JP6784711B2 - Liquefied gas supply device and liquefied gas supply method - Google Patents

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Description

本発明は、液化ガス供給装置及び液化ガス供給方法に関するものである。 The present invention relates to a liquefied gas supply device and a liquefied gas supply method.

従来から、半導体、液晶パネル及び太陽光発電パネル等の原料として、例えば、アンモニアや塩化水素等の液化ガスが用いられている。一般的に、これらの液化ガスは、液体の状態（液相）で金属製の容器に充填され、気液混合（気相及び液相）の状態で保管・流通されている。通常、これらの液化ガスを外部に向けて供給する際は、容器内の気相部から気体状態で抜き出すことで、液化ガスを使用する製造装置、例えば、上記のような半導体、液晶パネル及び太陽光発電パネル等の薄膜を製造するデバイス製造装置等に供給する。また、容器内のガス圧が低下した場合、即ち、気相部のガスが減少した場合には、外部から容器を加熱することで液相部から気化ガスを生成させて補充する。 Conventionally, liquefied gas such as ammonia and hydrogen chloride has been used as a raw material for semiconductors, liquid crystal panels, photovoltaic power generation panels and the like. Generally, these liquefied gases are filled in a metal container in a liquid state (liquid phase), and stored and distributed in a gas-liquid mixed state (gas phase and liquid phase). Normally, when these liquefied gases are supplied to the outside, they are extracted from the gas phase part in the container in a gaseous state, so that a manufacturing apparatus using the liquefied gas, for example, the above-mentioned semiconductor, liquid crystal panel and solar It is supplied to device manufacturing equipment that manufactures thin films such as photovoltaic panels. Further, when the gas pressure in the container decreases, that is, when the gas in the gas phase portion decreases, the container is heated from the outside to generate vaporized gas from the liquid phase portion and replenish it.

上記のような高圧の液化ガスを供給する、例えばシリンダーキャビネット等の液化ガス供給装置においては、液化ガス供給ライン中で液化ガスが再液化するのを防止するため、従来から、液化ガス供給ラインをヒータで加熱し、液化ガスを再液化温度よりも高い温度に保持する構成が採用されている。このヒータの設定温度（加熱温度）は、例えば、液化ガスの設計流量や環境温度等を考慮し、最も劣悪な条件、即ち、再液化し易い条件を考慮して決定され、常時、比較的高めとされた一定温度で加熱するように設定されている（例えば、特許文献１，２を参照）。 In a liquefied gas supply device such as a cylinder cabinet that supplies high-pressure liquefied gas as described above, in order to prevent the liquefied gas from reliquefying in the liquefied gas supply line, the liquefied gas supply line has been conventionally used. A configuration is adopted in which the liquefied gas is kept at a temperature higher than the reliquefaction temperature by heating with a heater. The set temperature (heating temperature) of this heater is determined in consideration of, for example, the design flow rate of the liquefied gas, the environmental temperature, and the worst conditions, that is, the conditions in which reliquefaction is easy to occur, and is always relatively high. It is set to heat at a constant temperature (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

特開２００６−２８３８１２号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-283812 特公平６−３３８５８号公報Special Fair 6-33858 Gazette

しかしながら、特許文献１，２に示されたような従来の液化ガス供給装置では、上記のように、液化ガスを加熱する際の設定温度が、最も再液化し易い条件を考慮して設定されているため、如何なる条件においても、常時、高温で加熱するような一定温度に設定されている。このため、実際の条件が、高温設定が不要な条件である場合でも、常時、比較的高めの一定温度で液化ガスを加熱することから、ヒータにおける放熱量も大きくなり、無駄な電力を消費する等の問題が生じていた。特に、大規模工場等に液化ガス供給装置を設置する場合には、その設置台数も多くなることから、省エネルギーや製造コストの低減等の観点から、改善が望まれていた。 However, in the conventional liquefied gas supply device as shown in Patent Documents 1 and 2, as described above, the set temperature at the time of heating the liquefied gas is set in consideration of the condition most easily reliquefied. Therefore, under any conditions, the temperature is set to a constant temperature such that the gas is always heated at a high temperature. Therefore, even if the actual condition is a condition that does not require a high temperature setting, the liquefied gas is always heated at a relatively high constant temperature, so that the amount of heat radiated from the heater is large and wasteful power is consumed. There was a problem such as. In particular, when a liquefied gas supply device is installed in a large-scale factory or the like, the number of installed liquefied gas supply devices increases, so improvement has been desired from the viewpoint of energy saving and reduction of manufacturing cost.

本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、外部に供給する液化ガスの加熱に過剰なエネルギーを消費することなく、且つ、液化ガスが供給過程で再液化するのを確実に防止することが可能な液化ガス供給装置及び液化ガス供給方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and it is necessary to surely prevent the liquefied gas from being reliquefied in the supply process without consuming excessive energy for heating the liquefied gas supplied to the outside. It is an object of the present invention to provide a liquefied gas supply device and a liquefied gas supply method capable of the above.

上記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、液化ガス容器内に収容された液相部を気化して気相部に相転移させるとともに、前記気相部を昇圧してガス状の液化ガスを外部に向けて供給する液化ガス供給装置であって、前記液化ガス容器に一端側が接続され、前記液化ガスを外部に向けて供給する液化ガス供給ラインと、前記液化ガス供給ラインの経路中に設けられ、前記液化ガスの圧力を減圧する減圧弁と、前記液化ガス供給ラインにおける、前記液化ガス容器と前記減圧弁との間の経路の少なくとも一部に設けられ、前記液化ガス供給ラインを流通する前記液化ガスを加熱するヒータと、前記液化ガス供給ラインの経路中における前記液化ガス容器の出口側近傍に設けられ、前記液化ガス容器の内部圧力を検出する圧力検出部と、前記液化ガス供給ラインの経路中における前記減圧弁の一次側近傍に設けられ、前記液化ガス供給ラインを流通する前記液化ガス、あるいは、前記液化ガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度を検出する温度検出部と、前記圧力検出部で検出された前記液化ガス容器の内部圧力、及び、前記温度検出部で検出された前記液化ガス、あるいは、前記液化ガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度に基づいて、前記液化ガス供給ラインを流通する前記液化ガスの温度を、前記液化ガス容器の内部圧力下における前記液化ガスの再液化温度よりも高い温度に保持するように、前記ヒータによる加熱温度を設定するヒータ制御部と、を備えることを特徴とする液化ガス供給装置である。 In order to solve the above problem, in the invention according to claim 1, the liquid phase portion contained in the liquefied gas container is vaporized to cause a phase transition to the gas phase portion, and the gas phase portion is pressurized to be gaseous. A liquefied gas supply device that supplies liquefied gas to the outside, and is a path between a liquefied gas supply line that is connected to the liquefied gas container at one end and supplies the liquefied gas to the outside, and a liquefied gas supply line. A pressure reducing valve provided inside to reduce the pressure of the liquefied gas and a liquefied gas supply line provided in at least a part of a path between the liquefied gas container and the pressure reducing valve in the liquefied gas supply line. a heater for heating the liquefied gas flowing through the provided outlet near the liquefied gas container in the path of the liquefied gas supply line, a pressure detection unit for detecting the internal pressure of the liquefied gas container, said liquefied provided on the primary side near the pressure reducing valve in the path of the gas supply lines, the liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line, or a temperature detector for detecting at least one of the temperature of the surface of the liquefied gas supply line Based on the internal pressure of the liquefied gas container detected by the pressure detection unit, the liquefied gas detected by the temperature detection unit, or at least one of the surfaces of the liquefied gas supply line. The heating temperature of the heater is set so as to keep the temperature of the liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line higher than the reliquefaction temperature of the liquefied gas under the internal pressure of the liquefied gas container. It is a liquefied gas supply device including a heater control unit and a heater control unit.

また、請求項２に係る発明は、前記ヒータ制御部が、前記液化ガス容器の内部圧力、及び／又は、前記液化ガスあるいは前記液化ガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度の変化に応じて、常時、前記ヒータによる加熱温度を変化させながら、該加熱温度を設定することを特徴とする請求項１に記載の液化ガス供給装置である。 Further, in the invention according to claim 2, the heater control unit responds to a change in the internal pressure of the liquefied gas container and / or at least one of the temperature of the liquefied gas or the surface of the liquefied gas supply line. The liquefied gas supply device according to claim 1, wherein the heating temperature is set while constantly changing the heating temperature of the heater.

また、請求項３に係る発明は、前記液化ガス容器を加温することで、前記液化ガス容器内に収容された液相部を気化して気相部に相転移させることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液化ガス供給装置である。 The invention according to claim 3 is characterized in that, by heating the liquefied gas container, the liquid phase portion contained in the liquefied gas container is vaporized and the phase is transferred to the gas phase portion. The liquefied gas supply device according to claim 1 or 2.

また、請求項４に係る発明は、液化ガス容器内に収容された液相部を気化して気相部に相転移させるとともに、前記気相部を昇圧してガス状の液化ガスを外部に向けて供給する液化ガス供給方法であって、前記液化ガス容器においてガス状とされた前記液化ガスを、前記液化ガス容器に一端側が接続された液化ガス供給ラインによって外部に向けて供給するとともに、前記液化ガス容器の内部圧力、及び、前記液化ガス供給ラインにおける前記液化ガス、あるいは、前記液化ガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度を検出し、前記液化ガス容器の内部圧力、及び、前記液化ガス、あるいは、前記液化ガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度に基づいて加熱温度を設定しながら、前記液化ガス供給ラインを流通する前記液化ガスを加熱することにより、該液化ガスの温度を、前記液化ガス容器の内部圧力下における前記液化ガスの再液化温度よりも高い温度に保持することを特徴とする液化ガス供給方法である。 Further, in the invention according to claim 4, the liquid phase portion contained in the liquefied gas container is vaporized to cause a phase transition to the gas phase portion, and the gas phase portion is pressurized to release the gaseous liquefied gas to the outside. A method of supplying liquefied gas toward the outside, wherein the liquefied gas that has been made gaseous in the liquefied gas container is supplied to the outside by a liquefied gas supply line having one end connected to the liquefied gas container. The internal pressure of the liquefied gas container and the temperature of at least one of the liquefied gas in the liquefied gas supply line or the surface of the liquefied gas supply line are detected, and the internal pressure of the liquefied gas container and the above. liquefied gas, or while setting the heating temperature based on at least one of the temperature of the surface of the liquefied gas supply line, by heating the liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line, the temperature of the liquefied gas Is a liquefied gas supply method characterized by maintaining the temperature higher than the reliquefaction temperature of the liquefied gas under the internal pressure of the liquefied gas container.

