following structural formulas (7) to (10) and a branched ester structure represented by the structural formula (11) is used. It is particularly preferable because the crystallinity of the resin is lowered and the resistance value in a low temperature environment such as 0 ° C. is further lowered. That is, the matrix resin preferably contains a reaction product of a polyol having any structure selected from the group consisting of the following structural formulas (7) to (11) and an isocyanate compound.

Figure 0006789771
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構造式(7)および(8)で示される構造は、例えば、3−メチルテトラヒドロフランを開環重合して得られるポリエーテルポリオールを用いることによって得られる。
構造式(9)および(10)で示される構造は、例えば、プロピレンオキシドを開環重合して得られるポリエーテルポリオールを用いることによって得られる。
構造式(11)で示される構造は、例えば、3−メチル−1,5−ペンタンジオールとアジピン酸等のジカルボン酸との縮合反応により得られるポリエステルポリオールを用いることによって得られる。または、3−メチル−1,5−ペンタンジオールとホスゲン、ジメチルカーボネートの如きジアルキルカーボネートとを用いることによっても得られる。
The structures represented by the structural formulas (7) and (8) can be obtained, for example, by using a polyether polyol obtained by ring-opening polymerization of 3-methyltetrahydrofuran.
The structures represented by the structural formulas (9) and (10) can be obtained, for example, by using a polyether polyol obtained by ring-opening polymerization of propylene oxide.
The structure represented by the structural formula (11) can be obtained, for example, by using a polyester polyol obtained by a condensation reaction of 3-methyl-1,5-pentanediol with a dicarboxylic acid such as adipic acid. Alternatively, it can also be obtained by using 3-methyl-1,5-pentanediol and a dialkyl carbonate such as phosgene or dimethyl carbonate.

これらのポリオール成分は必要に応じて、あらかじめ2,4−トリレンジイソシアネート(TDI)、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)の如きイソシアネート化合物により鎖延長したプレポリマーとしてもよい。 If necessary, these polyol components can also be used as a prepolymer in which the chain is extended with an isocyanate compound such as 2,4-tolylene diisocyanate (TDI), 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), or isophorone diisocyanate (IPDI). Good.

イソシアネート化合物としては、特に限定されるものではないが、エチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)の如き脂肪族ポリイソシアネート;イソホロンジイソシアネート(IPDI)、シクロヘキサン1,3−ジイソシアネート、シクロヘキサン1,4−ジイソシアネートの如き脂環式ポリイソシアネート;2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートの如き芳香族イソシアネート;およびこれらの共重合物やイソシアヌレート体、TMPアダクト体、ビウレット体、そのブロック体を用いることができる。これらの中でも、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネートの如き芳香族イソシアネートが好ましい。 The isocyanate compound is not particularly limited, but is an aliphatic polyisocyanate such as ethylene diisocyanate and 1,6-hexamethylene diisocyanate (HDI); isophorone diisocyanate (IPDI), cyclohexane 1,3-diisocyanate, cyclohexane 1, Alicyclic polyisocyanates such as 4-diisocyanate; 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate (TDI), 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), polyether diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthalene Aromatic isocyanates such as diisocyanates; and copolymers thereof, isocyanurates, TMP adducts, biurets, and blocks thereof can be used. Among these, aromatic isocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and polyether diphenylmethane diisocyanate are preferable.

ポリオール成分とイソシアネート化合物とは、ポリオール成分中の水酸基1.0に対して、イソシアネート化合物中のイソシアネート基の比率(モル比)が1.0以上2.0以下の範囲となるように混合させることが好ましい。混合比が上記範囲内であれば、未反応成分の残存を抑制することが可能である。 The polyol component and the isocyanate compound are mixed so that the ratio (molar ratio) of the isocyanate groups in the isocyanate compound to 1.0 hydroxyl group in the polyol component is in the range of 1.0 or more and 2.0 or less. Is preferable. When the mixing ratio is within the above range, it is possible to suppress the residual unreacted components.

(樹脂層形成用塗料の作製)
マトリックス樹脂としてウレタン樹脂を用いる場合、例えば以下の材料を混合し、反応させることにより、本発明の樹脂層形成用塗料が得られる。
1.マトリックス樹脂を形成する材料として、
・ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール等
・ポリイソシアネート
2.構造式(1)および/または構造式(2)で示される構造を有するポリオール
3.カチオン構造中に、水酸基、アミノ基、グリシジル基から選択される少なくとも1つを含むイオン化合物
なお、これらの反応後の状態は、例えば、熱分解GC/MS、FT−IR、NMR等による公知の手段で分析することにより確認することができる。
(Preparation of paint for forming resin layer)
When a urethane resin is used as the matrix resin, for example, the following materials are mixed and reacted to obtain the resin layer forming coating material of the present invention.
1. 1. As a material for forming matrix resin
・ Polyether polyol, polyester polyol, etc. ・ Polyisocyanate 2. 2. A polyol having a structure represented by the structural formula (1) and / or the structural formula (2). An ionic compound containing at least one selected from a hydroxyl group, an amino group, and a glycidyl group in the cation structure. The state after these reactions is known by, for example, thermal decomposition GC / MS, FT-IR, NMR, etc. It can be confirmed by analysis by means.

樹脂層中における、構造式(1)および/または構造式(2)で示される構造を有するポリオールの含有量は、マトリックス樹脂100質量部に対して、1質量部以上20質量部以下であることが好ましい。
樹脂層中における、式(3)〜(6)からなる群より選択される少なくとも1つで示される構造の含有量は、導電性、通電による抵抗変動抑制の観点から、マトリックス樹脂100質量部に対して、1質量部以上10質量部以下であることが好ましい。
The content of the polyol having the structure represented by the structural formula (1) and / or the structural formula (2) in the resin layer shall be 1 part by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the matrix resin. Is preferable.
The content of the structure represented by at least one selected from the group consisting of the formulas (3) to (6) in the resin layer is 100 parts by mass of the matrix resin from the viewpoint of conductivity and suppression of resistance fluctuation due to energization. On the other hand, it is preferably 1 part by mass or more and 10 parts by mass or less.

(樹脂層の形成方法)
樹脂層の形成方法としては、特に限定されるものではないが、スプレー塗工、浸漬塗工、又はロールコート法が挙げられる。これらの中でも、特開昭57−5047号公報に記載されているような、浸漬槽の上端から塗料をオーバーフローさせる浸漬塗工方法は、樹脂層を形成する方法として簡便かつ生産安定性に優れているため、好ましく用いられる。
樹脂層の厚さは、1.0μm以上20.0μm以下であることが好ましい。
(Method of forming resin layer)
The method for forming the resin layer is not particularly limited, and examples thereof include spray coating, immersion coating, and roll coating. Among these, the dipping coating method in which the paint overflows from the upper end of the dipping tank as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-5047 is simple and excellent in production stability as a method for forming a resin layer. Therefore, it is preferably used.
The thickness of the resin layer is preferably 1.0 μm or more and 20.0 μm or less.

(樹脂層中のその他の成分)
樹脂層は、必要に応じて、シリカ、石英粉末、酸化チタン、酸化亜鉛および炭酸カルシウムの如き非導電性充填剤を含有してもよい。これらの非導電性充填剤は、樹脂層形成用塗料に添加することにより、樹脂層の形成工程において該塗料をコーティングする際に、成膜助剤としての機能を発揮する。かかる非導電性充填剤の含有率は、樹脂層を形成する樹脂100質量部に対して、10質量部以上30質量部以下であることが好ましい。
また、樹脂層は、必要に応じて、本発明の効果を妨げない範囲で、導電性充填剤を含有してもよい。導電性充填剤としては、カーボンブラック;アルミニウム、銅の如き導電性金属;酸化亜鉛、酸化錫、酸化チタンの如き導電性金属酸化物の微粒子を用いることができる。これらの中でも、カーボンブラックは、比較的容易に入手でき、導電付与性と補強性が高いため特に好ましく用いられる。
樹脂層が最表層である場合において、電子写真用部材としてある程度の表面粗度が求められる場合は、樹脂層に粗さ制御のための微粒子(粗さ制御用微粒子)を添加してもよい。粗さ制御用微粒子としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、またはフェノール樹脂の微粒子を用いることができる。粗さ制御用微粒子の体積平均粒径は、1μm以上15μm以下であることが好ましい。樹脂層中の粗さ制御用粒子の含有量は、樹脂層を形成する樹脂100質量部に対して、1質量部以上50質量部以下であることが好ましい。
(Other components in the resin layer)
The resin layer may contain a non-conductive filler such as silica, quartz powder, titanium oxide, zinc oxide and calcium carbonate, if desired. By adding these non-conductive fillers to the resin layer forming paint, they exhibit a function as a film forming aid when the paint is coated in the resin layer forming step. The content of the non-conductive filler is preferably 10 parts by mass or more and 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin forming the resin layer.
Further, if necessary, the resin layer may contain a conductive filler as long as it does not interfere with the effects of the present invention. As the conductive filler, fine particles of carbon black; conductive metal such as aluminum and copper; and fine particles of conductive metal oxide such as zinc oxide, tin oxide and titanium oxide can be used. Among these, carbon black is particularly preferably used because it is relatively easily available and has high conductivity-imparting property and reinforcing property.
When the resin layer is the outermost layer and a certain surface roughness is required as the electrophotographic member, fine particles for roughness control (roughness control fine particles) may be added to the resin layer. As the roughness control fine particles, fine particles of polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, polyamide resin, acrylic resin, or phenol resin can be used. The volume average particle diameter of the roughness control fine particles is preferably 1 μm or more and 15 μm or less. The content of the roughness control particles in the resin layer is preferably 1 part by mass or more and 50 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin forming the resin layer.

(2)電子写真装置
本発明に係る電子写真用部材は、電子写真装置における現像ローラ、帯電ローラ、トナー供給ローラ、および現像ブレード、クリーニングブレードとして好適に用いることができる。電子写真用部材は、磁性一成分トナーや非磁性一成分トナーを用いた非接触型現像装置および接触型現像装置、ならびに二成分トナーを用いた現像装置のいずれの現像装置にも適用することができる。
(2) Electrophotographic apparatus The electrophotographic member according to the present invention can be suitably used as a developing roller, a charging roller, a toner supply roller, a developing blade, and a cleaning blade in an electrophotographic apparatus. The electrophotographic member can be applied to any of a non-contact developing device and a contact developing device using a magnetic one-component toner and a non-magnetic one-component toner, and a developing device using a two-component toner. it can.