また、請求項５に係る発明は、前記液化ガス容器の内部圧力、及び／又は、前記液化ガスあるいは前記液化ガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度の変化に応じて、常時、前記液化ガス供給ラインを流通する前記液化ガスの加熱温度を変化させながら、該加熱温度を設定することを特徴とする請求項４に記載の液化ガス供給方法である。
The invention according to claim 5, wherein the liquefaction internal pressure of the gas container, and / or, according to at least a change in one of the temperature of the surface of the liquefied gas or the liquefied gas supply lines at all times, the liquefied gas The liquefied gas supply method according to claim 4, wherein the heating temperature is set while changing the heating temperature of the liquefied gas flowing through the supply line.

また、請求項６に係る発明は、前記液化ガス容器を加温することで、前記液化ガス容器内に収容された液相部を気化して気相部に相転移させることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の液化ガス供給方法である。 The invention according to claim 6 is characterized in that, by heating the liquefied gas container, the liquid phase portion contained in the liquefied gas container is vaporized and the phase is transferred to the gas phase portion. The liquefied gas supply method according to claim 4 or 5.

本発明に係る液化ガス供給装置によれば、圧力検出部で検出された液化ガス容器の内部圧力、及び、温度検出部で検出された液化ガスあるいはガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度に基づいて、ヒータに印加する電流を制御することにより、ガス供給ラインを流通する液化ガスの温度を、液化ガス容器の内部圧力下における液化ガスの再液化温度よりも高い温度に保持するように、ヒータによる加熱温度を設定するヒータ制御部を備えた構成を採用している。
即ち、ヒータに印加する電流を、液化ガス容器の内部圧力に応じて、液化ガスを、再液化することの無い温度に加熱できるように制御することで、液化ガスの加熱温度を、空調設備の有無や季節毎の温度変動等に左右されることなく、適切な温度に自動設定することが可能になる。
従って、外部に供給する液化ガスの加熱に過剰なエネルギーを消費することなく、且つ、液化ガスが供給過程で再液化するのを確実に防止することが可能になる。 According to the liquefied gas supply device according to the present invention, the internal pressure of the liquefied gas container detected by the pressure detection unit and the temperature of at least one of the liquefied gas detected by the temperature detection unit or the surface of the gas supply line Based on this, by controlling the current applied to the heater, the temperature of the liquefied gas flowing through the gas supply line is maintained at a temperature higher than the reliquefaction temperature of the liquefied gas under the internal pressure of the liquefied gas container. A configuration equipped with a heater control unit that sets the heating temperature of the heater is adopted.
That is, by controlling the current applied to the heater so that the liquefied gas can be heated to a temperature at which the liquefied gas is not reliquefied according to the internal pressure of the liquefied gas container, the heating temperature of the liquefied gas can be changed to that of the air conditioning equipment. It is possible to automatically set an appropriate temperature regardless of the presence or absence and seasonal temperature fluctuations.
Therefore, it is possible to reliably prevent the liquefied gas from being reliquefied in the supply process without consuming excessive energy for heating the liquefied gas supplied to the outside.

また、本発明に係る液化ガス供給方法によれば、上記のように、液化ガス容器の内部圧力、及び、液化ガス供給ラインにおける液化ガスあるいはガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度を検出し、これら内部圧力及び液化ガスの温度に基づいて加熱温度を設定しながら、ガス供給ラインを流通する液化ガスを加熱することにより、この液化ガスの温度を、液化ガス容器の内部圧力下における液化ガスの再液化温度よりも高い温度に保持する方法を採用している。
これにより、上記同様、液化ガス容器の内部圧力に応じて、液化ガスの加熱温度を、再液化することの無い適切な温度で自動設定することが可能になる。
従って、上記同様、液化ガスの加熱に過剰なエネルギーを消費することなく、且つ、液化ガスが供給過程で再液化するのを確実に防止することが可能になる。 Further, according to the liquefied gas supply method according to the present invention, as described above, the internal pressure of the liquefied gas container and the temperature of at least one of the liquefied gas in the liquefied gas supply line and the surface of the gas supply line are detected. By heating the liquefied gas flowing through the gas supply line while setting the heating temperature based on these internal pressures and the temperature of the liquefied gas, the temperature of the liquefied gas is changed to the liquefied gas under the internal pressure of the liquefied gas container. The method of keeping the temperature higher than the reliquefaction temperature of is adopted.
As a result, similarly to the above, the heating temperature of the liquefied gas can be automatically set to an appropriate temperature without reliquefaction according to the internal pressure of the liquefied gas container.
Therefore, similarly to the above, it is possible to reliably prevent the liquefied gas from being reliquefied in the supply process without consuming excessive energy for heating the liquefied gas.

本発明を適用した実施形態である液化ガス供給装置及び液化ガス供給方法を模式的に説明する図であり、液化ガス供給装置の全体構成を示す概略図である。It is a figure which schematically explains the liquefied gas supply apparatus and the liquefied gas supply method which are embodiment to which this invention is applied, and is the schematic diagram which shows the whole structure of the liquefied gas supply apparatus. 本発明を適用した実施形態である液化ガス供給装置及び液化ガス供給方法を用い、ヒータによる液化ガスの加熱温度を設定する一例について説明する図であり、液化ガス容器の内部圧力と液化ガスの再液化温度との関係を表す飽和蒸気圧力曲線、及び、液化ガス容器の内部圧力と液化ガスの加熱温度との関係を表す加熱温度曲線を示したグラフである。It is a figure explaining an example of setting the heating temperature of a liquefied gas by a heater using the liquefied gas supply device and the liquefied gas supply method which are the embodiments to which this invention is applied, and it is the figure explaining the internal pressure of a liquefied gas container and the re-reproduction of a liquefied gas. It is a graph which showed the saturated steam pressure curve which shows the relationship with a liquefied temperature, and the heating temperature curve which shows the relationship between the internal pressure of a liquefied gas container and the heating temperature of a liquefied gas.

以下、本発明を適用した一実施形態である液化ガス供給装置及び液化ガス供給方法について、図面を適宜参照しながら説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。また、以下の説明において例示される材料等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。 Hereinafter, a liquefied gas supply device and a liquefied gas supply method according to an embodiment to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings as appropriate. In the drawings used in the following description, in order to make the features easier to understand, the featured parts may be enlarged for convenience, and the dimensional ratios of each component may not be the same as the actual ones. Absent. In addition, the materials and the like exemplified in the following description are examples, and the present invention is not limited thereto, and the present invention can be appropriately modified without changing the gist thereof.

［液化ガス供給装置］
以下、本発明を適用した実施形態である液化ガス供給装置について、図１及び図２を参照しながら詳述する。
図１は、本実施形態で用いられる液化ガス供給装置１０の全体構成を示す概略図であり、図２は、図１に示した液化ガス供給装置１０を用いた液化ガス供給方法における、ヒータ７による液化ガスＧの加熱温度を設定する一例を説明する図で、液化ガス容器１の内部圧力Ｐと液化ガスＧの再液化温度Ｔとの関係を表す飽和蒸気圧力曲線、及び、液化ガス容器１の内部圧力Ｐと液化ガスＧの加熱温度ＨＴとの関係を表す加熱温度曲線（加熱温度ＨＴ曲線）を示したグラフである。 [Liquefied gas supply device]
Hereinafter, the liquefied gas supply device according to the embodiment to which the present invention is applied will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2.
FIG. 1 is a schematic view showing the overall configuration of the liquefied gas supply device 10 used in the present embodiment, and FIG. 2 is a heater 7 in the liquefied gas supply method using the liquefied gas supply device 10 shown in FIG. In the figure explaining an example of setting the heating temperature of the liquefied gas G by the above, the saturated vapor pressure curve showing the relationship between the internal pressure P of the liquefied gas container 1 and the reliquefaction temperature T of the liquefied gas G, and the liquefied gas container 1 It is a graph which showed the heating temperature curve (heating temperature HT curve) which shows the relationship between the internal pressure P of, and the heating temperature HT of a liquefied gas G.

図１に示すように、本実施形態で用いられる液化ガス供給装置１０は、液化ガス容器１と、容器弁２と、液化ガス供給ライン３と、ヒータ制御部４と、温度計（温度検出部）５と、圧力計（圧力検出部）６と、容器加熱部７と、ヒータ８と、減圧弁９と、を備えて概略構成される。
液化ガス供給装置１０は、例えば、液化ガス容器１の表面を容器加熱部６で加熱することで、液化ガス容器１内に収容された液相部を気化して気相部に相転移させるとともに、気相部を昇圧して、ガス状の液化ガスＧを、液化ガス供給ライン３を通じて外部に向けて供給するための装置である。 As shown in FIG. 1, the liquefied gas supply device 10 used in the present embodiment includes a liquefied gas container 1, a container valve 2, a liquefied gas supply line 3, a heater control unit 4, and a thermometer (temperature detection unit). ) 5, a pressure gauge (pressure detection unit) 6, a container heating unit 7, a heater 8, and a pressure reducing valve 9 are roughly configured.
In the liquefied gas supply device 10, for example, by heating the surface of the liquefied gas container 1 with the container heating unit 6, the liquid phase portion housed in the liquefied gas container 1 is vaporized and the phase is transferred to the gas phase portion. This is a device for boosting the gas phase portion and supplying the gaseous liquefied gas G to the outside through the liquefied gas supply line 3.

より具体的には、液化ガス供給装置１０は、液化ガス容器１に一端３ａ側が接続され、液化ガスＧを外部に向けて供給する液化ガス供給ライン３を備え、この液化ガス供給ライン３の経路中に、液化ガスＧの圧力を減圧する減圧弁９が設けられている。また、液化ガス供給ライン３には、液化ガス容器１と減圧弁９との間の経路の少なくとも一部に、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧを加熱するヒータ８が設けられている。さらに、液化ガス供給ライン３の経路中には、液化ガス容器１の出口１ａ側近傍に設けられ、液化ガス容器１の内部圧力Ｐを検出する圧力計６と、減圧弁９の一次側９ａ近傍に設けられ、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧ、あるいは、液化ガス供給ライン３の表面の少なくとも何れかの温度を検出することが可能な温度計５とが備えられている。 More specifically, the liquefied gas supply device 10 includes a liquefied gas supply line 3 in which one end 3a side is connected to the liquefied gas container 1 and the liquefied gas G is supplied to the outside, and the path of the liquefied gas supply line 3 is provided. A pressure reducing valve 9 for reducing the pressure of the liquefied gas G is provided therein. Further, the liquefied gas supply line 3 is provided with a heater 8 for heating the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 in at least a part of the path between the liquefied gas container 1 and the pressure reducing valve 9. .. Further, in the path of the liquefied gas supply line 3, a pressure gauge 6 is provided near the outlet 1a side of the liquefied gas container 1 to detect the internal pressure P of the liquefied gas container 1, and the vicinity of the primary side 9a of the pressure reducing valve 9. Is provided with a liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 or a thermometer 5 capable of detecting at least the temperature of at least one of the surfaces of the liquefied gas supply line 3.