図3は、本発明に係る電子写真用部材を、一成分トナーを用いた接触型現像装置の現像ローラとして搭載した電子写真装置の一例を示す概略断面図である。現像装置22は、一成分トナーとしてトナー15を収容したトナー容器20と、現像ローラ16と、現像ローラ16へトナーを供給するトナー供給ローラ19と、現像ローラ16上のトナー層の厚さを規制する現像ブレード21とを含む。現像ローラ16は、トナー容器20内の長手方向に延在する開口部に位置し、感光体18に対して接触設置されている。なお、感光体18、クリーニングブレード26、廃トナー収容容器25、帯電ローラ24は、電子写真装置本体に配備されていてもよい。現像装置22は、ブラック(Bk)、シアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)の各色トナーに用意されており、カラー印刷を可能としている。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrophotographic apparatus in which the electrophotographic member according to the present invention is mounted as a developing roller of a contact-type developing apparatus using a one-component toner. The developing apparatus 22 regulates the thickness of the toner container 20 containing the toner 15 as one component toner, the developing roller 16, the toner supply roller 19 for supplying the toner to the developing roller 16, and the toner layer on the developing roller 16. Includes a developing blade 21 to be processed. The developing roller 16 is located in an opening extending in the longitudinal direction in the toner container 20 and is placed in contact with the photoconductor 18. The photoconductor 18, the cleaning blade 26, the waste toner container 25, and the charging roller 24 may be arranged in the main body of the electrophotographic apparatus. The developing device 22 is prepared for each color toner of black (Bk), cyan (C), magenta (M), and yellow (Y), and enables color printing.

以下、電子写真装置のプリント動作を説明する。感光体18は、矢印方向に回転し、感光体18を帯電処理するための帯電ローラ24によって一様に帯電される。次いで、露光手段であるレーザー光23により、感光体18の表面に静電潜像が形成される。該静電潜像は、現像装置22によって、感光体18に対して接触配置される現像ローラ16からトナー15が付与されることにより、トナー像として可視化される(現像)。現像は露光部にトナー像を形成する、いわゆる反転現像である。感光体18上に形成されたトナー像は、転写部材である転写ローラ29によって記録媒体である紙34に転写される。紙34は、給紙ローラ35および吸着ローラ36を経て装置内に給紙され、エンドレスベルト状の転写搬送ベルト32によって、感光体18と転写ローラ29の間に搬送される。転写搬送ベルト32は、従動ローラ33、駆動ローラ28、テンションローラ31により稼働している。現像ローラ16、現像ブレード21および吸着ローラ36には、バイアス電源30から電圧が印加されている。トナー像が転写された紙34は、定着装置27により定着処理され、装置外に排紙されて、プリント動作が終了する。一方、転写されずに感光体18上に残存した転写残トナーは、感光体表面をクリーニングするためのクリーニング部材であるクリーニングブレード26により掻き取られ、廃トナー収容容器25に収納される。クリーニングされた感光体18は、以上のプリント動作を繰り返し行う。 The printing operation of the electrophotographic apparatus will be described below. The photoconductor 18 rotates in the direction of the arrow and is uniformly charged by the charging roller 24 for charging the photoconductor 18. Next, an electrostatic latent image is formed on the surface of the photoconductor 18 by the laser light 23 which is an exposure means. The electrostatic latent image is visualized as a toner image (development) by applying the toner 15 from the developing rollers 16 which are arranged in contact with the photoconductor 18 by the developing device 22. Development is so-called reverse development in which a toner image is formed on an exposed portion. The toner image formed on the photoconductor 18 is transferred to the paper 34, which is a recording medium, by the transfer roller 29, which is a transfer member. The paper 34 is fed into the apparatus via the paper feed roller 35 and the suction roller 36, and is conveyed between the photoconductor 18 and the transfer roller 29 by the endless belt-shaped transfer transfer belt 32. The transfer transfer belt 32 is operated by a driven roller 33, a drive roller 28, and a tension roller 31. A voltage is applied to the developing roller 16, the developing blade 21, and the suction roller 36 from the bias power supply 30. The paper 34 on which the toner image is transferred is fixed by the fixing device 27, discharged to the outside of the device, and the printing operation is completed. On the other hand, the transfer residual toner that remains on the photoconductor 18 without being transferred is scraped off by the cleaning blade 26, which is a cleaning member for cleaning the surface of the photoconductor, and is stored in the waste toner storage container 25. The cleaned photoconductor 18 repeats the above printing operation.

(3)プロセスカートリッジ
本発明に係る、上記電子写真用部材は、プロセスカートリッジにおける現像ローラ、帯電ローラ、トナー供給ローラ、および現像ブレード、クリーニングブレードとして好適に用いることができる。図4は、本発明の一態様に係るプロセスカートリッジの一例の概略断面図である。図4において、上記電子写真用部材は、現像ローラ16として搭載されている。プロセスカートリッジ17は、電子写真装置の本体に着脱可能に構成されている。プロセスカートリッジ17は、現像ローラ16と現像ブレード21とを備える現像装置22、電子写真感光体18、クリーニングブレード26、廃トナー収容容器25、および帯電ローラ24が一体化されたものである。現像装置22は、さらにトナー容器20を含み、トナー容器20内には、トナー15が充填されている。トナー容器20内のトナー15は、トナー供給ローラ19によって現像ローラ16の表面に供給され、現像ブレード21によって、現像ローラ16の表面に所定の厚みのトナー15の層が形成される。
(3) Process Cartridge The electrophotographic member according to the present invention can be suitably used as a developing roller, a charging roller, a toner supply roller, a developing blade, and a cleaning blade in a process cartridge. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an example of a process cartridge according to an aspect of the present invention. In FIG. 4, the electrophotographic member is mounted as a developing roller 16. The process cartridge 17 is configured to be removable from the main body of the electrophotographic apparatus. The process cartridge 17 is a combination of a developing device 22 including a developing roller 16 and a developing blade 21, an electrophotographic photosensitive member 18, a cleaning blade 26, a waste toner storage container 25, and a charging roller 24. The developing device 22 further includes a toner container 20, and the toner container 20 is filled with the toner 15. The toner 15 in the toner container 20 is supplied to the surface of the developing roller 16 by the toner supply roller 19, and a layer of toner 15 having a predetermined thickness is formed on the surface of the developing roller 16 by the developing blade 21.

以下に本発明に係る具体的な実施例および比較例について示す。まず、構造式(1)、(2)で示される構造を有する樹脂の原料を合成した。 Specific examples and comparative examples according to the present invention are shown below. First, raw materials for resins having the structures represented by the structural formulas (1) and (2) were synthesized.

<構造式(1)、(2)で示される構造を有する樹脂の合成>
(樹脂L−1の合成)
撹拌装置、温度計、還流管、滴下装置および窒素ガス導入管を備えた反応容器に、乾燥メチルエチルケトン42.9質量部を仕込み、窒素ガス気流下で温度87℃に昇温し、加熱還流した。次に、2−(パーフルオロヘキシル)エチルメタクリレート(商品名:CHEMINOX FAMAC−6、ユニマテック社製)45.9質量部、メタクリル変性シリコーン(商品名:X−22−174ASX、信越シリコーン社製)47.8質量部、スチレン(東京化成工業社製)2.8質量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(商品名:ライトエステルHO−250(N)、共栄社化学社製)3.5質量部、開始剤(商品名:カヤエステルO、化薬アクゾ社製)0.2質量部の混合物を1時間かけて徐々に滴下し、温度を87℃に保持してさらに3時間加熱還流した。室温まで放冷して、フッ素/シリコーン含有樹脂L−1を得た。
<Synthesis of resins having the structures represented by structural formulas (1) and (2)>
(Synthesis of resin L-1)
A reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux tube, a dropping device and a nitrogen gas introduction tube was charged with 42.9 parts by mass of dried methyl ethyl ketone, heated to a temperature of 87 ° C. under a nitrogen gas stream, and heated to reflux. Next, 2- (perfluorohexyl) ethyl methacrylate (trade name: CHEMINOX FAMAC-6, manufactured by Unimatec) 45.9 parts by mass, methacryl-modified silicone (trade name: X-22-174ASX, manufactured by Shinetsu Silicone) 47 .8 parts by mass, styrene (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) 2.8 parts by mass, 2-hydroxyethyl methacrylate (trade name: Light Ester HO-250 (N), manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 3.5 parts by mass, initiator (Product name: Kayaester O, manufactured by Kayaku Akzo Corporation) 0.2 parts by mass of the mixture was gradually added dropwise over 1 hour, the temperature was maintained at 87 ° C., and the mixture was heated and refluxed for another 3 hours. The mixture was allowed to cool to room temperature to obtain a fluorine / silicone-containing resin L-1.

(樹脂L−2〜L−5の合成)
モノマー種および混合比を表1に記載の通りに変更した以外は、樹脂L−1の合成と同様の操作を行い、フッ素および/またはシリコーン含有樹脂L−2〜L−5を得た。なお、表中、「部」は「質量部」を表す。
(Synthesis of resins L-2 to L-5)
The same operations as in the synthesis of the resin L-1 were carried out except that the monomer species and the mixing ratio were changed as shown in Table 1, to obtain fluorine and / or silicone-containing resins L-2 to L-5. In the table, "part" represents "part by mass".

Figure 0006789771
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(樹脂L−6の合成)
攪拌装置、温度計、冷却管および乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、可溶性フッ素樹脂(商品名:ルミフロン LF−200、旭硝子社製)100.0gを乾燥窒素雰囲気下でメチルエチルケトン100.0gに溶解した。そして、アリルイソシアネート(Sigma AldRich社製)1.7gをメチルエチルケトン5gに溶解させた溶液を、反応器内の温度を80℃に保持しつつ、徐々に滴下した。滴下終了後、温度80℃で2時間撹拌して、「ルミフロン LF−200」が側鎖に有する水酸基と、アリルイソシアネートのイソシアネート基とを反応させた。得られた反応混合物を室温まで冷却した。このようにして、ラジカル重合性基含有フッ素樹脂K−1を得た。
(Synthesis of resin L-6)
Methyl ethyl ketone 100 in a glass reactor equipped with a stirrer, thermometer, cooling tube and dry nitrogen gas inlet, with 100.0 g of soluble fluororesin (trade name: Lumiflon LF-200, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) in a dry nitrogen atmosphere. It was dissolved in 0.0 g. Then, a solution prepared by dissolving 1.7 g of allyl isocyanate (manufactured by Sigma-AldRich) in 5 g of methyl ethyl ketone was gradually added dropwise while maintaining the temperature inside the reactor at 80 ° C. After completion of the dropping, the mixture was stirred at a temperature of 80 ° C. for 2 hours to react the hydroxyl group of "Lumiflon LF-200" in the side chain with the isocyanate group of allyl isocyanate. The resulting reaction mixture was cooled to room temperature. In this way, a radically polymerizable group-containing fluororesin K-1 was obtained.

次に、機械式攪拌装置および滴下ロートを備えたガラス製反応器にトリメチルシラノール(東京化成工業社製)0.5gを入れて、氷浴中で攪拌した。続いて、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6mol/L)(東京化成工業社製)を3.6ml滴下した。滴下終了後、氷浴中で1時間攪拌した後、ヘキサメチルシクロトリシロキサン(東京化成工業社製)24.66gをテトラヒドロフラン25gに溶解した溶液を、徐々に滴下した。滴下終了後、氷浴を外して6時間攪拌し、これにクロロジメチルビニルシラン(東京化成工業社製)1.0gを滴下し、さらに12時間攪拌した。そして、得られた反応溶液に、10質量%の炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、水層を除去して有機層を得た。有機層を純水で洗浄した後、硫酸マグネシウム(馬居化成工業社製)で脱水し、揮発成分を50℃/10mmHgの条件下で除去した。このようにして、ジメチルシロキサンの片末端にビニル基を有する末端ビニル変性ジメチルポリシロキサン樹脂K−2を得た。 Next, 0.5 g of trimethylsilanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was placed in a glass reactor equipped with a mechanical stirrer and a dropping funnel, and the mixture was stirred in an ice bath. Subsequently, 3.6 ml of a hexane solution of n-butyllithium (1.6 mol / L) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise. After completion of the dropping, the mixture was stirred in an ice bath for 1 hour, and then a solution prepared by dissolving 24.66 g of hexamethylcyclotrisiloxane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 25 g of tetrahydrofuran was gradually added dropwise. After completion of the dropping, the ice bath was removed and the mixture was stirred for 6 hours, 1.0 g of chlorodimethylvinylsilane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise thereto, and the mixture was further stirred for 12 hours. Then, a 10 mass% sodium hydrogen carbonate aqueous solution was added to the obtained reaction solution, and the aqueous layer was removed to obtain an organic layer. The organic layer was washed with pure water and then dehydrated with magnesium sulfate (manufactured by Umai Chemical Co., Ltd.) to remove volatile components under the conditions of 50 ° C./10 mmHg. In this way, a terminal vinyl-modified dimethylpolysiloxane resin K-2 having a vinyl group at one end of dimethylsiloxane was obtained.

次に、機械式攪拌装置、温度計、コンデンサーおよび乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、ラジカル重合性基含有フッ素樹脂K−1:24.4g、キシレン14.1g、酢酸n−ブチル15.8g、メタクリル酸メチル(三菱ガス化学社製)2.4g、n−ブチルメタクリレート(商品名:ライトエステルNB、共栄社化学社製)2.8g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(商品名:ライトエステルHO―250(N)、共栄社化学社製)1.4g、末端ビニル変性ジメチルポリシロキサン樹脂K−2:5.1g、およびラジカル重合開始剤(商品名:パーブチルO、日本油脂社製)0.1gを入れて、窒素雰囲気下、90℃で5時間反応させた。得られた反応混合物を室温まで冷却し、ジメチルシロキサンがフッ素樹脂にグラフトした構造を有するシロキサン含有フッ素樹脂L−6を28.1g得た。 Next, in a glass reactor equipped with a mechanical stirrer, a thermometer, a condenser and a dry nitrogen gas inlet, a radically polymerizable group-containing fluororesin K-1: 24.4 g, xylene 14.1 g, n-acetate Butyl 15.8 g, methyl methacrylate (manufactured by Mitsubishi Gas Chemicals) 2.4 g, n-butyl methacrylate (trade name: Light Ester NB, manufactured by Kyoei Kagaku Co., Ltd.) 2.8 g, 2-hydroxyethyl methacrylate (trade name: Light) Ester HO-250 (N), manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 1.4 g, terminal vinyl-modified dimethylpolysiloxane resin K-2: 5.1 g, and radical polymerization initiator (trade name: Perbutyl O, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) 0 .1 g was added and reacted at 90 ° C. for 5 hours under a nitrogen atmosphere. The obtained reaction mixture was cooled to room temperature to obtain 28.1 g of a siloxane-containing fluororesin L-6 having a structure in which dimethylsiloxane was grafted onto the fluororesin.

(樹脂L−7)
樹脂L−7として、ルミフロン LF−200(商品名、旭硝子社製)を用いた。
次に、イオン導電剤として用いるイオン化合物を合成した。
(Resin L-7)
Lumiflon LF-200 (trade name, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was used as the resin L-7.
Next, an ionic compound used as an ionic conductive agent was synthesized.