そして、本実施形態の液化ガス供給装置１０は、圧力計６で検出された液化ガス容器１の内部圧力Ｐ、及び、温度計５で検出された液化ガスＧの温度Ｔに基づいて、ヒータ８に印加する電流Ａを制御することにより、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔを、液化ガス容器１の内部圧力Ｐ下における液化ガスＧの再液化温度ＲＴよりも高い温度に保持するように、ヒータ８による加熱温度ＨＴを設定するヒータ制御部４を備える。 Then, the liquefied gas supply device 10 of the present embodiment has a heater 8 based on the internal pressure P of the liquefied gas container 1 detected by the pressure gauge 6 and the temperature T of the liquefied gas G detected by the thermometer 5. By controlling the current A applied to the liquefied gas container 1, the temperature T of the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 becomes higher than the reliquefaction temperature RT of the liquefied gas G under the internal pressure P of the liquefied gas container 1. A heater control unit 4 for setting the heating temperature HT by the heater 8 is provided so as to hold the product.

液化ガス供給装置１０においては、図１中では図示を省略するが、液化ガス容器１内には、液化ガスの供給開始時から供給停止時まで常に液相（液相部）が存在する常時液相の範囲と、液化ガスの供給開始時から供給停止時まで常に気相部を含んだ領域である範囲と、液化ガスの供給が進むにつれて、少なくとも一部が液相から気相に相転移する範囲とが存在する。そして、液化ガス供給装置１０においては、液化ガス容器１内における液相の範囲が一定以下となったとき、液化ガス容器１が交換時期に到達したと判断され、内部が液相部で満たされた新たな液化ガス容器１と交換して使用することができる。 In the liquefied gas supply device 10, although not shown in FIG. 1, a liquid phase (liquid phase portion) always exists in the liquefied gas container 1 from the start of supply of the liquefied gas to the stop of supply. The range of the phase, the range that always includes the gas phase from the start of supply of the liquefied gas to the stop of supply, and the phase transition from the liquid phase to the gas phase as the supply of the liquefied gas progresses. There is a range. Then, in the liquefied gas supply device 10, when the range of the liquid phase in the liquefied gas container 1 becomes equal to or less than a certain level, it is determined that the liquefied gas container 1 has reached the replacement time, and the inside is filled with the liquid phase portion. It can be used by replacing it with a new liquefied gas container 1.

液化ガス容器１は、液化ガスを充填するための容器である。液化ガス容器１の材質としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、マンガン鋼等が挙げられる。
液化ガス容器１に充填される液化ガスとしても、特に限定されないが、具体的には、例えば、アンモニア、塩化水素、塩素、亜酸化窒素などが挙げられる。 The liquefied gas container 1 is a container for filling the liquefied gas. The material of the liquefied gas container 1 is not particularly limited, and specific examples thereof include stainless steel (SUS) and manganese steel.
The liquefied gas filled in the liquefied gas container 1 is not particularly limited, and specific examples thereof include ammonia, hydrogen chloride, chlorine, and nitrous oxide.

容器弁２は、液化ガス容器１の出口１ａに取り付けられた弁であり、弁の開閉により、外部への液化ガスの供給を制御することができる。
容器弁２としては、特に限定されないが、一般的に玉形弁が用いられる。 The container valve 2 is a valve attached to the outlet 1a of the liquefied gas container 1, and the supply of the liquefied gas to the outside can be controlled by opening and closing the valve.
The container valve 2 is not particularly limited, but a ball-shaped valve is generally used.

なお、図１においては図示を省略するが、容器弁２は、液化ガス容器１における、常に気相部を含んだ範囲に連通するように設けられる。なお、このような、液化ガス容器１において常に気相部を含んだ範囲の部分は、４０℃以下の温度となるように法律で定められている。 Although not shown in FIG. 1, the container valve 2 is provided so as to communicate with the liquefied gas container 1 so as to always communicate with the gas phase portion. It should be noted that the portion of the liquefied gas container 1 that always includes the gas phase portion is stipulated by law so that the temperature is 40 ° C. or lower.

液化ガス供給ライン３は、上記のように、液化ガス容器１に一端３ａ側が接続され、液化ガスＧを外部に向けて供給する配管であり、図示例においては、一端３ａが、容器弁２を介して液化ガス容器１の出口１ａに接続されている。図示例の液化ガス供給ライン３には、その経路中に、圧力計６、温度計５、減圧弁９が順次設けられ、他端３ｂから液化ガスＧを外部に向けて供給できるように構成されている。また、液化ガス供給ライン３における液化ガス容器１と減圧弁９との間の経路の少なくとも一部には、詳細を後述するヒータ８が取り付けられており、図示例においては、経路中における圧力計６から減圧弁９にかけてヒータ８が設けられている。 As described above, the liquefied gas supply line 3 is a pipe in which one end 3a is connected to the liquefied gas container 1 to supply the liquefied gas G to the outside. In the illustrated example, one end 3a connects the container valve 2 to the outside. It is connected to the outlet 1a of the liquefied gas container 1 via. The liquefied gas supply line 3 of the illustrated example is provided with a pressure gauge 6, a thermometer 5, and a pressure reducing valve 9 in this order in the path thereof, and is configured so that the liquefied gas G can be supplied to the outside from the other end 3b. ing. Further, a heater 8 described in detail later is attached to at least a part of the path between the liquefied gas container 1 and the pressure reducing valve 9 in the liquefied gas supply line 3, and in the illustrated example, a pressure gauge in the path is attached. A heater 8 is provided from 6 to the pressure reducing valve 9.

液化ガス供給ライン３を構成する配管の材質としては、特に限定されず、内部を流通させる液化ガスに対する耐性等を考慮しながら、適宜選択することができる。 The material of the piping constituting the liquefied gas supply line 3 is not particularly limited, and can be appropriately selected in consideration of resistance to liquefied gas circulating inside.

ヒータ制御部４は、上記のように、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔを、圧力計６で検出された内部圧力Ｐ下における、液化ガスＧの再液化温度ＲＴよりも高い温度に保持するように、ヒータ８による加熱温度ＨＴを設定する。 As described above, the heater control unit 4 sets the temperature T of the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 higher than the reliquefaction temperature RT of the liquefied gas G under the internal pressure P detected by the pressure gauge 6. The heating temperature HT by the heater 8 is set so as to keep the temperature high.

具体的には、ヒータ制御部４には、詳細を後述する温度計５で検出された液化ガスＧの温度Ｔの測定値信号が信号線Ｃ１を介して入力されるとともに、圧力計６で検出された液化ガス容器１の内部圧力Ｐの測定値信号が信号線Ｃ２を介して入力される。また、ヒータ制御部４は、信号線Ｃ３を介してヒータ８と接続されている。 Specifically, a measured value signal of the temperature T of the liquefied gas G detected by the thermometer 5, which will be described in detail later, is input to the heater control unit 4 via the signal line C1 and detected by the pressure gauge 6. The measured value signal of the internal pressure P of the liquefied gas container 1 is input via the signal line C2. Further, the heater control unit 4 is connected to the heater 8 via the signal line C3.

そして、ヒータ制御部４は、詳細については後述するが、液化ガスＧの温度Ｔ、及び、液化ガス容器１の内部圧力Ｐに基づき、信号線Ｃ３を介してヒータ８に印加する電流Ａを制御するか、あるいは、電圧パルスを制御する。これにより、ヒータ制御部４は、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔを、圧力計６で検出された内部圧力Ｐ下における、液化ガスＧの再液化温度ＲＴよりも高い温度に保持するように、ヒータ８による加熱温度ＨＴを設定する。 The heater control unit 4 controls the current A applied to the heater 8 via the signal line C3 based on the temperature T of the liquefied gas G and the internal pressure P of the liquefied gas container 1, which will be described in detail later. Or control the voltage pulse. As a result, the heater control unit 4 sets the temperature T of the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 higher than the reliquefaction temperature RT of the liquefied gas G under the internal pressure P detected by the pressure gauge 6. The heating temperature HT by the heater 8 is set so as to hold the temperature at.

ヒータ制御部４としては、特に限定されるものではないが、例えば、プログラマブルロジックコントローラ（ＰＬＣ）等を用いることができる。 The heater control unit 4 is not particularly limited, but for example, a programmable logic controller (PLC) or the like can be used.

温度計５は、上記のように、液化ガス供給ライン３の経路中において、減圧弁９の一次側９ａ近傍に設けられる。本実施形態において、温度計５は、例えば、液化ガス容器１から送出され、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔを検出する。本実施形態における温度計５は、減圧によって断熱膨張する前の液化ガスＧの温度Ｔを検出する必要があることから、液化ガス供給ライン３の経路中における減圧弁９の一次側９ａ近傍に設けられている。 As described above, the thermometer 5 is provided in the vicinity of the primary side 9a of the pressure reducing valve 9 in the path of the liquefied gas supply line 3. In the present embodiment, the thermometer 5 detects, for example, the temperature T of the liquefied gas G that is sent out from the liquefied gas container 1 and flows through the liquefied gas supply line 3. Since the thermometer 5 in the present embodiment needs to detect the temperature T of the liquefied gas G before it is adiabatically expanded by depressurization, it is provided in the vicinity of the primary side 9a of the pressure reducing valve 9 in the path of the liquefied gas supply line 3. Has been done.

温度計５で検出された液化ガスＧの温度Ｔの測定値信号は、上記のように、信号線Ｃ１を介してヒータ制御部４に送信される。そして、ヒータ制御部４は、上記のように、温度計５及び後述の圧力計６から送信される測定値信号に基づいた処理を行い、液化ガスＧの加熱温度ＨＴを設定する。 The measured value signal of the temperature T of the liquefied gas G detected by the thermometer 5 is transmitted to the heater control unit 4 via the signal line C1 as described above. Then, as described above, the heater control unit 4 performs processing based on the measured value signals transmitted from the thermometer 5 and the pressure gauge 6 described later, and sets the heating temperature HT of the liquefied gas G.