<イオン化合物の合成>
(イオン化合物IP−1の合成)
窒素雰囲気下、イミダゾール(日本合成化学社製)15.0g、水素化ナトリウム60%流動パラフィン分散(東京化成工業社製)9.2gをテトラヒドロフラン60.0gに溶解させた。そこへ、テトラヒドロフラン80.0gに溶解させた2−ブロモエタノール(東京化成工業社製)60.7gを室温で30分かけて滴下し、85℃で12時間加熱還流した。その後、反応溶液に水100mlを加えて、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノール200mlを加え、室温で撹拌して、不溶物をセライトろ過により除いた後、再び減圧下で溶媒を留去した。
得られた生成物を純水200mlに溶解し、アニオン原料として、リチウム N,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(商品名:EF−N115、三菱マテリアル電子化成社製)69.6gを加え、室温下で1時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル200mlを加え、有機層を、イオン交換水120gを用いて3回洗浄した。次に、減圧下で酢酸エチルを留去して、イオン化合物IP−1を得た。イオン化合物IP−1は、下記式で表される化合物である。
<Synthesis of ionic compounds>
(Synthesis of ionic compound IP-1)
Under a nitrogen atmosphere, 15.0 g of imidazole (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) and 9.2 g of sodium hydride 60% liquid paraffin dispersion (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were dissolved in 60.0 g of tetrahydrofuran. 60.7 g of 2-bromoethanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) dissolved in 80.0 g of tetrahydrofuran was added dropwise thereto over 30 minutes at room temperature, and the mixture was heated under reflux at 85 ° C. for 12 hours. Then, 100 ml of water was added to the reaction solution, and the solvent was distilled off under reduced pressure. 200 ml of ethanol was added to the residue, and the mixture was stirred at room temperature to remove insoluble matter by filtration through Celite, and then the solvent was distilled off again under reduced pressure.
The obtained product was dissolved in 200 ml of pure water, and 69.6 g of lithium N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (trade name: EF-N115, manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.) was added as an anion raw material. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 200 ml of ethyl acetate was added to the reaction solution, and the organic layer was washed 3 times with 120 g of ion-exchanged water. Next, ethyl acetate was distilled off under reduced pressure to obtain ionic compound IP-1. The ionic compound IP-1 is a compound represented by the following formula.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−2〜IP−5の合成)
アニオン原料およびその配合量を表2に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物IP−1の合成と同様にして、イオン化合物IP−2〜IP−5を得た。
(Synthesis of ionic compounds IP-2 to IP-5)
Ionic compounds IP-2 to IP-5 were obtained in the same manner as in the synthesis of ionic compound IP-1, except that the anionic raw material and the blending amount thereof were changed as shown in Table 2.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−6の合成)
2−(2−Methyl−1H−imidazol−1−yl)ethanol(シグマ・アルドリッチ社製)15.0g、水素化ナトリウム60%流動パラフィン分散(東京化成工業社製)9.2gをテトラヒドロフラン80.0gに溶解させた。そこへ、テトラヒドロフラン80.0gに溶解させた臭化エチル(昭和化学社製)14.5gを室温で30分かけて滴下し、85℃で12時間加熱還流した。次に、反応溶液に水100mlを加え、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノール200mlを加え、室温で撹拌し、不溶物をセライトろ過により除いた後、再び減圧下で溶媒を留去した。
得られた生成物を純水100mlに溶解し、アニオン原料として、トリフルオロ酢酸リチウム(和光純薬工業社製)16.0gを加え、室温下で1時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル100mlを加え、有機層を、イオン交換水80gを用いて3回洗浄した。次に、減圧下で酢酸エチルを留去して、イオン化合物IP−6を得た。イオン化合物IP−6は、下記式で表される化合物である。
(Synthesis of ionic compound IP-6)
2- (2-Methyl-1H-imidazol-1-yl) ethanol (manufactured by Sigma-Aldrich) 15.0 g, sodium hydride 60% liquid paraffin dispersion (manufactured by Tokyo Chemical Industry) 9.2 g, tetrahydrofuran 80.0 g Was dissolved in. 14.5 g of ethyl bromide (manufactured by Showa Kagaku Co., Ltd.) dissolved in 80.0 g of tetrahydrofuran was added dropwise thereto over 30 minutes at room temperature, and the mixture was heated under reflux at 85 ° C. for 12 hours. Next, 100 ml of water was added to the reaction solution, and the solvent was distilled off under reduced pressure. 200 ml of ethanol was added to the residue, and the mixture was stirred at room temperature to remove insoluble matter by filtration through Celite, and then the solvent was distilled off again under reduced pressure.
The obtained product was dissolved in 100 ml of pure water, 16.0 g of lithium trifluoroacetate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added as an anionic raw material, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 100 ml of ethyl acetate was added to the reaction solution, and the organic layer was washed 3 times with 80 g of ion-exchanged water. Next, ethyl acetate was distilled off under reduced pressure to obtain ionic compound IP-6. The ionic compound IP-6 is a compound represented by the following formula.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−7、IP−8の合成)
アニオン原料およびその配合量を表3に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物IP−6の合成と同様にして、イオン化合物IP−7、IP−8を得た。
(Synthesis of ionic compounds IP-7 and IP-8)
Ionic compounds IP-7 and IP-8 were obtained in the same manner as in the synthesis of ionic compound IP-6, except that the anionic raw material and the blending amount thereof were changed as shown in Table 3.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−9の合成)
ビス(2−ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニウムクロライド(東京化成工業社製)15.0gをイオン交換水40.0gに溶解させた。次に、イオン交換水60gに溶解させたアニオン原料:リチウム N,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(商品名:EF−N115、三菱マテリアル電子化成社製)27.9gを30分かけて滴下し、30℃で2時間攪拌した。次に、反応溶液を、酢酸エチル100.0gを用いて2回抽出した。次に、分液して得られた酢酸エチル層を、イオン交換水60gを用いて3回洗浄した。続いて、減圧下で酢酸エチルを留去し、イオン化合物IP−9を得た。イオン化合物IP−9は、下記式で表される化合物である。
(Synthesis of ionic compound IP-9)
15.0 g of bis (2-hydroxyethyl) dimethylammonium chloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was dissolved in 40.0 g of ion-exchanged water. Next, 27.9 g of anionic raw material: lithium N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (trade name: EF-N115, manufactured by Mitsubishi Materials Denshi Kasei Co., Ltd.) dissolved in 60 g of ion-exchanged water was added dropwise over 30 minutes. Then, the mixture was stirred at 30 ° C. for 2 hours. The reaction solution was then extracted twice with 100.0 g of ethyl acetate. Next, the ethyl acetate layer obtained by separating the liquids was washed three times with 60 g of ion-exchanged water. Subsequently, ethyl acetate was distilled off under reduced pressure to obtain an ionic compound IP-9. The ionic compound IP-9 is a compound represented by the following formula.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−10、IP−11の合成)
アニオン原料およびその配合量を表4に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物IP−9の合成と同様にして、イオン化合物IP−10、IP−11を得た。
(Synthesis of ionic compounds IP-10 and IP-11)
Ionic compounds IP-10 and IP-11 were obtained in the same manner as in the synthesis of the ionic compound IP-9, except that the anionic raw material and the blending amount thereof were changed as shown in Table 4.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−12の合成)
トリス(2−ヒドロキシエチル)メチルアンモニウムヒドロキシド50%水溶液(東京化成工業社製)30.0gを、イオン交換水50.0gに溶解させた。次に、イオン交換水30gに溶解させたアニオン原料:リチウム N,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(商品名:EF−N115、三菱マテリアル電子化成社製)26.1gを30分かけて滴下し、30℃で6時間攪拌した。次に、反応溶液を、酢酸エチル100.0gを用いて2回抽出した。次に、分液した酢酸エチル層を、イオン交換水80gを用いて3回洗浄した。続いて、減圧下で酢酸エチルを留去し、イオン化合物IP−12を得た。イオン化合物IP−12は、下記式で表される化合物である。
(Synthesis of ionic compound IP-12)
30.0 g of a 50% aqueous solution of tris (2-hydroxyethyl) methylammonium hydroxide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was dissolved in 50.0 g of ion-exchanged water. Next, 26.1 g of anionic raw material: lithium N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (trade name: EF-N115, manufactured by Mitsubishi Materials Denshi Kasei Co., Ltd.) dissolved in 30 g of ion-exchanged water was added dropwise over 30 minutes. Then, the mixture was stirred at 30 ° C. for 6 hours. The reaction solution was then extracted twice with 100.0 g of ethyl acetate. Next, the separated ethyl acetate layer was washed 3 times with 80 g of ion-exchanged water. Subsequently, ethyl acetate was distilled off under reduced pressure to obtain ionic compound IP-12. The ionic compound IP-12 is a compound represented by the following formula.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−13、IP−14の合成)
アニオン原料およびその配合量を表5に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物IP−12の合成と同様にして、イオン化合物IP−13、IP−14を得た。
(Synthesis of ionic compounds IP-13 and IP-14)
Ionic compounds IP-13 and IP-14 were obtained in the same manner as in the synthesis of the ionic compound IP-12, except that the anionic raw material and the blending amount thereof were changed as shown in Table 5.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−15の合成)
4−Pyridin−4−yl−butan−1−ol(シグマ・アルドリッチ社製)15.0gをアセトニトリル45.0gに溶解し、室温で4−ブロモ−1−ブタノール(東京化成工業社製)16.7gを30分かけて滴下した後、90℃で12時間加熱還流した。次に、反応溶液を室温まで冷却し、減圧下でアセトニトリルを留去した。得られた濃縮物をジエチルエーテル30.0gにて洗浄し、上澄み液を分液により除去した。洗浄および分液操作を3回繰り返し、残留物を得た。
さらに、得られた残留物をジクロロメタン110.0gに溶解させた後、イオン交換水40.0gに溶解させたアニオン原料:リチウム N,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(商品名:EF−N115、三菱マテリアル電子化成社製)31.4gを30分かけて滴下し、30℃で12時間攪拌した。得られた溶液を分液し、有機層を、イオン交換水80.0gを用いて3回洗浄した。続いて、減圧下でジクロロメタンを留去し、イオン化合物IP−15を得た。イオン化合物IP−15は、下記式で表される化合物である。
(Synthesis of ionic compound IP-15)
4. Dissolve 15.0 g of 4-Pyridine-4-yl-butan-1-ol (manufactured by Sigma-Aldrich) in 45.0 g of acetonitrile and 4-bromo-1-butanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) at room temperature. After dropping 7 g over 30 minutes, the mixture was heated under reflux at 90 ° C. for 12 hours. Next, the reaction solution was cooled to room temperature, and acetonitrile was distilled off under reduced pressure. The obtained concentrate was washed with 30.0 g of diethyl ether, and the supernatant was removed by separation. The washing and liquid separation operation were repeated 3 times to obtain a residue.
Further, the obtained residue was dissolved in 110.0 g of dichloromethane and then dissolved in 40.0 g of ion-exchanged water. Anion raw material: Lithium N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (trade name: EF-N115) , Mitsubishi Materials Denshi Kasei Co., Ltd.) 31.4 g was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 12 hours. The obtained solution was separated, and the organic layer was washed 3 times with 80.0 g of ion-exchanged water. Subsequently, dichloromethane was distilled off under reduced pressure to obtain ionic compound IP-15. The ionic compound IP-15 is a compound represented by the following formula.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−16、IP−17の合成)
アニオン原料およびその配合量を表6に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物IP−15の合成と同様にして、イオン化合物IP−16、IP−17を得た。
(Synthesis of ionic compounds IP-16 and IP-17)
Ionic compounds IP-16 and IP-17 were obtained in the same manner as in the synthesis of the ionic compound IP-15, except that the anionic raw material and the blending amount thereof were changed as shown in Table 6.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−18の合成)
2−(2−ヒドロキシエチル)−1−メチルピロリジン(東京化成工業社製)15.0g、水素化ナトリウム60%流動パラフィン分散(東京化成工業社製)13.5gを、テトラヒドロフラン65.0gに溶解させた。次に、反応系を窒素雰囲気下とし、氷冷した。続いて、テトラヒドロフラン40.0gに溶解させた2−ブロモエタノール(東京化成工業社製)16.0gを30分かけて滴下した。反応溶液を12時間加熱還流した後、水100mlを加え、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノール80mlを加え、室温で撹拌し、不溶物をセライトろ過により除いた後、再び減圧下で溶媒を留去した。
得られた生成物を純水160mlに溶解し、アニオン原料として、リチウム N,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(商品名:EF−N115、三菱マテリアル電子化成社製)36.7gを加え、室温下で1時間撹拌した。反応溶液にクロロホルム70mlを加え、炭酸ナトリウム5質量%水溶液40mlを加えて30分撹拌した後分液し、クロロホルム層を、イオン交換水50gを用いて3回洗浄した。次に、減圧下でクロロホルムを留去して、イオン化合物IP−18を得た。イオン化合物IP−18は、下記式で表される化合物である。
(Synthesis of ionic compound IP-18)
15.0 g of 2- (2-hydroxyethyl) -1-methylpyrrolidine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 13.5 g of sodium hydride 60% liquid paraffin dispersion (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are dissolved in 65.0 g of tetrahydrofuran. I let you. Next, the reaction system was placed in a nitrogen atmosphere and ice-cooled. Subsequently, 16.0 g of 2-bromoethanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) dissolved in 40.0 g of tetrahydrofuran was added dropwise over 30 minutes. After heating and refluxing the reaction solution for 12 hours, 100 ml of water was added, and the solvent was distilled off under reduced pressure. 80 ml of ethanol was added to the residue, and the mixture was stirred at room temperature to remove insoluble matter by filtration through Celite, and then the solvent was distilled off again under reduced pressure.
The obtained product was dissolved in 160 ml of pure water, and 36.7 g of lithium N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (trade name: EF-N115, manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.) was added as an anion raw material. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 70 ml of chloroform was added to the reaction solution, 40 ml of a 5% by mass aqueous sodium carbonate solution was added, the mixture was stirred for 30 minutes and then separated, and the chloroform layer was washed 3 times with 50 g of ion-exchanged water. Next, chloroform was distilled off under reduced pressure to obtain ionic compound IP-18. The ionic compound IP-18 is a compound represented by the following formula.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−19、IP−20の合成)
アニオン原料およびその配合量を表7に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物IP−18の合成と同様にして、イオン化合物IP−19、IP−20を得た。
(Synthesis of ionic compounds IP-19 and IP-20)
Ionic compounds IP-19 and IP-20 were obtained in the same manner as in the synthesis of the ionic compound IP-18, except that the anionic raw material and the blending amount thereof were changed as shown in Table 7.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−21の合成)
ジエチレントリアミン(東京化成工業社製)15.0gを、テトラヒドロフラン35.0gに溶解させた。次に、反応系を窒素雰囲気下とし、氷冷した。続いて、テトラヒドロフラン80.0gに溶解させたヨウ化メチル(東京化成工業社製)45.5gを30分かけて滴下した。反応溶液を12時間加熱還流した後、水100mlを加え、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノール100mlを加え、室温で撹拌し、不溶物をセライトろ過により除いた後、再び減圧下で溶媒を留去した。
得られた生成物を、純水160mlに溶解し、アニオン原料として、リチウム N,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(商品名:EF−N115、三菱マテリアル電子化成社製)46.0gを加え、室温下で1時間撹拌した。次に、反応溶液を、酢酸エチル100.0gを用いて2回抽出した。次に、分液した酢酸エチル層を、イオン交換水60gを用いて3回洗浄した。続いて、減圧下で酢酸エチルを留去して、イオン化合物IP−21を得た。イオン化合物IP−21は、下記式で表される化合物である。
(Synthesis of ionic compound IP-21)
15.0 g of diethylenetriamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was dissolved in 35.0 g of tetrahydrofuran. Next, the reaction system was placed in a nitrogen atmosphere and ice-cooled. Subsequently, 45.5 g of methyl iodide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) dissolved in 80.0 g of tetrahydrofuran was added dropwise over 30 minutes. After heating and refluxing the reaction solution for 12 hours, 100 ml of water was added, and the solvent was distilled off under reduced pressure. 100 ml of ethanol was added to the residue, and the mixture was stirred at room temperature to remove insoluble matter by filtration through Celite, and then the solvent was distilled off again under reduced pressure.
The obtained product is dissolved in 160 ml of pure water, and 46.0 g of lithium N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (trade name: EF-N115, manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.) is added as an anion raw material. , Stirred for 1 hour at room temperature. The reaction solution was then extracted twice with 100.0 g of ethyl acetate. Next, the separated ethyl acetate layer was washed 3 times with 60 g of ion-exchanged water. Subsequently, ethyl acetate was distilled off under reduced pressure to obtain ionic compound IP-21. The ionic compound IP-21 is a compound represented by the following formula.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−22の合成)
アニオン原料およびその配合量を表8に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物IP−21の合成と同様にして、イオン化合物IP−22を得た。
(Synthesis of ionic compound IP-22)
Ionic compound IP-22 was obtained in the same manner as in the synthesis of ionic compound IP-21, except that the anionic raw material and the blending amount thereof were changed as shown in Table 8.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−23の合成)
カチオン原料として、イミダゾール(東京化成工業社製)15.0gをジクロロメタン50.0gに溶解させ、ジクロロメタン50.0gに溶解させたエピクロロヒドリン(東京化成工業社製)44.9gを室温で30分かけて滴下し、6時間加熱還流した。次に、反応溶液を室温まで冷却し、炭酸ナトリウム5質量%水溶液200mlを加えて30分間撹拌した後分液し、ジクロロメタン層を、イオン交換水120gを用いて2回洗浄した。次に、減圧下でジクロロメタンを留去して残留物を得た。
さらに、得られた残留物をアセトン50.0gに溶解させた後、イオン交換水150.0gに溶解させたアニオン原料:リチウム N,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(商品名:EF−N115、三菱マテリアル電子化成社製)69.6gを30分かけて滴下し、30℃で2時間攪拌した。得られた溶液を分液し、有機層を、イオン交換水50.0gを用いて3回洗浄した。続いて、減圧下でアセトンを留去して、イオン化合物IP−23を得た。イオン化合物IP−23は、下記式で表される化合物である。
(Synthesis of ionic compound IP-23)
As a cation raw material, 15.0 g of imidazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was dissolved in 50.0 g of dichloromethane, and 44.9 g of epichlorohydrin (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) dissolved in 50.0 g of dichloromethane was 30 at room temperature. The mixture was added dropwise over a minute and heated under reflux for 6 hours. Next, the reaction solution was cooled to room temperature, 200 ml of a 5 mass% sodium carbonate aqueous solution was added, the mixture was stirred for 30 minutes and then separated, and the dichloromethane layer was washed twice with 120 g of ion-exchanged water. Next, dichloromethane was distilled off under reduced pressure to obtain a residue.
Further, the obtained residue was dissolved in 50.0 g of acetone and then dissolved in 150.0 g of ion-exchanged water. Anion raw material: Lithium N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (trade name: EF-N115) , Mitsubishi Materials Denshi Kasei Co., Ltd.) 69.6 g was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 2 hours. The obtained solution was separated, and the organic layer was washed 3 times with 50.0 g of ion-exchanged water. Subsequently, acetone was distilled off under reduced pressure to obtain an ionic compound IP-23. The ionic compound IP-23 is a compound represented by the following formula.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

(イオン化合物IP−24の合成)
アニオン原料およびその配合量を表9に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物IP−23の合成と同様にして、イオン化合物IP−24を得た。
(Synthesis of ionic compound IP-24)
Ionic compound IP-24 was obtained in the same manner as in the synthesis of ionic compound IP-23, except that the anionic raw material and the blending amount thereof were changed as shown in Table 9.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

以上で得られたイオン化合物が有するカチオンおよびアニオンを表10に示す。 Table 10 shows the cations and anions contained in the ionic compounds obtained above.

Figure 0006789771
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<イソシアネート基末端プレポリマーの合成>
(イソシアネート基末端プレポリマーB−1の合成)
窒素雰囲気下、反応容器中でポリメリックMDI(商品名:ミリオネートMR−200、日本ポリウレタン工業社製)84.1質量部に対し、PTG−L1000(商品名、保土谷化学工業社製)100.0質量部を、反応容器内の温度を65℃に保持しつつ、徐々に滴下した。滴下終了後、温度65℃で2.5時間反応させて、メチルエチルケトン80.0質量部を加えた。得られた反応混合物を室温まで冷却し、イソシアネート基含有量5.4質量%のイソシアネート基末端ウレタンプレポリマーB−1を得た。
<Synthesis of isocyanate group-terminated prepolymer>
(Synthesis of isocyanate group-terminated prepolymer B-1)
PTG-L1000 (trade name, manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 100.0 to 84.1 parts by mass of polypeptide MDI (trade name: Millionate MR-200, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) in a reaction vessel under a nitrogen atmosphere. The parts by mass were gradually added dropwise while maintaining the temperature inside the reaction vessel at 65 ° C. After completion of the dropping, the reaction was carried out at a temperature of 65 ° C. for 2.5 hours, and 80.0 parts by mass of methyl ethyl ketone was added. The obtained reaction mixture was cooled to room temperature to obtain an isocyanate group-terminated urethane prepolymer B-1 having an isocyanate group content of 5.4% by mass.

<現像ローラの作製>
[実施例1]
(基体の用意)
ステンレス鋼(SUS304)製の直径6mmの芯金にプライマー(商品名:DY39−012、東レ・ダウコーニング社製)を塗布、焼付けしたものを基体として用意した。
<Making a developing roller>
[Example 1]
(Preparation of substrate)
A primer (trade name: DY39-012, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) was applied to a core metal made of stainless steel (SUS304) having a diameter of 6 mm, and the core metal was baked and prepared as a substrate.

(弾性層の形成)
上記で用意した基体を金型に配置し、以下の材料を混合した付加型シリコーンゴム組成物を金型内に形成されたキャビティに注入した。
・液状シリコーンゴム材料(商品名:SE6905A/B、東レ・ダウコーニング社製):100.0質量部
・カーボンブラック(商品名:トーカブラック#4300、東海カーボン社製):15.0質量部
・白金触媒:0.1質量部
続いて、金型を加熱し、シリコーンゴムを温度150℃で15分間加硫して硬化させた。周面に硬化したシリコーンゴム層が形成された基体を金型から脱型した後、当該芯金を、さらに温度180℃で1時間加熱して、シリコーンゴム層の硬化反応を完了させた。こうして、基体2の外周に直径12mmのシリコーンゴム弾性層を有する弾性ローラD−1を作製した。
(Formation of elastic layer)
The substrate prepared above was placed in a mold, and an addition type silicone rubber composition mixed with the following materials was injected into a cavity formed in the mold.
-Liquid silicone rubber material (trade name: SE6905A / B, manufactured by Toray Dow Corning): 100.0 parts by mass-Carbon black (trade name: Talker Black # 4300, manufactured by Tokai Carbon Co., Ltd.): 15.0 parts by mass- Platinum catalyst: 0.1 parts by mass Subsequently, the mold was heated, and the silicone rubber was vulcanized and cured at a temperature of 150 ° C. for 15 minutes. After the substrate on which the cured silicone rubber layer was formed on the peripheral surface was removed from the mold, the core metal was further heated at a temperature of 180 ° C. for 1 hour to complete the curing reaction of the silicone rubber layer. In this way, an elastic roller D-1 having a silicone rubber elastic layer having a diameter of 12 mm was produced on the outer periphery of the substrate 2.

(樹脂層の形成)
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した。
・ポリエーテルポリオール(商品名:PTG−L1000、保土谷化学工業社製):100.0質量部
・イソシアネート(商品名:ミリオネートMR−400、東ソー社製):45.7質量部
・樹脂L−1:7.65質量部
・イオン化合物IP−1:7.28質量部
・シリカ(商品名:AEROSIL(登録商標)200、日本アエロジル社製):30.6質量部
・ウレタン樹脂微粒子(商品名:アートパールC−400、根上工業社製):15.3質量部
次に、総固形分比が30質量%となるようにメチルエチルケトンを加えた後、サンドミルにて混合した。次いで、さらに、メチルエチルケトンで粘度10〜12cpsに調整して、樹脂層形成用塗料を調製した。
(Formation of resin layer)
The following materials were mixed and stirred as the material of the resin layer.
-Polyether polyol (trade name: PTG-L1000, manufactured by Hodoya Chemical Industry Co., Ltd.): 100.0 parts by mass-Isocyanate (trade name: Millionate MR-400, manufactured by Toso Co., Ltd.): 45.7 parts by mass-Resin L- 1: 7.65 parts by mass ・ Ion compound IP-1: 7.28 parts by mass ・ Silica (trade name: AEROSIL (registered trademark) 200, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.): 30.6 parts by mass ・ Urethane resin fine particles (trade name) : Art Pearl C-400, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.): 15.3 parts by mass Next, methyl ethyl ketone was added so that the total solid content ratio was 30% by mass, and then mixed by a sand mill. Then, the viscosity was further adjusted to 10 to 12 cps with methyl ethyl ketone to prepare a coating material for forming a resin layer.

先に作製した弾性ローラD−1を、該樹脂層形成用塗料に浸漬して、弾性ローラD−1の弾性層の表面に当該塗料の塗膜を形成し、乾燥させた。さらに、温度150℃にて1時間加熱処理することにより、弾性層の外周に膜厚約15μmの樹脂層を有する、実施例1に係る現像ローラを作製した。 The elastic roller D-1 produced earlier was immersed in the resin layer forming paint to form a coating film of the paint on the surface of the elastic layer of the elastic roller D-1 and dried. Further, by heat-treating at a temperature of 150 ° C. for 1 hour, a developing roller according to Example 1 having a resin layer having a film thickness of about 15 μm on the outer periphery of the elastic layer was produced.

[実施例2〜8]
フッ素/シリコーン含有樹脂およびイオン化合物の種類と配合量を表11に記載の通りに変更した以外は実施例1と同様にして、実施例2〜8に係る現像ローラを作製した。
[Examples 2 to 8]
The developing rollers according to Examples 2 to 8 were produced in the same manner as in Example 1 except that the types and blending amounts of the fluorine / silicone-containing resin and the ionic compound were changed as shown in Table 11.

Figure 0006789771
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[実施例9]
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した。
・ポリエステルポリオール(商品名:クラレポリオールP−2010、クラレ社製):70.0質量部
・イソシアネート基末端プレポリマーB−1:113.3質量部
・樹脂L−3:7.82質量部
・イオン化合物IP−9:7.07質量部
・シリカ(商品名:AEROSIL200、日本アエロジル社製):31.3質量部
・ウレタン樹脂微粒子(商品名:アートパールC−400、根上工業社製):20.6質量部
以降は、実施例1と同様にして実施例9に係る現像ローラを作製した。
[Example 9]
The following materials were mixed and stirred as the material of the resin layer.
-Polyester polyol (trade name: Claret polyol P-2010, manufactured by Claret): 70.0 parts by mass-Isocyanate group-terminated prepolymer B-1: 113.3 parts by mass-Resin L-3: 7.82 parts by mass- Ion compound IP-9: 7.07 parts by mass ・ Silica (trade name: AEROSIL200, manufactured by Nippon Aerozil): 31.3 parts by mass ・ Urethane resin fine particles (trade name: Artpearl C-400, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.): After 20.6 parts by mass, the developing roller according to Example 9 was produced in the same manner as in Example 1.

[実施例10〜20]
フッ素/シリコーン含有樹脂およびイオン化合物の種類と配合量を表11に記載の通りに変更した以外は実施例9と同様にして実施例10〜20に係る現像ローラを作製した。
[Examples 10 to 20]
The developing rollers according to Examples 10 to 20 were produced in the same manner as in Example 9 except that the types and blending amounts of the fluorine / silicone-containing resin and the ionic compound were changed as shown in Table 11.

[実施例21]
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した。
・ポリブタジエンポリオール(商品名:Poly bd R−45HT、出光興産社製):110.0質量部
・イソシアネート(商品名:ミリオネートMR−400、東ソー社製):23.9質量部
・樹脂L−5:7.01質量部
・イオン化合物IP−21:6.31質量部
・シリカ(商品名:AEROSIL200、日本アエロジル社製):28.1質量部
・ウレタン樹脂微粒子(商品名:アートパールC−400、根上工業社製):15.9質量部
以降は、実施例1と同様にして、実施例21に係る現像ローラを作製した。
[Example 21]
The following materials were mixed and stirred as the material of the resin layer.
-Polybutadiene polyol (trade name: Poly bd R-45HT, manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.): 110.0 parts by mass-Isocyanate (trade name: Millionate MR-400, manufactured by Toso Co., Ltd.): 23.9 parts by mass-Resin L-5 : 7.01 parts by mass ・ Ion compound IP-21: 6.31 parts by mass ・ Silica (trade name: AEROSIL200, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.): 28.1 parts by mass ・ Urethane resin fine particles (trade name: Artpearl C-400) (Manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.): From 15.9 parts by mass onward, the developing roller according to Example 21 was produced in the same manner as in Example 1.

[実施例22〜24]
フッ素/シリコーン含有樹脂およびイオン化合物の種類と配合量を表11に記載の通り変更した以外は実施例21と同様にして実施例22〜24に係る現像ローラを作製した。
[Examples 22 to 24]
The developing rollers according to Examples 22 to 24 were produced in the same manner as in Example 21 except that the types and blending amounts of the fluorine / silicone-containing resin and the ionic compound were changed as shown in Table 11.