なお、温度計５としては、特に限定されないが、例えば、Ｔ型熱電対等を用いることができる。
また、図１中に示す温度計５の設置位置は、液化ガス供給ライン３の経路中における減圧弁９の一次側９ａ近傍とされているが、これには限定されない。温度計５の設置位置は、例えば、液化ガス供給ライン３の経路中における圧力計６と減圧弁９との間で、適宜変更することが可能である。
また、温度計５は、液化ガス供給ライン３の経路中における圧力計６と減圧弁９との間で、複数で設けられていてもよい。この場合には、複数の温度計５における検出値の平均値を測定値信号として、ヒータ制御部４に送信してもよい。 The thermometer 5 is not particularly limited, but for example, a T-type thermoelectric pair or the like can be used.
Further, the installation position of the thermometer 5 shown in FIG. 1 is set to be near the primary side 9a of the pressure reducing valve 9 in the path of the liquefied gas supply line 3, but is not limited to this. The installation position of the thermometer 5 can be appropriately changed between the pressure gauge 6 and the pressure reducing valve 9 in the path of the liquefied gas supply line 3, for example.
Further, a plurality of thermometers 5 may be provided between the pressure gauge 6 and the pressure reducing valve 9 in the path of the liquefied gas supply line 3. In this case, the average value of the detected values of the plurality of thermometers 5 may be transmitted to the heater control unit 4 as a measured value signal.

圧力計６は、上記のように、液化ガス供給ライン３の経路中において、液化ガス容器１の出口１ａ側近傍に設けられる。また、圧力計６は、液化ガス容器１の内部圧力Ｐを検出するものであることから、図１に示す例のように、液化ガス容器１の出口１ａに出来るだけ近い位置で設けられる。 As described above, the pressure gauge 6 is provided in the vicinity of the outlet 1a side of the liquefied gas container 1 in the path of the liquefied gas supply line 3. Further, since the pressure gauge 6 detects the internal pressure P of the liquefied gas container 1, it is provided at a position as close as possible to the outlet 1a of the liquefied gas container 1 as in the example shown in FIG.

圧力計６で検出された液化ガス容器１の内部圧力Ｐの測定値信号は、上記のように、信号線Ｃ２を介してヒータ制御部４に送信される。ヒータ制御部４は、温度計５及び圧力計６から送信される測定値信号に基づいた処理を行い、液化ガスＧの加熱温度ＨＴを設定する。 The measured value signal of the internal pressure P of the liquefied gas container 1 detected by the pressure gauge 6 is transmitted to the heater control unit 4 via the signal line C2 as described above. The heater control unit 4 performs processing based on the measured value signals transmitted from the thermometer 5 and the pressure gauge 6, and sets the heating temperature HT of the liquefied gas G.

圧力計６としては、従来からガスボンベ等の内部圧力の検出に用いられている圧力センサ等を何ら制限無く用いることができる。 As the pressure gauge 6, a pressure sensor or the like conventionally used for detecting the internal pressure of a gas cylinder or the like can be used without any limitation.

容器加熱部７は、図示略の容器温度制御部による温度制御により、液化ガス容器１の内部に収容された液相状態の液化ガスを加熱することで、液相の液化ガスを、順次、気相の液化ガスＧに相転移させる。図示例の容器加熱部７は、液化ガス容器１の縦軸方向で概略中心から下側における領域の表面を覆うように設けられている。 The container heating unit 7 heats the liquefied gas in the liquid phase state contained inside the liquefied gas container 1 by temperature control by the container temperature control unit (not shown), so that the liquefied gas in the liquid phase is sequentially vaporized. The phase is transferred to the liquefied gas G of the phase. The container heating unit 7 of the illustrated example is provided so as to cover the surface of the region below the approximate center in the vertical axis direction of the liquefied gas container 1.

容器加熱部７としては、液化ガス容器１の表面を加熱することができるものであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、液化ガス容器１の表面に巻かれた熱交換媒体を流通するための配管であってもよい。熱交換媒体としては、具体的には、例えば、温風、熱風等の気体媒体、又は、温水、熱水、熱油等の液体媒体等が挙げられる。
また、容器加熱部７としては、ハロゲンヒータ等によって赤外線で熱を伝える方法や、電気ヒータ等などによって、熱を直接、容器表面に伝える構成であってもよい。 The container heating unit 7 is not particularly limited as long as it can heat the surface of the liquefied gas container 1. Specifically, for example, it may be a pipe for circulating a heat exchange medium wound around the surface of the liquefied gas container 1. Specific examples of the heat exchange medium include a gas medium such as hot air and hot air, and a liquid medium such as hot water, hot water, and hot oil.
Further, the container heating unit 7 may have a configuration in which heat is transferred by infrared rays by a halogen heater or the like, or heat is directly transferred to the container surface by an electric heater or the like.

ヒータ８は、上記のように、液化ガス供給ライン３における、液化ガス容器１と減圧弁９との間の経路の少なくとも一部に設けられ、図１に示す例では、液化ガス容器１の出口１ａ近傍から減圧弁９にわたって設けられている。ヒータ８は、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧを加熱するものであり、例えば、電熱ヒータ等からなり、液化ガス供給ライン３の周囲に巻回されるように構成することができる。 As described above, the heater 8 is provided in at least a part of the path between the liquefied gas container 1 and the pressure reducing valve 9 in the liquefied gas supply line 3, and in the example shown in FIG. 1, the outlet of the liquefied gas container 1 is provided. It is provided from the vicinity of 1a to the pressure reducing valve 9. The heater 8 heats the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3. For example, the heater 8 includes an electric heater or the like, and can be configured to be wound around the liquefied gas supply line 3.

なお、本実施形態においては、ヒータ８を電熱ヒータ等から構成し、ヒータ制御部４において、ヒータ８に印加する電流Ａを制御する構成を説明しているが、これには限定されない。ヒータ８としては、例えば、ハロゲンヒータ等によって赤外線で熱を伝える方法を採用してもよい。 In the present embodiment, the heater 8 is composed of an electric heater or the like, and the heater control unit 4 describes a configuration in which the current A applied to the heater 8 is controlled, but the present invention is not limited to this. As the heater 8, for example, a method of transferring heat by infrared rays by a halogen heater or the like may be adopted.

さらに、ヒータ８としては、例えば、液化ガス供給ライン３の表面に巻回された、熱交換媒体を流通するための配管からなる構成であってもよい。この場合の熱交換媒体としては、例えば、温風、熱風等の気体媒体、又は、温水、熱水、熱油等の液体媒体等が挙げられる。このような場合には、ヒータ制御部４において、例えば、配管内を流通する熱交換媒体を加熱するための、図示略の媒体加熱手段の設定温度（加熱温度）を制御する。 Further, the heater 8 may be configured to include, for example, a pipe wound around the surface of the liquefied gas supply line 3 for circulating the heat exchange medium. Examples of the heat exchange medium in this case include a gas medium such as hot air and hot air, and a liquid medium such as hot water, hot water, and hot oil. In such a case, the heater control unit 4 controls, for example, the set temperature (heating temperature) of the medium heating means (not shown) for heating the heat exchange medium flowing in the pipe.

減圧弁９は、液化ガスＧの圧力を減圧して断熱膨張させるものであり、液化ガス供給ライン３の経路中において、温度計５よりも下流側に設けられる。即ち、減圧弁９の一次側９ａは、液化ガス供給ライン３の経路中において、温度計５に接続されるように配置されており、また、二次側９ｂが、減圧後の液化ガスＧの出口３ｂ側に配置されている。
このような減圧弁９としては、特に限定されず、従来から、液化ガス供給装置の分野で広く使用されているものを何ら制限無く採用することができる。 The pressure reducing valve 9 reduces the pressure of the liquefied gas G to adiabatically expand it, and is provided on the downstream side of the thermometer 5 in the path of the liquefied gas supply line 3. That is, the primary side 9a of the pressure reducing valve 9 is arranged so as to be connected to the thermometer 5 in the path of the liquefied gas supply line 3, and the secondary side 9b is the liquefied gas G after decompression. It is arranged on the exit 3b side.
The pressure reducing valve 9 is not particularly limited, and a pressure reducing valve 9 widely used in the field of a liquefied gas supply device can be adopted without any limitation.

以下に、本実施形態の液化ガス供給装置１０において、ヒータ制御部４により、ヒータ８で気化ガスＧを加熱する加熱温度ＨＴを設定し、液化ガスＧの温度Ｔを再液化温度ＲＴよりも高い温度に保持する制御について、より具体的に説明する。
まず、圧力計６によって検出された、液化ガス容器１の内部圧力Ｐの測定値信号が、信号線Ｃ２を介してヒータ制御部４に入力される。
これとともに、温度計５によって検出された、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔの測定値信号が、信号線Ｃ１を介してヒータ制御部４に入力される。 Below, in the liquefied gas supply device 10 of the present embodiment, the heater control unit 4 sets the heating temperature HT for heating the vaporized gas G with the heater 8, and the temperature T of the liquefied gas G is higher than the reliquefaction temperature RT. The control of holding the temperature will be described more specifically.
First, the measured value signal of the internal pressure P of the liquefied gas container 1 detected by the pressure gauge 6 is input to the heater control unit 4 via the signal line C2.
At the same time, the measured value signal of the temperature T of the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 detected by the thermometer 5 is input to the heater control unit 4 via the signal line C1.

次いで、ヒータ制御部４は、液化ガス容器１の内部圧力Ｐ、及び、予め入力された再液化データに基づき、当該内部圧力Ｐ下における再液化温度ＲＴを算出したうえで、液化ガスＧの加熱温度ＨＴを設定し、ヒータ８に印加する電流Ａの制御を行う。この際に設定する加熱温度ＨＴは、当該内部圧力Ｐ下における再液化温度ＲＴよりも高い温度である。また、上記のような再液化データとしては、例えば、ガス種に応じた内部圧力Ｐと再液化温度ＲＴの関係を示すデータであり、詳細については後述するが、例えば、図２のグラフ中に示した飽和蒸気圧力曲線で表されるようなデータである。 Next, the heater control unit 4 calculates the reliquefaction temperature RT under the internal pressure P based on the internal pressure P of the liquefied gas container 1 and the reliquefaction data input in advance, and then heats the liquefied gas G. The temperature HT is set and the current A applied to the heater 8 is controlled. The heating temperature HT set at this time is a temperature higher than the reliquefaction temperature RT under the internal pressure P. Further, the reliquefaction data as described above is, for example, data showing the relationship between the internal pressure P and the reliquefaction temperature RT according to the gas type, and details will be described later, for example, in the graph of FIG. The data is as represented by the saturated steam pressure curve shown.