[比較例1〜4]
フッ素/シリコーン含有樹脂およびイオン化合物の種類と配合量を表12に記載の通りに変更した以外は実施例21と同様にして、比較例1〜4に係る現像ローラを作製した。なお、比較例3および4については、フッ素/シリコーン含有樹脂を添加しなかった。
[Comparative Examples 1 to 4]
The developing rollers according to Comparative Examples 1 to 4 were produced in the same manner as in Example 21 except that the types and blending amounts of the fluorine / silicone-containing resin and the ionic compound were changed as shown in Table 12. In Comparative Examples 3 and 4, the fluorine / silicone-containing resin was not added.

Figure 0006789771
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<現像ローラの評価>
得られた実施例1〜24および比較例1〜4に係る現像ローラについて、以下の評価を行った。評価結果を表13にまとめて示す。
<Evaluation of developing roller>
The following evaluations were performed on the obtained developing rollers according to Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 4. The evaluation results are summarized in Table 13.

[ローラの抵抗値の測定]
23℃、50%RH(以下、「N/N」と記す)の環境下および0℃の環境中に6時間現像ローラを放置した後、各環境下で測定を行った。
[Measurement of roller resistance]
After leaving the developing roller for 6 hours in an environment of 23 ° C. and 50% RH (hereinafter referred to as “N / N”) and in an environment of 0 ° C., measurement was performed in each environment.

(抵抗値の測定)
図5に、本測定で用いる、現像ローラの抵抗値を評価するための冶具の概略構成図を示す。図5(a)に示すように、導電性の軸受け38を介して導電性の基体2の両端を、各々4.9Nの荷重で押しながら直径30mmの円柱形金属37を回転させ、現像ローラ16を60rpmの速度で従動回転させた。次に、図5(b)に示すように、高圧電源39によって電圧50Vを印加し、円柱形金属37とグランドとの間に配設した既知の抵抗値(現像ローラ16の抵抗値に対して2桁以上抵抗値が低いもの)を有する抵抗器の両端の電位差を計測した。当該電位差の計測には、電圧計40(商品名:189TRUE RMS MULTIMETER、FLUKE社製)を用いた。測定した電位差と抵抗器の抵抗値とから、現像ローラ16を介して円柱形金属37に流れた電流を計算により求めた。そして、印加電圧50Vを、得られた電流で割ることによって現像ローラ16の抵抗値を求めた。ここで、該電位差の計測は、電圧印加2秒後から3秒間サンプリングを行い、その平均値から計算される値をローラ抵抗値とした。
(Measurement of resistance value)
FIG. 5 shows a schematic configuration diagram of a jig used in this measurement for evaluating the resistance value of the developing roller. As shown in FIG. 5 (a), a cylindrical metal 37 having a diameter of 30 mm is rotated while pushing both ends of the conductive substrate 2 via a conductive bearing 38 with a load of 4.9 N, respectively, and the developing roller 16 Was driven to rotate at a speed of 60 rpm. Next, as shown in FIG. 5 (b), a voltage of 50 V is applied by the high-voltage power supply 39, and a known resistance value (relative to the resistance value of the developing roller 16) is arranged between the cylindrical metal 37 and the ground. The potential difference between both ends of a resistor having a resistance value of two digits or more) was measured. A voltmeter 40 (trade name: 189 TRUE RMS MULTIMETER, manufactured by FLUKE) was used for measuring the potential difference. From the measured potential difference and the resistance value of the resistor, the current flowing through the cylindrical metal 37 via the developing roller 16 was calculated. Then, the resistance value of the developing roller 16 was obtained by dividing the applied voltage of 50 V by the obtained current. Here, in the measurement of the potential difference, sampling was performed for 3 seconds from 2 seconds after the voltage was applied, and a value calculated from the average value was used as the roller resistance value.

[現像ローラとしての性能評価]
(温度0℃の環境下でのゴーストの評価)
温度0℃の環境中で抵抗値の測定を行った現像ローラを用いて、以下の評価を行った。
図4に示す構成を有する、レーザープリンター(商品名:LBP7700C、キヤノン社製)用のプロセスカートリッジに、各実施例および比較例で得られた現像ローラを、現像ローラ16として装填した。そして、該プロセスカートリッジを前記レーザープリンターに組み込み、0℃環境中に設置した後2時間放置した。
次いでゴースト画像の評価を行った。すなわち、ブラックトナーを用い、画像パターンとして1枚内で先端部に15mm角のベタ黒、その後に全面ハーフトーンの画像を印字した。次に、ハーフトーン部分に現れるトナー担持体周期の濃度ムラ(ゴースト)を目視で確認した。ゴーストの評価の評価基準は以下のとおりである。
A:ゴーストが全く認められない。
B:極軽微なゴーストが認められる。
C:顕著なゴーストが認められる。
[Performance evaluation as a developing roller]
(Evaluation of ghosts in an environment with a temperature of 0 ° C)
The following evaluation was carried out using a developing roller whose resistance value was measured in an environment of 0 ° C.
The developing rollers obtained in each Example and Comparative Example were loaded as the developing rollers 16 into a process cartridge for a laser printer (trade name: LBP7700C, manufactured by Canon Inc.) having the configuration shown in FIG. Then, the process cartridge was incorporated into the laser printer, installed in an environment of 0 ° C., and then left for 2 hours.
Next, the ghost image was evaluated. That is, using black toner, a 15 mm square solid black image was printed at the tip of one image pattern, and then a halftone image was printed on the entire surface. Next, the density unevenness (ghost) of the toner carrier cycle appearing in the halftone portion was visually confirmed. The evaluation criteria for ghost evaluation are as follows.
A: No ghosts are found.
B: Very slight ghost is recognized.
C: Significant ghost is observed.

Figure 0006789771
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表中、※1および※2は、それぞれ以下の化合物を表す。
※1:N,N,N−トリメチル−N−プロピルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(東京化成工業社製)
※2:1−エチル−3−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(東京化成工業社製)
In the table, * 1 and * 2 represent the following compounds, respectively.
* 1: N, N, N-trimethyl-N-propylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
* 2: 1-Ethyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)

実施例1〜24に係る現像ローラは、樹脂層に、特定の構造を有する樹脂を含有しているため、温度0℃の如き低温環境下における抵抗値の上昇が少なく、画像品質も良好を保っていた。特に構造式(1)と(2)で示される構造を両方含む実施例1〜14においては、より高いレベルで抵抗値の上昇が抑制された。
一方で、かかる構造を含有しない比較例1〜4に係る現像ローラは、低温環境下において、抵抗値の上昇およびゴースト画像の発生が認められた。
Since the developing rollers according to Examples 1 to 24 contain a resin having a specific structure in the resin layer, the resistance value does not increase much in a low temperature environment such as 0 ° C., and the image quality is maintained good. Was there. In particular, in Examples 1 to 14 including both the structures represented by the structural formulas (1) and (2), the increase in the resistance value was suppressed at a higher level.
On the other hand, in the developing rollers according to Comparative Examples 1 to 4 containing no such structure, an increase in resistance value and generation of a ghost image were observed in a low temperature environment.

<現像ブレードの作製>
[実施例25]
基体として、厚さ0.08mmのステンレス鋼(SUS304、日新製鋼社製)を、長さ200mm、幅23mmの寸法にプレス切断して、ステンレス鋼製のシート(以下、「SUSシート」という)を用意した。次に、図2に示すように、切断したSUSシートの長手側端部からの長さLが1.5mmになるように、実施例1で調製した樹脂層形成用塗料に浸漬して、当該塗料の塗膜を形成し、乾燥させた。さらに温度140℃にて1時間加熱処理することで、SUSシートの長手側端部表面に膜厚Tが10μmの樹脂層を有する、実施例25に係る現像ブレードを作製した。
<Manufacturing of developing blade>
[Example 25]
As a substrate, a stainless steel sheet having a thickness of 0.08 mm (SUS304, manufactured by Nisshin Steel Co., Ltd.) is press-cut to a size of 200 mm in length and 23 mm in width, and a stainless steel sheet (hereinafter referred to as "SUS sheet"). I prepared. Next, as shown in FIG. 2, the cut SUS sheet was immersed in the resin layer forming paint prepared in Example 1 so that the length L from the longitudinal end was 1.5 mm. A coating film of the paint was formed and dried. Further, by heat-treating at a temperature of 140 ° C. for 1 hour, a developing blade according to Example 25 having a resin layer having a film thickness T of 10 μm was produced on the surface of the longitudinal end portion of the SUS sheet.

[実施例26]
樹脂層形成用塗料を、実施例6で調製した樹脂層形成用塗料に変更した以外は実施例25と同様にして、実施例26に係る現像ブレードを作製した。
[Example 26]
The developing blade according to Example 26 was produced in the same manner as in Example 25 except that the resin layer forming paint was changed to the resin layer forming paint prepared in Example 6.

[実施例27]
樹脂層形成用塗料を、実施例13で調製した樹脂層形成用塗料に変更した以外は実施例25と同様にして、実施例27に係る現像ブレードを作製した。
[Example 27]
The developing blade according to Example 27 was produced in the same manner as in Example 25 except that the resin layer forming paint was changed to the resin layer forming paint prepared in Example 13.

[実施例28]
樹脂層形成用塗料を、実施例15で調製した樹脂層形成用塗料に変更した以外は実施例25と同様にして、実施例28に係る現像ブレードを作製した。
[Example 28]
The developing blade according to Example 28 was produced in the same manner as in Example 25 except that the resin layer forming paint was changed to the resin layer forming paint prepared in Example 15.

[実施例29]
樹脂層形成用塗料を、実施例20で調製した樹脂層形成用塗料に変更した以外は実施例25と同様にして、実施例29に係る現像ブレードを作製した。
[Example 29]
The developing blade according to Example 29 was produced in the same manner as in Example 25 except that the resin layer forming paint was changed to the resin layer forming paint prepared in Example 20.

[実施例30]
樹脂層形成用塗料を、実施例21で調製した樹脂層形成用塗料に変更した以外は実施例25と同様にして、実施例30に係る現像ブレードを作製した。
[Example 30]
The developing blade according to Example 30 was produced in the same manner as in Example 25 except that the resin layer forming paint was changed to the resin layer forming paint prepared in Example 21.

[実施例31]
樹脂層形成用塗料を、実施例24で調製した樹脂層形成用塗料に変更した以外は実施例25と同様にして、実施例31に係る現像ブレードを作製した。
[Example 31]
The developing blade according to Example 31 was produced in the same manner as in Example 25 except that the resin layer forming paint was changed to the resin layer forming paint prepared in Example 24.

[比較例5]
樹脂層形成用塗料を、比較例1で調製した樹脂層形成用塗料に変更した以外は実施例25と同様にして、比較例5に係る現像ブレードを作製した。
[Comparative Example 5]
The developing blade according to Comparative Example 5 was produced in the same manner as in Example 25 except that the resin layer forming paint was changed to the resin layer forming paint prepared in Comparative Example 1.