次いで、ヒータ制御部４は、上記で設定した加熱温度ＨＴに基づき、温度計５で検出された液化ガスＧの温度Ｔの測定値と比較のうえ、ヒータ８に印加する電流Ａを制御する。
この結果、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔが、設定された加熱温度ＨＴ未満である場合、ヒータ制御部４は、ヒータ８による加熱温度ＨＴが上記設定値となるように、ヒータ８に印加する電流Ａを引き上げ、より高い温度で液化ガスＧを加熱する。その後、液化ガスＧの温度Ｔが、設定した加熱温度ＨＴよりも高い温度まで昇温したとき、ヒータ制御部４は、ヒータ８に印加する電流Ａを引き下げるか、あるいは停止することで、ヒータ８による加熱温度ＨＴを低くするように制御する。
そして、液化ガスＧの温度Ｔが、再び、上記で設定した加熱温度ＨＴ以下になったときは、再度、ヒータ８に印加する電流Ａを引き上げ、上記で設定した加熱温度ＨＴで液化ガスＧを加熱するように制御する。 Next, the heater control unit 4 controls the current A applied to the heater 8 based on the heating temperature HT set above, comparing with the measured value of the temperature T of the liquefied gas G detected by the thermometer 5.
As a result, when the temperature T of the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 is less than the set heating temperature HT, the heater control unit 4 sets the heating temperature HT by the heater 8 to the above set value. , The current A applied to the heater 8 is increased to heat the liquefied gas G at a higher temperature. After that, when the temperature T of the liquefied gas G rises to a temperature higher than the set heating temperature HT, the heater control unit 4 reduces or stops the current A applied to the heater 8, so that the heater 8 The heating temperature HT is controlled to be low.
Then, when the temperature T of the liquefied gas G becomes equal to or lower than the heating temperature HT set above again, the current A applied to the heater 8 is increased again, and the liquefied gas G is charged at the heating temperature HT set above. Control to heat.

一方、ヒータ制御部４は、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔが、設定された加熱温度ＨＴよりも高い場合には、ヒータ８に印加する電流Ａを引き下げるか、あるいは停止することにより、ヒータ８による加熱温度ＨＴを低くするように制御する。その後、液化ガスＧの温度Ｔが、設定された加熱温度ＨＴ以下まで降温したとき、ヒータ制御部４は、ヒータ８に印加する電流Ａを引き上げ、加熱温度ＨＴを高くするように制御する。
そして、液化ガスＧの温度Ｔが、再び、上記で設定した加熱温度ＨＴよりも高い温度になったとき、ヒータ制御部４は、再度、ヒータ８に印加する電流Ａを引き下げるか、あるいは停止することで、加熱温度ＨＴを低くするように制御する。 On the other hand, when the temperature T of the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 is higher than the set heating temperature HT, the heater control unit 4 reduces or stops the current A applied to the heater 8. By doing so, the heating temperature HT by the heater 8 is controlled to be lowered. After that, when the temperature T of the liquefied gas G drops below the set heating temperature HT, the heater control unit 4 raises the current A applied to the heater 8 and controls the heating temperature HT to be raised.
Then, when the temperature T of the liquefied gas G becomes higher than the heating temperature HT set above again, the heater control unit 4 lowers or stops the current A applied to the heater 8 again. By doing so, the heating temperature HT is controlled to be low.

ヒータ制御部４は、上記のような制御を繰り返すことにより、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔを、再液化温度ＲＴよりも高い温度に維持する。即ち、液化ガス供給装置１０における実際の条件が、高温設定が不要な条件である場合においてまで、常時、一定温度で液化ガスを加熱するのではなく、液化ガスＧの温度Ｔを再液化温度ＲＴよりも高い温度に維持できる程度に、ヒータ８による加熱温度ＨＴを制御する。これにより、ヒータ８に印加する電流Ａが過剰になって無駄な電力が消費されるのを防止できるので、液化ガスＧの加熱に過剰なエネルギーを消費することなく、且つ、液化ガスＧが供給過程で再液化するのを確実に防止することが可能になる。特に、大規模工場等に液化ガス供給装置１０を設置する場合、その設置台数も多くなるので、省エネルギーや製造コストの低減等の観点から、さらに大きなエネルギー削減効果が得られる。 By repeating the above control, the heater control unit 4 maintains the temperature T of the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 at a temperature higher than the reliquefaction temperature RT. That is, until the actual condition in the liquefied gas supply device 10 is a condition that does not require high temperature setting, the temperature T of the liquefied gas G is set to the reliquefaction temperature RT instead of constantly heating the liquefied gas at a constant temperature. The heating temperature HT by the heater 8 is controlled to such an extent that the temperature can be maintained higher than that. As a result, it is possible to prevent the current A applied to the heater 8 from becoming excessive and wasteful power consumption, so that the liquefied gas G is supplied without consuming excessive energy for heating the liquefied gas G. It is possible to reliably prevent reliquefaction in the process. In particular, when the liquefied gas supply device 10 is installed in a large-scale factory or the like, the number of installed liquefied gas supply devices 10 increases, so that a larger energy reduction effect can be obtained from the viewpoint of energy saving and reduction of manufacturing cost.

なお、圧力計６によって検出された液化ガス容器１の内部圧力Ｐ、及び、温度計５によって検出された液化ガスＧの温度Ｔに基づく制御方法は、上記方法に限定されるものではなく、例えば、目標温度に対するＰＩＤ制御を行なってもよい。 The control method based on the internal pressure P of the liquefied gas container 1 detected by the pressure gauge 6 and the temperature T of the liquefied gas G detected by the thermometer 5 is not limited to the above method, for example. , PID control with respect to the target temperature may be performed.

また、液化ガス供給装置１０においては、ヒータ制御部４が、液化ガス容器１の内部圧力Ｐ、及び／又は、液化ガスＧの温度Ｔの変化に応じて、常時、ヒータ８に印加する電流を制御することにより、ヒータ８による加熱温度ＨＴを変化させながら、この加熱温度ＨＴを設定する構成を採用することがより好ましい。これにより、上述したような、液化ガスＧの温度Ｔを再液化温度ＲＴよりも高い温度に維持する制御を、常時、安定して実施することができるので、より大きなエネルギー削減効果が得られる。 Further, in the liquefied gas supply device 10, the heater control unit 4 constantly applies a current to the heater 8 according to a change in the internal pressure P of the liquefied gas container 1 and / or the temperature T of the liquefied gas G. It is more preferable to adopt a configuration in which the heating temperature HT is set while changing the heating temperature HT by the heater 8 by controlling the heater 8. As a result, the control for maintaining the temperature T of the liquefied gas G at a temperature higher than the reliquefaction temperature RT as described above can be constantly and stably performed, so that a larger energy reduction effect can be obtained.

上記構成を備える本実施形態の液化ガス供給装置１０においては、液化ガスＧの供給開始時、容器加熱部７によって加熱される、液化ガス容器１の内部は、液体状態の液化ガス（液相部）で満たされた状態である。図１中においては、詳細な図示を省略するが、供給開始時の液相の液化ガスの液面は、容器加熱部７の上端よりも上方に位置している。そして、液化ガス容器１の内部に収容された液相の液化ガスは、容器加熱部７によって加熱されることで、順次、気相の液化ガスＧに相転移した後、出口１ａ及び容器弁２を介して液化ガス供給ライン３に導入され、外部に供給される。 In the liquefied gas supply device 10 of the present embodiment having the above configuration, the inside of the liquefied gas container 1 heated by the container heating unit 7 at the start of supply of the liquefied gas G is a liquefied gas (liquid phase unit) in a liquid state. ) Is filled. Although detailed illustration is omitted in FIG. 1, the liquid level of the liquefied gas in the liquid phase at the start of supply is located above the upper end of the container heating unit 7. Then, the liquefied gas of the liquid phase housed inside the liquefied gas container 1 is heated by the container heating unit 7 to sequentially undergo a phase transition to the liquefied gas G of the gas phase, and then the outlet 1a and the container valve 2 It is introduced into the liquefied gas supply line 3 via the liquefied gas supply line 3 and supplied to the outside.

その後、液化ガス容器１内の液化ガスが外部に向けて供給されるのに伴い、液化ガス容器１内の液相部（液化ガス）の液面が低下する。そして、液化ガス容器１内における液相部の液面が所定の位置まで低下したとき、例えば、図示略の重量計等によって液相部の残量を検出することで、内部に収容された液化ガスの残量が少なくなったと判断し、液化ガスの供給を停止する。その後、液相部の残量が所定以下となった液化ガス容器１を液化ガス供給装置１０から取り外し、新たな液化ガス容器１と交換する。 After that, as the liquefied gas in the liquefied gas container 1 is supplied to the outside, the liquid level of the liquid phase portion (liquefied gas) in the liquefied gas container 1 decreases. Then, when the liquid level of the liquid phase portion in the liquefied gas container 1 drops to a predetermined position, for example, the remaining amount of the liquid phase portion is detected by a weighing scale or the like (not shown) to liquefy the contained inside. It is judged that the remaining amount of gas is low, and the supply of liquefied gas is stopped. After that, the liquefied gas container 1 in which the remaining amount of the liquid phase portion is equal to or less than a predetermined value is removed from the liquefied gas supply device 10 and replaced with a new liquefied gas container 1.

液化ガスの液相部の液面検出手段として図示略の重量計を採用する場合には、例えば、重量計としてロードセル等を用い、常時、液化ガス容器１全体の重量を測定して内部の液相部の重量を測定し、演算処理することで、液相部の液面の位置を検出することができる。 When a weight scale (not shown) is used as the liquid level detecting means for the liquid phase portion of the liquefied gas, for example, a load cell or the like is used as the weight scale, and the weight of the entire liquefied gas container 1 is constantly measured to measure the internal liquid. By measuring the weight of the phase portion and performing arithmetic processing, the position of the liquid surface of the liquid phase portion can be detected.

なお、容器温度制御部としても、ヒータ制御部４と同様、特に限定されず例えば、プログラマブルロジックコントローラ（ＰＬＣ）等を用いることができる。 As with the heater control unit 4, the container temperature control unit is not particularly limited, and for example, a programmable logic controller (PLC) or the like can be used.

［液化ガス供給方法］
次に、上述したような液化ガス供給装置１０を用いた、本実施形態の液化ガス供給方法について、図１及び図２を参照しながら説明する。
本実施形態の液化ガス供給方法は、液化ガス容器１の表面を加熱することで、液化ガス容器１内に収容された液相部を気化して気相部に相転移させるとともに、気相部を昇圧してガス状の液化ガスを外部に向けて供給する方法である。
なお、以下の説明では、上記の液化ガス供給装置１０の説明と重複する構成については、その詳細な説明を省略する。 [Liquefied gas supply method]
Next, the liquefied gas supply method of the present embodiment using the liquefied gas supply device 10 as described above will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
In the liquefied gas supply method of the present embodiment, by heating the surface of the liquefied gas container 1, the liquid phase portion contained in the liquefied gas container 1 is vaporized to undergo a phase transition to the gas phase portion, and the gas phase portion is transferred. This is a method of boosting the pressure and supplying gaseous liquefied gas to the outside.
In the following description, detailed description of the configuration overlapping with the above description of the liquefied gas supply device 10 will be omitted.