[比較例6]
樹脂層形成用塗料を、比較例3で調製した樹脂層形成用塗料に変更した以外は実施例25と同様にして、比較例6に係る現像ブレードを作製した。
[Comparative Example 6]
The developing blade according to Comparative Example 6 was produced in the same manner as in Example 25 except that the resin layer forming paint was changed to the resin layer forming paint prepared in Comparative Example 3.

<現像ブレードの評価>
実施例25〜31、および比較例5、6に係る現像ブレードについて、以下の評価を行った。評価結果を表14に示す。
<Evaluation of developing blade>
The following evaluations were performed on the developing blades according to Examples 25 to 31 and Comparative Examples 5 and 6. The evaluation results are shown in Table 14.

[ブレードの抵抗値の測定]
23℃、50%RH(以下、「N/N」と記す)の環境下、および0℃の環境下に6時間現像ブレードを放置した後、各環境下で抵抗値を測定した。
[Measurement of blade resistance]
After leaving the developing blade in an environment of 23 ° C. and 50% RH (hereinafter referred to as “N / N”) and in an environment of 0 ° C. for 6 hours, the resistance value was measured in each environment.

(抵抗値の測定)
ブレードの抵抗値の測定は、図5に示す抵抗値変動評価冶具を用いて、次のように行った。なお、図5に示す冶具における現像ローラ16に代えて、現像ブレードを用いた。図5(a)に示すように、導電性の軸受け38を介して現像ブレード両端の、樹脂層を形成していない基体部分を各々4.9Nの荷重で押しながら、直径30mmの円柱形金属37を回転させずに、現像ブレードを固定した。次に、図5(b)に示すように、高圧電源39によって電圧50Vを印加し、円柱形金属37とグランドとの間に配設した既知の抵抗値(現像ブレードの抵抗値に対して2桁以上抵抗値が低いもの)を有する抵抗器の両端の電位差を計測した。当該電位差の計測には、電圧計40(商品名:189TRUE RMS MULTIMETER、FLUKE社製)を用いた。測定した電位差と抵抗器の抵抗値から、現像ブレードを介して円柱形金属37に流れた電流を計算により求めた。そして、印加電圧50Vを得られた電流で割ることにより、現像ブレードの抵抗値を求めた。ここで、該電位差の計測は、電圧印加2秒後から3秒間サンプリングを行い、その平均値から計算される値をブレード抵抗値とした。
(Measurement of resistance value)
The resistance value of the blade was measured as follows using the resistance value fluctuation evaluation jig shown in FIG. A developing blade was used instead of the developing roller 16 in the jig shown in FIG. As shown in FIG. 5 (a), a cylindrical metal 37 having a diameter of 30 mm is pushed by a load of 4.9 N at both ends of the developing blade via a conductive bearing 38, which does not form a resin layer. The developing blade was fixed without rotating. Next, as shown in FIG. 5 (b), a voltage of 50 V is applied by the high-voltage power supply 39, and a known resistance value (2 with respect to the resistance value of the developing blade) is arranged between the cylindrical metal 37 and the ground. The potential difference between both ends of a resistor having a resistance value lower than an order of magnitude) was measured. A voltmeter 40 (trade name: 189 TRUE RMS MULTIMETER, manufactured by FLUKE) was used for measuring the potential difference. From the measured potential difference and the resistance value of the resistor, the current flowing through the cylindrical metal 37 through the developing blade was calculated. Then, the resistance value of the developing blade was obtained by dividing the applied voltage of 50 V by the obtained current. Here, in the measurement of the potential difference, sampling was performed for 3 seconds from 2 seconds after the voltage was applied, and a value calculated from the average value was used as the blade resistance value.

[現像ブレードとしての性能評価]
(規制不良評価)
図4に示す構成を有する、レーザープリンター(商品名:LBP7700C、キヤノン社製)用のプロセスカートリッジに、各実施例および比較例の現像ブレードを装填した。そして、該プロセスカートリッジを前記レーザープリンターに組み込み、0℃環境中に設置した後2時間放置した。次に、黒色で印字率1%の画像を100枚連続して出力した。その後、新しいコピー用紙に白ベタ画像を出力した。これらの画像を出力した後、現像ブレード表面のトナーコートの状態観察を行い、トナーへの帯電異常に起因する静電的トナー凝集(規制不良)の有無を目視で観察した。この観察結果を以下の基準で評価した。なお、規制不良が生じると、例えば非印字部に斑点状のムラが発生したり、トナー塊などが画像上に発生したりする画像弊害が生じることがある。
A:トナーコート上に規制不良が存在しない。
B:トナーコート上には規制不良が存在するが、画像に現れていない。
C:規制不良が画像に現れる。
[Performance evaluation as a developing blade]
(Evaluation of poor regulation)
The developing blades of each Example and Comparative Example were loaded into a process cartridge for a laser printer (trade name: LBP7700C, manufactured by Canon Inc.) having the configuration shown in FIG. Then, the process cartridge was incorporated into the laser printer, installed in an environment of 0 ° C., and then left for 2 hours. Next, 100 black images with a printing rate of 1% were continuously output. After that, a solid white image was output on a new copy paper. After outputting these images, the state of the toner coat on the surface of the developing blade was observed, and the presence or absence of electrostatic toner aggregation (improper regulation) due to abnormal charging of the toner was visually observed. This observation result was evaluated according to the following criteria. If improper regulation occurs, for example, spot-like unevenness may occur in the non-printed portion, or toner lumps may occur on the image, which may cause an image adverse effect.
A: There is no regulation defect on the toner coat.
B: There is a regulation defect on the toner coat, but it does not appear in the image.
C: Poor regulation appears in the image.

Figure 0006789771
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表中、※1は、N,N,N−トリメチル−N−プロピルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(東京化成工業社製)を表す。 In the table, * 1 represents N, N, N-trimethyl-N-propylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.).

実施例25〜31に係る現像ブレードは、樹脂層に、特定の構造を有する樹脂を含有しているため、温度0℃の如き低温環境下における抵抗値の上昇が少なく、画像品質も良好を保っていた。特に、構造式(1)と(2)で示される構造を両方含む実施例25〜27においては、より高いレベルで抵抗上昇が抑制された。
一方で、かかる構造を含有しない比較例5、6に係る現像ブレードは、低温環境下において、抵抗値の上昇および規制不良の発生が認められた。
Since the developing blades according to Examples 25 to 31 contain a resin having a specific structure in the resin layer, the resistance value does not increase much in a low temperature environment such as 0 ° C., and the image quality is maintained good. Was there. In particular, in Examples 25 to 27 including both the structures represented by the structural formulas (1) and (2), the increase in resistance was suppressed at a higher level.
On the other hand, in the developing blades according to Comparative Examples 5 and 6 which do not contain such a structure, an increase in resistance value and occurrence of poor regulation were observed in a low temperature environment.

<トナー供給ローラの作製>
[実施例32]
基体として、ステンレス鋼(SUS304)製の直径5mmの芯金を金型に配置し、以下の材料を混合したウレタンゴム組成物を、金型内に形成されたキャビティに注入した。
・ポリエーテルポリオール(商品名:EP550N、三井化学工業社製):85.0質量部
・イソシアネート(商品名:コスモネートTM20、三井化学工業社製):25.0質量部
・フッ素/シリコーン含有樹脂L−1:5.0質量部
・イオン化合物IP−1:10.0質量部
・シリコーン整泡剤(商品名:SRX274C、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製):1.0質量部
・アミン触媒(商品名:TOYOCAT−ET、東ソー社製):0.3質量部
・アミン触媒(商品名:TOYOCAT−L33、東ソー社製):0.2質量部
・水:2.0質量部
<Manufacturing toner supply rollers>
[Example 32]
As a substrate, a core metal having a diameter of 5 mm made of stainless steel (SUS304) was placed in a mold, and a urethane rubber composition mixed with the following materials was injected into a cavity formed in the mold.
-Polyether polyol (trade name: EP550N, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.): 85.0 parts by mass-Isocyanate (trade name: Cosmonate TM20, manufactured by Mitsui Chemicals, Ltd.): 25.0 parts by mass-Fluorine / silicone-containing resin L-1: 5.0 parts by mass ・ Ion compound IP-1: 10.0 parts by mass ・ Silicone foam stabilizer (trade name: SRX274C, manufactured by Toray Dow Corning Silicone): 1.0 part by mass ・ Amin catalyst (Product name: TOYOCAT-ET, manufactured by Toso Co., Ltd.): 0.3 parts by mass ・ Amine catalyst (Product name: TOYOCAT-L33, manufactured by Toso Co., Ltd.): 0.2 parts by mass ・ Water: 2.0 parts by mass

続いて、金型を加熱して、ウレタンゴム組成物を温度50℃で20分間加硫し発泡硬化させ、周面にポリウレタンフォーム層が形成された基体を金型から脱型した。こうして、基体の外周に直径16.1mmのポリウレタンフォーム層を有する、実施例32に係るトナー供給ローラを作製した。 Subsequently, the mold was heated, the urethane rubber composition was vulcanized at a temperature of 50 ° C. for 20 minutes to be foam-cured, and the substrate having the polyurethane foam layer formed on the peripheral surface was removed from the mold. In this way, the toner supply roller according to Example 32 having a polyurethane foam layer having a diameter of 16.1 mm on the outer periphery of the substrate was produced.

[実施例33〜38]
イオン化合物、およびフッ素/シリコーン含有樹脂の種類と配合量を表15に記載の通りに変更した以外は実施例32と同様にして、実施例33〜38に係るトナー供給ローラを作製した。
[Examples 33 to 38]
The toner supply rollers according to Examples 33 to 38 were produced in the same manner as in Example 32 except that the types and blending amounts of the ionic compound and the fluorine / silicone-containing resin were changed as shown in Table 15.

[比較例7、8]
イオン化合物、およびフッ素/シリコーン含有樹脂の種類と配合量を表15に記載の通りに変更した以外は実施例32と同様にして、比較例7および比較例8に係るトナー供給ローラを作製した。なお、表中、※1は、N,N,N−トリメチル−N−プロピルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(東京化成工業社製)を表す。
[Comparative Examples 7 and 8]
The toner supply rollers according to Comparative Example 7 and Comparative Example 8 were produced in the same manner as in Example 32 except that the types and blending amounts of the ionic compound and the fluorine / silicone-containing resin were changed as shown in Table 15. In the table, * 1 represents N, N, N-trimethyl-N-propylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.).

Figure 0006789771
Figure 0006789771

<トナー供給ローラの評価>
得られた実施例32〜38および比較例7、8に係るトナー供給ローラについて、以下の評価を行った。評価結果を表16にまとめて示す。
<Evaluation of toner supply roller>
The toner supply rollers according to Examples 32 to 38 and Comparative Examples 7 and 8 obtained were evaluated as follows. The evaluation results are summarized in Table 16.

[ローラの抵抗値の測定]
現像ローラの評価と同様にして、N/N環境下および0℃の環境下に6時間トナー供給ローラを放置した後、各環境下で抵抗値を測定した。
[Measurement of roller resistance]
In the same manner as the evaluation of the developing roller, the toner supply roller was left in an N / N environment and an environment of 0 ° C. for 6 hours, and then the resistance value was measured in each environment.