本実施形態の液化ガス供給方法においては、液化ガス容器１においてガス状とされた液化ガスＧを、液化ガス容器１に一端３ａ側が接続された液化ガス供給ライン３によって外部に向けて供給するとともに、液化ガス容器１の内部圧力Ｐ、及び、液化ガス供給ライン３における液化ガスＧの温度Ｔを検出する。
そして、本実施形態の液化ガス供給方法においては、液化ガス容器１の内部圧力Ｐ、及び、液化ガスＧの温度Ｔに基づいて加熱温度ＨＴを設定しながら、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧを加熱することにより、この液化ガスＧの温度Ｔを、液化ガス容器１の内部圧力Ｐ下における、液化ガスＧの再液化温度ＲＴよりも高い温度に保持する。 In the liquefied gas supply method of the present embodiment, the gaseous liquefied gas G in the liquefied gas container 1 is supplied to the outside by the liquefied gas supply line 3 in which one end 3a side is connected to the liquefied gas container 1. , The internal pressure P of the liquefied gas container 1 and the temperature T of the liquefied gas G in the liquefied gas supply line 3 are detected.
Then, in the liquefied gas supply method of the present embodiment, the liquefied gas supply line 3 is liquefied while setting the heating temperature HT based on the internal pressure P of the liquefied gas container 1 and the temperature T of the liquefied gas G. By heating the gas G, the temperature T of the liquefied gas G is maintained at a temperature higher than the reliquefaction temperature RT of the liquefied gas G under the internal pressure P of the liquefied gas container 1.

本実施形態の液化ガス供給方法における、ヒータ８による液化ガスＧの加熱温度ＨＴを設定する一例について、図２の、液化ガス容器１の内部圧力Ｐと液化ガスＧの再液化温度ＲＴとの関係を表す飽和蒸気圧力曲線、及び、液化ガス容器１の内部圧力Ｐと液化ガスＧの加熱温度ＨＴとの関係を表す加熱温度曲線（加熱温度ＨＴ曲線）を示したグラフを参照しながら説明する（図１も参照）。
ここで、図２中の横軸は液化ガスＧの再液化温度ＲＴ、及び、液化ガスＧの加熱温度ＨＴを示しており、縦軸は液化ガス容器１の内部圧力Ｐを示している。また、図２のグラフ中に示す飽和蒸気圧力曲線は、液化ガスとして用いられる各種ガスの一般的な特性を表すものであり、図２中において、曲線よりも下側の領域が気相領域であり、曲線及び曲線よりも上側の領域が液相領域である。 Regarding an example of setting the heating temperature HT of the liquefied gas G by the heater 8 in the liquefied gas supply method of the present embodiment, the relationship between the internal pressure P of the liquefied gas container 1 and the reliquefaction temperature RT of the liquefied gas G in FIG. The explanation will be given with reference to a graph showing a saturated steam pressure curve representing the above, and a heating temperature curve (heating temperature HT curve) showing the relationship between the internal pressure P of the liquefied gas container 1 and the heating temperature HT of the liquefied gas G (heating temperature HT curve). See also Figure 1).
Here, the horizontal axis in FIG. 2 shows the reliquefaction temperature RT of the liquefied gas G and the heating temperature HT of the liquefied gas G, and the vertical axis shows the internal pressure P of the liquefied gas container 1. The saturated vapor pressure curve shown in the graph of FIG. 2 represents the general characteristics of various gases used as liquefied gas, and in FIG. 2, the region below the curve is the gas phase region. Yes, the curve and the region above the curve are the liquid phase regions.

図２のグラフ中に示す飽和蒸気圧力曲線では、液化ガスＧの再液化温度ＲＴは、液化ガス容器１の内部圧力ＰがＰ４（Ｐａ）である場合にはＲＴ４（℃）であり、内部圧力ＰがＰ４（Ｐａ）よりも低いＰ３（Ｐａ）である場合には、ＲＴ４（℃）よりも低いＲＴ３（℃）となる。さらに、図２においては、液化ガスＧの再液化温度ＲＴは、液化ガス容器１の内部圧力ＰがＰ３（Ｐａ）よりも低いＰ２（Ｐａ）である場合にはＲＴ２（℃）であり、内部圧力ＰがＰ２（Ｐａ）よりも低いＰ１（Ｐａ）である場合には、ＲＴ２（℃）よりも低いＲＴ１（℃）となる。 In the saturated vapor pressure curve shown in the graph of FIG. 2, the reliquefaction temperature RT of the liquefied gas G is RT4 (° C.) when the internal pressure P of the liquefied gas container 1 is P4 (Pa), and the internal pressure. When P is P3 (Pa) lower than P4 (Pa), it becomes RT3 (° C.) lower than RT4 (° C.). Further, in FIG. 2, the reliquefaction temperature RT of the liquefied gas G is RT2 (° C.) when the internal pressure P of the liquefied gas container 1 is P2 (Pa) lower than P3 (Pa), and is inside. When the pressure P is P1 (Pa) lower than P2 (Pa), it becomes RT1 (° C.) lower than RT2 (° C.).

即ち、図２のグラフ中に示す飽和蒸気圧力曲線を基にした、液化ガス容器１の内部圧力Ｐ（Ｐａ）、及び、設定する液化ガスＧの加熱温度ＨＴ（℃）の各々の関係は、同様に図２のグラフ中に示した加熱温度曲線（加熱温度ＨＴ曲線）で表され、また、以下の（１）式〜（４）式で表すことができる。
Ｐ＜Ｐ１ ： ＨＴ＜ＨＴ１ ・・・・・（１）
Ｐ１≦Ｐ＜Ｐ２ ： ＨＴ１≦ＨＴ＜ＨＴ２ ・・・・・（２）
Ｐ２≦Ｐ＜Ｐ３ ： ＨＴ２≦ＨＴ＜ＨＴ３ ・・・・・（２）
Ｐ３≦Ｐ ： ＨＴ３≦ＨＴ＜ＨＴ４ ・・・・・（４）
なお、上記（１）〜（４）式において、Ｐ，Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３：内部圧力（液化ガス容器の内部圧力）、ＨＴ，ＨＴ１，ＨＴ２，ＨＴ３，ＨＴ４：加熱温度（液化ガス供給ラインを流通する液化ガスを加熱する温度）である。 That is, the relationship between the internal pressure P (Pa) of the liquefied gas container 1 and the heating temperature HT (° C.) of the liquefied gas G to be set based on the saturated steam pressure curve shown in the graph of FIG. 2 is Similarly, it is represented by the heating temperature curve (heating temperature HT curve) shown in the graph of FIG. 2, and can also be represented by the following equations (1) to (4).
P <P1: HT <HT1 ... (1)
P1 ≤ P <P2: HT1 ≤ HT <HT2 ... (2)
P2 ≤ P <P3: HT2 ≤ HT <HT3 ... (2)
P3 ≤ P: HT3 ≤ HT <HT4 ... (4)
In the above equations (1) to (4), P, P1, P2, P3: internal pressure (internal pressure of the liquefied gas container), HT, HT1, HT2, HT3, HT4: heating temperature (liquefied gas supply line). The temperature at which the circulating liquefied gas is heated).

本実施形態の液化ガス供給方法においては、液化ガス容器１の内部圧力Ｐに基づいて液化ガスＧの再液化温度ＲＴを算出したうえで、液化ガスＧの加熱温度ＨＴを設定し、ヒータ８に印加する電流Ａの制御を行う。即ち、例えば、液化ガス容器１の内部圧力ＰがＰ３（Ｐａ）以上である場合には、液化ガスＧの加熱温度ＨＴ３を、ＲＴ３（℃）よりも高い温度で設定する。また、液化ガス容器１の内部圧力ＰがＰ１〜Ｐ２（Ｐａ）の範囲である場合には、液化ガスＧの加熱温度ＨＴ１を、ＲＴ１よりも高く、且つ、ＲＴ２（℃）以下の範囲で設定する。 In the liquefied gas supply method of the present embodiment, the reliquefaction temperature RT of the liquefied gas G is calculated based on the internal pressure P of the liquefied gas container 1, the heating temperature HT of the liquefied gas G is set, and the heater 8 is set. The applied current A is controlled. That is, for example, when the internal pressure P of the liquefied gas container 1 is P3 (Pa) or higher, the heating temperature HT3 of the liquefied gas G is set to a temperature higher than RT3 (° C.). When the internal pressure P of the liquefied gas container 1 is in the range of P1 to P2 (Pa), the heating temperature HT1 of the liquefied gas G is set in the range of RT1 higher than RT1 and RT2 (° C.) or lower. To do.

そして、本実施形態においては、上記で設定した加熱温度ＨＴに基づき、温度計５で検出された液化ガスＧの温度Ｔの測定値と比較のうえ、ヒータ８に印加する電流Ａを制御する。
具体的には、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔが、設定された加熱温度ＨＴ未満、即ち、上記で算出された再液化温度ＲＴ以下である場合、ヒータ８による加熱温度ＨＴが上記設定値となるように、ヒータ８に印加する電流Ａを引き上げる。その後、液化ガスＧの温度Ｔが、設定した加熱温度ＨＴよりも高い温度まで昇温したとき、ヒータ８に印加する電流Ａを引き下げるか、あるいは停止することで、ヒータ８による加熱温度ＨＴを低くするように制御する。
そして、液化ガスＧの温度Ｔが、再び、上記で設定した加熱温度ＨＴ以下になったときは、再度、ヒータ８に印加する電流Ａを引き上げ、上記で設定した加熱温度ＨＴで液化ガスＧを加熱するように制御する。 Then, in the present embodiment, the current A applied to the heater 8 is controlled based on the heating temperature HT set above, comparing with the measured value of the temperature T of the liquefied gas G detected by the thermometer 5.
Specifically, when the temperature T of the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 is less than the set heating temperature HT, that is, equal to or less than the reliquefaction temperature RT calculated above, the heating temperature by the heater 8 The current A applied to the heater 8 is increased so that the HT reaches the above set value. After that, when the temperature T of the liquefied gas G rises to a temperature higher than the set heating temperature HT, the current A applied to the heater 8 is lowered or stopped to lower the heating temperature HT by the heater 8. Control to do.
Then, when the temperature T of the liquefied gas G becomes equal to or lower than the heating temperature HT set above again, the current A applied to the heater 8 is increased again, and the liquefied gas G is charged at the heating temperature HT set above. Control to heat.