(抵抗値の測定)
トナー供給ローラの抵抗値の測定は、前述の現像ローラの抵抗値の測定と同様の装置を用いて行った。ただし、基体2の両端に加える荷重を2.5Nとし、測定時におけるローラの回転数を32rpmとした。それ以外は、現像ローラと同様に測定を行い、トナー供給ローラ抵抗値とした。
(Measurement of resistance value)
The resistance value of the toner supply roller was measured using the same device as the measurement of the resistance value of the developing roller described above. However, the load applied to both ends of the substrate 2 was 2.5 N, and the rotation speed of the roller at the time of measurement was 32 rpm. Other than that, the measurement was performed in the same manner as the developing roller, and the resistance value of the toner supply roller was used.

[トナー供給ローラとしての性能評価]
(規制不良評価)
図4に示す構成を有する、レーザープリンター(商品名:LBP7700C、キヤノン社製)用のプロセスカートリッジに、各実施例および比較例のトナー供給ローラを装填した。そして、該プロセスカートリッジを前記レーザープリンターに組み込み、0℃環境中に設置した後2時間放置した。次に、黒色で印字率1%の画像を100枚連続出力した。その後、新しいコピー用紙に白ベタ画像を出力した。これらの画像を出力した後、現像ブレード表面のトナーコートの状態観察を行い、トナーへの帯電異常に起因する静電的トナー凝集(規制不良)の有無を目視で観察した。規制不良評価の評価基準は以下のとおりである。
A:トナーコート上に規制不良が存在しない。
B:トナーコート上には規制不良が存在するが、画像に現れていない。
C:規制不良が画像に現れる。
[Performance evaluation as a toner supply roller]
(Evaluation of poor regulation)
The toner supply rollers of the respective examples and comparative examples were loaded into a process cartridge for a laser printer (trade name: LBP7700C, manufactured by Canon Inc.) having the configuration shown in FIG. Then, the process cartridge was incorporated into the laser printer, installed in an environment of 0 ° C., and then left for 2 hours. Next, 100 black images with a printing rate of 1% were continuously output. After that, a solid white image was output on a new copy paper. After outputting these images, the state of the toner coat on the surface of the developing blade was observed, and the presence or absence of electrostatic toner aggregation (improper regulation) due to abnormal charging of the toner was visually observed. The evaluation criteria for poor regulation evaluation are as follows.
A: There is no regulation defect on the toner coat.
B: There is a regulation defect on the toner coat, but it does not appear in the image.
C: Poor regulation appears in the image.

Figure 0006789771
Figure 0006789771

表中、※1は、N,N,N−トリメチル−N−プロピルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(東京化成工業社製)を表す。 In the table, * 1 represents N, N, N-trimethyl-N-propylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.).

実施例32〜38に係るトナー供給ローラは、樹脂層に、特定の構造を有する樹脂を含有しているため、温度0℃の如き低温環境下における抵抗値の上昇が少なく、画像品質も良好を保っていた。特に、構造式(1)と(2)で示される構造を両方含む実施例32〜34においては、より高いレベルで抵抗値の上昇が抑制された。
一方で、かかる構造を含有しない比較例7、8に係るトナー供給ローラは、低温環境下において、抵抗値の上昇および規制不良の発生が認められた。
Since the toner supply rollers according to Examples 32 to 38 contain a resin having a specific structure in the resin layer, the resistance value does not increase much in a low temperature environment such as 0 ° C., and the image quality is also good. I kept it. In particular, in Examples 32 to 34 including both the structures represented by the structural formulas (1) and (2), the increase in the resistance value was suppressed at a higher level.
On the other hand, in the toner supply rollers according to Comparative Examples 7 and 8 which do not contain such a structure, an increase in resistance value and occurrence of poor regulation were observed in a low temperature environment.

1A 電子写真用ローラ
1B 電子写真用ブレード
2 基体
3 樹脂層
16 現像ローラ
19 トナー供給ローラ
21 現像ブレード
1A Xerographic roller 1B Xerographic blade 2 Base 3 Resin layer 16 Development roller 19 Toner supply roller 21 Development blade

Claims (6)

導電性の基体と樹脂層とを有する電子写真用部材であって、
該樹脂層は、
下記構造式(1)および(2)からなる群より選択される少なくとも1つの構造と、下記構造式(3)〜(6)からなる群より選択される少なくとも1つのカチオン構造と、を有する樹脂と、
アニオンと、を含むことを特徴とする電子写真用部材:
Figure 0006789771
(構造式(1)中、R1は、水素原子、フッ素原子またはメチル基を表す。X1は、式(X101)もしくは(X102)から選択されるいずれかの構造またはフッ素原子を表す:
Figure 0006789771
式(X101)および(X102)中、Y1は、炭素数1以上6以下のフルオロアルキル基を表す。);
Figure 0006789771
(構造式(2)中、R2は、水素原子またはメチル基を表す。X2は、式(X201)または(X202)から選択されるいずれかの構造を表す。
Figure 0006789771
式(X201)および(X202)中、R3〜R5は、各々独立に、炭素数1以上4以下の炭化水素鎖を表す。Y2は、直鎖または分岐を有するシリコーン基を表す。);
Figure 0006789771
(構造式(3)中、R6は、水素原子または炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。Z1〜Z3のうちの少なくとも1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造を表し、それ以外は、炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。
Figure 0006789771
(構造式(4)中、R7およびR8は、各々独立に、構造式(4)における含窒素複素環が、5員環、6員環または7員環を形成するために必要な炭化水素鎖を表す。Z4〜Z7のうちの少なくとも1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造を表し、それ以外は、水素原子または炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。構造式(4)における含窒素複素環に含まれる2つのNのうち一方はNである。)
Figure 0006789771
(構造式(5)中、R9は、構造式(5)における含窒素複素環が、5員環、6員環または7員環を形成するために必要な炭化水素鎖を表す。Z8〜Z10のうちの少なくとも1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造を表し、それ以外は、水素原子または炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。)
Figure 0006789771
(構造式(6)中、R10は、構造式(6)における含窒素複素環が、5員環、6員環または7員環を形成するために必要な炭化水素鎖を表す。Z11〜Z13のうちの少なくとも1つは、構造式(Z101)〜(Z103)からなる群より選択されるいずれかの構造を表し、それ以外は、水素原子または炭素数1以上4以下の炭化水素基を表す。)
Figure 0006789771
(構造式(Z101)〜(Z103)中、R11、R12およびR13は、各々独立に、直鎖または分岐を有する炭化水素鎖を表す。記号「*」は、構造式(3)における窒素原子との結合部位、または、構造式(4)〜(6)における含窒素複素環を構成する窒素原子もしくは炭素原子との結合部位を表し、記号「**」は、該樹脂を構成するポリマー鎖中の炭素原子との結合部位を表す。)。
An electrophotographic member having a conductive substrate and a resin layer.
The resin layer is
A resin having at least one structure selected from the group consisting of the following structural formulas (1) and (2) and at least one cation structure selected from the group consisting of the following structural formulas (3) to (6). When,
Electrophotographic members characterized by containing anions:
Figure 0006789771
(In structural formula (1), R1 represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a methyl group. X1 represents any structure or fluorine atom selected from the formula (X101) or (X102):
Figure 0006789771
In formulas (X101) and (X102), Y1 represents a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. );
Figure 0006789771
(In the structural formula (2), R2 represents a hydrogen atom or a methyl group. X2 represents any structure selected from the formula (X201) or (X202).
Figure 0006789771
In formulas (X201) and (X202), R3 to R5 each independently represent a hydrocarbon chain having 1 or more and 4 or less carbon atoms. Y2 represents a straight or branched silicone group. );
Figure 0006789771
(In the structural formula (3), R6 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 or more and 4 or less carbon atoms. At least one of Z1 to Z3 is a group consisting of structural formulas (Z101) to (Z103). Represents one of the structures selected from the above, and represents a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms in the other.
Figure 0006789771
(In the structural formula (4), R7 and R8 are independently each of the hydrocarbon chains required for the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (4) to form a 5-membered ring, a 6-membered ring or a 7-membered ring. Represents at least one of Z4 to Z7 represents any structure selected from the group consisting of structural formulas (Z101) to (Z103), and the others represent hydrogen atoms or carbon atoms 1 or more and 4 or less. One of the two Ns contained in the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (4) is N + .)
Figure 0006789771
(In the structural formula (5), R9 represents a hydrocarbon chain required for the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (5) to form a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a 7-membered ring. Z8 to Z10. At least one of them represents any structure selected from the group consisting of structural formulas (Z101) to (Z103), and the other represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 or more and 4 or less carbon atoms. .)
Figure 0006789771
(In the structural formula (6), R10 represents a hydrocarbon chain required for the nitrogen-containing heterocycle in the structural formula (6) to form a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a 7-membered ring. Z11 to Z13. At least one of them represents any structure selected from the group consisting of structural formulas (Z101) to (Z103), and the other represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 or more and 4 or less carbon atoms. .)
Figure 0006789771
(In the structural formulas (Z101) to (Z103), R11, R12 and R13 each independently represent a hydrocarbon chain having a straight chain or a branch. The symbol "*" represents a nitrogen atom in the structural formula (3). Represents the bond site with the nitrogen atom or carbon atom constituting the nitrogen-containing heterocycle in the structural formulas (4) to (6), and the symbol "**" represents the bond site with the nitrogen atom or carbon atom constituting the resin. Represents the bond site with the carbon atom of.).
前記樹脂が、前記構造式(1)および(2)で示される構造を有する、請求項1に記載の電子写真用部材。 The electrophotographic member according to claim 1, wherein the resin has a structure represented by the structural formulas (1) and (2). 前記樹脂が、前記構造式(4)で示されるカチオン構造を有する、請求項1または2に記載の電子写真用部材。 The electrophotographic member according to claim 1 or 2, wherein the resin has a cation structure represented by the structural formula (4). 前記樹脂が、さらに、マトリックス樹脂を含有し、該マトリックス樹脂は、下記構造式(7)〜(11)からなる群より選択されるいずれかの構造を有するポリオールとイソシアネート化合物との反応物を含有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の電子写真用部材:
Figure 0006789771
The resin further contains a matrix resin, and the matrix resin contains a reaction product of a polyol having any structure selected from the group consisting of the following structural formulas (7) to (11) and an isocyanate compound. The electrophotographic member according to any one of claims 1 to 3.
Figure 0006789771
電子写真装置の本体に着脱可能に構成されているプロセスカートリッジであって、電子写真用部材の少なくとも1つが、請求項1〜4のいずれか一項に記載の電子写真用部材であることを特徴とするプロセスカートリッジ。 A process cartridge that is detachably attached to the main body of the electrophotographic apparatus, wherein at least one of the electrophotographic members is the electrophotographic member according to any one of claims 1 to 4. Process cartridge. 電子写真感光体を備えている電子写真装置であって、電子写真用部材の少なくとも1つが、請求項1〜4のいずれか一項に記載の電子写真用部材であることを特徴とする電子写真装置。 An electrophotographic apparatus including an electrophotographic photosensitive member, wherein at least one of the electrophotographic members is the electrophotographic member according to any one of claims 1 to 4. apparatus.
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