一方、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔが、設定された加熱温度ＨＴよりも高い場合には、ヒータ８に印加する電流Ａを引き下げるか、あるいは停止することにより、ヒータ８による加熱温度ＨＴを低くするように制御する。その後、液化ガスＧの温度Ｔが、設定された加熱温度ＨＴ以下まで降温したとき、ヒータ８に印加する電流Ａを引き上げ、加熱温度ＨＴを高くするように制御する。
そして、液化ガスＧの温度Ｔが、再び、上記で設定した加熱温度ＨＴよりも高い温度になったときは、再度、ヒータ８に印加する電流Ａを引き下げるか、あるいは停止することで、加熱温度ＨＴを低くするように制御する。 On the other hand, when the temperature T of the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 is higher than the set heating temperature HT, the heater 8 is reduced or stopped by lowering or stopping the current A applied to the heater 8. The heating temperature HT is controlled to be low. After that, when the temperature T of the liquefied gas G drops below the set heating temperature HT, the current A applied to the heater 8 is increased, and the heating temperature HT is controlled to be increased.
Then, when the temperature T of the liquefied gas G becomes higher than the heating temperature HT set above again, the heating temperature is reduced or stopped again by reducing or stopping the current A applied to the heater 8. Control to lower the HT.

本実施形態の液化ガス供給方法においては、上記のような制御を繰り返すことにより、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔを、再液化温度ＲＴよりも高い温度に維持する。これにより、上述したように、ヒータ８に印加する電流Ａが過剰になって無駄な電力が消費されるのを防止でき、液化ガスＧの加熱に過剰なエネルギーを消費することなく、且つ、液化ガスＧが供給過程で再液化するのを確実に防止することが可能になる。 In the liquefied gas supply method of the present embodiment, the temperature T of the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 is maintained at a temperature higher than the reliquefaction temperature RT by repeating the above control. As a result, as described above, it is possible to prevent the current A applied to the heater 8 from becoming excessive and wasteful power consumption, and to heat the liquefied gas G without consuming excessive energy and liquefying. It is possible to reliably prevent the gas G from reliquefying in the supply process.

なお、液化ガス容器１の取扱性や安全性等の観点から、通常の実使用においては、例えば、図２のグラフ中に表す飽和蒸気圧力曲線に示した、液化ガス容器１の内部圧力ＰがＰ３（Ｐａ）以下の領域が常用領域とされる。 From the viewpoint of handleability and safety of the liquefied gas container 1, in normal actual use, for example, the internal pressure P of the liquefied gas container 1 shown in the saturated vapor pressure curve shown in the graph of FIG. 2 is The area below P3 (Pa) is regarded as a regular area.

本実施形態の液化ガス供給方法においては、液化ガス容器１の内部圧力Ｐ、及び／又は、液化ガスＧの温度Ｔの変化に応じて、常時、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの加熱温度ＨＴを変化させながら設定することがより好ましい。これにより、上述したような、液化ガスＧの温度Ｔを再液化温度ＲＴよりも高い温度に維持する制御を、常時、安定して実施することができるので、より大きなエネルギー削減効果が得られる。 In the liquefied gas supply method of the present embodiment, the liquefied gas G constantly flowing through the liquefied gas supply line 3 in response to a change in the internal pressure P of the liquefied gas container 1 and / or the temperature T of the liquefied gas G. It is more preferable to set the heating temperature HT while changing it. As a result, the control for maintaining the temperature T of the liquefied gas G at a temperature higher than the reliquefaction temperature RT as described above can be constantly and stably performed, so that a larger energy reduction effect can be obtained.

＜作用効果＞
以上説明したように、本実施形態の液化ガス供給装置１０によれば、圧力計６で検出された液化ガス容器１の内部圧力Ｐ、及び、温度計５で検出された液化ガスＧの温度Ｔに基づいて、ヒータ８に印加する電流Ａを制御することにより、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔを、液化ガス容器１の内部圧力Ｐ下における液化ガスＧの再液化温度ＲＴよりも高い温度に保持するように、ヒータ８による加熱温度ＨＴを設定するヒータ制御部４を備えた構成を採用している。即ち、ヒータ８に印加する電流を、液化ガス容器１の内部圧力Ｐに応じて、液化ガスＧを、再液化することの無い温度に加熱できるように制御することで、液化ガスＧの加熱温度ＨＴを、空調設備の有無や季節毎の温度変動等に左右されることなく、適切な温度に自動設定することが可能になる。従って、外部に供給する液化ガスＧの加熱に過剰なエネルギーを消費することなく、且つ、液化ガスＧが供給過程で再液化するのを確実に防止することが可能になる。 <Effect>
As described above, according to the liquefied gas supply device 10 of the present embodiment, the internal pressure P of the liquefied gas container 1 detected by the pressure gauge 6 and the temperature T of the liquefied gas G detected by the thermometer 5 By controlling the current A applied to the heater 8, the temperature T of the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3 is changed to the reliquefaction temperature of the liquefied gas G under the internal pressure P of the liquefied gas container 1. A configuration including a heater control unit 4 for setting the heating temperature HT by the heater 8 is adopted so as to maintain the temperature higher than RT. That is, the heating temperature of the liquefied gas G is controlled by controlling the current applied to the heater 8 so that the liquefied gas G can be heated to a temperature at which the liquefied gas G is not reliquefied according to the internal pressure P of the liquefied gas container 1. It is possible to automatically set the HT to an appropriate temperature without being affected by the presence or absence of air conditioning equipment, seasonal temperature fluctuations, and the like. Therefore, it is possible to reliably prevent the liquefied gas G from being reliquefied in the supply process without consuming excessive energy for heating the liquefied gas G to be supplied to the outside.

また、本実施形態の液化ガス供給方法によれば、上記のように、液化ガス容器１の内部圧力Ｐ、及び、液化ガス供給ライン３における液化ガスＧの温度Ｔを検出し、これら内部圧力Ｐ及び液化ガスＧの温度Ｔに基づいて加熱温度ＨＴを設定しながら、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧを加熱することにより、この液化ガスＧの温度Ｔを、液化ガス容器１の内部圧力Ｐ下における液化ガスＧの再液化温度ＲＴよりも高い温度に保持する方法を採用している。これにより、上記同様、液化ガス容器１の内部圧力Ｐに応じて、液化ガスＧの加熱温度ＨＴを、再液化することの無い適切な温度で自動設定することが可能になる。従って、上記同様、液化ガスＧの加熱に過剰なエネルギーを消費することなく、且つ、液化ガスＧが供給過程で再液化するのを確実に防止することが可能になる。 Further, according to the liquefied gas supply method of the present embodiment, as described above, the internal pressure P of the liquefied gas container 1 and the temperature T of the liquefied gas G in the liquefied gas supply line 3 are detected, and these internal pressures P. And while setting the heating temperature HT based on the temperature T of the liquefied gas G, the temperature T of the liquefied gas G is set to the inside of the liquefied gas container 1 by heating the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3. A method of maintaining the liquefied gas G at a temperature higher than the reliquefied temperature RT under the pressure P is adopted. As a result, similarly to the above, the heating temperature HT of the liquefied gas G can be automatically set at an appropriate temperature without reliquefaction according to the internal pressure P of the liquefied gas container 1. Therefore, similarly to the above, it is possible to reliably prevent the liquefied gas G from being reliquefied in the supply process without consuming excessive energy for heating the liquefied gas G.

＜本発明の変形例＞
本発明の実施の形態について、図面を参照して上記のように説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更を施すことが可能である。
例えば、本実施形態においては、さらに、液化ガス供給ライン３を長さ方向で複数の加熱領域に区分し、それぞれの加熱領域に対応して複数のヒータを設けることで、液化ガス供給ライン３の長さ方向の部位毎に、それぞれ最適化された温度制御を行う構成を採用してもよい。 <Modified example of the present invention>
The embodiments of the present invention have been described above with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are made without departing from the gist of the invention. It is possible to apply.
For example, in the present embodiment, the liquefied gas supply line 3 is further divided into a plurality of heating regions in the length direction, and a plurality of heaters are provided corresponding to the respective heating regions to provide the liquefied gas supply line 3. You may adopt the structure which performs the optimized temperature control for each part in the length direction.

また、本実施形態で説明する例においては、ヒータ８による加熱温度制御を、ヒータ８に印加する電流Ａを引き上げるか、あるいは引き下げることで行っているが、これには限定されず、例えば、ヒータ８に印加するパルス電圧を制御することで行ってもよい。 Further, in the example described in the present embodiment, the heating temperature control by the heater 8 is performed by increasing or decreasing the current A applied to the heater 8, but the present invention is not limited to this, and for example, the heater. This may be performed by controlling the pulse voltage applied to 8.

また、本実施形態では、温度計５によって検出する温度を、液化ガス供給ライン３を流通する液化ガスＧの温度Ｔとしているが、これには限定されない。例えば、温度計５によって、液化ガス供給ライン３の表面、即ち、配管の表面の温度を検出し、この値をヒータ制御部４に送信して、ヒータ８による液化ガスＧの加熱温度ＨＴの制御を行う構成としてもよい。このように、温度計５で測定する温度を、液化ガス供給ライン３の配管表面の温度とすることで、温度計５をシンプルな構造とすることができる。 Further, in the present embodiment, the temperature detected by the thermometer 5 is defined as the temperature T of the liquefied gas G flowing through the liquefied gas supply line 3, but the temperature is not limited to this. For example, the thermometer 5 detects the temperature of the surface of the liquefied gas supply line 3, that is, the surface of the pipe, transmits this value to the heater control unit 4, and controls the heating temperature HT of the liquefied gas G by the heater 8. It may be configured to perform. As described above, by setting the temperature measured by the thermometer 5 to the temperature of the pipe surface of the liquefied gas supply line 3, the thermometer 5 can have a simple structure.

例えば、液化ガス供給ライン３の配管表面の温度が、圧力計６で検出された圧力下における再液化温度ＲＴよりも高ければ、液化ガスＧからの外部への放熱が無くなるので、液化ガスＧが再液化することは無い。このため、液化ガス供給ライン３の配管表面の温度を温度計５で検出してヒータ制御部４に送信し、ヒータ８による液化ガスＧの加熱温度ＨＴの制御を行う場合であっても、液化ガスＧの温度Ｔを直接検出する場合と同様、液化ガスＧの再液化を確実に防止できる。 For example, if the temperature of the pipe surface of the liquefied gas supply line 3 is higher than the reliquefaction temperature RT under the pressure detected by the pressure gauge 6, the liquefied gas G does not dissipate heat to the outside, so that the liquefied gas G becomes It does not reliquefy. Therefore, even when the temperature of the pipe surface of the liquefied gas supply line 3 is detected by the thermometer 5 and transmitted to the heater control unit 4 to control the heating temperature HT of the liquefied gas G by the heater 8, liquefied gas G is liquefied. Similar to the case where the temperature T of the gas G is directly detected, the reliquefaction of the liquefied gas G can be reliably prevented.

また、本実施形態では、液化ガス容器１を容器加熱部７によって加温することで、この液化ガス容器１内に収容された液相部を気化して気相部に相転移させて液化ガスＧとし、液化ガス供給ライン３に送出する例を説明しているが、これには限定されない。本実施形態の液化ガス供給装置１０は、例えば、液化ガスの種類や液化ガス容器１内の圧力に応じて、液化ガス容器１を加温しない場合にも適用可能なものである。即ち、例えば、本実施形態の液化ガス供給装置１０を用いて非加熱タイプのガスを取り扱うことも可能である。また、上記のような加熱タイプの液化ガスＧを用いる場合であっても、液化ガス容器１の内部圧力Ｐや流量が、需要（必要量）に対して十分な場合には、必ずしも液化ガス容器１を加熱する必要は無い。従って、液化ガス容器１を加熱するか否かは、液化ガスの種類や液化ガス容器１の内部圧力Ｐに応じて適宜判断すればよい。 Further, in the present embodiment, by heating the liquefied gas container 1 by the container heating unit 7, the liquid phase portion contained in the liquefied gas container 1 is vaporized and phase-transferred to the gas phase portion to cause a liquefied gas. An example in which G is used and the gas is sent to the liquefied gas supply line 3 is described, but the present invention is not limited to this. The liquefied gas supply device 10 of the present embodiment can be applied even when the liquefied gas container 1 is not heated according to the type of the liquefied gas and the pressure in the liquefied gas container 1, for example. That is, for example, it is also possible to handle a non-heated type gas by using the liquefied gas supply device 10 of the present embodiment. Further, even when the heating type liquefied gas G as described above is used, if the internal pressure P and the flow rate of the liquefied gas container 1 are sufficient for the demand (necessary amount), the liquefied gas container is not necessarily used. There is no need to heat 1. Therefore, whether or not to heat the liquefied gas container 1 may be appropriately determined according to the type of the liquefied gas and the internal pressure P of the liquefied gas container 1.

なお、上記のような非加熱タイプのガスとしては、例えば、ＮＨ３、Ｎ２Ｏ、Ｃｌ２、ＳＦ６等を挙げることができる。 Examples of the non-heated type gas as described above include NH 3 , N 2 O, Cl 2 , SF 6, and the like.

本発明の液化ガス供給装置及び液化ガス供給方法は、液化ガスの加熱に過剰なエネルギーを消費することなく、且つ、液化ガスが供給過程で再液化するのを確実に防止できるものなので、例えば、半導体、液晶パネル、又は太陽光発電パネル等の製造に用いられる液化ガスを大量に供給する用途において非常に好適である。 The liquefied gas supply device and the liquefied gas supply method of the present invention do not consume excessive energy for heating the liquefied gas and can surely prevent the liquefied gas from reliquefying in the supply process. Therefore, for example, It is very suitable for supplying a large amount of liquefied gas used for manufacturing semiconductors, liquid crystal panels, solar power generation panels, and the like.

１０…液化ガス供給装置
１…液化ガス容器
１ａ…出口
２…容器弁
３…液化ガス供給ライン
３ａ…一端
３ｂ…他端
４…ヒータ制御部
５…温度計（温度検出手段）
６…圧力計（圧力検出手段）
７…容器加熱部
８…ヒータ
９…減圧弁
９ａ…一次側
９ｂ…二次側
Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３…通信線
Ｇ…液化ガス（気相）
Ａ…電流 10 ... Liquefied gas supply device 1 ... Liquefied gas container 1a ... Outlet 2 ... Container valve 3 ... Liquefied gas supply line 3a ... One end 3b ... Other end 4 ... Heater control unit 5 ... Thermometer (temperature detecting means)
6 ... Pressure gauge (pressure detecting means)
7 ... Container heating unit 8 ... Heater 9 ... Pressure reducing valve 9a ... Primary side 9b ... Secondary side C1, C2, C3 ... Communication line G ... Liquefied gas (gas phase)
A ... Current

Claims (6)

液化ガス容器内に収容された液相部を気化して気相部に相転移させるとともに、前記気相部を昇圧してガス状の液化ガスを外部に向けて供給する液化ガス供給装置であって、
前記液化ガス容器に一端側が接続され、前記液化ガスを外部に向けて供給する液化ガス供給ラインと、
前記液化ガス供給ラインの経路中に設けられ、前記液化ガスの圧力を減圧する減圧弁と、
前記液化ガス供給ラインにおける、前記液化ガス容器と前記減圧弁との間の経路の少なくとも一部に設けられ、前記液化ガス供給ラインを流通する前記液化ガスを加熱するヒータと、
前記液化ガス供給ラインの経路中における前記液化ガス容器の出口側近傍に設けられ、前記液化ガス容器の内部圧力を検出する圧力検出部と、
前記液化ガス供給ラインの経路中における前記減圧弁の一次側近傍に設けられ、前記液化ガス供給ラインを流通する前記液化ガス、あるいは、前記液化ガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度を検出する温度検出部と、
前記圧力検出部で検出された前記液化ガス容器の内部圧力、及び、前記温度検出部で検出された前記液化ガス、あるいは、前記液化ガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度に基づいて、前記液化ガス供給ラインを流通する前記液化ガスの温度を、前記液化ガス容器の内部圧力下における前記液化ガスの再液化温度よりも高い温度に保持するように、前記ヒータによる加熱温度を設定するヒータ制御部と、
を備えることを特徴とする液化ガス供給装置。 It is a liquefied gas supply device that vaporizes the liquid phase part housed in the liquefied gas container and causes a phase transition to the gas phase part, and at the same time, pressurizes the gas phase part to supply gaseous liquefied gas to the outside. hand,
A liquefied gas supply line that is connected to one end of the liquefied gas container and supplies the liquefied gas to the outside.
A pressure reducing valve provided in the path of the liquefied gas supply line to reduce the pressure of the liquefied gas.
In the liquefied gas supply line, it provided on at least a portion of the path between the liquefied gas container and the pressure reducing valve, a heater for heating the liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line,
A pressure detection unit provided near the outlet side of the liquefied gas container in the path of the liquefied gas supply line to detect the internal pressure of the liquefied gas container, and
Provided on the primary side near the pressure reducing valve in the path of the liquefied gas supply line, said liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line or to detect at least one of the temperature of the surface of the liquefied gas supply line Temperature detector and
Based on the internal pressure of the liquefied gas container detected by the pressure detection unit, the liquefied gas detected by the temperature detection unit, or at least any temperature on the surface of the liquefied gas supply line. Heater control that sets the heating temperature by the heater so that the temperature of the liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line is maintained at a temperature higher than the reliquefaction temperature of the liquefied gas under the internal pressure of the liquefied gas container. Department and
A liquefied gas supply device comprising. 前記ヒータ制御部は、前記液化ガス容器の内部圧力、及び／又は、前記液化ガスあるいは前記液化ガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度の変化に応じて、常時、前記ヒータによる加熱温度を変化させながら、該加熱温度を設定することを特徴とする請求項１に記載の液化ガス供給装置。 The heater control unit constantly changes the heating temperature by the heater according to a change in the internal pressure of the liquefied gas container and / or at least one of the temperature of the liquefied gas or the surface of the liquefied gas supply line. The liquefied gas supply device according to claim 1, wherein the heating temperature is set while the heating temperature is set. 前記液化ガス容器を加温することで、前記液化ガス容器内に収容された液相部を気化して気相部に相転移させることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液化ガス供給装置。 The liquefaction according to claim 1 or 2, wherein by heating the liquefied gas container, the liquid phase portion contained in the liquefied gas container is vaporized and the phase is transferred to the gas phase portion. Gas supply device. 液化ガス容器内に収容された液相部を気化して気相部に相転移させるとともに、前記気相部を昇圧してガス状の液化ガスを外部に向けて供給する液化ガス供給方法であって、
前記液化ガス容器においてガス状とされた前記液化ガスを、前記液化ガス容器に一端側が接続された液化ガス供給ラインによって外部に向けて供給するとともに、前記液化ガス容器の内部圧力、及び、前記液化ガス供給ラインにおける前記液化ガス、あるいは、前記液化ガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度を検出し、
前記液化ガス容器の内部圧力、及び、前記液化ガス、あるいは、前記液化ガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度に基づいて加熱温度を設定しながら、前記液化ガス供給ラインを流通する前記液化ガスを加熱することにより、該液化ガスの温度を、前記液化ガス容器の内部圧力下における前記液化ガスの再液化温度よりも高い温度に保持することを特徴とする液化ガス供給方法。 This is a liquefied gas supply method in which the liquid phase portion housed in the liquefied gas container is vaporized to cause a phase transition to the gas phase portion, and the gas phase portion is pressurized to supply gaseous liquefied gas to the outside. hand,
The liquefied gas that has been made gaseous in the liquefied gas container is supplied to the outside by a liquefied gas supply line connected to the liquefied gas container on one end side, and the internal pressure of the liquefied gas container and the liquefied gas container. The temperature of at least one of the liquefied gas in the gas supply line or the surface of the liquefied gas supply line is detected.
The liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line while setting the heating temperature based on the internal pressure of the liquefied gas container and the temperature of the liquefied gas or at least one of the surfaces of the liquefied gas supply line. A liquefied gas supply method, characterized in that the temperature of the liquefied gas is maintained at a temperature higher than the reliquefaction temperature of the liquefied gas under the internal pressure of the liquefied gas container by heating the liquefied gas. 前記液化ガス容器の内部圧力、及び／又は、前記液化ガスあるいは前記液化ガス供給ラインの表面の少なくとも何れかの温度の変化に応じて、常時、前記液化ガス供給ラインを流通する前記液化ガスの加熱温度を変化させながら、該加熱温度を設定することを特徴とする請求項４に記載の液化ガス供給方法。 The liquefied inner pressure of the gas container, and / or, according to at least a change in one of the temperature of the surface of the liquefied gas or the liquefied gas supply lines at all times, heating of the liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line The liquefied gas supply method according to claim 4, wherein the heating temperature is set while changing the temperature. 前記液化ガス容器を加温することで、前記液化ガス容器内に収容された液相部を気化して気相部に相転移させることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の液化ガス供給方法。 The liquefaction according to claim 4 or 5, wherein by heating the liquefied gas container, the liquid phase portion contained in the liquefied gas container is vaporized and the phase is transferred to the gas phase portion. Gas supply method.
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